JP7052936B1 - 発光粒子含有インク組成物、光変換層および発光素子 - Google Patents

Abstract

本発明の目的は、加熱時の熱安定性に優れた発光粒子含有インク組成物、該インク組成物を用いた光変換層並びに発光素子を提供することにある。本発明の発光粒子含有インク組成物は、ペロブスカイト型構造を有する半導体ナノ結晶を含むナノ粒子と、光重合性化合物と、光重合開始剤と、次亜リン酸ジエステル化合物とを含有することを特徴とする。前記次亜リン酸ジエステル化合物は、分子量が５００以上１５００以下であり且つ軟化点及び融点が７０℃以上２５０℃以下であることが好ましい。

Description

本発明は、発光粒子含有インク組成物、光変換層および発光素子に関する。

従来、液晶表示装置等のディスプレイにおけるカラーフィルタ画素部は、例えば、赤色有機顔料粒子又は緑色有機顔料粒子と、アルカリ可溶性樹脂及び／又はアクリル系単量体とを含有する硬化性レジスト材料を用いて、フォトリソグラフィ法により製造されてきた。

近年、ディスプレイの低消費電力化が強く求められるようになり、上記赤色有機顔料粒子又は緑色有機顔料粒子に代えて、例えば量子ドット、量子ロッド、その他の無機蛍光体粒子等の発光性を有する半導体ナノ粒子を用いて赤色光又は緑色光を取り出すカラーフィルタ画素部が、活発に研究されている。

ところで、上記フォトリソグラフィ法でのカラーフィルタの製造方法では、その製造方法の特徴から、比較的高価な半導体ナノ結晶を含めた画素部以外のレジスト材料が無駄になるという欠点があった。このような状況下、上記のようなレジスト材料の無駄をなくすため、インクジェット法により、光変換基板画素部を形成することが検討され始めている（特許文献１）。

前記半導体ナノ結晶を含むナノ粒子は、蛍光又は燐光を発し、発光波長の半値幅が狭いという特徴がある。前記半導体ナノ結晶として、初期にはＣｄＳｅが使用されていたが、その有害性を回避するために、最近ではＩｎＰや、ペロブスカイト構造を有するものが使用されている。ペロブスカイト構造の半導体ナノ結晶として、例えば、ＣｓＰｂＸ_３（Ｘはハロゲン元素であり、Ｃｌ、ＢｒまたはＩを示す。）で表される化合物が知られている。

中でも、ペロブスカイト型構造を有する半導体ナノ結晶は、ハロゲン元素の種類とその存在割合を調整することにより発光波長を制御することができるため、生産性に優れるという利点がある。そして、例えば、ペロブスカイト型構造を有する発光性結晶とアクリレートポリマー由来の固体ポリマー含有組成物および発光性部品が開示されている（特許文献２）。また、ペロブスカイト化合物を含む蛍光粒子、光重合性化合物、光重合開始剤、酸化防止剤を含む組成物を硬化させてなる膜（光変換層）が開示されている（特許文献３）。

しかしながら、ペロブスカイト型構造の半導体結晶を含むナノ粒子は熱酸化により劣化しやすいため、特許文献３に開示の組成物は、該組成物または該組成物から形成された光変換層が加熱された際に、発光強度の低下を抑制できないという不都合がある。

国際公開第２００８／００１６９３号公報 国際公開第２０１８／０２８８７０号公報 特開２０２０－７０３７４号公報

本発明の目的は、加熱時の熱安定性に優れた発光粒子含有インク組成物、該インク組成物を用いた光変換層並びに発光素子を提供することにある。

本発明は、上記課題を解決するために、光重合性化合物と光重合開始剤と酸化防止剤とを含有するナノ粒子含有インク組成物に着目して鋭意検討を重ねた結果、酸化防止剤として次亜リン酸ジエステル化合物を用いることにより、熱安定性をさらに向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明は、メタルハライドからなり発光性を有する半導体ナノ結晶を含むナノ粒子と、光重合性化合物と、光重合開始剤と、次亜リン酸ジエステル化合物とを含有することを特徴とする発光粒子含有インク組成物を提供する。

さらに、本発明は、前記半導体ナノ結晶を含むナノ粒子含有インク組成物の硬化物からなる光変換層、及び該光変換層を用いた発光素子を提供する。

本発明によれば、加熱時の熱安定性に優れた半導体ナノ結晶を含むナノ粒子含有インク組成物、該インク組成物を用いた光変換層並びに発光素子を提供することができる。

本発明に係る半導体ナノ結晶を含むナノ粒子の製造方法の一実施形態を示す断面図である。 本発明に係る半導体ナノ結晶を含むナノ粒子の他の構成例を示す断面図である。（ａ）は中空粒子内包発光粒子を示し、（ｂ）はポリマー被覆発光粒子を示す。 本発明に係る半導体ナノ結晶を含むナノ粒子の他の一実施形態を示す断面図である。（ａ）はシリカ被覆発光粒子を示し、（ｂ）はポリマー被覆発光粒子を示す。 本発明に係る発光素子の一実施形態を示す断面図である。 アクティブマトリックス回路の構成を示す概略図である。 アクティブマトリックス回路の構成を示す概略図である。

以下、本発明の半導体ナノ結晶を含むナノ粒子含有インク組成物、その製造方法および発光素子について、添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明の半導体ナノ結晶を含むナノ粒子の製造方法の一実施形態を示す断面図である。中空粒子として中空シリカ粒子を用いた場合の製造例を示す。なお、図１では、下段のナノ結晶原料付与以降の中空粒子９１２において、細孔９１２ｂの記載を省略した。また、図２及び図３は、ナノ粒子の他の構成例を示す断面図である。

１．半導体ナノ結晶を含むナノ粒子含有インク組成物
本発明の実施形態の半導体ナノ結晶を含むナノ粒子含有インク組成物は、光重合性化合物と、光重合開始剤と、次亜リン酸ジエステル化合物と、を含有する。一実施形態の半導体ナノ結晶を含むナノ粒子含有インク組成物は、後述するように、有機ＥＬを用いた発光表示素子の光変換層をインクジェット方式で形成する用途に好適に用いることができる。該インク組成物は、比較的高額である半導体ナノ結晶を含むナノ粒子、光重合性化合物等の材料を無駄に消費せずに、必要な箇所に必要な量を用いるだけで画素部（光変換層）を形成できる点で、フォトリソグラフィ方式よりも、インクジェット方式に適合するよう、適切に調製して用いることが好ましい。

該インク組成物は、含有させる添加剤によっては、当該添加剤の触媒作用により保管中に光重合性化合物の反応が進行し、インク粘度が上昇してしまう場合があるが、本発明で用いられる酸化防止剤は、該インク組成物の粘度上昇を起こしにくい。したがって、該インク組成物は、粘度の安定性に優れる傾向がある。また、該インク組成物により得られる光変換層によれば、優れた外部量子効率が得られる。

以下では、光変換層を構成するカラーフィルタ画素部形成用のインクジェットインク組成物を例に挙げて、本実施形態の半導体ナノ結晶を含むナノ粒子含有インク組成物及びその構成成分について説明する。構成成分としては、半導体ナノ結晶を含むナノ粒子、光重合性化合物、光重合開始剤及び次亜リン酸ジエステル化合物の他に、配位子、酸化防止剤、光拡散粒子、高分子分散剤等が挙げられる。

１－１．半導体ナノ結晶を含むナノ粒子
１－１－１．中空粒子内包発光粒子
本発明における半導体ナノ結晶を含むナノ粒子は、図１に示す発光粒子９１として、中空部９１２ａと中空部９１２ａに連通する細孔９１２ｂとを有する中空粒子９１２と、中空部９１２ａに収容され、メタルハライドからなり、発光性を有する半導体ナノ結晶９１１（以下、単に「ナノ結晶９１１」ということもある。）と、を備える（以下、「中空粒子内包発光粒子９１」ということもある。）。かかる発光粒子９１は、例えば、中空粒子９１２の中空部９１２ａにナノ結晶９１１を析出させることにより得ることができる。発光粒子９１は、ナノ結晶９１１が中空粒子９１２により保護されるため、熱や酸素に対する優れた安定性を得ることができ、その結果、優れた発光特性を得ることができる。

発光粒子９１は、その表面を疎水ポリマーからなるポリマー層９２を備えた発光粒子９０（以下、「ポリマー被覆発光粒子」と記載することがある。）であることがより好ましい。ポリマー被覆発光粒子９０は、ポリマー層９２を備えることにより、熱、酸素に対する安定性をさらに向上させると共に、優れた粒子分散性を得ることができるため、光変換層とした際により優れた発光特性を得ることができる。

＜ナノ結晶９１１＞
ナノ結晶９１１は、メタルハライドからなり、励起光を吸収して蛍光または燐光を発光するナノサイズの結晶体（ナノ結晶粒子）である。かかるナノ結晶９１１は、例えば、透過型電子顕微鏡または走査型電子顕微鏡によって測定される最大粒子径が１００ｎｍ以下である結晶体である。ナノ結晶９１１は、例えば、所定の波長の光エネルギーや電気エネルギーにより励起され、蛍光または燐光を発することができる。

メタルハライドからなるナノ結晶９１１は、一般式：Ａ_ａＭ_ｂＸ_ｃで表される化合物である。
式中、Ａは、有機カチオンおよび金属カチオンのうちの少なくとも１種である。有機カチオンとしては、アンモニウム、ホルムアミジニウム、グアニジニウム、イミダゾリウム、ピリジニウム、ピロリジニウム、プロトン化チオウレア等が挙げられ、金属カチオンとしては、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ等のカチオンが挙げられる。
Ｍは、少なくとも１種の金属カチオンである。金属カチオンとしては、１族、２族、３族、４族、５族、６族、７族、８族、９族、１０族、１１族、１３族、１４族、１５族から選ばれる金属カチオンが挙げられる。より好ましくは、Ａｇ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｉｒ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｏｓ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｎ、Ｚｒ等のカチオンが挙げられる。
Ｘは、少なくとも１種のアニオンである。アニオンとしては、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、シアン化物イオン等が挙げられる。
ａは、１～７であり、ｂは、１～４であり、ｃは、３～１６である。
かかるナノ結晶９１１は、その粒子サイズ、Ｘサイトを構成するアニオンの種類および存在割合を調整することにより、発光波長（発光色）を制御することができる。

一般式Ａ_ａＭ_ｍＸ_ｘで表される化合物は、具体的には、ＡＭＸ、Ａ_４ＭＸ、ＡＭＸ_２、ＡＭＸ_３、Ａ_２ＭＸ_３、ＡＭ_２Ｘ_３、Ａ_２ＭＸ_４、Ａ_２ＭＸ_５、Ａ_３ＭＸ_５、Ａ_３Ｍ_２Ｘ_５、Ａ_３ＭＸ_６、Ａ_４ＭＸ_６、ＡＭ_２Ｘ_６、Ａ_２ＭＸ_６、Ａ_４Ｍ_２Ｘ_６、Ａ_３ＭＸ_８、Ａ_３Ｍ_２Ｘ_９、Ａ_３Ｍ_３Ｘ_９、Ａ_２Ｍ_２Ｘ_１０、Ａ_７Ｍ_３Ｘ_１６で表される化合物が好ましい。
式中、Ａは、有機カチオンおよび金属カチオンのうちの少なくとも１種である。有機カチオンとしては、アンモニウム、ホルムアミジニウム、グアニジニウム、イミダゾリウム、ピリジニウム、ピロリジニウム、プロトン化チオウレア等が挙げられ、金属カチオンとしては、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｌｉ等のカチオンが挙げられる。
式中、Ｍは、少なくとも１種の金属カチオンである。具体的には、１種の金属カチオン（Ｍ^１）、２種の金属カチオン（Ｍ^１ _αＭ^２ _β）、３種の金属カチオン（Ｍ^１ _αＭ^２ _βＭ^３ _γ）、４種の金属カチオン（Ｍ^１ _αＭ^２ _βＭ^３ _γＭ^４ _δ）などが挙げられる。ただし、α、β、γ、δは、それぞれ０～１の実数を表し、かつα＋β＋γ＋δ＝１を表す。金属カチオンとしては、１族、２族、３族、４族、５族、６族、７族、８族、９族、１０族、１１族、１３族、１４族、１５族から選ばれる金属カチオンが挙げられる。より好ましくは、Ａｇ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｆ、Ｉｎ、Ｉｒ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｂ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｏｓ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｅ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｍ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ｔａ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｎ、Ｚｒ等のカチオンが挙げられる。
式中、Ｘは、少なくとも１種のハロゲンを含むアニオンである。具体的には、１種のハロゲンアニオン（Ｘ^１）、２種のハロゲンアニオン（Ｘ^１ _αＸ^２ _β）などが挙げられる。アニオンとしては、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、シアン化物イオン等が挙げられ、少なくとも１種のハロゲン化物イオンを含む。

上記一般式Ａ_ａＭ_ｍＸ_ｘで表されるメタルハライドからなる化合物は、発光特性をよくするために、Ｂｉ、Ｍｎ、Ｃａ、Ｅｕ、Ｓｂ、Ｙｂなどの金属イオンが添加（ドープ）されたものであってもよい。

上記一般式Ａ_ａＭ_ｍＸ_ｘで表されるメタルハライドからなる化合物の中で、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物は、その粒子サイズ、Ｍサイトを構成する金属カチオンの種類および存在割合を調整し、さらにＸサイトを構成するアニオンの種類および存在割合を調整することにより、発光波長（発光色）を制御することができる点で、半導体ナノ結晶として利用する上で特に好ましい。具体的には、ＡＭＸ_３、Ａ_３ＭＸ_５、Ａ_３ＭＸ_６、Ａ_４ＭＸ_６、Ａ_２ＭＸ_６で表される化合物が好ましい。式中のＡ、Ｍ及びＸは上記のとおりである。また、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物は、上述のように、Ｂｉ、Ｍｎ、Ｃａ、Ｅｕ、Ｓｂ、Ｙｂなどの金属イオンが添加（ドープ）されたものであってもよい。

ペロブスカイト型結晶構造を示す化合物の中でも、さらに良好な発光特性を示すために、ＡはＣｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｌｉであり、Ｍは１種の金属カチオン（Ｍ^１）、または２種の金属カチオン（Ｍ^１ _αＭ^２ _β）であり、Ｘは塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオンであることが好ましい。但し、αとβはそれぞれ０～１の実数を表し、α＋β＝１を表す。具体的には、Ｍは、Ａｇ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｇｅ、Ｋ、Ｉｎ、Ｎａ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｓｂ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｙｂ、Ｚｎ、Ｚｒから選ばれることが好ましい。

メタルハライドからなり、ペロブスカイト型結晶構造を有するナノ結晶９１１の具体的な組成として、ＣｓＰｂＢｒ_３、ＣＨ_３ＮＨ_３ＰｂＢｒ_３、ＣＨＮ_２Ｈ_４ＰｂＢｒ_３等のＭとしてＰｂを用いたナノ結晶９１１は、光強度に優れると共に量子効率に優れることから、好ましい。また、ＣｓＳｎＢｒ_３、ＣｓＳｎＣｌ_３、ＣｓＳｎＢｒ_１．５Ｃｌ_１．５、Ｃｓ_３Ｓｂ_２Ｂｒ_９、（ＣＨ_３ＮＨ_３）_３Ｂｉ_２Ｂｒ_９、（Ｃ_４Ｈ_９ＮＨ_３）_２ＡｇＢｉＢｒ_６等のＭとしてＰｂ以外の金属カチオンを用いたナノ結晶９１１は、低毒性であって環境への影響が少ないことから、好ましい。

ナノ結晶９１１として、６０５～６６５ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する光（赤色光）を発する赤色発光性の結晶、５００～５６０ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する光（緑色光）を発する緑色発光性の結晶、及び、４２０～４８０ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する光（青色光）を発する青色発光性の結晶を選択して用いることができる。また、一実施形態において、これらのナノ結晶を複数組み合わせて用いてもよい。

なお、ナノ結晶９１１の発光ピークの波長は、例えば、絶対ＰＬ量子収率測定装置を用いて測定される蛍光スペクトルまたは燐光スペクトルにおいて確認することができる。

赤色発光性のナノ結晶９１１は、６６５ｎｍ以下、６６３ｎｍ以下、６６０ｎｍ以下、６５８ｎｍ以下、６５５ｎｍ以下、６５３ｎｍ以下、６５１ｎｍ以下、６５０ｎｍ以下、６４７ｎｍ以下、６４５ｎｍ以下、６４３ｎｍ以下、６４０ｎｍ以下、６３７ｎｍ以下、６３５ｎｍ以下、６３２ｎｍ以下または６３０ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有することが好ましく、６２８ｎｍ以上、６２５ｎｍ以上、６２３ｎｍ以上、６２０ｎｍ以上、６１５ｎｍ以上、６１０ｎｍ以上、６０７ｎｍ以上または６０５ｎｍ以上の波長範囲に発光ピークを有することが好ましい。
これらの上限値および下限値は、任意に組み合わせることができる。なお、以下の同様の記載においても、個別に記載した上限値および下限値は任意に組み合わせ可能である。

緑色発光性のナノ結晶９１１は、５６０ｎｍ以下、５５７ｎｍ以下、５５５ｎｍ以下、５５０ｎｍ以下、５４７ｎｍ以下、５４５ｎｍ以下、５４３ｎｍ以下、５４０ｎｍ以下、５３７ｎｍ以下、５３５ｎｍ以下、５３２ｎｍ以下または５３０ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有することが好ましく、５２８ｎｍ以上、５２５ｎｍ以上、５２３ｎｍ以上、５２０ｎｍ以上、５１５ｎｍ以上、５１０ｎｍ以上、５０７ｎｍ以上、５０５ｎｍ以上、５０３ｎｍ以上または５００ｎｍ以上の波長範囲に発光ピークを有することが好ましい。

青色発光性のナノ結晶９１１は、４８０ｎｍ以下、４７７ｎｍ以下、４７５ｎｍ以下、４７０ｎｍ以下、４６７ｎｍ以下、４６５ｎｍ以下、４６３ｎｍ以下、４６０ｎｍ以下、４５７ｎｍ以下、４５５ｎｍ以下、４５２ｎｍ以下または４５０ｎｍ以下の波長範囲に発光ピークを有することが好ましく、４５０ｎｍ以上、４４５ｎｍ以上、４４０ｎｍ以上、４３５ｎｍ以上、４３０ｎｍ以上、４２８ｎｍ以上、４２５ｎｍ以上、４２２ｎｍ以上または４２０ｎｍ以上の波長範囲に発光ピークを有することが好ましい。

ナノ結晶９１１の形状は、特に限定されず、任意の幾何学的形状であってもよく、任意の不規則な形状であってもよい。ナノ結晶９１１の形状としては、例えば、直方体状、立方体状、球状、正四面体状、楕円体状、角錐形状、ディスク状、枝状、網状、ロッド状等が挙げられる。なお、ナノ結晶９１１の形状としては、直方体状、立方体状または球状が好ましい。

ナノ結晶９１１の平均粒子径（体積平均径）は、４０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、ナノ結晶９１１の平均粒子径は、１ｎｍ以上であることが好ましく、１．５ｎｍ以上であることがより好ましく、２ｎｍ以上であることがさらに好ましい。かかる平均粒子径を有するナノ結晶９１１は、所望の波長の光を発し易いことから好ましい。なお、ナノ結晶９１１の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡または走査型電子顕微鏡により測定し、体積平均径を算出することにより得られる。

＜中空粒子９１２＞
中空粒子９１２は、内部にナノ結晶９１１を収容可能な空間である中空部９１２ａと、中空部９１２ａに連通する細孔９１２ｂとを備えたものであればよく、全体の形状として、直方体状、立方体状、球状（略真球状）、細長い球状（楕円球状）、ハニカム形状（断面が六角形であって両端が開口した筒を隙間なく並べた形状）等の粒子を用いることができる。直方体状、立方体状、略真球状、楕円球状の中空粒子は、バルーン構造又は中空構造を備えた粒子である。これらのバルーン構造又は中空構造を備えた中空粒子は、中空部９１２ａに収容されたナノ結晶９１１を全体に亘って覆うことによって、熱や酸素に対する安定性をより確実に得ることができるため、より好ましい。さらに、得られる発光性ナノ粒子９０においては、後述するポリマー層９２との間に中空粒子９１２が介在するため、ナノ結晶９１１の酸素ガス、水分に対する安定性も向上する。

中空部９１２ａには、１個のナノ結晶９１１が収容されてよく、複数個のナノ結晶９１１が収容されてもよい。また、中空部９１２ａは、１個または複数のナノ結晶９１１によって全体が占有されていてもよく、一部のみが占有されていてもよい。

中空粒子としては、ナノ結晶９１１を保護できるものであれば、どのような材料であってもかまわない。合成の容易さ、透過率、コスト等の観点から、中空粒子としては、中空無機ナノ粒子である中空シリカ粒子、中空アルミナ粒子、中空酸化チタン粒子、または中空ポリマー粒子である中空ポリスチレン粒子、中空ＰＭＭＡ粒子であることが好ましく、中空シリカ粒子または中空アルミナ粒子であることがより好ましい。粒子表面処理が容易である点から、中空シリカ粒子であることがさらに好ましい。

中空粒子９１２の平均外径は、特に限定されないが、５～３００ｎｍであることが好ましく、６～１００ｎｍであることがよりこのましく、８～５０ｎｍであることがさらに好ましく、１０～２５ｎｍであることが特に好ましい。かかるサイズの中空粒子９１２であれば、ナノ結晶９１１の酸素、水分および熱に対する安定性を十分に高めることができる。

中空粒子９１２の平均内径、すなわち、中空部９１２ａの直径は、特に限定されないが、１～２５０ｎｍであることが好ましく、２～１００ｎｍであることがより好ましく、３～５０ｎｍであることがさらに好ましく、５～１５ｎｍであることが特に好ましい。中空粒子９１２の平均内径が過度に小さい場合には中空部９１２ａ内でナノ結晶９１１が析出しないおそれがあり、過度に大きい場合には中空部９１ａ内でナノ結晶９１１が過度に凝集して発光効率が低下するおそれがある。上記範囲の平均内径を備えた中空粒子９１２であれば、凝集を抑制しつつナノ結晶９１１を析出させることができる。

また、細孔９１２ｂのサイズは、特に限定されないが、０．５～１０ｎｍであることが好ましく、１～５ｎｍであることがより好ましい。この場合、ナノ結晶９１１の原料化合物を含有する溶液を中空部９１２ａ内に円滑かつ確実に浸透させることができる。

中空粒子９１２の一例である中空シリカ粒子は、例えば、図１に示すように、（ａ）一級アミノ基および／または二級アミノ基を有する脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）と疎水性有機セグメント（ｘ２）とを有する共重合体（Ｘ）を水性媒体と混合し、疎水性有機セグメント（ｘ２）を主成分とするコアと脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）を主成分とするシェル層とからなる会合体（ＸＡ）を形成する工程と、（ｂ）会合体（ＸＡ）を含む水性媒体にシリカ原料（Ｙ）を加え、会合体（ＸＡ）を鋳型（テンプレート）としてシリカ原料（Ｙ）のゾルゲル反応を行い、シリカを析出させてコア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）を得る工程と、（ｃ）コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）から、共重合体（Ｘ）を除去する工程とにより作製することができる。

脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）としては、例えば、ポリエチレンイミン鎖、ポリアリルアミン鎖等が挙げられる。中空シリカナノ粒子９１２の前駆体であるコア―シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）を効率的に製造できるため、ポリエチレンイミン鎖がより好ましい。また、脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）の分子量は、疎水性有機セグメント（ｘ２）の分子量とのバランスの図るため、繰り返し単位の数が５～１０，０００の範囲であることが好ましく、１０～８，０００の範囲であることがより好ましい。

脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）の分子構造も、特に限定されず、例えば、直鎖状、分岐状、デンドリマー状、星状または櫛状等が挙げられる。シリカ析出に鋳型とする会合体を効率的に形成でき、製造コスト等の観点から、分岐状ポリエチレンイミン鎖が好ましい。

疎水性有機セグメント（ｘ２）としては、例えば、アルキル化合物に由来するセグメント、ポリアクリレート、ポリスチレン、ポリウレタンのような疎水性ポリマーに由来するセグメント等が挙げられる。

アルキル化合物の場合、炭素原子数が５以上のアルキレン鎖を有する化合物であることが好ましく、炭素原子数１０以上のアルキレン鎖を有する化合物であることがより好ましい。疎水性有機セグメント（ｘ２）の鎖長は、会合体（ＸＡ）をナノサイズで安定化できる範囲であれば特に制限されないが、繰り返し単位の数が５～１０，０００の範囲であることが好ましく、５～１，０００の範囲であることがより好ましい。

疎水性有機セグメント（ｘ２）は、脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）の末端にカップリングにより結合してもよく、脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）の途中にグラフトにより結合してもよい。１つの脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）には、１つの疎水性有機セグメント（ｘ２）のみが結合しても、複数の疎水性有機セグメント（ｘ２）が結合してもよい。

共重合体（Ｘ）に含まれる脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）と疎水性有機セグメント（ｘ２）との割合は、水性媒体中で安定な会合体（ＸＡ）を形成できれば、特に限定されない。具体的には、脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）の割合が１０～９０質量％の範囲であることが好ましく、３０～７０質量％の範囲であることがより好ましく、４０～６０質量％の範囲であることがさらに好ましい。

工程（ａ）では、共重合体（Ｘ）を水性媒体中に溶解することにより、コア－シェル構造を有する会合体（ＸＡ）を自己組織化によって形成させることができる。かかる会合体（ＸＡ）のコアは疎水性有機セグメント（ｘ２）を主成分とし、シェル層は脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）を主成分とし、疎水性有機セグメント（ｘ２）の疎水相互作用により、水性媒体中に安定な会合体（ＸＡ）を形成すると考えられる。水性媒体としては、例えば、水、水と水溶性溶媒との混合溶液等が挙げられる。混合溶液を用いる場合、混合溶液中に含まれる水の量は、体積比で水／水溶性溶媒が０．５／９．５～３／７であることが好ましく、０．１／９．９～５／５であることがより好ましい。生産性、環境やコスト等の観点から、水単独または水とアルコールとの混合溶液を使用することが好ましい。

水性媒体中に含まれる共重合体（Ｘ）の量は、０．０５～１５質量％であることが好ましく、０．１～１０質量％であることがより好ましく、０．２～５質量％であることがさらに好ましい。水性媒体中において共重合体（Ｘ）の自己組織化により会合体（ＸＡ）を形成する際には、２以上の官能基を有する有機架橋性化合物を使用し、シェル層において脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）を架橋してもよい。かかる有機架橋性化合物としては、例えば、アルデヒド含有化合物、エポキシ含有化合物、不飽和二重結合含有化合物、カルボン酸基含有化合物等が挙げられる。

次に、水の存在下で会合体（ＸＡ）を鋳型として、シリカ原料（Ｙ）のゾルゲル反応を行う。シリカ原料（Ｙ）としては、例えば、水ガラス、テトラアルコキシシラン類、テトラアルコキシシランのようなオリゴマー類等が挙げられる。テトラアルコキシシラン類としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラ－ｔ－ブトキシシラン等が挙げられる。オリゴマー類としては、例えば、テトラメトキシシランの４量体、テトラメトキシシランの７量体、テトラエトキシシラン５量体、テトラエトキシシラン１０量体等が挙げられる。

ゾルゲル反応は、溶媒の連続相では生じず、会合体（ＸＡ）上のみで選択的に進行する。したがって、会合体（ＸＡ）が解砕されない範囲で、反応条件を任意に設定することができる。ゾルゲル反応において、会合体（ＸＡ）とシリカ原料（Ｙ）との割合は、適宜に設定することができる。

ゾルゲル反応の温度は、特に限定されず、０～９０℃の範囲であることが好ましく、１０～４０℃の範囲であることがより好ましく、１５～３０℃の範囲であることがさらに好ましい。この場合、効率的にコア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）を得ることができる。

反応活性の高いシリカ原料（Ｙ）の場合、ゾルゲル反応の時間は、１分～２４時間の範囲であることが好ましく、３０分～５時間の範囲であることがより好ましい。また、反応活性が低いシリカ原料（Ｙ）の場合、ゾルゲル反応の時間は、５時間以上であることが好ましく、一週間とすることがより好ましい。

工程（ｂ）により、互いに凝集せず、粒径が均一なコア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）を得ることができる。得られるコア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）の粒径分布は、製造条件や、目的とする粒径によっても異なるが、目的とする粒径（平均粒径）に対して±１５％以下、好ましいくは±１０％以下に設定することができる。

コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）は、疎水性有機セグメント（ｘ２）を主成分とするコアと脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）とシリカとを主成分とする複合体をシェル層とする。ここで、主成分とは、意図的な第３成分が含まれないことを言う。コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）におけるシェル層は、シリカが形成するマトリックスに脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）が複合化されてなる有機無機複合体である。

コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）の粒径は、５～３００ｎｍであることが好ましく、６～１００ｎｍであることがよりこのましく、８～５０ｎｍであることがさらに好ましく、１０～２５ｎｍであることが特に好ましい。かかる粒径は、共重合体（Ｘ）の種類、組成および分子量、シリカ原料（Ｙ）の種類、ゾルゲル反応条件等により調整できる。また、コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）は、分子の自己組織化により形成されるため、極めて優れた単分散性を示し、粒径分布の幅が平均粒径に対して±１５％以下とすることができる。

コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）の形状は、球状またはアスペクト比が２以上の細長い球状とすることができる。また、一つの粒子内に複数のコアを有するコア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）を作製することもできる。かかる粒子の形状や構造等は、共重合体（Ｘ）の組成、シリカ原料（Ｙ）の種類およびゾルゲル反応条件等を変更することにより調整できる。

コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）中に含まれるシリカの量は、３０～９５質量％の範囲であることが好ましく、６０～９０質量％の範囲であることがより好ましい。シリカの量は、共重合体（Ｘ）中に含まれる脂肪族ポリアミン鎖（ｘ１）の量、会合体（ＸＡ）の量、シリカ原料（Ｙ）の種類および量、ゾルゲル反応時間および温度等を変更することにより調整することができる。

次に、工程（ｃ）で、コア－シェル型シリカナノ粒子（ＹＡ）から共重合体（Ｘ）を除去することにより、目的とする中空シリカナノ粒子９１２を得ることができる。
共重合体（Ｘ）を除去する方法としては、例えば、焼成処理、溶剤洗浄による処理が挙げられるが、共重合体（Ｘ）の除去率の観点から、焼成炉中での焼成処理法が好ましい。焼成処理としては、例えば、空気または酸素存在下での高温焼成、不活性ガス（例えば、窒素、ヘリウム）の存在下での高温焼成が挙げられるが、空気中での高温焼成が好ましい。焼成温度としては、３００℃以上であることが好ましく、３００～１０００℃の範囲であることがより好ましい。

以上のようにして、中空シリカ粒子９１２が作製される。なお、中空シリカ粒子９１２には、市販品を使用することもできる。かかる市販品としては、例えば、日鉄鉱業株式会社製の「ＳｉｌｉＮａｘ ＳＰ－ＰＮ（ｂ）」等が挙げられる。中空アルミナ粒子、中空酸化チタン粒子または中空ポリマー粒子についても、同様の方法によって製造することができる。

＜中空粒子内包発光粒子９１の製造方法＞
本発明では、このようにして得られた中空粒子に、半導体ナノ結晶の原料化合物を含有する溶液（Ｚ）を含浸し（図１中の（ｄ））、乾燥することにより、前記中空粒子の前記中空部９１２ａ内に、発光性を有するペロブスカイト型の半導体ナノ結晶が析出し（図１中の（ｄ））、発光粒子（中空粒子内包発光粒子）９１を得ることができる。

さらに、前記得られた発光粒子９１は、後述する光重合性化合物、具体的には、例えばイソボルニルメタクリレートに添加することにより発光粒子９１を含む分散液とすることもできる。

半導体ナノ結晶の原料化合物を含む溶液（Ｚ）としては、固形分濃度０．５～２０質量％の溶液であることが中空粒子９１２への含侵性の点から好ましい。また、有機溶媒はナノ結晶９１１との良溶媒であればよいが、特に、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、エタノール、メタノール、２-プロパノール、γ－ブチロラクトン、酢酸エチル、水及びこれらの混合溶媒であることが相溶性の点から好ましい。

また、溶液を調製する方法としては、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で、反応容器に、原料化合物と有機溶媒とを混合することが好ましい。この際の温度条件は室温～３５０℃であることが好ましく、また、混合時の攪拌時間は１分～１０時間であることが好ましい。

半導体ナノ結晶の原料化合物は、例えば、三臭化鉛セシウム溶液を調製する場合は、臭化セシウムと、臭化鉛（II）とを前記有機溶媒と混合することが好ましい。このとき、良溶媒１０００質量部に対して、臭化セシウムが０．５～２００質量部、臭化鉛（II）が０．５～２００質量部となるように、それぞれの添加量を調整することが好ましい。

次に、前記反応容器に中空シリカ粒子９１２を室温下で添加することにより、中空シリカ粒子９１２の中空部９１２ａ内に三臭化鉛セシウム溶液を含浸させる。その後、前記反応溶液内の溶液をろ過することにより、過剰な前記三臭化鉛セシウム溶液を除去し固形物を回収する。そして、得られた固形物を－５０～２００℃で減圧乾燥する。以上により、中空シリカ粒子９１１の中空部９１２ａに、ペロブスカイト型の半導体ナノ結晶９１１が析出した発光粒子９１を得ることができる。

＜中空粒子内包発光粒子９１の変形例＞
さらに、中空粒子内包発光粒子９１は、図２（ａ）に示すように、中空粒子９２の中空部９１２ａの壁面と半導体ナノ結晶９１１との間に位置し、半導体ナノ結晶９１１の表面に配位した配位子で構成される中間層９１３を備えることが好ましい。図２（ａ）に示す発光粒子９１は、ＭサイトとしてＰｂカチオン（図中、黒丸で示す。）を含むナノ結晶９１１の表面に、配位子としてオレイン酸、オレイルアミン等を配位させて中間層９１３が形成されている。なお、図２（ａ）では、中空粒子９１２において細孔９１２ｂの記載を省略した。中間層９１３を備える発光粒子９１は、中間層９１３によって、ナノ結晶９１１の酸素、水分、熱等に対する安定性をさらに高めることができる。

配位子で構成される中間層９１３を備えた発光粒子９１は、ナノ結晶９１１の原料化合物を含有する溶液中に配位子を添加しておき、この溶液を中空シリカ粒子９１２に含浸し乾燥することによって得ることができる。

配位子は、ナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基を有する化合物が好ましい。結合性基としては、例えば、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホン酸基およびボロン酸基のうちの少なくとも１種であることが好ましく、カルボキシル基およびアミノ基のうちの少なくとも１種であることがより好ましい。かかる配位子としては、カルボキシル基またはアミノ基含有化合物等が挙げられ、これらの１種を単独で使用し、または２種以上を併用することができる。

カルボキシル基含有化合物としては、例えば、炭素原子数１～３０の直鎖状または分岐状の脂肪族カルボン酸が挙げられる。かかるカルボキシル基含有化合物の具体例としては、例えば、アラキドン酸、クロトン酸、ｔｒａｎｓ－２－デセン酸、エルカ酸、３－デセン酸、ｃｉｓ－４，７，１０，１３，１６，１９－ドコサヘキサエン酸、４－デセン酸、ａｌｌ ｃｉｓ－５，８，１１，１４，１７－エイコサペンタエン酸、ａｌｌ ｃｉｓ－８，１１，１４－エイコサトリエン酸、ｃｉｓ－９－ヘキサデセン酸、ｔｒａｎｓ－３－ヘキセン酸、ｔｒａｎｓ－２－ヘキセン酸、２－ヘプテン酸、３－ヘプテン酸、２－ヘキサデセン酸、リノレン酸、リノール酸、γ－リノレン酸、３－ノネン酸、２－ノネン酸、ｔｒａｎｓ－２－オクテン酸、ペトロセリン酸、エライジン酸、オレイン酸、３－オクテン酸、ｔｒａｎｓ－２－ペンテン酸、ｔｒａｎｓ－３－ペンテン酸、リシノール酸、ソルビン酸、２－トリデセン酸、ｃｉｓ－１５－テトラコセン酸、１０－ウンデセン酸、２－ウンデセン酸、酢酸、酪酸、ベヘン酸、セロチン酸、デカン酸、アラキジン酸、ヘンエイコサン酸、ヘプタデカン酸、ヘプタン酸、ヘキサン酸、ヘプタコサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、メリシン酸、オクタコサン酸、ノナデカン酸、ノナコサン酸、ｎ－オクタン酸、パルミチン酸、ペンタデカン酸、プロピオン酸、ペンタコサン酸、ノナン酸、ステアリン酸、リグノセリン酸、トリコサン酸、トリデカン酸、ウンデカン酸、吉草酸等が挙げられる。

アミノ基含有化合物としては、例えば、炭素原子数１～３０の直鎖状または分岐状の脂肪族アミンが挙げられる。かかるアミノ基含有化合物の具体例としては、例えば、１－アミノヘプタデカン、１－アミノノナデカン、ヘプタデカン－９－アミン、ステアリルアミン、オレイルアミン、２－ｎ－オクチル－１－ドデシルアミン、アリルアミン、アミルアミン、２－エトキシエチルアミン、３－エトキシプロピルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、３－メトキシプロピルアミン、２－メトキシエチルアミン、２－メチルブチルアミン、ネオペンチルアミン、プロピルアミン、メチルアミン、エチルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、ｎ－オクチルアミン、１－アミノデカン、ノニルアミン、１－アミノウンデカン、ドデシルアミン、１－アミノペンタデカン、１－アミノトリデカン、ヘキサデシルアミン、テトラデシルアミン等が挙げられる。

また、発光粒子９１を作製する際に、ナノ結晶９１１の原料化合物を含有する溶液中に、反応性基を有する配位子（例えば、３－アミノプロピルトリメトキシシラン）を添加することができる。この場合、図２に示すように、中空粒子９１２とナノ結晶９１１との間に位置し、ナノ結晶９１１の表面に配位した配位子で構成され、配位子の分子同士がシロキサン結合を形成している中間層９１３を有する母粒子９１とすることも可能である。かかる構成によれば、中間層９１３を介してナノ結晶９１１を中空粒子９１２により強固に固定することができる。

反応性基を有する配位子は、ナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基と、Ｓｉを含有し、シロキサン結合を形成する反応性基とを有する化合物が好ましい。なお、反応性基は、中空粒子９１２とも反応可能である。

結合性基としては、例えば、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホン酸基、ボロン酸基等が挙げられる。中でも、結合性基としては、カルボキシル基およびアミノ基のうちの少なくとも１種であることが好ましい。これらの結合性基は、反応性基よりもナノ結晶９１１に含まれるカチオンに対する親和性（反応性）が高い。このため、配位子は、結合性基をナノ結晶９１１側にして配位し、より容易かつ確実に中間層９１３を形成することができる。

一方、反応性基としては、シロキサン結合が容易に形成されることから、シラノール基、炭素原子数が１～６のアルコキシシリル基のような加水分解性シリル基が好ましい。

かかる配位子としては、カルボキシル基またはアミノ基含有ケイ素化合物等が挙げられ、これらの１種を単独で使用し、または２種以上を併用することができる。

カルボキシル基含有ケイ素化合物の具体例としては、例えば、トリメトキシシリルプロピル酸、トリエトキシシリルプロピル酸、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］－Ｎ’－カルボキシメチルエチレンジアミン、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］フタルアミド、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン－Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－三酢酸等が挙げられる。

一方、アミノ基含有ケイ素化合物の具体例としては、例えば、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジイソプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノイソブチルジメチルメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－１１－アミノウンデシルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルシラントリオール、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリイソプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルメチルジメトキシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ビニルベンジルアミノエチル）－Ｎ－γ－（Ｎ－ビニルベンジル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ジ（ビニルベンジル）アミノエチル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ジ（ビニルベンジル）アミノエチル）－Ｎ－γ－（Ｎ－ビニルベンジル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、メチルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ジメチルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－（Ｎ－フェニル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリイソプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－［２－［３－（トリメトキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリエトキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリプロポキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリイソプロポキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン等が挙げられる。

さらに、図２（ｂ）に示すように、中空粒子内包発光粒子９１の表面に疎水性ポリマーからなるポリマー層９２を備えた発光粒子９０（以下、「ポリマー被覆発光粒子９０」と記載することがある。）であることがより好ましい。ポリマー被覆発光粒子９０は、ポリマー層９２を備えることにより、熱、酸素に対する安定性をさらに向上させると共に、優れた粒子分散性を得ることができるため、光変換層とした際により優れた発光特性を得ることができる。

１－１－２．シリカ被覆発光粒子
図３（ａ）及び図３（ｂ）に、本発明における半導体ナノ結晶を含むナノ粒子の他の形態を示す。図３（ａ）に示す発光粒子９１は、メタルハライドからなり、発光性を有する半導体ナノ結晶（以下、単に「ナノ結晶９１１」と言うこともある。）と、このナノ結晶９１１の表面に配位した配位子で構成され、さらに、配位子のうちシラン化合物である分子同士がシロキサン結合を形成した表面層９１４とを備える（以下、「シリカ被覆発光粒子９１」ということもある。）。かかる発光粒子９１は、例えば、ナノ結晶９１１の前駆体、オレイン酸、オレイルアミン等の配位子とシロキサン結合可能な部位を有する配位子とを混合し、ナノ結晶９１１を析出させると同時に該配位子をナノ結晶９１１表面に配位させ、その後引き続き、シロキサン結合を生じさせることにより得ることができる。該発光粒子９１は、ナノ結晶９１１がシリカ表面層９１４により保護されるため、熱や酸素に対する優れた安定性を得ることができ、その結果、優れた発光特性を得ることができる。

さらに、図３（ｂ）に示すように、シリカ被覆発光粒子９１（ｂ）に示すように、シリカ被覆発光粒子９１の表面に疎水性ポリマーからなるポリマー層９２を備えた発光粒子９０（以下、「ポリマー被覆発光粒子９０」と記載することがある。）であることがより好ましい。ポリマー被覆発光粒子９０は、ポリマー層９２を備えることにより、熱、酸素に対する安定性をさらに向上させると共に、優れた粒子分散性を得ることができるため、光変換層とした際により優れた発光特性を得ることができる。

図３（ａ）に示すシリカ被覆発光粒子９１は、発光性を有する前記ナノ結晶９１１と、このナノ結晶９１１の表面に配位した配位子で構成され、さらに、配位子のうちシラン化合物である分子同士がシロキサン結合を形成した表面層９１４とを有する。そのため、シリカ被覆発光粒子９１は、ナノ結晶９１１が表面層９１４により保護されるため、優れた発光特性を維持することができる。

かかるシリカ被覆発光粒子９１は、半導体ナノ結晶の原料化合物を含む溶液と、脂肪族カルボン酸と、Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物を含む脂肪族アミンとを含む溶液とを混合することにより、発光性を有するペロブスカイト型の半導体ナノ結晶を析出させると共に当該半導体ナノ結晶の表面に前記化合物を配位させ、その後、配位した前記化合物中の前記反応性基を縮合させることにより、前記半導体ナノ結晶の表面に前記シロキサン結合を有する表面層を形成した粒子９１を得る方法により製造することができる。
このシリカ被覆発光粒子９１は、それ自体、単体で発光粒子として使用することが可能である。

＜表面層９１４＞
前記表面層９１４は、ナノ結晶９１１の表面に配位可能でありかつ分子同士がシロキサン結合を形成可能な化合物を含む配位子から構成されている。

かかる配位子は、ナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基を有する化合物であり、Ｓｉを含有し、シロキサン結合を形成する反応性基を有する化合物を含む。該結合性基としては、例えば、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホン酸基およびボロン酸基のうちの少なくとも１種であることが好ましく、カルボキシル基およびアミノ基のうちの少なくとも１種であることがより好ましい。かかる配位子としては、カルボキシル基またはアミノ基含有化合物等が挙げられ、これらの１種を単独で使用し、または２種以上を併用することができる。

カルボキシル基含有化合物としては、例えば、炭素原子数１～３０の直鎖状または分岐状の脂肪族カルボン酸が挙げられる。かかるカルボキシル基含有化合物の具体例としては、例えば、アラキドン酸、クロトン酸、ｔｒａｎｓ－２－デセン酸、エルカ酸、３－デセン酸、ｃｉｓ－４，７，１０，１３，１６，１９－ドコサヘキサエン酸、４－デセン酸、ａｌｌ ｃｉｓ－５，８，１１，１４，１７－エイコサペンタエン酸、ａｌｌ ｃｉｓ－８，１１，１４－エイコサトリエン酸、ｃｉｓ－９－ヘキサデセン酸、ｔｒａｎｓ－３－ヘキセン酸、ｔｒａｎｓ－２－ヘキセン酸、２－ヘプテン酸、３－ヘプテン酸、２－ヘキサデセン酸、リノレン酸、リノール酸、γ－リノレン酸、３－ノネン酸、２－ノネン酸、ｔｒａｎｓ－２－オクテン酸、ペトロセリン酸、エライジン酸、オレイン酸、３－オクテン酸、ｔｒａｎｓ－２－ペンテン酸、ｔｒａｎｓ－３－ペンテン酸、リシノール酸、ソルビン酸、２－トリデセン酸、ｃｉｓ－１５－テトラコセン酸、１０－ウンデセン酸、２－ウンデセン酸、酢酸、酪酸、ベヘン酸、セロチン酸、デカン酸、アラキジン酸、ヘンエイコサン酸、ヘプタデカン酸、ヘプタン酸、ヘキサン酸、ヘプタコサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、メリシン酸、オクタコサン酸、ノナデカン酸、ノナコサン酸、ｎ－オクタン酸、パルミチン酸、ペンタデカン酸、プロピオン酸、ペンタコサン酸、ノナン酸、ステアリン酸、リグノセリン酸、トリコサン酸、トリデカン酸、ウンデカン酸、吉草酸等が挙げられる。

アミノ基含有化合物としては、例えば、炭素原子数１～３０の直鎖状または分岐状の脂肪族アミンが挙げられる。かかるアミノ基含有化合物の具体例としては、例えば、１－アミノヘプタデカン、１－アミノノナデカン、ヘプタデカン－９－アミン、ステアリルアミン、オレイルアミン、２－ｎ－オクチル－１－ドデシルアミン、アリルアミン、アミルアミン、２－エトキシエチルアミン、３－エトキシプロピルアミン、イソブチルアミン、イソアミルアミン、３－メトキシプロピルアミン、２－メトキシエチルアミン、２－メチルブチルアミン、ネオペンチルアミン、プロピルアミン、メチルアミン、エチルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、ｎ－オクチルアミン、１－アミノデカン、ノニルアミン、１－アミノウンデカン、ドデシルアミン、１－アミノペンタデカン、１－アミノトリデカン、ヘキサデシルアミン、テトラデシルアミン等が挙げられる。

また、Ｓｉを含有し、シロキサン結合を形成する反応性基を有する化合物は、ナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基を有することが好ましい。

反応性基としては、シロキサン結合が容易に形成されることから、シラノール基、炭素原子数が１～６のアルコキシシリル基のような加水分解性シリル基が好ましい。

結合性基としては、例えば、カルボキシル基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、ホスフィン基、ホスフィンオキシド基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、スルホン酸基、ボロン酸基等が挙げられる。中でも、結合性基としては、カルボキシル基、メルカプト基およびアミノ基のうちの少なくとも１種であることが好ましい。これらの結合性基は、上述の反応性基よりもナノ結晶９１１に含まれるカチオンに対する親和性が高い。このため、配位子は、結合性基をナノ結晶９１１側にして配位し、より容易かつ確実に表面層９１４を形成することができる。

