JP2001216626A

JP2001216626A - 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JP2001216626A
Application number: JP2000020202A
Authority: JP
Inventors: Taiji Shinokawa; 泰治篠川; Yukikazu Ochi; 幸和大地
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2000-01-28
Filing date: 2000-01-28
Publication date: 2001-08-10

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】耐久性、走行性に優れ、信頼性の高い磁気記
録媒体を提供する。【解決手段】非磁性基板1、磁性層2、保護層3、バッ
クコート層4、磁性層側潤滑剤層6bおよびバックコート
層側潤滑剤層6aを有し、潤滑剤層6a中の潤滑剤が、式
（ａ）の含フッ素モノエステルと、式（ｂ）のフルオロ
ポリエーテル系化合物：（Ｒ¹... フルオロアルキル基、フルオロエーテル基、
またはフルオロポリエーテル基、Ｒ²... アルキル基ま
たはアルケニル基、ａ...０〜２０の整数）（Ｘ...ＯＨ，ＣＯＯＨ，ＣＯＯＲ³，又はＯＣＯＲ³、
Ｒ³...アルキル基又はアルケニル基、ｉ，ｊ...正の整
数、ｈ...０〜１２の整数）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体、特
に、高密度磁気記録に適した強磁性金属薄膜を磁性層と
する金属薄膜型磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録分野においては、より多
くの情報を記録し得る、より小型の磁気記録媒体が要求
されている。

【０００３】この要求を満たす１つの方法として、強磁
性金属が蒸着されて成る金属薄膜で磁性層を構成し、磁
性層そのものを高密度記録に適したものにする方法があ
る。そのような磁気記録媒体は一般に金属薄膜型磁気記
録媒体または高密度磁気記録媒体と称されている。

【０００４】また、前記要求を満たす別法として、磁気
記録媒体をより薄くし、所定寸法のパッケージにより多
くの磁気記録媒体が収納されるようにする方法がある。
この方法によれば、省資源および低コストといった効果
ももたらされる。

【０００５】磁気記録媒体を薄くする最も効果的な方法
は、磁気記録媒体の厚さの多くを占める非磁性基板の厚
さを薄くすることである。しかし、非磁性基板の厚さを
小さくすると、磁気記録媒体の剛性が小さくなり、実用
上問題が生じる場合がある。

【０００６】そこで、例えば特開平７−３７２４４号公
報、特開平７−８５４６６号公報、特開平１０−２７３
２８号公報および特開平１０−１０５９４１号公報等に
記載されているように、非磁性基板の磁性層が形成され
ている面とは反対側の面に、金属の蒸着層がバックコー
ト層として形成され、このバックコート層によって剛性
を確保した磁気記録媒体が提案されている。

【０００７】非磁性基板の一方の面に磁性層が、他方の
面にバックコート層が形成された高密度磁気記録媒体の
一例を、図３を参照して説明する。

【０００８】図３に示す高密度磁気記録媒体は、非磁性
基板（１）の上に、磁性層（２）、保護層（３）および
潤滑剤層（５）がこの順に積層され、基板（１）の磁性
層（２）が形成されている面とは反対側の面にバックコ
ート層（４）および潤滑剤層（５）がこの順に積層され
た構造を有している。

【０００９】非磁性基板（１）はポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド（以
下、順にＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＡと略する場合がある）等
の非磁性体から成る。これらの材料から成る非磁性基板
の磁性層と接する側の面には、ＳｉＯ₂、ＺｎＯ等の無
機物質から成る超微粒子、あるいはイミド等の有機物質
から成る超微粒子が、分散、固着している場合が多い。
また、非磁性基板（１）の厚さは一般に約２〜７μｍで
ある。

【００１０】磁性層（２）は、強磁性金属薄膜から成
る。磁性層（２）は、例えばＣｏ、ＮｉもしくはＦｅの
ような強磁性金属、またはこれらを主成分とする合金か
ら成る層を、単層もしくは多層構造となるように、連続
的に金属蒸気の入射角を変化させる斜方蒸着法等によっ
て形成することができる。また、磁性層（２）はＣｏ−
ＣｒもしくはＣｏ−Ｏを傾斜蒸着させて垂直磁化膜とし
てもよい。磁性層（２）の厚さは一般に３０〜３００nm
である。

【００１１】保護層（３）は、磁性層（２）がダメージ
を受けることを防止するために形成される。保護層
（３）を構成する材料は、例えばダイヤモンドライクカ
ーボンのような硬度の大きい物質である。また、保護層
（３）の厚さは一般に１〜５０nmである。

【００１２】バックコート層（４）は、適当な金属を例
えば蒸着させて形成した金属薄膜、または適当な金属を
酸素存在下で例えば蒸着させて形成した酸化金属薄膜、
あるいは炭素粒子を含むバインダーを塗布して形成した
炭素膜である。バックコート層の表面には、図示するよ
うに磁気記録媒体の走行性を改善するために潤滑剤層
（５）を設ける場合がある（特開平１０−１０５９４１
号公報参照）。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来か
ら、種々多様な磁気記録媒体が提案され、実用に供され
ている。しかし、磁気記録媒体は、これを磁気記録テー
プとして使用する場合、ビデオデッキやカッセトデッキ
等の走行系部材から大きな摩擦力を受けるため、金属薄
膜から成るバックコート層は、その表面に潤滑剤層が形
成されている場合でも依然として摩耗されやすい。そこ
で、磁気記録媒体の耐久性、走行性および耐食性等をよ
り向上させるべく、バックコート層表面に設ける潤滑剤
層についてより一層の改善が望まれている。

【００１４】本発明は上記課題を解決するためになされ
たものであり、非磁性基板の一方の面に磁性層を、他方
の面にバックコート層を有して成る高密度磁気記録媒体
を磁気記録テープとして使用する場合において、磁気記
録媒体の走行耐久性を向上させ、実用信頼性をより向上
させることを課題とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板の一方の面に形
成されている磁性層、非磁性基板の他方の面に形成され
ている金属薄膜から成るバックコート層、およびバック
コート層の非磁性基板とは反対側の面に形成されている
潤滑剤層を有する磁気記録媒体であって、この潤滑剤層
が、潤滑剤として、一般式（ａ）で示される含フッ素モ
ノエステルから選択される少なくとも１種類の化合物
と、一般式（ｂ）で示されるフルオロポリエーテル系化
合物から選択される少なくとも１種類の化合物とを含ん
でいることを特徴とする：

