BR112013003865B1 - Precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação onpress e método de fabricar placa para realização de um processamento de revelação on-press por um método - Google Patents

Precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação onpress e método de fabricar placa para realização de um processamento de revelação on-press por um método Download PDF

Info

Publication number
BR112013003865B1
BR112013003865B1 BR112013003865-9A BR112013003865A BR112013003865B1 BR 112013003865 B1 BR112013003865 B1 BR 112013003865B1 BR 112013003865 A BR112013003865 A BR 112013003865A BR 112013003865 B1 BR112013003865 B1 BR 112013003865B1
Authority
BR
Brazil
Prior art keywords
precursor
lithographic printing
printing plate
group
compound
Prior art date
Application number
BR112013003865-9A
Other languages
English (en)
Other versions
BR112013003865A2 (pt
Inventor
Yuriko ISHIGURO
Original Assignee
Fujifilm Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corporation filed Critical Fujifilm Corporation
Publication of BR112013003865A2 publication Critical patent/BR112013003865A2/pt
Publication of BR112013003865B1 publication Critical patent/BR112013003865B1/pt

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3035—Imagewise removal using liquid means from printing plates fixed on a cylinder or on a curved surface; from printing cylinders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/02—Cover layers; Protective layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/04—Intermediate layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/10—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by inorganic compounds, e.g. pigments
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

precursor de placa de impressão litográfica do tipo desenvolvimento on-press e método de fabricar a placa usando o mesmo. prover um precursor de placa de impressão litográfica que tem boa propriedade de desenvolvimento on-press e exibe boa receptividade de tinta e alta durabilidade de impressão e um método de fabricar a placa usado o mesmo. um precursor de placa de impressão litográfica do tipo desenvolvimento on-press incluindo um suporte, uma camada de registro de imagem contendo (a) um radical iniciador de polimerização, (b) um composto polimerizável via radical e (c) um polímero ligador tendo um grupo óxido de alquileno, e uma camada sobreposta contendo (d) uma hidrozialquilcelulose solúvel em água, nesta ordem, e o precursor de placa de impressão litográfica do tipo desenvolvimento on-press é capaz de passar por processo de desenvolvimento on-press por exposição iimagine-wise do precursorde placa de impressão litográfica do tipo desenvolvimento on-press, montando o precursor de placa de impressão litográfica exposto em uma máquina de impressão e fornecendo tinta de impressão e umedecimento com água, ou por montagem do precursor de placa de impressão litográfica em uma máquina de impressão, exposição imagine-wise do precursor de placa de impressão litográfica e fornecendo tinta de impressão e umedecimento com água.

