WO2021246094A1

WO2021246094A1 - 積層フィルム、偏光板及び液晶表示装置

Info

Publication number: WO2021246094A1
Application number: PCT/JP2021/016947
Authority: WO
Inventors: 俊平一色; 公志田坂
Original assignee: コニカミノルタ株式会社
Priority date: 2020-06-04
Filing date: 2021-04-28
Publication date: 2021-12-09
Also published as: JPWO2021246094A1; CN115698786A; KR20220152397A

Abstract

本発明の積層フィルムは、基材と光学機能層とを含み、基材がアシル基置換度が２．６～３．０のセルロースアシレートとヒドロキシ基の７０～１００％がアシル基に置換された糖エステルを含み、基材の波長６５０ｎｍと波長４５０ｎｍでの面外位相差とから求められる傾きが０．０４０～０．０５５の範囲内にあり、光学機能層がフマル酸エステルの重合単位を９０モル％以上の割合で含む重合体を含有し、フマル酸エステルの重合単位のエステル部は８０～１００％がイソプロピルエステルであり、積層フィルムの波長４５０ｎｍと波長５５０ｎｍでの面外位相差との比の値が１．１～１．９の範囲内にあることを特徴とする。

Description

積層フィルム、偏光板及び液晶表示装置

　本発明は、積層フィルム、偏光板及び液晶表示装置に関する。より詳しくは、本発明は、フマル酸エステル系樹脂層を有する位相差フィルムにおいて、層間密着性が良好であり、かつ、これを用いた液晶表示装置において良好な視認性を確保できる積層フィルム並びに該積層フィルムを具備する偏光板及び液晶表示装置に関する。

　液晶表示装置はテレビからパソコンや携帯電話まで幅広く社会に普及しており重要なデバイスとして使用されている。近年、液晶表示装置の表示特性の向上のために様々な光学補償フィルムが用いられ視野角拡大、色味改善、コントラストの向上がなされている。その中でも、負の屈折率を有する位相差フィルムとして、フマル酸エステル系樹脂からなる、又はフマル酸エステル系樹脂層を含むフィルムが提案されている（例えば、特許文献１を参照）。

　しかしながら、フマル酸エステル系樹脂からなる又はフマル酸エステル系樹脂層を基材に積層した位相差フィルムを、偏光子の液晶パネル側に具備した液晶表示装置において、斜めから表示装置を見た際に色味ムラが原因で視認性に問題があること、左右から見た色味差があること、フマル酸エステル系樹脂層を基材に積層した位相差フィルムでは、層間剥離が起こることがわかった。

特許第５２４５１０９号公報

　本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、フマル酸エステル系樹脂層を有する位相差フィルムにおいて、層間密着性が良好であり、かつ、これを用いた液晶表示装置において良好な視認性を確保できる積層フィルム及び該積層フィルムを用いた偏光板を提供することである。また、該積層フィルムを用いることで、良好な視認性を確保できる液晶表示装置を提供することである。

　本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、基材の構成材料に特定のセルロースアシレートと糖エステルを組み合わせて用い、基材の波長６５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ６５０と波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ４５０とから、特定の式に基づいて求められる値Ｔ（波長範囲４５０～６５０ｎｍにおける面外位相差の傾き）を特定の範囲に規定し、当該基材に積層される光学機能層については、エステル部の大部分がイソプロピルエステルであるフマル酸エステルの重合単位から略構成される重合体であり、これらの基材と光学機能層を含む積層フィルムにおける波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ４５０と波長５５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ５５０との比の値Ｒｔｈ４５０／Ｒｔｈ５５０を特定の範囲内にすることで、層間密着性が良好であり、かつ、これを用いた液晶表示装置において良好な視認性を確保できる積層フィルムが得られることを見出し本発明に至った。
　すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。

　１．基材と光学機能層とを含む積層フィルムであって、
　前記基材が、アシル基置換度が２．６～３．０の範囲内にあるセルロースアシレートと、ヒドロキシ基の７０～１００％において水素原子がアシル基に置換された糖エステルを含み、
　前記基材について波長６５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ６５０と、波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ４５０とから、下記式（１）に基づいて求められる値Ｔが０．０４０～０．０５５の範囲内にあり、
　　　式（１）　　　Ｔ＝（Ｒ６５０－Ｒ４５０）／（６５０－４５０）
　前記光学機能層が、フマル酸エステルの重合単位を全重合単位に対して９０モル％以上の割合で含む重合体を含有し、前記フマル酸エステルの重合単位のエステル部は８０～１００％がイソプロピルエステルであり、
　前記積層フィルムについて波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ４５０と、波長５５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ５５０との比の値Ｒｔｈ４５０／Ｒｔｈ５５０が１．１～１．９の範囲内にある積層フィルム。

　２．前記積層フィルムについて波長５５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ５５０が、－３０～－１５ｎｍの範囲内にある第１項に記載の積層フィルム。

　３．第１項又は第２項に記載の積層フィルムと偏光子が積層されてなる偏光板。

　４．第３項に記載の偏光板を具備した液晶表示装置。

　本発明の上記手段により、フマル酸エステル系樹脂層を有する位相差フィルムにおいて、層間密着性が良好であり、かつ、これを用いた液晶表示装置において良好な視認性を確保できる積層フィルム及び該積層フィルムを用いた偏光板を提供することができる。また、該積層フィルムを用いることで、良好な視認性を確保できる液晶表示装置を提供することができる。

　本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。

　フマル酸エステル系樹脂層を有する位相差フィルムを偏光子と組み合わせた偏光板を、液晶パネルの視認側に具備する液晶表示装置においては、バックライトより偏光子、液晶パネルを透過してきた光が上記偏光板の位相差フィルムで光学補償されることで内部反射や表面反射光と干渉が生じ、斜めから液晶表示装置を見ると色味ムラが生じると推定した。そこで、上記位相差フィルムの面外位相差（以下、位相差フィルムの面外位相差を「Ｒｔｈ」で示す。）の波長分散を制御することで色味ムラが抑制できると考えた。

　そこで、フマル酸エステル系樹脂層と基材を組み合わせて、Ｒｔｈの波長分散を、波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ４５０と、波長５５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ５５０との比の値Ｒｔｈ４５０／Ｒｔｈ５５０が１．１～１．９の範囲内とすることで、斜めから見た際の色ムラ発生の問題を解消できることを見出した。

　そして、Ｒｔｈの波長分散（Ｒｔｈ４５０／Ｒｔｈ５５０）を上記の範囲に調整するために、フマル酸エステル系樹脂層と組み合わせる基材における面外位相差（以下、基材の面外位相差を「Ｒ」で示す。）を以下の構成で調整した。具体的には、基材の構成材料として、アシル基置換度が２．６～３．０の範囲内にあるセルロースアシレートと、ヒドロキシ基の７０～１００％において水素原子がアシル基に置換された糖エステルの組み合わせにおいて、波長６５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ６５０と、波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ４５０とから、上記式（１）に基づいて求められる値Ｔが０．０４０～０．０５５の範囲内にあるという構成とした。

　また、フマル酸エステル系樹脂層と基材との密着性は、フマル酸エステル系樹脂中のフマル酸エステルの重合単位におけるエステル部のイソプロピルエステルの割合を８０％以上とすること、及び基材側の糖エステルにおけるヒドロキシ基のエステル置換の割合を７０％以上にすることで達成できた。上記構成により、フマル酸エステル系樹脂層と基材の浸透性及び相互作用が増大したためと考えている。

本発明の積層フィルムの一例を示す断面図本発明の偏光板の一例を示す断面図本発明の液晶表示装置の一例の平面図図３に示す液晶表示装置のＸ－Ｘ線における断面図

　本発明の積層フィルムは、基材と光学機能層とを含む積層フィルムであって、前記基材が、アシル基置換度が２．６～３．０の範囲内にあるセルロースアシレートと、ヒドロキシ基の７０～１００％において水素原子がアシル基に置換された糖エステルを含み、前記基材について波長６５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ６５０と、波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ４５０とから、上記式（１）に基づいて求められる値Ｔが０．０４０～０．０５５の範囲内にあり、前記光学機能層が、フマル酸エステルの重合単位を全重合単位に対して９０モル％以上の割合で含む重合体を含有し、前記フマル酸エステルの重合単位のエステル部は８０～１００％がイソプロピルエステルであり、前記積層フィルムについて波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ４５０と、波長５５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ５５０との比の値Ｒｔｈ４５０／Ｒｔｈ５５０が１．１～１．９の範囲内にあることを特徴とする。この特徴は、下記各実施形態に共通する技術的特徴である。

　本発明の実施形態としては、本発明の効果発現の観点から、前記積層フィルムについて波長５５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ５５０が、－３０～－１５ｎｍの範囲内にあることが好ましい。

　本発明の偏光板は、本発明の積層フィルムと偏光子が積層されてなることを特徴とする。本発明の液晶表示装置は本発明の偏光板を具備することを特徴とする。

　以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。

［本発明の積層フィルムの概要］
　本発明の積層フィルムは、基材と光学機能層とを含む積層フィルムであって、基材について下記（１－１）及び（１－２）を満足し、光学機能層が下記（２）を満足し、積層フィルムが下記（３）を満足することを特徴とする。

（１－１）前記基材が、アシル基置換度が２．６～３．０の範囲内にあるセルロースアシレートと、ヒドロキシ基の７０～１００％において水素原子がアシル基に置換された糖エステルを含む。
（１－２）前記基材について波長６５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ６５０と、波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ４５０とから、下記式（１）に基づいて求められる値Ｔが０．０４０～０．０５５の範囲内にある。
　　　式（１）　　　Ｔ＝（Ｒ６５０－Ｒ４５０）／（６５０－４５０）

　なお、上記式（１）に基づいて求められる値Ｔは、基材について測定波長と面外位相差の関係を示すグラフにおいて、４５０～６５０ｎｍの波長範囲での傾きを示す値である。以下、波長６５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ６５０と、波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ４５０とから、上記式（１）に基づいて求められる値Ｔを、「面外位相差の傾きＴ」ともいう。

（２）前記光学機能層が、フマル酸エステルの重合単位を全重合単位に対して９０モル％以上の割合で含む重合体を含有し、前記フマル酸エステルの重合単位のエステル部は８０～１００％がイソプロピルエステルである。

（３）前記積層フィルムについて波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ４５０と、波長５５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ５５０との比の値Ｒｔｈ４５０／Ｒｔｈ５５０が１．１～１．９の範囲内にある。

　本発明の積層フィルムは、基材と光学機能層とを含む積層フィルムである。本発明の積層フィルムは、本発明の効果を損なわない範囲において、基材と光学機能層以外の層を含んでもよい。図１は本発明の積層フィルムの一例を示す断面図である。図１に示す積層フィルム１０は、フィルム状の基材１の一方の主面上に光学機能層２を有する構成である。

　本発明の積層フィルム１０は、例えば、基材１と光学機能層２の間に接着層を有してもよい。基材１は、１つの層（単層）で構成されてもよいし、複数の層で構成されてもよいが、表示ムラが少なく、薄型化が可能である点などから、単層であることが好ましい。以下、本発明の積層フィルムの構成要素について詳細に説明する。

（基材）
　基材は、アシル基置換度が２．６～３．０の範囲内にあるセルロースアシレート（以下、「セルロースアシレート（Ａ）」ともいう。）と、ヒドロキシ基の７０～１００％において水素原子がアシル基に置換された糖エステル（以下、「糖エステル（Ｂ）」ともいう。）を含む。基材は、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲でセルロースアシレート（Ａ）及び糖エステル（Ｂ）以外のその他の成分を含有してもよい。

＜セルロースアシレート（Ａ）＞
　基材はセルロースアシレート（Ａ）を含有する。セルロースアシレート（Ａ）は、基材において主成分として含有することが好ましい。なお、主成分とは、当該基材中のセルロースアシレート（Ａ）の含有割合が、５０質量％以上であることをいう。基材中のセルロースアシレート（Ａ）の含有割合は５５質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、特に好ましくは７０質量％以上である。基材中のセルロースアシレート（Ａ）の含有割合の上限は、セルロースアシレート（Ａ）以外の構成成分を除いた残量であり、９９質量％程度が好ましく、９０質量％がより好ましい。

