WO2022038829A1 - フライカット装置 - Google Patents

フライカット装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2022038829A1
WO2022038829A1 PCT/JP2021/015402 JP2021015402W WO2022038829A1 WO 2022038829 A1 WO2022038829 A1 WO 2022038829A1 JP 2021015402 W JP2021015402 W JP 2021015402W WO 2022038829 A1 WO2022038829 A1 WO 2022038829A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
fly
work
tool
cut
film
Prior art date
Application number
PCT/JP2021/015402
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
一政 石川
Original Assignee
株式会社東京精密
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社東京精密 filed Critical 株式会社東京精密
Priority to KR1020217041016A priority Critical patent/KR102613641B1/ko
Priority to CN202180007482.1A priority patent/CN114846586A/zh
Publication of WO2022038829A1 publication Critical patent/WO2022038829A1/ja

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B7/228Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding thin, brittle parts, e.g. semiconductors, wafers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23DPLANING; SLOTTING; SHEARING; BROACHING; SAWING; FILING; SCRAPING; LIKE OPERATIONS FOR WORKING METAL BY REMOVING MATERIAL, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23D5/00Planing or slotting machines cutting otherwise than by relative movement of the tool and workpiece in a straight line
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q11/00Accessories fitted to machine tools for keeping tools or parts of the machine in good working condition or for cooling work; Safety devices specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools
    • B23Q11/10Arrangements for cooling or lubricating tools or work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q17/00Arrangements for observing, indicating or measuring on machine tools
    • B23Q17/20Arrangements for observing, indicating or measuring on machine tools for indicating or measuring workpiece characteristics, e.g. contour, dimension, hardness
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B41/00Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
    • B24B41/06Work supports, e.g. adjustable steadies
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B49/00Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation
    • B24B49/02Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation according to the instantaneous size and required size of the workpiece acted upon, the measuring or gauging being continuous or intermittent
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B55/00Safety devices for grinding or polishing machines; Accessories fitted to grinding or polishing machines for keeping tools or parts of the machine in good working condition
    • B24B55/02Equipment for cooling the grinding surfaces, e.g. devices for feeding coolant
    • B24B55/03Equipment for cooling the grinding surfaces, e.g. devices for feeding coolant designed as a complete equipment for feeding or clarifying coolant
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment

Definitions

  • the present invention relates to a fly-cut device that cuts a protective film attached to a work having bumps formed on its surface.
  • a semiconductor wafer such as a silicon wafer (hereinafter referred to as "work") is to be ground thinly and flatly, and the grinding surface of a rotating grinding wheel is pressed against the work to grind the back surface of the work.
  • a film that protects the surface is attached to the work in order to protect the chips and bumps formed on the surface of the work.
  • the dicing film is attached to the back surface of the work in the dicing film attaching device, and the work and the dicing frame are integrated.
  • the protective film attached to the surface of the work is peeled off, the work is diced in the shape of a dicing.
  • the chip formed by dicing is picked up and mounted on a lead frame (see, for example, Patent Document 1).
  • the work 100 is processed according to the procedure shown in FIG. That is, on the work 100, the bump 102 is formed on the surface 101 and the BG film 103 is attached so as to cover the bump 102 (BG film attaching step). After that, the back surface 104 of the work 100 is ground by the grinding wheel 106 in a state of being sucked and held by the chuck table 105 so that the back surface 104 faces upward (work grinding step). After that, the laser is focused inside the work 100 to form the reforming line 107 from the back surface 104 to a predetermined depth (laser dicing (ML) step).
  • ML laser dicing
  • the back surface 104 of the work 100 is attracted by the chuck 108 of the transfer arm, and the work 100 is transferred to the DC tape affixing device (work transfer step).
  • the rolling roller 110 presses the DC tape 111 against the back surface 104 of the work 100 to attach the work 100, and the work 100 is held by the dicing frame 112.
  • the BG film 103 is peeled off via the peeling tape 113 (DC tape sticking, BG film peeling step).
  • the center of the work 100 rises from the outer periphery of the work 100 by the amount of the bump 102 of the BG film 103, so that a leak occurs from the gap between the outer periphery of the BG film 103 and the chuck table 105.
  • the work 100 tends to be insufficiently attracted and held, and the work 100 tends to flutter during grinding, which may damage the work 100.
  • the reforming line 107 is formed with a large deviation in the depth direction of the work 100 in the subsequent ML process, and the chuck 108 and the work 100 are formed in the transfer process.
  • an object of the present invention is to solve this problem.
  • the fly-cut device cuts the upper surface of a protective film attached to a work including a bump region having bumps formed on the surface and an outer peripheral region around the bump region.
  • the fly-cut tool cuts the upper surface of the protective film from the center toward the outer periphery.
  • the central region of the protective film is cut relatively thinner than the outer peripheral region, so that when the upper surface side of the protective film is adsorbed and held by the chuck, the entire surface of the protective film can be adsorbed and held by the chuck. Therefore, the work can be safely ground, and the reforming line is formed at a substantially constant depth from the back surface of the work in the ML process, so that minute cracks occur in the work in the transfer process and the peeling process. Can be suppressed.
  • the work with bumps is formed to have a substantially uniform thickness over the entire surface, the entire surface of the protective film is attracted and held by the chuck, the work can be safely ground, and a modification line is used in the ML process. Is formed to a substantially constant depth from the back surface of the work, so that it is possible to suppress the occurrence of minute cracks in the work in the transfer step and the peeling step.
  • FIG. 1 It is a schematic diagram which shows the outline of the fly cut apparatus which concerns on one Embodiment of this invention.
  • A is a perspective view of the fly cut tool.
  • B is an enlarged view of a main part of the fly cut tool. It is a top view which shows the position of a fly cut line and the measurement position of a thickness sensor.
  • A is a plan view of the work.
  • B is a vertical sectional view of the work.
  • (C) is an enlarged view of a main part of the work.
  • It is a schematic diagram which shows the procedure of cutting a BG film.
  • It is a top view which shows the positional relationship of adjacent fly cut lines schematically. It is a side view which shows typically the positional relationship of a fly cut tool and a chuck.
  • It is a schematic diagram which shows the procedure of processing the conventional work with bumps.
  • drawings may be exaggerated by enlarging the characteristic parts in order to make the features easier to understand, and the dimensional ratios of the components are not always the same as the actual ones.
  • hatching of some components may be omitted in order to make the cross-sectional structure of the components easy to understand.
  • the fly-cut device 1 includes a cutting means 2 and a chuck 3.
  • the cutting means 2 includes a fly-cut tool 21, a tool spindle 22, and a spindle feed mechanism 23.
  • the fly-cut tool 21 includes a ring frame 21a attached to the lower end of the tool spindle 22 and a bite 21b attached to the outer periphery of the ring frame 21a. ..
  • the ring frame 21a is attached to the tool spindle 22 via, for example, a bolt.
  • the bite 21b is attached to the ring frame 21a via the bolt 21c, only the bite 21b can be replaced when the bite 21b is worn out.
  • the bite 21b is, for example, a single stone diamond.
  • the tool spindle 22 is configured to be rotationally driven around the rotation shaft 22a in the direction of arrow A in FIG.
  • An induction motor is used to drive the rotation of the tool spindle 22.
  • the rotation direction of the tool spindle 22 is not limited to the direction of the arrow A in FIG. 1, and may be in the opposite direction.