Description

“PRECURSOR DE PLACA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA DO TIPO REVELAÇÃO ON-PRESS E MÉTODO DE FABRICAR PLACA PARA REALIZAÇÃO DE UM PROCESSAMENTO DE REVELAÇÃO ON-PRESS POR UM MÉTODO”
Campo técnico
[001]A presente invenção relaciona-se a um precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação on-press e um método de fazer a placa usando o mesmo. Mais particularmente, ela relaciona-se a um precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação on-press que é capaz de ser submetido a fabricação direta da placa por exposição de imagem com laser e um método de fazer a placa usando o mesmo.
Antecedente da técnica
[002]Em geral, uma placa de impressão litográfica é composta de uma área de imagem oleofílica aceitando tinta e uma área de não imagem hidrofílica aceitando água de umedecimento no processo de impressão. Impressão litográfica é um método de impressão utilizando a natureza de água e óleo da tinta para repelir uma a outra e compreendendo a execução da área de imagem oleofílica da placa de impressão litográfica para uma área receptora de tinta e a área não imagem hidrofílica da mesma a uma área umedecedora receptora de água (área não receptora de tinta), assim fazendo uma diferença na aderência da tinta na superfície da placa de impressão litográfica, depositando a tinta somente na área de imagem, e então transferindo a tinta para o material de impressão, por exemplo, papel.
[003]A fim de produzir a placa de impressão litográfica, um precursor de placa de impressão litográfica (placa PS) compreendendo um suporte hidrofílico sendo provido no mesmo uma camada de resina fotosensitiva oleofílica (camada de registro de imagem) é até agora usado. Especificamente, a placa PS é exposta através de uma máscara, por exemplo, um filme membro, e então sujeita ao revelação do processamento, por exemplo, com um desenvolvedor alcalino para remover a camada de registro de imagem não necessária correspondendo a área não imagem
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 11/69
2/56 por dissolver, enquanto deixa a camada de registro de imagem correspondendo a área de imagem, assim obtendo a placa de impressão litográfica.
[004]Devido ao recente progresso no campo técnico, hoje em dia, a placa de impressão litográfica pode ser obtida por uma tecnologia CTP (computador-paraplaca). Especificamente, o precursor da placa de impressão litográfica é diretamente sujeito a escanear a exposição usando laser ou laser diodo sem usar um filme membro e desenvolvido para obter uma placa de impressão litográfica.
[005]Com o progresso descrito acima, a edição no precursor de placa de impressão litográfica tem transferido melhoramentos, por exemplo, na propriedade formadora de imagem correspondendo a tecnologia CTP, propriedade de impressão ou propriedade física. Também, com o aumento da preocupação do ambiente global, como outro assunto do precursor da placa de impressão litográfica, um problema ambiental na descarga líquida desnecessária acompanhando a umidade do tratamento, por exemplo, revelação do processamento aparece.
[006]Em resposta ao problema ambiental, simplificação do revelação ou fabricação de placa ou não processamento tem sido perseguido. Como um método de fazer placa simples, um método referido como um “revelação on-press” é praticado. Especificamente, de acordo com o método após a exposição do precursor de placa de impressão litográfica, o precursor de placa de impressão litográfica é montado como se ele estivesse em uma máquina de impressão sem condução do revelação convencional e remoção da área desnecessária da camada de registro de imagem é feita em um estágio precoce do processo de impressão.
[007]Também, como um método de simples revelação, um método referido como um “revelação de goma” é praticado em que a remoção da área desnecessária da camada de registro de imagem é feita usando não um desenvolvedor altamente alcalino convencional, mas um finalizador ou solução goma de pH próximo de neutro.
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 12/69
3/56
[008]Na simplificação da operação de fazer a placa, como descrito acima, um sistema usando um precursor de placa de impressão litográfica capaz de ser manuseado em um ambiente luminoso ou sob uma lâmpada amarela e uma fonte de luz é preferida a partir do ponto de vista de viabilidade. Então, como a fonte de luz, um laser semicondutor emitindo um raio infravermelho tendo um comprimento de onda de 760 a 1200 ou um laser sólido, por exemplo, laser YAG, é usado. Um laser UV é também usado.
[009]Como o precursor de placa de impressão litográfica capaz de passar por revelação on-press, por exemplo, um precursor de placa de impressão litográfica tendo provido em um suporte hidrofílico, uma camada de registro de imagem (camada sensível ao calor) contendo microcápsulas tendo um composto polimerizável encapsulado no mesmo é descrito no Documento de Patente 1 ou 2. Um precursor de placa de impressão litográfica tendo provido em um suporte, uma camada de registro de imagem (camada fotosensível) contendo um agente de absorção infravermelha, um iniciador de polimerização radical e um composto polimerizável é descrito no Documento de Patente 3.
[010]É proposto incorporar uma celulose na camada sobreposta a fim de impactar a receptividade de tinta no Documento de Patente 4 ou 5. Entretanto, a técnica é insuficiente na visão de balanço entre a receptividade de tinta ou durabilidade de impressão e a propriedade de revelação on-press.
[011]Ainda, um precursor de placa de impressão litográfica tendo provido em um suporte, uma camada de registro de imagem de ser removida com ou tinta de impressão, água de umedecimento ou ambos dos mesmos contendo um absorvente de radiação actínica, um iniciador de polimerização e um composto poliomerizável e uma camada protetora (camada sobreposta) contendo um composto estratiforme inorgânico nesta ordem é descrito no Documento de Patente 6.
[012]Entretanto, a técnica tem um problema em que a resina de álcool po
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 13/69
4/56 livinílico e um composto estratiforme inorgânico que tem uma superfície hidrofílica envolvida na camada de registro de imagem durante o revestimento e estágios de secagem e a camada de registro de imagem é curada como ele é por exposição a partir da área de imagem, de forma que a receptividade da tinta é deteriorada no início da impressão e adiante na impressão.
Técnica anterior ao documento
Documento de patente
Documento de Patente1: JP-A-2001-277740
Documento de Patente2: JP-A-2001-277742
Documento de Patente3: JP-A-2002-287334
Documento de Patente4: Patente Japonesa 4162365
Documento de Patente5: JP-A-2008-162056
Documento de Patente6: JP-A-2005-119273
Revelação da invenção
Problemas que a invenção está para resolver
[013]Então, um objetivo da presente invenção é prover um precursor de placa de impressão litográfica que supera os problemas da técnica anterior descrita acima e um método de fazer a placa usando o mesmo. Especificamente, é para prover um precursor de placa de impressão litográfica que tem boa propriedade de revelação on-press e exibe boa receptividade de tinta e alta durabilidade de impressão e um método de fazer a placa usando o mesmo.
Meios para resolver os problemas
[014]A presente invenção inclui os seguintes itens.
(1) Um precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação onpress compreendendo um suporte, uma camada de registro de imagem contendo (A) um iniciador de polimerização radical, (B) um composto polimerizável radical e (C) um polímero ligante tendo um grupo óxido de alquileno, e uma camada sobreposta contendo (D) uma hidroxialquilcelulose solúvel em água, nesta ordem.
(2) O precursor de placa de impressão litográfica de tipo revelação on-press
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 14/69
5/5Q como descrito em (1) acima, em que a hidroxialquilcelulose tem uma estrutura hidroxialquila representada pela fórmula (1) mostrada abaixo.
Fórmula (1)
Figure BR112013003865B1_D0001
L H OR Jn
[015]Na fórmula (1), R representa um átomo de hidrogênio, um grupo metila ou (CmH2mO)xH, m representa um número inteiro de 2 a 4, n representa um número inteiro de 1 ou mais, provido que os três Rs na fórmula (1), um número (grau de substituição) de (CmH2mO)xH é de 0,5 a 3, e x representa um número inteiro de 1 ou mais.
(3) O precursor da placa de impressão litográfica do tipo revelação on-press como descrito em (2) acima, em que o (CmH2mO)xH na fórmula (1) é (CH2CH(CH3)OH).
(4) O precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação on-press como descrito em qualquer um de (1) a (3) acima, em que a camada sobreposta contém um composto estratiforme inorgânico.
(5) O precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação on-press como descrito em qualquer um de (1) e (4) acima, em que a camada de registro de imagem contém (E) um corante de absorção infravermelha.
(6) Um método de fazer a placa de realização de revelação on-press processando por um método compreendendo exposição image-wise do precursor da placa de impressão litográfica do tipo revelação on-press como descrito em qualquer um de (1) a (5) acima, montando o precursor da placa de impressão litográfica exposto em uma máquina de impressão e fornecendo pelo menos qualquer de tinta de impressão e água de umedecimento ou um método compreendendo a montagem do precursor da placa de impressão litográfica como descrito em qualquer um de (1) a (5) acima em uma maquina de impressão, expondo image-wise o precursor da placa de impressão litográfica e fornecendo pelo menos qualquer tinta de impressão e água de umedecimento.
[016]De acordo com a presente invenção, um precursor de placa de im
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 15/69
6/56 pressão litográfica excelente na receptividade de tinta e durabilidade de impressão sem acompanhamento de deterioração da propriedade de revelação on-press pode ser obtido por combinação da camada de registro de imagem contendo um polímero ligante tendo um grupo óxido alquileno com a camada sobreposta contendo um polímero ligante tendo um grupo óxido alquileno com a camada sobreposta contendo uma hidroxialquilceulose.
[017]O mecanismo funcional do mesmo de acordo com a invenção não é bem claro, mas é acreditado como segue.
[018]Até agora, no revestimento e secagem de uma solução de revestimento para camada sobreposta, “mistura intercamada da camada de registro de imagem/camada sobreposta” em que uma resina solúvel em água ou um composto estratiforme inorgânico quando ele está presente na camada sobreposta é misturado com componente da camada de registro de imagem ocorre, e então, dissolução suave e remoção da camada sobreposta são perturbadas no tempo do revelação onpress para causar deterioração da propriedade de revelação on-press e receptividade da tinta.
[019]É acreditado que a melhora na propriedade do revelação on-press de acordo com a invenção é causada pela aceleração da propriedade do revelação onpress pelo uso de um polímero ligante tendo um grupo de óxido alquileno na camada de registro de imagem e inibição da mistura intercamada por incorporação de uma hidroxialquilcelulose que é difícil ser misturada com os componentes da camada de registro de imagem na camada sobreposta. Também, é acreditado ser o efeito devido a inibição da mistura intercamada descrito acima que mesmo quando um composto estratiforme inorgânico que causa melhora na durabilidade de impressão é adicionado à camada sobreposta, a degradação da receptividade da tinta que foi até agora um problema não ocorre e boa receptividade da tinta é obtida.
[020]Como descrito acima, o precursor de placa de impressão litográfica
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 16/69
7/56 excelente na receptividade da tinta e durabilidade de impressão sem acompanhamento de deterioração da propriedade de revelação on-press pode ser obtida pelo efeito devido a combinação da camada de registro de imagem contendo um polímero ligante tendo um grupo óxido de alquileno com a camada sobreposta contendo uma hidroxialquilcelulose de acordo com a invenção.
Vantagem da invenção
[021]De acordo com a invenção, um precursor de placa de impressão litográfica que tem boa propriedade de revelação on-press e exibe alta durabilidade de impressão e boa receptividade de tinta é um método de fazer a placa usando o mesmo são providos.
Modo de realizar a invenção
[022]A presente invenção será descrita em detalhes abaixo.
[precursor de placa de impressão litográfica]
[023]O precursor de placa de impressão litográfica de acordo com a invenção compreende uma camada de registro de imagem contendo (A) um iniciador de polimerização radical, (B) um composto polimerizável radical e (C) um polímero ligante tendo um grupo de óxido de alquileno, e uma camada sobreposta contendo (D) uma hidroxialquilcelulose solúvel em água, nesta ordem. Então, o precursor da placa de impressão litográfica pode ter a boa propriedade de revelação on-press, alta durabilidade de impressão e boa receptividade de tinta.
[024]Ainda, o precursor da placa de impressão litográfica de acordo com a invenção pode ter uma camada sobreposta entre o suporte e a camada de registro de imagem em alguns casos.
[025]Em seguida, os elementos constituintes, componentes e semelhantes do precursor de placa de impressão litográfica de acordo com a invenção serão descritos.
[026]Primeiro, a camada sobreposta que é a parte característica do pre
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 17/69
8/56 cursor da placa de impressão litográfica de acordo com a invenção é descrita [camada sobreposta]
O precursor da placa de impressão litográfica de acordo com a invenção é caracterizado por ter uma camada sobreposta contendo (D) uma hidroxialquilcelulose solúvel em água na camada de registro de imagem. A camada sobreposta tem uma função de prevenir, por exemplo, a ocorrência de ruídos na camada de registro de imagem ou ablação causada por exposição com um raio laser de alta iluminação, em adição à função para conter uma reação de inibição contra a formação de imagem por meios de bloqueio de oxigênio.
(D) Hidroxialquilcelulose solúvel em água
[027]A hidroxicelulose solúvel em água que pode ser usada na invenção é preferivelmente uma hidroxialquilcelulose representada pela fórmula (1) mostrada abaixo.
Fórmula (1)
CH2OR
Figure BR112013003865B1_D0002
L H OR Jn
[028]Na fórmula (1), R representa um átomo de hidrogênio, um grupo metila ou (CmH2mO)xH, m representa um número inteiro a partir de 2 a 4, n representa um número inteiro de 1 ou mais, provido que de três Rs na fórmula (1), um número (grau de substituição) de (CmH2mO)xH é de 0,5 a 3, e x representa um número inteiro de 1 ou mais.
[029]Especificamente, uma resina obtida para fazer celulose solúvel em água, por exemplo, hidroetilcelulose, hidroxipropilcelulose (HPC ou semelhantes), hidroxietilmetilcelulose, hidroxipropilmetilcelulose, ou um produto modificado do mesmo é preferido. Eles podem ser usados individualmente ou em combinação. Entre eles, uma celulose solúvel em água particularmente preferida é hidroxipropilcelu
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 18/69
9/56 lose que é um composto representado pela fórmula (1) em que o (CmH2mO)xH é (CH2CH(CH3)OH). Um número de grupos substituídos (grau de substituição) de três grupos hidróxi presentes no anel de seis membros de celulose é preferivelmente de 0,5 a 3,0, mais preferivelmente de 0,6 a 2,5, e particularmente preferivelmente de 1,0 a 2,5.
[030]É preferido incorporar a hidroxialquilcelulose em uma quantidade de 40% por peso ou mais da camada sobreposta. Quando a quantidade é 40% por peso ou mais, a receptividade da tinta é preferivelmente mais aumentada. A quantidade da mesma é mais preferivelmente 60% por peso ou mais, e particularmente preferivelmente 80% por peso ou mais.
[031]A viscosidade (2% aquosa por peso de solução/20o C/viscômetro tipo B) da resina é preferivelmente de 1 a 4000 mPa-s, mais preferivelmente de 2 a 400 mPa-s, e mais preferivelmente de 2 a 150 mPa-s. Na variação descrita acima, a propriedade de revelação é preferivelmente mais aumentada.
[032]Para a camada sobreposta, uma resina solúvel em água diferente de hidroxialquilcelulose pode também ser adicionada para o propósito de aumentar a propriedade do revelação. Exemplos específicos do mesmo incluem acetato de polivinila (tendo grau de hidrólise de 65% ou mais), ácido poliacrílico e seu sal de metal álcali ou seu sal amina, um copolímero de ácido poliacrílico e seu sal metal álcalo ou seu sal amino, um ácido polimetacrílico e seu sal metal álcalo ou seu sal amino, um copolímero de ácido polimetacrílico e seu sal metal álcalo ou seu sal amino, uma poliacrilamida e seu copolímero, poliidroxietil acrilato, polivinilpirrolidona e seu copolímero, polivini metil éter, vinil metil éter/copolímero anidrido maléico, ácido poli-2acrilamido-2-metil-1-propanosulfônico e seus sal metal álcali ou seu sal amina, um ácido 2-acrilamido-2-metil-1-propanosulfônico copolímero e seu sal metal álcali ou seu sal amino, goma arábica, dextrina branca, pululan e dextrina eterificada decomposta com enzima. A poliacrilamida e seu copolímero ou acetato de polivinila são preferidas. A resina solúvel em água, diferente da hidroxialquilcelulose pode ser adi
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 19/69
10/56 cionada em uma quantidade menos que 40% por peso em relação à camada sobreposta. Quando a quantidade é menos que 40% por peso, a receptividade da tinta é preferivelmente boa. A quantidade da mesma é mais preferivelmente menor que 30% por peso, e ainda mais preferivelmente menos que 20% por peso.
(E) Composto estratiforme inorgânico
[033]A camada sobreposta do precursor da placa de impressão litográfica de acordo com a invenção pode conter um composto estratiforme inorgânico.
[034]O composto estratiforme inorgânico é uma partícula tendo uma forma tabular e inclui, por exemplo, mica, por exemplo, mica natural representada pela seguinte fórmula: A (B, C)2-5 D4 O10 (OH, F, O)2, (em que A representa qualquer de Li, K, Na, Ca, Mg e um cátion orgânico, B e C cada presenta qualquer de Fe(II), Fe(III), Mn, e V, e D representa Si ou Al) ou mica sintética, talco representado pela seguinte fórmula: 3MgO-4SiO-H2O, taeniolite, montmotilonite, saponite, hectorite, e fosfato de zircônio.
[035]Exemplos de mica natural incluem muscovite, paragonite, flogopite, biotite e lepidolite. Exemplos de mica sintética incluem mica não expansível, por exemplo, fluorflogopite KMg3(AlSÍ3Ow)F2 ou mica tetrasilícica de potássio (KMg2.5SÍ4Ow)F2, e mica expansível, por exemplo, mica tetrasilícica de Na NaMg2.5(SÍ4Ow)F2, Na ou Li taeniolita (Na, Li)Mg2Li(Si4O10)F2, ou Na ou Li hectorita baseado em montmorilonita (Na, Li) 1/8Mg2/5LÍ1/8(SÍ4O10)F2. Ainda, esmectita sintética é também útil.
[036]Dos compostos estratiformes inorgânicos, mica é preferida e mica expansível baseada em flúor, que é um composto estratiforme inorgânico sintético, é particularmente útil. Especificamente, a mica sintética expansível e um mineral de argila expansível, por exemplo, montmorilonita, saponita, hectorita ou bentonita têm uma estrutura laminada compreendendo uma camada de unidade de estrutura cristalina tendo uma espessura de aproximadamente 10 a 15 ângstroms, e substituição de átomo metálico nas lâminas do mesmo é bastante grande em comparação com outros minerais argilas. Como um resultado, a camada cristalina resulta em ausência de carga positiva e para compensar a mesma, um cátion, por exemplo, Li+, Na+, Ca2+,
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 20/69
11/56
Mg2+ ou um cátion orgânico é adsorvido entre as camadas cristalinas. O composto estratiforme inorgânico incha sob contato com água. Quando dividido é aplicado sobre tal condição, a estrutura cristalina estratiforme é facilmente clivada para formar uma sol estável em água. A bentonita e mica sintética expansível têmfortemente tal tendência.
[037]Como para a forma do composto estratiforme inorgânico, a partir do ponto de vista do controle da difusão, quanto mais fina a espessura ou mais largo o tamanho plano, desde que a suavidade da superfície revestida e transmissão da radiação actínica não sejam danificadas, melhor. Então, um aspecto da proporção do composto estratiforme inorgânico é preferivelmente 20 ou mais, mais preferivelmente 100 ou mais, e particularmente preferivelmente 200 ou mais. O aspecto da proporção é uma proporção da espessura para o eixo principal da partícula e pode ser determinada, por exemplo, a partir de uma projeção de desenho de partícula por uma microfotografia. Quanto maior o aspecto da proporção, maior o efeito obtido.
