JP2000118192A - 走査式描画装置 - Google Patents
走査式描画装置Info
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- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光源の光軸がずれた場合にも、モニター信号
と描画位置との対応関係を保つことができ、描画光の正
確な制御が可能な走査式描画装置の提供を課題(目的)と
する。 【解決手段】 光源１０から発するレーザー光をハーフ
ミラー２４により描画光Ｌ1とモニター光Ｌ2とに分離
し、それぞれ描画光専用の光路、モニター光専用の光路
を介してミラー５４により合成してポリゴンミラー４１
に入射させ、偏向された描画光をｆθレンズ４２により
描画面１３上に結像させ、偏向されたモニター光を描画
面と等価な位置に配置されたモニタースケール４７上に
結像させる。縮小光学系２９ａ，３５を含む描画光専用
光路の倍率と、縮小光学系５１，５２を含むモニター光
専用光路の倍率とが等しく設定されている。
と描画位置との対応関係を保つことができ、描画光の正
確な制御が可能な走査式描画装置の提供を課題(目的)と
する。 【解決手段】 光源１０から発するレーザー光をハーフ
ミラー２４により描画光Ｌ1とモニター光Ｌ2とに分離
し、それぞれ描画光専用の光路、モニター光専用の光路
を介してミラー５４により合成してポリゴンミラー４１
に入射させ、偏向された描画光をｆθレンズ４２により
描画面１３上に結像させ、偏向されたモニター光を描画
面と等価な位置に配置されたモニタースケール４７上に
結像させる。縮小光学系２９ａ，３５を含む描画光専用
光路の倍率と、縮小光学系５１，５２を含むモニター光
専用光路の倍率とが等しく設定されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、描画光の走査位
置をモニターするためのモニター光学系を備えた走査式
描画装置に関する。
置をモニターするためのモニター光学系を備えた走査式
描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザーフォトプロッター等の比較的大
型で、かつ、厳密な描画精度が要求される走査式描画装
置には、描画面上での描画光の走査位置をリアルタイム
で検出してレーザー光の変調を制御するため、モニター
光学系が設けられている。
型で、かつ、厳密な描画精度が要求される走査式描画装
置には、描画面上での描画光の走査位置をリアルタイム
で検出してレーザー光の変調を制御するため、モニター
光学系が設けられている。
【０００３】図４は、従来の走査式描画装置の光学系を
展開して模式的に示す主走査方向の説明図である。図中
左側となる図示せぬ光源から発したレーザー光は、ハー
フミラーＭ1により描画光Ｌ1とモニター光Ｌ2とに分離
される。ハーフミラーＭ1で反射された描画光Ｌ1は、ミ
ラーＭ2で反射され、第１の縮小光学系１、音響光学変
調素子(ＡＯＭ)２、第２の縮小光学系３を介し、ミラー
Ｍ3で反射されてハーフミラーＭ4に入射する。一方、ハ
ーフミラーＭ1を透過したモニター光Ｌ2は、第３の縮小
光学系４を介してハーフミラーＭ4に入射する。
展開して模式的に示す主走査方向の説明図である。図中
左側となる図示せぬ光源から発したレーザー光は、ハー
フミラーＭ1により描画光Ｌ1とモニター光Ｌ2とに分離
される。ハーフミラーＭ1で反射された描画光Ｌ1は、ミ
ラーＭ2で反射され、第１の縮小光学系１、音響光学変
調素子(ＡＯＭ)２、第２の縮小光学系３を介し、ミラー
Ｍ3で反射されてハーフミラーＭ4に入射する。一方、ハ
ーフミラーＭ1を透過したモニター光Ｌ2は、第３の縮小
光学系４を介してハーフミラーＭ4に入射する。
【０００４】ハーフミラーＭ4で合成された描画光Ｌ1お
よびモニター光Ｌ2は、コリメートレンズ５を介してポ
リゴンミラー６に入射し、これにより反射、偏向され、
ｆθレンズ７により収束光となる。描画光Ｌ1は、図示
せぬ描画面上を走査し、モニター光Ｌ2は、描画面と等
価な位置に配置された図示せぬモニタースケール上を走
査する。
よびモニター光Ｌ2は、コリメートレンズ５を介してポ
リゴンミラー６に入射し、これにより反射、偏向され、
ｆθレンズ７により収束光となる。描画光Ｌ1は、図示
せぬ描画面上を走査し、モニター光Ｌ2は、描画面と等
価な位置に配置された図示せぬモニタースケール上を走
査する。
【０００５】モニタースケールは、表面に不透明なライ
ンが等ピッチで多数形成された透明板であり、この上を
モニター光が走査することにより、透過光を検出する受
光素子からパルス状の信号が出力される。描画装置の制
御回路は、受光素子から出力されたパルス信号を所定の
描画開始位置からカウントすることにより、描画光が現
在描画面上のいずれの位置を走査しているかを検出で
き、これに基づいてレーザー光を変調する。
ンが等ピッチで多数形成された透明板であり、この上を
モニター光が走査することにより、透過光を検出する受
光素子からパルス状の信号が出力される。描画装置の制
御回路は、受光素子から出力されたパルス信号を所定の
描画開始位置からカウントすることにより、描画光が現
在描画面上のいずれの位置を走査しているかを検出で
き、これに基づいてレーザー光を変調する。
【０００６】なお、図４では、説明を簡単にするため描
画光が単一であることを前提としているが、この種の描
画装置では、描画速度を高くするため、複数の描画光を
描画面上で同時に走査させるマルチビームの構成を採用
する場合が多い。マルチビームの場合には、ハーフミラ
ーＭ1と第１の縮小光学系１との間にレーザー光を複数
の描画光に分割するためのビームセパレータが配置され
る。
画光が単一であることを前提としているが、この種の描
画装置では、描画速度を高くするため、複数の描画光を
描画面上で同時に走査させるマルチビームの構成を採用
する場合が多い。マルチビームの場合には、ハーフミラ
ーＭ1と第１の縮小光学系１との間にレーザー光を複数
の描画光に分割するためのビームセパレータが配置され