  • the spindle feed mechanism 23 raises and lowers the tool spindle 22 in the vertical direction.
  • the spindle feed mechanism 23 is composed of, for example, a plurality of linear guides for guiding the moving direction of the tool spindle 22 and a ball screw slider mechanism for raising and lowering the tool spindle 22.
  • the spindle feed mechanism 23 is interposed between the tool spindle 22 and the column 24.
  • the chuck 3 includes a chuck spindle 31.
  • the chuck spindle 31 is configured to be rotationally driven around the rotation shaft 31a in the direction of arrow B in FIG.
  • the rotation direction of the chuck spindle 31 is not limited to the direction of the arrow B in FIG. 1, and may be in the opposite direction.
  • the chuck 3 has an adsorbent 32 made of a porous material such as alumina embedded on the upper surface thereof.
  • the roughness of the pores of the adsorbent 32 is, for example, # 400 or # 800.
  • the chuck 3 includes a pipeline (not shown) that extends through the interior to the surface.
  • the pipeline is connected to a vacuum source, compressed air source or water supply source via a rotary joint (not shown).
  • the vacuum source is activated, the work 7 placed on the adsorbent 32 is adsorbed and held on the holding surface 3a of the chuck 3. Further, when the compressed air source or the water supply source is activated, the adsorption between the work 7 and the holding surface 3a is released.
  • the fly-cut device 1 is provided with a cooling water nozzle 4.
  • the cooling water nozzle 4 supplies cooling water such as pure water to the fly cut line L in which the bite 21b cuts the BG film 75 described later.
  • the fly-cut device 1 is provided with a thickness sensor 5.
  • the thickness sensor 5 is an in-process gauge that measures the thickness of the work 7. Specifically, as shown in FIG. 3, one measuring head 51 measures the height of the work 7, and the other measuring head 52. Can measure the height of the chuck 3 and measure the work 7 with respect to the chuck 3 during machining from the difference between them.
  • the operation of the fly cut device 1 is controlled by the control unit 6.
  • the control unit 6 controls each of the components constituting the fly-cut device 1.
  • the control unit 6 is composed of, for example, a CPU, a memory, and the like.
  • the function of the control unit 6 may be realized by controlling using software, or may be realized by operating using hardware.
  • control unit 6 calculates the time for the BG film 75 to reach the finished thickness based on the measured value of the thickness sensor 5, the rotation speed of the tool spindle 22, the rotation speed of the chuck spindle 31, and the descent speed of the spindle feed mechanism 23. It also functions as a cutting time prediction unit.
  • the work 7 has a plurality of chips (not shown) having bumps 71 formed on the surface 72.
  • a plurality of chips are formed only in the central region 73 on the surface 72 of the work 7, and each chip is formed with a bump 71 as an electric contact. That is, the tip and the bump 71 are not formed in the outer peripheral region 74 of the work 7.
  • the central region 73 is referred to as a bump region 73.
  • the height of the bump 71 is, for example, 100 ⁇ m or less.
  • a BG film 75 is attached to the surface 72 side of the work 7 so as to cover the entire surface.
  • the BG film 75 protects the tip and the bump 71 when cutting or grinding the back surface 76, which will be described later.
  • the bump region 73 is relatively higher than the outer peripheral region 74 according to the height of the bump 71.
  • the BG film 75 is attached to the surface 72 of the work 7 by using a known film attaching device.
  • the BG film 75 is composed of a base material 75a and a pressure-sensitive adhesive 75b.
  • the base material 75a is made of polyolefin and the pressure-sensitive adhesive 75b is made of acrylic.
  • the upper surface 75c of the BG film 75 is cut using the fly-cut device 1. Specifically, first, the back surface 76 of the work 7 is attracted and held by the chuck 3. Next, with the tool spindle 22 and the chuck spindle 31 rotated, the spindle feed mechanism 23 cuts the bite 21b into the BG film 75 while supplying cooling water from the cooling water nozzle 4.
  • the bite 21b cuts the upper surface 75c of the BG film 75 from the center toward the outer circumference.
  • the peripheral edge of the BG film 75 to which the cutting tool 21b hits may be elastically deformed and cannot be cut into a desired shape.
  • the BG film 75 can be stably cut.
  • the various cutting conditions are, for example, the rotation amount of the tool spindle 22 is 3000 rpm, the rotation amount of the chuck spindle 31 is 1 rpm, the descent speed of the spindle feed mechanism 23 is 0.2 ⁇ m / s, and the like.
  • the removal amount (size of the fly cut line L) of the BG film 75 removed by the cutting tool 21b in one cutting is 12 ⁇ m in thickness (depth) under the above-mentioned cutting conditions. Further, as shown in FIGS. 7 (a) to 7 (c), after the bite 21b cuts the BG film 75, the rotation amount (0.3 mm) of the BG film 75 during one rotation of the bite 21b is adjacent to each other. It corresponds to the pitch interval of the fly cut line L.
  • the rotation shaft 31a is inclined with respect to the rotation shaft 22a of the tool spindle 22, and the holding surface 3a of the chuck 3 is formed in a middle-convex shape whose center is higher than the outer periphery.
  • the chuck 3 and the tool spindle 22 are substantially parallel to each other, while on the opposite side of the range where the tool 21b cuts the BG film 75 across the rotation center of the chuck 3. , The chuck 3 is separated from the tool spindle 22.
  • the escape amount which is the distance from the lower end of the holding surface 3a to the rotation center of the chuck 3, is set to 60 ⁇ m.
