JPS6378008A - パタ−ン検査装置 - Google Patents
パタ−ン検査装置Info
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- JPS6378008A JPS6378008A JP22084486A JP22084486A JPS6378008A JP S6378008 A JPS6378008 A JP S6378008A JP 22084486 A JP22084486 A JP 22084486A JP 22084486 A JP22084486 A JP 22084486A JP S6378008 A JPS6378008 A JP S6378008A
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- ultrasonic
- light beam
- light
- line sensor
- pattern inspection
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- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 26
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 19
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
本発明は、光切断法を用いてパターンの三次元形状を検
出するパターン検査装置において、超音波偏向器の駆動
により光ビーム走査を行うとともに、その駆動信号に周
波数変動を与えてレンズ効果を生じさせて、光ビームの
焦点距離を変化させるようにしたことにより、光ビーム
の焦点位置をラインセンサの検知方向に合わせて正確な
パターン検知ができるようにしたものである。
出するパターン検査装置において、超音波偏向器の駆動
により光ビーム走査を行うとともに、その駆動信号に周
波数変動を与えてレンズ効果を生じさせて、光ビームの
焦点距離を変化させるようにしたことにより、光ビーム
の焦点位置をラインセンサの検知方向に合わせて正確な
パターン検知ができるようにしたものである。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えばICやLSI等のウェハ上に形成され
ている微細パターン、プリント板の配線パターン、それ
にプリント板上におけるチップ部品の実装パターン等の
各種パターンを光切断法を用いて自動検査するパターン
検査装置に関する。
ている微細パターン、プリント板の配線パターン、それ
にプリント板上におけるチップ部品の実装パターン等の
各種パターンを光切断法を用いて自動検査するパターン
検査装置に関する。
光切断法を用いた従来のパターン検査装置に係る光学系
の構成を第5図に示す。同図の装置は、まず、レーザ1
で出力された光ビームを、互いに直交するx、X方向に
偏向可能な第1、第2の超音波偏向器2.3で振り、こ
れをビームスプリッタ4および対物レンズ5を介して、
パターンの形成された被検査対象M上に照射する。この
ことにより、被検査対象M上では、X方向に沿ったライ
ン上を順次X方向に移動しながら光ビーム走査が行われ
る。次に、そこから一定方向への反射光を上記対物レン
ズ5を介してビームスプリッタ4で反射させ、これを結
像用のレンズ6を介してCOD等のラインセンサ7で各
ライン毎に順次検知していくことにより、上記パターン
の三次元形状を検出する。
の構成を第5図に示す。同図の装置は、まず、レーザ1
で出力された光ビームを、互いに直交するx、X方向に
偏向可能な第1、第2の超音波偏向器2.3で振り、こ
れをビームスプリッタ4および対物レンズ5を介して、
パターンの形成された被検査対象M上に照射する。この
ことにより、被検査対象M上では、X方向に沿ったライ
ン上を順次X方向に移動しながら光ビーム走査が行われ
