JP2002042324A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 走行耐久性等の実用信頼性を向上させた、優
れた電磁変換特性を有する薄手の磁気テープを得る。 【解決手段】 非磁性基板(1)上の一方の面に、強磁性
金属薄膜(2)、炭素膜(3)および潤滑剤層(4)をこの順に
形成し、他方の面に補強層(5)としてステンレス鋼薄膜
を形成して磁気記録媒体全体の剛性を向上させるととも
に、潤滑剤層(4)を、Ｉ）分子内にパーフルオロアルキ
ル基またはパーフルオロポリエーテル基、およびアルキ
ル基またはアルケニル基を有する含フッ素モノカルボン
酸から選ばれる化合物を含む潤滑剤；あるいはＩ）群か
ら選ばれる化合物に加えて、II）分子の両末端に極性基
を有するパーフルオロポリエーテル系化合物から選ばれ
る化合物およびIII）分子内に含フッ素有機基を有する
含フッ素カルボン酸エステルから選ばれる化合物を含む
潤滑剤で形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高密度磁気記録に
適した磁気記録媒体ならびにその製造方法に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録の分野においては、記
録、再生機器のデジタル化、小型化、および使用時間の
長時間化等の高性能化に伴い、それに適した高密度磁気
記録媒体の開発が活発に行なわれている。最近では、塗
布型磁気記録媒体に代わって、短波長記録に極めて有利
な金属薄膜型磁気記録媒体が高密度磁気記録媒体として
実用化されている。一般に、金属薄膜型磁気記録媒体と
は、非磁性基板上に記録層として強磁性金属薄膜からな
る磁性層を設け、磁性層上に保護膜および潤滑剤層を設
けたテープおよびディスク等をいう。

【０００３】金属薄膜型磁気テープ（「ＭＥテープ」と
も呼ぶ）の中でも特に、コバルト系金属の斜方蒸着膜を
磁性層として非磁性基板（通常、ポリマー基板）上に形
成し、さらに当該磁性層の上に例えばダイヤモンドライ
クカーボン（ＤＬＣ）で保護膜を形成したものは、電磁
変換特性、保存性、および実用信頼性等において優れた
特性を示すことが知られている。現在、ＭＥテープはデ
ジタル映像記録機器であるＤＶ方式のムービー等に使用
され、また、コンピュータのデータストレージ用テープ
としても用いられている。ＭＥテープの磁性層は真空蒸
着により形成されるため、その厚さは一般に小さい。し
たがって、ＭＥテープは従来の塗布型テープよりもテー
プ全体の厚さが小さいという特徴を有する。この特徴に
より、ＭＥテープは塗布型テープよりも所定寸法のパッ
ケージにより多く装填され得るから、ＭＥテープは上記
の特性に加え、大容量記録を可能にするという利点をも
有する。

【０００４】しかし、磁気テープの性能向上に関する要
求は厳しく、ＭＥテープにも更なる改善が必要とされて
いる。例えば、ＤＶ方式のムービー等に使用するＭＥテ
ープは、ＭＥテープを収納するビデオカセットの小型化
に伴い、より小型で、より長時間記録が可能であること
が常に望まれている。また、近年の情報量の増大化に伴
い、データストレージ機器で使用するＭＥテープに対し
ては更なる大容量化が望まれている。

【０００５】これらの要求に応えるために、ＭＥテープ
をより薄くすることが試みられている。ＭＥテープのよ
うな磁気テープの厚さを薄くする最も効果的な方法は、
磁気テープの厚さの多くを占める非磁性基板、即ちポリ
マー基板の厚さを薄くすることである。しかし、非磁性
基板の厚さを小さくすると、剛性が低下しやすく、実用
上、次のような問題が生じる場合がある。

【０００６】第１に走行耐久性が十分でないという問題
がある。走行耐久性が十分でないとは、具体的には、テ
ープを繰り返し走行させたときに、テープ折れ、テープ
変形（例えば、テープ幅方向の端部におけるワカメ状の
変形）、およびテープ破断が生じやすいことを意味す
る。走行耐久性が不十分であると再生信号が不安定にな
る傾向にある。

【０００７】テープに折れおよび変形等が生じる理由
を、デジタルビデオカメラで磁気テープを走行させる場
合を例に挙げて説明する。デジタルビデオカメラにおい
て、磁気テープはドライブの各種ポストに対して一定の
角度で巻き付けられて走行し、さらに、各種ポストの高
さ方向の位置を規制するために設けられた下側規制ポス
トおよび上側規制ポストの一部に沿って走行する。下側
規制ポストまたは上側規制ポストにおいて、磁気テープ
は、一方の表面ならびに一方の側面（エッジ面）がポス
トと摺動している状態にある。ポストと摺動している面
のうち、側面はポストとの接触面積が極めて小さい。そ
のため、磁気テープの剛性が小さいと、磁気テープはポ
ストとの摺動中に側面に加わる力に対して十分に抗し得
ず、その結果、テープの折れおよび変形等が生じ、最悪
の場合にはテープが破断する。

【０００８】第２に、エンベロープ不良が発生するとい
う問題がある。エンベロープ不良は、テープ状の磁気記
録媒体と磁気ヘッドとの接触状態が不良であることに起
因して生じる。エンベロープ不良は、再生信号の品質低
下をもたらす。

【０００９】これらの問題を回避する方法の１つとし
て、剛性の大きいポリマー基板を使用することが挙げら
れる。通常、ポリマー基板としてはポリエチレンテレフ
タレートのフィルムを使用する場合が多い。これを、例
えば、剛性のより大きいポリエチレンナフタレートまた
はポリアミドのフィルムとすることで、厚さを小さくす
ることが可能となる。例えば、デジタルビデオカメラ用
のＭＥテープを製造する場合、ポリエチレンテレフタレ
ートを基板として用いると、テープの全厚は７μｍ程度
となり、所定寸法のパッケージに６０分記録が可能な長
さのテープを収容できる。一方、ポリエチレンナフタレ
ートまたはポリアミドを基板として用いると、テープの
全厚は５．４μｍ程度となるため、同寸法のパッケージ
に８０分記録が可能な長さのテープを収容できる。

【００１０】このように、非磁性基板の素材を適宜選択
することによって、テープをある程度薄くし得るが、更
に薄い磁気テープを提供することを目的として、あるい
は曲げ剛性は小さいがコスト的に有利な汎用素材から成
るポリマー基板を用いて薄い磁気テープを製造すること
を目的として、非磁性基板の磁性層が形成されている面
とは反対側の面に、補強層（バックコート層とも称され
る）を形成して剛性を確保することが予てより提案され
ている。例えば、特開平１０−２７３２８号公報では、
非磁性基板の一方の面に強磁性金属薄膜層が形成され、
他方の面にＡｌ、Ｓｉ等からなるバックコート層を設け
た磁気記録媒体が提案されている。特開平１１−２８３
２３４号公報では、非磁性基板の一方の面に強磁性金属
薄膜層が形成され、他方の面にＣｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒ
およびこれらの合金から成る金属薄膜等を設けた磁気記
録媒体が提案されている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】このようにテープ状の
磁気記録媒体をより薄くするために、予てより種々の手
段が提案および採用されている。しかしながら、先にも
述べたように、磁気記録媒体の性能向上は常に望まれて
おり、従来の磁気テープに対しては、特に磁気テープの
変形、即ち走行耐久性の点において一層の改善が望まれ
ている。

【００１２】本発明はかかる実情に鑑みてなされたもの
であり、薄型化され、かつ、優れた走行性耐久性および
電磁変換特性を有する磁気記録媒体およびその製造方法
を提供することを課題とする。この課題を解決するため
の手段を以下に説明する。

【００１３】以下の説明を含む本明細書において、磁気
記録媒体の構成に関して、磁気記録媒体を構成する各層
の「表面」とは、各層が形成されたときに露出している
面、即ち、各層の非磁性基板から遠い側の面を意味す
る。磁気記録媒体の構成に関して、磁気記録媒体を構成
する各層の「上」というときもまた、特に断りのない限
り、各層の非磁性基板から遠い側の面を意味し、反対
に、各層の「下」というときは各層の非磁性基板に近い
側の面を意味する。したがって、例えば、「磁性層の上
に」というときは、「磁性層の非磁性基板から遠い側の
面に隣接する位置に」を意味し、「磁性層の下に」とい
うときは、「磁性層の非磁性基板に近い側の面に隣接す
る位置に」を意味する。

【００１４】また、磁気記録媒体の「磁性層側表面」お
よび「補強層側表面」とは、それぞれ非磁性基板の２つ
の面を基準としたときに磁性層および補強層が形成され
た側の磁気記録媒体の露出表面をいう。したがって、例
えば、非磁性基板の一方の面に形成された磁性層の上に
炭素膜および潤滑剤層が形成されている場合には、潤滑
剤層の露出表面が「磁性層側表面」に相当する。非磁性
基板の他方の面に形成された補強層の上に別の層（例え
ば潤滑剤層）が形成されているときは、その別の層の露
出表面が「補強層側表面」に相当する。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、非磁性基板の一方の面に磁性層が形成さ
れ、非磁性基板の他方の面に補強層が形成されて成る磁
気記録媒体であって、補強層がステンレス鋼薄膜である
磁気記録媒体を提供する。

【００１６】本発明の磁気記録媒体は、その補強層がス
テンレス鋼薄膜であることを特徴とする。ステンレス鋼
薄膜は剛性および靭性が大きいため、磁気記録媒体にお
いて優れた補強効果を奏する。具体的には、ステンレス
鋼薄膜が存在することによって磁気記録媒体の曲げ剛性
および捩り剛性が大きくなるので、走行中、磁気記録媒
体を変形させようとする力（例えば、曲げようとする
力）が加えられても、その力に抗し得る。その結果、例
えば、磁気記録媒体が上側または下側規制ポストに沿っ
て進行し、その側面に大きな力が加わる場合でも、磁気
記録媒体に変形や折れが生じにくくなり、それらに起因
する走行耐久性の低下が有効に抑制される。さらに、磁
気記録媒体の曲げ剛性および捩り剛性が大きくなること
によって磁気記録媒体と磁気ヘッドとの当たりが良好と
なるので、本発明の磁気記録媒体は優れたエンベロープ
特性を示す。

