WO2021230031A1

WO2021230031A1 - 発光粒子含有樹脂組成物、その製造方法、光変換層および発光素子

Info

Publication number: WO2021230031A1
Application number: PCT/JP2021/016235
Authority: WO
Inventors: 浩一延藤; 良夫青木; 安男梅津; 真一平田; 卓央林; 雅弘堀口; 操堀米; 建軍袁
Original assignee: Dic株式会社
Priority date: 2020-05-13
Filing date: 2021-04-22
Publication date: 2021-11-18
Also published as: JPWO2021230031A1; JP7184222B2; CN115362220A; KR20230009874A

Abstract

本発明が解決しようとする課題は、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶と熱硬化樹脂とを含有し、熱硬化時に発光強度の低下を招くことのない熱安定性に優れた発光粒子含有樹脂組成物及びその製造方法、前記樹脂組成物を用いた光変換層並びに発光素子を提供することにある。本発明の発光粒子含有樹脂組成物は、メタルハライドからなり発光性を有する半導体ナノ結晶を含み、該結晶粒子表面にＳｉ、Ａｌ及びＴｉのうち１種以上を含む無機被覆層とを備えた発光粒子と、１種又は２種以上の熱硬化性樹脂と、１種又は２種以上の有機溶剤とを含有することを特徴とする。

Description

発光粒子含有樹脂組成物、その製造方法、光変換層および発光素子

　本発明は、発光粒子含有樹脂組成物、その製造方法、光変換層および発光素子に関する。

　近年、次世代の表示素子に要求される国際規格ＢＴ．２０２０を満たす材料として、発光性を有する半導体ナノ結晶が注目されている。前記半導体ナノ結晶は、蛍光又は燐光を発し、発光波長の半値幅が狭いという特徴がある。前記半導体結晶として、初期にはＣｄＳｅが使用されていたが、その有害性を回避するために、最近ではＩｎＰや、メタルハライドからなるものが使用されている。メタルハライドからなる半導体ナノ結晶、特に、ペロブスカイト型結晶構造を有する半導体ナノ結晶として、例えば、ＣｓＰｂＸ_３（Ｘはハロゲン元素であり、Ｃｌ、ＢｒまたはＩを示す。）で表される化合物が知られている。

　中でも、ペロブスカイト型結晶構造を有する半導体ナノ結晶は、ハロゲン元素の種類とその存在割合を調整することにより発光波長を制御することができるため、生産性に優れるという利点がある。そして、例えば、光変換フィルムを作成するためのインク組成物として、ペロブスカイト型結晶構造を有する半導体ナノ結晶と、光硬化性樹脂と、溶媒とを含むものが提案されている（例えば、特許文献１を参照。）。特許文献１には、実施例１として、オレイン酸及びオレイルアミンが配位したペロブスカイト型結晶構造を有する三臭化鉛セシウム結晶と、ラウリルメタクリレートと、トルエンとを含むインク組成物が開示されている。

　ところが、ペロブスカイト型結晶構造を有する半導体ナノ結晶は、３００～５００ｎｍの波長領域の吸収が大きい。前記インク組成物を十分に硬化させるためには、前記半導体半導体ナノ結晶による紫外光の吸収を考慮して、前記インク組成物に光重合開始剤及び光増感剤を大量に添加する必要がある。しかし、光重合開始剤及び光増感剤を大量に含有するインク組成物は、経時的に粘度が上昇し、例えばインクジェット方式で当該インク組成物を吐出しようとするときにインクジェットノズルからの吐出安定性が低下するという問題がある。そこで、上記インク組成物において、光硬化性樹脂に代えて熱硬化性樹脂を用いることが考えられる。

　しかしながら、ペロブスカイト型結晶構造を有する半導体ナノ結晶は熱によって劣化しやすいため、半導体ナノ結晶と熱硬化性樹脂とを含むインク組成物を熱硬化すると、当該半導体ナノ結晶の発光強度が大きく低下するという不都合があった。

国際公開第２０１９／０２２１９５号

　そこで、本発明が解決しようとする課題は、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶と熱硬化樹脂とを含有し、熱硬化時に発光強度の低下を招くことのない熱安定性に優れた発光粒子含有樹脂組成物及びその製造方法、前記樹脂組成物を用いた光変換層並びに発光素子を提供することにある。

　本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶を、無機材料を含む無機層で被覆した複合粒子を発光粒子として用いることにより、バインダー樹脂として熱硬化性樹脂を用いた場合に、熱硬化時の熱履歴による半導体ナノ結晶の劣化を防ぐことができることを見出し、本発明を完成するに至った。

　すなわち、前記課題は、下記の（１）～（１６）の本発明により解決できる。
（１）　メタルハライドからなり発光性を有する半導体ナノ結晶を含み、該結晶表面にＳｉ、Ａｌ及びＴｉのうち１種以上を含む無機被覆層とを備えた発光粒子と、１種又は２種以上の熱硬化性樹脂と、１種又は２種以上の有機溶剤とを含有することを特徴とする、発光粒子含有樹脂組成物。

（２）　前記発光粒子が、当該発光粒子表面を被覆するポリマー層を備え、
　当該ポリマー層が、非水溶媒に可溶な重合性不飽和基を含有する重合体と、非水溶媒に可溶であって且つ重合後に不溶又は難溶になる重合性不飽和単量体とを重合することにより得られる疎水性ポリマーからなることを特徴とする、上記（１）に記載の発光粒子含有樹脂組成物。

（３）　前記有機溶剤のオクタノール／水分配係数の常用対数値ＬｏｇＰが－１．０以上～６．５以下であって且つ１気圧での沸点が１５０～２６０℃である上記（１）又は（２）に記載の発光粒子含有樹脂組成物。

（４）　前記有機溶剤の２０℃における蒸気圧が０．０５～５００Ｐａであり、且つ、１００℃における蒸気圧が２０℃における蒸気圧の４０倍以上である上記（３）に記載の発光粒子含有樹脂組成物。

（５）　前記熱硬化性樹脂がアルカリ不溶性である上記（１）～（４）のいずれか一項に記載の発光粒子含有樹脂組成物。

（６）　前記無機被覆層がシロキサン結合を形成する化合物からなる、上記（１）～（５）のいずれか１項に記載の発光粒子含有樹脂組成物。
（７）　前記無機被覆層が、中空部及び該中空部に連通する細孔を有する中空構造を備える粒子からなる、上記（１）～（５）の何れか１項に記載の発光粒子含有樹脂組成物。
（８）　前記中空構造を備える粒子が、中空シリカ粒子、中空アルミナ粒子又は中空酸化チタン粒子である上記（７）に記載の発光粒子含有樹脂組成物。

（９）　前記中空粒子の中空部と前記半導体ナノ結晶との間に、該半導体ナノ結晶の表面に配位した配位子で構成される中間層をさらに備えた上記（７）～（８）のいずれか一項に記載の発光粒子含有樹脂組成物。

（１０）　前記配位子が前記半導体ナノ結晶に含まれるカチオンに結合する結合性基を有するものである上記（９）に記載の発光粒子含有樹脂組成物。

（１１）　前記結合性基が、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホン酸基およびボロン酸基からなる群から選択される１種又は２種以上の基である上記（１０）に記載の発光粒子含有樹脂組成物。

（１２）　前記ポリマー層の厚さが０．５～１００ｎｍである上記（２）～（１１）のいずれか一項に記載の発光粒子含有樹脂組成物。

（１３）　さらに光散乱性粒子を含有する上記（１）～（１２）のいずれか一項に記載の発光粒子含有樹脂組成物。

　（１４）　半導体ナノ結晶の原料化合物を含む溶液と、Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物とを含む溶液とを混合することにより、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶を析出させると共に当該半導体ナノ結晶の表面に前記化合物を配位させ、その後、配位した前記化合物中の前記反応性基を縮合させることにより、前記半導体ナノ結晶の表面に前記シロキサン結合を有する表面層を形成した母粒子を得る工程と、前記発光粒子と、１種又は２種以上の熱硬化性樹脂と、１種又は２種以上の有機溶剤とを混合して発光粒子含有樹脂組成物を調製する工程とを備えたことを特徴とする、発光粒子含有樹脂組成物の製造方法。

　（１５）　半導体ナノ結晶の原料化合物を含む溶液と、Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物とを含む溶液とを混合することにより、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶を析出させると共に当該半導体ナノ結晶の表面に前記化合物を配位させ、その後、配位した前記化合物中の前記反応性基を縮合させることにより、前記半導体ナノ結晶の表面に前記シロキサン結合を有する表面層を形成した母粒子を得る工程と、次いで、前記母粒子の表面を疎水性ポリマーで被覆してポリマー層を形成する工程と、前記発光粒子と、１種又は２種以上の熱硬化性樹脂と、１種又は２種以上の有機溶剤とを混合して発光粒子含有樹脂組成物を調製する工程とを備えたことを特徴とする、発光粒子含有樹脂組成物の製造方法。

（１６）　中空部と該中空部に連通する細孔を有する中空粒子の該中空部に、メタルハライドからなり発光性を有する半導体ナノ結晶を析出させることにより、前記中空粒子と前記半導体ナノ結晶とを備えた発光粒子を得る工程と、
　前記発光粒子と、１種又は２種以上の熱硬化性樹脂と、１種又は２種以上の有機溶剤とを混合して発光粒子含有樹脂組成物を調製する工程とを備えたことを特徴とする、発光粒子含有樹脂組成物の製造方法。

（１７）　中空部と該中空部に連通する細孔を有する中空粒子の該中空部に、メタルハライドからなり発光性を有する半導体ナノ結晶を析出させることにより、前記中空粒子と前記半導体ナノ結晶とを備えた発光粒子を得る工程と、
　前記発光粒子の表面を疎水性ポリマーからなるポリマー層で被覆する工程と、
　前記ポリマー層で被覆された前記発光粒子と、１種又は２種以上の熱硬化性樹脂と、１種又は２種以上の有機溶剤とを混合して発光粒子含有樹脂組成物を調製する工程とを備えたことを特徴とする、発光粒子含有樹脂組成物の製造方法。

（１８）　画素部を備える光変換層であって、
　前記画素部が上記（１）～（１３）のいずれか一項に記載の発光粒子含有樹脂組成物の硬化物を含むことを特徴とする、光変換層。

（１９）　上記（１８）記載の光変換層を備えたことを特徴とする、発光素子。

　本発明によれば、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶と熱硬化性樹脂とを含み、熱硬化時に発光強度の低下を招くことのない熱安定性に優れた発光粒子含有樹脂組成物及びその製造方法、前記樹脂組成物を用いた光変換層並びに発光素子を提供することができる。

本発明に係る発光粒子の製造方法の一実施形態を示す断面図である。本発明に係る発光性ナノ結晶を含むナノ粒子の他の構成例を示す断面図である。（ａ）は中空粒子内包発光粒子を示し、（ｂ）はポリマー被覆発光粒子を示す。本発明に係る発光性ナノ結晶を含むナノ粒子の他の一実施形態を示す断面図である。（ａ）はシリカ被覆発光粒子を示し、（ｂ）はポリマー被覆発光粒子を示す。本発明に係る発光素子の一実施形態を示す断面図である。アクティブマトリックス回路の構成を示す概略図である。アクティブマトリックス回路の構成を示す概略図である。

　以下、本発明の発光粒子含有樹脂組成物、その製造方法および発光素子について、添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明の発光粒子の製造方法の一実施形態を示す断面図である。中空粒子として中空シリカ粒子を用いた場合の製造例を示す。なお、図１では、下段のナノ結晶原料付与以降の中空粒子９１２において、細孔９１２ｂの記載を省略した。

１．発光粒子含有樹脂組成物
　本発明の実施形態の発光粒子含有樹脂組成物は、発光粒子と、熱硬化性樹脂と、有機溶剤と、を含有する。一実施形態の発光粒子含有樹脂組成物は、後述するように、有機ＥＬを用いた発光表示素子の光変換層をインクジェット方式で形成する用途に好適に用いることができる。

１－１．発光粒子
　図１に示す発光粒子９１は、中空部９１２ａと中空部９１２ａに連通する細孔９１２ｂとを有する中空粒子９１２と、中空部９１２ａに収容され、メタルハライドからなり発光性を有する半導体ナノ結晶９１１（以下、単に「ナノ結晶９１１」ということもある。）とを備える。かかる発光粒子９１は、例えば、中空粒子９１２の中空部９１２ａにナノ結晶９１１を析出させることにより得ることができる。発光粒子９１は、ナノ結晶９１１が中空粒子９１２により保護されるため、熱や酸素に対する優れた安定性を得ることができ、その結果、優れた発光特性を得ることができる。

　発光粒子９１は、その表面を疎水ポリマーからなるポリマー層９２を備えた発光粒子（以下、「ポリマー被覆発光粒子」と記載することがある。）９０であることがより好ましい。ポリマー被覆発光粒子９０は、ポリマー層９２を備えることにより、熱、酸素に対する安定性をさらに向上させると共に、優れた粒子分散性を得ることができるため、より優れた発光特性を得ることができる。

１－１－１．発光粒子９１及びその作製方法
　発光粒子９１は、中空粒子９１２と、この中空粒子９１２に収容されたナノ結晶９１１とを有している。本発明ではこのように、中空粒子９１２の中空部内にナノ結晶９１１があらかじめ収容された複合粒子を発光粒子として使用することにより熱硬化の熱履歴によるナノ結晶９１１の劣化を防止できる。

　［ナノ結晶９１１］
　ナノ結晶９１１は、メタルハライドからなり、励起光を吸収して蛍光または燐光を発光するナノサイズの半導体結晶体（ナノ結晶粒子）である。かかるナノ結晶９１１は、例えば、透過型電子顕微鏡または走査型電子顕微鏡によって測定される最大粒子径が１００ｎｍ以下である結晶体である。ナノ結晶９１１は、例えば、所定の波長の光エネルギーや電気エネルギーにより励起され、蛍光または燐光を発することができる。

　メタルハライドからなるナノ結晶９１１は、一般式：Ａ_ａＭ_ｂＸ_ｃで表される化合物であり、例えば、後述のペロブスカイト型結晶構造を有するものが広く知られている。
　式中、Ａは、有機カチオンおよび金属カチオンのうちの少なくとも１種である。有機カチオンとしては、アンモニウム、ホルムアミジニウム、グアニジニウム、イミダゾリウム、ピリジニウム、ピロリジニウム、プロトン化チオウレア等が挙げられ、金属カチオンとしては、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ等のカチオンが挙げられる。
　Ｍは、少なくとも１種の金属カチオンである。金属カチオンとしては、１族、２族、３族、４族、５族、６族、７族、８族、９族、１０族、１１族、１３族、１４族、１５族から選ばれる金属カチオンが挙げられる。より好ましくは、Ａｇ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｉｒ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｏｓ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｎ、Ｚｒ等のカチオンが挙げられる。
　Ｘは、少なくとも１種のアニオンである。アニオンとしては、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、シアン化物イオン等が挙げられ、少なくとも１種のハロゲン化物イオンを含む。
　ａは、１～７の整数であり、ｂは、１～４の整数であり、ｃは、３～１６の整数である。

　一般式Ａ_ａＭ_ｍＸ_ｘで表される化合物は、具体的には、ＡＭＸ、Ａ_４ＭＸ、ＡＭＸ_２、ＡＭＸ_３、Ａ_２ＭＸ_３、ＡＭ_２Ｘ_３、Ａ_２ＭＸ_４、Ａ_２ＭＸ_５、Ａ_３ＭＸ_５、Ａ_３Ｍ_２Ｘ_５、Ａ_３ＭＸ_６、Ａ_４ＭＸ_６、ＡＭ_２Ｘ_６、Ａ_２ＭＸ_６、Ａ_４Ｍ_２Ｘ_６、Ａ_３ＭＸ_８、Ａ_３Ｍ_２Ｘ_９、Ａ_３Ｍ_３Ｘ_９、Ａ_２Ｍ_２Ｘ_１０、Ａ_７Ｍ_３Ｘ_１６で表される化合物が好ましい。
　式中、Ａは、有機カチオンおよび金属カチオンのうちの少なくとも１種である。有機カチオンとしては、アンモニウム、ホルムアミジニウム、グアニジニウム、イミダゾリウム、ピリジニウム、ピロリジニウム、プロトン化チオウレア等が挙げられ、金属カチオンとしては、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ等のカチオンが挙げられる。
　式中、Ｍは、少なくとも１種の金属カチオンである。具体的には、１種の金属カチオン（Ｍ^１）、２種の金属カチオン（Ｍ^１ _αＭ^２ _β）、３種の金属カチオン（Ｍ^１ _αＭ^２ _βＭ^３ _γ）、４種の金属カチオン（Ｍ^１ _αＭ^２ _βＭ^３ _γＭ^４ _δ）などが挙げられる。ただし、α、β、γ、δは、それぞれ０～１の実数を表し、かつα＋β＋γ＋δ＝１を表す。金属カチオンとしては、１族、２族、３族、４族、５族、６族、７族、８族、９族、１０族、１１族、１３族、１４族、１５族から選ばれる金属カチオンが挙げられる。より好ましくは、Ａｇ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｉｒ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｏｓ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｎ、Ｚｒ等のカチオンが挙げられる。
　式中、Ｘは、少なくとも１種のハロゲンを含むアニオンである。具体的には、１種のハロゲンアニオン（Ｘ^１）、２種のハロゲンアニオン（Ｘ^１ _αＸ^２ _β）などが挙げられる。アニオンとしては、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、シアン化物イオン等が挙げられ、少なくとも１種のハロゲン化物イオンを含む。

　上記一般式Ａ_ａＭ_ｍＸ_ｘで表されるメタルハライドからなる化合物は、発光特性をよくするために、Ｂｉ、Ｍｎ、Ｃａ、Ｅｕ、Ｓｂ、Ｙｂなどの金属イオンが添加（ドープ）されたものであってもよい。

　上記一般式Ａ_ａＭ_ｍＸ_ｘで表されるメタルハライドからなる化合物の中で、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物は、その粒子サイズ、Ｍサイトを構成する金属カチオンの種類および存在割合を調整し、さらにＸサイトを構成するアニオンの種類および存在割合を調整することにより、発光波長（発光色）を制御することができる点で、発光性ナノ結晶として利用する上で特に好ましい。具体的には、ＡＭＸ_３、Ａ_３ＭＸ_５、Ａ_３ＭＸ_６、Ａ_４ＭＸ_６、Ａ_２ＭＸ_６で表される化合物が好ましい。式中のＡ、Ｍ及びＸは上記のとおりである。また、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物は、上述のように、Ｂｉ、Ｍｎ、Ｃａ、Ｅｕ、Ｓｂ、Ｙｂなどの金属イオンが添加（ドープ）されたものであってもよい。

　ペロブスカイト型結晶構造を示す化合物の中でも、さらに良好な発光特性を示すために、ＡはＣｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｌｉであり、Ｍは１種の金属カチオン（Ｍ^１）、または２種の金属カチオン（Ｍ^１ _αＭ^２ _β）であり、Ｘは塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオンであることが好ましい。但し、αとβはそれぞれ０～１の実数を表し、α＋β＝１を表す。具体的には、Ｍは、Ａｇ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｋ、Ｉｎ、Ｎａ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｓｂ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｙｂ、Ｚｎ、Ｚｒから選ばれることが好ましい。

　メタルハライドからなりペロブスカイト型結晶構造を有するナノ結晶９１１の具体的な組成として、ＣｓＰｂＢｒ_３、ＣＨ_３ＮＨ_３ＰｂＢｒ_３、ＣＨＮ_２Ｈ_４ＰｂＢｒ_３等のＭとしてＰｂを用いたナノ結晶９１１は、光強度に優れると共に量子効率に優れることから、好ましい。また、ＣｓＰｂＢｒ_３、ＣＨ_３ＮＨ_３ＰｂＢｒ_３、ＣＨＮ_２Ｈ_４ＰｂＢｒ_３等のＭとしてＰｂ以外の金属カチオンを用いたナノ結晶９１１は、低毒性であって環境への影響が少ないことから、好ましい。

　ナノ結晶９１１は、６０５～６６５ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する光（赤色光）を発する赤色発光性の結晶であることが好ましく、５００～５６０ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する光（緑色光）を発する緑色発光性の結晶であることが好ましく、４２０～４８０ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する光（青色光）を発する青色発光性の結晶であることが好ましい。また、一実施形態において、これらのナノ結晶の組み合わせでもよい。
　なお、ナノ結晶９１１の発光ピークの波長は、例えば、絶対ＰＬ量子収率測定装置を用いて測定される蛍光スペクトルまたは燐光スペクトルにおいて確認することができる。

　赤色発光性のナノ結晶９１１は、６６５ｎｍ以下、６６３ｎｍ以下、６６０ｎｍ以下、６５８ｎｍ以下、６５５ｎｍ以下、６５３ｎｍ以下、６５１ｎｍ以下、６５０ｎｍ以下、６４７ｎｍ以下、６４５ｎｍ以下、６４３ｎｍ以下、６４０ｎｍ以下、６３７ｎｍ以下、６３５ｎｍ以下、６３２ｎｍ以下または６３０ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有することが好ましく、６２８ｎｍ以上、６２５ｎｍ以上、６２３ｎｍ以上、６２０ｎｍ以上、６１５ｎｍ以上、６１０ｎｍ以上、６０７ｎｍ以上または６０５ｎｍ以上の波長範囲に発光ピークを有することが好ましい。
　これらの上限値および下限値は、任意に組み合わせることができる。なお、以下の同様の記載においても、個別に記載した上限値および下限値は任意に組み合わせ可能である。

　緑色発光性のナノ結晶９１１は、５６０ｎｍ以下、５５７ｎｍ以下、５５５ｎｍ以下、５５０ｎｍ以下、５４７ｎｍ以下、５４５ｎｍ以下、５４３ｎｍ以下、５４０ｎｍ以下、５３７ｎｍ以下、５３５ｎｍ以下、５３２ｎｍ以下または５３０ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有することが好ましく、５２８ｎｍ以上、５２５ｎｍ以上、５２３ｎｍ以上、５２０ｎｍ以上、５１５ｎｍ以上、５１０ｎｍ以上、５０７ｎｍ以上、５０５ｎｍ以上、５０３ｎｍ以上または５００ｎｍ以上の波長範囲に発光ピークを有することが好ましい。

　青色発光性のナノ結晶９１１は、４８０ｎｍ以下、４７７ｎｍ以下、４７５ｎｍ以下、４７０ｎｍ以下、４６７ｎｍ以下、４６５ｎｍ以下、４６３ｎｍ以下、４６０ｎｍ以下、４５７ｎｍ以下、４５５ｎｍ以下、４５２ｎｍ以下または４５０ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有することが好ましく、４５０ｎｍ以上、４４５ｎｍ以上、４４０ｎｍ以上、４３５ｎｍ以上、４３０ｎｍ以上、４２８ｎｍ以上、４２５ｎｍ以上、４２２ｎｍ以上または４２０ｎｍ以上の波長範囲に発光ピークを有することが好ましい。

　ナノ結晶９１１の形状は、特に限定されず、任意の幾何学的形状であってもよく、任意の不規則な形状であってもよい。ナノ結晶９１１の形状としては、例えば、直方体状、立方体状、球状、正四面体状、楕円体状、角錐形状、ディスク状、枝状、網状、ロッド状等が挙げられる。なお、ナノ結晶９１１の形状としては、直方体状、立方体状または球状が好ましい。

　ナノ結晶９１１の平均粒子径（体積平均径）は、４０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、ナノ結晶９１１の平均粒子径は、１ｎｍ以上であることが好ましく、１．５ｎｍ以上であることがより好ましく、２ｎｍ以上であることがさらに好ましい。かかる平均粒子径を有するナノ結晶９１１は、所望の波長の光を発し易いことから好ましい。
　なお、ナノ結晶９１１の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡または走査型電子顕微鏡により測定し、体積平均径を算出することにより得られる。

　［中空粒子９１２］
　中空粒子９１２は、内部にナノ結晶９１１を収容可能な空間である中空部９１２ａと、中空部９１２ａに連通する細孔９１２ｂとを備えたものであればよく、全体の形状として、立方体状形態（直方体状、立方体状を含む）、球状（略真球状）、細長い球状（楕円球状）、ハニカム形状（断面が六角形であって両端が開口した筒を隙間なく並べた形状）等の粒子を用いることができる。直方体状、立方体状、略真球状、楕円球状の中空粒子は、バルーン構造又は中空構造を備えた粒子である。これらのバルーン構造又は中空構造を備えた中空粒子は、中空部９１２ａに収容されたナノ結晶９１１を全体に亘って覆うことによって、熱や酸素に対する安定性をより確実に得ることができるため、より好ましい。さらに、得られる発光粒子９０においては、後述するポリマー層９２との間に中空粒子９１２が介在するため、ナノ結晶９１１の酸素ガス、水分に対する安定性も向上する。

　中空部９１２ａには、１個のナノ結晶９１１が収容されてよく、複数個のナノ結晶９１１が収容されてもよい。また、中空部９１２ａは、１個または複数のナノ結晶９１１によって全体が占有されていてもよく、一部のみが占有されていてもよい。

　中空粒子としては、ナノ結晶９１１を保護できるものであれば、どのような材料であってもかまわない。合成の容易さ、透過率、コスト等の観点から、中空粒子としては、中空シリカ粒子、中空アルミナ粒子、中空酸化チタン粒子または中空ポリマー粒子であることが好ましく、中空シリカ粒子または中空アルミナ粒子であることがより好ましい。粒子表面処理が容易である点から、中空シリカ粒子であることがさらに好ましい。

　中空粒子９１２の平均外径は、特に限定されないが、５～３００ｎｍであることが好ましく、６～１００ｎｍであることがより好ましく、８～５０ｎｍであることがさらに好ましく、１０～２５ｎｍであることが特に好ましい。かかるサイズの中空粒子９１２であれば、ナノ結晶９１１の酸素、水分および熱に対する安定性を十分に高めることができる。

　中空粒子９１２の平均内径、すなわち、中空部９１２ａの直径は、特に限定されないが、１～２５０ｎｍであることが好ましく、２～１００ｎｍであることがより好ましく、３～５０ｎｍであることがさらに好ましく、５～１５ｎｍであることが特に好ましい。中空粒子９１２の平均内径が過度に小さい場合には中空部９１２ａ内でナノ結晶９１１が析出しないおそれがあり、過度に大きい場合には中空部９１ａ内でナノ結晶９１１が過度に凝集して発光効率が低下するおそれがある。上記範囲の平均内径を備えた中空粒子９１２であれば、凝集を抑制しつつナノ結晶９１１を析出させることができる。

　また、細孔９１２ｂのサイズは、特に限定されないが、０．５～１０ｎｍであることが好ましく、１～５ｎｍであることがより好ましい。この場合、ナノ結晶９１１の原料化合物を含有する溶液を中空部９１２ａ内に円滑かつ確実に浸透させることができる。

　中空粒子９１２の一例である中空シリカ粒子は、例えば、図１に示すように、（ａ）一級アミノ基および／または二級アミノ基を有する脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）と疎水性有機セグメント（ｘ２）とを有する共重合体（Ｘ）を水性媒体と混合し、疎水性有機セグメント（ｘ２）を主成分とするコアと脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）を主成分とするシェル層とからなる会合体（ＸＡ）を形成する工程と、（ｂ）会合体（ＸＡ）を含む水性媒体にシリカ原料（Ｙ）を加え、会合体（ＸＡ）を鋳型（テンプレート）としてシリカ原料（Ｙ）のゾルゲル反応を行い、シリカを析出させてコア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）を得る工程と、（ｃ）コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）から、共重合体（Ｘ）を除去する工程とにより作製することができる。

　脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）としては、例えば、ポリエチレンイミン鎖、ポリアリルアミン鎖等が挙げられる。中空シリカナノ粒子９１２の前駆体であるコア―シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）を効率的に製造できるため、ポリエチレンイミン鎖がより好ましい。また、脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）の分子量は、疎水性有機セグメント（ｘ２）の分子量とのバランスの図るため、繰り返し単位の数が５～１０，０００の範囲であることが好ましく、１０～８，０００の範囲であることがより好ましい。
　脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）の分子構造も、特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐状、デンドリマー状、星状または櫛状等が挙げられる。シリカ析出に鋳型とする会合体を効率的に形成でき、製造コスト等の観点から、分岐状ポリエチレンイミン鎖が好ましい。

