BR7706068A - Massa copiadora sensivel a luz - Google Patents

Massa copiadora sensivel a luz

Info

Publication number
BR7706068A
BR7706068A BR7706068A BR7706068A BR7706068A BR 7706068 A BR7706068 A BR 7706068A BR 7706068 A BR7706068 A BR 7706068A BR 7706068 A BR7706068 A BR 7706068A BR 7706068 A BR7706068 A BR 7706068A
Authority
BR
Brazil
Prior art keywords
mass
light sensitive
sensitive copier
copier
light
Prior art date
Application number
BR7706068A
Other languages
English (en)
Inventor
P Stahlhofen
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of BR7706068A publication Critical patent/BR7706068A/pt

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/0226Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
BR7706068A 1976-09-13 1977-09-12 Massa copiadora sensivel a luz BR7706068A (pt)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19762641100 DE2641100A1 (de) 1976-09-13 1976-09-13 Lichtempfindliche kopierschicht

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BR7706068A true BR7706068A (pt) 1978-07-04

Family

ID=5987764

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BR7706068A BR7706068A (pt) 1976-09-13 1977-09-12 Massa copiadora sensivel a luz

Country Status (13)

Country Link
US (1) US4160671A (pt)
JP (1) JPS6046700B2 (pt)
AT (1) AT354477B (pt)
AU (1) AU515457B2 (pt)
BE (1) BE858621A (pt)
BR (1) BR7706068A (pt)
CA (1) CA1094379A (pt)
CH (1) CH628446A5 (pt)
DE (1) DE2641100A1 (pt)
FR (1) FR2364489A1 (pt)
GB (1) GB1591113A (pt)
NL (1) NL7709936A (pt)
SE (1) SE417873B (pt)

