JP2001319322A

JP2001319322A - 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JP2001319322A
Application number: JP2001050152A
Authority: JP
Inventors: Yukikazu Ochi; 幸和大地; Taiji Shinokawa; 泰治篠川; Yasuhiro Nishizawa; 康弘西澤
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2000-03-01
Filing date: 2001-02-26
Publication date: 2001-11-16

Abstract

(57)【要約】【課題】耐久性、走行性に優れ、信頼性の高い磁気記
録媒体を提供する。【解決手段】非磁性基板(1)、磁性層(2)、保護層
(3)、バックコート層(4)、滑剤層(6a,6b)を有する磁気
記録媒体であって、バックコート層上に形成された潤滑
剤層(6a)中の潤滑剤が、含フッ素カルボン酸から選ばれ
る少なくとも１種の化合物と、含フッ素モノエステルお
よびフルオロポリエーテル系化合物から選ばれる少なく
とも１種の化合物とを含んで成る磁気記録媒体（10）を
提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体、特
に、高密度磁気記録に適した強磁性金属薄膜を磁性層と
する金属薄膜型磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録分野においては、より多
くの情報を記録し得る、より小型の磁気記録媒体が要求
されている。

【０００３】この要求を満たす１つの方法として、強磁
性金属が蒸着されて成る強磁性金属薄膜で磁性層を構成
し、磁性層そのものを高密度記録に適したものにする方
法がある。そのような方法によって構成される磁気記録
媒体は一般に金属薄膜型磁気記録媒体または高密度磁気
記録媒体と称されている。

【０００４】また、前記要求を満たす別法として、磁気
記録媒体をより薄くし、所定寸法のパッケージにより多
くの磁気記録媒体が収納されるようにする方法がある。
この方法によれば、省資源および低コストといった効果
ももたらされる。

【０００５】磁気記録媒体を薄くする最も効果的な方法
は、磁気記録媒体の厚さの多くを占める非磁性基板の厚
さを薄くすることである。しかし、非磁性基板の厚さを
小さくすると、磁気記録媒体の剛性が小さくなり、実用
上問題が生じる場合がある。

【０００６】そこで、例えば日本国特開平７−３７２４
４号公報、日本国特開平７−８５４６６号公報、日本国
特開平１０−２７３２８号公報および日本国特開平１０
−１０５９４１号公報等に記載されているように、非磁
性基板の磁性層が形成されている面とは反対の面に、金
属の蒸着層がバックコート層として形成され、このバッ
クコート層によって剛性を確保した磁気記録媒体が提案
されている。

【０００７】非磁性基板の一方の面に磁性層が、他方の
面にバックコート層が形成された高密度磁気記録媒体の
一例を、図３を参照して説明する。

【０００８】図３に示す高密度磁気記録媒体（100）
は、非磁性基板（11）の一方の面に形成された磁性層
（12）、磁性層（12）の上に形成された保護層（13）、
および保護層（13）の上に形成された潤滑剤層（15）、
ならびに非磁性基板（11）の他方の面に形成されたバッ
クコート層（14）、およびバックコート層（14）の上に
形成された潤滑剤層（16）を有する磁気テープである。

【０００９】非磁性基板（11）はポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリパラテトラア
ミド（以下、順にＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＰＴＡと略する場
合がある）等の非磁性体から成る。これらの材料から成
る非磁性基板の磁性層と接する側の面には、一般に、Ｓ
ｉＯ₂もしくはＺｎＯ等の無機物質から成る超微粒子、
またはイミド等の有機物質から成る超微粒子が、分散し
て固着している。非磁性基板（11）の厚さは一般に約２
〜７μｍである。

【００１０】磁性層（12）は強磁性金属薄膜である。磁
性層（12）は、例えばＣｏ、ＮｉもしくはＦｅのような
強磁性金属、またはこれらを主成分とする合金から成
る。磁性層（12）は単層または多層構造を有する。磁性
層（12）は、例えば連続的に金属蒸気の入射角を変化さ
せる斜方蒸着法等によって形成される。斜方蒸着を酸素
雰囲気下で実施すると、磁性層は酸素を含むものとな
る。あるいは、磁性層（12）は垂直磁化膜である。垂直
磁化膜は、例えばＣｏ−ＣｒまたはＣｏを必要に応じて
酸素雰囲気中で傾斜蒸着させることにより形成される。
磁性層（12）の厚さは一般に３０〜３００nmである。

【００１１】保護層（13）は、外から加えられる力等に
よって磁性層（12）がダメージ（損傷）を受けることを
防止するために形成される。保護層（13）を構成する材
料は、例えばダイヤモンドライクカーボンのような硬度
の大きい物質である。保護層（13）の厚さは一般に１〜
５０nmである。

【００１２】バックコート層（14）は、適当な金属を例
えば蒸着させて形成した金属薄膜、または適当な金属を
酸素存在下で例えば蒸着させて形成した酸化金属薄膜、
あるいは炭素粒子を含むバインダーを塗布して形成した
炭素膜である。

【００１３】潤滑剤層（15）は、磁気記録媒体の走行性
を向上させるために形成される。潤滑剤層（15）は、例
えばフッ素系潤滑剤等が塗布されて形成された層であ
る。潤滑剤層（15）の厚さは一般に０．０５〜５０nmで
ある。

【００１４】図３に示すように、潤滑剤層はバックコー
ト層の表面にも形成されることがある。潤滑剤層（16）
は磁気記録媒体の走行性を改善するために設けられる。
バックコート層の表面に潤滑剤層を形成することは、例
えば、日本国特開平１０−１０５９４１号公報に記載さ
れている。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来か
ら、種々多様な磁気記録媒体が提案され、実用に供され
ている。しかし、磁気記録媒体は、これを磁気記録テー
プとして使用する場合、ビデオデッキ等の走行系部材か
ら大きな摩擦力を受けるため、金属薄膜から成るバック
コート層は、その表面に潤滑剤層が形成されている場合
でも依然として摩耗されやすい。そのため、バックコー
ト層表面に設ける潤滑剤層を更に改善して、磁気記録媒
体の耐久性、走行性および耐食性等をより向上させるこ
とが望まれている。

【００１６】本発明はかかる実情に鑑みてなされたもの
であり、非磁性基板の一方の面に磁性層を、他方の面に
バックコート層を有する高密度磁気記録媒体を磁気記録
テープとして使用する場合に、磁気記録媒体の走行耐久
性を向上させ、実用信頼性をより向上させることを課題
とする。本発明はこの課題を解決するためになされたも
のである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、非磁性基板、非磁性基板の一方の面に形
成された磁性層、非磁性基板の他方の面にバックコート
層として形成された金属薄膜、およびバックコート層の
上に形成された潤滑剤層を有する磁気記録媒体であっ
て、当該潤滑剤層が、一般式（ａ）で示される化合物か
ら選ばれる少なくとも１種の化合物、ならびに一般式
（ｂ）で示される化合物および一般式（ｃ）で示される
化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含む潤滑
剤を含む磁気記録媒体を提供する：

【化７】（式中、Ｒ^１は脂肪族アルキル基または脂肪族アルケニ
ル基を示し、Ｒ^２はフルオロアルキル基、またはフルオ
ロエーテル基もしくはフルオロポリエーテル基を示し、
ａは０または１であり、ｂは０から２０の整数である）

【化８】（式中、Ｒ^３はフルオロアルキル基、フルオロエーテル
基、またはフルオロポリエーテル基を示し、Ｒ^４は脂肪
族アルキル基または脂肪族アルケニル基を示し、ｃは０
〜２０の整数である）

【化９】（式中、Ｘは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ^５、また
は−ＯＣＯＲ^５であり、ここでＲ^５は脂肪族アルキル基
または脂肪族アルケニル基を示し、ｉおよびｊは１以上
の整数であり、ｈは０〜１２の整数である）。

【００１８】本発明の磁気記録媒体は、金属薄膜である
バックコート層によってその剛性が確保される。さら
に、バックコート層の上に形成される潤滑剤層を構成す
る化合物の種類を上記のように特定することで、ビデオ
デッキおよびカッセトデッキ等の走行系部材との摩擦等
に起因する磁気記録媒体のバックコート層の摩耗が低減
または防止される。したがって、本発明の磁気記録媒体
は、厳しい環境下においても優れた走行性および耐久性
を示す。

【００１９】本発明の磁気記録媒体の１つの好ましい態
様においては、バックコート層の上に保護層が形成さ
れ、保護層の上に潤滑剤層が形成されている。バックコ
ート層の上に保護層を設けることにより、外からの力に
起因するバックコート層のダメージを防止できる。

【００２０】バックコート層の上に形成された保護層
は、好ましくはダイヤモンドライクカーボンから成る。
ダイヤモンドライクカーボンは適当な硬度を有するた
め、走行系部材を損傷することなく磁気記録媒体の損傷
を有効に抑制する。

【００２１】バックコート層の上に形成されたダイヤモ
ンドライクカーボンから成る保護層は、好ましくはその
表層部が含窒素プラズマ重合膜である。含窒素プラズマ
重合膜が存在することにより、潤滑剤層中の潤滑剤の保
護層への化学吸着力が向上する。

【００２２】本発明の磁気記録媒体の１つの好ましい態
様においては、磁性層の上に保護層が形成され、潤滑剤
層が保護層の上に形成され、当該潤滑剤層が上記一般式
（ａ）で示される化合物から選ばれる少なくとも１種の
化合物、ならびに一般式（ｂ）で示される化合物および
一般式（ｃ）で示される化合物から選ばれる少なくとも
１種の化合物を含む潤滑剤を含む。この好ましい態様に
おいては、バックコート層および磁性層の双方の上方
に、特定の化合物を含む潤滑剤を含む潤滑剤層が形成さ
れ、特定の化合物が磁気記録媒体の露出表面に存在す
る。そのような露出表面を有する磁気記録媒体は、より
優れた走行性を示す。