【００１７】ステンレス鋼薄膜は広範囲な環境条件下で
不動態化する。これはステンレス鋼の主要成分のＦｅ、
Ｃｒ、Ｎｉがいずれも不動態化し、しかも各不動態化領
域が異なることによる。各成分は補い合って広範囲の不
動態化領域を形成し（即ち、ステンレス鋼が不動態化す
る環境条件の範囲を広くし）、その結果、ステンレス鋼
は種々の環境条件において優れた耐食性を示す。不動態
化したステンレス鋼薄膜の表面には酸化物が生成され、
その厚さは１．５nm〜１０nmと推定される。ステンレス
鋼は、特別な処理を施さなくとも自然に不動態化する。
不動態化したステンレス鋼には、後述するカルボキシル
基を有する潤滑剤が吸着しやすいので、不動態化したス
テンレス鋼薄膜である補強層の上に潤滑剤層を形成すれ
ば、磁気記録媒体の耐久性を向上させることができる。

【００１８】ステンレス鋼薄膜はさらに非磁性体である
ことを要する。ステンレス鋼薄膜が磁性体であると、磁
性層の磁性に悪影響を及ばす場合があり好ましくない。

【００１９】ステンレス鋼薄膜を構成するステンレス鋼
は、常套のステンレス鋼、例えば、オーステナイト系、
マルテンサイト系およびフェライト系ステンレス鋼から
適宣選択される。ステンレス鋼は、具体的には、Ｃ（炭
素）に加えてＣｒを含み、さらに必要に応じてＮｉ、Ｍ
ｎ、Ｍｏ、ＳｉおよびＰから選択される１または複数の
成分を含む。Ｃｒの添加率は一般に１０〜３０重量％、
Ｎｉの添加率は０〜２３重量％である。本発明において
は、磁気記録媒体の走行安定性および耐食性の点からＣ
ｒおよびＮｉを含む非磁性オーステナイト系ステンレス
鋼が特に好ましく用いられる。

【００２０】ステンレス鋼薄膜の厚さは０．０５〜１．
０μｍであることが好ましい。ステンレス鋼薄膜の厚さ
が０．０５μｍ未満であると補強効果を得ることができ
ず、１．０μｍを超えるとクラックが生じやすくなる。

【００２１】本発明の磁気記録媒体は金属薄膜型磁気記
録媒体に好ましく適用できる。したがって、本発明の磁
気記録媒体において磁性層は強磁性金属薄膜であること
が好ましい。

【００２２】本発明の磁気記録媒体は、磁性層の上に形
成された炭素膜および炭素膜の上に形成された潤滑剤層
を更に有することが好ましい。炭素膜は保護層として磁
性層を保護し、潤滑剤層は磁気記録媒体の走行性を向上
させる。潤滑剤層は補強層の上にも形成されていること
が更に好ましい。補強層の上に潤滑剤層が形成された磁
気記録媒体は、走行性がより向上したものとなる。

【００２３】本発明の磁気記録媒体は、少なくとも１つ
の潤滑剤層が分子内にパーフルオロアルキル基またはパ
ーフルオロポリエーテル基と、アルキル基またはアルケ
ニル基とを有する、一般式（ａ）および（ｂ）で示され
る化合物から選ばれる少なくとも１種類の化合物を含む
潤滑剤：

【化９】 （式中、Ｒ¹はアルキル基またはアルケニル基を示し、
Ｒ²はパーフルオロアルキル基またはパーフルオロポリ
エーテル基を示し、ａは０〜２０の整数であり、ｂは０
または１である）

【化１０】 （式中、Ｒ³はアルキル基またはアルケニル基を示し、
Ｒ⁴はパーフルオロアルキル基またはパーフルオロポリ
エーテル基を示し、Ｒ⁵は−Ｏ−または−Ｓ−を示し、
ｃは０〜２０の整数であり、ｄは０または１である）を
含んで成るものであることが好ましい。

【００２４】「少なくとも１つの潤滑剤層」とは、炭素
膜の上にのみ潤滑剤層が形成されている場合には、その
潤滑剤層を、炭素膜および補強層の両方に潤滑剤層が形
成されている場合には、いずれか一方の潤滑剤層または
両方の潤滑剤層を示し、好ましくは両方の潤滑剤層を示
す。炭素膜の上に形成された潤滑剤層が上記一般式
（ａ）で示される化合物および一般式（ｂ）で示される
化合物から選ばれる少なくとも１種類の化合物を含む潤
滑剤を含んで成る場合、潤滑剤層の炭素膜への付着強度
が向上し、かつ優れた潤滑性能が磁気記録媒体に付与さ
れる。補強層の上に形成された潤滑剤層が上記一般式
（ａ）で示される化合物および一般式（ｂ）で示される
化合物から選ばれる少なくとも１種類の化合物を含む場
合、磁気記録媒体の潤滑性能がさらに向上する。本発明
の磁気記録媒体においては補強層が不動態化したステン
レス鋼薄膜であるため、一般式（ａ）および（ｂ）で示
されるカルボキシル基を有する化合物を使用すれば、潤
滑剤層と補強層との間の付着強度を大きくすることがで
きる。

【００２５】あるいは、本発明の磁気記録媒体は、少な
くとも１つの潤滑剤層が、 Ｉ）分子内にパーフルオロアルキル基またはパーフルオ
ロポリエーテル基と、アルキル基またはアルケニル基と
を有する、上記一般式（ａ）および（ｂ）で示される化
合物から選ばれる少なくとも１種類の化合物； II）分子内にパーフルオロポリエーテル鎖を有し、一般
式（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）で示される化合物から選
ばれる少なくとも１種類の化合物；ならびに III）一般式（ｆ）で示される化合物から選ばれる少な
くとも１種類の化合物をむ潤滑剤：

【化１１】 （式中、ｅ、ｇは１以上の整数である）

【化１２】 （式中、ｉ、ｊは１以上の整数である）

【化１３】 （式中、ｋ、ｍは１以上の整数であり、Ｒ⁶は炭素数４
〜２２のアルキル基である）

【化１４】 （式中、Ｒ⁷は含フッ素有機基を示し、Ｒ⁸はアルキル基
またはアルケニル基を示し、ｎは０〜１２の整数であ
る）を含んで成るものであることが好ましい。

【００２６】この潤滑剤は、 Ｉ）一般式（ａ）および（ｂ）で示される含フッ素モノ
カルボン酸から選択される少なくとも１種類の化合物に
加えて、 II）極性基が両末端に結合したパーフルオロポリエーテ
ル系化合物、即ち、一般式（ｃ）で示される両末端に水
酸基が結合したパーフルオロポリエーテル系化合物、一
般式（ｄ）で示される両末端にカルボキシル基が結合し
たパーフルオロポリエーテル系化合物、および一般式
（ｅ）で示される両末端にアシルオキシル基が結合した
パーフルオロポリエーテル系化合物から選択される少な
くとも１種類の化合物；ならびに III）一般式（ｆ）で示される含フッ素カルボン酸エス
テルから選択される少なくとも１種の化合物 を含む潤滑剤組成物であるといえる。Ｉ）群から選択さ
れる化合物に加えて、II）群およびIII）群からそれぞ
れ選択される化合物を潤滑剤の構成成分とすることによ
り、Ｉ）群から選択される化合物のみを含む潤滑剤と比
較して、磁気記録媒体を使用している間に飛散する潤滑
剤の量が少なくなるという利点がもたらされる。

【００２７】「少なくとも１つの潤滑剤層」の意味は先
に説明したとおりである。炭素膜の上に形成された潤滑
剤層が上記特定の潤滑剤を含む場合、潤滑剤層のその下
に位置する炭素膜への付着強度が向上し、かつ優れた潤
滑特性が磁気記録媒体に付与される。そしてこれらの相
乗効果により、電磁変換特性が損なわれることなく向上
した走行耐久性を有し、また、使用中の潤滑剤の飛散が
極めて少ない、実用信頼性の高い磁気記録媒体が得られ
る。補強層の上に形成された潤滑剤層が上記潤滑剤を含
む場合、補強層である不動態化したステンレス鋼薄膜に
潤滑剤が強固に付着し、かつ優れた潤滑特性が磁気記録
媒体に付与される。したがって、炭素膜の上に形成され
た潤滑剤層との相乗効果により、さらに走行耐久性が向
上し、また、使用中の潤滑剤の飛散がさらに少ない、よ
り実用信頼性の高い磁気記録媒体が得られる。

【００２８】本発明の磁気記録媒体の好ましい態様にお
いては、炭素膜がその表層部に含窒素プラズマ重合膜を
有し、潤滑剤層が炭素膜の含窒素プラズマ重合膜上に形
成されている。含窒素プラズマ重合により炭素膜の表層
部にアミノ基が存在することとなり、その結果、潤滑剤
層と炭素膜の間の付着強度がより大きくなり、磁気記録
媒体の耐久性がより向上することとなる。さらに、潤滑
剤層が上記特定の含フッ素化合物を含有する場合には、
含窒素プラズマ重合膜と潤滑剤層とが相俟って、電磁変
換特性が損なわれることなく走行耐久性が向上した、優
れた潤滑特性を有する磁気記録媒体の提供を可能にす
る。かかる磁気記録媒体は、その実用信頼性が極めて高
いものである。

【００２９】本発明の磁気記録媒体の好ましい態様にお
いて、非磁性基板は長尺状であり、その厚さは５μｍ未
満、その長手方向（長尺物の巻取り方向に相当）および
幅方向のヤング率はそれぞれ５．０ＧＰａ以上および
９．３ＧＰａ以上である。長尺状の非磁性基板の長手方
向および幅方向のヤング率は、それぞれ非磁性基板の長
手方向（「長さ方向」とも呼ぶ）および幅方向を引っ張
り方向として引張試験し、次の式に基づいて算出でき
る。

【数１】Ｅ＝（Ｗ・Ｌ）／（Ａ・△ｌ） （式中、Ｅはヤング率（Pa）、Ｗは弾性限内の荷重
（Ｎ）、Ｌは引張試験前の標線間距離（ｍ）、Ａは試料
の引張試験前の断面積（ｍ²）、△ｌは荷重Ｗにおける
標線間伸び（ｍ）を示す）

