AT164771B - Verfahren zum Anbringen einer aktiven Schicht eines gasbindenden Metalles in Vakuumgefäßen mittels schneller Verdampfung - Google Patents

Verfahren zum Anbringen einer aktiven Schicht eines gasbindenden Metalles in Vakuumgefäßen mittels schneller Verdampfung

Info

Publication number
AT164771B
AT164771B AT164771DA AT164771B AT 164771 B AT164771 B AT 164771B AT 164771D A AT164771D A AT 164771DA AT 164771 B AT164771 B AT 164771B
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
gas
applying
tube
active layer
layer
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Application granted granted Critical
Publication of AT164771B publication Critical patent/AT164771B/de

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  Verfahren zum Anbringen einer aktiven Schicht eines gasbindenden Metalles in Vakuum- gefässen mittels schneller Verdampfung 
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Her- stellung einer besonders wirksamen Schicht aus einem gasabsorbierenden Metall in Vakuum- gefässen sowie eine mit einer solchen Schicht versehene elektrische Entladungsröhre. 



   Bei elektrischen Entladungsröhren, wie Emp- fangs-und Senderöhren sowie Elektronenstrahl- röhren und Röntgenstrahlröhren und bei anderen
Vakuumgefässen, in denen unedle Gase nach dem
Abschmelzen der Röhre frei werden können und schnell gebunden werden müssen, wie Hohlraum- resonatoren, edelgasgefüllten Gleichrichterröhren od.   dgl.,   wird allgemein eine wirksame
Schicht aus einem gasabsorbierendem Metall, wie Barium, verwendet. Bekanntlich ist ein solches Metall nicht nur fähig, während seiner Ver- dampfung sich mit grossen Gasmengen zu verbinden, sondern die durch Absetzung des Metalls entstandene Schicht kann auch nachträglich ausgelöste Gase noch binden. Der Wirksamkeitsgrad einer solchen Schicht ist jedoch in hohem Masse von ihrer Struktur, d. h. von der Art des Entstehens und von der Beschaffenheit der Oberfläche, abhängig.

   Die geringste Wirksamkeit besitzt eine spiegelnd glatte Schicht, die durch langsames Verdampfen des wirksamen Metalls im Vakuum entstanden ist. Die Wirksamkeit wird aber stark gesteigert, wenn auf bekannte Weise das Metall schnell durch eine aus Edelgas bestehende Gasatmosphäre verdampft wird und das Edelgas dann wieder abgepumpt wird. Anstatt eines Edelgases kann man eine kleine Menge eines unedlen Gases, wie Kohlensäuregas, Stickstoff od.   dgl.,   in   denVakuumraum   bringen oder in ihm erzeugen. Nach Abschmelzen der Röhre wird dann das wirksame Metall schnell verflüchtigt, wobei die vorhandene Gasmenge gebunden wird. Selbstredend darf die vorhandene Gasmenge nicht zu gross sein. Das Metall setzt sich in diesem Fall in Form einer schwarzen Schicht ab, deren Oberfläche mehr oder weniger schwammig ist.

   Eine solche Schicht ist fähig, sich mit verhältnismässig grossen Gasmengen zu verbinden, die   sonst im Röhrenbetrieb   frei würden. 



   Es ist jedoch von Belang, die Wirksamkeit einer solchen Schicht möglichst zu steigern, denn je grösser die Geschwindigkeit, mit der die frei werdenden Gase gebunden werden können, um so 
 EMI1.1 
 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 



   Infolge der Tatsache, dass sich eine erfindung- gemäss hergestellte wirksame Schicht sehr schnell mit Gasmengen verbinden kann, die, auf die
Gewichtseinheit bezogen wesentlich grösser sind, als nach irgendeinem bisher bekannten Ver- fahren, eröffnen sich ganz neue Anwendungs- möglichkeiten. 



   Die Erfindung ist z. B. besonders wertvoll für
Anwendung in Entladungsröhren mit sehr emp- findlichen Elektroden, wie z. B. bei direkt ge- heizten Röhren für Speisung durch Batterien. 



   Solche Röhren besitzen oft eine sehr dünne
Glühkathode, die nach Auslösung des Emissions- metalls aus der Erdalkalimetallverbindung durch geringe Gasmengen bereits vergiftet werden kann. 



   Da bei der Zersetzung dieser Erdalkalimetallverbindung, im allgemeinen des Karbonates, viel
Gas frei wird, wurde die Zersetzung stets vorgenommen, wenn die Röhre noch mit der Pumpe verbunden war. Die Kathode konnte dann durch die nachträglich während der Entgasung der Elektroden ausgelösten Gase beschädigt werden. Indem nun in die Röhre eine wirksame Schicht gemäss der Erfindung angebracht wird, kann die Röhre von der Pumpe abgeschmolzen werden, bevor die auf die Kathode aufgebrachten Erdalkalimetallverbindungen zersetzt sind. Die Röhre wird dann in ein Gefäss mit flüssiger Luft oder sonstigen Kältestoff eingetaucht und der Fangstoff schnell verflüchtigt und auf die zuvor mit einer Kohlenstoffschicht überzogene Innenwand der Röhre niedergeschlagen.

   Da die Elektroden während des Betriebes nur wenig erwärmt werden, kann die Entgasung der Elektroden bei verhältnsimässig niedriger Temperatur erfolgen, worauf die Kathode erhitzt und die Emissionsverbindungen zersetzt werden. Die hiebei ausgelösten Gase werden schnell von der auf der Röhrenwand vorhandenen wirksamen Schicht gebunden. 



   Die Erfindung ist ferner sehr wertvoll für Röhren, in denen Sekundäremissionskathoden vorhanden sind, ferner für Photozellen usw. ; alle diese Röhren besitzen sehr empfindliche Elektroden. 



