WO2022215703A1 - 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 - Google Patents

含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体 Download PDF

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夏実 芝田
直也 福本
綾乃 浅野
剛 加藤
拓麻 黒田
大輔 柳生
千鶴 笠原
優 丹治
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昭和電工株式会社
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    • C10N2050/025Multi-layer lubricant coatings in the form of films or sheets

Definitions

  • the present invention relates to a fluorine-containing ether compound, a lubricant for magnetic recording media, and a magnetic recording medium.
  • a lubricating agent is applied to the surface of the protective layer to form a lubricating layer having a thickness of about 0.5 to 3 nm.
  • the lubricating layer improves the durability and protective power of the protective layer and prevents contaminants from entering the magnetic recording medium.
  • a burnishing process may be performed to remove projections and particles present on the surface of the magnetic recording medium and improve the smoothness of the surface.
  • Lubricants used for forming the lubricating layer of a magnetic recording medium include, for example, those containing a fluorine-based polymer having a repeating structure containing —CF 2 — and having a terminal polar group such as a hydroxyl group.
  • Patent Literature 1 discloses a magnetic disk provided with a lubricating layer containing a fluorine-containing ether compound containing three perfluoropolyether chains in the molecule and having the same structure at both ends.
  • Patent Literature 2 discloses a magnetic disk provided with a lubricating layer containing a fluorine-containing ether compound containing three perfluoropolyether chains in its molecule and having two different terminal structures.
  • Patent Document 3 discloses a magnetic disk having a lubricating layer containing a lubricant containing three perfluoropolyether chains in the molecule and having two hydroxyl groups in the linking groups between the perfluoropolyether chains. ing.
  • the magnetic recording/reproducing apparatus it is required to further reduce the flying height of the magnetic head. For this reason, it is desired to further reduce the thickness of the lubricating layer in the magnetic recording medium.
  • the corrosion resistance of the magnetic recording medium may become insufficient.
  • the tape burnishing process is performed on the surface of the magnetic recording medium after forming the lubricating layer, the corrosion resistance of the magnetic recording medium tends to be insufficient. For this reason, there is a demand for a lubricating layer that is highly effective in suppressing corrosion of magnetic recording media.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and aims to provide a fluorine-containing ether compound suitable as a material for a lubricant for magnetic recording media capable of forming a lubricating layer highly effective in suppressing corrosion of magnetic recording media. aim. Another object of the present invention is to provide a lubricant for magnetic recording media, which contains the fluorine-containing ether compound of the present invention and can form a lubricating layer highly effective in suppressing corrosion of magnetic recording media. Another object of the present invention is to provide a magnetic recording medium provided with a lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound of the present invention and having excellent corrosion resistance.
  • a first aspect of the present invention provides the following fluorine-containing ether compound.
  • a fluorine-containing ether compound represented by the following formula (1) R 1 -CH 2 -R 2 -CH 2 -R 3 -CH 2 -R 4 -CH 2 -R 5 -CH 2 -R 6 -CH 2 -R 7 (1)
  • R 3 is a linking group represented by the following formula (2)
  • R 5 is the following formula a linking group represented by (3)
  • each of R 1 and R 7 independently contains two or three polar groups, each of which is bonded to a different carbon atom; is a terminal group in which the carbon atoms attached to each other are linked via a linking group containing carbon atoms to which no polar group is attached.
  • the fluorine-containing ether compound of the first aspect of the present invention preferably has the characteristics described in [2] to [8] below. It is also preferable to arbitrarily combine two or more of the features described in [2] to [8] below.
  • [2] The fluorine-containing ether compound according to [1], wherein a in formula (2) is an integer of 2 to 3, and c in formula (3) is an integer of 2 to 3.
  • [3] The fluorine-containing ether compound according to [1] or [2], wherein in formula (1), all of the polar groups possessed by R 1 and R 7 are hydroxyl groups.
  • —R 1 and —R 7 are each independently a terminal group represented by the following formulas (4-1) to (4-5) [1] to [3] Fluorine-containing ether compound according to any one of.
  • a second aspect of the present invention provides the following lubricant for magnetic recording media.
  • a lubricant for magnetic recording media comprising the fluorine-containing ether compound according to any one of [1] to [8].
  • a third aspect of the present invention provides the following magnetic recording medium. [10] A magnetic recording medium in which at least a magnetic layer, a protective layer, and a lubricating layer are sequentially provided on a substrate, A magnetic recording medium, wherein the lubricating layer contains the fluorine-containing ether compound according to any one of [1] to [8].
  • the magnetic recording medium of the third aspect of the present invention preferably has the features described in [11] below. [11] The magnetic recording medium according to [10], wherein the lubricant layer has an average thickness of 0.5 nm to 2.0 nm.
  • the fluorine-containing ether compound of the present invention is a compound represented by the above formula (1), it can be used as a material for lubricants for magnetic recording media capable of forming a lubricating layer highly effective in suppressing corrosion of magnetic recording media. Since the lubricant for magnetic recording media of the present invention contains the fluorine-containing ether compound of the present invention, it is possible to form a lubricating layer highly effective in suppressing corrosion of magnetic recording media. Since the magnetic recording medium of the present invention is provided with the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound of the present invention, it has excellent corrosion resistance. Therefore, the magnetic recording medium of the present invention has excellent reliability and durability. Further, since the magnetic recording medium of the present invention is provided with a lubricating layer that is highly effective in suppressing corrosion of the magnetic recording medium, the thickness of the protective layer and/or the lubricating layer can be reduced.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of one embodiment of a magnetic recording medium of the present invention
  • one or both of the two linking groups is a methylene chain having 2 or 3 carbon atoms between the central perfluoropolyether chain and the carbon atom to which the hydroxyl group is bonded.
  • the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound having the above chain skeleton is formed on the protective layer, both ends of the perfluoropolyether chain arranged at the center of the chain skeleton become the perfluoropolyether chain It adheres to the protective layer due to the hydroxyl group of the linking group placed therebetween. Therefore, the lubricant containing the fluorine-containing ether compound having the chain skeleton has one or two perfluoropolyether chains and has the same number of carbon atoms as the chain skeleton. Compared to the case where a compound is contained, it is easier to wet and spread on the protective layer, can adhere uniformly to the protective layer, and can form a lubricating layer with high coverage and good adhesion.
  • both ends of the above-mentioned chain skeleton independently contain two or three polar groups, each polar group is bonded to a different carbon atom, and the carbon atoms to which the polar groups are bonded are , are arranged with terminal groups that are linked through a linking group containing a carbon atom to which no polar group is attached.
  • the two or three polar groups possessed by this terminal group can be oriented so as to adhere to the protective layer, unlike the terminal group in which the carbon atoms to which the polar groups are bonded are bonded.
  • a lubricating layer having a high coverage and good adhesion is formed.
  • the terminal group has a linking group containing a carbon atom to which the polar group is not bonded
  • the lubricating layer containing a fluorine-containing ether compound having a terminal group in which the carbon atoms to which the polar group is bonded is bonded.
  • the hydrophobicity is better.
  • the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound having the specific terminal group bonded to each end of the chain skeleton has appropriate hydrophobicity and good adhesion to the protective layer. is. Therefore, it is presumed that the lubricating layer has a high corrosion-suppressing effect on the magnetic recording medium.
  • the inventors of the present invention conducted further investigations, formed a lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound on the protective layer, and confirmed that the effect of suppressing corrosion of the magnetic recording medium was high, and arrived at the present invention.
  • the fluorine-containing ether compound the lubricant for magnetic recording media (hereinafter sometimes abbreviated as "lubricant")
  • the magnetic recording medium of the present invention is described in detail below.
  • this invention is not limited only to embodiment shown below.
  • the present invention can add, omit, replace, and change the number, amount, position, ratio, material, configuration, etc. within the scope of the present invention.
  • the fluorine-containing ether compound of this embodiment is represented by the following formula (1).
  • R 3 is a linking group represented by the following formula (2)
  • R 5 is the following formula a linking group represented by (3)
  • each of R 1 and R 7 independently contains two or three polar groups, each of which is bonded to a different carbon atom; is a terminal group in which the carbon atoms attached to each other are linked through a linking group containing a carbon atom to which no polar group is attached.
  • R 1 and R 7 each independently contain two or three polar groups, each polar group is bonded to a different carbon atom, and the polar group is a terminal group in which the carbon atoms that are bonded to each other are bonded via a linking group containing a carbon atom that is not bonded to a polar group.
  • each of R 1 and R 7 has two or three polar groups. Therefore, when a lubricant containing this is used to form a lubricating layer on the protective layer, a favorable interaction occurs between the lubricating layer and the protective layer.
  • Polar groups include, for example, hydroxyl group (--OH), amino group (--NH 2 ), carboxy group (--COOH), aldehyde group (--COH), carbonyl group (--CO--), sulfo group (--SO 3 H ) and the like.
  • R 1 and/or R 7 preferably contain a hydroxyl group as a polar group, and more preferably all polar groups contained in R 1 and R 7 are hydroxyl groups.
  • R 1 and/or R 7 is a fluorine-containing ether compound having a hydroxyl group
  • a lubricant containing this is used to form a lubricating layer on the protective layer, it is more suitable between the lubricating layer and the protective layer. interaction occurs.
  • the total number of polar groups contained in R 1 and polar groups contained in R 7 is 4-6. Since the total number is 4 or more, the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound has high adhesiveness (adhesion) to the protective layer. Further, since the above total number is 6 or less, in a magnetic recording medium having a lubricating layer containing a fluorine-containing ether compound, the polarity of the fluorine-containing ether compound is too high, causing a pick-up that adheres to the magnetic head as foreign matter (smear). can be prevented from occurring.
  • the number of polar groups contained in R 1 and the number of polar groups contained in R 7 are preferably the same. That is, it is preferred that R 1 and R 7 each contain two polar groups, or that R 1 and R 7 each contain three polar groups.
  • R 1 and R 7 each contain two polar groups, or that R 1 and R 7 each contain three polar groups.
  • the lubricant containing the fluorine-containing ether compound adheres to the protective layer in a well-balanced manner, it is easy to obtain a lubricating layer having a high coverage and a high corrosion-inhibiting effect on the magnetic recording medium.
  • the polar groups contained in the fluorine-containing ether compound firmly adhere to the protective layer, so that the coverage increases and the corrosion inhibition effect of the magnetic recording medium increases. becomes expensive.
  • Each polar group contained in R 1 and R 7 is bonded to a different carbon atom.
  • the carbon atoms to which the polar group is bonded are bonded via a linking group containing the carbon atom to which the polar group is not bonded. Therefore, the fluorine-containing ether compound represented by formula (1) has good hydrophobicity compared to, for example, a compound having a terminal group in which the carbon atoms to which the polar groups are bonded are bonded. . From this, it is presumed that the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound represented by formula (1) can prevent water from penetrating and effectively suppress corrosion of the magnetic recording medium.
  • the linking group containing the carbon atom to which the polar group is not bonded both the terminal polar group (terminal polar group) and the polar group adjacent to the terminal polar group can be oriented so that they can adhere to the protective layer. From this, when the carbon atoms to which the polar groups are bonded are bonded via a linking group containing carbon atoms to which the polar groups are not bonded, a lubricating layer highly effective in suppressing corrosion of the magnetic recording medium is formed. presumed to be obtained.
  • the fluorine-containing ether compound contained in the lubricating layer has a carbon atom bonded to the most terminal polar group (terminal polar group) and a carbon atom bonded to a polar group adjacent to the terminal polar group.
  • terminal polar group terminal polar group
  • a carbon atom bonded to a polar group adjacent to the terminal polar group a carbon atom bonded to a polar group adjacent to the terminal polar group.
  • one of the terminal polar group and the polar group adjacent to the terminal polar group is oriented in the opposite direction with respect to the protective layer. Therefore, one of the terminal polar group and the polar group adjacent to the terminal polar group is less likely to adhere to the protective layer, resulting in poor adhesion between the lubricating layer and the protective layer.
  • R 1 and R 7 when the linking group between the carbon atom to which the terminal polar group is bonded and the carbon atom to which the polar group adjacent to the terminal polar group is bonded contains an oxygen atom (for example, the following formula (4- 2), (4-3), and (4-4)), the linking group of R 1 and R 7 has 2 to 5 carbon atoms to which no polar group is bonded. It is preferable to have a linear structure containing Even when the linking group contains an oxygen atom, if it has a linear structure containing two or more carbon atoms to which no polar group is bonded, the fluorine-containing ether compound has good hydrophobicity.
  • the linking group has a linear structure containing 5 or less carbon atoms
  • the linking group is too hydrophobic to interfere with the adhesion to the protective layer.
  • each of R 1 and R 7 has three polar groups
  • a lubricating layer having better adhesion to the protective layer can be formed. Therefore, the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound, in which the linking groups of R 1 and R 7 have a linear structure containing the number of carbon atoms within the above range, has excellent adhesion to the protective layer, and Appropriate hydrophobicity makes it possible to prevent the intrusion of water, resulting in a high corrosion-inhibiting effect on the magnetic recording medium.
  • the linking group of R 1 and R 7 contains an oxygen atom
  • the linking group preferably has a straight chain structure consisting of 3 to 9 atoms, and a straight chain structure consisting of 3 to 6 atoms. It is more preferable to have the structure of
  • the number of atoms contained in the linking group is within the above range, the molecular mobility is appropriate and intramolecular aggregation is less likely to occur. Therefore, it becomes a fluorine-containing ether compound capable of forming a lubricating layer having even better adhesion to the protective layer.
  • R 1 and R 7 when the linking group between the carbon atom to which the terminal polar group is bonded and the carbon atom to which the polar group adjacent to the terminal polar group is bonded does not contain an oxygen atom (for example, the following formula ( 4-1) and (4-5)), and in any case where R 1 and R 7 have two or three polar groups, the linking group is a polar group It is preferred to have a linear structure containing 1 to 4 unbonded carbon atoms. When the linking group does not contain an oxygen atom and has a linear structure containing one or more carbon atoms to which no polar group is bonded, the resulting fluorine-containing ether compound has good hydrophobicity.
  • the linking group when the linking group has a straight chain structure containing 4 or less carbon atoms, the linking group is too hydrophobic to interfere with the adhesion to the protective layer.
  • the linking group between the carbon atom to which the terminal polar group is bonded and the carbon atom to which the polar group adjacent to the terminal polar group is bonded does not contain an oxygen atom, the intramolecular interaction is small and intramolecular aggregation is prevented. Hard to happen. Therefore, it becomes a fluorine-containing ether compound capable of forming a lubricating layer having even better adhesion to the protective layer.
  • the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound, in which the linking groups of R 1 and R 7 have a linear structure containing the number of carbon atoms within the above range has excellent adhesion to the protective layer.
  • water can be prevented from entering, and corrosion of the magnetic recording medium can be highly inhibited.
  • R 1 and R 7 may be the same or different, and are preferably the same.
  • the fluorine-containing ether compound easily spreads evenly on the protective layer and easily provides a lubricating layer having a uniform film thickness.
  • the lubricating layer containing this fluorine-containing ether compound has a good coverage, which is preferable.
  • the fluorine-containing ether compound can be efficiently produced in fewer production steps than when R 1 and R 7 are different.
  • —R 1 and —R 7 are each independently a terminal group represented by any one of the following formulas (4-1) to (4-5). Preferably.
  • —R 1 and —R 7 are terminal groups represented by any of formulas (4-1) to (4-5)
  • —R 1 and —R 7 each have two or three hydroxyl groups. Including, the linking group between the carbon atom to which the terminal hydroxyl group is bonded and the carbon atom to which the hydroxyl group adjacent to the terminal hydroxyl group is bonded has a linear structure containing an appropriate number of carbon atoms. Therefore, when —R 1 and —R 7 are terminal groups represented by formulas (4-1) to (4-5), the fluorine-containing ether compound has appropriate hydrophobicity.
  • -R 1 and -R 7 are terminal groups represented by any of the following formulas (4-1), (4-2), (4-4), and (4-5), If it contains two hydroxyl groups, the linking group between the carbon atom to which the hydroxyl group located on the perfluoropolyether chain side is bonded and the carbon atom to which the adjacent hydroxyl group is bonded must also have an appropriate number of carbon atoms. It has a linear structure containing Therefore, the fluorine-containing ether compound has excellent adhesion to the protective layer, has appropriate hydrophobicity, and can form a lubricating layer highly effective in suppressing corrosion of magnetic recording media.
  • e is an integer of 0-1 and f is an integer of 1-4.
  • the linking group between the carbon atom to which the terminal hydroxyl group is bonded and the carbon atom to which the hydroxyl group adjacent to the terminal hydroxyl group is bonded does not contain an oxygen atom. Therefore, it exhibits appropriate hydrophobicity.
  • f is 4 or less, the hydrophobicity of the linking group is too high to interfere with the adhesion to the protective layer, thereby exhibiting an excellent effect of suppressing corrosion of the magnetic recording medium.
  • the linking group between the carbon atom to which the terminal hydroxyl group is bonded and the carbon atom to which the hydroxyl group adjacent to the terminal hydroxyl group is bonded does not contain an oxygen atom, the intramolecular interaction between the hydroxyl groups contained in the terminal groups is small. . Therefore, intramolecular aggregation is less likely to occur, and a lubricating layer having even better adhesion to the protective layer can be formed. Further, when e is 1, the terminal group represented by formula (4-1) contains three hydroxyl groups, and thus exhibits superior adhesion to the protective layer.
  • the fluorine-containing ether compound having a terminal group represented by formula (4-2) has good hydrophobicity and exhibits an excellent anti-corrosion effect on magnetic recording media.
  • the linking group between the carbon atom to which the terminal hydroxyl group is bonded and the carbon atom to which the hydroxyl group adjacent to the terminal hydroxyl group is bonded contains an oxygen atom. Since the terminal group represented by formula (4-2) has h of 1 to 3, it has suitable molecular mobility.
  • the intramolecular aggregation of the hydroxyl groups contained in the terminal groups is less likely to occur, and the adhesiveness to the protective layer is further improved.
  • the terminal group represented by formula (4-2) contains three hydroxyl groups, and thus exhibits superior adhesion to the protective layer.
  • i is an integer of 1-3. Therefore, the fluorine-containing ether compound containing the terminal group represented by formula (4-3) has good hydrophobicity and exhibits an excellent anti-corrosion effect on magnetic recording media.
  • the linking group between the carbon atom to which the terminal hydroxyl group is bonded and the carbon atom to which the hydroxyl group adjacent to the terminal hydroxyl group is bonded contains an oxygen atom.
  • the terminal group represented by formula (4-3) has suitable molecular mobility since i is 1 to 3. Therefore, the intramolecular aggregation of the hydroxyl groups contained in the terminal groups is less likely to occur, and the adhesiveness to the protective layer is further improved.
  • the fluorine-containing ether compound containing the terminal group represented by formula (4-4) has good hydrophobicity and exhibits an excellent anti-corrosion effect on magnetic recording media. Since the terminal group represented by formula (4-4) contains three hydroxyl groups, it exhibits excellent adhesion to the protective layer.
  • the terminal group represented by formula (4-5) is favorable because the linking group between the carbon atom to which the terminal hydroxyl group is bonded and the carbon atom to which the hydroxyl group adjacent to the terminal hydroxyl group is bonded does not contain an oxygen atom. Hydrophobic. Therefore, a lubricating layer containing a fluorine-containing ether compound having a terminal group represented by formula (4-5) exhibits an excellent effect of suppressing corrosion of a magnetic recording medium. In addition, since the terminal group represented by formula (4-5) contains three hydroxyl groups, it exhibits excellent adhesion to the protective layer.
  • R 3 is a linking group represented by formula (2) below.
  • the linking group represented by formula ( 2 ) is bonded to the methylene group (--CH.sub.2--) in which the rightmost oxygen atom in the parentheses in formula (2) is adjacent to R.sub.4 .
  • R5 is a linking group represented by formula ( 3 ) below.
  • the linking group represented by formula ( 3 ) is bonded to the leftmost methylene group (--CH.sub.2--) in which the oxygen atom in parentheses in formula (3) is adjacent to R.sub.4 .
  • a in formula (2) is an integer of 1-3
  • c in formula (3) is an integer of 1-3. It is not possible for a in equation (2) and c in equation (3) to be 1 at the same time. That is, at least one of a and c is an integer of 2-3. Therefore, the fluorine-containing ether compound represented by formula (1) is a compound in which a is 1 in formula (2) representing R 3 and c is 1 in formula (3) representing R 5 The number of carbon atoms contained in the linking group represented by R 3 and/or R 5 is greater than that of R 3 and/or R 5 , resulting in good hydrophobicity.
  • a in formula (2) is an integer of 2-3 and c in formula (3) is an integer of 2-3.
  • the fluorine-containing ether compound represented by the formula (1) has better hydrophobicity, and the lubricating layer containing it exhibits a more excellent anti-corrosion effect on the magnetic recording medium.
  • b in formula (2) is an integer of 1-2
  • d in formula (3) is an integer of 1-2.
  • the hydroxyl groups in the formulas (2) and (3) improve adhesion to the protective layer in the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound. It is preferable that b in formula (2) and d in formula (3) be 1, since the fluorine-containing ether compound is easy to synthesize.
  • R 3 is a linking group represented by formula (2)
  • R 5 is a linking group represented by formula (3). Therefore, the oxygen atoms located at both ends of R 3 and R 5 are bonded to the methylene groups (--CH 2 --) located on both sides of R 3 and R 5 respectively to form an ether bond (--O--). Form.
  • the four ether bonds formed in this manner impart appropriate flexibility to the fluorine-containing ether compound represented by formula (1), and increase the affinity between the hydroxyl groups of R 3 and R 5 and the protective layer. Increase.
  • R 2 , R 4 and R 6 are the same or different perfluoropolyether chains (PFPE chains).
  • the PFPE chains represented by R 2 , R 4 and R 6 cover the surface of the protective layer when the lubricant containing the fluorine-containing ether compound of the present embodiment is applied onto the protective layer to form a lubricating layer.
  • the lubricating layer is provided with lubricating properties to reduce the frictional force between the magnetic head and the protective layer.
  • the PFPE chain imparts water resistance to the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound of the present embodiment due to its low surface energy, and improves the corrosion resistance of the magnetic recording medium provided with the lubricating layer.
  • R 2 , R 4 , and R 6 may be PFPE chains, and can be appropriately selected according to the performance required for the lubricant containing the fluorine-containing ether compound.
  • PFPE chain include perfluoromethylene oxide polymer, perfluoroethylene oxide polymer, perfluoro-n-propylene oxide polymer, perfluoroisopropylene oxide polymer, copolymers thereof, and the like.
  • the PFPE chain may be, for example, a structure represented by the following formula (Rf) derived from a perfluoroalkylene oxide polymer or copolymer.
  • Rf formula (Rf) derived from a perfluoroalkylene oxide polymer or copolymer.
  • Rf perfluoroalkylene oxide polymer or copolymer.
  • w2, w3, w4, and w5 represent an average degree of polymerization, each independently representing 0 to 20; however, w2, w3, w4, and w5 are not all 0 at the same time; w1 and w6 are average values indicating the number of —CF 2 —, each independently representing 1 to
  • w1 and w6 are average values indicating the number of —CF 2 — and each independently represents 1 to 3.
  • w1 and w6 are determined according to the structure of the repeating unit arranged at the ends of the chain structure in the polymer represented by the formula (Rf).
  • (CF 2 O), (CF 2 CF 2 O), (CF 2 CF 2 CF 2 O), and (CF 2 CF 2 CF 2 O) in formula (Rf) are repeating units. There are no particular restrictions on the arrangement order of the repeating units in formula (Rf). Also, the number of types of repeating units in the formula (Rf) is not particularly limited.
  • R 2 , R 4 and R 6 in formula (1) are each independently preferably, for example, a PFPE chain represented by formula (Rf-1) below.
  • Rf-1 a PFPE chain represented by formula (Rf-1) below.
  • w8 and w9 represent an average degree of polymerization, each independently representing 0.1 to 20;
  • w7 and w10 are average values representing the number of —CF 2 —, each independently represents 1 to 2.
  • Formula (Rf-1) includes any of random copolymers, block copolymers, and alternating copolymers consisting of monomer units (CF 2 CF 2 O) and (CF 2 CF 2 CF 2 O). can be anything.
  • w8 and w9 which indicate the average degree of polymerization, each independently represents 0.1 to 20, preferably 0.1 to 15, more preferably 1 to 10.
  • w7 and w10 in the formula (Rf-1) are average values indicating the number of —CF 2 — and each independently represents 1 to 2.
  • w7 and w10 are determined according to the structure of the repeating unit arranged at the ends of the chain structure in the polymer represented by formula (Rf-1).
  • each of R 2 , R 4 and R 6 in formula (1) independently represents one of the following formulas (5) to (9).
  • Formula (5) includes any of random copolymers, block copolymers, and alternating copolymers consisting of monomer units (CF 2 —CF 2 —O) and (CF 2 —O).
  • k and l represent an average degree of polymerization, each representing 0.1 to 20.
  • m indicates an average degree of polymerization and represents 0.1 to 20.
  • n indicates an average degree of polymerization and represents 0.1 to 20.
  • o indicates an average degree of polymerization and represents 0.1 to 10.
  • k and l indicating the average degree of polymerization in formula (5) are each 0.1 to 20, m indicating the average degree of polymerization in formula (6) is 0.1 to 20, and the average degree of polymerization in formula (7) n indicating the degree is 0.1 to 20, o indicating the average degree of polymerization in formula (8) is 0.1 to 10, p indicating the average degree of polymerization in formula (9) is 0.1 to 20 is.
  • k, l, m, n, o, and p can be arbitrarily selected within the above ranges.
  • the fluorine-containing ether compound When each of k, l, m, n, o, and p is 0.1 or more, the fluorine-containing ether compound provides a lubricating layer capable of further suppressing corrosion of the magnetic recording medium. Further, when k, l, m, n, and p are each 20 or less and o is 10 or less, the viscosity of the fluorine-containing ether compound does not become too high, and the lubricant containing the fluorine-containing ether compound can be easily applied. preferable.
  • Each of k, l, m, n, o, and p which indicate the average degree of polymerization, is 1 to 1 because it is a fluorine-containing ether compound that easily spreads on the protective layer and easily provides a lubricating layer having a uniform film thickness. 10 is preferred, and 2-8 is more preferred. Note that k, l, m, n, o, and p may be, for example, 0.5-9, 1-8, 2-7, 3-6, or 4-5.
  • R 2 , R 4 and R 6 in formula (1) are any one of formulas (5) to (9), synthesis of the fluorine-containing ether compound is easy, which is preferable.
  • R 2 , R 4 and R 6 are any one of formulas (5) to (7), raw materials are easily available, which is more preferable.
  • R 2 , R 4 and R 6 are any of formulas (5) to (9), the number of oxygen atoms (ether bond (-O- ) number) ratio is appropriate. Therefore, it becomes a fluorine-containing ether compound having moderate hardness. Therefore, the fluorine-containing ether compound applied on the protective layer is less likely to aggregate on the protective layer, and a thinner lubricating layer can be formed with sufficient coverage.
  • the PFPE chains represented by R 2 , R 4 and R 6 may all be the same, may be different, or may be partially the same.
  • the phrase "the PFPE chains are the same" includes the case where the structures (repeating units) of the PFPE chains are the same and the average degrees of polymerization are different.
  • R 2 and R 6 are the same because synthesis is easy. More preferably, when R2 and R6 are the same , R3 and R5 are the same , and R1 and R7 are the same.
  • R 3 and R 5 are the same means that R It means that the atoms contained in 3 and the atoms contained in R 5 are arranged symmetrically. That is, a in formula (2) is the same as c in formula (3), and b in formula (2) is the same as d in formula (3).
