SU1159905A1 - Травильный раствор - Google Patents
Травильный раствор Download PDFInfo
- Publication number
- SU1159905A1 SU1159905A1 SU843728601A SU3728601A SU1159905A1 SU 1159905 A1 SU1159905 A1 SU 1159905A1 SU 843728601 A SU843728601 A SU 843728601A SU 3728601 A SU3728601 A SU 3728601A SU 1159905 A1 SU1159905 A1 SU 1159905A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- etching solution
- glass
- solution
- yield
- products
- Prior art date
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
ТРАВИЛЬНЫЙ РАСТВОР, включающий HF, HiS04., HCI, Htp, отличающийс тем, что, с целью повышени выхода годных изделий и сокращени времени травлени , он дополнительно содержит HNO} при следующем соотношении компонентов, мас.%: HP20-40. H SO 1-10 нее3-15 НЖ),10-40 Hj,0Остальное
Description
СП
х ;о
Изобретение относитс к технологии стекла, а именно к способам обработки поверхности стекла и може быть использовано в приборостроении радиотехнической, электронной и оптико-механической промышленности, где требуетс точное избирательное травление поверхности стекла.
Цель изобретени - повьпаение выхода годных изделий и сокращение времени травлени .
Обрабатывают пластины полированного стекла размером мм. На лицевую поверхность пластин методем вакуумного напылени в установке УРМ-3 нанос т хром в течение 30-40 мин. Затем покрывают слоем фоторезиста и сущат на центрифуге. Дл закреплени фоторёзиста пластины подвергают температурному дублению в термостате при t в течение 15 мин. На поверхность накладывают фотошаблон с требуемым рисунком. Изображение экспонируют от источника актиничного излучени в течение 2-3 мин. Затем фотошаблон поворачивают на 180 и экспонируют повтоно , что позвол ет устранить необлученные участки на поверхности пластины, возникающие из-за микродефектов в структуре фотошаблона.
Затем с облученных участков снимают фоторезист в про вителе при нагревании , промьшают дистиллированной водой. С незащищенных участков трав т хром в травителе хрома, промывают слабым раствором НС1 (чтобы не образовалс белый осадок) и дистиллированной водой. В результате получают изображение на пластине ,
Дл получени рельефа предварительно поверхность пластины обезжиривают раствором .Oy в HiS04. Это повьшает чистоту вытравливаемой поверхности и тем самым уменьшает возможность образовани непротравленных участков на поверхности рельефа. Затем стекло трав т в предлагаемом травильном растворе.
Результаты приведены в таблице.
С использованием предлагаемого раствора в пластинах получены углублени 10, 20, 40,60 мкм площадью 66 X28 мм. Поверхность рельефа провер ют с помощью оптического микроскопа. Непротравленных участков, а также выступов более 1 мкм на поверхности рельефа не обнаружено. Следовательно, чистота поверхности удовлетвор ет щ едъ вл емым требовани м.
Claims (1)
- ТРАВИЛЬНЫЙ РАСТВОР, включающий HF, HjlSOi., HCI, Ht0, о т л и чающийся тем, что, с целью повышения выхода годных изделий и сокращения времени травления, он дополнительно содержит HNO} при следующем соотношении компонентов, мас.%:НЕ20-40HjSO»-1-ЮHCl3-15НМО,10-40 (Hj.0 Остальное >
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU843728601A SU1159905A1 (ru) | 1984-01-26 | 1984-01-26 | Травильный раствор |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU843728601A SU1159905A1 (ru) | 1984-01-26 | 1984-01-26 | Травильный раствор |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1159905A1 true SU1159905A1 (ru) | 1985-06-07 |
Family
ID=21114376
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU843728601A SU1159905A1 (ru) | 1984-01-26 | 1984-01-26 | Травильный раствор |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1159905A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2611772C1 (ru) * | 2016-02-29 | 2017-03-01 | Юлия Алексеевна Щепочкина | Травильный раствор для обработки стекла. |
-
1984
- 1984-01-26 SU SU843728601A patent/SU1159905A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР № 300433, кл. С 03 С 15/00, 1969. Патент JP № 51-22490, кл: 21 В 33, опублшс. 1976. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2611772C1 (ru) * | 2016-02-29 | 2017-03-01 | Юлия Алексеевна Щепочкина | Травильный раствор для обработки стекла. |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4080246A (en) | Novel etching composition and method for using same | |
EP0397988A3 (en) | Plasma processing with metal mask integration | |
KR870010218A (ko) | 포토 엣칭법에 의한 금속박판의 가공방법 | |
CA2014285A1 (en) | Device fabrication and resulting devices | |
SU1159905A1 (ru) | Травильный раствор | |
ES465428A1 (es) | Procedimiento para el ataque quimico de precision de un ma- terial fotosensible. | |
JPS57190912A (en) | Production of color filter | |
JPS5630129A (en) | Manufacture of photomask | |
JPS5483846A (en) | Diffusing plate | |
JPS5672445A (en) | Production of photomask | |
US2389504A (en) | Process of making reticles or the like | |
JPS5461931A (en) | Forming method of photo resist patterns | |
JPS5492527A (en) | Manufacture of metal foil having apertures | |
ATE2980T1 (de) | Verfahren zur uebertragung eines musters auf eine halbleiterscheibe. | |
FR2637428A1 (fr) | Electrode interdigitee pour dispositif a ondes de surface et procede pour sa production | |
US3356500A (en) | Production of infrared detector patterns | |
JPS5640823A (en) | Forming method of negative type photoresist pattern | |
JPS5618429A (en) | Minute electrode formation | |
JPS56114323A (en) | Method for electron beam lighography | |
RU1398641C (ru) | Способ получения контактной маски на прозрачной подложке | |
JPS5448485A (en) | Photo etching method | |
SU911749A1 (ru) | Способ формировани изображени | |
JPS5588057A (en) | Production of photo mask | |
JPS57104106A (en) | Production of optical circuit | |
JPS576848A (en) | Photomask and its preparation |