　疎水性有機セグメント（ｘ２）としては、例えば、アルキル化合物に由来するセグメント、ポリアクリレート、ポリスチレン、ポリウレタンのような疎水性ポリマーに由来するセグメント等が挙げられる。
　アルキル化合物の場合、炭素原子数が５以上のアルキレン鎖を有する化合物であることが好ましく、炭素原子数１０以上のアルキレン鎖を有する化合物であることがより好ましい。疎水性有機セグメント（ｘ２）の鎖長は、会合体（ＸＡ）をナノサイズで安定化できる範囲であれば特に制限されないが、繰り返し単位の数が５～１０，０００の範囲であることが好ましく、５～１，０００の範囲であることがより好ましい。

　疎水性有機セグメント（ｘ２）は、脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）の末端にカップリングにより結合してもよく、脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）の途中にグラフトにより結合してもよい。１つの脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）には、１つの疎水性有機セグメント（ｘ２）のみが結合しても、複数の疎水性有機セグメント（ｘ２）が結合してもよい。
　共重合体（Ｘ）に含まれる脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）と疎水性有機セグメント（ｘ２）との割合は、水性媒体中で安定な会合体（ＸＡ）を形成できれば、特に限定されない。具体的には、脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）の割合が１０～９０質量％の範囲であることが好ましく、３０～７０質量％の範囲であることがより好ましく、４０～６０質量％の範囲であることがさらに好ましい。

　工程（ａ）では、共重合体（Ｘ）を水性媒体中に溶解することにより、コア－シェル構造を有する会合体（ＸＡ）を自己組織化によって形成させることができる。かかる会合体（ＸＡ）のコアは疎水性有機セグメント（ｘ２）を主成分とし、シェル層は脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）を主成分とし、疎水性有機セグメント（ｘ２）の疎水相互作用により、水性媒体中に安定な会合体（ＸＡ）を形成すると考えられる。水性媒体としては、例えば、水、水と水溶性溶媒との混合溶液等が挙げられる。混合溶液を用いる場合、混合溶液中に含まれる水の量は、体積比で水／水溶性溶媒が０．５／９．５～３／７であることが好ましく、０．１／９．９～５／５であることがより好ましい。生産性、環境やコスト等の観点から、水単独または水とアルコールとの混合溶液を使用することが好ましい。

　水性媒体中に含まれる共重合体（Ｘ）の量は、０．０５～１５質量％であることが好ましく、０．１～１０質量％であることがより好ましく、０．２～５質量％であることがさらに好ましい。水性媒体中において共重合体（Ｘ）の自己組織化により会合体（ＸＡ）を形成する際には、２以上の官能基を有する有機架橋性化合物を使用し、シェル層において脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）を架橋してもよい。かかる有機架橋性化合物としては、例えば、アルデヒド含有化合物、エポキシ含有化合物、不飽和二重結合含有化合物、カルボン酸基含有化合物等が挙げられる。

　次に、水の存在下で会合体（ＸＡ）を鋳型として、シリカ原料（Ｙ）のゾルゲル反応を行う（工程（ｂ））。シリカ原料（Ｙ）としては、例えば、水ガラス、テトラアルコキシシラン類、テトラアルコキシシランのようなオリゴマー類等が挙げられる。テトラアルコキシシラン類としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラ－ｔ－ブトキシシラン等が挙げられる。オリゴマー類としては、例えば、テトラメトキシシランの４量体、テトラメトキシシランの７量体、テトラエトキシシラン５量体、テトラエトキシシラン１０量体等が挙げられる。

　ゾルゲル反応は、溶媒の連続相では生じず、会合体（ＸＡ）上のみで選択的に進行する。したがって、会合体（ＸＡ）が解砕されない範囲で、反応条件を任意に設定することができる。ゾルゲル反応において、会合体（ＸＡ）とシリカ原料（Ｙ）との割合は、適宜に設定することができる。

　ゾルゲル反応の温度は、特に限定されず、０～９０℃の範囲であることが好ましく、１０～４０℃の範囲であることがより好ましく、１５～３０℃の範囲であることがさらに好ましい。この場合、効率的にコア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）を得ることができる。

　反応活性の高いシリカ原料（Ｙ）の場合、ゾルゲル反応の時間は、１分～２４時間の範囲であることが好ましく、３０分～５時間の範囲であることがより好ましい。また、反応活性が低いシリカ原料（Ｙ）の場合、ゾルゲル反応の時間は、５時間以上であることが好ましく、一週間とすることがより好ましい。

　工程（ｂ）により、互いに凝集せず、粒径が均一なコア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）を得ることができる。得られるコア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）の粒径分布は、製造条件や、目的とする粒径によっても異なるが、目的とする粒径（平均粒径）に対して±１５％以下、好ましくは±１０％以下に設定することができる。

　コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）は、疎水性有機セグメント（ｘ２）を主成分とするコアと脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）とシリカとを主成分とする複合体をシェル層とする。ここで、主成分とは、意図的な第３成分が含まれないことを言う。コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）におけるシェル層は、シリカが形成するマトリックスに脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）が複合化されてなる有機無機複合体である。
　コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）の粒径は、５～３００ｎｍであることが好ましく、６～１００ｎｍであることがより好ましく、８～５０ｎｍであることがさらに好ましく、１０～２５ｎｍであることが特に好ましい。かかる粒径は、共重合体（Ｘ）の種類、組成および分子量、シリカ原料（Ｙ）の種類、ゾルゲル反応条件等により調整できる。また、コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）は、分子の自己組織化により形成されるため、極めて優れた単分散性を示し、粒径分布の幅が平均粒径に対して±１５％以下とすることができる。

　コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）の形状は、球状またはアスペクト比が２以上の細長い球状とすることができる。また、一つの粒子内に複数のコアを有するコア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）を作製することもできる。かかる粒子の形状や構造等は、共重合体（Ｘ）の組成、シリカ原料（Ｙ）の種類およびゾルゲル反応条件等を変更することにより調整できる。

　コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）中に含まれるシリカの量は、３０～９５質量％の範囲であることが好ましく、６０～９０質量％の範囲であることがより好ましい。シリカの量は、共重合体（Ｘ）中に含まれる脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）の量、会合体（ＸＡ）の量、シリカ原料（Ｙ）の種類および量、ゾルゲル反応時間および温度等を変更することにより調整することができる。

　次に、工程（ｃ）で、コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）から共重合体（Ｘ）を除去することにより、目的とする中空シリカナノ粒子９１２を得ることができる。

　共重合体（Ｘ）を除去する方法としては、例えば、焼成処理、溶剤洗浄による処理が挙げられるが、共重合体（Ｘ）の除去率の観点から、焼成炉中での焼成処理法が好ましい。焼成処理としては、例えば、空気または酸素存在下での高温焼成、不活性ガス（例えば、窒素、ヘリウム）の存在下での高温焼成が挙げられるが、空気中での高温焼成が好ましい。焼成温度としては、３００℃以上であることが好ましく、３００～１０００℃の範囲であることがより好ましい。

　中空粒子９１２の作製方法は、上記工程（ａ）～（ｃ）を行う方法に限定されず、任意の方法で作製することができる。例えば、中空粒子９１２の一例である立方体状形態の中空シリカ粒子は、例えば、次のようにして形成することができる。

　まず、水系溶媒中にてコロイド状炭酸カルシウム、アルコキシシラン及び塩基性触媒を混合することにより、コロイド状炭酸カルシウムの表面にアルコキシシランを生じさせ、加水分解反応によってシリカ殻を形成する。

　コア粒子となるコロイド状炭酸カルシウムは、一次粒子径が２０～２００ｎｍの立方体状形態の炭酸カルシウムである。コロイド状炭酸カルシウムは、水酸化カルシウムの水スラリーに炭酸ガスを導入することによって沈殿した炭酸カルシウムを回収する方法等により得ることができる。炭酸カルシウムの結晶は、カルサイトであり通常は六方晶系であるが、合成条件の制御により、立方晶系に近い形状、すなわち「立方体状形態」に成長させることができる。ここで「立方体状形態」とは、立方体に限らず面で囲まれた立方体に似た形状をいう。目的とするコロイド状炭酸カルシウムを得るためには、比較的低温下で、沈殿反応の速度が比較的大きい条件であることが好ましい。

　水酸化カルシウムと炭酸ガスとの反応によって生じたコロイド状炭酸カルシウムは、反応直後は２０～２００ｎｍの一次粒子が凝集して数μｍの凝集粒子を形成している。そこで、この凝集粒子が沈殿した水系媒体を、室温下で静置したり、加熱下で攪拌するなどにより、平均粒子径が２０～７００ｎｍとなるまで熟成し、一次粒子として分散させることが好ましい。

　また、水系溶媒中にコロイド状炭酸カルシウムを混合する際、コロイド状炭酸カルシウムの水スラリーをそのまま混合してもよく、或いは、濃度調整を適宜行ったものを混合してもよい。水スラリー中に均一に分散したコロイド状炭酸カルシウム粒子を用いることにより、粒径がナノサイズであってかつ分散性に優れた中空シリカ粒子を得ることができる。

　シリカ殻の原料として用いるアルコキシシランは、その加水分解によりシリカを生成するものであれば特段の制約はなく、例えば、トリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、トリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、トリプロポキシシラン等を用いることができる。

　塩基性触媒としては、アンモニア水やアミン類等を用いることができる。

　コロイド状炭酸カルシウム及びアルコキシシランに加えて塩基性触媒を水系溶媒中にて混合することにより、シリカ被覆された炭酸カルシウムを得る。前記混合の方法としては、水系溶媒とコロイド状炭酸カルシウムとアルコキシシラン塩基性触媒とを十分に混合できる方法であればよく、予めコロイド状炭酸カルシウムを分散させた水系溶媒中にアルコキシシラン及び塩基性触媒を添加あるいは滴下する方法、水系溶媒とアルコキシシランの混合液中にコロイド状炭酸カルシウム及び塩基性触媒を添加する方法、コロイド状炭酸カルシウムを分散させたアルコキシシランを塩基性触媒を含有する水系溶媒中に添加あるいは滴下する方法などを挙げることができる。また、必要に応じて、シリカ中空粒子の分散性をさらに向上させるための分散剤や界面活性剤など適宜添加してもよい。

　水系溶媒、コロイド状炭酸カルシウム、アルコキシシラン、塩基性触媒の混合比率は、所望するシリカ殻の厚さや性状を勘案して、適宜調節することができる。例えば、シリカ殻厚を厚くしたい場合には、アルコキシシラン／コロイド状炭酸カルシウムの比を大きくすればよく、また、反応時間を短縮したい場合には、塩基性触媒／アルコキシシランの比を大きくすればよい。

　高品質のシリカ中空粒子を効率よく製造するためには、水系溶媒に混合されるコロイド状炭酸カルシウムの固形分濃度を１～２０重量％とすることが好ましい。１重量％未満であると、製造効率が低下するだけでなく、コロイド状炭酸カルシウムの表面にシリカ殻が形成されずに、シリカの遊離粒子が水スラリー中に生成することがあるため好ましくない。一方、２０重量％を超えると、粘度が上昇して均一なシリカ殻を形成できないことがあるため好ましくない。

　さらに、アルコキシシランとコロイド状炭酸カルシウムとの比は、より平滑でかつ高純度のシリカ殻を比較的短時間で形成できることから、アルコキシシラン１モルに対してコロイド状炭酸カルシウムを０．１５モル以上とするのが好ましい。０．１５モル未満の場合には、シリカの遊離粒子が生成することがあるため好ましくない。

　また、塩基性触媒としてはアンモニア水が最も好適であり、アルコキシシラン１モルに対しアンモニアが２～４０モルが好ましく、２～１０モルがより好ましい。２モル未満であると反応に要する時間が極端に長くなり製造効率が悪化するため好ましくない。一方、４０モルを超えると、シリカ殻の平滑性が低下したり、シリカの遊離粒子が生成することがあるため好ましくない。

　さらに、水系溶媒中に、コロイド状炭酸カルシウムとアルコキシシランと塩基性触媒と混合するときの温度は、特段の制約はないが、６０℃以下が好ましく４５℃以下であることがより好ましい。前記温度が６０℃を超えると、シリカ殻の平滑性が低下したり、シリカの遊離粒子が生成することがあり、得られるシリカ中空粒子の性状を悪化させることがあるため好ましくない。

　以上の条件で前記混合を行うことにより、平滑かつ高純度のシリカ殻をより効率よく形成させることができる。

　次に、シリカ殻が被覆されたコロイド状炭酸カルシウムを酸処理して炭酸カルシウムを溶解させ、シリカ殻のみを残存させることにより、シリカからなる中空粒子を形成する。

　酸処理に使用する酸としては、塩酸、酢酸、硝酸など、炭酸カルシウムを溶解させることができる酸であれば特段の制約はない。酸処理する際の溶液の酸濃度は０．１～３モル／Ｌとすることが好ましい。０．１モル／Ｌ未満であると、酸処理に要する時間が長くなってしまうほか、場合によっては炭酸カルシウムを完全に溶解させることができなくなることがあるため好ましくない。一方、３モル／Ｌを超えると炭酸カルシウムの酸分解反応が急激に起こり、特にシリカ殻が薄い場合には、シリカ殻が破壊されてしまうことがあるため好ましくない。

　酸処理に際しては、シリカ殻被覆後の溶液を水で置換したり、脱水洗浄などを行うことにより、未反応のアルコキシシランを十分に除去することが望ましい。未反応のアルコキシシランが大量に残留している場合、酸処理によりゲルが生成して、シリカ中空粒子の性状を悪化させることがあるからである。

　このように、炭酸カルシウムを酸処理により溶解させることによって炭酸カルシウムが存在していた部分が中空になる一方、シリカ殻のみが残存することにより、シリカ中空粒子が得られる。このとき、シリカ殻には多数の細孔が形成される。

　その後、得られたシリカ中空粒子を回収し、加熱焼成処理することにより、炭酸カルシウムが流出した孔を塞ぐと共に、緻密な多孔質体からなるシリカ殻を形成する。この結果、目的とする中空シリカ粒子を得ることができる。加熱焼成処理としては、例えば、空気または酸素存在下での高温焼成、窒素ガス、ヘリウム等の不活性ガスの存在下での高温焼成が挙げられるが、空気中での高温焼成が好ましい。焼成温度は、３００℃以上であることが好ましく、３００～１０００℃の範囲であることがより好ましい。

　このようにして得られる中空シリカ粒子は、緻密なシリカ殻からなる中空粒子であり、透過型電子顕微鏡法による一次粒子径が３０～３００ｎｍの範囲であり、水銀圧入法により測定される細孔分布において２～２０ｎｍの範囲の細孔が検出されないものであり、そのシリカ殻が平滑かつ不純分の少ない高純度のものとなる。

　この緻密なシリカ殻は、少なくとも２ｎｍ以上の分子等を浸透させない一方、２ｎｍ未満の分子等を選択的に浸透させることができる。そのため、空気との接触、光、熱などにより分解あるいは変質しやすい成分であっても、当該中空シリカ粒子に内包することにより、該成分の分解あるいは変質を抑制することができる。

　以上のようにして、中空シリカ粒子９１２が作製される。なお、中空シリカ粒子９１２には、市販品を使用することもできる。かかる市販品としては、例えば、日鉄鉱業株式会社製の「ＳｉｌｉＮａｘ　ＳＰ－ＰＮ（ｂ）」が挙げられる。中空アルミナ粒子、中空酸化チタン粒子または中空ポリマー粒子についても、同様の方法によって製造することができる。

　本発明では、このようにして得られた中空粒子に、半導体ナノ結晶の原料化合物を含有する溶液（Ｚ）を含浸し（図１中の（ｄ））、乾燥することにより、前記中空粒子の前記中空部９１２ａ内に、ペロブスカイト型結晶構造を有し発光性の半導体ナノ結晶が析出し（図１中の（ｄ））、発光粒子９１を得ることができる。

　ここで用いる、半導体ナノ結晶の原料化合物を含む溶液としては、固形分濃度０．５～２０質量％の溶液であることが中空粒子９１２への含侵性の点から好ましい。また、有機溶媒はナノ結晶９１１との良溶媒であればよいが、特に、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、エタノール、メタノール、２-プロパノール、γ－ブチロラクトン、酢酸エチル、水及びこれらの混合溶媒であることが相溶性の点から好ましい。

　また、溶液を調製する方法としては、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で、反応容器に、原料化合物と有機溶媒とを混合することが好ましい。この際の温度条件は室温～３５０℃であることが好ましく、また、混合時の攪拌時間は１分～１０時間であることが好ましい。

　半導体ナノ結晶の原料化合物は、例えば、三臭化鉛セシウム溶液を調整する場合は、臭化セシウムと、臭化鉛（II）とを前記有機溶媒と混合することが好ましい。このとき、良溶媒１０００質量部に対して、臭化セシウムが０．５～２００質量部、臭化鉛（II）が０．５～２００質量部となるように、それぞれの添加量を調整することが好ましい。

　次に、前記反応容器に中空シリカ粒子９１２を添加することにより、中空シリカ粒子９１２の中空部９１２ａ内に三臭化鉛セシウム溶液を含浸させる。その後、前記反応溶液内の溶液をろ過することにより、過剰な前記三臭化鉛セシウム溶液を除去し固形物を回収する。そして、得られた固形物を－５０～２００℃で減圧乾燥する。以上により、中空シリカ粒子９１１の中空部９１２ａに、ペロブスカイト型結晶構造を有する半導体ナノ結晶９１１が析出された発光粒子９１を得ることができる。

　さらに、発光粒子９１は、図２（ａ）に示すように、中空粒子９２の中空部９１２ａの壁面と半導体ナノ結晶９１１との間に位置し、半導体ナノ結晶９１１の表面に配位した配位子で構成される中間層９１３を備えることが好ましい。図２（ａ）に示す発光粒子９１は、ＭサイトとしてＰｂカチオン（図中、黒丸で示す。）を含むナノ結晶９１１の表面に、配位子としてオレイン酸、オレイルアミン等を配位させて中間層９１３が形成されている。なお、図２（ａ）では、中空粒子９１２において細孔９１２ｂの記載を省略した。中間層９１３を備える発光粒子９１は、中間層９１３によって、ナノ結晶９１１の酸素、水分、熱等に対する安定性をさらに高めることができる。

　配位子で構成される中間層９１３を備えた発光粒子９１は、ナノ結晶９１１の原料化合物を含有する溶液中に配位子を添加しておき、この溶液を中空シリカ粒子９１２に含浸し乾燥することによって得ることができる。

　配位子は、ナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基を有する化合物が好ましい。結合性基としては、例えば、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホン酸基およびボロン酸基のうちの少なくとも１種であることが好ましく、カルボキシル基およびアミノ基のうちの少なくとも１種であることがより好ましい。かかる配位子としては、カルボキシル基またはアミノ基含有化合物等が挙げられ、これらの１種を単独で使用し、または２種以上を併用することができる。

　カルボキシル基含有化合物としては、例えば、炭素原子数１～３０の直鎖状または分岐状の脂肪族カルボン酸が挙げられる。かかるカルボキシル基含有化合物の具体例としては、例えば、アラキドン酸、クロトン酸、ｔｒａｎｓ－２－デセン酸、エルカ酸、３－デセン酸、ｃｉｓ－４，７，１０，１３，１６，１９－ドコサヘキサエン酸、４－デセン酸、ａｌｌ　ｃｉｓ－５，８，１１，１４，１７－エイコサペンタエン酸、ａｌｌ　ｃｉｓ－８，１１，１４－エイコサトリエン酸、ｃｉｓ－９－ヘキサデセン酸、ｔｒａｎｓ－３－ヘキセン酸、ｔｒａｎｓ－２－ヘキセン酸、２－ヘプテン酸、３－ヘプテン酸、２－ヘキサデセン酸、リノレン酸、リノール酸、γ－リノレン酸、３－ノネン酸、２－ノネン酸、ｔｒａｎｓ－２－オクテン酸、ペトロセリン酸、エライジン酸、オレイン酸、３－オクテン酸、ｔｒａｎｓ－２－ペンテン酸、ｔｒａｎｓ－３－ペンテン酸、リシノール酸、ソルビン酸、２－トリデセン酸、ｃｉｓ－１５－テトラコセン酸、１０－ウンデセン酸、２－ウンデセン酸、酢酸、酪酸、ベヘン酸、セロチン酸、デカン酸、アラキジン酸、ヘンエイコサン酸、ヘプタデカン酸、ヘプタン酸、ヘキサン酸、ヘプタコサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、メリシン酸、オクタコサン酸、ノナデカン酸、ノナコサン酸、ｎ－オクタン酸、パルミチン酸、ペンタデカン酸、プロピオン酸、ペンタコサン酸、ノナン酸、ステアリン酸、リグノセリン酸、トリコサン酸、トリデカン酸、ウンデカン酸、吉草酸等が挙げられる。

　アミノ基含有化合物としては、例えば、炭素原子数１～３０の直鎖状または分岐状の脂肪族アミンが挙げられる。かかるアミノ基含有化合物の具体例としては、例えば、１－アミノヘプタデカン、１－アミノノナデカン、ヘプタデカン－９－アミン、ステアリルアミン、オレイルアミン、２－ｎ－オクチル－１－ドデシルアミン、アリルアミン、アミルアミン、２－エトキシエチルアミン、３－エトキシプロピルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、３－メトキシプロピルアミン、２－メトキシエチルアミン、２－メチルブチルアミン、ネオペンチルアミン、プロピルアミン、メチルアミン、エチルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、ｎ－オクチルアミン、１－アミノデカン、ノニルアミン、１－アミノウンデカン、ドデシルアミン、１－アミノペンタデカン、１－アミノトリデカン、ヘキサデシルアミン、テトラデシルアミン等が挙げられる。

　また、発光粒子９１を作製する際に、ナノ結晶９１１の原料化合物を含有する溶液中に、反応性基を有する配位子（例えば、３－アミノプロピルトリメトキシシラン）を添加することができる。この場合、図２（ａ）に示すように、中空粒子９１２とナノ結晶９１１との間に位置し、ナノ結晶９１１の表面に配位した配位子で構成され、配位子の分子同士がシロキサン結合を形成している中間層９１３を有する母粒子９１とすることも可能である。かかる構成によれば、中間層９１３を介してナノ結晶９１１を中空粒子９１２により強固に固定することができる。

　反応性基を有する配位子は、ナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基と、Ｓｉを含有し、シロキサン結合を形成する反応性基とを有する化合物が好ましい。なお、反応性基は、中空粒子９１２とも反応可能である。

　結合性基としては、例えば、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホン酸基、ボロン酸基等が挙げられる。中でも、結合性基としては、カルボキシル基およびアミノ基のうちの少なくとも１種であることが好ましい。これらの結合性基は、反応性基よりもナノ結晶９１１に含まれるカチオンに対する親和性（反応性）が高い。このため、配位子は、結合性基をナノ結晶９１１側にして配位し、より容易かつ確実に中間層９１３を形成することができる。

　一方、反応性基としては、シロキサン結合が容易に形成されることから、シラノール基、炭素原子数が１～６のアルコキシシリル基のような加水分解性シリル基が好ましい。

　かかる配位子としては、カルボキシル基またはアミノ基含有ケイ素化合物等が挙げられ、これらの１種を単独で使用し、または２種以上を併用することができる。

　カルボキシル基含有ケイ素化合物の具体例としては、例えば、トリメトキシシリルプロピル酸、トリエトキシシリルプロピル酸、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］－Ｎ’－カルボキシメチルエチレンジアミン、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］フタルアミド、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン－Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－三酢酸等が挙げられる。

　一方、アミノ基含有ケイ素化合物の具体例としては、例えば、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジイソプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノイソブチルジメチルメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－１１－アミノウンデシルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルシラントリオール、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリイソプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルメチルジメトキシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ビニルベンジルアミノエチル）－Ｎ－γ－（Ｎ－ビニルベンジル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ジ（ビニルベンジル）アミノエチル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ジ（ビニルベンジル）アミノエチル）－Ｎ－γ－（Ｎ－ビニルベンジル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、メチルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ジメチルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－（Ｎ－フェニル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリイソプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－［２－［３－（トリメトキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリエトキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリプロポキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリイソプロポキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン等が挙げられる。

　さらに、図２（ｂ）に示すように、中空粒子内包発光粒子９１の表面に疎水性ポリマーからなるポリマー層９２を備えた発光粒子９０（以下、「ポリマー被覆発光粒子９０」と記載することがある。）であることがより好ましい。ポリマー被覆発光粒子９０は、ポリマー層９２を備えることにより、熱、酸素に対する安定性をさらに向上させると共に、優れた粒子分散性を得ることができるため、光変換層とした際により優れた発光特性を得ることができる。

１－１－２．シリカ被覆発光粒子
　図３（ａ）及び図３（ｂ）に、本発明における発光性ナノ結晶を含むナノ粒子の他の形態を示す。図３（ａ）に示す発光粒子９１は、発光性を有するペロブスカイト型の半導体ナノ結晶（以下、単に「ナノ結晶９１１」と言うこともある。）と、このナノ結晶９１１の表面に配位した配位子で構成され、さらに、配位子のうちシラン化合物である分子同士がシロキサン結合を形成した表面層９１４とを備える（以下、「シリカ被覆発光粒子９１」ということもある。）。かかる発光粒子９１は、例えば、ナノ結晶９１１の前駆体、オレイン酸、オレイルアミン等の配位子とシロキサン結合可能な部位を有する配位子とを混合し、ナノ結晶９１１を析出させると同時に該配位子をナノ結晶９１１表面に配位させ、その後引き続き、シロキサン結合を生じさせることにより得ることができる。該発光粒子９１は、ナノ結晶９１１がシリカ表面層９１４により保護されるため、熱や酸素に対する優れた安定性を得ることができ、その結果、優れた発光特性を得ることができる。

　さらに、図３（ｂ）に示すように、シリカ被覆発光粒子９１の表面に疎水性ポリマーからなるポリマー層９２を備えた発光粒子９０（以下、「ポリマー被覆発光粒子９０」と記載することがある。）であることがより好ましい。ポリマー被覆発光粒子９０は、ポリマー層９２を備えることにより、熱、酸素に対する安定性をさらに向上させると共に、優れた粒子分散性を得ることができるため、光変換層とした際により優れた発光特性を得ることができる。

　図３（ａ）に示すシリカ被覆発光粒子９１は、発光性を有する前記ナノ結晶９１１と、このナノ結晶９１１の表面に配位した配位子で構成され、さらに、配位子のうちシラン化合物である分子同士がシロキサン結合を形成した表面層９１４とを有する。そのため、シリカ被覆発光粒子９１は、ナノ結晶９１１が表面層９１４により保護されるため、優れた発光特性を維持することができる。

　かかるシリカ被覆発光粒子９１は、半導体ナノ結晶の原料化合物を含む溶液と、脂肪族カルボン酸と、Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物を含む脂肪族アミンとを含む溶液とを混合することにより、発光性を有するペロブスカイト型の半導体ナノ結晶を析出させると共に当該半導体ナノ結晶の表面に前記化合物を配位させ、その後、配位した前記化合物中の前記反応性基を縮合させることにより、前記半導体ナノ結晶の表面に前記シロキサン結合を有する表面層を形成した粒子９１を得る方法により製造することができる。
　このシリカ被覆発光粒子９１は、それ自体、単体で発光粒子として使用することが可能である。

＜表面層９１４＞
　前記表面層９１４は、ナノ結晶９１１の表面に配位可能でありかつ分子同士がシロキサン結合を形成可能な化合物を含む配位子から構成されている。

　かかる配位子は、ナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基を有する化合物であり、Ｓｉを含有し、シロキサン結合を形成する反応性基を有する化合物を含む。該結合性基としては、例えば、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホン酸基およびボロン酸基のうちの少なくとも１種であることが好ましく、カルボキシル基およびアミノ基のうちの少なくとも１種であることがより好ましい。かかる配位子としては、カルボキシル基またはアミノ基含有化合物等が挙げられ、これらの１種を単独で使用し、または２種以上を併用することができる。

　また、Ｓｉを含有し、シロキサン結合を形成する反応性基を有する化合物は、ナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基を有することが好ましい。

