WO2023276310A1

WO2023276310A1 - 偏光板用樹脂フィルム、その製造方法、偏光板及び表示装置

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Publication number: WO2023276310A1
Application number: PCT/JP2022/011428
Authority: WO
Inventors: 浩西村; 奈々恵藤枝; 康大久保; 公志田坂; 崇南條
Original assignee: コニカミノルタ株式会社
Priority date: 2021-06-29
Filing date: 2022-03-14
Publication date: 2023-01-05
Also published as: JPWO2023276310A1; CN117581124A; TW202309625A

Abstract

本発明の課題は、表示装置における偏光板に用いた場合、半導体基板の発熱による接着力の低下及びコントラストの劣化を抑制する偏光板用樹脂フィルム、さらに、当該偏光板用樹脂フィルムを備えた偏光板及び表示装置を提供することである。　本発明の偏光板用樹脂フィルムは、少なくとも、ヨウ素を含有する偏光子層を備えた偏光板に用いる偏光板用樹脂フィルムであって、少なくとも、熱可塑性樹脂及びヨウ素移動抑制剤を含有し、膜厚が、１μｍ以上、１５μｍ未満であることを特徴とする。

Description

偏光板用樹脂フィルム、その製造方法、偏光板及び表示装置

　本発明は、偏光板用樹脂フィルム、その製造方法、偏光板及び表示装置に関する。より詳しくは、表示装置における偏光板に用いた場合、半導体基板の発熱による接着力の低下及びコントラストの劣化を抑制する偏光板用樹脂フィルム、その製造方法、さらに、当該偏光板用樹脂フィルムを備えた偏光板及び表示装置に関する。

　近年、第５世代移動通信システム（５Ｇ）の導入及び普及が見込まれ、５Ｇに対応した通信機器の開発が進められている。５Ｇでは、前世代の４Ｇと比較して、通信速度が大幅に高速化しているため、５Ｇ対応の通信機器については、高速大容量の情報処理が求められ、これに伴い機器の発熱による耐久性の低下が懸念されている。

　ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムに沃素（以下、「ヨウ素」ともいう。）を染色した偏光子層を用いた表示装置については、高精細化による色の切り替え回数や画素数の増加に伴い、半導体基板が発熱し、ディスプレイの色味の劣化によるコントラストの低下が生じることがわかってきた。

　コントラストの低下の要因としては、ＰＶＡヨウ素染色偏光子層（以下、単に「偏光子層」ともいう。）に配向していたヨウ素が移動し、偏光子層の偏光性能が低下することが考えられる。また、通常、偏光子層は、接着剤層を介して、両側に保護層を貼合する。そのため、移動したヨウ素が保護層内に入り込んでしまい、保護層と偏光子層との接着力を低下させ、コントラストの低下を更に助長させると考えられる。

　特許文献１では、薄膜であっても、透明性が高く、高温高湿下で偏光性能の劣化を抑制できる偏光板保護フィルムとして、ヨウ素取り込み低減剤及び酸性分を含むセルロースアシレートフィルムの技術が開示されている。しかし、５Ｇ対応の通信機器による高温環境下においては、ポリヨウ素（Ｉ_３ ^－又はＩ_５ ^－）の動きがさらに活発になり、移動しやすくなるため、保護フィルムと接着剤層との界面で、ポリヨウ素とフィルム中の酸性分との反応物が析出し、コントラストが低下することがわかった。

　特許文献２では、熱歪みによる光漏れを生じない光学補償シートとして、環境条件による光学特性の変動を抑え、発生する温度分布を均一化した光学補償シートの技術が開示されている。また、当該光学補償シートに含まれるセルロースアセテートフィルムが、更に高熱伝導性粒子を含有することにより、熱伝導率を１Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上にでき、熱伝導率が高いほど、より優れた効果が得られると示されている。
　しかし、当該技術では、５Ｇ対応の通信機器による更なる高温環境下においては、コントラストの低下を抑制できず、改善の余地があった。

特開２０１４－８０５７１号公報特許第４２８５９１９号公報

　本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、表示装置における偏光板に用いた場合、半導体基板の発熱による接着力の低下及びコントラストの劣化を抑制する偏光板用樹脂フィルム、その製造方法、さらに、当該偏光板用樹脂フィルムを備えた偏光板及び表示装置を提供することである。

　本発明者は、少なくともヨウ素を含有する偏光子層を備えた偏光板に用いる偏光板用樹脂フィルムにおいて、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討した結果、少なくとも、ヨウ素移動抑制剤を含有し、膜厚を特定の範囲内とし、ポリヨウ素の移動を抑制することにより、半導体基板の発熱による接着力の低下及びコントラストの劣化を抑制できることを見出し本発明に至った。
　すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。

　１．少なくとも、ヨウ素を含有する偏光子層を備えた偏光板に用いる偏光板用樹脂フィルムであって、少なくとも、熱可塑性樹脂及びヨウ素移動抑制剤を含有し、膜厚が、１μｍ以上、１５μｍ未満であることを特徴とする偏光板用樹脂フィルム。

　２．前記ヨウ素移動抑制剤が、金属酸化物粒子であり、前記偏光板用樹脂フィルムの熱伝導度が、０．２～０．６Ｗ／ｍ・Ｋの範囲内であることを特徴とする第１項に記載の偏光板用樹脂フィルム。

　３．前記金属酸化物粒子の平均一次粒径と平均二次粒径の比の値が、下記式（１）を満たすことを特徴とする第２項に記載の偏光板用樹脂フィルム。
　式（１）：２０＜平均二次粒径／平均一次粒径＜２０００

　４．前記ヨウ素移動抑制剤が、非有機酸であり、かつ、前記非有機酸のハンセン溶解度パラメータ（ＨＳＰ値）のδＰ（極性力）が、５～９ＭＰａ^０．５の範囲内であることを特徴とする第１項に記載の偏光板用樹脂フィルム。

　５．前記非有機酸の前記ＨＳＰ値のδＤ（分散力）とδＰ（極性力）の比の値が、下記式（２）を満たすことを特徴とする第４項に記載の偏光板用樹脂フィルム。
　式（２）：２＜δＤ（分散力）／δＰ（極性力）＜４

　６．前記ヨウ素移動抑制剤が、さらに、硫酸イオンを含有し、かつ、前記硫酸イオンの含有量が、偏光板用樹脂フィルムの固形分総質量に対して、１～１００質量ｐｐｍの範囲内であることを特徴とする第４項又は第５項に記載の偏光板用樹脂フィルム。

　７．前記熱可塑性樹脂が、シクロオレフィン樹脂であることを特徴とする第１項から第６項までのいずれか一項に記載の偏光板用樹脂フィルム。

　８．第１項から第７項までのいずれか一項に記載の偏光板用樹脂フィルムを製造する偏光板用樹脂フィルムの製造方法であって、離型層を有する樹脂フィルムを支持体として、前記離型層上に、熱可塑性樹脂及びヨウ素移動抑制剤を含有する溶液を塗布する工程を有することを特徴とする偏光板用樹脂フィルムの製造方法。

　９．樹脂フィルム上に接着剤層及び偏光子層を有する偏光板であって、前記樹脂フィルムとして、第１項から第７項までのいずれか一項に記載の偏光板用樹脂フィルムを具備することを特徴とする偏光板。

　１０．前記偏光子層の厚さが、４～１５μｍの範囲内であることを特徴とする第９項に記載の偏光板。

　１１．偏光板を具備する表示装置であって、前記偏光板として、第９項又は第１０項に記載の偏光板を具備することを特徴とする表示装置。

　本発明の上記手段により、表示装置における偏光板に用いた場合、半導体基板の発熱による接着力の低下及びコントラストの劣化を抑制する偏光板用樹脂フィルム、さらに、当該偏光板用樹脂フィルムを備えた偏光板及び表示装置を提供することができる。

　本発明の効果の発現機構又は作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。

　ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムにヨウ素を染色した偏光子層（以下、「ＰＶＡヨウ素染色偏光子層」又は、単に、「偏光子層」ともいう。）は、詳しくは、ＰＶＡフィルムにヨウ素を染色させた後、フィルムを延伸し、ヨウ素を配向させて偏光機能を得る。また、通常、偏光子層は、接着剤層を介して、両側に保護層（本発明においては、「偏光板用樹脂フィルム」ともいう。）を貼合する。

　偏光子層を更に薄くする場合、つまり、ＰＶＡフィルムを更に薄くする場合には、延伸時に破断しやすくなるため、十分な張力をかけて延伸できず、配向性が低下しやすい。加えて、偏光機能を従来と同等にするためには、つまり、従来と同等量のポリヨウ素（Ｉ_３ ^－、Ｉ_５ ^－）を含有させるためには、単位体積当たりのポリヨウ素の含有量を増やす必要がある。

　しかし、フィルムが吸着配向できるポリヨウ素量は限られており、限度量を超えてポリヨウ素を吸着配向させようとすると、一部のポリヨウ素は吸着しきれず、離脱しやすい（移動しやすい）状態となる。このため、配向性が低下し、偏光子層の偏光機能が低下してしまう。また、移動しやすいポリヨウ素は、ＰＶＡフィルムからさらに保護層中へと移動し、保護層の性能を低下させる可能性がある。

　特に、５Ｇ対応の通信機器においては、従来の機器と比較して、半導体基板の発熱量が多く、更なる高温環境下であるため、ポリヨウ素が熱エネルギーによりさらに活発に移動しやすくなる。したがって、更なる高温環境下においても、ポリヨウ素をＰＶＡフィルム中に保持できることが好ましい。

　ヨウ素の移動を抑制する手段としては、偏光子層内の熱を放熱させて、ポリヨウ素が吸収する熱エネルギーを削減させる手段と、活発に移動するポリヨウ素と電荷反発を生じさせて、保護層中への移動を阻止する手段とがある。

　本発明においては、保護層中に、上記の手段でヨウ素の移動を抑制するヨウ素移動抑制剤を含有させることにより、ポリヨウ素をＰＶＡフィルム中に保持できる。

　なお、従来のヨウ素移動抑制技術は、ポリヨウ素と化学反応を生じさせ、反応物を生成することにより、ポリヨウ素が保護層に与える影響を軽減させていた。この反応物は、保護層と接着剤層との界面、又は、接着剤層と偏光子層との界面、に析出しやすく、接着力の低下を招いていた。

　しかし、本発明に係るヨウ素移動抑制剤は、ポリヨウ素をＰＶＡフィルム中に保持できるため、偏光フィルムの偏光機能の低下を抑制でき、さらに、ポリヨウ素との反応物を生成しないため、偏光子層と保護層との接着力の低下を抑制できる。したがって、本発明の偏光板用樹脂フィルムを、保護層として表示装置における偏光板に用いた場合、半導体基板の発熱による接着力の低下及びコントラストの劣化を抑制できる。

本発明の偏光板用樹脂フィルムの製造方法を実施するための製造装置Ｂ２００の模式図本発明の偏光板の基本的な層構成の断面図

　本発明の偏光板用樹脂フィルムは、少なくとも、ヨウ素を含有する偏光子層を備えた偏光板に用いる偏光板用樹脂フィルムであって、少なくとも、熱可塑性樹脂及びヨウ素移動抑制剤を含有し、膜厚が、１μｍ以上、１５μｍ未満であることを特徴とする。
　この特徴は、下記実施形態に共通する又は対応する技術的特徴である。

　本発明の実施形態としては、偏光子層内の熱を放出する観点から、前記ヨウ素移動抑制剤が、金属酸化物粒子であり、前記偏光板用樹脂フィルムの熱伝導度が、０．２～０．６Ｗ／ｍ・Ｋの範囲内であることが好ましい。

　また、金属酸化物粒子による放熱が促進される観点から、前記金属酸化物粒子の平均一次粒径と平均二次粒径の比の値が、下記式（１）を満たすことが好ましい。
　式（１）：２０＜平均二次粒径／平均一次粒径＜２０００

　電荷を有するポリヨウ素と反発する観点から、前記ヨウ素移動抑制剤が、非有機酸であり、かつ、前記非有機酸のハンセン溶解度パラメータ（ＨＳＰ値）のδＰ（極性力）が、５～９ＭＰａ^０．５の範囲内であることが好ましい。

　また、非有機酸による電荷反発が促進される観点から、前記非有機酸の前記ＨＳＰ値のδＤ（分散力）とδＰ（極性力）の比の値が、下記式（２）を満たすことが好ましい。
　式（２）：２＜δＤ（分散力）／δＰ（極性力）＜４

　さらに、非有機酸の極性が安定する観点から、前記ヨウ素移動抑制剤が、さらに、硫酸イオンを含有し、かつ、前記硫酸イオンの含有量が、偏光板用樹脂フィルムの固形分総質量に対して、１～１００質量ｐｐｍの範囲内であることが好ましい。

　偏光板の耐水性が向上する観点から、前記熱可塑性樹脂が、シクロオレフィン樹脂であることが好ましい。

　本発明の偏光板用樹脂フィルムの製造方法は、離型層を有する樹脂フィルムを支持体として、前記離型層上に、熱可塑性樹脂及びヨウ素移動抑制剤を含有する溶液を塗布する工程を有することを特徴とする。

　本発明の偏光板用樹脂フィルムは、本発明の偏光板に好適に具備され、さらに、本発明の表示装置に好適に具備される。
　また、より薄型の偏光板及び表示装置を得られる観点から、前記偏光子層の厚さが、４～１５μｍの範囲内であることが好ましい。

　以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。ただし、数値の後に、「超」又は「未満」とある場合には、数値を下限値及び上限値として含まない。例えば、「１～１５μｍ未満」とは、詳しくは、「１μｍ以上、１５μｍ未満」のことをいう。

　≪１　本発明の偏光板用樹脂フィルム≫
　本発明の偏光板用樹脂フィルムは、少なくとも、ヨウ素を含有する偏光子層を備えた偏光板に用いる偏光板用樹脂フィルムであって、少なくとも、熱可塑性樹脂及びヨウ素移動抑制剤を含有し、膜厚が、１μｍ以上、１５μｍ未満であることを特徴とする。

　本発明の偏光板用樹脂フィルムは、接着剤層を介して、偏光子層に貼合し、偏光子層を保護することができる。偏光子層の両側を当該偏光板用樹脂フィルムで保護してもよいし、一方は他の従来公知の保護層を用いてもよい。

　本発明の偏光板用樹脂フィルムは、厚さが１μｍ未満であると、保護層としての十分な強度が得られない。また、１５μｍ以上であると、偏光板を薄膜化できず、通信機器に搭載する電池の容量が不十分となる。

　［１．１　熱可塑性樹脂］
　本発明において、熱可塑性樹脂とは、セルロースアシレート樹脂を除く熱可塑性樹脂を指す。用いられる樹脂は、セルロースアシレート樹脂以外であれば、特に限定されず、例としては、シクロオレフィン樹脂（ＣＯＰ）、ポリカーボネート樹脂、（メタ）アクリル樹脂、スチレン・（メタ）アクリレート共重合体、フマル酸ジエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂等が挙げられる。

　偏光板の耐水性が向上する観点から、本発明に係る熱可塑性樹脂は、含水率が、３．０％以下であることが好ましい。保管環境を２３℃、５５％ＲＨとすることで含水率を上記範囲内に調整することができる。含水率は、以下の方法により測定できる。

　熱可塑性樹脂約１ｇを用意し、その絶乾時の質量（ＷＢ）を測定した。この試料を、２５℃(常温)の蒸留水中に１時間浸漬した後、含水率が平衡状態になった試料の質量（ＷＡ）を測定し、下記式より含水率を算出した。
　平衡含水率（質量％）＝｛（ＷＡ－ＷＢ）／ＷＡ｝×１００

　〈シクロオレフィン系樹脂〉
　本発明において、シクロオレフィン系樹脂は、シクロオレフィン単量体の重合体、又はシクロオレフィン単量体とそれ以外の共重合性単量体との共重合体であることが好ましい。

　シクロオレフィン単量体としては、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体であることが好ましく、下記一般式（Ａ－１）又は（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体であることがより好ましい。

　一般式（Ａ－１）中、Ｒ¹～Ｒ⁴は、各々独立して、水素原子、炭素原子数１～３０の炭化水素基、又は極性基を表す。ｐは、０～２の整数を表す。ただし、Ｒ¹～Ｒ⁴の全てが同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ¹とＲ²が同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ³とＲ⁴が同時に水素原子を表すことはないものとする。

　一般式（Ａ－１）においてＲ¹～Ｒ⁴で表される炭素原子数１～３０の炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１～１０の炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数１～５の炭化水素基であることがより好ましい。炭素原子数１～３０の炭化水素基は、例えば、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はケイ素原子を含む連結基をさらに有していてもよい。そのような連結基の例には、カルボニル基、イミノ基、エーテル結合、シリルエーテル結合、チオエーテル結合等の２価の極性基が含まれる。炭素原子数１～３０の炭化水素基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基等が含まれる。

　一般式（Ａ－１）においてＲ¹～Ｒ⁴で表される極性基の例には、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基及びシアノ基が含まれる。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましい。

　一般式（Ａ－１）におけるｐは、偏光板用樹脂フィルムの耐熱性を高める観点から、１又は２であることが好ましい。ｐが１又は２であると、得られる重合体がかさ高くなり、ガラス転移温度が向上しやすいためである。また、湿度に対して若干応答できるようになり、積層体としてのカールバランスを制御しやすくなるというメリットもある。

　一般式（Ａ－２）中、Ｒ⁵は、水素原子、炭素数１～５の炭化水素基、又は炭素数１～５のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。Ｒ⁶は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子）を表す。ｐは、０～２の整数を表す。

　一般式（Ａ－２）におけるＲ⁵は、炭素数１～５の炭化水素基を表すことが好ましく、炭素数１～３の炭化水素基を表すことがより好ましい。

　一般式（Ａ－２）におけるＲ⁶は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基を表すことが好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基がより好ましい。

　一般式（Ａ－２）におけるｐは、偏光板用樹脂フィルムの耐熱性を高める観点から、１又は２を表すことが好ましい。ｐが１又は２を表すと、得られる重合体がかさ高くなり、ガラス転移温度が向上しやすいためである。