  • the timing of the end of cutting of the BG film 75 is determined by the following procedure. That is, the thickness sensor 5 measures the thickness of the work 7 with respect to the chuck 3 during machining.
  • the control unit 6 has a work 7 in which the measured value of the thickness sensor 5 is preset based on the measured value of the thickness sensor 5, the rotation speed of the tool spindle 22, the rotation speed of the chuck spindle 31, and the descent speed of the spindle feed mechanism 23.
  • the control unit 6 assumes that the thickness of the work 7 being machined has reached the finished thickness, and as shown in FIG. 6D, the spindle feed The feed by the mechanism 23 is stopped.
  • the thickness sensor 5 measures the height of the work 7 at a point different from the nearest fly-cut line L, so that the measurement position of the thickness sensor 5 and the nearest fly-cut line L are used. It is necessary to consider the positional relationship.
  • the thickness of the work 7 at the measurement position of the thickness sensor 5 in FIG. 3 is about 12 ⁇ m thicker than the thickness of the work 7 at the nearest fly-cut line L, so that about 12 ⁇ m is subtracted from the measured value of the thickness sensor 5.
  • the measured value of the thickness sensor 5 may be corrected so as to substantially match the thickness of the work 7 at the nearest fly cut line L.
  • the shape of the BG film 75 after the fly cut (that is, the total amount removed by the fly cut) can be arbitrarily changed according to the height of the bump 71.
  • the upper surface 75c of the BG film 75 is a spiral curved surface, and further, as shown in FIG. 6D, a step 77 at the nearest fly cut line L is formed. Therefore, as shown in FIG. 6E, the upper surface 75c of the BG film 75 is smoothly finished by performing spark-out by rotating the tool spindle 22 and the chuck spindle 31 in a state where the spindle feed mechanism 23 is stopped. Be done.
  • the central region 73 formed to be relatively thicker than the outer peripheral region 74 is removed by the bite 21b, whereby the thickness of the work 7 including the BG film 75 is covered over the entire surface. It can be formed substantially uniformly over the entire range.
  • the work 7 is conveyed to a known laser dicing device, and a laser having a wavelength transmitted through the work 7 is focused in the work 7 to form a modified line 78 in a plan view on the work 7.
  • Perform dicing (ML) The reforming line 78 is a split starting point for the work 7 when the work 7 is individualized. Since the upper surface 75c of the BG film 75 is fly-cut, the BG film 75 is attracted and held substantially flat by the ML chuck 83 regardless of the bump 71, and the back surface 76 of the work 7 is ground substantially flat. Therefore, the reforming line 78 can be stably formed from the back surface 76 of the work 7 to a predetermined depth.
  • the BG film 75 is peeled from the work 7 using a known peeling device.
  • the BG film 75 is peeled off from the surface 72 of the work 7 by winding up the peeling tape 89 pressure-bonded to the BG film 75.
  • the modification line 78 is uniformly formed from the back surface 76 of the work 7 to a predetermined depth, even when the BG film 75 is peeled off from the work 7, cracks do not occur in the work 7.
  • the DC tape 86 can be safely attached.
  • the fly-cut device 1 is attached to the work 7 including the bump region 73 in which the bump 71 is formed on the surface 72 and the outer peripheral region 74 around the bump region 73.
  • a chuck 3 for rotatably holding the work 7 is provided, and the fly-cut tool 21 cuts the upper surface 75c of the BG film 75 from the center toward the outer periphery.
  • the central region 73 of the BG film 75 is cut relatively thinner than the outer peripheral region 74, so that the entire surface of the BG film 75 is attracted and held by the chuck 3 on the upper surface 75c side of the BG film 75. Can be adsorbed and held by the chuck 3, so that the work 7 can be safely ground, and the reforming line 78 is formed from the back surface 76 of the work 7 to a substantially constant depth in the ML process. It is possible to prevent the formation of minute cracks in the work 7 when the DC tape 86 is attached or the BG film 75 is peeled off during transportation.
  • the fly-cut device 1 includes a fly-cut tool 21 having a ring frame 21a attached to the tool spindle 22 and a bite 21b mounted on the outer periphery of the ring frame 21a and capable of cutting the BG film 75. And said.
  • the bite 21b can be attached to the tool spindle 22 via the ring frame 21a.
  • the rotation shaft 31a of the chuck 3 is set to be tilted by a predetermined angle, and the holding surface 3a for holding the work 7 of the chuck 3 is formed in a middle-convex shape whose center is higher than the outer periphery.
  • the configuration is as follows.
  • a gap is secured between the BG film 75 and the bite 21b until the bite 21b cuts out from the outer periphery of the BG film 75 and then returns to the center of the BG film 75. It is suppressed that the bite 21b comes into contact with the BG film 75 at an unintended position.
  • the fly-cut device 1 is configured to include a cooling water nozzle 4 that supplies cooling water to the upper surface 75c of the BG film 75.
  • the fly-cut device 1 includes a thickness sensor 5 that measures the thickness of the BG film 75 during cutting by the fly-cut tool 21, measured values of the thickness sensor 5, the rotation speed of the fly-cut tool 21, the rotation speed of the chuck 3, and the rotation speed of the chuck 3.
  • the configuration is provided with a control unit 6 for calculating the time required for the BG film 75 to reach the finished thickness based on the descent speed of the tool spindle 22.
  • the finished thickness of the BG film 75 can be appropriately controlled.
  • present invention can be modified in various ways other than the above as long as it does not deviate from the spirit of the present invention, and it is natural that the present invention extends to the modified ones.

