JPS5849298A - フォト自動製図機における自動合焦装置 - Google Patents
フォト自動製図機における自動合焦装置Info
- Publication number
- JPS5849298A JPS5849298A JP56147243A JP14724381A JPS5849298A JP S5849298 A JPS5849298 A JP S5849298A JP 56147243 A JP56147243 A JP 56147243A JP 14724381 A JP14724381 A JP 14724381A JP S5849298 A JPS5849298 A JP S5849298A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- light
- photo
- photosensitive material
- automatic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
- G03F9/7026—Focusing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
- G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Focusing (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、感光材料の上に面精度パターンを描画するフ
ォト自動製図機に係り、特にその自動合焦の方法および
装置に関する。
ォト自動製図機に係り、特にその自動合焦の方法および
装置に関する。
高楕1vtr元学像を感光材料表面に描画するには、感
光材料表面を結像レンズの焦カ深度内に常に保持する必
豐があるが、熱点深度け、光学作と描画精度の高精度化
の費請に応じて結像レンズの解イψ力を増加させるに伴
い浅(trる性鉛がある。
光材料表面を結像レンズの焦カ深度内に常に保持する必
豐があるが、熱点深度け、光学作と描画精度の高精度化
の費請に応じて結像レンズの解イψ力を増加させるに伴
い浅(trる性鉛がある。
このレンズ解像力と焦点深度の関係を簡単に説明する。
レンズの解像力を増すためVけ、その間日数(N、 A
、 )を大きくする必要?l−,i・る。
、 )を大きくする必要?l−,i・る。
収差が蕪?〃シうる理想1/ンズの解像力の理論的限界
値は、OT F (0ptical Transfer
Function )が零になる遮断9間周波数(ν
C)を目途とすると、使用光波長をλとして、 ν。=2(KA、)/λ なる関係にあることが知られている。よって解像力の増
大(ν。の増大)のためには、λが一定の場合、N、’
A、 を太としかけわけならない。
値は、OT F (0ptical Transfer
Function )が零になる遮断9間周波数(ν
C)を目途とすると、使用光波長をλとして、 ν。=2(KA、)/λ なる関係にあることが知られている。よって解像力の増
大(ν。の増大)のためには、λが一定の場合、N、’
A、 を太としかけわけならない。
一方焦点深度(Δ)はN、 A、 とλとに関してΔ
=λ/(2(N、 A、 )り なる関係VCあることが知られている。よってL A、
を太とするに伴ってΔけ小さくなる。すな°わち無
声深度は浅< frる。しかも解像力はN、 A、
の−次IQI数として比例的に増すのに対して、伸点探
度はN、 A、の二乗に反比例してより急激に浅(fr
る。こうしてt学像の高精度什、像エッチの鮮鋭化のた
めには焦点深度の浅くなることは避は得trい。
=λ/(2(N、 A、 )り なる関係VCあることが知られている。よってL A、
を太とするに伴ってΔけ小さくなる。すな°わち無
声深度は浅< frる。しかも解像力はN、 A、
の−次IQI数として比例的に増すのに対して、伸点探
度はN、 A、の二乗に反比例してより急激に浅(fr
る。こうしてt学像の高精度什、像エッチの鮮鋭化のた
めには焦点深度の浅くなることは避は得trい。
信実第1A図かいし第1C図に一例を示すフォト自動製
図機50け、フォトヘッド51に載せた描画光学系の光
軸と、感光材料を載せる描画テーブル52とを直交させ
、フォトヘッド51と描画テーブル52との間に、描画
テーブル52の平面内で相対的な二次元運動を行tKわ
せるもの′r″あって、図示例では描画テーブル52が
X軸方向に、フォトヘッド51がY軸方向にそわぞわ移
動する。
図機50け、フォトヘッド51に載せた描画光学系の光
軸と、感光材料を載せる描画テーブル52とを直交させ
、フォトヘッド51と描画テーブル52との間に、描画
テーブル52の平面内で相対的な二次元運動を行tKわ
せるもの′r″あって、図示例では描画テーブル52が
X軸方向に、フォトヘッド51がY軸方向にそわぞわ移
動する。
実際の描画に際しては数値制御装置からの指令によりフ
ォトヘッド51と描画テーブル52とが上F方向に移動
し、描画テーブル上の感光材料に自動描画する。
ォトヘッド51と描画テーブル52とが上F方向に移動
し、描画テーブル上の感光材料に自動描画する。
ところがこの従来のフォト自動製図機には、フォトヘッ
ド51の描画光学系の焦声深度内で常□時描画テーブル
52上の感光材料に描画するにつき、問題点が二つある
。第一は感光材料(辿常ガラス乾珈が用いら幻る)の表
面の平面度の問題″7′″あり、勇二は機械的な間鴎、
すたわも移動8%のローリングやピッチング、あるいは
描画テーブルの狂い壱梁の変形等による焦点深度方向の
誤差の発生″r″ある。このう¥卸−の間11jについ
ては従来種々の対策が講じられて来t・。古くは描画テ
ーブルに感光材料を真空吸着する手段がある。しかしこ
の手段では蕪点#度の浅化した」在、良好な描画は全く
期待手きない。さらに第2図に示すように描画テーブル
52上に感i、t153の支持ブロック54を設けて感
光材料530表面と描画テーブル52の表面とを平行に
保つことにより、感光材料表面を焦点深度内に保つこと
がfきるζする装置も知られている。しかしこの装置で
は感光材料の表裏面の平行度の狂いに対して対処できる
のみで、感光材料表面の反り等、表面の平面度の狂いに
対しては対処できず、特に大寸法の感光材料を用いる場
合にはこの傾向が顕著となる。また上r2二σ)機梓的
な問題については従来装置け全く解決手段を持f、 t
rいため、結局高精度パターンの描画につき低い限界が
あり、こわが常に大きな問題とtrつて来t′。
ド51の描画光学系の焦声深度内で常□時描画テーブル
52上の感光材料に描画するにつき、問題点が二つある
。第一は感光材料(辿常ガラス乾珈が用いら幻る)の表
面の平面度の問題″7′″あり、勇二は機械的な間鴎、
すたわも移動8%のローリングやピッチング、あるいは
描画テーブルの狂い壱梁の変形等による焦点深度方向の
誤差の発生″r″ある。このう¥卸−の間11jについ
