CH665853A5 - Zerstaeubungseinrichtung fuer katodenzerstaeubungsanlagen. - Google Patents

Description

BESCHREIBUNG Die Erfindung betrifft eine Zerstäubungseinrichtung für Katodenzerstäubungsanlagen, bestehend aus einem Katodengrundkörper mit einem Target aus dem zu zerstäubenden Material, aus einer über einen Luftspalt vom Katodengrundkörper getrennten Dunkelraumabschirmung und aus einer im Randbereich des Targets angeordneten Anode mit mindestens einer offenen Nut, deren Öffnung in einer nicht in Sichtverbindung mit dem Target stehenden Seite der Anode angeordnet ist.

Bei Katodenzerstäubungsanlagen dient die Anode, wie der Name bereits sagt, zur Schliessung des Stromkreises in bezug auf die Katode. Dabei dient die Anode zum Auffangen bzw. zur Ableitung der aus der Katode austretenden und zunächst in die zum Zerstäubungsprozess gehörende und für diesen typische Glimmentladung eintretenden Elektronen.

Bei zahlreichen bekannten Zerstäubungseinrichtungen übernimmt die auf Massepotential liegende Vakuumkammer, der sogenannte Rezipient, die Anodenfunktion. Es hat sich jedoch aus Gründen der Prozesssteuerung als wünschenswert erwiesen, in unmittelbarer Nachbarschaft der Katode bzw. des Targets eine besondere Anode vorzusehen, die entweder unmittelbar mit der Masse verbunden bzw. auf Massepotential gelegt werden kann, oder die auf einen - meist positiven -Potentialpegel gegenüber Masse gelegt wird. Auch im vorliegenden Fall handelt es sich um eine Zerstäubungseinrichtung mit einer zusätzlich vorhandenen Anode.

Nun bewegt sich das von der Katode abgestäubte Material keineswegs nur geradlinig und nur in Richtung der Flächennormalen von der Zerstäubungsfläche des Targets zu dem dieser Zerstäubungsfläche gegenüber beweglich oder ortsfest angeordneten Substrat. Es erfolgt vielmehr eine räumliche Verteilung des Beschichtungsmaterials, so dass dieses Beschichtungsmaterial mehr oder weniger stark auch auf der Anode niederschlägt bzw. kondensiert.

Sofern das Beschichtungsmaterial elektrisch leitfähig ist, was beim Zerstäuben von Metallen in neutraler bzw. nichtreaktiver Atmosphäre regelmässig der Fall ist, werden die Übergangswiderstände im Stromkreis zwischen Katode und Anode auch bei langzeitigen Beschichtungsvorgängen nicht negativ beeinflusst. Für zahlreiche Anwendungsfälle in der Elektronik und Optik sowie für das Beschichten von grossflächigen Fensterscheiben werden jedoch auch Schichten aus nicht-leitenden Materialien, sogenannten Dielektrika, gefordert. Diese Schichten können sowohl durch Zerstäuben von oxidbildenden Metallen in reaktiver Atmosphäre als auch durch Zerstäuben von Targets aus den Oxiden selbst hergestellt werden. Die Erfahrung hat gezeigt, dass hierbei unvermeidbar ein mehr oder weniger grosser Anteil des abgestäubten Materials in Form des Reaktionsprodukts auf der Anode kondensiert und dort eine isolierende Oberflächenschicht bildet, die mit zunehmender Dicke bzw. fortschreitender Zeit den Anodenstrom zunehmend verringert. Dies führt nicht nur zu unkontrollierbaren instabilen Betriebsbedingungen, sondern auch zu äusserst unerwünschten Spannungsüberschlägen, wenn sich auf der isolierenden Oberflächenschicht der Anode starke lokal begrenzte Oberflächenladungen ausbilden, die sich von Zeit zu Zeit entladen und den Zerstäubungsprozess empfindlich stören.

Es hat daher nicht an Versuchen gefehlt, die Anode möglichst weit vom Glimmbereich in der Nähe der Targetoberfläche zu entfernen. So empfiehlt beispielsweise die DE-OS 24 17 228 die Anbringung der Anode ausserhalb der Glimmentladung sowie ausserhalb der Wanderungsrichtung der zerstäubten Partikel des Targetmaterials. Abgesehen davon, dass dieses Ziel praktisch nicht zu erreichen ist, wird dadurch der Eintritt der Elektronen in die Anode erschwert bzw. verzögert, so dass die Anode nur einen geringen Teil des Katodenstroms auf sich zieht. Der grössere Anteil des Katodenstromes fliesst alsdann notwendigerweise zu den Innenflächen der auf Massepotential liegenden Vakuumkammer oder zu auf Massepotential befindlichen Einbauteilen der Vakuumkammer, zu denen insbesondere der Substratträger gehört, der bei bahnförmigem Trägermaterial auch eine rotierende Walze sein kann. Die Folgen sind wiederum instabile Betriebsbedingungen, die für einen kontinuierlichen Prozess nicht tragbar sind.