　反応性基としては、シロキサン結合が容易に形成されることから、シラノール基、炭素原子数が１～６のアルコキシシリル基のような加水分解性シリル基が好ましい。

　結合性基としては、例えば、カルボキシル基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホン酸基、ボロン酸基等が挙げられる。中でも、結合性基としては、カルボキシル基、メルカプト基およびアミノ基のうちの少なくとも１種であることが好ましい。これらの結合性基は、上述の反応性基よりもナノ結晶９１１に含まれるカチオンに対する親和性が高い。このため、配位子は、結合性基をナノ結晶９１１側にして配位し、より容易かつ確実に表面層９１４を形成することができる。

　Ｓｉを含有し、シロキサン結合を形成する反応性基を有する化合物としては、結合性基を含有するケイ素化合物を１種以上含有し、または２種以上を併用することができる。
　好ましくは、カルボキシル基含有ケイ素化合物、アミノ基含有ケイ素化合物、メルカプト基含有ケイ素化合物の何れか１種を含有し、または２種以上を併用することができる。

　カルボキシル基含有ケイ素化合物の具体例としては、例えば、３－（トリメトキシシリル）プロピオン酸、３－（トリエトキシシリル）プロピオン酸、２－、カルボキシエチルフェニルビス（２－メトキシエトキシ）シラン、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］－Ｎ’－カルボキシメチルエチレンジアミン、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］フタルアミド、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン－Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－三酢酸等が挙げられる。

　一方、アミノ基含有ケイ素化合物の具体例としては、例えば、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジイソプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノイソブチルジメチルメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－１１－アミノウンデシルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルシラントリオール、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリイソプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルメチルジメトキシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ビニルベンジルアミノエチル）－Ｎ－γ－（Ｎ－ビニルベンジル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ジ（ビニルベンジル）アミノエチル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ジ（ビニルベンジル）アミノエチル）－Ｎ－γ－（Ｎ－ビニルベンジル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、メチルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ジメチルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－（Ｎ－フェニル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリイソプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－［２－［３－（トリメトキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリエトキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリプロポキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリイソプロポキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン等が挙げられる。

　メルカプト基含有ケイ素化合物の具体例としては、例えば、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、２－メルカプトエチルトリメトキシシラン、２－メルカプトエチルトリエトキシシラン、２－メルカプトエチルメチルジメトキシシラン、２－メルカプトエチルメチルジエトキシシラン、３－［エトキシビス（３，６，９，１２，１５－ペンタオキサオクタコサン－１－イルオキシ）シリル］－１－プロパンチオール等が挙げられる。

　図３（ａ）に示すシリカ被覆発光粒子９１は、ＭサイトとしてＰｂカチオンを含むナノ結晶９１１の表面に、配位子としてオレイン酸、オレイルアミン、３－アミノプロピルトリメトキシシランを配位させ、さらに３－アミノプロピルトリメトキシシランを反応させることにより表面層９１４を形成している。

　表面層９１４の厚さは、０．５～５０ｎｍであることが好ましく、１．０～３０ｎｍであることがより好ましい。かかる厚さの表面層９１４を有する発光粒子９１であれば、ナノ結晶９１１の熱に対する安定性を十分に高めることができる。

　なお、表面層９１４の厚さは、配位子の結合基と反応性基とを連結する連結構造の原子数（鎖長）を調製することで変更することができる。

＜シリカ被覆発光粒子９１の作製方法＞
　このようなシリカ被覆発光粒子９１は、ナノ結晶９１１の原料化合物を含む溶液と、ナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基を有する化合物と、Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物とを含む溶液とを混合した後に、析出したナノ結晶９１１の表面に配位したＳｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物中の反応性基を縮合させることにより、容易に作製することができる。このとき、加熱を行って製造する方法と、加熱を行わずに製造する方法とがある。

　まず、加熱を行ってシリカ被覆発光粒子９１を製造する方法について説明する。半導体ナノ結晶を反応によって合成する２種の原料化合物を含む溶液をそれぞれ調製する。この際、２種の溶液の何れか一方にナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基を有する化合物を、もう一方にＳｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物を加えておく。次いで、これらを不活性ガス雰囲気下で混合、１４０～２６０℃の温度条件下に反応させる。次いで、－２０～３０℃に冷却し、攪拌することにより、ナノ結晶を析出させる方法が挙げられる。析出したナノ結晶はナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４が形成されたものとなり、遠心分離等の定法によりナノ結晶を得ることができる。

　具体的には、例えば、炭酸セシウムとオレイン酸とを有機溶媒とを含む溶液を調製する。有機溶媒として、１－オクタデセン、ジオクチルエーテル、ジフェニルエーテル等を用いることができる。このとき、有機溶媒４０ｍＬに対して、炭酸セシウムが０．２～２ｇ、オレイン酸が０．１～１０ｍＬとなるように、それぞれの添加量を調製することが好ましい。得られた溶液を９０～１５０℃で１０～１８０分間減圧乾燥した後、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下で１００～２００℃に加熱することにより、セシウム－オレイン酸溶液を得る。

　一方、臭化鉛（II）と前述のものと同一の有機溶媒とを含む溶液を調製する。このとき、有機溶媒５ｍＬに対して臭化鉛（II）を２０～１００ｍｇ添加する。得られた溶液を９０～１５０℃で１０～１８０分間減圧乾燥した後、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下で０．１～２ｍＬの３－アミノプロピルトリエトキシシランを添加する。

　そして、臭化鉛（II）及び３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む溶液を１４０～２６０℃に加熱した状態で上述のセシウム－オレイン酸溶液を添加し、１～１０秒間加熱撹拌させることにより反応させた後に、得られた反応液を氷浴で冷却する。このとき、臭化鉛（II）及び３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む溶液５ｍＬに対して、セシウム－オレイン酸溶液を０．１～１ｍＬ添加することが好ましい。－２０～３０℃で撹拌中に、ナノ結晶９１１が析出すると共に、ナノ結晶９１１の表面に３－アミノプロピルトリエトキシシラン及びオレイン酸が配位する。

　その後、得られた反応液を、大気下、室温（１０～３０℃、湿度５～６０％）で５～３００分間撹拌した後、０．１～５０ｍＬのエタノールを添加することにより懸濁液を得る。大気下、室温での撹拌中に３－アミノプロピルトリエトキシシランのアルコキシシリル基が縮合し、ナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４が形成される。

　得られた懸濁液を遠心分離することにより固形物を回収し、固形物をヘキサンに添加することにより、三臭化鉛セシウムからなるナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４を備えたシリカ被覆発光粒子９１がトルエンに分散した発光粒子分散液を得ることができる。

　また、前記回収された固形物を後述する光重合性化合物であるイソボルニルメタクリレートに添加することにより、メチルアンモニウム三臭化鉛結晶からなるナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４を備えたシリカ被覆発光粒子９１がイソボルニルメタクリレートに分散した発光粒子分散液を得ることができる。

　次に、加熱を行わずにシリカ被覆発光粒子９１を製造する方法について説明する。半導体ナノ結晶の原料化合物及びナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基を有する化合物（Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物は含まない）を含む溶液を、Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物をナノ結晶に対して貧溶媒である有機溶剤に溶解した溶液中に大気下にて滴下・混合することにより、ナノ結晶を析出させる方法が挙げられる。有機溶剤の使用量は半導体ナノ結晶に対して質量基準で１０～１０００倍量であることが好ましい。また、析出したナノ結晶はナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４が形成されたものとなり、遠心分離等の定法によりナノ結晶を得ることができる。

　具体的には、半導体ナノ結晶の原料化合物を含む溶液として、例えば、臭化鉛（II）と臭化セシウムとオレイン酸とオレイルアミンと有機溶剤とを含む溶液を調製する。有機溶剤は、ナノ結晶の良溶媒であればよいが、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、及びこれらの混合溶媒であることが相溶性の点から好ましい。このとき、有機溶剤１０ｍＬに対して、臭化鉛（II）が１０～５０ｍｇ、臭化セシウムが５～２５ｍｇ、オレイン酸が０．２～２ｍＬ、オレイルアミンが０．０５～０．５ｍｌとなるように、それぞれの添加量を調整することが好ましい。

　一方、Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物とナノ結晶に対して貧溶媒である有機溶剤とを含む溶液として、例えば、３－アミノプロピルトリエトキシシランと貧溶媒とを調製する。貧溶媒としては、イソプロピルアルコール、トルエン、ヘキサン等を用いることができる。このとき、貧溶媒５ｍＬに対して、３－アミノプロピルトリエトキシシランが０．０１～０．５ｍＬとなるように、それぞれの添加量を調整することが好ましい。

　そして、上述の臭化鉛（II）と臭化セシウムとオレイン酸とオレイルアミンを含む溶液０．１～１ｍＬを、上述の３－アミノプロピルトリエトキシシランと貧溶媒を含む溶液５ｍＬに対して、大気下、０～３０℃で添加し、瞬時に大気下で５～１８０秒間撹拌した後に、遠心分離によって固形物を回収する。混合物を負溶媒に添加したときに、ナノ結晶９１１が析出すると共に、ナノ結晶９１１の表面に３－アミノプロピルトリエトキシシラン、オレイン酸及びオレイルアミンが配位する。そして、大気下での撹拌中に３－アミノプロピルトリエトキシシランのアルコキシシリル基が縮合し、ナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４が形成される。

　この回収された固形物をトルエンに添加することにより、三臭化鉛セシウム結晶からなるナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４を備えたシリカ被覆発光粒子９１がトルエンに分散した発光粒子分散液を得ることができる。

　また、前記回収された固形物を後述する光重合性化合物であるイソボルニルメタクリレートに添加することにより、三臭化鉛セシウム結晶からなるナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４を備えたシリカ被覆発光粒子９１がイソボルニルメタクリレートに分散した発光粒子分散液を得ることもできる。

１－１－３．チタン被覆発光粒子
　本発明における発光性ナノ結晶を含むナノ粒子の他の形態としては、該発光性ナノ結晶をチタン酸化物で被覆してもよい。チタン酸化物で被覆する場合は、発光性ナノ結晶が疎水性溶媒中に分散した溶液中に、水と酸素を含まない不活性雰囲気下でチタンアルコキシドを適量添加して攪拌する工程により得ることができる。該発光性ナノ結晶表面をチタン酸化物で被覆することにより、該結晶の表面欠陥を補うことができ発光特性の低下を抑制することが可能となる。チタン酸化物は、チタンアルコキシドの加水分解生成物であり、（Ｒ－Ｏ）_３－Ｔｉ－Ｏ－（Ｒは、それぞれ独立して、直鎖あるいは分岐していてもよい炭素原子数１～８のアルキル基を表す）の構造を有する。

　かかるチタン被覆発光粒子は、以下の方法によって形成することができる。
　まず、発光性ナノ結晶を疎水性有機溶媒に分散させる。疎水性有機溶媒は特に限定されないが、トルエン、クロロホルム、ヘキサン、シクロヘキサンが好ましく、トルエン、シクロヘキサンがより好ましい。これら疎水性有機溶媒は、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。次に、該ナノ結晶分散溶液にチタンアルコキシドを添加し攪拌することにより、ナノ結晶表面に配位、反応し、該結晶表面を被覆することができる。

　該チタンアルコキシドとして、４価のチタンアルコキシドを用いた場合、チタンアルコキシド中の１つのアルコキシ基が、溶媒中に僅かに含まれる水分により部分的に加水分解され、（Ｒ－Ｏ）_３－Ｔｉ－Ｏ－を生じる。チタンアルコキシドとしては、式（１）で表される化合物が好ましい。

Ｔｉ（ＯＲ）_４　：式（１）
（式中、Ｒは、それぞれ独立して、メチル基、エチル基、イソプロピル基、２－エチルヘキシル基を表す）

　このようなチタンアルコキシドとしては、具体的には、チタンイソプロポキシド、チタニウムメトキシド、テトラエチルオルソチタネート、チタニウム－２－エチルヘキシルオキサイド、チタニウム－ジイソプロポキシド－ビス（アセチルアセトネート）等を挙げることができる。これらチタンアルコキシドは、単独で用いてもよく、２種以上を用いてもよいが、２種以上のチタンアルコキシドを用いる場合には、それぞれの反応速度に注意し、添加する量とタイミングを制御し、ナノ結晶表面を被覆することが好ましい。

１－２．発光粒子９０及びその作製方法
　ポリマー被覆発光粒子９０は、上述の工程で得られた図１中の（ｅ）の発光粒子９１を母粒子とし（以下、「発光粒子９１」を「母粒子９１」と記載することがある。）、母粒子９１の表面を、疎水性ポリマーで被覆してポリマー層９２を形成することによって得ることができる（図１中の（ｆ））。また、図２（ａ）又は図３（ａ）の発光粒子９１を母粒子としてもよい。ポリマー被覆発光粒子９０は、疎水性のポリマー層９２を備えることにより、発光粒子９０に酸素、水分に対する高い安定性を付与することができ、さらには、発光粒子９０の分散安定性を向上することができる。

　かかるポリマー層９２は、以下の方法Ｉ、方法ＩＩ等によって形成することができる。　方法Ｉ：　疎水性ポリマーを含むワニスに、発光粒子９１を添加して混合することにより、発光粒子９１の表面を疎水性ポリマーで被覆する。
　方法ＩＩ：　発光粒子９１の表面に、非水溶媒に可溶な重合性不飽和基を含有する重合体と共に、非水溶媒に可溶でありかつ重合後に不溶または難溶になる重合性不飽和単量体を担持させた後、前記重合体と前記重合性不飽和単量体とを重合させる方法等により形成することができる。
　なお、方法Ｉにおける疎水性ポリマーには、方法ＩＩにおける重合体と重合性不飽和単量体とを重合させた重合物が含まれる。

　中でも、ポリマー層９２は、方法ＩＩにより形成することが好ましい。方法ＩＩによれば、均一な厚さを有すると共に、発光粒子９１への密着性に優れたポリマー層９２を形成することができる。

　以下、上述のポリマー層の形成方法ＩＩについて詳細に述べる。
　［非水溶媒］
　非水溶媒は、疎水性ポリマーを溶解し得る有機溶媒が好ましく、発光粒子９１を均一に分散可能であれば、さらに好ましい。このような非水溶媒を用いることにより、非常に簡便に疎水性ポリマーを発光粒子９１に吸着させてポリマー層９２を被覆させることができる。さらに、好ましくは、非水溶媒は低誘電率溶媒である。低誘電率溶媒を用いることにより、疎水性ポリマーと発光粒子９１とを当該非水溶媒中で混合するだけで、疎水性ポリマーが発光粒子９１表面に強固に吸着し、ポリマー層を被覆させることができる。
　このようにして得られたポリマー層９２は、後述するように発光粒子９０を溶媒で洗浄したときでも、発光粒子９１から除去され難い。さらに、非水溶媒の誘電率は低いほど好ましい。具体的には、非水溶媒の誘電率は、好ましくは１０以下であり、さらに好ましくは６以下であり、特に好ましくは５以下である。好ましい非水溶媒としては、脂肪族炭化水素系溶媒、脂環式炭化水素系溶媒および芳香族炭化水素系溶媒からなる群から選択される少なくとも一つを含む有機溶媒であることが好ましい。

　脂肪族炭化水素系溶媒としては、例えば、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン、ｎ－オクタン、イソヘキサン等が挙げられ、脂環式炭化水素系溶媒としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等が挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒としては、トルエン、キシレン等が挙げられる。

　また、本発明の効果を損なわない範囲で、非水溶媒として、脂肪族炭化水素系溶媒、脂環式炭化水素系溶媒および芳香族炭化水素系溶媒からなる群から選択される少なくとも一つに、他の有機溶媒を混合した混合溶媒を使用してもよい。かかる他の有機溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸アミルのようなエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン系溶媒；メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉ－プロパノール、ｎ－ブタノールのようなアルコール系溶媒等が挙げられる。

　混合溶媒として使用する際には、脂肪族炭化水素系溶媒、脂環式炭化水素系溶媒および芳香族炭化水素系溶媒からなる群のうち少なくとも一つの使用量を、５０質量％以上とすることが好ましく、６０質量％以上とすることがより好ましい。

　［非水溶媒に可溶な重合性不飽和基を含有する重合体］
　本工程で使用する非水溶媒に可溶な重合性不飽和基を含有する重合体（以下、「重合体（Ｐ）」とも記載する。）には、炭素原子数４以上のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート（Ａ１）、末端に重合性官能基を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）、重合性不飽和基を有する含フッ素化合物（Ｂ、Ｃ）、または重合性不飽和基を有する含ケイ素化合物（Ｄ）を単量体成分とする共重合体に重合性不飽和基を導入したポリマー、あるいは、炭素原子数４以上のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート（Ａ１）、末端に重合性官能基を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）、含フッ素化合物（Ｂ、Ｃ）を主成分とする重合性不飽和基を有する単量体、または含ケイ素化合物（Ｄ）を主成分とする重合性不飽和基を有する単量体の共重合体からなるマクロモノマー等が含まれる。

　アルキル（メタ）アクリレート（Ａ１）としては、例えば、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｉ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートが挙げられる。

　また、末端に重合性官能基を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）としては、例えば、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、ジエチルアミノ（メタ）アクリレート；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸のような不飽和ジカルボン酸と１価アルコールとのジエステル系化合物が挙げられる。ここで、本明細書中において、「（メタ）アクリレート」とは、メタクリレートおよびアクリレートの双方を意味する。「（メタ）アクリロイル」との表現についても同様である。

　また、重合性不飽和基を有する含フッ素化合物（Ｂ）としては、例えば、下記一般式（Ｂ１）で表される化合物が挙げられる。

　上記一般式（Ｂ１）中、Ｒ^４は水素原子、フッ素原子、メチル基、シアノ基、フェニル基、ベンジル基または－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｒｆ^ａ（ただし、ｎは１～８の整数であり、Ｒｆ^ａは下記式（Ｒｆ－１）～（Ｒｆ－７）のいずれか１つの基である。）である。

　また、上記一般式（Ｂ１）中、Ｌは下記式（Ｌ－１）～（Ｌ－１０）のいずれか１つの基である。

　上記式（Ｌ－１）、（Ｌ－３）、（Ｌ－５）、（Ｌ－６）および（Ｌ－７）中のｎは１～８の整数である。上記式（Ｌ－８）、（Ｌ－９）および（Ｌ－１０）中のｍは１～８の整数であり、ｎは０～８の整数である。上記式（Ｌ－６）および（Ｌ－７）中のＲｆ^ｂは下記式（Ｒｆ－１）～（Ｒｆ－７）のいずれか１つの基である。

　また、上記一般式（Ｂ１）中、Ｒｆは下記式（Ｒｆ－１）～（Ｒｆ－７）のいずれか１つの基である。

　上記式（Ｒｆ－１）～（Ｒｆ－４）中のｎは４～６の整数である。上記式（Ｒｆ－５）中のｍは１～５の整数であり、ｎは０～４の整数であり、かつｍおよびｎの合計は４～５である。上記式（Ｒｆ－６）中のｍは０～４の整数であり、ｎは１～４の整数であり、ｐは０～４の整数であり、かつｍ、ｎおよびｐの合計は４～５である。

　また、上記一般式（Ｂ１）で表される化合物の好ましい具体例としては、下記式（Ｂ１－１）～（Ｂ１－７）で表されるメタクリレート、下記（Ｂ１－８）～（Ｂ１－１５）で表されるアクリレート等が挙げられる。なお、これらの化合物は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

　また、重合性不飽和基を有する含フッ素化合物（Ｃ）としては、例えば、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖と、その両末端に重合性不飽和基とを有する化合物が挙げられる。
　ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖は、炭素原子数１～３の２価フッ化炭素基と酸素原子とが交互に連結した構造を有することが好ましい。
　かかるポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖は、炭素原子数１～３の２価フッ化炭素基を１種のみを含んでもよく、複数種を含んでもよい。具体的なポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）としては、下記一般式（Ｃ１）で表される構造が挙げられる。

　上記一般式（Ｃ１）中、Ｘは下記式（Ｃ１－１）～（Ｃ１－５）である。
　複数のＸは同一であってもよく、異なってもよい。異なるＸを含む場合（複数種の繰り返し単位Ｘ－Ｏを含む場合）、複数の同一の繰り返し単位Ｘ－Ｏがランダム状又はブロック状に存在していてもよい。
　また、ｎは繰り返し単位の数であり、１以上の整数である。

　中でも、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖としては、フッ素原子数と酸素原子数とのバランスが良好となり、重合体（Ｐ）が母粒子９１の表面に絡みつき易くなる点から、上記式（Ｃ１－１）で表されるパーフルオロメチレンと、上記式（Ｃ１－２）で表されるパーフルオロエチレンとが共存する構造が好ましい。
　この場合、上記式（Ｃ１－１）で表されるパーフルオロメチレンと、上記式（Ｃ１－２）で表されるパーフルオロエチレンとの存在比率は、モル比率［パーフルオロメチレン（Ｃ１－１）／パーフルオロエチレン（Ｃ１－２）］で、１／１０～１０／１であることが好ましく、２／８～８／２であることがより好ましく、３／７～７／３であることがさらに好ましい。

　また、上記一般式（Ｃ１）中のｎは３～１００であることが好ましく、６～７０であることがより好ましい。さらに、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖に含まれるフッ素原子数は、合計で１８～２００であることが好ましく、２５～１５０であることがより好ましい。かかる構成のポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖において、フッ素原子数と酸素原子数とのバランスがさらに良好になる。

　両末端に重合性不飽和基を導入する前のポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を有する原料化合物としては、例えば、下記式（Ｃ２－１）～（Ｃ２－６）が挙げられる。なお、下記式（Ｃ２－１）～（Ｃ２－６）中の「－ＰＦＰＥ－」は、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖である。

　ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖の両末端に導入される重合性不飽和基は、例えば、下記式（Ｕ－１）～（Ｕ－５）で表される構造が挙げられる。

　中でも、含フッ素化合物（Ｃ）自体の入手や製造の容易さ、あるいは他の重合性不飽和基を有する単量体との共重合の容易さから、上記式Ｕ－１で表されるアクリロイルオキシ基、または上記式Ｕ－２で表されるメタクリロイルオキシ基が好ましい。
　含フッ素化合物（Ｃ）の具体例としては、下記式（Ｃ－１）～（Ｃ－１３）で表される化合物が挙げられる。なお、下記式（Ｃ－１）～（Ｃ－１３）中の「－ＰＦＰＥ－」は、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖である。

　中でも、含フッ素化合物（Ｃ）としては、工業的製造が容易である点から、上記式（Ｃ－１）、（Ｃ－２）、（Ｃ－５）または（Ｃ－６）で表される化合物が好ましく、母粒子９１の表面への絡み易い重合体（Ｐ）を合成可能である点から、上記式（Ｃ－１）で表されるポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖の両末端にアクリロイル基を有する化合物、または上記式（Ｃ－２）で表されるポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖の両末端にメタクリロイル基を有する化合物がより好ましい。

　また、重合性不飽和基を有する含ケイ素化合物（Ｄ）としては、例えば、下記一般式（Ｄ１）で表される化合物が挙げられる。

　上記一般式（Ｄ１）中、Ｐは重合性官能基、Ｘ^ａはＳｉＲ¹¹Ｒ²²、Ｒｄは水素原子、フッ素原子、メチル基、アクリロイル基またはメタクリロイル基（ただし、Ｒ¹¹、Ｒ²²はメチル基、あるいはＳｉ（ＣＨ_３）基、アミノ基、グリシジル基であり、ｍは０～１００の整数であり、ｎは０～４の整数である。）である。

　含ケイ素化合物（Ｄ）の具体例としては、下記式（Ｄ－１）～（Ｄ－５）で表される化合物が挙げられる。

　また、重合性不飽和基を有する単量体として使用可能なアルキル（メタ）アクリレート（Ａ１）、末端に重合性官能基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ａ２）、含フッ素化合物（Ｂ、Ｃ）および含ケイ素化合物（Ｄ）以外の化合物としては、例えば、スチレン、α－メチルスチレン、ｐ－ｔ－ブチルスチレン、ビニルトルエンのような芳香族ビニル系化合物；ベンジル（メタ）アクリレート、ジブロモプロピル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレートのような（メタ）アクリレート系化合物等が挙げられる。
　これらの化合物は、アルキル（メタ）アクリレート（Ａ１）、末端に重合性官能基を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）、含フッ素化合物（Ｂ、Ｃ）または含ケイ素化合物（Ｄ）とのランダム共重合体として使用することが好ましい。これにより、得られる重合体（Ｐ）の非水溶媒への溶解性を十分に高めることができる。

　上記重合性不飽和基を有する単量体として使用可能な化合物は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。中でも、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリルメタクリレートのような直鎖状または分岐状の炭素原子数４～１２のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート（Ａ１）を使用することが好ましい。
　重合性不飽和基を有する単量体の共重合体は、重合性不飽和基を有する単量体を常法により重合することにより得られる。
　さらに、かかる共重合体に重合性不飽和基を導入することにより、重合体（Ｐ）が得られる。

　重合性不飽和基の導入方法としては、例えば、以下の方法ＩＩＩ～ＶＩが挙げられる。　方法ＩＩＩは、予め共重合成分としてアクリル酸、メタクリル酸のようなカルボン酸基含有重合性単量体、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリルアミドのようなアミノ基含有重合性単量体を配合し共重合させ、カルボン酸基またはアミノ基を有する共重合体を得た後、このカルボン酸基またはアミノ基にグリシジルメタクリレートのようなグリシジル基および重合性不飽和基を有する単量体を反応させる方法である。
　方法ＩＶは、予め共重合成分として２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレートのような水酸基含有単量体を配合し共重合させ、水酸基を有する共重合体を得た後、この水酸基にイソシアネートエチルメタクリレートのようなイソシアネート基および重合性不飽和基を有する単量体を反応させる方法である。
　方法Ｖは、重合の際にチオグリコール酸を連鎖移動剤として使用して共重合体の末端にカルボキシル基を導入し、このカルボキシル基にグリシジルメタクリレートのようなグリシジル基および重合性不飽和基を有する単量体を反応させる方法である。
　方法ＶＩは、重合開始剤としてアゾビスシアノペンタン酸のようなカルボキシル基含有アゾ開始剤を使用して共重合体にカルボキシル基を導入し、このカルボキシル基にグリシジルメタクリレートのようなグリシジル基および重合性不飽和基を有する単量体を反応させる方法である。
　中でも、方法ＩＩＩが最も簡便であることから好ましい。

　［非水溶媒に可溶であり、かつ重合後に不溶もしくは難溶になる重合性不飽和単量体］　上述の非水溶媒に可溶でありかつ重合後に不溶もしくは難溶になる重合性不飽和単量体（以下、「単量体（Ｍ）」とも記載する。）としては、例えば、反応性極性基（官能基）を有さないビニル系モノマー類、アミド結合含有ビニル系モノマー類、（メタ）アクリロイロキシアルキルホスフェート類、（メタ）アクリロイロキシアルキルホスファイト類、リン原子含有ビニル系モノマー類、水酸基含有重合性不飽和単量体類、ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート類、エポキシ基含有重合性不飽和単量体類、イソシアネート基含有α，β－エチレン性不飽和単量体類、アルコキシシリル基含有重合性不飽和単量体類、カルボキシル基含有α，β－エチレン性不飽和単量体類等が挙げられる。

　反応性極性基を有さないビニル系モノマー類の具体例としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、ｉ－プロピル（メタ）アクリレートのような（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデンのようなオレフィン類等が挙げられる。
　アミド結合含有ビニル系モノマー類の具体例としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｔ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－オクチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、アルコキシ化Ｎ－メチロール化（メタ）アクリルアミド類等が挙げられる。

　（メタ）アクリロイロキシアルキルホスフェート類の具体例としては、例えば、ジアルキル［（メタ）アクリロイロキシアルキル］ホスフェート類、（メタ）アクリロイロキシアルキルアシッドホスフェート類等が挙げられる。
　（メタ）アクリロイロキシアルキルホスファイト類の具体例としては、例えば、ジアルキル［（メタ）アクリロイロキシアルキル］ホスファイト類、（メタ）アクリロイロキシアルキルアシッドホスファイト類等が挙げられる。
　リン原子含有ビニル系モノマー類の具体例としては、例えば、上記（メタ）アクリロイロキシアルキルアシッドホスフェート類または（メタ）アクリロイロキシアルキルアシッドホスファイト類のアルキレンオキシド付加物、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレートのようなエポキシ基含有ビニル系モノマーとリン酸、亜リン酸またはこれらの酸性エステル類とのエステル化合物、３－クロロ－２－アシッドホスホキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