【００２３】本発明の磁気記録媒体の１つの好ましい態
様において、バックコート層を構成する金属は非磁性金
属である。非磁性金属は、磁性層の磁性に悪影響を及ば
さないことから好ましく用いられる。

【００２４】本発明の磁気記録媒体の１つの好ましい態
様において、バックコート層は金属を蒸着することによ
り形成されたものである。金属の蒸着により形成される
膜は、薄くても強度が高く、剛性が大きい。さらに好ま
しくは、バックコート層は、酸素雰囲気中で金属を蒸着
することにより形成されたものである。そのようなバッ
クコート層は、より剛性が大きい。

【００２５】本発明の磁気記録媒体の１つの好ましい態
様において、磁性層は強磁性金属薄膜である。即ち、本
発明は高密度記録媒体に好ましく適用される。

【００２６】強磁性金属薄膜は、好ましくはキャン状回
転体またはベルト状支持体上で支持された非磁性基板上
に強磁性金属が斜方蒸着されて形成されたものである。
そのように形成された磁性層は、優れた磁気特性を示
し、高密度記録に適している。

【００２７】さらに、本発明の磁気記録媒体の好ましい
態様には、上記本発明の磁気記録媒体の好ましい態様の
特徴部分を２またはそれ以上組み合わせたものが含まれ
る。そのような磁気記録媒体は、各態様の特徴を併せ持
つため、より優れた性能を有する。

【００２８】本発明はまた、本発明の磁気記録媒体の製
造方法を提供する。本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、バックコート層の上に潤滑剤層を形成する工程が、
炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒との混合有機溶媒に
潤滑剤を溶解して調製した塗布液を、バックコート層の
上に塗布すること含む。バックコート層の上に保護層が
形成されている場合、塗布液は保護層の上に塗布され
る。この製造方法は、バックコート層の上またはバック
コート層の上に形成された保護層の上に潤滑剤層を形成
する工程に特徴を有する。この製造方法によれば、バッ
クコート層の上またはバックコート層の上に形成された
保護層の上に、薄い潤滑剤層が均一に形成される。

【００２９】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、好ま
しくはバックコート層を蒸着法により形成することを含
む。バックコート層を蒸着法により形成すれば、薄くて
も強度が高く、剛性の大きい膜をバックコート層とする
ことができる。

【００３０】バックコート層は、より好ましくは酸素雰
囲気下で金属を蒸着させることにより形成される。バッ
クコート層の剛性をより大きくするためである。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。以下の説明を含む本明細書において、磁気記録媒
体の構成に関して、磁気記録媒体を構成する各層または
膜の「表面」とは、各層または膜が形成されたときに露
出している面、即ち、各層または膜の非磁性基板から遠
い側の面を意味する。磁気記録媒体の構成に関して、磁
気記録媒体を構成する各層または膜の「上に」というと
きは、特に断りのない限り、各層または膜の「非磁性基
板から遠い側の面の上に」を意味する。したがって、例
えば、「バックコート層の上に」というときは、「バッ
クコート層の非磁性基板から遠い側の面に隣接する位置
に」を意味する。また、各層または膜の「上方に」とい
うときは、各層または膜から「非磁性基板から遠ざかる
方向に離れた位置に」を意味する。

【００３２】本明細書において、磁気記録媒体の「磁性
層側表面」とは、磁気記録媒体の露出表面であって、磁
性層の上もしくは上方に形成された層または膜の露出表
面をいう。したがって、例えば、磁性層の上に保護層が
形成され、保護層の上に潤滑剤層が形成されている場
合、当該潤滑剤層の露出表面が「磁性層側表面」に相当
する。磁気記録媒体の「バックコート層側表面」とは、
磁気記録媒体の露出表面であって、バックコート層の上
もしくは上方に形成された層または膜の露出表面をい
う。本発明の磁気記録媒体はバックコート層の上または
バックコート層の上に形成された保護層の上に潤滑剤層
が形成されているため、当該潤滑剤層の露出表面が「バ
ックコート層側表面」に相当する。

【００３３】本明細書においては、非磁性基板の磁性層
を形成する側の面を「前面」と、バックコート層を形成
する側の面を「背面」と称する場合がある。さらに、非
磁性基板の前面を基準面としたときに、その上または上
方に形成される層を前面側にある層と呼ぶことがあり、
非磁性基板の背面を基準面としたときに、その上または
上方に形成される層を背面側にある層と呼ぶことがあ
る。

【００３４】図１および図２はそれぞれ、本発明の磁気
記録媒体の一例の断面を模式的に示したものである。図
１に示す磁気記録媒体（10）は、図３に示す磁気記録媒
体と同様、非磁性基板（１）の一方の面（即ち前面）に
形成された磁性層（２）、磁性層（２）の上に形成され
た保護層（３）、保護層（３）の上に形成された潤滑剤
層（６ｂ）、非磁性基板（１）の他方の面（即ち背面）
に形成されたバックコート層（４）、およびバックコー
ト層（４）の上に形成された潤滑剤層（６ａ）を有す
る。図２に示す磁気記録媒体（20）はバックコート層
（４）の上に形成された保護層（７）をさらに有し、滑
剤層（６ａ）は保護層（７）の上に形成されている。

【００３５】本明細書においては、バックコート層の上
に形成された潤滑剤層と磁性層の上方に形成された潤滑
剤層とを区別するために、前者を「背面側潤滑剤層」
と、後者を「前面側潤滑剤層」と呼ぶことがある。さら
に、図２に示すように、バックコート層の上に保護層が
形成される場合には、その保護層を「背面側保護層」と
呼び、磁性層の上に形成された保護層を「前面側保護
層」と呼ぶことがある。

【００３６】前面側潤滑剤層および前面側保護層は、非
磁性基板の磁性層を形成する面の上方に形成されたもの
であるから、それぞれ「磁性層側潤滑剤層」および「磁
性層側保護層」と呼ぶこともできる。背面側潤滑剤層お
よび背面側保護層は、非磁性基板のバックコート層を形
成する面の上方に形成されたものであるから、それぞれ
「バックコート層側潤滑剤層」および「バックコート層
側保護層」と呼ぶこともできる。

【００３７】本発明の磁気記録媒体は、背面側潤滑剤層
（６ａ）が特定の含フッ素化合物を２種以上含むことを
特徴とする。そこで、背面側潤滑剤層（６ａ）について
最初に説明する。

【００３８】背面側潤滑剤層（６ａ）は、上記一般式
（ａ）で示される化合物から選ばれる少なくとも１種の
化合物、ならびに上記一般式（ｂ）および（ｃ）で示さ
れる化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含む
潤滑剤を含む。背面側潤滑剤層（６ａ）は、これらの特
定の化合物に加え、必要に応じて他の既知の潤滑剤、防
錆剤、および／または極圧剤等を含んでもよい。

【００３９】一般式（ａ）：

【化１０】で示される化合物は、一分子内に、１）１個の含フッ素
末端基、すなわちフルオロアルキル末端基またはフルオ
ロエーテル末端基もしくはフルオロポリエーテル末端
基；２）１個の脂肪族炭化水素末端基、すなわちアルキ
ル末端基またはアルケニル末端基；３）１個のカルボキ
シル基；および４）１個のエステル結合を有する構造の
含フッ素カルボン酸である。

【００４０】一般式（ａ）において、Ｒ^１はアルキル基
またはアルケニル基である。Ｒ^１の炭素数は６〜３０で
あることが好ましく、１０〜２４であることがより好ま
しい。炭素数が６未満である場合、または炭素数が３０
である場合、当該化合物が呈する潤滑性能が低下するこ
とがある。

【００４１】一般式（ａ）において、Ｒ^２はフルオロア
ルキル基またはフルオロエーテル基もしくはフルオロポ
リエーテル基である。Ｒ^２がフルオロアルキル基である
場合、その炭素数は１〜１２であることが好ましく、６
〜１０であることがより好ましい。フルオロアルキル基
はパーフルオロアルキル基であることが好ましい。

【００４２】Ｒ^２がフルオロエーテル基またはフルオロ
ポリエーテル基である場合、その分子量は約２００〜約
６０００であることが好ましく、約３００〜約４０００
であることがより好ましい。分子量が２００未満である
場合または６０００を超える場合には、磁気記録媒体の
潤滑性及び信頼性が低下する場合がある。また、フルオ
ロエーテル基またはフルオロポリエーテル基は、パーフ
ルオロエーテル基またはパーフルオロポリエーテル基で
あることが好ましい。

【００４３】一般式（ａ）において、ａは０または１で
ある。ｂは０から２０の整数であり、好ましくは０から
１２の整数である。

【００４４】Ｒ^２がフルオロエーテル基またはフルオロ
ポリエーテル基である場合、Ｒ^２は一般式（ｄ）、
（ｅ）及び（ｆ）のいずれかで示されるものであること
が好ましい。

