WO2023171832A1 - 디스플레이 장치 - Google Patents

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WO2023171832A1
WO2023171832A1 PCT/KR2022/003333 KR2022003333W WO2023171832A1 WO 2023171832 A1 WO2023171832 A1 WO 2023171832A1 KR 2022003333 W KR2022003333 W KR 2022003333W WO 2023171832 A1 WO2023171832 A1 WO 2023171832A1
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WO
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assembly
electrode
extension
sub
wiring
Prior art date
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PCT/KR2022/003333
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English (en)
French (fr)
Inventor
허윤호
이진형
Original Assignee
엘지전자 주식회사
엘지디스플레이 주식회사
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Publication date
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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/15—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/36—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
    • H01L33/38—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape
    • H—ELECTRICITY
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    • H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H—ELECTRICITY
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    • H01L33/48—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/62—Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls

Definitions

  • Embodiments relate to display devices.
  • LCDs liquid crystal displays
  • OLED displays OLED displays
  • Micro-LED displays Micro-LED displays
  • a micro-LED display is a display that uses micro-LED, a semiconductor light emitting device with a diameter or cross-sectional area of 100 ⁇ m or less, as a display element.
  • micro-LED displays use micro-LED, a semiconductor light-emitting device, as a display device, they have excellent performance in many characteristics such as contrast ratio, response speed, color gamut, viewing angle, brightness, resolution, lifespan, luminous efficiency, and luminance.
  • the micro-LED display has the advantage of being able to freely adjust the size and resolution and implement a flexible display because the screen can be separated and combined in a modular manner.
  • micro-LED displays require more than millions of micro-LEDs, there is a technical problem that makes it difficult to quickly and accurately transfer micro-LEDs to the display panel.
  • Transfer technologies that have been recently developed include the pick and place process, laser lift-off method, or self-assembly method.
  • the self-assembly method is a method in which the semiconductor light-emitting device finds its assembly position within the fluid on its own, and is an advantageous method for implementing a large-screen display device.
  • 1 is a plan view showing an assembled substrate according to a first undisclosed internal technology.
  • the assembled substrate 1 according to the first undisclosed internal technology may include a plurality of sub-pixels (PX1, PX2, and PX3).
  • the plurality of sub-pixels PX1, PX2, and PX3 are provided with a first assembly wiring 2-1 and a first assembly wiring 2-2.
  • a plurality of semiconductor light emitting devices 3-1, 3-2, and 3-3 are formed by a dielectrophoretic force (DEP force) formed between the first assembly wiring 2-1 and the first assembly wiring 2-2. Each is assembled into a plurality of sub-pixels (PX1, PX2, PX3).
  • DEP force dielectrophoretic force
  • DEP force is formed in the alternating voltage (V(+)1, V(-)1 in FIG. 2) supplied to the first assembly wiring 2-1 and the second assembly wiring 2-2.
  • each of the first assembly wiring 2-1 and 2-2 is large, so the line resistance is not high, so the first assembly wiring 2-1 ) and the first assembly wiring 2-2, there is no voltage drop or signal delay of the alternating voltage (V(+)1, V(-)1) along the longitudinal direction of each. Accordingly, the DEP force formed between the first assembly wiring (2-1) and the first assembly wiring (2-2) of each sub-pixel (PX1, PX2, PX3) matches the target value, so that the plurality of semiconductor light emitting devices (3) -1, 3-2, 3-3) are well assembled into each sub-pixel (PX1, PX2, PX3), so there is no problem of lowering the assembly rate.
  • the size of each of the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, PX3) of the assembled substrate 5 according to the second undisclosed technology is the size of the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, PX3) of the assembled substrate 1 shown in FIG. 1. It is smaller than the size of each sub-pixel (PX1, PX2, PX3). Accordingly, the line width of each of the first assembled wiring 6-1 and the second assembled wiring 6-2 provided in each of the plurality of sub-pixels PX1, PX2, and PX3 also becomes smaller. Accordingly, the line resistance of each of the first assembled wiring 6-1 and the second assembled wiring 6-2 is greatly increased.
  • an alternating voltage (V(+)1, V(-)1 in FIG. 2) is applied to the input side of the first assembly wiring 6-1 and the second assembly wiring 6-2.
  • V(+)1, V(-)1 the voltage drop for the corresponding alternating voltage (V(+)1, V(-)1) due to the large line resistance of each of the first assembly wiring 6-1 and the second assembly wiring 6-2.
  • each of the plurality of sub-pixels PX1, PX2, and PX3
  • has alternating current voltages V(+)2, V(-)2) with signal distortion as shown in FIG. 4. That is, as the amplitude of the alternating voltage decreases from A1 (FIG. 2) to A2 (FIG.
  • the embodiments aim to solve the above-described problems and other problems.
  • Another object of the embodiment is to provide a display device with a new structure.
  • Another object of the embodiment is to provide a display device with high resolution and high definition.
  • Another purpose of the embodiment is to provide a display device with a large screen.
  • Another purpose of the embodiment is to provide a display device that can improve the assembly rate.
  • a display device includes: a substrate including a plurality of sub-pixels; a first assembly wiring for each of the plurality of sub-pixels; a second assembly wiring for each of the plurality of sub-pixels; a partition having an assembly hole on the first assembly wiring and the second assembly wiring; and a semiconductor light emitting device in the assembly hole, wherein the first assembly wiring includes: a first bus line; and a first assembly electrode on the first bus line, wherein a portion of the first bus line may be disposed adjacent to the assembly hole, and a portion of the first assembly electrode may be disposed in the assembly hole.
  • the first assembly wiring includes: a first extension line extending from the first bus line toward the assembly hole; and a first extension electrode extending from the first assembly electrode toward the assembly hole.
  • the first extension line may not vertically overlap the assembly hole, and the first extension electrode may vertically overlap the assembly hole.
  • the width of the first assembled electrode is greater than the width of the first bus line, the width of the first extension electrode along the first direction is greater than the width of the first extension line, and the first extension along the second direction is greater than the width of the first extension line.
  • the width of the electrode may be smaller than the width of the first extension line.
  • the second assembly wiring includes a second bus line; and a second assembly electrode on the second bus line, wherein a portion of the second bus line is disposed adjacent to the assembly hole, and a portion of the second assembly electrode may be disposed in the assembly hole.
  • the second assembly wiring includes: a second extension line extending from the second bus line toward the assembly hole; and a second extension electrode extending from the second assembly electrode toward the assembly hole.
  • the second extension line may not vertically overlap the assembly hole, and the second extension electrode may vertically overlap the assembly hole.
  • the width of the second assembly electrode is greater than the width of the second bus line, the width of the second extension electrode along the first direction is greater than the width of the second extension line, and the width of the second extension along the second direction is greater than the width of the second extension line.
  • the width of the electrode may be smaller than the width of the second extension line.
  • the first extension electrode may include at least two electrodes extending from the first assembled electrode.
  • the second extension electrode may include at least two electrodes extending from the second assembled electrode.
  • the first extension electrode and the second extension electrode may have a symmetrical structure.
  • the first extension electrode and the second extension electrode may have an asymmetric structure.
  • the first bus line and the second bus line are each disposed across the plurality of sub-pixels, the first assembly electrode is electrically connected to the first bus line in each of the plurality of sub-pixels, and the first assembly electrode is electrically connected to the first bus line in each of the plurality of sub-pixels.
  • Two assembled electrodes may be electrically connected to the second bus line in each of the plurality of sub-pixels.
  • the thickness of the first assembled electrode may be smaller than the thickness of the first bus line, and the thickness of the second assembled electrode may be smaller than the thickness of the second bus line.
  • connection electrode connected to a side of the semiconductor light emitting device; and an electrode wire connected to an upper side of the semiconductor light emitting device, wherein the connection electrode may be connected to at least one of the first assembly wire and the second assembly wire.
  • the assembly rate can be dramatically improved in a display device with high resolution and/or high precision.
  • the assembly rate can be dramatically improved in a display device having a large screen.
  • each of the first assembly wiring and/or the second assembly wiring is composed of at least two or more layers, so that the first assembly wiring and/or the second assembly wiring are each composed of at least two layers. /Or, the assembly rate can be improved by reducing the line resistance of each second assembly wiring to prevent voltage drop or signal distortion of the alternating current voltage.
  • each of the first assembly wiring and/or the second assembly wiring are arranged as close as possible to the assembly hole.
  • the line resistance of each of the first assembly wiring and/or the second assembly wiring can be reduced to prevent voltage drop or signal distortion of the alternating current voltage, thereby improving the assembly rate.
  • a thinner layer among at least two layers constituting each of the first assembly wiring and/or the second assembly wiring is assembled.
  • non-uniformity of the DEP force during self-assembly can be resolved to prevent assembly defects or a decrease in the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150.
  • 1 is a plan view showing an assembled substrate according to a first undisclosed internal technology.
  • Figure 2 shows the alternating current voltage supplied to each sub-pixel for self-assembly in an assembled substrate according to the first undisclosed internal technology.
  • Figure 3 is a plan view showing an assembled substrate according to a second undisclosed internal technology.
  • Figure 4 shows the alternating current voltage supplied to each sub-pixel for self-assembly in an assembled substrate according to a second undisclosed internal technology.
  • Figure 5 shows a living room of a house where a display device according to an embodiment is placed.
  • Figure 6 is a block diagram schematically showing a display device according to an embodiment.
  • FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of the pixel of FIG. 6.
  • FIG. 8 is an enlarged view of the first panel area in the display device of FIG. 5.
  • Figure 9 is an enlarged view of area A2 in Figure 8.
  • Figure 10 is a diagram showing an example in which a light emitting device according to an embodiment is assembled on a substrate by a self-assembly method.
  • Figure 11 is a plan view showing an assembled substrate according to an embodiment.
  • FIG. 12A is a plan view illustrating a first bus line and a first extension line forming a first assembly wiring, and a second bus line and a second extension line forming a second assembly wiring in an assembled substrate according to an embodiment.
  • FIG. 12B is a plan view illustrating a first assembly electrode and a first extension electrode forming a first assembly wiring, and a second assembly electrode and a second extension electrode forming a second assembly wiring in an assembled substrate according to an embodiment.
  • FIG. 13 is a first embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view taken along line C1-C2 of the first sub-pixel of FIG. 13.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view taken along line D1-D2 of the first sub-pixel of FIG. 13.
  • FIG. 16 is a second embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • FIG. 17 is a third embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • FIG. 18 is a fourth embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • FIG. 19 is a fifth embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • FIG. 20 is a sixth embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • FIG. 21 is a seventh embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • FIG. 22 is an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11, which is the eighth embodiment.
  • FIG. 23 is a ninth embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • FIG. 24 is a tenth embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • FIG. 25 is an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the eleventh embodiment of FIG. 11.
  • Figure 26 is a cross-sectional view showing a display device according to an embodiment.
  • Figure 27 is a cross-sectional view showing a semiconductor light-emitting device provided in a display device according to an embodiment.
  • Display devices described in this specification include TVs, shines, mobile phones, smart phones, head-up displays (HUDs) for automobiles, backlight units for laptop computers, displays for VR or AR, etc. You can. However, the configuration according to the embodiment described in this specification can be applied to a device capable of displaying even if it is a new product type that is developed in the future.
  • HUDs head-up displays
  • Figure 5 shows a living room of a house where a display device according to an embodiment is placed.
  • the display device 100 of the embodiment can display the status of various electronic products such as a washing machine 101, a robot vacuum cleaner 102, and an air purifier 103, and displays the status of each electronic product and an IOT-based You can communicate with each other and control each electronic product based on the user's setting data.
  • the display device 100 may include a flexible display manufactured on a thin and flexible substrate.
  • Flexible displays can bend or curl like paper while maintaining the characteristics of existing flat displays.
  • a unit pixel refers to the minimum unit for implementing one color.
  • a unit pixel of a flexible display may be implemented by a light-emitting device.
  • the light emitting device may be Micro-LED or Nano-LED, but is not limited thereto.
  • FIG. 6 is a block diagram schematically showing a display device according to an embodiment
  • FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of the pixel of FIG. 6.
  • a display device may include a display panel 10, a driving circuit 20, a scan driver 30, and a power supply circuit 50.
  • the display device 100 of the embodiment may drive the light emitting device in an active matrix (AM) method or a passive matrix (PM) method.
  • AM active matrix
  • PM passive matrix
  • the driving circuit 20 may include a data driver 21 and a timing control unit 22.
  • the display panel 10 may be rectangular, but is not limited thereto. That is, the display panel 10 may be formed in a circular or oval shape. At least one side of the display panel 10 may be bent to a predetermined curvature.
  • the display panel 10 may be divided into a display area (DA) and a non-display area (NDA) disposed around the display area (DA).
  • the display area DA is an area where pixels PX are formed to display an image.
  • the display panel 10 includes data lines (D1 to Dm, m is an integer greater than 2), scan lines (S1 to Sn, n is an integer greater than 2) that intersect the data lines (D1 to Dm), and a high potential voltage.
  • the pixels (PX) connected to the high-potential voltage line (VDDL) supplied, the low-potential voltage line (VSSL) supplied with the low-potential voltage, and the data lines (D1 to Dm) and scan lines (S1 to Sn). It can be included.
  • Each of the pixels PX may include a first sub-pixel PX1, a second sub-pixel PX2, and a third sub-pixel PX3.
  • the first sub-pixel (PX1) emits a first color light of a first main wavelength
  • the second sub-pixel (PX2) emits a second color light of a second main wavelength
  • the third sub-pixel (PX3) A third color light of a third main wavelength may be emitted.
  • the first color light may be red light
  • the second color light may be green light
  • the third color light may be blue light, but are not limited thereto.
  • FIG. 6 it is illustrated that each of the pixels PX includes three sub-pixels, but the present invention is not limited thereto. That is, each pixel PX may include four or more sub-pixels.
  • Each of the first sub-pixel (PX1), the second sub-pixel (PX2), and the third sub-pixel (PX3) includes at least one of the data lines (D1 to Dm), at least one of the scan lines (S1 to Sn), and It can be connected to the above voltage line (VDDL).
  • the first sub-pixel PX1 may include light-emitting devices LD, a plurality of transistors for supplying current to the light-emitting devices LD, and at least one capacitor Cst.
  • each of the first sub-pixel (PX1), the second sub-pixel (PX2), and the third sub-pixel (PX3) may include only one light emitting element (LD) and at least one capacitor (Cst). It may be possible.
  • Each of the light emitting elements LD may be a semiconductor light emitting diode including a first electrode, a plurality of conductive semiconductor layers, and a second electrode.
  • the first electrode may be an anode electrode and the second electrode may be a cathode electrode, but this is not limited.
  • the light emitting device may be one of a horizontal light emitting device, a flip chip type light emitting device, and a vertical light emitting device.
  • the plurality of transistors may include a driving transistor (DT) that supplies current to the light emitting elements (LD) and a scan transistor (ST) that supplies a data voltage to the gate electrode of the driving transistor (DT).
  • the driving transistor DT is connected to a gate electrode connected to the source electrode of the scan transistor ST, a source electrode connected to the high potential voltage line VDDL to which a high potential voltage is applied, and the first electrodes of the light emitting elements LD. It may include a connected drain electrode.
  • the scan transistor (ST) has a gate electrode connected to the scan line (Sk, k is an integer satisfying 1 ⁇ k ⁇ n), a source electrode connected to the gate electrode of the driving transistor (DT), and a data line (Dj, j). It may include a drain electrode connected to an integer satisfying 1 ⁇ j ⁇ m.
  • the capacitor Cst is formed between the gate electrode and the source electrode of the driving transistor DT.
  • the storage capacitor (Cst) charges the difference between the gate voltage and source voltage of the driving transistor (DT).
  • the driving transistor (DT) and the scan transistor (ST) may be formed of a thin film transistor.
  • the driving transistor (DT) and the scan transistor (ST) are explained with a focus on being formed of a P-type MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor), but the present invention is not limited thereto.
  • the driving transistor (DT) and scan transistor (ST) may be formed of an N-type MOSFET. In this case, the positions of the source and drain electrodes of the driving transistor (DT) and the scan transistor (ST) may be changed.
  • each of the first sub-pixel (PX1), the second sub-pixel (PX2), and the third sub-pixel (PX3) includes one driving transistor (DT), one scan transistor (ST), and one capacitor ( Although it is exemplified to include 2T1C (2 Transistor - 1 capacitor) with Cst), the present invention is not limited thereto.
  • Each of the first sub-pixel (PX1), the second sub-pixel (PX2), and the third sub-pixel (PX3) may include a plurality of scan transistors (ST) and a plurality of capacitors (Cst).
  • the second sub-pixel (PX2) and the third sub-pixel (PX3) can be represented by substantially the same circuit diagram as the first sub-pixel (PX1), detailed descriptions thereof will be omitted.
  • the driving circuit 20 outputs signals and voltages for driving the display panel 10.
  • the driving circuit 20 may include a data driver 21 and a timing controller 22.
  • the data driver 21 receives digital video data (DATA) and source control signal (DCS) from the timing control unit 22.
  • the data driver 21 converts digital video data (DATA) into analog data voltages according to the source control signal (DCS) and supplies them to the data lines (D1 to Dm) of the display panel 10.
  • the timing control unit 22 receives digital video data (DATA) and timing signals from the host system.
  • Timing signals may include a vertical sync signal, a horizontal sync signal, a data enable signal, and a dot clock.
  • the host system may be an application processor in a smartphone or tablet PC, a monitor, or a system-on-chip in a TV.
  • the timing control unit 22 generates control signals to control the operation timing of the data driver 21 and the scan driver 30.
  • the control signals may include a source control signal (DCS) for controlling the operation timing of the data driver 21 and a scan control signal (SCS) for controlling the operation timing of the scan driver 30.
  • DCS source control signal
  • SCS scan control signal
  • the driving circuit 20 may be disposed in the non-display area (NDA) provided on one side of the display panel 10.
  • the driving circuit 20 may be formed of an integrated circuit (IC) and mounted on the display panel 10 using a chip on glass (COG) method, a chip on plastic (COP) method, or an ultrasonic bonding method.
  • COG chip on glass
  • COP chip on plastic
  • ultrasonic bonding method The present invention is not limited to this.
  • the driving circuit 20 may be mounted on a circuit board (not shown) rather than on the display panel 10.
  • the data driver 21 may be mounted on the display panel 10 using a chip on glass (COG) method, a chip on plastic (COP) method, or an ultrasonic bonding method, and the timing control unit 22 may be mounted on a circuit board. there is.
  • COG chip on glass
  • COP chip on plastic
  • the scan driver 30 receives a scan control signal (SCS) from the timing controller 22.
  • the scan driver 30 generates scan signals according to the scan control signal SCS and supplies them to the scan lines S1 to Sn of the display panel 10.
  • the scan driver 30 may include a plurality of transistors and may be formed in the non-display area NDA of the display panel 10.
  • the scan driver 30 may be formed as an integrated circuit, and in this case, it may be mounted on a gate flexible film attached to the other side of the display panel 10.
  • the circuit board may be attached to pads provided at one edge area of the display panel 10 using an anisotropic conductive film. Because of this, the lead lines of the circuit board can be electrically connected to the pads.
  • the circuit board may be a flexible printed circuit board, a printed circuit board, or a flexible film such as a chip on film. The circuit board may be bent toward the bottom of the display panel 10. Because of this, one side of the circuit board is attached to one edge area of the display panel 10, and the other side is disposed below the display panel 10 and can be connected to a system board on which the host system is mounted.
  • the power supply circuit 50 may generate voltages necessary for driving the display panel 10 from the main power supplied from the system board and supply them to the display panel 10.
  • the power supply circuit 50 generates a high potential voltage (VDD) and a low potential voltage (VSS) for driving the light emitting elements (LD) of the display panel 10 from the main power supply to It can be supplied to the high potential voltage line (VDDL) and low potential voltage line (VSSL).
  • the power supply circuit 50 may generate and supply driving voltages for driving the driving circuit 20 and the scan driver 30 from the main power supply.
  • FIG. 8 is an enlarged view of the first panel area in the display device of FIG. 3.
  • the display device 100 of the embodiment may be manufactured by mechanically and electrically connecting a plurality of panel areas, such as the first panel area A1, by tiling.
  • the first panel area A1 may include a plurality of semiconductor light emitting devices 150 arranged for each unit pixel (PX in FIG. 6).
  • the unit pixel PX may include a first sub-pixel PX1, a second sub-pixel PX2, and a third sub-pixel PX3.
  • a plurality of first semiconductor light-emitting devices 150R are disposed in the first sub-pixel PX1
  • a plurality of second semiconductor light-emitting devices 150G are disposed in the second sub-pixel PX2
  • a plurality of third semiconductor light-emitting devices 150G are disposed in the first sub-pixel PX1.
  • the semiconductor light emitting device 150B may be disposed in the third sub-pixel PX3.
  • the unit pixel PX may further include a fourth sub-pixel in which a semiconductor light-emitting device is not disposed, but this is not limited.
  • Figure 9 is an enlarged view of area A2 in Figure 8.
  • the display device 100 of the embodiment may include a substrate 200, assembly wiring 201 and 202, an insulating layer 206, and a plurality of semiconductor light emitting devices 150. More components may be included than this.
  • the assembly wiring may include a first assembly wiring 201 and a second assembly wiring 202 that are spaced apart from each other.
  • the first assembly wiring 201 and the second assembly wiring 202 may be provided to generate dielectrophoretic force to assemble the semiconductor light emitting device 150.
  • the semiconductor light emitting device 150 may be one of a horizontal semiconductor light emitting device, a flip chip type semiconductor light emitting device, and a vertical semiconductor light emitting device.
  • the semiconductor light-emitting device 150 may include, but is limited to, a first semiconductor light-emitting device 150, a second semiconductor light-emitting device 150G, and a third semiconductor light-emitting device 150B0 to form a unit pixel (sub-pixel). This is not possible, and red and green colors may be implemented by using red phosphors and green phosphors, respectively.
  • the substrate 200 may be a support member that supports components disposed on the substrate 200 or a protection member that protects the components.
  • the substrate 200 may be a rigid substrate or a flexible substrate.
  • the substrate 200 may be made of sapphire, glass, silicon, or polyimide. Additionally, the substrate 200 may include a flexible material such as PEN (Polyethylene Naphthalate) or PET (Polyethylene Terephthalate). Additionally, the substrate 200 may be made of a transparent material, but is not limited thereto.
  • the substrate 200 may function as a support substrate in a display panel, and may also function as an assembly substrate when self-assembling a light emitting device.
  • the substrate 200 may be a backplane equipped with circuits in the sub-pixels (PX1, PX2, PX3) shown in FIGS. 6 and 7, such as transistors (ST, DT), capacitors (Cst), signal wires, etc.
  • PX1, PX2, PX3 sub-pixels shown in FIGS. 6 and 7, such as transistors (ST, DT), capacitors (Cst), signal wires, etc.
  • ST, DT transistors
  • Cst capacitors
  • signal wires etc.
  • the insulating layer 206 may include an insulating and flexible organic material such as polyimide, PAC, PEN, PET, polymer, etc., or an inorganic material such as silicon oxide (SiO2) or silicon nitride series (SiNx), and may include a substrate. (200) may be integrated to form one substrate.
  • the insulating layer 206 may be a conductive adhesive layer that has adhesiveness and conductivity, and the conductive adhesive layer may be flexible and enable a flexible function of the display device.
  • the insulating layer 206 may be an anisotropic conductive film (ACF) or a conductive adhesive layer such as an anisotropic conductive medium or a solution containing conductive particles.
  • the conductive adhesive layer may be a layer that is electrically conductive in a direction perpendicular to the thickness, but electrically insulating in a direction horizontal to the thickness.
  • the insulating layer 206 may include an assembly hole 203 into which the semiconductor light emitting device 150 is inserted. Therefore, during self-assembly, the semiconductor light emitting device 150 can be easily inserted into the assembly hole 203 of the insulating layer 206.
  • the assembly hole 203 may be called an insertion hole, a fixing hole, an alignment hole, etc.
  • the assembly hall 203 may also be called a hall.
  • the assembly hole 203 may be called a hole, groove, groove, recess, pocket, etc.
  • the assembly hole 203 may be different depending on the shape of the semiconductor light emitting device 150.
  • each of the first semiconductor light emitting device, the second semiconductor light emitting device, and the third semiconductor light emitting device may have different shapes, and may have an assembly hole 203 having a shape corresponding to the shape of each of these semiconductor light emitting devices.
  • the assembly hole 203 includes a first assembly hole for assembling the first semiconductor light-emitting device, a second assembly hole for assembling the second semiconductor light-emitting device, and a third assembly hole for assembling the third semiconductor light-emitting device. It can be included.
  • the first semiconductor light emitting device has a circular shape
  • the second semiconductor light emitting device has a first oval shape with a first minor axis and a second major axis
  • the third semiconductor light emitting device has a second semiconductor light emitting device with a second minor axis and a second major axis. It may have an oval shape, but there is no limitation thereto.
  • the second major axis of the oval shape of the third semiconductor light emitting device is larger than the second major axis of the oval shape of the second semiconductor light emitting device
  • the second minor axis of the oval shape of the third semiconductor light emitting device is larger than the first minor axis of the oval shape of the second semiconductor light emitting device. It can be small.
  • methods for mounting the semiconductor light emitting device 150 on the substrate 200 may include, for example, a self-assembly method (FIG. 10) and a transfer method.
  • Figure 10 is a diagram showing an example in which a light emitting device according to an embodiment is assembled on a substrate by a self-assembly method.
  • the assembled substrate 200 which will be described later, can also function as the panel substrate 200a in a display device after assembly of the light emitting device, but the embodiment is not limited thereto.
  • the semiconductor light emitting device 150 may be introduced into the chamber 1300 filled with the fluid 1200, and the semiconductor light emitting device 150 may be placed on the assembly substrate ( 200). At this time, the light emitting device 150 adjacent to the assembly hole 207H of the assembly substrate 200 may be assembled into the assembly hole 207H by DEP force caused by the electric field of the assembly wiring.
  • the fluid 1200 may be water such as ultrapure water, but is not limited thereto.
  • the chamber may be called a water tank, container, vessel, etc.
  • the assembled substrate 200 may be placed on the chamber 1300. Depending on the embodiment, the assembled substrate 200 may be input into the chamber 1300.
  • Assembly device 1100 After the assembled substrate 200 is placed in the chamber, the assembled device 1100 that applies a magnetic field may move along the assembled substrate 200.
  • Assembly device 1100 may be a permanent magnet or an electromagnet.
  • the assembly device 1100 may move while in contact with the assembly substrate 200 in order to maximize the area to which the magnetic field is applied within the fluid 1200.