　水酸基含有重合性不飽和単量体類の具体例としては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジ－２－ヒドロキシエチルフマレート、モノ－２－ヒドロキシエチルモノブチルフマレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートのような重合性不飽和カルボン酸のヒドロキシアルキルエステル類またはこれらとε－カプロラクトンとの付加物；（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和モノまたはジカルボン酸、ジカルボン酸と１価のアルコールとのモノエステル類のような重合性不飽和カルボン酸類；上記重合性不飽和カルボン酸のヒドロキシアルキルエステル類とポリカルボン酸の無水物（マレイン酸、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘンゼントリカルボン酸、ベンゼンテトラカルボン酸、「ハイミック酸」、テトラクロルフタル酸、ドデシニルコハク酸等）との付加物等の各種不飽和カルボン酸類と１価のカルボン酸のモノグリシジルエステル（やし油脂肪酸グリシジルエステル、オクチル酸グリシジルエステル等）、ブチルグリシジルエーテル、エチレンオキシド、プロピレンオキシド等のモノエポキシ化合物との付加物またはこれらとε－カプロラクトンとの付加物；ヒドロキシビニルエーテル等が挙げられる。

　ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート類の具体例としては、例えば、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　エポキシ基含有重合性不飽和単量体類の具体例としては、例えば、重合性不飽和カルボン酸類、水酸基含有ビニルモノマーと上記ポリカルボン酸の無水物との等モル付加物（モノ－２－（メタ）アクリロイルオキシモノエチルフタレート等）のような各種不飽和カルボン酸に、１分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有する各種ポリエポキシ化合物を等モル比で付加反応させて得られるエポキシ基含有重合性化合物、グリシジル（メタ）アクリレート、（β－メチル）グルシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アリルグルシジルエーテル等が挙げられる。

　イソシアネート基含有α，β－エチレン性不飽和単量体類の具体例としては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの等モル付加物、イソシアネートエチル（メタ）アクリレートのようなイソシアネート基およびビニル基を有するモノマー等が挙げられる。
　アルコキシシリル基含有重合性不飽和単量体類の具体例としては、例えば、ビニルエトキシシラン、α－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシロキシエチル（メタ）アクリレートのようなシリコン系モノマー類等が挙げられる。

　カルボキシル基含有α，β－エチレン性不飽和単量体類の具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和モノまたはジカルボン酸、ジカルボン酸と１価アルコールとのモノエステル類のようなα，β－エチレン性不飽和カルボン酸類；２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジ－２－ヒドロキシエチルフマレート、モノ－２－ヒドロキシエチル－モノブチルフマレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートのようなα，β－不飽和カルボン酸ヒドロアルキルエステル類とマレイン酸、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ベンゼントリカルボン酸、ベンゼンテトラカルボン酸、「ハイミック酸」、テトラクロルフタル酸、ドデシニルコハク酸のようなポリカルボン酸の無水物との付加物等が挙げられる。

　中でも、単量体（Ｍ）としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレートのような炭素原子数３以下のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートであることが好ましい。
　さらに、重合体（Ｐ）と単量体（Ｍ）とを重合させる際には、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、ヒドロキシル基、ジメチルアミノ基のような官能基のうちの少なくとも１種を有する重合性不飽和単量体を共重合することが好ましい。これにより、形成される重合物（ポリマー層９２）のシロキサン結合との相互作用の高まりにより、発光粒子９１の表面に対する密着性を向上することができる。

　また、得られる発光粒子９０から疎水性ポリマーが溶出するのを防止または抑制するために、疎水性ポリマー（重合体（Ｐ））は架橋していることが好ましい。

　架橋成分として使用可能な多官能重合性不飽和単量体としては、例えば、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、アリルメタクリレート等が挙げられる。

　また、得られる疎水性ポリマーが非水溶媒に溶解しない範囲において、その他の重合性不飽和単量体を共重合するようにしてもよい。その他の重合性不飽和単量体としては、例えば、上記アルキル（メタ）アクリレート（Ａ）、含フッ素化合物（Ｂ、Ｃ）、これら以外に使用可能な重合体（Ｐ）用の重合性不飽和単量体として例示した化合物が挙げられる。

　疎水性ポリマーからなるポリマー層９２は、発光粒子９１、非水溶媒および重合体（Ｐ）の存在下で、単量体（Ｍ）を重合させることにより形成される。発光粒子９１と重合体（Ｐ）とは、重合を行う前に混合することが好ましい。混合には、例えば、ホモジナイザー、ディスパー、ビーズミル、ペイントシェーカー、ニーダー、ロールミル、ボールミル、アトライター、サンドミル等を使用することができる。

　本発明において、使用する発光粒子９１の形態は、特に限定されず問わず、スラリー、ウエットケーキ、粉体等のいずれであってもよい。

　発光粒子９１と重合体（Ｐ）との混合後に、単量体（Ｍ）および後述する重合開始剤をさらに混合し、重合を行うことにより、重合体（Ｐ）と単量体（Ｍ）との重合物で構成されるポリマー層９２が形成される。これにより、発光粒子９０が得られる。

　この際、重合体（Ｐ）の数平均分子量は、１，０００～５００，０００であることが好ましく、２，０００～２００，０００であることがより好ましく、３，０００～１００，０００であることがさらに好ましい。このような範囲の分子量を有する重合体（Ｐ）を用いることにより、発光粒子９１の表面に良好にポリマー層９２を被覆し得る。

　また、単量体（Ｍ）の使用量も、目的に応じて適宜設定されるため、特に限定されないが、通常、１００質量部の発光粒子９１に対して、０．５～４０質量部であることが好ましく、１～３５質量部であることがより好ましく、２～３０質量部であることがさらに好ましい。

　最終的に発光粒子９１の表面を被覆する疎水性ポリマーの量は、１００質量部の発光粒子９１に対して、１～６０質量部であることが好ましく、２～５０質量部であることがより好ましく、３～４０質量部であることがさらに好ましい。

　この場合、単量体（Ｍ）の量は、１００質量部の重合体（Ｐ）に対して、通常、１０～１００質量部であることが好ましく、３０～９０質量部であることがより好ましく、５０～８０質量部であることがさらに好ましい。

　ポリマー層９２の厚さは、０．５～１００ｎｍであることが好ましく、０．７～５０ｎｍであることがより好ましく、１～３０ｎｍであることがさらに好ましい。ポリマー層９２の厚さが０．５ｎｍ未満であると、分散安定性が得られない場合が多い。ポリマー層９２の厚さが１００ｎｍを超えると発光粒子９１を高濃度で含有させることが困難となる場合が多い。かかる厚さのポリマー層９２で発光粒子９１を被覆することにより、発光粒子９０の酸素、水分に対する安定性をより向上させることができる。

　発光粒子９１、非水溶媒および重合体（Ｐ）の存在下における単量体（Ｍ）の重合は、公知の重合方法によって行うことができるが、好ましくは重合開始剤の存在下で行われる。

　かかる重合開始剤としては、例えば、ジメチル－２，２－アゾビス（２－メチルプロピオネート）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、２，２－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、ベンゾイルパーオキシド、ｔ－ブチルパーベンゾエート、ｔ－ブチル－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ブチルハイドロパーオキシド、ジ－ｔ－ブチルパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド等が挙げられる。これらの重合開始剤は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

　非水溶媒に難溶の重合開始剤は、単量体（Ｍ）に溶解した状態で、発光粒子９１と重合体（Ｐ）とを含む混合液に添加することが好ましい。

　また、単量体（Ｍ）または重合開始剤を溶解した単量体（Ｍ）は、重合温度に達した混合液に滴下法により添加して重合させてもよいが、昇温前の常温の混合液に添加し、充分に混合した後に昇温して重合させるのが安定であり好ましい。

　重合温度は、６０～１３０℃の範囲であることが好ましく、７０～１００℃の範囲であることがより好ましい。かかる重合温度で単量体（Ｍ）の重合を行えば、ナノ結晶９１１の形態変化（例えば、変質、結晶成長等）を好適に防止することができる。

　単量体（Ｍ）の重合後、発光粒子９１表面に吸着しなかったポリマーを除去することにより、発光粒子９１の表面にポリマー層９２が形成された発光粒子（ポリマー被覆発光粒子）９０を得る。吸着しなかったポリマーを除去する方法としては、遠心沈降、限外ろ過が挙げられる。遠心沈降では、ポリマー被覆発光粒子９０と吸着されなかったポリマーとを含む分散液を高速で回転させ、当該分散液中のポリマー被覆発光粒子９０を沈降させて、吸着しなかったポリマーを分離する。限外ろ過では、ポリマー被覆発光粒子９０と吸着しなかったポリマーとを含む分散液を適切な溶媒で希釈し、適切な孔サイズを有するろ過膜に当該希釈液を通して、吸着しなかったポリマーとポリマー被覆発光粒子９０とを分離する。

　以上のようにして、ポリマー被覆発光粒子９０が得られる。ポリマー被覆発光粒子９０は、分散媒、樹脂あるいは重合性化合物に分散させた状態で（すなわち、分散液として）保存してもよく、分散媒を除去して粉体（ポリマー被覆発光粒子９０の集合体）として保存してもよい。

　発光粒子含有樹脂組成物がポリマー被覆発光粒子９０を含む場合には、ポリマー被覆発光粒子９０の含有量は、１０～５０質量％であることが好ましく、１５～４５質量％であることがより好ましく、２０～４０質量％であることがさらに好ましい。同様に、発光粒子含有樹脂組成物がポリマー層９２によって被覆されていない発光粒子９１を含む場合も、発光粒子９１の含有量は、１０～５０質量％であることが好ましく、１５～４５質量％であることがより好ましく、２０～４０質量％であることがさらに好ましい。発光粒子含有樹脂組成物中のポリマー被覆発光粒子９０（又は発光粒子９１）の含有量を前記範囲に設定することにより、発光粒子含有樹脂組成物をインクジェット印刷法により吐出する場合には、その吐出安定性をより向上させることができる。また、発光粒子９０（又は発光粒子９１）同士が凝集し難くなり、得られる発光層（光変換層）の外部量子効率を高めることもできる。

１－２．熱硬化性樹脂
　本発明の発光粒子含有樹脂組成物中に含まれる熱硬化性樹脂は、硬化物中においてバインダーとして機能する、熱により架橋し硬化する樹脂である。熱硬化性樹脂は、硬化性基を有する。本発明では、熱硬化性樹脂をバインダーとして使用することにより、光硬化系インクジェット系インクにおいて問題となっていた光重合開始剤及び光増感剤の使用量増に起因する、吐出不良を回避させることができる。

　硬化性基としては、エポキシ基、オキセタン基、イソシアネート基、アミノ基、カルボキシル基、メチロール基等が挙げられ、発光粒子含有樹脂組成物の硬化物の耐熱性及び保存安定性に優れる観点、及び、遮光部（例えばブラックマトリックス）及び基材への密着性に優れる観点から、エポキシ基が好ましい。熱硬化性樹脂は、１種の硬化性基を有していてもよく、二種以上の硬化性基を有していてもよい。

　熱硬化性樹脂は、単一のモノマーの重合体（ホモポリマー）であってよく、複数種のモノマーの共重合体（コポリマー）であってもよい。また、熱硬化性樹脂は、ランダム共重合体、ブロック共重合体又はグラフト共重合体のいずれであってもよい。

　熱硬化性樹脂としては、１分子中に熱硬化性官能基を２個以上有する化合物が用いられ、通常、硬化剤と組み合わせて用いられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、熱硬化反応を促進できる触媒（硬化促進剤）を更に添加してもよい。言い換えれば、発光粒子含有樹脂組成物は、熱硬化性樹脂（並びに、必要に応じて用いられる硬化剤及び硬化促進剤）を含む熱硬化性成分を含有していてよい。また、これらに加えて、それ自体は重合反応性のない重合体を更に用いてもよい。

　１分子中に熱硬化性官能基を２個以上有する化合物として、例えば、１分子中にエポキシ基を２個以上有するエポキシ樹脂（以下、「多官能エポキシ樹脂」ともいう。）を用いてもよい。「エポキシ樹脂」には、モノマー性エポキシ樹脂及びポリマー性エポキシ樹脂の両方が含まれる。多官能性エポキシ樹脂が１分子中に有するエポキシ基の数は、好ましくは２～５０個であり、より好ましくは２～２０個である。エポキシ基は、オキシラン環構造を有する構造であればよく、例えば、グリシジル基、オキシエチレン基、エポキシシクロヘキシル基等を挙げることができる。エポキシ樹脂としては、カルボン酸により硬化しうる公知の多価エポキシ樹脂を挙げることができる。このようなエポキシ樹脂は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊（昭和６２年）等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。

　エポキシ基を有する熱硬化性樹脂（多官能エポキシ樹脂を含む）としては、オキシラン環構造を有するモノマーの重合体、オキシラン環構造を有するモノマーと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。具体的な多官能エポキシ樹脂としては、ポリグリシジルメタクリレート、メチルメタクリレート－グリシジルメタクリレート共重合体、ベンジルメタクリレート－グリシジルメタクリレート共重合体、ｎ－ブチルメタクリレート－グリシジルメタクリレート共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート－グリシジルメタクリレート共重合体、（３－エチル－３－オキセタニル）メチルメタクリレート－グリシジルメタクリレート共重合体、スチレン－グリシジルメタクリレート等が挙げられる。また、本実施形態の熱硬化性樹脂として、特開２０１４－５６２４８号公報の段落００４４～００６６の記載の化合物を用いることもできる。

　また、多官能エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、３官能型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ含核ポリオール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリオキザール型エポキシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂などを使用できる。

　より具体的には、商品名「エピコート８２８」（ジャパンエポキシレジン社製）などのビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、商品名「ＹＤＦ－１７５Ｓ」（東都化成社製）などのビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、商品名「ＹＤＢ－７１５」（東都化成社製）などの臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、商品名「ＥＰＩＣＬＯＮ　ＥＸＡ１５１４」（ＤＩＣ（株）製）などのビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、商品名「ＹＤＣ－１３１２」（東都化成社製）などのハイドロキノン型エポキシ樹脂、商品名「ＥＰＩＣＬＯＮ　ＥＸＡ４０３２」、「ＨＰ－４７７０」、「ＨＰ－４７００」、「ＨＰ－５０００」（ＤＩＣ（株）製）などのナフタレン型エポキシ樹脂、商品名「エピコートＹＸ４０００Ｈ」（ジャパンエポキシレジン社製）などのビフェニル型エポキシ樹脂、商品名「エピコート１５７Ｓ７０」（ジャパンエポキシレジン社製）などのビスフェノールＡ型ノボラック系エポキシ樹脂、商品名「エピコート１５４」（ジャパンエポキシレジン社製）、商品名「ＹＤＰＮ－６３８」（東都化成社製）などのフェノールノボラック型エポキシ樹脂、商品名「ＹＤＣＮ－７０１」（東都化成社製）などのクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、商品名「ＥＰＩＣＬＯＮ　ＨＰ－７２００」、「ＨＰ－７２００Ｈ」（ＤＩＣ（株）製）などのジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ樹脂、商品名「エピコート１０３２Ｈ６０」（ジャパンエポキシレジン社製）などのトリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、商品名「ＶＧ３１０１Ｍ８０」（三井化学社製）などの３官能型エポキシ樹脂、商品名「エピコート１０３１Ｓ」（ジャパンエポキシレジン社製）などのテトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、商品名「デナコールＥＸ－４１１」（ナガセ化成工業社製）などの４官能型エポキシ樹脂、商品名「ＳＴ－３０００」（東都化成社製）などの水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、商品名「エピコート１９０Ｐ」（ジャパンエポキシレジン社製）などのグリシジルエステル型エポキシ樹脂、商品名「ＹＨ－４３４」（東都化成社製）などのグリシジルアミン型エポキシ樹脂、商品名「ＹＤＧ－４１４」（東都化成社製）などのグリオキザール型エポキシ樹脂、商品名「エポリードＧＴ－４０１」（ダイセル化学社製）などの脂環式多官能エポキシ化合物、トリグリシジルイソシアネート（ＴＧＩＣ）などの複素環型エポキシ樹脂などを例示することができる。また、必要であれば、エポキシ反応性希釈剤として、商品名「ネオトートＥ」（東都化成社製）などを混合することができる。

　また、多官能エポキシ樹脂としては、ＤＩＣ（株）製の「ファインディックＡ－２４７Ｓ」、「ファインディックＡ－２５４」、「ファインディックＡ－２５３」、「ファインディックＡ－２２９－３０Ａ」、「ファインディックＡ－２６１」、「ファインディックＡ２４９」、「ファインディックＡ－２６６」、「ファインディックＡ－２４１」「ファインディックＭ－８０２０」、「エピクロンＮ－７４０」、「エピクロンＮ－７７０」、「エピクロンＮ－８６５」（商品名）等を用いることができる。

　熱硬化性樹脂として、比較的分子量が小さい多官能エポキシ樹脂を用いると、発光粒子含有樹脂組成物（インクジェットインク）中にエポキシ基が補充されてエポキシの反応点濃度が高濃度となり、架橋密度を高めることができる。
　多官能エポキシ樹脂の中でも、架橋密度を高める観点から、一分子中にエポキシ基を４個以上有するエポキシ樹脂（４官能以上の多官能エポキシ樹脂）を用いることが好ましい。特に、インクジェット方式における吐出ヘッドからの吐出安定性を向上させるためにエポキシ当量が５００以上の熱硬化性樹脂を用いる場合には、画素部（発光粒子含有樹脂組成物の硬化物）の強度及び硬度が低下し易いため、架橋密度を充分に高める観点から、４官能以上の多官能エポキシ樹脂を発光粒子含有樹脂組成物（インクジェットインク）に配合することが好ましい。なお、エポキシ当量は、ＪＩＳ　Ｋ７２３６：２００１に記載の方法に準じて測定することができる。

　熱硬化性樹脂を硬化させるために用いられる硬化剤及び硬化促進剤としては、例えば、４－メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルメタン、フェノールノボラック樹脂、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、２－エチル－４－メチルイミダゾール、トリフェニルホスフィン、３－フェニル－１，１－ジメチルウレア等が挙げられる。

　熱硬化性樹脂は、信頼性に優れるカラーフィルタ画素部が得られやすい観点から、アルカリ不溶性であることが好ましい。熱硬化性樹脂がアルカリ不溶性であるとは、１質量％の水酸化カリウム水溶液に対する２５℃における熱硬化性樹脂の溶解量が、熱硬化性樹脂の全質量を基準として、３０質量％以下であることを意味する。熱硬化性樹脂の上記溶解量は、好ましくは、１０質量％以下であり、より好ましくは３質量％以下である。

　熱硬化性樹脂のエポキシ当量は、インクジェットインクとして適正な粘度が得られやすい観点、発光粒子含有樹脂組成物の硬化性が良好となる観点、並びに、画素部（発光粒子含有樹脂組成物の硬化物）の耐溶剤性及び磨耗性が向上する観点から、１５０以上であることが好ましく、２００以上であることがより好ましく、５００以上であることがさらに好ましい。インクジェットインクとしての適正な粘度とする観点から、４０００以下であることが好ましく、２０００以下であることがより好ましく、１０００以下であることがさらに好ましい。ただし、架橋後の分子量に関してはこの限りでない。

　熱硬化性樹脂の含有量は、インクジェットインクとして適正な粘度が得られやすい観点、発光粒子含有樹脂組成物の硬化性が良好となる観点、並びに、画素部（発光粒子含有樹脂組成物の硬化物）の耐溶剤性及び磨耗性が向上する観点から、発光粒子含有樹脂組成物の不揮発分の質量を基準として、１０質量％以上であることが好ましく、１５質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることがさらに好ましい。熱硬化性樹脂の含有量は、インクジェットインクの粘度が高くなりすぎず、画素部の厚さが光変換機能に対して厚くなりすぎない観点から、発光粒子含有樹脂組成物の不揮発分の質量を基準として、９０質量％以下、８０質量％以下、７０質量％以下、６０質量％以下、５０質量％以下あることが好ましい。

　本実施形態において、発光粒子含有樹脂組成物は、さらに、光重合性化合物を含有してもよい。ここでいう光重合性化合物とは、光の照射によって重合する光ラジカル重合性化合物であり、光重合性のモノマーまたはオリゴマーであってもよい。これらは、光重合開始剤と共に用いられる。光重合性化合物は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

　光ラジカル重合性化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。（メタ）アクリレート化合物は、（メタ）アクリロイル基を１つ有する単官能（メタ）アクリレートであってもよく、（メタ）アクリロイル基を複数有する多官能（メタ）アクリレートであってもよい。

　発光粒子含有樹脂組成物を調製した際の流動性に優れる観点、吐出安定性により優れる観点および発光粒子塗膜製造時における硬化収縮に起因する平滑性の低下を抑制し得る観点から、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを組み合わせて用いることが好ましい。

　単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルベンジル（メタ）アクリレート、こはく酸モノ（２－アクリロイルオキシエチル）、Ｎ－［２－（アクリロイルオキシ）エチル］フタルイミド、Ｎ－［２－（アクリロイルオキシ）エチル］テトラヒドロフタルイミド等が挙げられる。

　多官能（メタ）アクリレートは、２官能（メタ）アクリレート、３官能（メタ）アクリレート、４官能（メタ）アクリレート、５官能（メタ）アクリレート、６官能（メタ）アクリレート等であってもよい。例えば、ジオール化合物の２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、トリオール化合物の２つまたは３つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジまたはトリ（メタ）アクリレート等を用いることが好ましい。

　２官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、１，３－ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、３－メチル－１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコ-ルヒドロキシピバリン酸エステルジアクリレ-ト、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのネオペンチルグリコールに４モル以上のエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのビスフェノールＡに２モルのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのトリメチロールプロパンに３モル以上のエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるトリオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのビスフェノールＡに４モル以上のエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

　３官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、１モルのトリメチロールプロパンに３モル以上のエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるトリオールの３つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

　４官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　５官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　６官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　多官能（メタ）アクリレートは、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトールの複数の水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたポリ（メタ）アクリレートであってもよい。
　（メタ）アクリレート化合物は、リン酸基を有する、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキルリン酸（メタ）アクリレート等であってもよい。

　発光粒子含有樹脂組成物が熱硬化性樹脂及び光重合性化合物を含む場合、熱硬化性樹脂及び光重合性化合物の含有量の合計の好ましい下限値は、インクジェットインクとして適正な粘度が得られやすい観点、硬化性が良好となる観点、並びに、画素部（発光粒子含有樹脂組成物の硬化物）の耐有機溶剤性及び磨耗性が向上する観点から、発光粒子含有樹脂組成物の不揮発分の質量を基準として、３質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１５質量％以上であり、２０質量％以上である。また、熱硬化性樹脂及び光重合性化合物の含有量の合計の好ましい上限値は、インクジェットインクの粘度が高くなりすぎず、画素部の厚さが光変換機能に対して厚くなりすぎない観点から、発光粒子含有樹脂組成物の不揮発分の質量を基準として、８０質量％以下、６０質量％以下、５０質量％以下である。

１－３．有機溶剤
　本発明の発光粒子含有樹脂組成物中に含まれる有機溶剤は、発光粒子含有樹脂組成物を均一となるように調製する観点や、発光粒子含有樹脂組成物の流動性等を高めて、ムラのないカラーフィルタ画素部（光変換層）を形成する観点から使用される。有機溶剤は、後述するＬｏｇＰ値が特定範囲の有機溶剤であり、かつ、１気圧での沸点が１５０～２６０℃の有機溶剤であることが好ましい。さらに、前記有機溶剤の２０℃における蒸気圧に対する１００℃における蒸気圧の比（すなわち、１００℃における蒸気圧／２０℃における蒸気圧）が４０以上であることがより好ましい。

　本発明において、ＬｏｇＰ値は、オクタノール／水分配係数の常用対数値を表し、一般に有機化合物の親疎水性の相対的評価に用いられる数値である。オクタノール／水分配係数（ＬｏｇＰ値）の測定は、一般にＪＩＳ　Ｚ７２６０－１０７に基づいて実測することができる。また、オクタノール／水分配係数（ＬｏｇＰ値）は、計算科学的手法により見積もることができる。本発明では、「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈａｒａｍａｃｅｕｔｉｃａｌ　Ｓｃｉｅｎｃｅｓ、８３ページ、８４巻，Ｎｏ．１，１９９５年刊」(ＷＩＬＬＩＡＭ　Ｍ．　ＭＥＹＬＡＮ、ＰＨＩＬＩＰ　Ｈ．ＨＯＷＡＲＤ著）に記載の方法で算出された値を用いる。

　本発明の発光粒子含有樹脂組成物において、中でもインクジェット印刷に使用される発光粒子含有樹脂組成物においては、有機溶剤のＬｏｇＰ値は－１．０以上～６．５以下であり、必要であれば、本発明の技術的効果を損なわない範囲において、ＬｏｇＰ値がこの範囲外の有機溶剤を含有していてもよい。

　有機溶剤のＬｏｇＰ値の好ましい上限値は、発光粒子の水分による劣化を抑える観点で、５．０以下であり、４．０以下であり、３．０以下であり、２．０以下である。また、好ましい下限値は、発光粒子含有樹脂組成物の吸水性を抑制して発光粒子９１の水分による劣化を防ぐという観点から、－０．５以上であり、０．０以上であり、１．０以上である。

　ＬｏｇＰ値が、上記範囲の－１．０以上～６．５以下の範囲外の有機溶剤を含有する場合、その有機溶剤の発光粒子含有樹脂組成物中の好ましい含有量は、発光粒子の大気中の酸素や水分による劣化を抑える観点で、３０質量％以下であり、２０質量％以下であり、１０質量％以下であり、５質量％以下であり、２質量％以下である。

　有機溶剤の１気圧での沸点は、インクジェットインクの連続吐出安定性の観点から、１５０℃以上であることが好ましく、１６０℃以上であることがより好ましく、１７０℃以上であることがさらに好ましく、１８０℃以上であることが特に好ましい。また、画素部の形成時には、発光粒子含有樹脂組成物の硬化前に発光粒子含有樹脂組成物から有機溶剤を除去する必要があるため、有機溶剤を除去しやすい観点から、有機溶剤の沸点は２６０℃以下であることが好ましく、２５０℃以下がより好ましく、２４０℃以下がさらに好ましく、２３０℃以下が特に好ましい。

　ところで、発光粒子含有樹脂組成物を、インクジェット装置を利用して基板に吐出させるとき、有機溶剤の蒸発速度が速すぎると、インクジェットヘッドに目詰まりが生じることがある。また、基板上に吐出された発光粒子含有樹脂組成物は、通常１００℃以上に加熱されて乾燥されるが、有機溶剤の蒸発速度が遅すぎると、乾燥に長時間を要して製造効率が低下することがある。そこで、有機溶剤は、２０℃における蒸気圧が０．０５～５００Ｐａであり、且つ、１００℃における蒸気圧が２０℃における蒸気圧の４０倍以上であることが好ましい。本発明の発光粒子含有樹脂組成物は、このような蒸気圧を有する有機溶剤を用いることにより、上述の目詰まりを抑制すると共に、高速乾燥を実現して製造速度を高めることができる。これらの効果を高めるため、有機溶剤は、２０℃における蒸気圧が０．１～４００Ｐａであることがより好ましく、０．１～３００Ｐａであることがさらに好ましい。

　本発明において発光粒子含有樹脂組成物中に含有される有機溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アニソール、プロピレングリコール－ｎ－ブチルエーテル、マロン酸ジメチル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、コハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、マロン酸ジエチル、安息香酸メチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、１，３－ブチレングリコール、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコール－ｎ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコール－ｎ－ブチルエーテル、１，４－ブタンジオールジアセテート、アジピン酸ジエチル、シュウ酸ジブチル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジブチルエーテル、グリセリルトリアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル、イソホロン、テトラリンなどが挙げられる。

　本発明の発光粒子含有樹脂組成物中の有機溶剤の重量比率は、本発明に用いられる発光粒子含有樹脂組成物が通常塗布により行われることから、塗布した状態を著しく損なわない限りは特に制限はないが、発光粒子含有樹脂組成物における有機溶剤の合計量の含有比率が５０～９９質量％であることが好ましく、５５～９０質量％であることが更に好ましく、６０～８０質量％であることが特に好ましい。

　また、用いる有機溶剤は、前記有機溶剤と、前記以外の１気圧における沸点が１５０℃未満の有機溶剤を一緒に使用してもよい。本発明の発光粒子含有樹脂組成物中の前記以外の１気圧における沸点が１５０℃未満の有機溶剤の含有比率は、０～３０質量％であることが好ましく、０～２５質量％であることが更に好ましく、０～２０質量％であることが特に好ましい。