【００４５】一般式（ｄ）：

【化１１】において、ｋは１以上の整数であり、好ましくは１〜８
の整数である。

【００４６】一般式（ｅ）：

【化１２】において、ｐおよびｑは１以上の整数である。ｐおよび
ｑはそれぞれ、１〜３０であることが好ましく、１〜８
であることがより好ましい。

【００４７】一般式（ｅ）において−（ＯＣＦ(ＣＦ₃)
ＣＦ₂）_P（ＯＣＦ₂）_q−で示される部分は、２種のオキ
シフルオロアルキレン単位が共重合している部分に相当
し、ｐおよびｑは共重合体中の各オキシフルオロアルキ
レン単位の数を示す。オキシフルオロアルキレン単位
（ＯＣＦ(ＣＦ₃)ＣＦ₂）とオキシフルオロアルキレン単
位（ＯＣＦ₂）から成る共重合体は、ｐ個の（ＯＣＦ(Ｃ
Ｆ₃)ＣＦ₂）のブロックとｑ個の（ＯＣＦ₂）のブロック
とから成るブロック共重合体もしくは他のブロック共重
合体、ランダム共重合体、または交互共重合体であって
よい。したがって、一般式（ｅ）で示される基は、−
（ＯＣＦ(ＣＦ₃)ＣＦ₂）_p（ＯＣＦ₂）_q−で示される部
分がブロック共重合体、ランダム共重合体および交互共
重合体であるものを含む。

【００４８】一般式（ｆ）：

【化１３】において、Ｒ^６はフルオロアルキル基を示し、ｍは１か
ら６の整数であり、ｎは１から３０の整数である。Ｒ^６
は、好ましくはパーフルオロアルキル基である。Ｒ^６の
炭素数は好ましくは１〜３０であり、より好ましくは１
〜８である。ｎは、より好ましくは１〜８の整数であ
る。

【００４９】一般式（ｄ）、（ｅ）および（ｆ）におけ
るｋ、ｐおよびｑならびにｍおよびｎが上記の範囲外で
ある場合、磁気記録媒体の潤滑性および保存信頼性が低
下することがある。

【００５０】一般式（ａ）で示される化合物は、アルキ
ル無水コハク酸またはアルケニル無水コハク酸と、一般
式がＲ²（ＣＨ₂）_bＯＨで示されるアルコール（式中、
Ｒ^２およびｂは一般式（ａ）におけるＲ^２およびｂに相
当する。）とを適当な溶媒中で混合加熱撹拌することに
より生成できる。加熱は６０〜１００℃の範囲内で実施
することが好ましい。より好ましい加熱温度の範囲は８
０〜９０℃である。加熱温度が６０℃未満であると未反
応物が残りやすい。１００℃を超えると副生成物が生成
される傾向にある。

【００５１】無水コハク酸とアルコールとの反応は、溶
媒の存在下で加熱撹拌することにより有利に進行する。
溶媒は、例えばオクタン（ｎ−Ｃ₈Ｈ₁₈）またはヘプタ
ン（ｎ−Ｃ₇Ｈ₁₆）である。無水コハク酸とアルコール
の混合モル比は、１：１とすることが好ましい。反応終
了後、減圧蒸留により溶媒を除去し、更に未反応の反応
物を有機溶媒で抽出して除去することにより、目的化合
物である含フッ素カルボン酸を単離することができる。
この化合物は、赤外分光分析（ＩＲ）、ゲルパーミエー
ションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）および有機質量分析
（ＦＤ−ＭＳ）により同定することが可能である。

【００５２】一般式（ａ）で示される化合物の合成方法
は、米国特許明細書第１９０２８８５号、日本国特開昭
６１−２５７２２６号公報および日本国特開２０００−
１６９６８号公報において詳細に記載されており、これ
らの公報に記載された内容は、この引用により本発明の
明細書の一部を構成する。

【００５３】一般式（ｂ）：

【化１４】で示される化合物は、同一分子内に１個の含フッ素末端
基、すなわちフルオロアルキル末端基、フルオロエーテ
ル末端基またはフルオロポリエーテル末端基と、１個の
脂肪族炭化水素末端基、すなわち脂肪族アルキル末端基
または脂肪族アルケニル末端基と、１個のエステル結合
を有する構造の含フッ素モノエステルである。

【００５４】一般式（ｂ）において、Ｒ^３はフルオロア
ルキル基、フルオロエーテル基、またはフルオロポリエ
ーテル基である。

【００５５】Ｒ^３がフルオロアルキル基である場合、そ
の炭素数は１〜１２であることが好ましく、６〜１０で
あることがより好ましい。フルオロアルキル基は、直鎖
状および枝分れ鎖のいずれであってもよい。フルオロア
ルキル基はパーフルオロアルキル基であることが好まし
い。フルオロアルキル基は、具体的には、パーフルオロ
へキシル基、パーフルオロヘプチル基、パーフルオロオ
クチル基、パーフルオロノニル基、またはパーフルオロ
デシル基であることが好ましい。

【００５６】Ｒ^３がフルオロエーテル基またはフルオロ
ポリエーテル基である場合、その分子量は約２００〜約
６０００であることが好ましく、約３００〜約４０００
であることがより好ましい。分子量が２００未満である
場合または６０００を超える場合、磁気記録媒体の潤滑
性および信頼性が低下することがある。フルオロエーテ
ル基またはフルオロポリエーテル基は、パーフルオロエ
ーテル基またはパーフルオロポリエーテル基であること
が好ましい。

【００５７】Ｒ^３がフルオロエーテル基またはフルオロ
ポリエーテル基である場合、Ｒ^３は上記一般式（ａ）の
Ｒ^２と同様、上記一般式（ｄ）、（ｅ）および（ｆ）の
いずれかで示されるものであることが好ましい。

【００５８】一般式（ｂ）において、ｃはメチレン（−
ＣＨ₂−）の数に相当する。ｃは好ましくは０〜２０の
整数であり、より好ましくは０〜１２の整数である。一
般式（ｂ）で示される化合物にメチレン鎖が存在しない
場合でも、この化合物を含む潤滑剤の性能に悪影響が及
ぶことはない。したがって、ｃは０を含む。

【００５９】一般式（ｂ）において、Ｒ^４は脂肪族アル
キル基または脂肪族アルケニル基である。Ｒ^４の炭素数
は６〜３０であることが好ましく、１０〜２４であるこ
とがより好ましい。炭素数が６未満である場合、または
３０を超える場合には、潤滑性能が低下することがあ
る。Ｒ^４は直鎖状および枝分れ鎖のいずれであってもよ
い。Ｒ^４は、具体的には、ドデシル基、トリデシル基、
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシ
ル基、ヘンイコシル基、ドコシル基、１−ドデセニル
基、１−トリデセニル基、１−テトラデセニル基、１−
ペンタデセニル基、１−ヘキサデセニル基、１−へプタ
デセニル基、１−オクタデセニル基、１−ノナデセニル
基、１−イコセニル基、１−ヘンイコセニル基および１
−ドコセニル基のいずれかであることが好ましい。

【００６０】一般式（ｂ）で示される化合物は、含フッ
素アルコールと脂肪酸とを反応させることにより合成で
きる。この反応は、含フッ素アルコールおよび脂肪酸
を、触媒の存在下で、溶媒中にて加熱しながら混合攪拌
すると、都合良く進行させることができる。溶媒とし
て、ヘプタン、オクタンまたはトルエンを用いることが
好ましい。また、加熱温度が低いと未反応物が多量に残
る傾向にあり、加熱温度が高いと副生成物が生成される
傾向にある。したがって、加熱温度は、８０〜１５０℃
とすることが好ましく、１２０〜１３０℃とすることが
より好ましい。触媒は、酸触媒であることが好ましく、
例えば、ｐ−トルエンスルホン酸を用いることができ
る。

【００６１】一般式（ｃ）：

【化１５】で示される化合物は、フルオロポリエーテル系化合物で
ある。当該フルオロポリエーテル系化合物の分子量は、
約１０００〜約２００００であることが好ましく、約１
０００〜約４０００であることがより好ましい。

【００６２】一般式（ｃ）におけるＸは、水酸基、カル
ボキシル基、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ^５）
またはアシルオキシル基（−ＯＣＯＲ^５）である。

【００６３】Ｘが−ＣＯＯＲ^５または−ＯＣＯＲ^５であ
る場合、Ｒ^５は脂肪族アルキル基または脂肪族アルケニ
ル基である。Ｒ^５の炭素数は１〜２４であることが好ま
しく、１２〜２０であることがより好ましい。Ｒ^５は、
具体的には、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル
基、オクタデシル基、ノナデシル基およびイコシル基の
いずれかであることが好ましい。

【００６４】一般式（ｃ）において、ｉおよびｊは１以
上の整数である。ｉおよびｊはそれぞれ、１〜３０の整
数であることが好ましく、１〜８の整数であることがよ
り好ましい。ｈは０〜１２の整数であり、好ましくは０
〜６の整数である。

【００６５】一般式（ｃ）において−（ＯＣ₂Ｆ₄）
_i（ＯＣＦ₂）_j−で示される部分は、２種のオキシフル
オロアルキレン単位が共重合している部分に相当し、ｉ
およびｊは共重合体中の各オキシフルオロアルキレン単
位の数を示す。オキシフルオロアルキレン単位（ＯＣ₂
Ｆ₄）とオキシフルオロアルキレン単位（ＯＣＦ₂）から
成る共重合体は、ｉ個の（ＯＣ₂Ｆ₄）のブロックとｊ個
の（ＯＣＦ₂）のブロックとから成るブロック共重合体
もしくは他のブロック共重合体、ランダム共重合体、ま
たは交互共重合体であってよい。したがって、一般式
（ｃ）で示される化合物には、−（ＯＣ₂Ｆ₄）_i（ＯＣ
Ｆ₂）_j−で示される部分がブロック共重合体、ランダム
共重合体および交互共重合体であるものを含む。

【００６６】一般式（ｃ）で示される化合物に相当する
ものとしては、Ausimont社製のFomblin Ｚ Dol（商品
名）およびFomblin Ｚ Diac（商品名）がある。Fomblin
Ｚ Dolは、一般式（ｃ）において、Ｘが水酸基であ
り、ｈが１〜１１の整数、ｉが１〜１５の整数、および
ｊが１〜１５の整数で示される化合物に相当する。Fomb
lin Ｚ Diacは、一般式（ｃ）において、Ｘがカルボキ
シル基であり、ｈが０〜１０の整数、ｉが１〜１５の整
数、およびｊが１〜１５の整数で示される化合物に相当
する。