る。
【０００７】そして、マルチビームの走査式描画装置に
おいては、モニター光専用光路(ハーフミラーＭ1，Ｍ4
間のモニター光のみが通過する光路)と描画光専用光路
(同様に描画光のみが通過する光路)とを比較したとき、
前者の方が光路長が短く、利用されるレンズ等の光学素
子の径が小さい。これは、描画光専用光路には、ＡＯＭ
２の前後に縮小光学系１，３等が配置され、かつ、ビー
ムセパレータが配置されるため、一定以上の光路長が必
要となるのに対してモニター光専用光路ではそれらが必
要ないこと、そして、描画光専用光路では複数のレーザ
ー光が並列して進むため、一定以上のレンズ有効径が必
要になるのに対してモニター光専用光路では単一のレー
ザー光のみが進むため必要な有効径が小さいことによ
る。
おいては、モニター光専用光路(ハーフミラーＭ1，Ｍ4
間のモニター光のみが通過する光路)と描画光専用光路
(同様に描画光のみが通過する光路)とを比較したとき、
前者の方が光路長が短く、利用されるレンズ等の光学素
子の径が小さい。これは、描画光専用光路には、ＡＯＭ
２の前後に縮小光学系１，３等が配置され、かつ、ビー
ムセパレータが配置されるため、一定以上の光路長が必
要となるのに対してモニター光専用光路ではそれらが必
要ないこと、そして、描画光専用光路では複数のレーザ
ー光が並列して進むため、一定以上のレンズ有効径が必
要になるのに対してモニター光専用光路では単一のレー
ザー光のみが進むため必要な有効径が小さいことによ
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
走査式描画装置では、上述のようにモニター光専用光路
と描画光専用光路との光路長や光学系のレンズ径等が異
なるため、通常各光路の光学的な倍率、介在するミラー
の枚数等が異なり、光源の光軸がずれた場合に、描画面
上での描画光の位置の変化とモニタースケール上でのモ
ニター光の位置の変化とが、その方向、量において互い
に異なり、モニター信号と描画位置との対応関係が崩
れ、正確な描画光の制御ができなくなる。
走査式描画装置では、上述のようにモニター光専用光路
と描画光専用光路との光路長や光学系のレンズ径等が異
なるため、通常各光路の光学的な倍率、介在するミラー
の枚数等が異なり、光源の光軸がずれた場合に、描画面
上での描画光の位置の変化とモニタースケール上でのモ
ニター光の位置の変化とが、その方向、量において互い
に異なり、モニター信号と描画位置との対応関係が崩
れ、正確な描画光の制御ができなくなる。
【０００９】このような描画光とモニター光とのズレを
図４により説明する。光源の光軸が図中一点鎖線で示し
た光学系の光軸に一致するときには、描画光Ｌ1もモニ
ター光Ｌ2もこの光軸上を進み、ズレは生じない。しか
し、光源の光軸が例えば図中上側にδ0だけ平行にずれ
た場合、描画光Ｌ1は実線で示した光路を通過して描画
面上では図中光軸より下側にδ1だけずれる。これに対
して、モニター光Ｌ2は、破線で示した光路を通過して
描画面(実際にはこれと等価なモニタースケール)上では
光軸より上側にδ2だけずれる。
図４により説明する。光源の光軸が図中一点鎖線で示し
た光学系の光軸に一致するときには、描画光Ｌ1もモニ
ター光Ｌ2もこの光軸上を進み、ズレは生じない。しか
し、光源の光軸が例えば図中上側にδ0だけ平行にずれ
た場合、描画光Ｌ1は実線で示した光路を通過して描画
面上では図中光軸より下側にδ1だけずれる。これに対
して、モニター光Ｌ2は、破線で示した光路を通過して
描画面(実際にはこれと等価なモニタースケール)上では
光軸より上側にδ2だけずれる。
【００１０】光源としてガスレーザーを用いる場合、電
源投入直後と投入後十分に時間が経過した後とでは光軸
がずれることがあり、あるいは、寿命により光源を交換
した場合にも光軸のずれは発生し得る。
源投入直後と投入後十分に時間が経過した後とでは光軸
がずれることがあり、あるいは、寿命により光源を交換
した場合にも光軸のずれは発生し得る。
【００１１】この発明は、上述した従来技術の問題点に
鑑みてなされたものであり、光源の光軸がずれた場合に
も、モニター信号と描画位置との対応関係を保つことが
でき、描画光の正確な制御が可能な走査式描画装置の提
供を課題(目的)とする。
鑑みてなされたものであり、光源の光軸がずれた場合に
も、モニター信号と描画位置との対応関係を保つことが
でき、描画光の正確な制御が可能な走査式描画装置の提
供を課題(目的)とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる走査式
描画装置は、上記の目的を達成させるため、光源から発
するレーザー光を光分岐素子により描画光とモニター光
とに分離し、それぞれ描画光専用の光路、モニター光専
用の光路を介して光合成素子により合成して偏光器に入
射させ、該偏向器により偏向された描画光を走査レンズ
により描画面上に結像させ、偏向されたモニター光を描
画面と等価な位置に配置されたモニタースケール上に結
像させる構成を前提として、描画光専用光路とモニター
光専用光路との光路長が異なり、あるいは、描画光専用
光路に配置された光学系のレンズ径がモニター光専用光
路に配置された光学系のレンズ径より大きく、各専用光
路に配置された光学系は、光源の光軸の傾き、あるいは
位置ズレによる描画面上での描画光のズレと、モニター
スケール上でのモニター光のズレとの方向が等しく、ズ
レ量がほぼ同一であるよう設定されていることを特徴と
する。
描画装置は、上記の目的を達成させるため、光源から発
するレーザー光を光分岐素子により描画光とモニター光
とに分離し、それぞれ描画光専用の光路、モニター光専
用の光路を介して光合成素子により合成して偏光器に入
射させ、該偏向器により偏向された描画光を走査レンズ
により描画面上に結像させ、偏向されたモニター光を描
画面と等価な位置に配置されたモニタースケール上に結
像させる構成を前提として、描画光専用光路とモニター
光専用光路との光路長が異なり、あるいは、描画光専用
光路に配置された光学系のレンズ径がモニター光専用光
