JPS60774B2 - パターン検査方式 - Google Patents
パターン検査方式Info
- Publication number
- JPS60774B2 JPS60774B2 JP51093344A JP9334476A JPS60774B2 JP S60774 B2 JPS60774 B2 JP S60774B2 JP 51093344 A JP51093344 A JP 51093344A JP 9334476 A JP9334476 A JP 9334476A JP S60774 B2 JPS60774 B2 JP S60774B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- scanning
- light beam
- scanning direction
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は被検査試料のパターン線幅を測定して線幅の異
常を検出するためのパターン検査方式に関するものであ
る。
常を検出するためのパターン検査方式に関するものであ
る。
従来、集積回路（ＩＣ）用のレチクルパターンやプリン
ト板用のパターンの線幅の測定を行なう場合、顕微鏡系
またはＴＶカメラを用いた走査方式により行っていたが
、この場合走査方向は一定方向に限られており、視野で
走査方向以外の方向の線幅の測定は像を回転させて行な
っていた。
ト板用のパターンの線幅の測定を行なう場合、顕微鏡系
またはＴＶカメラを用いた走査方式により行っていたが
、この場合走査方向は一定方向に限られており、視野で
走査方向以外の方向の線幅の測定は像を回転させて行な
っていた。
しかしこのような方法では像回転のために手動議整が必
要となるため測定に時間がかかり作業性が悪〈なる等の
難点があった。本発明の目的は被検査試料の複数の方向
の線幅の測定を容易に行なえるパターン検査方式を提供
することである。
要となるため測定に時間がかかり作業性が悪〈なる等の
難点があった。本発明の目的は被検査試料の複数の方向
の線幅の測定を容易に行なえるパターン検査方式を提供
することである。
前記目的を達成するため、本発明のパターン検査方式は
被検査試料のパターン上を光ビームにより走査する走査
系と、該走査光ビームの中心軸に対してその底面を平行
に配置され一方の斜面から光を入射されて他方の斜面か
ら出射する梯形プリズムを具えて該梯形プリズムを光ビ
ームの中心軸の回りに回転することによって光ビームの
走査方向を任意に変化し得る走査方向変化手段と、該走
査方向変化手段から投射された光による被検査試料から
の光を検出する検知手段とを具え、前記走査方向変化手
段を前記光ビームの中心軸の回りに回転させることによ
って光ビームの走査方向をパターンエッジに垂直な方向
としたときの前記検知手段における光の検知によってパ
ターンの線幅を検出するようにしたことを特徴とするも
のである。
被検査試料のパターン上を光ビームにより走査する走査
系と、該走査光ビームの中心軸に対してその底面を平行
に配置され一方の斜面から光を入射されて他方の斜面か
ら出射する梯形プリズムを具えて該梯形プリズムを光ビ
ームの中心軸の回りに回転することによって光ビームの
走査方向を任意に変化し得る走査方向変化手段と、該走
査方向変化手段から投射された光による被検査試料から
の光を検出する検知手段とを具え、前記走査方向変化手
段を前記光ビームの中心軸の回りに回転させることによ
って光ビームの走査方向をパターンエッジに垂直な方向
としたときの前記検知手段における光の検知によってパ
ターンの線幅を検出するようにしたことを特徴とするも
のである。
以下本発明の原理と実施例につき詳述する。
第１図は本発明の原理説明図である。同図に示すように
、たとえばに用のレチクルに走査方向１，に対し図示の
角度でパターン２，３が配置されているものとする。パ
ターン２は円形２，と線形２２の組合わせで線形２２は
走査方向１，に直交しており線幅はそのまま検出できる
から問題はない。しかしパターン３の場合には円形３，
と方形３３の間を直角に曲げられた３段の線形３２，３
３，３４で接続されている。この場合もし走査方向を１
，とすれば線幅は線形３４だけそのまま検出されるがそ
のほかの線形３２，３３に対しては試料の回転など前述