Man hat daher die Anode wieder aus ihrer versteckten Lage heraus in unmittelbare Nähe des Targets gebracht, in der Hoffnung, dass durch einen sich hierbei notwendigerweise einstellenden hohen Temperaturpegel (die Glimmentladung greift unmittelbar auf die Anode über) entweder eine Beschichtung der Anode verhindert oder die Anode «gereinigt wird». Es ist auch hierbei praktisch unmöglich, beim Aufstäuben von isolierenden bzw. dielektrischen Materialien über einen langen Zeitraum stabile Betriebsverhältnisse aufrechtzuerhalten. Praktisch stehen sich nämlich die Forderungen nach einer langen Standzeit der Anode bzw. langzeitig konstanten Betriebsbedingungen, und einer möglichst guten elektrischen Ankoppelung der Anode diametral entgegen.

Durch die De-OS 22 43 708 ist es bekannt, eine ringförmige Anode im Randbereich eines Flansches einer ansonsten im wesentlichen zylindrischen Katode anzuordnen. In einer der kreisringförmigen Anodenflächen, die in Sichtverbindung mit dem Targetmaterial steht, sind konzentrische Rillen angeordnet, die zur Verbesserung der Haftung des auf die Anode auftreffenden zerstäubten Materials dienen. Hiermit ist es zwar möglich, das an dieser Stelle unerwünschte Material

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nach Erreichen einer bestimmten Schichtdicke am Abschälen und am Herunterfallen weitgehend zu hindern; es ist jedoch nicht möglich, einen zunehmenden Isolationsvorgang durch Auftreffen von Isoliermaterialien (Dielektrika) zu verhindern oder auch nur nennenswert zu unterdrücken. Gerade die Verzahnung mit der Anodenoberfläche gewährleistet das Aufwachsen einer besonders dicken Isolationsschicht, die eine häufige Reinigung der Anode erforderlich macht.

Durch die DE-OS 26 36 293 ist eine Katodenzerstäubungsvorrichtung bekannt, mit der unterschiedliche Werkstoffe entweder gleichzeitig oder nacheinander zerstäubt werden sollen. Um hierbei eine sogenannte Querkontamination des Targetmaterials durch Kondensation von Targetmaterial einer jeweils anderen Katode zu vermeiden, sind zwischen den Katoden bzw. Elektroden und den Substraten bzw. dem Substrathalter Abschirmungen angeordnet, die auf Massepotential liegen und infolgedessen in gewissem Umfange eine Anodenfunktion ausüben. Diese Anodenfunktion verschlechtert sich jedoch im Laufe der Zeit, wenn es sich um die Zerstäubung von Dielektrika handelt. Ein in den Stirnseiten der Abschirmungen angeordnetes, durch Nuten gebildetes Labyrinth kann die Anodenfunktion nicht ersetzen bzw. aufrechterhalten, weil die Nuten eine zu grosse Entfernung von der eigentlichen Zerstäubungsfläche sowie von dem Bereich haben, in dem die den Zerstäubungsvorgang bewirkende Glimmentladung brennt.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Zerstäubungseinrichtung der eingangs beschriebenen Gattung anzugeben, die auch beim Beschichten von Substraten mit Isoliermaterialien stabile Betriebsbedingungen über längere Zeiträume gewährleistet und bei der die Anode einen hohen Anteil des Katodenstromes auf sich zieht.

Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei der eingangs beschriebenen Zerstäubungsvorrichtung erfindungsge-mäss dadurch, dass die Anode auf dem Rand der Dunkelraumabschirmung angeordnet ist und dass die Seitenwände der mindestens einen Nut im wesentlichen parallel zur Zerstäubungsfläche des Targets ausgerichtet sind.