ては従来種々の対策が講じられて来t・。古くは描画テ
ーブルに感光材料を真空吸着する手段がある。しかしこ
の手段では蕪点#度の浅化した」在、良好な描画は全く
期待手きない。さらに第2図に示すように描画テーブル
52上に感i、t153の支持ブロック54を設けて感
光材料530表面と描画テーブル52の表面とを平行に
保つことにより、感光材料表面を焦点深度内に保つこと
がfきるζする装置も知られている。しかしこの装置で
は感光材料の表裏面の平行度の狂いに対して対処できる
のみで、感光材料表面の反り等、表面の平面度の狂いに
対しては対処できず、特に大寸法の感光材料を用いる場
合にはこの傾向が顕著となる。また上r2二σ)機梓的
な問題については従来装置け全く解決手段を持f、 t
rいため、結局高精度パターンの描画につき低い限界が
あり、こわが常に大きな問題とtrつて来t′。
本発明け、このような従来装置の間顧声を解決するぺ<
fcされたもの弔、感光材料の表面をその保持IJi
造によって正t、 <平面にイ♀つという発炉から離れ
、原因を問わず感光材料の表面に生ずる凹凸に追従させ
て描画光学系の側を元−1方向Kg動させることにより
常時焦点深度内−の描画ができるようにし、もって感光
材料表面の平面度の問題およびフォト自動製図機自体の
持つ上ii″機械的問題の両者を同時に解決しt−もの
予ある。
fcされたもの弔、感光材料の表面をその保持IJi
造によって正t、 <平面にイ♀つという発炉から離れ
、原因を問わず感光材料の表面に生ずる凹凸に追従させ
て描画光学系の側を元−1方向Kg動させることにより
常時焦点深度内−の描画ができるようにし、もって感光
材料表面の平面度の問題およびフォト自動製図機自体の
持つ上ii″機械的問題の両者を同時に解決しt−もの
予ある。
すtrわち本発明に係る自tII合伸方法は、感光材料
の表面が描画光学系の焦点深度内にあるか否かをフォト
ヘッドと描画テーブルとの相対的な二次元運動中に常時
検出し、この検出信号に基き、描画光学系の焦点深度内
に感光材料の表面が位置するように、描画光学系の焦点
位置をその光軸方向に移動させることを特徴としている
。
の表面が描画光学系の焦点深度内にあるか否かをフォト
ヘッドと描画テーブルとの相対的な二次元運動中に常時
検出し、この検出信号に基き、描画光学系の焦点深度内
に感光材料の表面が位置するように、描画光学系の焦点
位置をその光軸方向に移動させることを特徴としている
。
また上nr1方法を実親するt−めの装置け、感薯才(
料に対する感度を持たない声点検出光を該感覚材([に
照射するt−め、描画光学系中に、描画のための光は透
過17、弁漬検■賞は反射するダイクロイックミラーを
剰めに設p−t−るとと本に。
料に対する感度を持たない声点検出光を該感覚材([に
照射するt−め、描画光学系中に、描画のための光は透
過17、弁漬検■賞は反射するダイクロイックミラーを
剰めに設p−t−るとと本に。
このダイクロイックミラーと描画を学系の結像レンズ系
を含み、感光材料表面における傍点検量光の反射光によ
り感光材料の表面が描画光学系の焦点深度内にあるか否
かを検量するQ、4検出ブロツクを設け、との無届検出
ブロックからの信号により描1由介学系のT111方向
への秒、動機構を作動させるようにしt−ことを特徴と
している。
を含み、感光材料表面における傍点検量光の反射光によ
り感光材料の表面が描画光学系の焦点深度内にあるか否
かを検量するQ、4検出ブロツクを設け、との無届検出
ブロックからの信号により描1由介学系のT111方向
への秒、動機構を作動させるようにしt−ことを特徴と
している。
P1下図示実施例について本発明を駿明する。
鴎3図は例女は第1図のフォト自動製図機50のフォト
ヘッド51内に設けられる、本発明装置の光学系の第一
の実施例を示す概念図″r−ある。−図において1は通
常アパチャと呼ばわるもの手、このアパチャ1の穴の像
が描画テーブル52の感光材料53士に結像される。こ
の結像作用を行t「うレンズ系、すtrわち描画光栄系
はこの実施例ではコリメートレンズ2と結像レンズ3に
よって構成さハて、いる。コリメートレンズ2けアパチ
ャ1の像を一度無限遠方に作り、コリメートレンズ2か
らWた光束を平行骨束とする。次にこの平行光束を結像
11ンズ3によって感光材料53上に結像するのである
。このような描画光学系によhばその焦点位置を変化さ
せるのに結像1/ンズ1のみを資一方向に動かせばよく
、17かも結像レンズ1を釉かしても結像倍率をf?l
させないで済む。さらに焦点検出ブロック30と感光材
料53との間で焦点検出光、の授受を行tr ウダイク
ロイツクミラ−31をコリメートレンズ2と結像レンズ
3間の如伺なる位置にも配置することができる。
ヘッド51内に設けられる、本発明装置の光学系の第一
の実施例を示す概念図″r−ある。−図において1は通
常アパチャと呼ばわるもの手、このアパチャ1の穴の像
が描画テーブル52の感光材料53士に結像される。こ
の結像作用を行t「うレンズ系、すtrわち描画光栄系
はこの実施例ではコリメートレンズ2と結像レンズ3に
よって構成さハて、いる。コリメートレンズ2けアパチ
ャ1の像を一度無限遠方に作り、コリメートレンズ2か
らWた光束を平行骨束とする。次にこの平行光束を結像
11ンズ3によって感光材料53上に結像するのである
。このような描画光学系によhばその焦点位置を変化さ
せるのに結像1/ンズ1のみを資一方向に動かせばよく
、17かも結像レンズ1を釉かしても結像倍率をf?l
させないで済む。さらに焦点検出ブロック30と感光材
料53との間で焦点検出光、の授受を行tr ウダイク
ロイツクミラ−31をコリメートレンズ2と結像レンズ
3間の如伺なる位置にも配置することができる。
焦点検出ブロック30を説明する前にアバ千ヤ1の照明
系について簡嫌に説明すると、光源にはハロゲンランプ
4を使用し、そのフィラメント像を菜−コンデンサレン
ズ5により絞りシャッタ6の位i#lr結像させる。絞
りシャッタ6は描画スピードの関数として光量を増減l
、感感光科料の露光睦を描画スピードに関して一定に保
ち、同時に光量のON 、 OIIも兼ねて行なう。
系について簡嫌に説明すると、光源にはハロゲンランプ
4を使用し、そのフィラメント像を菜−コンデンサレン
ズ5により絞りシャッタ6の位i#lr結像させる。絞
りシャッタ6は描画スピードの関数として光量を増減l
、感感光科料の露光睦を描画スピードに関して一定に保
ち、同時に光量のON 、 OIIも兼ねて行なう。
そしてf量の増減は露光調整用受骨素子7によって検出
さね、その検出信号が絞りシャッタ6に戻されるクロー
ズトループが作;成される(絞りシャッタ6ないし該シ
ャッタを含む光学系の詳細は例えば水出#!0人による
特開昭50−72721号公報、同55−71592冊
公報参照)。土P第一コンデンサレンズ5の射出瞳の像
けり1ノーコンデンサレンズ8、ハーフミラ−9および
シニコンデンサレンズ10を介してアパチャ1上に結像
