WO2024048804A1 - 이물 제거 장치 - Google Patents

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WO2024048804A1
WO2024048804A1 PCT/KR2022/012896 KR2022012896W WO2024048804A1 WO 2024048804 A1 WO2024048804 A1 WO 2024048804A1 KR 2022012896 W KR2022012896 W KR 2022012896W WO 2024048804 A1 WO2024048804 A1 WO 2024048804A1
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WO
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trap area
trap
area
foreign matter
magnet
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PCT/KR2022/012896
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English (en)
French (fr)
Inventor
변양우
송후영
Original Assignee
엘지전자 주식회사
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
    • B03C—MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
    • B03C1/00—Magnetic separation
    • B03C1/02—Magnetic separation acting directly on the substance being separated
    • B03C1/16—Magnetic separation acting directly on the substance being separated with material carriers in the form of belts
    • B03C1/18—Magnetic separation acting directly on the substance being separated with material carriers in the form of belts with magnets moving during operation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere

Definitions

  • the embodiment relates to a foreign matter removal device, and in particular, to a device for removing various foreign materials attached to or mixed with a semiconductor light emitting device prior to self-assembly on a substrate.
  • LCDs liquid crystal displays
  • OLED displays OLED displays
  • Micro-LED displays Micro-LED displays
  • a micro-LED display is a display that uses micro-LED, a semiconductor light emitting device with a diameter or cross-sectional area of 100 ⁇ m or less, as a display element.
  • micro-LED displays use micro-LED, a semiconductor light-emitting device, as a display device, they have excellent performance in many characteristics such as contrast ratio, response speed, color gamut, viewing angle, brightness, resolution, lifespan, luminous efficiency, and luminance.
  • the micro-LED display has the advantage of being able to freely adjust the size and resolution and implement a flexible display because the screen can be separated and combined in a modular manner.
  • micro-LED displays require more than millions of micro-LEDs, there is a technical problem that makes it difficult to quickly and accurately transfer micro-LEDs to the display panel.
  • Transfer technologies that have been recently developed include the pick and place process, laser lift-off method, or self-assembly method.
  • the self-assembly method is a method in which the semiconductor light-emitting device finds its assembly position within the fluid on its own, and is an advantageous method for implementing a large-screen display device.
  • various foreign substances may be mixed or created in semiconductor light-emitting devices during the manufacturing or distribution process and may adhere to or be mixed with the semiconductor light-emitting devices.
  • a semiconductor light emitting device containing such foreign substances is assembled on a substrate using a self-assembly method, lighting defects may occur.
  • the semiconductor light-emitting device 3 when the semiconductor light-emitting device 3 is assembled into the assembly hole 2H of the partition 2 disposed on the substrate 1, the semiconductor light-emitting device 3 is attached to the lower side.
  • the semiconductor light emitting device 3 is assembled into a tilted body by the small foreign matter 4.
  • the size of the organic metal complex 5, which is a large foreign matter, is larger than the size of the assembly hole 2H, and is not assembled in the assembly hole 2H or is partially assembled in the assembly hole 2H. Even if it does, it leaves immediately.
  • the organic-metal composite 5 is a mass in which a plurality of semiconductor light-emitting devices 3 adhere to each other by adsorption or through metal fragments 6 or large organic particles 7.
  • the embodiments aim to solve the above-described problems and other problems.
  • Another object of the embodiment is to provide a foreign matter removal device that can easily remove various foreign substances.
  • Another purpose of the embodiment is to provide a foreign matter removal device that can increase lighting yield.
  • a foreign matter removal device includes a chamber containing a fluid; and a magnet assembly below the chamber,
  • the chamber includes a loading unit for loading a first object, a second object, and a third object into the fluid; a first trap area for trapping the first object; a second trap area adjacent to the first trap area to trap the second object; and a third trap area adjacent to the second trap area to trap the third object,
  • the magnet assembly repeatedly reciprocates at least one magnet through the first trap area, the second trap area, and the third trap area,
  • the first object is a first foreign matter
  • the second object is a semiconductor light emitting device
  • the third object is a second foreign matter.
  • the magnetization intensity of the second object may be greater than the magnetization intensity of the first object, and the magnetization intensity of the third object may be greater than the magnetization intensity of the second object.
  • the size of the second object may be larger than the size of the first object, and the size of the third object may be larger than the size of the second object.
  • the magnet assembly includes a plurality of magnet assemblies along the width direction of each of the first trap area, the second trap area, and the third trap area, wherein the plurality of magnet assemblies each include the at least one magnet. ; a rail on which the at least one magnet is mounted and repeatedly reciprocates the at least one magnet through the first trap area, the second trap area, and the third trap area; and at least one motor driving the rail.
  • the rail may reciprocate along the vertical direction with respect to the first trap area, the second trap area, and the third trap area.
  • the rail may reciprocate along a horizontal direction with respect to the first trap area, the second trap area, and the third trap area.
  • the first trap area has a first trap groove having a first diameter
  • the second trap area has a second trap groove having a second diameter larger than the first diameter
  • the third trap area has the first trap groove. It may have a third trap groove having a third diameter greater than two diameters.
  • the chamber includes a second loading unit; a fourth trap area adjacent to the third trap area; a fifth trap area adjacent to the fourth trap area; and a sixth trap area between the fifth trap area and the first trap area.
  • the first trap area, the second trap area, the third trap area, the fourth trap area, the fifth trap area, and the sixth trap area are each in contact with the center of the chamber and have a circular shape along the outer circumference thereof. can be configured.
  • the first trap area, the second trap area, and the third trap area may be symmetrical with the fourth trap area, the fifth trap area, and the sixth trap area, respectively, with respect to the center of the chamber.
  • the magnet assembly may cause the at least one magnet to pass through the sixth trap area, the fifth trap area, the fourth trap area, the third trap area, the second trap area, and the first trap area. It can be rotated based on the center of the chamber.
  • the loading unit may be placed on the first trap area, and the second loading unit may be placed on the fourth trap area.
  • the fourth trap region has a fourth trap groove having a fourth diameter
  • the fifth trap region has a fifth trap groove having a fifth diameter larger than the fourth diameter
  • the sixth trap region has a fifth diameter. It may have a sixth trap groove having a larger sixth diameter.
  • the first diameter and the fourth diameter may be the same, the second diameter and the fifth diameter may be the same, and the third diameter and the sixth diameter may be the same.
  • the second loading unit loads the fourth object, the fifth object, and the sixth object into the fluid, the fourth trap area traps the fourth object, and the fifth trap area traps the fifth object,
  • the sixth trap area can trap a sixth object.
  • the fourth object may be the first foreign matter
  • the fifth object may be the semiconductor light emitting device
  • the sixth object may be the second foreign matter.
  • the second trap area traps the first object, the second object, and the third object
  • the second loading unit traps the first object, the second object, and the third object trapped in the second trap area.
  • An object may be loaded into the fluid, wherein the fourth trap area traps the first object, the fifth trap area traps a second object, and the sixth trap area traps a third object.
  • the magnet assembly includes the at least one magnet;
  • the at least one magnet is mounted, and the at least one magnet is connected to the first trap area, the second trap area, the third trap area, the fourth trap area, the fifth trap area, and the sixth trap area.
  • a support plate that rotates around the center of the chamber to pass through; and a motor that drives the support plate.
  • the foreign matter removal device includes at least one liquid supply unit on a first side of the chamber; and at least one liquid outlet on the second side of the chamber.
  • the foreign matter removal device may include at least one ultrasonic generator that generates ultrasonic waves to be supplied to the fluid.
  • a plurality of trap areas 311 to 313 are located at different distances from the loading unit 314, and various objects 111 to 113 are trapped through the loading unit 314.
  • the at least one magnet (331, 332) reciprocates in a straight line
  • each of the various objects (111 to 113) is placed in a plurality of trap areas ( 311 to 313).
  • the second object 112 trapped in the second trap area 312 as a semiconductor light emitting device is collected, and the first object trapped in the first trap area 311 and the third trap area 313 as foreign substances ( 111) and the third object 113 may be removed. Accordingly, various foreign substances can be easily removed. Additionally, by manufacturing a display device using only semiconductor light-emitting devices from which foreign substances have been removed, lighting yield can be improved.
  • the embodiment is divided into a first chamber region 305-1 and a second chamber region 305-2, and a plurality of traps are installed in the first chamber region 305-1. Areas 311 to 313 may be provided, and a plurality of trap areas 315 to 317 may be provided in the second chamber area 305-2. At least one magnet 331 or 332 may be rotated under the chamber 305.
  • the foreign matter separation process is independently performed in the first chamber area 305-1 and the second chamber area 305-2, thereby enabling a more rapid process and large amount of foreign matter removal.
  • a first foreign matter separation process may be performed in the first chamber region 305 to initially remove foreign substances. Thereafter, when the first object 111 and/or the second object 112 are also trapped in the second trap area 312 where the second object 112, which is a semiconductor light emitting device, is trapped, the second trap area 312 A secondary separation process is performed by moving the trapped first object 111, second object 112, and third object 113 to the second chamber area 305-2, thereby secondarily removing foreign substances. It can be. Accordingly, foreign matter is removed more completely and only the second object 112 corresponding to the semiconductor light emitting device is collected, so that the lighting yield when implementing the display device can be further improved.
  • the plurality of trap areas 311 to 313 and 315 to 317 each have a size corresponding to the size of each foreign material, so that the trapping efficiency of foreign materials is higher and the foreign materials are less likely to be removed. Removal rate can be improved.
  • Figures 1A and 1B show assembly defects caused by foreign substances during self-assembly.
  • Figure 2 shows a living room of a house where a display device according to an embodiment is installed.
  • Figure 3 is a block diagram schematically showing a display device according to an embodiment.
  • FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of the pixel of FIG. 3.
  • FIG. 5 is an enlarged view of the first panel area in the display device of FIG. 2.
  • Figure 6 is an enlarged view of area A2 in Figure 5.
  • Figure 7 is a diagram showing an example in which a light emitting device according to an embodiment is assembled on a substrate by a self-assembly method.
  • Figure 8 is a plan view showing a foreign matter removal device according to the first embodiment.
  • Figure 9 is a first cross-sectional view showing a foreign matter removal device according to the first embodiment.
  • FIG. 10 is a plan view showing a plurality of magnet assemblies shown in FIG. 9.
  • Figure 11 is a second cross-sectional view showing a foreign matter removal device according to the first embodiment.
  • FIG. 12 is a plan view showing a plurality of magnet assemblies shown in FIG. 11.
  • Figure 13 is a cross-sectional view showing the trap substrate in detail in the foreign matter removal device according to the first embodiment.
  • Figure 14 is a plan view showing a liquid supply part and a liquid discharge part in the foreign matter removal device according to the first embodiment.
  • Figure 15 is a cross-sectional view showing a liquid supply unit, a liquid discharge unit, and an ultrasonic generation unit in the foreign matter removal device according to the first embodiment.
  • Figure 16 is a plan view showing a foreign matter removal device according to the second embodiment.
  • Figure 17 is a cross-sectional view showing a foreign matter removal device according to the second embodiment.
  • FIG. 18 is a plan view showing the magnet assembly shown in FIG. 17.
  • Figure 19 is a cross-sectional view showing the trap substrate in detail in the foreign matter removal device according to the second embodiment.
  • Figure 20 is a plan view showing a liquid supply part and a liquid discharge part in the foreign matter removal device according to the second embodiment.
  • Figure 21 is a cross-sectional view showing a liquid supply unit, a liquid discharge unit, and an ultrasonic generation unit in the foreign matter removal device according to the second embodiment.
  • Display devices described in this specification include TVs, shines, mobile phones, smart phones, head-up displays (HUDs) for automobiles, backlight units for laptop computers, VR, AR, or mixed reality (MR). ) display, etc. may be included.
  • HUDs head-up displays
  • MR mixed reality
  • the configuration according to the embodiment described in this specification can be applied to a device capable of displaying, even if it is a new product type that is developed in the future.
  • Figure 2 shows a living room of a house where a display device according to an embodiment is placed.
  • the display device 100 of the embodiment can display the status of various electronic products such as a washing machine 101, a robot vacuum cleaner 102, and an air purifier 103, and can display the status of each electronic product and IOT-based You can communicate with each other and control each electronic product based on the user's setting data.
  • the display device 100 may include a flexible display manufactured on a thin and flexible substrate.
  • Flexible displays can bend or curl like paper while maintaining the characteristics of existing flat displays.
  • a unit pixel refers to the minimum unit for implementing one color.
  • a unit pixel of a flexible display may be implemented by a light-emitting device.
  • the light emitting device may be Micro-LED or Nano-LED, but is not limited thereto.
  • FIG. 3 is a block diagram schematically showing a display device according to an embodiment
  • FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of the pixel of FIG. 3.
  • a display device may include a display panel 10, a driving circuit 20, a scan driver 30, and a power supply circuit 50.
  • the display device 100 of the embodiment may drive the light emitting device in an active matrix (AM) method or a passive matrix (PM) method.
  • AM active matrix
  • PM passive matrix
  • the driving circuit 20 may include a data driver 21 and a timing control unit 22.
  • the display panel 10 may be rectangular, but is not limited thereto. That is, the display panel 10 may be formed in a circular or oval shape. At least one side of the display panel 10 may be bent to a predetermined curvature.
  • the display panel 10 may be divided into a display area (DA) and a non-display area (NDA) disposed around the display area (DA).
  • the display area DA is an area where pixels PX are formed to display an image.
  • the display panel 10 includes data lines (D1 to Dm, m is an integer greater than 2), scan lines (S1 to Sn, n is an integer greater than 2) that intersect the data lines (D1 to Dm), and a high potential voltage.
  • a pixel ( PX) may be included.
  • Each of the pixels PX may include a first sub-pixel PX1, a second sub-pixel PX2, and a third sub-pixel PX3.
  • the first sub-pixel (PX1) emits a first color light of a first main wavelength
  • the second sub-pixel (PX2) emits a second color light of a second main wavelength
  • the third sub-pixel (PX3) A third color light of a third main wavelength may be emitted.
  • the first color light may be red light
  • the second color light may be green light
  • the third color light may be blue light, but are not limited thereto.
  • FIG. 3 it is illustrated that each of the pixels PX includes three sub-pixels, but the present invention is not limited thereto. That is, each pixel PX may include four or more sub-pixels.
  • Each of the first sub-pixel (PX1), the second sub-pixel (PX2), and the third sub-pixel (PX3) includes at least one of the data lines (D1 to Dm), at least one of the scan lines (S1 to Sn), and It can be connected to the above voltage line (VDDL).
  • the first sub-pixel PX1 may include light-emitting devices LD, a plurality of transistors for supplying current to the light-emitting devices LD, and at least one capacitor Cst.
  • each of the first sub-pixel (PX1), the second sub-pixel (PX2), and the third sub-pixel (PX3) may include only one light emitting element (LD) and at least one capacitor (Cst). It may be possible.
  • Each of the light emitting elements LD may be a semiconductor light emitting diode including a first electrode, a plurality of conductive semiconductor layers, and a second electrode.
  • the first electrode may be an anode electrode and the second electrode may be a cathode electrode, but this is not limited.
  • the light emitting device may be one of a horizontal light emitting device, a flip chip type light emitting device, and a vertical light emitting device.
  • the plurality of transistors may include a driving transistor (DT) that supplies current to the light emitting elements (LD) and a scan transistor (ST) that supplies a data voltage to the gate electrode of the driving transistor (DT).
  • the driving transistor DT is connected to a gate electrode connected to the source electrode of the scan transistor ST, a source electrode connected to the high potential voltage line VDDL to which a high potential voltage is applied, and the first electrodes of the light emitting elements LD. It may include a connected drain electrode.
  • the scan transistor (ST) has a gate electrode connected to the scan line (Sk, k is an integer satisfying 1 ⁇ k ⁇ n), a source electrode connected to the gate electrode of the driving transistor (DT), and a data line (Dj, j). It may include a drain electrode connected to an integer satisfying 1 ⁇ j ⁇ m.
  • the capacitor Cst is formed between the gate electrode and the source electrode of the driving transistor DT.
  • the storage capacitor (Cst) charges the difference between the gate voltage and source voltage of the driving transistor (DT).
  • the driving transistor (DT) and the scan transistor (ST) may be formed of a thin film transistor.
  • the driving transistor (DT) and the scan transistor (ST) are mainly described as being formed of a P-type MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor), but the present invention is not limited thereto.
  • the driving transistor (DT) and scan transistor (ST) may be formed of an N-type MOSFET. In this case, the positions of the source and drain electrodes of the driving transistor (DT) and the scan transistor (ST) may be changed.
  • each of the first sub-pixel (PX1), the second sub-pixel (PX2), and the third sub-pixel (PX3) includes one driving transistor (DT), one scan transistor (ST), and one capacitor ( Although it is exemplified to include 2T1C (2 Transistor - 1 capacitor) with Cst), the present invention is not limited thereto.
  • Each of the first sub-pixel (PX1), the second sub-pixel (PX2), and the third sub-pixel (PX3) may include a plurality of scan transistors (ST) and a plurality of capacitors (Cst).
  • the second sub-pixel (PX2) and the third sub-pixel (PX3) can be represented by substantially the same circuit diagram as the first sub-pixel (PX1), detailed descriptions thereof will be omitted.
  • the driving circuit 20 outputs signals and voltages for driving the display panel 10.
  • the driving circuit 20 may include a data driver 21 and a timing controller 22.
  • the data driver 21 receives digital video data (DATA) and source control signal (DCS) from the timing control unit 22.
  • the data driver 21 converts digital video data (DATA) into analog data voltages according to the source control signal (DCS) and supplies them to the data lines (D1 to Dm) of the display panel 10.
  • the timing control unit 22 receives digital video data (DATA) and timing signals from the host system.
  • Timing signals may include a vertical sync signal, a horizontal sync signal, a data enable signal, and a dot clock.
  • the host system may be an application processor in a smartphone or tablet PC, a monitor, or a system-on-chip in a TV.
  • the timing control unit 22 generates control signals to control the operation timing of the data driver 21 and the scan driver 30.
  • the control signals may include a source control signal (DCS) for controlling the operation timing of the data driver 21 and a scan control signal (SCS) for controlling the operation timing of the scan driver 30.
  • DCS source control signal
  • SCS scan control signal
  • the driving circuit 20 may be disposed in the non-display area (NDA) provided on one side of the display panel 10.
  • the driving circuit 20 may be formed of an integrated circuit (IC) and mounted on the display panel 10 using a chip on glass (COG) method, a chip on plastic (COP) method, or an ultrasonic bonding method.
  • COG chip on glass
  • COP chip on plastic
  • ultrasonic bonding method The present invention is not limited to this.
  • the driving circuit 20 may be mounted on a circuit board (not shown) rather than on the display panel 10.
  • the data driver 21 may be mounted on the display panel 10 using a chip on glass (COG) method, a chip on plastic (COP) method, or an ultrasonic bonding method, and the timing control unit 22 may be mounted on a circuit board. there is.
  • COG chip on glass
  • COP chip on plastic
  • the scan driver 30 receives a scan control signal (SCS) from the timing controller 22.
  • the scan driver 30 generates scan signals according to the scan control signal SCS and supplies them to the scan lines S1 to Sn of the display panel 10.
  • the scan driver 30 may include a plurality of transistors and may be formed in the non-display area NDA of the display panel 10.
  • the scan driver 30 may be formed as an integrated circuit, and in this case, it may be mounted on a gate flexible film attached to the other side of the display panel 10.
  • the circuit board may be attached to pads provided at one edge of the display panel 10 using an anisotropic conductive film. Because of this, the lead lines of the circuit board can be electrically connected to the pads.
  • the circuit board may be a flexible printed circuit board, a printed circuit board, or a flexible film such as a chip on film. The circuit board may be bent toward the bottom of the display panel 10. Because of this, one side of the circuit board is attached to one edge of the display panel 10, and the other side is placed below the display panel 10 and can be connected to a system board on which the host system is mounted.
  • the power supply circuit 50 may generate voltages necessary for driving the display panel 10 from the main power supplied from the system board and supply them to the display panel 10.
  • the power supply circuit 50 generates a high potential voltage (VDD) and a low potential voltage (VSS) for driving the light emitting elements (LD) of the display panel 10 from the main power supply to It can be supplied to the high potential voltage line (VDDL) and low potential voltage line (VSSL).
  • the power supply circuit 50 may generate and supply driving voltages for driving the driving circuit 20 and the scan driver 30 from the main power supply.
  • Figure 5 is an enlarged view of the first panel area in the display device of Figure 3.
  • the display device 100 of the embodiment may be manufactured by mechanically and electrically connecting a plurality of panel areas, such as the first panel area A1, through tiling.
  • the first panel area A1 may include a plurality of semiconductor light emitting devices 150 arranged for each unit pixel (PX in FIG. 3).
  • the unit pixel PX may include a first sub-pixel PX1, a second sub-pixel PX2, and a third sub-pixel PX3.
  • a plurality of red semiconductor light-emitting devices 150R are disposed in the first sub-pixel PX1
  • a plurality of green semiconductor light-emitting devices 150G are disposed in the second sub-pixel PX2
  • a plurality of blue semiconductor light-emitting devices are disposed in the second sub-pixel PX2.
  • (150B) may be disposed in the third sub-pixel (PX3).
  • the unit pixel PX may further include a fourth sub-pixel in which a semiconductor light-emitting device is not disposed, but this is not limited.
  • Figure 6 is an enlarged view of area A2 in Figure 5.
  • the display device 100 of the embodiment may include a substrate 200, assembly wiring 201 and 202, an insulating layer 206, and a plurality of semiconductor light emitting devices 150. More components may be included than this.
  • the assembly wiring may include a first assembly wiring 201 and a second assembly wiring 202 that are spaced apart from each other.
  • the first assembly wiring 201 and the second assembly wiring 202 may be provided to generate dielectrophoresis force (DEP force) to assemble the semiconductor light emitting device 150.
  • the semiconductor light emitting device 150 may be one of a horizontal semiconductor light emitting device, a flip chip type semiconductor light emitting device, and a vertical semiconductor light emitting device.
  • the semiconductor light-emitting device 150 may include, but is not limited to, a red semiconductor light-emitting device 150, a green semiconductor light-emitting device 150G, and a blue semiconductor light-emitting device 150B0 to form a unit pixel (sub-pixel).
  • red and green phosphors may be provided to implement red and green colors, respectively.
  • the substrate 200 may be a support member that supports components disposed on the substrate 200 or a protection member that protects the components.
  • the substrate 200 may be a rigid substrate or a flexible substrate.
  • the substrate 200 may be made of sapphire, glass, silicon, or polyimide. Additionally, the substrate 200 may include a flexible material such as PEN (Polyethylene Naphthalate) or PET (Polyethylene Terephthalate). Additionally, the substrate 200 may be made of a transparent material, but is not limited thereto.
  • the substrate 200 may function as a support substrate in a display panel, and may also function as an assembly substrate when self-assembling a light emitting device.
  • the substrate 200 may be a backplane equipped with circuits in the sub-pixels (PX1, PX2, PX3) shown in FIGS. 3 and 4, such as transistors (ST, DT), capacitors (Cst), signal wires, etc.
  • PX1, PX2, PX3 sub-pixels shown in FIGS. 3 and 4, such as transistors (ST, DT), capacitors (Cst), signal wires, etc.
  • ST, DT transistors
  • Cst capacitors
  • signal wires etc.