【００６７】分子の両末端にアルコキシカルボニル基を
有するフルオロポリエーテル系化合物は、分子の両末端
にカルボキシル基を有するパーフルオロエーテル系化合
物（例えば、前述のFomblin Ｚ Diac（商品名））とＲ⁵
ＯＨで示されるアルコールをエステル化反応させること
により生成できる。

【００６８】分子の両末端にアシルオキシル基を有する
フルオロポリエーテル系化合物は、分子の両末端に水酸
基を有するパーフルオロエーテル系化合物（例えば、前
述のFomblin Ｚ Dol（商品名））とＲ⁵ＣＯＯＨで示さ
れるカルボン酸をエステル化反応させることにより生成
できる。

【００６９】あるいは、一般式（ｃ）で示される化合物
は、所定の骨格を有する炭化水素ポリエーテルをフッ化
水素掃去剤の存在下で直接フッ素化法によりフッ素化し
て両末端が酸フルオライド（−ＣＯＦ）に変性したフル
オロポリエーテル系化合物を得、これを所定の反応に付
して分子の両末端に所定の基を結合させることにより生
成できる。炭化水素ポリエーテルの骨格は、一般式
（ｃ）のｈ、ｉ、およびｊに基づいて選択される。

【００７０】末端が酸フルオライドであるフルオロポリ
エーテル系化合物を加水分解すると、両末端にカルボキ
シル基が結合したものが得られる。このカルボキシル基
を有するフルオロポリエーテル系化合物を還元するとカ
ルボキシル基が−ＣＨ₂ＯＨとなり、水酸基を有するフ
ルオロポリエーテル系化合物が得られる。カルボキシル
基を有するフルオロポリエーテル系化合物をアルコール
と反応させれば、両末端にアルコキシカルボニル基が結
合した化合物を得ることができる。水酸基を有するフル
オロポリエーテル系化合物をカルボン酸と反応させれ
ば、両末端にアシルオキシル基が結合した化合物を得る
ことができる。

【００７１】炭化水素ポリエーテル系化合物を直接フッ
素化する方法は、日本国特公平７−６４９２９号公報に
おいて詳細に説明されている。実際の製造に際しては当
該公報の記載を参照することができる。当該公報に開示
された内容はこの引用により本明細書の一部を構成す
る。

【００７２】本発明の磁気記録媒体の背面側潤滑剤層
（６ａ）に含まれる潤滑剤は、一般式（ａ）で示される
化合物から選ばれる化合物と、一般式（ｂ）で示される
化合物および一般式（ｃ）で示される化合物から選ばれ
る化合物とを含む。したがって、本発明においては：（１）一般式（ａ）で示される化合物と一般式（ｂ）で
示される化合物を含み、一般式（ｃ）で示される化合物
を含まない潤滑剤；（２）一般式（ａ）で示される化合物と一般式（ｃ）で
示される化合物を含み、一般式（ｂ）で示される化合物
を含まない潤滑剤；または（３）一般式（ａ）で示される化合物、一般式（ｂ）で
示される化合物、および一般式（ｃ）で示される化合物
を含む潤滑剤が用いられる。

【００７３】背面側潤滑剤層（６ａ）に含まれる潤滑剤
は、一般式（ａ）で示される化合物と、一般式（ｂ）で
示される化合物および／または一般式（ｃ）で示される
化合物とを、好ましくは重量比で２：８〜８：２の割合
で含み、より好ましくは４：６〜７：３の割合で含む。
潤滑剤が、一般式（ｂ）で示される化合物および一般式
（ｃ）で示される化合物をともに含む場合（即ち、上記
（３）の潤滑剤において）、前者と後者の割合は、重量
比で３：７〜７：３であることが好ましい。各化合物
は、好ましくは混合された状態で背面側潤滑剤層（６
ａ）に含まれる。

【００７４】背面側潤滑剤層（６ａ）は、先に述べたよ
うに、一般式（ａ）〜（ｃ）で示される化合物以外に、
他の潤滑剤、防錆剤および／または極圧剤等を含んでよ
い。その場合、一般式（ａ）で示される化合物と一般式
（ｂ）で示される化合物および／または一般式（ｃ）で
示される化合物とを合わせた量は、それらと他の潤滑剤
等とを合わせた全体の量の４０重量％以上であることが
好ましく、６０重量％以上であることがより好ましい。
一般式（ａ）で示される化合物と一般式（ｂ）で示され
る化合物および／または一般式（ｃ）で示される化合物
とを合わせた量が４０重量％未満であると、本発明の効
果を得ることが難しい。

【００７５】一般式（ａ）で示される化合物と一般式
（ｂ）で示される化合物および／または一般式（ｃ）で
示される化合物は合わせて、潤滑剤層の表面１ｍ²当た
り、好ましくは０．０５〜１００mg、より好ましくは
０．１〜５０mg存在するように、背面側潤滑剤層（６
ａ）に含まれる。

【００７６】背面側潤滑剤層（６ａ）の厚さは、０．０
５〜５０nmであることが好ましく、１〜１０nmであるこ
とがより好ましい。背面側潤滑剤層（６ａ）の厚さが
０．０５nm未満であると、バックコート層側表面の摩擦
係数が大きくなり、テープ全体の走行性が悪くなること
がある。その結果、前面側保護層（３）が損傷されるお
それがある。背面側潤滑剤層（６ａ）の厚さが５０nmを
超えると走行不良が生じるため好ましくない。

【００７７】次に背面側潤滑剤層（６ａ）の形成方法を
説明する。背面側潤滑剤層（６ａ）の形成工程は、炭化
水素系溶媒とアルコール系溶媒との混合有機溶媒に潤滑
剤を溶解して調製した塗布液をバックコート層の上（後
述のように背面側保護層を設ける場合には背面側保護層
の上）に塗布すること、ならびに塗布した塗布液を乾燥
して混合有機溶媒を蒸発させることを含む。最終的に混
合有機溶媒が蒸発することにより、バックコート層の表
面（または背面側保護層の表面）には溶媒に溶解した潤
滑剤が残って潤滑剤層を形成する。したがって、塗布液
の塗布厚を大きくしても、溶媒の蒸発によりバックコー
ト層の上には均一で非常に薄い潤滑剤層が形成される。
このようにして潤滑剤層を形成することにより、少量の
潤滑剤でバックコート層の表面を均一に被覆することが
できる。

【００７８】本発明で使用できる炭化水素系溶媒は、例
えば、トルエン、ヘキサン、へプタン、オクタン、ノナ
ン、キシレンおよびケトン等であり、本発明で使用でき
るアルコール系溶媒は、例えば、メチルアルコール、エ
チルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、イソプ
ロピルアルコールおよびブチルアルコール等の低級アル
コールである。混合有機溶媒は、具体的には、トルエン
とイソプロピルアルコールの混合溶媒またはヘキサンと
イソプロピルアルコールの混合溶媒であることが好まし
い。

【００７９】アルコール系溶媒と炭化水素系溶媒の混合
割合は、好ましくは重量比で１：９〜９：１の範囲、よ
り好ましくは３：７〜７：３の範囲にある。アルコール
系溶媒の割合が大きすぎると塗布ムラが生じやすい。炭
化水素系溶媒の割合が大きすぎると不経済である。この
混合有機溶媒を用いることにより、バックコート層（背
面側保護層を形成する場合には背面側保護層）表面を均
一に被覆する塗布ムラのない均一な厚さの潤滑剤層が形
成される。その結果、優れた潤滑性を有する実用信頼性
の高い磁気記録媒体が得られる。

【００８０】塗布液の濃度および塗布厚は、溶媒が蒸発
した後にバックコート層の上に形成される背面側潤滑剤
層が所望の厚さになるように選択する。一般には、潤滑
剤の濃度が１００〜１００００ppmである塗布液を、１
０〜１００μｍの厚さとなるように塗布することが好ま
しい。

【００８１】前述の塗布液を用いて潤滑剤層を形成する
方法としては、バーコーティング法、グラビアコーティ
ング法、リバースコーティング法、ダイコーティング
法、ディッピング法およびスピンコート法等の湿式塗布
法、ならびに有機蒸着法がある。本発明においては、い
ずれの方法を採用してもよい。

【００８２】塗布液を塗布した後、乾燥処理して有機溶
媒を蒸発させると、保護膜上に潤滑剤層が形成される。
乾燥処理は、加熱あるいは自然乾燥によって実施するこ
とができる。

【００８３】図２に示すように、背面側潤滑剤層（６
ａ）は、バックコート層（４）の上に形成された保護層
（即ち、背面側保護層）（７）の上に形成してもよい。
背面側保護層（７）は、磁気記録媒体の保存性および走
行性をより向上させる。

【００８４】背面側保護層（７）は、磁性層（２）上の
前面側保護層（３）を形成するために用いられる常套の
材料および方法によって、バックコート層（４）の上に
形成することができる。背面側保護層（７）は、例え
ば、スパッタリングもしくはプラズマＣＶＤ等の方法で
得られる、アモルファス状、グラファイト状もしくはダ
イヤモンド状の炭素から成る炭素膜、あるいはそれらの
炭素を混合および／または積層して形成した炭素膜であ
る。

【００８５】背面側保護層（７）は、特にダイヤモンド
状の炭素、すなわちダイヤモンドライクカーボンで形成
することが好ましい。ダイヤモンドライクカーボンは適
度な硬度を有し、バックコート層側表面と接する走行系
部材を損傷することなく、磁気記録媒体の損傷を抑制す
ることから、最も好ましい材料である。