　セルロースアシレートは、セルロースが有するヒドロキシ基の水素原子がアシル基に置換された化合物である。置換度は、セルロースの構成単位であるβ－グルコース残基当たり３個有するヒドロキシ基のうち平均して何個が置換されているかを示す値である。

　セルロースアシレート（Ａ）における、アシル基としては、Ｒ－Ｃ（＝Ｏ）－（Ｒは、一価の炭化水素基）で示されるアシル基であれば特に制限されない。セルロースアシレート（Ａ）におけるアシル基としては、例えば、Ｒが炭素数１～５の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、Ｒがメチル基であるアセチル基、Ｒがエチル基であるプロピオニル基又はＲがプロピル基であるブチリル基が好ましい。

　セルロースアシレート（Ａ）が有するアシル基は、１種でもよく２種以上でもよい。セルロースアシレート（Ａ）におけるアシル基は好ましくは１種であり、当該１種はアセチル基であることが好ましい。セルロースアシレート（Ａ）におけるアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ－Ｄ８１７－９６に準じて測定することができる。

　セルロースアシレート（Ａ）におけるアシル基置換度は２．６～３．０であり、好ましくは２．８～３．０である。セルロースアシレートは、例えば、後述の方法で製造される。セルロースアシレート（Ａ）は、このようにして得られるセルロースアシレートにおいて、アシル基置換度の異なるセルロースアアシレートの２種以上を混合して２．６～３．０、好ましくは、２．８～３．０に調整したものであってもよい。

　セルロースアシレート（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、基材の延伸時の機械的強度を保持する観点から、８００００～３０００００の範囲内であることが好ましく、１２００００～２５００００の範囲内であることがより好ましい。上記範囲内であると基材の製膜時に延伸によるリターデーション（位相差）の制御が行いやすい。それにより、基材における上記（１－２）の条件を満足させ易い。

　セルロースアシレート（Ａ）の数平均分子量（Ｍｎ）は３００００～１５００００の範囲が、得られる基材の機械的強度が高く好ましい。さらに４００００～１０００００の数平均分子量のセルロースアシレートが好ましく用いられる。

　セルロースアシレート（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）の値は、１．４～３．０の範囲であることが好ましい。

　セルロースアシレート（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定できる。測定条件は以下のとおりである。

　溶媒：　　　メチレンクロライド
　カラム：　　Ｓｈｏｄｅｘ　Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用する。）
　カラム温度：２５℃
　試料濃度：　０．１質量％
　検出器：　　ＲＩ　Ｍｏｄｅｌ　５０４（ＧＬサイエンス社製）
　ポンプ：　　Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
　流量：　　　１．０ｍｌ／分
　校正曲線：　標準ポリスチレンＳＴＫ　ｓｔａｎｄａｒｄ　ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００～５００の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。

　本発明で用いられるセルロースアシレート（Ａ）の原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースアシレートは適宜混合して、あるいは単独で使用することができる。

　例えば、綿花リンター由来セルロースアシレート：木材パルプ（針葉樹）由来セルロースアシレート：木材パルプ（広葉樹）由来セルロースアシレートの比率が１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０で用いることができる。

　本発明に係るセルロースアシレート（Ａ）は、公知の方法により製造することができる。一般的には、原料のセルロースと所定の有機酸（酢酸、プロピオン酸など）と酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸など）、触媒（硫酸など）と混合して、セルロースをエステル化し、セルロースのトリエステルができるまで反応を進める。トリエステルにおいてはグルコース単位の三個のヒドロキシ基は、有機酸のアシル基で置換されている。同時に二種類の有機酸を使用すると、混合エステル型のセルロースアシレート、例えばセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートを作製することができる。

　次いで、セルロースのトリエステルを必要に応じて加水分解することで、所望のアシル基置換度（２．６～３．０）を有するセルロースアシレート（Ａ）を合成する。その後、濾過、沈殿、水洗、脱水、乾燥などの工程を経て、セルロースアシレート（Ａ）ができ上がる。

　本発明に係るセルロースアシレート（Ａ）は、２０ｍｌの純水（電気伝導度０．１μＳ／ｃｍ以下、ｐＨ６．８）に１ｇ投入し、２５℃、１ｈｒ、窒素雰囲気下にて撹拌したときのｐＨが６～７の範囲であり、電気伝導度が１～１００μＳ／ｃｍの範囲であることが好ましい。

　本発明に係るセルロースアシレート（Ａ）は、具体的には特開平１０－４５８０４号公報に記載の方法を参考にして合成することができる。

＜糖エステル（Ｂ）＞
　本発明の積層フィルムに係る基材は、セルロースアシレート（Ａ）以外の糖エステル（Ｂ）を含有する。

　本発明に係る糖エステル（Ｂ）における糖部分は、ピラノース環又はフラノース環の少なくとも一種を１～１２個有する糖の残基であることが好ましい。すなわち、糖エステル（Ｂ）は、ピラノース環又はフラノース環の少なくとも一種を１～１２個有する糖がエステル化して得られる化合物であることが好ましい。エステル化される糖は単糖であっても、糖構造が２～１２個連結した多糖であってもよい。

　糖エステル（Ｂ）は、このような糖が有するヒドロキシ基の７０～１００％において水素原子がアシル基に置換された糖エステルである。言い換えれば、糖エステル（Ｂ）は、原料の糖が有するＯＨ基の少なくとも７０％がエステル化された化合物である。以下、糖エステル（Ｂ）において、原料の糖におけるヒドロキシ基の水素原子がアシル基に置換された割合、すなわちＯＨ基がエステル化された割合を「エステル化率」という。

　糖エステル（Ｂ）のエステル化率は、ピラノース環又はフラノース環内に存在するＯＨ基の７５％以上であることが好ましく、１００％であることがより好ましい。糖エステル（Ｂ）におけるエステル化率が７０％以上であることで、基材と基材に積層する光学機能層との間に良好な密着性が得られる。

　本発明に係る基材における糖エステル（Ｂ）の含有割合は、セルロースアシレート（Ａ）の１００質量部に対して、１～３０質量部が好ましく、５～２０質量部がより好ましい。糖エステル（Ｂ）の含有割合が上記範囲内にあることで、基材におけるリターデーション値を制御し、上記（１－２）の条件を満足させ易くなる。

　糖エステル（Ｂ）における原料の糖の例には、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、あるいはアラビノース、ラクトース、スクロース、ニストース、１Ｆ－フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース、及びケストース等が含まれる。さらに、糖エステル（Ｂ）における原料の糖の例には、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども含まれる。糖エステル（Ｂ）における原料の糖は、特にピラノース環とフラノース環を両方含むことが好ましい。

　糖エステル（Ｂ）における原料の糖の好ましい例は、グルコース、スクロース、ケストース、ニストース、１Ｆ－フラクトシルニストース、スタキオースなどであり、グルコース及びスクロースが好ましく、更に好ましくは、スクロースである。

　糖エステル（Ｂ）では、原料の糖が有するＯＨ基の水素原子の７０～１００％がアシル基で置換されている。アシル基としては、Ｒ－Ｃ（＝Ｏ）－（Ｒは、一価の炭化水素基）で示されるアシル基であれば特に制限されない。Ｒは、脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基又は芳香族炭化水素基であってよい。

　糖エステル（Ｂ）は、例えば、上に例示した糖に上記アシル基を導入するために、当該糖をＲ－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＨ（Ｒは上記と同様である。）で示されるモノカルボン酸でエステル化した化合物である。エステル化のためのモノカルボン酸は、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。モノカルボン酸は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

　脂肪族モノカルボン酸の好ましい例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２－エチル－ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。

　脂環族モノカルボン酸の好ましい例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、及びそれらの誘導体が含まれる。

　芳香族モノカルボン酸の好ましい例には、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、アルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、及びそれらの誘導体が含まれる。

　芳香族モノカルボン酸として、より具体的には、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ－イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α－イソジュリル酸、クミン酸、α－トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、ｏ－アニス酸、ｍ－アニス酸、ｐ－アニス酸、クレオソート酸、ｏ－ホモサリチル酸、ｍ－ホモサリチル酸、ｐ－ホモサリチル酸、ｏ－ピロカテク酸、β－レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、ｏ－ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、ｏ－ホモベラトルム酸、フタロン酸、ｐ－クマル酸が挙げられ；特に安息香酸が好ましい。

　本発明における糖エステル（Ｂ）としては、上記エステル化率を満足する限り、オリゴ糖のエステル化合物も用いられうる。オリゴ糖は、例えば、澱粉、ショ糖等にアミラーゼ等の酵素を作用させて製造される。好ましいオリゴ糖の例には、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖が挙げられる。

　糖エステル（Ｂ）としては、例えば、下記一般式（Ｂ）で表される構造を有するピラノース環又はフラノース環の少なくとも一種を１～１２個縮合した化合物のエステル化物が挙げられる。

　一般式（Ｂ）におけるＲ^１１～Ｒ^１５、Ｒ^２１～Ｒ^２５は、炭素数２～２２のアシル基又は水素原子を表す。ｍ及びｎはそれぞれ０～１２の整数、ｍ＋ｎは１～１２の整数である。一般式（Ｂ）において、Ｒ^１１～Ｒ^１５及びＲ^２１～Ｒ^２５の合計個数に対して、炭素数２～２２のアシル基が占める割合は、７０～１００％である。

　上記アシル基としては、Ｒ^２６－Ｃ（＝Ｏ）－（Ｒ^２６は、炭素数１～２１の脂肪族飽和炭化水素基又は、炭素数６～２０の置換基を有してもよいフェニル基又はベンジル基である。）で構造が表されるアシル基であることが好ましい。これらの中でも、Ｒ^２６がメチル基であるアセチル基、Ｒ^２６がフェニル基であるベンゾイル基が好ましく、アセチル基が特に好ましい。

　フェニル基又はベンジル基が有する置換基として、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、フェニル基が挙げられ、更にこれらのアルキル基、アルケニル基、フェニル基は置換基を有していてもよい。オリゴ糖のエステル化合物も、他の糖エステルと同様な方法で製造することができる。

　以下に、本発明に係る糖エステル（Ｂ）の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。以下に構造を示す化合物において、置換基（アシル基）の下に「平均置換度」が示されていない化合物においては、糖のＯＨ基の水素原子の１００％が当該置換基で置換されていることを示す。糖エステル（Ｂ）としては、以下の化合物においてＯＨ基の水素原子の７０％以上がアシル基で置換された糖エステル（Ｂ）であるものも好ましい。例えば、化合物１において、Ｒ_１の３０％以下が水素原子である化合物も糖エステル（Ｂ）の範疇であり好ましい。

　以下に構造を示す化合物において、置換基（アシル基）の下に「平均置換度」が示されている場合、糖のＯＨ基の水素原子が当該置換度で置換基（アシル基）に置換されていることを示す。例えば、化合物３においては、平均置換度７．０であり、８個のＲ_３のうち７個がベンゾイル基で置換され、残りの１個が水素原子であることを示す。この場合、エステル化率は７／８＝８７．５％である。一方、化合物１２においては、平均置換度８．０であり、８個のＲ_１２全てがベンゾイル基で置換されていることを示す。この場合、エステル化率は８／８＝１００％である。

　本発明に係る糖エステル（Ｂ）は、上記糖、例えば、ピラノース環又はフラノース環の少なくとも一種を１～１２個有する糖に、アシル化剤（エステル化剤ともいう。）を反応させることによって製造することが可能である。アシル化剤としては、例えば、上記した各種モノカルボン酸の酸ハロゲン化物又は酸無水物が挙げられる。具体的には、アシル基がアセチル基の場合には、アセチルクロライド、無水酢酸等が、アシル基がベンゾイル基の場合には、ベンジルクロライド、無水安息香酸等が挙げられる。

　糖のエステル化において、得られる糖エステルの置換度及びエステル化率は分子間で若干異なり分布を有する。糖エステルの置換度及びエステル化率の分布は、アシル化剤の量、添加タイミング、エステル化反応時間の調節によってなされる。置換度及びエステル化率の異なる糖エステルの混合、あるいは純粋に単離した置換度及びエステル化率の異なる化合物を混合することにより、目的のエステル化率（７０～１００％）の糖エステル（Ｂ）を調製することができる。以下に、スクロースを無水安息香酸によりエステル化する反応を例示して、エステル化率の調整について具体的に説明する。

