JP2001207183A - 潤滑剤組成物ならびに磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

潤滑剤組成物ならびに磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法

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JP2001207183A
JP2001207183A JP2000018683A JP2000018683A JP2001207183A JP 2001207183 A JP2001207183 A JP 2001207183A JP 2000018683 A JP2000018683 A JP 2000018683A JP 2000018683 A JP2000018683 A JP 2000018683A JP 2001207183 A JP2001207183 A JP 2001207183A
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JP2000018683A
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Hisayo Ohata
久代 大畑
Kenji Kuwabara
賢次 桑原
Yukikazu Ochi
幸和 大地
Tetsuo Fuchi
鉄男 渕
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた潤滑性能を呈する潤滑剤組成物、なら
びに電磁変換特性を損なうことなく、走行耐久性および
スチル耐久性等の実用信頼性を向上させた磁気記録媒体
を得る。 【解決手段】 潤滑剤組成物は、分子内にパーフルオロ
エーテル鎖またはパーフルオロポリエーテル鎖と、パー
フルオロアルキル基またはパーフルオロアルケニル基と
を有する化合物から選ばれる少なくとも1種類の化合物
と、分子内にパーフルオロポリエーテル鎖を有し、分子
の両端に特定の極性基を有する化合物から選ばれる少な
くとも1種類の化合物とを含有し、この潤滑剤組成物
は、非磁性基板(1)上の一方の面に、強磁性金属薄膜
(2)、炭素膜(3)および潤滑剤層(4)がこの順に
形成され、他方の面にバックコート層(5)が形成され
て成る磁気記録媒体の潤滑剤層(4)を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、デジタルビデオテ
ープレコーダや高精度ビデオテープレコーダに最適の強
磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体およびそ
の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気記録の分野においては、記
録、再生機器のデジタル化、小型化、長時間化等の高性
能化に伴い、高密度磁気記録媒体の開発が活発に行なわ
れており、最近では塗布型磁気記録媒体に代わって、短
波長記録に極めて有利な金属薄膜型磁気記録媒体が実用
化されている。
【0003】しかしながら、金属薄膜型磁気記録媒体の
磁性層は、極めて良好な表面性を有する、すなわち磁性
層の面の粗度が小さいために磁気ヘッドとの接触面積が
増えるので、信号の記録・再生の過程において磁気ヘッ
ドと高速摺動する間に大きな摩擦力を受けて摩耗されや
すい。磁性層の摩耗は、磁気記録媒体の走行耐久性ある
いはスチル耐久性等に大きな影響を与えるため、これを
低減させることは金属薄膜型磁気記録媒体の研究開発に
おいて大きな課題となっている。
【0004】そこで、磁性層表面に潤滑剤層を設けるこ
とによって摩耗を低減し、走行耐久性およびスチル耐久
性を改善しようとする試みがなされている。潤滑剤層を
設ける場合、磁気記録媒体と磁気ヘッドとのスペーシン
グロスによる出力低下を極力抑えて高出力化を図るべ
く、磁性層表面の潤滑剤層は僅か数nmの厚さで潤滑特性
を発揮することが求められている。そのため、優れた潤
滑特性を示すフッ素系化合物を用いることが広く検討さ
れ、各種化合物の使用が提案されている。そのような化
合物としては、例えば、化学式(x1):
【0005】
【化5】 で示される含フッ素長鎖カルボン酸エステル(特開昭6
2−46431号公報参照)や化学式(x2):
【化6】 で示されるカルボキシル基を有する含フッ素カルボン酸
モノエステル(特開昭61−107529号公報参照)
等が提案されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁気記
録媒体の性能向上に関する要求は厳しく、上記した従来
の潤滑剤では十分な特性を得ることが困難であり、走行
耐久性、スチル耐久性において一層の改善が望まれてい
る。
【0007】本発明は、上記問題に鑑み、電磁変換特性
を損なうことなく、走行耐久性、スチル耐久性に優れ、
高い実用信頼性の磁気記録媒体および磁気記録媒体の製
造方法を提供することを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、分子内にパーフルオロエーテル鎖または
パーフルオロポリエーテル鎖と、パーフルオロアルキル
基またはパーフルオロアルケニル基とを有し、一般式
(a)で示される化合物から選ばれる少なくとも1種類
の化合物と、分子内にパーフルオロポリエーテル鎖を有
し、一般式(b)、(c)および(d)で示される化合
物から選ばれる少なくとも1種類の化合物とを含有する
潤滑剤組成物:
【化7】 (式中、Raはパーフルオロアルキル基またはパーフル
オロアルケニル基であり、Xaは少なくとも1種類のパ
ーフルオロアルキレンオキサイド基を構造単位とする直
鎖のパーフルオロエーテル鎖もしくはパーフルオロポリ
エーテル鎖であり、Zaはフッ素原子もしくは極性基で
あり、fは1以上の整数であり、gは0以上の整数であ
る)
【化8】 (式中、h、iは1以上の整数である)
【化9】 (式中、j、kは1以上の整数である)
【化10】 (式中、p、qは1以上の整数であり、Rbは炭素数4
〜22の脂肪族アルキル基である)を提供することを第
1の要旨とする。
【0009】本発明の第1の要旨に係る潤滑剤組成物
は、特定の二種以上の含フッ素化合物を含んで成るもの
である。それにより、例えば、この潤滑剤組成物を用い
て、非磁性基板の上に強磁性金属薄膜、炭素膜および潤
滑剤層がこの順に形成されて成る磁気記録媒体の潤滑剤
層を形成した場合、潤滑剤層のその下に位置する炭素膜
への付着強度が向上し、かつ優れた潤滑特性が磁気記録
媒体に付与されるので、磁気記録媒体はその電磁変換特
性が損なわれることなく優れた走行耐久性およびスチル
耐久性を呈するものとなる。
【0010】一般式(a)で示される化合物から選ばれ
る少なくとも1種類の化合物は、例えば、本発明の潤滑
剤組成物を磁気記録媒体の潤滑剤層として用いる場合、
磁気ヘッドとの摩擦力を低減し、安定した走行性を確保
するものと考えられる。また、一般式(b)、(c)お
よび(d)で示される化合物から選ばれる少なくとも1
種類の化合物は、極性基が分子の両末端に位置するた
め、例えば、本発明の潤滑剤組成物を磁気記録媒体の潤
滑剤層として用いる場合、潤滑剤層と潤滑剤層の下に位
置する炭素膜と間の付着強度を向上させるものと考えら
れる。
【0011】本発明は、非磁性基板上に強磁性金属薄膜
が設けられ、その強磁性金属薄膜の上に炭素膜を介して
潤滑剤層が設けられて成る磁気記録媒体であって、潤滑
剤層が、上記本発明の第1の要旨に係る潤滑剤組成物を
少なくとも1種類含有することを特徴とする磁気記録媒
体を提供することを第2の要旨とする。上記特定の含フ
ッ素化合物を2種以上組み合わせた潤滑剤組成物を用い
ることにより、潤滑剤層のその下に位置する炭素膜への
付着強度が向上し、かつ優れた潤滑特性が磁気記録媒体
に付与される。そしてこれらの相乗効果により、本発明
の磁気記録媒体は、その電磁変換特性が損なわれること
なく走行耐久性およびスチル耐久性が向上した実用信頼
性の高いものとなる。
【0012】本発明は、上記本発明の磁気記録媒体の製
造方法を提供することを第3の要旨とする。本発明の磁
気記録媒体の製造方法は、潤滑剤層の形成工程に特徴を
有する。それ以外の製造工程は、従来から磁気記録媒体
の製造に用いられている工程であってよい。本発明の製
造方法における潤滑剤層の形成工程は、炭化水素系溶媒
とアルコール系溶媒との混合有機溶媒に上述の潤滑剤組
成物を溶解して調製した塗布液を、相対湿度が10〜4
0%の範囲内にある環境下において、炭素膜上に塗布
し、混合有機溶媒を乾燥させる工程を含むことを特徴と
する。
【0013】炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒の混合
有機溶媒を用い、特定の湿度条件下で潤滑剤組成物を含
む塗布液を塗布することにより、潤滑剤層と炭素膜との
間の付着強度が向上し、かつ塗布ムラが極めて少ない均
一な薄い潤滑剤層が形成され得る。よって本発明の製造
方法によれば、優れた潤滑性能を有する実用信頼性の高
い磁気記録媒体を得ることが可能である。
【0014】上記本発明の製造方法において、炭化水素
系溶媒とアルコール系溶媒との混合割合は重量比で1:
9〜9:1の範囲にあることが好ましい。この範囲で両
者を混合することは、塗布ムラを極力少なくすることを
可能とし、またコスト面でも有利である。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明の第1の要旨である潤滑剤
組成物は、上記一般式(a)で示される化合物から選ば
れる少なくとも1種類の化合物、ならびに上記一般式
(b)、(c)および(d)で示される化合物から選ば
れる少なくとも1種類の化合物を含んで成る。
【0016】一般式(a): (式中、Raはパーフルオロアルキル基またはパーフル
オロアルケニル基であり、Xaは少なくとも1種類のパ
ーフルオロアルキレンオキサイド基を構造単位とする直
鎖のパーフルオロエーテル鎖もしくはパーフルオロポリ
エーテル鎖であり、Zaはフッ素原子もしくは極性基で
あり、fは1以上の整数であり、gは0以上の整数であ
る)で示される化合物は、分子内にパーフルオロエーテ
ル鎖またはパーフルオロポリエーテル鎖と、パーフルオ
ロアルキル基またはパーフルオロアルケニル基とを有す
る。
【0017】Xaは1種類以上のパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基を構造単位とする直鎖のパーフルオロエ
ーテル鎖もしくはパーフルオロポリエーテル鎖である。
本明細書において、パーフルオロアルキレンオキサイド
基(すなわちオキシフルオロアルキレン基)とは、−
(Cw2 wO)−(wは1以上の整数)で示される基を
意味する。一般式(a)において、Xaを構成するパー
フルオロアルキレンオキサイド基は少なくとも1つであ
る。パーフルオロアルキレンオキサイド基が1つである
場合、Xaが形成するエーテル結合は1つであるから、
その場合にはXaを便宜上パーフルオロエーテル鎖と称
する。Xaが1つのパーフルオロアルキレンオキサイド
基で構成される場合、隣接する酸素原子とともに2つの
エーテル結合を有するポリエーテルを形成する。
【0018】Xaは、1種類のパーフルオロアルキレン
オキサイド基を構造単位とするパーフルオロポリエーテ
ル鎖であってもよい。すなわち、Xaは、−(Cw
2 wO)−で示される1種類の基を繰り返し単位として複
数個有して成るものであってよい。この場合、パーフル
オロアルキレンオキサイド基の炭素原子の数(wに相
当)は、潤滑性能と化合物の安定性の点から1〜7であ
ることが好ましく、2〜4であることがより好ましい。
炭素数が多い場合には同分子量の化合物に比べてエーテ
ル結合の数が少なくなるため、潤滑性が劣る傾向にあ
る。また、Xaを構成するパーフルオロアルキレンオキ
サイド基の数は1〜50であることが好ましい。
【0019】Xaは2種類以上のパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基を構造単位とするパーフルオロポリエー
テル鎖であってもよい。
【0020】Xaが2種類以上のパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基を構造単位とする場合、Xaはパーフル
オロアルキレンオキサイド基が種類毎に1つのブロック
を形成して成るパーフルオロポリエーテル鎖であっても
よい。すなわち、Xaは炭素数がKのパーフルオロアル
キレンオキサイド基P個と炭素数がLのパーフルオロア
ルキレンオキサイド基Q個が−(CK2 KO)P(CL2
LO)Q−のように配列して成るものであってもよい。あ
るいは炭素数がそれぞれ、K、L、M個である3種類の
パーフルオロアルキレンオキサイド基がそれぞれP個、
Q個、R個存在し、−(CK2 KO)P(CL2 LO)
Q(CM2 MO)R−のように配列して成るものであって
よい。パーフルオロアルキレンオキサイド基の種類が4
以上の場合も同様である。
【0021】Xaが2種類以上のパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基を構造単位とするパーフルオロポリエー
テル鎖である場合、Xaは、炭素数が1〜7である2〜
3種類、より好ましくは2種類のパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基がそれぞれ1〜30個結合してブロック
を形成し、このブロックが結合して成るパーフルオロポ
リエーテル鎖であることが好ましい。
【0022】また、2種類以上のパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基を構造単位とする場合、その配列形態は
上記の形態に限られない。例えばパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基が種類毎にブロックを形成し、このブロ
ックが規則的あるいはランダムに配列していてもよい。
また各パーフルオロアルキレンオキサイド基が、例えば
交互になるように規則的に、あるいはランダムに配列し
ていてもよい。
【0023】一般式(a)において、fは1以上の整数
であり、好ましくは1〜6である。fが大きい場合に
は、分子全体に占める−(CF2f−鎖の割合が大きく
なるため、同分子量の化合物と比べてエーテル結合の数
が小さくなり、潤滑性能が劣るおそれがある。