さね、アパチャ1が一様に照射される。第二コンデンサ
レンズ10は絞りシャッタ6の位置に結像さ引た光源(
ハロゲンランプ)4のフィラメント像をコリメートレン
ズ2の瞳上に結像させ、アパチャ1を照明した光束をす
べて該コリメートレンズ2に取り込ませる。上?ハーフ
ミラ−9は高反射率低透過率のミラーで、介榴の大部分
を反射して光束を直角に曲げ、小量の透過前を土ii’
霧元調整用受光素子7に受光させる。frおごの照明系
中、符号11けアパチャ1とm−ホルダK II込まt
l t、−N D (IJeutrel Densit
y ) フィルタで、アパチャ1の穴径の大小JIr応
じ七かに適合した種々の透過率のフィルタがアパチャホ
ルダに取り付けられ、感光材料への露光景を一定にする
。また12は一部波4ij!鰭の赤外光を反射し、残部
の赤外光を吸収するフィルタで、ハロゲンランプ4から
の赤外光が感光材料53に到達しtrいようにして合焦
横比ブロック30からの赤外合焦検出′yt、VC対し
ノイズを月えないよ5Vrする。同様に1:(、14は
感光材料に有害な波長の光を吸収する波長選択フィルタ
とNDフィルタである。
さね、その検出信号が絞りシャッタ6に戻されるクロー
ズトループが作;成される(絞りシャッタ6ないし該シ
ャッタを含む光学系の詳細は例えば水出#!0人による
特開昭50−72721号公報、同55−71592冊
公報参照)。土P第一コンデンサレンズ5の射出瞳の像
けり1ノーコンデンサレンズ8、ハーフミラ−9および
シニコンデンサレンズ10を介してアパチャ1上に結像
さね、アパチャ1が一様に照射される。第二コンデンサ
レンズ10は絞りシャッタ6の位置に結像さ引た光源(
ハロゲンランプ)4のフィラメント像をコリメートレン
ズ2の瞳上に結像させ、アパチャ1を照明した光束をす
べて該コリメートレンズ2に取り込ませる。上?ハーフ
ミラ−9は高反射率低透過率のミラーで、介榴の大部分
を反射して光束を直角に曲げ、小量の透過前を土ii’
霧元調整用受光素子7に受光させる。frおごの照明系
中、符号11けアパチャ1とm−ホルダK II込まt
l t、−N D (IJeutrel Densit
y ) フィルタで、アパチャ1の穴径の大小JIr応
じ七かに適合した種々の透過率のフィルタがアパチャホ
ルダに取り付けられ、感光材料への露光景を一定にする
。また12は一部波4ij!鰭の赤外光を反射し、残部
の赤外光を吸収するフィルタで、ハロゲンランプ4から
の赤外光が感光材料53に到達しtrいようにして合焦
横比ブロック30からの赤外合焦検出′yt、VC対し
ノイズを月えないよ5Vrする。同様に1:(、14は
感光材料に有害な波長の光を吸収する波長選択フィルタ
とNDフィルタである。
しかして上目eダイクロイックミラー31は、ハロゲン
ランプ4Vcよる描画のための元糾は透過17、合焦検
出光(木実施例では赤外光)をその裏面で反射する平行
平面ガラスからなるもので、描画光学系の一十記コリメ
ート1ノンズ2と#M!レンズ3間O)平行光束中に斜
設されている。仲声検Wブロック30内にけ合伸検出介
の発覚素子として赤外冷光のダイオード(LED)32
が配設されている。ζわけフォト自lth製図機で辿常
使用する感覚材料が赤外域に感度を持たないためである
。LED32から川た伊点検声光をコンデンサ1/ンズ
33にて狽光し、斜設ハーフミラ−34によりコリメー
トレンズ35ニ導いて平行光束とする。ここでコンデン
サレンズ33の中にナイフエッヂ36を設けて光束を半
分ないし半分pJ上遮断し、上記平行光束を半円光束と
しておく。こうして作られた半円光束(入射光)はダイ
クロイックミラー31により直角に反射して結像i/ン
ズ3に橢かれ、感光材料530表面に達して反射す鬼。
ランプ4Vcよる描画のための元糾は透過17、合焦検
出光(木実施例では赤外光)をその裏面で反射する平行
平面ガラスからなるもので、描画光学系の一十記コリメ
ート1ノンズ2と#M!レンズ3間O)平行光束中に斜
設されている。仲声検Wブロック30内にけ合伸検出介
の発覚素子として赤外冷光のダイオード(LED)32
が配設されている。ζわけフォト自lth製図機で辿常
使用する感覚材料が赤外域に感度を持たないためである
。LED32から川た伊点検声光をコンデンサ1/ンズ
33にて狽光し、斜設ハーフミラ−34によりコリメー
トレンズ35ニ導いて平行光束とする。ここでコンデン
サレンズ33の中にナイフエッヂ36を設けて光束を半
分ないし半分pJ上遮断し、上記平行光束を半円光束と
しておく。こうして作られた半円光束(入射光)はダイ
クロイックミラー31により直角に反射して結像i/ン
ズ3に橢かれ、感光材料530表面に達して反射す鬼。
いま感光材料の表面が正し、く描画光学系の焦点位ti
tにあるとすると、感jt劇料53の表面で反射した焦
点検出骨は結像レンズ3を通って再び平行光束に戻る。
tにあるとすると、感jt劇料53の表面で反射した焦
点検出骨は結像レンズ3を通って再び平行光束に戻る。
ごの反射光束は入射前σ)半円光束の残り半分を満たす
ような半円光束とかつており、再びダイクロイックミラ
ー31で反射した後、コリメートレンズ35を通りハー
フミラ−34を通り抜け、さらに赤外光を透過し可ネR
ftを吸収する可視光吸収フィルタ37を通過して。
ような半円光束とかつており、再びダイクロイックミラ
ー31で反射した後、コリメートレンズ35を通りハー
フミラ−34を通り抜け、さらに赤外光を透過し可ネR
ftを吸収する可視光吸収フィルタ37を通過して。
コリメートレンズ35の焦点位置に設けた、中央で上下
に分@11された一対の受光素子38U 、 38Lに
入力さtする。コリメートレンズ35の焦点位置け、感
骨相料・の完全合作位置の共役像面となりている。
に分@11された一対の受光素子38U 、 38Lに
入力さtする。コリメートレンズ35の焦点位置け、感
骨相料・の完全合作位置の共役像面となりている。
とごろで上lr’一対の受賞素子38tT 、 38L
K入力さtする、無点検■光の反射光は、感覚材料5
3の表面が正しく描画貴学糸の声点装置に、I−れば相
等しい(零を含む)。1@I言すわば上1i’!条件が
満たされている場合には一対の受光素子38U・38L
の受光量に差が生じないように両受光素子の位置を設定
するのである。
K入力さtする、無点検■光の反射光は、感覚材料5
3の表面が正しく描画貴学糸の声点装置に、I−れば相
等しい(零を含む)。1@I言すわば上1i’!条件が
満たされている場合には一対の受光素子38U・38L
の受光量に差が生じないように両受光素子の位置を設定
するのである。
ところが上紀構放の焦点検出光学系において。
第4(ロ)のように感覚材料53と結像レンズ3の関係
が、感光材料表面1が合焦位置より1/ンズ1lllに
近よった、いわゆる前ピン状態にある場合・を考えると
、焦点検出弁の感光材料53からの反射光は一対の受光
素子38tT 、 38I、 K均等Vrは照射されず