（合成例：本発明に係る糖エステル（Ｂ）の合成）

　スクロースの無水安息香酸によるエステル化反応を以下のとおり行った。すなわち、撹拌装置、還流冷却器、温度計及び窒素ガス導入管を備えた四頭コルベンに、ショ糖（スクロース）３４．２ｇ（０．１モル）、無水安息香酸１３５．６ｇ（０．６モル）、ピリジン２８４．８ｇ（３．６モル）を仕込み、撹拌下に窒素ガス導入管から窒素ガスをバブリングさせながら昇温し、７０℃で５時間エステル化反応を行った。

　次に、コルベン内を４×１０^２Ｐａ以下に減圧し、６０℃で過剰のピリジンを留去した後に、コルベン内を１．３×１０Ｐａ以下に減圧し、１２０℃まで昇温させ、無水安息香酸、生成した安息香酸の大部分を留去した。そして、次にトルエン１Ｌ、０．５質量％の炭酸ナトリウム水溶液３００ｇを添加し、５０℃で３０分間撹拌後、静置して、トルエン層を分取した。最後に、分取したトルエン層に水１００ｇを添加し、常温で３０分間水洗後、トルエン層を分取し、減圧下（４×１０^２Ｐａ以下）、６０℃でトルエンを留去させ、化合物Ａ－１、Ａ－２、Ａ－３、Ａ－４及びＡ－５等の混合物である糖エステル１を得た。

　得られた混合物を高速液体クロマトグラフィー質量分析（ＨＰＬＣ－ＭＳ）で解析したところ、Ａ－１が１．２質量％、Ａ－２が１３．２質量％、Ａ－３が１４．２質量％、Ａ－４が３５．４質量％、Ａ－５等が４０．０質量％であった。平均置換度は５．２、エステル化率は６５％であった。

　なお、Ａ－５等とは、置換度４以下の全ての成分、つまり置換度４、３、２、１の化合物の混合物であることを意味する。また、平均置換度及びエステル化率は、Ａ－５等を置換度４として計算した。ＨＰＬＣ－ＭＳの測定条件は以下のとおりである。

＜ＨＰＬＣ－ＭＳの測定条件＞
１）ＬＣ部
　装置：日本分光（株）製カラムオーブン（ＪＡＳＣＯ　ＣＯ－９６５）、ディテクター（ＪＡＳＣＯ　ＵＶ－９７０－２４０ｎｍ）、ポンプ（ＪＡＳＣＯ　ＰＵ－９８０）、デガッサー（ＪＡＳＣＯ　ＤＧ－９８０－５０）
　カラム：Ｉｎｅｒｔｓｉｌ　ＯＤＳ－３　粒子径５μｍ　４．６×２５０ｍｍ（ジーエルサイエンス（株）製）
　カラム温度：４０℃
　流速：１ｍｌ／分
　移動相：ＴＨＦ（１％酢酸）：Ｈ_２Ｏ（５０：５０）
　注入量：３μｌ
２）ＭＳ部
　装置：ＬＣＱ　ＤＥＣＡ（Ｔｈｅｒｍｏ　Ｑｕｅｓｔ（株）製）
　イオン化法：エレクトロスプレーイオン化（ＥＳＩ）法
　Ｓｐｒａｙ　Ｖｏｌｔａｇｅ：５ｋＶ
　Ｃａｐｉｌｌａｒｙ温度：１８０℃
　Ｖａｐｏｒｉｚｅｒ温度：４５０℃

　同様に、無水安息香酸１５８．２ｇ（０．７０モル）、１４６．９ｇ（０．６５モル）、１３５．６ｇ（０．６０モル）、１２４．３ｇ（０．５５モル）と当モルのピリジンとを反応させて、表Ｉ記載のような成分組成及び平均置換度、エステル化率のそれぞれ糖エステル２、糖エステル３、及び糖エステル４を得た。

　このようにして得られる置換度が異なる糖エステルの混合物としての糖エステル１～４を、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製することで、それぞれ純度１００％のＡ－１、Ａ－２、Ａ－３、Ａ－４及びＡ－５等が得られる。

　本発明においては、例えば、このようにして作製した糖エステル１～４から所望のエステル化率（７０～１００％）にある糖エステル（表Ｉにおいては糖エステル２）を選択して、糖エステル（Ｂ）とする。又は、上記で単離したＡ－１～Ａ－５等を組み合わせ添加することにより、エステル化率７０～１００％に調整した糖エステル（Ｂ）を得る。

（その他の成分）
　本発明の積層フィルムに係る基材は、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲でセルロースアシレート（Ａ）及び糖エステル（Ｂ）以外のその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、微粒子（マット剤）、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が挙げられる。

＜可塑剤＞
　本発明に係る基材には、分子量が１００００以下の公知の可塑剤を、本発明の効果を阻害しない範囲で用いることもできる。可塑剤として特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤及び多価アルコールエステル系可塑剤などから選択される。

　多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコールと、モノカルボン酸とのエステル（アルコールエステル）であり、好ましくは２～２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。多価アルコールエステルは、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。

　脂肪族多価アルコールの好ましい例には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４－ブタントリオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、キシリトール等が含まれる。なかでも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールなどが好ましい。

　モノカルボン酸は、特に制限はなく、脂肪族モノカルボン酸、脂環式モノカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸等でありうる。フィルムの透湿性を高め、かつ揮発しにくくするためには、脂環式モノカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸は、一種類であってもよいし、二種以上の混合物であってもよい。また、脂肪族多価アルコールに含まれるＯＨ基の全部をエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。

　脂肪族モノカルボン酸は、炭素数１～３２の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸であることが好ましい。脂肪族モノカルボン酸の炭素数はより好ましくは１～２０であり、さらに好ましくは１～１０である。脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２－エチル－ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。なかでも、セルロースアセテートとの相溶性を高めるためには、酢酸、又は酢酸とその他のモノカルボン酸との混合物が好ましい。

　脂環式モノカルボン酸の例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸などが含まれる。

　芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸；安息香酸のベンゼン環にアルキル基又はアルコキシ基（例えばメトキシ基やエトキシ基）を１～３個導入したもの（例えばトルイル酸など）；ベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸（例えばビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸など）が含まれ、好ましくは安息香酸である。

　多価カルボン酸エステルは、２価以上、好ましくは２～２０価の多価カルボン酸と、アルコールとのエステルである。多価カルボン酸は、２～２０価の脂肪族多価カルボン酸であるか、３～２０価の芳香族多価カルボン酸又は３～２０価の脂環式多価カルボン酸であることが好ましい。

　多価カルボン酸の例には、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸又はその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などが含まれ、フィルムからの揮発を抑制するためには、オキシ多価カルボン酸が好ましい。

　アルコールの例には、直鎖若しくは側鎖を有する脂肪族飽和アルコール、直鎖若しくは側鎖を有する脂肪族不飽和アルコール、脂環式アルコール又は芳香族アルコールなどが含まれる。脂肪族飽和アルコール又は脂肪族不飽和アルコールの炭素数は、好ましくは１～３２であり、より好ましくは１～２０であり、さらに好ましくは１～１０である。脂環式アルコールの例には、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどが含まれる。芳香族アルコールの例には、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどが含まれる。

　多価カルボン酸エステルの分子量は、特に制限はないが、３００～１０００の範囲であることが好ましく、３５０～７５０の範囲であることがより好ましい。多価カルボン酸エステル系可塑剤の分子量は、ブリードアウトを抑制する観点では、大きいほうが好ましく；透湿性やセルロースアセテートとの相溶性の観点では、小さいほうが好ましい。

　多価カルボン酸エステルの例には、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が含まれる。

　多価カルボン酸エステルは、フタル酸エステルであってもよい。フタル酸エステルの例には、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ－２－エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が含まれる。

　グリコレートの例には、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が含まれる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類の例には、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が含まれ、好ましくはエチルフタリルエチルグリコレートである。

　エステル系可塑剤には、脂肪酸エステル、クエン酸エステルやリン酸エステルなどが含まれる。

　脂肪酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、及びセバシン酸ジブチル等が含まれる。クエン酸エステルの例には、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、及びクエン酸アセチルトリブチル等が含まれる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、及びトリブチルホスフェート等が含まれ、好ましくはトリフェニルホスフェートである。

　可塑剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。可塑剤の含有量は、セルロースアシレート（Ａ）の１００質量部に対して好ましくは１～２０質量部の範囲であり、より好ましくは１．５～１５質量部の範囲である。可塑剤の含有量が上記範囲内であると、可塑性の付与効果が発現でき、基材からの可塑剤の耐染みだし性にも優れる。

＜紫外線吸収剤＞
　本発明に係る基材は、積層フィルムとして液晶表示装置の表面側（視認側）に配置する位相差フィルムとして用いる場合に、紫外線吸収剤を含有することが耐光性を向上する観点から好ましい。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、耐光性を向上させることを目的としており、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。

　本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤である。

　例えば、５－クロロ－２－（３，５－ジ－ｓｅｃ－ブチル－２－ヒドロキシルフェニル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、（２－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－６－（直鎖及び側鎖ドデシル）－４－メチルフェノール、２－ヒドロキシ－４－ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４－ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８等のチヌビン類があり、これらはいずれもＢＡＳＦジャパン社製の市販品であり好ましく使用できる。この中ではハロゲンフリーのものが好ましい。

　この他、１，３，５トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。

　本発明に係る基材が紫外線吸収剤を含有する場合、その１種又は２種以上含有することができ、２種以上含有することが好ましい。

　また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平６－１４８４３０号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。

　紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してから後述のドープに添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。

　無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。

　基材における紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、基材の乾燥膜厚が１５～５０μｍの場合は、基材に対して０．５～１０質量％の範囲が好ましく、０．６～４質量％の範囲が更に好ましい。

＜酸化防止剤＞
　酸化防止剤は劣化防止剤ともいわれる。高湿高温の状態に液晶表示装置等が置かれた場合には、基材の劣化が起こる場合がある。

　酸化防止剤は、例えば、基材中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等により基材が分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、基材中に含有させるのが好ましい。

　このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ペンタエリスリチル－テトラキス〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール－ビス〔３－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６－ヘキサンジオール－ビス〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４－ビス－（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、２，２－チオ－ジエチレンビス〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナマミド）、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－イソシアヌレイト等を挙げることができる。

　特に、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ペンタエリスリチル－テトラキス〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール－ビス〔３－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、Ｎ，Ｎ′－ビス〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。

　これらの酸化防止剤は１種を単独で用いてもよく２種以上を併用してもよい。基材における酸化防止剤の添加量は、セルロースアシレート（Ａ）に対して質量割合で１質量ｐｐｍ～１．０質量％の範囲が好ましく、１０～１０００質量ｐｐｍの範囲が更に好ましい。

＜微粒子（マット剤）＞
　本発明の積層フィルムにおける基材は、表面の滑り性を高めるため、必要に応じて微粒子（マット剤）をさらに含有してもよい。

　微粒子は、無機微粒子であっても有機微粒子であってもよい。無機微粒子の例には、二酸化ケイ素（シリカ）、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が含まれる。なかでも、二酸化ケイ素や酸化ジルコニウムが好ましく、得られる基材のヘイズの増大を少なくするためには、より好ましくは二酸化ケイ素である。

　二酸化ケイ素の微粒子の例には、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＮＡＸ５０（以上、日本アエロジル（株）製）、シーホスターＫＥ－Ｐ１０、ＫＥ－Ｐ３０、ＫＥ－Ｐ５０、ＫＥ－Ｐ１００（以上日本触媒（株）製）などが含まれる。なかでも、アエロジルＲ９７２Ｖ、ＮＡＸ５０、シーホスターＫＥ－Ｐ３０などが、得られる基材の濁度を低く保ちつつ、摩擦係数を低減させるため特に好ましい。