る。次に、そこから一定方向への反射光を上記対物レン
ズ5を介してビームスプリッタ4で反射させ、これを結
像用のレンズ6を介してCOD等のラインセンサ7で各
ライン毎に順次検知していくことにより、上記パターン
の三次元形状を検出する。
次に、上記X方向の超音波偏向器3による光ビーム走査
について、具体的に述べる。一般に超音波偏向器は、与
えられた駆動信号の周波数に対応した互いに等間隔の回
折格子が超音波媒体中に形成され、その間隔に応じた角
度で入射光が偏向される。よって、超音波偏向器3には
、第6図(b)に示すように、X方向の超音波偏向器2
による1ライン毎の各走査と対応して、f、、f2、f
、、・・・ (f、>f、>r、>・・・)というよう
に階段状に変化する周波数を持つ駆動信号を与えて、各
周波数に応じて回折角を順次変化させるようにしている
。このようにすれば、X方向への1ライン分の走査中(
すなわち、X方向の同一位置にある間)は、第6図(a
lに示すように超音波偏向器3の超音波媒体中には等間
隔の回折格子が形成されることにより、媒体のどの位置
を通過した光も同じ角度だけ偏向される。そして、駆動
信号の周波数がfIsfZ、f:I、・・・と変化する
に従い、そこを通過した光ビームはレンズ5の光軸と直
交する面内をa、、az、 a3、・・・というよう
に順次X方向に移動しながら走査されていく。
について、具体的に述べる。一般に超音波偏向器は、与
えられた駆動信号の周波数に対応した互いに等間隔の回
折格子が超音波媒体中に形成され、その間隔に応じた角
度で入射光が偏向される。よって、超音波偏向器3には
、第6図(b)に示すように、X方向の超音波偏向器2
による1ライン毎の各走査と対応して、f、、f2、f
、、・・・ (f、>f、>r、>・・・)というよう
に階段状に変化する周波数を持つ駆動信号を与えて、各
周波数に応じて回折角を順次変化させるようにしている
。このようにすれば、X方向への1ライン分の走査中(
すなわち、X方向の同一位置にある間)は、第6図(a
lに示すように超音波偏向器3の超音波媒体中には等間
隔の回折格子が形成されることにより、媒体のどの位置
を通過した光も同じ角度だけ偏向される。そして、駆動
信号の周波数がfIsfZ、f:I、・・・と変化する
に従い、そこを通過した光ビームはレンズ5の光軸と直
交する面内をa、、az、 a3、・・・というよう
に順次X方向に移動しながら走査されていく。
第5図に示したビームスプリッタ4、レンズ5.6およ
びラインセンサ7からなる光学系を第7図に示す。する
と、同図に明らかなように、ラインセンサ7による検知
方向(矢印A方向)と上記超音波偏向器3による光ビー
ムの走査方向(X方向)とが食い違うため、ラインセン
サ7が光ビームの焦点位置以外のぼけた部分を検知して
しまう場合(破線で示した状態)が生じる。そのため、
ラインセンサ7で得られる検知画像の精度が落ち、正確
なパターン検知ができなくなるという問題点があった。
びラインセンサ7からなる光学系を第7図に示す。する
と、同図に明らかなように、ラインセンサ7による検知
方向(矢印A方向)と上記超音波偏向器3による光ビー
ムの走査方向(X方向)とが食い違うため、ラインセン
サ7が光ビームの焦点位置以外のぼけた部分を検知して
しまう場合(破線で示した状態)が生じる。そのため、
ラインセンサ7で得られる検知画像の精度が落ち、正確
なパターン検知ができなくなるという問題点があった。
本発明は、上記問題点に鑑み、被検査対象上における光
ビームの焦点位置をラインセンサの検知方向に合わせる
ことができ、よって正確なパターン検知を実現できるパ
ターン検査装置を提供することを目的とする。
ビームの焦点位置をラインセンサの検知方向に合わせる
ことができ、よって正確なパターン検知を実現できるパ
ターン検査装置を提供することを目的とする。
本発明は、ライン上の光ビーム走査をそのライン方向と
は直交する方向に順次移動させるための偏向手段として
用いた超音波偏向器に対して、所定の周波数変動を持た
せた駆動信号を与え、その周波数変動の状態に応じて焦