【化３】（式中、Ｒ¹はフルオロアルキル基、フルオロエーテル
基、またはフルオロポリエーテル基を示し、Ｒ²は脂肪
族アルキル基または脂肪族アルケニル基を示し、ａは０
〜２０の整数である）

【化４】（式中、Ｘは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ³、また
は−ＯＣＯＲ³であり、ここでＲ³は脂肪族アルキル基ま
たは脂肪族アルケニル基を示し、ｉおよびｊは１以上の
整数であり、ｈは０〜１２の整数である）。

【００１６】本発明の磁気記録媒体は、金属薄膜である
バックコート層によってその剛性が確保されるととも
に、バックコート層の非磁性基板の反対側の面に形成さ
れる潤滑剤層（この潤滑剤層を「バックコート層側潤滑
剤層」と呼ぶ場合がある。）を構成する化合物の種類を
上記のように特定することで、厳しい環境下においても
優れた走行性および耐久性を示すものとなる。

【００１７】なお、本明細書において、「バックコート
層の非磁性基板とは反対側の面」、「バックコート層
（の）表面」および「バックコート層（の）上」という
用語は、いずれも、非磁性基板と接触している面とは反
対側のバックコート層の面を意味するものとして使用す
る。同様に、「磁性層の非磁性基板とは反対側の面」、
「磁性層（の）表面」および「磁性層（の）上」という
用語も、いずれも、非磁性基板と接触している面とは反
対側の磁性層の面を意味するものとして使用する。ま
た、「保護層（の）表面」および「保護層の上」という
用語は、磁性層上およびバックコート層上に形成されて
いるいずれの保護層についても、保護層を形成したとき
に露出している面、即ち、保護層の非磁性基板から遠い
側の面を意味するものとして使用する。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。

【００１９】図１は本発明の磁気記録媒体の一例の断面
を模式的に示したものであり、図３に示す磁気記録媒体
と同様、非磁性基板（１）の上に、磁性層（２）、保護
層（３）および潤滑剤層（６ｂ）がこの順に積層され、
基板（１）の磁性層（２）が形成されている面とは反対
側の面にバックコート層（４）、バックコート層側潤滑
剤層（６ａ）がこの順に形成されている。なお、磁性層
（２）上に形成されている保護層（３）は、後述するバ
ックコート層上に形成される保護層と区別するために
「磁性層側保護層」とも呼ぶ。

【００２０】バックコート層側潤滑剤層（６ａ）は、上
記一般式（ａ）で示される少なくとも１種類の含フッ素
モノエステルと一般式（ｂ）で示される少なくとも１種
類のフルオロポリエーテル系化合物とを潤滑剤として含
む。バックコート層側潤滑剤層（６ａ）は、これらの特
定の化合物に加え、必要に応じて他の既知の潤滑剤、防
錆剤、および／または極圧剤等を含んでもよい。

【００２１】本発明で用いる含フッ素モノエステルは一
般式（ａ）で示され、同一分子内に１個の含フッ素末端
基、すなわちフルオロアルキル基、フルオロエーテル基
またはフルオロポリエーテル末端基と、１個の脂肪族炭
化水素末端基、すなわち脂肪族アルキル末端基または脂
肪族アルケニル末端基と、１個のエステル結合を有す
る。

【００２２】一般式（ａ）において、Ｒ¹はフルオロア
ルキル基、フルオロエーテル基、またはフルオロポリエ
ーテル基である。Ｒ¹がフルオロアルキル基である場
合、その炭素数は１〜１２であることが好ましく、６〜
１０であることがより好ましい。フルオロアルキル基
は、直鎖状および枝分れ鎖のいずれであってもよい。ま
た、フルオロアルキル基はパーフルオロアルキル基であ
ることが好ましい。フルオロアルキル基は、具体的に
は、パーフルオロへキシル基、パーフルオロヘプチル
基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロノニル基、
パーフルオロデシル基であることが好ましい。

【００２３】Ｒ¹がフルオロエーテル基またはフルオロ
ポリエーテル基である場合、その分子量は約２００〜約
６０００程度であることが好ましく、約３００〜約４０
００であることがより好ましい。分子量が２００未満で
ある場合もしくは６０００を超える場合には潤滑性およ
び信頼性が低下する場合がある。また、フルオロエーテ
ル基またはフルオロポリエーテル基は、パーフルオロエ
ーテル基またはパーフルオロポリエーテル基であること
が好ましい。

【００２４】一般式（ａ）において、ａはメチレン（−
ＣＨ₂−）の数に相当し、ａは０〜２０の整数であるこ
とが好ましく、０〜１２の整数であることがより好まし
い。一般式（ａ）で示される化合物にメチレン鎖が存在
しない場合でも、この化合物を含む潤滑剤の性能に悪影
響がもたらされることはなく、したがって、ａは０を含
む。

【００２５】Ｒ¹がフルオロエーテル基またはフルオロ
ポリエーテル基である場合、Ｒ¹は下記の一般式
（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）のいずれかで示されるもの
であることが好ましい。

【００２６】一般式（ｃ）：

【化５】において、ｋは１以上の整数であり、好ましくは１〜８
の整数である。

【００２７】一般式（ｄ）：

【化６】において、ｐ，ｑはともに１以上の整数であり、好まし
くは１〜３０の整数であり、より好ましくは１〜８の整
数である。

【００２８】一般式（ｅ）：

【化７】において、Ｒ⁴はフルオロアルキル基を示す。Ｒ⁴は好ま
しくはパーフルオロアルキル基である。Ｒ⁴の炭素数は
１〜３０であることが好ましく、１〜８であることがよ
り好ましい。一般式（ｅ）において、ｍは通常１〜６の
整数であり、また、ｎは通常１〜３０の整数であり、よ
り好ましくは１〜８の整数である。

【００２９】一般式（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）におけ
るｋ、ｐおよびｑならびにｍおよびｎがこれらの範囲外
である場合、磁気記録媒体の潤滑性および保存信頼性が
低下することがある。

【００３０】一般式（ａ）において、Ｒ²は脂肪族アル
キル基または脂肪族アルケニル基であり、その炭素数は
６〜３０であることが好ましく、１０〜２４であること
がより好ましい。炭素数が６未満である場合、または３
０を超える場合には、潤滑性能が低下することがある。
また、Ｒ²は直鎖状および枝分れ鎖のいずれであっても
よい。Ｒ²は、具体的には、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル
基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、
イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基、１−ドデセ
ニル基、１−トリデセニル基、１−テトラデセニル基、
１−ペンタデセニル基、１−ヘキサデセニル基、１−へ
プタデセニル基、１−オクタデセニル基、１−ノナデセ
ニル基、１−イコセニル基、１−ヘンイコセニル基およ
び１−ドコセニル基のいずれかであることが好ましい。

