WO2022264998A1 - ナノ結晶合金薄帯の製造方法、およびナノ結晶合金薄帯 - Google Patents

ナノ結晶合金薄帯の製造方法、およびナノ結晶合金薄帯 Download PDF

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WO2022264998A1
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nanocrystalline alloy
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temperature
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豊永詞
小川雄一
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日立金属株式会社
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    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D6/00—Heat treatment of ferrous alloys
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C45/00—Amorphous alloys
    • C22C45/02—Amorphous alloys with iron as the major constituent
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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    • H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
    • H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
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    • H01F1/147—Alloys characterised by their composition
    • H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets

Definitions

  • the present disclosure relates to a method for producing a nanocrystalline alloy ribbon having a nanocrystalline structure, and a nanocrystalline alloy ribbon.
  • Nanocrystalline alloy ribbons with a nanocrystalline structure have excellent magnetic properties and are used in transformers, electronic parts, motors, etc. These transformers, electronic components, motors, etc. are required to be smaller and more efficient. Therefore, there is a demand for further improvement in the properties of soft magnetic alloys used in magnetic cores for these parts (transformers, electronic parts, motors, etc.). Characteristics required for the soft magnetic alloy include high saturation magnetic flux density and low core loss. Among these parts, along with the high frequency of semiconductors, efforts are being made to reduce the size by increasing the operating frequency, and Fe-based amorphous alloys and Fe-based nanocrystalline alloys with low core loss are attracting attention. Therefore, soft magnetic alloys with excellent price, productivity, and heat treatability are required for their commercial spread.
  • the composition formula is Fe100 - abcBaCubM'c
  • M' is at least one element selected from Nb , Mo, Ta, W, Ni, and Co.
  • An alloy having a composition satisfying 10 ⁇ a ⁇ 16, 0 ⁇ b ⁇ 2, and 0 ⁇ c ⁇ 8 and having an amorphous phase is heated at a heating rate of 10 ° C./sec or more, and It describes a method for producing a soft magnetic material that achieves both high saturation magnetization and low coercive force by holding for 0 to 80 seconds above the crystallization start temperature and below the formation start temperature of the Fe—B compound.
  • Patent Document 3 it is represented by Fe 100-xyz A x M y X z , where A is at least one element selected from Cu and Au, M is Ti, Zr, Hf, at least one element selected from V, Nb, Ta, Cr, Mo, and W; X is at least one element selected from B and Si; 4 ⁇ y ⁇ 2.5, 10 ⁇ z ⁇ 20, and the soft magnetic alloy has a saturation magnetic flux density of 1.7 T or more and a coercive force of 15 A/m or less.
  • the soft magnetic material described in Patent Document 1 a soft magnetic material having high saturation magnetization is disclosed.
  • the soft magnetic material described in Patent Document 1 does not contain Si, the SiO 2 film that contributes to the corrosion resistance of the soft magnetic material is not formed on the surface of the material, making it difficult to prevent rust.
  • the soft magnetic alloy described in Patent Document 2 does not have a very high saturation magnetic flux density (Bs).
  • Bs saturation magnetic flux density
  • Example 6 in which the amount of Fe is 84 at %, the saturation magnetic flux density (Bs) is 1.76 T.
  • the heat treatability is insufficient because the amount of B is relatively large.
  • the soft magnetic alloy described in Patent Document 3 contains a large amount of M elements such as expensive Nb, so the price is high.
  • anisotropy is imparted in the casting direction, and the magnetic flux density when a magnetic field of 80 A/m is applied in the casting direction and the magnetic flux density when a magnetic field of 80 A/m is applied in a direction perpendicular to the casting direction.
  • the large ratio makes it unsuitable for applications requiring isotropy.
  • a nanocrystalline alloy ribbon is manufactured by ejecting a molten alloy adjusted to a predetermined alloy composition onto a rotating cooling roll, rapidly cooling and solidifying to manufacture an alloy ribbon, and then heat-treating the alloy ribbon. .
  • the nanocrystalline alloy ribbon is thin, has a predetermined width, and is manufactured as a long ribbon. According to this manufacturing method, anisotropy is likely to be introduced in the casting direction (longitudinal direction), and even after heat treatment, magnetic properties are maintained in the longitudinal direction of the elongated shape and in the width direction orthogonal to the longitudinal direction. tend to be different.
  • nanocrystalline alloy ribbons used in motors are required to have isotropic properties as much as possible.
  • the present disclosure has the following configurations.
  • ⁇ 1> Represented by the compositional formula (Fe 1-x A x ) a Si b B c Cu d Me , where A is at least one of Ni and Co, M is Nb, Mo, V, Zr, Hf and One or more selected from the group consisting of W, in atomic %, 81 ⁇ a ⁇ 86, 0.15 ⁇ b ⁇ 5.0, 12.5 ⁇ c ⁇ 15, 0 ⁇ d ⁇ 1.0, 0 An alloy ribbon satisfying ⁇ e ⁇ 1.0 and 0 ⁇ x ⁇ 0.1 is heat-treated to produce a nanocrystalline alloy ribbon having a structure in which crystal grains having an average grain size of 30 nm or less exist in an amorphous phase.
  • the alloy ribbon With a tension of 10 MPa to 160 MPa applied to the alloy ribbon, the alloy ribbon is conveyed and brought into contact with a heating body so that the temperature rise rate of the alloy ribbon is 100 K / sec or more. , heat-treating the alloy ribbon, When the crystallization temperature of the alloy ribbon is Tx1, the temperature Ta of the heating body is in the range of Tx1 + 85 ° C. to Tx1 + 140 ° C. when e ⁇ 0.4 in the composition formula, and e ⁇ 0 in the composition formula.
  • a method for producing a nanocrystalline alloy ribbon in which the range of Tx1+60° C. to Tx1+100° C. is set at .4.
  • the nanocrystal according to ⁇ 1>, wherein LBr/WBr is 0.2 to 1.8, where WBr is the residual magnetic flux density Br (maximum measured magnetic field Hm 80 A/m) in the width direction perpendicular to the longitudinal direction.
  • the nanocrystalline alloy ribbon has a magnetic flux density B80 of 0.4 T or more when a magnetic field of 80 A/m is applied, and a magnetic flux density B80 of LB80 when a magnetic field of 80 A/m is applied in the longitudinal direction of the nanocrystalline alloy ribbon.
  • LB80/WB80 is 0.3 to 1.7
  • WB80 is the magnetic flux density B80 when a magnetic field of 80 A / m is applied in the width direction orthogonal to the longitudinal direction 2.
  • ⁇ 6> The method for producing a nanocrystalline alloy ribbon according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the temperature of the alloy ribbon is controlled so as not to exceed Ta + 50°C during the heat treatment of the alloy ribbon. . ⁇ 7> Any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the heating body is composed of a plurality of heating units having different temperatures, and the temperature of the heating unit having the highest temperature among the plurality of heating units is the temperature Ta. 2.
  • the nanocrystalline alloy ribbon is represented by the composition formula (Fe 1-x A x ) a Si b B c Cu d Me , where A is at least one of Ni and Co, and M is Nb, Mo, V , Zr, Hf and W, in atomic % 81 ⁇ a ⁇ 86, 0.15 ⁇ b ⁇ 5.0, 12.5 ⁇ c ⁇ 15, 0 ⁇ d ⁇ 1.0, 0 ⁇ e ⁇ 1.0, 0 ⁇ x ⁇ 0.1, and the saturation magnetic flux density Bs is 1.6 T or more
  • the nanocrystalline alloy thin according to ⁇ 8>, wherein L ⁇ m/W ⁇ m is 0.3 to 1.7, where W ⁇ m is the maximum magnetic permeability ⁇ m in the width direction orthogonal to the direction (maximum measured magnetic field Hm 80 A / m). band.
  • the nanocrystalline alloy ribbon has a magnetic flux density B80 of 0.4 T or more when a magnetic field of 80 A/m is applied, and a magnetic flux density B80 of LB80 when a magnetic field of 80 A/m is applied in the longitudinal direction of the nanocrystalline alloy ribbon. Any one of ⁇ 8> to ⁇ 10> where LB80/WB80 is 0.3 to 1.7, where WB80 is the magnetic flux density B80 when a magnetic field of 80 A / m is applied in the width direction orthogonal to the longitudinal direction 2.
  • ⁇ 12> The nanocrystalline alloy ribbon according to any one of ⁇ 8> to ⁇ 11>, which has a thickness of 15 ⁇ m or more and a width of 5 mm or more.
  • nanocrystalline alloy ribbon according to any one of ⁇ 8> to ⁇ 12> which has a space factor of 86% or more.
  • nanocrystalline alloy ribbon according to any one of ⁇ 8> to ⁇ 13> which has a saturation magnetostriction of 30 ppm or less.
  • a nanocrystalline alloy ribbon having excellent magnetic properties and isotropy it is possible to provide a nanocrystalline alloy ribbon having excellent magnetic properties and isotropy.
  • FIG. 1 shows an example of an in-line annealing apparatus that can be used for the heat treatment of the present disclosure
  • FIG. 2 is a diagram plotting examples and comparative examples of the present disclosure with Ta ⁇ Tx1 (° C.) on the X-axis and tension (MPa) on the Y-axis.
  • a numerical range indicated using "-" indicates a range that includes the numerical values described before and after "-" as lower and upper limits, respectively.
  • upper or lower limits described in a certain numerical range may be replaced with upper or lower limits of other numerical ranges described step by step.
  • upper or lower limits described in a certain numerical range may be replaced with values shown in Examples.
  • a combination of two or more preferred aspects is a more preferred aspect.
  • the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure is represented by the composition formula ( Fe1 - xAx ) aSibBcCudMe , where A is at least one of Ni and Co, and M is Nb , Mo , V, Zr, Hf and W, in atomic % 81 ⁇ a ⁇ 86, 0.15 ⁇ b ⁇ 5.0, 12.5 ⁇ c ⁇ 15, 0 ⁇ d ⁇ 1.0, 0 ⁇ e ⁇ 1.0, and 0 ⁇ x ⁇ 0.1.
  • Fe is 81% or more and 86% or less in atomic %.
  • a high saturation magnetic flux density can be obtained by setting the Fe content to 81% or more. It is preferably 82% or more, more preferably 82.5% or more, still more preferably 83% or more, still more preferably 83.5% or more, still more preferably 84% or more. Further, if the Fe content exceeds 86%, it becomes difficult to amorphize, so the Fe content is made 86% or less. Preferably, it is 85.5% or less.
  • Si silicon is 0.15% or more and 5.0% or less in atomic %.
  • Si an oxide film of SiO 2 with a thickness of several tens of nanometers can be formed on the alloy surface. This can improve the corrosion resistance of the nanocrystalline alloy ribbon.
  • 0.15% or more of Si is contained. Preferably it is 1.0% or more. If the Si content exceeds 5.0%, it becomes difficult to obtain a high saturation magnetic flux density, and it becomes difficult to increase the thickness of the alloy ribbon. Therefore, the Si content is set to 5.0% or less. It is preferably 4% or less, more preferably 3% or less, and still more preferably 2% or less.