【００８６】いずれの材料を用いて炭素膜を形成する場
合も、背面側保護層（７）の厚さは１〜５０nmであるこ
とが好ましい。

【００８７】背面側保護層（７）が炭素膜である場合、
その表層部は含窒素プラズマ重合膜であることが好まし
い。表層部が含窒素プラズマ重合膜であると、背面側保
護層（７）への潤滑剤の化学吸着力が向上する。ここ
で、「保護層の表層部」とは、背面側保護層の背面側潤
滑剤層と接する側の面を含む層を意味する。

【００８８】含窒素プラズマ重合膜は、プラズマＣＶＤ
等により形成された炭素膜を含む被処理物を真空容器中
に入れ、真空容器中にプロピルアミン、ブチルアミン、
エチレンジアミン、プロピレンジアミン、またはテトラ
メチレンジアミン等のアミン化合物をガス化して導入し
て炭素膜の表面をアミン化合物のガスに曝し、容器内の
圧力を０．１〜１００Ｐａに保った状態で、真空容器内
部で高周波放電を生じさせることにより形成する。炭素
膜（保護層）の表層部に含窒素プラズマ重合膜を形成す
る方法は、米国特許第５５４０９５７号および第５６３
７３９３号に開示されており、この引用によりこれらの
特許に開示された内容は本明細書の一部を構成する。

【００８９】含窒素プラズマ重合膜の厚さは０．３〜３
nmであることが好ましい。０．３nm以下の場合は、潤滑
剤成分と保護層との間の化学吸着力を十分に向上させる
ことができない。３nm以上の場合は、保護層自体の保護
効果が低下する。

【００９０】あるいは、背面側保護層（７）は、湿式塗
布法により形成された膜であってよい。その場合、背面
側保護層（７）は、カーボン粒子、バリウムフェライ
ト、およびポリウレタン樹脂を、適当な溶媒（例えば、
トルエンとメチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解し及
び／または分散させた塗布液を調製し、この塗布液をバ
ックコート層の上に塗布した後、乾燥して溶媒を蒸発さ
せることにより形成できる。

【００９１】このように形成される背面側保護層（７）
において、カーボン粒子はバックコート層に強度を付与
し、バリウムフェライトはバックコート層のヤング率を
調節し、ポリウレタン樹脂はカーボン粒子およびバリウ
ムフェライトを結合するバインダーとしての役割を果た
す。カーボン粒子に代えて、あるいはカーボン粒子とと
もに、金属粒子、金属酸化物粒子および金属窒化物粒子
から選択される１または複数種の粒子を用いてよい。ま
た、ポリウレタン樹脂に代えて、あるいはポリウレタン
樹脂とともに、ポリエステル樹脂を用いてよい。また、
バリウムフェライトに代えて、あるいはバリウムフェラ
イトとともに硫酸バリウムおよび／または炭酸カルシウ
ムを用いてよい。湿式塗布法により形成する背面側保護
層の厚さは２００〜６００nm（０．２〜０．６μｍ）と
することが好ましい。

【００９２】背面側保護層（７）の上に形成される背面
側潤滑剤層（６ａ）もまた、先に述べた方法に従って形
成される。その場合、混合有機溶媒に潤滑剤を溶解して
調製した塗布液は、背面側保護層（７）の表面、即ち、
バックコート層（４）と接している面とは反対の面に塗
布される。

【００９３】次に、図１および図２において共通する、
非磁性基板（１）、磁性層（２）、前面側保護層
（３）、バックコート層（４）および前面側潤滑剤層
（６ｂ）について説明する。

【００９４】一般に、非磁性基板（１）は高分子から成
るフィルムである。非磁性基板（１）は常套の材料およ
び方法を用いて形成したものであってよい。バックコー
ト層（４）が磁気記録媒体に必要な剛性を確保するの
で、非磁性基板（１）の厚さは薄くてもよい。具体的に
は、非磁性基板（１）の厚さは２〜７μｍであることが
好ましい。非磁性基板（１）の厚さが２μｍ未満である
と表面に磁性層を形成することが困難となる。非磁性基
板（１）の厚さが７μｍを超えると磁気記録媒体全体に
占める非磁性基板の割合が大きくなり、高密度磁気記録
媒体としては不利である。

【００９５】非磁性基板（１）の材料および構造は特に
限定されない。例えば、非磁性基板の材料は、ＰＥＴ、
ＰＥＮおよびＰＰＴＡ等から成る群から選択できる。

【００９６】バックコート層（４）を蒸着により形成す
る場合には、蒸着時の加熱により非磁性基板等の熱負荷
が大きくなる。したがって、耐熱性に劣る非磁性基板を
用いると、基板が溶融あるいは変色するおそれがある。
熱負荷を軽減するためには、蒸着時の巻き取り張力を大
きくして冷却を強化すればよい。しかし、非磁性基板
（１）に磁性層（２）が形成されている場合に巻き取り
張力を大きくすると、磁性層（２）にクラックが生じる
おそれがある。クラックは非磁性基板（１）の厚さが小
さいほど生じやすい。したがって、バックコート層
（４）を高温雰囲気下で形成する場合には、ＰＥＮおよ
びＰＰＴＡのような耐熱性材料から成る非磁性基板
（１）を用いることが好ましい。

【００９７】磁気記録媒体の走行性を向上させるため
に、非磁性基板（１）の磁性層（２）が形成される面
（即ち、磁性層（２）と接する側の面）には超微粒子が
分散し、固着していることが好ましい。超微粒子は、好
ましくはＳｉＯ₂もしくはＺｎＯ等の無機物質またはイ
ミド等の有機物質から成る直径５〜５０nmの超微粒子で
ある。そのような超微粒子は、１μｍ²につき３〜１５
０個、分散し固着していることが望ましい。超微粒子
は、非磁性基板（１）のバックコート層（４）が形成さ
れる面にも分散し、固着していてよい。そのような非磁
性基板の例は、日本国特開平９−１６４６４４号公報お
よび日本国特開平１０−２６１２１５号公報等に開示さ
れている。

【００９８】本発明の磁気記録媒体の磁性層（２）は、
好ましくは強磁性金属薄膜である。磁性層に適した強磁
性金属としては、Ｆｅ系金属、Ｃｏ系金属、およびＮｉ
系金属がある。本発明においてはＣｏ系金属またはＮｉ
系金属で磁性層を形成することが好ましい。ここで、
「Ｃｏ系金属」とは、コバルト、およびコバルトを主成
分として好ましくは５０原子％以上含む合金をいう。
「Ｆｅ系金属」および「Ｎｉ系金属」も同様である。

【００９９】磁性層（２）は、具体的には、Ｆｅ、Ｃｏ
およびＮｉ、ならびにＣｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｃｏ−
Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｐｄ、Ｃｏ−Ｓ
ｎ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ
−Ｃｕ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｃｒ、Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｍ
ｎ−ＢｉおよびＭｎ−Ａｌ等の合金から選択される１ま
たは複数の材料で形成される。強磁性金属薄膜は酸素を
含んでいてよく、酸素はこれらの金属または合金の酸化
物の形態で含まれていてよい。強磁性金属薄膜は、単層
膜の形態であってもよく、あるいは多層膜の形態であっ
てもよい。磁性層の厚さは２０〜３００nmとすることが
好ましい。

【０１００】磁性層（２）は、例えば電子ビーム蒸着に
より形成される。磁性層（２）は、具体的には、Ｃｏも
しくはＣｏ−Ｎｉ合金等の強磁性金属に所定範囲の入射
角で電子ビームを照射して金属を蒸発させ、これを、キ
ャン状回転体等の冷却回転支持体に沿って移動する非磁
性基板表面に付着させることにより形成される。酸素雰
囲気中で蒸着を実施すれば、酸素を含む強磁性金属薄膜
が形成される。磁性層（２）は、これ以外の方法、例え
ば、抵抗加熱法もしくは外熱るつぼ法等で金属を加熱し
て実施する蒸着、イオンプレーティング、またはスパッ
タリング等により形成することができる。

【０１０１】磁性層（２）は、磁性層の形成（または成
膜）速度の観点から、強磁性金属を斜方から非磁性基板
の表面に蒸着させる斜方蒸着法によって形成することが
好ましい。この場合、非磁性基板の冷却回転支持体は、
キャン状回転体またはベルト状支持体であってよい。生
産効率の点からは、蒸着領域の広いベルト状支持体を用
いることが好ましい。

【０１０２】前面側保護層（３）は、常套の材料および
方法で形成される。前面側保護層（３）は、好ましくは
炭素膜、特に好ましくはダイヤモンドライクカーボンか
ら成る膜である。前面側保護層（３）として好ましい炭
素膜は、背面側保護層（７）に関連して説明した炭素膜
と同じである。したがって、ここでは前面側保護層
（３）に関する詳細な説明を省略する。前面側保護層
（３）の好ましい厚さは、１〜５０nmである。

【０１０３】前面側保護層（３）が炭素膜である場合、
その表層部は含窒素プラズマ重合膜であることが好まし
い。前面側保護層（３）の表層部に形成される含窒素プ
ラズマ重合膜は、背面側保護層（７）に関連して説明し
たとおりである。したがって、ここではその詳細な説明
を省略する。

