WO2022209674A1 - フルオロポリエーテル基含有シラン化合物 - Google Patents

フルオロポリエーテル基含有シラン化合物 Download PDF

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WO2022209674A1
WO2022209674A1 PCT/JP2022/010375 JP2022010375W WO2022209674A1 WO 2022209674 A1 WO2022209674 A1 WO 2022209674A1 JP 2022010375 W JP2022010375 W JP 2022010375W WO 2022209674 A1 WO2022209674 A1 WO 2022209674A1
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秀幸 池内
真也 高野
孝史 野村
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Daikin Industries Ltd
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Daikin Industries Ltd
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/336—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces

Definitions

  • the present disclosure relates to fluoropolyether group-containing silane compounds.
  • a layer obtained from a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound (hereinafter also referred to as a "surface treatment layer") is applied as a so-called functional thin film to various substrates such as glass, plastic, fiber, and building materials. ing.
  • a fluoropolyether group-containing silane compound having a fluoropolyether group in the molecular main chain and a hydrolyzable group bonded to an Si atom at the molecular end or terminal portion is known. (Patent document 1).
  • the surface treatment layer as described above is required to have even better physical properties.
  • the present disclosure provides a fluoropolyether group-containing silane compound that can contribute to the formation of a surface treatment layer having better physical properties.
  • R 50 is independently at each occurrence a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, —O—(R 14 —O) n4 —R 14′ , or a C 1-4 alkyl group, [1 ] or the fluoropolyether group-containing silane compound according to [2].
  • each R 14 is independently a C 1-4 alkylene group
  • each n4 is independently an integer from 0 to 100
  • each R 14′ is independently a C 1-4 alkyl group
  • the C 1-4 alkyl group may have a substituent.
  • each occurrence of R 11 is independently a hydrogen atom or a group represented by —(R 72 —O) n7 —R 73 ; each R 72 is independently a C 1-4 alkylene group, R 73 is a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group which may contain a ring structure, n7 is an integer from 1 to 10; The fluoropolyether group-containing silane compound according to any one of [1] to [6].
  • R 11 is independently at each occurrence —CH 2 O—R 11′ ;
  • R 11′ is a hydrogen atom or —(R 72 —O) n7′ —R 73 , each R 72 is independently a C 1-4 alkylene group,
  • R 73 is a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group which may contain a ring structure, n7' is an integer from 0 to 9;
  • the fluoropolyether group-containing silane compound according to any one of [1] to [7].
  • [9] The fluoropolyether group-containing silane compound according to any one of [1] to [8], wherein each R 73 is independently a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group.
  • a method for producing a fluoropolyether group-containing compound comprising the step of obtaining a compound represented by [In the formula: R F1 is represented by Rf 1 -R F -O q -; R F2 is represented by -Rf 2 p -R F -O q -; Rf 1 is a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms; Rf 2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
  • Each R F is independently of the formula:
  • a method for producing a fluoropolyether group-containing compound comprising the step of obtaining a compound represented by [In the formula: R F1 is represented by Rf 1 -R F -O q -; R F2 is represented by -Rf 2 p -R F -O q -; Rf 1 is a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms; Rf 2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms; R F is independently at each occurrence of the formula: - (OC 6 F 12 ) a - (OC 5 F 10 ) b - (OC 4 F 8 ) c - (OC 3 R Fa 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (OC
  • R F1 is represented by Rf 1 -R F -O q -
  • R F2 is represented by -Rf 2 p -R F -O q -
  • Rf 1 is a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms
  • Rf 2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms
  • R F is independently at each occurrence of the formula: - (OC 6 F 12 ) a - (OC 5 F 10 ) b - (OC 4 F 8 ) c - (OC 3 R Fa 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (OCF 2 ) f - is a group represented by; a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 to 200, the sum
  • R F1 is represented by Rf 1 -R F -O q -
  • R F2 is represented by -Rf 2 p -R F -O q -
  • Rf 1 is a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms
  • Rf 2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms
  • R F is independently at each occurrence of the formula: - (OC 6 F 12 ) a - (OC 5 F 10 ) b - (OC 4 F 8 ) c - (OC 3 R Fa 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (OCF 2 ) f - is a group represented by; a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 to 200, the sum
  • monovalent organic radical means a monovalent radical containing carbon.
  • the monovalent organic group is not particularly limited, it may be a hydrocarbon group or a derivative thereof.
  • a derivative of a hydrocarbon group is a group having one or more of N, O, S, Si, amide, sulfonyl, siloxane, carbonyl, carbonyloxy, etc. at the end of the hydrocarbon group or in the molecular chain.
  • divalent organic group includes, but is not limited to, a divalent group in which one hydrogen atom has been eliminated from a hydrocarbon group.
  • hydrocarbon group means a group containing carbon and hydrogen from which one hydrogen atom has been removed from the molecule.
  • hydrocarbon groups include, but are not limited to, hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms, which may be substituted with one or more substituents, such as aliphatic hydrocarbon groups. , an aromatic hydrocarbon group, and the like.
  • the above "aliphatic hydrocarbon group” may be linear, branched or cyclic, and may be saturated or unsaturated.
  • Hydrocarbon groups may also contain one or more ring structures.
  • Such hydrocarbon groups may have one or more of N, O, S, Si, amide, sulfonyl, siloxane, carbonyl, carbonyloxy, etc. at the terminal or in the molecular chain.
  • the substituents of the "hydrocarbon group” are not particularly limited, but include, for example, halogen atoms; C 1-6 alkyl optionally substituted by one or more halogen atoms group, C 2-6 alkenyl group, C 2-6 alkynyl group, C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 unsaturated cycloalkyl group, 5-10 membered heterocyclyl group, 5-10 membered unsaturated heterocyclyl groups, C 6-10 aryl groups and 5-10 membered heteroaryl groups.
  • alkyl groups and phenyl groups can be unsubstituted or substituted unless otherwise specified.
  • Substituents of such groups are not particularly limited, but for example, one or more groups selected from halogen atoms, C 1-6 alkyl groups, C 2-6 alkenyl groups and C 2-6 alkynyl groups mentioned.
  • hydrolyzable group means a group capable of undergoing a hydrolysis reaction, i.e., a group capable of being eliminated from the main skeleton of a compound by a hydrolysis reaction.
  • R h1 examples include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; substituted alkyl groups such as chloromethyl group.
  • an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • the hydrolyzable group is a methoxy group. In another aspect, the hydrolyzable group is an ethoxy group.
  • the fluoropolyether group-containing silane compound of the present disclosure is a compound represented by the following formula (A1) or (A2).
  • R F1 is represented by Rf 1 -R F -O q -.
  • R F2 is represented by -Rf 2 p -R F -O q -.
  • Rf 1 is a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms.
  • the "C 1-16 alkyl group" in the C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms may be linear or branched, preferably is a straight or branched C 1-6 alkyl group, especially a C 1-3 alkyl group, more preferably a straight chain C 1-6 alkyl group, especially a C 1-3 alkyl group.
  • Rf 1 above is preferably a C 1-16 alkyl group substituted with one or more fluorine atoms, more preferably a CF 2 H—C 1-15 perfluoroalkylene group, still more preferably is a C 1-16 perfluoroalkyl group.
  • the C 1-16 perfluoroalkyl group may be linear or branched, preferably a linear or branched C 1-6 perfluoroalkyl group, especially C 1- 3 perfluoroalkyl group, more preferably a linear C 1-6 perfluoroalkyl group, particularly a C 1-3 perfluoroalkyl group, specifically -CF 3 , -CF 2 CF 3 , or -CF 2 CF 2 CF 3 .
  • Rf 2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms.
  • C 1-6 alkylene group in the C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms may be linear or branched, preferably is a linear or branched C 1-3 alkylene group, more preferably a linear C 1-3 alkylene group.
  • Rf 2 above is preferably a C 1-6 alkylene group substituted with one or more fluorine atoms, more preferably a C 1-6 perfluoroalkylene group, still more preferably C 1- 3 is a perfluoroalkylene group.
  • the C 1-6 perfluoroalkylene group may be linear or branched, preferably a linear or branched C 1-3 perfluoroalkylene group, more preferably is a linear C 1-3 perfluoroalkylene group, specifically -CF 2 -, -CF 2 CF 2 -, or -CF 2 CF 2 CF 2 -.
  • p is 0 or 1. In one aspect, p is zero. In another aspect, p is 1.
  • q is 0 or 1 independently at each occurrence. In one aspect, q is zero. In another aspect q is 1.
  • each occurrence of RF is independently a fluoropolyether group represented by the following formulae.
  • the structure described as RF is bound to the structure represented by Rf 1 on the left side in formula (A1), and is bound to the structure represented by Rf 2 p on the left side in formula (A2).
  • R Fa is independently at each occurrence a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom; a, b, c, d, e and f are each independently integers from 0 to 200, and the sum of a, b, c, d, e and f is 1 or more.
  • the order of existence of each repeating unit bracketed with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula.
  • RFa is preferably a hydrogen atom or a fluorine atom, more preferably a fluorine atom.
  • a, b, c, d, e and f may preferably each independently be an integer from 0 to 100.
  • the sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and may be, for example, 15 or more or 20 or more.
  • the sum of a, b, c, d, e and f is preferably 200 or less, more preferably 100 or less, even more preferably 60 or less, and may be, for example, 50 or less or 30 or less.
  • repeating units may be linear or branched, but are preferably linear.
  • - ( OC6F12 )- is - ( OCF2CF2CF2CF2CF2 )-, - ( OCF ( CF3 ) CF2CF2CF2 ) -, - ( OCF 2 CF (CF 3 ) CF 2 CF 2 CF 2 )-, - (OCF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 CF 2 )-, - (OCF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 ))-, etc., but preferably -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-.
  • - ( OC5F10 )- is - ( OCF2CF2CF2CF2 )-, - ( OCF ( CF3 ) CF2CF2CF2 )-, - ( OCF2CF ( CF3 ) CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF(CF 3 )CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 ))-, but preferably -( OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )—.
  • -( OC4F8 )- is - ( OCF2CF2CF2CF2 )-, - ( OCF ( CF3 ) CF2CF2 )-, - ( OCF2CF ( CF3 ) CF2 )- , -( OCF2CF2CF ( CF3 ))-, -(OC( CF3 ) 2CF2 )-, -( OCF2C (CF3)2 ) - , -(OCF ( CF3 )CF( Any of CF 3 ))-, -(OCF(C 2 F 5 )CF 2 )- and -(OCF 2 CF(C 2 F 5 ))-, preferably -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-.
  • -(OC 3 F 6 )- (that is, in the above formula, R 3 Fa is a fluorine atom) is represented by -(OCF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 )- and -( OCF 2 CF(CF 3 ))—, preferably —(OCF 2 CF 2 CF 2 )—.
  • -(OC 2 F 4 )- may be either -(OCF 2 CF 2 )- or -(OCF(CF 3 ))-, but is preferably -(OCF 2 CF 2 )- be.
  • R F is independently at each occurrence of formula (f1), (f2), (f3), (f4) or (f5): -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e - (f1) [In the formula, d is an integer of 1 to 200, and e is 0 or 1, preferably 1.
  • c and d are each independently an integer of 0 or more and 30 or less, e and f are each independently an integer of 1 or more and 200 or less, the sum of c, d, e and f is greater than or equal to 2;
  • the order of existence of each repeating unit bracketed with subscript c, d, e or f is arbitrary in the formula.
  • R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;
  • R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 or 2 independently selected from these groups or a combination of three groups,
  • g is an integer from 2 to 100;
  • e is an integer of 1 or more and 200 or less
  • a, b, c, d and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less
  • a, b, c, d, e and f are at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in
  • f is an integer of 1 or more and 200 or less
  • a, b, c, d and e are each independently an integer of 0 or more and 200 or less
  • a, b, c, d, e and f are at least 1
  • the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula.
  • d is preferably an integer of 5-200, more preferably 10-100, still more preferably 15-50, for example 25-35.
  • (OC 3 F 6 ) in the above formula (f1) is preferably a group represented by (OCF 2 CF 2 CF 2 ) or (OCF(CF 3 )CF 2 ), more preferably (OCF 2 CF 2 CF 2 ).
  • (OC 2 F 4 ) in the above formula (f1) is preferably a group represented by (OCF 2 CF 2 ) or (OCF(CF 3 )), more preferably (OCF 2 CF 2 ). It is a group represented.
  • e and f are each independently an integer of preferably 5 or more and 200 or less, more preferably 10-200. Also, the sum of c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and may be, for example, 15 or more or 20 or more.
  • the above formula (f2) is preferably -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) c -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) d -(OCF 2 CF 2 ) e -(OCF 2 ) It is a group represented by f- .
  • formula (f2) may be a group represented by -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f -.
  • R 6 is preferably OC 2 F 4 .
  • R 7 is preferably a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 , or 2 independently selected from these groups, or A combination of three groups, more preferably a group selected from OC 3 F 6 and OC 4 F 8 .
  • the combination of two or three groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited, but for example -OC 2 F 4 OC 3 F 6 -, -OC 2F4OC4F8- , -OC3F6OC2F4- , -OC3F6OC3F6- , -OC3F6OC4F8- , -OC4F8OC4F _ _ _ _ _ _ _ _ 8- , -OC4F8OC3F6- , -OC4F8OC2F4- , -OC2F4OC2F4OC3F6- , -OC2F4OC2F4OC3F6- , -OC2F4OC2F4OC3F6- , -OC2F4OC2F4OC3F6- , -OC2F4OC2F4OC _ , -OC2F4OC2F4OC _
  • g is an integer of preferably 3 or more, more preferably 5 or more. Said g is preferably an integer of 50 or less.
  • OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 may be linear or branched, preferably linear. is a chain.
  • the above formula (f3) is preferably -(OC 2 F 4 -OC 3 F 6 ) g - or -(OC 2 F 4 -OC 4 F 8 ) g -.
  • e is preferably an integer of 1 or more and 100 or less, more preferably 5 or more and 100 or less.
  • the sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example 10 or more and 100 or less.
  • f is preferably an integer of 1 or more and 100 or less, more preferably 5 or more and 100 or less.
  • the sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example 10 or more and 100 or less.
  • R F is a group represented by the formula (f1).
  • R F is a group represented by the formula (f2).
  • R F is a group represented by the formula (f3).
  • R F is a group represented by the formula (f4).
  • R F is a group represented by the formula (f5).
  • R F has formula (f2): - ( OC4F8 ) c- ( OC3F6 ) d- ( OC2F4 ) e- ( OCF2 ) f- It is a group represented by In the formula, c and d are each independently integers of 0 to 30, e and f are each independently 1 to 200, preferably 5 to 200, more preferably 10 to 200 The order of existence of each repeating unit which is an integer and is enclosed in parentheses with subscript e or f is arbitrary in the formula. R F can more specifically be a group represented by -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f -.
  • the ratio of e to f (hereinafter referred to as “e/f ratio”) is 0.1 to 10, preferably 0.2 to 5, more preferably 0.2 to 2. Yes, more preferably 0.2 to 1.5, still more preferably 0.2 to 0.85.
  • e/f ratio the slipperiness, friction durability and chemical resistance (for example, durability against artificial perspiration) of the hardened layer (for example, the surface treatment layer) obtained from the compound containing RF are improved. improves.
  • the smaller the e/f ratio the more improved the sliding property and friction durability of the surface treatment layer.
  • the stability of the compound can be further enhanced. The higher the e/f ratio, the better the stability of the compound. In this case, the value of f is 1 or greater.
  • the e/f ratio is preferably 0.2 to 0.95, more preferably 0.2 to 0.9.
  • the e/f ratio is preferably 0.20 or more and less than 1.0, more preferably 0.20 to 0.95, more preferably 0.20 to 0.90, More preferably 0.40 to 0.80, particularly preferably 0.50 to 0.70.
  • the e/f ratio is preferably 0.20 to 0.80, more preferably 0.30 to 0.70. In another aspect, the e/f ratio is between 0.50 and 0.80.
  • the e/f ratio is preferably 1.0 or more, more preferably 1.0 to 2.0.
  • the e/f ratio is 0.2-1.5, preferably 0.5-1.1.
  • the e/ f ratio may be less than 1.0, may be 0.95 or less, may be 0.90 or less, or may be less than 0.90 , for example, 0.8 or less, or 0.70 or less.
  • the e/f ratio is preferably 0.20 or higher, more preferably 0.30 or higher, still more preferably 0.40 or higher, and particularly preferably 0.50 or higher.
  • the e/f ratio is, for example, 0.20 or more and less than 1.0, for example, 0.20 or more and 0.95 or less, 0.20 or more and less than 0.90, specifically 0.40 or more and 0.80 or less, More specifically, 0.50 or more and 0.70 or less can be mentioned.
  • the e/f ratio becomes too low, the hydrolyzability of the cured layer (or cured film; the same applies hereinafter) formed using the fluoropolyether group-containing silane compound of the present disclosure increases, and the cured layer becomes May be less durable. If the e/f ratio is too high, the coefficient of dynamic friction of the cured layer formed using the fluoropolyether group-containing silane compound of the present disclosure increases, and a cured layer having sufficient friction durability may not be obtained. be.
  • R F is -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f2)
  • c and d are each independently integers of 0 to 30, e and f are each independently 1 to 200, preferably 5 to 200, It is more preferably an integer of 10 or more and 200 or less, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with the subscript e or f is arbitrary in the formula)
  • the e / f ratio is 0.20 more than 1.0, more preferably 0.20 to 0.95, more preferably 0.20 to 0.90, still more preferably 0.40 to 0.80, particularly preferably 0.50 ⁇ 0.70.
  • R F can more specifically be a group represented by -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f -.
  • a compound having RF as described above, the chemical durability (chemical resistance), friction durability, water repellency, oil repellency, and stain resistance ( For example, it prevents the adhesion of dirt such as fingerprints), waterproofness (prevents water from entering electronic parts, etc.), or surface slipperiness (or lubricity, such as the ability to wipe off dirt such as fingerprints, and excellent resistance to fingers). tactile sensation), etc. are improved. This is probably because the use of a compound having RF as described above reduces the coefficient of dynamic friction of the surface of the hardened layer formed from the compound.
  • R F is -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f2)
  • c and d are each independently integers of 0 to 30, e and f are each independently 1 to 200, preferably 5 to 200, It is more preferably an integer of 10 or more and 200 or less, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with subscript e or f is arbitrary in the formula)
  • the e/f ratio is between 0.20 and 0.80, more preferably between 0.30 and 0.70.
  • e is an integer of 10 or more and 100 or less
  • f may be an integer of 11 or more and 100 or less
  • e is an integer of 15 or more and 70 or less
  • f is 21 or more and 95
  • the following integers may be used.
  • the sum of e and f is preferably 20 or more, more preferably 30 or more, and particularly preferably 40 or more.
  • the sum of e and f is preferably 100 or more, more preferably 120 or more, even more preferably 130 or more, and particularly preferably 140 or more.
  • the sum of e and f is preferably 200 or less, more preferably 180 or less, even more preferably 160 or less, and particularly preferably 150 or less.
  • the number average molecular weights of R F1 and R F2 moieties are not particularly limited, but are for example 500 to 30,000, preferably 1,500 to 30,000, more preferably 2,500 to 30,000, and more preferably 2,500 to 30,000. It is preferably 4,000 to 30,000.
  • the number average molecular weight of the R F1 and R F2 moieties may be, for example, 2,500 to 20,000, 2,500 to 15,000, 3,000 to 15,000, 2,000 to 10,000. .
  • the number average molecular weights of R F1 and R F2 are values measured by 19 F-NMR.
  • the R F1 and R F2 moieties have a number average molecular weight of 500 to 30,000, preferably 1,000 to 20,000, more preferably 2,000 to 15,000, even more preferably 2,000. 000 to 10,000, such as 3,000 to 6,000.
  • the R F1 and R F2 moieties have a number average molecular weight of 6,000 to 30,000, preferably 6,000 to 20,000, more preferably 7,000 to 20,000, more preferably 8, 000 to 15,000, particularly preferably 9,000 to 15,000, more preferably 10,000 to 15,000.
  • the number average molecular weight of the R F1 and R F2 moieties can range, for example, from 6,000 to 15,000.
  • the R F1 and R F2 moieties have a number average molecular weight in the range of 6,000 to 20,000 and an e/f ratio in the range of 0.50 to 0.80;
  • the R F1 and R F2 moieties have a number average molecular weight in the range of 6,000 to 15,000 and an e/f ratio in the range of 0.50 to 0.70;
  • the R F1 and R F2 moieties have number average molecular weights in the range of 10,000 to 15,000 and e/f ratios in the range of 0.50 to 0.70.
  • R F is preferably a group represented by -(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f -.
  • c and d are each independently integers of 0 to 30, e is an integer in the range of 20-70, and f is an integer in the range of 45-120.
  • a fluoropolyether group-containing silane compound can contribute to the formation of a hardened layer (for example, a surface treatment layer) exhibiting slipperiness due to extremely high lubricity and a low coefficient of dynamic friction.
  • a group represented by R F1 or R F2 and a group represented by CR Si 2 (OR 11 ) are bonded by a group represented by -X 1 -.
  • the group represented by R F1 or R F2 is a group containing a fluoropolyether group that mainly provides water repellency and surface slipperiness, and is a group represented by CR Si 2 (OR 11 ). contains a silane moiety that provides bonding ability with the substrate.
  • the flexibility, abrasion resistance, wet spreadability to the substrate, adhesion to the substrate, etc. of the layer can be improved.
  • the left side of the structure described as X 1 is bonded to the group represented by R F1 or R F2 and the right side to the group represented by CR Si 2 (OR 11 ).
  • n51 is an integer of 0-10, preferably an integer of 0-5.
  • n52 is an integer of 0-10, preferably an integer of 0-5.
  • n53 is an integer of 0-10, preferably an integer of 0-5.
  • the order of existence of each repeating unit bracketed with n51, n52 or n53 is arbitrary in the formula, and the sum of n51, n52 and n53 is 1 or more.
  • n51 is an integer of 1-10, for example, an integer of 1-6.
  • n51 is an integer of 1-5. In one aspect, n51 is two.
  • n51 is an integer of 3-5, such as 4 or 5.
  • n51 is an integer from 1 to 10, preferably from 1 to 5; n52 and n53 are zero.
  • n51 is an integer of 3-5, such as 4 or 5; n52 and n53 are 0.
  • n54 is 0 or 1 independently.
  • n55 is 0 or 1 independently.
  • n51 is an integer of 1-10, preferably 1-5; n52 is 0; In this embodiment, n54 is 1, for example.
  • n51 is an integer of 1-10, preferably 1-5; n52 is 0; In this embodiment, n54 is 0, for example.
  • n54 is 0 or 1.
  • n55 is 0 or 1.
  • n55 is 1.
  • n54 and n55 are zero.
  • Each R 51 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group, preferably a hydrogen atom or a C 1-3 alkyl group. In one aspect, R 51 is a hydrogen atom. In one aspect, R 51 is a methyl group.
  • R 52 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group, preferably a hydrogen atom or a C 1-3 alkyl group. In one aspect, R52 is a hydrogen atom. In one aspect, R 52 is a methyl group.
  • R51 and R52 are hydrogen atoms.
  • Y 51 at each occurrence is independently O, CONR 15 , NR 15 , S, or an arylene group, preferably O, CONR 15 , or NR 15 , more preferably O .
  • Each occurrence of R 15 is independently a hydrogen atom, a group having an aromatic ring, a C 1-6 alkyl group, a —O—C 1-6 alkyl group or a C 3-10 cycloalkyl group, preferably It is a hydrogen atom.
  • groups having an aromatic ring include a phenyl group.
  • the arylene group include a C 6-10 arylene group, and specific examples include a phenylene group and a phenylene group having a substituent.
  • substituents include halogens, alkyl groups (e.g., C 1-4 alkyl groups), monovalent groups derived from heterocycles (e.g., piperidine, piperazine, morpholine, dioxane, dithiane, pyrrolidine, oxazolidine, monovalent groups derived from isoxazolidine, thiazolidine, isothiazolidine, imidazolidine, or pyrazolidine), and phenoxy groups.
  • alkyl groups e.g., C 1-4 alkyl groups
  • monovalent groups derived from heterocycles e.g., piperidine, piperazine, morpholine, dioxane, dithiane, pyrrolidine, oxazolidine, monovalent groups derived from isoxazolidine, thiazolidine, isothiazolidine, imidazolidine, or pyrazolidine
  • phenoxy groups e.g., phenoxy groups.