  • B (boron) is 12.5% or more and 15% or less in atomic %. If the B content is less than 12.5%, it becomes difficult to form an amorphous material, so the B content is made 12.5% or more. It is preferably 13.0% or more, more preferably 13.5% or more. When the B content exceeds 15%, the difference between the bccFe( ⁇ Fe) crystallization start temperature and the FeB precipitation start temperature becomes small, narrowing the temperature range in which heat treatment is possible. For this reason, it becomes difficult to obtain a uniform and fine nanocrystalline structure capable of obtaining a core loss of 25 W/kg or less at 1 T, 1 kHz. Accordingly, the content of B is set to 15% or less. It is preferably 14.5% or less, more preferably 14.4% or less, further preferably 14.0% or less.
  • Cu copper
  • the content of Cu may be 0%, but the inclusion of Cu facilitates obtaining a uniform and fine nanocrystalline structure.
  • the Cu content is preferably 0.05% or more. It is more preferably 0.1% or more, still more preferably 0.2% or more, still more preferably 0.4% or more, still more preferably 0.5% or more. If the Cu content exceeds 1.0%, embrittlement tends to occur, making it difficult to increase the thickness of the nanocrystalline alloy ribbon. Therefore, the content of Cu is set to 1.0% or less. It is preferably 0.9% or less, more preferably 0.85% or less, still more preferably 0.7% or less, still more preferably 0.6% or less.
  • the M element is one or more elements selected from the group consisting of Nb, Mo, V, Zr, Hf and W, and is 0% or more and 1.0% or less in terms of atomic %.
  • the M element may be 0%, but by including the M element, the precipitation start temperature of the FeB compound that significantly deteriorates the soft magnetism can be shifted to a higher temperature side.
  • the difference between the bccFe ( ⁇ Fe) crystallization start temperature (also referred to as the crystallization temperature) and the FeB precipitation start temperature can be widened, which has the effect of widening the range of the optimum heat treatment temperature and relaxes the heat treatment conditions.
  • the content of M element is set to 1.0% or less. It is preferably 0.9% or less, more preferably 0.8% or less, still more preferably 0.7% or less, still more preferably 0.6% or less. Also, the M element is preferably less than 0.4%, more preferably 0.3% or less, and further preferably 0.25% or less.
  • part of Fe may be replaced with at least one element of Ni and Co.
  • Fe 1-x A x A is at least one of Ni and Co, and x is 0.1 or less.
  • the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure may contain C (carbon).
  • C is preferably 1% by mass or less.
  • the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure may contain impurities other than the above elements.
  • Impurities include, for example, S (sulfur), O (oxygen), N (nitrogen), Cr, Mn, P, Ti, and Al.
  • S sulfur
  • O oxygen
  • N nitrogen
  • Cr manganese
  • Mn manganese
  • P titanium
  • Al aluminum
  • the S content is preferably 200 mass ppm or less
  • the O content is preferably 5000 mass ppm or less
  • the N content is preferably 1000 mass ppm or less.
  • the total content of these impurities is preferably 0.5% by mass or less.
  • an element corresponding to an impurity may be added within the above range.
  • the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure has a structure in which crystal grains having an average grain size of 30 nm or less exist in the amorphous phase.
  • a structure in which crystal grains having an average grain size of 30 nm or less exist in an amorphous phase is also called a nanocrystalline structure.
  • the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure is obtained by ejecting a molten alloy having the alloy composition described above onto a rotating cooling roll, rapidly cooling and solidifying it on the cooling roll to obtain an alloy ribbon, and heat-treating the alloy ribbon.
  • the alloy ribbon obtained by quenching and solidifying the molten alloy is in an amorphous state and is an amorphous alloy ribbon.
  • a nanocrystalline alloy ribbon is obtained by heat-treating the amorphous alloy ribbon (amorphous alloy ribbon).
  • the amorphous alloy ribbon may have a crystalline phase composed of fine crystals.
  • the molten alloy can be obtained by blending each element source (pure iron, ferroboron, ferrosilicon, etc.) for the desired alloy composition, heating in an induction heating furnace, and melting above the melting point to obtain a molten alloy.
  • An alloy ribbon can be obtained by ejecting a molten alloy from a slit-shaped nozzle having a predetermined shape onto a rotating cooling roll and rapidly solidifying the molten alloy on the cooling roll.
  • the cooling roll can have an outer diameter of 350 to 1000 mm, a width of 100 to 400 mm, and a peripheral speed of rotation of 20 to 35 m/sec.
  • This cooling roll is internally provided with a cooling mechanism (such as water cooling) for suppressing an increase in the temperature of the outer peripheral portion.
  • the outer peripheral portion of the cooling roll is made of a Cu alloy having a thermal conductivity of 120 W/(m ⁇ K) or more.
  • the thermal conductivity of the outer peripheral portion is set to 120 W/(m ⁇ K) or more.
  • the cooling rate when the molten alloy is cast into the alloy ribbon can be increased.
  • the embrittlement of the alloy ribbon is suppressed, making it possible to increase the thickness of the alloy ribbon, and surface crystallization during casting is suppressed, thereby suppressing coarsening of crystal grains during heat treatment. , iron loss can be reduced.
  • the thermal conductivity of the outer peripheral portion is preferably 150 W/(m ⁇ K) or more, more preferably 180 W/(m ⁇ K) or more.
  • the thermal conductivity of the outer peripheral portion is preferably 150 W/(m ⁇ K) or more.
  • the outer peripheral portion of the cooling roll is the portion in contact with the molten alloy, and the thickness thereof may be about 5 to 15 mm.
  • a nanocrystalline alloy ribbon is obtained by heat-treating the alloy ribbon produced by the above quenching method.
  • the method for manufacturing the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure is characterized by the heat treatment method.
  • the alloy ribbon is conveyed while a tension of 10 MPa to 160 MPa is applied to the alloy ribbon, and the alloy ribbon is brought into contact with a heating body so that the temperature rise rate of the alloy ribbon is 100 K. / seconds or more.
  • the crystallization temperature of the alloy ribbon is Tx1
  • the temperature Ta of the heating element is in the range of Tx1 + 85 ° C. to Tx1 + 140 ° C.
  • the crystallization temperature of the alloy ribbon is the crystallization start temperature of bccFe ( ⁇ Fe).
  • the alloy ribbon is subjected to heat treatment by applying tension to the alloy ribbon, conveying the alloy ribbon, and heating the alloy ribbon by bringing it into contact with a heating body.
  • the tension, the temperature of the heating element, and the heating rate of the alloy ribbon are important requirements.
  • the effect of obtaining isotropic magnetic properties can be expected by applying tension and performing heat treatment at a high heating rate.
  • the tension is set to 10 MPa to 160 MPa. It is preferably 30 MPa or more. More preferably, it is 34 MPa or more. Moreover, it is preferably 150 MPa or less. More preferably, it is 145 MPa or less.
  • the temperature Ta of the heater has a different preferred temperature range depending on the composition. It was also found that the temperature Ta of the heating element can be set by a relational expression with the crystallization temperature of the alloy ribbon (the crystallization start temperature of bccFe( ⁇ Fe)) Tx1.
  • the temperature Ta of the heating element is set in the range of Tx1+85.degree. C. to Tx1+140.degree. It is preferably Tx1+90° C. or higher, more preferably Tx1+95° C. or higher. It is preferably Tx1+120° C. or less, more preferably Tx1+115° C. or less.
  • the temperature Ta of the heater is set in the range of Tx1+60.degree. C. to Tx1+100.degree.
  • the temperature Ta of the heater is set in the range of Tx1+60.degree. C. to Tx1+100.degree.
  • the FeB precipitation start temperature Tx2 exists at a temperature higher than the crystallization temperature.
  • the alloy ribbon reaches the FeB precipitation start temperature, crystals become coarse and FeB, which degrades the magnetic properties, is precipitated. Therefore, it is necessary to perform the heat treatment so as not to reach the FeB precipitation start temperature.
  • the crystallization temperature and FeB precipitation start temperature of the alloy ribbon can be obtained as follows.
  • the crystallization temperature and the FeB precipitation start temperature change depending on the temperature increase rate, but the upper limit of the temperature increase rate of a general thermal analysis apparatus is about 2 ° C./second, and the temperature increase rate during the heat treatment of the present disclosure can be measured. Since it is not possible, the value at a temperature increase rate of 50° C./sec was obtained by the method described below and used as the crystallization temperature and the FeB precipitation start temperature.
  • the heating rate of the alloy ribbon shall be 100 K/sec or higher. This temperature increase rate was calculated by finding the slope of the tangential line near the heat treatment temperature Ta when the temperature was raised. It is preferably 300 K/sec or higher, more preferably 500 K/sec or higher.
  • the upper limit may be an upper limit that is set within a possible range for the apparatus and process conditions. For example, it can be 4000 K/sec or less. It is preferably 3000 K/sec or less, more preferably 2500 K/sec or less.
  • the alloy ribbon is heat treated while being transported. Since the alloy ribbon is formed in a long length, heat treatment can be performed on the long alloy ribbon efficiently by carrying out the heat treatment while transporting the alloy ribbon.
  • the contact time between the alloy ribbon and the heater is preferably 0.5 seconds to 60 seconds.
  • the transport speed of the alloy ribbon is preferably 3 m/min to 300 m/min. More preferably, it is 200 m/min or less.
  • the heating body may be composed of a plurality of heating parts with different temperatures.
  • the temperature of the heating portion having the highest temperature among the plurality of heating portions is assumed to be the above-described temperature Ta.
  • the alloy ribbon may generate self-heating as it crystallizes during heat treatment. As described above, when the temperature of the alloy ribbon reaches the FeB precipitation initiation temperature, the desired magnetic properties of the nanocrystalline alloy ribbon cannot be obtained. Further, even if the temperature does not reach the FeB precipitation start temperature, if the temperature rises too much, the grain size growth is accelerated and the iron loss deteriorates.
  • the temperature Ta of the heating element is the highest temperature for heating the alloy ribbon when there is no temperature rise due to self-heating.
  • the heating temperature of the alloy ribbon exceeds the temperature Ta of the heating element. At this time, it is preferable to suppress an excessive temperature rise. In the present disclosure, it is preferable to control the temperature of the alloy ribbon so as not to exceed Ta+50° C. due to temperature rise due to self-heating.
  • FIG. 1 shows an in-line annealing apparatus described in International Publication No. WO2019/009309.
  • the in-line annealing apparatus shown in FIG. 1 can be used for the heat treatment of the present disclosure.
  • the in-line annealing apparatus 100 shown in FIG. 10 a cooling plate 32 for cooling the alloy ribbon 10 heated by the heating body 22, and a winding roller 14 for winding the alloy ribbon 10 cooled by the cooling plate 32.
  • winding device In FIG. 1, the arrow R indicates the running direction of the alloy ribbon 10 .
  • the heating element 22 includes a first plane 22S on which the alloy strip 10 unwound from the unwinding roller 12 travels while being in contact therewith.
  • the heating element 22 heats the alloy ribbon 10 running on the first plane 22S while contacting the first plane 22S via the first plane 22S.