点距離の変化するレンズ効果を生じさせるようにしたも
のである。
は直交する方向に順次移動させるための偏向手段として
用いた超音波偏向器に対して、所定の周波数変動を持た
せた駆動信号を与え、その周波数変動の状態に応じて焦
点距離の変化するレンズ効果を生じさせるようにしたも
のである。
超音波偏向器に対して上述したようなレンズ効果を生じ
させるようにすれば、その超音波偏向器は、入射ビーム
の進行方向を上記周波数に応じた角度だけ曲げてやる偏
向器として作用するとともに、上記周波数変動に応じた
焦点距離を持つ凸レンズもしくは凹レンズとしても作用
する。すなわち、光ビーム走査と焦点深度の変更が同時
に行えるようになる。従って、各走査位置にある光ビー
ムの焦点位置を所望の方向の直線上に合わせることがで
き、よってラインセンサの検知方向上にも、上記焦点位
置を容易に合わせることができるようになる。
させるようにすれば、その超音波偏向器は、入射ビーム
の進行方向を上記周波数に応じた角度だけ曲げてやる偏
向器として作用するとともに、上記周波数変動に応じた
焦点距離を持つ凸レンズもしくは凹レンズとしても作用
する。すなわち、光ビーム走査と焦点深度の変更が同時
に行えるようになる。従って、各走査位置にある光ビー
ムの焦点位置を所望の方向の直線上に合わせることがで
き、よってラインセンサの検知方向上にも、上記焦点位
置を容易に合わせることができるようになる。
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第1図は、本発明の一実施例を示す構成図である。同図
の構成において、レーザ11から出力された光ビームβ
。は、光シャッタ12を介してミラー13で反射され、
第1の超音波偏向器14に入射する。この超音波偏向器
14はX方向の偏向方向を持ち、ここに入射した光ビー
ムは上記X方向に繰返し走査される。このX方向に走査
された光ビーム11は、ビームスプリッタ15を通過し
、第2の超音波偏向器16に入射する。この超音波偏向
器16は、上記X方向とは直交するX方向の偏向方向を
持ち、しかも詳しくは後述するがレンズとしての機能を
も有しており、ここに入射した光ビームは上記X方向へ
の1回の走査毎にX方向に順次偏向角度が変えられると
ともに、焦点距離も変更される。このようにして走査さ
れた光ビーム12は、対物レンズ17を介して光ビーム
β3となり、被検査対象M上に照射される。このことに
より、液検知対象M上では、X方向に沿ったライン上で
順次X方向に焦点深度を変えて移動しながら光ビーム走
査が行われる。
の構成において、レーザ11から出力された光ビームβ
。は、光シャッタ12を介してミラー13で反射され、
第1の超音波偏向器14に入射する。この超音波偏向器
14はX方向の偏向方向を持ち、ここに入射した光ビー
ムは上記X方向に繰返し走査される。このX方向に走査
された光ビーム11は、ビームスプリッタ15を通過し
、第2の超音波偏向器16に入射する。この超音波偏向
器16は、上記X方向とは直交するX方向の偏向方向を
持ち、しかも詳しくは後述するがレンズとしての機能を
も有しており、ここに入射した光ビームは上記X方向へ
の1回の走査毎にX方向に順次偏向角度が変えられると
ともに、焦点距離も変更される。このようにして走査さ
れた光ビーム12は、対物レンズ17を介して光ビーム
β3となり、被検査対象M上に照射される。このことに
より、液検知対象M上では、X方向に沿ったライン上で
順次X方向に焦点深度を変えて移動しながら光ビーム走
査が行われる。
一方、被検査対象M上からの一定方向(詳しくは後述す
るが、この一定方向上に光ビームl!3の焦点位置が合
うようにしである)への反射光β。
るが、この一定方向上に光ビームl!3の焦点位置が合
うようにしである)への反射光β。
は、再度対物レンズ17および超音波偏向器16を介し
てビームスプリッタ15で反射され、結像用のレンズ1
8によってCOD等のラインセンサ19に導かれる。す
なわち、上記被検査対象M上に上記光ビーム走査によっ