【００３０】非磁性基板の厚さが５μｍを超えると、得
られる磁気記録媒体は十分に薄型化されたものであると
はいえない。また、非磁性基板のヤング率を上記のよう
に規定することにより、磁気記録媒体の長手方向および
幅方向の機械的強度が向上する。その結果、磁気記録媒
体の変形が有効に抑制されて走行耐久性が向上する。こ
れらの厚さおよびヤング率の条件を満たす非磁性基板と
しては、例えば、ポリエチレンナフタレートまたはポリ
アミドから成るフィルムがある。

【００３１】さらに、本発明は、少なくとも１つの潤滑
剤層が上記特定の潤滑剤を含んで成る磁気記録媒体の製
造方法を提供する。「少なくとも１つの潤滑剤層」の意
味は先に説明したとおりである。

【００３２】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記
特定の潤滑剤を用いて、炭素膜および／または補強層の
上に潤滑剤層を形成する工程に特徴を有する。それ以外
の製造工程は、従来から磁気記録媒体の製造に用いられ
ている工程であってよい。本発明の製造方法における潤
滑剤層の形成工程は、炭化水素系溶媒とアルコール系溶
媒との混合有機溶媒に上述の特定の潤滑剤を溶解して調
製した塗布液を、相対湿度が１０〜４０％の範囲内にあ
る環境下において炭素膜および／または補強層上に塗布
し、混合有機溶媒を乾燥させる工程を含むことを特徴と
する。

【００３３】炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒の混合
有機溶媒を用い、潤滑剤を含む塗布液を特定の湿度条件
下で塗布することにより、潤滑剤層と炭素膜との間の付
着強度が向上し、かつ塗布ムラが極めて少ない均一な薄
い潤滑剤層が形成され得る。よって本発明の製造方法に
よれば、優れた潤滑性能を有する実用信頼性の高い磁気
記録媒体を得ることが可能である。

【００３４】上記本発明の製造方法において、炭化水素
系溶媒とアルコール系溶媒との混合割合は重量比で１：
９〜９：１の範囲内にあることが好ましい。この範囲で
両者を混合することは、塗布ムラを極力少なくすること
を可能とし、またコスト面でも有利である。

【００３５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。図１は本発明の磁気記録媒体
の一態様である金属薄膜型磁気テープの断面図である。
この磁気テープ（10）は、非磁性基板（１）の一方の面
に磁性層（２）としての強磁性金属薄膜、炭素膜（３）
および潤滑剤層（４）がこの順に形成され、他方の面に
ステンレス鋼薄膜から成る補強層（５）が形成されたも
のである。したがって、その構造は、下から順に補強層
（５）、非磁性基板（１）、磁性層（２）、炭素膜
（３）および潤滑剤層（４）が積層された構造となって
いる。

【００３６】本発明の磁気記録媒体は、補強層（５）が
ステンレス鋼薄膜であることを特徴とする。ステンレス
鋼薄膜は非磁性オーステナイト系ステンレス鋼から成る
薄膜であることが好ましい。ステンレス鋼薄膜を構成す
るのに適したステンレス鋼は、具体的には、ＳＵＳ３０
３、ＳＵＳ３０１、ＳＵＳ３０２、ＳＵＳ３０４、ＳＵ
Ｓ３０５Ｊ１、ＳＵＳ３０８、ＳＵＳ３５０、ＳＵＳ３
１６、ＳＵＳ３１７等である。

【００３７】ステンレス鋼薄膜は、複数種のステンレス
鋼が混合した形態であってよい。また、ステンレス鋼薄
膜は、単層膜の形態（複数種のステンレス鋼が混合した
単層膜を含む）であってもよく、あるいは複数種の膜が
積層された形態であってもよい。いずれの形態をとる場
合も、ステンレス鋼薄膜の厚さは０．０５〜１．０μｍ
であることが好ましく、０．０７μｍ〜０．５μｍであ
ることがより好ましい。

【００３８】ステンレス鋼薄膜は、ステンレス鋼に所定
範囲の入射角で電子ビームを照射して蒸発させ、これ
を、キャン状回転体またはベルト状支持体等の冷却回転
支持体に沿って移動する非磁性基板上に蒸着させて形成
することができる。それ以外にも、例えば、抵抗加熱法
もしくは外熱るつぼ法等で加熱して実施する蒸着、イオ
ンプレーティングもしくはスパッタリング等によりステ
ンレス鋼薄膜を形成できる。

【００３９】具体的な蒸着条件は、るつぼの大きさおよ
びライン速度等に応じて適宜設定される。例えば、５０
０mm幅の非磁性基板を３０〜８０ｍ／分の速度で移動さ
せる場合は、圧力が１．３３×１０^-2〜１．３３×１０
^-4Pa（１０^-4〜１０^-6Torr）である真空槽内にて、７０
ｋＷの電子ビームを照射して蒸着を実施するとよい。

【００４０】ステンレス鋼薄膜から成る補強層（５）の
表面には、ポリウレタン、ニトロセルロース、ポリエス
テル、カーボンおよび炭酸カルシウム等から選ばれる１
もしくは複数の材料から成るバックコート層を更に形成
してもよい。その厚さは約５００nmとすることが好まし
い。バックコート層は、例えば、前記材料を適当な溶媒
（例えば、トルエンとメチルエチルケトンの混合溶媒）
に溶解および分散させた塗布液を補強層に塗布した後、
乾燥して溶媒を蒸発させる湿式塗布法により形成でき
る。

【００４１】図示した態様の磁気記録媒体においては、
磁性層の上に炭素膜（３）および潤滑剤層（４）が形成
されている。潤滑剤層（４）は、一般式（ａ）および
（ｂ）で示される化合物から選ばれる少なくとも１種類
の化合物を含む潤滑剤：

【化１５】 （式中、Ｒ¹はアルキル基またはアルケニル基を示し、
Ｒ²はパーフルオロアルキル基またはパーフルオロポリ
エーテル基を示し、ａは０〜２０の整数であり、ｂは０
または１である）

【化１６】 （式中、Ｒ³はアルキル基またはアルケニル基を示し、
Ｒ⁴はパーフルオロアルキル基またはパーフルオロポリ
エーテル基を示し、Ｒ⁵は−Ｏ−または−Ｓ−を示し、
ｃは０〜２０の整数であり、ｄは０または１である）を
含んで成ることが好ましい。

【００４２】あるいは、潤滑剤層（４）は、Ｉ）上記一
般式（ａ）および（ｂ）で示される化合物から選ばれる
少なくとも１種類の化合物； II）下記一般式（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）で示される
化合物から選ばれる少なくとも１種類の化合物；ならび
に III）下記一般式（ｆ）で示される化合物から選ばれる
少なくとも１種類の化合物を含む潤滑剤：

【化１７】 （式中、ｅ、ｇは１以上の整数である）

【化１８】 （式中、ｉ、ｊは１以上の整数である）

【化１９】 （式中、ｋ、ｍは１以上の整数であり、Ｒ⁶は炭素数４
〜２２のアルキル基である）

【化２０】 （式中、Ｒ⁷は含フッ素有機基を示し、Ｒ⁸はアルキル基
またはアルケニル基を示し、ｎは０〜１２の整数であ
る）を含んで成ることが好ましい。

【００４３】３種類の含フッ素化合物を含む上記潤滑剤
において、第Ｉ群、即ち、一般式（ａ）および（ｂ）で
示される化合物から選ばれる少なくとも１種類の化合
物；第II群、即ち、一般式（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）
で示される化合物から選ばれる少なくとも１種類の化合
物；ならびに第III群、即ち、一般式（ｆ）で示される
化合物から選ばれる少なくとも１種類の化合物は、モル
比で１〜７：１〜７：１〜７の範囲で混合されることが
好ましく、２〜５：１〜３：３〜６の範囲で混合される
ことがより好ましい。

【００４４】潤滑剤組成物において、第Ｉ群から選ばれ
る化合物の占める割合が小さいと磁気記録媒体の潤滑性
能が低下するおそれがある。第II群から選ばれる化合物
の占める割合が小さいと、潤滑剤層の炭素膜への付着強
度が低下するおそれがある。第III群から選ばれる化合
物の占める割合が小さいと、磁気記録媒体の潤滑性能が
低下し、また、潤滑剤層の炭素膜への付着強度が低下す
るおそれがある。

【００４５】潤滑剤層は補強層の上にも形成してよい。
図２に、補強層（５）の上に潤滑剤層（６）が形成され
た磁気記録媒体（20）の態様を図２に示す。図２におい
て、図１で使用された符号と同じ符号は、図１において
それらが表す要素と同じ要素を表す。

【００４６】補強層の上に形成される潤滑剤層もまた、
炭素膜の上に形成される潤滑剤層と同様、 １）上記一般式（ａ）および（ｂ）で示される化合物か
ら選ばれる少なくとも１種類の化合物を含む潤滑剤、あ
るいは、 ２）Ｉ）上記一般式（ａ）および（ｂ）で示される化合
物から選ばれる少なくとも１種類の化合物；II）上記一
般式（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）で示される化合物から
選ばれる少なくとも１種類の化合物；ならびにIII）上
記一般式（ｆ）で示される化合物から選ばれる少なくと
も１種類の化合物を含む潤滑剤を含んで成るものである
ことが好ましい。

【００４７】以下に、上記一般式（ａ）〜（ｆ）で示さ
れる化合物について説明する。 一般式（ａ）：

【化２１】 で示される化合物は一つのカルボキシル基を有する含フ
ッ素カルボン酸モノエステルともいえるものである。こ
の化合物は、例えば、コハク酸のようなジカルボン酸に
含まれる二つのカルボキシル基のうち、一つのカルボキ
シル基をエステルにすることにより得られる。

【００４８】一般式（ａ）において、Ｒ¹はアルキル基
またはアルケニル基であり、Ｒ²はパーフルオロアルキ
ル基またはパーフルオロポリエーテル基である。ａは通
常０〜２０の整数であり、好ましくは１〜１０の整数で
ある。ｂは０または１である。

