DE3925776C2 - - Google Patents
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- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/12—Manufacture of electrodes or electrode systems of photo-emissive cathodes; of secondary-emission electrodes
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer
positionsempfindlichen Photomultiplierröhre, umfassend einen
Vakuumbehälter mit einem Einfallsfenster, eine auf der
Innenfläche des Einfallsfensters gebildete Photokathode,
ein im Abstand von der Photokathode angeordnetes
Elektronenvervielfacherelement, und eine zwischen der
Innenfläche des Einfallsfensters und dem
Elektronenvervielfacherelement angeordnete Elektrode, die
mit einem vorher aufgebrachten Bestandteil zur späteren
Abscheidung der Photokathode versehen ist. Die Erfindung
betrifft insbesondere ein Verfahren zur Herstellung einer
Multiplierröhre, in welcher die Photokathode mit hoher
Empfindlichkeit und hoher Gleichförmigkeit einfach gebildet
werden kann.
Im allgemeinen soll zur Bildung einer Photokathode, die in
ihren Eigenschaften und ihrer Gleichförmigkeit hervorragend
ausgebildet ist, eine Abscheidungsquelle zum Abscheiden von
Bestandteilen zur Bildung der Photokathode im Abstand von
der Innenfläche des Eingangsfensters angeordnet sein. Der
Abstand, der dazwischen liegt, soll wenigstens etwa dem
Durchmesser der Photokathode entsprechen. Ferner muß in
Abhängigkeit von ihrer Verwendung der Abstand zwischen der
Photokathode und dem Elektronenvervielfacherelement
verringert werden.
Beispielsweise beschreibt die Veröffentlichung mit dem Titel
"Position Sensitive Photomultiplier Tube for Scintillation
Imaging" von Eÿi Kume, Shinichi Muramatsu und Mashiro Iida,
- veröffentlicht in IEEE Transactions on Nuclear Science,
Vol. 33, 1986, S. 359 - 363 -, eine positionsempfindliche
Multiplierröhre, bei welcher die Lage des Lichtstrahls,
welcher auf die Photokathode auftrifft, erhalten werden kann.
Bei einer derartigen positionsempfindlichen Photomultiplier
röhre läßt sich die Lage des Lichtstrahls, welcher auf die
Photokathode auftrifft, nicht erhalten,
ohne daß die Photokathode nahe dem Elektronenvervielfacher
element angeordnet ist. Es ist daher im Gegensatz zu einer
herkömmlichen Multiplierröhre nicht möglich, die Ablagerungs
quelle innerhalb der Röhre vorzusehen, und es werden daher
die Bestandteile vor dem Abdichten der Röhre niedergeschla
gen.
Dieses Verfahren ist jedoch insoweit nachteilig, daß aufgrund
des Sauerstoffs in der Luft und der Erwärmung während des
Abdichtens der Röhre die Empfindlichkeit der Photokathode
geringer ist als die einer gewöhnlichen Multiplierröhre.
Andererseits wird im Fall eines Bildverstärkers vom geringen
Abstandstyp die Photokathode in der gleichen Vakuumeinrich
tung gebildet und wird dann mit dem Körper der Photomulti
plierröhre, die an einer anderen Position vorgesehen ist,
kombiniert und anschließend wird die Röhre abgedichtet. In
diesem Fall kann die Photokathode nahe dem Elektronenverviel
facherelement angeordnet werden und die Empfindlichkeit der
Photokathode läßt sich im wesentlichen gleich der einer ge
wöhnlichen Photomultiplierröhre gestalten.
Jedoch ist auch dieses Verfahren nachteilig im Hinblick
darauf, daß eine Herstellungsmaschine zur Herstellung einer
Photomultiplierröhre schwierig zu handhaben ist und für eine
Massenproduktion nicht geeignet ist, so daß die Herstel
lungskosten hoch sind.
