TWI831132B - 偏光板保護薄膜 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題係提供含有樹脂及色素化合物之偏光板保護薄膜，其於使用於顯示裝置尤其是有機電致發光顯示裝置時，可保護顯示元件免受外光之影響，同時對於顯示元件之發光不產生發光損失，且不外滲、耐光性優異之偏光板保護薄膜。 本發明之偏光板保護薄膜之特徵係含有具有以下述式1表示之構造的化合物。

Description

偏光板保護薄膜
本發明有關偏光板保護薄膜。更詳言之，有關含有樹脂與色素化合物之偏光板保護薄膜、顯示裝置，特別是使用於有機電致發光顯示裝置時，可保護顯示元件免受外光之影響，且對於顯示元件之發光不產生發光損失，且無外滲，耐光性優異之偏光板保護薄膜。
一般為了對偏光板保護薄膜等之光學薄膜賦予包含紫外線區域及短波長之可見光的寬波長範圍的光線之截止性，有將紫外線吸收劑等添加於基材之方法，或於基材上設置其他層之方法等。此時為了截止短波長之可見光而以高濃度含有紫外線吸收劑，隨著薄膜之薄膜化，雖有以高濃度含有紫外線吸收劑之情況，但以高濃度含有時，有於長波長側發生不期望之著色，或有產生白化現象、析出(外滲)之情況。為了解決該等問題，謀求即使以低濃度含有亦可吸收(截止)短波長之可見光的光之材料。
另一方面，為了不對有機電致發光(Electroluminescence：以下簡稱「EL」)顯示裝置所用之顯示元件的發光產生發光損失，必須充分確保該顯示元件之發光區域(比430nm更為長波長側)之透過率，而必須使用可抑制該區域之光吸收，可充分確保光透過率之材料，且抑制顯示元件因外光而劣化之技術。
例如，專利文獻1中揭示為了調整對於特定波長區域之光吸收性，而於樹脂中含有具備可見光之短波長側之光吸收性的光選擇吸收化合物(分子內包含部花青(Merocyanine)構造之化合物等)之技術，但關於該光選擇吸收化合物之耐光性並未記載。
專利文獻2中揭示高透明光學薄膜，其含有樹脂、紫外線吸收劑及可見光線吸收色素之至少1種光吸收性材料，光波長380~410nm下的光線透過率為10%以下，光波長440nm下之光線透過率為80%以上，製膜時無外滲，紫外線截止性與可見光短波長區域之陡峭波長截止性優異。然而，含有該光吸收性材料之光學薄膜中，同樣關於該紫外線吸收劑及可見光吸收色素之耐光性並未記載。
又，專利文獻3中揭示一種光學薄膜，其包含特定樹脂(含脂環式構造之聚合物)與紫外線吸收劑，且藉由含有可控制特定波長之光透過率之色素化合物，可保護圖像顯示裝置免受紫外線影響，同時可改善自正面方向觀察圖像顯示裝置時之色相。然而，關於該光學薄膜之外滲之耐久性並未記載，隨著薄膜之更薄膜化，對提高耐久性之需求很大。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2019-8293號公報 [專利文獻2] 日本特開2017-187619號公報 [專利文獻3] 國際公開第2020/158468號
[發明欲解決之課題]
本發明係鑒於上述問題·狀況而完成者，其解決課題係提供含有樹脂與色素化合物之偏光板保護薄膜，其於使用於顯示裝置尤其是有機電致發光顯示裝置時，可保護顯示元件免受外光之影響，同時對於顯示元件之發光不產生發光損失，且不外滲、耐光性優異之偏光板保護薄膜。 [用以解決課題之手段]
本發明人等為了解決上述課題，針對上述問題之原因等進行檢討之過程中，發現藉由於偏光板保護薄膜中含有具有以下所示之特定構造之化合物，可獲得能保護顯示元件免受外光之影響，且對顯示元件之發光不產生發光損失，且不外滲，且耐光性優異之含有樹脂與色素化合物之偏光板保護薄膜。
亦即，本發明之上述課題可藉由以下手段解決。
1. 一種偏光板保護薄膜，其特徵係含有具有以下述式1表示之構造之化合物， 。 [發明效果]
藉由本發明之上述手段，可提供含有樹脂與色素化合物之偏光板保護薄膜，其於使用於顯示裝置尤其是有機電致發光顯示裝置時，可保護顯示元件免受外光之影響，同時對於顯示元件之發光不產生發光損失，且不外滲、耐光性優異之偏光板保護薄膜。
本發明之效果展現機制或作用機制尚不清楚，推測如下。
藉由具有以前述式1表示之構造之化合物之對苯并三唑骨架賦予特定取代基構造，而提高化合物之疏水性，藉由該疏水性，加強了與樹脂或其他添加劑之相互作用，藉由該相互作用之強化，抑制了化合物因光所致之分解性，可提高耐光性(亦稱為「光堅牢度」)。此外，基於樹脂與該化合物之sp值(亦稱為「溶解度參數」)之觀點，相溶性良好，即使添加形成期望吸收光譜所需之量，亦不會產生外滲或白化現象，提高了耐久性。
本發明之偏光板保護薄膜之特徵係含有具有以前述式1表示之構造之化合物。該特徵係與下述實施態樣共通或對應之技術特徵。
以下，針對本發明及其構成要素以及用於實施本發明之形態‧態樣詳細說明。又本申請案中，「~」係以包含其前後記載之數值作為下限值及上限值之意義使用。
≪本發明之偏光板保護薄膜之概要≫ 本發明之偏光板保護薄膜之特徵係含有具有以下述式1表示之構造的化合物。
以下詳細說明本發明之偏光板保護薄膜之構成。又，具有以前述式1表示之構造的化合物，於本發明中稱為「色素化合物」。
[1]偏光板之構成 圖1係顯示本發明之較佳偏光板10A之構成例的剖視圖，其自視認側起依序具有本發明的偏光板保護薄膜1、偏光器層2及相位差薄膜3。分別積層前述偏光板保護薄膜1、偏光器層2及相位差薄膜3時，較佳藉由黏著劑層或接著劑層(未圖示)予以接著。相位差薄膜3係指根據偏光板之使用目的，調整相位差之偏光板保護薄膜。
本發明所用之偏光板較佳除了前述偏光板保護薄膜1、偏光器層2及相位差薄膜3以外具有各種功能層。圖2係基於將偏光板安裝於顯示裝置時提高最表面之耐傷性之觀點，亦較佳將作為功能性層之硬塗層4作為偏光板保護薄膜1之上層而配置。且將包含具有與顯示裝置之接著功能之黏著劑層5作為相位差薄膜的下層之偏光板10B的構成亦為較佳態樣。
本發明所用之偏光板若以例如使用偏光板10A之例加以說明，則如圖3剖視圖所示之有機EL顯示裝置20般，與偏光板10A之相位差薄膜3相鄰配置黏著劑層5，並接著於有機EL元件11之視認側之面的態樣，基於展現本發明之偏光板保護薄膜1之期待效果之觀點，係較佳態樣。
[2]色素化合物 本發明之色素化合物(以下亦稱為「化合物(D)」)係具有以前述式1表示之構造的化合物。
該色素化合物係於300~460nm的波長區域的吸收光譜中最大吸收波長存在於365~430nm之波長區域的化合物。
(最大吸收波長之測定) 上述化合物之最大吸收波長，可藉由例如使用島津製作所股份有限公司製紫外可見光分光光度計UV-2450，測定色素化合物或紫外線吸收劑於氯仿中之吸收光譜而求出。
又，本發明所謂「最大吸收波長」係指在測定上述化合物之吸收光譜時所得之化合物的吸收光譜中，顯示最大且極大吸光度(吸收強度)之波長(nm)。
藉由該色素化合物之最大吸收波長存在於前述波長區域，可保護顯示元件免受外光之影響而抑制劣化，同時對於顯示元件之發光不會產生發光損失。該色素化合物雖具有上述吸光特性，但較佳不具有會阻礙有機EL元件之顯示性般之螢光及磷光性能(光致發光)。
該色素化合物係含於偏光板保護薄膜者，就對該偏光板保護薄膜之成膜成分的基底聚合物等之樹脂成分的分散性與透明性維持之觀點是有用。亦即，藉由取代為苯并三唑骨架之特定取代基構造，化合物之疏水性提高，藉由該疏水性，因與樹脂或其他添加劑之相互作用的強化，可抑制光所致之化合物的分解性而提高耐光性，基於樹脂與該化合物之sp值之觀點，相溶性良好，即使添加形成期望之吸收光譜所需的量，亦不發生外滲或白化現象，耐用性提高。
＜合成例＞ 色素化合物(化合物1)之合成
於300mL之4頸燒瓶上安裝帶球冷凝器、溫度計、攪拌裝置，添加(a1)4.0g(0.0134莫耳)、甲苯200mL、辛酸7.67g(0.0532莫耳)、甲烷磺酸0.2g(0.002莫耳)，於110~115℃回流脫水4小時。以溫水100mL洗淨2次，添加活性碳0.2g，回流攪拌脫色後，趁熱時過濾，將濾液冷卻至5℃，過濾所析出之結晶，以甲苯洗淨後，於60℃乾燥，獲得5.2g化合物1(收率91%)。
本發明之色素化合物之含量，相對於偏光板保護薄膜中之成膜成分的樹脂成分100質量%，較佳為0.01~10質量份之範圍內，更佳於0.02~8質量份之範圍內。
藉由將色素化合物之含量設為上述範圍內，當具有本發明之偏光板保護薄膜的偏光板使用於有機EL顯示裝置時，可充分吸收不影響有機EL元件發光之區域的光，可抑制有機EL元件之劣化。
[3]樹脂 本發明所用之樹脂較佳為熱塑性樹脂材料，若為製膜後可作為薄膜處理者，則不受限制。例如作為偏光板保護薄膜用途使用之熱塑性樹脂，可應用三乙醯纖維素(TAC)、纖維素乙酸酯丙酸酯(CAP)、二乙醯纖維素(DAC)等之纖維素酯樹脂或環烯烴聚合物(以下亦稱為COP、環烯烴系樹脂)等之環狀烯烴系樹脂、聚丙烯(PP)等之聚丙烯系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等之丙烯酸系樹脂及聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等之聚酯系樹脂。
其中，疏水性高的樹脂，與本發明之色素化合物之親和性高，可控制光吸收波長的波形，紫外線截止性與可見光短波長區域之陡峭波長截止性優異，且可提高使顯示裝置之發光損失減低之效果。基於該觀點，若考慮樹脂之極性、親水性及含水性，則可依序較佳使用環狀烯烴系樹脂(環烯烴系樹脂)、丙烯酸系樹脂、纖維素酯系樹脂。
[3.1]環烯烴系樹脂 本發明之偏光板保護薄膜中所含之環烯烴系樹脂較佳為環烯烴單體之聚合物，或環烯烴單體與其以外之共聚合性單體之共聚物。
作為環烯烴系單體較佳為具有降冰片烯骨架之環烯烴單體，更佳為具有以下述通式(A-1)或(A-2)表示之構造的環烯烴單體。
通式(A-1)中，R 1~R 4各獨立表示氫原子、碳原子數1~30之烴基或極性基。p表示0~2之整數。但，R 1~R 4不全部同時表示氫原子，R 1與R 2不同時表示氫原子，R 3與R 4不同時表示氫原子。
通式(A-1)中作為以R 1~R 4表示之碳原子數1~30的烴基，較佳為例如碳原子數1~10之烴基，更佳為碳原子數1~5之烴基。碳原子數1~30之烴基，亦可進而具有例如包含鹵原子、氧原子、氮原子、硫原子或矽原子之連接基。此等連接基之例包含羰基、亞胺基、醚鍵、矽醚鍵、硫醚鍵等之2價極性基。碳原子數1~30之烴基之例包含甲基、乙基、丙基及丁基等。
通式(A-1)中以R 1~R 4表示之極性基之例包含羧基、羥基、烷氧基、烷氧羰基、芳氧羰基、胺基、醯胺基及氰基。其中，較佳為羧基、羥基、烷氧羰基及芳氧羰基，基於確保溶液製膜時之溶解性之觀點，較佳為烷氧羰基及芳氧羰基。
通式(A-1)中之p，基於提高偏光板保護薄膜之耐熱性之觀點，較佳為1或2。係因為p為1或2時，所得聚合物體積變大，玻璃轉移溫度容易提高之故。
通式(A-2)中，R 5表示氫原子、碳數1~5之烴基或具有碳數1~5之烷基的烷基矽烷基。R 6表示羧基、羥基、烷氧羰基、芳氧羰基、胺基、醯胺基、氰基或鹵原子(氟原子、氯原子、溴原子或碘原子)。p表示0~2之整數。
通式(A-2)中之R 5較佳表示碳數1~5之烴基，更佳表示碳數1~3之烴基。
通式(A-2)中之R 6，較佳表示羧基、羥基、烷氧羰基及芳氧羰基，基於確保溶液製膜時之溶解性之觀點，更佳為烷氧羰基及芳氧羰基。
通式(A-2)中之p，基於提高偏光板保護薄膜之耐熱性之觀點，較佳表示1或2。係因為p表示1或2時，所得聚合物體積變大，玻璃轉移溫度容易提高之故。
具有以通式(A-2)表示之構造的環烯烴單體，就提高於有機溶劑中之溶解性之觀點係較佳。一般有機化合物由於因對稱性破壞而使結晶性降低，提高了於有機溶劑中之溶解性。通式(A-2)中之R 5及R 6由於相對於分子之對稱軸僅單側之環構成碳原子經取代，故分子的對稱性低，即由於具有以通式(A-2)表示之構造的環烯烴單體的溶解性高，故適用於藉由溶液澆鑄法製造偏光板保護薄膜之情況。
環烯烴單體之聚合物中具有以通式(A-2)表示之構造的環烯烴單體之含有比例，相對於構成環烯烴系樹脂之全部環烯烴單體之合計，例如為70莫耳%以上，較佳為80莫耳%以上，更佳可為100莫耳%。含有一定量以上之具有以通式(A-2)表示之構造之環烯烴單體時，由於樹脂之配向性提高，故相位差(延遲)值容易上升。
以下，具有以通式(A-1)表示之構造的環烯烴單體之具體例以構造式1~14表示，具有以通式(A-2)表示之構造的環烯烴單體之具體例以構造式15~34表示。
可與環烯烴單體共聚合之共聚合性單體之例包含可與環烯烴單體開環共聚合之共聚合性單體以及可與環烯烴單體加成共聚合之共聚合性單體等。
可開環共聚合之共聚合性單體之例包含環丁烯、環戊烯、環己烯、環辛烯及二環戊二烯等之環烯烴。
可加成共聚合之共聚合性單體之例包含含不飽和雙鍵之化合物、乙烯系環狀烴單體及(甲基)丙烯酸酯等。含不飽和雙鍵之化合物之例包含碳原子數2~12(較佳2~8)之烯烴化合物，其例包含乙烯、丙烯及丁烯等。乙烯系環狀烴單體之例包含4-乙烯基環戊烯及2-甲基-4-異丙烯基環戊烯等之乙烯基環戊烯系單體。(甲基)丙烯酸酯之例包含(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯及(甲基)丙烯酸環己酯等之碳原子數1~20之(甲基)丙烯酸烷基酯。
環烯烴單體與共聚合性單體之共聚物中之環烯烴單體之含有比例，相對於構成共聚物之全部單體之合計，例如為20~80mol%，較佳可為30~70mol%。
環烯烴系樹脂如前述，係使具有降冰片烯骨架之環烯烴單體，較佳為具有以通式(A-1)或(A-2)表示之構造的環烯烴單體聚合或共聚合所得之聚合物，其例包含以下者。