【００４９】一般式（ａ）におけるＲ¹の炭素数は６〜
３０であることが好ましく、１０〜２４であることがよ
り好ましい。炭素数が６未満である場合または３０を超
える場合には、磁気記録媒体の潤滑性が低下することが
ある。Ｒ¹は、直鎖状であっても、枝分かれしたもので
あってもよい。

【００５０】Ｒ²がパーフルオロアルキル基である場
合、その炭素数は６〜１２であることが好ましく、６〜
１０であることがより好ましい。Ｒ²は、直鎖状であっ
ても、枝分かれしたものであってもよい。Ｒ²がパーフ
ルオロポリエーテル基である場合、その分子量は約２０
０〜約６０００程度であることが好ましく、約３００〜
約４０００であることがより好ましい。分子量が２００
未満である場合または６０００を超える場合には、磁気
記録媒体の潤滑性および保存信頼性が低下する場合があ
る。

【００５１】Ｒ²がパーフルオロポリエーテル基である
場合、そのパーフルオロポリエーテル基は、下記の一般
式（ｇ）、（ｈ）および（ｉ）のいずれかで示されるも
のであることが好ましい。下記のパーフルオロポリエー
テル基を有する化合物が潤滑剤に含まれることにより、
この潤滑剤が金属薄膜型磁気記録媒体の潤滑剤層に含ま
れる場合には、潤滑剤層の炭素膜への付着強度がより向
上し、かつより優れた潤滑特性が磁気記録媒体に付与さ
れる。そしてこれらの相乗効果により、電磁変換特性が
損なわれることなく向上した走行耐久性を有し、また、
使用中の潤滑剤の飛散が極めて少ない、実用信頼性の高
い磁気記録媒体が得られる。

【００５２】一般式（ｇ）：

【化２２】 においてｑは１以上の整数である。

【００５３】一般式（ｈ）：

【化２３】 においてｒおよびｔは１以上の整数である。

【００５４】一般式（ｉ）：

【化２４】 において、Ｒ⁹はパーフルオロアルキル基を示し、ｕは
１〜６の整数であり、ｖは１〜３０の整数である。ｖ
は、より好ましくは１〜８である。Ｒ⁹の炭素数は、１
〜３０であることが好ましく、１〜８であることがより
好ましい。また、Ｒ ⁹は、直鎖状であっても、枝分かれ
したものであってもよい。

【００５５】一般式（ｇ）、（ｈ）および（ｉ）におけ
るｑ、ｒ、ｔ、ｕおよびｖが上記の範囲外であると、こ
の化合物を含む潤滑剤が磁気記録媒体の潤滑剤層に含ま
れる場合に当該磁気記録媒体の潤滑性および保存信頼性
が低下することがある。また、ｑ、ｒ、ｔ、ｕおよびｖ
ならびにＲ⁹の炭素数は、パーフルオロポリエーテル基
の分子量が上述の好ましい範囲、すなわち約２００〜約
６０００程度、より好ましくは約３００〜約４０００の
範囲内にあるように、適宣選択することが好ましい。

【００５６】一般式（ｂ）：

【化２５】 で示される化合物において、Ｒ³はアルキル基またはア
ルケニル基であり、Ｒ⁴はパーフルオロアルキル基また
はパーフルオロポリエーテル基である。Ｒ⁵は酸素原子
または硫黄原子である。ｃは通常０〜２０の整数であ
り、好ましくは１〜１０の整数である。ｄは０または１
である。

【００５７】一般式（ｂ）におけるＲ³の炭素数は６〜
３０であることが好ましく、１０〜２４であることがよ
り好ましい。炭素数が６未満である場合または３０を超
える場合には、磁気記録媒体の潤滑性が低下することが
ある。Ｒ³は直鎖状であっても、枝分かれしたものであ
ってもよい。

【００５８】Ｒ⁴がパーフルオロアルキル基である場
合、その炭素数は１〜１２であることが好ましく、６〜
１０であることがより好ましい。Ｒ⁴は直鎖状であって
も、枝分かれしたものであってもよい。Ｒ⁴がパーフル
オロポリエーテル基である場合、その分子量は約２００
〜約６０００程度であることが好ましく、約３００〜約
４０００であることがより好ましい。分子量が２００未
満である場合または６０００を超える場合には、磁気記
録媒体の潤滑性および保存信頼性が低下する場合があ
る。

【００５９】Ｒ⁴がパーフルオロポリエーテル基である
場合には、一般式（ａ）におけるＲ²と同様、Ｒ⁴は上記
一般式（ｇ）、（ｈ）および（ｉ）のいずれかで示され
る基であることが好ましい。一般式（ｇ）、（ｈ）およ
び（ｉ）については先に一般式（ａ）に関連して説明し
たとおりであり、ここではその説明を引用することによ
り、詳細な説明を省略する。

【００６０】次に、両末端に極性基を有するパーフルオ
ロポリエーテル系化合物について説明する。

【００６１】一般式（ｃ）：

【化２６】 で示される化合物は、分子の両末端に水酸基を有する。

【００６２】一般式（ｃ）において、ｅおよびｇはいず
れも１以上の整数である。また、ｅおよびｇは、分子内
のパーフルオロポリエーテル鎖、即ち、−ＣＦ₂Ｏ（Ｃ₂
Ｆ₄Ｏ）_e（ＣＦ₂Ｏ）_gＣＦ₂−の分子量が、好ましくは
約２００〜約６０００程度、より好ましくは約３００〜
４０００の範囲内にあるように選択される。分子量が２
００未満である場合または６０００を超える場合には、
磁気記録媒体の潤滑性及び保存信頼性が低下する場合が
ある。

【００６３】一般式（ｄ）：

【化２７】 で示される化合物は、分子の両末端にカルボキシル基を
有する。

【００６４】一般式（ｄ）において、ｉおよびｊはいず
れも１以上の整数である。また、ｉおよびｊは、分子内
のパーフルオロポリエーテル鎖、即ち、−ＣＦ₂Ｏ（Ｃ₂
Ｆ₄Ｏ）_i（ＣＦ₂Ｏ）_jＣＦ₂−の分子量が、好ましくは
約２００〜約６０００程度、より好ましくは約３００〜
４０００の範囲内にあるように選択される。この範囲の
分子量が好ましい理由は先に一般式（ｃ）に関して説明
したとおりである。

【００６５】一般式（ｅ）：

【化２８】 で示される化合物は、分子の両末端にアシルオキシル基
を有する。

【００６６】一般式（ｅ）において、ｋおよびｍはいず
れも１以上の整数である。Ｒ⁶は炭素数４〜２２のアル
キル基であり、より好ましくは炭素数１２〜２２のアル
キル基である。Ｒ⁶は直鎖状であっても、枝分かれした
ものであってもよい。ｋおよびｍは、分子内のパーフル
オロポリエーテル鎖、即ち、−ＣＦ₂Ｏ（Ｃ₂Ｆ₄Ｏ）
_k（ＣＦ₂Ｏ）_mＣＦ₂−の分子量が、好ましくは約２００
〜約６０００程度、より好ましくは約３００〜４０００
の範囲内にあるように選択される。この範囲の分子量が
好ましい理由は先に一般式（ｃ）に関して説明したとお
りである。

【００６７】一般式（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）で示さ
れる化合物は、一般式（ｃ）におけるｅおよびｇ、一般
式（ｄ）におけるｉおよびｊ、ならびに一般式（ｅ）に
おけるｋおよびｍが、上記の条件を満たす限りにおい
て、従来公知の、または市販されているパーフルオロポ
リエーテル系化合物であってよく、あるいはそれを所定
の化学反応に付して得たものであってよい。例えば、一
般式（ｃ）で示される化合物として、Ausimont社製のFo
mblin Z DOLがあり、一般式（ｄ）で示される化合物と
して、Ausimont社製のFomblin Z DIACがある。また、一
般式（ｅ）で示される化合物は、前記のAusimont社製の
Fomblin Z DOLと、Ｒ⁶ＣＯＯＨで示されるカルボン酸と
をエステル化反応させることにより得られる。

【００６８】次に一般式（ｆ）で示される含フッ素カル
ボン酸エステルについて説明する。

【００６９】一般式（ｆ）：

【化２９】 において、Ｒ⁷は含フッ素有機基を示し、Ｒ⁸はアルキル
基またはアルケニル基を示し、ｎは０〜１２の整数であ
る。

【００７０】ここで、「含フッ素有機基」とは、有機基
の水素の１又は複数がフッ素原子で置換されたものをい
う。Ｒ⁷は、好ましくは、フルオロアルキル基、フルオ
ロアルケニル基、フルオロエーテル基、またはフルオロ
ポリエーテル基であり、より好ましくは、パーフルオロ
アルキル基、パーフルオロアルケニル基、パーフルオロ
エーテル基、またはパーフルオロポリエーテル基であ
る。Ｒ⁷の炭素数は４〜１４であることが好ましく、６
〜１２であることがより好ましい。Ｒ⁷は、直鎖状であ
っても、枝分かれしたものであってもよい。

【００７１】一般式（ｆ）においてｎは１〜６であるこ
とがより好ましい。Ｒ⁸の炭素数は８〜２２であること
が好ましく、１２〜１８であることがより好ましい。Ｒ
⁸は、直鎖状であっても、枝分かれしたものであっても
よい。

【００７２】炭素膜の上に形成される潤滑剤層は、一般
式（ａ）〜（ｆ）で示される化合物以外の成分、例え
ば、防錆剤、または従来公知の潤滑剤を含む潤滑剤で形
成してよい。その場合、一般式（ａ）〜（ｆ）で示され
る化合物以外の成分が占める割合は、潤滑剤の全量中、
２０重量％未満であることが好ましく、１０重量％未満
であることがより好ましい。２０重量％以上であると、
良好な潤滑特性を磁気記録媒体に付与することができな
い場合がある。

【００７３】補強層の上に形成される潤滑剤層もまた、
一般式（ａ）〜（ｆ）で示される化合物以外の成分を含
む潤滑剤で形成してよい。それが占める好ましい割合は
炭素膜の上に形成される潤滑剤層に関して説明した割合
と同一である。

