ATE165675T1 - Optisches nahfeld-verfahren für mikrolithographie und mikrolithographie-vorrichtungen unter verwendung desselben - Google Patents

Optisches nahfeld-verfahren für mikrolithographie und mikrolithographie-vorrichtungen unter verwendung desselben

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ATE165675T1
ATE165675T1 AT90402617T AT90402617T ATE165675T1 AT E165675 T1 ATE165675 T1 AT E165675T1 AT 90402617 T AT90402617 T AT 90402617T AT 90402617 T AT90402617 T AT 90402617T AT E165675 T1 ATE165675 T1 AT E165675T1
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microlithography
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same
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AT90402617T
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Fornel Frederique De
Jean-Pierre Goudonnet
James Mantovani
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Sim Societe D Investissement D
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70375Multiphoton lithography or multiphoton photopolymerization; Imaging systems comprising means for converting one type of radiation into another type of radiation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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