  • the insulating layer 206 may include an insulating and flexible organic material such as polyimide, PAC, PEN, PET, polymer, etc., or an inorganic material such as silicon oxide (SiO2) or silicon nitride series (SiNx), and may include a substrate. (200) may be integrated to form one substrate.
  • the insulating layer 206 may be a conductive adhesive layer that has adhesiveness and conductivity, and the conductive adhesive layer may be flexible and enable a flexible function of the display device.
  • the insulating layer 206 may be an anisotropic conductive film (ACF) or a conductive adhesive layer such as an anisotropic conductive medium or a solution containing conductive particles.
  • the conductive adhesive layer may be a layer that is electrically conductive in a direction perpendicular to the thickness, but electrically insulating in a direction horizontal to the thickness.
  • the insulating layer 206 may include an assembly hole 203 into which the semiconductor light emitting device 150 is inserted. Therefore, during self-assembly, the semiconductor light emitting device 150 can be easily inserted into the assembly hole 203 of the insulating layer 206.
  • the assembly hole 203 may be called an insertion hole, a fixing hole, an alignment hole, etc.
  • the assembly hall 203 may also be called a hall.
  • the assembly hole 203 may be called a hole, groove, groove, recess, pocket, etc.
  • the assembly hole 203 may be different depending on the shape of the semiconductor light emitting device 150.
  • the red semiconductor light emitting device, the green semiconductor light emitting device, and the blue semiconductor light emitting device each have different shapes, and may have an assembly hole 203 having a shape corresponding to the shape of each of these semiconductor light emitting devices.
  • the assembly hole 203 may include a first assembly hole for assembling a red semiconductor light emitting device, a second assembly hole for assembling a green semiconductor light emitting device, and a third assembly hole for assembling a blue semiconductor light emitting device. there is.
  • the red semiconductor light emitting device has a circular shape
  • the green semiconductor light emitting device has a first oval shape with a first minor axis and a second major axis
  • the blue semiconductor light emitting device has a second oval shape with a second minor axis and a second major axis.
  • the second major axis of the oval shape of the blue semiconductor light emitting device may be greater than the second major axis of the oval shape of the green semiconductor light emitting device
  • the second minor axis of the oval shape of the blue semiconductor light emitting device may be smaller than the first minor axis of the oval shape of the green semiconductor light emitting device.
  • methods for mounting the semiconductor light emitting device 150 on the substrate 200 may include, for example, a self-assembly method (FIG. 7) and a transfer method.
  • Figure 7 is a diagram showing an example in which a light emitting device according to an embodiment is assembled on a substrate by a self-assembly method.
  • the assembled substrate 200 which will be described later, can also function as the panel substrate 200a in a display device after assembly of the light emitting device, but the embodiment is not limited thereto.
  • the semiconductor light emitting device 150 may be introduced into the chamber 1300 filled with the fluid 1200, and the semiconductor light emitting device 150 may be placed on the assembly substrate ( 200). At this time, the light emitting device 150 adjacent to the assembly hole 207H of the assembly substrate 200 may be assembled into the assembly hole 207H by DEP force caused by the electric field of the assembly wiring.
  • the fluid 1200 may be water such as ultrapure water, but is not limited thereto.
  • the chamber may be called a water tank, container, vessel, etc.
  • the assembled substrate 200 may be placed on the chamber 1300. Depending on the embodiment, the assembled substrate 200 may be input into the chamber 1300.
  • the semiconductor light emitting device 150 may be implemented as a vertical semiconductor light emitting device as shown, but is not limited to this and a horizontal light emitting device may be employed.
  • the semiconductor light emitting device 150 may include a magnetic layer (not shown) containing a magnetic material.
  • the magnetic layer may include a magnetic metal such as nickel (Ni). Since the semiconductor light emitting device 150 introduced into the fluid includes a magnetic layer, it can move to the assembly substrate 200 by the magnetic field generated from the assembly device 1100.
  • the magnetic layer may be disposed on the top or bottom or on both sides of the light emitting device.
  • the semiconductor light emitting device 150 may include a passivation layer 156 surrounding the top and side surfaces.
  • the passivation layer 156 may be formed using an inorganic insulator such as silica or alumina through PECVD, LPCVD, sputtering deposition, etc. Additionally, the passivation layer 156 may be formed by spin coating an organic material such as photoresist or polymer material.
  • the semiconductor light emitting device 150 may include a first conductivity type semiconductor layer 152a, a second conductivity type semiconductor layer 152c, and an active layer 152b disposed between them.
  • the first conductive semiconductor layer 152a may be an n-type semiconductor layer
  • the second conductive semiconductor layer 152c may be a p-type semiconductor layer, but are not limited thereto.
  • the first conductive semiconductor layer 152a, the second conductive semiconductor layer 152c, and the active layer 152b disposed between them may constitute the light emitting unit 152.
  • the light emitting unit 152 may be called a light emitting layer, a light emitting area, etc.
  • the first electrode (layer) 154a may be disposed under the first conductivity type semiconductor layer 152a, and the second electrode (layer) 154b may be disposed on the second conductivity type semiconductor layer 152c. there is. To this end, a partial area of the first conductivity type semiconductor layer 152a or the second conductivity type semiconductor layer 152c may be exposed to the outside. Accordingly, in the manufacturing process of the display device after the semiconductor light emitting device 150 is assembled on the assembly substrate 200, some areas of the passivation layer 156 may be etched.
  • the first electrode 154a may include at least one layer.
  • the first electrode 154a may include an ohmic layer, a reflective layer, a magnetic layer, a conductive layer, an anti-oxidation layer, an adhesive layer, etc.
  • the ohmic layer may include Au, AuBe, etc.
  • the reflective layer may include Al, Ag, etc.
  • the magnetic layer may include Ni, Co, etc.
  • the conductive layer may include Cu or the like.
  • the anti-oxidation layer may include Mo and the like.
  • the adhesive layer may include Cr, Ti, etc.
  • the second electrode 154b may include a transparent conductive layer.
  • the second electrode 154b may include ITO, IZO, etc.
  • the assembly substrate 200 may include a pair of first assembly wiring lines 201 and second assembly wiring lines 202 corresponding to each of the semiconductor light emitting devices 150 to be assembled.
  • Each of the first assembled wiring 201 and the second assembled wiring 202 may be formed by stacking multiple single metals, metal alloys, metal oxides, etc.
  • the first assembled wiring 201 and the second assembled wiring 202 each have Cu, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf It may be formed including at least one of the following, but is not limited thereto.
  • the gap between the first assembly wiring 201 and the second assembly wiring 202 may be smaller than the width of the semiconductor light emitting device 150 and the width of the assembly hole 207H, and the assembly of the semiconductor light emitting device 150 using an electric field. The position can be fixed more precisely.
  • An insulating layer 215 is formed on the first assembled wiring 201 and the second assembled wiring 202 to protect the first assembled wiring 201 and the second assembled wiring 202 from the fluid 1200, and Leakage of current flowing through the first assembly wiring 201 and the second assembly wiring 202 can be prevented.
  • the insulating layer 215 may be formed of a single layer or multiple layers of an inorganic insulator such as silica or alumina or an organic insulator.
  • the insulating layer 215 may have a minimum thickness to prevent damage to the first assembly wiring 201 and the second assembly wiring 202 when assembling the semiconductor light emitting device 150. can have a maximum thickness for stable assembly.
  • a partition 207 may be formed on the insulating layer 215. Some areas of the partition wall 207 may be located on top of the first assembly wiring 201 and the second assembly wiring 202, and the remaining area may be located on the top of the assembly substrate 200.
  • An assembly hole 207H where the semiconductor light emitting devices 150 are coupled is formed in the assembly substrate 200, and the surface where the assembly hole 207H is formed may be in contact with the fluid 1200.
  • the assembly hole 207H can guide the exact assembly position of the semiconductor light emitting device 150.
  • the assembly hole 207H may have a shape and size corresponding to the shape of the semiconductor light emitting device 150 to be assembled at the corresponding location. Accordingly, it is possible to prevent another semiconductor light emitting device from being assembled or a plurality of semiconductor light emitting devices from being assembled into the assembly hole 207H.
  • Assembly device 1100 may be a permanent magnet or an electromagnet.
  • the assembly device 1100 may move while in contact with the assembly substrate 200 in order to maximize the area to which the magnetic field is applied within the fluid 1200.
  • the assembly device 1100 may include a plurality of magnetic materials or may include a magnetic material of a size corresponding to that of the assembly substrate 200. In this case, the moving distance of the assembly device 1100 may be limited to within a predetermined range.
  • the semiconductor light emitting device 150 in the chamber 1300 may move toward the assembly device 1100 and the assembly substrate 200 by the magnetic field generated by the assembly device 1100.
  • the semiconductor light emitting device 150 may enter the assembly hole 207H and be fixed by the DEP force formed by the electric field between the assembly wires 201 and 202 while moving toward the assembly device 1100.
  • the first and second assembly wirings 201 and 202 generate an electric field using an AC power source, and a DEP force may be formed between the assembly wirings 201 and 202 due to this electric field.
  • the semiconductor light emitting device 150 can be fixed to the assembly hole 207H on the assembly substrate 200 by this DEP force.
  • a predetermined solder layer (not shown) is formed between the light emitting device 150 assembled on the assembly hole 207H of the assembly substrate 200 and the assembly wiring 201 and 202 to improve the bonding force of the light emitting device 150. It can be improved.
  • a molding layer (not shown) may be formed in the assembly hole 207H of the assembly substrate 200.
  • the molding layer may be a transparent resin or a resin containing a reflective material or a scattering material.
  • the time required to assemble each semiconductor light-emitting device on a substrate can be drastically shortened, making it possible to implement a large-area, high-pixel display more quickly and economically.
  • FIGS. 8 to 21 Descriptions omitted below can be easily understood from FIGS. 1 to 7 and the description given above in relation to the corresponding drawings.
  • Figure 8 is a plan view showing a foreign matter removal device according to the first embodiment.
  • Figure 9 is a first cross-sectional view showing a foreign matter removal device according to the first embodiment.
  • FIG. 10 is a plan view showing a plurality of magnet assemblies shown in FIG. 9.
  • the foreign matter removal device 300 may include a chamber 305 and a plurality of magnet assemblies 330-1 to 330-4.
  • Chamber 305 may contain fluid 320 .
  • Fluid 320 may flow into chamber 305 and may be discharged out of chamber 305 .
  • the fluid 320 may be a liquid such as water, but is not limited thereto.
  • the chamber 305 may be rectangular when viewed from above, as shown in FIG. 8, but is not limited thereto.
  • the chamber 305 may include a loading unit 314, a first trap area 311, a second trap area 312, and a third trap area 313.
  • the loading unit 314 may be an inlet through which various objects 111 to 113 can be loaded into the fluid 320 within the chamber 305.
  • the objects 111 to 113 are members used in the self-assembly process and may include semiconductor components, devices, and various foreign substances. If various foreign substances are not removed before performing the self-assembly process, the various foreign substances interfere with the assembly of the semiconductor light emitting device during the self-assembly process, resulting in a significant decrease in lighting yield. Therefore, various foreign substances must be removed before performing the self-assembly process.
  • the objects may include a first object 111, a second object 112, and a third object 113 that have different sizes or magnetization strengths.
  • the magnetization intensity of the second object 112 is greater than the magnetization intensity of the first object 111, and the magnetization intensity of the third object 113 is greater than the magnetization intensity of the second object 112. It can be big.
  • the size of the second object 112 may be larger than the size of the first object 111, and the size of the third object 113 may be larger than the size of the second object 112.
  • the first object 111 may be a first foreign matter
  • the third object 113 may be a second foreign matter
  • the second object 112 may be a semiconductor light emitting device, but the present invention is not limited thereto.
  • the first object 111 may be a metal fragment, an organic material fragment, an inorganic material fragment, or a semiconductor material fragment. These metal fragments, organic fragments, inorganic fragments, semiconductor material fragments, etc. may be generated in the process of manufacturing or distributing semiconductor light-emitting devices.
  • the third object 113 may be an organic lump, an inorganic lump, a metal lump, a semiconductor light-emitting device lump composed of several semiconductor light-emitting devices, etc.
  • the third object 113 may be a composite mass in which at least two of organic materials, inorganic materials, metals, and semiconductor light emitting devices are combined.
  • the foreign matter removal device 300 can remove various foreign substances attached to or mixed with the semiconductor light emitting device before performing the self-assembly process.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 may be defined on the bottom (or bottom surface) of the chamber 305.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 may be defined on the trap substrate 310.
  • the trap substrate 310 may also be called a filter substrate.
  • the trap substrate 310 may be placed on the bottom of the chamber 305.
  • the trap substrate 310 may be removable, but this is not limited.
  • the trap substrate 310 may include a first trap area 311, a second trap area 312, and a third trap area 313.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 may be adjacent to each other.
  • the first trap area 311 may be adjacent to one side of the second trap area 312, and the third trap area 313 may be adjacent to the other side of the second trap area 312.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 may be formed integrally with the trap substrate 310.
  • the trap substrate 310 includes a first trap substrate corresponding to the first trap region 311, a second trap substrate corresponding to the second trap region 312, and a third trap region 313. It may also include a third trap substrate corresponding to.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 may be located adjacent to each other along the first direction (X).
  • the sizes of the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 may be different from each other.
  • the size of the second trap area 312 is shown to be larger than the size of the first trap area 311 or the size of the third trap area 313, but this is not limited.
  • the loading unit 314 may be located on the first trap area 311.
  • the loading unit 314 may be disposed long along the second direction (Y).
  • the loading unit 314 may be disposed on the first trap area 311 adjacent to one end of the chamber 305.
  • Various objects 111 to 113 may be loaded into the fluid 320 on the first trap area 311 through the loading unit 314.
  • the second trap area 312 may be located farther from the loading unit 314 than the first trap area 311 .
  • the third trap area 313 may be located farther from the loading unit 314 than the second trap area 312 .
  • Objects 111 to 320 loaded into the fluid 320 on the first trap area 311 along the movement direction of the at least one magnet 331 and 332 included in each of the plurality of magnet assemblies 330-1 to 330-4. 113) can be moved.
  • Each of the plurality of magnet assemblies 330-1 to 330-4 may reciprocate at least one magnet 331 or 332 in a straight line. That is, each of the plurality of magnet assemblies (330-1 to 330-4) includes at least one magnet (331, 332) in the first trap area (311) and the second trap area (312) along the first direction (X). And it can be repeatedly reciprocated to pass through the third trap area 313. Accordingly, the first object 111 is trapped in the first trap area 311, the second object 112 is trapped in the second trap area 312, and the third object 113 is trapped in the third trap area. It can be trapped at (313). Movement of the at least one magnet 331 or 332 may begin when the objects 111 to 113 are loaded with the fluid 320 on the first trap area 311, but the present invention is not limited thereto.
  • a plurality of magnet assemblies 330-1 to 330-4 may be disposed below the chamber 305.
  • Each of the plurality of magnet assemblies 330-1 to 330-4 may include at least one magnet 331 or 332, a rail 335, and at least one motor 337 or 338.
  • the plurality of magnet assemblies (330-1 to 330-4) reciprocate at least one magnet (331, 332) in a first direction (X) horizontally below the chamber 305 with respect to the lower surface of the chamber 305. You can do it.
  • Motors 337 and 338 may be located below both ends of the chamber 305 to drive the rail 335.
  • the axes of the motors 337 and 338 may be positioned long along the second direction (Y).
  • the motors 337 and 338 may reciprocate the rail 335 in a specific direction, for example, the first direction (X).
  • the rail 335 may reciprocate counterclockwise around the axis of the motors 337 and 338.
  • the rail 335 can reciprocate along the up and down direction. Accordingly, at least one magnet 331 or 332 mounted on the rail 335 may also reciprocate along the vertical direction.
  • At least one magnet 331 or 332 may be reciprocated along the first direction (X) by the rail 335. At least one magnet 331 or 332 may move away from the loading unit 314 along the first direction (X) and then move back toward the loading unit 314 along the first direction.
  • At least one magnet 331 or 332 is located under the rail 335 and moved to the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313, and then moves to the rail 335. It is located on the top and can be moved to the third trap area 313, the second trap area 312, and the first trap area 311.
  • the at least one magnet 331, 332 is positioned on the rail 335 rather than when the at least one magnet 331, 332 is positioned below the rail 335, the at least one magnet 331, 332 is positioned on the trap substrate 310. 1 Being closer to the object 111, the second object 112, and the third object 113, a larger magnetic field will be applied to the first object 111, the second object 112, and the third object 113. You can.
  • At least one magnet 331 or 332 is located on the rail 335 and moved to the third trap area 313, the second trap area 312 and the first trap area 311, at least one magnet
  • Each of the first object 111, the second object 112, and the third object 113 is magnetized by the magnetic field generated in (331, 332) and can be moved toward at least one magnet (331, 332). there is.
  • the moving speed or moving distance of the first object 111, the second object 112, and the third object 113 may vary depending on the size or magnetization strength of each.
  • the third object 113 which has the largest size or magnetization strength, moves at the fastest speed toward at least one magnet 331, 332, then the second object 112, and finally The first object 111 may be moved.
  • each of the at least one magnet (331, 332) Since the number of rotations for the reciprocating motion of each of the at least one magnet (331, 332) is hundreds to thousands of times per minute, the first object, the second object 112, and the third object 113 have at least one magnet (331) , 332), the distance away from the loading unit 314 varies, so that they can be divided into clusters.
  • the first object 111 is small in size and has weak or almost no magnetization, so even if at least one magnet 331, 332 reciprocates thousands of times per minute, the first objects 111 as the first group act as the first trap. It can be located within the first trap area 311 without leaving the area 311. Since the third object 113 has the largest size and/or magnetization strength, it can be moved toward at least one magnet 331 or 332 compared to the first object 111 and the second object 112.
  • the third objects 113 as a third group may be moved to the third trap area 313. Since the second object 112 has a larger size and magnetization intensity than the first object 111 and a smaller size and magnetization intensity than the third object 113, at least one magnet 331, 332 reciprocates for a certain period of time. When moving, the second objects 112 as a second group may be moved to the second trap area 312.
  • the reciprocating motion of at least one magnet 331 or 332 may be continuously performed until the third object 113 moves from the loading unit 314 to the third trap area 313, but this is limited. I never do that.
  • magnet assemblies 330-1 to 330-4 are shown in the drawing, fewer or more magnet assemblies may be provided.
  • the rail 335 may be reciprocated along the vertical direction (FIGS. 9 and 10). In contrast, the rail 335 may reciprocate along the horizontal direction.
  • FIG. 11 is a second cross-sectional view showing a foreign matter removal device according to the first embodiment.
  • FIG. 12 is a plan view showing a plurality of magnet assemblies shown in FIG. 11.
  • the plurality of magnet assemblies 330-1 to 330-3 may include at least one magnet 331 to 334, a rail 335, and motors 337 and 338. there is.
  • a plurality of magnet assemblies (330-1 to 330-3) reciprocate at least one magnet (331 to 334) in a first direction (X) horizontally below the chamber 305 with respect to the lower surface of the chamber 305. You can do it.
  • Motors 337 and 338 may be located below both ends of the chamber 305 to drive the rail 335.
  • the axes of the motors 337 and 338 may be positioned long along the third direction (Z).
  • the motors 337 and 338 may reciprocate the rail 335 in a specific direction, for example, the first direction (X).
  • the rail 335 may reciprocate counterclockwise (or clockwise) around the axis of the motors 337 and 338.
  • the rail 335 may reciprocate along the horizontal direction. Accordingly, at least one magnet 331 to 334 mounted on the rail 335 may also reciprocate along the horizontal direction.
  • At least one magnet 331 to 334 may be reciprocated along the first direction (X) by the rail 335. At least one magnet 331 to 334 may move away from the loading unit 314 along the first direction (X) and then move back toward the loading unit 314 along the first direction.
  • At least one magnet 331 to 334 is located on the outside of the rail 335 and moved to the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313, and then moves to the rail 335. It is located on the outside and can be moved to the third trap area 313, the second trap area 312, and the first trap area 311. That is, at least one magnet 331 to 334 may maintain the same distance from the lower surface of the chamber 305 while reciprocating.
  • At least one magnet (331 to 334) When at least one magnet (331 to 334) is moved to the third trap area (313), the second trap area (312) and the first trap area (311), the at least one magnet (331 to 334) generates Each of the first object 111, the second object 112, and the third object 113 may be magnetized by the magnetic field and moved toward at least one magnet 331 to 334.
  • the loading unit 314 includes at least one magnet 331 to 334 of each of the plurality of magnet assemblies 330-1 to 330-3 in the third trap area 313, the second trap area 312, and Each location corresponding to the movement line moving in the first trap area 311 may be configured as an independent loading unit 314.
  • the loading unit 314 may also be composed of three loading units 314 divided independently from each other.
  • the first object 111, the second object 112, and the third object 113 loaded into each loading unit 314 are at least one of each of the plurality of magnet assemblies 330-1 to 330-3.
  • the second trap area 312 and the first trap area 311 at least one magnet 331 to 334 has different moving speeds.
  • the first object 111 is trapped in the first trap area 311
  • the second object 112 is trapped in the second trap area 312
  • the third object 113 is trapped in the third trap area. It can be trapped at (313).
  • the moving speed or moving distance of the first object 111, the second object 112, and the third object 113 may vary depending on the size or magnetization strength of each.
  • the third object 113 which has the largest size or magnetization strength, moves at the fastest speed toward at least one magnet 331 to 334, then the second object 112, and finally The first object 111 may be moved.
  • magnet assemblies 330-1 to 330-3 and 330-4 are shown in the drawing, fewer or more magnet assemblies may be provided.
  • Figure 13 is a cross-sectional view showing the trap substrate in detail in the foreign matter removal device according to the first embodiment.
  • the trap substrate 310 may include a first trap area 311, a second trap area 312, and a third trap area 313.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 include a plurality of first trap grooves 341, a plurality of second trap grooves 342, and a plurality of third traps, respectively. It may include a groove 343.
  • the first trap groove 341, the second trap groove 342, and the third trap groove 343 may each have different diameters D1, D2, and D3.
  • the first trap groove 341, the second trap groove 342, and the third trap groove 343 correspond to the first object 111, the second object 112, and the third object 113, respectively. You can have any size.
  • the first trap area 311 has a first trap groove 341 having a first diameter D1, a second trap groove 342 having a second diameter D2, and a third trap area 313. ) may have a third trap groove 343 having a third diameter D3.
  • the second diameter D2 may be larger than the first diameter D1
  • the third diameter D3 may be larger than the second diameter D2.
  • the third diameter D3 may be the same as the second diameter D2.
  • the first diameter D1 is larger than the diameter (or size) of the first object 111
  • the second diameter D2 is larger than the diameter (or size) of the second object 112
  • the third diameter ( D3) may be larger than the diameter (or size) of the third object 113.
  • the depths of the first trap groove 341, the second trap groove 342, and the third trap groove 343 may be different, but this is not limited.
  • the depth of the first trap groove 341 may be equal to or greater than the height of the first object 111, but is not limited thereto.
  • the depth of the second trap groove 342 may be equal to or greater than the height of the second object 112, but is not limited thereto.
  • the depth of the third trap groove 343 may be equal to or greater than the height of the third object 113, but is not limited thereto.
  • Each of the first object 111, the second object 112, and the third object 113 loaded into the fluid 320 by the loading unit 314 moves toward each other in the reciprocating motion of at least one magnet 331 to 334. It can move away from the loading unit 314 with different moving speeds.