  • Y 51 is O. In one aspect Y 51 is a phenylene group.
  • Y 51 is CONR 15 .
  • R 50 is independently at each occurrence a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group.
  • R50 is a hydrogen atom. In one aspect, R50 is a halogen atom. In one aspect, R 50 is a monovalent organic group.
  • R 50 is preferably each independently a hydrogen atom, a halogen atom (eg, F, Cl, Br, I), a hydroxyl group, —O—(R 14 —O) n4 —R 14′ , or C 1- 4 alkyl groups.
  • each R 14 is independently a C 1-4 alkylene group
  • n4 is each independently an integer of 0 to 100, preferably an integer of 1 to 50, more preferably an integer of 1 to 40, still more preferably an integer of 1 to 10
  • Each R 14′ is independently a C 1-4 alkyl group.
  • the C 1-4 alkyl group may have a substituent.
  • each R 50 is independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a C 1-4 alkyl group.
  • each R 50 is independently a hydrogen atom, a halogen atom (e.g., F, Cl, Br, I), a hydroxyl group, —O—(R 14 —O) n4 —R 14′ , or C 1-4 alkyl group (eg, methyl group), for example, each independently hydrogen atom, hydroxyl group, —O—(R 14 —O) n4 —R 14′ , or C 1-4 alkyl group .
  • a halogen atom e.g., F, Cl, Br, I
  • each R 14 is independently a C 1-4 alkylene group
  • n4 is each independently an integer of 0 to 100, preferably an integer of 1 to 50, more preferably an integer of 1 to 40, still more preferably an integer of 1 to 10
  • Each R 14′ is independently a C 1-4 alkyl group.
  • the C 1-4 alkyl group may have a substituent.
  • each occurrence of X 1 is independently represented by the following formula (X1) or (X2).
  • X1 ⁇ CR 51 CR 52 ⁇ X 52 ⁇ (X1) -X 53 - (X2)
  • X 51 is -(CR 50 2 ) n511 -((CH 2 ) n55 -Y 51 -(CH 2 ) n54 ) n512 - is represented by R 50 , Y 51 , n54 and n55 have the same meanings as above.
  • n511 is an integer of 0-10, preferably an integer of 0-5.
  • n512 is an integer of 0-10, preferably an integer of 0-5.
  • the order of existence of each repeating unit bracketed with n511 or n512 is arbitrary in the formula. In one aspect, the sum of n511 and n512 is 1 or greater. In one aspect, n511 is an integer from 1-10 and n512 is zero. In other words, X 51 is represented by -(CR 50 2 ) n511 -.
  • n511 is an integer of 1-10, preferably an integer of 1-5.
  • n511 is an integer of 3-5, such as 4 or 5.
  • n511 is an integer of 1-10, preferably 1-5;
  • X 51 is preferably represented by -(CR 50 2 ) n514 -((CH 2 ) n55 -Y 51 -(CH 2 ) n54 )-(CR 50 2 ) n515 -.
  • n514 is an integer of 0-10
  • n515 is an integer of 0-10
  • more preferably n514 is an integer of 0-5
  • n515 is an integer of 0-5.
  • the sum of n514 and n515 corresponds to n511.
  • R 50 , n54, n55 and Y 51 have the same meanings as above.
  • X 52 are each independently —(CR 50 2 ) n511′ —((CH 2 ) n55 —Y 51 —(CH 2 ) n54 ) n512′ — is represented by R 50 and Y 51 in X 52 have the same meanings as R 50 and Y 51 in X 51 respectively.
  • n511' is an integer of 0-10, preferably an integer of 0-5.
  • n512' is an integer of 0-10, preferably an integer of 0-5.
  • the order of existence of each repeating unit bracketed with n511' or n512' is arbitrary in the formula.
  • the sum of n511' and n512' is 1 or greater.
  • n511' is an integer from 1-10 and n512' is zero.
  • X 52 is represented by -(CR 50 2 ) n511' -.
  • n511' is an integer of 1-10, preferably an integer of 1-5.
  • n511' is an integer of 3-5, such as 4 or 5.
  • n511' is an integer from 1 to 10, preferably from 1 to 5;
  • the sum of n511, n512, n511' and n512' is 1 or more.
  • X 52 is represented by -(CR 50 2 ) n514' -((CH 2 ) n55 -Y 51 -(CH 2 ) n54 )-(CR 50 2 ) n515' -.
  • n514' is an integer of 0-10
  • n515' is an integer of 0-10
  • more preferably n514' is an integer of 0-5
  • n515' is an integer of 0-5.
  • n514' is an integer from 0-10 and n515' is an integer from 1-10, eg, n514' is an integer from 0-5 and n515' is an integer from 1-5.
  • the sum of n514' and n515' corresponds to n511'.
  • R50 and Y51 in X52 have the same meanings as R50 and Y51 in X51 .
  • n511 at X51 and n511 ' at X52 is an integer of 0-10
  • n512 at X51 and n512 ' at X52 is an integer of 0-10.
  • n514 and n515 corresponds to the value of n511 in formula (X1)
  • the total value of n514' and n515' corresponds to the value of n511' in formula (X1).
  • the sum of n514, n515, n514' and n515' corresponds to the value of n51 in formula (X).
  • X 51 and X 52 are single bonds.
  • X 51 is -(CR 50 2 ) n511 -
  • X 52 is -(CR 50 2 ) n511' -
  • at least one of n511 and n511' is an integer of 1 or more .
  • X 51 is represented by -(CR 50 2 ) n511 -(Y 51 ) n512 -
  • each X 52 is independently -(CR 50 2 ) n511′ -(Y 51 ) n512 ' - is represented. Any one of n511, n512, n511' and n512' is an integer of 1 or more.
  • X 51 is represented by -(CR 50 2 ) n511 -
  • X 52 is represented by -(CR 50 2 ) n511' -(Y 51 ) n512' -
  • n512' is 1 or more is an integer of
  • X 52 is -(CR 50 2 ) n514' -(Y 51 )-(CR 50 2 ) n515' -.
  • X 51 is represented by -(CR 50 2 ) n511 -(Y 51 ) n512 -
  • X 52 is represented by -(CR 50 2 ) n511' -
  • n512 is an integer of 1 or more .
  • X 53 is a divalent organic group, -(CR 50 2 ) n521 -((CH 2 ) n55 -Y 51 -(CH 2 ) n54 ) n522 - is represented by R 50 , n54, n55 and Y 51 each have the same meaning as above.
  • n521 is an integer of 1-10, preferably an integer of 1-5.
  • n522 is an integer of 1-10, preferably an integer of 1-5.
  • the order of existence of each repeating unit bracketed with n521 or n522 is arbitrary in the formula, and the sum of n521 and n522 is 1 or more.
  • Formula (X2) is preferably represented by -(CR 50 2 ) n524 -((CH 2 ) n55 -Y 51 -(CH 2 ) n54 )-(CR 50 2 ) n525 -.
  • n524 is an integer of 0-10
  • n525 is an integer of 0-10
  • more preferably n524 is an integer of 0-5
  • n525 is an integer of 0-5.
  • the sum of n524 and n525 corresponds to n521.
  • formula (X2) is represented by -(CR 50 2 ) n524 -(Y 51 )-(CR 50 2 ) n525 -.
  • R 50 and Y 51 are each as defined above.
  • n525 is an integer of 1-10, preferably an integer of 1-5.
  • n524 is 0 and n525 is an integer of 1-5, specifically n524 is 0 and n525 is an integer of 1-3.
  • Each n4 is independently an integer of 0 to 100, preferably an integer of 1 to 50, more preferably an integer of 1 to 40, and still more preferably an integer of 1 to 10.
  • Each R 14′ is independently a C 1-4 alkyl group, preferably a C 1-2 alkyl group.
  • Each R 50′ is independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group or a C 1-4 alkyl group, preferably a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1-4 alkyl group, more preferably hydrogen is an atom.
  • R 51 , R 52 , Y 51 , n52 and n53 each have the same meaning as above.
  • n51' is an integer of 0-10, preferably an integer of 0-5.
  • X 1 is —CHR 13 —[(CR 50′ 2 ) n516 —((CH 2 ) n55 —Y 51 —(CH 2 ) n54 ) n53 —(CR 50′ 2 ) n516′ ]— is represented by R 13 , R 50′ , Y 51 , n54, n55 and n53 have the same meanings as above.
  • n516 is an integer of 0-10, preferably 0-5, and n516' is an integer of 0-10, preferably 0-5. The sum of n516 and n516' corresponds to n51'.
  • n516 and n516' are each independently an integer from 0 to 10 and n53 is zero.
  • X 1 is represented by -CHR 13 -(CR 50' 2 ) n51' -.
  • n516 and n516' are each independently an integer of 1-10, preferably an integer of 1-5.
  • x1 is 1, x2 is 0 , x3 is 0, another example x1 is 1, x2 is 0, x3 is 1), -(CH 2 ) x - (x is an integer of 1 to 10, preferably x is an integer of 1 to 4), —(CH 2 ) x1 —O—(CH 2 ) x2 — (x1 is an integer of 0 to 10, x2 is an integer of 0 to 10, provided that the sum of x1 and x2 is an integer of 0 to 10, for example, x1 is 0, x2 is 0, another example is x1 is 0, x2 is 1), —(CH 2 ) x1 —Ph—(CH 2 ) x2 — (Ph is a phenylene group; x1 is an integer of 0 to 10, x2 is an integer of 0 to 10, provided that the sum of x1 and x2 is an integer of 0 to 10 , preferably x1 is an integer from
  • R 15 is a hydrogen atom, a group having an aromatic ring, a C 1-6 alkyl group, a —O—C 1-6 alkyl group or a C a 3-10 cycloalkyl group, preferably a hydrogen atom;
  • x1 is an integer of 0 to 10
  • x2 is an integer of 0 to 10, provided that the sum of x1 and x2 is an integer of 0 to 10, preferably x1 is an integer from 0 to 5, x2 is an integer from 0 to 5, for example x1 is an integer from 0 to 3, x2 is 0, another example x1 is an integer from 0 to 3, x2 is an integer from 1 to 2, or example, x1 is 0 and x2 is an integer between 1 and 2).
  • R 15 is a hydrogen atom, a group having an aromatic ring, a C 1-6 alkyl group, a —O—C 1-6 alkyl group or a C 3-10 a cycloalkyl group, preferably a hydrogen atom;
  • x1 is an integer of 0 to 10
  • x2 is an integer of 0 to 10, provided that the sum of x1 and x2 is an integer of 0 to 10, preferably x1 is 0 to an integer of 5, x2 is an integer from 0 to 5, for example x1 is an integer from 0 to 3, x2 is 0, in another example x1 is an integer from 0 to 3, x2 is an integer from 1 to 2, in another example x1 is 0, x2 is an integer from 1 to 2).
  • R Si is independently a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom, or a monovalent group containing a Si atom to which a monovalent organic group is bonded, and is represented by the following formula (S1): be.
  • X 3 at each occurrence is independently a single bond, an oxygen atom, or a divalent organic group.
  • X3 is a divalent organic group.
  • X 3 is preferably a C 1-6 alkylene group, -(CH 2 ) z11 -O-(CH 2 ) z12 - or -(CH 2 ) z13 -phenylene-(CH 2 ) z14 -.
  • Such C 1-6 alkylene groups may be linear or branched, but are preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, fluorine atoms, C 1-6 alkyl groups, C 2-6 alkenyl groups, and C 2-6 alkynyl groups. is preferably unsubstituted.
  • the above z11 is an integer of 0-6, eg an integer of 1-6
  • the z12 is an integer of 0-6, eg an integer of 1-6.
  • the sum of z11 and z12 is 1 or more.
  • the z13 is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6, and the z14 is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6.
  • the sum of z13 and z14 is 1 or more.
  • X 3 is more preferably a C 1-6 alkylene group, such as -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another aspect, X 3 can be -CH 2 CH 2 -.
  • R b1 at each occurrence is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
  • R h include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group.
  • an alkyl group particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • R h is a methyl group, and in another aspect R h is an ethyl group.
  • R c1 at each occurrence is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group.
  • Such monovalent organic groups are monovalent organic groups excluding the above hydrolyzable groups.
  • the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, still more preferably a methyl group.
  • l1 is independently an integer from 0 to 3 at each occurrence. However, in each of formulas (A1) and (A2), at least one l1 is 1. In other words, in R Si , there is at least one R b1 in each of formulas (A1) and (A2).
  • l1 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 or 3, still more preferably 3, each independently at each occurrence.
  • At least one R b1 is present for each group of formula (S1).
  • R Si is represented by formula (S1)
  • the terminal R Si portion of formulas (A1) and (A2) hereinafter simply referred to as the “terminal portion” of formulas (A1) and (A2))
  • R 11 is independently at each occurrence a hydrogen atom, a benzyl group, a methoxyphenyl group, a benzoyl group, a trityl group, —SiR 71 3 , or —(R 72 —O) n7 —R 73 .
  • the composition containing the fluoropolyether group-containing silane compound of the present disclosure can have good wetting and spreading properties on a substrate.
  • a layer (for example, a surface treatment layer) formed using the composition can have good wear resistance.
  • Each R 71 is independently a C 1-4 alkyl group, such as a methyl group.
  • a group represented by —SiR 71 3 is, for example, a trimethylsilyl group.
  • Each R 72 is independently a C 1-4 alkylene group, preferably a C 1-2 alkylene group, such as -CH 2 CH 2 - or -CH 2 -.
  • n7 is independently an integer of 1-10, preferably an integer of 1-6.
  • Each R 73 is independently a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group which may contain a ring structure.
  • the monovalent hydrocarbon group containing a ring structure includes a monovalent hydrocarbon group containing a monovalent group having an aromatic ring, a cycloalkyl group, or a heterocycloalkyl group.
  • Examples of the monovalent group having an aromatic ring include a phenyl group.
  • Cycloalkyl groups include, for example, C 3-10 cycloalkyl groups, specifically cyclopentyl, cyclohexyl and cycloheptyl groups.
  • heterocycloalkyl groups include cycloalkyl groups containing an oxygen atom.
  • Examples of monovalent hydrocarbon groups containing ring structures include the following structures. It should be noted that the location marked with * below bonds to the right side of —(R 72 —O) n7 —.
  • R 73 is preferably a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group.
  • R 73 is preferably a C 1-4 alkyl group, more preferably a C 1-2 alkyl group.
  • each occurrence of R 11 is independently represented by a hydrogen atom, or —(R 72 —O) n7 —R 73 .
  • R 72 , n7 and R 73 each have the same meaning as above.
  • each occurrence of R 11 is independently represented by —CH 2 O—R 11′ .
  • R 11' is a hydrogen atom or a monovalent organic group.
  • R 11′ is represented by a hydrogen atom or —(R 72 —O) n7′ —R 73 .
  • R 72 and R 73 each have the same meaning as above.
  • n7' is an integer of 0-9, preferably an integer of 0-5.
  • R 11' is a hydrogen atom.
  • R 11′ is a group represented by —(R 72 —O) n7′ —R 73 .
  • R 11′ is a group represented by —(R 72 —O) n7′ —R 73 and n7′ is zero.
  • the fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (A1) or (A2) of the present disclosure is Formula (a27) or Formula (a28): and HSiM 3 (wherein each M is independently a halogen atom (that is, I, Br, Cl, F) or a C 1-6 alkoxy group, preferably a halogen atom, more preferably Cl), optionally a compound represented by R b1 L′ (R b1 has the same meaning as defined above and L′ represents a group capable of bonding to R b1 ), and/or R c1 L It can be produced by a method comprising a step of reacting a compound represented by "(R c1 has the same meaning as defined above, and L" represents a group capable of bonding with R c1 ).
  • step (I-1) is preferably carried out in a suitable solvent in the presence of a suitable catalyst.
  • Suitable catalysts include, but are not particularly limited to, Pt, Pd, Rh, and the like. Such catalysts may be in any form, for example in the form of a complex.
  • Suitable solvents are not particularly limited as long as they do not adversely affect the reaction. Examples include 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, perfluorobutylethylether, perfluorohexylmethylether, perfluorohexane, hexafluorobenzene, and the like.
  • the reaction temperature in such reaction is not particularly limited, but is usually 0 to 100° C., preferably 50 to 80° C.
  • the reaction time is not particularly limited, but is usually 60 to 600 minutes, preferably 120 to 300 minutes.
  • the reaction pressure is not particularly limited, but is -0.2 to 1 MPa (gauge pressure), and is conveniently normal pressure.
  • R F1 and R F2 have the same meanings as above.
  • X 61 is a single bond or a divalent organic group
  • X 62 is a single bond or a divalent organic group
  • R 61 is a hydrogen atom or a monovalent organic group
  • R 62 is a hydrogen atom or a monovalent organic group
  • X 61 can be represented by -(CR 60 2 ) n611 -((CH 2 ) n614 -Y 61 -(CH 2 ) n613 ) n612 -
  • X 62 can be represented by -(CR 60 2 ) n611' -((CH 2 ) n614' -Y 61 -(CH 2 ) n613' ) n612' -
  • n611 corresponds to n511, n612 to n512, n613 to n54, n614 to n55, n611' to n511', n612' to n512', n613' to n54, and n614' to n55, respectively.
  • each repeating unit bracketed with n611 or n612 is arbitrary in the formula.
  • the order of existence of each repeating unit bracketed with n611' or n612' is arbitrary in the formula.
  • R 60 corresponds to R 50 and Y 61 corresponds to Y 51 , respectively.
  • X63 is a divalent organic group and corresponds to X53 .
  • X 63 are each independently -(CR 60 2 ) n621 -((CH 2 ) n614 -Y 61 -(CH 2 ) n613 ) n622 - can be represented by n621 corresponds to n521, n622 to n522, n613 to n54, n614 to n55, respectively;
  • the order of existence of each repeating unit bracketed with n621 or n622 is arbitrary in the formula.
  • Each Z 23 independently represents a single bond or a divalent organic group.
  • Z 23 —CH ⁇ CH 2 in formula (a27) or (a28) corresponds to X 3 in formula (S1).
  • R65 is a hydrogen atom or a monovalent organic group. In one aspect, R 65 is a hydrogen atom. In one aspect, R 65 is a monovalent organic group.
  • R 65 corresponds to R 11 in formulas (A1) and (A2).
  • a step of obtaining a compound represented by (step (I-2)) can be produced by a method comprising
  • R F1 , R F2 , X 6 and Z 23 each have the same meaning as above.
  • R 63 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group, preferably a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group.
  • Hal represents a halogen atom and J represents Mg, Cu, Pd or Zn.
  • R 65 in formula (a27) or (a28) is a monovalent organic group
  • the compound represented by formula (a27) or (a28) is represented by formula (a25) or (a26) It can be obtained by reacting a compound with, for example, a compound represented by R 65 -Y 62 .
  • Y62 is a group capable of bonding with R65 .
  • the above reaction can be carried out using a technique that can be usually carried out. For example, it can be reacted in the presence of Hunig's base.
  • the compound represented by formula (a23) or formula (a24) is Formula (a11) or Formula (a12): and a compound represented by the formula (a13):
  • a step of obtaining a compound represented by (step (I-3)) can be produced by a method comprising
  • Step (I-3) can be carried out in the presence of a metal-carbene complex having olefin metathesis reaction activity.
  • a metal-carbene complex having olefin metathesis reaction activity.
  • a highly active Grubbs catalyst of second generation or higher such as a Grubbs second generation catalyst, is used.
  • Grubbs second generation catalysts include Hoveyda-Grubbus 2nd generation catalyst, Piers second generation metathesis catalyst, nitro-Grela, UltraCat, AquaMet, and UltraNitroCat.
  • the above step (I-3) is preferably carried out in a suitable solvent.
  • suitable solvents are not particularly limited as long as they do not adversely affect the reaction.
  • HCFC-225 eg, Asahiklin AK-225 manufactured by AGC Corporation
  • mXHF 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene
  • 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetra Fluoro-1-propene 1,2-dichloro-1,3,3,3-tetrafluoro-1-propene, 1,2-dichloro-3,3,3-trifluoro-1-propene, 1,1- Dichloro-3,3,3-trifluoro-1-propene, 1,1,2-trichloro-3,3,3-trifluoro-1-propene, 1,1,1,4,4,4-hexafluoro -2-butene
  • 1,3-bistrifluoromethoxybenzene ethyl nonafluorobutyl ether, ethyl non
  • reaction temperature in such a reaction is not particularly limited, it can be carried out, for example, at 0 to 100°C, or at room temperature (eg, 20 to 30°C).
  • the reaction time is not particularly limited, but is usually 60 to 600 minutes, preferably 120 to 300 minutes, and the reaction pressure is not particularly limited, but is -0.2 to 1 MPa (gauge pressure). Normal pressure.
  • R F1 , R F2 , X 61 , X 62 , R 61 , R 62 and R 63 have the same meanings as above.
  • the fluoropolyether group-containing silane compounds of the present disclosure are Formula (a31) or Formula (a32): and the following formula (a33):
  • a step of obtaining a compound represented by (step (II-1)) can be produced by a method comprising PPh 3 means triphenylphosphine, that is, -P(C 6 H 5 ) 3 .
  • R 64 and R 64′ are, for example, each independently a C 1-10 alkyl group or a group having a ring structure formed by bonding with each other, wherein the ring structure is a 5- to 10-membered A group having a hetero ring, or a group having a condensed ring formed by combining with each other, including a 5- to 10-membered hetero ring as the condensed ring and a 3- to 10-membered ring other than the hetero ring is the base.
  • R F1 , R F2 and X 61 have the same meanings as above.
  • Suitable catalysts include, but are not limited to, diisobutylaluminum hydride, lithium aluminum hydride (LAH), and the like.
  • suitable solvents include, but are not limited to, fluorine-based solvents such as HFE7200 and HFE7300; non-fluorine-based solvents such as THF and diethyl ether; and mixed solvents containing two or more of these. can. It is preferable to use two or more of the above solvents in combination.
  • the above step is not particularly limited, but can be performed at -78 to 200°C, for example.
  • the reaction time in the above step is not particularly limited, but may be, for example, 0.1 to 168 hours.
  • the reaction pressure in the above step is not particularly limited, but is, for example, 0 to 100 MPa (gauge pressure), and is conveniently normal pressure.
  • R F1 and R F2 have the same meanings as above.
  • X 61 , X 62 , R 61 , R 62 and R 63 each have the same meaning as above.
  • the present disclosure further provides compounds having the following structures: These compounds are compounds obtained as intermediates in the production method described above. Through these compounds, synthesis of the compound represented by formula (A1) or (A2) is facilitated.
  • R F1 , R F2 , R 63 and X 6 have the same meanings as above.
  • Formula (a27) or Formula (a28) A fluoropolyether group-containing compound represented by.
  • R F1 , R F2 , X 6 , R 65 and Z 23 have the same meanings as above.
  • X 6 in the compound represented by formula (a23), (a24), (a27), or (a28) can include the structures described for X 1 .
  • the fluoropolyether group-containing silane compound can be used as a surface treatment agent.
  • the surface treatment agent of the present disclosure has good ultraviolet durability, water repellency, oil repellency, antifouling properties (for example, to prevent the adhesion of stains such as fingerprints), chemical resistance, hydrolysis resistance, and an effect of suppressing slippage. , can contribute to the formation of a surface treatment layer having high friction durability, heat resistance, moisture resistance, and the like.
  • the surface treatment agent contains a fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (A1) or formula (A2).
  • the surface treatment agent comprises a fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (A1) or formula (A2), and a condensate obtained by condensing at least part of the fluoropolyether group-containing silane compound.
  • the condensate means that the hydroxyl groups and/or hydrolyzable groups of the fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (A1) or formula (A2) are partially hydrated in advance by a known method. It is a partial (hydrolysis) condensate obtained by condensing decomposed hydroxyl groups.
  • Surface treatment agents may optionally include hydrolysis condensation catalysts such as organic tin compounds (dibutyltin dimethoxide, dibutyltin dilaurate, etc.), organic titanium compounds (tetra n-butyl titanate, etc.), organic acids (acetic acid, methanesulfonic acid, fluorine-modified carboxylic acid, etc.) and inorganic acids (hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) may be added. Among these, acetic acid, tetra-n-butyl titanate, dibutyltin dilaurate, fluorine-modified carboxylic acids, and the like are particularly desirable.