【0024】一般式(a)において、gは1〜10の整
数であることが好ましい。すなわち、メチレン鎖は繰り
返し単位として1つの分子の中に1〜10存在すること
が、汎用有機溶媒への良好な溶解性を確保するうえで好
ましい。ただし、一般式(a)においてメチレン鎖は必
ずしも必要ではなく、gは0であってもよい。メチレン
鎖の不存在により本発明の潤滑剤組成物の性能に悪影響
がもたらされることはない。
【0025】一般式(a)におけるZaはフッ素原子ま
たは極性基である。極性基は潤滑剤において、炭素膜へ
の潤滑剤の吸着能力を向上させる役割をする。極性基
は、具体的には、カルボキシル基(−COOH)、水酸
基(−OH)、アミノ基(−NH2)、アミド基(−C
ONH2)、メルカプト基(−SH)、ニトリル基(−
CN)、ホスホン基(−P(O)(OH)2)、エポキシ基
およびハロゲン基等から選択される。また、Zaは−C
OOR1で示されるアルコキシカルボニル基またはOC
OR2で示されるアシルオキシル基であってもよく、そ
の場合R1およびR2はアルキル基またはアルケニル基で
あり、R1およびR2を構成する炭素数は1〜22である
ことが好ましく、12〜18であることがより好まし
い。本発明においては、極性基は特に、カルボキシル基
およびアルコキシカルボニル基であることが好ましい。
aがフッ素原子である場合、一般式(a)で示される
化合物は極性基を有しないパーフルオロポリエーテルと
なる。
【0026】一般式(a)において、Raの炭素骨格構
造は、酸素原子を介して隣接するパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基の炭素骨格構造との関係において決定す
ることもできる。例えば、Raの炭素骨格構造は、酸素
原子を介して隣接するパーフルオロアルキレンオキサイ
ド基の炭素骨格構造と同一であってよい。すなわち、例
えば酸素原子を介してRaに隣接するパーフルオロアル
キレンオキサイド基が−(CF2O)−であるとき、Ra
はCF3であってよい。あるいは、Raの炭素骨格構造
は、酸素原子を介して隣接するパーフルオロアルキレン
オキサイド基の炭素骨格構造と異なるものであってよ
い。その場合、Raは、好ましくは炭素原子数が1〜2
0となるような炭素骨格構造を有することが好ましく、
より好ましくは炭素原子数が1〜8となるような炭素骨
格構造を有する。その一例として、一般式(a)におい
て、Xaが炭素数3のパーフルオロアルキレンオキサイ
ド基のみを構造単位とするパーフルオロポリエーテル鎖
であり、gが2であって、Raの炭素骨格構造がn−プ
ロピル基でないもの、例えばn−へプチル基であるフル
オロポリエーテル系化合物を挙げることができる。
【0027】一般式(b): で示される化合物は、分子の両末端に水酸基を有する。
一般式(b)において、hおよびiはいずれも1以上の
整数である。また、hおよびiは、分子内のパーフルオ
ロポリポリエーテル鎖、即ち、−CF2O(C24O)h
(CF2O)iCF 2−の分子量が約200〜約6000
程度、好ましくは約300〜約4000の範囲内にある
ように選択することが好ましい。パーフルオロポリポリ
エーテル鎖の分子量が200未満である場合または60
00を超える場合には、潤滑性および保存信頼性が低下
する場合がある。
【0028】一般式(c): で示される化合物は、分子の両末端にカルボキシル基を
有する。
【0029】一般式(c)において、jおよびkはいず
れも1以上の整数である。また、kおよびjは、分子内
のパーフルオロポリポリエーテル鎖、即ち、−CF2
(C24O)j(CF2O)kCF2−の分子量が約200
〜約6000程度、好ましくは約300〜約4000の
範囲内にあるように選択することが好ましい。当該範囲
の分子量が好ましい理由は先に一般式(b)に関して説
明したとおりである。
【0030】一般式(d): で示される化合物は、分子の両末端にアシルオキシル基
を有する。
【0031】アシルオキシル基のRbは、炭素数が、好
ましくは4〜22、より好ましくは12〜22である脂
肪族アルキル基である。Rbは直鎖状であっても、枝分
かれしたものであってもよい。pおよびqはいずれも1
以上の整数であり、いずれも1〜30の整数であること
が好ましく、1〜8の整数であることがより好ましい。
また、pおよびqは、分子内のパーフルオロポリポリエ
ーテル鎖、即ち、−CF2O(C24O)p(CF2O)q
CF2−の分子量が約200〜約6000程度、好まし
くは約300〜約4000の範囲内にあるように選択す
ることが好ましい。当該範囲の分子量が好ましい理由は
先に一般式(b)に関して説明したとおりである。
【0032】一般式(a)〜(d)で示される化合物は
いずれも、炭化水素ポリエーテルをフッ化水素掃去剤の
存在下で直接フッ素化法によりフッ素化する工程を含む
製造方法により製造することができる。フッ素化は炭化
水素ポリエーテルの水素を全てフッ素で置換する、いわ
ゆるペルフルオロ化であることが好ましい。この製造方
法においては、所定の主骨格を既に有しているポリエー
テルをフッ素化するので、フッ素化したモノマーを重合
させる場合と異なり、所定の分子量および分子構造を有
するフルオロポリエーテルを高純度で得ることができ
る。
【0033】なお、炭化水素ポリエーテルを直接フッ素
化する方法は、特公平7−64929号公報において詳
細に説明されており、実際の製造に際してはその記載を
参照することができる。また、この引用により当該公報
に開示された内容は本明細書の一部を構成する。
【0034】フッ素化する炭化水素ポリエーテルは、例
えば、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオ
キシエチレンポリオキシアルキレンエーテルである。一
般式(b)、(c)および(d)で示される化合物は、
ポリオキシエチレンポリオキシメチレンエーテルから得
られる。
【0035】一般式(a)〜(d)で示される化合物を
生成する方法としては、例えば、ポリオキシエチレング
リコール、ポリオキシアルキレングリセリン、またはア
ルキレンオキサイド基を複数有して成るエリトリトール
の変性体等のアルコールを出発原料とし、これをフッ素
化した後、所定の反応に付す方法がある。例えば、これ
らのアルコールを直接フッ素化法によりペルフルオロ化
して、末端が酸フルオライド(−COF)に変性したパ
ーフルオロポリエーテル系化合物を生成させた後、これ
を加水分解すると、カルボキシル基を極性基として有す
るパーフルオロポリエーテル系化合物が得られる。この
カルボキシル基を有するパーフルオロポリエーテル系化
合物を還元するとカルボキシル基が−CH2OHとな
り、水酸基を有するパーフルオロポリエーテル系化合物
が得られる。
【0036】また、カルボキシル基を有するパーフルオ
ロポリエーテル系化合物をアンモニアと反応させるとカ
ルボキシル基が−CONH2となり、アミド基を有する
パーフルオロポリエーテル系化合物が得られる。このア
ミド基を有するパーフルオロポリエーテル系化合物を還
元すると、アミド基が−CH2NH2となり、アミノ基を
有するパーフルオロポリエーテル系化合物が得られる。
また、アミド基を有するパーフルオロポリエーテル系化
合物を脱水すると、ニトリル基を有するパーフルオロポ
リエーテル系化合物が得られる。
【0037】アルコキシカルボニル基を有するパーフル
オロポリエーテル系化合物は、カルボキシル基を有する
パーフルオロポリエーテル系化合物と所定の脂肪族アル
コールをエステル化反応させることにより得られる。ア
シルオキシル基を有するパーフルオロポリエーテル系化
合物は、水酸基を有するパーフルオロポリエーテル系化
合物と所定の脂肪族カルボン酸をエステル化反応させる
ことにより得られる。
【0038】また、水酸基を有するパーフルオロポリエ
ーテル系とハロゲン化チオニル(SOX2;Xはハロゲ
ン)を反応させることにより、水酸基がハロゲンで置き
換えられ、極性基がハロゲン基であるパーフルオロポリ
エーテル系化合物が得られる。そして、このハロゲン基
を有するパーフルオロポリエーテル系化合物を水硫化カ
リウムと反応させることにより、メルカプト基を有する
パーフルオロポリエーテル系化合物が得られる。また、
極性基としてホスホン基を有するパーフルオロポリエー
テル系化合物は、水酸基を有するパーフルオロポリエー
テル系化合物と三塩化リンとのエステル化反応により生
成できる。
【0039】以上、説明したような方法により、アルコ
ールを出発原料として、極性基が水酸基、アシルオキシ
ル基、アミノ基、ハロゲン基またはメルカプト基である
化合物を得る場合、当該極性基は少なくとも1つのメチ
レン鎖に結合する構造となり、したがって一般式(a)
で示される化合物がそのような極性基を有する場合、g
は1以上の整数となる。また、一般式(b)で示される
化合物および一般式(d)で示される化合物はメチレン
鎖を有するものとなる。
【0040】なお、一般式(b)、(c)および(d)
で示される化合物は、一般式(b)におけるhおよび
i、一般式(c)におけるjおよびk、ならびに一般式
(d)におけるpおよびqが、上記の条件を満たす限り
において、従来公知の又は市販されているパーフルオロ
ポリエーテル系化合物であってよく、あるいはそれを所
定の化学反応に付して得たものであってよい。例えば、
一般式(b)で示される化合物として、Ausimont社製の
Fomblin Z DOLがあり、一般式(c)で示される化合物
として、Ausimont社製のFomblin Z DIACがある。ま
た、一般式(d)で示される化合物は、前記のAusimont
社製のFomblin Z DOLと、RbCOOHで示されるカル
ボン酸とをエステル化反応させることにより得られる。
【0041】本発明の潤滑剤組成物において、一般式
(a)で示される化合物から選ばれる少なくとも1種類
の化合物と、一般式(b)、(c)および(d)で示さ
れる化合物から選ばれる少なくとも1種類の化合物との
混合比は、モル比で8:2〜2:8の範囲内にあること
が好ましく、モル比で7:3〜4:6の範囲内にあるこ
とがより好ましい。一般式(a)で示される化合物の占
める割合が小さいと、例えば、この潤滑剤組成物で磁気
記録媒体の潤滑剤層を形成した場合、潤滑剤層の炭素膜
への付着強度が低下するおそれがある。また、一般式
(b)、(c)および(d)で示される化合物から選ば
れる化合物の占める割合が小さいと、例えば、この潤滑
剤組成物で磁気記録媒体の潤滑剤層を形成した場合、磁
気記録媒体の潤滑性能が低下するおそれがある。
【0042】本発明の潤滑剤組成物には、一般式(a)
で示される化合物が2種類以上含まれていてよい。ま
た、一般式(b)、(c)および(d)で示される化合
物から2種類以上の化合物が選択されてよく、潤滑剤組
成物に、例えば、一般式(b)で示される化合物と一般
式(c)で示される化合物とが含まれていてよい。その
場合にも、一般式(a)〜(d)で示される化合物は上
記の条件を満たすように混合することが好ましい。例え
ば、潤滑剤組成物に、一般式(a)で示される2種類の
化合物、ならびに一般式(b)で示される化合物および
一般式(c)で示される化合物が含まれる場合、[一般
式(a)で示される2種類の化合物を合わせた量]:
[一般式(b)で示される化合物と一般式(c)で示さ
れる化合物とを合わせた量]が、モル比で8:2〜2:
8の範囲内にあるようにすることが好ましい。
【0043】本発明の潤滑剤組成物は、一般式(a)、
(b)、(c)および(d)で示される化合物以外の成
分、例えば、公知の潤滑剤、防錆剤、または極圧剤等を
含んでよい。その場合、一般式(a)、(b)、(c)
および(d)で示される化合物以外の成分が占める割合
は、組成物の全量中、30重量%未満であることが好ま
しく、20重量%未満であることがより好ましい。それ
らの成分の占める割合が、30重量%以上であると、例
えば、この組成物で磁気記録媒体の潤滑剤層を形成した
場合に、良好な潤滑特性を磁気記録媒体に付与すること
ができない場合がある。
【0044】本発明の第2の要旨である磁気記録媒体
は、非磁性基板上に、強磁性金属薄膜、炭素膜および潤
滑剤層がこの順に形成されて成る磁気記録媒体であっ
て、潤滑剤層が上記の潤滑剤組成物を含有するものであ
る。そこで、次に、本発明の磁気記録媒体を構成する各
層について、その製造方法とともに図面を参照しながら
説明する。
【0045】図1は本発明の磁気記録媒体の一態様であ
る金属薄膜型磁気テープ(以下、単に磁気テープとい
う)の断面図である。この磁気テープは、非磁性基板
(1)の一方の面に強磁性金属薄膜(2)、炭素膜
(3)および潤滑剤層(4)がこの順に形成され、他方
の面にバックコート層(5)が形成されたものである。
したがって、その構造は、下から順にバックコート層
(5)、非磁性基板(1)、強磁性金属薄膜(2)、炭
素膜(3)および潤滑剤層(4)が積層された構造とな
っている。
【0046】先に述べたように潤滑剤層以外の層および
その形成方法については公知であり、常套の材料および
形成方法を採用して形成することができる。
【0047】例えば、非磁性基板(1)として、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、芳
香族ポリアミドもしくは芳香族ポリイミドから成るフイ
ルム、アルミ基板またはガラス基板等を使用することが
できる。実用信頼性と良好なRF出力とを両立するため
に、この非磁性基板(1)における表面、すなわち強磁
性金属薄膜と接する面には直径50〜700nm、高さ5
〜70nmの突起形成処理が施されていることが好まし
い。突起は、具体的には、例えば、SiO2、ZnO等
の無機物質から成る超微粒子、あるいはイミド等の有機
物質から成る超微粒子を非磁性基板の表面に分散、固着
させることにより形成され、あるいは、そのような微粒
子を含む高分子材料をフィルムに成形することにより形
成される。
【0048】強磁性金属薄膜(2)はイオンプレーティ
ング法、スパッタリング法もしくは電子ビーム蒸着法等
で形成することができる。強磁性金属薄膜(2)の材料
は、Co、FeおよびNi等の強磁性金属、ならびにC
o−NiおよびCo−Cr等の合金から適宣選択される。強
磁性金属薄膜は一般には酸素雰囲気下で形成され、した
がって、強磁性金属薄膜には、酸素が例えば強磁性金属
の酸化物の形態で含まれる。強磁性金属薄膜(2)の厚
さは50nm〜300nmが一般的である。
【0049】炭素膜(3)は、ビッカース硬度が約2.