【００３１】一般式（ａ）で示される化合物は、含フッ
素アルコールと脂肪酸とを反応させることにより合成で
きる。この反応は、含フッ素アルコールおよび脂肪酸
を、触媒の存在下で、溶媒中にて加熱しながら混合攪拌
すると、都合良く進行させることができる。溶媒とし
て、ヘプタン、オクタンまたはトルエンを用いることが
好ましい。また、加熱温度が低いと未反応物が多量に残
る傾向にあり、加熱温度が高いと副生成物が生成される
傾向にある。したがって、加熱温度は、８０〜１５０℃
とすることが好ましく、１２０〜１３０℃とすることが
より好ましい。触媒は、酸触媒であることが好ましく、
例えば、ｐ−トルエンスルホン酸を用いることができ
る。

【００３２】一般式（ｂ）で示される化合物は、フルオ
ロポリエーテル系化合物である。当該フルオロポリエー
テル系化合物の分子量は、約１０００〜約２００００で
あることが好ましく、約１０００〜約４０００であるこ
とがより好ましい。

【００３３】一般式（ｂ）におけるＸは、水酸基、カル
ボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ³）
またはアシルオキシル基（−ＯＣＯＲ³）である。Ｘが
−ＣＯＯＲ³または−ＯＣＯＲ³である場合、Ｒ³は脂肪
族アルキル基または脂肪族アルケニル基である。Ｒ³の
炭素数は１〜２４であることが好ましく、１２〜２０で
あることがより好ましい。Ｒ³は、具体的には、ドデシ
ル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル
基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル
基、ノナデシル基およびイコシル基のいずれかであるこ
とが好ましい。

【００３４】一般式（ｂ）において、ｉおよびｊは１以
上の整数であり、どちらも１〜３０の整数であることが
好ましく、１〜８の整数であることがより好ましい。ｈ
は０〜１２の整数であり、０〜６の整数であることが好
ましい。

【００３５】一般式（ｂ）で示される化合物に相当する
ものとしては、Ausimont社製のFomblin Ｚ Dol（商品
名）およびFomblin Ｚ Diac（商品名）がある。Fomblin
Ｚ Dolは、一般式（ｂ）において、Ｘが水酸基であ
り、ｈが１〜１１の整数、ｉが１〜１５の整数、および
ｊが１〜１５の整数で示される化合物に相当する。Fomb
lin Ｚ Diacは、一般式（ｂ）において、Ｘがカルボキ
シル基であり、ｈが０〜１０の整数、ｉが１〜１５の整
数、およびｊが１〜１５の整数で示される化合物に相当
する。分子の両末端にアルコキシカルボニル基を有する
フルオロポリエーテル系化合物は、分子の両末端にカル
ボキシル基を有するパーフルオロエーテル系化合物（例
えば、前述のFomblin Ｚ Diac（商品名））とＲ³ＯＨで
示されるアルコールをエステル化反応させることにより
生成できる。分子の両末端にアシルオキシル基を有する
フルオロポリエーテル系化合物は、分子の両末端に水酸
基を有するパーフルオロエーテル系化合物（例えば、前
述のFomblin Ｚ Dol（商品名））とＲ³ＣＯＯＨで示さ
れるカルボン酸をエステル化反応させることにより生成
できる。

【００３６】あるいは、一般式（ｂ）で示される化合物
は、所定の骨格を有するグリコールをフッ化水素掃去剤
の存在下で直接フッ素化法によりフッ素化して両末端が
酸フルオライド（−ＣＯＦ）に変性したフルオロポリエ
ーテル系化合物を得、これを所定の反応に付して分子の
両末端に所定の基を結合させることにより生成できる。
グリコールの骨格は、一般式（ｂ）のｈ、ｉ、およびｊ
に基づいて選択される。

【００３７】末端が酸フルオライドであるフルオロポリ
エーテル系化合物を加水分解すると、両末端にカルボキ
シル基が結合したものが得られる。このカルボキシル基
を有するフルオロポリエーテル系化合物を還元するとカ
ルボキシル基が−ＣＨ₂ＯＨとなり、水酸基を有するフ
ルオロポリエーテル系化合物が得られる。カルボキシル
基を有するフルオロポリエーテル系化合物をアルコール
と反応させれば、両末端にアルコキシカルボニル基が結
合した化合物を得ることができる。水酸基を有するフル
オロポリエーテル系化合物をカルボン酸と反応させれ
ば、両末端にアシルオキシル基が結合した化合物を得る
ことができる。

【００３８】なお、炭化水素ポリエーテル系化合物を直
接フッ素化する方法は、特公平７−６４９２９号公報に
おいて詳細に説明されており、実際の製造に際してはそ
の記載を参照することができる。また、この引用により
当該公報に開示された内容は本明細書の一部を構成す
る。

【００３９】本発明の磁気記録媒体において、バックコ
ート層側潤滑剤層（６ａ）は、一般式（ａ）で示される
含フッ素モノエステルと一般式（ｂ）で示されるフルオ
ロポリエーテル系化合物とを、重量比で８：２〜２：８
の割合で含むことが好ましく、７：３〜４：６の割合で
含むことがより好ましい。両化合物は、混合された状態
で、バックコート層側潤滑剤層（６ａ）に含まれること
が好ましい。

【００４０】バックコート層側潤滑剤層（６ａ）は、先
に述べたように、一般式（ａ）で示される含フッ素モノ
エステルと上述の一般式（ｂ）で示されるフルオロポリ
エーテル系化合物以外に、他の潤滑剤、防錆剤、および
／または極圧剤等を含んでよい。その場合、一般式
（ａ）で示される含フッ素モノエステルと一般式（ｂ）
で示されるフルオロポリエーテル系化合物とを合わせた
量は、それらと他の潤滑剤等とを合わせた全体の量の４
０重量％以上であることが好ましく、６０重量％以上で
あることがより好ましい。一般式（ａ）で示される化合
物と一般式（ｂ）で示される化合物とを合わせた量が４
０重量％未満であると、本発明の効果が得られ難い。

【００４１】また、一般式（ａ）で示される含フッ素モ
ノエステルおよび一般式（ｂ）で示されるフルオロポリ
エーテル系化合物は合わせて、潤滑剤層の表面１ｍ²当
たり、好ましくは０．０５〜１００mg、より好ましくは
０．１〜５０mg存在するようにバックコート層側潤滑剤
層（６ａ）に含まれる。