Families Citing this family (94)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2005855A (en) * 1977-10-03 1979-04-25 Polychrome Corp Lithographic imaging composition having improved image visibility
JPS6053300B2 (ja) * 1978-08-29 1985-11-25 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物
JPS55126235A (en) * 1979-03-22 1980-09-29 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
DE3039926A1 (de) * 1980-10-23 1982-05-27 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung einer druckform aus dem kopiermaterial
US4348471A (en) * 1981-06-15 1982-09-07 Polychrome Corporation Positive acting composition yielding pre-development high visibility image after radiation exposure comprising acid free novolak, diazo oxide and acid sensitive dyestuff
US4350753A (en) * 1981-06-15 1982-09-21 Polychrome Corporation Positive acting composition yielding pre-development high visibility image after radiation exposure comprising radiation sensitive diazo oxide and haloalkyl-s-triazine with novolak and dyestuff
DE3144480A1 (de) * 1981-11-09 1983-05-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
JPS58211141A (ja) * 1982-06-02 1983-12-08 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JPS59148784A (ja) * 1983-02-10 1984-08-25 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 5―置換―2―ハロメチル―1,3,4―オキサジアゾール化合物及び該化合物を含有する光反応開始剤
DE3473359D1 (de) * 1983-06-29 1988-09-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photosolubilizable composition
JPS6088942A (ja) * 1983-10-21 1985-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS6144472U (ja) * 1984-08-27 1986-03-24 住友重機械工業株式会社 吊上げ電磁石
US4758497A (en) * 1985-08-22 1988-07-19 Polychrome Corporation Photosensitive naphthoquinone diazide sulfonyl ester compounds for the fabrication of lithographic plates and photosensitive sheet construction with the compounds
JPH0766185B2 (ja) * 1985-09-09 1995-07-19 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH0719050B2 (ja) * 1985-12-09 1995-03-06 コニカ株式会社 感光性平版印刷版材料
NL8601096A (nl) * 1986-04-29 1987-11-16 Philips Nv Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting waarbij op een halfgeleidersubstraat een negatief beeld wordt gevormd in een positieve fotolak.
JPH0621960B2 (ja) * 1986-05-26 1994-03-23 日本合成ゴム株式会社 感放射線性樹脂組成物
JPS6358440A (ja) * 1986-08-29 1988-03-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS63311247A (ja) * 1987-06-12 1988-12-20 Konica Corp 感光性組成物
DE3727443A1 (de) * 1987-08-18 1989-03-02 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden und hiermit hergestelltes kopiermaterial
JPH07120045B2 (ja) * 1987-10-22 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 パターン形成方法
JP2623309B2 (ja) * 1988-02-22 1997-06-25 ユーシービー ソシエテ アノニム レジストパターンを得る方法
JPH01229003A (ja) * 1988-03-09 1989-09-12 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
DE69029104T2 (de) 1989-07-12 1997-03-20 Fuji Photo Film Co Ltd Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse
CA2034623A1 (en) * 1990-02-16 1991-08-17 Ming Tara Photoimageable compositions containing fugitive colorants
CA2085868A1 (en) * 1991-12-25 1993-06-26 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition
JP2944296B2 (ja) 1992-04-06 1999-08-30 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
KR950001416A (ko) * 1993-06-04 1995-01-03 미야베 요시까즈 네가형 감광성 조성물 및 이것을 사용한 패턴의 형성방법
DE69512113T2 (de) * 1994-03-14 2000-05-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, enthaltend ein Resolharz, ein Novolakharz, einen Infrarotabsorber und ein Triazin, und seine Verwendung in lithographischen Druckplatten
JP3290316B2 (ja) * 1994-11-18 2002-06-10 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JP3506295B2 (ja) * 1995-12-22 2004-03-15 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性平版印刷版
KR19990045397A (ko) * 1997-11-17 1999-06-25 고오사이 아끼오 레지스트 패턴 형성법 및 이 방법에 사용되는포지티브 레지스트 조성물
DE69941227D1 (de) 1998-04-06 2009-09-17 Fujifilm Corp Photoempfindliche Harzzusammensetzung
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物
DE60037951T2 (de) 1999-05-21 2009-02-05 Fujifilm Corp. Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet
US6511790B2 (en) 2000-08-25 2003-01-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate
DE60144036D1 (de) 2000-11-30 2011-03-24 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
JP4570857B2 (ja) 2003-03-31 2010-10-27 富士フイルム株式会社 感光性組成物及び平版印刷版原版
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
CN1984778B (zh) * 2004-07-08 2010-12-29 爱克发印艺公司 阴片热敏平版印刷版前体的制备方法
JP2006058430A (ja) 2004-08-18 2006-03-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP4404734B2 (ja) 2004-09-27 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP1701213A3 (en) 2005-03-08 2006-11-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
JP4404792B2 (ja) 2005-03-22 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
CN101360965B (zh) 2006-05-18 2010-12-22 富士胶片株式会社 被干燥物的干燥方法及装置
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
EP1952998B1 (en) 2007-02-01 2011-04-06 FUJIFILM Corporation Ink-jet recording device
EP1955858B1 (en) 2007-02-06 2014-06-18 FUJIFILM Corporation Ink-jet recording method and device
US8240808B2 (en) 2007-02-07 2012-08-14 Fujifilm Corporation Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
JP2009085984A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP2009083106A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版用版面保護剤及び平版印刷版の製版方法
JP4890403B2 (ja) 2007-09-27 2012-03-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5265165B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-14 富士フイルム株式会社 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置
JP4994175B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法
JP4898618B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP4790682B2 (ja) 2007-09-28 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP2218519A4 (en) 2007-11-14 2012-03-21 Fujifilm Corp METHOD FOR DRYING A COATING FILM AND METHOD FOR PRODUCING A PRECURSOR FOR A LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP5583329B2 (ja) 2008-03-11 2014-09-03 富士フイルム株式会社 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体
JP2009236355A (ja) 2008-03-26 2009-10-15 Fujifilm Corp 乾燥方法及び装置
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5164640B2 (ja) 2008-04-02 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
JP5183380B2 (ja) 2008-09-09 2013-04-17 富士フイルム株式会社 赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP2010237435A (ja) 2009-03-31 2010-10-21 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
CN105082725B (zh) 2009-09-24 2018-05-04 富士胶片株式会社 平版印刷版原版
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
US8828648B2 (en) 2010-02-17 2014-09-09 Fujifilm Corporation Method for producing a planographic printing plate
JP5253433B2 (ja) 2010-02-19 2013-07-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
WO2011125913A1 (ja) 2010-03-31 2011-10-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版処理用の現像液、該現像液を用いた平版印刷版の作製方法、及び、印刷方法
JP5490168B2 (ja) 2012-03-23 2014-05-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
EP2644664B1 (en) 2012-03-29 2015-07-29 Fujifilm Corporation Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
JP5512730B2 (ja) 2012-03-30 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
KR102659284B1 (ko) * 2017-02-16 2024-04-19 에이치엘만도 주식회사 브레이크 시스템용 액압 발생 장치