  • the size and/or magnetization intensity of the third object 113 is the largest compared to each of the first object 111 and the second object 112, so the first object 111 ) and the second object 112 may move away from the loading unit 314 faster than each other. Accordingly, the third object 113 may be moved to the third trap area 313 via the first trap area 311 and the second trap area 312, and may be trapped in the third trap area 313. there is.
  • the entire third object 113 is inserted into the third trap groove 343 of the third trap area 313, or only a partial area of the third object 113 is inserted into the third trap groove 343 of the third trap area 313. It can be inserted into (343).
  • the size and/or magnetization intensity of the second object 112 is greater than that of the first object 111, and therefore, the size and/or magnetization intensity of the second object 112 are greater than those of the first object 111, You can move away faster. Accordingly, the second object 112 may be moved to the second trap area 312 via the first trap area 311 and trapped in the second trap area 312 . The entire second object 112 may be inserted into the second trap groove 342 of the second trap area 312, but this is not limited.
  • the size and/or magnetization intensity of the first object 111 is the smallest compared to the second object 112 and the third object 113, so the second object 112 And it may be less distant from the loading unit 314 than the third object 113.
  • the first object 111 may be located within the first trap area 311 without leaving the first trap area 311. . Accordingly, the first object 111 may be trapped in the first trap groove 341 of the first trap area.
  • the trap substrate 310 may include a first trap substrate, a second trap substrate, and a third trap substrate that are independently separated from each other.
  • the first trap substrate has a size corresponding to the first trap area 311
  • the second trap substrate has a size corresponding to the second trap area 312
  • the third trap substrate has a size corresponding to the third trap area 312. It may have a size corresponding to (313).
  • Figure 14 is a plan view showing a liquid supply part and a liquid discharge part in the foreign matter removal device according to the first embodiment.
  • Figure 15 is a cross-sectional view showing a liquid supply unit, a liquid discharge unit, and an ultrasonic generation unit in the foreign matter removal device according to the first embodiment.
  • the foreign matter removal device 300 includes at least one liquid supply unit 350, at least one liquid discharge unit 360, and at least one ultrasonic generation unit 371, 372) may be included.
  • Liquid supply 350 may be located on the first side of chamber 305 to supply liquid into chamber 305.
  • the liquid supply unit 350 may be, but is not limited to, a liquid supply pipe embedded in a first side wall located on the first side of the chamber 305.
  • the liquid supply pipe may be disposed long along the first direction (X), but there is no limitation thereto.
  • the liquid supply unit 350 may include a plurality of nozzles (not shown) connected to the liquid supply pipe and the inside of the first side wall to simultaneously supply liquid provided to one or both sides of the liquid supply pipe into the chamber 305. Each nozzle may be provided with a valve (not shown) capable of blocking the supply of liquid.
  • Liquid is supplied into the chamber 305 through the liquid supply unit 350, and the first object 111, the second object 112, and the third object 113 are supplied into the chamber 305 through the loading unit 314. Can be loaded into filled fluid 320. Thereafter, at least one magnet 331 to 334 of each of the plurality of magnet assemblies 330-1 to 330-4 reciprocates, thereby causing the first object 111, the second object 112, and the third object 113. ) may be trapped in the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313, respectively.
  • the liquid discharge portion 360 may be, but is not limited to, a liquid discharge pipe embedded in a second side wall located on the second side of the chamber 305.
  • the liquid discharge pipe may be disposed long along the first direction (X), but is not limited thereto.
  • the liquid discharge unit 360 may discharge liquid to the outside through one or both sides of the liquid discharge pipe.
  • the liquid discharge unit 360 may include a plurality of nozzles (not shown) connected to the liquid discharge pipe and the inside of the second side wall so that the liquid in the chamber 305 is simultaneously discharged to the outside. Each nozzle may be provided with a valve (not shown) to block it from the outside.
  • the fluid 320 may be discharged to the outside through the fluid discharge unit.
  • the liquid supply unit 350 is located higher from the ground than the liquid discharge unit 360, liquid can be filled in the chamber 305 more quickly and the liquid in the chamber 305 can be discharged to the outside more quickly.
  • the liquid supply unit 350 may be disposed on the upper side of the first side wall, and the liquid discharge portion 360 may be disposed on the lower side of the second side wall.
  • the liquid discharge unit 360 may be positioned higher from the ground than the trap substrate 310.
  • the ultrasonic waves generators 371 and 372 may generate ultrasonic waves to be supplied to the fluid 320 in the chamber 305.
  • the third object 113 may be a composite mass in which at least two of organic, inorganic, metal, and semiconductor light emitting devices are combined. Even though the semiconductor light emitting device included in the composite lump is a normal semiconductor light emitting device, it may be included in the composite lump and be trapped in the third trap area 313 and discarded.
  • the ultrasonic waves generated by the ultrasonic generators 371 and 372 are applied to the fluid 320 in the chamber 305, vibration is generated in the fluid 320 by the ultrasonic waves, and the composite lump is broken up by this vibration. It can be separated into organic fragments, inorganic fragments, metal fragments, semiconductor light-emitting devices, etc. In this way, the semiconductor light emitting device is separated from the composite mass and trapped in the second trap region 312, thereby reducing the discard rate of the semiconductor light emitting device and reducing manufacturing costs.
  • the object 112 trapped in each of the first trap area 311 and the third trap area 313 is collected.
  • 1 foreign matter and the second foreign matter can be collected.
  • the semiconductor light emitting device can be collected using a magnetic pipette. Magnetic pipettes have a built-in magnet, so the magnet can move in and out of the housing. After the magnet pipette is positioned on the second trap area 312, the magnet is lowered below the housing, so that the semiconductor light emitting device can be attached to the magnet pipette by the magnetic field of the magnet.
  • the magnet pipette After the magnet pipette is moved to the collection bin, the magnet is raised and enters the inside of the housing, so that the semiconductor light emitting device can be collected in the collection bin. By repeating this process, all semiconductor light emitting devices trapped in the second trap area 312 can be collected in the collection box.
  • the trap substrate 310 is detached to remove the first and second foreign substances trapped in the first trap area 311 and the third trap area 313, respectively. You can.
  • Figure 16 is a plan view showing a foreign matter removal device according to the second embodiment.
  • Figure 17 is a cross-sectional view showing a foreign matter removal device according to the second embodiment.
  • FIG. 18 is a plan view showing the magnet assembly shown in FIG. 17.
  • the second embodiment is similar to the first embodiment except that at least one magnet 331 or 332 rotates around the center of the chamber 305.
  • components having the same shape, structure, and/or function as those of the first embodiment are assigned the same reference numerals and detailed descriptions are omitted.
  • the foreign matter removal device 301 may include a chamber 305 and a magnet assembly 330.
  • the chamber 305 may have a circular shape when viewed from above, but is not limited thereto.
  • the chamber 305 may include a first chamber region 305-1 and a second chamber region 305-2.
  • the first chamber region 305-1 and the second chamber region 305-2 may each have a hemispherical shape.
  • the straight surface of the first chamber area 305-1 and the straight surface of the second chamber area 305-2 may be in contact with each other, but this is not limited.
  • a chamber 305 having a circular shape may be formed by a first chamber region 305-1 and a second chamber region 305-2 that are in contact with each other through straight surfaces.
  • the first chamber area 305-1 may include a first loading part 314, a first trap area 311 (311), a second trap area 312 (312), and a third trap area 313. You can.
  • the sizes of the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 may be different from each other. In the drawing, the size of the second trap area 312 is shown to be larger than the size of the first trap area 311 or the size of the third trap area 313, but this is not limited.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 may each have the shape of a piece of cake.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 may each contact the center of the chamber 305.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 may contact each other. That is, the first trap area 311 may be in contact with one side of the second trap area 312, and the third trap area 313 may be in contact with the other side of the second trap area 312.
  • the second chamber area 305-2 may include a second loading unit 318, a fourth trap area 315, a fifth trap area 316, and a sixth trap area 317.
  • the sizes of the fourth trap area 315, the fifth trap area 316, and the sixth trap area 317 may be different from each other.
  • the size of the fifth trap area 316 is shown to be larger than the size of the fourth trap area 315 or the size of the sixth trap area 317, but this is not limited.
  • the fourth trap area 315, the fifth trap area 316, and the sixth trap area 317 may each have the shape of a piece of cake.
  • the fourth trap area 315, the fifth trap area 316, and the sixth trap area 317 may each contact the center of the chamber 305.
  • the fourth trap area 315, the fifth trap area 316, and the sixth trap area 317 may contact each other. That is, the fourth trap area 315 may be in contact with one side of the fifth trap area 316, and the sixth trap area 317 may be in contact with the other side of the fifth trap area 316.
  • the first loading unit 314 is disposed on the first trap area 311 of the first chamber area 305-1, and the second loading unit 318 is disposed on the fourth trap area 311 of the second chamber area 305-2. It may be placed on the trap area 315.
  • the first loading part 314 and the second loading part 318 may be symmetrical to each other with respect to the center of the chamber 305.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, the third trap area 313, the fourth trap area 315, the fifth trap area 316, and the sixth trap area 317 are each chamber It touches at the center of (305) and can form a circle along its outer circumference.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 are the fourth trap area 315, the fifth trap area 316, and the center of the chamber 305, respectively. It may be symmetrical to the sixth trap area 317.
  • the first trap area 311 and the fourth trap area 315 may be symmetrical to each other with respect to the center of the chamber 305.
  • the second trap area 312 and the fifth trap area 316 may be symmetrical to each other with respect to the center of the chamber 305.
  • the third trap area 313 and the sixth trap area 317 may be symmetrical to each other with respect to the center of the chamber 305.
  • the trap substrate 310 may have a shape corresponding to the shape of the chamber 305. Since the chamber 305 has a circular shape, the trap substrate 310 may also have a circular shape.
  • the magnet assembly 330 may rotate at least one magnet 331 or 332 in a clockwise direction based on the center of the chamber 305.
  • the magnet assembly 330 includes at least one magnet 331 or 332 in a sixth trap area 317, a fifth trap area 316, a fourth trap area 315, a third trap area 313, or a second trap area. It can be rotated based on the center of the chamber 305 to pass through the trap area 312 and the first trap area 311.
  • the magnet assembly 330 may include at least one magnet 331 or 332 (331, 332), a support plate 336, and a motor 337.
  • the magnet assembly 330 may rotate at least one magnet 331 or 332 under the chamber 305 in a clockwise direction based on the center of the chamber 305.
  • the motor 337 may be located below the chamber 305 and in the center of the chamber 305 to drive the support plate 336.
  • the axis of the motor 337 may be positioned long along the third direction (Z).
  • the motor 337 may rotate the support plate 336 clockwise based on the center of the chamber 305.
  • the support plate 336 may rotate clockwise around the axis of the motor 337. Accordingly, at least one magnet 331 or 332 mounted on the support plate 336 may also rotate clockwise.
  • At least one magnet 331 or 332 is located below the chamber 305 in a sixth trap area 317, a fifth trap area 316, a fourth trap area 315, a third trap area 313, or a second trap area 315. It may be rotated clockwise based on the center of the chamber 305 to pass through the trap area 312 and the first trap area 311. This rotational movement can be performed repeatedly.
  • each of the at least one magnet (331, 332) rotates clockwise, when at least one magnet (331, 332) is adjacent to the second loading unit (318), each of the at least one magnet (331, 332)
  • the fourth object 114, the fifth object 115, and the sixth object 116 loaded by the second loading unit 318 by the magnetic field generated by (or the first object 111, the second object ( 112) and the third object 113) may be magnetically charged and moved toward at least one magnet 331 or 332.
  • at least one magnet 331 or 332 is connected to the fourth object 114, the fifth object 115, and the sixth object 116 (or the first object 111, the second object 112, and the third object 116).
  • the first loading unit 314 When adjacent to the first loading unit 314 by rotational movement after passing the object 113, the first loading unit 314 is loaded by the magnetic fields of each of at least one or more magnets 331 and 332.
  • the first object 111, the second object 112, and the third object 113 may be magnetized and moved toward at least one magnet 331 or 332.
  • the first object 111, the second object 112, and the third object 113 are loaded from the first loading unit 314.
  • the fourth object 114, the fifth object 115, and the sixth object 116 (or the first object 111, the second object 112, and the third object 116) loaded from the second loading unit 318 The object 113 may rotate counterclockwise.
  • the size and/magnetization of each of the first object 111, the second object 112, the third object 113, the fourth object 114, the fifth object 115, and the sixth object 116 The movement speed is different depending on the intensity. Accordingly, the rotational movement of at least one magnet 331 or 332 is repeatedly performed, so that the first object 111, the second object 112, and the third object 113 loaded from the first loading unit 314 ) is trapped in the first trap area 311, the second trap area 312 and the third trap area 313, which are respectively located at different distances from the first loading unit 314, and the second loading unit 318
  • the fourth object 114, the fifth object 115, and the sixth object 116 (or the first object 111, the second object 112, and the third object 113) loaded from are respectively the second It may be trapped in the fourth trap area 315, the fifth trap area 316, and the sixth trap area 317 located at different distances from the loading unit 318.
  • the first object 111, the second object 112, the third object 113, the fourth object 114, the fifth object 115, and the sixth object 116 are each hundreds of Since there are hundreds to millions of objects, the first objects 111 are trapped as a first cluster in the first trap area 311, and the second objects 112 are trapped as a second cluster in the second trap area 312. Third objects 113 may be trapped as a third group in the third trap area 313. The fourth objects 114 are trapped as a fourth cluster in the fourth trap area 315, the fifth objects 115 are trapped as a fifth cluster in the fifth trap area 316, and the sixth trap area 317 ), the sixth objects 116 may be trapped as the sixth cluster.
  • the foreign matter removal device 301 according to the second embodiment can be operated in two ways as follows.
  • the first object 111, the second object 112, and the third object 113 are loaded into the fluid 320 through the first loading unit 314, and the fluid 320 is loaded through the second loading unit 318.
  • the fourth object 114, the fifth object 115, and the sixth object 116 may be loaded.
  • the first object 111 and the fourth object 114 may have a similar (or the same) material type, a similar (or the same) size, and/or a similar (or the same) magnetization strength.
  • the second object 112 and the fifth object 115 may have a similar (or the same) material type, a similar (or the same) size, and/or a similar (or the same) magnetization strength.
  • the third object 113 and the sixth object 116 may have a similar (or the same) material type, a similar (or the same) size, and/or a similar (or the same) magnetization strength.
  • the first object 111 and the fourth object 114 are the first foreign matter
  • the second object 112 and the fifth object 115 are semiconductor light emitting devices
  • the third object 113 and the sixth object are (116) may be a second foreign body, but there is no limitation thereto.
  • the first foreign material as the first object 111 and the first foreign material as the fourth object 114 may have similar or identical types, sizes, and/or magnetization strengths.
  • the second foreign material as the third object 113 and the second foreign material as the sixth object 116 may have similar or identical types, sizes, and/or magnetization strengths.
  • the semiconductor light emitting device as the second object 112 and the semiconductor light emitting device as the fifth object 115 may emit the same color light or different color light.
  • At least one magnet 331 or 332 may be moved clockwise based on the center of the chamber 305 by the magnet assembly 330 .
  • the number of rotations of each of the at least one magnets 331 and 332 may be hundreds to thousands of times per minute.
  • Each of the at least one magnets 331 and 332 may rotate at a rotation speed of hundreds to thousands of times per minute. Accordingly, the first object, the second object 112, and the third object 113 loaded through the first loading unit 314 are loaded into the first loading unit 314 by at least one magnet 331 or 332. As the distance from each other changes, they can be classified into clusters. In addition, the fourth object 114, the fifth object 115, and the sixth object 116 loaded through the second loading unit 318 are loaded into the second loading unit ( 318), as the distance from each other changes, they can be classified into clusters.
  • the first object 111 is trapped in the first trap area 311 of the first chamber area 305-1
  • the second object 112 is trapped in the second trap area 311 of the first chamber area 305-1. It is trapped in the trap area 312, and the third object 113 may be trapped in the third trap area 313 of the first chamber area 305-1.
  • the fourth object 114 is trapped in the fourth trap area 315 of the second chamber area 305-2
  • the fifth object 115 is trapped in the fifth trap area 315 of the second chamber area 305-2 ( 316)
  • the sixth object 116 may be trapped in the sixth trap area 317 of the second chamber area 305-2.
  • the second operation method may be divided into a first operation section and a second operation section.
  • the first object 111, the second object 112, and the third object 113 may be loaded into the fluid 320 in the chamber 305 through the first loading unit 314. Thereafter, at least one magnet 331, 332 continuously rotates clockwise by the magnet assembly 330, so that each of the first object 111, the second object 112, and the third object 113 It may be trapped in the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313.
  • the second object 112 is trapped in the second trap area 312.
  • the first object 111, the second object 112, and the third object 113 are all trapped in the second trap area 312, and only the second object 112, that is, the semiconductor light emitting device, is trapped in the first object. It cannot be collected separately from (111) and the second object (112).
  • a second operation section may be added.
  • the first object 111, the second object 112, and the third object 113 trapped in the second trap area 312 using a magnet pipette are stored in the chamber 305 through the second loading unit 318. Can be loaded with fluid 320.
  • the first object 111 may not be attached to the magnet pipette because its size is small and its magnetization strength is small or non-existent. Accordingly, since the first object 111 is not moved to the second loading unit 318, it can be naturally removed. Although the third object 113 has a large magnetization strength, its mass is large, so even if it sticks to the magnet pipette, its high resistance to the magnet pipette is weak and it can be detached from the magnet pipette. Accordingly, the third object 113 is also difficult to move to the second loading unit 318 and can therefore be naturally removed.
  • the first object 111 or the third object 113 trapped in the second trap area 312 by the magnet pipette is hardly moved to the second loading unit 318 and is mainly moved to the second object 112. may be moved to the second loading unit 318 and loaded into the fluid 320.
  • a significant portion of the first object 111 or the third object 113 may be removed through a movement process from the second trap area 312 to the second loading unit 318 using a magnet pipette.
  • At least one magnet 331 or 332 continuously rotates clockwise by the magnet assembly 330, thereby loading the first object 111 and the second object through the second loading unit 318.
  • 112 and the third object 113 may be trapped in the fourth trap area 315, the fifth trap area 316, and the sixth trap area 317, respectively.
  • the second object 112 is completely separated from the first object 111 or the third object 113, and the second object 112, i.e. Only semiconductor light emitting devices can be collected. That is, the first separation process is performed by repetitive rotational movement by at least one magnet 331, 332 in the first chamber area 305-1 during the first operation section, thereby forming the second object 112. It may be separated from the first object 111 or the third object 113. At this time, the first object 111 or the third object 113 may also be trapped in the second trap area 312 where the second object 112 is trapped.
  • a second chamber area 305-2 is used to collect only the second object 112 among the first object 111, the second object 112, and the third object 113 trapped in the second trap area 312.
  • a second separation process may be performed. That is, the first object 111, the second object 112, and the third object 113 trapped in the second trap area 312 using a magnet pipette are trapped in the second chamber area 305-2.
  • a second separation process is performed by repetitive rotational movement by at least one magnet 331 or 332, so that only the second object 112 is separated from the first object 111 or the second object 112. 3
  • the second object 112 may be separated from the object 113 and trapped in the fifth trap area 316, and collected in the fifth trap area 316.
  • the second object 112 may be collected from the fifth trap area 316 using a magnetic pipette, but the present invention is not limited thereto.
  • Figure 19 is a cross-sectional view showing the trap substrate in detail in the foreign matter removal device according to the second embodiment.
  • the trap substrate 310 includes a first trap region 311, a second trap region 312, a third trap region 313, a fourth trap region 315, and a fifth trap region. 316 and a sixth trap area 317.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, the third trap area 313, the fourth trap area 315, the fifth trap area 316, and the sixth trap area 317 are It can be defined on one trap substrate 310.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, the third trap area 313, the fourth trap area 315, the fifth trap area 316, and the sixth trap area 317 can each be defined on trap substrates that are independent of each other. That is, a first trap substrate corresponding to the first trap area 311 is provided, a second trap substrate corresponding to the second trap area 312 is provided, and a third trap corresponding to the third trap area 313 is provided. A substrate may be provided. A fourth trap substrate is provided corresponding to the fourth trap region 315, a fifth trap substrate is provided corresponding to the fifth trap region 316, and a sixth trap substrate is provided corresponding to the sixth trap region 317. This can be provided.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 are disposed in the first chamber area 305-1, and the fourth trap area ( 315), the fifth trap area 316, and the sixth trap area 317 may be disposed in the second chamber area 305-2.
  • the first loading unit 314 may be placed on the first trap area 311
  • the second loading unit 318 may be placed on the fourth trap area 315.
  • the first trap area 311, the second trap area 312, and the third trap area 313 include a plurality of first trap grooves 341, a plurality of second trap grooves 342, and a plurality of third traps, respectively. It may include a groove 343.
  • the first trap groove 341, the second trap groove 342, and the third trap groove 343 may each have different diameters D1, D2, and D3.
  • the first trap groove 341, the second trap groove 342, and the third trap groove 343 correspond to the first object 111, the second object 112, and the third object 113, respectively. You can have any size.
  • the first trap area 311 has a first trap groove 341 having a first diameter D1, a second trap groove 342 having a second diameter D2, and a third trap area 313. ) may have a third trap groove 343 having a third diameter D3.
  • the second diameter D2 may be larger than the first diameter D1
  • the third diameter D3 may be larger than the second diameter D2.
  • the third diameter D3 may be the same as the second diameter D2.
  • the first diameter D1 is larger than the diameter (or size) of the first object 111
  • the second diameter D2 is larger than the diameter (or size) of the second object 112
  • the third diameter ( D3) may be larger than the diameter (or size) of the third object 113.
  • the depths of the first trap groove 341, the second trap groove 342, and the third trap groove 343 may be different, but this is not limited.
  • the depth of the first trap groove 341 may be equal to or greater than the height of the first object 111, but is not limited thereto.
  • the depth of the second trap groove 342 may be equal to or greater than the height of the second object 112, but is not limited thereto.
  • the depth of the third trap groove 343 may be equal to or greater than the height of the third object 113, but is not limited thereto.
  • the fourth trap area 315, the fifth trap area 316, and the sixth trap area 317 include a plurality of fourth trap grooves 344, a plurality of fifth trap grooves 345, and a plurality of fourth trap grooves 345, respectively. It may include 6 trap grooves 346.
  • the fourth trap groove 344, the fifth trap groove 345, and the sixth trap groove 346 may each have different diameters D4, D5, and D6.
  • the fourth trap groove 344, the fifth trap groove 345, and the sixth trap groove 346 are the fourth object 114, the fifth object 115, and the sixth object 116 (or the fourth object 116), respectively.
  • Each of the first object 111, the second object 112, and the third object 113) may have a corresponding size.
  • the fourth trap area 315 has a fourth trap groove 344 having a fourth diameter D4, a fifth trap groove 345 having a fifth diameter D5, and a sixth trap area 317. ) may have a sixth trap groove 346 having a sixth diameter D6.
  • the fifth diameter D5 may be larger than the fourth diameter D4, and the sixth diameter D6 may be larger than the fifth diameter D5.
  • the sixth diameter D6 may be the same as the fifth diameter D5.
  • the fourth diameter D4 is larger than the diameter (or size) of the fourth object 114
  • the fifth diameter D5 is larger than the diameter (or size) of the second object 112
  • the sixth diameter ( D6) may be larger than the diameter (or size) of the third object 113.
