CH194863A - Hochvakuumventilröhre. - Google Patents

Hochvakuumventilröhre.

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CH194863A
CH194863A CH194863DA CH194863A CH 194863 A CH194863 A CH 194863A CH 194863D A CH194863D A CH 194863DA CH 194863 A CH194863 A CH 194863A
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vacuum valve
high vacuum
valve tube
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Gloeilampenfabrieken N Philips
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Philips Nv
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      Hochvakuumventilröhre.       Gegenstand der Erfindung ist eine Hoch  vakuumventilröhre, die mit einer indirekt  geheizten Kathode versehen ist.  



  Bei der Entwicklung der modernen Ent  ladungsröhren, besonders der als Empfangs  röhren oder Gleichrichter in Radioempfangs  geräten zu verwendenden Röhren, geht man  immer mehr zum Bau von Röhren mit     ge-          ringstmöglichen    Ausmassen über: und man  sucht unter diesem Gesichtspunkt die in der  Röhre befindlichen     Elektroden    möglichst  nahe aneinander heranzurücken. Es sind  zum Beispiel     Hochvakuumventilröhren    ge  baut worden, bei denen der Abstand der in  direkt geheizten Kathode von der Anode von  der Grössenordnung von     1/s    mm ist, so dass  über einen besonders kleinen Abstand hohe  Spannungen     auftreten.     



  Es hat sich nunmehr gezeigt, dass beim  Gebrauch solcher Ventilröhren Erscheinun  gen auftreten, die unter der englischen Be  zeichnung     "sputterring"    bekannt sind, und  im Auftreten kleiner Funken bestehen, so    dass     Kurzschlusserscheinungen    eintreten, die  einen erhöhten     Stromdurchgang    zur Folge       haben.     



  Mehrere einschlägige, von der unterzeich  neten Firma vorgenommene Prüfungen haben  ergeben, dass diese Erscheinungen sich durch  Benutzung einer     Ilochvakuumventilröhre     nach der vorliegenden Erfindung wesentlich  herabsetzen     lassen.    Eine solche Röhre ist     mit     einer     indirekt        heizbaren    Kathode versehen,  deren     Emissionsschicht        eine        glatte    Ober  fläche besitzt     und,derenStärke    nicht grösser  als     ?,0        Mikron    ist.

   Im     allgemeinen    ist es  zweckmässig, wenn     :diese    (Stärke     kleiner        als     10     Mikron    ist. Mit grossem Vorteil können  diese Schichten auf     kataphoretischem    oder  auf     elektrolytischem    Wege     aufgebracht    wer  den, da hierbei     Schichten        entstehen,    die, weil       die    verhältnismässig kleinen Teilchen nahe an  einander anliegen, schon eine     besonders    glatte  Oberfläche besitzen.

   Ausserdem     wird    in     ,die-          sein        Fall,der        Vorteil    erzielt,     dass,die    Schicht  gut haftet, und dieses Haften kann noch da.-      durch     verbessert    werden,     .dass    die     Oberfläche,     auf welche :die     Emissionsschicht        aufgebracht     wird, in bekannter     Weise,    z. B. durch Oxy  dation,     gerauht    wird.

   Ein     wesentlicher    Vor  teil ist auch :der, dass der Widerstand einer       Emissionsschicht        einer    Kathode nach der Er  findung     gering    ist. Es zeigt sich, dass eine       Hochvakuumventilröhre    nach der     Erfindung          infolgedessen.        in    erheblich geringerem Masse       die        obenerwähnte    Erscheinung von     "oputter-          ring"        zeigt.     



       Die    Erfindung soll an einem Ausfüh  rungsbeispiel     näher        erläutert    werden.  



  Eine kleine, aus Nickel bestehende,     ass     Kathodenkörper einer indirekt heizbaren Ka  thode dienende Röhre     wird        als    Kathode in       einer    auf     mechanischem    Wege hergestellten       Suspension    aus     Bariumkarbonat    in     einem          nicht        wäesarigen        iSuspensionsmittel,    z. B.

   Me  thylalkohol, angebracht.     Beim        .Stromdurch-          gang        schlagen        die        Bariumkarbonatteilchen        in          einer        dünnen        .glatten        Schicht    auf dem Nickel  röhrchen nieder, und die Stärke dieser Schicht  kann     vollkommen    ,geregelt werden.

   Nach       Aufbringen    der     Schicht    kann die Kathode  in     üblicher        Weise    zusammengebaut und in       der        Entladungsröhre    angebracht werden. Der  Abstand     zwischen    Kathode und Anode wird  dabei zweckmässig     nicht    grösser als 1/2 mm       gewählt.  

Claims (1)

  1. PATEATANSPRUCH Hochvakuumventilröbxe, die mit einer in direkt heizbaren Kathode versehen ist, da ,durch gekennzeichnet, @dass die Kathode mit einer Emissionsschicht mit glatter Oberfläche versehen ist, deren (Stärke nicht grösser als 20 Mikron isst. UNTERANSPRÜCHE:
    1. Hoehvakuumventilröhrenach Patentan- sprucb., dadurch ,gekennzeichnet, dass die Emissionsschicht auf kataphoretis-ohem Wege aufgebracht worden ist. 2.
    Hochvakuumventilröhre nach Patentan spruch, dadurch gekennzeichnet, dass die Emissionsschicht auf elektrolytischem Wege aufgebracht worden ist. 3.
    Hochvakuumventilrähre nach Patentan- opruch, @dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand der Kathode von. der Anode nicht .grösser als 1/2 mm ist.
    4. Hochvakuumventilröhre nach Patentan- spruch,dadurch gekennzeichnet, dass die Stärke der Emissionsschicht nicht grösser als 10 Mikron isst.
CH194863D 1936-03-04 1937-03-01 Hochvakuumventilröhre. CH194863A (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE758723C (de) * 1939-05-17 1953-06-01 Telefunken Gmbh Verfahren zur Herstellung von Hochemissionskathoden durch kataphoretisches Abscheiden des Emissionsstoffes

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE758723C (de) * 1939-05-17 1953-06-01 Telefunken Gmbh Verfahren zur Herstellung von Hochemissionskathoden durch kataphoretisches Abscheiden des Emissionsstoffes

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