  • the fluorine-containing ether compound represented by formula (1) is preferably any compound represented by the following formulas (A) to (T).
  • ra, qb, sc, tc, rd, qe, qf, sg, tg, rh, qi, sj, tj, qk, rk, sl, tl, rl, qm, rm, qn, rn, qo, ro, qp, sp, tp, qq, sq, tq, sr, tr, rr, qs, ss, ts, st, tt, rt are values indicating the average degree of polymerization , not necessarily an integer.
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-2), g is 1 and h is 2 in the formula (4-2). and R 2 , R 4 and R 6 are PFPE chains represented by formula (6).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-2), g is 2 and h is 2 in the formula (4-2). and R 2 , R 4 and R 6 are PFPE chains represented by formula (7).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-1), e in the formula (4-1) is 0, and f is 1. and R 2 , R 4 and R 6 are PFPE chains represented by formula (5).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-5), and R 2 , R 4 and R 6 are represented by the formula (6) PFPE chains.
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-2), g is 1 and h is 1 in the formula (4-2). and R 2 , R 4 and R 6 are PFPE chains represented by formula (7).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-3), i in the formula (4-3) is 1, R 2 and R 4 and R6 are PFPE chains represented by formula ( 7 ).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-1), e in the formula (4-1) is 1, and f is 1. and R 2 , R 4 and R 6 are PFPE chains represented by formula (5).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-1), e in the formula (4-1) is 0, and f is 2.
  • R 2 , R 4 and R 6 are PFPE chains represented by formula (6).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-4), j in the formula (4-4) is 2, R 2 and R 4 and R6 are PFPE chains represented by formula ( 7 ).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-2), g is 2 and h is 1 in the formula (4-2). and R 2 , R 4 and R 6 are PFPE chains represented by formula (5).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-1), e in the formula (4-1) is 1, and f is 1.
  • R 2 and R 6 are PFPE chains represented by formula (7), and R 4 is a PFPE chain represented by formula (6).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-4), j in the formula (4-4) is 1, R 2 and R 6 is the PFPE chain represented by formula (5), and R 4 is the PFPE chain represented by formula (6).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-2), g is 1 and h is 2 in the formula (4-2). and R 2 and R 6 are PFPE chains represented by formula (7), and R 4 is a PFPE chain represented by formula (6).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-2), g is 2 and h is 2 in the formula (4-2).
  • R 2 and R 6 are PFPE chains represented by formula (6)
  • R 4 is a PFPE chain represented by formula (7).
  • the compound represented by the following formula (O) is a PFPE chain in which R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-5) and R 2 and R 6 are represented by the formula (6). and R4 is a PFPE chain represented by formula (7).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-2), g is 1 and h is 3 in the formula (4-2). where R 2 and R 6 are PFPE chains represented by formula (5), and R 4 is a PFPE chain represented by formula (7).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-2), g is 1 and h is 1 in the formula (4-2).
  • R 2 and R 6 are PFPE chains represented by formula (5), and R 4 is a PFPE chain represented by formula (7).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-2)
  • g is 2 and h is 1 in the formula (4-2).
  • R 2 and R 6 are PFPE chains represented by formula (6), and R 4 is a PFPE chain represented by formula (5).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-1), e in the formula (4-1) is 0, and f is 3.
  • R 2 and R 6 are PFPE chains represented by formula (7)
  • R 4 is a PFPE chain represented by formula (5).
  • R 1 and R 7 are terminal groups represented by the formula (4-1)
  • e is 1 and f is 2 in the formula (4-1).
  • R 2 and R 6 are PFPE chains represented by formula (6)
  • R 4 is a PFPE chain represented by formula (5).
  • Fpa 1 and Fpa 2 in formula (A) are represented by formula (AF).
  • ra indicates an average degree of polymerization and ranges from 0.1 to 20. Ra in Fpa 1 and ra in Fpa 2 may be the same or different.
  • Fdb 1 and Fdb 2 in formula (B) are represented by formula (BF).
  • qb indicates an average degree of polymerization and ranges from 0.1 to 20. qb in Fdb 1 and qb in Fdb2 may be the same or different.
  • Ffc 1 and Ffc 2 in the formula (C) are represented by the formula (CF).
  • sc and tc in Ffc 1 and Ffc 2 indicate the average degree of polymerization, and represent 0.1 to 20. In Ffc 1 sc and tc in and sc and tc in Ffc 2 may be the same or different.
  • Fpd 1 and Fpd 2 in formula (D) are represented by formula (DF).
  • rd indicates an average degree of polymerization and ranges from 0.1 to 20. rd in Fpd 1 and rd in Fpd 2 may be the same or different.
  • Fde 1 and Fde 2 in formula (E) are represented by formula (EF).
  • qe indicates an average degree of polymerization and ranges from 0.1 to 20. qe in Fde 1 and qe in Fde 2 may be the same or different.
  • Fdf 1 and Fdf 2 in formula (F) are represented by formula (FF).
  • qf indicates an average degree of polymerization and ranges from 0.1 to 20. qf in Fdf 1 and qf in Fdf2 may be the same or different.
  • Ffg 1 and Ffg 2 in formula (G) are represented by formula (GF).
  • sg and tg in Ffg 1 and Ffg 2 indicate an average degree of polymerization, and represent 0.1 to 20.
  • Ffg 1 sg, tg in and sg, tg in Ffg 2 may be the same or different.
  • Fph 1 and Fph 2 in formula (H) are represented by formula (HF).
  • rh indicates an average degree of polymerization and ranges from 0.1 to 20.
  • rh in Fph 1 and rh in Fph2 may be the same or different.
  • Fdi 1 and Fdi 2 in formula (I) are represented by formula (IF).
  • qi indicates an average degree of polymerization and ranges from 0.1 to 20.
  • qi in Fdi 1 and qi in Fdi 2 may be the same or different.
  • Ffj 1 and Ffj 2 in the formula (J) are represented by the formula (JF).
  • sj and tj in Ffj 1 and Ffj 2 indicate the average degree of polymerization, and represent 0.1 to 20.
  • Ffj 1 sj, tj in and sj, tj in Ffj 2 may be the same or different.
  • Fdk 1 and Fpk 1 in formula (K) are represented by formula (KF).
  • Fdk 1 qk represents an average degree of polymerization and represents 0.1 to 20.
  • rk is an average polymerization degree, representing 0.1 to 20.
  • Ffl 1 and Fpl 1 in the formula (L) are represented by the formula (LF).
  • sl and tl indicate the average degree of polymerization and represent 0.1 to 20.
  • rl Indicates the average degree of polymerization and represents 0.1 to 20.
  • Fdm 1 and Fpm 1 in the formula (M) are represented by the formula (MF).
  • Fdm 1 qm indicates an average degree of polymerization and represents 0.1 to 20.
  • Fpm 1 rm is an average polymerization degree, representing 0.1 to 20.
  • Fdn 1 and Fpn 1 in the formula (N) are represented by the formula (NF).
  • Fdn 1 qn represents an average degree of polymerization and ranges from 0.1 to 20.
  • rn is an average polymerization degree, representing 0.1 to 20.
  • Fdo 1 and Fpo 1 in the formula (O) are represented by the formula (OF).
  • Fdo 1 qo indicates an average degree of polymerization and ranges from 0.1 to 20.
  • ro is an average polymerization degree, representing 0.1 to 20.
  • Fdp 1 and Ffp 1 in formula (P) are represented by formula (PF).
  • Fdp 1 qp indicates an average degree of polymerization and ranges from 0.1 to 20.
  • sp and tp are Indicates the average degree of polymerization and represents 0.1 to 20.
  • Fdq 1 and Ffq 1 in formula (Q) are represented by formula (QF).
  • Fdq 1 qq indicates an average degree of polymerization, and represents 0.1 to 20.
  • Ffq 1 sq and tq are Indicates the average degree of polymerization and represents 0.1 to 20.
  • Ffr 1 and Fpr 1 in the formula (R) are represented by the formula (RF).
  • sr and tr indicate an average degree of polymerization and represent 0.1 to 20.
  • rr is Indicates the average degree of polymerization and represents 0.1 to 20.
  • Fds 1 and Ffs 1 in formula (S) are represented by formula (SF).
  • qs indicates an average degree of polymerization and ranges from 0.1 to 20.
  • ss and ts are Indicates the average degree of polymerization and represents 0.1 to 20.
  • Fft 1 and Fpt 1 in the formula (T) are represented by the formula (TF).
  • st and tt indicate an average degree of polymerization and represent 0.1 to 20.
  • rt is Indicates the average degree of polymerization and represents 0.1 to 20.
  • the compound represented by the formula (1) is any one of the compounds represented by the above formulas (A) to (T)
  • the raw material is easily available, and even if the thickness is thin, the lubrication that can suppress the corrosion of the magnetic recording medium.
  • a layer can be formed, which is preferable.
  • the compound represented by the formula (1) is any one of the compounds represented by the formulas (B), (D), (F) to (T)
  • the corrosion inhibitory effect of the magnetic recording medium is particularly high.
  • a lubricating layer can be formed, which is preferable.
  • the fluorine-containing ether compound of the present embodiment preferably has a number average molecular weight (Mn) in the range of 500 to 10000, more preferably in the range of 700 to 7000, and in the range of 1000 to 5000. is particularly preferred.
  • Mn number average molecular weight
  • the lubricant containing the fluorine-containing ether compound of the present embodiment is difficult to evaporate, and the lubricant can be prevented from evaporating and transferring to the magnetic head.
  • the number average molecular weight is 10,000 or less, the fluorine-containing ether compound has an appropriate viscosity, and a thin lubricating layer can be easily formed by applying a lubricant containing this.
  • a number average molecular weight of 5,000 or less is more preferable because the viscosity becomes easy to handle when applied to a lubricant.
  • the number average molecular weight (Mn) of the fluorine-containing ether compound is a value measured by 1 H-NMR and 19 F-NMR using AVANCEIII400 manufactured by Bruker Biospin.
  • NMR nuclear magnetic resonance
  • the sample was diluted with hexafluorobenzene, d-acetone, d-tetrahydrofuran or the like alone or in a mixed solvent and used for the measurement.
  • the hexafluorobenzene peak was -164.7 ppm.
  • the acetone peak was set at 2.2 ppm.
  • the method for producing the fluorine-containing ether compound of the present embodiment is not particularly limited, and it can be produced using a conventionally known production method.
  • the fluorine-containing ether compound of the present embodiment can be produced, for example, using the production method shown below.
  • a case of producing a compound having a symmetrical structure centered on R 4 as the fluorine-containing ether compound represented by formula (1) will be described as an example.
  • the three PFPE chains represented by R 2 , R 4 and R 6 in formula (1) have the same structure, R 1 and R 7 are the same, and R 3 and R 5 are the same.
  • a case of producing a compound will be described as an example.
  • a fluorine-based compound is prepared in which hydroxymethyl groups (--CH 2 OH) are arranged at both ends of the perfluoropolyether chain corresponding to R 4 in formula (1).
  • This gives intermediate compound 1 having epoxy groups corresponding to R 3 ( R 5 ) at both ends of the perfluoropolyether chain corresponding to R 4 .
  • the halogen compound having an epoxy group used in the first reaction includes epichlorohydrin, epibromohydrin, 2-(2-bromoethyl)oxirane, 2-(2-chloroethyl)oxirane, 2-(3-bromopropyl)oxirane, 2-(3-chloropropyl)oxirane and the like.
  • the halogen compound having an epoxy group includes, for example, 2-(2-bromoethyl)oxirane, 2-(2-chloroethyl)oxirane, 2-(3-bromopropyl)oxirane, 2-(3-chloropropyl)oxirane and the like can be used.
  • the epoxy compound used in the second reaction is, for example, an alcohol having a structure corresponding to R 1 (or R 7 ) of the fluorine-containing ether compound to be produced. , epichlorohydrin, epibromohydrin, 2-bromoethyloxirane, and allyl glycidyl ether.
  • an epoxy compound may be synthesized by a method of oxidizing an unsaturated bond, or a commercially available product may be purchased and used.
  • the hydroxyl group of the hydroxymethyl group placed at one end of the intermediate compound 2 is reacted with the epoxy groups placed at both ends of the intermediate compound 1 (third reaction).
  • the three PFPE chains represented by R 2 , R 4 and R 6 in formula (1) have the same structure, R 1 and R 7 are the same, R 3 and R 5 are the same.
  • the order of the first reaction and the second reaction may be reversed.
  • R 2 , R 4 and R 6 are the same, R 3 and R 5 are the same, and R 1 and R 7 are different.
  • R 2 , R 4 and R 6 are the same, R 1 and R 7 are the same, and R 3 and R 5 are different.
  • R 2 , R 4 and R 6 are the same, R 1 and R 7 are the same, and R 3 and R 5 are different.
  • a compound it can manufacture using the manufacturing method shown below. That is, in the first reaction described above, a halogen compound having an epoxy group corresponding to R 3 and an epoxy group corresponding to R 5 are added to the hydroxyl group of the hydroxymethyl group arranged at each end of the fluorine-based compound. and the halogen compounds possessed are sequentially reacted. This results in intermediate compound 1a having an epoxy group corresponding to R 3 at one end of the perfluoropolyether chain corresponding to R 4 and an epoxy group corresponding to R 5 at the other end. Thereafter, it can be produced by a method using intermediate compound 1a in place of intermediate compound 1 in the third reaction described above.
  • fluorine-containing ether compound represented by formula (1) two compounds represented by R 1 and R 7 are the same, R 3 and R 5 are the same, and R 2 and R 6 are When producing a compound in which the PFPE chain and the PFPE chain represented by R4 are different, it can be produced using the production method shown below. That is, in the first reaction and the second reaction described above, fluorine-based compounds having different types of PFPE chains are used, and other than that, the same method as described above can be used.
  • R 1 and R 7 are the same or different, R 3 and R 5 are the same, and R 2 , R 4 and R 6
  • R 1 and R 7 are the same or different, R 3 and R 5 are the same, and R 2 , R 4 and R 6
  • the PFPE chains shown are to produce different compounds, they can be produced using the production method shown below. That is, in the above-described second reaction, two types of fluorine-based compounds having different types of PFPE chains from the fluorine-based compound used in the first reaction are used as the fluorine-based compounds.
  • intermediate compound 2c having a group corresponding to R1 at one end of the perfluoropolyether chain corresponding to R2 and one end of the perfluoropolyether chain corresponding to R6 and intermediate compound 2d having a group corresponding to R 7 are synthesized, respectively.
  • ionic contaminants present on the surface of the magnetic recording media. Most of the ionic contaminants adhere from the outside during the manufacturing process of the magnetic recording medium. Ionic contaminants may also be generated when environmental substances that enter a hard disk drive (magnetic recording/reproducing device) adhere to the magnetic recording medium. Specifically, for example, water containing environmental substances such as ions may adhere to the surface of the magnetic recording medium when the magnetic recording medium and/or hard disk drive are held under high temperature and high humidity conditions. When water containing environmental substances such as ions passes through the lubricating layer formed on the surface of the magnetic recording medium, it condenses minute ionic components existing under the lubricating layer to generate ionic contaminants.
  • the fluorine-containing ether compound of the present embodiment is a compound represented by formula (1)
  • a lubricating layer containing this compound has a high corrosion-inhibiting effect that prevents contaminants from entering the inside of the magnetic recording medium.
  • This effect is achieved by the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound of the present embodiment having the following functions ⁇ 1> to ⁇ 5>, so that it has excellent adhesion to the protective layer, has appropriate hydrophobicity, This is obtained by the synergistic effect of being easily formed on the protective layer in a uniform covering state.
  • the above lubricating layer comprises one or more hydroxyl groups (--OH) respectively possessed by R 3 and R 5 in the compound represented by formula (1), and two or three each of R 1 and R 7 Due to the polar groups contained, favorable interaction occurs with the protective layer and adhesion to the protective layer occurs. Therefore, the lubricating layer can prevent contaminants from entering the magnetic recording medium and suppress corrosion of the magnetic recording medium.
  • the three perfluoropolyether chains (R 2 , R 4 , R 6 ) are arranged between R 1 and R 3 and between R 3 and R 5 and between R5 and R7 , respectively. Therefore, the distance between the polar group of R 1 and the hydroxyl group of R 3 , the distance between the hydroxyl groups of R 3 and R 5 , and the distance between the hydroxyl group of R 5 and the polar group of R 7 are all Appropriate. Therefore, both the hydroxyl groups of R 3 and R 5 and the polar groups of R 1 and R 7 are less likely to be inhibited from bonding with the active sites on the protective layer by adjacent polar groups.
  • both the hydroxyl groups of R 3 and R 5 and the polar groups of R 1 and R 7 are likely to participate in bonding with the active sites on the protective layer.
  • all the polar groups of the fluorine-containing ether compound are unlikely to be polar groups that do not participate in bonding with the active sites on the protective layer.
  • the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound has a reduced number of polar groups that do not participate in bonding with active sites on the protective layer, and exhibits excellent adhesion to the protective layer.
  • the distance between the hydroxyl group of R3 and the hydroxyl group of R5 , the distance between the polar group of R1 and the hydroxyl group of R3 , and the distance between the hydroxyl group of R5 and the polar group of R7 are Since all of them are appropriate, the intramolecular interaction between the polar groups of R 3 , R 5 , R 1 and R 7 is small and aggregation is difficult to occur. Therefore, the fluorine-containing ether compound represented by the formula (1) easily wets and spreads on the protective layer, has a uniform coating state, has a high coverage rate, and forms a lubricating layer with good adhesion on the protective layer. can.
  • both ends of each perfluoropolyether chain (R 2 , R 4 , R 6 ) are adhered to the protective layer by the polar groups of any one of R 3 , R 5 , R 1 , R 7 . Therefore, the fluorine-containing ether compound coated on the protective layer is unlikely to be bulky. Therefore, the fluorine-containing ether compound represented by the formula (1) easily wets and spreads on the protective layer, has a uniform coating state, has a high coverage rate, and forms a lubricating layer with good adhesion on the protective layer. can.
  • the fluorine-containing ether compound represented by formula (1) has three perfluoropolyether chains (R 2 , R 4 , R 6 ). Each perfluoropolyether chain contained in the lubricating layer coats the surface of the protective layer and imparts water resistance to the lubricating layer due to its low surface energy.
  • the fluorine-containing ether compound represented by formula (1) contained in the lubricating layer undergoes thermal molecular motion when held under high temperature and high humidity conditions. Water containing environmental substances such as ions is thought to enter through gaps between molecules moving in the lubricating layer.
  • the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound represented by the formula (1) has appropriate water resistance and hydrophobicity, water enters the magnetic recording medium through the gaps between the molecules moving in the lubricating layer. and improve the corrosion resistance of magnetic recording media.
  • R 3 is a linking group represented by formula (2)
  • R 5 is a linking group represented by formula (3)
  • a in (2) and c in formula (3) are not 1 at the same time. That is, the fluorine-containing ether compound represented by formula (1) has 2 or 3 carbon atoms between the carbon atom bonded to the hydroxyl group in formula (2) and/or formula (3) and R4 . It has a methylene chain. Therefore, the fluorine-containing ether compound represented by formula (1) has R 3 and/or Alternatively , the number of carbon atoms contained in the linking group represented by R5 is large and the hydrophobicity is good. As a result, the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound represented by formula (1) is difficult for water to pass through and can prevent water from penetrating into the magnetic recording medium.
  • the polar groups contained in R 1 and R 7 are respectively bonded to different carbon atoms, and the carbon atoms to which the polar groups are bonded are It is attached through a linking group containing a carbon atom to which no polar group is attached. Therefore, depending on the hydrophobicity of the carbon atoms to which the polar groups contained in R 1 and R 7 are bonded and the carbon atoms contained in the linking groups of R 1 and R 7 , A lubricating layer containing a fluorine ether compound has appropriate hydrophobicity. As a result, the lubricating layer containing the fluorine-containing ether compound represented by formula (1) is difficult for water to pass through, can prevent water from penetrating into the magnetic recording medium, and can suppress corrosion of the magnetic recording medium. becomes.
  • the lubricant for magnetic recording media of this embodiment contains a fluorine-containing ether compound represented by formula (1).
  • the lubricant of the present embodiment may optionally contain a known material used as a lubricant material within a range that does not impair the characteristics due to the inclusion of the fluorine-containing ether compound represented by formula (1). They can be mixed and used according to need.
  • the known material used by mixing with the lubricant of the present embodiment preferably has a number average molecular weight of 1,000 to 10,000.
  • the inclusion of the fluorine-containing ether compound represented by formula (1) in the lubricant of the present embodiment is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more.
  • the content of the fluorine-containing ether compound represented by formula (1) may be 80% by mass or more, or may be 90% by mass or more.
  • the lubricant of the present embodiment contains the fluorine-containing ether compound represented by formula (1), it is possible to form a lubricating layer highly effective in suppressing corrosion of the magnetic recording medium.
  • the lubricating layer made of the lubricant of the present embodiment is highly effective in suppressing corrosion of the magnetic recording medium, and thus can be made thin.
  • the magnetic recording medium of this embodiment has at least a magnetic layer, a protective layer and a lubricating layer sequentially provided on a substrate.
  • one or more underlayers can be provided between the substrate and the magnetic layer, if necessary.
  • An adhesion layer and/or a soft magnetic layer can also be provided between the underlayer and the substrate.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of the magnetic recording medium of the present invention.
  • the magnetic recording medium 10 of the present embodiment includes an adhesive layer 12, a soft magnetic layer 13, a first underlayer 14, a second underlayer 15, a magnetic layer 16, a protective layer 17, and an adhesive layer 12 on a substrate 11.
  • a lubricating layer 18 is sequentially provided.
  • a non-magnetic substrate or the like can be used in which a film made of NiP or a NiP alloy is formed on a substrate made of a metal such as Al or an Al alloy or an alloy material.
  • a non-magnetic substrate made of non-metallic materials such as glass, ceramics, silicon, silicon carbide, carbon, and resin may be used.
  • a non-magnetic substrate having a film formed thereon may be used.
  • the adhesion layer 12 prevents the progress of corrosion of the substrate 11 that occurs when the substrate 11 and the soft magnetic layer 13 provided on the adhesion layer 12 are arranged in contact with each other.
  • the material of the adhesion layer 12 can be appropriately selected from, for example, Cr, Cr alloy, Ti, Ti alloy, CrTi, NiAl, AlRu alloy, and the like.
  • the adhesion layer 12 can be formed by, for example, a sputtering method.
  • the soft magnetic layer 13 preferably has a structure in which a first soft magnetic film, an intermediate layer made of a Ru film, and a second soft magnetic film are laminated in this order. That is, the soft magnetic layer 13 has a structure in which the soft magnetic films above and below the intermediate layer are antiferro-coupling (AFC) coupled by sandwiching an intermediate layer made of Ru film between two layers of soft magnetic films. It is preferable to have
  • Materials for the first soft magnetic film and the second soft magnetic film include CoZrTa alloy and CoFe alloy. Any one of Zr, Ta, and Nb is preferably added to the CoFe alloy used for the first soft magnetic film and the second soft magnetic film. This promotes amorphization of the first soft magnetic film and the second soft magnetic film, improves the orientation of the first underlayer (seed layer), and reduces the flying height of the magnetic head. becomes.
  • the soft magnetic layer 13 can be formed by sputtering, for example.
  • the first underlayer 14 is a layer that controls the orientation and crystal size of the second underlayer 15 and the magnetic layer 16 provided thereon.
  • Examples of the first underlayer 14 include a Cr layer, a Ta layer, a Ru layer, a CrMo alloy layer, a CoW alloy layer, a CrW alloy layer, a CrV alloy layer, and a CrTi alloy layer.
  • the first underlayer 14 can be formed by, for example, a sputtering method.
  • the second underlayer 15 is a layer for controlling the orientation of the magnetic layer 16 to be good.
  • the second underlayer 15 is preferably a layer made of Ru or a Ru alloy.
  • the second underlayer 15 may be a layer consisting of one layer, or may be composed of a plurality of layers. When the second underlayer 15 is composed of multiple layers, all layers may be composed of the same material, or at least one layer may be composed of different materials.
  • the second underlayer 15 can be formed by, for example, a sputtering method.
  • the magnetic layer 16 is composed of a magnetic film having an axis of easy magnetization oriented perpendicularly or horizontally with respect to the substrate surface.
  • the magnetic layer 16 is a layer containing Co and Pt, and may be a layer containing oxides, Cr, B, Cu, Ta, Zr, etc. in order to improve the SNR characteristics.
  • oxides contained in the magnetic layer 16 include SiO 2 , SiO, Cr 2 O 3 , CoO, Ta 2 O 3 and TiO 2 .
  • the magnetic layer 16 may be composed of one layer, or may be composed of a plurality of magnetic layers made of materials with different compositions.
  • the first magnetic layer contains Co, Cr, and Pt, and is oxidized. It is preferably a granular structure made of a material containing matter.
  • the oxide contained in the first magnetic layer it is preferable to use, for example, oxides of Cr, Si, Ta, Al, Ti, Mg, Co, and the like. Among these, TiO 2 , Cr 2 O 3 , SiO 2 and the like can be particularly preferably used.
  • the first magnetic layer is preferably made of a composite oxide to which two or more kinds of oxides are added.
  • Cr 2 O 3 —SiO 2 , Cr 2 O 3 —TiO 2 , SiO 2 —TiO 2 and the like can be particularly preferably used.
  • the first magnetic layer contains Co, Cr, Pt, oxides, and at least one element selected from B, Ta, Mo, Cu, Nd, W, Nb, Sm, Tb, Ru, and Re. can contain.
  • the same material as the first magnetic layer can be used for the second magnetic layer.
  • the second magnetic layer preferably has a granular structure.
  • the third magnetic layer preferably has a non-granular structure made of a material containing Co, Cr, Pt and no oxide.
  • the third magnetic layer contains one or more elements selected from B, Ta, Mo, Cu, Nd, W, Nb, Sm, Tb, Ru, Re, and Mn. be able to.
  • the magnetic layer 16 When the magnetic layer 16 is composed of a plurality of magnetic layers, it is preferable to provide a non-magnetic layer between adjacent magnetic layers. When the magnetic layer 16 is composed of three layers, the first magnetic layer, the second magnetic layer, and the third magnetic layer, the magnetic layer between the first magnetic layer and the second magnetic layer and between the second magnetic layer and the third magnetic layer It is preferable to provide a non-magnetic layer between them.
  • Non-magnetic layers provided between adjacent magnetic layers of the magnetic layer 16 are, for example, Ru, Ru alloy, CoCr alloy, CoCrX1 alloy (X1 is Pt, Ta, Zr, Re, Ru, Cu, Nb, Ni, Mn, represents one or more elements selected from Ge, Si, O, N, W, Mo, Ti, V, and B.), etc. can be preferably used.
  • Non-magnetic layers provided between adjacent magnetic layers of the magnetic layer 16 preferably use an alloy material containing oxides, metal nitrides, or metal carbides.
  • SiO 2 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , Cr 2 O 3 , MgO, Y 2 O 3 , TiO 2 and the like can be used as oxides.
  • AlN, Si 3 N 4 , TaN, CrN, etc. can be used as metal nitrides, for example.
  • TaC, BC, SiC, etc. can be used as metal carbides, for example.
  • the non-magnetic layer can be formed, for example, by sputtering.
  • the magnetic layer 16 is preferably a magnetic layer for perpendicular magnetic recording in which the axis of easy magnetization is oriented perpendicular to the substrate surface.
  • the magnetic layer 16 may be a magnetic layer for longitudinal magnetic recording.
  • the magnetic layer 16 may be formed by any conventionally known method such as a vapor deposition method, an ion beam sputtering method, a magnetron sputtering method, or the like.
  • the magnetic layer 16 is usually formed by a sputtering method.
  • the protective layer 17 protects the magnetic layer 16 .
  • the protective layer 17 may be composed of a single layer, or may be composed of a plurality of layers. Examples of materials for the protective layer 17 include carbon, nitrogen-containing carbon, and silicon carbide.
  • a carbon-based protective layer can be preferably used, and an amorphous carbon protective layer is particularly preferred. It is preferable that the protective layer 17 is a carbon-based protective layer because the interaction with the hydroxyl groups contained in the fluorine-containing ether compound in the lubricating layer 18 is further increased.
  • the adhesion between the carbon-based protective layer and the lubricating layer 18 can be adjusted by using hydrogenated carbon and/or nitrogenated carbon as the carbon-based protective layer and adjusting the hydrogen content and/or nitrogen content in the carbon-based protective layer.
  • the hydrogen content in the carbon-based protective layer is preferably 3 to 20 atomic % as measured by hydrogen forward scattering spectroscopy (HFS).
  • the nitrogen content in the carbon-based protective layer is preferably 4 to 15 atomic % when measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).
  • the hydrogen and/or nitrogen contained in the carbon-based protective layer need not be contained uniformly throughout the carbon-based protective layer.
  • the carbon-based protective layer is preferably a composition gradient layer in which, for example, the protective layer 17 on the lubricating layer 18 side contains nitrogen and the protective layer 17 on the magnetic layer 16 side contains hydrogen. In this case, the adhesion between the magnetic layer 16 and lubricating layer 18 and the carbon-based protective layer is further improved.
  • the film thickness of the protective layer 17 is preferably 1 nm to 7 nm. When the film thickness of the protective layer 17 is 1 nm or more, the performance as the protective layer 17 is sufficiently obtained. It is preferable from the viewpoint of thinning the protective layer 17 that the film thickness of the protective layer 17 is 7 nm or less.
  • a sputtering method using a target material containing carbon a sputtering method using a target material containing carbon, a CVD (chemical vapor deposition) method using a hydrocarbon raw material such as ethylene or toluene, an IBD (ion beam deposition) method, or the like may be used.
  • a carbon-based protective layer is formed as the protective layer 17, it can be formed by, for example, a DC magnetron sputtering method.