て順次できる光切断線を、上記一定方向からラインセン
サ19で検知することにより、被検査対象M上の三次元
パターンを読取っている。
てビームスプリッタ15で反射され、結像用のレンズ1
8によってCOD等のラインセンサ19に導かれる。す
なわち、上記被検査対象M上に上記光ビーム走査によっ
て順次できる光切断線を、上記一定方向からラインセン
サ19で検知することにより、被検査対象M上の三次元
パターンを読取っている。
なお、第1、第2の超音波偏向器14.16と光シャフ
タ12は、コントローラ23からの命令により、それぞ
れの駆動回路20.21.22によっ駆動される。
タ12は、コントローラ23からの命令により、それぞ
れの駆動回路20.21.22によっ駆動される。
次に、第2の超音波偏向器16の駆動の仕方と、それに
伴う光シャッタ12の駆動の仕方について、第2図に基
づき具体的に説明する。第2図(a)は超音波偏向器1
6のレンズ効果を示す図であり、第2図(b)、(C)
はそれぞれ超音波偏向器16、光シャッタ12に駆動回
路21.22によって与えられる駆動信号を示す波形図
である。
伴う光シャッタ12の駆動の仕方について、第2図に基
づき具体的に説明する。第2図(a)は超音波偏向器1
6のレンズ効果を示す図であり、第2図(b)、(C)
はそれぞれ超音波偏向器16、光シャッタ12に駆動回
路21.22によって与えられる駆動信号を示す波形図
である。
同図(a)において、時間tに対して周波数fが連続的
に変化する駆動信号を超音波偏向器16のトランスデユ
ーサ16aに与えると、その周波数変化を持つ超音波が
媒体内を矢印方向に伝搬されるので、その媒体内には上
記周波数変化に対応して粗から密に(もくしは密から粗
に)変化する間隔を持つ回折格子が形成されていく。例
えば、同図のように密から粗に連続的に変化した状態で
は、密の部分を通過した光は大きく回折され、粗の部分
を通過した光は小さく回折されるので、全体として光束
は集束する。すなわち、この場合は、超音波偏向器16
は凸レンズとして作用する。一方、粗から密に連続的に
変化した状態では、逆に光束は破線で示すように発散す
ることになり、凹レンズとして作用する。
に変化する駆動信号を超音波偏向器16のトランスデユ
ーサ16aに与えると、その周波数変化を持つ超音波が
媒体内を矢印方向に伝搬されるので、その媒体内には上
記周波数変化に対応して粗から密に(もくしは密から粗
に)変化する間隔を持つ回折格子が形成されていく。例
えば、同図のように密から粗に連続的に変化した状態で
は、密の部分を通過した光は大きく回折され、粗の部分
を通過した光は小さく回折されるので、全体として光束
は集束する。すなわち、この場合は、超音波偏向器16
は凸レンズとして作用する。一方、粗から密に連続的に
変化した状態では、逆に光束は破線で示すように発散す
ることになり、凹レンズとして作用する。
上記の点を考慮し、本実施例では、駆動信号に第2図(
b)に示すような周波数変動を与えた。すなわち、第6
図(b)に示した各周波数(f+ 、fz、f3、・・
・)を基準として、その前後に連続的な変動を与えたも
のである。これらの周波数変動の大きさを、周波数fI
、f2、f3、・・・と対応させてgl 、g2 、g
3 、・・・と呼ぶこととする。このようにすれば、光
ビームl、の焦点のy方向の位置は上記基準の周波数f
、、f2、f3、・・・によって決まり、一方、その焦
点深度は周波数変動の大きさgl 、gz 、g3、・
・・によって決まる。即ち基準の周波数をf、、fZ、
fff、・・・ (f、>f2>f、 ・・・)と変
化させる毎に大きさgl 、gz 、gz 、・・・・
(gl 〉gz 、gs 、・・・・)の周波数変
動を与えることにより、y方向に対して任意の角度を持
つ1つの直線り上に光ビーム!!3の焦点す、、b、、
b、、・・・を結ばせることができる。
b)に示すような周波数変動を与えた。すなわち、第6
図(b)に示した各周波数(f+ 、fz、f3、・・