  • the heating body 22 may be a combination of a plurality of heating units that can be set to different temperatures, or may be configured to be set to a plurality of heating temperatures while integrating the above-described first plane 22S portion. With these, the heating body can be composed of a plurality of heating portions.
  • a heating element 22 is housed in the heating chamber 20 .
  • the heating chamber 20 may have a heat source for controlling the temperature of the heating chamber, in addition to the heat source for the heating element 22 .
  • the cooling plate 32 includes a second plane 32S on which the alloy ribbon 10 travels in contact, as shown in the encircled enlarged portion. The cooling plate 32 lowers the temperature of the alloy ribbon 10 running on the second plane 32S while contacting the second plane 32S via the second plane 32S.
  • a cooling plate 32 is housed in the cooling chamber 30 .
  • the take-up roller 14 has a rotating mechanism (for example, a motor) that rotates in the direction of arrow W. The rotation of the take-up roller 14 causes the alloy ribbon 10 to be taken up at a desired speed.
  • a rotating mechanism for example, a motor
  • the in-line annealing device 100 includes a guide roller 41, a dancer roller 60 (one of tension adjusting devices), a guide roller 42, and a , a pair of guide rollers 43A and 43B. Adjustment of the tension is also performed by controlling the motion of the unwind roller 12 and the take-up roller 14 .
  • Dancer roller 60 is provided so as to be movable in the vertical direction (the direction of the double-sided arrow in FIG. 1).
  • the tension of the alloy ribbon 10 can be adjusted by adjusting the position of the dancer roller 60 in the vertical direction (the direction of the arrow on both sides).
  • the dancer roller 62 is also the same.
  • a plurality of openings may be provided in the first plane of the heating body 22 to allow suction, thereby improving the adhesion between the alloy ribbon and the heating body.
  • the material of the heating body includes copper, copper alloys (bronze, brass, etc.), aluminum, iron, iron alloys (stainless steel, etc.), and the like. Among them, copper, a copper alloy, or aluminum is preferable because of its high thermal conductivity (heat transfer coefficient).
  • the heating body may be plated with Ni plating, Ag plating, or the like.
  • the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure is obtained by the manufacturing method described above, has the composition described above, has excellent magnetic properties, and is isotropic.
  • the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure is a nanocrystalline alloy ribbon having a structure in which crystal grains having an average grain size of 30 nm or less exist in an amorphous phase, has a saturation magnetic flux density Bs of 1.6 T or more, and is a nanocrystalline
  • LBr/WBr is 0.2 to 1.8.
  • LBr/WBr is preferably 0.4 to 1.6, more preferably 0.6 to 1.4, and more preferably 0.8 to 1.2.
  • the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure preferably has a core loss of 25 W/kg or less at 1 kHz and 1 T. It is more preferably 20 W/kg or less, more preferably 15 W/kg or less.
  • the saturation magnetic flux density Bs is preferably 1.65 T or more, more preferably 1.7 T or more, and more preferably 1.75 T or more.
  • L ⁇ m/W ⁇ m is preferably 0.3 to 1.7.
  • L ⁇ m/W ⁇ m is more preferably 0.6 to 1.4, more preferably 0.8 to 1.2.
  • LE/WE is 0.2. ⁇ 1.8 is preferred.
  • LE/WE is more preferably 0.4 to 1.6, more preferably 0.6 to 1.4, and more preferably 0.8 to 1.2.
  • the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure has a magnetic flux density B80 of 0.4 T or more when a magnetic field of 80 A / m is applied, and a magnetic flux density B80 of 0.4 T or more when a magnetic field of 80 A / m is applied in the longitudinal direction of the nanocrystalline alloy ribbon.
  • LB80 is LB80 and WB80 is the magnetic flux density B80 when a magnetic field of 80 A/m is applied in the width direction orthogonal to the longitudinal direction
  • LB80/WB80 is preferably 0.3 to 1.7.
  • LB80/WB80 is more preferably 0.6 to 1.4, more preferably 0.8 to 1.2.
  • the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure preferably has a thickness of 15 ⁇ m or more. Furthermore, it is preferably 30 ⁇ m or more. When the thickness is 15 ⁇ m or more, it is possible to reduce the number of man-hours and manufacturing costs when laminating nanocrystalline alloy ribbons to produce a magnetic core. More preferably, it is 32 ⁇ m or more. Further, ribbons having a plate thickness of about 15 to 25 ⁇ m are preferable for applications that require a lower iron loss in a high frequency band exceeding 1 kHz. Moreover, it is preferable that the width is 5 mm or more. The width is more preferably 10 mm or more, more preferably 100 mm or more. More preferably, it is 200 mm or more.
  • the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure preferably has a space factor of 86% or more.
  • the space factor is preferably 88% or more, more preferably 90% or more. Due to the high lamination factor, when the soft magnetic alloy ribbons are stacked, even if the number of lamination is the same, the lamination thickness can be made thinner than the alloy ribbons with a low lamination factor. Contributes to miniaturization and miniaturization of parts.
  • the space factor can be measured by the following method based on JIS C 2534:2017.
  • LF (%) sample weight (g)/density (g/cm 3 )/hmax ( ⁇ m)/sample length (240 cm)/ribbon width (cm) ⁇ 10000
  • the density (g/cm 3 ) is the density of the alloy ribbon after heat treatment, and was set to 7.5 g/cm 3 .
  • the saturation magnetostriction is preferably 30 ppm or less.
  • the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure can be used to form magnetic cores for use in transformers, electronic components, motors, and the like, thereby obtaining magnetism with excellent properties.
  • the magnetic core can be formed by stacking an alloy ribbon cut into a predetermined shape, winding the alloy ribbon, or stacking and bending the alloy ribbon.
  • the magnetic core and windings of the present disclosure may be combined with a magnetic core made of another magnetic material.
  • Example 1 Element sources were blended so as to have each composition shown in Table 1, heated to 1300 ° C. to prepare a molten alloy, and the molten alloy was placed on a cooling roll with an outer diameter of 400 mm and a width of 200 mm rotating at a peripheral speed of 30 m / sec. The mixture was ejected and rapidly solidified on a cooling roll to produce an alloy ribbon.
  • the outer peripheral portion of the cooling roll is made of a Cu alloy with a thermal conductivity of 150 W/(m ⁇ K), and has a cooling mechanism for controlling the temperature of the outer peripheral portion.
  • the produced alloy ribbon was in an amorphous state and was an amorphous alloy ribbon.
  • the crystallization temperature (the crystallization start temperature of bccFe( ⁇ Fe)) Tx1 and the FeB precipitation start temperature Tx2 were measured by the method described above, and the results are shown in Table 1.
  • the alloy ribbon after the heat treatment was a nanocrystalline alloy ribbon having a structure in which crystal grains with an average grain size of 30 nm or less existed in the amorphous phase.
  • a magnetic field of 8000 A/m is applied to the heat-treated veneer sample using a DC magnetization property tester manufactured by Metron Giken, and the maximum magnetic flux density at that time is measured and defined as Bs. Since the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure is relatively easily saturated, it is saturated at the time of applying a magnetic field of 8000 A / m. Bs is represented by B8000 .
  • Magnetic flux density B80 A magnetic field of 80 A/m was applied to the nanocrystalline alloy ribbon using a DC magnetization property tester manufactured by Metron Giken, and the maximum magnetic flux density at that time was defined as B80. In addition, a magnetic field of 80 A/m is applied in the longitudinal direction (casting direction) of the nanocrystalline alloy ribbon and in the width direction perpendicular to the longitudinal direction, the maximum magnetic flux densities at that time are LB80 and WB80, respectively, and the ratio LB80/WB80 is calculated. , isotropy was evaluated.
  • [Maximum magnetic permeability ⁇ m] A magnetic field up to 80 A/m is applied to the nanocrystalline alloy ribbon by a Metron Giken DC magnetization property tester, and the maximum value of the quotient of the magnetic flux density and the magnetic field at that time is the maximum magnetic permeability ⁇ m, and the longitudinal direction (casting direction)
  • the maximum magnetic permeability measured in the width direction orthogonal to the longitudinal direction was L ⁇ m and W ⁇ m, respectively, and the ratio L ⁇ m/W ⁇ m was calculated to evaluate the isotropy.
  • a magnetic field up to 800 A/m is applied to the nanocrystalline alloy ribbon using a Metron Giken DC magnetization property tester, and the value obtained by subtracting the area of the magnetic flux density-magnetic field curve from the product of the maximum magnetic flux density and the maximum measured magnetic field at that time.
  • the anisotropic energy is E, and the anisotropic energies measured in the longitudinal direction (casting direction) and in the width direction perpendicular to the longitudinal direction are LE and WE, respectively. done.
  • samples with LBr/WBr in the range of 0.2 to 1.8 were tested for materials A, B, D, and G, which are materials with e ⁇ 0.4 in the composition formula.
  • a sample outside the range is a comparative example, the example is ⁇ , the comparative example is ⁇ , the X axis is Ta-Tx1 (° C.), and the Y axis is tension (MPa).
  • a plotted figure is shown in FIG. As shown in FIG. 2, when Ta-Tx1 is 81° C. or less, it is a comparative example, and when it exceeds 81° C., it is an example.
  • a highly isotropic nanocrystalline alloy ribbon can be obtained by setting the tension to 10 MPa to 160 MPa and setting the temperature Ta of the heating body to the range of Tx1+85° C. to Tx1+140° C. It is understood that
  • L ⁇ m/W ⁇ m is within the range of 0.3 to 1.7.
  • LE/WE is within the range of 0.2 to 1.8.
  • LB80/WB80 is within the range of 0.3 to 1.7.
  • the nanocrystalline alloy ribbons of the examples of the present disclosure have an iron loss of 10 W / kg or less, and a low-loss nanocrystalline alloy ribbon with an iron loss of 25 W / kg or less. have been obtained. Moreover, a saturation magnetostriction of 15 ppm or less has been obtained, and a nanocrystalline alloy ribbon with a saturation magnetostriction of 30 ppm or less has been obtained.
  • Table 4 shows self-heating. This self-heating is a value (temperature of the alloy ribbon - Ta) that the temperature of the alloy ribbon exceeds the heating temperature (temperature Ta of the heating element) due to the heat generated by the crystallization of the alloy ribbon. According to the examples of the present disclosure, the temperature can be controlled within a range not exceeding Ta+50°C.
  • Example 2 Using materials B and G shown in Table 1, nanocrystalline alloy ribbons were produced in the same manner as in Example 1. Table 5 shows the tension, the temperature Ta of the heating element, the heating rate of the ribbon, the contact time with the heating element, the crystal volume ratio, and the average grain size.
  • the average particle size is the average particle size of the nanocrystals.
  • the average particle size of the nanocrystals was calculated from the above Scherrer's formula (Equation 1). It can be seen that the examples of the present disclosure have an average particle size of 30 nm or less. Therefore, the nanocrystalline alloy ribbon of the present disclosure has a structure in which crystal grains with an average grain size of 30 nm or less exist in the amorphous phase.
  • the crystal volume ratio is the volume ratio of crystal grains (nanocrystals) having an average grain size of 30 nm or less.