[038]Como para um diâmetro da partícula do composto estratiforme inorgânica, um diâmetro médio do mesmo é preferivelmente de 1 a 20 pm, mais preferivelmente de 1 a 10 pm e particularmente preferivelmente a partir de 2 a 5 pm. Quando o diâmetro da partícula é 1 pm ou mais, a inibição da permeação do oxigênio ou umidade é preferivelmente suficiente. Por outro lado, quando ele tem 20 pm ou menos, a dispersão da estabilidade da partícula na solução de revestimento é suficiente de forma que o revestimento estável pode ser preferivelmente conduzido. Uma espessura média da partícula é 0,1 pm ou menos, preferivelmente 0,05 pm ou menos, e particularmente preferivelmente 0,01 pm ou menos. Por exemplo, com respeito à mica sintética expansível que é o composto representativo do composto estratiforme inorgânico, a espessura é preferivelmente aproximadamente de 1 a 50 nm e o tamanho plano é preferivelmente aproximadamente de 1 a 20 pm.
[039]Quando tal partícula de composto estratiforme inorgânico tendo um grande aspecto de proporção é incorporada na camada sobreposta, a força da ca
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 21/69
12/56 mada revestida aumenta e a penetração de oxigênio ou umidade pode ser efetivamente inibida e então, a camada sobreposta pode ser prevenida a partir da deterioração devido a deformação, e ainda quando o precursor da placa de impressão litográfica é conservada por um longo período de tempo sob uma condição de alta umidade, é prevenida a partir da diminuição na propriedade formadora de imagem do precursor da placa de impressão litográfica devido a mudança da umidade e o efeito da excelente preservação da estabilidade pode ser obtido.
[040]Ainda, um composto baseado em flúor, um composto baseado em silicone ou uma emulsão de agente de cera pode ser adicionado à camada sobreposta a fim de prevenir a aderência. Quando tal um composto é adicionado, o composto move para a superfície da camada sobreposta de forma que a aderência resultante do polímero hidrofílico desaparece. A quantidade do composto adicionado é preferivelmente de 0,1 a 5% por peso, mais preferivelmente de 0,5 a 2,0% por peso, da camada sobreposta.
[041]À solução de revestimento para camada sobreposta pode ser adicionado aditivos conhecidos, por exemplo, um tensoativo aniônico, um tensoativo não iônico, um tensoativo catiônico, ou um tensoativo baseado em flúor para melhorar a propriedade de revestimento ou um plastificante solúvel em água para melhorar a propriedade física da camada sobreposta. Exemplos de plastificantes solúveis em água incluem propionamida, cicloexano diol, glicerina e sorbitol. Ainda, para a solução de revestimento para camada sobreposta podem ser adicionao aditivos conhecidos para melhorar propriedades, por exemplo, propriedade de adesão para a camada de registro de imagem, conservação da estabilidade da solução de revestimento ou receptividade da tinta.
[042]A camada sobreposta pode ser revestida na camada de registro de imagem por um método conhecido. A quantidade de revestimento da camada sobreposta é preferivelmente em uma variação de 0,01 a 10 g/m2, mais preferivelmente
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 22/69
13/56 em uma variação de 0,02 a 3 g/m2, mais preferivelmente em uma variação de 0,02 a 1 g/m2, em termos da quantidade de revestimento após secagem.
[Camada de registro de imagem] (C) Polímero ligante tendo grupo óxido alquileno
[043]O polímero ligante tendo um grupo óxido alquileno que pode ser usado no precursor da placa de impressão litográfica de acordo com a invenção pode ter uma fração poli(óxido alquileno) na cadeia principal do mesmo, ou pode ser um polímero enxerto tendo um poli(óxido de alquileno) em sua cadeia lateral ou um bloco copolímero composto de um bloco constituído por uma unidade de repetição contendo um poli(óxido alquileno) e um bloco constituído por uma unidade de repetição não contendo um (óxido alquileno).
[044]No caso onde o grupo óxido alquileno está presente na cadeia principal, uma resina de poliuretano é preferida. No caso ondeo grupo óxido alquileno está presente na cadeia lateral, um polímero constituindo sua cadeia principal inclui uma resina acrílica, uma resina polivinil acetal, uma resina poliuretana, uma resina poliuréia, uma resina poliimida, uma resina poliamida, uma resina epóxi, uma resina metacrílica, uma resina poliestireno, uma resina fenólica do tipo novolac, uma resina poliéster, uma síntese de borracha e uma borracha natural. Em particular, uma resina acrílica é preferida.
[045]O óxido alquileno é preferivelmente um óxido alquileno tendo de 2 a 6 átomos de carbono, e particularmente preferivelmente um óxido de etileno ou um óxido de propileno.
[046]Um número de repetição do óxido de alquileno na fração poli(óxido alquileno) é preferivelmente a partir de 2 a 120, mais preferivelmente em uma variação de 2 a 70, e ainda mais preferivelmente em uma variação de 2 a 50.
[047]É preferido que o número de repetição do óxido de alquileno é de 120 ou menos porque ambos, a durabilidade de impressão como para abrasão e a durabilidade de impressão como para a receptividade da tinta são melhoradas.
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 23/69
14/56
[048]A fração poli(óxido de alquileno) é preferivelmente introduzida em uma cadeia lateral do ligante como uma estrutura representada pela fórmula (2) mostrada abaixo. Mais preferivelmente, é introduzido em uma cadeia lateral de uma resina acrílica como uma estrutura representada pela fórmula (2) mostrada abaixo.
Fórmula (2)
--C—O—CH2CH(R1)O--R2 || L 1 y
O
[049]Na fórmula (2), y representa um número de 2 a 120, preferivelmente em uma variação de 2 a 70, e mais preferivelmente em uma variação de 2 a 50. Ri representa um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila. R2 representa um átomo de hidrogênio ou um grupo orgânico. O grupo orgânico é preferivelmente um grupo alquila tendo de 1 a 6 átomos de carbono e inclui um grupo etila, um grupo n-propila, um grupo isopropila, um grupo n-butila, um grupo sec-butila, um grupo isobutila, um grupo terc-butila, um grupo n-pentila, um grupo isopentila, um grupo neopentila, um grupo n-hexila, um grupo isoexila, um grupo 1,1-dimetilbutila, um grupo 2,2dimetilbutila, um grupo ciclopentila e um grupo cicloexila.
[050]Na fórmula (2), Ri é preferivelmente um átomo de hidrogênio ou um grupo metila, e mais preferivelmente um átomo de hidrogênio. R2 é mais preferivelmente um átomo de hidrogênio ou um grupo metila.
[051 ]O polímero ligante pode ter uma propriedade de ligação cruzada a fim de melhorar a força do filme da área de imagem. A fim de dar a propriedade de ligação cruzada ao polímero ligante, um grupo funcional capaz de fazer ligação cruzada, por exemplo, uma ligação insaturada etilenicamente é introduzida em uma cadeia principal ou cadeia lateral do polímero. O grupo funcional com capacidade de ligação cruzada pode ser introduzido por copolimerização.
[052]Exemplos do polímero tendo uma ligação insaturada etilenicamente na cadeia principal do mesmo incluem poli-1,4-butadieno e poli-1,4-isopreno.
[053]Exemplos do polímero tendo uma ligação insaturada etilenicamente
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 24/69
15/56 na cadeia lateral do mesmo incluem um polímero de um éster ou amida de ácido acrílico ou ácido metacrílico, que é um polímero em que o resíduo éster ou amido (R em -COOR ou -CONHR) tem uma ligação insaturada etilenicamente.
[054]Exemplos do resíduo (R descrito acima) tendo uma ligação insaturada etilenicamente incluem -(CH2)nCR1=CR2R3, -(CH2O)nCH2CR1=CR2R3, (CH2CH2O)nCH2CR1=CR2R3, -(CH2)nNH-CO-O-CH2CR1=CR2R3, -(CH2)n-O-COCR1=CR2R3 and -(CH2CH2O)2-X (em que R1 a R3 cada representa um átomo de hidrogênio, um átomo de halogênio ou um grupo alquila tendo de 1 a 20 átomos de carbono, um grupo arila, um grupo alcóxi ou um grupo arilóxi, ou R1 e R2 ou R1 e R3podem ser combinados com cada outro para formar um anel. N representa um número inteiro a partir de 1 a 10. X representa um resíduo diciclopentadienila).
[055]Exemplos específicos do resíduo éster incluem -CH2CH=CH2 (descrito em JP-B-7-21633), -CH2CH2O-CH2CH=CH2, -CH2C(CH3)=CH2, -CH2CH=CH-C6H5, CH2CH2OCOCH=CH-C6H5, -CH2CH2-NHCOO-CH2CH=CH2 e -CH2CH2O-X (em que X representa um resíduo diciclopentadienila).
[056]Exemplos específicos do resíduo amido incluem -CH2CH=CH2, CH2CH2-Y (em que Y representa um resíduo cicloexeno) e -CH2CH2-OCO-CH=CH2.
[057]O polímero ligante tendo uma propriedade de ligação cruzada é curado, por exemplo, pela adição de um radical livre (uma polimerização iniciando radical ou um crescimento de radical de um composto polimerizável no processo de polimerização) para o grupo funcional capaz de ligação cruzada do polímero e passando pela adição de polimerização entre os polímeros diretamente ou através de uma cadeia de polimerização do composto polimerizável para formar uma ligação cruzada entre as moléculas de polímero. Alternativamente, ele é curado pela geração de um radical polímero sob extração de um átomo (por exemplo, um átomo de hidrogênio ou um átomo de carbono adjacente para o grupo capaz de fazer ligação cruzada funcional) no polímero pelo radical livre e conectando os radicais polímeros com cada outro para formar uma ligação cruzada entre
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 25/69
16/56 as moléculas de polímeros.
[058]O conteúdo do grupo capaz de fazer ligação cruzada (conteúdo da radical de ligação dupla insaturada polimerizável determinado por titulação de iodo) no polímero ligante é preferivelmente de 0,1 a 10,0 mmol, mais preferivelmente de 1,0 a 7,0 mmol, mais preferivelmente de 2,0 a 5,5 mmol, baseado em 1 g do polímero. Na variação descrita acima, boa sensibilidade e boa estabilidade de conservação podem ser obtidas.
[059]Exemplos específicos (1) a (11) do polímero ligante que pode ser usado na invenção são revelados abaixo, mas a invenção não deve ser construída como sendo limitada aos mesmos.
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 26/69
17/56
Figure BR112013003865B1_D0003
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 27/69
18/56
Figure BR112013003865B1_D0004
[060]O peso molecular médio (PM) do polímero ligante de acordo com a invenção é preferivelmente 2,000 ou mais, mais preferivelmente 5.000 ou mais, e ainda mais preferivelmente de 10.000 a 300.000.
[061]De acordo com a invenção, um composto polímero hidrofílico, por exemplo, ácido poliacrílico ou álcool polivinílico descrito em JP-A-2008-195018 podem ser usados juntos, se desejados. Ainda, um composto polímero oleofílico pode ser usado em combinação com um composto polímero hidrofílico.
[062]Como para a configuração do polímero ligante de acordo com a invenção,
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 28/69
19/56 pode estar presente como um ligante atuando como uma ligação de cada ingrediente ou na forma de partícula fina na camada de registro de imagem. No caso da existir na forma de partícula fina, o tamanho médio da partícula é preferivelmente em uma variação de 10 a 1.000 nm, mais preferivelmente em uma variação de 20 a 300 nm, e particularmente preferivelmente em uma variação de 30 a 120 nm.
[063]O conteúdo do polímero ligante de acordo com a invenção é preferivelmente de 5 a 90% por peso, mais preferivelmente de 5 a 80% por peso, ainda mais preferivelmente de 10 a 70% por peso baseado no conteúdo sólido total da camada de registro de imagem.
[064]Depois, componentes constituintes da camada de registro de imagem outros que o polímero ligante tendo um grupo óxido alquileno (C) é descrito em detalhes abaixo.
[065]Esta camada de registro de imagem que pode ser usado na invenção é uma camada de registro de imagem capaz de passar por revelação on-press. Como uma modalidade formadora de imagem representativa na camada de registro de imagem capaz de passar por revelação on-press, (1) uma modalidade que contém (A) um radical iniciador de polimerização, (B) um radical composto polimerizácel e (E) um corante de absorção infravermelha e em que a área de imagem é curada utilizando uma reação de polimerização, e (2) uma modalidade que contém (E) um corante de absorção infravermelha e (F) um precursor hidrofobilizante e em que uma região hidrofóbica (área de imagem) é formada utilizando fusão por calor ou uma reação de calor do precursor hidrofobilizante são exemplificados. Também, uma mistura das duas modalidades acima-descritas pode ser usada. Por exemplo, o precursor hidrofobilizante (F) pode ser incorporado na camada de registro de imagem do tipo de polimerização (1) ou o composto polimerizável via radical (B) ou semelhantes podem ser incorporados na camada de registro de imagem do precursor hidrofobilizante tipo (2). Entre eles, a modalidade do tipo de polimerização que contém (A) um radical iniciador de polimerização, (B) um composto polimerizável
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 29/69
20/56 via radical e (E) um corante de absorção infravermelha é preferida.
[066]Respectivos componentes que podem ser incorporados na camada de registro de imagem são descritos na ordem abaixo.
(A) Radical iniciador de polimerização
[067]O radical iniciador de polimerização (A) que pode ser usado na invenção indica um composto que inicia ou acelera a polimerização do composto polimerizável via radical (B). O radical iniciador de polimerização utilizável na invenção inclui, por exemplo, iniciadores de polimerização térmica conhecidos, compostos contendo uma ligação tendo pequena energia de dissociação de ligação e iniciadores de fotopolimerização.
[068]O radical iniciador de polimerização de acordo com a invenção inclui, por exemplo, (a) um haleto orgânico, (b) um composto carbonila, (c) um composto azo, (d) um peróxido orgânico, (e) um composto metaloceno, (f) um composto azida, (g) um composto hexaarilbiimidazol, (h) um composto borato orgânico, (i) um composto dissulfona, (j) um composto éster oxima e (k) um composto sal ônio.
[069]Como o haleto orgânico (a), compostos descritos nos Parágrafos Nos. [0022] a [0023] de JP-A-2008-195018 são preferidos.
[070]Como o composto carbonila (b), compostos descritos no Parágrafo No. [0024] de JP-A-2008-195018 são preferidos.
[071]Como o composto azo (c), por exemplo, compostos azo descritos em JPA-8-108621 podem ser usados.
[072]Como o peróxido orgânico (d), por exemplo, compostos descritos no Parágrafo No. [0025] de JP-A-2008-195018 são preferidos.
[073]Como o composto meteloceno (e), por exemplo, compostos descritos no Parágrafo No. [0026] de JP-A-2008-195018 são preferidos.
[074]Como o composto azida (f), um composto, por exemplo, 2,6-bis(4azidobenzilideno)-4-metilcicloexanona é exemplificado.
[075]Como o composto hexaarilbiimidazol (g), por exemplo, compostos descri
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 30/69
21/56 tos no Parágrafo No. [0027] de JP-A-2008-195018 são preferidos.
[076]Como o composto borato orgânico (h), por exemplo, compostos descritos no Parágrafo No. [0028] de JP-A-2008-195018 são preferidos.
[077]Como o composto dissulfona (i), por exemplo, compostos descritos em JP-A-61-166544 são exemplificados.
[078]Como o composto éster oxima (j), por exemplo, compostos descritos nos Parágrafos Nos. [0028] a [0030] de JP-A-2008-195018 são preferidos.
[079]Como o composto sal ônio (k), sais ônios, por exemplo, sais diazônio descritos em S. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), T. S. Bal et al., Polymer, 21, 423 (1980) e JP-A-5-158230 (correspondendo a diazônio de NI3), sais de amônio descritos na Patente dos EUA 4.069.055 e JP-A-4-365049, sais fosfônios descritos nas Patentes dos EUA 4.069.055 e 4.069.056, sais iodônio descritos na Patente Européia 104.143, Pedido de Patente dos EUA No. 2008/0311520, JP-A-2-150848, JP-A2008-195018 e J. V. Crivello et al., Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), sais sulfônio descritos nas Patentes Européias 370.693, 233.567, 297.443 e 297.442, Patente dos EUA 4.933.377, 4.760.013, 4.734.444 e 2.833.827 e Patentes Alemãs 2.904.626, 3.604.580 e 3.604.581, sais selenônios descritos em J. V. Crivello et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979), sais arsônios descritos em C. S. Wen et al., Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p. 478, Tokyo, Oct. (1988), e sais azínios descritos em JPA-2008-195018 são exemplificados.
[080]Dos radicais iniciadores de polimerização descritos acima, o sal ônio, em particular, o sal iodônio, o sal sulfônio ou o sal azínio são mais preferidos. Exemplos específicos desses compostos são revelados abaixo, mas a invenção não deve ser construída como sendo limitados aos mesmos.
[081]Dos sais iodônio, um sal difeniliodônio é preferido. Em particular, um sal difeniliodônio substituído com um grupo doador de elétron, por exemplo, um grupo alquila ou um grupo alcóxi é preferido, e um sal difeniliodônio assimétrico é mais preferido.
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 31/69
22/56
Exemplos específicos do sal iodônio incluem hexafluorfosfato de difeniliodônio. Exemplos específicos do sal iodônio inclui hexafluorfosfato de difeniliodônio, hexafluorfosfato de 4metoxifenil-4-(2-metilpropil)feniliodônio, hexafluorfosfato de 4 -(2-metilpropil)fenil-ptoliliodônio, hexafluorfosfato de 4-hexiloxifenil-2,4,6-trimetoxifeniliodônio, tetrafluorborato de 4-hexiloxifenil-2,4-dietoxifeniliodônio, 1-perfluorbutanosulfonato de 4-octiloxifenil-2,4,6trimetoxifeniliodônio, hexafluorfosfato de 4-octiloxifenil-2,4,6-trimetoxifeniliodônio e tetrafenilborato de bis(4-tert-butylfenil)iodônio.
[082]Exemplos de sal sulfônio incluem hexafluorfosfato de trifenilsulfônio, benzoilformato de trifenilsulfônio, benzoilformato de bis(4-clorofenil)fenilsulfônio, tetrafluorborato de bis(4-clorofenil)-4-metilfenilsulfônio, 3,5-bis(metoxicarbonil)benzenosulfonato de tris(4-clorofenil)sulfônio e hexafluorfosfato de tris(4-clorofenil)sulfônio.
[083]Exemplos do sal azínio incluem hexafluorfosfato de 1cicloexilmetiloxipiridínio, hexafluorfosfato de 1-cicloexilóxi-4-fenilpiridínio, hexafluorfosfato de 1-etóxi-4-fenilpiridínio, hexafluorfosfato de 1-(2-etilexilóxi)-4-fenilpiridínio, hexafluorfosfato de 4-cloro-1-cicloexilmetiloxipiridínio, hexafluorfosfato de 1-etóxi-4-cianopiridínio, hexafluorfosfato de 3,4-dicloro-1-(2-etilexilóxi)piridínio, hexafluorfosfato de 1-benzilóxi-4fenilpiridínio, hexafluorfosfato de 1-fenetilóxi-4-fenilpiridínio, p-toluenosulfonato de 1-(2etilexilóxi)-4-fenilpiridínio, perfluorbutanosulfonato de 1-(2-etilexilóxi)-4-fenilpiridínio, brometo de 1-(2-etilexilóxi)-4-fenilpiridínio e tetrafluorborato de 1-(2-etilexilóxi)-4-fenilpiridínio.
[084]O radical iniciador de polimerização pode ser adicionado preferivelmente em uma quantidade de 0,1 a 50% por peso, mais preferivelmente a partir de 0,5 a 30% por peso, particularmente preferivelmente de 0,8 a 20% por peso, baseado no conteúdo sólido total constituindo a camada de registro de imagem. Na variação descrita acima, boa sensibilidade e boa resistência de coloração na área não imagem no tempo de impressão são obtidas.
(B) Composto polimerizável via radical
[085]O composto polimerizável via radical para uso na camada registro de
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 32/69
23/56 imagem de acordo com a invenção é um composto de adição polimerizável tendo pelo menos uma ligação dupla etilenicamente insaturada e é selecionado a partir de compostos tendo pelo menos uma, preferivelmente duas ou mais ligações duplas etilenicamente insaturadas terminais. O composto polimerizável via radical tem uma forma química, por exemplo, um monômero, um pré-polímero, especificamente, um dímero, um trímero ou um oligômero, ou uma mistura dos mesmos.
[086]Exemplos do monômero incluem um ácido carboxílico insaturado (por exemplo, ácido acrílico, ácido metacrílico, ácido itacônico, ácido crotônico, ácido isocrotônico ou ácido maléico) e um éster ou amida dos mesmos. Preferivelmente, um éster de um ácido carboxílico insaturado com um composto álcool poliídrico e uma amida de um ácido carboxílico insaturado com um composto amina polivalente são usados. Um produto de reação de adição de um éster ou amida do ácido carboxílico insaturado tendo um substituinte nucleofílico, por exemplo, um grupo hidróxi, um grupo amina ou um grupo mercapto, com um isocianato monofuncional ou polifuncional ou composto epóxi, ou produto de reação de condensação desidratação de um éster ou amida do ácido carboxílico insaturado com um ácido carboxílico monofuncional ou polifuncional é também preferivelmente usados. Além disso, um produto de reação de adição de um éster ou amida do ácido carboxílico insaturado tendo um substituinte eletrofílico, por exemplo, um grupo isocianato ou um grupo epóxi com um álcool monofuncional ou polifuncional, amina ou tiol, ou um produto de reação de substituição de um éster ou amida do ácido carboxílico insaturado tendo um substituinte remível, por exemplo, um grupo halogênio ou um grupo tosilóxi com um álcool monofuncional ou polifuncional, amina ou tiol é também preferivelmente usados. Em adição, compostos em que o ácido carboxílico insaturado descrito acima é substituído por um ácido fosfônico insaturado, estireno, vinil éter ou semelhantes podem ser também usados. Esses compostos são descritos em referências incluindo JP-T-2006508380, JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9-179296, JPA-9-179297, JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129,
