JPH04255819A - 光ビ−ムの走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は微小スポット径に集光し
たレ−ザ光を、２次元平面内の任意の方向に走査させ、
２次元の微細なパタ−ンの計測を行う光ビ−ムの走査装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年の精密加工技術の進歩により半導体
、精密機械産業等の分野でミクロンメ−トルオ−ダ−の
微細な２次元パタ−ンが形成されるようになり、微細パ
タ−ンの寸法、形状等の精密計測の必要性が高まってい
る。この種の計測では測定の空間分解能を高めるために
、微小なスポット径に集光したレ−ザ光を微小な走査ス
テップ距離（例えば０．０５μｍ）で数１０〜数１００
μｍの範囲を２次元的に走査する光ビ−ムの走査装置が
必要である。走査装置を構成するには光ビ−ムの走査を
行う走査素子を要するが、従来多く用いられている走査
素子は音響光学偏向素子、ガルバノミラ−、ポリゴンミ
ラ−等である。光ビ−ムを１次元的に走査する場合には
、上記走査素子の中の１個を各種のレンズと組み合わせ
た構成の走査装置が用いられる。光ビ−ムを２次元的に
走査する場合は、２個の走査素子を各種のレンズと組み
合わせた構成の走査装置が用いられる。各々の走査素子
は光学系の構成により走査する方向が例えばＸ軸、Ｙ軸
方向に決まっている。２次元的なパタ−ンの計測を行う
従来の２次元走査装置では直交するＸ−Ｙ平面でのラス
タ−走査が一般的である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来の１次元、あるい
は２次元の光ビ−ム走査装置では走査の方向はＸ軸、Ｙ
軸、あるいはＸ−Ｙ軸方向に予め設定されていて、直交
する方向へのラスタ−走査を行う構成である。２次元的
に形成されている被測定物上のパタ−ンはＸ軸、Ｙ軸に
平行なパタ−ンだけでなく、それ以外の任意の方向にも
形成されており、従来のラスタ−走査を行う走査装置で
はＸ軸、Ｙ軸以外の任意の方向に形成されたパタ−ンの
計測ができないという問題点がある。Ｘ軸、Ｙ軸以外の
任意の方向にも光ビ−ムを走査させるには、Ｘ軸、Ｙ軸
の走査素子を駆動させる駆動信号を変調してＸ軸、Ｙ軸
を同時に走査することにより走査方向を変換するか、あ
るいは更に第三、第四の走査素子を付加して走査方向を
自由に変換する必要がある。しかし、走査の駆動信号を
変調するには複雑な駆動回路が必要になり、他の走査素
子を付加すると走査光学系の構成が複雑になるため、任
意の方向に光ビ−ムを走査することが困難になる。本発
明は上記の課題を解消して、簡単な光学系、及び駆動信
号で任意の方向に光ビ−ムを走査することが可能な光ビ
−ムの走査装置を実現することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は以下に示す装置から構成される。レ−ザ光源
から対物レンズに至るまでの光路中に、光軸を共通にし
て、該光軸に直交するＸ−Ｙ平面のＸ軸方向へのビ−ム
走査を行うＸ軸走査素子と、入射面と出射面の間に反射
面を有する構成でＹ軸方向へのビ−ム走査を行うＹ軸走
査素子とから成る走査光学系を設けるとともに、前記Ｘ
軸走査素子の走査を制御するＸ軸走査制御部と、前記Ｙ
軸走査素子をＹ軸方向に移動させることにより、前記反
射面をＹ軸方向に移動させる移動手段と、該Ｙ軸走査素
子を該素子の中心軸の周りに回転させる事により、前記
反射面を回転させる回転制御手段とを設け、前記Ｙ軸走
査素子の反射面を前記回転制御手段により回転し所定の
回転角に設定し、Ｙ軸走査素子の入射面にＸ軸方向に走
査される光ビ−ムを入射するとともに、前記反射面を前
記移動手段によりＹ軸方向に移動せしめ、２次元走査さ
せるものである。さらに本発明は前述の走査装置に対し
て、Ｙ軸方向へのビ−ム走査を行う第二のＹ軸走査素子
を設け、Ｙ軸走査素子の反射面の回転角を回転制御手段
で設定し、Ｘ軸走査素子によりＸ軸方向に走査される光
ビ−ムを前記第二のＹ軸走査素子によりＹ軸方向にシフ
トさせてＹ軸走査素子の入射面に入射せしめるとともに
、前記Ｙ軸走査素子の反射面を前記移動手段によりＹ軸
方向に変化せしめ２次元走査させるものである。