  • a plasma CVD method when forming a carbon-based protective layer as the protective layer 17, it is preferable to form an amorphous carbon protective layer by a plasma CVD method.
  • the amorphous carbon protective layer formed by the plasma CVD method has a uniform surface and a small roughness.
  • Lubricating layer 18 prevents contamination of magnetic recording medium 10 .
  • the lubricating layer 18 reduces the frictional force of the magnetic head of the magnetic recording/reproducing device that slides on the magnetic recording medium 10 , thereby improving the durability of the magnetic recording medium 10 .
  • the lubricating layer 18 is formed on and in contact with the protective layer 17 as shown in FIG.
  • Lubricating layer 18 contains the fluorine-containing ether compound described above.
  • the lubricating layer 18 is particularly bonded to the protective layer 17 with high bonding strength when the protective layer 17 arranged under the lubricating layer 18 is a carbon-based protective layer. As a result, even if the thickness of the lubricating layer 18 is small, it becomes easy to obtain the magnetic recording medium 10 in which the surface of the protective layer 17 is coated with a high coverage rate, and contamination of the surface of the magnetic recording medium 10 can be effectively prevented. .
  • the average film thickness of the lubricating layer 18 is preferably 0.5 nm (5 ⁇ ) to 2.0 nm (20 ⁇ ), more preferably 0.5 nm (5 ⁇ ) to 1.0 nm (10 ⁇ ).
  • the average thickness of the lubricating layer 18 is 0.5 nm or more, the lubricating layer 18 is formed with a uniform thickness without being island-like or network-like. Therefore, the surface of the protective layer 17 can be covered with the lubricating layer 18 at a high coverage rate. Further, by setting the average film thickness of the lubricating layer 18 to 2.0 nm or less, the lubricating layer 18 can be made sufficiently thin, and the flying height of the magnetic head can be made sufficiently small.
  • the environmental substances adsorbed to the surface of the magnetic recording medium 10 pass through the gaps in the lubricating layer 18 and reach under the lubricating layer 18. invade.
  • Environmental substances that have entered under the lubricating layer 18 are adsorbed and bonded to the protective layer 17 to generate contaminants.
  • the generated contaminants (cohesive components) adhere (transfer) to the magnetic head as smear during magnetic recording and reproduction, damaging the magnetic head and degrading the magnetic recording and reproduction characteristics of the magnetic recording and reproducing device. .
  • Examples of environmental substances that generate contaminants include siloxane compounds (cyclic siloxane, linear siloxane), ionic impurities, hydrocarbons with relatively high molecular weights such as octacosane, and plasticizers such as dioctyl phthalate.
  • Examples of metal ions contained in ionic impurities include sodium ions and potassium ions.
  • Examples of inorganic ions contained in ionic impurities include chloride ions, bromide ions, nitrate ions, sulfate ions, and ammonium ions.
  • Examples of organic ions contained in ionic impurities include oxalate ions and formate ions.
  • Method for Forming a Lubricating Layer As a method of forming the lubricating layer 18, for example, a magnetic recording medium in the middle of production in which each layer up to the protective layer 17 is formed on the substrate 11 is prepared, a lubricating layer forming solution is applied onto the protective layer 17, A drying method may be mentioned.
  • the lubricating layer forming solution is obtained by dispersing and dissolving the magnetic recording medium lubricant of the above-described embodiment in a solvent, if necessary, and adjusting the viscosity and concentration suitable for the coating method.
  • the solvent used for the lubricating layer forming solution include fluorine-based solvents such as Vertrel (registered trademark) XF (trade name, manufactured by DuPont-Mitsui Fluorochemicals).
  • the method of applying the lubricating layer-forming solution is not particularly limited, and examples thereof include a spin coating method, a spray method, a paper coating method, a dipping method, and the like.
  • the dipping method for example, the following method can be used. First, the substrate 11 on which the layers up to the protective layer 17 are formed is immersed in a lubricating layer forming solution placed in an immersion tank of a dip coater. Next, the substrate 11 is pulled up from the immersion bath at a predetermined speed. As a result, the lubricating layer forming solution is applied to the surface of the protective layer 17 of the substrate 11 .
  • the lubricating layer forming solution can be uniformly applied to the surface of the protective layer 17 , and the lubricating layer 18 can be formed on the protective layer 17 with a uniform film thickness.
  • the burnishing process can be, for example, a process of scanning a burnishing tape over the surface of the substrate 11 on which the lubricating layer 18 is formed.
  • the varnish tape for example, one made of a resin film holding abrasive grains can be used.
  • the grain size of the abrasive grains can be, for example, #6000 to #20000.
  • the heat treatment temperature is preferably 100 to 180°C.
  • the heat treatment time is preferably 10 to 120 minutes.
  • the magnetic recording medium 10 of the present embodiment has at least a magnetic layer 16, a protective layer 17, and a lubricating layer 18 successively provided on a substrate 11.
  • FIG. In the magnetic recording medium 10 of this embodiment, a lubricating layer 18 containing the fluorine-containing ether compound is formed on and in contact with the protective layer 17 .
  • This lubricating layer 18 is highly effective in suppressing corrosion of the magnetic recording medium 10 . Therefore, the magnetic recording medium 10 of the present embodiment has less contaminants on the surface, excellent corrosion resistance, and good reliability and durability.
  • the magnetic recording medium 10 of the present embodiment has the lubricating layer 18 having a high corrosion inhibiting effect, the thickness of the protective layer 17 and/or the lubricating layer 18 can be reduced.
  • the lubricating layer 18 in the magnetic recording medium 10 of the present embodiment is less likely to generate foreign matter (smear) and can suppress pickup.
  • Example 1 The compound represented by the above formula (A) was produced by the method shown below.
  • first reaction In a nitrogen gas atmosphere, a compound represented by HOCH 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 O) r CF 2 CH 2 OH (r indicating the average degree of polymerization in the formula is 2.5) was placed in a 200 mL eggplant flask.
  • Numberer average molecular weight 468, molecular weight distribution 1.1 9.4 g (20 mmol), 1.76 g (44 mmol) of 60% sodium hydride, and 15.6 mL of N,N-dimethylformamide were charged and homogenized at room temperature. Stir until it becomes 6.34 g (42 mmol) of 2-(2-bromoethyl)oxirane was added to this homogeneous liquid, and the mixture was stirred at 40° C. for 2 hours to react.
  • the compound represented by formula (11) is synthesized by protecting one hydroxyl group of 1,3-propanediol with a THP group (tetrahydropyranyl group) and reacting the other hydroxyl group with epibromohydrin. did.
  • the reaction product obtained after the reaction was cooled to 25° C., transferred to a separatory funnel containing 100 mL of water, and extracted three times with 100 mL of ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate.
  • THP represents a tetrahydropyranyl group.
  • r indicating the average degree of polymerization is 2.5.
  • reaction product obtained after the reaction was cooled to 25° C., transferred to a separatory funnel containing 100 mL of water, and extracted three times with 100 mL of ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate.
  • Example 2 In the first reaction, instead of the compound represented by HOCH 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 O) r CF 2 CH 2 OH (in the formula, r indicating the average degree of polymerization is 2.5), HOCH 2 CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) q CF 2 CF 2 CH 2 OH (in the formula, q indicating the average degree of polymerization is 2.5) (number average molecular weight 693, molecular weight distribution 1.1) was used, and in the second reaction, HOCH 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 O) r CF 2 CH 2 OH (r indicating the average degree of polymerization in the formula is 2.5.) instead of the compound represented by HOCH 2 CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) q CF 2 CF 2 CH 2 OH (q indicating the average degree of polymerization in the formula is 2.5.) Using 20.8 g of a compound represented by
  • a compound represented by formula (13) was synthesized by the following method.
  • a TBS group (tert-butyldimethylsilyl group) was introduced to the primary hydroxyl group of 3-allyloxy-1,2-propanediol, and a MOM group (methoxymethyl group) was introduced to the secondary hydroxyl group of the obtained compound.
  • the resulting primary hydroxyl group was reacted with 2-(chloropropoxy)tetrahydro-2H-pyran. The double bond of the resulting compound was oxidized.
  • a compound represented by formula (13) was obtained.
  • THP represents a tetrahydropyranyl group
  • MOM represents a methoxymethyl group
  • the compound represented by formula (14) was synthesized by introducing a THP group (tetrahydropyranyl group) to the primary hydroxyl group of 3-buten-1-ol and oxidizing the double bond of the resulting compound. .
  • THP represents a tetrahydropyranyl group.
  • Example 4 In the second reaction, the same operation as in Example 1 was performed except that 4.76 g of the compound represented by the following formula (15) was used instead of the compound represented by the formula (11). D) (Fpd 1 and Fpd 2 in formula (D) are represented by formula (DF). rd indicating the average degree of polymerization in Fpd 1 is 2.5, the average degree of polymerization in Fpd 2 is 2.5.) was obtained (molecular weight: 1897, 1.8 mmol).
  • a compound represented by formula (15) was synthesized by the following method. 1,2,4-Butanetriol was reacted with benzaldehyde dimethylacetal to synthesize a compound in which the hydroxyl groups bonded to the 2- and 4-position carbons of 1,2,4-butanetriol were protected. A compound represented by the formula (15) was synthesized by reacting this compound with 2-bromoethyloxirane.
  • Example 5 In the second reaction, the same operation as in Example 2 was performed except that 3.64 g of the compound represented by the following formula (16) was used instead of the compound represented by the formula (13). E) (Fde 1 and Fde 2 in formula (E) are represented by formula (EF). qe, which indicates the average degree of polymerization in Fde 1 , is 2.5, and the average degree of polymerization in Fde 2 is 2.5.) was obtained (molecular weight: 2456, 1.8 mmol).
  • the compound represented by formula (16) was synthesized by oxidizing a compound in which ethylene glycol monoallyl ether was protected using dihydropyran.
  • THP represents a tetrahydropyranyl group.
  • Example 6 In the second reaction, the same operation as in Example 2 was performed except that 3.89 g of the compound represented by the following formula (17) was used instead of the compound represented by the formula (13).
  • F) (Fdf 1 and Fdf 2 in formula (F) are represented by formula (FF).
  • qf which indicates the average degree of polymerization in Fdf 1 , is 2.5, and the average degree of polymerization in Fdf 2 is is 2.5.) was obtained (molecular weight: 2484, 1.8 mmol).
  • the compound represented by formula (17) was synthesized by oxidizing the double bond of the compound obtained by reacting 3-buten-1-ol and 2-bromoethoxytetrahydropyran.
  • THP represents a tetrahydropyranyl group.
  • Example 7 In the second reaction, the same operation as in Example 3 was performed except that 4.51 g of the compound represented by the following formula (18) was used instead of the compound represented by the formula (14).
  • G) (Ffg 1 and Ffg 2 in formula (G) are represented by formula (GF).
  • sg and tg indicating the average degree of polymerization in Ffg 1 are 2.5
  • the average in Ffg 2 sg and tg indicating the degree of polymerization are 2.5.) was obtained (molecular weight: 2364, 1.8 mmol).
  • a compound represented by formula (18) was synthesized by the following method. 1,2,4-Butanetriol was reacted with benzaldehyde dimethylacetal to synthesize a compound in which the hydroxyl groups bonded to the 2- and 4-position carbons of 1,2,4-butanetriol were protected. A compound represented by the formula (18) was synthesized by reacting this compound with epibromohydrin.
  • Example 8 instead of 2-(2-bromoethyl)oxirane in the first reaction, 2-(3-bromopropyl)oxirane was used, and in the second reaction instead of the compound represented by formula (11), the following formula The same operation as in Example 1 was performed except that 3.35 g of the compound represented by (19) was used, and the compound represented by the above formula (H) (Fph 1 and Fph 2 in formula (H)) was is represented by the formula (HF), where rh indicating the average degree of polymerization in Fph 1 is 2.5, and rh indicating the average degree of polymerization in Fph 2 is 2.5. molecular weight 1777, 1.8 mmol).
  • the compound represented by formula (19) was synthesized by introducing a THP group (tetrahydropyranyl group) to the primary hydroxyl group of 4-penten-1-ol and oxidizing the double bond of the resulting compound. .
  • THP represents a tetrahydropyranyl group.
  • Example 9 instead of 2-(2-bromoethyl)oxirane in the first reaction, 2-(3-bromopropyl)oxirane was used, and in the second reaction instead of the compound represented by formula (13), the following formula The same operation as in Example 2 was performed except that 6.99 g of the compound represented by (20) was used, and the compounds represented by the above formula (I) (Fdi 1 and Fdi 2 in formula (I)) were obtained. is represented by the formula (IF), qi indicating the average degree of polymerization in Fdi1 is 2.5 , and qi indicating the average degree of polymerization in Fdi2 is 2.5. , 1.8 mmol).
  • a compound represented by formula (20) was synthesized by the following method. Ethylene glycol monoallyl ether was used to oxidize the protected compound using dihydropyran to obtain the first compound. A second compound was obtained by reacting the first compound with the hydroxyl group of 4-penten-1-ol. The double bond of the compound in which the secondary hydroxyl group of the second compound was protected with a THP group was oxidized. Through the above steps, a compound represented by formula (20) was obtained.
  • THP represents a tetrahydropyranyl group.
  • Example 10 Instead of 2-(2-bromoethyl)oxirane in the first reaction, 2-(3-bromopropyl)oxirane was used, and in the second reaction instead of the compound represented by formula (14), the following formula The same operation as in Example 3 was performed except that 5.77 g of the compound represented by ( 21) was used. (JF), sj and tj indicating the average degree of polymerization in Ffj 1 are 2.5, and sj and tj indicating the average degree of polymerization in Ffj 2 are 2.5). (molecular weight 2452, 1.8 mmol).
  • a compound represented by formula (21) was synthesized by the following method.
  • a tert-butyldimethylsilyl (TBS) group is introduced as a protecting group to the primary hydroxyl group of 3-allyloxy-1,2-propanediol, and methoxymethyl (MOM) as a protecting group to the secondary hydroxyl group of the resulting compound. group was introduced. Thereafter, the TBS group was removed from the compound, and the resulting primary hydroxyl group was reacted with 2-bromoethoxytetrahydropyran. The double bond of the resulting compound was oxidized. Through the above steps, a compound represented by formula (21) was obtained.
  • THP represents a tetrahydropyranyl group
  • MOM represents a methoxymethyl group
  • Example 12 In the second reaction, instead of the compound represented by HOCH 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 O) r CF 2 CH 2 OH (in the formula, r indicating the average degree of polymerization is 2.5), HOCH 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 O) s (CF 2 O) t CF 2 CH 2 OH (s and t indicating the average degree of polymerization in the formula are 2.5) (number Except that an average molecular weight of 633 and a molecular weight distribution of 1.1) was used, and 6.02 g of a compound represented by the following formula (22) was used instead of the compound represented by the formula (11).
  • a compound represented by formula (22) was synthesized by the following method.
  • the ethylene glycol monoallyl ether was protected using dihydropyran, and the resulting compound was oxidized to give the first compound.
  • the first compound was reacted with the hydroxyl group of 3-buten-1-ol to obtain a second compound.
  • a compound represented by the formula (22) was obtained by protecting the secondary hydroxyl group of the obtained second compound with a MOM group and oxidizing the double bond.
  • THP represents a tetrahydropyranyl group
  • MOM represents a methoxymethyl group
  • Example 8 The same operation as in Example 8 was performed to obtain a compound represented by the above formula (M) (Fdm 1 and Fpm 1 in formula (M) are represented by formula (MF).
  • the average degree of polymerization in Fdm 1 was The indicated qm is 2.5 and the rm indicating the average degree of polymerization in Fpm 1 is 2.5.) was obtained (molecular weight: 2287, 1.8 mmol).
  • Example 14 Represented by HOCH 2 CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) q CF 2 CF 2 CH 2 OH in the second reaction (q indicating the average degree of polymerization in the formula is 2.5)
  • a compound ( number average molecular weight 468, molecular weight distribution 1.1) was used in the same manner as in Example 2, the compound represented by the above formula (N) (Fdn 1 , Fpn 1 in formula (N) is represented by the formula (NF), qn indicating the average degree of polymerization in Fdn 1 is 2.5, and rn indicating the average degree of polymerization in Fpn 1 is 2.5.
  • molecular weight 2182, 1.8 mmol molecular weight
  • Example 15 In the second reaction, the same operation as in Example 14 was performed except that 4.76 g of the compound represented by the above formula (15) was used instead of the compound represented by the above formula (13).
  • the compound represented by (O) (Fdo 1 and Fpo 1 in formula (O) are represented by formula (OF). qo indicating the average degree of polymerization in Fdo 1 is 2.5, and in Fpo 1 is 2.5.) was obtained (molecular weight: 2122, 1.8 mmol).
  • Example 16 Represented by HOCH 2 CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) q CF 2 CF 2 CH 2 OH in the second reaction (q indicating the average degree of polymerization in the formula is 2.5) Instead of the compound, HOCH 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 O) s (CF 2 O) t CF 2 CH 2 OH (where s and t indicate the average degree of polymerization are 2.5).
  • the compound represented by formula (23) was synthesized by protecting one hydroxyl group of 1,4-butanediol with a THP group and reacting the other hydroxyl group with epibromohydrin.
  • THP represents a tetrahydropyranyl group.
  • Example 17 Represented by HOCH 2 CF 2 CF 2 O (CF 2 CF 2 CF 2 O) q CF 2 CF 2 CH 2 OH in the second reaction (q indicating the average degree of polymerization in the formula is 2.5) Instead of the compound, HOCH 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 O) s (CF 2 O) t CF 2 CH 2 OH (where s and t indicate the average degree of polymerization are 2.5).
  • the compound represented by formula (24) was synthesized by introducing a THP group (tetrahydropyranyl group) to the primary hydroxyl group of 5-hexen-1-ol and oxidizing the double bond of the resulting compound. .
  • THP represents a tetrahydropyranyl group.
  • the average degree of polymerization in Fft 1 is st and tt are 2.5, and rt, which indicates the average degree of polymerization in Fpt 1 , is 2.5.) was obtained (molecular weight: 2090, 1.8 mmol).
  • a compound represented by formula (25) was synthesized by the following method.
  • the secondary hydroxyl group of the compound obtained by reacting the compound represented by formula (19) with allyl alcohol was protected with a MOM group.
  • a compound represented by the formula (25) was obtained by oxidizing the double bond of the obtained compound.
  • THP represents a tetrahydropyranyl group
  • MOM represents a methoxymethyl group
  • Fpab 1 and Ffab 1 in formula (AB) are represented by formula (ABF).
  • pab indicating the average degree of polymerization in Fpab 1 is 2.5
  • mab indicating the average degree of polymerization in Ffab 1
  • Each nab represents 2.5.
  • Fpac 1 and Ffac 1 in formula (AC) are represented by formula (ACF).
  • pac which indicates the average degree of polymerization in Fpac 1
  • mac which indicates the average degree of polymerization in Ffac 1
  • Each nac represents 2.5.
  • Fpad 1 and Ffad 1 in the formula (AD) are represented by the formula (ADF).
  • Pad indicating the average degree of polymerization in Fpad 1 is 2.5, mad indicating the average degree of polymerization in Ffad 1 , Each nad represents 2.5.
  • Fpae 1 and Ffae 1 in the formula (AE) are represented by the formula (AEF). pae indicating the average degree of polymerization in Fpae 1 is 2.5, mae indicating the average degree of polymerization in Ffae 1 , Each nae represents 2.5.
  • the compound represented by formula (26) introduces a THP group as a protecting group to the primary and secondary hydroxyl groups of 3-allyloxy-1,2-propanediol, and oxidizes the double bond of the resulting compound.
  • THP represents a tetrahydropyranyl group.
  • Fpaf 1 and Ffaf 1 in the formula (AF) are represented by the formula (AFF). paf indicating the average degree of polymerization in Fpaf 1 is 2.5, maf indicating the average degree of polymerization in Ffaf 1 , Each naf represents 2.5.
  • Fpag 1 and Ffag 1 in the formula (AG) are represented by the formula (AGF).
  • pag which indicates the average degree of polymerization in Fpag 1
  • mag which indicates the average degree of polymerization in Ffag 1
  • Each nag represents 2.5.
  • Fpah 1 and Ffah 1 in the formula (AH) are represented by the formula (AHF). pah indicating the average degree of polymerization in Fpah 1 is 2.5, mah indicating the average degree of polymerization in Ffah 1 , Each nah represents 2.5.)
  • Ffal 1 and Ffal 2 in the formula (AL) are represented by the formula (ALF).
  • mal and nal indicating the average degree of polymerization in Ffal 1 are 2.5, indicating the average degree of polymerization in Ffal 2 mal and nal represent 2.5.
  • Fpam 1 and Fpam 2 in formula (AM) are represented by formula (AMF).
  • the pam indicating the average degree of polymerization in Fpam 1 is 2.5, and the pam indicating the average degree of polymerization in Fpam 2 is 2.5.
  • a compound represented by the following formula (AN) was synthesized by the following method. In a nitrogen gas atmosphere, a compound represented by HOCH 2 CF 2 O(CF 2 CF 2 O) r CF 2 CH 2 OH (in the formula, r indicating the average degree of polymerization is 2.5) was placed in a 200 mL eggplant flask. (Number average molecular weight 468, molecular weight distribution 1.1) 14.0 g, tert-butyl glycidyl ether 2.34 g (molecular weight 130.19, 18 mmol), and t-butanol 28 mL were charged and stirred at room temperature until uniform. did. 1.0 g of potassium tert-butoxide (molecular weight: 112.2, 9 mmol) was further added to this homogeneous liquid, and the mixture was stirred at 70° C. for 16 hours to react.
  • the reaction product obtained after the reaction was cooled to 25°C, transferred to a separatory funnel containing 100 mL of water, and extracted three times with 100 mL of ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. After filtering off the drying agent, the filtrate was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 7.2 g of the compound represented by the following formula (27) (molecular weight: 598, 12.0 mmol).
  • reaction product obtained after the reaction was cooled to 25°C, transferred to a separatory funnel containing 100 mL of water, and extracted three times with 100 mL of ethyl acetate.
  • the organic layer was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. After filtering off the drying agent, the filtrate was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 5.9 g of the compound represented by the following formula (29) (molecular weight: 728, 7.7 mmol).
  • the reaction product obtained after the reaction was cooled to 25°C, transferred to a separatory funnel containing 100 mL of water, and extracted three times with 100 mL of ethyl acetate. The organic layer was washed with water and dried over anhydrous sodium sulfate. After removing the drying agent by filtration, the filtrate was concentrated and the residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 3.3 g (molecular weight: 1812, 2.4 mmol) of the compound represented by the following formula (AN).
  • R 1 and R 7 when the compounds of Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 14 thus obtained are applied to formula (1) (e and f , g and h in formula (4-2), i in formula (4-3), j in formula (4-4), formula (4-5)), the structure of R 3 and R 5 (formula a and b in (2), c and d in formula (3)), R 2 , R 4 and R 6 structures (k and l in formula (5), m in formula (6), formula Tables 1 and 2 show n) in (7).
  • the number average molecular weights (Mn) of the compounds of Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 14 were determined by the 1 H-NMR and 19 F-NMR measurements described above. Table 3 shows the results. It should be noted that the average molecular weight of the synthesized compound varies by about 1 to 5 due to the molecular weight distribution of the fluoropolyether used as the raw material of the compound, the difference in the operation when synthesizing the compound, etc. Presumed.
  • lubricating layer forming solutions were prepared by the method shown below. Using the lubricating layer forming solution thus obtained, lubricating layers of magnetic recording media were formed by the method described below, and magnetic recording media of Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 14 were obtained.
  • Magnetic recording medium A magnetic recording medium was prepared by sequentially forming an adhesion layer, a soft magnetic layer, a first underlayer, a second underlayer, a magnetic layer, and a protective layer on a substrate having a diameter of 65 mm.
  • the protective layer was made of carbon with a thickness of 1-5 nm.
  • the lubricating layer forming solutions of Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 14 were applied by dipping onto the protective layer of the magnetic recording medium on which each layer up to the protective layer was formed. The dipping method was performed under conditions of an immersion speed of 10 mm/sec, an immersion time of 30 sec, and a lifting speed of 1.2 mm/sec.
  • a varnishing step was performed in which a varnishing tape holding abrasive grains of grain size #6000 was scanned over the surface of the magnetic recording medium on which the lubricating layer was formed. After the burnishing process, the magnetic recording medium was placed in a constant temperature bath at 120° C. and heat-treated for 10 minutes. Magnetic recording media (with varnish) of Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 14 were obtained by the above steps. Further, magnetic recording media (without varnish) of Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 14 were obtained in the same manner as the magnetic recording media with varnish, except that the varnish process was not performed.
  • Evaluation criteria A: Less than 120 B: 120 or more and less than 150 C: 150 or more and less than 350 D: 350 or more and less than 1000 E: 1000 or more
  • the magnetic recording media of Examples 1 to 20 having a lubricating layer containing the compound represented by formula (1) were evaluated as A in the corrosion resistance test without tape varnish. With tape varnish, it was A or B, and the corrosion resistance was good. On the other hand, the magnetic recording media of Comparative Examples 1 to 14, with and without tape varnish, had corrosion resistance test results of C to E. In comparison, the corrosion resistance was inferior.
  • the lubricating layer was such that R 3 in formula (1) was formula (2) (in formula (2), a is 2 and b is 1).
  • R 5 is the formula (3) (where c is 2 and d is 1), or R 3 is the formula (2) (where a is 3 and b is 1).
  • R 5 is the formula (3) (where c is 3 and d is 1), and R 1 and R 7 are the terminal represented by formulas (4-1) to (4-5) including compounds that are radicals. Therefore, in the magnetic recording media of Examples 1 to 20, compared with the magnetic recording media of Comparative Examples 1 to 14, the number of carbon atoms contained in R 3 and R 5 of the compound in the lubricating layer is large and the hydrophobic It has good properties.
  • the lubricating layer exhibits appropriate hydrophobicity due to the hydrophobicity of the carbon atoms to which the polar groups contained in R1 and R7 are bonded and the carbon atoms contained in the linking groups in R1 and R7 . have. Furthermore, this lubricating layer has good adhesion to the protective layer due to the polar groups of R 3 , R 5 , R 1 and R 7 . From these facts, it is presumed that the magnetic recording media of Examples 1 to 20 prevented entry of water into the lubricating layer from the outside and obtained a good corrosion inhibiting effect.
  • the magnetic recording media of Examples 8 to 10, Examples 13, 17, and 20 both with and without varnish had corrosion resistance test results of A, indicating particularly excellent corrosion inhibition. showed an effect.
  • the lubricating layers of the magnetic recording media of Examples 8 to 10, Example 13, Example 17, and Example 20 have R 3 represented by formula (2) (in formula (2), a is 3 and b is 1). ) and R 5 includes compounds of formula (3) (c is 3 and d is 1 in formula (3)), so that the number of carbon atoms contained in R 3 and R 5 of the compound is more Many (long methylene chains) are presumed to be due to better hydrophobicity.
  • the linking group between the carbon atom to which the terminal polar group is bonded and the carbon atom to which the polar group adjacent to the terminal polar group is bonded does not contain an ether bond (--O--) (4-1), Example 3, Example 4, Example 7, Example 8, Example 11, Example 15, Example 19, Example 20 which are terminal groups represented by (4-5) showed good corrosion inhibition effect.
  • the linking groups contained in the terminal groups represented by formulas (4-1) and (4-5) do not contain an ether bond and contain an appropriate number of carbon atoms, so they have good hydrophobicity. It is presumed that this is because it becomes a lubricating layer and prevents the intrusion of water.
  • the linking group between the carbon atom to which the terminal polar group is bonded and the carbon atom to which the polar group adjacent to the terminal polar group is bonded is an ether bond in R 1 and R 7 , (4-3), Example 1, Example 2, Example 5, Example 6, Example 9, Example 10, Examples 12 to 14, which are terminal groups represented by (4-4)
  • the magnetic recording media of Examples 16-18 exhibited good corrosion inhibition effects. This is because the linking groups contained in the terminal groups represented by formulas (4-2), (4-3), and (4-4) contain an appropriate number of carbon atoms, and thus have good hydrophobicity. It is presumed that this is because it becomes a lubricating layer and prevents the intrusion of water.
  • Example 20 both with and without varnish, the corrosion resistance test result was A, showing a particularly excellent corrosion inhibiting effect. This is probably because the three hydroxyl groups respectively contained in R1 and R7 in formula (1) exhibited excellent adhesion to the protective layer. If the adhesion between the lubricating layer and the protective layer is excellent, water can be prevented from entering the lubricating layer from the outside.
  • either the terminal hydroxyl group or the hydroxyl group adjacent to the terminal hydroxyl group is oriented in the opposite direction with respect to the protective layer, making it difficult to obtain adhesion of the hydroxyl group to the protective layer. . Also, a lubricating layer containing such a compound cannot obtain sufficient hydrophobicity.
  • R 3 in formula (1) is formula (2) (a in formula (2) is 1 and b is 1)
  • R 5 is formula (3) (c in formula (3) is Comparative Examples 7 and 13, in which 1 and d are 1) and R 1 is —OH, both had E in the corrosion resistance test result. This is presumed to be due to insufficient hydrophobicity of the lubricating layer and insufficient adhesion of the hydroxyl group of R1 to the protective layer, resulting in a low coverage of the lubricating layer.
  • the lubricant for magnetic recording media containing the fluorine-containing ether compound of the present invention it is possible to form a lubricating layer highly effective in suppressing corrosion of magnetic recording media.