【００４２】バックコート層側潤滑剤層（６ａ）の厚さ
は、０．０５〜５０nmであることが好ましい。０．０５
nm未満では、磁性層側保護層（３）にダメージを与える
おそれがあり、５０nmを超えると走行不良が生じるため
好ましくない。

【００４３】次にバックコート層側潤滑剤層（６ａ）の
形成方法を説明する。バックコート層側潤滑剤層（６
ａ）の形成工程は、炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒
との混合有機溶媒に潤滑剤を溶解して調製した塗布液を
バックコート層上（後述のように保護層を介してバック
コート層側潤滑剤層を形成する場合には、保護層上）に
塗布する工程、ならびに混合有機溶媒を乾燥させる工程
を含む。最終的に混合有機溶媒が蒸発することにより、
バックコート層表面（または保護層表面）には溶媒に溶
解した潤滑剤が残って潤滑剤層を形成する。従って、塗
布液の塗布厚を大きくしても、溶媒の蒸発によりバック
コート層上には均一で非常に薄い潤滑剤層、すなわち少
量の潤滑剤がバックコート層の非磁性基板とは反対側の
面を均一に被覆した潤滑剤層が形成される。

【００４４】本発明で使用できる炭化水素系溶媒は、例
えば、トルエン、ヘキサン、へプタン、オクタン、ノナ
ン、キシレンおよびケトン等であり、本発明で使用でき
るアルコール系溶媒は、例えば、メチルアルコール、エ
チルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、イソプ
ロピルアルコールおよびブチルアルコール等の低級アル
コールである。混合有機溶媒は、具体的には、トルエン
とイソプロピルアルコールの混合溶媒、ヘキサンとイソ
プロピルアルコールの混合溶媒、またはヘプタンとイソ
プロピルアルコールの混合溶媒であることが好ましい。

【００４５】アルコール系溶媒の割合が大きすぎると塗
布ムラが生じやすく、一方、炭化水素系溶媒の割合が大
きすぎると不経済であるため、両者は、混合割合が重量
比で１：９〜９：１の範囲、好ましくは３：７〜７：３
の範囲となるように混合して使用することが好ましい。
この混合有機溶媒を用いることにより、バックコート層
（後述のように保護層を介してバックコート層側潤滑剤
層を形成する場合には、保護層）表面を均一に被覆する
塗布ムラのない均一な厚さを有する潤滑剤層が形成さ
れ、その結果、優れた潤滑性を有する実用信頼性の高い
磁気記録媒体が得られる。

【００４６】塗布液の濃度および塗布厚は、溶媒が蒸発
した後にバックコート層上に形成される潤滑剤層が所望
の厚さになるように選択する。一般には、潤滑剤の濃度
が１００〜１００００ppmである塗布液を、１０〜１０
０μｍの厚さとなるように塗布することが好ましい。

【００４７】前述の塗布液を用いて潤滑剤層を形成する
方法としては、バーコーティング法、グラビアコーティ
ング法、リバースコーティング法、ダイコーティング
法、ディッピング法およびスピンコート法等の湿式塗布
法または有機蒸着法がある。本発明においては、いずれ
の方法を採用してもよい。

【００４８】以上、本発明の磁気記録媒体のバックコー
ト層側潤滑剤層について説明したが、上記一般式（ａ）
および（ｂ）で示される含フッ素化合物は、非磁性基板
（１）に形成された磁性層（２）の上に磁性層側保護層
（３）を介して形成される潤滑剤層（６ｂ）（この潤滑
剤層を「磁性層側潤滑剤層」と呼ぶ場合がある）にも含
まれてよい。この場合、一般式（ａ）で示される含フッ
素モノエステルと一般式（ｂ）で示されるフルオロポリ
エーテル系化合物との好ましい混合割合、および潤滑剤
層中における両化合物の含有量等については、バックコ
ート層側潤滑剤層（６ａ）と同様であるから、ここでは
その詳細な説明を省略する。また、磁性層側潤滑剤層
（６ｂ）の厚さは、バックコート層側潤滑剤層（６ａ）
のそれと同様、０．０５〜５０nmであることが好まし
い。

【００４９】磁性層側潤滑剤層（６ｂ）は、バックコー
ト層側潤滑剤層（６ａ）と同様の方法で形成でき、その
場合、塗布液は磁性層側保護層（３）上に塗布される。
なお、１つの磁気記録媒体において、磁性層側潤滑剤層
（６ｂ）およびバックコート層側潤滑剤層（６ａ）を構
成する潤滑剤の組成は同じであっても、異なっていても
よい。また、両潤滑剤層の厚さは同じであってもよく、
異なっていてもよい。

【００５０】本発明の磁気記録媒体の別の形態を図２示
す。図２において、バックコート層（４）の上には保護
層（７）が形成され（この保護層を「バックコート層側
保護層」と呼ぶ場合がある）、バックコート層側潤滑剤
層（６ａ）はバックコート層側保護層（７）を介して形
成されている。バックコート層側保護層（７）を介して
潤滑剤層（６ａ）を形成することにより、保存性および
走行性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。

【００５１】バックコート層側保護層（７）は、磁性層
（２）上に磁性層側保護層（３）を形成するに際して一
般的に用いられる材料および方法によって、バックコー
ト層（４）の非磁性基板（１）とは反対側の面に形成す
ることができる。バックコート層側保護層（７）は、例
えば、スパッタリングまたはプラズマＣＶＤ等の方法で
得られる、アモルファス状、グラファイト状もしくはダ
イヤモンド状の炭素から成るカーボン薄膜、あるいはそ
れらの炭素を混合および／または積層して形成したカー
ボン薄膜を用いて形成することができる。

【００５２】本発明ではダイヤモンド状の炭素、すなわ
ちダイヤモンドライクカーボンでバックコート層側保護
層（７）を形成することが好ましい。ダイヤモンドライ
クカーボンは適度な硬度を有するため、磁気記録媒体の
損傷を抑制するとともに磁気ヘッドの損傷をも抑制する
ことができることから、最も好ましい材料である。な
お、いずれの材料を用いて薄膜を形成する場合も、バッ
クコート層側保護層（７）の厚さは１〜５０nmであるこ
とが好ましい。

【００５３】バックコート層側保護層（７）を介してバ
ックコート層側潤滑剤層（６ａ）を形成する場合、前記
の所定の混合有機溶媒に潤滑剤を溶解して調製した塗布
液は、バックコート層側保護層（７）の表面、即ち、バ
ックコート層（４）と接している面とは反対側の面に塗
布される。