45×104N/mm2(約2500kgf/mm2)と高く、磁
気テープのダメージを潤滑剤層(4)と共に防止してい
る。実用信頼性と出力とのバランスを考慮すれば、その
厚さは10〜20nmであることが好ましい。この炭素膜
(3)は、炭化水素ガスのみ、あるいは炭化水素ガスと
不活性ガスとの混合ガスを用いたプラズマCVD法によ
り形成される。
【0050】具体的には、真空容器中に炭化水素ガスま
たは炭化水素ガスとアルゴン等の不活性ガスの混合ガス
を導入し、容器内の圧力を1.33×10-1〜1.33
×102Pa(0.001〜1Torr)に保った状態で真空
容器内部で放電を発生させ、炭化水素ガスのプラズマを
発生させて炭素膜(3)を強磁性金属薄膜(2)上に形
成させる。放電形式は外部電極方式および内部電極方式
のいずれでも良く、放電周波数は実験的に決めることが
できる。また、非磁性基板(1)側に配置される電極に
0KVから−3KVの電圧を印加することによって、炭
素膜(3)の硬度を増大させることができ、また炭素膜
(3)と強磁性金属薄膜(2)との密着性を向上させる
ことができる。炭化水素ガスとしては、メタン、エタ
ン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタンもしくはベンゼン等を用いることができ
る。
【0051】なお、硬質の炭素膜(3)を形成するため
には、放電エネルギーを大きくすることが望ましく、併
せて非磁性基板(1)の温度を高温に維持することが望
ましい。例えば、放電エネルギーは、交流電流、例えば
高周波電流と直流電流とを重畳して実効値を600V以
上にすることが望ましい。
【0052】本発明においては、炭素膜(3)の表層部
に含窒素プラズマ重合膜(図示省略)を形成し、潤滑剤層
(4)が炭素膜の含窒素プラズマ重合膜上に形成されて
いることが好ましい。含窒素プラズマ重合膜が形成され
ることにより、炭素膜の表層部にアミノ基が存在するこ
ととなり、その結果、潤滑剤層と炭素膜との間の付着強
度がより大きくなり、磁気記録媒体の耐久性がより向上
することとなる。そして、潤滑剤層に特定の含フッ素化
合物を含有させることと相俟って電磁変換特性が損なわ
れることなく優れた潤滑性能を有する走行耐久性および
スチル耐久性が向上した実用信頼性の高い磁気記録媒体
が得られる。
【0053】含窒素プラズマ重合膜は、真空容器中にプ
ロピルアミン、ブチルアミン、エチレンジアミン、プロ
ピレンジアミンもしくはテトラメチレンジアミン等のア
ミン化合物をガス化して導入し、容器内の圧力を1.3
3×10-1〜1.33×10 2Pa(0.001〜1Tor
r)に保った状態で真空容器内部に高周波放電を生じさ
せて形成する。含窒素プラズマ重合膜を形成することに
より潤滑剤組成物の化学吸着力が向上し、その結果、潤
滑剤層と炭素膜との間の付着強度が向上する。含窒素プ
ラズマ重合膜の膜厚は3nm未満が適当であり、これより
も含窒素プラズマ重合膜が厚い場合には炭素膜の保護効
果が低下する。なお、炭素膜の表層部に含窒素プラズマ
重合膜を形成する方法は、米国特許第5,540,957
号および第5,637,393号に開示されており、この
引用によりこれらの特許に開示された内容は本明細書の
一部を構成する。
【0054】潤滑剤層(4)を構成する潤滑剤組成物は
前述したとおりである。本発明においては、潤滑剤層
(4)中に含まれる本発明の潤滑剤組成物の量は、潤滑
剤層の表面1m2当たり0.1〜50mgであることが好
ましく、0.5〜5mgであることがより好ましい。潤滑
剤層にこのような少量の化合物を均一に存在させるため
に、本発明の磁気記録媒体の潤滑剤層は次の方法で形成
することが望ましい。
【0055】潤滑剤層(4)は、常套の材料および手段
を用いて非磁性基板の上に強磁性金属薄膜(2)および
炭素膜(3)をこの順に形成した後、炭素膜(3)上に
形成する。潤滑剤層(4)の形成工程は、本発明の潤滑
剤組成物を炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒の混合有
機溶媒に溶解して塗布液を調製し、これを相対湿度が1
0〜40%の範囲内にある環境下で炭素膜(3)に塗布
する工程を含む。
【0056】本発明で使用できる炭化水素系溶媒は、例
えばトルエン、ヘキサン、ヘプタン、およびオクタン等
であり、本発明で使用できるアルコール系溶媒は、例え
ばメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアル
コールおよびイソプロピルアルコール等の低級アルコー
ルである。アルコール系溶媒の割合が大きすぎると塗布
ムラが生じやすく、一方、炭化水素系溶媒の割合が大き
すぎると不経済であるため、両者は混合割合が重量比で
1:9〜9:1の範囲、好ましくは3:7〜7:3の範
囲となるように混合して使用することが好ましい。塗布
液の濃度および塗布厚は、溶媒が蒸発した後に炭素膜
(3)上に形成される潤滑剤層(4)の厚さが所望の厚
さになるように選択する。一般には、潤滑剤組成物の濃
度が100ppm〜4000ppmである塗布液を、1
μm〜50μmの厚さとなるように塗布することが好ま
しい。
【0057】塗布液は、相対湿度が10〜40%の範囲
内にある環境下で塗布することが好ましい。相対湿度が
10%未満では静電気が発生しやすく、また、そのよう
な湿度の環境を作るための設備に費用がかかるという問
題があり、相対湿度が40%を超えると塗布ムラが生じ
やすくなるという問題がある。
【0058】潤滑剤層(4)は潤滑剤組成物に応じて最
適膜厚が決定され、その厚さは一般に3〜5nmである。
塗布方法はバーコーティング法、グラビアコーティング
法、リバースロールコーティング法、ダイコーティング
法、ディピッング法もしくはスピンコート法等の湿式塗
布法あるいは有機蒸着法のいずれを採用してもよい。塗
布液を塗布した後、乾燥処理して有機溶媒を蒸発させる
と、炭素膜(3)上に潤滑剤組成物の層(4)が形成さ
れる。乾燥処理は加熱することにより、もしくは自然乾
燥によって実施することができる。
【0059】特定の混合有機溶媒を用いて所定の相対湿
度下で潤滑剤層を形成することにより、塗布ムラのない
均一な厚さの潤滑剤層が得られ、しかも溶媒が最終的に
蒸発した後には数nmという非常に薄い潤滑剤層を形成さ
せることができる。その結果、優れた潤滑性能を有する
実用信頼性の高い磁気記録媒体が得られる。
【0060】バックコート層(5)は、ポリウレタン、
ニトロセルロース、ポリエステル、カーボンおよび炭酸
カルシウム等から選ばれる1つもしくは複数の材料によ
り形成される層であり、その厚さは約500nmとするこ
とが好ましい。
【0061】
【実施例】次に、本発明の具体的な実施例について説明
するが、本発明はこの実施例に限定されるものではな
い。
【0062】(実施例1)非磁性基板(1)として、幅
が500mm、厚さが6.3μmであって、表面に高さが
30nm、直径が200nmの突起が1mm2あたり105から
109個形成されたポリエチレンテレフタレートフィル
ムを使用した。なお、突起の数はSTM分析で測定した
値である。この非磁性基板(1)の表面に、酸素を導入
しながら斜方真空蒸着法によりCo(80)−Ni(2
0)(カッコ内は混合モル比)から成る厚さ180nmの
強磁性金属薄膜(2)を形成した。
【0063】次いで、非磁性基板(1)の裏面に、ポリ
ウレタン、ニトロセルロースおよびカーボンブラックで
構成された固形分30%のメチルエチルケトン/トルエ
ン/シクロヘキサノン溶液をリバースロールコータによ
り塗布して、乾燥後の厚さが約500nmのバックコート
層(5)を形成した。
【0064】次に強磁性金属薄膜(2)上に、プラズマ
CVD法によって厚さ15nmの炭素膜(3)を形成し
た。炭素膜は、真空容器中にヘキサンガスとアルゴンガ
スとを4:1の比(圧力比)で混合したガスを導入し、
トータルガス圧を4.0×10 1Pa(0.3Torr)に保
ちながら、周波数20KHz、電圧1500Vの交流と
1000Vの直流を重畳し、これを放電管内の電極に印
加することによって形成した。さらに、炭素膜(3)上
にプロピルアミンガスを導入し、6.67Pa(0.05
Torr)の圧力を保った状態で10KHzの高周波プラズ
マ処理を行ない、炭素膜(3)の表層部に厚さ2.5nm
の含窒素プラズマ重合膜を形成した。
【0065】潤滑剤組成物として、化学式(a1)で示
される化合物と化学式(b1)で示される化合物(Ausi
mont社製のFomblin Z DOL)とをモル比で5:5となる
ように配合したものを用意した。本実施例においては、
パーフルオロエチレンオキサイドの数(n)がそれぞれ
異なる三種類の化合物を別個に製造し、それらを重量比
で1(n=2):2(n=3):1(n=4)の割合で
混合したものを化学式(a1)で示される化合物として
用いた。
【0066】
【化11】 (式中、nは2〜4の整数)
【0067】
【化12】
【0068】この潤滑剤組成物を、イソプロピルアルコ
ールとトルエンとを重量比で1:1となるように混合し
た混合有機溶媒に、その濃度が2000ppmとなるよ
うに溶解して塗布液を調製した。そしてこの塗布液を、
23℃、相対湿度30%の環境下で、リバースロールコ
ータを用いて湿式塗布法で厚さ4μmとなるように塗布
した後、乾燥した。最終的に炭素膜(3)上には、1m
2あたり4mgの潤滑剤組成物が含まれる、厚さ4nmの潤
滑剤層(4)が形成された。
【0069】以上のようにして作製したテープ素材をス
リッタで8mm幅に裁断し、8mm幅の磁気テープ試料
(全厚7μm、60分長)を作製した。
【0070】(実施例2〜17)化学式(a1)〜(a
7)で示される化合物、化学式(b1)で示される化合
物、化合式(c1)で示される化合物(Ausimont社製の
Fomblin Z DIAC)および化学式(d1)で示される化
合物から、2種類の化合物を表1〜表3に示すように選
択し、それぞれ同表に示す割合で配合した潤滑剤組成物
を用いて、実施例1と同様の方法で磁気テープ試料をそ
れぞれ作製した。なお、化学式(d1)で示される化合
物は、化学式(b1)で示される化合物とC1735CO
OHとをエステル化反応させて得たものである。
【0071】
【化13】
【0072】
【化14】
【0073】
【化15】
【0074】
【化16】
【0075】
【化17】
【0076】
【化18】
【0077】
【化19】
【0078】
【化20】
【0079】(実施例18)炭素膜の表層部に含窒素プ
ラズマ重合膜を形成する工程を省略したこと以外は、実
施例1と同様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0080】(実施例19)化学式(a1)で示される
化合物および化学式(b1)で示される化合物のモル比
を5:5から8:2に変化させたこと以外は、実施例1
と同様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0081】(実施例20)化学式(a1)で示される
化合物および化学式(b1)で示される化合物のモル比
を5:5から7:3に変化させた以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0082】(実施例21)化学式(a1)で示される
化合物および化学式(b1)で示される化合物のモル比
を5:5から4:6に変化させた以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0083】(実施例22)化学式(a1)で示される
化合物および化学式(b1)で示される化合物のモル比
を5:5から2:8に変化させた以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0084】(実施例23)23℃、相対湿度35%の
環境下において、塗布液を、リバースロールコータを用
いて湿式塗布法で塗布したこと以外は、実施例1と同様
