WO2021256383A1 - 基板液処理装置及び基板液処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図6及び図7は、第1変形例に係る第1液受けカップ16及び第2液受け部30の概略構成を例示する断面図である。図3及び図4と同様に、図6及び図7では一部要素の図示が省略されており、第1液受けカップ16及び第2液受け部30が誇張されて示され、基板Wは一部のみが示されている。
図8及び図9は、第2変形例に係る第1液受けカップ16及び第2液受け部30の概略構成を例示する断面図である。図3及び図4と同様に、図8及び図9では一部要素の図示が省略されており、第1液受けカップ16及び第2液受け部30が誇張され、基板Wは一部のみが示されている。
第1液受けカップ16及び第2液受け部30は、上述の実施形態及び変形例では枠体15(図1参照)の上面に設けられているが、任意の形態で設置可能である。例えば図10に示すように、第2液受け部30は、吸着パッド10を支持する支持板(接触支持部)14に取り付けられていてもよい。同様に、第1液受けカップ16も、支持板14に取り付けられていてもよい。上述の実施形態及び変形例では支持板14が吸着パッド10と同じ方向に延びているが、吸着パッド10とは異なる方向に延びている支持板14に第2液受け部30が取り付けられてもよい。
Claims (11)
- 基板を保持する基板保持部と、
前記基板を、回転軸を中心に回転させる基板回転部と、
前記基板の処理面に向けて処理液を吐出する液供給ノズルと、
前記処理面のうちの周縁部に位置する第1吐出箇所に向けて前記処理液が前記液供給ノズルから吐出される第1移動位置と、前記処理面のうちの前記第1吐出箇所よりも前記回転軸に近い第2吐出箇所に向けて前記処理液が前記液供給ノズルから吐出される第2移動位置とを含むノズル移動経路に沿って、前記液供給ノズルを移動させるノズル移動機構と、
前記基板から水平方向に離れた位置に設けられ、前記第2移動位置に配置されている前記液供給ノズルから吐出された前記処理液であって前記処理面から飛散した前記処理液の少なくとも一部を受ける第1液受け面を有する第1液受け部と、
前記基板と前記第1液受け部との間に設けられ、前記第1移動位置に配置されている前記液供給ノズルから吐出された前記処理液であって前記処理面から飛散した前記処理液の少なくとも一部を受ける第2液受け面を有する第2液受け部と、を備える基板液処理装置。 - 前記第2液受け面の上方端は、前記第1液受け面の上方端よりも下方に位置する請求項1に記載の基板液処理装置。
- 前記第2液受け面のうち上方端を含む部分は、下方に向かうに従って、前記回転軸からの水平方向距離が大きくなる請求項1又は2に記載の基板液処理装置。
- 前記第2液受け面の少なくとも一部は親水性を有する請求項1~3のいずれか一項に記載の基板液処理装置。
- 前記第2液受け面の水平方向切断形状は円弧状である請求項1~4のいずれか一項に記載の基板液処理装置。
- 前記基板保持部は、前記基板に接触する基板接触部と、前記基板接触部を支持する接触支持部と、を有し、
前記第2液受け部は、前記接触支持部に取り付けられている請求項1~5のいずれか一項に記載の基板液処理装置。 - 前記第1移動位置において前記液供給ノズルから吐出された前記処理液であって前記処理面から飛散した前記処理液の少なくとも一部を受ける第1液受け位置と、前記第1液受け位置とは異なる第2液受け位置とに前記第2液受け部を配置するように、前記第2液受け部を移動させる液受け移動機構を備える請求項1~6のいずれか一項に記載の基板液処理装置。
- 前記処理面からの前記処理液の飛散の状態を示す液飛散情報を取得する液飛散情報取得部を備え、
前記第2液受け部は、前記液飛散情報に基づいて、前記液受け移動機構により移動される請求項7に記載の基板液処理装置。 - 前記第2液受け位置に配置されている前記第2液受け部の前記第2液受け面は、前記第2移動位置に配置されている前記液供給ノズルから吐出された前記処理液であって前記処理面から飛散した前記処理液の少なくとも一部を受ける請求項7又は8に記載の基板液処理装置。
- 前記液供給ノズルは、前記処理液と一緒に気体を吐出する請求項1~9のいずれか一項に記載の基板液処理装置。
- 基板を、回転軸を中心に回転させる工程と、
液供給ノズルから前記基板の処理面に向けて処理液を吐出する工程と、
前記液供給ノズルを移動させる工程と、を含み、
第1移動位置に配置されている前記液供給ノズルから、前記処理面のうちの周縁部に位置する第1吐出箇所に向けて吐出された前記処理液であって前記処理面から飛散した前記処理液の少なくとも一部は、第2液受け部の第2液受け面により受けられ、
第2移動位置に配置されている前記液供給ノズルから、前記処理面のうちの前記第1吐出箇所よりも前記回転軸に近い第2吐出箇所に向けて吐出された前記処理液であって前記処理面から飛散した前記処理液の少なくとも一部は、第1液受け部の第1液受け面により受けられる基板液処理方法。
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