  • the portion other than the nanocrystals is amorphous.
  • the crystalline volume fraction is the ratio of the integrated intensity of nanocrystals to the integrated intensity of (crystalline + amorphous).
  • the integrated intensity of the peak indicated by the nanocrystal and the halo pattern indicated by the amorphous is obtained by performing peak decomposition using the pseudo-Voigt function for the X-ray diffraction pattern, and the sum of the integrated intensities of all the peaks indicated by the nanocrystal is Ic, Assuming that the sum of integrated intensities of all halo patterns exhibited by the amorphous is Ia, the volume ratio V can be obtained from the following formula (Equation 2).
  • the temperature rise rate of each sample is 100 K/sec or more.
  • Example 3 A nanocrystalline alloy ribbon was produced in the same manner as in Example 1 using material B shown in Table 1.
  • the heating element has a structure having two heating portions.
  • the heating element (heating plate) 22 shown in FIG. 1 has a structure capable of setting two temperatures, with the temperature of the first portion set at T1 and the second temperature set at T2. Then, of T1 and T2, the higher temperature was taken as Ta.
  • Table 6 shows the tension of each sample, the temperatures T1, T2 and Ta of the heating element, and the transport speed of the alloy ribbon.
  • Table 7 shows the properties of each sample produced under these conditions.

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Abstract

優れた磁気特性を備えるとともに、等方性を備えたナノ結晶合金薄帯、およびその製造方法を提供する。組成式（Ｆｅ１－ｘＡｘ）ａＳｉｂＢｃＣｕｄＭｅで表され、ＡはＮｉおよびＣｏの少なくとも１種、ＭはＮｂ，Ｍｏ，Ｖ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｗの１種以上、８１≦ａ≦８６、０．１５≦ｂ≦５．０、１２．５≦ｃ≦１５、０≦ｄ≦１．０、０≦ｅ≦１．０、０≦ｘ≦０．１である合金薄帯を熱処理して、ナノ結晶合金薄帯を製造する方法において、合金薄帯に１０ＭＰａ～１６０ＭＰａの張力を印加した状態で、合金薄帯を搬送しつつ、加熱体に接触させて、昇温速度が１００Ｋ／秒以上になるように、熱処理し、合金薄帯の結晶化温度をＴｘ１としたとき、加熱体の温度Ｔａを、組成式でｅ＜０．４のとき、Ｔｘ１＋８５℃～Ｔｘ１＋１４０℃の範囲とし、ｅ≧０．４のとき、Ｔｘ１＋６０℃～Ｔｘ１＋１００℃の範囲とする。

Description

ナノ結晶合金薄帯の製造方法、およびナノ結晶合金薄帯
　本開示はナノ結晶構造を有するナノ結晶合金薄帯の製造方法、およびナノ結晶合金薄帯に関する。
　ナノ結晶構造を有するナノ結晶合金薄帯は、優れた磁気特性が得られ、変圧器、電子部品、モータなどに利用されている。それらの変圧器、電子部品、モータなどは、小型化や高効率化が求められている。そのために、それらの部品（変圧器、電子部品、モータなど）に用いる磁心に使用されている軟磁性合金の更なる特性の向上が求められている。その軟磁性合金に求められる特性として、飽和磁束密度が高いこと、コアロス（鉄損）が低いことがある。それらの部品のなかには、半導体などの高周波化にともない動作周波数を高くして小型化を計ることが進められており、コアロスの低い、Ｆｅ基非晶質合金やＦｅ基ナノ結晶合金が着目されており、商業的に普及させるため、価格、生産性、熱処理性に優れた軟磁性合金が求められている。
　特許文献１では、組成式Ｆｅ１００－ａ－ｂ－ｃＢａＣｕｂＭ’ｃで、Ｍ’は、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｎｉ、及びＣｏから選択される少なくとも1種の元素であり、１０≦ａ≦１６、０＜ｂ≦２、及び０≦ｃ≦８を満たす組成を有し、かつ非晶質相を有する合金を昇温速度１０℃／秒以上で加熱し、かつ、結晶化開始温度以上、Ｆｅ－Ｂ化合物の生成開始温度未満で、０～８０秒にわたり保持することにより、高飽和磁化と低保磁力を両立する軟磁性材料の製造方法が記載されている。
　特許文献２では、組成式（（Ｆｅ（１－（α＋β））Ｘ１αＸ２β）（１－（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ））ＢａＳｉｂＣｃＣｕｄＭｅからなる軟磁性合金であって、Ｘ１はＣｏおよびＮｉからなる群から選択される１種以上、Ｘ２はＡｌ，Ｍｎ，Ａｇ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｎ，Ｏおよび希土類元素からなる群より選択される１種以上、ＭはＮｂ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｍｏ，ＷおよびＶからなる群から選択される１種以上であり、０．１４０＜ａ≦０．２４０、０≦ｂ≦０．０３０、０＜ｃ＜０．０８０、０＜ｄ≦０．０２０、０≦ｅ≦０．０３０、α≧０、β≧０、０≦α＋β≦０．５０、であることを特徴とする軟磁性合金が開示されている。この軟磁性合金は、高い飽和磁束密度、低い保磁力および高い透磁率μ´を同時に有する軟磁性合金となることが記載されている。
　特許文献３では、Ｆｅ１００－ｘ－ｙ―ｚＡｘＭｙＸｚにより表され、ここで、ＡはＣｕおよびＡｕから選ばれた少なくとも1種以上の元素、ＭはＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗから選ばれた少なくとも１種以上の元素、ＸはＢおよびＳｉから選ばれた少なくとも一種以上の元素であり、原子%で、０＜ｘ≦５、０．４≦ｙ＜２．５、１０≦ｚ≦２０であり、前記軟磁性合金の飽和磁束密度が１．７Ｔ以上、保磁力が１５Ａ／ｍ以下である軟磁性合金が開示されている。
国際公開第2018/025931号 特開2019-94532号公報 国際公開第2008/133301号
　特許文献１に記載された軟磁性材料によれば、高飽和磁化を有する軟磁性材料が開示されている。しかしながら、特許文献１に記載の軟磁性材料は、Ｓｉを含有しないため、軟磁性材料の耐食性に寄与するＳｉＯ２膜が材料表面に形成されないため、錆などの防止が困難となる。
　特許文献２に記載された軟磁性合金では、飽和磁束密度（Ｂｓ）があまり高くない。一般にＦｅ量が多くなれば、飽和磁束密度が高くなるが、Ｆｅ量が８４ａｔ%の実施例6で、飽和磁束密度（Ｂｓ）は１．７６Ｔとなっている。また、比較的Ｂ量が多いことより、熱処理性が不十分であると考えられる。
　特許文献３に記載された軟磁性合金では、高価なＮｂなどＭ元素を多く含むため、価格が高くなる。また、鋳造方向に異方性が付与されており、鋳造方向に磁界８０Ａ／ｍを印加したときの磁束密度と、鋳造方向に直交する方向に磁界８０Ａ／ｍを印加したときの磁束密度との比が大きいため、等方性を必要とする用途には不向きである。
　ナノ結晶合金薄帯は、所定の合金組成に調整された合金溶湯を回転する冷却ロールに噴出させ、急冷凝固させて合金薄帯を製造したのち、その合金薄帯を熱処理することにより製造される。ナノ結晶合金薄帯は厚さが薄く、所定の幅で、長尺状の薄帯として製造される。この製造方法によれば、鋳造方向（長手方向）に異方性が導入されやすく、熱処理された後でも、長尺状の長手方向と、その長手方向に直交する幅方向とにおいて、磁気特性が異なる傾向にある。
　例えば、モータなどに使用されるナノ結晶合金薄帯には、できる限り等方性の特性であることが求められる。しかし、上記したように、ナノ結晶合金薄帯において、優れた磁気特性（高い飽和磁束密度、低い鉄損）を備えるとともに、等方性を備えたナノ結晶合金薄帯を得ることは難しかった。
　本開示では、優れた磁気特性を備えるとともに、等方性を備えたナノ結晶合金薄帯を得るナノ結晶合金薄帯の製造方法を提供することを目的とする。また、優れた磁気特性を備えるとともに、等方性を備えたナノ結晶合金薄帯を提供することを目的とする。
　本開示は以下の構成を備える。
＜１＞　組成式（Ｆｅ１－ｘＡｘ）ａＳｉｂＢｃＣｕｄＭｅで表され、ＡはＮｉおよびＣｏの少なくとも１種であり、ＭはＮｂ，Ｍｏ，Ｖ，Ｚｒ，ＨｆおよびＷからなる群から選択される１種以上であり、原子％で８１≦ａ≦８６、０．１５≦ｂ≦５．０、１２．５≦ｃ≦１５、０≦ｄ≦１．０、０≦ｅ≦１．０、０≦ｘ≦０．１である合金薄帯を熱処理して、平均粒径３０ｎｍ以下の結晶粒がアモルファス相中に存在する組織を有するナノ結晶合金薄帯を製造する方法において、
　前記合金薄帯に１０ＭＰａ～１６０ＭＰａの張力を印加した状態で、前記合金薄帯を搬送しつつ、加熱体に接触させて、前記合金薄帯の昇温速度が１００Ｋ／秒以上になるようにして、前記合金薄帯を熱処理し、
　前記合金薄帯の結晶化温度をＴｘ１としたとき、前記加熱体の温度Ｔａを、前記組成式でｅ＜０．４のとき、Ｔｘ１＋８５℃～Ｔｘ１＋１４０℃の範囲とし、前記組成式でｅ≧０．４のとき、Ｔｘ１＋６０℃～Ｔｘ１＋１００℃の範囲とするナノ結晶合金薄帯の製造方法。＜２＞　前記ナノ結晶合金薄帯の飽和磁束密度Ｂｓが１．６Ｔ以上であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の残留磁束密度Ｂｒ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＬＢｒとし、前記長手方向に直交する幅方向の残留磁束密度Ｂｒ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＷＢｒとしたとき、ＬＢｒ／ＷＢｒが０．２～１．８である＜１＞に記載のナノ結晶合金薄帯の製造方法。