　本発明における発光粒子含有樹脂組成物は、公知慣用のカラーフィルタの製造方法に用いる発光粒子含有樹脂組成物として適用が可能であるが、比較的高額である発光粒子、有機溶剤等の材料を無駄に消費せずに、必要な箇所に必要な量を用いるだけでカラーフィルタ画素部（光変換層）を形成できる点で、インクジェット方式用に適合するよう、適切に調製して用いることが好ましい。また、本発明における発光粒子含有樹脂組成物は、フォトリソグラフィー方式用に適切に調製してもよい。

　前記有機溶剤は、発光粒子含有樹脂組成物の粘度及び表面張力を調整するために適宜使用される。例えば、インクジェット印刷時の吐出安定性の観点から、吐出ヘッドのインク吐出孔の先端における発光粒子含有樹脂組成物のメニスカス形状を安定化させるため、発光粒子含有樹脂組成物の粘度を２～２０ｍＰａ・ｓに調整した場合、発光粒子含有樹脂組成物の吐出制御（例えば、吐出量及び吐出のタイミングの制御）が容易となり、好適である。本発明における発光粒子含有樹脂組成物の粘度は、２～２０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、５～１５ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、７～１２ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。発光粒子含有樹脂組成物の粘度は、例えば、Ｅ型粘度計によって測定される。

　さらに、有機溶剤の表面張力が２０～４０ｍＮ／ｍであることが好ましい。このような有機溶剤を用いることにより、発光粒子含有樹脂組成物の表面張力をインクジェット方式に適した２０～４０ｍＮ／ｍの範囲に調整することができ、飛行曲がりの発生を抑制することができる。なお、飛行曲がりとは、発光粒子含有樹脂組成物をインクジェット方式において吐出ヘッドの吐出孔から吐出させたとき、該組成物の着弾位置が目標位置に対して３０μｍ以上ずれる現象をいう。有機溶剤の表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下である場合、吐出孔の先端におけるメニスカス形状が安定するため、該組成物の吐出制御（例えば、吐出量及び吐出のタイミングの制御）が容易となる。一方、有機溶剤の表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上である場合、飛行曲がりの発生を抑制できる。このため、例えば、発光粒子含有樹脂組成物を用いて後述するカラーフィルタ部を形成しようとする場合に、着弾すべき画素部形成領域に正確に着弾されずに該組成物の充填が不十分な画素部が生じたり、着弾すべき画素部形成領域に隣接する画素部形成領域（又は画素部）に該組成物が着弾し、色再現性が低下したりすることを防ぐことができる。

１－４．その他の成分
　本発明に用いる発光粒子含有樹脂組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、ポリマー被覆発光粒子９０又はポリマーが被覆されていない発光粒子９１、熱硬化性樹脂、有機溶剤以外の他の成分を含有してもよい。他の成分としては、光散乱性粒子、酸化防止剤、分散剤、熱可塑性樹脂、レベリング剤、連鎖移動剤等が挙げられる。

＜光散乱性粒子＞
　光散乱性粒子は、例えば、光学的に不活性な無機微粒子である。光散乱性粒子は、発光層（光変換層）に照射された光源部からの光を散乱させることができる。

　光散乱性粒子を構成する材料としては、例えば、タングステン、ジルコニウム、チタン、白金、ビスマス、ロジウム、パラジウム、銀、スズ、プラチナ、金のような単体金属；シリカ、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、タルク、酸化チタン、クレー、カオリン、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、アルミナホワイト、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛のような金属酸化物；炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、次炭酸ビスマス、炭酸カルシウムのような金属炭酸塩；水酸化アルミニウムのような金属水酸化物；ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の複合酸化物、次硝酸ビスマスのような金属塩等が挙げられる。　中でも、光散乱性粒子を構成する材料としては、漏れ光の低減効果により優れる観点から、酸化チタン、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウムおよびシリカからなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、酸化チタン、硫酸バリウムおよび炭酸カルシウムからなる群より選択される少なくとも一種を含むことがより好ましい。

　光散乱性粒子の形状は、球状、フィラメント状、不定形状等であってもよい。しかしながら、光散乱性粒子としては、粒子形状として方向性の少ない粒子（例えば、球状、正四面体状等の粒子）を用いることが、発光粒子含有樹脂組成物の均一性、流動性及び光散乱性をより高められる点で好ましい。

　発光粒子含有樹脂組成物中に含まれる光散乱性粒子の平均粒子径（体積平均径）の好ましい下限値は、漏れ光の低減効果により優れる観点から、０．０５μｍ以上であり、０．２μｍ以上であり、０．３μｍ以上である。一方、前記光散乱性粒子の平均粒子径（体積平均径）の好ましい上限値は、吐出安定性に優れる観点から、１．０μｍ以下であり、０．６μｍ以下であり、０．４μｍ以下である。前記光散乱性粒子の平均粒子径（体積平均径）は、０．０５～１．０μｍ、０．０５～０．６μｍ、０．０５～０．４μｍ、０．２～１．０μｍ、０．２～０．６μｍ、０．２～０．４μｍ、０．３～１．０μｍ、０．３～０．６μｍ、又は０．３～０．４μｍであることが好ましい。このような平均粒子径（体積平均径）が得られやすい観点から、使用する光散乱性粒子の平均粒子径（体積平均径）は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、１０００ｎｍ以下であることが好ましい。発光粒子含有樹脂組成物中での光散乱性粒子の平均粒子径（体積平均径）は、動的光散乱式ナノトラック粒度分布計により測定し、体積平均径を算出することにより得られる。また、使用する光散乱性粒子の平均粒子径（体積平均径）は、例えば透過型電子顕微鏡又は走査型電子顕微鏡により各粒子の粒子径を測定し、体積平均径を算出することにより得られる。

　光散乱性粒子の含有量の好ましい下限値は、は、漏れ光の低減効果により優れる観点から、発光粒子含有樹脂組成物の不揮発分の質量を基準として、０．１質量％以上であり、１質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１２質量％以上である。光散乱性粒子の含有量の好ましい上限値は、漏れ光の低減効果により優れる観点及び吐出安定性に優れる観点から、発光粒子含有樹脂組成物の不揮発分の質量を基準として、６０質量％以下であり、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３０質量％以下であり、２５質量％以下であり、２０質量％以下であり、１５質量％以下である。本実施形態では、発光粒子含有樹脂組成物が高分子分散剤を含むため、光散乱性粒子の含有量を上記範囲とした場合であっても光散乱性粒子の良好に分散させることができる。

　発光粒子９０の含有量に対する光散乱性粒子の含有量の質量比（光散乱性粒子／発光性ナノ結晶粒子）の好ましい下限値は、漏れ光の低減効果により優れる観点から、０．１以上であり、０．２以上であり、０．５以上である。前記質量比の好ましい上限値は、漏れ光の低減効果により優れ、インクジェット印刷時の連続吐出性に優れる観点から、５．０以下であり、２．０以下であり、１．５以下である。なお、光散乱性粒子による漏れ光低減は、次のようなメカニズムによると考えられる。すなわち、光散乱性粒子が存在しない場合、バックライト光は画素部内をほぼ直進して通過するのみであり、発光粒子９０に吸収される機会が少ないと考えられる。一方、光散乱性粒子を発光粒子９０と同一の画素部内に存在させると、その画素部内でバックライト光が全方位に散乱され、それを発光粒子９０が受光することができるため、同一のバックライトを用いていても、画素部における光吸収量が増大すると考えられる。結果的に、このようなメカニズムで漏れ光を防ぐことが可能になったと考えられる。

＜分散剤＞
　分散剤は、発光粒子９０の発光粒子含有樹脂組成物中での分散安定性をさらに向上させ得る化合物であれば、特に限定されない。分散剤は、低分子分散剤と高分子分散剤とに分類される。本明細書中において、「低分子」とは、重量平均分子量（Ｍｗ）が５，０００以下の分子を意味し、「高分子」とは、重量平均分子量（Ｍｗ）が５，０００超の分子を意味する。なお、本明細書中において、「重量平均分子量（Ｍｗ）」は、ポリスチレンを標準物質としたゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて測定された値を採用することができる。

　低分子分散剤としては、例えば、オレイン酸；リン酸トリエチル、ＴＯＰ（トリオクチルフォスフィン）、ＴＯＰＯ（トリオクチルフォスフィンオキサイド）、ヘキシルホスホン酸（ＨＰＡ）、テトラデシルホスホン酸（ＴＤＰＡ）、オクチルホスフィン酸（ＯＰＡ）のようなリン原子含有化合物；オレイルアミン、オクチルアミン、トリオクチルアミン、ヘキサデシルアミンのような窒素原子含有化合物；１－デカンチオール、オクタンチオール、ドデカンチオール、アミルスルフィドのような硫黄原子含有化合物等が挙げられる。

　一方、高分子分散剤としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリウレア系樹脂、アミノ系樹脂、ポリアミン系樹脂（ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン等）、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、ウッドロジン、ガムロジン、トール油ロジンのような天然ロジン、重合ロジン、不均化ロジン、水添ロジン、酸化ロジン、マレイン化ロジンのような変性ロジン、ロジンアミン、ライムロジン、ロジンアルキレンオキシド付加物、ロジンアルキド付加物、ロジン変性フェノールのようなロジン誘導体等が挙げられる。

　なお、高分子分散剤の市販品としては、例えば、ビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ、エボニック社製のＴＥＧＯ　Ｄｉｓｐｅｒｓシリーズ、ＢＡＳＦ社製のＥＦＫＡシリーズ、日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥシリーズ、味の素ファインテクノ社製のアジスパーシリーズ、楠本化成製のＤＩＳＰＡＲＬＯＮシリーズ、共栄社化学社製のフローレンシリーズ等を使用することができる。
　分散剤の配合量は、１００質量部の発光粒子９０に対して、０．０５～１０質量部であることが好ましく、０．１～５質量部であることがより好ましい。

　ところで、従来の発光粒子含有樹脂組成物を用いてインクジェット方式でカラーフィルタ画素部を形成する場合、発光粒子及び光散乱性粒子の凝集等によりインクジェットノズルからの吐出安定性が低下する場合があった。また、発光粒子及び光散乱性粒子を微細化すること、発光粒子及び光散乱性粒子の含有量を減らすこと等により、吐出安定性を向上させることが考えられるが、この場合、漏れ光の低減効果が低下しやすく、充分な吐出安定性と漏れ光の低減効果とを両立することは困難であった。これに対し、分散剤を更に含有する発光粒子含有樹脂組成物によれば、充分な吐出安定性を確保しつつ、漏れ光をより低減することができる。このような効果が得られる理由は、明らかではないが、分散剤によって、発光粒子及び光散乱性粒子（特に、光散乱性粒子）の凝集が顕著に抑制されるためであると推察される。

　光散乱性粒子に対し親和性を有する官能基としては、酸性官能基、塩基性官能基及び非イオン性官能基が挙げられる。酸性官能基は解離性のプロトンを有しており、アミン、水酸化物イオン等の塩基により中和されていてもよく、塩基性官能基は有機酸、無機酸等の酸により中和されていてもよい。

　酸性官能基としては、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ）、スルホ基（－ＳＯ３Ｈ）、硫酸基（－ＯＳＯ３Ｈ）、ホスホン酸基（－ＰＯ（ＯＨ）３）、リン酸基（－ＯＰＯ（ＯＨ）３）、ホスフィン酸基（－ＰＯ（ＯＨ）－）、メルカプト基（－ＳＨ）、が挙げられる。

　塩基性官能基としては、一級、二級及び三級アミノ基、アンモニウム基、イミノ基、並びに、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、イミダゾール、トリアゾール等の含窒素ヘテロ環基等が挙げられる。

　非イオン性官能基としては、ヒドロキシ基、エーテル基、チオエーテル基、スルフィニル基（－ＳＯ－）、スルホニル基（－ＳＯ２－）、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、炭酸エステル基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、チオアミド基、チオウレイド基、スルファモイル基、シアノ基、アルケニル基、アルキニル基、ホスフィンオキシド基、ホスフィンスルフィド基が挙げられる。

　光散乱性粒子の分散安定性の観点、発光粒子が沈降するという副作用を起こしにくい観点、高分子分散剤の合成の容易性の観点、及び官能基の安定性の観点から、酸性官能基としては、カルボキシル基、スルホ基、ホスホン酸基及びリン酸基が好ましく用いられ、塩基性官能基としては、アミノ基が好ましく用いられる。これらの中でも、カルボキシル基、ホスホン酸基及びアミノ基がより好ましく用いられ、最も好ましくはアミノ基が用いられる。

　酸性官能基を有する分散剤は酸価を有する。酸性官能基を有する高分子分散剤の酸価は、好ましくは、固形分換算で、１～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇである。酸価が１以上であると、光散乱性粒子の充分な分散性が得られやすく、酸価が１５０以下であると、画素部（発光粒子含有樹脂組成物の硬化物）の保存安定性が低下しにくい。
　また、塩基性官能基を有する分散剤はアミン価を有する。塩基性官能基を有する分散剤のアミン価は、好ましくは、固形分換算で、１～２００ｍｇＫＯＨ／ｇである。アミン価が１以上であると、光散乱性粒子の充分な分散性が得られやすく、アミン価が２００以下であると、画素部（発光粒子含有樹脂組成物の硬化物）の保存安定性が低下しにくい。　分散剤の重量平均分子量の好ましい下限値は、光散乱性粒子を良好に分散することができ、漏れ光の低減効果をより向上させることができる観点から、７５０以上であり、１０００以上であり、２０００以上であり、３０００以上である。また、分散剤の重量平均分子量の好ましい上限値は、光散乱性粒子を良好に分散することができ、漏れ光の低減効果をより向上させることができ、また、インクジェットインクの粘度を吐出可能で安定吐出に適する粘度とする観点から、１０００００以下であり、５００００以下であり、３００００以下である。

　分散剤の含有量の好ましい下限値は、光散乱性粒子の分散性の観点から、光散乱性粒子１００質量部に対して、０．５質量部以上であり、２質量部以上であり、５質量部以上である。高分子分散の含有量の好ましい上限値は、画素部（発光粒子含有樹脂組成物の硬化物）の湿熱安定性の観点から、光散乱性粒子１００質量部に対して、５０質量部以下であり、３０質量部以下であり、１０質量部以下である。

＜酸化防止剤＞
　本発明に用いる発光粒子含有樹脂組成物は、当該組成物及び組成物から形成される光変換層の劣化を抑制する目的で、必要に応じて酸化防止剤を含有することができる。具体的な酸化防止剤としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート（「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」）、チオジエチレンビス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート（「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」）、オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート（「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」）、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、４，６－ビス（オクチルチオメチル）－ｏ－クレゾール（「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」）、「ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」（以上、ＢＡＳＦ株式会社製）；「アデカスタブＡＯ－２０」、「アデカスタブＡＯ－３０」、「アデカスタブＡＯ－４０」、「アデカスタブＡＯ－５０」、「アデカスタブＡＯ－６０」、「アデカスタブＡＯ－８０」（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）；「ＪＰ－３６０」、「ＪＰ－３０８Ｅ」、「ＪＰＥ－１０」（以上、城北化学工業株式会社製）；「スミライザーＢＨＴ」、「スミライザーＢＢＭ－Ｓ」、「スミライザーＧＡ－８０」（以上、住友化学株式会社製）等が挙げられる。

　酸化防止剤の添加量は、発光粒子含有樹脂組成物に含まれる固形分の総量に対して、０．０１～２．０質量％であることが好ましく、０．０２～１．５質量％であることがより好ましく、０．０５～１．０質量％であることが特に好ましい。

＜熱可塑性樹脂＞
　熱可塑性樹脂としては、例えば、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、スチレンマレイン酸系樹脂、スチレン無水マレイン酸系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂等が挙げられる。

＜レベリング剤＞
　レベリング剤としては、特に限定はないが、発光粒子９１および発光粒子９０を含有する薄膜を形成する場合に、膜厚ムラを低減させ得る化合物が好ましい。
　かかるレベリング剤としては、例えば、アルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルリン酸塩、フルオロアルキルスルホン酸塩、ポリオキシエチレン誘導体、フルオロアルキルエチレンオキシド誘導体、ポリエチレングリコール誘導体、アルキルアンモニウム塩、フルオロアルキルアンモニウム塩類等が挙げられる。

　レベリング剤の具体例としては、例えば、「メガファックＦ－１１４」、「メガファックＦ－２５１」、「メガファックＦ－２８１」、「メガファックＦ－４１０」、「メガファックＦ－４３０」、「メガファックＦ－４４４」、「メガファックＦ－４７２ＳＦ」、「メガファックＦ－４７７」、「メガファックＦ－５１０」、「メガファックＦ－５１１」、「メガファックＦ－５５２」、「メガファックＦ－５５３」、「メガファックＦ－５５４」、「メガファックＦ－５５５」、「メガファックＦ－５５６」、「メガファックＦ－５５７」、「メガファックＦ－５５８」、「メガファックＦ－５５９」、「メガファックＦ－５６０」、「メガファックＦ－５６１」、「メガファックＦ－５６２」、「メガファックＦ－５６３」、「メガファックＦ－５６５」、「メガファックＦ－５６７」、「メガファックＦ－５６８」、「メガファックＦ－５６９」、「メガファックＦ－５７０」、「メガファックＦ－５７１」、「メガファックＲ－４０」、「メガファックＲ－４１」、「メガファックＲ－４３」、「メガファックＲ－９４」、「メガファックＲＳ－７２－Ｋ」、「メガファックＲＳ－７５」、「メガファックＲＳ－７６－Ｅ」、「メガファックＲＳ－７６－ＮＳ」、「メガファックＲＳ－９０」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ－１３６７」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ１４３７」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ１５３７」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ－２０６６」（以上、ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。

　レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「フタージェント１００」、「フタージェント１００Ｃ」、「フタージェント１１０」、「フタージェント１５０」、「フタージェント１５０ＣＨ」、「フタージェント１００Ａ-Ｋ」、「フタージェント３００」、「フタージェント３１０」、「フタージェント３２０」、「フタージェント４００ＳＷ」、「フタージェント２５１」、「フタージェント２１５Ｍ」、「フタージェント２１２Ｍ」、「フタージェント２１５Ｍ」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２２２Ｆ」、「フタージェント２１２Ｄ」、「ＦＴＸ－２１８」、「フタージェント２０９Ｆ」、「フタージェント２４５Ｆ」、「フタージェント２０８Ｇ」、「フタージェント２４０Ｇ」、「フタージェント２１２Ｐ」、「フタージェント２２０Ｐ」、「フタージェント２２８Ｐ」、「ＤＦＸ－１８」、「フタージェント６０１ＡＤ」、「フタージェント６０２Ａ」、「フタージェント６５０Ａ」、「フタージェント７５０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＦＭ」、「フタージェント７３０ＦＬ」、「フタージェント７１０ＦＳ」、「フタージェント７１０ＦＭ」、「フタージェント７１０ＦＬ」、「フタージェント７５０ＬＬ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＳ」、「フタージェント７３０ＬＭ」、（以上、株式会社ネオス製）等が挙げられる。

　レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「ＢＹＫ－３００」、「ＢＹＫ－３０２」、「ＢＹＫ－３０６」、「ＢＹＫ－３０７」、「ＢＹＫ－３１０」、「ＢＹＫ－３１５」、「ＢＹＫ－３２０」、「ＢＹＫ－３２２」、「ＢＹＫ－３２３」、「ＢＹＫ－３２５」、「ＢＹＫ－３３０」、「ＢＹＫ－３３１」、「ＢＹＫ－３３３」、「ＢＹＫ－３３７」、「ＢＹＫ－３４０」、「ＢＹＫ－３４４」、「ＢＹＫ－３７０」、「ＢＹＫ－３７５」、「ＢＹＫ－３７７」、「ＢＹＫ－３５０」、「ＢＹＫ－３５２」、「ＢＹＫ－３５４」、「ＢＹＫ－３５５」、「ＢＹＫ－３５６」、「ＢＹＫ－３５８Ｎ」、「ＢＹＫ－３６１Ｎ」、「ＢＹＫ－３５７」、「ＢＹＫ－３９０」、「ＢＹＫ－３９２」、「ＢＹＫ－ＵＶ３５００」、「ＢＹＫ－ＵＶ３５１０」、「ＢＹＫ－ＵＶ３５７０」、「ＢＹＫ－Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００」（以上、ＢＹＫ株式会社製）等が挙げられる。

　レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２１００」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２０１１」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２２００Ｎ」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２２５０」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２３００」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２５００」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２６００」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２６５０」、「ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２７００」、「ＴＥＧＯ　Ｆｌｏｗ３００」、「ＴＥＧＯ　Ｆｌｏｗ３７０」、「ＴＥＧＯ　Ｆｌｏｗ４２５」、「ＴＥＧＯ　Ｆｌｏｗ　ＡＴＦ２」、「ＴＥＧＯ　Ｆｌｏｗ　ＺＦＳ４６０」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ１００」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ１１０」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ１３０」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４１０」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４１１」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４１５」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４３２」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４４０」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４５０」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ４８２」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ　Ａ１１５」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ　Ｂ１４８４」、「ＴＥＧＯ　Ｇｌｉｄｅ　ＺＧ４００」、「ＴＥＧＯ　Ｔｗｉｎ４０００」、「ＴＥＧＯ　Ｔｗｉｎ４１００」、「ＴＥＧＯ　Ｔｗｉｎ４２００」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ２４０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ２５０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ２６０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ２６５」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ２７０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ２８０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ５００」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ５０５」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ５１０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ５２０」、「ＴＥＧＯ　Ｗｅｔ　ＫＬ２４５」（以上、エボニック・インダストリーズ株式会社製）等が挙げられる。

　レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「ＦＣ－４４３０」、「ＦＣ－４４３２」（以上、スリーエムジャパン株式会社製）、「ユニダインＮＳ」（以上、ダイキン工業株式会社製）、「サーフロンＳ－２４１」、「サーフロンＳ－２４２」、「サーフロンＳ－２４３」、「サーフロンＳ－４２０」、「サーフロンＳ－６１１」、「サーフロンＳ－６５１」、「サーフロンＳ－３８６」（以上、ＡＧＣセイミケミカル株式会社製）等が挙げられる。

　レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＯＸ－８８０ＥＦ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＯＸ－８８１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＯＸ－８８３」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＯＸ－７７ＥＦ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＯＸ－７１０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９２２」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９２７」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９５８」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　Ｐ－４１０ＥＦ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　Ｐ－４２０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　Ｐ－４２５」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＰＤ－７」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９７０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　２３０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＦ－１９８０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＦ－１９８２」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＦ－１９８３」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＦ－１０８４」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＦ－１９８５」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＨＰ－９０」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＨＰ－９１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＨＰ－９５」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＨＰ－９６」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＯＸ－７１５」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９３０Ｎ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９３１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９３３」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１９３４」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１７１１ＥＦ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１７５１Ｎ」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　１７６１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＳ－００９」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＳ－００１」、「ＤＩＳＰＡＲＬＯＮ　ＬＳ－０５０」（以上、楠本化成株式会社製）等が挙げられる。

　レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「ＰＦ－１５１Ｎ」、「ＰＦ－６３６」、「ＰＦ－６３２０」、「ＰＦ－６５６」、「ＰＦ－６５２０」、「ＰＦ－６５２－ＮＦ」、「ＰＦ－３３２０」（以上、ＯＭＮＯＶＡ　ＳＯＬＵＴＩＯＮＳ社製）、「ポリフローＮｏ．７」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ」、「ポリフローＮｏ．５０ＥＨＦ」、「ポリフローＮｏ．５４Ｎ」、「ポリフローＮｏ．７５」、「ポリフローＮｏ．７７」、「ポリフローＮｏ．８５」、「ポリフローＮｏ．８５ＨＦ」、「ポリフローＮｏ．９０」、「ポリフローＮｏ．９０Ｄ－５０」、「ポリフローＮｏ．９５」、「ポリフローＮｏ．９９Ｃ」、「ポリフローＫＬ－４００Ｋ」、「ポリフローＫＬ－４００ＨＦ」、「ポリフローＫＬ－４０１」、「ポリフローＫＬ－４０２」、「ポリフローＫＬ－４０３」、「ポリフローＫＬ－４０４」、「ポリフローＫＬ－１００」、「ポリフローＬＥ－６０４」、「ポリフローＫＬ－７００」、「フローレンＡＣ－３００」、「フローレンＡＣ－３０３」、「フローレンＡＣ－３２４」、「フローレンＡＣ－３２６Ｆ」、「フローレンＡＣ－５３０」、「フローレンＡＣ－９０３」、「フローレンＡＣ－９０３ＨＦ」、「フローレンＡＣ－１１６０」、「フローレンＡＣ－１１９０」、「フローレンＡＣ－２０００」、「フローレンＡＣ－２３００Ｃ」、「フローレンＡＯ－８２」、「フローレンＡＯ－９８」、「フローレンＡＯ－１０８」（以上、共栄社化学株式会社製）等が挙げられる。

　また、レベリング剤の他の具体例としては、例えば、「Ｌ－７００１」、「Ｌ－７００２」、「８０３２ＡＤＤＩＴＩＶＥ」、「５７ＡＤＤＴＩＶＥ」、「Ｌ－７０６４」、「ＦＺ－２１１０」、「ＦＺ－２１０５」、「６７ＡＤＤＴＩＶＥ」、「８６１６ＡＤＤＴＩＶＥ」（以上、東レ・ダウシリコーン株式会社製）等が挙げられる。
　レベリング剤の添加量は、発光粒子含有樹脂組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して、０．００５～２質量％であることが好ましく、０．０１～０．５質量％であることがより好ましい。

＜連鎖移動剤＞
　連鎖移動剤は、発光粒子含有樹脂組成物の基材との密着性をより向上させること等を目的として使用される成分である。連鎖移動剤としては、例えば、芳香族炭化水素類；クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素、ブロモトリクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素類；オクチルメルカプタン、ｎ－ブチルメルカプタン、ｎ－ペンチルメルカプタン、ｎ－ヘキサデシルメルカプタン、ｎ－テトラデシルメル、ｎ－ドデシルメルカプタン、ｔ－テトラデシルメルカプタン、ｔ－ドデシルメルカプタンのようなメルカプタン化合物；ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４－ブタンジオールビスチオプロピオネート、１，４－ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１，４－ジメチルメルカプトベンゼン、２、４、６－トリメルカプト－ｓ－トリアジン、２－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－４，６－ジメルカプト－ｓ－トリアジンのようなチオール化合物；ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジエチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィドのようなスルフィド化合物；Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジビニルアニリン、ペンタフェニルエタン、α－メチルスチレンダイマー、アクロレイン、アリルアルコール、ターピノーレン、α－テルピネン、γ－テルビネン、ジペンテン等が挙げられるが、２，４－ジフェニル－４－メチル－１－ペンテン、チオール化合物が好ましい。

　連鎖移動剤の具体例としては、例えば、下記一般式（９－１）～（９－１２）で表される化合物が好ましい。

　式中、Ｒ^９５は炭素原子数２～１８のアルキル基を表し、該アルキル基は直鎖であってもよく分岐鎖であってもよい。該アルキル基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子および硫黄原子が相互に直接結合することなく、酸素原子、硫黄原子、－ＣＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－または－ＣＨ＝ＣＨ－で置換されていてもよい。
　Ｒ^９６は炭素原子数２～１８のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子および硫黄原子が相互に直接結合することなく、酸素原子、硫黄原子、－ＣＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－または－ＣＨ＝ＣＨ－で置換されていてもよい。　連鎖移動剤の添加量は、発光粒子含有樹脂組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して、０．１～１０質量％であることが好ましく、１．０～５質量％であることがより好ましい。

　以上のような発光粒子含有樹脂組成物は、ポリマー被覆発光粒子９０又はポリマー層９２で被覆されていない発光粒子９１を、熱硬化性樹脂、有機溶剤等を混合した溶液中に分散させ、次いで、硬化剤等を添加、均一混合することにより調製することができる。

　或いは、ポリマー被覆発光粒子９０又はポリマー層９２で被覆されていない発光粒子９１を有機溶剤中に分散させ、次いで、熱硬化性樹脂、有機溶剤、硬化剤等の混合溶液中に添加、均一混合することにより調製することができる。発光粒子９０の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、ビーズミル、３本ロールミル、ペイントコンディショナー、アトライター、分散攪拌機、超音波等の分散機を使用することにより行うことができる。