【０１０４】バックコート層（４）は金属薄膜である。
バックコート層（４）は、磁性層の磁性に悪影響を及ば
さないよう、非磁性体の金属から成るものであることが
好ましい。バックコート層（４）は、例えば、Ｔｉ、Ｃ
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ａ
ｇ、ＰｂおよびＣｏならびにこれらの合金等から成る群
から選択される１つまたは複数の金属を用いて形成され
る。Ｆｅ、ＮｉおよびＣｏは磁性体であるから、これら
を使用する場合には、酸化して非磁性体にした状態でバ
ックコート層中に存在させることが好ましい。バックコ
ート層（４）は、単層膜の形態であってもよく、あるい
は多層膜の形態であってもよい。バックコート層の厚さ
は１０〜６００nmとすることが好ましい。

【０１０５】コスト、付着速度、および金属薄膜を形成
する金属が酸化された場合の酸化後の安定性を考慮すれ
ば、バックコート層（４）は、Ｃｕ、ＡｌもしくはＺ
ｎ、またはＣｕ、ＡｌもしくはＺｎを主成分として好ま
しくは５０原子％以上含むＣｕ系合金、Ａｌ系合金もし
くはＺｎ系合金を用いて形成することが好ましい。

【０１０６】Ａｌ系合金およびその他の合金には、耐食
性および機械的強度を向上させるために添加する添加物
として、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｓｉ、ＭｇまたはＺｎ等、
一般的に使用されているものを任意に添加できる。

【０１０７】バックコート層（４）は、非磁性基板
（１）の磁性層（２）が形成される面とは反対の面に形
成される。バックコート層（４）は、好ましくは蒸着に
より形成される。あるいは、バックコート層（４）は、
スパッタリング、イオンプレーティングまたはプラズマ
ＣＶＤ等によって形成してよい。

【０１０８】いずれの方法でバックコート層（４）を形
成する場合も、バックコート層は酸素雰囲気中で形成
し、バックコート層（４）が金属酸化物を含むようにす
ることが好ましい。金属酸化物を含むバックコート層
（４）は優れた耐食性を示す。バックコート層（４）は
金属酸化物の他に金属と結合してない酸素を含んでいて
よい。バックコート層（４）の酸素濃度は、表面に近づ
くほど高くなっていることが好ましい。バックコート層
（４）の表面により多くの酸素が含まれていると、バッ
クコート層の耐食性はより向上する。

【０１０９】バックコート層（４）は、非磁性基板
（１）に磁性層（２）が形成された後に形成してもよ
い。その場合、輻射熱を小さくし、磁性層（２）が形成
された非磁性基板（１）の熱負荷を小さくするために、
バックコート層（４）を形成する金属の融点は低いもの
であることが望ましい。具体的には、先に例示したＡ
ｌ、Ｃｕ、Ａｌ系合金またはＣｕ系合金を使用すること
が好ましい。

【０１１０】前面側潤滑剤層（６ｂ）は、磁気記録媒体
の潤滑剤として汎用されている潤滑剤で形成してよい。
本発明においては、前面側潤滑剤層（６ｂ）もまた、一
般式（ａ）で示される化合物から選択される少なくとも
１種の化合物と一般式（ｂ）で示される化合物および一
般式（ｃ）で示される化合物から選ばれる少なくとも１
種の化合物とを含むものであることが好ましい。その場
合、一般式（ａ）で示される化合物と、一般式（ｂ）で
示される化合物および／または一般式（ｃ）で示される
化合物との好ましい混合割合、ならびに潤滑剤層に占め
る一般式（ａ）〜（ｃ）で示される化合物の好ましい割
合等は、背面側潤滑剤層（６ａ）に関連して説明したと
おりである。したがって、前面側潤滑剤層（６ｂ）に関
して、それらを詳細に説明することは省略する。前面側
潤滑剤層（６ｂ）の厚さは、背面側潤滑剤層（６ａ）の
それと同様、０．０５〜５０nmであることが好ましい。

【０１１１】前面側潤滑剤層（６ｂ）は、背面側潤滑剤
層（６ａ）と同様の方法で形成できる。その場合、塗布
液は前面側保護層（３）の上に塗布される。１つの磁気
記録媒体において、前面側潤滑剤層（６ｂ）および背面
側潤滑剤層（６ａ）を構成する潤滑剤の組成は同じであ
っても、異なっていてもよい。また、両潤滑剤層の厚さ
は同じであってもよく、異なっていてもよい。

【０１１２】磁気記録媒体が磁気テープであって、潤滑
剤層の露出表面が磁性層側表面である場合、製造中また
は使用中に磁気テープが巻回されると、前面側潤滑剤層
とバックコート層が接触し、それにより前面側潤滑剤層
の潤滑剤がバックコート層の表面に転写されることがあ
る。そのような場合に、前面側潤滑剤層に含まれる潤滑
剤が一般式（ａ）で示される化合物と、一般式（ｂ）で
示される化合物および／または一般式（ｃ）で示される
化合物とを含むものであるとき、それらの化合物を含む
背面側潤滑剤層が、独立した潤滑剤層形成工程（例えば
先に述べた湿式塗布工程）を経ることなく、バックコー
ト層の上に形成される。このような転写により形成され
る背面側潤滑剤層を有する磁気記録媒体もまた、本発明
の磁気記録媒体に含まれる。

【０１１３】以上において説明した本発明の磁気記録媒
体は高密度記録に適している。したがって、本発明の磁
気記録媒体は、例えば、デジタル映像記録機器用のテー
プ、およびコンピュータのデータストレージ用テープと
して有用である。

【０１１４】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。

【０１１５】（実施例１）

【０１１６】図１に示す構造の磁気記録媒体を作製し
た。本実施例では、磁気記録媒体の非磁性基板（１）と
して、厚さ４．５μｍ、幅１５０mm、長さ２０００mmの
ＰＥＴフィルムを使用した。このフィルムの片面には、
ＳｉＯ₂から成る直径２０nmの微粒子が１μｍ²当り１０
０個分散し、固着していた。

【０１１７】このＰＥＴフィルムの微粒子が存在する側
の面に、磁性層（２）を斜方蒸着法により形成した。磁
性層（２）は、真空槽内の圧力を２×１０^-2Paとし、非
磁性基板（１）を冷却回転支持体であるベルト状支持体
に沿って６５ｍ／分で走行させながら、電子銃（出力１
８ｋＷ）によりるつぼ内のＣｏを蒸発させることによ
り、形成した。磁性層（２）の厚さは２００nmとした。

【０１１８】次に、磁性層（２）が形成された面とは反
対の非磁性基板（１）の面に、Ａｌを用いて蒸着法によ
り約３００nmのバックコート層（４）を形成した。バッ
クコート層（４）は、真空槽内の圧力を２×１０^-2Paと
し、非磁性基板（１）をキャン状冷却回転支持体に沿っ
て１２ｍ／分で走行させながら、電子銃（出力５．５ｋ
Ｗ）によりるつぼ内のＡｌを蒸発させることにより、形
成した。バックコート層（４）の耐食性を向上させるた
め、蒸着中に酸素を非磁性基板（１）に向けて供給し、
バックコート層（４）に酸素が含まれるようにした。

【０１１９】続いて、磁性層（２）の上に、ダイヤモン
ドライクカーボンから成る厚さ１０nmの前面側保護層
（３）を形成した。前面側保護層（３）はメタンをイオ
ン化するプラズマＣＶＤ法により形成した。前面側保護
層（３）は、具体的には真空容器中にメタンガスとアル
ゴンガスとを４：１の比（圧力比）で混合したガスを導
入し、トータルガス圧を１０Ｐａに保ちながら、放電管
内の電極に電圧を印加することにより形成した。

【０１２０】次に、下記の化学式（ａ１）で示される化
合物と化学式（ｂ１）で示される化合物とを１：１（重
量比）の割合で混合して潤滑剤を調製した。この潤滑剤
を、イソプロピルアルコールとトルエンとを重量比で
１：１の割合で混合した混合有機溶媒に、その濃度が２
０００ｐｐｍとなるように溶解して塗布液を調製した。
この塗布液をバックコート層（４）の表面にリバースロ
ールコータを用いて湿式塗布法により約８０μｍの厚さ
となるように塗布した後、乾燥させた。最終的に、バッ
クコート層（４）の上には、１ｍ²あたり５ｍｇの潤滑
剤が含まれる厚さ５ｎｍの背面側潤滑剤層（６ａ）が形
成された。さらに、背面側潤滑剤層（６ａ）を形成した
方法と同様の方法で、背面側潤滑剤層（６ａ）と同じ組
成および厚さを有する前面側潤滑剤層（６ｂ）を前面側
保護層（３）の上に形成した。

【０１２１】

【化１６】

【０１２２】

【化１７】

【０１２３】以上のようにして作製した試料を１／４イ
ンチ幅にスリットしてテープ状の磁気記録媒体を得た。

【０１２４】（実施例２）上記化学式（ａ１）で示され
る化合物、上記化学式（ｂ１）で示される化合物、およ
び下記化学式（ｃ１）で示される化合物を、２：２：１
（重量比）の割合で混合して潤滑剤を調製した。この潤
滑剤を用い、実施例１と同様の方法で、背面側潤滑剤層
（６ａ）および前面側潤滑剤層（６ｂ）を有する磁気記
録媒体を作製した。

【化１８】

【０１２５】（実施例３）上記化学式（ａ１）で示され
る化合物と上記化学式（ｃ１）で示される化合物とを、
１：１（重量比）の割合で混合して潤滑剤を調製した。
この潤滑剤を用い、実施例１と同様の方法で、背面側潤
滑剤層（６ａ）および前面側潤滑剤層（６ｂ）を有する
磁気記録媒体を作製した。

【０１２６】（実施例４）図２に示す構造の磁気記録媒
体を作製した。磁気記録媒体は、バックコート層（４）
の上に背面側保護層（７）を形成し、背面側保護層
（７）の上に背面側潤滑剤層（６ａ）を形成したことを
除いては、実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製し
た。背面側保護層（７）は、前面側保護層（３）と同様
に、真空容器中にメタンガスとアルゴンガスとを４：１
の比（圧力比）で混合したガスを導入し、トータルガス
圧を１０Ｐａに保ちながら、電圧を放電管内の電極に印
加することにより形成した。