＜３＞　前記ナノ結晶合金薄帯の最大透磁率μｍが４０００以上であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の最大透磁率μｍ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＬμｍとし、前記長手方向に直交する幅方向の最大透磁率μｍ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＷμｍとしたとき、Ｌμｍ／Ｗμｍが０．３～１．７である＜１＞または＜２＞に記載のナノ結晶合金薄帯の製造方法。
＜４＞　前記ナノ結晶合金薄帯の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）が４００Ｊ／ｍ３以下であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）をＬＥとし、前記長手方向に直交する幅方向の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）をＷＥとしたとき、ＬＥ／ＷＥが０．２～１．８である＜１＞から＜３＞のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯の製造方法。
＜５＞　前記ナノ結晶合金薄帯の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０が０．４Ｔ以上であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０をＬＢ８０とし、前記長手方向に直交する幅方向の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０をＷＢ８０としたとき、ＬＢ８０／ＷＢ８０が０．３～１．７である＜１＞から＜４＞のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯の製造方法。
＜６＞　前記合金薄帯の熱処理時に、前記合金薄帯の温度がＴａ＋５０℃を超えないように制御する＜１＞から＜５＞のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯の製造方法。
＜７＞　前記加熱体は、温度の異なる複数の加熱部から構成され、前記複数の加熱部のうち、最も高い温度の加熱部の温度が前記温度Ｔａである＜１＞から＜６＞のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯の製造方法。
＜８＞　平均粒径３０ｎｍ以下の結晶粒がアモルファス相中に存在する組織を有するナノ結晶合金薄帯であり、
　前記ナノ結晶合金薄帯は、組成式（Ｆｅ１－ｘＡｘ）ａＳｉｂＢｃＣｕｄＭｅで表され、ＡはＮｉおよびＣｏの少なくとも１種であり、ＭはＮｂ，Ｍｏ，Ｖ，Ｚｒ，ＨｆおよびＷからなる群から選択される１種以上であり、原子％で８１≦ａ≦８６、０．１５≦ｂ≦５．０、１２．５≦ｃ≦１５、０≦ｄ≦１．０、０≦ｅ≦１．０、０≦ｘ≦０．１であり、飽和磁束密度Ｂｓが１．６Ｔ以上であり、
　前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の残留磁束密度Ｂｒ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＬＢｒとし、前記長手方向に直交する幅方向の残留磁束密度Ｂｒ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＷＢｒとしたとき、ＬＢｒ／ＷＢｒが０．２～１．８であるナノ結晶合金薄帯。
＜９＞　前記ナノ結晶合金薄帯の最大透磁率μｍが４０００以上であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の最大透磁率μｍ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＬμｍとし、前記長手方向に直交する幅方向の最大透磁率μｍ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＷμｍとしたとき、Ｌμｍ／Ｗμｍが０．３～１．７である＜８＞に記載のナノ結晶合金薄帯。
＜１０＞　前記ナノ結晶合金薄帯の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）が４００Ｊ／ｍ３以下であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）をＬＥとし、前記長手方向に直交する幅方向の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）をＷＥとしたとき、ＬＥ／ＷＥが０．２～１．８である＜８＞または＜９＞に記載のナノ結晶合金薄帯。
＜１１＞　前記ナノ結晶合金薄帯の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０が０．４Ｔ以上であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０をＬＢ８０とし、前記長手方向に直交する幅方向の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０をＷＢ８０としたとき、ＬＢ８０／ＷＢ８０が０．３～１．７である＜８＞から＜１０＞のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯。
＜１２＞　厚さが１５μｍ以上であり、幅が５ｍｍ以上である＜８＞から＜１１＞のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯。
＜１３＞　占積率が８６%以上である＜８＞から＜１２＞のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯。
＜１４＞　飽和磁歪が３０ｐｐｍ以下である＜８＞から＜１３＞のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯。
　本開示によれば、優れた磁気特性を備えるとともに、等方性を備えたナノ結晶合金薄帯を得るナノ結晶合金薄帯の製造方法を提供することができる。また、優れた磁気特性を備えるとともに、等方性を備えたナノ結晶合金薄帯を提供することができる。
本開示の熱処理に使用できるインラインアニール装置の一例を示す図である。 本開示の実施例と比較例を、Ｘ軸をＴａ－Ｔｘ１（℃）、Ｙ軸を張力（ＭＰａ）としてプロットした図である。
　以下、本開示の実施形態について詳細に説明する。本開示は、以下の実施形態に何ら制限されず、本開示の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。
　本開示において、「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ下限値及び上限値として含む範囲を示す。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。　本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
　本開示のナノ結晶合金薄帯は、組成式（Ｆｅ１－ｘＡｘ）ａＳｉｂＢｃＣｕｄＭｅで表され、ＡはＮｉおよびＣｏの少なくとも１種であり、ＭはＮｂ，Ｍｏ，Ｖ，Ｚｒ，ＨｆおよびＷからなる群から選択される１種以上であり、原子％で８１≦ａ≦８６、０．１５≦ｂ≦５．０、１２．５≦ｃ≦１５、０≦ｄ≦１．０、０≦ｅ≦１．０、０≦ｘ≦０．１である。
　本開示のナノ結晶合金薄帯の組成に関して、以下に詳細に説明する。
　Ｆｅ（鉄）は、原子％で８１％以上８６％以下である。
　Ｆｅの含有量を８１％以上とすることにより、高い飽和磁束密度を得ることができる。好ましくは８２％以上であり、さらに好ましくは８２．５％以上であり、さらに好ましくは８３%以上であり、さらに好ましくは８３．５％以上であり、さらに好ましくは８４％以上である。
　また、Ｆｅの含有量が８６%を超えるとアモルファス化が困難となるため、Ｆｅの含有量は８６％以下とする。好ましくは８５．５％以下である。
　Ｓｉ（ケイ素）は、原子％で０．１５％以上５．０％以下である。
　Ｓｉを含有することにより、合金表面に数十ｎｍ厚さのＳｉＯ２の酸化膜を形成させることができる。これにより、ナノ結晶合金薄帯の耐食性を向上させることができる。この耐食性の向上の効果を得るために、Ｓｉを０．１５％以上含有させる。好ましくは１．０％以上である。
　Ｓｉの含有量が５．０％を超えると、高い飽和磁束密度を得ることが困難となり、また、合金薄帯の板厚を厚肉化することが困難となる。このため、Ｓｉの含有量は５．０％以下とする。好ましくは４％以下であり、さらに好ましくは３％以下であり、さらに好ましくは２％以下である。
　Ｂ（ホウ素）は、原子％で１２．５％以上１５％以下である。
　Ｂの含有量が１２．５％未満ではアモルファスの形成が困難となるため、Ｂの含有量は１２．５％以上とする。好ましくは１３．０％以上であり、さらに好ましくは１３．５%以上である。
　Ｂの含有量が１５％を超えると、ｂｃｃＦｅ（αＦｅ）結晶化開始温度とＦｅＢ析出開始温度との差が小さくなり、熱処理が可能な温度範囲が狭くなる。このため、１Ｔ，１ｋＨｚでの鉄損が２５Ｗ／ｋｇ以下を得ることができる均一微細なナノ結晶組織を得ることが難しくなる。これにより、Ｂの含有量は１５％以下とする。好ましくは１４．５％以下であり、さらに好ましくは１４．４％以下であり、さらに好ましくは１４．０％以下である。
　Ｃｕ（銅）は、原子％で０％以上１．０％以下である。
　Ｃｕの含有量は０％でも良いが、Ｃｕを含有させることにより、均一微細なナノ結晶組織を得やすい。特に、低鉄損とするために、Ｃｕを含有させることが好ましい。このため、Ｃｕの含有量は０．０５％以上とすることが好ましい。さらに好ましくは０．１％以上であり、さらに好ましくは０．２％以上であり、さらに好ましくは０．４%以上であり、さらに好ましくは０．５％以上である。
　Ｃｕの含有量が１．０％を超えると、脆化しやすくなり、ナノ結晶合金薄帯の厚肉化が困難となる。このため、Ｃｕの含有量は、１．０％以下とする。好ましくは０．９％以下であり、さらに好ましくは０．８５％以下であり、さらに好ましくは０．７％以下であり、さらに好ましくは０．６％以下である。
　Ｍ元素は、Ｎｂ，Ｍｏ，Ｖ，Ｚｒ，ＨｆおよびＷからなる群から選択される１種以上の元素であり、原子％で０％以上１．０％以下である。
　Ｍ元素は、０％であっても良いが、Ｍ元素を含有させることにより、軟磁性を著しく劣化させるＦｅＢ化合物の析出開始温度を高温側にシフトさせることができる。これにより、ｂｃｃＦｅ（αＦｅ）結晶化開始温度（結晶化温度ともいう）とＦｅＢ析出開始温度との差を広くすることができ、最適な熱処理温度の範囲を広げる効果を有し、熱処理条件を緩和させることができる。好ましくは０．１％以上であり、さらに好ましくは０．１５%以上である。
　Ｍ元素は、高価であるため価格が上がってしまう。このため、含有量は少ない方が好ましい。したがって、Ｍ元素の含有量は、１．０％以下とする。好ましくは０．９％以下であり、さらに好ましくは０．８％以下であり、さらに好ましくは０．７％以下であり、さらに好ましくは０．６％以下である。
　またＭ元素は、０．４％未満とすることも好ましく、さらに０．３％以下とすることも好ましく、さらに０．２５％以下とすることも好ましい。
　本開示のナノ結晶合金薄帯は、Ｆｅの一部をＮｉおよびＣｏの少なくとも1種の元素に置換しても良い。（Ｆｅ１－ｘＡｘ）としたとき、ＡはＮｉおよびＣｏの少なくとも１種であり、ｘは０．１以下である。
　本開示のナノ結晶合金薄帯は、C（炭素）を含有していても良い。Ｃは１質量％以下が好ましい。