Bei einer solchen Anordnung befindet sich die mindestens eine Nut - es werden vorzugsweise mehrere parallele Nuten vorgesehen - in grösstmöglicher Nähe der Zerstäubungsfläche des Targets und damit der Glimmentladung. Dennoch dient sie nicht zur Verzahnung mit dem kondensierten Material, da an dieser Stelle und wegen der Ausrichtung der Nuten sehr viel weniger Material auftrifft als auf derjenigen Seite der Anode, die näher am Target liegt.

Die Nut bzw. die Nuten verhindern praktisch vollständig und über einen vergleichsweise sehr langen Zeitraum das Eindringen von Beschichtungsmaterial, und selbst wenn dies geschieht, erfolgt auch der Aufbau von Isolierschichten an dieser Stelle mit einer derart geringen Geschwindigkeit, dass der Elektroneneintritt über eine sehr lange Betriebsdauer erhalten bleibt.

Mit einer derart ausgebildeten und angeordneten Anode werden somit über lange Zeiträume stabile Betriebsbedingungen gewährleistet; ein Ausbau bzw. eine Reinigung der Anode ist infolgedessen nur in sehr grossen Zeitabständen erforderlich, und insbesondere steigt die Zahl etwaiger Spannungsüberschläge mit fortschreitender Zeit nicht progressiv an.

Die Verhältnisse werden dabei um so günstiger, je grösser die Zahl der Nuten und je grösser das Verhältnis von Nuttiefe (T) zu Nutbreite (B) ist. Es ist besonders vorteilhaft, wenn das Verhältnis von Nuttiefe zu Nutbreite mindestens 2,5:1 beträgt. In diesem Falle gelangt nur ein äusserst geringer Anteil des Beschichtungsmaterials bis zum Nutengrund, so dass sich ein etwaiger Isolationseffekt erst nach sehr langer Zeit auswirken kann. Auch die Ausbildung sogenannter

Nebenplasmen, die zu Glimmentladungen ausserhalb der eigentlichen Zerstäubungsfläche führen, wird vermieden. Die Anzahl der Überschläge nimmt nicht progressiv mit der Zeit zu. Dadurch können reproduzierbar hochwertige Endprodukte hergestellt werden.

Weiterhin verlängert sich der Abstand zwischen den notwendigen Wartungen und Inspektionen der Anlage, so dass diese wirtschaftlicher genutzt werden kann.

Der Erfindungsgegenstand kann Anwendung finden bei der sogenannten Dioden-Anordnung, d.h. bei einem System, bei dem ausser der Katode und der Anode keinerlei Elektroden mehr in der Beschichtungsvorrichtung vorhanden sind. Mit besonderem Vorteil lässt sich die Erfindung jedoch bei der sogenannten Magnetron-Katode anwenden, bei der sich auf der Rückseite des Targets ein Magnetsystem befindet, welches über der Zerstäubungsfläche einen geschlossenen Tunnel aus Magnetfeldlinien erzeugt, der die Glimmentladung an dieser Stelle festhält und den Zerstäubungseffekt, die sogenannte Zerstäubungsrate, um mindestens den Faktor 10 erhöht.

Die Anode kann dabei geerdet sein, d.h. sich auf Massepotential befinden, sie kann aber auch isoliert befestigt werden, und zwar mit und ohne Anschluss an ein spezielles Anodenpotential. Die Anode muss auch nicht unbedingt der Katodenform geometrisch ähnlich sein, und auch eine symmetrische Anordnung ist nicht zwingend notwendig.

Die erfindungsgemässe Anode hat sich als besonders geeignet bei der Herstellung von dielektrischen Schichten aus SnCh; ImCh; SnO; TaîCh und TiC aus den entsprechenden Metallen erwiesen. Sie ist aber auch sehr gut geeignet zum Zerstäuben von aus Isoliermaterialien bestehenden Targets wie SiCh; SiN; SiON AI2O3; ImCh; SnCh; SiC.

Vorteilhafte Ausgestaltungen des Erfindungsgegenstandes sind Gegenstand der übrigen abhängigen Ansprüche.

Ausführungsbeispiele des Erfindungsgegenstandes und ihre Wirkungsweise werden nachfolgend anhand der Fig. 1 bis 6 näher erläutert.