Aus der französischen Patentschrift 25 99 556 ist bereits
ein gattungsgemäßes Verfahren zur Herstellung einer positionsempfindlichen Multiplierröhre
bekannt, bei dem die gesamten Dynoden in Form von Blättern
als ein Kompaktbauteil angeordnet sind, das auf innerhalb
des Röhrenkolbens angeordneten Gleitstangen verschiebbar
ist. Dieser Bausatz wird zur Aufdampfung der Photokathode
auf der Innenfläche des Einfallsfensters in einem Abstand,
der in der Größenordnung des Durchmessers des
Einfallsfensters liegt, der Innenfläche des Einfallsfensters
gegenüber angeordnet. Auf der der Innenfläche des
Einfallsfensters zugewandten Seite des Bausatzes sind Drähte
gespannt, an denen das zu verdampfende Material in Form von
Kügelchen aufgebracht ist. Beim Durchleiten eines
elektrischen Stromes durch diese Drähte wird das
aufzudampfende Material verdampft und schlägt sich auf der
Innenfläche des Einfallsfensters nieder. Hiernach werden die
Zuleitungen zu den Drähten mit Hilfe von Laserstrahlen
durchschnitten und der gesamte Bausatz wird auf den
Gleitstangen mit Hilfe der Schwerkraft in eine Position in
geringem Abstand zu der Innenfläche des Einfallsfensters
gebracht und dort ebenfalls mit Hilfe von Laserstrahlen in
dieser Position fixiert. Der Nachteil einer solchen
Anordnung besteht darin, daß die für die Aufdampfung
vorgesehenen Drähte durchtrennt werden müssen und somit frei
in der Anordnung liegen. Ferner ist die Verschiebung und
Fixierung des Dynodenbausatzes anschließend umständlich.
Der vorliegenden Erfindung liegt deshalb die Aufgabe
zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung einer
positionsempfindlichen Photomultiplierröhre anzugeben, bei
dem das Herstellungsverfahren bei gleicher Güte der
Photomultiplierröhre vereinfacht ist.
Diese Aufgabe wird ausgehend von einem Verfahren der
eingangs erwähnten Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
für die der Abscheidung der Photokathode dienende
Elektrode eine Maschenelektrode verwendet wird,
und daß die
Maschenelektrode
in
der Weise permanent angeordnet wird, daß der
Maschenabstand der Maschenelektrode nicht mehr beträgt als
das Zweifache des Abstands zwischen der Innenfläche des
Einfallsfensters und der Maschenelektrode.
Ein wesentlicher Vorteil besteht darin, daß die
Elektronenvervielfacherelemente nach der Aufdampfung der
Photokathode bereits unmittelbar an ihrer richtigen Stelle
eingebaut sind, und daß die gesamte Anordnung weiterhin
unter dem einmal erzeugten Vakuum gehalten werden kann. Das
Verfahren ermöglicht ferner die Bildung einer Photokathode
mit hoher Empfindlichkeit wie auch hoher Gleichförmigkeit.
Bei diesem Verfahren werden die Bestandteile auf der
Innenfläche des Einfallsfensters bevorzugt durch Anlegen
eines Stromes an die Ablagerungsmaschenelektrode
abgeschieden.
Bei der nach diesem Verfahren hergestellten Photomultiplierröhre ist die
Abscheidungsmaschenelektrode, an welcher ein Bestandteil,
beispielsweise Sb (Antimon) zur Bildung der Photokathode
vorher in geeigneter Weise abgelagert worden ist, zwischen
der Innenfläche des Einfallsfensters und dem Elektronen
vervielfacherelement angeordnet. Es kann daher in gleicher
Weise wie bei der Herstellung der gewöhnlichen Photomulti
plierröhre ein Vakuumbehälter, beispielsweise eine Röhre,
vakuumentgast werden und dann der Bestandteil an der Innen
fläche des Einfallsfensters durch Anlegen eines Stroms an
die Abscheidungsmaschenelektrode gleichförmig abgelagert
werden. Dann wird die Schicht des Bestandteils mit einem
Alkalimetall aktiviert zur Vervollständigung der Bildung
einer Photokathode. Auf diese Weise läßt sich die Photo
kathode mit hoher Empfindlichkeit und hoher Gleichförmig
keit einfach bilden.
In dem Fall, in welchem der Maschenabstand der Abscheidungs
maschenelektrode nicht mehr als das Zweifache des Abstandes
zwischen der Maschenelektrode und der Innenfläche des Ein
fallsfensters beträgt, läßt sich der Bestandteil zur Bildung
der Photokathode äußerst genau und gleichförmig auf der
Innenfläche des Einfallsfensters abscheiden.
Wenn ferner der Bestandteil auf der Innenfläche des Einfalls
fensters durch Anlegen eines Stroms an die Abscheidungs
maschenelektrode abgeschieden wird, kann eine Vakuumabschei
dung äußerst einfach erreicht werden.