  • hydrolysis condensation catalysts such as organic tin compounds (dibutyltin dimethoxide, dibutyltin dilaurate, etc.), organic titanium compounds (tetra n-butyl titanate, etc.), organic acids (acetic acid, methanesulfonic acid, fluorine-
  • the amount of the hydrolytic condensation catalyst added is a catalytic amount, usually 0.01 to 5 parts by mass, particularly 0.01 to 5 parts by mass, per 100 parts by mass of the fluoropolyether group-containing silane compound and/or its partial (hydrolytic) condensate. It is 1 to 1 part by mass.
  • the surface treatment agent of the present disclosure comprises a fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (A1) and a fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (A2).
  • the composition (for example, surface treatment agent) of this aspect can contribute to the formation of a cured layer having good friction durability.
  • the cured layer formed using the composition of the present embodiment has good friction durability and good lubricity on the surface of the cured layer.
  • the secondary structure of the RF portion tends to take a helical structure, and the polymer density per unit area and the cross-linking density of the silane coupling agent increase, so it is believed that the strength of the cured layer increases. be done.
  • the fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (A1) and the fluoropolyether group-containing represented by formula (A2) are contained in the composition (e.g., surface treatment agent) of the present disclosure.
  • the lower limit of the ratio (molar ratio) of the fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (A2) to the total of the silane compounds is preferably 0.001, more preferably 0.002, still more preferably 0.002. 005, even more preferably 0.01, particularly preferably 0.02, especially 0.05.
  • the upper limit of the ratio (molar ratio) of is preferably 0.70, more preferably 0.60, more preferably 0.50, still more preferably 0.40, still more preferably 0.30, for example 0.30. 20, specifically 0.10.
  • the ratio (molar ratio) of may be 0.001 or more and 0.70 or less, may be 0.001 or more and 0.60 or less, or may be 0.001 or more and 0.50 or less, 0.002 or more and 0.40 or less, 0.005 or more and 0.30 or less, or 0.01 or more and 0.20 or less, for example, 0.02 or more and 0.20 or less (specifically 0.15 or less) or 0.05 or more and 0.20 or less (specifically 0.15 or less).
  • the fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (A1) and the fluoropolyether group-containing represented by formula (A2) are contained in the composition (e.g., surface treatment agent) of the present disclosure.
  • the lower limit of the ratio (molar ratio) of the fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (A1) to the total of the silane compounds is preferably 0.001, more preferably 0.002, still more preferably 0.002. 005, even more preferably 0.01, particularly preferably 0.02, especially 0.05.
  • the upper limit of the ratio (molar ratio) of is preferably 0.70, more preferably 0.60, more preferably 0.50, still more preferably 0.40, still more preferably 0.30, for example, 0 .20, specifically 0.10.
  • the ratio (molar ratio) of may be 0.001 or more and 0.70 or less, may be 0.001 or more and 0.60 or less, or may be 0.001 or more and 0.50 or less, 0.002 or more and 0.40 or less, 0.005 or more and 0.30 or less, or 0.01 or more and 0.20 or less, for example, 0.02 or more and 0.20 or less (specifically 0.15 or less) or 0.05 or more and 0.20 or less (specifically 0.15 or less).
  • the surface treatment agent may be diluted with a solvent.
  • the water content contained in the solvent is preferably 20 ppm by mass or less.
  • the water content can be measured using the Karl Fischer method. With such a water content, the storage stability of the surface treatment agent can be improved.
  • the surface treatment agent may contain other components in addition to the fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (A1) or formula (A2).
  • Such other components include, but are not particularly limited to, for example, a (non-reactive) fluoropolyether compound, preferably a perfluoro(poly)ether compound (hereinafter referred to as "containing (hereinafter referred to as "silicone oil”), (non-reactive) silicone compounds that can be understood as silicone oils (hereinafter referred to as "silicone oils”), catalysts, lower alcohols, transition metals, halide ions, non-covalent in the molecular structure Examples include compounds containing atoms having electron pairs.
  • fluorine-containing oil examples include, but are not limited to, compounds represented by the following general formula (1) (perfluoro(poly)ether compounds).
  • Rf 5 represents a C 1-16 alkyl group optionally substituted with one or more fluorine atoms (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group)
  • Rf 6 is represents a C 1-16 alkyl group optionally substituted with one or more fluorine atoms (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group), a fluorine atom or a hydrogen atom
  • Rf 5 and Rf 6 are , more preferably each independently a C 1-3 perfluoroalkyl group.
  • a', b', c' and d' each represent the number of four types of repeating units of perfluoro(poly)ether constituting the main skeleton of the polymer, and are independently integers of 0 or more and 300 or less, , a′, b′, c′ and d′ are at least 1, preferably 1-300, more preferably 20-300.
  • the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with subscript a', b', c' or d' is arbitrary in the formula. It has at least one branched structure in the repeating unit.
  • the repeating unit has at least one CF 3 terminal (specifically, -CF 3 , -C 2 F 5 , etc., more specifically -CF 3 ).
  • Examples of repeating units having a branched structure include -(OC 4 F 8 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3 )CF 2 )-, -( OCF2CF2CF ( CF3 ))-,-(OC(CF3) 2CF2 )-,-( OCF2C (CF3)2 ) - ,-(OCF ( CF3 )CF ( CF3 ) )-, -(OCF( C2F5 )CF2)- and -( OCF2CF ( C2F5 ))-; -( OC3F6 )- as - ( OCF ( CF3 )CF 2 )- and -(OCF 2 CF(CF 3 ))-; -(
  • Examples of perfluoro(poly)ether compounds represented by the general formula (1) include compounds represented by any of the following general formulas (1a) and (1b) (one or a mixture of two or more) may be used).
  • Rf 5 and Rf 6 are as described above; in formula (1a), b'' is an integer of 1 or more and 100 or less; Each is independently an integer of 1 or more and 30 or less, and each of c'' and d'' is each independently an integer of 1 or more and 300 or less.
  • the fluorine-containing oil may have a number average molecular weight of 1,000 to 30,000.
  • the compound represented by Formula (1a) preferably has a number average molecular weight of 2,000 to 8,000. Good friction durability can be obtained by having such a number average molecular weight.
  • the compound represented by formula (1b) has a number average molecular weight of 3,000 to 8,000. In another aspect, the compound represented by formula (1b) has a number average molecular weight of 8,000 to 30,000.
  • the fluorine-containing oil is, for example, 0 to 500 parts by mass, preferably 0 to 100 parts by mass, more preferably 1 to 50 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the fluoropolyether group-containing silane compound. More preferably, it can be contained in an amount of 1 to 5 parts by mass.
  • the fluorine-containing oil is, for example, 0 to 30 mol%, preferably 0 to 20 mol%, more preferably 0 to 10%, based on the total amount of the fluoropolyether group-containing silane compound and the fluorine-containing oil. may be included in mol %.
  • the fluorine-containing oil may be a compound represented by the general formula Rf'-F (wherein Rf' is a C5-16 perfluoroalkyl group). It may also be a chlorotrifluoroethylene oligomer.
  • Rf′-F and a chlorotrifluoroethylene oligomer are preferable in that they have a high affinity with the perfluoro(poly)ether group-containing silane compound in which Rf is a C 1-16 perfluoroalkyl group. .
  • the fluorine-containing oil contributes to improving the surface lubricity of the surface treatment layer.
  • the surface treatment agent of the present disclosure contains a compound represented by formula (A1) and a fluorine-containing oil.
  • the surface treatment agent of the present disclosure contains a compound represented by formula (A2) and a fluorine-containing oil.
  • the surface treatment agent of the present disclosure contains a compound represented by formula (A1), a compound represented by formula (A2), and a fluorine-containing oil.
  • the compound represented by formula (A2) is 0.001 to 70 with respect to the total of the compound represented by formula (A1), the compound represented by formula (A2), and the fluorine-containing oil.
  • mol %, and 0.001 to 50 mol % of the fluorine-containing oil preferably 0.01 to 60 mol % of the compound represented by formula (A2), and 0.01 to 40 mol of the fluorine-containing oil %, more preferably 0.1 to 50 mol % of the compound represented by formula (A2) and 0.1 to 30 mol % of the fluorine-containing oil.
  • the compound represented by formula (A1) is 0.001 to 70 with respect to the total of the compound represented by formula (A1), the compound represented by formula (A2), and the fluorine-containing oil.
  • mol %, and 0.001 to 50 mol % of the fluorine-containing oil preferably 0.01 to 60 mol % of the compound represented by formula (A1) and 0.01 to 40 mol of the fluorine-containing oil.
  • silicone oil for example, linear or cyclic silicone oil having 2,000 or less siloxane bonds can be used.
  • Linear silicone oils may be so-called straight silicone oils and modified silicone oils.
  • straight silicone oils include dimethylsilicone oil, methylphenylsilicone oil, and methylhydrogensilicone oil.
  • Modified silicone oils include those obtained by modifying straight silicone oils with alkyl, aralkyl, polyether, higher fatty acid ester, fluoroalkyl, amino, epoxy, carboxyl, alcohol and the like.
  • Cyclic silicone oil includes, for example, cyclic dimethylsiloxane oil.
  • the silicone oil in the surface treatment agent is, for example, 0 to 50 parts by mass, preferably 0 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the fluoropolyether group-containing silane compound (the sum of these when two or more types are used, the same applies hereinafter). may be included at 0 to 5 parts by weight.
  • Silicone oil contributes to improving the surface lubricity of the surface treatment layer.
  • the catalyst examples include acids (eg, acetic acid, trifluoroacetic acid, etc.), bases (eg, ammonia, triethylamine, diethylamine, etc.), transition metals (eg, Ti, Ni, Sn, etc.), and the like.
  • acids eg, acetic acid, trifluoroacetic acid, etc.
  • bases eg, ammonia, triethylamine, diethylamine, etc.
  • transition metals eg, Ti, Ni, Sn, etc.
  • the catalyst promotes hydrolysis and dehydration condensation of the fluorine-containing silane compound and promotes formation of the surface treatment layer.
  • lower alcohols examples include alcohol compounds having 1 to 6 carbon atoms.
  • halide ions examples include chloride ions.
  • Compounds containing atoms having a lone pair in the molecular structure include diethylamine, triethylamine, aniline, pyridine, hexamethylphosphoramide, N,N-diethylacetamide, N,N-diethylformamide, N,N -dimethylacetamide, N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, tetramethylurea, dimethylsulfoxide (DMSO), tetramethylenesulfoxide, methylphenylsulfoxide, diphenylsulfoxide and the like.
  • DMSO dimethylsulfoxide
  • tetramethylenesulfoxide methylphenylsulfoxide
  • diphenylsulfoxide and the like is preferably used.
  • Other components include, in addition to the above, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, methyltriacetoxysilane, and the like.
  • the surface treatment agent is a compound containing an atom having an unshared electron pair in its molecular structure, a fluorine-containing oil, a silicone oil, a catalyst, a lower alcohol, a transition metal, a halide ion, and a molecular structure, which are the other components. does not include
  • the compound represented by formula (A2) is, for example, 70 mol with respect to the total of the compound represented by formula (A1), the compound represented by formula (A2), and the fluorine-containing oil % or less, 60 mol% or less, 50 mol% or less, 0.001 mol% or more, 0.01 mol% or more It may be contained, and may be contained in an amount of 0.1 mol % or more.
  • the compound represented by formula (A2) is contained, for example, in an amount of 1 to 70 mol% with respect to the total of the compound represented by formula (A1), the compound represented by formula (A2), and the fluorine-containing oil. may be present, or may be contained in an amount of 5 to 50 mol %.
  • the composition (eg, surface treatment agent) of the present disclosure comprises a compound represented by formula (A1), a compound represented by formula (A2), and a fluorine-containing oil.
  • the fluorine-containing oil is contained, for example, at 0.001 mol% or more with respect to the total of the compound represented by formula (A1), the compound represented by formula (A2), and the fluorine-containing oil. 0.01 mol% or more, 1.0 mol% or more, 50 mol% or less, or 40 mol% or less It may be contained in an amount of 30 mol % or less, or may be contained in an amount of 10 mol % or less.
  • the fluorine-containing oil may be contained, for example, in an amount of 0.001 to 50 mol% with respect to the total of the compound represented by formula (A1), the compound represented by formula (A2), and the fluorine-containing oil. , 0.01 to 40 mol %.
  • the compound represented by formula (A2) is 0.001 to 70 mol with respect to the total of the compound represented by formula (A1), the compound represented by formula (A2), and the fluorine-containing oil. %, and 0.001 to 50 mol% of a fluorine-containing oil, preferably 0.01 to 60 mol% of the compound represented by the formula (A2) and 0.01 to 40 mol% of the fluorine-containing oil.
  • the composition (for example, surface treatment agent) of this aspect can contribute to the formation of a cured layer having good friction durability.
  • the cured layer formed using the composition of the present embodiment has good friction durability and good lubricity on the surface of the cured layer.
  • the secondary structure of the RF portion tends to take a helical structure, and the polymer density per unit area and the cross-linking density of the silane coupling agent increase, so it is believed that the strength of the cured layer increases. be done.
  • the composition (eg, surface treatment agent) of the present disclosure comprises a compound represented by formula (A1), a compound represented by formula (A2), and a fluorine-containing oil.
  • the compound represented by formula (A2) is 0.001 mol% or more and 50 mol% with respect to the total of the compound represented by formula (A1) and the compound represented by formula (A2). may be contained less than 0.1 mol% or more and less than 50 mol%, may be contained 1 mol% or more and less than 50 mol%, for example, 10 mol% or more and less than 50 mol% may be included.
  • the composition (eg, surface treatment agent) of the present disclosure comprises a compound represented by Formula (A1), a compound represented by Formula (A2), and a fluorine-containing oil.
  • the compound represented by formula (A1) is 0.001 mol% or more and 50 mol% with respect to the total of the compound represented by formula (A1) and the compound represented by formula (A2). may be contained less than 0.1 mol% or more and less than 50 mol%, may be contained 10 mol% or more and less than 50 mol%, for example, 20 mol% or more and less than 50 mol% , 30 mol % or more and less than 50 mol %.
  • the composition (eg, surface treatment agent) of the present disclosure comprises a compound represented by Formula (A1), a compound represented by Formula (A2), and a fluorine-containing oil.
  • the compound represented by formula (A2) is contained in an amount of 35 mol% or more and less than 65 mol% with respect to the total of the compound represented by formula (A1) and the compound represented by formula (A2). 40 mol % or more and less than 60 mol % may be contained.
  • the surface treatment agent of the present disclosure contains a fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (A1) or formula (A2) and does not contain the fluorine-containing oil that is the other component (
  • the content of the fluorine-containing oil is 1 part by mass or less, more specifically, 0 part by mass with respect to 100 parts by mass of the surface treatment agent).
  • composition of the present disclosure can be used as a surface treatment agent for surface treatment of substrates.
  • the surface treatment agent of the present disclosure can be made into pellets by impregnating a porous material, such as a porous ceramic material, metal fiber, such as steel wool, into a flocculated material.
  • a porous material such as a porous ceramic material, metal fiber, such as steel wool
  • the pellet can be used, for example, for vacuum deposition.
  • the article of the present disclosure includes a base material and a surface treatment agent containing the fluoropolyether group-containing silane compound or the fluoropolyether group-containing silane compound of the present disclosure on the surface of the base material (hereinafter simply referred to as "this disclosure” on behalf of these and a layer (surface treatment layer) formed from a surface treatment agent of the above).
  • Substrates that can be used in the present disclosure include, for example, glass, resins (natural or synthetic resins, such as common plastic materials, and may be in the form of plates, films, or other forms), metals, ceramics, It can be made of any appropriate material, such as semiconductors (silicon, germanium, etc.), fibers (fabric, non-woven fabric, etc.), fur, leather, wood, ceramics, stone, etc., building materials, and the like.
  • the material forming the surface of the substrate may be a material for optical members, such as glass or transparent plastic.
  • some layer (or film) such as a hard coat layer or an antireflection layer may be formed on the surface (outermost layer) of the substrate.
  • the antireflection layer may be either a single antireflection layer or a multi-layer antireflection layer.
  • inorganic materials that can be used in antireflection layers include SiO2 , SiO, ZrO2 , TiO2 , TiO , Ti2O3 , Ti2O5 , Al2O3 , Ta2O5 , CeO2 , MgO .
  • the article to be manufactured is an optical glass component for a touch panel, a thin film using a transparent electrode such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide is provided on part of the surface of the substrate (glass).
  • ITO indium tin oxide
  • ITO indium zinc oxide
  • the substrate may be an insulating layer, an adhesive layer, a protective layer, a decorative frame layer (I-CON), an atomized film layer, a hard coating film layer, a polarizing film, a phase retardation film, and a liquid crystal display module.
  • I-CON decorative frame layer
  • the shape of the base material is not particularly limited.
  • the surface region of the substrate on which the layer formed by the surface treatment agent of the present disclosure is to be formed may be at least a part of the substrate surface, depending on the application and specific specifications of the article to be manufactured. It can be determined as appropriate.
  • Such a base material may consist of a material that originally has hydroxyl groups at least at its surface portion.
  • materials include glass, metals (particularly base metals), ceramics, and semiconductors on which a natural oxide film or thermal oxide film is formed.
  • hydroxyl groups are introduced onto the surface of the base material by subjecting the base material to some pretreatment. can be increased or increased.
  • pretreatment include plasma treatment (eg, corona discharge) and ion beam irradiation. Plasma treatment can introduce or increase hydroxyl groups on the substrate surface, and can also be suitably used to clean the substrate surface (remove foreign matter and the like).
  • an interfacial adsorbent having a carbon-carbon unsaturated bond group is preliminarily formed on the substrate surface by a monomolecular film by the LB method (Langmuir-Blodgett method), a chemical adsorption method, or the like.
  • LB method Liuir-Blodgett method
  • a chemical adsorption method or the like.
  • At least the surface portion of such a substrate may be made of a material containing another reactive group, such as a silicone compound having one or more Si—H groups, or an alkoxysilane.
  • a layer of the surface treating agent of the present disclosure is formed on the surface of the substrate, and this layer is post-treated as necessary to form a layer from the surface treating agent of the present disclosure.
  • the layer formation of the surface treatment agent of the present disclosure can be carried out by applying the above surface treatment agent to the surface of the substrate so as to coat the surface.
  • a coating method is not particularly limited. For example, wet coating methods and dry coating methods can be used.
  • wet coating methods include dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, roll coating, gravure coating and similar methods.
  • Examples of dry coating methods include vapor deposition (usually vacuum deposition), sputtering, CVD and similar methods.
  • vapor deposition methods usually vacuum vapor deposition methods
  • Specific examples of vapor deposition methods include resistance heating, electron beams, high-frequency heating using microwaves, ion beams, and similar methods.
  • Examples of CVD methods include plasma-CVD, optical CVD, thermal CVD and similar methods.
  • the surface treatment agents of the present disclosure may be diluted with a solvent prior to application to the substrate surface.
  • the following solvents are preferably used: perfluoroaliphatic hydrocarbons having 5 to 12 carbon atoms (e.g., perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane and perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane); polyfluoroaromatic hydrocarbons (eg bis(trifluoromethyl)benzene); polyfluoroaliphatic hydrocarbons (eg C 6 F 13 CH 2 CH 3 (eg Asahiklin (registered trademark) AC-6000 manufactured by AGC Corporation), 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane (for example, Zeorora (registered trademark) H manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) hydrofluoroethers (HFE) (e.g.,
  • the surface treatment agent of the present disclosure may be subjected to the dry coating method as it is, or may be subjected to the dry coating method after being diluted with the solvent described above.
  • the layer formation of the surface treatment agent is preferably carried out so that the surface treatment agent of the present disclosure is present in the layer together with a catalyst for hydrolysis and dehydration condensation.
  • the catalyst may be added to the diluted solution of the surface treatment agent of the present disclosure after the surface treatment agent of the present disclosure has been diluted with a solvent, just prior to application to the substrate surface.
  • the surface treatment agent of the present disclosure to which the catalyst has been added is vapor-deposited (usually, vacuum deposition) as it is, or the surface treatment agent of the present disclosure to which the catalyst is added is applied to a metal porous body such as iron or copper.
  • a vapor deposition (usually vacuum vapor deposition) process may be performed using a pellet-shaped material impregnated with .
  • Any suitable acid or base can be used as the catalyst.
  • acid catalysts that can be used include acetic acid, formic acid, and trifluoroacetic acid.
  • a basic catalyst for example, ammonia, organic amines, and the like can be used.
  • a layer derived from the surface treatment agent of the present disclosure is formed on the surface of the substrate to produce the article of the present disclosure.
  • the layer thus obtained has both high surface slipperiness and high friction durability.
  • the layer has water repellency, oil repellency, antifouling properties (for example, to prevent the adhesion of stains such as fingerprints), and waterproof properties, depending on the composition of the surface treatment agent used. (prevents water from penetrating into electronic parts, etc.), surface lubricity (or lubricity, e.g., wiping off of fingerprints and other stains, excellent tactile sensation on fingers), etc., and is suitable as a functional thin film can be utilized.
  • the present disclosure further relates to an optical material having a layer derived from the surface treatment agent of the present disclosure as the outermost layer.
  • optical materials in addition to optical materials related to displays and the like as exemplified later, a wide variety of optical materials are preferably exemplified: for example, cathode ray tubes (CRT; e.g., personal computer monitors), liquid crystal displays, plasma displays, organic EL. Displays such as displays, inorganic thin film EL dot matrix displays, rear projection displays, fluorescent display tubes (VFD), field emission displays (FED; Field Emission Display), protective plates for these displays, or antireflection films on their surfaces processed.
  • CTR cathode ray tubes
  • LCD liquid crystal displays
  • plasma displays organic EL.
  • Displays such as displays, inorganic thin film EL dot matrix displays, rear projection displays, fluorescent display tubes (VFD), field emission displays (FED; Field Emission Display), protective plates for these displays, or antireflection films on their surfaces processed.
  • VFD fluorescent display tubes
  • FED Field Emission Display
  • An article having a layer obtained by the present disclosure is not particularly limited, but can be an optical member.
  • optical members include the following: lenses for eyeglasses; front protective plates, antireflection plates, polarizing plates, anti-glare plates for displays such as PDP and LCD; touch panel sheets; disc surfaces of optical discs such as Blu-ray (registered trademark) discs, DVD discs, CD-Rs, and MOs; optical fibers;
  • An article having a layer obtained by the present disclosure may be an automobile interior and exterior member.
  • exterior materials include: windows, light covers, exterior camera covers.
  • interior materials include: instrument panel covers, navigation system touch panels, decorative interior materials.
  • an article having a layer obtained by the present disclosure may be a medical device or medical material.
  • the thickness of the layer is not particularly limited. In the case of optical members, the thickness of the layer is preferably in the range of 1 to 50 nm, 1 to 30 nm, preferably 1 to 15 nm, from the viewpoint of optical performance, surface slipperiness, friction durability and antifouling properties. .
  • Example 2 After 0.507 g of compound 1-3 was dissolved in 5.0 mL of AK-225, 0.304 mL of Hunig's base was added. Subsequently, 80.0 ⁇ l of methoxymethyl chloride was added and stirred at 35° C. for 5 days. Subsequently, it was washed with methanol, acetone and chloroform. After concentration to dryness, 0.51 g of compound 2-1 was obtained by purifying with a silica gel column.
  • Example 4 After 0.577 g of compound 3-3 was dissolved in 2.0 mL of AK-225, 148.0 ⁇ l of Hunig's base was added. Subsequently, 46.0 ⁇ l of methoxymethyl chloride was added and stirred at 37° C. for two nights. Subsequently, it was washed with methanol, acetone and chloroform. After concentration to dryness, purification with a silica gel column gave 0.554 g of compound 4-1.
  • Example 6 After 0.668 g of compound 5-3 was dissolved in 3.0 mL of AK-225, 0.17 mL of Hunig's base, DMAP and 50.0 ⁇ l of methoxymethyl chloride were added, and the mixture was stirred at a bath temperature of 35° C. for 4 days. Subsequently, the reaction solution was concentrated to dryness and purified with a silica gel column to obtain 0.56 g of compound 6-1.