　また、本開示のナノ結晶合金薄帯は、上記した元素以外にも不純物を含有し得る。
　不純物としては、例えば、S（硫黄）、O（酸素）、N（窒素）、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｐ、Ｔｉ、Ａｌ等が挙げられる。例えば、Ｓの含有量は、好ましくは２００質量ｐｐｍ以下であり、Ｏの含有量は、好ましくは５０００質量ｐｐｍ以下であり、Ｎの含有量は、好ましくは１０００質量ｐｐｍ以下である。これらの不純物の総含有量は、０．５質量％以下であることが好ましい。また、上記の範囲であれば、不純物に相当する元素が添加されていてもかまわない。
　本開示のナノ結晶合金薄帯は、平均粒径３０ｎｍ以下の結晶粒がアモルファス相中に存在する組織を有する。この平均粒径３０ｎｍ以下の結晶粒がアモルファス相中に存在する組織をナノ結晶組織とも言う。
　平均粒径はＸ線回折実験から得られたＸ線回折パターン中の（１１０）面からの回折ピークの半値全幅を用いて、シェラーの式から求めた。（１１０）ピークの半値全幅は回折パターンに対する擬Ｖｏｉｇｔ関数を用いたピーク分解を行うことによって求め、平均粒径をＤ、半値全幅をＷ、回折角をθ、シェラー定数をＫ、Ｘ線の波長をλとすると、以下で与えられるシェラーの式（数１）からＤが求まる。ただし今回の場合、Ｘ線の波長λ＝０．１５４０５０ｎｍ，シェラー定数Ｋ＝０．８９１を仮定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　本開示のナノ結晶合金薄帯の製造方法について、説明する。　本開示のナノ結晶合金薄帯は、上記した合金組成を備える合金溶湯を回転する冷却ロール上に噴出させ、冷却ロール上で急冷凝固させて合金薄帯を得て、その合金薄帯を熱処理することにより、得ることができる。合金溶湯を急冷凝固されて得られた合金薄帯はアモルファス状態となっており、非晶質合金薄帯となっている。このアモルファス状態の合金薄帯（非晶質合金薄帯）を熱処理することにより、ナノ結晶合金薄帯が得られる。なお、非晶質合金薄帯は微細な結晶からなる結晶相を有していても良い。
　合金溶湯は、目的とする合金組成となる各元素源（純鉄、フェロボロン、フェロシリコン等）を配合し、誘導加熱炉で加熱し、融点以上として溶融して合金溶湯とすることができる。
　合金溶湯を所定形状のスリット状のノズルから回転する冷却ロール上に噴出させて、合金溶湯を冷却ロール上で急冷凝固させて、合金薄帯を得ることができる。このとき、冷却ロールは外径３５０～１０００ｍｍ、幅１００～４００ｍｍ、回転の周速は２０～３５ｍ／秒とすることができる。この冷却ロールは内部に外周部の温度上昇を抑制するための冷却機構（水冷など）を備えている。
　また、冷却ロールの外周部が熱伝導率１２０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上となるＣｕ合金で構成されていることが好ましい。外周部の熱伝導率を１２０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上とすることにより、合金溶湯が合金薄帯へ鋳造される際の冷却速度を高めることができる。こうすることにより、合金薄帯の脆化を抑制し、合金薄帯の厚肉化を可能とするとともに、鋳造時の表面結晶化を抑制することで熱処理時の結晶粒の粗大化を抑制し、鉄損を低くできる。
　また、外周部の熱伝導率は１５０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上とすることが好ましく、さらに１８０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上とすることが好ましい。特に、ナノ結晶合金薄帯の厚さが３０μｍ以上となる場合は、外周部の熱伝導率を１５０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上とすることが好ましい。
　なお、冷却ロールの外周部とは、合金溶湯が接する部分であり、その厚さは５～１５ｍｍ程度あればよく、その内側はロール構造を維持する構造材を用いればよい。
　上記の急冷法で製造された合金薄帯を熱処理することにより、ナノ結晶合金薄帯を得る。本開示のナノ結晶合金薄帯の製造方法は、熱処理方法に特徴を有する。
　本開示の熱処理方法は、合金薄帯に１０ＭＰａ～１６０ＭＰａの張力を印加した状態で、合金薄帯を搬送しつつ、合金薄帯を加熱体に接触させて、合金薄帯の昇温速度が１００Ｋ／秒以上になるようにして、熱処理する。
　合金薄帯の結晶化温度をＴｘ１としたとき、加熱体の温度Ｔａを、組成式でｅ＜０．４のとき、Ｔｘ１＋８５℃～Ｔｘ１＋１４０℃の範囲とし、組成式でｅ≧０．４のとき、Ｔｘ１＋６０℃～Ｔｘ１＋１００℃の範囲とする。本開示において、合金薄帯の結晶化温度とは、ｂｃｃＦｅ（αＦｅ）の結晶化開始温度のことである。
　本開示の熱処理方法は、合金薄帯に張力を印加して搬送し、加熱体に接触させて加熱し、合金薄帯を熱処理している。このときの張力、加熱体温度、合金薄帯の昇温速度が重要な要件となっている。張力、加熱体温度、合金薄帯の昇温速度を適宜設定することにより、優れた磁気特性（高い飽和磁束密度、低い鉄損）を備えるとともに、等方性を備えたナノ結晶合金薄帯を得ることができる。
　本開示において、張力を印加して、速い昇温速度で熱処理することにより、等方性の磁気特性が得られる効果が期待できる。
　張力は１０ＭＰａ～１６０ＭＰａとする。好ましくは３０ＭＰａ以上である。より好ましくは３４ＭＰａ以上である。また、好ましくは１５０ＭＰａ以下である。より好ましくは１４５ＭＰａ以下である。
　本開示において、加熱体の温度Ｔａは、組成により好ましい温度範囲が異なることが分かった。また、加熱体の温度Ｔａは、合金薄帯の結晶化温度（ｂｃｃＦｅ（αＦｅ）の結晶化開始温度）Ｔｘ１との関係式で設定できることが分かった。
　組成式でｅ＜０．４のとき、加熱体の温度ＴａをＴｘ１＋８５℃～Ｔｘ１＋１４０℃の範囲とする。好ましくはＴｘ１＋９０℃以上であり、より好ましくはＴｘ１＋９５℃以上である。好ましくはＴｘ１＋１２０℃以下であり、より好ましくはＴｘ１＋１１５℃以下である。
　また、組成式でｅ≧０．４のとき、加熱体の温度ＴａをＴｘ１＋６０℃～Ｔｘ１＋１００℃の範囲とする。
　この温度範囲の中で、低い温度域を選択する場合、合金薄帯の加熱体との接触時間を長くすることが好ましい場合がある。
〔結晶化温度（ｂｃｃＦｅ（αＦｅ）の結晶化開始温度）Ｔｘ１、ＦｅＢ析出開始温度Ｔｘ２〕
　合金薄帯を熱処理してナノ結晶合金薄帯を得るとき、結晶化温度よりも高い温度に、ＦｅＢ析出開始温度Ｔｘ２が存在する。合金薄帯がＦｅＢ析出開始温度に到達してしまうと、結晶が粗大化し、磁気特性を劣化させるＦｅＢが析出してしまう。そのため、ＦｅＢ析出開始温度に到達しないように熱処理する必要がある。
　合金薄帯の結晶化温度、ＦｅＢ析出開始温度は、次のようにして得ることができる。結晶化温度、ＦｅＢ析出開始温度は昇温速度により変化するが、一般的な熱分析装置の昇温速度の上限は２℃／秒程度であり、本開示の熱処理時の昇温速度の測定ができないため、下記のような方法で昇温速度５０℃／秒時の値を求め、結晶化温度、ＦｅＢ析出開始温度とした。
　リガク製の示差走査熱量計ＤＳＣ８２３１にて、昇温速度５℃／分（０．０８３℃／秒），２０℃／分（０．３３３℃／秒），５０℃／分（０．８３３℃／秒）の３点で結晶化温度、ＦｅＢ析出開始温度を測定し、その値をＸ軸昇温速度の対数、Ｙ軸結晶化温度またはＦｅＢ析出開始温度でプロットし、その近似曲線より昇温速度５０℃／秒の値を外挿し求めた。
　本開示において、合金薄帯の昇温速度は１００Ｋ／秒以上とする。この昇温速度は、昇温した時の熱処理温度Ｔａ付近での接線の傾きを求める事で計算した。好ましくは３００Ｋ／秒以上であり、より好ましくは５００Ｋ／秒以上である。また、上限は装置やプロセス条件で可能な範囲で設定される上限とすればよい。例えば、４０００Ｋ／秒以下とすることができる。好ましくは、３０００Ｋ／秒以下であり、より好ましくは２５００Ｋ／秒以下である。
　本開示において、合金薄帯は搬送されながら熱処理される。合金薄帯は長尺に形成されており、搬送させながら熱処理することにより、長尺の合金薄帯に対し、効率的に熱処理することができる。
　本開示において、合金薄帯と加熱体との接触時間は、０．５秒～６０秒とすることが好ましい。
　本開示において、合金薄帯の搬送速度は、３ｍ／分～３００ｍ／分とすることが好ましい。より好ましくは、２００ｍ／分以下である。
　本開示において、加熱体は、温度の異なる複数の加熱部から構成されていても良い。このとき、複数の加熱部のうち、最も高い温度の加熱部の温度を上記した温度Ｔａとする。
　合金薄帯は熱処理時の結晶化にともない、自己発熱が発生する場合がある。上記したとおり、合金薄帯の温度がＦｅＢ析出開始温度に達してしまうと、ナノ結晶合金薄帯として所望の磁気特性が得られなくなってしまう。また、ＦｅＢ析出開始温度まで達しない場合でも温度が上昇し過ぎると、結晶粒径の成長が加速され、鉄損が劣化してしまう。
　本開示において、自己発熱による温度上昇を伴わない場合、合金薄帯の加熱温度は加熱体の温度Ｔａが最高温度となる。
　これに対し、自己発熱による温度上昇を伴う場合、合金薄帯の加熱温度は加熱体の温度Ｔａを超えてしまう。このとき、過大な温度上昇を抑制することが好ましい。
　本開示では、自己発熱による温度上昇による合金薄帯の温度がＴａ＋５０℃を超えないように制御することが好ましい。
　合金薄帯に張力を印加して搬送し、加熱体に接触させて加熱し、合金薄帯を熱処理する方法において、国際公開番号ＷＯ２０１９／００９３０９に開示されたアモルファス合金リボンの製造方法を参考とすることができる。国際公開番号ＷＯ２０１９／００９３０９に記載されたインラインアニール装置を図１に示す。
　本開示の熱処理は、例えば、図１に示すインラインアニール装置を用いることができる。図１に示されるインラインアニール装置１００は、合金薄帯の巻回体１１から合金薄帯１０を巻き出す巻き出しローラー１２（巻き出し装置）と、巻き出しローラー１２から巻き出された合金薄帯１０を加熱する加熱体（加熱プレート）２２と、加熱体２２によって加熱された合金薄帯１０を降温する冷却プレート３２と、冷却プレート３２によって降温された合金薄帯１０を巻き取る巻き取りローラー１４（巻き取り装置）と、を備える。図１では、合金薄帯１０の走行方向を、矢印Ｒで示している。
　図１中、丸で囲った拡大部分に示すように、加熱体２２は、巻き出しローラー１２から巻き出された合金薄帯１０が接触しながら走行する第１平面２２Ｓを含む。この加熱体２２は、第１平面２２Ｓに接触しながら第１平面２２Ｓ上を走行している合金薄帯１０を、第１平面２２Ｓを介して加熱する。これにより、走行中の合金薄帯１０が、安定的に急速加熱される。なお、この加熱体２２として、異なる温度に設定できる複数の加熱部の組み合わせとしても良いし、上記した第１平面２２Ｓ部分を一体とするが、複数の加熱温度に設定できる構成としても良い。これらにより、加熱体を複数の加熱部から構成することができる。
　加熱体２２は、加熱室２０に収容されている。
　加熱室２０は、加熱体２２に対する熱源とは別に、加熱室の温度を制御するための熱源を備えていてもよい。
　また、図１に示すインラインアニール装置では、丸で囲った拡大部分に示すように、冷却プレート３２は、合金リボン１０が接触しながら走行する第２平面３２Ｓを含む。この冷却プレート３２は、第２平面３２Ｓに接触しながら第２平面３２Ｓ上を走行している合金リボン１０を、第２平面３２Ｓを介して降温する。冷却プレート３２は、冷却室３０に収容されている。