、下方の受光素子381 K偏よる。
が、感光材料表面1が合焦位置より1/ンズ1lllに
近よった、いわゆる前ピン状態にある場合・を考えると
、焦点検出弁の感光材料53からの反射光は一対の受光
素子38tT 、 38I、 K均等Vrは照射されず
、下方の受光素子381 K偏よる。
同様に第5図に示す感覚材料表面が合焦位置よりレンズ
から離れた後ビン状態では感光材料53からの反射骨は
上方の受骨素子3BUVr位よって照射される〇 したがって一対の9骨素−’438U 、 3RT、の
出力差淀許容11i5囲内にあ・るようド、結像レンズ
3の介−1方回移動磯棒15を制御1すれば、描画光学
系の熱点深度内に常時感覚材料53の表面を位置させる
ことができることとなる。士言P光軸方向鴬動梼構15
は正逆転モータ16、ごのモータの出力Sに設けたビニ
オン17、およびごのビニオン17と噛み合う外歯車1
8aを有し、内側に結像レンズ3の鏡筒】9を螺合させ
た定位諸回転リング18からtI−リ、正逆転モータ1
6を正転または逆転さ→するとガイド加に沿って結像レ
ンズ3が賞軸方向に移動する。
から離れた後ビン状態では感光材料53からの反射骨は
上方の受骨素子3BUVr位よって照射される〇 したがって一対の9骨素−’438U 、 3RT、の
出力差淀許容11i5囲内にあ・るようド、結像レンズ
3の介−1方回移動磯棒15を制御1すれば、描画光学
系の熱点深度内に常時感覚材料53の表面を位置させる
ことができることとなる。士言P光軸方向鴬動梼構15
は正逆転モータ16、ごのモータの出力Sに設けたビニ
オン17、およびごのビニオン17と噛み合う外歯車1
8aを有し、内側に結像レンズ3の鏡筒】9を螺合させ
た定位諸回転リング18からtI−リ、正逆転モータ1
6を正転または逆転さ→するとガイド加に沿って結像レ
ンズ3が賞軸方向に移動する。
次に第6r!;IIJCツイ??fi子38T’F 、
38I、ノ9光舊の差に基いて正逆転モータ16を駆
動するπ・炉制御系の例を説明する。同図における打上
32(丁?3図N’rいし第5図のLED32を示すも
ので、該LED32け発振器61、クロックセレクタ6
2およびドライバ63を介してX8周波数で発光する。
38I、ノ9光舊の差に基いて正逆転モータ16を駆
動するπ・炉制御系の例を説明する。同図における打上
32(丁?3図N’rいし第5図のLED32を示すも
ので、該LED32け発振器61、クロックセレクタ6
2およびドライバ63を介してX8周波数で発光する。
この介は上述の焦点検量光学系を介1.て一度感費材料
53の表面に到達し、その反射光が再びローの光学系を
辿ってハーフミラ−34を辿過した後一対の受光素子3
8tT 、 38L Vr受光される。両受前素子38
U 、 38LのWカは、それぞれ直流、交流の増幅器
64U 、 64L 、 65U 、 65L Kて別
々に増幅し、オートゲインコントロール66U、66L
でゲイン計1節の後、バンドパスフィルタ67U。
53の表面に到達し、その反射光が再びローの光学系を
辿ってハーフミラ−34を辿過した後一対の受光素子3
8tT 、 38L Vr受光される。両受前素子38
U 、 38LのWカは、それぞれ直流、交流の増幅器
64U 、 64L 、 65U 、 65L Kて別
々に増幅し、オートゲインコントロール66U、66L
でゲイン計1節の後、バンドパスフィルタ67U。
67L Kより一定の周波数竣の波長のみを通してサン
プルアンドホールドする。ここでの串カを受光素子38
U 、 38Lk対応させてvU、v、Lとする。次い
でこの二つの1気信号を一方では減算機68Kかけて
A=α(VU−VL)(α:増幅器69による増幅率)
なる@明信号をイb、#!方では加算器70により B
=vU十vL tCる%明信号を得る。この二つの電気
信号AとBを次K !’II算榊71にかげてA/Bと
し、これを増幅器72により増幅すると、その信号波形
は第7図に示すようしくなる。+ f、rわち横−にピ
ント移動量をとり、縦軸に直流増幅器72の出力(を圧
1/ベル)をとると、上記信号A/Bは典型的なS字曲
紳を描イ。
プルアンドホールドする。ここでの串カを受光素子38
U 、 38Lk対応させてvU、v、Lとする。次い
でこの二つの1気信号を一方では減算機68Kかけて
A=α(VU−VL)(α:増幅器69による増幅率)
なる@明信号をイb、#!方では加算器70により B
=vU十vL tCる%明信号を得る。この二つの電気
信号AとBを次K !’II算榊71にかげてA/Bと
し、これを増幅器72により増幅すると、その信号波形
は第7図に示すようしくなる。+ f、rわち横−にピ
ント移動量をとり、縦軸に直流増幅器72の出力(を圧
1/ベル)をとると、上記信号A/Bは典型的なS字曲
紳を描イ。
したがって直流増幅器72の出力をある設定された電圧
レベルと比較するごとによりピント、つまり感光材料5
2の表面が描画光学名の描虚深度内にあるか否かが分り
、また焦点深度内にない場合I/rは前ビン側か後ビン
側かが判別可能なため自動合焦が可能となる。
レベルと比較するごとによりピント、つまり感光材料5
2の表面が描画光学名の描虚深度内にあるか否かが分り
、また焦点深度内にない場合I/rは前ビン側か後ビン
側かが判別可能なため自動合焦が可能となる。
いま第7r!Aにおいて焦点深度を長さdで表わし、こ
れに対応する電圧レベル範囲をtlとすると、如何なる
場合にも焦点深[d内にピントがあるようにするには、
焦点深度dよりも狭い範囲に対応する常圧レベルをデッ
ドゾーンt2として設定す金とよい。デッドゾーン12
とけその中にピントが入っているときには目ph合仲動
作を行なわす、その中からピントが外わたと芦に自動合
伸動作を開始させるもので、一旦合焦動作が開始される
と、第6図のブロック図に基き常圧レベルが完全合炸状
態に対応する電圧になる迄動作して停止する。
れに対応する電圧レベル範囲をtlとすると、如何なる
場合にも焦点深[d内にピントがあるようにするには、
焦点深度dよりも狭い範囲に対応する常圧レベルをデッ
ドゾーンt2として設定す金とよい。デッドゾーン12
とけその中にピントが入っているときには目ph合仲動
作を行なわす、その中からピントが外わたと芦に自動合
伸動作を開始させるもので、一旦合焦動作が開始される
と、第6図のブロック図に基き常圧レベルが完全合炸状
態に対応する電圧になる迄動作して停止する。
こノテツドゾーンt2の上限常圧Hvと下限重圧Lvと
をそれぞれ第6図のしきい値71 、73Lとし、とわ
を比較器741(、74Lで増幅器72のWカミ圧と比
較すれば、ピントがテッドゾーンt2内にあるか否か、
およびt「い場合は前ピンか後ビンかがアンド回路75
H,75Lおよび75M Kよって検出される。すt「
わち前ピンであわば増幅器72の出力電圧V)Hvとt
rるためアンド回路75Hff出力が生じ、フリップフ
ロップ76H,ドライバ77H,モータ制御回路78.