のような面倒な操作を行な夕わなければ線幅の検出はで
きない。そこで本発明では後述する回転可能な梯形プリ
ズムの回転軸方向に走査光ビームを入射させて該梯形プ
リズムを回転させることにより任意の走査方向を得るこ
とができるものである。従ってステージに戦直したＺ被
検査試料のパターンを所定の測定方向に移動させ各パタ
ーンの線形中心経路１・→１２ →１３ →１４ の各
段階に応じて経路に直交するように前記梯形プリズムを
回転制御するようにしたものである。
Ｚ第２図は上述の原理に従う本発明
の実施例の構成を示す説明図である。同図においてレー
ザ光源１よりのレーザ光ビームを光偏光系２により周期
的に偏向させて第４図で詳述する回転可能なプリズム機
構１０の梯形プリズム１１を通し、所定の２測定方向に
移動するステージ５に載層された被検査試料４のパター
ン上に投射して、その透過光を光検出系６‘こ入射させ
る。この場合、パターン２の円形２，と垂直線形２２に
対しては水平走査を行ない、パターン３の円形３，と水
平線形３２に２対しては垂直走査を、斜線形３３ に対
してはこれと直交する斜方走査を、垂直線形３４に対し
ては再び水平走査を行なうようにしたものである。これ
らはすべて被検査試料を載せたステージ５とプリズム機
構１０をプログラムによるタイミング制３劉により行な
うが、これらは従来技術の利用により容易に実施するこ
とが可能である。第３図は動作のプロセスを図示したも
のである。
、たとえばに用のレチクルに走査方向１，に対し図示の
角度でパターン２，３が配置されているものとする。パ
ターン２は円形２，と線形２２の組合わせで線形２２は
走査方向１，に直交しており線幅はそのまま検出できる
から問題はない。しかしパターン３の場合には円形３，
と方形３３の間を直角に曲げられた３段の線形３２，３
３，３４で接続されている。この場合もし走査方向を１
，とすれば線幅は線形３４だけそのまま検出されるがそ
のほかの線形３２，３３に対しては試料の回転など前述
のような面倒な操作を行な夕わなければ線幅の検出はで
きない。そこで本発明では後述する回転可能な梯形プリ
ズムの回転軸方向に走査光ビームを入射させて該梯形プ
リズムを回転させることにより任意の走査方向を得るこ
とができるものである。従ってステージに戦直したＺ被
検査試料のパターンを所定の測定方向に移動させ各パタ
ーンの線形中心経路１・→１２ →１３ →１４ の各
段階に応じて経路に直交するように前記梯形プリズムを
回転制御するようにしたものである。
Ｚ第２図は上述の原理に従う本発明
の実施例の構成を示す説明図である。同図においてレー
ザ光源１よりのレーザ光ビームを光偏光系２により周期
的に偏向させて第４図で詳述する回転可能なプリズム機
構１０の梯形プリズム１１を通し、所定の２測定方向に
移動するステージ５に載層された被検査試料４のパター
ン上に投射して、その透過光を光検出系６‘こ入射させ
る。この場合、パターン２の円形２，と垂直線形２２に
対しては水平走査を行ない、パターン３の円形３，と水
平線形３２に２対しては垂直走査を、斜線形３３ に対
してはこれと直交する斜方走査を、垂直線形３４に対し
ては再び水平走査を行なうようにしたものである。これ
らはすべて被検査試料を載せたステージ５とプリズム機
構１０をプログラムによるタイミング制３劉により行な
うが、これらは従来技術の利用により容易に実施するこ
とが可能である。第３図は動作のプロセスを図示したも
のである。
すなわち同図において被試験試料のパターンを作るべき
「作画データ」■より「データ再編集」■を行ない、「
パターン位置情報」■と「パターン角度情報」■に区分
し、「パターン位置情報」■により被検査試料４を載せ
たステージ５（第２図）につきＸＹ座標の移動を行なわ
せ前述の経路１，→１２→１３→１４をたどらせる。同
時に各段階に応じて経路に直交する「パターン角度情報
」■を走査系■たとえばプリズム機構１０に与えて光走
査出力■を発生し、これにより「パターン線幅測定」■
が行なわれ、さらに「パターン内および近傍のピンホー
ル、パターン欠け、線幅の変化などの検出■が同時に実
施される。第４図は第２図のプリズム機構１０の詳細説
明図である。
「作画データ」■より「データ再編集」■を行ない、「
パターン位置情報」■と「パターン角度情報」■に区分
し、「パターン位置情報」■により被検査試料４を載せ