Abstract

【課題】表面にバンプが形成されたワークを安全に加工するためのフライカット装置を提供する。 【解決手段】フライカット装置1は、表面72にバンプ71が形成されたバンプ領域73とバンプ領域73の周りの外周領域74とを含むワーク7に貼付されたBGフィルム75の上面75cを切削するフライカット装置1であって、フライカットツール21と、フライカットツール21が下端に取り付けられ、フライカットツール21を回転させた状態で昇降可能なツールスピンドル22と、ワーク7を回転可能に保持するチャック3と、を備え、フライカットツール21が、BGフィルム75の上面75cを中心から外周に向かって切削する。

Description

フライカット装置
 本発明は、表面にバンプが形成されたワークに貼付された保護フィルムを切削するフライカット装置に関するものである。
 半導体製造分野では、シリコンウェハ等の半導体ウェハ(以下、「ワーク」という)を薄く平坦に研削するものとして、回転する研削砥石の研削面をワークに押し当て、ワークの裏面を研削する。ワークの裏面研削の際には、ワーク表面に形成されたチップ及びバンプを保護するために、表面を保護するフィルムがワークに貼り付けられている。
 ワークの裏面研削が終了すると、ダイシングフィルム貼付装置においてダイシングフィルムがワークの裏面に貼付けられ、ワーク及びダイシングフレームが一体化される。次に、ワークの表面に貼付けられた保護フィルムが剥離された後に、ワークは、賽の目状にダイシングされる。ダイシングにより形成されたチップは、ピックアップされてリードフレームにマウントされる(例えば、特許文献1参照)。
 具体的には、図9に示す手順によってワーク100が加工される。すなわち、ワーク100は、表面101にバンプ102が形成されるとともにバンプ102を覆うようにBGフィルム103が貼り付けられる(BGフィルム貼付工程)。その後、ワーク100は、裏面104が上方を向くようにチャックテーブル105に吸着保持された状態で、研削砥石106によって裏面104が研削される(ワーク研削工程)。その後、ワーク100の内部にレーザを集光させて、裏面104から所定深さに改質ライン107を形成する(レーザダイシング(ML)工程)。その後、ワーク100の裏面104を搬送アームのチャック108で吸着し、ワーク100がDCテープ貼付装置に搬送される(ワーク搬送工程)。そして、ワーク100が転置されたチャック109に保持された状態で、転圧ローラ110が、ワーク100の裏面104にDCテープ111を押し付けて貼付して、ワーク100がダイシングフレーム112に保持された後に、剥離テープ113を介してBGフィルム103が剥離される(DCテープ貼付、BGフィルム剥離工程)。
特開2009-206475号公報
 しかしながら、図9に示す手順でワーク100を加工する場合、BGフィルム103がバンプ102の分だけワーク100の中央が外周より盛り上がるため、BGフィルム103の外周とチャックテーブル105との間の隙間からリークが生じてワーク100の吸着保持が不十分になりがちで、研削時にワーク100がばたつき易くなり、ワーク100にダメージを与える虞があった。さらに、ワーク100の外周側が中央側より厚く研削されがちなため、その後のML工程では、改質ライン107がワーク100の深さ方向で大きくずれて形成され、搬送工程でチャック108とワーク100との間で負圧が生じたり、剥離工程でBGフィルム103の粘着力を上回る剥離力がワーク100に作用すると、ワーク100内に画像検査でも検出不能なほど微小なクラックが生じる虞があった。
 そこで、表面にバンプが形成されたワークを安全に加工するために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明はこの課題を解決することを目的とする。
 上記目的を達成するために、本発明に係るフライカット装置は、表面にバンプが形成されたバンプ領域と前記バンプ領域の周りの外周領域とを含むワークに貼付された保護フィルムの上面を切削するフライカット装置であって、フライカットツールと、前記フライカットツールが下端に取り付けられ、前記フライカットツールを回転させた状態で昇降可能なツールスピンドルと、前記ワークを回転可能に保持するチャックと、を備え、前記フライカットツールが、前記保護フィルムの上面を中心から外周に向かって切削する。
 この構成によれば、保護フィルムのうち中央領域が外周領域より相対的に薄く切削されることにより、保護フィルムの上面側をチャックで吸着保持した場合に、保護フィルム全面がチャックに吸着保持可能なため、ワークを安全に研削することができるとともに、ML工程において改質ラインがワークの裏面から略一定の深さに形成されるため、搬送工程や剥離工程においてワーク内に微小なクラックが生じることを抑制できる。
 本発明は、バンプ付きワークを全面に亘って略均一な厚みに形成されるため、保護フィルム全面がチャックに吸着保持されて、ワークを安全に研削することができるとともに、ML工程において改質ラインがワークの裏面から略一定の深さに形成されるため、搬送工程や剥離工程においてワーク内に微小なクラックが生じることを抑制できる。
本発明の一実施形態に係るフライカット装置の概要を示す模式図である。 (a)は、フライカットツールの斜視図である。(b)は、フライカットツールの要部拡大図である。 フライカットラインの位置、厚みセンサの測定位置を示す平面図である。 (a)は、ワークの平面図である。(b)は、ワークの縦断面図である。(c)は、ワークの要部拡大図である。 バンプ付きワークを加工する手順を示す模式図である。 BGフィルムを切削する手順を示す模式図である。 隣り合うフライカットラインの位置関係を模式的に示す平面図である。 フライカットツール及びチャックの位置関係を模式的に示す側面図である。 従来のバンプ付きワークを加工する手順を示す模式図である。
 本発明の一実施形態について図面に基づいて説明する。なお、以下では、構成要素の数、数値、量、範囲等に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも構わない。
 また、構成要素等の形状、位置関係に言及するときは、特に明示した場合及び原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似又は類似するもの等を含む。
 また、図面は、特徴を分かり易くするために特徴的な部分を拡大する等して誇張する場合があり、構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。また、断面図では、構成要素の断面構造を分かり易くするために、一部の構成要素のハッチングを省略することがある。
 図1に示すフライカット装置1には、後述するシリコン製のワーク7が供給される。フライカット装置1は、切削手段2と、チャック3と、を備えている。
 切削手段2は、フライカットツール21と、ツールスピンドル22と、スピンドル送り機構23と、を備えている。
 図2(a)、(b)に示すように、フライカットツール21は、ツールスピンドル22の下端に取り付けられるリングフレーム21aと、リングフレーム21aの外周に装着されたバイト21bと、を備えている。リングフレーム21aは、例えばボルト等を介してツールスピンドル22に取り付けられる。また、バイト21bは、ボルト21cを介してリングフレーム21aに装着されるため、バイト21bが消耗した場合には、バイト21bのみを交換可能である。バイト21bは、例えば単石ダイヤモンドである。