　微粒子の一次粒子径は、５～５０ｎｍの範囲であることが好ましく、７～２０ｎｍの範囲であることがより好ましい。一次粒子径が大きいほうが、得られる基材の滑り性を高める効果は大きいが、透明性が低下しやすい。そのため、微粒子は、粒子径０．０５～０．３μｍの範囲の二次凝集体として含有されていてもよい。微粒子の一次粒子又はその二次凝集体の大きさは、透過型電子顕微鏡にて倍率５０～２００万倍で一次粒子又は二次凝集体を観察し、一次粒子又は二次凝集体１００個の粒子径の平均値として求めることができる。

　これらの微粒子は１種を単独で用いてもよく２種以上を併用してもよい。基材における微粒子の含有量は、セルロースアシレート（Ａ）１００質量部に対して０．０５～１．０質量部の範囲であることが好ましく、０．１～０．８質量部の範囲であることがより好ましい。

＜基材の製造方法＞
　本発明の積層フィルムに係る基材の製造方法としては、通常のインフレーション法、Ｔ－ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点から製膜方法は、溶液流延製膜法と溶融流延製膜法が選択でき、特に溶液流延法であることが、均一な表面を得るために好ましい。

〔溶液流延製膜法〕
　以下、本発明に係る基材を溶液流延法で製造する場合について説明する。

１）溶解工程
　溶解工程は、セルロースアシレート（Ａ）及び糖エステル（Ｂ）に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で当該セルロースアシレート（Ａ）及び糖エステル（Ｂ）、必要に応じて添加されるその他の成分を撹拌しながら溶解又は分散しドープを形成する工程、あるいは該セルロースアシレート（Ａ）の溶液に、本発明に係る糖エステル（Ｂ）及び必要に応じて添加されるその他の成分の溶液（分散液）を混合して主溶解液であるドープを形成する工程である。

　有機溶媒は、セルロースアシレート（Ａ）及び糖エステル（Ｂ）を溶解し、かつ上記その他の成分を溶解又は分散できるものであれば制限なく用いることができる。

　例えば、塩素系有機溶媒としては、メチレンクロライド、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３－ジオキソラン、１，４－ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２－トリフルオロエタノール、２，２，３，３－ヘキサフルオロ－１－プロパノール、１，３－ジフルオロ－２－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－メチル－２－プロパノール、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－プロパノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、メチレンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用することができる。

　ドープには、上記有機溶媒の他に、１～４０質量％の炭素原子数１～４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ないときは非塩素系有機溶媒系でのセルロースアシレート（Ａ）、糖エステル（Ｂ）及びその他の成分の溶解を促進する役割もある。

　特に、メチレンクロライド、及び炭素数１～４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、セルロースアシレート（Ａ）、糖エステル（Ｂ）及びその他の成分を、少なくとも計１５～４５質量％溶解又は分散させたドープであることが好ましい。

　炭素原子数１～４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。

　セルロースアシレート（Ａ）、糖エステル（Ｂ）の溶解及びその他の成分の溶解又は分散には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９－９５５４４号公報、特開平９－９５５５７号公報、又は特開平９－９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１－２１３７９号公報に記載されている高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。各成分を溶解中又は溶解後のドープは、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送ることが好ましい。

　濾過は捕集粒子径０．５～５μｍで、かつ濾水時間１０～２５ｓｅｃ／１００ｍｌの濾材を用いることが好ましい。

　この方法では、粒子分散時に残存する凝集物や主ドープ添加時に発生する凝集物を、捕集粒子径０．５～５μｍで、かつ濾水時間１０～２５ｓｅｃ／１００ｍｌの濾材を用いることで凝集物だけ除去できる。主ドープでは粒子の濃度も添加液に比べ十分に薄いため、濾過時に凝集物同士がくっついて急激な濾圧上昇することもない。

２）流延工程
　ドープを、送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイに送液し、無限に移送する無端の金属ベルト、例えばステンレスベルト、あるいは回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。

　ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にしやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。あるいは複数のドープを同時に流延する共流延法によって積層構造のフィルムを得ることも好ましい。

３）溶媒蒸発工程
　ウェブ（流延用支持体上にドープを流延し、形成されたドープ膜をウェブと呼ぶ）を流延用支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程である。

　溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法及び／又は支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法が、乾燥効率が良く好ましい。また、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後の支持体上のウェブを２０～１００℃の雰囲気下、支持体上で乾燥させることが好ましい。２０～１００℃の雰囲気下に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てるか赤外線等の手段により加熱することが好ましい。

　面品質、透湿性、剥離性の観点から、３０～１２０秒以内で当該ウェブを支持体から剥離することが好ましい。

　なお、当該溶媒蒸発工程の条件により、基材とした際の上記（１－２）の物性に影響を及ぼす場合がある。溶媒蒸発工程の初期にウェブにおいて面配向が進みやすいため、低温で溶媒蒸発の速度を下げることで面外位相差の傾きＴが大きくなる傾向にある。反対に溶媒蒸発の速度を上げると面外位相差の傾きＴが小さくなる傾向にある。

　したがって、例えば、溶媒蒸発工程の初期において、２０～５０℃程度の低温で２０～６０秒程度の加熱処理を施した後、５０～７０℃程度の高温でウェブの剥離時における残留溶媒量が適当な範囲となるまで加熱処理を施す方法が、面外位相差の傾きＴを上記（１－２）の範囲内とする観点から好ましい。

　なお、以下の剥離工程でウェブを金属支持体から剥離する時点でのウェブにおける残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属支持体の長さ等により２０～８０質量％程度の範囲にあることが好ましい。残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損ね、剥離張力によるツレや縦スジが発生しやすいため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。なお、ウェブの残留溶媒量は下記式で定義される。

　残留溶媒量（質量％）＝（ウェブの加熱処理前質量－ウェブの加熱処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００
　なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１４０℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。

４）剥離工程
　金属支持体上で、ウェブにおける残留溶媒量が上記適量となるまで、例えば２０～８０質量％、好ましくは２０～３０質量％となるまで、溶媒を蒸発させたウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブは次工程に送られる。

　金属支持体とウェブを剥離する際の剥離張力は、通常、１６０～２４５Ｎ／ｍの範囲内であるが、剥離の際に皺が入りやすい場合、１９０Ｎ／ｍ以下の張力で剥離することが好ましい。

　本発明においては、当該金属支持体上の剥離位置における温度を－５０～４０℃の範囲内とするのが好ましく、１０～４０℃の範囲内がより好ましく、１５～３０℃の範囲内とするのが最も好ましい。

５）乾燥及び延伸工程
　剥離後、ウェブを乾燥装置内に複数配置したローラーに交互に通して搬送する乾燥装置、及び／又はクリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター延伸装置等を用いて、ウェブを乾燥する。

　乾燥手段はウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウェーブを当てて加熱する手段もある。余り急激な乾燥はでき上がりの基材の平面性を損ねやすい。高温による乾燥は残留溶媒が８質量％以下程度から行うのがよい。全体を通し、乾燥はおおむね４０～２５０℃の範囲内で行われる。特に４０～２００℃の範囲内で乾燥させることが好ましい。

　ウェブは、延伸後の基材としての厚さが１０～５０μｍの範囲内となるように搬送方向（流延方向、ＭＤ方向）と直交する方向（幅手方向、ＴＤ方向）に、基材のガラス転移温度をＴｇとしたときに、（Ｔｇ＋１５）～（Ｔｇ＋５０）℃の温度範囲で延伸することが好ましい。（Ｔｇ＋１５）℃未満の温度では、リターデーションが出やすくなり、また延伸応力が増すためヘイズが高くなる傾向にある。（Ｔｇ＋５０）℃を超える温度で延伸を行うと、破断が生じたり、平面性が劣化したり、さらには基材自身の着色が強くなるため、位相差フィルムとしての品質（光学特性）を保てないことがある。延伸温度は、（Ｔｇ＋２０）～（Ｔｇ＋４０）℃の範囲で行うことがより好ましい。

　なお、ここでいうガラス転移温度Ｔｇとは、市販の示差走査熱量測定器を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ　Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。

　具体的な基材のガラス転移温度Ｔｇの測定方法は、ＪＩＳ　Ｋ７１２１（１９８７）に従って、セイコーインスツル（株）製の示差走査熱量計ＤＳＣ２２０を用いて測定する。

　基材サンプルを１０ｍｇ程度セットし、窒素流量５０ｍｌ／分の条件下で、２０℃／分で室温から２５０℃まで昇温して１０分間保持し（１ｓｔスキャン）、次に２０℃／分の速度で３０℃まで降温して１０分間保持し（２ｎｄスキャン）、さらに２０℃／分で２５０℃まで昇温し（３ｒｄスキャン）、ＤＳＣ曲線を作成し、得られた３ｒｄスキャンのＤＳＣ曲線からのガラス転移温度Ｔｇを求めることができる。

　本発明では、基材を構成する材料を用いてあらかじめサンプルを試験的に作製し、測定した基材サンプルのＴｇに対して、前記温度範囲で延伸することが好ましい。

　延伸にテンター延伸装置を用いる場合は、テンター延伸装置の左右把持手段によってウェブの把持長（把持開始から把持終了までの距離）を左右で独立に制御できる装置を用いることが好ましい。また、延伸工程において、平面性を改善するため意図的に異なる温度を持つ区画を作ることも好ましい。

　また、異なる温度区画の間にそれぞれの区画が干渉を起こさないように、ニュートラルゾーンを設けることも好ましい。

　なお、延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、流延方向、幅手方向に二軸延伸を実施することが、特に好ましい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。延伸倍率は、流延方向と幅手方向を足し合わせて、ウェブの元幅に対して１．１～４倍、好ましくは、１．２～３倍の範囲内であることが好ましい。

　この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。即ち、例えば、次のような延伸ステップも可能である。

　・流延方向に延伸→幅手方向に延伸→流延方向に延伸→流延方向に延伸
　・幅手方向に延伸→幅手方向に延伸→流延方向に延伸→流延方向に延伸
　また、同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。同時二軸延伸の好ましい延伸倍率は幅手方向、流延方向ともに元幅に対して１．０１～１．５倍の範囲である。特に好ましくは、リターデーション値を小さくする観点から、幅手方向にフィルム元幅に対して１．０１～１．２倍の範囲で延伸することが好ましく、より好ましくは１．０５～１．１倍の範囲である。

　テンター延伸装置により乾燥及び延伸を行う場合のウェブの残留溶媒量は、テンター延伸装置に掛ける際に２０～３０質量％の範囲であるのが好ましく、ウェブの残留溶媒量が１５質量％以下になるまでテンター延伸装置に掛けながら乾燥を行うことが好ましい。

　テンター延伸装置において、延伸開始時におけるウェブの残留溶媒量は１～１５質量％であることが好ましく、２～１０質量％であることがより好ましい。また、巻取り工程における残留溶媒量が２質量％以下、より好ましくは０．４質量％以下になるまで、ウェブを乾燥することが好ましい。

　テンター延伸装置において、雰囲気の幅手方向の温度分布が少ないことが、基材の均一性を高める観点から好ましく、テンター延伸装置での幅手方向の温度分布は、±５℃以内が好ましく、±２℃以内がより好ましく、±１℃以内が最も好ましい。

６）エンボス加工工程
　本発明に係る基材は、好ましい厚さが１０～５０μｍの範囲と薄膜であるため、基材をロール状に保管するときに巻ずれや光学品質の劣化の懸念があるが、エンボス加工することによって、それらを効果的に防止することができる。なお、エンボス加工は任意の工程である。

　エンボス部とは、長尺状フィルムを巻取る前に、巻取られたフィルム同士の裏面と表面が完全に面同士密着するのを防止するために、基材に微小の連続した凹凸からなる一定の幅の文様をつけたものである。基材の一面（例えば上面）を凸状に突出させた際、当該基材の他面（例えば下面）に前記凸状に対応して相対的に凹状が形成される。これにより、巻取った基材同士が完全に接着して、あるいは、部分的に接着して基材の表面の状態に影響を与え、故障を引き起こすのを防ぐ役割を果たす。

７）巻取り工程
　ウェブ中の残留溶媒量が２質量％以下となってから基材として巻取り機により巻取る工程であり、残留溶媒量を０．４質量％以下にすることにより寸法安定性の良好な基材を得ることができる。特に０．００～０．１０質量％の範囲で巻取ることが好ましい。