  • the assembly device 1100 may include a plurality of magnetic materials or may include a magnetic material of a size corresponding to that of the assembly substrate 200. In this case, the moving distance of the assembly device 1100 may be limited to within a predetermined range.
  • the semiconductor light emitting device 150 in the chamber 1300 may move toward the assembly device 1100 and the assembly substrate 200 by the magnetic field generated by the assembly device 1100.
  • the semiconductor light emitting device 150 may enter the assembly hole 207H and be fixed by the DEP force formed by the electric field between the assembly wires 201 and 202 while moving toward the assembly device 1100.
  • the first and second assembly wirings 201 and 202 generate an electric field using an AC power source, and a DEP force may be formed between the assembly wirings 201 and 202 due to this electric field.
  • the semiconductor light emitting device 150 can be fixed to the assembly hole 207H on the assembly substrate 200 by this DEP force.
  • a predetermined solder layer (not shown) is formed between the light emitting device 150 assembled on the assembly hole 207H of the assembly substrate 200 and the assembly wiring 201 and 202 to improve the bonding force of the light emitting device 150. It can be improved.
  • a molding layer (not shown) may be formed in the assembly hole 207H of the assembly substrate 200.
  • the molding layer may be a transparent resin or a resin containing a reflective material or a scattering material.
  • the time required to assemble each semiconductor light-emitting device on a substrate can be drastically shortened, making it possible to implement a large-area, high-pixel display more quickly and economically.
  • FIGS. 11 to 27 Descriptions omitted below can be easily understood from FIGS. 1 to 10 and the description given above in relation to the corresponding drawings.
  • Figure 11 is a plan view showing an assembled substrate according to an embodiment.
  • an assembled substrate 300A may include a substrate ( 310 in FIGS. 14 and 15 ), a first assembled wiring 321 , and a second assembled wiring 322 .
  • the assembled substrate 300A according to the embodiment may include more components than this.
  • the line width of each of the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 shown in FIG. 11 is the line width of each of the assembly wiring 2-1 and 2-2 shown in FIG. 1 or the line width shown in FIG. 3. It is larger than the line width of each assembly wiring (6-1, 6-2).
  • this is for convenience of explanation, and the embodiment is applied to a high-resolution and high-definition display device, and in reality, the line width of each of the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 shown in FIG. 11 is much smaller than the line width of each of the assembled wirings 2-1 and 2-2 shown in FIG. 1 or the line width of each of the assembled wirings 6-1 and 6-2 shown in FIG. 3.
  • the substrate 310 may include a plurality of sub-pixels (PX1, PX2, and PX3).
  • the plurality of sub-pixels may include a plurality of first sub-pixels (PX1) arranged along the first direction (X). Each of the plurality of first sub-pixels PX1 may emit the same color light, that is, the first color light.
  • the plurality of sub-pixels may include a plurality of second sub-pixels (PX2) adjacent to each of the plurality of first sub-pixels (PX1) along the second direction (Y) and arranged along the first direction (X). You can.
  • Each of the plurality of second sub-pixels PX2 may emit the same color light, that is, the second color light.
  • the plurality of sub-pixels may include a plurality of third sub-pixels (PX3) adjacent to each of the plurality of second sub-pixels (PX2) along the second direction (Y) and arranged along the first direction (X). You can.
  • the plurality of third sub-pixels PX3 may emit the same color light, that is, a third color light.
  • the first color light may be red light
  • the second color light may be green light
  • the third color light may be blue light, but there is no limitation thereto.
  • the first sub-pixel (PX1), the second sub-pixel (PX2), and the third sub-pixel (PX3) arranged along the second direction (Y) may form a unit pixel capable of displaying a full color image. Accordingly, by arranging a plurality of unit pixels on the substrate 310, a large-area image can be displayed.
  • the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 may be disposed on the substrate 310 .
  • the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 may each be formed long along the first direction (X). That is, the first assembly wiring 321 is arranged long along the first direction (X), and the second assembly wiring 322 is spaced apart from the first assembly wiring 321 and arranged long along the first direction (X). It can be.
  • the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 may be arranged parallel to each other.
  • first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 may be disposed in a plurality of first sub-pixels PX1 arranged along the first direction (X).
  • first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 may be disposed in a plurality of second sub-pixels PX2 arranged along the first direction (X).
  • first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 may be arranged in a plurality of third sub-pixels PX3 arranged along the first direction (X).
  • each of the plurality of sub-pixels PX1, PX2, and PX3 may include at least one assembly hole 340H1, 340H2, and 340H3.
  • each of the plurality of first sub-pixels PX1 arranged along the first direction X may be provided with at least one first assembly hole 340H1.
  • each of the plurality of second sub-pixels PX2 arranged along the first direction X may be provided with at least one second assembly hole 340H2.
  • each of the plurality of third sub-pixels PX3 arranged along the first direction (X) may be provided with at least one third assembly hole 340H3.
  • a plurality of semiconductor light emitting devices may be disposed in each of the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3.
  • the first semiconductor light emitting device 150 may be disposed in each of the plurality of first assembly holes 340H1 arranged along the first direction (X).
  • a second semiconductor light emitting device (not shown) may be disposed in each of the plurality of second assembly holes 340H2 arranged along the first direction (X).
  • a third semiconductor light emitting device (not shown) may be disposed in each of the plurality of third assembly holes 340H3 arranged along the first direction (X).
  • the first semiconductor light emitting device 150, the second semiconductor light emitting device, and the third semiconductor light emitting device may generate light of different colors.
  • the first semiconductor light emitting device 150 may generate red light
  • the second semiconductor light emitting device may generate green light
  • the third semiconductor light emitting device may generate blue light.
  • Full color images can be displayed using red light, green light, and blue light.
  • the first semiconductor light emitting device 150 is a semiconductor light emitting device disposed in the first assembly hole 340H1 in FIG. 11 to emit red light
  • the second semiconductor light emitting device is a semiconductor light emitting device in FIG. 11. It is a semiconductor light-emitting device disposed in the second assembly hole 340H2 to emit green light
  • the third semiconductor light-emitting device is disposed in the third assembly hole 340H3 in FIG. 11 and is a semiconductor light-emitting device to emit blue light.
  • Each can be referred to.
  • the semiconductor light emitting device may refer to the first semiconductor light emitting device 150.
  • the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 may each include at least two layers.
  • the first assembly wiring 321 may include a first bus line 321-1a, a first extension line 321-1b, a first assembly electrode 321-2a, and a first extension electrode 321-2b. You can.
  • the first assembled electrode 321-2a may be disposed on the first bus line 321-1a.
  • the first assembled electrode 321-2a may vertically overlap the first bus line 321-1a.
  • the first extension electrode 321-2b may be disposed on the first extension line 321-1b.
  • the first extension electrode 321-2b may vertically overlap the first extension line 321-1b.
  • the second assembly wiring 322 may include a second bus line 322-1a, a second extension line 322-1b, a second assembly electrode 322-2a, and a second extension electrode 322-2b.
  • the second assembly electrode 322-2a may be disposed on the second bus line 322-1a.
  • the second assembly electrode 322-2a may vertically overlap the second bus line 322-1a.
  • the second extension electrode 322-2b may be disposed on the second extension line 322-1b.
  • the second extension electrode 322-2b may vertically overlap the second extension line 322-1b.
  • the line width of each of the first assembled wiring 321 and/or the second assembled wiring 322 is decreasing.
  • the line resistance of each of the first assembled wiring 321 and/or the second assembled wiring 322 This increases, causing a voltage drop and/or signal delay (or RC delay) in the AC voltage transmitted to each of the plurality of sub-pixels through each of the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322.
  • the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150 is significantly reduced during self-assembly due to voltage drop and/or signal delay (or RC delay).
  • a method of increasing the thickness or width of each of the first assembled wiring 321 and/or the second assembled wiring 322 may be considered.
  • each of the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322 must be located within the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3, so that the target is within the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 during self-assembly.
  • a DEP force corresponding to the value is formed.
  • each of the thick first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322 is located in the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3, the DEP force becomes uneven, causing the substrate ( The assembly force of the semiconductor light emitting device 150 assembled on 310) is reduced, so that the semiconductor light emitting device 150 assembled in the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 deviates from the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3. Defects or assembly rate decreases. Therefore, when each of the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322 is formed as a single layer or has a thick thickness, each of the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322 It is difficult to reduce line resistance.
  • each of the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322 is composed of at least two or more layers, or the two or more layers are formed in the assembly hole 340H1, By positioning them as close as possible to 340H2 and 340H3), the line resistance of each of the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322 can be reduced.
  • the thinner layer among the two or more layers is located in the assembly hole (340H1, 340H2, 340H3), non-uniformity of DEP force during self-assembly is resolved to prevent assembly defects or a decrease in assembly rate of the semiconductor light emitting device 150. can do.
  • a portion of the first assembly wiring 321 and/or a portion of the second assembly wiring 322 may be disposed in the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3.
  • a portion of the first assembly wiring 321 and/or a portion of the second assembly wiring 322 may be in contact with the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 or vertically overlap the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3. You can.
  • FIG. 12A is a plan view illustrating a first bus line and a first extension line forming a first assembly wiring, and a second bus line and a second extension line forming a second assembly wiring in an assembled substrate according to an embodiment.
  • the first bus line 321-1a and the first extension line 321-1b constituting the first assembled wiring 321 are disposed, and the second assembled wiring 322 ) may be disposed with a second bus line 322-1a and a second extension line 322-1b constituting the line.
  • the first bus line 321-1a can supply an externally applied AC voltage to each of the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, and PX3).
  • the first bus line 321-1a is disposed across the plurality of first sub-pixels PX1 arranged along the first direction It can be supplied to each sub-pixel (PX1).
  • the first bus line 321-1a is disposed across the plurality of second sub-pixels PX2 arranged along the first direction It can be supplied to each sub-pixel (PX2).
  • the first bus line 321-1a is disposed across the plurality of third sub-pixels PX3 arranged along the first direction It can be supplied to each sub-pixel (PX3).
  • the amplitude of each of the first AC voltage, the second AC voltage, and the third AC voltage may be different.
  • the amplitude of each of the first AC voltage, the second AC voltage, and the third AC voltage is the first assembly hole 340H1 of the first sub-pixel PX1 and the second assembly hole 340H2 of the second sub-pixel PX2.
  • the amplitude of each of the first AC voltage, the second AC voltage, and the third AC voltage is the first semiconductor light emitting device 150 assembled in the first assembly hole 340H1 and the first semiconductor light emitting device 150 assembled in the second assembly hole 340H2.
  • each semiconductor light emitting device and the third semiconductor light emitting device assembled in the third assembly hole 340H3 may vary.
  • the amplitudes (A1 in FIG. 2) of the first, second, and third AC voltages may be the same.
  • the first extension line 321-1b may be formed integrally with the first bus line 321-1a, but this is not limited.
  • the first extension line 321-1b may extend from the first bus line 321-1a along the second direction (Y).
  • the first extension line 321-1b may extend from the first bus line 321-1a toward the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3.
  • the first extension line 321-1b may extend from the first bus line 321-1a toward the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 in each of the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, and PX3).
  • the first extension line 321-1b extends from the first bus line 321-1a to the first assembly hole 340H1 in each of the plurality of first sub-pixels PX1 arranged along the first direction (X). can be extended toward.
  • the first extension line 321-1b of each first sub-pixel PX1 may be disposed in the first assembly hole 340H1.
  • the first extension line 321-1b of each first sub-pixel PX1 is in contact with the first assembly hole 340H1, but may not vertically overlap the first assembly hole 340H1.
  • the first extension line 321-1b extends from the first bus line 321-1a to the second assembly hole 340H2 in each of the plurality of second sub-pixels PX2 arranged along the first direction (X). can be extended toward.
  • the first extension line 321-1b of each second sub-pixel PX2 may be disposed in the second assembly hole 340H2.
  • the first extension line 321-1b of each second sub-pixel PX2 is in contact with the second assembly hole 340H2, but may not vertically overlap the second assembly hole 340H2.
  • the first extension line 321-1b extends from the first bus line 321-1a to the third assembly hole 340H3 in each of the plurality of third sub-pixels PX3 arranged along the first direction (X). can be extended toward.
  • the first extension line 321-1b of each third sub-pixel PX3 may be disposed in the third assembly hole 340H3.
  • the first extension line 321-1b of each third sub-pixel PX3 contacts the third assembly hole 340H3, but may not vertically overlap the third assembly hole 340H3.
  • the second bus line 322-1a can supply an externally applied AC voltage to each of the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, and PX3).
  • the second bus line 322-1a may be arranged parallel to the first bus line 321-1a along the first direction (X).
  • the second bus line 322-1a is disposed across the plurality of first sub-pixels PX1 arranged along the first direction It can be supplied to each sub-pixel (PX1).
  • the second bus line 322-1a is disposed across the plurality of second sub-pixels PX2 arranged along the first direction It can be supplied to each sub-pixel (PX2).
  • the second bus line 322-1a is disposed across the plurality of third sub-pixels PX3 arranged along the first direction It can be supplied to each sub-pixel (PX3).
  • the amplitude of each of the first AC voltage, the second AC voltage, and the third AC voltage may be different.
  • the amplitude of each of the first AC voltage, the second AC voltage, and the third AC voltage is the first assembly hole 340H1 of the first sub-pixel PX1 and the second assembly hole 340H2 of the second sub-pixel PX2.
  • the amplitude of each of the first AC voltage, the second AC voltage, and the third AC voltage is the first semiconductor light emitting device 150 assembled in the first assembly hole 340H1 and the first semiconductor light emitting device 150 assembled in the second assembly hole 340H2.
  • each semiconductor light emitting device and the third semiconductor light emitting device assembled in the third assembly hole 340H3 may vary.
  • the amplitudes (A1 in FIG. 2) of the first, second, and third AC voltages may be the same.
  • the second extension line 322-1b may be formed integrally with the second bus line 322-1a, but this is not limited.
  • the second extension line 322-1b may be arranged to face the first extension line 321-1b with the first assembly hole 340H1 therebetween. That is, the first assembly hole 340H1 may be located between the first extension line 321-1b and the second extension line 322-1b.
  • Each of the first extension line 321-1b and the second extension line 322-1b may not vertically overlap the first assembly hole 340H1.
  • the second extension line 322-1b may extend from the second bus line 322-1a along the second direction (Y).
  • the second extension line 322-1b may extend from the second bus line 322-1a toward the first assembly hole 340H1.
  • the second extension line 322-1b may extend from the second bus line 322-1a toward the first assembly hole 340H1 in each of the plurality of sub-pixels PX1, PX2, and XP3.
  • the second extension line 322-1b extends from the second bus line 322-1a to the first assembly hole 340H1 in each of the plurality of first sub-pixels PX1 arranged along the first direction (X). can be extended toward.
  • the second extension line 322-1b of each first sub-pixel PX1 may be disposed in the first assembly hole 340H1.
  • the second extension line 322-1b of each first sub-pixel PX1 contacts the first assembly hole 340H1, but may not vertically overlap the first assembly hole 340H1.
  • the second extension line 322-1b extends from the second bus line 322-1a to the second assembly hole 340H2 in each of the plurality of second sub-pixels PX2 arranged along the first direction (X). can be extended toward.
  • the second extension line 322-1b of each second sub-pixel PX2 may be disposed in the second assembly hole 340H2.
  • the second extension line 322-1b of each second sub-pixel PX2 contacts the second assembly hole 340H2, but may not vertically overlap the second assembly hole 340H2.
  • the second extension line 322-1b extends from the second bus line 322-1a to the third assembly hole 340H3 in each of the plurality of third sub-pixels PX3 arranged along the first direction (X). can be extended toward.
  • the second extension line 322-1b of each third sub-pixel PX3 may be disposed in the third assembly hole 340H3.
  • the second extension line 322-1b of each third sub-pixel PX3 contacts the third assembly hole 340H3, but may not vertically overlap the third assembly hole 340H3.
  • the first extension electrode 321-2b may include at least two electrodes extending from the first assembly electrode 321-2a ( 19 to 22).
  • the second extension electrode 322-2b may include at least two electrodes 3211, 3212, 3213, 3221, 3222, and 3223 extending from the second assembled electrode 322-2a ( 17, 18, 20, 21, 24 and 25).
  • the first extension line 321-1b and the second extension line 322-1b may have a symmetrical structure. That is, the first extension line 321-1b and the second extension line 322-1b are symmetrical to each other with respect to the reference line that crosses the center of the first assembly hole 340H1 in the first direction (X).
  • the first extension electrode 321-2b and the second extension electrode 322-2b may have a symmetrical structure. That is, the first extension electrode 321-2b and the second extension electrode 322-2b have a symmetrical structure with respect to the reference line that crosses the center of the first assembly hole 340H1 along the first direction (X). You can have
  • the first extension line 321-1b and the second extension line 322-1b may have an asymmetric structure. That is, the first extension line 321-1b and the second extension line 322-1b are symmetrical to each other with respect to the reference line that crosses the center of the first assembly hole 340H1 in the first direction (X).
  • the first extension electrode 321-2b and the second extension electrode 322-2b may have a symmetrical structure. That is, the first extension electrode 321-2b and the second extension electrode 322-2b have a symmetrical structure with respect to the reference line that crosses the center of the first assembly hole 340H1 along the first direction (X). You can have
  • FIG. 12B shows a first assembly electrode and a first extension electrode constituting the first assembly wiring 321 and a second assembly electrode 322-2a and a second extension forming the second assembly wiring in the assembled substrate according to the embodiment. This is a top view showing the electrode 322-2b.
  • the first assembly electrode 321-2a and the first extension electrode 321-2b constituting the first assembly wiring 321 are disposed, and the second assembly electrode 321-2b is disposed.
  • a second assembly electrode 322-2a and a second extension electrode 322-2b constituting the wiring 322 may be disposed.
  • the first assembled electrode 321-2a may be disposed on the first bus line 321-1a.
  • the first assembled electrode 321-2a may vertically overlap the first bus line 321-1a.
  • the first assembly electrode 321-2a may be vertically connected to the first bus line 321-1a. That is, the lower surface of the first assembled electrode 321-2a may be in contact with the upper surface of the first bus line 321-1a.
  • the first assembly wiring 321 may be individually disposed in the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, and PX3). That is, the first assembly wiring 321 may be arranged separately from each other in each of the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, and PX3). For example, the first assembly wiring 321 may be arranged separately from each other in each of the plurality of first sub-pixels PX1 arranged along the first direction (X). That is, the first assembly lines 321 disposed in each adjacent first sub-pixel PX1 may be spaced apart from each other. For example, the first assembly wiring 321 may be disposed separately from each other in each of the plurality of second sub-pixels PX2 arranged along the first direction (X).
  • first assembly lines 321 disposed in each adjacent second sub-pixel PX2 may be spaced apart from each other.
  • the first assembly wiring 321 may be arranged separately from each other in each of the plurality of third sub-pixels PX3 arranged along the first direction (X). That is, the first assembly lines 321 disposed in each adjacent third sub-pixel PX3 may be spaced apart from each other.
  • the first assembly electrode 321-2a can supply the alternating current voltage supplied from the outside to the first bus line 321-1a to each of the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, and PX3). To this end, the first assembly electrode 321-2a may be electrically connected to the first bus line 321-1a in each of the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, and PX3). For example, the first assembled electrode 321-2a may be electrically connected to the first bus line 321-1a in each of the plurality of first sub-pixels PX1 arranged along the first direction (X).
  • the first assembled electrode 321-2a may be electrically connected to the first bus line 321-1a in each of the plurality of second sub-pixels PX2 arranged along the first direction (X).
  • the first assembled electrode 321-2a may be electrically connected to the first bus line 321-1a in each of the plurality of third sub-pixels PX3 arranged along the first direction (X).
  • the first extension electrode 321-2b may be disposed on the first extension line 321-1b.
  • the first extension electrode 321-2b may vertically overlap the first extension line 321-1b.
  • the first extension electrode 321-2b may be vertically connected to the first extension line 321-1b. That is, the lower surface of the first extension electrode 321-2b may be in contact with the upper surface of the first extension line 321-1b.
  • the first extension electrode 321-2b may not vertically overlap the first extension line 321-1b in the first assembly hole 340H1.
  • the first extension line 321-1b may not vertically overlap the first assembly hole 340H1, and the first extension electrode 321-2b may vertically overlap the first assembly hole 340H1.
  • the first extension line 321-1b does not vertically overlap the first assembly hole 340H1, but is arranged to be in contact with the first assembly hole 340H1, thereby supplying the first bus line 321-1a.
  • the line resistance of the first assembly electrode 321-2a and the first extension electrode 321-2b can be reduced by supplying the alternating voltage as close to the first assembly hole 340H1 as possible. That is, the alternating voltage supplied to the first bus line 321-1a may be supplied into the first assembly hole 340H1 through the first assembly electrode 321-2a and the first extension electrode 321-2b. .
  • the thickness of each of the first assembly electrode 321-2a and the first extension electrode 321-2b is thin.
  • the thickness of the first assembled electrode 321-2a may be smaller than the thickness of the first bus line 321-1a.
  • the thickness of the first extension electrode 321-2b may be smaller than the thickness of the first extension line 321-1b.
  • the thickness of each of the first assembly electrode 321-2a and/or the first extension electrode 321-2b may be 200 nm or less.
  • the thickness of each of the first assembly electrode 321-2a and/or the first extension electrode 321-2b may be 10 to 200 nm.
  • each of the first assembly electrode 321-2a and/or the first extension electrode 321-2b Since the thickness of each of the first assembly electrode 321-2a and/or the first extension electrode 321-2b is thin, line resistance may increase. Accordingly, the first extension line 321-1b extends from the first bus line 321-1a, contacts the first assembly hole 340H1, and is vertically connected to the first extension electrode 321-2b. , a decrease in line resistance of each of the first assembly electrode 321-2a and/or the first extension electrode 321-2b is prevented (or compensated), and signal distortion of the alternating voltage can be suppressed.
  • the original alternating voltage that is, an alternating voltage having the same amplitude as the target value
  • the original alternating voltage is supplied to the first assembly hole 340H1
  • the DEP force formed by this alternating voltage is not reduced and is equal to or similar to the target value DEP force, so that the semiconductor light emitting device
  • the assembly rate of (150) can be improved.
  • the embodiment is a display device (300 in FIG. 26) with high resolution, high definition, and a large screen, a second bus line 322-1a, a second extension line 322-1b, and a second assembly electrode for self-assembly. Even if the line width of each of the (322-2a) and the second extension electrode (322-2b) is reduced, signal distortion of the alternating current voltage can be prevented and the assembly rate can be improved.
  • the first extension electrode 321-2b may be formed integrally with the first assembled electrode 321-2a, but this is not limited.
  • the first extension electrode 321-2b may extend from the first assembled electrode 321-2a along the second direction (Y).
  • the first extension electrode 321-2b may extend from the first assembly electrode 321-2a toward the first assembly hole 340H1.
  • the first extension electrode 321-2b may extend from the first assembly electrode 321-2a toward the first assembly hole 340H1 in each of the plurality of sub-pixels.
  • the first extension electrode 321-2b is connected to the first assembly hole 340H1 from the first assembly electrode 321-2a in each of the plurality of first sub-pixels PX1 arranged along the first direction (X). can be extended toward.
  • the first extension electrode 321-2b of each first sub-pixel PX1 may be disposed in the first assembly hole 340H1.
  • the first extension electrode 321-2b of each first sub-pixel PX1 may vertically overlap the first assembly hole 340H1.
  • the first extension electrode 321-2b is connected to the second assembly hole 340H2 from the first assembly electrode 321-2a in each of the plurality of second sub-pixels PX2 arranged along the first direction (X). can be extended toward.
  • the first extension electrode 321-2b of each second sub-pixel PX2 may be disposed in the second assembly hole 340H2.
  • the first extension electrode 321-2b of each second sub-pixel PX2 may vertically overlap the second assembly hole 340H2.
  • the first extension electrode 321-2b connects the third assembly hole 340H30 from the first assembly electrode 321-2a in each of the plurality of third sub-pixels PX3 arranged along the first direction (X).
  • the first extension electrode 321-2b of each third sub-pixel PX3 may be disposed in the third assembly hole 340H3.
  • the first extension electrode 321-2b of each third sub-pixel PX3 may be disposed in the third assembly hole 340H3.
  • the electrode 321-2b may vertically overlap the third assembly hole 340H3.
  • the second assembly electrode 322-2a may be disposed on the second bus line 322-1a.
  • the second assembly electrode 322-2a may vertically overlap the second bus line 322-1a.
  • the second assembly electrode 322-2a may be vertically connected to the second bus line 322-1a. That is, the lower surface of the second assembled electrode 322-2a may be in contact with the upper surface of the second bus line 322-1a.
  • the second assembly wiring 322 may be individually disposed in the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, and PX3). That is, the second assembly wiring 322 may be disposed separately from each other in each of the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, and PX3). For example, the second assembly wiring 322 may be disposed separately from each other in each of the plurality of first sub-pixels PX1 arranged along the first direction (X). That is, the second assembly lines 322 disposed in each adjacent first sub-pixel PX1 may be spaced apart from each other. For example, the second assembly wiring 322 may be disposed separately from each other in each of the plurality of second sub-pixels PX2 arranged along the first direction (X).
  • the second assembly lines 322 disposed in each adjacent second sub-pixel PX2 may be spaced apart from each other.
  • the second assembly wiring 322 may be disposed separately from each other in each of the plurality of third sub-pixels PX3 arranged along the first direction (X). That is, the second assembly lines 322 disposed in each adjacent third sub-pixel PX3 may be spaced apart from each other.
  • the second assembled electrode 322-2a can supply an externally applied alternating current voltage to each of the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, and PX3).
  • the second assembly electrode 322-2a may be electrically connected to the second bus line 322-1a in each of the plurality of sub-pixels.
  • the second assembled electrode 322-2a may be electrically connected to the second bus line 322-1a in each of the plurality of first sub-pixels PX1 arranged along the first direction (X).
  • the second assembly electrode 322-2a may be electrically connected to the second bus line 322-1a in each of the plurality of second sub-pixels PX2 arranged along the first direction (X).
  • the second assembled electrode 322-2a may be electrically connected to the second bus line 322-1a in each of the plurality of third sub-pixels PX3 arranged along the first direction (X).
  • the second extension electrode 322-2b may be disposed on the second extension line 322-1b.
  • the second extension electrode 322-2b may vertically overlap the second extension line 322-1b.
  • the second extension electrode 322-2b may be vertically connected to the second extension line 322-1b. That is, the lower surface of the second extension electrode 322-2b may be in contact with the upper surface of the second extension line 322-1b.
  • the second extension electrode 322-2b may not vertically overlap the second extension line 322-1b in the first assembly hole 340H1.
  • the second extension line 322-1b may not vertically overlap the first assembly hole 340H1, and the second extension electrode 322-2b may vertically overlap the first assembly hole 340H1.