およびパワー増幅器79を介して正逆転モータ16が例
えば正転して結像レンズ3を上昇させる。この際出力電
圧Vが V == Hv となったとぎルJ降も継続
して合焦動作を行なわせ、■= 、By + Lvとな
る完全合焦状絆で合芦動作を停止させるため、デ・ンド
ゾーン袖正用カウ/り80にけ、 めメモリしておく。そうすると V := Hvとなっ
た+114間からメモリしたパルス数分だけは同一方n
orIf:イ象レンズ3が移動し、完全合焦状態で停止
するのでたる。また後ピンであればV < Lvとt「
るためアンド回路75Lに出力が生じ、同様Ifフリッ
プフロップ76L、ドライバ77T、 ’& 介して正
逆転モー416が逆転して結像レンズ3を下片させる。
をそれぞれ第6図のしきい値71 、73Lとし、とわ
を比較器741(、74Lで増幅器72のWカミ圧と比
較すれば、ピントがテッドゾーンt2内にあるか否か、
およびt「い場合は前ピンか後ビンかがアンド回路75
H,75Lおよび75M Kよって検出される。すt「
わち前ピンであわば増幅器72の出力電圧V)Hvとt
rるためアンド回路75Hff出力が生じ、フリップフ
ロップ76H,ドライバ77H,モータ制御回路78.
およびパワー増幅器79を介して正逆転モータ16が例
えば正転して結像レンズ3を上昇させる。この際出力電
圧Vが V == Hv となったとぎルJ降も継続
して合焦動作を行なわせ、■= 、By + Lvとな
る完全合焦状絆で合芦動作を停止させるため、デ・ンド
ゾーン袖正用カウ/り80にけ、 めメモリしておく。そうすると V := Hvとなっ
た+114間からメモリしたパルス数分だけは同一方n
orIf:イ象レンズ3が移動し、完全合焦状態で停止
するのでたる。また後ピンであればV < Lvとt「
るためアンド回路75Lに出力が生じ、同様Ifフリッ
プフロップ76L、ドライバ77T、 ’& 介して正
逆転モー416が逆転して結像レンズ3を下片させる。
結像レンズ3が完全合焦状態にtrる迄移動するのは上
P前ピンの場合と同様である。
P前ピンの場合と同様である。
アンド回路75Mに出力が生じるときはデッドゾーンt
2内にピントがあるときであり、したがってモータ16
番1作動しtぐい。デッドゾーン12の幅はしきい値H
v 、 Lvを変更し、そのし六い値にW5じてデッド
ゾーン補正用カウンタ80のメモリパルス数を変えるこ
とKより、外部からコントロールできる。
2内にピントがあるときであり、したがってモータ16
番1作動しtぐい。デッドゾーン12の幅はしきい値H
v 、 Lvを変更し、そのし六い値にW5じてデッド
ゾーン補正用カウンタ80のメモリパルス数を変えるこ
とKより、外部からコントロールできる。
蛍光素子38U 、 38L上でのピント外わに伴なう
膏束の拡がりδ(ν8図参8)とは、 ΔX II/ F1−rn なる関係にある。悔は結像レンズ3と焦点検出用コリノ
ーt−レンズ3]Cより構成される共役前学系の倍率で
、結像レンズ3の像点距離f1とコリメー) 1/ンズ
35の焦点距MfCの比:m=fc/fi で表わさ
れる。FはII!iIkンズ3のFナンバで、P像系に
要求される限界yt像力と焦点距離との兼ね合いで決定
されろ。ごのFrより前述の様に焦Am度が決定される
ので、上式からδを最大にする悔の値、を求めれば都も
効率の良い光学系を実親できる。上式中の愕に依存する
Ik ” y /(1−)のグラフを幹9図1に示
す。−図から惰=+1のときと士〜のとき坩も効率の良
いことが判る。ところが結像関係4け実像でなけれはな
らないため、鴨〈0でかけtIはならない。よって情9
−〜のとき最大の効果が上がるが、親実には実像の結像
関係(m<0)で、倍率1mlが高い程良い。上V実施
例でけ甥=−10としている。
膏束の拡がりδ(ν8図参8)とは、 ΔX II/ F1−rn なる関係にある。悔は結像レンズ3と焦点検出用コリノ
ーt−レンズ3]Cより構成される共役前学系の倍率で
、結像レンズ3の像点距離f1とコリメー) 1/ンズ
35の焦点距MfCの比:m=fc/fi で表わさ
れる。FはII!iIkンズ3のFナンバで、P像系に
要求される限界yt像力と焦点距離との兼ね合いで決定
されろ。ごのFrより前述の様に焦Am度が決定される
ので、上式からδを最大にする悔の値、を求めれば都も
効率の良い光学系を実親できる。上式中の愕に依存する
Ik ” y /(1−)のグラフを幹9図1に示
す。−図から惰=+1のときと士〜のとき坩も効率の良
いことが判る。ところが結像関係4け実像でなけれはな
らないため、鴨〈0でかけtIはならない。よって情9
−〜のとき最大の効果が上がるが、親実には実像の結像
関係(m<0)で、倍率1mlが高い程良い。上V実施
例でけ甥=−10としている。
また以上の糾明から明らかI「ように、結像レンズ3は
描画光学系と伸膚検出肯学系に共通に用いられるもので
あるが、焦漬検W介学系は結像レンズのFナンバが小さ
い程感朗がfK < trるのに対17、描画光学系で
は結fζ」/ンズをその開放Fナンバで使用すると解像
力に悪影輪を一75走る。このため伊点検出費学系では
結像レンズを開放状態で利用し、描画光学系でけコリメ
ートレンズ2とダイクロイックミラー31とのlk’l
r ti&りを挿入して若干絞った状態で第11甲す
るのが実際的である。
描画光学系と伸膚検出肯学系に共通に用いられるもので
あるが、焦漬検W介学系は結像レンズのFナンバが小さ
い程感朗がfK < trるのに対17、描画光学系で
は結fζ」/ンズをその開放Fナンバで使用すると解像
力に悪影輪を一75走る。このため伊点検出費学系では
結像レンズを開放状態で利用し、描画光学系でけコリメ
ートレンズ2とダイクロイックミラー31とのlk’l
r ti&りを挿入して若干絞った状態で第11甲す
るのが実際的である。
次に卯3図に示1.た光学系を実際にフォト目i#l製
図機のフォトヘッド51に塔載した状態を第10図、第
11図に示す。ハロゲンランプ4、赤夕1fN射吸収フ
ィルタ12、身オーコンデンサレンズ5、Mlシャツ4
6、リレーコンデンサレンズ8、波長選択フィルタ13
′は#1!壷113図の概念図がその辿り実埃されてい
る。ハーフミラ−9は第3図では照明光束を垂面下方に
曲はでいるが、この実装図では介束を左右に選択的に切
り欅えるため支点ピン9aを中心に拙動可訃と11りて
いる。第1O図ではハーフミラ−9vより肯束を一旦図
の左方に曲け、別のミラー21(第11図)により下方
に反射している。P、前調整用受光素子7けハーフミラ
−9の背後に位置して一部の透消光をやける。
図機のフォトヘッド51に塔載した状態を第10図、第
11図に示す。ハロゲンランプ4、赤夕1fN射吸収フ
ィルタ12、身オーコンデンサレンズ5、Mlシャツ4
6、リレーコンデンサレンズ8、波長選択フィルタ13
′は#1!壷113図の概念図がその辿り実埃されてい
る。ハーフミラ−9は第3図では照明光束を垂面下方に
曲はでいるが、この実装図では介束を左右に選択的に切
り欅えるため支点ピン9aを中心に拙動可訃と11りて
いる。第1O図ではハーフミラ−9vより肯束を一旦図
の左方に曲け、別のミラー21(第11図)により下方
に反射している。P、前調整用受光素子7けハーフミラ
−9の背後に位置して一部の透消光をやける。
ミラー21Vrより下方に曲けられた照明光け、NI)
フィルタ14、即二コンデンサレンズ】0%)JDフィ
ルタ11を経てアバ千ヤIV至る。アバチャ1を照明し
た膏東はきらに第3図の析念図fは存在しない二鈑のミ
ラー22 、23で反射すわてコリメートレンズ2へ導
かれ、ダイクロイックミラー31、結像レンズ3を辿っ
て描画テーブル52上の感光材@53に到達する。結像
レンズ3は正逆転モータ16を含むfllt1方向移糎
・楡格15により上下動する。
フィルタ14、即二コンデンサレンズ】0%)JDフィ