 ツールスピンドル22は、回転軸22a回りに図1中の矢印A方向に回転駆動するように構成されている。ツールスピンドル22の回転駆動には、誘導モータが用いられている。なお、ツールスピンドル22の回転方向は、図1中の矢印Aの向きに限定されず、反対向きであっても構わない。
 スピンドル送り機構23は、ツールスピンドル22を上下方向に昇降させる。スピンドル送り機構23は、例えば、ツールスピンドル22の移動方向を案内する複数のリニアガイドと、ツールスピンドル22を昇降させるボールネジスライダ機構と、で構成されている。スピンドル送り機構23は、ツールスピンドル22とコラム24との間に介装されている。
 チャック3は、チャックスピンドル31を備えている。チャックスピンドル31は、回転軸31a回りに図1中の矢印B方向に回転駆動するように構成されている。なお、チャックスピンドル31の回転方向は、図1中の矢印Bの向きに限定されず、反対向きであっても構わない。
 チャック3は、上面にアルミナ等の多孔質材料からなる吸着体32が埋設されている。吸着体32の気孔の粗さは、例えば#400又は#800等である。チャック3は、内部を通って表面に延びる図示しない管路を備えている。管路は、図示しないロータリージョイントを介して真空源、圧縮空気源又は給水源に接続されている。真空源が起動すると、吸着体32に載置されたワーク7がチャック3の保持面3aに吸着保持される。また、圧縮空気源又は給水源が起動すると、ワーク7と保持面3aとの吸着が解除される。
 フライカット装置1は、冷却水ノズル4を備えている。冷却水ノズル4は、バイト21bが後述するBGフィルム75を切削するフライカットラインLに純水等の冷却水を供給する。
 フライカット装置1は、厚みセンサ5を備えている。厚みセンサ5は、ワーク7の厚みを測定するインプロセスゲージであり、具体的には、図3に示すように、一方の測定ヘッド51がワーク7の高さを測定し、他方の測定ヘッド52がチャック3の高さを測定し、それらの差分からチャック3に対するワーク7を加工中に測定することができる。
 フライカット装置1の動作は、制御部6によって制御される。制御部6は、フライカット装置1を構成する構成要素をそれぞれ制御するものである。制御部6は、例えば、CPU、メモリ等により構成される。なお、制御部6の機能は、ソフトウェアを用いて制御することにより実現されても良く、ハードウェアを用いて動作することにより実現されても良い。
 また、制御部6は、厚みセンサ5の測定値、ツールスピンドル22の回転数、チャックスピンドル31の回転数及びスピンドル送り機構23の降下速度に基づいて、BGフィルム75が仕上がり厚みに達する時間を演算する切削時間予測部としても機能する。
 ワーク7は、図4(a)、(b)に示すように、バンプ71を備えた図示しない複数のチップが表面72に形成されている。具体的には、ワーク7は、複数のチップがワーク7の表面72における中央領域73にのみ形成されており、各チップには、電気接点としてのバンプ71が形成されている。すなわち、チップ及びバンプ71は、ワーク7の外周領域74には形成されていない。以下、中央領域73をバンプ領域73という。バンプ71の高さは、例えば100μm以下である。
 ワーク7の表面72側には、全面を覆うようにBGフィルム75が貼り付けられている。BGフィルム75は、後述する切削時や裏面76の研削時に、チップ及びバンプ71を保護する。図4(b)、(c)に示すように、BGフィルム75は、バンプ領域73が、バンプ71の高さに応じて外周領域74よりも相対的に高くなっている。
 次に、ワーク7を加工する一連の手順について、図5に基づいて説明する。
[BGフィルム貼付]
 まず、公知のフィルム貼付装置を用いて、ワーク7の表面72にBGフィルム75が貼り付けられる。BGフィルム75は、基材75aと粘着剤75bとから成り、例えば、基材75aがポリオレフィン製であり、粘着剤75bがアクリル製である。
[BGフィルム切削]
 次に、フライカット装置1を用いて、BGフィルム75の上面75cを切削する。具体的には、まず、ワーク7の裏面76がチャック3に吸着保持される。次に、ツールスピンドル22及びチャックスピンドル31をそれぞれ回転させた状態で、冷却水ノズル4から冷却水を供給しながら、スピンドル送り機構23がバイト21bをBGフィルム75に切り込ませる。
 図6(a)~(c)及び図7(a)に示すように、バイト21bは、BGフィルム75の上面75cを中心から外周に向けて切削する。バイト21bが、BGフィルム75の外周から中心に向かって切削する場合には、バイト21bが当たるBGフィルム75の周縁が弾性変形して所望の形状に切削できない虞があるのに対して、バイト21bが、BGフィルム75の中心から外周に向けて切削することにより、BGフィルム75を安定して切削することができる。各種切削条件は、例えば、ツールスピンドル22の回転量が3000rpm、チャックスピンドル31の回転量が1rpm、スピンドル送り機構23の降下速度が0.2μm/s等である。
 また、バイト21bが1度の切削で除去するBGフィルム75の除去量(フライカットラインLのサイズ)は、上述した切削条件の場合、厚み(深さ)は12μmとなる。さらに、図7(a)~(c)に示すように、バイト21bがBGフィルム75を切削した後、バイト21bが1回転する間のBGフィルム75の回転量(0.3mm)は、隣り合うフライカットラインLのピッチ間隔に相当する。
 また、図8に示すように、チャック3は、回転軸31aがツールスピンドル22の回転軸22aに対して傾斜し、チャック3の保持面3aが、中央が外周に比べて高い中凸状に形成されている。すなわち、バイト21bがBGフィルム75を切削する範囲では、チャック3とツールスピンドル22とが略平行である一方、チャック3の回転中心を挟んでバイト21bがBGフィルム75を切削する範囲の反対側では、チャック3がツールスピンドル22から離間するようになっている。これにより、バイト21bが、BGフィルム75の外周から外部に切り抜けた後にBGフィルム75の中心に戻るまでの間、BGフィルム75とバイト21bとの間に隙間が確保されているため、バイト21bが意図しない位置でBGフィルム75に接触することが抑制される。なお、図7では、保持面3aの下端からチャック3の回転中心までの距離であるエスケープ量を60μmに設定している。
 BGフィルム75の切削終了のタイミングは、以下の手順により決定される。すなわち、厚みセンサ5が、加工中にチャック3に対するワーク7の厚みを測定する。制御部6は、厚みセンサ5の測定値、ツールスピンドル22の回転数、チャックスピンドル31の回転数及びスピンドル送り機構23の降下速度に基づいて、厚みセンサ5の測定値が予め設定されたワーク7の仕上がり厚みに達するまでの時間を演算し、その時間が経過すると、制御部6は、加工中のワーク7の厚みが仕上がり厚みに達したとして、図6(d)に示すように、スピンドル送り機構23による送りを停止させる。