  • first diameter D1 and the fourth diameter D4 are the same, but there is no limitation thereto.
  • the second diameter D2 and the fifth diameter D5 are the same, but are not limited thereto.
  • the third diameter D3 and the sixth diameter D6 are the same, but are not limited thereto.
  • the depths of the fourth trap groove 344, the fifth trap groove 345, and the sixth trap groove 346 may be different, but are not limited thereto.
  • the depth of the fourth trap groove 344 may be equal to or greater than the height of the fourth object 114 (or the first object 111), but is not limited thereto.
  • the depth of the fifth trap groove 345 may be equal to or greater than the height of the fifth object 115 (or the second object 112), but is not limited thereto.
  • the depth of the sixth trap groove 346 may be equal to or greater than the height of the sixth object 116 (or the third object 113), but is not limited thereto.
  • the first object 111, the second object 112, and the third object 113 loaded into the first loading unit 314 through rotational movement by at least one magnet 331, 332 are different from each other. moving away from the first loading unit 314 at a moving speed, a first cluster consisting of the first objects 111, a second cluster consisting of the second objects 112, and a third cluster consisting of the third objects 113 Can be separated into clusters.
  • the first objects 111 included in the first cluster are trapped in the plurality of first trap grooves 341 of the first trap area 311, and the second objects 112 included in the second cluster are trapped in the second trap
  • the third objects 113 included in the third cluster are trapped in the plurality of second trap grooves 342 in the area 312, and the third objects 113 included in the third cluster are trapped in the plurality of third trap grooves 343 in the third trap area 313. It can be.
  • the fourth object 114, the fifth object 115, and the sixth object 116 move away from the second loading unit 318 at different moving speeds, and the fourth object 114 (or the first object 111 ), the fifth cluster consisting of the fifth objects 115 (or the second objects 112), and the sixth objects 116 (or the third objects 113). It can be separated into a sixth cluster consisting of The fourth objects 114 (or first objects 111) included in the fourth cluster are trapped in the fourth trap area 315, and the fifth objects 115 (or The second objects 112) are trapped in the fifth trap area 316, and the sixth objects 116 (or third objects 113) included in the sixth cluster are trapped in the sixth trap area 317. ) can be trapped.
  • Figure 20 is a plan view showing a liquid supply part and a liquid discharge part in the foreign matter removal device according to the second embodiment.
  • Figure 21 is a cross-sectional view showing a liquid supply unit, a liquid discharge unit, and an ultrasonic generation unit in the foreign matter removal device according to the second embodiment.
  • the foreign matter removal device 301 includes at least one liquid supply unit 351 and 352, at least one liquid discharge unit 361 and 362, and at least one ultrasonic wave generator. It may include parts 371 and 372.
  • Liquid supply units 351 and 352 are located on one side of the chamber 305 and can supply liquid into the chamber 305.
  • the first liquid supply 351 may be disposed on the first side of the chamber 305 and the second liquid supply 352 may be disposed on the second side of the chamber 305.
  • the first liquid supply unit 351 and the second liquid supply unit 352 may be symmetrical to each other with respect to the center of the chamber 305. Although two liquid supply units 351 and 352 are shown in the drawing, more liquid supply units may be provided.
  • the liquid supply units 351 and 352 may be liquid supply pipes built into the side walls, but are not limited thereto.
  • the liquid supply pipe may be disposed long along the rounded side wall, but is not limited thereto.
  • the liquid supply units 351 and 352 may include a plurality of nozzles (not shown) connected to the liquid supply pipe and the inside of the side wall to simultaneously supply liquid provided to one or both sides of the liquid supply pipe into the chamber 305.
  • Each nozzle may be provided with a valve (not shown) capable of blocking the supply of liquid.
  • Liquid is supplied into the chamber 305 through the liquid supply units 351 and 352, and the first object 111, the second object 112, and the third object 113 are supplied into the chamber through the first loading unit 314. It can be loaded into the fluid 320 filled within 305 . Thereafter, at least one magnet 331, 332 of each of the plurality of magnet assemblies 330 reciprocates, so that the first object 111, the second object 112, and the third object 113 are each connected to the first trap. It may be trapped in area 311, second trap area 312, and third trap area 313.
  • the liquid discharge units 361 and 362 may be disposed near the first loading unit 314 and/or the second loading unit 318.
  • the first liquid discharge portion 361 is disposed adjacent to the second loading portion 318 and penetrates the inner and outer surfaces of the first side wall of the chamber 305
  • the second liquid discharge portion 362 is disposed adjacent to the second loading portion 318. It may be disposed adjacent to the loading unit 314 and penetrating the inner and outer surfaces of the second side wall of the chamber 305.
  • two liquid discharge units 361 and 362 are shown in the drawing, a larger number of liquid discharge units may be provided.
  • the liquid discharge portions 361 and 362 may be liquid discharge pipes built into the side walls of the chamber 305, but are not limited thereto.
  • the liquid discharge pipe may be installed to penetrate the inner and outer surfaces of the side of the chamber 305, but is not limited thereto.
  • the liquid discharge units 361 and 362 may discharge liquid to the outside through one side of the liquid discharge pipe.
  • the liquid discharge units 361 and 362 may include a plurality of nozzles (not shown) connected to the liquid discharge pipe and the inside of the second side wall so that the liquid in the chamber 305 is simultaneously discharged to the outside. Each nozzle may be provided with a valve (not shown) to block it from the outside.
  • the fluid 320 may be discharged to the outside through the fluid discharge unit.
  • the liquid supply units 351 and 352 are located higher from the ground than the liquid discharge units 361 and 362, so that the liquid is filled in the chamber 305 more quickly and the liquid in the chamber 305 is discharged to the outside more quickly. It can be.
  • the liquid supply units 351 and 352 may be disposed on the upper side of the first side wall, and the liquid discharge portions 361 and 362 may be disposed on the lower side of the second side wall.
  • the liquid discharge units 361 and 362 may be positioned higher from the ground than the trap substrate 310.
  • the ultrasonic waves generators 371 and 372 may generate ultrasonic waves to be supplied to the fluid 320 within the chamber 305. Since the ultrasonic generation units 371 and 372 have been described in the first embodiment (FIG. 15), detailed description will be omitted.
  • the third object 113 or the sixth object 116 may be a composite mass in which at least two of organic, inorganic, metal, and semiconductor light emitting devices are combined. Even though the semiconductor light emitting device included in the composite lump is a normal semiconductor light emitting device, it may be included in the composite lump and be trapped in the third trap area 313 or the sixth trap area 317 and be discarded.
  • the ultrasonic waves generated by the ultrasonic generators 371 and 372 are applied to the fluid 320 in the chamber 305, vibration is generated in the fluid 320 by the ultrasonic waves, and the composite lump is broken up by this vibration. It can be separated into organic fragments, inorganic fragments, metal fragments, semiconductor light-emitting devices, etc. In this way, the semiconductor light emitting device is separated from the composite mass and trapped in the second trap region 312 or the fifth trap region 316, thereby reducing the discard rate of the semiconductor light emitting device and reducing manufacturing costs.
  • the display device described above may be a display panel. That is, in the embodiment, the display device and the display panel may be understood to have the same meaning.
  • a display device in a practical sense may include a display panel and a controller (or processor) capable of controlling the display panel to display an image.
  • Embodiments may be adopted in the field of displays that display images or information. Embodiments may be adopted in the field of displays that display images or information using semiconductor light-emitting devices.
  • the semiconductor light-emitting device may be a micro-level semiconductor light-emitting device or a nano-level semiconductor light-emitting device.
  • embodiments can be adopted in TVs, signage, smart phones, mobile phones, mobile terminals, HUDs for automobiles, backlight units for laptops, and display devices for VR or AR.

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Abstract

이물 제거 장치는 유체를 포함하는 챔버와, 챔버 아래에 자석 어셈블리를 포함한다. 챔버는 제1 객체, 제2 객체 및 제3 객체를 유체로 로딩하기 위한 로딩부와, 제1 객체를 트랩하기 위한 제1 트랩 영역과, 제2 객체를 트랩하기 위해 제1 트랩 영역에 인접하는 제2 트랩 영역과, 제3 객체를 트랩하기 위해 제2 트랩 영역에 인접하는 제3 트랩 영역을 포함한다. 제1 객체는 제1 이물이고, 제2 객체는 반도체 발광 소자이고, 제3 객체는 제2 이물이다.

Description

이물 제거 장치
실시예는 이물 제거 장치에 관한 것으로서, 특히 기판 상에 자가 조립 전에 반도체 발광 소자에 붙어있거나 섞여 있는 다양한 이물들을 제거하기 위한 장치에 관한 것이다.
대면적 디스플레이는 액정디스플레이(LCD), OLED 디스플레이, 그리고 마이크로-LED 디스플레이(Micro-LED display) 등이 있다.
마이크로-LED 디스플레이는 100㎛ 이하의 직경 또는 단면적을 가지는 반도체 발광 소자인 마이크로-LED를 표시소자로 사용하는 디스플레이이다.
마이크로-LED 디스플레이는 반도체 발광 소자인 마이크로-LED를 표시소자로 사용하기 때문에 명암비, 응답속도, 색 재현율, 시야각, 밝기, 해상도, 수명, 발광효율이나 휘도 등 많은 특성에서 우수한 성능을 가지고 있다.
특히 마이크로-LED 디스플레이는 화면을 모듈 방식으로 분리, 결합할 수 있어 크기나 해상도 조절이 자유로운 장점 및 플렉서블 디스플레이 구현이 가능한 장점이 있다.
그런데 대형 마이크로-LED 디스플레이는 수백만 개 이상의 마이크로-LED가 필요로 하기 때문에 마이크로-LED를 디스플레이 패널에 신속하고 정확하게 전사하기 어려운 기술적 문제가 있다.
최근 개발되고 있는 전사기술에는 픽앤-플레이스 공법(pick and place process), 레이저 리프트 오프법(Laser Lift-off method) 또는 자가조립 방식(self-assembly method) 등이 있다.
이 중에서, 자가조립 방식은 유체 내에서 반도체 발광 소자가 조립위치를 스스로 찾아가는 방식으로서 대화면의 디스플레이 장치의 구현에 유리한 방식이다.
하지만, 아직 마이크로-LED의 자가조립을 통하여 디스플레이를 제조하는 기술에 대한 연구가 미비한 실정이다.
특히 종래기술에서 대형 디스플레이에 수백만 개 이상의 반도체 발광 소자를 신속하게 전사하는 경우 전사 속도(transfer speed)는 향상시킬 수 있으나 전사 불량률(transfer error rate)이 높아질 수 있어 전사 수율(transfer yield)이 낮아지는 기술적 문제가 있다.
관련 기술에서 유전영동(dielectrophoresis, DEP)을 이용한 자가조립 방식의 전사공정이 시도되고 있으나 DEP force의 불균일성 등으로 인해 자가 조립률이 낮은 문제가 있다.
한편, 반도체 발광 소자는 제조나 유통 과정에서 다양한 이물이 혼입되거나 생성되어, 반도체 발광 소자에 붙거나 혼합될 수 있다. 이러한 이물을 포함한 반도체 발광 소자가 자가 조립 방식을 이용하여 기판 상에 조립되는 경우, 점등 불량을 야기할 수 있다.
즉, 도 1a에 도시한 바와 같이, 기판(1) 상에 배치된 격벽(2)의 조립 홀(2H)에 반도체 발광 소자(3)가 조립되는 경우, 반도체 발광 소자(3)의 하측에 붙은 소형 이물(4)에 의해 반도체 발광 소자(3)가 틸트된 체로 조립된다.
또한, 도 1b에 도시한 바와 같이, 대형 이물인 유기물 금속 복합체(5)의 크기가 조립 홀(2H)의 사이즈보다 커, 조립 홀(2H)에 조립되지 않거나 조립 홀(2H)에 부분적으로 조립되더라도 곧바로 이탈된다. 유기물 금속 복합체(5)는 복수의 반도체 발광 소자(3)가 흡착력에 의해 서로 달라붙거나 금속 파편(6)이나 대형 유기 입자(7)을 매개로 서로 달라붙은 덩어리이다.
복수의 반도체 발광 소자(3)로 이루어진 군집에 포함된 소형 이물(4)과 대형 이물(5)이 사전에 제거되지 않은 채, 자가 조립 공정이 수행되는 경우, 도 1a 및 도 1b에 도시한 바와 같은 조립 불량이 발생된다. 이러한 조립 불량을 갖는 반도체 발광 소자(3)는 전기적 연결이 불가능하여, 점등 불량이 야기하여 점등 수율이 저하되는 문제가 있다.
따라서, 반도체 발광 소자(3)를 디스플레이 기판 상에 자가 조립하기 전에 반도체 발광 소자(3)에 붙거나 혼합된 다양한 이물(4, 5)을 제거할 수 있는 기술이 절실히 요구된다.
실시예는 전술한 문제 및 다른 문제를 해결하는 것을 목적으로 한다.
실시예의 다른 목적은 다양한 이물들을 손쉽게 제거할 수 있는 이물 제거 장치를 제공하는 것이다.
또한, 실시예의 또 다른 목적은 점등 수율을 높일 수 있는 이물 제거 장치를 제공하는 것이다.
실시예의 기술적 과제는 본 항목에 기재된 것에 한정되지 않으며, 발명의 설명을 통해 파악될 수 있는 것을 포함한다.
상기 또는 다른 목적을 달성하기 위해 실시예의 일 측면에 따르면,
이물 제거 장치는, 유체를 포함하는 챔버; 및 상기 챔버 아래에 자석 어셈블리;를 포함하고,
상기 챔버는, 제1 객체, 제2 객체 및 제3 객체를 상기 유체로 로딩하기 위한 로딩부; 상기 제1 객체를 트랩하기 위한 제1 트랩 영역; 상기 제2 객체를 트랩하기 위해 상기 제1 트랩 영역에 인접하는 제2 트랩 영역; 및 상기 제3 객체를 트랩하기 위해 상기 제2 트랩 영역에 인접하는 제3 트랩 영역;를 포함하고,
상기 자석 어셈블리는, 적어도 하나 이상의 자석을 상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제3 트랩 영역을 경유하도록 반복적으로 왕복 운동시키고,
상기 제1 객체는 제1 이물이고, 상기 제2 객체는 반도체 발광 소자이고, 상기 제3 객체는 제2 이물이다.
상기 제2 객체의 자화의 세기는 상기 제1 객체의 자화의 세기보다 크고, 상기 제3 객체의 자화의 세기는 상기 제2 객체의 자화의 세기보다 클 수 있다.
상기 제2 객체의 사이즈는 상기 제1 객체의 사이즈보다 크고, 상기 제3 객체의 사이즈는 상기 제2 객체의 사이즈보다 클 수 있다.
상기 자석 어셈블리는, 상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제3 트랩 영역 각각의 폭 방향을 따라 복수의 자석 어셈블리;를 포함하고, 상기 복수의 자석 어셈블리는 각각, 상기 적어도 하나 이상의 자석; 상기 적어도 하나 이상의 자석이 장착되어, 상기 적어도 하나 이상의 자석을 상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제3 트랩 영역을 경유하도록 반복적으로 왕복 운동시키는 레일; 및 상기 레일을 구동하는 적어도 하나 이상의 모터;를 포함할 수 있다.
상기 레일은 상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제3 트랩 영역에 대해 상하 방향을 따라 왕복 운동될 수 있다.
상기 레일은 상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제3 트랩 영역에 대해 수평 방향을 따라 왕복 운동될 수 있다.
상기 제1 트랩 영역은 제1 직경을 갖는 제1 트랩 홈을 가지고, 상기 제2 트랩 영역은 상기 제1 직경보다 큰 제2 직경을 갖는 제2 트랩 홈을 가지고, 상기 제3 트랩 영역은 상기 제2 직경보다 큰 제3 직경을 갖는 제3 트랩 홈을 가질 수 있다.
상기 챔버는, 제2 로딩부; 상기 제3 트랩 영역에 인접하는 제4 트랩 영역; 상기 제4 트랩 영역에 인접하는 제5 트랩 영역; 및 상기 제5 트랩 영역과 상기 제1 트랩 영역 사이에 제6 트랩 영역;을 포함할 수 있다.
상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역, 상기 제3 트랩 영역, 상기 제4 트랩 영역, 상기 제5 트랩 영역 및 상기 제6 트랩 영역은 각각 상기 챔버의 중심에서 접하고, 그 외측 둘레를 따라 원형을 구성할 수 있다.
상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제3 트랩 영역은 각각 상기 챔버의 중심을 기준으로 상기 제4 트랩 영역, 상기 제5 트랩 영역 및 상기 제6 트랩 영역과 서로 대칭될 수 있다.
상기 자석 어셈블리는, 상기 적어도 하나 이상의 자석을 상기 제6 트랩 영역, 상기 제5 트랩 영역, 상기 제4 트랩 영역, 상기 제3 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제1 트랩 영역을 경유하도록 상기 챔버의 중심을 기준으로 회전 운동시킬 수 있다.
상기 로딩부는 상기 제1 트랩 영역 상에 배치되고, 상기 제2 로딩부는 상기 제4 트랩 영역 상에 배치될 수 있다.
상기 제4 트랩 영역은 제4 직경을 갖는 제4 트랩 홈을 가지고, 상기 제5 트랩 영역은 제4 직경보다 큰 제5 직경을 갖는 제5 트랩 홈을 가지며, 상기 제6 트랩 영역은 제5 직경보다 큰 제6 직경을 갖는 제6 트랩 홈을 가질 수 있다.
상기 제1 직경과 상기 제4 직경은 동일하고, 상기 제2 직경과 상기 제5 직경은 동일하며, 상기 제3 직경과 상기 제6 직경은 동일할 수 있다.
상기 제2 로딩부는 제4 객체, 제5 객체 및 제6 객체를 상기 유체로 로딩하고, 상기 제4 트랩 영역은 상기 제4 객체를 트랩하고, 상기 제5 트랩 영역은 제5 객체를 트랩하며, 상기 제6 트랩 영역은 제6 객체를 트랩할 수 있다.
상기 제4 객체는 상기 제1 이물이고, 상기 제5 객체는 상기 반도체 발광 소자이고, 상기 제6 객체는 상기 제2 이물일 수 있다.
상기 제2 트랩 영역은 상기 제1 객체, 상기 제2 객체 및 상기 제3 객체를 트랩하고, 상기 제2 로딩부는 상기 제2 트랩 영역에 트랩된 상기 제1 객체, 상기 제2 객체 및 상기 제3 객체를 상기 유체로 로딩하고, 상기 제4 트랩 영역은 상기 제1 객체를 트랩하고, 상기 제5 트랩 영역은 제2 객체를 트랩하며, 상기 제6 트랩 영역은 제3 객체를 트랩할 수 있다.
상기 자석 어셈블리는, 상기 적어도 하나 이상의 자석; 상기 적어도 하나 이상의 자석이 장착되어, 상기 적어도 하나 이상의 자석을 상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역, 상기 제3 트랩 영역, 상기 제4 트랩 영역, 상기 제5 트랩 영역 및 상기 제6 트랩 영역을 경유하도록 상기 챔버의 중심을 기준으로 회전 운동시키는 지지 플레이트; 및 상기 지지 플레이트를 구동하는 모터;를 포함할 수 있다.
이물 제거 장치는, 상기 챔버의 제1 측 상에 적어도 하나 이상의 액체 공급부; 및 상기 챔버의 제2 측 상에 적어도 하나 이상의 액체 배출부;를 포함할 수 있다.
이물 제거 장치는, 상기 유체에 공급하기 위한 초음파를 생성하는 적어도 하나 이상의 초음파 생성부;를 포함할 수 있다.
실시예는 도 8 내지 도 13에 도시한 바와 같이, 로딩부(314)로부터 서로 상이한 거리에 복수의 트랩 영역(311 내지313)이 위치되고, 로딩부(314)를 통해 다양한 객체(111 내지 113)이 로딩된 후, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)가 직선 상의 왕복 운동됨에 따라 다양한 객체(111 내지 113) 각각의 이동 속도 차이로 인해 다양한 객체(111 내지 113) 각각이 복수의 트랩 영역(311 내지 313)에 트랩될 수 있다. 이후, 반도체 발광 소자로서 제2 트랩 영역(312)에 트랩된 제2 객체(112)가 수거되고, 이물들로서 제1 트랩 영역(311) 및 제3 트랩 영역(313)에 트랩된 제1 객체(111) 및 제3 객체(113)이 제거될 수 있다. 이에 따라, 다양한 이물들이 손쉽게 제거될 수 있다. 또한, 이물들이 제거된 반도체 발광 소자들만을 이용하여 디스플레이 장치를 제조함으로써, 점등 수율이 향상될 수 있다.
실시예는 도 16 내지 도 19에 도시한 바와 같이, 제1 챔버 영역(305-1)과 제2 챔버 영역(305-2)으로 구분되고, 제1 챔버 영역(305-1)에 복수의 트랩 영역(311 내지 313)이 구비되고, 제2 챔버 영역(305-2)에 복수의 트랩 영역(315 내지 317)이 구비될 수 있다. 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 챔버(305) 아래에서 회전 운동될 수 있다.
일 예로서, 제1 챔버 영역(305-1) 및 제2 챔버 영역(305-2)에서 이물 분리 공정이 독립적으로 수행됨으로써, 보다 신속한 공정이 가능하고 대량 이물 제거가 가능하다.
다른 예로서, 제1 챔버 영역(305)에서 제1 이물 분리 공정이 수행되어, 1차적으로 이물이 제거될 수 있다. 이후, 반도체 발광 소자인 제2 객체(112)가 트랩된 제2 트랩 영역(312)에 제1 객체(111) 및/또는 제2 객체(112)도 트랩되는 경우, 제2 트랩 영역(312)에 트랩된 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)을 제2 챔버 영역(305-2)로 이동시켜 2차 분리 공정이 수행됨으로써, 2차적으로 이물이 제거될 수 있다. 따라서, 보다 완벽하게 이물 제거가 되어, 반도체 발광 소자에 해당하는 제2 객체(112)만이 수거됨으로써, 디스플레이 장치 구현시 점등 수율이 더욱 더 향상될 수 있다.
한편, 도 13 및 도 19에 도시한 바와 같이, 복수의 트랩 영역(311 내지 313, 315 내지 317)이 각각 이물들 각각의 사이즈에 대응하는 사이즈를 갖도록 하여, 이물의 트랩 효율이 더욱 더 높아 이물 제거율이 향상될 수 있다.
한편, 도 도 15 및 도 21에 도시한 바와 같이, 초음파 발생부(371, 372)에 의해 발생된 초음파에 의한 진동을 이용하여 덩어리 형태의 이물이 해체됨으로써, 그 덩어리에 포함된 반도체 발광 소자가 수거되어 반도체 발광 소자의 폐기율이 감소되어 제조 비용이 절감될 수 있다.
실시예의 적용 가능성의 추가적인 범위는 이하의 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다. 그러나 실시예의 사상 및 범위 내에서 다양한 변경 및 수정은 당업자에게 명확하게 이해될 수 있으므로, 상세한 설명 및 바람직한 실시예와 같은 특정 실시예는 단지 예시로 주어진 것으로 이해되어야 한다.
도 1a 및 도 1b는 자가 조립 시 이물에 의해 조립 불량이 발생되는 모습을 도시한다.
도 2는 실시예에 따른 디스플레이 장치가 배치된 주택의 거실을 도시한다.
도 3은 실시예에 따른 디스플레이 장치를 개략적으로 보여주는 블록도이다.