Es zeigen:

Fig. 1 einen Axialschnitt durch eine als Magnetron ausgeführte rotationssymmetrische Zerstäubungseinrichtung,

Fig. 2 eine radial im Winkel geschnittene perspektivische Darstellung des Gegenstandes nach Fig. 1,

Fig. 3 eine schematische Darstellung einer Zerstäubungseinrichtung in einer gegenüber Fig. 1 umgekehrten Lage mit einer besonderen Halterung für die Anode,

Fig. 4 einen Teilausschnitt aus einer langgestreckten Zerstäubungseinrichtung mit auf beiden Seiten angeordneten lei-stenförmigen Anoden,

Fig. 5 ein Diagramm, in dem die Anzahl der Spannungsüberschläge über der Zeit zu Vergleichszwecken aufgetragen ist und

Fig. 6 eine Variante der Anode gemäss Fig. 3.

In den Fig. 1 und ist eine Zerstäubungseinrichtung 1 nach dem Magnetron-Prinzip dargestellt, die in eine Wand 2 einer im einzelnen nicht dargestellten Vakuumkammer eingesetzt ist. Zur Zerstäubungseinrichtung 1 gehört ein topfförmiger Katodengrundkörper 3, der aus einer ebenen Stirnwand 4 und einem umlaufenden Flanschrand 5 besteht. Hinter der Stirnwand 4 befindet sich ein aus mehreren Permanentmagneten 6 und 7 bestehendes Magnetsysteih, bei dem die Pollagen durch Pfeile angedeutet sind. Die Permanentmagnete 6 und 7 stossen mit ihrer Rückseite an ein Magnetjoch 8 an, das den magnetischen Kreis schliesst. Es handelt sich hierbei um eine typische Magnetronanordnung.

In die Stirnwand 4 ist auf der Rückseite ein Strömungskanal 9 eingefräst, der durch eine Verschlussplatte 10 flüssigkeitsdicht abgedeckt ist. Der Strömungskanal steht über Anschlussstutzen 11 und 12 mit einem Kühlmittelkreislauf in

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Verbindung. Der Katodengrundkörper 3 besteht aus einem gut wärmeleitenden Material, bevorzugt aus Kupfer.

Auf die Rückseite des Katodengrundkörpers 3 ist ein rotationssymmetrischer Isolierkörper 13 abgedichtet aufgesetzt, und zwar mittels Zugschrauben 14, die den Isolierkörper 13 und das Magnetjoch 8 durchdringen. Auf der dem Magnetjoch 8 abgekehrten Seite des Isolierkörpers 13 befindet sich eine metallische Druckplatte 15, auf der sich die Köpfe der Zugschrauben 14 abstützen. Um eine ausreichende Isolationsfestigkeit gegenüber der Wand 2 der Vakuumkammer zu erzielen, ist der Isolierkörper 13 auf dem Umfang der Druckplatte 15 mit einem Ringfortsatz 16 umgeben, dessen Länge der Dicke der Wand 2 entspricht.

Auf der Innenseite der Wand 2 befindet sich ein Haltering 17, der durch Schrauben 18 mit der Wand 2 verbunden ist. Der Katodengrundkörper 3 mit dem Isolierkörper 13 wird nun wie folgt mit der Wand 2 verbunden: Ein Spannring 19 mit einem Flanschrand 20 und einem Kragen 21 wird mittels Schrauben 22 mit dem Haltering 17 verschraubt. Der Spannring 19 übergreift dabei einen äusseren Rand 23 des Isolierkörpers 13 und presst diesen gegen den Haltering 17. Hierbei wird ein Dichtring 24 zwischen dem Isolierkörper 13 und der Wand 2 soweit verformt, dass eine vakuumdichte Abdichtung gewährleistet ist.

Aus den Fig. 1 und 2 ist zu erkennen, dass der Katodengrundkörper 3 gegenüber der Wand 2 isoliert befestigt ist. Der Katodengrundkörper 3 besteht aus einem gut wärmeleitenden Metall, beispielsweise aus Kupfer. Andererseits ist der aus Metall bestehende Spannring 19 über den gleichfalls aus Metall bestehenden Haltering 17 mit der Wand 2 verschraubt und befindet sich infolgedessen auf Massepotential. Zwischen dem Spannring 19 bzw. dessen Kragen 21 und dem Katodengrundkörper 3 befindet sich ein Luftspalt 25 von solcher Dimensionierung, dass in diesem Luftspalt bei den üblichen Betriebsvakua keine Glimmentladung brennen kann. Der Spannring 19 stellt also die übliche Dunkelraumabschirmung dar.

Auf die Stirnwand 4 ist ein plattenförmiges Target 26 mit kongruenten Abmessungen aufgesetzt und beispielsweise durch einen bekannten Lötprozess verbunden. Im vorliegenden Fall ist das Target 26 als Kreisscheibe ausgebildet.