　巻取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使いわければよい。

　上記方法によれば、本発明に係る基材は、例えば、長尺フィルムとして得られる。具体的には、１００ｍ～１００００ｍ程度のものが挙げられ、特に好ましくは巻きの長さが５０００ｍ以上の基材のロール体である。また、基材の幅は１～４ｍであることが好ましく、１．４～３ｍであることがより好ましい。また、本発明に係る基材の厚さは、１０～５０μｍの範囲が好ましく、２０～４０μｍの範囲がより好ましい。

＜基材の特性＞
（位相差（リターデーション値））
　本発明に係る基材は、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で、波長５９０ｎｍの光で測定した、下記式（ｉ）により定義される面内位相差Ｒｏ５９０が０～１０ｎｍの範囲内にあり、下記式（ii）により定義される面外位相差Ｒ５９０が－２０～２０ｎｍの範囲内にあることが好ましい。

　式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎ_ｘ－ｎ_ｙ）×ｄ（ｎｍ）
　式（ii）：Ｒ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２－ｎ_ｚ｝×ｄ（ｎｍ）
〔式（ｉ）及び式（ii）において、ｎ_ｘは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎ_ｙは、フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎ_ｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。〕

　これらの位相差（リターデーション値）は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ－ＷＰＲ（王子計測機器）を用いて測定することができる。

　本発明に係る基材は、面外位相差に関し、上記（１－２）を満足する。すなわち、基材について波長６５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ６５０と、波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ４５０とから、上記式（１）に基づいて求められる値Ｔ（面外位相差の傾きＴ）が０．０４０～０．０５５の範囲内にある。面外位相差の傾きＴは０．０４５～０．０５０の範囲にあることが好ましい。

　なお、面外位相差Ｒ６５０及び面外位相差Ｒ４５０は面外位相差Ｒ５９０において、測定波長が異なる以外、同様の方法で測定できる。

　基材の面外位相差の傾きＴを上記範囲とすることで、光学機能層と積層した本発明の積層フィルムとした際に、積層フィルムは上記（３）の光学特性（１．１≦Ｒｔｈ４５０／Ｒｔｈ５５０≦１．９）を達成できる。

（全ヘイズ）
　本発明に係る基材は、全ヘイズが、１％未満であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、０．２％以下であることがより好ましい。ヘイズが１％未満であれば、基材の透明性の低下が無く、光学機能層と積層した本発明の積層フィルムとした際に、光学（位相差）フィルムとして十分に機能する。

　基材の全ヘイズは、ＪＩＳ　Ｋ－７１３６に準拠して、ヘーズメーターＮＤＨ－２０００（日本電色工業株式会社製）にて測定することができる。ヘーズメーターの光源は、５Ｖ９Ｗのハロゲン球とし、受光部は、シリコンフォトセル（比視感度フィルター付き）とし得る。ヘイズの測定は、２３℃、５５％ＲＨの条件下にて行うことができる。

（全光線透過率）
　本発明に係る基材は、その全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９３％以上である。また、現実的な上限としては、９９％程度である。かかる全光線透過率にて表される優れた透明性を達成するには、可視光を吸収する添加剤や共重合成分を導入しないようにすることや、原料中、例えば、ドープ中の異物を高精度濾過により除去し、基材内部の光の拡散や吸収を低減させることが有効である。また、製膜時の基材接触部（冷却ローラー、カレンダーローラー、ドラム、ベルト、溶液製膜における塗布基材、搬送ローラーなど）の表面粗さを小さくして基材表面の表面粗さを小さくすることにより基材表面の光の拡散や反射を低減させることが有効である。

（光学機能層）
　光学機能層は、フマル酸エステルの重合単位を全重合単位に対して９０モル％以上の割合で含む重合体を含有する。当該重合体におけるフマル酸エステルの重合単位のエステル部は８０～１００％がイソプロピルエステルである。以下、フマル酸エステルの重合単位を全重合単位に対して９０モル％以上の割合で含み、当該フマル酸エステルの重合単位のエステル部の８０～１００％がイソプロピルエステルである重合体を「重合体（Ｆ）」ともいう。

　光学機能層は、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、重合体（Ｆ）以外のその他の成分を含んでもよい。

（重合体（Ｆ））
　光学機能層は重合体（Ｆ）を含有する。光学機能層は、任意に含有するその他の成分以外は重合体（Ｆ）で構成される。光学機能層における重合体（Ｆ）の含有割合は、例えば、９０質量％以上が好ましく、９５質量％以上がより好ましく、特に好ましくは１００質量％である。

　本発明で用いる重合体（Ｆ）は、フマル酸エステルの重合単位を全重合単位に対して９０モル％以上の割合で含む重合体であり、かつ当該フマル酸エステルの重合単位のエステル部の８０～１００％がイソプロピルエステルである重合体である。ここで、「重合単位」とは、重合体を構成する単量体由来の単位であり、重合体を作製するのに用いた原料単量体の重合体中での残基で構成される単位をいう。

　重合体（Ｆ）において、全重合単位に対するフマル酸エステルの重合単位の割合は９５モル％以上が好ましく、９８モル％以上がより好ましく、特に好ましくは１００モル％である。また、重合体（Ｆ）において、フマル酸エステルの重合単位のエステル部におけるイソプロピルエステルの割合は、８５～１００％であることが好ましく、９０～１００％であることがより好ましく、特に好ましくは１００％である。

　フマル酸エステルの重合単位において、重合単位のもととなる単量体としてのフマル酸エステルは、フマル酸における２つのカルボキシ基の一方のみがエステル化されたモノエステルであってもよく、２つのカルボキシ基の両方がエステル化されたジエステルであってもよい。重合体（Ｆ）においては、フマル酸ジエステルを用いることが好ましい。単量体として用いるフマル酸エステルのエステル部は、イソプロピルエステルを含むものであり、重合体（Ｆ）の全体で、フマル酸エステルの重合単位のエステル部におけるイソプロピルエステルの割合が上記範囲となるように単量体を組み合わせて用いる。

　重合体（Ｆ）におけるフマル酸エステルの重合単位としては、例えば、下記一般式（ａ）により示されるフマル酸ジエステル重合単位（ａ）が好ましい。

　一般式（ａ）において、Ｒ_１及びＲ_２は、それぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。ただし、重合体（Ｆ）におけるＲ_１及びＲ_２の合計数中、８０～１００％がイソプロピル基である。

　フマル酸ジエステル重合単位（ａ）のもととなる単量体を、以下、「フマル酸ジエステル（ａ）」、Ｒ_１及びＲ_２を「エステル基」ともいう。重合体（Ｆ）は、フマル酸ジエステル（ａ）において以下のように分類されるフマル酸ジエステル（ａ１）～（ａ３）を、エステル基の８０～１００％がイソプロピル基となるように組み合わせて重合した重合体とすることができる。エステル基中のイソプロピル基の割合は、８５～１００％であることが好ましく、９０～１００％であることがより好ましく、特に好ましくは１００％である。

　フマル酸ジエステル（ａ１）；Ｒ_１及びＲ_２の両方がイソプロピル基である。
　フマル酸ジエステル（ａ２）；Ｒ_１及びＲ_２の一方がイソプロピル基であって、他方がイソプロピル基以外の炭素数１～１２のアルキル基である。
　フマル酸ジエステル（ａ３）；Ｒ_１及びＲ_２の両方がイソプロピル基以外の炭素数１～１２のアルキル基である。

　ここで、Ｒ_１及びＲ_２においてイソプロピル基以外の炭素数１～１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等の直鎖アルキル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｓ－ペンチル基、ｔ－ペンチル基、ｓ－ヘキシル基、ｔ－ヘキシル基等の分岐状アルキル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の環状アルキル基が挙げられる。なお、これらのアルキル基は、本発明の効果を損なわない範囲で、フッ素、塩素などのハロゲン基；エーテル基；エステル基若しくはアミノ基で置換されていてもよい。

　フマル酸ジエステル（ａ１）～（ａ３）を組み合わせて、重合体（Ｆ）を得る場合、製造容易性の観点から、フマル酸ジエステル（ａ１）すなわちフマル酸ジイソプロピルとフマル酸ジエステル（ａ３）を組み合わせて重合体（Ｆ）を得ることが好ましい。重合体（Ｆ）の重合において、フマル酸ジイソプロピルとフマル酸ジエステル（ａ３）を単量体として用いた場合、フマル酸ジイソプロピルとフマル酸ジエステル（ａ３）の合計モル量に対する、フマル酸ジイソプロピルのモル百分率を８０～１００モル％とすることで、重合体（Ｆ）におけるフマル酸エステルの重合単位のエステル部の８０～１００％をイソプロピルエステルとすることができる。

　上記フマル酸ジエステル（ａ３）としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジ－ｎ－プロピル、フマル酸ジ－ｎ－ブチル、フマル酸ジ－ｎ－ペンチル、フマル酸ジ－ｎ－ヘキシル、フマル酸ジ－ｓ－ブチル、フマル酸ジ－ｔ－ブチル、フマル酸ジ－ｓ－ペンチル、フマル酸ジ－ｔ－ペンチル、フマル酸ジ－ｓ－ヘキシル、フマル酸ジ－ｔ－ヘキシル、フマル酸ジシクロプロピル、フマル酸ジシクロペンチル、フマル酸ジシクロヘキシル等が挙げられ、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル等が好ましい。

　重合体（Ｆ）において、全重合単に対して１０モル％以下の割合で含有してよい、フマル酸エステル重合単位以外の重合単位としては、例えば、以下の単量体に基づく重合単位が挙げられる。重合体（Ｆ）において、フマル酸エステル重合単位以外の重合単位のもとになる単量体を以下「単量体（ｂ）」ともいう。

　上記単量体（ｂ）としては、例えば、スチレン、α－メチルスチレン等のスチレン類；（メタ）アクリル酸；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸３－エチル－３－オキセタニルメチル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル等の（メタ）アクリル酸エステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類；アクリロニトリル；メタクリロニトリル；エチレン、プロピレン等のオレフィン類；等の１種又は２種以上を挙げることができる。なお、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸とメタクリル酸の一方又は両方を示す。

　本発明で用いる重合体（Ｆ）としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０^３以上のものであることが好ましく、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れた光学機能層となることから２×１０^４以上２×１０^５以下であることが好ましい。

　本発明で用いる重合体（Ｆ）の製造方法としては、重合体（Ｆ）が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えば、得られる重合体（Ｆ）においてフマル酸エステルの重合単位のエステル部の８０～１００％がイソプロピルエステルとなるように選択されたフマル酸エステル及び必要に応じて全単量体の１０モル％以下の単量体（ｂ）を用いて、ラジカル重合あるいはラジカル共重合を行うことにより製造することができる。なお、フマル酸エステルとしては、フマル酸ジイソプロピル８０～１００モル％とフマル酸ジエステル（ａ３）０～２０モル％の混合物を用いることが好ましい。

　また、用いるラジカル重合法としては、公知の重合方法で行うことが可能であり、例えば塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。

　ラジカル重合法を行う際の重合開始剤としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ－ｔ－ブチルパーオキサイド、ｔ－ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ－ブチルパーオキシアセテート、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ－ブチルパーオキシピバレート等の有機過酸化物；２，２´－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２´－アゾビス（２－ブチロニトリル）、２，２´－アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル－２，２´－アゾビスイソブチレート、１，１´－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）等のアゾ系開始剤が挙げられる。

　そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）；アセトン；メチルエチルケトン；ジメチルホルムアミド；酢酸イソプロピル；水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。

　また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には４０～１５０℃の範囲で行うことが好ましい。

（その他の成分）
　本発明の積層フィルムに係る光学機能層は、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で重合体（Ｆ）以外のその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、紫外線吸収剤、酸化防止剤、微粒子（マット剤）、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が挙げられる。

　本発明に係る光学機能層は、熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、上記基材において説明したのと同様のヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いてもよい。

　光学機能層においては、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダードフェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤１００質量部に対してリン系酸化防止剤を１００～５００質量部で混合して使用することが特に好ましい。また、光学機能層における酸化防止剤の添加量としては、重合体（Ｆ）１００質量部に対して０．０１～１０質量部が好ましく、特に０．５～１質量部が好ましい。