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Abstract

下記式で表される含フッ素エーテル化合物。R-CH-R-CH-R-CH-R-CH-R-CH-R-CH-R(R、RおよびRはパーフルオロポリエーテル鎖;Rは式(2);Rは式(3);RおよびRはそれぞれ独立に、2つまたは3つの極性基を含み、各極性基がそれぞれ異なる炭素原子に結合し、前記極性基の結合している炭素原子同士が、極性基の結合していない炭素原子を含む連結基を介して結合している末端基。)

Description

含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体
 本発明は、含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体に関する。
 本願は、2021年4月8日に、日本に出願された特願2021-065869号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
 磁気記録再生装置における記録密度を高くするために、高記録密度に適した磁気記録媒体の開発が進められている。
 従来、磁気記録媒体として、基板上に記録層を形成し、記録層上にカーボンなどからなる保護層を形成したものがある。保護層は、記録層に記録された情報を保護するとともに、磁気ヘッドの摺動性を高める。また、保護層は、記録層を被覆して、記録層に含まれる金属が環境物質により腐食されるのを防止する。
 しかし、磁気記録媒体の耐久性は、記録層上に保護層を設けただけでは十分には得られない。そのため、保護層の表面に潤滑剤を塗布して、厚さ0.5~3nm程度の潤滑層を形成している。潤滑層は、保護層の耐久性および保護力を向上させて、磁気記録媒体内部への汚染物質の侵入を防止する。
 また、保護層の表面に潤滑層を形成した後、磁気記録媒体の表面に存在する突起およびパーティクルを除去し、表面の平滑性を向上させるために、バーニッシュ工程を行う場合がある。
 磁気記録媒体の潤滑層を形成する際に用いられる潤滑剤としては、例えば、-CF-を含む繰り返し構造を有し、末端に水酸基などの極性基を有するフッ素系のポリマーを含有するものがある。
 例えば、特許文献1には、分子内に3つのパーフルオロポリエーテル鎖を含み、両末端の構造が同一である含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層が設けられた磁気ディスクが開示されている。
 特許文献2には、分子内に3つのパーフルオロポリエーテル鎖を含み、2つの末端の構造が異なる含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層が設けられた磁気ディスクが開示されている。
 また、特許文献3には、分子内に3つのパーフルオロポリエーテル鎖を含み、パーフルオロポリエーテル鎖の間の連結基が2つの水酸基を有する潤滑剤を含む潤滑層を有する磁気ディスクが開示されている。
国際公開第2018/116742号 国際公開第2017/145995号 米国特許出願公開第2016/0260452号明細書
 磁気記録再生装置においては、より一層、磁気ヘッドの浮上量を小さくすることが要求されている。このため、磁気記録媒体における潤滑層の厚みを、より薄くすることが求められている。
 しかし、潤滑層の厚みを薄くすると、磁気記録媒体の耐腐食性が不十分となる場合があった。特に、潤滑層を形成した後の磁気記録媒体の表面に、テープバーニッシュ工程を行った場合、磁気記録媒体の耐腐食性が不十分となりやすかった。このことから、磁気記録媒体の腐食を抑制する効果の高い潤滑層が要求されている。
 本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高い潤滑層を形成できる磁気記録媒体用潤滑剤の材料として、好適な含フッ素エーテル化合物を提供することを目的とする。
 また、本発明は、本発明の含フッ素エーテル化合物を含み、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高い潤滑層を形成できる磁気記録媒体用潤滑剤を提供することを目的とする。
 また、本発明は、本発明の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層が設けられ、優れた耐腐食性を有する磁気記録媒体を提供することを目的とする。
 すなわち、本発明は以下の事項に関する。
 本発明の第一の態様は、以下の含フッ素エーテル化合物を提供する。
[1] 下記式(1)で表されることを特徴とする含フッ素エーテル化合物。
-CH-R-CH-R-CH-R-CH-R-CH-R-CH-R
(1)
(式(1)中、R、RおよびRは、同じまたは異なるパーフルオロポリエーテル鎖である;Rは下記式(2)で表される連結基である;Rは下記式(3)で表される連結基である;RおよびRはそれぞれ独立に、2つまたは3つの極性基を含み、各極性基がそれぞれ異なる炭素原子に結合し、前記極性基の結合している炭素原子同士が、極性基の結合していない炭素原子を含む連結基を介して結合している末端基である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003

(式(2)中のaは1~3の整数であり、bは1~2の整数である;式(3)中のcは1~3の整数であり、dは1~2の整数である;ただし、式(2)中のaと式(3)中のcが同時に1となることはない。)
 本発明の第一の態様の前記含フッ素エーテル化合物は、以下の[2]~[8]に記載される特徴を有することが好ましい。以下の[2]~[8]に記載される特徴は、2つ以上を任意に組み合わせることも好ましい。
[2] 前記式(2)中のaが2~3の整数であり、前記式(3)中のcが2~3の整数である[1]に記載の含フッ素エーテル化合物。
[3] 前記式(1)において、RおよびRの有する極性基がすべて水酸基である[1]または[2]に記載の含フッ素エーテル化合物。
[4] 前記式(1)において、-Rおよび-Rがそれぞれ独立に、下記式(4-1)~(4-5)で表される末端基である[1]~[3]のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004


(式(4-1)中のeは0~1の整数であり、fは1~4の整数である。)
(式(4-2)中のgは1~2の整数であり、hは1~3の整数である。)
(式(4-3)中のiは1~3の整数である。)
(式(4-4)中のjは1~2の整数である。)
[5] 前記式(1)におけるR、R、Rがそれぞれ独立に、下記式(5)~(9)のいずれかである[1]~[4]のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
-CFO-(CFCFO)-(CFO)-CF-  (5)
(式(5)中、kおよびlは平均重合度を示し、それぞれ0.1~20を表す。)
-CFO-(CFCFO)-CF-  (6)
(式(6)中、mは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
-CFCFO-(CFCFCFO)-CFCF-  (7)
(式(7)中、nは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
-CFCFCFO-(CFCFCFCFO)-CFCFCF- (8)
(式(8)中、oは平均重合度を示し、0.1~10を表す。)
-CF(CF)O-(CFCF(CF)O)-CF(CF)- (9)
(式(9)中のpは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
[6] 前記式(1)において、RとRが同じである[1]~[5]のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
[7] 前記式(1)において、RとRが同じである[1]~[6]のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
[8] 数平均分子量が500~10000の範囲内である[1]~[7]のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
 本発明の第二の態様は、以下の磁気記録媒体用潤滑剤を提供する。
[9] [1]~[8]のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体用潤滑剤。
 本発明の第三の態様は、以下の磁気記録媒体を提供する。
[10] 基板上に、少なくとも磁性層と、保護層と、潤滑層とが順次設けられた磁気記録媒体であって、
 前記潤滑層が、[1]~[8]のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
 本発明の第三の態様の磁気記録媒体は、以下の[11]に記載される特徴を有することが好ましい。
[11] 前記潤滑層の平均膜厚が、0.5nm~2.0nmである[10]に記載の磁気記録媒体。
 本発明の含フッ素エーテル化合物は、上記式(1)で表される化合物であるので、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高い潤滑層を形成できる磁気記録媒体用潤滑剤の材料として使用できる。
 本発明の磁気記録媒体用潤滑剤は、本発明の含フッ素エーテル化合物を含むため、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高い潤滑層を形成できる。
 本発明の磁気記録媒体は、本発明の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層が設けられているため、優れた耐腐食性を有する。このため、本発明の磁気記録媒体は、優れた信頼性および耐久性を有する。また、本発明の磁気記録媒体は、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高い潤滑層が設けられているため、保護層および/または潤滑層の厚みを薄くできる。
本発明の磁気記録媒体の一実施形態の例を示した概略断面図である。
 本発明者らは、上記課題を解決するために、含フッ素エーテル化合物の鎖状骨格および末端基に着目して鋭意研究を重ねた。
 その結果、メチレン基(-CH-)とエーテル結合(-O-)とからなる鎖状構造に1以上の水酸基が結合した2つの特定の連結基によって、3つのパーフルオロポリエーテル鎖が結合された鎖状骨格を有し、鎖状骨格の両端にそれぞれメチレン基を介して、2つまたは3つの極性基を含む特定の末端基が結合された含フッ素エーテル化合物とすればよいことを見出した。
 上記の鎖状骨格を有する含フッ素エーテル化合物では、2つの連結基のうち一方または両方を、中心のパーフルオロポリエーテル鎖と水酸基が結合した炭素原子との間に炭素数2または3のメチレン鎖を有するものとする。このことにより、上記の鎖状骨格を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、適正な疎水性を有するものになると推定される。
 また、上記の鎖状骨格を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層を、保護層上に形成すると、鎖状骨格の中心に配置されているパーフルオロポリエーテル鎖の両端が、パーフルオロポリエーテル鎖間に配置されている連結基の有する水酸基によって、保護層に密着される。このため、上記の鎖状骨格を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤は、1つまたは2つのパーフルオロポリエーテル鎖を有し、上記の鎖状骨格と炭素原子数が同等である含フッ素エーテル化合物を含む場合と比較して、保護層上に濡れ広がりやすく、均一に保護層に密着でき、被覆率の高い密着性の良好な潤滑層を形成できる。
 しかも、上記の鎖状骨格の両端には、それぞれ独立に、2つまたは3つの極性基を含み、各極性基がそれぞれ異なる炭素原子に結合し、前記極性基の結合している炭素原子同士が、極性基の結合していない炭素原子を含む連結基を介して結合している末端基が配置されている。この末端基の有する2つまたは3つの極性基は、極性基の結合している炭素原子同士が結合している末端基と異なり、保護層に密着できる配向となることができる。このため、例えば、極性基の結合している炭素原子同士が結合している末端基を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層と比較して、被覆率が高く密着性の良好な潤滑層を形成できる。さらに、末端基が、極性基の結合していない炭素原子を含む連結基を有するため、極性基の結合している炭素原子同士が結合している末端基を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層と比較して、疎水性が良好となる。
 このように、上記鎖状骨格の両端にそれぞれ、上記の特定の末端基が結合された含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、適正な疎水性を有し、かつ保護層との密着性が良好である。このため、上記の潤滑層は、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高いものになると推定される。
 本発明者らは、さらに検討を重ね、上記の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層を保護層上に形成し、磁気記録媒体の腐食抑制効果が高いことを確認し、本発明を想到した。
 以下、本発明の含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤(以下、「潤滑剤」と略記する場合がある。)および磁気記録媒体の好ましい例について詳細に説明する。なお、本発明は、以下に示す実施形態のみに限定されるものではない。本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、数、量、位置、比率、材料、構成等について、付加、省略、置換、変更が可能である。
[含フッ素エーテル化合物]
 本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、下記式(1)で表される。
-CH-R-CH-R-CH-R-CH-R-CH-R-CH-R
(1)
(式(1)中、R、RおよびRは、同じまたは異なるパーフルオロポリエーテル鎖である;Rは下記式(2)で表される連結基である;Rは下記式(3)で表される連結基である;RおよびRはそれぞれ独立に、2つまたは3つの極性基を含み、各極性基がそれぞれ異なる炭素原子に結合し、前記極性基の結合している炭素原子同士が、極性基の結合していない炭素原子を含む連結基を介して結合している末端基である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005