路に配置された光学系のレンズ径より大きく、各専用光
路に配置された光学系は、光源の光軸の傾き、あるいは
位置ズレによる描画面上での描画光のズレと、モニター
スケール上でのモニター光のズレとの方向が等しく、ズ
レ量がほぼ同一であるよう設定されていることを特徴と
する。
【００１３】上記の構成によれば、光源の光軸がずれた
場合にも、このズレによる影響がモニター光と描画光と
に等しく現れるため、モニター信号と描画光との対応を
保つことができる。
場合にも、このズレによる影響がモニター光と描画光と
に等しく現れるため、モニター信号と描画光との対応を
保つことができる。
【００１４】ズレの方向、量をほぼ同一にするために
は、モニター光の反射回数と描画光の反射回数との差が
偶数である場合には、光源を物点としたときに、モニタ
ー光専用光路を経由してモニタースケールに至る光学系
の倍率と、描画光専用光路を経由して描画面に至る光学
系の倍率とをほぼ等しく設定することが望ましい。一
方、モニター光の反射回数と描画光の反射回数との差が
奇数である場合には、光源を物点としたときに、モニタ
ー光専用光路を経由してモニタースケールに至る光学系
の倍率と、描画光専用光路を経由して描画面に至る光学
系の倍率との絶対値をほぼ等しく、符号を逆に設定する
ことが望ましい。
は、モニター光の反射回数と描画光の反射回数との差が
偶数である場合には、光源を物点としたときに、モニタ
ー光専用光路を経由してモニタースケールに至る光学系
の倍率と、描画光専用光路を経由して描画面に至る光学
系の倍率とをほぼ等しく設定することが望ましい。一
方、モニター光の反射回数と描画光の反射回数との差が
奇数である場合には、光源を物点としたときに、モニタ
ー光専用光路を経由してモニタースケールに至る光学系
の倍率と、描画光専用光路を経由して描画面に至る光学
系の倍率との絶対値をほぼ等しく、符号を逆に設定する
ことが望ましい。
【００１５】また、モニター光専用光路を経由した際に
光源とモニタースケールとが幾何光学的に共役であり、
描画光専用光路を経由した際に光源と描画面とが幾何光
学的に共役であることが望ましい。
光源とモニタースケールとが幾何光学的に共役であり、
描画光専用光路を経由した際に光源と描画面とが幾何光
学的に共役であることが望ましい。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、この発明にかかる走査式描
画装置の実施形態を説明する。図１は実施形態の走査光
学装置の光学素子の配置を示す斜視図、図２はその光路
を展開して示す説明図である。
画装置の実施形態を説明する。図１は実施形態の走査光
学装置の光学素子の配置を示す斜視図、図２はその光路
を展開して示す説明図である。
【００１７】実施形態の走査式描画装置は、固定的に設
けられた光源１０及び光学台１１と、これに対して図中
Ｘ方向にスライド可能に設けられた描画テーブル１２と
から構成される。アルゴンレーザー等の光源１０から発
したレーザー光は、光学台１１に配置された走査光学系
を介して描画テーブル１２上に載置された描画面１３上
に前記のＸ方向に対して直交するＹ方向の走査線Ｓを形
成する。
けられた光源１０及び光学台１１と、これに対して図中
Ｘ方向にスライド可能に設けられた描画テーブル１２と
から構成される。アルゴンレーザー等の光源１０から発
したレーザー光は、光学台１１に配置された走査光学系
を介して描画テーブル１２上に載置された描画面１３上
に前記のＸ方向に対して直交するＹ方向の走査線Ｓを形
成する。
【００１８】光学台１１の下側に配置された光源１０か
ら発したレーザー光は、ミラー２０，２１により反射さ
れて光学台１１に形成された光路穴１１ａを通り、ミラ
ー２２で反射されて変倍レンズ系２３を通してビーム径
が調整される。変倍レンズ系２３を透過したレーザー光
は、光分岐素子であるハーフミラー２４により反射され
る描画光Ｌ1(図中実線で示す)と透過するモニター光Ｌ2
(図中一点鎖線で示す)とに分離される。
ら発したレーザー光は、ミラー２０，２１により反射さ
れて光学台１１に形成された光路穴１１ａを通り、ミラ
ー２２で反射されて変倍レンズ系２３を通してビーム径
が調整される。変倍レンズ系２３を透過したレーザー光
は、光分岐素子であるハーフミラー２４により反射され
る描画光Ｌ1(図中実線で示す)と透過するモニター光Ｌ2
(図中一点鎖線で示す)とに分離される。
【００１９】描画光Ｌ1は、ハーフミラー２５により二
分され、反射された描画光はビームセパレータ２６ａに
入射し、透過した描画光はミラー２７を介してビームセ
パレータ２６ｂに入射する。ビームセパレータ２６ａ，
２６ｂは、それぞれの描画光をさらに複数本、ここでは
３本に分離する機能を有している。
分され、反射された描画光はビームセパレータ２６ａに
入射し、透過した描画光はミラー２７を介してビームセ
パレータ２６ｂに入射する。ビームセパレータ２６ａ，
２６ｂは、それぞれの描画光をさらに複数本、ここでは
３本に分離する機能を有している。
【００２０】分離された描画光は、それぞれミラー２８
ａ，２８ｂを挟んで設けられた一対のレンズ群から成る
第１縮小光学系２９ａ，２９ｂによりビーム間隔が狭め
られ、マルチチャンネルの音響光学変調素子(ＡＯＭ)３
０ａ，３０ｂに入射する。各ＡＯＭは、独立して変調可
能な複数の変調部を備え、各描画光を独立して変調す
る。一方のＡＯＭ３０ｂにより変調された各描画光は、
ミラー３１で反射されてビームスプリッター３２に入射
し、他方のＡＯＭ３０ａにより変調された各描画光は、
直接ビームスプリッター３２に入射し、合成されて同一
光路を進む。
ａ，２８ｂを挟んで設けられた一対のレンズ群から成る
第１縮小光学系２９ａ，２９ｂによりビーム間隔が狭め
られ、マルチチャンネルの音響光学変調素子(ＡＯＭ)３
０ａ，３０ｂに入射する。各ＡＯＭは、独立して変調可
能な複数の変調部を備え、各描画光を独立して変調す
る。一方のＡＯＭ３０ｂにより変調された各描画光は、
ミラー３１で反射されてビームスプリッター３２に入射
し、他方のＡＯＭ３０ａにより変調された各描画光は、
直接ビームスプリッター３２に入射し、合成されて同一