【０００５】

【作用】Ｘ軸方向に光ビ−ム走査を行うＸ軸走査素子と
、反射面の幾何学的な配置の変化によりＹ軸方向に光ビ
−ムの走査を行うＹ軸走査素子の２個の走査素子を用い
て２次元走査を行わせる走査光学系で、Ｙ軸走査素子の
反射面の配置を基準状態に設定したとき、Ｙ軸走査素子
にＸ軸方向に走査される光ビ−ムを入射させると共に、
前記反射面をＹ軸方向に移動させて２次元平面内でラス
タ−走査を行わせる。このとき、Ｘ軸方向の走査は一定
としておき、Ｙ軸走査素子の反射面を光軸を中心に回転
させて幾何学的な配置を変化させると、Ｘ軸方向に走査
される光ビ−ムは上記回転角度の２倍の角度方向に走査
方向が変換される。このとき、Ｙ軸走査素子の反射面を
Ｙ軸方向に移動させるか、あるいはＹ軸方向への走査を
行う第二のＹ軸走査素子を用いて、Ｙ軸走査素子に入射
させるＸ軸方向に走査される光ビ−ムのＹ軸方向への相
対的な位置をシフトさせると、前述の反射面の回転に応
じて変換された走査方向に対して更に平行な方向に光ビ
−ムがシフトする。このようにしてＸ−Ｙ平面内の任意
の方向に２次元的に光ビ−ムの走査を行わせることがで
きる。

【０００６】

【実施例】以下に図面を用いて本発明の実施例を詳細に
説明する。図１は本発明の第一の実施例を説明するブロ
ック図である。１０はレ−ザ光源で、例えばＨｅ−Ｎｅ
レ−ザ管、半導体レ−ザから成り、レ−ザ光１００を放
射する。１１はレ−ザ光の走査を行う走査光学系で、Ｘ
軸走査素子１２、Ｙ軸走査素子１３、ビ−ムスプリッタ
−１１０、対物レンズ１２０、及び図示していないが他
のレンズ、ミラ−等の光学素子から構成される。ここで
、Ｘ軸走査素子１２は音響光学偏向素子（以下にＡＯと
略記する）から成り、Ｘ軸方向へ光ビ−ムの走査を行う
。Ｙ軸走査素子１３は、入射面と出射面の間に反射面を
有する特別な形状をしたプリズムから構成され、反射面
の幾何学的な位置の変化によりＹ軸方向へ光ビ−ムの走
査を行う。１４はＸ軸走査素子であるＡＯ１２の走査を
制御するＸ軸走査制御部で、制御信号１４０をＡＯ１２
に印加して偏向角度（回折角度）の制御を行う。制御信
号１４０は電圧が連続的に変化するランプ波信号で、ラ
ンプ電圧に応じて偏向角度を変化させ、偏向角度に応じ
た位置にレ−ザ光を走査させる。１５はＹ軸走査素子で
ある前記のプリズム１３の反射面をＹ軸方向に移動させ
るための制御信号１５０を作成するＹ軸走査制御部、１
６はプリズム１３の反射面をＹ軸方向に移動させるため
の移動手段であるピエゾトランスレ−タ（以下の説明で
ＰＺＴと略記する）である。制御信号１５０は電圧がス
テップ的に変化するステップ電圧信号で、電圧に応じて
ＰＺＴ１６が移動し、プリズム１３の反射面がＹ軸方向
に移動する。１７は回転制御手段で、例えばステップモ
−タから成り、プリズム１３の反射面を光軸の周りに設
定された角度だけ回転させる。この回転の制御信号はＹ
軸走査制御部１５から発せられる。