ルタ11を経てアバ千ヤIV至る。アバチャ1を照明し
た膏東はきらに第3図の析念図fは存在しない二鈑のミ
ラー22 、23で反射すわてコリメートレンズ2へ導
かれ、ダイクロイックミラー31、結像レンズ3を辿っ
て描画テーブル52上の感光材@53に到達する。結像
レンズ3は正逆転モータ16を含むfllt1方向移糎
・楡格15により上下動する。
年別検出ブnツク30VrツイてG’i、LKD32゜
コンデンサレンズ33、−Mフェッチ36、ハーフミラ
−34,コリメート1/ンズ35、赤外透過可視光吸収
フィル4137および一対の受賞素子38U。
コンデンサレンズ33、−Mフェッチ36、ハーフミラ
−34,コリメート1/ンズ35、赤外透過可視光吸収
フィル4137および一対の受賞素子38U。
38Lが第3図と同一に配置実用されでいる。
鰐後Kiv、12図は木を明の他のψ誇伺lを示寸光学
系σ)N企図である。この実施例は描画光学系を単一の
結像レンズ系24で実J# した点が第3図1の第一の
実施例との最大の相違点″′7′−ある。この宙施例で
は描画−Jt−学系に第3図の実施例におけるが如き平
行光束部が存在しtrいため、結像1/ンズ系24をア
パチャ1、焦点検出ブロック30トともに一つの枠体2
5IF塔載し、この枠体25を光軸方向移動機構15に
よりカイト頷に治って結像レンズ系24の光軸方向Vr
鯰動させるようにしている。ダイクロイックミラーは、
結像に対する悪影暢を除くためハーフプリズム26で実
親しており、したがって焦点検出ブロック30内のコリ
メート1メンズ35 (It 3図)は不要とt「る。
系σ)N企図である。この実施例は描画光学系を単一の
結像レンズ系24で実J# した点が第3図1の第一の
実施例との最大の相違点″′7′−ある。この宙施例で
は描画−Jt−学系に第3図の実施例におけるが如き平
行光束部が存在しtrいため、結像1/ンズ系24をア
パチャ1、焦点検出ブロック30トともに一つの枠体2
5IF塔載し、この枠体25を光軸方向移動機構15に
よりカイト頷に治って結像レンズ系24の光軸方向Vr
鯰動させるようにしている。ダイクロイックミラーは、
結像に対する悪影暢を除くためハーフプリズム26で実
親しており、したがって焦点検出ブロック30内のコリ
メート1メンズ35 (It 3図)は不要とt「る。
また27はハーフミラ−34に伏えて設けたプリズムで
ある。なお上面1元軸方向移動機捨】5は、正逆転モー
タ16のビニオン17によって定位置で回転駆動される
ねじ#h28を枠体25の支持ブロック29ニ螺合させ
て椙Wさねている。この他の構成部分は第3図の′4<
施例と巨1−であり、同一部5+にに同一の符号を付し
て説明を省略する。この実施例においても第3図の零施
例と回−の機能、効果が得られることけ明らかである5
゜ 以上豊するf木登明け、7fト目IJ+ ?”ド1轡の
描画f学系の焦点深度内に脇骨材料表面を正確に位置さ
せるfつき、P介相料の(Ii++の平面性を積極的に
高めるのではtr <、感光材料の表面と拓画f栄系と
の間に牛する相対的な凹凸に追゛随させて描画光学系の
イ61・をf!It1方向に移動させろものであるから
、感光材料の平面性の問題および描画光栄系描画テーブ
ル間の二次元運!Ihによって生ずる機械的な誤差の問
題な同時に解決して高粘度な描画パターンを得ることが
できる。
ある。なお上面1元軸方向移動機捨】5は、正逆転モー
タ16のビニオン17によって定位置で回転駆動される
ねじ#h28を枠体25の支持ブロック29ニ螺合させ
て椙Wさねている。この他の構成部分は第3図の′4<
施例と巨1−であり、同一部5+にに同一の符号を付し
て説明を省略する。この実施例においても第3図の零施
例と回−の機能、効果が得られることけ明らかである5
゜ 以上豊するf木登明け、7fト目IJ+ ?”ド1轡の
描画f学系の焦点深度内に脇骨材料表面を正確に位置さ
せるfつき、P介相料の(Ii++の平面性を積極的に
高めるのではtr <、感光材料の表面と拓画f栄系と
の間に牛する相対的な凹凸に追゛随させて描画光学系の
イ61・をf!It1方向に移動させろものであるから
、感光材料の平面性の問題および描画光栄系描画テーブ
ル間の二次元運!Ihによって生ずる機械的な誤差の問
題な同時に解決して高粘度な描画パターンを得ることが
できる。
特に描1iIi1元学系の解像力を高めるために必要な
N、 A、 の増大と、N、 A、 の二乗に反比
例する焦点#、度との問題、および平面性が損われやす
い大判の感光材料の持つ欠点をよく解決して、時4(j
の要請に応★る高粘度、高解像力のフォト自@IF!図
1機を提供できるものである。
N、 A、 の増大と、N、 A、 の二乗に反比
例する焦点#、度との問題、および平面性が損われやす
い大判の感光材料の持つ欠点をよく解決して、時4(j
の要請に応★る高粘度、高解像力のフォト自@IF!図
1機を提供できるものである。
νIA図はフォト自動年!二図轡の一例を示すヰ蓋rt
a、卯、1B図は同右佃・面図、艶ICトロま同正面図
、 緬2図は従来のフォト自動製図機における感光材料の保
持装置の一例を示す断面図、第3図は本発明に係るフォ
ト自動製図機の実施例を示す弁球系の概念図、 第4図、な、5図はそれぞれ第3図の光栄系にゴ・°げ
ろ前ビン状態、後ビン状態を示す光栄系の概念図、 即6タ1は描画光学系の光軸方向移動機構をピント状態
に応じて作動させる電傾制剣系の実施例を示す、論理回
路を含むブロック図、第7図は焦点検出男光束を一対の
受賞素子で受け、その圧力を演算処理してピント移動量
と電圧1ノベルとQ)関係とした相関グラフ、第8図は
焦点検出ブロックの一対の受賞素子が置かれた位置での
焦声検出甲介束の横方向の拡がり奔δを示す説明図、 竺9図は描画光学系の倍本情を変pとする − 7−/(]−、+1)の″パ 飢10図は旭3図の光栄系を耕込んだフォトヘッドの実
施例を示す平面図、 類11図は同正面図、 印12図は本発明の他の実施例を示す光栄系の概念図で
ある。 1・・・アパチャ、2・・・コリメートレンズ、3・・
・結像レンズ、15・・・ff−軸方向鷺動機桝、16
・・・正逆転エータ、24・・・蛍−結像レンズ系、3
0・・・側御検出ブロック、31.26・・・ダイクロ
イックミラー、32−・・赤外発光L1eD、38U、
38L ・ef素子、50・・・フォト自動製図機、5
1・・・フォトヘッド、52・・・描画・〒−ブ′1し
、苧3・−・1へ1e^+7−寄ヰ。 特許出島人 旭光学工業株式会社 同代理人 三 浦 邦 夫 第2図 第3図 第9図 手 続 補 正 書 (自発) 昭禾056年10月27日 特許庁長官 島 1)春 樹 殿 1、事件の表示 昭和56年特許願第147243号
2発明の名称 フォト自動製図機における自動合焦方
法およびその装置 3補正をする者 事件との関係 特許出願人 (052)旭光学工業株式会社 先代 理 人 東京都千代田区二番町1番地 5、停止の対象 明Ml書の発明の詳細な説明の柿果
的に悪影響」と補正する。
a、卯、1B図は同右佃・面図、艶ICトロま同正面図
、 緬2図は従来のフォト自動製図機における感光材料の保
持装置の一例を示す断面図、第3図は本発明に係るフォ
ト自動製図機の実施例を示す弁球系の概念図、 第4図、な、5図はそれぞれ第3図の光栄系にゴ・°げ
ろ前ビン状態、後ビン状態を示す光栄系の概念図、 即6タ1は描画光学系の光軸方向移動機構をピント状態
に応じて作動させる電傾制剣系の実施例を示す、論理回
路を含むブロック図、第7図は焦点検出男光束を一対の
受賞素子で受け、その圧力を演算処理してピント移動量
と電圧1ノベルとQ)関係とした相関グラフ、第8図は
焦点検出ブロックの一対の受賞素子が置かれた位置での
焦声検出甲介束の横方向の拡がり奔δを示す説明図、 竺9図は描画光学系の倍本情を変pとする − 7−/(]−、+1)の″パ 飢10図は旭3図の光栄系を耕込んだフォトヘッドの実