  • the second extension line 322-1b does not vertically overlap the first assembly hole 340H1, but is arranged to be in contact with the first assembly hole 340H1, thereby supplying the second bus line 322-1a.
  • the line resistance of the second assembly electrode 322-2a and the second extension electrode 322-2b can be reduced by supplying the alternating voltage as close to the first assembly hole 340H1 as possible. That is, the alternating voltage supplied to the second bus line 322-1a may be supplied into the first assembly hole 340H1 through the second assembly electrode 322-2a and the second extension electrode 322-2b. .
  • the thickness of each of the second assembly electrode 322-2a and the second extension electrode 322-2b is thin.
  • the thickness of the second assembled electrode 322-2a may be smaller than the thickness of the second bus line 322-1a.
  • the thickness of the second extension electrode 322-2b may be smaller than the thickness of the second extension line 322-1b.
  • the thickness of each of the second assembly electrode 322-2a and/or the second extension electrode 322-2b may be 200 nm or less.
  • the thickness of each of the second assembly electrode 322-2a and/or the second extension electrode 322-2b may be 10 to 200 nm.
  • each of the second assembly electrode 322-2a and/or the second extension electrode 322-2b Since the thickness of each of the second assembly electrode 322-2a and/or the second extension electrode 322-2b is thin, line resistance may increase. Accordingly, the second extension line 322-1b extends from the second bus line 322-1a toward the first assembly hole 340H1 and is vertically connected to the second extension electrode 322-2b, A decrease in line resistance of each of the second assembly electrode 322-2a and/or the second extension electrode 322-2b can be prevented (or compensated for), thereby suppressing signal distortion of the alternating current voltage.
  • the original AC voltage that is, the AC voltage having the same amplitude as the target value is supplied to the first assembly hole 340H1, and the DEP force formed by this AC voltage is not reduced, thereby improving the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150. You can.
  • the embodiment is a display device 300 with high resolution, high definition, and a large screen, a second bus line 322-1a, a second extension line 322-1b, and a second assembly electrode 322 for self-assembly. Even if the line width of each of -2a) and the second extension electrode 322-2b is reduced, signal distortion of the alternating current voltage can be prevented and the assembly rate can be improved.
  • the second extension electrode 322-2b may be formed integrally with the second assembly electrode 322-2a, but this is not limited.
  • the second extension electrode 322-2b may be disposed to face the first extension electrode 321-2b with the first assembly hole 340H1 therebetween. That is, the first assembly hole 340H1 may be located between the first extension electrode 321-2b and the second extension electrode 322-2b.
  • Each of the first extension electrode 321-2b and the second extension electrode 322-2b may not vertically overlap the first assembly hole 340H1.
  • the second extension electrode 322-2b may extend from the second assembly electrode 322-2a along the second direction Y.
  • the second extension electrode 322-2b may extend from the second assembly electrode 322-2a toward the first assembly hole 340H1.
  • the second extension electrode 322-2b may extend from the second assembly electrode 322-2a toward the first assembly hole 340H1 in each of the plurality of sub-pixels PX1, PX2, and PX3.
  • the second extension electrode 322-2b is connected to the first assembly hole 340H1 from the second assembly electrode 322-2a in each of the plurality of first sub-pixels PX1 arranged along the first direction (X). can be extended toward.
  • the second extension electrode 322-2b of each first sub-pixel PX1 may be disposed in the first assembly hole 340H1.
  • the second extension electrode 322-2b of each first sub-pixel PX1 may not vertically overlap the first assembly hole 340H1.
  • the second extension electrode 322-2b is connected to the second assembly hole 340H2 from the second assembly electrode 322-2a in each of the plurality of second sub-pixels PX2 arranged along the first direction (X). can be extended toward.
  • the second extension electrode 322-2b of each second sub-pixel PX2 may be disposed in the second assembly hole 340H2.
  • the second extension electrode 322-2b of each second sub-pixel PX2 may not vertically overlap the second assembly hole 340H2.
  • the second extension electrode 322-2b is connected to the third assembly hole 340H3 from the second assembly electrode 322-2a in each of the plurality of third sub-pixels PX3 arranged along the first direction (X). can be extended toward.
  • the second extension electrode 322-2b of each third sub-pixel PX3 may be disposed in the third assembly hole 340H3.
  • the second extension electrode 322-2b of each third sub-pixel PX3 may not vertically overlap the third assembly hole 340H3.
  • the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 shown in FIGS. 13 to 25 are the first sub-pixel (PX1) and the second sub-pixel (PX2) of the assembly substrate 300A shown in FIG. 11. ) and the third sub-pixel (PX3), the first sub-pixel (PX1) is shown, but the second sub-pixel (PX2) and/or the third sub-pixel (PX3) are also shown in FIGS. 13 to 25.
  • the assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 may be employed identically or modified.
  • FIG. 13 is a first embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • the first assembly wiring 321 includes a first bus line 321-1a, a first extension line 321-1b, a first assembly electrode 321-2a, and a first extension electrode. (321-2b) may be included.
  • the second assembly wiring 322 may include a second bus line 322-1a, a second extension line 322-1b, a second assembly electrode 322-2a, and a second extension electrode 322-2b. You can.
  • the first bus line 321-1a and the second bus line 322-1a may be arranged parallel to each other along the first direction (X), but this is not limited.
  • the first bus line 321-1a includes a plurality of first sub-pixels (PX1), a plurality of second sub-pixels (PX2), or a plurality of third sub-pixels (PX3) arranged along the first direction (X), respectively. Can be placed across.
  • the second bus line 322-1a includes a plurality of first sub-pixels (PX1), a plurality of second sub-pixels (PX2), or a plurality of third sub-pixels (PX3) arranged along the first direction (X). Can be placed across. Accordingly, the first bus line 321-1a and the second bus line 322-1a may serve to supply an externally provided AC voltage to each of the plurality of sub-pixels.
  • the first extension line 321-1b extends from the first bus line 321-1a toward the first assembly hole 340H1, and the second extension line 322-1b extends from the second bus line 322-1a. ) may extend from the first assembly hole 340H1.
  • the first extension line 321-1b and the second extension line 322-1b may be arranged to face each other with the first assembly hole 340H1 in between.
  • the first assembled electrode 321-2a and the second assembled electrode 322-2a may be arranged parallel to each other along the first direction (X), but this is not limited.
  • the first assembled electrode 321-2a may be disposed on the first bus line 321-1a
  • the second assembled electrode 322-2a may be disposed on the second bus line 322-1a.
  • the lower surface of the first assembled electrode 321-2a is in contact with the upper surface of the first bus line 321-1a
  • the lower surface of the second assembled electrode 322-2a is in contact with the upper surface of the second bus line 322-1a. may come into contact with.
  • the first assembly electrode 321-2a serves to quickly and smoothly transfer the alternating current voltage supplied to the plurality of sub-pixels to the first assembly hole 340H1 through the first extension electrode 321-2b. can do.
  • the second assembly electrode 322-2a may serve to quickly and smoothly transmit the alternating current voltage supplied to the plurality of sub-pixels to the first assembly hole 340H1 through the second extension electrode 322-2b. there is.
  • the first assembled electrode 321-2a may surround the first bus line 321-1a
  • the second assembled electrode 322-2a may surround the second bus line 322-1a.
  • the width W11b of the first assembled electrode 321-2a may be larger than the width W11a of the first bus line 321-1a
  • the width W21b of the second assembled electrode 322-2a may be larger than the width W21b of the second bus line 322-1a.
  • the first extension electrode 321-2b may be disposed on the first extension line 321-1b, and the second extension electrode 322-2b may be disposed on the second extension line 322-1b.
  • the lower surface of the first extension electrode 321-2b is in contact with the upper surface of the second extension line 322-1b, and the lower surface of the second extension electrode 322-2b is in contact with the upper surface of the second extension line 322-1b. may come into contact with.
  • the first extension electrode 321-2b extends from the first assembly electrode 321-2a toward the first assembly hole 340H1, and the second extension electrode 322-2b extends from the first assembly electrode 322-2a. ) may extend from the first assembly hole 340H1.
  • the first extension electrode 321-2b and the second extension electrode 322-2b may be arranged to face each other in the first assembly hole 340H1.
  • the first extension line 321-1b is electrically connected to the first bus line 321-1a and vertically overlaps the first extension electrode 321-2b, thereby forming the first assembly wiring 321.
  • the alternating current voltage transmitted to the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, PX3) can be quickly and smoothly transmitted to the first assembly hole (340H1).
  • the second extension line 322-1b is electrically connected to the second bus line 322-1a and vertically overlaps the second extension electrode 322-2b, thereby forming a line of the second assembly wiring 322.
  • the AC voltage transmitted to the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, PX3) can be quickly and smoothly transmitted to the first assembly hole (340H1).
  • the first extension electrode 321-2b may surround the first extension line 321-1b
  • the second extension electrode 322-2b may surround the second extension line 322-1b.
  • the width W12b of the first extension electrode 321-2b in the first direction The width W13b of the first extension electrode 321-2b may be smaller than the width W13a of the first extension line 321-1b.
  • the width W22b of the second extension electrode 322-2b in the first direction The width W23b of the second extension electrode 322-2b may be smaller than the width W23a of the second extension line 322-1b.
  • second extension electrode 322-2b may each be disposed in each of the plurality of second sub-pixels PX2, each of the plurality of second sub-pixels PX2, or each of the plurality of third sub-pixels PX3. .
  • first extension line 321-1b, the second extension line 322-1b, the first assembly electrode 321-2a, the second assembly electrode 322-2a, and the first extension electrode 321- 2b) and the second extension electrode 322-2b are not disposed across each of the plurality of second sub-pixels PX2, each of the plurality of second sub-pixels PX2, or each of the plurality of third sub-pixels PX3. It may not be possible.
  • the first extension line 321-1b and the second extension line 322-1b may not be located within the first assembly hole 340H1. That is, each of the first extension line 321-1b and the second extension line 322-1b may not vertically overlap the first assembly hole 340H1.
  • the first extension electrode 321-2b and the second extension electrode 322-2b may be located in the first assembly hole 340H1. That is, each of the first extension electrode 321-2b and the second extension electrode 322-2b may vertically overlap the first assembly hole 340H1.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view taken along line C1-C2 of the first sub-pixel of FIG. 13.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view taken along line D1-D2 of the first sub-pixel of FIG. 13.
  • the assembled substrate (310A in FIG. 11) may include a substrate 310, a first assembled wiring 321, a second assembled wiring 322, a first insulating layer 320, and a partition 340. there is.
  • the substrate 310 may be a support member that supports components disposed on the substrate 310 or a protection member that protects the components. Since the substrate 310 has been previously described, it is omitted.
  • the first and second assembly wirings 321 and 322 may be disposed on the substrate 310 .
  • the first and second assembly wires 321 and 322 may serve to assemble the semiconductor light emitting device (150 in FIG. 27) into the first assembly hole 340H1 in a self-assembly method. That is, during self-assembly, an electric field is generated between the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 by the voltage supplied to the first and second assembly wirings 321 and 322, and the electric field formed by this electric field
  • the semiconductor light emitting device 150 which is moving, may be assembled in the first assembly hole 340H1 by an assembly device (1100 in FIG. 10) by dielectrophoresis force.
  • first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 are shown as being disposed on the same layer, that is, on the top surface of the substrate 310, but they may be disposed on different layers.
  • the first insulating layer 320 may be disposed on the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322.
  • the first insulating layer 320 may serve to protect the first assembled wiring 321 and the second assembled wiring 322.
  • the first insulating layer 320 can prevent an electrical short circuit between the first assembled wiring 321 and the second assembled wiring 322.
  • the first insulating layer 320 may be made of a material with excellent insulating properties.
  • the first insulating layer 320 may contribute to the formation of DEP force.
  • the first insulating layer 320 may be made of a material with a high dielectric constant.
  • the first insulating layer 320 may be formed of an inorganic material, but this is not limited.
  • the partition 340 is disposed on the substrate 310 and may have a first assembly hole 340H1.
  • Each of the plurality of sub-pixels (PX1, PX2, and PX3) may include at least one assembly hole (340H1, 340H2, and 340H3 in FIG. 11).
  • the partition wall 340 may be disposed on the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322.
  • the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 may be provided on the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322.
  • the thickness of the partition wall 340 may be determined by considering the thickness of the semiconductor light emitting device 150.
  • the thickness of the partition wall 340 may be smaller than the thickness of the semiconductor light emitting device 150.
  • the upper side of the semiconductor light emitting device 150 may be positioned higher than the upper surface of the partition wall 340. That is, the upper side of the semiconductor light emitting device 150 may protrude upward from the upper surface of the partition wall 340.
  • the assembly holes (340H1, 340H2) , 340H3) can be determined.
  • the size of the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 may be larger than the size of the semiconductor light emitting device 150.
  • the distance between the outer side of the semiconductor light emitting device 150 and the inner side of the assembly hole (340H1, 340H2, 340H3) is 2 It may be ⁇ m or less, but there is no limitation thereto.
  • the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 may have a shape corresponding to the shape of the semiconductor light emitting device 150.
  • the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 may also be circular.
  • the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 may also be rectangular.
  • the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 in each of the first sub-pixel (PX1), the second sub-pixel (PX2), and the third sub-pixel (PX3) may have the same shape, that is, a circular shape.
  • the semiconductor light emitting device may have a shape corresponding to the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3, that is, a circular shape.
  • the first semiconductor light emitting device (150), each of the second semiconductor light-emitting device and the third semiconductor light-emitting device may be sequentially assembled in the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 of each of the corresponding sub-pixels (PX1, PX2, and PX3), but this is limited. I never do that.
  • the first semiconductor light emitting device 150 is assembled in the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 of the first sub-pixel PX1 of the substrate 310, and the second semiconductor light emitting device is assembled into the second semiconductor light emitting device 150 of the substrate 310. It is assembled in the assembly holes (340H1, 340H2, 340H3) of the sub-pixel (PX2), and the third semiconductor light emitting device is assembled in the assembly holes (340H1, 340H2, 340H3) of the third sub-pixel (PX3) of the substrate 310.
  • the shapes of each of the first semiconductor light emitting device 150, the second semiconductor light emitting device, and the third semiconductor light emitting device may be the same, but this is not limited.
  • Each of the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 has a shape corresponding to the shape of the first semiconductor light-emitting device 150, the second semiconductor light-emitting device, and the third semiconductor light-emitting device, respectively. , may have a size larger than each of the second semiconductor light emitting device and the third semiconductor light emitting device.
  • the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 in each of the first sub-pixel (PX1), the second sub-pixel (PX2), and the third sub-pixel (PX3) may have different shapes.
  • the first assembly hole 340H1 in the first sub-pixel PX1 has a circular shape
  • the second assembly hole 340H2 in the second sub-pixel PX2 has a first minor axis and a first major axis.
  • 1 has an oval shape
  • the third assembly hole 340H3 in the third sub-pixel PX3 may have a second oval shape with a second minor axis smaller than the first minor axis and a second major axis larger than the first major axis.
  • the first semiconductor light-emitting device 150 has a shape corresponding to the first assembly hole 340H1 of the first sub-pixel PX1, that is, a circular shape
  • the second semiconductor light-emitting device has a circular shape
  • the second semiconductor light-emitting device 150 has a circular shape corresponding to the first assembly hole 340H1 of the first sub-pixel PX1.
  • the third semiconductor light emitting device has a shape corresponding to the third assembly hole 340H3 of the third sub-pixel PX3, that is, a second oval shape.
  • the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 having different shapes and the first to third semiconductor light emitting devices 150 having shapes corresponding to each of the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3,
  • the first to third semiconductor light emitting devices 150 are self-assembled, they can be simultaneously assembled into the corresponding assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3.
  • the first semiconductor light-emitting device 150, the second semiconductor light-emitting device, and the third semiconductor light-emitting device are mixed in the fluid 1200 for self-assembly, the first sub-pixel PX1 and the second semiconductor light-emitting device on the substrate 310
  • Semiconductor devices corresponding to the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 of the sub-pixel PX2 and the third sub-pixel PX3 may be assembled. That is, the first semiconductor light emitting device 150 having a shape corresponding to the shape of the first assembly hole 340H1 may be assembled in the first assembly hole 340H1 of the first sub-pixel PX1.
  • a second semiconductor light emitting device having a shape corresponding to the shape of the second assembly hole 340H2 may be assembled in the second assembly hole 340H2 of the second sub-pixel PX2.
  • a third semiconductor light emitting device having a shape corresponding to the shape of the third assembly hole 340H3 may be assembled in the third assembly hole 340H3 of the third sub-pixel PX3. Therefore, since each of the first semiconductor light emitting device 150, the second semiconductor light emitting device, and the third semiconductor light emitting device having different shapes is assembled in the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 corresponding to their shapes, assembly defects occur. can be prevented.
  • the assembly board 310A configured as above, when an alternating current voltage is applied to the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 for self-assembly, the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring ( 322), a DEP force is formed between them, and the semiconductor light emitting device 150 is assembled in the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 by this DEP force and can be fixed in the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3.
  • the assembly rate can be dramatically improved in the display device 300 having high resolution and/or high precision.
  • the assembly rate can be dramatically improved in the display device 300 having a large screen.
  • each of the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322 is formed into at least two or more layers.
  • the line resistance of each of the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322 can be reduced to prevent voltage drop or signal distortion of the alternating current voltage, thereby improving the assembly rate.
  • the line width is reduced by the display device 300 having high resolution, high definition, or a large screen, at least two lines constituting each of the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322
  • the line resistance of each of the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322 is reduced to prevent voltage drop of alternating voltage or signal distortion. can be prevented and the assembly rate can be improved.
  • the embodiment even if the line width is reduced by the display device 300 having high resolution, high definition, or a large screen, at least two lines constituting each of the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322
  • the thinner layer among the above layers in the assembly holes 340H1, 340H2, and 340H3 non-uniformity of the DEP force during self-assembly can be resolved to prevent assembly defects or a decrease in the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150.
  • FIG. 16 is a second embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • the second embodiment is the same as the first embodiment (FIG. 13) except for the width W22a of the second extension line 322-1b. That is, the width W22a of the second extension line 322-1b in the second embodiment may be smaller than the width W22a of the second extension line 322-1b in the first embodiment.
  • the width W22a of the second extension line 322-1b may be smaller than the diameter of the first assembly hole 34H1. Even if the width W22a of the second extension line 322-1b is small, the second extension electrode 322-2b located in the first assembly hole 34H1 is the second assembly electrode 322-2a or the second assembly electrode 322-2a. Since it is electrically connected to the extension line 322-1b, alternating voltage can be quickly and smoothly supplied into the first assembly hole 34H1.
  • the first extension line (321-1b) and the second extension line (322-1b) are assembled from the first bus line (321-1a) and the second bus line (322-1a), respectively.
  • the hole 34H1 By extending toward the hole 34H1, the line resistance of each of the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 is reduced, preventing voltage drop of alternating voltage or signal distortion, thereby improving the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150. It can be.
  • FIG. 17 is a third embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • the third embodiment is the same as the first embodiment (FIG. 13) except for the second extension line 322-1b.
  • the second extension line 322-1b may include a first electrode 3221 and a second electrode 3222.
  • the first electrode 3221 and the second electrode may each extend from the second extension line 322-1b toward the first assembly hole 34H1.
  • the first extension line (321-1b) and the second extension line (322-1b) are assembled from the first bus line (321-1a) and the second bus line (322-1a), respectively.
  • the hole 34H1 By extending toward the hole 34H1, the line resistance of each of the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 is reduced, preventing voltage drop of alternating voltage or signal distortion, thereby improving the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150. It can be.
  • FIG. 18 is a fourth embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • the fourth embodiment is the same as the first embodiment (FIG. 13) except for the second extension line 322-1b.
  • the second extension line 322-1b may include a first electrode 3221, a second electrode 3222, and a third electrode 3223.
  • the first electrode 3221, the second electrode 3222, and the third electrode 3223 of the second extension line 322-1b are each connected to the first assembly hole 34H1 from the second bus line 322-1a. can be extended towards
  • each of the first electrode 3221, the second electrode 3222, and the third electrode 3223 may be greater than the thickness of the second extension electrode 322-2b. Accordingly, when each of the first electrode 3221, the second electrode 3222, and the third electrode 3223 is disposed within the first assembly hole 34H1, the first electrode 3221 is located within the first assembly hole 34H1. ), the thickness is increased by each of the second electrode 3222 and the third electrode 3223 and the second extension electrode 322-2b, and is connected to the first assembled wiring 321 and the second assembled wiring 322.
  • the DEP force formed by the applied alternating current voltage may become non-uniform, thereby reducing the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150.
  • each of the first electrode 3221, the second electrode 3222, and the third electrode 3223 may contact the first assembly hole 34H1. That is, the first electrode 3221, the second electrode 3222, and the third electrode 3223 may not vertically overlap the first assembly hole 34H1. Accordingly, the first electrode 3221, the second electrode 3222, and the third electrode 3223 are not disposed in the first assembly hole 34H1, but only the second extension electrode 322-2b is disposed, thereby reducing the thickness. By reducing the DEP force, the assembly rate can be improved.
  • the first extension line (321-1b) and the second extension line (322-1b) are connected to the first bus line (321-1a) and the second bus line (322-1a), respectively.
  • the line resistance of each of the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 is reduced, preventing voltage drop or signal distortion of the alternating current voltage, thereby increasing the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150. It can be improved.
  • FIG. 19 is a fifth embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • the first extension line 321-1b may include a first electrode 3211 and a second electrode 3212.
  • the width W22a of the second extension line 322-1b may be smaller than the diameter of the first assembly hole 34H1.
  • the first electrode 3211 and the second electrode 3212 of the first extension line 321-1b may each extend from the first bus line 321-1a toward the first assembly hole 34H1.
  • the first electrode 3211 and the second electrode 3212 of the first extension line 321-1b do not overlap perpendicularly with the first assembly hole 34H1, and the first extension electrode ( Since 321-2b vertically overlaps the first assembly hole 34H1, the first electrode 3211 and the second electrode 3212 of the first extension line 321-1b are each connected to the first assembly hole 34H1. ), and only the first extension electrode 321-2b may be disposed within the first assembly hole 34H1.
  • the second extension line 322-1b does not vertically overlap the first assembly hole 34H1, and the second extension electrode 322-2b vertically overlaps the first assembly hole 34H1, so the second extension line 322-1b does not vertically overlap the first assembly hole 34H1.
  • Each of the lines 322-1b may not be disposed within the first assembly hole 34H1, and only the second extension electrode 322-2b may be disposed within the first assembly hole 34H1. Accordingly, only the thin first extension electrode 321-2b and the second extension electrode 322-2b are disposed in the first assembly hole 34H1, so the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring ( The DEP force formed by the alternating voltage applied to 322) becomes uniform, so that the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150 can be improved.
  • the first extension line (321-1b) and the second extension line (322-1b) are connected to the first bus line (321-1a) and the second bus line (322-1a), respectively.
  • the line resistance of each of the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 is reduced, preventing voltage drop or signal distortion of the alternating current voltage, thereby increasing the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150. It can be improved.
  • FIG. 20 is a sixth embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • the first extension line 321-1b may include a first electrode 3211 and a second electrode 3212.
  • the second extension line 322-1b may include a first electrode 3221 and a second electrode 3222.
  • the first electrodes 3221 may have a symmetrical structure.
  • the second electrodes 3222 may have a symmetrical structure.
  • the first electrode 3211 and the second electrode 3212 of the first extension line 321-1b may each extend from the first extension line 321-1b toward the first assembly hole 34H1.
  • the first electrode 3221 and the second electrode 3222 of the second extension line 322-1b may each extend from the second extension line 322-1b toward the first assembly hole 34H1.
  • the first electrode 3211 and the second electrode 3212 of the first extension line 321-1b do not overlap perpendicularly with the first assembly hole 34H1, and the first extension electrode ( Since 321-2b vertically overlaps the first assembly hole 34H1, the first electrode 3211 and the second electrode 3212 of the first extension line 321-1b are each connected to the first assembly hole 34H1. ), and only the first extension electrode 321-2b may be disposed within the first assembly hole 34H1.
  • the first electrode 3221 and the second electrode 3222 of the second extension line 322-1b do not overlap perpendicularly with the first assembly hole 34H1, and the second extension electrode 322-2b Since it vertically overlaps the first assembly hole 34H1, the first electrode 3221 and the second electrode 3222 of the second extension line 322-1b are not disposed within the first assembly hole 34H1, respectively. , only the second extension electrode 322-2b may be disposed in the first assembly hole 34H1. Accordingly, only the thin first extension electrode 321-2b and the second extension electrode 322-2b are disposed in the first assembly hole 34H1, so the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring ( The DEP force formed by the alternating voltage applied to 322) becomes uniform, so that the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150 can be improved.
  • the first extension line (321-1b) and the second extension line (322-1b) are connected to the first bus line (321-1a) and the second bus line (322-1a), respectively.
  • the line resistance of each of the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 is reduced, preventing voltage drop or signal distortion of the alternating current voltage, thereby increasing the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150. It can be improved.
  • FIG. 21 is a seventh embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • the seventh embodiment is the same as the sixth embodiment (FIG. 20) except that the first extension line 321-1b and the second extension line 322-1b further include third electrodes 3213 and 3223, respectively. do.
  • the first extension line 321-1b may include a first electrode 3211, a second electrode 3212, and a third electrode 3213.
  • the second extension line 322-1b may include a first electrode 3221, a second electrode 3222, and a third electrode 3223.
  • the first electrodes 3221 may have a symmetrical structure.
  • the second electrodes 3222 may have a symmetrical structure.
  • the third electrode 3213 and the second extension line 322-1b of the first extension line 321-1b are connected to a reference line crossing the center of the first assembly hole 34H1 in the first direction (X).
  • the second electrodes 3223 may have a symmetrical structure.
  • the third electrode 3213 of the first extension line 321-1b may be located between the first electrode 3211 and the second electrode 3212.
  • the first electrode 3211, the second electrode 3212, and the third electrode 3213 of the first extension line 321-1b may each have different lengths.
  • the length of the first electrode 3211 and the length of the second electrode 3212 may be the same.
  • the length of the third electrode 3213 may be shorter than the length of the first electrode 3211 or the length of the second electrode 3212.
  • the third electrode 3223 of the second extension line 322-1b may be located between the first electrode 3221 and the second electrode 3222.
  • the first electrode 3221, the second electrode 3222, and the third electrode 3223 of the second extension line 322-1b may each have different lengths.
  • the length of the first electrode 3221 and the length of the second electrode 3222 may be the same.
  • the length of the third electrode 3223 may be shorter than the length of the first electrode 3221 or the length of the second electrode 3222.