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 33/69
24/56
JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187 e JP-A-10-333321.
[087]Exemplos específicos do monômero, que é um éster de um composto álcool poliídrico com um ácido carboxílico insaturado, incluem, como um éster do ácido acrílico, por exemplo, diacrilato de etileno glicol, diacrilato de 1,3-butanodiol, diacrilato de tetrametileno glicol, diacrilato de propileno glicol, triacrilato de trimetilolpropano, diacrilato de hexanodiol, diacrilato de tetraetileno glicol, tetraacrilato de pentaeritritol, triacrialato de sorbitol, óxido etileno do ácido isocianúrico (OE) modificado com triacrilato e oligômero poliéster acrilato. Como um éster do ácido metacrílico, por exemplo, dimetacrilato de tetrametileno glicol, dimetacrilato de neopentil glicol, trimetacrilato de trimetilolpropano, dimetracrilato de etileno glicol, trimetacrilato de pentaeritritol, bis[p-(3-metacrilóxi-2hidroxipropóxi)fenil]dimetilmetano e bis[p-(metacriloxietóxi)fenil]dimetilmetano são exemplificados. Exemplos específicos de monômeros, que é uma amida de um composto amina polivalente com um ácido carboxílico insaturado, inclui, metileno de bisacrilamida, metileno de bismetacrilamida, 1,6-hexametileno de bisacrilamida, 1,6-hexametileno de bismetacrilamida, dietilenotriamina trisacrilamida, xilileno bisacrilamida e xilileno bismetacrilamida.
[088]Compostos de adição polimerizável tipo uretano produzidos usando uma reação de adição entre um grupo isocianato e um hidróxi são também preferivelmente usados, e exemplos específicos dos mesmos incluem compostos viniluretano tendo dois ou mais grupos polimerizáveis por molécula obtida pela adição do monômero vinila contendo um grupo hidróxi representado pela fórmula (A) mostrada abaixo para um composto poliisocianato tendo dois ou mais grupos isocianato por molécula, descritos em JP-B48-41708.
CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH(A) em que R4 e R5 cada independentemente representa H ou CH3.
[089]Também, uretano acrilatos como descrito em JP-A-51-37193, JP-B-232293, JP-B-2-16765, JP-A-2003-344997 e JP-A-2006-65210, compostos uretano tendo
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 34/69
25/56 uma estrutura de óxido de etileno descritos em JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, JP-B-6239417, JP-B-62-39418, JP-A-2000-250211 e JP-A-2007-94138, e compostos uretano tendo um grupo hidrofílico descrito na Patente dos EUA 7.153.632, JP-T-8-505958, JP-A2007-293221 e JP-A-2007-293223 são preferivelmente usados.
[090]Dos compostos descritos acima, um acrilato modificado com etilenoóxido de ácido de isocianúrico, por exemplo, isocianurato de tris(acriloiloxietil) ou isocianurato de hidroxietil bis(acriloiloxietil) é particularmente preferido a partir do ponto de vista de excelente balanço entre a hidrofilicidade relacionada a propriedade de revelação on-press e habilidade de polimerização relacionada a durabilidade de impressão.
[091]Detalhes do método de uso do composto polimerizável, por exemplo, seleção da estrutura, uso individual ou combinação ou uma quantidade adicionada, podem ser aproximadamente determinados de acordo com o desenho característico do precursor da placa de impressão litográfica final. O composto polimerizável é usado preferivelmente em uma variação de 5 a 75% por peso, mais preferivelmente em uma variação de 10 a 70% por peso, particularmente preferivelmente em uma variação de 15 a 60% por peso, baseado no conteúdo sólido total da camada de registro de imagem.
(E) Corante de absorção infravermelha
[092] O corante de absorção infravermelha tem uma função de conversão do raio infravermelho absorvido para calor e uma função de ser excitado pelo raio infravermelho para fazer a transferência eletrônica e /ou transferência de energia para o radical de iniciador de polimerização descrito acima. O corante de absorção infravermelha para uso na invenção inclui um corante tendo uma absorção máxima em uma variação de comprimento de onda de 760 a 1200 nm.
[093]Como o corante, corantes comercialmente disponíveis e corantes conhecidos descritos nas literaturas, por exemplo, Senryo Binran, compilado pela A Sociedade de Química Orgânica Sintética, Japão (1970) podem ser usados. Especificamente, o corante inclui um corante azo, um corante azo de metal complexo, um corante azo pirazolo
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 35/69
26/56 na, um corante naftoquinona, um corante antraquinona, uma corante ftalocianina, um corante carbônio, um corante quinoneimina, um corante metina, um corante cianina, um corante esquarílio, um sal pirílio e um complexo metal tiolato.
[094]Dos corantes, um corante cianina, um corante esquarílio, um sal pirílio, um complexo níquel tiolato ou um corante indolenina cianina é particularmente preferido. Um corante cianina ou um corante indolenina cianina é mais preferido. Como um exemplo particularmente preferido do corante, um corante cianina representado pela fórmula (a) mostrada abaixo é exemplificada.
Fórmula (a)
Figure BR112013003865B1_D0005
[095]Na fórmula (a), X1 representa um átomo de hidrogênio, um átomo de halogênio, -N(R9)(R10), -X2-L1 ou um grupo mostrado abaixo. R9e R10, que podem ser os mesmos ou diferentes, cada representam um grupo hidrocarboneto aromático tendo de 6 a 10 átomos de carbono que podem ter um substituinte, um grupo alquila tendo de 1 a 8 átomos de carbonos que podem ter um substituinte ou um átomo de hidrogênio, ou R9 e R10 podem ser combinados com cada outro para formar um anel. R9 e R10cada preferivelmente representam um grupo fenila. X2 representa um átomo de oxigênio ou um átomo de enxofre. L1 representa um grupo hidrocarboneto tendo de 1 a 2 átomos de carbono, um grupo de anel aromático contendo um átomo hétero ou um grupo hidrocarboneto tendo de 1 a 12 átomos de carbono e contendo um átomo hetero. O átomo hétero aqui usado indica um átomo de nitrogênio, um átomo de enxofre, um átomo de oxigênio, um átomo de halogênio ou um átomo de selênio. No grupo mostrado abaixo, Xa_ tem o mesmo significado como Za_ definido aqui adiante. Ra representa um átomo de hidrogênio ou um substituinte selecionado a partir de um grupo alquila, um grupo arila, um grupo amino substituído ou não substituído e um átomo de halogênio.
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 36/69
27/56
Figure BR112013003865B1_D0006
[096]R1 e R2 cada, independentemente representam um grupo hidrocarboneto tendo de 1 a 12 átomos de carbono. Na visão da conservação da estabilidade de uma solução de revestimento para a camada de registro de imagem, é preferido que R1 e R2, cada, representam um grupo hidrocarboneto tendo dois ou mais átomos de carbono. Alternativamente, R1 e R2 podem ser combinados com cada outro para formar um anel e no caso de formação de um anel, é particularmente preferido que R1 e R2 sejam combinados com cada outro para formar um anel de 5- membros ou 6-membros.
[097]Ar1 e Ar2, que podem ser os mesmos ou diferentes, cada representam um grupo arila que pode ter um substituinte. Exemplos preferidos do grupo arila incluem um grupo de anel benzeno e um grupo naftaleno. Exemplos preferidos do substituinte incluem um grupo hidrocarboneto tendo 12 ou menos átomos de carbono, um átomo de halogênio e um grupo alcóxi tendo 12 ou menos de átomos de carbonos. Y1 e Y2, que podem ser os mesmos ou diferentes, cada representa um átomo de enxofre ou um grupo dialquilmetileno tendo 12 ou menos átomos de carbono. R3 e R4, que podem ser os mesmos ou diferentes, cada representa um grupo hidrocarboneto tendo de 20 ou menos átomos de carbono que podem ter um substituinte. Exemplos preferidos do substituinte incluem um grupo alcóxi tendo 12 ou menos átomos de carbono, um grupo carboxila e um grupo sulfo. R5, R6, R7 e R8, que podem ser os mesmos ou diferentes, cada representam um átomo de hidrogênio ou um grupo hidrocarboneto tendo 12 ou menos átomos de carbono. Na visão da disponibilidade de materiais brutos, um átomo de hidrogênio é preferido. Za representa um contra-ânion. Entretanto, Za- não é necessário quando o corante cianina representado pela fórmula (a) tem um substituinte aniônico na estrutura do mesmo e neutralização da carga não é necessária. Exemplos preferidos do contra-íon para Za- incluem um íon haleto, um íon perclorato, um íon tetrafluorborato, um íon hexafluorfosfato e
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 37/69
28/56 um íon sulfonato, e exemplos particularmente preferidos dos mesmos incluem um íon perclorato, um íon hexafluorfosfato e um íon arilsulfonato na visão da conservação da estabilidade de uma solução de revestimento para camada de registro de imagem.
[098]Exemplos específicos do corante cianina representados pela fórmula (a), que podem ser preferivelmente usados na invenção, incluem compostos descritos nos Parágrafos Nos. [0017] a [0019] de JP-A-2001-133969, Parágrafos Nos [0012] a [0021] de JP-A-2002-23360 e Parágrafos Nos. [0012] a [0037] de JP-A-2002-40638, preferivelmente compostos descritos no Parágrafo Nos. [0034] a [0041] de JP-A-2002-278057 e Parágrafos Nos. [0080] a [0086] de JP-A-2008-195018, e mais preferivelmente compostos descritos nos Parágrafos Nos. [0035] a [0043] de JP-A-2007-90850.
[099]Também, compostos descritos nos Parágrafos Nos. [0008] a [0009] de JP-A-5-5005 e Parágrafos Nos. [0022] a [0025] de JP-A-2001-222101 são preferivelmente usados.
[0100]Os corantes de absorção infravermelha (B) podem ser usados somente um tipo ou em combinação de dois ou mais tipos dos mesmos e eles podem também ser usados juntos com um agente de absorção de infravermelho outros que o corante de absorção infravermelho, por exemplo, um pigmento. Como o pigmento, compostos descritos nos Parágrafos Nos. [0072] a [0076] de JP-A-2008-195018 são preferidos.
[0101]O conteúdo do corante de absorção infravermelho na camada de registro de imagem de acordo com a invenção é preferivelmente de 0,1 a 10,0% por peso, mais preferivelmente de 0,5 a 5,0% por peso, baseado no conteúdo sólido total da camada de registro de imagem.
(F) Precursor hidrofilizante
[0102]Na invenção, um precursor hidrofobilizante pode ser usado a fim de melhorar a propriedade do revelação on-press. O precursor hidrofilizante de acordo com a invenção significa uma partícula fina capaz de converter a camada de registro de imagem para ser hidrofóbica quando aquecida é aplicado. A partícula fina é preferivelmente pelo
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 38/69
29/56 menos uma partícula fina selecionada a partir da partícula fina de polímero termoplástico hidrofóbico, partícula fina de polímero termo-reativo, partícula fina de polímero tendo um grupo polimerizável, microcápsula tendo um composto hidrofóbico encapsulado e microgel (partícula fina de polímero de ligação cruzada). Entre elas, partícula fina de polímero tendo um grupo polimerizável e microgel são preferidos.
[0103]Como a partícula fina de polímero termoplástico hidrofóbico, partículas finas de polímero termoplástico hidrofóbico descritas, por exemplo, em Research Disclosure, No. 333003, Janeiro (1992), JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A9-171250 e Patente Européia 931.647 são preferivelmente exemplificadas.
[0104]Exemplos específicos do polímero constituindo a partícula fina de polímero incluem um homopolímero ou copolímero de um monômero, por exemplo, etileno, estireno, cloreto de vinila, acrilato de metila, acrilato de etila, metacrilato de metila, metacrilato de etila, cloreto de vinilideno, acrilonitrila, vinil carbazol ou um acrilato ou metacrilato tendo uma estrutura polialquileno e uma mistura dos mesmos. Entre eles, poliestireno, um copolímero contendo estireno e acrilonitrila e metacrilato de polimetila são mais preferidos.
[0105]O tamanho médio da partícula da partícula fina do polímero termoplástico hidrofóbico para uso na invenção é preferivelmente de 0,01 a 2,0 pm.
[0106]A partícula fina de polímero termo-reativo para uso na invenção inclui partícula fina de polímero tendo um grupo termo-reativo e forma uma região hidrofobilizada por ligação cruzada devido a reação térmica e mudança no grupo funcional aqui envolvido.
[0107]Como o grupo termo-reativo da partícula fina de polímero tendo um grupo termo-reativo para uso na invenção, embora um grupo funcional desempenhando qualquer reação pode ser usado enquanto uma ligação química é formada, um grupo polimerizável é preferido. Por exemplo, um grupo etilenicamente insaturado (por exemplo, um grupo acriloila, um grupo metacriloila, um grupo vinila ou umgrupo alila) desempe
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 39/69
30/56 nhando uma reação de polimerização radical, um grupo polimerizável catiônico (por exemplo, um grupo vinila, um grupo vinilóxi, um grupo epóxi ou um grupo oxetanila), um grupo isocianato desempenhando uma reação de adição ou uma forma bloqueada do mesmo, um grupo epóxi, um grupo vinilóxi e um grupo funcional tendo um átomo de hidrogênio ativo (por exemplo, um grupo amino, um grupo hidróxi, ou um grupo carboxila) como o parceiro de reação do mesmo, um grupo carboxila desempenhando uma reação de condensação e um grupo hidroxila ou um grupo amino como o parceiro de reação do mesmo, e um anidrido ácido desempenhando uma reação de adição de abertura do anel e um grupo amino ou um grupo hidroxila como o parceiro de reação do mesmo são preferivelmente exemplificados.
[0108]Como a microcápsula para uso da invenção, microcápsula tendo toda ou parte dos componentes constituintes da camada re registro da imagem encapsulada como descrito, por exemplo, em JP-A-2001-277740 e JP-A-2001-277742 é exemplificado. Os componentes constituintes da camada de registro de imagem podem estar presentes fora das micropartículas. É uma modalidade mais preferida da camada de registro de imagem contendo microcápsulas que os componentes constituintes hidrofóbicos são encapsulados em microcápsulas e os componentes hidrofílicos estão presentes fora das microcápsulas.
[0109]De acordo com a invenção, uma modalidade contendo uma partícula de resina de ligação cruzada, que é, um microgel pode ser usada. O microgel pode conter uma parte dos componentes constituintes da camada de registro de imagem, pelo menos um na parte interior e na superfície do mesmo. Em particular, uma modalidade de um microgel reativo contendo um radical do grupo polimerizável na superfície do mesmo é preferida na visão da sensibilidade formadora de imagem e durabilidade de impressão.
[0110]A fim de conduzir a microencapsulação ou microgelatinização do componente constituinte da camada de registro de imagem, métodos conhecidos podem ser usados.
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 40/69
31/56
[0111]O tamanho médio da partícula da microcápsula ou microgel é preferivelmente de 0,01 a 3,0 pm, mais preferivelmente de 0,05 a 2,0 pm, particularmente preferivelmente de 0,10 a 1,0 pm. Na variação descrita acima, boa resolução e bom tempo de declínio de estabilidade podem ser alcançados.
[0112]O conteúdo do precursor de hidrofibilizante é preferivelmente em uma variação de 5 a 90% por peso baseado no conteúdo sólido total da camada de registro de imagem.
(G) Outros componentes
[0113]A camada de registro de imagem de acordo com a invenção podem ainda conter outros componentes, se desejado.
(1) Composto de baixo peso molecular hidrofílico
[0114]A camada de registro de imagem de acordo com a invenção pode conter um composto de baixo peso molecular hidrofílico a fim de melhorar a propriedade de revelação on-press sem acompanhar a diminuição da durabilidade de impressão.
[0115]O composto de baixo peso molecular hidrofílico inclui um composto orgânico solúvel em água, por exemplo, um glicol, por exemplo, etileno glicol, dietileno glicol, trietileno glicol, propileno glicol, dipropileno glicol ou tripropileno glicol, ou um derivado éter ou éster dos mesmos, um composto poliidróxi, por exemplo, glicerina, pentaeritritol ou tris(2-hidroxietil) isocianurato, uma amina orgânica, por exemplo, trietanol amina, dietanol amina ou monoetanol amina, ou um sal das mesmas, um ácido sulfônico orgânico, por exemplo, um ácido alquil sulfônico, ácido tolueno sulfônico ou ácido benzeno sulfônico, ou um sal dos mesmos, um ácido sulfâmico orgânico, por exemplo, um ácido alquil sulfâmico, ou um sal do mesmo, um ácido sulfúrico orgânico, por exemplo, um ácido alquil sulfúrico ou um alquil éter do ácido sulfúrico, ou um sal dos mesmos, um ácido fosfônico orgânico, por exemplo, ácido fenil fosfônico, ou um sal do mesmo, um ácido carboxílico orgânico, por exemplo, ácido tartárico, ácido oxálico, ácido cítrico, ácido málico, ácido lático, ácido glucônico ou um aminoácido, ou um sal do mesmo e uma betaína.
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 41/69
32/56
[0116]De acordo com a invenção, é preferido que pelo menos um composto selecionado a partir de um poliol, um sulfato orgânico, um sulfonato orgânico e uma betaína é incorporado.
[0117]Exemplos específicos do sulfonato orgânico incluem um alquilsulfonato, por exemplo, n-butilsulfonato de sódio, n-hexilsulfonato de sódio, 2-etilexilsulfonato de sódio, cicloexilsulfonato de sódio ou n-octilsulfonato de sódio; um alquilsulfonato contendo uma cadeia de óxido de etileno, por exemplo, 5,8,11-trioxapentadecano-1-sulfonato de sódio, 5,8,11-trioeptadecano-1-sulfonato de sódio, 13-etil-5,8,11-trioxaeptadecano-1sulfonato de sódio ou 5,8,11,14-tetraoxatetracosano-1-sulfonato de sódio; um arilsulfonato, por exemplo, benzenosulfonato de sódio, p-toluenosulfonato de sódio, phidroxibenzenosulfonato de sódio, p-estirenosulfonato de sódio, ácido dimetil-5-sulfonato isoftálico de sódio, 1-naftilsulfonato de sódio, 4-hidroxinaftilsulfonato de sódio, 1,5naftildissulfonato disódico ou 1,3,6-naftiltrisulfonato trisódico; e compostos descritos nos Parágrafos Nos. [0026] a [0031] de JP-A-2007-276454 e Parágrafos Nos. [0020] a [0047] de JP-A-2009-154525. O sal pode também ser um sal potássio ou um sal lítio.
[0118]O sulfato orgânico inclui um sulfato de alquila, alquenila, alquinila, arila ou monoéter heterocíclico de óxido de polietileno. O número da unidade do óxido de etileno é preferivelmente de 1 a 4. O sal é preferivelmente um sal sódio, um sal potássio ou um sal lítio. Exemplos específicos dos mesmos incluem compostos descritos nos Parágrafos Nos. [0034] a [0038] de JP-A-2007-276454.
[0119]Como a betaína, um composto em que um número de átomos de carbono inclusos em um substituinte hidrocarboneto no átomo de nitrogênio é de 1 a 5 é preferido. Exemplos específicos dos mesmos incluem acetato de trimetilamônio, acetato de dimetilpropilamônio, 3-hidróxi-4-trimetilamoniobutirato, 4-(1 -piridinio)butirato, 1 -hidroxietil1-imidazolioacetato, metanosulfonato de trimetilamônio, metanosulfonato de dimetilpropilamônio, 3-trimetilamônio-1-propanosulfonato e 3-(1-piridino)-1-propanosulfonato.
[0120]Desde que o composto de baixo peso molecular hidrofílico tenha uma
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 42/69
33/56 estrutura pequena da porção hidrofóbica e quase nenhuma superfície de função ativa, degradações da hidrofobicidade e forma do filme na área da imagem devido a penetração do água de umedecimento na área exposta (área da imagem) da camada re registro de imagem são prevenidas e então, a receptividade da tinta e durabilidade de impressão da camada de registro de imagem podem ser preferivelmente mantidas.
[0121]A quantidade do composto de baixo peso molecular hidrofílico adicionado à camada de registro de imagem é preferivelmente de 0,5 a 20% por peso, mais preferivelmente de 1 a 15% por peso, ainda mais preferivelmente de 2 a 10% por peso, baseado no conteúdo de sólido total da camada de registro de imagem. Na variação descrita acima, boa propriedade de revelação on-press e boa durabilidade de impressão são alcançadas.
[0122]Os compostos de baixo peso molecular hidrofílicos podem ser usados individualmente ou como uma mistura de dois ou mais dos mesmos.
(2) Agente sensibilizante ao óleo
[0123]A fim de melhorar a receptividade da tinta, um agente sensibilizante ao óleo, por exemplo, um composto fosfônio, um composto de baixo peso molecular contendo nitrogênio ou um polímero contendo um grupo amônio podem ser usados na camada de registro de imagem. Em particular, no caso onde um composto estratiforme inorgânico é incorporado em uma camada sobreposta, o agente sensibilizante de óleo funciona como uma superfície de agente de revestimento do composto estratiforme inorgânico e previne a deterioração da receptividade de tinta durante a impressão devido ao composto estratiforme inorgânico.