光路を進む。
【００２１】合成された６本の描画光は、ミラー３３で
反射された後、ミラー３４を挟んで配置された一対のレ
ンズ群から成る第２縮小光学系３５によりビーム間隔が
縮小され、イメージローテータ３６に入射する。イメー
ジローテータ３６は、６本の描画光が描画面上で適正に
配列するよう方向を調整する。
反射された後、ミラー３４を挟んで配置された一対のレ
ンズ群から成る第２縮小光学系３５によりビーム間隔が
縮小され、イメージローテータ３６に入射する。イメー
ジローテータ３６は、６本の描画光が描画面上で適正に
配列するよう方向を調整する。
【００２２】なお、ハーフミラー２４を透過したモニタ
ー光Ｌ2は、ミラー５０で反射された後、モニター光用
縮小光学系５１、モニター光倍率調整光学系５２を経て
ミラー５３で反射され、第２縮小光学系３５の後群レン
ズとイメージローテータ３６との間で描画光の光路外に
配置されたミラー(光合成素子)５４により反射されて描
画光に合流する。
ー光Ｌ2は、ミラー５０で反射された後、モニター光用
縮小光学系５１、モニター光倍率調整光学系５２を経て
ミラー５３で反射され、第２縮小光学系３５の後群レン
ズとイメージローテータ３６との間で描画光の光路外に
配置されたミラー(光合成素子)５４により反射されて描
画光に合流する。
【００２３】イメージローテータ３６を射出した描画光
およびモニター光は、ミラー３７，３８で反射された
後、コリメートレンズ３９を透過し、ミラー４０により
反射されて偏向器であるポリゴンミラー４１に入射す
る。ポリゴンミラー４１は図中反時計回り方向に回転し
ており、描画光およびモニター光を同時に反射、偏向す
る。
およびモニター光は、ミラー３７，３８で反射された
後、コリメートレンズ３９を透過し、ミラー４０により
反射されて偏向器であるポリゴンミラー４１に入射す
る。ポリゴンミラー４１は図中反時計回り方向に回転し
ており、描画光およびモニター光を同時に反射、偏向す
る。
【００２４】ポリゴンミラー４１により偏向された描画
光およびモニター光は、走査レンズであるｆθレンズ４
２により収束され、ミラー４３、コンデンサレンズ４４
を介して描画面１３に向かう。描画光は、直進して描画
面１３に達してその上を走査し、モニター光は、描画光
の光路外に配置されたミラー４５により描画光から分離
され、ミラー４６により反射されてモニタースケール４
７上を走査する。モニタースケール４７は、表面に不透
明なラインが等ピッチで多数形成された透明板であり、
この上をモニター光が走査することにより、透過光を検
出する図示せぬ受光素子からパルス状の信号が出力され
る。
光およびモニター光は、走査レンズであるｆθレンズ４
２により収束され、ミラー４３、コンデンサレンズ４４
を介して描画面１３に向かう。描画光は、直進して描画
面１３に達してその上を走査し、モニター光は、描画光
の光路外に配置されたミラー４５により描画光から分離
され、ミラー４６により反射されてモニタースケール４
７上を走査する。モニタースケール４７は、表面に不透
明なラインが等ピッチで多数形成された透明板であり、
この上をモニター光が走査することにより、透過光を検
出する図示せぬ受光素子からパルス状の信号が出力され
る。
【００２５】なお、変倍レンズ群２３は、光源１０の個
体差によるビーム径のバラツキを補正するために設けら
れている。光源１０としてガスレーザーを用いる場合、
個体差や経時変化によりビーム径が変化する場合が多
い。そして、光源１０から発するレーザー光のビーム径
が変化すると、描画面１３上でのスポット径も変化して
描画特性が変化する。これを避けるため、光源１０から
発するレーザー光のビーム径に応じてスポット径を一定
に保つように変倍レンズ群２３を調整する。変倍による
スポット径の調整に伴い、描画光路の倍率とモニター光
路の倍率とに差が生じるのを防ぐため、変倍レンズ群２
３は描画光とモニター光とを分離するハーフミラー２４
より光源１０側に配置されている。
体差によるビーム径のバラツキを補正するために設けら
れている。光源１０としてガスレーザーを用いる場合、
個体差や経時変化によりビーム径が変化する場合が多
い。そして、光源１０から発するレーザー光のビーム径
が変化すると、描画面１３上でのスポット径も変化して
描画特性が変化する。これを避けるため、光源１０から
発するレーザー光のビーム径に応じてスポット径を一定
に保つように変倍レンズ群２３を調整する。変倍による
スポット径の調整に伴い、描画光路の倍率とモニター光
路の倍率とに差が生じるのを防ぐため、変倍レンズ群２
３は描画光とモニター光とを分離するハーフミラー２４
より光源１０側に配置されている。
【００２６】ここで、描画面上でビームが走査する主走
査方向と平行で各レンズ(例えばｆθレンズ、コンデン
サレンズ４４等)の光軸を含む面を主走査断面、主走査
方向に垂直で描くレンズの光軸を含む面を副走査断面と
定義する。また、ハーフミラー２４を透過したモニター
光がミラー５４により描画光に合流するまでのモニター
光のみが通過する光路をモニター光専用光路、ハーフミ
ラー２４で反射された描画光がモニター光と合流するま
での描画光のみが通過する光路を描画光専用光路とす
る。両光路を比較すると、第１に、モニター光専用光路
の光路長が描画光専用光路の光路長より短く、第２に、
モニター光専用光路に配置されたレンズのレンズ径が描
画光専用光路に配置されたレンズのレンズ径より小さ
い。
査方向と平行で各レンズ(例えばｆθレンズ、コンデン
サレンズ４４等)の光軸を含む面を主走査断面、主走査
方向に垂直で描くレンズの光軸を含む面を副走査断面と
定義する。また、ハーフミラー２４を透過したモニター
光がミラー５４により描画光に合流するまでのモニター
光のみが通過する光路をモニター光専用光路、ハーフミ
ラー２４で反射された描画光がモニター光と合流するま
での描画光のみが通過する光路を描画光専用光路とす
る。両光路を比較すると、第１に、モニター光専用光路
の光路長が描画光専用光路の光路長より短く、第２に、
モニター光専用光路に配置されたレンズのレンズ径が描