【０１２７】（実施例５）背面側保護層（７）の表層部
に含窒素プラズマ重合膜（図示せず）を形成し、含窒素
プラズマ重合膜に接するように背面側潤滑剤層（６ａ）
を形成したことを除いては、実施例４と同様にして磁気
記録媒体を作製した。含窒素プラズマ重合膜は、背面側
保護層（７）を形成した後、真空容器中にプロピルアミ
ンガスを導入して高周波プラズマ処理を実施することに
より、背面側保護層（７）の表層部に形成した。含窒素
プラズマ重合膜の厚さは２．５ｎｍであった。

【０１２８】（実施例６）実施例１と同様の方法で、非
磁性基板（１）に磁性層（２）およびバックコート層
（４）を形成し、磁性層（２）の上に前面側保護層
（３）を形成した。さらに、バックコート層（４）の上
に背面側保護層（７）を形成した。本実施例において、
背面側保護層（７）は、溶媒としてトルエンとメチルエ
チルケトンとをそれぞれ５００重量部、バインダーとし
てポリウレタンを１００重量部、カーボンを２０重量
部、およびバリウムフェライトを６０重量部混合して調
製した塗布液をバックコート層（４）の上に塗布した
後、乾燥して溶媒を蒸発させることにより形成した。背
面側保護層（７）の厚さは５００nmとした。次いで、実
施例１と同様の方法で、前面側および背面側潤滑剤層
（６ｂ，６ａ）を形成して磁気記録媒体を作製した。

【０１２９】（実施例７）実施例１と同様の方法で、非
磁性基板（１）に磁性層（２）およびバックコート層
（４）を形成し、磁性層（２）の上に前面側保護層
（３）を形成した。次に、磁性層（２）が形成された面
とは反対の非磁性基板（１）の面に、Ｃｕを用いて蒸着
法により約１００nmのバックコート層（４）を形成し
た。バックコート層（４）は、真空槽内の圧力を３×１
０^-2Paとし、非磁性基板（１）をキャン状冷却回転支持
体に沿って７ｍ／分で走行させながら、電子銃（出力
６．２ｋＷ）によりるつぼ内のＣｕを蒸発させることに
より、形成した。次いで、実施例１と同様の方法で、前
面側および背面側潤滑剤層（６ｂ，６ａ）を形成して磁
気記録媒体を作製した。

【０１３０】（比較例１）背面側潤滑剤層を形成しなか
ったことを除いては、実施例１と同様にして磁気記録媒
体を作製した。

【０１３１】（比較例２）市販のパーフルオロポリエー
テル系潤滑剤であるFomblin ＡＭ２００１（商品名；Au
simont社製）を潤滑剤として使用し、この潤滑剤で前面
側および背面側潤滑剤層（６ｂ，６ａ）を形成したこと
を除いては、実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製
した。

【０１３２】（比較例３）化学式（ａ１）で示される化
合物のみを潤滑剤として使用し、この潤滑剤で前面側お
よび背面側潤滑剤層（６ｂ，６ａ）を形成したことを除
いては、実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製し
た。

【０１３３】（比較例４）化学式（ｂ１）で示される化
合物のみを潤滑剤として使用し、この潤滑剤で前面側お
よび背面側潤滑剤層（６ｂ，６ａ）を形成したことを除
いては、実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製し
た。

【０１３４】（比較例５）化学式（ｃ１）で示される化
合物のみを潤滑剤として使用し、この潤滑剤で前面側お
よび背面側潤滑剤層（６ｂ，６ａ）を形成したことを除
いては、実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製し
た。

【０１３５】（比較例６）潤滑剤を溶解する有機溶媒と
して、イソプロピルアルコールのみを用いたことを除い
ては、実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。

【０１３６】（比較例７）潤滑剤を溶解する有機溶媒と
して、トルエンのみを用いたことを除いては、実施例１
と同様にして磁気記録媒体を作製した。

【０１３７】実施例１〜実施例５および比較例１〜比較
例７で得られた１／４幅の磁気テープ試料について、そ
れぞれ下記の評価試験（ａ）〜（ｃ）を行った。

【０１３８】（ａ）耐久性試験ＲＦ（高周波）出力測定用に改造した市販デジタルＶＴ
Ｒ（松下電器産業(株)製、商品名ＮＶ−ＤＪ１）を用
い、各試料を５℃、８０％ＲＨの環境下で５００パス、
５００時間繰り返し再生を行った後のＲＦ出力変化を測
定した。結果は、試験前に対する試験後の相対的な出力
変化をデシベルで示した。テープダメージは、試料の状
態を目視および微分干渉顕微鏡で観察し、５段階で評価
した。評価基準は次のとおりである。５：実用上全く問題ない。４：実用上問題ない。３：実用可能であるが、改善が必要である。２：テープダメージがひどく、実用性は殆どない。１：テープダメージがあまりにもひどく、実用性が全く
ない。

【０１３９】（ｂ）走行性試験バックコート層側表面の動摩擦係数μｋを測定した。各
試料を、巻き付け角９０°で摩擦部材（ステンレス製
（ＳＵＳ４２０Ｊ２、表面粗さ０．２Ｓ）、外径６mm）
に巻き付け、テンション０．２Ｎの条件で試料を１８mm
／秒の速度で巻き出し、同じ速度で巻き取り、巻き取り
側においてテンションを測定した。巻き取り側のテンシ
ョンと巻き出し側のテンションとの比からオイラーの式
より動摩擦係数を計算して求めた。

【０１４０】（ｃ）耐候性試験各試料を４０℃、８０％ＲＨ環境下に３０日間放置し
た。放置後、各試料について、スチル寿命およびヘッド
目詰まりを測定した。

【０１４１】スチル寿命は、スチル寿命測定用に改造し
た市販デジタルＶＴＲ（松下電器産業(株)製、商品名Ｎ
Ｖ−ＤＪ１）を用い、３℃、５％ＲＨの環境下で測定し
た。スチル寿命は初期から出力が６ｄＢ低下するまでの
時間（分）で示す。

【０１４２】ヘッド目詰まりは、ＲＦ（高周波）出力測
定用に改造した市販デジタルＶＴＲ(松下電器産業(株)
製、ＮＶ−ＤＪ１）を用い、各試料を２３℃、６０％Ｒ
Ｈの環境下で１００パス、１３３時間繰り返し再生を行
い、再生中のＲＦ出力からヘッド目詰まりを測定した。
この繰り返し再生中、ＲＦ出力が６ｄＢ以上低下したと
きにヘッド目詰まりが発生したものとし、そのような低
下が測定された時間を合計した時間をヘッド目詰まりと
した。

【０１４３】各試験の評価結果を表１に示す。

【表１】

【０１４４】表１から明らかなように、比較例１〜７と
の比較において、実施例１〜６の試料の出力低下は小さ
く、かつ動摩擦係数μｋは０．２５以下であり走行性も
良好であった。さらに、実施例の各試料は保存後のスチ
ル寿命が長く、各試料を繰り返し走行させたときのヘッ
ド目詰まりも少ないものであった。このことは、実施例
の各試料が優れた耐候性を有することを示している。

【０１４５】バックコート層の表面に一般式（ａ）で示
される化合物と一般式（ｂ）で示される化合物とを含む
潤滑剤層を有する実施例１および４〜６の磁気記録媒
体、バックコート層の表面に一般式（ａ）で示される化
合物、一般式（ｂ）で示される化合物および一般式
（ｃ）で示される化合物を含む潤滑剤層を有する実施例
２の磁気記録媒体、バックコート層の表面に一般式
（ａ）で示される化合物と一般式（ｃ）で示される化合
物とを含む潤滑剤層を有する実施例３は、バックコート
層上に潤滑剤層が存在しない比較例１、市販のパーフル
オロエーテル系潤滑剤のみを背面側潤滑剤層に含む比較
例２、一般式（ａ）で示される化合物のみを背面側潤滑
剤層に含む比較例３、一般式（ｂ）で示されるフルオロ
ポリエーテル系化合物のみを潤滑剤層に含む比較例４の
磁気記録媒体、および一般式（ｃ）で示される化合物の
みを背面側潤滑剤層に含む比較例５と比較して、いずれ
も優れた耐久性、走行性および耐候性を示した。このこ
とは、特定の化合物を含む潤滑剤が、磁気記録媒体の性
能の向上に大きく寄与することを示している。

【０１４６】潤滑剤を溶解する有機溶媒としてイソプロ
ピルアルコールおよびトルエンから成る混合有機溶媒を
使用した実施例１の磁気記録媒体は、イソプロピルアル
コールのみ、またはトルエンのみを使用した比較例６お
よび７の磁気記録媒体と比較して、優れた耐久性、走行
性および耐候性を示した。

【０１４７】バックコート層の上に保護層を有する実施
例４〜６の磁気記録媒体については、実施例１と比較し
て耐久性および走行性に関して、より良好な結果が得ら
れた。更に、背面側保護層の表層部に含窒素プラズマ重
合膜を形成した実施例５および背面側保護層を湿式塗布
法により形成した実施例６については、含窒素プラズマ
重合膜の存在しない実施例４と比較して、走行性と耐候
性に関して、より良好な結果を得ることができた。

【０１４８】実施例７は、バックコート層としてＣｕか
ら成る薄膜を形成したものである。実施例７も実施例１
〜６と同様に、優れた耐久性、走行性および耐候性を示
した。