【００５４】本発明の磁気記録媒体においては、バック
コート層側潤滑剤層（６ａ）以外の構成は特に限定され
ない。よって、非磁性基板（１）、磁性層（２）、磁性
層側保護層（３）およびバックコート層（４）は常套の
材料および方法で構成することができる。

【００５５】本発明に使用する非磁性基板（１）は、そ
の一方の面にバックコート層（４）を形成することによ
り、厚さを薄くすることが可能となる。非磁性基板
（１）の厚さは、２〜７μｍであることが好ましい。２
μｍ未満であると表面に磁性層を形成することが困難と
なり、７μｍを超えると磁気記録媒体全体に占める非磁
性基板の割合が大きくなり高密度磁気記録媒体としては
不利である。

【００５６】非磁性基板（１）は、その厚さを薄くする
ことを除いては、その材料や構造が特に限定されること
はない。例えば、非磁性基板の材料は、ＰＥＴ、ＰＥＮ
およびＰＡ等から成るグループから選択できる。

【００５７】ただし、バックコート層（４）を蒸着によ
り形成する場合には、蒸着時の加熱により非磁性基板等
の熱負荷が大きくなるため、耐熱性に劣る非磁性基板を
用いると、基板が溶融あるいは変色するおそれがある。
熱負荷を軽減するためには、蒸着時の巻き取り張力を高
くして冷却を強化すればよいが、本発明では厚さの薄い
非磁性基板を用いるため、巻き取り張力を大きくすると
非磁性基板（１）に磁性層（２）が形成されている場合
に磁性層（２）にクラックが生じるおそれがある。

【００５８】そこで、バックコート層を高温雰囲気下で
形成する場合には、非磁性基板はＰＥＮおよびＰＡのよ
うな耐熱性材料で構成することが望ましい。

【００５９】非磁性基板（１）の磁性層（２）が形成さ
れる面（即ち、磁性層（２）と接する側の面）には、磁
気記録媒体の走行性を向上させるために、直径５〜５０
nmであって、ＳｉＯ₂、ＺｎＯ等の無機物質またはイミ
ド等の有機物質から成る超微粒子が、１μｍ²につき３
〜１５０個、分散、固着していることが望ましい。ま
た、超微粒子は、非磁性基板（１）のバックコート層
（４）に接する側の面にも分散、固着していてよい。そ
のような非磁性基板の例は、特開平９−１６４６４４号
公報および特開平１０−２６１２１５号公報等に開示さ
れている。

【００６０】本発明は、磁性層を蒸着により形成する金
属薄膜型磁気記録媒体に特に好ましく適用される。した
がって、本発明の磁気記録媒体を構成する磁性層（２）
は強磁性金属薄膜であることが好ましい。磁性層に適し
た強磁性金属としては、Ｆｅ系金属、Ｃｏ系金属、およ
びＮｉ系金属がある。本発明においてはＣｏ系金属また
はＮｉ系金属で磁性層を形成することが好ましい。ここ
で、「Ｃｏ系金属」とは、コバルト、およびコバルトを
主成分として好ましくは５０原子％以上含む合金をい
う。「Ｆｅ系金属」および「Ｎｉ系金属」も同様であ
る。

【００６１】磁性層（２）は、具体的には、Ｆｅ、Ｃｏ
およびＮｉ、ならびにＦｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃ
ｏ−Ｐｔ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ
−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−
ＣｒおよびＦｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の合金から選択さ
れる１つまたは複数の材料で形成される。磁性層（２）
は、単層膜の形態であってもよく、あるいは多層膜の形
態であってもよい。

【００６２】磁性層の一般的な形成方法としては、酸素
雰囲気下で、ＣｏもしくはＣｏ−Ｎｉ合金等の強磁性金
属に所定範囲の入射角で電子ビームを照射して金属を蒸
発させ、これを、キャン状回転体等の冷却回転支持体に
沿って移動する非磁性基板上に蒸着させる方法がある。
それ以外の方法としては、例えば、抵抗加熱法もしくは
外熱るつぼ法等で加熱して実施する蒸着、イオンプレー
ティングもしくはスパッタリングがある。

【００６３】本発明では、磁性層の形成（または成膜）
速度の観点から、非磁性基板に、強磁性金属を斜方から
蒸着させる斜方蒸着法によって、磁性層を形成すること
が好ましい。この場合、非磁性基板の冷却回転支持体
は、キャン状回転体またはベルト状支持体であってよい
が、生産効率の点からは、蒸着領域の広いベルト状支持
体を用いることが望ましい。

【００６４】磁性層側保護層（３）は、常套の材料およ
び方法で、即ち、バックコート層側保護層（７）と同様
の材料および方法で形成することができる。したがっ
て、ここではその詳細な説明を省略する。また、磁性層
側保護層（３）の好ましい厚さは、バックコート層側保
護層（７）と同様、１〜５０nmである。

【００６５】バックコート層（４）は、磁性層の磁性に
悪影響を及ばさないよう、非磁性体の金属から成るもの
であることが好ましい。バックコート層（４）は、例え
ば、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓ
ｎ、Ｎｉ、Ａｇ、およびＣｏならびにこれらの合金等か
ら成るグループから選択される１つまたは複数の金属材
料を用いて形成することができる。なお、Ｆｅ、Ｎｉお
よびＣｏは磁性体であるから、これらを使用する場合に
は、酸化して非磁性体にした状態でバックコート層中に
存在させることが好ましい。バックコート層（４）は、
単層膜の形態であってもよく、あるいは多層膜の形態で
あってもよい。

【００６６】コスト、付着速度および酸化後の安定性の
点からは、Ｃｕ、Ａｌ、あるいはＣｕまたはＡｌを主成
分として好ましくは５０原子％以上含むＣｕ系合金また
はＡｌ系合金が最適である。特にＡｌまたはＡｌ系合金
は、低融点であることから、蒸着でバックコート層を形
成する場合には、基板等に与えるダメージが小さくてす
むという理由によっても好都合である。また、Ａｌ系合
金およびその他の合金へ、耐食性および機械的強度を向
上させるために添加する添加物は、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅ、
Ｓｉ、ＭｇまたはＺｎ等、一般的に使用されているもの
であればいずれでもよい。

【００６７】バックコート層（４）は、スパッタ法、真
空蒸着法、イオンプレーティング法もしくはプラズマＣ
ＶＤ法等によって、非磁性基板（１）の磁性層（２）が
位置する面とは反対側の面に形成される。いずれの方法
を用いる場合も、バックコート層は酸素雰囲気中で形成
し、酸化金属を含むように形成することが好ましい。酸
化金属を含むバックコート層（４）は、優れた耐食性を
有する。

