BRPI0616830A2 - método para a produção de uma placa para impressão litográfica - Google Patents

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Abstract

METóDO PARA A PRODUçãO DE UMA PLACA PARA IMPRESSãO LITOGRáFICA. é descrito um método para a produção de uma placa para impressão litográfica, compreendendo as etapas de: (a) prover um precursor de placa de impressão litográfica compreendendo (i) um suporte que possui uma superfície hidrofilica ou que está provido com uma camada hidrofílica, (ii) um revestimento sobre o suporte compreendendo uma camada foto polimerizável e, opcionalmente, uma camada intermediária entre a camada foto polimerizável e o suporte, (b) expor o revestimento a uma imagem em um compositor de placa, (c) opcionalmente, aquecer o precursor em uma unidade de pré-aquecimento, (d) revelar o precursor fora da impressora em uma unidade de gomagem, por tratamento do revestimento do precursor com uma solução de goma, desse modo removendo do suporte as áreas não expostas do revestimento, pelo que o revestimento compreende também um composto capaz de interagir com o suporte, estando o composto presente na camada foto polimerizável e/ou na camada intermediária.

Description

MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE UMA. PLACA PARA IMPRESSÃOLITOGRÁFICA.
CAMPO DA INVENÇÃO
A presente invenção está relacionada a um métodopara produzir uma placa para impressão litográfica em queum precursor de placa de impressão de foto polímero deimagem negativa, que compreende um composto capaz deinteragir com o suporte, é exposto a uma imagem e reveladofora da prensa em uma unidade de gomagem com uma solução degoma, desse modo revelando e gomando a placa em uma únicaetapa.
EMBASAMENTO DA INVENÇÃO.
Na impressão litográfica, um chamado "master" oumatriz de impressão, tal como uma placa de impressão, émontado em um cilindro da prensa. O master contém umaimagem litográfica sobre sua superfície e uma cópiaimpressa é obtida pela aplicação de tinta à imagem, seguidapor transferência da tinta do master para um materialreceptor, tipicamente papel. Na impressão litográficaconvencional, também designada como "úmida" ou "via úmida",a tinta, bem como uma solução fonte aquosa (tambémdenominada como líquido umectante) , são alimentadas àimagem litográfica, a qual consiste de áreas oleofílicas(ou hidrofóbicas, isto é, que aceitam a tinta mas repelem aágua), bem como áreas hidrofílicas (ou oleofóbicas, isto é,que aceitam água e repelem tinta). Na chamada impressãodriográfica, a imagem litográfica consiste de áreasreceptoras de tinta e áreas repelentes à tinta, e durante aimpressão driográfica somente a tinta é alimentada àmatriz.
As matrizes ou masters de impressão são de ummodo geral obtidos pelo chamado método de computador parafilme (CtF - Computer to Film), em que várias etapas pré-impressão, tais como a seleção de tipo e tamanho da fonte,escaneamento, separação de cores, filtração, trapping,layout e superposição, são efetuadas digitalmente e cadaseleção de cor é transferida para um filme para artesgráficas usando-se um compositor de imagens. Após oprocessamento, o filme pode ser usado como uma máscara paraa exposição de um material de imageamento denominado comoprecursor de placa e após o processamento da placa, éobtida uma placa de impressão que pode ser usada como ummaster. Desde cerca de 1995, o chamado método "computadorpara placa" (CtP) ganhou muito interesse. Tal método,também denominado como "direto para placa", evita a criaçãode um filme pois o documento digital é transferidodiretamente para um precursor de placa de impressão pormeio de um chamado compositor de placa. Um precursor deplaca de impressão para o CtP é freqüentemente designadocomo uma placa digital.
As placas digitais podem ser, groso modo,divididas em três categorias: (i) placas de prata, quefuncionam de acordo com o mecanismo de transferência pordifusão do sal; (ii) placas de foto polímero, que contêmuma composição foto polimerizável que endurece quando desua exposição à luz; e (iii) placas térmicas, cujomecanismo de imageamento é acionado por calor ou porconversão luz para calor. As placas térmicas sãosensibilizadas principalmente para lasers infravermelho comemissão em 830 nm ou 1064 nm. Os foto polímeros podem sersensibilizados para luz azul, verde ou vermelha (isto é, afaixa de comprimentos de onda entre 450 e750 nm), pata luzvioleta (isto é, a faixa de comprimentos de onda entre 350e 450 nm), ou para luz infravermelho (isto é, a faixa decomprimentos de onda entre 750 e 1500 nm). As fontes laservêem sendo cada vez mais usadas para expor um precursor deplaca de impressão que está sensibilizado para umcomprimento de onda correspondente de laser. Tipicamente,podem ser usados um laser de Ar (488 nm) ou um laser FD-YAG(532 nm) para expor uma placa de foto polímerosensibilizado para a luz visível. A ampla disponibilidadede diodos de laser azul ou violeta de baixo custo,originalmente desenvolvidos para armazenamento de dados pormeio de DVD, permitiu a produção de compositores de placasoperando em comprimentos de onda mais curtos. Maisespecificamente, foram produzidos lasers de semicondutorescom emissão de 350 a 450 nm usando-se um material deIn/Ga/N. Podem também ser usados um diodo de laserinfravermelho, emitindo em torno de 830 nm, ou um laser Nd-YAG emitindo em torno de 1060 nm.
Tipicamente, uma placa de foto polímero éprocessada em revelador alcalino possuindo um pH acima de10. Atualmente, a maioria das placas litográficascomerciais demandam um processo de gomagem adicional apósas placas expostas serem reveladas e antes que sejamcolocadas na prensa, de modo a proteger a placa contracontaminação, por exemplo por oxidação, impressõesdigitais, gorduras, óleo, ou pó, ou contra danos, porexemplo por arranhões durante o manuseio da placa. Taletapa de gomagem adicional não é conveniente para o usuáriofinal, pois ela é uma etapa demorada e que demanda um postode gomagem adicional.
0 documento WO 02/101 469 descreve um método paraprocessamento de um elemento imageável útil como umprecursor de placa para impressão litográfica que pode serrevelado em meio alcalino, em que o elemento é revelado egomado com uma solução reveladora / de gomagem aquosaalcalina que compreende um composto poli-hidroxilicosolúvel em água que possui uma estrutura especifica.
O documento EP 1 342 568 descreve um método paraa produção de uma placa para impressão litográfica sensívelao calor, em que o precursor de imageamento aquecido,compreendendo um revestimento de partículas de polímerotermoplástico hidrofóbicas que coalescem sob aquecimento, érevelado por meio de uma solução de goma. Uma modalidadeprática para tal tipo de placas de impressão foiintroduzido pela Agfa sob a marca comercial Azura.
Nos documentos US 6 027 857, US 6 171 735, US 6420 089, US 6 071 675, US 6 245 481, US 6 387 595, US 6 482571, US 6 576 401 e US 6 548 222, é descrito um método paraa preparação de uma placa para impressão litográfica em queuma placa de foto polímero, após a exposição a uma imagem,é montada em uma prensa e processada na prensa para aaplicação de tinta e fonte para remover do suporte as áreasnão expostas. Além disso, os documentos US 2003/16 577 e US2004/13 968 descrevem um método em que uma placacompreendendo uma camada foto polimerizável pode serprocessada em um processamento em prensa com fonte outinta, ou com um revelador aquoso não alcalino. Um compostopromotor de adesão também pode ser adicionado ao precursorde placa de impressão para melhorar a durabilidade da placano processo de impressão. Tipicamente, tais compostosapresentam uma ligação etilenicamente insaturada e um grupofuncional capaz de adsorção à superfície do suporte. Outroscompostos e polímeros podem ser usados como um composto depromoção de adesão. O composto pode estar presente nacamada foto pol imerizável ou em uma camada intermediáriaentre o suporte e a camada foto polimerizável, tal comodescrito nos documentos EP 851 299, EP 1 091 251, US2004/214 105, EP 1 491 356, US 2005/39 620, EP 1 495 866,EP 1 500 498, EP 1 520 694 e EP 1 557 262.
Um primeiro problema associado ao processamentoem prensa de tais placas de impressão de foto polímeroconsiste da falta de estabilidade à luz do dia, isto é, aimagem não é estável antes do processamento e, portanto, aplaca exposta deve ser processada dentro de um curtoperíodo após a exposição. No entanto, dado que oprocessamento em prensa não é possível durante um trabalhode impressão, o usuário final deve aguardar até que otrabalho de impressão anterior tenha sido completado antesque a placa exposta possa ser montada na prensa eprocessada. Como resultado, a exposição da placa para otrabalho de impressão seguinte deve ser retardada atéimediatamente antes da finalização do trabalho de impressãoanterior, de modo a evitar que a placa não processada sejaafetada pela luz ambiente. Alternativamente, a placaexposta deve ser mantida sob condições seguras no que dizrespeito à luz; isto porém, novamente, reduz a facilidadede uso e conveniência normalmente associadas, por exemplo,às placas de foto polímero sensíveis ao violeta einfravermelho.
Um segundo problema ainda não solucionado natécnica anterior das placas de foto polímero que podem serprocessadas na prensa consiste da ausência de uma imagemvisível entre a exposição e o processamento. Apesar de serconhecido o recurso de se adicionar um corante aorevestimento foto sensível, de forma a se obter uma imagemvisível após a remoção das áreas não expostas dorevestimento pelo processamento, isto não permitedistinguir uma placa exposta de uma placa não expostaimediatamente após a exposição à imagem, muito menosinspecionar a qualidade da imagem após a exposição, pois aimagem visível somente é revelada após o processamento na prensa. Ademais, as placas que podem ser processadas naprensa normalmente não contêm um corante, pois a remoção naprensa das áreas não impressoras do revestimento podecausar contaminação da solução fonte e/ou da tinta, podendoser necessário um número inaceitável de cópias impressas antes que a contaminação pelo corante tenha desaparecido.
Um terceiro problema associado com oprocessamento na prensa com fonte e tinta é o de umalimpeza insuficiente das áreas não expostas.No pedido de patente não publicado PCT / EP /2005 / 052 298, depositado em 18 de maio de 2005, édescrito um método para a produção de uma placa paraimpressão litográfica em que o precursor exposto à imagem érevelado com uma solução de gomagem.Resumo da Invenção
Constitui um objetivo da presente invenção proverum método para a produção de uma placa para impressãolitográfica por meio de um precursor de placa de fotopolímero, o qual é visto pelo usuário como um método quenão requer uma etapa de processamento e em que a placaexposta pode ser mantida na luz ambiente durante um tempoilimitado antes de ser montada na prensa. Tal objetivo éalcançado pelo método definido na reivindicação 1, quepossui a característica específica de que o precursor deplaca exposto à imagem é processado fora da prensa por meiode uma solução de goma. Uma vez que as áreas não exposta daplaca de foto polímero são removidas pela etapa de gomagem,a imagem litográfica não pode mais ser afetada pela luzambiente. Pelo contrário, uma exposição adicional à luz dodia apenas aumenta o grau de polimerização das áreasexpostas, isto é, irá reforçar, em lugar de deteriorar, aimagem. Além disso, a Requerente observou que, pela adiçãode um composto capaz de interagir com o suporte, a seguirtambém designado como um "composto promotor de adesão", éobtida uma placa de impressão de alta qualidade, capaz deimprimir uma grande quantidade de imagens com elevaçãoresolução, mesmo quando é omitida a etapa de pré-aquecimento entre a exposição e o processamento por goma.Tal quantidade de impressões é ainda mais ampliada quandotal etapa de pré-aquecimento é efetuada.
Constitui outro objetivo da presente invençãopropicia um método para a produção de uma placa paraimpressão litográfica por meio de um precursor de placa defoto polímero, o qual é visto pelo usuário como um métodoque não requer uma etapa de processamento e em que a placaexposta pode ser mantida na luz ambiente durante um tempoilimitado antes de ser montada na prensa, e em que éprovida uma imagem visível antes da montagem da placa naprensa. Tal objetivo é alcançado pela adição de um coranteao revestimento da placa de foto polímero. Dado que asáreas não impressoras do revestimento são removidas naetapa de gomagem, não existe risco de contaminação dasolução fonte ou da tinta durante o início do trabalho deimpressão.
Outras modalidades específicas da invenção estãodefinidas nas reivindicações dependentes.Descrição Detalhada da Invenção
De acordo com a presente invenção, é provido ummétodo para a produção de uma placa para impressãolitográfica, compreendendo as etapas de:
(a) prover um precursor de placa de impressãolitográfica compreendendo:
(i) um suporte que possui uma superfíciehidrofílica ou que está provido com uma camada hidrofílica,
(ii) um revestimento sobre o suporte,compreendendo uma camada foto polimerizável e,opcionalmente, uma camada intermediária entre a camada fotopolimerizável e o suporte;
(b) expor o revestimento a uma imagem em umcompositor de placa;
(c) opcionalmente, aquecer o precursor em umaunidade de pré-aquecimento;
(d) revelar o precursor fora da impressora em umaunidade de gomagem, por tratamento do revestimento doprecursor com uma solução de goma, desse modo removendo dosuporte as áreas não expostas do revestimento;
pelo que o revestimento compreende também umcomposto capaz de interagir com o suporte, estando ocomposto presente na camada foto polimerizável e/ou nacamada intermediária.
Na presente invenção, o precursor de placa deimpressão é exposto à imagem fora da impressora por meio deum compositor de placa, isto é, um equipamento de exposiçãoa laser adequado para a exposição de um precursor aimagens. 0 precursor usado no método da presente invenção édo tipo negativo funcional, isto é, as áreas expostas dorevestimento são endurecidas ou curadas. Aqui, o termo"endurecida/o" significa que o revestimento se tornainsolúvel ou não dispersável para a solução de gomagem oque pode ser conseguido através de polimerização e/oureticulação do revestimento.
Após o imageamento, o precursor de placa éopcionalmente aquecido, o que será a seguir designado como"pré-aquecimento", para promover ou acelerar a reação depolimerização e/ou reticulação. Tal etapa de pré-aquecimento é efetuada de preferência em uma temperatura decerca de 80 0C a 150 °C, e de preferência durante um tempode residência de cerca de 5 segundos a 1 minuto, depreferência em uma unidade de pré-aquecimento provida comelementos de aquecimento tais como lâmpadas IR, lâmpadasUV, ar aquecido, cilindros aquecidos, etc.
Subseqüentemente à etapa de imageamento ou àetapa de pré-aquecimento opcional, o precursor de placa étratado com uma solução de gomagem, pelo que as áreas não expostas do revestimento são removidas do suporte, ficandoa superfície hidrofílica do suporte nas áreas não expostasprotegidas por adsorção do agente de gomagem.. talprocessamento por goma apresenta o benefício adicional deque, devido ao agente de gomagem remanescente sobre a placa nas áreas não expostas, não é necessária uma etapa degomagem adicional para proteger a superfície do suporte nasáreas não expostas. Como resultado, a imagem litográficanão será afetada pela luz do ambiente ou por contaminação.
Na etapa de impressão, a Iaca é montada sobre ocilindro da platina da prensa de impressão e o processo deimpressão é iniciado. O método da presente invençãoapresenta a vantagem adicional de que é obtida uma melhordurabilidade da placa. A expressão "melhor durabilidade"significa que aumenta o número de folhas impressas com alta qualidade, isto é, com imagens de elevada resolução semtonalização. Tal número pode ser adicionalmente elevadoquando é efetuada uma etapa de pré-aquecimento.A solução de goma.Uma solução de goma consiste tipicamente de umliquido aquoso que compreende um ou mais compostosprotetores de superfície que são capazes de proteger aimagem litográfica de uma placa de impressão contracontaminação, por exemplo por oxidação, impressõesdigitais, gorduras, óleo, ou pó, ou contra danos, porexemplo por arranhões durante o manuseio da placa. Osexemplos adequados de tais compostos incluem polímeroshidrofílicos formadores de filme ou tenso ativos. A camadaque permanece sobre a placa após o tratamento com a soluçãode goma compreende de preferência entre 0, 005 e 20 g/m2 docomposto protetor de superfície, mais preferivelmente entre0,010 e 10 g/m2, ainda mais preferivelmente entre 0,020 e 5g/m2.
Na presente descrição, todas as concentrações decompostos presentes na solução de goma são expressadas naforma de percentuais em peso (% em peso ou % p/p) emrelação à solução de goma pronta para uso, a menos deindicação em contrário. Uma solução de goma pode sernormalmente fornecida na forma de uma solução concentrada,a qual é diluída pelo usuário final com água até umasolução de goma pronta para uso antes de sua utilização deacordo com as instruções do fornecedor, usualmente de 1parte da goma diluída com 1 a 10 partes de água.
Os polímeros preferidos para uso como o compostoprotetor na solução de goma incluem a goma arábica,Pullulan, derivados de celulose tais como a carboxi metilcelulose, carboxi etil celulose, ou metil celulose,(ciclo)dextrina, álcool polivinílico, polivinilpirrolidona, polissacarídios, homo e copolimeros do ácidoacrílico, ácido metacílico ou acrilamida, um copolímero deéter vinil metílico e anidrido malêico, ou um copolímero deestireno e anidrido malêico. São polímeros altamentepreferidos os homo ou copolimeros de monômeros contendogrupos carboxílicos, sulfônicos,ou fosfônicos, ou os saisdos mesmos, por exemplo o ácido (met)acrílico, acetato devinila, ácido estireno sulfônico, ácido vinil sulfônico,ácido vinil fosfônico, ou ácido acrilamido propanosulfônico.