画光専用光路に配置されたレンズのレンズ径より小さ
い。
【００２７】上記の違いは、第１に、描画光専用光路に
は、セパレータ２６ａ，２６ｂ、第１縮小光学系２９
ａ，２９ｂ、ＡＯＭ３０ａ，３０ｂ等を配置する必要が
あるため、一定以上の光路長が必要となるのに対してモ
ニター光専用光路ではそれらが必要ないこと、第２に、
描画光専用光路では複数のレーザー光が並列して進むた
め、一定以上のレンズ有効径が必要になるのに対してモ
ニター光専用光路では単一のレーザー光のみが進むため
必要な有効径が小さいことによる。
は、セパレータ２６ａ，２６ｂ、第１縮小光学系２９
ａ，２９ｂ、ＡＯＭ３０ａ，３０ｂ等を配置する必要が
あるため、一定以上の光路長が必要となるのに対してモ
ニター光専用光路ではそれらが必要ないこと、第２に、
描画光専用光路では複数のレーザー光が並列して進むた
め、一定以上のレンズ有効径が必要になるのに対してモ
ニター光専用光路では単一のレーザー光のみが進むため
必要な有効径が小さいことによる。
【００２８】実施形態の走査式描画装置では、各専用光
路に配置された光学系は、光源１０の光軸の傾き、ある
いは位置ズレによる描画面１３上での描画光のズレと、
モニタースケール４７上でのモニター光のズレとの方向
が等しく、ズレ量がほぼ同一であるよう設定されてい
る。
路に配置された光学系は、光源１０の光軸の傾き、ある
いは位置ズレによる描画面１３上での描画光のズレと、
モニタースケール４７上でのモニター光のズレとの方向
が等しく、ズレ量がほぼ同一であるよう設定されてい
る。
【００２９】この例では、光源から描画面に至るまでの
光路中、一方の描画光は主走査断面内で１０回、副走査
断面内で３回反射され、他方の描画光は、主走査断面内
で１２回、副走査断面内で３回反射されている。モニタ
ー光は、主走査断面内で８回、副走査断面内で５回反射
されている。なお、断面内での反射とは、断面に含まれ
る軸上入射光線が反射後も当該断面に含まれるような反
射をいうものとする。したがって、主走査断面、副走査
断面共に、描画光とモニター光との反射回数の差は偶数
となる。そこで、この例では、モニター光専用光路の倍
率と、描画光専用光路の倍率とが符号を含めて等しくな
るよう設定されている。これにより、光源１０の光軸が
平行移動した場合にも、描画面１３上での描画光のズレ
と、モニタースケール４７上でのモニター光のズレと
を、その量および方向において等しくすることができ
る。
光路中、一方の描画光は主走査断面内で１０回、副走査
断面内で３回反射され、他方の描画光は、主走査断面内
で１２回、副走査断面内で３回反射されている。モニタ
ー光は、主走査断面内で８回、副走査断面内で５回反射
されている。なお、断面内での反射とは、断面に含まれ
る軸上入射光線が反射後も当該断面に含まれるような反
射をいうものとする。したがって、主走査断面、副走査
断面共に、描画光とモニター光との反射回数の差は偶数
となる。そこで、この例では、モニター光専用光路の倍
率と、描画光専用光路の倍率とが符号を含めて等しくな
るよう設定されている。これにより、光源１０の光軸が
平行移動した場合にも、描画面１３上での描画光のズレ
と、モニタースケール４７上でのモニター光のズレと
を、その量および方向において等しくすることができ
る。
【００３０】また、モニター光専用光路を経由した際に
光源１０とモニタースケール４７とが幾何光学的に共役
であり、描画光専用光路を経由した際に光源１０と描画
面１３とが幾何光学的に共役となるよう設定している。
これにより、光源１０の光軸が傾いた場合にも、描画面
１３上での描画光のズレを抑えると共に、モニタースケ
ール４７上でのモニター光のズレを抑えることができ
る。
光源１０とモニタースケール４７とが幾何光学的に共役
であり、描画光専用光路を経由した際に光源１０と描画
面１３とが幾何光学的に共役となるよう設定している。
これにより、光源１０の光軸が傾いた場合にも、描画面
１３上での描画光のズレを抑えると共に、モニタースケ
ール４７上でのモニター光のズレを抑えることができ
る。
【００３１】次に、図２を参照して倍率の設定について
説明する。図２は、２つある描画光専用光路の一方を省
き、光路を展開して示した説明図である。描画光専用光
路に配置された第１縮小光学系２９ａの前群レンズの焦
点距離をｆ1、後群レンズの焦点距離をｆ2、第２縮小光
学系３５の前群レンズの焦点距離をｆ3、後群レンズの
焦点距離をｆ4とすると、第１縮小光学系２９ａの倍率
ｍ1＝−ｆ2／ｆ1、第２縮小光学系３５の倍率ｍ2＝−ｆ
4／ｆ3となる。実施形態では、例えばｍ1＝−０．２、
ｍ2＝−０．１であり、描画光専用光路の倍率は０．０
２となる。
説明する。図２は、２つある描画光専用光路の一方を省
き、光路を展開して示した説明図である。描画光専用光
路に配置された第１縮小光学系２９ａの前群レンズの焦
点距離をｆ1、後群レンズの焦点距離をｆ2、第２縮小光
学系３５の前群レンズの焦点距離をｆ3、後群レンズの
焦点距離をｆ4とすると、第１縮小光学系２９ａの倍率
ｍ1＝−ｆ2／ｆ1、第２縮小光学系３５の倍率ｍ2＝−ｆ
4／ｆ3となる。実施形態では、例えばｍ1＝−０．２、
ｍ2＝−０．１であり、描画光専用光路の倍率は０．０
２となる。
【００３２】これに対し、モニター光専用光路に配置さ
れたモニター光用縮小光学系５１の前群レンズの焦点距
離をｆ5、後群レンズの焦点距離をｆ6、モニター光倍率
調整光学系５２の前群レンズの焦点距離をｆ7、後群レ
ンズの焦点距離をｆ8とすると、モニター光用縮小光学
系５１の倍率ｍ3＝−ｆ6／ｆ5、モニター光倍率調整光
学系５２の倍率ｍ4＝−ｆ8／ｆ7となる。実施形態で
は、例えばｍ3＝−０．０２、ｍ4＝−１．０であり、モ
ニター光専用光路の倍率も０．０２となる。
れたモニター光用縮小光学系５１の前群レンズの焦点距
離をｆ5、後群レンズの焦点距離をｆ6、モニター光倍率
調整光学系５２の前群レンズの焦点距離をｆ7、後群レ
ンズの焦点距離をｆ8とすると、モニター光用縮小光学
系５１の倍率ｍ3＝−ｆ6／ｆ5、モニター光倍率調整光
学系５２の倍率ｍ4＝−ｆ8／ｆ7となる。実施形態で