(式(2)中のaは1~3の整数であり、bは1~2の整数である;式(3)中のcは1~3の整数であり、dは1~2の整数である;ただし、式(2)中のaと式(3)中のcが同時に1となることはない。)
(RおよびR
 上記式(1)で表される含フッ素エーテル化合物において、RおよびRはそれぞれ独立に、2つまたは3つの極性基を含み、各極性基がそれぞれ異なる炭素原子に結合し、前記極性基の結合している炭素原子同士が、極性基の結合していない炭素原子を含む連結基を介して結合している末端基である。
 式(1)で表される含フッ素エーテル化合物では、RおよびRがそれぞれ2つまたは3つの極性基を有する。このため、これを含む潤滑剤を用いて保護層上に潤滑層を形成した場合に、潤滑層と保護層との間に好適な相互作用が発生する。
 極性基としては、例えば、水酸基(-OH)、アミノ基(-NH)、カルボキシ基(-COOH)、アルデヒド基(-COH)、カルボニル基(-CO-)、スルホ基(-SOH)などが挙げられる。Rおよび/またはRは、極性基として水酸基を含むことが好ましく、RおよびRに含まれる極性基がすべて水酸基であることがより好ましい。Rおよび/またはRが水酸基を有する含フッ素エーテル化合物であると、これを含む潤滑剤を用いて保護層上に潤滑層を形成した場合に、潤滑層と保護層との間により好適な相互作用が発生する。
 式(1)で表される含フッ素エーテル化合物において、Rに含まれる極性基と、Rに含まれる極性基との合計数は、4~6である。上記合計数が4以上であるので、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、保護層との付着性(密着性)が高いものとなる。また、上記の合計数が6以下であるので、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層を有する磁気記録媒体において、含フッ素エーテル化合物の極性が高すぎて異物(スメア)として磁気ヘッドに付着するピックアップが発生することを防止できる。
 Rに含まれる極性基の数と、Rに含まれる極性基の数は、同じであることが好ましい。すなわち、RおよびRがそれぞれ2つの極性基を含む、または、RおよびRがそれぞれ3つの極性基を含むことが好ましい。この場合、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤が、保護層にバランス良く密着するため、高い被覆率を有し、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高い潤滑層が得られやすい。特に、RおよびRがそれぞれ3つの極性基を含む場合、含フッ素エーテル化合物に含まれる極性基が保護層に強固に密着するため、被覆率が高くなり、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高いものとなる。
 RおよびRに含まれる各極性基は、それぞれ異なる炭素原子に結合している。RおよびRにおいて、極性基の結合している炭素原子同士は、極性基の結合していない炭素原子を含む連結基を介して結合している。このため、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物は、例えば、極性基の結合している炭素原子同士が結合している末端基を有する化合物と比較して、疎水性が良好である。このことにより、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、水の侵入を防止でき、磁気記録媒体の腐食を効果的に抑制できるものと推定される。
 また、極性基の結合している炭素原子同士が、極性基の結合していない炭素原子を含む連結基を介して結合している場合、極性基の結合していない炭素原子を含む連結基によって、最末端の極性基(末端極性基)と、末端極性基に隣接する極性基の両方が、保護層へ密着できる配向となることができる。このことから、極性基の結合している炭素原子同士が、極性基の結合していない炭素原子を含む連結基を介して結合している場合、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高い潤滑層が得られるものと推定される。
 これに対し、潤滑層に含まれる含フッ素エーテル化合物が、最末端の極性基(末端極性基)の結合している炭素原子と、末端極性基に隣接する極性基の結合している炭素原子とが結合している末端基を有する場合、末端極性基と、末端極性基に隣接する極性基のうち、どちらかの極性基は、保護層に対して配向が逆方向となる。このため、末端極性基と、末端極性基に隣接する極性基のうち、どちらか一方の極性基が保護層に密着しにくく、潤滑層と保護層との密着性が劣るものとなる。
 RおよびRにおいて、末端極性基が結合する炭素原子と、末端極性基に隣接する極性基が結合する炭素原子との間の連結基が酸素原子を含む場合(例えば、下記式(4-2)、(4-3)、(4-4)で表される末端基である場合)、RおよびRの有する上記連結基は、極性基の結合していない2~5の炭素原子を含む直鎖状の構造を有することが好ましい。上記連結基が酸素原子を含む場合であっても、極性基の結合していない2以上の炭素原子を含む直鎖状の構造である場合、良好な疎水性を有する含フッ素エーテル化合物となる。また、上記連結基が5以下の炭素原子を含む直鎖状の構造である場合、連結基の疎水性が高すぎて保護層との密着性に支障を来すことがない。特に、RおよびRがそれぞれ3つの極性基を有する場合、保護層との密着性がより優れる潤滑層を形成できる。したがって、RおよびRの有する上記連結基が、上記範囲内の炭素原子数を含む直鎖状の構造である含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、保護層との密着性に優れ、かつ適正な疎水性を有することにより水の侵入を防止でき、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高いものとなる。
 また、RおよびRの有する上記連結基が酸素原子を含む場合、上記連結基は、3~9原子からなる直鎖状の構造を有することが好ましく、3~6原子からなる直鎖状の構造を有することがより好ましい。上記連結基に含まれる原子数が上記範囲内であると、分子の運動性が適切であり、分子内凝集が起こりにくくなる。このため、より一層保護層との密着性に優れる潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となる。
 RおよびRにおいて、末端極性基が結合する炭素原子と、末端極性基に隣接する極性基が結合する炭素原子との間の連結基が、酸素原子を含まない場合(例えば、下記式(4-1)、(4-5)で表される末端基である場合)、RおよびRの有する極性基が2つまたは3つのいずれの場合においても、上記連結基は、極性基の結合していない1~4の炭素原子を含む直鎖状の構造を有することが好ましい。上記連結基が酸素原子を含まず、極性基の結合していない1以上の炭素原子を含む直鎖状の構造である場合、良好な疎水性を有する含フッ素エーテル化合物となる。また、上記連結基が4以下の炭素原子を含む直鎖状の構造である場合、連結基の疎水性が高すぎて、保護層との密着性に支障を来すことがない。また、末端極性基が結合する炭素原子と、末端極性基に隣接する極性基が結合する炭素原子との間の連結基が酸素原子を含まないため、分子内相互作用が小さく、分子内凝集が起こりにくい。このため、より一層保護層との密着性に優れる潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となる。その結果、RおよびRの有する上記連結基が、上記範囲内の炭素原子数を含む直鎖状の構造である含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、保護層との密着性に優れ、かつ適正な疎水性を有することにより水の侵入を防止でき、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高いものとなる。
 式(1)で表される含フッ素エーテル化合物において、RとRは、同じであってもよいし、異なっていてもよく、同じであることが好ましい。RとRが同じであると、保護層上で均一に濡れ広がりやすく、均一な膜厚を有する潤滑層が得られやすい含フッ素エーテル化合物となる。その結果、この含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、良好な被覆率を有するものとなり、好ましい。また、RとRが同じである場合、RとRが異なる場合と比較して、少ない製造工程で効率よく含フッ素エーテル化合物を製造できる。
 式(1)で表される含フッ素エーテル化合物においては、-Rおよび-Rがそれぞれ独立に、下記式(4-1)~(4-5)のいずれかで表される末端基であることが好ましい。-Rおよび-Rが、式(4-1)~(4-5)のいずれかで表される末端基である場合、-Rおよび-Rは、2つまたは3つの水酸基を含み、末端の水酸基が結合する炭素原子と、末端の水酸基に隣接する水酸基が結合する炭素原子との間の連結基が、適正な炭素原子数を含む直鎖状の構造を有するものとなる。よって、-Rおよび-Rが式(4-1)~(4-5)で表される末端基である場合、適切な疎水性を有する含フッ素エーテル化合物となる。
 さらに、-Rおよび-Rが、下記式(4-1)、(4-2)、(4-4)、(4-5)のいずれかで表される末端基であって、3つの水酸基を含む場合、パーフルオロポリエーテル鎖側に配置されている水酸基が結合する炭素原子と、その水酸基に隣接する水酸基が結合する炭素原子との間の連結基も、適正な炭素原子数を含む直鎖状の構造を有するものとなる。したがって、より保護層との密着性に優れ、かつ適正な疎水性を有し、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高い潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006

(式(4-1)中のeは0~1の整数であり、fは1~4の整数である。)
(式(4-2)中のgは1~2の整数であり、hは1~3の整数である。)
(式(4-3)中のiは1~3の整数である。)
(式(4-4)中のjは1~2の整数である。)
 式(4-1)で表される末端基において、eは0~1の整数であり、fは1~4の整数である。式(4-1)で表される末端基は、末端水酸基の結合する炭素原子と、末端水酸基に隣接する水酸基が結合する炭素原子との間の連結基が酸素原子を含まない。このため、適切な疎水性を示す。また、fが4以下であるため、連結基の疎水性が高すぎて、保護層との密着性に支障を来すことがなく、優れた磁気記録媒体の腐食抑制効果を示す。さらに、末端水酸基が結合する炭素原子と、末端水酸基に隣接する水酸基が結合する炭素原子との間の連結基が酸素原子を含まないため、末端基に含まれる水酸基同士の分子内相互作用が小さい。したがって、分子内凝集が起こりにくく、より一層保護層との密着性に優れる潤滑層を形成できる。また、eが1である場合、式(4-1)で表される末端基が、3つの水酸基を含むため、保護層とのより優れた密着性を示す。
 式(4-2)で表される末端基において、gは1~2の整数であり、hは1~3の整数である。このため、式(4-2)で表される末端基を有する含フッ素エーテル化合物は、良好な疎水性を有し、優れた磁気記録媒体の腐食抑制効果を示す。式(4-2)で表される末端基は、末端水酸基が結合する炭素原子と、末端水酸基に隣接する水酸基が結合する炭素原子との間の連結基が酸素原子を含む。式(4-2)で表される末端基は、hが1~3であるため、分子の運動性が適切である。したがって、末端基に含まれる水酸基同士の分子内凝集が起こりにくく、より一層保護層との密着性に優れる。また、gが2である場合、式(4-2)で表される末端基が、3つの水酸基を含むため、保護層とのより優れた密着性を示す。
 式(4-3)で表される末端基において、iは1~3の整数である。このため、式(4-3)で表される末端基を含む含フッ素エーテル化合物は、良好な疎水性を有し、優れた磁気記録媒体の腐食抑制効果を示す。式(4-3)で表される末端基は、末端水酸基が結合する炭素原子と、末端水酸基に隣接する水酸基が結合する炭素原子との間の連結基が酸素原子を含む。式(4-3)で表される末端基は、iが1~3であるため、分子の運動性が適切である。したがって、末端基に含まれる水酸基同士の分子内凝集が起こりにくく、より一層保護層との密着性に優れる。
 式(4-4)で表される末端基において、jは1~2の整数である。このため、式(4-4)で表される末端基を含む含フッ素エーテル化合物は、良好な疎水性を有し、優れた磁気記録媒体の腐食抑制効果を示す。式(4-4)で表される末端基は、3つの水酸基を含むため、保護層との優れた密着性を示す。
 式(4-5)で表される末端基は、末端水酸基が結合する炭素原子と、末端水酸基に隣接する水酸基が結合する炭素原子との間の連結基が酸素原子を含まないため、良好な疎水性を有する。よって、式(4-5)で表される末端基を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、優れた磁気記録媒体の腐食抑制効果を示す。また、式(4-5)で表される末端基は、3つの水酸基を含むため、保護層との優れた密着性を示す。
(RおよびR
 式(1)で表される含フッ素エーテル化合物において、Rは下記式(2)で表される連結基である。式(2)で表される連結基は、式(2)における最も右側の、括弧内の酸素原子がRに隣接するメチレン基(-CH-)と結合される。また、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物において、Rは下記式(3)で表される連結基である。式(3)で表される連結基は、式(3)における最も左側の、括弧内の酸素原子がRに隣接するメチレン基(-CH-)と結合される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007

(式(2)中のaは1~3の整数であり、bは1~2の整数である;式(3)中のcは1~3の整数であり、dは1~2の整数である;ただし、式(2)中のaと式(3)中のcが同時に1となることはない。)
 式(2)中のaは1~3の整数であり、式(3)中のcは1~3の整数である。式(2)中のaと式(3)中のcが同時に1になることはない。すなわち、aとcの少なくとも一方は、2~3の整数である。よって、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物は、Rを表す式(2)中のaが1であって、かつRを表す式(3)中のcが1である化合物と比較して、Rおよび/またはRで表される連結基中に含まれる炭素原子の数が多く、疎水性が良好なものとなる。
 式(1)で表される含フッ素エーテル化合物では、式(2)中のaが2~3の整数であり、かつ式(3)中のcが2~3の整数であることが好ましい。この場合、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物の疎水性がより良好となり、これを含む潤滑層は、より優れた磁気記録媒体の腐食抑制効果を示すものとなる。
 式(2)中のbは1~2の整数であり、式(3)中のdは1~2の整数である。式(2)および式(3)中の水酸基は、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層において、保護層との密着性を向上させる。式(2)中のbおよび式(3)中のdは、合成の容易な含フッ素エーテル化合物となるため、1であることが好ましい。
 式(1)で表される含フッ素エーテル化合物は、Rが式(2)で表される連結基であり、Rが式(3)で表される連結基である。よって、RおよびRの両端部に配置された酸素原子は、それぞれRおよびRの両側に配置されるメチレン基(-CH-)と結合してエーテル結合(-O-)を形成する。このようにして形成された4つのエーテル結合は、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物に適度な柔軟性を付与し、RおよびRの有する水酸基と保護層との親和性を増大させる。
(R、R、R
 式(1)で表される含フッ素エーテル化合物において、R、R、Rは、同じまたは異なるパーフルオロポリエーテル鎖(PFPE鎖)である。R、R、Rで示されるPFPE鎖は、本実施形態の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤を、保護層上に塗布して潤滑層を形成した場合に、保護層の表面を被覆するとともに、潤滑層に潤滑性を付与して磁気ヘッドと保護層との摩擦力を低減させる。また、PFPE鎖は、その低い表面エネルギーによって、本実施形態の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層に耐水性を付与し、潤滑層の設けられた磁気記録媒体の耐腐食性を向上させる。
 R、R、Rは、PFPE鎖であればよく、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤に求められる性能などに応じて適宜選択できる。PFPE鎖としては、例えば、パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ-n-プロピレンオキシド重合体、パーフルオロイソプロピレンオキシド重合体、これらの共重合体からなるものなどが挙げられる。
 PFPE鎖は、例えば、パーフルオロアルキレンオキシドの重合体または共重合体に由来する下記式(Rf)で表される構造であってもよい。
-(CFw1O(CFO)w2(CFCFO)w3(CFCFCFO)w4(CFCFCFCFO)w5(CFw6- (Rf)
(式(Rf)中、w2、w3、w4、w5は平均重合度を示し、それぞれ独立に0~20を表す;ただし、w2、w3、w4、w5のすべてが同時に0になることはない;w1、w6は-CF-の数を示す平均値であり、それぞれ独立に1~3を表す;式(Rf)における繰り返し単位の配列順序には、特に制限はない。)
 式(Rf)中、w2、w3、w4、w5は平均重合度を示し、それぞれ独立に0~20を表し、0~15であることが好ましく、0~10であることがより好ましい。
 式(Rf)中、w1、w6は-CF-の数を示す平均値であり、それぞれ独立に1~3を表す。w1、w6は、式(Rf)で表される重合体において、鎖状構造の端部に配置されている繰り返し単位の構造などに応じて決定される。
 式(Rf)における(CFO)、(CFCFO)、(CFCFCFO)、(CFCFCFCFO)は、繰り返し単位である。式(Rf)における繰り返し単位の配列順序には、特に制限はない。また、式(Rf)における繰り返し単位の種類の数にも、特に制限はない。
 式(1)におけるR、R、Rはそれぞれ独立に、例えば、下記式(Rf-1)で表されるPFPE鎖であることが好ましい。
-(CFw7O-(CFCFO)w8-(CFCFCFO)w9-(CFw10- (Rf-1)
(式(Rf-1)中、w8、w9は平均重合度を示し、それぞれ独立に0.1~20を表す;w7、w10は-CF-の数を示す平均値であり、それぞれ独立に1~2を表す。)
 式(Rf-1)における繰り返し単位である(CFCFO)と(CFCFCFO)との配列順序には、特に制限はない。式(Rf-1)は、モノマー単位(CFCFO)と(CFCFCFO)とからなるランダム共重合体、ブロック共重合体、及び、交互共重合体のいずれを含むものであってもよい。式(Rf-1)において、平均重合度を示すw8およびw9は、それぞれ独立に0.1~20を表し、0.1~15であることが好ましく、1~10であることがより好ましい。式(Rf-1)におけるw7およびw10は-CF-の数を示す平均値であり、それぞれ独立に1~2を表す。w7およびw10は、式(Rf-1)で表される重合体において、鎖状構造の端部に配置されている繰り返し単位の構造などに応じて決定される。
 式(1)におけるR、R、Rはそれぞれ独立に、下記式(5)~(9)のいずれかであることも好ましい。なお、式(5)における繰り返し単位である(CFCFO)と(CFO)との配列順序には、特に制限はない。式(5)は、モノマー単位(CF-CF-O)と(CF-O)とからなるランダム共重合体、ブロック共重合体、及び、交互共重合体のいずれを含むものであってもよい。
-CFO-(CFCFO)-(CFO)-CF-  (5)
(式(5)中、kおよびlは平均重合度を示し、それぞれ0.1~20を表す。)
-CFO-(CFCFO)-CF-  (6)
(式(6)中、mは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
-CFCFO-(CFCFCFO)-CFCF-  (7)
(式(7)中、nは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
-CFCFCFO-(CFCFCFCFO)-CFCFCF- (8)
(式(8)中、oは平均重合度を示し、0.1~10を表す。)
-CF(CF)O-(CFCF(CF)O)-CF(CF)- (9)
(式(9)中のpは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
 式(5)における平均重合度を示すk、lはそれぞれ0.1~20であり、式(6)における平均重合度を示すmは0.1~20であり、式(7)における平均重合度を示すnは0.1~20であり、式(8)における平均重合度を示すoは0.1~10であり、式(9)における平均重合度を示すpは0.1~20である。k、l、m、n、o、pは、上記範囲の中で任意に選択できる。k、l、m、n、o、pがそれぞれ0.1以上であると、磁気記録媒体の腐食をより抑制できる潤滑層が得られる含フッ素エーテル化合物となる。また、k、l、m、n、pがそれぞれ20以下であり、oが10以下であると、含フッ素エーテル化合物の粘度が高くなりすぎず、これを含む潤滑剤が塗布しやすいものとなり、好ましい。平均重合度を示すk、l、m、n、o、pはいずれも、保護層上に濡れ広がりやすく、均一な膜厚を有する潤滑層が得られやすい含フッ素エーテル化合物となるため、1~10であることが好ましく、2~8であることがより好ましい。なおk、l、m、n、o、pは、例えば、0.5~9や、1~8や、2~7や、3~6や、4~5などであってもよい。
 式(1)におけるR、R、Rが、式(5)~式(9)のいずれかである場合、含フッ素エーテル化合物の合成が容易であり好ましい。R、R、Rが式(5)~式(7)のいずれかである場合、原料入手が容易であるため、より好ましい。
 また、R、R、Rが、式(5)~式(9)のいずれかである場合、パーフルオロポリエーテル鎖中の、炭素原子数に対する酸素原子数(エーテル結合(-O-)数)の割合が、適正である。このため、適度な硬さを有する含フッ素エーテル化合物となる。よって、保護層上に塗布された含フッ素エーテル化合物が、保護層上で凝集しにくく、より一層厚みの薄い潤滑層を十分な被覆率で形成できる。
 式(1)で表される含フッ素エーテル化合物において、R、R、Rで示されるPFPE鎖は、全て同じであってもよいし、それぞれ異なっていてもよいし、一部のみ同じであってもよい。なお、本実施形態において、PFPE鎖が同じであるとは、PFPE鎖の構造(繰り返し単位)が同じであって、平均重合度が異なる場合も含む。
 式(1)で表される含フッ素エーテル化合物においては、合成が容易なものとなるため、RとRとが同じであることが好ましい。RとRが同じである場合、RとRも同じであって、RとRも同じであることがより好ましい。このような含フッ素エーテル化合物は、少ない製造工程で容易に効率よく製造できる。なお、本明細書においてRとRが同じであるとは、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物の中央に配置されたパーフルオロポリエーテル鎖(R)に対して、Rに含まれる原子とRに含まれる原子とが対称配置されていることを意味する。すなわち、式(2)中のaが式(3)中のcと同じであり、式(2)中のbが式(3)中のdと同じであることを意味する。
 式(1)で表される含フッ素エーテル化合物は、具体的には下記式(A)~(T)で表されるいずれかの化合物であることが好ましい。
 なお、式(A)~(T)中のra、qb、sc、tc、rd、qe、qf、sg、tg、rh、qi、sj、tj、qk、rk、sl、tl、rl、qm、rm、qn、rn、qo、ro、qp、sp、tp、qq、sq、tq、sr、tr、rr、qs、ss、ts、st、tt、rtは、平均重合度を示す値であるため、必ずしも整数とはならない。
 下記式(A)~(T)で表される化合物は、いずれもRとRが同じである。
 下記式(A)~(J)で表される化合物は、いずれもRとRとRが同じである。 下記式(K)~(T)で表される化合物は、いずれもRとRが同じである。
 下記式(A)~(G)、(K)、(L)、(N)~(P)、(R)、(S)で表される化合物は、いずれもRとRが同じであり、式(2)におけるaが2、bが1であり、式(3)におけるcが2、dが1である。
 下記式(H)~(J)、(M)、(Q)、(T)で表される化合物は、いずれもRとRが同じであり、式(2)におけるaが3、bが1であり、式(3)におけるcが3、dが1である。
 下記式(A)で表される化合物は、RとRが式(4-2)で表される末端基であり、式(4-2)におけるgが1であり、hが2であり、RとRとRが式(6)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(B)で表される化合物は、RとRが式(4-2)で表される末端基であり、式(4-2)におけるgが2であり、hが2であり、RとRとRが式(7)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(C)で表される化合物は、RとRが式(4-1)で表される末端基であり、式(4-1)におけるeが0であり、fが1であり、RとRとRが式(5)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(D)で表される化合物は、RとRが式(4-5)で表される末端基であり、RとRとRが式(6)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(E)で表される化合物は、RとRが式(4-2)で表される末端基であり、式(4-2)におけるgが1であり、hが1であり、RとRとRが式(7)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(F)で表される化合物は、RとRが式(4-3)で表される末端基であり、式(4-3)におけるiが1であり、RとRとRが式(7)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(G)で表される化合物は、RとRが式(4-1)で表される末端基であり、式(4-1)におけるeが1であり、fが1であり、RとRとRが式(5)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(H)で表される化合物は、RとRが式(4-1)で表される末端基であり、式(4-1)におけるeが0であり、fが2であり、RとRとRが式(6)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(I)で表される化合物は、RとRが式(4-4)で表される末端基であり、式(4-4)におけるjが2であり、RとRとRが式(7)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(J)で表される化合物は、RとRが式(4-2)で表される末端基であり、式(4-2)におけるgが2であり、hが1であり、RとRとRが式(5)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(K)で表される化合物は、RとRが式(4-1)で表される末端基であり、式(4-1)におけるeが1であり、fが1であり、RとRが式(7)で表されるPFPE鎖であり、Rが式(6)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(L)で表される化合物は、RとRが式(4-4)で表される末端基であり、式(4-4)におけるjが1であり、RとRが式(5)で表されるPFPE鎖であり、Rが式(6)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(M)で表される化合物は、RとRが式(4-2)で表される末端基であり、式(4-2)におけるgが1であり、hが2であり、RとRが式(7)で表されるPFPE鎖であり、Rが式(6)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(N)で表される化合物は、RとRが式(4-2)で表される末端基であり、式(4-2)におけるgが2であり、hが2であり、RとRが式(6)で表されるPFPE鎖であり、Rが式(7)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(O)で表される化合物は、RとRが式(4-5)で表される末端基であり、RとRが式(6)で表されるPFPE鎖であり、Rが式(7)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(P)で表される化合物は、RとRが式(4-2)で表される末端基であり、式(4-2)におけるgが1であり、hが3であり、RとRが式(5)で表されるPFPE鎖であり、Rが式(7)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(Q)で表される化合物は、RとRが式(4-2)で表される末端基であり、式(4-2)におけるgが1であり、hが1であり、RとRが式(5)で表されるPFPE鎖であり、Rが式(7)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(R)で表される化合物は、RとRが式(4-2)で表される末端基であり、式(4-2)におけるgが2であり、hが1であり、RとRが式(6)で表されるPFPE鎖であり、Rが式(5)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(S)で表される化合物は、RとRが式(4-1)で表される末端基であり、式(4-1)におけるeが0であり、fが3であり、RとRが式(7)で表されるPFPE鎖であり、Rが式(5)で表されるPFPE鎖である。
 下記式(T)で表される化合物は、RとRが式(4-1)で表される末端基であり、式(4-1)におけるeが1であり、fが2であり、RとRが式(6)で表されるPFPE鎖であり、Rが式(5)で表されるPFPE鎖である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008

(式(A)中のFpa、Fpaは式(AF)で表される。FpaおよびFpa中、raは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fpa中のraとFpa中のraは同じであっても異なっていてもよい。)
(式(B)中のFdb、Fdbは式(BF)で表される。FdbおよびFdb中、qbは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fdb中のqbとFdb中のqbは同じであっても異なっていてもよい。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009

(式(C)中のFfc、Ffcは式(CF)で表される。FfcおよびFfc中のsc、tcは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Ffc中のsc、tcとFfc中のsc、tcは同じであっても異なっていてもよい。)
(式(D)中のFpd、Fpdは式(DF)で表される。FpdおよびFpd中、rdは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fpd中のrdとFpd中のrdは同じであっても異なっていてもよい。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010

(式(E)中のFde、Fdeは式(EF)で表される。FdeおよびFde中、qeは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fde中のqeとFde中のqeは同じであっても異なっていてもよい。)
(式(F)中のFdf、Fdfは式(FF)で表される。FdfおよびFdf中、qfは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fdf中のqfとFdf中のqfは同じであっても異なっていてもよい。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011

(式(G)中のFfg、Ffgは式(GF)で表される。FfgおよびFfg中のsg、tgは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Ffg中のsg、tgとFfg中のsg、tgは同じであっても異なっていてもよい。)
(式(H)中のFph、Fphは式(HF)で表される。FphおよびFph中、rhは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fph中のrhとFph中のrhは同じであっても異なっていてもよい。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012

(式(I)中のFdi、Fdiは式(IF)で表される。FdiおよびFdi中、qiは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fdi中のqiとFdi中のqiは同じであっても異なっていてもよい。)
(式(J)中のFfj、Ffjは式(JF)で表される。FfjおよびFfj中のsj、tjは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Ffj中のsj、tjとFfj中のsj、tjは同じであっても異なっていてもよい。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013