Os exemplos de tenso ativos para uso como oagente protetor de superfície incluem tenso ativosaniônicos ou não iônicos. A solução de goma pode tambémincluir um ou mais dos polímeros hidrofílicos acima como oagente protetor de superfície e, além destes, um ou maistenso ativos para melhorar as propriedades superficiais dacamada revestida. A tensão superficial da solução de goma éde preferência de 20 a 50 mN/m.
A solução de goma compreende de preferência umtenso ativo aniônico cujo grupo aniônico é um grupo deácido sulfônico.
Os exemplos de tenso ativos aniônico incluemalifatos, abietatos, hidroxi alcano sulfonatos, alcanosulfonatos, dialquil sulfo succinatos, alquil benzenosulfonatos de cadeia linear, alquil benzeno sulfonatosramificados, alquil naftaleno sulfonatos, alquil fenoxipolioxi etileno propil sulfonatos, sais de éteres polioxietileno alquil sulfofenílicos, N-metil N-oleil tauratos desódio, mono amida N-alquil sulfo succinatos dissódicos,sulfonatos de petróleo, óleo de mamona sulfatado, óleo degordura sulfatado, sais de ésteres sulfúricos de alquilésteres alifáticos, sais de ésteres alquil sulfúricos,ésteres sulfúricos de éteres polioxi etileno alquilicos,sais de ésteres sulfúricos de éteres polioxi etilenoestiril fenilicos, sais de ésteres alquil fosfóricos, saisde ésteres fosfóricos de éteres polioxi etileno alquilicos,sais de ésteres fosfóricos de éteres polioxi etileno alquilfenilicos, compostos parcialmente saponifiçados decopolimeros de anidrido estireno malêico, compostosparcialmente saponifiçados de copolimeros de olefinas eanidrido malêico, e condensados de naftaleno sulfonato deformalina. São particularmente preferidos entre tais tensoativos aniônicos os dialquil sulfosuccinatos, os sais deésteres alquil sulfúricos e os alquil naftaleno sulfonatos.
Exemplos específicos de tenso ativos aniônicosincluem o dodecil fenoxi benzeno disulfonato de sódio, ossais de sódio de naftaleno sulfonatos alquilados, ometileno dinaftaleno disulfonato dissódico, o dodecilbenzeno sulfonato de sódio, óxidos de alquil difenilasulfonados, perflúor alquil sulfonato de amônio oupotássio, e o dioctil sulfosuccinato de sódio.
Exemplos adequados de tenso ativos não iônicosincluem éteres polioxi etileno alquilicos, éteres polioxietileno alquil arílicos em que o grupo arila pode ser umgrupo fenila, um grupo naftila, ou um grupo aromáticoheterocíclico, éteres polioxi etileno polistiril fenilicos,éteres polioxi etileno polioxi propileno alquilicos,polímeros em bloco de polioxi etileno e polioxi propileno,ésteres parciais de ácidos glicerino alifáticos, ésteresparciais de ácido sorbitano alifáticos, ésteres parciais deácido pentaeritritol alifático, ésteres de propileno glicolmono alifático, ésteres parciais de ácidos sacarosealifáticos, ésteres parciais de ácido polioxi etilenosorbitol alifáticos, ésteres polioxi etileno glicolalifáticos, ésteres parciais de ácidos poliglicerinoalifáticos, óleos de mamona polioxi etilenados, ésteresparciais de ácidos polioxi etileno glicerino alifáticos, dietanol amidas alifáticas, N,N-bis-2-hidroxi alquilaminas, polioxi etileno alquil aminas, ésteres trietanolamina alifáticos, e óxidos de trialqul amina. Dentre taistenso ativos não iônicos são particularmente preferidos oséteres polioxi etileno alquil fenilicos, os éteres polioxi etileno alquil naftilicos e os copolimeros em bloco depolioxi etileno e polioxi propileno. Além disso, podemtambém ser usados tenso ativos não iônicos fluorados esiliconados.
Dois ou mais dos tenso ativos acima podem serusados em combinação. Como exemplo, pode ser preferida umacombinação de dois ou mais tenso ativos aniônicos, ou umacombinação de um tenso ativo aniônico e um tenso ativo nãoiônico. A quantidade de tal tenso ativo não estáespecificamente limitada, porém é de preferência de 0,01 a30 % em peso, mais preferivelmente de 0,05 a 20 % em peso.
De acordo com a presente invenção, a soluçãopossui de preferência um pH entre 3 e 9, maispreferivelmente entre 4,5 e 8,5, ainda mais preferivelmenteentre 5 e 7. 0 pH da solução de goma é usualmente ajustadocom um ácido mineral, um ácido orgânico, ou um salinorgânico, em uma quantidade de 0,01 a 15 prp, depreferência de 0,02 a 10 % em peso. Os exemplos dos ácidosminerais incluem o ácido nitrico, ácido sulfúrico, ácidofosfórico e ácido metafosfórico. São usados especialmenteácidos orgânicos como agentes de controle de pH e comoagentes dessensibilizantes. Os exemplos de ácidos orgânicosincluem ácidos carboxiclicos, ácidos sulfônicos, ácidosfosfônicos, ou sais de tais, por exemplo succinatos,fosfatos, fosfonatos, sulfatos e sulfonatos. Exemplosespecíficos dos ácidos orgânicos incluem o ácido cítrico,ácido acético, ácido oxálico, ácido malônico, ácido p-tolueno sulfônico, ácido tartárico, ácido málico, ácidolático, ácido levulínico, ácido fítico, e ácido fosfônicoorgânico.
A solução de goma de preferência compreendetambém um sal inorgânico. Os exemplos de sais inorgânicoincluem o nitrato de magnésio, fosfato monobásico de sódio,fosfato dibásico de sódio, sulfato de níquel,hexametafosfato de sódio e tripolifosfato de sódio. Umdihidrogeno fosfato de metal alcalino, tal como o KH2PO4 ouNaH2PO4 é preferido. Outros sais inorgânicos podem serusados como agentes de inibição de corrosão, por exemplo osulfato de magnésio ou o nitrato de zinco. 0 ácido mineral,o ácido orgânico, ou o sal inorgânico podem ser usadosisoladamente ou em combinação com um ou mais deles.
De acordo com outra modalidade da presenteinvenção, a solução de goma como revelador no processamentoda placa compreende de preferência uma mistura de um tensoativo aniônico e um sal inorgânico. Em tal mistura, o tensoativo aniônico é de preferência um tenso ativo aniônico comum grupo de ácido sulfônico, mais preferivelmente um sal demetal alcalino de um ácido sulfônico e éter difenilico monoou dialquil substituído, e o sal inorgânico é depreferência um sal de fosfato mono ou dibásico, maispreferivelmente um dihidrogeno fosfato de metal alcalino,ainda mais preferivelmente o KH2PO4 ou NaH2PO4.
De acordo com outra modalidade da presenteinvenção, a solução de goma compreendendo uma mistura de umtenso ativo aniônico e um sal inorgânico possui depreferência um pH entre 3 e 9, mais preferivelmente entre 4e 8, ainda mais preferivelmente entre 5 e 7.
Além dos componentes acima, pode também estarpresente na solução de goma um agente umectante, tal como oetileno glicol, propileno glicol, trietileno glicol,butileno glicol, hexileno glicol, dietileno glicol,dipropileno glicol, dipropileno glicol, glicerina,trimetilol propano e diglicerina. 0 agente umectante podeser usado isoladamente ou em combinação de um ou mais detais. De um modo geral, o agente umectante acima mencionadoé de preferência usado em uma quantidade de 1 a 25 % empeso.
Além disso, pode estar presente na solução degoma um composto quelante. íons de cálcio e outrasimpurezas contidos na água de diluição podem exercerefeitos adversos sobre a impressão, podendo causar acontaminação da matéria impressa. Tal problema pode sereliminado pela adição de um composto quelante à água dediluição. Os exemplos preferidos de tal composto quelanteincluem ácidos fosfônicos orgânicos ou ácidos fosfonoalcano tricarboxilicos. Exemplos específicos incluem ossais de sódio ou potássio do ácido etileno diaminotetracético, ácido dietileno triamino pentacético, ácidotrietileno tetramino hexacético, ácido hidroxi etil etilenodiamino triacético, ácido nitrilo acético, ácido 1-hidroxietano 1,1-difosfônico e ácido amino tri(metil fosfônico).
Além de tais sais de sódio ou potássio de tais agentesquelantes, são úteis sais orgânicos de amina. A quantidadea ser adicionada preferida de tal agente quelante ficaentre 0,001 e 5 % em peso em relação à solução de goma naforma diluída.
Além disso, podem estar presentes na solução degoma um anti-séptico e um agente anti-espumante. Os exemplodo anti-séptico incluem o fenol, seus derivados, formalina,derivados de imidazola, dihidro acetato de sódio, derivadosde 4-isotiazolin-3-ona, benzo isotiazolin-3-ona, derivadosde benztriazola, derivados de amidina guanidina , sais deamônio quaternários, derivados de piridina, derivados dequinolina, derivados de guanidina, diazina, derivados detriazola, derivados de oxazina e oxazola. A quantidadepreferida a ser adicionada de tal anti-séptico é tal queela possa exercer um efeito estável sobre bactérias,fungos, leveduras,ou similares. Dependendo do tipo debactérias, fungos e leveduras ela é de preferência de 0,01a 4 % em peso em relação à solução de goma na formadiluída. Além disso, de preferência, podem ser usados doisou anti-sépticos em combinação para exercer um efeito anti-séptico sobre vários fungos e bactérias. 0 agente anti-espumante é de preferência um agente anti-espumante desilicone. Dentre tais agentes anti-espumantes, pode serusado um agente anti-espumante do tipo de dispersão por emulsão ou do tipo solubilizado. A quantidade apropriada aser adicionada de tal agente anti-espumante é de 0,001 a1,0 % em peso em relação a solução de goma na formadiluída.
Além dos componentes acima, um agente de receptividade de tinta pode estar presente na solução degoma caso desejado. Os exemplos de tal agente dereceptividade incluem o óleo de terebintina, xileno,tolueno, heptanos inferiores, nafta solvente, querosene,óleos minerais, hidrocarbonetos tais como uma fração depetróleo possuindo um ponto de ebulição de cerca de 120 0Ca cerca de 250 °C, ftalatos de diésteres (por exemplo,ftalato de dibutila, ftalato de diheptila, ftalato de di-n-octila, ftalato de di(2-etil hexila), ftalato de dinonila,ftalato de didecila, ftalato de dilaurila, ftalato de butil benzila), ésteres alifáticos dibásicos (por exemplo,adipato de dioctila, glicol adipato de butila, azelato dedioctila, sebacato de dibutila, sebacato de di(2-etilhexila), sebacato de dioctila), triglicerídios epoxidados(por exemplo, óleo de soja epoxidado), éster fosfatos (por exemplo, fosfato de tricresila, fosfato de trioctila,fosfato de tris cloro etila), e plastificantes possuindo umponto de solidificação de 15 0C ou menos e um ponto deebulição de 300 0C ou mais na pressão atmosférica, taiscomo ésteres de benzoatos (por exemplo, benzoato debenzila). Os exemplos de outros solventes que podem serusados em combinação com tais solventes incluem cetonas(por exemplo, a ciclohexanona), hidrocarbonetos halogenados(por exemplo, dicloreto de etileno), éteres de etilenoglicol (por exemplo, éter etileno glico monometilico, éteretileno glicol monofenilico, éter etileno glicolmonobutilico), ácidos alifáticos (por exemplo, ácidocapróico, ácido enático, ácido caprilico, ácidopelargônico, ácido cáprico, ácido undecilico, ácidoláurico, ácido tridecilico, ácido miristico, ácidopentadecilico, ácido palmitico, ácido heptadecilico, ácidoesteárico, ácido nonadecânico, ácido aráquico, ácidobehênico, ácido lignocérico, ácido cerótico, ácidoheptacosanóico, ácido montânico, ácido melissico, ácidolacérico, ácido isovalérico) e ácidos alifáticosinsaturados (por exemplo, ácido acrílico, ácido crotônico,ácido isocrotônico, ácido undecíclico, ácido olêico, ácidoelaídico, ácido cetolêico, ácido erúcico, ácido butecídico,ácido sórbico, ácido linolêico, ácido linolênico, ácidoaraquidônico, ácido propiólico, ácido estearólico, ácidoclupanodônico, ácido tarírico, ácido licânico). Ele é depreferência um ácido alifático que é líquido em umatemperatura de 50 °C, mais preferivelmente possui de 5 a 25átomos de carbono, ainda mais preferivelmente possui de 8 a21 átomos de carbono. O agente de receptividade de tintapode ser usado isoladamente ou em combinação com um ou maisde tais. O agente de receptividade de tinta é depreferência usado em uma quantidade de 0,01 a 10 % em peso,mais preferivelmente de 0,05 a 5 % em peso. O agente dereceptividade de tinta acima pode estar presente na formade uma emulsão óleo em água, ou ode ser solubilizado com aajuda de um agente solubilizante.
A viscosidade da solução de goma pode por exemploser ajustada para um valor entre 1,7 e 5 mPa.s, pela adiçãode compostos elevadores da viscosidade, tais como umpoli(óxido de etileno) ou poli(álcool vinilico), porexemplo possuindo um peso molecular entre IO4 e IO7. Taiscompostos podem estar presentes em uma concentração de 0,01 a 10 g/l.
Uma goma de cura ou cozimento possui umacomposição similar àquela acima descrita, com umapreferência adicional para compostos que não evaporem nastemperaturas de cozimento usuais. As soluções de goma decozimento ou soluções de gomagem de cozimento podem sersoluções aquosas de dodecil fenoxi benzeno disulfonato desódio, ácido naftaleno sulfônico alquilado, difenil óxidode alquila sulfonado, ácido metileno dinaftaleno sulfônico,etc. Outras soluções de gomagem contêm um componente depolímero hidrofílico e um componente de ácido orgânico.
Mais outras soluções de gomagem de cozimento contêm o salde potássio do ácido hidroxi etilideno difosfônico. Maisoutras soluções de gomagem de cozimento contêm um compostode sulfo succinamato e ácido fosfórico.
O ângulo de contato entre a solução de goma decozimento e a placa é de preferência reduzido pela adiçãode pelo menos um tenso ativo. Os tenso ativos preferidossão poliglicóis não iônicos e acrilatos de poliésteralifáticos perfluorados.A viscosidade da solução de goma de cozimento élevada a um valor de 1,7 a 5 cP, mais preferivelmente 2 a4,5 cP pela adição de pelo menos um composto elevador deviscosidade. Os compostos elevadores da viscosidadepreferidos são compostos poliméricos hidrofilicos, maispreferivelmente óxidos de polietileno. Tais óxidos depolietileno possuem de preferência um peso molecular entre100.000 e 10.000.000, mais preferivelmente entre 500.000 e5.000.000. Eles são de preferência usados em uma concentração de 0,01 a 10 g/l, mais preferivelmente de 0,05a 5 g/l.
Em outra modalidade, as soluções de gomagem decozimento compreendem (a) água, (b) pelo menos um polímerohidrofílico e (c) pelo menos um componente selecionado dentre o grupo constituído por ácidos orgânicos solúveis emágua compreendendo pelo menos duas funções ácido e sendoselecionados dentre o grupo constituído por um ácidobenzeno carboxílico, um ácido benzeno sulfônico, um ácidobenzeno fosfônico, um ácido alcano fosfônico e sais de taissolúveis em água. Os compostos (b) e (c) acima mencionadosque são dissolvidos na solução aquosa de acordo com apresente invenção são tais que eles não evaporam nastemperaturas costumeiras de cozimento. A camada protetoraque é formada permanece solúvel em água, mesmo após o cozimento, e pode ser prontamente removida sem danificar aplaca de impressão.
O componente (b) compreende em particular osseguintes polímeros hidrofilicos: N-polivinil pirrolidona,éter polivinil metílico, copolímeros contendo unidades deetileno e unidades de anidrido malêico, homopolímeros oucopolimeros contendo unidades de ácido vinil fosfônico,unidades de ácido vinil metil fosfinico e/ou unidades deácido acrílico e/ou um polialquileno glicol, tal como opolietileno glicol.
0 componente (c) compreende em particular: ácidosbenzeno disulfônicos, ácidos benzeno policarboxílicospossuindo de 3 a 6 grupos carboxila, ácidos alcanodifosfônicos possuindo de 1 a 3 átomos de carbono no grupoalcano, ácidos alcano difosfônicos contendo gruposcarboxila que possuem de 5 a 9 átomos de carbono no grupoalcano, e/ou um dos sais solúveis em água de tais ácidos(de preferência sais de metais alcalinos ou sais deamônio). Exemplos específicos do componente (c) incluem oácido benzeno 1,3-disulfônico, o ácido benzeno 1,2,4-tricarboxíIico (ácido trimelítico) , o ácido benzeno1,2,4,5-tetracarboxílico (ácido piromelítico) , o ácidobenzeno hexacarboxílico (ácido melítico) , o ácido metanodifosfônico (difosfono metano), o ácido 4,4-difosfonoheptano 1,7-dióico (ácido 3,3-difosfono pimêico) , e os saisde sódio de tais ácidos. Em outras modalidades, a soluçãode goma de cozimento pode conter adicionalmente ácidoshidroxi policarboxílicos, tais como o ácido cítrico e/ouseus sais, alcano dióis solúveis em água possuindo pelomenos 4 átomos de carbono, tais como o 1,6-hexano diol, etenso ativos (de preferência tenso ativos aniônicos ou nãoiônicos) tais como alquil aril sulfonatos, alquil fenoléter sulfonatos, e um tenso ativo natural (por exemplo,Saponin). Exemplos específicos de soluções de goma decozimento e ingredientes adequados e suas concentraçõespodem ser encontrados por exemplo nos documentos EP-A 222297, EP-A 1 025 992, DE-A 2 626 473 e US 4 786 581.