２．発光粒子含有樹脂組成物の使用例
　上述の発光粒子樹脂組成物は、例えば、インクジェットプリンター、フォトリソグラフィ、スピンコーター等、種々の方法によって基板上に被膜を形成し、この被膜を加熱して硬化させることにより硬化物を得ることができる。以下、青色有機ＬＥＤバックライトを備えた発光素子のカラーフィルタ画素部を発光粒子含有樹脂組成物にて形成する場合を例に挙げて説明する。

２－１．発光素子
　図４は、本発明の発光素子の一実施形態を示す断面図であり、図５及び図６は、それぞれアクティブマトリックス回路の構成を示す概略図である。なお、図４では、便宜上、各部の寸法およびそれらの比率を誇張して示し、実際とは異なる場合がある。また、以下に示す材料、寸法等は一例であって、本発明は、それらに限定されず、その要旨を変更しない範囲で適宜変更することが可能である。以下では、説明の都合上、図４の上側を「上側」または「上方」と、上側を「下側」または「下方」と言う。また、図４では、図面が煩雑になることを避けるため、断面を示すハッチングの記載を省略している。

　図４に示すように、発光素子１００は、下基板１と、ＥＬ光源部２００と、充填層１０と、保護層１１と、発光粒子９０を含有し発光層として作用する光変換層１２と、上基板１３とをこの順に積層した構造を備える。光変換層１２に含有される発光粒子９０は、ポリマー被覆発光粒子９０であってもよく、ポリマー層９２で被覆されていない発光粒子９１であってもよい。ＥＬ光源部２００は、陽極２と、複数の層からなるＥＬ層１４と、陰極８と、図示しない偏光板と、封止層９とを順に備える。ＥＬ層１４は、陽極２側から順次積層された正孔注入層３と、正孔輸送層４と、発光層５と、電子輸送層６と、電子注入層７とを含む。

　かかる発光素子１００は、ＥＬ光源部２００（ＥＬ層１４）から発せられた光を光変換層１２によって吸収及び再放出するか或いは透過させ、上基板１３側から外部に取り出すフォトルミネセンス素子である。このとき、光変換層１２に含まれる発光粒子９０によって所定の色の光に変換される。以下、各層について順次説明する。

＜下基板１および上基板１３＞
　下基板１および上基板１３は、それぞれ発光素子１００を構成する各層を支持および／または保護する機能を有する。発光素子１００がトップエミッション型である場合、上基板１３が透明基板で構成される。一方、発光素子１００がボトムエミッション型である場合、下基板１が透明基板で構成される。ここで、透明基板とは、可視光領域の波長の光を透過可能な基板を意味し、透明には、無色透明、着色透明、半透明が含まれる。

　透明基板としては、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の透明なガラス基板、石英基板、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等で構成されるプラスチック基板（樹脂基板）、鉄、ステンレス、アルミニウム、銅等で構成される金属基板、シリコン基板、ガリウム砒素基板等を用いることができる。これらの中でも、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスからなるガラス基板を用いることが好ましい。具体的には、コーニング社製の「７０５９ガラス」、「１７３７ガラス」、「イーグル２００」及び「イーグルＸＧ」、旭硝子社製の「ＡＮ１００」、日本電気硝子社製の「ＯＡ－１０Ｇ」及び「ＯＡ－１１」が好適である。これらは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性及び高温加熱処理における作業性に優れる。また、発光素子１００に可撓性を付与する場合には、下基板１および上基板１３には、それぞれ、プラスチック基板（高分子材料を主材料として構成された基板）、比較的厚さの小さい金属基板が選択される。

　下基板１および上基板１３の厚さは、それぞれ特に限定されないが、１００～１，０００μｍの範囲であることが好ましく、３００～８００μｍの範囲であることがより好ましい。
　なお、発光素子１００の使用形態に応じて、下基板１および上基板１３のいずれか一方または双方を省略することもできる。

　図５に示すように、下基板１上には、Ｒ、Ｇ、Ｂで示される画素電極ＰＥを構成する陽極２への電流の供給を制御する信号線駆動回路Ｃ１および走査線駆動回路Ｃ２と、これらの回路の作動を制御する制御回路Ｃ３と、信号線駆動回路Ｃ１に接続された複数の信号線７０６と、走査線駆動回路Ｃ２に接続された複数の走査線７０７とを備えている。また、各信号線７０６と各走査線７０７との交差部近傍には、図６に示すように、コンデンサ７０１と、駆動トランジスタ７０２と、スイッチングトランジスタ７０８とが設けられている。

　コンデンサ７０１は、一方の電極が駆動トランジスタ７０２のゲート電極に接続され、他方の電極が駆動トランジスタ７０２のソース電極に接続されている。駆動トランジスタ７０２は、ゲート電極がコンデンサ７０１の一方の電極に接続され、ソース電極がコンデンサ７０１の他方の電極および駆動電流を供給する電源線７０３に接続され、ドレイン電極がＥＬ光源部２００の陽極４に接続されている。

　スイッチングトランジスタ７０８は、ゲート電極が走査線７０７に接続され、ソース電極が信号線７０６に接続され、ドレイン電極が駆動トランジスタ７０２のゲート電極に接続されている。また、本実施形態において、共通電極７０５は、ＥＬ光源部２００の陰極８を構成している。なお、駆動トランジスタ７０２およびスイッチングトランジスタ７０８は、例えば、薄膜トランジスタ等で構成することができる。

　走査線駆動回路Ｃ２は、走査線７０７を介して、スイッチングトランジスタ７０８のゲート電極に走査信号に応じた走査電圧を供給または遮断し、スイッチングトランジスタ７０８のオンまたはオフする。これにより、走査線駆動回路Ｃ２は、信号線駆動回路Ｃ１が信号電圧を書き込むタイミングを調整する。一方、信号線駆動回路Ｃ１は、信号線７０６およびスイッチングトランジスタ７０８を介して、駆動トランジスタ７０２のゲート電極に映像信号に応じた信号電圧を供給または遮断し、ＥＬ光源部２００に供給する信号電流の量を調整する。

　したがって、走査線駆動回路Ｃ２から走査電圧がスイッチングトランジスタ７０８のゲート電極に供給され、スイッチングトランジスタ７０８がオンすると、信号線駆動回路Ｃ１から信号電圧がスイッチングトランジスタ７０８のゲート電極に供給される。このとき、この信号電圧に対応したドレイン電流が電源線７０３から信号電流としてＥＬ光源部２００に供給される。その結果、ＥＬ光源部２００は、供給される信号電流に応じて発光する。

＜ＥＬ光源部２００＞
　［陽極２］
　陽極２は、外部電源から発光層５に向かって正孔を供給する機能を有する。陽極２の構成材料（陽極材料）としては、特に限定されないが、例えば、金（Ａｕ）のような金属、ヨウ化銅（ＣｕＩ）のようなハロゲン化金属、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）のような金属酸化物等が挙げられる。これらは、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

　陽極２の厚さは、特に制限されないが、１０～１，０００ｎｍの範囲であることが好ましく、１０～２００ｎｍの範囲であることがより好ましい。

　陽極２は、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法のような乾式成膜法により形成することができる。この際、フォトリソグラフィー法やマスクを用いた方法により、所定のパターンを有する陽極２を形成してもよい。

　［陰極８］
　陰極８は、外部電源から発光層５に向かって電子を供給する機能を有する。陰極８の構成材料（陰極材料）としては、特に限定されないが、例えば、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、アルミニウム、銀、ナトリウム－カリウム合金、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）混合物、希土類金属等が挙げられる。これらは、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

　陰極８の厚さは、特に限定されないが、０．１～１，０００ｎｍの範囲であることが好ましく、１～２００ｎｍの範囲であることがより好ましい。

　陰極３は、例えば、蒸着法やスパッタリング法のような乾式成膜法により形成することができる。

　［正孔注入層３］
　正孔注入層３は、陽極２から供給された正孔を受け取り、正孔輸送層４に注入する機能を有する。なお、正孔注入層３は、必要に応じて設けるようにすればよく、省略することもできる。

　正孔注入層３の構成材料（正孔注入材料）としては、特に限定されないが、例えば、銅フタロシアニンのようなフタロシアニン化合物；４，４’，４’’－トリス［フェニル（ｍ－トリル）アミノ］トリフェニルアミンのようなトリフェニルアミン誘導体；１，４，５，８，９，１２－ヘキサアザトリフェニレンヘキサカルボニトリル、２，３，５，６－テトラフルオロ－７，７，８，８－テトラシアノ－キノジメタンのようなシアノ化合物；酸化バナジウム、酸化モリブデンのような金属酸化物；アモルファスカーボン；ポリアニリン（エメラルディン）、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）－ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ－ＰＳＳ）、ポリピロールのような高分子等が挙げられる。これらの中でも、正孔注入材料としては、高分子であることが好ましく、ＰＥＤＯＴ－ＰＳＳであることがより好ましい。また、上述の正孔注入材料は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

　正孔注入層３の厚さは、特に限定されないが、０．１～５００ｍｍの範囲であることが好ましく、１～３００ｎｍの範囲であることがより好ましく、２～２００ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。正孔注入層３は、単層構成であってもよく、２層以上が積層された積層構成であってもよい。

　このような正孔注入層４は、湿式成膜法または乾式成膜法により形成することができる。正孔注入層３を湿式成膜法で形成する場合には、通常、上述の正孔注入材料を含有するインクを各種塗布法により塗布し、得られた塗膜を乾燥する。塗布法としては、特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷法（液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等が挙げられる。一方、正孔注入層３を乾式成膜法で形成する場合には、真空蒸着法、スパッタリング法等を好適に用いることができる。

　［正孔輸送層４］
　正孔輸送層４は、正孔注入層３から正孔を受け取り、発光層６まで効率的に輸送する機能を有する。また、正孔輸送層４は、電子の輸送を防止する機能を有していてもよい。なお、正孔輸送層４は、必要に応じて設けるようにすればよく、省略することもできる。

　正孔輸送層４の構成材料（正孔輸送材料）としては、特に限定されないが、例えば、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－Ｎ，Ｎ’－ジ（３－メチルフェニル）－１，１’－ビフェニル－４，４’ジアミン）、α－ＮＰＤ（４，４’－ビス［Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル）、ｍ－ＭＴＤＡＴＡ（４、４’，４’’－トリス（３－メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）のような低分子トリフェニルアミン誘導体；ポリビニルカルバゾール；ポリ［Ｎ，Ｎ’－ビス（４－ブチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス（フェニル）－ベンジジン］（ｐｏｌｙ－ＴＰＡ）、ポリフルオレン（ＰＦ）、ポリ［Ｎ，Ｎ’－ビス（４－ブチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス（フェニル）－ベンジジン（Ｐｏｌｙ－ＴＰＤ）、ポリ［（９，９－ジオクチルフルオレニル－２，７－ジイル）－コ－（４，４’－（Ｎ－（ｓｅｃ－ブチルフェニル）ジフェニルアミン））（ＴＦＢ）、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）のような共役系化合物重合体；およびこれらのモノマー単位を含む共重合体等が挙げられる。

　これらの中でも、正孔輸送材料としては、トリフェニルアミン誘導体、置換基が導入されたトリフェニルアミン誘導体を重合することにより得られた高分子化合物であることが好ましく、置換基が導入されたトリフェニルアミン誘導体を重合することにより得られた高分子化合物であることがより好ましい。また、上述の正孔輸送材料は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

　正孔輸送層４の厚さは、特に限定されないが、１～５００ｎｍの範囲であることが好ましく、５～３００ｎｍの範囲であることがより好ましく、１０～２００ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。正孔輸送層４は、単層構成であってもよく、２層以上が積層された積層構成であってもよい。

　このような正孔輸送層４は、湿式成膜法または乾式成膜法により形成することができる。正孔輸送層４を湿式成膜法で形成する場合には、通常、上述の正孔輸送材料を含有するインクを各種塗布法により塗布し、得られた塗膜を乾燥する。塗布法としては、特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷法（液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等が挙げられる。一方、正孔輸送層４を乾式成膜法で形成する場合には、真空蒸着法、スパッタリング法等を好適に用いることができる。

　［電子注入層７］
　電子注入層７は、陰極８から供給された電子を受け取り、電子輸送層６に注入する機能を有する。なお、電子注入層７は、必要に応じて設けるようにすればよく、省略することもできる。

　電子注入層７の構成材料（電子注入材料）としては、特に制限されないが、例えば、Ｌｉ_２Ｏ、ＬｉＯ、Ｎａ_２Ｓ、Ｎａ_２Ｓｅ、ＮａＯのようなアルカリ金属カルコゲナイド；ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＢｅＯ、ＢａＳ、ＭｇＯ、ＣａＳｅのようなアルカリ土類金属カルコゲナイド；ＣｓＦ、ＬｉＦ、ＮａＦ、ＫＦ、ＬｉＣｌ、ＫＣｌ、ＮａＣｌのようなアルカリ金属ハライド；８－ヒドロキシキノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）のようなアルカリ金属塩；ＣａＦ_２、ＢａＦ_２、ＳｒＦ_２、ＭｇＦ_２、ＢｅＦ_２のようなアルカリ土類金属ハライド等が挙げられる。これらの中でも、アルカリ金属カルコゲナイド、アルカリ土類金属ハライド、アルカリ金属塩であることが好ましい。また、上述の電子注入材料は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

　電子注入層７の厚さは、特に限定されないが、０．１～１００ｎｍの範囲であることが好ましく、０．２～５０ｎｍの範囲であることがより好ましく、０．５～１０ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。電子注入層７は、単層構成であってもよく、２層以上が積層された積層構成であってもよい。

　このような電子注入層７は、湿式成膜法または乾式成膜法により形成することができる。電子注入層７を湿式成膜法で形成する場合には、通常、上述の電子注入材料を含有するインクを各種塗布法により塗布し、得られた塗膜を乾燥する。塗布法としては、特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷法（液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等が挙げられる。一方、電子注入層７を乾式成膜法で形成する場合には、真空蒸着法、スパッタリング法等が適用されうる。

　［電子輸送層８］
　電子輸送層８は、電子注入層７から電子を受け取り、発光層５まで効率的に輸送する機能を有する。また、電子輸送層８は、正孔の輸送を防止する機能を有していてもよい。なお、電子輸送層８は、必要に応じて設けるようにすればよく、省略することもできる。

　電子輸送層８の構成材料（電子輸送材料）としては、特に制限されないが、例えば、トリス（８－キノリラート）アルミニウム（Ａｌｑ３）、トリス（４－メチル－８－キノリノラート）アルミニウム（Ａｌｍｑ３）、ビス（１０－ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナート）ベリリウム（ＢｅＢｑ２）、ビス（２－メチル－８－キノリノラート）（ｐ－フェニルフェノラート）アルミニウム（ＢＡｌｑ）、ビス（８－キノリノラート）亜鉛（Ｚｎｑ）のようなキノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体；ビス［２－（２’－ヒドロキシフェニル）ベンズオキサゾラート］亜鉛（Ｚｎ（ＢＯＸ）２）のようなベンズオキサゾリン骨格を有する金属錯体；ビス［２－（２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾラート］亜鉛（Ｚｎ（ＢＴＺ）２）のようなベンゾチアゾリン骨格を有する金属錯体；２－（４－ビフェニリル）－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール（ＰＢＤ）、３－（４－ビフェニリル）－４－フェニル－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，２，４－トリアゾール（ＴＡＺ）、１，３－ビス［５－（ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル］ベンゼン（ＯＸＤ－７）、９－［４－（５－フェニル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）フェニル］カルバゾール（ＣＯ１１）のようなトリまたはジアゾール誘導体；２，２’，２’’－（１，３，５－ベンゼントリイル）トリス（１－フェニル－１Ｈ－ベンゾイミダゾール）（ＴＰＢＩ）、２－［３－（ジベンゾチオフェン－４－イル）フェニル］－１－フェニル－１Ｈ－ベンゾイミダゾール（ｍＤＢＴＢＩｍ－ＩＩ）のようなイミダゾール誘導体；キノリン誘導体；ペリレン誘導体；４，７－ジフェニル－１，１０－フェナントロリン（ＢＰｈｅｎ）のようなピリジン誘導体；ピリミジン誘導体；トリアジン誘導体；キノキサリン誘導体；ジフェニルキノン誘導体；ニトロ置換フルオレン誘導体；酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）のような金属酸化物等が挙げられる。これらの中でも、電子輸送材料としては、イミダゾール誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、金属酸化物（無機酸化物）であることが好ましい。また、上述の電子輸送材料は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

　電子輸送層７の厚さは、特に限定されないが、５～５００ｎｍの範囲であることが好ましく、５～２００ｎｍの範囲であることがより好ましい。電子輸送層６は、単層であってもよく、２以上が積層されたものであってもよい。

　このような電子輸送層７は、湿式成膜法または乾式成膜法により形成することができる。電子輸送層６を湿式成膜法で形成する場合には、通常、上述の電子輸送材料を含有するインクを各種塗布法により塗布し、得られた塗膜を乾燥する。塗布法としては、特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷法（液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等が挙げられる。一方、電子輸送層６を乾式成膜法で形成する場合には、真空蒸着法、スパッタリング法等が適用され得る。

　［発光層５］
　発光層５は、発光層５に注入された正孔および電子の再結合により生じるエネルギーを利用して発光を生じさせる機能を有する。本実施形態の発光層５は、４００～５００ｎｍの範囲の波長の青色光を発し、より好ましくは４２０～４８０ｎｍの範囲である。

　発光層５は、発光材料（ゲスト材料またはドーパント材料）およびホスト材料を含むことが好ましい。この場合、ホスト材料と発光材料との質量比は、特に制限されないが、１０：１～３００：１の範囲であることが好ましい。発光材料には、一重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物または三重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物を使用することができる。また、発光材料としては、有機低分子蛍光材料、有機高分子蛍光材料および有機燐光材料からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。

　一重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物としては、蛍光を発する有機低分子蛍光材料または有機高分子蛍光材料が挙げられる。

　有機低分子蛍光材料としては、アントラセン構造、テトラセン構造、クリセン構造、フェナントレン構造、ピレン構造、ペリレン構造、スチルベン構造、アクリドン構造、クマリン構造、フェノキサジン構造またはフェノチアジン構造を有する化合物が好ましい。

　有機低分子蛍光材料の具体例としては、例えば、５，６－ビス［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－２，２’－ビピリジン、５，６－ビス［４’－（１０－フェニル－９－アントリル）ビフェニル－４－イル］－２，２’－ビピリジン（、Ｎ，Ｎ’－ビス［４－（９Ｈ－カルバゾール－９－イル）フェニル］－Ｎ，Ｎ’－ジフェニルスチルベン－４，４’－ジアミン、４－（９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－４’－（１０－フェニル－９－アントリル）トリフェニルアミン、４－（９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－４’－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）トリフェニルアミン、Ｎ，９－ジフェニル－Ｎ－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、４－（１０－フェニル－９－アントリル）－４’－（９－フェニル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）トリフェニルアミン、４－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－４’－（９－フェニル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）トリフェニルアミン、ペリレン、２，５，８，１１－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチル）ペリレン、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－Ｎ，Ｎ’－ビス［４－（９－フェニル－９Ｈ－フルオレン－９－イル）フェニル］ピレン－１，６－ジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（３－メチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス［３－（９－フェニル－９Ｈ－フルオレン－９－イル）フェニル］－ピレン－１，６－ジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（ジベンゾフラン－２－イル）－Ｎ，Ｎ’－ジフェニルピレン－１，６－ジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（ジベンゾチオフェン－２－イル）－Ｎ，Ｎ’－ジフェニルピレン－１，６－ジアミン、Ｎ，Ｎ’’－（２－ｔｅｒｔ－ブチルアントラセン－９，１０－ジイルジ－４，１－フェニレン）ビス［Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－トリフェニル－１，４－フェニレンジアミン］、Ｎ，９－ジフェニル－Ｎ－［４－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、Ｎ－［４－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）フェニル］－Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－トリフェニル－１，４－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’，Ｎ’’’，Ｎ’’’－オクタフェニルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン－２，７，１０，１５－テトラアミン、クマリン３０、Ｎ－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）－Ｎ，９－ジフェニル－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、Ｎ－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）－Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－トリフェニル－１，４－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，９－トリフェニルアントラセン－９－アミン、クマリン６、クマリン５４５Ｔ、Ｎ，Ｎ’－ジフェニルキナクリドン、ルブレン、５，１２－ビス（１，１’－ビフェニル－４－イル）－６，１１－ジフェニルテトラセン、２－（２－｛２－［４－（ジメチルアミノ）フェニル］エテニル｝－６－メチル－４Ｈ－ピラン－４－イリデン）プロパンジニトリル、２－｛２－メチル－６－［２－（２，３，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－ベンゾ［ｉｊ］キノリジン－９－イル）エテニル］－４Ｈ－ピラン－４－イリデン｝プロパンジニトリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラキス（４－メチルフェニル）テトラセン－５，１１－ジアミン、７，１４－ジフェニル－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラキス（４－メチルフェニル）アセナフト［１，２－ａ］フルオランテン－３，１０－ジアミン、２－｛２－イソプロピル－６－［２－（１，１，７，７－テトラメチル－２，３，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－ベンゾ［ｉｊ］キノリジン－９－イル）エテニル］－４Ｈ－ピラン－４－イリデン｝プロパンジニトリル、２－｛２－ｔｅｒｔ－ブチル－６－［２－（１，１，７，７－テトラメチル－２，３，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－ベンゾ［ｉｊ］キノリジン－９－イル）エテニル］－４Ｈ－ピラン－４－イリデン｝プロパンジニトリル、２－（２，６－ビス｛２－［４－（ジメチルアミノ）フェニル］エテニル｝－４Ｈ－ピラン－４－イリデン）プロパンジニトリル、２－｛２，６－ビス［２－（８－メトキシ－１，１，７，７－テトラメチル－２，３，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－ベンゾ［ｉｊ］キノリジン－９－イル）エテニル］－４Ｈ－ピラン－４－イリデン｝プロパンジニトリル、５，１０，１５，２０－テトラフェニルビスベンゾ［５，６］インデノ［１，２，３－ｃｄ：１’，２’，３’－ｌｍ］ペリレン等が挙げられる。

　有機高分子蛍光材料の具体例としては、例えば、フルオレン誘導体に基づく単位からなるホモポリマー、フルオレン誘導体に基づく単位とテトラフェニルフェニレンジアミン誘導体に基づく単位とからなるコポリマー、タ―フェニル誘導体に基づく単位からなるホモポリマー、ジフェニルベンゾフルオレン誘導体に基づく単位からなるホモポリマー等が挙げられる。

　三重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物としては、燐光を発する有機燐光材料が好ましい。有機燐光材料の具体例としては、例えば、イリジウム、ロジウム、白金、ルテニウム、オスミウム、スカンジウム、イットリウム、ガドリニウム、パラジウム、銀、金、アルミニウムからなる群から選択される少なくとも１種の金属原子を含む金属錯体が挙げられる。中でも、有機燐光材料としては、イリジウム、ロジウム、白金、ルテニウム、オスミウム、スカンジウム、イットリウム、ガドリニウムおよびパラジウムからなる群から選択される少なくとも１種の金属原子を含む金属錯体が好ましく、イリジウム、ロジウム、白金およびルテニウムからなる群から選択される少なくとも１種の金属原子を含む金属錯体がより好ましく、イリジウム錯体または白金錯体がさらに好ましい。

　ホスト材料としては、発光材料のエネルギーギャップより大きいエネルギーギャップを有する化合物の少なくとも１種を使用することが好ましい。さらに、発光材料が燐光材料である場合、ホスト材料としては、発光材料の三重項励起エネルギー（基底状態と三重項励起状態とのエネルギー差）よりも三重項励起エネルギーの大きい化合物を選択することが好ましい。

　ホスト材料としては、例えば、トリス（８－キノリノラト）アルミニウム（III）、トリス（４－メチル－８－キノリノラト）アルミニウム（III）、ビス（１０－ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナト）ベリリウム（II）、ビス（２－メチル－８－キノリノラト）（４－フェニルフェノラト）アルミニウム（III）、ビス（８－キノリノラト）亜鉛（II）、ビス［２－（２－ベンゾオキサゾリル）フェノラト］亜鉛（II）、ビス［２－（２－ベンゾチアゾリル）フェノラト］亜鉛（II）、２－（４－ビフェニリル）－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール、１，３－ビス［５－（ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル］ベンゼン、３－（４－ビフェニリル）－４－フェニル－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，２，４－トリアゾール、２，２’，２’’－（１，３，５－ベンゼントリイル）トリス（１－フェニル－１Ｈ－ベンゾイミダゾール）、バソフェナントロリン、バソキュプロイン、９－［４－（５－フェニル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール、９，１０－ジフェニルアントラセン、Ｎ，Ｎ－ジフェニル－９－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、４－（１０－フェニル－９－アントリル）トリフェニルアミン、Ｎ，９－ジフェニル－Ｎ－｛４－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］フェニル｝－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、６，１２－ジメトキシ－５，１１－ジフェニルクリセン、９－［４－（１０－フェニル－９－アントラセニル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール、３，６－ジフェニル－９－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール、９－フェニル－３－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール、７－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－７Ｈ－ジベンゾ［ｃ，ｇ］カルバゾール、６－［３－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）フェニル］－ベンゾ［ｂ］ナフト［１，２－ｄ］フラン、９－フェニル－１０－｛４－（９－フェニル－９Ｈ－フルオレン－９－イル）ビフェニル－４’－イル｝アントラセン、９，１０－ビス（３，５－ジフェニルフェニル）アントラセン、９，１０－ジ（２－ナフチル）アントラセン、２－ｔｅｒｔ－ブチル－９，１０－ジ（２－ナフチル）アントラセン、９，９’－ビアントリル、９，９’－（スチルベン－３，３’－ジイル）ジフェナントレン、９，９’－（スチルベン－４，４’－ジイル）ジフェナントレン、１，３，５－トリ（１－ピレニル）ベンゼン、５，１２－ジフェニルテトラセンまたは５，１２－ビス（ビフェニル－２－イル）テトラセン等が挙げられる。これらのホスト材料は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

　発光層５の厚さは、特に限定されないが、１～１００ｎｍの範囲であることが好ましく、１～５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。

　このような発光層５は、湿式成膜法または乾式成膜法により形成することができる。発光層５を湿式成膜法で形成する場合には、通常、上述の発光材料およびホスト材料を含有するインクを各種塗布法により塗布し、得られた塗膜を乾燥する。塗布法としては、特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷法（液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等が挙げられる。一方、発光層５を乾式成膜法で形成する場合には、真空蒸着法、スパッタリング法等が適用され得る。

　なお、ＥＬ光源部２００は、さらに、例えば、正孔注入層３、正孔輸送層４および発光層５を区画するバンク（隔壁）を有していてもよい。バンクの高さは、特に限定されないが、０．１～５μｍの範囲であることが好ましく、０．２～４μｍの範囲であることがより好ましく、０．２～３μｍの範囲であることがさらに好ましい。

　バンクの開口の幅は、１０～２００μｍの範囲であることが好ましく、３０～２００μｍの範囲であることがより好ましく、５０～１００μｍの範囲であることがさらに好ましい。バンクの開口の長さは、１０～４００μｍの範囲であることが好ましく、２０～２００μｍの範囲であることがより好ましく、５０～２００μｍの範囲であることがさらに好ましい。また、バンクの傾斜角度は、１０～１００°の範囲であることが好ましく、１０～９０°の範囲であることがより好ましく、１０～８０°の範囲であることがさらに好ましい。

＜光変換層１２＞
　光変換層１２は、ＥＬ光源部２００から発せられた光を変換して再発光するか、或いは、ＥＬ光源部２００から発せられた光を透過する。図４に示すように、画素部２０として、前記範囲の波長の光を変換して赤色光を発する第１の画素部２０ａと、前記範囲の波長の光を変換して緑色光を発する第２の画素部２０ｂと、前記範囲の波長の光を透過する第３の画素部２０ｃとを有している。複数の第１の画素部２０ａ、第２の画素部２０ｂ及び第３の画素部２０ｃが、この順に繰り返すように格子状に配列されている。そして、隣り合う画素部の間、すなわち、第１の画素部２０ａと第２の画素部２０ｂとの間、第２の画素部２０ｂと第３の画素部２０ｃとの間、第３の画素部２０ｃと第１の画素部２０ａとの間に、光を遮蔽する遮光部３０が設けられている。言い換えれば、これらの隣り合う画素部同士は、遮光部３０によって離間されている。なお、第１の画素部２０ａおよび第２の画素部２０ｂは、それぞれの色に対応した色材を含んでもよい。