[0124]Como exemplos preferidos do composto fosfônio, compostos fosfônios descritos em JP-A-2006-297907 e JP-A-2007-50660 são exemplificados. Exemplos específicos do composto fosfônio incluem iodeto de tetrabutilfosfônio, brometo de butiltrifenilfosfônio, brometo de tetrafenilfosfônio, di(hexafluorfosfato) de 1,4(trifenilfosfônio)butano, sulfato de 1,7-bis(trifenilfosfônio)heptano enaftaleno-2,7
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 43/69
34/56 dissulfonato de 1,9-bis(trifenilfosfônio)nonano.
[0125]Como o composto de baixo peso molecular contendo nitrogênio, um sal amino e um sal amônio quaternário são exemplificados. Também, um sal imidazolínio, um sal benzimidazolínio, um sal piridínio e um sal quinolinio são exemplificados. Dos compostos de baixo peso molecular contendo nitrogênio, o sal de amônio quaternário e sal piridínio são preferivelmente usados. Exemplos específicos do composto de baixo peso molecular contendo nitrogênio incluem tetrametilamônio, hexafluorfosfato, tetrabutilamônio, hexafluorfosfato, dodeciltrimetilamônio, p-toluenosulfonato, benziltrietilamônio, hexafluorfosfato, benzildimetiloctilamônio, hexafluorfosfato, hexafluorfosfato de benzildimetildodecilamônio, e compostos descritos nos Parágrafos Nos [0021] a [0037] de JP-A2008-284858 e Parágrafos Nos. [0030] a [0057] de JP-A-2009-90645.
[0126]O polímero contendo grupo amônio pode ser qualquer polímero contendo um grupo amônio em sua estrutura e é preferivelmente um polímero contendo de 5 a 80% por mol de (met)acrilato tendo um grupo amônio em sua cadeia lateral como um componente de co-polimerização. Exemplos específicos dos mesmos incluem compostos descritos nos Parágrafos Nos. [0089] a [0105] de JP-A-2009-208458.
[0127]Como para o polímero contendo sal amônio, seu valor de viscosidade específica reduzida (unidade: mL/g) determinado de acordo com o método de medida descrito abaixo é preferivelmente de 5 a 120, mais preferivelmente de 10 a 110, e particularmente preferivelmente de 15 a 100. Quando o valor de viscosidade específica reduzido descrito acima é calculado em termos de peso médio de peso molecular (Pm), de 10.000 a 150.000 é preferido, de 17.000 a 140.000 é mais preferido, e 20.000 a 130.000 é particularmente preferido.
<Método de medida da viscosidade específica reduzida>
[0128]Em um frasco de medida de 20 mL foi pesado 1 g do conteúdo polímero sólido e a medida do frasco é enchida até a linha de medida com N-metil pirrolidona. A solução resultante foi permitida descansar em um banho termostático de 30o C pro 30
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 44/69
35/56 minutos e colocada em um viscômetro Ubbelohde (constante do viscômetro: 0,010 cSt/s) e um período de exaustão da solução a 30o C foi medido. A medida foi conduzida duas vezes para a mesma amostra e um valor médio da medida foi determinado. A medida foi também conduzida para um branco (somente N-metil pirrolidona) da mesma maneira. A viscosidade específica reduzida (mL/g) foi calculada de acordo com a fórmula mostrada abaixo.
Período de exaustão da solução amostra (seg) - Período de exaustão do branco (seg)
Período para exaustão do branco (seg)
Viscosidade
Específica reduzida (mL/g) = _________________________________________
3,33 (g) x 30
100 (mL)
Exemplos específicos do polímero contendo grupo amônio são revelados abaixo.
(1) copolímero metacrilato p-toluenosulfonato de 2(trimetilamônio)etila/metacrilato de 3,6-dioxaeptila (proporção molar: 10/90, Pm: 45.000) (2) copolímero metacrilato hexafluorfosfato de 2-(trimetilamônio)etila/metacrilato de 3,6-dioxaeptila (proporção molar: 20/80, Pm: 60.000) (3) copolímero metacrilato p-toluenosulfonato de 2(etildimetilamônio)etila/metacrilato de hexila (proporção molar: 30/70, Pm: 45.000) (4) copolímero metacrilato hexafluorfosfato de 2-(trimetilamônio)etila/metacrilato de 2-etilexila (proporção molar: 20/80, Pm: 60.000) (5) copolímero metacrilato metilsulfato de 2-(trimetilamônio)etila/metacrilato de hexila (proporção molar: 40/60, Pm: 70.000) (6) copolímero metacrilato hexafluorfosfato de 2(butildimetilamônio)etila/metacrilato de 3,6-dioxaeptila (proporção molar: 25/75, Pm: 65.000) (7) copolímero acrilato hexafluorfosfato de 2-(butildimetilamônio)etila/metacrilato de 3,6-dioxaeptila (proporção molar: 20/80, Pm: 65.000) (8) copolímero metacrilato 13-etil-5,8.11-trioxa-1-heptadecanosulfonato de 2
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 45/69
36/56 (butildimetilamônio)etila/metacrilato de 3,6-dioxaeptila (proporção molar: 20/80, Pm: 75.000) (9) copolímero metacrilato hexafluorfosfato de 2(butildimetilamônio)etila/metacrilato de 3,6-dioxaeptila/metacrilato de 2-hidróxi-3metacriloiloxipropila (proporção molar: 15/80/5, Pm: 65.000)
O conteúdo do agente sensibilizante a óleo é preferivelmente de 0,01 a 30,0% por peso, mais preferivelmente de 0,1 a 15,0% por peso, ainda mais preferivelmente de 1 a 10% por peso, baseado no conteúdo total de sólido da camada de registro da imagem.
(3) Outros componentes
[0129]Outros componentes, por exemplo, um tensoativo, um agente colorante, um agente de reprodução, um inibidor da polimerização, um derivado de ácido graxo superior, um plastificante, uma partícula inorgânica fina, um composto estratiforme inorgânico, um co-sensibilizante ou um agente de transferência de cadeia podem ainda ser adicionados à camada de registro da imagem. Especificamente, compostos e quantidades adicionadas dos mesmos descritos, por exemplo, nos Parágrafos Nos. [0114] a [0159] de JP-A-2008-284817, Parágrafos Nos. [0023] a [0027] de JP-A-2006-91479 e Parágrafos No. [0060] do Pedido de Patente dos EUA No. 2008/0311520 são preferivelmente usados.
(H) Formação da camada de registro de imagem
[0130]A camada de registro de imagem de acordo com a invenção é formada pela dispersão ou dissolução de cada dos componentes necessários descritos acima em um solvente conhecido para preparar uma solução de revestimento e revestindo a solução em um suporte por um método conhecido, por exemplo, revestimento por barra aplicadora e secagem como descrito, por exemplo, nos Parágrafos Nos. [0142] a [0143] de JP-A-2008-195018. A quantidade de revestimento (conteúdo sólido) da camada de revestimento de imagem formada no suporte após revestimento e secagem pode ser variada de acordo com o propósito tencionado, mas é em geral preferivelmente de 0,3 a 3,0 g/m2. Na variação descrita acima, boa sensibilidade e boa propriedade de filme da camada de registro de imagem podem ser alcançadas.
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 46/69
37/56 (Camada interna)
[0131]No precursor de placa de impressão litográfica de acordo com a invenção, é preferido prover uma camada sobreposta (também referida como uma camada intermediária) entre a camada de registro de imagem e o suporte. A força de adesão da camada interna entre o suporte e a camada re registro de imagem é a área exposta e faz a remoção da camada de registro de imagem a partir do suporte na área não exposta fácil, assim contribuindo para a melhoria da propriedade desenvolvida sem acompanhamento da degradação da durabilidade da impressão. Ainda, no caso da exposição ao laser infravermelho, desde que a camada interna atua como uma camada isolante de calor, diminuição na sensibilidade devido a difusão do calor gerado pela exposição no suporte é prevenida.
[0132]Como um composto para uso na camada interna, um composto tendo um grupo adsorvente capaz de adsorver a uma superfície do suporte e um grupo de ligação cruzada para melhorar uma propriedade de adesão para a camada de registro de imagem é preferida. Ainda, um composto tendo um grupo que dá hidrofilicidade, por exemplo, um grupo sulfo é também exemplificado como um composto preferível. O composto pode ser um composto de baixo peso molecular ou um composto polímero. Os compostos podem ser usados na mistura de dois ou mais dos mesmos, se desejado.
[0133]Como o composto polímero, um copolímero de um monômero tendo um grupo adsorvente, um monômero tendo um grupo hidrofílico e um monômero tendo um grupo de ligação cruzada é preferido. Como o grupo adsorvente capaz de adsorver a uma superfície de suporte, um grupo hidróxi fenólico, um grupo carboxila, -PO3H2, OPO3H2, -CONHSO2-, -SO2NHSO2- ou -COCH2COCH3 é preferido. Como o grupo hidrofílico, um grupo sulfo é preferido. Como o grupo de ligação cruzada, por exemplo, um grupo metacril ou um grupo alil é preferido.
[0134]O composto polímero pode conter um grupo de ligação cruzada introduzido por uma formação de sal entre um substituinte polar do composto polímero e um
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 47/69
38/56 composto contendo um substituinte tendo uma carga aplicável para o substituinte polar do composto polímero e uma ligação etilenicamente insaturada e pode ser ainda copolimerizado com um monômero outro que aqueles descritos abaixo, preferivelmente um monômero hidrofílico.
[0135]Especificamente, um agente acoplador silano tendo uma adição do grupo reativo de dupla ligação etilênico polimerizável descrito em JP-A-10-282679 e um composto fósforo tendo um grupo reativo de ligação dupla etilênica descrito em JP-A-2304441 são preferivelmente exemplificados. Compostos de baixo peso molecular ou compostos polímeros tendo um grupo de ligação cruzada (preferivelmente um grupo de ligação etilenicamente insaturada), um grupo funcional capaz de interagir com uma superfície de suporte e um grupo hidrofílico descrito em JP-A-2005-238816, JP-A-2005125749, JP-A-2006-239867 e JP-A-2006-215263 são também preferivelmente usados.
[0136]Compostos polímeros tendo um grupo de adsorção capaz de adsorver a uma superfície de suporte, um grupo hidrofílico e um grupo de ligação cruzada descrito em JP-A-2005-125749 e JP-A-2006-188038 são mais preferidos.
[0137]O conteúdo da ligação dupla insaturada no composto polímero para camada sobreposta é preferivelmente de 0,1 a 10,0 mmol, mais preferivelmente de 0,2 a 5,5 mmol, baseado em 1 g do composto polímero.
[0138]O peso médio do peso molecular do composto polímero para camada sobreposta é preferivelmente 5.000 ou mais, e mais preferivelmente de 10.000 a 300.000.
[0139]A camada sobreposta de acordo com a invenção pode conter um agente quelante, uma amina secundária ou terciária, um inibidor de polimerização ou um composto contendo um grupo amino ou um grupo funcional tendo habilidade de inibição da polimerização e um grupo capaz de interagir com uma superfície do suporte de alumínio (por exemplo, 1,4-diazabiciclo[2,2,2]octano (DABCO), 2,3,5,6-tetraidroxi-p-quinona, cloranil, ácido sulfoftálico, ácido hidroxietiletilenodiaminotriacético, ácido diidroxietiletilenodiaminodiacético ou ácido hidroxietiliminodiacético) em adição para o composto para a ca
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 48/69
39/56 mada sobreposta descrita acima a fim de prevenir a ocorrência do corante devido ao lapso de tempo.
[0140]A camada sobreposta é revestida de acordo com um método conhecido. A quantidade de revestimento (conteúdo sólido) da camada sobreposta é preferivelmente de 0,1 a 100 mg/m2, e mais preferivelmente de 1 a 30 mg/m2.
(Suporte)
[0141]Como o suporte para uso no precursor da placa de impressão litográfica de acordo com a invenção, um suporte conhecido é empregado. Particularmente, uma placa de alumínio sujeita a tratamento de aspereza e tratamento anodizante de acordo com um método conhecido é preferido.
[0142]Também, um tratamento para aumentar ou um tratamento de selante de microporos do filme anodizado descrito em JP-A-2001-253181 e JP-A-2001-322365 ou uma superfície de tratamento hidrofilizante, por exemplo, com um silicato álcali metal como descrito nas Patentes dos EUA 2.714.066, 3.181.461,3.280.734 e 3.902.734 ou ácido polivinil fosfônico como descrito nas Patentes dos EUA 3.276,.68, 4.153.461 e 4.689.272 podem ser apropriadamente selecionados e aplicados à placa de alumínio, se desejado.
[0143]O suporte preferivelmente tem uma linha central média de aspereza de 0,10 a 1,2 pm.
[0144]O suporte pode ter uma camada de revestimento posterior contendo um composto de polímero orgânico descrito em JP-A-5-45885 ou um composto alcóxi de silicone descrito em JP-A-6-35174, provido na superfície posterior do mesmo, se desejado.
[Método de fabricação da placa]
[0145] Fabricação da placa do precursor da placa de impressão litográfica de acordo com a invenção é preferivelmente feita por um método de revelação on-press. O método de revelação on-press inclui um passo em que o precursor da placa de impressão litográfica é image-wise exposta e um passo de impressão em que tinta
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 49/69
40/56 oleosa e um componente aquoso são fornecidos para o precursor da placa de impressão litográfica exposta sem passar por qualquer processo de revelação para fazer a impressão, e é caracterizado que a área não exposta do precursor da placa de impressão litográfica é removida no curso do passo de impressão. A exposição image-wise pode ser feita em uma máquina de impressão após o precursor da placa de impressão litográfica ser montado na máquina de impressão ou poder ser separadamente feito usando uma unidade de exposição ou semelhantes. No último caso, o precursor da placa de impressão litográfica é montado como ele é montado em uma máquina de impressão sem passar por um passo de processamento de revelação. Então, a operação de impressão é iniciada usando a máquina de impressão com fornecimento de tinta oleosa e um componente aquoso e em um estágio precoce da impressão o revelação on-press é realizado. Especificamente, a camada de registro de imagem na área não exposta é removida e a superfície hidrofílica do suporte é revelada com ela para formar uma área não imagem. Como a tinta oleosa e componente aquoso, tinta de impressão e umedecimento de água para impressão litográfica convencional podem ser empregados, respectivamente.
O método de fabricação da placa é descrito em mais detalhes abaixo.
[0146]Como uma fonte de luz usada para a exposição da imagem na invenção, um laser é preferido. O laser para uso na invenção não é particularmente restrito e, por exemplo, um laser sólido ou laser semicondutor emitindo um raio infravermelho tendo um comprimento de onda de 760 a 1200 nm é preferivelmente exemplificado.
[0147]Com respeito ao laser de raio infravermelho, a saída é preferivelmente 100 mW ou mais, o tempo de exposição por pixel é preferivelmente dentro de 20 microsegundos, e a energia de irradiação é preferivelmente de 10 a 300 mJ/cm2 Com respeito a exposição ao laser, a fim de reduzir o tempo de exposição, é preferido usar um dispositivo de multi-feixes de laser.
[0148]O precursor da placa de impressão litográfica exposto é montado em uma placa cilíndrica de uma máquina de impressão. No caso de usar uma máquina de
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 50/69
41/56 impressão equipada com um aparato de exposição a laser, o precursor da placa de impressão litográfica é montado em uma placa cilíndrica da máquina de impressão e então sujeita a exposição image-wise.
[0149]Quando água de umedecimento e tinta de impressão são fornecidos para a image-wise exposta ao precursor de placa de impressão litográfica para desempenhar a impressão, na área exposta da camada re registro de imagem, a camada de registro de imagem curada pelas formas de exposição da área receptora de tinta de impressão tendo uma superfície oleofílica. Por outro lado, na área não exposta, a camada de registro de imagem não curada é removida por dissolução ou dispersão com pelo menos qualquer do água de umedecimento e tinta de impressão fornecida para revelar a superfície hidrofílica na área. Como um resultado, o umedecimento de água na superfície hidrofílica revelada e a tinta de impressão aderem na área de exposição da camada de registro de imagem, segundo a qual a impressão é iniciada.
[0150]Enquanto ou o umedecimento de água ou impressão de tinta pode ser fornecido na superfície do precursor da placa de impressão litográfica, é preferido fornecer a tinta de impressão primeiro, para fornecer a prevenção do água de umedecimento a partir da contaminação com o componente da camada de registro de imagem removido.
[0151]Então, o precursor de placa de impressão litográfica de acordo com a invenção é sujeito ao revelação on-press em uma máquina de impressão em ofsete e usado como ela é para impressão de um grande número de folhas.
EXEMPLO
[0152]A presente invenção será descrita em mais detalhes com referência aos seguintes exemplos, mas a invenção não deve ser construída como sendo limitada a mesma. Com respeito aos compostos polímeros usados nos exemplos, a menos que de outra forma particularmente definido, um peso molecular significa uma média de peso de peso molecular (Pm) e uma proporção de unidade de repetição é indicada em porcentagem de mol.
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 51/69
42/56
[Exemplo 1 a 10 e Exemplos Comparativos 1 a 13]
1. Preparação dos precursores da placa de impressão litográfica (1) a (11) (1) Preparação do Suporte
[0153]Uma placa de alumínio (material: JIS A 1050) tendo uma espessura de 0,3 mm foi sujeita a um tratamento desengordurante a 50o C por 30 segundos usando uma solução de aluminato de sódio aquosa 10% por peso a fim de remover o óleo de rolagem na superfície da mesma, e então granulado na superfície da mesma usando escovas de nylon embebidas com feixes de cerdas de nylon tendo um diâmetro de 0,3 mm e uma suspensão aquosa (gravidade específica: 1,1 g/cm3) de pedra-pome tendo um tamanho mediano de 25 pm, seguido por término com lavagem com água. A placa foi sujeita a entalhe por imersão em uma solução de hidróxido de sódio aquoso 25% por peso de 45o C por 9 segundos, lavada com água, então imersa em uma solução de ácido nítrico 20% por peso a 60o C pro 20 segundos, e lavada com água. A quantidade de entalhe da superfície granulada foi cerca de 3 g/m2
[0154]Então, usando uma corrente alternada de 60 Hz, um tratamento bruto eletroquímico foi continuamente realizado na placa. A solução eletrolítica usada foi uma solução de ácido nítrico aquoso 1% por peso (contendo 0,5% por peso do íon alumínio) e a temperatura da solução eletrolítica foi 50o C. O tratamento bruto eletroquímico foi conduzido usando uma corrente alternada retangular tendo uma forma de onda trapezoidal tal que o tempo TP necessário para o valor de corrente para alcançar o pico do zero foi 0,8 mseg e a proporção devida foi 1:1, e usando um eletrodo carbono como um eletrodo oposto. Um ferrito foi usado como um anodo auxiliar. A densidade corrente foi 30 A/dm2 em termos do valor pico da corrente elétrica, e 5% da corrente elétrica fluente a partir da fonte elétrica foi dividida para o anodo auxiliar. A quantidade de eletricidade na eletrólise do ácido nítrico foi 175 C/dm2 em termos da quantidade de eletricidade quando a placa de alumínio funcionou como um anodo. A placa foi então lavada com água por pulverização.
[0155]A placa foi ainda sujeita a um tratamento bruto eletroquímico na mesma
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 52/69
43/56 forma como na eletrólise de ácido nítrico acima usando uma solução eletrolítica, uma solução de ácido clorídrico aquosa 0,5% por peso (contendo 0,5% por peso do íon alumínio) tendo temperatura de 50o C e sob a condição que a quantidade de eletricidade foi 50 C/dm2 em termos da quantidade de eletricidade quando a placa de alumínio funcionada como um anodo. A placa foi então lavada com água por pulverização.
[0156]A placa foi então sujeita a um tratamento anodizante usando como uma solução eletrolítica, uma solução de ácido sulfúrico aquosa 15% por peso (contendo 0,5% por peso de íon alumínio) em uma densidade corrente de 15 A/dm2 para formar um filme anodizado de corrente direta de 2,5 g/m2, lavado com água e seca para preparar Suporte (1).
[0157]Então, a fim de garantir a hidrofilicidade da área não imagem, Suporte (1) foi sujeito a tratamento com silicato usando uma solução de silicato de sódio aquoso 2,5% por peso No. 3 a 60°C por 10 segundos e então foi lavada com água para obter Suporte (2). A quantidade de adesão de Si foi 10 mg/m2 A aspereza média da linha central (Ra) do suporte foi medida usando um estilo tendo um diâmetro de 2 pm e encontrada ser 0,51 pm.
(2) Formação da camada interna
[0158]Solução de revestimento (1) para camada interna mostrada abaixo foi revestida no Suporte (2) descrito acima de forma a ter uma quantidade de revestimento seco de 20 mg/m2 para preparar um suporte tendo uma camada interna.
<Solução de revestimento (1) para camada interna>
Composto (1) para camada interna tendo estrutura mostrada abaixo0,18 g
Ácido hidroxietiliminodiacético0,10 g
Metanol55,24 g
Água6,15 g
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 53/69
44/56
ÇH3 çh3 “fCH2-Ch7 —(CH2'CH^-8 -(ΟΗ2<Η^0 -(CH2'Ç-^7
COO CONH CONH COO (^CH^POsH, -1-\SQ H NH< (0H2CH2OhCONH
Composto (1) para camada interna
Pm: 100.000 (3) Formação da camada de registro de imagem