【００６８】バックコート層（４）は、非磁性基板
（１）に磁性層（２）が形成された後に形成してもよ
い。その場合、輻射熱を小さくし、磁性層（２）を含む
非磁性基板（１）の熱負荷を抑えるために、バックコー
ト層（４）を形成する金属の融点は低いものであること
が望ましく、具体的には、先に例示したＡｌまたはＡｌ
系合金の使用が好ましい。

【００６９】本発明の磁気記録媒体においては、保護層
への潤滑剤の化学吸着力を向上させるために、その表層
部を含窒素プラズマ重合膜にすることが好ましい。ここ
で、「保護層の表層部」とは、保護層の潤滑剤層と接す
る側の面を意味する。含窒素プラズマ重合膜は、磁性層
側保護層（図１および図２の符号３に相当）およびバッ
クコート層側保護層（図２の符号７に相当）のいずれか
一方、または両方に形成してよい。

【００７０】含窒素プラズマ重合膜は、保護層を形成し
たものを真空容器中に入れ、真空容器中にプロピルアミ
ン、ブチルアミン、エチレンジアミン、プロピレンジア
ミン、テトラメチレンジアミン等のアミン化合物をガス
化して導入して、保護層の表面をアミン化合物のガスに
曝し、容器内の圧力を０．１〜１００Ｐａに保った状態
で、真空容器内部で高周波放電を生じさせることにより
形成する。なお、炭素膜（保護層）の表層部に含窒素プ
ラズマ重合膜を形成する方法は、米国特許第５５４０９
５７号および第５６３７３９３号に開示されており、こ
の引用によりこれらの特許に開示された内容は本明細書
の一部を構成する。

【００７１】含窒素プラズマ重合膜の厚さは０．３〜３
nmであることが好ましく、０．３nm以下の場合は、当該
膜が奏する効果、即ち、潤滑剤成分と保護層との間の化
学吸着力を向上させる効果を十分に得ることができず、
３nm以上の場合は、保護層自体の保護効果が低下する。

【００７２】このように構成される本発明の磁気記録媒
体は、バックコート層側潤滑剤層が、特定の含フッ素モ
ノエステルから選択される少なくとも１種類の化合物
と、特定のフルオロポリエーテル系化合物がら選択され
る少なくとも１種類の化合物とを含むために、優れた走
行性および耐久性を示し、実用信頼性の高いものとな
る。

【００７３】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。（実施例１）図１に示す態様の磁気記録媒体を以下の手
順で作製した。まず、磁気記録媒体の非磁性基板（１）
として、厚さ４．８μｍ、幅１５０mm、長さ２０００mm
のＰＥＮフィルムを用意した。このフィルムの片面に
は、ＳｉＯ₂から成る直径２０nmの微粒子が１μｍ²当り
１００個分散し、固着していた。

【００７４】このＰＥＮフィルム（１）を冷却回転支持
体であるベルト状支持体上で冷却し走行させながら、Ｃ
ｏを用いて斜方蒸着法により厚さ２００nmの強磁性金属
薄膜を、ＰＥＴフィルムの微粒子が存在する側の面に、
磁性層（２）として形成した。

【００７５】次に、磁性層（２）が形成された面と反対
側の非磁性基板（１）の面に、Ａｌを用いて蒸着法によ
り約３００nmのバックコート層（４）を形成した。耐食
性を向上させるため、蒸着中に酸素を非磁性基板（１）
に向けて供給した。非磁性基板（１）はキャン状冷却回
転支持体上にて冷却し、走行させた。

【００７６】続いて、磁性層（２）の上に、ダイヤモン
ドライクカーボンから成る厚さ１０nmの磁性層側保護層
（３）を、メタンをイオン化するプラズマＣＶＤ法によ
り形成した。磁性層側保護層（３）は、具体的には真空
容器中にメタンガスとアルゴンガスとを４：１の比（圧
力比）で混合したガスを導入し、トータルガス圧を１０
Ｐａに保ちながら、放電管内の電極に電圧を印加するこ
とにより形成した。

【００７７】次に、イソプロピルアルコールとトルエン
とを重量比で１：１となるように混合した混合有機溶媒
に、下記の化学式（ａ１）で示される含フッ素モノエス
テルと化学式（ｂ１）で示されるフルオロポリエーテル
系化合物とが１：１（重量比）の割合で混合されて成る
潤滑剤を、その濃度が２０００ｐｐｍとなるように溶解
して塗布液を調製した。そして、この塗布液をバックコ
ート層（４）の表面にリバースロールコータを用いて湿
式塗布法により約８０μｍの厚さとなるように塗布した
後、乾燥させた。最終的に、バックコート層（４）の非
磁性基板とは反対側の面には、１ｍ²あたり５ｍｇの潤
滑剤が含まれる厚さ５ｎｍの潤滑剤層（６ａ）が形成さ
れた。更に、バックコート層側潤滑剤層（６ａ）を形成
した方法と同様の方法で、バックコート層側潤滑剤層
（６ａ）と同じ組成および厚さを有する磁性層側潤滑剤
層（６ｂ）を磁性層側保護層（３）上に形成した。

【００７８】

【化８】

【００７９】

【化９】

【００８０】以上のようにして作製した試料を８ｍｍ幅
にスリットしてテープ状の磁気記録媒体を得た。

【００８１】（実施例２）バックコート層（４）に、バ
ックコート層側保護層（７）を介して潤滑剤層（６ａ）
を形成させたことを除いては、実施例１と同様にして磁
気記録媒体を作製した。バックコート層側保護層（７）
は磁性層側保護層（３）と同様にして、真空容器中にメ
タンガスとアルゴンガスとを４：１の比（圧力比）で混
合したガスを導入し、トータルガス圧を１０Ｐａに保ち
ながら、電圧を放電管内の電極に印加することにより形
成した。

【００８２】（実施例３）バックコート層（４）にバッ
クコート層側保護層（７）を形成した後、その表層部に
含窒素プラズマ重合膜（図示せず）を形成し、含窒素プ
ラズマ重合膜に接するようにバックコート層側潤滑剤層
（６ａ）を形成したことを除いては、実施例１と同様に
して磁気記録媒体を作製した。含窒素プラズマ重合膜
は、真空容器中にプロピルアミンガスを導入し高周波プ
ラズマ処理を実施してバックコート層側保護層（７）の
表層部に形成した。含窒素プラズマ重合膜の厚さは２．
５ｎｍであった。