O suporte
Um suporte litográfico particularmente preferidoconsiste de um suporte de aluminio anodizado e granuladoeletroquimicamente. A granulação e anodização de suporte dealuminio são bem conhecidas. 0 ácido usado para agranulação pode ser, por exemplo o ácido nitrico ou o ácidosulfúrico. O ácido usado para a granulação compreende depreferência cloreto de hidrogênio. Podem também ser usadasmisturas, por exemplo, de cloreto de hidrogênio e ácidoacético. É bem conhecida a relação entre os parâmetros degranulação e anodização eletroquimicas, tais como avoltagem dos eletrodos, natureza e concentração doeletrólito ácido, ou consumo de energia, por um lado e aqualidade litográfica obtida em termos de Ra e peso anódico(g/m2 de AI2O3 formado sobre a superfície de alumínio) poroutro. Mais detalhes sobre a relação entre váriosparâmetros de produção e o Ra e o peso anódico podem serencontrados, por exemplo, no artigo "Management of Changein the Aluminum Printing Industry", de F. R Mayers,publicado no ATB Metallurgie Journal, volume 42, N- 1-2(2002), página 69.
O suporte de alumínio anodizado pode sersubmetido a um chamado tratamento pós-anódico para melhoraras propriedades hidrofílicas de sua superfície. Comoexemplo, o suporte de alumínio pode ser siliconizado portratamento de sua superfície com uma solução de silicato desódio em temperatura elevada, por exemplo a 95 °C.Alternativamente, pode ser aplicado um tratamento comfosfato, que envolve o tratamento da superfície de óxido dealumínio com uma solução de fosfato que pode também conter um fluoreto inorgânico. Além disso, a superfície de óxidode alumínio pode ser rinsada com uma solução de ácidocítrico ou citrato. Tal tratamento pode ser efetuado natemperatura ambiente, ou pode ser efetuado em umatemperatura ligeiramente elevada de cerca de 30 a 50 °C. Outro tratamento interessante envolve rinsar a superfíciede óxido de alumínio com uma solução de bicarbonato. Maisainda, a superfície de óxido de alumínio pode ser tratadacom ácido polivinil fosfônico, ácido polivinil metilfosfônico, ésteres de ácido fosfórico do álcool polivinílico, ácido polivinil sulfônico, ácido polivinilbenzeno sulfônico, ésteres de ácido sulfúrico do álcoolpolivinílico, e acetais de álcoois polivinílicos formadospor reação com um aldeído alifático sulfonado.
Outro tratamento pós-anódico útil pode serefetuado por meio de uma solução de ácido poliacrílico, ouum polímero compreendendo pelo menos 30 % em moles deunidades monoméricas de ácido acrílico, por exemplo oGLASCOL E15, um ácido poliacrílico, comercialmentedisponível através da ALLIED COLLOIDS.
O suporte de alumínio granulado e anodizado podeser um material semelhante a uma folha, tal como uma placa,ou pode ser um elemento cilíndrico, tal como um mangote quepode ser deslizado em torno de um cilindro de impressão deuma prensa de impressão.O suporte pode também ser um suporte flexível,que pode estar provido com uma camada hidrofílica, a seguirdenominada como "camada base". 0 suporte flexível é, porexemplo, de papel, filme plástico, ou alumínio. Os exemplospreferidos de filmes plásticos incluem filmes depoli(tereftalato de etileno), filmes de poli(naftalato deetileno), filmes de acetato de celulose, filmes depoliestireno, filmes de policarbonato, etc. 0 suporte defilme plástico pode ser opaco ou transparente.
A camada base é de preferência uma camadahidrofílica reticulada obtida a partir de um ligantehidrofílico reticulado por um agente de endurecimento talcomo formaldeído, glioxal, poliisocianato, ou um tetralquilortosilicato hidrolisado. Este último é particularmentepreferido. A espessura da camada base hidrofílica podevariar na faixa de 0,2 a 25 μm, sendo de preferência de 1 a10 μm. Maiores detalhes sobre modalidades preferidas dacamada base podem ser encontrados, por exemplo, no EP-A 1025 992.
O revestimento
O revestimento sobre o suporte compreende pelomenos uma camada que consiste de uma composição fotopolimerizável, que a seguir será também designada como"camada foto polimerizável". Tal revestimento pode tambémcompreender uma camada de barreira para oxigênio, a qualcompreende um polímero solúvel em água ou expansível emágua, sobre a camada foto polimerizável, tal camada debarreira sendo a seguir também designada como "camadasuperior" ou "overcoat", ou "camada de overcoat". Orevestimento pode compreender também uma camadaintermediária entre a camada foto polimerizável e osuporte.
A camada foto polimerizável compreende umcomposto polimerizável, um iniciador de polimerização capazde endurecer o composto polimerizável nas áreas expostas, eum ligante. O revestimento compreende também um compostopromotor da adesão, o qual está presente na camada fotopolimerizável ou na camada intermediária.
A espessura do revestimento varia de preferênciaentre 0,4 e 10 g/m2, mais pref erivelmente entre 0,6 e 3g/m2.
A camada foto polimerizável possui uma espessurade revestimento variando de preferência entre 0,4 e 5,0g/m2, mais preferivelmente entre 0,5 e 3,0 g/m2, ainda maispreferivelmente entre 0,6 e 2,2 g/m2.O composto promotor de adesão.
O composto promotor de adesão é um composto capazde interagir com o suporte, de preferência um compostopossuindo uma ligação etilenicamente insaturadapolimerizável por adição e um grupo funcional capaz deinteragir com o suporte, mais preferivelmente um grupofuncional capaz de interagir com um suporte de alumíniogranulado e anodizado. O termo "interagir" deve serentendido como qualquer tipo de reação ou processo químicoe/ou físico pelo qual é formada uma ligação entre o grupofuncional e o suporte, a qual pode ser uma ligaçãocovalente, uma ligação iônica, uma ligação complexa, umaligação coordenada, ou uma ligação por ponte de hidrogênio,e que pode ser formada por um processo de adsorção, umareação química, uma reação ácido - base, uma reação deformação de complexo, ou uma reação de um grupo quelante ouum ligante. 0 composto promotor de adesão está presente nacamada foto polimerizável e/ou em uma camada intermediáriaentre a camada foto polimerizável e o suporte.
0 composto promotor de adesão pode serselecionado dentre pelo menos um dos compostos de baixopeso molecular ou compostos poliméricos descritos no EP-A851 299, da linha 22 na página 3 à linha 1 na página 4, noEP-A 1 500 498, do parágrafo [0023] na página 7, até oparágrafo [0052] na página 20, no EP-A 1 495 866, doparágrafo [0030] na página 5, ao parágrafo [0049] na página11, no EP-A 1 091 251, do parágrafo [0014] na página 3 aoparágrafo [0018] na página 20, e no EP-A 1 520 694, doparágrafo [0023] na página 6 até o parágrafo [0060] napágina 19. Os compostos preferidos são aqueles quecompreendem um grupo fosfato ou fosfonato como o grupofuncional capaz de ser adsorvido sobre o suporte dealumínio e que compreendem uma ligação dupla etilênicapolimerizável por adição, especialmente aqueles descritosno EP-A 851 299, da linha 22 na página 3 à linha 1 napágina 4, e no EP-A 1 500 498, do parágrafo [0023] napágina 7, até o parágrafo [0052] na página 20. são tambémpreferidos aqueles compostos que compreendem grupostrialquiloxi silana, a seguir também designados como grupos"trialcoxi silana", em que a alquila é de preferênciametila ou etila, ou em que os grupos trialquiloxi silanaestão pelo menos parcialmente hidrolisados a grupossilanol, como o grupo funcional capaz de ser adsorvidosobre o suporte, especialmente agentes de acoplamento desilana possuindo um grupo reativo com ligação duplaetilênica polimerizável por adição, tal como descrito noEP-A 1 557 262 parágrafo [0279] na página 49 e no EP-A 1495 866 parágrafo [0030] na página 5 ao parágrafo [0049] napágina 11.
O composto promotor de adesão pode estar presentena camada foto polimerizável em uma quantidade variandoentre 1 e 50 % em peso, de preferência entre 3 e 30 % empeso, mais pref erivelmente entre 5 e 20 % em peso doscomponentes não voláteis da composição.
O composto promotor de adesão pode estar presentena camada intermediária em uma quantidade de pelo menos 50% em peso, de preferência pelo menos 80 % em peso, maispreferivelmente pelo menos 90 % em peso, ainda maispreferivelmente 100 % em peso dos componentes não voláteisda composição.
A camada intermediária opcional possui uma espessura de revestimento variando de preferência entre0,001 e 1,5 g/m2, mais preferivelmente entre 0, 003 e 1,0g/m2, ainda mais preferivelmente entre 0,005 e 0,7 g/m2.O composto polimerizável e o iniciador de polimerização.
De acordo com uma modalidade da presenteinvenção, o monômero ou oligômero polimerizável é ummonômero ou oligômero compreendendo pelo menos um grupofuncional epóxi ou de éter vinilico e o iniciador é umgerador de ácido de Bronsted capaz de gerar um ácido livre;a seguir tal iniciador será também designado como "fotoiniciador catiônico" ou "iniciador catiônico".
Os monômeros epóxi polifuncionais adequadosincluem, por exemplo, o carboxilato de 3,4-epóxi ciclohexilmetil 3,4-epóxi ciclohexano, o adipato de bis(3,4-epóxiciclohetil metila), uma resina epóxi difuncional de bisfenoepicloridrina e uma resina epóxi multifuncional deepicloridrina tetrafenilol etano.
Os foto iniciadores catiônicos adequados incluem,por exemplo, o hexaflúor antimoniato de triaril sulfônio, ohexaflúor fosfato de triaril sulfônio, o hexaflúorantimoniato de diaril iodônio e s-triazina substituída comhalalquila. Deve ser notado que a maioria dos iniciadorescatiônicos são também iniciadores de radicais livres, pois,além de gerar o ácido de Bronsted, eles geram tambémradicais livres durante a foto ou termo decomposição.
De acordo com uma modalidade mais preferida dapresente invenção, o monômero ou oligômero fotopolimerizável é um composto etilenicamente insaturado,possuindo pelo menos um grupo terminal etilênico, a seguirtambém designado como "monômero polimerizável por radicaislivres", e o iniciador é um composto capaz de gerarradicais livres, opcionalmente na presença de umsensibilizador, quando da exposição; a seguir tal iniciadorserá também designado como um "iniciador por radicaislivres".
Os monômeros polimerizáveis por radicais livresadequados inclúem, por exemplo, monômeros multifuncionaisde (met)acrilato (tais como ésteres de (met)acrilato deetileno glicol, trimetilol propano, pentaeritritol, etilenoglicol etoxilado e trimetilol propano etoxilado,(met)acrilato multifuncional uretaneado, e (met)acrilatoepoxilado), e diacrilatos de amina oligoméricos. Osmonômeros (met)acrílicos podem também possuir outra ligaçãodupla ou grupo epóxido além do grupo (met)acrilato. Osmonômeros de (met)acrilato podem também conter umafuncionalidade ácida (tal como de ácido carboxílico) oubásica (tal como de amina).
Qualquer iniciador de radicais livres capaz degerar radicais livres diretamente ou na presença de umsensibilizador quando exposto pode ser usado como uminiciador de radicais livres da presente invenção. Osiniciadores de radicais livres apropriados incluem, porexemplo, os derivados de acetofenona (tais como a 2,2-dimetoxi 2-fenil acetofenona e a 2-metil l-[4-(metil tio)fenil 2-morfolino propan-2-ona), benzofenona, benzila,cetocumarina (tais como a 3-benzoil 7-metoxi cumarina e a7-metoxi cumarina), xantona, tioxantona, benzoina, ou umaantraquinona substituída com alquila; sais ônio (tais comoo hexaflúor antimonato de diaril iodônio, triflato dediaril iodônio, hexaflúor antimonato de (4-(2-hidroxitetradeciloxi) fenil) fenil iodônio, hexaflúor fosfato detriaril sulfônio, p-tolueno sulfonato de triaril sulfônio,hexaflúqr antimonato de (3-fenil propan-2-onil) triarilfosfônio, e hexaflúor fosfato de N-etoxi (2-metil)piridínio, bem como sais ônio tal como descrito nasPatentes U.S. N2s 5 955 238, 6 037 098 e 5 629 354); saisde borato (tais como trifenil (n-butil) borato detetrabutil amônio, trifenil (n-butil) borato de tetraetilamônio, tetrafenil borato de difenil iodônio, e trifenil(n-butil) borato de trifenil sulfônio; e sais de borato talcomo descrito nas Patentes U.S. N— 6 232 038 e 6 218 076);s-triazinas substituídas com halo alquilas (tais como a2,4-bis(tricloro metil) 6-(p-metoxi estiril) s-triazina, a2,4-bis(tricloro metil) 6-(4-metoxi naft-l-il) s-triazina,a 2,4-bis(tricloro metil) 6-piperonil s-trizina, e a 2,4-bis(tricloro metil) 6-[(4-etoxi etilenoxi) fen-l-il] s-triazina; e s-triazinas tal como descrito nas Patentes U.S.N— 5 955 238, 6 037 098, 6 010 824 e 5 629 354); etitanoceno (bis(etano 9-2,4-ciclopentadien-l-il) bis[2,6-diflúor 3-(lH-pirrol-l-il) fenil) titânio). Os sais ônio,sais de borato e s-triazinas são os iniciadores de radicaislivres preferidos. Os sais de diaril iodônio e triarilsulfônio são os sais ônio preferidos. Os sais de triarilalquil boratos são os sais de borato preferidos. As s-triazinas substituídas com tricloro metila são as s-triazinas preferidas.
Os iniciadores de foto polimerização conhecidospodem ser usados na composição da presente invenção. Em umamodalidade preferida da presente invenção, a composiçãofoto polimerizável de acordo com a presente invençãocompreende um composto de hexaril bis(imidazola) (HABI;dímero da triaril imidazola) como um iniciador de fotopolimerização isoladamente ou em combinação com outros fotoiniciadores.
Um procedimento para a preparação de hexarilbis(imidazolas) está descrito na DE 1 470 154 e seu uso emcomposições foto polimerizáveis está documentado na EP 24629, EP 107 792, US 4 410 621, EP 215 453 e DE 3 211 312.Os derivados preferidos são, por exemplo, a 2, 4, 5, 2', 4', 5'-hexafenil bis(imidazola), a 2,2'-bis(2-cloro fenil)4, 5, 4',5'-tetrafenil bis(imidazola), a 2,2'-bis(2,4-diclorofenil) 4,5,4',5'-tetrafenil bis(imidazola) , a 2,2'-bis(2-cloro fenil) 4,5,4',5'-tetrakis(3-metoxi fenil)bis(imidazola), a 2,2'-bis(2-cloro fenil) 4,5,4',5'-tetrakis(3,4,5-trimetoxi fenil) bis(imidazola) , a2, 5, 2' , 5'-tetrakis(2-cloro fenil) 4,4'-bis(3,4-dimetoxifenil) bis(imidazola), a 2,2'-bis(2,6-dicloro fenil)4, 5, 4', 5'-tetrafenil bis(imidazola), a 2,2'-bis(2-nitrofenil) 4,5,45'-tetrafenil bis(imidazola) , a 2,2'-di-o-tolil 4,5,4',5'-tetrafenil bis(imidazola) , a 2,2'-bis(2-etoxi fenil) 4,5,4',5'-tetrafenil bis(imidazola) , e a 2,2'-bis(2,6-diflúor fenil) 4,5,4',5'-tetrafenil bis(imidazola).A quantidade do foto iniciador HABI varia tipicamente de0,01 a 30 % em peso, de preferência de 0,5 a 20 % em peso,em relação ao peso total dos componentes não voláteis dacomposição foto polimerizável.
Uma sensibilidade muito elevada pode ser obtidano contexto da presente invenção pela combinação de umalvejante óptico como sensibilizador e uma hexarilbis(imidazola) como foto iniciador.
Classes adequadas de foto iniciadores que não decompostos de hexaril bis(imidazola) incluem cetonasaromáticas, sais ônio aromáticos, peróxidos orgânicos, tiocompostos, compostos de ésteres de cetoximas, compostos deborato, compostos azinio, compostos metalocênicos,compostos de éster ativos e compostos possuindo uma ligaçãocarbono - halogênio, porém a composição de preferênciacompreende um iniciador de foto polimerização que nãocontém boro, sendo particularmente que o iniciador de fotopolimerização não contenha qualquer composto de boro.Vários exemplos específicos de foto iniciadores adequadospara a presente invenção podem ser encontrados no documentoEP-A 1 091 247. outros iniciadores preferidos são astrihalo metil sulfonas.
De preferência, os compostos de hexarilbis(imidazola) e/ou compostos metalocênicos são usadosisoladamente ou em combinação com outros foto iniciadoresadequados, em particular com cetonas aromáticas, sais ônioaromáticos, peróxidos orgânicos, tio compostos, compostosde ésteres de cetoxima, compostos azínio, compostos deésteres ativos, ou compostos possuindo uma ligação carbono- halogênio.