【０１４９】上記実施例１〜７で使用した潤滑剤以外の
潤滑剤として、例えば、下記の化学式（ａ２）、（ａ
３）、（ａ４）、（ａ５）および（ａ６）で示される化
合物から選択した少なくとも１の化合物と、下記の化学
式（ｂ２）、（ｂ３）、（ｂ４）および（ｂ５）で示さ
れる化合物ならびに下記の化学式（ｃ１）、（ｃ２）、
（ｃ３）、（ｃ４）および（ｃ５）で示される化合物か
ら選択した少なくとも１の化合物とを混合した潤滑剤を
用いて、背面側および前面側潤滑剤層を形成した磁気記
録媒体、ならびに化学式（ａ１）〜（ａ６）で示される
化合物から選択した少なくとも１の化合物と、化学式
（ｂ１）〜（ｂ５）で示される化合物および化学式（ｃ
１）〜（ｃ５）で示される化合物から選択した少なくと
も１の化合物に加えて、公知の潤滑剤および／または防
錆剤を混合した潤滑剤で潤滑剤層を形成した磁気記録媒
体も、上記実施例と同様の効果を示した。

【０１５０】

【化１９】

【０１５１】

【化２０】

【０１５２】

【化２１】

【０１５３】

【化２２】

【０１５４】

【化２３】

【０１５５】

【化２４】

【０１５６】

【化２５】

【０１５７】

【化２６】

【０１５８】

【化２７】

【０１５９】

【化２８】

【０１６０】

【化２９】

【０１６１】

【化３０】

【０１６２】

【化３１】

【０１６３】

【発明の効果】以上のように本発明は、非磁性基板の一
方の面に形成された磁性層、および非磁性基板の他方の
面に形成された金属薄膜から成るバックコート層を有す
る磁気記録媒体であって、バックコート層の上に潤滑剤
層が形成され、この潤滑剤層が、潤滑剤として、特定の
含フッ素カルボン酸から選択される少なくとも１種の化
合物と、特定の含フッ素モノエステルおよび特定のフル
オロポリエーテル系化合物から選択される少なくとも１
種の化合物とを含んでいることを特徴とする。この特徴
により本発明の磁気記録媒体は、厳しい環境下において
も優れた耐久性および走行性を示す、信頼性の高いもの
となる。

【０１６４】更に、バックコート層の上に保護層を形成
し当該保護層の上に潤滑剤層を形成することにより、あ
るいは保護層の表層部に含窒素プラズマ重合膜を形成し
当該含窒素プラズマ重合膜の上に潤滑剤層を形成するこ
とにより、より優れた耐久性および走行性を有する磁気
記録媒体が得られる。従って、本発明の磁気記録媒体
は、例えばテープとして使用される場合には、ビデオデ
ッキ等の再生・録画装置の走行系部材から加えられる大
きな摩擦力に十分に耐えることができ、繰り返しの使用
に適している。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の略断面図である。

【図２】本発明の磁気記録媒体の略断面図である。

【図３】従来の磁気記録媒体の略断面図である。

【符号の説明】

１...非磁性基板、２...磁性層（強磁性金属薄膜）、
３...保護層、４...バックコート層、６ａ...背面側潤
滑剤層、６ｂ...前面側潤滑剤層、７...背面側保護層、
10，20...磁気記録媒体、11...非磁性基板、12...磁性
層（強磁性金属薄膜）、13...保護層、14...バックコー
ト層、15，16...潤滑剤層、100...磁気記録媒体。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性基板、非磁性基板の一方の面に形
成された磁性層、非磁性基板の他方の面にバックコート
層として形成された金属薄膜、およびバックコート層の
上に形成された潤滑剤層を有する磁気記録媒体であっ
て、当該潤滑剤層が、一般式（ａ）で示される化合物か
ら選ばれる少なくとも１種の化合物、ならびに一般式
（ｂ）で示される化合物および一般式（ｃ）で示される
化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含む潤滑
剤を含む磁気記録媒体：【化１】（式中、Ｒ^１は脂肪族アルキル基または脂肪族アルケニ
ル基を示し、Ｒ^２はフルオロアルキル基、またはフルオ
ロエーテル基もしくはフルオロポリエーテル基を示し、
ａは０または１であり、ｂは０から２０の整数である）【化２】（式中、Ｒ^３はフルオロアルキル基、フルオロエーテル
基、またはフルオロポリエーテル基を示し、Ｒ^４は脂肪
族アルキル基または脂肪族アルケニル基を示し、ｃは０
〜２０の整数である）【化３】（式中、Ｘは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ^５、また
は−ＯＣＯＲ^５であり、ここでＲ^５は脂肪族アルキル基
または脂肪族アルケニル基を示し、ｉおよびｊは１以上
の整数であり、ｈは０〜１２の整数である）。
【請求項２】潤滑剤が上記一般式（ａ）で示される化
合物から選ばれる少なくとも１種の化合物、および上記
一般式（ｂ）で示される化合物から選ばれる少なくとも
１種の化合物を含む請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】潤滑剤が上記一般式（ａ）で示される化
合物から選ばれる少なくとも１種の化合物、および上記
一般式（ｃ）で示される化合物から選ばれる少なくとも
１種の化合物を含む請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】バックコート層の上に形成された保護層
をさらに有し、潤滑剤層が保護層の上に形成されている
請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】保護層がダイヤモンドライクカーボンか
ら成る請求項４に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】保護層の表層部が含窒素プラズマ重合膜
であり、潤滑剤層が保護層の含窒素プラズマ重合膜と接
するように形成されている請求項５に記載の磁気記録媒
体。
【請求項７】磁性層の上に形成された保護層、および
保護層の上に形成された潤滑剤層をさらに有する請求項
１〜６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項８】磁性層の上に形成された保護層の上に形
成された潤滑剤層が一般式（ａ）で示される化合物から
選ばれる少なくとも１種の化合物、ならびに一般式
（ｂ）で示される化合物および一般式（ｃ）で示される
化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含む潤滑
剤を含む請求項７に記載の磁気記録媒体：【化４】（式中、Ｒ^１は脂肪族アルキル基または脂肪族アルケニ
ル基を示し、Ｒ^２はフルオロアルキル基、またはフルオ
ロエーテル基もしくはフルオロポリエーテル基を示し、
ａは０または１であり、ｂは０から２０の整数である）【化５】（式中、Ｒ^３はフルオロアルキル基、フルオロエーテル
基、またはフルオロポリエーテル基を示し、Ｒ^４は脂肪
族アルキル基または脂肪族アルケニル基を示し、ｃは０
〜２０の整数である）【化６】（式中、Ｘは−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ^５、また
は−ＯＣＯＲ^５であり、ここでＲ^５は脂肪族アルキル基
または脂肪族アルケニル基を示し、ｉおよびｊは１以上
の整数であり、ｈは０〜１２の整数である）。
【請求項９】潤滑剤が上記一般式（ａ）で示される化
合物から選ばれる少なくとも１種の化合物、および上記
一般式（ｂ）で示される化合物から選ばれる少なくとも
１種の化合物を含む請求項８に記載の磁気記録媒体。
【請求項１０】潤滑剤が上記一般式（ａ）で示される
化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物、および上
記一般式（ｃ）で示される化合物から選ばれる少なくと
も１種の化合物を含む請求項８に記載の磁気記録媒体。
【請求項１１】磁性層の上に形成された保護層がダイ
ヤモンドライクカーボンから成る請求項８〜１０のいず
れか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項１２】磁性層の上に形成された保護層の表層
部が含窒素プラズマ重合膜であり、潤滑剤層が保護層の
含窒素プラズマ重合膜と接するように形成されている請
求項１１に記載の磁気記録媒体。
【請求項１３】バックコート層を構成する金属が、非
磁性金属である請求項１〜１２のいずれか１項に記載の
磁気記録媒体。
【請求項１４】バックコート層が蒸着法によって形成
されたものである請求項１３に記載の磁気記録媒体。
【請求項１５】バックコート層が金属酸化物を含む請
求項１３または請求項１４に記載の磁気記録媒体。
【請求項１６】非磁性基板が、ポリエチレンナフタレ
ートまたはポリパラテトラアミドから成る請求項１〜１
５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１７】磁性層が強磁性金属薄膜である請求項
１〜１６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１８】磁性層が、キャン状回転体またはベル
ト状支持体上で支持された非磁性基板上に強磁性金属が
斜方蒸着されて形成されたものである請求項１７に記載
の磁気記録媒体。
【請求項１９】請求項１〜１８のいずれか１項に記載
の磁気記録媒体を製造する方法であって、バックコート
層の上またはバックコート層の上に形成された保護層の
上に潤滑剤層を形成するために、炭化水素系溶媒とアル
コール系溶媒との混合有機溶媒に潤滑剤を溶解して調製
した塗布液を、バックコート層の上またはバックコート
層の上に形成された保護層の上に塗布すること含む、磁
気記録媒体の製造方法。
【請求項２０】請求項７〜１８のいずれか１項に記載
の磁気記録媒体を製造する方法であって、磁性層の上に
形成された保護層の上に潤滑剤層を形成するために、炭
化水素系溶媒とアルコール系溶媒との混合有機溶媒に潤
滑剤を溶解して調製した塗布液を、保護層の上に塗布す
ること含む、磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２１】炭化水素系溶媒とアルコール系溶媒と
の混合割合が重量比で１：９〜９：１の範囲にある請求
項２０または請求項２１に記載の磁気記録媒体の製造方
法。
【請求項２２】バックコート層を蒸着法により形成す
ることを含む請求項１９〜２１のいずれか１項に記載の
磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２３】バックコート層を酸素雰囲気下で形成
する請求項２２に記載の磁気記録媒体の製造方法。