　光学機能層が含有できる紫外線吸収剤及び微粒子（マット剤）については、上記基材が含有してもよい紫外線吸収剤及び微粒子（マット剤）と同様なものが例示できる。

＜光学機能層及び積層フィルムの製造方法＞
　本発明において、光学機能層は上記基材と積層されて本発明の積層フィルムとされる。光学機能層は単独でフィルム状に成形されてもよく、基材上で層状に成形されてもよい。光学機能層が単独で成形される場合、光学機能層と基材との積層は、例えば、接着剤等を用いて行う。光学機能層が基材上で層状に成形される場合、光学機能層の製造と、光学機能層と基材との積層は同時に行われる。

　光学機能層を単独でフィルム状に成形する場合の製造方法としては、例えば、基材の製造方法と同様のインフレーション法、Ｔ－ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が適用可能であり、溶液流延製膜法及び溶融流延製膜法を好ましい方法として選択でき、特に溶液流延法であることが、均一な表面を得るために好ましい。

　溶液流延製膜法は、重合体（Ｆ）及び必要に応じて添加されるその他の成分を溶媒に溶解した溶液（ドープ）を支持体上に流延した後、加熱等により溶媒を除去しフィルムを得る方法である。溶液流延製膜法において、高い透明性を有し、且つ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、７００～３００００ｃｐｓが好ましく、特に１０００～１００００ｃｐｓであることが好ましい。

　ドープを支持体上に流延する方法としては、例えばＴダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状又はドラム状の支持体に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持体としては、例えばガラス基板；ステンレスやフェロタイプ等の金属支持体；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のプラスチック支持体などがある。

　支持体上に押し出されたドープは、加熱等により溶媒を除去してフィルムとされる。このようにして重合体（Ｆ）を含有するフィルム状の光学機能層が得られる。当該フィルムは支持体から剥離して使用する。

　また、溶融流延製膜法は、重合体（Ｆ）を含有する光学機能層の構成成分の混合物を押出機内で溶融し、Ｔダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアーなどで冷却しつつ引き取る成形法である。

　フィルム状の光学機能層と基材を積層する方法としては、公知の接着剤を用いて貼合する方法が挙げられる。フィルム状の光学機能層を上記のように溶液流延製膜法によりロール体として製造し、上で説明したとおりに基材をロール体として製造する場合に、例えば、ロールトゥロールの連続プロセスで公知の接着剤を用いて貼合することができる。

　光学機能層が基材上で層状に成形される場合、光学機能層形成用の液状組成物を基材上に塗布し乾燥することにより光学機能層を製造することができる。それと同時に光学機能層と基材との積層が行われ、本発明の積層フィルムが得られる。

　この方法では、まず、重合体（Ｆ）及び必要に応じて添加されるその他の成分を溶媒に溶解した溶液（塗布溶液）を作製する。高い透明性を有し、且つ厚み精度、表面平滑性に優れた光学機能層を得るためには、塗布溶液の粘度は極めて重要な因子であり、１０～１００００ｃｐｓが好ましく、特に１０～５０００ｃｐｓであることが好ましい。

　塗布方法としては、例えばドクターブレード法、バーコーター法、グラビアコーター法、スロットダイコーター法、リップコーター法、コンマコーター法等が用いられる。工業的には薄膜塗布はグラビアコーター法、厚膜塗布はコンマコーター法が一般的である。

　基材上に塗布後、加熱等により溶媒を除去することで、基材上に光学機能層が得られる。なお、上記溶融流延製膜法においても、支持体として基材を用いることにより、基材上に光学機能層としてのフィルムを形成することで、積層フィルムとすることができる。

　なお、基材と光学機能層の積層に先駆けて、基材の光学機能層との積層面をあらかじめ、プラズマ処理、コロナ放電処理等の易接着処理することも可能である。

　本発明の積層フィルムにおける光学機能層の厚さは、光学機能層の厚さ方向の位相差により決められ、１～３０μｍが好ましく、２～２０μｍがより好ましく、特に好ましくは２～１０μｍである。

＜積層フィルムの特性＞
（位相差（リターデーション値））
　本発明の積層フィルムは、面外位相差に関し、上記（３）を満足する。すなわち、積層フィルムについて、波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ４５０と、波長５５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ５５０との比の値Ｒｔｈ４５０／Ｒｔｈ５５０が１．１～１．９の範囲内にある。Ｒｔｈ４５０／Ｒｔｈ５５０は１．２～１．７の範囲にあることが好ましい。

　なお、面外位相差Ｒｔｈ４５０及び面外位相差Ｒｔｈ５５０は、測定波長が異なる以外は、基材における面外位相差の測定方法と同様の方法で測定できる。

　また、本発明の積層フィルムは、面外位相差Ｒｔｈ５５０が－３０～－１５ｎｍの範囲内にあることが好ましく、－２５～－１８ｎｍの範囲内にあることがより好ましい。さらに、積層フィルムの面外位相差Ｒｔｈ４５０は、－４０～－１５ｎｍの範囲内にあることが好ましく、－３０～－１８ｎｍの範囲内にあることがより好ましい。

（全ヘイズ）
　本発明の積層フィルムは、基材と同様の方法で測定される全ヘイズが、１％未満であることが好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、０．２％以下であることがより好ましい。ヘイズが１％未満であれば、積層フィルムの透明性の低下が無く、光学（位相差）フィルムとして十分に機能する。

（全光線透過率）
　本発明の積層フィルムは、基材と同様の方法で測定される全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９３％以上である。また、現実的な上限としては、９９％程度である。

＜その他の機能性層＞
　本発明の積層フィルムには、その用途により、必要に応じて、帯電防止層、バックコート層、反射防止層、易滑性層、接着層、防眩層、及びバリアー層等の機能性層を設けることができる。

［偏光板］
　本発明の偏光板は、本発明の積層フィルムと偏光子が積層されてなることを特徴とする。本発明の偏光板は本発明の積層フィルムを具備し、液晶表示装置に用いた場合に、良好な視認性を確保できる。

　本発明の偏光板は、例えば、偏光子と、偏光子の一方の面に配置された本発明の積層フィルムとを有するものである。その場合、偏光子の他方の面に保護フィルムを有する構成であってもよい。また、偏光子の両面に本発明の積層フィルムを有する偏光板であってもよい。

　図２は、本発明の偏光板の構成例を示す断面図である。図２に示されるように、偏光板２０は、偏光子１１と、偏光子１１の一方の面に配置された積層フィルム１０及び他方の面に配置された保護フィルム１２とを有する。積層フィルム１０は基材１と光学機能層２が積層されてなり、基材１側が偏光子１１の一方の面に向かうように配置されている。偏光子１１と積層フィルム１０及び保護フィルム１２とは、任意の接着層（図示せず）を介して貼り合わせられている。

＜偏光子＞
　偏光板の主たる構成要素である偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。

　偏光子としては、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行った偏光子が用いられ得る。偏光子の膜厚は５～３０μｍの範囲内が好ましく、特に５～１５μｍの範囲内であることが好ましい。

　偏光子としては、特開２００３－２４８１２３号公報、及び特開２００３－３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１～４モル％、重合度２０００～４０００、ケン化度９９．０～９９．９９モル％のエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムも好ましく用いられる。なかでも、熱水切断温度が６６～７３℃の範囲内であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。このエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムを用いた偏光子は、偏光性能及び耐久性能に優れているうえに、色斑が少なく、大型液晶表示装置に特に好ましく用いられる。

　また、特開２０１１－１００１６１号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許４７５１４８１号公報、特許第４８０４５８９号公報に記載の方法で、塗布型偏光子を作製し本発明の積層フィルムと貼り合わせて偏光板を作製することも好ましい。

＜保護フィルム＞
　本発明の偏光板において使用可能な保護フィルムは、例えば、市販品として入手することができる。保護フィルムとしては、例えば、市販のセルロースアシレートフィルム（例えば、コニカミノルタタック　ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ４ＳＲ、ＫＣ４ＢＲ、ＫＣ４ＣＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＦＲ、ＫＣ４ＫＲ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ－ＨＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ２ＵＡＨ、ＫＣ４ＵＡＨ、ＫＣ６ＵＡＨ、以上、コニカミノルタ（株）製）が好ましく用いられる。

　保護フィルムの厚さは、特に制限されないが、１０～１００μｍ程度とすることができ、好ましくは１０～８０μｍの範囲であり、より好ましくは１０～６０μｍの範囲であり、特に好ましくは１０～４０μｍの範囲である。

　保護フィルムは、必要に応じて、例えば、セルロースアシレートフィルム等のフィルム本体に加えて、その他の層をさらに有してもよい。その他の層としては、例えば、反射防止層、帯電防止層、位相差層、輝度向上フィルム層等が挙げられる。

＜接着層＞
　接着層は、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液（水糊）を乾燥させて得られる層であってもよいし、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層であってもよい。

＜偏光板の製造方法＞
　本発明の偏光板は本発明の積層フィルムと偏光子を貼合することで製造できる。本発明の積層フィルムと偏光子を貼合する方法は、特に限定はなく、当該積層フィルムを鹸化処理した後、完全鹸化型のポリビニルアルコール系接着剤を用いて行うことができる。また、本発明の積層フィルムと偏光子を貼合は、活性エネルギー線硬化性接着剤等を用いて行うこともできる。得られる接着層の弾性率が高く、偏光板の変形を抑制しやすい点や外部環境の変動（熱湿度等）に対して耐性が高い点などから、活性エネルギー線硬化性接着剤を用いた貼合が好ましい。

　偏光板用の活性エネルギー線硬化性接着剤としては、光ラジカル重合を利用した光ラジカル重合型組成物、光カチオン重合を利用した光カチオン重合型組成物、並びに光ラジカル重合及び光カチオン重合を併用したハイブリッド型組成物が知られている。

　光ラジカル重合型組成物としては、特開２００８－００９３２９号公報に記載のヒドロキシ基やカルボキシ基等の極性基を含有するラジカル重合性化合物及び極性基を含有しないラジカル重合性化合物を特定割合で含む組成物）等が知られている。

　特に、ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の好ましい例には、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が含まれる。（メタ）アクリロイル基を有する化合物の例には、Ｎ置換（メタ）アクリルアミド系化合物、（メタ）アクリレート系化合物などが含まれる。「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルとメタクリロイルの一方又は両方を意味する。（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリレートも同様である。

　また、光カチオン重合型組成物としては、特開２０１１－０２８２３４号公報に開示されているような、（α）カチオン重合性化合物、（β）光カチオン重合開始剤、（γ）３８０ｎｍより長い波長の光に極大吸収を示す光増感剤、及び（δ）ナフタレン系光増感助剤の各成分を含有する活性エネルギー線硬化性接着剤が挙げられる。ただし、これ以外の活性エネルギー線硬化性接着剤が用いられてもよい。

　以下、活性エネルギー線硬化性接着剤を用いた偏光板の製造方法の一例を説明する。偏光板は、（１）積層フィルムの偏光子を接着する面を易接着処理する前処理工程、（２）偏光子と積層フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、上記の活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布する接着剤塗布工程、（３）得られた接着剤層を介して偏光子と光学フィルムとを貼り合せる貼合工程、及び４）接着剤層を介して偏光子と光学フィルムとが貼り合わされた状態で接着剤層を硬化させる硬化工程、を含む製造方法によって製造することができる。（１）の前処理工程は、必要に応じて実施すればよい。

（前処理工程）
　前処理工程では、積層フィルムの、偏光子との接着面、例えば積層フィルムの基材側の表面に易接着処理を行う。偏光子の両面にそれぞれ積層フィルムと保護フィルムを接着させる場合は、積層フィルムと併せて保護フィルムの偏光子との接着面に易接着処理を行う。易接着処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理等が挙げられる。

（接着剤塗布工程）
　接着剤塗布工程では、偏光子と積層フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、上記活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布する。偏光子又は積層フィルムの表面に直接活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布する場合、その塗布方法に特別な限定はない。例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等、種々の塗工方式が利用できる。また、偏光子と積層フィルムの間に、活性エネルギー線硬化性接着剤を流延させた後、ローラー等で加圧して均一に押し広げる方法も利用できる。また、偏光板が保護フィルムを有する場合は、偏光子と保護フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、上記活性エネルギー線硬化性接着剤を同様にして塗布する。