Em uma modalidade preferida da presente invenção,os compostos de hexaril bis(imidazola) perfazem mais do que50 % em moles, de preferência pelo menos 80 % em moles e emparticular pelo menos 90 % em moles de todos os fotoiniciadores usados na composição foto polimerizável dapresente invenção.
De acordo com outra modalidade da presenteinvenção, o monômero ou oligômero polimerizável pode seruma combinação de um monômero ou oligômero compreendendopelo menos um epóxi ou grupo funcional de éter vinílico eum composto etilenicamente insaturado polimerizável,possuindo pelo menos um grupo terminal etilênico, taliniciador podendo ser uma combinação de um iniciadorcatiônico e um iniciador de radicais livres. Um monômero ouoligômero compreendendo pelo menos um epóxi ou grupofuncional de éter vinilico e um composto etilenicamenteinsaturado polimerizável, possuindo pelo menos um grupoterminal etilênico podem ser o mesmo composto, em que ocomposto contém tanto o grupo etilênico como o grupo epóxiou de éter vinilico. Os exemplos de tais compostos incluemmonômeros acrílicos epóxi funcionais, tais como o acrilatode glicidila. O iniciador de radicais livres e o iniciadorcatiônico podem ser o mesmo composto, caso o composto sejacapaz de gerar tanto radicais livres como ácidos livres. Osexemplos de tais compostos incluem vários sais ônio, taiscomo o hexaflúor antimoniato de diaril iodônio e s-triazinas tais como a 2,4-bis(tricloro metil) 6-[(4-etoxietilenoxi) fen-l-il] s-triazina, que são capazes de gerartanto radicais livres como ácido livre na presença de umsensibilizador.
A camada foto polimerizável pode tambémcompreender um monômero multifuncional. Pode tambémcompreender um monômero multifuncional. Tal monômero contémpelo menos dois grupos funcionais selecionados dentre umgrupo etilenicamente insaturado e/ou um grupo de étervinilico ou epóxi. Monômeros multifuncionais específicospara uso no revestimento de foto polímero estão descritosna US 6 410 205, US 5 049 479, EP 1 079 276, EP 1 369 232,EP 1 369 231, EP 1 341 040, US 2003/0 124 460, EP 1 241002, EP 1 288 720 e no livro referência que inclui asseguintes referências: Chemistry & Technology UV & EBformulation for coatings, inks & paints - volume 2Prepolymers and Reactive Diluents for UV & EB CurableFormulations, por N. S. Allen, M. A. Johnson, Ρ. Κ. T.Oldring, M. S. Salim - editado por Ρ. Κ. T. Oldring, 1991 -ISBN O 947798102. São particularmente preferidos monômerosmultifuncionais de (met)acrilato de uretano, que podem serusados isoladamente ou em combinação com outros monômerosmultifuncionais de (met)acrilato.
A camada foto polimerizável pode tambémcompreender um co-iniciador. Tipicamente, um co-iniciador éusado em combinação com um iniciador de radicais livrese/ou um iniciador catiônico. Co-iniciadores específicospara uso no revestimento de foto polímero estão descritosna US 6 410 205, US 5 049 479, EP 1 079 276, EP 1 369 232,EP 1 369 231, EP 1 341 040, US 2003/0 124 460, EP 1 241002, EP 1 288 720 e no livro referência que inclui asreferências citadas: Chemistry & Technology UV & EBformulation for coatings, inks & paints - volume 3Photoinitiators for Free Radical and CationicPolymerisation, por Κ. K. Dietliker - editado por Ρ. Κ. T.Oldring, 1991 - ISBN 0 947798161.
A camada foto polimerizável pode tambémcompreender um inibidor. Inibidores específicos para uso norevestimento de foto polímero estão descritos na US 6 410205, EP 1 288 720, e no pedido de patente não publicado EP-A 0 4 101 955, depositado em 6/5/2004.
O ligante da camada foto polimerizável
A camada foto polimerizável pode tambémcompreender um ligante. 0 ligante pode ser selecionadodentre uma ampla gama de polímeros orgânicos. Podem tambémser usadas composições de diferentes ligantes. Os ligantesúteis incluem, por exemplo, polialquilenos clorados (emparticular polietileno clorado e polipropileno clorado), ésteres alqílicos ou ésteres alquenílicos de ácidopolimetacriIico (em particular o poli(met)(acrilato demetila), o poli(met) (acrilato de etila) , opoli(met)(acrilato de butila), o poli(met)(acrilato deisobutila), o poli(met)(acrilato de hexila), opoli(met)(acrilato de 2-etil hexila), e copolímeros depoli(met)(acrilato de alquila) de ésteres alquílicos ouésteres alquenílicos de ácido acrílico com outros monômeroscopolimerizáveis (em particular com (met)acrilonitrila,cloreto de vinila, cloreto de vinilideno, estireno e/oubutadieno), copolímeros de poli(cloreto de vinila)(PVC) /(met)acrilonitrila, copolímeros de poli(cloreto devinilideno) (PVDC) / (met)acrilonitrila, poli(acetato devinila), álcool polivinílico, polivinil pirrolidona,copolímeros de vinil pirrolidona ou vinil pirrolidona alquilada, poli(vinil caprolactama), copolímeros de vinilcaprolactama, poli((met)acrilonitrila), copolímeros de(met)acrilonitrila / estireno, copolímeros de
(met)acrilamida / (met)acrilato de alquila, terpolímeros de(met)acrilonitrila / butadieno / estireno (ABS), poliestireno, poli(α-metil estireno), poliamidas,poliuretanos, poliésteres, metil celulose, etil celulose,acetil celulose, hidroxi (Ci - C4)alquil celulose, carboximetil celulose, poli(vinil formal) e poli(vinil butiral).São ligantes particularmente preferidos os polímerospossuindo como unidades monoméricas a vinil caprolactama, avinil pirrolidona, ou a vinil pirrolidona alquilada. Ospolímeros de vinil pirrolidona alquilada podem ser obtidospor inserção de alfa olefinas na cadeia principal dopolímero de vinil pirrolidona. Exemplos típicos de taisprodutos incluem os polímeros Agrimer AL Graftcomercialmente disponíveis através da ISP. 0 comprimento dogrupo de alquilação pode variar de C4 a C30. Outros ligantesúteis são ligantes contendo grupos carboxila, em particularcopolímeros contendo unidades monoméricas de ácidoscarboxílicos a,β-insaturados ou unidades monoméricas deácidos dicarboxílicos (de preferência ácido acrílico, ácidometacrílico, ácido crotônico, ácido vinil acético, ácidomalêico, ou ácido itacônico). 0 termo "copolímero" deve serentendido no contexto da presente invenção como polímeroscontendo unidades de pelo menos dois monômeros diferentes,e portanto também terpolímeros e polímeros mistossuperiores. Os exemplos específicos de copolímeros úteisincluem aqueles contendo unidades de ácido (met)acrílico eunidades de (met)acrilatos de alquila, (met)acrilatos dealila e/ou (met)acrilonitrila, bem como copolímeroscontendo unidades de ácido crotônico e unidades de(met)acrilatos de alquila e/ou (met)acrilonitrila ecopolímeros de ácido vinil acético / (met)acrilato dealquila. São também adequados copolímeros contendo unidadesde anidrido malêico, ou ésteres monoalquílicos de ácidomalêico. Dentre estes incluem-se, por exemplo, copolímeroscontendo unidades de anidrido malêico e estireno, éteres ouésteres insaturados, ou hidrocarbonetos alifáticosinsaturados e os produtos de esterificação obtidos a partirde tais copolimeros. Outros ligantes adequados são produtosque podem ser obtidos através da conversão de polímeroscontendo hidroxila com anidridos dicarboxilicos intra-moleculares. Outros ligantes úteis são os polímeros nosquais estão presentes grupos com átomos de hidrogênioácidos, alguns ou todos os quais são convertidos comisocianatos ativados. Os exemplos de tais polímeros incluemprodutos obtidos por conversão de polímeros contendohidroxila com sulfonil isocianatos alifáticos ouaromáticos, ou isocianatos de ácido fosfínico. São tambémadequados polímeros com grupos hidroxila alifáticos ouaromáticos, por exemplo copolimeros contendo unidade de(met)acrilatos de hidroxi alquila, álcool alílico, hidroxiestireno, ou álcool vinílico, bem como resinas epóxi,contanto que eles portem um número suficiente de grupos OHlivres. Ligantes e ligantes reativos particularmente úteisestão descritos na EP 1 369 232, EP 1 369 231, EP 1 341040, US 2003/0 124 460, EP 1 241 002, EP 1 288 720, US 6027 857, US 6 171 735 e US 6 420 089.
Os polímeros orgânicos usados como ligantespossuem um típico peso molecular médio Mw entre 600 e700.000, de preferência entre 1.000 e 350.000. Também édada preferência a polímeros possuindo um número de ácidoentre 10 e 250, de preferência 20 a 200, ou um número dehidroxila entre 50 e 750, de preferência entre 100 e 500. aquantidade de ligantes varia de um modo geral de 10 a 90 %em peso, de preferência 20 a 80 % em peso, em relação aopeso total dos componentes não voláteis da composição.São também ligantes particularmente adequados oscopolímeros de acetato de vinila e álcool vinilico,compreendendo de preferência álcool vinilico em umaquantidade de 10 a 98 % em moles, mais pref erivelmenteentre 35 e 95 % em moles, ainda mais preferivelmente 40 e75 % em moles; os melhores resultados são obtidos com 50 a65 % em moles de álcool vinilico. 0 valor de éster, medidopelo método definido na DIN 53 401, dos copolímeros deacetato de vinila e álcool vinilico varia de preferência entre 25 e 700 mg KOH/g, mais preferivelmente entre 50 e500 mg KOH/g, ainda mais preferivelmente entre 100 e 300 mgKOH/g. A viscosidade dos copolímeros de acetato de vinila eálcool vinilico é medida em uma solução aquosa a 4 % empeso a 20 °C, tal como definido na DIN 53 015, a viscosidade variando de preferência entre 3 e 60 mPa.s,mais preferivelmente entre 4 e 30 mPa.s, ainda maispreferivelmente entre 5 e 25 mPa.s. O peso molecular médio,Mw, dos copolímeros de acetato de vinila e álcool vinilicovaria de preferência entre 5.000 e 500.000 g/mol, maispreferivelmente entre 10.000 e 400.000 g/mol, ainda maispreferivelmente entre 15.000 e 250.000 g/mol. Outrosligantes preferidos estão descritos na EP 152 819 Bl, napágina 2, linha 50, até a página 4, linha 20, e na EP 1 043627 BI, no parágrafo [0013] na página 3.
Em outra modalidade, o ligante poliméricocompreende uma cadeia principal hidrofóbica e grupospendentes incluindo, por exemplo, um segmento hidrofílicode poli(óxido de alquileno). O ligante polimérico podetambém incluir grupos ciano pendentes ligados à cadeia.principal hidrofóbica. Pode também ser empregada umacombinação de tais ligantes. De um modo geral, o ligantepolimérico é sólido na temperatura ambiente e é tipicamenteum termoplástico não elastomérico. 0 ligante poliméricocompreende regiões hidrofilicas e hidrofóbicas, o que éconsiderado importante para aumentar a diferenciação dasáreas expostas e não expostas por facilitar a capacidade derevelação. De um modo geral, o ligante polimérico écaracterizado por um peso molecular médio numérico (Mn) nafaixa de cerca de 10.000 a 250.000, mais comumente na faixade cerca de 25.000 a 200.000. A composição polimerizávelpode compreender partículas individuais do ligantepolimérico. De preferência, as partículas individuais sãopartículas do ligante polimérico que estão suspensas nacomposição polimerizável. A presença de partículasindividuais tende a promover a capacidade de revelação dasáreas não expostas. Exemplos específicos dos ligantespoliméricos de acordo com a presente modalidade estãodescritos na US 6 899 994, na US 2004 / 0 260 050, US2005/0 003 285, US 2005/0 170 286 e na US 2005 0 123 853.além do ligante polimérico da presente modalidade, a camadade imageamento pode opcionalmente compreender um ou maisco-ligantes. Os co-ligantes típicos são polímeros solúveisem água ou dispersáveis em água, tais como derivados decelulose, álcool polivinílico, ácido poliacrílico, ácidopoli(met)acrílico, polivinil pirrolidona, polilactetos,ácido polivinil fosfônico, copolímeros sintéticos tais comoo copolímero de um (met)acrilato de alcoxi polietilenoglicol. Exemplos específicos de co-ligantes estão descritosna US 2004/0 260 050, US 2005/0 003 285 e US 2005/0 123853. Os precursores de placa de impressão, cuja camada deimageamento compreende um ligante e opcionalmente um co-ligante de acordo com a presente modalidade, estãodescritos em maiores detalhes na US 2004/0 260 050, US2005/0 003 285 e US 2005/0 123 853, compreendemopcionalmente um revestimento superior e uma camadaintermediária.
Tenso ativo
Vários tenso ativos podem ser adicionados àcamada foto polimerizável para permitir ou aumentar acapacidade de revelação do precursor com uma solução degoma. Podem ser usados tanto tenso ativos poliméricos comode pequenas moléculas. São preferidos os tenso ativos nãoiônicos. Os tenso ativos não iônicos preferidos sãopolímeros e oligômeros contendo um ou mais segmentos depoliéter (tais como polietileno glicol, polipropilenoglicol e um copolímero de etileno glicol e propilenoglicol). Os exemplos de tenso ativos não iônicos preferidosincluem copolímeros em bloco de propileno glicol e etilenoglicol (também denominado como copolímero em blocos deóxido de propileno e óxido de etileno); oligômeros deacrilato etoxilados ou propoxilados, e alquil fenóispolietoxilados e álcoois graxos polietoxilados. O tensoativo não iônico é de preferência adicionado em umaquantidade variando entre 0,1 e 30 % em peso dorevestimento, mais preferivelmente entre 0,5 e 20 % e aindamais preferivelmente entre 1 e 15 %.
SensibilizadorA composição foto curável pode também compreenderum sensibilizador. São sensibilizadores altamentepreferidos os sensibilizadores que absorvem luz violeta,possuindo um espectro de absorção entre 350 nm e 450 nm, depreferência entre 370 nm e 420 nm, mais pref erivelmenteentre 390 nm e 415 nm. Sensibilizadores particularmentepreferidos estão descritos na EP 1 349 006, parágrafos[0007] a [0009], no EP-A 3 103 499, depositado em22/09/2003, e no WO 2004/047 930, incluindo as referênciascitadas em tais pedidos de patente. Outros sensibilizadoresaltamente preferidos são os corantes absorvedores de luzinfravermelho, possuindo um espectro de absorção entre 750nm e 1300 nm, de preferência entre 780 nm e 1200 nm, maispreferivelmente entre 800 nm e 1100 nm. Sãosensibilizadores particularmente preferidos os corantes deheptametino ciano, especialmente os corantes descritos naEP 1 359 008, parágrafos [0030] a [0032] . Outrossensibilizadores preferidos incluem sensibilizadoresabsorvedores de luz azul, verde, ou vermelha, possuindo umespectro de absorção entre 450 nm e 750 nm. Ossensibilizadores úteis podem ser selecionados dentre oscorantes sensibilizadores descritos nas US 6 410 205, US 5049 479, EP 1 079 276, EP 1 369 232, EP 1 369 231, EP 1 341040, US 2003/0 124 460, EP 1 241 002 e EP 1 288 720.
Corante
A camada foto polimerizável ou outra camada dorevestimento podem também conter um corante. 0 corante podeestar presente na camada foto polimerizável ou em umacamada separada abaixo ou acima da camada fotopolimerizável. Após o processamento com uma solução degoma, pelo menos parte do corante permanece sobre as áreasde revestimento endurecidas e uma imagem visível pode serproduzida sobre o suporte através da remoção dorevestimento, incluindo o corante, nas áreas não expostasno processamento por goma.
0 corante pode ser um corante ou um pigmento. Umcorante ou pigmento pode ser usado como um colorante quandoa camada, contendo o corante o pigmento, for corado para oolho humano.
O colorante pode ser um pigmento. Podem serusados vários tipos de pigmentos, tais como pigmentosorgânicos, pigmentos inorgânicos, negro de fumo, pigmentosmetálicos em pó e pigmentos fluorescentes. São preferidosos pigmentos orgânicos.
Exemplos específicos de pigmento orgânicosincluem pigmentos de quinacridona, pigmentos dequinacridona quinona, pigmentos de dioxazina, pigmentos deftalocianina, pigmentos de antrapirimidina, pigmentos deantantrona, pigmentos de indantrona, pigmentos deflavantrona, pigmentos de perileno, pigmentos dedicetopirrolo pirrola, pigmentos de perinona, pigmentos dequinoftalona, pigmentos de antraquinona, pigmentos detioendigo, pigmentos de benzimidazolona, pigmentos deisoindolinona, pigmentos deazometina e azo pigmentos.
