SU1583911A1 - Устройство дл лазерной обработки объектов с визуальным контролем на просвет - Google Patents

Устройство дл лазерной обработки объектов с визуальным контролем на просвет Download PDF

Info

Publication number
SU1583911A1
SU1583911A1 SU874227277A SU4227277A SU1583911A1 SU 1583911 A1 SU1583911 A1 SU 1583911A1 SU 874227277 A SU874227277 A SU 874227277A SU 4227277 A SU4227277 A SU 4227277A SU 1583911 A1 SU1583911 A1 SU 1583911A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
lens
plane
screen
objects
reflector
Prior art date
Application number
SU874227277A
Other languages
English (en)
Inventor
Лев Семенович Гликин
Владимир Александрович Горбаренко
Валерий Николаевич Епихин
Вячеслав Васильевич Королев
Original Assignee
Предприятие П/Я В-8495
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я В-8495 filed Critical Предприятие П/Я В-8495
Priority to SU874227277A priority Critical patent/SU1583911A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1583911A1 publication Critical patent/SU1583911A1/ru

Links

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к лазерной технике, более конкретно к устройствам дл  визуального контрол  объектов на просвет путем проекции на экран с одновременной лазерной обработкой объектов. Оно может примен тьс  дл  контрол  и обработки прозрачных пленок, фотошаблонов, а также в биологии и в медицине. Цель изобретени  - обеспечение свободного доступа к обрабатываемому объекту за счет увеличени  рассто ни  между объектом и оптическими элементами. Устройство состоит из лазерного усилител  1, первого объектива 2, формирующего изображение объекта 3 на экране 4. Экран 4 установлен в плоскости П 1, оптически сопр женной с плоскостью П относительно объектива 2. С плоскостью П оптически сопр жена плоскость П 11 посредством второго объектива 5. Проход щий через каждую точку объекта пучок практически полностью возвращаетс  в эту же точку с другой стороны. Благодар  двойному прохождению пучка через каждую точку объекта контраст изображени  объекта 3 на экране 4 увеличиваетс . При этом можно одновременно обрабатывать объект, контролирую его визуально. Продукты обработки из-за большого рассто ни  от объекта до оптических деталей не загр зн ют оптику. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.

Description

Изобретение относитс  к лазерной технике,, более конкретно к оборудованию дл  лазерной обработки и визуального контрол  на просвет с исполь- зованием лазерного усилени  и проекции и может быть использовано дл  контрол  фотошаблонов, пленочных изделий, а также в биологии и в медицине .
Целью изобретени   вл етс  обеспечение свободного доступа к обрабатываемому объекту за счет увеличени  рассто ни  между объектом и оптическими элементами,
На чертеже представлена схема устройства .
Схема содержит лазерный усилитель 1, объектив 2, формирующий изображение объекта 3 обработки на экране 40 Экран 4 установлен в плоскости II оптически сопр женной посредством объектива 2 с плоскостью П, совмещенной с объектом 3. Посредством второго объектива 5 с плоскостью П оптически сопр жена также плоскостью П .
С плоскостью П совмещена вершина отражател  6, выполненного в форме сферического зеркала. В фо-
кальной плоскости объектива 2, проход щей через фокальную точку F, установлена апертурна  диафрагма 7, котора  одновременно  вл етс  выходным зрачком первого объектива 20 Изображение апертурной диафрагмы 8 расположено в фокальной плоскости второго объектива 5, проход щей через точку Р.Это изображение  вл етс  выходным зрачком второго объектива 5. Введением апертурных диафрагм 7 и 8 реализуетс  телецентрический ход лучей со стороны объекта дл  обоих объективов 2 и 50
Центр кривизны отражател  6 (сфери- ческого зеркала) совмещен с центром выходного зрачка 8 второго объектива 5, т.е0 с точкой F,Соблюдение телецентрического хода лучей дл  обоих объективов и выполнение указанных условий дл  отражател  6 обеспечивают одинаковую апертуру дл  всех точек объекта в пределах пол  зрени 0
Устройство работает следующим образом
,
, Излучение лазерного усилител , вы ход щее в сторону объекта 3, попадает на объект 3, После прохождени  через некоторую локальную область
,5 Ю
15
20 25
,Q
дс
35
50
55
объекта 3 освещающее излучение фокусируетс  вторым объективом 5 на поверхности сферического эеркапа 6, отражаетс  от него и после прохождени  объектива 5 в обратном направлении возвращаетс  в исходную локальную область объекта в пределах той же апертуры. Таким образом, без учета потерь и рассеивани  возвращенное излучение проходит в обратном направлении через объект 3 через те же точки, что и при прохождении в пр мом направлении (от объектива 2 через объект 3 к второму объективу 5), Бпаю- дар  двойному прохождению излучени  через каждую локальную область контраст изображени  дл  слабоконтрастных объектов повышаетс  примерно в два раза, что следует из формулы, дающей величину контраста дл  предлагаемого устройства
к - Ј4
т, + т
где Т, ,Т . - коэффициент пропускани  двух областей объекта.
В качестве лазерного усилител  в предлагаемом устройстве может быть использован усилитель на парах меди, работающий с частотой 8 кГц на двух длинах волн Л, 510,6 нм и 578,2 нм0
При проверке прозрачных малоконтрастных объектов, например полиимид- ных пленок с химически протравленными отверсти ми, предлагаемое устройство значительно повышает скорость и надежность нахождени  недотравлен- ных отверстийь Кроме того, увеличив мощность пучка, можно легко доработать отверсти  лазерным n, IKOMO При этом достаточно большое рассто ние от объекта до оптических деталей позвол ет практически исключить их загр знение продуктами выброса, лет щими от объекта при его обработке.