【０００７】ＡＯ１２でＸ軸方向に走査される光ビ−ム
はプリズム１３の入射面に入射し、プリズム内部を進行
して反射面で反射され、更にプリズム内部を進行して出
射面から光軸に平行に出射する。プリズム１３の反射面
がＹ軸に垂直な基準位置にあるとき、反射面をＹ軸方向
にｈだけ移動させるとＸ軸方向に走査されるビ−ムのＹ
軸方向の位置は２ｈだけシフトし、反射面の移動距離の
２倍の距離だけＹ軸方向に光ビ−ムが走査される。この
ときＸ軸方向の走査方向は一定である。また、プリズム
１３の反射面を回転させると、回転角度の２倍の角度だ
け走査方向がＸ軸方向からＹ軸方向へと変換され、Ｘ−
Ｙ平面内でのθ軸変換が行われる。この反射面の回転と
共に反射面をＹ軸方向に移動させれば、変換された走査
方向に平行に光ビ−ムを移動させることができ、Ｘ−Ｙ
平面内の任意の方向にラスタ−走査が行われる。この変
換された方向へのラスタ−走査は、プリズム１３の反射
面の回転が停止したとき反射面を移動させた場合に得ら
れるが、反射面の回転と移動を同時に行えば、楕円の軌
跡を描く走査が行われる。プリズム１３を出射した光ビ
−ムは対物レンズ１２０で微小なスポット径に集光され
、２次元的なパタ−ンが形成されている被測定物１８に
照射されてパタ−ン面上を２次元的に走査する。被測定
物１８で反射した光ビ−ムはビ−ムスプリッタ−１１０
で反射され、反射光１３０として受光部１６０で検出さ
れる。１７０はデ−タ処理部で、反射光１３０に対して
目的に応じたデ−タ処理を行い２次元パタ−ンの計測を
行う。

【０００８】図２に前述したＹ軸走査素子であるプリズ
ム１３の具体的な構成を示す。２０は頂角が６０°の正
三角形プリズム、２１は頂角が３０°と６０°の直角プ
リズムで、２つのプリズムを図のように重ね合わせた構
成である。正三角形プリズム２０の面２００が入射面、
直角プリズム２１の面２１０が反射面、同じく直角プリ
ズムの面２２０が出射面である。入射面２００と出射面
２２０はレ−ザ光の進行方向（Ｚ方向）に垂直に設定す
る。入射面２００、出射面２２０を垂直面に設定するの
は、入射する光ビ−ムが発散光、あるいは収束光である
とき、非点収差によるビ−ム形状の変形を防止するため
である。入射面２００に入射するＸ軸方向に走査される
光ビ−ム２３０は入射面２００を透過し、正三角形プリ
ズム２０の他方の面２４０で反射し、直角プリズム２１
の底面である反射面２１０で反射し、他方の面２５０で
反射し、出射面２２０から入射光２３０と平行な光路で
出射するが、プリズム内部では図のごとくＶ型の光路を
たどる。以上の構成のプリズム１３において、入射面２
００、出射面２２０は常に入射光２３０に対して垂直な
状態に保ち、反射面２１０の幾何学的な位置を変化させ
る。

【０００９】以上の構成のプリズム１３において、反射
面２１０をＰＺＴ１６により距離ｈだけＹ軸方向に移動
させると、入射光２３０に対して入射面２００の相対的
な位置が変化することにより、反射面２１０での反射位
置がＺ方向にシフトし、出射面２２０からはＹ軸方向に
距離２ｈだけシフトしたビ−ムが出射し、Ｙ軸方向への
走査が行われる。このときプリズム１３の内部ではＺ方
向に位置がシフトしたＶ型の光路をたどるため、プリズ
ム１３からの出射光は入射光２３０と平行である。なお
、入射面２００に入射する光ビ−ムはＸ軸方向の走査で
あるためＹ軸方向の位置は一定である。プリズム１３の
反射面２１０を回転制御手段１７により角度θだけ中心
軸２２を中心にして回転させると、Ｘ軸方向の走査位置
に応じて反射面２１０のＺ方向に対する反射位置が異な
るため、Ｘ軸方向に走査している光ビ−ムの走査方向は
、反射面２１０の回転角度θの２倍の角度の２θの方向
に変換される。反射面２１０をθだけ回転した状態で反
射面２１０をＹ軸方向に移動すれば、Ｘ軸方向から２θ
回転した走査方向に平行に光ビ−ムがシフトし、２次元
平面内で角度２θの方向でラスタ−走査が可能になる。 以上述べた走査は、プリズム１３の反射面２１０の幾何
学的な位置の変化を行わせるだけでよく、特別に複雑な
走査駆動信号を必要としないため、簡単な構成でＹ軸、
θ軸の走査が可能である。