Os exemplos específicos de pigmentos que podemser usados como colorantes incluem os seguintes (aqui CIconstitui uma abreviação para "Color Index" / índice decor; por pigmento de cor azul entenda-se um pigmento queaparenta ser azul para o olho humano; os outros pigmentoscoloridos devem ser considerados da mesma forma):Pigmentos de cor azul que incluem o CI pigmento azul 1, oCI pigmento azul 2, o CI pigmento azul 3, o CI pigmentoazul 15, o CI pigmento azul 4, o CI pigmento azul 34, o CIpigmento azul 16, o CI pigmento azul 22, o CI pigmento azul60 e similares, bem como o CI azul VAT 4, o CI azul VAT 60e similares;
Pigmentos de cor vermelha que incluem o CI pigmentovermelho 5, o CI pigmento vermelho 7, o CI pigmentovermelho 12, o CI pigmento vermelho 48 (CA) , o CI pigmentovermelho 48 (MN) , o CI pigmento vermelho 122, o CIpigmento vermelho 123, o CI pigmento vermelho 168, o CIpigmento vermelho 184, o CI pigmento vermelho 202 e o CIpigmento vermelho 209;
Pigmentos de cor amarela que incluem o CI pigmento amarelo1, o CI pigmento amarelo 2, o CI pigmento amarelo 3, o CIpigmento amarelo 12, o CI pigmento amarelo 13, o CIpigmento amarelo 14C, o CI pigmento amarelo 16, o CIpigmento amarelo 17, o CI pigmento amarelo 73, o CIpigmento amarelo 74, O CI pigmento amarelo LO O CIpigmento amarelo 83, O CI pigmento amarelo 93, O CIpigmento amarelo 95, O CI pigmento amarelo 97, O CIpigmento amarelo 98, O CI pigmento amarelo 109, O CIpigmento amarelo 110, O CI pigmento amarelo 114, O CIpigmento amarelo 128, O CI pigmento amarelo 129, O CIpigmento amarelo 138, O CI pigmento amarelo 150, O CIpigmento amarelo 151, O CI pigmento amarelo 154, O CIpigmento amarelo 155, o CI pigmento amarelo 180 e o CIpigmento amarelo 185;
Pigmentos de cor laranja que incluem o CI pigmento laranja36, o CI pigmento laranja 43 e uma mistura de taispigmentos;
Pigmentos de cor verde que incluem o CI pigmento verde 7, oCI pigmento verde 36 e uma mistura de tais pigmentos;Pigmentos de cor preta que incluem aqueles fabricados pelaMitsubishi Chemical Corporation, por exemplo o N2 2300, o N2 900, o MCF 88, o N2 33, o N2 40, o N2 45, o N2 52, o MA8, o MA 100 e o N2 2200 B;
Aqueles fabricados pela Columbian Carbon Co., Ltd., porexemplo, o Raven 5750, o Raven 5250, o Raven 5000, o Raven3500, o Raven 1255 e o Raven 700;
Aqueles fabricados pela Cabot Corporation, por exemplo, oRegai 400 R, o Regai 330 R, o Regai 660 R, o Mogul L, oMonarch 700, o Monarch 800, o Monarch 880, o Monarch 900, oMonarch 1000, o Monarch 1100, o Monarch 1300 e o Monarch1400; e
Aqueles fabricados pela Degussa, por exemplo, o Color BlackFW 1, o Color Black FW 2, o Color Black FW 2 V, o ColorBlack FW 18, o Color Black FW 200, o Color Black S 150, oColor Black S 160, o Color Black S 170, o Printex U, oPrintex V, o Printex 140 U, o Special Black 6, o SpecialBlack 5, o Special Black 4A e o Special Black 4.
Podem também ser usados como colorante outrostipos de pigmentos, tais como pigmentos marrons, pigmentosvioleta, pigmentos fluorescentes e pigmentos de pósmetálicos. Os pigmentos como colorantes podem ser usadosisoladamente, ou na forma de uma mistura de dois ou maispigmentos.
São preferidos os pigmento de cor azul, incluindopigmentos violeta.
Os pigmentos podem ser usados com ou sem seremsubmetidos a tratamento superficial das partículas depigmento. De preferência, os pigmentos são submetidos atratamento de superfície. Os métodos para tratamento desuperfície incluem métodos para aplicação de umrevestimento superficial de resina, métodos para aplicaçãode tenso ativos, e métodos para ligação de um materialreativo (por exemplo, um agente de acoplamento de silana,um composto epóxi, poliisocianato, ou similar) à superfíciedo pigmento. Exemplos adequados de pigmentos com tratamentode superfície incluem os pigmentos modificados descritos noWO 02/04 210. Especificamente, na presente invenção sãopreferidos como colorantes os pigmentos de cor azulmodificados descritos no WO 02/04 210.
Os pigmentos possuem um tamanho de partículas queé de preferência menor do que 10 μπι, mais preferivelmentemenor do que 5 um e especialmente menor do que 3 μπι. 0método para dispersar os pigmentos pode ser qualquer métodode dispersão que seja usado para a produção de tinta,tonalizador / toner, ou similares. As máquinas de dispersãoincluem um dispersador ultra-sônico, um moinho de areia, umtriturador por atrito, um moinho de esferas, um supermoinho, um moinho de bolar, um hélice, um dispensador, ummoinho KD, um moinho coloidal, um Dynatron, um moinho detrês roletes e um amassador Z. Os detalhes destes estãodescritos em "Latest Pigment Applied Technology" (CMCPublications, publicado em 1986).
Um agente de dispersão pode ser omitido napreparação de dispersões dos chamados pigmento autodispersantes. Exemplos específicos de pigmentos autodispersantes incluem pigmentos que são submetidos a umtratamento de superfície de tal forma que a superfície dopigmento fique compatível com o líquido de dispersão.Exemplos típicos de pigmentos auto dispersantes em um meioaquoso incluem pigmentos que possuem grupos iônicos ouionizáveis, ou cadeias de polioxi etileno acopladas àsuperfície das partículas. Os exemplos de grupos iônicos ouionizáveis incluem grupos ácidos ou sais de tais, tais comogrupos de ácido carboxílico, ácido sulfônico, ácidofosfórico, ou ácido fosfônico, e sais de metais alcalinosde tais ácidos. Exemplos adequados de pigmentos autodispersantes estão descritos no WO 02/04 210, sendo estespreferidos na presente invenção. São preferidos ospigmentos auto dispersantes de cor azul do WO 02/04 210.
Tipicamente, a quantidade de pigmento norevestimento pode estar na faixa de cerca de 0,005 g/m2 a 2g/m2, de preferência cerca de 0, 007 g/m2 a 0,5 g/m2, maispreferivelmente cerca de 0,01 g/m2 a 0,20 g/m2, ainda maispreferivelmente cerca de 0,01 g/m2 a 0,1 g/m2.
0 colorante pode também ser um corante. Quaisquercorantes conhecidos, tais como corantes comercialmentedisponíveis, ou os corantes descritos, por exemplo, no "DyeHandbook" (editado pela Organic Synthetic ChemistryAssociation, publicado em 1970), que são coloridos para oolho humano, podem ser usados como o colorante norevestimento foto polimerizável. Os exemplos específicos detais incluem azo corantes, azo corantes de sais complexosde metais, azo corantes de pirazolona, corantes deantraquinona, corantes de ftalocianina, corantes decarboiônio, corantes de quinonimina, corantes de metina esimilares. São preferidos os corantes de ftalocianina. Oscorantes adequados são corantes orgânicos formadores desais, podendo ser selecionados dentre corantes solúveis emóleos e corantes básicos. Os exemplos específicos de taisincluem (aqui CI é uma abreviação de Color Index): OilYellow 101, Oil Yellow 103, Oil Pink 312, Oil Green BG, OilBlue GOS, Oil Blue 603, Oil Black BY, Oil Black BS, OilBlack T-505, Victoria Pure Blue, Crystal Violet (Cl 42555),Methyl Violet (Cl 42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (Cl415170B), Malachite Green (Cl 42000), Methylene Blue (Cl52015). Além destes, podem ser usados como colorantes oscorantes descritos na GB 2 192 729.
Tipicamente, a quantidade de corante norevestimento pode estar na faixa de cerca de 0,005 g/m2 a 2g/m2, de preferência cerca de 0, 007 g/m2 a 0,5 g/m2, maispreferivelmente cerca de 0,01 g/m2 a 0,2 g/m2, ainda maispreferivelmente cerca de 0,01 g/m2 a 0,1 g/m2.Agente de impressão externa (printing-out)
A camada foto polimerizável ou outra camada dorevestimento podem também compreender um agente deimpressão extarna ou "printing-out", isto é, um compostoque é capaz de modificar a cor do revestimento quando daexposição. Após a exposição do precursor à imagem, pode serproduzida uma imagem visível, a seguir também designadacomo uma "imagem print-out" ou "imagem de impressãoexterna". 0 agente de impressão externa pode ser umcomposto tal como descrito no EP A 1 491 356, parágrafos[0116] a [0119] nas páginas 19 e 20, e no US 2005/8 971,parágrafos [0168] a [0172] na página 17. os agentes deimpressão externa preferidos incluem os compostos descritosno pedido PCT não publicado PCT/EP 2005/053 141, depositadoem Io de julho de 2005, da linha 1, página 9 à linha 27,página 20. São mais preferidos os corantes IR, tal comodescrito no pedido de patente não publicado EP 05 105440.1, depositado em 21 de junho de 2005, da linha 32,página 5, à linha 9, página 32.
O contraste
O contraste da imagem formada após a exposição àimagem e o processamento com uma solução de goma é definidocomo a diferença entre a densidade óptica na área exposta ea densidade óptica na área não exposta, sendo tal contrastede preferência tão alto quanto possível. Isto permite aousuário final determinar imediatamente se o precursor jáfoi ou não exposto e processado com uma solução de goma,distinguir as diferentes seleções de cor, e inspecionar aqualidade da imagem sobre o precursor de placa tratado.
O contraste aumenta com a elevação da densidadeóptica na área exposta e/ou com a redução da densidadeóptica nas áreas não expostas. A densidade óptica na áreaexposta pode se elevar com a quantidade e coeficiente deextinção do corante remanescente nas áreas expostas e com aintensidade da cor formada pelo agente de impressãoexterna. Nas áreas não expostas é preferido que aquantidade de colorante seja tão baixa quanto possível. Adensidade óptica pode ser medida em termos de refletânciapor um densitômetro óptico equipado com vários filtros (porexemplo, ciano, magenta, amarelo). A diferença de densidadeóptica entre a área exposta e a área não exposta possui depreferência um valor de pelo menos 0,3, maispreferivelmente pelo menos 0,4, ainda mais preferivelmentepelo menos 0,5. Não existe qualquer limite superiorespecífico para o valor do contraste, porém o contraste nãoé tipicamente maior do que 3,0, ou mesmo não maior do que2,0. Para a obtenção de um bom contraste visual para umobservador humano, o tipo de cor do colorante também podeser importante. As cores preferidas para o colorante são ascores ciano ou azul, isto é, por cor azul deve serentendida uma cor que aparenta ser azul para o olho humano.A camada de topo / superior
O revestimento pode incluir uma camada superiorque atua como uma camada de barreira para oxigênio, a seguir designada como uma "camada de overcoat" ou "camadade sobre-revestimento", ou simplesmente "overcoat". Osligantes preferidos que podem ser usados na camada de topoincluem o álcool polivinílico e os polímeros descritos noEP A 3 103 498, depositado em 22/09/2003, na US 6 410 205 e na EP 1 288 720, incluindo as referências citadas em taispatentes e pedidos de patente. 0 ligante favorito para acamada de topo é o álcool polivinílico. O álcoolpolivinílico terá de preferência um grau de hidrólisevariando entre 74 % em moles e 99 % em moles. O pesomolecular médio ponderai do álcool polivinilico pode sermedido através da viscosidade de uma solução aquosa a 4 %em peso, a 20 °C, tal como definido na DIN 53 015, talvalor de viscosidade variando de preferência entre 3 e 26,mais preferivelmente entre 3 e 15, ainda maispreferivelmente entre 3 e 10.
A espessura do revestimento da camada de topofica de preferência entre 0,25 e 1,75 g/m2, maispreferivelmente entre 0,25 e 1,3 g/m2, ainda maispreferivelmente entre 0,25 e 1,0 g/m2, em uma modalidademais preferida da presente invenção, a camada de topopossui uma espessura de revestimento entre 0,25 e 1,75 g/m2e compreende um álcool polivinilico possuindo um grau dehidrólise variando entre 74 % em moles e 99 % em moles, eum valor de viscosidade tal como definido acima variandoentre 3 e 26.
Em uma modalidade preferida, a composição e aespessura da camada de topo são otimizadas de modo a seobter uma elevada sensibilidade, uma boa estabilidade à luzdo dia e menor ou nenhuma formação de sedimentos durante oprocessamento. Para reduzir os sedimentos, a camada de topocompreende menos álcool polivinilico, o álcool polivinilicopossuindo um peso molecular mais baixo, de preferência umvalor de viscosidade abaixo de 26, mais preferivelmenteabaixo de 10, e uma espessura tão baixa quanto possível,porém acima de 0,25 g/m2, para melhorar a sensibilidade, édesejada uma boa barreira ao oxigênio, usando-se um álcoolpolivinilico com um elevado grau de hidrólise, depreferência 88 a 98 %, e uma maior espessura da camada detopo. Para melhorar a estabilidade à luz do dia, é desejadapequena penetração de oxigênio, o que se obtém pelo uso deuma barreira de oxigênio com propriedade de barreira deoxigênio reduzida, de preferência pelo uso de uma camada detopo com menor espessura e com um álcool polivinilicopossuindo um grau de hidrólise mais baixo. Dado um bomequilíbrio de tais elementos, pode ser obtida umapropriedade otimizada para o precursor,
A camada de topo pode também compreender umcomponente selecionado a partir dos compostos da. solução degoma acima descritos.Exposição
A etapa de exposição à imagem é efetuada fora daprensa em um compositor de chapa / placa, isto é, umequipamento de exposição adequado para expor o precursor àimagem por meio de um laser, tal como um diodo de laser,com emissão em torno de 830 nm, um laser NdYAG, com emissãoem torno de 1060 nm, um laser violeta, com emissão em tornode 400 nm, ou um laser de gás, tal como um laser de Ar, oupor meio de uma exposição a UV digital modulada, porexemplo por meio de dispositivos digitais de espelhos, oupor meio de uma exposição convencional em contato com umamáscara. Em uma modalidade preferida da presente invenção,o precursor é exposto à imagem por meio de um laseremitindo luz IR ou luz violeta.
Pré-aquecimento
Após tal etapa de exposição à imagem, o precursoré opcionalmente aquecido em uma unidade de pré-aquecimentopara promover ou acelerar a reação de polimerização e/oureticulação. Tal etapa de pré-aquecimento é de preferênciaefetuada a uma temperatura de 80 0C a 150 0C e durante umtempo de residência de preferência de 5 segundos a 1minuto. A unidade de pré-aquecimento estará de preferênciaprovida com elementos de aquecimento tais como lâmpadas IR,lâmpadas UV, ar aquecido, um rolete ou cilindro metálicoaquecido, etc.
Lavagem
Após a etapa de exposição ou, quando ocorrer umaetapa de pré-aquecimento, após a etapa de pré-aquecimento,o precursor pode ser lavado em uma estação ou posto de pré-lavagem, em que pelo menos parte da camada de topo pode serremovida do revestimento do precursor por meio de umliquido de lavagem, por exemplo, água ou uma soluçãoaquosa. O liquido de lavagem é de preferência água, maispreferivelmente água potável.
O termo "aquosa" inclui a água ou misturas deágua com solventes orgânicos misciveis em água, tais comoálcoois, por exemplo o metanol, o etanol, o 2-propanol, obutanol, o álcool isoamilico, o octanol, o álcool cetilico,etc., glicóis, por exemplo o etileno glicol, a glicerina, aN-metil pirrolidona, o metoxi propanol, e cetonas, porexemplo a 2-propanona e a 2-butanona, etc. O solventeorgânico miscivel com água pode estar presente em taismisturas em no máximo 50 % em peso, de preferência menosque 20 % em peso, mais preferivelmente menos que 10 % empeso, ainda mais preferivelmente nenhum solvente orgânicoestará presente na solução aquosa. A solução aquosa podeconter também um composto solubilizado ou dispersado emágua ou em uma mistura de água e um solvente miscível com aágua. Tais compostos podem ser selecionados dentre oscompostos da solução de goma tal como acima descrito.
O liquido de lavagem usado nesta etapa possui depreferência uma temperatura variando entre 15 0C e 85 °C,mais preferivelmente entre 18 0C e 65 °C, ainda maispreferivelmente entre 20 0C e 55 °C.
A estação de pré-lavagem pode compreender pelomenos uma unidade de pré-lavagem em que o liquido delavagem é aplicado ao precursor por uma técnica deborrifamento, jateamento, imersão, ou revestimento,incluindo revestimento por rotação, revestimento porcilindros, revestimento em fenda, ou revestimento porrotogravura, ou por esfregamento com um coxim impregando oupor derramento do liquido, seja manualmente ou em umequipamento automático. São preferidas as técnicas deborrifamento, jateamento, imersão ou revestimento.
Um exemplo de um bico de borrifamento que podeser usado na técnica de borrifamento consiste de um bico deborrifamento auxiliado por ar do tipo SUJ1, comercialmentedisponível através da Spraying Systems Belgium, deBruxelas. 0 bico de borrifamento pode ser montado a umadistância de 50 mm a 200 mm entre o bico e o substratoreceptor. A vazão da solução de borrifamento pode serajustada para 7 ml/min. Durante o processo de borrifamento,pode ser usada uma pressão de ar na faixa de 4,80 χ IO5 Pano cabeçote de borrifamento. Tal camada pode ser secadurante o processo de borrifamento e/ou após o processo deborrifamento. Os exemplos típicos de bicos de jato quepodem ser usados na técnica de jateamento incluem bicos dejato de tinta e bicos de jato de válvula.