(式(K)中のFdk、Fpkは式(KF)で表される。Fdk中、qkは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fpk中、rkは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
(式(L)中のFfl、Fplは式(LF)で表される。Ffl中、sl、tlは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fpl中、rlは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014

(式(M)中のFdm、Fpmは式(MF)で表される。Fdm中、qmは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fpm中、rmは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
(式(N)中のFdn、Fpnは式(NF)で表される。Fdn中、qnは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fpn中、rnは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015

(式(O)中のFdo、Fpoは式(OF)で表される。Fdo中、qoは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fpo中、roは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
(式(P)中のFdp、Ffpは式(PF)で表される。Fdp中、qpは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Ffp中、sp、tpは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016

(式(Q)中のFdq、Ffqは式(QF)で表される。Fdq中、qqは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Ffq中、sq、tqは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
(式(R)中のFfr、Fprは式(RF)で表される。Ffr中、sr、trは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fpr中、rrは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017

(式(S)中のFds、Ffsは式(SF)で表される。Fds中、qsは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Ffs中、ss、tsは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
(式(T)中のFft、Fptは式(TF)で表される。Fft中、st、ttは平均重合度を示し、0.1~20を表す。Fpt中、rtは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
 式(1)で表わされる化合物が上記式(A)~(T)で表されるいずれかの化合物であると、原料が入手しやすく、厚みが薄くても磁気記録媒体の腐食を抑制できる潤滑層を形成でき、好ましい。
 式(1)で表される化合物が、式(B)、(D)、(F)~(T)で表される化合物のいずれかであると、特に、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高い潤滑層を形成でき、好ましい。
 本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、数平均分子量(Mn)が500~10000の範囲内であることが好ましく、700~7000の範囲内であることがより好ましく、1000~5000の範囲内であることが特に好ましい。数平均分子量が500以上であると、本実施形態の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤が蒸散しにくいものとなり、潤滑剤が蒸散して磁気ヘッドに移着することを防止できる。また、数平均分子量が10000以下であると、含フッ素エーテル化合物の粘度が適正なものとなり、これを含む潤滑剤を塗布することによって、容易に厚みの薄い潤滑層を形成できる。数平均分子量が5000以下であると、潤滑剤に適用した場合に扱いやすい粘度となるため、より好ましい。
 含フッ素エーテル化合物の数平均分子量(Mn)は、ブルカー・バイオスピン社製AVANCEIII400によるH-NMRおよび19F-NMRによって測定された値である。NMR(核磁気共鳴)の測定において、試料をヘキサフルオロベンゼン、d-アセトン、d-テトラヒドロフランなどの単独または混合溶媒へ希釈し、測定に使用した。19F-NMRケミカルシフトの基準は、ヘキサフルオロベンゼンのピークを-164.7ppmとした。H-NMRケミカルシフトの基準は、アセトンのピークを2.2ppmとした。
「製造方法」
 本実施形態の含フッ素エーテル化合物の製造方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の製造方法を用いて製造できる。本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、例えば、以下に示す製造方法を用いて製造できる。
 本実施形態においては、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物として、Rを中心とする対称構造を有する化合物を製造する場合を例に挙げて説明する。具体的には、式(1)におけるR、R、Rで示される3つのPFPE鎖が同じ構造を有し、RとRとが同じで、RとRとが同じである化合物を製造する場合を例に挙げて説明する。
 まず、式(1)におけるRに対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、それぞれヒドロキシメチル基(-CHOH)が配置されたフッ素系化合物を用意する。次いで、前記フッ素系化合物の両末端に配置されたヒドロキシメチル基の水酸基と、R(=R)に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物とを反応させる(第一反応)。このことにより、Rに対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、R(=R)に対応するエポキシ基を有する中間体化合物1が得られる。
 本実施形態の含フッ素エーテル化合物を製造する際に、前記第一反応において使用されるエポキシ基を有するハロゲン化合物としては、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、2-(2-ブロモエチル)オキシラン、2-(2-クロロエチル)オキシラン、2-(3-ブロモプロピル)オキシラン、2-(3-クロロプロピル)オキシランなどが挙げられる。式(1)におけるRを表す式(2)中のaおよび/またはRを表す式(3)中のcが2~3の整数である場合、エポキシ基を有するハロゲン化合物として、例えば、2-(2-ブロモエチル)オキシラン、2-(2-クロロエチル)オキシラン、2-(3-ブロモプロピル)オキシラン、2-(3-クロロプロピル)オキシランなどを用いることができる。
 次いで、式(1)におけるR(=R=R)に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、それぞれヒドロキシメチル基(-CHOH)が配置されたフッ素系化合物を用意する。そして、前記フッ素系化合物の一方の末端に配置されたヒドロキシメチル基の水酸基と、式(1)におけるR(=R)に対応する基を有するエポキシ化合物とを反応させる(第二反応)。このことにより、R(=R)に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の一方の末端に、R(=R)に対応する基を有する中間体化合物2が得られる。
 R(=R)に対応する基を有するエポキシ化合物は、水酸基を適切な保護基を用いて保護してから、上記フッ素系化合物と反応させても良い。
 本実施形態の含フッ素エーテル化合物を製造する際に、前記第二反応において使用されるエポキシ化合物は、例えば、製造する含フッ素エーテル化合物のR(またはR)に対応する構造を有するアルコールと、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、2-ブロモエチルオキシラン、アリルグリシジルエーテルから選ばれるいずれかのエポキシ基を有する化合物とを反応させることにより合成できる。このようなエポキシ化合物は、不飽和結合を酸化する方法により合成してもよいし、市販品を購入して使用してもよい。
 その後、前記中間体化合物2の一方の末端に配置されたヒドロキシメチル基の水酸基と、前記中間体化合物1の両末端に配置されたエポキシ基とを反応させる(第三反応)。
 以上の工程を行うことにより、式(1)においてR、R、Rで示される3つのPFPE鎖が同じ構造を有し、RとRとが同じで、RとRとが同じである化合物を製造できる。ここで、第一反応と第二反応の順は逆であっても良い。
 また、例えば、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物として、R、R、Rが同じで、RとRとが同じであって、RとRとが異なる化合物を製造する場合には、以下に示す製造方法を用いて製造できる。
 すなわち、上述した第二反応において、Rに対応する基を有する中間体化合物2aと、Rに対応する基を有する中間体化合物2bとをそれぞれ合成する。その後、上述した第三反応において、中間体化合物1の各末端に配置されたR(=R)に対応するエポキシ基に対して、中間体化合物2aと中間体化合物2bとを順次反応させる方法により製造できる。
 また、例えば、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物として、R、R、Rが同じで、RとRとが同じであって、RとRとが異なる化合物を製造する場合には、以下に示す製造方法を用いて製造できる。
 すなわち、上述した第一反応において、前記フッ素系化合物の各末端に配置されたヒドロキシメチル基の水酸基に対して、Rに対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物と、Rに対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物とを順次反応させる。このことにより、Rに対応するパーフルオロポリエーテル鎖の一端に、Rに対応するエポキシ基を有し、他端にRに対応するエポキシ基を有する中間体化合物1aが得られる。その後、上述した第三反応において、中間体化合物1に代えて中間体化合物1aを用いる方法により製造できる。
 また、例えば、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物として、RとRとが同じで、RとRとが同じであって、RとRで示される2つのPFPE鎖と、Rで示されるPFPE鎖とが異なる化合物を製造する場合には、以下に示す製造方法を用いて製造できる。
 すなわち、上述した第一反応と第二反応とにおいて、種類の異なるPFPE鎖を有するフッ素系化合物を使用し、それ以外は、上記と同じ方法により製造できる。
 また、例えば、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物として、RとRとが同じまたは異なり、RとRとが同じであって、R、R、Rで示されるPFPE鎖が、それぞれ異なる化合物を製造する場合には、以下に示す製造方法を用いて製造できる。
 すなわち、上述した第二反応において、フッ素系化合物として、第一反応で使用したフッ素系化合物とPFPE鎖の種類が異なる2種類のものを用いる。そして、第二反応において、Rに対応するパーフルオロポリエーテル鎖の一方の末端にRに対応する基を有する中間体化合物2cと、Rに対応するパーフルオロポリエーテル鎖の一方の末端にRに対応する基を有する中間体化合物2dとを、それぞれ合成する。その後、上述した第三反応において、中間体化合物1の各末端に配置されたR(=R)に対応するエポキシ基に対して、中間体化合物2cと中間体化合物2dとを順次反応させる方法により製造できる。
 ここで、本実施形態の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤を用いて保護層上に形成した潤滑層の機能について説明する。
 磁気記録媒体の腐食の原因としては、磁気記録媒体の表面に存在するイオン性の汚染物質が挙げられる。イオン性の汚染物質の多くは、磁気記録媒体の製造工程において外部から付着する。イオン性の汚染物質は、ハードディスクドライブ(磁気記録再生装置)内に侵入した環境物質が、磁気記録媒体に付着して生成されることもある。具体的には、例えば、磁気記録媒体および/またはハードディスクドライブが高温・高湿条件下で保持されることにより、イオンなどの環境物質を含む水が磁気記録媒体の表面に付着する場合がある。イオンなどの環境物質を含む水は、磁気記録媒体の表面に形成された潤滑層を通り抜けると、潤滑層の下に存在する微少のイオン成分を凝縮させて、イオン性の汚染物質を生成させる。
 本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、式(1)で表される化合物であるので、これを含む潤滑層は、磁気記録媒体内部への汚染物質の侵入を妨げる腐食抑制効果の高いものとなる。この効果は、本実施形態の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層が、下記<1>~<5>の機能を有することにより、保護層との密着性に優れ、適切な疎水性を有し、均一な被覆状態で保護層上に形成されやすいことの相乗効果によって得られる。
<1>上記の潤滑層は、式(1)で表される化合物におけるRおよびRがそれぞれ有する1つ以上の水酸基(-OH)と、RおよびRにそれぞれ2つまたは3つ含まれる極性基とによって、保護層との間に好適な相互作用が発生し、保護層に密着される。このため、上記の潤滑層は、磁気記録媒体内部への汚染物質の侵入を妨げることができ、磁気記録媒体の腐食を抑制できる。
<2>式(1)で表される含フッ素エーテル化合物では、3つのパーフルオロポリエーテル鎖(R、R、R)が、RとRとの間、RとRとの間、RとRとの間に、それぞれ配置されている。
 このため、Rの有する極性基とRの有する水酸基との距離、RとRの有する水酸基同士の距離、Rの有する水酸基とRの有する極性基との距離が、いずれも適正である。したがって、RおよびRの有する水酸基も、RおよびRの有する極性基も、保護層上の活性点との結合を、隣接する極性基によって阻害されにくい。よって、RおよびRの有する水酸基、およびRおよびRの有する極性基は、いずれも保護層上の活性点との結合に関与しやすい。言い換えると、上記含フッ素エーテル化合物の有する極性基は、全て保護層上の活性点との結合に関与しない極性基になりにくい。その結果、上記含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、保護層上の活性点との結合に関与しない極性基の数が抑制され、保護層との密着性に優れる。
 また、Rの有する水酸基とRの有する水酸基との距離、Rの有する極性基とRの有する水酸基との距離、Rの有する水酸基とRの有する極性基との距離が、いずれも適正であるため、R、R、R、Rの有する極性基同士の分子内相互作用が小さく、凝集しにくい。したがって、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物は、保護層上に濡れ広がりやすく、均一な被覆状態を有し、被覆率が高く、密着性の良好な潤滑層を保護層上に形成できる。
 さらに、各パーフルオロポリエーテル鎖(R、R、R)の両端部がそれぞれ、R、R、R、Rのいずれかの有する極性基によって保護層に密着される。このため、保護層上に塗布された含フッ素エーテル化合物の状態が嵩高いものとなりにくい。したがって、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物は、保護層上に濡れ広がりやすく、均一な被覆状態を有し、被覆率が高く、密着性の良好な潤滑層を保護層上に形成できる。
<3>式(1)で表される含フッ素エーテル化合物は、3つのパーフルオロポリエーテル鎖(R、R、R)を有する。潤滑層に含まれる各パーフルオロポリエーテル鎖は、保護層の表面を被覆するとともに、表面エネルギーが低いことによって潤滑層に耐水性を付与する。
 潤滑層に含まれる式(1)で表される含フッ素エーテル化合物は、高温・高湿条件下で保持されると、熱による分子運動を起こす。イオンなどの環境物質を含む水は、潤滑層中で分子運動する分子間の隙間から侵入すると考えられる。
 式(1)で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、適切な耐水性および疎水性を有するため、潤滑層中で分子運動する分子間の隙間から磁気記録媒体内部への水の侵入を妨げ、磁気記録媒体の耐腐食性を向上させる。
<4>式(1)で表される含フッ素エーテル化合物では、Rは式(2)で表される連結基であり、Rは式(3)で表される連結基であり、式(2)中のaと式(3)中のcが同時に1となることはない。すなわち、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物は、式(2)中および/または式(3)中の水酸基が結合した炭素原子と、Rとの間に炭素数2または3のメチレン鎖を有している。したがって、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物は、式(2)中のaが1であり、かつ式(3)中のcが1である化合物と比較して、Rおよび/またはRで表される連結基中に含まれる炭素原子の数が多く、疎水性が良好である。このことにより、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、水が通り抜けにくく、磁気記録媒体内部への水の侵入を妨げることができる。
<5>式(1)で表される含フッ素エーテル化合物では、RおよびRに含まれる各極性基が、それぞれ異なる炭素原子に結合し、極性基の結合している炭素原子同士が、極性基の結合していない炭素原子を含む連結基を介して結合している。このため、RおよびRに含まれる極性基の結合している炭素原子、およびRおよびRの有する連結基に含まれる炭素原子の疎水性によって、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、適切な疎水性を有するものとなる。その結果、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、水が通り抜けにくく、磁気記録媒体内部への水の侵入を妨げることができ、磁気記録媒体の腐食を抑制できるものとなる。
[磁気記録媒体用潤滑剤]
 本実施形態の磁気記録媒体用潤滑剤は、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物を含む。
 本実施形態の潤滑剤は、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物を含むことによる特性を損なわない範囲内であれば、潤滑剤の材料として使用されている公知の材料を、必要に応じて混合して用いることができる。
 公知の材料の具体例としては、例えば、FOMBLIN(登録商標) ZDIAC、FOMBLIN ZDEAL、FOMBLIN AM-2001(以上、Solvay Solexis社製)、Moresco A20H(Moresco社製)などが挙げられる。本実施形態の潤滑剤と混合して用いる公知の材料は、数平均分子量が1000~10000であることが好ましい。
 本実施形態の潤滑剤が、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物の他の材料を含む場合、本実施形態の潤滑剤中の式(1)で表される含フッ素エーテル化合物の含有量が50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましい。式(1)で表される含フッ素エーテル化合物の含有量は、80質量%以上であってもよいし、90質量%以上であってもよい。
 本実施形態の潤滑剤は、式(1)で表される含フッ素エーテル化合物を含むため、磁気記録媒体の腐食を抑制する効果の高い潤滑層を形成できる。本実施形態の潤滑剤からなる潤滑層は、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高いものであるため、厚みを薄くできる。
[磁気記録媒体]
 本実施形態の磁気記録媒体は、基板上に、少なくとも磁性層と保護層と潤滑層が順次設けられたものである。
 本実施形態の磁気記録媒体では、基板と磁性層との間に、必要に応じて1層または2層以上の下地層を設けることができる。また、下地層と基板との間に付着層および/または軟磁性層を設けることもできる。
 図1は、本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示した概略断面図である。
 本実施形態の磁気記録媒体10は、基板11上に、付着層12と、軟磁性層13と、第1下地層14と、第2下地層15と、磁性層16と、保護層17と、潤滑層18とが順次設けられた構造をなしている。
「基板」
 基板11としては、例えば、AlもしくはAl合金などの金属または合金材料からなる基体上に、NiPまたはNiP合金からなる膜が形成された非磁性基板等を用いることができる。
 また、基板11としては、ガラス、セラミックス、シリコン、シリコンカーバイド、カーボン、樹脂などの非金属材料からなる非磁性基板を用いてもよいし、これらの非金属材料からなる基体上にNiPまたはNiP合金の膜を形成した非磁性基板を用いてもよい。
「付着層」
 付着層12は、基板11と、付着層12上に設けられる軟磁性層13とを接して配置した場合に生じる、基板11の腐食の進行を防止する。
 付着層12の材料は、例えば、Cr、Cr合金、Ti、Ti合金、CrTi、NiAl、AlRu合金等から適宜選択できる。付着層12は、例えば、スパッタリング法により形成できる。
「軟磁性層」
 軟磁性層13は、第1軟磁性膜と、Ru膜からなる中間層と、第2軟磁性膜とが順に積層された構造を有していることが好ましい。すなわち、軟磁性層13は、2層の軟磁性膜の間にRu膜からなる中間層を挟み込むことによって、中間層の上下の軟磁性膜がアンチ・フェロ・カップリング(AFC)結合した構造を有していることが好ましい。
 第1軟磁性膜および第2軟磁性膜の材料としては、CoZrTa合金、CoFe合金などが挙げられる。
 第1軟磁性膜および第2軟磁性膜に使用されるCoFe合金には、Zr、Ta、Nbの何れかを添加することが好ましい。これにより、第1軟磁性膜および第2軟磁性膜の非晶質化が促進され、第1下地層(シード層)の配向性が向上するとともに、磁気ヘッドの浮上量を低減することが可能となる。
 軟磁性層13は、例えば、スパッタリング法により形成できる。
「第1下地層」
 第1下地層14は、その上に設けられる第2下地層15および磁性層16の配向および結晶サイズを制御する層である。
 第1下地層14としては、例えば、Cr層、Ta層、Ru層、あるいはCrMo合金層、CoW合金層、CrW合金層、CrV合金層、CrTi合金層などが挙げられる。
 第1下地層14は、例えば、スパッタリング法により形成できる。
「第2下地層」
 第2下地層15は、磁性層16の配向が良好になるように制御する層である。第2下地層15は、RuまたはRu合金からなる層であることが好ましい。
 第2下地層15は、1層からなる層であってもよいし、複数層から構成されていてもよい。第2下地層15が複数層からなる場合、全ての層が同じ材料から構成されていてもよいし、少なくとも一層が異なる材料から構成されていてもよい。
 第2下地層15は、例えば、スパッタリング法により形成できる。
「磁性層」
 磁性層16は、磁化容易軸が基板面に対して垂直または水平方向を向いた磁性膜からなる。磁性層16は、CoとPtを含む層であり、さらにSNR特性を改善するために、酸化物や、Cr、B、Cu、Ta、Zr等を含む層であってもよい。
 磁性層16に含有される酸化物としては、SiO、SiO、Cr、CoO、Ta、TiO等が挙げられる。
 磁性層16は、1層から構成されていてもよいし、組成の異なる材料からなる複数の磁性層から構成されていてもよい。
 例えば、磁性層16が、下から順に積層された第1磁性層と第2磁性層と第3磁性層の3層からなる場合、第1磁性層は、Co、Cr、Ptを含み、さらに酸化物を含んだ材料からなるグラニュラー構造であることが好ましい。第1磁性層に含有される酸化物としては、例えば、Cr、Si、Ta、Al、Ti、Mg、Co等の酸化物を用いることが好ましい。その中でも、特に、TiO、Cr、SiO等を好適に用いることができる。また、第1磁性層は、酸化物を2種類以上添加した複合酸化物からなることが好ましい。その中でも、特に、Cr-SiO、Cr-TiO、SiO-TiO等を好適に用いることができる。
 第1磁性層は、Co、Cr、Pt、酸化物の他に、B、Ta、Mo、Cu、Nd、W、Nb、Sm、Tb、Ru、Reの中から選ばれる1種類以上の元素を含むことができる。
 第2磁性層には、第1磁性層と同様の材料を用いることができる。第2磁性層は、グラニュラー構造であることが好ましい。
 第3磁性層は、Co、Cr、Ptを含み、酸化物を含まない材料からなる非グラニュラー構造であることが好ましい。第3磁性層は、Co、Cr、Ptの他に、B、Ta、Mo、Cu、Nd、W、Nb、Sm、Tb、Ru、Re、Mnの中から選ばれる1種類以上の元素を含むことができる。
 磁性層16が複数の磁性層で形成されている場合、隣接する磁性層の間には、非磁性層を設けることが好ましい。磁性層16が、第1磁性層と第2磁性層と第3磁性層の3層からなる場合、第1磁性層と第2磁性層との間と、第2磁性層と第3磁性層との間に、非磁性層を設けることが好ましい。
 磁性層16の隣接する磁性層間に設けられる非磁性層は、例えば、Ru、Ru合金、CoCr合金、CoCrX1合金(X1は、Pt、Ta、Zr、Re、Ru、Cu、Nb、Ni、Mn、Ge、Si、O、N、W、Mo、Ti、V、Bの中から選ばれる1種または2種以上の元素を表す。)等を好適に用いることができる。
 磁性層16の隣接する磁性層間に設けられる非磁性層には、酸化物、金属窒化物、または金属炭化物を含んだ合金材料を使用することが好ましい。具体的には、酸化物として、例えば、SiO、Al、Ta、Cr、MgO、Y、TiO等を用いることができる。金属窒化物として、例えば、AlN、Si、TaN、CrN等を用いることができる。金属炭化物として、例えば、TaC、BC、SiC等を用いることができる。
 非磁性層は、例えば、スパッタリング法により形成できる。
 磁性層16は、より高い記録密度を実現するために、磁化容易軸が基板面に対して垂直方向を向いた垂直磁気記録の磁性層であることが好ましい。磁性層16は、面内磁気記録の磁性層であってもよい。
 磁性層16は、蒸着法、イオンビームスパッタ法、マグネトロンスパッタ法等、従来公知のいかなる方法によって形成してもよい。磁性層16は、通常、スパッタリング法により形成される。
「保護層」
 保護層17は、磁性層16を保護する。保護層17は、一層から構成されていてもよいし、複数層から構成されていてもよい。保護層17の材料としては、炭素、窒素を含む炭素、炭化ケイ素などが挙げられる。
 保護層17としては、炭素系保護層を好ましく用いることができ、特にアモルファス炭素保護層が好ましい。保護層17が炭素系保護層であると、潤滑層18中の含フッ素エーテル化合物に含まれる水酸基との相互作用が一層高まるため、好ましい。
 炭素系保護層と潤滑層18との付着力は、炭素系保護層を水素化炭素および/または窒素化炭素とし、炭素系保護層中の水素含有量および/または窒素含有量を調節することにより制御可能である。炭素系保護層中の水素含有量は、水素前方散乱法(HFS)で測定したときに3~20原子%であることが好ましい。また、炭素系保護層中の窒素含有量はX線光電子分光分析法(XPS)で測定したときに、4~15原子%であることが好ましい。
 炭素系保護層に含まれる水素および/または窒素は、炭素系保護層全体に均一に含有される必要はない。炭素系保護層は、例えば、保護層17の潤滑層18側に窒素を含有させ、保護層17の磁性層16側に水素を含有させた組成傾斜層とすることが好適である。この場合、磁性層16および潤滑層18と、炭素系保護層との付着力が、より一層向上する。
 保護層17の膜厚は、1nm~7nmとするのがよい。保護層17の膜厚が1nm以上であると、保護層17としての性能が充分に得られる。保護層17の膜厚が7nm以下であると、保護層17の薄膜化の観点から好ましい。
 保護層17の成膜方法としては、炭素を含むターゲット材を用いるスパッタ法や、エチレン、トルエン等の炭化水素原料を用いるCVD(化学蒸着法)法、IBD(イオンビーム蒸着)法等を用いることができる。
 保護層17として炭素系保護層を形成する場合、例えばDCマグネトロンスパッタリング法により成膜できる。特に、保護層17として炭素系保護層を形成する場合、プラズマCVD法により、アモルファス炭素保護層を成膜することが好ましい。プラズマCVD法により成膜したアモルファス炭素保護層は、表面が均一で、粗さが小さいものとなる。
「潤滑層」
 潤滑層18は、磁気記録媒体10の汚染を防止する。また、潤滑層18は、磁気記録媒体10上を摺動する磁気記録再生装置の磁気ヘッドの摩擦力を低減させて、磁気記録媒体10の耐久性を向上させる。
 潤滑層18は、図1に示すように、保護層17上に接して形成されている。潤滑層18は、上述の含フッ素エーテル化合物を含む。
 潤滑層18は、潤滑層18の下に配置されている保護層17が、炭素系保護層である場合、特に、保護層17と高い結合力で結合される。その結果、潤滑層18の厚みが薄くても、高い被覆率で保護層17の表面が被覆された磁気記録媒体10が得られやすくなり、磁気記録媒体10の表面の汚染を効果的に防止できる。
 潤滑層18の平均膜厚は、0.5nm(5Å)~2.0nm(20Å)であることが好ましく、0.5nm(5Å)~1.0nm(10Å)であることがより好ましい。潤滑層18の平均膜厚が0.5nm以上であると、潤滑層18がアイランド状または網目状とならずに均一の膜厚で形成される。このため、潤滑層18によって、保護層17の表面を高い被覆率で被覆できる。また、潤滑層18の平均膜厚を2.0nm以下にすることで、潤滑層18を充分に薄膜化でき、磁気ヘッドの浮上量を十分小さくできる。
 保護層17の表面が潤滑層18によって十分に高い被覆率で被覆されていない場合、磁気記録媒体10の表面に吸着した環境物質が、潤滑層18の隙間を通り抜けて、潤滑層18の下に侵入する。潤滑層18の下に侵入した環境物質は、保護層17に吸着、結合し、汚染物質を生成させる。生成した汚染物質(凝集成分)は、磁気記録再生の際に、スメアとして磁気ヘッドに付着(転写)して、磁気ヘッドを破損したり、磁気記録再生装置の磁気記録再生特性を低下させたりする。
 汚染物質を生成させる環境物質としては、例えば、シロキサン化合物(環状シロキサン、直鎖シロキサン)、イオン性不純物、オクタコサン等の比較的分子量の高い炭化水素、フタル酸ジオクチル等の可塑剤等が挙げられる。イオン性不純物に含まれる金属イオンとしては、例えば、ナトリウムイオン、カリウムイオン等を挙げることができる。イオン性不純物に含まれる無機イオンとしては、例えば、塩素イオン、臭素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、アンモニウムイオン等を挙げることができる。イオン性不純物に含まれる有機物イオンとしては、例えば、シュウ酸イオン、蟻酸イオン等を挙げることができる。
「潤滑層の形成方法」
 潤滑層18を形成する方法としては、例えば、基板11上に保護層17までの各層が形成された製造途中の磁気記録媒体を用意し、保護層17上に潤滑層形成用溶液を塗布し、乾燥させる方法が挙げられる。
 潤滑層形成用溶液は、上述の実施形態の磁気記録媒体用潤滑剤を必要に応じて、溶媒に分散溶解させ、塗布方法に適した粘度および濃度とすることにより得られる。
 潤滑層形成用溶液に用いられる溶媒としては、例えば、バートレル(登録商標)XF(商品名、三井デュポンフロロケミカル社製)等のフッ素系溶媒等が挙げられる。
 潤滑層形成用溶液の塗布方法は、特に限定されないが、例えば、スピンコート法、スプレイ法、ペーパーコート法、ディップ法等が挙げられる。
 ディップ法を用いる場合、例えば、以下に示す方法を用いることができる。まず、ディップコート装置の浸漬槽に入れられた潤滑層形成用溶液中に、保護層17までの各層が形成された基板11を浸漬する。次いで、浸漬槽から基板11を所定の速度で引き上げる。このことにより、潤滑層形成用溶液を基板11の保護層17上の表面に塗布する。
 ディップ法を用いることで、潤滑層形成用溶液を保護層17の表面に均一に塗布することができ、保護層17上に均一な膜厚で潤滑層18を形成できる。
 本実施形態においては、基板11の表面に潤滑層18を形成した後、バーニッシュ(精密研磨)工程を行うことが好ましい。バーニッシュ工程を行うことにより、潤滑層18を形成した基板11の表面に存在する突起欠陥およびパーティクルを除去することができ、表面の平滑な磁気記録媒体10が得られる。磁気記録媒体10の表面が平滑であると、磁気記録媒体10と磁気ヘッドとのスペーシングロスを少なくでき、信号特性を向上できる。
 バーニッシュ工程は、例えば、潤滑層18を形成した基板11の表面上に、バーニッシュテープを走査する工程とすることができる。バーニッシュテープとしては、例えば、砥粒を保持させた樹脂フィルムからなるものを用いることができる。砥粒の粒度は、例えば、#6000~#20000とすることができる。
 本実施形態においては、潤滑層18を形成した基板11に熱処理を施すことが好ましい。熱処理を施すことにより、潤滑層18と保護層17との密着性が向上し、潤滑層18と保護層17との付着力が向上する。
 熱処理温度は100~180℃とすることが好ましい。熱処理温度が100℃以上であると、潤滑層18と保護層17との密着性を向上させる効果が十分に得られる。また、熱処理温度を180℃以下にすることで、潤滑層18の熱分解を防止できる。熱処理時間は10~120分とすることが好ましい。
 本実施形態の磁気記録媒体10は、基板11上に、少なくとも磁性層16と、保護層17と、潤滑層18とが順次設けられたものである。本実施形態の磁気記録媒体10では、保護層17上に接して上述の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層18が形成されている。この潤滑層18は、磁気記録媒体10の腐食を抑制する効果の高いものである。このため、本実施形態の磁気記録媒体10は、表面上に存在する汚染物質が少なく、優れた耐腐食性を有し、信頼性および耐久性が良好である。また、本実施形態の磁気記録媒体10は、腐食抑制効果の高い潤滑層18を有するため、保護層17および/または潤滑層18の厚みを薄くできる。また、本実施形態の磁気記録媒体10における潤滑層18は、異物(スメア)を生じさせにくく、ピックアップを抑制できる。
 以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例のみに限定されない。
[実施例1]
 以下に示す方法により、上記式(A)で示される化合物を製造した。
(第一反応)
 窒素ガス雰囲気下、200mLナスフラスコにHOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量468、分子量分布1.1)9.4g(20mmol)と、60%水素化ナトリウム1.76g(44mmol)と、N,N-ジメチルホルムアミド15.6mLとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌した。この均一の液に2-(2-ブロモエチル)オキシラン6.34g(42mmol)を加え、40℃で2時間撹拌して反応させた。
 反応後に得られた反応生成物を25℃に冷却し、水80mLを加えて反応を停止し、分液漏斗へ移し、酢酸エチル150mLで2回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、中間体化合物1として下記式(10)で示される化合物3.7g(分子量608、6.0mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018