Anhand der Figuren wird die Erfindung noch näher erläutert.
Es zeigt:
Fig. 1 eine schnittbildliche Darstellung der Anordnung
eines Ausführungsbeispiels einer Photomultiplier
röhre vom geringen Abstandstyp, welche nach
einem Verfahren gemäß der Erfindung hergestellt
ist;
Fig. 2 eine Draufsicht auf die Gestaltung einer Aus
führungsform einer Abscheidungsmaschenelektrode,
welche in der Photomultiplierröhre vom geringen
Abstandstyp verwendet wird, und die Erläuterung
des Anlegens eines Stroms an diese Elektrode;
Fig. 3 eine perspektivische Darstellung der Ausbildung
und Wirkung von Fadenkreuzanoden in der Photo
multiplierröhre;
Fig. 4 eine graphische Darstellung des spektralen
Ansprechverhaltens (Empfindlichkeit) der Photo
multiplierröhre, welche nach dem Verfahren der
Erfindung hergestellt ist, und Vergleich mit
einer herkömmlichen Röhre; und
Fig. 5 eine Draufsicht zur Erläuterung der Ausbildung
eines anderen Ausführungsbeispiels einer
Abscheidungsmaschenelektrode und ein Verfahren
zum Anlegen von Strom an diese Elektrode.
Ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel der Erfindung, welches
bei einer Photomultiplierröhre vom geringen Abstandstyp
mit positionsempfindlicher Erfassung zur Anwendung kommt,
wird nunmehr unter Bezugnahme auf die Figuren im einzelnen
erläutert.
Eine Photomultiplierröhre, welche gemäß der Erfindung her
gestellt worden ist, enthält, wie die Fig. 1 zeigt, einen
Vakuumbehälter, insbesondere eine Röhre 10, mit einem Ein
fallsfenster 12, eine an der Innenfläche des Einfalls
fensters 12 gebildete Photokathode 14 und ein Elektronen
vervielfacherelement 16, das in geringem Abstand von der
Photokathode 14 angeordnet ist. Die Photomultiplierröhre
enthält ferner eine Abscheidungsmaschenelektrode 20, welche
zwischen der Photokathode 14 (Innenfläche des Einfalls
fensters 12) und dem Elektronenvervielfacherelement 16 ange
ordnet ist. Auf dieser Abscheidungsmaschenelektrode ist vor
her ein Bestandteil, beispielsweise Sb (Antimon) zur Bildung
der Photokathode 14 aufgebracht (beispielsweise abgelagert)
worden.
Ferner sind mit der Bezugsziffer 22 eine in Fig. 3 gezeigte
Fadenkreuzanode, mit 24 die letzte Dynode, beispielsweise
vom Reflexionstyp, und mit 26 Ausgangsklemmen bezeichnet.
Das Elektronenvervielfacherelement 16 besteht bei
spielsweise aus elf übereinander angeordneten Maschendynoden.
Die Abscheidungsmaschenelektrode besteht aus rostfreiem Stahl
und weist, wie es in Fig. 2 dargestellt ist, mehrere regel
mäßige hexagonale Öffnungen auf, die mit einem Maschenabstand
von 2 mm angeordnet sind, wobei die Drähte, welche die Öff
nungen umfassen, 0,05 bis 0,08 mm breit sind.
Die derart aufgebaute Verstärkerröhre vom geringen Abstands
typ wird wie folgt hergestellt:
Eine geeignete Menge eines Photokathodenbestandteils, bei
spielsweise Antimon (Sb), für die Bildung der Photokathode
14 wird vorher auf der Abscheidungsmaschenelektrode 20 aus
rostfreiem Stahl, wie es in Fig. 2 dargestellt ist, abge
schieden. In ähnlicher Weise wie bei der Herstellung einer
gewöhnlichen Multiplierröhre wird die Röhre 10 einer
Vakuumentgasung unterworfen und dann wird ein Strom von
einigen Ampere an die Abscheidungsmaschenelektrode 20 ange
legt, so daß Sb zur Bildung der Photokathode 14 gleichförmig
sich auf der Innenfläche des Einfallsfensters 12 nieder
schlägt. Anschließend wird die Schicht aus Sb unter Verwen
dung eines Alkalimetalls aktiviert, wobei die Photokathode
14 gebildet wird. Die anderen Herstellungsschritte sind die
gleichen wie bei herkömmlichen Bauarten.