Pelo menos uma das unidades de pré-lavagem podeestar provida com um rolete para esfregar e/ou escovar orevestimento enquanto o liquido de lavagem é aplicado aorevestimento.
O liquido de lavagem usado na etapa de pré-lavagem pode ser coletado em um tanque e o liquido delavagem utilizado várias vezes. 0 liquido de lavagem podeser reposto pela adição de água e/ou solução aquosa frescaao tanque da unidade de pré-lavagem. A água ou soluçãoaquosa frescas são respectivamente água ou solução aquosaque não foram usadas antes para lavagem de um precursor.
Como alternativa, o liquido de lavagem pode ser usadoapenas uma vez, isto é, somente água fresca ou soluçãoaquosa fresca são aplicadas ao revestimento, de preferênciapor uma técnica de borrifamento ou jateamento. Depreferência, é usada água potável nesta alternativa.
A estação de pré-lavagem pode compreender duas oumais unidades de pré-lavagem, de preferência duas ou trêsunidades de pré-lavagem.
Em uma modalidade preferida da presente invenção,a estação de pré-lavagem compreende uma primeira e umasegunda unidade de pré-lavagem em que o precursor éprimeiramente lavado na primeira unidade de pré-lavagem esubseqüentemente lavado na segunda unidade de pré-lavagem.O precursor pode ser primeiramente lavado na primeiraunidade de pré-lavagem com liquido de lavagem que foi usadona segunda unidade de pré-lavagem e, subseqüentemente,lavado na segunda unidade de pré-lavagem com água fresca ousolução aquosa fresca, de preferência por uma técnica deborrifamento ou jateamento. Como alternativa, as primeira esegunda unidades de pré-lavagem possuem de preferência aconfiguração de um sistema em cascata, em que o liquido delavagem usado para lavagem do precursor na primeira esegunda unidades de pré-lavagem está respectivamentepresente em um primeiro e um segundo tanque, e em que oliquido de lavagem do segundo tanque transborda para oprimeiro tanque quando água fresca ou solução aquosa frescasão adicionadas à segunda unidade de pré-lavagem.
Em outra modalidade da presente invenção, aestação de pré-lavagem pode incluir uma primeira, umasegunda e uma terceira unidade de pré-lavagem, em que oprecursor é primeiramente lavado na primeira unidade depré-lavagem, subseqüentemente na segunda unidade de pré-lavagem e finalmente na terceira unidade de pré-lavagem. Oprecursor pode ser primeiramente lavado na primeira unidadede pré-lavagem com liquido de lavagem que foi usado nasegunda unidade de pré-lavagem, subseqüentemente lavado nasegunda unidade de pré-lavagem com liquido de lavagem quefoi usado na terceira unidade de pré-lavagem e finalmentelavado na terceira unidade de pré-lavagem com água frescaou solução aquosa fresca, de preferência por uma técnica deborrifamento ou jateamento. Como alternativa, as primeira,segunda e terceira unidades de pré-lavagem possuem depreferência a configuração de um sistema em cascata, em queos líquidos de lavagem usados para lavagem do precursor nasprimeira, segunda e terceira unidade de pré-lavagem estãorespectivamente presentes em um primeiro, segundo eterceiro tanque, e em que o liquido do terceiro tanquetransborda para o segundo tanque quando água fresca ousolução aquosa fresca é adicionada na terceira unidade de pré-lavagem e o liquido de lavagem do segundo tanquetransborda para o primeiro tanque.
Em outra modalidade da presente invenção, oliquido de lavagem usado em cada uma das unidades de pré-lavagem pode também ser regenerado através da remoção de materiais insolúveis presentes no liquido de lavagem. Apresença de materiais insolúveis no liquido de lavagem podeter sido causada por várias razões, por exemplo pelalavagem de um revestimento contendo pigmento, porevaporação de solvente ou água do liquido de lavagem, ou por sedimentação, coagulação, ou floculação de componentesno liquido de lavagem. 0 material insolúvel pode serremovido por várias técnicas, tais como por filtração,ultracentrifugação, ou decantação. Um equipamento adequadopara descarte de uma solução de despejo, tal como o liquidode lavagem da presente invenção está descrito no EP A 747773. O equipamento pode estar conectado ao tanque de umaunidade de pré-lavagem para regenerar o liquido de lavagemusado por circulação do liquido de lavagem através de umfiltro ou membrana de filtro. 0 liquido de lavagem pode sercirculado pelo filtro ou membrana de filtro continuamente,periodicamente, ou durante o tempo de lavagem, ou acirculação ser regulada pela medição da turbidez outransparência (isto é, transmissão óptica) do liquido delavagem, a circulação sendo iniciada quando a turbidezsupera um valor máximo e é sustada quando for alcançado umvalor inferior. Os valores de turbidez superior e inferiorpodem ser escolhidos com relação ao grau desejado depurificação, de um modo geral a transmissão óptica doliquido de lavagem não é inferior a 50 % do seu valor noinicio, de preferência não menor do que 80 %, maispreferivelmente não menor do que 95 %.
Na presente invenção, pelo menos parte da camadade topo, quando presente, pode ser removida na etapa delavagem, de preferência mais de 50 % da camada de toposendo removida, mais preferivelmente mais de 80 %, aindamais preferivelmente mais de 95 %. De acordo com umamodalidade preferida da presente invenção, a camada fotopolimerizável não é substancialmente extraída ousolubilizada na etapa de lavagem, pelo que o líquido delavagem usado na etapa de lavagem não contém componentes dacamada foto polimerizável em uma concentração menor do que2 % em peso, mais preferivelmente menor que 1 % em peso, detais ingredientes da camada foto polimerizável, ainda maispreferivelmente menos que 0,5 % em peso. Os componentes dacamada foto polimerizável que são de preferência omitidostanto quanto possível no líquido de lavagem são o monômeropolimerizável, o monômero multifuncional, o iniciador, oinibidor e/ou o sensibilizador.
Processamento por goma
O precursor é revelado em uma estação de gomagematravés da aplicação de uma solução de goma ao revestimentodo precursor, desse modo removendo do suporte as áreas nãoexpostas da camada foto polimerizável e gomando a placa /chapa em uma única etapa. A estação de gomagem compreendepelo menos uma unidade de gomagem, em que a goma é aplicadaao precursor por meio de uma técnica de borrif amento,jateamento, imersão, ou revestimento, ou por esfregamentocom um coxim ou "boneca" impregnada ou por derramamento,seja manualmente ou em um equipamento automático.
Um exemplo de um bico de borrifamento que podeser usado na técnica de borrifamento consiste de um bico deborrifamento auxiliado por ar do tipo SUJl, comercialmentedisponível através da Spraying Systems Belgium, deBruxelas. O bico de borrifamento pode ser montado a umadistância de 50 mm a 200 mm entre o bico e o substratoreceptor. A vazão da solução de borrifamento pode serajustada para 7 ml/min. Durante o processo de borrifamento,pode ser usada uma pressão de ar na faixa de 4,80 χ IO5 Pano cabeçote de borrifamento. Tal camada pode ser secadurante o processo de borrifamento e/ou após o processo deborrifamento. Os exemplos típicos de bicos de jato quepodem ser usados na técnica de jateamento incluem bicos dejato de tinta e bicos de jato de válvula.
Pelo menos uma das unidades de gomagem pode estarprovida com pelo menos um rolete para esfregar e/ou escovaro revestimento enquanto a goma é aplicada ao revestimento.
A goma usada na etapa de revelação pode ser coletada em umtanque e a goma utilizada várias vezes. A goma pode serreposta pela adição de uma solução de reposição ao tanqueda unidade de gomagem. Como alternativa, a solução de gomapode ser usada apenas uma vez, isto é, somente a solução degoma inicial é aplicada ao revestimento, de preferência poruma técnica de borrifamento ou jateamento. A solução degoma inicial é uma solução de goma que não foi usada pararevelação de um precursor e que possui a mesma composiçãoque a solução de goma usada no inicio da revelação.
A solução de reposição consiste de uma soluçãoque pode ser selecionada dentre uma solução de gomainicial, uma solução de goma concentrada, uma solução degoma diluída, uma solução de um tenso ativo não iônico,água, uma solução de um tampão possuindo um pH variandoentre 4 e 7, ou uma goma de cozimento. Uma solução de gomadiluída ou concentrada consiste de uma soluçãocompreendendo respectivamente uma concentração mais baixaou mais elevada de aditivos de goma tal como definidoacima. Uma solução de goma concentrada pode ser adicionadacomo a solução de reposição quando a concentração deprodutos ativos estiver abaixo de um nível desejado nasolução de goma. Uma solução de goma diluída ou água podeser usada quando a concentração de produtos ativos estejaacima de um nível desejado na solução de goma, ou quando aviscosidade da solução de goma se eleve, ou quando o volumeda solução de goma esteja abaixo de um nível desejado, porexemplo devido à evaporação do solvente ou água. Umasolução de um tenso ativo não iônico, ou uma solução de umtampão, podem ser adicionadas quando a solução de gomanecessite uma concentração mais elevada de um tenso ativo,ou quando o pH da solução de goma deva ser controlado em umvalor de pH desejado, ou em um valor de pH desejado em umafaixa de dois valores de pH, por exemplo entre 4 e 7.A adição de solução de reposição, isto é, o tipoe a quantidade de solução de reposição, pode ser reguladapela medição de pelo menos um dentre os seguintesparâmetros: o número e a área do precursor de chaparevelado, o período de tempo de revelação, o volume em cadaunidade de gomagem (níveis mínimo e máximo), a viscosidade(ou aumento da viscosidade) da solução de goma, o pH (oumudança de pH) da solução de goma, a densidade (ou aumentoda densidade) da solução de goma e a condutividade (ouaumento da condutividade) da solução de goma, ou umacombinação de pelo menos dois destes. A densidade (ouelevação da densidade) da solução de goma pode ser medidapor meio de um densitômetro PAAR.
A solução de goma usada nesta etapa possui depreferência uma temperatura variando entre 15 0C e 85 °C,mais preferivelmente entre 18 0C e 65 °C, ainda maispreferivelmente entre 20 0C e 55 °C.
Em uma modalidade preferida da presente invenção,a estação de gomagem compreende uma primeira e uma segundaunidades de gomagem, em que o precursor é primeiramenterevelado na primeira unidade de gomagem e subseqüentementerevelado na segunda unidade de gomagem. O precursor podeser primeiramente revelado na primeira unidade de gomagemcom uma solução de goma que foi usada na segunda unidade degomagem e, subseqüentemente, revelado na segunda unidade degomagem com solução de goma inicial, de preferência pormeio de uma técnica de borrifamento ou jateamento. Comoalternativa, as primeira e segunda unidades de gomagempossuem de preferência a configuração de um sistema emcascata, em que a solução de goma usada para revelar oprecursor nas primeira e segunda unidades de gomagem estáde preferência presente em um primeiro e um segundotanques, e em que a solução de goma do segundo tanque transborda para o primeiro tanque quando solução dereposição for adicionada à segunda unidade de gomagem.Opcionalmente, também pode ser adicionada à primeiraunidade de gomagem uma solução de reposição, tal solução dereposição podendo ser a mesma ou outra solução de reposição que aquela adicionada à segunda unidade de gomagem, porexemplo uma solução de goma diluída, uma solução de umtenso ativo não iônico, ou água podem ser adicionadas comoreposição à primeira unidade de gomagem.
Em outra modalidade da presente invenção, a estação de gomagem compreende uma primeira, uma segunda euma terceira unidades de gomagem, em que o precursor éprimeiramente revelado na primeira unidade de gomagem,subseqüentemente na segunda unidade de gomagem e finalmentena terceira unidade de gomagem. O precursor pode ser primeiramente revelado na primeira unidade de gomagem comsolução de goma que foi usada na segunda unidade degomagem, subseqüentemente revelado na segunda unidade degomagem com solução de goma que foi usada na terceiraunidade de gomagem, e finalmente revelado na terceiraunidade de gomagem com solução de goma inicial, depreferência por meio de uma técnica de borrifamento oujateamento. Como alternativa, as primeira, segunda eterceira unidades de possuem de preferência a configuraçãode um sistema em cascata, em que a solução de goma usadapara revelação do precursor nas primeira, segunda eterceira unidades de gomagem está respectivamente presenteem um primeiro, segundo e terceiro tanque, e em que asolução de goma do terceiro tanque transborda para osegundo tanque quando solução de reposição é adicionada naterceira unidade de gomagem e a solução de goma do segundotanque transborda para o primeiro tanque. Opcionalmente,pode também ser adicionada uma solução de reposição àssegunda e/ou terceira unidades de gomagem, tal solução dereposição podendo ser a mesma ou outra solução de reposiçãodaquela adicionada à terceira unidade de gomagem, porexemplo uma solução de goma diluída, uma solução de umtenso ativo não iônico, ou água podem ser adicionadas comoreposição à segunda ou primeira unidades de gomagem. Emoutra opção, podem também ser adicionadas duas soluções dereposição diferentes a uma unidade de gomagem, por exemplouma solução de goma inicial e água.
Em outra modalidade da presente invenção, asolução de goma usada em cada uma das unidades de gomagempode ser regenerada pela remoção de materiais insolúveispresentes na solução de goma de uma unidade de gomagem. Apresença de materiais insolúveis na solução de goma podeter sido causada por várias razões, por exemplo pelarevelação de um revestimento contendo pigmento, porevaporação de solvente ou água da solução de goma, ou porsedimentação, coagulação, ou floculação de componentes nasolução de goma. O material insolúvel pode ser removidocontinuamente ou em batelada, por meio de várias técnicas,tais como por filtração, ultra-filtração, centrifugação, oudecantação. Um equipamento adequado para descarte de umasolução de revelação de despejo, tal como a solução de gomada presente invenção está descrito no EP A 747 773. 0equipamento pode estar conectado ao tanque de uma unidadede gomagem para regenerar a solução de goma usada porcirculação da solução de goma através de um filtro oumembrana de filtro. A solução de goma pode ser circuladapelo filtro ou membrana de filtro continuamente,periodicamente, ou durante o tempo de revelação, ou acirculação ser regulada pela medição da turbidez outransparência (isto é, transmissão óptica) da solução degoma, a circulação sendo iniciada quando a turbidez superaum valor superior e sustada quando for alcançado um valorinferior. Os valores de turbidez superior e inferior podemser escolhidos com relação ao grau desejado de purificação,de um modo geral a transmissão óptica da solução de gomanão é inferior a 50 % do seu valor no inicio, depreferência não menor do que 80 %, mais preferivelmente nãomenor do que 95 %.
Secagem
De acordo com outra modalidade da presenteinvenção, a placa / chapa pode ser seca após a etapa deprocessamento por goma em uma unidade de secagem. Em umamodalidade preferida, a chapa é seca por aquecimento daplaca na unidade de secagem, a qual pode conter pelo menosum elemento de aquecimento selecionado dentre uma lâmpadaIR, uma lâmpada UV, um cilindro de metal aquecido, ou araquecido. Em uma modalidade preferida da presente invenção,a chapa é seca por meio de ar aquecido, tal como conhecidona seção de secagem de uma máquina de revelação clássica.Cozimento
De acordo com outra modalidade da presente invenção, a chapa pode ser aquecida em uma unidade decozimento ou cura, opcionalmente após a secagem da chapa.Em uma modalidade preferida da presente invenção, quando achapa é aquecida em uma unidade de cozimento, o precursor érevelado através do uso de uma goma de cozimento e a solução de goma é de preferência reposta através da adiçãode uma goma de cozimento de reposição. Tal goma decozimento de reposição consiste de uma solução que pode serselecionada dentre uma goma de cozimento inicial, isto é,uma solução possuindo a mesma composição que a goma de cozimento usada no inicio da revelação, uma goma decozimento concentrada, ou uma goma de cozimento diluída,isto é, uma solução possuindo uma concentração de aditivosrespectivamente maior ou menor do que a goma de cozimentoinicial, e água.
A unidade de cozimento pode conter pelo menos umelemento de aquecimento selecionado dentre uma lâmpada IR,uma lâmpada UV, um cilindro de metal aquecido, ou araquecido. A chapa é de preferência aquecida na unidade decozimento a uma temperatura acima de 150 0C e menor do quea temperatura de decomposição do revestimento, maispref erivelmente entre 200 0C e 295 °C, ainda maispreferivelmente entre 250 0C e 290 °C. Um tempo deaquecimento mais longo é usualmente utilizado quando forusada uma temperatura de aquecimento mais baixa, e um tempode aquecimento mais curto utilizado quando for usada umatemperatura de aquecimento mais elevada. A chapa é depreferência aquecida durante um período de tempo abaixo de10 minutos, mais preferivelmente menos do que 5 minutos,ainda mais preferivelmente menos de 2 minutos.
Em uma modalidade preferida da presente invenção,a chapa é aquecida pelo método descrito no EP A 1 506 854.em outra modalidade preferida da presente invenção, a chapaé aquecida pelo método descrito no WO 2005/015 318.
Em outra modalidade da presente invenção, a etapade secagem e a etapa de aquecimento podem ser combinadas emuma única etapa, em que a chapa, após a etapa de revelaçãopor goma, é seca e aquecida em uma estação integrada desecagem / cozimento.
EXEMPLOS
Preparação de suporte de alumínio S-I.