  • the first electrode 3211, the second electrode 3212, and the third electrode 3213 of the first extension line 321-1b are each connected to the first assembly hole 34H1 from the first extension line 321-1b. can be extended towards The first electrode 3221, the second electrode 3222, and the third electrode 3223 of the second extension line 322-1b are each connected to the first assembly hole 34H1 from the second extension line 322-1b. can be extended towards
  • each of the first electrode 3211, the second electrode 3212, and the third electrode 3213 of the first extension line 321-1b does not vertically overlap the first assembly hole 34H1. Since the first extension electrode 321-2b vertically overlaps the first assembly hole 34H1, the first electrode 3211, the second electrode 3212, and the first extension line 321-1b Each of the three electrodes 3213 may not be disposed within the first assembly hole 34H1, and only the first extension electrode 321-2b may be disposed within the first assembly hole 34H1.
  • the first electrode 3221, the second electrode 3222, and the third electrode 3223 of the second extension line 322-1b do not overlap perpendicularly with the first assembly hole 34H1, but extend the second electrode.
  • the electrode 322-2b vertically overlaps the first assembly hole 34H1, the first electrode 3221, the second electrode 3222, and the third electrode 3223 of the second extension line 322-1b Each is not disposed in the first assembly hole 34H1, and only the second extension electrode 322-2b may be disposed in the first assembly hole 34H1. Accordingly, only the thin first extension electrode 321-2b and the second extension electrode 322-2b are disposed in the first assembly hole 34H1, so the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring ( The DEP force formed by the alternating voltage applied to 322) becomes uniform, so that the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150 can be improved.
  • the first extension line (321-1b) and the second extension line (322-1b) are connected to the first bus line (321-1a) and the second bus line (322-1a), respectively.
  • the line resistance of each of the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 is reduced, preventing voltage drop or signal distortion of the alternating current voltage, thereby increasing the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150. It can be improved.
  • FIG. 22 is an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11, which is the eighth embodiment.
  • the eighth embodiment is the same as the first embodiment (FIG. Same as 13).
  • first extension line 321-1b and the second extension line 322-1b are each disposed along the circumference of the first assembly hole 34H1, whereas in the eighth embodiment The first extension line 321-1b and the second extension line 322-1b are not disposed along the perimeter of the first assembly hole 34H1, respectively.
  • the width (W13a) of the first extension line (321-1b) along the second direction (Y) is the same as the width (W13a) of the first extension line (321-1b) along the second direction (Y) in the first embodiment. It may be smaller than the width (W13a) of 1b).
  • the width W23a of the second extension line 322-1b along the second direction (Y) is the same as the width W23a of the second extension line 322-1b along the second direction (Y) in the first embodiment. It may be smaller than the width (W23a).
  • the first extension line 321-1b extends from the first bus line 321-1a and contacts the first assembly hole 34H1, and the first extension line 321-1b contacts the first assembly hole 34H1. 1
  • the end of the extension line 321-1b may be located on a straight line.
  • the second extension line 322-1b extends from the second bus line 322-1a and contacts the first assembly hole 34H1, and is a second extension contacting the first assembly hole 34H1. The end of the line 322-1b may be located on a straight line.
  • FIG. 23 is a ninth embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • the width (W22a) of the second extension line (322-1b) along the first direction (X) is the second extension line (W22a) along the first direction ( It may be smaller than the width (W22a) of 322-1b).
  • FIG. 24 is a tenth embodiment, an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the embodiment of FIG. 11.
  • the tenth embodiment is the same as the eighth embodiment (FIG. 22) except for the second extension line 322-1b consisting of two electrodes 3221 and 3222.
  • FIG. 25 is an enlarged plan view of the first sub-pixel of the assembled substrate according to the eleventh embodiment of FIG. 11.
  • the 11th embodiment is the same as the 8th embodiment (FIG. 22) except for the second extension line 322-1b consisting of three electrodes 3221, 3222, and 3223.
  • Figure 26 is a cross-sectional view showing a display device according to an embodiment.
  • Figure 27 is a cross-sectional view showing a semiconductor light-emitting device provided in a display device according to an embodiment.
  • the display device 300 includes a substrate 310, a first assembly wiring 321, a second assembly wiring 322, a first insulating layer 320, a partition wall 340, It may include a semiconductor light emitting device 150, a connection electrode 330, a second insulating layer 350, and an electrode wire 360.
  • connection electrode 330 the connection electrode 330, the second insulating layer 350, and the electrode wiring. (360) Each can be formed.
  • the first assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322 according to the structure or shape according to various embodiments (FIGS. 13, 16 to 18, and 19 to 25) are Since no voltage drop or new distortion occurs in the alternating voltage applied to the assembly wiring 321 and the second assembly wiring 322, the assembly rate of the semiconductor light emitting device 150 can be significantly improved during self-assembly.
  • the semiconductor light emitting device 150 may include light emitting units 151, 152, and 153, a first electrode 154, a second electrode 155, and a passivation layer 157.
  • the light emitting unit includes a first conductive semiconductor layer 151 including a first dopant, an active layer 152 on the first conductive semiconductor layer, and a second conductive semiconductor disposed on the active layer 152 and including a second dopant. It may include a layer 153.
  • the first dopant may be an n-type dopant
  • the second dopant may be a p-type dopant.
  • the semiconductor light emitting device 150 is a vertical semiconductor light emitting device, but may also be a horizontal light emitting device, a flip chip type light emitting device, etc.
  • connection electrode 330 may be disposed in the first assembly hole 340H1.
  • the connection electrode 330 is connected to the first conductive semiconductor layer 151 and the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322 of the semiconductor light emitting device 150 in the first assembly hole 340H1. can be electrically connected.
  • one side of the connection electrode 330 is electrically connected to the side of the first conductivity type semiconductor layer 151 of the semiconductor light emitting device 150, and the other side of the connection electrode 330 is connected to the first assembly wiring 321 and /Or it may be electrically connected to a portion of the upper surface of the second assembly wiring 322.
  • connection electrode 330 may be electrically connected to the semiconductor light emitting device 150 along the side perimeter of the first conductivity type semiconductor layer 151 of the semiconductor light emitting device 150. Accordingly, since the contact area between the connection electrode 330 and the first conductive semiconductor layer 151 is significantly increased, the current flows more quickly and smoothly from the first conductive semiconductor layer 151 to the connection electrode 330. Light efficiency can be improved.
  • the first electrode 1540 may include an extension area 154a extending from the lower side of the light emitting units 15, 152, and 153 to the side of the light emitting units 151, 152, and 153.
  • the connection electrode 330 is connected to the extended area 154a of the first electrode 154 instead of the side of the first conductivity type semiconductor layer 151 of the semiconductor light-emitting device 150, so that the semiconductor light-emitting device 150 )
  • Light efficiency can be improved by allowing current to flow more quickly and smoothly from the first conductive semiconductor layer 151 to the connection electrode 330.
  • connection electrode 330 may contact a portion of the upper surface of the first assembled wiring 321 and/or the second assembled wiring 322 through the first insulating layer 320.
  • connection electrode 330 may contact the side of the first electrode 154 of the semiconductor light emitting device 150.
  • the thickness of the connection electrode 330 may be smaller than the thickness of the partition wall 340.
  • connection electrode 330 may include at least one layer.
  • the connection electrode 330 may include a metal with excellent electrical conductivity, high reflectivity, and high thermal conductivity.
  • the connection electrode 330 may include aluminum (Al) or silver (Ag). Aluminum (Al) is easily oxidized. Accordingly, the connection electrode 330 may contain molybdenum (Mo) to prevent oxidation of aluminum (Al).
  • the connection electrode 330 may include a first layer, a second layer, and a third layer.
  • the first layer may be disposed below the second layer, and the third layer may be disposed on the second layer.
  • the second layer may include aluminum or silver. At least one of the first layer or the second layer may include molybdenum.
  • the second insulating layer 350 may be disposed on the partition wall 340 to protect the semiconductor light emitting device 150.
  • the second insulating layer 350 is disposed in the first assembly hole 340H1 around the semiconductor and can firmly fix the semiconductor light emitting device 150. Additionally, the second insulating layer 350 is disposed on the semiconductor light-emitting device 150 to protect the semiconductor light-emitting device 150 from external shock and prevent contamination by foreign substances.
  • the second insulating layer 350 may serve as a planarization layer that allows a layer formed in a later process to be formed at a constant thickness. Accordingly, the upper surface of the second insulating layer 350 may have a flat surface.
  • the second insulating layer 350 may be formed of an organic material or an inorganic material. Accordingly, the electrode wiring 360 can be easily formed without disconnection on the upper surface of the second insulating layer 350 having a flat surface.
  • the electrode wire 360 may be disposed in each of the first sub-pixel (PX1), the second sub-pixel (PX2), and the third sub-pixel (PX3). One side of the electrode wire 360 may be connected to a signal line (not shown), and the other side of the electrode wire 360 may be connected to the second electrode 155 of the semiconductor light emitting device 150.
  • the electrode wiring 360 may be made of a transparent conductive material that allows light to pass through.
  • the electrode wiring 360 may include ITO, IZO, etc., but is not limited thereto.
  • the semiconductor light emitting device 150 may emit light by power supplied by the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322 and the electrode wiring 360 connected to the connection electrode 330.
  • the first assembly wiring 321 and/or the second assembly wiring 322 connected to the connection electrode 330 may be used as the first electrode wiring
  • the electrode wiring 360 may be used as the second electrode wiring.
  • the display device described above may be a display panel. That is, in the embodiment, the display device and the display panel may be understood to have the same meaning.
  • a display device in a practical sense may include a display panel and a controller (or processor) capable of controlling the display panel to display an image.
  • Embodiments may be adopted in the field of displays that display images or information. Embodiments may be adopted in the field of displays that display images or information using semiconductor light-emitting devices.
  • the semiconductor light-emitting device may be a micro-level semiconductor light-emitting device or a nano-level semiconductor light-emitting device.
  • embodiments can be adopted in TVs, signage, smart phones, mobile phones, mobile terminals, HUDs for automobiles, backlight units for laptops, and display devices for VR or AR.

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Abstract

디스플레이 장치는 복수의 서브 화소를 포함하는 기판과, 복수의 서브 화소 각각에 제1 조립 배선과, 복수의 서브 화소 각각에 제2 조립 배선과, 제1 조립 배선 및 제2 조립 배선 상에 조립 홀을 갖는 격벽과, 조립 홀에 반도체 발광 소자를 포함한다. 제1 조립 배선은 제1 버스 라인과, 제1 버스 라인 상에 제1 조립 전극을 포함할 수 있다. 제1 버스 라인의 일부는 조립 홀에 인접하여 배치되고, 제1 조립 전극의 일부는 조립 홀에 배치될 수 있다.

Description

디스플레이 장치
실시예는 디스플레이 장치에 관한 것이다.
대면적 디스플레이는 액정디스플레이(LCD), OLED 디스플레이, 그리고 마이크로-LED 디스플레이(Micro-LED display) 등이 있다.
마이크로-LED 디스플레이는 100㎛ 이하의 직경 또는 단면적을 가지는 반도체 발광 소자인 마이크로-LED를 표시소자로 사용하는 디스플레이이다.
마이크로-LED 디스플레이는 반도체 발광 소자인 마이크로-LED를 표시소자로 사용하기 때문에 명암비, 응답속도, 색 재현율, 시야각, 밝기, 해상도, 수명, 발광효율이나 휘도 등 많은 특성에서 우수한 성능을 가지고 있다.
특히 마이크로-LED 디스플레이는 화면을 모듈 방식으로 분리, 결합할 수 있어 크기나 해상도 조절이 자유로운 장점 및 플렉서블 디스플레이 구현이 가능한 장점이 있다.
그런데 대형 마이크로-LED 디스플레이는 수백만 개 이상의 마이크로-LED가 필요로 하기 때문에 마이크로-LED를 디스플레이 패널에 신속하고 정확하게 전사하기 어려운 기술적 문제가 있다.
최근 개발되고 있는 전사기술에는 픽앤-플레이스 공법(pick and place process), 레이저 리프트 오프법(Laser Lift-off method) 또는 자가조립 방식(self-assembly method) 등이 있다.
이 중에서, 자가조립 방식은 유체 내에서 반도체 발광 소자가 조립위치를 스스로 찾아가는 방식으로서 대화면의 디스플레이 장치의 구현에 유리한 방식이다.
하지만, 아직 마이크로-LED의 자가조립을 통하여 디스플레이를 제조하는 기술에 대한 연구가 미비한 실정이다.
특히 종래기술에서 대형 디스플레이에 수백만 개 이상의 반도체 발광 소자를 신속하게 전사하는 경우 전사 속도(transfer speed)는 향상시킬 수 있으나 전사 불량률(transfer error rate)이 높아질 수 있어 전사 수율(transfer yield)이 낮아지는 기술적 문제가 있다.
도 1은 제1 비공개 내부 기술에 따른 조립 기판을 도시한 평면도이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 제1 비공개 내부 기술에 따른 조립 기판(1)은 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3)를 포함할 수 있다. 복수의 서브 화소 서브 화소(PX1, PX2, PX3)에는 제1 조립 배선(2-1) 및 제1 조립 배선(2-2)이 구비된다.
제1 조립 배선(2-1)과 제1 조립 배선(2-2) 사이에 형성된 유전영동힘(DEP force)에 의해 복수의 반도체 발광 소자(3-1, 3-2, 3-3)이 각각 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3)에 조립된다.
DEP force는 제1 조립 배선(2-1)과 제2 조립 배선(2-2)에 공급된 교류 전압(도 2의 V(+)1, V(-)1)에 형성된다.
제1 조립 배선(2-1)과 제2 조립 배선(2-2) 각각의 두께가 얇거나 길이가 길수록 선 저항이 커진다.
도 1에 도시한 바와 같이, 해상도가 낮은 경우 제1 조립 배선(2-1) 및 제1 조립 배선(2-2) 각각의 폭이 커, 선 저항이 높지 않아 제1 조립 배선(2-1) 및 제1 조립 배선(2-2) 각각의 길이 방향을 따라 교류 전압(V(+)1, V(-)1)의 전압 강하나 신호 지연이 발생되지 않는다. 이에 따라, 각 서브 화소(PX1, PX2, PX3)의 제1 조립 배선(2-1) 및 제1 조립 배선(2-2) 사이에 형성된 DEP force가 목표치와 일치하므로 복수의 반도체 발광 소자(3-1, 3-2, 3-3)이 각각 서브 화소(PX1, PX2, PX3)에 잘 조립되므로, 조립율 저하 문제가 발생하지 않는다.
최근에는 고해상도 및 고정세도뿐만 아니라 대면적이 요구되고 있다. 이러한 요구 조건을 만족하기 위해, 조립 기판에 보다 많은 층과 보다 많은 회로가 구비되고 제한된 사이즈에 더 많은 화소(또는 서브 화소) 개수가 필요하다. 이에 따라, 각 화소의 사이즈가 작아짐에 따라 각 화소에 구비된 회로 선 폭이 작아지고 있다.
즉, 도 3에 도시한 바와 같이, 제2 비공개 기술에 따른 조립 기판(5)의 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각의 사이즈는 도 1에 도시된 조립 기판(1)의 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각의 사이즈보다 작다. 이에 따라, 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각에 구비된 제1 조립 배선(6-1) 및 제2 조립 배선(6-2) 각각의 선 폭 또한 작아진다. 이에 따라, 제1 조립 배선(6-1) 및 제2 조립 배선(6-2) 각각의 선 저항이 크게 증가된다.
자가 조립시 DEP force를 형성하기 위해 제1 조립 배선(6-1) 및 제2 조립 배선(6-2)의 입력측에 교류 전압(도 2의 V(+)1, V(-)1)이 인가되는 경우, 제1 조립 배선(6-1) 및 제2 조립 배선(6-2) 각각의 커다란 선 저항으로 인해 해당 교류 전압(V(+)1, V(-)1)에 대한 전압 강하가 발생하여, 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각에서 도 4에 도시한 바와 같이 신호 왜곡을 갖는 교류 전압(V(+)2, V(-)2)을 가진다. 즉, 교류 전압의 진폭이 A1(도 2)에서 A2(도 4)로 감소함에 따라, 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각의 제1 조립 배선(6-1) 및 제2 조립 배선(6-2) 사이에 형성된 DEP force가 감소한다. 이에 따라, 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각에서 복수의 반도체 발광 소자(8-1, 8-2, 8-3)를 고정시키는 고정력이 약해 조립 불량이 발생되어, 조립율이 저하되는 문제가 있다.
한편, 고해상도 및 고정세도뿐만 아니라 대면적의 요구 조건을 만족하기 위해, 조립 기판에 보다 많은 층과 보다 많은 회로가 구비됨에 따라 커패시턴스가 증가되고 있다. 이에 따라, 제1 조립 배선(6-1) 및 제2 조립 배선(6-2) 각각의 선 저항 증가와 더불어 커패시턴스가 증가함에 따라, 신호 지연(또는 RC 지연)에 의해 신호 왜곡이 발생한다. 그러므로, 교류 전압(V(+)2, V(-)2)의 진폭(A2)가 감소하여 조립율이 저하되는 문제가 있다.
실시예는 전술한 문제 및 다른 문제를 해결하는 것을 목적으로 한다.
실시예의 다른 목적은 새로운 구조를 갖는 디스플레이 장치를 제공하는 것이다.
또한, 실시예의 또 다른 목적은 고해상도 및 고정세도를 갖는 디스플레이 장치를 제공하는 것이다.
또한 실시예의 또 다른 목적은 대화면을 갖는 디스플레이 장치를 제공하는 것이다.
또한 실시예의 또 다른 목적은 조립율을 향상시킬 수 있는 디스플레이 장치를 제공하는 것이다.
실시예의 기술적 과제는 본 항목에 기재된 것에 한정되지 않으며, 발명의 설명을 통해 파악될 수 있는 것을 포함한다.
상기 또는 다른 목적을 달성하기 위해 실시예의 일 측면에 따르면, 디스플레이 장치는, 복수의 서브 화소를 포함하는 기판; 상기 복수의 서브 화소 각각에 제1 조립 배선; 상기 복수의 서브 화소 각각에 제2 조립 배선; 상기 제1 조립 배선 및 상기 제2 조립 배선 상에 조립 홀을 갖는 격벽; 및 상기 조립 홀에 반도체 발광 소자;를 포함하고, 상기 제1 조립 배선은, 제1 버스 라인; 및 상기 제1 버스 라인 상에 제1 조립 전극;을 포함하고, 상기 제1 버스 라인의 일부는 상기 조립 홀에 인접하여 배치되고, 상기 제1 조립 전극의 일부는 상기 조립 홀에 배치될 수 있다.
상기 제1 조립 배선은, 상기 제1 버스 라인으로부터 상기 조립 홀을 향해 연장되는 제1 연장 라인; 및 상기 제1 조립 전극으로부터 상기 조립 홀을 향해 연장되는 제1 연장 전극;을 포함할 수 있다. 상기 제1 연장 라인은 상기 조립 홀과 수직으로 중첩되지 않고, 상기 제1 연장 전극은 상기 조립 홀과 수직으로 중첩될 수 있다.
상기 제1 조립 전극의 폭은 상기 제1 버스 라인의 폭보다 크고, 제1 방향에 따른 상기 제1 연장 전극의 폭은 상기 제1 연장 라인의 폭보다 크고, 제2 방향에 따른 상기 제1 연장 전극의 폭은 상기 제1 연장 라인의 폭보다 작을 수 있다.
상기 제2 조립 배선은, 제2 버스 라인; 및 상기 제2 버스 라인 상에 제2 조립 전극;을 포함하고, 상기 제2 버스 라인의 일부는 상기 조립 홀에 인접하여 배치되고, 상기 제2 조립 전극의 일부는 상기 조립 홀에 배치될 수 있다.
상기 제2 조립 배선은, 상기 제2 버스 라인으로부터 상기 조립 홀을 향해 연장되는 제2 연장 라인; 및 상기 제2 조립 전극으로부터 상기 조립 홀을 향해 연장되는 제2 연장 전극;을 포함할 수 있다. 상기 제2 연장 라인은 상기 조립 홀과 수직으로 중첩되지 않고, 상기 제2 연장 전극은 상기 조립 홀과 수직으로 중첩될 수 있다.
상기 제2 조립 전극의 폭은 상기 제2 버스 라인의 폭보다 크고, 제1 방향에 따른 상기 제2 연장 전극의 폭은 상기 제2 연장 라인의 폭보다 크고, 제2 방향에 따른 상기 제2 연장 전극의 폭은 상기 제2 연장 라인의 폭보다 작을 수 있다.
상기 제1 연장 전극은 상기 제1 조립 전극으로부터 연장된 적어도 2개 이상의 전극을 포함할 수 있다. 상기 제2 연장 전극은 상기 제2 조립 전극으로부터 연장된 적어도 2개 이상의 전극을 포함할 수 있다.
상기 제1 연장 전극과 상기 제2 연장 전극은 서로 대칭적인 구조를 가질 수 있다. 상기 제1 연장 전극과 상기 제2 연장 전극은 서로 비대칭적인 구조를 가질 수 있다.
상기 제1 버스 라인 및 상기 제2 버스 라인은 각각 상기 복수의 서브 화소를 가로질러 배치되고, 상기 제1 조립 전극은 상기 복수의 서브 화소 각각에서 상기 제1 버스 라인에 전기적으로 연결되고, 상기 제2 조립 전극은 상기 복수의 서브 화소 각각에서 상기 제2 버스 라인에 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제1 조립 전극의 두께는 상기 제1 버스 라인의 두께보다 작고, 상기 제2 조립 전극의 두께는 상기 제2 버스 라인의 두께보다 작을 수 있다.
상기 반도체 발광 소자의 측부에 연결되는 연결 전극; 및 상기 반도체 발광 소자의 상측에 연결되는 전극 배선;을 포함하고, 상기 연결 전극은, 상기 제1 조립 배선 또는 상기 제2 조립 배선 중 적어도 하나에 연결될 수 있다.
실시예에 따르면, 고해상도 및/또는 고정세도를 갖는 디스플레이 장치에서 조립율을 획기적으로 향상시킬 수 있다.
실시예에 따르면, 대화면을 갖는 디스플레이 장치에서 조립율을 획기적으로 향상시킬 수 있다.
실시예에 따르면, 고해상도, 고정세도 또는 대화면을 갖는 디스플레이 장치에 의해 선 폭이 줄어들더라도, 제1 조립 배선 및/또는 제2 조립 배선 각각을 적어도 2개 이상의 층으로 구성함으로써, 제1 조립 배선 및/또는 제2 조립 배선 각각의 선 저항을 줄여 교류 전압의 전압 강하나 신호 왜곡을 방지하여 조립율을 향상시킬 수 있다.
실시예에 따르면, 고해상도, 고정세도 또는 대화면을 갖는 디스플레이 장치에 의해 선 폭이 줄어들더라도, 제1 조립 배선 및/또는 제2 조립 배선 각각을 구성하는 적어도 2개 이상의 층이 조립 홀에 최대한 근접하게 위치되도록 함으로써, 제1 조립 배선 및/또는 제2 조립 배선 각각의 선 저항을 줄여 교류 전압의 전압 강하나 신호 왜곡을 방지하여 조립율을 향상시킬 수 있다.
실시예에 따르면, 고해상도, 고정세도 또는 대화면을 갖는 디스플레이 장치에 의해 선 폭이 줄어들더라도, 제1 조립 배선 및/또는 제2 조립 배선 각각을 구성하는 적어도 2개 이상의 층 중 두께가 얇은 층을 조립 홀 내에 위치되도록 함으로써, 자가 조립시 DEP force의 불균일을 해소하여 반도체 발광 소자(150)의 조립 불량이나 조립율 저하를 방지할 수 있다.
실시예의 적용 가능성의 추가적인 범위는 이하의 상세한 설명으로부터 명백해질 것이다. 그러나 실시예의 사상 및 범위 내에서 다양한 변경 및 수정은 당업자에게 명확하게 이해될 수 있으므로, 상세한 설명 및 바람직한 실시예와 같은 특정 실시예는 단지 예시로 주어진 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 제1 비공개 내부 기술에 따른 조립 기판을 도시한 평면도이다.
도 2는 제1 비공개 내부 기술에 따른 조립 기판에서 자가 조립을 위해 각 서브 화소에 공급되는 교류 전압을 도시한다.
도 3은 제2 비공개 내부 기술에 따른 조립 기판을 도시한 평면도이다.
도 4는 제2 비공개 내부 기술에 따른 조립 기판에서 자가 조립을 위해 각 서브 화소에 공급되는 교류 전압을 도시한다.
도 5은 실시예에 따른 디스플레이 장치가 배치된 주택의 거실을 도시한다.
도 6는 실시예에 따른 디스플레이 장치를 개략적으로 보여주는 블록도이다.
도 7는 도 6의 화소의 일 예를 보여주는 회로도이다.
도 8은 도 5의 디스플레이 장치에서 제1 패널영역의 확대도이다.
도 9은 도 8의 A2 영역의 확대도이다.
도 10는 실시예에 따른 발광 소자가 자가 조립 방식에 의해 기판에 조립되는 예를 나타내는 도면이다.
도 11은 실시예에 따른 조립 기판을 도시한 평면도이다.
도 12a는 실시예에 따른 조립 기판에서 제1 조립 배선을 구성하는 제1 버스 라인 및 제1 연장 라인 그리고 제2 조립 배선을 구성하는 제2 버스 라인 및 제2 연장 라인을 도시한 평면도이다.
도 12b는 실시예에 따른 조립 기판에서 제1 조립 배선을 구성하는 제1 조립 전극 및 제1 연장 전극 그리고 제2 조립 배선을 구성하는 제2 조립 전극 및 제2 연장 전극을 도시한 평면도이다.
도 13은 제1 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 14는 도 13의 제1 서브 화소의 C1-C2라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 15는 도 13의 제1 서브 화소의 D1-D2라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 16은 제2 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 17은 제3 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 18은 제4 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 19는 제5 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 20은 제6 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 21은 제7 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 22는 제8 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 23은 제9 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 24는 제10 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 25는 제11 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 26은 실시예에 따른 디스플레이 장치를 도시한 단면도이다.
도 27은 실시예에 따른 디스플레이 장치에 구비된 반도체 발광 소자를 도시한 단면도이다.