Wenn Photonen auf das Einfallsfenster 12 der Photomulti
plierröhre vom geringen Abstandstyp zur Einwirkung gebracht
werden, werden Elektronen von der Photokathode 14 ausgesen
det. Die so ausgesendeten Elektronen treffen auf die erste
(bzw. oberste) Maschendynode, so daß Sekundärelektronen
ausgesendet werden. Dieser Vorgang wird in der gleichen Weise
mit den übrigen Maschendynoden durchgeführt, so daß sich die
Anzahl der Elektronen stark erhöht. Der Sekundärelektronen
fluß, welcher von der letzten Dynode, welche beispielsweise
vom Reflexionstyp ist, ausgesendet wird, wird von den Faden
kreuzanoden 22 gesammelt. Die Fadenkreuzanoden 22 können
demgemäß die Positionen der Elektroden in einer Ebene mes
sen, welche parallel zur Photokathode 14 ist. Dabei werden
die von den Anoden gesammelten Elektronen durch Widerstands
ketten, die in Fig. 3 gezeigt sind, geteilt und das Elek
tronenverteilungszentrum auf der letzten Dynode 24 wird, wie
in Fig. 3 angegeben, berechnet. Dadurch, daß man die Elek
tronenverteilungszentren der Fadenkreuzanoden erhält, läßt
sich die Position des einfallenden Lichts (Photonen) auf
die Photokathode 14 ermitteln.
Bei der Messung der Quantenausbeute der nach dem Verfahren
der Erfindung hergestellten Bi-Alkaliphotokathode ergab sich
ein spektrales Ansprechverhalten (Empfindlichkeit), wie es
bzw. wie sie durch die strichlierte Linie A in Fig. 4 dar
gestellt ist. Im Vergleich zum spektralen Ansprechverhalten
(Empfindlichkeit) einer herkömmlichen positionsempfindlichen
Photomultiplierröhre hat sich herausgestellt, daß die Quan
tenausbeute aufgrund des Herstellungsverfahrens nach der
Erfindung um 25% verbesert worden ist.
Beim dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Öffnungen
der Abscheidungsmaschenelektrode 20 in einer regelmäßigen
hexagonalen Form ausgebildet, so daß die Photokathode 14
in ihrer Gleichförmigkeit verbessert wird. Jedoch ist die
Ausbildung der Maschenelektrode nicht immer auf die oben
beschriebene Formgebung beschränkt. Beispielsweise kann auch
eine Maschenelektrode mit rechteckigen Öffnungen mit einem
Maschenabstand von 3,0 mm, wie es in Fig. 5 dargestellt ist,
zum Einsatz kommen. Das heißt, es kann für die praktische
Anwendung eine Abscheidungsmaschenelektrode zum Einsatz
kommen, bei der ein bestimmter Grad von Öffnungen vorhanden
ist. Die Abscheidungsmaschenelektrode mit rechteckigen Öff
nungen, wie sie in Fig. 5 dargestellt ist, ist im Hinblick
auf ihre einfache Herstellung von Vorteil.
Beim oben beschriebenen Ausführungsbeispiel ist die Abschei
dungsmaschenelektrode 20 aus rostfreiem Stahl hergestellt,
der einen niedrigen spezifischen Widerstand aufweist. Das
Material der Maschenelektrode ist jedoch darauf nicht be
schränkt. Die gleiche Wirkung kann durch Verwendung einer
Maschenelektrode erreicht werden, die aus einem Material mit
relativ hohem spezifischen Widerstand, wie beispielsweise
Wolfram, Chromnickel, Molybdän oder dgl., hergestellt ist.
Beim oben beschriebenen Ausführungsbeispiel wird der Be
standteil zur Bildung der Photokathode, welcher vorher auf
der Maschenelektrode 20 aufgebracht worden ist, durch
Anlegen von Strom an die Maschenelektrode abgeschieden. Das
Verfahren zur Abscheidung dieses Bestandteils ist jedoch
nicht immer auf das beschriebene Verfahren beschränkt. Bei
spielsweise läßt sich die gleiche Wirkung erreichen durch
Anwendung des Verfahrens, bei welchem eine Hochfrequenz
erhitzung zur Anwendung kommt.