Uma folha ou lâmina de alumínio com espessura de0,3 mm foi desengraxada por borrifamento com uma soluçãoaquosa contendo 26 g/l de hidróxido de sódio a 65 0C por 2segundos e rinsada com água deionizada por 1,5 segundos. Afolha foi a seguir eletroquimicamente granulada durante 10segundos usando-se uma corrente alternada em uma soluçãoaquosa contendo 15 g/l de ácido clorídrico, 15 g/l de íonsSOa2- e 5 g/l de íons Al3+ a uma temperatura de 37 0C e umadensidade de corrente de cerca de 100 A/dm2. A folha dealumínio passou a seguir por limpeza cáustica com umasolução aquosa contendo 5,5 g/l de hidróxido de sódio a 360C por 2 segundos e rinsada com água deionizada por 2segundos. A folha foi subseqüentemente submetida a oxidaçãoanódica durante 15 segundos em uma solução aquosa contendo145 g/l de ácido sulfúrico a uma temperatura de 50 °C e umadensidade de corrente de 17 A/dm2, a seguir lavada com águadeionizada por 11 segundos e pós-tratada por 3 segundos porborrifamento de uma solução contendo 2,2 g/l de ácidopolivinil fosfônico a 70 °C, rinsada com água deionizadapor 1 segundo e seca a 120 °C por 5 segundos.
O suporte assim obtido era caracterizado por umaaspereza de superfície, Ra, de 0,37 μm, medida com ointerferômetro NT1100, e possuía um peso anódico de 3,0g/m2.
Preparação de suporte de alumínio S-2.
A preparação deste suporte é efetuada da mesmaforma descrita para o suporte S-l, com a exceção de que acamada de ácido polivinil fosfônico é parcialmente removidapor tratamento com PD91, uma solução reveladora alcalina debase aquosa, comercialmente disponível através da Agfa-Gevaert, seguido por lavagem com água.
Preparação das camadas intermediárias I-I e 1-2.
As composições de revestimento para as camadasintermediárias I-I e 1-2 foram preparadas por mistura dosingredientes tal como específico na Tabela 1. As soluçõesresultantes foram revestidas por meio de um revestidor debarra sobre um suporte. Após o revestimento, a chapa /placa foi seca por 1 minuto a 120 °C em uma estufa decirculação.
Tabela 1: Composições das soluções de camadasintermediárias e espessura da camada seca.<table>table see original document page 69</column></row><table>
(1) O Sipomer PAM 100 é um monômero especial de metacrilatocom funcionalidade fosfato, obtido através da RHODIA. Talcomposto foi tratado por extração com éter metil t-butilico, coleta da fase inferior e subseqüente adição de250 ppm (partes por milhão) de p-metoxi fenol.
(2) 0 Dowanol PM é o éter monometilico de propileno glicol,marca comercial da Dow Chemical Company.
Preparação das camada foto sensíveis P-I a P-3.
As composições de revestimento para as camadasfoto sensíveis P-I a P-3 foram preparadas por mistura dosingredientes especificados na Tabela 2. As soluçõesresultantes foram revestidas por meio de um revestidor debarra sobre um suporte ou uma camada intermediária. Após orevestimento, a placa foi seca por um minuto a 120 0C emuma estufa com circulação. A quantidade aplicada resultantefoi de 1,50 g/m2.
Tabela 2: Composições das soluções da camada foto sensível
<table>table see original document page 69</column></row><table><table>table see original document page 70</column></row><table>
(1) O Alcotex 552Ρ é uma solução a 40 % em peso em água deálcool polivinilico possuindo um grau de hidrolise de 55 %em moles, comercialmente disponível através da Synthomer;
(2) 0 FST 426R é uma solução em 2-butanona contendo 88,2 %em peso de um produto de reação de 1 mol de diisocianato de2, 2,4-trimetil hexametileno e 2 moles de metacrilato dehidroxi etila (viscosidade de 3,30 mm2/s a 25 °C);
(3) 0 Sipomer PAM 100 é um monômero especial de metacrilatocom funcionalidade fosfato, obtido através da RH0DIA. Talcomposto foi tratado por extração com éter metil t-butílico, coleta da fase inferior e subseqüente adição de250 ppm (partes por milhão) de p-metoxi fenol;
(4) 0 Heliogene Blue D7490 é uma dispersão (9,9 % em peso,viscosidade de 7,0 mm2/s a 25 °C), marca comercial da BASF,tal como definido na EP 1 072 956;
(5) DISB é o 1,4-di[3,5-dimetoxi 4-isobutoxi estiril]benzeno;(6) HABI é a 2,2'-bis(2-cloro fenil) 4,4',5,5'-tetrafenil1,2-bis(imidazola);
(7) MBT é a 2-mercapto benzo tiazola;
(8) O IR corante 01 possui a seguinte estrutura:{COPIAR FÓRMULA}.
Em que OTos representa um ânion tosilato;
(9) TBMPS é a tribromo etil fenil sulfona;
(10) O Edaplan LA411 é um tenso ativo (solução a 10 % empeso em Dowanol PM®, marca comercial da Dow Chemical
Company) obtido através da Munzing Chemie.
Preparação da camada de overcoat OC-I.Sobre a camada foto sensível foi aplicada umasolução em água com a composição definida na Tabela 3,sendo seca a 110 0C por 2 minutos. O overcoat 0C-1 protetorassim formado possuía uma espessura seca de 1,75 g/m2.
Tabela 3: composição da solução de overcoat.
<table>table see original document page 71</column></row><table>(1) Acticide LA1206 é um biocida, comercialmente disponívelatravés da Thor;
(2) Lupasol P é uma solução a 50 % em peso de umapolietileno imina em água, comercialmente disponívelatravés da BASF;
(3) Lutensol A8 (90 % em peso) é um agente tenso ativo,comercialmente disponível através da BASF.
Preparação da chapa de impressão.
As composições dos precursores de placas/ chapasde impressão PPPl a PPP5 estão resumidas na Tabela 4.
Tabela 4: composição do precursor.
<table>table see original document page 72</column></row><table>
Os precursores pppl a ppp4 foram imageados com umdispositivo compositor de placa violeta (sistema de leitoplano) equipado com um diodo de laser violeta emitindoentre 392 e 417 nm. Foram usadas as seguintes condições deimageamento:
Velocidade de varredura: 1000 m/s
Potência do plano de imagem variável: 0 a 10,5 mW
Diâmetro do spot: 20 μπι
Capacidade de endereçamento: 1270 dpi
O precursor ppp5 foi imageado com um laser IRCreo Trendsetter (830 nm) com diferentes energias variandoentre 100 e 300 mJ/cm2.
Após o imageamento, os precursores de placa pppla ppp5 foram submetidos a um processamento por goma com umasolução de gomagem em que o revestimento nas áreas semimagem foi removido do suporte. Gum-I é uma soluçãopreparada da seguinte forma:
Em 700 g de água deionizada foram adicionados:77,3 ml de Dowfax 3B2 (comercialmente disponívelatravés da Dow Chemical);
32,6 g de citrato trissódico dihidratado;9,8 g de ácido cítrico, sob agitação;
mais água deionizada até 1000 g.
A seguir, a 5000 g desta solução foramadicionados 95 g de fosfato trissódico. Esta solução foilevada a pH 7 com uma solução a 10 % em peso de fosfatotrissódico.
Os precursores sensíveis ao violeta pppl a ppp4apresentaram uma velocidade elevada de cerca de 40 a 60μδ/οτα2. As placas foram testadas em uma prensa HeidelbergGT046, sendo obtidas boas impressões. Os precursores pp3(exemplo da invenção 3) e ppp4 (exemplo da invenção 4),compreendendo um composto promotor de adesão, apresentaramuma capacidade melhorada de 20.000 impressões e 30.000impressões respectivamente, em comparação ao pppl (exemplocomparativo 1) que não continha um composto promotor daadesão, apresentando uma capacidade abaixo de 1.000impressões.
O precursor sensível ao calor ppp5 (exemplo dainvenção 5) contendo um composto promotor da adesãoapresentou uma elevada sensibilidade térmica de 150 mJ/cm2,reproduzindo imagens de elevada resolução com tela de 1 a99 % a 200 Ipi. As placas foram testadas em uma prensaHeidelberg GT04 6, sendo obtidas boas impressões.
O exemplo 4 da invenção foi repetido, pelo queapós a exposição à imagem o precursor PPP-4 foi pré-aquecido por 20 segundos a 116 °C. O precursor foisubseqüentemente processado com a goma-1, tal como descritono exemplo 4 da invenção e a placa foi testada em umaprensa Heidelberg GT046. Foram obtidas boas impressões euma duração de operação ainda melhor de mais de 50.000impressões.

Claims (14)

1. Método para a produção de uma placa paraimpressão litográfica, CARACTERIZADO pelo fato de quecompreende as etapas de:(a) prover um precursor de placa de impressãolitográfica compreendendo:(i) um suporte que possui uma superfíciehidrofílica ou que está provido com uma camada hidrofílica,(ii) um revestimento sobre o suporte,compreendendo uma camada foto polimerizável e,opcionalmente, uma camada intermediária entre a camada fotopolimerizável e o suporte;(b) expor o revestimento a uma imagem por meiode um laser em um compositor de placa;(c) opcionalmente, aquecer o precursor em umaunidade de pré-aquecimento;(d) revelar o precursor fora da impressora emuma unidade de gomagem, por tratamento do revestimento doprecursor com uma solução de goma, desse modo removendo dosuporte as áreas não expostas do revestimento,pelo que o revestimento compreende também um composto capazde interagir com o suporte, estando o composto presente nacamada foto polimerizável e/ou na camada intermediária.
2. Método, de acordo com a reivindicação 1,CARACTERIZADO pelo fato de que o composto capaz deinteragir com o suporte possui uma ligação etilenicamenteinsaturada e um grupo funcional capaz de adsorção para o suporte.
3. Método, de acordo com a reivindicação 2,CARACTERIZADO pelo fato de que o grupo funcional compreendeum grupo fosfato, um grupo fosfonato, ou um grupo trialcoxisilana.
4. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de quea solução de goma possui um valor de pH variando entre 3 e 9.
5. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de queo composto capaz de interagir com o suporte está presentena camada foto polimerizável em uma quantidade variandoentre 1 e 50 % em peso dos componentes não voláteis dacamada foto polimerizável ou em uma quantidade variandoentre 0,1 e 1,0 g/m2.
6. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de queo composto capaz de interagir com o suporte está presentena camada intermediária em uma quantidade variando entre 50e 100 % em peso dos componentes não voláteis da camadaintermediária, ou em uma quantidade variando entre 0,005 e-1,50 g/m2.
7. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de quea solução de goma compreende um tenso ativo não iônico.
8. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de queo compositor de placa está acoplado à unidade de gomagempor dispositivos de transporte de placas mecânicos, em queo precursor é protegido contra a luz ambiente.
9. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de quea unidade de gomagem está provida com pelo menos um roletepara esfregar e/ou escovar o revestimento durante oprocessamento por goma.
10. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de que,após a etapa (b) e antes da etapa (c) , o precursor éaquecido em uma unidade de pré-aquecimento, a unidade depré-aquecimento estando acoplada ao compositor de placa e àunidade de gomagem por meio de dispositivos de transportede placas mecânicos, em que o precursor é protegido contraa luz ambiente.
11. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de quea camada foto polimerizável compreende também umsensibilizador capaz de absorver a luz ultravioleta.
12. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações precedentes, CARACTERIZADO pelo fato de queo laser emite luz violeta.
13. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações 1 a 10, CARACTERIZADO pelo fato de que acamada foto polimerizável compreende também umsensibilizador capaz de absorver a luz infravermelho.
14. Método, de acordo com qualquer uma dasreivindicações 1 a 10 ou 13, CARACTERIZADO pelo fato de queo laser emite luz infravermelho.
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Families Citing this family (106)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1815978B1 (en) * 2006-02-06 2012-01-18 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate
DE602006009919D1 (de) * 2006-08-03 2009-12-03 Agfa Graphics Nv Flachdruckplattenträger
US7763413B2 (en) 2007-10-16 2010-07-27 Eastman Kodak Company Methods for imaging and processing negative-working imageable elements
ES2344668T3 (es) 2007-11-30 2010-09-02 Agfa Graphics N.V. Metodo para tratar una plancha de impresion litografica.
US8323874B2 (en) 2008-01-22 2012-12-04 Eastman Kodak Company Method of making lithographic printing plates
ES2430562T3 (es) 2008-03-04 2013-11-21 Agfa Graphics N.V. Método para la fabricación de un soporte de una plancha de impresión litográfica
PL2105799T3 (pl) 2008-03-26 2012-07-31 Agfa Nv Sposób wytwarzania litograficznych płyt drukarskich
ES2365885T3 (es) 2008-03-31 2011-10-13 Agfa Graphics N.V. Un método para tratar una plancha de impresión litográfica.
WO2010001631A1 (ja) * 2008-07-01 2010-01-07 コニカミノルタエムジー株式会社 平版印刷版材料
EP2186637B1 (en) 2008-10-23 2012-05-02 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate
EP2194429A1 (en) * 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates
US8034538B2 (en) 2009-02-13 2011-10-11 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
US8247163B2 (en) 2009-06-12 2012-08-21 Eastman Kodak Company Preparing lithographic printing plates with enhanced contrast
US8257907B2 (en) 2009-06-12 2012-09-04 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
EP2290447A1 (en) 2009-08-25 2011-03-02 Agfa Graphics N.V. A set for developing a lithographic printing plate
JP5588887B2 (ja) * 2010-01-29 2014-09-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
US20120141941A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Mathias Jarek Developing lithographic printing plate precursors in simple manner
CN102566277B (zh) * 2010-12-21 2013-11-06 北京师范大学 一种用于高感度光聚合版材的阳离子聚合成像组合物
US20120199028A1 (en) 2011-02-08 2012-08-09 Mathias Jarek Preparing lithographic printing plates
JP5705584B2 (ja) * 2011-02-24 2015-04-22 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
CN104334351B (zh) 2012-06-05 2016-08-17 爱克发印艺公司 平版印刷版前体
US8927197B2 (en) 2012-11-16 2015-01-06 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
EP3203318A1 (en) 2013-02-12 2017-08-09 CARBON3D, Inc. Continuous liquid interphase printing
ES2667676T3 (es) 2013-02-12 2018-05-14 Carbon, Inc. Método y aparato para fabricación tridimensional
US9568822B2 (en) 2013-06-14 2017-02-14 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor
EP2883699B1 (en) 2013-12-11 2017-05-03 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor and monomer
EP2916171B1 (en) 2014-03-03 2017-05-31 Agfa Graphics Nv A method for making a lithographic printing plate precursor
WO2015142546A1 (en) 2014-03-21 2015-09-24 Carbon3D, Inc. Method and apparatus for three-dimensional fabrication with gas injection through carrier
EP3656559A1 (en) 2014-04-25 2020-05-27 Carbon, Inc. Continuous three dimensional fabrication from immiscible liquids
US10569465B2 (en) 2014-06-20 2020-02-25 Carbon, Inc. Three-dimensional printing using tiled light engines
CN107073813B (zh) 2014-06-20 2019-07-05 卡本有限公司 使用可聚合液体的往复送料的三维打印
US10661501B2 (en) 2014-06-20 2020-05-26 Carbon, Inc. Three-dimensional printing method using increased light intensity and apparatus therefor
MX2016016630A (es) 2014-06-23 2017-06-06 Carbon Inc Metodos para producir objetos tridimensionales de poliuretano a partir de materiales que tienen multiples mecanismos de endurecimiento.