도 4는 도 3의 화소의 일 예를 보여주는 회로도이다.
도 5는 도 2의 디스플레이 장치에서 제1 패널영역의 확대도이다.
도 6은 도 5의 A2 영역의 확대도이다.
도 7은 실시예에 따른 발광 소자가 자가 조립 방식에 의해 기판에 조립되는 예를 나타내는 도면이다.
도 8은 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치를 도시한 평면도이다.
도 9는 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치를 도시한 제1 단면도이다.
도 10은 도 9에 도시된 복수의 자석 어셈블리를 도시한 평면도이다.
도 11은 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치를 도시한 제2 단면도이다.
도 12는 도 11에 도시된 복수의 자석 어셈블리를 도시한 평면도이다.
도 13은 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치에서 트랩 기판을 상세히 도시한 단면도이다.
도 14는 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치에서 액체 공급부 및 액체 배출부를 도시한 평면도이다.
도 15는 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치에서 액체 공급부, 액체 배출부 및 초음파 생성부를 도시한 단면도이다.
도 16은 제2 실시예에 따른 이물 제거 장치를 도시한 평면도이다.
도 17은 제2 실시예에 따른 이물 제거 장치를 도시한 단면도이다.
도 18은 도 17에 도시된 자석 어셈블리를 도시한 평면도이다.
도 19는 제2 실시예에 따른 이물 제거 장치에서 트랩 기판을 상세히 도시한 단면도이다.
도 20은 제2 실시예에 따른 이물 제거 장치에서 액체 공급부 및 액체 배출부를 도시한 평면도이다.
도 21은 제2 실시예에 따른 이물 제거 장치에서 액체 공급부, 액체 배출부 및 초음파 생성부를 도시한 단면도이다.
도면들에 도시된 구성 요소들의 크기, 형상, 수치 등은 실제와 상이할 수 있다. 또한, 동일한 구성 요소들에 대해서 도면들 간에 서로 상이한 크기, 형상, 수치 등으로 도시되더라도, 이는 도면 상의 하나의 예시일 뿐이며, 동일한 구성 요소들에 대해서는 도면들 간에 서로 동일한 크기, 형상, 수치 등을 가질 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 '모듈' 및 '부'는 명세서 작성의 용이함이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것이며, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되는 것은 아니다. 또한, 층, 영역 또는 기판과 같은 요소가 다른 구성요소 '상(on)'에 존재하는 것으로 언급될 때, 이것은 직접적으로 다른 요소 상에 존재하거나 또는 그 사이에 다른 중간 요소가 존재할 수도 있는 것을 포함한다.
본 명세서에서 설명되는 디스플레이 장치에는 TV, 샤이니지, 휴대폰, 스마트 폰(smart phone), 자동차용 HUD(head-Up Display), 노트북 컴퓨터(laptop computer)용 백라이트 유닛, VR, AR 또는 MR(mixed Reality)용 디스플레이 등이 포함될 수 있다. 그러나, 본 명세서에 기재된 실시예에 따른 구성은 추후 개발되는 새로운 제품형태이라도, 디스플레이가 가능한 장치에도 적용될 수 있다.
이하 실시예에 따른 발광 소자 및 이를 포함하는 디스플레이 장치에 대해 설명한다.
도 2는 실시예에 따른 디스플레이 장치가 배치된 주택의 거실을 도시한다.
도 2을 참조하면, 실시예의 디스플레이 장치(100)는 세탁기(101), 로봇 청소기(102), 공기 청정기(103) 등의 각종 전자 제품의 상태를 표시할 수 있고, 각 전자 제품들과 IOT 기반으로 통신할 수 있으며 사용자의 설정 데이터에 기초하여 각 전자 제품들을 제어할 수도 있다.
실시예에 따른 디스플레이 장치(100)는 얇고 유연한 기판 위에 제작되는 플렉서블 디스플레이(flexible display)를 포함할 수 있다. 플렉서블 디스플레이는 기존의 평판 디스플레이의 특성을 유지하면서, 종이와 같이 휘어지거나 말릴 수 있다.
플렉서블 디스플레이에서 시각정보는 매트릭스 형태로 배치되는 단위 화소(unit pixel)의 발광이 독자적으로 제어됨에 의하여 구현될 수 있다. 단위 화소는 하나의 색을 구현하기 위한 최소 단위를 의미한다. 플렉서블 디스플레이의 단위 화소는 발광 소자에 의하여 구현될 수 있다. 실시예에서 발광 소자는 Micro-LED나 Nano-LED일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
도 3은 실시예에 따른 디스플레이 장치를 개략적으로 보여주는 블록도이고, 도 4는 도 3의 화소의 일 예를 보여주는 회로도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 실시예에 따른 디스플레이 장치는 디스플레이 패널(10), 구동 회로(20), 스캔 구동부(30) 및 전원 공급 회로(50)를 포함할 수 있다.
실시예의 디스플레이 장치(100)는 액티브 매트릭스(AM, Active Matrix)방식 또는 패시브 매트릭스(PM, Passive Matrix) 방식으로 발광 소자를 구동할 수 있다.
구동 회로(20)는 데이터 구동부(21)와 타이밍 제어부(22)를 포함할 수 있다.
디스플레이 패널(10)은 직사각형으로 이루어질 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 즉, 디스플레이 패널(10)은 원형 또는 타원형으로 형성될 수 있다. 디스플레이 패널(10)의 적어도 일 측은 소정의 곡률로 구부러지도록 형성될 수 있다.
디스플레이 패널(10)은 표시 영역(DA)과 표시 영역(DA)의 주변에 배치된 비표시 영역(NDA)으로 구분될 수 있다. 표시 영역(DA)은 화소(PX)들이 형성되어 영상을 디스플레이하는 영역이다. 디스플레이 패널(10)은 데이터 라인들(D1~Dm, m은 2 이상의 정수), 데이터 라인들(D1~Dm)과 교차되는 스캔 라인들(S1~Sn, n은 2 이상의 정수), 고전위 전압이 공급되는 고전위 전압 라인(VDDL), 저전위 전압(VSS)이 공급되는 저전위 전압 라인(VSSL) 및 데이터 라인들(D1~Dm)과 스캔 라인들(S1~Sn)에 접속된 화소(PX)들을 포함할 수 있다.
화소(PX)들 각각은 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3)를 포함할 수 있다. 제1 서브 화소(PX1)는 제1 주 파장의 제1 컬러 광을 발광하고, 제2 서브 화소(PX2)는 제2 주 파장의 제2 컬러 광을 발광하며, 제3 서브 화소(PX3)는 제3 주 파장의 제3 컬러 광을 발광할 수 있다. 제1 컬러 광은 적색 광, 제2 컬러 광은 녹색 광, 제3 컬러 광은 청색 광일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 또한, 도 3에서는 화소(PX)들 각각이 3 개의 서브 화소들을 포함하는 것을 예시하였으나, 이에 한정되지 않는다. 즉, 화소(PX)들 각각은 4 개 이상의 서브 화소들을 포함할 수 있다.
제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각은 데이터 라인들(D1~Dm) 중 적어도 하나, 스캔 라인들(S1~Sn) 중 적어도 하나 및 고전위 전압 라인(VDDL)에 접속될 수 있다. 제1 서브 화소(PX1)는 도 4과 같이 발광 소자(LD)들과 발광 소자(LD)들에 전류를 공급하기 위한 복수의 트랜지스터들과 적어도 하나의 커패시터(Cst)를 포함할 수 있다.
도면에 도시되지 않았지만, 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각은 단지 하나의 발광 소자(LD)와 적어도 하나의 커패시터(Cst)를 포함할 수도 있다.
발광 소자(LD)들 각각은 제1 전극, 복수의 도전형 반도체층 및 제2 전극을 포함하는 반도체 발광 다이오드일 수 있다. 여기서, 제1 전극은 애노드 전극, 제2 전극은 캐소드 전극일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
발광 소자(LD)는 수평형 발광 소자, 플립칩형 발광 소자 및 수직형 발광 소자 중 하나일 수 있다.
복수의 트랜지스터들은 도 4와 같이 발광 소자(LD)들에 전류를 공급하는 구동 트랜지스터(DT), 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극에 데이터 전압을 공급하는 스캔 트랜지스터(ST)를 포함할 수 있다. 구동 트랜지스터(DT)는 스캔 트랜지스터(ST)의 소스 전극에 접속되는 게이트 전극, 고전위 전압이 인가되는 고전위 전압 라인(VDDL)에 접속되는 소스 전극 및 발광 소자(LD)들의 제1 전극들에 접속되는 드레인 전극을 포함할 수 있다. 스캔 트랜지스터(ST)는 스캔 라인(Sk, k는 1≤k≤n을 만족하는 정수)에 접속되는 게이트 전극, 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극에 접속되는 소스 전극 및 데이터 라인(Dj, j는 1≤j≤m을 만족하는 정수)에 접속되는 드레인 전극을 포함할 수 있다.
커패시터(Cst)는 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극과 소스 전극 사이에 형성된다. 스토리지 커패시터(Cst)는 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전압과 소스 전압의 차이값을 충전한다.
구동 트랜지스터(DT)와 스캔 트랜지스터(ST)는 박막 트랜지스터(thin film transistor)로 형성될 수 있다. 또한, 도 4에서는 구동 트랜지스터(DT)와 스캔 트랜지스터(ST)가 P 타입 MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)으로 형성된 것을 중심으로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 구동 트랜지스터(DT)와 스캔 트랜지스터(ST)는 N 타입 MOSFET으로 형성될 수도 있다. 이 경우, 구동 트랜지스터(DT)와 스캔 트랜지스터(ST)들 각각의 소스 전극과 드레인 전극의 위치는 변경될 수 있다.
또한, 도 4에서는 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각이 하나의 구동 트랜지스터(DT), 하나의 스캔 트랜지스터(ST) 및 하나의 커패시터(Cst)를 갖는 2T1C (2 Transistor - 1 capacitor)를 포함하는 것을 예시하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각은 복수의 스캔 트랜지스터(ST)들과 복수의 커패시터(Cst)들을 포함할 수 있다.
제2 서브 화소(PX2)와 제3 서브 화소(PX3)는 제1 서브 화소(PX1)와 실질적으로 동일한 회로도로 표현될 수 있으므로, 이들에 대한 자세한 설명은 생략한다.
구동 회로(20)는 디스플레이 패널(10)을 구동하기 위한 신호들과 전압들을 출력한다. 이를 위해, 구동 회로(20)는 데이터 구동부(21)와 타이밍 제어부(22)를 포함할 수 있다.
데이터 구동부(21)는 타이밍 제어부(22)로부터 디지털 비디오 데이터(DATA)와 소스 제어 신호(DCS)를 입력 받는다. 데이터 구동부(21)는 소스 제어 신호(DCS)에 따라 디지털 비디오 데이터(DATA)를 아날로그 데이터 전압들로 변환하여 디스플레이 패널(10)의 데이터 라인들(D1~Dm)에 공급한다.
타이밍 제어부(22)는 호스트 시스템으로부터 디지털 비디오 데이터(DATA)와 타이밍 신호들을 입력받는다. 타이밍 신호들은 수직동기신호(vertical sync signal), 수평동기신호(horizontal sync signal), 데이터 인에이블 신호(data enable signal) 및 도트 클럭(dot clock)을 포함할 수 있다. 호스트 시스템은 스마트폰 또는 태블릿 PC의 어플리케이션 프로세서, 모니터, TV의 시스템 온 칩 등일 수 있다.
타이밍 제어부(22)는 데이터 구동부(21)와 스캔 구동부(30)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 제어신호들을 생성한다. 제어신호들은 데이터 구동부(21)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 소스 제어 신호(DCS)와 스캔 구동부(30)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 스캔 제어 신호(SCS)를 포함할 수 있다.
구동 회로(20)는 디스플레이 패널(10)의 일 측에 마련된 비표시 영역(NDA)에서 배치될 수 있다. 구동 회로(20)는 집적회로(integrated circuit, IC)로 형성되어 COG(chip on glass) 방식, COP(chip on plastic) 방식, 또는 초음파 접합 방식으로 디스플레이 패널(10) 상에 장착될 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 구동 회로(20)는 디스플레이 패널(10)이 아닌 회로 보드(미도시) 상에 장착될 수 있다.
데이터 구동부(21)는 COG(chip on glass) 방식, COP(chip on plastic) 방식, 또는 초음파 접합 방식으로 디스플레이 패널(10) 상에 장착되고, 타이밍 제어부(22)는 회로 보드 상에 장착될 수 있다.
스캔 구동부(30)는 타이밍 제어부(22)로부터 스캔 제어 신호(SCS)를 입력 받는다. 스캔 구동부(30)는 스캔 제어 신호(SCS)에 따라 스캔 신호들을 생성하여 디스플레이 패널(10)의 스캔 라인들(S1~Sn)에 공급한다. 스캔 구동부(30)는 다수의 트랜지스터들을 포함하여 디스플레이 패널(10)의 비표시 영역(NDA)에 형성될 수 있다. 또는, 스캔 구동부(30)는 집적 회로로 형성될 수 있으며, 이 경우 디스플레이 패널(10)의 다른 일 측에 부착되는 게이트 연성 필름 상에 장착될 수 있다.
회로 보드는 이방성 도전 필름(anisotropic conductive film)을 이용하여 디스플레이 패널(10)의 일 측 가장자리에 마련된 패드들 상에 부착될 수 있다. 이로 인해, 회로 보드의 리드 라인들은 패드들에 전기적으로 연결될 수 있다. 회로 보드는 연성 인쇄 회로 보드(flexible printed circuit board), 인쇄 회로 보드(printed circuit board) 또는 칩온 필름(chip on film)과 같은 연성 필름(flexible film)일 수 있다. 회로 보드는 디스플레이 패널(10)의 하부로 벤딩(bending)될 수 있다. 이로 인해, 회로 보드의 일 측은 디스플레이 패널(10)의 일 측 가장자리에 부착되며, 타 측은 디스플레이 패널(10)의 하부에 배치되어 호스트 시스템이 장착되는 시스템 보드에 연결될 수 있다.
전원 공급 회로(50)는 시스템 보드로부터 인가되는 메인 전원으로부터 디스플레이 패널(10)의 구동에 필요한 전압들을 생성하여 디스플레이 패널(10)에 공급할 수 있다. 예를 들어, 전원 공급 회로(50)는 메인 전원으로부터 디스플레이 패널(10)의 발광 소자(LD)들을 구동하기 위한 고전위 전압(VDD)과 저전위 전압(VSS)을 생성하여 디스플레이 패널(10)의 고전위 전압 라인(VDDL)과 저전위 전압 라인(VSSL)에 공급할 수 있다. 또한, 전원 공급 회로(50)는 메인 전원으로부터 구동 회로(20)와 스캔 구동부(30)를 구동하기 위한 구동 전압들을 생성하여 공급할 수 있다.
도 5는 도3의 디스플레이 장치에서 제1 패널영역의 확대도이다.
도 5을 참조하면, 실시예의 디스플레이 장치(100)는 제1 패널영역(A1)과 같은 복수의 패널영역들이 타일링에 의해 기구적, 전기적 연결되어 제조될 수 있다.
제1 패널영역(A1)은 단위 화소(도 3의 PX) 별로 배치된 복수의 반도체 발광 소자(150)를 포함할 수 있다.
예컨대, 단위 화소(PX)는 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3)를 포함할 수 있다. 예컨대, 복수의 적색 반도체 발광 소자(150R)가 제1 서브 화소(PX1)에 배치되고, 복수의 녹색 반도체 발광 소자(150G)가 제2 서브 화소(PX2)에 배치되며, 복수의 청색 반도체 발광 소자(150B)가 제3 서브 화소(PX3)에 배치될 수 있다. 단위 화소(PX)는 반도체 발광 소자가 배치되지 않는 제4 서브 화소를 더 포함할 수도 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
도 6은 도 5의 A2 영역의 확대도이다.
도 6을 참조하면, 실시예의 디스플레이 장치(100)는 기판(200), 조립 배선(201, 202), 절연층(206) 및 복수의 반도체 발광 소자(150)를 포함할 수 있다. 이보다 더 많은 구성 요소들이 포함될 수 있다.
조립 배선은 서로 이격된 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202)을 포함할 수 있다. 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202)은 반도체 발광 소자(150)를 조립하기 위해 유전영동 힘(DEP force)을 생성하기 위해 구비될 수 있다. 예컨대, 반도체 발광 소자(150)는 수평형 반도체 발광 소자, 플립칩형 반도체 발광 소자 및 수직형 반도체 발광 소자 중 하나일 수 있다.
반도체 발광 소자(150)는 각각 단위 화소(sub-pixel)를 이루기 위하여 적색 반도체 발광 소자(150), 녹색 반도체 발광 소자(150G) 및 청색 반도체 발광 소자(150B0를 포함할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며, 적색 형광체와 녹색 형광체 등을 구비하여 각각 적색과 녹색을 구현할 수도 있다.
기판(200)은 그 기판(200) 상에 배치되는 구성 요소들을 지지하는 지지 부재이거나 구성 요소들을 보호하는 보호 부재일 수 있다.
기판(200)은 리지드(rigid) 기판이거나 플렉서블(flexible) 기판일 수 있다. 기판(200)은 사파이어, 유리, 실리콘이나 폴리이미드(Polyimide)로 형성될 수 있다. 또한 기판(200)은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate) 등의 유연성 있는 재질을 포함할 수 있다. 또한, 기판(200)은 투명한 재질일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 기판(200)은 디스플레이 패널에서의 지지 기판으로 기능할 수 있으며, 발광 소자의 자가 조립시 조립용 기판으로 기능할 수도 있다.
기판(200)은 도 3 및 도 4에 도시된 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 내의 회로, 예컨대 트랜지스터(ST, DT), 커패시터(Cst), 신호 배선 등이 구비된 백플레인(backplane)일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
절연층(206)은 폴리이미드, PAC, PEN, PET, 폴리머 등과 같이 절연성과 유연성 있는 유기물 재질이나 실리콘 옥사이드(SiO2)나 실리콘 나이트라이드 계열(SiNx) 등을 같은 무기물 재질을 포함할 수 있으며, 기판(200)과 일체로 이루어져 하나의 기판을 형성할 수도 있다.
절연층(206)은 접착성과 전도성을 가지는 전도성 접착층일 수 있고, 전도성 접착층은 연성을 가져서 디스플레이 장치의 플렉서블 기능을 가능하게 할 수 있다. 예를 들어, 절연층(206)은 이방성 전도성 필름(ACF, anisotropy conductive film)이거나 이방성 전도매질, 전도성 입자를 함유한 솔루션(solution) 등의 전도성 접착층일 수 있다. 전도성 접착층은 두께에 대해 수직방향으로는 전기적으로 전도성이나, 두께에 대해 수평방향으로는 전기적으로 절연성을 가지는 레이어일 수 있다.
절연층(206)은 반도체 발광 소자(150)가 삽입되기 위한 조립 홀(203)을 포함할 수 있다. 따라서, 자가 조립시, 반도체 발광 소자(150)가 절연층(206)의 조립 홀(203)에 용이하게 삽입될 수 있다. 조립 홀(203)은 삽입 홀, 고정 홀, 정렬 홀 등으로 불릴 수 있다. 조립 홀(203)은 홀로 불릴 수도 있다.
조립 홀(203)은 홀, 홈, 그루브, 리세스, 포켓 등으로 불릴 수 있다.
조립 홀(203)은 반도체 발광 소자(150)의 형상에 따라 상이할 수 있다. 예컨대, 적색 반도체 발광 소자, 녹색 반도체 발광 소자 및 청색 반도체 발광 소자 각각은 상이한 형상을 가지며, 이들 반도체 발광 소자 각각의 형상에 대응하는 형상을 갖는 조립 홀(203)을 가질 수 있다. 예컨대, 조립 홀(203)은 적색 반도체 발광 소자가 조립되기 위한 제1 조립 홀, 녹색 반도체 발광 소자가 조립되기 위한 제2 조립 홀 및 청색 반도체 발광 소자가 조립되기 위한 제3 조립 홀을 포함할 수 있다. 예컨대, 적색 반도체 발광 소자는 원형을 가지고, 녹색 반도체 발광 소자는 제1 단축과 제2 장축을 갖는 제1 타원형을 가지며, 청색 반도체 발광 소자는 제2 단축과 제2 장축을 갖는 제2 타원형을 가질 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 청색 반도체 발광 소자의 타원형의 제2 장축은 녹색 반도체 발광 소자의 타원형의 제2 장축보다 크고, 청색 반도체 발광 소자의 타원형의 제2 단축은 녹색 반도체 발광 소자의 타원형의 제1 단축보다 작을 수 있다.
한편, 반도체 발광 소자(150)를 기판(200) 상에 장착하는 방식은 예컨대, 자가 조립 방식(도 7)과 전사 방식 등이 있을 수 있다.
도 7은 실시예에 따른 발광 소자가 자가조립 방식에 의해 기판에 조립되는 예를 나타내는 도면이다.
도 7을 바탕으로 실시예에 따른 반도체 발광 소자를 전자기장을 이용한 자가조립 방식에 의해 디스플레이 패널에 조립되는 예를 설명하기로 한다.
이후 설명되는 조립 기판(200)은 발광 소자의 조립 후에 디스플레이 장치에서 패널 기판(200a)의 기능도 할 수 있으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다.
도 7을 참조하면, 반도체 발광 소자(150)는 유체(1200)가 채워진 챔버(1300)에 투입될 수 있으며, 조립 장치(1100)로부터 발생하는 자기장에 의해 반도체 발광 소자(150)는 조립 기판(200)으로 이동할 수 있다. 이때 조립 기판(200)의 조립 홀(207H)에 인접한 발광 소자(150)는 조립 배선들의 전기장에 의한 DEP force에 의해 조립 홀(207H)에 조립될 수 있다. 유체(1200)는 초순수 등의 물일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 챔버는 수조, 컨테이너, 용기 등으로 불릴 수 있다.
반도체 발광 소자(150)가 챔버(1300)에 투입된 후, 조립 기판(200)이 챔버(1300) 상에 배치될 수 있다. 실시 예에 따라, 조립 기판(200)은 챔버(1300) 내로 투입될 수도 있다.
반도체 발광 소자(150)는 도시된 바와 같이 수직형 반도체 발광 소자로 구현될 수 있으나 이에 한정되지 않고 수평형 발광 소자가 채용될 수 있다.
반도체 발광 소자(150)는 자성체를 갖는 자성층(미도시)을 포함할 수 있다. 자성층은 니켈(Ni) 등 자성을 갖는 금속을 포함할 수 있다. 유체 내로 투입된 반도체 발광 소자(150)는 자성층을 포함하므로, 조립 장치(1100)로부터 발생하는 자기장에 의해 조립 기판(200)로 이동할 수 있다. 자성층은 발광 소자의 상측 또는 하측 또는 양측에 모두 배치될 수 있다.
반도체 발광 소자(150)는 상면 및 측면을 둘러싸는 패시베이션층(156)을 포함할 수 있다. 패시베이션층(156)은 실리카, 알루미나 등의 무기물 절연체를 PECVD, LPCVD, 스퍼터링 증착법 등을 통해 형성될 수 있다. 또한 패시베이션층(156)은 포토레지스트, 고분자 물질과 같은 유기물을 스핀 코팅하는 방법을 통해 형성될 수 있다.