　第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂは、それぞれ上述した実施形態の発光粒子含有樹脂組成物の硬化物を含有する。硬化物は、発光粒子９０と硬化成分とを必須として含有し、さらに、光を散乱させて外部へ確実に取り出すために光散乱粒子を含むことが好ましい。硬化成分は、熱硬化性樹脂の硬化物であり、例えばエポキシ基を含有する樹脂の重合によって得られる硬化物である。すなわち、第１の画素部２０ａは、第１の硬化成分２２ａと、第１の硬化成分２２ａ中にそれぞれ分散された第１の発光粒子９０ａおよび第１の光散乱粒子２１ａとを含む。同様に、第２の画素部２０ｂは、第２の硬化成分２２ｂと、第２の硬化成分２２ｂ中にそれぞれ分散された第１の発光粒子９０ｂ及び第１の光散乱粒子２１ｂとを含む。第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂにおいて、第１の硬化成分２２ａと第２の硬化成分２２ｂとは同一であってもよく異なっていてもよく、第１の光散乱性粒子２２ａと第２の光散乱性粒子２２ｂとは同一であってもよく異なっていてもよい。

　第１の発光粒子９０ａは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を吸収し６０５～６６５ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する光を発する、赤色発光粒子である。すなわち、第１の画素部２０ａは、青色光を赤色光に変換するための赤色画素部と言い換えてよい。また、第２の発光粒子９０ｂは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を吸収し５００～５６０ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する光を発する、緑色発光粒子である。すなわち、第２の画素部２０ｂは、青色光を緑色光に変換するための緑色画素部と言い換えてよい。

　発光粒子含有樹脂組成物の硬化物を含む画素部２０ａ、２０ｂにおける発光粒子９０の含有量の下限値は、外部量子効率の向上効果により優れる観点及び優れた発光強度が得られる観点から、発光粒子含有樹脂組成物の硬化物の全質量を基準として、１質量％以上であり、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１５質量％以上である。発光粒子９０の含有量の好ましい上限値は、画素部２０ａ、２０ｂの信頼性に優れる観点及び優れた発光強度が得られる観点から、発光粒子含有樹脂組成物の全質量を基準として、４０質量％以下であり、３０質量％以下であり、２５質量％以下であり、２０質量％以上である。

　発光粒子含有樹脂組成物の硬化物を含む画素部２０ａ、２０ｂにおける光散乱性粒子２１ａ、２１ｂの含有量の好ましい下限値は、外部量子効率の向上効果により優れる観点から、インク組成物の硬化物の全質量を基準として、０．１質量％以上であり、１質量％以上であり、５質量％以上であり、７質量％以上であり、１０質量％以上であり、１２質量％以上である。光散乱性粒子２１ａ、２１ｂの含有量の好ましい上限値は、外部量子効率の向上効果により優れる観点及び画素部２０の信頼性に優れる観点から、インク組成物の硬化物の全質量を基準として、６０質量％以下であり、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３０質量％以下であり、２５質量％以下であり、２０質量％以下であり、１５質量％以下である。

　第３の画素部２０ｃは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光に対し３０％以上の透過率を有する。そのため、第３の画素部２０ｃは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を発する光源を用いる場合に、青色画素部として機能する。第３の画素部２０ｃは、例えば、上述の熱硬化性樹脂を含有する組成物の硬化物を含む。硬化物は、第３の硬化成分２２ｃｃを含有する。第３の硬化成分２２ｃは、熱硬化性樹脂の硬化物であり、具体的には、エポキシ基を含有する樹脂の重合によって得られる硬化物である。すなわち、第３の画素部２０ｃは、第３の硬化成分２２ｃを含む。第３の画素部２０ｃが上述の硬化物を含む場合、熱硬化性樹脂を含有する組成物は、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光に対する透過率が３０％以上となる限りにおいて、上述の発光粒子含有樹脂組成物に含有される成分のうち、熱硬化性樹脂、硬化剤、溶剤以外の成分を更に含有していてもよい。なお、第３の画素部２０ｃの透過率は、顕微分光装置により測定することができる。

　画素部（第１の画素部２０ａ、第２の画素部２０ｂ及び第３の画素部２０ｃ）の厚さは、特に限定されないが、好ましい下限値は、１μｍ以上であり、２μｍ以上であり、３μｍ以上である。前記厚さの好ましい上限値は、３０μｍ以下であり、２５μｍ以下であり、２０μｍ以下である。

　以上の第１～３の画素部２０ａ～２０ｃを備える光変換層１２は、湿式成膜法により形成した塗膜を乾燥、加熱して硬化させることより形成することができる。第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂは、本発明の発光粒子含有樹脂組成物を用いて形成することができ、第３の画素部２０ｃは当該発光粒子含有樹脂組成物に含まれる発光粒子９０を含まない樹脂組成物を用いて形成することができる。以下、本発明の発光粒子含有樹脂組成物を用いた塗膜形成方法について詳述するが、本発明の発光粒子含有樹脂組成物を用いる場合も同様に行うことができる。

　本発明の発光粒子含有樹脂組成物の塗膜を得るための塗布法としては、特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷法（ピエゾ方式またはサーマル方式の液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等が挙げられる。ここで、ノズルプリント印刷法とは、発光粒子含有樹脂組成物をノズル孔から液柱としてストライプ状に塗布する方法である。中でも、塗布法としては、インクジェット印刷法（特に、ピエゾ方式の液滴吐出法）が好ましい。これにより、発光粒子含有樹脂組成物を吐出する際の熱負荷を小さくすることができ、発光粒子９０の熱による劣化を防ぐことができる。

　インクジェット印刷法の条件は、次のように設定することが好ましい。発光粒子含有樹脂組成物の吐出量は、特に限定されないが、１～５０ｐＬ／回であることが好ましく、１～３０ｐＬ／回であることがより好ましく、１～２０ｐＬ／回であることがさらに好ましい。

　また、ノズル孔の開口径は、５～５０μｍの範囲であることが好ましく、１０～３０μｍの範囲であることがより好ましい。これにより、ノズル孔の目詰まりを防止しつつ、発光粒子含有樹脂組成物の吐出精度を高めることができる。

　塗膜を形成する際の温度は、特に限定されないが、１０～５０℃の範囲であることが好ましく、１５～４０℃の範囲であることがより好ましく、１５～３０℃の範囲であることがさらに好ましい。かかる温度で液滴を吐出するようにすれば、発光粒子含有樹脂組成物中に含まれる各種成分の結晶化を抑制することができる。

　また、塗膜を形成する際の相対湿度も、特に限定されないが、０．０１ｐｐｍ～８０％の範囲であることが好ましく、０．０５ｐｐｍ～６０％の範囲であることがより好ましく、０．１ｐｐｍ～１５％の範囲であることがさらに好ましく、１ｐｐｍ～１％の範囲であることが特に好ましく、５～１００ｐｐｍの範囲であることが最も好ましい。相対湿度が上記下限値以上であると、塗膜を形成する際の条件の制御が容易となる。一方、相対湿度が上記上限値以下であると、得られる光変換層１２に悪影響を及ぼし得る塗膜に吸着する水分量を低減することができる。

　得られた塗膜の乾燥は、室温（２５℃）で放置して行っても、加熱することにより行ってもよいが、生産性の観点から加熱することによって行うのが好ましい。乾燥を加熱により行う場合、乾燥温度は特に限定されないが、発光粒子含有樹脂組成物に使用される有機溶剤の沸点及び蒸気圧を考慮した温度とすることが好ましい。乾燥温度は、塗膜中の有機溶剤を除去するプリベーク工程として、５０～１３０℃であることが好ましく、６０～１２０℃であることがより好ましく、７０～１１０℃であることが特に好ましい。乾燥温度が５０℃以下であると有機溶剤が除去できず、一方、１３０℃以上であると有機溶剤の除去および塗膜の硬化が同時に起こるため、硬化した塗膜の外観は著しく劣ることとなり、好ましくない。また、乾燥は、減圧下で行うことが好ましく、０．００１～１００Ｐａの減圧下で行うことがより好ましい。さらに、乾燥時間は、１～３０分間であることが好ましく、１～１５分間であることがより好ましく、１～１０分間であることが特に好ましい。このような乾燥条件で塗膜を乾燥することにより、有機溶剤が確実に塗膜中から除去され、得られる光変換層１２の外部量子効率をより向上させることができる。

　本発明の発光粒子含有樹脂組成物は、前記塗膜のプリベーク工程後にさらに加熱することにより完全に硬化させることができる。完全硬化させるための加熱温度は、１５０～２６０℃であることが好ましく、１６０～２３０℃であることがより好ましく、１７０～２１０℃であることが特に好ましい。

　また、完全硬化させるための加熱時間は、１～３０分間であることが好ましく、１～１５分間であることがより好ましく、１～１０分間であることが特に好ましい。さらに、完全硬化させるための加熱は、空気中あるいは不活性ガス中で行うことができるが、塗膜の酸化を抑制するために、不活性ガス中で行うことがより好ましい。不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、二酸化炭素等が挙げられる。このような加熱条件で塗膜を硬化させることにより、塗膜が完全に硬化できることから、得られる光変換層９の外部量子効率をより向上させることができる。

　本発明の発光粒子含有樹脂組成物は、加熱による硬化の他に、活性エネルギー線（例えば、紫外線）の照射を併用することにより硬化させてもよい。照射源（光源）としては、例えば、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ等が使用される。　照射する光の波長は、２００ｎｍ以上であることが好ましく、４４０ｎｍ以下であることがより好ましい。また、光の照射量（露光量）は、１０ｍＪ／ｃｍ^２以上であることが好ましく、４０００ｍＪ／ｃｍ^２以下であることがより好ましい。

　上述したように、本発明の発光粒子樹脂組成物は熱に対する安定性が優れることから、熱硬化後の成形体である画素部２０においても、良好な発光を実現することができる。さらには、本発明の発光粒子組成物は分散性に優れるため、発光粒子９０の分散性に優れ、且つ、平坦な画素部２０を得ることができる。

　さらに、第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂに含まれる発光粒子９０は、メタルハライドからなり好ましくはペロブスカイト型結晶構造を有する半導体ナノ結晶を含むため、３００～５００ｎｍの波長領域の吸収が大きい。そのため、第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂにおいて、第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂに入射した青色光が上基板１３側へ透過する、すなわち、青色光が上基板１３側へ漏れることを防ぐことができる。したがって、本発明の第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂによれば、青色光が混色されることなく、色純度の高い赤色光及び緑色光を取り出すことができる。

　遮光部３０は、隣り合う画素部２０を離間して混色を防ぐ目的及び光源からの光漏れを防ぐ目的で設けられる、いわゆるブラックマトリックスである。遮光部３０を構成する材料は、特に限定されず、クロム等の金属の他、バインダーポリマーにカーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子を含有させた樹脂組成物の硬化物等を用いることができる。ここで用いられるバインダーポリマーとしては、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の樹脂を１種又は２種以上混合したもの、感光性樹脂、Ｏ／Ｗエマルジョン型の樹脂組成物（例えば、反応性シリコーンをエマルジョン化したもの）などを用いることができる。遮光部３０の厚さは、例えば、１μｍ以上であることが好ましく、１５μｍ以下であることが好ましい。

　発光素子１００は、トップエミッション型に代えて、ボトムエミッション型として構成することもできる。
　また、発光素子１００は、ＥＬ光源部２００に代えて、他の光源を使用することもできる。

　以上、本発明の発光粒子含有樹脂組成物及びその製造方法、並びに、当該樹脂組成物を用いて製造した光変換層を備えた発光素子について説明したが、本発明は、上述した実施形態の構成に限定されるものではない。例えば、本発明の発光粒子、発光粒子分散体、発光粒子含有樹脂組成物および発光素子は、それぞれ、上述した実施形態の構成において、他の任意の構成を追加して有していてもよいし、同様の機能を発揮する任意の構成と置換されていてよい。また、本発明の発光粒子の製造方法は、上述した実施形態の構成において、他の任意の目的の工程を有していてもよいし、同様の効果を発揮する任意の工程と置換されていてよい。

　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

　下記実施例では、発光粒子を製造する操作及び発光粒子含有樹脂組成物を製造する操作は、窒素で満たしたグローブボックス内又は大気を遮断し窒素気流下のフラスコ内で行った。また、以下で例示するすべての原料は、その容器内に導入した窒素ガスで容器内の大気を置換した後に用いた。尚、液体材料に関しては、その容器内に導入した窒素ガスで液体材料中の溶存酸素を置換した後に用いた。

　また、以下で用いる、１，４－ブタンジオールジアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、グリセリルトリアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸イソブチルは、あらかじめモレキュラーシーブス（３Ａあるいは４Ａを使用）で４８時間以上脱水したものを用いた。酸化チタンについては使用前に、１ｍｍＨｇの減圧下、２時間、１２０℃で加熱し、窒素ガス雰囲気下で放冷した。

＜発光粒子分散液の調製＞
　（発光粒子分散液１の調製）
　中空粒子として、日鉄鉱業株式会社製、「ＳｉｌｉＮａｘ　ＳＰ－ＰＮ（ｂ）の粒子を用いた。この中空粒子は、全体が立方体状形態であって、中空構造を備えたシリカ粒子である。まず、この中空シリカ粒子を１５０℃で８時間減圧乾燥した。次いで、２００．０質量部の乾燥させた中空シリカ粒子を桐山ロートに秤取した。なお、中空シリカ粒子は、平均外径が１００ｎｍであり、平均内径が８０ｎｍである。

　次に、アルゴン雰囲気下、三つ口フラスコに６３．９質量部の臭化セシウム、１１０．１質量部の臭化鉛（II）および３０００質量部のＮ－メチルホルムアミドを供給し、５０℃で３０分間撹拌することにより、三臭化鉛セシウム溶液を得た。

　その後、前記三つ口フラスコに乾燥した中空シリカ粒子を供給して、得られた三臭化鉛セシウム溶液を中空シリカ粒子に含浸させた後、過剰な三臭化鉛セシウム溶液をろ過により除去し、固形物を回収した。得られた固形物を１５０℃で１時間減圧乾燥することにより、ペロブスカイト型結晶構造の三臭化鉛セシウムからなるナノ結晶を中空シリカ粒子に内包した発光粒子Ａ（２１２．７質量部）を得た。得られた発光粒子Ａを固形分濃度が５．０質量％となるように１，４－ブタンジオールジアセテート（株式会社ダイセル製）に分散することにより、発光粒子Ａが分散した発光粒子分散液１を得た。

　（発光粒子分散液２の調製）
　温度計、攪拌機、還流冷却器および窒素ガス導入管を備えた四つ口フラスコに、１９０質量部のヘプタンを供給し、８５℃に昇温した。同温度に到達した後、６６．５質量部のラウリルメタクリレート、３．５質量部のジメチルアミノエチルメタクリレートおよび０．５質量部のジメチル－２，２－アゾビス（２－メチルプロピオネート）を２０質量部のヘプタンに溶解した混合物を、上記四つ口フラスコのへプタンに３．５時間かけて滴下し、滴下終了後も、同温度に１０時間保持し、反応を継続した。その後、反応液の温度を５０℃に降温した後、０．０１質量部のｔ－ブチルピロカテコールを１．０質量部のヘプタンに溶解した溶液を添加し、さらに１．０質量部のグリシジルメタクリレートを添加した後、８５℃まで昇温し、同温度で５時間反応を継続した。これにより、重合体（Ｐ）を含有する溶液を得た。なお、溶液中に含まれる不揮発分（ＮＶ）の量は２５．１質量％であり、重合体（Ｐ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は１０，０００であった。

　次いで、温度計、攪拌機、還流冷却器および窒素ガス導入管を備えた四つ口フラスコに、２６質量部のヘプタンと、３質量部の発光粒子Ａと、３．６質量部の上述の重合体（Ｐ）を含有する溶液を供給した。さらに上記四つ口フラスコに、０．２質量部のエチレングリコールジメタクリレートと、０．４質量部のメチルメタクリレートと、０．１２質量部のジメチル－２，２－アゾビス（２－メチルプロピオネート）とを供給した。その後、上記四つ口フラスコ内の混合液を、室温で３０分間攪拌した後、８０℃に昇温し、同温度で１５時間反応を継続した。反応終了後、反応溶液内の発光粒子Ａに吸着しなかったポリマーを遠心分離により分離し、次いで、沈降した粒子を室温で２時間真空乾燥することにより、母粒子としての発光粒子Ａの表面が疎水性ポリマーからなるポリマー層で被覆されたポリマー被覆発光粒子Ｂを得た。

　得られたポリマー被覆発光粒子Ｂを透過型電子顕微鏡で観察したところ、発光粒子Ａの表面に厚さ約１０ｎｍのポリマー層が形成されていた。その後、得られたポリマー被覆発光粒子Ｂを固形分濃度が５．０質量％となるように１，４－ブタンジオールジアセテート（株式会社ダイセル製）に分散することにより、発光粒子分散液２を得た。

（発光粒子分散液３の調製）
　まず、発光粒子分散液１に用いたものと同一の中空シリカ粒子（日鉄鉱業株式会社製、「ＳｉｌｉＮａｘ　ＳＰ－ＰＮ（ｂ）」）を１５０℃で８時間減圧乾燥した。次いで、２００．０質量部の乾燥させた中空シリカ粒子を桐山ロートに秤取した。

　次に、アルゴン雰囲気下、三つ口フラスコに３．３６質量部のメチルアミン臭化水素酸塩と、１１．０１質量部の臭化鉛（II）と、１００質量部のＮ－メチルホルムアミドとを供給し、５０℃で３０分間撹拌することにより、メチルアンモニウム三臭化鉛溶液を得た。

　次に、前記三つ口フラスコに中空シリカ粒子を供給して、得られたメチルアンモニウム三臭化鉛溶液を中空シリカ粒子に含浸させた後、過剰なメチルアンモニウム三臭化鉛溶液をろ過により除去し、固形物を回収した。その後、得られた固形物を１２０℃で１時間減圧乾燥することにより、ペロブスカイト型結晶構造のメチルアンモニウム三臭化鉛からなるナノ結晶を中空シリカ粒子に内包した発光粒子Ｃ（２１．０４質量部）を得た。

　次いで、発光粒子Ｂに代えて発光粒子Ｃを用いたこと以外は、ポリマー被覆発光粒子Ｂと同一にして、母粒子としての発光粒子Ｃの表面が疎水性ポリマーからなるポリマー層で被覆されたポリマー被覆発光粒子Ｃを得た。

　得られたポリマー被覆発光粒子Ｃを透過型電子顕微鏡で観察したところ、母粒子としての発光粒子Ｃの表面に厚さ約１０ｎｍのポリマー層が形成されていた。その後、得られたポリマー被覆発光粒子Ｃを固形分濃度が５．０質量％となるように１，４－ブタンジオールジアセテートに分散することにより、発光粒子分散液３を得た。

（発光粒子分散液４の調製）
　中空粒子としては、以下のものを用いた。まず、特表２０１０－５０２７９５号公報の実施例１に記載の方法によって、コア－シェル型シリカナノ粒子を作製した。このコア－シェル型シリカナノ粒子は、ＰＤＰＡ２３－ＰＤＭＡ６８ジブロックコポリマーからなるコアと、オルトケイ酸テトラメチルをケイ酸化したシリカを含むシェルとを備える。得られたコア－シェル型シリカナノ粒子をアルミナるつぼに加え、電気炉内で焼成した。このとき、炉内を５時間かけて６００℃まで昇温し、その温度にて３時間保持した。その後、自然冷却することによって、中空シリカ粒子を得た。なお、得られた中空シリカ粒子の平均外径は３５ｎｍであり、平均内径は１５ｎｍであった。

　次に、アルゴン雰囲気下、三つ口フラスコに６．３９質量部の臭化セシウムと、１１．０１質量部の臭化鉛（II）と、３００質量部のＮ－メチルホルムアミドとを供給し、５０℃で３０分間撹拌することにより、三臭化鉛セシウム溶液を得た。

　次に、前記三つ口フラスコに中空シリカ粒子を供給して、得られた三臭化鉛セシウム溶液を中空シリカ粒子に含浸させた後、過剰な三臭化鉛セシウム溶液をろ過により除去し、固形物を回収した。その後、得られた固形物を１５０℃で１時間減圧乾燥することにより、ペロブスカイト型結晶構造の三臭化鉛セシウムからなるナノ結晶を中空シリカ粒子に内包した発光粒子Ｄ（２１．５５質量部）を得た。

　次いで、発光粒子Ｂに代えて発光粒子Ｄを用いたこと以外は、ポリマー被覆発光粒子Ｂと同一にして、母粒子としての発光粒子Ｄの表面が疎水性ポリマーからなるポリマー層で被覆されたポリマー被覆発光粒子Ｄを得た。

　得られたポリマー被覆発光粒子Ｄを透過型電子顕微鏡で観察したところ、母粒子としての発光粒子Ｄの表面に厚み約１０ｎｍのポリマー層が形成されていた。得られたポリマー被覆発光粒子Ｄを固形分濃度が５．０質量％となるように１，４－ブタンジオールジアセテートに分散することにより、発光粒子分散液４を得た。

（発光粒子分散液５の調製）
　中空粒子として、シグマアルドリッチ社製、「ＭＳＵ－Ｈ」の粒子を用いた。この中空粒子は、ハニカム形状、すなわち、断面が六角形であって両端が開口した筒を隙間なく並べた形状を備えたシリカ粒子である。この中空シリカ粒子の貫通孔の平均内径は７．１ｎｍであり、中空シリカ粒子の平均長さは０．５～１μｍである。但し、貫通孔の軸方向を、中空シリカ粒子の長さ方向とする。まず、この中空シリカ粒子を、１５０℃で８時間減圧乾燥した。次いで、２００．０質量部の乾燥させた中空シリカ粒子を桐山ロートに秤取した。

　次に、アルゴン雰囲気下、三つ口フラスコに２．１３質量部の臭化セシウムと、３．６７質量部の臭化鉛（II）と、１００質量部のＮ－メチルホルムアミドとを供給し、５０℃で３０分間撹拌することにより、三臭化鉛セシウム溶液を得た。その後、前記三つ口フラスコに前記中空シリカ粒子を供給して、得られた三臭化鉛セシウム溶液を中空シリカ粒子に含浸させた後、過剰な三臭化鉛セシウム溶液をろ過により除去し、固形物を回収した。その後、得られた固形物を１５０℃で１時間減圧乾燥することにより、ペロブスカイト型結晶構造の三臭化鉛セシウムからなるナノ結晶を中空シリカ粒子の貫通孔に保持した発光粒子Ｅ（１３．６８質量部）を得た。

　次いで、発光粒子Ｂに代えて発光粒子Ｅを用いたこと以外は、ポリマー被覆発光粒子Ｂと同一にして、母粒子としての発光粒子Ｅの表面が疎水性ポリマーからなるポリマー層で被覆されたポリマー被覆発光粒子Ｅを得た。

　得られたポリマー被覆発光粒子Ｅを透過型電子顕微鏡で観察したところ、ポリマー被覆粒子Ｅの表面に厚さ約１０ｎｍのポリマー層が形成されていた。得られたポリマー被覆発光粒子Ｅを固形分濃度が５．０質量％となるように１，４－ブタンジオールジアセテートに分散することにより、発光粒子分散液５を得た。

（発光粒子分散液６の調製）
　上述のポリマー被覆発光粒子Ｂを、固形分濃度が５．０質量％となるようにジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（東京化成工業株式会社製）に分散したこと以外は、上述の発光粒子分散液２と全く同一にして、発光粒子分散液６を得た。

（発光粒子分散液７の調製）
　上述のポリマー被覆発光粒子Ｂを、固形分濃度が５．０質量％となるようにジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（東京化成工業株式会社製）に分散したこと以外は、上述の発光粒子分散液２と全く同一にして、発光粒子分散液７を得た。

（発光粒子分散液８の調製）
　上述のポリマー被覆発光粒子Ｂを、固形分濃度が５．０質量％となるようにエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（昭和化学株式会社製）に分散したこと以外は、上述の発光粒子分散液２と全く同一にして、発光粒子分散液８を得た。

（発光粒子分散液９の調製）
　上述のポリマー被覆発光粒子Ｂを、固形分濃度が５．０質量％となるようにグリセリルトリアセテート（株式会社ダイセル製）に分散したこと以外は、上述の発光粒子分散液２と全く同一にして、発光粒子分散液９を得た。

（発光粒子分散液１０の調製）
　上述のポリマー被覆発光粒子Ｂを、固形分濃度が５．０質量％となるようにジプロピレングリコールモノメチルエーテル（東京化成工業株式会社製）に分散したこと以外は、上述の発光粒子分散液２と全く同一にして、発光粒子分散液９を得た。
発光粒子分散液１０を得た。

（発光粒子分散液１１の調整）
　上述のポリマー被覆発光粒子Ｂを、固形分濃度が５．０質量％となるようにジエチレングリコールモノエチルエーテル（東京化成工業株式会社製）に分散したこと以外は、上述の発光粒子分散液２と全く同一にして、発光粒子分散液１１を得た。

（発光粒子分散液１２の調製）
　上述のポリマー被覆発光粒子Ｂを、固形分濃度が５．０質量％となるようにトリエチレングリコールモノメチルエーテル（東京化成工業株式会社製）に分散したこと以外は、上述の発光粒子分散液２と全く同一にして、発光粒子分散液１２を得た。

（発光粒子分散液１３の調製）
　上述のポリマー被覆発光粒子Ｂを、固形分濃度が５．０質量％となるように酢酸イソブチル（東京化成工業株式会社製）に分散したこと以外は、上述の発光粒子分散液２と全く同一にして、発光粒子分散液１３を得た。

（発光粒子分散液１４の調製）
　まず、発光粒子分散液１に用いたものと同一の中空シリカ粒子（日鉄鉱業株式会社製、「ＳｉｌｉＮａｘ　ＳＰ－ＰＮ（ｂ）」）を１５０℃で８時間減圧乾燥した。次いで、２００．０質量部の乾燥させた中空シリカ粒子を桐山ロートに秤取した。

　次に、アルゴン雰囲気下、三つ口フラスコに２．１３質量部の臭化セシウムと、３．６７質量部の臭化鉛（II）と、０．０１８質量部のオレイン酸と、０．０１６質量部のオレイルアミンと、１００質量部のＮ－メチルホルムアミドとを供給し、５０℃で３０分間撹拌することにより、三臭化鉛セシウム溶液を得た。その後、前記三つ口フラスコに前記中空シリカ粒子を供給して、得られた三臭化鉛セシウム溶液を中空シリカ粒子に含浸させた後、過剰な三臭化鉛セシウム溶液をろ過により除去し、固形物を回収した。その後、得られた固形物を１５０℃で１時間減圧乾燥することにより、オレイン酸およびオレイルアミンが配位したペロブスカイト型結晶構造の三臭化鉛セシウムからなるナノ結晶を中空シリカ粒子の中空部に保持した発光粒子Ｆ（１３．０３質量部）を得た。

　次いで、発光粒子Ｂに代えて発光粒子Ｆを用いたこと以外は、ポリマー被覆発光粒子Ｂと同一にして、母粒子としての発光粒子Ｆの表面が疎水性ポリマーからなるポリマー層で被覆されたポリマー被覆発光粒子Ｆを得た。

　得られたポリマー被覆発光粒子Ｆを透過型電子顕微鏡で観察したところ、母粒子としての発光粒子Ｆの表面に厚さ約１０ｎｍのポリマー層が形成されていた。その後、得られたポリマー被覆発光粒子Ｃを固形分濃度が５．０質量％となるように１，４－ブタンジオールジアセテートに分散することにより、発光粒子分散液１４を得た。

　（発光粒子分散液１５の調製）
　まず、０．１２ｇの炭酸セシウムと、５ｍＬの１－オクタデセンと、０．５ｍＬのオレイン酸とを混合して混合液を得た。次に、この混合液を１２０℃で３０分間、減圧乾燥した後、アルゴン雰囲気下に１５０℃で加熱した。これにより、セシウム－オレイン酸溶液を得た。