도면들에 도시된 구성 요소들의 크기, 형상, 수치 등은 실제와 상이할 수 있다. 또한, 동일한 구성 요소들에 대해서 도면들 간에 서로 상이한 크기, 형상, 수치 등으로 도시되더라도, 이는 도면 상의 하나의 예시일 뿐이며, 동일한 구성 요소들에 대해서는 도면들 간에 서로 동일한 크기, 형상, 수치 등을 가질 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 '모듈' 및 '부'는 명세서 작성의 용이함이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것이며, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되는 것은 아니다. 또한, 층, 영역 또는 기판과 같은 요소가 다른 구성요소 '상(on)'에 존재하는 것으로 언급될 때, 이것은 직접적으로 다른 요소 상에 존재하거나 또는 그 사이에 다른 중간 요소가 존재할 수도 있는 것을 포함한다.
본 명세서에서 설명되는 디스플레이 장치에는 TV, 샤이니지, 휴대폰, 스마트 폰(smart phone), 자동차용 HUD(head-Up Display), 노트북 컴퓨터(laptop computer)용 백라이트 유닛, VR이나 AR용 디스플레이 등이 포함될 수 있다. 그러나, 본 명세서에 기재된 실시예에 따른 구성은 추후 개발되는 새로운 제품형태이라도, 디스플레이가 가능한 장치에도 적용될 수 있다.
이하 실시예에 따른 발광 소자 및 이를 포함하는 디스플레이 장치에 대해 설명한다.
도 5은 실시예에 따른 디스플레이 장치가 배치된 주택의 거실을 도시한다.
도 5을 참조하면, 실시예의 디스플레이 장치(100)는 세탁기(101), 로봇 청소기(102), 공기 청정기(103) 등의 각종 전자 제품의 상태를 표시할 수 있고, 각 전자 제품들과 IOT 기반으로 통신할 수 있으며 사용자의 설정 데이터에 기초하여 각 전자 제품들을 제어할 수도 있다.
실시예에 따른 디스플레이 장치(100)는 얇고 유연한 기판 위에 제작되는 플렉서블 디스플레이(flexible display)를 포함할 수 있다. 플렉서블 디스플레이는 기존의 평판 디스플레이의 특성을 유지하면서, 종이와 같이 휘어지거나 말릴 수 있다.
플렉서블 디스플레이에서 시각정보는 매트릭스 형태로 배치되는 단위 화소(unit pixel)의 발광이 독자적으로 제어됨에 의하여 구현될 수 있다. 단위 화소는 하나의 색을 구현하기 위한 최소 단위를 의미한다. 플렉서블 디스플레이의 단위 화소는 발광 소자에 의하여 구현될 수 있다. 실시예에서 발광 소자는 Micro-LED나 Nano-LED일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
도 6는 실시예에 따른 디스플레이 장치를 개략적으로 보여주는 블록도이고, 도 7는 도 6의 화소의 일 예를 보여주는 회로도이다.
도 6 및 도 7를 참조하면, 실시예에 따른 디스플레이 장치는 디스플레이 패널(10), 구동 회로(20), 스캔 구동부(30) 및 전원 공급 회로(50)를 포함할 수 있다.
실시예의 디스플레이 장치(100)는 액티브 매트릭스(AM, Active Matrix)방식 또는 패시브 매트릭스(PM, Passive Matrix) 방식으로 발광 소자를 구동할 수 있다.
구동 회로(20)는 데이터 구동부(21)와 타이밍 제어부(22)를 포함할 수 있다.
디스플레이 패널(10)은 직사각형으로 이루어질 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 즉, 디스플레이 패널(10)은 원형 또는 타원형으로 형성될 수 있다. 디스플레이 패널(10)의 적어도 일 측은 소정의 곡률로 구부러지도록 형성될 수 있다.
디스플레이 패널(10)은 표시 영역(DA)과 표시 영역(DA)의 주변에 배치된 비표시 영역(NDA)으로 구분될 수 있다. 표시 영역(DA)은 화소(PX)들이 형성되어 영상을 디스플레이하는 영역이다. 디스플레이 패널(10)은 데이터 라인들(D1~Dm, m은 2 이상의 정수), 데이터 라인들(D1~Dm)과 교차되는 스캔 라인들(S1~Sn, n은 2 이상의 정수), 고전위 전압이 공급되는 고전위 전압 라인(VDDL), 저전위 전압이 공급되는 저전위 전압 라인(VSSL) 및 데이터 라인들(D1~Dm)과 스캔 라인들(S1~Sn)에 접속된 화소(PX)들을 포함할 수 있다.
화소(PX)들 각각은 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3)를 포함할 수 있다. 제1 서브 화소(PX1)는 제1 주 파장의 제1 컬러 광을 발광하고, 제2 서브 화소(PX2)는 제2 주 파장의 제2 컬러 광을 발광하며, 제3 서브 화소(PX3)는 제3 주 파장의 제3 컬러 광을 발광할 수 있다. 제1 컬러 광은 적색 광, 제2 컬러 광은 녹색 광, 제3 컬러 광은 청색 광일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 또한, 도 6에서는 화소(PX)들 각각이 3 개의 서브 화소들을 포함하는 것을 예시하였으나, 이에 한정되지 않는다. 즉, 화소(PX)들 각각은 4 개 이상의 서브 화소들을 포함할 수 있다.
제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각은 데이터 라인들(D1~Dm) 중 적어도 하나, 스캔 라인들(S1~Sn) 중 적어도 하나 및 고전위 전압 라인(VDDL)에 접속될 수 있다. 제1 서브 화소(PX1)는 도 7과 같이 발광 소자(LD)들과 발광 소자(LD)들에 전류를 공급하기 위한 복수의 트랜지스터들과 적어도 하나의 커패시터(Cst)를 포함할 수 있다.
도면에 도시되지 않았지만, 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각은 단지 하나의 발광 소자(LD)와 적어도 하나의 커패시터(Cst)를 포함할 수도 있다.
발광 소자(LD)들 각각은 제1 전극, 복수의 도전형 반도체층 및 제2 전극을 포함하는 반도체 발광 다이오드일 수 있다. 여기서, 제1 전극은 애노드 전극, 제2 전극은 캐소드 전극일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
발광 소자(LD)는 수평형 발광 소자, 플립칩형 발광 소자 및 수직형 발광 소자 중 하나일 수 있다.
복수의 트랜지스터들은 도 7와 같이 발광 소자(LD)들에 전류를 공급하는 구동 트랜지스터(DT), 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극에 데이터 전압을 공급하는 스캔 트랜지스터(ST)를 포함할 수 있다. 구동 트랜지스터(DT)는 스캔 트랜지스터(ST)의 소스 전극에 접속되는 게이트 전극, 고전위 전압이 인가되는 고전위 전압 라인(VDDL)에 접속되는 소스 전극 및 발광 소자(LD)들의 제1 전극들에 접속되는 드레인 전극을 포함할 수 있다. 스캔 트랜지스터(ST)는 스캔 라인(Sk, k는 1≤k≤n을 만족하는 정수)에 접속되는 게이트 전극, 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극에 접속되는 소스 전극 및 데이터 라인(Dj, j는 1≤j≤m을 만족하는 정수)에 접속되는 드레인 전극을 포함할 수 있다.
커패시터(Cst)는 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극과 소스 전극 사이에 형성된다. 스토리지 커패시터(Cst)는 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전압과 소스 전압의 차이값을 충전한다.
구동 트랜지스터(DT)와 스캔 트랜지스터(ST)는 박막 트랜지스터(thin film transistor)로 형성될 수 있다. 또한, 도 7에서는 구동 트랜지스터(DT)와 스캔 트랜지스터(ST)가 P 타입 MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)으로 형성된 것을 중심으로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 구동 트랜지스터(DT)와 스캔 트랜지스터(ST)는 N 타입 MOSFET으로 형성될 수도 있다. 이 경우, 구동 트랜지스터(DT)와 스캔 트랜지스터(ST)들 각각의 소스 전극과 드레인 전극의 위치는 변경될 수 있다.
또한, 도 7에서는 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각이 하나의 구동 트랜지스터(DT), 하나의 스캔 트랜지스터(ST) 및 하나의 커패시터(Cst)를 갖는 2T1C (2 Transistor - 1 capacitor)를 포함하는 것을 예시하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각은 복수의 스캔 트랜지스터(ST)들과 복수의 커패시터(Cst)들을 포함할 수 있다.
제2 서브 화소(PX2)와 제3 서브 화소(PX3)는 제1 서브 화소(PX1)와 실질적으로 동일한 회로도로 표현될 수 있으므로, 이들에 대한 자세한 설명은 생략한다.
구동 회로(20)는 디스플레이 패널(10)을 구동하기 위한 신호들과 전압들을 출력한다. 이를 위해, 구동 회로(20)는 데이터 구동부(21)와 타이밍 제어부(22)를 포함할 수 있다.
데이터 구동부(21)는 타이밍 제어부(22)로부터 디지털 비디오 데이터(DATA)와 소스 제어 신호(DCS)를 입력 받는다. 데이터 구동부(21)는 소스 제어 신호(DCS)에 따라 디지털 비디오 데이터(DATA)를 아날로그 데이터 전압들로 변환하여 디스플레이 패널(10)의 데이터 라인들(D1~Dm)에 공급한다.
타이밍 제어부(22)는 호스트 시스템으로부터 디지털 비디오 데이터(DATA)와 타이밍 신호들을 입력받는다. 타이밍 신호들은 수직동기신호(vertical sync signal), 수평동기신호(horizontal sync signal), 데이터 인에이블 신호(data enable signal) 및 도트 클럭(dot clock)을 포함할 수 있다. 호스트 시스템은 스마트폰 또는 태블릿 PC의 어플리케이션 프로세서, 모니터, TV의 시스템 온 칩 등일 수 있다.
타이밍 제어부(22)는 데이터 구동부(21)와 스캔 구동부(30)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 제어신호들을 생성한다. 제어신호들은 데이터 구동부(21)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 소스 제어 신호(DCS)와 스캔 구동부(30)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 스캔 제어 신호(SCS)를 포함할 수 있다.
구동 회로(20)는 디스플레이 패널(10)의 일 측에 마련된 비표시 영역(NDA)에서 배치될 수 있다. 구동 회로(20)는 집적회로(integrated circuit, IC)로 형성되어 COG(chip on glass) 방식, COP(chip on plastic) 방식, 또는 초음파 접합 방식으로 디스플레이 패널(10) 상에 장착될 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 구동 회로(20)는 디스플레이 패널(10)이 아닌 회로 보드(미도시) 상에 장착될 수 있다.
데이터 구동부(21)는 COG(chip on glass) 방식, COP(chip on plastic) 방식, 또는 초음파 접합 방식으로 디스플레이 패널(10) 상에 장착되고, 타이밍 제어부(22)는 회로 보드 상에 장착될 수 있다.
스캔 구동부(30)는 타이밍 제어부(22)로부터 스캔 제어 신호(SCS)를 입력 받는다. 스캔 구동부(30)는 스캔 제어 신호(SCS)에 따라 스캔 신호들을 생성하여 디스플레이 패널(10)의 스캔 라인들(S1~Sn)에 공급한다. 스캔 구동부(30)는 다수의 트랜지스터들을 포함하여 디스플레이 패널(10)의 비표시 영역(NDA)에 형성될 수 있다. 또는, 스캔 구동부(30)는 집적 회로로 형성될 수 있으며, 이 경우 디스플레이 패널(10)의 다른 일 측에 부착되는 게이트 연성 필름 상에 장착될 수 있다.
회로 보드는 이방성 도전 필름(anisotropic conductive film)을 이용하여 디스플레이 패널(10)의 일 측 가장자리 영역에 마련된 패드들 상에 부착될 수 있다. 이로 인해, 회로 보드의 리드 라인들은 패드들에 전기적으로 연결될 수 있다. 회로 보드는 연성 인쇄 회로 보드(flexible printed circuit board), 인쇄 회로 보드(printed circuit board) 또는 칩온 필름(chip on film)과 같은 연성 필름(flexible film)일 수 있다. 회로 보드는 디스플레이 패널(10)의 하부로 벤딩(bending)될 수 있다. 이로 인해, 회로 보드의 일 측은 디스플레이 패널(10)의 일 측 가장자리 영역에 부착되며, 타 측은 디스플레이 패널(10)의 하부에 배치되어 호스트 시스템이 장착되는 시스템 보드에 연결될 수 있다.
전원 공급 회로(50)는 시스템 보드로부터 인가되는 메인 전원으로부터 디스플레이 패널(10)의 구동에 필요한 전압들을 생성하여 디스플레이 패널(10)에 공급할 수 있다. 예를 들어, 전원 공급 회로(50)는 메인 전원으로부터 디스플레이 패널(10)의 발광 소자(LD)들을 구동하기 위한 고전위 전압(VDD)과 저전위 전압(VSS)을 생성하여 디스플레이 패널(10)의 고전위 전압 라인(VDDL)과 저전위 전압 라인(VSSL)에 공급할 수 있다. 또한, 전원 공급 회로(50)는 메인 전원으로부터 구동 회로(20)와 스캔 구동부(30)를 구동하기 위한 구동 전압들을 생성하여 공급할 수 있다.
도 8은 도3의 디스플레이 장치에서 제1 패널영역의 확대도이다.
도 8을 참조하면, 실시예의 디스플레이 장치(100)는 제1 패널영역(A1)과 같은 복수의 패널영역들이 타일링에 의해 기구적, 전기적 연결되어 제조될 수 있다.
제1 패널영역(A1)은 단위 화소(도 6의 PX) 별로 배치된 복수의 반도체 발광 소자(150)를 포함할 수 있다.
예컨대, 단위 화소(PX)는 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3)를 포함할 수 있다. 예컨대, 복수의 제1 반도체 발광 소자(150R)가 제1 서브 화소(PX1)에 배치되고, 복수의 제2 반도체 발광 소자(150G)가 제2 서브 화소(PX2)에 배치되며, 복수의 제3 반도체 발광 소자(150B)가 제3 서브 화소(PX3)에 배치될 수 있다. 단위 화소(PX)는 반도체 발광 소자가 배치되지 않는 제4 서브 화소를 더 포함할 수도 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
도 9은 도 8의 A2 영역의 확대도이다.
도 9을 참조하면, 실시예의 디스플레이 장치(100)는 기판(200), 조립 배선(201, 202), 절연층(206) 및 복수의 반도체 발광 소자(150)를 포함할 수 있다. 이보다 더 많은 구성 요소들이 포함될 수 있다.
조립 배선은 서로 이격된 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202)을 포함할 수 있다. 제1 조립 배선(201) 및 제2 조립 배선(202)은 반도체 발광 소자(150)를 조립하기 위해 유전영동 힘을 생성하기 위해 구비될 수 있다. 예컨대, 반도체 발광 소자(150)는 수평형 반도체 발광 소자, 플립칩형 반도체 발광 소자 및 수직형 반도체 발광 소자 중 하나일 수 있다.
반도체 발광 소자(150)는 각각 단위 화소(sub-pixel)를 이루기 위하여 제1 반도체 발광 소자(150), 제2 반도체 발광 소자(150G) 및 제3 반도체 발광 소자(150B0를 포함할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며, 적색 형광체와 녹색 형광체 등을 구비하여 각각 적색과 녹색을 구현할 수도 있다.
기판(200)은 그 기판(200) 상에 배치되는 구성 요소들을 지지하는 지지 부재이거나 구성 요소들을 보호하는 보호 부재일 수 있다.
기판(200)은 리지드(rigid) 기판이거나 플렉서블(flexible) 기판일 수 있다. 기판(200)은 사파이어, 유리, 실리콘이나 폴리이미드(Polyimide)로 형성될 수 있다. 또한 기판(200)은 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate) 등의 유연성 있는 재질을 포함할 수 있다. 또한, 기판(200)은 투명한 재질일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 기판(200)은 디스플레이 패널에서의 지지 기판으로 기능할 수 있으며, 발광 소자의 자가 조립시 조립용 기판으로 기능할 수도 있다.
기판(200)은 도 6 및 도 7에 도시된 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 내의 회로, 예컨대 트랜지스터(ST, DT), 커패시터(Cst), 신호 배선 등이 구비된 백플레인(backplane)일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
절연층(206)은 폴리이미드, PAC, PEN, PET, 폴리머 등과 같이 절연성과 유연성 있는 유기물 재질이나 실리콘 옥사이드(SiO2)나 실리콘 나이트라이드 계열(SiNx) 등을 같은 무기물 재질을 포함할 수 있으며, 기판(200)과 일체로 이루어져 하나의 기판을 형성할 수도 있다.
절연층(206)은 접착성과 전도성을 가지는 전도성 접착층일 수 있고, 전도성 접착층은 연성을 가져서 디스플레이 장치의 플렉서블 기능을 가능하게 할 수 있다. 예를 들어, 절연층(206)은 이방성 전도성 필름(ACF, anisotropy conductive film)이거나 이방성 전도매질, 전도성 입자를 함유한 솔루션(solution) 등의 전도성 접착층일 수 있다. 전도성 접착층은 두께에 대해 수직방향으로는 전기적으로 전도성이나, 두께에 대해 수평방향으로는 전기적으로 절연성을 가지는 레이어일 수 있다.
절연층(206)은 반도체 발광 소자(150)가 삽입되기 위한 조립 홀(203)을 포함할 수 있다. 따라서, 자가 조립시, 반도체 발광 소자(150)가 절연층(206)의 조립 홀(203)에 용이하게 삽입될 수 있다. 조립 홀(203)은 삽입 홀, 고정 홀, 정렬 홀 등으로 불릴 수 있다. 조립 홀(203)은 홀로 불릴 수도 있다.
조립 홀(203)은 홀, 홈, 그루브, 리세스, 포켓 등으로 불릴 수 있다.
조립 홀(203)은 반도체 발광 소자(150)의 형상에 따라 상이할 수 있다. 예컨대, 제1 반도체 발광 소자, 제2 반도체 발광 소자 및 제3 반도체 발광 소자 각각은 상이한 형상을 가지며, 이들 반도체 발광 소자 각각의 형상에 대응하는 형상을 갖는 조립 홀(203)을 가질 수 있다. 예컨대, 조립 홀(203)은 제1 반도체 발광 소자가 조립되기 위한 제1 조립 홀, 제2 반도체 발광 소자가 조립되기 위한 제2 조립 홀 및 제3 반도체 발광 소자가 조립되기 위한 제3 조립 홀을 포함할 수 있다. 예컨대, 제1 반도체 발광 소자는 원형을 가지고, 제2 반도체 발광 소자는 제1 단축과 제2 장축을 갖는 제1 타원형을 가지며, 제3 반도체 발광 소자는 제2 단축과 제2 장축을 갖는 제2 타원형을 가질 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제3 반도체 발광 소자의 타원형의 제2 장축은 제2 반도체 발광 소자의 타원형의 제2 장축보다 크고, 제3 반도체 발광 소자의 타원형의 제2 단축은 제2 반도체 발광 소자의 타원형의 제1 단축보다 작을 수 있다.
한편, 반도체 발광 소자(150)를 기판(200) 상에 장착하는 방식은 예컨대, 자가 조립 방식(도 10)과 전사 방식 등이 있을 수 있다.
도 10은 실시예에 따른 발광 소자가 자가조립 방식에 의해 기판에 조립되는 예를 나타내는 도면이다.
도 10을 바탕으로 실시예에 따른 반도체 발광 소자를 전자기장을 이용한 자가조립 방식에 의해 디스플레이 패널에 조립되는 예를 설명하기로 한다.
이후 설명되는 조립 기판(200)은 발광 소자의 조립 후에 디스플레이 장치에서 패널 기판(200a)의 기능도 할 수 있으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다.
도 10을 참조하면, 반도체 발광 소자(150)는 유체(1200)가 채워진 챔버(1300)에 투입될 수 있으며, 조립 장치(1100)로부터 발생하는 자기장에 의해 반도체 발광 소자(150)는 조립 기판(200)으로 이동할 수 있다. 이때 조립 기판(200)의 조립 홀(207H)에 인접한 발광 소자(150)는 조립 배선들의 전기장에 의한 DEP force에 의해 조립 홀(207H)에 조립될 수 있다. 유체(1200)는 초순수 등의 물일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 챔버는 수조, 컨테이너, 용기 등으로 불릴 수 있다.
반도체 발광 소자(150)가 챔버(1300)에 투입된 후, 조립 기판(200)이 챔버(1300) 상에 배치될 수 있다. 실시 예에 따라, 조립 기판(200)은 챔버(1300) 내로 투입될 수도 있다.
조립 기판(200)이 챔버에 배치된 후에 자기장을 가하는 조립 장치(1100)가 조립 기판(200)을 따라 이동할 수 있다. 조립 장치(1100)는 영구 자석이거나 전자석일 수 있다.
조립 장치(1100)는 자기장이 미치는 영역을 유체(1200) 내로 최대화하기 위해, 조립 기판(200)과 접촉한 상태로 이동할 수 있다. 실시예에 따라서는, 조립 장치(1100)가 복수의 자성체를 포함하거나, 조립 기판(200)과 대응하는 크기의 자성체를 포함할 수도 있다. 이 경우, 조립 장치(1100)의 이동 거리는 소정 범위 이내로 제한될 수도 있다.
조립 장치(1100)에 의해 발생하는 자기장에 의해 챔버(1300) 내의 반도체 발광 소자(150)는 조립 장치(1100) 및 조립 기판(200)을 향해 이동할 수 있다.
반도체 발광 소자(150)는 조립 장치(1100)를 향해 이동 중 조립 배선(201, 202) 사이의 전기장에 의해 형성되는 DEP force에 의해 조립 홀(207H)로 진입하여 고정될 수 있다.
구체적으로 제1, 제2 조립 배선(201, 202)은 교류 전원에 의해 전기장을 형성하고, 이 전기장에 의해 DEP force이 조립 배선(201, 202) 사이에 형성될 수 있다. 이 DEP force에 의해 조립 기판(200) 상의 조립 홀(207H)에 반도체 발광 소자(150)를 고정시킬 수 있다.
이때 조립 기판(200)의 조립 홀(207H) 상에 조립된 발광 소자(150)와 조립 배선(201, 202) 사이에 소정의 솔더층(미도시)이 형성되어 발광 소자(150)의 결합력을 향상시킬 수 있다.
또한 조립 후 조립 기판(200)의 조립 홀(207H)에 몰딩층(미도시)이 형성될 수 있다. 몰딩층은 투명 레진이거나 또는 반사물질, 산란물질이 포함된 레진일 수 있다.
상술한 전자기장을 이용한 자가조립 방식에 의해, 반도체 발광 소자들 각각이 기판에 조립되는 데 소요되는 시간을 급격히 단축시킬 수 있으므로, 대면적 고화소 디스플레이를 보다 신속하고 경제적으로 구현할 수 있다.
이하, 도 11 내지 도 27을 참조하여 상술한 문제를 해결하기 위한 다양한 실시예를 설명한다. 이하에서 누락된 설명은 도 1 내지 도 10 및 해당 도면과 관련하여 상술된 설명으로부터 용이하게 이해될 수 있다.
도 11은 실시예에 따른 조립 기판을 도시한 평면도이다.
도 11을 참조하면, 실시예에 따른 조립 기판(300A)는 기판(도 14 및 도 15의 310), 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)을 포함할 수 있다. 실시예에 따른 조립 기판(300A)은 이보다 더 많은 구성 요소를 포함할 수 있다.
도 11에 도시된 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 각각의 선 폭은 도 1에 도시된 조립 배선(2-1, 2-2) 각각의 선폭 또는 도 3에 도시된 조립 배선(6-1, 6-2) 각각의 선 폭보다 크다. 하지만, 이는 설명의 편의를 위한 것으로서, 실시예는 고해상도 및 고정세도 디스플레이 장치에 적용되는 것으로서, 실제로는 도 11에 도시된 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 각각의 선 폭은 도 1에 도시된 조립 배선(2-1, 2-2) 각각의 선폭 또는 도 3에 도시된 조립 배선(6-1, 6-2) 각각의 선 폭보다 훨씬 작다.
기판(310)은 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3)를 포함할 수 있다.
복수의 서브 화소는 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1)를 포함할 수 있다. 복수의 제1 서브 화소(PX1)는 각각 동일한 컬러 광, 즉 제1 컬러 광을 발광할 수 있다.
예컨대, 복수의 서브 화소는 복수의 제1 서브 화소(PX1) 각각에서 제2 방향(Y)을 따라 인접하고 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 서브 화소(PX2)를 포함할 수 있다. 복수의 제2 서브 화소(PX2)는 각각 동일한 컬러 광, 즉 제2 컬러 광을 발광할 수 있다.
예컨대, 복수의 서브 화소는 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각에서 제2 방향(Y)을 따라 인접하고 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 서브 화소(PX3)를 포함할 수 있다. 복수의 제3 서브 화소(PX3)는 동일한 컬러 광, 즉 제3 컬러 광을 발광할 수 있다.
제1 컬러 광은 적색 광이고, 제2 컬러 광은 녹색 광이며, 제3 컬러 광은 청색 광일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제2 방향(Y)을 따라 배열된 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3)는 풀러 컬러 영상을 표시할 수 있는 단위 화소를 구성할 수 있다. 따라서, 기판(310) 상에 복수의 단위 화소가 배열됨으로써, 대면적의 영상이 디스플레이될 수 있다.
제1 조립 배선(321)과 제2 조립 배선(322)이 기판(310) 상에 배치될 수 있다.
제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)은 각각 제1 방향(X)을 따라 길게 형성될 수 있다. 즉, 제1 조립 배선(321)은 제1 방향(X)을 따라 길게 배치되고, 제2 조립 배선(322)은 제1 조립 배선(321)으로부터 이격되어 제1 방향(X)을 따라 길게 배치될 수 있다. 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)은 서로 평행하게 배치될 수 있다.
예컨대, 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1)에 배치될 수 있다. 예컨대, 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 서브 화소(PX2)에 배치될 수 있다. 예컨대, 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 서브 화소(PX3)에 배치될 수 있다.
한편, 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3)는 각각 적어도 하나의 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)을 포함할 수 있다. 예컨대, 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1) 각각에는 적어도 하나의 제1 조립 홀(340H1)이 구비될 수 있다. 예컨대, 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각에는 적어도 하나의 제2 조립 홀(340H2)이 구비될 수 있다. 예컨대, 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 서브 화소(PX3) 각각에는 적어도 하나의 제3 조립 홀(340H3)이 구비될 수 있다.
복수의 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에는 각각 복수의 반도체 발광 소자(도 27의 150)이 배치될 수 있다. 예컨대, 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 조립 홀(340H1) 각각에는 제1 반도체 발광 소자(150)이 배치될 수 있다. 예컨대, 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 조립 홀(340H2) 각각에는 제2 반도체 발광 소자(미도시)가 배치될 수 있다. 예컨대, 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 조립 홀(340H3) 각각에는 제3 반도체 발광 소자(미도시)가 배치될 수 있다.