Ｓｉを含有し、シロキサン結合を形成する反応性基を有する化合物としては、結合性基を含有するケイ素化合物を１種以上含有し、または２種以上を併用することができる。
好ましくは、カルボキシル基含有ケイ素化合物、アミノ基含有ケイ素化合物、メルカプト基含有ケイ素化合物の何れか１種を含有し、または２種以上を併用することができる。

カルボキシル基含有ケイ素化合物の具体例としては、例えば、３－（トリメトキシシリル）プロピオン酸、３－（トリエトキシシリル）プロピオン酸、２－、カルボキシエチルフェニルビス（２－メトキシエトキシ）シラン、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］－Ｎ’－カルボキシメチルエチレンジアミン、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］フタルアミド、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン－Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－三酢酸等が挙げられる。

一方、アミノ基含有ケイ素化合物の具体例としては、例えば、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジイソプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノイソブチルジメチルメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－１１－アミノウンデシルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルシラントリオール、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェニルトリイソプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェニルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルメチルジメトキシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ビニルベンジルアミノエチル）－Ｎ－γ－（Ｎ－ビニルベンジル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ジ（ビニルベンジル）アミノエチル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β－（Ｎ－ジ（ビニルベンジル）アミノエチル）－Ｎ－γ－（Ｎ－ビニルベンジル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、メチルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ジメチルベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、ベンジルアミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－（Ｎ－フェニル）アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノエチル）フェネチルトリイソプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリプロポキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリイソプロポキシシラン、Ｎ－［２－［３－（トリメトキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリエトキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリプロポキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン、Ｎ－［２－［３－（トリイソプロポキシシリル）プロピルアミノ］エチル］エチレンジアミン等が挙げられる。

メルカプト基含有ケイ素化合物の具体例としては、例えば、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、２－メルカプトエチルトリメトキシシラン、２－メルカプトエチルトリエトキシシラン、２－メルカプトエチルメチルジメトキシシラン、２－メルカプトエチルメチルジエトキシシラン、３－［エトキシビス（３，６，９，１２，１５－ペンタオキサオクタコサン－１－イルオキシ）シリル］－１－プロパンチオール等が挙げられる。

図３（ａ）に示すシリカ被覆発光粒子９１は、ＭサイトとしてＰｂカチオンを含むナノ結晶９１１の表面に、配位子としてオレイン酸、オレイルアミン、３－アミノプロピルトリメトキシシランを配位させ、さらに３－アミノプロピルトリメトキシシランを反応させることにより表面層９１４を形成している。

表面層９１４の厚さは、０．５～５０ｎｍであることが好ましく、１．０～３０ｎｍであることがより好ましい。かかる厚さの表面層９１４を有する発光粒子９１であれば、ナノ結晶９１１の熱に対する安定性を十分に高めることができる。

なお、表面層９１４の厚さは、配位子の結合基と反応性基とを連結する連結構造の原子数（鎖長）を調製することで変更することができる。

＜シリカ被覆発光粒子９１の作製方法＞
シリカ被覆発光粒子９１は、ナノ結晶９１１の原料化合物を含む溶液と、ナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基を有する化合物と、Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物とを含む溶液とを混合した後に、析出したナノ結晶９１１の表面に配位したＳｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物中の反応性基を縮合させることにより、容易に作製することができる。このとき、加熱を行って製造する方法と、加熱を行わずに製造する方法とがある。

まず、加熱を行ってシリカ被覆発光粒子９１を製造する方法について説明する。半導体ナノ結晶を反応によって合成する２種の原料化合物を含む溶液をそれぞれ調製する。この際、２種の溶液の何れか一方にナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基を有する化合物を、もう一方にＳｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物を加えておく。次いで、これらを不活性ガス雰囲気下で混合、１４０～２６０℃の温度条件下に反応させる。次いで、－２０～３０℃に冷却し、攪拌することにより、ナノ結晶を析出させる方法が挙げられる。析出したナノ結晶はナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４が形成されたものとなり、遠心分離等の定法によりナノ結晶を得ることができる。

具体的には、例えば、炭酸セシウムとオレイン酸とを有機溶媒とを含む溶液を調製する。有機溶媒として、１－オクタデセン、ジオクチルエーテル、ジフェニルエーテル等を用いることができる。このとき、有機溶媒４０ｍＬに対して、炭酸セシウムが０．２～２ｇ、オレイン酸が０．１～１０ｍＬとなるように、それぞれの添加量を調製することが好ましい。得られた溶液を９０～１５０℃で１０～１８０分間減圧乾燥した後、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下で１００～２００℃に加熱することにより、セシウム－オレイン酸溶液を得る。

一方、臭化鉛（II）と前述のものと同一の有機溶媒とを含む溶液を調製する。このとき、有機溶媒５ｍＬに対して臭化鉛（II）を２０～１００ｍｇ添加する。得られた溶液を９０～１５０℃で１０～１８０分間減圧乾燥した後、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気下で０．１～２ｍＬの３－アミノプロピルトリエトキシシランを添加する。

そして、臭化鉛（II）及び３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む溶液を１４０～２６０℃に加熱した状態で上述のセシウム－オレイン酸溶液を添加し、１～１０秒間加熱撹拌させることにより反応させた後に、得られた反応液を氷浴で冷却する。このとき、臭化鉛（II）及び３－アミノプロピルトリエトキシシランを含む溶液５ｍＬに対して、セシウム－オレイン酸溶液を０．１～１ｍＬ添加することが好ましい。－２０～３０℃で撹拌中に、ナノ結晶９１１が析出すると共に、ナノ結晶９１１の表面に３－アミノプロピルトリエトキシシラン及びオレイン酸が配位する。

その後、得られた反応液を、大気下、室温（１０～３０℃、湿度５～６０％）で５～３００分間撹拌した後、０．１～５０ｍＬのエタノールを添加することにより懸濁液を得る。大気下、室温での撹拌中に３－アミノプロピルトリエトキシシランのアルコキシシリル基が縮合し、ナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４が形成される。

得られた懸濁液を遠心分離することにより固形物を回収し、固形物をヘキサンに添加することにより、三臭化鉛セシウムからなるナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４を備えたシリカ被覆発光粒子９１がトルエンに分散した発光粒子分散液を得ることができる。

また、前記回収された固形物を後述する光重合性化合物であるイソボルニルメタクリレートに添加することにより、メチルアンモニウム三臭化鉛結晶からなるナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４を備えたシリカ被覆発光粒子９１がイソボルニルメタクリレートに分散した発光粒子分散液を得ることができる。

次に、加熱を行わずにシリカ被覆発光粒子９１を製造する方法について説明する。半導体ナノ結晶の原料化合物及びナノ結晶９１１に含まれるカチオンに結合する結合性基を有する化合物（Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物は含まない）を含む溶液を、Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物をナノ結晶に対して貧溶媒である有機溶剤に溶解した溶液中に大気下にて滴下・混合することにより、ナノ結晶を析出させる方法が挙げられる。有機溶剤の使用量は半導体ナノ結晶に対して質量基準で１０～１０００倍量であることが好ましい。また、析出したナノ結晶はナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４が形成されたものとなり、遠心分離等の定法によりナノ結晶を得ることができる。

具体的には、半導体ナノ結晶の原料化合物を含む溶液として、例えば、臭化鉛（II）と臭化セシウムとオレイン酸とオレイルアミンと有機溶剤とを含む溶液を調製する。有機溶剤は、ナノ結晶の良溶媒であればよいが、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、及びこれらの混合溶媒であることが相溶性の点から好ましい。このとき、有機溶剤１０ｍＬに対して、臭化鉛（II）が１０～５０ｍｇ、臭化セシウムが５～２５ｍｇ、オレイン酸が０．２～２ｍＬ、オレイルアミンが０．０５～０．５ｍｌとなるように、それぞれの添加量を調整することが好ましい。

一方、Ｓｉを含有しシロキサン結合を形成し得る反応性基を有する化合物とナノ結晶に対して貧溶媒である有機溶剤とを含む溶液として、例えば、３－アミノプロピルトリエトキシシランと貧溶媒とを調製する。貧溶媒としては、イソプロピルアルコール、トルエン、ヘキサン等を用いることができる。このとき、貧溶媒５ｍＬに対して、３－アミノプロピルトリエトキシシランが０．０１～０．５ｍＬとなるように、それぞれの添加量を調整することが好ましい。

そして、上述の臭化鉛（II）と臭化セシウムとオレイン酸とオレイルアミンを含む溶液０．１～１ｍＬを、上述の３－アミノプロピルトリエトキシシランと貧溶媒を含む溶液５ｍＬに対して、大気下、０～３０℃で添加し、瞬時に大気下で５～１８０秒間撹拌した後に、遠心分離によって固形物を回収する。混合物を負溶媒に添加したときに、ナノ結晶９１１が析出すると共に、ナノ結晶９１１の表面に３－アミノプロピルトリエトキシシラン、オレイン酸及びオレイルアミンが配位する。そして、大気下での撹拌中に３－アミノプロピルトリエトキシシランのアルコキシシリル基が縮合し、ナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４が形成される。

この回収された固形物をトルエンに添加することにより、三臭化鉛セシウム結晶からなるナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４を備えたシリカ被覆発光粒子９１がトルエンに分散した発光粒子分散液を得ることができる。

また、前記回収された固形物を後述する光重合性化合物であるイソボルニルメタクリレートに添加することにより、三臭化鉛セシウム結晶からなるナノ結晶９１１の表面にシロキサン結合を有する表面層９１４を備えたシリカ被覆発光粒子９１がイソボルニルメタクリレートに分散した発光粒子分散液を得ることもできる。

１－１－３．チタン被覆発光粒子
本発明における半導体ナノ結晶を含むナノ粒子の他の形態としては、該半導体ナノ結晶をチタン酸化物で被覆してもよい。チタン酸化物で被覆する場合は、半導体ナノ結晶が疎水性溶媒中に分散した溶液中に、水と酸素を含まない不活性雰囲気下でチタンアルコキシドを適量添加して攪拌する工程により得ることができる。該半導体ナノ結晶表面をチタン酸化物で被覆することにより、該結晶の表面欠陥を補うことができ発光特性の低下を抑制することが可能となる。チタン酸化物は、チタンアルコキシドの加水分解生成物であり、（Ｒ－Ｏ）_３－Ｔｉ－Ｏ－（Ｒは、それぞれ独立して、直鎖あるいは分岐していてもよい炭素原子数１～８のアルキル基を表す。）の構造を有する。

かかるチタン被覆発光粒子は、以下の方法によって形成することができる。
まず、ナノ結晶を疎水性有機溶媒に分散させる。疎水性有機溶媒は特に限定されないが、トルエン、クロロホルム、ヘキサン、シクロヘキサンが好ましく、トルエン、シクロヘキサンがより好ましい。これら疎水性有機溶媒は、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。次に、該ナノ結晶分散溶液にチタンアルコキシドを添加し攪拌することにより、ナノ結晶表面に配位、反応し、該結晶表面を被覆することができる。

該チタンアルコキシドとして、４価のチタンアルコキシドを用いた場合、チタンアルコキシド中の１つのアルコキシ基が、溶媒中に僅かに含まれる水分により部分的に加水分解され、（Ｒ－Ｏ）_３－Ｔｉ－Ｏ－を生じる。チタンアルコキシドとしては、式（１）で表される化合物が好ましい。

Ｔｉ（ＯＲ）_４ ：式（１）
（式中、Ｒは、それぞれ独立して、メチル基、エチル基、イソプロピル基、２－エチルヘキシル基を表す。）

このようなチタンアルコキシドとしては、具体的には、チタンイソプロポキシド、チタニウムメトキシド、テトラエチルオルソチタネート、チタニウム－２－エチルヘキシルオキサイド、チタニウム－ジイソプロポキシド－ビス（アセチルアセトネート）等を挙げることができる。これらチタンアルコキシドは、単独で用いてもよく、２種以上を用いてもよいが、２種以上のチタンアルコキシドを用いる場合には、それぞれの反応速度に注意し、添加する量とタイミングを制御し、ナノ結晶表面を被覆することが好ましい。

また、前記ナノ結晶表面に表面層を形成した後、さらに、加水分解性シリル基を有する化合物Ｃの重合体を含む層で表面層を被覆していてもよい。

また、前記ナノ結晶表面に表面層を形成した後、さらに、塩基性気を有する第一の構造単位及び塩基性気を有さず親溶媒性の第二の構造単位を備えたポリマーＢ及び加水分解性シリル基を有する化合物Ｃの重合体を含む層で表面層を被覆していてもよい。

前記ポリマーＢは、両親媒性の化合物であり、塩基性基を有する第一の構造単位と、分散媒への親和性に優れた親溶媒性であって、塩基性基を有さない第二の構造単位とを備えたポリマーである。ここでいう分散媒とは、シリカ被覆発光粒子を含む分散体における分散媒であり、有機溶剤及び光重合性化合物等の樹脂であってもよい。

前記ポリマーＢは、下記式（Ｂ１）で表される塩基性基を有する第一の構造単位と、下記式（Ｂ２）で表される親溶媒性の第二の構造単位とを有することがより好ましい。

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立して、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^Ｂ１は、塩基性を有する１価の基を表し、Ｒ^Ｂ２は、分散媒への親和性に優れた有機基を有する１価の基を表し、
Ｒ^Ｂ１は、一級アミノ基、二級アミノ基、三級アミノ基、四級アンモニウム基、イミノ基、ピリジル基、ピリミジン基、ピペラジニル基、ピペリジル基、イミダゾリル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基を含む塩基性基を表し、
Ｘ^１及びＸ^２は、各々独立して、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、炭素原子数が１～８のアルキル鎖、単結合を表し、
Ｒ^Ｂ２は、直鎖状或いは分岐状の炭素数２～１５のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数４～２０のシクロアルキル基、末端がヒドロキシ基又はアルコキシ基である炭素数１０～５０のポリアルキレンオキサイド基、置換基を有してもよい芳香族基を表す。）

前記ポリマーＢにおいては、式（Ｂ１）及び式（Ｂ２）で表される構造単位を各々１種で用いることもでき、各々２種以上併用することもできる。さらに、前記ポリマーＢは、式（Ｂ１）で表される第一の構造単位を第一のポリマーブロックとして有し、式（Ｂ２）で表される第二の構造単位を第二のポリマーブロックとして有するブロックコポリマーであることがより好ましい。

ポリマーＢにおける第一の構造単位の含有量は、ポリマーＢを構成する全構造単位を基準として、例えば、５モル％以上、７モル％以上、又は１０モル％以上であることが好ましく、５０モル％以下、３０モル％以下、又は２０モル％以下であることが好ましい。

ポリマーＢにおける第二の構造単位の含有量は、ポリマーＢを構成する全構造単位を基準として、例えば、７０モル％以上、７５モル％以上、又は８０モル％以上であることが好ましく、９５モル％以下、９３モル％以下、又は９０モル％以下であることが好ましい。

ポリマーＢは、第一の構造単位及び第二の構造単位に加えて、他の構造単位を含むものであってもよい。その場合、ポリマーＢにおける第一の構造単位及び第二の構造単位の合計の含有量は、ポリマーＢを構成する全構造単位を基準として、例えば、７０モル％以上、８０モル％以上、又は９０モル％以上であることが好ましい。

前記シラン化合物Ｃは、加水分解性シリル基を有し、該シリル基が縮合してシロキサン結合を形成することにより、表面層９１４の表面にシラン化合物Ｃの重合体を含む層が形成され、前記半導体ナノ結晶を含むナノ粒子の表面にＳｉを含有する表面層を備えた発光粒子が形成される。

前記シラン化合物Ｃは、例えば、下記式（Ｃ１）で表される化合物であることが好ましい。

式中、ＲＣ１及びＲＣ２は、それぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ^Ｃ３及びＲ^Ｃ４は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、ｎは０又は１を表し、ｍは１以上の整数を表す。ｍは、１０以下の整数であることが好ましい。

式（Ｃ１）で表される化合物は、具体的には、例えば、テトラブトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ｎ－プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、ｎ－ブチルトリエトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリエトキシシラン、ｎ－オクチルトリメトキシシラン、ｎ－オクチルトリエトキシシラン、ｎ－デシルルトリメトキシシラン、ｎ－ドデシルトリメトキシシラン、ｎ－ドデシルトリエトキシシラン、ｎ－ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ－ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ－オクタデシルトリメトキシシラン、トリメトキシ(３、３、３－トリフルオロプロピル)シラン、トリメトキシ(ペンタフルオロフェニル)シラン、トリメトキシ(１１－ペンタフルオロフェノキシウンデシル)シラン、トリメトキシ(１Ｈ、１Ｈ、２Ｈ、２Ｈ-ノナフルオロヘキシル)シラン、テトラメトキシシランの部分加水分解オリゴマー（製品名：メチルシリケート５１、メチルシリケート５３Ａ（以上、コルコート株式会社製））、テトラエトキシシランの部分加水分解オリゴマー（製品名：エチルシリケート４０、エチルシリケート４８（以上、コルコート株式会社製）、テトラメトキシシランとテトラエトキシシラン混合物の部分加水分解オリゴマー（製品名：ＥＭＳ－４８５（コルコート株式会社製））等が挙げられる。

シラン化合物Ｃとして、上述の式（Ｃ１）で表される化合物に加えて、例えば、下記式（Ｃ２）で表される化合物及び（Ｃ３）で表される化合物を併用することも可能である。

式中、Ｒ^Ｃ２１、Ｒ^Ｃ２２、Ｒ^Ｃ３１は、それぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ^Ｃ２３、Ｒ^Ｃ２４、Ｒ^Ｃ３２、Ｒ^Ｃ３３、及びＲ^Ｃ３４は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、フェニル基、シクロヘキシル基を表し、前記アルキル基中の炭素原子は酸素原子あるいは窒素原子に置換されていてもよく、ｍ２は１以上１０以下の整数を表す。

式（Ｃ２）で表される化合物及び式（Ｃ３）で表される化合物としては、具体的には、例えば、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシランが挙げられる。式（Ｃ１）で表される化合物は、１種を単独で用いることができ、あるいは、２種以上を組み合わせて用いることもできる。式（Ｃ２）で表される化合物及び（Ｃ３）で表される化合物は、一般式（Ｃ１）で表される化合物と１種あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

１－１－４．ポリマー被覆発光粒子
図１、図２（ｂ）及び図３（ｂ）に示すポリマー被覆発光粒子９０は、上述の工程で得られた中空粒子内包発光粒子９１又はシリカ被覆発光粒子９１を母粒子とし（以下、これらの発光粒子９１をを「母粒子９１」と記載することがある。）、母粒子９１の表面を、疎水性ポリマーで被覆してポリマー層９２を形成することによって得ることができる。ポリマー被覆発光粒子９０は、疎水性のポリマー層９２を備えることにより、発光粒子９０に酸素、水分に対する高い安定性を付与することができ、さらには、発光粒子９０の分散安定性を向上することができる。

＜ポリマー被覆発光粒子の作製方法＞
かかるポリマー層９２は、以下の方法Ｉ、方法ＩＩ等によって形成することができる。
方法Ｉ： 疎水性ポリマーを含むワニスに、母粒子９１を添加して混合することにより、母粒子９１の表面を疎水性ポリマーで被覆する。
方法ＩＩ： 母粒子９１の表面に、非水溶媒に可溶な重合性不飽和基を含有する重合体と共に、非水溶媒に可溶でありかつ重合後に不溶または難溶になる重合性不飽和単量体を担持させた後、前記重合体と前記重合性不飽和単量体とを重合させる方法等により形成することができる。
なお、方法Ｉにおける疎水性ポリマーには、方法ＩＩにおける重合体と重合性不飽和単量体とを重合させた重合物が含まれる。

中でも、ポリマー層９２は、方法ＩＩにより形成することが好ましい。方法ＩＩによれば、均一な厚さを有すると共に、母粒子９１への密着性に優れたポリマー層９２を形成することができる。

以下、上述のポリマー層の形成方法ＩＩについて詳細に述べる。
［非水溶媒］
非水溶媒は、疎水性ポリマーを溶解し得る有機溶媒が好ましく、発光粒子９１を均一に分散可能であれば、さらに好ましい。このような非水溶媒を用いることにより、非常に簡便に疎水性ポリマーを発光粒子９１に吸着させてポリマー層９２を被覆させることができる。さらに、好ましくは、非水溶媒は低誘電率溶媒である。低誘電率溶媒を用いることにより、疎水性ポリマーと発光粒子９１とを当該非水溶媒中で混合するだけで、疎水性ポリマーが発光粒子９１表面に強固に吸着し、ポリマー層を被覆させることができる。

このようにして得られたポリマー層９２は、後述するように発光粒子９０を溶媒で洗浄したときでも、発光粒子９１から除去され難い。さらに、非水溶媒の誘電率は低いほど好ましい。具体的には、非水溶媒の誘電率は、好ましくは１０以下であり、さらに好ましくは６以下であり、特に好ましくは５以下である。好ましい非水溶媒としては、脂肪族炭化水素系溶媒、脂環式炭化水素系溶媒および芳香族炭化水素系溶媒からなる群から選択される少なくとも一つを含む有機溶媒であることが好ましい。

脂肪族炭化水素系溶媒としては、例えば、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン、ｎ－オクタン、イソヘキサン等が挙げられ、脂環式炭化水素系溶媒としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等が挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒としては、トルエン、キシレン等が挙げられる。

また、本発明の効果を損なわない範囲で、非水溶媒として、脂肪族炭化水素系溶媒、脂環式炭化水素系溶媒および芳香族炭化水素系溶媒からなる群から選択される少なくとも一つに、他の有機溶媒を混合した混合溶媒を使用してもよい。かかる他の有機溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸アミルのようなエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン系溶媒；メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉ－プロパノール、ｎ－ブタノールのようなアルコール系溶媒等が挙げられる。

混合溶媒として使用する際には、脂肪族炭化水素系溶媒、脂環式炭化水素系溶媒および芳香族炭化水素系溶媒からなる群のうち少なくとも一つの使用量を、５０質量％以上とすることが好ましく、６０質量％以上とすることがより好ましい。

［非水溶媒に可溶な重合性不飽和基を含有する重合体］
本工程で使用する非水溶媒に可溶な重合性不飽和基を含有する重合体（以下、「重合体（Ｐ）」とも記載する。）には、炭素原子数４以上のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート（Ａ１）、末端に重合性官能基を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）、重合性不飽和基を有する含フッ素化合物（Ｂ、Ｃ）、または重合性不飽和基を有する含ケイ素化合物（Ｄ）を単量体成分とする共重合体に重合性不飽和基を導入したポリマー、あるいは、炭素原子数４以上のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート（Ａ１）、末端に重合性官能基を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）、含フッ素化合物（Ｂ、Ｃ）を主成分とする重合性不飽和基を有する単量体、または含ケイ素化合物（Ｄ）を主成分とする重合性不飽和基を有する単量体の共重合体からなるマクロモノマー等が含まれる。

アルキル（メタ）アクリレート（Ａ１）としては、例えば、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｉ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートが挙げられる。

また、末端に重合性官能基を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）としては、例えば、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、ジエチルアミノ（メタ）アクリレート；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸のような不飽和ジカルボン酸と１価アルコールとのジエステル系化合物が挙げられる。ここで、本明細書中において、「（メタ）アクリレート」とは、メタクリレートおよびアクリレートの双方を意味する。「（メタ）アクリロイル」との表現についても同様である。