[0159]Solução de revestimento (1) para camada de registro de imagem tendo a composição mostrada abaixo foi revestida na camada interna formada como descrito acima por uma barra e seca em uma estuda a 100° C por 60 segundos para formar uma camada de registro de imagem tendo um a quantidade de revestimento seco de 1,0 g/m2
[0160]Solução de revestimento (1) para camada de registro de imagem foi preparada por mistura de solução Fotosensível (1) mostrada abaixo com solução Microgel (1) mostrada abaixo antes do revestimento, seguido por agitação.
<Solução Fotosensível (1)>
Polímero ligante (2) tendo estrutura mostrada abaixo 0,240 g
Corante de absorção infravermelho (1) tendo estrutura mostrada abaixo 0,030 g Radical iniciador de polimerização (1) tendo estrutura mostrada abaixo 0,162 g Composto polimerizável via radical (Tris(acriloiloxietil) isocianurato (NK ESTER A-9300, produzido por Shin-Nakamura Chemical Co. Ltd))0,192 g
Composto de baixo peso molecular hidrofílico (Tris(2-hidroxietil)isocianurato) 0,062 g
Composto de baixo peso molecular hidrofílico (1) tendo estrutura mostrada abaixo 0,050 g
Agente sensibilizador de óleo (composto Fosfônio (1) tendo estrutura mostrada abaixo) 0,055 g
Agente sensibilizador de óleo (sal benzil dimetil octil amônio PFe)0,018 g
Agente sensibilizador de óleo (polímero contendo grupo amônio tendo estrutura
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 54/69
45/56 mostrada abaixo (viscosidade específica reduzida: 44 mL/g)0,035 g
Tensoativo baseado em flúor (1) tendo estrutura mostrada abaixo0,008 g
2-Butanona1,091 g
1-Metóxi-2-propanol8,609 g <Solução microgel (1)>
Microgel (1)2,640 g
Água destilada2,425 g
[0161]As estruturas do polímero ligante (2), corante de absorção infravermelha (1), radical iniciador de polimerização (1), composto fosfônio (1), composto de baixo peso molecular hidrofílico (1), polímero contendo grupo amônio e tensoativo baseado em flúor (1) são mostrados abaixo.
Figure BR112013003865B1_D0007
Figure BR112013003865B1_D0008
Polímero ligante (2) (Pm: 70.000)
Me Me
Figure BR112013003865B1_D0009
Figure BR112013003865B1_D0010
Polímero contendo grupo amônio
Figure BR112013003865B1_D0011
Corante de absorção infravermelha (1)
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 55/69
46/56
CH3(CH2)7O
Figure BR112013003865B1_D0012
Radical iniciador de polimerização (1)
COOC2H4C6F13 C-(OC2H4)11-(OC3H6)22-(OC2H4)11-OH o
(Pm: 13.000)
Figure BR112013003865B1_D0013
Composto de baixo peso molecular hidrofílico (1)
Figure BR112013003865B1_D0014
<Preparação de Microgel (1 )>
[0162]Um componente de fase oleosa foi preparado por dissolução de 10 g de produto de trimetilol propano e diisocianato de xileno (TAKENATE D-110N, produzido por Mitsui Chemicals Polyurethanes, Inc.), 3,15 g de triacrilato de pentaehthtol (SR444, produzido por Nippon Kayaku Co., Ltd.) e 0,1 g de PIONIN A-41C (produzido por Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) em 17 g de acetato de etila. Como um componente de fase aquosa, 40 g de uma solução aquosa 4% por peso de polivinil álcool (PVA-205, produzido por Kuraray Co., Ltd) foi preparado. O componente de fase oleosa e o componente de fase aquosa foram misturados e a mistura foi emulsificada usando um homogeneizador a
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 56/69
47/56
12.000 rpm por 10 minutos. A emulsão resultante foi adicionada para 25 g de água destilada e agitada tem temperatura ambiente por 30 minutos e então a 50o C por 3 horas. O microgel líquido então obtido foi diluído usando água destilada de forma a ter um conteúdo sólido de concentração de 15% por peso para preparar Microgel (1). O tamanho médio da partícula do microgel foi medido por um método de dispersão de luz e encontrado ser 0,2 pm.
(3) Formação da camada sobreposta
[0163]Soluções de revestimento (1) a (11) para camada sobreposta tendo a composição mostrada abaixo foram ainda revestidas na camada de registro de imagem acima por uma barra e secas em uma estufa a 120°C por 60 segundos para formar camadas sobrepostas, cada tendo uma quantidade de revestimento seco de 0,15 g/m2, assim preparando precursor de placa de impressão litográfica (1) a (5) para Exemplos 1 a 5 e precursores de placa de impressão litográfica (6) a (11) para Exemplos Comparativos 1 a 6, respectivamente.
<Solução de revestimento (1) para camada sobreposta>
Dispersão do composto estratiforme inorgânico (1 )1,5 g
Solução aquosa 6% por peso de hidroetilcelulose (SP 500, viscosidade: 300 mPa-s (2% por peso), grau de substituição: 1,0, produzido por Daicel Chemical Industries, Ltd.)0,58 g
Solução aquosa 1% por peso de tensoativo (EMALEX 710, produzido por Nihon Emulsion Co., Ltd.)0,86 g
Água de troca iônica6,0 g <Solução de revestimento (2) para camada sopreposta>
Dispersão do composto estratiforme inorgânico (1)1,5 g
Solução aquosa 6% por peso de hidroxipropilcelulose (HPC-SSL, viscosidade: 2.0 mPa-s (2% por peso), grau de substituição: 1,5 a 2,3, produzido por Nippon Soda Co., Ltd.)0,58 g
Solução aquosa 1% por peso de tensoativo (EMALEX 710, produzido por Nihon Emulsion Co., Ltd.)0,86 g
Água de troca iônica6,0 g
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 57/69
48/56 <Solução de revestimento (3) para camada sobreposta>
Dispersão de composto estratiforme inorgânico (1 )1,5 g
Solução aquosa de 6% por peso de hidroxietilmetilcelulose (SEB, viscosidade:
4.000 mPa-s (2% por peso), grau de substituição: 1.5, produzido por Shin-Etsu Chemical
Co., Ltd.)0,58 g
Solução aquosa de 1% por peso de tensoativo (EMALEX 710, produzido por Nihon Emulsion Co., Ltd.)0,86 g
Água de troca iônica6,0 g <Solução de revestimento (4) para camada sobreposta>
Dispersão do composto estratiforme inorgânico (1)1,5 g
Solução aquosa 6% por peso de hidroxipropilmetilcelulose (60SH, viscosidade: 15 mPa-s (2% por peso), grau de substituição: 1,9, produzido 0,58 g porShin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Solução aquosa 1 % por peso de tensoativo (EMALEX 710, produzido 0 86 por Nihon Emulsion Co., Ltd.),
Água de troca iônica6,0 g <Solução de revestimento (5) para camada sobreposta>
Solução aquosa 6% por peso de hidroxipropilcelulose (HPC-SSL, viscosidade: 2,0 mPa-s (2% por peso), grau de substituição: 1,5 a 2,3, produ- 0,58 g zido por Nippon Soda Co., Ltd.)
Solução aquosa 1 % por peso de tensoativo (EMALEX 710, produzido 0 86 por Nihon Emulsion Co., Ltd.),
Água de troca iônica 7,45 g <Solução de revestimento (6) para camada sobreposta>
Dispersão do composto estratiforme inorgânico (1)1,5 g
Solução aquosa 6% por peso de carboximetilcelulose (CMC 1105, viscosidade: 50 mPa-s (5% por peso), grau de substituição: 0,6 a 0,8, pro- 0,58 g duzido por Daicel Chemical Industries, Ltd.)
Solução aquosa 1 % por peso de tensoativo (EMALEX 710, produzido 0 86 por Nihon Emulsion Co., Ltd.),
Água de troca iônica6,0 g <Solução de revestimento (7) para camada sobreposta>
Dispersão do composto estratiforme inorgânico (1)1,5 g
Solução aquosa 6% por peso de metilcelulose (SM, viscosidade: 15 mPa-s (2% por peso), grau de substituição: 1.8, produzido por Shin-Etsu 0,58 g Chemical Co., Ltd.)
Solução aquosa 1 % por peso de tensoativo (EMALEX 710, produzido 0 86 por Nihon Emulsion Co., Ltd.),
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 58/69
49/56
Água de troca iônica 6,0 g <Solução de revestimento (8) para camada sobreposta>
Dispersão do composto estratiforme inorgânico (1) 1,5 g
Solução aquosa 6% por peso de álcool polivinílico (CKS 50, ácido sulfônico modificado, grau de saponificação: 99% por mol ou mais, grau de 0 55 polimerização: 300, produzido por Nippon Synthetic Chemical Industry , g Co., Ltd.)
Solução aquosa 6% por peso de álcool polivinílico (PVA-405, grau de saponificação: 81,5 % por mol, grau de polimerização: 500, produzido 0,03 g por Kuraray Co., Ltd.)
Solução aquosa 1 % por peso de tensoativo (EMALEX 710, produzido 0 86 por Nihon Emulsion Co., Ltd.) , g
Água de troca iônica 6,0 g <Solução de revestimento (9) para camada sobreposta>
Solução aquosa 6% por peso de álcool polivinílico (CKS 50, ácido sulfônico modificado, grau de saponificação: 99% por mol ou mais, grau de 0 55 polimerização: 300, produzido por Nippon Synthetic Chemical Industry , g Co., Ltd.)
Solução aquosa 6% por peso de álcool polivinílico (PVA-405, grau de saponificação: 81,5 % por mol, grau de polimerização: 500, produzido 0,03 g por Kuraray Co., Ltd.)
Solução aquosa 1 % por peso de tensoativo (EMALEX 710, produzido 0 86 por Nihon Emulsion Co., Ltd.) , g
Água de troca iônica 7,45 g <Solução de revestimento (10) para camada sobreposta>
Solução aquosa 6% por peso de carboximetilcelulose (CMC 1105, viscosidade: 50 mPa-s (5% por peso), grau de substituição: 0,6 a 0,8, pro- 0,58 g duzido por Daicel Chemical Industries, Ltd.)
Solução aquosa 1 % por peso de tensoativo (EMALEX 710, produzido 0 86 por Nihon Emulsion Co., Ltd.) , g
Água de troca iônica 6,0 g <Solução de revestimento (11) para camada sobreposta>
Solução aquosa 6% por peso de metilcelulose (SM, viscosidade: 15 mPa-s (2% por peso), grau de substituição: 1,8, produzido por Shin-Etsu 0,58 g Chemical Co., Ltd.)
Solução aquosa 1 % por peso de tensoativo (EMALEX 710, produzido 0 86 por Nihon Emulsion Co., Ltd.) , g
Água de troca iônica 6,0 g <Preparação da Dispersão do composto estratiforme inorgânico (1)>
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 59/69
50/56
[0164]Para 193,6 g de água de troca iônica foram adicionados 6,4 g de mica sintética (SOMASIF ME-100, produzida por CO-OP Chemical Co., Ltd.) e a mistura foi dispersa usando um homogeneizador até um tamanho de partícula médio (de acordo com o método de dispersão de laser) se tornar 3 pm. O aspecto da proporção da partícula inorgânica então dispersa foi 100 ou mais.
2. Preparação dos precursores da placa de impressão litográfica (12) a (22)
[0165]Solução de revestimento (2) para camada de registro de imagem mostrada abaixo foi revestida no suporte tendo uma camada interna descrita acima por uma barra e seca em uma estufa a 70°C por 60 segundos para formar uma camada de registro de imagem tendo uma quantidade de revestimento seco de 0,6 g/m2 e então uma camada sobreposta foi provida na camada de registro de imagem da mesma forma como nos precursores de placa de impressão litográfica (1) a (11) usado cada das soluções de revestimento (1) a (11) para camada sobreposta para preparar precursores da placa de impressão litográfica (12) a (22) para Exemplos 6 a 10 e Exemplos de Comparação 7 a 12, respectivamente.
<Solução de revestimento (2) para camada de registro de imagem>
Dispersão aquosa (1) da partícula fina do polímero 20,0 g
Corante de absorção infravermelho (2) tendo estrutura mostrada abaixo0,2 g Radical iniciador de polimerização (IRGACURE 250, produzido por Ciba Specialty Chemicals, Inc.)0,5 g
Composto polimerizável via radical (SR-399, produzido por Sartomer Co.)1,50 g Mercapto-3-triazol0,2 g
BYK 336 (produzido por BYK-Chimie GmbH)0,4 g
KLUCEL M (produzido por Hercules Chemical Co., Inc.)4,8 g
ELVACITE 4026 (produzido por Ineos Acrylica Inc.)2,5 g n-Propanol55,0 g
2-Butanona17,0 g
Os compostos indicados usando suas marcas registradas na composição descrita acima são mostrados abaixo.
IRGACURE 250: hexafluorfosfato de (4-metoxifenil)[4-(2-metilpropil)fenil]iodônio
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 60/69
51/56 (75% por peso solução carbonato de propileno)
SR-399: pentaacrilato de Dipentaeritritol
BYK 336: Copolímero dimetilpolisiloxano modificado (25% por peso solução xileno/ acetato de metoxipropil)
KLUCEL Μ: Hidroxipropil celulose (2% por peso solução aquosa)
ELVACITE 4026: Metracrilato de polimetila altamente ramificado (10% por peso solução 2-butanona)
Figure BR112013003865B1_D0015
Corante de absorção infravermelha (2) (Preparação da dispersão aquosa (1) da partícula fina do polímero)
[0166]Um agitador, um termômetro, um funil de gotejamento, um tubo de entrada de nitrogênio e um condensador de refluxo foram ligados a um frasco de quatro entradas de 1000 mL e enquanto realizada a deoxigenação pela introdução do gás nitrogênio, 10 g de polietileno glicol metil éter metacrilato (PEGMA, média do número de unidade de repetição do etileno glicol: 50), 200 g de água destilada e 200 g de n-propanol foram carregados no mesmo e aquecidos até a temperatura interna alcançar 70°C. Então, uma mistura de 10 g de estireno (St), 80 g de acrilonitrila (NA) e 0,8 g de 2,2’azobisisobutironitrila previamente preparada foi gota a gota adicionada ao frasco por um período de uma hora. Após o término da adição gota a gota, a mistura foi continuada para reagir por 5 horas. Então, 0,4 g de 2,2’-azobisisobutironitrila foram adicionados e a temperatura interna foi aumentada para 80°C. Então, 0,5 g de 2,2’-azobisisobutironitrila foram adicionados por um período de 6 horas. No estágio após reação por 20 horas no total, a polimerização procedeu 98% ou mais para obter dispersão aquosa (1) da partícula fina do polímero de PEGMA/St/NA (10/10/80 em uma proporção de peso). A distribuição do
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 61/69
52/56 tamanho da partícula da partícula fina do polímero teve o valor máximo no tamanho da partícula de 150 nm.
[0167]A distribuição do tamanho da partícula foi determinada tomando uma microfotografia eletrônica da partícula fina do polímero, medindo tamanhos de partículas de 5000 partículas finas no total na fotografia, e dividindo uma variação do valor maior do tamanho da partícula medido para 0 em uma escala logarítmica em 50 partes para obter frequência de ocorrência de cada tamanho de partícula por gráfico. Com respeito à partícula esférica, um tamanho de partícula de uma partícula esférica tendo uma área de partícula equivalente à área de partícula da partícula esférica na fotografia foi definido como o tamanho da partícula.
3. Preparação do precursor da placa de impressão litográfica (23)
[0168]Solução de revestimento (3) para camada de registro de imagem tendo a composição mostrada abaixo foi revestida na camada interna formada como descrito acima por uma barra e seca em uma estufa a 100°C por 60 segundos para formar uma camada re registro de imagem tendo uma quantidade de revestimento seco de 1,0 g/m2 Solução de revestimento (3) para camada de registro de imagem foi preparada por mistura da solução Fotosensível (3) mostrada abaixo com solução Microgel (1) mostrada abaixo antes do revestimento, seguido por agitação.
[0169]Ainda, uma camada sobreposta foi provida na camada de registro de imagem da mesma forma como no precursor da placa de impressão litográfica (2) usando solução de revestimento (2) para camada sobreposta para preparar precursor de placa de impressão litográfica (23) para Exemplo de Comparação 13.
<Solução fotosensível (3)>
Polímero ligante (3) tendo estrutura mostrada abaixo0,240 g
Corante de absorção infravermelha (1)0,030 g
Radical iniciador de polimerização (1)0,162 g
Composto polimerizável via radical isocianurato de (Tris(acriloiloxietila) (NK ESTER A-9300, produzido por Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.))0,192 g
Composto de baixo peso molecular hidrofílico (isocianurato de Tris(2-hidroxietila))
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 62/69
53/56
0,062 g
Composto de baixo peso molecular hidrofílico (1 )0,050 g
Agente sensibilizante de óleo (composto fosfônio (1 ))0,055 g
Agente sensibilizante de óleo (sal Benzil dimetil octil amônio PFe) 0,018 g
Agente sensibilizante de óleo (copolímero contendo o grupo amônio mostrado acima (viscosidade específica reduzida: 44 ml_/g)0,035 g Tensoativo baseado em flúor0,008 g 2-butanona1,091 g
1-métoxo-2-propanol8,609 g <Solução microgel (1)>
Microgel (1)2,640 g
Água destilada 2,425 g
Figure BR112013003865B1_D0016
Polímero ligante (3)(Pm 70.000)
4. Avaliação do precursor da placa de impressão litográfica (1) propriedade do revelação on-press
[0170]C precursor de placa de impressão litográfica obtido foi exposto por LUXEL PLATESETTER T-6000III equipado com um laser semicondutor infravermelho (produzido por FUJIFILM Corp.) sob as condições de um número rotacional de um tambor externo de 1000 rpm, saída de laser de 70% e resolução de 2400 dpi. A imagem exposta continha uma imagem sólida e gráfico de pontos 50% meio-tom de uma tela dot FM-20 pm.
[0171 ]O precursor da placa de impressão litográfica exposto foi montado sem passar pelo processo de revelação em uma placa cilíndrica de uma máquina de impressão (LITHRONE 26, produzido por Komori Corp.). Usando água de umedecimento (ECOLITY-2 (produzido por FUJIFILM Corp.)/água de torneira = 2/98 (por proporção de
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 63/69
54/56 volume)) e VALUES-G (N) Black Ink (produzido por Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), o água de umedecimento e tinta foram fornecidos de acordo com o método de início de impressão automática padrão de LITHRONE 26 para conduzir impressão em 100 folhas de papel arte TOKUBISHI (76,5 kg) em uma velocidade de impressão de 10.000 folhas por hora.
[0172]Um número de papéis impressos requeridos até o revelação on-press da área não exposta da camada de registro de imagem na máquina de impressão foi completado para alcançar um estado onde a tinta não transferida para o papel impresso na área não imagem foi medida para avaliar a propriedade de revelação on-press. Os resultados obtidos são mostrados na Tabela 1.
(2) Receptividade da Tinta
[0173]Após desenvolver a avaliação para a propriedade de revelação on-press descrita acima, a impressão foi continuada. O 10.000o papel impresso foi amostrado e uma densidade de tinta de 20% meio-tom dot da tela FM foi medida usando um densitômetro Gretag. Baseado no valor medido, a receptividade de tinta foi avaliada de acordo com o critério mostrado abaixo para obter os resultados mostrados na Tabela 1.
A: Densidade de tinta de 1,8 a 1,9. A densidade de tinta não diminuiu de nenhuma maneira e boa receptividade de tinta foi exibida.
B: Densidade de tinta de 1,5 a 1,7. A densidade de tinta de alguma forma diminuiu mas foi em um nível aceitável.
C: Densidade de tinta de 1,0 a 1,4. A densidade de tinta claramente diminuiu e foi em um nível inaceitável.
D: Densidade de tinta de 0,9 ou menos. A densidade de tinta severamente diminuiu e a receptividade de tinta foi ruim.
(3) Durabilidade da Impressão
[0174]Após desenvolver a avaliação da propriedade de revelação on-press descrita acima, a impressão foi continuada. Como o aumento em um número de papéis impressos, a camada de registro de imagem foi gradualmente friicionada para causar diminuição na densidade de tinta em um material impresso. Um número de materiais im
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 64/69
55/56 pressos em que um valor obtido por medir uma taxa da área meio-tom dot de 50% meiotom dot da tela FM no material impresso usando um densitômetro Gretag diminuído por 5% do valor medido no 100° papel da impressão foi determinado para avaliar a durabili dade de impressão. Os resultados obtidos são mostrados na Tabela 1.
TABELA 1: Exemplos 1 a 10 e Exemplos Comparativos 1 q 13
Precursor de Placa de Impressão Litográfica Solução de Revestimento para Camada de registro de imagem Solução de revestimento para camada sobreposta Avaliação dos Resultados da Impressão
Receptividade de tinta Propriedade de Revelação onpress (folhas) ) Durabilidade da impressão (x 104 folhas)
Exemplo 1 1 (1) (1) A 20 5
Exemplo 2 2 (1) (2) A 15 5,5
Exemplo 3 3 (1) (3) A 20 4,5
Exemplo 4 4 (1) (4) A 20 5
Exemplo 5 5 (1) (5) A 15 4
Exemplo Comparativo 1 6 (1) (6) C 25 3,5
Exemplo Comparativo 2 7 (1) (7) B 25 3,5
Exemplo Comparativo 3 8 (1) (8) B 25 3,5
Exemplo Comparativo 4 9 (1) (9) C 20 3
Exemplo Comparativo 5 10 (1) (10) C 25 3,5
Exemplo Comparativo 6 11 (1) (11) B 25 3,5
Exemplo 6 12 (2) (1) A 20 4,5
Exemplo 7 13 (2) (2) A 17 4,5
Exemplo 8 14 (2) (3) A 20 4
Exemplo 9 15 (2) (4) A 20 4,5
Exemplo 10 16 (2) (5) A 20 4
Exemplo Comparativo 7 17 (2) (6) B 25 3,5
Exemplo 18 (2) (7) C 20 3
Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 65/69
56/56
Comparativo 8
Exemplo Comparativo 9 19 (2) (8) B 25 4
Exemplo Comparativo 10 20 (2) (9) C 20 4
Exemplo Comparativo 11 21 (2) (10) C 25 3.5
Exemplo Comparativo 12 22 (2) (11) B 25 4
Exemplo Comparativo 13 23 (3) (2) C 25 3
APLICABILIDADE INDUSTRIAL
[0175]De acordo com a presente invenção, um precursor de placa de impressão litográfica que tem boa propriedade de revelação on-press, exibe alta durabilidade de impressão, boa receptividade de tinta, e um método de fabricar a placa usando o mesmo são providos.
[0176]Embora a invenção tenha sido descrita em detalhes e por referência à modalidades específicas, é aparente àqueles versados na técnica que é possível adicionar várias alterações e modificações enquanto as alterações e modificações não desviam do espírito e objetivo da invenção.
[0177]Este pedido é baseado em um Pedido de Patente Japonesa depositado em 27 de Agosto de 2010 (Pedido de Patente Japonês No. 2010-191554), e os conteúdos do mesmo são aqui incorporados por referência.