たステージ５（第２図）につきＸＹ座標の移動を行なわ
せ前述の経路１，→１２→１３→１４をたどらせる。同
時に各段階に応じて経路に直交する「パターン角度情報
」■を走査系■たとえばプリズム機構１０に与えて光走
査出力■を発生し、これにより「パターン線幅測定」■
が行なわれ、さらに「パターン内および近傍のピンホー
ル、パターン欠け、線幅の変化などの検出■が同時に実
施される。第４図は第２図のプリズム機構１０の詳細説
明図である。
同図に示すように第２図の走査レンズ３を通した光走査
信号を梯形プリズム１１の１方の斜面に入射させ内面反
射後他の斜面より出射させ被検査試料４上を走査させる
。この場合、走査レンズ３の中心線に梯形プリズムの両
底面に平行な軸を一致させて回転可能とすれば、梯形プ
リズム１１の回転角の２倍の角度だけ走査線が傾くこと
になる。第５図は梯形プリズム１！における入射光の回
転を説明する図であって、紙面に平行な入射側走査線Ａ
に対し梯形プリズム１１を４５０回転した場合を例示し
、梯形プリズム底面における反射に基づいて、出射側走
査線はＢで示すように紙面に垂直となり、梯形プリズム
１１の回転角の２倍の角度だけ走査線が傾くことが示さ
れている。従ってこの梯形プリズム１１を設けた前記回
転軸回りのギァ１２を駆動ギア１３で駆動しうるように
すれば、この駆動により任意の線幅検出のための走査方
向が得られる。なお以上のパターン線幅検出において、
光ビームの走査方向が線形パターンエッジとなす角度を
パターンエッジにおける回折光を利用して検出する手段
につき本出願人により別提案が行なわれている。
信号を梯形プリズム１１の１方の斜面に入射させ内面反
射後他の斜面より出射させ被検査試料４上を走査させる
。この場合、走査レンズ３の中心線に梯形プリズムの両
底面に平行な軸を一致させて回転可能とすれば、梯形プ
リズム１１の回転角の２倍の角度だけ走査線が傾くこと
になる。第５図は梯形プリズム１！における入射光の回
転を説明する図であって、紙面に平行な入射側走査線Ａ
に対し梯形プリズム１１を４５０回転した場合を例示し
、梯形プリズム底面における反射に基づいて、出射側走
査線はＢで示すように紙面に垂直となり、梯形プリズム
１１の回転角の２倍の角度だけ走査線が傾くことが示さ
れている。従ってこの梯形プリズム１１を設けた前記回
転軸回りのギァ１２を駆動ギア１３で駆動しうるように
すれば、この駆動により任意の線幅検出のための走査方
向が得られる。なお以上のパターン線幅検出において、
光ビームの走査方向が線形パターンエッジとなす角度を
パターンエッジにおける回折光を利用して検出する手段
につき本出願人により別提案が行なわれている。
以上の実施例では被検査試料４からの透過光を検出する
ようにしたが、反射光を用いて検出するようにしてもよ
い。
ようにしたが、反射光を用いて検出するようにしてもよ
い。
以上説明したように、本発明によれば、被検査試料のパ
ターンに対しビームの走査方向を任意に変化しうる手段
たとえば前述の回転可能の抵形プリズムを利用すること
により、どんな方向の線形パターンに対してもこれに常
に直交させるようにタ光走査ビームを与えることができ
るから、従来のような大掛りの像回転機構が不要であり
簡単容易に目的を達成することができる。
ターンに対しビームの走査方向を任意に変化しうる手段
たとえば前述の回転可能の抵形プリズムを利用すること
により、どんな方向の線形パターンに対してもこれに常
に直交させるようにタ光走査ビームを与えることができ
るから、従来のような大掛りの像回転機構が不要であり
簡単容易に目的を達成することができる。
第１図は本発明の原理説明図、第２図は本発明０の実施
例の構成を示す説明図、第３図は本発明の動作のプロセ
ス説明図、第４図は第２図の実施例の要部の詳細説明図
、第５図は梯形プリズムにおける入射光の回転を説明す
る図であり、図中１はしーザ光源、２は偏向系、３は走
査レンズ、４は被検査試料、５はステージ、６は光検出
系、１０はプリズム機構、１１は梯形プリズム、１２，
Ｉ３はギアを示す。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図
例の構成を示す説明図、第３図は本発明の動作のプロセ
ス説明図、第４図は第２図の実施例の要部の詳細説明図
、第５図は梯形プリズムにおける入射光の回転を説明す