また、重合性不飽和基を有する含フッ素化合物（Ｂ）としては、例えば、下記一般式（Ｂ１）で表される化合物が挙げられる。

上記一般式（Ｂ１）中、Ｒ^４は水素原子、フッ素原子、メチル基、シアノ基、フェニル基、ベンジル基または－Ｃ_ｎＨ_２ｎ－Ｒｆ^ａ（ただし、ｎは１～８の整数であり、Ｒｆ^ａは後述の式（Ｒｆ－１）～（Ｒｆ－７）のいずれか１つの基である。）である。

また、上記一般式（Ｂ１）中、Ｌは下記式（Ｌ－１）～（Ｌ－１０）で表されるいずれか１つの基である。

上記式（Ｌ－１）、（Ｌ－３）、（Ｌ－５）、（Ｌ－６）および（Ｌ－７）中のｎは１～８の整数である。上記式（Ｌ－８）、（Ｌ－９）および（Ｌ－１０）中のｍは１～８の整数であり、ｎは０～８の整数である。上記式（Ｌ－６）および（Ｌ－７）中のＲｆ^ｂは下記式（Ｒｆ－１）～（Ｒｆ－７）のいずれか１つの基である。

また、上記一般式（Ｂ１）中、Ｒｆは下記式（Ｒｆ－１）～（Ｒｆ－７）のいずれか１つの基である。

上記式（Ｒｆ－１）～（Ｒｆ－４）中のｎは４～６の整数である。上記式（Ｒｆ－５）中のｍは１～５の整数であり、ｎは０～４の整数であり、かつｍおよびｎの合計は４～５である。上記式（Ｒｆ－６）中のｍは０～４の整数であり、ｎは１～４の整数であり、ｐは０～４の整数であり、かつｍ、ｎおよびｐの合計は４～５である。

また、上記一般式（Ｂ１）で表される化合物の好ましい具体例としては、下記式（Ｂ１－１）～（Ｂ１－７）で表されるメタクリレート、下記（Ｂ１－８）～（Ｂ１－１５）で表されるアクリレート等が挙げられる。なお、これらの化合物は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

また、重合性不飽和基を有する含フッ素化合物（Ｃ）としては、例えば、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖と、その両末端に重合性不飽和基とを有する化合物が挙げられる。

ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖は、炭素原子数１～３の２価フッ化炭素基と酸素原子とが交互に連結した構造を有することが好ましい。

かかるポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖は、炭素原子数１～３の２価フッ化炭素基を１種のみを含んでもよく、複数種を含んでもよい。具体的なポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）としては、下記一般式（Ｃ１）で表される構造が挙げられる。

上記一般式（Ｃ１）中、Ｘは下記式（Ｃ１－１）～（Ｃ１－５）である。複数のＸは同一であっても異なってもよい。異なるＸを含む場合（複数種の繰り返し単位Ｘ－Ｏを含む場合）、複数の同一の繰り返し単位Ｘ－Ｏがランダム状又はブロック状に存在していてもよい。また、ｎは繰り返し単位の数であり、１以上の整数である。

中でも、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖としては、フッ素原子数と酸素原子数とのバランスが良好となり、重合体（Ｐ）が母粒子９１の表面に絡みつき易くなる点から、上記式（Ｃ１－１）で表されるパーフルオロメチレンと、上記式（Ｃ１－２）で表されるパーフルオロエチレンとが共存する構造が好ましい。

この場合、上記式（Ｃ１－１）で表されるパーフルオロメチレンと、上記式（Ｃ１－２）で表されるパーフルオロエチレンとの存在比率は、モル比率［パーフルオロメチレン（Ｃ１－１）／パーフルオロエチレン（Ｃ１－２）］で、１／１０～１０／１であることが好ましく、２／８～８／２であることがより好ましく、３／７～７／３であることがさらに好ましい。

また、上記一般式（Ｃ１）中のｎは３～１００であることが好ましく、６～７０であることがより好ましい。さらに、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖に含まれるフッ素原子数は、合計で１８～２００であることが好ましく、２５～１５０であることがより好ましい。かかる構成のポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖において、フッ素原子数と酸素原子数とのバランスがさらに良好になる。

両末端に重合性不飽和基を導入する前のポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖を有する原料化合物としては、例えば、下記式（Ｃ２－１）～（Ｃ２－６）が挙げられる。なお、下記式（Ｃ２－１）～（Ｃ２－６）中の「－ＰＦＰＥ－」は、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖である。

ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖の両末端に導入される重合性不飽和基は、例えば、下記式（Ｕ－１）～（Ｕ－５）で表される構造が挙げられる。

中でも、含フッ素化合物（Ｃ）自体の入手や製造の容易さ、あるいは他の重合性不飽和基を有する単量体との共重合の容易さから、上記式Ｕ－１で表されるアクリロイルオキシ基、または上記式Ｕ－２で表されるメタクリロイルオキシ基が好ましい。

含フッ素化合物（Ｃ）の具体例としては、下記式（Ｃ－１）～（Ｃ－１３）で表される化合物が挙げられる。なお、下記式（Ｃ－１）～（Ｃ－１３）中の「－ＰＦＰＥ－」は、ポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖である。

中でも、含フッ素化合物（Ｃ）としては、工業的製造が容易である点から、上記式（Ｃ－１）、（Ｃ－２）、（Ｃ－５）または（Ｃ－６）で表される化合物が好ましく、母粒子９１の表面への絡み易い重合体（Ｐ）を合成可能である点から、上記式（Ｃ－１）で表されるポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖の両末端にアクリロイル基を有する化合物、または上記式（Ｃ－２）で表されるポリ（パーフルオロアルキレンエーテル）鎖の両末端にメタクリロイル基を有する化合物がより好ましい。

また、重合性不飽和基を有する含ケイ素化合物（Ｄ）としては、例えば、下記一般式（Ｄ１）で表される化合物が挙げられる。

上記一般式（Ｄ１）中、Ｐは重合性官能基、Ｘ^ａはＳｉＲ¹¹Ｒ²²であり、Ｒｄは水素原子、フッ素原子、メチル基、アクリロイル基またはメタクリロイル基（ただし、Ｒ¹¹、Ｒ²²はメチル基、あるいはＳｉ（ＣＨ_３）基、アミノ基、グリシジル基であり、ｍは０～１００の整数であり、ｎは０～４の整数である。）である。

含ケイ素化合物（Ｄ）の具体例としては、下記式（Ｄ－１）～（Ｄ－１３）で表される化合物が挙げられる。

また、重合性不飽和基を有する単量体として使用可能なアルキル（メタ）アクリレート（Ａ１）、末端に重合性官能基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ａ２）、含フッ素化合物（Ｂ、Ｃ）および含ケイ素化合物（Ｄ）以外の化合物としては、例えば、スチレン、α－メチルスチレン、ｐ－ｔ－ブチルスチレン、ビニルトルエンのような芳香族ビニル系化合物；ベンジル（メタ）アクリレート、ジブロモプロピル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレートのような（メタ）アクリレート系化合物等が挙げられる。

これらの化合物は、アルキル（メタ）アクリレート（Ａ１）、末端に重合性官能基を有する（メタ）アクリレート（Ａ２）、含フッ素化合物（Ｂ、Ｃ）または含ケイ素化合物（Ｄ）とのランダム共重合体として使用することが好ましい。これにより、得られる重合体（Ｐ）の非水溶媒への溶解性を十分に高めることができる。

上記重合性不飽和基を有する単量体として使用可能な化合物は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。中でも、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリルメタクリレートのような直鎖状または分岐状の炭素原子数４～１２のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート（Ａ１）を使用することが好ましい。

重合性不飽和基を有する単量体の共重合体は、重合性不飽和基を有する単量体を常法により重合することにより得られる。

さらに、かかる共重合体に重合性不飽和基を導入することにより、重合体（Ｐ）が得られる。

重合性不飽和基の導入方法としては、例えば、以下の方法ＩＩＩ～ＶＩが挙げられる。
方法ＩＩＩは、予め共重合成分としてアクリル酸、メタクリル酸のようなカルボン酸基含有重合性単量体、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリルアミドのようなアミノ基含有重合性単量体を配合し共重合させ、カルボン酸基またはアミノ基を有する共重合体を得た後、このカルボン酸基またはアミノ基にグリシジルメタクリレートのようなグリシジル基および重合性不飽和基を有する単量体を反応させる方法である。
方法ＩＶは、予め共重合成分として２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレートのような水酸基含有単量体を配合し共重合させ、水酸基を有する共重合体を得た後、この水酸基にイソシアネートエチルメタクリレートのようなイソシアネート基および重合性不飽和基を有する単量体を反応させる方法である。
方法Ｖは、重合の際にチオグリコール酸を連鎖移動剤として使用して共重合体の末端にカルボキシル基を導入し、このカルボキシル基にグリシジルメタクリレートのようなグリシジル基および重合性不飽和基を有する単量体を反応させる方法である。
方法ＶＩは、重合開始剤としてアゾビスシアノペンタン酸のようなカルボキシル基含有アゾ開始剤を使用して共重合体にカルボキシル基を導入し、このカルボキシル基にグリシジルメタクリレートのようなグリシジル基および重合性不飽和基を有する単量体を反応させる方法である。
中でも、方法ＩＩＩが最も簡便であることから好ましい。

［非水溶媒に可溶であり、かつ重合後に不溶もしくは難溶になる重合性不飽和単量体］
上述の非水溶媒に可溶でありかつ重合後に不溶もしくは難溶になる重合性不飽和単量体（以下、「単量体（Ｍ）」とも記載する。）としては、例えば、反応性極性基（官能基）を有さないビニル系モノマー類、アミド結合含有ビニル系モノマー類、（メタ）アクリロイロキシアルキルホスフェート類、（メタ）アクリロイロキシアルキルホスファイト類、リン原子含有ビニル系モノマー類、水酸基含有重合性不飽和単量体類、ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート類、エポキシ基含有重合性不飽和単量体類、イソシアネート基含有α，β－エチレン性不飽和単量体類、アルコキシシリル基含有重合性不飽和単量体類、カルボキシル基含有α，β－エチレン性不飽和単量体類等が挙げられる。

反応性極性基を有さないビニル系モノマー類の具体例としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、ｉ－プロピル（メタ）アクリレートのような（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデンのようなオレフィン類等が挙げられる。

アミド結合含有ビニル系モノマー類の具体例としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ｔ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－オクチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、アルコキシ化Ｎ－メチロール化（メタ）アクリルアミド類等が挙げられる。

（メタ）アクリロイロキシアルキルホスフェート類の具体例としては、例えば、ジアルキル［（メタ）アクリロイロキシアルキル］ホスフェート類、（メタ）アクリロイロキシアルキルアシッドホスフェート類等が挙げられる。

（メタ）アクリロイロキシアルキルホスファイト類の具体例としては、例えば、ジアルキル［（メタ）アクリロイロキシアルキル］ホスファイト類、（メタ）アクリロイロキシアルキルアシッドホスファイト類等が挙げられる。

リン原子含有ビニル系モノマー類の具体例としては、例えば、上記（メタ）アクリロイロキシアルキルアシッドホスフェート類または（メタ）アクリロイロキシアルキルアシッドホスファイト類のアルキレンオキシド付加物、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレートのようなエポキシ基含有ビニル系モノマーとリン酸、亜リン酸またはこれらの酸性エステル類とのエステル化合物、３－クロロ－２－アシッドホスホキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

水酸基含有重合性不飽和単量体類の具体例としては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジ－２－ヒドロキシエチルフマレート、モノ－２－ヒドロキシエチルモノブチルフマレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートのような重合性不飽和カルボン酸のヒドロキシアルキルエステル類またはこれらとε－カプロラクトンとの付加物；（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和モノまたはジカルボン酸、ジカルボン酸と１価のアルコールとのモノエステル類のような重合性不飽和カルボン酸類；上記重合性不飽和カルボン酸のヒドロキシアルキルエステル類とポリカルボン酸の無水物（マレイン酸、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘンゼントリカルボン酸、ベンゼンテトラカルボン酸、「ハイミック酸」、テトラクロルフタル酸、ドデシニルコハク酸等）との付加物等の各種不飽和カルボン酸類と１価のカルボン酸のモノグリシジルエステル（やし油脂肪酸グリシジルエステル、オクチル酸グリシジルエステル等）、ブチルグリシジルエーテル、エチレンオキシド、プロピレンオキシド等のモノエポキシ化合物との付加物またはこれらとε－カプロラクトンとの付加物；ヒドロキシビニルエーテル等が挙げられる。

ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート類の具体例としては、例えば、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

エポキシ基含有重合性不飽和単量体類の具体例としては、例えば、重合性不飽和カルボン酸類、水酸基含有ビニルモノマーと上記ポリカルボン酸の無水物との等モル付加物（モノ－２－（メタ）アクリロイルオキシモノエチルフタレート等）のような各種不飽和カルボン酸に、１分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有する各種ポリエポキシ化合物を等モル比で付加反応させて得られるエポキシ基含有重合性化合物、グリシジル（メタ）アクリレート、（β－メチル）グルシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アリルグルシジルエーテル等が挙げられる。

イソシアネート基含有α，β－エチレン性不飽和単量体類の具体例としては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの等モル付加物、イソシアネートエチル（メタ）アクリレートのようなイソシアネート基およびビニル基を有するモノマー等が挙げられる。

アルコキシシリル基含有重合性不飽和単量体類の具体例としては、例えば、ビニルエトキシシラン、α－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシロキシエチル（メタ）アクリレートのようなシリコーン系モノマー類等が挙げられる。

カルボキシル基含有α，β－エチレン性不飽和単量体類の具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和モノまたはジカルボン酸、ジカルボン酸と１価アルコールとのモノエステル類のようなα，β－エチレン性不飽和カルボン酸類；２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジ－２－ヒドロキシエチルフマレート、モノ－２－ヒドロキシエチル－モノブチルフマレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートのようなα，β－不飽和カルボン酸ヒドロアルキルエステル類とマレイン酸、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ベンゼントリカルボン酸、ベンゼンテトラカルボン酸、「ハイミック酸」、テトラクロルフタル酸、ドデシニルコハク酸のようなポリカルボン酸の無水物との付加物等が挙げられる。

中でも、単量体（Ｍ）としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレートのような炭素原子数３以下のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートであることが好ましい。

さらに、重合体（Ｐ）と単量体（Ｍ）とを重合させる際には、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、ヒドロキシル基、ジメチルアミノ基のような官能基のうちの少なくとも１種を有する重合性不飽和単量体を共重合することが好ましい。これにより、形成される重合物（ポリマー層９２）のシロキサン結合との相互作用の高まりにより、発光粒子９１の表面に対する密着性を向上することができる。

単量体として、ジメチルアミノ基のような３級アミノ基を有する重合体の場合、配位結合等反応に寄与しない３級アミノ基が酸化されるために、高温に曝されるとこのアミノ基に起因して有害物質であるホルムアルデヒドが発生する。ここで、次亜リン酸ジエステルを共存させることで、発光粒子９０を被覆するポリマー層となる重合体中のアミノ基の酸化を抑制できる。また、該重合体中のアミノ基から発生したホルムアルデヒドと次亜リン酸ジエステルとが不可逆的に反応することから、ホルムアルデヒドによる発光粒子の劣化も抑制することができる。

また、得られる発光粒子９０から疎水性ポリマーが溶出するのを防止または抑制するために、疎水性ポリマー（重合体（Ｐ））は架橋していることが好ましい。
架橋成分として使用可能な多官能重合性不飽和単量体としては、例えば、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、アリルメタクリレート等が挙げられる。

また、得られる疎水性ポリマーが非水溶媒に溶解しない範囲において、その他の重合性不飽和単量体を共重合するようにしてもよい。その他の重合性不飽和単量体としては、例えば、上記アルキル（メタ）アクリレート（Ａ）、含フッ素化合物（Ｂ、Ｃ）、これら以外に使用可能な重合体（Ｐ）用の重合性不飽和単量体として例示した化合物が挙げられる。

疎水性ポリマーからなるポリマー層９２は、発光粒子９１、非水溶媒および重合体（Ｐ）の存在下で、単量体（Ｍ）を重合させることにより形成される。

発光粒子９１と重合体（Ｐ）とは、重合を行う前に混合することが好ましい。混合には、例えば、ホモジナイザー、ディスパー、ビーズミル、ペイントシェーカー、ニーダー、ロールミル、ボールミル、アトライター、サンドミル等を使用することができる。

本発明において、使用する発光粒子９１の形態は、特に限定されず問わず、スラリー、ウエットケーキ、粉体等のいずれであってもよい。

発光粒子９１と重合体（Ｐ）との混合後に、単量体（Ｍ）および後述する重合開始剤をさらに混合し、重合を行うことにより、重合体（Ｐ）と単量体（Ｍ）との重合物で構成されるポリマー層９２が形成される。これにより、発光粒子９０が得られる。

この際、重合体（Ｐ）の数平均分子量は、１，０００～５００，０００であることが好ましく、２，０００～２００，０００であることがより好ましく、３，０００～１００，０００であることがさらに好ましい。このような範囲の分子量を有する重合体（Ｐ）を用いることにより、発光粒子９１の表面に良好にポリマー層９２を被覆し得る。

また、重合体（Ｐ）の使用量は、目的に応じて適宜設定されるため、特に限定されないが、通常、１００質量部の発光粒子９１に対して、０．５～５０質量部であることが好ましく、１～４０質量部であることがより好ましく、２～３５質量部であることがさらに好ましい。

また、単量体（Ｍ）の使用量も、目的に応じて適宜設定されるため、特に限定されないが、通常、１００質量部の発光粒子９１に対して、０．５～４０質量部であることが好ましく、１～３５質量部であることがより好ましく、２～３０質量部であることがさらに好ましい。

最終的に発光粒子９１の表面を被覆する疎水性ポリマーの量は、１００質量部の発光粒子９１に対して、１～６０質量部であることが好ましく、２～５０質量部であることがより好ましく、３～４０質量部であることがさらに好ましい。

この場合、単量体（Ｍ）の量は、１００質量部の重合体（Ｐ）に対して、通常、１０～１００質量部であることが好ましく、３０～９０質量部であることがより好ましく、５０～８０質量部であることがさらに好ましい。

ポリマー層９２の厚さは、０．５～１００ｎｍであることが好ましく、０．７～５０ｎｍであることがより好ましく、１～３０ｎｍであることがさらに好ましい。ポリマー層９２の厚さが０．５ｎｍ未満であると、分散安定性が得られない場合が多い。ポリマー層９２の厚さが１００ｎｍを超えると発光粒子９１を高濃度で含有させることが困難となる場合が多い。かかる厚さのポリマー層９２で発光粒子９１を被覆することにより、発光粒子９０の酸素、水分に対する安定性をより向上させることができる。

発光粒子９１、非水溶媒および重合体（Ｐ）の存在下における単量体（Ｍ）の重合は、公知の重合方法によって行うことができるが、好ましくは重合開始剤の存在下で行われる。

かかる重合開始剤としては、例えば、ジメチル－２，２－アゾビス（２－メチルプロピオネート）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、２，２－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、ベンゾイルパーオキシド、ｔ－ブチルパーベンゾエート、ｔ－ブチル－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ブチルハイドロパーオキシド、ジ－ｔ－ブチルパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド等が挙げられる。これらの重合開始剤は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

非水溶媒に難溶の重合開始剤は、単量体（Ｍ）に溶解した状態で、発光粒子９１と重合体（Ｐ）とを含む混合液に添加することが好ましい。

また、単量体（Ｍ）または重合開始剤を溶解した単量体（Ｍ）は、重合温度に達した混合液に滴下法により添加して重合させてもよいが、昇温前の常温の混合液に添加し、充分に混合した後に昇温して重合させるのが安定であり好ましい。

重合温度は、６０～１３０℃の範囲であることが好ましく、７０～１００℃の範囲であることがより好ましい。かかる重合温度で単量体（Ｍ）の重合を行えば、ナノ結晶９１１の形態変化（例えば、変質、結晶成長等）を好適に防止することができる。

単量体（Ｍ）の重合後、発光粒子９１表面に吸着しなかったポリマーを除去することにより、発光粒子９１の表面にポリマー層９２が形成された発光粒子（ポリマー被覆発光粒子）９０を得る。吸着しなかったポリマーを除去する方法としては、遠心沈降、限外ろ過が挙げられる。遠心沈降では、ポリマー被覆発光粒子９０と吸着されなかったポリマーとを含む分散液を高速で回転させ、当該分散液中のポリマー被覆発光粒子９０を沈降させて、吸着しなかったポリマーを分離する。限外ろ過では、ポリマー被覆発光粒子９０と吸着しなかったポリマーとを含む分散液を適切な溶媒で希釈し、適切な孔サイズを有するろ過膜に当該希釈液を通して、吸着しなかったポリマーとポリマー被覆発光粒子９０とを分離する。

以上のようにして、ポリマー被覆発光粒子９０が得られる。ポリマー被覆発光粒子９０は、分散媒、樹脂あるいは重合性化合物に分散させた状態で（すなわち、分散液として）保存してもよく、分散媒を除去して粉体（ポリマー被覆発光粒子９０の集合体）として保存してもよい。

発光粒子含有インク組成物がポリマー被覆発光粒子９０を含む場合には、ポリマー被覆発光粒子９０の含有量は、０．１～２０質量％であることが好ましく、０．５～１５質量％であることがより好ましく、１～１０質量％であることがさらに好ましい。同様に、発光粒子含有インク組成物がポリマー層９２によって被覆されていないナノ結晶９１１、中空粒子内包発光粒子９１及びシリカ被覆発光粒子９１を含む場合も、発光粒子９１の含有量は、０．１～２０質量％であることが好ましく、０．５～１５質量％であることがより好ましく、１～１０質量％であることがさらに好ましい。発光粒子含有インク組成物中のポリマー被覆発光粒子９０（又は発光粒子９１）の含有量を前記範囲に設定することにより、発光粒子含有インク組成物をインクジェット印刷法により吐出する場合には、その吐出安定性をより向上させることができる。また、発光粒子９０（又は発光粒子９１）同士が凝集し難くなり、得られる発光層（光変換層）の外部量子効率を高めることもできる。

インク組成物は、半導体ナノ結晶を含む発光粒子９０（又は発光粒子９１）として、赤色発光粒子、緑色発光粒子及び青色発光粒子のうちの２種以上を含んでいてもよいが、好ましくはこれらの粒子のうちの１種のみを含む。インク組成物が赤色発光粒子を含む場合、緑色発光粒子の含有量及び青色発光粒子の含有量は、発光粒子の全質量を基準として、好ましくは５質量％以下であり、より好ましくは０質量％である。インク組成物が緑色発光粒子を含む場合、赤色発光粒子の含有量及び青色発光粒子の含流量は、発光粒子の全質量を基準として、好ましくは５質量％以下であり、より好ましくは０質量％である。

１－２．光重合性化合物
本発明の半導体ナノ結晶を含むナノ粒子含有インク組成物中に含まれる光重合性化合物は、硬化物中においてバインダーとして機能する、光（活性エネルギー線）の照射によって重合する化合物であり、光重合性のモノマー又はオリゴマーを用いてもよい。これらは、基本的には光重合開始剤とともに用いられる。

光重合性化合物は、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物等を用いることができるが、速硬化性の観点から、ラジカル重合性化合物を用いる事が好ましい。

ラジカル重合性化合物は、例えば、エチレン性不飽和基を有する化合物である。本明細書において、エチレン性不飽和基とは、エチレン性不飽和結合（重合性炭素－炭素二重結合）を有する基を意味する。エチレン性不飽和基を有する化合物におけるエチレン性不飽和結合の数（例えばエチレン性不飽和基の数）は、例えば、１～４である。

エチレン性不飽和基を有する化合物としては、例えば、ビニル基、ビニレン基、ビニリデン基、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和基を有する化合物が挙げられる。外部量子効率をより向上させることができる観点では、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、単官能又は多官能の（メタ）アクリレートがより好ましく、単官能又は二官能の（メタ）アクリレートが更に好ましい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」及びそれに対応する「メタクリロイル基」を意味する。「（メタ）アクリレート」との表現についても同様である。また、単官能の（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイル基を１つ有する（メタ）アクリレートを意味し、多官能の（メタ）アクリレートとは、（メタ）アクリロイル基を２つ以上有する（メタ）アクリレートを意味する。