施例を示す平面図、 類11図は同正面図、 印12図は本発明の他の実施例を示す光栄系の概念図で
ある。 1・・・アパチャ、2・・・コリメートレンズ、3・・
・結像レンズ、15・・・ff−軸方向鷺動機桝、16
・・・正逆転エータ、24・・・蛍−結像レンズ系、3
0・・・側御検出ブロック、31.26・・・ダイクロ
イックミラー、32−・・赤外発光L1eD、38U、
38L ・ef素子、50・・・フォト自動製図機、5
1・・・フォトヘッド、52・・・描画・〒−ブ′1し
、苧3・−・1へ1e^+7−寄ヰ。 特許出島人 旭光学工業株式会社 同代理人 三 浦 邦 夫 第2図 第3図 第9図 手 続 補 正 書 (自発) 昭禾056年10月27日 特許庁長官 島 1)春 樹 殿 1、事件の表示 昭和56年特許願第147243号
2発明の名称 フォト自動製図機における自動合焦方
法およびその装置 3補正をする者 事件との関係 特許出願人 (052)旭光学工業株式会社 先代 理 人 東京都千代田区二番町1番地 5、停止の対象 明Ml書の発明の詳細な説明の柿果
的に悪影響」と補正する。
Claims (7)
- (1) 描画光学系と、感光林料を保持する描画テー
ブルとの間に、上Ni″描画チー、プル平面シ(沿う相
対的な二次元運動を耳受ながら、上Hr2描画光学系に
より上目P感光材料上に断裂の図形を描くフォト自動製
図機において、上iピ感光材料の表面が上記描画光学系
の焦点深度内にあるか否かを上官e二次元運動中に常時
検出し、その検出信号に基き、描画光学系の焦点深度内
に感光材料の表面が位置するように描画光学系の焦点位
置をその光軸方向に移動させることを特徴とするフォト
自動製図機における自動合焦方法。 - (2) 描画光学系を支持したフォトヘッド二上記描
画元学系の光軸と直交する。感光材料を保持する描画テ
ーブル;および上記フォトヘッドと描画テーブルとの間
に上記描画テーブル平面に沿う相対的な二次元運動を与
える二次元運動機構とを備えたフォト自動製図機におい
て、さらに上記描画光学系の光軸方向への移動機構;上
配描画元学系中に斜めに設置さ幻た。描画のための光は
透過し、±rgft、材料W対する感度を持たない無点
検出費は反射するダイクロイックミラー;シ゛よび焦点
検串元をこのダイクロイックミラーおよび描画光学系中
の結像レンズ系を介して上F感光材料に照射し、その反
射光により感光材料の表面が描画光学系の焦点深度内に
あるか否かを検出する焦点検出ブロックを(#身、この
焦点検出ブロックは上配描画元学系の光軸方向への移動
機構に対し、該描画光学系の焦点深度内に感光材料表面
を位置させるべく駆動信号を与身ることを特徴とするフ
ォト自動製図機における自動合焦装置。 - (3) 特許請求の範囲第2項において、焦点検出ブ
ロックが、赤外発光のダイオードと、肛ダイオ−、ドか
ら出た光を集光するコンデンサレンズと、このコンデン
サレンズを逆過する元の光軸迄の半分を遮断するナイフ
エッヂと、このナイフエッヂにより作られた半円光束の
焦点検出光を上記ダイクロイックミラーに反射(7、か
つ上記感光材料からダイクロイックミラーを介して反射
する無点検W光の半円光束の反射光を透過するハーフミ
ラ−と、このハーフミラ−を透過した上&F半円元束反
射賞を受ける、上P感光材料の完全合焦位置との共役像
面に設置した一対の受光素子とからなり、この一対の受
光素子は上田2反射光の入力量の差に応じて描画光学系
の光軸方向への移動@横に対して駆動信号を与えるフォ
ト自動製図機における自動合焦装置。 - (4) 特許請求の範囲第2項または枦、3項におい
て、描画光学系が、結像レンズ系とこの結像レンズ系に
対する入射描画光を平行光束とするコリメート1/ンズ
とからHtz 5vさね、描画光学系の光軸方向への移
jilt機構が上P結像レンズ系の移#1機構からIa
lfN、されているフォト目動製図機における自動合焦
装置。 - (5)特許請求の範囲第4項において、結像レンズ系と
コリメートレンズとの間の平行光束内に平面鉾からt「
るダイクロイックミラーが配設されているフォト自S製
図IsKおける自動合焦装置。 - (6)特許請求の範囲第2項または第3項において、描
画f学系が単一結像l/ンズ系によって構成さ刺、描画
賞学系の光軸方向への移動機構が上Hm−結像レンズ系
および上F焦点検出ブロック全体の移動11り構からS
成されているフォト自動製図機における自動合焦装置。 - (7)特許請求の範囲第6項において、描画介学系内に
設置されたダイクロイックミラーがハーフプリズムから
なっているフォト自動製図1機における自動合焦装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56147243A JPS5849298A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | フォト自動製図機における自動合焦装置 |
US06/418,567 US4512642A (en) | 1981-09-18 | 1982-09-15 | Automatic focusing apparatus in optical drawing machine |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56147243A JPS5849298A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | フォト自動製図機における自動合焦装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5849298A true JPS5849298A (ja) | 1983-03-23 |
JPH0375359B2 JPH0375359B2 (ja) | 1991-11-29 |
Family
ID=15425813
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56147243A Granted JPS5849298A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | フォト自動製図機における自動合焦装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4512642A (ja) |
JP (1) | JPS5849298A (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3617421A1 (de) * | 1986-04-30 | 1987-11-05 | Leitz Ernst Gmbh | Optisches bauelement und vorrichtung zu dessen verwendung |
US5137363A (en) * | 1986-06-04 | 1992-08-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus |
FR2652423B1 (fr) * | 1989-09-22 | 1992-05-22 | Ardt Rgle Dev Techn | Procede de microlithographie pour la realisation de structures superficielles submicrometriques sur un substrat du type d'une plaquette de silicium, ainsi qu'un dispositif le mettant en óoeuvre. |