・)を基準として、その前後に連続的な変動を与えたも
のである。これらの周波数変動の大きさを、周波数fI
、f2、f3、・・・と対応させてgl 、g2 、g
3 、・・・と呼ぶこととする。このようにすれば、光
ビームl、の焦点のy方向の位置は上記基準の周波数f
、、f2、f3、・・・によって決まり、一方、その焦
点深度は周波数変動の大きさgl 、gz 、g3、・
・・によって決まる。即ち基準の周波数をf、、fZ、
fff、・・・ (f、>f2>f、 ・・・)と変
化させる毎に大きさgl 、gz 、gz 、・・・・
(gl 〉gz 、gs 、・・・・)の周波数変
動を与えることにより、y方向に対して任意の角度を持
つ1つの直線り上に光ビーム!!3の焦点す、、b、、
b、、・・・を結ばせることができる。
よって上記基準の周波数f1、f2、fl、・・・と周
波数変動の大きさgl、g2、gl、・・・・とを適宜
設定することにより、第3図に示すように、上記直線り
の方向をラインセンサ19による検知方向Aと一敗させ
ることができる。
波数変動の大きさgl、g2、gl、・・・・とを適宜
設定することにより、第3図に示すように、上記直線り
の方向をラインセンサ19による検知方向Aと一敗させ
ることができる。
また、超音波は媒体内を進行していくので、上記周波数
変動に応じた所望のレンズ効果が生じた時だけ光ビーム
が光シャッタ12を通過できるように、第2図(C)に
示すような駆動信号により光シャッタ12をオン、オフ
するようにした。すなわち、トランスデユーサ16aか
ら発生した超音波がウィンドウ部16bに丁度達した時
に、光シャッタ12にオン信号を与えるようにした。例
えば、時間1=10に超音波が発生し、速度Vで進行し
て、距離!の位置にあるウィンドウ部16bにt=1.
で到達するものとすれば、上記オン信号を発生させる最
初のタイミングΔto(=t+ to)はl/■で
与えられる。
変動に応じた所望のレンズ効果が生じた時だけ光ビーム
が光シャッタ12を通過できるように、第2図(C)に
示すような駆動信号により光シャッタ12をオン、オフ
するようにした。すなわち、トランスデユーサ16aか
ら発生した超音波がウィンドウ部16bに丁度達した時
に、光シャッタ12にオン信号を与えるようにした。例
えば、時間1=10に超音波が発生し、速度Vで進行し
て、距離!の位置にあるウィンドウ部16bにt=1.
で到達するものとすれば、上記オン信号を発生させる最
初のタイミングΔto(=t+ to)はl/■で
与えられる。
従って、本実施例では、ラインセンサ19は常に光ビー
ムβ3の焦点位置を検知することができ、よって非常に
正確なパターン検知が可能になる。
ムβ3の焦点位置を検知することができ、よって非常に
正確なパターン検知が可能になる。
また、従来では、第7図に示すように、被検査対象Mか
らの反射光をラインセンサ7に導(ための光学系として
、焦点距離の固定された2つのレンズ5.6を用いてい
たので、例えばa点とb点のように検知点の位置が光軸
方向に異なる場合、上記レンズ5および6による結像位
置も異なってしまう。そのためラインセンサ7では、a
点についてははっきりした検知画像が得られるが、それ
以外の点(例えばb点)についてはぼやけた検知画像し
か得られないという問題点もあった。ところが本実施例
では、反射光24は、上述したように各光ビームβ3の
焦点深度に対応した可変の焦点距離を持つレンズとして
作用する超音波偏向器16を再度通過した後に、ライン
センサ19に導かれている。よって、第3図に示すよう
に、a点からの光であってもb点からの光であっても、
ラインセンサ19の受光面に正確に結像され、従来のよ
うにぼやけた検知画像が得られることはなくなる。
らの反射光をラインセンサ7に導(ための光学系として
、焦点距離の固定された2つのレンズ5.6を用いてい
たので、例えばa点とb点のように検知点の位置が光軸
方向に異なる場合、上記レンズ5および6による結像位
置も異なってしまう。そのためラインセンサ7では、a
点についてははっきりした検知画像が得られるが、それ