単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルベンジル（メタ）アクリレート、こはく酸モノ（２－アクリロイルオキシエチル）、Ｎ－［２－（アクリロイルオキシ）エチル］フタルイミド、Ｎ－［２－（アクリロイルオキシ）エチル］テトラヒドロフタルイミド、トリメチロールプロパンホルマールアクリレート等が挙げられる。

多官能（メタ）アクリレートは、２官能（メタ）アクリレート、３官能（メタ）アクリレート、４官能（メタ）アクリレート、５官能（メタ）アクリレート、６官能（メタ）アクリレート等である。例えば、ジオール化合物の２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、トリオール化合物の２つまたは３つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジまたはトリ（メタ）アクリレート等を用いることができる。

２官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、１，３－ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、３－メチル－１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸エステルジアクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのネオペンチルグリコールに４モル以上のエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのビスフェノールＡに２モルのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのトリメチロールプロパンに３モル以上のエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるトリオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート、１モルのビスフェノールＡに４モル以上のエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるジオールの２つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

３官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、１モルのトリメチロールプロパンに３モル以上のエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドを付加して得られるトリオールの３つの水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

４官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

５官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

６官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

多官能（メタ）アクリレートは、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトールの複数の水酸基が（メタ）アクリロイルオキシ基によって置換されたポリ（メタ）アクリレートであってもよい。

（メタ）アクリレート化合物は、リン酸基を有する、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキルリン酸（メタ）アクリレート等であってもよい。

本発明のインク組成物において、硬化可能成分を、光重合性化合物のみ又はそれを主成分として構成する場合には、光重合性化合物としては、重合性官能基を１分子中に２以上有する２官能以上の光重合性化合物を必須成分として用いることが、硬化物の耐久性（強度、耐熱性等）をより高めることができることからより好ましい。

該インク組成物を調製した際の粘度安定性に優れる観点、吐出安定性により優れる観点および発光粒子塗膜の製造時における硬化収縮に起因する塗膜の平滑性の低下を抑制し得る観点から、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを組み合わせて用いることが好ましい。

光重合性化合物の分子量は、例えば、５０以上であり、１００以上又は１５０以上であってもよい。光重合性化合物の分子量は、例えば、５００以下であり、４００以下又は３００以下であってもよい。インクジェットインクとしての粘度と、吐出後のインクの揮発性を両立しやすい観点から、好ましくは５０～５００であり、より好ましくは１００～４００である。

インク組成物の硬化物の表面のべたつき（タック）を低減する観点では、光重合性化合物として、環状構造を有するラジカル重合性化合物を用いることが好ましい。環状構造は、芳香環構造であっても非芳香環構造であってもよい。環状構造の数（芳香環及び非芳香環の数の合計）は、１又は２以上であるが、３以下であることが好ましい。環状構造を構成する炭素原子の数は、例えば、４以上であり、５以上又は６以上であることが好ましい。炭素原子の数は、例えば２０以下であり、１８以下であることが好ましい。

芳香環構造は、炭素数６～１８の芳香環を有する構造であることが好ましい。炭素数６～１８の芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、アントラセン環等が挙げられる。芳香環構造は、芳香族複素環を有する構造であってもよい。芳香族複素環としては、例えば、フラン環、ピロール環、ピラン環、ピリジン環等が挙げられる。芳香環の数は、１であっても、２以上であってもよいが３以下であることが好ましい。有機基は、２以上の芳香環が単結合により結合した構造（例えば、ビフェニル構造）を有していてもよい。

非芳香環構造は、例えば、炭素数５～２０の脂環を有する構造であることが好ましい。炭素数５～２０の脂環としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環等のシクロアルカン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、シクロオクテン環等のシクロアルケン環、ジオキサン環などが挙げられる。脂環は、ビシクロウンデカン環、デカヒドロナフタレン環、ノルボルネン環、ノルボルナジエン環、イソボルニル環等の縮合環であってもよい。非芳香環構造は、非芳香族複素環を有する構造であってもよい。非芳香族複素環としては、例えば、テトラヒドロフラン環、ピロリジン環、テトラヒドロピラン環、ピぺリジン環等が挙げられる。

環状構造を有するラジカル重合性化合物は、好ましくは、環状構造を有する単官能又は多官能（メタ）アクリレートであり、より好ましくは環状構造を有する単官能（メタ）アクリレートである。具体的には、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、ビフェニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（ メタ） アクリレート、トリメチロールプロパンホルマールアクリレート等が好ましく用いられる。

環状構造を有するラジカル重合性化合物の含有量は、インク組成物の表面のべたつき（タック）を抑制しやすい観点、インクジェットインクとして適正な粘度が得られやすく、優れた吐出性が得られやすい観点から、インク組成物中における光重合性化合物の全質量を基準として、３～８５質量％であることが好ましく、５～６５質量％であることがより好ましく、１０～４５質量％であることがさらに好ましく、１５～３５質量％であることが特に好ましい。

優れた吐出性が得られやすい観点では、インク組成物として、炭素数が３以上である直鎖構造を有するラジカル重合性化合物を用いることが好ましく、炭素数が４以上である直鎖構造を有するラジカル重合性化合物を用いることがより好ましい。該直鎖構造とは、炭素数３以上の炭化水素鎖を表す。直鎖構造を有するラジカル重合性化合物は、直鎖構造を構成する炭素原子に直結した水素原子がメチル基又はエチル基に置換されていてもよいが、置換される数は３以下であることが好ましい。炭素数が４以上である直鎖構造を有するラジカル重合性化合物は、該直鎖構造が水素原子以外の原子が枝分かれせずに連なっている構造であることが好ましく、炭素原子及び水素原子の他に、酸素原子等のヘテロ原子を有していてもよい。すなわち、直鎖構造は、炭素原子が直鎖状に３つ以上連続する構造に限られず、３つ以上の炭素原子が酸素原子等のヘテロ原子を介して結直鎖状に連なる構造であってもよい。直鎖構造は、不飽和結合を有していてもよいが、好ましくは飽和結合のみからなる。直鎖構造を構成する炭素原子の数は、好ましくは５以上であり、より好ましくは６以上であり、更に好ましくは７以上である。直鎖構造を構成する炭素原子の数は、好ましくは２５以下であり、より好ましくは２０以下であり、更に好ましくは１５以下である。なお、炭素数の合計が３以上である直鎖構造（直鎖構造を形成する炭素原子に直結した水素原子が置換されたメチル基又はエチル基の炭素原子は数に含まない）を有するラジカル重合性化合物は、吐出性の観点から、環状構造を有しないことが好ましい。

直鎖構造は、例えば、炭素数が４以上の直鎖アルキル基を有する構造であることが好ましい。炭素数が４以上の直鎖アルキル基としては、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられる。このような構造を有するラジカル重合性化合物としては、（メタ）アクリロイルオキシ基に上記直鎖アルキル基が直接結合してなるアルキル（メタ）アクリレートが好ましく用いられる。

直鎖構造は、例えば、炭素数が４以上の直鎖アルキレン基を有する構造であることが好ましい。炭素数が４以上の直鎖アルキレン基としては、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基等が挙げられる。このような構造を有するラジカル重合性化合物としては、２つの（メタ）アクリロイルオキシ基が上記直鎖アルキレン基で結合されてなるアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートが好ましく用いられる。

直鎖構造は、例えば、直鎖アルキル基と１以上の直鎖アルキレン基が酸素原子を介して結合した構造（アルキル（ポリ）オキシアルキレン基を有する構造）であることが好ましい。直鎖アルキレン基の数は２以上であり、６以下であることが好ましい。直鎖アルキレン基の数が２以上である場合、２以上のアルキレン基は、同一であっても異なっていてもよい。直鎖アルキル基及び直鎖アルキレン基の炭素数は、１以上であればよく、２以上又は３以上であってもよいが、４以下であることが好ましい。直鎖アルキル基としては、上述した炭素数が４以上の直鎖アルキル基の他、メチル基、エチル基及びプロピル基が挙げられる。直鎖アルキレン基としては、上述した炭素数が４以上の直鎖アルキレン基の他、メチレン基、エチレン基及びプロピレン基が挙げられる。このような構造を有するラジカル重合性化合物としては、（メタ）アクリロイルオキシ基に上記アルキル（ポリ）オキシアルキレン基が直接結合してなるアルキル（ポリ）オキシアルキレン（メタ）アクリレートが好ましく用いられる。

炭素数が３以上である直鎖構造を有するラジカル重合性化合物の含有量は、インクジェットインクとして適正な粘度が得られやすく、優れた吐出性が得られやすい観点、インク組成物の硬化性に優れる観点、インク組成物の表面のべたつき（タック）を抑制しやすい観点から、インク組成物中における光重合性化合物の全質量を基準として、１０～９０質量％であることが好ましく、１５～８０質量％であることがより好ましく、２０～７０質量％であることが特に好ましい。

光重合性化合物としては、画素部の表面の均一性に優れる観点から、２種以上のラジカル重合性化合物を用いることが好ましく、上述した環状構造を有するラジカル重合性化合物と、上述した炭素数が３以上である直鎖構造を有するラジカル重合性化合物と、を組み合わせて用いることがより好ましい。外部量子効率を向上させるために、半導体ナノ結晶を含むナノ粒子の量を増やした場合には、画素部の表面の均一性が低下することがあるが、このような場合にも、上記光重合性化合物の組み合わせによれば、表面の均一性に優れた画素部が得られる傾向がある。

上述した環状構造を有するラジカル重合性化合物と、上述した炭素数が３以上である直鎖構造を有するラジカル重合性化合物と、を組み合わせて用いる場合、環状構造を有するラジカル重合性化合物の含有量Ｍ_Ｃに対する、炭素数が３以上である直鎖構造を有するラジカル重合性化合物の含有量Ｍ_Ｌの質量比（Ｍ_Ｌ／Ｍ_Ｃ）は、画素部の表面の均一性に優れる観点から、０．０５～５であることが好ましく、０．１～３．５であることがより好ましく、０．１～２であることが特に好ましい。

光重合性化合物は、信頼性に優れる画素部（インク組成物の硬化物）が得られやすい観点から、アルカリ不溶性であることが好ましい。本明細書中、光重合性化合物がアルカリ不溶性であるとは、１質量％の水酸化カリウム水溶液に対する２５℃における光重合性化合物の溶解量が、光重合性化合物の全質量を基準として、３０質量％以下であることを意味する。光重合性化合物の上記溶解量は、好ましくは、１０質量％以下であり、より好ましくは３質量％以下である。

該インク組成物中に含まれる光重合性化合物の含有量は、インクジェットインクとして適正な粘度が得られやすい観点、インク組成物の硬化性が良好となる観点、並びに、画素部（インク組成物の硬化物）の耐溶剤性及び耐磨耗性が向上する観点、及び、より優れた光学特性（例えば外部量子効率）が得られる観点から、インク組成物の全質量を基準として、７０～９５質量％であることが好ましく、７５～９３質量％であることがより好ましく、８０～９０質量％であることがさらに好ましい。

１－３．光重合開始剤
本発明のインク組成物中に用いられる光重合開始剤は、例えば光ラジカル重合開始剤が挙げられる。光ラジカル重合開始剤としては、分子開裂型又は水素引き抜き型の光ラジカル重合開始剤が好適である。

分子開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、（２，４，６－トリメチルベンゾイル）エトキシフェニルホスフィンオキサイド等が好適に用いられる。これら以外の分子開裂型の光ラジカル重合開始剤として、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン及び２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オンを併用してもよい。

水素引き抜き型の光ラジカル重合開始剤としては、ベンゾフェノン、４－フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチル－ジフェニルスルフィド等が挙げられる。分子開裂型の光ラジカル重合開始剤と水素引き抜き型の光ラジカル重合開始剤とを併用してもよい。

本発明のインク組成物中に用いられる光重合開始剤は、少なくとも１種以上のアシルホスフィンオキサイド系化合物を含有することが好ましい。これにより、塗膜の内部硬化性に優れ、かつ硬化膜の初期着色度が小さい塗膜を形成することができる。特に、少なくとも１種以上のアシルホスフィンオキサイド系化合物を含有する場合には、３６５ナノメートル、３８５ナノメートル、３９５ナノメートル又は４０５ナノメートル等、特定波長を中心とする±１５ナノメートル域の狭スペクトル出力を有する紫外発光ダイオード（ＵＶ－ＬＥＤ）に適しており、好ましい。

さらに、該光重合開始剤として、アシルホスフィンオキサイド系化合物を用いる場合、モノアシルホスフィンホスフィンオキサイド系化合物１種以上と、ビスアシルホスフィンホスフィンオキサイド系化合物１種以上とを併用することがより好ましい。これらを併用することにより、インク粘度の低減と、光重合性開始剤の析出抑制とを確実に両立することが可能となる。

モノアシルホスフィンホスフィンオキサイド系化合物としては、特に限定されないが、例えば、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンホスフィンオキサイド、エトキシフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンホスフィンオキサイド、２，４，６－トリエチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６－トリフェニルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドが挙げられる。これらの中でも、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドであることが好ましい。

モノアシルホスフィンオキサイド系化合物の市販品としては、例えば、Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ（２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキサイド）、Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ－Ｌ（エトキシフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキサイド）（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）が挙げられる。

ビスアシルホスフィンオキサイド系化合物としては、特に限定されないが、例えば、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、ビス－（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキサイドが挙げられる。これらの中でも、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイドであることが好ましい。

ビスアシルホスフィンオキサイド系化合物の市販品としては、例えば、Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９（ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド）（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）が挙げられる。

光重合開始剤の含有量は、光重合性化合物への溶解性の観点、インク組成物の硬化性の観点、画素部（インク組成物の硬化物）の経時安定性（外部量子効率の維持安定性）の観点から、光重合性化合物１００質量％に対して、０．１～２０質量％であることが好ましく、０．５～１５質量％であることがより好ましく、１～１５質量％であることがさらに好ましく、３～７質量％であることが特に好ましい。

光重合開始剤におけるアシルホスフィンオキサイド系化合物の含有比率は、インク組成物の硬化性の観点から、５０～１００質量％であることが好ましく、６０～１００質量％であることがより好ましく、７０～１００質量％であることが特に好ましい。

また、モノアシルホスフィンオキサイド系化合物に対するビスアシルホスフィンオキサイド系化合物の含有比率（ビスアシルホスフィンオキサイド系化合物の質量％／モノアシルホスフィンオキサイド系化合物の質量％）は、モル吸光係数が大きい観点、光重合性化合物への溶解性の観点から、０．１～６．０が好ましく、０．２～５．０がより好ましく、０．５～４．０が特に好ましい。

１－４．次亜リン酸ジエステル化合物
本発明のインク組成物は、次亜リン酸ジエステル化合物を含有する。前記次亜リン酸ジエステル化合物は、次亜リン酸（亜ホスホン酸）が有する２つの水酸基のそれぞれがエステル化されてなる化合物である。次亜リン酸ジエステル化合物を含有することにより、インク組成物及び該組成物から形成される塗膜中に生じたハイドロパーオキサイドを分解し、安定なアルコール化合物を与することができ、インク組成物の貯蔵安定性及び熱による塗膜の外部量子効率の低下を抑制できる。すなわち、次亜リン酸ジエステル化合物は、酸化防止剤として作用する。

また、本発明の発光粒子含有インク組成物から形成される塗膜（光変換層）は、外部量子効率の低下の一因となる大気中の水分の影響を小さくするため、疎水性の塗膜とすることが好ましく、すなわち疎水性を有する光重合性化合物の使用が好ましい。該疎水性の光重合性化合物への溶解性の観点から、次亜リン酸ジエステル化合物を使用することが好ましい。

前記次亜リン酸ジエステル化合物は、画素部表面へのブリードが少ない観点、インク組成物の貯蔵安定性及び硬化した塗膜の熱による外部量子効率の低下を抑制できる観点から、分子量が５００以上１５００以下であり且つ軟化点及び融点が７０℃以上２５０℃以下であることがより好ましい。

前記次亜リン酸ジエステル化合物は、例えば、下記式（Ｉ）で表される構造を有する。

式（Ｉ）中、Ｘ^１は、酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｚ^１は水素原子又は有機基（ただし、式（Ｉ）中のＰ（リン原子）に直接結合する原子は炭素原子）を示し、Ｒ^１は、炭化水素基を示す。複数のＸ^１は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＲ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。

式（Ｉ）中、Ｘ^１は酸素原子であることが好ましい。

式（Ｉ）中、Ｚ^１は、有機基（ただし、Ｐに直接結合する原子は炭素原子）であることが好ましい。有機基は、炭化水素基であることが好ましく、炭素原子及び水素原子の他に、酸素原子、窒素原子、リン原子等のヘテロ原子を有する基であることが好ましい。有機基は、例えば、下記式（ＩＩ）で表される構造であることが好ましい。

式（ＩＩ）中、＊はリン原子への結合手を示す。Ｙは連結基（ただし、式（ＩＩ）中のＰ（リン原子）に直接結合する原子は炭素原子）を示す。Ｘ^１ａ及びＲ^１ａは、それぞれ式（ＩＩ）中のＸ^１及びＲ^１と同義である。

有機基は芳香環を有することが好ましい。芳香環の数は１～６であることが好ましく、１～４であることがより好ましい。芳香環を構成する炭素原子の数は、例えば、６～１８である。炭素数６～１８の芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、アントラセン環等が挙げられる。有機基は、２以上の芳香環が単結合により結合した構造（例えば、ビフェニル構造）を有していることが好ましい。

式（ＩＩ）中、Ｒ^１は、好ましくはアリール基である。すなわち、次亜リン酸ジエステル化合物は、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。

式（ＩＩＩ）中、Ａｒ^１は、アリール基を示す。Ｘ^１及びＺ^１は、それぞれ式（Ｉ）中のＸ^１及びＺ^１と同義である。２つのＸ^１は互いに同一であっても異なっていてもよく、２つのＡｒ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。

次亜リン酸ジエステル化合物が上記式（ＩＩＩ）で表される化合物である場合、次亜リン酸ジエステル化合物と光重合性化合物とが良好に相溶した状態となり、次亜リン酸ジエステル化合物の酸化防止剤としての機能がより発現されやすくなる観点から、インク組成物が上述した環状構造を有する光重合性化合物を含むことが好ましい。

アリール基とは、単環式又は多環式の芳香族炭化水素の環に結合した水素原子を1 つ除去することにより生成される基であり、芳香族炭化水素の環に結合した水素原子の一部が炭化水素機等により置換されている基（例えばジ－ｔ－ブチルフェニル基等の、１つ乃至３つの炭素原子数１～６のアルキル基を芳香族炭化水素環の置換基として有する基）もアリール基に含まれる。

アリール基の炭素原子の数は、例えば６～１８である。アリール基が有する芳香環は、単環であっても縮合環であってもよい。アリール基は、例えば、置換又は無置換のフェニル基であってよく、置換又は無置換のナフチル基であってもよい。アリール基は、Ｘ^１に直接結合する芳香環以外の芳香環を有していてもよい。例えば、アリール基は、ビフェニリル基であってもよい。

アリール基は、特に好ましくは、置換又は無置換のフェニル基である。芳香核上の置換基としては炭素原子数１～６のアルキル基が好ましい。置換基の数としては、芳香核１つあたり、１～３であることが好ましい。アリール基としては、中でも、無置換のフェニル基、又は、芳香核上にアルキル基（好ましくは炭素原子数１～６のアルキル基）を１つ乃至３つ置換基として有する、モノアルキルフェニル基、ジアルキルフェニル基、又はトリアルキルフェニル基が好ましい。ここで炭素原子数1～６のアルキル基は、直鎖状であってよく、分岐状であってもよい。直鎖状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。分岐状のアルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられる。芳香核上の複数の置換基のうち、１～３つがアルキル基であり、２～４つが水素原子であることが好ましく、複数の置換基の少なくとも１つが分岐状のアルキル基であることがより好ましく、複数の置換基の少なくとも２つが分岐状のアルキル基であることが好ましい。分岐状のアルキル基は、好ましくはｔｅｒｔ－ブチル基である。

次亜リン酸ジエステル化合物は、次亜リン酸ジエステル構造を複数有することが好まし
い。具体的には、次亜リン酸ジエステル化合物は、下記式（ＩＶ）で表される構造を有することが好ましい。

式（ＩＶ）中、Ｙは連結基（ただし、式（ＩＶ）中のＰ（リン原子）に直接結合する原子は炭素原子）を示す。Ｘ^２及びＸ^３は、酸素原子又は硫黄原子を示し、Ａｒ^２及びＡｒ^３は、アリール基を示す。２つのＸ^２は互いに同一であっても異なっていてもよく、２つのＸ^３は互いに同一であっても異なっていてもよく、２つのＡｒ^２は互いに同一であっても異なっていてもよく、２つのＡｒ^３は互いに同一であっても異なっていてもよい。

Ｘ^２及びＸ^３は、酸素原子であることが好ましい。Ａｒ^２及びＡｒ^３のアリール基の詳細（好ましい態様を含む）は、上述したＡｒ^１のアリール基の詳細と同じである。

式（ＩＶ）中、Ｙは、好ましくは二価の炭化水素基であり、より好ましくは芳香環を有する二価の炭化水素基である。芳香環は連結基の主鎖に含まれることが好ましい。このような観点から、連結基は、アリーレン基であることが好ましい。アリーレン基としては、フェニレン基、ビフェニリレン基、ナフチレン基等が挙げられる。

前記式（ＩＶ）で表される化合物としては、式（ＩＶ－１）～式（ＩＶ－３）等を挙げることができる。

好適な次亜リン酸ジエステル化合物の具体例としては、例えば、「テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル－４，４’－ビフェニレンジホスホナイト）」（製品名：ＨＯＳＴＡＮＯＸ Ｐ－ＥＰＱ（クラリアントケミカルズ株式会社製））、「テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチル－５－メチルフェニル）－４，４’－ビフェニレンジホスホナイト）」（製品名：ＧＳＹ－Ｐ１００（堺化学工業株式会社製））、ビス（２，４－ジ－ｔ－ブチル－５－メチルフェニル）－ビフェニルホスホナイト、ビス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－ビフェニルホスホナイト等が挙げられる。これらは単独で、又は２種以上を組み合わせて使用してよい。

次亜リン酸ジエステル化合物の含有量は、外部量子効率により優れる観点から、インク組成物の全質量を基準として、０．０１質量％以上であることが好ましく、０．０５質量％以上であることがより好ましく、０．１質量％以上であることが特に好ましい。次亜リン酸ジエステル化合物の含有量は、塗膜形成時に、より良好な膜強度の確保が可能となることに加え、次亜リン酸ジエステル化合物の画素部表面へのブリードがより抑制され、かつ、より優れた外部量子効率が得られる観点から、インク組成物の全質量を基準として、１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以下であることが特に好ましい。これらの観点から、次亜リン酸ジエステル化合物の含有量は、インク組成物の全質量を基準として、例えば、０．０１～１０質量％ 、０．０５～５質量％又は０．１～３質量％であることが好ましい。この範囲よりも低い含有量では、酸化防止効果が低くなるため、インク粘度の増加抑制及び塗膜の熱による外部量子効率低下防止効果が見込めず、この範囲よりも高い含有量では、酸化防止剤が可塑剤として作用し、インク組成物の硬化を妨げるため好ましくない。

１－５．酸化防止剤
インク組成物は、本発明の効果を阻害しない限り、上述した次亜リン酸ジエステル化合物以外に酸化防止剤として機能する化合物を含有してよい。このような化合物としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、次亜リン酸ジエステル化合物以外のリン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の従来公知の酸化防止剤として用いられる化合物が挙げられる。これらの中でも、次亜リン酸ジエステル化合物と組み合わせて用いることで外部量子効率の低下をより一層抑制できる傾向があることから、フェノール系酸化防止剤を用いることが好ましい。