（貼合工程）
　こうして活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布した後、貼合工程に供される。この貼合工程では、例えば、先の塗布工程で偏光子の表面に活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布した場合、そこに積層フィルムが重ね合わされる。先の塗布工程で積層フィルムの表面に活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布した場合は、そこに偏光子が重ね合わされる。また、偏光子と積層フィルムの間に活性エネルギー線硬化性接着剤を流延させた場合は、その状態で偏光子と積層フィルムとが重ね合わされる。

　偏光子の両面に積層フィルム及び保護フィルムを接着する場合であって、両面とも活性エネルギー線硬化性接着剤を用いる場合は、偏光子の両面にそれぞれ、活性エネルギー線硬化性接着剤を介して積層フィルム及び保護フィルムが重ね合わされる。そして通常は、この状態で両面（偏光子の片面に積層フィルムを重ね合わせた場合は、偏光子側と積層フィルム側、また偏光子の両面に積層フィルム及び保護フィルムを重ね合わせた場合は、その両面の積層フィルム及び保護フィルム側）からローラー等で挟んで加圧することになる。ローラーの材質は、金属やゴム等を用いることが可能である。両面に配置されるローラーは、同じ材質であってもよいし、異なる材質であってもよい。

（硬化工程）
　硬化工程では、未硬化の活性エネルギー線硬化性接着剤に活性エネルギー線を照射して、接着剤層を硬化させて活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物からなる接着層とする。それにより、活性エネルギー線硬化性接着剤を介して重ね合わせた偏光子と積層フィルム及び任意の保護フィルムとを接着させる。偏光子の片面に積層フィルムを貼合する場合、活性エネルギー線は、偏光子側又は積層フィルム側のいずれから照射してもよい。また、偏光子の両面にそれぞれ積層フィルム及び保護フィルムを貼合する場合、偏光子の両面にそれぞれ活性エネルギー線硬化性接着剤を介して積層フィルム及び保護フィルムを重ね合わせた状態で、いずれか一方のフィルム側から活性エネルギー線を照射し、両面の活性エネルギー線硬化性接着剤を同時に硬化させるのが有利である。

　活性エネルギー線としては、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線等を用いることができ、取扱いが容易で硬化速度も十分であることから、一般的には、電子線又は紫外線が好ましく用いられる。

　電子線の照射条件は、前記接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは５～３００ｋＶの範囲内であり、さらに好ましくは１０～２５０ｋＶの範囲内である。加速電圧が５ｋＶ未満の場合、電子線が接着剤まで届かず硬化不足となるおそれがあり、加速電圧が３００ｋＶを超えると、試料を通る浸透力が強すぎて電子線が跳ね返り、積層フィルム、保護フィルム及び偏光子にダメージを与えるおそれがある。照射線量としては、好ましくは５～１００ｋＧｙの範囲内、さらに好ましくは１０～７５ｋＧｙの範囲内である。照射線量が５ｋＧｙ未満の場合は、接着剤が硬化不足となり、１００ｋＧｙを超えると、積層フィルム、保護フィルム及び偏光子にダメージを与え、機械的強度の低下や黄変を生じ、所定の光学特性を得ることができないことがある。

　紫外線の照射条件は、前記接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。紫外線の照射量は積算光量で５０～１５００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であることが好ましく、１００～５００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲内であるのがさらに好ましい。

　以上のようにして得られた偏光板において、接着層の厚さは、特に限定されないが、通常０．０１～１０μｍの範囲内であり、好ましくは０．５～５μｍの範囲内である。

［液晶表示装置］
　本発明の液晶表示装置は、本発明の偏光板を具備したことを特徴とする。本発明の液晶表示装置は、本発明の積層フィルムを用いた本発明の偏光板を具備することで、良好な視認性を確保できる。

　本発明の液晶表示装置は、例えば、図３及び図４に示す構成を有する。図３は、本発明の液晶表示装置の一例の平面図であり、図４は、図３に示す液晶表示装置のＸ－Ｘ線における断面図である。図３及び図４に示す液晶表示装置１００は、液晶パネル３０と、液晶パネル３０の視認側の面Ｓａに配置された第１の偏光板２０ａ、液晶パネル３０のバックライト側の面Ｓｂに配置された第２の偏光板２０ｂとを有する。第１の偏光板２０ａ及び第２の偏光板２０ｂは、本発明の積層フィルム１０ａ、１０ｂをそれぞれ具備する本発明の偏光板である。

　なお、本発明の液晶表示装置は、例えば、第１の偏光板２０ａ及び第２の偏光板２０ｂのうち少なくとも第１の偏光板が本発明の偏光板であるのが好ましく、両方が本発明の偏光板であるのがより好ましい。

　液晶パネル３０は、２枚のガラス基板Ｇと、その間に配置された液晶セルＬとを有する。液晶パネル３０は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ　Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ　Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｅ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード（ＭＶＡ；Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ　Ｖｅｒｔｉｃａｌ　ＡｌｉｇｎｍｅｎｔやＰＶＡ；Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ　Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔも含む）、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ　Ａｌｉｇｎｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）モード等に好ましく用いることができる。コントラストを高めるためには、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）モード又はＩＰＳモードが好ましい。

　ＴＮモードの液晶パネルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０～１２０°にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶パネルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。

　ＶＡモードの液晶パネルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。

　ＶＡモードの液晶パネルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶パネル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶パネル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ　ｏｆ　Ｔｅｃｈ．　Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭモード）の液晶パネル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶パネル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。

　ＯＣＢモードの液晶パネルは、棒状液晶性分子を液晶パネルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶パネルであり、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶パネルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶パネルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ　Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。

　ＩＰＳモードの液晶パネルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはＰｒｏｃ．ＩＤＲＣ（Ａｓｉａ　Ｄｉｓｐｌａｙ　１９９５），ｐ．５７７－５８０及び同ｐ．７０７－７１０に記載されている。

　ＥＣＢモードの液晶パネルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ＥＣＢモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平５－２０３９４６号公報に詳細が記載されている。

　第１の偏光板２０ａは、液晶パネル３０の視認側の面Ｓａ上から順に第１の積層フィルム１０ａ、第１の偏光子１１ａ及び第１の保護フィルム１２ａを有する。第１の積層フィルム１０ａは、基材１と光学機能層２を有し、光学機能層２が液晶パネル３０の視認側の面Ｓａに貼合されている。

　第２の偏光板２０ｂは、液晶パネル３０のバックライト側の面Ｓｂ上から順に第２の積層フィルム１０ｂ、第２の偏光子１１ｂ及び第２の保護フィルム１２ｂを有する。第２の積層フィルム１０ｂは、基材１と光学機能層２を有し、光学機能層２が液晶パネル３０のバックライト側の面Ｓｂに貼合されている。

　第１の偏光子１１ａの吸収軸と第２の偏光子１１ｂの吸収軸とは直交している（クロスニコルとなっている）ことが好ましい。

　液晶表示装置１００の液晶パネル３０は、２枚のガラス基板Ｇと、その間に配置された液晶セルＬとを有する。液晶セルＬは、例えば、１対の透明電極の間に１対の配向膜を有し、配向膜の間に液晶層を有し、さらに、視認側のガラス基板Ｇの内側にカラーフィルタを有する構成である。

　ガラス基板Ｇの厚さは０．３～０．７ｍｍの範囲が好ましく、さらに、０．３～０．５ｍｍの範囲が好ましい。本発明の偏光板は、温湿度による寸法変化が小さいため、特に、中小型のモバイル電子機器向けに用いられる薄いガラスに対して、好ましく用いられる。

　液晶表示装置１００において、第１の積層フィルム１０ａの光学機能層２の表面と液晶パネル３０の視認側の面２ａ及び第２の積層フィルム１０ｂの光学機能層２の表面と液晶パネル３０のバックライト側の面２ｂとの貼合は、公知の手法により行われ得る。場合によっては、接着層（図示せず）を介して貼合されてもよい。接着層としては、上記の偏光板の作製において用いたのと同様の活性エネルギー線硬化性接着剤により得られる接着層が好ましい。

　本発明の液晶表示装置は、ＩＰＳモード型であると本発明の効果がより顕著であり好ましい。本発明の偏光板が用いられた液晶表示装置は、本発明の積層フィルムの作用により、視野角特性に優れ、色ムラ等が抑制された視認性に優れた液晶表示装置である。

　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。

［積層フィルムの作製］
（１）基材の作製
（１－１）セルロースアシレートの合成
　セルロースアシレートとして表IIに示す、種類のアシル基、及びアシル基置換度、数平均分子量（Ｍｎ）を有する３種類のセルロースアシレート１～３を、特開平１０－４５８０４号公報に記載の方法に従って合成した。なお、セルロースアシレート１及び２がセルロースアシレート（Ａ）に相当するセルロースアシレートであり、セルロースアシレート３はセルロースアシレート（Ａ）の範囲外のセルロースアシレートである。

（１－２）糖エステルの合成
　表IIIに示す糖のヒドロキシ基の水素原子を表IIIに示すアシル基で表IIIに示す割合で置換した糖エステル１～５を上記した合成例（スクロースの無水安息香酸によるエステル化反応）に準じて合成した。具体的には、糖エステル１、２、５は、上記合成例において無水安息香酸を無水酢酸に変更してエステル化反応を行い、上記と同様の方法によりエステル化率を調整して作製した。糖エステル３は上記合成例のとおり作製した。糖エステル４は、上記合成例においてスクロースをグルコースに、及び無水安息香酸を無水酢酸に変更してエステル化反応を行い、上記と同様の方法によりエステル化率を調整して作製した。

　なお、糖エステル１～４が糖エステル（Ｂ）に相当する糖エステルであり、糖エステル５は糖エステル（Ｂ）の範囲外の糖エステルである。

（１－３）基材の作製
　積層フィルム用の基材は、以下のとおり溶液流延製膜法により作製した。

（ドープの調製）
　表IVに示す組成のドープ１～９を調製した。具体的には、まず、加圧溶解タンクに溶媒であるメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶媒の入った加圧溶解タンクにセルロースアシレート、糖エステル、マット剤を撹拌しながら投入し、これを加熱し、撹拌しながら完全に溶解及び分散した。表IVに示すマット剤は、全てアエロジルＲ８１２の１２％エタノール分散液（日本アエロジル（株）製）である。

　得られた液状物を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、ドープ１～９を得た。

（基材１の作製）
　上記で調製したドープ１を、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、１．８ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、４０℃で１分、その後６０℃で残留溶剤量が２０％になるまで溶媒を蒸発させウェブ１として剥離張力１６２Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。

　次いで、剥離したウェブ１を３５℃で溶媒を蒸発させ、１．６ｍ幅にスリットし、その後、テンター延伸機を用いて、基材１のガラス転移温度をＴｇ（上記のとおり基材１を構成する材料を用いて予め作製された基材サンプルにより測定されたＴｇ）としたときに、（Ｔｇ＋２０）℃の温度で幅手方向（ＴＤ方向）に元幅に対して１．０５倍延伸した。この時、テンター延伸機による延伸を開始したときの残留溶媒量は４質量％であった。その後、１２０℃、１４０℃の乾燥ゾーンを多数のローラーで搬送させながら乾燥を終了させ、基材１を作製した。基材の厚さは４０μｍであった。

（基材２～９の作製）
　上記において、ドープ１をドープ２～９に変更した以外は同様にして、いずれも厚さが４０μｍの基材２～９を作製した。

（基材１０の作製）
　上記調製したドープ１を、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、１．８ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、６５℃で１分、その後４０℃で残留溶剤量が２０％になるまで溶媒を蒸発させウェブ１０として剥離張力１６２Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。その後、上記基材１の作製において、ウェブ１を延伸、乾燥したのと同様にしてウェブ１０を延伸、乾燥して厚さが４０μｍの基材１０を作製した。

＜基材の光学特性＞
　得られた基材１～１０について、波長６５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ６５０と、波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ４５０とから、上記式（１）に基づいて値Ｔ（面外位相差の傾きＴ）を求めた。結果を、各基材が含有する材料の構成と共に表Ｖに示す。なお、表中、糖エステルの添加量はセルロースアシレート１００質量部に対する添加量である。