以外の点(例えばb点)についてはぼやけた検知画像し
か得られないという問題点もあった。ところが本実施例
では、反射光24は、上述したように各光ビームβ3の
焦点深度に対応した可変の焦点距離を持つレンズとして
作用する超音波偏向器16を再度通過した後に、ライン
センサ19に導かれている。よって、第3図に示すよう
に、a点からの光であってもb点からの光であっても、
ラインセンサ19の受光面に正確に結像され、従来のよ
うにぼやけた検知画像が得られることはなくなる。
次に、本発明の他の実施例に係る光学系の主要部を第4
図に示す。本実施例は、第1図に示した超音波偏向器1
6と対物レンズ17との間に、照明用の2つの光ビーム
を作るための光ビーム分割部30を配置するとともに、
もう1個のラインセンサ37を設けて、それぞれ偏向ビ
ームスプリッタ35およびレンズ18.36を介してラ
インセンサ19.37で検知するようにしたものである
。
図に示す。本実施例は、第1図に示した超音波偏向器1
6と対物レンズ17との間に、照明用の2つの光ビーム
を作るための光ビーム分割部30を配置するとともに、
もう1個のラインセンサ37を設けて、それぞれ偏向ビ
ームスプリッタ35およびレンズ18.36を介してラ
インセンサ19.37で検知するようにしたものである
。
なお、図中の方向指示マークは、光ビームの偏光方向を
示している。
示している。
上記光ビーム分割部30は、偏光ビームスリッタ31、
ミラー32、シリンドリカルレンズ33および1/2波
長板34から構成されており、前述した超音波偏向器1
6から出た光ビーム22が、まず偏光ビームスプリッタ
3工によって2つの光ビームjl’11% !、2に分
割される。
ミラー32、シリンドリカルレンズ33および1/2波
長板34から構成されており、前述した超音波偏向器1
6から出た光ビーム22が、まず偏光ビームスプリッタ
3工によって2つの光ビームjl’11% !、2に分
割される。
偏光ビームスプリッタ31を透過した方の光ビーム”I
+は、シリンドリカルレンズ33によってX方向に広げ
られ、更に1/2波長板34を通過することによって偏
光方向が906回転された後、対物レンズ17によって
被検査対象M上に斜め上方から照射される(光ビームβ
3.)。その照射方向とは異なる所定方向への反射光2
14は、対物レンズ17、シリンドリカルレンズ33、
およびミラー32を介して再び偏光ビームスプリッタ3
1に導かれ、ここで反射される。このようにして得られ
た光7!15は、上記実施例と同様に超音波偏向器16
を再び通過し、ビームスプリッタ15で反射された後、
偏光ビームスプリッタ35を透過し、レンズ18を介し
てラインセンサ19によって検知される。
+は、シリンドリカルレンズ33によってX方向に広げ
られ、更に1/2波長板34を通過することによって偏
光方向が906回転された後、対物レンズ17によって
被検査対象M上に斜め上方から照射される(光ビームβ
3.)。その照射方向とは異なる所定方向への反射光2
14は、対物レンズ17、シリンドリカルレンズ33、
およびミラー32を介して再び偏光ビームスプリッタ3
1に導かれ、ここで反射される。このようにして得られ
た光7!15は、上記実施例と同様に超音波偏向器16
を再び通過し、ビームスプリッタ15で反射された後、
偏光ビームスプリッタ35を透過し、レンズ18を介し
てラインセンサ19によって検知される。
一方、光ビーム2□を偏光ビームスプリッタ31で分割
して得られた(反射された)もう一方の光ビーム”1g
は、上述した光ビーム”11の進行した光路をまったく
逆方向に進行した後、同様に超音波偏向器16を通過し
、ビームスプリッタ15で反射される。このようにして
得られた光は偏光ビームスプリッタ35で反射され、レ
ンズ36を介してもう一方のラインセンサ37で検知さ
れる。この際、被検査対象M上へ照射される光ビームβ
1.は、上述した反射光1.と同一光路上を逆方向に進
行する光となり、また被検査対象M上からの反射光1.