반도체 발광 소자(150)는 제1 도전형 반도체층(152a), 제2 도전형 반도체층(152c) 및 그 사이에 배치되는 활성층(152b)을 포함할 수 있다. 제1 도전형 반도체층(152a)은 n형 반도체층일 수 있고, 제2 도전형 반도체층(152c)은 p형 반도체층일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 제1 도전형 반도체층(152a), 제2 도전형 반도체층(152c) 및 그 사이에 배치되는 활성층(152b)는 발광부(152)를 구성할 수 있다. 발광부(152)는 발광층, 발광 영역 등으로 불릴 수 있다.
제1 전극(층)(154a)이 제1 도전형 반도체층(152a) 아래에 배치될 수 있고, 제2 전극(층)(154b)이 제2 도전형 반도체층(152c) 상에 배치될 수 있다. 이를 위해서는 제1 도전형 반도체층(152a) 또는 제2 도전형 반도체층(152c)의 일부 영역이 외부로 노출될 수 있다. 이에 따라 반도체 발광 소자(150)가 조립 기판(200)에 조립된 후에 디스플레이 장치의 제조 공정에서, 패시베이션층(156) 중 일부 영역이 식각될 수 있다.
제1 전극(154a)은 적어도 하나 이상의 층을 포함할 수 있다. 예컨대, 제1 전극(154a)은 오믹층, 반사층, 자성층, 전도층, 산화 방지층, 접착층 등을 포함할 수 있다. 오믹층은 Au, AuBe 등을 포함할 수 있다. 반사층은 Al, Ag 등을 포함할 수 있다. 자성층은 Ni, Co 등을 포함할 수 있다. 도전층은 Cu 등을 포함할 수 있다. 산화 방지층은 Mo 등을 포함할 수 있다. 접착층은 Cr, Ti 등을 포함할 수 있다.
제2 전극(154b)은 투명한 도전층을 포함할 수 있다. 예컨대, 제2 전극(154b)는 ITO, IZO 등을 포함할 수 있다.
조립 기판(200)은 조립될 반도체 발광 소자(150) 각각에 대응하는 한 쌍의 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202)을 포함할 수 있다. 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202) 각각은 단일 금속 혹은 금속합금, 금속산화물 등을 다중으로 적층하여 형성할 수 있다. 예를 들어, 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202) 각각은 Cu, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있으며 이에 한정되는 않는다.
제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202)은 교류 전압이 인가됨에 따라 전기장이 형성되고, 이 전기장에 의한 DEP force에 의해 조립 홀(207H)로 투입된 반도체 발광 소자(150)가 고정될 수 있다. 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202) 간의 간격은 반도체 발광 소자(150)의 폭 및 조립 홀(207H)의 폭보다 작을 수 있으며, 전기장을 이용한 반도체 발광 소자(150)의 조립 위치를 보다 정밀하게 고정할 수 있다.
제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202) 상에는 절연층(215)이 형성되어, 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202)을 유체(1200)로부터 보호하고, 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202)에 흐르는 전류의 누출을 방지할 수 있다. 예컨대 절연층(215)은 실리카, 알루미나 등의 무기물 절연체 또는 유기물 절연체가 단일층 또는 다층으로 형성될 수 있다. 절연층(215)은, 반도체 발광 소자(150)의 조립 시 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202)의 손상을 방지하기 위한 최소 두께를 가질 수 있고, 반도체 발광 소자(150)가 안정적으로 조립되기 위한 최대 두께를 가질 수 있다.
절연층(215)의 상부에는 격벽(207)이 형성될 수 있다. 격벽(207)의 일부 영역은 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202)의 상부에 위치하고, 나머지 영역은 조립 기판(200)의 상부에 위치할 수 있다.
한편, 조립 기판(200)의 제조 시 절연층(215) 상부에 형성된 격벽 중 일부가 제거됨으로써, 반도체 발광 소자(150)들 각각이 조립 기판(200)에 결합 및 조립되는 조립 홀(207H)이 형성될 수 있다.
조립 기판(200)에는 반도체 발광 소자(150)들이 결합되는 조립 홀(207H)이 형성되고, 조립 홀(207H)이 형성된 면은 유체(1200)와 접촉할 수 있다. 조립 홀(207H)은 반도체 발광 소자(150)의 정확한 조립 위치를 가이드할 수 있다.
한편, 조립 홀(207H)은 대응하는 위치에 조립될 반도체 발광 소자(150)의 형상에 대응하는 형상 및 크기를 가질 수 있다. 이에 따라, 조립 홀(207H)에 다른 반도체 발광 소자가 조립되거나 복수의 반도체 발광 소자들이 조립되는 것을 방지할 수 있다.
다시 도 7을 참조하면, 조립 기판(200)이 챔버에 배치된 후에 자기장을 가하는 조립 장치(1100)가 조립 기판(200)을 따라 이동할 수 있다. 조립 장치(1100)는 영구 자석이거나 전자석일 수 있다.
조립 장치(1100)는 자기장이 미치는 영역을 유체(1200) 내로 최대화하기 위해, 조립 기판(200)과 접촉한 상태로 이동할 수 있다. 실시예에 따라서는, 조립 장치(1100)가 복수의 자성체를 포함하거나, 조립 기판(200)과 대응하는 크기의 자성체를 포함할 수도 있다. 이 경우, 조립 장치(1100)의 이동 거리는 소정 범위 이내로 제한될 수도 있다.
조립 장치(1100)에 의해 발생하는 자기장에 의해 챔버(1300) 내의 반도체 발광 소자(150)는 조립 장치(1100) 및 조립 기판(200)을 향해 이동할 수 있다.
반도체 발광 소자(150)는 조립 장치(1100)를 향해 이동 중 조립 배선(201, 202) 사이의 전기장에 의해 형성되는 DEP force에 의해 조립 홀(207H)로 진입하여 고정될 수 있다.
구체적으로 제1, 제2 조립 배선(201, 202)은 교류 전원에 의해 전기장을 형성하고, 이 전기장에 의해 DEP force이 조립 배선(201, 202) 사이에 형성될 수 있다. 이 DEP force에 의해 조립 기판(200) 상의 조립 홀(207H)에 반도체 발광 소자(150)를 고정시킬 수 있다.
이때 조립 기판(200)의 조립 홀(207H) 상에 조립된 발광 소자(150)와 조립 배선(201, 202) 사이에 소정의 솔더층(미도시)이 형성되어 발광 소자(150)의 결합력을 향상시킬 수 있다.
또한 조립 후 조립 기판(200)의 조립 홀(207H)에 몰딩층(미도시)이 형성될 수 있다. 몰딩층은 투명 레진이거나 또는 반사물질, 산란물질이 포함된 레진일 수 있다.
상술한 전자기장을 이용한 자가조립 방식에 의해, 반도체 발광 소자들 각각이 기판에 조립되는 데 소요되는 시간을 급격히 단축시킬 수 있으므로, 대면적 고화소 디스플레이를 보다 신속하고 경제적으로 구현할 수 있다.
이하, 도 8 내지 도 21을 참조하여 상술한 문제를 해결하기 위한 다양한 실시예를 설명한다. 이하에서 누락된 설명은 도1 내지 도 7 및 해당 도면과 관련하여 상술된 설명으로부터 용이하게 이해될 수 있다.
[제1 실시예]
도 8은 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치를 도시한 평면도이다. 도 9는 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치를 도시한 제1 단면도이다. 도 10은 도 9에 도시된 복수의 자석 어셈블리를 도시한 평면도이다.
도 8 내지 도 10을 참조하면, 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치(300)는 챔버(305) 및 복수의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-4)을 포함할 수 있다.
챔버(305)를 유체(320)를 포함할 수 있다. 유체(320)는 챔버(305) 내로 유입될 수 있고, 챔버(305) 밖으로 배출될 수 있다. 유체(320)는 물과 같은 액체일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 챔버(305)는 도 8에 도시한 바와 같이, 위에서 볼 때 사각형일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
챔버(305)는 로딩부(314), 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)을 포함할 수 있다.
로딩부(314)는 다양한 객체(111 내지 113)를 챔버(305) 내의 유체(320)로 로딩할 수 있는 인입구일 수 있다. 해당 객체(111 내지 113)은 자가 조립 공정에 사용되는 부재로서, 반도체 발과 소자와 다양한 이물을 포함할 수 있다. 다양한 이물이 자가 조립 공정을 수행하기 전에 제거되지 않는 경우, 해당 다양한 이물이 자가 조립 공정시 반도체 발광 소자의 조립을 방해하여 점등 수율이 현저하게 저하되는 문제가 있다. 따라서, 다양한 이물이 자가 조립 공정을 수행하기 전에 제거되어야 한다.
객체는 사이즈나 자화의 세기가 상이한 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)를 포함할 수 있다.
일 예로서, 제2 객체(112)의 자화의 세기는 제1 객체(111)의 자화의 세기보다 크고, 제3 객체(113)의 자화의 세기는 제2 객체(112)의 자화의 세기보다 클 수 있다.
다른 예로서, 제2 객체(112)의 사이즈는 제1 객체(111)의 사이즈보다 크고, 제3 객체(113)의 사이즈는 제2 객체(112)의 사이즈보다 클 수 있다.
예컨대, 제1 객체(111)는 제1 이물이고, 제3 객체(113)는 제2 이물이고, 제2 객체(112)는 반도체 발광 소자일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
예컨대, 제1 객체(111)는 금속 파편, 유기물 파편, 무기물 파편, 반도체 물질 파편 등일 수 있다. 이들 금속파편, 유기물 파편, 무기물 파편, 반도체 물질 파편 등은 반도체 발광 소자를 제고하는 과정에서 발생되거나 유통하는 과정에서 발생될 수 있다.
예컨대, 제3 객체(113)는 유기물 덩어리, 무기물 덩어리, 금속 덩어리, 여러 개의 반도체 발광 소자들로 구성된 반도체 발광 소자 덩어리 등일 수 있다. 예컨대, 제3 객체(113)는 유기물, 무기물, 금속 및 반도체 발광 소자 중 적어도 2개 이상이 결합된 복합체 덩어리 등일 수 있다.
제1 실시예에 따른 이물 제거 장치(300)는 자가 조립 공정을 수행하기 전에 반도체 발광 소자에 붙거나 혼합된 다양한 이물을 제거할 수 있다.
일 예로서, 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)은 챔버(305)에 바닥부(또는 바닥면)에 정의될 수 있다.
다른 예로서, 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)은 트랩 기판(310) 상에 정의될 수 있다. 트랩 기판(310)은 필터 기판으로 불릴 수도 있다.
트랩 기판(310)은 챔버(305)의 바닥면 상에 배치될 수 있다. 트랩 기판(310)은 착탈 가능할 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
트랩 기판(310)은 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)을 포함할 수 있다. 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)은 서로 인접할 수 있다. 예컨대, 제2 트랩 영역(312)의 일측에 제1 트랩 영역(311)이 인접하고, 제2 트랩 영역(312)의 타측에 제3 트랩 영역(313)이 인접할 수 있다. 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)은 트랩 기판(310)으로 일체로 형성될 수 있다. 이와 달리, 도시되지 않았지만, 트랩 기판(310)은 제1 트랩 영역(311)에 해당하는 제1 트랩 기판, 제2 트랩 영역(312)에 해당하는 제2 트랩 기판 및 제3 트랩 영역(313)에 해당하는 제3 트랩 기판을 포함할 수도 있다.
제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)은 제1 방향(X)을 따라 서로 인접하여 위치될 수 있다. 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313) 각각의 사이즈는 서로 상이할 수 있다. 도면에는 제2 트랩 영역(312)의 사이즈가 제1 트랩 영역(311)의 사이즈 또는 제3 트랩 영역(313)의 사이즈보다 크도록 도시되고 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
로딩부(314)는 제1 트랩 영역(311) 상에 위치될 수 있다. 로딩부(314)는 제2 방향(Y)을 따라 길게 배치될 수 있다. 로딩부(314)는 챔버(305)의 일측 끝단에 인접한 제1 트랩 영역(311) 상에 배치될 수 있디. 다양한 객체(111 내지 113)가 로딩부(314)를 통해 제1 트랩 영역(311) 상에 유체(320)로 로딩될 수 있다.
제2 트랩 영역(312)은 제1 트랩 영역(311)보다 로딩부(314)로부터 멀리 위치될 수 있다. 제3 트랩 영역(313)은 제2 트랩 영역(312)보다 로딩부(314)로부터 멀리 위치될 수 있다.
복수의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-4) 각각에 포함된 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)의 이동 방향을 따라 제1 트랩 영역(311) 상의 유체(320) 내로 로딩된 객체(111 내지 113)가 이동될 수 있다.
복수의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-4) 각각은 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)을 직선 상으로 왕복 운동시킬 수 있다. 즉, 복수의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-4) 각각은 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)을 제1 방향(X)을 따라 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)을 경유하도록 반복적으로 왕복 운동시킬 수 있다. 이에 따라, 제1 객체(111)는 제1 트랩 영역(311)에 트랩되고, 제2 객체(112)는 제2 트랩 영역(312)에 트랩되며, 제3 객체(113)는 제3 트랩 영역(313)에 트랩될 수 있다. 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)의 이동은 객체(111 내지 113)가 제1 트랩 영역(311) 상에 유체(320)로 로딩될 때 시작될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
복수의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-4)는 챔버(305) 아래에 배치될 수 있다. 복수의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-4)는 각각 적어도 하나 이상의 자석(331, 332), 레일(335) 및 적어도 하나 이상의 모터(337, 338)를 포함할 수 있다.
복수의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-4)는 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)을 챔버(305) 아래에서 챔버(305)의 하면에 대해 수평으로 제1 방향(X)을 따라 왕복 운동시킬 수 있다.
모터(337, 338)는 챔버(305)의 양측 끝단 아래에 위치되어 레일(335)을 구동할 수 있다. 모터(337, 338)의 축이 제2 방향(Y)을 따라 길게 위치될 수 있다.
모터(337, 338)는 레일(335)을 특정한 방향, 예컨대 제1 방향(X)을 따라 왕복 운동시킬 수 있다. 모터(337, 338)의 축을 중심으로 레일(335)이 반시계 방향으로 왕복 운동될 수 있다.
도 9에 도시한 바와 같이, 레일(335)은 상하 방향을 따라 왕복 운동될 수 있다. 이에 따라, 레일(335) 상에 장착된 적어도 하나 이상의 자석(331, 332) 또한 상하 방향을 따라 왕복 운동될 수 있다.
적어도 하나 이상의 자석(331, 332)은 레일(335)에 의해 제1 방향(X)을 따라 왕복 운동될 수 있다. 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)은 로딩부(314)로부터 제1 방향(X)을 따라 멀어졌다가 제1 방향을 따라 다시 로딩부(314)를 향해 가까워지도록 이동될 수 있다.
적어도 하나 이상의 자석(331, 332)은 레일(335) 아래에 위치되어 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)으로 이동된 후, 레일(335) 상에 위치되어 제3 트랩 영역(313), 제2 트랩 영역(312) 및 제1 트랩 영역(311)으로 이동될 수 있다. 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 레일(335) 아래에 위치될 때보다 레일(335) 상에 위치될 때, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 트랩 기판(310) 상에 위치된 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)에 보다 더 가까워 보다 더 큰 자기장이 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)에 가해질 수 있다.
적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 레일(335) 상에 위치되어 제3 트랩 영역(313), 제2 트랩 영역(312) 및 제1 트랩 영역(311)으로 이동될 때, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)에서 발생된 자기장에 의해 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113) 각각이 자화되어, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)을 향해 이동될 수 있다.
이때, 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113) 각각의 사이즈나 자화의 세기에 따라 그 이동 속도나 이동 거리가 달라질 수 있다. 앞서 기술한 바와 같이, 사이즈나 자화의 세기가 가장 큰 제3 객체(113)가 가장 빠른 속도로 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)을 향해 이동되고, 그 다음 제2 객체(112) 그리고 마지막으로 제1 객체(111)가 이동될 수 있다.
적어도 하나 이상의 자석(331, 332) 각각의 왕복 운동에 대한 회전수는 분당 수백회 내지 수천회이므로, 제1 객제, 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)에 의해 로딩부(314)로부터 멀어지는 거리가 달라짐으로써, 서로 간에 군집으로 구분될 수 있다.
제1 객체(111)는 사이즈도 작거나 자화의 세기도 미약하거나 거의 없어, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 분당 수천회 왕복 운동하더라도 제1 군집으로서 제1 객체(111)들은 제1 트랩 영역(311)을 벗어나지 않고 제1 트랩 영역(311) 내에 위치될 수 있다. 제3 객체(113)는 사이즈 및/또는 자화의 세기가 가장 크므로, 제1 객체(111) 및 제2 객체(112)에 비해 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)을 향해 이동될 수 있다.
이에 따라, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 일정 시간 왕복 운동하는 경우, 제3 군집으로서 제3 객체(113)들이 제3 트랩 영역(313)으로 이동될 수 있다. 제2 객체(112)는 제1 객체(111)보다는 크기나 자화의 세기가 크고 제3 객체(113)보다는 크기나 자화의 세기가 작으므로, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 일정 시간 왕복 운동하는 경우, 제2 군집으로서 제2 객체(112)들이 제2 트랩 영역(312)으로 이동될 수 있다.
한편, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)의 왕복 운동은 제3 객체(113)가 로딩부(314)로부터 제3 트랩 영역(313)까지 이동될 때까지 지속적으로 수행될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
도면에는 4개의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-4)만 도시되고 있지만, 이보다 더 적거나 더 많이 구비될 수도 있다.
한편, 앞서 기술한 바와 같이, 레일(335)은 상하 방향을 따라 왕복 운동될 수 있다(도 9 및 도 10). 이에 반해, 레일(335)은 수평 방향을 따라 왕복 운동할 수도 있다.
도 11은 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치를 도시한 제2 단면도이다. 도 12는 도 11에 도시된 복수의 자석 어셈블리를 도시한 평면도이다.
도 11 및 도 12에 도시한 바와 같이, 복수의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-3)는 적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334), 레일(335) 및 모터(337, 338)를 포함할 수 있다.
복수의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-3)는 적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)을 챔버(305) 아래에서 챔버(305)의 하면에 대해 수평으로 제1 방향(X)을 따라 왕복 운동시킬 수 있다.
모터(337, 338)는 챔버(305)의 양측 끝단 아래에 위치되어 레일(335)을 구동할 수 있다. 모터(337, 338)의 축이 제3 방향(Z)을 따라 길게 위치될 수 있다.
모터(337, 338)는 레일(335)을 특정한 방향, 예컨대 제1 방향(X)을 따라 왕복 운동시킬 수 있다. 모터(337, 338)의 축을 중심으로 레일(335)이 반시계 방향(또는 시계 방향)으로 왕복 운동될 수 있다.
도 11에 도시한 바와 같이, 레일(335)은 수평 방향을 따라 왕복 운동될 수 있다. 이에 따라, 레일(335) 상에 장착된 적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334) 또한 수평 방향을 따라 왕복 운동될 수 있다.
적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)은 레일(335)에 의해 제1 방향(X)을 따라 왕복 운동될 수 있다. 적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)은 로딩부(314)로부터 제1 방향(X)을 따라 멀어졌다가 제1 방향을 따라 다시 로딩부(314)를 향해 가까워지도록 이동될 수 있다.
적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)은 레일(335) 외측부에 위치되어 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)으로 이동된 후, 레일(335) 외측부에 위치되어 제3 트랩 영역(313), 제2 트랩 영역(312) 및 제1 트랩 영역(311)으로 이동될 수 있다. 즉, 적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)은 왕복 운동하는 동안 챔버(305)의 하면에 대해 동일한 거리를 유지할 수 있다.
적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)이 제3 트랩 영역(313), 제2 트랩 영역(312) 및 제1 트랩 영역(311)으로 이동될 때, 적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)에서 발생된 자기장에 의해 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113) 각각이 자화되어, 적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)을 향해 이동될 수 있다.
이를 위해, 로딩부(314)가 복수의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-3) 각각의 적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)이 제3 트랩 영역(313), 제2 트랩 영역(312) 및 제1 트랩 영역(311)을 이동되는 동선 산에 해당하는 장소 각각을 독립된 로딩부(314)로 구성할 수도 있다.
도 12에 도시한 바와 같이, 자석 어셈블리(330-1 내지 330-3)가 3개인 경우, 로딩부(314) 또한 서로 독립적으로 구획된 3개의 로딩부(314)로 구성될 수 있다. 이러한 경우, 각 로딩부(314)로 로딩된 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 복수의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-3) 각각의 적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)이 제3 트랩 영역(313), 제2 트랩 영역(312) 및 제1 트랩 영역(311)으로 이동될 때마다 서로 상이한 이동 속도를 가지고 적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)을 향해 이동될 수 있다. 이에 따라, 제1 객체(111)가 제1 트랩 영역(311)에 트랩되고, 제2 객체(112)가 제2 트랩 영역(312)에 트랩되며, 제3 객체(113)가 제3 트랩 영역(313)에 트랩될 수 있다.
이때, 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113) 각각의 사이즈나 자화의 세기에 따라 그 이동 속도나 이동 거리가 달라질 수 있다. 앞서 기술한 바와 같이, 사이즈나 자화의 세기가 가장 큰 제3 객체(113)가 가장 빠른 속도로 적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)을 향해 이동되고, 그 다음 제2 객체(112) 그리고 마지막으로 제1 객체(111)가 이동될 수 있다.
도면에는 3개의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-3)(330-1 내지 330-4)만 도시되고 있지만, 이보다 더 적거나 더 많이 구비될 수도 있다.
도 13은 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치에서 트랩 기판을 상세히 도시한 단면도이다.
도 13에 도시한 바와 같이, 트랩 기판(310)은 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)을 포함할 수 있다.
제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)은 각각 복수의 제1 트랩 홈(341), 복수의 제2 트랩 홈(342) 및 복수의 제3 트랩 홈(343)을 포함할 수 있다.
제1 트랩 홈(341), 제2 트랩 홈(342) 및 제3 트랩 홈(343)은 각각 서로 상이한 직경(D1, D2, D3)을 가가질 수 있다. 또한, 제1 트랩 홈(341), 제2 트랩 홈(342) 및 제3 트랩 홈(343)은 각각 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113) 각각에 대응하는 사이즈를 가질 수 있다.
제1 트랩 영역(311)은 제1 직경(D1)을 갖는 제1 트랩 홈(341)을 가지고, 제2 직경(D2)을 갖는 제2 트랩 홈(342)을 가지며, 제3 트랩 영역(313)은 제3 직경(D3)을 갖는 제3 트랩 홈(343)을 가질 수 있다.
예컨대, 제2 직경(D2)은 제1 직경(D1)보다 크고, 제3 직경(D3)은 제2 직경(D2)보다 클 수 있다. 예컨대, 제3 직경(D3)는 제2 직경(D2)과 동일할 수 있다.
예컨대, 제1 직경(D1)은 제1 객체(111)의 직경(또는 사이즈)보다 크고, 제2 직경(D2)은 제2 객체(112)의 직경(또는 사이즈)보다 크며, 제3 직경(D3)은 제3 객체(113)의 직경(또는 사이즈)보다 클 수 있다.
제1 트랩 홈(341), 제2 트랩 홈(342) 및 제3 트랩 홈(343) 각각의 깊이는 상이할 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제1 트랩 홈(341)의 깊이는 제1 객체(111)의 높이와 같거나 클 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제2 트랩 홈(342)의 깊이는 제2 객체(112)의 높이와 같거나 클 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제3 트랩 홈(343)의 깊이는 제3 객체(113)의 높이와 같거나 클 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
로딩부(314)에 의해 유체(320)로 로딩된 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113) 각각이 적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)의 왕복 운동에 서로 상이한 이동 속도를 가지고 로딩부(314)로부터 멀어질 수 있다.