は、例えばｍ3＝−０．０２、ｍ4＝−１．０であり、モ
ニター光専用光路の倍率も０．０２となる。
【００３３】このように、ミラー枚数の差が偶数枚の場
合には、描画光専用光路の倍率とモニター光専用光路の
倍率とを等しく設定することにより、描画面上での描画
光のズレと、モニタースケール上でのモニター光のズレ
との量、方向を等しくすることができる。
合には、描画光専用光路の倍率とモニター光専用光路の
倍率とを等しく設定することにより、描画面上での描画
光のズレと、モニタースケール上でのモニター光のズレ
との量、方向を等しくすることができる。
【００３４】次に、上述した実施形態の構成を単純化し
た図３に基づいて光源の光軸が平行移動した場合の描画
光とモニター光との光路のズレについて説明する。図３
(Ａ)は、上記の実施形態と同様に描画光が反射されるミ
ラーの枚数とモニター光が反射されるミラーの枚数との
差が偶数枚の光学系、図３(Ｂ)は、ミラー枚数の差が奇
数枚の光学系をそれぞれ示す。なお、図中の各光学部材
の符号は、図４で用いたものを流用する。
た図３に基づいて光源の光軸が平行移動した場合の描画
光とモニター光との光路のズレについて説明する。図３
(Ａ)は、上記の実施形態と同様に描画光が反射されるミ
ラーの枚数とモニター光が反射されるミラーの枚数との
差が偶数枚の光学系、図３(Ｂ)は、ミラー枚数の差が奇
数枚の光学系をそれぞれ示す。なお、図中の各光学部材
の符号は、図４で用いたものを流用する。
【００３５】まず、図３(Ａ)の場合には、描画光専用光
路に第１縮小光学系１、ＡＯＭ２、第２縮小光学系３が
配置され、モニター光専用光路にはモニター光用縮小光
学系４ａ、モニター光倍率調整光学系４ｂが配置されて
おり、各専用光路の倍率が互いに等しくなるよう設定さ
れている。例えば、描画光専用光路の倍率が０．０２、
モニター光専用光路の倍率も０．０２である。描画光Ｌ
1は、ミラーＭ1，Ｍ2，Ｍ3，Ｍ4の４枚のミラーで反射
され、モニター光Ｌ2は反射されない。したがって、ミ
ラー枚数の差は４枚である。
路に第１縮小光学系１、ＡＯＭ２、第２縮小光学系３が
配置され、モニター光専用光路にはモニター光用縮小光
学系４ａ、モニター光倍率調整光学系４ｂが配置されて
おり、各専用光路の倍率が互いに等しくなるよう設定さ
れている。例えば、描画光専用光路の倍率が０．０２、
モニター光専用光路の倍率も０．０２である。描画光Ｌ
1は、ミラーＭ1，Ｍ2，Ｍ3，Ｍ4の４枚のミラーで反射
され、モニター光Ｌ2は反射されない。したがって、ミ
ラー枚数の差は４枚である。
【００３６】図３(Ａ)の光学系において、光源の光軸が
図中一点鎖線で示した光学系の光軸に一致するときに
は、描画光Ｌ1もモニター光Ｌ2もこの光軸上を進み、ズ
レは生じない。一方、光源の光軸が例えば図中上側にδ
0だけ平行にずれた場合には、描画光Ｌ1は実線で示した
光路を通過し、コリメートレンズ５、ポリゴンミラー
６、ｆθレンズ７を介して描画面上では図中光軸より下
側にδ1だけずれる。一方、モニター光Ｌ2は、破線で示
した光路を通過し、描画面上では図中光軸より下側にδ
2だけずれる。ここでは、δ1＝δ2となり、描画面上で
の描画光のズレと、モニタースケール上でのモニター光
のズレとの量、方向を等しくすることができる。
図中一点鎖線で示した光学系の光軸に一致するときに
は、描画光Ｌ1もモニター光Ｌ2もこの光軸上を進み、ズ
レは生じない。一方、光源の光軸が例えば図中上側にδ
0だけ平行にずれた場合には、描画光Ｌ1は実線で示した
光路を通過し、コリメートレンズ５、ポリゴンミラー
６、ｆθレンズ７を介して描画面上では図中光軸より下
側にδ1だけずれる。一方、モニター光Ｌ2は、破線で示
した光路を通過し、描画面上では図中光軸より下側にδ
2だけずれる。ここでは、δ1＝δ2となり、描画面上で
の描画光のズレと、モニタースケール上でのモニター光
のズレとの量、方向を等しくすることができる。
【００３７】次に、図３(Ｂ)の場合には、描画光専用光
路に第１、第２の縮小光学系１，３が配置され、モニタ
ー光専用光路にはモニター光用縮小光学系４が配置され
ており、各専用光路の倍率の絶対値が等しく、符号が逆
になるように設定されている。例えば、描画光専用光路
の倍率が０．０２、モニター光専用光路の倍率が−０．
０２である。描画光Ｌ1は、ミラーＭ1，Ｍ2，Ｍ3，Ｍ
4，Ｍ5の５枚のミラーで反射され、モニター光Ｌ2は反
射されない。したがって、ミラー枚数の差は５枚であ
る。
路に第１、第２の縮小光学系１，３が配置され、モニタ
ー光専用光路にはモニター光用縮小光学系４が配置され
ており、各専用光路の倍率の絶対値が等しく、符号が逆
になるように設定されている。例えば、描画光専用光路
の倍率が０．０２、モニター光専用光路の倍率が−０．
０２である。描画光Ｌ1は、ミラーＭ1，Ｍ2，Ｍ3，Ｍ
4，Ｍ5の５枚のミラーで反射され、モニター光Ｌ2は反
射されない。したがって、ミラー枚数の差は５枚であ
る。
【００３８】図３(Ｂ)の光学系において、光源の光軸が
図中一点鎖線で示した光学系の光軸に一致するときに
は、描画光Ｌ1もモニター光Ｌ2もこの光軸上を進み、ズ
レは生じない。一方、光源の光軸が例えば図中上側にδ
0だけ平行にずれた場合には、描画光Ｌ1は実線で示した
光路を通過し、描画面上では図中光軸より上側にδ1だ
けずれる。一方、モニター光Ｌ2は、破線で示した光路
を通過し、描画面上では図中光軸より上側にδ2だけず
れる。ここでは、δ1＝δ2となり、描画面上での描画光
のズレと、モニタースケール上でのモニター光のズレと
の量、方向を等しくすることができる。
図中一点鎖線で示した光学系の光軸に一致するときに
は、描画光Ｌ1もモニター光Ｌ2もこの光軸上を進み、ズ
レは生じない。一方、光源の光軸が例えば図中上側にδ
0だけ平行にずれた場合には、描画光Ｌ1は実線で示した
光路を通過し、描画面上では図中光軸より上側にδ1だ
けずれる。一方、モニター光Ｌ2は、破線で示した光路
を通過し、描画面上では図中光軸より上側にδ2だけず
れる。ここでは、δ1＝δ2となり、描画面上での描画光
のズレと、モニタースケール上でのモニター光のズレと