【００８３】（比較例１）バックコート層側潤滑剤層を
形成しなかったことを除いては、実施例１と同様にして
磁気記録媒体を作製した。

【００８４】（比較例２）化学式（ａ１）および化学式
（ｂ１）を混合した潤滑剤に代えて、化学式（ａ１）で
示されるフルオロポリエーテル系化合物のみを潤滑剤と
して使用し、この潤滑剤で磁性層側およびバックコート
層側潤滑剤層（６ｂ，６ａ）を形成したことを除いて
は、実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。

【００８５】（比較例３）化学式（ａ１）および化学式
（ｂ１）を混合した潤滑剤に代えて、化学式（ｂ１）で
示される含フッ素モノエステルのみを潤滑剤として使用
し、この潤滑剤で磁性層側およびバックコート層側潤滑
剤層（６ｂ，６ａ）を形成したことを除いては、実施例
１と同様にして磁気記録媒体を作製した。

【００８６】（比較例４）潤滑剤を溶解する有機溶媒と
して、イソプロピルアルコールおよびトルエンから成る
混合有機溶媒に代えて、イソプロピルアルコールのみを
用いたことを除いては、実施例１と同様にして磁気テー
プを作製した。

【００８７】（比較例５）潤滑剤を溶解する有機溶媒と
して、イソプロピルアルコールおよびトルエンから成る
混合有機溶媒に代えて、トルエンのみを用いたことを除
いては、実施例１と同様にして磁気テープを作製した。

【００８８】実施例１〜実施例３および比較例１〜比較
例５で得られた８mm幅の磁気テープ状試料について、そ
れぞれ下記の評価試験（ａ）および（ｂ）を行った。得
られた試験結果を表１に示す。

【００８９】（ａ）耐久性試験ＲＦ（高周波）出力測定用に改造した市販８mmＶＴＲ
（ソニー（株）社製、ＥＶ−Ｓ９００）を用い、各８mm
幅テープ試料を５℃、８０％ＲＨの環境下で５００パ
ス、５００時間繰り返し再生を行った後のＲＦ出力変化
を測定した。結果は試験前に対する試験後の変化をデシ
ベル表示で示した。

【００９０】テープダメージは、試料を目視観察および
微分干渉顕微鏡で状態観察し、５段階で評価した。評価
基準は次のとおりである。５：実用上全く問題ない。４：実用上問題ない。３：実用可能であるが、改善が必要である。２：テープダメージがひどく、実用性は殆どない。１：テープダメージがあまりにもひどく、実用性が全く
ない。

【００９１】（ｂ）走行性試験バックコート層側表面の動摩擦係数μｋを測定した。各
試料を、摩擦部材（ステンレス製（ＳＵＳ４２０Ｊ２、
表面粗さ０．２Ｓ）、外径６mm）への巻き付け角９０°
で摩擦部材に巻き付け、テンション０．２Ｎの条件で試
料を１８mm／秒の速度で巻き出し、同じ速度で巻き取
り、巻き取り側においてテンションを測定して、巻き出
し側のテンションとの比からオイラーの式より計算して
求めた。各試験の評価結果を表１に示す。

【００９２】

【表１】

【００９３】表１から明らかなように、比較例１〜５と
の比較において、実施例１〜３の出力低下は小さく、か
つ動摩擦係数μｋは０．２５以下であり走行性も良好で
あった。

【００９４】バックコート層の表面に、一般式（ａ）で
示される含フッ素モノエステルと一般式（ｂ）で示され
るフルオロポリエーテル系化合物とを含む潤滑剤層を有
する実施例１〜３の磁気記録媒体は、バックコート層上
に潤滑剤層が存在しない比較例１、一般式（ａ）で示さ
れる含フッ素モノエステルのみを潤滑剤層に含む比較例
２、および一般式（ｂ）で示されるフルオロポリエーテ
ル系化合物のみを潤滑剤層に含む比較例３の磁気記録媒
体と比較して、いずれも優れた耐久性および走行性を示
した。

【００９５】潤滑剤を溶解する有機溶媒としてイソプロ
ピルアルコールおよびトルエンから成る混合有機溶媒を
使用した実施例１〜３の磁気記録媒体は、イソプロピル
アルコールのみ、またはトルエンのみを使用した比較例
４および５の磁気記録媒体と比較して、いずれも優れた
耐久性および走行性を示した。

【００９６】バックコート層の上に保護層を有する実施
例２および３の磁気記録媒体においては、実施例１と比
較して耐久性試験後のテープダメージが大幅に改善され
た。更に、バックコート層側保護層の表層部に含窒素プ
ラズマ重合膜を形成した実施例３においては、含窒素プ
ラズマ重合膜の存在しない実施例２と比較して、出力低
下と動摩擦係数μｋに関して、より良好な結果を得るこ
とができた。

【００９７】なお、実施例では化学式（ａ１）および
（ｂ１）で示される化合物を混合したものを潤滑剤とし
て用いたが、これ以外の潤滑剤、例えば、下記の化学式
（ａ２）、（ａ３）、（ａ４）および（ａ５）で示され
る含フッ素モノエステルから選択した化合物と、下記の
化学式（ｂ２）、（ｂ３）および（ｂ４）で示されるフ
ルオロポリエーテル系化合物から選択した化合物とを混
合した潤滑剤を用いて、バックコート層側および磁性層
側潤滑剤層を形成した磁気記録媒体、ならびに化合物
（ａ１）〜（ａ５）で示される化合物から選択した化合
物と（ｂ１）〜（ｂ４）で示される化合物から選択した
化合物に加えて、公知の潤滑剤および／または防錆剤を
混合したもので潤滑剤層を形成した磁気記録媒体につい
ても、上記実施例と同様の効果が認められた。

【００９８】

【化１０】

【００９９】

【化１１】

【０１００】

【化１２】

【０１０１】

【化１３】

【０１０２】

【化１４】

【０１０３】

【化１５】

【０１０４】

【化１６】

【０１０５】

【発明の効果】以上のように本発明は、非磁性基板の一
方の面に形成された磁性層、および非磁性基板の他方の
面に形成された金属薄膜から成るバックコート層を有す
る磁気記録媒体であって、バックコート層の非磁性基板
とは反対側の面に潤滑剤層が形成され、この潤滑剤層
が、潤滑剤として、特定の含フッ素モノエステルから選
択される少なくとも１種類の化合物と、特定のフルオロ
ポリエーテル系化合物から選択される少なくとも１種類
の化合物とを含んでいることを特徴とする。この特徴に
より本発明の磁気記録媒体は、厳しい環境下においても
優れた耐久性および走行性を示す、信頼性の高いものと
なる。