제1 반도체 발광 소자(150), 제2 반도체 발광 소자 및 제3 반도체 발광 소자는 서로 상이한 컬러 광을 생성할 수 있다. 예컨대, 제1 반도체 발광 소자(150)는 적색 광을 생성하고, 제2 반도체 발광 소자는 녹색 광을 생성하며, 제3 반도체 발광 소자는 청색 광을 생성할 수 있다. 적색 광, 녹색 광 및 청색 광을 이용하여 풀 컬러 영상이 표시될 수 있다.
이하에서 특별한 언급이 없는 경우, 제1 반도체 발광 소자(150)는 도 11에서 제1 조립 홀(340H1)에 배치되어 적색 광을 발광하기 위한 반도체 발광 소자이고, 제2 반도체 발광 소자는 도 11에서 제2 조립 홀(340H2)에 배치되어 녹색 광을 발광하기 위한 반도체 발광 소자이며, 제3 반도체 발광 소자는 도 11에서 제3 조립 홀(340H3)에 배치되어 청색 광을 발광하기 위한 반도체 발광 소자를 각각 지칭할 수 있다.
아울러, 이하에서 특별한 언급이 없는 경우, 반도체 발광 소자는 제1 반도체 발광 소자(150)을 지칭할 수 있다.
한편, 실시예에서, 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)은 각각 적어도 2개의 층을 포함할 수 있다.
제1 조립 배선(321)은 제1 버스 라인(321-1a), 제1 연장 라인(321-1b), 제1 조립 전극(321-2a) 및 제1 연장 전극(321-2b)을 포함할 수 있다. 예컨대, 제1 조립 전극(321-2a)은 제1 버스 라인(321-1a) 상에 배치될 수 있다. 예컨대, 제1 조립 전극(321-2a)은 제1 버스 라인(321-1a)과 수직으로 중첩될 수 있다. 예컨대, 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 연장 라인(321-1b) 상에 배치될 수 있다. 예컨대, 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 연장 라인(321-1b)과 수직으로 중첩될 수 있다.
제2 조립 배선(322)은 제2 버스 라인(322-1a), 제2 연장 라인(322-1b), 제2 조립 전극(322-2a) 및 제2 연장 전극(322-2b)을 포함할 수 있다. 예컨대, 제2 조립 전극(322-2a)은 제2 버스 라인(322-1a) 상에 배치될 수 있다. 예컨대, 제2 조립 전극(322-2a)은 제2 버스 라인(322-1a)과 수직으로 중첩될 수 있다. 예컨대, 제2 연장 전극(322-2b)은 제2 연장 라인(322-1b) 상에 배치될 수 있다. 예컨대, 제2 연장 전극(322-2b)은 제2 연장 라인(322-1b)과 수직으로 중첩될 수 있다.
한편, 앞서 기술한 바와 같이, 고해상도, 고정세도 및 대화면이 요구됨에 따라 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각의 선 폭이 감소되고 있다. 이와 같이, 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각의 선 폭이 감소되는 경우, 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각의 선 저항이 증가되어, 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각을 통해 복수의 서브 화소 각각으로 전달되는 교류 전압에 전압 강하 및/또는 신호 지연(또는 RC 지연)이 발생된다. 전압 강하 및/또는 신호 지연(또는 RC 지연)으로 인해 자가 조립시 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 현저하게 저하되는 문제가 있다.
선 저항을 감소시키기 위해 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각의 두께나 폭을 증가시키는 방안이 고려될 수 있다.
제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322)의 형성을 위해 습식 식각 공정이 수행되는 경우, 등방성 식각으로 인해 제1 조립 배선(321)와 제2 조립 배선(322) 사이의 정해진 간격을 유지하면서 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 각각의 두께를 두껍게 형성하기는 매우 어렵다. 따라서, 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 각각의 두께를 증가시키는 방안은 고려되기 어렵다.
또한, 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각의 일부는 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3) 내에 위치되어야, 자가 조립시 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3) 내에 목표값에 해당하는 DEP force가 형성된다. 하지만, 두께가 두꺼운 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각의 일부가 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3) 내에 위치되는 경우, DEP force가 불균일해져 자가조립시 기판(310) 상에 조립된 반도체 발광 소자(150)의 조립력이 저하되어 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3) 내에 조립된 반도체 발광 소자(150)가 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3) 밖으로 이탈되어 조립 불량이나 조립율이 저하된다. 따라서, 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각을 단일층으로 형성하거나 두께가 두꺼운 경우, 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각의 선 저항을 줄이기 어렵다.
실시예는 상술한 기술적 과제를 해결하기 위한 것으로서, 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각을 적어도 2개 이상의 층으로 구성하거나 2개 이상의 층이 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에 최대한 근접하게 위치되도록 함으로써, 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각의 선 저항을 줄일 수 있다. 또한, 2개 이상의 층 중 두께가 얇은 층을 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3) 내에 위치되도록 함으로써, 자가 조립시 DEP force의 불균일을 해소하여 반도체 발광 소자(150)의 조립 불량이나 조립율 저하를 방지할 수 있다.
제1 조립 배선(321)의 일부 및/또는 제2 조립 배선(322)의 일부는 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에 배치될 수 있다. 예컨대, 제1 조립 배선(321)의 일부 및/또는 제2 조립 배선(322)의 일부는 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에 접하거나 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)과 수직으로 중첩될 수 있다.
도 12a 및 도 12b를 참조하여, 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)을 구체적으로 설명한다.
도 12a는 실시예에 따른 조립 기판에서 제1 조립 배선을 구성하는 제1 버스 라인 및 제1 연장 라인 그리고 제2 조립 배선을 구성하는 제2 버스 라인 및 제2 연장 라인을 도시한 평면도이다.
도 11 및 도 12a에 도시한 바와 같이, 제1 조립 배선(321)을 구성하는 제1 버스 라인(321-1a) 및 제1 연장 라인(321-1b)이 배치되고, 제2 조립 배선(322)을 구성하는 제2 버스 라인(322-1a) 및 제2 연장 라인(322-1b)이 배치될 수 있다.
제1 버스 라인(321-1a)은 외부에서 인가된 교류 전압을 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각으로 공급하여 줄 수 있다. 예컨대, 제1 버스 라인(321-1a)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1)를 가로질러 배치되어, 외부에서 인가된 제1 교류 전압을 복수의 제1 서브 화소(PX1) 각각으로 공급하여 줄 수 있다. 예컨대, 제1 버스 라인(321-1a)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 서브 화소(PX2)를 가로질러 배치되어, 외부에서 인가된 제2 교류 전압을 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각으로 공급하여 줄 수 있다. 예컨대, 제1 버스 라인(321-1a)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 서브 화소(PX3)를 가로질러 배치되어, 외부에서 인가된 제3 교류 전압을 복수의 제3 서브 화소(PX3) 각각으로 공급하여 줄 수 있다.
제1 교류 전압, 제2 교류 전압 및 제3 교류 전압 각각의 진폭은 상이할 수 있다. 예컨대, 제1 교류 전압, 제2 교류 전압 및 제3 교류 전압 각각의 진폭은 제1 서브 화소(PX1)의 제1 조립 홀(340H1), 제2 서브 화소(PX2)의 제2 조립 홀(340H2) 및 제3 서브 화소(PX3)의 제3 조립 홀(340H3) 각각의 형상, 즉 사이즈나 깊이에 따라 달라질 수 있다. 예컨대, 제1 교류 전압, 제2 교류 전압 및 제3 교류 전압 각각의 진폭은 제1 조립 홀(340H1)에 조립되는 제1 반도체 발광 소자(150), 제2 조립 홀(340H2)에 조립되는 제2 반도체 발광 소자 및 제3 조립 홀(340H3)에 조립되는 제3 반도체 발광 소자 각각의 형상, 즉 직경이나 두께에 따라 달라질 수 있다. 이와 달리, 제1 교류 전압, 제2 교류 전압 및 제3 교류 전압 각각의 진폭(도 2의 A1)이 동일할 수도 있다.
제1 연장 라인(321-1b)은 제1 버스 라인(321-1a)과 일체로 형성될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
제1 연장 라인(321-1b)은 제1 버스 라인(321-1a)으로부터 제2 방향(Y)을 따라 연장될 수 있다. 예컨대, 제1 연장 라인(321-1b)은 제1 버스 라인(321-1a)으로부터 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)을 향해 연장될 수 있다.
제1 연장 라인(321-1b)은 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각에서 제1 버스 라인(321-1a)으로부터 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)을 향해 연장될 수 있다. 예컨대, 제1 연장 라인(321-1b)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1) 각각에서 제1 버스 라인(321-1a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장될 수 있다. 제1 서브 화소(PX1) 각각의 제1 연장 라인(321-1b)은 제1 조립 홀(340H1)에 배치될 수 있다. 제1 서브 화소(PX1) 각각의 제1 연장 라인(321-1b)은 제1 조립 홀(340H1)에 접하지만, 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다.
예컨대, 제1 연장 라인(321-1b)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각에서 제1 버스 라인(321-1a)으로부터 제2 조립 홀(340H2)을 향해 연장될 수 있다. 제2 서브 화소(PX2) 각각의 제1 연장 라인(321-1b)은 제2 조립 홀(340H2)에 배치될 수 있다. 제2 서브 화소(PX2) 각각의 제1 연장 라인(321-1b)은 제2 조립 홀(340H2)에 접하지만, 제2 조립 홀(340H2)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다.
예컨대, 제1 연장 라인(321-1b)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 서브 화소(PX3) 각각에서 제1 버스 라인(321-1a)으로부터 제3 조립 홀(340H3)을 향해 연장될 수 있다. 제3 서브 화소(PX3) 각각의 제1 연장 라인(321-1b)은 제3 조립 홀(340H3)에 배치될 수 있다. 제3 서브 화소(PX3) 각각의 제1 연장 라인(321-1b)은 제3 조립 홀(340H3)에 접하지만, 제3 조립 홀(340H3)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다.
한편, 제2 버스 라인(322-1a)은 외부에서 인가된 교류 전압을 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각으로 공급하여 줄 수 있다. 제2 버스 라인(322-1a)은 제1 방향(X)을 따라 제1 버스 라인(321-1a)과 평행하게 배치될 수 있다. 예컨대, 제2 버스 라인(322-1a)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1)를 가로질러 배치되어, 외부에서 인가된 제1 교류 전압을 복수의 제1 서브 화소(PX1) 각각으로 공급하여 줄 수 있다. 예컨대, 제2 버스 라인(322-1a)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 서브 화소(PX2)를 가로질러 배치되어, 외부에서 인가된 제2 교류 전압을 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각으로 공급하여 줄 수 있다. 예컨대, 제2 버스 라인(322-1a)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 서브 화소(PX3)를 가로질러 배치되어, 외부에서 인가된 제3 교류 전압을 복수의 제3 서브 화소(PX3) 각각으로 공급하여 줄 수 있다.
제1 교류 전압, 제2 교류 전압 및 제3 교류 전압 각각의 진폭은 상이할 수 있다. 예컨대, 제1 교류 전압, 제2 교류 전압 및 제3 교류 전압 각각의 진폭은 제1 서브 화소(PX1)의 제1 조립 홀(340H1), 제2 서브 화소(PX2)의 제2 조립 홀(340H2) 및 제3 서브 화소(PX3)의 제3 조립 홀(340H3) 각각의 형상, 즉 사이즈나 깊이에 따라 달라질 수 있다. 예컨대, 제1 교류 전압, 제2 교류 전압 및 제3 교류 전압 각각의 진폭은 제1 조립 홀(340H1)에 조립되는 제1 반도체 발광 소자(150), 제2 조립 홀(340H2)에 조립되는 제2 반도체 발광 소자 및 제3 조립 홀(340H3)에 조립되는 제3 반도체 발광 소자 각각의 형상, 즉 직경이나 두께에 따라 달라질 수 있다. 이와 달리, 제1 교류 전압, 제2 교류 전압 및 제3 교류 전압 각각의 진폭(도 2의 A1)이 동일할 수도 있다.
도 12a에 도시한 바와 같이, 제2 연장 라인(322-1b)은 제2 버스 라인(322-1a)과 일체로 형성될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제2 연장 라인(322-1b)은 제1 조립 홀(340H1)을 사이에 두고 제1 연장 라인(321-1b)과 마주보도록 배치될 수 있다. 즉, 제1 조립 홀(340H1)이 제1 연장 라인(321-1b)과 제2 연장 라인(322-1b) 사이에 위치될 수 있다. 제1 연장 라인(321-1b) 및 제2 연장 라인(322-1b) 각각은 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다.
제2 연장 라인(322-1b)은 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제2 방향(Y)을 따라 연장될 수 있다. 예컨대, 제2 연장 라인(322-1b)은 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장될 수 있다.
제2 연장 라인(322-1b)은 복수의 서브 화소(PX1, PX2, XP3) 각각에서 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장될 수 있다. 예컨대, 제2 연장 라인(322-1b)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1) 각각에서 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장될 수 있다. 제1 서브 화소(PX1) 각각의 제2 연장 라인(322-1b)은 제1 조립 홀(340H1)에 배치될 수 있다. 제1 서브 화소(PX1) 각각의 제2 연장 라인(322-1b)은 제1 조립 홀(340H1)에 접하지만, 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다.
예컨대, 제2 연장 라인(322-1b)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각에서 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제2 조립 홀(340H2)을 향해 연장될 수 있다. 제2 서브 화소(PX2) 각각의 제2 연장 라인(322-1b)은 제2 조립 홀(340H2)에 배치될 수 있다. 제2 서브 화소(PX2) 각각의 제2 연장 라인(322-1b)은 제2 조립 홀(340H2)에 접하지만, 제2 조립 홀(340H2)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다.
예컨대, 제2 연장 라인(322-1b)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 서브 화소(PX3) 각각에서 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제3 조립 홀(340H3)을 향해 연장될 수 있다. 제3 서브 화소(PX3) 각각의 제2 연장 라인(322-1b)은 제3 조립 홀(340H3)에 배치될 수 있다. 제3 서브 화소(PX3) 각각의 제2 연장 라인(322-1b)은 제3 조립 홀(340H3)에 접하지만, 제3 조립 홀(340H3)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다.
한편, 일 예로서, 도 19 내지 도 22에 도시한 바와 같이, 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 조립 전극(321-2a)으로부터 연장된 적어도 2개 이상의 전극을 포함할 수 있다(도 19 내지 도 22).
다른 예로서, 제2 연장 전극(322-2b)은 제2 조립 전극(322-2a)으로부터 연장된 적어도 2개 이상의 전극(3211, 3212, 3213, 3221, 3222, 3223)을 포함할 수 있다(도 17, 도 18, 도 20, 도 21, 도 24 및 도 25).
한편, 일 예로서, 도 13 및 도 20 내지 도 22에 도시한 바와 같이, 제1 연장 라인(321-1b)과 제2 연장 라인(322-1b)은 서로 대칭적인 구조를 가질 수 있다. 즉, 제1 조립 홀(340H1)의 중심을 제1 방향(X)을 따라 가로지르는 기준 선에 대해 제1 연장 라인(321-1b)과 제2 연장 라인(322-1b)은 서로 대칭적인 구조를 가질 수 있다. 제1 연장 전극(321-2b)과 제2 연장 전극(322-2b)은 서로 대칭적인 구조를 가질 수 있다. 즉, 제1 조립 홀(340H1)의 중심을 제1 방향(X)을 따라 가로지르는 기준 선에 대해 제1 연장 전극(321-2b)과 제2 연장 전극(322-2b)은 서로 대칭적인 구조를 가질 수 있다.
다른 예로서, 도 16 내지 도 19 및 도 23 내지 도 25에 도시한 바와 같이, 제1 연장 라인(321-1b)과 제2 연장 라인(322-1b)은 서로 비대칭적인 구조를 가질 수 있다. 즉, 제1 조립 홀(340H1)의 중심을 제1 방향(X)을 따라 가로지르는 기준 선에 대해 제1 연장 라인(321-1b)과 제2 연장 라인(322-1b)은 서로 대칭적인 구조를 가질 수 있다. 제1 연장 전극(321-2b)과 제2 연장 전극(322-2b)은 서로 대칭적인 구조를 가질 수 있다. 즉, 제1 조립 홀(340H1)의 중심을 제1 방향(X)을 따라 가로지르는 기준 선에 대해 제1 연장 전극(321-2b)과 제2 연장 전극(322-2b)은 서로 대칭적인 구조를 가질 수 있다.
도 12b는 실시예에 따른 조립 기판에서 제1 조립 배선(321)을 구성하는 제1 조립 전극 및 제1 연장 전극 그리고 제2 조립 배선을 구성하는 제2 조립 전극(322-2a) 및 제2 연장 전극(322-2b)을 도시한 평면도이다.
도 11, 도 12 및 도 12b에 도시한 바와 같이, 제1 조립 배선(321)을 구성하는 제1 조립 전극(321-2a) 및 제1 연장 전극(321-2b)이 배치되고, 제2 조립 배선(322)을 구성하는 제2 조립 전극(322-2a) 및 제2 연장 전극(322-2b)이 배치될 수 있다.
제1 조립 전극(321-2a)은 제1 버스 라인(321-1a) 상에 배치될 수 있다. 제1 조립 전극(321-2a)은 제1 버스 라인(321-1a)과 수직으로 중첩될 수 있다. 제1 조립 전극(321-2a)은 제1 버스 라인(321-1a)과 수직으로 연결될 수 있다. 즉, 제1 조립 전극(321-2a)의 하면은 제1 버스 라인(321-1a)의 상면과 접촉될 수 있다.
제1 조립 배선(321)은 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3)에 개별적으로 배치될 수 있다. 즉, 제1 조립 배선(321)은 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각에 서로 분리되어 배치될 수 있다. 예컨대, 제1 조립 배선(321)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1) 각각에 서로 분리되어 배치될 수 있다. 즉, 인접하는 제1 서브 화소(PX1) 각각에 배치된 제1 조립 배선(321)은 서로 이격될 수 있다. 예컨대, 제1 조립 배선(321)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각에 서로 분리되어 배치될 수 있다. 즉, 인접하는 제2 서브 화소(PX2) 각각에 배치된 제1 조립 배선(321)은 서로 이격될 수 있다. 예컨대, 제1 조립 배선(321)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 서브 화소(PX3) 각각에 서로 분리되어 배치될 수 있다. 즉, 인접하는 제3 서브 화소(PX3) 각각에 배치된 제1 조립 배선(321)은 서로 이격될 수 있다.
제1 조립 전극(321-2a)은 외부에서 제1 버스 라인(321-1a)으로 공급된 교류 전압을 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각으로 공급하여 줄 수 있다. 이를 위해, 제1 조립 전극(321-2a)은 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각에서 제1 버스 라인(321-1a)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예컨대, 제1 조립 전극(321-2a)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1) 각각에서 제1 버스 라인(321-1a)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예컨대, 제1 조립 전극(321-2a)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각에서 제1 버스 라인(321-1a)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예컨대, 제1 조립 전극(321-2a)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 서브 화소(PX3) 각각에서 제1 버스 라인(321-1a)에 전기적으로 연결될 수 있다.
제1 연장 전극(321-2b)은 제1 연장 라인(321-1b) 상에 배치될 수 있다. 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 연장 라인(321-1b)과 수직으로 중첩될 수 있다. 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 연장 라인(321-1b)과 수직으로 연결될 수 있다. 즉, 제1 연장 전극(321-2b)의 하면은 제1 연장 라인(321-1b)의 상면과 접촉될 수 있다. 하지만, 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 조립 홀(340H1)에서 제1 연장 라인(321-1b)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다. 제1 연장 라인(321-1b)은 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩되지 않고, 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩될 수 있다.
제1 연장 라인(321-1b)은 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩되지는 않지만, 제1 조립 홀(340H1)에 접하도록 배치됨으로써, 제1 버스 라인(321-1a)으로 공급된 교류 전압을 최대한 제1 조립 홀(340H1)에 근접하여 공급되도록 하여 제1 조립 전극(321-2a)과 제1 연장 전극(321-2b)의 선 저항을 줄여줄 수 있다. 즉, 제1 버스 라인(321-1a)으로 공급된 교류 전압은 제1 조립 전극(321-2a) 및 제1 연장 전극(321-2b)을 통해 제1 조립 홀(340H1) 내로 공급될 수 있다.
제1 조립 전극(321-2a) 및 제1 연장 전극(321-2b) 각각의 두께가 두꺼우면, 제1 조립 홀(340H1) 내에 형성된 DEP force가 불균일해져 반도체 발광 소자(150)의 조립력이 저하되므로, 제1 조립 전극(321-2a) 및/또는 제1 연장 전극(321-2b) 각각의 두께는 얇다. 예컨대, 제1 조립 전극(321-2a)의 두께는 제1 버스 라인(321-1a)의 두께보다 작을 수 있다. 예컨대, 제1 연장 전극(321-2b)의 두께는 제1 연장 라인(321-1b)의 두께보다 작을 수 있다. 예컨대, 제1 조립 전극(321-2a) 및/또는 제1 연장 전극(321-2b) 각각의 두께는 200nm 이하일 수 있다. 예컨대, 제1 조립 전극(321-2a) 및/또는 제1 연장 전극(321-2b) 각각의 두께는 10~200nm일 수 있다.
제1 조립 전극(321-2a) 및/또는 제1 연장 전극(321-2b) 각각의 두께가 얇으므로, 선 저항이 커질 수 있다. 이에 따라, 제1 연장 라인(321-1b)이 제1 버스 라인(321-1a)으로부터 연장되어 제1 조립 홀(340H1)에 접하고, 제1 연장 전극(321-2b)과 수직으로 연결되도록 함으로써, 제1 조립 전극(321-2a) 및/또는 제1 연장 전극(321-2b) 각각의 선 저항 저하가 방지(또는 보상)되어, 교류 전압의 신호 왜곡이 억제될 수 있다. 원래의 교류 전압, 즉 목표치의 진폭과 동일한 진폭을 갖는 교류 전압이 제1 조립 홀(340H1)에 공급되고, 이 교류 전압에 의해 형성된 DEP force가 줄지 않아 목표치 DEP force와 같거나 유사하므로 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 향상될 수 있다.
특히, 실시예는 고해상도, 고정세도 및 대화면를 갖는 디스플레이 장치(도 26의 300)에서, 자가 조립을 위한 제2 버스 라인(322-1a), 제2 연장 라인(322-1b), 제2 조립 전극(322-2a) 및 제2 연장 전극(322-2b) 각각의 선 폭이 줄더라도 교류 전압의 신호 왜곡을 방지하여 조립율을 향상시킬 수 있다.
제1 연장 전극(321-2b)은 제1 조립 전극(321-2a)과 일체로 형성될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 조립 전극(321-2a)으로부터 제2 방향(Y)을 따라 연장될 수 있다. 예컨대, 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 조립 전극(321-2a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장될 수 있다.
제1 연장 전극(321-2b)은 복수의 서브 화소 각각에서 제1 조립 전극(321-2a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장될 수 있다.
예컨대, 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1) 각각에서 제1 조립 전극(321-2a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장될 수 있다. 제1 서브 화소(PX1) 각각의 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 조립 홀(340H1)에 배치될 수 있다. 제1 서브 화소(PX1) 각각의 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩될 수 있다.
예컨대, 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각에서 제1 조립 전극(321-2a)으로부터 제2 조립 홀(340H2)을 향해 연장될 수 있다. 제2 서브 화소(PX2) 각각의 제1 연장 전극(321-2b)은 제2 조립 홀(340H2)에 배치될 수 있다. 제2 서브 화소(PX2) 각각의 제1 연장 전극(321-2b)은 제2 조립 홀(340H2)과 수직으로 중첩될 수 있다.
예컨대, 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 서브 화소(PX3) 각각에서 제1 조립 전극(321-2a)으로부터 제3 조립 홀(340H30을 향해 연장될 수 있다. 제3 서브 화소(PX3) 각각의 제1 연장 전극(321-2b)은 제3 조립 홀(340H3)에 배치될 수 있다. 제3 서브 화소(PX3) 각각의 제1 연장 전극(321-2b)은 제3 조립 홀(340H3)과 수직으로 중첩될 수 있다.
한편, 제2 조립 전극(322-2a)은 제2 버스 라인(322-1a) 상에 배치될 수 있다. 제2 조립 전극(322-2a)은 제2 버스 라인(322-1a)과 수직으로 중첩될 수 있다. 제2 조립 전극(322-2a)은 제2 버스 라인(322-1a)과 수직으로 연결될 수 있다. 즉, 제2 조립 전극(322-2a)의 하면은 제2 버스 라인(322-1a)의 상면과 접촉될 수 있다.
제2 조립 배선(322)은 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3)에 개별적으로 배치될 수 있다. 즉, 제2 조립 배선(322)은 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각에 서로 분리되어 배치될 수 있다. 예컨대, 제2 조립 배선(322)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1) 각각에 서로 분리되어 배치될 수 있다. 즉, 인접하는 제1 서브 화소(PX1) 각각에 배치된 제2 조립 배선(322)은 서로 이격될 수 있다. 예컨대, 제2 조립 배선(322)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각에 서로 분리되어 배치될 수 있다. 즉, 인접하는 제2 서브 화소(PX2) 각각에 배치된 제2 조립 배선(322)은 서로 이격될 수 있다. 예컨대, 제2 조립 배선(322)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 서브 화소(PX3) 각각에 서로 분리되어 배치될 수 있다. 즉, 인접하는 제3 서브 화소(PX3) 각각에 배치된 제2 조립 배선(322)은 서로 이격될 수 있다.
제2 조립 전극(322-2a)은 외부에서 인가된 교류 전압을 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각으로 공급하여 줄 수 있다.
이를 위해, 제2 조립 전극(322-2a)은 복수의 서브 화소 각각에서 제2 버스 라인(322-1a)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예컨대, 제2 조립 전극(322-2a)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1) 각각에서 제2 버스 라인(322-1a)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예컨대, 제2 조립 전극(322-2a)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각에서 제2 버스 라인(322-1a)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예컨대, 제2 조립 전극(322-2a)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 서브 화소(PX3) 각각에서 제2 버스 라인(322-1a)에 전기적으로 연결될 수 있다.
제2 연장 전극(322-2b)은 제2 연장 라인(322-1b) 상에 배치될 수 있다. 제2 연장 전극(322-2b)은 제2 연장 라인(322-1b)과 수직으로 중첩될 수 있다. 제2 연장 전극(322-2b)은 제2 연장 라인(322-1b)과 수직으로 연결될 수 있다. 즉, 제2 연장 전극(322-2b)의 하면은 제2 연장 라인(322-1b)의 상면과 접촉될 수 있다. 하지만, 제2 연장 전극(322-2b)은 제1 조립 홀(340H1)에서 제2 연장 라인(322-1b)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다. 제2 연장 라인(322-1b)은 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩되지 않고, 제2 연장 전극(322-2b)은 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩될 수 있다.