  • ⁇ Formation of surface treatment layer> The fluoropolyether group-containing silane compounds obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Example 1 were diluted with Novec 7200 (manufactured by 3M, ethyl perfluorobutyl ether) to a concentration of 0.06% by mass, and subjected to surface treatment. formulations were prepared. Then, using a chemically strengthened glass (Gorilla 3 manufactured by Corning Incorporated) as a substrate, the surface treatment agent prepared above was applied to the substrate using a spray coating device. The coating amount was 60 g/m 2 of the surface treatment agent. Subsequently, the substrate coated with the surface treatment agent was heat-treated at 140° C. for 30 minutes under atmospheric pressure to form a surface treatment layer.
  • Novec 7200 manufactured by 3M, ethyl perfluorobutyl ether
  • a fully automatic contact angle meter DropMaster 700 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) was used to measure the static contact angle. Specifically, a base material having a surface treatment layer to be measured is placed horizontally, 2 ⁇ L of water is dropped from a microsyringe on the surface, and a still image is taken with a video microscope 1 second after dropping. Static contact angles were measured. The static contact angle of water was measured at five different points on the surface treatment layer of the base material, and a value obtained by calculating the average value was used.
  • the fluoropolyether group-containing silane compound of the present disclosure can be suitably used to form a surface treatment layer on the surface of various substrates, particularly optical members that require friction durability.

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Abstract

下記式（Ａ１）または（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。各符号は、明細書の記載のとおりである。

Description

フルオロポリエーテル基含有シラン化合物
　本開示は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物に関する。
　ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。
　そのような含フッ素化合物として、フルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１）。
特開２０００－３２７７７２号公報
　上記のような表面処理層には、さらに良好な物性を有することが求められる。本開示は、より良い物性を有する表面処理層の形成に寄与し得るフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を提供するものである。
　本開示は、以下の［１］～［１９］を提供するものである。
［１］　下記式（Ａ１）または（Ａ２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
　ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
　ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
　ＲＦは、それぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり；
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
　ｐは、０または１であり；
　ｑは、独立して、０または１であり；
　Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式：
　　－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１－（ＣＲ５１＝ＣＲ５２）ｎ５２－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５３－
で表され；
　　Ｒ５０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または１価の有機基であり；
　　Ｒ５１およびＲ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
　　Ｙ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
　　ｎ５４は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　ｎ５５は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
　　ｎ５１は、０～１０の整数であり；
　　ｎ５２は、０～１０の整数であり；
　　ｎ５３は、０～１０の整数であり；
　　ｎ５１、ｎ５２またはｎ５３を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ｎ５１、ｎ５２およびｎ５３の合計は１以上であり；
　ＲＳｉは、それぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 で表される基であり；
　Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
　Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
　Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ただし、式（Ａ１）および（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｌ１は１であり；
　Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ベンジル基、メトキシフェニル基、ベンゾイル基、トリチル基、－ＳｉＲ７１、または－（Ｒ７２－Ｏ）ｎ７－Ｒ７３であり、
　Ｒ７１は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基であり、
　Ｒ７２は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、
　ｎ７は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
　Ｒ７３は、それぞれ独立して、水素原子、または環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である。]
［２］　Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｘ１）または（Ｘ２）：
　　－Ｘ５１－ＣＲ５１＝ＣＲ５２－Ｘ５２－　　　　・・・（Ｘ１）
　　－Ｘ５３－　　　　　　　　　　　　　　　　・・・（Ｘ２）
で表され；
　Ｘ５１は、－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５１２－
で表され；
　　Ｒ５０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または１価の有機基であり；
　　Ｙ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
　　ｎ５４は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　ｎ５５は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
　　ｎ５１１は、０～１０の整数であり；
　　ｎ５１２は、０～１０の整数であり；
　　ｎ５１１またはｎ５１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　Ｘ５２は、－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１’－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５１２’－で表され；
　　ｎ５１１’は、０～１０の整数であり；
　　ｎ５１２’は、０～１０の整数であり；
　　ｎ５１１’またはｎ５１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　Ｒ５１およびＲ５２は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
　Ｘ５３は、それぞれ独立して、
　　－（ＣＲ５０ ２）ｎ５２１－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５２２－
で表され；
　　ｎ５２１は、０～１０の整数であり；
　　ｎ５２２は、０～１０の整数であり；
　　ｎ５２１またはｎ５２２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ｎ５２１およびｎ５２２の合計は１以上である、
　［１］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［３］　Ｒ５０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、－Ｏ－（Ｒ１４－Ｏ）ｎ４－Ｒ１４’、またはＣ１－４アルキル基である、［１］または［２］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
　Ｒ１４は、それぞれ独立してＣ１－４アルキレン基であり；
　ｎ４は、それぞれ独立して０～１００の整数であり；
　Ｒ１４’は、それぞれ独立してＣ１－４アルキル基であり；
　上記Ｃ１－４アルキル基は置換基を有していてもよい。］
［４］　Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、
　　－ＣＨＲ１３－[（ＣＲ５０’ ２）ｎ５１’－（ＣＲ５１＝ＣＲ５２）ｎ５２－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５３]－
で表される基であり、
　Ｒ１３は、－ＯＨ、または－Ｏ－（Ｒ１４－Ｏ）ｎ４－Ｒ１４’で表され；
　Ｒ１４は、それぞれ独立してＣ１－４アルキレン基であり；
　ｎ４は、０～１００の整数であり；
　Ｒ１４’は、Ｃ１－４アルキル基であり；
　Ｒ５０’は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基または１価の有機基であり；
　ｎ５１’は、０～１０の整数であり；
　ｎ５２は、０～１０の整数であり；
　ｎ５３は、０～１０の整数であり；
　ｎ５１’、ｎ５２またはｎ５３を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、－（ＣＲ５０’ ２）ｎ５１’－（ＣＲ５１＝ＣＲ５２）ｎ５２－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５３－内において任意であり、
　Ｒ５１およびＲ５２は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
　Ｙ５１は、それぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり、
　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
　ｎ５４は、それぞれ独立して、０または１であり、
　ｎ５５は、それぞれ独立して、０または１である、
［１］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［５］　Ｒ５０’は、水素原子である、［４］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［６］　Ｒ５１およびＲ５２は、水素原子である、［１］～［５］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［７］　Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または－（Ｒ７２－Ｏ）ｎ７－Ｒ７３で表される基であり、
　Ｒ７２は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、
　Ｒ７３は、水素原子、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり、
　ｎ７は、１～１０の整数である、
［１］～［６］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［８］　Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２Ｏ－Ｒ１１’であり、
　Ｒ１１’は、水素原子、または－（Ｒ７２－Ｏ）ｎ７’－Ｒ７３であり、
　Ｒ７２は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、
　Ｒ７３は、水素原子、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり、
　ｎ７’は、０～９の整数である、
［１］～［７］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［９］　Ｒ７３は、それぞれ独立して、水素原子、またはＣ１－４アルキル基である、［１］～［８］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１０］　ｎ５５は、１である、［１］～［９］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１１］　ｎ５４およびｎ５５は、０である、［１］～［９］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１２］　［１］～［１１］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、および、該フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１つを含有する、表面処理剤。
［１３］　［１］～［１１］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
［１４］　基材と、該基材の表面に、［１］～［１１］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物または［１２］または［１３］に記載の表面処理剤から形成された層とを含む物品。
［１５］　式（ａ１１）または式（ａ１２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 で表される化合物と、式（ａ１３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 で表される化合物とを反応させて、式（ａ２１）または式（ａ２２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 で表される化合物を得る工程
を含む、フルオロポリエーテル基含有化合物の製造方法。
［式中：
　ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
　ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
　ＲＦは、それぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり；
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
　ｐは、０または１であり；
　ｑは、独立して、０または１であり；
　Ｘ６１は、それぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２－で表され；
　　Ｒ６０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または１価の有機基を表し；
　　Ｙ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
　　ｎ６１３は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　ｎ６１４は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　ｎ６１１は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１２は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１１またはｎ６１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　Ｘ６２は、それぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１’－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２’－で表され；
　　ｎ６１１’は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１２’は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１１’またはｎ６１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
　Ｒ６１およびＲ６２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり； 
　Ｒ６３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基である。］
［１６］　式（ａ３１）または式（ａ３２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 で表される化合物と、以下の式（ａ３３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 で表される化合物とを反応させて、式（ａ２１）または式（ａ２２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 で表される化合物を得る工程
を含む、フルオロポリエーテル基含有化合物の製造方法。
［式中：
　ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
　ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
　ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり；
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
　ｐは、０または１であり；
　ｑは、独立して、０または１であり；
　Ｘ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２－で表され；
　　Ｒ６０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または１価の有機基を表し；
　　Ｙ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
　　ｎ６１３は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　ｎ６１４は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　ｎ６１１は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１２は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１１またはｎ６１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　Ｘ６２は、各出現においてそれぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１’－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２’－で表され；
　　ｎ６１１’は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１２’は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１１’またはｎ６１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基、またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
　Ｒ６１およびＲ６２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
　Ｒ６３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基である。］
［１７］　式（ａ２３）、または式（ａ２４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 で表される化合物と、Ｈａｌ－Ｊ－Ｚ２３－ＣＨ＝ＣＨ２とを反応させて、式（ａ２５）または式（ａ２６）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 で表される化合物を得る工程
を含む、フルオロポリエーテル基含有化合物の製造方法。
［式中：
　ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
　ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
　ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり；
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
　ｐは、０または１であり；
　ｑは、独立して、０または１であり；
　－Ｘ６－は、各出現においてそれぞれ独立して、
　　－Ｘ６１－ＣＲ６１＝ＣＲ６２－Ｘ６２－、または
　　－Ｘ６３－
で表され；
　Ｘ６１は、それぞれ独立して、
　　－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２－
で表され；
　　Ｒ６０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または１価の有機基を表し；
　　Ｙ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
　　ｎ６１３は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　ｎ６１４は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　ｎ６１１は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１２は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１１またはｎ６１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　Ｘ６２は、それぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１’－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２’－で表され；
　　ｎ６１１’は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１２’は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１１’またはｎ６１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基、またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
　Ｒ６１およびＲ６２は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
　Ｘ６３は、それぞれ独立して、
　　　－（ＣＲ６０ ２）ｎ６２１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６２２－
で表され；
　　ｎ６２１は０～１０の整数であり；
　　ｎ６２２は０～１０の整数であり；
　　ｎ６２１またはｎ６２２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ｎ６２１およびｎ６２２の合計は１以上であり；
　Ｒ６３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
　Ｈａｌは、ハロゲン原子を表し；
　Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し；
　Ｚ２３は、それぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。］
［１８］　式（ａ２３）または式（ａ２４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物。
［式中：
　ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
　ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
　ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり；
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
　ｐは、０または１であり；
　ｑは、独立して、０または１であり；
　－Ｘ６－は、各出現においてそれぞれ独立して、
　　－Ｘ６１－ＣＲ６１＝ＣＲ６２－Ｘ６２－、または
　　－Ｘ６３－
で表され；
　Ｘ６１は、それぞれ独立して、
　　－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２－
で表され；
　　Ｒ６０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または１価の有機基を表し；
　　Ｙ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
　　ｎ６１３は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　ｎ６１４は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　ｎ６１１は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１２は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１１またはｎ６１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　Ｘ６２は、それぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１’－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２’－で表され；
　　ｎ６１１’は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１２’は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１１’またはｎ６１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基、またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
　Ｒ６１およびＲ６２は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
　Ｘ６３は、それぞれ独立して、
　　　－（ＣＲ６０ ２）ｎ６２１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６２２－
で表され；
　　ｎ６２１は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６２２は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６２１またはｎ６２２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ｎ６２１およびｎ６２２の合計は１以上であり；
　Ｒ６３は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基である。］
［１９］　式（ａ２７）または式（ａ２８）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物。
［式中：
　ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
　ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
　ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり；
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
　ｐは、０または１であり；
　ｑは、独立して、０または１であり；
　－Ｘ６－は、各出現においてそれぞれ独立して、
　　－Ｘ６１－ＣＲ６１＝ＣＲ６２－Ｘ６２－、または
　　－Ｘ６３－
で表され；
　Ｘ６１は、それぞれ独立して、
　　－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２－
で表され；
　　Ｒ６０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または１価の有機基を表し；
　　Ｙ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
　　ｎ６１３は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　ｎ６１４は、それぞれ独立して、０または１であり；
　　ｎ６１１は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１２は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１１またはｎ６１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　Ｘ６２は、それぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１’－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２’－で表され；
　　ｎ６１１’は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１２’は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６１１’またはｎ６１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基、またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
　Ｒ６１およびＲ６２は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり； 
　Ｘ６３は、
　　　－（ＣＲ６０ ２）ｎ６２１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６２２－
で表され；
　　ｎ６２１は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６２２は、０～１０の整数であり；
　　ｎ６２１またはｎ６２２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ｎ６２１およびｎ６２２の合計は１以上であり； 
　Ｒ６５は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
　Ｚ２３は、それぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。]
　本開示によれば、より良い物性を有する表面処理層の形成に寄与し得るフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を提供することができる。
　本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。
　本明細書において用いられる場合、「２価の有機基」としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、分子から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素原子数１～２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、Ｃ２－６アルキニル基、Ｃ３－１０シクロアルキル基、Ｃ３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
　本明細書において、アルキル基およびフェニル基は、特記しない限り、非置換であっても、置換されていてもよい。かかる基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
　本明細書において、「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、－ＯＲｈ、－ＯＣＯＲｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｈ ２、－ＮＲｈ ２、－ＮＨＲｈ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１－４アルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲｈ１（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈ１の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、加水分解可能な基はメトキシ基である。別の態様において、加水分解可能な基はエトキシ基である。
（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物）
　本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、下記式（Ａ１）または（Ａ２）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　式（Ａ１）において、ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表される。
　式（Ａ２）において、ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表される。
　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基である。
　上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基における「Ｃ１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１－６アルキル基、特にＣ１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－６アルキル基、特にＣ１－３アルキル基である。
　上記Ｒｆ１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ－Ｃ１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１－１６パーフルオロアルキル基である。
　上記Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ３、－ＣＦ２ＣＦ３、または－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基である。
　上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基における「Ｃ１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－３アルキレン基である。
　上記Ｒｆ２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１－３パーフルオロアルキレン基である。
　上記Ｃ１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－３パーフルオロアルキレン基、具体的には－ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２－、または－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－である。
　上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。
　上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。
　上記式（Ａ１）および（Ａ２）において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式で表されるフルオロポリエーテル基である。尚、ＲＦとして記載される構造は、式（Ａ１）においては左側がＲｆ１で表される構造に結合し、式（Ａ２）においては左側がＲｆ２ ｐで表される構造に結合する。
　　－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
［式中：
　ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　ＲＦａは、好ましくは、水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。
　これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、－（ＯＣ６Ｆ１２）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ５Ｆ１０）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ３Ｆ６）－（即ち、上記式中、ＲＦａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。また、－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－である。
　一の態様において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
　　－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは０または１、好ましくは１である。］
　　－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
　　－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、
　Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］
　－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。
　上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。上記式（ｆ１）における（ＯＣ３Ｆ６）は、好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）または（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）で表される基であり、より好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）で表される基である。上記式（ｆ１）における（ＯＣ２Ｆ４）は、好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２）または（ＯＣＦ（ＣＦ３））で表される基であり、より好ましくは、（ＯＣＦ２ＣＦ２）で表される基である。