の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0085】(実施例24)イソプロピルアルコールお
よびトルエンからなる有機溶媒の重量比を1:1(5:
5)から9:1に変化させたこと以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0086】(実施例25)イソプロピルアルコールお
よびトルエンからなる有機溶媒の重量比を1:1(5:
5)から7:3に変化させたこと以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0087】(実施例26)イソプロピルアルコールお
よびトルエンからなる有機溶媒の重量比を1:1(5:
5)から3:7に変化させたこと以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0088】(実施例27)イソプロピルアルコールお
よびトルエンからなる有機溶媒の重量比を1:1(5:
5)から1:9に変化させたこと以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0089】(比較例1)化学式(a1)で示される化
合物および化学式(b1)で示される化合物から成る2
成分系の潤滑剤組成物に代えて、公知の潤滑剤である上
記化学式(x1)で示される化合物のみを用いたこと以
外は、実施例1と同様の方法で磁気テープ試料を作製し
た。
【0090】(比較例2)化学式(a1)で示される化
合物と化合物(c1)とを配合した2成分系の潤滑剤組
成物に代えて、公知の潤滑剤である上記化学式(x2)
で示される化合物のみを用いたこと以外は、実施例1と
同様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0091】(比較例3)イソプロピルアルコールおよ
びトルエンからなる混合有機溶媒に代えてイソプロピル
アルコールのみを用いたこと以外は、実施例1と同様の
方法で磁気テープ試料を作製した。
【0092】(比較例4)イソプロピルアルコールおよ
びトルエンから成る混合有機溶媒に代えてトルエンのみ
を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で磁気テー
プ試料を作製した。
【0093】(比較例5)23℃、相対湿度45%の環
境下において、塗布液をリバースロールコータを用いて
湿式塗布法で塗布したこと以外は、実施例1と同様の方
法で磁気テープ試料を作製した。
【0094】(比較例6)23℃、相対湿度65%の環
境下において、塗布液をリバースロールコータを用いて
湿式塗布法で塗布したこと以外は、実施例1と同様の方
法で磁気テープ試料を作製した。
【0095】以上の実施例1〜27および比較例1〜6
で得られた8mm幅の磁気テープ試料について、それぞ
れ以下に示す評価試験(1)〜(2)を実施した。それ
ぞれの試験で得られた結果を、表1〜表3に示す。
【0096】(1)走行耐久性試験 RF(高周波)出力測定用に改造した市販8mmVTR
(ソニー(株)製 EV−S900)を用い、各8mm幅
テープ試料を5℃、80%RHの環境下で300パス、
300時間繰り返し再生を行った後のRF出力変化を測
定した。試験前に対する試験後の変化をデシベル表示で
示した。
【0097】テープダメージは、テープ試料を目視観察
および微分干渉顕微鏡で状態観察し、5段階で評価し
た。評価基準は次のとおりである。 5:実用上全く問題ない。 4:実用上問題ない。 3:実用可能であるが、改善が必要である。 2:テープダメージがひどく、実用性は殆どない。 1:テープダメージがあまりにもひどく、実用性は全く
ない。
【0098】(2)スチル寿命試験 初期スチル寿命は、スチル寿命測定用に改造した市販8
mmVTR(ソニー(株)製 EV−S900)を用い、
3℃、5%RH環境下において測定した。なお、初期ス
チル寿命は初期から出力が6dB低下するまでの時間で
示した。
【0099】保存後スチル寿命は、40℃、80%RH
環境下に1ヶ月放置した後、初期スチル寿命の測定と同
様の方法で測定した。
【0100】
【表1】
【0101】
【表2】
【0102】
【表3】
【0103】上記表1〜表3より明らかなように、比較
例1〜6との比較において、実施例1〜27の出力低下
は小さく、かつテープダメージの問題は発生せず、さら
に初期、保存後のスチル寿命はいずれも良好であった。
【0104】実施例1〜17、および19〜27は、従
来の潤滑剤を用いた比較例1および2と比較して、いず
れも優れた走行耐久性ならびにスチル寿命を示した。こ
のように、炭素膜(3)上に、一般式(a)で示される
化合物から選ばれる少なくとも1種類の化合物と、一般
式(b)、(c)および(d)で示される化合物から選
ばれる少なくとも1種類の化合物とを含有する潤滑剤組
成物で潤滑剤層(4)を形成した実施例1〜17、およ
び19〜27の各磁気テープ試料は、走行耐久性、スチ
ル寿命等の実用信頼性の点で明らかに優れている。
【0105】また、炭素膜(3)の表層部に含窒素プラ
ズマ重合膜が形成されていない実施例18の試料のスチ
ル寿命が他の実施例と比べて劣っていることより、含窒
素プラズマ重合膜が磁気テープ試料の潤滑性能の向上に
寄与していることが判る。
【0106】化学式(a1)で示される化合物と化学式
(b1)で示される化合物との混合比を変化させた実施
例1および実施例19〜22がいずれも優れた走行耐久
性およびスチル耐久性を示すことより、一般式(a)で
示される化合物と一般式(b)で示される化合物との混
合比をモル比で8:2〜2:8の範囲とすることが、実
用信頼性の高い磁気記録媒体を得るうえで好ましいこと
が判る。また、実施例1、19および20より、一般式
(a)で示される化合物と一般式(b)で示される化合
物とのより好ましい混合比はモル比で7:3〜4:6の
範囲であることが判る。
【0107】実施例1および24〜27と比較例3およ
び4とから、潤滑剤層(4)の潤滑剤組成物を炭化水素
系溶媒とアルコール系溶媒の混合有機溶媒に溶解して調
製した塗布液を炭素膜(3)上に塗布して潤滑剤層
(4)を形成することにより、走行耐久性およびスチル
寿命等の実用信頼性の点で優れた磁気テープ試料を安定
して作製できることが判る。また、潤滑剤組成物を含む
塗布液を高い湿度の下で塗布した比較例5および6は、
実施例1と同じ潤滑剤組成物を使用しているにもかかわ
らず、その走行耐久性およびスチル寿命はともに劣り、
高湿度下での塗布が望ましくないことを示している。
【0108】実施例1〜27では、潤滑剤層(4)の形
成工程において湿式塗布法であるリバースロールコーテ
ィング法を用いたが、有機蒸着法によっても同様の作用
効果を有する潤滑剤層(4)を形成することが可能であ
る。
【0109】なお、以上説明した実施例1〜27では、
本発明の磁気記録媒体およびその製造方法を市販8mmV
TR用テープに適用した場合についてのみ説明したが、
本発明の磁気記録媒体およびその製造方法はこれに限定
されるものではなく、他の金属薄膜型磁気テープや磁気
ディスク等についても適用できるものである。
【0110】
【発明の効果】以上説明したように、特定の含フッ素化
合物が二種類以上組み合わされて成る本発明の潤滑剤組
成物は優れた潤滑性能を呈する。そして、この潤滑剤組
成物で磁気記録媒体の潤滑剤層を形成することによっ
て、潤滑剤層の炭素膜への付着強度が向上した、良好な
潤滑性能を呈する本発明の磁気記録媒体を得ることがで
きる。したがって、本発明の潤滑剤組成物で潤滑剤層を
形成した本発明の磁気記録媒体は、これらの相乗効果に
より、電磁変換特性を損なうことなく、走行耐久性、ス
チル耐久性等の実用信頼性が向上したものとなる。
【0111】また、本発明の磁気記録媒体において炭素
膜の表層部に含窒素プラズマ重合膜を形成することによ
り潤滑剤組成物の化学吸着力が向上するので、潤滑剤層
の炭素膜への付着強度がさらに向上し、優れた潤滑性能
を呈する磁気記録媒体を得ることができる。そしてこれ
らの相乗効果により、本発明の磁気記録媒体は、電磁変
換特性を損なうことなく、走行耐久性、スチル耐久性等
の実用信頼性が向上したものとなる。
【0112】本発明の磁気記録媒体は、潤滑剤層の形成
工程が、潤滑剤組成物を特定の溶媒に溶解して調製した
塗布液を、特定の湿度条件の下で炭素膜上に塗布する工
程を含む製造方法によって製造される。この塗布液を用
いることにより塗布ムラのない均一な厚さの潤滑剤層が
得られる。また、湿度の範囲を限定することにより、潤
滑剤層の性能低下を防止している。従って、本発明の製
造方法によれば、走行耐久性およびスチル寿命等の実用
信頼性の点で優れた本発明の磁気記録媒体を安定して作
製することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の磁気記録媒体の一態様である金属薄
膜型磁気テープの模式的断面図である。
【符号の説明】
1 非磁性基板 2 強磁性金属薄膜 3 炭素膜 4 潤滑剤層 5 バックコート層
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年2月7日(2000.2.7)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の詳細な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、デジタルビデオテ
ープレコーダや高精度ビデオテープレコーダに最適の強
磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体およびそ
の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気記録の分野においては、記
録、再生機器のデジタル化、小型化、長時間化等の高性
能化に伴い、高密度磁気記録媒体の開発が活発に行なわ
れており、最近では塗布型磁気記録媒体に代わって、短
波長記録に極めて有利な金属薄膜型磁気記録媒体が実用
化されている。
【0003】しかしながら、金属薄膜型磁気記録媒体の
磁性層は、極めて良好な表面性を有する、すなわち磁性
層の面の粗度が小さいために磁気ヘッドとの接触面積が
増えるので、信号の記録・再生の過程において磁気ヘッ
ドと高速摺動する間に大きな摩擦力を受けて摩耗されや
すい。磁性層の摩耗は、磁気記録媒体の走行耐久性ある
いはスチル耐久性等に大きな影響を与えるため、これを
低減させることは金属薄膜型磁気記録媒体の研究開発に
おいて大きな課題となっている。
【0004】そこで、磁性層表面に潤滑剤層を設けるこ
とによって摩耗を低減し、走行耐久性およびスチル耐久
性を改善しようとする試みがなされている。潤滑剤層を
設ける場合、磁気記録媒体と磁気ヘッドとのスペーシン
グロスによる出力低下を極力抑えて高出力化を図るべ
く、磁性層表面の潤滑剤層は僅か数nmの厚さで潤滑特性
を発揮することが求められている。そのため、優れた潤
滑特性を示すフッ素系化合物を用いることが広く検討さ
れ、各種化合物の使用が提案されている。そのような化
合物としては、例えば、化学式(x1):
【0005】
【化5】 で示される含フッ素長鎖カルボン酸エステル(特開昭6
2−46431号公報参照)や化学式(x2):
【化6】 で示されるカルボキシル基を有する含フッ素カルボン酸
モノエステル(特開昭61−107529号公報参照)
等が提案されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁気記
録媒体の性能向上に関する要求は厳しく、上記した従来
の潤滑剤では十分な特性を得ることが困難であり、走行
耐久性、スチル耐久性において一層の改善が望まれてい
る。
【0007】本発明は、上記問題に鑑み、電磁変換特性
を損なうことなく、走行耐久性、スチル耐久性に優れ、
高い実用信頼性の磁気記録媒体および磁気記録媒体の製