US5446547A (en) * | 1991-06-12 | 1995-08-29 | Wyko Corporation | Combination of motorized and piezoelectric translation for long-range vertical scanning interferometry |
JPH0772378A (ja) * | 1993-09-02 | 1995-03-17 | Nikon Corp | 合焦装置 |
JP3515162B2 (ja) * | 1994-03-02 | 2004-04-05 | 株式会社ニデック | 観察装置 |
US5493109A (en) * | 1994-08-18 | 1996-02-20 | Carl Zeiss, Inc. | Optical coherence tomography assisted ophthalmologic surgical microscope |
EP0697611B9 (en) * | 1994-08-18 | 2003-01-22 | Carl Zeiss | Optical coherence tomography assisted surgical apparatus |
JP2002049073A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-02-15 | Asahi Precision Co Ltd | Cctvカメラ用レンズの絞り装置 |
JP2006145814A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Pentax Corp | デジタルカメラ |
CN100381935C (zh) * | 2006-11-03 | 2008-04-16 | 哈尔滨工业大学 | 基于谐波共振方法的并行激光直接写入方法与装置 |
CN109581827B (zh) * | 2019-01-10 | 2020-06-09 | 中国科学院光电技术研究所 | 光刻投影物镜最佳焦面检测装置及方法 |
CN111352310A (zh) * | 2020-03-31 | 2020-06-30 | 深圳市深大极光科技有限公司 | 一种用于光学投影光刻机的自动对焦装置及自动对焦方法 |
US11587246B2 (en) * | 2020-10-30 | 2023-02-21 | Mitutoyo Corporation | Metrology system with projected pattern for points-from-focus type processes |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS446147Y1 (ja) * | 1968-05-23 | 1969-03-05 | ||
JPS5072721A (ja) * | 1973-10-30 | 1975-06-16 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL7410642A (nl) * | 1974-08-08 | 1976-02-10 | Philips Nv | Opto-elektronisch fokusseringsdetektiestelsel. |
NL7414776A (nl) * | 1974-11-13 | 1976-05-17 | Philips Nv | Inrichting voor het uitlezen van een registra- tiedrager met een optische informatiestruktuur. |
US4132888A (en) * | 1976-03-17 | 1979-01-02 | Toshihiro Kondo | Device for automatically focusing image |
US4383757A (en) * | 1979-04-02 | 1983-05-17 | Optimetrix Corporation | Optical focusing system |
US4376303A (en) * | 1980-12-19 | 1983-03-08 | Rca Corporation | Quasi-zoom lens optical focus sensor |
-
1981
- 1981-09-18 JP JP56147243A patent/JPS5849298A/ja active Granted
-
1982
- 1982-09-15 US US06/418,567 patent/US4512642A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS446147Y1 (ja) * | 1968-05-23 | 1969-03-05 | ||
JPS5072721A (ja) * | 1973-10-30 | 1975-06-16 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4512642A (en) | 1985-04-23 |
JPH0375359B2 (ja) | 1991-11-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS5849298A (ja) | フォト自動製図機における自動合焦装置 | |
JP5580206B2 (ja) | レーザ光機械加工 | |
JPH04350818A (ja) | 共焦点光学系 | |
DK331788A (da) | Optisk system til bestemmelse af forandringen i krumningen af et objekt paa et lille omraade | |
WO2002041308A3 (en) | Objective lens and optical pickup apparatus | |
US4549802A (en) | Focus detection apparatus | |
JPS60233610A (ja) | 測距装置 | |
JPH07101251B2 (ja) | 顕微鏡自動焦点装置 | |
JPS61292600A (ja) | X線光学系 | |
JPS58160907A (ja) | 顕微鏡用焦点検出装置 | |
SU1583911A1 (ru) | Устройство дл лазерной обработки объектов с визуальным контролем на просвет | |
JPH01147439A (ja) | カメラのパララックス自動補正装置 | |
JP3072149B2 (ja) | カメラのファインダー内情報表示装置 | |
JPS5838128U (ja) | 一眼レフレツクスカメラの焦点検出装置 | |
TWI269066B (en) | Projecting system and the light pipe assembly thereof | |
JPH01252946A (ja) | 絞り装置 | |
JPH09171149A (ja) | ウェハ文字読み取り装置 | |
JPS60192927A (ja) | 一眼レフカメラの反射型焦点板 | |
JPS62143010A (ja) | 焦点検出装置 | |
JPH0348833A (ja) | Ttlファインダ装置 | |
JPS58169433A (ja) | 自動合焦眼底カメラ | |
JPS60238806A (ja) | 自動焦点調節装置 | |
JPH11149036A (ja) | オートフォーカスカメラ | |
JPS61236515A (ja) | 合焦装置 | |
KR970050379A (ko) | 광픽업 액츄에이터의 대물렌즈 경사측정장치 |