　上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基であってもよい。
　上記式（ｆ３）において、Ｒ６は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４である。上記（ｆ３）において、Ｒ７は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基である。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、および－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ３Ｆ６）ｇ－または－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ４Ｆ８）ｇ－である。
　上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
　上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
　一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ１）で表される基である。
　一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ２）で表される基である。
　一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ３）で表される基である。
　一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ４）で表される基である。
　一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ５）で表される基である。
　好ましい態様において、ＲＦは、式（ｆ２）：
　　－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基である。式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。ＲＦは、より具体的には、－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基であり得る。
　上記ＲＦにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５であり、さらにより好ましくは０．２～０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、ＲＦを含む化合物から得られる硬化層（例えば表面処理層）の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、上記化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、上記化合物の安定性はより向上する。この場合、ｆの値は１以上である。
　一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９５であり、より好ましくは０．２～０．９である。
　一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは、０．２０以上１．０未満であり、より好ましくは０．２０～０．９５であり、より好ましくは０．２０～０．９０、さらに好ましくは、０．４０～０．８０、特に好ましくは０．５０～０．７０である。
　一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２０～０．８０であり、より好ましくは０．３０～０．７０である。別の態様において、ｅ／ｆ比は０．５０～０．８０である。
　一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０～２．０である。
　一の態様において、ｅ／ｆ比は、０．２～１．５であり、好ましくは０．５～１．１である。
　上記ＲＦにおいて、ｅ／ｆ比は、１．０未満であってもよく、０．９５以下であってもよく、０．９０以下であってもよく、０．９０未満であってもよく、例えば０．８以下、０．７０以下であってもよい。ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２０以上、より好ましくは０．３０以上、さらに好ましくは０．４０以上、特に好ましくは０．５０以上である。ｅ／ｆ比は、例えば、０．２０以上１．０未満、例えば、０．２０以上０．９５以下、０．２０以上０．９０未満、具体的には０．４０以上０．８０以下、より具体的には０．５０以上０．７０以下を挙げることができる。ｅ／ｆ比が低くなり過ぎると、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いて形成される硬化層（あるいは硬化膜。以下においても同様）の加水分解性が高くなり、該硬化層の耐久性が低くなることがある。ｅ／ｆ比が高くなりすぎると、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いて形成される硬化層の動摩擦係数が高くなり、十分な摩擦耐久性を有する硬化層が得られないことがある。
　好ましい態様において、ＲＦは、
　　－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－　（ｆ２）
で表される基であり（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）、ｅ／ｆ比は、０．２０以上１．０未満であり、より好ましくは０．２０～０．９５であり、より好ましくは０．２０～０．９０、さらに好ましくは、０．４０～０．８０、特に好ましくは０．５０～０．７０である。ＲＦは、より具体的には、－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基であり得る。
　上記のようなＲＦを有する化合物を用いることにより、該化合物を用いて形成される硬化層の化学的な耐久性（耐ケミカル性）、摩擦耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、または表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）等が良好になる。これは、上記のようなＲＦを有する化合物を用いることによって、該化合物から形成される硬化層の表面の動摩擦係数が小さくなるためと考えられる。
　一の態様において、ＲＦは、
　　－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－　（ｆ２）
で表される基であり（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）、
　ｅ／ｆ比は、０．２０～０．８０であり、より好ましくは０．３０～０．７０である。
　一の態様において、ｅは、１０以上１００以下の整数、かつ、ｆは、１１以上１００以下の整数であってもよく、ｅは、１５以上７０以下の整数、かつ、ｆは、２１以上９５以下の整数であってもよい。
　一の態様において、ｅおよびｆの和は、好ましくは２０以上、より好ましくは３０以上、特に好ましくは４０以上である。
　別の態様において、ｅおよびｆの和は、好ましくは１００以上、より好ましくは１２０以上、さらに好ましくは１３０以上、特に好ましくは１４０以上である。
　一の態様において、ｅおよびｆの和は、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１８０以下、さらに好ましくは１６０以下、特に好ましくは１５０以下である。
　ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，５００～３０，０００、さらに好ましくは４，０００～３０，０００である。ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、例えば、２，５００～２０，０００、２，５００～１５，０００、３，０００～１５，０００、２，０００～１０，０００であってもよい。本明細書において、ＲＦ１およびＲＦ２の数平均分子量は、１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。
　別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。
　別の態様において、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、６，０００～３０，０００、好ましくは６，０００～２０，０００、より好ましくは７，０００～２０，０００、さらに好ましく８，０００～１５，０００、特に好ましくは９，０００～１５，０００、より好ましくは１０，０００～１５，０００であり得る。ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量は、例えば、６，０００～１５，０００の範囲にあってもよい。
　一の態様において、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物において、
　ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量が６，０００～２０，０００、およびｅ／ｆ比が０．５０～０．８０の範囲にあり；
　好ましくは、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量が６，０００～１５，０００、およびｅ／ｆ比が０．５０～０．７０の範囲にあり；
　より好ましくは、ＲＦ１およびＲＦ２部分の数平均分子量が１０，０００～１５，０００、およびｅ／ｆ比が０．５０～０．７０の範囲にある。
　本態様において、好ましくは、ＲＦは、－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基である。ここで、例えば、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅは、２０～７０範囲にある整数であり、ｆは、４５～１２０の範囲にある整数である。このようなフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、極めて高い潤滑性と低い動摩擦係数による滑り性を示す硬化層（例えば表面処理層）の形成に寄与し得る。
　本開示において、ＲＦ１またはＲＦ２で表される基とＣＲＳｉ ２（ＯＲ１１）で表される基とが、－Ｘ１－で表される基で結合される。ここで、ＲＦ１またはＲＦ２で表される基は、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル基を含有する基であり、ＣＲＳｉ ２（ＯＲ１１）で表される基は、基材との結合能を提供するシラン部を含む。
　Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式（Ｘ）：
　　－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１－（ＣＲ５１＝ＣＲ５２）ｎ５２－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５３－　　　・・（Ｘ）
で表される。このようなＸ１を有することにより、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および／または式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を用いて形成される硬化層の柔軟性、耐摩耗性、基材へのぬれ広がり性、および、基材との密着性などが良好になり得る。
　なお、本明細書において、Ｘ１として記載する構造の左側がＲＦ１またはＲＦ２で表される基と、右側がＣＲＳｉ ２（ＯＲ１１）で表される基と、それぞれ結合する。
　ｎ５１は、０～１０の整数であり、好ましくは０～５の整数である。
　ｎ５２は、０～１０の整数であり、好ましくは０～５の整数である。
　ｎ５３は、０～１０の整数であり、好ましくは０～５の整数である。
　ただし、ｎ５１、ｎ５２またはｎ５３を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ｎ５１、ｎ５２およびｎ５３の合計は１以上である。
　一の態様において、ｎ５１は、１～１０の整数であり、例えば、１～６の整数である。
　一の態様において、ｎ５１は、１～５の整数である。一の態様において、ｎ５１は２である。
　一の態様において、ｎ５１は、３～５の整数であり、例えば４または５である。
　一の態様において、ｎ５１は、１～１０の整数であり、好ましくは１～５の整数であり；ｎ５２およびｎ５３は０である。
　一の態様において、ｎ５１は、３～５の整数であり、例えば４または５であり；ｎ５２およびｎ５３は０である。
　ｎ５４は、それぞれ独立して、０または１である。
　ｎ５５は、それぞれ独立して、０または１である。
　一の態様において、ｎ５１は、１～１０の整数であり、好ましくは１～５の整数であり；ｎ５２は０であり；ｎ５３は１である。本態様において、例えばｎ５４は１である。
　一の態様において、ｎ５１は０であり；ｎ５２は０であり；ｎ５３は１である。本態様において、例えばｎ５４は１である。
　一の態様において、ｎ５１は、１～１０の整数であり、好ましくは１～５の整数であり；ｎ５２は０であり；ｎ５３は１である。本態様において、例えばｎ５４は０である。
　一の態様において、ｎ５４は０または１である。
　一の態様において、ｎ５５は０または１である。
　一の態様において、ｎ５５は１である。
　別の態様において、ｎ５４およびｎ５５は０である。
　Ｒ５１は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり、好ましくは、水素原子、または、Ｃ１－３アルキル基である。
　一の態様において、Ｒ５１は水素原子である。一の態様において、Ｒ５１はメチル基である。
　Ｒ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり、好ましくは、水素原子、または、Ｃ１－３アルキル基である。
　一の態様において、Ｒ５２は水素原子である。一の態様において、Ｒ５２はメチル基である。
　一の態様において、Ｒ５１およびＲ５２は、水素原子である。
　Ｙ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり、好ましくは、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、または、ＮＲ１５であり、より好ましくは、Ｏである。
　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基またはＣ３－１０シクロアルキル基であり、好ましくは水素原子である。芳香環を有する基としては、例えばフェニル基を挙げることができる。
　アリーレン基としては、例えば、Ｃ６－１０アリーレン基を挙げることができ、具体的には、フェニレン基、置換基を有するフェニレン基を挙げることができる。置換基としては、ハロゲン、アルキル基（例えば、Ｃ１－４アルキル基）、ヘテロ環に由来する１価の基（例えば、ピぺリジン、ピぺラジン、モルホリン、ジオキサン、ジチアン、ピロリジン、オキサゾリジン、イソキサゾリジン、チアゾリジン、イソチアゾリジン、イミダゾリジン、またはピラゾリジンに由来する１価の基）、フェノキシ基を挙げることができる。
　なお、Ｙ５１が環構造を有する場合、Ｙ５１と、Ｘ１の他の部位との結合位置、または、Ｙ５１と、ＲＦ１、ＲＦ２もしくはＣＲＳｉ２（ＯＲ１１）との結合位置は特に限定されない。
　一の態様において、Ｙ５１は、Ｏである。一の態様においてＹ５１は、フェニレン基である。
　一の態様において、Ｙ５１は、ＣＯＮＲ１５である。
　Ｒ５０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または１価の有機基である。
　一の態様において、Ｒ５０は水素原子である。一の態様において、Ｒ５０はハロゲン原子である。一の態様において、Ｒ５０は、１価の有機基である。
　Ｒ５０は、好ましくは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、水酸基、－Ｏ－（Ｒ１４－Ｏ）ｎ４－Ｒ１４’、またはＣ１－４アルキル基である。
　式中、Ｒ１４は、それぞれ独立してＣ１－４アルキレン基であり、
　ｎ４は、それぞれ独立して０～１００の整数であり、好ましくは、１～５０の整数であり、より好ましくは、１～４０の整数であり、さらに好ましくは、１～１０の整数であり、
　Ｒ１４’は、それぞれ独立してＣ１－４アルキル基である。
　ここで、Ｃ１－４アルキル基は置換基を有していてもよい。
　一の態様において、Ｒ５０は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、またはＣ１－４アルキル基である。
　一の態様において、Ｒ５０は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、水酸基、－Ｏ－（Ｒ１４－Ｏ）ｎ４－Ｒ１４’、またはＣ１－４アルキル基（例えば、メチル基）であり、例えば、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、－Ｏ－（Ｒ１４－Ｏ）ｎ４－Ｒ１４’、またはＣ１－４アルキル基である。
　Ｒ１４は、それぞれ独立してＣ１－４アルキレン基であり、
　ｎ４は、それぞれ独立して０～１００の整数であり、好ましくは、１～５０の整数であり、より好ましくは、１～４０の整数であり、さらに好ましくは、１～１０の整数であり、
　Ｒ１４’は、それぞれ独立してＣ１－４アルキル基である。
　ここで、Ｃ１－４アルキル基は置換基を有していてもよい。
　一の態様において、Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式（Ｘ１）または（Ｘ２）で表される。
－Ｘ５１－ＣＲ５１＝ＣＲ５２－Ｘ５２－　　　・・・（Ｘ１）
－Ｘ５３－　　　　　　　　　　　　　　　・・・（Ｘ２）
　式（Ｘ１）において、Ｘ５１は、
－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５１２－
で表される。
　Ｒ５０、Ｙ５１、ｎ５４およびｎ５５は上記と同意義である。
　ｎ５１１は、０～１０の整数であり、好ましくは、０～５の整数である。
　ｎ５１２は、０～１０の整数であり、好ましくは、０～５の整数である。
　ｎ５１１またはｎ５１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
　一の態様において、ｎ５１１およびｎ５１２の合計は１以上である。
　一の態様において、ｎ５１１は１～１０の整数であり、ｎ５１２は０である。言い換えると、Ｘ５１は－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１－で表される。
　一の態様において、ｎ５１１は、１～１０の整数であり、好ましくは１～５の整数である。
　一の態様において、ｎ５１１は、３～５の整数であり、例えば４または５である。
　一の態様において、ｎ５１１は、１～１０の整数であり、好ましくは１～５の整数であり；ｎ５１２は０である。
　Ｘ５１は、好ましくは、－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１４－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１５－で表される。ｎ５１４は０～１０の整数、ｎ５１５は０～１０の整数、より好ましくは、ｎ５１４は０～５の整数、ｎ５１５は０～５の整数である。ｎ５１４とｎ５１５との合計はｎ５１１に相当する。Ｒ５０、ｎ５４、ｎ５５、およびＹ５１は上記と同意義である。
　Ｘ５２は、それぞれ独立して、
　　－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１’－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５１２’－
で表される。Ｘ５２におけるＲ５０およびＹ５１は、Ｘ５１におけるＲ５０およびＹ５１とそれぞれ同意義である。
　ｎ５１１’は、０～１０の整数であり、好ましくは、０～５の整数である。
　ｎ５１２’は、０～１０の整数であり、好ましくは、０～５の整数である。
　ただし、ｎ５１１’またはｎ５１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
　一の態様において、ｎ５１１’およびｎ５１２’の合計は１以上である。
　一の態様において、ｎ５１１’は１～１０の整数であり、ｎ５１２’は０である。言い換えると、Ｘ５２は－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１’－で表される。
　一の態様において、ｎ５１１’は、１～１０の整数であり、好ましくは１～５の整数である。
　一の態様において、ｎ５１１’は、３～５の整数であり、例えば４または５である。
　一の態様において、ｎ５１１’は、１～１０の整数であり、好ましくは１～５の整数であり；ｎ５１２’は０である。
　一の態様において、ｎ５１１、ｎ５１２、ｎ５１１’およびｎ５１２’の合計は１以上である。
　一の態様において、Ｘ５２は、－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１４’－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１５’－で表される。ｎ５１４’は０～１０の整数、ｎ５１５’は０～１０の整数、より好ましくは、ｎ５１４’は０～５の整数、ｎ５１５’は０～５の整数である。
　一の態様において、ｎ５１４’は０～１０の整数であり、ｎ５１５’は１～１０の整数であり、例えば、ｎ５１４’は０～５の整数、ｎ５１５’は１～５の整数である。ｎ５１４’とｎ５１５’との合計は、ｎ５１１’に相当する。Ｘ５２におけるＲ５０およびＹ５１は、Ｘ５１のＲ５０およびＹ５１と同意義である。
　式（Ｘ１）において、Ｘ５１におけるｎ５１１およびＸ５２におけるｎ５１１’の合計は０～１０の整数であり、Ｘ５１におけるｎ５１２およびＸ５２におけるｎ５１２’の合計は０～１０の整数である。
　一の態様において、式（Ｘ１）：
－Ｘ５１－ＣＲ５１＝ＣＲ５２－Ｘ５２－　　　・・・（Ｘ１）
は、以下の式：
－［（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１－（ＣＨ２－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５１２］－ＣＲ５１＝ＣＲ５２－［（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１－（ＣＨ２－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５１２］－
で表される。上記式におけるｎ５１１とｎ５１１’との合計値は、式（Ｘ）におけるｎ５１の値に、ｎ５１２とｎ５１２’との合計値は、式（Ｘ）におけるｎ５３の値に、それぞれ相当する。
　一の態様において、式（Ｘ１）：
－Ｘ５１－ＣＲ５１＝ＣＲ５２－Ｘ５２－　　　・・・（Ｘ１）
は、以下の式：
－［－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１４－（Ｙ５１）－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１５］－ＣＲ５１＝ＣＲ５２－［－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１４’－（Ｙ５１）－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１５’－］－
で表される。Ｒ５０、Ｙ５１、ｎ５１４、ｎ５１５、Ｒ５１、Ｒ５２、ｎ５１４’およびｎ５１５’はそれぞれ上記と同意義である。ｎ５１４とｎ５１５との合計値は、式（Ｘ１）におけるｎ５１１の値に、ｎ５１４’とｎ５１５’との合計値は、式（Ｘ１）におけるｎ５１１’の値に、それぞれ相当する。ｎ５１４、ｎ５１５、ｎ５１４’およびｎ５１５’の合計値は、式（Ｘ）におけるｎ５１の値にそれぞれ相当する。
　一の態様においては、Ｘ５１およびＸ５２は単結合である。
　一の態様においては、Ｘ５１は、－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１－、Ｘ５２は、－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１’－で表され、ｎ５１１およびｎ５１１’の少なくとも一方は１以上の整数である。
　一の態様においては、Ｘ５１は、－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１－（Ｙ５１）ｎ５１２－で表され、Ｘ５２は、それぞれ独立して－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１’－（Ｙ５１）ｎ５１２’－で表さる。ｎ５１１、ｎ５１２、ｎ５１１’およびｎ５１２’のいずれか１つは１以上の整数である。
　一の態様においては、Ｘ５１は、－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１－で表され、Ｘ５２が－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１’－（Ｙ５１）ｎ５１２’－で表され、ｎ５１２’は１以上の整数である。本態様において、Ｘ５２は、－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１４’－（Ｙ５１）－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１５’－である。
　一の態様において、Ｘ５１が－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１－（Ｙ５１）ｎ５１２－で表され、Ｘ５２が－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１’－で表され、ｎ５１２は１以上の整数である。
　式（Ｘ２）において、Ｘ５３は、２価の有機基であり、
　　－（ＣＲ５０ ２）ｎ５２１－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５２２－
で表される。
　Ｒ５０、ｎ５４、ｎ５５およびＹ５１は、それぞれ上記と同意義である。
　ｎ５２１は、１～１０の整数であり、好ましくは、１～５の整数である。
　ｎ５２２は、１～１０の整数であり、好ましくは、１～５の整数である。
　ｎ５２１またはｎ５２２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ｎ５２１およびｎ５２２の合計は１以上である。
　式（Ｘ２）は、好ましくは、－（ＣＲ５０ ２）ｎ５２４－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）－（ＣＲ５０ ２）ｎ５２５－で表される。
　ｎ５２４は０～１０の整数、ｎ５２５は０～１０の整数、より好ましくは、ｎ５２４は０～５の整数、ｎ５２５は０～５の整数である。ｎ５２４とｎ５２５との合計はｎ５２１に相当する。
　一の態様において、式（Ｘ２）は、－（ＣＲ５０ ２）ｎ５２４－（Ｙ５１）－（ＣＲ５０ ２）ｎ５２５－で表される。ｎ５２４、Ｒ５０、およびＹ５１はそれぞれ上記と同意義である。ｎ５２５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数である。例えば、ｎ５２４は０であり、ｎ５２５は１～５の整数であり、具体的には、ｎ５２４は０であり、ｎ５２５は１～３の整数である。
　一の態様において、－Ｘ５３－は、－Ｘ５１－ＣＲ５１＝ＣＲ５２－Ｘ５２－の不飽和基に、例えば、水素、またはハロゲン原子を付加反応したものである。
　一の態様において、Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｘ’）：
　　－ＣＨＲ１３－［（ＣＲ５０’ ２）ｎ５１’－（ＣＲ５１＝ＣＲ５２）ｎ５２－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５３］－　　　　・・・（Ｘ’）
で表される基である。
　Ｒ１３は、－ＯＨ、または－Ｏ－（Ｒ１４－Ｏ）ｎ４－Ｒ１４’で表される。
　Ｒ１４は、それぞれ独立してＣ１－４アルキレン基であり、好ましくは、ＣＨ２、またはＣＨ２ＣＨ２である。
　ｎ４は、それぞれ独立して０～１００の整数であり、好ましくは、１～５０の整数であより好ましくは、１～４０の整数であり、さらに好ましくは、１～１０の整数である。
　Ｒ１４’は、それぞれ独立してＣ１－４アルキル基であり、好ましくは、Ｃ１－２アルキル基である。
　Ｒ５０’は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、またはＣ１－４アルキル基であり、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、またはＣ１－４アルキル基であり、より好ましくは水素原子である。
　Ｒ５１、Ｒ５２、Ｙ５１、ｎ５２、およびｎ５３は、それぞれ上記と同意義である。
　ｎ５１’は、０～１０の整数であり、好ましくは０～５の整数である。ＣＨＲ１３の個数とＣＲ５０’ ２の個数との合計、言い換えると、１＋ｎ５１’が、式（Ｘ）におけるｎ５１に対応する。
　ｎ５１’、ｎ５２またはｎ５３を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式（Ｘ’）における－［（ＣＲ５０’ ２）ｎ５１’－（ＣＲ５１＝ＣＲ５２）ｎ５２－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５３］－で表される構造内において任意である。
　一の態様において、Ｘ１は、
　－ＣＨＲ１３－［（ＣＲ５０’ ２）ｎ５１６－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５３－（ＣＲ５０’ ２）ｎ５１６’］－
で表される。
　Ｒ１３、Ｒ５０’、Ｙ５１、ｎ５４、ｎ５５およびｎ５３は上記と同意義である。ｎ５１６は、０～１０の整数であり、好ましくは０～５の整数であり、ｎ５１６’は、０～１０の整数であり、好ましくは０～５の整数である。ｎ５１６とｎ５１６’との合計はｎ５１’に相当する。
　一の態様において、ｎ５１６およびｎ５１６’は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｎ５３は０である。言い換えると、Ｘ１は－ＣＨＲ１３－（ＣＲ５０’ ２）ｎ５１’－で表される。一の態様において、ｎ５１６およびｎ５１６’は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり、好ましくは１～５の整数である。
　一の態様において、Ｘ１は、
　－ＣＨＲ１３－［（ＣＲ５０’ ２）ｎ５１’－（ＣＲ５１＝ＣＲ５２）ｎ５２］－
で表される。
　Ｒ１３、Ｒ５０’、Ｒ５１、Ｒ５２、ｎ５１’、およびｎ５２は上記と同意義である。
　特に限定されないが、Ｘ１としては、例えば以下のような構造を挙げることができる。
　－（ＣＨ２）ｘ１－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＨ２）ｘ２－（ｘ１は０～１０の整数、ｘ２は０～１０の整数、ただし、ｘ１とｘ２との合計は０～１０の整数であり、好ましくは、ｘ１は０～４の整数、ｘ２は０～４の整数、例えば、ｘ１は０かつｘ２は０、ｘ１は１～４の整数かつｘ２は０、ｘ１は０かつｘ２は１～４の整数、または、ｘ１は１～４の整数かつｘ２は１～４の整数）、
　－（ＣＨ２）ｘ１－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＨ２）ｘ２－Ｐｈ－（ＣＨ２）ｘ３－（Ｐｈはフェニレン基、ｘ１は０～１０の整数、ｘ２は０～１０の整数、ｘ３は０～１０の整数、ただし、ｘ１、ｘ２およびｘ３の合計は、０～１０の整数であり、好ましくは、ｘ１は１～３の整数、ｘ２は０～５の整数、ｘ３は０～５の整数、例えば、ｘ１は１、ｘ２は０、ｘ３は０、別の例ではｘ１は１、ｘ２は０、ｘ３は１）、
　－ＣＨＲ１３－（ＣＨ２）ｘ１－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＨ２）ｘ２－（Ｒ１３は、－（ＯＣＨ２）ｘ１１－ＣＨ３、または、－（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｘ１１－ＣＨ３であり、ｘ１１は１～１００の整数、ｘ１は０～９の整数、ｘ２は０～１０の整数、ただし、ｘ１およびｘ２の合計は０～１０の整数であり、好ましくは、ｘ１は０～４の整数、ｘ２は０～４の整数、例えば、ｘ１は０かつｘ２は０、ｘ１は１～４の整数かつｘ２は０、ｘ１は０かつｘ２は１～４の整数、または、ｘ１は１～４の整数かつｘ２は１～４の整数）
　－ＣＨＲ１３－（ＣＨ２）ｘ１－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＨ２）ｘ２－Ｐｈ－（ＣＨ２）ｘ３－（Ｒ１３は、－（ＯＣＨ２）ｘ１１－ＣＨ３、または、－（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｘ１１－ＣＨ３であり、ｘ１１は１～１０の整数；Ｐｈはフェニレン基；ｘ１は０～１０の整数、ｘ２は０～１０の整数、ｘ３は０～１０の整数、好ましくは、ｘ１は１～３の整数、ｘ２は０～５の整数、ｘ３は０～５の整数、ただし、ｘ１、ｘ２およびｘ３の合計は０～１０の整数である。例えば、ｘ１は１、ｘ２は０、ｘ３は０、別の例ではｘ１は１、ｘ２は０、ｘ３は１）、
　－（ＣＨ２）ｘ－（ｘは１～１０の整数、好ましくは、ｘは１～４の整数）、
　－（ＣＨ２）ｘ１－Ｏ－（ＣＨ２）ｘ２－（ｘ１は０～１０の整数、ｘ２は０～１０の整数、ただし、ｘ１およびｘ２の合計は、０～１０の整数、例えば、ｘ１は０、ｘ２は０、別の例ではｘ１は０、ｘ２は１）、
　－（ＣＨ２）ｘ１－Ｐｈ－（ＣＨ２）ｘ２－（Ｐｈはフェニレン基；ｘ１は０～１０の整数、ｘ２は０～１０の整数、ただし、ｘ１およびｘ２の合計は０～１０の整数、好ましくは、ｘ１は０～５の整数、ｘ２は０～５の整数、例えば、ｘ１は０～３の整数、ｘ２は０、別の例ではｘ１は０～３の整数、ｘ２は１）、
　－ＣＨＲ１３－（ＣＨ２）ｘ－（ｘは０～１０の整数、好ましくは、ｘは１～４の整数）、
　－ＣＨＲ１３－（ＣＨ２）ｘ１－Ｏ－（ＣＨ２）ｘ２－（ｘ１は０～１０の整数、ｘ２は０～１０の整数、ただし、ｘ１およびｘ２の合計は０～１０の整数、好ましくは、ｘ１は０～５の整数、ｘ２は０～５の整数、例えば、ｘ１は１、ｘ２は１）、
　－ＣＨＲ１３－（ＣＨ２）ｘ１－Ｐｈ－－（ＣＨ２）ｘ２－（Ｐｈはフェニレン基；ｘ１は０～１０の整数、ｘ２は０～１０の整数、ただし、ｘ１およびｘ２の合計は０～１０の整数、好ましくは、ｘ１は０～５の整数、ｘ２は０～５の整数、例えば、ｘ１は０～３の整数、ｘ２は０、別の例ではｘ１は０～３の整数、ｘ２は１）。
　－ＣＨＲ１３－（ＣＨ２）ｘ１－ＣＯＮＲ１５－（ＣＨ２）ｘ２－（Ｒ１５は水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基またはＣ３－１０シクロアルキル基であり、好ましくは水素原子であり；ｘ１は０～１０の整数、ｘ２は０～１０の整数、ただし、ｘ１およびｘ２の合計は０～１０の整数、好ましくは、ｘ１は０～５の整数、ｘ２は０～５の整数、例えば、ｘ１は０～３の整数、ｘ２は０、別の例ではｘ１は０～３の整数、ｘ２は１～２の整数、別の例ではｘ１は０、ｘ２は１～２の整数）。
　－（ＣＨ２）ｘ１－ＣＯＮＲ１５－（ＣＨ２）ｘ２－（Ｒ１５は水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基またはＣ３－１０シクロアルキル基であり、好ましくは水素原子であり；ｘ１は０～１０の整数、ｘ２は０～１０の整数、ただし、ｘ１およびｘ２の合計は０～１０の整数、好ましくは、ｘ１は０～５の整数、ｘ２は０～５の整数、例えば、ｘ１は０～３の整数、ｘ２は０、別の例ではｘ１は０～３の整数、ｘ２は１～２の整数、別の例ではｘ１は０、ｘ２は１～２の整数）。
　ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、以下の式（Ｓ１）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　式（Ｓ１）において、Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基である。
　好ましい態様において、Ｘ３は、２価の有機基である。
　Ｘ３は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ１１－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ１２－または、－（ＣＨ２）ｚ１３－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ１４－である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。
　上記ｚ１１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、上記ｚ１２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である。好ましくは、ｚ１１とｚ１２との合計は１以上である。
　上記ｚ１３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、上記ｚ１４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である。好ましくは、ｚ１３とｚ１４との合計は１以上である。
　Ｘ３は、より好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基であり、例えば、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｘ３は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。
　Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。
　Ｒｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｈ、－ＯＣＯＲｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｈ ２、－ＮＲｈ ２、－ＮＨＲｈ、－ＮＣＯ、またはハロゲン（これら式中、Ｒｈは、置換または非置換のＣ１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｈは、エチル基である。
　Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。
　Ｒｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
　ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、式（Ａ１）および（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｌ１は１である。言い換えると、ＲＳｉにおいて、式（Ａ１）および（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのＲｂ１が存在する。
　ｌ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり、より好ましくは、２または３、さらに好ましくは３である。
　好ましくは、式（Ｓ１）で表される基毎に、少なくとも１つのＲｂ１が存在する。言い換えると、ＲＳｉが式（Ｓ１）で表される場合、式（Ａ１）および式（Ａ２）の末端のＲＳｉ部分（以下、単に式（Ａ１）および式（Ａ２）の「末端部分」ともいう）において、水酸基または加水分解可能な基が結合したＳｉ原子が存在する。
　好ましくは、式（Ａ１）の末端部分および式（Ａ２）の末端部分において、Ｒｂ１が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。
　Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ベンジル基、メトキシフェニル基、ベンゾイル基、トリチル基、－ＳｉＲ７１ ３、または－（Ｒ７２－Ｏ）ｎ７－Ｒ７３である。
　－ＣＲＳｉ２（ＯＲ１１）で表される基を有することにより、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む組成物の基材に対する濡れ広がり性が良好になり得る。該組成物を用いて形成された層（例えば表面処理層）の耐摩耗性が良好になり得る。
　Ｒ７１は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基であり、例えばメチル基である。－ＳｉＲ７１ ３で表される基は、例えば、トリメチルシリル基である。
　Ｒ７２は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、好ましくはＣ１－２アルキレン基であり、例えば、－ＣＨ２ＣＨ２－、または－ＣＨ２－である。
　ｎ７は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり、好ましくは１～６の整数である。
　Ｒ７３は、それぞれ独立して、水素原子、または環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である。
　環構造を含む１価の炭化水素基としては、芳香環を有する１価の基、シクロアルキル基、またはヘテロシクロアルキル基を含む１価の炭化水素基を挙げることができる。
　芳香環を有する１価の基としては、例えば、フェニル基を挙げることができる。
　シクロアルキル基としては、例えば、Ｃ３－１０シクロアルキル基、具体的には、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基を挙げることができる。
　ヘテロシクロアルキル基としては、例えば、酸素原子を含んだシクロアルキル基を挙げることができる。
　環構造を含む１価の炭化水素基としては、例えば以下のような構造を挙げることができる。なお、以下において＊を付した箇所において－（Ｒ７２－Ｏ）ｎ７－の右側と結合する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　Ｒ７３は、好ましくは、水素原子、またはＣ１－４アルキル基である。
　Ｒ７３は、好ましくは、Ｃ１－４アルキル基であり、より好ましくは、Ｃ１－２アルキル基である。
　好ましくは、Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または－（Ｒ７２－Ｏ）ｎ７－Ｒ７３で表される。Ｒ７２、ｎ７およびＲ７３は、それぞれ上記と同意義である。