【００１０】図３にレ−ザ光の偏向を行う走査光学系１
１の構成例を示す。３１と３４は焦点距離がｆ１のシリ
ンドリカルレンズ、３２と３３は焦点距離がｆ２、３５
は焦点距離がｆ３の凸レンズで、３６は焦点距離がｆ０
の対物レンズである。レ−ザ光源１０から放射される円
形状のレ−ザ光１００をシリンドリカルレンズ３１と凸
レンズ３２の組合せにより、紙面に平行な面内に広がり
を持ち、紙面に垂直な面内に集光されるシ−ト状のビ−
ムを作成する。それは、ＡＯ１２の偏向作用の効率を高
めるためである。なお、シリンドリカルレンズ３１は紙
面に平行な面内にのみ屈折作用を持たせるように配置す
る。シ−ト状ビ−ムはＡＯ１２に照射されて紙面に平行
な面内で回折される。光ビ−ムの偏向に必要なのは回折
光であるから、非回折光はカットする。回折された光ビ
−ムは凸レンズ３３とシリンドリカルレンズ３４の組合
せにより、光軸に平行に進行せられると共に、シ−ト状
のビ−ム形状を円形状のビ−ムに変換する。なお、シリ
ンドリカルレンズ３４は紙面に垂直な面内にのみ屈折さ
れるように配置する。更に、凸レンズ３３の焦点位置と
シリンドリカルレンズ３４の焦点位置が同じ位置になる
ようにするため、凸レンズ３３の焦点位置の手前にシリ
ンドリカルレンズ３４を設置する。この焦点位置で光ビ
−ムは再び円形状に変換され、次は発散光としてプリズ
ム１３の入射面２００に入射し、出射面２２０から出射
し、凸レンズ３５に照射されて平行光に変換される。平
行光は対物レンズ３６で微小なスポット径に集光され、
光軸に平行に進行せられて被測定物１８の面上に照射さ
れる。ＡＯ１２を駆動するＸ軸走査制御信号１４０の電
圧を変えることにより、ＡＯ１２の回折角度が変えられ
て光ビ−ムの走査が行われる。ＡＯ１２での偏向角度が
φであるとき、被測定物１８の面上でのＸ軸方向の走査
距離Ｄｘは、Ｄｘ＝ｆ０・ｆ２・φ／ｆ３で表される。 プリズム１３の反射面２１０をＹ軸方向へ距離ｈ移動さ
せたとき、被測定物１８の面上でのＹ軸方向の走査距離
Ｄｙは、Ｄｙ＝２ｈ・ｆ０／ｆ３である。ＡＯ１２での
偏向角度φは３ｍｒａｄ程度であり、前述のレンズの焦
点距離を適当な値に設定することにより、目的とする走
査距離を自由に設定できる。このとき、ＡＯ１２を駆動
するランプ波電圧、及びＰＺＴ１６を駆動するステップ
電圧の電圧を１／２０００程度のステップに分割して微
小な走査ステップ距離で走査すれば、微小なパタ−ンを
十分な空間分解能で測定することが可能となる。被測定
物１８で反射されたビ−ムは逆向きに進行し、ビ−ムス
プリッタ−１１０で反射し、凸レンズ３７で集光されて
受光部１６０で検出される。この受光部１６０の受光位
置は被測定物１８の面上と共焦点関係にあると共に偏向
の定点位置であるため、被測定物１８の幾何学的分布に
対応した反射光の強度分布が常に定点で測定できる。

【００１１】図４に走査方向の変換例を示す。（イ）に
プリズム１３の反射面２１０の回転角度θがθ＝０°の
基準状態にある場合の走査を示す。線４０はＡＯ１２に
よりＸ軸方向に走査される走査ビ−ムの軌跡で、反射面
２１０のＹ軸方向の位置が基準位置にある場合である。 線４１は反射面２１０がＰＺＴ１６によりＹ軸方向に移
動した場合の走査ビ−ムの軌跡である。このようにして
Ｘ−Ｙ軸方向に２次元のラスタ−走査がおこなわれる。 （ロ）はプリズム１３の反射面２１０の回転角度θがθ
＝２２．５°の状態での走査を示す。光ビ−ムの走査角
度は４５°の方向に変換される。線４２はＡＯ１２によ
りＸ軸方向に走査される走査ビ−ムの走査方向が４５°
変換されたときの軌跡で、反射面２１０のＹ軸方向の位
置が基準位置にある場合である。線４３は反射面２１０
がＰＺＴ１６によりＹ軸方向に移動した場合の走査ビ−
ムの軌跡で、線４２と平行である。このようにしてＸ−
Ｙ平面内の４５°の軸方向に２次元のラスタ−走査がお
こなわれる。以上の光ビ−ムの走査において、ＡＯ１２
による走査は高速動作であり、本発明によれば走査方向
を任意の方向に変換することが可能なため、Ｘ軸方向以
外の任意の方向でもＡＯ１２で高速に走査を行うことが
できる。