造方法を提供することを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、分子内にパーフルオロエーテル鎖または
パーフルオロポリエーテル鎖と、パーフルオロアルキル
基またはパーフルオロアルケニル基とを有し、一般式
(a)で示される化合物から選ばれる少なくとも1種類
の化合物と、分子内にパーフルオロポリエーテル鎖を有
し、一般式(b)、(c)および(d)で示される化合
物から選ばれる少なくとも1種類の化合物とを含有する
潤滑剤組成物:
【化7】 (式中、Raはパーフルオロアルキル基またはパーフル
オロアルケニル基であり、Xaは少なくとも1種類のパ
ーフルオロアルキレンオキサイド基を構造単位とする直
鎖のパーフルオロエーテル鎖もしくはパーフルオロポリ
エーテル鎖であり、Zaはフッ素原子もしくは極性基で
あり、fは1以上の整数であり、gは0以上の整数であ
る)
【化8】 (式中、h、iは1以上の整数である)
【化9】 (式中、j、kは1以上の整数である)
【化10】 (式中、p、qは1以上の整数であり、Rbは炭素数4
〜22の脂肪族アルキル基である)を提供することを第
1の要旨とする。
【0009】本発明の第1の要旨に係る潤滑剤組成物
は、特定の二種以上の含フッ素化合物を含んで成るもの
である。それにより、例えば、この潤滑剤組成物を用い
て、非磁性基板の上に強磁性金属薄膜、炭素膜および潤
滑剤層がこの順に形成されて成る磁気記録媒体の潤滑剤
層を形成した場合、潤滑剤層のその下に位置する炭素膜
への付着強度が向上し、かつ優れた潤滑特性が磁気記録
媒体に付与されるので、磁気記録媒体はその電磁変換特
性が損なわれることなく優れた走行耐久性およびスチル
耐久性を呈するものとなる。
【0010】一般式(a)で示される化合物から選ばれ
る少なくとも1種類の化合物は、例えば、本発明の潤滑
剤組成物を磁気記録媒体の潤滑剤層として用いる場合、
磁気ヘッドとの摩擦力を低減し、安定した走行性を確保
するものと考えられる。また、一般式(b)、(c)お
よび(d)で示される化合物から選ばれる少なくとも1
種類の化合物は、極性基が分子の両末端に位置するた
め、例えば、本発明の潤滑剤組成物を磁気記録媒体の潤
滑剤層として用いる場合、潤滑剤層と潤滑剤層の下に位
置する炭素膜と間の付着強度を向上させるものと考えら
れる。
【0011】本発明は、非磁性基板上に強磁性金属薄膜
が設けられ、その強磁性金属薄膜の上に炭素膜を介して
潤滑剤層が設けられて成る磁気記録媒体であって、潤滑
剤層が、上記本発明の第1の要旨に係る潤滑剤組成物を
少なくとも1種類含有することを特徴とする磁気記録媒
体を提供することを第2の要旨とする。上記特定の含フ
ッ素化合物を2種以上組み合わせた潤滑剤組成物を用い
ることにより、潤滑剤層のその下に位置する炭素膜への
付着強度が向上し、かつ優れた潤滑特性が磁気記録媒体
に付与される。そしてこれらの相乗効果により、本発明
の磁気記録媒体は、その電磁変換特性が損なわれること
なく走行耐久性およびスチル耐久性が向上した実用信頼
性の高いものとなる。
【0012】本発明は、上記本発明の磁気記録媒体の製
造方法を提供することを第3の要旨とする。本発明の磁
気記録媒体の製造方法は、潤滑剤層の形成工程に特徴を
有する。それ以外の製造工程は、従来から磁気記録媒体
の製造に用いられている工程であってよい。本発明の製
造方法における潤滑剤層の形成工程は、炭化水素系溶媒
とアルコール系溶媒との混合有機溶媒に上述の潤滑剤組
成物を溶解して調製した塗布液を、相対湿度が10〜4
0%の範囲内にある環境下において、炭素膜上に塗布
し、混合有機溶媒を乾燥させる工程を含むことを特徴と
する。
【0013】炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒の混合
有機溶媒を用い、特定の湿度条件下で潤滑剤組成物を含
む塗布液を塗布することにより、潤滑剤層と炭素膜との
間の付着強度が向上し、かつ塗布ムラが極めて少ない均
一な薄い潤滑剤層が形成され得る。よって本発明の製造
方法によれば、優れた潤滑性能を有する実用信頼性の高
い磁気記録媒体を得ることが可能である。
【0014】上記本発明の製造方法において、炭化水素
系溶媒とアルコール系溶媒との混合割合は重量比で1:
9〜9:1の範囲にあることが好ましい。この範囲で両
者を混合することは、塗布ムラを極力少なくすることを
可能とし、またコスト面でも有利である。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明の第1の要旨である潤滑剤
組成物は、上記一般式(a)で示される化合物から選ば
れる少なくとも1種類の化合物、ならびに上記一般式
(b)、(c)および(d)で示される化合物から選ば
れる少なくとも1種類の化合物を含んで成る。
【0016】一般式(a):
【化11】 (式中、Raはパーフルオロアルキル基またはパーフル
オロアルケニル基であり、Xaは少なくとも1種類のパ
ーフルオロアルキレンオキサイド基を構造単位とする直
鎖のパーフルオロエーテル鎖もしくはパーフルオロポリ
エーテル鎖であり、Zaはフッ素原子もしくは極性基で
あり、fは1以上の整数であり、gは0以上の整数であ
る)で示される化合物は、分子内にパーフルオロエーテ
ル鎖またはパーフルオロポリエーテル鎖と、パーフルオ
ロアルキル基またはパーフルオロアルケニル基とを有す
る。
【0017】Xaは1種類以上のパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基を構造単位とする直鎖のパーフルオロエ
ーテル鎖もしくはパーフルオロポリエーテル鎖である。
本明細書において、パーフルオロアルキレンオキサイド
基(すなわちオキシフルオロアルキレン基)とは、−
(Cw2 wO)−(wは1以上の整数)で示される基を
意味する。一般式(a)において、Xaを構成するパー
フルオロアルキレンオキサイド基は少なくとも1つであ
る。パーフルオロアルキレンオキサイド基が1つである
場合、Xaが形成するエーテル結合は1つであるから、
その場合にはXaを便宜上パーフルオロエーテル鎖と称
する。Xaが1つのパーフルオロアルキレンオキサイド
基で構成される場合、隣接する酸素原子とともに2つの
エーテル結合を有するポリエーテルを形成する。
【0018】Xaは、1種類のパーフルオロアルキレン
オキサイド基を構造単位とするパーフルオロポリエーテ
ル鎖であってもよい。すなわち、Xaは、−(Cw
2 wO)−で示される1種類の基を繰り返し単位として複
数個有して成るものであってよい。この場合、パーフル
オロアルキレンオキサイド基の炭素原子の数(wに相
当)は、潤滑性能と化合物の安定性の点から1〜7であ
ることが好ましく、2〜4であることがより好ましい。
炭素数が多い場合には同分子量の化合物に比べてエーテ
ル結合の数が少なくなるため、潤滑性が劣る傾向にあ
る。また、Xaを構成するパーフルオロアルキレンオキ
サイド基の数は1〜50であることが好ましい。
【0019】Xaは2種類以上のパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基を構造単位とするパーフルオロポリエー
テル鎖であってもよい。
【0020】Xaが2種類以上のパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基を構造単位とする場合、Xaはパーフル
オロアルキレンオキサイド基が種類毎に1つのブロック
を形成して成るパーフルオロポリエーテル鎖であっても
よい。すなわち、Xaは炭素数がKのパーフルオロアル
キレンオキサイド基P個と炭素数がLのパーフルオロア
ルキレンオキサイド基Q個が−(CK2 KO)P(CL2
LO)Q−のように配列して成るものであってもよい。あ
るいは炭素数がそれぞれ、K、L、M個である3種類の
パーフルオロアルキレンオキサイド基がそれぞれP個、
Q個、R個存在し、−(CK2 KO)P(CL2 LO)
Q(CM2 MO)R−のように配列して成るものであって
よい。パーフルオロアルキレンオキサイド基の種類が4
以上の場合も同様である。
【0021】Xaが2種類以上のパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基を構造単位とするパーフルオロポリエー
テル鎖である場合、Xaは、炭素数が1〜7である2〜
3種類、より好ましくは2種類のパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基がそれぞれ1〜30個結合してブロック
を形成し、このブロックが結合して成るパーフルオロポ
リエーテル鎖であることが好ましい。
【0022】また、2種類以上のパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基を構造単位とする場合、その配列形態は
上記の形態に限られない。例えばパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基が種類毎にブロックを形成し、このブロ
ックが規則的あるいはランダムに配列していてもよい。
また各パーフルオロアルキレンオキサイド基が、例えば
交互になるように規則的に、あるいはランダムに配列し
ていてもよい。
【0023】一般式(a)において、fは1以上の整数
であり、好ましくは1〜6である。fが大きい場合に
は、分子全体に占める−(CF2f−鎖の割合が大きく
なるため、同分子量の化合物と比べてエーテル結合の数
が小さくなり、潤滑性能が劣るおそれがある。
【0024】一般式(a)において、gは1〜10の整
数であることが好ましい。すなわち、メチレン鎖は繰り
返し単位として1つの分子の中に1〜10存在すること
が、汎用有機溶媒への良好な溶解性を確保するうえで好
ましい。ただし、一般式(a)においてメチレン鎖は必
ずしも必要ではなく、gは0であってもよい。メチレン
鎖の不存在により本発明の潤滑剤組成物の性能に悪影響
がもたらされることはない。
【0025】一般式(a)におけるZaはフッ素原子ま
たは極性基である。極性基は潤滑剤において、炭素膜へ
の潤滑剤の吸着能力を向上させる役割をする。極性基
は、具体的には、カルボキシル基(−COOH)、水酸
基(−OH)、アミノ基(−NH2)、アミド基(−C
ONH2)、メルカプト基(−SH)、ニトリル基(−
CN)、ホスホン基(−P(O)(OH)2)、エポキシ基
およびハロゲン基等から選択される。また、Zaは−C
OOR1で示されるアルコキシカルボニル基またはOC
OR2で示されるアシルオキシル基であってもよく、そ
の場合R1およびR2はアルキル基またはアルケニル基で
あり、R1およびR2を構成する炭素数は1〜22である
ことが好ましく、12〜18であることがより好まし
い。本発明においては、極性基は特に、カルボキシル基
およびアルコキシカルボニル基であることが好ましい。
aがフッ素原子である場合、一般式(a)で示される
化合物は極性基を有しないパーフルオロポリエーテルと
なる。
【0026】一般式(a)において、Raの炭素骨格構
造は、酸素原子を介して隣接するパーフルオロアルキレ
ンオキサイド基の炭素骨格構造との関係において決定す
ることもできる。例えば、Raの炭素骨格構造は、酸素
原子を介して隣接するパーフルオロアルキレンオキサイ
ド基の炭素骨格構造と同一であってよい。すなわち、例
えば酸素原子を介してRaに隣接するパーフルオロアル
キレンオキサイド基が−(CF2O)−であるとき、Ra
はCF3であってよい。あるいは、Raの炭素骨格構造
は、酸素原子を介して隣接するパーフルオロアルキレン
オキサイド基の炭素骨格構造と異なるものであってよ
い。その場合、Raは、好ましくは炭素原子数が1〜2
0となるような炭素骨格構造を有することが好ましく、
より好ましくは炭素原子数が1〜8となるような炭素骨
格構造を有する。その一例として、一般式(a)におい
て、Xaが炭素数3のパーフルオロアルキレンオキサイ
ド基のみを構造単位とするパーフルオロポリエーテル鎖