(1)環烯烴單體之開環聚合物 (2)環烯烴單體與可與其開環共聚合之共聚合性單體之開環共聚物 (3)上述(1)或(2)之開環(共)聚合物的氫化物 (4)上述(1)或(2)之開環(共)聚合物藉由弗里德克拉夫茨反應環化後，經氫化之(共)聚合物 (5)環烯烴單體與含不飽和雙鍵之化合物的飽和共聚物 (6)環烯烴單體與乙烯系環狀烴單體之加成共聚物及其氫化物 (7)環烯烴單體與(甲基)丙烯酸酯之交替共聚物 上述(1)~(7)之聚合物均可採用習知方法，例如日本特開2008-107534號公報及日本特開2005-227606號公報記載之方法獲得。例如上述(2)之開環共聚合所用之觸媒及溶劑，例如可使用日本特開2008-107534號公報之段落0019~ 0024記載者。上述(3)及(6)之氫化所用之觸媒，可使用例如日本特開2008-107534號公報之段落0025~0028中記載者。上述(4)之弗里德克拉夫茨反應所用之酸性化合物可使用例如日本特開2008-107534之段落0029所記載者。上述(5)~(7)之加成聚合所用之觸媒，例如可使用日本特開2005-227606號公報之段落0058~0063中記載者。上述(7)之交替共聚合反應例如可藉由日本特開2005-227606號公報之段落0071及0072中記載之方法進行。
其中，較佳為上述(1)~(3)及(5)之聚合物，更佳為(3)及(5)之聚合物。亦即，環烯烴系樹脂，基於可提高所得環烯烴系樹脂之玻璃轉移溫度且可提高光透過率之方面，較佳包含以下述通式(B-1)表示之構造單位與以下述通式(B-2)表示之構造單位之至少一者，或僅包含以通式(B-2)表示之構造單位，或更佳包含以通式(B-1)表示之構造單位與以通式(B-2)表示之構造單元之兩者。以通式(B-1)表示之構造單位係源自以上述通式(A-1)表示之環烯烴單體之構造單位，以通式(B-2)表示之構造單元係源自以上述通式(A-2)表示之環烯烴單體之構造單位。
通式(B-1)中，X表示-CH=CH-或-CH 2CH 2-。R 1~R 4及p分別與通式(A-1)之R 1~R 4及p同義。
通式(B-2)中，X表示-CH=CH-或-CH 2CH 2-。R 5~R 6及p分別與通式(A-2)之R 5~R 6及p同義。
本發明所用之環烯烴系樹脂可為市售品。環烯烴系樹脂之市售品之例包含JSR(股)製之Arton G(例如G7810等)、Arton F、Arton R(例如R4500、R4900及R5000等)及Arton RX。
環烯烴系樹脂之固有黏度[η]inh於30℃之測定中較佳為0.2~5 cm 3/g的範圍，更佳為0.3~3cm 3/g的範圍，又更佳為0.4~1.5cm 3/g的範圍內。
環烯烴系樹脂之數平均分子量(Mn)較佳為8000~100000之範圍，更佳為10000~80000之範圍，又更佳為12000~50000之範圍。環烯烴系樹脂之重量平均分子量(Mw)較佳於20000~300000之範圍，更佳於30000~250000之範圍，又更佳為40000~200000之範圍。環烯烴系樹脂之數平均分子量及重量平均分子量可藉由凝膠滲透層析儀(GPC)以聚苯乙烯換算而測定。
＜凝膠滲透層析儀＞ 溶劑：二氯甲烷 管柱：Shodex K806、K805、K803G (昭和電工(股)製，使用3根連接) 管柱溫度：25℃ 試料濃度：0.1質量% 檢測器：RI型號504(GL科學公司製) 泵：L6000(日立製作所(股)製) 流量：1.0mL/min 校準曲線：標準聚苯乙烯STK標準聚苯乙烯(TOSOH (股)製)，使用Mw=500~2800000之範圍內之13個樣品的校準曲線。13個樣品較佳以大致等間隔使用。
固有黏度[η]inh、數平均分子量及重量平均分子量若為上述範圍內，則環烯烴系樹脂之耐熱性、耐水性、耐藥品性、機械特性及作成薄膜之成形加工性良好。
環烯烴系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)通常為110℃以上，較佳於110~350℃之範圍，更佳於120~250℃之範圍，又更佳於120~220℃之範圍。Tg為110℃以上時，容易抑制於高溫條件下之變形。另一方面，Tg為350℃以下時，成形加工變得容易，成形加工時因熱所致之樹脂劣化亦容易被抑制。
環烯烴系樹脂之含量較佳相對於薄膜為70質量%以上，更佳為80質量%以上。
[3.2]丙烯酸系樹脂 本發明所用之丙烯酸系樹脂係丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯之聚合物，還包括與其他單體之共聚物。
因此，本發明所用之丙烯酸系樹脂亦包含甲基丙烯酸樹脂。作為樹脂並未特別限制，但較佳係由甲基丙烯酸甲酯單位於50~99質量%之範圍，即可與其共聚合之其他單體單位於1~50質量%之範圍內所成者。
作為構成以共聚形成之丙烯酸系樹脂之其他單位，舉例為烷基之碳數為2~18的甲基丙烯酸烷酯、烷基之碳數為1~18的丙烯酸烷酯、甲基丙烯酸異冰片酯、丙烯酸2-羥基乙酯等之丙烯酸羥基烷酯、丙烯酸、甲基丙烯酸等之α,β-不飽和酸、丙烯醯基嗎啉、N-羥基苯基甲基丙烯醯胺等之丙烯醯胺、N-乙烯基吡咯啶酮、馬來酸、富馬酸、衣康酸等之含不飽和基之二元羧酸、苯乙烯、α-甲基苯乙烯等之芳香族乙烯基化合物、丙烯腈、甲基丙烯腈等之α,β-不飽和腈、馬來酸酐、馬來醯亞胺、N-取代馬來醯亞胺、戊二醯亞胺、戊二酸酐等。
作為形成自上述單位中戊二醯亞胺及戊二酸酐除外之單位的可共聚合單體，舉例為與上述單位對應之單體。亦即舉例為烷基之碳數為2~18之甲基丙烯酸烷酯、烷基之碳數為1~18的丙烯酸烷酯、甲基丙烯酸異冰片酯、丙烯酸2-羥基乙酯等之丙烯酸羥基烷酯、丙烯酸、甲基丙烯酸等之α,β-不飽和酸、丙烯醯基嗎啉、N-羥基苯基甲基丙烯醯胺等之丙烯醯胺、N-乙烯基吡咯啶酮、馬來酸、富馬酸、衣康酸等之含不飽和基之二元羧酸、苯乙烯、α-甲基苯乙烯等之芳香族乙烯基化合物、丙烯腈、甲基丙烯腈等之α,β-不飽和腈、馬來酸酐、馬來醯亞胺、N-取代馬來醯亞胺等之單體。
又，戊二醯亞胺單位可藉由例如使1級胺(醯亞胺化劑)與具有(甲基)丙烯酸酯單位之中間體聚合物反應醯亞胺化而形成(參見日本特開2011-26563號公報)。
戊二酸酐單位可藉由例如將具有(甲基)丙烯酸酯單位之中間體聚合物加熱而形成(參見日本專利第4961164號公報)。
本發明所用之丙烯酸系樹脂中，上述構成單位中，基於機械強度之觀點，特佳包含甲基丙烯酸異冰片酯、丙烯醯基嗎啉、N-羥基苯基甲基丙烯醯胺、N-乙烯基吡咯啶酮、苯乙烯、甲基丙烯酸羥基乙酯、馬來酸酐、馬來醯亞胺、N-取代馬來醯亞胺、戊二酸酐或戊二醯亞胺。
本發明所用之丙烯酸系樹脂，基於控制對於環境之溫濕度環境之變化的尺寸變化之觀點、或薄膜生產時自金屬支撐體之剝離性、有機溶劑之乾燥性、耐熱性及機械強度的改善之觀點，重量平均分子量(Mw)較佳為5萬~100萬之範圍內，更佳為10萬~100萬的範圍內，特佳為20萬~80萬之範圍內。
若為50,000以上，則耐熱性及機械強度優異，若為100萬以下，則自金屬支撐體之剝離性及有機溶劑的乾燥性優異。
作為本發明所用之丙烯酸系樹脂之製造方法未特別限制，可使用懸浮聚合、乳化聚合、塊狀聚合或溶液聚合等之任何習知方法。此處，作為聚合起始劑，可使用通常之過氧化物系及偶氮系者，且亦可為氧化還原系。關於聚合溫度，於懸浮或乳化聚合可於30~100℃之範圍內實施，於塊狀或溶液聚合可於80~160℃之範圍內實施。為了控制所得共聚物之還原黏度，亦可使用烷基硫醇等作為鏈轉移劑實施聚合。
丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度Tg，基於保持薄膜機械強度之觀點，較佳於80~120℃之範圍內。
作為本發明所用之丙烯酸系樹脂，亦可使用市售者。舉例為例如DELPET 60N、80N、980N、SR8200 (以上為旭化成化學(股)製)、DIANAL BR52、BR80、BR83、BR85、BR88、EMB-143、EMB-159、EMB-160、EMB-161、EMB-218、EMB-229、EMB-270、EMB-273(以上為三菱縲縈(股)製)、KT75、TX400S、IPX012(以上為電氣化學工業(股)製)等。丙烯酸系樹脂亦可併用2種以上。
本發明所用之丙烯酸系樹脂較佳含有添加劑，作為添加劑之一例，較佳含有國際公開第2010/001668號中記載之丙烯酸粒子(橡膠彈性體粒子)，以提高薄膜之機械強度及調整尺寸變化率。作為此種多層構造丙烯酸系粒狀複合體之市售品之例，舉例為例如三菱縲縈公司製之「METABLEN W-341」、KANEKA公司製之「KANEACE」、KUREHA公司製之「PARALOID」、羅門哈斯公司製之「ACRYLOID」、AICA公司製之「STAFYROID」、CHEMISNOW MR-2G、MS-300X(以上為綜研化學(股)製)及KURARAY公司製之「PARAPET SA」等，該等可單獨使用或使用2種以上。
丙烯酸顆粒之體積平均粒徑為0.35μm以下，較佳為0.01~0.35μm之範圍，更佳為0.05~0.30μm之範圍。粒徑若為一定以上，則薄膜在加熱下容易延伸，粒徑若為一定以下，則不易損及所得薄膜之透明性。
本發明之偏光板保護薄膜，基於柔軟性之觀點，彎曲彈性模數(JIS K7171)較佳為1.5GPa以下。該彎曲彈性模數更佳為1.3GPa以下，又更佳為1.2GPa以下。該彎曲彈性模數係隨薄膜中之丙烯酸系樹脂及橡膠彈性體粒子之種類及量等而變動，例如，橡膠彈性體粒子之含量越多，一般彎曲彈性模數越小。且，作為丙烯酸系樹脂，相較於使用甲基丙烯酸烷酯之均聚物，使用甲基丙烯酸烷酯與丙烯酸烷酯的共聚物時，一般彎曲彈性模數較小。
[3.3]纖維素酯系樹脂 作為本發明所用之纖維素酯樹脂，舉例為例如三乙醯纖維素(TAC)、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素二乙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等。且，亦可與纖維素酯樹脂一起併用聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等之聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚乙烯、聚丙烯等之聚烯烴樹脂、降冰片烯樹脂、氟樹脂、環烯烴系樹脂等。
本發明之偏光板保護薄膜所用之纖維素酯較佳為碳數2~22左右之羧酸酯，亦可為芳香族羧酸之酯，較佳為纖維素之低級脂肪酸酯。此處，纖維素低級脂肪酸酯中之「低級脂肪酸」意指碳原子數6以下之脂肪酸。
又，與構成纖維素酯之葡萄糖單位的羥基鍵結之醯基可為直鏈烴基，亦可為分支鏈烴基，亦可為環狀構造的烴基，亦可對醯基取代其他取代基。與纖維素酯之羥基鍵結之取代基的取代度相同時，低級脂肪酸之碳數若超過7，則雙折射性降低，故與構成纖維素酯之葡萄糖單位的羥基鍵結的醯基的碳數較佳為2~6，該碳數更佳為2~4，又更佳碳數為2~3。
本發明中，纖維素酯亦可使用源自混合酸之醯基。較佳使用碳數2及3之醯基，或碳數2及4之醯基。作為此等纖維素酯之具體例，可使用纖維素乙酸酯丙酸酯，纖維素乙酸酯丁酸酯或纖維素乙酸酯丙酸酯丁酸酯等之除乙醯基以外又鍵結丙酸酯基或丁酸酯基之纖維素的混合脂肪酸酯。又，形成丁酸酯之丁醯基可為直鏈狀，亦可為分支狀。纖維素酯較佳為纖維素乙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯、纖維素乙酸酯丙酸酯或纖維素乙酸酯鄰苯二甲酸酯。
上述保護薄膜之延遲值可藉由纖維素酯所含之醯基種類與對纖維素樹脂骨架之吡喃糖環的醯基取代度等適當控制。
與構成保護薄膜所用之纖維素酯的葡萄糖單位的羥基鍵結之取代基較佳同時滿足下述式(a)及式(b)。
式(a)：2.0≦X+Y≦3.0 式(b)：0≦Y≦2.0 上述式(a)中，X為乙醯基之取代度，式(a)及式(b)中，Y為丙醯基或丁醯基之取代度。藉由滿足上述2式，可製造顯示優異光學特性之偏光板保護薄膜。上述纖維素酯中，較佳使用三乙醯纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯。纖維素乙酸酯丙酸酯較佳系乙醯基取代度X為1.0≦X≦2.5且0.1≦Y≦1.5、2.0≦X＋Y≦3.0。
醯基之取代度之測定方法可依據ASTM-D817-96測定。醯基之取代度過低時，相對於構成纖維素樹脂骨架之吡喃糖環的羥基，未反應部分變多，使該羥基大量殘存。因此，因偏光板保護薄膜之延遲值會因濕度而變化故而欠佳，因作為偏光板保護薄膜保護偏光器層之能力降低故而欠佳。
上述纖維素酯之數平均分子量較佳為60000 ~300000，更佳為70000~200000。藉由使用具有此數平均分子量之纖維素酯，可提高偏光板保護薄膜之機械強度。該纖維素酯之數平均分子量係採用以下述條件藉由高速液相層析儀測定之值。
溶劑：丙酮 管柱：MPW×1(TOSOH股份有限公司製) 試料濃度：0.2(質量/容量)% 流量：1.0mL/分 試料注入量：300μL 標準試料：標準聚苯乙烯 溫度：23℃
上述纖維素酯之合成可依據常用方法製備。 例如，成為纖維素酯原料之纖維素未特別限制，但可舉例為棉絨、木漿、大麻槿等。且由該等材料所得之纖維素酯亦可以任意比例混合使用。
作為上述纖維素原料的醯化劑，於使用乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐等之酸酐時，藉由乙酸等之有機酸或二氯甲烷等之有機溶劑與硫酸等之質子觸媒進行反應。使用醯氯(CH 3COCl、C 2H 5COCl、C 3H 7COCl)作為醯化劑時，使用胺等之鹼性化合物作為觸媒。纖維素原料之醯化可藉由日本特開平10-45804號公報中記載之方法合成。
[4]其他添加劑 本發明之偏光板保護薄膜可進而包含抗氧化劑、可塑劑、微粒子、抗靜電劑、剝離劑、增黏劑等之其他添加劑。 其中，基於更提高本發明效果之觀點，較佳使用抗氧化劑及微粒子。
(抗氧化劑) 本發明之偏光板保護薄膜較佳含有抗氧化劑。抗氧化劑亦稱為劣化防止劑，具有例如藉由薄膜中之殘留溶劑量之鹵素或磷酸系可塑劑之磷酸等減緩或防止薄膜分解之作用。
本發明中，藉由併用本發明之色素化合物與抗氧化劑，可獲得使該色素化合物之光吸收波形更陡峭之效果。作為該抗氧化劑，特佳為受阻酚系化合物，受阻酚系化合物與本發明之色素化合物的親和性高，藉由其相互作用，容易使光吸收波形更陡峭，可抑制長波長側的光吸收，有可抑制發光損失之效果。