　一般式（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体は、有機溶媒への溶解性を向上させる点から好ましい。一般的に、有機化合物は、対称性を崩すことによって結晶性が低下するため、有機溶媒への溶解性が向上する。一般式（Ａ－２）におけるＲ⁵及びＲ⁶は、分子の対称軸に対して片側の環構成炭素原子のみに置換されているので、分子の対称性が低く、すなわち、一般式（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体は溶解性が高いため、偏光板用樹脂フィルムを溶液流延法によって製造する場合に適している。

　シクロオレフィン単量体の重合体における一般式（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン樹脂を構成する全シクロオレフィン単量体の合計に対して、７０モル％以上であることが好ましく、８０モル％以上であることがより好ましく、１００モル％であることがさらに好ましい。一般式（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を一定以上含むと、樹脂の配向性が高まるため、位相差（リターデーション）値が上昇しやすい。

　以下、一般式（Ａ－１）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１～１４に示し、一般式（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１５～３４に示す。

　シクロオレフィン単量体と共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロオレフィン単量体と開環共重合可能な共重合性単量体、及びシクロオレフィン単量体と付加共重合可能な共重合性単量体等が含まれる。

　開環共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン及びジシクロペンタジエン等のシクロオレフィンが含まれる。

　付加共重合可能な共重合性単量体の例には、不飽和二重結合含有化合物、ビニル系環状炭化水素単量体及び（メタ）アクリレート等が含まれる。不飽和二重結合含有化合物の例には、炭素原子数２～１２（好ましくは２～８）のオレフィン系化合物が含まれ、その例には、エチレン、プロピレン及びブテン等が含まれる。ビニル系環状炭化水素単量体の例には、４－ビニルシクロペンテン及び２－メチル－４－イソプロペニルシクロペンテン等のビニルシクロペンテン系単量体が含まれる。（メタ）アクリレートの例には、メチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート及びシクロヘキシル（メタ）アクリレート等の炭素原子数１～２０のアルキル（メタ）アクリレートが含まれる。

　シクロオレフィン単量体と共重合性単量体との共重合体におけるシクロオレフィン単量体の含有割合は、共重合体を構成する全単量体の合計に対して、２０～８０モル％の範囲内であることが好ましく、３０～７０モル％の範囲内であることがより好ましい。

　シクロオレフィン系樹脂は、前述のとおり、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体、好ましくは一般式（Ａ－１）又は（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を重合又は共重合して得られる重合体であり、その例には、以下のものが含まれる。

　１）シクロオレフィン単量体の開環重合体
　２）シクロオレフィン単量体と、それと開環共重合可能な共重合性単量体との開環共重合体
　３）上記１）又は２）の開環（共）重合体の水素添加物
　４）上記１）又は２）の開環（共）重合体をフリーデルクラフツ反応により環化した後、水素添加した（共）重合体
　５）シクロオレフィン単量体と、不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体
　６）シクロオレフィン単量体のビニル系環状炭化水素単量体との付加共重合体及びその水素添加物
　７）シクロオレフィン単量体と、（メタ）アクリレートとの交互共重合体
　上記１）～７）の重合体は、いずれも公知の方法、例えば、特開２００８－１０７５３４号公報や特開２００５－２２７６０６号公報に記載の方法で得ることができる。例えば、上記２）の開環共重合に用いられる触媒や溶媒は、例えば、特開２００８－１０７５３４号公報の段落００１９～００２４に記載のものを使用できる。上記３）及び６）の水素添加に用いられる触媒は、例えば、特開２００８－１０７５３４号公報の段落００２５～００２８に記載のものを使用できる。上記４）のフリーデルクラフツ反応に用いられる酸性化合物は、例えば、特開２００８－１０７５３４号公報の段落００２９に記載のものを使用できる。上記５）～７）の付加重合に用いられる触媒は、例えば、特開２００５－２２７６０６号公報の段落００５８～００６３に記載のものを使用できる。上記７）の交互共重合反応は、例えば、特開２００５－２２７６０６号公報の段落００７１及び００７２に記載の方法で行うことができる。

　中でも、上記１）～３）及び５）の重合体が好ましく、上記３）及び５）の重合体がより好ましい。すなわち、シクロオレフィン系樹脂は、得られるシクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度を高くし、かつ光透過率を高くすることができる点で、下記一般式（Ｂ－１）で表される構造単位と下記一般式（Ｂ－２）で表される構造単位の少なくとも一方を含むことが好ましく、一般式（Ｂ－２）で表される構造単位のみを含むか、又は一般式（Ｂ－１）で表される構造単位と一般式（Ｂ－２）で表される構造単位の両方を含むことがより好ましい。一般式（Ｂ－１）で表される構造単位は、前述の一般式（Ａ－１）で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位であり、一般式（Ｂ－２）で表される構造単位は、前述の一般式（Ａ－２）で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位である。

　一般式（Ｂ－１）中、Ｘは、－ＣＨ＝ＣＨ－又は－ＣＨ₂ＣＨ₂－を表す。Ｒ¹～Ｒ⁴及びｐは、それぞれ一般式（Ａ－１）のＲ¹～Ｒ⁴及びｐと同義である。

　一般式（Ｂ－２）中、Ｘは、－ＣＨ＝ＣＨ－又は－ＣＨ₂ＣＨ₂－を表す。Ｒ⁵～Ｒ⁶及びｐは、それぞれ一般式（Ａ－２）のＲ⁵～Ｒ⁶及びｐと同義である。

　本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、市販品であってもよい。シクロオレフィン系樹脂の市販品の例には、ＪＳＲ（株）製のアートン（登録商標）Ｇ（例えば、Ｇ７８１０等）、アートンＦ、アートンＲ（例えば、Ｒ４５００、Ｒ４９００及びＲ５０００等）、及びアートンＲＸ（例えば、ＲＸ４５００等）が含まれる。

　シクロオレフィン系樹脂の固有粘度〔η〕ｉｎｈは、３０℃の測定において、０．２～５ｃｍ³／ｇの範囲内であることが好ましく、０．３～３ｃｍ³／ｇの範囲内であることがより好ましく、０．４～１．５ｃｍ³／ｇの範囲内であることがさらに好ましい。

　シクロオレフィン系樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、８０００～１０００００の範囲内であることが好ましく、１００００～８００００の範囲内であることがより好ましく、１２０００～５００００の範囲内であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００００～３０００００の範囲内であることが好ましく、３００００～２５００００の範囲内であることがより好ましく、４００００～２０００００の範囲内であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系樹脂の数平均分子量や重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にてポリスチレン換算にて測定することができる。

　＜ゲルパーミエーションクロマトグラフィー＞
　溶媒：　　　メチレンクロライド
　カラム：　　Ｓｈｏｄｅｘ　Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
　カラム温度：２５℃
　試料濃度：　０．１質量％
　検出器：　　ＲＩ　Ｍｏｄｅｌ　５０４（ＧＬサイエンス社製）
　ポンプ：　　Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
　流量：　　　１．０ｍＬ／ｍｉｎ
　校正曲線：　標準ポリスチレンＳＴＫ　ｓｔａｎｄａｒｄ　ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝５００～２８０００００の範囲内の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

　固有粘度〔η〕ｉｎｈ、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲内であることにより、シクロオレフィン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性、及び偏光板用樹脂フィルムとしての成形加工性が良好となる。

　シクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、通常、１１０℃以上であり、１１０～３５０℃の範囲内であることが好ましく、１２０～２５０℃の範囲内であることがより好ましく、１２０～２２０℃の範囲内であることがさらに好ましい。Ｔｇが１１０℃以上であることにより、高温条件下での変形を抑制しやすい。一方、Ｔｇが３５０℃以下であることにより、成形加工が容易となり、成形加工時の熱による樹脂の劣化も抑制しやすい。

　シクロオレフィン系樹脂の含有量は、偏光板用樹脂フィルムの総質量に対して、７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましい。

　〈ポリカーボネート系樹脂〉
　本発明において、ポリカーボネート系樹脂としては、特に限定されず、化学的性質及び物性の点から芳香族ポリカーボネート樹脂が好ましく、特にビスフェノールＡ系ポリカーボネート樹脂が好ましい。その中でも、ビスフェノールＡにベンゼン環、シクロヘキサン環、及び脂肪族炭化水素基等を導入したビスフェノールＡ誘導体を用いたものがより好ましい。さらに、ビスフェノールＡの中央の炭素に対して、非対称に上記官能基が導入された誘導体を用いて得られた、単位分子内の異方性を減少させた構造のポリカーボネート系樹脂が特に好ましい。このようなポリカーボネート系樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡの中央の炭素の２個のメチル基をベンゼン環に置き換えたもの、ビスフェノールＡのそれぞれのベンゼン環の一の水素をメチル基やフェニル基などで中央炭素に対し非対称に置換したものを用いて得られるポリカーボネート樹脂が特に好ましい。

　具体的には、４，４′－ジヒドロキシジフェニルアルカン又はこれらのハロゲン置換体から、ホスゲン法又はエステル交換法によって得られるものであり、例えば、４，４′－ジヒドロキシジフェニルメタン、４，４′－ジヒドロキシジフェニルエタン、４，４′－ジヒドロキシジフェニルブタン等が挙げられる。また、この他にも例えば、特開２００６－２１５４６５号公報、特開２００６－９１８３６号公報、特開２００５－１２１８１３号公報、特開２００３－１６７１２１号公報、特開２００９－１２６１２８号公報、特開２０１２－３１３６９号公報、特開２０１２－６７３００号公報、国際公開第００／２６７０５号等に記載されているポリカーボネート系樹脂が挙げられる。

　ポリカーボネート系樹脂は、ポリスチレン系樹脂、メチルメタクリレート系樹脂、及びセルロースアセテート系樹脂等の透明性樹脂と混合して使用してもよい。また、セルロースアセテート系樹脂を用いて形成した樹脂フィルムの少なくとも一方の面にポリカーボネート系樹脂を含有する樹脂層を積層してもよい。

　ポリカーボネート系樹脂は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０℃以上であって、含水率（２３℃水中、２４時間の条件で測定した値）が０．３％以下のものであることが好ましい。また、Ｔｇが１２０℃以上であって、含水率が０．２％以下のものがより好ましい。

　〈（メタ）アクリル系樹脂〉
　本発明において、（メタ）アクリル系樹脂は、少なくともメタクリル酸メチルに由来する構造単位（Ｕ１）と、フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）とを含むことが好ましい。フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）を含む（メタ）アクリル系樹脂は、偏光板用樹脂フィルムの光弾性係数を小さくし、吸湿膨張してもムラの発生が起こりにくいという利点もある。

　（メタ）アクリル系樹脂は、上記以外の他の構造単位をさらに含んでもよい。そのような他の構造単位の例には、アクリル酸アダマンチルなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル；アクリル酸２－エチルヘキシルなどの（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステルなどが含まれる。中でも、フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）を含むことによる脆性の悪化を低減する観点などから、アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）をさらに含むことが好ましい。

　すなわち、（メタ）アクリル系樹脂は、メタクリル酸メチルに由来する構造単位（Ｕ１）と、フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）と、アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）とを含むことがより好ましい。

　メタクリル酸メチルに由来する構造単位（Ｕ１）の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂を構成する全構造単位に対して、５０～９５質量％の範囲内であることが好ましく、７０～９０質量％の範囲内であることがより好ましい。

　フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）は、比較的剛直な構造を有するため、偏光板用樹脂フィルムの機械的強度を向上できる。また、フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）は、比較的嵩高い構造を有しており、樹脂マトリクス中において、ゴム粒子が移動できるミクロな空隙を有している。そのため、偏光板用樹脂フィルムの表層部に、ゴム粒子を偏在させやすい。

　フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂を構成する全構造単位に対して、１～２５質量％の範囲内であることが好ましい。フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）の含有量が、１質量％以上であることにより、偏光板用樹脂フィルムの高湿度環境下での保存性に優れる。また、２５質量％以下であることにより、偏光板用樹脂フィルムの脆性が過度には損なわれにくい。フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）の含有量は、上記観点から、７～１５質量％の範囲内であることがより好ましい。

　アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）は、樹脂に適度な柔軟性を付与できるため、例えばフェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）を含むことによる脆さを改善できる。

　アクリル酸アルキルエステルは、アルキル部分の炭素原子数が１～７、好ましくは１～５のアクリル酸アルキルエステルであることが好ましい。アクリル酸アルキルエステルの例には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸２－ヒドロキシエチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸２－エチルヘキシルなどが含まれる。

　アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂を構成する全構造単位に対して、１～２５質量％の範囲内であることが好ましい。アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）の含有量が、１質量％以上であることにより、（メタ）アクリル樹脂に適度な柔軟性を付与できるため、偏光板用樹脂フィルムが脆くなりすぎず、破断しにくい。また、２５質量％以下であることにより、偏光板用樹脂フィルムのＴｇが低くなりすぎず、偏光板用樹脂フィルムの高湿度環境下での保存性に優れる。アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）の含有量は、上記観点から、５～１５質量％の範囲内であることがより好ましい。

　フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）の、フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）とアクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）の合計量に対する比率は、２０～７０質量％の範囲内であることが好ましい。当該比率が、２０質量％以上であることにより、偏光板用樹脂フィルムの引張弾性率Ｇ２を高めやすく、７０質量％以下であることにより、偏光板用樹脂フィルムが脆くなりすぎない。

　（メタ）アクリル系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、１００℃以上であることが好ましく、１２０～１５０℃の範囲内であることがより好ましい。（メタ）アクリル系樹脂のＴｇが上記範囲内であることにより、偏光板用樹脂フィルムの耐熱性を高めやすい。（メタ）アクリル系樹脂のＴｇを調整するためには、例えば、フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）やアクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）の含有量を調整することが好ましい。

　（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に制限されず、目的に応じて調整することができる。（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量は、例えば、樹脂分子同士の絡み合いを促進し、偏光板用樹脂フィルムの靱性を高めて破断しにくくする観点や、湿度膨張係数（「ＣＨＥ比」ともいう。）を適度に大きくし、接着に好ましい程度のカール量に調整しやすくする観点では、１０万以上であることが好ましく、１００万以上であることがより好ましい。（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量が、１００万以上であることにより、得られる偏光板用樹脂フィルムの靱性を向上できる。それにより、当該偏光板用樹脂フィルムを、積層フィルムに搬送する際に、搬送張力によって偏光板用樹脂フィルムが破断するのを抑制することができ、搬送安定性を向上できる。（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量は、同様の観点から、１５０万～３００万の範囲内であることがさらに好ましい。重量平均分子量の測定方法は、前述の通りである。

　〈スチレン・（メタ）アクリレート共重合体〉
　本発明において、スチレン・（メタ）アクリレート共重合体（以下、スチレン・アクリル樹脂ともいう。）を用いることにより、透明性に優れた偏光板用樹脂フィルムが得られる。また、スチレン部分の共重合比率によって湿度膨張係数を調整できるため、これらの比率を変更することによって、本発明の偏光板のカールを制御することができる。

　スチレン・アクリル樹脂は、少なくとも、スチレン単量体と（メタ）アクリル酸エステル単量体とを付加重合させて形成される。スチレン単量体は、ＣＨ₂＝ＣＨ－Ｃ₆Ｈ₅の構造式で表されるスチレンの他に、スチレン構造中に公知の側鎖や官能基を有するスチレン誘導体を含む。

　また、（メタ）アクリル酸エステル単量体は、ＣＨ（Ｒ₁）＝ＣＨＣＯＯＲ₂（Ｒ₁は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ₂は炭素数が１～２４のアルキル基を表す。）で表されるアクリル酸エステルやメタクリル酸エステルの他に、これらのエステルの構造中に公知の側鎖や官能基を有するアクリル酸エステル誘導体やメタクリル酸エステル誘導体を含む。

　スチレン単量体の例としては、スチレン、ｏ－メチルスチレン、ｍ－メチルスチレン、ｐ－メチルスチレン、α－メチルスチレン、ｐ－フェニルスチレン、ｐ－エチルスチレン、２，４－ジメチルスチレン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルスチレン、ｐ－ｎ－ヘキシルスチレン、ｐ－ｎ－オクチルスチレン、ｐ－ｎ－ノニルスチレン、ｐ－ｎ－デシルスチレン及びｐ－ｎ－ドデシルスチレンが挙げられる。

　（メタ）アクリル酸エステル単量体の例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、ｔ－ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｎ－オクチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート及びフェニルアクリレートなどのアクリル酸エステル単量体；メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ－ブチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ－ブチルメタクリレート、ｎ－オクチルメタクリレート、２－エチルヘキシルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレートなどのメタクリル酸エステル；が挙げられる。

　なお、本明細書中、「（メタ）アクリル酸エステル単量体」とは、「アクリル酸エステル単量体」と「メタクリル酸エステル単量体」との総称であり、それらの一方又は両方を意味する。例えば、「（メタ）アクリル酸メチル」は、「アクリル酸メチル」及び「メタクリル酸メチル」の一方又は両方を意味する。

　上記（メタ）アクリル酸エステル単量体は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。例えば、スチレン単量体と二種以上のアクリル酸エステル単量体とを用いて共重合体を形成すること、スチレン単量体と二種以上のメタクリル酸エステル単量体とを用いて共重合体を形成すること、及び、スチレン単量体とアクリル酸エステル単量体及びメタクリル酸エステル単量体とを併用して共重合体を形成すること、のいずれも可能である。

　上記スチレン・アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、可塑性を制御しやすい観点から、５０００～１５００００の範囲内であることが好ましく、３００００～１２００００の範囲内であることがより好ましい。

　本発明に用いられるスチレン・アクリル樹脂は、市販品であっても良く、デンカ株式会社製ＭＳ樹脂「ＴＸ３２０ＸＬ」を一例として挙げることができる。

　〈フマル酸ジエステル系樹脂〉
　本発明において、フマル酸ジエステル系樹脂は、フマル酸ジイソプロピル残基単位及び炭素数１又は２のアルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位を含むフマル酸ジエステル系樹脂である。