　巻き取りローラー１４は、矢印Ｗの方向に軸回転する回転機構（例えばモーター）を備えている。巻き取りローラー１４の回転により、合金リボン１０が所望とする速度で巻き取られる。
　インラインアニール装置１００は、巻き出しローラー１２と加熱室２０との間に、合金リボン１０の走行経路に沿って、ガイドローラー４１、ダンサーローラー６０（張力調整装置の一つ）、ガイドローラー４２、並びに、一対のガイドローラー４３Ａ及び４３Ｂを備えている。張力の調整は、巻き出しローラー１２及び巻き取りローラー１４の動作制御によっても行われる。
　ダンサーローラー６０は、鉛直方向（図１中の両側矢印の方向）に移動可能に設けられている。このダンサーローラー６０の鉛直方向（両側矢印の方向）の位置を調整することにより、合金薄帯１０の張力を調整できる。ダンサーローラー６２についても同様である。
　加熱体２２の第１平面に、複数の開口部を設け、吸引できるようにして、合金薄帯と加熱体との密着性を向上させてもよい。
　加熱体の材質としては、銅、銅合金（青銅、真鍮、等）、アルミニウム、鉄、鉄合金（ステンレス等）、などが挙げられる。このうち、銅、銅合金、又はアルミニウムは熱電率（熱伝達率）が高く、好ましい。加熱体は、Ｎｉめっき、Ａｇめっき等のめっき処理が施されていてもよい。
　本開示のナノ結晶合金薄帯は、上記した製造方法により得られ、上記した組成を有し、優れた磁気特性を備えるとともに、等方性を備えている。
　本開示のナノ結晶合金薄帯は、平均粒径３０ｎｍ以下の結晶粒がアモルファス相中に存在する組織を有するナノ結晶合金薄帯であり、飽和磁束密度Ｂｓが１．６Ｔ以上であり、ナノ結晶合金薄帯の長手方向の残留磁束密度Ｂｒ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＬＢｒとし、前記長手方向に直交する幅方向の残留磁束密度Ｂｒ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＷＢｒとしたとき、ＬＢｒ／ＷＢｒが０．２～１．８である。ＬＢｒ／ＷＢｒは、０．４～１．６が好ましく、０．６～１．４がより好ましく、０．８～１．２がより好ましい。
　また、本開示のナノ結晶合金薄帯は、１ｋＨｚ，１Ｔでの鉄損が２５Ｗ／ｋｇ以下であることが好ましい。より好ましくは２０Ｗ／ｋｇ以下であり、より好ましくは１５Ｗ／ｋｇ以下である。
　また、飽和磁束密度Ｂｓは、１．６５Ｔ以上が好ましく、１．７Ｔ以上がより好ましく、１．７５Ｔ以上がより好ましい。
　また、本開示のナノ結晶合金薄帯は、最大透磁率μｍが４０００以上であり、ナノ結晶合金薄帯の長手方向の最大透磁率μｍ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＬμｍとし、長手方向に直交する幅方向の最大透磁率μｍ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＷμｍとしたとき、Ｌμｍ／Ｗμｍが０．３～１．７であることが好ましい。Ｌμｍ／Ｗμｍは、０．６～１．４がより好ましく、０．８～１．２がより好ましい。
　また、本開示のナノ結晶合金薄帯は、異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）が４００Ｊ／ｍ３以下であり、ナノ結晶合金薄帯の長手方向の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）をＬＥとし、長手方向に直交する幅方向の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）をＷＥとしたとき、ＬＥ／ＷＥが０．２～１．８であることが好ましい。ＬＥ／ＷＥは、０．４～１．６がより好ましく、０．６～１．４がより好ましく、０．８～１．２がより好ましい。
　また、本開示のナノ結晶合金薄帯は、磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０が０．４Ｔ以上であり、ナノ結晶合金薄帯の長手方向の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０をＬＢ８０とし、長手方向に直交する幅方向の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０をＷＢ８０としたとき、ＬＢ８０／ＷＢ８０が０．３～１．７であることが好ましい。ＬＢ８０／ＷＢ８０は、０．６～１．４がより好ましく、０．８～１．２がより好ましい。
　また、本開示のナノ結晶合金薄帯は、厚さが１５μｍ以上であることが好ましい。更には３０μｍ以上であることが好ましい。厚さが１５μｍ以上であることにより、ナノ結晶合金薄帯を積層して磁心を作製する際の工数および製造コストを低減できる。さらに好ましくは３２μｍ以上である。
　また、１ｋＨｚを超える高周波帯で鉄損をより低くする必要がある用途には板厚１５～２５μｍ程度のリボンが好ましい。
　また、幅が５ｍｍ以上であることが好ましい。幅は、１０ｍｍ以上がより好ましく、１００ｍｍ以上がより好ましい。さらに好ましくは２００ｍｍ以上である。
　また、本開示のナノ結晶合金薄帯は、占積率が８６％以上であることが好ましい。また、占積率が８８％以上であることが好ましく、更に好ましくは占積率９０％以上である。高い占積率であることにより、軟磁性合金薄帯を積み重ねたとき、占積率の低い合金薄帯に比べ、同じ積層数であっても、積層厚さを薄くすることができ、磁心の小型化、ならびに部品の小型化に寄与する。
　なお、占積率は、ＪＩＳ　Ｃ　２５３４：２０１７に準拠した以下の方法で測定することができる。
　長さ１２０ｍｍに切断した薄帯を２０枚重ね平らな試料台にセットし、直径１６ｍｍの平らなアンビルを５０ｋＰａの圧力で積層した薄帯に乗せ幅方向に１０ｍｍ間隔で高さを測定する。そのときの最大高さをｈｍａｘ（μｍ）とし以下の計算式から占積率ＬＦを求める。ＬＦ（%）＝試料の重量（ｇ）／密度（ｇ／ｃｍ３）／ｈｍａｘ（μｍ）／試料長さ（２４０ｃｍ）／薄帯の幅（ｃｍ）×１００００
　このとき、密度（ｇ／ｃｍ３）は、熱処理後の合金薄帯の密度であり、７．５g/cm3とした。また、飽和磁歪が３０ｐｐｍ以下であることが好ましい。
　本開示のナノ結晶合金薄帯は、変圧器、電子部品、モータなどに用いる磁心を構成することにより、優れた特性を備える磁を得ることができる。
　磁心を構成する場合、合金薄帯を所定形状にカットして積み重ねること、合金薄帯を巻き回すこと、合金薄帯を積み重ねて曲げることなどにより、磁心を構成することができる。
　また、本開示の磁心と巻線とを組み合わせて、変圧器、電子部品、モータなどの部品を構成することにより、優れた特性を備える部品を得ることができる。この場合、本開示の磁心と他の磁性材料による磁心とを組み合わせても良い。
〔実施例１〕
　表１に示す各組成となるように元素源配合し、１３００℃に加熱して合金溶湯を作製し、その合金溶湯を周速３０ｍ／秒で回転する外径４００ｍｍ、幅２００ｍｍの冷却ロール上に噴出させ、冷却ロール上で急冷凝固させて、合金薄帯を作製した。なお、冷却ロールの外周部は、熱伝導率が１５０Ｗ／（ｍ・Ｋ）のＣｕ合金で構成されており、内部には外周部の温度制御用の冷却機構を備えている。作製した合金薄帯は、アモルファス状態であり、非晶質合金薄帯であった。
　各材質について、上記した方法にて、結晶化温度（ｂｃｃＦｅ（αＦｅ）の結晶化開始温度）Ｔｘ１と、ＦｅＢ析出開始温度Ｔｘ２と、を測定し、結果を表１に示す。
　各材質の合金薄帯を用い、張力、加熱体の温度Ｔａ、加熱体との接触時間を変えて、熱処理を行った。各条件および評価結果を表２、３、４に示す。熱処理後の合金薄帯は、平均粒径３０ｎｍ以下の結晶粒がアモルファス相中に存在する組織を有するナノ結晶合金薄帯となっていた。
　各試料について、鉄損、飽和磁束密度Ｂｓ、残留磁束密度Ｂｒ、磁束密度Ｂ８０、最大透磁率μｍ、異方性エネルギー、保磁力Ｈｃを測定した。それぞれの測定は以下のとおりである。
〔鉄損〕
　東英工業製交流磁気測定装置ＴＷＭ１８ＳＲにて熱処理後の単板試料を磁束密度１Ｔ，周波数１ｋＨｚの条件で測定した。
〔飽和磁束密度Ｂｓ〕
　メトロン技研製直流磁化特性試験装置にて熱処理後の単板試料に磁界８０００Ａ／ｍ印加し、その時の最大磁束密度を測定し、Ｂｓとする。本開示のナノ結晶合金薄帯は、比較的飽和しやすい特性であるため、磁界８０００Ａ／ｍ印加時点で飽和しており、Ｂ８０００と飽和磁束密度Ｂｓがほぼ同じ値となるため、飽和磁束密度ＢｓをＢ８０００で表す。
〔残留磁束密度Ｂｒ〕
　メトロン技研製直流磁化特性試験装置にてナノ結晶合金薄帯に磁界８０Ａ／ｍ印加した後磁界を徐々に弱くし、印加磁界を０Ａ／ｍとした時の磁束密度を残留磁束密度Ｂｒとした。また、ナノ結晶合金薄帯の長手方向（鋳造方向）および長手方向と直交する幅方向に磁界８０Ａ／ｍ印加した後磁界を徐々に弱くし、印加磁界を０Ａ／ｍとした時の磁束密度をそれぞれＬＢｒ，ＷＢｒとし、その比ＬＢｒ／ＷＢｒを算出し、等方性の評価をおこなった。
〔磁束密度Ｂ８０〕
　メトロン技研製直流磁化特性試験装置にてナノ結晶合金薄帯に磁界８０Ａ／ｍ印加し、その時の最大磁束密度をＢ８０とした。また、ナノ結晶合金薄帯の長手方向（鋳造方向）および長手方向と直交する幅方向に磁界８０Ａ／ｍ印加し、その時の最大磁束密度をそれぞれＬＢ８０，ＷＢ８０とし、その比ＬＢ８０／ＷＢ８０を算出し、等方性の評価をおこなった。
〔最大透磁率μｍ〕
　メトロン技研製直流磁化特性試験装置にてナノ結晶合金薄帯に対して磁界８０Ａ／ｍまで印加し、その時の磁束密度と磁界の商の最大値を最大透磁率μｍとし、長手方向（鋳造方向）および長手方向と直交する幅方向で測定した最大透磁率をそれぞれＬμｍ，Ｗμｍとし、その比Ｌμｍ／Ｗμｍを算出し、等方性の評価をおこなった。
〔異方性エネルギー〕
　メトロン技研製直流磁化特性試験装置にてナノ結晶合金薄帯に対して磁界８００Ａ／ｍまで印加し、その時の最大磁束密度と最大測定磁界の積から磁束密度―磁界曲線の面積を引いた値を異方性エネルギーEとし、長手方向（鋳造方向）および長手方向と直交する幅方向で測定した異方性エネルギーをそれぞれＬE，ＷEとし、その比LE／ＷEを算出し、等方性の評価をおこなった。
〔保磁力Ｈｃ〕
　メトロン技研製直流磁化特性試験装置にてナノ結晶合金薄帯の長手方向（鋳造方向）に磁界８０００Ａ／ｍ印加した後磁界を徐々に弱くし、磁束密度が０Ｔとなった磁界を保磁力とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
　表２，表３において、組成式でｅ＜０．４の材質の場合である、材質Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｇについて、ＬＢｒ／ＷＢｒが０．２～１．８の範囲にある試料を実施例とし、範囲外にある試料を比較例とし、実施例を●、比較例を▲として、Ｘ軸をＴａ－Ｔｘ１（℃）、Ｙ軸を張力（ＭＰａ）として、実施例と比較例とをプロットした図を図２に示す。図２に示すように、Ｔａ－Ｔｘ１が８１℃以下の場合、比較例となり、８１℃超の場合、実施例となっていることが分かる。
　したがって、組成式でｅ＜０．４のとき、張力を１０ＭＰａ～１６０ＭＰａとし、加熱体の温度ＴａをＴｘ１＋８５℃～Ｔｘ１＋１４０℃の範囲とすることにより、等方性の高いナノ結晶合金薄帯が得られることが分かる。
　このとき、上記の実施例は、Ｌμｍ/Ｗμｍが０．３～１．７の範囲内である。また、ＬＥ／ＷＥが０．２～１．８の範囲内である。また、ＬＢ８０／ＷＢ８０が０．３～１．７の範囲内である。
　表２，表３において、組成式でｅ≧０．４の材質の場合である、材質Ｃ、Ｅ、Ｆについてみると、Ｔａ－Ｔｘ１が７７℃、８１℃、８３℃で、良好な値が得られている。