 なお、厚みセンサ5は、図3に示すように、直近のフライカットラインLとは異なる地点においてワーク7の高さを測定するため、厚みセンサ5の測定位置と直近のフライカットラインLとの位置関係を考慮する必要がある。例えば、図3の厚みセンサ5の測定位置におけるワーク7の厚みは、直近のフライカットラインLでのワーク7の厚みより約12μm程度厚くなるため、厚みセンサ5の測定値から約12μmを減じて、厚みセンサ5の測定値を直近のフライカットラインLにおけるワーク7の厚みに略一致するように補正しても構わない。なお、フライカット後のBGフィルム75の形状(すなわち、フライカットによる総除去量)は、バンプ71の高さに応じて任意に変更可能である。
 ワーク7が仕上がり厚みに達すると、BGフィルム75の上面75cは螺旋状の曲面であり、さらに、図6(d)に示すように直近のフライカットラインLにおける段差77が形成されている。そこで、図6(e)に示すように、スピンドル送り機構23が停止した状態で、ツールスピンドル22及びチャックスピンドル31をそれぞれ回転させるスパークアウトを行うことにより、BGフィルム75の上面75cが滑らかに仕上げられる。
 このようにして、BGフィルム75の上面75cうち、外周領域74に対して相対的に厚く形成された中央領域73をバイト21bで除去することにより、BGフィルム75を含むワーク7の厚みを全面に亘って略均一に形成することができる。
[ワーク研削]
 次に、ワーク7が公知の研削装置に搬送されて、研削砥石81でワーク7の裏面研削を行う。このとき、BGフィルム75の上面75cがフライカットされていることにより、バンプ71にかかわらず、BGフィルム75の上面75c全面が略平坦に研削チャック82に吸着保持されるため、ワーク7の外周での真空漏れや研削時のワーク7のばたつきが抑制され、研削後のワーク7の裏面76が、略平坦に形成される。
[レーザダイシング]
 次に、ワーク7が公知のレーザダイシング装置に搬送されて、ワーク7を透過する波長のレーザをワーク7内に集光させてワーク7に平面視で格子状に改質ライン78を形成するレーザダイシング(ML)を行う。改質ライン78は、ワーク7を個片化する際にワーク7の分割起点となるものである。BGフィルム75の上面75cがフライカットされていることにより、バンプ71にかかわらず、BGフィルム75が略平坦にMLチャック83に吸着保持されるとともに、ワーク7の裏面76が略平坦に研削されていることから、改質ライン78をワーク7の裏面76から所定深さに安定して形成することができる。
[ワーク搬送]
 次に、公知の搬送アームのチャック84にワーク7の裏面76が吸着保持されて、ワーク7がダイシング(DC)テープ貼付装置に搬送される。このとき、改質ライン78がワーク7の裏面76から所定深さに均一に形成されていることから、ワーク7を負圧で吸引しても、ワーク7内にクラックが生じることなく、ワーク7を安全に搬送することができる。
[DCテープ貼付、BGフィルム剥離]
 次に、公知のDCテープ貼付装置を用いて、チャック85に転置されたワーク7がDCテープ86を介してダイシングフレーム87に貼着される。DCテープ86の貼付は、転圧ローラ88がワーク7の裏面76にDCテープ86を押し付けることで行われる。このとき、改質ライン78がワーク7の裏面76から所定深さに均一に形成されていることから、転圧ローラ88がワーク7を押圧しても、ワーク7内にクラックが生じることなく、DCテープ86を安全に貼付することができる。
 その後、公知の剥離装置を用いて、ワーク7からBGフィルム75を剥離する。BGフィルム75の剥離は、BGフィルム75に圧着された剥離テープ89を巻き上げることにより、BGフィルム75がワーク7の表面72から剥離される。このとき、改質ライン78がワーク7の裏面76から所定深さに均一に形成されていることから、BGフィルム75がワーク7から剥離する際にも、ワーク7内にクラックが生じることなく、DCテープ86を安全に貼付することができる。
 以上説明したとおり、本発明の実施形態に係るフライカット装置1は、表面72にバンプ71が形成されたバンプ領域73とバンプ領域73の周りの外周領域74とを含むワーク7に貼付されたBGフィルム75の上面75cを切削するフライカット装置1であって、フライカットツール21と、フライカットツール21が下端に取り付けられ、フライカットツール21を回転させた状態で昇降可能なツールスピンドル22と、ワーク7を回転可能に保持するチャック3と、を備え、フライカットツール21が、BGフィルム75の上面75cを中心から外周に向かって切削する構成とした。
 この構成によれば、BGフィルム75のうち中央領域73が外周領域74より相対的に薄く切削されることにより、BGフィルム75の上面75c側をチャック3で吸着保持した場合に、BGフィルム75全面がチャック3に吸着保持可能なため、ワーク7を安全に研削することができるとともに、ML工程において改質ライン78がワーク7の裏面76から略一定の深さに形成されるため、ワーク7を搬送する際、DCテープ86を貼付する際又はBGフィルム75を剥離する際に、ワーク7内に微小なクラックが生じることを抑制できる。
 また、フライカット装置1は、フライカットツール21が、ツールスピンドル22に取り付けられるリングフレーム21aと、リングフレーム21aの外周に装着され、BGフィルム75を切削可能なバイト21bと、を備えている構成とした。
 この構成によれば、ツールスピンドル22にリングフレーム21aを介してバイト21bを装着することができる。
 また、フライカット装置1は、チャック3の回転軸31aは、所定角度だけ傾斜して設定され、チャック3のワーク7を保持する保持面3aは、中央が外周に比べて高い中凸状に形成されている構成とした。
 この構成によれば、バイト21bが、BGフィルム75の外周から外部に切り抜けた後にBGフィルム75の中心に戻るまでの間に、BGフィルム75とバイト21bとの間に隙間が確保されるため、バイト21bが意図しない位置でBGフィルム75に接触することが抑制される。
 また、フライカット装置1は、BGフィルム75の上面75cに冷却水を供給する冷却水ノズル4を備えている構成とした。
 この構成によれば、BGフィルム75を切削する際に、BGフィルム75が過度に昇温することを抑制できる。
 また、フライカット装置1は、フライカットツール21による切削中にBGフィルム75の厚みを測定する厚みセンサ5と、厚みセンサ5の測定値、フライカットツール21の回転数、チャック3の回転数及びツールスピンドル22の降下速度に基づいて、BGフィルム75が仕上がり厚みに達する時間を演算する制御部6と、を備えている構成とした。
 この構成によれば、BGフィルム75の仕上がり厚みを適切に管理することができる。
 また、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り、上記以外にも種々の改変を為すことができ、そして、本発明が該改変されたものに及ぶことは当然である。
1   :フライカット装置
2   :切削手段
21  :フライカットツール
21a :リングフレーム
21b :バイト
21c :ボルト
22  :ツールスピンドル
22a :回転軸
23  :スピンドル送り機構
24  :コラム
3   :チャック
3a  :保持面
31  :チャックスピンドル
31a :回転軸
32  :吸着体
4   :冷却水ノズル
5   :厚みセンサ
51、52:測定ヘッド
6   :制御部
7   :ワーク
71  :バンプ
72  :表面
73  :バンプ領域
74  :外周領域
75  :BGフィルム
75a :基材
75b :粘着剤
75c :上面
76  :裏面
77  :段差
78  :改質ライン
L   :フライカットライン
 