   Die Erfindung ist an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert. 



   Nach Überziehen der Innenwand eines Kolbens einer elektrischen Entladungsröhre mit einer 
 EMI2.1 
 
Elektroden in den Kolben gebracht und ein- geschmolzen. Nach Entgasung der Elektroden und weiteren Röhrenteile durch Erhitzung dieser
Teile auf hohe Temperatur wird eine Barium- quelle, beispielsweise eine Pastille aus Barium- nitrid, vorsichtig erhitzt und entgast. Die Röhre wird dann von der Pumpe abgeschmolzen und mit dem Kolben in ein Gefäss mit flüssiger Luft eingetaucht, das von einer Hochfrequenzspule umgeben ist, mittels derer das Bariumnitrid zer- setzt und das Barium schnell verdampft wird, so dass es sich auf die mit einer Kohlenstoffschicht überzogene Innenwand des Kolbens absetzt. 



   PATENTANSPRÜCHE : 
1. Verfahren zum Anbringen einer aktiven
Schicht eines gasbindenden Metalles mit niedrigem
Siedepunkt, wie z. B. Barium in Vakuumgefässen, besonders elektrischen Entladungsröhren, mittels schneller Verdampfung, dadurch gekennzeichnet, dass das gasbindende Metall auf eine Oberfläche niedergeschlagen wird, welche zuvor mit einer Kohlenstoffschicht bedeckt ist und welche gekühlt wird, so dass die aktive Schicht des Metalles eine lose Struktur bekommt.

Claims (1)

  1. 2. Verfahren nach Anspruch l, dadurch gekennzeichnet, dass die mit Kohlenstoff überzogene Oberfläche während der Verdampfung des wirksamen Metalls mittels flüssiger Luft gekühlt wird.
    3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass als Fangstoff Barium verwendet wird, in das Stickstoff aufgenommen ist.
    4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, zur Herstellung einer elektrischen Entladungsröhre, die mit einer thermionischen Kathode versehen ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Erdalkalimetallverbindungen der Kathode nach Abschmelzung der Röhre, der Bildung der Fangstoffschicht und der Entgasung der Elektroden zersetzt werden und darauf die Kathode aktiviert wird.
AT164771D 1945-05-04 1947-12-30 Verfahren zum Anbringen einer aktiven Schicht eines gasbindenden Metalles in Vakuumgefäßen mittels schneller Verdampfung AT164771B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL164771X 1945-05-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
AT164771B true AT164771B (de) 1949-12-10

Family

ID=19776666

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT164771D AT164771B (de) 1945-05-04 1947-12-30 Verfahren zum Anbringen einer aktiven Schicht eines gasbindenden Metalles in Vakuumgefäßen mittels schneller Verdampfung

Country Status (1)

Country Link
AT (1) AT164771B (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3509465C2 (de) Verfahren zur Herstellung poröser, nicht-verdampfbarer Gettereinrichtungen, so hergestellte Gettereinrichtungen und ihre Verwendung
DE817477C (de) Elektronenentladungsvorrichtung
DE3012968A1 (de) Gettervorrichtung fuer die sorption von wasserstoff
DE667942C (de) Verfahren zur Herstellung von Oxydkathoden, insbesondere Gluehkathoden fuer elektrische Entladungsgefaesse
DE2641884C3 (de) Gettervorrichtung
DE69503198T2 (de) Vorratskathode und verfahren zur herstellung einer vorratskathode
DE1932843A1 (de) Elektrische Umwandlungsvorrichtung mit sphaeroidischen Leuchtstoffen
AT164771B (de) Verfahren zum Anbringen einer aktiven Schicht eines gasbindenden Metalles in Vakuumgefäßen mittels schneller Verdampfung
DE2510814A1 (de) Wasserdampf freigebende zusammensetzung und vorrichtung
DEP0020455DA (de) Verfahren zur Herstellung von Vakuumgefäßen, besonders elektrischen Entladungsröhren, die mit einer wirksamen Schicht aus sich mit Gasen verbindenden Stoff versehen sind.
AT135546B (de) Verfahren zum Einführen eines aktiven Metalls, z. B. eines Erdalkalimetalls, in eine Vakuumröhre.
AT159891B (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Entladungsröhre mit einer Sekundäremissionselektrode.
DE803919C (de) Verfahren zur Herstellung einer Kathode einer elektrischen Entladungsroehre
DE809219C (de) Verfahren zur Herstellung der Oxydkathode einer elektrischen Entladungsroehre und nach diesem Verfahren hergestellte Entladungsroehre
DE652904C (de) Verfahren zur Herstellung von Hochemissionskathoden
DE744498C (de) Verfahren zur Erzeugung von freiem Erdalkalimetall in Entladungsroehren und Anordnung zur Durchfuehrung des Verfahrens
AT145596B (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrischen Entladungsröhre.
DE810108C (de) Verfahren zum Herstellen von Einkristall-Leuchtschirmen
DE819296C (de) Verfahren zur Herstellung einer Kathode einer elektrischen Entladungsroehre
DE596645C (de)
AT160360B (de) Verfahren zur Herstellung von Hochvakuumentladungsröhren.
DE821239C (de) Verfahren zum Einbringen lumineszierender Stoffe in Glasgefaesse, insbesondere in Gasentladungsroehren
DE1009021B (de) Verfahren zur Herstellung von Leuchtflaechen
AT153941B (de) Verfahren zur Herstellung von Hochvakuumröhren.
AT300970B (de) Verfahren zur Vorbereitung der Oberfläche des Trägers der Emissionsschicht von Oxydkathoden für Elektronenröhren