　組成式でｅ≧０．４のとき、張力を１０ＭＰａ～１６０ＭＰａとし、加熱体の温度ＴａをＴｘ１＋６０℃～Ｔｘ１＋１００℃の範囲とすることにより、等方性の高いナノ結晶合金薄帯が得られることが分かる。このとき、昇温速度は１００Ｋ／秒以上となっていた。
　このとき、上記の実施例は、Ｌμｍ/Ｗμｍが０．３～１．７の範囲内である。また、ＬＥ／ＷＥが０．２～１．８の範囲内である。また、ＬＢ８０／ＷＢ８０が０．３～１．７の範囲内である。
　また、表４に示すとおり、本開示の実施例のナノ結晶合金薄帯は、鉄損が１０Ｗ／ｋｇ以下が得られており、鉄損２５Ｗ／ｋｇ以下の低損失なナノ結晶合金薄帯が得られている。また、飽和磁歪が１５ｐｐｍ以下が得られており、飽和磁歪が３０ｐｐｍ以下のナノ結晶合金薄帯が得られている。
〔飽和磁歪〕
　飽和磁歪は、共和電業製歪ゲージを張り付けた試料に電磁石で５ｋＯｅの磁界を印加し、電磁石を３６０°回転させ、試料に印加する磁界の方向を３６０°変化させせたときに生じた試料の伸びおよび収縮の最大変化量を歪ゲージの電気抵抗値の変化から測定した。飽和磁歪＝２／３×最大変化量とした。
　表４に自己発熱を示す。この自己発熱は、合金薄帯が結晶化の発熱により、加熱温度（加熱体の温度Ｔａ）を超えて温度上昇した値（合金薄帯の温度－Ｔａ）である。本開示の実施例によれば、Ｔａ＋５０℃を超えない範囲に制御できている。
〔実施例２〕
　表１に示す材質ＢとＧとを用い、実施例１と同様にして、ナノ結晶合金薄帯を作製した。張力、加熱体の温度Ｔａ、薄帯の昇温速度、加熱体との接触時間、結晶体積率、平均粒径を表５に示す。
　ここで平均粒径とは、ナノ結晶の平均粒径である。ナノ結晶の平均粒径は、上記したシェラーの式（数１）から算出した。本開示の実施例では、平均粒径が３０ｎｍ以下であることが分かる。したがって、本開示のナノ結晶合金薄帯は、平均粒径３０ｎｍ以下の結晶粒がアモルファス相中に存在する組織を有している。
　また、表５において、結晶体積率は、平均粒径３０ｎｍ以下の結晶粒（ナノ結晶）の体積率である。ナノ結晶以外の部分は、非晶質である。
　結晶体積率は、ナノ結晶の積分強度と（結晶+アモルファス）の積分強度の比である。ナノ結晶が示すピークおよびアモルファスが示すハローパターンの積分強度は、Ｘ線回折パターンに対する擬Ｖｏｉｇｔ関数を用いたピーク分解を行うことによって求め、ナノ結晶が示す全てのピークの積分強度の合計をＩｃ、アモルファスが示す全てのハローパターンの積分強度の合計をＩａとすると以下で与えられる式（数２）から体積率Ｖは求まる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
　各試料の昇温速度は表５に示すとおり、１００Ｋ／秒以上となっている。
〔実施例３〕
　表１に示す材質Ｂを用い、実施例１と同様にして、ナノ結晶合金薄帯を作製した。この実施例では、加熱体として、２つの加熱部を有する構造とした。例えば、図１に示す加熱体（加熱プレート）２２において、２つの温度設定が可能な構造とし、第１の部分の温度をＴ１とし、第２の温度をＴ２として設定した。そして、Ｔ１とＴ２のうち、高い温度をＴａとした。各試料の張力、加熱体の温度Ｔ１，Ｔ２，Ｔａ、合金薄帯の搬送速度を表６に示す。この条件で製造した各試料の特性を表７に示す。
　加熱体として、複数の加熱部を有する構造としてナノ結晶合金薄帯を製造した場合、等方性がより高いナノ結晶合金薄帯が得られている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
　以上のとおり、本開示によれば、優れた磁気特性を備えるとともに、等方性を備えたナノ結晶合金薄帯を得るナノ結晶合金薄帯の製造方法を得ることができ、優れた磁気特性を備えるとともに、等方性を備えたナノ結晶合金薄帯を得ることができる。

 

Claims (14)

  1. 　組成式（Ｆｅ１－ｘＡｘ）ａＳｉｂＢｃＣｕｄＭｅで表され、ＡはＮｉおよびＣｏの少なくとも１種であり、ＭはＮｂ，Ｍｏ，Ｖ，Ｚｒ，ＨｆおよびＷからなる群から選択される１種以上であり、原子％で８１≦ａ≦８６、０．１５≦ｂ≦５．０、１２．５≦ｃ≦１５、０≦ｄ≦１．０、０≦ｅ≦１．０、０≦ｘ≦０．１である合金薄帯を熱処理して、平均粒径３０ｎｍ以下の結晶粒がアモルファス相中に存在する組織を有するナノ結晶合金薄帯を製造する方法において、
    　前記合金薄帯に１０ＭＰａ～１６０ＭＰａの張力を印加した状態で、前記合金薄帯を搬送しつつ、加熱体に接触させて、前記合金薄帯の昇温速度が１００Ｋ／秒以上になるようにして、前記合金薄帯を熱処理し、
    　前記合金薄帯の結晶化温度をＴｘ１としたとき、前記加熱体の温度Ｔａを、前記組成式でｅ＜０．４のとき、Ｔｘ１＋８５℃～Ｔｘ１＋１４０℃の範囲とし、前記組成式でｅ≧０．４のとき、Ｔｘ１＋６０℃～Ｔｘ１＋１００℃の範囲とするナノ結晶合金薄帯の製造方法。
  2. 　前記ナノ結晶合金薄帯の飽和磁束密度Ｂｓが１．６Ｔ以上であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の残留磁束密度Ｂｒ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＬＢｒとし、前記長手方向に直交する幅方向の残留磁束密度Ｂｒ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＷＢｒとしたとき、ＬＢｒ／ＷＢｒが０．２～１．８である請求項１に記載のナノ結晶合金薄帯の製造方法。
  3. 　前記ナノ結晶合金薄帯の最大透磁率μｍが４０００以上であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の最大透磁率μｍ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＬμｍとし、前記長手方向に直交する幅方向の最大透磁率μｍ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＷμｍとしたとき、Ｌμｍ／Ｗμｍが０．３～１．７である請求項１または請求項２に記載のナノ結晶合金薄帯の製造方法。
  4. 　前記ナノ結晶合金薄帯の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）が４００Ｊ／ｍ３以下であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）をＬＥとし、前記長手方向に直交する幅方向の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）をＷＥとしたとき、ＬＥ／ＷＥが０．２～１．８である請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯の製造方法。
  5. 　前記ナノ結晶合金薄帯の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０が０．４Ｔ以上であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０をＬＢ８０とし、前記長手方向に直交する幅方向の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０をＷＢ８０としたとき、ＬＢ８０／ＷＢ８０が０．３～１．７である請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯の製造方法。
  6. 　前記合金薄帯の熱処理時に、前記合金薄帯の温度がＴａ＋５０℃を超えないように制御する請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯の製造方法。
  7. 　前記加熱体は、温度の異なる複数の加熱部から構成され、前記複数の加熱部のうち、最も高い温度の加熱部の温度が前記温度Ｔａである請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯の製造方法。
  8. 　平均粒径３０ｎｍ以下の結晶粒がアモルファス相中に存在する組織を有するナノ結晶合金薄帯であり、
    　前記ナノ結晶合金薄帯は、組成式（Ｆｅ１－ｘＡｘ）ａＳｉｂＢｃＣｕｄＭｅで表され、ＡはＮｉおよびＣｏの少なくとも１種であり、ＭはＮｂ，Ｍｏ，Ｖ，Ｚｒ，ＨｆおよびＷからなる群から選択される１種以上であり、原子％で８１≦ａ≦８６、０．１５≦ｂ≦５．０、１２．５≦ｃ≦１５、０≦ｄ≦１．０、０≦ｅ≦１．０、０≦ｘ≦０．１であり、飽和磁束密度Ｂｓが１．６Ｔ以上であり、
    　前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の残留磁束密度Ｂｒ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＬＢｒとし、前記長手方向に直交する幅方向の残留磁束密度Ｂｒ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＷＢｒとしたとき、ＬＢｒ／ＷＢｒが０．２～１．８であるナノ結晶合金薄帯。
  9. 　前記ナノ結晶合金薄帯の最大透磁率μｍが４０００以上であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の最大透磁率μｍ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＬμｍとし、前記長手方向に直交する幅方向の最大透磁率μｍ（最大測定磁界Ｈｍ＝８０Ａ／ｍ）をＷμｍとしたとき、Ｌμｍ／Ｗμｍが０．３～１．７である請求項８に記載のナノ結晶合金薄帯。
  10. 　前記ナノ結晶合金薄帯の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）が４００Ｊ／ｍ３以下であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）をＬＥとし、前記長手方向に直交する幅方向の異方性エネルギーＥ（最大測定磁界Ｈｍ＝８００Ａ／ｍ）をＷＥとしたとき、ＬＥ／ＷＥが０．２～１．８である請求項８または請求項９に記載のナノ結晶合金薄帯。
  11. 　前記ナノ結晶合金薄帯の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０が０．４Ｔ以上であり、前記ナノ結晶合金薄帯の長手方向の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０をＬＢ８０とし、前記長手方向に直交する幅方向の磁界８０Ａ／ｍ印加時の磁束密度Ｂ８０をＷＢ８０としたとき、ＬＢ８０／ＷＢ８０が０．３～１．７である請求項８から請求項１０のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯。
  12. 　厚さが１５μｍ以上であり、幅が５ｍｍ以上である請求項８から請求項１１のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯。
  13. 　占積率が８６%以上である請求項８から請求項１２のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯。
  14. 　飽和磁歪が３０ｐｐｍ以下である請求項８から請求項１３のいずれか１項に記載のナノ結晶合金薄帯。

     
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