　ここで、炭素数１又は２のアルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位における炭素数１又は２のアルキル基は、それぞれ独立しており、例えば、メチル基、エチル基が挙げられる。また、これらはフッ素、塩素などのハロゲン基；エーテル基；エステル基又はアミノ基で置換されていてもよい。炭素数１又は２のアルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位としては、例えば、フマル酸ジメチル残基単位、フマル酸ジエチル残基単位が挙げられる。また、これらは一種又は二種以上含まれていてもよい。

　具体的なフマル酸ジエステル系樹脂としては、例えば、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジメチル共重合体樹脂、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル共重合体樹脂等が挙げられる。

　フマル酸ジエステル系樹脂は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α－メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；（メタ）アクリル酸残基単位；（メタ）アクリル酸メチル残基単位、（メタ）アクリル酸エチル残基単位、（メタ）アクリル酸ブチル残基単位等の（メタ）アクリル酸エステル残基単位；酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位；アクリロニトリル残基単位；メタクリロニロリル残基単位；メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位；Ｎ－メチルマレイミド残基単位、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ－フェニルマレイミド残基単位等のＮ－置換マレイミド類残基単位；エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位；あるいはフマル酸ジｎ－ブチル残基単位、フマル酸ビス（２－エチルヘキシル）残基単位等の前記フマル酸ジエステル残基単位以外のフマル酸ジエステル類残基、及び桂皮酸及び桂皮酸エステル単位より選ばれる一種又は二種以上を挙げることができる。

　本発明に用いられるフマル酸ジエステル系樹脂の配合割合は、フマル酸ジイソプロピル残基単位５０～９９モル％、及び、炭素数１又は２のアルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位１～５０モル％が好ましく、位相差フィルムとした時の位相差特性や強度の観点から、フマル酸ジイソプロピル残基単位６０～９５モル％、及び、炭素数１又は２のアルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位５～４０モル％からなるフマル酸ジエステル系樹脂が、特に好ましい。

　本発明に用いられるフマル酸ジエステル系樹脂は、前述のゲル・パーミエイション・クロマトグラフィーにより測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が、５００００～２５００００の範囲内であることが好ましい。

　（フマル酸ジエステル系樹脂の合成例）
　撹拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた１Ｌのオートクレーブに、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（信越化学社製、商品名メトローズ６０ＳＨ－５０）２ｇ、蒸留水６００ｇ、フマル酸ジイソプロピル３３０ｇ、フマル酸ジエチル７０ｇ、及び重合開始剤であるｔ－ブチルパーオキシピバレート３ｇを入れ、窒素バブリングを１時間行なった後、４００ｒｐｍで撹拌しながら５０℃で２４時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。室温まで冷却し、生成したポリマー粒子を含む懸濁液をろ別し、蒸留水及びメタノールで洗浄することによりフマル酸ジエステル系樹脂を得た（収率：７５％）。

　得られたフマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は１２００００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／フマル酸ジエチル残基単位＝８４／１６（モル％）であることを確認した。

　〈ポリアリレート系樹脂〉
　本発明において、ポリアリレート系樹脂を用いることにより、靱性に優れたフィルムが得られる。当該ポリアリレート系樹脂は、少なくとも芳香族ジアルコール由来の構成単位と芳香族ジカルボン酸由来の構成単位とを含む。

　本発明に用いられるポリアリレート系樹脂は、市販品であっても良く、ユニチカ株式会社製ＰＡＲ樹脂「Ｕ－１００」、重量平均分子量（Ｍｗ）１０００００を一例として挙げることができる。

　［１．２　ヨウ素移動抑制剤］
　本発明において、「ヨウ素移動抑制剤」とは、物理的にヨウ素の移動を抑制する機能を有する化学材料を指し、放熱性材料及び電荷反発性材料が含まれる。
　放熱性材料とは、ポリヨウ素が、熱エネルギーを吸収して活発に移動するのを抑制するために、偏光子層内の熱を、放熱しやすくする材料のことをいう。
　また、電荷反発性材料とは、電荷を有するポリヨウ素に対して、電荷反発を起こすことにより、ヨウ素の移動を妨げる材料のことをいう。

　［１．２．１　放熱性材料］
　放熱性材料としては、比較的高い熱伝導性を有し、本発明の偏光板用樹脂フィルムの熱伝導性を向上させることができる材料であれば、特に制限されない。例としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート、ガラス、シリコンゴム、ダイヤモンド、ダイヤモンド状炭素（ＤＬＣ）、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化マグネシウム、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム等が挙げられる。これらのうち、熱伝導性の観点から、金属酸化物粒子であることが好ましい。また、偏光板用樹脂フィルムの透明性を損なわない観点から、透明な粒子を用いることが好ましい。

　上記放熱性材料をヨウ素移動抑制剤として含有する偏光板用樹脂フィルムの熱伝導度は、０．２～０．６Ｗ／ｍ・Ｋの範囲内であることが好ましい。上記範囲内であることにより、本発明の偏光板用樹脂フィルムを備えた偏光板が具備された表示装置において、使用に伴い偏光子層が発熱しても、また、半導体基板の発熱により偏光子層に熱が伝わっても、当該偏光板用樹脂フィルムの熱伝導性が比較的高い、つまり、当該偏光板用樹脂フィルムが放熱性を有しているため、ポリヨウ素に熱が伝わりにくく、熱によるポリヨウ素の移動を抑制できる。なお、熱伝導度が、０．２Ｗ／ｍ・Ｋ以上であることにより、偏光板用樹脂フィルムが十分な放熱性を有し、０．６Ｗ／ｍ・Ｋ以下であることにより、他の部材との温度差による表示装置の不具合が生じにくい。

　本発明の樹脂フィルムの熱伝導度は、以下のようにして測定できる。
　樹脂フィルムを、ＴＯ－３型ヒーターケースと銅板との間に挟み、フィルムの厚さの１０％を圧縮する。次いで、銅製ヒーターケースに電力５Ｗをかけて４分間保持し、銅製ヒーターケースと銅板との温度差を測定する。熱導電率は、下記式により算出できる。
　熱伝導度｛Ｗ／ｍ・Ｋ｝＝｛電力（Ｗ）×厚さ（ｍ）｝／｛温度差（Ｋ）×測定面積（ｍ^２）｝

　［１．２．１．１　金属酸化物粒子］
　本発明において、偏光板用樹脂フィルムの熱伝導度を上記の好適な範囲に調整しやすい観点から、放熱性材料は、金属酸化物粒子であることが好ましい。金属酸化物粒子としては、例えば、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化チタン等が挙げられる。これらは、シランカップリング剤などで表面処理されていてもよい。

　本発明に用いられる金属酸化物粒子としては、市販品を用いることができ、酸化アルミニウムの市販品としては、例えば、商品名「ＡＳ－５０」（昭和電工社製）、商品名「ＡＬ－１３ＫＴ」（平均粒径９６μｍ）（昭和電工社製）などが挙げられる。また、酸化亜鉛の市販品としては、商品名「ＳｎＯ－３１０」（住友大阪セメント社製）、商品名「ＳｎＯ－３５０」（住友大阪セメント社製）、商品名「ＳｎＯ－４１０」（住友大阪セメント社製）などが挙げられる。

　本発明において、「一次粒子」との用語は、結晶体及び結晶体が特定の面を共有する強い凝集体を構成したもの（「アグリレート」という。）の総称として使用する。なお、当該一次粒子が凝集して形成された粒子凝集体（「アグロメレート」という。）を「二次粒子」と称する。

　本発明において、平均一次粒径（上記一次粒子の粒子径）及び平均二次粒径（上記二次粒子の粒子径）は、以下のとおり定義される。

　超薄切片法により調製した試料において、一次粒子（又は二次粒子）を透過型電子顕微鏡（例えば、日立製Ｈ－７１００ＦＡ型）で観察し、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径（いわゆる円相当径）を一次粒径（又は二次粒径）とする。そして、このようにして得られた１０００個の一次粒子（又は二次粒子）の粒径を平均し、その平均値を、平均一次粒径（又は平均二次粒径）とする。

　金属酸化物粒子の平均一次粒径は、５０～１００ｎｍの範囲内であることが好ましく、８０ｎｍ程度であることがより好ましい。また、平均二次粒径は、１０００ｎｍ以上であることが好ましく、１２００ｎｍ以上であることがより好ましい。なお、粒子の形状は、球状であっても、針状であってもよい。

　金属酸化物粒子の平均一次粒径と平均二次粒径との比の値が、下記式を満たすことが、好ましい。
　２０＜平均二次粒径／平均一次粒径＜２０００

　本発明に係る金属酸化物粒子は、偏光子層の熱エネルギーを吸収し、その熱エネルギーを隣接する粒子に伝搬することにより放熱機能を実現している。本発明の偏光板用樹脂フィルムにおいては、金属酸化物粒子同士の間は、比較的熱伝導性の低い熱可塑性樹脂で隔てられているため、熱エネルギーを伝搬しづらい。そのため、金属酸化物粒子が適度に凝集体を形成することにより、粒子同士が接触するため、熱エネルギーをより伝搬でき、放熱機能が向上する。

　金属酸化物粒子の平均一次粒径と平均二次粒径との比の値が、２０超であることにより、十分な放熱機能が得られる。比の値は、大きいほど好ましいが、２０００未満であることにより、表示装置内における各部材の温度差が大きくなりすぎず、表示装置の劣化及び不具合を防止できる。金属酸化物粒子の平均一次粒径と平均二次粒径との比の値は、金属酸化物粒子を分散することにより制御することができる。

　放熱性材料の含有量は、熱可塑性樹脂の総質量に対して、５～５０質量％の範囲内であることが好ましい。５質量％以上であることにより、十分な熱伝導性が得られ、５０質量％以下であることにより、生産性の面で十分な強度が得られる。

　［１．２．２　電荷反発性材料］
　電荷反発性材料としては、電荷を有するポリヨウ素に対して、電荷反発を起こすことにより、ヨウ素の移動を妨げる材料であれば、特に制限されない。ポリヨウ素（Ｉ_３ ^－又はＩ_５ ^－）と電荷反発を起こさせる観点から、このような電荷反発性材料としては、負電荷を有する化合物又は負の極性を有する化合物であることが好ましい。

　［１．２．２．１　非有機酸］
　本発明において、ポリヨウ素との中和による反応物が析出しづらい観点から、電荷反発性材料は、非有機酸であることが好ましい。本発明において、非有機酸とは、カルボン酸基、スルホン酸基等のプロトン供与基を有さない、炭素数が５以上の有機化合物のことをいう。電荷が偏在する場合においても反応性が低く安定している観点から、炭素数が１５以上の有機化合物であることが、より好ましい。極性を有する非有機酸としては、特に制限されないが、アニオン性界面活性剤、陰イオン性配位子、トリフェニルメタン誘導体、バルビツール酸系化合物等が挙げられる。

　非有機酸の分子量は、２００～１０００の範囲内であることが好ましく、２５０～８００の範囲内であることがより好ましく、２８０～６００の範囲内であることがさらに好ましい。分子量が、２００以上であることにより、偏光板用樹脂フィルム製膜時の非有機酸の揮散による消失を抑制できる。また、１０００以下であることにより、フィルムに含まれる熱可塑性樹脂と非有機酸との相溶性が良好で、低ヘイズのフィルムが得られる。

　非有機酸は、ハンセン溶解度パラメータ（ＨＳＰ値）のδＰ（極性力）が、５～９ＭＰａ^０．５の範囲内であることが好ましい。δＰが５ＭＰａ^０．５以上であることにより、非有機酸がポリヨウ素と十分に電荷反発する。δＰが９ＭＰａ^０．５以下であることにより、樹脂との親和性を有し、ブリードアウトを抑制する。また、適度な反発力とすることにより、偏光子層中のポリヨウ素の配向性を保持できる。ハンセン溶解度パラメータについては、詳しくは後述する。

　〈アニオン性界面活性剤〉
　アニオン性界面活性剤としては、特に制限されないが、長鎖アルキル基を有する界面活性剤であることが好ましく、炭素数６～２０のアルキル基を有する界面活性剤であることがより好ましい。

　例としては、硫酸エステル塩型として、ラウリル硫酸ナトリウム、ヘキシル硫酸ナトリウム、ヘプチル硫酸ナトリウム、オクチル硫酸ナトリウム、ノニル硫酸ナトリウム、デシル硫酸ナトリウム、ドデシル硫酸ナトリウム、テトラデシル硫酸ナトリウム、ヘキサデシル硫酸ナトリウム、オクタデシル硫酸ナトリウム、エイコシル硫酸ナトリウム、あるいはこれらのカリウム塩、カルシウム塩、アンモニウム塩等のアルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンヘキシルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンヘプチルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンノニルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンデシルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンドデシルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンテトラデシルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンヘキサデシルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンオクタデシルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンエイコシルエーテル硫酸ナトリウム、あるいはこれらのカリウム塩、アンモニウム塩等のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンヘキシルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンヘプチルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンデシルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンテトラデシルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンヘキサデシルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンオクタデシルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンエイコシルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、あるいはこれらのカリウム塩、アンモニウム塩等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、カプロン酸エタノールアミド硫酸ナトリウム、カプリル酸エタノールアミド硫酸ナトリウム、カプリン酸エタノールアミド硫酸ナトリウム、ラウリン酸エタノールアミド硫酸ナトリウム、パルミチン酸エタノールアミド硫酸ナトリウム、ステアリン酸エタノールアミド硫酸ナトリウム、オレイン酸エタノールアミド硫酸ナトリウムあるいはこれらのカリウム塩、更にはこれらエタノールアミドに代えてプロパノールアミド、ブタノールアミド等の高級脂肪酸アルカノールアミド硫酸エステル塩、硫酸化油、高級アルコールエトキシサルフェート、モノグリサルフェートなどが挙げられる。

　また、上記硫酸エステル塩型以外に、オレイン酸ナトリウムやヒマシ油カリ石鹸等の脂肪酸石鹸、Ｎ－アシルアミノ酸及びその塩、ポリオキシエチレンアルキルエステルカルボン酸塩、アシル化ペプチド等のカルボン酸塩型、ヘキシルスルホン酸ナトリウム、ヘプチルスルホン酸ナトリウム、オクチルスルホン酸ナトリウム、ノニルスルホン酸ナトリウム、デシルスルホン酸ナトリウム、ドデシルスルホン酸ナトリウム、テトラデシルスルホン酸ナトリウム、ヘキサデシルスルホン酸ナトリウム、オクタデシルスルホン酸ナトリウム、炭素数６～１８の脂肪族アルキルスルホン酸ナトリウムの混合物、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸の塩ホルマリン重縮合物、メラミンスルホン酸の塩ホルマリン縮合物、ジアルキルスルホコハク酸エステル塩、アルケニルコハク酸塩、スルホコハク酸アルキル二塩、ポリオキシエチレンアルキルスルホコハク酸二塩、アルキルスルホ酢酸塩、α－オレフィンスルホン酸塩、Ｎ－アシルメチルタウリン塩、ジメチル－５－スルホイソフタレートナトリウム塩等のスルホン酸塩型、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸塩、アルキルリン酸塩等のリン酸エステル塩型などが挙げられる。

　アニオン性界面活性剤としては、市販品を用いてもよく、例えば、竹本油脂株式会社製のエレカット（登録商標）Ｓ－４１２－２、花王株式会社製のエレクトロストリッパー（登録商標）Ｆ等が挙げられる。

　〈陰イオン性配位子〉
　本発明における陰イオン性配位子とは、２価の遷移金属イオン（例えば、コバルト（II）、ニッケル（II）、銅（II）、鉄（II）、亜鉛（II）等が挙げられる。）と錯体を形成することができる陰イオン性配位子のことをいう。

　陰イオン性配位子としては、下記一般式（Ｌ１）～（Ｌ３）で表される化合物を好ましく用いることができる。ただし、いずれの化合物においても、炭素数は５以上である。

　式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表し、Ｘ_１は－ＮＲ_５Ｒ_６、ＯＲ_７、ＳＲ_８（Ｒ_５、Ｒ_６、Ｒ_７及びＲ_８は各々、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す）を表す。ｎは０又は１を表す。又、Ｒ_１とＲ_３が直接結合して二重結合を形成してもよく、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｘ_１の内の二つで環を形成してもよい。

　Ｒ_１～Ｒ_４で表されるアルキル基としては、メチル、エチル、ｉ－プロピル、ｔ－ブチル、ドデシル、１－ヘキシルノニル基等が挙げられ、シクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロヘキシル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル、アダマンチル基等が挙げられ、アリール基としては、フェニル、ｏ－トリル、ｏ－アニシル、１－ナフチル、９－アンスリル基等が挙げられる。