Ferner ist beim oben beschriebenen Ausführungsbeispiel der
Bestandteil zur Bildung der Photokathode Sb. Es sei jedoch
darauf hingewiesen, daß die Erfindung hierauf nicht be
schränkt ist. Beispielsweise kann als Bestandteil zur Bildung der Photokathode auch
Tellur
zum Einsatz kommen.
Beim oben beschriebenen Ausführungsbeispiel wird das tech
nische Konzept der Erfindung angewendet auf eine Photo
multiplierröhre vom geringen Abstandstyp mit positions
empfindlicher Erfassung, bei welcher die Photokathode und
das Elektronenvervielfacherelement nahe beieinander angeord
net sind. Die Erfindung ist jedoch nicht hierauf beschränkt.
Das technische Konzept der Erfindung kann gleichermaßen auch
auf andere positionsempfindliche Photomultiplierröhren
angewendet werden.
Wenn ferner eine Maschenelektrode beispielsweise zur Be
schleunigung der von der Photokathode 14 ausgesendeten
Photoelektronen zwischen der Photokathode 14 und dem Elek
tronenvervielfacherelement 16 angeordnet ist, kann diese
Maschenelektrode sowohl als Abscheidungsmaschenelektrode als
auch als Beschleunigungselektrode verwendet werden, wobei
der Bestandteil zur Bildung der Photokathode, beispiels
weise Antimon (Sb) oder dgl., vorher auf der Maschenelektrode
abgelagert worden ist. Wenn eine Maschenelektrode für einen
anderen Zweck als den obengenannten Zweck vorgesehen wird,
kann diese Maschenelektrode sowohl als Bauteil zur Erfüllung
des unterschiedlichen Zwecks als auch als Abscheidungs
maschenelektrode zum Einsatz kommen.
Claims (11)
1. Verfahren zur Herstellung einer positionsempfindlichen
Photomultiplierröhre, umfassend einen Vakuumbehälter (10)
mit einem Einfallsfenster (12), eine auf der Innenfläche des
Einfallsfenster (12) gebildete Photokathode (14), ein im
Abstand von der Photokathode angeordnetes
Elektronenvervielfacherelement (16), und eine zwischen der
Innenfläche des Einfallsfensters (12) und dem
Elektronenvervielfacherelement (16) angeordnete Elektrode
(20), die mit einem vorher aufgebrachten Bestandteil zur
späteren Abscheidung der Photokathode versehen ist, dadurch
gekennzeichnet, daß für die Elektrode (20) eine
Maschenelektrode verwendet wird, und daß die
Maschenelektrode in der Weise permanent angeordnet wird, daß
der Maschenabstand der Maschenelektrode (20) nicht mehr
beträgt als das Zweifache des Abstands zwischen der
Innenfläche des Einfallsfensters (12) und der
Maschenelektrode (20).
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
für den Abscheidungsschritt an die Maschenelektrode (20),
welche mit dem Bestandteil zur Bildung der Photokathode (14)
versehen ist, ein elektrischer Strom angelegt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Maschenelektrode (20) durch Abscheidung mit dem
Bestandteil zur Bildung der Photokathode (14) versehen wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß als Bestandteil zur Bildung der
Photokathode (14) Antimon oder Tellur verwendet wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß als Maschenelektrode (20) eine Elektrode
verwendet wird, die mehrere regelmäßige hexagonale Öffnungen
aufweist, bei der Drähte die Öffnungen umfassen.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die Öffnungen mit einem Maschenabstand von 2 mm angeordnet
werden, wobei die Drähte jeweils eine Breite von 0,05 bis
0,08 mm aufweisen.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß für die Maschenelektrode (20) eine
Elektrode mit mehreren rechtwinkligen Öffnungen verwendet
wird, wobei Drähte die Öffnungen umgeben.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
die Öffnungen mit einem Maschenabstand von 3,0 mm zueinander
angeordnet werden.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß für die Maschenelektrode (20) eines der
Materialien rostfreier Stahl, Wolfram, Chromnickel und
Molybdän verwendet wird.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß für die Aktivierung des auf der
Innenfläche des Einfallsfensters (12) niedergeschlagenen
Bestandteils ein Alkalimetall verwendet wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch
gekennzeichnet, daß die Maschenelektrode (20) als
Beschleunigungselektrode zur Beschleunigung der von der
Photokathode (14) ausgesendeten Photoelektronen verwendet
wird.
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1989
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