フェノール系酸化防止剤の具体例としては、例えば、「２，４，６－トリス（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシベンジル）メシチレン」（製品名：アデカスタブＡＯ－３３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製））、「２，４－ビス－（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ５６５（ＢＡＳＦジャパン株式会社製））、「ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、製品名：アデカスタブＡＯ－６０（株式会社ＡＤＥＫＡ製））、「オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、製品名：アデカスタブＡＯ－５０（株式会社ＡＤＥＫＡ製））、「２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－ノニルフェノール」（製品名：Ｉｏｎｏｌ ９２６（エボニック社製））、「チオジエチレンビス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５（ＢＡＳＦジャパン株式会社製））、「２，２’－メチレンビス－（６－（１－メチルシクロヘキシル）－ｐ－クレゾール）」（製品名：ノンフレックスＣＢＰ（精工化学株式会社製））、「Ｎ，Ｎ－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナムアミド）」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８（ＢＡＳＦジャパン株式会社製））、「２，５－ジ－ｔ－ブチルヒドロキノン」、「２，５－ジ－ｔ－アミル－ヒドロキノン、２，４－ジメチル－６－（１－メチルシクロヘキシル）－フェノール」（製品名：ＡＮＴＡＧＥ ＤＢＨ（川口化学工業株式会社製））、「６－ｔ－ブチル－ｏ－クレゾール」、「６－ｔ－ブチル－２，４－キシレノール」（製品名：Ｉｏｎｏｌ Ｋ（エボニック社製））、「２，４－ジメチル－６－（１－メチルペンタデシル）フェノール」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１１４１（ＢＡＳＦジャパン株式会社製））、「２，４－ビス（オクチルチオメチル）－ｏ－クレゾール」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０（ＢＡＳＦジャパン株式会社製））、「２，４－ビス（ドデシルチオメチル）－ｏ－クレゾール」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６（ＢＡＳＦジャパン株式会社製））、「エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオネート］」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ２４５（ＢＡＳＦジャパン株式会社製））、「３，９－ビス［２－〔３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕－１，１－ジメチルエチル］－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン」（製品名：アデカスタブＡＯ－８０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、製品名：ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＧＡ－８０（住友化学株式会社製））、「２－ｔ－アミルフェノール」、「２－ｔ－ブチルフェノール」、「２，４－ジ－ｔ－ブチルフェノール」、「１，１，３－トリス－（２’－メチル－４’－ヒドロキシ－５’－ｔ－ブチルフェニル）－ブタン」（製品名：アデカスタブＡＯ－３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、製品名：ヨシノックス９３０（吉富製薬株式会社製））、「４，４’－ブチリデン－ビス－（２－ｔ－ブチル－５－メチルフェノール）」（製品名：アデカスタブＡＯ－４０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、製品名：ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＢＢＭ－Ｓ（住友化学株式会社製））等を挙げることができる。

フェノール系酸化防止剤は、フェノール水酸基の両方のオルト位にある水素原子が立体的に嵩高い基で置換されているヒンダードフェノール系酸化防止剤、フェノール水酸基の一方のオルト位にある水素原子が立体的に嵩高い基で置換されており、もう一方のオルト位の水素原子がメチル基で置換されているセミヒンダードフェノール系酸化防止剤及びフェノール水酸基の一方のオルト位にある水素原子が立体的に嵩高い基で置換されており、もう一方のオルト位の水素原子は置換されていないレスヒンダードフェノール系酸化防止剤のいずれであってもよい。立体的に嵩高い基とは、直鎖状アルキル基以外の枝分かれしたアルキル基又は芳香環基のことを意味する。具体的には、ｔ－ブチル基、ｔ－ペンチル基、ｔ－ヘキシル基等の３級アルキル基；ｉ－プロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｓｅｃ－ペンチル基等の２級アルキル基；ｉ－ブチル基、ｉ－ペンチル基等の分岐１級アルキル基；シクロヘキシル基、シクロペンチル基等のシクロアルキル基；及びフェニル基、ベンジル基、ナフチル基等の芳香環基が挙げられる。

フェノール系酸化防止剤は、好ましくはヒンダードフェノール系酸化防止剤である。ヒンダードフェノール系酸化防止剤の具体例としては、例えば、「２，４，６－トリス（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシベンジル）メシチレン」（製品名：アデカスタブＡＯ－３３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製））、「２，４－ビス－（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ５６５（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、「ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、製品名：アデカスタブＡＯ－６０（株式会社ＡＤＥＫＡ製））、「オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、製品名：アデカスタブＡＯ－５０（株式会社ＡＤＥＫＡ製））、「２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－ノニルフェノール」、「チオジエチレンビス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５（ＢＡＳＦジャパン株式会社製））、「Ｎ，Ｎ－ヘキサメチレンビス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－ヒドロシンナムアミド）」（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、「３，９－ビス［２－〔３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕－１，１－ジメチルエチル］－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン」（製品名：アデカスタブＡＯ－８０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、製品名：ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ ＧＡ－８０（住友化学株式会社製））、「２，４－ジ－ｔ－ブチルフェノール」、「１，１，３－トリス－（２’－メチル－４’－ヒドロキシ－５’－ｔ－ブチルフェニル）－ブタン」（製品名：アデカスタブＡＯ－３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製） 等が挙げられ、これらの中でも、「ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］」が好ましい。

酸化防止剤の含有量は、外部量子効率の低下がより抑制されやすくなる観点から、インク組成物の全質量を基準として、０．０１質量％以上であることが好ましく、０．１質量％以上であることがより好ましく、１質量％以上であることがさらに好ましく、５質量％以上であることが特に好ましい。酸化防止剤の含有量は、塗布膜形成時に、より良好な膜強度の確保が可能となることに加え、酸化防止剤の表面へのブリードがより抑制され、かつ、良好な光学特性の確保が可能となる観点から、インク組成物の全質量を基準として、１０質量％以下であることが好ましく、７質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることがさらに好ましく、３質量％以下であることが特に好ましい。なお、上記含有量には、次亜リン酸ジエステル化合物の含有量は含めない。本実施形態では、フェノール系酸化防止剤の含有量が上記範囲であることが好ましく、ヒンダードフェノール系酸化防止剤の含有量が上記範囲であることがより好ましい。

本発明における次亜リン酸ジエステル化合物及び次亜リン酸ジエステル化合物以外の酸化防止剤の含有合計量は、インク組成物の総量に対して、０．０１～５質量％であることが好ましく、０．０５～３質量％であることがより好ましく、０．１～２質量％であることが特に好ましい。上記範囲内であると、インク組成物中に良好に溶解でき、不要成分の析出が少なく、得られる塗膜の発光特性（外部量子効率）に影響を与えにくい。

本発明における次亜リン酸ジエステル化合物及び次亜リン酸ジエステル化合物以外の酸化防止剤の質量比率は、０．０５～７．０であることが好ましく、０．１～５．０であることがより好ましく、０．１５～３．０であることがさらに好ましく、０．２～２．０であることが特に好ましい。上記範囲内であると、塗膜の耐熱性が高く、塗膜の発光特性（外部量子効率）に影響をより与えにくい。

１－６．光拡散粒子
本発明のインク組成物は、光拡散粒子を含有することが好ましい。光拡散粒子は、例えば、光学的に不活性な無機微粒子である。光拡散粒子は、発光層（光変換層）に照射された光源部からの光を散乱させることができる。

光拡散粒子を構成する材料としては、例えば、タングステン、ジルコニウム、チタン、白金、ビスマス、ロジウム、パラジウム、銀、スズ、プラチナ、金のような単体金属；シリカ、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、タルク、酸化チタン、クレー、カオリン、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、アルミナホワイト、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛のような金属酸化物；炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、次炭酸ビスマス、炭酸カルシウムのような金属炭酸塩；水酸化アルミニウムのような金属水酸化物；ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の複合酸化物、次硝酸ビスマスのような金属塩等が挙げられる。

中でも、光拡散粒子を構成する材料としては、漏れ光の低減効果により優れる観点から、酸化チタン、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウムおよびシリカからなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、酸化チタン、硫酸バリウムおよび炭酸カルシウムからなる群より選択される少なくとも一種を含むことがより好ましく、酸化チタンであることが特に好ましい。

酸化チタンを用いる場合には、分散性の観点から、表面処理がなされた酸化チタンであることが好ましい。酸化チタンの表面処理方法としては公知の方法があるが、少なくともアルミナを含んだ表面処理がなされていることがより好ましい。

アルミナを含んだ表面処理がなされた酸化チタンとは、酸化チタン粒子表面に少なくともアルミナを析出させる処理をいい、アルミナの他にシリカ等を用いることができる。また、アルミナあるいはシリカには、それらの水和物も含まれる。

この様に、酸化チタン粒子にアルミナを含んだ表面処理を行うことにより、酸化チタン粒子表面が均一に表面被覆処理され、少なくともアルミナにより表面処理された酸化チタン粒子を用いると、酸化チタン粒子の分散性が良好となる。

また、シリカによる処理とアルミナによる処理を酸化チタン粒子に施す場合には、アルミナ及びシリカ処理は同時に行っても良く、特にアルミナ処理を最初に行い、次いでシリカ処理を行うこともできる。また、アルミナとシリカの処理をそれぞれ行う場合には、アルミナ及びシリカの処理量は、アルミナよりもシリカの多いものが好ましい。

前記酸化チタンのアルミナ、シリカ等の金属酸化物による表面処理は湿式法により行うことができる。例えば、アルミナ、又はシリカの表面処理を行った酸化チタン粒子は以下のように作製することができる。

酸化チタン粒子（数平均一次粒子径：２００～４００ｎｍ）を５０～３５０ｇ／Ｌの濃度で水中に分散させて水性スラリーとし、これに水溶性のケイ酸塩又は水溶性のアルミニウム化合物を添加する。その後、アルカリ又は酸を添加して中和し、酸化チタン粒子の表面にシリカ、又はアルミナを析出させる。続いて濾過、洗浄、乾燥を行い目的の表面処理酸化チタンを得る。前記水溶性のケイ酸塩としてケイ酸ナトリウムを使用した場合には、硫酸、硝酸、塩酸等の酸で中和することができる。一方、水溶性のアルミニウム化合物として硫酸アルミニウムを用いたときは水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のアルカリで中和することができる。

本発明において、光拡散粒子の分散剤としては高分子分散剤を用いることが好ましく、アミン価を持った高分子分散剤を用いることがより好ましい。例えば、ディスパロンＤＡ－３２５（アミン価：１４ｍｇＫＯＨ／ｇ）、ディスパロンＤＡ－２３４（アミン価：２０ｍｇＫＯＨ／ｇ）、ＤＡ－７０３－５０（アミン価：４０ｍｇＫＯＨ／ｇ）（以上、楠本化成株式会社製）、アジスパーＰＢ８２１（アミン価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ）、アジスパーＰＢ８２２（アミン価：１７ｍｇＫＯＨ／ｇ）、アジスパーＰＢ８２４（アミン価：１７ｍｇＫＯＨ／ｇ）、アジスパーＰＢ８８１（アミン価：１７ｍｇＫＯＨ／ｇ）（以上、味の素ファインテクノ株式会社製）、Ｅｆｋａ ＰＵ４０４６（アミン価：１９ｍｇＫＯＨ／ｇ）、Ｅｆｋａ ＰＸ４３００（アミン価：５６ｍｇＫＯＨ／ｇ）、Ｅｆｋａ ＰＸ４３２０（アミン価：２８ｍｇＫＯＨ／ｇ）、Ｅｆｋａ ＰＸ４３３０（アミン価：２８ｍｇＫＯＨ／ｇ）、Ｅｆｋａ ＰＸ４３５０（アミン価：１２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、Ｅｆｋａ ＰＸ４７００（アミン価：６０ｍｇＫＯＨ／ｇ）、Ｅｆｋａ ＰＸ４７０１（アミン価：４０ｍｇＫＯＨ／ｇ）、Ｅｆｋａ４７３１（アミン価：２５ｍｇＫＯＨ／ｇ）、Ｅｆｋａ－４７３２（アミン価：２５ｍｇＫＯＨ／ｇ）、Ｅｆｋａ４７５１（アミン価：１２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、Ｄｉｓｐｅｘ Ｕｌｔｒａ ＦＡ４４２０（アミン価：３５ｍｇＫＯＨ／ｇ）、Ｄｉｓｐｅｘ Ｕｌｔｒａ ＦＡ４４２５（アミン価：３５ｍｇＫＯＨ／ｇ）（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１６２，ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１６３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１８０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１０９、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－２０００、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－２００１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－２０５０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－２１５０（以上、ビックケミー・ジャパン株式会社製）、ソルスパース２４０００ＧＲ、ソルスパース３２０００、ソルスパース２６０００、ソルスパース１３２４０、ソルスパース１３９４０、ソルスパース３３５００、ソルスパース３８５００、ソルスパ―ス７１０００（日本ルーブリゾール株式会社）等が挙げられる。

光拡散粒子の形状は、球状、フィラメント状、不定形状等、種々の形状のものを使用することができる。しかしながら、光拡散粒子としては、粒子形状として方向性の少ない粒子（例えば、球状、正四面体状等の粒子）を用いることが、発光粒子含有インク組成物の均一性、流動性及び光拡散をより高められる点で好ましい。

発光粒子含有インク組成物中での光拡散粒子の平均粒子径（体積平均径）は、漏れ光の低減効果により優れる観点から、０．０５μｍ以上、０．２μｍ以上、０．３μｍ以上であることが好ましい。発光粒子含有インク組成物中での光拡散粒子の平均粒子径（体積平均径）は、インクの保存安定性、吐出安定性に優れる観点から、１．０μｍ以下、０．６μｍ以下、０．４μｍ以下であることが好ましい。発光粒子含有インク組成物中での光拡散粒子の平均粒子径（体積平均径）は、０．０５～１．０μｍ、０．０５～０．６μｍ、０．０５～０．４μｍ、０．２～１．０μｍ、０．２～０．６μｍ、０．２～０．４μｍ、０．３～１．０μｍ、０．３～０．６μｍ、又は０．３～０．４μｍであることが好ましい。このような平均粒子径（体積平均径）が得られやすい観点から、使用する光拡散粒子の平均粒子径（体積平均径）は、５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが好ましい。発光粒子含有インク組成物中での光拡散粒子の平均粒子径（体積平均径）は、動的光拡散式ナノトラック粒度分布計により測定し、体積平均径を算出することにより得られる。また、使用する光拡散粒子の平均粒子径（体積平均径）は、例えば透過型電子顕微鏡又は走査型電子顕微鏡により各粒子の粒子径を測定し、体積平均径を算出することにより得られる。

光拡散粒子を上記粒径範囲に分散調製するためには、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサー、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等を用いることができる。

光拡散粒子の含有量は、漏れ光の低減効果により優れる観点から、発光粒子含有インク組成物の不揮発分の質量を基準として、０．１質量％以上、１質量％以上、５質量％以上、７質量％以上、１０質量％以上、１２質量％以上であることが好ましい。光拡散粒子の含有量は、漏れ光の低減効果により優れる観点及び吐出安定性に優れる観点から、発光粒子含有インク組成物の不揮発分の質量を基準として、６０質量％以下、５０質量％以下、４０質量％以下、３０質量％以下、２５質量％以下、２０質量％以下、１５質量％以下であることが好ましい。本実施形態では、発光粒子含有インク組成物が高分子分散剤を含むため、光拡散粒子の含有量を上記範囲とした場合であっても光拡散粒子の良好に分散させることができる。

発光粒子９０の含有量に対する光拡散粒子の含有量の質量比（光拡散粒子／半導体ナノ結晶を含むナノ粒子）は、漏れ光の低減効果により優れる観点から、０．１以上、０．２以上、０．５以上であることが好ましい。質量比（光拡散粒子／半導体ナノ結晶を含むナノ粒子）は、漏れ光の低減効果により優れ、インクジェット印刷時の連続吐出性に優れる観点から、５．０以下、２．０以下、１．５以下であることが好ましい。なお、光拡散粒子による漏れ光低減は、次のようなメカニズムによると考えられる。すなわち、光拡散粒子が存在しない場合、バックライト光は画素部内をほぼ直進して通過するのみであり、発光粒子９０に吸収される機会が少ないと考えられる。一方、光拡散粒子を発光粒子９０と同一の画素部内に存在させると、その画素部内でバックライト光が全方位に散乱され、それを発光粒子９０が受光することができるため、同一のバックライトを用いていても、画素部における光吸収量が増大すると考えられる。結果的に、このようなメカニズムで漏れ光を防ぐことが可能になったと考えられる。

１－７．高分子分散剤
本発明のインク組成物は、高分子分散剤を含有してもよく、又は光拡散粒子と同時に含有してもよい。該高分子分散剤は、半導体ナノ結晶を含むナノ粒子及び光拡散粒子に対し親和性を有する官能基を有する高分子分散剤であればよく、半導体ナノ結晶を含むナノ粒子及び光拡散粒子を分散させる機能を有する。また、光拡散粒子に対する親和性を有する官能基を有する高分子分散剤であることがより好ましく、光拡散粒子を分散させる機能を有することがより好ましい。。該高分子分散剤は、発光粒子の分散安定性にも寄与する。

高分子分散剤は、単一のモノマーの重合体（ホモポリマー）、複数種のモノマーの共重合体（コポリマー）のいずれを用いてもよい。また、高分子分散剤は、ランダム共重合体、ブロック共重合体又はグラフト共重合体のいずれであってもよい。また、高分子分散剤がグラフト共重合体である場合、くし形のグラフト共重合体、星形のグラフト共重合体のいずれを用いてもよい。高分子分散剤として、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレア樹脂、アミノ樹脂、ポリエチレンイミン及びポリアリルアミン等のポリアミン、エポキシ樹脂、ポリイミド等が挙げられる。

該高分子分散剤としては、ブロック共重合体であることが特に好ましい。該高分子分散剤がブロック共重合体を適用することによる効果としては、ブロック共重合体は親水性領域と顔料吸着領域により構成されることにより、高い分散性を得ることができ、ランダム共重合体や交差共重合体よりも優れた分散性を得ることができる。

具体的には、ランダム共重合体等では、共重合体を構成する単量体モノマーは、重合体形成時に立体的あるいは電気的に共重合体中に安定的に配置される確率が高くなる。単量体モノマーが安定的に配置された部分（分子）は、立体的あるいは電気的に安定しているため、顔料表面に吸着する際に障害となる場合が多い。これに対し、分子配列が制御されたブロック共重合体タイプの高分子分散剤では、顔料に対する分散剤の吸着を妨げる部分を、顔料と分散剤との吸着部から離れた位置に配置することができる。すなわち、顔料と分散剤との吸着部には吸着に最適な部分を配置し、溶媒親和性が必要な部分にはそれに適した部分を配置することにより、特に、結晶サイズが小さな顔料を含有する系のインクジェットインクの分散においては、このブロック共重合体で構成される分子配列により良好な分散性を実現することができるものと推測される。

本発明に係る高分子分散剤としては、上記特性を備えていれば制限はなく、公知のエチレン性不飽和モノマーを用いて合成されたブロック共重合体を適用でき、エチレン性不飽和モノマーとしては、例えば、以下のものを挙げることができる。

スチレン及びスチレン誘導体、例えば、α－メチルスチレン又はビニルトルエン；カルボン酸のビニルエステル、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル；ハロゲン化ビニル；エチレン性不飽和モノカルボン酸及びジカルボン酸、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸又はフマル酸、及び上記したジカルボン酸のアルカノール（好ましくは１～４個の炭素原子を有するもの）とのモノアルキルエステル、及び上記したモノアルキルエステルの誘導体、及びそのＮ－置換誘導体、アリールエステル、及びそれらの誘導体；不飽和カルボン酸のアミド、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ－メチロールアクリルアミド若しくはメタクリルアミド、Ｎ－アルキルアクリルアミド；スルホン酸基を含むエチレン性モノマー及びそのアンモニウム又はアルカリ金属塩、例えば、ビニルスルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、α－アクリルアミドメチルプロパンスルホン酸、２－スルホエチレンメタクリレート；ビニルアミンのアミド、例えば、ビニルホルムアミド、ビニルアセトアミド；第２、第３若しくは第４級アミノ基又は窒素含有ヘテロ環基を含む不飽和エチレン性モノマー、例えば、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、アミノアルキル（メタ）アクリレート、アミノアルキル（メタ）アクリルアミド、アクリル酸若しくはメタクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸若しくはメタクリル酸ジ－ｔ－ブチルアミノエチル、又はジメチルアミノメチルアクリルアミド若しくはメタクリルアミド；ツビッターイオン性モノマー、例えば、スルホプロピル（ジメチル）アミノプロピルアクリレート；ジエン類、例えば、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン；（メタ）アクリル酸エステル；ビニルニトリル類；ビニルホスホン酸及びその誘導体を挙げることができる。

このようなエチレン性不飽和モノマーを用いて、公知の方法、例えば、特開２００５－６０６６９号公報や特開２００７－３１４６１７号公報などの合成方法に従って、ブロック共重合体を合成することができる。

その中でも、（メタ）アクリル系ブロック共重合体を用いることが好ましく、例えば、特開昭６０－８９４５２号公報、特開平９－６２００２号公報、Ｐ．Ｌｕｔｚ，Ｐ．Ｍａｓｓｏｎｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍ．Ｂｕｌｌ．１２，７９（１９８４）、Ｂ．Ｃ．Ａｎｄｅｒｓｏｎ，Ｇ．Ｄ．Ａｎｄｒｅｗｓｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１４，１６０１（１９８１）、Ｋ．Ｈａｔａｄａ，Ｋ．Ｕｔｅ，ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍ．Ｊ．１７，９７７（１９８５）、Ｋ．Ｈａｔａｄａ，Ｋ．Ｕｔｅ，ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍ．Ｊ．１８，１０３７（１９８６）、右手浩一、畑田耕一、高分子加工、３６、３６６（１９８７）、東村敏延、沢本光男、高分子論文集、４６、１８９（１９８９）、Ｍ．Ｋｕｒｏｋｉ，Ｔ．Ａｉｄａ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｉｃ，１０９，４７３７（１９８７）、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、４３，３００（１９８５）、Ｄ．Ｙ．Ｓｏｇｏｈ，Ｗ．Ｒ．Ｈｅｒｔｌｅｒｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２０，１４７３（１９８７）、Ｋ．Ｍａｔｙａｓｚｅｗｓｋｉｅｔａｌ，Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００１，１０１，２９２１－２９９０などに記載されている公知の方法を参照して合成可能である。

本発明で用いる高分子分散剤は、塩基性の極性基を有し、塩基性官能基としては、一級、二級及び三級アミノ基、アンモニウム基、イミノ基、並びに、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、イミダゾール、トリアゾール等の含窒素ヘテロ環基等が挙げられる。該高分子分散剤のアミン価は６～９０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、７～７０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、８～５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。該高分子分散剤のアミン価が６ｍｇＫＯＨ／ｇより小さいと、光拡散粒子への高分子分散剤の吸着性が低く、またアミン価が９０ｍｇＫＯＨ／ｇより大きいと極性が高くなり、凝集、保存性劣化の原因となりやすく、その影響により発光粒子の分散性も悪化することになる。

高分子分散剤のアミン価は、以下のように測定することができる。高分子分散剤ｘｇ及びブロモフェノールブルー試液１ｍＬを、トルエンとエタノールとを体積比１：１で混合した混合溶液５０ｍＬに溶解させた試料液を準備し、０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸にて試料液が緑色を呈するまで滴定を行い、次式によりアミン価を算出できる。
アミン価＝ｙ／ｘ×２８．０５
式中、ｙは滴定に要した０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸の滴定量（ｍＬ）を示し、ｘは高分子分散剤の質量（ｇ）を示す。