　これらのアルキル基、シクロアルキル基、アリール基は置換基を有することが可能である。当該置換基としては、直鎖又は分岐のアルキル基（メチル、エチル、ｉ－プロピル、ｔ－ブチル、ドデシル、１－ヘキシルノニル等）、シクロアルキル基（シクロプロピル、シクロヘキシル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル、アダマンチル等）、アルケニル基（２－プロピレン、オレイル等）、アリール基（フェニル、ｏ－トリル、ｏ－アニシジル、１－ナフチル、９－アントラニル等）、複素環基（２－テトラヒドロフリル、２－チエニル、４－イミダゾリル、２－ピリジル等）、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、シアノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基（アセチル、ピバロイル等）、アリールカルボニル基（ベンゾイル、ペンタフルオロベンゾイル、３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾイル等）、オキシカルボニル基（メトキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル等のアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル、２，４－ジ－ｔ－アミルフェノキシカルボニル、１－ナフチルオキシカルボニル等のアリールオキシカルボニル基）、複素環オキシカルボニル基（２－ピリジルオキシカルボニル、１－フェニルピラゾリル－５－オキシカルボニル等）、カルバモイル基（ジメチルカルバモイル、４－（２，４－ジ－ｔ－アミルフェノキシ）ブチルアミノカルボニル等のアルキルカルバモイル基、フェニルカルバモイル、１－ナフチルカルバモイル等のアリールカルバモイル基）、アルコキシ基（メトキシ、２－エトキシエトキシ等）、アリールオキシ基（フェノキシ、２，４－ジ－ｔ－アミルフェノキシ、４－（４－ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ等）、複素環オキシ基（４－ピリジルオキシ、２－ヘキサヒドロピラニルオキシ等）、カルボニルオキシ基（アセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシ、ピバロイルオキシ等のアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ、ペンタフルオロベンゾイルオキシ等のアリールオキシ基等）、ウレタン基（Ｎ，Ｎ－ジメチルウレタン等のアルキルウレタン基、Ｎ－フェニルウレタン、Ｎ－（ｐ－シアノフェニル）ウレタン等のアリールウレタン基）、スルホニルオキシ基（メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ドデカンスルホニルオキシ等のアルキルスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ－トルエンスルホニルオキシ等のアリールスルホニルオキシ基）、アミノ基（ジメチルアミノ、シクロヘキシルアミノ、ドデシルアミノ等のアルキルアミノ基、アニリノ、ｐ－ｔ－オクチルアニリノ等のアリールアミノ基）、スルホニルアミノ基（メタンスルホニルアミノ、ヘプタフルオロプロパンスルホニルアミノ、ヘキサデシルスルホニルアミノ等のアルキルスルホニルアミノ基、ｐ－トルエンスルホニルアミノ、ペンタフルオロベンゼンスルホニルアミノのアリールスルホニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（Ｎ，Ｎ－ジメチルスルファモイルアミノ等のアルキルスルファモイルアミノ基、Ｎ－フェニルスルファモイルアミノ等のアリールスルファモイルアミノ基）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ミリストイルアミノ等のアルキルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ等アリールカルボニルアミノ基）、ウレイド基（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノウレイド等のアルキルウレイド基、Ｎ－フェニルウレイド、Ｎ－（ｐ－シアノフェニル）ウレイド等のアリールウレイド基）、スルホニル基（メタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル等のアルキルスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル等のアリールスルホニル基）、スルファモイル基（ジメチルスルファモイル、４－（２，４－ジ－ｔ－アミルフェノキシ）ブチルアミノスルホニル等のアルキルスルファモイル基、フェニルスルファモイル等のアリールスルファモイル基）、アルキルチオ基（メチルチオ、ｔ－オクチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、複素環チオ基（１－フェニルテトラゾール－５－チオ、５－メチル－１，３，４－オキサジアゾール－２－チオ等）等が挙げられる。

　式中、Ｒ_９は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルフィド基又はアミノ基を表し、Ｘ_２及びＸ_３は各々、－ＮＲ_１０－、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＲ_１１（Ｒ_１２）－（Ｒ_１０、Ｒ_１１及びＲ_１２は各々、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基又はアミノ基を表す）を表し、Ｂは酸素原子又は硫黄原子を表す。又、Ｒ_９とＸ_２、Ｒ_９とＸ_３又はＸ_２とＸ_３で環を形成してもよい。

　Ｒ_９～Ｒ_１２で表されるアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基及びアミノ基は、上記Ｒ_１～Ｒ_４における置換可能な基と同義である。Ｒ_９で表されるスルフィド基としては、アルキルチオ基（メチルチオ、ｔ－オクチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、複素環チオ基（１－フェニルテトラゾール－５－チオ、５－メチル－１，３，４－オキサジアゾール－２－チオ等）等が挙げられる。

　Ｒ_９とＸ_２、Ｒ_９とＸ_３、又は、Ｘ_２とＸ_３で形成してもよい環としては、５～７員の炭素環、５～６員の複素環等が挙げられる。

　式中、Ｒ_１３、Ｒ_１４及びＲ_１５は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基又はアミノ基を表し、Ｘ_４は－ＮＲ_１６－、－Ｏ－又は－Ｓ－を表す。Ｒ_１６は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基又はアミノ基を表す。ただし、Ｘ_４が酸素の時はＲ_１３とＲ_１４で芳香環を形成し、かつ、Ｒ_１５はメチル基ではない。

　Ｒ_１３～Ｒ_１６で表されるアルキル基、シクロアルキル基及びアリール基は、上記Ｒ_１～Ｒ_４と同義である。Ｘ_４が酸素の時、Ｒ_１３とＲ_１４で形成する芳香環としては、ベンゼン、ナフタレン、ピリジン、フラン、インドール、チアゾール環等が挙げられる。

　以下に一般式（Ｌ１）～（Ｌ３）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。

　これらの化合物は、キレート化学（５）錯体化学実験法〔Ｉ〕（南江堂編）等に記載の方法に準じて合成することができる。以下に、代表的合成例を示す。

　（Ｌ３－１４の合成）
　酢酸ニッケル１７．８ｇを水１００ｍｌに溶解し、サリチル酸ドデシルエステル１５．０ｇをアセトニトリル４５ｍｌに溶解した溶液を滴下する。氷冷下で５時間撹拌し、析出した固体を濾取した。ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルにより構造を決定した。

　〈トリフェニルメタン誘導体〉
　トリフェニルメタン誘導体としては、下記一般式（Ｃ）で表される化合物を好ましく用いることができる。

　（式中、Ｘはアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルバモイル基、アリールアミノカルボニル基、又はカルボキシ基を表し、これらは置換基を有していてもよい。
　Ｒ^１１～Ｒ^１５、Ｒ^２１～Ｒ^２５、Ｒ^３１～Ｒ^３５は、各々独立に、水素原子又は置換基を表す。Ｒ^１１とＲ^２１、Ｒ^１５とＲ^３５、又はＲ^２５とＲ^３１は、単結合又は２価の連結基により結合してもよい。）

　Ｘは、アミノ基又はヒドロキシ基であることが好ましく、ヒドロキシ基であることがより好ましい。

　Ｒ^１１～Ｒ^１５、Ｒ^２１～Ｒ^２５、Ｒ^３１～Ｒ^３５は、各々独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては以下の置換基Ｔが適用できる。

　置換基Ｔとしては、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、更に好ましくは炭素数１～８であり、例えば、メチル、エチル、ｉ－プロピル、ｔ－ブチル、ｎ－オクチル、ｎ－デシル、ｎ－ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、更に好ましくは炭素数２～８であり、例えば、ビニル、アリル、２－ブテニル、３－ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、更に好ましくは炭素数２～８であり、例えば、プロパルギル、３－ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、更に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニル、ｐ－メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、更に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、更に好ましくは炭素数１～８であり、例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、更に好ましくは炭素数６～１２であり、例えばフェニルオキシ、２－ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１６、更に好ましくは炭素数１～１２であり、例えば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１６、更に好ましくは炭素数２～１２であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、更に好ましくは炭素数７～１０であり、例えば、フェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１６、更に好ましくは炭素数２～１０であり、例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１６、更に好ましくは炭素数２～１０であり、例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１６、更に好ましくは炭素数２～１２であり、例えば、メトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）が挙げられる。

　さらに、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、更に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１６、更に好ましくは炭素数１～１２であり、例えば、メタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１６、更に好ましくは炭素数０～１２であり、例えば、スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１６、更に好ましくは炭素数１～１２であり、例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１６、更に好ましくは炭素数１～１２であり、例えば、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、更に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１６、更に好ましくは炭素数１～１２であり、例えば、メシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１６、更に好ましくは炭素数１～１２であり、例えば、メタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１６、更に好ましくは炭素数１～１２であり、例えば、ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１６、更に好ましくは炭素数１～１２であり、例えば、ジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２であり、ヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には、例えば、イミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、更に好ましくは、炭素数３～２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。）などが挙げられる。中でも、より好ましくはアルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基である。
　これらの置換基は、更に置換基Ｔで置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

　一般式（Ｃ）で表される化合物は、商業的に入手してもよく、公知の方法によって合成してもよい。

　以下に一般式（Ｃ）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。

　〈バルビツール酸系化合物〉
　バルビツール酸又はその誘導体としては、下記一般式（１）で表される化合物を好ましく用いることができる。

　（式中、Ｒ¹、Ｒ³及びＲ⁵はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数３～２０のシクロアルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基又は炭素数６～２０の芳香族基を表す。）

　炭素数１～２０のアルキル基は、炭素数が１～１０のアルキル基であることが好ましく、炭素数が１～５のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１～３のアルキル基であることがさらに好ましく、メチル基又はエチル基であることが特に好ましい。
　炭素数３～２０のシクロアルキル基は、炭素数が３～１０のシクロアルキル基であることが好ましく、炭素数４～８のシクロアルキル基であることがより好ましい。シクロアルキル基の具体例として、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基等が挙げられ、シクロヘキシル基であることが特に好ましい。

　炭素数２～２０のアルケニル基は、炭素数が２～１０のアルケニル基であることが好ましく、炭素数２～５のアルケニル基であることがより好ましい。
　炭素数６～２０の芳香族基は、芳香族炭化水素基であっても芳香族複素環基であってもよいが、芳香族炭化水素基であることが好ましい。当該芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。

　Ｒ¹、Ｒ³及びＲ⁵は置換基を有してもよい。置換基としては、特に制限はなく、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０で、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、１－エチルペンチル基、ベンジル基、２－エトキシエチル基、１－カルボキシメチル基等）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０で、例えば、ビニル基、アリル基、オレイル基等）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０で、例えば、エチニル基、ブタジイニル基、フェニルエチニル基等）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３～２０で、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４－メチルシクロヘキシル基等）、アリール基（好ましくは炭素数６～２６で、例えば、フェニル基、１－ナフチル基、４－メトキシフェニル基、２－クロロフェニル基、３－メチルフェニル基等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数０～２０のヘテロ環基で、環構成ヘテロ原子が酸素原子、窒素原子、硫黄原子が好ましく、５又は６員環でベンゼン環やヘテロ環で縮環していてもよく、該環が飽和環、不飽和環、芳香環であってもよく、例えば、２－ピリジル基、４－ピリジル基、２－イミダゾリル基、２－ベンゾイミダゾリル基、２－チアゾリル基、２－オキサゾリル基等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、ベンジルオキシ基等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～２６で、例えば、フェノキシ基、１－ナフチルオキシ基、３－メチルフェノキシ基、４－メトキシフェノキシ基等）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基、ベンジルチオ基等）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２６で、例えば、フェニルチオ基、１－ナフチルチオ基、３－メチルフェニルチオ基、４－メトキシフェニルチオ基等）、アシル基（アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基を含み、炭素数は２０以下が好ましく、例えば、アセチル基、ピバロイル基、アクリロイル基、メタクロロイル基、ベンゾイル基、ニコチノイル基等）、アリーロイルアルキル基、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０で、例えば、エトキシカルボニル基、２－エチルヘキシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～２０で、例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、アミノ基（アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは炭素数０～２０で、例えば、アミノ基、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ基、Ｎ－エチルアミノ基、アニリノ基、１－ピロリジニル基、ピペリジノ基、モルホニル基等）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数０～２０で、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルホンアミド基、Ｎ－フェニルスルホンアミド基等）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０で、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルファモイル基、Ｎ－フェニルスルファモイル基等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル基、Ｎ－フェニルカルバモイル基等）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０で、例えば、アセチルアミノ基、アクリロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、ニコチンアミド基等）、シアノ基、水酸基、メルカプト基又はハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）が挙げられる。Ｒ¹、Ｒ³及びＲ⁵が有しうる上記置換基は、さらに上記置換基を有していてもよい。
　Ｒ¹、Ｒ³及びＲ⁵の各基が有してもよい上記の置換基のうち、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基が好ましい。

　〈ハンセン溶解度パラメータ（ＨＳＰ値）〉
　本発明に係る非有機酸は、ハンセン溶解度パラメータ（ＨＳＰ値）のδＰ（極性力）が、５～９ＭＰａ^０．５の範囲内であることが好ましい。δＰが５ＭＰａ^０．５以上であることにより、非有機酸がポリヨウ素と十分に電荷反発する。δＰが９ＭＰａ^０．５以下であることにより、樹脂との親和性を有し、ブリードアウトを抑制する。また、適度な反発力とすることにより、偏光子層中のポリヨウ素の配向性を保持できる。

　さらに、非有機酸のＨＳＰ値のδＤ（分散力）とδＰ（極性力）の比の値が、下記式を満たすことが好ましい。
　２＜δＤ（分散力）／δＰ（極性力）＜４
　上記範囲内であることにより、非有機酸が適度な極性を有し、かつ、分散しているため、ポリヨウ素の移動をより効果的に抑制することができる。

　　なお、以下において、ＳＰ値とＨＳＰ値について説明する。
　物質の物性、特に溶媒の溶解挙動を評価する指標として、ヒルデブラントのＳＰ値（溶解度パラメータ；δ）が従来用いられている。当該「ＳＰ値」とは、物質の凝集エネルギー密度の平方根で示される物質固有の物性値である。
　また、このＳＰ値は、ハンセンによって、分散力項（δＤ）、極性項（δＰ）、水素結合項（δＨ）の３成分に分割して物質の極性を考慮したパラメータとして提案されたハンセン溶解度パラメータ（ＨＳＰ値）を用いて、下記式のとおり表される。
　ＳＰ値＝（δＤ^２＋δＰ^２＋δＨ^２）^０．５

　ハンセン溶解度パラメータ（ＨＳＰ値）は、「分子間の相互作用が似ている２つの物質は、互いに溶解しやすい」との考えに基づいており、以下の３つのパラメータで構成され、これら３つのパラメータは三次元空間（「ハンセン空間」ともいう。）における座標とみなすことができる。２つの物質の当該座標間の距離が近ければ近いほど互いに親和性が高く、溶解しやすいと考えられる。
　δＤ：分子間の分散力によるエネルギー
　δＰ：分子間の双極子相互作用によるエネルギー
　δＨ：分子間の水素結合によるエネルギー

　なお、ハンセン溶解度パラメータにおけるδＤ、δＰ及びδＨを算出する方法は、特に制限されず、化学構造をソフトウェアに入力して算出してもよく、実験的に算出してもよいが、化学構造をソフトウェアに入力して算出することが好ましい。

　ＨＳＰ値は、市販されているソフトウェアである、ＨＳＰｉＰ　５ｔｈ　Ｅｄｉｔｉｏｎ　５．０．１０．１中の登録値又は推算値を使用できる。このソフトウェアは、ｈｔｔｐｓ：／／ｗｗｗ．ｈａｎｓｅｎ－ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ．ｃｏｍ／等のサイトから取得可能である。また、こうしたソフトウェアに基づくＨＳＰの推算方法は、例えば、Ｃ．Ｍ．Ｈａｎｓｅｎらによる文献“Ｈａｎｓｅｎ　Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ　Ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ：Ａ　Ｕｓｅｒ’ｓ　Ｈａｎｄｂｏｏｋ，Ｓｅｃｏｎｄ　Ｅｄｉｔｉｏｎ”（ＣＲＣ　Ｐｒｅｓｓ，２００７）に基づく。

　本発明に係るヨウ素移動抑制剤は、さらに硫酸イオンを含有し、かつ、硫酸イオンの含有量が、偏光板用樹脂フィルムの固形分総質量に対して、１～１００質量ｐｐｍの範囲内であることが好ましい。硫酸イオンを上記範囲内で含有することにより、偏光板用樹脂フィルム中において、非有機酸の極性が安定し、ポリヨウ素と十分に電荷反発する。

　偏光板用樹脂フィルムの固形分総質量に対する硫酸イオンの含有量の測定方法としては、キャピラリー電気泳動装置を用い、硫酸イオンを含む各イオンの標品と比較し泳動時間（ＨＰＬＣでいう保持時間）と照らし合わせて定量する。

　［１．３　その他添加剤］
　本発明の偏光板用樹脂フィルムは、必要に応じて上記以外の他の成分を更に含んでもよい。他の成分の例には、酸化防止剤、ゴム粒子、及び後述するマット剤（微粒子）、可塑剤、紫外線吸収剤などが含まれる。中でも、酸化防止剤は、当該フィルムの経時保存性向上に寄与し、ゴム粒子は、当該フィルムに靱性（しなやかさ）を付与する観点から、含有することが好ましい。

　〈酸化防止剤〉
　酸化防止剤としては、公知のものを使用することができる。特に、ラクトン系、イオウ系、フェノール系、二重結合系、ヒンダードアミン系、リン系の各化合物を好ましく用いることができる。

　上記ラクトン系化合物としては、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「ＩｒｇａｆｏｓＸＰ４０、ＩｒｇａｆｏｓＸＰ６０（商品名）」等が挙げられる。

　上記イオウ系化合物としては、例えば、住友化学株式会社から市販されている「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）　ＴＰＬ－Ｒ」及び「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）　ＴＰ－Ｄ」を挙げることができる。

　上記フェノール系化合物としては、例えば、２，６－ジアルキルフェノールの構造を有するものが好ましく、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｉｒｇａｎｏｘ（登録商標）１０７６」、「Ｉｒｇａｎｏｘ（登録商標）１０１０」、株式会社ＡＤＥＫＡから市販されている「アデカスタブ（登録商標）ＡＯ－５０」等を挙げることができる。

　上記二重結合系化合物は、住友化学株式会社から市販されている「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）　ＧＭ」及び「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）　ＧＳ」等が挙げられる。当該二重結合系化合物の含有量は、上記熱可塑性樹脂の総質量に対して、０．０５～２０質量％、好ましくは０．１～１質量％の範囲内である。

　上記ヒンダードアミン系化合物としては、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１４４」及び「Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）７７０」、株式会社ＡＤＥＫＡから市販されている「ＡＤＫ　ＳＴＡＢ（登録商標）　ＬＡ－５２」を挙げることができる。