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE497135A (pt) * 1949-07-23
NL166823B (nl) * 1951-02-02 Petroles Cie Francaise Electrisch koppelingsorgaan voor koppeling onder water.
DE1447592A1 (de) * 1964-12-24 1969-02-13 Agfa Gevaert Ag Lichtvernetzbare Schichten
DE1668358C3 (de) * 1968-01-17 1980-04-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt 6-Phenyl- a -Pyrone als Absorptionsmittel für UV-Strahlung
US3987037A (en) * 1971-09-03 1976-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
US3779761A (en) * 1972-01-17 1973-12-18 Minnesota Mining & Mfg Presensitized light-sensitive letterpress printing makeready
US3775113A (en) * 1972-02-09 1973-11-27 Minnesota Mining & Mfg Positive image transfer
DE2331377C2 (de) * 1973-06-20 1982-10-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Kopiermaterial
US4009033A (en) * 1975-09-22 1977-02-22 International Business Machines Corporation High speed positive photoresist composition

Also Published As

Publication number Publication date
GB1591113A (en) 1981-06-17
DE2641100C2 (pt) 1987-02-26
JPS5336223A (en) 1978-04-04
ATA656477A (de) 1979-06-15
AT354477B (de) 1979-01-10
SE417873B (sv) 1981-04-13
SE7710118L (sv) 1978-03-14
FR2364489B1 (pt) 1983-03-11
CA1094379A (en) 1981-01-27
BE858621A (fr) 1978-03-13
AU2868677A (en) 1979-03-15
AU515457B2 (en) 1981-04-02
DE2641100A1 (de) 1978-03-16
US4160671A (en) 1979-07-10
JPS6046700B2 (ja) 1985-10-17
NL7709936A (nl) 1978-03-15
CH628446A5 (de) 1982-02-26
FR2364489A1 (fr) 1978-04-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BR7706068A (pt) Massa copiadora sensivel a luz
BR7705952A (pt) Massa copiadora fotossensivel
IT1108493B (it) Dispositivo di copiatura a getto di gocce
BR7802525A (pt) Massa sensivel a radiacao
BR7806325A (pt) Dispositivo fotossensivel eletrostatografico
DK491278A (da) Termisk foelsomt kopieringsmateriale
DD130888A5 (de) Optische abtastvorrichtung
BR7806220A (pt) Massa copiadora fotossensivel
IT1098001B (it) Apparecchio copiatore fotografico
SE7704663L (sv) Ljusforsterkningsanordning
BR7706067A (pt) Maquina copiadora sensivel a luz
BR5700410U (pt) Dispositivo de fixacao de material plastico
SE7709469L (sv) Fotokenslig anordning
SE415212B (sv) Optisk anordning
BE881359A (fr) Dispositif a episser
SE7812855L (sv) Fotografisk framkallare
SE7711061L (sv) Fastsettningsanordning
BE864001A (nl) Lichtgevoelig fotografisch materiaal
FR2341883A1 (fr) Appareil a copier electrographique
FR2339192A1 (fr) Machine copieuse electrophotographique
SE7705333L (sv) Avkenningsanordning
BE861380A (nl) Optisch kopieertoestel
IT1098351B (it) Sviluppatore a secco per fotografia elettrostatica
FR2350662A1 (fr) Appareil a cassette
BE856473A (nl) Kopieertoestel