本発明に係る高分子分散剤は、前記アミン価の特徴に加えて、含窒素芳香族ヘテロ環またはその塩、または芳香族アミン（例えば、アニリン、アニシジン、ｐ－トルイジン、α－ナフチルアミン、ｍ－フェニレンジアミン、１，８－ジアミノナフタレン、ベンジルアミン、Ｎ－メチルアニリン、Ｎ－メチルベンジルアミン等）を構造の一部に有するブロック共重合体であることがより好ましい。ブロック共重合体の構造の一部に芳香族性基を有する部位がある場合には、酸－塩基相互作用に加えて、嵩高い構造による立体障害効果が得られやすく、分散性が向上するものと推測される。含窒素芳香族ヘテロ環としては、例えば、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾオールなどの五員環芳香族ヘテロ環、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、トリアジンなどの六員環芳香族ヘテロ環、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、ブテリジン、ベンゾジアゼピン、インドール、ベンズイミダゾール、プリン、アクリジン、フェノキサジン、フェノチアジンなどの多環芳香族ヘテロ環またはその塩（例えば、無機塩、有機塩等）などが挙げられ、各々は置換基を有していてもよい。

３級アミノ基又は含窒素ヘテロ環の塩基性官能基を有する高分子分散剤としては、具体的には、例えば、「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ―１６４」（アミン価：１８ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ―１６７」（アミン価：１３ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ―２１６４」（アミン価：２３ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ＢＹＫ－ＬＰ Ｎ６９１９」（アミン価：１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ＢＹＫ－ＬＰ Ｎ２１１１６」（アミン価：２９ｍｇＫＯＨ／ｇ）（以上、ビックケミー・ジャパン株式会社製）、「ソルスパ―ス２００００」（アミン価：３２ｍｇＫＯＨ／ｇ）（日本ルーブリゾール社製）、「Ｅｆｋａ ＰＸ４３２０」（アミン価：２８ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「Ｄｉｓｐｅｘ Ｕｌｔｒａ ＰＸ４５８５」（アミン価：２０ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「Ｅｆｋａ ＰＸ４７０１（アミン価：４０ｍｇＫＯＨ／ｇ）」（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）等が挙げられる。

該高分子分散剤は、塩基性官能基に加えて、その他の官能基を有していてもよい。その他の官能基としては、酸性官能基、及び非イオン性官能基からなる群より選択される１種以上の官能基が挙げられる。これらの官能基は、好ましくは光拡散粒子に対し親和性を有する。酸性官能基は解離性のプロトンを有しており、アミン、水酸化物イオン等の塩基により中和されていてもよい。

酸性官能基としては、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ）、スルホ基（－ＳＯ３Ｈ）、硫酸基（－ＯＳＯ３Ｈ）、ホスホン酸基（－ＰＯ（ＯＨ）３）、リン酸基（－ＯＰＯ（ＯＨ）３）、ホスフィン酸基（－ＰＯ（ＯＨ）－）、メルカプト基（－ＳＨ）、が挙げられる。
非イオン性官能基としては、ヒドロキシ基、エーテル基、チオエーテル基、スルフィニル基（－ＳＯ－）、スルホニル基（－ＳＯ２－）、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、炭酸エステル基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、チオアミド基、チオウレイド基、スルファモイル基、シアノ基、アルケニル基、アルキニル基、ホスフィンオキシド基、ホスフィンスルフィド基が挙げられる。
塩基性官能基に加えて、酸性官能基を有する高分子分散剤は、アミン価に加えて、酸価を有する。酸性官能基を有する高分子分散剤の酸価は、０～５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、０～４０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、０～３０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、０～２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、画素部（インク組成物の硬化物）の保存安定性が低下しにくい。

高分子分散剤の酸価は、以下のように測定することができる。高分子分散剤ｐｇ及びフェノールフタレイン試液１ｍＬを、トルエンとエタノールとを体積比１：１で混合した混合溶液５０ｍＬに溶解させた試料液を準備し、０．１ｍｏｌ／Ｌエタノール製水酸化カリウム溶液（水酸化カリウム７．０ｇを蒸留水５．０ｍＬに溶解させ、９５ｖｏｌ％エタノールを加えることで１０００ｍＬに調整したもの）にて試料液が淡紅色を呈するまで滴定を行い、次式により酸価を算出できる。
酸価＝ｑ×ｒ×５．６１１／ｐ
式中、ｑは滴定に要した０．１ｍｏｌ／Ｌエタノール製水酸化カリウム溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、ｒは滴定に要した０．１ｍｏｌ／Ｌエタノール製水酸化カリウム溶液の力価を示し、ｐは高分子分散剤の質量（ｇ）を示す。

アミン価及び酸価を有する高分子分散剤としては、例えば、「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１４２」（アミン価：４３ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：４６ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１４５」（アミン価：７１ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：７６ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－２００１」（アミン価：２９ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：１９ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－２０２５」（アミン価：３７ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：３８ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－９０７６」（アミン価：４４ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：３８ｍｇＫＯＨ／ｇ）（以上、ビックケミー・ジャパン株式会社製）、「ソルスパース２４０００ＧＲ」（アミン価：４２ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：２５ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ソルスパース３２０００」（アミン価：３１ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：１５ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ソルスパース３３０００」（アミン価：４３ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：２６ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ソルスパース３４７５０」、「ソルスパース３５１００」（アミン価：１４ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：６ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ソルスパース３５２００」（アミン価：１４ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：６ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ソルスパース３７５００」（アミン価：１１ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：５ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「ソルスパース３９０００」（アミン価：２９ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：１６ｍｇＫＯＨ／ｇ）、（日本ルーブリゾール社製）、「アジスパーＰＢ８２１」（アミン価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：１７ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「アジスパーＰＢ８２２」（アミン価：１７ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：１４ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「アジスパーＰＢ８２４」（アミン価：１７ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：２１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「アジスパーＰＢ８８１」（アミン価：１７ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価：１７ｍｇＫＯＨ／ｇ）（以上、味の素ファインテクノ株式会社製）等が挙げられる。

本発明に係る高分子分散剤は、さらに下記一般式（ａ）～（ｃ）で表される部分構造を有するアクリル系ブロック共重合体であることが好ましい。

（一般式（ｂ）中、Ｒ^ｂ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^ｂ２は水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基を表す。）

（一般式（ｃ）中、Ｒ^ｃ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^ｃ２は炭素数２～３のアルキレン基を表し、ｍは５～１５の整数を表し、Ｒ^ｃ３は炭素数１～２５のアルキル基、フェニル基又は炭素数１～１８のアルキル基で置換されたフェニル基を表す。）

上記一般式（ａ）で表される構成単位を与える単量体モノマーとしては、具体的には、２－ビニルピリジンもしくはピリジウムイオン、４－ビニルピリジンもしくはピリジウムイオンが好ましく、２－ビニルピリジン、４－ビニルピリジンがより好ましい。

上記一般式（ｂ）において、Ｒ^ｂ１は炭素数２～８のアルキル基であることが好ましく、炭素数４～８のアルキル基であることがより好ましく、ｎ－ブチル基がさらに好ましい。

上記一般式（ｃ）において、ｍは７～１２の整数であることが好ましく、Ｒ^ｃ３は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましい。

上記構成単位（ａ）～（ｃ）を含有する高分子分散剤は、該分散剤の構成単量体モノマーに含まれるピリジンの光拡散粒子への吸着性が高いため、分散時に光拡散粒子表面が該分散剤で覆われやすくなり、該分散剤同士の静電反発及び／又は立体反発により、光拡散粒子をインク組成物中に分散させることができる。高分子分散剤は、光拡散粒子の表面と結合して光拡散粒子に吸着していることが好ましいが、前記発光粒子の表面に結合して発光粒子に吸着していてもよく、インク組成物中に遊離していてもよい。

また、上記構成単位（ａ）～（ｃ）を含有する高分子分散剤は、ブロック共重合体の構成単位（ｃ）が、光重合性化合物への親和性に優れており、該共重合体の構成単位（ａ）及び（ｃ）を含有することにより、光拡散粒子の優れた分散性と光重合性化合物との親和性を両立させる。

上記構成単位（ａ）～（ｃ）で表されるモノマー単位を有する共重合体は、特に制限されないが、特に制限はないが、ニトロキシド開始剤（ＮＭＰ開始剤）を使用したリビングラジカル重合により好適に合成することができる。

上記高分子分散剤における構成単位（ａ）、（ｂ）、（ｃ）で表されるモノマー単位を有する共重合体である場合、該高分子分散剤におけるモノマー単位の含有量が、高分子分散剤を構成する全モノマー単位の総和を１００モル％とした場合、構成単位（ａ）は５～５０モル％であることが好ましく、１０～３０モル％であることがより好ましい。上記範囲であると、インクの保存安定性及び光拡散粒子の分散性により優れる。

また、上記高分子分散剤において、式（ｂ）で表されるモノマー単位の含有量と、式（ｃ）で表されるモノマー単位の含有量とのモル比は、１：２～２：１であることが好ましく、１：１．５～１．５：１であることがより好ましい。

上記高分子分散剤の重量平均分子量（Ｍｗ）は、光拡散粒子を良好に分散することができ、漏れ光の低減効果をより向上させ、インク組成物の発光特性を向上させることができる観点、また、インクジェットインクの粘度を吐出可能で安定吐出に適する粘度とする観点から、１０，０００～７０，０００であることが好ましく、１２，０００～３０，０００であることがより好ましく、１３，０００～２５，０００であることが更に好ましく、１５，０００～２０，０００であることが特に好ましい。なお、本明細書中、重量平均分子量とは、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー、Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）によって測定される、ポリスチレン換算の重量平均分子量である。

上記高分子分散剤のインク組成物中の含有量は、光拡散粒子の分散性の観点、画素部（分散液又はインク組成物の硬化物）の湿熱安定性の観点から、光拡散粒子１００質量％に対して、０．５～５０質量％であることが好ましく、２～３０質量％であることがより好ましく、５～１０質量％であることがさらに好ましい。

上記一般式（ａ）～（ｃ）で表される部分構造を有する高分子分散剤としては、具体的には、例えば、「Ｅｆｋａ ＰＸ４３２０」（アミン価：２８ｍｇＫＯＨ／ｇ）、、「Ｄｉｓｐｅｘ Ｕｌｔｒａ ＰＸ４５８５」（アミン価：２０ｍｇＫＯＨ／ｇ）、「Ｅｆｋａ ＰＸ４７０１」（アミン価：４０ｍｇＫＯＨ／ｇ）（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）等が挙げられる。

１－８．その他の成分
インク組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、上述した成分以外の成分を更に含有していてもよい。

１－８－１．増感剤
増感剤としては、光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を用いることができる。増感剤としては、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ－ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。

１－８－２．溶剤
インク組成物は、例えば溶剤を更に含有していてよい。溶剤としては、例えば、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、トルエン、オクタン、クロロベンゼン、テトラリン、ジフェニルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ブチルカルビトールアセテート、又はそれらの混合物などが挙げられる。溶剤の沸点は、インクジェットインクの連続吐出安定性の観点から、１８０℃以上であることが好ましい。また、画素部の形成時には、インク組成物の硬化前にインク組成物から溶剤を除去する必要があるため、溶剤を除去しやすい観点から、溶剤の沸点は３００℃以下であることが好ましい。ただし、本実施形態のインク組成物では光重合性化合物が分散媒としても機能するため、無溶剤で光拡散粒子及び発光粒子を分散させることが可能である。この場合、画素部を形成する際に溶剤を乾燥により除去する工程が不要となる利点を有する。インク組成物が溶剤を含む場合、溶剤の含有量は、インク組成物の全質量（溶剤を含む）を基準として、０～５質量％以下であることが好ましい。

１－８－３．界面活性剤
界面活性剤としては、特に限定はないが、インク吐出性と、発光粒子９１および発光粒子９０を含有する薄膜を形成する場合に、膜厚ムラを低減させ得る化合物が好ましい。

かかる界面活性剤としては、例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類および脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類およびポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、及び第四級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、並びにシリコーン系やフッ素系の界面活性剤が含まれる。

シリコーン系の界面活性剤の具体例としては、例えば、「ＫＦ－３５１Ａ」、「ＫＦ－３５２Ａ」、「ＫＦ－６４２」、「Ｘ－２２－４２７２」（以上、信越化学工業株式会社製）、「ＢＹＫ－３００」、「ＢＹＫ－３０２」、「ＢＹＫ－３０６」、「ＢＹＫ－３０７」、「ＢＹＫ－３１０」、「ＢＹＫ－３１３」「ＢＹＫ－３１５Ｎ」、「ＢＹＫ－３２０」、「ＢＹＫ－３２２」、「ＢＹＫ－３２３」、「ＢＹＫ－３２５」、「ＢＹＫ－３３０」、「ＢＹＫ－３３１」、「ＢＹＫ－３３３」、「ＢＹＫ－３４２」、「ＢＹＫ－３４５」、「ＢＹＫ－３４７」、「ＢＹＫ－３４８」、「ＢＹＫ－３４９」、「ＢＹＫ－３７０」、「ＢＹＫ－３７７」、、「ＢＹＫ－ＵＶ３５００」、「ＢＹＫ－ＵＶ３５１０」、「ＢＹＫ－ＵＶ３５３０」、「ＢＹＫ－ＵＶ３５７０」、「ＢＹＫ－Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００」、「ＢＹＫ－Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７２０」（以上、ビックケミー・ジャパン株式会社製）、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２１００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２０１１」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２２００Ｎ」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２２５０」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２３００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２５００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２６００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２６５０」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２７００」、「ＴＥＧＯ Ｆｌｏｗ４２５」、「ＴＥＧＯ Ｇｌｉｄｅ４１０」、「ＴＥＧＯ Ｇｌｉｄｅ４３２」、「ＴＥＧＯ Ｇｌｉｄｅ４４０」、「ＴＥＧＯ Ｇｌｉｄｅ４５０」、「ＴＥＧＯ Ｇｌｉｄｅ ＺＧ４００」、「ＴＥＧＯ Ｔｗｉｎ４０００」、「ＴＥＧＯ Ｔｗｉｎ４１００」、「ＴＥＧＯ Ｔｗｉｎ４２００」（以上、エボニック・インダストリーズ株式会社製）、「ＤＯＷＳＩＬ Ｌ－７００１」、「ＤＯＷＳＩＬ Ｌ－７００２」、「ＤＯＷＳＩＬ ５７ＡＤＤＴＩＶＥ」、「ＤＯＷＳＩＬ Ｌ－７０６４」、「ＤＯＷＳＩＬ ＦＺ－２１１０」、「ＦＺ－２１０５」、「ＤＯＷＳＩＬ ６７ＡＤＤＴＩＶＥ」、（以上、ダウ・東レ株式会社製）、「ポリフローＫＬ－４００ＨＦ」、「ポリフローＫＬ－４０１」、「ポリフローＫＬ－４０２」、「ポリフローＫＬ－４０３」、「ポリフローＫＬ－４０４」（以上、共栄社化学株式会社製）等が挙げられる。

フッ素系の界面活性剤の具体例としては、例えば、「メガファックＦ－１１４」、「メガファックＦ－２５１」、「メガファックＦ－２８１」、「メガファックＦ－４１０」、「メガファックＦ－４３０」、「メガファックＦ－４４４」、「メガファックＦ－４７２ＳＦ」、「メガファックＦ－４７７」、「メガファックＦ－５１０」、「メガファックＦ－５１１」、「メガファックＦ－５５２」、「メガファックＦ－５５３」、「メガファックＦ－５５４」、「メガファックＦ－５５５」、「メガファックＦ－５５６」、「メガファックＦ－５５７」、「メガファックＦ－５５８」、「メガファックＦ－５５９」、「メガファックＦ－５６０」、「メガファックＦ－５６１」、「メガファックＦ－５６２」、「メガファックＦ－５６３」、「メガファックＦ－５６５」、「メガファックＦ－５６７」、「メガファックＦ－５６８」、「メガファックＦ－５６９」、「メガファックＦ－５７０」、「メガファックＦ－５７１」、「メガファックＲ－４０」、「メガファックＲ－４１」、「メガファックＲ－４３」、「メガファックＲ－９４」、「メガファックＲＳ－７２－Ｋ」、「メガファックＲＳ－７５」、「メガファックＲＳ－７６－Ｅ」、「メガファックＲＳ－７６－ＮＳ」、「メガファックＲＳ－９０」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ－１３６７」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ１４３７」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ１５３７」、「メガファックＥＸＰ．ＴＦ－２０６６」（以上、ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。

フッ素系の界面活性剤の他の具体例としては、例えば、「フタージェント１００」、「フタージェント１００Ｃ」、「フタージェント１１０」、「フタージェント１５０」、「フタージェント１５０ＣＨ」、「フタージェント１００Ａ-Ｋ」、「フタージェント３００」、「フタージェント３１０」、「フタージェント３２０」、「フタージェント４００ＳＷ」、「フタージェント２５１」、「フタージェント２１５Ｍ」、「フタージェント２１２Ｍ」、「フタージェント２１５Ｍ」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２２２Ｆ」、「フタージェント２１２Ｄ」、「ＦＴＸ－２１８」、「フタージェント２０９Ｆ」、「フタージェント２４５Ｆ」、「フタージェント２０８Ｇ」、「フタージェント２４０Ｇ」、「フタージェント２１２Ｐ」、「フタージェント２２０Ｐ」、「フタージェント２２８Ｐ」、「ＤＦＸ－１８」、「フタージェント６０１ＡＤ」、「フタージェント６０２Ａ」、「フタージェント６５０Ａ」、「フタージェント７５０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＦＭ」、「フタージェント７３０ＦＬ」、「フタージェント７１０ＦＳ」、「フタージェント７１０ＦＭ」、「フタージェント７１０ＦＬ」、「フタージェント７５０ＬＬ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＳ」、「フタージェント７３０ＬＭ」（以上、株式会社ネオス製）「ＦＣ－４４３０」、「ＦＣ－４４３２」（以上、スリーエムジャパン株式会社製）、「ユニダインＮＳ」（以上、ダイキン工業株式会社製）、「サーフロンＳ－２４１」、「サーフロンＳ－２４２」、「サーフロンＳ－２４３」、「サーフロンＳ－４２０」、「サーフロンＳ－６１１」、「サーフロンＳ－６５１」、「サーフロンＳ－３８６」（以上、ＡＧＣセイミケミカル株式会社製）、「フローレンＡＯ－８２」、「フローレンＡＯ－９８」、「フローレンＡＯ－１０８」（以上、共栄社化学株式会社製）等が挙げられる。

界面活性剤の添加量は、発光粒子含有インク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して、０．００５～２質量％であることが好ましく、０．０１～０．５質量％であることがより好ましい。

１－８－４．連鎖移動剤
連鎖移動剤は、発光粒子含有インク組成物の基材との密着性をより向上させること等を目的として使用される成分である。連鎖移動剤としては、例えば、芳香族炭化水素類；クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素、ブロモトリクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素類；オクチルメルカプタン、ｎ－ブチルメルカプタン、ｎ－ペンチルメルカプタン、ｎ－ヘキサデシルメルカプタン、ｎ－テトラデシルメル、ｎ－ドデシルメルカプタン、ｔ－テトラデシルメルカプタン、ｔ－ドデシルメルカプタンのようなメルカプタン化合物；ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４－ブタンジオールビスチオプロピオネート、１，４－ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、１，４－ジメチルメルカプトベンゼン、２、４、６－トリメルカプト－ｓ－トリアジン、２－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－４，６－ジメルカプト－ｓ－トリアジンのようなチオール化合物；ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジエチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィドのようなスルフィド化合物；Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジビニルアニリン、ペンタフェニルエタン、α－メチルスチレンダイマー、アクロレイン、アリルアルコール、ターピノーレン、α－テルピネン、γ－テルビネン、ジペンテン等が挙げられるが、２，４－ジフェニル－４－メチル－１－ペンテン、チオール化合物が好ましい。

連鎖移動剤の具体例としては、例えば、下記一般式（９－１）～（９－１２）で表される化合物が好ましい。

式中、Ｒ^９５は炭素原子数２～１８のアルキル基を表し、該アルキル基は直鎖であっても分岐鎖であってもよく、該アルキル基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子および硫黄原子が相互に直接結合することなく、酸素原子、硫黄原子、－ＣＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－または－ＣＨ＝ＣＨ－で置換されていてもよい。
Ｒ^９６は炭素原子数２～１８のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１つ以上のメチレン基は酸素原子および硫黄原子が相互に直接結合することなく、酸素原子、硫黄原子、－ＣＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－または－ＣＨ＝ＣＨ－で置換されていてもよい。

連鎖移動剤の添加量は、発光粒子含有インク組成物に含まれる光重合性化合物の総量に対して、０．１～１０質量％であることが好ましく、１．０～５質量％であることがより好ましい。

１－９．インク組成物の粘度
本発明に係るインク組成物の粘度は、例えば、インクジェット印刷時の吐出安定性の観点から、２ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましく、５ｍＰａ・ｓ以上であることがより好ましく、７ｍＰａ・ｓ以上であることがさらに好ましい。インク組成物の粘度は、２０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましく、１２ｍＰａ・ｓ以下であることがさらに好ましい。インク組成物の粘度が２ｍＰａ・ｓ以上である場合、吐出ヘッドのインク吐出孔の先端におけるインク組成物のメニスカス形状が安定するため、インク組成物の吐出制御（例えば、吐出量及び吐出のタイミングの制御）が容易となる。一方、粘度が２０ｍＰａ・ｓ以下である場合、インク吐出孔からインク組成物を円滑に吐出させることができる。インク組成物の粘度は、２～２０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、５～１５ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、７～１２ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましい。インク組成物の粘度は、例えば、Ｅ型粘度計によって測定される。インク組成物の粘度は、例えば、光重合性化合物、光重合開始剤等を変更することで所望の範囲に調整することができる。

１－１０．インク組成物の表面張力
本発明に係るインク組成物の表面張力は、インクジェット方式に適した表面張力であることが好ましく、具体的には、２０～４０ｍＮ／ｍの範囲であることが好ましく、２５～３５ｍＮ／ｍであることがより好ましい。表面張力を該範囲とすることで飛行曲がりの発生を抑制することができる。なお、飛行曲がりとは、インク組成物をインク吐出孔から吐出させたとき、インク組成物の着弾位置が目標位置に対して３０μｍ以上のずれを生じることをいう。表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下である場合、インク吐出孔の先端におけるメニスカス形状が安定するため、インク組成物の吐出制御（例えば、吐出量及び吐出のタイミングの制御）が容易となる。一方、表面張力が２０ｍＮ／ｍ以下である場合、飛行曲がりの発生を抑制できる。すなわち、着弾すべき画素部形成領域に正確に着弾されずにインク組成物の充填が不十分な画素部が生じたり、着弾すべき画素部形成領域に隣接する画素部形成領域（又は画素部）にインク組成物が着弾し、色再現性が低下したりすることがない。インク組成物の表面張力は、例えば、上述のシリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などを併用することで所望の範囲に調整することができる。

１－１１．インク組成物の調製方法
本発明のインク組成物、例えば、活性エネルギー線硬化性のインク組成物は、上記した各成分を配合することにより調製することができ、インクジェット用のインクとして用いることができる。インクジェット用インク組成物を調製する具体的な方法は、前記発光粒子９０又は発光粒子９１を有機溶剤中で合成、遠心分離により分取した沈殿物から有機溶剤を除去し、次いで光重合性化合物に分散させる。発光粒子９０又は発光粒子９１の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、ビーズミル、３本ロールミル、ペイントコンディショナー、アトライター、分散攪拌機、超音波等の分散機を使用することにより行うことができる。さらに、この分散液に光重合開始剤及び酸化防止剤を添加、攪拌混合することにより調製することができる。また、光拡散粒子を使用する場合は、該光拡散粒子と高分子分散剤を混合、ビーズミルにより前記光重合性化合物へ分散させたミルベースを別途作成し、前記発光粒子と共に光重合性化合物、光重合開始剤とを混合することにより調製することができる。