　上記リン系化合物としては、例えば、住友化学株式会社から市販されている「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）ＧＰ」、株式会社ＡＤＥＫＡから市販されている「ＡＤＫ　ＳＴＡＢ（登録商標）　ＰＥＰ－２４Ｇ」、「ＡＤＫ　ＳＴＡＢ（登録商標）　ＰＥＰ－３６」及び「ＡＤＫ　ＳＴＡＢ（登録商標）　３０１０」、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「ＩＲＧＡＦＯＳ　Ｐ－ＥＰＱ」、堺化学工業株式会社から市販されている「ＧＳＹ－Ｐ１０１」を挙げることができる。

　さらに、酸補足剤として米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されているような、エポキシ基を有する化合物を含有させることも可能である。

　上記二重結合系化合物を除く、これらの酸化防止剤等の含有量は、熱可塑性樹脂の総質量に対して、０．０００１～０．０１質量％の範囲内であることが好ましく、０．００２～０．０１質量％の範囲内であることがより好ましい。

　これらの酸化防止剤等は、一種単独で用いても、二種以上組み合わせて用いてもよい。例えば、ラクトン系、リン系、フェノール系及び二重結合系化合物の併用が好ましい。

　〈ゴム粒子〉
　ゴム粒子は、ゴム状重合体を含む粒子である。ゴム状重合体は、ガラス転移温度が２０℃以下の軟質な架橋重合体である。そのような架橋重合体の例には、ブタジエン系架橋重合体、（メタ）アクリル系架橋重合体、及びオルガノシロキサン系架橋重合体が含まれる。中でも、（メタ）アクリル系樹脂との屈折率差が小さく、偏光板用樹脂フィルムの透明性が損なわれにくい観点では、（メタ）アクリル系架橋重合体が好ましく、アクリル系架橋重合体（アクリル系ゴム状重合体）がより好ましい。

　すなわち、ゴム粒子は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）を含む粒子であることが好ましい。

　アクリル系ゴム状重合体（ａ）について：
　アクリル系ゴム状重合体（ａ）は、アクリル酸エステルに由来する構造単位を主成分として含む架橋重合体である。主成分として含むとは、アクリル酸エステルに由来する構造単位の含有量が、後述する範囲内であることをいう。アクリル系ゴム状重合体（ａ）は、アクリル酸エステルに由来する構造単位と、それと共重合可能な他の単量体に由来する構造単位と、１分子中に２以上のラジカル重合性基（非共役な反応性二重結合）を有する多官能性単量体に由来する構造単位とを含む架橋重合体であることが好ましい。

　アクリル酸エステルは、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ－プロピル、アクリル酸ｎ－ブチル、アクリル酸ｓｅｃ－ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸２－エチルヘキシル、アクリル酸ｎ－オクチルなどのアルキル基の炭素数１～１２のアクリル酸アルキルエステルであることが好ましい。アクリル酸エステルは、一種単独で用いてもよく、二種以上組み合わせて用いてもよい。

　アクリル酸エステルに由来する構造単位の含有量は、アクリル系ゴム状重合体（ａ１）を構成する全構造単位に対して、４０～８０質量％の範囲内であることが好ましく、５０～８０質量％の範囲内であることがより好ましい。アクリル酸エステルの含有量が、上記範囲内であることにより、当該フィルムに十分な靱性を付与しやすい。

　共重合可能な他の単量体は、アクリル酸エステルと共重合可能な単量体のうち、多官能性単量体以外のものである。すなわち、共重合可能な単量体は、二以上のラジカル重合性基を有しない。共重合可能な単量体の例には、メタクリル酸メチルなどのメタクリル酸エステル；スチレン、メチルスチレンなどのスチレン類；（メタ）アクリロニトリル類；（メタ）アクリルアミド類；（メタ）アクリル酸が含まれる。中でも、共重合可能な他の単量体は、スチレン類を含むことが好ましい。共重合可能な他の単量体は、一種単独で用いてもよいし、二種以上組み合わせて用いてもよい。

　共重合可能な他の単量体に由来する構造単位の含有量は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）を構成する全構造単位に対して、５～５５質量％の範囲内であることが好ましく、１０～４５質量％の範囲内であることがより好ましい。

　多官能性単量体の例には、アリル（メタ）アクリレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、ジアリルフタレート、ジアリルマレート、ジビニルアジペート、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチルロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトロメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートが含まれる。

　多官能性単量体に由来する構造単位の含有量は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）を構成する全構造単位に対して、０．０５～１０質量％の範囲内であることが好ましく、０．１～５質量％の範囲内であることがより好ましい。多官能性単量体の含有量が、０．０５質量％以上であることにより、得られるアクリル系ゴム状重合体（ａ）の架橋度を高めやすく、得られる当該フィルムの硬度、剛性が損なわれにくい。また、１０質量％以下であることにより、当該フィルムの靱性が損なわれにくい。

　アクリル系ゴム状重合体（ａ）を構成する単量体組成は、例えば、熱分解ＧＣ－ＭＳにより検出されるピーク面積比により測定することができる。

　ゴム状重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、０℃以下であることが好ましく、－１０℃以下であることがより好ましい。ゴム状重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下であると、当該フィルムに適度な靱性を付与しやすい。ゴム状重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、前述と同様の方法で測定される。

　ゴム状重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、ゴム状重合体の組成によって調整することができる。例えば、アクリル系ゴム状重合体（ａ）のガラス転移温度（Ｔｇ）を低くするためには、アクリル系ゴム状重合体（ａ）中の、アルキル基の炭素原子数が４以上のアクリル酸エステル／共重合可能な他の単量体の質量比を多くする（例えば、３以上、好ましくは４～１０とする）ことが好ましい。

　アクリル系ゴム状重合体（ａ）を含む粒子は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）からなる粒子、又は、ガラス転移温度が２０℃以上の硬質な架橋重合体（ｃ）からなる硬質層と、その周囲に配置されたアクリル系ゴム状重合体（ａ）からなる軟質層とを有する粒子（これらを、「エラストマー」ともいう）であってもよいし、アクリル系ゴム状重合体（ａ）の存在下で、メタクリル酸エステルなどの単量体の混合物を、少なくとも１段以上重合して得られるアクリル系グラフト共重合体からなる粒子であってもよい。アクリル系グラフト共重合体からなる粒子は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）を含むコア部と、それを覆うシェル部とを有するコアシェル型の粒子であってもよい。

　アクリル系ゴム状重合体を含むコアシェル型のゴム粒子について：
　（コア部）
　コア部は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）を含み、必要に応じて硬質な架橋重合体（ｃ）をさらに含んでもよい。すなわち、コア部は、アクリル系ゴム状重合体からなる軟質層と、その内側に配置された硬質な架橋重合体（ｃ）からなる硬質層とを有してもよい。

　架橋重合体（ｃ）は、メタクリル酸エステルを主成分とする架橋重合体でありうる。すなわち、架橋重合体（ｃ）は、メタクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位と、それと共重合可能な他の単量体に由来する構造単位と、多官能性単量体に由来する構造単位とを含む架橋重合体であることが好ましい。

　メタクリル酸アルキルエステルは、上記のメタクリル酸アルキルエステルであってよく、共重合可能な他の単量体は、上記のスチレン類やアクリル酸エステルなどであってよく、多官能性単量体は、上記の多官能性単量体とした挙げたものと同様のものが挙げられる。

　メタクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位の含有量は、架橋重合体（ｃ）を構成する全構造単位に対して、４０～１００質量％の範囲内であることが好ましい。共重合可能な他の単量体に由来する構造単位の含有量は、他の架橋重合体（ｃ）を構成する全構造単位に対して、６０～０質量％の範囲内であることが好ましい。多官能性単量体に由来する構造単位の含有量は、他の架橋重合体を構成する全構造単位に対して、０．０１～１０質量％の範囲内であることが好ましい。

　（シェル部）
　シェル部は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）にグラフト結合した、メタクリル酸エステルに由来する構造単位を主成分として含むメタクリル系重合体（ｂ）（他の重合体）を含む。主成分として含むとは、メタクリル酸エステルに由来する構造単位の含有量が、後述する範囲内であることをいう。

　メタクリル系重合体（ｂ）を構成するメタクリル酸エステルは、メタクリル酸メチルなどのアルキル基の炭素数１～１２のメタクリル酸アルキルエステルであることが好ましい。メタクリル酸エステルは、一種単独で用いてもよいし、二種以上組み合わせて用いてもよい。

　メタクリル酸エステルの含有量は、メタクリル系重合体（ｂ）を構成する全構造単位に対して、５０質量％以上であることが好ましい。メタクリル酸エステルの含有量が、５０質量％以上であることにより、メタクリル酸メチルに由来する構造単位を主成分として含むメタクリル系樹脂との相溶性が得られやすい。メタクリル酸エステルの含有量は、上記観点から、メタクリル系重合体（ｂ）を構成する全構造単位に対して、７０質量％以上であることがより好ましい。

　メタクリル系重合体（ｂ）は、メタクリル酸エステルと共重合可能な他の単量体に由来する構造単位をさらに含んでもよい。共重合可能な他の単量体の例には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ－ブチルなどのアクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチルなどの脂環、複素環又は芳香環を有する（メタ）アクリル系単量体（環含有（メタ）アクリル系単量体）が含まれる。

　共重合可能な単量体に由来する構造単位の含有量は、メタクリル系重合体（ｂ）を構成する全構造単位に対して、５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましい。

　本実施の形態では、偏光板用樹脂フィルムは延伸されていないため、ゴム粒子の形状は、真球状に近い形状であることが好ましい。すなわち、当該フィルムの断面又は表面を観察したときの、ゴム粒子のアスペクト比は、１～２程度であることが好ましい。

　ゴム粒子の平均粒子径は、１００～４００ｎｍの範囲内であることが好ましい。ゴム粒子の平均粒子径が１００ｎｍ以上であることにより、当該フィルムに十分な靱性や応力緩和性を付与しやすく、４００ｎｍ以下であることにより、当該フィルムの透明性が損なわれにくい。ゴム粒子の平均粒子径は、上記観点から、１５０～３００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。

　ゴム粒子の平均粒子径は、以下の方法で算出することができる。

　ゴム粒子の平均粒子径は、偏光板用樹脂フィルムの表面又は切片のＳＥＭ撮影又はＴＥＭ撮影によって得た粒子１００個の円相当径の平均値として測定できる。円相当径は、撮影によって得られた粒子の投影面積を、同じ面積を持つ円の直径に換算することによって求められる。この際、倍率５０００倍のＳＥＭ観察及び／又はＴＥＭ観察によって観察されるゴム粒子を、平均粒子径の算出に使用する。

　ゴム粒子の含有量は、特に限定されないが、当該フィルムの総質量に対して、５～４０質量％の範囲内であることが好ましく、７～３０質量％の範囲内であることがより好ましい。

　［１．４　物性］
　〈位相差Ｒｏ及びＲｔ〉
　本発明の偏光板用樹脂フィルムは、保護層としての機能だけでなく、位相差フィルムなどの光学フィルムとしての機能も付与することができる。

　当該フィルムは、例えば、ＩＰＳモード用の位相差フィルムとして用いる観点では、測定波長５９０ｎｍ、２３℃・５５％ＲＨの環境下で測定される面内方向の位相差Ｒｏは、０～１０ｎｍの範囲内であることが好ましく、０～５ｎｍの範囲内であることがより好ましい。当該フィルムの厚さ方向の位相差Ｒｔは、－４０～４０ｎｍの範囲内であることが好ましく、－２５～２５ｎｍの範囲内であることがより好ましい。

　Ｒｏ及びＲｔは、それぞれ下記式で定義される。

　式（ａ）：Ｒｏ＝（ｎ_ｘ－ｎ_ｙ）×ｄ
　式（ｂ）：Ｒｔ＝（（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２－ｎ_ｚ）×ｄ
　（式中、
　ｎ_ｘは、偏光板用樹脂フィルムの面内遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率を表し、
　ｎ_ｙは、偏光板用樹脂フィルムの面内遅相軸に直交する方向の屈折率を表し、
　ｎ_ｚは、偏光板用樹脂フィルムの厚さ方向の屈折率を表し、
　ｄは、偏光板用樹脂フィルムの膜厚（ｎｍ）を表す。）
　当該フィルムの面内遅相軸は、自動複屈折率計アクソスキャン（ＡｘｏＳｃａｎＭｕｅｌｌｅｒＭａｔｒｉｘＰｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）により確認することができる。

　Ｒｏ及びＲｔは、以下の方法で測定することができる。

　１）当該フィルムを２３℃・５５％ＲＨの環境下で２４時間調湿する。このフィルムの平均屈折率をアッベ屈折計で測定し、膜厚ｄを市販のマイクロメーターを用いて測定する。

　２）調湿後の当該フィルムの、測定波長５９０ｎｍにおけるリターデーションＲｏ及びＲｔを、それぞれ自動複屈折率計アクソスキャン（ＡｘｏＳｃａｎＭｕｅｌｌｅｒＭａｔｒｉｘＰｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下で測定する。

　当該フィルムの位相差Ｒｏ及びＲｔは、例えば、熱可塑性樹脂の種類や延伸条件、乾燥条件によって調整することができる。例えば、乾燥温度を高くすることで、Ｒｔを低くすることができる。

　≪２　本発明の偏光板用樹脂フィルムの製造方法≫
　本発明の偏光板用樹脂フィルムの形態は、特に制限されないが、例えば、帯状であることが好ましい。すなわち、本発明の偏光板用樹脂フィルムは、その幅方向に直交する方向にロール状に巻き取られて、ロール体とすることが好ましい。

　［製造方法］
　本発明の偏光板用樹脂フィルムの製造方法は、１）偏光板用樹脂フィルム用溶液を得る工程と、２）得られた偏光板用樹脂フィルム用溶液を、支持体の表面に付与する工程と、３）付与された偏光板用樹脂フィルム用溶液から溶媒を除去して、偏光板用樹脂フィルムを形成する工程とを有する。

　１）偏光板用樹脂フィルム用溶液を得る工程
　熱可塑性樹脂、ヨウ素移動抑制剤及び溶媒を含む偏光板用樹脂フィルム用溶液（「フィルム用溶液」又は「ドープ」ともいう。）を調製する。フィルム用溶液は、適宜、硫酸イオンを含んでいてもよい。

　フィルム用溶液は、粉体又は液体（金属酸化物粒子の場合は分散液）のヨウ素移動抑制剤、溶媒、場合によっては更に硫酸を加えて撹拌し、その後樹脂を加えて撹拌して調製する。

　ヨウ素移動抑制剤として金属酸化物粒子を用いる場合、金属酸化物粒子を下記のフィルム用溶液に用いられる溶媒中に粒子状に分散させて分散液を得る。金属酸化物粒子の分散は、機械的エネルギーを利用して行うことができ、このような分散機は、特に限定されず、上記で挙げたように、例として、低速せん断式分散機、高速せん断式分散機、摩擦式分散機、高圧ジェット式分散機、超音波ホモジナイザーなどの超音波分散機、又は高圧衝撃式分散機アルティマイザーなどが挙げられる。

　偏光板用樹脂フィルム用溶液に用いられる溶媒は、樹脂を良好に分散又は溶解させうるものであればよく、特に制限されない。例えば、本発明に用いられる有機溶媒としては、アルコール類（メタノール、エタノールやジオール、トリオール、テトラフルオロプロパノール等）、グリコール類、セロソルブ類、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、カルボン酸類（ギ酸、酢酸等）、カーボネート類（エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸プロピル等）、エーテル類（イソプロピルエーテル、ＴＨＦ等）、アミド類（ジメチルスルホキシド等）、炭化水素類（ヘプタン等）、ニトリル類（アセトニトリル等）、芳香族類（シクロヘキシルベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等）、ハロゲン化アルキル類（ジクロロメタン（「塩化メチレン」ともいう。）等）、アミン類（１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、ジアザビシクロウンデセン等）、ラクトン系などが挙げられる。

　中でも、フィルム用溶液の溶媒としては、沸点が大気圧下において１００℃以下であることが好ましく、また、塩素系溶媒であることが好ましい。具体的には、ジクロロメタン（「塩化メチレン」ともいう。）であることがより好ましい。溶媒が、ジクロロメタンであることにより、その溶解性の高さから扱いやすく、また、揮発性の高さから乾燥速度が速く、塗布膜の膜質を調整しやすい。

　また、フィルム用溶液の溶媒に、親水性の溶媒を添加してもよい。親水性の溶媒としては、例えば、ケトン類、アルコール類等が挙げられ、アルコール類であることが好ましい。イソプロパノール、エタノール、メタノール等であることがより好ましく、メタノールであることが更に好ましい。添加量は、フィルム用溶液の溶媒の総質量に対して、１～２０質量％の範囲内であることが好ましく、３～１０質量％の範囲内であることがより好ましい。

　フィルム用溶液における樹脂の濃度は、粘度を後述する範囲内に調整しやすくする観点から、フィルム用溶液の総質量に対して、例えば、１．０～２０質量％の範囲内であることが好ましい。また、塗膜の乾燥時の収縮量を少なくする観点から、フィルム用溶液における樹脂の濃度は、適度に高いことが好ましく、５質量％超、２０質量％以下の範囲内であることがより好ましく、５質量％超、１５質量％以下の範囲内であることが更に好ましい。

　樹脂の濃度を調整することにより、塗膜が形成されるまでの時間が短くなり、乾燥時間及びフィルムの表面状態を制御することができる。また、適宜、混合溶媒を使用することにより、樹脂の濃度を高くすることができる。

　フィルム用溶液の粘度は、所望の膜厚の偏光板用樹脂フィルムを形成しうる程度であればよく、特に制限されないが、例えば、５～５０００ｍＰａ・ｓの範囲内であることが好ましい。フィルム用溶液の粘度が５ｍＰａ・ｓ以上であることにより、適度な膜厚のフィルムを形成しやすく、５０００ｍＰａ・ｓ以下であることにより、溶液の粘度上昇によって、膜厚ムラが生じるのを抑制できる。フィルム用溶液の粘度は、上記観点から、１００～１０００ｍＰａ・ｓの範囲内であることがより好ましい。フィルム用溶液の粘度は、２５℃で、Ｅ型粘度計で測定することができる。

　２）偏光板用樹脂フィルム用溶液を付与する工程
　次いで、得られたフィルム用溶液を、支持体の表面に付与する。具体的には、得られたフィルム用溶液を、支持体の表面に塗布する。