【００７４】潤滑剤層（４）中には、上記特定の含フッ
素化合物を含む潤滑剤が潤滑剤層の表面１ｍ²当たり
０．１〜５０ｍｇ含まれることが好ましく、０．５〜５
ｍｇ含まれることがより好ましい。潤滑剤層にこのよう
な少量の化合物を均一に存在させるために、潤滑剤層
（４）は次の方法で形成することが望ましい。

【００７５】潤滑剤層（４）は、常套の材料および手段
を用いて非磁性基板（１）の上に強磁性金属薄膜（２）
および炭素膜（３）をこの順に形成した後、炭素膜
（３）上に形成する。潤滑剤層（４）の形成工程は、潤
滑剤を炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒の混合有機溶
媒に溶解して塗布液を調製し、これを相対湿度が１０〜
４０％の範囲内にある環境下で炭素膜（３）に塗布する
工程を含む。

【００７６】本発明で使用できる炭化水素系溶媒は、例
えばトルエン、ヘキサン、ヘプタン、およびオクタン等
であり、本発明で使用できるアルコール系溶媒は、例え
ばメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアル
コールおよびイソプロピルアルコール等の低級アルコー
ルである。混合有機溶媒は、具体的には、トルエンとイ
ソプロピルアルコールの混合溶媒、ヘキサンとイソプロ
ピルアルコールの混合溶媒、またはヘプタンとイソプロ
ピルアルコールの混合溶媒であることが好ましい。アル
コール系溶媒の割合が大きすぎると塗布ムラが生じやす
く、一方、炭化水素系溶媒の割合が大きすぎると不経済
であるため、両者は混合割合が重量比で１：９〜９：１
の範囲、好ましくは３：７〜７：３の範囲となるように
混合して使用することが好ましい。

【００７７】塗布液の濃度および塗布厚は、溶媒が蒸発
した後に炭素膜（３）上に形成される潤滑剤層（４）の
厚さが所望の厚さになるように塗布する。一般には、潤
滑剤の濃度が１００ppm〜４０００ppmである塗布液を、
１μm〜５０μmの厚みで塗布することが好ましい。

【００７８】塗布液は、相対湿度が１０〜４０％の範囲
内にある環境下で塗布することが好ましい。相対湿度が
１０％未満では静電気が発生しやすく、また、そのよう
な湿度の環境を作るための設備に費用がかかるという問
題があり、相対湿度が４０％を超えると塗布ムラが生じ
やすくなるという問題がある。

【００７９】潤滑剤層（４）は潤滑剤の種類等に応じて
最適膜厚が決定され、その厚さは一般に３〜５nmであ
る。塗布方法はバーコーティング法、グラビアコーティ
ング法、リバースロールコーティング法、ダイコーティ
ング法、ディピッング法またはスピンコート法等の湿式
塗布法あるいは有機蒸着法のいずれを採用してもよい。

【００８０】塗布液を塗布した後、乾燥処理して有機溶
媒を蒸発させると、炭素膜（３）上に潤滑剤の層（４）
が形成される。乾燥処理は加熱することにより、または
自然乾燥によって実施することができる。そして、最終
的に得られる潤滑剤層の厚さは３〜５nm程度とすること
が好ましい。ただし、潤滑剤の組成等に応じて潤滑剤層
の厚さの最適範囲が存在するため、潤滑剤層の厚さは必
ずしもこの範囲に限定されるものではない。

【００８１】このように、特定の混合有機溶媒を用いて
所定の相対湿度下で潤滑剤層を形成することにより、塗
布ムラのない均一な厚さの潤滑剤層が得られ、しかも溶
媒が最終的に蒸発した後には数nmという非常に薄い潤滑
剤層を形成させることができる。その結果、優れた潤滑
性能を有する実用信頼性の高い磁気記録媒体が得られ
る。

【００８２】補強層（５）の上に形成される潤滑剤層
（６）中に含まれる、上記特定の含フッ素化合物を含む
潤滑剤の好ましい量は、潤滑剤（４）のそれと同じであ
る。したがって、潤滑剤層（６）もまた、潤滑剤層
（４）と同様の方法で形成することが好ましい。

【００８３】磁気記録媒体が磁気テープであって、磁性
層側表面に潤滑剤層が形成されている場合、製造中に磁
気テープが巻回されると、潤滑剤層および補強層が互い
に接触し、それにより磁性層側表面の潤滑剤が補強層表
面に付着することがある。特に、本発明の磁気記録媒体
のように、補強層が表面に酸化物層を有する不動態化し
たステンレス鋼薄膜である場合には、潤滑剤層に含まれ
る潤滑剤が補強層表面に固着しやすい。そのような場
合、潤滑剤層は、独立した潤滑剤層形成工程（例えば先
に述べた湿式塗布工程）によらずに、補強層の上に形成
されることとなる。

【００８４】続いて、本発明の磁気記録媒体を構成する
非磁性基板（１）、磁性層（２）および炭素膜（３）に
ついて説明する。

【００８５】本発明の磁気記録媒体においては非磁性基
板（１）の一方の面に補強層（５）を形成するため、厚
さの小さい非磁性基板（１）を使用することができる。
非磁性基板の厚さは、好ましくは５．０μｍ以下であ
る。

【００８６】非磁性基板が長尺状である場合において、
その長手方向のヤング率は好ましくは５．０ＧPa以上で
あり、幅方向のヤング率は好ましくは９．３ＧPa以上で
ある。そのようなヤング率を有する長尺状の非磁性基板
を用いれば、磁気記録媒体の機械的強度を向上させるこ
とができる。

【００８７】上記の厚さおよびヤング率等を有する非磁
性基板としては、具体的には、ポリエチレンナフタレー
トから成るフィルム、およびポリアミドから成るフィル
ムがある。

【００８８】非磁性基板は、それらに限定されるもので
はなく、最終的に得ようとする製品に必要な機械的強度
等に応じて任意に選択することができる。例えば、ポリ
エチレンテレフタレートから成るフィルムまたはポリイ
ミドから成るフィルム、あるいはアルミ基板またはガラ
ス基板を使用してもよい。

【００８９】非磁性基板（１）の磁性層（２）が形成さ
れる面（即ち、磁性層（２）と接する側の面）には、実
用信頼性と良好なＲＦ出力を両立するために、直径５０
〜７００nm、高さ５〜７０nmの突起形成処理が施されて
いることが好ましい。突起は、具体的には、例えば、Ｓ
ｉＯ₂、ＺｎＯ等の無機物質から成る超微粒子、あるい
はイミド等の有機物質から成る超微粒子を非磁性基板の
表面に分散し固着させることにより形成され、あるい
は、そのような微粒子を含む高分子材料をフィルムに成
形することにより形成される。

【００９０】磁性層（２）は強磁性金属薄膜であること
が好ましい。強磁性金属薄膜は常套の材料および方法で
形成することができる。

【００９１】磁性層に適した強磁性金属としては、Ｆｅ
系金属、Ｃｏ系金属、およびＮｉ系金属がある。本発明
においてはＣｏ系金属で磁性層を形成することが特に好
ましい。ここで、「Ｃｏ系金属」とは、コバルト、およ
びコバルトを主成分として好ましくは５０原子％以上含
む合金をいう。「Ｆｅ系金属」および「Ｎｉ系金属」も
同様である。

【００９２】強磁性金属薄膜は、具体的には、Ｆｅ、Ｃ
ｏおよびＮｉ、ならびにＣｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｃｏ
−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｐｄ、Ｃｏ−
Ｓｎ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆ
ｅ−Ｃｕ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｐｔ−ＣｒおよびＦｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃ
ｒ等の合金から選択される１または複数の材料で形成さ
れる。強磁性金属薄膜は酸素を含んでいてよく、酸素は
これらの金属または合金の酸化物の形態で含まれていて
よい。強磁性金属薄膜は、単層膜の形態であってもよ
く、あるいは多層膜の形態であってもよい。

【００９３】強磁性金属薄膜はイオンプレーティング
法、スパッタリング法または電子ビーム蒸着法等で形成
することができる。強磁性金属薄膜を酸素雰囲気下で形
成すれば、強磁性金属薄膜には酸素が含まれることとな
る。強磁性金属薄膜の厚さは５０nm〜３００nmが一般的
である。

【００９４】炭素膜（３）は、ビッカース硬度が約２．
４５×１０⁴Ｎ/mm²（約２５００kgf／mm²）と高く、保
護層として、磁気記録媒体のダメージを潤滑剤層（４）
と共に防止する。実用信頼性と出力とのバランスを考慮
すれば、その厚さは１０〜２０nmであることが好まし
い。炭素膜（３）もまた、公知の材料および方法を用い
て形成することができ、例えば、炭化水素ガスのみ、あ
るいは炭化水素ガスと不活性ガスとの混合ガスを用いた
プラズマＣＶＤ法により形成できる。

【００９５】具体的には、真空容器中に炭化水素ガスま
たは炭化水素ガスとアルゴン等の不活性ガスの混合ガス
を導入し、容器内の圧力を１．３３×１０^-1〜１．３３
×１０²Pa（０．００１〜１Torr）に保った状態で真空
容器内部で放電を発生させ、炭化水素ガスのプラズマを
発生させて炭素膜（３）を磁性層（２）上に形成させ
る。放電形式は外部電極方式および内部電極方式のいず
れでもよく、放電周波数は実験的に決めることができ
る。また、非磁性基板（１）側に配置される電極に０KV
から−３KVの電圧を印加することによって、炭素膜
（３）の硬度を増大させることができ、また、炭素膜
（３）と磁性層（２）との密着性を向上させることがで
きる。炭化水素ガスとしては、メタン、エタン、プロパ
ン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン
またはベンゼン等を用いることができる。

【００９６】硬質の炭素膜（３）を形成するためには、
放電エネルギーを大きくすることが望ましく、併せて非
磁性基板（１）の温度を高温に維持することが望まし
い。例えば、放電エネルギーは、交流電流、例えば高周
波電流と直流電流を重畳して実効値を６００Ｖ以上にす
ることが望ましい。