であり、gが2であって、Raの炭素骨格構造がn−プ
ロピル基でないもの、例えばn−へプチル基であるフル
オロポリエーテル系化合物を挙げることができる。
【0027】一般式(b):
【化12】 で示される化合物は、分子の両末端に水酸基を有する。
一般式(b)において、hおよびiはいずれも1以上の
整数である。また、hおよびiは、分子内のパーフルオ
ロポリポリエーテル鎖、即ち、−CF2O(C24O)h
(CF2O)iCF 2−の分子量が約200〜約6000
程度、好ましくは約300〜約4000の範囲内にある
ように選択することが好ましい。パーフルオロポリポリ
エーテル鎖の分子量が200未満である場合または60
00を超える場合には、潤滑性および保存信頼性が低下
する場合がある。
【0028】一般式(c):
【化13】 で示される化合物は、分子の両末端にカルボキシル基を
有する。
【0029】一般式(c)において、jおよびkはいず
れも1以上の整数である。また、kおよびjは、分子内
のパーフルオロポリポリエーテル鎖、即ち、−CF2
(C24O)j(CF2O)kCF2−の分子量が約200
〜約6000程度、好ましくは約300〜約4000の
範囲内にあるように選択することが好ましい。当該範囲
の分子量が好ましい理由は先に一般式(b)に関して説
明したとおりである。
【0030】一般式(d):
【化14】 で示される化合物は、分子の両末端にアシルオキシル基
を有する。
【0031】アシルオキシル基のRbは、炭素数が、好
ましくは4〜22、より好ましくは12〜22である脂
肪族アルキル基である。Rbは直鎖状であっても、枝分
かれしたものであってもよい。pおよびqはいずれも1
以上の整数であり、いずれも1〜30の整数であること
が好ましく、1〜8の整数であることがより好ましい。
また、pおよびqは、分子内のパーフルオロポリポリエ
ーテル鎖、即ち、−CF2O(C24O)p(CF2O)q
CF2−の分子量が約200〜約6000程度、好まし
くは約300〜約4000の範囲内にあるように選択す
ることが好ましい。当該範囲の分子量が好ましい理由は
先に一般式(b)に関して説明したとおりである。
【0032】一般式(a)〜(d)で示される化合物は
いずれも、炭化水素ポリエーテルをフッ化水素掃去剤の
存在下で直接フッ素化法によりフッ素化する工程を含む
製造方法により製造することができる。フッ素化は炭化
水素ポリエーテルの水素を全てフッ素で置換する、いわ
ゆるペルフルオロ化であることが好ましい。この製造方
法においては、所定の主骨格を既に有しているポリエー
テルをフッ素化するので、フッ素化したモノマーを重合
させる場合と異なり、所定の分子量および分子構造を有
するフルオロポリエーテルを高純度で得ることができ
る。
【0033】なお、炭化水素ポリエーテルを直接フッ素
化する方法は、特公平7−64929号公報において詳
細に説明されており、実際の製造に際してはその記載を
参照することができる。また、この引用により当該公報
に開示された内容は本明細書の一部を構成する。
【0034】フッ素化する炭化水素ポリエーテルは、例
えば、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオ
キシエチレンポリオキシアルキレンエーテルである。一
般式(b)、(c)および(d)で示される化合物は、
ポリオキシエチレンポリオキシメチレンエーテルから得
られる。
【0035】一般式(a)〜(d)で示される化合物を
生成する方法としては、例えば、ポリオキシエチレング
リコール、ポリオキシアルキレングリセリン、またはア
ルキレンオキサイド基を複数有して成るエリトリトール
の変性体等のアルコールを出発原料とし、これをフッ素
化した後、所定の反応に付す方法がある。例えば、これ
らのアルコールを直接フッ素化法によりペルフルオロ化
して、末端が酸フルオライド(−COF)に変性したパ
ーフルオロポリエーテル系化合物を生成させた後、これ
を加水分解すると、カルボキシル基を極性基として有す
るパーフルオロポリエーテル系化合物が得られる。この
カルボキシル基を有するパーフルオロポリエーテル系化
合物を還元するとカルボキシル基が−CH2OHとな
り、水酸基を有するパーフルオロポリエーテル系化合物
が得られる。
【0036】また、カルボキシル基を有するパーフルオ
ロポリエーテル系化合物をアンモニアと反応させるとカ
ルボキシル基が−CONH2となり、アミド基を有する
パーフルオロポリエーテル系化合物が得られる。このア
ミド基を有するパーフルオロポリエーテル系化合物を還
元すると、アミド基が−CH2NH2となり、アミノ基を
有するパーフルオロポリエーテル系化合物が得られる。
また、アミド基を有するパーフルオロポリエーテル系化
合物を脱水すると、ニトリル基を有するパーフルオロポ
リエーテル系化合物が得られる。
【0037】アルコキシカルボニル基を有するパーフル
オロポリエーテル系化合物は、カルボキシル基を有する
パーフルオロポリエーテル系化合物と所定の脂肪族アル
コールをエステル化反応させることにより得られる。ア
シルオキシル基を有するパーフルオロポリエーテル系化
合物は、水酸基を有するパーフルオロポリエーテル系化
合物と所定の脂肪族カルボン酸をエステル化反応させる
ことにより得られる。
【0038】また、水酸基を有するパーフルオロポリエ
ーテル系とハロゲン化チオニル(SOX2;Xはハロゲ
ン)を反応させることにより、水酸基がハロゲンで置き
換えられ、極性基がハロゲン基であるパーフルオロポリ
エーテル系化合物が得られる。そして、このハロゲン基
を有するパーフルオロポリエーテル系化合物を水硫化カ
リウムと反応させることにより、メルカプト基を有する
パーフルオロポリエーテル系化合物が得られる。また、
極性基としてホスホン基を有するパーフルオロポリエー
テル系化合物は、水酸基を有するパーフルオロポリエー
テル系化合物と三塩化リンとのエステル化反応により生
成できる。
【0039】以上、説明したような方法により、アルコ
ールを出発原料として、極性基が水酸基、アシルオキシ
ル基、アミノ基、ハロゲン基またはメルカプト基である
化合物を得る場合、当該極性基は少なくとも1つのメチ
レン鎖に結合する構造となり、したがって一般式(a)
で示される化合物がそのような極性基を有する場合、g
は1以上の整数となる。また、一般式(b)で示される
化合物および一般式(d)で示される化合物はメチレン
鎖を有するものとなる。
【0040】なお、一般式(b)、(c)および(d)
で示される化合物は、一般式(b)におけるhおよび
i、一般式(c)におけるjおよびk、ならびに一般式
(d)におけるpおよびqが、上記の条件を満たす限り
において、従来公知の又は市販されているパーフルオロ
ポリエーテル系化合物であってよく、あるいはそれを所
定の化学反応に付して得たものであってよい。例えば、
一般式(b)で示される化合物として、Ausimont社製の
Fomblin Z DOLがあり、一般式(c)で示される化合物
として、Ausimont社製のFomblin Z DIACがある。ま
た、一般式(d)で示される化合物は、前記のAusimont
社製のFomblin Z DOLと、RbCOOHで示されるカル
ボン酸とをエステル化反応させることにより得られる。
【0041】本発明の潤滑剤組成物において、一般式
(a)で示される化合物から選ばれる少なくとも1種類
の化合物と、一般式(b)、(c)および(d)で示さ
れる化合物から選ばれる少なくとも1種類の化合物との
混合比は、モル比で8:2〜2:8の範囲内にあること
が好ましく、モル比で7:3〜4:6の範囲内にあるこ
とがより好ましい。一般式(a)で示される化合物の占
める割合が小さいと、例えば、この潤滑剤組成物で磁気
記録媒体の潤滑剤層を形成した場合、潤滑剤層の炭素膜
への付着強度が低下するおそれがある。また、一般式
(b)、(c)および(d)で示される化合物から選ば
れる化合物の占める割合が小さいと、例えば、この潤滑
剤組成物で磁気記録媒体の潤滑剤層を形成した場合、磁
気記録媒体の潤滑性能が低下するおそれがある。
【0042】本発明の潤滑剤組成物には、一般式(a)
で示される化合物が2種類以上含まれていてよい。ま
た、一般式(b)、(c)および(d)で示される化合
物から2種類以上の化合物が選択されてよく、潤滑剤組
成物に、例えば、一般式(b)で示される化合物と一般
式(c)で示される化合物とが含まれていてよい。その
場合にも、一般式(a)〜(d)で示される化合物は上
記の条件を満たすように混合することが好ましい。例え
ば、潤滑剤組成物に、一般式(a)で示される2種類の
化合物、ならびに一般式(b)で示される化合物および
一般式(c)で示される化合物が含まれる場合、[一般
式(a)で示される2種類の化合物を合わせた量]:
[一般式(b)で示される化合物と一般式(c)で示さ
れる化合物とを合わせた量]が、モル比で8:2〜2:
8の範囲内にあるようにすることが好ましい。
【0043】本発明の潤滑剤組成物は、一般式(a)、
(b)、(c)および(d)で示される化合物以外の成
分、例えば、公知の潤滑剤、防錆剤、または極圧剤等を
含んでよい。その場合、一般式(a)、(b)、(c)
および(d)で示される化合物以外の成分が占める割合
は、組成物の全量中、30重量%未満であることが好ま
しく、20重量%未満であることがより好ましい。それ
らの成分の占める割合が、30重量%以上であると、例
えば、この組成物で磁気記録媒体の潤滑剤層を形成した
場合に、良好な潤滑特性を磁気記録媒体に付与すること
ができない場合がある。
【0044】本発明の第2の要旨である磁気記録媒体
は、非磁性基板上に、強磁性金属薄膜、炭素膜および潤
滑剤層がこの順に形成されて成る磁気記録媒体であっ
て、潤滑剤層が上記の潤滑剤組成物を含有するものであ
る。そこで、次に、本発明の磁気記録媒体を構成する各
層について、その製造方法とともに図面を参照しながら
説明する。
【0045】図1は本発明の磁気記録媒体の一態様であ
る金属薄膜型磁気テープ(以下、単に磁気テープとい
う)の断面図である。この磁気テープは、非磁性基板
(1)の一方の面に強磁性金属薄膜(2)、炭素膜
(3)および潤滑剤層(4)がこの順に形成され、他方
の面にバックコート層(5)が形成されたものである。
したがって、その構造は、下から順にバックコート層
(5)、非磁性基板(1)、強磁性金属薄膜(2)、炭
素膜(3)および潤滑剤層(4)が積層された構造とな
っている。
【0046】先に述べたように潤滑剤層以外の層および
その形成方法については公知であり、常套の材料および
形成方法を採用して形成することができる。
【0047】例えば、非磁性基板(1)として、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、芳
香族ポリアミドもしくは芳香族ポリイミドから成るフイ
ルム、アルミ基板またはガラス基板等を使用することが
できる。実用信頼性と良好なRF出力とを両立するため
に、この非磁性基板(1)における表面、すなわち強磁
性金属薄膜と接する面には直径50〜700nm、高さ5
〜70nmの突起形成処理が施されていることが好まし
い。突起は、具体的には、例えば、SiO2、ZnO等
の無機物質から成る超微粒子、あるいはイミド等の有機
物質から成る超微粒子を非磁性基板の表面に分散、固着
させることにより形成され、あるいは、そのような微粒
子を含む高分子材料をフィルムに成形することにより形
成される。
【0048】強磁性金属薄膜(2)はイオンプレーティ
ング法、スパッタリング法もしくは電子ビーム蒸着法等
で形成することができる。強磁性金属薄膜(2)の材料
は、Co、FeおよびNi等の強磁性金属、ならびにC
o−NiおよびCo−Cr等の合金から適宣選択される。強
磁性金属薄膜は一般には酸素雰囲気下で形成され、した
がって、強磁性金属薄膜には、酸素が例えば強磁性金属
の酸化物の形態で含まれる。強磁性金属薄膜(2)の厚
さは50nm〜300nmが一般的である。
【0049】炭素膜(3)は、ビッカース硬度が約2.