제2 연장 라인(322-1b)은 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩되지는 않지만, 제1 조립 홀(340H1)에 접하도록 배치됨으로써, 제2 버스 라인(322-1a)으로 공급된 교류 전압을 최대한 제1 조립 홀(340H1)에 근접하여 공급되도록 하여 제2 조립 전극(322-2a)과 제2 연장 전극(322-2b)의 선 저항을 줄여줄 수 있다. 즉, 제2 버스 라인(322-1a)으로 공급된 교류 전압은 제2 조립 전극(322-2a) 및 제2 연장 전극(322-2b)을 통해 제1 조립 홀(340H1) 내로 공급될 수 있다.
제2 조립 전극(322-2a) 및 제2 연장 전극(322-2b) 각각의 두께가 두꺼우면, 제1 조립 홀(340H1) 내에 형성된 DEP force가 불균일해져 반도체 발광 소자(150)의 조립력이 저하되므로, 제2 조립 전극(322-2a) 및/또는 제2 연장 전극(322-2b) 각각의 두께는 얇다. 예컨대, 제2 조립 전극(322-2a)의 두께는 제2 버스 라인(322-1a)의 두께보다 작을 수 있다. 예컨대, 제2 연장 전극(322-2b)의 두께는 제2 연장 라인(322-1b)의 두께보다 작을 수 있다. 예컨대, 제2 조립 전극(322-2a) 및/또는 제2 연장 전극(322-2b) 각각의 두께는 200nm 이하일 수 있다. 예컨대, 제2 조립 전극(322-2a) 및/또는 제2 연장 전극(322-2b) 각각의 두께는 10~200nm일 수 있다.
제2 조립 전극(322-2a) 및/또는 제2 연장 전극(322-2b) 각각의 두께가 얇으므로, 선 저항이 커질 수 있다. 이에 따라, 제2 연장 라인(322-1b)이 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장되고 제2 연장 전극(322-2b)과 수직으로 연결되도록 함으로써, 제2 조립 전극(322-2a) 및/또는 제2 연장 전극(322-2b) 각각의 선 저항 저하가 방지(또는 보상)되어, 교류 전압의 신호 왜곡이 억제될 수 있다. 원래의 교류 전압, 즉 목표치의 진폭과 동일한 진폭을 갖는 교류 전압이 제1 조립 홀(340H1)에 공급되고, 이 교류 전압에 의해 형성된 DEP force가 줄지 않아 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 향상될 수 있다.
특히, 실시예는 고해상도, 고정세도 및 대화면을 갖는 디스플레이 장치(300)에서, 자가 조립을 위한 제2 버스 라인(322-1a), 제2 연장 라인(322-1b), 제2 조립 전극(322-2a) 및 제2 연장 전극(322-2b) 각각의 선 폭이 줄더라도 교류 전압의 신호 왜곡을 방지하여 조립율을 향상시킬 수 있다.
제2 연장 전극(322-2b)은 제2 조립 전극(322-2a)과 일체로 형성될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제2 연장 전극(322-2b)은 제1 조립 홀(340H1)을 사이에 두고 제1 연장 전극(321-2b)과 마주보도록 배치될 수 있다. 즉, 제1 조립 홀(340H1)이 제1 연장 전극(321-2b)과 제2 연장 전극(322-2b) 사이에 위치될 수 있다. 제1 연장 전극(321-2b) 및 제2 연장 전극(322-2b) 각각은 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다.
제2 연장 전극(322-2b)은 제2 조립 전극(322-2a)으로부터 제2 방향(Y)을 따라 연장될 수 있다. 예컨대, 제2 연장 전극(322-2b)은 제2 조립 전극(322-2a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장될 수 있다.
제2 연장 전극(322-2b)은 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각에서 제2 조립 전극(322-2a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장될 수 있다.
예컨대, 제2 연장 전극(322-2b)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1) 각각에서 제2 조립 전극(322-2a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장될 수 있다. 제1 서브 화소(PX1) 각각의 제2 연장 전극(322-2b)은 제1 조립 홀(340H1)에 배치될 수 있다. 제1 서브 화소(PX1) 각각의 제2 연장 전극(322-2b)은 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다.
예컨대, 제2 연장 전극(322-2b)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각에서 제2 조립 전극(322-2a)으로부터 제2 조립 홀(340H2)을 향해 연장될 수 있다. 제2 서브 화소(PX2) 각각의 제2 연장 전극(322-2b)은 제2 조립 홀(340H2)에 배치될 수 있다. 제2 서브 화소(PX2) 각각의 제2 연장 전극(322-2b)은 제2 조립 홀(340H2)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다.
예컨대, 제2 연장 전극(322-2b)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제3 서브 화소(PX3) 각각에서 제2 조립 전극(322-2a)으로부터 제3 조립 홀(340H3)을 향해 연장될 수 있다. 제3 서브 화소(PX3) 각각의 제2 연장 전극(322-2b)은 제3 조립 홀(340H3)에 배치될 수 있다. 제3 서브 화소(PX3) 각각의 제2 연장 전극(322-2b)은 제3 조립 홀(340H3)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다.
이하, 도 13내지 도 25를 참조하여 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 각각의 다양한 실시예를 설명한다. 도 13 내지 도 25 각각에 도시된 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)은 도 11에 도시된 조립 기판(300A)의 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 중 제1 서브 화소(PX1)를 도시하고 있지만, 제2 서브 화소(PX2) 및/또는 제3 서브 화소(PX3) 또한 도 13 내지 도 25에 도시된 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)을 동일하게 또는 변형하여 채용할 수 있다.
[제1 실시예]
도 13은 제1 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 13에 도시한 바와 같이, 제1 조립 배선(321)은 제1 버스 라인(321-1a), 제1 연장 라인(321-1b), 제1 조립 전극(321-2a) 및 제1 연장 전극(321-2b)을 포함할 수 있다. 제2 조립 배선(322)은 제2 버스 라인(322-1a), 제2 연장 라인(322-1b), 제2 조립 전극(322-2a) 및 제2 연장 전극(322-2b)을 포함할 수 있다.
제1 버스 라인(321-1a)과 제2 버스 라인(322-1a)은 제1 방향(X)을 따라 서로 평행하게 배치될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제1 버스 라인(321-1a)은 각각 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1), 복수의 제2 서브 화소(PX2) 또는 복수의 제3 서브 화소(PX3)를 가로질러 배치될 수 있다. 제2 버스 라인(322-1a)은 제1 방향(X)을 따라 배열된 복수의 제1 서브 화소(PX1), 복수의 제2 서브 화소(PX2) 또는 복수의 제3 서브 화소(PX3)를 가로질러 배치될 수 있다. 이에 따라, 제1 버스 라인(321-1a) 및 제2 버스 라인(322-1a)은 외부에서 제공된 교류 전압을 복수의 서브 화소 각각으로 공급하여 주는 역할을 할 수 있다.
제1 연장 라인(321-1b)은 제1 버스 라인(321-1a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장되고, 제2 연장 라인(322-1b)은 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장될 수 있다. 제1 조립 홀(340H1)을 사이에 두고 제1 연장 라인(321-1b)과 제2 연장 라인(322-1b)이 서로 마주보도록 배치될 수 있다.
제1 조립 전극(321-2a)과 제2 조립 전극(322-2a)은 제1 방향(X)을 따라 서로 평행하게 배치될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 제1 조립 전극(321-2a)은 제1 버스 라인(321-1a) 상에 배치되고, 제2 조립 전극(322-2a)은 제2 버스 라인(322-1a) 상에 배치될 수 있다. 제1 조립 전극(321-2a)의 하면은 제1 버스 라인(321-1a)의 상면과 접촉되고, 제2 조립 전극(322-2a)의 하면은 제2 버스 라인(322-1a)의 상면과 접촉될 수 있다. 이에 따라, 제1 조립 전극(321-2a)은 복수의 서브 화소로 공급된 교류 전압을 제1 연장 전극(321-2b)을 통해 신속하고 원활하게 제1 조립 홀(340H1)로 전달하여 주는 역할을 할 수 있다. 제2 조립 전극(322-2a)은 복수의 서브 화소로 공급된 교류 전압을 제2 연장 전극(322-2b)을 통해 신속하게 원활하게 제1 조립 홀(340H1)로 전달하여 주는 역할을 할 수 있다.
제1 조립 전극(321-2a)은 제1 버스 라인(321-1a)을 둘러싸고, 제2 조립 전극(322-2a)은 제2 버스 라인(322-1a)을 둘러쌀 수 있다. 예컨대, 제1 조립 전극(321-2a)의 폭(W11b)은 제1 버스 라인(321-1a)의 폭(W11a)보다 클 수 있다. 예컨대, 제2 조립 전극(322-2a)의 폭(W21b)은 제2 버스 라인(322-1a)의 폭(W21b)보다 클 수 있다.
제1 연장 전극(321-2b)은 제1 연장 라인(321-1b) 상에 배치되고, 제2 연장 전극(322-2b)은 제2 연장 라인(322-1b) 상에 배치될 수 있다. 제1 연장 전극(321-2b)의 하면은 제2 연장 라인(322-1b)의 상면과 접촉되고, 제2 연장 전극(322-2b)의 하면은 제2 연장 라인(322-1b)의 상면과 접촉될 수 있다. 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 조립 전극(321-2a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장되고, 제2 연장 전극(322-2b)은 제2 조립 전극(322-2a)으로부터 제1 조립 홀(340H1)을 향해 연장될 수 있다. 제1 연장 전극(321-2b)은 제2 연장 전극(322-2b)은 제1 조립 홀(340H1)에서 서로 마주보도록 배치될 수 있다.
실시예에서, 제1 연장 라인(321-1b)은 제1 버스 라인(321-1a)과 전기적으로 연결되고 제1 연장 전극(321-2b)과 수직으로 중첩됨으로써, 제1 조립 배선(321)의 선 저항을 유지하거나 감소시켜, 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3)로 전달된 교류 전압을 신속하고 원활하게 제1 조립 홀(340H1)로 전달하는 역할을 할 수 있다. 또한, 제2 연장 라인(322-1b)은 제2 버스 라인(322-1a)과 전기적으로 연결되고 제2 연장 전극(322-2b)과 수직으로 중첩됨으로써, 제2 조립 배선(322)의 선 저항을 유지하거나 감소시켜, 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3)로 전달된 교류 전압을 신속하고 원활하게 제1 조립 홀(340H1)로 전달하는 역할을 할 수 있다.
제1 연장 전극(321-2b)은 제1 연장 라인(321-1b)을 둘러싸고, 제2 연장 전극(322-2b)은 제2 연장 라인(322-1b)을 둘러쌀 수 있다. 예컨대, 제1 방향(X)에 따른 제1 연장 전극(321-2b)의 폭(W12b)은 제1 연장 라인(321-1b)의 폭(W12a)보다 크고, 제2 방향(Y)에 따른 제1 연장 전극(321-2b)의 폭(W13b)은 제1 연장 라인(321-1b)의 폭(W13a)보다 작을 수 있다. 예컨대, 제1 방향(X)에 따른 제2 연장 전극(322-2b)의 폭(W22b)은 제2 연장 라인(322-1b)의 폭(W22a)보다 크고, 제2 방향(Y)에 따른 제2 연장 전극(322-2b)의 폭(W23b)은 제2 연장 라인(322-1b)의 폭(W23a)보다 작을 수 있다.
한편, 제1 연장 라인(321-1b), 제2 연장 라인(322-1b), 제1 조립 전극(321-2a), 제2 조립 전극(322-2a), 제1 연장 전극(321-2b) 및 제2 연장 전극(322-2b) 각각은 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각, 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각 또는 복수의 제3 서브 화소(PX3) 각각에 배치될 수 있다. 다시 말해, 제1 연장 라인(321-1b), 제2 연장 라인(322-1b), 제1 조립 전극(321-2a), 제2 조립 전극(322-2a), 제1 연장 전극(321-2b) 및 제2 연장 전극(322-2b) 각각은 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각, 복수의 제2 서브 화소(PX2) 각각 또는 복수의 제3 서브 화소(PX3)을 가로질러 배치되지 않을 수 있다.
제1 연장 라인(321-1b)과 제2 연장 라인(322-1b)은 제1 조립 홀(340H1) 내에 위치되지 않을 수 있다. 즉, 제1 연장 라인(321-1b) 및 제2 연장 라인(322-1b) 각각은 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다. 제1 연장 전극(321-2b)과 제2 연장 전극(322-2b)은 제1 조립 홀(340H1) 내에 위치될 수 있다. 즉, 제1 연장 전극(321-2b) 및 제2 연장 전극(322-2b) 각각은 제1 조립 홀(340H1)과 수직으로 중첩될 수 있다.
도 14는 도 13의 제1 서브 화소의 C1-C2라인을 따라 절단한 단면도이다. 도 15는 도 13의 제1 서브 화소의 D1-D2라인을 따라 절단한 단면도이다.
실시예에 따른 조립 기판(도 11의 310A)는 기판(310), 제1 조립 배선(321), 제2 조립 배선(322), 제1 절연층(320) 및 격벽(340)을 포함할 수 있다.
기판(310)은 그 기판(310) 상에 배치되는 구성 요소들을 지지하는 지지 부재이거나 구성 요소들을 보호하는 보호 부재일 수 있다. 기판(310)은 앞서 기술한 바 있으므로, 생략한다.
제1 및 제2 조립 배선(321, 322)는 기판(310) 상에 배치될 수 있다. 제1 및 제2 조립 배선(321, 322)은 자가 조립 방식에서 반도체 발광 소자(도 27의 150)를 제1 조립 홀(340H1)에 조립하는 역할을 할 수 있다. 즉, 자가 조립시 제1 및 제2 조립 배선(321, 322)에 공급된 전압에 의해 전기장이 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 사이에 생성되고, 이 전기장에 의해 형성된 유전영동힘에 의해 조립 장치(도 10의 1100)에 의해 이동 중인 반도체 발광 소자(150)가 제1 조립 홀(340H1)에 조립될 수 있다.
도면에는 제1 조립 배선(321)과 제2 조립 배선(322)이 동일한 층, 즉 기판(310)의 상면 상에 배치되는 것으로 도시되고 있지만, 서로 상이한 층 상에 배치될 수도 있다.
제1 절연층(320)은 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 상에 배치될 수 있다. 제1 절연층(320)은 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)을 보호하는 역할을 할 수 있다. 제1 절연층(320)은 제1 조립 배선(321)과 제2 조립 배선(322) 사이의 전기적인 쇼트를 방지할 수 있다. 이를 위해, 제1 절연층(320)은 절연 특성이 우수한 재질로 이루어질 수 있다. 제1 절연층(320)은 DEP force의 형성에 기여할 수 있다. 이를 위해, 제1 절연층(320)은 유전율이 높은 재질로 이루어질 수 있다. 제1 절연층(320)은 무기 재질로 형성될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
격벽(340)은 기판(310) 상에 배치되고 제1 조립 홀(340H1)을 가질 수 있다. 복수의 서브 화소(PX1, PX2, PX3)는 각각 적어도 하나 이상의 조립 홀(도 11의 340H1, 340H2, 340H3)를 포함할 수 있다. 격벽(340)은 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 상에 배치될 수 있다. 예컨대, 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)은 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 상에 구비될 수 있다. 격벽(340)은 반도체 발광 소자(150)의 두께를 고려하여 그 두께가 결정될 수 있다. 예컨대, 격벽(340)의 두께는 반도체 발광 소자(150)의 두께보다 작을 수 있다. 따라서, 반도체 발광 소자(150)의 상측은 격벽(340)의 상면보다 더 높게 위치될 수 있다. 즉, 반도체 발광 소자(150)의 상측은 격벽(340)의 상면으로부터 상부 방향으로 돌출될 수 있다.
조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)의 형성을 위한 공차 마진과 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3) 내에 반도체 발광 소자(150)가 용이하게 조립되도록 하기 위한 마진 등을 고려하여 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)의 사이즈가 결정될 수 있다. 예컨대, 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)의 사이즈는 반도체 발광 소자(150)의 사이즈보다 클 수 있다. 예컨대, 반도체 발광 소자(150)가 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)의 중심에 조립되었을 때 반도체 발광 소자(150)의 외 측면과 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)의 내 측면 사이의 거리는 2㎛ 이하일 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
예컨대, 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)은 반도체 발광 소자(150)의 형상에 대응하는 형상을 가질 수 있다. 예컨대, 반도체 발광 소자(150)가 원형인 경우, 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3) 또한 원형일 수 있다. 예컨대, 반도체 발광 소자(150)가 직사각형인 경우, 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3) 또한 직사각형일 수 있다.
일 예로서, 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각에서의 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)이 동일한 형상, 즉 원형을 가질 수 있다. 이러한 경우, 제1 서브 화소(PX1)에 배치되는 제1 반도체 발광 소자(150), 제2 서브 화소(PX2)에 배치되는 제2 반도체 발광 소자 및 제3 서브 화소(PX3)에 배치되는 제3 반도체 발광 소자는 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에 대응하는 형상, 즉 원형을 가질 수 있다.
이와 같이, 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각에서의 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)이 동일한 형상을 갖는 경우, 제1 반도체 발광 소자(150), 제2 반도체 발광 소자 및 제3 반도체 발광 소자 각각이 순차적으로 대응하는 서브 화소(PX1, PX2, PX3) 각각의 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에 조립될 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 예컨대, 제1 반도체 발광 소자(150)가 기판(310)의 제1 서브 화소(PX1)의 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에 조립되고, 제2 반도체 발광 소자가 기판(310)의 제2 서브 화소(PX2)의 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에 조립되며, 제3 반도체 발광 소자가 기판(310)의 제3 서브 화소(PX3)의 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에 조립될 수 있다. 이러한 경우, 제1 반도체 발광 소자(150), 제2 반도체 발광 소자 및 제3 반도체 발광 소자 각각의 형상은 동일할 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다. 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3) 각각은 제1 반도체 발광 소자(150), 제2 반도체 발광 소자 및 제3 반도체 발광 소자 각각의 형상에 대응하는 형상을 가지되, 제1 반도체 발광 소자(150), 제2 반도체 발광 소자 및 제3 반도체 발광 소자 각각의 사이즈보다 큰 사이즈를 가질 수 있다.
다른 예로서, 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각에서의 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)이 상이한 형상을 가질 수 있다. 예컨대, 제1 서브 화소(PX1)에서의 제1 조립 홀(340H1)은 원형을 가지고, 제2 서브 화소(PX2)에서의 제2 조립 홀(340H2)은 제1 단축과 제1 장축을 갖는 제1 타원형을 가지며, 제3 서브 화소(PX3)에서의 제3조립 홀(340H3)은 제1 단축보다 작은 제2 단축과 제1 장축보다 큰 제2 장축을 갖는 제2 타원형을 가질 수 있다. 이러한 경우, 제1 반도체 발광 소자(150)는 제1 서브 화소(PX1)의 제1 조립 홀(340H1)에 대응하는 형상, 즉 원형을 가지고, 제2 반도체 발광 소자는 제2 서브 화소(PX2)의 제2 조립 홀(340H2)에 대응하는 형상, 즉 제1 타원형을 가지며, 제3 반도체 발광 소자는 제3 서브 화소(PX3)의 제3 조립 홀(340H3)에 대응하는 형상, 즉 제2 타원형을 가질 수 있다.
이와 같이 서로 상이한 형상을 갖는 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)들과 그 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)들 각각에 대응하는 형상을 갖는 제1 내지 제3 반도체 발광 소자(150)에 의해, 제1 내지 제3 반도체 발광 소자(150)가 자가 조립시 동시에 해당 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에 조립될 수 있다. 즉, 자가 조립을 위해 유체(1200) 내에 제1 반도체 발광 소자(150), 제2 반도체 발광 소자 및 제3 반도체 발광 소자가 혼합되더라도, 기판(310) 상의 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각의 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에 대응하는 반도체 소자가 조립될 수 있다. 즉, 제1 서브 화소(PX1)의 제1 조립 홀(340H1)에는 그 제1 조립 홀(340H1)의 형상에 대응하는 형상을 갖는 제1 반도체 발광 소자(150)가 조립될 수 있다. 제2 서브 화소(PX2)의 제2 조립 홀(340H2)에는 그 제2 조립 홀(340H2)의 형상에 대응하는 형상을 갖는 제2 반도체 발광 소자가 조립될 수 있다. 제3 서브 화소(PX3)의 제3 조립 홀(340H3)에는 그 제3 조립 홀(340H3)의 형상에 대응하는 형상을 갖는 제3 반도체 발광 소자가 조립될 수 있다. 따라서, 서로 상이한 형상을 갖는 제1 반도체 발광 소자(150), 제2 반도체 발광 소자 및 제3 반도체 발광 소자 각각이 자신의 형상에 대응하는 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에 조립되므로, 조립 불량을 방지할 수 있다.
상기와 같이 구성된 조립 기판(310A)에서, 자가 조립을 위해 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)에 교류 전압이 인가되면, 제1 조립 배선(321)과 제2 조립 배선(322) 사이에 DEP force가 형성되고, 이 DEP force에 의해 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에 반도체 발광 소자(150)가 조립되어 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3) 내에 고정될 수 있다.
실시예에 따르면, 고해상도 및/또는 고정세도를 갖는 디스플레이 장치(300)에서 조립율을 획기적으로 향상시킬 수 있다.
실시예에 따르면, 대화면을 갖는 디스플레이 장치(300)에서 조립율을 획기적으로 향상시킬 수 있다.
실시예에 따르면, 고해상도, 고정세도 또는 대화면을 갖는 디스플레이 장치(300)에 의해 선 폭이 줄어들더라도, 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각을 적어도 2개 이상의 층으로 구성함으로써, 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각의 선 저항을 줄여 교류 전압의 전압 강하나 신호 왜곡을 방지하여 조립율을 향상시킬 수 있다.
실시예에 따르면, 고해상도, 고정세도 또는 대화면을 갖는 디스플레이 장치(300)에 의해 선 폭이 줄어들더라도, 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각을 구성하는 적어도 2개 이상의 층이 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3)에 최대한 근접하게 위치되도록 함으로써, 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각의 선 저항을 줄여 교류 전압의 전압 강하나 신호 왜곡을 방지하여 조립율을 향상시킬 수 있다.
실시예에 따르면, 고해상도, 고정세도 또는 대화면을 갖는 디스플레이 장치(300)에 의해 선 폭이 줄어들더라도, 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322) 각각을 구성하는 적어도 2개 이상의 층 중 두께가 얇은 층을 조립 홀(340H1, 340H2, 340H3) 내에 위치되도록 함으로써, 자가 조립시 DEP force의 불균일을 해소하여 반도체 발광 소자(150)의 조립 불량이나 조립율 저하를 방지할 수 있다.
[제2 실시예]
도 16은 제2 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
제2 실시는 제2 연장 라인(322-1b)의 폭(W22a)을 제외하고 제1 실시예(도 13)과 동일하다. 즉, 제2 실시예의 제2 연장 라인(322-1b)의 폭(W22a)이 제1 실시예의 제2 연장 라인(322-1b)의 폭(W22a)보다 작을 수 있다.
예컨대, 제2 연장 라인(322-1b)의 폭(W22a)은 제1 조립 홀(34H1)의 직경보다 작을 수 있다. 제2 연장 라인(322-1b)의 폭(W22a)이 작더라도, 제1 조립 홀(34H1) 내에 위치된 제2 연장 전극(322-2b)은 제2 조립 전극(322-2a)이나 제2 연장 라인(322-1b)과 전기적으로 연결되므로, 교류 전압이 제1 조립 홀(34H1) 내로 신속하고 원활하게 공급될 수 있다.
제2 실시예에서, 제1 연장 라인(321-1b)과 제2 연장 라인(322-1b)이 각각 제1 버스 라인(321-1a)과 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제1 조립 홀(34H1)을 향해 연장됨으로써, 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 각각의 선 저항이 줄어 교류 전압의 전압 강하나 신호 왜곡이 방지되어 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 향상될 수 있다.
[제3 실시예]
도 17은 제3 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
제3 실시예는 제2 연장 라인(322-1b)을 제외하고 제1 실시예(도 13)와 동일하다.
도 17에 도시한 바와 같이, 제2 연장 라인(322-1b)은 제1 전극(3221)과 제2 전극(3222)을 포함할 수 있다. 제1 전극(3221)과 제2 전극은 각각 제2 연장 라인(322-1b)으로부터 제1 조립 홀(34H1)을 향해 연장될 수 있다.
제3 실시예에서, 제1 연장 라인(321-1b)과 제2 연장 라인(322-1b)이 각각 제1 버스 라인(321-1a)과 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제1 조립 홀(34H1)을 향해 연장됨으로써, 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 각각의 선 저항이 줄어 교류 전압의 전압 강하나 신호 왜곡이 방지되어 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 향상될 수 있다.
[제4 실시예]
도 18은 제4 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
제4 실시예는 제2 연장 라인(322-1b)을 제외하고 제1 실시예(도 13)와 동일하다.
도 18에 도시한 바와 같이, 제2 연장 라인(322-1b)은 제1 전극(3221), 제2 전극(3222) 및 제3 전극(3223)을 포함할 수 있다. 제2 연장 라인(322-1b)의 제1 전극(3221), 제2 전극(3222) 및 제3 전극(3223)은 각각 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제1 조립 홀(34H1)을 향해 연장될 수 있다.
한편, 제1 전극(3221), 제2 전극(3222) 및 제3 전극(3223)의 각각의 두께가 제2 연장 전극(322-2b)의 두께보다 클 수 있다. 이에 따라, 제1 전극(3221), 제2 전극(3222) 및 제3 전극(3223) 각각이 제1 조립 홀(34H1) 내에 배치되는 경우, 제1 조립 홀(34H1) 내에 제1 전극(3221), 제2 전극(3222) 및 제3 전극(3223)의 각각과 제2 연장 전극(322-2b)에 의해 두께가 두꺼워져, 제1 조립 배선(321)과 제2 조립 배선(322)에 인가된 교류 전압에 의해 형성되는 DEP force가 불균일해져 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 저하될 수 있다. 하지만, 실시예에 따르면, 제1 전극(3221), 제2 전극(3222) 및 제3 전극(3223) 각각은 제1 조립 홀(34H1)에 접할 수 있다. 즉, 제1 전극(3221), 제2 전극(3222) 및 제3 전극(3223)은 각각 제1 조립 홀(34H1)과 수직으로 중첩되지 않을 수 있다. 이에 따라, 제1 조립 홀(34H1) 내에 제1 전극(3221), 제2 전극(3222) 및 제3 전극(3223)은 배치되지 않고 제2 연장 전극(322-2b)만 배치되어, 두께가 줄어 DEP force가 균일해져 조립율이 향상될 수 있다.