【００９７】本発明においては、炭素膜（３）の表層部
に含窒素プラズマ重合膜（図示省略）を形成し、潤滑剤
層（４）が炭素膜の含窒素プラズマ重合膜上に形成され
ていることが好ましい。含窒素プラズマ重合膜が形成さ
れることにより、炭素膜の表層部にアミノ基が存在する
こととなり、その結果、潤滑剤層と炭素膜との間の付着
強度がより大きくなり、磁気記録媒体の耐久性がより向
上することとなる。そして、潤滑剤層に特定の含フッ素
化合物を含有させることと相俟って電磁変換特性が損な
われることなく優れた潤滑性能を有する走行耐久性が向
上した実用信頼性の高い磁気記録媒体が得られる。

【００９８】含窒素プラズマ重合膜は、真空容器中にプ
ロピルアミン、ブチルアミン、エチレンジアミン、プロ
ピレンジアミンまたはテトラメチレンジアミン等のアミ
ン化合物をガス化して導入し、容器内の圧力を１．３３
×１０^-1〜１．３３×１０²Pa（０．００１〜１Torr）
に保った状態で真空容器内部に高周波放電を生じさせて
形成する。含窒素プラズマ重合膜を形成することにより
上記特定の含フッ素化合物を含む潤滑剤の化学吸着力が
向上し、その結果、潤滑剤層と炭素膜との間の付着強度
が向上する。含窒素プラズマ重合膜の膜厚は３nm未満が
適当であり、これよりも含窒素プラズマ重合膜が厚い場
合には炭素膜の保護効果が低下する。なお、炭素膜の表
層部に含窒素プラズマ重合膜を形成する方法は、米国特
許第5,540,957号および第5,637,393号に開示されてお
り、この引用によりこれらの特許に開示された内容は本
明細書の一部を構成する。

【００９９】

【実施例】次に、本発明の具体的な実施例を説明する
が、本発明はこの実施例に限定されるものではない。 （実施例１）図１に示すような磁気記録媒体を作製し
た。非磁性基板（１）として、幅が５００mm、厚さが
４．２μmであって、表面に高さが３０nm、直径が２０
０nmの突起が１mm²あたり１０⁵〜１０⁹個形成されたポ
リエチレンナフタレートフィルムを使用した。このフィ
ルムの長手方向のヤング率は５．５ＧＰａ、幅方向のヤ
ング率は９．９ＧＰａであった。突起の数はＳＴＭ分析
で測定した値である。この非磁性基板（１）をベルト状
冷却回転支持体上で走行させながら、表面に酸素を導入
する斜方真空蒸着法によりＣoから成る厚さ約１８０nm
の強磁性金属薄膜（２）を形成した。

【０１００】次いで、非磁性基板（１）の裏面に、オー
ステナイト系ステンレス鋼ＳＵＳ３０３を用いて、蒸着
法により厚さ約３００nmの補強層（５）を形成した。蒸
着は、真空槽内の圧力を１．３３×１０^-2Pa（１０^-4To
rr）とし、非磁性基板をキャン状冷却回転支持体に沿っ
て５０ｍ／分で走行させながら、電子銃（出力７０ｋ
Ｗ）によりるつぼ内のステンレス鋼を蒸発させて実施し
た。

【０１０１】次に強磁性金属薄膜（２）上に、プラズマ
ＣＶＤ法により厚さ１５nmの炭素膜（３）を形成した。
炭素膜は、真空容器中にヘキサンガスとアルゴンガスと
を４：１の比（圧力比）で混合したガスを導入し、トー
タルガス圧を４．０×１０¹Pa（０．３Torr）に保ちな
がら、周波数２０KHz、電圧１５００Ｖの交流と１００
０Ｖの直流を重畳し、これを放電管内の電極に印加する
ことにより形成した。さらに、炭素膜（３）上にプロピ
ルアミンガスを導入し、６．６７Pa（０．０５Torr）の
圧力を保った状態で１０KHzの高周波プラズマ処理を行
ない、炭素膜（３）の表層部に厚さ２．５nmの含窒素プ
ラズマ重合膜を形成した。

【０１０２】次に、潤滑剤として下記化学式（ａ１）で
示される化合物を用意した。これをイソプロピルアルコ
ールとトルエンとを重量比で１：１となるように混合し
た混合有機溶媒にその濃度が１５００ppmとなるように
溶解して塗布液を調製した。そしてこの塗布液を、２３
℃、３０％ＲＨ環境下で、リバースロールコータを用い
て湿式塗布法で塗布した後、乾燥した。最終的に炭素膜
（３）上には、１ｍ²あたり４mgの潤滑剤が含まれる、
厚さ４nmの潤滑剤層（４）が形成された。

【０１０３】以上のようにして作製したテープ素材をス
リッタで６．３５mm幅に裁断して６．３５mm幅の磁気テ
ープ試料(全厚４．７μm、６０分長)を作製した。

【０１０４】

【化３０】

【０１０５】（実施例２）補強層の厚さを約５０nmとし
たこと以外は、実施例１と同様の方法で磁気テープ試料
を作製した。

【０１０６】（実施例３）補強層の厚さを約８０nmとし
たこと以外は、実施例１と同様の方法で磁気テープ試料
を作製した。

【０１０７】（実施例４）補強層の厚さを約８００nmと
したこと以外は、実施例１と同様の方法で磁気テープ試
料を作製した。

【０１０８】（実施例５）図２に示す態様の磁気記録媒
体を作製した。非磁性基板（１）として、実施例１で使
用したものと同じフィルムを使用し、磁性層（２）およ
び保護層（３）は実施例１と同様にして形成した。潤滑
剤層（４）は、潤滑剤を含む塗布液の濃度を１２００pp
mとしたこと以外は実施例１と同様にして形成した。

【０１０９】次に、潤滑剤層（４）を形成するのに用い
た潤滑剤および混合有機溶媒と同じものを使用して濃度
３００ppmの塗布液を調製した。この塗布液を用いて、
潤滑剤層（４）を形成した際の手順と同様の手順で補強
層（５）の上に潤滑剤層（６）を形成した。最終的に補
強層（５）上には、１ｍ²あたり１mgの潤滑剤を含む、
厚さ１nmの潤滑剤層（６）が形成された。

【０１１０】以上のようにして作製したテープ素材をス
リッタで６．３５mm幅に裁断して６．３５mm幅の磁気テ
ープ試料(全厚７μm、６０分長)を作製した。

【０１１１】（実施例６）炭素膜（３）の表層部に含窒
素プラズマ重合膜を形成する工程を省略したこと以外
は、実施例１と同様の方法で磁気テープ試料を作製し
た。

【０１１２】（実施例７）非磁性基板として、厚さ４．
０μm、長手方向のヤング率が１０．５ＧＰａ、幅方向
のヤング率が１５．５ＧＰａであり、表面に高さが３０
nm、直径が２００nmの突起が１mm²あたり１０⁵〜１０⁹
個形成されたポリアミドフィルムを用いたこと以外は、
実施例１と同様の方法で磁気テープ試料を作製した。

【０１１３】（実施例８）非磁性基板として、厚さ４．
５μm、長手方向のヤング率が４．４ＧPa、幅方向のヤ
ング率が６．３ＧPaであり、表面に高さが３０nm、直径
が２００nmの突起が１mm²あたり１０⁵〜１０⁹個形成さ
れたポリエチレンテレフタレートフィルムを用いたこと
以外は、実施例１と同様の方法で磁気テープ試料を作製
した。

【０１１４】（実施例９）潤滑剤として、化学式（ａ
１）で示される化合物に代えて、下記化学式（ａ２）で
示される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様の
方法で磁気テープ試料を作製した。

【０１１５】

【化３１】

【０１１６】（実施例１０）潤滑剤として、化学式（ａ
１）で示される化合物に代えて、下記化学式（ａ３）で
示される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様の
方法で磁気テープ試料を作製した。

【０１１７】

【化３２】

【０１１８】（実施例１１）潤滑剤として、化学式（ａ
１）で示される化合物に代えて、下記化学式（ａ４）で
示される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様の
方法で磁気テープ試料を作製した。

【０１１９】

【化３３】

【０１２０】（実施例１２）潤滑剤として、化学式（ａ
１）で示される化合物に代えて、下記化学式（ａ５）で
示される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様の
方法で磁気テープ試料を作製した。

【０１２１】

【化３４】

【０１２２】（実施例１３）潤滑剤として、化学式（ａ
１）で示される化合物に代えて、下記化学式（ｂ１）で
示される化合物を用いたこと以外は、実施例１と同様の
方法で磁気テープ試料を作製した。

【０１２３】

【化３５】

【０１２４】（実施例１４〜実施例２４）実施例１４〜
実施例２４では、上記化学式（ａ１）〜（ａ５）および
下記化学式（ａ６）ならびに上記化学式（ｂ１）および
下記化学式（ｂ２）〜（ｂ５）で示される化合物をそれ
ぞれ使用した。各実施例において、前記化合物、化学式
（ｃ１）で示される化合物（アウジモント（Ausimont）
社 Ｆomblin−Ｚ−ＤＯＬ)、および化学式（ｆ１）で
示される化合物をモル比で１：１：１の割合となるよう
に配合した組成物を潤滑剤として用意した。そして、こ
の潤滑剤を実施例１で使用した潤滑剤に代えて使用した
こと以外は、実施例１と同様の方法で磁気テープ試料を
それぞれ作製した。

【０１２５】

【化３６】

【０１２６】

【化３７】

【０１２７】

【化３８】

【０１２８】

【化３９】

【０１２９】

【化４０】

【０１３０】

【化４１】

【０１３１】

【化４２】

【０１３２】（実施例２５〜実施例３５）実施例２５〜
実施例３５では、それぞれ上記化学式（ａ１）〜（ｂ
５）で示される化合物を使用した。各実施例において、
前記化合物、下記化学式（ｄ１）で示される化合物（ア
ウジモント（Ausimont）社 Ｆomblin−Ｚ−ＤＯＬ)、
および上記化学式（ｆ１）で示される化合物をモル比で
１：１：１の割合となるように配合した組成物を潤滑剤
として用意した。そして、この潤滑剤を実施例１で使用
した潤滑剤に代えて使用したこと以外は、実施例１と同
様の方法で磁気テープ試料をそれぞれ作製した。