（２）光学機能層用材料の合成
　光学機能層用材料として、フマル酸エステル重合体１～３を製造した。

＜合成例１＞
　３０リットルオートクレーブ中に、部分ケン化ポリビニルアルコール０．２質量％を含む蒸留水１８ｋｇ、フマル酸ジイソプロピル３ｋｇ、重合開始剤として、ジメチル－２，２´－アゾビスイソブチレート７ｇを仕込み、重合温度５０℃、重合時間２４時間の条件にて懸濁ラジカル重合反応を行なった。得られた粒子を濾過後、メタノールで十分洗浄し８０℃にて乾燥しフマル酸ジイソプロピル単独重合体を得た。得られたフマル酸ジイソプロピル単独重合体の数平均分子量は１６００００であった。フマル酸ジイソプロピル単独重合体はエステル部の１００％がイソプロピルエステルであるフマル酸エステル重合体である。フマル酸ジイソプロピル単独重合体をフマル酸エステル重合体１とした。

＜合成例２＞
　撹拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた１リットル反応器に、蒸留水６００ｇ、分散剤であるヒドロキシプロピルメチルセルロース（信越化学製、商品名メトローズ６０ＳＨ－５０）３．４ｇ、フマル酸ジイソプロピル３５０．９ｇ、フマル酸ジエチル４９．１ｇ（フマル酸ジイソプロピル１００質量部に対し、１４．０質量部）及び油溶性ラジカル開始剤であるｔ－ブチルパーオキシピバレート８．３ｇを入れ、窒素バブリングを１時間行なった後、４００ｒｐｍで撹拌しながら５０℃で２８時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。重合反応の終了後、反応器より内容物を回収し、重合物をろ別し、蒸留水で２回洗浄およびメタノールで２回洗浄後、８０℃で減圧乾燥した（収率：７５％）。

　得られたフマル酸エステル共重合体の数平均分子量は１３８０００であった。^１Ｈ－ＮＭＲ測定により、得られたフマル酸エステル共重合体は、フマル酸ジイソプロピル重合単位／フマル酸ジエチル重合単位＝８７／１３（モル％）であるフマル酸ジイソプロピル・フマル酸ジエチル共重合体であることを確認した。すなわち、得られたフマル酸エステル共重合体は、エステル部の８７％がイソプロピルエステルであるフマル酸エステル共重合体である。このフマル酸エステル共重合体をフマル酸エステル重合体２とした。

＜合成例３＞
　上記合成例２において、重合に用いるフマル酸ジイソプロピルとフマル酸ジエチルのモル比を、フマル酸ジイソプロピル：フマル酸ジエチルとして、７：３に変更した以外は上記と同様にして重合を行い、数平均分子量１４００００、フマル酸ジイソプロピル重合単位／フマル酸ジエチル重合単位＝７０／３０（モル％）であるフマル酸ジイソプロピル・フマル酸ジエチル共重合体を得た。すなわち、得られたフマル酸エステル共重合体は、エステル部の７０％がイソプロピルエステルであるフマル酸エステル共重合体である。このフマル酸エステル共重合体をフマル酸エステル重合体３とした。

（３）積層フィルムの作製
　上記で作製した基材１～１０及びフマル酸エステル重合体１～３を用いて以下のとおり積層フィルムを作製した。

（積層フィルム１の作製）
　合成例１で得られたフマル酸エステル重合体１をトルエン：メチルエチルケトン質量比１：１の溶液に溶解した１０％溶液として、塗布溶液を作製した。基材１上に得られた塗布溶液をドクターブレード法にて乾燥後の層の厚さが２μｍとなるよう塗布し乾燥して光学機能層を形成し積層フィルム１を得た。

（積層フィルム２～１６の作製）
　積層フィルム１の作製において、基材の種類、フマル酸エステル重合体の種類、光学機能層の厚さを表VIに示すとおりに変更した以外は、上記と同様にして積層フィルム２～１６を作製した。

［積層フィルムの評価］
　得られた積層フィルム１～１６について、以下のとおり光学特性及び層間密着性を評価した。結果を、作製に用いた基材と光学機能層の種類と共に表VIに示す。なお、表中、「イソプロピル％」はフマル酸エステル重合体中のエステル部におけるイソプロピルエステルが占める割合（％）を示す。

（１）光学特性
　波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ４５０と、波長５５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ５５０との比の値Ｒｔｈ４５０／Ｒｔｈ５５０を求めた。表には、Ｒｔｈ４５０／Ｒｔｈ５５０及びＲｔｈ５５０を示した。

（２）密着性
　積層フィルムにおける光学機能層にＮＴカッターを用いて１ｍｍ間隔で縦横それぞれ１１本ずつの傷をつけ、１００マスのマス目を形成した。この上にセロハン粘着テープ（セロテープ（登録商標）Ｎｏ．４０５、２４ｍｍ幅、ニチバン（株）製）を貼って、垂直（９０°）方向にすばやく引っ張る剥離試験を行った。このとき、以下の評価基準のように、剥離したマス目の数によって、密着性を評価した。なお、試験は２３℃、５５％ＲＨ環境下で実施した。

（評価基準）
◎：残った数が１００マス
〇：残った数が９０マス以上９９マス以下
×：残った数が８９マス以下

［偏光板の作製］
　積層フィルム１～１６を用いて、偏光子と、偏光子の一方の面に積層フィルム及び他方の面に保護フィルムを有する構成の偏光板を作製した。なお、偏光子と積層フィルム及び保護フィルムは、活性エネルギー線硬化性接着剤を用いて貼合した。

（偏光子の作製）
　平均重合度２４００、ケン化度９９．９モル％の厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の温水中に６０秒間浸漬し膨潤させた。次いで、得られたフィルムを、ヨウ素／ヨウ化カリウム（質量比＝０．５／８）の濃度０．３％の水溶液に浸漬し、３．５倍まで延伸させながら染色した。その後、得られたフィルムを、６５℃のホウ酸エステル水溶液中で、トータルの延伸倍率が６倍となるように延伸した。その後、得られたフィルムを、４０℃のオーブンにて３分間乾燥して、厚さ２５μｍの偏光子を得た。

（保護フィルム）
　保護フィルムとして、ＫＣ２ＵＡ（製品名、コニカミノルタ（株）製、セルロースアシレートフィルム）を準備した。

（接着剤１；光ラジカル重合型の活性エネルギー線硬化性接着剤）
　ＨＥＡＡ（ヒドロキシエチルアクリルアミド、興人社製）を５０質量部、ＨＥＡ（２－ヒドロキシエチルアクリレート、興人社製）を５０質量部、及び、光ラジカル重合開始剤として、ＢＡＳＦジャパン社製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９を３質量部混合して、５０℃で１時間撹拌し、接着剤１を得た。

（偏光板１の作製）
　積層フィルム１の基材側の表面及び保護フィルム（ＫＣ２ＵＡ）の一方の表面にコロナ放電処理を施した。コロナ放電処理の条件は、コロナ出力強度２．０ｋＷ、ライン速度１８ｍ／分とした。次いで、積層フィルム１及び保護フィルムのコロナ放電処理面に、上記のとおり調製した接着剤１を、硬化後の接着層の厚さが０．５μｍとなるようにバーコーターで塗工した。

　上記のとおり作製した偏光子の両面に上記の積層フィルム１及び保護フィルムの接着剤塗工面を貼合して、積層フィルム１／接着剤１の塗工層／偏光子／接着剤１の塗工層／保護フィルム（ＫＣ２ＵＡ）の積層体を得た。この積層体の両面側から、ベルトコンベヤ付き紫外線照射装置（ランプは、フュージョンＵＶシステムズ社製のＤバルブを使用）を用いて、積算光量が７５０ｍＪ／ｃｍ^２となるように紫外線を照射し、接着剤１の塗工層を硬化させて接着層として偏光板１を得た。

（偏光板２～１６の作製）
　積層フィルム１の代わりに積層フィルム２～１６を用いた以外は、偏光板１と同様にして偏光板２～１６を作製した。

［液晶表示装置の作製］
　上記で作製した偏光板１～１６を用いて液晶表示装置を作製した。具体的には、日立製ＩＰＳモード液晶テレビＷｏｏｏ　Ｗ３２－Ｌ７０００を準備した。液晶テレビの概略断面は図４に示す構成であり、当該液晶テレビにおいて、液晶パネルのガラス基板面に貼合されていた視認側及びバックライト側の両方の偏光板を剥がした。上記のとおり作製した偏光板１を２枚準備し、各偏光板１の積層フィルムの光学機能層面を、液晶パネルの視認側及びバックライト側のガラス基板面にそれぞれ貼合して液晶表示装置１を作製した。なお、貼合に際しては、２枚の偏光板１の吸収軸が、用いた液晶テレビに貼合されていた２枚の偏光板の吸収軸と、視認側及びバックライト側において、それぞれ同一方向となるように貼り合わせて液晶表示装置１を作製した。偏光板２～１６を用いて上記と同様にして液晶表示装置２～１６を作製した。

［評価］
　得られた液晶表示装置１～１６について、液晶表示装置の電源をＯＮにして、白色画像を映した際の、色味ムラ及び左右色味差を以下のとおり評価することで、斜めからの視認性を評価した。結果を表VIIに示す。

（１）色味ムラ
　液晶表示装置の視認側に向かって右４５°及び左４５°から白色画像の画面を目視し色味を確認した。左右のそれぞれについて以下の基準で評価した。

（評価基準）
◎：全くムラ見えない。
〇：薄いムラが見えるが視認性に問題ない。
×：ムラが見え視認性に問題あり。

（２）左右色味差
　液晶表示装置の視認側に向かって右４５°及び左４５°から白色画像の画面を目視し色味を確認した際の左右の色味差を以下の基準で評価した。

（評価基準）
◎：色味に左右差なし。
〇：色味に若干の左右差があるが気にならない。
×：色味に差がある（例えば、右４５°から見たときには青に見え、左４５°から見たときには赤に見える。）。

　表VI及び表VIIから本発明の積層フィルムは、層間密着性が良好であるとともに、これを備える偏光板を用いた液晶表示装置は良好な視認性を確保できることが分かる。

　本発明によれば、フマル酸エステル系樹脂層を有する位相差フィルムにおいて、層間密着性が良好であり、かつ、これを用いた液晶表示装置において良好な視認性を確保できる積層フィルム及び該積層フィルムを用いた偏光板を提供することができる。また、該積層フィルムを用いることで、良好な視認性を確保できる液晶表示装置を提供することができる。

　１０、１０ａ、１０ｂ　積層フィルム
　１　基材
　２　光学機能層
　２０、２０ａ、２０ｂ　偏光板
　１１、１１ａ、１１ｂ　偏光子
　１２、１２ａ、１２ｂ　保護フィルム
　１００　液晶表示装置
　３０　液晶パネル
　Ｇ　ガラス板
　Ｌ　液晶セル

Claims

　基材と光学機能層とを含む積層フィルムであって、
　前記基材が、アシル基置換度が２．６～３．０の範囲内にあるセルロースアシレートと、ヒドロキシ基の７０～１００％において水素原子がアシル基に置換された糖エステルを含み、
　前記基材について波長６５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ６５０と、波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒ４５０とから、下記式（１）に基づいて求められる値Ｔが０．０４０～０．０５５の範囲内にあり、
　　　式（１）　　　Ｔ＝（Ｒ６５０－Ｒ４５０）／（６５０－４５０）
　前記光学機能層が、フマル酸エステルの重合単位を全重合単位に対して９０モル％以上の割合で含む重合体を含有し、前記フマル酸エステルの重合単位のエステル部は８０～１００％がイソプロピルエステルであり、
　前記積層フィルムについて波長４５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ４５０と、波長５５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ５５０との比の値Ｒｔｈ４５０／Ｒｔｈ５５０が１．１～１．９の範囲内にある積層フィルム。
　前記積層フィルムについて波長５５０ｎｍの光で測定した面外位相差Ｒｔｈ５５０が、－３０～－１５ｎｍの範囲内にある請求項１に記載の積層フィルム。
　請求項１又は請求項２に記載の積層フィルムと偏光子が積層されてなる偏光板。
　請求項３に記載の偏光板を具備した液晶表示装置。