作為此種受阻酚系抗氧化劑，可舉例為例如2,6-二-第三丁基-對-甲酚、季戊四醇-四[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、三乙二醇-雙[3-(3-第三丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯]、1,6-己二醇-雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、2,4-雙-(正辛硫基)-6-(4-羥基-3,5-二-第三丁基苯胺基)-1,3,5-三嗪、2,2-硫基-二伸乙基雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、十八烷基-3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯、N,N’-六亞甲基雙(3,5-二-第三丁基-4-羥基-氫桂皮醯胺)、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)苯、三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)-異氰尿酸酯等。
特佳為2,6-二-第三丁基-對-甲酚、季戊四醇-四[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、三乙二醇-雙[3-(3-第三丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯]。且亦可併用例如N,N’-雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙醯基]醯肼等之醯肼等之金屬惰性劑或三(2,4-二-第三丁基苯基)磷酸酯等之磷系加工穩定劑。
作為較佳之受阻酚系抗氧化劑，可使用市售品，可例示獲自日本BASF(股)之Irganox1076及Irganox1010。
該等化合物之添加量，相對於樹脂100質量%，為5質量%以下，較佳為2質量%以下，更佳於0.5~1質量%之範圍使用。
＜微粒子＞ 本發明之偏光板保護薄膜較佳含有微粒子。
作為本發明所使用之微粒子，作為無機化合物之例，可舉例二氧化矽、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鈣、碳酸鈣、滑石、黏土、燒結高嶺土、燒製矽酸鈣、水合矽酸鈣、矽酸鋁、矽酸鎂及磷酸鈣。且，有機化合物之微粒子亦可較佳地使用。作為有機化合物之例，可舉例聚四氟乙烯、纖維素乙酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸丙酯、聚丙烯酸甲酯、聚碳酸伸乙酯、丙烯酸苯乙烯系樹脂、矽氧系樹脂、聚碳酸酯樹脂、苯胍胺系樹脂、三聚氰胺系樹脂、聚烯烴系粉末、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂或聚氟化乙烯樹脂、澱粉等之有機高分子化合物之粉碎分級物。或可使用藉由懸浮聚合法合成之高分子化合物、藉由噴霧乾燥法或分散法等作成球型之高分子化合物或無機化合物。
微粒子之一次粒子的平均粒徑較佳於5~ 400nm之範圍內，更佳於10~300nm之範圍內。
該等亦可主要以粒徑0.05~0.3μm範圍之二次凝集體而含有，若為平均粒徑100~400nm之範圍的粒子，則亦較佳不凝集而以一次粒子含有。
微粒子包含矽者，就減低薄膜之濁度之觀點係較佳，特佳為二氧化矽。二氧化矽之微粒子可使用例如以Aerosil R972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上為日本Aerosil(股)製)之商品名銷售者。
特別是含矽微粒子與本發明之色素化合物的親和性高，藉由併用，可使光吸收波形更陡峭，可抑制長波長側之光吸收，可抑制顯示裝置之發光損失。作為含矽微粒子，其中較佳為上述之R812或R972，疏水性更高之含矽粒子與本發明之色素化合物的親和性高，藉由其相互作用，可獲得減低上述發光損失之效果。
該等微粒子可單獨使用1種，亦可併用2種以上。相對於樹脂100質量%，微粒子之含量為10質量%以下，較佳為5質量%以下，更佳以0.5~2質量%以下之範圍使用。
於本發明之製造步驟內添加微粒子時，較佳藉由產線上添加進行混合，例如較佳使用靜態混合器(東麗工程公司製)、SWJ(東麗靜止型管內混合器Hi-Mixer)等之產線上混合器等。
＜紫外線吸收劑＞ 本發明之偏光板保護薄膜根據需要，亦可含有紫外線吸收劑作為其他色素化合物。
前述所謂「紫外線吸收劑」，較佳為於300~ 460nm波長區域的吸收光譜中最大吸收波長存在於300~ 359nm之範圍內的化合物，若為最大吸收波長存在於300~ 359nm的波長範圍內，則未特別限制。
作為所用之紫外線吸收劑，可舉例為例如三嗪系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、氧基二苯甲酮系紫外線吸收劑、水楊酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑等，該等可單獨使用1種或組合2種以上使用。
該等中，較佳為三嗪系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑，較佳為選自由1分子中具有2個以下羥基之三嗪系紫外線吸收劑及1分子中具有1個苯并三唑骨架之苯并三唑系紫外線吸收劑所成之群中之至少1種紫外線吸收劑。該等紫外線吸收劑較佳對含有該紫外線吸收劑之光學薄膜的成膜成分的基底聚合物等之樹脂成分的溶解性良好。此外，該等紫外線吸收劑由於於波長380nm附近之紫外線吸收能較高故而較佳。
作為1分子中具有2個以下羥基之三嗪系紫外線吸收劑，具體可舉例為2,4-雙-[{4-(4-乙基己氧基)-4-羥基}-苯基]-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪(Tinosorb S，BASF公司製)、2,4-雙[2-羥基-4-丁氧基苯基]-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪(TINUVIN 460，BASF公司製)、2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基)-5-羥基苯基與[(C10-C16(主要為C12-C13)烷基氧基)甲基]氧矽烷之反應產物(TINUVIN 400，BASF公司製)、2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基]-5-[3-(十二烷氧基)-2-羥基丙氧基]苯酚)、2-(2,4-二羥基苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪與(2-乙基己基)-縮水甘油酸酯之反應產物(TINUVIN 405，BASF公司製)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三嗪-2-基)-5-[(己基)氧基]-苯酚(TINUVIN 1577，BASF公司製)、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三嗪-2-基)-5-[2-(2-乙基己醯氧基)乙氧基]-苯酚(ADK STAB LA46，ADEKA(股)製)、2-(2-羥基-4-[1-辛氧羰基乙氧基]苯基)-4,6-雙(4-苯基苯基)-1,3,5-三嗪(TINUVIN 479，BASF公司製)、6,6’,6”-(1,3,5-三嗪-2,4,6-三基)三(3-己氧基-2-甲基苯酚)(LA-F70，ADEKA(股)製)等。
又，作為1分子中具有1個苯并三唑骨架之苯并三唑系紫外線吸收劑，可舉例為2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(TINUVIN 928，BASF公司製)、2-(2-羥基-5-第三丁基苯基)-2H-苯并三唑(TINUVIN PS，BASF公司製)、苯丙酸及3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-(1,1-二甲基乙基)-4-羥基(C7-9側鏈及直鏈烷基)之酯化合物(TINUVIN 384-2，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(TINUVIN 900，BASF公司製)、甲基-3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯/聚乙二醇300之反應產物(TINUVIN 1130，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-對-甲酚(TINUVIN P，BASF公司製)、2(2H-苯并三唑-2-基)-4-6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚(TINUVIN 234，BASF公司製)、2-[5-氯(2H)-苯并三唑-2-基]-4-甲基-6-(第三丁基)苯酚(TINUVIN326，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-二-第三戊基苯酚(TINUVIN 328，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚(TINUVIN 329，BASF公司製)、3-(3-(2H-苯并三唑-2-基)-5-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸甲酯與聚乙二醇300之反應產物(TINUVIN 213，BASF公司製)、2-(2H-苯并三唑-2-基)-6-十二烷基-4-甲基苯酚(TINUVIN 571，BASF公司製)、2-[2-羥基-3-(3,4,5,6-四氫鄰苯二甲醯亞胺-甲基)-5-甲基苯基]苯并三唑(Sumisorb 250，住友化學工業(股)製)、2-(2-羥基-3-第三丁基-5-甲基苯基)-5-氯苯并三唑(SeeSorb 703，CIPRO化學(股)製，或KEMISORB 73，CIPRO化學(股)製)等。
又，作為上述二苯甲酮系紫外線吸收劑(二苯甲酮系化合物)、氧基二苯甲酮系紫外線吸收劑(氧基二苯甲酮系化合物)，可舉例為例如2,4-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸(無水及三水合鹽)、2-羥基-4-辛氧基二苯甲酮、4-十二烷氧基-2-羥基二苯甲酮、4-苄氧基-2-羥基二苯甲酮、2,2’,4,4’-四羥基二苯甲酮、2,2’-二羥基-4,4-二甲氧基二苯甲酮、2,2’,4,4’-四羥基二苯甲酮(SeeSorb 106，CIPRO化學(股)製)、2,2’-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮(KEMISORB 111，CHEMIPRO化學(股)製)等。
又，作為上述水楊酸酯系紫外線吸收劑(水楊酸酯系化合物)，可舉例為例如苯基-2-丙烯醯氧基苯甲酸酯、苯基-2-丙烯醯氧基-3-甲基苯甲酸酯、苯基-2-丙烯醯氧基-4-甲基苯甲酸酯、苯基-2-丙烯醯氧基-5-甲基苯甲酸酯、苯基-2-丙烯醯氧基-3-甲氧基苯甲酸酯、苯基-2-羥基苯甲酸酯，苯基-2-羥基-3-甲基苯甲酸酯、苯基-2-羥基-4-甲基苯甲酸酯、苯基-2-羥基-5-甲基苯甲酸酯、苯基-2-羥基-3-甲氧基苯甲酸酯、2,4-二-第三丁基苯基-3,5-二-第三丁基-4-羥基苯甲酸酯(TINUVIN120，BASF公司製)等。
作為氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑(氰基丙烯酸酯化合物)，可舉例為例如烷基-2-氰基丙烯酸酯、環烷基-2-氰基丙烯酸酯、烷氧基烷基-2-氰基丙烯酸酯、烯基-2-氰基丙烯酸酯、炔基-2-氰基丙烯酸酯等。
紫外線吸收劑可單獨使用，亦可混合2種以上使用。紫外線吸收劑之含量，係以相對於光學薄膜之成膜成分的樹脂成分100質量份之紫外線吸收劑的質量份表示。
例如，光學薄膜中含有紫外線吸收劑時，紫外線吸收劑相對於光學薄膜之構成樹脂100質量份的含量，較佳於0.1~8質量份之範圍內，更佳於0.5~5質量份之範圍內。
藉由使紫外線吸收劑的含量於上述範圍內，由於含紫外線吸收劑之層可充分發揮紫外線吸收功能，故而較佳。因此，於有機EL顯示裝置中使用本發明所用之偏光板時，藉由含有上述化合物(D)，進而含有紫外線吸收劑，藉由保護有機EL顯示元件免受外光之影響的功能，可使有機EL顯示裝置於長期內保持品質。
[5]偏光板保護薄膜之製造 作為本發明之偏光板保護薄膜之製造方法，可使用通常的吹脹法、T-模法、壓延法、切削法、澆鑄法、乳液法、熱壓法等之製造法，但基於抑制著色、抑制異物缺陷、抑制模線等之光學缺陷等之觀點，製膜方法較佳為溶液澆鑄法與熔融澆鑄法，特別是溶液澆鑄法，基於加工步驟之溫度較低，因此藉由使用各種添加劑賦予高功能化之觀點，係更佳。以下，針對本發明之較佳「溶液澆鑄法」加以說明。
藉溶液澆鑄法製造偏光板保護薄膜時，具體而言使用包含以下(1)~(3)的步驟之製造方法。此外，該製造方法較佳具有(4)之步驟。 (1)獲得包含含熱塑性樹脂之成膜成分與所添加之化合物(D)及任意添加劑及溶劑的濃液(dope)之步驟 (2)將所得濃液澆鑄於支撐體上之後，乾燥及剝離，獲得膜狀物之步驟 (3)根據需要將所得膜狀物邊乾燥邊延伸之步驟 (4)捲取所得之偏光板保護薄膜，獲得捲筒體之步驟
關於(1)之步驟 將含熱塑性樹脂之成膜成分與所添加之化合物(D)及抗氧化劑或微粒子等之添加劑溶解或分散於溶劑中，調製濃液。
