ATE467149T1 - Alternierende phasenmaske - Google Patents

Alternierende phasenmaske

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ATE467149T1
ATE467149T1 AT05447222T AT05447222T ATE467149T1 AT E467149 T1 ATE467149 T1 AT E467149T1 AT 05447222 T AT05447222 T AT 05447222T AT 05447222 T AT05447222 T AT 05447222T AT E467149 T1 ATE467149 T1 AT E467149T1
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AT
Austria
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mask
processing
phase mask
alternate phase
account
Prior art date
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AT05447222T
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Look Lieve Van
Staf Verhaegen
Eric Hendrickx
Original Assignee
Imec
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
    • G03F1/30—Alternating PSM, e.g. Levenson-Shibuya PSM; Preparation thereof

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
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