US11390062B2 (en) 2014-08-12 2022-07-19 Carbon, Inc. Three-dimensional printing with supported build plates
WO2016109550A1 (en) 2014-12-31 2016-07-07 Carbon3D, Inc. Three-dimensional printing of objects with breathing orifices
WO2016112084A1 (en) 2015-01-06 2016-07-14 Carbon3D, Inc. Build plate for three dimensional printing having a rough or patterned surface
WO2016112090A1 (en) 2015-01-07 2016-07-14 Carbon3D, Inc. Microfluidic devices and methods of making the same
US20160200052A1 (en) 2015-01-13 2016-07-14 Carbon3D, Inc. Three-dimensional printing with build plates having surface topologies for increasing permeability and related methods
US11020898B2 (en) 2015-01-30 2021-06-01 Carbon, Inc. Build plates for continuous liquid interface printing having permeable base and adhesive for increasing permeability and related methods, systems and devices
WO2016123506A1 (en) 2015-01-30 2016-08-04 Carbon3D, Inc. Build plates for continuous liquid interface printing having permeable sheets and related methods, systems and devices
EP3253558B1 (en) 2015-02-05 2020-04-08 Carbon, Inc. Method of additive manufacturing by fabrication through multiple zones
WO2016133759A1 (en) 2015-02-20 2016-08-25 Carbon3D, Inc. Methods and apparatus for continuous liquid interface printing with electrochemically supported dead zone
WO2016140891A1 (en) 2015-03-05 2016-09-09 Carbon3D, Inc. Continuous liquid interface production with sequential patterned exposure
US10391711B2 (en) 2015-03-05 2019-08-27 Carbon, Inc. Fabrication of three dimensional objects with multiple operating modes
US20180015662A1 (en) 2015-03-05 2018-01-18 Carbon, Inc. Fabrication of three dimensional objects with variable slice thickness
WO2016145050A1 (en) 2015-03-10 2016-09-15 Carbon3D, Inc. Microfluidic devices having flexible features and methods of making the same
WO2016145182A1 (en) 2015-03-12 2016-09-15 Carbon3D, Inc. Additive manufacturing using polymerization initiators or inhibitors having controlled migration
WO2016149097A1 (en) 2015-03-13 2016-09-22 Carbon3D, Inc. Three-dimensional printing with reduced pressure build plate unit
WO2016149151A1 (en) 2015-03-13 2016-09-22 Carbon3D, Inc. Three-dimensional printing with concurrent delivery of different polymerizable liquids
WO2016149104A1 (en) 2015-03-13 2016-09-22 Carbon3D, Inc. Three-dimensional printing with flexible build plates
WO2017048710A1 (en) 2015-09-14 2017-03-23 Carbon, Inc. Light-curable article of manufacture with portions of differing solubility
KR20180081489A (ko) 2015-09-25 2018-07-16 카본, 인크. 조명 패널을 갖는 연속적인 액체 상간 프린팅을 위한 빌드 플레이트 조립체 및 이와 관련된 방법, 시스템 및 장치
WO2017059082A1 (en) 2015-09-30 2017-04-06 Carbon, Inc. Method and apparatus for producing three-dimensional objects
US10647873B2 (en) 2015-10-30 2020-05-12 Carbon, Inc. Dual cure article of manufacture with portions of differing solubility
US10647054B2 (en) 2015-12-22 2020-05-12 Carbon, Inc. Accelerants for additive manufacturing with dual cure resins
WO2017112521A1 (en) 2015-12-22 2017-06-29 Carbon, Inc. Production of flexible products by additive manufacturing with dual cure resins
EP3341792A1 (en) 2015-12-22 2018-07-04 Carbon, Inc. Dual precursor resin systems for additive manufacturing with dual cure resins
WO2017112571A1 (en) 2015-12-22 2017-06-29 Carbon, Inc. Dual cure additive manufacturing of rigid intermediates that generate semi-rigid, flexible, or elastic final products
EP3394673A1 (en) 2015-12-22 2018-10-31 Carbon, Inc. Fabrication of compound products from multiple intermediates by additive manufacturing with dual cure resins
WO2017120806A1 (zh) 2016-01-13 2017-07-20 中国科学院福建物质结构研究所 一种3d打印设备和方法
EP3430475B1 (en) 2016-03-16 2020-08-12 Agfa Nv Apparatus for processing a lithographic printing plate and corresponding method
SG11201809614VA (en) 2016-05-31 2018-11-29 Univ Northwestern Method for the fabrication of three-dimensional objects and apparatus for same
EP3423256B1 (en) 2016-07-01 2022-02-23 Carbon, Inc. Three-dimensional printing method and apparatus for reducing bubbles by de-gassing through build plate
US11135790B2 (en) 2016-11-21 2021-10-05 Carbon, Inc. Method of making three-dimensional object by delivering reactive component for subsequent cure
US10239255B2 (en) 2017-04-11 2019-03-26 Molecule Corp Fabrication of solid materials or films from a polymerizable liquid
EP3392709A1 (en) 2017-04-21 2018-10-24 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
US11135766B2 (en) 2017-06-29 2021-10-05 Carbon, Inc. Products containing nylon 6 produced by stereolithography and methods of making the same
EP3431290B1 (en) 2017-07-20 2021-09-08 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3441223B1 (en) 2017-08-07 2024-02-21 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor
EP3474073B1 (en) 2017-10-17 2022-12-07 Agfa Offset Bv A method for making a printing plate
EP3495891B1 (en) 2017-12-08 2021-06-16 Agfa Nv A method for making a lithographic printing plate
US11616302B2 (en) 2018-01-15 2023-03-28 Rogers Corporation Dielectric resonator antenna having first and second dielectric portions
US11174326B2 (en) 2018-02-20 2021-11-16 The Regents Of The University Of Michigan Polymerization photoinhibitor
US20210008865A1 (en) 2018-03-22 2021-01-14 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
WO2019219570A1 (en) 2018-05-14 2019-11-21 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3587112B1 (en) 2018-06-21 2024-04-03 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor
EP3587113B1 (en) 2018-06-21 2023-01-04 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
US11552390B2 (en) 2018-09-11 2023-01-10 Rogers Corporation Dielectric resonator antenna system
TWI820237B (zh) 2018-10-18 2023-11-01 美商羅傑斯公司 聚合物結構、其立體光刻製造方法以及包含該聚合物結構之電子裝置
EP3650938A1 (en) 2018-11-09 2020-05-13 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
GB2594171A (en) 2018-12-04 2021-10-20 Rogers Corp Dielectric electromagnetic structure and method of making the same
WO2020120400A1 (en) 2018-12-10 2020-06-18 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
NL2022372B1 (en) 2018-12-17 2020-07-03 What The Future Venture Capital Wtfvc B V Process for producing a cured 3d product
EP3686011A1 (en) 2019-01-23 2020-07-29 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
CN113692346A (zh) 2019-04-09 2021-11-23 蔚蓝3D公司 快速固化和涂覆通过增材制造生产的零件的方法
EP3942366B1 (en) 2019-05-30 2023-11-15 Rogers Corporation Photocurable compositions for stereolithography, stereolithography methods using the compositions, polymer components formed by the stereolithography methods, and a device including the polymer components
EP3815900A1 (en) 2019-10-31 2021-05-05 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor and method for making hydrophobic resin particles
EP3875271A1 (en) 2020-03-04 2021-09-08 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
US11482790B2 (en) 2020-04-08 2022-10-25 Rogers Corporation Dielectric lens and electromagnetic device with same
EP3892469B1 (en) 2020-04-10 2023-11-08 Eco3 Bv Lithographic printing plate precursor
EP3922462B1 (en) 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability
EP4171958A1 (en) 2020-06-24 2023-05-03 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
US20230266667A1 (en) 2020-06-24 2023-08-24 Agfa Offset Bv A Lithographic Printing Plate Precursor
EP3928983B1 (en) 2020-06-24 2023-09-27 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor
EP3960455A1 (en) 2020-08-31 2022-03-02 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
US20230382100A1 (en) 2020-10-09 2023-11-30 Agfa Offset Bv A Lithographic Printing Plate Precursor
EP4263224A1 (en) 2020-12-16 2023-10-25 Eco3 Bv Lithographic printing press make-ready method
EP4035897A1 (en) 2021-01-28 2022-08-03 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP4129682A1 (en) 2021-08-05 2023-02-08 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
CA3181019A1 (en) 2021-11-04 2023-05-04 The Procter & Gamble Company Web material structuring belt, method for making and method for using
WO2023081747A1 (en) 2021-11-04 2023-05-11 The Procter & Gamble Company Web material structuring belt, method for making and method for using
CA3180938A1 (en) 2021-11-04 2023-05-04 The Procter & Gamble Company Web material structure belt, method for making and method for using
US20230137439A1 (en) 2021-11-04 2023-05-04 The Procter & Gamble Company Web material structuring belt, method for making and method for using
EP4223534A1 (en) 2022-02-07 2023-08-09 Agfa Offset Bv A lithographic printing plate precursor
EP4239411A1 (en) 2022-03-04 2023-09-06 Eco3 Bv Method and apparatus for processing a lithographic printing plate precursor

Family Cites Families (88)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL296772A (pt) 1962-03-21
CH613059A5 (en) 1975-06-30 1979-08-31 Hoechst Ag Method for producing a flat-bed printing forme
US4252887A (en) 1979-08-14 1981-02-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5-triphenylimidazole compounds as photoinitiators
US4370406A (en) * 1979-12-26 1983-01-25 Richardson Graphics Company Developers for photopolymer lithographic plates
JPS5762047A (en) 1980-09-30 1982-04-14 Nitto Electric Ind Co Ltd Image-forming material
JPS5764734A (en) * 1980-10-08 1982-04-20 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive element
US4438190A (en) * 1981-03-04 1984-03-20 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin composition containing unsaturated monomers and unsaturated phosphates
US4459349A (en) 1981-03-27 1984-07-10 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition
US4410621A (en) 1981-04-03 1983-10-18 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan
JPS5956403A (ja) 1982-09-27 1984-03-31 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合性組成物
DE3404366A1 (de) 1984-02-08 1985-08-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch auf basis eines diazoniumsalz-polykondensationsprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3410522A1 (de) 1984-03-22 1985-10-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Einbrenngummierung fuer offsetdruckplatten und verfahren zur herstellung einer offsetdruckform
AU582628B2 (en) 1985-02-12 1989-04-06 Nippon Paint Co., Ltd. Photosensitive resin composition
JPS6256966A (ja) * 1985-09-05 1987-03-12 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 感光性平版印刷版の処理方法
US4622286A (en) 1985-09-16 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer
DE3539992A1 (de) 1985-11-12 1987-05-14 Hoechst Ag Einbrenngummierung fuer offsetdruckplatten
JPH065384B2 (ja) 1986-06-12 1994-01-19 富士写真フイルム株式会社 感光性印刷版
US4873174A (en) * 1988-02-03 1989-10-10 Hoechst Celanese Corporation Method of using developer-finisher compositions for lithographic plates
DE3832032A1 (de) 1988-09-21 1990-03-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
JP2655349B2 (ja) * 1989-05-18 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
US5686231A (en) 1994-12-27 1997-11-11 Mitsubishi Chemical Corporation Process for disposing of developer for pigment-containing non-silver-salt photo sensitive material, apparatus therefor and automatic developing system
US5629354A (en) 1995-02-28 1997-05-13 Eastman Kodak Company Photopolymerization initiator system comprising a spectral sensitizer and a polycarboxylic acid co-initiator
US5910395A (en) 1995-04-27 1999-06-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Negative-acting no-process printing plates
JPH09239942A (ja) 1996-03-08 1997-09-16 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要平版印刷原版及びその製版方法
US5919601A (en) * 1996-11-12 1999-07-06 Kodak Polychrome Graphics, Llc Radiation-sensitive compositions and printing plates
EP0851299B1 (en) 1996-12-26 2000-10-25 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive lithographic printing plate
EP0869393B1 (en) 1997-03-31 2000-05-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition
JPH10282679A (ja) * 1997-04-08 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
US6218076B1 (en) 1997-08-26 2001-04-17 Showa Denko K.K. Stabilizer for organic borate salts and photosensitive composition containing the same
US6232038B1 (en) 1998-10-07 2001-05-15 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition, image-forming material and image-forming method employing it
EP1025992B1 (en) 1999-02-02 2003-07-23 Agfa-Gevaert A method for making positive printing plates
DE19915717A1 (de) 1999-04-08 2000-10-12 Agfa Gevaert Ag Aufzeichnungsmaterial mit pigmentgefärbter strahlungsempfindlicher Schicht
DE10022786B4 (de) 1999-05-12 2008-04-10 Kodak Graphic Communications Gmbh Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte
US6071675A (en) 1999-06-05 2000-06-06 Teng; Gary Ganghui On-press development of a lithographic plate comprising dispersed solid particles
DE19940921A1 (de) 1999-08-27 2001-03-01 Agfa Gevaert Ag Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE19944073A1 (de) 1999-09-14 2001-03-15 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit Deckschicht
JP4037015B2 (ja) 1999-09-22 2008-01-23 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、画像形成材料及び平版印刷版用版材
US6558873B1 (en) * 1999-10-05 2003-05-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
US6245481B1 (en) 1999-10-12 2001-06-12 Gary Ganghui Teng On-press process of lithographic plates having a laser sensitive mask layer
EP1299237B1 (en) 2000-07-06 2011-01-19 Cabot Corporation Printing plates comprising modified pigment products
US6482571B1 (en) 2000-09-06 2002-11-19 Gary Ganghui Teng On-press development of thermosensitive lithographic plates
US6576401B2 (en) 2001-09-14 2003-06-10 Gary Ganghui Teng On-press developable thermosensitive lithographic plates utilizing an onium or borate salt initiator
US6548222B2 (en) 2000-09-06 2003-04-15 Gary Ganghui Teng On-press developable thermosensitive lithographic printing plates
US6387595B1 (en) 2000-10-30 2002-05-14 Gary Ganghui Teng On-press developable lithographic printing plate having an ultrathin overcoat
JP4098483B2 (ja) 2001-03-12 2008-06-11 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4266077B2 (ja) 2001-03-26 2009-05-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
US7261998B2 (en) 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US6893797B2 (en) 2001-11-09 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Llc High speed negative-working thermal printing plates
US6723493B2 (en) 2001-06-04 2004-04-20 Gary Ganghui Teng Negative lithographic printing plate comprising a specific compound in the photosensitive layer
US6649319B2 (en) 2001-06-11 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method of processing lithographic printing plate precursors
ATE544095T1 (de) 2001-08-29 2012-02-15 Fujifilm Corp Verfahren zur herstellung einer druckplatte
JP4238003B2 (ja) * 2001-10-31 2009-03-11 三菱製紙株式会社 感光性組成物及び平版印刷版
JP2003252939A (ja) 2002-03-01 2003-09-10 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
EP1586448B1 (en) * 2002-03-06 2007-12-12 Agfa Graphics N.V. Method of developing a heat-sensitive lithographic printing plate precursor with a gum solution
EP1349006B1 (en) 2002-03-28 2013-09-25 Agfa Graphics N.V. Photopolymerizable composition sensitized for the wavelength range from 300 to 450 nm.
US7172850B2 (en) 2002-04-10 2007-02-06 Eastman Kodak Company Preparation of solvent-resistant binder for an imageable element
US7659046B2 (en) 2002-04-10 2010-02-09 Eastman Kodak Company Water-developable infrared-sensitive printing plate
EP1359008B1 (de) 2002-04-29 2005-08-31 Agfa-Gevaert Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
JP4238523B2 (ja) * 2002-05-29 2009-03-18 コニカミノルタホールディングス株式会社 感光性平版印刷版材料の処理方法
JP2004012706A (ja) 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US20040009426A1 (en) 2002-06-05 2004-01-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Infrared photosensitive composition and image recording material for infrared exposure
US7022790B2 (en) * 2002-07-03 2006-04-04 Sumitomo Bakelite Company, Ltd. Photosensitive compositions based on polycyclic polymers
US6902865B2 (en) 2002-07-22 2005-06-07 Gary Ganghui Teng Non-alkaline aqueous development of thermosensitive lithographic printing plates
US7052418B2 (en) 2002-11-26 2006-05-30 Lifetime Products, Inc. Basketball backboard
DE602004008224T2 (de) * 2003-02-11 2008-05-15 Agfa Graphics N.V. Wärmeempfindlicher lithographischer druckplattenvorläufer
US7282321B2 (en) 2003-03-26 2007-10-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing method and presensitized plate
JP2005014348A (ja) 2003-06-25 2005-01-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP4418714B2 (ja) * 2003-07-10 2010-02-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
DE60324032D1 (de) 2003-07-17 2008-11-20 Kodak Graphic Comm Gmbh Verfahren zum behandeln von bilderzeugungsmaterialien
DE602004030519D1 (de) * 2003-07-22 2011-01-27 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches Druckverfahren
DE60330201D1 (de) 2003-08-13 2009-12-31 Agfa Graphics Nv Verfahren zum Nacheinbrennen lithographischer Druckplatten
JP2005067006A (ja) 2003-08-22 2005-03-17 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版
JP4288123B2 (ja) * 2003-09-03 2009-07-01 富士フイルム株式会社 光重合性平版印刷版の製版装置
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
DE602005003244T2 (de) * 2004-01-23 2008-09-25 Fujifilm Corp. Lithographiedruckplattenvorläufer und lithographisches Druckverfahren
JP4460929B2 (ja) 2004-03-19 2010-05-12 富士フイルム株式会社 平版印刷原版および平版印刷方法
EP1582347B1 (en) 2004-03-29 2008-01-16 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
EP1584485B1 (en) 2004-04-09 2007-12-05 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
WO2005111727A1 (en) 2004-05-19 2005-11-24 Agfa-Gevaert Method of making a photopolymer printing plate
US20080311524A1 (en) 2004-07-08 2008-12-18 Agfa Graphics N.V. Method For Making Negative-Working Heat-Sensitive Lithographic Printing Plate Precursor
JP4792253B2 (ja) * 2004-07-29 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
EP1621339B1 (en) 2004-07-29 2008-09-10 FUJIFILM Corporation Plate-making method of lithographic printing plate
DE602005005403T2 (de) * 2004-08-24 2009-04-23 Fujifilm Corp. Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
JP4690090B2 (ja) 2005-03-30 2011-06-01 コダック株式会社 感光性平版印刷版
JP4905770B2 (ja) * 2005-05-10 2012-03-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び該原版を用いた平版印刷版の作製方法
US7507525B2 (en) * 2005-05-10 2009-03-24 Fujifilm Corporation Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor
JP4792326B2 (ja) * 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版

Also Published As

Publication number Publication date
US20080261154A1 (en) 2008-10-23
AU2006314556A1 (en) 2007-05-24
ATE426836T1 (de) 2009-04-15
CN101305322A (zh) 2008-11-12
ES2322655T5 (es) 2019-06-27
US8232043B2 (en) 2012-07-31
WO2007057333A1 (en) 2007-05-24
EP1788434B2 (en) 2019-01-02
ES2322655T3 (es) 2009-06-24
JP2009516221A (ja) 2009-04-16
BRPI0616830B1 (pt) 2017-12-12
KR20080070823A (ko) 2008-07-31
EP1788434B1 (en) 2009-03-25
EP1788434A1 (en) 2007-05-23
DE602005013536D1 (de) 2009-05-07
KR101424769B1 (ko) 2014-08-06
AU2006314556B2 (en) 2012-08-23
CN101305322B (zh) 2013-09-11

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