濃液所用之溶劑包含至少能溶解熱塑性樹脂之有機溶劑(良溶劑)。含有化合物(D)時，有機溶劑較佳對於該等添加劑之溶解性亦高。良溶劑之例包含二氯甲烷等之氯系有機溶劑；或乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酮、四氫呋喃等之非氯系有機溶劑。其中，較佳為二氯甲烷。
濃液所用之溶劑亦可進而包含弱溶劑。弱溶劑之例包含碳原子數1~4之直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族醇。濃液中醇的比例較高時，膜狀物容易凝膠化，自金屬支撐體之剝離變容易。作為碳原子數1~4之直鏈狀或分支鏈狀之脂肪族醇，可舉例甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇。該等中，乙醇由於濃液之穩定性、沸點亦相對較低，乾燥性亦良好等故而較佳。
關於(2)之步驟 將所得濃液澆注於支撐體上。濃液之澆鑄可自澆鑄模具吐出而進行。
然後，將澆注於支撐體上之濃液中的溶劑蒸發並乾燥。經乾燥之濃液自支撐體剝離，獲得膜狀物。
自支撐體剝離時之濃液的殘留溶劑量(剝離時之膜狀物的殘留溶劑量)較佳為20質量%以上，更佳為20~30質量%。剝離時之殘留溶劑量為30質量%以下時，容易抑制膜狀物因剝離而過度延伸。
剝離時之濃液的殘餘溶劑量由下述式定義。以下亦同。
濃液之殘留溶劑量(質量%)=(濃液之加熱處理前質量－濃液之加熱處理後質量)/濃液之加熱處理後質量×100 又，測定殘留溶劑量時之加熱處理係指140℃、30分鐘之加熱處理。
剝離時之殘留溶劑量可藉由支撐體上之濃液的乾燥溫度及乾燥時間、支撐體之溫度進行調整。
關於(3)之步驟 使所得膜狀物乾燥。乾燥可藉一階段進行，亦可以多階段進行。又乾燥亦可根據需要邊延伸邊進行。
例如，膜狀物之乾燥步驟亦可包含使膜狀物預乾燥之步驟(預乾燥步驟)、延伸膜狀物之步驟(延伸步驟)、使延伸後之膜狀物乾燥之步驟(正式乾燥步驟)。
(預乾燥步驟) 預乾燥溫度(延伸前之乾燥溫度)可為高於延伸溫度之溫度。具體而言，將熱塑性樹脂之玻璃轉移溫度設為Tg時較佳為(Tg-50)~(Tg+50)℃。預乾燥溫度為(Tg-50)℃以上時，由於溶劑容易適度揮發，故容易提高輸送性(處理性)，為(Tg+50)℃以下時，由於溶劑不會過度揮發，故不易損及隨後延伸步驟中之延伸性。初期乾燥溫度，於(a)以拉幅機或輥邊輸送邊以非接觸加熱型乾燥時，係測定延伸機內溫度或熱風溫度等之環境溫度。
(延伸步驟) 延伸只要對應於所要求之光學特性例如延遲值進行即可，較佳沿至少一方向延伸，亦可於相互正交之兩方向延伸(例如膜狀物之寬度方向(TD方向)及與其垂直之輸送方向(MD方向)的雙軸延伸)。
製造偏光板保護薄膜時之延伸倍率較佳為5~100%，更佳為20~100%。雙軸延伸時，各方向之延伸倍率較佳分別於上述範圍內。
延伸倍率(%)定義為(延伸後之薄膜延伸方向大小－延伸前之薄膜延伸方向大小)/(延伸前之薄膜延伸方向大小)×100。又進行雙軸延伸時，對於TD方向及MD方向各者，較佳設為上述延伸倍率。
延伸溫度(延伸時之乾燥溫度)與前述同樣，將熱塑性樹脂之玻璃轉移溫度設為Tg時，較佳為Tg(℃)以上，更佳為(Tg+10)~(Tg+50)℃。延伸溫度為Tg(℃)以上，較佳為(Tg+10)℃以上時，由於溶劑容易適度揮發，故延伸張力容易調整到適當範圍，為(Tg+50)℃以下時，由於溶劑不會過度揮發，故不易損及延伸性。例如，製造偏光板保護薄膜時之延伸溫度可為例如115℃以上。延伸溫度與前述同樣，較佳測定(a)延伸機內溫度等之環境溫度。
延伸開始時之膜狀物中的殘留溶劑量較佳與剝離時之膜狀物中的殘留溶劑量相同，例如較佳為20~30質量%，更佳為25~30質量%。
膜狀物之TD方向(寬度方向)的延伸例如可藉由以夾子或銷固定膜狀物之兩端，於行進方向上擴大夾子或銷之間的距離之方法(拉幅法)進行。膜狀物之MD方向的延伸，例如可藉由對複數輥賦予周速差，於其間利用輥圓速差之方法(輥法)進行。
(正式乾燥步驟) 基於更減低殘留溶劑量之觀點，較佳進而使延伸後所得之膜狀物乾燥。例如較佳將延伸後所得之膜狀物邊以輥等輸送邊進而乾燥。
正式乾燥溫度(未延伸時係乾燥溫度)，於將熱塑性樹脂之玻璃轉移溫度設為Tg時，較佳為(Tg-50)~ (Tg-30)℃，更佳為(Tg-40)~(Tg-30)℃。後乾燥溫度為(Tg-50)℃以上時，溶劑容易自延伸後之膜狀物充分揮發去除，為(Tg-30)℃以下時，可高度抑制膜狀物之變形等。正式乾燥溫度與前述同樣，較佳測定(a)熱風溫度等之環境溫度。
關於(4)之步驟 所得之偏光板保護薄膜較佳為長條狀。長條狀之偏光板保護薄膜係捲繞成卷，作為捲筒體。
長條狀之偏光板保護薄膜的長度未特別限制，但例如可為約100~10000m左右。且，偏光板保護薄膜之寬度較佳為1m以上，更佳為1.3~4m。
偏光板保護薄膜之厚度可適當決定，但一般基於強度或處理性等之作業性、薄膜性等方面，較佳於1~500μm之範圍內。偏光板保護薄膜之厚度更佳於5~50μm範圍內，又更佳於10~45μm之範圍內。
又，本發明之前述色素化合物，與樹脂之相溶性提高，不發生外滲或白化現象，由於耐久性提高，故即使是偏光板保護薄膜之厚度為1μm以上且未達10μm之薄膜偏光板保護薄膜亦可較佳地應用。藉由薄膜偏光板保護薄膜(以下亦稱「薄膜偏光板保護薄膜」)，可製作薄膜偏光板。
＜薄膜偏光板保護薄膜之製造＞ 本發明另一實施形態之薄膜偏光板保護薄膜之製造方法具有下述步驟：1)獲得薄膜偏光板保護薄膜用溶液之步驟，2)將所得之薄膜偏光板保護薄膜用溶液賦予至支撐體表面之步驟，3)自所賦予之薄膜偏光板保護薄膜用溶液去除溶劑，形成薄膜偏光板保護薄膜之步驟。
1)獲得薄膜偏光板保護薄膜用溶液之步驟 獲得薄膜偏光板保護薄膜用溶液之步驟與前述調製濃液之步驟相同，可以參考。
2)賦予薄膜偏光板保護薄膜用溶液之步驟 然後，將所得之薄膜偏光板保護薄膜用溶液賦予至支撐體表面。具體而言，將所得之薄膜偏光板保護薄膜用溶液塗佈於支撐體表面。支撐體與薄膜偏光板保護薄膜之積層體亦稱為「積層薄膜」。
＜支撐體＞ 支撐體係於薄膜偏光板保護薄膜形成時供支撐者，通常包含樹脂薄膜。支撐體之膜厚較佳為50μm以下。支撐體之膜厚，由於薄膜需要某程度之強度(挺度及剛性)作為支撐體，故較佳於15~45μm之範圍，更佳於20~40μm之範圍。
做為所用之樹脂，可舉例為纖維素酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、聚丙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚丙烯酸酯系樹脂以及苯乙烯系樹脂或其複合樹脂，但其中作為在高濕度環境下之保存性優異之樹脂，較佳使用聚酯系樹脂。
樹脂薄膜之例包含聚酯系樹脂(例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丙二酯(PTT)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚萘二甲酸丁二酯(PBN)等)等。其中，基於處理容易之觀點，較佳為包含聚對苯二甲酸乙二酯(PET)及聚萘二甲酸乙二酯(PEN)之聚酯系樹脂薄膜。
樹脂薄膜可經熱處理(熱鬆弛)者，亦可經延伸處理者。
熱處理係為了減低樹脂薄膜之殘留應力(例如伴隨延伸之殘留應力)，雖未特別限制，但將構成樹脂薄膜之樹脂的玻璃轉移溫度設為Tg時，可於(Tg+60)~ (Tg+180)℃下進行。
延伸處理係為了增加樹脂薄膜之殘留應力，延伸處理較佳例如於樹脂膜之雙軸方向進行。延伸處理可以任意條件進行，例如可以延伸倍率120-900%左右進行。樹脂薄膜是否經延伸，例如可藉由是否有面內延遲軸(沿折射率最大之方向延伸之軸)而確認。延伸處理可於積層薄膜偏光板保護薄膜之前進行，亦可於積層後進行，較佳於積層前延伸。
聚酯系樹脂薄膜(亦簡稱聚酯薄膜)可使用市售品，例如可較佳地使用聚對苯二甲酸乙二酯薄膜TN100 (東洋紡公司製)、MELINEX ST504(帝人杜邦薄膜公司製)等。
支撐體可能進而具有設於樹脂薄膜表面之脫模層。脫模層能於製作偏光板時，使支撐體容易自薄膜偏光板保護薄膜剝離。
脫模層可包含習知之剝離劑，未特別限制。脫模層所含之剝離劑之例包含矽氧系剝離劑及非矽氧系剝離劑。
矽氧系剝離劑之例包含習知之矽氧系樹脂。非矽氧系剝離劑之例，包含使聚乙烯醇或乙烯-乙烯醇共聚物等與長鏈烷基異氰酸酯反應而得之長鏈烷基懸垂型聚合物、烯烴系樹脂(例如共聚合聚乙烯、環狀聚烯烴、聚甲基戊烯)、聚芳酯樹脂(例如芳香族二羧酸成分與二元酚成分之縮聚物)、氟樹脂(例如聚四氟乙烯(PTFE)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚氟乙烯(PVF)、PFA(四氟乙烯與全氟烷氧基乙烯之共聚物)、FEP(四氟乙烯與六氟丙烯之共聚物)、ETFE(四氟乙烯與乙烯之共聚物)等。
脫模層之厚度只要可展現所需剝離性的程度即可，未特別限制，但較佳為例如0.1~1.0μm之範圍內。
於支撐體亦可含有可塑劑作為添加劑。作為可塑劑未特別限制，但較佳係選自多元醇酯系可塑劑、鄰苯二甲酸酯系可塑劑、檸檬酸系可塑劑、脂肪酸酯系可塑劑、磷酸酯系可塑劑、多元羧酸酯系可塑劑及聚酯系可塑劑等。
又，支撐體亦可含有前述紫外線吸收劑及微粒子。
作為本發明所用之支撐體之製造方法，可使用通常之吹脹法、T-模法、壓延法、切削法、澆鑄法、乳液法、熱壓法等之製造法，但基於著色抑制、異物缺陷抑制、抑制模線等光學缺陷等之觀點，製膜方法較佳為溶液澆鑄法與熔融澆鑄法。此外，為溶液澆鑄法時，加工步驟之溫度較低，因此可使用各種添加劑賦予高功能化。
較佳使用如上述製造之支撐體，藉由以下方法形成本發明之薄膜偏光板保護薄膜。
薄膜偏光板保護薄膜用溶液之塗佈方法未特別限制，可為例如背輥塗佈法、凹版塗佈法、旋塗法、線棒塗佈法、輥塗法等之習知方法。其中，基於能夠形成薄且均勻膜厚之塗膜之觀點，較佳為背塗法。
3)形成薄膜偏光板保護薄膜之步驟 其次，自賦予至支撐體之薄膜偏光板保護薄膜用溶液去除溶劑，形成薄膜偏光板保護薄膜。
具體而言，使賦予至支撐體之薄膜偏光板保護薄膜用溶液乾燥。例如乾燥可藉由送風或加熱進行。其中，基於容易抑制薄膜偏光板保護薄膜捲曲等之觀點，較佳藉由送風乾燥。
4)捲取薄膜偏光板保護薄膜，獲得捲筒體之步驟 將所得帶狀薄膜偏光板保護薄膜，與與其寬度方向垂直之方向捲繞成捲筒狀，作為捲筒體。
帶狀薄膜偏光板保護薄膜之長度未特別限制，但例如可為100~10000m左右。且，帶狀積層薄膜之寬度較佳為1m以上，更佳為1.1~4m。基於提高薄膜均勻性之觀點，更佳為1.3~2.5m。
[製造裝置] 本發明所用之薄膜偏光板保護薄膜之製造可藉由例如圖4所示之製造裝置進行。
圖4係用以實施本實施形態之薄膜偏光板保護薄膜之製造方法的製造裝置B200的示意圖。製造裝置B200具有供給部B210、塗佈部B220、乾燥部B230、冷卻部B240及捲取部B250。Ba~Bd表示輸送支撐體B110之輸送輥。
供給部B210具有將捲繞於捲芯之帶狀支撐體B110的輥體B201捲出之捲出裝置(未圖示)。
塗佈部B220係塗佈裝置，具有：保持支撐體B110之支撐輥B221；對由支撐輥B221保持之支撐體B110，塗佈薄膜偏光板保護薄膜用溶液之塗佈頭B222；及設於塗佈頭B222之上游側的減壓室B223。
自塗佈頭B222吐出之薄膜偏光板保護薄膜用溶液的流量可藉由未圖示之泵進行調整。自塗佈頭B222吐出之薄膜偏光板保護薄膜用溶液之流量，於以預先調整之塗層頭B222之條件連續塗佈時，係設定為可穩定形成預定膜厚之塗佈層之量。
減壓室B223係用於使塗佈時來自塗佈頭B222之薄膜偏光板保護薄膜用溶液與支撐體B110之間形成之珠體(塗佈液之積存)穩定化之機構，可調整減壓度。減壓室B223連接於減壓鼓風機(未圖示)，使內部減壓。減壓室B223處於無空氣洩漏狀態，且與支撐輥間的間隙亦調整得較窄，而可形成穩定之塗佈液珠體。
乾燥部B230係使塗佈於支撐體B110表面之塗膜乾燥之乾燥裝置，具有乾燥室B231、乾燥用氣體之導入口B232及排出口B233。乾燥風之溫度及風量係根據塗膜種類及支撐體B110之種類適當決定。藉由於乾燥部B230設定乾燥風之溫度及風量、乾燥時間等條件，可調整乾燥後塗膜之殘留溶劑量。乾燥後之塗膜的殘留溶劑量，可藉由比較乾燥後之塗膜的單位質量與使該塗膜充分乾燥後之質量而測定。
(殘留溶劑量) 薄膜偏光板保護薄膜，由於係塗佈薄膜偏光板保護薄膜用溶液而獲得，故有源自該溶液之溶劑殘留之情況。殘留溶劑量係藉由使用溶劑‧塗佈液濃度、薄膜偏光板保護薄膜乾燥時之風速、乾燥溫度‧時間、乾燥室之條件(外部空氣或內部空氣循環)、塗佈時之背輥的加熱溫度等控制。
如前述，高速乾燥時，薄膜變稀疏可控制表面狀態。
薄膜偏光板保護薄膜之殘留溶劑量，於將薄膜偏光板保護薄膜之殘留溶劑量設為S 1時，滿足以下不等式1，基於薄膜偏光板保護薄膜之捲曲平衡之觀點係較佳。
式1  10＜S 1＜1000(ppm) 具體而言，薄膜偏光板保護薄膜之殘留溶劑量更佳未達800 ppm，但若考慮到薄膜偏光板保護薄膜之捲曲平衡則更佳為500~ 700ppm。又，藉由選擇於支撐體上仍殘留溶劑般之溶劑‧塗佈製程，可提高支撐體與薄膜偏光板保護薄膜之接著性。作為支撐體之殘存溶劑量較佳於10~ 100ppm之範圍。
支撐體及薄膜偏光板保護薄膜之殘留溶劑量可藉由頂空氣相層析法測定。頂空氣相層析法係將樣品封入容器中，加熱，以容器中充滿揮發成分之狀態迅速將容器中之氣體注入氣相層析儀中，進行質量分析進行化合物鑒定，同時定量揮發成分。頂空法中，藉由氣相層析儀，可觀察揮發成分之所有波峰，並且藉由利用電磁相互作用之分析法，可同時以高精度進行揮發性物質及單體等之定量。
冷卻部B240將具有於乾燥部B230乾燥所得之塗膜(薄膜偏光板保護薄膜)之支撐體B110之溫度冷卻，調整於適當溫度。冷卻部B240具有冷卻室B241、冷卻風入口B242及冷卻風出口B243。冷卻風之溫度及風量可根據塗膜種類及支撐體B110之種類適當決定。且，即使未設置冷卻部B240，於成為適當冷卻溫度時，亦可無冷卻部B240。
捲取部B250係用以捲取形成有薄膜偏光板保護薄膜之支撐體B110，獲得捲筒體B251之捲取裝置(未圖示)。