【０１０６】更に、バックコート層の非磁性基板とは反
対の面に、保護層を介して、または保護層およびその表
層部に形成された含窒素プラズマ重合膜を介して潤滑剤
層を形成することにより、耐久性および走行性がより優
れた磁気記録媒体が得られる。従って、本発明の磁気記
録媒体は、例えばテープとして使用される場合には、ビ
デオデッキ等の再生・録画装置の走行系部材から加えら
れる大きな摩擦力に十分に耐えることができ、繰り返し
の使用に適している。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の略断面図である。

【図２】本発明の磁気記録媒体の略断面図である。

【図３】従来の磁気記録媒体の略断面図である。

【符号の説明】

１非磁性基板２磁性層（強磁性金属薄膜）３磁性層側保護層４バックコート層５潤滑剤層６ａバックコート層側潤滑剤層６ｂ磁性層側潤滑剤層７バックコート層側保護層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ１１Ｂ 5/735 Ｇ１１Ｂ 5/735 5/84 5/84 Ｂ // Ｃ１０Ｎ 30:00 Ｃ１０Ｎ 30:00 Ｚ 40:18 40:18 50:02 50:02 Ｆターム(参考） 4H104 BD06A BD07A CD04A LA20 PA16 QA08 4J038 DF011 GA03 GA06 GA12 JA01 JA16 KA06 NA09 PA07 PB11 PC01 PC02 5D006 AA01 AA02 AA06 BB01 BB05 CB01 CB03 CC01 CC04 5D112 AA02 AA05 AA07 AA08 BA01 BB02 BB05 BC02 BC05 BD01 BD02 CC01 FA02 FB25

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性基板の一方の面に形成されている
磁性層、非磁性基板の他方の面に形成されている金属薄
膜から成るバックコート層、およびバックコート層の非
磁性基板とは反対側の面に形成されている潤滑剤層を有
する磁気記録媒体であって、この潤滑剤層が、潤滑剤と
して、一般式（ａ）で示される含フッ素モノエステルか
ら選択される少なくとも１種類の化合物と、一般式
（ｂ）で示されるフルオロポリエーテル系化合物から選
択される少なくとも１種類の化合物とを含んでいること
を特徴とする磁気記録媒体：【化１】（式中、Ｒ¹はフルオロアルキル基、フルオロエーテル
基、またはフルオロポリエーテル基を示し、Ｒ²は脂肪
族アルキル基または脂肪族アルケニル基を示し、ａは０
〜２０の整数である）【化２】（式中、Ｘは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ³、また
は−ＯＣＯＲ³であり、ここでＲ³は脂肪族アルキル基ま
たは脂肪族アルケニル基を示し、ｉおよびｊは１以上の
整数であり、ｈは０〜１２の整数である）。
【請求項２】バックコート層の非磁性基板とは反対側
の面に保護層を有し、潤滑剤層はこの保護層を介してバ
ックコート層の非磁性基板とは反対側の面に形成されて
いることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】バックコート層の非磁性基板とは反対側
の面に形成されている保護層がダイヤモンドライクカー
ボンから成ることを特徴とする請求項２に記載の磁気記
録媒体。
【請求項４】バックコート層の非磁性基板とは反対側
の面に形成されている保護層の表層部が含窒素プラズマ
重合膜であり、潤滑剤層が保護層の含窒素プラズマ重合
膜と接するように形成されていることを特徴とする請求
項２または請求項３に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】磁性層の非磁性基板とは反対側の面に保
護層を有し、この保護層を介して磁性層の非磁性基板と
は反対側の面に形成されている潤滑剤層を有する、請求
項１〜４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】磁性層の非磁性基板とは反対側の面に形
成されている潤滑剤層が、潤滑剤として、前記一般式
（ａ）で示される含フッ素モノエステルから選択される
少なくとも１種類の化合物と、前記一般式（ｂ）で示さ
れるフルオロポリエーテル系化合物から選択される少な
くとも１種類の化合物とを含んでいることを特徴とする
請求項５に記載の磁気記録媒体。
【請求項７】磁性層の非磁性基板とは反対側の面にあ
る保護層がダイヤモンドライクカーボンで形成されてい
ることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の磁
気記録媒体。
【請求項８】磁性層の非磁性基板とは反対側の面にあ
る保護層の表層部が含窒素プラズマ重合膜であり、潤滑
剤層が保護層の含窒素プラズマ重合膜と接するように形
成されていることを特徴とする請求項５〜７のいずれか
１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項９】バックコート層を構成する金属が、非磁
性金属であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか
１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１０】バックコート層を構成する金属が、Ａ
ｌまたはＡｌ系合金であることを特徴とする請求項９に
記載の磁気記録媒体。
【請求項１１】バックコート層が蒸着法によって形成
されたものであることを特徴とする請求項１〜１０のい
ずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１２】バックコート層が酸素雰囲気中で形成
されたものであることを特徴とする請求項１〜１１のい
ずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１３】非磁性基板が、ポリエチレンナフタレ
ートまたはポリアミドから成ることを特徴とする請求項
１〜１２のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１４】磁性層が、Ｃｏ系金属またはＦｅ系金
属から成る強磁性金属薄膜であることを特徴とする請求
項１〜１３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１５】磁性層が、キャン状回転体またはベル
ト状支持体上で支持された非磁性基板上に磁性金属が斜
方蒸着されて形成されたものであることを特徴とする請
求項１〜１４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１６】請求項１〜１５のいずれか１項に記載
の磁気記録媒体を製造する方法において、バックコート
層の非磁性基板とは反対側の面に形成される潤滑剤層の
形成工程が、炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒との混
合有機溶媒に潤滑剤を溶解して調製した塗布液を、バッ
クコート層上またはバックコート層上に形成された保護
層上に塗布する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。
【請求項１７】請求項６〜１５のいずれか１項に記載
の磁気記録媒体を製造する方法において、磁性層の非磁
性基板とは反対側の面に形成される潤滑剤層の形成工程
が、炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒との混合有機溶
媒に潤滑剤を溶解して調製した塗布液を、磁性層上に形
成された保護層上に塗布する工程を含むことを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１８】炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒と
の混合割合が重量比で１：９〜９：１の範囲にあること
を特徴とする請求項１６または請求項１７に記載の磁気
記録媒体の製造方法。