【００１２】次に本発明の第二の実施例を示す。第二の
実施例は、図１に示した走査装置に対してＹ軸方向に走
査を行う第二のＹ軸走査素子を付加した構成である。図
５に第二の実施例を構成する走査光学系を示す。レンズ
は図３に示した光学系と同一のものを用いる。５０はＹ
軸方向に走査を行う第二のＹ軸走査素子で、例えばガル
バノミラ−（以下にＧＭと略記する）から成り、凸レン
ズ３３とシリンドリカルレンズ３４の間に設置する。Ｇ
Ｍ５０はＰＺＴ１６に比べて高速走査が可能であるが、
走査分解能は低いという特性がある。また、走査分解能
は低くても、走査角度が大きいために走査範囲を広くで
きるという特徴がある。ＡＯ１２による走査方向に直交
する方向の走査は、ＧＭ５０とプリズム１３の両者を用
いれば走査の速度を上げることが可能になる。ＧＭ５０
を走査させてＡＯ１２の走査方向に直交する方向に粗い
が、高速に光ビ−ムを移動させ、次にプリズム１３の反
射面２１０をＰＺＴ１６により微小な距離だけ精密に移
動させれば、全体の走査速度が上がり、測定の対象とす
る位置に正確に光ビ−ムを照射することができる。

【００１３】図６（イ）、（ロ）に図５に示した走査光
学系による走査光路を示す。（イ）はＡＯ１２によるＸ
軸方向の走査光路である。ＡＯ１２によりＸ軸方向に角
度φ回折された光ビ−ム６１は凸レンズ３３で光軸に平
行に進行させられ、ＧＭ５０で反射される。ＧＭ５０は
Ｙ軸方向への走査をおこなうため、ＧＭ５０で反射され
た光ビ−ムはＸ軸方向には光軸と平行に進行し、シリン
ドリカルレンズ３４によってもＸ軸方向には屈折されな
いでプリズム１３に入射する。プリズム１３では反射面
２１０のＹ軸方向の位置により出射光のＹ軸方向の位置
が変化すると共に、反射面２１０の回転によって走査方
向が変換されるが、反射面２１０の回転角度θがθ＝０
°の基準位置にあるときはＸ軸方向の光路は変化しない
。プリズム１３を出射した光ビ−ムは凸レンズ３５によ
りＸ軸方向に屈折され、対物レンズ３６で光軸に平行に
進行させられ、被測定物１８に照射する。（ロ）はＹ軸
方向の走査光路である。ＡＯ１２によってはＹ軸方向に
は回折されず、ＧＭ５０の反射角度をψ変化させてＹ軸
方向に走査を行う。ＧＭ５０で走査される光ビ−ム６２
はシリンドリカルレンズ３４により屈折し、Ｙ軸方向に
平行に進行する。プリズム１３に入射したビ−ムは、反
射面２１０の移動によりさらにＹ軸方向に変化させられ
、プリズム１３への入射光と平行な光路で出射する。 プリズム１３以降の光路は前述の（イ）と同様である。 なおＧＭ５０によるＹ軸方向への光ビ−ムの走査距離Ｄ
ｇはＤｇ＝２ｈ・ψ・ｆ１・ｆ０／ｆ３で表される。こ
こでｈはプリズム１３の入射面２００への入射光のＹ軸
方向に対すら位置の変化である。以上の構成の走査装置
で、ＧＭ５０とプリズム１３はどちらかの一方が駆動さ
れている場合、他方は走査を停止させておく。