아울러, 실시예에 따르면, 제1 연장 라인(321-1b)과 제2 연장 라인(322-1b)이 각각 제1 버스 라인(321-1a)과 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제1 조립 홀(34H1)을 향해 연장됨으로써, 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 각각의 선 저항이 줄어 교류 전압의 전압 강하나 신호 왜곡이 방지되어 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 향상될 수 있다.
[제5 실시예]
도 19는 제5 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 19에 도시한 바와 같이, 제1 연장 라인(321-1b)은 제1 전극(3211) 및 제2 전극(3212)을 포함할 수 있다. 제2 연장 라인(322-1b)의 폭(W22a)은 제1 조립 홀(34H1)의 직경보다 작을 수 있다.
제1 연장 라인(321-1b)의 제1 전극(3211) 및 제2 전극(3212)은 각각 제1 버스 라인(321-1a)으로부터 제1 조립 홀(34H1)을 향해 연장될 수 있다.
실시예에 따르면, 제1 연장 라인(321-1b)의 제1 전극(3211) 및 제2 전극(3212)은 각각은 제1 조립 홀(34H1)과 수직으로 중첩되지 않고, 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 조립 홀(34H1)과 수직으로 중첩되므로, 제1 연장 라인(321-1b)의 제1 전극(3211) 및 제2 전극(3212)은 각각은 제1 조립 홀(34H1) 내에 배치되지 않고, 제1 연장 전극(321-2b)만 제1 조립 홀(34H1) 내에 배치될 수 있다. 제2 연장 라인(322-1b)은 제1 조립 홀(34H1)과 수직으로 중첩되지 않고, 제2 연장 전극(322-2b)은 제1 조립 홀(34H1)과 수직으로 중첩되므로, 제2 연장 라인(322-1b)은 각각은 제1 조립 홀(34H1) 내에 배치되지 않고, 제2 연장 전극(322-2b)만 제1 조립 홀(34H1) 내에 배치될 수 있다. 이에 따라, 제1 조립 홀(34H1)에 두께가 얇은 제1 연장 전극(321-2b)과 제2 연장 전극(322-2b)만 배치되므로, 제1 조립 배선(321)과 제2 조립 배선(322)에 인가된 교류 전압에 의해 형성된 DEP force가 균일해져 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 향상될 수 있다.
아울러, 실시예에 따르면, 제1 연장 라인(321-1b)과 제2 연장 라인(322-1b)이 각각 제1 버스 라인(321-1a)과 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제1 조립 홀(34H1)을 향해 연장됨으로써, 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 각각의 선 저항이 줄어 교류 전압의 전압 강하나 신호 왜곡이 방지되어 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 향상될 수 있다.
[제6 실시예]
도 20은 제6 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
도 20에 도시한 바와 같이, 제1 연장 라인(321-1b)은 제1 전극(3211) 및 제2 전극(3212)을 포함할 수 있다. 제2 연장 라인(322-1b)은 제1 전극(3221) 및 제2 전극(3222)을 포함할 수 있다. 제1 조립 홀(34H1)의 중심을 제1 방향(X)을 따라 가로지르는 기준 선에 대해 제1 연장 라인(321-1b)의 제1 전극(3211)과 제2 연장 라인(322-1b)의 제1 전극(3221)은 서로 대칭적인 구조를 가질 수 있다. 제1 조립 홀(34H1)의 중심을 제1 방향(X)을 따라 가로지르는 기준 선에 대해 제1 연장 라인(321-1b)의 제2 전극(3212)과 제2 연장 라인(322-1b)의 제2 전극(3222)은 서로 대칭적인 구조를 가질 수 있다.
제1 연장 라인(321-1b)의 제1 전극(3211) 및 제2 전극(3212)은 각각 제1 연장 라인(321-1b)으로부터 제1 조립 홀(34H1)을 향해 연장될 수 있다. 제2 연장 라인(322-1b)의 제1 전극(3221) 및 제2 전극(3222)은 각각 제2 연장 라인(322-1b)으로부터 제1 조립 홀(34H1)을 향해 연장될 수 있다.
실시예에 따르면, 제1 연장 라인(321-1b)의 제1 전극(3211) 및 제2 전극(3212)은 각각은 제1 조립 홀(34H1)과 수직으로 중첩되지 않고, 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 조립 홀(34H1)과 수직으로 중첩되므로, 제1 연장 라인(321-1b)의 제1 전극(3211) 및 제2 전극(3212)은 각각은 제1 조립 홀(34H1) 내에 배치되지 않고, 제1 연장 전극(321-2b)만 제1 조립 홀(34H1) 내에 배치될 수 있다. 제2 연장 라인(322-1b)의 제1 전극(3221) 및 제2 전극(3222)은 각각은 제1 조립 홀(34H1)과 수직으로 중첩되지 않고, 제2 연장 전극(322-2b)은 제1 조립 홀(34H1)과 수직으로 중첩되므로, 제2 연장 라인(322-1b)의 제1 전극(3221) 및 제2 전극(3222)은 각각은 제1 조립 홀(34H1) 내에 배치되지 않고, 제2 연장 전극(322-2b)만 제1 조립 홀(34H1) 내에 배치될 수 있다. 이에 따라, 제1 조립 홀(34H1)에 두께가 얇은 제1 연장 전극(321-2b)과 제2 연장 전극(322-2b)만 배치되므로, 제1 조립 배선(321)과 제2 조립 배선(322)에 인가된 교류 전압에 의해 형성된 DEP force가 균일해져 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 향상될 수 있다.
아울러, 실시예에 따르면, 제1 연장 라인(321-1b)과 제2 연장 라인(322-1b)이 각각 제1 버스 라인(321-1a)과 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제1 조립 홀(34H1)을 향해 연장됨으로써, 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 각각의 선 저항이 줄어 교류 전압의 전압 강하나 신호 왜곡이 방지되어 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 향상될 수 있다.
[제7 실시예]
도 21은 제7 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
제7 실시예는 제1 연장 라인(321-1b) 및 제2 연장 라인(322-1b) 각각 제3 전극(3213, 3223)을 더 포함되는 것을 제외하고 제6 실시예(도 20)와 동일하다.
도 21에 도시한 바와 같이, 제1 연장 라인(321-1b)은 제1 전극(3211), 제2 전극(3212) 및 제3 전극(3213)을 포함할 수 있다. 제2 연장 라인(322-1b)은 제1 전극(3221), 제2 전극(3222) 및 제3 전극(3223)을 포함할 수 있다. 제1 조립 홀(34H1)의 중심을 제1 방향(X)을 따라 가로지르는 기준 선에 대해 제1 연장 라인(321-1b)의 제1 전극(3211)과 제2 연장 라인(322-1b)의 제1 전극(3221)은 서로 대칭적인 구조를 가질 수 있다. 제1 조립 홀(34H1)의 중심을 제1 방향(X)을 따라 가로지르는 기준 선에 대해 제1 연장 라인(321-1b)의 제2 전극(3212)과 제2 연장 라인(322-1b)의 제2 전극(3222)은 서로 대칭적인 구조를 가질 수 있다. 제1 조립 홀(34H1)의 중심을 제1 방향(X)을 따라 가로지르는 기준 선에 대해 제1 연장 라인(321-1b)의 제3 전극(3213)과 제2 연장 라인(322-1b)의 제2 전극(3223)은 서로 대칭적인 구조를 가질 수 있다.
제1 연장 라인(321-1b)의 제3 전극(3213)는 제1 전극(3211)과 제2 전극(3212) 사이에 위치될 수 있다. 제1 연장 라인(321-1b)의 제1 전극(3211), 제2 전극(3212) 및 제3 전극(3213) 각각은 길이가 상이할 수 있다. 제1 전극(3211)의 길이와 제2 전극(3212)의 길이는 동일할 수 있다. 제3 전극(3213)의 길이는 제1 전극(3211)의 길이 또는 제2 전극(3212)의 길이보다 작을 수 있다.
제2 연장 라인(322-1b)의 제3 전극(3223)는 제1 전극(3221)과 제2 전극(3222) 사이에 위치될 수 있다. 제2 연장 라인(322-1b)의 제1 전극(3221), 제2 전극(3222) 및 제3 전극(3223) 각각은 길이가 상이할 수 있다. 제1 전극(3221)의 길이와 제2 전극(3222)의 길이는 동일할 수 있다. 제3 전극(3223)의 길이는 제1 전극(3221)의 길이 또는 제2 전극(3222)의 길이보다 작을 수 있다.
제1 연장 라인(321-1b)의 제1 전극(3211), 제2 전극(3212) 및 제3 전극(3213)은 각각 제1 연장 라인(321-1b)으로부터 제1 조립 홀(34H1)을 향해 연장될 수 있다. 제2 연장 라인(322-1b)의 제1 전극(3221), 제2 전극(3222) 및 제3 전극(3223)은 각각 제2 연장 라인(322-1b)으로부터 제1 조립 홀(34H1)을 향해 연장될 수 있다.
실시예에 따르면, 제1 연장 라인(321-1b)의 제1 전극(3211), 제2 전극(3212) 및 제3 전극(3213)은 각각은 제1 조립 홀(34H1)과 수직으로 중첩되지 않고, 제1 연장 전극(321-2b)은 제1 조립 홀(34H1)과 수직으로 중첩되므로, 제1 연장 라인(321-1b)의 제1 전극(3211), 제2 전극(3212) 및 제3 전극(3213)은 각각은 제1 조립 홀(34H1) 내에 배치되지 않고, 제1 연장 전극(321-2b)만 제1 조립 홀(34H1) 내에 배치될 수 있다. 제2 연장 라인(322-1b)의 제1 전극(3221), 제2 전극(3222) 및 제3 전극(3223)은 각각은 제1 조립 홀(34H1)과 수직으로 중첩되지 않고, 제2 연장 전극(322-2b)은 제1 조립 홀(34H1)과 수직으로 중첩되므로, 제2 연장 라인(322-1b)의 제1 전극(3221), 제2 전극(3222) 및 제3 전극(3223)은 각각은 제1 조립 홀(34H1) 내에 배치되지 않고, 제2 연장 전극(322-2b)만 제1 조립 홀(34H1) 내에 배치될 수 있다. 이에 따라, 제1 조립 홀(34H1)에 두께가 얇은 제1 연장 전극(321-2b)과 제2 연장 전극(322-2b)만 배치되므로, 제1 조립 배선(321)과 제2 조립 배선(322)에 인가된 교류 전압에 의해 형성된 DEP force가 균일해져 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 향상될 수 있다.
아울러, 실시예에 따르면, 제1 연장 라인(321-1b)과 제2 연장 라인(322-1b)이 각각 제1 버스 라인(321-1a)과 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 제1 조립 홀(34H1)을 향해 연장됨으로써, 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322) 각각의 선 저항이 줄어 교류 전압의 전압 강하나 신호 왜곡이 방지되어 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 향상될 수 있다.
[제8 실시예]
도 22는 제8 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
제8 실시예는 제1 조립 배선(321)의 제1 연장 라인(321-1b)과 제2 조립 배선(322)의 제2 연장 라인(322-1b)을 제외하고는 제1 실시예(도 13)와 동일하다.
제1 실시예(도 13)에서는 제1 연장 라인(321-1b) 및 제2 연장 라인(322-1b)이 각각 제1 조립 홀(34H1)의 둘레를 따라 배치되는데 반해, 제8 실시예에서는 제1 연장 라인(321-1b) 및 제2 연장 라인(322-1b)이 각각 제1 조립 홀(34H1)의 둘레를 따라 배치되지 않는다.
예컨대, 제8 실시예에서 제2 방향(Y)에 따른 제1 연장 라인(321-1b)의 폭(W13a)는 제1 실시예에서 제2 방향(Y)에 따라 제1 연장 라인(321-1b)의 폭(W13a)보다 작을 수 있다. 제8 실시예에서 제2 방향(Y)에 따른 제2 연장 라인(322-1b)의 폭(W23a)는 제1 실시예에서 제2 방향(Y)에 따라 제2 연장 라인(322-1b)의 폭(W23a)보다 작을 수 있다.
예컨대, 제8 실시예에서 제1 연장 라인(321-1b)은 제1 버스 라인(321-1a)으로부터 연장되어 제1 조립 홀(34H1)에 접하되, 제1 조립 홀(34H1)에 접하는 제1 연장 라인(321-1b)의 끝단이 직선 상에 위치될 수 있다. 제8 실시예에서 제2 연장 라인(322-1b)은 제2 버스 라인(322-1a)으로부터 연장되어 제1 조립 홀(34H1)에 접하되, 제1 조립 홀(34H1)에 접하는 제2 연장 라인(322-1b)의 끝단이 직선 상에 위치될 수 있다.
[제9 실시예]
도 23은 제9 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
제9 실시예는 제1 방향(X)에 따른 제2 연장 라인(322-1b)의 폭(W22a)은 제8 실시예(도 22)에서 제1 방향(X)에 따른 제2 연장 라인(322-1b)의 폭(W22a)보다 작을 수 있다.
나머지 구성 요소의 형상이나 구조는 제8 실시예(도 22)와 동일하다.
[제10 실시예]
도 24는 제10 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
제10 실시예는 2개의 전극(3221, 3222)으로 구성되는 제2 연장 라인(322-1b)을 제외하고 제8 실시예(도 22)와 동일하다.
이들 2개의 전극(3221, 3222)의 구조나 형상은 제3 실시예(도 17)의 설명으로부터 용이하게 이해될 수 있다.
[제11 실시예]
도 25는 제11 실시예로서, 도 11의 실시예에 따른 조립 기판의 제1 서브 화소를 확대한 평면도이다.
제11 실시예는 3개의 전극(3221, 3222, 3223)으로 구성되는 제2 연장 라인(322-1b)을 제외하고 제8 실시예(도 22)와 동일하다.
이들 3개의 전극(3221, 3222, 3223)의 구조나 형상은 제4 실시예(도 18)의 설명으로부터 용이하게 이해될 수 있다.
[디스플레이 장치]
도 26은 실시예에 따른 디스플레이 장치를 도시한 단면도이다. 도 27은 실시예에 따른 디스플레이 장치에 구비된 반도체 발광 소자를 도시한 단면도이다.
도 26을 참조하면, 실시예에 따른 디스플레이 장치(300)는 기판(310), 제1 조립 배선(321), 제2 조립 배선(322), 제1 절연층(320), 격벽(340), 반도체 발광 소자(150), 연결 전극(330), 제2 절연층(350) 및 전극 배선(360)을 포함할 수 있다.
기판(310), 제1 조립 배선(321), 제2 조립 배선(322), 제1 절연층(320) 및 격벽(340)은 앞서 도 14와 관련하여 설명한 바 있으므로, 상세한 설명은 생략한다.
도 14에 도시된 조립 기판(300A) 상에 자가 조립 공정을 이용하여 반도체 발광 소자(150)가 조립된 후, 후공정을 수행하여 연결 전극(330), 제2 절연층(350) 및 전극 배선(360) 각각이 형성될 수 있다.
앞서 기술한 바와 같이, 다양한 실시예(도 13, 도 16 내지 도 18, 도 19 내지 도 25)에 따른 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)의 구조나 형상에 의해 제1 조립 배선(321) 및 제2 조립 배선(322)에 인가된 교류 전압에 전압 강하나 신소 왜곡이 발생하지 않아, 자가 조립시 반도체 발광 소자(150)의 조립율이 현저하게 향상될 수 있다.
반도체 발광 소자(150)는 발광부(151, 152, 153), 제1 전극(154), 제2 전극(155) 및 패시베이션층(157)을 포함할 수 있다.
발광부는 제1 도펀트를 포함하는 제1 도전형 반도체층(151), 제1 도전형 반도체층 상에 활성층(152) 및 활성층(152) 상에 배치되고 제2 도펀트를 포함하는 제2 도전형 반도체층(153)을 포함할 수 있다. 예컨대, 제1 도펀트는 n형 도펀트이고, 제2 도펀트는 p형 도펀트일 수 있다.
실시예에서 반도체 발광 소자(150)는 수직형 반도체 발광 소자이지만, 수평형 발광 소자, 플립칩형 발광 소자 등일 수도 있다.
연결 전극(330)은 제1 조립 홀(340H1)에 배치될 수 있다. 예컨대, 연결 전극(330)은 제1 조립 홀(340H1)에서 반도체 발광 소자(150)의 제1 도전형 반도체층(151)과 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322)을 전기적으로 연결할 수 있다. 예컨대, 연결 전극(330)의 일측은 반도체 발광 소자(150)의 제1 도전형 반도체층(151)의 측부에 전기적으로 연결되고, 연결 전극(330)의 타측은 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322)의 상면 일부에 전기적으로 연결될 수 있다. 예컨대, 연결 전극(330)이 반도체 발광 소자(150)의 제1 도전형 반도체층(151)의 측부 둘레를 따라 반도체 발광 소자(150)와 전기적으로 연결될 수 있다. 따라서, 연결 전극(330)과 제1 도전형 반도체층(151) 간의 접촉 면적이 현저하게 증가되므로, 전류가 제1 도전형 반도체층(151)에서 연결 전극(330)으로 보다 신속하고 원활하게 흘러 광 효율이 향상될 수 있다.
도 27에 도시한 바와 같이, 제1 전극(1540)는 발광부(15, 152, 153)이 하측에서 발광부(151, 152, 153)의 측부로 연장되는 연장 영역(154a)를 포함할 수 있다. 이러한 경우, 연결 전극(330)이 반도체 발광 소자(150)의 제1 도전형 반도체층(151)의 측부 대신에 제1 전극(154)의 연장 영역(154a)에 연결됨으로써, 반도체 발광 소자(150)의 제1 도전형 반도체층(151)로부터 연결 전극(330)으로 전류가 보다 신속하게 원활하게 흐르도록 하여 광 효율이 향상될 수 있다.
예컨대, 연결 전극(330)은 제1 절연층(320)을 통해 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322)의 상면의 일부에 접할 수 있다. 예컨대, 연결 전극(330)은 반도체 발광 소자(150)의 제1 전극(154)의 측부에 접할 수 있다. 연결 전극(330)의 두께는 격벽(340)의 두께보다 작을 수 있다.
한편, 연결 전극(330)은 적어도 하나 이상의 층을 포함할 수 있다. 예컨대, 연결 전극(330)은 전기 전도도가 우수하고, 반사율이 높으며, 열 전도율이 높은 금속을 포함할 수 있다. 연결 전극(330)은 알루미늄(Al)이나 은(Ag)을 포함할 수 있다. 알루미늄(Al)은 산화되기 쉽다. 이에 따라, 연결 전극(330)은 알루미늄(Al)의 산화 방지를 위해 몰리브덴(Mo)을 포함할 수 있다.
연결 전극(330)은 제1 층, 제2 층 및 제3 층을 포함할 수 있다. 제1 층은 제2 층의 아래에 배치되고, 제3 층은 제2 층 상에 배치될 수 있다. 예컨대, 제2 층은 알루미늄이나 은을 포함할 수 있다. 제1 층 또는 제2 층 중 적어도 하나는 몰리브덴을 포함할 수 있다.
제2 절연층(350)은 격벽(340) 상에 배치되어, 반도체 발광 소자(150)를 보호할 수 있다. 제2 절연층(350)은 반도체 주변의 제1 조립 홀(340H1)에 배치되어, 반도체 발광 소자(150)를 단단하게 고정시킬 수 있다. 또한, 제2 절연층(350)은 반도체 발광 소자(150) 상에 배치되어, 반도체 발광 소자(150)를 외부의 충격으로부터 보호하고, 이물질에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있다.
제2 절연층(350)은 이후 공정에서 형성되는 레이어(layer)가 일정한 두께로 형성될 수 있도록 하는 평탄화층으로서의 역할을 할 수 있다. 이에 따라, 제2 절연층(350)의 상면은 평평한 면을 가질 수 있다. 제2 절연층(350)은 유기 물질 또는 무기 물질로 형성될 수 있다. 이에 따라, 전극 배선(360)이 평평한 면을 갖는 제2 절연층(350)의 상면 상에 단선 없이 용이하게 형성될 수 있다.
전극 배선(360)은 제1 서브 화소(PX1), 제2 서브 화소(PX2) 및 제3 서브 화소(PX3) 각각에 배치될 수 있다. 전극 배선(360)의 일측은 신호 라인(미도시)에 연결되고 전극 배선(360)의 타측은 반도체 발광 소자(150)의 제2 전극(155)에 연결될 수 있다.
예컨대, 전극 배선(360)은 광이 투과될 수 있는 투명한 도전성 재질로 이루어질 수 있다. 예컨대, 전극 배선(360)은 ITO, IZO 등을 포함할 수 있지만, 이에 대해서는 한정하지 않는다.
연결 전극(330)에 연결된 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322)과 전극 배선(360)에 의해 공급된 전원에 의해 반도체 발광 소자(150)가 발광될 수 있다. 연결 전극(330)에 연결된 제1 조립 배선(321) 및/또는 제2 조립 배선(322)은 제1 전극 배선으로 사용되고, 전극 배선(360)은 제2 전극 배선이 될 수 있다.
한편, 앞서 기술한 디스플레이 장치는 디스플레이 패널일 수 있다. 즉, 실시예에서, 디스플레이 장치와 디스플레이 패널은 동일한 의미로 이해될 수 있다. 실시예에서, 실질적인 의미에서의 디스플레이 장치는 디스플레이 패널과 영상을 디스플레이하기 위해 디스플레이 패널을 제어할 수 있는 컨트롤러(또는 프로세서)를 포함할 수 있다.
상기의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다. 실시예의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 실시예의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 실시예의 범위에 포함된다.
실시예는 영상이나 정보를 디스플레이하는 디스플레이 분야에 채택될 수 있다. 실시예는 반도체 발광 소자를 이용하여 영상이나 정보를 디스플레이하는 디스플레이 분야에 채택될 수 있다. 반도체 발광 소자는 마이크로급 반도체 발광 소자나 나노급 반도체 발광 소자일 수 있다.
예컨대, 실시예는 TV, 사이니지, 스마트 폰, 모바일 폰, 이동 단말기, 자동차용 HUD, 노트북용 백라이트 유닛, VR이나 AR용 디스플레이 장치에 채택될 수 있다.

Claims (17)

  1. 복수의 서브 화소를 포함하는 기판;
    상기 복수의 서브 화소 각각에 제1 조립 배선;
    상기 복수의 서브 화소 각각에 제2 조립 배선;
    상기 제1 조립 배선 및 상기 제2 조립 배선 상에 조립 홀을 갖는 격벽; 및
    상기 조립 홀에 반도체 발광 소자;를 포함하고,
    상기 제1 조립 배선은,
    제1 버스 라인; 및
    상기 제1 버스 라인 상에 제1 조립 전극;을 포함하고,
    상기 제1 버스 라인의 일부는 상기 조립 홀에 인접하여 배치되고,
    상기 제1 조립 전극의 일부는 상기 조립 홀에 배치되는
    디스플레이 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 조립 전극은 상기 제1 버스 라인을 둘러싸는
    디스플레이 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1 조립 배선은,
    상기 제1 버스 라인으로부터 상기 조립 홀을 향해 연장되는 제1 연장 라인; 및
    상기 제1 조립 전극으로부터 상기 조립 홀을 향해 연장되는 제1 연장 전극;을 포함하는
    디스플레이 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 연장 라인은 상기 조립 홀과 수직으로 중첩되지 않고,
    상기 제1 연장 전극은 상기 조립 홀과 수직으로 중첩되는
    디스플레이 장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 제1 조립 전극의 폭은 상기 제1 버스 라인의 폭보다 크고,
    제1 방향에 따른 상기 제1 연장 전극의 폭은 상기 제1 연장 라인의 폭보다 크고,
    제2 방향에 따른 상기 제1 연장 전극의 폭은 상기 제1 연장 라인의 폭보다 작은
    디스플레이 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제2 조립 배선은,
    제2 버스 라인; 및
    상기 제2 버스 라인 상에 제2 조립 전극;을 포함하고,
    상기 제2 버스 라인의 일부는 상기 조립 홀에 인접하여 배치되고,
    상기 제2 조립 전극의 일부는 상기 조립 홀에 배치되는
    디스플레이 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제2 조립 전극은 상기 제2 버스 라인을 둘러싸는
    디스플레이 장치.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 제2 조립 배선은,
    상기 제2 버스 라인으로부터 상기 조립 홀을 향해 연장되는 제2 연장 라인; 및
    상기 제2 조립 전극으로부터 상기 조립 홀을 향해 연장되는 제2 연장 전극;을 포함하는
    디스플레이 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제2 연장 라인은 상기 조립 홀과 수직으로 중첩되지 않고,
    상기 제2 연장 전극은 상기 조립 홀과 수직으로 중첩되는
    디스플레이 장치.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 제2 조립 전극의 폭은 상기 제2 버스 라인의 폭보다 크고,
    제1 방향에 따른 상기 제2 연장 전극의 폭은 상기 제2 연장 라인의 폭보다 크고,
    제2 방향에 따른 상기 제2 연장 전극의 폭은 상기 제2 연장 라인의 폭보다 작은
    디스플레이 장치.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 제1 연장 전극은 상기 제1 조립 전극으로부터 연장된 적어도 2개 이상의 전극을 포함하는
    디스플레이 장치.
  12. 제8항에 있어서,
    상기 제2 연장 전극은 상기 제2 조립 전극으로부터 연장된 적어도 2개 이상의 전극을 포함하는
    디스플레이 장치.
  13. 제8항에 있어서,
    상기 제1 연장 전극과 상기 제2 연장 전극은 서로 대칭적인 구조를 갖는
    디스플레이 장치.
  14. 제8항에 있어서,
    상기 제1 연장 전극과 상기 제2 연장 전극은 서로 비대칭적인 구조를 갖는
    디스플레이 장치.
  15. 제6항에 있어서,
    상기 제1 버스 라인 및 상기 제2 버스 라인은 각각 상기 복수의 서브 화소를 가로질러 배치되고,
    상기 제1 조립 전극은 상기 복수의 서브 화소 각각에서 상기 제1 버스 라인에 전기적으로 연결되고,
    상기 제2 조립 전극은 상기 복수의 서브 화소 각각에서 상기 제2 버스 라인에 전기적으로 연결되는
    디스플레이 장치.
  16. 제6항에 있어서,
    상기 제1 조립 전극의 두께는 상기 제1 버스 라인의 두께보다 작고,
    상기 제2 조립 전극의 두께는 상기 제2 버스 라인의 두께보다 작은
    디스플레이 장치.
  17. 제1항에 있어서,
    상기 반도체 발광 소자의 측부에 연결되는 연결 전극; 및
    상기 반도체 발광 소자의 상측에 연결되는 전극 배선;을 포함하고,
    상기 연결 전극은,
    상기 제1 조립 배선 또는 상기 제2 조립 배선 중 적어도 하나에 연결되는
    디스플레이 장치.
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