の量、方向を等しくすることができる。
【００３９】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の請求項
１の構成によれば、描画光専用光路とモニター光専用光
路との光路長が異なる場合にも、光源の光軸の傾き、あ
るいは位置ズレによる描画面上での描画光のズレと、モ
ニタースケール上でのモニター光のズレとを一致させる
ことができ、モニター信号と描画位置との対応関係を保
ち、描画光の正確な制御が可能となる。
１の構成によれば、描画光専用光路とモニター光専用光
路との光路長が異なる場合にも、光源の光軸の傾き、あ
るいは位置ズレによる描画面上での描画光のズレと、モ
ニタースケール上でのモニター光のズレとを一致させる
ことができ、モニター信号と描画位置との対応関係を保
ち、描画光の正確な制御が可能となる。
【００４０】また、請求項２の構成によれば、描画光専
用光路とモニター光専用光路とに配置された光学系のレ
ンズ径が異なる場合にも、光源の光軸の傾き、あるいは
位置ズレによる描画面上での描画光のズレと、モニター
スケール上でのモニター光のズレとを一致させることが
でき、モニター信号と描画位置との対応関係を保ち、描
画光の正確な制御が可能となる。
用光路とモニター光専用光路とに配置された光学系のレ
ンズ径が異なる場合にも、光源の光軸の傾き、あるいは
位置ズレによる描画面上での描画光のズレと、モニター
スケール上でのモニター光のズレとを一致させることが
でき、モニター信号と描画位置との対応関係を保ち、描
画光の正確な制御が可能となる。
【００４１】反射回数の差が奇数の場合には、請求項３
のように各光路の倍率を互いに等しくなるように設定
し、偶数の場合には請求項４のように各光路の倍率を絶
対値が等しく符号が逆になるように設定することによ
り、光源の平行移動による描画光とモニター光とのズレ
を一致させることができる。
のように各光路の倍率を互いに等しくなるように設定
し、偶数の場合には請求項４のように各光路の倍率を絶
対値が等しく符号が逆になるように設定することによ
り、光源の平行移動による描画光とモニター光とのズレ
を一致させることができる。
【００４２】なお、請求項５のように共役関係を保つよ
う設定した場合には、光源の傾きによる描画光とモニタ
ー光とのズレを小さく抑えることができる。
う設定した場合には、光源の傾きによる描画光とモニタ
ー光とのズレを小さく抑えることができる。
【図１】 この発明の実施形態にかかる走査光学装置の
光学素子の配置を示す斜視図。
光学素子の配置を示す斜視図。
【図２】 図１の装置の光路を展開して示す説明図。
【図３】 図２の構成を単純化したミラー枚数の差が偶
数である光学系を展開して模式的に示す説明図(Ａ)、ミ
ラー枚数の差が奇数である光学系を展開して模式的に示
す説明図(Ｂ)。
数である光学系を展開して模式的に示す説明図(Ａ)、ミ
ラー枚数の差が奇数である光学系を展開して模式的に示
す説明図(Ｂ)。
【図４】 従来の走査式描画装置の光学系を展開して模
式的に示す説明図。
式的に示す説明図。
１０ 光源 １１ 光学台 １２ 描画テーブル １３ 描画面 ２９ａ，２９ｂ 第１縮小光学系 ３０ａ，３０ｂ ＡＯＭ ３５ 第２縮小光学系 ４１ ポリゴンミラー ４２ ｆθレンズ ４７ モニタースケール ５１ モニター光縮小光学系 １ モニター光倍率調整光学系
Claims (6)
- 【請求項１】 光源から発するレーザー光を光分岐素子
により描画光とモニター光とに分離し、それぞれ描画光
専用の光路、モニター光専用の光路を介して光合成素子
により合成して偏光器に入射させ、該偏向器により偏向
された描画光を走査レンズにより描画面上に結像させ、
偏向されたモニター光を前記描画面と等価な位置に配置
されたモニタースケール上に結像させる走査式描画装置
において、 前記描画光専用光路と前記モニター光専用光路との光路
長が異なり、前記各専用光路に配置された光学系は、前
記光源の光軸の傾き、あるいは位置ズレによる前記描画
面上での描画光のズレと、前記モニタースケール上での
モニター光のズレとの方向が等しく、ズレ量がほぼ同一
であるよう設定されていることを特徴とする走査式描画
装置。 - 【請求項２】 光源から発するレーザー光を光分岐素子
により描画光とモニター光とに分離し、それぞれ描画光
専用の光路、モニター光専用の光路を介して光合成素子
により合成して偏光器に入射させ、該偏向器により偏向
された描画光を走査レンズにより描画面上に結像させ、
偏向されたモニター光を前記描画面と等価な位置に配置
されたモニタースケール上に結像させる走査式描画装置
において、 前記描画光専用光路に配置された光学系のレンズ径は、
前記モニター光専用光路に配置された光学系のレンズ径
より大きく、前記各専用光路に配置された光学系は、前
記光源の光軸の傾き、あるいは位置ズレによる前記描画
面上での描画光のズレと、前記モニタースケール上での
モニター光のズレとの方向が等しく、ズレ量がほぼ同一
であるよう設定されていることを特徴とする走査式描画
装置。 - 【請求項３】 前記光源を物点としたときに、前記モニ
ター光専用光路を経由して前記モニタースケールに至る
光学系の倍率と、前記描画光専用光路を経由して前記描
画面に至る光学系の倍率とがほぼ等しく、少なくとも主
走査断面内での前記モニター光の反射回数と前記描画光
の反射回数との差が偶数であることを特徴とする請求項
１または２のいずれかに記載の走査式描画装置。 - 【請求項４】 前記光源を物点としたときに、前記モニ
ター光専用光路を経由して前記モニタースケールに至る
光学系の倍率と、前記描画光専用光路を経由して前記描
画面に至る光学系の倍率との絶対値がほぼ等しく符号が
逆であり、少なくとも主走査断面内での前記モニター光
の反射回数と前記描画光の反射回数との差が奇数である
ことを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の
走査式描画装置。 - 【請求項５】 前記モニター光専用光路を経由した際に
前記光源と前記モニタースケールとが幾何光学的に共役