　より好ましくは、Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２Ｏ－Ｒ１１’で表される。Ｒ１１’は、水素原子、または１価の有機基である。
　好ましくは、Ｒ１１’は、水素原子、または－（Ｒ７２－Ｏ）ｎ７’－Ｒ７３で表される。Ｒ７２、およびＲ７３は、それぞれ上記と同意義である。ｎ７’は、０～９の整数であり、好ましくは、０～５の整数である。
　一の態様において、Ｒ１１’は水素原子である。一の態様において、Ｒ１１’は－（Ｒ７２－Ｏ）ｎ７’－Ｒ７３で表される基である。一の態様において、Ｒ１１’は－（Ｒ７２－Ｏ）ｎ７’－Ｒ７３で表される基であり、ｎ７’は０である。
（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の製造方法）
　一態様として、特に限定されないが、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の製造に適した方法を以下に記載する。
　一の態様において、本開示の式（Ａ１）または（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、
　式（ａ２７）または式（ａ２８）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 で表される化合物と、ＨＳｉＭ３（式中、Ｍは、それぞれ独立して、ハロゲン原子（即ち、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ）、またはＣ１－６アルコキシ基であり、好ましくはハロゲン原子、より好ましくはＣｌ）、所望により、Ｒｂ１Ｌ’（Ｒｂ１は上記と同意義であり、Ｌ’はＲｂ１と結合可能な基を表す）で表される化合物、および／または、Ｒｃ１Ｌ”（Ｒｃ１は上記と同意義であり、Ｌ”はＲｃ１と結合可能な基を表す）で表される化合物とを反応させる工程を含む方法により製造し得る。
　上記工程（Ｉ－１）は、適切な触媒の存在下、適切な溶媒中で行われることが好ましい。
　適切な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が挙げられる。かかる触媒は任意の形態、例えば錯体の形態であってもよい。
　適切な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン、ヘキサフルオロベンゼン等が挙げられる。
　かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、０～１００℃、好ましくは５０～８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０～６００分、好ましくは１２０～３００分であり、反応圧力は、特に限定されないが、－０．２～１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
　式（ａ２７）または式（ａ２８）において、ＲＦ１、ＲＦ２は、それぞれ上記と同意義である。
　式（ａ２７）または式（ａ２８）において、－Ｘ６－は、－Ｘ１－に対応する。
　好ましくは、式（ａ２７）または式（ａ２８）において、－Ｘ６－は、各出現においてそれぞれ独立して、
　　－Ｘ６１－ＣＲ６１＝ＣＲ６２－Ｘ６２－、または
　　－Ｘ６３－
で表される。
　Ｘ６１は、単結合、または２価の有機基であり、
　Ｘ６２は、単結合、または２価の有機基であり、
　Ｒ６１は、水素原子、または１価の有機基であり、
　Ｒ６２は、水素原子、または１価の有機基であり、
　それぞれ、Ｘ５１、Ｘ５２、Ｒ５１、Ｒ５２に対応する。
　Ｘ６１は、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２－で表され得、
　Ｘ６２は、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１’－（（ＣＨ２）ｎ６１４’－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３’）ｎ６１２’－で表され得、
　ｎ６１１はｎ５１１に、ｎ６１２はｎ５１２に、ｎ６１３はｎ５４に、ｎ６１４はｎ５５に、ｎ６１１’はｎ５１１’に、ｎ６１２’はｎ５１２’に、ｎ６１３’はｎ５４に、ｎ６１４’はｎ５５に、それぞれ対応する。ｎ６１１またはｎ６１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ｎ６１１’またはｎ６１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。Ｒ６０はＲ５０に、Ｙ６１はＹ５１に、それぞれ対応する。
　Ｘ６３は、２価の有機基であり、Ｘ５３に対応する。
　Ｘ６３は、それぞれ独立して、
　－（ＣＲ６０ ２）ｎ６２１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６２２－
で表され得る。
　ｎ６２１はｎ５２１に、ｎ６２２はｎ５２２に、ｎ６１３はｎ５４に、ｎ６１４はｎ５５に、それぞれ対応し；
　ｎ６２１またはｎ６２２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
　一の態様において、－Ｘ６３－は、－Ｘ６１－ＣＲ６１＝ＣＲ６２－Ｘ６２－の不飽和基に、例えば、水素、またはハロゲン原子を付加反応したものである。なお、この付加反応は、通常行われる条件で行い得る。
　Ｚ２３は、それぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。式（ａ２７）または（ａ２８）におけるＺ２３－ＣＨ＝ＣＨ２は、式（Ｓ１）のＸ３に対応する。
　Ｒ６５は、水素原子、または１価の有機基である。一の態様において、Ｒ６５は、水素原子である。一の態様において、Ｒ６５は、１価の有機基である。
　一の態様において、Ｒ６５は、式（Ａ１）および（Ａ２）におけるＲ１１に対応する。
　式（ａ２７）または（ａ２８）で表される化合物は、式（ａ２３）、または式（ａ２４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 で表される化合物と、Ｈａｌ－Ｊ－Ｚ２３－ＣＨ＝ＣＨ２とを反応させて、式（ａ２５）または式（ａ２６）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 で表される化合物を得る工程（工程（Ｉ－２））
を含む方法により製造し得る。
　式（ａ２３）、（ａ２４）、（ａ２５）および（ａ２６）において、ＲＦ１、ＲＦ２、Ｘ６、Ｚ２３は、それぞれ、上記と同意義である。
　Ｒ６３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり、好ましくは、水素原子またはＣ１－４アルキル基である。
　Ｈａｌはハロゲン原子を表し、ＪはＭｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表す。
　なお、式（ａ２７）または（ａ２８）においてＲ６５が１価の有機基である場合、式（ａ２７）または（ａ２８）で表される化合物は、式（ａ２５）または（ａ２６）で表される化合物と、例えば、Ｒ６５－Ｙ６２で表される化合物とを反応させて得ることができる。ここで、Ｙ６２はＲ６５と結合可能な基である。上記反応は通常行い得る手法を用いて行うことができる。例えば、ヒューニッヒ塩基の存在下で反応させることができる。
　式（ａ２３）または式（ａ２４）で表される化合物は、
　式（ａ１１）または式（ａ１２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 で表される化合物と、式（ａ１３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 で表される化合物とを反応させて、式（ａ２１）または式（ａ２２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 で表される化合物を得る工程（工程（Ｉ－３））
を含む方法により製造し得る。式（ａ２１）または式（ａ２２）における－Ｘ６１－ＣＲ６１＝ＣＲ６２－Ｘ６２－で表される基が、式（ａ２３）または式（ａ２４）における－Ｘ６－に対応する。
　工程（Ｉ－３）は、オレフィンメタセシス反応活性を有する金属－カルベン錯体の存在下で行い得る。
　金属－カルベン錯体としては、Ｇｒｕｂｂｓ第二世代触媒等の第二世代以上の高活性なＧｒｕｂｂｓ触媒を用いる。
　Ｇｒｕｂｂｓ第二世代触媒としては、Ｈｏｖｅｙｄａ－Ｇｒｕｂｂｕｓ　２　ｎｄ　ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ　ｃａｔａｌｙｓｔ、Ｐｉｅｒｓ　ｓｅｃｏｎｄ　ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ　ｍｅｔａｔｈｅｓｉｓ　ｃａｔａｌｙｓｔ、ｎｉｔｒｏ－Ｇｒｅｌａ、ＵｌｔｒａＣａｔ、ＡｑｕａＭｅｔ，ＵｌｔｒａＮｉｔｒｏＣａｔを挙げることができる。
　上記工程（Ｉ－３）は、適切な溶媒中で行われることが好ましい。
　適切な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではない。例えば、ＨＣＦＣ－２２５（例えば、ＡＧＣ株式会社製のアサヒクリンＡＫ－２２５）、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン（ｍＸＨＦ）、１，１－ジクロロ－２，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－１，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１，２－トリクロロ―３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテン、１，３－ビストリフルオロメトキシベンゼン、エチルノナフルオロブチルエーテル、エチルノナフルオロイソブチルエーテル、メチルノナフルオロブチルエーテル、メチルノナフルオロイソブチルエーテル、３－メトキシ－２－（トリフルオロメチル）ペンタン等のフッ素原子含有溶媒；ジクロロプロパン等のフッ素原子非含有溶媒等を挙げることができ、フッ素原子含有溶媒とフッ素原子非含有溶媒との双方を用いてもよい。
　かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、例えば、０～１００℃で行い得、室温（例えば２０～３０℃）で行い得る。反応時間は、特に限定されないが、通常、６０～６００分、好ましくは１２０～３００分であり、反応圧力は、特に限定されないが、－０．２～１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
　式（ａ１１）、（ａ１２）、（ａ２１）および（ａ２２）において、ＲＦ１、ＲＦ２、Ｘ６１、Ｘ６２、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３は、それぞれ上記と同意義である。
　一の態様において、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、
　式（ａ３１）または式（ａ３２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 で表される化合物と、以下の式（ａ３３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 で表される化合物とを反応させて、式（ａ２１）または式（ａ２２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 で表される化合物を得る工程（工程（ＩＩ－１））
を含む方法により製造し得る。なお、ＰＰｈ３は、トリフェニルホスフィン、即ち、－Ｐ（Ｃ６Ｈ５）３を意味する。
　式（ａ３１）または式（ａ３２）で表される化合物は、例えば、以下の式（ａ３０） または（ａ３０’）を触媒存在下で還元して得ることができる。Ｒ６４、およびＲ６４’は、例えば、それぞれ独立して、Ｃ１－１０アルキル基、または、互いに結合して形成された環構造を有する基であって、該環構造として５～１０員のヘテロ環を有する基、もしくは、互いに結合して形成された縮合環を有する基であって、該縮合環として５～１０員のヘテロ環、および、該ヘテロ環以外の３～１０員環を含む基である。ＲＦ１、ＲＦ２、Ｘ６１はそれぞれ上記と同意義である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
　上記工程は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行われ得る。適当な触媒としては、特に限定されないが、例えば、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アルミニウムリチウム（ＬＡＨ）等を挙げることができる。適当な溶媒としては、特に限定されないが、例えば、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００等のフッ素系溶媒；ＴＨＦ、ジエチルエーテル等の非フッ素系溶媒等；または、これらのうち２種類以上を含む混合溶媒を挙げることができる。上記溶媒は、２種類以上を組み合わせて用いることが好ましい。
　上記工程は、特に限定されないが、例えば、－７８～２００℃で行い得る。上記工程における反応時間は、特に限定されないが、例えば、０．１～１６８時間であってもよい。上記工程における反応圧力は、特に限定されないが、例えば、０～１００ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
　式（ａ３０）、（ａ３０’）、（ａ３１）、（ａ３２）、（ａ３３）、（ａ２１）および（ａ２２）において、ＲＦ１、ＲＦ２は、それぞれ上記と同意義である。
　Ｘ６１、Ｘ６２、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３は、それぞれ上記と同意義である。
　工程（ＩＩ－１）、上記の工程（Ｉ－２）、および工程（Ｉ－１）を経て、本開示の式（Ａ１）または（Ａ２）で表される化合物を形成できる。
　本開示は、さらに、以下の構造を有する化合物を提供する。これらの化合物は、上記製造方法において、中間体として得られる化合物である。これらの化合物を経ることにより、式（Ａ１）または（Ａ２）で表される化合物の合成が容易になる。
　式（ａ２３）または式（ａ２４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物。
　式（ａ２３）または式（ａ２４）において、ＲＦ１、ＲＦ２、Ｒ６３、Ｘ６は、それぞれ上記と同意義である。
　式（ａ２７）または式（ａ２８）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物。
　式（ａ２７）または式（ａ２８）において、ＲＦ１、ＲＦ２、Ｘ６、Ｒ６５、Ｚ２３は、それぞれ上記と同意義である。
　特に限定されないが、式（ａ２３）、（ａ２４）、（ａ２７）、または（ａ２８）で表される化合物におけるＸ６としては、Ｘ１として記載した構造を挙げることができる。
（表面処理剤）
　上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、表面処理剤として用いることができる。
　本開示の表面処理剤は、良好な紫外線耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、耐ケミカル性、耐加水分解性、滑り性の抑制効果、高い摩擦耐久性、耐熱性、防湿性等を有する表面処理層の形成に寄与し得る。
　一の態様において、表面処理剤は、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する。
　一の態様において、表面処理剤は、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、および、該フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１つを含有する。ここで、縮合物とは、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の水酸基、および／または、加水分解可能な基を予め公知の方法により部分的に加水分解した水酸基を縮合させて得られる部分（加水分解）縮合物である。
　表面処理剤には、必要に応じて、加水分解縮合触媒、例えば、有機錫化合物（ジブチル錫ジメトキシド、ジラウリン酸ジブチル錫など）、有機チタン化合物（テトラｎ－ブチルチタネートなど）、有機酸（酢酸、メタンスルホン酸、フッ素変性カルボン酸など）、無機酸（塩酸、硫酸など）を添加してもよい。これらの中では、特に酢酸、テトラｎ－ブチルチタネート、ジラウリン酸ジブチル錫、フッ素変性カルボン酸などが望ましい。
　加水分解縮合触媒の添加量は触媒量であり、通常、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び／又はその部分（加水分解）縮合物１００質量部に対して０．０１～５質量部、特に０．１～１質量部である。
　別の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む。本態様の組成物（例えば、表面処理剤）は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。本態様の組成物を用いて形成される硬化層の摩擦耐久性が良好になり、硬化層の表面における滑り性が良好になる。また、本態様の組成物では、ＲＦ部分の二次構造がらせん構造をとりやすく、単位面積当たりのポリマー密度やシランカップリング剤の架橋密度が大きくなるため、硬化層の強度が高くなると考えられる。
　一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは、０．７０、より好ましくは０．６０、より好ましくは０．５０、さらに好ましくは０．４０、さらにより好ましくは０．３０、例えば０．２０、具体的には０．１０であり得る。式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）は、０．００１以上０．７０以下であってもよく、０．００１以上０．６０以下であってもよく、０．００１以上０．５０以下であってもよく、０．００２以上０．４０以下であってもよく、０．００５以上０．３０以下であってもよく、０．０１以上０．２０以下であってもよく、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）または０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。
　一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは、０．７０、より好ましくは０．６０、より好ましくは０．５０、さらに好ましくは０．４０、さらにより好ましくは０．３０、例えば、０．２０、具体的には０．１０であり得る。式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計に対する、式（Ａ１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）は、０．００１以上０．７０以下であってもよく、０．００１以上０．６０以下であってもよく、０．００１以上０．５０以下であってもよく、０．００２以上０．４０以下であってもよく、０．００５以上０．３０以下であってもよく、０．０１以上０．２０以下であってもよく、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）または０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。
　上記表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば：
　パーフルオロヘキサン、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨＣｌ２、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＣＦ３ＣＨＦＣＨＦＣ２Ｆ５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ＝ＣＨ２、Ｃ６Ｆ１３ＯＣＨ３、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２Ｏ）ｎ１ＣＦ２ＣＦ３［式中、ｍ１およびｎ１は、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍ１またはｎ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍ１およびｎ１の和は１以上である。］、１，1－ジクロロ－２，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－１，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１，２－トリクロロ―３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，１，１，４，４，４－ヘキサフルオロ－２－ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。
　上記溶媒中に含まれる水分含有量は、２０質量ｐｐｍ以下であることが好ましい。上記水分含有量は、カールフィッシャー法を用いて測定することができる。このような水分含有量であることによって、表面処理剤の保存安定性が向上し得る。
　上記表面処理剤は、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、低級アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などが挙げられる。
　上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（１）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
　Ｒｆ５－（ＯＣ４Ｆ８）ａ’－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’－（ＯＣＦ２）ｄ’－Ｒｆ６　　　・・・（１）
　式中、Ｒｆ５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ５およびＲｆ６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１－３パーフルオロアルキル基である。
　ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。上記繰り返し単位中に少なくとも１の分岐構造を有する。すなわち、上記繰り返し単位は、少なくとも１のＣＦ３末端（具体的には、－ＣＦ３、－Ｃ２Ｆ５等、より具体的には－ＣＦ３）を有する。分岐構造を有する繰り返し単位としては、－（ＯＣ４Ｆ８）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－；－（ＯＣ３Ｆ６）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－；－（ＯＣ２Ｆ４）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－を挙げることができる。
　上記一般式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（１ａ）および（１ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
　Ｒｆ５－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｂ’’－Ｒｆ６　　　　　　　　　・・・（１ａ）
　Ｒｆ５－（ＯＣ４Ｆ８）ａ’’－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’’－（ＯＣＦ（ＣＦ３））ｃ’’－（ＯＣＦ２）ｄ’’－Ｒｆ６　　　　　　　・・・（１ｂ）
　これら式中、Ｒｆ５およびＲｆ６は上記の通りであり；式（１ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（１ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。－（ＯＣ４Ｆ８）－、－（ＯＣ３Ｆ６）－は分岐構造を有する。
　上記含フッ素オイルは、１，０００～３０，０００の数平均分子量を有していてよい。特に、式（１ａ）で表される化合物の数平均分子量は、２，０００～８，０００であることが好ましい。かかる数平均分子量を有することにより、良好な摩擦耐久性を得ることができる。一の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、３，０００～８，０００である。別の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、８，０００～３０，０００である。
　上記表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、例えば０～５００質量部、好ましくは０～１００質量部、より好ましくは１～５０質量部、さらに好ましくは１～５質量部で含まれ得る。
　上記表面処理剤中、含フッ素オイルは、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物および含フッ素オイルの合計量に対して、例えば０～３０モル％、好ましくは０～２０モル％、より好ましくは０～１０モル％で含まれ得る。
　また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’－Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ’－Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、ＲｆがＣ１－１６パーフルオロアルキル基である上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。
　含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
　一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ１）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
　一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
　一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
　一の態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物は０．００１～７０モル％、および含フッ素オイルは０．００１～５０モル％含まれることが好ましく、式（Ａ２）で表される化合物は０．０１～６０モル％、および含フッ素オイルは０．０１～４０モル％含まれることがより好ましく、式（Ａ２）で表される化合物は０．１～５０モル％、および含フッ素オイルは０．１～３０モル％含まれることがさらに好ましい。
　一の態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ１）で表される化合物が０．００１～７０モル％、および含フッ素オイルが０．００１～５０モル％含まれることが好ましく、式（Ａ１）で表される化合物が０．０１～６０モル％、および含フッ素オイルが０．０１～４０モル％含まれることがより好ましく、式（Ａ１）で表される化合物が０．１～５０モル％、および含フッ素オイルが０．１～３０モル％含まれることがさらに好ましい。
　上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
　上記表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～５０質量部、好ましくは０～５質量部で含まれ得る。
　シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
　上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
　触媒は、上記含フッ素シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。
　上記他の成分としての低級アルコールとしては、炭素数１～６のアルコール化合物が挙げられる。
　上記遷移金属としては、白金、ルテニウム、ロジウム等が挙げられる。
　上記ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン等が挙げられる。
　上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物しては、ジエチルアミン、トリエチルアミン、アニリン、ピリジン、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルピロリドン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等を挙げられる。これらの化合物の中で、ジメチルスルホキシド、またはテトラメチレンスルホキシドを用いることが好ましい。
　他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
　一の態様において、上記表面処理剤は、上記他の成分である含フッ素オイル、シリコーンオイル、触媒、低級アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物を含まない。
　一の態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物は、例えば、７０モル％以下含まれていてもよく、６０モル％以下含まれていてもよく、５０モル％以下含まれていてもよく、０．００１モル％以上含まれていてもよく、０．０１モル％以上含まれていてもよく、０．１モル%以上含まれていてもよい。式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物は、例えば、１～７０モル％含まれていてもよく、５～５０モル％含まれていてもよい。
　一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
　本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、含フッ素オイルは、例えば、０．００１モル％以上含まれていてもよく、０．０１モル％以上含まれていてもよく、１．０モル％以上含まれていてもよく、５０モル％以下含まれていてもよく、４０モル％以下含まれていてもよく、３０モル％以下含まれていてもよく、１０モル％以下含まれていてもよい。式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、含フッ素オイルは、例えば、０．００１～５０モル％含まれていてもよく、０．０１～４０モル％含まれていてもよい。
　本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルの合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物が０．００１～７０モル％、および含フッ素オイルが０．００１～５０モル％含まれることが好ましく、式（Ａ２）で表される化合物が０．０１～６０モル％、および含フッ素オイルが０．０１～４０モル％含まれることがより好ましく、式（Ａ２）で表される化合物が０．１～５０モル％、および含フッ素オイルが０．１～３０モル％含まれることがさらに好ましい。
　本態様の組成物（例えば、表面処理剤）は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。さらに、本態様の組成物を用いて形成される硬化層の摩擦耐久性が良好になり、硬化層の表面における滑り性が良好になる。また、本態様の組成物では、ＲＦ部分の二次構造がらせん構造をとりやすく、単位面積当たりのポリマー密度やシランカップリング剤の架橋密度が大きくなるため、硬化層の強度が高くなると考えられる。
　一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
　本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、および式（Ａ２）で表される化合物の合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物が、０．００１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、０．１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、例えば、１０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよい。
　一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
　本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、および式（Ａ２）で表される化合物の合計に対して、式（Ａ１）で表される化合物が、０．００１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、０．１モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、１０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよく、例えば、２０モル％以上５０モル％未満、３０モル％以上５０モル％未満含まれていてもよい。
　一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（Ａ１）で表される化合物、式（Ａ２）で表される化合物、および含フッ素オイルを含む。
　本態様において、式（Ａ１）で表される化合物、および式（Ａ２）で表される化合物の合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物が、３５モル％以上６５モル％未満含まれていてもよく、４０モル％以上６０モル％未満含まれていてもよい。
　一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含み、上記他の成分である、含フッ素オイルを含まない（例えば、含フッ素オイルの含有量が、表面処理剤１００質量部に対して、１質量部以下であり、より具体的には、０質量部である）。
　本開示の組成物は、基材の表面処理を行う表面処理剤として用いることができる。
　本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
（物品）
　以下、本開示の物品について説明する。
　本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物またはフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤（以下、これらを代表して単に「本開示の表面処理剤」という）から形成された層（表面処理層）とを含む。
　本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。
　例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
　基材の形状は特に限定されない。また、本開示の表面処理剤によって形成された層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
　かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
　またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
　次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。
　本開示の表面処理剤の層形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
　湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
　乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。
　更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
　湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５～１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、ＡＧＣ株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、ＡＧＣ株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）が特に好ましい。
　乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
　表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
　触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
　上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
　すなわち本開示はさらに、本開示の表面処理剤に由来する層を最外層に有する光学材料にも関する。
　光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
　本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。
　また、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車内外装部材であってもよい。外装材の例には、次のものが挙げられる：ウィンドウ、ライトカバー、社外カメラカバー。内装材の例には、次のものが挙げられる：インパネカバー、ナビゲーションシステムタッチパネル、加飾内装材。
　また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
　上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
　以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。
　以下、実施例を通じてより具体的に説明するが、本開示はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示し、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位の存在順序は任意である。
（実施例１）
　ＣＦ３Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－（ＣＦ２Ｏ）ｍ－ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ＝２２，ｍ＝２２）で示される末端アリル化合物　４ｇ，　１．０ｍｍｏｌをＡＫ－２２５　８．０ｍＬに溶解後、ブテン酸メチル　０．５ｇ、グラブス触媒（第二世代）４２ｍｇを添加した。室温で一晩撹拌後、クロロホルムで洗浄後、濃縮乾固した。濃縮乾固で得られた組成物をシリカゲルカラムで精製することで、化合物１－１を２．１ｇ得た。
（化合物１－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 3.05-3.21 (m, 2 H), 3.30-3.45 (m, 2 H), 3.96 (s, 3 H), 5.80-5.90 (m, 1 H), 6.20-6.25 (m, 1 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.0, -55.7, -56.6, -57.5, -58.0, -58.5, -60.0, -72.5, -74.7, -83.7, -86.0, -87.7, -91.5, -93.0.
　化合物１－１　２．１ｇを２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール　１０．０ｍＬに溶解した後、パラジウム活性炭素０．５ｇをギ酸　３．０ｍＬ、水　１．０ｍＬに懸濁したものを添加し、室温で一晩撹拌した。続いて、セライトろ過した後、濃縮乾固し、シリカゲルカラムで精製することで、化合物１－２を１．７３ｇ得た。
（化合物１－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.90-2.10 (m, 2 H), 2.30-2.50 (m, 2 H), 2.57-2.62 (m, 2 H), 3.97 (s, 3 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.2, -55.8, -56.4, -57.5, -58.3, 60.0, -72.4, -74.5, -83.5, -87.4, -91.4, -92.8, -93.2.
　化合物１－２　１．７２ｇをＨＦＥ７２００　５．０ｍＬに溶解し、０℃にまで冷却した後、アリルマグネシウムブロミド（約１３％エチルエーテル溶液，約０．７ｍｏｌ／Ｌ）　１．８４ｍＬを滴下した。滴下後、翌朝まで撹拌した。続いて、反応溶液に塩酸を加えて撹拌後、塩酸相を分液で除去し、水で洗浄した。続いて、アセトンで洗浄し、濃縮乾固後、シリカゲルカラムで精製することで、化合物１－３を１．０９ｇ得た。
（化合物１－３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.50-2.00 (m, 6 H), 2.30-2.60 (m, 7 H), 5.30-5.50 (m, 4 H), 6.10-6.27 (m, 2 H).
　化合物１－３　０．５３ｇをＡＫ－２２５　５．０ｍＬに溶解後、ヒューニッヒ塩基　０．１６ｍＬを添加した。続いて、メトキシエトキシメチルクロライド　７５．０μｌを添加し、３５℃で４日間撹拌した。続いて、メタノール、アセトンで洗浄し、濃縮乾固することで、化合物１－４を０．５４ｇ得た。
（化合物１－４） 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.80-2.00 (m, 6 H), 2.40-2.55 (m, 2 H), 2.60-2.70 (m, 4 H), 3.65 (s, 3 H), 3.80-3.90 (m, 2 H), 4.05-4.10 (m, 2 H), 5.14 (s, 2 H), 5.30-5.45 (m, 4 H), 6.10-6.25 (m, 2 H).