예컨대, 제3 객체(113)의 크기 및/또는 자화의 세기는 제1 객체(111) 및 제2 객체(112) 각각에 비해 크기 및/또는 자화의 세기가 가장 크므로, 제1 객체(111) 및 제2 객체(112) 각각에 비해 로딩부(314)로부터 더 빠르게 멀어질 수 있다. 이에 따라, 제3 객체(113)는 제1 트랩 영역(311) 및 제2 트랩 영역(312)을 경유하여 제3 트랩 영역(313)으로 이동되고, 제3 트랩 영역(313)에 트랩될 수 있다. 제3 객체(113)의 전체가 제3 트랩 영역(313)의 제3 트랩 홈(343)에 삽입되거나 제3 객체(113)의 일부 영역만이 제3 트랩 영역(313)의 제3 트랩 홈(343)에 삽입될 수 있다.
예컨대, 제2 객체(112)의 크기 및/또는 자화의 세기는 제1 객체(111)에 비해 크기 및/또는 자화의 세기가 크므로, 제1 객체(111)에 비해 로딩부(314)로부터 더 빠르게 멀어질 수 있다. 이에 따라, 제2 객체(112)는 제1 트랩 영역(311)을 경유하여 제2 트랩 영역(312)으로 이동되고, 제2 트랩 영역(312)에 트랩될 수 있다. 제2 객체(112)의 전체가 제2 트랩 영역(312)의 제2 트랩 홈(342)에 삽입될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
예컨대, 제1 객체(111)의 크기 및/또는 자화의 세기는 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)에 비해 크기 및/또는 자화의 세기가 가장 작으므로, 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)에 비해 로딩부(314)로부터 덜 멀어질 수 있다. 제1 객체(111)가 매우 미약한 크기를 갖거나 자화의 세기가 없는 경우, 제1 객체(111)는 제1 트랩 영역(311)을 벗어나지 않고 제1 트랩 영역(311) 내에 위치될 수 있다. 이에 따라, 제1 객체(111)는 제1 트랩 영영의 제1 트랩 홈(341)에 트랩될 수 있다.
도시되지 않았지만, 트랩 기판(310)은 서로 독립적으로 구분된 제1 트랩 기판, 제2 트랩 기판 및 제3 트랩 기판을 포함할 수 있다. 이러한 경우, 제1 트랩 기판은 제1 트랩 영역(311)에 대응되는 크기를 갖고, 제2 트랩 기판은 제2 트랩 영역(312)에 대응되는 크기를 가지며, 제3 트랩 기판은 제3 트랩 영역(313)에 대응되는 크기를 가질 수 있다.
도 14는 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치에서 액체 공급부 및 액체 배출부를 도시한 평면도이다. 도 15는 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치에서 액체 공급부, 액체 배출부 및 초음파 생성부를 도시한 단면도이다.
도 14 및 도 15를 참조하면, 제1 실시예에 따른 이물 제거 장치(300)는 적어도 하나 이상의 액체 공급부(350), 적어도 하나 이상의 액체 배출부(360) 및 적어도 하나 이상의 초음파 생성부(371, 372)를 포함할 수 있다.
액체 공급부(350)는 챔버(305)의 제1 측 상에 위치되어, 액체를 챔버(305) 내로 공급할 수 있다.
액체 공급부(350)는 챔버(305)의 제1 측 상에 위치된 제1 측벽에 내장된 액체 공급 파이프일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 액체 공급 파이프는 제1 방향(X)을 따라 길게 배치될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 액체 공급부(350)는 액체 공급 파이프의 일측 또는 양측으로 제공된 액체를 챔버(305) 내로 동시에 공급하기 위해 액체 공급 파이프와 제1 측벽 내측이 연결된 복수의 노즐(미도시)을 포함할 수 있다. 노즐 각각에는 액체의 공급을 차단할 수 있는 밸브(미도시)가 구비될 수 있다.
액체 공급부(350)를 통해 액체가 챔버(305) 내로 공급되고, 로딩부(314)를 통해 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 챔버(305) 내에 채워진 유체(320) 내로 로딩될 수 있다. 이후, 복수의 자석 어셈블리(330-1 내지 330-4) 각각의 적어도 하나 이상의 자석(331 내지 334)이 왕복 운동함으로써, 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 각각 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)으로 트랩될 수 있다.
액체 배출부(360)는 챔버(305)의 제2 측 상에 위치된 제2 측벽에 내장된 액체 배출 파이프일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 액체 배출 파이프는 제1 방향(X)을 따라 길게 배치될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 액체 배출부(360)는 액체 배출 파이프의 일측 또는 양측을 통해 외부로 액체를 배출할 수 있다. 액체 배출부(360)는 챔버(305) 내의 액체가 동시에 외부로 배출되도록 액체 배출 파이프와 제2 측벽 내측이 연결된 복수의 노즐(미도시)을 포함할 수 있다. 노즐 각각에는 외부와의 차단을 위해 밸브(미도시)가 구비될 수 있다.
챔버(305)를 청소하거나 챔버(305) 내에 채워진 유체(320)가 오염된 경우, 해당 유체(320)가 유체 배출부를 통해 외부로 배출될 수 있다.
액체 공급부(350)는 액체 배출부(360)에 비해 지면으로부터 더 높게 위치됨으로써, 액체가 보다 신속하게 챔버(305) 내에 채워지고 챔버(305) 내의 액체가 보다 신속하게 외부로 배출될 수 있다. 예컨대, 액체 공급부(350)는 제1 측벽의 상측에 배치되고, 액체 배출부(360)는 제2 측벽의 하측에 배치될 수 있다. 액체 배출부(360)는 트랩 기판(310)에 비해 지면으로부터 더 높게 위치될 수 있다.
초음파 생성부(371, 372)는 챔버(305) 내의 유체(320)에 공급하기 위한 초음파를 생성할 수 있다.
앞서 기술한 바와 같이, 제3 객체(113)는 유기물, 무기물, 금속 및 반도체 발광 소자 중 적어도 2개 이상이 결합된 복합체 덩어리일 수 있다. 복합체 덩어리에 포함된 반도체 발광 소자가 정상 반도체 발광 소자임에도 불구하고, 복합체 덩어리에 포함되어, 제3 트랩 영역(313)에 트랩되어 폐기될 수 있다.
하지만, 초음파 생성부(371, 372)에서 생성된 초음파가 챔버(305) 내의 유체(320)에 가해짐으로써, 초음파에 의해 유체(320)에 진동이 발생되고, 이러한 진동에 의해 복합체 덩어리가 해체되어, 유기물 파편, 무기물 파편, 금속 파편, 반도체 발광 소자 등으로 분리될 수 있다. 이와 같이, 반도체 발광 소자가 복합 덩어리로부터 분리되어 제2 트랩 영역(312)에 트랩됨으로써, 반도체 발광 소자의 폐기율이 감소되어 제조 비용이 절감될 수 있다.
도시되지 않았지만, 제2 트랩 영역(312)에 트랩된 제2 객체(112), 즉 반도체 발광 소자가 수거된 후, 제1 트랩 영역(311) 및 제3 트랩 영역(313) 각각에 트랩된 제1 이물 및 제2 이물이 수거될 수 있다. 예컨대, 마그넷 피펫을 이용하여 반도체 발광 소자가 수거될 수 있다. 마그넷 피펫은 마그넷이 내장되어, 마그넷이 하우징의 내외부로 이동 가능하다. 마그넷 피렛이 제2 트랩 영역(312) 상에 위치된 후 마그넷이 하우징의 아래로 하강함으로써, 마그넷의 자기장에 의해 반도체 발광 소자가 마그넷 피펫에 부착될 수 있다. 마그넷 피펫이 수거함으로 이동된 후, 마그넷이 상승되어 하우징 내부로 들어감으로써, 반도체 발광 소자가 수거함에 수거될 수 있다. 이와 같은 과정을 반복함으로써, 제2 트랩 영역(312)에 트랩된 반도체 발광 소자 모두 수거함에 수거될 수 있다.
이후, 챔버(305) 내의 액체가 배출된 후, 트랩 기판(310)이 탈착되어 제1 트랩 영역(311)과 제3 트랩 영역(313)에 각각 트랩된 제1 이물과 제2 이물이 제거될 수 있다.
[제2 실시예]
도 16은 제2 실시예에 따른 이물 제거 장치를 도시한 평면도이다. 도 17은 제2 실시예에 따른 이물 제거 장치를 도시한 단면도이다. 도 18은 도 17에 도시된 자석 어셈블리를 도시한 평면도이다.
제2 실시예는 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 챔버(305)의 중심을 기준으로 회전 운동하는 것을 제외하고 제1 실시예와 유사하다. 제2 실시예에서 제1 실시예와 동일한 형상, 구조 및/또는 기능을 갖는 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하고 상세한 설명을 생략한다.
도 16 내지 도 18을 참조하면, 제2 실시예에 따른 이물 제거 장치(301)는 챔버(305) 및 자석 어셈블리(330)를 포함할 수 있다.
챔버(305)는 위에서 볼 때, 원형을 가질 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
챔버(305)는 제1 챔버 영역(305-1) 및 제2 챔버 영역(305-2)을 포함할 수 있다. 제1 챔버 영역(305-1) 및 제2 챔버 영역(305-2)은 각각 반구 형상을 가질 수 있다. 제1 챔버 영역(305-1)의 직선 면과 제2 챔버 영역(305-2)의 직선 면은 서로 접할 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 직선 면에 의해 서로 접하는 제1 챔버 영역(305-1)과 제2 챔버 영역(305-2)에 의해 원형을 갖는 챔버(305)가 구성될 수 있다.
제1 챔버 영역(305-1)은 제1 로딩부(314), 제1 트랩 영역(311)(311), 제2 트랩 영역(312)(312) 및 제3 트랩 영역(313)을 포함할 수 있다. 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313) 각각의 사이즈는 서로 상이할 수 있다. 도면에는 제2 트랩 영역(312)의 사이즈가 제1 트랩 영역(311)의 사이즈 또는 제3 트랩 영역(313)의 사이즈보다 크도록 도시되고 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)은 각각 조각 케이크 모양을 가질 수 있다. 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)은 각각 챔버(305)의 중심에 접할 수 있다.
제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)은 서로 접할 수 있다. 즉, 제2 트랩 영역(312)의 일측에 제1 트랩 영역(311)이 접하고, 제2 트랩 영역(312)의 타측에 제3 트랩 영역(313)이 접할 수 있다.
제2 챔버 영역(305-2)은 제2 로딩부(318), 제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)을 포함할 수 있다. 제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317) 각각의 사이즈는 서로 상이할 수 있다. 도면에는 제5 트랩 영역(316)의 사이즈가 제4 트랩 영역(315)의 사이즈 또는 제6 트랩 영역(317)의 사이즈보다 크도록 도시되고 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)은 각각 조각 케이크 모양을 가질 수 있다. 제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)은 각각 챔버(305)의 중심에 접할 수 있다.
제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)은 서로 접할 수 있다. 즉, 제5 트랩 영역(316)의 일측에 제4 트랩 영역(315)이 접하고, 제5 트랩 영역(316)의 타측에 제6 트랩 영역(317)이 접할 수 있다.
제1 로딩부(314)는 제1 챔버 영역(305-1)의 제1 트랩 영역(311) 상에 배치되고, 제2 로딩부(318)는 제2 챔버 영역(305-2)의 제4 트랩 영역(315) 상에 배치될 수 있다. 챔버(305)의 중심을 기준으로 제1 로딩부(314)와 제2 로딩부(318)는 서로 대칭될 수 있다.
제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312), 제3 트랩 영역(313), 제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)은 각각 챔버(305)의 중심에서 접하고, 그 외측 둘레를 따라 원형을 구성할 수 있다.
제1 챔버 영역(305-1)의 제1 트랩 영역(311)과 제2 챔버 영역(305-2)의 제6 트랩 영역(317)에 접하고, 제1 챔버 영역(305-1)의 제3 트랩 영역(313)과 제2 챔버 영역(305-2)의 제4 트랩 영역(315)에 접할 수 있다.
제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)은 각각 챔버(305)의 중심을 기준으로 제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)과 서로 대칭될 수 있다. 예컨대, 챔버(305)의 중심을 기준으로 제1 트랩 영역(311)과 제4 트랩 영역(315)은 서로 대칭될 수 있다. 예컨대, 챔버(305)의 중심을 기준으로 제2 트랩 영역(312)과 제5 트랩 영역(316)은 서로 대칭될 수 있다. 예컨대, 챔버(305)의 중심을 기준으로 제3 트랩 영역(313)과 제6 트랩 영역(317)은 서로 대칭될 수 있다.
한편, 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312), 제3 트랩 영역(313), 제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)은 트랩 기판(310)에 정의될 수 있다. 트랩 기판(310)은 챔버(305)의 형상에 대응하는 형상을 가질 수 있다. 챔버(305)가 원형을 가지므로, 트랩 기판(310) 또한 원형을 가질 수 있다.
자석 어셈블리(330)는 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)을 챔버(305)의 중심을 기준으로 시계 방향으로 회전 운동시킬 수 있다. 자석 어셈블리(330)는 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)을 제6 트랩 영역(317), 제5 트랩 영역(316), 제4 트랩 영역(315), 제3 트랩 영역(313), 제2 트랩 영역(312) 및 제1 트랩 영역(311)을 경유하도록 챔버(305)의 중심을 기준으로 회전 운동시킬 수 있다.
자석 어셈블리(330)는 도 17에 도시한 바와 같이, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)(331, 332), 지지 플레이트(336) 및 모터(337)를 포함할 수 있다.
자석 어셈블리(330)는 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)을 챔버(305) 아래에서 챔버(305)의 중심을 기준으로 시계 방향으로 회전 운동시킬 수 있다.
모터(337)는 챔버(305) 아래에서 챔버(305)의 중심에 위치되어 지지 플레이트(336)를 구동할 수 있다. 모터(337)의 축이 제3 방향(Z)을 따라 길게 위치될 수 있다.
도 17에 도시한 바와 같이, 모터(337)는 지지 플레이트(336)를 챔버(305)의 중심을 기준으로 시계 방향으로 회전 운동시킬 수 있다. 모터(337)의 축을 중심으로 지지 플레이트(336)가 시계 방향으로 회전 운동될 수 있다. 이에 따라, 지지 플레이트(336) 상에 장착된 적어도 하나 이상의 자석(331, 332) 또한 시계 방향으로 회전 운동될 수 있다.
적어도 하나 이상의 자석(331, 332)은 챔버(305) 아래에서 제6 트랩 영역(317), 제5 트랩 영역(316), 제4 트랩 영역(315), 제3 트랩 영역(313), 제2 트랩 영역(312) 및 제1 트랩 영역(311)을 경유하도록 챔버(305)의 중심을 기준으로 시계 방향으로 회전 운동될 수 있다. 이러한 회전 운동은 반복적으로 수행될 수 있다.
적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 시계 방향으로 회전 운동함에 따라 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 제2 로딩부(318)에 인접하는 경우, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332) 각각에 의해 발생된 자기장에 의해 제2 로딩부(318)에 의해 로딩된 제4 객체(114), 제5 객체(115) 및 제6 객체(116)(또는 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113))가 자하되어, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)을 향해 이동될 수 있다. 이후, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 제4 객체(114), 제5 객체(115) 및 제6 객체(116)(또는 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113))를 지나친 후 회전 운동에 의해 제1 로딩부(314)에 인접하는 경우, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332) 각각의 자기장에 의해 제1 로딩부(314)에 의해 로딩된 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 자화되어, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)을 향해 이동될 수 있다.
적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 시계 방향으로 반복적으로 회전 운동함에 따라, 제1 로딩부(314)로부터 로딩된 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)뿐만 아니라 제2 로딩부(318)로부터 로딩된 제4 객체(114), 제5 객체(115) 및 제6 객체(116)(또는 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113))가 반시계 방향으로 회전 운동할 수 있다.
이때, 제1 객체(111), 제2 객체(112), 제3 객체(113), 제4 객체(114), 제5 객체(115) 및 제6 객체(116) 각각의 사이즈 및/자화의 세기에 따라 그 이동 속도가 서로 상이하다. 이에 따라, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)의 회전 운동이 반복적으로 수행됨으로써, 제1 로딩부(314)로부터 로딩된 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 각각 제1 로딩부(314)로부터 상이한 거리에 위치된 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)에 트랩되고, 제2 로딩부(318)로부터 로딩된 제4 객체(114), 제5 객체(115) 및 제6 객체(116)(또는 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113))가 각각 제2 로딩부(318)로부터 상이한 거리에 위치된 제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)에 트랩될 수 있다.
앞서 기술한 바와 같이, 제1 객체(111), 제2 객체(112), 제3 객체(113), 제4 객체(114), 제5 객체(115) 및 제6 객체(116) 각각이 수백개 내지 수백만개이므로, 제1 트랩 영역(311)에는 제1 객체(111)들이 제1 군집으로서 트랩되고, 제2 트랩 영역(312)에는 제2 객체(112)들이 제2 군집으로서 트랩되며, 제3 트랩 영역(313)에는 제3 객체(113)들이 제3 군집으로서 트랩될 수 있다. 제4 트랩 영역(315)에는 제4 객체(114)들이 제4 군집으로서 트랩되고, 제5 트랩 영역(316)에는 제5 객체(115)들이 제5 군집으로서 트랩되며, 제6 트랩 영역(317)에는 제6 객체(116)들이 제6 군집으로서 트랩될 수 있다.
제2 실시예에 따른 이물 제거 장치(301)는 다음과 같이 2가지 방법으로 동작될 수 있다.
[제1 동작 방법]
제1 로딩부(314)를 통해 유체(320)에 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 로딩되고, 제2 로딩부(318)를 통해 유체(320)에 제4 객체(114), 제5 객체(115) 및 제6 객체(116)가 로딩될 수 있다. 예컨대, 제1 객체(111)와 제4 객체(114)는 유사한(또는 동일한) 물질 종류, 유사한(또는 동일한) 사이즈 및/또는 유사한(또는 동일한) 자화의 세기를 가질 수 있다. 예컨대, 제2 객체(112)와 제5 객체(115)는 유사한(또는 동일한) 물질 종류, 유사한(또는 동일한) 사이즈 및/또는 유사한(또는 동일한) 자화의 세기를 가질 수 있다. 예컨대, 제3 객체(113)와 제6 객체(116)는 유사한(또는 동일한) 물질 종류, 유사한(또는 동일한) 사이즈 및/또는 유사한(또는 동일한) 자화의 세기를 가질 수 있다.
예컨대, 제1 객체(111)와 제4 객체(114)는 제1 이물이고, 제2 객체(112)와 제5 객체(115)는 반도체 발광 소자이며, 제3 객체(113)와 제6 객체(116)는 제2 이물일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제1 객체(111)로서의 제1 이물과 제4 객체(114)로서의 제1 이물은 유사하거나 동일한 종류, 사이즈 및/또는 자화의 세기를 가질 수 있다. 제3 객체(113)로서의 제2 이물과 제6 객체(116)로서의 제2 이물은 유사하거나 동일한 종류, 사이즈 및/또는 자화의 세기를 가질 수 있다. 제2 객체(112)로서의 반도체 발광 소자와 제5 객체(115)로서의 반도체 발광 소자는 동일한 컬러 광이나 상이한 컬러 광을 발광할 수 있다.
자석 어셈블리(330)에 의해 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 챔버(305)의 중심을 기준으로 시계 방향으로 최전 운동될 수 있다.
적어도 하나 이상의 자석(331, 332) 각각의 회전 운동의 회전수는 분당 수백회 내지 수천회일 수 있다.
적어도 하나 이상의 자석(331, 332) 각각이 분당 수백회 내지 수천회의 회전 속도로 회전될 수 있다. 이에 따라, 제1 로딩부(314)를 통해 로딩된 제1 객제, 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)에 의해 제1 로딩부(314)로부터 멀어지는 거리가 달라짐으로써, 서로 간에 군집으로 구분될 수 있다. 또한, 제2 로딩부(318)를 통해 로딩된 제4 객체(114), 제5 객체(115) 및 제6 객체(116)가 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)에 의해 제2 로딩부(318)로부터 멀어지는 거리가 달라짐으로써, 서로 간에 군집으로 구분될 수 있다.
이에 따라, 제1 객체(111)는 제1 챔버 영역(305-1)의 제1 트랩 영역(311)에 트랩되고, 제2 객체(112)는 제1 챔버 영역(305-1)의 제2 트랩 영역(312)에 트랩되며, 제3 객체(113)는 제1 챔버 영역(305-1)의 제3 트랩 영역(313)에 트랩될 수 있다. 제4 객체(114)는 제2 챔버 영역(305-2)의 제4 트랩 영역(315)에 트랩되고, 제5 객체(115)는 제2 챔버 영역(305-2)의 제5 트랩 영역(316)에 트랩되며, 제6 객체(116)는 제2 챔버 영역(305-2)의 제6 트랩 영역(317)에 트랩될 수 있다.
제1 동작 방법에 의해, 제1 챔버 영역(305-1)과 제2 챔버 영역(305-2)에서 독립적으로 이물 제거가 가능하여, 대량 이물 제거가 가능하여 이물 제거에 대한 공정 시간을 획기적으로 단축할 수 있다.
[제2 동작 방법]
제2 동작 방법은 제1 동작 구간과 제2 동작 구간으로 구분될 수 있다.
<제1 동작 구간>
먼저 제1 로딩부(314)를 통해 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 챔버(305) 내의 유체(320)로 로딩될 수 있다. 이후, 자석 어셈블리(330)에 의해 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 시계 방향으로 지속적으로 회전 운동함으로써, 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113) 각각이 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)에 트랩될 수 있다.
제2 트랩 영역(312)에는 제2 객체(112)만 트랩되는 것이 바람직하다. 하지만, 제2 트랩 영역(312)에 제2 객체(112)뿐만 아니라 제1 객체(111) 및 제3 객체(113)도 트랩될 수 있다. 이러한 경우, 제2 트랩 영역(312)에 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113) 모두 트랩되어, 제2 객체(112), 즉 반도체 발광 소자만을 제1 객체(111) 및 제2 객체(112)와 분리하여 수거할 수 없다.
이러한 문제점을 해결하기 위해, 제2 동작 구간이 추가될 수 있다.
<제2 동작 구간>
마그넷 피펫을 이용하여 제2 트랩 영역(312)에 트랩된 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 제2 로딩부(318)를 통해 챔버(305) 내의 유체(320)로 로딩될 수 있다.
제1 객체(111)는 사이즈가 미약하고 자화의 세기가 작거나 없기 때문에 마그넷 피펫에 붙지 않을 수 있다. 따라서, 제1 객체(111)는 제2 로딩부(318)로 이동되지 않으므로, 자연적으로 제거될 수 있다. 제3 객체(113)는 자화의 세기가 크기는 하지만 덩어리가 커서, 마그넷 피펫에 달라붙더라도 마그넷 피펫과의 고성력이 약해 마그넷 피펫으로부터 착탈될 수 있다. 따라서, 제3 객체(113) 또한 제2 로딩부(318)로 이동되기 어려우므로 자연적으로 제거될 수 있다. 이에 따라, 마그넷 피펫에 의해 제2 트랩 영역(312)에 트랩된 제1 객체(111)나 제3 객체(113)는 거의 제2 로딩부(318)로 이동되지 않고 주로 제2 객체(112)가 제2 로딩부(318)로 이동되어 유체(320) 내로 로딩될 수 있다.