45×104N/mm2(約2500kgf/mm2)と高く、磁
気テープのダメージを潤滑剤層(4)と共に防止してい
る。実用信頼性と出力とのバランスを考慮すれば、その
厚さは10〜20nmであることが好ましい。この炭素膜
(3)は、炭化水素ガスのみ、あるいは炭化水素ガスと
不活性ガスとの混合ガスを用いたプラズマCVD法によ
り形成される。
【0050】具体的には、真空容器中に炭化水素ガスま
たは炭化水素ガスとアルゴン等の不活性ガスの混合ガス
を導入し、容器内の圧力を1.33×10-1〜1.33
×102Pa(0.001〜1Torr)に保った状態で真空
容器内部で放電を発生させ、炭化水素ガスのプラズマを
発生させて炭素膜(3)を強磁性金属薄膜(2)上に形
成させる。放電形式は外部電極方式および内部電極方式
のいずれでも良く、放電周波数は実験的に決めることが
できる。また、非磁性基板(1)側に配置される電極に
0KVから−3KVの電圧を印加することによって、炭
素膜(3)の硬度を増大させることができ、また炭素膜
(3)と強磁性金属薄膜(2)との密着性を向上させる
ことができる。炭化水素ガスとしては、メタン、エタ
ン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタンもしくはベンゼン等を用いることができ
る。
【0051】なお、硬質の炭素膜(3)を形成するため
には、放電エネルギーを大きくすることが望ましく、併
せて非磁性基板(1)の温度を高温に維持することが望
ましい。例えば、放電エネルギーは、交流電流、例えば
高周波電流と直流電流とを重畳して実効値を600V以
上にすることが望ましい。
【0052】本発明においては、炭素膜(3)の表層部
に含窒素プラズマ重合膜(図示省略)を形成し、潤滑剤層
(4)が炭素膜の含窒素プラズマ重合膜上に形成されて
いることが好ましい。含窒素プラズマ重合膜が形成され
ることにより、炭素膜の表層部にアミノ基が存在するこ
ととなり、その結果、潤滑剤層と炭素膜との間の付着強
度がより大きくなり、磁気記録媒体の耐久性がより向上
することとなる。そして、潤滑剤層に特定の含フッ素化
合物を含有させることと相俟って電磁変換特性が損なわ
れることなく優れた潤滑性能を有する走行耐久性および
スチル耐久性が向上した実用信頼性の高い磁気記録媒体
が得られる。
【0053】含窒素プラズマ重合膜は、真空容器中にプ
ロピルアミン、ブチルアミン、エチレンジアミン、プロ
ピレンジアミンもしくはテトラメチレンジアミン等のア
ミン化合物をガス化して導入し、容器内の圧力を1.3
3×10-1〜1.33×10 2Pa(0.001〜1Tor
r)に保った状態で真空容器内部に高周波放電を生じさ
せて形成する。含窒素プラズマ重合膜を形成することに
より潤滑剤組成物の化学吸着力が向上し、その結果、潤
滑剤層と炭素膜との間の付着強度が向上する。含窒素プ
ラズマ重合膜の膜厚は3nm未満が適当であり、これより
も含窒素プラズマ重合膜が厚い場合には炭素膜の保護効
果が低下する。なお、炭素膜の表層部に含窒素プラズマ
重合膜を形成する方法は、米国特許第5,540,957
号および第5,637,393号に開示されており、この
引用によりこれらの特許に開示された内容は本明細書の
一部を構成する。
【0054】潤滑剤層(4)を構成する潤滑剤組成物は
前述したとおりである。本発明においては、潤滑剤層
(4)中に含まれる本発明の潤滑剤組成物の量は、潤滑
剤層の表面1m2当たり0.1〜50mgであることが好
ましく、0.5〜5mgであることがより好ましい。潤滑
剤層にこのような少量の化合物を均一に存在させるため
に、本発明の磁気記録媒体の潤滑剤層は次の方法で形成
することが望ましい。
【0055】潤滑剤層(4)は、常套の材料および手段
を用いて非磁性基板の上に強磁性金属薄膜(2)および
炭素膜(3)をこの順に形成した後、炭素膜(3)上に
形成する。潤滑剤層(4)の形成工程は、本発明の潤滑
剤組成物を炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒の混合有
機溶媒に溶解して塗布液を調製し、これを相対湿度が1
0〜40%の範囲内にある環境下で炭素膜(3)に塗布
する工程を含む。
【0056】本発明で使用できる炭化水素系溶媒は、例
えばトルエン、ヘキサン、ヘプタン、およびオクタン等
であり、本発明で使用できるアルコール系溶媒は、例え
ばメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアル
コールおよびイソプロピルアルコール等の低級アルコー
ルである。アルコール系溶媒の割合が大きすぎると塗布
ムラが生じやすく、一方、炭化水素系溶媒の割合が大き
すぎると不経済であるため、両者は混合割合が重量比で
1:9〜9:1の範囲、好ましくは3:7〜7:3の範
囲となるように混合して使用することが好ましい。塗布
液の濃度および塗布厚は、溶媒が蒸発した後に炭素膜
(3)上に形成される潤滑剤層(4)の厚さが所望の厚
さになるように選択する。一般には、潤滑剤組成物の濃
度が100ppm〜4000ppmである塗布液を、1
μm〜50μmの厚さとなるように塗布することが好ま
しい。
【0057】塗布液は、相対湿度が10〜40%の範囲
内にある環境下で塗布することが好ましい。相対湿度が
10%未満では静電気が発生しやすく、また、そのよう
な湿度の環境を作るための設備に費用がかかるという問
題があり、相対湿度が40%を超えると塗布ムラが生じ
やすくなるという問題がある。
【0058】潤滑剤層(4)は潤滑剤組成物に応じて最
適膜厚が決定され、その厚さは一般に3〜5nmである。
塗布方法はバーコーティング法、グラビアコーティング
法、リバースロールコーティング法、ダイコーティング
法、ディピッング法もしくはスピンコート法等の湿式塗
布法あるいは有機蒸着法のいずれを採用してもよい。塗
布液を塗布した後、乾燥処理して有機溶媒を蒸発させる
と、炭素膜(3)上に潤滑剤組成物の層(4)が形成さ
れる。乾燥処理は加熱することにより、もしくは自然乾
燥によって実施することができる。
【0059】特定の混合有機溶媒を用いて所定の相対湿
度下で潤滑剤層を形成することにより、塗布ムラのない
均一な厚さの潤滑剤層が得られ、しかも溶媒が最終的に
蒸発した後には数nmという非常に薄い潤滑剤層を形成さ
せることができる。その結果、優れた潤滑性能を有する
実用信頼性の高い磁気記録媒体が得られる。
【0060】バックコート層(5)は、ポリウレタン、
ニトロセルロース、ポリエステル、カーボンおよび炭酸
カルシウム等から選ばれる1つもしくは複数の材料によ
り形成される層であり、その厚さは約500nmとするこ
とが好ましい。
【0061】
【実施例】次に、本発明の具体的な実施例について説明
するが、本発明はこの実施例に限定されるものではな
い。
【0062】(実施例1)非磁性基板(1)として、幅
が500mm、厚さが6.3μmであって、表面に高さが
30nm、直径が200nmの突起が1mm2あたり105から
109個形成されたポリエチレンテレフタレートフィル
ムを使用した。なお、突起の数はSTM分析で測定した
値である。この非磁性基板(1)の表面に、酸素を導入
しながら斜方真空蒸着法によりCo(80)−Ni(2
0)(カッコ内は混合モル比)から成る厚さ180nmの
強磁性金属薄膜(2)を形成した。
【0063】次いで、非磁性基板(1)の裏面に、ポリ
ウレタン、ニトロセルロースおよびカーボンブラックで
構成された固形分30%のメチルエチルケトン/トルエ
ン/シクロヘキサノン溶液をリバースロールコータによ
り塗布して、乾燥後の厚さが約500nmのバックコート
層(5)を形成した。
【0064】次に強磁性金属薄膜(2)上に、プラズマ
CVD法によって厚さ15nmの炭素膜(3)を形成し
た。炭素膜は、真空容器中にヘキサンガスとアルゴンガ
スとを4:1の比(圧力比)で混合したガスを導入し、
トータルガス圧を4.0×10 1Pa(0.3Torr)に保
ちながら、周波数20KHz、電圧1500Vの交流と
1000Vの直流を重畳し、これを放電管内の電極に印
加することによって形成した。さらに、炭素膜(3)上
にプロピルアミンガスを導入し、6.67Pa(0.05
Torr)の圧力を保った状態で10KHzの高周波プラズ
マ処理を行ない、炭素膜(3)の表層部に厚さ2.5nm
の含窒素プラズマ重合膜を形成した。
【0065】潤滑剤組成物として、化学式(a1)で示
される化合物と化学式(b1)で示される化合物(Ausi
mont社製のFomblin Z DOL)とをモル比で5:5となる
ように配合したものを用意した。本実施例においては、
パーフルオロエチレンオキサイドの数(n)がそれぞれ
異なる三種類の化合物を別個に製造し、それらを重量比
で1(n=2):2(n=3):1(n=4)の割合で
混合したものを化学式(a1)で示される化合物として
用いた。
【0066】
【化15】 (式中、nは2〜4の整数)
【0067】
【化16】
【0068】この潤滑剤組成物を、イソプロピルアルコ
ールとトルエンとを重量比で1:1となるように混合し
た混合有機溶媒に、その濃度が2000ppmとなるよ
うに溶解して塗布液を調製した。そしてこの塗布液を、
23℃、相対湿度30%の環境下で、リバースロールコ
ータを用いて湿式塗布法で厚さ4μmとなるように塗布
した後、乾燥した。最終的に炭素膜(3)上には、1m
2あたり4mgの潤滑剤組成物が含まれる、厚さ4nmの潤
滑剤層(4)が形成された。
【0069】以上のようにして作製したテープ素材をス
リッタで8mm幅に裁断し、8mm幅の磁気テープ試料
(全厚7μm、60分長)を作製した。
【0070】(実施例2〜17)化学式(a1)〜(a
7)で示される化合物、化学式(b1)で示される化合
物、化合式(c1)で示される化合物(Ausimont社製の
Fomblin Z DIAC)および化学式(d1)で示される化
合物から、2種類の化合物を表1〜表3に示すように選
択し、それぞれ同表に示す割合で配合した潤滑剤組成物
を用いて、実施例1と同様の方法で磁気テープ試料をそ
れぞれ作製した。なお、化学式(d1)で示される化合
物は、化学式(b1)で示される化合物とC1735CO
OHとをエステル化反応させて得たものである。
【0071】
【化17】
【0072】
【化18】
【0073】
【化19】
【0074】
【化20】
【0075】
【化21】
【0076】
【化22】
【0077】
【化23】
【0078】
【化24】
【0079】(実施例18)炭素膜の表層部に含窒素プ
ラズマ重合膜を形成する工程を省略したこと以外は、実
施例1と同様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0080】(実施例19)化学式(a1)で示される
化合物および化学式(b1)で示される化合物のモル比
を5:5から8:2に変化させたこと以外は、実施例1
と同様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0081】(実施例20)化学式(a1)で示される
化合物および化学式(b1)で示される化合物のモル比
を5:5から7:3に変化させた以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0082】(実施例21)化学式(a1)で示される
化合物および化学式(b1)で示される化合物のモル比
を5:5から4:6に変化させた以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0083】(実施例22)化学式(a1)で示される
化合物および化学式(b1)で示される化合物のモル比
を5:5から2:8に変化させた以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0084】(実施例23)23℃、相対湿度35%の
環境下において、塗布液を、リバースロールコータを用
いて湿式塗布法で塗布したこと以外は、実施例1と同様
の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0085】(実施例24)イソプロピルアルコールお
よびトルエンからなる有機溶媒の重量比を1:1(5:
5)から9:1に変化させたこと以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0086】(実施例25)イソプロピルアルコールお
よびトルエンからなる有機溶媒の重量比を1:1(5:
5)から7:3に変化させたこと以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0087】(実施例26)イソプロピルアルコールお
よびトルエンからなる有機溶媒の重量比を1:1(5:
5)から3:7に変化させたこと以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0088】(実施例27)イソプロピルアルコールお
よびトルエンからなる有機溶媒の重量比を1:1(5:
5)から1:9に変化させたこと以外は、実施例1と同
様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0089】(比較例1)化学式(a1)で示される化
合物および化学式(b1)で示される化合物から成る2
成分系の潤滑剤組成物に代えて、公知の潤滑剤である上
記化学式(x1)で示される化合物のみを用いたこと以
外は、実施例1と同様の方法で磁気テープ試料を作製し
た。
【0090】(比較例2)化学式(a1)で示される化
合物と化合物(c1)とを配合した2成分系の潤滑剤組
成物に代えて、公知の潤滑剤である上記化学式(x2)
で示される化合物のみを用いたこと以外は、実施例1と
同様の方法で磁気テープ試料を作製した。
【0091】(比較例3)イソプロピルアルコールおよ
びトルエンからなる混合有機溶媒に代えてイソプロピル
アルコールのみを用いたこと以外は、実施例1と同様の
方法で磁気テープ試料を作製した。
【0092】(比較例4)イソプロピルアルコールおよ
びトルエンから成る混合有機溶媒に代えてトルエンのみ
を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で磁気テー
プ試料を作製した。
【0093】(比較例5)23℃、相対湿度45%の環
境下において、塗布液をリバースロールコータを用いて
湿式塗布法で塗布したこと以外は、実施例1と同様の方
法で磁気テープ試料を作製した。
【0094】(比較例6)23℃、相対湿度65%の環
境下において、塗布液をリバースロールコータを用いて
湿式塗布法で塗布したこと以外は、実施例1と同様の方
法で磁気テープ試料を作製した。
【0095】以上の実施例1〜27および比較例1〜6
で得られた8mm幅の磁気テープ試料について、それぞ
れ以下に示す評価試験(1)〜(2)を実施した。それ
ぞれの試験で得られた結果を、表1〜表3に示す。
【0096】(1)走行耐久性試験 RF(高周波)出力測定用に改造した市販8mmVTR
(ソニー(株)製 EV−S900)を用い、各8mm幅
テープ試料を5℃、80%RHの環境下で300パス、
300時間繰り返し再生を行った後のRF出力変化を測
定した。試験前に対する試験後の変化をデシベル表示で
示した。
【0097】テープダメージは、テープ試料を目視観察
および微分干渉顕微鏡で状態観察し、5段階で評価し
た。評価基準は次のとおりである。 5:実用上全く問題ない。 4:実用上問題ない。 3:実用可能であるが、改善が必要である。 2:テープダメージがひどく、実用性は殆どない。 1:テープダメージがあまりにもひどく、実用性は全く
ない。
【0098】(2)スチル寿命試験 初期スチル寿命は、スチル寿命測定用に改造した市販8
mmVTR(ソニー(株)製 EV−S900)を用い、
3℃、5%RH環境下において測定した。なお、初期ス
チル寿命は初期から出力が6dB低下するまでの時間で
示した。
【0099】保存後スチル寿命は、40℃、80%RH
環境下に1ヶ月放置した後、初期スチル寿命の測定と同
様の方法で測定した。
【0100】
【表1】
【0101】
【表2】
【0102】
【表3】
【0103】上記表1〜表3より明らかなように、比較
例1〜6との比較において、実施例1〜27の出力低下
は小さく、かつテープダメージの問題は発生せず、さら
に初期、保存後のスチル寿命はいずれも良好であった。
【0104】実施例1〜17、および19〜27は、従
来の潤滑剤を用いた比較例1および2と比較して、いず
れも優れた走行耐久性ならびにスチル寿命を示した。こ
のように、炭素膜(3)上に、一般式(a)で示される
化合物から選ばれる少なくとも1種類の化合物と、一般
式(b)、(c)および(d)で示される化合物から選
ばれる少なくとも1種類の化合物とを含有する潤滑剤組
成物で潤滑剤層(4)を形成した実施例1〜17、およ
び19〜27の各磁気テープ試料は、走行耐久性、スチ
ル寿命等の実用信頼性の点で明らかに優れている。
【0105】また、炭素膜(3)の表層部に含窒素プラ
ズマ重合膜が形成されていない実施例18の試料のスチ
ル寿命が他の実施例と比べて劣っていることより、含窒
素プラズマ重合膜が磁気テープ試料の潤滑性能の向上に
寄与していることが判る。
【0106】化学式(a1)で示される化合物と化学式
(b1)で示される化合物との混合比を変化させた実施
例1および実施例19〜22がいずれも優れた走行耐久
性およびスチル耐久性を示すことより、一般式(a)で
示される化合物と一般式(b)で示される化合物との混
合比をモル比で8:2〜2:8の範囲とすることが、実
用信頼性の高い磁気記録媒体を得るうえで好ましいこと
が判る。また、実施例1、19および20より、一般式
(a)で示される化合物と一般式(b)で示される化合
物とのより好ましい混合比はモル比で7:3〜4:6の
範囲であることが判る。
【0107】実施例1および24〜27と比較例3およ
び4とから、潤滑剤層(4)の潤滑剤組成物を炭化水素
系溶媒とアルコール系溶媒の混合有機溶媒に溶解して調
製した塗布液を炭素膜(3)上に塗布して潤滑剤層
(4)を形成することにより、走行耐久性およびスチル
寿命等の実用信頼性の点で優れた磁気テープ試料を安定
して作製できることが判る。また、潤滑剤組成物を含む
塗布液を高い湿度の下で塗布した比較例5および6は、
実施例1と同じ潤滑剤組成物を使用しているにもかかわ
らず、その走行耐久性およびスチル寿命はともに劣り、
高湿度下での塗布が望ましくないことを示している。
【0108】実施例1〜27では、潤滑剤層(4)の形
成工程において湿式塗布法であるリバースロールコーテ
ィング法を用いたが、有機蒸着法によっても同様の作用
効果を有する潤滑剤層(4)を形成することが可能であ
る。
【0109】なお、以上説明した実施例1〜27では、
本発明の磁気記録媒体およびその製造方法を市販8mmV
TR用テープに適用した場合についてのみ説明したが、
本発明の磁気記録媒体およびその製造方法はこれに限定
されるものではなく、他の金属薄膜型磁気テープや磁気
ディスク等についても適用できるものである。
【0110】
【発明の効果】以上説明したように、特定の含フッ素化
合物が二種類以上組み合わされて成る本発明の潤滑剤組
成物は優れた潤滑性能を呈する。そして、この潤滑剤組
成物で磁気記録媒体の潤滑剤層を形成することによっ
て、潤滑剤層の炭素膜への付着強度が向上した、良好な
潤滑性能を呈する本発明の磁気記録媒体を得ることがで
きる。したがって、本発明の潤滑剤組成物で潤滑剤層を
形成した本発明の磁気記録媒体は、これらの相乗効果に
より、電磁変換特性を損なうことなく、走行耐久性、ス
チル耐久性等の実用信頼性が向上したものとなる。
【0111】また、本発明の磁気記録媒体において炭素
膜の表層部に含窒素プラズマ重合膜を形成することによ
り潤滑剤組成物の化学吸着力が向上するので、潤滑剤層
の炭素膜への付着強度がさらに向上し、優れた潤滑性能
を呈する磁気記録媒体を得ることができる。そしてこれ
らの相乗効果により、本発明の磁気記録媒体は、電磁変
換特性を損なうことなく、走行耐久性、スチル耐久性等
の実用信頼性が向上したものとなる。
【0112】本発明の磁気記録媒体は、潤滑剤層の形成
工程が、潤滑剤組成物を特定の溶媒に溶解して調製した
塗布液を、特定の湿度条件の下で炭素膜上に塗布する工
程を含む製造方法によって製造される。この塗布液を用
いることにより塗布ムラのない均一な厚さの潤滑剤層が
得られる。また、湿度の範囲を限定することにより、潤
滑剤層の性能低下を防止している。従って、本発明の製
造方法によれば、走行耐久性およびスチル寿命等の実用
信頼性の点で優れた本発明の磁気記録媒体を安定して作
製することが可能になる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 5/84 G11B 5/84 B // C09D 5/23 C09D 5/23 171/00 171/00 C10N 30:00 C10N 30:00 Z 40:18 40:18 50:02 50:02 (72)発明者 大地 幸和 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 渕 鉄男 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 4H104 BD06A BD07A CD04A LA20 PA16 QA08 4J038 DF011 GA02 GA03 GA06 GA07 GA09 GA10 GA12 GA13 GA14 JA01 JA16 KA06 MA08 NA09 PA07 PB11 PC02 5D006 AA01 AA02 AA06 5D112 AA07 AA11 BC01 BC02 BC05 CC01

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 分子内にパーフルオロエーテル鎖または
    パーフルオロポリエーテル鎖と、パーフルオロアルキル
    基またはパーフルオロアルケニル基とを有し、一般式
    (a)で示される化合物から選ばれる少なくとも1種類
    の化合物と、分子内にパーフルオロポリエーテル鎖を有
    し、一般式(b)、(c)および(d)で示される化合
    物から選ばれる少なくとも1種類の化合物とを含有する
    潤滑剤組成物: 【化1】 (式中、Raはパーフルオロアルキル基またはパーフル
    オロアルケニル基であり、Xaは少なくとも1種類のパ
    ーフルオロアルキレンオキサイド基を構造単位とする直
    鎖のパーフルオロエーテル鎖もしくはパーフルオロポリ
    エーテル鎖であり、Zaはフッ素原子もしくは極性基で
    あり、fは1以上の整数であり、gは0以上の整数であ
    る) 【化2】 (式中、h、iは1以上の整数である) 【化3】 (式中、j、kは1以上の整数である) 【化4】 (式中、p、qは1以上の整数であり、Rbは炭素数4
    〜22の脂肪族アルキル基である)。
  2. 【請求項2】 非磁性基板上に強磁性金属薄膜が設けら
    れ、その強磁性金属薄膜の上に炭素膜を介して潤滑剤層
    が設けられて成る磁気記録媒体であって、潤滑剤層が、
    請求項1に記載の潤滑剤組成物を含有することを特徴と
    する磁気記録媒体。
  3. 【請求項3】 炭素膜が表層部に含窒素プラズマ重合膜
    を有し、潤滑剤層が炭素膜の含窒素プラズマ重合膜上に
    形成されていることを特徴とする請求項2に記載の磁気
    記録媒体。
  4. 【請求項4】 請求項2または請求項3に記載の磁気記
    録媒体の製造方法であって、潤滑剤層の形成工程が、炭
    化水素系溶媒とアルコール系溶媒との混合有機溶媒に潤
    滑剤組成物を溶解して調製した塗布液を、相対湿度が1
    0〜40%の範囲にある環境下において炭素膜上に塗布
    する工程を含む磁気記録媒体の製造方法。
  5. 【請求項5】 炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒との
    混合割合が重量比で1:9〜9:1の範囲にある請求項
    4に記載の磁気記録媒体の製造方法。
JP2000018683A 2000-01-27 2000-01-27 潤滑剤組成物ならびに磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 Pending JP2001207183A (ja)

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