　〈支持体〉
　支持体は、偏光板用樹脂フィルム形成時に支持するものであり、通常、樹脂フィルムを用いることができる。支持体の厚さは、５０μｍ以下であることが好ましい。支持体の厚さは、薄膜でありながら、ある程度の強度（腰や剛性）が支持体として必要であることから、好ましくは、１５～４５μｍの範囲内であり、より好ましくは２０～４０μｍの範囲内である。

　支持体としての樹脂フィルムに用いられる樹脂としては、セルロースエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、及びスチレン系樹脂又はその複合樹脂を挙げることができるが、中でも高湿度環境下での保存性に優れる樹脂として、ポリエステル系樹脂を使用することが好ましい。

　また、樹脂フィルムの例としては、ポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリトリメチレンテレフタレート（ＰＴＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンナフタレート（ＰＢＮ）など）などが挙げられる。中でも、扱いやすさの観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を含むポリエステル系樹脂フィルムが好ましい。

　樹脂フィルムは、熱処理（熱緩和）されたものであってもよいし、延伸処理されたものであってもよい。

　熱処理は、樹脂フィルムの残留応力（例えば、延伸に伴う残留応力など）を低減させるために行われる。温度は、特に制限されないが、樹脂フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度をＴｇとしたとき、（Ｔｇ＋６０）～（Ｔｇ＋１８０）℃で行うことが好ましい。

　延伸処理は、樹脂フィルムの残留応力を増加させるために行われ、延伸処理は、例えば、樹脂フィルムの２軸方向に行うことが好ましい。延伸処理は、任意の条件で行うことができ、例えば、延伸倍率１２０～９００％程度の範囲内で行うことができる。樹脂フィルムが延伸されているかどうかは、例えば、面内遅層軸（屈折率が最大となる方向に延びた軸）があるかどうかによって確認することができる。延伸処理は、機能層を積層する前にされてもよいし、積層した後にされてもよいが、積層する前に延伸されていることが好ましい。

　ポリエステル系樹脂フィルム（簡単に、ポリエステルフィルムともいう。）は市販品を用いることができ、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムＴＮ１００（東洋紡社製）、ＭＥＬＩＮＥＸ（登録商標）ＳＴ５０４（帝人デュポンフィルム社製）等を好適に用いることができる。

　支持体は、樹脂フィルムの表面に、更に離型層を有していてもよい。離型層を有することにより、本発明の偏光板用樹脂フィルムを作製する際に、支持体を剥離しやすくする。

　離型層は、公知の剥離剤を含むものであってよく、特に制限されない。離型層に含まれる剥離剤の例としては、シリコーン系剥離剤、及び、非シリコーン系剥離剤が挙げられる。

　シリコーン系剥離剤の例には、公知のシリコーン系樹脂が含まれる。非シリコーン系剥離剤の例には、ポリビニルアルコール又はエチレン－ビニルアルコール共重合体などに長鎖アルキルイソシアネートを反応させた長鎖アルキルペンダント型重合体、オレフィン系樹脂（例えば共重合ポリエチレン、環状ポリオレフィン、ポリメチルペンテン）、ポリアリレート樹脂（例えば、芳香族ジカルボン酸成分と二価フェノール成分との重縮合物）、フッ素樹脂（例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ＰＦＡ（四フッ化エチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体）、ＦＥＰ（テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンの共重合体）、ＥＴＦＥ（テトラフルオロエチレンとエチレンの共重合体））などが含まれる。

　離型層の厚さは、所望の剥離性を発現できる程度であればよく、特に制限されないが、例えば、０．１～１．０μｍの範囲内であることが好ましい。

　支持体には、添加剤として、可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては特に限定されないが、例えば、多価アルコールエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、クエン酸系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、及びポリエステル系可塑剤等が挙げられる。

　また、支持体は、紫外線吸収剤を含有してもよい。用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、２－ヒドロキシベンゾフェノン系又はサリチル酸フェニルエステル系等が挙げられる。具体的には、２－（５－メチル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－［２－ヒドロキシ－３，５－ビス（α，α－ジメチルベンジル）フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクトキシベンゾフェノン、２，２′－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類等が挙げられる。

　さらに、本発明に用いられる支持体は、搬送性を向上するために、微粒子を含有することも好ましい。

　微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムが挙げられる。

　また、微粒子として、有機化合物の微粒子も好ましく使用することができる。有機化合物の例としては、ポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプピルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカーボネート、アクリルスチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系粉末、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、あるいはポリフッ化エチレン系樹脂、澱粉等の有機高分子化合物の粉砕分級物や懸濁重合法で合成した高分子化合物等が挙げられる。

　微粒子は、濁度が低くなる観点から、ケイ素を含むことが好ましく、特に二酸化ケイ素であることが好ましい。二酸化ケイ素の微粒子としては、市販品を用いることができ、例えば、アエロジル（登録商標）Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）等が挙げられる。

　本発明に用いられる支持体の製造方法としては、通常のインフレーション法、Ｔ－ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できるが、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点から、製膜方法は、溶液流延法と溶融流延法が好ましい。さらに、溶液流延法であると、加工工程での温度が比較的低いため、種々の添加剤を用いて更に機能を付与することができる。

　溶液流延法により製膜する場合、支持体の製造方法は、熱可塑性樹脂及び上記微粒子等の添加剤を溶媒に溶解、分散させてドープを調製する工程（溶解工程；ドープ調製工程）、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程（流延工程）、流延したドープをウェブとして乾燥する工程（溶媒蒸発工程）、金属支持体から剥離する工程（剥離工程）、乾燥、延伸、幅保持する工程（延伸・幅保持・乾燥工程）、仕上がったフィルムをロール状に巻取る工程（巻き取り工程）を含むことが好ましい。

　以上のようにして製造された支持体を用いて、本発明の偏光板用樹脂フィルムを下記方法によって、形成することが好ましい。

　偏光板用樹脂フィルム用溶液の塗布方法は、特に制限されず、例えばバックロールコート法、グラビアコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ロールコート法などでの公知の方法でありうる。中でも、薄くかつ均一な膜厚の塗膜を形成しうる観点から、バックコート法が好ましい。

　３）偏光板用樹脂フィルムを形成する工程
　次いで、支持体に付与された偏光板用樹脂フィルム用溶液から溶媒を除去して、偏光板用樹脂フィルムを形成する。

　具体的には、支持体に付与されたフィルム用溶液を乾燥させる。乾燥は、例えば、送風又は加熱により行うことができる。中でも、フィルムのカールなどを抑制しやすくする観点から、送風により乾燥させることが好ましく、更に、下記膜厚偏差を制御できる観点から、乾燥初期と乾燥後半においての風速差をつけることが好ましい。具体的には、初期の風速が高いと膜厚偏差は大きくなり、初期の風速が低いと小さくなる傾向にある。

　したがって、乾燥条件（例えば、乾燥温度、乾燥風量、乾燥時間など）を調整することにより、偏光板用樹脂フィルムの疎密を制御し、フィルムの厚さを、下記式を満たす範囲内に調整することができる。

　５＜｜幅方向の無作為に選択した３点の膜厚の平均値（Ｂ）－平均膜厚値（Ａ）｜／平均膜厚値（Ａ）×１００＜２０（％）
　ここで、平均膜厚値（Ａ）は、フィルムから無作為に抽出した１０点の膜厚値の平均値である。

　上記式で表される値が５％を超えることにより、表面が適度に凹凸を有し、上層との密着性が向上し、２０％未満であることにより、表面の凹凸が大きすぎず、上層の塗布性及び平滑性に影響しない。

　膜厚の測定は、市販の膜厚測定装置を用いることができ、膜厚測定システムとしては、例えば、Ｆ２０－ＵＶ（フィルメトリクス社製）が挙げられる。

　また、偏光板用樹脂フィルムの厚さの偏差ρは、０．５±０．２μｍの範囲内に調整することが好ましい。また、上層との密着性向上の観点から、膜質は疎になる方向に調整することが好ましい。具体的には、乾燥速度を高くすることが好ましく、０．００１５～０．０５ｋｇ／ｈｒ・ｍ^２の範囲内であることが好ましく、０．００２～０．０５ｋｇ／ｈｒ・ｍ^２の範囲内であることがより好ましい。

　乾燥速度とは、単位時間及び単位面積当たりに蒸発する溶媒の質量として表される。乾燥速度は、通常、乾燥温度によって調整することができる。乾燥温度は、使用する溶媒種にもよるが、例えば、５０～２００℃（使用する溶媒の沸点Ｔｂに対して（Ｔｂ－５０）～（Ｔｂ＋５０）℃の範囲内）であることが好ましい。温度制御は多段階で行ってもよい。ある程度乾燥が進んだ後は、より高温で乾燥することで、乾燥速度及び膜質を制御することができる。

　本発明の偏光板用樹脂フィルムは、前述の通り、帯状であることが好ましい。したがって、本実施の形態に係る積層フィルムの製造方法は、４）帯状の積層フィルムをロール状に巻き取り、ロール体とする工程をさらに含むことが好ましい。

　４）偏光板用樹脂フィルムを巻き取り、ロール体を得る工程
　得られた帯状の偏光板用樹脂フィルムを、その幅方向に直交する方向にロール状に巻き取り、ロール体とする。

　帯状の偏光板用樹脂フィルムの長さは、特に制限されないが、例えば１００～１００００ｍの範囲内であることが好ましい。また、帯状の偏光板用樹脂フィルムの幅は、１ｍ以上であることが好ましく、１．１～４ｍの範囲内であることがより好ましい。フィルムの均一性を高める観点では、１．３～２．５ｍの範囲内であることが更に好ましい。

　［製造装置］
　本発明の偏光板用樹脂フィルムの製造方法は、例えば、図１に示される製造装置によって行うことができる。

　図１は、本発明の偏光板用樹脂フィルムの製造方法を実施するための製造装置Ｂ２００の模式図である。製造装置Ｂ２００は、供給部Ｂ２１０と、塗布部Ｂ２２０と、乾燥部Ｂ２３０と、冷却部Ｂ２４０と、巻き取り部Ｂ２５０とを有する。Ｂａ～Ｂｄは、支持体Ｂ１１０を搬送する搬送ロールを示す。

　供給部Ｂ２１０は、巻き芯に巻かれた帯状の支持体Ｂ１１０のロール体Ｂ２０１を繰り出す繰り出し装置（不図示）を有する。

　塗布部Ｂ２２０は、塗布装置であって、支持体Ｂ１１０を保持するバックアップロールＢ２２１と、バックアップロールＢ２２１で保持された支持体Ｂ１１０に、偏光板用樹脂フィルム用溶液を塗布する塗布ヘッドＢ２２２と、塗布ヘッドＢ２２２の上流側に設けられた減圧室Ｂ２２３とを有する。

　塗布ヘッドＢ２２２から吐出される偏光板用樹脂フィルム用溶液の流量は、不図示のポンプにより調整可能となっている。塗布ヘッドＢ２２２から吐出する偏光板用樹脂フィルム用溶液の流量は、予め調整した塗布ヘッドＢ２２２の条件で連続塗布したときに、安定して所定の厚さの塗布層を形成できる量に設定されている。

　減圧室Ｂ２２３は、塗布時に塗布ヘッドＢ２２２からの偏光板用樹脂フィルム用溶液と支持体Ｂ１１０との間に形成されるビード（塗布液の溜まり）を安定化するための機構であり、減圧度の調整が可能である。減圧室Ｂ２２３は、減圧ブロワ（不図示）に接続されており、内部が減圧されるようになっている。減圧室Ｂ２２３は、空気漏れがない状態になっており、かつ、バックアップロールとの間隙も狭く調整され、安定した塗布液のビードを形成できるようになっている。

　乾燥部Ｂ２３０は、支持体Ｂ１１０の表面に塗布された塗膜を乾燥させる乾燥装置であって、乾燥室Ｂ２３１と、乾燥用気体の導入口Ｂ２３２と、排出口Ｂ２３３とを有する。乾燥風の温度及び風量は、塗膜の種類及び支持体Ｂ１１０の種類により適宜決められる。乾燥部Ｂ２３０で乾燥風の温度、風量、乾燥時間などの条件を設定することにより、乾燥後の塗膜の残留溶媒量を調整することができる。乾燥後の塗膜の残留溶媒量は、乾燥後の塗膜の単位質量と、当該塗膜を十分に乾燥した後の単位質量を比較することにより測定することができる。

　（残留溶媒量）
　本発明の偏光板用樹脂フィルムは、フィルム用溶液を塗布して得られることから、当該溶液に由来する溶媒が残留していることがある。残留溶媒量は、使用溶媒、溶液濃度、フィルムの乾燥に当てる風速、乾燥温度、時間、乾燥室の条件（外気か内気循環か）、塗布時のバックロールの加熱温度等によって制御できる。

　前述のとおり、乾燥速度を高くすることにより、膜が疎になって表面状態を制御することができる。

　フィルムのカールバランスの観点から、偏光板用樹脂フィルムの残留溶媒量Ｓ1は、１０ｐｐｍ超、１０００ｐｐｍ未満の範囲内であることが好ましい。

　更にフィルムのカールバランスを向上させる観点から、偏光板用樹脂フィルムの残留溶媒量は、１００ｐｐｍ超、８００ｐｐｍ未満の範囲内であることがより好ましく、５００ｐｐｍ以上、７００ｐｐｍ未満の範囲内であることが更に好ましい。また、支持体にも溶媒が残存するような溶媒・塗布プロセスを選ぶことで、支持体と偏光板用樹脂フィルムとの密着性が向上する。支持体の残留溶媒量としては、１０～１００ｐｐｍの範囲内であることが好ましい。

　支持体及び偏光板用樹脂フィルムの残留溶媒量は、ヘッドスペースガスクロマトグラフィーにより測定することができる。ヘッドスペースガスクロマトグラフィー法では、サンプルを容器に封入し、加熱し、容器中に揮発成分が充満した状態で速やかに容器中のガスをガスクロマトグラフに注入し、質量分析を行って化合物の同定を行いながら揮発成分を定量するものである。ヘッドスペース法では、ガスクロマトグラフにより、揮発成分の全ピークを観測することを可能にするとともに、電磁気的相互作用を利用した分析法を用いることによって、高精度で揮発性物質やモノマーなどの定量も併せて行うことができる。

　冷却部Ｂ２４０は、乾燥部Ｂ２３０で乾燥させて得られる塗膜を有する支持体Ｂ１１０の温度を冷却し、適切な温度に調整する。冷却部Ｂ２４０は、冷却室Ｂ２４１と、冷却風入口Ｂ２４２と、冷却風出口Ｂ２４３とを有する。冷却風の温度及び風量は、塗膜の種類及び支持体Ｂ１１０の種類により適宜決められる。また、冷却部Ｂ２４０を設けなくても、適正な冷却温度になる場合は、冷却部Ｂ２４０はなくてもよい。

　巻き取り部Ｂ２５０は、偏光板用樹脂フィルムが形成された支持体Ｂ１１０を巻き取り、ロール体Ｂ２５１を得るための巻き取り装置（不図示）である。

　≪３　偏光板≫
　本発明の偏光板は、樹脂フィルム上に接着剤層及び偏光子層を有する偏光板であって、樹脂フィルムとして、本発明の偏光板用樹脂フィルムを具備することを特徴とする。当該樹脂フィルムは、前述の保護層と同義であるが、位相差フィルムの機能を有していることも好ましい。偏光子層の両側を、本発明の偏光板用樹脂フィルムで保護してもよいし、一方は他の従来公知の保護層を用いてもよい。なお、偏光板用樹脂フィルムを形成する際に用いた支持体は、剥離しても、又剥離しなくてもよい。

　図２に本発明の偏光板の好ましい層構成について、その一例を示すがこれに限定されるものではない。

　図２は、本発明の偏光板の基本的な層構成の断面図である。
　本発明の偏光板１０は、本発明の偏光板用樹脂フィルム１を、接着剤層２を介して偏光子層３に貼合する構成を基本的な構成とする。偏光子３の、本発明の偏光板用樹脂フィルム１側の面とは反対側の面には、必要であれば、接着剤層２を介して保護層４が貼合される。保護層は、特に限定されないが、本発明の偏光板用樹脂フィルムを用いてもよいし、後述する位相差フィルムを用いてもよい。

　本発明の偏光板は、本発明の偏光板用樹脂フィルムを具備することにより、偏光子層に含まれるヨウ素の移動が抑制される。このため、半導体基板の発熱による偏光子層と偏光板用樹脂フィルムとの接着力の低下が抑制され、本発明の偏光板を具備する表示装置において、コントラストの劣化が抑制される。

　［３．１　偏光子層］
　本発明に係る偏光子層は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムにヨウ素を染色させたＰＶＡヨウ素染色偏光子層を用いることが好ましい。当該偏光子層を用いることで、本発明の効果が期待できる。なお、「偏光子」とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子のことをいう。以下に、本発明の偏光子層の好ましい構成について、その一例を示すがこれに限定されるものではない。

　また、本発明に係る偏光子層の厚さは、４～１５μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲内であることにより、偏光板を薄膜化できる。

　［３．１．１　ＰＶＡヨウ素染色偏光子層］
　ＰＶＡヨウ素染色偏光子層に用いるＰＶＡフィルムの延伸前の厚さは、フィルム保持の安定性及び延伸の均質性の観点から、５μｍ～３００μｍが好ましく、１０～２００μｍが特に好ましい。また、特開２００２－２３６２１２号に記載されているように、水中において、４倍～６倍の延伸を行った時に発生する応力が、１０Ｎ以下となるような薄いＰＶＡフィルムを使用してもよい。

　ＰＶＡフィルムの延伸後の厚さは、３～３０μｍの範囲内であることが好ましく、３～２０μｍの範囲内であることがより好ましく、３～１５μｍの範囲内であることが更に好ましい。上記範囲内であることにより、環境湿度による液晶パネルの反りや歪みを小さくすることができ、表示ムラを改良することができる。