る図であり、図中１はしーザ光源、２は偏向系、３は走
査レンズ、４は被検査試料、５はステージ、６は光検出
系、１０はプリズム機構、１１は梯形プリズム、１２，
Ｉ３はギアを示す。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図
Claims (1)
- １ 被検査試料のパターン上を光ビームにより走査する
走査系と、該走査光ビームの中心軸に対してその底面を
平行に配置され一方の斜面から光を入射されて他方の斜
面から出射する梯形プリズムを具えて該梯形プリズムを
光ビームの中心軸の回りに回転することによって光ビー
ムの走査方向を任意に変化し得る走査方向変化手段と、
該走査方向変化手段から投射された光による被検査試料
からの光を検出する検知手段とを具え、前記走査方向変
化手段を前記光ビームの中心軸の回りに回転させること
によって光ビームの走査方向をパターンエツジに垂直な
方向としたときの前記検知手段における光の検知によっ
てパターンの線幅を検出するようにしたことを特徴とす
るパターン検査方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51093344A JPS60774B2 (ja) | 1976-08-04 | 1976-08-04 | パターン検査方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51093344A JPS60774B2 (ja) | 1976-08-04 | 1976-08-04 | パターン検査方式 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5318387A JPS5318387A (en) | 1978-02-20 |
| JPS60774B2 true JPS60774B2 (ja) | 1985-01-10 |
Family
ID=14079643
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51093344A Expired JPS60774B2 (ja) | 1976-08-04 | 1976-08-04 | パターン検査方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60774B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5842907A (ja) * | 1981-09-07 | 1983-03-12 | Toppan Printing Co Ltd | ストライプパタ−ンの欠陥検査方法 |
| DE3304780A1 (de) * | 1983-02-11 | 1984-08-30 | Rodenstock Optik G | Vorrichtung zur ermittlung einer oberflaechenstruktur, insbesondere der rauheit |
| JPS59226852A (ja) * | 1983-06-07 | 1984-12-20 | Matsushita Electric Works Ltd | 欠陥検出装置 |
| JPH0652753B2 (ja) * | 1985-05-13 | 1994-07-06 | キヤノン株式会社 | 基板搬出入装置 |
| JP2578916B2 (ja) * | 1988-06-28 | 1997-02-05 | 松下電器産業株式会社 | 印刷パターンの検査方法 |
| ITUB20155981A1 (it) * | 2015-11-27 | 2017-05-27 | Oms Automation S R L | Impianto per la produzione di pannelli in materiale plastico espanso. |
-
1976
- 1976-08-04 JP JP51093344A patent/JPS60774B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5318387A (en) | 1978-02-20 |
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