、は、上述した光ビームlI3と同一光路上を逆方向に
進行する光となる。すなわち被検査対象M上の同一箇所
を2つのライセンサ19.37で互いに異なる2つの方
向から検知することになる。
して得られた(反射された)もう一方の光ビーム”1g
は、上述した光ビーム”11の進行した光路をまったく
逆方向に進行した後、同様に超音波偏向器16を通過し
、ビームスプリッタ15で反射される。このようにして
得られた光は偏光ビームスプリッタ35で反射され、レ
ンズ36を介してもう一方のラインセンサ37で検知さ
れる。この際、被検査対象M上へ照射される光ビームβ
1.は、上述した反射光1.と同一光路上を逆方向に進
行する光となり、また被検査対象M上からの反射光1.
、は、上述した光ビームlI3と同一光路上を逆方向に
進行する光となる。すなわち被検査対象M上の同一箇所
を2つのライセンサ19.37で互いに異なる2つの方
向から検知することになる。
従って、本実施例では前記実施例と同様な効果が得られ
るとともに、被検査対象M上の表面凹凸部であっても、
陰のない正確な検知が可能になる。
るとともに、被検査対象M上の表面凹凸部であっても、
陰のない正確な検知が可能になる。
なお、第1図に示した光シャッタ12の配置位置は、同
図の位置に限定されることはなく、レーザ11からライ
ンセンサ19.37までの間で光ビームをオン、オフで
きる位置であればどこでもよく、また上記光シャッタ1
2を設ける代わりにラインセンサ19.37の検知タイ
ミングを制御するようにしてもよい。
図の位置に限定されることはなく、レーザ11からライ
ンセンサ19.37までの間で光ビームをオン、オフで
きる位置であればどこでもよく、また上記光シャッタ1
2を設ける代わりにラインセンサ19.37の検知タイ
ミングを制御するようにしてもよい。
また、第2図(blに示した超音波偏向器16の駆動信
号波形は一例であり、その他必要に応じて適宜変化させ
てもよい。
号波形は一例であり、その他必要に応じて適宜変化させ
てもよい。
本発明によれば、超音波偏向器にレンズ効果を持たせ、
その焦点距離を変化させることができるので、被検査対
象上における光ビームの焦点位置をラインセンサの検知
方向に容易に合わせることができ、従って、正確なパタ
ーン検知が実現できる。
その焦点距離を変化させることができるので、被検査対
象上における光ビームの焦点位置をラインセンサの検知
方向に容易に合わせることができ、従って、正確なパタ
ーン検知が実現できる。
第1図は本発明の一実施例を示す構成図、第2図(al
は超音波偏向器16のレンズ効果を説明するための図、 第2図(bl、(C1はそれぞれ超音波偏向器16、光
シャッタ12に与えられる駆動信号の波形図、第3図は
上記実施例の効果を示す図、 第4図は本発明の他の実施例に係る光学系の主要部を示
す構成図、 第5図は従来のパターン検査装置の光学系を示す構成図
、 第6図fa)は上記従来の装置に係る超音波偏向器3の
作用を示す図、 第6図(b)は上記超音波偏向器3に与えられる駆動信
号の波形図、 第7図は従来の問題点を示す図である。 11・・・レーザ、 12・・・光シャッタ、 14.16・・・超音波偏向器、 19・・・ラインセンサ、 20.21.22・・・駆動回路、 23・・・コントローラ、 31.35・・・偏光ビームスプリッタ、37・・・ラ
インセンサ。
は超音波偏向器16のレンズ効果を説明するための図、 第2図(bl、(C1はそれぞれ超音波偏向器16、光
シャッタ12に与えられる駆動信号の波形図、第3図は
上記実施例の効果を示す図、 第4図は本発明の他の実施例に係る光学系の主要部を示
す構成図、 第5図は従来のパターン検査装置の光学系を示す構成図
、 第6図fa)は上記従来の装置に係る超音波偏向器3の
作用を示す図、 第6図(b)は上記超音波偏向器3に与えられる駆動信
号の波形図、 第7図は従来の問題点を示す図である。 11・・・レーザ、 12・・・光シャッタ、 14.16・・・超音波偏向器、 19・・・ラインセンサ、 20.21.22・・・駆動回路、 23・・・コントローラ、 31.35・・・偏光ビームスプリッタ、37・・・ラ
インセンサ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)光ビームを出力する光源(11)と、 それぞれ互いに直交する第1、第2の偏向方向を持ち、
被検査対象上で前記光ビームを前記第1の偏向方向にラ
イン状に繰返し走査するとともに、該走査毎に前記第2
の偏向方向に順次移動させる、それぞれ第1、第2の超
音波偏向器(14、16)と、 該第1、第2の超音波偏向器に対し、これらを駆動する