Claims (5)

  1. REIVINDICAÇÕES
    1. Precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação on-press CARACTERIZADO pelo fato de que compreende: um suporte; uma camada de registro de imagem contendo (A) um radical iniciador de polimerização, (B) um composto polimerizável via radical e (C) um polímero ligante tendo um grupo óxido alquileno; e uma camada sobreposta contendo (D) uma hidroxialquilcelulose solúvel em água, nesta ordem;
    a hidroxialquilcelulose tem uma estrutura hidroxialquila representada pela seguinte fórmula (1):
    Figure BR112013003865B1_C0001
    em que na fórmula (1), R representa um átomo de hidrogênio, um grupo metila ou (CmH2mO)xH, m representa um número inteiro de 2 a 4, n representa um número inteiro de 1 ou mais, provido que os três Rs na fórmula (1), um número de (CmH2mO)xH é de 0,5 a 3, e x representa um número inteiro de 1 ou mais.
  2. 2. Precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação on-press, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que (CmH2mO)xH na fórmula (1) é (CH2CH(CH3)OH).
  3. 3. Precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação on-press, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, CARACTERIZADO pelo fato de que a camada sobreposta contém um composto estratiforme inorgânico.
  4. 4. Precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação on-press, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, CARACTERIZADO pelo fato de que a camada de registro de imagem contém (E) um corante de absorção infravermelha.
  5. 5. Método de fabricar placa para realização de um processamento de revelação on-press por um método CARACTERIZADO pelo fato de que compreende exposição image-wise do precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação on-press, conforme definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 4, montando o precursor de placa de impressão litográfica exposto em uma máquina de impressão e fornecendo pelo
    Petição 870190126707, de 02/12/2019, pág. 67/69
    2/2 menos um de tinta de impressão e água de umedecimento ou um método compreendendo a montagem do precursor de placa de impressão litográfica, conforme definido em qualquer uma das reivindicações 1 a 5, em uma máquina de impressão, expondo imagewise o precursor de placa de impressão litográfica e fornecendo pelo menos um de tinta de impressão e água de umedecimento.
BR112013003865-9A 2010-08-27 2011-07-26 Precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação onpress e método de fabricar placa para realização de um processamento de revelação on-press por um método BR112013003865B1 (pt)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010191554 2010-08-27
JP2010-191554 2010-08-27
PCT/JP2011/067001 WO2012026265A1 (ja) 2010-08-27 2011-07-26 機上現像型平版印刷版原版及びそれを用いる製版方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
BR112013003865A2 BR112013003865A2 (pt) 2016-07-05
BR112013003865B1 true BR112013003865B1 (pt) 2020-05-26