(式(10)中、平均重合度を示すrは2.5である。)
(第二反応)
 窒素ガス雰囲気下、200mLナスフラスコにHOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量468、分子量分布1.1)14.0gと、下記式(11)で表される化合物3.89g(分子量216.28、18mmol)と、t-ブタノール28mLとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌した。この均一の液にさらにカリウムtert-ブトキシド1.0g(分子量112.2、9mmol)を加え、70℃で16時間撹拌して反応させた。
 式(11)で表される化合物は、1,3-プロパンジオールの片方の水酸基をTHP基(テトラヒドロピラニル基)で保護し、もう片方の水酸基とエピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。
 反応後に得られた反応生成物を25℃に冷却し、水100mLが入った分液漏斗へ移し、酢酸エチル100mLで3回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、中間体化合物2として下記式(12)で示される化合物8.2g(分子量684、12.0mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019

(式(11)中、THPはテトラヒドロピラニル基を表す。)
(式(12)中、平均重合度を示すrは2.5である。)
(第三反応)
 窒素ガス雰囲気下、200mLナスフラスコに式(12)で表される中間体化合物2(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)6.8gと、カリウムtert-ブトキシド0.34gと、t-ブタノール9.4mLとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌した。この均一の液にさらに式(10)で表される中間体化合物1(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)1.8gを加え、70℃で16時間撹拌して反応させた。
 反応後に得られた反応生成物を25℃に冷却し、水100mLが入った分液漏斗へ移し、酢酸エチル100mLで3回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、上記式(A)で示される化合物(式(A)におけるFpa、Fpaは式(AF)で表される。Fpa中の平均重合度を示すraは2.5、Fpa中の平均重合度を示すraは2.5である。)を3.3g(分子量1809、1.8mmol)を得た。
 得られた化合物(A)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.38~1.75(8H)、3.37~4.31(46H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-78.6(6F)、-81.3(6F)、-90.0~-88.5(30F)
[実施例2]
 第一反応においてHOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物の代わりに、HOCHCFCFO(CFCFCFO)CFCFCHOH(式中の平均重合度を示すqは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量693、分子量分布1.1)を13.9g用いたことと、第二反応においてHOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物の代わりに、HOCHCFCFO(CFCFCFO)CFCFCHOH(式中の平均重合度を示すqは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量693、分子量分布1.1)を20.8g用いたことと、式(11)で表される化合物の代わりに、下記式(13)で表される化合物を6.02g用いたこと以外は、実施例1と同様な操作を行い、上記式(B)で表される化合物(式(B)におけるFdb、Fdbは式(BF)で表される。Fdb中の平均重合度を示すqbは2.5、Fdb中の平均重合度を示すqbは2.5である。)を4.7g(分子量2632、1.8mmol)得た。
 式(13)で表される化合物は、以下の方法で合成した。
 3-アリルオキシ-1,2-プロパンジオールの1級水酸基にTBS基(tert-ブチルジメチルシリル基)を導入し、得られた化合物の2級水酸基にMOM基(メトキシメチル基)を導入した。得られた化合物のTBS基を除去した後、生じた1級水酸基に2-(クロロプロポキシ)テトラヒドロ-2H-ピランを反応させた。得られた化合物の二重結合を酸化した。以上の工程により、式(13)で表される化合物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020

(式(13)中、THPはテトラヒドロピラニル基を表し、MOMはメトキシメチル基を表す。)
 得られた化合物(B)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.37~1.81(8H)、3.36~4.35(58H)
19F-NMR(acetone-D):δ[ppm]=-84.0~-83.0(30F)、-86.4(12F)、-124.3(12F)、-130.0~-129.0(15F)
[実施例3]
 第一反応においてHOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物の代わりに、HOCHCFO(CFCFO)(CFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すs、tは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量633、分子量分布1.1)を12.7g用いたことと、第二反応においてHOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物の代わりに、HOCHCFO(CFCFO)(CFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すs、tは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量633、分子量分布1.1)を19.0g用いたことと、式(11)で表される化合物の代わりに、下記式(14)で表される化合物を3.10g用いたこと以外は、実施例1と同様な操作を行い、上記式(C)で表される化合物(式(C)におけるFfc、Ffcは式(CF)で表される。Ffc中の平均重合度を示すsc、tcは2.5、Ffc中の平均重合度を示すsc、tcは2.5である。)を4.0g(分子量2216、1.8mmol)得た。
 式(14)で表される化合物は、3-ブテン-1-オールの1級水酸基にTHP基(テトラヒドロピラニル基)を導入し、得られた化合物の二重結合を酸化させることにより合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021

(式(14)中、THPはテトラヒドロピラニル基を表す。)
 得られた化合物(C)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.34~1.67(8H)、3.39~4.34(38H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(15F)、-77.7(6F)、-80.3(6F)、-91.0~-88.5(30F)
[実施例4]
 第二反応において式(11)で表される化合物の代わりに、下記式(15)で表される化合物を4.76g用いたこと以外は、実施例1と同様な操作を行い、上記式(D)で表される化合物(式(D)におけるFpd、Fpdは式(DF)で表される。Fpd中の平均重合度を示すrdは2.5、Fpd中の平均重合度を示すrdは2.5である。)を3.4g(分子量1897、1.8mmol)得た。
 式(15)で表される化合物は、以下の方法で合成した。
 1,2,4-ブタントリオールにベンズアルデヒドジメチルアセタールを反応させて、1,2,4-ブタントリオールの2位の炭素と4位の炭素に結合した水酸基を保護した化合物を合成した。この化合物と2-ブロモエチルオキシランとを反応させることで、式(15)で表される化合物を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022

(式(15)中、Phはフェニル基を表す。)
 得られた化合物(D)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.34~1.65(12H)、3.42~4.35(50H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-78.6(6F)、-81.3(6F)、-90.0~-88.5(30F)
[実施例5]
 第二反応において式(13)で表される化合物の代わりに、下記式(16)で表される化合物を3.64g用いたこと以外は、実施例2と同様な操作を行い、上記式(E)で表される化合物(式(E)におけるFde、Fdeは式(EF)で表される。Fde中の平均重合度を示すqeは2.5、Fde中の平均重合度を示すqeは2.5である。)を4.4g(分子量2456、1.8mmol)得た。
 式(16)で表される化合物は、ジヒドロピランを用いて、エチレングリコールモノアリルエーテルを保護した化合物を、酸化することにより合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023

(式(16)中、THPはテトラヒドロピラニル基を表す。)
 得られた化合物(E)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.37~1.64(4H)、3.42~4.35(46H)
19F-NMR(acetone-D):δ[ppm]=-84.0~-83.0(30F)、-86.4(12F)、-124.3(12F)、-130.0~-129.0(15F)
[実施例6]
 第二反応において式(13)で表される化合物の代わりに、下記式(17)で表される化合物を3.89g用いたこと以外は、実施例2と同様な操作を行い、上記式(F)で表される化合物(式(F)におけるFdf、Fdfは式(FF)で表される。Fdf中の平均重合度を示すqfは2.5、Fdf中の平均重合度を示すqfは2.5である。)を4.5g(分子量2484、1.8mmol)得た。
 式(17)で表される化合物は、3-ブテン-1-オールと2-ブロモエトキシテトラヒドロピランとを反応させて得られた化合物の二重結合を酸化させることにより合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024

(式(17)中、THPはテトラヒドロピラニル基を表す。)
 得られた化合物(F)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.34~1.59(8H)、3.37~4.38(46H)
19F-NMR(acetone-D):δ[ppm]=-84.0~-83.0(30F)、-86.4(12F)、-124.3(12F)、-130.0~-129.0(15F)
[実施例7]
 第二反応において式(14)で表される化合物の代わりに、下記式(18)で表される化合物を4.51g用いたこと以外は、実施例3と同様な操作を行い、上記式(G)で表される化合物(式(G)におけるFfg、Ffgは式(GF)で表される。Ffg中の平均重合度を示すsg、tgは2.5、Ffg中の平均重合度を示すsg、tgは2.5である。)を4.3g(分子量2364、1.8mmol)得た。
 式(18)で表される化合物は、以下の方法で合成した。
 1,2,4-ブタントリオールにベンズアルデヒドジメチルアセタールを反応させて、1,2,4-ブタントリオールの2位の炭素と4位の炭素に結合した水酸基を保護した化合物を合成した。この化合物とエピブロモヒドリンとを反応させることにより、式(18)で表される化合物を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025

(式(18)中、Phはフェニル基を表す。)
 得られた化合物(G)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.34~1.67(8H)、3.38~4.33(50H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(15F)、-77.7(6F)、-80.3(6F)、-91.0~-88.5(30F)
[実施例8]
 第一反応において2-(2-ブロモエチル)オキシランの代わりに、2-(3-ブロモプロピル)オキシランを用いたことと、第二反応において式(11)で表される化合物の代わりに、下記式(19)で表される化合物を3.35g用いたこと以外は、実施例1と同様な操作を行い、上記式(H)で表される化合物(式(H)中のFph、Fphは式(HF)で表される。Fph中の平均重合度を示すrhは2.5であり、Fph中の平均重合度を示すrhは2.5である。)を3.2g(分子量1777、1.8mmol)得た。
 式(19)で表される化合物は、4-ペンテン-1-オールの1級水酸基にTHP基(テトラヒドロピラニル基)を導入し、得られた化合物の二重結合を酸化させることにより合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026

(式(19)中、THPはテトラヒドロピラニル基を表す。)
 得られた化合物(H)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.34~1.65(16H)、3.42~4.35(38H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-78.6(6F)、-81.3(6F)、-90.0~-88.5(30F)
[実施例9]
 第一反応において2-(2-ブロモエチル)オキシランの代わりに、2-(3-ブロモプロピル)オキシランを用いたことと、第二反応において式(13)で表される化合物の代わりに、下記式(20)で表される化合物を6.99g用いたこと以外は、実施例2と同様な操作を行い、上記式(I)で表される化合物(式(I)中のFdi、Fdiは式(IF)で表される。Fdi中の平均重合度を示すqiは2.5、Fdi中の平均重合度を示すqiは2.5である。)を4.8g(分子量2688、1.8mmol)得た。
 式(20)で表される化合物は、以下の方法で合成した。
 エチレングリコールモノアリルエーテルを、ジヒドロピランを用いて保護した化合物を酸化させて、第1化合物を得た。第1化合物と、4-ペンテン-1-オールの水酸基とを反応させて、第2化合物を得た。第2化合物の2級水酸基をTHP基で保護した化合物の二重結合を酸化した。以上の工程により、式(20)で表される化合物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027

(式(20)中、THPはテトラヒドロピラニル基を表す。)
 得られた化合物(I)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.38~1.58(16H)、3.38~4.41(58H)
19F-NMR(acetone-D):δ[ppm]=-84.0~-83.0(30F)、-86.4(12F)、-124.3(12F)、-130.0~-129.0(15F)
[実施例10]
 第一反応において2-(2-ブロモエチル)オキシランの代わりに、2-(3-ブロモプロピル)オキシランを用いたことと、第二反応において式(14)で表される化合物の代わりに、下記式(21)で表される化合物を5.77g用いたこと以外は、実施例3と同様な操作を行い、上記式(J)で表される化合物(式(J)におけるFfj、Ffjは式(JF)で表される。Ffj中の平均重合度を示すsj、tjは2.5、Ffj中の平均重合度を示すsj、tjは2.5である。)を4.4g(分子量2452、1.8mmol)得た。
 式(21)で表される化合物は以下の方法で合成した。
 3-アリルオキシ-1,2-プロパンジオールの有する1級水酸基に、保護基としてtert-ブチルジメチルシリル(TBS)基を導入し、得られた化合物の2級水酸基に保護基としてメトキシメチル(MOM)基を導入した。その後、化合物からTBS基を除去し、生じた1級水酸基に2-ブロモエトキシテトラヒドロピランを反応させた。得られた化合物の二重結合を酸化した。以上の工程により、式(21)で表される化合物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028

(式(21)中、THPはテトラヒドロピラニル基を表し、MOMはメトキシメチル基を表す。)
 得られた化合物(J)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.34~1.66(8H)、3.39~4.35(58H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(15F)、-77.7(6F)、-80.3(6F)、-91.0~-88.5(30F)
[実施例11]
 第二反応においてHOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物の代わりに、HOCHCFCFO(CFCFCFO)CFCFCHOH(式中の平均重合度を示すqは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量693、分子量分布1.1)を20.8g用いたことと、式(11)で表される化合物の代わりに、上記式(18)で表される化合物を4.51g用いたこと以外は、実施例1と同様な操作を行い、上記式(K)で表される化合物(式(K)中のFdk、Fpkは式(KF)で表される。Fdk中の平均重合度を示すqkは2.5であり、Fpk中の平均重合度を示すrkは2.5である)を4.2g(分子量2319、1.8mmol)得た。
 得られた化合物(K)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.34~1.63(8H)、3.39~4.35(50H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-78.6(2F)、-81.3(2F)、-84.0~-83.0(20F)、-86.4(8F)、-90.0~-88.5(10F)、-124.3(8F)、-130.0~-129.0(10F)
[実施例12]
 第二反応においてHOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物の代わりに、HOCHCFO(CFCFO)(CFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すs、tは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量633、分子量分布1.1)を用いたことと、式(11)で表される化合物の代わりに、下記式(22)で表される化合物を6.02g用いたこと以外は、実施例1と同様な操作を行い、上記式(L)で表される化合物(式(L)中のFfl、Fplは式(LF)で表される。Ffl中の平均重合度を示すsl、tlは2.5であり、Fpl中の平均重合度を示すrlは2.5である。)を4.1g(分子量2287、1.8mmol)得た。
 式(22)で表される化合物は以下の方法で合成した。
 ジヒドロピランを用いて、エチレングリコールモノアリルエーテルを保護し、得られた化合物を酸化して第1化合物とした。次に、第1化合物と、3-ブテン-1-オールの水酸基とを反応させて第2化合物とした。得られた第2化合物の2級水酸基をMOM基で保護し、二重結合を酸化させることにより、式(22)で表される化合物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029

(式(22)中、THPはテトラヒドロピラニル基を表し、MOMはメトキシメチル基を表す。)
 得られた化合物(L)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.35~1.62(8H)、3.41~4.35(58H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(10F)、-77.7(4F)、-78.6(2F)、-80.3(4F)、-81.3(2F)、-90.0~-88.5(30F)
[実施例13]
 第二反応においてHOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物の代わりに、HOCHCFCFO(CFCFCFO)CFCFCHOH(式中の平均重合度を示すqは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量693、分子量分布1.1)を20.8g用いたことと、式(19)で表される化合物の代わりに、上記式(11)で表される化合物を3.89g用いたこと以外は、実施例8と同様な操作を行い、上記式(M)で表される化合物(式(M)中のFdm、Fpmは式(MF)で表される。Fdm中の平均重合度を示すqmは2.5であり、Fpm中の平均重合度を示すrmは2.5である。)を4.1g(分子量2287、1.8mmol)得た。
 得られた化合物(M)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.35~1.56(12H)、3.41~4.37(46H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-78.6(2F)、-81.3(2F)、-84.0~-83.0(20F)、-86.4(8F)、-90.0~-88.5(10F)、-124.3(8F)、-130.0~-129.0(10F)
[実施例14]
 第二反応においてHOCHCFCFO(CFCFCFO)CFCFCHOH(式中の平均重合度を示すqは2.5である。)で表される化合物の代わりに、HOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量468、分子量分布1.1)を14.0g用いたこと以外は、実施例2と同様な操作を行い、上記式(N)で表される化合物(式(N)中のFdn、Fpnは式(NF)で表される。Fdn中の平均重合度を示すqnは2.5であり、Fpn中の平均重合度を示すrnは2.5である。)を3.9g(分子量2182、1.8mmol)得た。
 得られた化合物(N)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.39~1.61(8H)、3.41~4.45(58H)
19F-NMR(acetone-D):δ[ppm]=-78.6(4F)、-81.3(4F)、-84.0~-83.0(10F)、-86.4(4F)、-90.0~-88.5(24F)、-124.3(4F)、-130.0~-129.0(5F)
[実施例15]
 第二反応において上記式(13)で表される化合物の代わりに、上記式(15)で表される化合物を4.76g用いたこと以外は、実施例14と同様な操作を行い、上記式(O)で表される化合物(式(O)中のFdo、Fpoは式(OF)で表される。Fdo中の平均重合度を示すqoは2.5であり、Fpo中の平均重合度を示すroは2.5である。)を3.8g(分子量2122、1.8mmol)得た。
 得られた化合物(O)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.34~1.58(12H)、3.38~4.41(50H)
19F-NMR(acetone-D):δ[ppm]=-78.6(4F)、-81.3(4F)、-84.0~-83.0(10F)、-86.4(4F)、-90.0~-88.5(24F)、-124.3(4F)、-130.0~-129.0(5F)
[実施例16]
 第二反応においてHOCHCFCFO(CFCFCFO)CFCFCHOH(式中の平均重合度を示すqは2.5である。)で表される化合物の代わりに、HOCHCFO(CFCFO)(CFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すs、tは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量633、分子量分布1.1)を用いたことと、上記式(13)で表される化合物の代わりに、下記式(23)で表される化合物を4.15g用いたこと以外は、実施例2と同様な操作を行い、上記式(P)で表される化合物(式(P)中のFdp、Ffpは式(PF)で表される。Fdp中の平均重合度を示すqpは2.5を表す。Ffp中の平均重合度を示すsp、tpは2.5である。)を4.3g(分子量2392、1.8mmol)得た。
 式(23)で表される化合物は、1,4-ブタンジオールの片方の水酸基をTHP基で保護し、もう片方の水酸基とエピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030

(式(23)中、THPはテトラヒドロピラニル基を表す。)
 得られた化合物(P)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.37~1.61(12H)、3.40~4.43(46H)
19F-NMR(acetone-D):δ[ppm]=-55.6~-50.6(10F)、-77.7(4F)、-80.3(4F)、-84.0~-83.0(10F)、-86.4(4F)、-91.0~-88.5(20F)、-124.3(4F)、-130.0~-129.0(5F)
[実施例17]
 第二反応においてHOCHCFCFO(CFCFCFO)CFCFCHOH(式中の平均重合度を示すqは2.5である。)で表される化合物の代わりに、HOCHCFO(CFCFO)(CFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すs、tは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量633、分子量分布1.1)を用いたことと、上記式(20)で表される化合物の代わりに、上記式(16)で表される化合物を3.64g用いたこと以外は、実施例9と同様な操作を行い、上記式(Q)で表される化合物(式(Q)中のFdq、Ffqは式(QF)で表される。Fdq中の平均重合度を示すqqは2.5であり、Ffq中の平均重合度を示すsq、tqは2.5である。)を4.3g(分子量2364、1.8mmol)得た。
 得られた化合物(Q)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.36~1.57(8H)、3.39~4.37(46H)
19F-NMR(acetone-D):δ[ppm]=-55.6~-50.6(10F)、-77.7(4F)、-80.3(4F)、-84.0~-83.0(10F)、-86.4(4F)、-91.0~-88.5(20F)、-124.3(4F)、-130.0~-129.0(5F)
[実施例18]
 第二反応においてHOCHCFO(CFCFO)(CFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すs、tは2.5である。)で表される化合物の代わりに、HOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量468、分子量分布1.1)を14.0g用いたことと、上記式(14)で表される化合物の代わりに、上記式(21)で表される化合物を5.77g用いたこと以外は、実施例3と同様な操作を行い、上記式(R)で表される化合物(式(R)中のFfr、Fprは式(RF)で表される。Ffr中の平均重合度を示すsr、trは2.5であり、Fpr中の平均重合度を示すrrは2.5である。)を3.8g(分子量2094、1.8mmol)得た。
 得られた化合物(R)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.34~1.59(4H)、3.40~4.43(58H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(5F)、-77.7(2F)、-78.6(4F)、-80.3(2F)、-81.3(4F)、-90.0~-88.5(30F)
[実施例19]
 第二反応においてHOCHCFO(CFCFO)(CFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すs、tは2.5である。)で表される化合物の代わりに、HOCHCFCFO(CFCFCFO)CFCFCHOH(式中の平均重合度を示すqは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量693、分子量分布1.1)を20.8g用いたことと、上記式(14)で表される化合物の代わりに、下記式(24)で表される化合物を3.61g用いたこと以外は、実施例3と同様な操作を行い、上記式(S)で表される化合物(式(S)中のFds、Ffsは式(SF)で表される。Fds中の平均重合度を示すqsは2.5であり、Ffs中の平均重合度を示すss、tsは2.5である。)を4.3g(分子量2392、1.8mmol)得た。
 式(24)で表される化合物は、5-ヘキセン-1-オールの1級水酸基にTHP基(テトラヒドロピラニル基)を導入し、得られた化合物の二重結合を酸化させることで合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031