　ＰＶＡフィルムとしては、ポリ酢酸ビニルを鹸化したポリマー素材が好ましいが、例えば、不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のような酢酸ビニルと共重合可能な成分とを含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ＰＶＡも用いることができる。

　この他、特許第３０２１４９４号公報に記載されている１，２－グリコール結合量が１．５モル％以下のＰＶＡフィルム、特開２００１－３１６４９２号公報に記載されている５μｍ以上の光学的異物が１００ｃｍ^２当たり５００個以下であるＰＶＡフィルム、特開２００２－０３０１６３号に記載されているフィルムのＴＤ方向の熱水切断温度斑が１．５℃以下であるＰＶＡフィルム、グリセリンなどの３～６価の多価アルコ－ルを１～１００質量％混合した溶液や、特開平０６－２８９２２５号公報に記載されている可塑剤を１５質量％以上混合した溶液から製膜したＰＶＡフィルム、等を好ましく用いることができる。

　染色させるヨウ素は、Ｉ_３ ^－やＩ_５ ^－などの高次のヨウ素イオン（ポリヨウ素）であることが好ましい。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編、ＣＭＣ出版や工業材料、第２８巻、第７号、ｐ．３９～ｐ．４５に記載されているように、ヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液及び／又はホウ酸水溶液にＰＶＡフィルムを浸漬し、ＰＶＡフィルムに吸着・配向した状態で生成することができる。

　ヨウ素の含有量は、偏光子層の総質量に対して、好ましくは１．８～５．０質量％の範囲内であることが好ましく、より好ましくは２．０～４．０質量％の範囲内である。上記範囲内であることにより、所望の透過率の偏光板が得られ、正面方向のコントラスト比が高い液晶表示装置を得ることができる。

　偏光子層は、架橋剤としてホウ酸を含有することが好ましい。ホウ酸で架橋することにより、ヨウ素とＰＶＡから形成される錯体の安定性が向上し、高温高湿条件における偏光性能劣化を抑制することができる。

　ホウ酸の含有量は、ホウ素換算で、偏光子層の総質量に対して、好ましくは０．５～３．０質量％の範囲内であることが好ましく、より好ましくは１．０～２．８質量％の範囲内であり、更に好ましくは１．５～２．６質量％の範囲内である。

　偏光子層は、二色比ＤＲが、好ましくは１６０以上であり、より好ましくは１６０～２２０の範囲内であり、更に好ましくは１７０～２１０の範囲内であり、特に好ましくは１７５～１８５の範囲内である。上記範囲内であることにより、本発明の偏光板を具備した、正面コントラストの高い液晶パネル及び液晶表示装置が得られる。このような液晶パネル及び液晶表示装置は、例えば、テレビ用途に適する。なお、二色比ＤＲは下記式から求められる。
　二色比ＤＲ＝ｌｏｇ（０．９１９／ｋ２）／ｌｏｇ（０．９１９／ｋ１）
　ここで、ｋ１は偏光子層の透過軸方向の透過率であり、ｋ２は偏光子層の吸収軸方向の透過率であり、定数０．９１９は界面反射率である。

　偏光子層は、透過率（単体透過率）Ｔｓが好ましくは４２％以上であり、より好ましくは４２．０～４４．０％の範囲内であり、更に好ましくは４２．５～４３．０％の範囲内である。上記範囲内であることにより、本発明の偏光板を具備する、輝度の高い液晶パネル又は液晶表示装置が得られる。このような液晶パネル及び液晶表示装置は、例えば、テレビ用途に適する。なお、偏光板の透過率は、以下の式から求めることができる。
　透過率（％）＝｛（ｋ１＋ｋ２）／２｝×１００
　ここで、ｋ１は偏光子層の透過軸方向の透過率であり、ｋ２は偏光子層の吸収軸方向の透過率である。

　偏光子層の透過軸方向の線膨張係数は、特に制限はなく、４．０×１０^－５～５．０×１０^－５／℃の範囲内であることが好ましい。

　［製造方法］
　本発明に用いられるＰＶＡヨウ素染色偏光子層の製造方法は、特に制限されないが、例えば、上記ＰＶＡをフィルム化した後、ヨウ素を導入して作製することが好ましい。ＰＶＡフィルムは、特開２００７－８６７４８号公報の段落０２１３～０２３７、特許第３３４２５１６号公報、特開平０９－３２８５９３号公報、特開２００１－３０２８１７号公報、特開２００２－１４４４０１号公報等に記載の方法を参考にして製造できる。

　ＰＶＡヨウ素染色偏光子層の製造方法としては、例えば、ＰＶＡ溶液の調製工程、流延工程、膨潤工程、染色工程、硬膜工程、延伸工程、乾燥工程とを、記載の順に行う方法が好ましい。また、上記行程中又は後に、オンライン面状検査工程を設けてもよい。

　（ＰＶＡ溶液の調製）
　ＰＶＡ溶液の調製工程では、ＰＶＡを水又は有機溶媒に溶解した原液を調製することが好ましい。原液中のＰＶＡの濃度は、好ましくは５～２０質量％の範囲内である。例えば、ＰＶＡのウェットケーキを溶解槽に入れ、必要に応じて可塑剤、水を加え、槽底から水蒸気を吹き込みながら撹拌する方法が好ましい。内部樹脂温度は、５０～１５０℃の範囲内に加温することが好ましく、系内を加圧してもよい。

　（流延）
　流延工程は、上記調製したＰＶＡ溶液原液を流延して成膜する方法を用いることが好ましい。流延の方法としては、特に制限はないが、加熱したＰＶＡ溶液原液を二軸押し出し機に供給し、ギアポンプにより排出手段（好ましくはダイ、より好ましくはＴ型スリットダイ）から支持体上に流延して製膜することが好ましい。また、ダイからの排出されるＰＶＡ溶液の温度については特に制限はない。
　上記支持体としては、キャストドラムが好ましく、ドラムの直径、幅、回転速度及び表面温度については、特に制限はない。
　その後、得られたロールの裏面と表面とを乾燥ロールに交互に通過させながら乾燥を行なうことが好ましい。

　（膨潤）
　膨潤工程は、水のみで行うことが好ましいが、特開平１０－１５３７０９号公報に記載されているように、光学性能の安定化及び製造ラインでのＰＶＡフィルムのシワ発生回避のために、ＰＶＡフィルムをホウ酸水溶液により膨潤させて、ＰＶＡフィルムの膨潤度を管理することもできる。
　また、膨潤工程の温度及び時間は、任意に定めることができるが、１０～６０℃の範囲内及び５～２０００秒の範囲内であることが好ましい。
　なお、膨潤工程のときにわずかに延伸を行ってもよく、例えば、１．３倍程度に延伸することが好ましい。

　（染色）
　染色工程は、特開２００２－８６５５４号公報に記載の方法を用いることができる。また、染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。また、特開２００１－２９６４２７号公報に記載されているように、ヨウ素の濃度、染色浴温度及び浴中の延伸倍率を適切な値に設定し、浴中の浴液を攪拌させながら染色させることにより、当該偏光子層を具備した、高光透過率及び高偏光率の偏光板が得られる。

　高次のヨウ素イオンを用いる場合、高コントラストの偏光板を得るためには、染色工程はヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液を用いることが好ましい。この場合のヨウ素－ヨウ化カリウム水溶液のヨウ素とヨウ化カリウムの質量比については、特開２００７－０８６７４８号公報に記載の形態を用いることができる。
　また、特許第３１４５７４７号公報に記載されているように、染色液にホウ酸、ホウ砂等のホウ素系化合物を添加してもよい。

　（硬膜）
　硬膜工程は、架橋剤溶液に浸漬、又は、溶液を塗布して架橋剤を含有させるのが好ましい。また、特開平１１－５２１３０号公報に記載されているように、硬膜工程を数回に分けることもできる。

　架橋剤としては、米国再発行特許第２３２８９７号明細書に記載のものが使用でき、また、特許第３３５７１０９号明細書に記載されているように、寸法安定性を向上させるため、多価アルデヒドを使用することもできるが、ホウ酸類が好ましく用いられる。硬膜工程に用いる架橋剤としてホウ酸を用いる場合には、ホウ酸－ヨウ化カリウム水溶液に金属イオンを添加してもよい。金属イオンとしては塩化亜鉛が好ましいが、特開２０００－３５５１２号公報に記載されているように、塩化亜鉛の代わりに、ヨウ化亜鉛などのハロゲン化亜鉛、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛などの亜鉛塩を用いることもできる。

　また、塩化亜鉛を添加したホウ酸－ヨウ化カリウム水溶液を作製し、ＰＶＡフィルムを浸漬させて硬膜を行ってもよく、特開２００７－０８６７４８号公報に記載の方法を用いることができる。

　なお、ここで、高温環境下における耐久性を高める方法として、公知の酸性溶液による浸漬処理を行ってもよい。酸性溶液による処理としては、特開２００１－８３３２９号公報、特開平６－２５４９５８号公報、国際公開ＷＯ２００６／０９５８１５号公報などに記載の方法を挙げることができる。

　（延伸）
　延伸工程は、米国特許２，４５４，５１５号明細書などに記載されているような、縦一軸延伸方式、又は、特開２００２－８６５５４号公報に記載されているようなテンター方式を好ましく用いることができる。好ましい延伸倍率は２～１２倍の範囲内であり、更に好ましくは３～１０倍の範囲内である。

　また、延伸倍率と原反厚さと偏光子層の厚さの関係は特開２００２－０４０２５６号公報に記載されている（保護フィルム貼合後の偏光子膜厚／原反膜厚）×（全延伸倍率）＞０．１７としたり、最終浴を出た時の偏光子層の幅と保護フィルム貼合時の偏光子層の幅の関係は特開２００２－０４０２４７号公報に記載されている０．８０≦（保護フィルム貼合時の偏光子層の幅／最終浴を出た時の偏光子の幅）≦０．９５としたりすることも好ましく行うことができる。なお、ここでの保護フィルムとは、本発明における保護層と同義である。

　（乾燥）
　乾燥工程は、特開２００２－８６５５４号公報に記載の公知の方法を使用できるが、好ましい温度は、３０～１００℃の範囲内であり、好ましい乾燥時間は、３０秒～６０分の範囲内である。また、特許第３１４８５１３号公報に記載されているように、水中退色温度を５０℃以上とするような熱処理を行ったり、特開平０７－３２５２１５号公報や特開平０７－３２５２１８号公報に記載されているように、温湿度管理した雰囲気でエージングしたりすることが好ましい。

　上記工程により、偏光子層の厚さが、４～１５μｍの範囲内となるよう製造することが好ましい。なお、厚さは、公知の方法で制御することができ、例えば、上記流延工程における、ダイスリット幅や、延伸条件を適切な値に設定することで制御できる。

　［３．２　接着剤層］
　本発明の偏光板は、上記で得られた偏光子層の両側に、接着剤層を介して、保護層を貼合して得られる。偏光子層の両側を、本発明の偏光板用樹脂フィルムで保護してもよいし、一方は他の従来公知の保護層を用いてもよい。

　本発明に係る接着剤層は、接着剤により形成される。接着剤としては、例えば、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリエステル等が挙げられる。これらの接着剤は、通常、水溶液からなる接着剤（水系接着剤）として用いられ、水溶液における接着剤の固形分濃度が、０．５～６０質量％の範囲内であることが好ましい。これらの中でも、ポリビニルアルコール系接着剤であることが好ましく、アセトアセチル基含有ポリビニルアルコール系接着剤であることがより好ましい。

　水系接着剤は、架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤としては、通常、接着剤を構成するポリマー等の成分と反応性を有する官能基を１分子中に少なくとも２つ有する化合物が用いられ、例えば、アルキレンジアミン類；イソシアネート類；エポキシ類；アルデヒド類；メチロール尿素、メチロールメラミン等のアミノ－ホルムアルデヒド等が挙げられる。接着剤における架橋剤の含有量は、接着剤を構成するポリマー等の成分に対して、１０～６０質量％の範囲内であることが好ましい。

　接着剤としては、上記の他、紫外線硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤等の活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤としては、例えば、（メタ）アクリレート系接着剤が挙げられる。前記（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。（メタ）アクリロイル基を有する化合物としては、例えば、炭素数が１～２０の鎖状アルキル（メタ）アクリレート、脂環式アルキル（メタ）アクリレート、多環式アルキル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基含有（メタ）アクリレート等が挙げられる。（メタ）アクリレート系接着剤は、ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン等の窒素含有モノマーを含んでいてもよい。（メタ）アクリレート系接着剤は、架橋成分として、トリプロピレングリコールジアクリレート、１，９－ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、環状トリメチロールプロパンフォルマルアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、ＥＯ変性ジグリセリンテトラアクリレート等の多官能モノマーを含んでいてもよい。また、カチオン重合硬化型接着剤としてエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物も使用することができる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば、特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。

　上記接着剤は、必要に応じて適宜の添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等のカップリング剤、エチレンオキシド等の接着促進剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、染料、加工助剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、粘着付与剤、充填剤、可塑剤、レベリング剤、発泡抑制剤、帯電防止剤、耐熱安定剤、耐加水分解安定剤等が挙げられる。

　接着剤の塗布は、保護層側又は偏光子層側のどちらに行ってもよく、両者に行ってもよい。貼り合わせ後には、乾燥工程を施し、塗布乾燥層からなる接着剤層を形成する。接着剤乾燥工程の後には、必要に応じ、紫外線や電子線を照射することができる。

　保護層と偏光子層の貼り合わせ方は、偏光子層の透過軸と保護層の遅相軸が実質的に平行となるように貼り合せることが好ましい。
　ここで、実質的に平行であるとは、保護層の主屈折率ｎ_ｘの方向と偏光子層の透過軸の方向とにおいて、そのずれが５°以内であることをいう。ずれが、１°以内であることがより好ましく、０．５°以内であることが更に好ましい。ずれが、１°以内であれば、偏光板クロスニコル下での偏光性能が低下しにくく、光抜けが生じにくい。

　本発明に係る接着剤層の厚さは、特に制限されず、水系接着剤等を用いる場合には、３０～５０００ｎｍの範囲内であることが好ましく、１００～１０００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。紫外線硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤等を用いる場合には、０．１～１００μｍの範囲内であることが好ましく、０．５～１０μｍの範囲内であることがより好ましい。

　［３．３　保護層］
　図２で示される保護層４として、本発明の偏光板用樹脂フィルムが好適に用いられる他に、従来公知の保護層を用いてもよく、セルロースアシレートフィルム、ポリエステルフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム等）、シクロオレフィン系樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルム等を用いることができる。

　セルロースアシレートフィルムの市販品としては、例えば、コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社製のコニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ４ＢＲ、ＫＣ４ＣＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ－ＨＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ２ＵＡＨ、ＫＣ４ＵＡＨ、ＫＣ６ＵＡＨ等が挙げられる。

　保護層の厚さは、特に限定はないが、１～１００μｍの範囲内であることが好ましく、３～４０μｍの範囲内であることがより好ましく、５～２０μｍの範囲内であることが更に好ましい。

　≪４　表示装置≫
　本発明の表示装置は、本発明の偏光板を具備することにより、コントラストの劣化が抑制される。

　本発明の表示装置は、例えば、接着剤層又は粘着剤層を介して、本発明の偏光板を表示装置の表面に貼合することにより得られる。表示装置とは、表示機構を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。

　表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（電場放出表示装置（ＦＥＤ等）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置）、プラズマ表示装置、投射型表示装置（グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置等）及び圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。

　上記液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置等の何れをも含む。これら表示装置は、二次元画像を表示する表示装置であってもよいし、三次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に、本発明の表示装置としては、有機ＥＬ表示装置及びタッチパネル表示装置が好ましく、特に有機ＥＬ表示装置が好ましい。

　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り、それぞれ、「質量部」又は「質量％」を表す。

　実施例１
　[１]偏光板用樹脂フィルムの作製

　＜偏光板用樹脂フィルム１の作製＞
　（支持体）
　支持体として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）：（東洋紡社製ＴＮ１００、ノンシリコーン系剥離剤を含む離型層あり、膜厚３８μｍ）を用いた。

　（偏光板用樹脂フィルム１用溶液の調製）
　下記成分を混合して、偏光板用樹脂フィルム１用溶液を得た。
　塩化メチレン（沸点４１℃）　　　　　　　　　　　　　８６０質量部
　メタノール（沸点６５℃）　　　　　　　　　　　　　　　４０質量部
　ＣＯＰ（ＡＲＴＯＮ（登録商標）Ｇ７８１０：ＪＳＲ（株）製、Ｍｗ：１４万、カルボン酸基を有するシクロオレフィン系樹脂）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００質量部
　金属酸化物粒子：Ａｌ_２Ｏ_３（ＳＡ４３Ａ：日本軽金属株式会社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
　酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ（登録商標）１０７６：ＢＡＳＦ社製：分子量５３１）
　　　　偏光板用樹脂フィルム中に０．００２質量％となる添加量を添加
　なお、金属酸化物は、塩化メチレンとメタノールの混合溶媒（５０：５０）に投入し、マントンゴーリンホモジナイザーによる分散処理を３回実施した。その後、塩化メチレンを投入した溶解釜に投入して撹拌し、更に樹脂を投入して撹拌し、偏光板用樹脂フィルム１用溶液を得た。

　（偏光板用樹脂フィルム１の作製）
　上記支持体の離型層上に、偏光板用樹脂フィルム１用溶液を、バックコート法によりダイを用いて塗布した後、下記の乾燥ステップを行うことで厚さ６μｍの偏光板用樹脂フィルムを形成し、偏光板用樹脂フィルム１を得た。
　第１ステップ：４０℃で１分
　第２ステップ：７０℃で１分
　第３ステップ：１００℃で１分
　第４ステップ：１３０℃で２分