[6]偏光器層 偏光器層係僅使一定方向之偏振面的光通過之元件層。作為偏光器層，舉例為例如對聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯‧乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等之親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料之二色性物質而並單軸延伸者、聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等之聚烯系配向薄膜等。該等中，較佳為由聚乙烯醇系薄膜與碘等之二色性物質所成之偏光器層。該等偏光器層之厚度未特別限制，一般為5~80μm左右。
聚乙烯醇系薄膜經碘染色之單軸延伸之偏光器層，可藉由例如將聚乙烯醇浸漬於碘的水溶液中而染色，延伸至原長度之3~7倍而製作。根據需要，亦可浸漬於包含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等之水溶液中。進而根據需要，聚乙烯醇系薄膜於染色前可浸漬於水中經水洗。除了藉由水洗聚乙烯醇系薄膜而洗淨聚乙烯醇系薄膜表面之污垢及黏連防止劑以外，亦有藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤而防止染色不均等之不均一的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可以邊染色邊延伸，且亦可於延伸後以碘染色。於硼酸或碘化鉀等之水溶液或水浴中亦可延伸。
又本發明中，亦可使用厚度10μm以下之薄偏光器層。若依薄型化之觀點來說，該厚度較佳為1~7μm。此種薄型偏光器層，就厚度不均較小、視認性優異、且尺寸變化少故而耐久性優異、進而作為偏光薄膜之厚度亦可實現薄型化之方面係較佳。
作為薄型之偏光器層，代表性可舉例為日本特開昭51-069644號公報及日本特開2000-338329號公報、或國際公開第2010/100917號、國際公開第2010/100917號或日本專利4751481號公報或日本特開2012-073563號公報中記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包含將聚乙烯醇樹脂(以下亦稱PVA樹脂)層與延伸用樹脂基材以積層體狀態延伸之步驟與染色步驟之製法獲得。依據該製法，即使PVA系樹脂層較薄，仍可藉由延伸用樹脂基材支撐而可延伸，而不會有因延伸所致之斷裂等缺點。
作為前述薄型偏光膜，即使包含以積層體之狀態延伸之步驟及染色之步驟的製法中，就可以高倍率延伸且可提高偏光性能之方面，較佳藉由如國際公開第2010/100917號、國際公開第2010/100917號或日本專利4751481號公報或日本特開2012-073563公報中記載般包含於硼酸水溶液中延伸之步驟的製法所得者，特佳係藉由日本專利4751481號說明書或日本特開2012-073563號公報中記載之於硼酸水溶液中延伸之前輔助於空氣中延伸之步驟的製法獲得。
[7]相位差薄膜 相位差薄膜具有相位差，可使用任何可作為光學補償層發揮功能之薄膜。使用具有相位差之透明薄膜時，其相位差特性可適當調整至光學補償所需之值。
作為相位差薄膜，為例如將面內慢軸方向之折射率設為nx，面內快軸方向之折射率設為ny，厚度方向之折射率設為nz時，滿足nx=ny＞nz、nx＞ny＞nz、nx＞ny=nz、nx＞nz＞ny、nz=nx＞ny、nz＞nx＞ny、nz＞nx=ny之關係，但可根據各種用途選擇使用。又，所謂nx=ny不僅包含nx與ny完全相同的情況，亦包含nx與ny實質相同之情況。又，所謂ny=nz不僅包含ny與nz完全相同之情況，亦包含ny與nz實質相同之情況。
偏光板使用於有機EL顯示裝置時，相位差薄膜較佳為面內延遲設為1/4波長(約100~170nm)之1/4波長板。藉由積層偏光器層與1/4波長板(相位差薄膜)，可發揮作為有機EL顯示裝置之抗反射用圓偏光板發揮功能故而較佳。
亦即，入射至該有機EL顯示裝置之外部光藉由偏光器層僅使直線偏光分量透過。該直線偏光一般藉由相位差薄膜成為橢圓偏光，但特別是藉由相位差薄膜為1/4波長板，且與相位差薄膜之偏光方向所成之角為π/4時成為圓偏光。
該圓偏光透過有機EL面板中之透明基板、透明電極、有機薄膜，並由金屬電極反射，再次透過有機薄膜、透明電極、透明基板，以相位差薄膜再次成為直線偏光。然後，該直線偏光，因與偏光器層之偏光方向正交，故無法透過偏光器層。結果，可完全遮蔽金屬電極之鏡面。
作為相位差薄膜，可適當使用以熱塑性樹脂作為成膜成分之膜予以延伸之延伸薄膜。作為熱塑性樹脂，可使用與上述作為偏光板保護薄膜之構成材料而記載者相同的熱塑性樹脂。
相位差薄膜，在不損及本實施形態之效果的範圍內，可包含微粒子、相位差調整劑、抗氧化劑、可塑劑、抗靜電劑、剝離劑及增黏劑等之其他添加劑。
相位差薄膜可為單層或為2層以上之積層薄膜。又，相位差薄膜為積層薄膜時，用於形成各層的熱塑性樹脂可相同亦可不同。作為積層薄膜之製造方法，可無特別限制地使用以往習知之方法。
作為用於形成相位差薄膜之熱塑性樹脂，除了上述之環烯烴樹脂、纖維素酯樹脂及丙烯酸系樹脂以外，較佳使用聚碳酸酯樹脂。特別是於製造後述之斜向延伸薄膜時，較佳使用聚碳酸酯樹脂。相位差薄膜為積層薄膜時，例如較佳為纖維素酯樹脂與聚碳酸酯樹脂層之組合。
(聚碳酸酯樹脂) 作為聚碳酸酯樹脂，可無特別限制地使用各種者，基於化學性質及物性之觀點，較佳為芳香族聚碳酸酯樹脂，特別是具有茀骨架之聚碳酸酯，或雙酚A系聚碳酸酯樹脂。其中，更佳使用於雙酚A導入苯環、環己烷環及脂肪族烴基等之雙酚A衍生物。此外，特佳為對於雙酚A的中央碳，使用非對稱導入上述官能基之衍生物所得之使單位分子內之異向性減少之構造的聚碳酸酯樹脂。
作為此種聚碳酸酯樹脂，特佳為例如使用將雙酚A之中央碳之2個甲基取代為苯環者、雙酚A之各苯環的位置之氫以相對於中央碳非對稱地經甲基或苯基等取代者所獲得之聚碳酸酯樹脂。具體而言，自4,4’-二羥基二苯基烷或該等之鹵素取代物藉由光氣法或酯交換法所得者，舉例為例如4,4’-二羥基二苯基甲烷、4,4’-二羥基二苯基乙烷、4,4’-二羥基二苯基丁烷等。且，除此之外，若膽敢例示具體之聚碳酸酯樹脂，則可舉例為例如日本特開2006-215465號公報、日本特開2006-91836號公報、日本特開2005-121813號公報、日本特開2003-167121號公報、日本特開2009-126128號公報、日本特開2012-67300號公報、國際公開第2000/026705號等中記載之聚碳酸酯樹脂。
(相位差薄膜之製造) 相位差薄膜與上述說明之偏光板保護薄膜同樣，可藉由熔融澆鑄法、溶液澆鑄法、壓延成形法等之習知成形方法製造。較佳使用熔融澆鑄法、溶液澆鑄法，特佳為溶液澆鑄法。
相位差薄膜可於偏光板保護薄膜中說明之溶液澆鑄法中，以(1)之獲得濃液之步驟，使用樹脂及任意添加劑而製造。且於偏光板保護薄膜中說明之溶液澆鑄法中，於(3)或(4)之步驟所得之薄膜基材可進而藉以下方法斜向延伸作成相位差薄膜。
使用薄膜基材製造長條狀斜向延伸薄膜時，使用例如圖5及6中示意顯示概略構成之裝置。圖5係示意顯示斜向延伸薄膜之製造裝置80的概略構成之俯視圖。圖6係示意性顯示斜向延伸薄膜之製造裝置80所具備之延伸部之導軌圖案之一例的俯視圖。製造裝置80，自薄膜基材之輸送方向上游側起依序具備薄膜捲出部81、輸送方向變更部82、導輥83、延伸部84、導輥85、輸送方向變更部86與薄膜捲取部87。
薄膜捲出部81係將如上述製作之薄膜基材捲出供給於延伸部84者。輸送方向變更部82將自薄膜捲出部81捲出之薄膜基材的輸送方向變更為朝向作為斜向延伸拉幅機之延伸部84的入口的方向者。導輥83為了使薄膜基材行進時於軌道上穩定，而於延伸部84之上游側至少設置1根。導輥85為了使於延伸部84斜向延伸之薄膜行進於軌道上穩定，而於延伸部84之下游側至少設置1根。輸送方向變更部86係將自延伸部84輸送之延伸後之薄膜的輸送方向，變更為朝向薄膜捲取部87之方向。薄膜捲取部87係將自延伸部84介隔輸送方向更改部86輸送來之薄膜予以捲取者。
關於延伸部84之細節將基於圖6進行說明。例如，斜向延伸膜之製造，例如作為延伸部84，可使用圖6所示之斜向延伸拉幅機(斜向延伸機)進行。該拉幅機係將薄膜基材加熱至可延伸之任意溫度並斜向延伸之裝置，具備加熱區Z、左右一對導軌Ri‧Ro、沿著導軌Ri‧Ro行進並輸送薄膜之多數把持具Ci‧Co(圖6中，僅顯示一組把持具)。又關於加熱區Z之細節將於後述。導軌Ri‧Ro分別以連接部連結複數導軌部而構成(圖6中之白色圓圈為連接部之一例)。把持具Ci‧Co係以把持薄膜寬度方向兩端之夾具構成。
圖6中，薄膜基材之捲出方向D1與延伸後之長條斜向延伸薄膜之捲取方向D2不同，與捲取方向D2之間成捲出角度θi。捲出角度θi於超過0°且未達90°之範圍，可任意設定為期望角度。
由於捲出方向D1與捲繞方向D2不同，故拉幅機之導軌圖案於左右成為不對稱形狀。然後，根據對於應製造之長條斜向延伸薄膜賦予之配向角θ、延伸倍率等，以手動或自動調整導軌圖案。本實施形態之製造方法所用之斜向延伸機，較佳可自由設定構成導軌Ri‧Ro之各導軌部與導軌連接部之位置，可任意變更導軌圖案。藉此，可自由設定薄膜的配向角。
於延伸部84中，薄膜基材其兩端藉由左右把持具Ci‧Co把持，隨著把持具Ci‧Co於加熱區Z內行進而被輸送。左右把持具Ci‧Co，於延伸部84之入口部(圖中A的位置)中，相對於對薄膜之行進方向(捲出方向D1)大致垂直之方向，分別於左右非對稱之導軌Ri‧Ro上行進，於延伸結束時之出口部(圖中B的位置)放開經把持之薄膜。自把持具Ci‧Co放開之薄膜藉由前述薄膜捲取部87捲取於捲芯上。
由於導軌Ri‧Ro為左右非對稱，故於圖6之例，於圖中A的位置相對左右的把持具Ci‧Co隨著於導軌Ri‧Ro上行進，於導軌Ri側(內角側)行進之把持具Ci相對於於導軌Ro側(外角側)行進之把持具Co位於先行的位置關係。
亦即，於圖中A的位置，於對於薄膜之捲出方向D1大致垂直之方向相對之把持具Ci‧Co中，一個把持具Ci先到達薄膜延伸結束時之位置B時，連結把持具Ci‧Co之直線相對於與薄膜之捲取方向D2大致垂直之方向，以角度θL傾斜。根據以上作為，薄膜基材相對於寬度方向以θL的角度斜向延伸。此處，大致垂直表示落於90±1°之範圍內。
延伸部84之加熱區Z由預熱區Z1、延伸區Z2及熱固定區Z3構成。於延伸部84，由把持具Ci‧Co把持之薄膜依序通過預熱區Z1、延伸區Z2、熱固定區Z3。本實施形態中，預熱區Z1與延伸區Z2由隔離壁隔開，延伸區Z2與熱固定區Z3由隔離壁隔開。
所謂預熱區Z1係於加熱區Z的入口部，把持薄膜兩端之把持具Ci‧Co於左右(薄膜寬度方向)保持一定間隔而行進之區間。
所謂延伸區Z2係指打開把持薄膜兩端之把持具Ci‧Co之間隔，直到成為預定間隔的區間。藉此如上述進行斜向延伸。亦即，於延伸區Z2，進行藉由於薄膜面內對於寬度方向及長度方向之兩方向傾斜之斜向方向使長條狀薄膜(薄膜基材)延伸，取得斜向延伸薄膜之斜向延伸步驟。又，於斜向延伸之前後，根據需要，亦可進行縱向或橫向延伸。
所謂熱固定區Z3係較延伸區Z2更後面之使把持具Ci‧Co之間隔再次成為一定之區間，且係兩端之把持具Ci‧Co保持彼此平行之狀態行進之區間。亦即，於熱固定區Z3中，進行邊將寬度保持一定邊輸送斜向延伸之薄膜的熱固定步驟。
又，延伸後之薄膜通過熱固定區Z3後，亦可通過區域內之溫度設定為構成薄膜之熱塑性樹脂的玻璃轉移溫度Tg(℃)以下的區間(冷卻區)。此時，考慮到薄膜因冷卻而收縮，亦可作成使預先對向之把持具Ci‧Co之間隔變窄般之導軌圖型。
對於熱塑性樹脂之玻璃轉移溫度Tg，較佳預熱區Z1的溫度設定於Tg~Tg+30℃，延伸區Z2的溫度設定於Tg~Tg+30℃，熱固定區Z3及冷卻區的溫度設定於Tg-30 ~Tg+20℃。
又，預熱區Z1、延伸區Z2及熱固定區Z3之長度可適當選擇，相對於延伸區Z2的長度，預熱區Z1的長度通常為100~150%，熱固定區Z3的長度通常為50~100%。
且，若將延伸前之薄膜寬度設為Wo(mm)，延伸後之薄膜寬度設為W(mm)，則延伸步驟中的延伸倍率R(W/Wo)較佳為1.3~3.0，更佳為1.5~2.8。延伸倍率於該範圍內時，因薄膜寬度方向之厚度不均變小故而較佳。於斜向延伸拉幅機之延伸區Z2中，若於寬度方向上對延伸溫度賦予差，則可使寬度方向厚度不均成為進而更良好之程度。又，上述之延伸倍率R等於將由拉幅機入口部把持之夾具兩端之間隔Wo成為拉幅機出口部之間隔W時之倍率(W/Wo)。
相位差薄膜之厚度可適當決定，但一般基於光學特性、強度及處理性等之作業性、薄膜性等之方面，較佳於1~500μm之範圍內。相位差薄膜之厚度更較佳於5~ 100μm之範圍內，又更佳於15~80μm之範圍內。
[8]偏光板之製造 偏光器層與偏光器保護薄膜及偏光器層與相位差薄膜較佳例如經由後述之黏著劑層予以接著。黏著劑層可為使水系黏著劑乾燥而得之層，亦可為活性線硬化性黏著劑之硬化物層。且，黏著劑層亦可含有金屬化合物填料。
[黏著劑層] 黏著劑層係任意設於本發明所用之偏光板。藉由具有黏著劑層，可提高製作將該偏光板貼合於有機EL元件之視認側之有機EL顯示裝置時之作業性。於圖3中顯示剖視圖之偏光板10A，係偏光板具有黏著劑層之情況的一例。偏光板10A於相位差薄膜之與偏光器層相反側具有黏著劑層。
作為形成黏著劑層之黏著劑種類未特別限制，可舉例為例如橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽氧系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。該等黏著劑中，基於光學透明性優異、顯示適當密著性與凝集性與接著性之黏著特性、耐候性及耐熱性等優異之方面，較佳使用丙烯酸系黏著劑。本發明中，較佳為含有(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之丙烯酸系黏著劑。