(式(24)中、THPはテトラヒドロピラニル基を表す。)
 得られた化合物(S)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.34~1.57(16H)、3.41~4.37(38H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(5F)、-77.7(2F)、-80.3(2F)、-84.0~-83.0(20F)、-86.4(8F)、-91.0~-88.5(10F)、-124.3(8F)、-130.0~-129.0(10F)
[実施例20]
 第二反応においてHOCHCFO(CFCFO)(CFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すs、tは2.5である。)で表される化合物の代わりに、HOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量468、分子量分布1.1)を用いたことと、上記式(21)で表される化合物の代わりに、下記式(25)で表される化合物を5.48g用いたこと以外は、実施例10と同様な操作を行い、上記式(T)で表される化合物(式(T)中のFft、Fptは式(TF)で表される。Fft中の平均重合度を示すst、ttは2.5であり、Fpt中の平均重合度を示すrtは2.5である。)を3.76g(分子量2090、1.8mmol)得た。
 式(25)で表される化合物は、以下の方法で合成した。
 式(19)で表される化合物とアリルアルコールとを反応させて得られた化合物の2級水酸基をMOM基で保護した。得られた化合物の二重結合を酸化させることにより式(25)で表される化合物を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032

(式(25)中、THPはテトラヒドロピラニル基を表し、MOMはメトキシメチル基を表す。)
 得られた化合物(T)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.35~1.60(16H)、3.42~4.42(50H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(5F)、-77.7(2F)、-78.6(4F)、-80.3(2F)、-81.3(4F)、-90.0~-88.5(30F)
[比較例1]
 下記式(AA)で表される化合物を、特許文献1に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033

(式(AA)中のFpaa、Ffaaは式(AAF)で表される。Fpaa中の平均重合度を示すpaaは2.5であり、Ffaa中の平均重合度を示すmaa、naaはそれぞれ2.5を表す。)
 得られた化合物(AA)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=3.42~4.28(38H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(10F)、-77.7(4F)、-78.6(2F)、-80.3(4F)、-81.3(2F)、-90.0~-88.5(30F)
[比較例2]
 下記式(AB)で表される化合物を、特許文献1に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034

(式(AB)中のFpab、Ffabは式(ABF)で表される。Fpab中の平均重合度を示すpabは2.5であり、Ffab中の平均重合度を示すmab、nabはそれぞれ2.5を表す。)
 得られた化合物(AB)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
(同定データ)
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.54~1.76(4H)、3.42~4.28(38H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(10F)、-77.7(4F)、-78.6(2F)、-80.3(4F)、-81.3(2F)、-90.0~-88.5(30F)
[比較例3]
 下記式(AC)で表される化合物を、特許文献1に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035

(式(AC)中のFpac、Ffacは式(ACF)で表される。Fpac中の平均重合度を示すpacは2.5であり、Ffac中の平均重合度を示すmac、nacはそれぞれ2.5を表す。)
 得られた化合物(AC)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
(同定データ)
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=3.46~4.18(46H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(10F)、-77.7(4F)、-78.6(2F)、-80.3(4F)、-81.3(2F)、-90.0~-88.5(30F)
[比較例4]
 下記式(AD)で表される化合物を、特許文献1に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036

(式(AD)中のFpad、Ffadは式(ADF)で表される。Fpad中の平均重合度を示すpadは2.5であり、Ffad中の平均重合度を示すmad、nadはそれぞれ2.5を表す。)
 得られた化合物(AD)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
(同定データ)
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.34~1.67(4H)、3.39~4.34(46H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(10F)、-77.7(4F)、-78.6(2F)、-80.3(4F)、-81.3(2F)、-90.0~-88.5(30F)
[比較例5]
 下記式(AE)で表される化合物を、特許文献2に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037

(式(AE)中のFpae、Ffaeは式(AEF)で表される。Fpae中の平均重合度を示すpaeは2.5であり、Ffae中の平均重合度を示すmae、naeはそれぞれ2.5を表す。)
 得られた化合物(AE)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
(同定データ)
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.34~1.65(8H)、3.42~4.35(46H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(10F)、-77.7(4F)、-78.6(2F)、-80.3(4F)、-81.3(2F)、-90.0~-88.5(30F)
[比較例6]
 下記式(AF)で表される化合物を、以下の方法で合成した。
 第一反応において2-(2-ブロモエチル)オキシランの代わりに、エピブロモヒドリンを用いたことと、第二反応において式(22)で表される化合物の代わりに、下記式(26)で表される化合物を4.47g用いたこと以外は、実施例12と同様な操作を行い、下記式(AF)で表される化合物を3.9g(分子量2143、1.8mmol)得た。
 式(26)で表される化合物は、3-アリルオキシ-1,2-プロパンジオールの有する1級および2級水酸基に、保護基としてTHP基を導入し、得られた化合物の二重結合を酸化することにより得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038

(式(26)中、THPはテトラヒドロピラニル基を表す。)
(式(AF)中のFpaf、Ffafは式(AFF)で表される。Fpaf中の平均重合度を示すpafは2.5であり、Ffaf中の平均重合度を示すmaf、nafはそれぞれ2.5を表す。)
 得られた化合物(AF)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=3.42~4.35(50H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(10F)、-77.7(4F)、-78.6(2F)、-80.3(4F)、-81.3(2F)、-90.0~-88.5(30F)
[比較例7]
 下記式(AG)で表される化合物を、特許文献2に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039

(式(AG)中のFpag、Ffagは式(AGF)で表される。Fpag中の平均重合度を示すpagは2.5であり、Ffag中の平均重合度を示すmag、nagはそれぞれ2.5を表す。)
 得られた化合物(AG)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
(同定データ)
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=1.54~1.76(2H)、3.42~4.28(32H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(10F)、-77.7(4F)、-78.6(2F)、-80.3(4F)、-81.3(2F)、-90.0~-88.5(30F)
[比較例8]
 下記式(AH)で表される化合物を、特許文献1に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040

(式(AH)中のFpah、Ffahは式(AHF)で表される。Fpah中の平均重合度を示すpahは2.5であり、Ffah中の平均重合度を示すmah、nahはそれぞれ2.5を表す。)
 得られた化合物(AH)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
(同定データ)
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=3.42~4.28(38H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(5F)、-77.7(2F)、-78.6(4F)、-80.3(2F)、-81.3(4F)、-90.0~-88.5(30F)
[比較例9]
 下記式(AI)で表される化合物を、特許文献1に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041

(式(AI)中のFpai、Fpaiは式(AIF)で表される。Fpai中の平均重合度を示すpaiは2.5であり、Fpai中の平均重合度を示すpaiは2.5を表す。)
 得られた化合物(AI)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
(同定データ)
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=3.42~4.28(38H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-78.6(6F)、-81.3(6F)、-90.0~-88.5(30F)
[比較例10]
 下記式(AJ)で表される化合物を、特許文献1に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042

(式(AJ)中のFfaj、Ffajは式(AJF)で表される。Ffaj中の平均重合度を示すmaj、najは2.5であり、Ffaj中の平均重合度を示すmaj、najは2.5を表す。)
 得られた化合物(AJ)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
(同定データ)
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=3.42~4.28(38H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(15F)、-77.7(6F)、-80.3(6F)、-91.0~-88.5(30F)
[比較例11]
 下記式(AK)で表される化合物を、特許文献2に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043

(式(AK)中のFpak、Fpakは式(AKF)で表される。Fpak中の平均重合度を示すpakは2.5であり、Fpak中の平均重合度を示すpakは2.5を表す。)
 得られた化合物(AK)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
(同定データ)
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=3.46~4.18(46H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-78.6(6F)、-81.3(6F)、-90.0~-88.5(30F)
[比較例12]
 下記式(AL)で表される化合物を、特許文献2に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044

(式(AL)中のFfal、Ffalは式(ALF)で表される。Ffal中の平均重合度を示すmal、nalは2.5であり、Ffal中の平均重合度を示すmal、nalは2.5を表す。)
 得られた化合物(AL)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
(同定データ)
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=3.46~4.18(46H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-55.6~-50.6(15F)、-77.7(6F)、-80.3(6F)、-91.0~-88.5(30F)
[比較例13]
 下記式(AM)で表される化合物を、特許文献2に記載の方法で合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045

(式(AM)中のFpam、Fpamは式(AMF)で表される。Fpam中の平均重合度を示すpamは2.5であり、Fpam中の平均重合度を示すpamは2.5を表す。)
 得られた化合物(AM)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
(同定データ)
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=3.46~4.18(32H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-78.6(6F)、-81.3(6F)、-90.0~-88.5(30F)
[比較例14]
 下記式(AN)で表される化合物を、以下の方法で合成した。
 窒素ガス雰囲気下、200mLナスフラスコにHOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量468、分子量分布1.1)14.0gと、tert-ブチルグリシジルエーテル2.34g(分子量130.19、18mmol)と、t-ブタノール28mLとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌した。この均一の液にさらにカリウムtert-ブトキシド1.0g(分子量112.2、9mmol)を加え、70℃で16時間撹拌して反応させた。
 反応後に得られた反応生成物を25℃に冷却し、水100mLが入った分液漏斗へ移し、酢酸エチル100mLで3回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、下記式(27)で示される化合物7.2g(分子量598、12.0mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046

(式(27)中、平均重合度を示すrは2.5である。)
 窒素ガス雰囲気下、200mLナスフラスコに式(27)で表される化合物(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)7.2gと、カリウムtert-ブトキシド0.67gと、t-ブタノール10.5mLとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌した。この均一の液にさらに下記式(28)で表される化合物2.60gを加え、70℃で16時間撹拌して反応させた。
 式(28)で表される化合物は、ジアリルエーテルを酸化させることによって合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 反応後に得られた反応生成物を25℃に冷却し、水100mLが入った分液漏斗へ移し、酢酸エチル100mLで3回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、下記式(29)で示される化合物5.9g(分子量728、7.7mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048

(式(29)中、平均重合度を示すrは2.5である。)
 窒素ガス雰囲気下、200mLナスフラスコに式(29)で表される化合物(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)5.9gと、カリウムtert-ブトキシド0.12gと、t-ブタノール2.8mLとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌した。この均一の液にさらにHOCHCFO(CFCFO)CFCHOH(式中の平均重合度を示すrは2.5である。)で表される化合物(数平均分子量468、分子量分布1.1)1.6gを加え、70℃で16時間撹拌して反応させた。
 反応後に得られた反応生成物を25℃に冷却し、水100mLが入った分液漏斗へ移し、酢酸エチル100mLで3回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、下記式(AN)で示される化合物を3.3g(分子量1812、2.4mmol)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049

(式(AN)中のFpan、Fpanは式(ANF)で表される。Fpan中の平均重合度を示すpanは2.5であり、Fpan中の平均重合度を示すpanは2.5を表す。)
 得られた化合物(AN)のH-NMRおよび19F-NMR測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
H-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=3.47~4.24(50H)
19F-NMR(CDCOCD):δ[ppm]=-78.6(6F)、-81.3(6F)、-90.0~-88.5(30F)
 このようにして得られた実施例1~20、比較例1~14の化合物を、式(1)に当てはめたときのRおよびRの構造(式(4-1)中のeおよびf、式(4-2)中のgおよびh、式(4-3)中のi、式(4-4)中のj、式(4-5))、RおよびRの構造(式(2)中のaおよびb、式(3)中のcおよびd)、R、R、Rの構造(式(5)中のkおよびl、式(6)中のm、式(7)中のn)を表1~表2に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000051
 また、実施例1~20、比較例1~14の化合物の数平均分子量(Mn)を、上述したH-NMRおよび19F-NMRの測定により求めた。その結果を表3に示す。なお、化合物の原料として用いたフルオロポリエーテルの分子量分布、化合物を合成する際の操作の差異などによって、合成した化合物の平均分子量の値には1~5程度のばらつきが存在しているものと推定される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000052
 次に、以下に示す方法により、実施例1~20、比較例1~14で得られた化合物を用いて潤滑層形成用溶液を調製した。そして、得られた潤滑層形成用溶液を用いて、以下に示す方法により、磁気記録媒体の潤滑層を形成し、実施例1~20、比較例1~14の磁気記録媒体を得た。
「潤滑層形成用溶液」
 実施例1~20、比較例1~14で得られた化合物を、それぞれフッ素系溶媒であるバートレル(登録商標)XF(商品名、三井デュポンフロロケミカル社製)に溶解し、保護層上に塗布した時の塗膜の膜厚が9Å~11ÅになるようにバートレルXFで希釈し、潤滑層形成用溶液とした。
「磁気記録媒体」
 直径65mmの基板上に、付着層と軟磁性層と第1下地層と第2下地層と磁性層と保護層とを順次設けた磁気記録媒体を用意した。保護層は、厚み1~5nmの炭素からなるものとした。
 保護層までの各層の形成された磁気記録媒体の保護層上に、実施例1~20、比較例1~14の潤滑層形成用溶液を、それぞれディップ法により塗布した。なお、ディップ法は、浸漬速度10mm/sec、浸漬時間30sec、引き上げ速度1.2mm/secの条件で行った。
 その後、潤滑層を形成した磁気記録媒体の表面に、粒度#6000の砥粒が保持されたバーニッシュテープを走査させるバーニッシュ工程を行った。
 バーニッシュ工程後の磁気記録媒体を、120℃の恒温槽に入れ、10分間加熱する熱処理を行った。
 以上の工程により、実施例1~20、比較例1~14の磁気記録媒体(バーニッシュ有り)を得た。
 また、バーニッシュ工程を行わなかったこと以外は、バーニッシュ有りの磁気記録媒体と同様にして、実施例1~20、比較例1~14の磁気記録媒体(バーニッシュ無し)を得た。
(膜厚測定)
 このようにして得られた実施例1~20、比較例1~14の磁気記録媒体(バーニッシュ有りおよび無し)の有する潤滑層の膜厚を、フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)(商品名:Nicolet iS50、Thermo Fisher Scientific社製)を用いて測定した。実施例1~20、比較例1~14の磁気記録媒体のいずれにおいても、バーニッシュ有りと無しとで潤滑層の膜厚に差はなかった。その結果を表3に示す。
 次に、実施例1~20、比較例1~14のバーニッシュ有りおよびバーニッシュ無しの磁気記録媒体に対して、それぞれ以下に示す耐腐食性試験を行なった。
(耐腐食性試験)
 磁気記録媒体を85℃相対湿度90%の条件下に48時間曝露した。その後、磁気記録媒体の腐食した場所の数を、光学表面分析装置を用いて数え、以下の評価基準に基づいて評価した。その結果を表3に示す。
「評価基準」
A:120未満
B:120以上、150未満
C:150以上、350未満
D:350以上、1000未満
E:1000以上
 表3に示すように、式(1)で表される化合物を含む潤滑層を有する実施例1~20の磁気記録媒体は、耐腐食性試験の結果が、テープバーニッシュ無しの場合、Aであり、テープバーニッシュ有りの場合、AまたはBであり、耐腐食性が良好であった。
 これに対し、比較例1~14の磁気記録媒体は、テープバーニッシュ無しの場合も有りの場合も、耐腐食性試験の結果がC~Eであり、実施例1~20の磁気記録媒体と比較して、耐腐食性が劣っていた。
 より詳細には、実施例1~20の磁気記録媒体は、潤滑層が、式(1)中のRが式(2)(式(2)中のaが2、bが1)であって、Rが式(3)(式(3)中のcが2、dが1)、またはRが式(2)(式(2)中のaが3、bが1)であって、Rが式(3)(式(3)中のcが3、dが1)であり、RおよびRが式(4-1)~(4-5)で表される末端基である化合物を含む。このため、実施例1~20の磁気記録媒体は、比較例1~14の磁気記録媒体と比較して、潤滑層中の化合物のRおよびRに含まれる炭素原子の数が多く、疎水性が良好である。しかも、この潤滑層は、RおよびRに含まれる極性基の結合している炭素原子、およびRおよびR中の連結基に含まれる炭素原子の疎水性によって、適切な疎水性を有する。さらに、この潤滑層は、R、R、RおよびRそれぞれの有する極性基によって、保護層との良好な密着性が得られる。これらのことから、実施例1~20の磁気記録媒体では、外部から潤滑層内への水の侵入が防止され、良好な腐食抑制効果が得られたものと推定される。
 さらに、実施例8~10、実施例13、実施例17、実施例20の磁気記録媒体は、バーニッシュ有り、バーニッシュ無しのいずれも耐腐食性試験結果がAであり、特に優れた腐食抑制効果を示した。これは、実施例8~10、実施例13、実施例17、実施例20の磁気記録媒体の潤滑層が、Rが式(2)(式(2)中のaが3、bが1)であって、Rが式(3)(式(3)中のcが3、dが1)である化合物を含むため、化合物のRおよびRに含まれる炭素原子の数がより多く(メチレン鎖が長く)、疎水性がより一層良好となったことによるものと推定される。
 例えば、RおよびRで表される末端基が同じであり、RおよびRで表される連結基が異なる化合物を用いた磁気記録媒体を比較(実施例1および13に対して比較例4;実施例3に対して比較例2;実施例5および17に対して比較例3、11および12;実施例16に対して比較例5)すると、RおよびRに含まれる炭素原子の数がより多い(メチレン鎖が長い)ものほど、高い腐食抑制効果を示した。
 また、RとRが、末端極性基が結合する炭素原子と、末端極性基に隣接する極性基が結合する炭素原子との間の連結基がエーテル結合(-O-)を含まない式(4-1)、(4-5)で表される末端基である実施例3、実施例4、実施例7、実施例8、実施例11、実施例15、実施例19、実施例20の磁気記録媒体は、良好な腐食抑制効果を示した。これは、式(4-1)、(4-5)で表される末端基に含まれる連結基が、エーテル結合を含まず、適正な数の炭素原子を含むため、良好な疎水性を有する潤滑層となり、水の侵入が防止されたためであると推定される。
 また、RとRが、末端極性基が結合する炭素原子と、末端極性基に隣接する極性基が結合する炭素原子との間の連結基がエーテル結合を含む式(4-2)、(4-3)、(4-4)で表される末端基である実施例1、実施例2、実施例5、実施例6、実施例9、実施例10、実施例12~14、実施例16~18の磁気記録媒体は、良好な腐食抑制効果を示した。これは、式(4-2)、(4-3)、(4-4)で表される末端基に含まれる連結基が、適正な数の炭素原子を含むため、良好な疎水性を有する潤滑層となり、水の侵入が防止されたためであると推定される。
 さらに、式(1)中のRとRがそれぞれ3つの水酸基を有する実施例2、実施例4、実施例7、実施例9~12、実施例14、実施例15、実施例18、実施例20は、バーニッシュ有り、バーニッシュ無しのいずれも耐腐食性試験結果がAであり、特に優れた腐食抑制効果を示した。これは、式(1)中のRおよびRにそれぞれ含まれる3つの水酸基が、保護層との優れた密着性を示したことによるものと考えられる。潤滑層と保護層との密着性が優れていると、外部から潤滑層内への水の侵入を防止できる。
 これに対し、比較例6は、式(1)中のRとRがそれぞれ3つの水酸基を有するものの、耐腐食性試験の結果がE(バーニッシュ有り)およびD(バーニッシュ無し)であった。これは、比較例6の磁気記録媒体の有する潤滑層に含まれる化合物では、式(1)中のRが式(2)(式(2)中のaが1、bが1)であって、Rが式(3)(式(3)中のcが1、dが1)であり、しかも、RとRに含まれる末端水酸基の結合している炭素原子と、末端水酸基に隣接する水酸基の結合している炭素原子とが結合しているためであると推定される。このような化合物を有する潤滑層では、末端水酸基と、末端水酸基に隣接する水酸基のどちらかが、保護層に対して配向が逆方向となるため、水酸基の保護層への密着が得られにくくなる。また、このような化合物を有する潤滑層は、十分な疎水性が得られない。
 また、式(1)中のR、R、Rが、式(5)、式(6)、式(7)から選ばれるいずれか一種のPFPE鎖である実施例1~10においても、式(5)、式(6)、式(7)から選ばれる2種類のPFPE鎖である実施例11~20においても、良好な耐腐食性試験結果が得られた。
 また、式(1)中のRが式(2)(式(2)中のaが1、bが1)であって、Rが式(3)(式(3)中のcが1、dが1)であり、しかも、Rが-OHである比較例7、比較例13は、いずれも耐腐食性試験結果がEであった。これは、潤滑層の疎水性が不十分であり、しかも、Rの有する水酸基の保護層への密着が十分に得られず、潤滑層の被覆率が低いためであると推定される。
 本発明の含フッ素エーテル化合物を含む磁気記録媒体用潤滑剤を用いることにより、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高い潤滑層を形成できる。
 10・・・磁気記録媒体、11・・・基板、12・・・付着層、13・・・軟磁性層、14・・・第1下地層、15・・・第2下地層、16・・・磁性層、17・・・保護層、18・・・潤滑層。

Claims (11)

  1.  下記式(1)で表されることを特徴とする含フッ素エーテル化合物。
    -CH-R-CH-R-CH-R-CH-R-CH-R-CH-R
    (1)
    (式(1)中、R、RおよびRは、同じまたは異なるパーフルオロポリエーテル鎖である;Rは下記式(2)で表される連結基である;Rは下記式(3)で表される連結基である;RおよびRはそれぞれ独立に、2つまたは3つの極性基を含み、各極性基がそれぞれ異なる炭素原子に結合し、前記極性基の結合している炭素原子同士が、極性基の結合していない炭素原子を含む連結基を介して結合している末端基である。)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

    (式(2)中のaは1~3の整数であり、bは1~2の整数である;式(3)中のcは1~3の整数であり、dは1~2の整数である;ただし、式(2)中のaと式(3)中のcが同時に1となることはない。)
  2.  前記式(2)中のaが2~3の整数であり、前記式(3)中のcが2~3の整数である請求項1に記載の含フッ素エーテル化合物。
  3.  前記式(1)において、RおよびRの有する極性基がすべて水酸基である請求項1または請求項2に記載の含フッ素エーテル化合物。
  4.  前記式(1)において、-Rおよび-Rがそれぞれ独立に、下記式(4-1)~(4-5)で表される末端基である請求項1~請求項3のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002


    (式(4-1)中のeは0~1の整数であり、fは1~4の整数である。)
    (式(4-2)中のgは1~2の整数であり、hは1~3の整数である。)
    (式(4-3)中のiは1~3の整数である。)
    (式(4-4)中のjは1~2の整数である。)
  5.  前記式(1)におけるR、R、Rがそれぞれ独立に、下記式(5)~(9)のいずれかである請求項1~請求項4のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
    -CFO-(CFCFO)-(CFO)-CF-  (5)
    (式(5)中、kおよびlは平均重合度を示し、それぞれ0.1~20を表す。)
    -CFO-(CFCFO)-CF-  (6)
    (式(6)中、mは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
    -CFCFO-(CFCFCFO)-CFCF-  (7)
    (式(7)中、nは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
    -CFCFCFO-(CFCFCFCFO)-CFCFCF- (8)
    (式(8)中、oは平均重合度を示し、0.1~10を表す。)
    -CF(CF)O-(CFCF(CF)O)-CF(CF)- (9)
    (式(9)中のpは平均重合度を示し、0.1~20を表す。)
  6.  前記式(1)において、RとRが同じである請求項1~請求項5のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
  7.  前記式(1)において、RとRが同じである請求項1~請求項6のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
  8.  数平均分子量が500~10000の範囲内である請求項1~請求項7のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
  9.  請求項1~請求項8のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体用潤滑剤。
  10.  基板上に、少なくとも磁性層と、保護層と、潤滑層とが順次設けられた磁気記録媒体であって、
     前記潤滑層が、請求項1~請求項8のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
  11.  前記潤滑層の平均膜厚が、0.5nm~2.0nmである請求項10に記載の磁気記録媒体。
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