Claims (5)

  1.  表面にバンプが形成されたバンプ領域と前記バンプ領域の周りの外周領域とを含むワークに貼付された保護フィルムの上面を切削するフライカット装置であって、
     フライカットツールと、
     前記フライカットツールが下端に取り付けられ、前記フライカットツールを回転させた状態で昇降可能なツールスピンドルと、
     前記ワークを回転可能に保持するチャックと、
    を備え、
     前記フライカットツールが、前記保護フィルムの上面を中心から外周に向かって切削することを特徴とするフライカット装置。
  2.  前記フライカットツールは、
     前記ツールスピンドルに取り付けられるリングフレームと、
     前記リングフレームの外周に装着され、前記保護フィルムを切削可能なバイトと、
    を備えていることを特徴とする請求項1に記載のフライカット装置。
  3.  前記チャックの回転軸は、所定角度だけ傾斜して設定され、
     前記チャックの前記ワークを保持する保持面は、中央が外周に比べて高い中凸状に形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のフライカット装置。
  4.  前記保護フィルムの上面に冷却水を供給する冷却水ノズルをさらに備えていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載のフライカット装置。
  5.  前記フライカットツールによる切削中に前記保護フィルムの厚みを測定する厚みセンサと、
     前記厚みセンサの測定値、前記フライカットツールの回転数、前記チャックの回転数及び前記ツールスピンドルの降下速度に基づいて、前記保護フィルムが仕上がり厚みに達する時間を演算する切削時間予測部と、
    をさらに備えていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載のフライカット装置。
     
PCT/JP2021/015402 2020-08-20 2021-04-14 フライカット装置 WO2022038829A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020217041016A KR102613641B1 (ko) 2020-08-20 2021-04-14 플라이 컷 장치
CN202180007482.1A CN114846586A (zh) 2020-08-20 2021-04-14 快速切削装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020139473A JP2022035272A (ja) 2020-08-20 2020-08-20 フライカット装置
JP2020-139473 2020-08-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022038829A1 true WO2022038829A1 (ja) 2022-02-24

Family

ID=80322617

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2021/015402 WO2022038829A1 (ja) 2020-08-20 2021-04-14 フライカット装置

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP2022035272A (ja)
KR (1) KR102613641B1 (ja)
CN (1) CN114846586A (ja)
TW (1) TWI766659B (ja)
WO (1) WO2022038829A1 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006132126A1 (ja) * 2005-06-06 2006-12-14 Nidec Sankyo Corporation 光学素子の製造方法および光学素子
JP2013021017A (ja) * 2011-07-07 2013-01-31 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの研削方法
JP2015107535A (ja) * 2013-12-04 2015-06-11 株式会社ディスコ バイト切削装置のセットアップ方法
JP2015208796A (ja) * 2014-04-24 2015-11-24 株式会社ディスコ バイト切削装置
JP2018182129A (ja) * 2017-04-17 2018-11-15 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
JP2019029543A (ja) * 2017-07-31 2019-02-21 株式会社ディスコ ウエーハの研削方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5348976B2 (ja) 2008-01-30 2013-11-20 株式会社東京精密 バンプが形成されたウェーハを処理するウェーハ処理方法およびウェーハ処理装置
DE102015216619B4 (de) * 2015-08-31 2017-08-10 Disco Corporation Verfahren zum Bearbeiten eines Wafers
KR102214510B1 (ko) * 2016-01-18 2021-02-09 삼성전자 주식회사 기판 씨닝 장치, 이를 이용한 기판의 씨닝 방법, 및 반도체 패키지의 제조 방법
JP7171140B2 (ja) * 2018-12-11 2022-11-15 株式会社ディスコ 被加工物の加工方法および樹脂シートユニット

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006132126A1 (ja) * 2005-06-06 2006-12-14 Nidec Sankyo Corporation 光学素子の製造方法および光学素子
JP2013021017A (ja) * 2011-07-07 2013-01-31 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの研削方法
JP2015107535A (ja) * 2013-12-04 2015-06-11 株式会社ディスコ バイト切削装置のセットアップ方法
JP2015208796A (ja) * 2014-04-24 2015-11-24 株式会社ディスコ バイト切削装置
JP2018182129A (ja) * 2017-04-17 2018-11-15 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
JP2019029543A (ja) * 2017-07-31 2019-02-21 株式会社ディスコ ウエーハの研削方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR102613641B1 (ko) 2023-12-13
TW202209464A (zh) 2022-03-01
KR20220024047A (ko) 2022-03-03
CN114846586A (zh) 2022-08-02
TWI766659B (zh) 2022-06-01
JP2022035272A (ja) 2022-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4913517B2 (ja) ウエーハの研削加工方法
JP4986568B2 (ja) ウエーハの研削加工方法
JP5064102B2 (ja) 基板の研削加工方法および研削加工装置
JP2008264913A (ja) 研削加工装置
US20060009134A1 (en) Grinding wheel, grinding apparatus and grinding method
JP2013021017A (ja) ウエーハの研削方法
JP6920063B2 (ja) 板状ワークの保持方法
JP2018060961A (ja) フレーム固定治具
JP7430515B2 (ja) ウエーハの処理方法
JP2008062353A (ja) 研削加工方法および研削加工装置
JP6879807B2 (ja) 加工装置
JP6792408B2 (ja) チャックテーブルの整形方法
WO2022038829A1 (ja) フライカット装置
JP7127994B2 (ja) ドレッシングボード及びドレッシング方法
JP2008130808A (ja) 研削加工方法
JP6999322B2 (ja) ウエーハの研削方法
JP7413103B2 (ja) ウェーハの研削方法
JP6788508B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP7171140B2 (ja) 被加工物の加工方法および樹脂シートユニット
JP7254412B2 (ja) 被加工物の加工方法および樹脂シートユニット
CN115699262A (zh) 加工装置和方法
JP2021137942A (ja) 加工装置
JP2010074003A (ja) 研削装置およびウエーハ研削方法
US11878387B2 (en) As-sliced wafer processing method
JP7474138B2 (ja) リフトオフ方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 21857981

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 21857981

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1