作為黏著劑層之形成方法未特別限制，可藉由通常本技術領域所用之方法形成。具體而言，將含有黏著劑或其原料與溶劑之黏著劑組成物塗佈於基材之至少單面，使由黏著劑組成物形成之塗膜乾燥而形成，或可照射紫外線等活性線而形成。為丙烯酸系黏著劑時，黏著劑組成物中包含成為聚合物之構造單位的單體、聚合起始劑及溶劑。
塗佈黏著劑組成物之基材，為例如脫模薄膜或相位差薄膜。於脫模薄膜上形成黏著劑層時，將形成之黏著劑層轉印於相位差薄膜上，並剝離脫模薄膜。又，偏光板10B於供於實用之前亦可藉脫模薄膜保護黏著劑層。
作為黏著劑層之厚度未特別限制，但較佳為10~75μm左右，更佳為12~50μm左右。
[接著劑層] 偏光器層與偏光器保護薄膜及偏光器層與相位差薄膜亦可例如經由接著劑層予以接著。接著劑層可為使水系接著劑乾燥而得之層，亦可為活性線硬化性接著劑之硬化物層。且，接著劑層亦可含有金屬化合物填料。
作為水系接著劑可例示異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、水系聚胺基甲酸酯、水系聚酯等。作為聚乙烯醇系接著劑，具體舉例為完全皂化型聚乙烯醇水溶液(水糊)。作為活性線硬化性接著劑舉例為紫外線硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。
[偏光板之其他功能層] 作為偏光板之另一實施態樣，係如圖2之偏光板10B所示，具有硬塗層，該偏光板自視認側起以硬圖層4、偏光板保護薄膜1、偏光器層2、相位差薄膜3積層而得。
(硬塗層) 硬塗層4較佳依JISK5600-2014規定之鉛筆硬度試驗顯示「HB」以上之硬度，為了獲得該硬度較佳含有活性線硬化性樹脂之硬化物。作為活性線硬化性樹脂，較佳使用包含具有乙烯性不飽和雙鍵之單體的成分。作為活性線硬化性樹脂，可舉例紫外線硬化性樹脂或電子束硬化性樹脂，但藉由紫外線照射而硬化之樹脂，基於機械膜強度(耐擦傷性、鉛筆硬度)優異之方面係較佳。
作為活性線硬化性樹脂，較佳使用丙烯酸系材料。作為丙烯酸系材料，可使用多元醇之(甲基)丙烯酸酯般之單官能或多官能之(甲基)丙烯酸酯化合物、由二異氰酸酯與多元醇及(甲基)丙烯酸之羥基酯等合成之多官能胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。又，除該等以外，亦可使用具有丙烯酸酯系官能基之聚醚樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇聚烯樹脂等。
特別較佳使用紫外線硬化型丙烯酸酯系樹脂、紫外線硬化胺基甲酸酯丙烯酸酯系樹脂、紫外線硬化型聚酯丙烯酸酯系樹脂、紫外線硬化型環氧丙烯酸酯系樹脂、紫外線硬化型聚醇丙烯酸酯系樹脂或紫外線硬化型環氧樹脂等，其中較佳為紫外線硬化型丙烯酸酯系樹脂。
硬塗層例如可使用含有活性線硬化性樹脂、聚合起始劑及溶劑之硬塗層形成用組成物而形成。作為硬塗層形成用組成物所含之溶劑，於偏光板保護薄膜或偏光板保護薄膜具有後述之底塗層時，較佳為可使底塗層溶解或膨潤之溶劑。藉由溶劑使偏光板保護薄膜或底塗層溶解或膨潤，可使硬塗層形成用組成物容易自偏光板保護薄膜或底塗層之表面滲透到內部，可提高偏光板保護薄膜或底塗層與硬塗層之密著性。
又，於偏光板保護薄膜或底塗層之表層附近，形成偏光板保護薄膜或底塗層之樹脂成分與硬塗層之樹脂成分混合存在之層，藉由該層之作用，可使偏光板保護薄膜或底塗層與硬塗層之折射率產生梯度，可防止干涉不勻的發生。
或硬塗層形成用組成物中，根據提高硬塗層硬度、抑制硬化收縮、防止黏連、控制折射率、賦予防眩性、控制硬塗層表面之性質等目的，亦可添加以往習知之微粒子、分散劑、界面活性劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、增黏劑、著色防止劑、著色劑(顏料、染料)、消泡劑、調平劑、難燃劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、表面改質劑等。且，上述硬塗層形成用組成物亦可包含光增感劑，作為其具體例舉例為正丁基胺、三乙胺、聚正丁基磷化氫等。
特別是硬塗層較佳含有微粒子。微粒子之含量，較佳為微粒子：活性線硬化性樹脂=100：100~400：100。藉由以此含量含有微粒子，可降低硬塗層之尺寸變動。此處之微粒子未特別限制，但較佳為由金屬氧化物構成之微粒子(以下亦稱為「金屬氧化物粒子」)。作為此處之金屬氧化物舉例為氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、五氧化二銻等。該等中，金屬氧化物粒子較佳以氧化矽構成。氧化矽微粒子亦可為內部形成有空洞之中空粒子。
上述微粒子較佳由聚合物矽烷偶合劑被覆。藉由微粒子表面以聚合物矽烷偶合劑被覆，可於硬塗層形成用組成物中均勻地分散微粒子。以聚合物矽烷偶合劑被覆之微粒子的平均粒徑較佳為5~500nm，更佳為10~ 200nm。藉由使用此種平均粒徑之微粒子，可提高硬塗層之光學特性。
上述聚合物矽烷偶合劑係藉由使聚合性單體與矽烷偶合劑(反應性矽烷化合物)反應而調製。作為聚合性單體舉例為具有乙烯性不飽和雙鍵之單體，較佳選自(甲基)丙烯酸及其衍生物之單體。作為反應性矽烷化合物，較佳為於矽原子鍵結有3個烷氧基與1個官能基之水解性矽烷化合物。作為鍵結於矽原子之官能基，舉例為具有選自(甲基)丙烯醯氧基、環氧基(縮水甘油基)、胺基甲酸酯基、胺基、氟基、巰基中之1種或2種以上之基的基。
聚合物矽烷偶合劑例如可依照日本特開平11-116240號公報中揭示之聚合性單體與反應性矽烷化合物之反應物的製造方法製作。聚合物矽烷偶合劑之數平均分子量以聚苯乙烯換算較佳為2500~150000，更佳為2000~ 100000。
關於以聚合物矽烷偶合劑被覆微粒子表面之方法，以氧化矽微粒子為例佳以說明。首先，製作將氧化矽微粒子與聚合物矽烷偶合劑分散於有機溶劑中之分散液。對該分散液添加鹼，於氧化矽微粒子表面產生羥基，使該聚合物矽烷偶合劑吸附於羥基。或使該羥基與聚合物矽烷偶合劑的羥基藉由脫水反應而鍵結。最後，將吸附或鍵結有聚合物矽烷偶合劑之氧化矽微粒子從分散液分離，藉由乾燥獲得經聚合物矽烷偶合劑被覆之氧化矽微粒子。
作為上述硬塗層形成用組成物之調製方法，若硬塗層所含有之固形分可於溶劑中均一混合，則未特別限制，例如上述各固形分與溶劑使用塗料搖晃機、珠磨機、捏合機、混合機等之習知裝置混合或溶解而調製。
藉由將硬塗層形成用組成物塗佈於偏光板保護薄膜或底塗層表面，使塗膜中之活性線硬化性樹脂硬化而形成硬塗層。作為硬塗層形成用組成物之塗佈方法，可未特別限制地應用以往習知方法。例如形成均一薄膜層之情況，較佳為微凹版塗佈法，於需要形成厚膜層時，較佳為模嘴塗佈法。根據需要，自塗膜去除溶劑後，藉由活性線照射使活性線硬化性樹脂硬化，獲得硬塗層。
硬塗層之厚度以平均厚度計較佳為0.01~ 20μm之範圍內，較佳於0.5~10μm之範圍內。
(底塗層) 作為構成底塗層之材料，可使用能改善偏光板保護薄膜與硬塗層或偏光器層之密著性及接著性之任意材料。且作為材料特性，除了密著性‧接著性以外，較佳透明性、熱穩定性亦優異。作為此等材料舉例為以聚胺基甲酸酯、聚烯烴、聚酯、聚偏氯乙烯、丙烯酸系聚合物、改質矽氧系聚合物、苯乙烯丁二烯橡膠、碳二醯亞胺化合物、異氰酸酯等構成之樹脂。
上述底塗層亦可根據需要包含任意添加劑。作為添加劑之具體例舉例為調平劑、聚合起始劑、聚合促進劑、黏度調整劑、滑劑、分散劑、可塑劑、熱穩定劑、光穩定劑、滑劑、抗氧化劑、難燃劑、著色劑、抗靜電劑、相溶化劑、交聯劑等。所使用之添加劑種類及量可根據目的適當設定。例如，添加劑之使用量，相對於底塗層中全部固形分100質量份，較佳為30質量份以下，更佳為20質量份以下。
作為構成上述底塗層之材料，上述樹脂中，較佳使用以聚胺基甲酸酯為主成分者。作為聚胺基甲酸酯之具體例舉例為DIC(股)製，商品名「HYDRAN系列」AP-201、AP-40F、HW-140SF、WLS-202，第一工業製藥(股)製，商品名「SUPER FLEX系列」SF-210、SF460、SF870、SF420、SF-420NS，三井化學(股)製，商品名「TAKELAC系列」W-615、W6010、W-6020、W-6061、W-405、W-5030、W-5661、W-512A-6、W-635、WPB-6601、WS-6021、WS-5000、WS-5100、WS-4000、WSA-5920、WF-764，ADEKA(股)製，開發品「SPX-0882」等。又，於側鏈具有羧基之聚胺基甲酸酯等之樹脂，藉由異氰酸酯或噁唑啉、碳二醯亞胺等交聯劑交聯，可實現底塗層之強度提高。
[偏光板之光學特性] 本發明所用之偏光板中，含有本發明之色素化合物(化合物(D))的層之光透過率較佳於以下範圍內。
(i)含有化合物(D)之層的光透過率 含有化合物(D)的層於波長390nm下之光透過率較佳為9%以下，更佳為7%以下，又更佳為5%以下，特佳為3%以下。藉由使波長390nm下之光透過率於上述範圍內，可更高度地阻斷所入射之紫外線，故可顯著抑制有機EL元件之劣化故而較佳。
又，含有化合物(D)的層於波長410nm下之光透過率較佳為60%以下，較佳為50%以下，更佳為40%以下。藉由使波長410nm下之光透過率於上述範圍內，可更高度阻斷所入射之紫外線，故可顯著抑制有機EL元件之劣化故而較佳。
又，含有化合物(D)的層於波長430nm下之光透過率較佳為50%以上，較佳為60%以上，更佳為70%以上。藉由於波長430nm下之光透過率為上述範圍內，可使有機EL元件之發光充分透過，可確保有機EL顯示裝置之充分顯示性能故而較佳。
(ii)偏光板之光透過率 本發明所用之偏光板中，波長380nm下之光透過率較佳為9%以下，更佳為7%以下，又更佳為5%以下，特佳為3%以下。且偏光板於波長400nm下之光透過率較佳為20%以下，較佳為15%以下，更佳為10%以下。
藉由偏光板於波長380nm下之光透過率於上述範圍內且於波長400nm下之光透過率於上述範圍內，可更高度阻斷所入射之紫外線。藉此，偏光板使用於有機EL顯示裝置時，可更高度阻斷所入射之紫外線。
又，本發明所用之偏光板於波長450nm下之光透過率較佳為25%以上，較佳為30%以上，更佳為33%以上。藉由於波長450nm下之光透過率於上述範圍，於使用於有機EL顯示裝置時，可使有機EL元件的發光充分透過，於有機EL顯示裝置可確保充分之顯示性能故而較佳。
[9]有機EL顯示裝置 具備本發明之偏光板保護薄膜的偏光板可使用於液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置(OLED)及觸控面板等之各種顯示裝置。特別較佳使用本發明之偏光板作為有機EL顯示裝置之圓偏光板。
圖3顯示具備本發明之偏光板保護薄膜之有機EL顯示裝置的一構成例之剖視圖。圖3所示之有機EL顯示裝置20具有有機EL元件11及於其視認側之本發明之偏光板10A或10B。有機EL顯示元件11例如具有光反射電極、發光層、透明電極層及透明塑膠薄膜基板。
有機EL顯示裝置20，若將光反射電極與透明電極層之間通電，則發光層發光，而可顯示圖像。此外，自外部入射至有機EL顯示裝置的光，由於全部被偏光板10A或10B的偏光器層2吸收，故即使有機EL元件11的光於反射電極反射亦不會向外部射出，可抑制因背景映入所致之顯示特性降低。
有機EL顯示裝置20中，偏光板保護薄膜含有化合物(D)，較佳進而含有紫外線吸收劑。
如此，藉由將具備含有色素化合物進而含有抗氧化劑及微粒子之偏光板保護薄膜的偏光板配置於有機EL元件之視認側，偏光板可充分吸收比有機EL元件之發光區域(較430nm更長波長側)更為短波長側的波長之光，可保護有機EL元件免受外光之影響。且，藉由將含有色素化合物，進而含有抗氧化劑及微粒子之偏光板保護薄膜以上述特定順序配置，內部產生之熱很容易自偏光板保護薄膜表面釋放到外部，藉此，亦具有可抑制因化合物(D)或紫外線吸收劑之發熱所致之相位差薄膜之光學值變動等之劣化及偏光器層之收縮等之劣化的優點。 [實施例]
以下，舉例實施例具體說明本發明，但本發明不受該等之限制。又實施例中使用「份」或「%」之表示，除非另有說明，否則表示「質量份」或「質量%」。
實施例1 (最大吸收波長之測定) 實施例所用之色素化合物(以下亦稱化合物(D))之最大吸收波長係使用島津製作所股份有限公司製之紫外可見光分光光度計UV-2450，測定色素化合物於氯仿中之吸收光譜而求出，並記載於表I。表中所謂「化合物1」係本發明之具有以式1表示之構造的化合物。
又，本發明中所謂「最大吸收波長」係指測定上述化合物之吸收光譜時獲得之化合物的吸收光譜中，顯示最大且極大吸光度(吸收強度)的波長(nm)。
又表I中記載之比較化合物1~3的構造如下所示。
[1]偏光板保護薄膜之製作 ＜偏光板保護薄膜101：環烯烴樹脂薄膜之製作＞ (濃液之調製) 調製下述組成之濃液。首先，於加壓溶解槽中添加二氯甲烷與乙醇。於放入有二氯甲烷與乙醇的混合溶液之加壓溶解槽中，邊攪拌邊投入環烯烴系樹脂(COP)：ARTON G7810(JSR(股)製ARTON G7810，Mw：14萬，具有羧酸基之環烯烴系樹脂)，JSR股份有限公司製)與作為化合物(D)之化合物1。進而，於溶劑投入開始後15分鐘後，投入下述調製之微粒子添加液，將其加熱至80℃，邊攪拌邊完全溶解。此時，自室溫進行5℃/min之升溫，溶解30分鐘後，以3℃/min降溫。所得溶液使用安積濾紙(股)製之安積濾紙No.244進行過濾，調製濃液。
(濃液之組成)
　　COP(G7810) 100質量份
　　二氯甲烷 200質量份
　　乙醇 10質量份
　　化合物(D)：化合物1 6質量份
(偏光板保護薄膜101之製膜) 所得濃液保持於30℃，將濃液均一澆鑄於經保溫於30℃之金屬支撐體的不鏽鋼帶上。然後，將經澆鑄之濃液乾燥至殘留溶劑量為30質量%後，自不鏽鋼帶上剝離，獲得膜狀物。
其次，將所得膜狀物於40℃乾燥至殘留溶劑量為10質量%後，沿寬度方向以延伸倍率1.4倍(40%)延伸。接著，所得膜狀物邊以多數輥輸送邊於150℃進一步乾燥，獲得長度3000m，厚度20μm之偏光板保護薄膜101。