Die bisher beschriebenen Teile der Zerstäubungseinrichtung sind Stand der Technik. Hierbei übt der Kragen 21 die Anodenfunktion aus, und an dieser Stelle wurden auch die unerwünschten Materialablagerungen beobachtet.

Erfindungsgemäss ist nunmehr im Randbereich des Targets eine spezielle Anode 27 angeordnet, die im dargestellten Fall zwei offene, von planparallelen Wänden begrenzte Nuten 28 besitzt. Diese Nuten befinden sich in einer nicht in Sichtverbindung mit dem Target 26 stehenden Seite der Anode 27. Wenn man sich die Anode 27 durch Einstechen der Nuten 28 in einen massiven Ring hergestellt denkt, gehen die Nuten von der äusseren Zylinderfläche dieses Ringes aus. Es ergibt sich, dass der Nutengrund für das Beschichtungsmaterial nur sehr schwer zugänglich ist. Sehr wohl aber können die aus der Glimmentladung austretenden Elektronen innerhalb der Nuten in die benachbarten Wandflächen der Anode 27 eintreten. Die im Querschnitt kammförmige Ausbildung der Anode kann sehr vielfältig gestaltet werden. Es ist nicht erforderlich, dass zwischen den Nuten befindliche Rippen 29 sämtlich die gleiche Länge haben oder exakt in radialen Ebenen verlaufen. So können die Seitenwände der Nuten auch in Kegelflächen liegen, und es ist möglich, die äusserste Rippe mit einem grösseren Durchmesser zu versehen, so dass der Zugang des Beschichtungsmaterials zu den Nuten 28 noch weiter erschwert wird.

Es ist gleichfalls aus den Fig. 1 und 2 zu erkennen, dass die vordere Begrenzungsfläche 30 der Anode 27 im wesentlichen in einer Ebene mit der Zerstäubungsfläche 26a des Targets 26 liegt. Im dargestellten Fall ist die Begrenzungsfläche 30 sogar noch um ein geringes Mass über die Zerstäubungsfläche 26 vorgezogen. Dieser Zustand stellt sich im Laufe eines Verbrauchs des Targetmaterials ohnehin ein, da sich das Target 26 in dem Masse verbraucht, wie Schichtmaterial auf dem (nicht gezeigten) Substrat abgeschieden wird. Das Substrat hat man sich vor der Zerstäubungsfläche 26a in paralleler Ausrichtung zu denken.

Wie wiederum aus den Fig. 1 und 2 hervorgeht, besteht bei dem dort gezeigten rotationssymmetrischen System die Anode 27 aus einem hohlzylindrischen, zur Katodenachse A-A konzentrischen Tragring 31 sowie aus den senkrecht auf dem Tragring angeordneten Rippen 29. Die Anode 27 kann leicht auswechselbar auf dem Kragen 21 befestigt werden, beispielsweise durch radiale Klemmschrauben, eine Bajonettverbindung oder dergleichen.

Fig. 3 zeigt in sehr viel schematischerer Darstellungsweise eine analoge Zerstäubungseinrichtung la mit einem Target 26. In dem hier gezeigten Fall ist jedoch die Wand 2 mit einem Kragen 32 versehen, auf den stirnseitig ein Haltering 33 aufgesetzt ist. Im vorliegenden Fall ist die Anordnung umgekehrt getroffen, d.h. die Zerstäubungsfläche 26a ist ebenso nach oben und in das Innere der Vakuumkammer gerichtet wie der Haltering 33. Der Haltering 33 dient zur Festlegung der Anode 27, die gemäss der Darstellung auf der linken Seite drei Rippen 29 bzw. zwei Nuten 28 und auf der rechten Seite vier Rippen 29 und drei Nuten 28 aufweist. Bei dieser geschützten Ausführungsform ist ein Abplatzen von auf der Anode konzentriertem Material praktisch ausgeschlossen. Der Kragen 32 dient auch in diesem Falle zur Dunkelraumabschirmung; die auch hier notwendigen Isolatoren sind der Einfachheit halber nicht dargestellt.