따라서, 마그넷 피펫을 이용하여 제2 트랩 영역(312)에서 제2 로딩부(318)로의 이동 공정에 의해, 제1 객체(111)나 제3 객체(113)의 상당수가 제거될 수 있다.
이후, 자석 어셈블리(330)에 의해 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 시계 방향을 따라 지속적으로 회전 운동함으로써, 제2 로딩부(318)를 통해 로딩된 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 각각 제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)에 트랩될 수 있다.
따라서, 제2 동작 방법에 의해 2회의 분리 공정이 수행됨으로써, 제2 객체(112)가 제1 객체(111)나 제3 객체(113)와 완전하게 분리되어, 제2 객체(112), 즉 반도체 발광 소자만이 수거될 수 있다. 즉, 제1 동작 구간동안 제1 챔버 영역(305-1)에서 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)에 의한 반복적인 회전 운동에 의한 제1 분리 공정이 수행됨으로써, 제2 객체(112)가 제1 객체(111)나 제3 객체(113)와 분리될 수 있다. 이때, 제2 객체(112)가 트랩된 제2 트랩 영역(312)에 제1 객체(111)나 제3 객체(113)도 트랩될 수 있다.
제2 트랩 영역(312)에 트랩된 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113) 중에서 제2 객체(112)만을 수거하기 위해 제2 챔버 영역(305-2)에서 제2 분리 공정이 수행될 수 있다. 즉, 마그넷 피펫을 이용하여 제2 트랩 영역(312)에 트랩된 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 제2 챔버 영역(305-2)의 제2 로딩부(318)에 로딩된 후, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)에 의한 반복적인 회전 운동에 의한 제2 분리 공정이 수행됨으로써, 제2 객체(112)만이 제1 객체(111)나 제3 객체(113)와 분리되어 제5 트랩 영역(316)에 트랩되어, 제5 트랩 영역(316)에서 제2 객체(112)가 수거될 수 있다. 마그넷 피펫을 이용하여 제2 객체(112)가 제5 트랩 영역(316)에서 수거될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
도 19는 제2 실시예에 따른 이물 제거 장치에서 트랩 기판을 상세히 도시한 단면도이다.
도 19에 도시한 바와 같이, 트랩 기판(310)은 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312), 제3 트랩 영역(313), 제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)을 포함할 수 있다.
예컨대, 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312), 제3 트랩 영역(313), 제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)은 하나의 트랩 기판(310) 상에 정의될 수 있다.
도시되지 않았지만, 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312), 제3 트랩 영역(313), 제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)은 각각 서로 독립적인 트랩 기판 상에 정의될 수 있다. 즉 제1 트랩 영역(311)에 상응하는 제1 트랩 기판이 구비되고, 제2 트랩 영역(312)에 상응하는 제2 트랩 기판이 구비되며, 제3 트랩 영역(313)에 상응하는 제3 트랩 기판이 구비될 수 있다. 제4 트랩 영역(315)에 상응하는 제4 트랩 기판이 구비되고, 제5 트랩 영역(316)에 상응하는 제5 트랩 기판이 구비되며, 제6 트랩 영역(317)에 상응하는 제6 트랩 기판이 구비될 수 있다.
도 16에 도시한 바와 같이, 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)은 제1 챔버 영역(305-1)에 배치되고, 제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)은 제2 챔버 영역(305-2)에 배치될 수 있다. 이러한 경우, 제1 로딩부(314)는 제1 트랩 영역(311) 상에 배치되고, 제2 로딩부(318)는 제4 트랩 영역(315) 상에 배치될 수 있다.
제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)은 각각 복수의 제1 트랩 홈(341), 복수의 제2 트랩 홈(342) 및 복수의 제3 트랩 홈(343)을 포함할 수 있다.
제1 트랩 홈(341), 제2 트랩 홈(342) 및 제3 트랩 홈(343)은 각각 서로 상이한 직경(D1, D2, D3)을 가가질 수 있다. 또한, 제1 트랩 홈(341), 제2 트랩 홈(342) 및 제3 트랩 홈(343)은 각각 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113) 각각에 대응하는 사이즈를 가질 수 있다.
제1 트랩 영역(311)은 제1 직경(D1)을 갖는 제1 트랩 홈(341)을 가지고, 제2 직경(D2)을 갖는 제2 트랩 홈(342)을 가지며, 제3 트랩 영역(313)은 제3 직경(D3)을 갖는 제3 트랩 홈(343)을 가질 수 있다.
예컨대, 제2 직경(D2)은 제1 직경(D1)보다 크고, 제3 직경(D3)은 제2 직경(D2)보다 클 수 있다. 예컨대, 제3 직경(D3)는 제2 직경(D2)과 동일할 수 있다.
예컨대, 제1 직경(D1)은 제1 객체(111)의 직경(또는 사이즈)보다 크고, 제2 직경(D2)은 제2 객체(112)의 직경(또는 사이즈)보다 크며, 제3 직경(D3)은 제3 객체(113)의 직경(또는 사이즈)보다 클 수 있다.
제1 트랩 홈(341), 제2 트랩 홈(342) 및 제3 트랩 홈(343) 각각의 깊이는 상이할 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제1 트랩 홈(341)의 깊이는 제1 객체(111)의 높이와 같거나 클 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제2 트랩 홈(342)의 깊이는 제2 객체(112)의 높이와 같거나 클 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제3 트랩 홈(343)의 깊이는 제3 객체(113)의 높이와 같거나 클 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
한편, 제4 트랩 영역(315), 제5 트랩 영역(316) 및 제6 트랩 영역(317)은 각각 복수의 제4 트랩 홈(344), 복수의 제5 트랩 홈(345) 및 복수의 제6 트랩 홈(346)을 포함할 수 있다.
제4 트랩 홈(344), 제5 트랩 홈(345) 및 제6 트랩 홈(346)은 각각 서로 상이한 직경(D4, D5, D6)을 가가질 수 있다. 또한, 제4 트랩 홈(344), 제5 트랩 홈(345) 및 제6 트랩 홈(346)은 각각 제4 객체(114), 제5 객체(115) 및 제6 객체(116)(또는 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)) 각각에 대응하는 사이즈를 가질 수 있다.
제4 트랩 영역(315)은 제4 직경(D4)을 갖는 제4 트랩 홈(344)을 가지고, 제5 직경(D5)을 갖는 제5 트랩 홈(345)을 가지며, 제6 트랩 영역(317)은 제6 직경(D6)을 갖는 제6 트랩 홈(346)을 가질 수 있다.
예컨대, 제5 직경(D5)은 제4 직경(D4)보다 크고, 제6 직경(D6)은 제5 직경(D5)보다 클 수 있다. 예컨대, 제6 직경(D6)는 제5 직경(D5)과 동일할 수 있다.
예컨대, 제4 직경(D4)은 제4 객체(114)의 직경(또는 사이즈)보다 크고, 제5 직경(D5)은 제2 객체(112)의 직경(또는 사이즈)보다 크며, 제6 직경(D6)은 제3 객체(113)의 직경(또는 사이즈)보다 클 수 있다.
한편, 제1 직경(D1)과 제4 직경(D4)은 동일하지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제2 직경(D2)과 제5 직경(D5)은 동일하지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제3 직경(D3)과 제6 직경(D6)은 동일하지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
제4 트랩 홈(344), 제5 트랩 홈(345) 및 제6 트랩 홈(346) 각각의 깊이는 상이할 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제4 트랩 홈(344)의 깊이는 제4 객체(114)(또는 제1 객체(111))의 높이와 같거나 클 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제5 트랩 홈(345)의 깊이는 제5 객체(115)(또는 제2 객체(112))의 높이와 같거나 클 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제6 트랩 홈(346)의 깊이는 제6 객체(116)(또는 제3 객체(113))의 높이와 같거나 클 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
한편, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)에 의한 회전 운동에 의해 제1 로딩부(314)로 로딩된 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 서로 상이한 이동 속도로 제1 로딩부(314)로부터 멀어져, 제1 객체(111)들로 이루어진 제1 군집, 제2 객체(112)들로 이루어진 제2 군집 및 제3 객체(113)들로 이루어진 제3 군집으로 분리될 수 있다. 제1 군집에 포함된 제1 객체(111)들은 제1 트랩 영역(311)의 복수의 제1 트랩 홈(341)에 트랩되고, 제2 군집에 포함된 제2 객체(112)들은 제2 트랩 영역(312)의 복수의 제2 트랩 홈(342)에 트랩되며, 제3 군집에 포함된 제3 객체(113)들은 제3 트랩 영역(313)의 복수의 제3 트랩 홈(343)에 트랩될 수 있다.
또한, 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)에 의한 회전 운동에 의해 제2 로딩부(318)로 로딩된 제4 객체(114), 제5 객체(115) 및 제6 객체(116)(또는 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113))가 서로 상이한 이동 속도로 제2 로딩부(318)로부터 멀어져, 제4 객체(114)들(또는 제1 객체(111)들)로 이루어진 제4 군집, 제5 객체(115)들(또는 제2 객체(112)들)로 이루어진 제5 군집 및 제6 객체(116)들(또는 제3 객체(113)들)로 이루어진 제6 군집으로 분리될 수 있다. 제4 군집에 포함된 제4 객체(114)들(또는 제1 객체(111)들)은 제4 트랩 영역(315)에 트랩되고, 제5 군집에 포함된 제5 객체(115)들(또는 제2 객체(112)들)은 제5 트랩 영역(316)에 트랩되며, 제6 군집에 포함된 제6 객체(116)들(또는 제3 객체(113)들)은 제6 트랩 영역(317)에 트랩될 수 있다.
도 20은 제2 실시예에 따른 이물 제거 장치에서 액체 공급부 및 액체 배출부를 도시한 평면도이다. 도 21은 제2 실시예에 따른 이물 제거 장치에서 액체 공급부, 액체 배출부 및 초음파 생성부를 도시한 단면도이다.
도 20 및 도 21을 참조하면, 제2 실시예에 따른 이물 제거 장치(301)는 적어도 하나 이상의 액체 공급부(351, 352), 적어도 하나 이상의 액체 배출부(361, 362) 및 적어도 하나 이상의 초음파 생성부(371, 372)를 포함할 수 있다.
액체 공급부(351, 352)는 챔버(305)의 일 측 상에 위치되어, 액체를 챔버(305) 내로 공급할 수 있다. 예커대, 제1 액체 공급부(351)는 챔버(305)의 제1 측 상에 배치되고, 제2 액체 공급부(352)는 챔버(305)의 제2 측 상에 배치될 수 있다. 제1 액체 공급부(351)와 제2 액체 공급부(352)는 챔버(305)의 중심을 기준으로 서로 대칭될 수 있다. 도면에는 2개의 액체 공급부(351, 352)가 도시되고 있지만, 이보다 더 많은 개수의 액체 공급부가 구비될 수 있다.
액체 공급부(351, 352)는 측벽에 내장된 액체 공급 파이프일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 액체 공급 파이프는 라운드된 측벽을 따라 길게 배치될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 액체 공급부(351, 352)는 액체 공급 파이프의 일측 또는 양측으로 제공된 액체를 챔버(305) 내로 동시에 공급하기 위해 액체 공급 파이프와 측벽 내측이 연결된 복수의 노즐(미도시)을 포함할 수 있다. 노즐 각각에는 액체의 공급을 차단할 수 있는 밸브(미도시)가 구비될 수 있다.
액체 공급부(351, 352)를 통해 액체가 챔버(305) 내로 공급되고, 제1 로딩부(314)를 통해 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 챔버(305) 내에 채워진 유체(320) 내로 로딩될 수 있다. 이후, 복수의 자석 어셈블리(330) 각각의 적어도 하나 이상의 자석(331, 332)이 왕복 운동함으로써, 제1 객체(111), 제2 객체(112) 및 제3 객체(113)가 각각 제1 트랩 영역(311), 제2 트랩 영역(312) 및 제3 트랩 영역(313)으로 트랩될 수 있다.
액체 배출부(361, 362)는 제1 로딩부(314) 및/또는 제2 로딩부(318) 근처에 배치될 수 있다. 예컨대, 제1 액체 배출부(361)는 제2 로딩부(318)에 인접하여 챔버(305)의 제1 측벽의 내면과 외면을 관통하도록 배치되고, 제2 액체 배출부(362)는 제1 로딩부(314)에 인접하여 챔버(305)의 제2 측벽의 내면과 외면을 관통하도록 배치될 수 있다. 도면에는 2개의 액체 배출부(361, 362)가 도시되고 있지만, 이보다 더 많은 개수의 액체 배출부가 구비될 수 있다.
액체 배출부(361, 362)는 챔버(305)의 측벽에 내장된 액체 배출 파이프일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 액체 배출 파이프는 챔버(305)의 측면의 내면과 외면을 관통하도록 설치될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 액체 배출부(361, 362)는 액체 배출 파이프의 일측을 통해 외부로 액체를 배출할 수 있다.
액체 배출부(361, 362)는 챔버(305) 내의 액체가 동시에 외부로 배출되도록 액체 배출 파이프와 제2 측벽 내측이 연결된 복수의 노즐(미도시)을 포함할 수 있다. 노즐 각각에는 외부와의 차단을 위해 밸브(미도시)가 구비될 수 있다.
챔버(305)를 청소하거나 챔버(305) 내에 채워진 유체(320)가 오염된 경우, 해당 유체(320)가 유체 배출부를 통해 외부로 배출될 수 있다.
액체 공급부(351, 352)는 액체 배출부(361, 362)에 비해 지면으로부터 더 높게 위치됨으로써, 액체가 보다 신속하게 챔버(305) 내에 채워지고 챔버(305) 내의 액체가 보다 신속하게 외부로 배출될 수 있다. 예컨대, 액체 공급부(351, 352)는 제1 측벽의 상측에 배치되고, 액체 배출부(361, 362)는 제2 측벽의 하측에 배치될 수 있다. 액체 배출부(361, 362)는 트랩 기판(310)에 비해 지면으로부터 더 높게 위치될 수 있다.
초음파 생성부(371, 372)는 챔버(305) 내의 유체(320)에 공급하기 위한 초음파를 생성할 수 있다. 초음파 생성부(371, 372)는 제1 실시예(도 15)에서 설명한 바 있으므로, 상세한 설명은 생략한다.
앞서 기술한 바와 같이, 제3 객체(113)나 제6 객체(116)는 유기물, 무기물, 금속 및 반도체 발광 소자 중 적어도 2개 이상이 결합된 복합체 덩어리일 수 있다. 복합체 덩어리에 포함된 반도체 발광 소자가 정상 반도체 발광 소자임에도 불구하고, 복합체 덩어리에 포함되어, 제3 트랩 영역(313)이나 제6 트랩 영역(317)에 트랩되어 폐기될 수 있다.
하지만, 초음파 생성부(371, 372)에서 생성된 초음파가 챔버(305) 내의 유체(320)에 가해짐으로써, 초음파에 의해 유체(320)에 진동이 발생되고, 이러한 진동에 의해 복합체 덩어리가 해체되어, 유기물 파편, 무기물 파편, 금속 파편, 반도체 발광 소자 등으로 분리될 수 있다. 이와 같이, 반도체 발광 소자가 복합 덩어리로부터 분리되어 제2 트랩 영역(312)이나 제5 트랩 영역(316)에 트랩됨으로써, 반도체 발광 소자의 폐기율이 감소되어 제조 비용이 절감될 수 있다.
한편, 앞서 기술한 디스플레이 장치는 디스플레이 패널일 수 있다. 즉, 실시예에서, 디스플레이 장치와 디스플레이 패널은 동일한 의미로 이해될 수 있다. 실시예에서, 실질적인 의미에서의 디스플레이 장치는 디스플레이 패널과 영상을 디스플레이하기 위해 디스플레이 패널을 제어할 수 있는 컨트롤러(또는 프로세서)를 포함할 수 있다.
상기의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다. 실시예의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 실시예의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 실시예의 범위에 포함된다.
실시예는 영상이나 정보를 디스플레이하는 디스플레이 분야에 채택될 수 있다. 실시예는 반도체 발광 소자를 이용하여 영상이나 정보를 디스플레이하는 디스플레이 분야에 채택될 수 있다. 반도체 발광 소자는 마이크로급 반도체 발광 소자나 나노급 반도체 발광 소자일 수 있다.
예컨대, 실시예는 TV, 사이니지, 스마트 폰, 모바일 폰, 이동 단말기, 자동차용 HUD, 노트북용 백라이트 유닛, VR이나 AR용 디스플레이 장치에 채택될 수 있다.

Claims (20)

  1. 유체를 포함하는 챔버; 및
    상기 챔버 아래에 자석 어셈블리;를 포함하고,
    상기 챔버는,
    제1 객체, 제2 객체 및 제3 객체를 상기 유체로 로딩하기 위한 로딩부;
    상기 제1 객체를 트랩하기 위한 제1 트랩 영역;
    상기 제2 객체를 트랩하기 위해 상기 제1 트랩 영역에 인접하는 제2 트랩 영역; 및
    상기 제3 객체를 트랩하기 위해 상기 제2 트랩 영역에 인접하는 제3 트랩 영역;를 포함하고,
    상기 자석 어셈블리는,
    적어도 하나 이상의 자석을 상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제3 트랩 영역을 경유하도록 반복적으로 왕복 운동시키고,
    상기 제1 객체는 제1 이물이고,
    상기 제2 객체는 반도체 발광 소자이고,
    상기 제3 객체는 제2 이물인,
    이물 제거 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2 객체의 자화의 세기는 상기 제1 객체의 자화의 세기보다 크고,
    상기 제3 객체의 자화의 세기는 상기 제2 객체의 자화의 세기보다 큰,
    이물 제거 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제2 객체의 사이즈는 상기 제1 객체의 사이즈보다 크고,
    상기 제3 객체의 사이즈는 상기 제2 객체의 사이즈보다 큰,
    이물 제거 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 자석 어셈블리는,
    상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제3 트랩 영역 각각의 폭 방향을 따라 복수의 자석 어셈블리;를 포함하고,
    상기 복수의 자석 어셈블리는 각각,
    상기 적어도 하나 이상의 자석;
    상기 적어도 하나 이상의 자석이 장착되어, 상기 적어도 하나 이상의 자석을 상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제3 트랩 영역을 경유하도록 반복적으로 왕복 운동시키는 레일; 및
    상기 레일을 구동하는 적어도 하나 이상의 모터;를 포함하는,
    이물 제거 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 레일은 상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제3 트랩 영역에 대해 상하 방향을 따라 왕복 운동되는,
    이물 제거 장치.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 레일은 상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제3 트랩 영역에 대해 수평 방향을 따라 왕복 운동되는,
    이물 제거 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1 트랩 영역은 제1 직경을 갖는 제1 트랩 홈을 가지고,
    상기 제2 트랩 영역은 상기 제1 직경보다 큰 제2 직경을 갖는 제2 트랩 홈을 가지고,
    상기 제3 트랩 영역은 상기 제2 직경보다 큰 제3 직경을 갖는 제3 트랩 홈을 갖는,
    이물 제거 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 챔버는,
    제2 로딩부;
    상기 제3 트랩 영역에 인접하는 제4 트랩 영역;
    상기 제4 트랩 영역에 인접하는 제5 트랩 영역; 및
    상기 제5 트랩 영역과 상기 제1 트랩 영역 사이에 제6 트랩 영역;을 포함하는,
    이물 제거 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역, 상기 제3 트랩 영역, 상기 제4 트랩 영역, 상기 제5 트랩 영역 및 상기 제6 트랩 영역은 각각 상기 챔버의 중심에서 접하고, 그 외측 둘레를 따라 원형을 구성하는,
    이물 제거 장치.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제3 트랩 영역은 각각 상기 챔버의 중심을 기준으로 상기 제4 트랩 영역, 상기 제5 트랩 영역 및 상기 제6 트랩 영역과 서로 대칭되는,
    이물 제거 장치.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 자석 어셈블리는,
    상기 적어도 하나 이상의 자석을 상기 제6 트랩 영역, 상기 제5 트랩 영역, 상기 제4 트랩 영역, 상기 제3 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역 및 상기 제1 트랩 영역을 경유하도록 상기 챔버의 중심을 기준으로 회전 운동시키는,
    이물 제거 장치.
  12. 제8항에 있어서,
    상기 로딩부는 상기 제1 트랩 영역 상에 배치되고,
    상기 제2 로딩부는 상기 제4 트랩 영역 상에 배치되는,
    이물 제거 장치.
  13. 제8항에 있어서,
    상기 제4 트랩 영역은 제4 직경(D4)을 갖는 제4 트랩 홈을 가지고,
    상기 제5 트랩 영역은 제4 직경보다 큰 제5 직경을 갖는 제5 트랩 홈을 가지며,
    상기 제6 트랩 영역은 제5 직경보다 큰 제6 직경을 갖는 제6 트랩 홈을 갖는,
    이물 제거 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제1 직경과 상기 제4 직경은 동일하고,
    상기 제2 직경과 상기 제5 직경은 동일하며,
    상기 제3 직경과 상기 제6 직경은 동일한,
    이물 제거 장치.
  15. 제8항에 있어서,
    상기 제2 로딩부는 제4 객체, 제5 객체 및 제6 객체를 상기 유체로 로딩하고,
    상기 제4 트랩 영역은 상기 제4 객체를 트랩하고,
    상기 제5 트랩 영역은 제5 객체를 트랩하며,
    상기 제6 트랩 영역은 제6 객체를 트랩하는,
    이물 제거 장치.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제4 객체는 상기 제1 이물이고,
    상기 제5 객체는 상기 반도체 발광 소자이고,
    상기 제6 객체는 상기 제2 이물인,
    이물 제거 장치.
  17. 제8항에 있어서,
    상기 제2 트랩 영역은 상기 제1 객체, 상기 제2 객체 및 상기 제3 객체를 트랩하고,
    상기 제2 로딩부는 상기 제2 트랩 영역에 트랩된 상기 제1 객체, 상기 제2 객체 및 상기 제3 객체를 상기 유체로 로딩하고,
    상기 제4 트랩 영역은 상기 제1 객체를 트랩하고,
    상기 제5 트랩 영역은 제2 객체를 트랩하며,
    상기 제6 트랩 영역은 제3 객체를 트랩하는,
    이물 제거 장치.
  18. 제8항에 있어서,
    상기 자석 어셈블리는,
    상기 적어도 하나 이상의 자석;
    상기 적어도 하나 이상의 자석이 장착되어, 상기 적어도 하나 이상의 자석을 상기 제1 트랩 영역, 상기 제2 트랩 영역, 상기 제3 트랩 영역, 상기 제4 트랩 영역, 상기 제5 트랩 영역 및 상기 제6 트랩 영역을 경유하도록 상기 챔버의 중심을 기준으로 회전 운동시키는 지지 플레이트; 및
    상기 지지 플레이트를 구동하는 모터;를 포함하는,
    이물 제거 장치.
  19. 제1항에 있어서,
    상기 챔버의 제1 측 상에 적어도 하나 이상의 액체 공급부; 및
    상기 챔버의 제2 측 상에 적어도 하나 이상의 액체 배출부;를 포함하는,
    이물 제거 장치.
  20. 제1항에 있어서,
    상기 유체에 공급하기 위한 초음파를 생성하는 적어도 하나 이상의 초음파 생성부;를 포함하는,
    이물 제거 장치.
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