Family

ID=45723273

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BR112013003865-9A BR112013003865B1 (pt) 2010-08-27 2011-07-26 Precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação onpress e método de fabricar placa para realização de um processamento de revelação on-press por um método

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP2610067B1 (pt)
JP (1) JP5651554B2 (pt)
CN (1) CN103068583B (pt)
BR (1) BR112013003865B1 (pt)
WO (1) WO2012026265A1 (pt)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014050359A1 (ja) * 2012-09-26 2014-04-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法
US20160259243A1 (en) * 2015-03-03 2016-09-08 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursor
CN106364209B (zh) * 2016-11-04 2018-11-09 中国科学院理化技术研究所 一种含感热保护层的热敏免处理的平版印刷版材料及应用
CN110678335B (zh) * 2017-05-31 2021-11-16 富士胶片株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、聚合物粒子及组合物
JPWO2021241518A1 (pt) 2020-05-29 2021-12-02
EP4159441A4 (en) 2020-05-29 2023-10-18 FUJIFILM Corporation ORIGINAL PLATE FOR MACHINE DEVELOPMENT TYPE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND LITHOGRAPHIC PRINTING METHOD
JP7378613B2 (ja) 2020-05-29 2023-11-13 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷方法

Family Cites Families (101)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE540601A (pt) 1950-12-06
US2833827A (en) 1955-01-17 1958-05-06 Bayer Ag Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same
NL267931A (pt) 1960-08-05 1900-01-01
US3280734A (en) 1963-10-29 1966-10-25 Howard A Fromson Photographic plate
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
ZA6807938B (pt) 1967-12-04
JPS4841708B1 (pt) 1970-01-13 1973-12-07
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US3902734A (en) 1974-03-14 1975-09-02 Twm Mfg Co Frames for axle suspension systems
GB1512981A (en) 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Curable epoxide compositions
US4069056A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
JPS5311314B2 (pt) 1974-09-25 1978-04-20
US4173476A (en) 1978-02-08 1979-11-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
US4518676A (en) 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
DE3406101A1 (de) 1984-02-21 1985-08-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern
JP2525568B2 (ja) 1985-01-18 1996-08-21 富士写真フイルム株式会社 光可溶化組成物
DE3604580A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
DE3604581A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien
US4760013A (en) 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
DE3721741A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien
DE3721740A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen
JPH0721633B2 (ja) 1987-07-10 1995-03-08 富士写真フイルム株式会社 感光材料
US4933377A (en) 1988-02-29 1990-06-12 Saeva Franklin D Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators
CA2002873A1 (en) 1988-11-21 1990-05-21 Franklin Donald Saeva Onium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH02150848A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Hitachi Ltd 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法
JP2655349B2 (ja) 1989-05-18 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2988756B2 (ja) 1991-04-26 1999-12-13 協和醗酵工業株式会社 光重合開始剤およびこれを含有する光重合性組成物
JPH04365049A (ja) 1991-06-12 1992-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JP2739395B2 (ja) 1991-08-19 1998-04-15 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JPH05158230A (ja) 1991-12-10 1993-06-25 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性組成物
JP2907643B2 (ja) 1992-07-16 1999-06-21 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版およびその処理方法
WO1994017452A1 (en) 1993-01-20 1994-08-04 Agfa-Gevaert Naamloze Vennootschap Photopolymerizable composition of high sensitivity and method for obtaining images therewith
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
US5677108A (en) * 1995-04-28 1997-10-14 Polaroid Corporation On-press removable quenching overcoat for lithographic plates
DE69517174T2 (de) 1995-10-24 2000-11-09 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographische Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindenden Entwicklung
DE69620336T2 (de) 1995-10-24 2002-10-24 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit Wasser als Entwickler
DE69608522T2 (de) 1995-11-09 2001-01-25 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit
DE69613078T2 (de) 1995-11-09 2001-11-22 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit
JPH09179297A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179296A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179298A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH10282679A (ja) 1997-04-08 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JP3839552B2 (ja) 1997-06-03 2006-11-01 コダックポリクロームグラフィックス株式会社 印刷現像感光性平版印刷版及びその製版方法
DE69812871T2 (de) 1998-01-23 2004-02-26 Agfa-Gevaert Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren um damit Flachdruckplatten herzustellen
JP2000250211A (ja) 1999-03-01 2000-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP2001133969A (ja) 1999-11-01 2001-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2001277742A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001277740A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP4092055B2 (ja) 2000-02-09 2008-05-28 三菱製紙株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP2001253181A (ja) 2000-03-09 2001-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感熱性平版印刷用原板
JP3449342B2 (ja) 2000-03-30 2003-09-22 三菱化学株式会社 光硬化性組成物、低複屈折光学部材及びその製造方法
JP2001322365A (ja) 2000-05-16 2001-11-20 Fuji Photo Film Co Ltd 感熱性平版印刷用原板
JP4162365B2 (ja) * 2000-07-07 2008-10-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP2002023360A (ja) 2000-07-12 2002-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料
JP4156784B2 (ja) 2000-07-25 2008-09-24 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料及び画像形成方法
JP4319363B2 (ja) 2001-01-15 2009-08-26 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP4414607B2 (ja) 2001-03-14 2010-02-10 富士フイルム株式会社 ラジカル重合性化合物
JP4266077B2 (ja) 2001-03-26 2009-05-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2002287344A (ja) 2001-03-27 2002-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷版
US7261998B2 (en) * 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
JP2003064130A (ja) 2001-08-29 2003-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP3989270B2 (ja) 2002-03-25 2007-10-10 富士フイルム株式会社 光重合性組成物
EP1359008B1 (de) 2002-04-29 2005-08-31 Agfa-Gevaert Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
DE10255663B4 (de) 2002-11-28 2006-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Elemente
JP4299032B2 (ja) 2003-03-28 2009-07-22 三菱製紙株式会社 感光性平版印刷版材料
JP2005238816A (ja) 2003-07-22 2005-09-08 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4815113B2 (ja) 2003-09-24 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2006065210A (ja) 2004-08-30 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4460986B2 (ja) 2004-09-24 2010-05-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2006188038A (ja) 2004-12-10 2006-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および製版方法
JP4469734B2 (ja) 2005-02-03 2010-05-26 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2006239867A (ja) 2005-02-28 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP5172097B2 (ja) 2005-02-28 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版原版の製造方法
JP2006243493A (ja) 2005-03-04 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
US7189494B2 (en) * 2005-05-26 2007-03-13 Eastman Kodak Company On-press developable imageable element comprising a tetraarylborate salt
US7153632B1 (en) 2005-08-03 2006-12-26 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and imageable materials
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP5170960B2 (ja) 2005-08-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び平版印刷方法
JP2007094138A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5238170B2 (ja) 2006-03-14 2013-07-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4796890B2 (ja) 2006-03-31 2011-10-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2007293221A (ja) 2006-03-31 2007-11-08 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP2008162056A (ja) 2006-12-27 2008-07-17 Fujifilm Corp 平版印刷版原版およびその製造方法
JP5021449B2 (ja) * 2007-02-13 2012-09-05 イーストマン コダック カンパニー 凸版印刷用原版およびその製造方法、凸版印刷版の製造方法、ならびにインク受容層形成用組成物
JP2008195018A (ja) 2007-02-15 2008-08-28 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4826918B2 (ja) 2007-04-03 2011-11-30 三菱化学株式会社 光重合性組成物
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2008284858A (ja) 2007-05-21 2008-11-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
US20080311520A1 (en) 2007-06-13 2008-12-18 Jianfei Yu On-press developable negative-working imageable elements and methods of use
EP2006738B1 (en) 2007-06-21 2017-09-06 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor
JP2009056717A (ja) * 2007-08-31 2009-03-19 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
CN101376306A (zh) * 2007-09-02 2009-03-04 成都科瑞聚数码科技有限公司 离子聚合物微粒及无处理热敏阴图平板印刷版的制备方法
JP2009090645A (ja) 2007-09-20 2009-04-30 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5322537B2 (ja) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5244642B2 (ja) 2009-02-17 2013-07-24 株式会社日立製作所 文字図形認識方法、情報処理システムおよび情報処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2012026265A1 (ja) 2012-03-01
CN103068583B (zh) 2015-05-13
EP2610067B1 (en) 2014-11-26
CN103068583A (zh) 2013-04-24
EP2610067A1 (en) 2013-07-03
JP5651554B2 (ja) 2015-01-14
EP2610067A4 (en) 2014-05-21
BR112013003865A2 (pt) 2016-07-05
JP2012066577A (ja) 2012-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10048588B2 (en) Lithographic printing plate precursor and plate making method of lithographic printing plate
EP2423748B1 (en) Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
JP5894905B2 (ja) 新聞印刷用平版印刷版原版及びその製造方法、並びに平版印刷版の製版方法
EP2905144B1 (en) Lithographic printing original plate and plate making method
BR112013003865B1 (pt) Precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação onpress e método de fabricar placa para realização de um processamento de revelação on-press por um método
BR112013016909A2 (pt) Precursor de chapa de impressão litográfica e método de impressão litográfica
US20100248140A1 (en) Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
EP2492751B1 (en) Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
JP5448882B2 (ja) 平版印刷版原版及びその製版方法
US20120202152A1 (en) Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
JP2012176606A (ja) 平版印刷版原版及びその製版方法
EP2818522B1 (en) Chromogenic composition, chromogenic curable composition, lithographic printing plate precursor, platemaking method, and chromogenic compound
US20100248138A1 (en) Lithographic printing plate precursor
JP5183598B2 (ja) 平版印刷版原版
JP5292156B2 (ja) 平版印刷版原版及びその製版方法
WO2014156449A1 (ja) 平版印刷版原版及びその製版方法

Legal Events

Date Code Title Description
B06F Objections, documents and/or translations needed after an examination request according art. 34 industrial property law
B06U Preliminary requirement: requests with searches performed by other patent offices: suspension of the patent application procedure
B09A Decision: intention to grant
B16A Patent or certificate of addition of invention granted

Free format text: PRAZO DE VALIDADE: 20 (VINTE) ANOS CONTADOS A PARTIR DE 26/07/2011, OBSERVADAS AS CONDICOES LEGAIS.