Claims (2)

1. Устройство дл  лазерной обработки объектов с визуальным контролем на просвет, содержащее расположенные последовательно вдоль оптической оси экран, лазерный усилитель, первый объектив и отражатель, между последними из которых расположен объект обработки, отличаю51
щ е е с   тем, что, с целью обеспечени  свободного доступа к обрабатываемому объекту за счет увеличени  рассто ни  между объектом и оптичес - кими элементами, между отражателем и объектом установлен второй объектив, так, что отражатель и объект наход тс  в оптически сопр женных плоскост х относительно второго объек- тмва.
II6
2. Устройство по п„I, отличающеес  тем, что, с целью улучшени  качества изображени , оно снабжено двум  диафрагмами, наход щимис  во внешних по отношению к объекту фокальных плоскост х первого и второго объективов, а отражатель выполнен в форме сферического зеркала с центром кривизны в ближайшем к отражателю фокусе второго объектива,.
SU874227277A 1987-03-16 1987-03-16 Устройство дл лазерной обработки объектов с визуальным контролем на просвет SU1583911A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU874227277A SU1583911A1 (ru) 1987-03-16 1987-03-16 Устройство дл лазерной обработки объектов с визуальным контролем на просвет

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU874227277A SU1583911A1 (ru) 1987-03-16 1987-03-16 Устройство дл лазерной обработки объектов с визуальным контролем на просвет

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1583911A1 true SU1583911A1 (ru) 1990-08-07

Family

ID=21297326

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU874227277A SU1583911A1 (ru) 1987-03-16 1987-03-16 Устройство дл лазерной обработки объектов с визуальным контролем на просвет

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1583911A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Международна за вка . У WO 81/02951, кл, Н 01 S 3/00, 15.10.81. Зсмсков К.И. и др. Квантова Электроника, 1979, т.6, № II, С.2473. Патент US № 3786366, Кл0 331-94.5, опубликд 15.0 I.74, *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4402596A (en) Projection type exposure device
JPS59100805A (ja) 物体観察装置
DE3773831D1 (de) Vorrichtung zum selbsttaetigen fokussieren eines auflichtmikroskopes.
KR950024024A (ko) 투영노광장치 및 이를 이용한 디바이스 제조방법
US11868050B2 (en) Non-telecentric light guide elements
US5103342A (en) Apochromatic lens system
US4422755A (en) Frontal illumination system for semiconductive wafers
JP2633028B2 (ja) 観察方法及び観察装置
JP3384038B2 (ja) 面位置検出光学装置
US4734570A (en) Active focus detecting device with infrared source
SU1583911A1 (ru) Устройство дл лазерной обработки объектов с визуальным контролем на просвет
US3542469A (en) Photographic production of semiconductor microstructures
JPS57154206A (en) Focusing device
JPS58213207A (ja) アライメントマーク検出方法
JPS6313446Y2 (ru)
JPS62231924A (ja) 投影露光方法及びその装置
JPS57176017A (en) Spectral microscope device using optical fiber
RU1821315C (ru) Способ ретуши дефекта и устройство дл его осуществлени
JPH01136112A (ja) 顕微鏡のホトメータ鏡筒および測光用顕微鏡
US5053629A (en) Microdensitometer with submicron resolution having dual diaphragms and dual microscopes
EP0032716A2 (en) Illumination system for semiconductive wafers
SU603938A1 (ru) Телецентрический объектив
JPS57200029A (en) Exposing device
JPS6343128A (ja) 写真光学台
SU708284A1 (ru) Способ атоматической фокусировки кинообъектива