【０１３３】

【化４３】

【０１３４】（実施例３６〜実施例４６）実施例３６〜
実施例４６では、それぞれ上記化学式（ａ１）〜（ｂ
５）で示される化合物を使用した。各実施例において、
前記化合物、下記化学式（ｅ１）で示される化合物、お
よび上記化学式（ｆ１）で示される化合物をモル比で
１：１：１の割合となるように配合した組成物を潤滑剤
として用意した。そして、この潤滑剤を実施例１で使用
した潤滑剤に代えて使用したこと以外は、実施例１と同
様の方法で磁気テープ試料をそれぞれ作製した。

【０１３５】

【化４４】

【０１３６】（実施例４７〜実施例５７）実施例４７〜
実施例５７では、それぞれ上記化学式（ａ１）〜（ｂ
５）で示される化合物を使用した。各実施例において、
前記化合物、上記化学式（ｅ１）で示される化合物、お
よび下記化学式（ｆ２）で示される化合物をモル比で
１：１：１の割合となるように配合した組成物を潤滑剤
として用意した。そして、この潤滑剤を実施例１で使用
した潤滑剤に代えて使用したこと以外は、実施例１と同
様の方法で磁気テープ試料をそれぞれ作製した。

【０１３７】

【化４５】

【０１３８】（比較例１）補強層の厚さを約１．２μm
としたこと以外は、実施例１と同様の方法で磁気テープ
試料を作製した。

【０１３９】（比較例２）ステンレス鋼薄膜を形成せず
に、非磁性基板の磁性層が形成された面とは反対側の面
に、ポリウレタン、ニトロセルロースおよびカーボンブ
ラックを含む固形分３０％のメチルエチルケトン／トル
エン／シクロヘキサノン溶液をリバースロールコータに
より塗布して、乾燥後の厚さが約５００nmのバックコー
ト層を形成したこと以外は、実施例１と同様の方法で磁
気テープ試料を作製した。

【０１４０】（比較例３）潤滑剤として、上記化学式
（ａ１）で示される化合物に代えて、上記化学式（ｃ
１）で示される化合物（アウジモント（Ausimont）社
Ｆomblin−Ｚ−ＤＯＬ）を用いたこと以外は、実施例１
と同様の方法で磁気テープ試料を作製した。

【０１４１】（比較例４）潤滑剤として、上記化学式
（ａ１）で示される化合物に代えて、上記化学式（ｄ
１）で示される化合物（アウジモント（Ausimont）社
Ｆomblin−Ｚ−ＤＩＡＣ）を用いたこと以外は、実施例
１と同様の方法で磁気テープ試料を作製した。

【０１４２】（比較例５）潤滑剤として、上記化学式
（ａ１）で示される化合物に代えて、上記化学式（ｅ
１）で示される化合物を用いたこと以外は、実施例１と
同様の方法で磁気テープ試料を作製した。

【０１４３】（比較例６）潤滑剤として、上記化学式
（ａ１）で示される化合物に代えて、上記化学式（ｆ
１）で示される化合物を用いたこと以外は、実施例１と
同様の方法で磁気テープ試料を作製した。

【０１４４】（比較例７）潤滑剤として、上記化学式
（ａ１）で示される化合物に代えて、上記化学式（ｆ
２）で示される化合物を用いたこと以外は、実施例１と
同様の方法で磁気テープ試料を作製した。

【０１４５】（比較例８）潤滑剤として、上記化学式
（ａ１）で示される化合物に代えて、潤滑剤として公知
の下記化学式（ｘ１）で示される化合物を用いたこと以
外は、実施例１と同様の方法で磁気テープ試料を作製し
た。

【０１４６】

【化４６】

【０１４７】（比較例９）潤滑剤として、化学式（ａ
１）で示される化合物に代えて、潤滑剤として公知の下
記化学式（ｘ２）で示される化合物を用いたこと以外
は、実施例１と同様の方法で磁気テープ試料を作製し
た。

【０１４８】

【化４７】

【０１４９】（比較例１０）非磁性基板として、厚さ
４．２μｍ、長手方向のヤング率が９．７ＧPa、幅方向
のヤング率が５．６ＧPaであり、表面に高さが３０nm、
直径が２００nmの突起が１mm²あたり１０⁵〜１０⁹個形
成されたポリエチレンナフタレートフィルムを用いたこ
と以外は、実施例１と同様の方法で磁気テープ試料を作
製した。

【０１５０】（比較例１１）潤滑剤を溶解する溶媒とし
て、イソプロピルアルコールおよびトルエンから成る混
合有機溶媒に代えて、イソプロピルアルコールのみを用
いたこと以外は、実施例１と同様の方法で磁気テープ試
料を作製した。

【０１５１】（比較例１２）潤滑剤を溶解する溶媒とし
て、イソプロピルアルコールおよびトルエンから成る混
合有機溶媒に代えて、トルエンのみを用いたこと以外
は、実施例１と同様の方法で磁気テープ試料を作製し
た。

【０１５２】（比較例１３）２３℃、５５％ＲＨ環境下
において、塗布液をリバースロールコータを用いて湿式
塗布法で塗布したこと以外は、実施例１と同様の方法で
磁気テープ試料を作製した。

【０１５３】実施例１〜５６および比較例１〜１３で得
られた６．３５mm幅の磁気テープ試料について、それぞ
れ以下に示す評価試験（１）および（２）を実施した。
それぞれの試験で得られた結果を、表１〜表６に示す。

【０１５４】（１）走行性試験 直径２mm、表面粗さ０．２Ｓに研磨したステンレス鋼
（ＳＵＳ３０３）円柱に、補強層を内側にして、９０°
の抱き角で巻き付け、入側張力を９．８×１０^-2Ｎと
し、１８．８ｍｍ／秒で往復走行させる。３００パス走
行後の出側張力を測定し、次式（オイラーの式）から摩
擦係数を算出した。測定環境は４０℃、８０％ＲＨであ
る。

【数２】μ＝［ｌｎ（出側張力／入側張力）］・２／π

【０１５５】（２）走行耐久性試験 出力低下 ＲＦ（高周波）出力測定用に改造した市販デジタルＶＴ
Ｒ(松下電器(株)製、ＮＶ−ＤＪ１）を用い、各６．３
５mm幅テープ試料を４０℃、８０％ＲＨの環境下で１０
０パス、１００時間繰り返し再生を行った後のＲＦ出力
変化を測定した。試験前に対する試験後の変化をデシベ
ル表示で示した。

【０１５６】ヘッド目詰まり 上記の繰り返し再生を実施している間に、再生中のＲ
Ｆ出力からヘッド目詰まりを測定した。この繰り返し再
生中、ＲＦ出力が６ｄＢ以上低下したときにヘッド目詰
まりが発生したものとし、そのような低下が測定された
時間を合計した時間をヘッド目詰まりとした。

【０１５７】テープダメージ テープダメージは、繰り返し走行させた後のテープの変
形、テープ表面の走行傷等を目視観察および微分干渉顕
微鏡で状態観察し、５段階で評価した。評価基準は次の
とおりである。 ５：実用上全く問題ない。 ４：実用上問題ない。 ３：実用可能であるが、改善が必要である。 ２：テープダメージがひどく、実用性は殆どない。 １：テープダメージがあまりにもひどく、実用性は全く
ない。

【０１５８】さらに、走行耐久性試験後におけるテープ
試料表面（磁性層側表面）の潤滑剤の残存量を測定する
ために、走行耐久性試験前後にＸ線光電子分光法（ＸＰ
Ｓ）（パーキンエルマーＰＨＩ社製 ５４００ＭＣ）に
よりフッ素原子を分析し、その試験前後の強度の比率か
ら、残存量を算出した。

【０１５９】

【表１】

【０１６０】

【表２】

【０１６１】

【表３】

【０１６２】

【表４】

【０１６３】

【表５】

【０１６４】

【表６】

【０１６５】上記表１〜表６から明らかなように、比較
例１〜１３との比較において、実施例１〜５７で得た磁
気テープはいずれも、テープダメージの問題が発生し
ない、ヘッド目詰まりが少ない、出力低下が小さ
い、潤滑剤の残存量が多い（即ち、使用中の潤滑剤の
飛散が少ない）、摩擦係数が低い、という優れた特性
を有するものであった。

【０１６６】実施例１〜５７は、従来の塗布型のバック
コート層を形成した比較例１、ステンレス鋼薄膜の厚さ
が１．０μmよりも厚い比較例２と比較して、いずれも
優れた走行耐久性および走行性を示した。このように、
特定のステンレス鋼薄膜から成る特定の厚さの補強層を
形成した実施例１〜５６の各磁気テープ試料は、走行性
および走行耐久性等の実用信頼性の点で明らかに優れて
いる。

【０１６７】実施例１〜５６は、一般式（ａ）および一
般式（ｂ）で示される化合物以外の化合物で潤滑剤層を
形成した比較例３〜７、従来公知の化合物で潤滑剤層を
形成した比較例８〜９と比較して、いずれも優れた走行
性および走行耐久性を示した。このことは、一般式
（ａ）および（ｂ）で示される化合物が、磁気記録媒体
表面の摩擦係数を低下させ、磁気記録媒体の潤滑性能の
向上に大きく寄与していることを示す。また、一般式
（ａ）で示される化合物、一般式（ｃ）、（ｄ）および
（ｅ）で示される化合物から選ばれる化合物、ならびに
一般式（ｆ）で示される化合物を含む組成物で潤滑剤層
を形成した実施例１４〜５７は、概して潤滑剤残存量が
大きく、一般式（ｃ）〜（ｆ）で示される化合物が潤滑
剤の飛散を有効に抑制することを示している。潤滑剤の
飛散は補強層の上に潤滑剤層を形成することによっても
有効に抑制されることが、実施例５より判る。

【０１６８】実施例６の磁気テープ試料は、実施例１と
同様にして潤滑剤層を形成したが、炭素膜(３)上に含窒
素プラズマ重合膜を形成しなかったものである。実施例
６の走行耐久性等は実施例１のそれらに比べてやや劣っ
ている。このことは含窒素プラズマ重合膜が磁気テープ
の潤滑性能の向上に寄与していることを示している。