であり、前記描画光専用光路を経由した際に前記光源と
前記描画面とが幾何光学的に共役であることを特徴とす
る請求項１〜４のいずれかに記載の走査式描画装置。 - 【請求項６】 前記光源と前記光分岐素子との間の光路
中に、前記光源から発するレーザー光のビーム径を調整
するための変倍光学系が配置されていることを特徴とす
る請求項１〜５のいずれかに記載の走査式描画装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28984398A JP3694177B2 (ja) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | 走査式描画装置 |
| US09/414,607 US6326609B1 (en) | 1998-10-12 | 1999-10-08 | Scanning drawing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28984398A JP3694177B2 (ja) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | 走査式描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000118192A true JP2000118192A (ja) | 2000-04-25 |
| JP3694177B2 JP3694177B2 (ja) | 2005-09-14 |
Family
ID=17748492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28984398A Expired - Fee Related JP3694177B2 (ja) | 1998-10-12 | 1998-10-12 | 走査式描画装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6326609B1 (ja) |
| JP (1) | JP3694177B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013120336A (ja) * | 2011-12-08 | 2013-06-17 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置および画像形成装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3890891B2 (ja) | 2000-12-25 | 2007-03-07 | 株式会社オーク製作所 | レーザー描画装置 |
| WO2005116721A1 (en) * | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Strobbe Graphics Nv | Anamorphic laser scanning device |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3573849A (en) * | 1969-02-04 | 1971-04-06 | Bell Telephone Labor Inc | Pattern generating apparatus |
| US4306242A (en) | 1980-03-18 | 1981-12-15 | Data General Corporation | Laser recording system |
| EP0299455A3 (en) * | 1987-07-17 | 1991-03-27 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method and apparatus for laser exposure in an image scanning/recording apparatus |
| US5194981A (en) * | 1988-10-21 | 1993-03-16 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Light scanning apparatus |
| JPH05264913A (ja) | 1992-03-19 | 1993-10-15 | Asahi Optical Co Ltd | 走査光ビーム位置検出装置 |
| US5844592A (en) * | 1993-06-30 | 1998-12-01 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Optical image forming device having a plurality of drawing beams and a monitoring beam |
| JPH0735994A (ja) | 1993-07-22 | 1995-02-07 | Asahi Optical Co Ltd | レーザ描画装置 |
-
1998
- 1998-10-12 JP JP28984398A patent/JP3694177B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-10-08 US US09/414,607 patent/US6326609B1/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013120336A (ja) * | 2011-12-08 | 2013-06-17 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置および画像形成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3694177B2 (ja) | 2005-09-14 |
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