　化合物１－４　０．５６ｇをＨＦＥ７２００　１．５ｍＬに溶解後、カールシュテット触媒　４０．０μｌ、アニリン　６．０μｌを順に添加した。室温で３０分撹拌後、トリメトキシシラン　０．２ｍＬを添加し、室温で３時間撹拌した。濾過した後、濃縮乾固することで、化合物１－５を　０．５６ｇ得た。
（化合物１－５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.95-1.10 (m, 4 H), 1.85-2.10 (m, 14 H), 2.40-2.60 (m, 2 H), 3.66 (s, 3 H), 3.85-4.15 (m, 22 H), 5.11 (s, 2 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -53.9, -54.2, -55.8, -56.2, -57.5, -58.2, -58.5, -60.0, -72.3, -75.3, -83.5, -86.0, -87.5, -91.1, -92.8, -93.1.
（実施例２）
　化合物１－３　０．５０７ｇをＡＫ－２２５　５．０ｍＬに溶解後、ヒューニッヒ塩基　０．３０４ｍＬを添加した。続いて、メトキシメチルクロライド　８０．０μｌを添加し、３５℃で５日間撹拌した。続いて、メタノール、アセトン、クロロホルムで洗浄した。濃縮乾固後、シリカゲルカラムで精製することで、化合物２－１を０．５１ｇ得た。
（化合物２－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.80-2.00 (m, 6 H), 2.40-2.50 (m, 2 H), 2.65-2.70 (m, 4 H), 3.69 (s, 3 H), 5.05 (s, 2 H), 5.30-5.45 (m, 4 H), 6.15-6.25 (m, 2 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -53.9, -54.2, -55.7, -56.5, -57.5, -58.3, -58.5, -60.0, -72.3, -74.5, -83.5, -86.0, -87.7, -91.1, -93.1.
　化合物２－１　０．５８ｇをＨＦＥ７２００　２．０ｍＬに溶解後、カールシュテット触媒　４０．０μｌ、アニリン　７．０μｌを添加した。室温で３０分撹拌後、トリメトキシシラン　０．２ｍＬ，　１．５７ｍｍｏｌを添加し、室温で２．５時間撹拌した。濾過した後、濃縮乾固することで、化合物２－２を０．５９ｇ得た。
（化合物２－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.95-1.10 (m, 4 H), 1.85-2.10 (m, 8 H), 1.70-2.10 (m, 14 H), 2.40-2.60 (m, 2 H), 3.70 (s, 3 H), 3.85-4.20 (s, 18 H), 5.01 (s, 2 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -53.9, -54.2, -55.8, -57.5, -58.2, -58.3, -60.0, -72.3, -74.4, -83.5, -86.0, -87.7, -91.1, -92.8, -93.3.
（実施例３）
　ＣＦ３Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－（ＣＦ２Ｏ）ｍ－ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ＝２２，ｍ＝２２）で示される末端アリル化合物　２ｇをＡＫ－２２５　３．０ｍＬに溶解後、エチルアクリレート　０．５４４ｍＬ、グラブス触媒（第二世代）　２１ｍｇを添加した。室温で一晩撹拌後、クロロホルムで洗浄し、濃縮乾固した。シリカゲルカラムで精製することで、化合物３－１を１．８６ｇ得た。
（化合物３－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.60 (t, 3 H), 3.15-3.35 (m, 2 H), 4.40-4.52 (m, 2 H), 6.30-6.50 (m, 1 H), 7.20-7.30 (m, 1 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.2, -55.8, -56.5, -57.5, -58.1, -58.3, -60.0, -71.8, -73.9, -74.7, -76.1, -83.5, -86.0, -87.7, -91.1, -93.1.
　化合物３－１　１．８３ｇを２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール　１２．０ｍＬに溶解した後、パラジウム活性炭素　０．３ｇをギ酸　４．０ｍＬ、水　１．０ｍＬに懸濁したものを添加し、室温で一晩撹拌した。続いて、セライトろ過した後、濃縮乾固することで、化合物３－２を１．６９ｇ得た。
（化合物３－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.54 (t, 3 H), 2.20-2.30 (m, 2 H), 2.41-2.54 (m, 2 H), 2.57-2.70 (m, 2 H), 4.40-4.50 (m, 2 H).
　化合物３－２　１．６９ｇをＨＦＥ７２００　４．０ｍＬに溶解した後、０℃にまで冷却し、アリルマグネシウムブロミド（約１３％エチルエーテル溶液，　約０．７ｍｏｌ／Ｌ）　１．８１ｍＬを滴下した。滴下後、翌朝まで撹拌し、反応溶液に塩酸を加えて撹拌後、塩酸層を分液で除去し、水で洗浄した。続いて、メタノール、クロロホルムで洗浄し、濃縮乾固後することで、化合物３－３を１．６９ｇ得た。
（化合物３－３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.64 (br s, 1 H), 1.80-1.90 (m, 2 H), 2.00-2.10 (m, 2 H), 2.40-2.60 (m, 6 H), 5.40-5.50 (m, 4 H), 6.10-6.25 (m, 2 H) ; 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -53.9, -54.2, -55.8, -56.4, -57.5, -58.3, -58.7, -60.0, -72.3, -74.5, -85.6, -87.5, -91.1, -93.0.
　化合物３－３　０．６２ｇをＨＦＥ７２００　１．２ｍＬに溶解後、カールシュテット触媒　３５．０μｌ、アニリン　５．６μｌを添加した。室温で３０分撹拌後、トリメトキシシラン　０．１３８ｍＬを添加し、室温で３時間撹拌した。続いて、クロロホルムで洗浄し、濃縮乾固することで、化合物３－４を０．６４ｇ得た。
（化合物３－４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.95-1.10 (m, 4 H), 1.67 (br s, 1 H), 1.80-2.20 (m, 12 H), 3.90-4.10 (s, 18 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -55.8, -56.4, -57.5, -58.0, -58.3, -60.0, -72.4, -74.5, -86.0, -87.7, -91.1, -92.8, -93.2.
（実施例４）
　化合物３－３　０．５７７ｇをＡＫ－２２５　２．０ｍＬに溶解後、ヒューニッヒ塩基　１４８．０μｌを添加した。続いて、メトキシメチルクロライド　４６．０μｌを添加し、３７℃で二晩撹拌した。続いて、メタノール、アセトン、クロロホルムで洗浄した。濃縮乾固後、シリカゲルカラムで精製することで、化合物４－１を０．５５４ｇ得た。
（化合物４－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.80-2.05 (m, 2 H), 2.05-2.15 (m, 2 H), 2.30-2.45 (m, 2 H), 2.65-2.70 (m, 4 H), 3.70 (s, 3 H), 5.04 (s, 2 H), 5.30-5.45 (m, 4 H), 6.15-6.25 (m, 2 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.3, -55.8, -56.5, -57.5, -58.2, -58.3, -60.0, -72.3, -74.5, -86.0, -87.8, -91.2, -93.2.
　化合物４－１　０．５５４ｇをＨＦＥ７２００　１．０ｍＬに溶解後、カールシュテット触媒　３５．０μｌ、アニリン　５．６μｌを添加した。室温で３０分撹拌後、トリメトキシシラン　８８．０μｌを添加し、室温で２．５時間撹拌した。濾過した後、濃縮乾固することで、化合物４－２を０．５９ｇ得た。
（化合物４－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.95-1.10 (m, 4 H), 1.80-2.05 (m, 12 H), 1.70-2.10 (m, 14 H), 2.30-2.50 (m, 2 H), 3.70 (s, 3 H), 3.85-4.20 (s, 18 H), 5.01 (s, 2 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -53.8, -54.0, -56.0, -56.5, -57.5, -58.2, -58.3, -60.0, -72.5, -74.8, -83.5, -86.0, -87.8, -91.0, -92.8, -93.2.
（実施例５）
　ＣＦ３Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－（ＣＦ２Ｏ）ｍ－ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ＝２２，ｍ＝２２）で示される末端アリル化合物　５．３２ｇをＡＫ－２２５　２５．０ｍＬに溶解後、ペンテン酸エチル　１．８９ｍＬ、グラブス触媒（第二世代）０．１１３ｇを添加した。３５℃で一晩撹拌後、アセトン、クロロホルムで洗浄後、濃縮乾固した。シリカゲルカラムで精製することで、化合物５－１を２．７１ｇ得た。
（化合物５－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.53 (t, 3 H), 2.60-2.80 (m, 4 H), 3.00-3.20 (m, 2 H), 4.40-4.50 (m, 2 H), 5.70-5.90 (m, 1 H), 6.00-6.10 (m, 1 H).
　化合物５－１　２．７ｇを２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール１０．０ｍＬに溶解した後、パラジウム活性炭素　０．３ｇをギ酸　２．０ｍＬ、水　１．０ｍＬに懸濁したものを添加し、室温で一晩撹拌した。続いて、ろ過、濃縮乾固し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄した。Ｎａ２ＳＯ４で乾燥後、ろ過し、濃縮乾固することで、化合物５－２を２．５８ｇ得た。
（化合物５－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.54 (t, 3 H), 1.65-1.80 (m, 2 H), 1.85-2.10 (m, 4 H), 2.30-2.50 (m, 2 H), 2.55-2.65 (m, 2 H), 4.40-4.50 (m, 2 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.0, -54.2, -55.8, -56.4, -57.3, -58.1, -58.2, -60.0, -72.4, -74.5, -85.9, -87.4, -91.2, -92.8, -93.3.
　化合物５－２　２．５８ｇをＨＦＥ７２００　４．０ｍＬに溶解した後、０℃にまで冷却し、アリルマグネシウムブロミド（約１３％エチルエーテル溶液，約０．７ｍｏｌ／Ｌ）　２．３ｍＬを滴下した。滴下後、翌朝まで撹拌した。反応溶液に塩酸を加えて撹拌後、塩酸層を分液で除去し、水、メタノール、アセトンで洗浄し、濃縮乾固後、シリカゲルカラムで精製することで、化合物５－３を２．２４ｇ得た。
（化合物５－３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.60-1.85 (m, 7 H), 1.90-2.00 (m, 2 H), 2.35-2.45 (m, 2 H), 2.40-2.50 (m, 4 H), 5.38-5.50 (m, 4 H), 6.15-6.25 (m, 2 H) ; 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.0, -54.2, -55.8, -56.4, -57.3, -58.1, -58.2, -60.0, -72.6, -74.5, -85.9, -87.6, -91.2, -93.0, -93.5.
　化合物５－３　０．４２ｇをＨＦＥ７２００　１．１ｍＬに溶解後、カールシュテット触媒　２５．０μｌ、アニリン　４．０μｌを添加した。室温で３０分撹拌後、トリメトキシシラン　０．１ｍＬを添加し、室温で３．５時間撹拌した。濾過した後、濃縮乾固することで、化合物５－４を０．４４ｇ得た。
（化合物５－４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.95-1.10 (m, 4 H), 1.55-2.10 (m, 17 H), 2.35-2.50 (m, 2 H), 3.85-4.20 (s, 18 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.2, -55.8, -56.4, -57.6, -58.2, -58.3, -60.0, -72.3, -74.5, -85.8, -87.7, -91.1, -92.8, -93.1.
（実施例６）
　化合物５－３　０．６６８ｇをＡＫ－２２５　３．０ｍＬに溶解後、ヒューニッヒ塩基　０．１７ｍＬ、ＤＭＡＰ、メトキシメチルクロライド　５０．０μｌを添加し、バス温度３５℃で４日間撹拌した。続いて、反応溶液を濃縮乾固後、シリカゲルカラムで精製することで、化合物６－１を０．５６ｇ得た。
（化合物６－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.50-2.10 (m, 8 H), 2.35-2.50 (m, 2 H), 2.60-2.70 (m, 4 H), 3.70 (s, 3 H), 5.05 (s, 2 H), 5.35-5.45 (m, 4 H), 6.15-6.30 (m, 2 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -53.9, -54.2, -55.8, -56.4, -57.5, -58.1, -58.3, -60.0, -72.3, -74.4, -85.8, -87.5, -91.1, -92.8, -93.3.
　化合物６－１　０．５６ｇをＨＦＥ７２００　１．１ｍＬに溶解後、カールシュテット触媒　２４．７μｌ、アニリン　４．０μｌを添加した。室温で３０分撹拌後、トリメトキシシラン　９８．７μｌを添加し、室温で３．５時間撹拌した。濾過した後、濃縮乾固することで、化合物６－２を０．５７ｇ得た。
（化合物６－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.95-1.10 (m, 4 H), 1.60-2.10 (m, 8 H), 1.70-2.10 (m, 16 H), 2.35-2.51 (m, 2 H), 3.71 (s, 3 H), 3.80-4.15 (s, 18 H), 5.02 (s, 2 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -53.9, -54.2, -55.8, -56.4, -57.5, -58.1, -58.3, -60.0, -72.3, -74.5, -86.0, -87.7, -91.2, -92.8, -93.3.
（実施例７）
　β－プロピオラクトン　３．４５ｇをメタノール　１０．０ｍＬに溶解後、ナトリウムメトキシド　０．５３ｇを添加した。５０℃で１時間半撹拌後、濃縮乾固した。濃縮乾固で得られた組成物にジエチルエーテルと水とを加えた後、分液し、濃縮乾固することで、化合物７－１を２．２ｇ得た。
（化合物７－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 1.60-1.85 (m, 7 H), 1.90-2.00 (m, 2 H), 2.35-2.45 (m, 2 H), 2.56-2.90 (m, 2 H), 3.72 (s, 3 H), 3.87 (m, 2 H)
　化合物７－１　２．２ｇをＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）　１５．０ｍＬに溶解後、氷浴で冷やした。１０分後、イミダゾール　１．７３ｇ、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリルクロリド　３．８２ｇの順に添加し、翌朝まで撹拌した。反応溶液にジエチルエーテルと水とを加えた後、分液し、濃縮乾固後、カラム精製を行うことで化合物７－２を２．８１ｇ得た。
（化合物７－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 0.04 (s, 6 H), 0.86 (s, 9 H), 2.35-2.45 (m, 2 H), 2.52 (t, 2 H), 3.67 (s, 3 H), 3.88 (t, 2 H)
　化合物７－２　２．７１ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）　８．０ｍＬに溶解後、氷浴で冷やした。１０分後、アリルマグネシウムブロマイド　３９ｍＬを添加し、翌朝まで撹拌した。反応溶液にジエチルエーテルと塩化アンモニウム水溶液とを加えた後、分液し、濃縮乾固後、カラム精製を行うことで化合物７－３を２．２５ｇ得た。
（化合物７－３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 0.04 (s, 6 H), 0.89 (s, 9 H), 1.69-1.73 (m, 2 H), 2.25-2.37 (m, 4 H), 3.81-3.94 (m, 3 H), 5.05-5.13 (m, 4 H), 5.84-5.91 (m, 2 H).
　化合物７－３　１．００ｇをジクロロメタン　５．０ｍＬに溶解後、アリルジイソプロピルエチルアミン　１．８９ｍＬ、メトキシメチルクロリド　０．５６ｍＬを添加し、４日間、室温で撹拌した。反応溶液に水を加えた後、分液し、濃縮乾固後、カラム精製を行うことで化合物７－４を０．９６ｇ得た。
（化合物７－４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 0.04 (s, 6 H), 0.88 (s, 9 H), 1.80-1.82 (m, 2 H), 2.29-2.37 (m, 4 H), 3.37 (s, 3 H), 3.71-3.75 (m, 2 H), 4.72 (s, 2 H), 5.04-5.09 (m, 4 H), 5.80-5.87 (m, 2 H).
　化合物７－４　０．９６ｇをＴＨＦ　１０．０ｍＬに溶解後、テトラブチルアンモニウムフルオライドのＴＨＦ溶液　３．９７ｍＬを添加し、室温で一晩撹拌した。反応溶液に塩化アンモニウム水溶液とクロロホルムとを加えた後、分液し、濃縮乾固後、カラム精製を行うことで化合物７－５を０．５７ｇ得た。
（化合物７－５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 1.80-1.87 (m, 2 H), 2.30-2.43 (m, 4 H), 3.39 (s, 3 H), 3.75-3.83 (m, 2 H), 4.76 (s, 2 H), 5.00-5.14 (m, 4 H), 5.79-5.88 (m, 2 H).
　化合物７－５　０．２ｇをＴＨＦ　５．０ｍＬに溶解後、フタルイミド０．１９１ｇ、トリフェニルホスフィン　０．３４１ｇの順に添加後、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート　０．６８３ｍＬを添加した。室温で一晩撹拌後、反応溶液に水とジエチルエーテルを加えた後、分液し、濃縮乾固後、カラム精製を行うことで化合物７－６を０．２８８ｇ得た。
（化合物７－６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 1.80-1.90 (m, 2 H), 2.30-2.50 (m, 4 H), 3.41 (s, 3 H), 3.70-3.83 (m, 2 H), 4.78 (s, 2 H), 5.05-5.20 (m, 4 H), 5.80-5.92 (m, 2 H), 7.69 (d, 2 H), 7.81 (d, 2 H).
　化合物７－６　０．２８８ｇをメタノール　５．０ｍＬに溶解後、エチレンジアミン０．２９２ｍＬを添加後、室温で一晩撹拌した。反応溶液に水とクロロホルムを加えた後、分液し、濃縮乾固することで化合物７－７を０．１８ｇ得た。
（化合物７－７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
 1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 1.73 (t, 2 H), 2.20-2.40 (m, 6 H), 2.80-2.88 (m, 2 H), 3.38 (s, 3 H), 4.73 (s, 2 H), 5.05-5.21 (m, 4 H), 5.75-5.82 (m, 2 H).
　ＣＦ３Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－（ＣＦ２Ｏ）ｍ－ＣＦ２ＣＯＯＣＨ３（ｎ＝２５，ｍ＝２５）で示されるメチルエステル　１ｇおよび、化合物７－７　７９．７ｍｇをＡＫ２２５　１．５ｍＬに溶解後、室温で５時間撹拌した。反応溶液にパーフルオロヘキサンとアセトンとを加えた後、分液し、濃縮乾固することで化合物７－８を１．１７ｇ得た。
（化合物７－８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.12 (t, 2 H), 2.70-2.75 (m, 4 H), 3.73 (s, 3 H), 3.80-3.90 (m, 2 H), 5.11 (s, 2 H), 5.30-5.40 (m, 4 H), 6.00-6.20 (m, 2 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.2, -55.8, -56.5, -57.5, -58.3, -60.0, -80.8, -82.5, -85.8, -87.5, -91.2, -92.8, -93.2.
　化合物７－８　０．９９ｇをＨＦＥ７２００　１．５ｍＬに溶解後、カールシュテット触媒　４４．２μｌ、アニリン　７．２μｌを添加した。室温で３０分撹拌後、トリメトキシシラン　０．１２６μｌを添加し、室温で３時間撹拌した。濾過した後、濃縮乾固することで、化合物７－９を０．９６ｇ得た。
（化合物７－９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.95-1.05 (m, 4 H), 1.80-1.90 (m, 12 H), 2.02-2.15 (m, 6 H), 3.74 (s, 3 H), 3.85-4.10 (m, 20 H), 5.08 (s, 2 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.2, -55.6, -56.5, -57.4, -58.3, -59.9, -80.5, -82.4, -85.8, -87.6, -91.2, -92.8, -93.2.
（比較例１）
　ＷＯ２０１７／２１２８５０の実施例１に記載の方法に従って、化合物Ｃ－１を得た（ｎ：ｍ＝５３：４７、ｎ＋ｍ＝４３）。
（化合物Ｃ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
＜表面処理層の形成＞
　実施例１～７、比較例１で得られたフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、濃度０．０６質量％となるようにＮｏｖｅｃ　７２００（３Ｍ社製、エチルパーフルオロブチルエーテル）で希釈し、表面処理剤を調製した。その後、表面を大気圧プラズマで処理した化学強化ガラス（コーニング社製　Ｇｏｒｉｌｌａ　３）を基材として、基材上にスプレー塗布装置を用いて上記で調製した表面処理剤を塗布した。塗布量は表面処理剤６０ｇ／ｍ２とした。続いて、表面処理剤が塗布された基材を大気圧下、１４０℃で３０分間加熱処理し、表面処理層を形成した。
＜水の静的接触角の測定方法＞
　静的接触角の測定は、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いた。具体的には、測定対象の表面処理層を有する基材を水平に静置し、その表面にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより静的接触角を測定した。水の静的接触角は、基材の表面処理層の異なる５点において測定し、その平均値を算出した値を用いた。
＜消しゴム耐久性評価＞
　（初期評価）
　初期評価（消しゴム摩擦回数０回）として、表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、水の静的接触角を測定した。
　（消しゴム耐久性試験後の評価）
　形成された表面処理層に対して、ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で往復回数２５００回毎に水の静的接触角を測定し、１０，０００回まで測定した。試験環境条件は２５℃、湿度４０％ＲＨであった。
　消しゴム：Ｒａｂｅｒ　Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
　接地面積：６ｍｍφ
　移動距離（片道）：４０ｍｍ
　移動速度：３，６００ｍｍ／分
　荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ
　結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000069

（合成例１）
　ＣＦ３Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－（ＣＦ２Ｏ）ｍ－ＣＦ２ＣＯＯＨ（ｎ＝２５，ｍ＝２５）で示されるカルボン酸　４．５７ｇをメタキシレンヘキサフロライド（ｍＸＨＦ）　６．０ｍＬに溶かした後、ＤＭＦ　２５μｌ、塩化チオニル　０．３ｍＬを添加し、室温で撹拌した後、９０℃で３時間撹拌した。３時間後、反応溶液を濃縮乾固することでＣＦ--３Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－（ＣＦ２Ｏ）ｍ－ＣＦ２ＣＯＣｌ（ｎ＝２５，ｍ＝２５）で示される酸クロライドを得た。
　上記で合成した酸クロライドにＡＫ－２２５　６．０ｍＬおよびクロロホルム１．０ｍＬの混合溶媒に溶解させた後、Ｎ，Ｏ－ジメチルヒドロキシアミンの塩酸塩　０．２０５ｇを添加した。続いて、ピリジン　０．３２３ｍＬを滴下した後、６０℃で一晩撹拌した。反応溶液を塩酸で洗浄した後、水で洗浄した。続いて、メタノール、アセトンで洗浄し、濃縮乾固することで、以下の化合物１Ａ－１を４．６０ｇ得た。
（化合物１Ａ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 3.55 (s, 3 H), 4.08 (s, 3 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.0, -55.8, -56.3, -57.5, -58.0, -58.3, -60.0, -76.8, -78.8, -86.0, -88.8, -91.0, -93.0.
　化合物１Ａ－１　５．１０ｇをＨＦＥ７２００　２０．０ｍＬに溶解した後、反応溶液を０℃まで冷却した。続いて、１ｍｏｌ／Ｌの水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ－Ｈ）　２．４６ｍＬを滴下した後、一晩撹拌した。続いて塩酸を反応溶液に入れ撹拌した後、分液により塩酸相を除去した。続いて、水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムにより乾燥した。続いて、溶液をろ過した後、濃縮乾固した。濃縮乾固で得られた組成物をメタノール、クロロホルムで洗浄し、濃縮乾固することで、化合物１Ａ－２を５．１ｇ得た。
（化合物１Ａ－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.2, -55.5, -56.0, -57.5, -58.0, -58.3, -60.0, -83.5, -85.8, -86.0, -88.8, -91.0, -93.8.
　化合物１Ａ－２　５．１ｇをＨＦＥ７２００　１６．０ｍＬに溶解した後、エチル（トリフェニルホスホラニリデン）アセテート　０．８１６ｇを室温で添加した。続いて、ＴＨＦ　５ｍＬ、ジクロロメタン（ＤＣＭ）　１０ｍＬを加えて、室温で一晩撹拌した。反応溶液にパーフルオロヘキサンを加え、メタノール、アセトン、クロロホルムの順に洗浄し、濃縮乾固することで、化合物１Ａ－３を５．２ｇ得た。
（化合物１Ａ－３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.60 (t, 3 H), 4.53-4.59 (m, 2 H), 6.79-6.83 (m, 1 H), 7.14-7.18 (m, 1 H)
　化合物１Ａ－３　５．１ｇを２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール　１６．０ｍＬに溶解した後、パラジウム活性炭素　１ｇをギ酸　５．０ｍＬ、水　１．０ｍＬに懸濁したものを添加し、室温で一晩撹拌した。セライトろ過した後、濃縮乾固し、得られた組成物をｍＸＨＦに溶解し、アミノシリカゲルを通じて得られた溶液をろ過し、濃縮乾固することで、化合物１Ａ－４を４．５９ｇ得た。
（化合物１Ａ－４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.55 (t, 3 H), 2.80-2.87 (m, 4 H), 4.46-4.52 (m, 2 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.2, -55.8, -56.5, -57.5, -58.0, -58.3, -60.0, -73.1, -75.0, -86.0, -88.7, -91.3, -93.0.