【０１６９】比較例１０の磁気テープは、幅方向のヤン
グ率が小さい非磁性基板を使用したものである。比較例
１０の走行耐久性は実施例１のそれに比べて劣ってい
る。このことは、非磁性基板の幅方向のヤング率が、磁
気記録媒体の走行耐久性に対して大きな影響を及ぼすこ
とを示している。

【０１７０】実施例１と比較例１１および１２から、潤
滑剤を炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒との混合有機
溶媒に溶解して調製した塗布液を炭素膜（３）上に塗布
して潤滑剤層（４）を形成することにより、走行耐久性
および走行性等の実用信頼性の点で優れた磁気テープ試
料を安定して作製できることが判る。また、潤滑剤を含
む塗布液を高い湿度の下で塗布した比較例１３は、実施
例１と同じ潤滑剤を使用しているにもかかわらず、走行
耐久性および走行性はともに劣り、高湿度下での塗布が
望ましくないことを示している。

【０１７１】実施例１〜５６では、潤滑剤層（４）の形
成工程において湿式塗布法であるリバースロールコーテ
ィング法を用いたが、有機蒸着法によっても同様の作用
効果を有する潤滑剤層（４）を形成することが可能であ
る。

【０１７２】なお、以上説明した実施例１〜５６では、
本発明の磁気記録媒体およびその製造方法を市販デジタ
ルＶＴＲ用テープに適用した場合についてのみ説明した
が、本発明の磁気記録媒体およびその製造方法はこれに
限定されるものではなく、他の金属薄膜型磁気テープや
塗布型磁気テープ等についても適用できるものである。

【０１７３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気記録
媒体は非磁性基板の磁性層が形成された面とは反対側の
面に補強層としてステンレス鋼薄膜を有することを特徴
とする。このステンレス鋼薄膜は磁気記録媒体の剛性を
向上させる。したがって、本発明の磁気記録媒体が特に
磁気テープである場合には、繰り返し走行させた場合で
も変形および折れが生じにくく、優れた走行耐久性を示
す。ステンレス鋼薄膜をオーステナイト系ステンレス鋼
で形成することにより、補強効果がより発揮され、磁気
記録媒体の走行耐久性は更に向上する。また、補強層に
よる剛性の向上は磁気記録媒体と磁気ヘッドとの当たり
を良好とし、それにより磁気記録媒体のエンベロープ特
性を向上させる。磁気記録媒体の剛性は、非磁性基板の
長手方向および幅方向のヤング率を特定することによ
り、さらに最適化され得る。

【０１７４】本発明の磁気記録媒体は、磁性層の上に形
成された炭素膜の上に潤滑剤層を形成することで、走行
性を向上させることができる。更に、炭素膜の上に形成
される潤滑剤層を、特定のフッ素化合物または特定の含
フッ素化合物が三種類以上組み合わされて成る組成物で
形成することにより潤滑剤層の炭素膜への付着強度が向
上した、良好な潤滑性能を呈する磁気記録媒体を得るこ
とができる。そのような磁気記録媒体は、電磁変換特性
が損なわれることなく向上した走行耐久性を有し、使用
中の潤滑剤の飛散が極めて少なく、したがって高い実用
信頼性を示す。本発明の磁気記録媒体は、補強層の上に
潤滑剤層を更に形成することによって、走行性を更に向
上させることができる。炭素膜の上に形成される潤滑剤
層と同様に、補強層の上に形成される潤滑剤層を特定の
フッ素化合物または特定のフッ素化合物の組成物で形成
することにより、潤滑性能がより向上した、実用信頼性
のより高い磁気記録媒体を得ることができる。

【０１７５】さらに本発明の磁気記録媒体において炭素
膜の表層部に含窒素プラズマ重合膜を形成することによ
り潤滑剤の化学吸着力が向上するので、潤滑剤層の炭素
膜への付着強度がさらに向上し、優れた潤滑性能を呈す
る磁気記録媒体を得ることができる。そしてこれらの相
乗効果により、本発明の磁気記録媒体は、電磁変換特性
が損なわれることなく、走行耐久性、走行性等の実用信
頼性がさらに向上したものとなる。

【０１７６】本発明の磁気記録媒体は、潤滑剤を特定の
溶媒に溶解して調製した塗布液を、特定の湿度条件の下
で炭素膜上に塗布する工程を含む製造方法によって好ま
しく製造される。この塗布液を用いることにより塗布ム
ラのない均一な厚さの潤滑剤層が得られる。また、湿度
の範囲を限定することにより、潤滑剤層の性能低下を防
止している。従って、本発明の製造方法によれば、走行
耐久性および走行性等の実用信頼性の点で優れた本発明
の磁気記録媒体を安定して作製することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の磁気記録媒体の一態様である金属薄
膜型磁気テープの模式的断面図である。

【図２】 本発明の磁気記録媒体の一態様である金属薄
膜型磁気テープの模式的断面図である。

【符号の説明】 １ 非磁性基板 ２ 強磁性金属薄膜 ３ 炭素膜 ４ 潤滑剤層 ５ 補強層 ６ 潤滑剤層 １０，２０ 磁気記録媒体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 5/84 Ｇ１１Ｂ 5/84 Ｚ // Ｃ１０Ｎ 40:18 Ｃ１０Ｎ 40:18 (72)発明者 篠川 泰治 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 大畑 久代 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 4H104 BD07A CD04A LA20 PA16 5D006 AA01 AA02 AA05 AA06 CB07 CC01 CC03 CC04 FA09 5D112 AA02 AA05 AA07 AA08 AA11 AA22 BC02 BC05 BC10 BD01 BD03 BD09

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性基板の一方の面に磁性層が形成さ
   れ、非磁性基板の他方の面に補強層が形成されて成る磁
   気記録媒体であって、補強層がステンレス鋼薄膜である
   磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 ステンレス鋼薄膜が非磁性オーステナイ
   ト系ステンレス鋼であることを特徴とする請求項１に記
   載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 ステンレス鋼薄膜の厚さが０．０５〜
   １．０μｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１ま
   たは請求項２に記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 磁性層が強磁性金属薄膜である請求項１
   〜３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 磁性層の上に形成された炭素膜および炭
   素膜の上に形成された潤滑剤層を更に有する請求項１〜
   ４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 補強層の上に形成された潤滑剤層を更に
   有する請求項５に記載の磁気記録媒体。
7. 【請求項７】 少なくとも１つの潤滑剤層が、分子内に
   パーフルオロアルキル基またはパーフルオロポリエーテ
   ル基と、アルキル基またはアルケニル基とを有する、一
   般式（ａ）および（ｂ）で示される化合物から選ばれる
   少なくとも１種類の化合物を含む潤滑剤： 【化１】 （式中、Ｒ¹はアルキル基またはアルケニル基を示し、
   Ｒ²はパーフルオロアルキル基またはパーフルオロポリ
   エーテル基を示し、ａは０〜２０の整数であり、ｂは０
   または１である） 【化２】 （式中、Ｒ³はアルキル基またはアルケニル基を示し、
   Ｒ⁴はパーフルオロアルキル基またはパーフルオロポリ
   エーテル基を示し、Ｒ⁵は−Ｏ−または−Ｓ−を示し、
   ｃは０〜２０の整数であり、ｄは０または１である）を
   含んで成る請求項５または請求項６に記載の磁気記録媒
   体。
8. 【請求項８】 少なくとも１つの潤滑剤層が、 Ｉ）分子内にパーフルオロアルキル基またはパーフルオ
   ロポリエーテル基と、アルキル基またはアルケニル基と
   を有する、一般式（ａ）および（ｂ）で示される化合物
   から選ばれる少なくとも１種類の化合物； II）分子内にパーフルオロポリエーテル鎖を有し、一般
   式（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）で示される化合物から選
   ばれる少なくとも１種類の化合物；ならびに III）一般式（ｆ）で示される化合物から選ばれる少な
   くとも１種類の化合物を含む潤滑剤： 【化３】 （式中、Ｒ¹はアルキル基またはアルケニル基を示し、
   Ｒ²はパーフルオロアルキル基またはパーフルオロポリ
   エーテル基を示し、ａは０〜２０の整数であり、ｂは０
   または１である） 【化４】 （式中、Ｒ³はアルキル基またはアルケニル基を示し、
   Ｒ⁴はパーフルオロアルキル基またはパーフルオロポリ
   エーテル基を示し、Ｒ⁵は−Ｏ−または−Ｓ−を示し、
   ｃは０〜２０の整数であり、ｄは０または１である） 【化５】 （式中、ｅ、ｇは１以上の整数である） 【化６】 （式中、ｉ、ｊは１以上の整数である） 【化７】 （式中、ｋ、ｍは１以上の整数であり、Ｒ⁶は炭素数４
   〜２２のアルキル基である） 【化８】 （式中、Ｒ⁷は含フッ素有機基を示し、Ｒ⁸はアルキル基
   またはアルケニル基を示し、ｎは０〜１２の整数であ
   る）を含んで成る請求項５または請求項６に記載の磁気
   記録媒体。
9. 【請求項９】 炭素膜がその表層部に含窒素プラズマ重
   合膜を有し、潤滑剤層が炭素膜の含窒素プラズマ重合膜
   上に形成されている請求項５〜８のいずれか１項に記載
   の磁気記録媒体。
10. 【請求項１０】 非磁性基板が長尺状であり、その厚さ
    が５．０μｍ以下であり、その長手方向および幅方向の
    ヤング率がそれぞれ５．０ＧＰａ以上および９．３ＧＰ
    ａ以上である請求項１〜９のいずれか１項に記載の磁気
    記録媒体。
11. 【請求項１１】 請求項７または請求項８に記載の磁気
    記録媒体の製造方法であって、炭素膜の上および／また
    は補強層の上に潤滑剤層を形成する工程が、炭化水素系
    溶媒とアルコール系溶媒との混合有機溶媒に潤滑剤を溶
    解して調製した塗布液を、相対湿度が１０〜４０％の範
    囲内にある環境下において炭素膜および／または補強層
    の上に塗布する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒
    体の製造方法。
12. 【請求項１２】 炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒と
    の混合割合が重量比で１：９〜９：１の範囲内にあるこ
    とを特徴とする請求項１１に記載の磁気記録媒体の製造
    方法。