Die Fig. 4 zeigt einen Ausschnitt aus einer Zerstäubungseinrichtung lb, die in diesem Fall einen rechteckigen Katodengrundkörper 3b und ein rechteckiges Target 26 besitzt. Das Target 26 ist in diesem Fall von parallelen Langseiten 34 begrenzt, und die Anode 27 besteht aus zwei zu den Langseiten 34 parallelen Profilleisten 27a mit seitlich abstehenden Rippen 29, die zwei Nuten 28 zwischen sich einschliessen. Die Profilleisten 27a sind spiegelsymmetrisch angeordnet und haben dabei im Prinzip den gleichen Querschnitt wie die rotationssymmetrischen Anoden in den Fig. 1 bis 3. Es ist nicht erforderlich, dass die leistenförmigen Anoden gemäss Fig. 4 an ihren beiderseitigen Enden durch Querstücke miteinander verbunden sind, jedoch ist dies möglich.

In Fig. 5 ist auf der Abszisse die Zeit t in Stunden und auf der Ordinate die Anzahl n der Überschläge aufgetragen.

Die Kurve a zeigt die progressive Zunahme der Überschläge bei einem System gemäss den Fig. 1 und 2, bei dem ausschliesslich der glatte Kragen 21 die Anodenfunktion ausübt (Stand der Technik). Es ist zu erkennen, dass die Zahl der Überschläge bereits nach einer Betriebsdauer von rund einer Stunde drastisch zunimmt, so dass ein längerer Betrieb einer solchen Zerstäubungseinrichtung nicht möglich ist.

Die Kurve «b» zeigt die Verhältnisse beim Erfindungsgegenstand nach den Fig. 1 und 2. Auch nach einer Zerstäubungsdauer von vier Stunden konnte keine Zunahme der Überschläge festgestellt werden. Die gleiche Katode wurde noch für eine Zeitspanne von mehr als 20 Stunden betrieben, ohne dass sich an diesem Verhalten grundsätzlich etwas geändert hätte.

Fig. 6 zeigt die Möglichkeit eines Aufbaus der Anode in Form eines Stapels von Blechringen oder Blechstreifen, die durch metallische Stützkörper 35 in einem solchen Abstand voneinander und von der Wand 2 gehalten werden, dass Rippen 29 gebildet werden, zwischen denen sich die Nuten 28 befinden. Im vorliegenden Fall befinden sich die Stützkörper

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Herstellung der Anode aus dem beschriebenen Ringstapel oder Streifenstapel wird stark verbilligt und vereinfacht. Es ist weiterhin gezeigt, dass die äussere Begrenzungsfläche 30 um ein merkliches Stück vor die Targetoberfläche 26a vorgezogen s ist. Auch dies erweist sich nicht als nachteilig, da die direkte Sichtverbindung zwischen Target und den Nuten nach wie vor durch den Kragen 32 unterbrochen ist.

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3 Blatt Zeichnungen

Claims (5)

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   PATENTANSPRÜCHE

   1. Zerstäubungseinrichtung für Katodenzerstäubungsanlagen, bestehend aus einem Katodengrundkörper mit einem Target aus dem zu zerstäubenden Material, aus einer über einen Luftspalt vom Katodengrundkörper getrennten Dunkelraumabschirmung und aus einer im Randbereich des Targets angeordneten Anode mit mindestens einer offenen Nut, deren Öffnung in einer nicht in Sichtverbindung mit dem Target stehenden Seite der Anode angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Anode (27) auf dem Rand der Dunkelraumabschirmung (19) angeordnet ist und dass die Seitenwände der mindestens einen Nut (28) im wesentlichen parallel zur Zerstäubungsfläche (26a) des Targets (26) ausgerichtet sind.
2. 2. Zerstäubungsemrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Verhältnis von Nuttiefe (T) zu Nut-breite (B) mindestens 2,5:1 beträgt.
3. 3. Zerstäubungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die vordere Begrenzungsfläche (30) der Anode (27) im wesentlichen in einer Ebene mit der Zerstäubungsfläche (26a) des unbenutzten Targets (26) liegt.
4. 4. Zerstäubungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass bei einem rotationssymmetrischen Target (26) die Anode (27) aus einem hohlzylindrischen, zur Katodenachse A-A konzentrischen Tragring (31) und aus vom Tragring ausgehenden umlaufenden radialen Rippen (29) besteht, die die mindestens eine Nut (28) zwischen sich einschliessen.
5. 5. Zerstäubungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass bei einem von parallelen Langseiten (34) begrenzten Target (26) die Anode aus zwei zu den Langseiten (34) parallelen Profilleisten (17a) mit seitlich abstehenden Rippen (29) besteht, die die mindestens eine Nut (28) zwischen sich einschliessen.