【００１４】図７に本発明の光ビ−ム走査装置で測定を
行う２次元パタ−ンの例を示し、走査の説明をする。図
に示した２次元パタ−ン７０は透明電極パタ−ンで、ガ
ラス基板上のＸ−Ｙ平面内の任意の方向に形成されてい
る。透明電極では、パタ−ンの断線、パタ−ン間のショ
−トの検出が必要であるが、この種の計測では微小なス
ポットに形成されたレ−ザ光を走査させ、反射光の変化
を検出する方法が多く用いられている。パタ−ンの断線
の検出にはパタ−ン上を走査すれば良い。本例ではパタ
−ンのショ−トの検出を行うときの走査例を示す。ショ
−トの検出ではパタ−ンに直交する方向に走査を行うこ
とが必要である。線７１はＸ軸方向の走査で、プリズム
１３の反射面２１０の回転角度θがθ＝０°の基準位置
に設定すれば良い。線７２はＹ軸方向の走査で、プリズ
ム１３の反射面２１０を回転させてθ＝４５°とすれば
良い。線７３はＹ軸から４５°傾いた方向の走査で、同
じく反射面２１０を２２．５°回転させれば良い。また
、パタ−ン間のピッチが短い場合は、ＡＯ１２での走査
に直交する方向にはプリズム１３をＰＺＴ１６で移動さ
せればよく、逆にピッチが長い場合は大きな移動をＧＭ
５０で行い、細かい移動をプリズム１３で行えば測定の
時間を短縮することができる。

【００１５】

【発明の効果】上記のごとく本発明によれば、簡素な走
査光学系、簡素な走査制御部により任意の方向に光ビ−
ムの走査方向を変換することが可能で、２次元平面内の
任意の方向に形成されたパタ−ンに対しても走査を行う
ことが可能になる。更に、音響光学偏向素子を用いるこ
とにより、あらゆる方向への走査の速度を早めることも
可能になり、２次元パタ−ンの測定速度の向上がはかれ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一の実施例を示すブロック図である
。

【図２】本発明によるＹ軸走査素子の構成を示す図であ
る。

【図３】本発明の第一の実施例の走査光学系の構成を示
す図である。

【図４】本発明による走査方向の変換の例を示す図であ
る。

【図５】本発明の第二の実施例の走査光学系の構成を示
す図である。

【図６】図５に示した走査光学系の走査光路を示す図で
、（イ）はＸ軸方向の光路図、（ロ）はＹ軸方向の光路
図である。

【図７】本発明の走査装置を用いた２次元パタ−ン測定
のパタ−ン例である。

【符号の説明】

１０　　レ−ザ光源 １１　　走査光学系 １２　　Ｘ軸走査素子 １３　　Ｙ軸走査素子 １４　　Ｘ軸走査制御部 １６　　移動手段 １７　　回転制御手段 ５０　　第二のＹ軸走査素子

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　レ−ザ光源から対物レンズに至るまで
   の光路中に、光軸を共通にして、該光軸に直交するＸ−
   Ｙ平面のＸ軸方向へのビ−ム走査を行うＸ軸走査素子と
   、入射面と出射面の間に反射面を有する構成でＹ軸方向
   へのビ−ム走査を行うＹ軸走査素子とから成る走査光学
   系を設けるとともに、前記Ｘ軸走査素子の走査を制御す
   るＸ軸走査制御部と、前記Ｙ軸走査素子をＹ軸方向に移
   動させることにより、前記反射面をＹ軸方向に移動させ
   る移動手段と、該Ｙ軸走査素子を該素子の中心軸の周り
   に回転させる事により、前記反射面を回転させる回転制
   御手段とを設け、前記Ｙ軸走査素子の反射面を前記回転
   制御手段により回転し所定の回転角に設定し、Ｙ軸走査
   素子の入射面にＸ軸方向に走査される光ビ−ムを入射す
   るとともに、前記反射面を前記移動手段によりＹ軸方向
   に移動せしめ、２次元走査させることを特徴とする光ビ
   −ムの走査装置。
2. 【請求項２】　　請求項１に記載の光ビ−ム走査装置に
   、Ｙ軸方向へのビ−ム走査を行う第二のＹ軸走査素子を
   設け、Ｙ軸走査素子の反射面の回転角を回転制御手段で
   設定し、Ｘ軸走査素子によりＸ軸方向に走査される光ビ
   −ムを前記第二のＹ軸走査素子によりＹ軸方向にシフト
   させてＹ軸走査素子の入射面に入射せしめるとともに、
   前記Ｙ軸走査素子の反射面を前記移動手段によりＹ軸方
   向に変化せしめ２次元走査させることを特徴とする光ビ
   −ムの走査装置。