AT91906B - Verfahren, um nach farbigen Vorlagen gerasterte, photographische Platten zu erhalten. - Google Patents

Verfahren, um nach farbigen Vorlagen gerasterte, photographische Platten zu erhalten.

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AT91906B
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Laurent Bassani
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Laurent Bassani
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  Verfahren,   um   nach farbigen Vorlagen gerasterte, photographische Platten zu erhalten. 



   Für die Wiedergabe von farbigen Bildern sind, in der   Lithographie, schon lange photomechanische-  
Verfahren zusammen mit einem Raster zur Auswahl der Farben verwendet worden. Dadurch war es möglich, die Arbeit des Spezialisten oder Farbentechnikers auf ein Mindestmass zu reduzieren, die   ursprüng-   lieh darin bestand, von Hand die Farben auszuwählen und es wurde möglich, selbst bei   den grössten Arbeiten,   mit 4, 5 oder 6 Farben auszukommen, bei denen sonst in gewöhnlichen lithographischen Verfahren
10,   12,   oder 14 Farben, d. h. also ein 10, 12 oder 14maliges Drucken desselben Musters erforderlich gewesen wurde. Es ist von Sachverständigen jedoch erkannt worden, dass in den gewerblichen Druck- verfahren noch wesentliche Verbesserungen möglich sind.

   So ist man beim Drucken von grösseren Auf- lagen auf folgende Schwierigkeiten gestossen. Es musste ein besonderes, überzogenes Papier verwendet werden, und um eine hohe Feinheit und Kraft des Druckes zu erreichen, musste man die Photogravur zu Hilfe ziehen. Die erstgenannte Schwierigkeit wurde durch die Einführung des sogenannten "Offset"
Druckverfahrens anscheinend behoben, durch das man bedeutende Auflagen auf einem Papier von beliebiger Körnung, und sogar auf Geweben, wie Leinen, Tuchen,   Plüschen.   Seide usw. erhalten kann. es war aber dennoch notwendig die folgenden Massregeln zu treffen :
Es mussten gute photomechaniseh gerasterte Platten zugerichtet werden. Es musste die Kupfer- platte retuschiert werden   (Photogravur).   Es musste das Bild durch Exponieren auf die Kupferplatte übertragen werden.

   Dann musste das Bild entweder unmittelbar oder mit Hilfe einer Zwischenplatte auf den lithographischen Stein übertragen werden. Endlich musste das Bild mit Hilfe einer Zwischenplatte auf die eigentliche Maschinendruckplatte übertragen werden. 



   Die Photogravur, das Retuschieren der Kupferplatte, schien notwendig, weil durch diese allein man den auf dem Bilde erzielten Raster retuschieren konnte, der zur Übertragung der Druckfarbe erforderlich ist, aber, besonders an den hellen Stellen des Bildes jede Feinheit zerstört und das Erzeugen von feinen Halbtönen und Schattierungen behindert, so dass der   Druck schliesslieh   die erforderliche
Schärfe und Kraft entbehrt. 



   Es ist nun Zweck der vorliegenden Erfindung, diese Schwierigkeiten zu vermeiden. Sie macht das Retuschieren des Rasters auf dem Bilde durch nachträgliche Behandlung, wie z. B. bei der Photo-   gravur, überflüssig   und gestattet das erwünschte Ergebnis lediglich auf photomechanischem Wege zu erreichen. Man kann, infolgedessen, in geeigneter Weise gerasterte Platten unmittelbar durch Exposition   auf irgendwelche lithographische Flächen (Stein, Zink usw. ) übertragen, die nachher in der üblichen Weise (durch Einfärben, Gummieren, Säuren usw. ) behandelt und zum Druck, entweder indirekt oder   direkt benutzt werden können. 



   Durch die vorliegende Erfindung wird also eine grosse Ersparnis sowohl an Zeit wie an Material erzielt. Sie gestattet die Anwendung   des "Offset" Verfahrens   und Maschinen mit dem grössten Vorteil und auf diesen die Erzeugung von bedeutenden Auflagen auf irgendwelchem Papier, Gewebe od. dgl Das neue, verbesserte Verfahren besteht im wesentlichen darin, dass man von dem Original, sei es nun ein Aquarell, ein Druck oder ein Gegenstand, für die gleiche Farbe zwei photographische Platten unter genau den gleichen Bedingungen macht, welche Platten sich vollkommen decken. Die erste Platte ist. was Exposition und Entwicklung anbetrifft, kräftig, so dass selbst die feinsten Details und die hellsten Schatten des Originals darauf erscheinen.