　化合物１Ａ－４　４．５２ｇをＨＦＥ７２００　１０．０ｍＬに溶解した後、０℃でアリルマグネシウムブロミド　（約１３％エチルエーテル溶液，約０．７ｍｏｌ／Ｌ）　４．２４ｍＬを滴下した。滴下後、翌朝まで撹拌し、反応溶液に塩酸を加えて撹拌後、塩酸相を分液で除去し、水で洗浄した。続いて、メタノール、アセトン、クロロホルムの順で洗浄し、ろ過後、この溶液を濃縮乾固することで、化合物１Ａ－５を４．６０ｇ得た。
（化合物１Ａ－５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.86 (br s, 1 H), 2.10-2.12 (m, 2 H), 2.50-2.66 (m, 6 H), 5.40-5.48 (m, 4 H), 6.10-6.18 (m, 2 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.0, -55.8, -56.3, -57.5, -58.0, -58.3, -60.0, -76.8, -78.8, -86.0, -88.8, -91.0, -93.0.
　化合物１Ａ－５　０．８ｇをＡＫ－２２５　１．５ｍＬに溶解後、ヒューニッヒ塩基　０．１４９ｍＬを添加した。続いて、メトキシメチルクロライド　３９．５μｌを添加し、室温で２日間、３５℃でさらに３日間撹拌した。続いて、反応溶液メタノール、アセトン、クロロホルムの順に洗浄し、濃縮乾固することで、化合物１Ａ－６を０．８ｇ得た。
（化合物１Ａ－６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.15-2.25 (m, 2 H), 2.50-2.70 (m, 6 H), 3.68 (s, 3 H), 5.04 (s, 2 H), 5.30-5.45 (m, 4 H), 6.05-6.20 (m, 2 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.5, -56.0, -57.7, -58.2, -58.5, -60.0, -72.7, -75.5, -83.5, -86.0, -87.7, -91.5, -93.0.
（合成例２）
　化合物３－３　１．２７ｇをＡＫ－２２５　３．０ｍＬ、ＤＭＦ　０．７ｍＬの混合溶媒に溶解後、イミダゾール　６７．０ｍｇを添加した。続いて、トリメチルシリルクロライド　６４．０μｌを添加し、室温で一晩撹拌した。続いて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、メタノールで洗浄後、濃縮乾固することで、化合物２Ａ－１を０．７１ｇ得た。
（化合物２Ａ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.49 (s, 9 H), 1.86-1.95 (m, 2 H), 2.05-2.15 (m, 2 H), 2.35-2.50 (m, 2 H), 2.55-2.70 (m, 4 H), 5.35-5.45 (m, 4 H), 6.15-6.30 (m, 2 H).
（合成例３）
　ＣＦ３Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－（ＣＦ２Ｏ）ｍ－ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（ｎ＝２５，ｍ＝２５）で示されるアルコール　１．７１ｇをＡＫ－２２５　３．０ｍＬ、ＤＭＦ　０．４ｍＬの混合溶媒に溶解後、水素化ナトリウム　２３ｍｇを添加し、室温下、３０分撹拌した。続いて、クロロ酢酸メチル　０．１１２ｍＬ、テトラブチルアンモニウムヨージド（ＴＢＡＩ）　１５．７ｍｇを添加し、８０℃で一晩撹拌した。反応溶液に塩酸を加えて撹拌後、塩酸層を分液で除去し、水、アセトンで洗浄した。濃縮乾固後、シリカゲルカラムで精製し、化合物３Ａ－１を０．９３ｇ得た。
（化合物３Ａ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 4.03 (s, 3 H), 4.32-4.40 (m, 2 H), 4.52 (s, 2 H).
　化合物３Ａ－１　１．３４ｇをＨＦＥ７２００　４．０ｍＬに溶解した後、０℃にまで冷却し、アリルマグネシウムブロミド　（約１３％エチルエーテル溶液，　約０．７ｍｏｌ／Ｌ）　１．４４ｍＬを滴下した。滴下後、翌朝まで撹拌した。続いて、反応溶液に塩酸を加えて撹拌後、塩酸層を分液で除去し、水、アセトンで洗浄した。濃縮乾固後することで、化合物３Ａ－２を１．３６ｇ得た。
（化合物３Ａ－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.35 (br s, 1 H), 2.55-2.70 (m, 4 H), 3.80-3.90 (m, 2 H), 4.15-4.30 (m, 2 H), 5.37-5.50 (m, 4 H), 6.15-6.30 (m, 2 H) ; 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -53.9, -54.2, -55.8, -56.5, -57.5, -58.3, -58.7, -60.0, -75.8, -80.5, -82.7, -86.0, -87.7, -89.7, -91.1, -92.8, -93.5.
　化合物３Ａ－２　０．５６ｇをＡＫ－２２５　１．３ｍＬに溶解後、ヒューニッヒ塩基　７４．０μｌを添加した。続いて、メトキシメチルクロライド　２２．０μｌを添加し、３７℃で一晩撹拌した。続いて、ヒューニッヒ塩基　７４．０μｌ、メトキシメチルクロライド　２３．０μｌを添加し、５日間撹拌した。反応溶液をメタノール、アセトン、クロロホルムで洗浄した。この溶液を濃縮乾固後、シリカゲルカラムで精製することで、化合物３Ａ－３を０．５９７ｇ得た。
（化合物３Ａ－３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.65-2.70 (m, 4 H), 3.67 (s, 3 H), 3.98 (s, 2 H), 4.10-4.30 (s, 2 H), 5.13 (s, 2 H), 5.37-5.55 (m, 4 H), 6.15-6.25 (m, 2 H).
（合成例４）
　ＣＦ３Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－（ＣＦ２Ｏ）ｍ－ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ＝２２，ｍ＝２２）で示される末端アリル体化合物　４．０ｇ、ｐ－ブロモ安息香酸メチル　０．４３ｇ、Ｐｄ（ＯＡｃ）２　２２．５ｍｇ、トリフェニルホスフィン　５２．４ｍｇ、ｍＸＨＦ　６．０ｍＬ、ＤＭＦ　１．０ｍＬ、トリエチルアミン　０．３０７ｍＬを室温で添加し、１００℃で一晩撹拌した。続いて、メタノール、アセトン、クロロホルムで洗浄し、濃縮乾固した後、シリカゲルカラムにより精製することで、化合物４Ａ－１を１．６３ｇ得た。
（化合物４Ａ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 3.25-3.40 (m, 2 H), 4.18 (s, 3 H), 6.50-6.63 (m, 1 H), 6.80-6.96 (m, 1 H).
　化合物４Ａ－１　１．６１ｇを２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール　１５．０ｍＬに溶解した後、パラジウム活性炭素　０．６ｇをギ酸　５．０ｍＬ、水　１．０ｍＬに懸濁したものを添加し、室温で一晩撹拌した。続いて、セライトろ過した後、濃縮乾固後、シリカゲルカラムにより精製することで、化合物４Ａ－２を０．９ｇ得た。
（化合物４Ａ－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.15-2.30 (m, 2 H), 2.30-2.50 (m, 2 H), 3.00-3.10 (m, 2 H), 4.20 (s, 3 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -54.0, -55.8, -56.5, -57.5, -58.0, -58.3, -60.0, -72.4, -74.0, -88.7, -91.0, -93.0.
　化合物４Ａ－２　０．９４ｇをＨＦＥ７２００　５．０ｍＬに溶解した後、０℃にまで冷却し、アリルマグネシウムブロミド（約１３％エチルエーテル溶液，約０．７ｍｏｌ／Ｌ）　１．０ｍＬを滴下した。滴下後、翌朝まで撹拌した。続いて、反応溶液に塩酸を加えて撹拌後、塩酸層を分液で除去し、水、メタノール、アセトンで洗浄し、濃縮乾固後、シリカゲルカラムにより精製することで、化合物４Ａ－３を０．５５１ｇ得た。
（化合物４Ａ－３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.20-2.30 (m, 2 H), 2.30-2.50 (m, 3 H), 2.75-2.85 (m, 2 H), 2.90-3.00 (m, 4 H), 5.28-5.40 (m, 4 H), 5.90-6.10 (m, 2 H) ; 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -53.9, -54.2, -55.8, -56.5, -57.5, -58.3, -58.7, -60.0, -72.5, -74.5, -86.0, -87.6, -89.7, -91.2, -93.0, -93.1.
　化合物４Ａ－３　０．５３ｇをＡＫ－２２５　３．０ｍＬに溶解後、ヒューニッヒ塩基　０．１３５ｍＬを添加した。続いて、メトキシメチルクロライド　３９．９μｌを添加し、３７℃で４日間撹拌した。反応溶液をメタノール、クロロホルムで洗浄し、濃縮乾固後、シリカゲルカラムで精製することで、化合物４Ａ－４を０．５５ｇ得た。
（化合物４Ａ－４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.15-2.30 (m, 2 H), 2.35-2.50 (m, 2 H), 2.90-3.10 (m, 6 H), 3.70 (s, 3 H), 4.92 (s, 2 H), 5.20-5.40 (m, 4 H), 5.90-6.10 (m, 2 H).
（合成例５）
　ＣＦ３Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ－（ＣＦ２Ｏ）ｍ－ＣＦ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２（ｎ＝２２，ｍ＝２２）で示される末端アリル化合物　６．２ｇをＡＫ－２２５　１２ｍＬに溶解後、ヘキセン酸メチル　２．１８ｍＬ、グラブス触媒（第二世代）　６５．８ｍｇを添加した。室温で一晩撹拌後、メタノール、アセトンで洗浄後、濃縮乾固し、シリカゲルカラムで精製することで、化合物５Ａ－１を２．６４ｇ得た。
（化合物５Ａ－１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.90-2.10 (m, 2 H), 2.30-2.45 (m, 2 H), 2.50-2.60 (m, 2H), 3.00-3.20 (m, 2 H), 3.96 (s, 3 H), 5.70-5.80 (m, 1 H), 5.95-6.10 (m, 1 H).
　化合物５Ａ－１　２．６３ｇを２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール１０．０ｍＬに溶解した後、パラジウム活性炭素　０．４８ｇを添加した。続いて、水素ガス雰囲気下、室温で一晩撹拌し、ろ過、濃縮乾固し、化合物５Ａ－２を２．５８ｇ得た。
（化合物５Ａ－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.60-1.80 (m, 4 H), 1.84-2.04 (m, 4 H), 2.30-2.50 (m, 2 H), 2.59 (t, 2 H), 3.96 (s, 3 H); 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -53.9, -54.2, -55.6, -56.4, -57.5, -58.1, -58.3, -60.0, -72.3, -74.5, -85.9, -87.5, -91.2, -92.8, -93.2.
　化合物５Ａ－２　２．５７ｇをＨＦＥ７２００　５．０ｍＬに溶解した後、０℃にまで冷却し、アリルマグネシウムブロミド（約１３％エチルエーテル溶液，約０．７ｍｏｌ／Ｌ）　２．７５ｍＬを滴下した。滴下後、翌朝まで撹拌した。反応溶液に塩酸を加えて撹拌後、塩酸相を分液で除去し、水、メタノール、アセトンで洗浄した。濃縮乾固後、シリカゲルカラムで精製することで、化合物５Ａ－３を１．９９ｇ得た。
（化合物５Ａ－３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
 1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.60-2.00 (m, 10 H), 2.33-2.45 (m, 2 H), 2.45-2.60 (m, 4 H), 5.38-5.45 (m, 4 H), 6.15-6.30 (m, 2 H) ; 19F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -53.9, -54.2, -55.8, -56.4, -57.5, -58.1, -58.3, -60.0, -72.3, -74.4, -85.9, -87.5, -91.2, -93.0, -93.1.
　本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、種々多様な基材、特に摩擦耐久性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims (19)

  1. 　下記式（Ａ１）または（Ａ２）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
    ［式中：
    　ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
    　ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
    　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
    　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
    　ＲＦは、それぞれ独立して、式：
    －（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
    で表される基であり；
    　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
    　ｐは、０または１であり；
    　ｑは、独立して、０または１であり；
    　Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式：
    　　－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１－（ＣＲ５１＝ＣＲ５２）ｎ５２－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５３－
    で表され；
    　　Ｒ５０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または１価の有機基であり；
    　　Ｒ５１およびＲ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
    　　Ｙ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
    　　ｎ５４は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　ｎ５５は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
    　　ｎ５１は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ５２は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ５３は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ５１、ｎ５２またはｎ５３を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ｎ５１、ｎ５２およびｎ５３の合計は１以上であり；
    　ＲＳｉは、それぞれ独立して、下記式（Ｓ１）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     で表される基であり；
    　Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、または２価の有機基であり；
    　Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
    　Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
    　ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ただし、式（Ａ１）および（Ａ２）のそれぞれにおいて、少なくとも１つのｌ１は１であり；
    　Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ベンジル基、メトキシフェニル基、ベンゾイル基、トリチル基、－ＳｉＲ７１、または－（Ｒ７２－Ｏ）ｎ７－Ｒ７３であり、
    　Ｒ７１は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基であり、
    　Ｒ７２は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、
    　ｎ７は、それぞれ独立して、１～１０の整数であり；
    　Ｒ７３は、それぞれ独立して、水素原子、または環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基である。]
  2. 　Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｘ１）または（Ｘ２）：
    　　－Ｘ５１－ＣＲ５１＝ＣＲ５２－Ｘ５２－　　　　・・・（Ｘ１）
    　　－Ｘ５３－　　　　　　　　　　　　　　　　・・・（Ｘ２）
    で表され；
    　Ｘ５１は、－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５１２－
    で表され；
    　　Ｒ５０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または１価の有機基であり；
    　　Ｙ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
    　　ｎ５４は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　ｎ５５は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
    　　ｎ５１１は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ５１２は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ５１１またはｎ５１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　Ｘ５２は、－（ＣＲ５０ ２）ｎ５１１’－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５１２’－で表され；
    　　ｎ５１１’は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ５１２’は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ５１１’またはｎ５１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　Ｒ５１およびＲ５２は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
    　Ｘ５３は、それぞれ独立して、
    　　－（ＣＲ５０ ２）ｎ５２１－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５２２－
    で表され；
    　　ｎ５２１は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ５２２は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ５２１またはｎ５２２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ｎ５２１およびｎ５２２の合計は１以上である、
    　請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
  3. 　Ｒ５０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、－Ｏ－（Ｒ１４－Ｏ）ｎ４－Ｒ１４’、またはＣ１－４アルキル基である、請求項１または２に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
    ［式中：
    　Ｒ１４は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり；
    　ｎ４は、それぞれ独立して、０～１００の整数であり；
    　Ｒ１４’は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキル基であり；
    　上記Ｃ１－４アルキル基は置換基を有していてもよい。］
  4. 　Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、
    　　－ＣＨＲ１３－[（ＣＲ５０’ ２）ｎ５１’－（ＣＲ５１＝ＣＲ５２）ｎ５２－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５３]－
    で表される基であり、
    　Ｒ１３は、－ＯＨ、または－Ｏ－（Ｒ１４－Ｏ）ｎ４－Ｒ１４’で表され；
    　Ｒ１４は、それぞれ独立してＣ１－４アルキレン基であり；
    　ｎ４は、０～１００の整数であり；
    　Ｒ１４’は、Ｃ１－４アルキル基であり；
    　Ｒ５０’は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基または１価の有機基であり；
    　ｎ５１’は、０～１０の整数であり；
    　ｎ５２は、０～１０の整数であり；
    　ｎ５３は、０～１０の整数であり；
    　ｎ５１’、ｎ５２またはｎ５３を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、－（ＣＲ５０’ ２）ｎ５１’－（ＣＲ５１＝ＣＲ５２）ｎ５２－（（ＣＨ２）ｎ５５－Ｙ５１－（ＣＨ２）ｎ５４）ｎ５３－内において任意であり、
    　Ｒ５１およびＲ５２は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
    　Ｙ５１は、それぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり、
    　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
    　ｎ５４は、それぞれ独立して、０または１であり、
    　ｎ５５は、それぞれ独立して、０または１である、
    請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
  5. 　Ｒ５０’は、水素原子である、請求項４に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
  6. 　Ｒ５１およびＲ５２は、水素原子である、請求項１～５のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
  7. 　Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または－（Ｒ７２－Ｏ）ｎ７－Ｒ７３で表される基であり、
    　Ｒ７２は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、
    　Ｒ７３は、水素原子、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり、
    　ｎ７は、１～１０の整数である、
    請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
  8. 　Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、－ＣＨ２Ｏ－Ｒ１１’であり、
    　Ｒ１１’は、水素原子、または－（Ｒ７２－Ｏ）ｎ７’－Ｒ７３であり、
    　Ｒ７２は、それぞれ独立して、Ｃ１－４アルキレン基であり、
    　Ｒ７３は、水素原子、環構造を含んでいてもよい１価の炭化水素基であり、
    　ｎ７’は、０～９の整数である、
    請求項１～７のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
  9. 　Ｒ７３は、それぞれ独立して、水素原子、またはＣ１－４アルキル基である、請求項１～８のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
  10. 　ｎ５５は、１である、請求項１～９のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
  11. 　ｎ５４およびｎ５５は、０である、請求項１～９のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
  12. 　請求項１～１１のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、および、該フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の少なくとも一部が縮合した縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１つを含有する、表面処理剤。
  13. 　請求項１～１１のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
  14. 　基材と、該基材の表面に、請求項１～１１のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物または請求項１２または１３に記載の表面処理剤から形成された層とを含む物品。
  15. 　式（ａ１１）または式（ａ１２）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     で表される化合物と、式（ａ１３）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     で表される化合物とを反応させて、式（ａ２１）または式（ａ２２）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     で表される化合物を得る工程
    を含む、フルオロポリエーテル基含有化合物の製造方法。
    ［式中：
    　ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
    　ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
    　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
    　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
    　ＲＦは、それぞれ独立して、式：
    －（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
    で表される基であり；
    　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
    　ｐは、０または１であり；
    　ｑは、独立して、０または１であり；
    　Ｘ６１は、それぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２－で表され；
    　　Ｒ６０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または１価の有機基を表し；
    　　Ｙ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
    　　ｎ６１３は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　ｎ６１４は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　ｎ６１１は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１２は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１１またはｎ６１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　Ｘ６２は、それぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１’－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２’－で表され；
    　　ｎ６１１’は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１２’は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１１’またはｎ６１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
    　Ｒ６１およびＲ６２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり； 
    　Ｒ６３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基である。］
  16. 　式（ａ３１）または式（ａ３２）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     で表される化合物と、以下の式（ａ３３）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     で表される化合物とを反応させて、式（ａ２１）または式（ａ２２）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
     で表される化合物を得る工程
    を含む、フルオロポリエーテル基含有化合物の製造方法。
    ［式中：
    　ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
    　ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
    　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
    　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
    　ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
    －（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
    で表される基であり；
    　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
    　ｐは、０または１であり；
    　ｑは、独立して、０または１であり；
    　Ｘ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２－で表され；
    　　Ｒ６０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または１価の有機基を表し；
    　　Ｙ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
    　　ｎ６１３は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　ｎ６１４は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　ｎ６１１は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１２は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１１またはｎ６１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　Ｘ６２は、各出現においてそれぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１’－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２’－で表され；
    　　ｎ６１１’は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１２’は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１１’またはｎ６１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基、またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
    　Ｒ６１およびＲ６２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
    　Ｒ６３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基である。］
  17. 　式（ａ２３）、または式（ａ２４）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     で表される化合物と、Ｈａｌ－Ｊ－Ｚ２３－ＣＨ＝ＣＨ２とを反応させて、式（ａ２５）または式（ａ２６）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
     で表される化合物を得る工程
    を含む、フルオロポリエーテル基含有化合物の製造方法。
    ［式中：
    　ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
    　ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
    　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
    　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
    　ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
    －（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
    で表される基であり；
    　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
    　ｐは、０または１であり；
    　ｑは、独立して、０または１であり；
    　－Ｘ６－は、各出現においてそれぞれ独立して、
    　　－Ｘ６１－ＣＲ６１＝ＣＲ６２－Ｘ６２－、または
    　　－Ｘ６３－
    で表され；
    　Ｘ６１は、それぞれ独立して、
    　　－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２－
    で表され；
    　　Ｒ６０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または１価の有機基を表し；
    　　Ｙ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
    　　ｎ６１３は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　ｎ６１４は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　ｎ６１１は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１２は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１１またはｎ６１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　Ｘ６２は、それぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１’－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２’－で表され；
    　　ｎ６１１’は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１２’は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１１’またはｎ６１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基、またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
    　Ｒ６１およびＲ６２は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
    　Ｘ６３は、それぞれ独立して、
    　　　－（ＣＲ６０ ２）ｎ６２１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６２２－
    で表され；
    　　ｎ６２１は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６２２は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６２１またはｎ６２２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ｎ６２１およびｎ６２２の合計は１以上であり；
    　Ｒ６３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
    　Ｈａｌは、ハロゲン原子を表し；
    　Ｊは、Ｍｇ、Ｃｕ、ＰｄまたはＺｎを表し；
    　Ｚ２３は、それぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。］
  18. 　式（ａ２３）または式（ａ２４）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
     で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物。
    ［式中：
    　ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
    　ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
    　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
    　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
    　ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
    －（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
    で表される基であり；
    　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
    　ｐは、０または１であり；
    　ｑは、独立して、０または１であり；
    　－Ｘ６－は、各出現においてそれぞれ独立して、
    　　－Ｘ６１－ＣＲ６１＝ＣＲ６２－Ｘ６２－、または
    　　－Ｘ６３－
    で表され；
    　Ｘ６１は、それぞれ独立して、
    　　－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２－
    で表され；
    　　Ｒ６０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または１価の有機基を表し；
    　　Ｙ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
    　　ｎ６１３は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　ｎ６１４は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　ｎ６１１は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１２は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１１またはｎ６１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　Ｘ６２は、それぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１’－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２’－で表され；
    　　ｎ６１１’は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１２’は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１１’またはｎ６１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基、またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
    　Ｒ６１およびＲ６２は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
    　Ｘ６３は、それぞれ独立して、
    　　　－（ＣＲ６０ ２）ｎ６２１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６２２－
    で表され；
    　　ｎ６２１は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６２２は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６２１またはｎ６２２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ｎ６２１およびｎ６２２の合計は１以上であり；
    　Ｒ６３は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基である。］
  19. 　式（ａ２７）または式（ａ２８）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
     で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物。
    ［式中：
    　ＲＦ１は、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
    　ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－で表され；
    　Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
    　Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
    　ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
    －（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
    で表される基であり；
    　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、またはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
    　ｐは、０または１であり；
    　ｑは、独立して、０または１であり；
    　－Ｘ６－は、各出現においてそれぞれ独立して、
    　　－Ｘ６１－ＣＲ６１＝ＣＲ６２－Ｘ６２－、または
    　　－Ｘ６３－
    で表され；
    　Ｘ６１は、それぞれ独立して、
    　　－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２－
    で表され；
    　　Ｒ６０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または１価の有機基を表し；
    　　Ｙ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｏ、ＣＯＮＲ１５、ＮＲ１５、Ｓ、またはアリーレン基であり；
    　　ｎ６１３は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　ｎ６１４は、それぞれ独立して、０または１であり；
    　　ｎ６１１は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１２は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１１またはｎ６１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　Ｘ６２は、それぞれ独立して、－（ＣＲ６０ ２）ｎ６１１’－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６１２’－で表され；
    　　ｎ６１１’は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１２’は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６１１’またはｎ６１２’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
    　　Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、芳香環を有する基、Ｃ１－６アルキル基、－Ｏ－Ｃ１－６アルキル基、またはＣ３－１０シクロアルキル基であり；
    　Ｒ６１およびＲ６２は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり； 
    　Ｘ６３は、
    　　　－（ＣＲ６０ ２）ｎ６２１－（（ＣＨ２）ｎ６１４－Ｙ６１－（ＣＨ２）ｎ６１３）ｎ６２２－
    で表され；
    　　ｎ６２１は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６２２は、０～１０の整数であり；
    　　ｎ６２１またはｎ６２２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ｎ６２１およびｎ６２２の合計は１以上であり； 
    　Ｒ６５は、それぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
    　Ｚ２３は、それぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。]
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