　作製した偏光板用樹脂フィルムの厚さは、膜厚測定システムとしてＦ２０－ＵＶ（フィルメトリクス社製）を用いて計測した。

　また、フィルムの熱伝導度は、ＴＯ－３型ヒーターケースと銅板との間に挟み、フィルムの厚さの１０％を圧縮した。次いで、銅製ヒーターケースに電力５Ｗをかけて４分間保持し、銅製ヒーターケースと銅板との温度差を測定した。熱伝導度は、下記式により算出した。
　熱伝導度｛Ｗ／ｍ・Ｋ｝＝｛電力（Ｗ）×厚さ（ｍ）｝／｛温度差（Ｋ）×測定面積（ｍ^２）｝

　金属酸化物粒子の、平均二次粒径／平均一次粒径で表される平均一次粒径と平均二次粒径との比の値（粒径比）は、以下の方法で求めた平均粒径を用いて算出した。
　超薄切片法により調製した試料において、一次粒子（又は二次粒子）を透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ－７１００ＦＡ型）で観察し、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径（いわゆる円相当径）を一次粒径（又は二次粒径）とした。そして、このようにして得られた１０００個の一次粒子（又は二次粒子）の粒径を平均し、その平均値を、平均一次粒径（又は平均二次粒径）とした。

　＜偏光板用樹脂フィルム２、１２及び１３の作製＞
　金属酸化物粒子をそれぞれ表Iに記載の、ＺｎＯ（ＦＩＮＥＸ（登録商標）５０：堺化学工業株式会社製）、ＣｕＯ（ＦＣＯ５００：古川ケミカルズ株式会社製）及びＴｉＯ_２（ＳＴＲ（登録商標）１００Ｎ：堺化学工業株式会社製）に変更した以外は、偏光板用樹脂フィルム１の作製と同様にして、偏光板用樹脂フィルム２、１２及び１３を作製した。

　＜偏光板用樹脂フィルム３の作製＞
　偏光板用樹脂フィルム用溶液を以下に変更した以外は、偏光板用樹脂フィルム１の作製と同様にして、偏光板用樹脂フィルム３を作製した。

　（ゴム粒子Ｒ１の調製）
　以下の方法で調製したゴム粒子Ｒ１を用いた。
　撹拌機付き８Ｌ重合装置に、以下の物質を仕込んだ。
　脱イオン水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１８０質量部
　ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸　　　　０．００２質量部
　ホウ酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．４７３質量部
　炭酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０４７質量部
　水酸化ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　０．００８質量部

　重合機内を窒素ガスで充分に置換した後、内温を８０℃にし、過硫酸カリウム０．０２１質量部を２％水溶液として投入した。次いで、メタクリル酸メチル８４．６質量％、アクリル酸ブチル５．９質量％、スチレン７．９質量％、メタクリル酸アリル０．５質量％、ｎ－オクチルメルカプタン１．１質量％からなる単量体混合物（ｃ′）２１質量部にポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸を０．０７質量部加えた混合液を、上記溶液に６３分間にかけて連続的に添加した。さらに、６０分重合反応を継続させることにより、最内硬質重合体（ｃ）を得た。

　その後、水酸化ナトリウム０．０２１質量部を２質量％水溶液として、過硫酸カリウム０．０６２質量部を２質量％水溶液としてそれぞれ添加した。次いで、アクリル酸ブチル８０．０質量％、スチレン１８．５質量％、メタクリル酸アリル１．５質量％からなる単量体混合物（ａ′）３９質量部にポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸０．２５質量部を加えた混合液を１１７分間にかけて連続的に添加した。添加終了後、過硫酸カリウム０．０１２質量部を２質量％水溶液で添加し、１２０分間重合反応を継続させて、軟質層（アクリル系ゴム状重合体（ａ）からなる層）を得た。

　その後、過硫酸カリウム０．０４質量部を２質量％水溶液で添加し、メタクリル酸メチル９７．５質量％、アクリル酸ブチル２．５質量％からなる単量体混合物（ｂ′）２６．１質量部を７８分間かけて連続的に添加した。さらに３０分間重合反応を継続させて、重合体（ｂ）を得た。

　得られた重合体を３質量％硫酸ナトリウム温水溶液中へ投入して、塩析・凝固させた。次いで、脱水・洗浄を繰り返した後、乾燥させて、三層構造のアクリル系グラフト共重合体粒子（ゴム粒子Ｒ１）を得た。得られたゴム粒子Ｒ１の平均粒子径は２００ｎｍであった。

　ゴム粒子の平均粒子径は、以下の方法で測定した。
　得られた分散液中のゴム粒子の分散粒径を、ゼータ電位・粒径測定システム（大塚電子株式会社製　ＥＬＳＺ－２０００ＺＳ）で測定した。

　（偏光板用樹脂フィルム３用溶液の調製）
　下記成分を混合して、偏光板用樹脂フィルム用溶液５を得た。
　塩化メチレン（沸点４１℃）　　　　　　　　　　　　　８００質量部
　アクリル：ＭＭＡ／ＰＭＩ／ＭＡＤＡ共重合体（６０／２０／２０質量比）、Ｍｗ：１５０万、Ｔｇ：１３７℃（なお、略称は、以下を示す。ＭＭＡ：メタクリル酸メチル、ＰＭＩ：フェニルマレイミド及びＭＡＤＡ：アクリル酸アダマンチル）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８０質量部
　ゴム粒子Ｒ１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
　金属酸化物粒子：Ａｌ_２Ｏ_３（ＳＡ４３Ａ：日本軽金属株式会社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
　分散剤（ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ナトリウム：分子量３３２）
　　　　偏光板用樹脂フィルム中に０．００６質量％となる添加量を添加

　＜偏光板用樹脂フィルム４～６及び１１の作製＞
　偏光板用樹脂フィルムの厚さを、表Ｉに記載の厚さに変更した以外は、偏光板用樹脂フィルム１の作製と同様にして、偏光板用樹脂フィルム４～６及び１１を作製した。

　＜偏光板用樹脂フィルム７～１０の作製＞
　マントンゴーリンホモジナイザーによる処理回数を変更し、金属酸化物粒子の粒径比を変更した以外は偏光板用樹脂フィルム１の作製と同様にして、偏光板用樹脂フィルム７～１０を作製した。

　＜偏光板用樹脂フィルム１４～１６の作製＞
　金属酸化物粒子の代わりに、下記に示す化合物１を５質量部、及び、硫酸を０．００５質量部用いた以外は、偏光板用樹脂フィルム１の作製と同様にして、偏光板用樹脂フィルム１４を作製した。また、偏光板用樹脂フィルムの厚さを、表IIに記載の厚さに変更し、偏光板用樹脂フィルム１５及び１６を作製した。

　＜偏光板用樹脂フィルム１７～２０の作製＞
　硫酸イオンの含有量が表IIに記載の含有量となるように、硫酸の添加量を変更した以外は、偏光板用樹脂フィルム１４の作製と同様にして、偏光板用樹脂フィルム１８～２０を作製した。なお、偏光板用樹脂フィルム１７については、硫酸を添加しなかった。

　＜偏光板用樹脂フィルム２１の作製＞
　化合物１の添加量及び硫酸イオンの含有量が表IIに記載のとおりとなるように変更した以外は、偏光板用樹脂フィルム１４の作製と同様にして、偏光板用樹脂フィルム２１を作製した。

　＜偏光板用樹脂フィルム２２の作製＞
　金属酸化物粒子の代わりに、下記に示す化合物１を５質量部用いた以外は、偏光板用樹脂フィルム３の作製と同様にして、偏光板用樹脂フィルム２２を作製した。

　＜偏光板用樹脂フィルム２３～３２及び３４～３６の作製＞
　化合物１を、下記に示す化合物に変更した以外は、偏光板用樹脂フィルム１４の作製と同様にして、偏光板用樹脂フィルム２３～３２及び３４～３６を作製した。

　＜偏光板用樹脂フィルム３３の作製＞
　化合物１を下記に示す化合物７に変更し、さらに偏光板用樹脂フィルムの厚さを２０μｍに変更した以外は、偏光板用樹脂フィルム１４の作製と同様にして、偏光板用樹脂フィルム３３を作製した。

　使用した有機化合物（市販品及び公知の方法による自社合成品）の構造式を以下に示す。
　市販品については、化合物６として、東京化成工業株式会社製の（１８－クラウン６－エーテル）、化合物１０として、富士フイルム和光純薬株式会社製の酢酸を使用した。
　自社合成については、例えば特許第５９１９２２７号公報の段落００８３に記載されている方法を参考にして行った。

　化合物１～９及び１３～１４については、ヨウ素移動抑制剤として機能する。また、化合物１０については、本発明の非有機酸の定義を満たさず、ヨウ素移動抑制剤として機能しない。化合物１１及び１２については、ＨＳＰ値のδＰ（極性力）が、５～９ＭＰａ^０．５の範囲外であり、ヨウ素移動抑制剤として機能しない。

　表IIに記載の各化合物のＨＳＰ値（δＰ及びδＤ）は、ＨＳＰｉＰ　５ｔｈ　ｅｄｉｔｉｏｎによる計算値である。

　また、偏光板用樹脂フィルムの固形分総質量に対する硫酸イオンの含有量は、キャピラリー電気泳動装置により測定した。
　また、キャピラリー電気泳動の条件は、以下のとおりである。
　キャピラリー電気泳動装置：ＣＡＰＩ－３１００（大塚電子社製）
　キャピラリー：内面未修飾のフューズドシリカキャピラリー（ジーエルサイエンス社製、内径５０μｍ、長さ６２．５ｃｍ、有効長５０ｃｍ）
　試料注入：落差法（２．５ｃｍｘ３０秒）
　印加電圧：２５ｋＶ
　検出波長：２００ｎｍ
　泳動液：５０ｍＭ　ホウ酸緩衝液（ｐＨ１０．５）

　[２]偏光子層の作製
　＜偏光子層（３μｍ）の作製＞
　厚さ２０μｍのポリビニルアルコール系フィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ及び水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、更にヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇ及び水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率５倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ３μｍの偏光子層を形成した。

　＜偏光子層（７μｍ）の作製＞
　厚さ４０μｍのポリビニルアルコール系フィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ及び水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、更にヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇ及び水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率５倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ７μｍの偏光子層を形成した。

　＜偏光子層（１３μｍ）の作製＞
　厚さ６０μｍのポリビニルアルコール系フィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ及び水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、更にヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇ及び水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率５倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ１３μｍの偏光子層を形成した。

　＜偏光子層（２０μｍ）の作製＞
　厚さ１００μｍのポリビニルアルコール系フィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ及び水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、更にヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇ及び水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率５倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子層を形成した。

　［３］偏光板の作製
　偏光板用樹脂フィルム１～３６に、それぞれ、偏光子層（７μｍ）及び保護層を下記の水溶性接着剤液を介して貼合し、偏光板１～２９を作製した。偏光板用樹脂フィルム１については、厚さ７、３、１３及び２０μｍの偏光子層をそれぞれ貼合した偏光板１－１、１－２、１－３及び１－４を作製した。同様に、偏光板用樹脂フィルム１４については、厚さ７、３及び２０μｍの偏光子層をそれぞれ貼合した偏光板１４－１、１４－２及び１４－３を作製した。

　（水溶性接着剤液の調製）
　下記の各成分を混合した後、脱泡して、水溶性接着剤液を調製した。
　純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００質量部
　株式会社日本触媒製「エポクロス　ＷＳ－３００」　　　７．５質量部
　ＭＥＮＡＤＩＯＮＡ社製「ＣＲＯＳＳＬＩＮＫＥＲ　ＣＬ－４２７」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１質量部

　なお、偏光板作製は、偏光板用樹脂フィルムの接着側表面にコロナ出力強度２．０ｋＷ、ライン速度１８ｍ／分でコロナ放電処理を施し、コロナ放電処理面に、上記調製した水溶性接着剤液を、乾燥後の厚さが約３μｍとなるようにバーコーターで塗工した後、５０℃、６０℃、７０℃でこの順番に６０秒ずつ乾燥し、次いで貼合した。同様にして、偏光子層の偏光板用樹脂フィルムを貼合していない面には、ＫＣ２ＣＴ－Ｗ（コニカミノルタ社製）を貼合し、偏光板用樹脂フィルムの支持体を剥離して、偏光板１～３６を得た。

　≪評価≫
　得られた偏光板を表示装置に組み込み、８０℃・５５％ＲＨの環境下で、バックライトを１週間連続点灯した後、一部偏光板を取り外し、以下の接着力の評価を行った。また、残りの偏光板部位について、以下のコントラストの評価を行った。

　（１）正面コントラスト評価
　コニカミノルタセンシング社製の装置「ＣＳ－２０００」を用い、波長５５０ｎｍの光を照射して、液晶表示装置の白表示状態及び黒表示状態での輝度を、それぞれ液晶表示装置の表示画面の法線方向から測定した。そして、得られた値を下記式に当てはめて、正面コントラスト（ＣＲ）を算出した。
　正面コントラスト（ＣＲ）＝（白表示状態での輝度）－（黒表示状態での輝度）

　１週間連続点灯後の正面コントラストの値を、以下の基準に基づいて評価した。点灯処理後においても下記基準で正面ＣＲが同様に発現しているかを評価し、△以上を良好とした。
　◎：９００≦ＣＲ
　〇：８５０≦ＣＲ＜９００
　△：８００≦ＣＲ＜８５０
　×：８００＞ＣＲ

　（２）接着力評価
　得られたサンプルに対して、偏光板用樹脂フィルムと偏光子層との界面で、１８０°の方向に、剥離速度３００ｍｍ／分で剥離する剥離試験を行った。このときの剥離強度（接着力）〔Ｎ／２５ｍｍ〕を、（株）島津製作所製の「オートグラフ　ＡＧＳ－５０ＮＸ」を用いて測定した。接着力の値は、サンプルを３つ作製し（Ｎ数＝３）、３つの値の平均値を採用した。なお、偏光板用樹脂フィルムと偏光子層との間の剥離は、偏光板用樹脂フィルムと接着剤層との界面、又は、偏光子層と接着剤層との界面のどちらかで発生するが、本評価においては、剥離状態を目視で観察し、偏光板用樹脂フィルムと接着剤層との界面で剥離が生じたときの剥離強度を採用した。
　接着力の値を、以下の基準に基づいて評価した。点灯処理後においても下記基準で接着力が同様に発現しているかを評価し、△以上を良好とした。
　◎：フィルム材料が破損してしまい、接着力の測定が不可
　〇：接着力が、２．０Ｎ／２５ｍｍ超
　△：接着力が、１．０～２．０Ｎ／２５ｍｍの範囲内
　×：接着力が、１．０Ｎ／２５ｍｍ未満

　評価結果を下記表I及び表IIに示す。

　上記結果より、本発明の偏光板用樹脂フィルムを具備する偏光板は、半導体基板の発熱による接着力の低下及びコントラストの劣化が抑制されていることがわかる。

　本発明の偏光板用樹脂フィルムを、表示装置における偏光板に用いることにより、半導体基板の発熱による接着力の低下及びコントラストの劣化を抑制することができるため、第５世代移動通信システム（５Ｇ）に対応した通信機器の、発熱による耐久性の低下を抑制することができる。

　Ｂ１１０　支持体
　Ｂ２００　製造装置
　Ｂ２１０　供給部
　Ｂ２２０　塗布部
　Ｂ２３０　乾燥部
　Ｂ２４０　冷却部
　Ｂ２５０　巻き取り部
　１　偏光板用樹脂フィルム
　２　接着剤層
　３　偏光子層
　４　保護層
１０　偏光板

Claims

　少なくとも、ヨウ素を含有する偏光子層を備えた偏光板に用いる偏光板用樹脂フィルムであって、
　少なくとも、熱可塑性樹脂及びヨウ素移動抑制剤を含有し、
　膜厚が、１μｍ以上、１５μｍ未満である
　ことを特徴とする偏光板用樹脂フィルム。
　前記ヨウ素移動抑制剤が、金属酸化物粒子であり、
　前記偏光板用樹脂フィルムの熱伝導度が、０．２～０．６Ｗ／ｍ・Ｋの範囲内である
　ことを特徴とする請求項１に記載の偏光板用樹脂フィルム。
　前記金属酸化物粒子の平均一次粒径と平均二次粒径の比の値が、下記式（１）を満たす
　ことを特徴とする請求項２に記載の偏光板用樹脂フィルム。
　式（１）：２０＜平均二次粒径／平均一次粒径＜２０００
　前記ヨウ素移動抑制剤が、非有機酸であり、かつ、
　前記非有機酸のハンセン溶解度パラメータ（ＨＳＰ値）のδＰ（極性力）が、５～９ＭＰａ^０．５の範囲内である
　ことを特徴とする請求項１に記載の偏光板用樹脂フィルム。
　前記非有機酸の前記ＨＳＰ値のδＤ（分散力）とδＰ（極性力）の比の値が、下記式（２）を満たす
　ことを特徴とする請求項４に記載の偏光板用樹脂フィルム。
　式（２）：２＜δＤ（分散力）／δＰ（極性力）＜４
　前記ヨウ素移動抑制剤が、さらに、硫酸イオンを含有し、かつ、
　前記硫酸イオンの含有量が、偏光板用樹脂フィルムの固形分総質量に対して、１～１００質量ｐｐｍの範囲内である
　ことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の偏光板用樹脂フィルム。
　前記熱可塑性樹脂が、シクロオレフィン樹脂である
　ことを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の偏光板用樹脂フィルム。
　請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の偏光板用樹脂フィルムを製造する偏光板用樹脂フィルムの製造方法であって、
　離型層を有する樹脂フィルムを支持体として、前記離型層上に、熱可塑性樹脂及びヨウ素移動抑制剤を含有する溶液を塗布する工程を有する
　ことを特徴とする偏光板用樹脂フィルムの製造方法。
　樹脂フィルム上に接着剤層及び偏光子層を有する偏光板であって、
　前記樹脂フィルムとして、請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の偏光板用樹脂フィルムを具備する
　ことを特徴とする偏光板。
　前記偏光子層の厚さが、４～１５μｍの範囲内である
　ことを特徴とする請求項９に記載の偏光板。
　偏光板を具備する表示装置であって、
　前記偏光板として、請求項９又は請求項１０に記載の偏光板を具備する
　ことを特徴とする表示装置。