　一方、０．１ｇの臭化鉛（ＩＩ）と７．５ｍＬの１－オクタデセンと、０．７５ｍＬのオレイン酸とを混合して混合液を得た。次に、この混合液を９０℃で１０分間、減圧乾燥した後、アルゴン雰囲気下に混合液に０．７５ｍＬの３－アミノプロピルトリエトキシシランを添加した。その後さらに２０分間減圧乾燥を行った後、アルゴン雰囲気下に１４０℃で加熱した。

　その後、上記臭化鉛（ＩＩ）を含む混合液に１５０℃で０．７５ｍＬの前記セシウム－オレイン酸溶液を添加し、５秒間加熱撹拌することにより反応させた後、氷浴で冷却した。次いで、６０ｍＬの酢酸メチルを添加した。得られた懸濁液を遠心分離（１０，０００回転／分、１分間）した後、上澄み液を除去することにより固形物を回収し、発光粒子Ｇを得た。この発光粒子Ｇは、表面層を備えたペロブスカイト型の三臭化鉛セシウム結晶であり、透過型電子顕微鏡観察により平均粒子径は１０ｎｍであった。また、表面層は３－アミノプロピルトリエトキシシランで構成される層であり、その厚さは約１ｎｍであった。すなわち、発光粒子Ｇは、シリカで被覆された粒子である。その後、得られた発光粒子Ｇを、固形分濃度が５．０質量％となるように１，４－ブタンジオールジアセテート（株式会社ダイセル製）に分散させることによって発光粒子分散液１５を得た。

（発光粒子分散液１６の調製）
　発光粒子Ｂに代えて発光粒子Ｇを用いたこと以外は、ポリマー被覆発光粒子Ｂと同一にして、母粒子としての発光粒子Ｇの表面が疎水性ポリマーからなるポリマー層で被覆されたポリマー被覆発光粒子Ｈを得た。

　得られたポリマー被覆発光粒子Ｈを透過型電子顕微鏡で観察したところ、母粒子としての発光粒子Ｇの表面に厚さ約１０ｎｍのポリマー層が形成されていた。その後、得られたポリマー被覆発光粒子Ｈを固形分濃度が５．０質量％となるように１，４－ブタンジオールジアセテートに分散することにより、発光粒子分散液１６を得た。

（発光粒子分散液Ｃ１の調製）
　まず、温度計、攪拌機、セプタムおよび窒素ガス導入管を備えた四つ口フラスコに、０．８１４質量部の炭酸セシウムと、４０質量部のオクタデセンと、２．５質量部のオレイン酸とを供給し、窒素雰囲気下、１５０℃で均一な溶液になるまで加熱撹拌した。全て溶解させた後、１００℃まで冷却することによって、オレイン酸セシウム溶液を得た。

　次に、温度計、攪拌機、セプタムおよび窒素ガス導入管を備えた四つ口フラスコに、０．０６９質量部の臭化鉛（II）と、５質量部のオクタデセンとを供給し、窒素雰囲気下、１２０℃で１時間加熱撹拌した。続いて前記四つ口フラスコに、０．５質量部のオレイルアミンと０．５質量部のオレイン酸とを供給し、窒素雰囲気下、１６０℃で均一な溶液になるまで加熱撹拌した。さらに前記四つ口フラスコに、０．４重量部のオレイン酸セシウム溶液を供給し、１６０℃で５秒間撹拌した後、当該四つ口フラスコを氷冷した。得られた反応液を遠心分離によって分離し、上澄み液を除去することによって、発光粒子Ｘとして、オレイン酸およびオレイルアミンが配位したペロブスカイト型結晶構造の三臭化鉛セシウム結晶０．４５質量部を得た。その後、得られた発光粒子Ｘを、固形分濃度が５．０質量％となるように１，４－ブタンジオールジアセテート（株式会社ダイセル製）に分散させることによって発光粒子分散液Ｃ１を得た。

　下記表１に、得られた発光粒子分散液１～１６及びＣ１について、分散質、分散質を構成する半導体ナノ結晶の組成、分散質における無機被覆層の有無、ポリマー層の有無及び量子収率（ＰＬＱＹ）を示す。

（量子収率（ＰＬＱＹ））
　得られた発光粒子分散液の量子収率を、絶対ＰＬ量子収率測定装置（浜松ホトニクス株式会社製、「Ｑｕａｎｔａｕｒｕｓ－ＱＹ」）で測定した。量子収率が高いほど、発光粒子の発光効率が良く、優れた発光特性を有することを意味する。

＜光散乱性粒子分散液の調製＞
（光散乱粒子分散液１の調製）
　窒素ガスで満たした容器内で、酸化チタン（石原産業株式会社製「ＣＲ６０－２」）６．００ｇと、高分子分散剤（味の素ファインテクノ株式会社製「アジスパーＰＢ－８２１」）１．０２ｇと、有機溶剤である１，４－ブタンジオールジアセテートとを不揮発分４０．０％となるように混合した。さらに、得られた配合物にジルコニアビーズ（直径:１．２５ｍｍ) を加え、前記容器を窒素ガスで満たして密閉した後、密閉容器をペイントコンディショナーを用いて２時間振とうさせて配合物の分散処理を行うことにより、光散乱性粒子分散体１を得た。上記の材料は全て、窒素ガスを導入して溶存酸素を窒素ガスに置換したものを用いた。

（光散乱粒子分散液２の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートを用いた以外は光散乱粒子分散液１と同様にして、光散乱粒子分散液２を得た。

（光散乱粒子分散液３の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを用いた以外は光散乱粒子分散液１と同様にして、光散乱粒子分散液３を得た。

（光散乱粒子分散液４の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを用いた以外は光散乱粒子分散液１と同様にして、光散乱粒子分散液４を得た。

（光散乱粒子分散液５の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、グリセリルトリアセテートを用いた以外は光散乱粒子分散液１と同様にして、光散乱粒子分散液５を得た。

（光散乱粒子分散液６の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルを用いた以外は光散乱粒子分散液１と同様にして、光散乱粒子分散液６を得た。

（光散乱粒子分散液７の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルを用いた以外は光散乱粒子分散液１と同様にして、光散乱粒子分散液７を得た。

（光散乱粒子分散液８の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、トリエチレングリコールモノメチルエーテルを用いた以外は光散乱粒子分散液１と同様にして、光散乱粒子分散液８を得た。

（光散乱粒子分散液９の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、酢酸イソブチルを用いた以外は光散乱粒子分散液１と同様にして、光散乱粒子分散液９を得た。

＜樹脂溶液の調製＞
（樹脂溶液１の調製）
　グリシジル基含有アクリル樹脂であるファインディックＡ－２５４（ＤＩＣ株式会社製、エポキシ当量：５００）を２．４０ｇと、硬化剤である４－メチルシクロヘキサン－１，２－ジカルボン酸無水物（４Ｍ－ＨＨＰＡ、東京化成工業株式会社製）を０．４３ｇと、硬化触媒であるＮ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン（東京化成工業株式会社製）を０．０３ｇとを、不揮発分４４．５質量％となるように、有機溶剤である１，４－ブタンジオールジアセテートに溶解させ、樹脂溶液１を得た。

（樹脂溶液２の調製）
　ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂であるＥＰＩＣＬＯＮ　１０５０（ＤＩＣ株式会社製、エポキシ当量：４７５）を１．９２ｇと、硬化剤である４－メチルシクロヘキサン－１，２－ジカルボン酸無水物（４Ｍ－ＨＨＰＡ、東京化成工業株式会社製）を０．６８ｇと、硬化触媒であるＮ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン（東京化成工業株式会社製）を０．２６ｇとを、不揮発分４４．５質量％となるように、有機溶剤である１，４－ブタンジオールジアセテートに溶解させ、樹脂溶液２を得た。

（樹脂溶液３の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートを用いた以外は樹脂溶液１と同様にして、樹脂溶液３を得た。

（樹脂溶液４の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを用いた以外は樹脂溶液１と同様にして、樹脂溶液４を得た。

（樹脂溶液５の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを用いた以外は樹脂溶液１と同様にして、樹脂溶液５を得た。

（樹脂溶液６の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、グリセリルトリアセテートを用いた以外は樹脂溶液１と同様にして、樹脂溶液６を得た。

（樹脂溶液７の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルを用いた以外は樹脂溶液１と同様にして、樹脂溶液７を得た。

（樹脂溶液８の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、ジエチレングリコールモノエチルエーテルを用いた以外は樹脂溶液１と同様にして、樹脂溶液８を得た。

（樹脂溶液９の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（東京化成工業株式会社製）を用いた以外は樹脂溶液１と同様にして、樹脂溶液９を得た。

（樹脂溶液１０の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、トリエチレングリコールモノメチルエーテルを用いた以外は樹脂溶液１と同様にして、樹脂溶液１０を得た。

（樹脂溶液１１の調製）
　有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテートの代わりに、酢酸イソブチルを用いた以外は樹脂溶液１と同様にして、樹脂溶液１１を得た。

＜発光粒子含有樹脂組成物の調製＞
（発光粒子含有樹脂組成物１の調製）
　発光粒子分散液１（不揮発分濃度５．０量％）１．５０ｇと、光散乱性粒子分散体１（不揮発分濃度４０．０質量％）０．４４ｇと、樹脂溶液１（不揮発分濃度４４．５質量％）３．０７ｇとを、アルゴンガスで満たした容器内で均一に混合した後、グローブボックス内で、混合物を孔径５μｍのフィルターでろ過した。さらに、得られたろ過物を入れた容器内にアルゴンガスを導入し、容器内をアルゴンガスで飽和させた。次いで、減圧してアルゴンガスを除去することにより、発光粒子含有樹脂組成物１を得た。

（発光粒子含有樹脂組成物２～２１及びＣ１の調製）
　発光粒子分散液１～１７、光散乱粒子分散液１～９及び樹脂溶液１～１１の添加量を、下記表２～表４に示す添加量に変更した以外は、発光粒子含有樹脂組成物１の調製と同一条件で、発光粒子含有樹脂組成物２～２１及びＣ１を得た。なお、下記表１～表３中の添加量の単位は、いずれも「ｇ」である。さらに、下記表５に、発光粒子分散液１～１７、光散乱粒子分散液１～９及び樹脂溶液１～１１の調製に使用した有機溶剤について、ＬｏｇＰ、１気圧における沸点、２０℃における蒸気圧、２０℃における蒸気圧に対する１００℃における蒸気圧比及び２５℃における表面張力を示す。

＜発光粒子含有樹脂組成物の評価＞
　得られた１～２１の発光粒子含有樹脂組成物を実施例１～２１とし、発光粒子含有樹脂組成物Ｃ１を比較例１とした。実施例１～２１及び比較例１の発光粒子含有樹脂組成物について、以下のようにして、分散安定性、吐出安定性を評価した。結果を下記表６に示す。

（分散安定性）
　実施例１～２１及び比較例１の発光粒子含有樹脂組成物を大気下で１０日間放置した後、沈殿物の有無を確認し、以下の基準に従って評価した。
〔評価基準〕
　Ａ：沈殿物が全く生じていない。
　Ｂ：沈殿物がごくわずかに生じている。振とうすることにより元に戻る。
　Ｃ：沈殿物がやや多く生じている。振とうしても沈殿物が残る。

（吐出安定性）
　実施例１～２１及び比較例１の発光粒子含有樹脂組成物を、インクジェットプリンター（富士フィルムＤｉｍａｔｉｘ社製、「ＤＭＰ－２８３１」）を用いて１０分間連続で吐出した。本インクジェットプリンターのインクを吐出するヘッド部には１６個のノズルが形成されており、１回の吐出の際に１個のノズルから吐出される発光粒子含有樹脂組成物の吐出量を１０ｐＬに設定した。
〔評価基準〕
　Ａ：連続吐出可能（１６個のノズル中、連続吐出可能なノズルが１０個以上。）
　Ｂ：連続吐出不可（１６個のノズル中、連続吐出可能なノズルが９個以下。）
　Ｃ：吐出不可（１６個のノズルの全てで、連続吐出不可。）

＜光変換層の評価＞
発光粒子含有樹脂組成物１～２１を用いた光変換層を実施例２２～４２とし、発光粒子含有樹脂組成物Ｃ１を用いた光変換層を比較例２とした。発光粒子含有樹脂組成物１～２１及びＣ１を、ガラス基板上に、乾燥後の膜厚が３．５μｍとなるように、スピンコーターにて大気中で塗布した。塗布膜を１００℃にて窒素中でプリベークした後、１８０℃に窒素中で加熱して硬化させて、ガラス基板上に発光粒子含有樹脂組成物の硬化物からなる層（光変換層）を形成し、これを評価用試料とした。その後、以下のようにして、光変換層の表面平滑性及び外部量子効率保持率を評価した。

（表面平滑性）
　得られた光変換層の表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて観察し、その表面粗さＳａを測定した。下記表７に、光変換層の表面粗さＳａ［μｍ］を示す。

（外部量子効率保持率）
　まず、面発光光源としてのシーシーエス株式会社社製の青色ＬＥＤ（ピーク発光波長：４５０ｎｍ）の上方に積分球を設置し、この積分球に大塚電子株式会社製の放射分光光度計（商品名「ＭＣＰＤ－９８００」）を接続した。次に、青色ＬＥＤと積分球との間に上述の評価用試料を挿入して、青色ＬＥＤを点灯させ、観測されるスペクトル及び各波長における照度を放射分光光度計によって測定した。得られたスペクトル及び照度から、以下のようにして外部量子効率（ＥＱＥ）を求めた。

　外部量子効率は、光変換層に入射した光（光子）のうち、どの程度の割合で蛍光として観測者側に放射されるかを示す値である。従って、この値が大きければ光変換層が発光特性に優れていることを示しており、重要な評価指標である。外部量子効率（ＥＱＥ）は、以下の式（１）で算出される。
　　ＥＱＥ［％］＝Ｐ２／Ｅ（Ｂｌｕｅ）×１００…（１）
　式中、Ｅ（Ｂｌｕｅ）は、３８０～４９０ｎｍの波長域における「照度×波長÷ｈｃ」の合計値を表し、Ｐ２は、５００～６５０ｎｍの波長域における「照度×波長÷ｈｃ」の合計値を表し、これらは観測した光子数に相当する値である。なお、ｈは、プランク定数、ｃは光速を表す。

　そして、上記評価用試料を作製した直後に測定したＥＱＥを初期の外部量子効率ＥＱＥ_０とし、ＥＱＥ_０を測定した後、室温かつ大気下で１０日保管した後の外部量子効率ＥＱＥ_ｈとし、以下の式（２）によって、光変換層の外部量子効率保持率［％］を算出した。
　　外部量子効率保持率［％］＝ＥＱＥ_ｈ／ＥＱＥ_０×１００…（２）

　ここで、ＥＱＥ_０は、数値が大きいほど、塗膜の硬化工程における加熱による半導体ナノ結晶の劣化が小さい、すなわち、熱に対する安定性に優れることを意味する。光変換層として使用するためには、ＥＱＥ_０は２０％以上が好ましく、２５％以上がより好ましい。優れることを意味する。さらに、光変換層は、ＥＱＥ_０に加えて、さらにＥＱＥ_ｈが高いことが望ましく、外部量子効率保持率が高いほど、発光粒子を含む光変換層の酸素ガスおよび水蒸気に対する安定性が高いことを意味する。
　結果を表７に示す。

＜発光粒子含有樹脂組成物及び光変換層の評価結果＞
　まず、実施例１～２、１９及び比較例１の発光粒子含有樹脂組成物、並びに、それらを用いて作製した実施例２２～２３、４０及び比較例２の光変換層について検討する。実施例１～２の発光粒子含有樹脂組成物は、比較例１と比較して、分散安定性及び吐出安定性が優れ、平滑な光変換層を形成できたことが明らかである。また、比較例１の発光粒子含有樹脂組成物は、半導体ナノ結晶にオレイン酸及びオレイルアミンを配位させることによって半導体ナノ結晶の発光を実現させており、配位させない場合には発光を実現できない。これに対し、実施例１～２の発光粒子含有樹脂組成物は、半導体ナノ結晶にオレイン酸やオレイルアミンを配位させていないにもかかわらず、半導体ナノ結晶の良好な発光を実現している。そして、表７に示すように、実施例２２～２３では、比較例２と比較して、、熱硬化後の光変換層における外部量子収率保持率は高い。これらのことから、実施例１～２の発光粒子含有樹脂組成物は、発光粒子を構成する半導体ナノ結晶が中空粒子に収容されたものであることにより、酸素、水蒸気及び熱に対する優れた安定性を確保し、優れた発光特性を得ることができたと考えられる。

　そして、実施例２は、実施例１と比較して、発光粒子含有樹脂組成物における分散安定性及び吐出安定性がより優れ、光変換層における表面粗さがさらに小さい。このことから、実施例２の発光粒子含有樹脂組成物は、分散する発光粒子がその表面にポリマー層を備えたものであることにより、分散安定性を吐出安定性がより向上し、より平滑な光変換層を形成できることが明らかである。

　さらに、実施例１９は、半導体ナノ結晶にオレイン酸及びオレイルアミンが配位している点で、実施例２と相違する。実施例４０は、実施例２３と比較して、熱硬化後の光変換層における外部量子収率保持率はさらに高い。このことから、中空粒子の中空部に半導体ナノ粒子を収容した発光粒子においても、発光効率を向上させるのに半導体ナノ結晶に配位子を配位させることが有効であることが明らかである。

　次に、実施例２～６の発光粒子含有樹脂組成物について検討する。実施例２～５の発光粒子含有樹脂組成物は、いずれも、ポリマー被覆発光粒子が分散されたものであって、分散媒体も共通しているが、ポリマー被覆発光粒子を構成するナノ結晶の組成が異なるか、又はナノ結晶が収容される中空シリカ粒子の形状が異なる。また、実施例２及び６の発光粒子含有樹脂組成物は、樹脂溶液の組成が異なる以外は同一である。表６～７から、実施例２～６の発光粒子含有樹脂組成物は、ナノ結晶の組成、中空シリカの形状又は樹脂溶液に含まれる熱可塑性樹脂の種類に関係なく、酸素、水分及び熱に対する優れた安定性を確保し、優れた発光特性を得ることができると共に、分散安定性及び吐出安定性を確保し、平滑な光変換層を形成できることが明らかである。

　さらに、実施例２の発光粒子含有樹脂組成物について検討する。実施例２、７～１８の発光粒子含有樹脂組成物は、いずれも、ポリマー被覆発光粒子Ｂが分散しているが、発光粒子分散液、光散乱性粒子分散液及び樹脂溶液に用いた有機溶剤の種類及びその添加量が異なる。表６～７から、実施例２、７～１８の発光粒子含有樹脂組成物は、比較例１の発光粒子含有樹脂組成物と比較して、用いた有機溶剤の種類に関係なく、酸素、水分及び熱に対する安定性を確保でき、優れた発光特性を得られることが明らかである。

　そして、実施例２、７～１８の結果から、分散安定性に優れた発光粒子含有樹脂組成物は、光変換層の量子収率保持率が高いことが明らかである。このことから、発光粒子含有樹脂組成物を構成する有機溶媒の種類及びその添加量が、光変換層の量子収率保持率に影響すると考えられる。さら、発光粒子含有樹脂組成物の発光特性、分散安定性及び吐出安定性、並びに、光変換層の発光特性及び表面平滑性を考慮すると、発光粒子含有樹脂組成物に含まれる有機溶剤として、１，４－ブタンジオールジアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、グリセリルトリアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが、より好ましいことが明らかである。

　次に、実施例２０～２１、比較例１の発光粒子含有樹脂組成物について検討する。実施例２０～２１の発光粒子含有樹脂組成物は、シロキサン結合層からなる無機被覆層を有し、実施例２１の発光粒子含有組成物ではさらにポリマー被覆層を有する発光粒子を含有する。また、実施例２０～２１の発光粒子含有樹脂組成物は、発光粒子が異なる以外は同一である。表６～７から、実施例２０～２１の発光粒子含有樹脂組成物は、比較例１と比較して、分散安定性及び吐出安定性が優れ、平滑な光変換層を形成できたことが明らかである。また、比較例１の発光粒子含有樹脂組成物は、半導体ナノ結晶にオレイン酸及びオレイルアミンを配位させることによって半導体ナノ結晶の発光を実現させており、配位させない場合には発光を実現できない。これに対し、実施例２０～２１の発光粒子含有樹脂組成物は、半導体ナノ結晶にシロキサン結合可能な化合物を配位子として使用することで、半導体ナノ結晶の良好な発光を実現している。そして、表７に示すように、実施例４１～４２では、比較例２と比較して、熱硬化後の光変換層における外部量子収率保持率は高い。これらのことから、実施例２０～２１の発光粒子含有樹脂組成物は、発光粒子を構成する半導体ナノ結晶がシロキサン結合層により被覆されたものであることにより、酸素、水蒸気及び熱に対する優れた安定性を確保し、優れた発光特性を得ることができたと考えられる。

　以上のことから、実施例１～２１の発光粒子含有樹脂組成物によって得られた光変換層は、発光特性に優れ、平滑な表面を備えることが明らかである。よって、これらの光変換層を用いて、発光素子のカラーフィルタ画素部を構成した場合には、優れた発光特性を得ることができるものと期待できる。

　１００　発光素子
　２００　ＥＬ光源部
　１　　　下基板
　２　　　陽極
　３　　　正孔注入層
　４　　　正孔輸送層
　５　　　発光層
　６　　　電子輸送層
　７　　　電子注入層
　８　　　陰極
　９　　　封止層
　１０　　充填層
　１１　　保護層
　１２　　光変換層
　１３　　上基板
　１４　　ＥＬ層
　２０　　画素部、
　２０ａ　第１の画素部
　２０ｂ　第２の画素部
　２０ｃ　第３の画素部
　２１ａ　第１の光散乱粒子
　２１ｂ　第２の光散乱粒子
　２１ｃ　第３の光散乱粒子
　２２ａ　第１の硬化成分
　２２ｂ　第２の硬化成分
　２２ｃ　第３の硬化成分
　９０ａ　第１の発光粒子
　９０ｂ　第１の発光粒子
　３０　　遮光部
　９０　　発光粒子、ポリマー被覆粒子
　９１　　発光粒子
　９１１　ナノ結晶
　９１２　中空ナノ粒子
　９１２ａ　中空部
　９１２ｂ　細孔
　９１３　中間層
　９１４　表面層
　９２　　ポリマー層
　７０１　コンデンサ
　７０２　駆動トランジスタ
　７０５　共通電極
　７０６　信号線
　７０７　走査線
　７０８　スイッチングトランジスタ
　Ｃ１　　信号線駆動回路
　Ｃ２　　走査線駆動回路
　Ｃ３　　制御回路
　ＰＥ，Ｒ，Ｇ，Ｂ　　画素電極
　X　　　共重合体
　ＸＡ　　会合体
　ｘ１　　脂肪族ポリアミン鎖
　ｘ２　　疎水性有機セグメント
　ＹＡ　　コア－シェル型シリカナノ粒子
　Ｚ　　　半導体ナノ結晶の原料化合物を含有する溶液

Claims

　メタルハライドからなり発光性を有する半導体ナノ結晶を含み、該結晶表面にＳｉ、Ａｌ及びＴｉのうち１種以上を含む無機被覆層を備えた発光粒子と、１種又は２種以上の熱硬化性樹脂と、１種又は２種以上の有機溶剤とを含有することを特徴とする、発光粒子含有樹脂組成物。
　前記発光粒子が、当該発光粒子表面を被覆するポリマー層を備え、
　当該ポリマー層が、非水溶媒に可溶な重合性不飽和基を含有する重合体と、非水溶媒に可溶であって且つ重合後に不溶又は難溶になる重合性不飽和単量体とを重合することにより得られる疎水性ポリマーからなることを特徴とする、請求項１に記載の発光粒子含有樹脂組成物。
　前記有機溶剤は、オクタノール／水分配係数の常用対数値ＬｏｇＰが－１．０以上～６．５以下であって且つ１気圧での沸点が１５０～２６０℃である請求項１又は２に記載の発光粒子含有樹脂組成物。
　前記有機溶剤は、２０℃における蒸気圧が０．０５～５００Ｐａであり、且つ、１００℃における蒸気圧が２０℃における蒸気圧の４０倍以上である請求項３に記載の発光粒子含有樹脂組成物。
　前記熱硬化性樹脂がアルカリ不溶性である請求項１～４のいずれか一項に記載の発光粒子含有樹脂組成物。
　前記無機被覆層が、シロキサン結合を形成する化合物からなる、請求項１～５のいずれか一項に記載の発光粒子樹脂組成物。
　前記無機被覆層が、中空部及び該中空部に連通する細孔を有する中空構造を備える粒子からなる、請求項１～５のいずれか一項に記載の発光粒子含有樹脂組成物。
　前記中空構造を備える粒子が、中空シリカ粒子、中空アルミナ粒子又は中空酸化チタン粒子である請求項７に記載の発光粒子含有樹脂組成物。
　前記中空粒子の中空部と前記半導体ナノ結晶との間に、該半導体ナノ結晶の表面に配位した配位子で構成される中間層をさらに備えた請求項７～８のいずれか一項に記載の発光粒子含有樹脂組成物。
　前記配位子が前記半導体ナノ結晶に含まれるカチオンに結合する結合性基を有するものである請求項９に記載の発光粒子含有樹脂組成物。
　前記結合性基が、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホン酸基およびボロン酸基からなる群から選択される１種又は２種以上の基である請求項１０に記載の発光粒子含有樹脂組成物。
　前記ポリマー層の厚さが０．５～１００ｎｍである請求項２～１１のいずれか一項に記載の発光粒子含有樹脂組成物。
　さらに光散乱性粒子を含有する請求項１～１２のいずれか一項に記載の発光粒子含有樹脂組成物。
　半導体ナノ結晶の原料化合物を含む溶液と、Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物とを含む溶液とを混合することにより、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶を析出させると共に当該半導体ナノ結晶の表面に前記化合物を配位させ、その後、配位した前記化合物中の前記反応性基を縮合させることにより、前記半導体ナノ結晶の表面に前記シロキサン結合を有する表面層を形成した母粒子を得る工程と、
　前記発光粒子と、１種又は２種以上の熱硬化性樹脂と、１種又は２種以上の有機溶剤とを混合して発光粒子含有樹脂組成物を調製する工程とを備えたことを特徴とする、発光粒子含有樹脂組成物の製造方法。
　半導体ナノ結晶の原料化合物を含む溶液と、Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物とを含む溶液とを混合することにより、メタルハライドからなる半導体ナノ結晶を析出させると共に当該半導体ナノ結晶の表面に前記化合物を配位させ、その後、配位した前記化合物中の前記反応性基を縮合させることにより、前記半導体ナノ結晶の表面に前記シロキサン結合を有する表面層を形成した母粒子を得る工程と、
　次いで、前記母粒子の表面を疎水性ポリマーで被覆してポリマー層を形成する工程と、
　前記発光粒子と、１種又は２種以上の熱硬化性樹脂と、１種又は２種以上の有機溶剤とを混合して発光粒子含有樹脂組成物を調製する工程とを備えたことを特徴とする、発光粒子含有樹脂組成物の製造方法。
　中空部と該中空部に連通する細孔を有する中空粒子の該中空部に、メタルハライドからなり発光性を有する半導体ナノ結晶を析出させることにより、前記中空粒子と前記半導体ナノ結晶とを備えた発光粒子を得る工程と、
　前記発光粒子と、１種又は２種以上の熱硬化性樹脂と、１種又は２種以上の有機溶剤とを混合して発光粒子含有樹脂組成物を調製する工程とを備えたことを特徴とする、発光粒子含有樹脂組成物の製造方法。
　中空部と該中空部に連通する細孔を有する中空粒子の該中空部に、メタルハライドからなり発光性を有する半導体ナノ結晶を析出させることにより、前記中空粒子と前記半導体ナノ結晶とを備えた発光粒子を得る工程と、
　前記発光粒子の表面を疎水性ポリマーからなるポリマー層で被覆する工程と、
　前記ポリマー層で被覆された前記発光粒子と、１種又は２種以上の熱硬化性樹脂と、１種又は２種以上の有機溶剤とを混合して発光粒子含有樹脂組成物を調製する工程とを備えたことを特徴とする、発光粒子含有樹脂組成物の製造方法。
　画素部を備える光変換層であって、
　前記画素部が請求項１～１３のいずれか一項に記載の発光粒子含有樹脂組成物の硬化物を含むことを特徴とする、光変換層。
　請求項１８記載の光変換層を備えたことを特徴とする、発光素子。