(偏光板保護薄膜102之製作) 於偏光板保護薄膜101之製作中，除使用以下濃液以外，同樣製作偏光板保護薄膜102。
(濃液之組成)
　　COP(G7810) 100質量份
　　二氯甲烷 200質量份
　　乙醇 10質量份
　　化合物(D)：化合物1 6質量份
　　抗氧化劑：Irganox1076(日本BASF(股)製) 0.5質量份
(偏光板保護薄膜103之製作) 於偏光板保護薄膜101之製作中，除使用以下濃液以外，同樣製作偏光板保護薄膜103。
(濃液之組成)
　　COP(G7810) 100質量份
　　二氯甲烷 200質量份
　　乙醇 10質量份
　　化合物(D)：化合物1 6質量份
　　抗氧化劑：Irganox1076(日本BASF(股)製) 0.5質量份
　　微粒子：二氧化矽分散液(固形分換算) 1質量份
(二氧化矽分散液) 首先，將10質量份之Aerosil R812(商號，日本Aerosil公司製)與90質量份乙醇以溶解器攪拌混合30分鐘後，以高壓乳化分散裝置將二氧化矽分散於乙醇中。於該分散液中邊攪拌邊投入88質量份之二氯甲烷，以溶解機攪拌混合30分鐘而稀釋分散液。該稀釋之分散液以微粒子分散稀釋液過濾器(先進科技東洋股份有限公司製：聚丙烯纏繞匣過濾器TCW-PPS-1N)過濾，藉此獲得二氧化矽分散液。
(偏光板保護薄膜104之製作) 於偏光板保護薄膜101之製作中，除使用以下濃液以外，同樣製作偏光板保護薄膜104。
(濃液之組成)
　　COP(G7810) 100質量份
　　二氯甲烷 200質量份
　　乙醇 10質量份
　　化合物(D)：化合物1 6質量份
　　微粒子：二氧化矽分散液(固形分換算) 1質量份
(偏光板保護薄膜105~107之製作) 於偏光板保護薄膜102~104之製作中，除了將表II記載之抗氧化劑變更為Irganox1010(日本BASF(股)製)，將微粒子變更為R972以外，同樣製作偏光板保護薄膜105~107。
＜偏光板保護薄膜108之製作：纖維素酯樹脂薄膜之製作＞ (濃液之調製) 調製以下組成之濃液。亦即首先於加壓溶解槽中添加二氯甲烷與乙醇。接著，於放入有溶劑之加壓溶解槽中邊攪拌邊投入纖維素酯，將其加熱邊攪拌邊完全溶解。
(濃液之組成)
　　三乙醯纖維素(TAC：乙醯取代度2.8之乙醯纖維素，富士軟片和光純藥(股)製)               95質量份
　　縮聚酯化合物N 2質量份
　　縮聚酯化合物M 7質量份
　　二氯甲烷 540質量份
　　乙醇 35質量份
　　化合物(D)：化合物1 6質量份
進而將上述添加劑成分投入密閉容器，邊攪拌邊溶解，使用安積濾紙(股)製之安積濾紙No.244將其過濾，調製濃液。
又，縮聚酯化合物N及縮聚酯化合物M如下製作。
(酯化合物N) 首先，將1,2-丙二醇251g、對苯二甲酸354g、對-甲苯酸680g、作為酯化觸媒之四異丙基鈦酸酯0.191g饋入具備溫度計、攪拌器、緩急冷卻管之2L四頸燒瓶中。其次，將氮氣流吹入四頸燒瓶內，邊攪拌溶液邊使溶液緩緩升溫直至溶液溫度達到230℃，邊觀察聚合度邊進行脫水反應。反應完成後，藉由於200℃減壓餾除未反應之1,2-丙二醇，獲得縮聚酯化合物N。該酯化合物N之酸價為0.30，數平均分子量為400。
(酯化合物M) 首先，將1,2-丙二醇251g、鄰苯二甲酸酐244g、己二酸103g、苯甲酸610g、作為酯化觸媒之四異丙基鈦酸酯0.191g饋入具備溫度計、攪拌器、緩急冷卻管之2L四頸燒瓶中。其次，將氮氣流吹入四頸燒瓶內，邊攪拌溶液邊使溶液緩緩升溫直至溶液溫度達到230℃，邊觀察聚合度邊進行脫水反應。反應完成後，藉由於200℃減壓餾除未反應之1,2-丙二醇，獲得縮聚酯化合物M。該酯化合物M之酸價為0.10，數平均分子量為450。
(偏光板保護薄膜108之製膜) 將上述調製之濃液使用帶澆鑄裝置，以溫度22℃、1.8m寬均一澆鑄於不鏽鋼帶支撐體上。於不鏽鋼帶支撐體，將溶劑蒸發至殘留溶劑量為20質量%，自不鏽鋼帶支撐體上剝離濃液膜(片狀物)。
然後，經剝離之片狀物於35℃將溶劑蒸發，切成1.6m寬，隨後，使用拉幅機延伸機，於160℃之溫度下，於寬度方向(TD方向)相對於原始寬度延伸1.1倍。此時，拉幅機開始延伸時之殘留溶劑量為4質量%。
隨後，邊以複數輥於120℃、140℃之乾燥區內輸送同時結束乾燥，切成1.3m寬，對薄膜兩端實施寬度10mm，高2.5μm之壓花加工後，捲取於芯上，製作偏光板保護薄膜108。偏光板保護薄膜108之膜厚為25μm，捲繞長度為6000m。
＜偏光板保護薄膜109之製作＞ 於偏光板保護薄膜108之製作，除使用以下濃液以外，同樣製作偏光板保護薄膜109。
(濃液之組成)
　　三乙醯纖維素(TAC：乙醯取代度2.8之乙醯纖維素，富士軟片和光純藥(股)製)               95質量份
　　縮聚酯化合物N 2質量份
　　縮聚酯化合物M 7質量份
　　二氯甲烷 540質量份
　　乙醇 35質量份
　　化合物(D)：化合物1 6質量份
　　抗氧化劑：Irganox1076(日本BASF(股)製) 0.5質量份
＜偏光板保護薄膜110之製作＞ 於偏光板保護薄膜108之製作，除使用以下濃液以外，同樣製作偏光板保護薄膜110。
(濃液之組成)
　　三乙醯纖維素(TAC：乙醯取代度2.8之乙醯纖維素，富士軟片和光純藥(股)製)               95質量份
　　縮聚酯化合物N 2質量份
　　縮聚酯化合物M 7質量份
　　二氯甲烷 540質量份
　　乙醇 35質量份
　　化合物(D)：化合物1 6質量份
　　抗氧化劑：Irganox1076(日本BASF(股)製) 0.5質量份
　　微粒子(R812)：二氧化矽分散液(固形分換算) 1質量份
＜偏光板保護薄膜111之製作＞ 於偏光板保護薄膜108之製作，除使用以下濃液以外，同樣製作偏光板保護薄膜111。
(濃液之組成)
　　三乙醯纖維素(TAC：乙醯取代度2.8之乙醯纖維素，富士軟片和光純藥(股)製)               95質量份
　　縮聚酯化合物N 2質量份
　　縮聚酯化合物M 7質量份
　　二氯甲烷 540質量份
　　乙醇 35質量份
　　化合物(D)：化合物1 6質量份
　　微粒子(R812)：二氧化矽分散液(固形分換算) 1質量份
＜偏光板保護薄膜112：丙烯酸樹脂薄膜之製作＞ 調製下述組成之濃液。首先，於加壓溶解槽中添加二氯甲烷及乙醇。其次，於加壓溶解槽中邊攪拌邊投入樹脂。其次，投入下述調製之橡膠粒子分散液，將將其攪拌邊完全溶解。使用ROKITECHNO (股)製之SHP150將其過濾，獲得濃液。
(濃液之組成)
　　樹脂((甲基)丙烯酸系樹脂：Ac) 95質量份
　　二氯甲烷 200質量份
　　化合物(D)：化合物1 6質量份
　　橡膠粒子分散液 200質量份
上述所用之(甲基)丙烯酸系樹脂係甲基丙烯酸甲酯(MMA)/N-苯基馬來醯亞胺(PMI)/丙烯酸丁酯(BA~共聚物(80/10/10質量比)，Tg：120℃，Mw：200萬)。
又，丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)係使用DSC(示差掃描熱量法：differential scanning colorimetry)依據JISK7121-2012測定。
又，丙烯酸系樹脂之重量平均分子量(Mw)係使用凝膠滲透層析儀(TOSOH公司製HLC8220GPC)，管柱(TOSOH公司製TSK-GELG6000HXL-G5000HXL-G5000HXL-G4000HXL-G3000HXL串聯)而測定。將試料20mg±0.5mg溶解於四氫呋喃10mL中，以0.45mm過濾器過濾。該將溶液100mL注入管柱(溫度40℃)，以檢測器RI溫度40℃下測定，使用苯乙烯之換算值。
上述所用之橡膠粒子分散液係藉由將丙烯酸系橡膠粒子M-210(核部：多層構造之丙烯酸系橡膠狀聚合物，殼部：以甲基丙烯酸甲酯為主成分之甲基丙烯酸酯系聚合物之核殼型之橡膠粒子，丙烯酸系橡膠狀聚合物之Tg：約-10℃，平均粒徑：220nm)10質量份與190質量份之二氯甲烷以溶解機攪拌混合50分鐘後，使MILDER分散機(大平洋機工股份有限公司製)於1500rpm之條件下分散而得者。
又橡膠粒子之平均粒徑係以Zeta電位‧粒徑測量系統(大塚電子股份有限公司製ELSZ-2000ZS)測定分散液中之橡膠粒子之分散粒徑而獲得。
＜偏光板保護薄膜113之製作＞ 於偏光板保護薄膜112之製作，除使用以下濃液以外，同樣製作偏光板保護薄膜113。
(濃液之組成)
　　樹脂((甲基)丙烯酸系樹脂：Ac) 95質量份
　　二氯甲烷 200質量份
　　化合物(D)：化合物1 6質量份
　　橡膠粒子分散液 200質量份
　　抗氧化劑：Irganox1076(日本BASF(股)製) 0.5質量份
＜偏光板保護薄膜114之製作＞ 於偏光板保護薄膜112之製作，除使用以下濃液以外，同樣製作偏光板保護薄膜114。
(濃液之組成)
　　樹脂((甲基)丙烯酸系樹脂：Ac) 95質量份
　　二氯甲烷 200質量份
　　化合物(D)：化合物1 6質量份
　　橡膠粒子分散液 200質量份
　　抗氧化劑：Irganox1076(日本BASF(股)製) 0.5質量份
　　微粒子(R812)：二氧化矽分散液(固形分換算) 1質量份
＜偏光板保護薄膜115之製作＞ 於偏光板保護薄膜112之製作，除使用以下濃液以外，同樣製作偏光板保護薄膜115。
(濃液之組成)
　　樹脂((甲基)丙烯酸系樹脂：Ac) 95質量份
　　二氯甲烷 200質量份
　　化合物(D)：化合物1 6質量份
　　橡膠粒子分散液 200質量份
　　微粒子(R812)：二氧化矽分散液(固形分換算) 1質量份
＜偏光板保護薄膜116~127之製作＞ 偏光板保護薄膜101~104、偏光板保護薄膜108~115之製作中，除了將化合物(D)：化合物1變更為比較化合物1、2及3以外，同樣製作偏光板保護薄膜116~127。
[2]偏光板之製作 ＜偏光器層之製作＞ 厚度25μm之聚乙烯醇系薄膜以35℃的水膨潤。所得薄膜於由碘0.075g、碘化鉀5g及水100g所成之水溶液中浸漬60秒，進而浸漬於由碘化鉀3g、硼酸7.5g及水100g所成之45℃水溶液中。所得薄膜以延伸溫度55℃、延伸倍率5倍之條件單軸延伸。該單軸延伸薄膜經水洗後乾燥，獲得厚度12μm之偏光器層。
＜相位差薄膜之製作＞ 藉由以下製造方法(熔融澆鑄製膜法)製作聚碳酸酯樹脂薄膜(PC薄膜)。
使用由2台具備攪拌翼及經控制於100℃之回流冷卻器之縱型反應器所成之批次聚合裝置進行聚合。將9,9-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]茀(BHEPF)、異山梨糖醇(ISB)、二乙二醇(DEG)、碳酸二苯酯(DPC)及乙酸鎂4水合物以莫耳比率計成為BHEPF/ISB/DEG/DPC/乙酸鎂=0.348/ 0.490/0.162/1.005/1.00×10 -5予以饋入。反應器內經氮充分置換後(氧濃度0.0005~0.001vol%)，以熱介質進行加溫，於內部溫度達到100℃之時點開始攪拌。升溫開始40分鐘後，內溫達到220℃，以保持該溫度進行控制同時開始減壓，在達到220℃後於90分鐘設為13.3kPa。將與聚合反應一起產生之苯酚蒸汽導至100℃之回流冷卻器，使酚蒸汽中含有若干量之單體成分返回到反應器中，將未冷凝之苯酚蒸汽導至45℃冷凝器進行回收。
將氮氣導入第1反應器暫時復壓至大氣壓厚，將第1反應器內之寡聚化之反應溶液移至第2反應器中。其次，開始第2反應器內之升溫及減壓，於50分鐘設為內溫240℃，壓力0.2kPa。隨後進行聚合直到達到特定之攪拌動力。於達到特定動力之時點，將氮氣導入反應器使復壓，以線股之形態抽出反應液，以旋轉式切割刀進行造粒，獲得BHEPF/ISB/DEG=34.8/49.0/16.2[mol%]之共聚組成的聚碳酸酯樹脂A。該聚碳酸酯樹脂A之還原黏度為0.430dL/g，玻璃轉移溫度為138℃。
將所得聚碳酸酯樹脂A於80℃真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠出機(五十鈴化工機械公司製，螺桿直徑25mm，氣缸設定溫度：220℃)、T模(寬度900mm，設定溫度：220℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作厚度130μm之聚碳酸酯樹脂薄膜(PC膜1)作為長條薄膜之捲筒體(薄膜捲筒)。
將上述製作之PC薄膜1的捲筒體(薄膜捲筒)，設置於斜向延伸薄膜之製造裝置80(參見圖5、圖6)捲出PC薄膜1。然後，使該PC薄膜1通過延伸部之預熱區Z1將PC薄膜1加熱至預熱溫度，隨後通過延伸區Z2以延伸倍率3倍進行斜向延伸，接著通過熱固定區Z3，製作膜厚50μm，寬1500mm，配向角θ=45°(寬度中央部之值)之斜向延伸PC薄膜(λ/4板)。所製作之斜向延伸PC薄膜予以捲取作成薄膜捲筒。又，延伸部之預熱區Z1的溫度T1(預熱溫度)設為(Tg+15)℃，延伸區Z2之溫度T2(延伸溫度)設為(Tg+11)℃，熱固定區Z3之溫度T3設為(Tg+9)℃。
＜偏光板之製作＞ 上述偏光板保護薄膜101~127、偏光器層及相位差薄膜各依序積層，製作偏光板101~127。又，於相位差薄膜與偏光器層之間、偏光板保護薄膜與偏光器層之間，使用完全皂化型聚乙烯醇水溶液(水糊)予以接著。
《評價》 ＜1＞耐光性試驗 針對上述製作之偏光板保護薄膜101~127，進行耐光性試驗。
對所製作之偏光板保護薄膜連續照射氙氣燈(60W/m 2)的光100小時，以分光光度計測定照射前(0小時)、照射後(100小時)的薄膜吸光度，根據下述式(R)測定化合物(D)之色素殘存率。
式(R)　色素殘存率(%)={(A 100)/(A 0)}×100 (但，A 0為氙氣燈照射前之吸光度，A 100為氙氣燈照射後之吸光度)
又，所謂「吸光度」表示各化合物之吸收極大波長之吸光度，色素殘存率越高，化合物越不易因光而分解，表示耐光性越高。根據以下基準評價耐光性。
