CH617037A5 - - Google Patents

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CH617037A5
CH617037A5 CH971177A CH971177A CH617037A5 CH 617037 A5 CH617037 A5 CH 617037A5 CH 971177 A CH971177 A CH 971177A CH 971177 A CH971177 A CH 971177A CH 617037 A5 CH617037 A5 CH 617037A5
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CH
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conductor
pattern
intermediate layer
level
tracks
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CH971177A
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German (de)
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Ties Siebolt Te Velde
Donald Robert Wolters
Original Assignee
Philips Nv
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    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/482Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of lead-in layers inseparably applied to the semiconductor body
    • H01L23/4821Bridge structure with air gap
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
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CH971177A 1976-08-11 1977-08-08 CH617037A5 (fr)

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NL7608901A NL7608901A (nl) 1976-08-11 1976-08-11 Werkwijze ter vervaardiging van een halfge- leiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd door middel van een dergelijke werkwijze.

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CH617037A5 true CH617037A5 (fr) 1980-04-30

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CH971177A CH617037A5 (fr) 1976-08-11 1977-08-08

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US (1) US4308090A (fr)
JP (1) JPS5837992B2 (fr)
AU (1) AU509242B2 (fr)
CA (1) CA1090477A (fr)
CH (1) CH617037A5 (fr)
DD (1) DD132091A5 (fr)
DE (1) DE2734176A1 (fr)
FR (1) FR2361745A1 (fr)
GB (1) GB1584756A (fr)
HU (1) HU176861B (fr)
IT (1) IT1086058B (fr)
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PL (1) PL200127A1 (fr)
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AU2769877A (en) 1979-02-15
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