AT136801B - Musterungsverfahren zur Erzielung großer Musterbilder auf längeren Bahnen. - Google Patents

Description

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    MusteruHgsveri'ahreu   zur Erzielung grosser Musterbildeer auf   längeren   Bahnen. 
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 Textilien   usw.),   bei dem besonders grosse Musterungsbilder auf dem   Musterträger   erzielt werden, die leicht ein Vielfaches des verwendeten Musterungsbildes grössten Rapports erreichen, ohne dass wie bisher zur Erzielung eines   grossen Musterungsbildes entsprechend   grosse und kostbare Vorrichtungen erforderlich sind. Das Verfahren   gründet   sich auf die bekannte Interferenz. 



   Die Zeichnung zeigt ein Ausführungsbeispiel, wie beim Verfahren gemäss der Erfindung dieses Interferenzmusterbild zustande kommt. Nach Fig. 3 ist eine lange Bahn so bemustert, dass die ganze ersichtliche Bahn ein grosses, in diesem Falle rapportierendes Musterungsbild zeigt. Erreicht wurde dieses Interferenzmusterbild durch zwei in Fig. 1 und 2 getrennt gezeigte Unterrapportbilder a und b, deren Rapportbilder sieh zueinander in diesem Falle verhalten wie 5 : 6 und erzielt wurden durch die Anwendung   zweier Musterungsbildner (Walzen od. dgl. ), deren Rapporte zueinander im Verhältnis von 5 : 6 stehen,   so dass die Interferenzwirkung beider auf einem Musterträger (Fig. 3) einen Interferenzrapport bzw. ein Interferenzmusterbild ergibt, das sechsmal so gross ist wie der Unterrapport a der Fig. 1 und fünfmal so gross als der Unterrapport b der Fig. 2.

   Durch die Wahl verschiedener Verhältnisse der Unterrapporte zueinander, wobei zwei oder mehrere Unterrapporte angewendet werden können, ergeben sich auch die verschiedensten Interferenzmusterbilder oder Rapporte, deren Wirkung sich durch die sinngemässe Anwendung an sich bekannter Musterungsverfahren, sei es durch verschiedene Farbe oder Formwirkung, noch wesentlich steigern lässt. Z. B. erhöht sich die Wirkung des Interferenzmusterbildes (Fig.   3).   wenn   der Unterrapport a   der Fig. 1 eine andere Farbe, gegebenenfalls auch mehrere Farben aufweist als der Unterrapport b der Fig. 2, der auch wieder aus mehreren Farben bestehen könnte. 



   Um bei maschineller Ausübung des Druckverfahrens die regelmässige, periodische Wiederherstellung des Interferenzmusterbildes oder Rapports sicherzustellen, werden die in einem Arbeitsgang   verwandten 1usterungsbildner (Walzen, Schablonen od. dgl. ) zwangläufig, z. B. durch Zahnräder,   
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     Um   eine genaue Kontrolle des Interferenzmusterbildes zu ermöglichen, werden an den Musterungsbildnern Marken angebracht. So zeigen Fig. 1 und 2 die auf der Musterbahn am Rande beispielsweise wiedergegebenen Marken c der Fig. 1 und cl der Fig. 2, die am Beginn und Ende des Interferenzrapports in Fig. 3 ein leicht erkenntliches   Merkbild durch   Zusammenfallen von c und   d   ergeben ; die mit   el-5   und bezeichneten Marken ergeben bereits in kürzeren Abständen ein leicht erkenntliches   Merkbild   (el f,   e2f e3f, e4f, e5f der   Fig. 3). 



   In Fig. 3 ist noch beispielsweise gezeigt, wie durch Kombinieren des   Interferenzrapportbildes   mit einem Muster, dessen Rapport im Interferenzrapport mehrmals enthalten ist, der grosse Interferenzrapport in passende Verbindung mit einem Muster kleineren Rapports gebracht werden kann, wobei in diesem Beispiel der Rapport g des Musters im Interferenzrapport zehnmal enthalten ist. 

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Claims (1)

1. PATENT-ANSPRÜCHE : EMI1.3 zeichnet, dass mindestens zwei der in einem oder mehreren Arbeitsgängen erzielten Musterungsbilder zueinander verschiedenen Rapport aufweisen, wodurch, abgesehen von den durch jedes einzelne Musterungsbild entstandenen Musterrapports, infolge der periodischen Über- oder Nebeneinanderlagerung dieser <Desc/Clms Page number 2> Unterrapporte auf dem Mustertl'äger ein oder mehrere gegebenenfalls periodisch wiederkehrende Interferenzmusterbilder entstehen, die grösser sind als das grösste verwendete Musterungsbild eines Unterrapportes.

   2. Musterungsverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass an den Musterungsbildern vorgesehene Marken die verschiedenen Rapporte ersichtlich machen, um beurteilen zu können, ob die Musterungsbilder für das Interferenzmusterbild richtig angeordnet sind. EMI2.1