   Sie wird erzielt, indem man in dem Apparat vor der   lichtempfind-   lichen Platte einen geeigneten Raster anbringt und diesen, während der Exposition in wagreehter Richtung 

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 entlang der Achse des Apparates nach und nach fortbewegt. Die zweite Platte wird unter den gleichen Bedingungen aufgenommen, aber während ihrer Exposition wird der Raster axial und senkrecht verschoben, wobei beide Verschiebungen gleichzeitig geschehen. Diese Verschiebungen des Rasters, welche nichts mit der Verstellung der anfänglichen Stellung des Rasters zu tun haben, von der in den Lehrbüchern über Physik gesprochen wird, haben gewissermassen ein mechanisches Auswählen derjenigen Teile des Netzwerkes zur Folge, welche beibehalten werden müssen, gegenüber denen welche abgeschwächt oder vernichtet werden sollten.

   In der beiliegenden Zeichnung ist schematisch angedeutet, wie die Licht- 
 EMI2.1 
 
Fig. 1 ist ein Schnitt durch einen photographischen Apparat. In der Kamera 1 ist zwischen der lichtempfindlichen Platte 2 und der Blende 3 ein geeigneter Raster   4   angebracht, der in einem Rahmen J befestigt ist, welcher in   wagrechter   Richtung an der Achse des Apparats entlang bewegt werden kann. wenn man eine   1Hikrometersehraube   6 bewegt, und in senkrechter Richtung dazu, wenn man eine andere Mikrometerschraube'7 dreht. In Fig. 2 und 3, welche in einem   grösseren Massstabe. gezeichnet   sind. ersieht man den Verlauf der Lichtstrahlen im Apparat während der Verschiebung des Rasters, wobei Fig. 2 sich auf die erste, Fig. 3 auf die zweite Aufnahme bezieht.

   Die erste Aufnahme, auf der alle Detail, erscheinen sollen, wird erzielt, indem, während der Exposition, durch Drehen der Schraube 6 ein allmähliches Verschieben des Rasters 4 in wagrechter Richtung der Pfeilrichtung entsprechend herbeigeführt wird. Auf diese Weise erreicht man. dass in den zartesten Stellen der   Raster am meisten abge-   schwächt wird. 



   Fig. 2   zeigt narb einer Verschiebung   des Rasters von der Stellung A in die Stellung B, das Strahlen-   bündel 7ss. welches durch   den Teil 9 des Rasters aufgefangen wird, so dass der nicht exponierte Teil   .   b der Platte auf a vermindert wird. Durch eine solche Verschiebung des Rasters in   waagrechter   Richtung   lwm,   wie ersichtlich. der Raster in beliebiger Weise vermindert werden. Für die zweite Aufnahme. 
 EMI2.2 
   Raster während   der Exposition in senkrechter Richtung, durch Drehen der   Schraube/. und   in wagreehter Richtung vermittels der Schraube 6. 



   Die   wagerechte Verschiebung   hat den Zweck, den Raster so weit es notwendig ist. abzuriieken.   um ein genügend verkleinertes   Bild der Rasterpunkte zu erzielen. 



   Die Verschiebung in senkrechter Richtung hat den Zweck, den Raster dort wo es notwendig ist. ganz verschwinden zu machen. 



   Fig. 3 zeigt, wie, wenn der Raster sich von der Stellung Ai in die   Stellung   bewegt, der Teil c, d der   PI-Ttte, welche   der Einwirkung der Lichtstrahlen durch den Raster entzogen war. nunmehr ihrer Wirkung   . usgeetzt und belichtet   wird.

Claims (1)

  1. PATENT-ANSPRUCH : Verfahren um nach farbigen Vorlagen gerasterte photographische Platten zu erhalten, welche zum Farbendruck od. dgl. verwendet werden sollen, dadurch gekennzeichnet, dass man für jede Farbe zwei sich genau deckende Platten aufnimmt, welche den Gegenstand mit allen seinen Schattierungen wiedergeben, wobei während der Aufnahme der ersten Platte der Raster parallel zur Achse des Apparats von der Platte entfernt wurde, und während der zweiten Aufnahme, der Raster ebenso wie bei der ersten Aufnahme und daneben noch in senkrechter Richtung gleichzeitig damit bewegt wurde.
AT91906D 1919-06-24 1920-06-30 Verfahren, um nach farbigen Vorlagen gerasterte, photographische Platten zu erhalten. AT91906B (de)

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