A：色素殘存率為65%以上 B：色素殘存率為40%以上、未達65% C：色素殘存率為10%以上、未達40% D：色素殘存率未達10%
＜2＞耐久性：外滲之評價 將各偏光板保護薄膜於60℃、90%RH之高溫高濕環境下放置1000小時後，以目視觀察偏光板保護薄膜表面是否存在外滲(結晶析出)，根據以下基準進行外滲之評價。
◎：偏光板保護薄膜表面完全未觀察到外滲 ○：偏光板保護薄膜表面稍觀察到部分外滲 △：偏光板保護薄膜表面，遍及整面稍觀察外滲 ×：偏光板保護薄膜表面，遍及整面觀察到明確外滲
＜3＞光透過率之評價 上述製作之偏光板保護薄膜之光透過率，係變更測定波長(390nm、410nm及430nm)，使用分光光度計(日立高科技科學製U-3300)進行測定。所得結果示於表II。
以上，偏光板保護薄膜之構成及評價結果示於表II。
由表II所示之所作的偏光板保護薄膜之評價結果，可知使用本發明之色素化合物的偏光板保護薄膜101~115之耐光性及外滲性優異，且可見光之短波長側的光透過率之截止性優異。
此外，可知除了色素化合物以外，藉由添加抗氧化劑及微粒子之構成，本發明之偏光板保護薄膜的光透過率控制性更提高。
實施例2 使用實施例1製作之偏光板保護薄膜101~127，形成底塗層、形成硬塗層、及於相位差薄膜之與偏光器層相反側之面設置黏著劑層，並與有機EL元件貼合，製作有機EL顯示裝置。
(1)底塗層之形成 (硬塗層側底塗層塗佈液之調液) 將熱硬化性之水系聚烯烴系樹脂(ARROW BASE SB-1200(商品名)，固形分25%，Unichika公司製)100質量份、噁唑啉系交聯劑(WS-700，日本觸媒股份有限公司製)8質量份，以稀釋劑(水/甲醇=30/70 (質量%))稀釋至固形分濃度為5%後，於室溫攪拌，調液底塗層塗佈液1。
(硬塗層側底塗層之形成) 於偏光板保護薄膜101~127之與偏光器層側相反側之面上，以棒塗佈器塗佈上述調液之底塗層塗布液1，於80℃之乾燥爐中以吹風機乾燥40秒而造膜，以乾膜厚為0.4μm之方式形成硬塗層側底塗層。
(2)硬塗層之形成 (硬塗層形成用組成物之調液)
　　硬塗覆樹脂；   
　　季戊四醇三/四丙烯酸酯(NK酯A-TMM-3L，商品名，新中村化學工業(股)製)             100質量份
　　光聚合起始劑；   
　　Irgacure 184 (商品名，日本BASF(股)製) 9質量份
　　溶劑；   
　　丙二醇單甲醚 20質量份
　　乙酸甲酯 30質量份
　　甲基乙基酮 70質量份
　　添加劑；   
　　界面活性劑：KF-351A(商品名、聚醚改質矽氧油，信越化學工業股份有限公司製)            2質量份
　　微粒子；聚合物矽烷偶合劑被覆氧化矽 100質量份
(微粒子之調製) 如下述般製作上述聚合物矽烷偶合劑被覆氧化矽。於容器中添加甲基丙烯酸甲酯(共榮社化學(股)製：LIGHT ESTER M)30mL、3-巰基丙基三甲氧基矽烷(信越化學(股)製：KBM-803) 1mL與作為溶劑之四氫呋喃100mL、作為聚合起始劑之偶氮異丁腈(關東化學(股)製：AIBN)50mg，經N 2氣體置換後，於80℃加熱3小時，調製聚合物矽烷偶合劑。所得聚合物矽烷偶合劑之分子量為16000。又分子量之測定係以凝膠滲透層析儀測定。
接著，以離子交換樹脂對氧化矽溶膠(日揮觸媒化成工業(股)製：Si-45P，商品名，SiO 2濃度30質量%，平均粒徑45nm，分散介質：水)進行離子交換，以超過濾膜法將水進行溶劑置換為乙醇，調製氧化矽微粒子之乙醇分散液100g(SiO 2濃度30質量%)。
將該氧化矽微粒子之乙醇分散液100g與聚合物矽烷偶合劑1.5g分散於丙酮20g(25mL)中，於其中添加濃度29.8質量%之氨水20mg，於室溫攪拌30小時，將聚合物矽烷偶合劑吸附於氧化矽微粒子上。
隨後，添加平均粒徑5μm之氧化矽粒子，攪拌2小時將溶液中未吸附之聚合物矽烷偶合劑吸附於氧化矽粒子，然後藉由離心去除吸附有未吸附的聚合物矽烷偶合劑之平均粒徑5μm的氧化矽粒子。將乙醇1000g添加於吸附有聚合物矽烷偶合劑之氧化矽微粒子分散液中，使氧化矽微粒子沉降，將其分離，並減壓乾燥，接著於25℃乾燥8小時，獲得聚合物矽烷偶合劑被覆氧化矽。所得聚合物矽烷偶合劑被覆氧化矽之平均粒徑為57nm。平均粒徑藉由雷射粒徑測定裝置測定。
(硬塗層之形成) 於上述製作之附底塗層之偏光板保護薄膜的硬塗層側底塗層上，以棒塗佈器將上述調液之硬塗層形成組成物塗佈為乾膜厚為2.5μm，於50℃乾燥爐中以吹風機乾燥40秒使溶劑揮發。然後，以該狀態，邊吹入氮氣以成為氧濃度1.0體積%以下之環境，同時使用紫外線燈以照射部的照度為100mW/cm 2，照射量0.2J/cm 2使塗佈層硬化，製作附硬塗層之偏光板保護薄膜。
(3)有機EL顯示裝置之製作 與實施例1同樣，使用附硬塗層偏光板保護薄膜、偏光器層及相位差薄膜製作偏光板，分別介隔以下之剝離脫模薄膜之黏著劑層，將偏光板與有機EL元件貼合，製作有機EL顯示裝置201~227並評價。
具體而言，將搭載有機EL面板之SAMSUNG公司製GALAXY S10(商品名)拆解，自有機EL元件剝離圓偏光板，於剝離面介隔黏著劑層貼合偏光板101~127，分別將硬塗層側貼合於視認側，將相位差薄膜側貼合於有機EL元件側，製作有機EL顯示裝置。
(黏著劑組成物之調製) 於由丙烯酸2-乙基己酯(2EHA) 78質量份、N-乙烯基-2-吡咯啶酮(NVP) 18質量份及丙烯酸2-羥基乙酯(HEA) 15質量份所成之單體混合物中，調配作為光聚合起始劑之1-羥基環己基苯基酮(商品名：Irgacure 184，日本BASF(股)製)0.035質量份、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮(商品名：Irgacure 651，日本BASF(股)製)0.035質量份後，照射紫外線直至黏度(測定條件：BH黏度計5號轉子，10rpm，測定溫度30℃)成為約20Pa‧s，獲得上述單體成分之一部分經聚合之預聚物組成物(聚合率：8%)。接著，於該預聚物組成物中，添加己二醇二丙烯酸酯(HDDA) 0.15質量份、矽烷偶合劑(商品名：KBM-403，信越化學工業(股)製)0.3質量份並混合，獲得丙烯酸系黏著劑組成物(a)。
對於所得之丙烯酸系黏著劑組成物(a)(將形成丙烯酸系聚合物之單體成分設為100質量份)，添加雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦(商品名：Irgacure 819，日本BASF(股)製) 0.2質量份並攪拌，藉此獲得黏著劑組成物。
(黏著劑層之形成) 將黏著劑組成物，以黏著劑層形成後之厚度為150μm之方式塗佈於相位差薄膜上，然後，於該黏著劑組成物層之表面，貼合脫模薄膜。隨後以照度：6.5mW/cm 2，光量：1500mJ/cm 2，峰值波長：350nm之條件進行紫外線照射，使黏著劑組成物層光硬化，形成黏著劑層。
《評價》 ＜4＞發光損失之評價 光透過率係依據JIS K 7375：2008「塑膠-全光線透過率及全光線反射率之求出方法」，使用分光光度計(日立高科技科學製U-3300)測定。又，光透過率為85%以上時記為「◎」，80%以上且未達85%時記為「○」，未達80%時記為「△」。光透過率為80%以上時，可說發光損失小。
＜5＞耐光性試驗 針對上述製作之有機EL顯示裝置，進行耐光性試驗。
對所製作之有機EL顯示裝置連續照射氙氣燈(60W/m 2)的光100小時，測定照射前(0小時)、照射後(100小時)之發光亮度，根據下述式2測定發光亮度變化。
發光亮度之測定係於室溫(25℃)，以2.5mA/cm 2之定電流密度條件下進行點亮，使用分光放射亮度計CS-2000(KONICA MINOLTA股份有限公司製)測定各有機EL顯示裝置之發光亮度。
式2　發光亮度變化率(%)={(A 100)/(A 0)}×100 (但，A 0為氙氣燈照射前之發光亮度，A 100為氙氣燈照射後之發光亮度)。 又，「發光亮度變化率」係值越大，表示顯示元件之耐光性越高。根據以下基準評價耐光性。
A：發光亮度變化率為90%以上 B：發光亮度變化率為80%以上且未達90% C：發光亮度變化率為70%以上且未達80% D：發光亮度變化率未達70% 以上之層構成及評價結果示於表III。
從表III所示之評價結果，可知使用本發明之偏光板保護薄膜的有機EL顯示裝置201~215不發生發光損失，顯示元件之耐光性優異。
此外，若綜合表II及表III所示之評價結果，本發明之偏光板保護薄膜可保護顯示元件免受外光之影響，並且對於顯示元件之發光不產生發光損失，且無外滲，係耐光性優異之偏光板保護薄膜，確認可提供功能性及耐久性優異之偏光板及有機EL顯示裝置。
實施例3 ＜偏光板保護薄膜301之製作＞ (支撐體) 作為支撐體，使用聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(PET薄膜)：(東洋紡公司製TN100，有含非矽氧系剝離劑之脫模層，厚度38μm)。
(偏光板保護薄膜301用塗佈溶液之調製) 混合下述成分，獲得基材薄膜301用塗佈溶液。
首先，於加壓溶解槽中添加二氯甲烷與乙醇。於放入二氯甲烷與乙醇之混合溶液的加壓溶解槽中，邊攪拌邊投入環烯烴系樹脂(COP)。進而，於溶劑投入開始後15分鐘後，投入上述調製之微粒子分散液及化合物(D)：化合物1，將其加熱至80℃，邊攪拌邊完全溶解。此時，自室溫以5℃/min升溫，於30分鐘溶解後，以3℃/min降溫。所得溶液使用安積濾紙(股)製之安積濾紙No.244過濾，調製偏光板保護薄膜301用塗佈溶液。
(塗佈溶液之組成)
　　COP(G7810) 100質量份
　　二氯甲烷 200質量份
　　乙醇 10質量份
　　化合物(D)：化合物1 6質量份
　　抗氧化劑：Irganox1076(日本BASF(股)製) 0.5質量份
　　微粒子(R812)：二氧化矽分散液 1質量份
(偏光板保護薄膜301之製作) 使用圖4所示之塗佈裝置，於上述支撐體之脫模層上，藉由背塗法使用模具塗佈偏光板保護薄膜301用塗佈溶液後，藉以下乾燥步驟進行基材薄膜之乾燥，形成厚度5μm之偏光板保護薄膜，獲得偏光板保護薄膜301。
第一步：於40℃下1分鐘 第二步：於70℃下1分鐘 第三步：於100℃下1分鐘 第四步：於130℃下2分鐘
＜偏光板保護薄膜302之製作＞ 於偏光板保護薄膜301之製作中，偏光板保護薄膜301用塗佈溶液藉由背塗法使用模具塗佈後，以前述乾燥步驟進行基材薄膜之乾燥，製作厚度10μm之偏光板保護薄膜。
＜偏光板保護薄膜303之製作＞ 將環烯烴系樹脂(日本Zeon公司製「Zeonor」，玻璃轉移溫度Tg=126℃)100質量份與下述化合物(a2)6質量份，使用雙軸擠出機混合，獲得樹脂組成物。
其次，準備具備齒輪泵及過濾器之單軸擠出機，將前述樹脂組成物投入該單軸擠出機中使熔融。經熔融之樹脂組成物通過齒輪泵接著通過過濾器，自T模具擠出，通過冷卻輥獲得厚度10μm之偏光板保護薄膜303。
(化合物(a2)之合成：6-(5-甲基羰氧基乙基-2H-苯并三唑-2-基)苯并[1,3]二噁唑-5-醇)
於200mL之四頸燒瓶上安裝帶球之冷凝器、溫度計及攪拌裝置，放入6-(5-羥基乙基-2H-苯并三唑-2-基)苯并[1,3]二噁唑-5-醇2.0g (0.0067莫耳)、甲苯50mL、乙酸1.6g(0.0266莫耳)、甲烷磺酸0.1g(0.0010莫耳)，於110~115℃回流脫水4小時。以溫水50mL洗淨3次，添加活性碳0.1g，回流攪拌使之脫色。趁熱時過濾，將析出之結晶過濾，以甲苯10mL洗淨後，於60℃乾燥，獲得化合物(a2) 2.2g。基於6-(5-羥基乙基-2H-苯并三唑-2-基)苯并[1,3]二噁唑-5-醇之收率為96%。
又，測定化合物(a2)之紫外光~可見光吸收光譜後，最大吸收波長為368nm。
使用所得之偏光板保護薄膜，與實施例1同樣，評價耐光性及耐久性：外滲。評價時，偏光板保護薄膜301及302係以剝離上述支撐體之狀態進行。
薄膜的偏光板保護薄膜301及302顯示優異之耐光性(「A」)及耐久性(外滲：「◎」)，可知即使為薄膜之偏光板保護薄膜，仍可獲得本發明之效果。另一方面，偏光板保護薄膜303之耐光性優異，但評價10片薄膜試料時，外滲評價於「△~○」之範圍，耐久性稍差。 [產業上之可利用性]
本發明之偏光板保護薄膜係含有樹脂及色素化合物之偏光板保護薄膜，可保護顯示元件免受外光之影響，對於顯示元件之發光不會產生發光損失，且無外滲，且因耐光性優異，故可較佳地使用於顯示裝置，特別是有機電致發光顯示裝置。
10A,10B:偏光板 1:偏光板保護薄膜 2:偏光器層 3:相位差薄膜 4:硬塗層 5:黏著劑層 20:有機EL顯示裝置 11:有機EL元件 80:斜向延伸薄膜之製造裝置 81:薄膜捲出部 82,86:輸送方向變更部 83,85:導輥 84:延伸部 87:薄膜捲取部 B200:製造裝置 B210:供給部 B220:塗佈部 B230:乾燥部 B240:冷卻部 B250:捲取部
[圖1]係顯示使用本發明之偏光板保護薄膜之偏光板10A的構成例之剖視圖。 [圖2]係顯示本發明另一態樣之偏光板10B的構成例之剖視圖。 [圖3]係顯示使用本發明之偏光板保護薄膜之有機EL顯示裝置20的構成例之剖視圖。 [圖4]係顯示本發明之一實施形態之薄膜偏光板保護薄膜之製造方法的示意圖。 [圖5]係示意性顯示斜向延伸薄膜之製造裝置的概略構成之俯視圖。 [圖6]係示意性顯示圖5所示之斜向延伸薄膜之製造裝置所具備之延伸部的軌道圖案之一例的俯視圖。
1:偏光板保護薄膜
2:偏光器層
3:相位差薄膜
10A:偏光板

Claims (1)

  1. 一種偏光板保護薄膜，其特徵係含有具有以下述式1表示之構造之化合物， 。
TW111105539A 2021-03-31 2022-02-16 偏光板保護薄膜 TWI831132B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

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