ための所定周波数の駆動信号を与える超音波偏向器駆動
手段(20、21、23)と、 前記被検査対象上から前記走査に応じて得られる反射光
を所定方向からラインセンサ(19)で検知する光検知
手段とを有するパターン検査装置において、 前記超音波偏向器駆動手段の前記駆動信号に所定の周波
数変動を持たせ、前記第2の超音波偏向器(16)に前
記周波数変動の状態に応じて焦点距離の変化するレンズ
効果を生じさせたことを特徴とするパターン検査装置。 2)前記周波数変動に応じた所定のレンズ効果が前記第
2の超音波偏向器に生じたときだけ前記光ビームを通過
させる光シャッタ(12)を備えたことを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のパターン検査装置。 3)前記被検査対象上からの前記反射光を前記第2の超
音波偏向器(16)を介して前記ラインセンサ(19)
で検知することを特徴とする特許請求の範囲第1項また
は第2項記載のパターン検査装置。 4)前記光検知手段は前記ラインセンサを2組備え(1
9、37)、前記検知を互いに異なる2方向から行うこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第3項のいず
れか1つに記載のパターン検査装置。 5)前記第1、第2の超音波偏向器を介して得られた光
ビームを2つに分離する偏光ビームスプリッタ(31)
を備え、分離されたそれぞれの光ビームを前記被検査対
象上に互いに異なる方向から入射させるとともに、その
それぞれ異なる方向への反射光を前記偏光ビームスプリ
ッタを介して前記2組のラインセンサでそれぞれ検知す
ることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載のパター
ン検査装置。 6)前記ラインセンサはCCDラインセンサであること
を特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第5項のいずれ
か1つに記載のパターン検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22084486A JPS6378008A (ja) | 1986-09-20 | 1986-09-20 | パタ−ン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22084486A JPS6378008A (ja) | 1986-09-20 | 1986-09-20 | パタ−ン検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6378008A true JPS6378008A (ja) | 1988-04-08 |
Family
ID=16757429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22084486A Pending JPS6378008A (ja) | 1986-09-20 | 1986-09-20 | パタ−ン検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6378008A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07274215A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-20 | Rohm Co Ltd | 立体ビジョンカメラ |
KR20180134004A (ko) * | 2017-06-08 | 2018-12-18 | 삼성전자주식회사 | 테스트 시스템, 테스트 방법 및 이들을 이용한 반도체 장치의 제조 방법 |
-
1986
- 1986-09-20 JP JP22084486A patent/JPS6378008A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07274215A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-20 | Rohm Co Ltd | 立体ビジョンカメラ |
KR20180134004A (ko) * | 2017-06-08 | 2018-12-18 | 삼성전자주식회사 | 테스트 시스템, 테스트 방법 및 이들을 이용한 반도체 장치의 제조 방법 |
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