次に、本発明に係るインク組成物の調製方法について具体的に説明する。インク組成物は、例えば、上述したインク組成物の構成成分を混合し、分散処理を行うことによって得ることができる。また、構成成分を個別に混合し、必要に応じて分散処理した分散液を準備し、各分散液を混合することによって得ることができる。以下では、インク組成物の製造方法の一例として、光拡散粒子及び高分子分散剤を更に含有するインク組成物の製造方法を説明する。

光拡散粒子の分散液を用意する工程では、光拡散粒子、高分子分散剤及び光重合性化合物とを混合し、分散処理を行うことにより光拡散粒子の分散液を調製することができる。混合及び分散処理は、ビーズミル、ペイントコンディショナー、遊星撹拌機等の分散装置を用いて行うことができる。上述の方法によると、光拡散粒子の分散性が良好となり、光拡散粒子の平均粒子径を所望の範囲に調整しやすい観点から、ビーズミル又はペイントコンディショナーを用いることが好ましい。

インク組成物の調製方法は、第２の工程の前に、発光粒子及び光重合性化合物とを含有する、発光粒子の分散液を用意する工程を更に備えていてもよい。この場合、第２の工程では、光拡散粒子の分散液と、発光粒子の分散液と、光重合開始剤と、酸化防止剤とを混合する。この方法によれば、発光粒子を充分に分散させることができる。そのため、画素部における漏れ光を低減することができると共に、吐出安定性に優れるインク組成物を容易に得ることができる。発光粒子の分散液を用意する工程では、光拡散粒子の分散液を用意する工程と同様の分散装置を用いて、発光粒子と、光重合性化合物との混合及び分散処理を行ってよい。

本実施形態のインク組成物を、インクジェット方式用のインク組成物として用いる場合には、圧電素子を用いた機械的吐出機構による、ピエゾジェット方式のインクジェット記録装置に適用することが好ましい。ピエゾジェット方式では、吐出に際して、インク組成物が瞬間的に高温に晒されることがなく、発光粒子の変質が起こり難いため、所望の発光特性を備えたカラーフィルタ画素部（光変換層）を得ることができる。

以上、カラーフィルタ用インク組成物の一実施形態について説明したが、上述した実施形態のインク組成物は、インクジェット方式の他に、例えば、フォトリソグラフィ方式で用いることもできる。この場合、インク組成物は、バインダーポリマーとしてアルカリ可溶性樹脂を含有する。

インク組成物をフォトリソグラフィ方式で用いる場合、まず、インク組成物を基材上に塗布し、インク組成物が溶剤を含有する場合には、さらにインク組成物を乾燥させて塗布膜を形成する。このようにして得られる塗布膜は、アルカリ現像液に可溶性であり、アルカリ現像液で処理されることでパターニングされる。この際、アルカリ現像液は、現像液の廃液処理の容易さ等の観点から、水溶液であることが大半を占めるため、インク組成物の塗布膜は水溶液で処理されることとなる。一方、発光粒子（量子ドット等）を用いたインク組成物の場合、発光粒子が水に対して不安定であり、発光性（例えば蛍光性）が水分により損なわれる。このため本実施形態においては、アルカリ現像液（水溶液）で処理する必要のない、インクジェット方式が好ましい。

また、インク組成物の塗布膜に対してアルカリ現像液による処理を行わない場合でも、インク組成物がアルカリ可溶性である場合、インク組成物の塗布膜が大気中の水分を吸収しやすく、時間が経過するにつれて発光粒子（量子ドット等）の発光性（例えば蛍光性）が損なわれてゆく。この観点から、本実施形態においては、インク組成物の塗布膜はアルカリ不溶性であることが好ましい。すなわち、本実施形態のインク組成物は、アルカリ不溶性の塗布膜を形成可能なインク組成物であることが好ましい。このようなインク組成物は、光重合性化合物として、アルカリ不溶性の光重合性化合物を用いることにより得ることができる。インク組成物の塗布膜がアルカリ不溶性であるとは、１質量％の水酸化カリウム水溶液に対する２５℃におけるインク組成物の塗布膜の溶解量が、インク組成物の塗布膜の全質量を基準として、３０質量％以下であることを意味する。インク組成物の塗布膜の上記溶解量は、好ましくは、１０質量％以下であり、より好ましくは３質量％以下である。なお、インク組成物がアルカリ不溶性の塗布膜を形成可能なインク組成物であることは、インク組成物を基材上に塗布した後、溶剤を含む場合８０℃、３分の条件で乾燥して得られる厚さ１μｍの塗布膜の、上記溶解量を測定することにより確認できる。

２．発光粒子含有インク組成物の使用例
上述の発光粒子含有インク組成物は、例えば、インクジェットプリンター、フォトリソグラフィ、スピンコーター等、種々の方法によって基板上に被膜を形成し、この被膜を加熱して硬化させることにより硬化物を得ることができる。以下、青色有機ＬＥＤバックライトを備えた発光素子のカラーフィルタ画素部を発光粒子含有インク組成物にて形成する場合を例に挙げて説明する。

図３は、本発明の発光素子の一実施形態を示す断面図であり、図４および図５は、それぞれアクティブマトリックス回路の構成を示す概略図である。なお、図３では、便宜上、各部の寸法およびそれらの比率を誇張して示し、実際とは異なる場合がある。また、以下に示す材料、寸法等は一例であって、本発明は、それらに限定されず、その要旨を変更しない範囲で適宜変更することが可能である。以下では、説明の都合上、図３の上側を「上側」または「上方」と、上側を「下側」または「下方」と言う。また、図３では、図面が煩雑になることを避けるため、断面を示すハッチングの記載を省略している。

図３に示すように、発光素子１００は、下基板１と、ＥＬ光源部２００と、充填層１０と、保護層１１と、発光粒子９０を含有し発光層として作用する光変換層１２と、上基板１３とをこの順に積層した構造を備える。光変換層１２に含有される発光粒子９０は、ポリマー被覆発光粒子９０であってもよく、ポリマー層９２で被覆されていない発光粒子９１であってもよい。ＥＬ光源部２００は、陽極２と、複数の層からなるＥＬ層１４と、陰極８と、図示しない偏光板と、封止層９とを順に備える。ＥＬ層１４は、陽極２側から順次積層された正孔注入層３と、正孔輸送層４と、発光層５と、電子輸送層６と、電子注入層７とを含む。

かかる発光素子１００は、ＥＬ光源部２００（ＥＬ層１４）から発せられた光を光変換層１２によって吸収及び再放出するか或いは透過させ、上基板１３側から外部に取り出すフォトルミネセンス素子である。このとき、光変換層１２に含まれる発光粒子９０によって所定の色の光に変換される。以下、各層について順次説明する。

＜下基板１および上基板１３＞
下基板１および上基板１３は、それぞれ発光素子１００を構成する各層を支持および／または保護する機能を有する。発光素子１００がトップエミッション型である場合、上基板１３が透明基板で構成される。一方、発光素子１００がボトムエミッション型である場合、下基板１が透明基板で構成される。ここで、透明基板とは、可視光領域の波長の光を透過可能な基板を意味し、透明には、無色透明、着色透明、半透明が含まれる。

透明基板としては、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の透明なガラス基板、石英基板、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等で構成されるプラスチック基板（樹脂基板）、鉄、ステンレス、アルミニウム、銅等で構成される金属基板、シリコン基板、ガリウム砒素基板等を用いることができる。これらの中でも、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスからなるガラス基板を用いることが好ましい。具体的には、コーニング社製の「７０５９ガラス」、「１７３７ガラス」、「イーグル２００」及び「イーグルＸＧ」、旭硝子社製の「ＡＮ１００」、日本電気硝子社製の「ＯＡ－１０Ｇ」及び「ＯＡ－１１」が好適である。これらは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性及び高温加熱処理における作業性に優れる。また、発光素子１００に可撓性を付与する場合には、下基板１および上基板１３には、それぞれ、プラスチック基板（高分子材料を主材料として構成された基板）、比較的厚さの小さい金属基板が選択される。

下基板１および上基板１３の厚さは、それぞれ特に限定されないが、１００～１，０００μｍの範囲であることが好ましく、３００～８００μｍの範囲であることがより好ましい。

なお、発光素子１００の使用形態に応じて、下基板１および上基板１３のいずれか一方または双方を省略することもできる。

図４に示すように、下基板１上には、Ｒ、Ｇ、Ｂで示される画素電極ＰＥを構成する陽極２への電流の供給を制御する信号線駆動回路Ｃ１および走査線駆動回路Ｃ２と、これらの回路の作動を制御する制御回路Ｃ３と、信号線駆動回路Ｃ１に接続された複数の信号線７０６と、走査線駆動回路Ｃ２に接続された複数の走査線７０７とを備えている。また、各信号線７０６と各走査線７０７との交差部近傍には、図５に示すように、コンデンサ７０１と、駆動トランジスタ７０２と、スイッチングトランジスタ７０８とが設けられている。

コンデンサ７０１は、一方の電極が駆動トランジスタ７０２のゲート電極に接続され、他方の電極が駆動トランジスタ７０２のソース電極に接続されている。駆動トランジスタ７０２は、ゲート電極がコンデンサ７０１の一方の電極に接続され、ソース電極がコンデンサ７０１の他方の電極および駆動電流を供給する電源線７０３に接続され、ドレイン電極がＥＬ光源部２００の陽極４に接続されている。

スイッチングトランジスタ７０８は、ゲート電極が走査線７０７に接続され、ソース電極が信号線７０６に接続され、ドレイン電極が駆動トランジスタ７０２のゲート電極に接続されている。また、本実施形態において、共通電極７０５は、ＥＬ光源部２００の陰極８を構成している。なお、駆動トランジスタ７０２およびスイッチングトランジスタ７０８は、例えば、薄膜トランジスタ等で構成することができる。

走査線駆動回路Ｃ２は、走査線７０７を介して、スイッチングトランジスタ７０８のゲート電極に走査信号に応じた走査電圧を供給または遮断し、スイッチングトランジスタ７０８のオンまたはオフする。これにより、走査線駆動回路Ｃ２は、信号線駆動回路Ｃ１が信号電圧を書き込むタイミングを調整する。一方、信号線駆動回路Ｃ１は、信号線７０６およびスイッチングトランジスタ７０８を介して、駆動トランジスタ７０２のゲート電極に映像信号に応じた信号電圧を供給または遮断し、ＥＬ光源部２００に供給する信号電流の量を調整する。

したがって、走査線駆動回路Ｃ２から走査電圧がスイッチングトランジスタ７０８のゲート電極に供給され、スイッチングトランジスタ７０８がオンすると、信号線駆動回路Ｃ１から信号電圧がスイッチングトランジスタ７０８のゲート電極に供給される。このとき、この信号電圧に対応したドレイン電流が電源線７０３から信号電流としてＥＬ光源部２００に供給される。その結果、ＥＬ光源部２００は、供給される信号電流に応じて発光する。

＜ＥＬ光源部２００＞
［陽極２］
陽極２は、外部電源から発光層５に向かって正孔を供給する機能を有する。陽極２の構成材料（陽極材料）としては、特に限定されないが、例えば、金（Ａｕ）のような金属、ヨウ化銅（ＣｕＩ）のようなハロゲン化金属、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）のような金属酸化物等が挙げられる。これらは、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

陽極２の厚さは、特に制限されないが、１０～１，０００ｎｍの範囲であることが好ましく、１０～２００ｎｍの範囲であることがより好ましい。

陽極２は、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法のような乾式成膜法により形成することができる。この際、フォトリソグラフィー法やマスクを用いた方法により、所定のパターンを有する陽極２を形成してもよい。

［陰極８］
陰極８は、外部電源から発光層５に向かって電子を供給する機能を有する。陰極８の構成材料（陰極材料）としては、特に限定されないが、例えば、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、アルミニウム、銀、ナトリウム－カリウム合金、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）混合物、希土類金属等が挙げられる。これらは、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

陰極８の厚さは、特に限定されないが、０．１～１，０００ｎｍの範囲であることが好ましく、１～２００ｎｍの範囲であることがより好ましい。

陰極３は、例えば、蒸着法やスパッタリング法のような乾式成膜法により形成することができる。

［正孔注入層３］
正孔注入層３は、陽極２から供給された正孔を受け取り、正孔輸送層４に注入する機能を有する。なお、正孔注入層３は、必要に応じて設けるようにすればよく、省略することもできる。

正孔注入層３の構成材料（正孔注入材料）としては、特に限定されないが、例えば、銅フタロシアニンのようなフタロシアニン化合物；４，４’，４’’－トリス［フェニル（ｍ－トリル）アミノ］トリフェニルアミンのようなトリフェニルアミン誘導体；１，４，５，８，９，１２－ヘキサアザトリフェニレンヘキサカルボニトリル、２，３，５，６－テトラフルオロ－７，７，８，８－テトラシアノ－キノジメタンのようなシアノ化合物；酸化バナジウム、酸化モリブデンのような金属酸化物；アモルファスカーボン；ポリアニリン（エメラルディン）、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）－ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ－ＰＳＳ）、ポリピロールのような高分子等が挙げられる。これらの中でも、正孔注入材料としては、高分子であることが好ましく、ＰＥＤＯＴ－ＰＳＳであることがより好ましい。また、上述の正孔注入材料は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

正孔注入層３の厚さは、特に限定されないが、０．１～５００ｍｍの範囲であることが好ましく、１～３００ｎｍの範囲であることがより好ましく、２～２００ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。正孔注入層３は、単層構成であっても、２層以上が積層された積層構成であってもよい。

このような正孔注入層４は、湿式成膜法または乾式成膜法により形成することができる。正孔注入層３を湿式成膜法で形成する場合には、通常、上述の正孔注入材料を含有するインクを各種塗布法により塗布し、得られた塗膜を乾燥する。塗布法としては、特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷法（液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等が挙げられる。一方、正孔注入層３を乾式成膜法で形成する場合には、真空蒸着法、スパッタリング法等を好適に用いることができる。

［正孔輸送層４］
正孔輸送層４は、正孔注入層３から正孔を受け取り、発光層６まで効率的に輸送する機能を有する。また、正孔輸送層４は、電子の輸送を防止する機能を有していてもよい。なお、正孔輸送層４は、必要に応じて設けるようにすればよく、省略することもできる。

正孔輸送層４の構成材料（正孔輸送材料）としては、特に限定されないが、例えば、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－Ｎ，Ｎ’－ジ（３－メチルフェニル）－１，１’－ビフェニル－４，４’ジアミン）、α－ＮＰＤ（４，４’－ビス［Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル）、ｍ－ＭＴＤＡＴＡ（４、４’，４’’－トリス（３－メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）のような低分子トリフェニルアミン誘導体；ポリビニルカルバゾール；ポリ［Ｎ，Ｎ’－ビス（４－ブチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス（フェニル）－ベンジジン］（ｐｏｌｙ－ＴＰＡ）、ポリフルオレン（ＰＦ）、ポリ［Ｎ，Ｎ’－ビス（４－ブチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス（フェニル）－ベンジジン（Ｐｏｌｙ－ＴＰＤ）、ポリ［（９，９－ジオクチルフルオレニル－２，７－ジイル）－コ－（４，４’－（Ｎ－（ｓｅｃ－ブチルフェニル）ジフェニルアミン））（ＴＦＢ）、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）のような共役系化合物重合体；およびこれらのモノマー単位を含む共重合体等が挙げられる。

これらの中でも、正孔輸送材料としては、トリフェニルアミン誘導体、置換基が導入されたトリフェニルアミン誘導体を重合することにより得られた高分子化合物であることが好ましく、置換基が導入されたトリフェニルアミン誘導体を重合することにより得られた高分子化合物であることがより好ましい。また、上述の正孔輸送材料は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

正孔輸送層４の厚さは、特に限定されないが、１～５００ｎｍの範囲であることが好ましく、５～３００ｎｍの範囲であることがより好ましく、１０～２００ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。正孔輸送層４は、単層構成であっても、２層以上が積層された積層構成であってもよい。

このような正孔輸送層４は、湿式成膜法または乾式成膜法により形成することができる。正孔輸送層４を湿式成膜法で形成する場合には、通常、上述の正孔輸送材料を含有するインクを各種塗布法により塗布し、得られた塗膜を乾燥する。塗布法としては、特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷法（液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等が挙げられる。一方、正孔輸送層４を乾式成膜法で形成する場合には、真空蒸着法、スパッタリング法等を好適に用いることができる。

［電子注入層７］
電子注入層７は、陰極８から供給された電子を受け取り、電子輸送層６に注入する機能を有する。なお、電子注入層７は、必要に応じて設けるようにすればよく、省略することもできる。

電子注入層７の構成材料（電子注入材料）としては、特に制限されないが、例えば、Ｌｉ_２Ｏ、ＬｉＯ、Ｎａ_２Ｓ、Ｎａ_２Ｓｅ、ＮａＯのようなアルカリ金属カルコゲナイド；ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＢｅＯ、ＢａＳ、ＭｇＯ、ＣａＳｅのようなアルカリ土類金属カルコゲナイド；ＣｓＦ、ＬｉＦ、ＮａＦ、ＫＦ、ＬｉＣｌ、ＫＣｌ、ＮａＣｌのようなアルカリ金属ハライド；８－ヒドロキシキノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）のようなアルカリ金属塩；ＣａＦ_２、ＢａＦ_２、ＳｒＦ_２、ＭｇＦ_２、ＢｅＦ_２のようなアルカリ土類金属ハライド等が挙げられる。これらの中でも、アルカリ金属カルコゲナイド、アルカリ土類金属ハライド、アルカリ金属塩であることが好ましい。また、上述の電子注入材料は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

電子注入層７の厚さは、特に限定されないが、０．１～１００ｎｍの範囲であることが好ましく、０．２～５０ｎｍの範囲であることがより好ましく、０．５～１０ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。電子注入層７は、単層構成であっても、２層以上が積層された積層構成であってもよい。

このような電子注入層７は、湿式成膜法または乾式成膜法により形成することができる。電子注入層７を湿式成膜法で形成する場合には、通常、上述の電子注入材料を含有するインクを各種塗布法により塗布し、得られた塗膜を乾燥する。塗布法としては、特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷法（液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等が挙げられる。一方、電子注入層７を乾式成膜法で形成する場合には、真空蒸着法、スパッタリング法等が適用されうる。

［電子輸送層８］
電子輸送層８は、電子注入層７から電子を受け取り、発光層５まで効率的に輸送する機能を有する。また、電子輸送層８は、正孔の輸送を防止する機能を有していてもよい。なお、電子輸送層８は、必要に応じて設けるようにすればよく、省略することもできる。

電子輸送層８の構成材料（電子輸送材料）としては、特に制限されないが、例えば、トリス（８－キノリラート）アルミニウム（Ａｌｑ３）、トリス（４－メチル－８－キノリノラート）アルミニウム（Ａｌｍｑ３）、ビス（１０－ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナート）ベリリウム（ＢｅＢｑ２）、ビス（２－メチル－８－キノリノラート）（ｐ－フェニルフェノラート）アルミニウム（ＢＡｌｑ）、ビス（８－キノリノラート）亜鉛（Ｚｎｑ）のようなキノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体；ビス［２－（２’－ヒドロキシフェニル）ベンズオキサゾラート］亜鉛（Ｚｎ（ＢＯＸ）２）のようなベンズオキサゾリン骨格を有する金属錯体；ビス［２－（２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾラート］亜鉛（Ｚｎ（ＢＴＺ）２）のようなベンゾチアゾリン骨格を有する金属錯体；２－（４－ビフェニリル）－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール（ＰＢＤ）、３－（４－ビフェニリル）－４－フェニル－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，２，４－トリアゾール（ＴＡＺ）、１，３－ビス［５－（ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル］ベンゼン（ＯＸＤ－７）、９－［４－（５－フェニル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）フェニル］カルバゾール（ＣＯ１１）のようなトリまたはジアゾール誘導体；２，２’，２’’－（１，３，５－ベンゼントリイル）トリス（１－フェニル－１Ｈ－ベンゾイミダゾール）（ＴＰＢＩ）、２－［３－（ジベンゾチオフェン－４－イル）フェニル］－１－フェニル－１Ｈ－ベンゾイミダゾール（ｍＤＢＴＢＩｍ－ＩＩ）のようなイミダゾール誘導体；キノリン誘導体；ペリレン誘導体；４，７－ジフェニル－１，１０－フェナントロリン（ＢＰｈｅｎ）のようなピリジン誘導体；ピリミジン誘導体；トリアジン誘導体；キノキサリン誘導体；ジフェニルキノン誘導体；ニトロ置換フルオレン誘導体；酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）のような金属酸化物等が挙げられる。これらの中でも、電子輸送材料としては、イミダゾール誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、金属酸化物（無機酸化物）であることが好ましい。また、上述の電子輸送材料は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

電子輸送層７の厚さは、特に限定されないが、５～５００ｎｍの範囲であることが好ましく、５～２００ｎｍの範囲であることがより好ましい。電子輸送層６は、単層であっても、２以上が積層されたものであってもよい。

このような電子輸送層７は、湿式成膜法または乾式成膜法により形成することができる。電子輸送層６を湿式成膜法で形成する場合には、通常、上述の電子輸送材料を含有するインクを各種塗布法により塗布し、得られた塗膜を乾燥する。塗布法としては、特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷法（液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等が挙げられる。一方、電子輸送層６を乾式成膜法で形成する場合には、真空蒸着法、スパッタリング法等が適用され得る。

［発光層５］
発光層５は、発光層５に注入された正孔および電子の再結合により生じるエネルギーを利用して発光を生じさせる機能を有する。本実施形態の発光層５は、４００～５００ｎｍの範囲の波長の青色光を発し、より好ましくは４２０～４８０ｎｍの範囲である。

発光層５は、発光材料（ゲスト材料またはドーパント材料）およびホスト材料を含むことが好ましい。この場合、ホスト材料と発光材料との質量比は、特に制限されないが、１０：１～３００：１の範囲であることが好ましい。発光材料には、一重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物または三重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物を使用することができる。また、発光材料としては、有機低分子蛍光材料、有機高分子蛍光材料および有機燐光材料からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。

一重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物としては、蛍光を発する有機低分子蛍光材料または有機高分子蛍光材料が挙げられる。

有機低分子蛍光材料としては、アントラセン構造、テトラセン構造、クリセン構造、フェナントレン構造、ピレン構造、ペリレン構造、スチルベン構造、アクリドン構造、クマリン構造、フェノキサジン構造またはフェノチアジン構造を有する化合物が好ましい。

有機低分子蛍光材料の具体例としては、例えば、５，６－ビス［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－２，２’－ビピリジン、５，６－ビス［４’－（１０－フェニル－９－アントリル）ビフェニル－４－イル］－２，２’－ビピリジン（、Ｎ，Ｎ’－ビス［４－（９Ｈ－カルバゾール－９－イル）フェニル］－Ｎ，Ｎ’－ジフェニルスチルベン－４，４’－ジアミン、４－（９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－４’－（１０－フェニル－９－アントリル）トリフェニルアミン、４－（９Ｈ－カルバゾール－９－イル）－４’－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）トリフェニルアミン、Ｎ，９－ジフェニル－Ｎ－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、４－（１０－フェニル－９－アントリル）－４’－（９－フェニル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）トリフェニルアミン、４－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－４’－（９－フェニル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）トリフェニルアミン、ペリレン、２，５，８，１１－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチル）ペリレン、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－Ｎ，Ｎ’－ビス［４－（９－フェニル－９Ｈ－フルオレン－９－イル）フェニル］ピレン－１，６－ジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（３－メチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス［３－（９－フェニル－９Ｈ－フルオレン－９－イル）フェニル］－ピレン－１，６－ジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（ジベンゾフラン－２－イル）－Ｎ，Ｎ’－ジフェニルピレン－１，６－ジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（ジベンゾチオフェン－２－イル）－Ｎ，Ｎ’－ジフェニルピレン－１，６－ジアミン、Ｎ，Ｎ’’－（２－ｔｅｒｔ－ブチルアントラセン－９，１０－ジイルジ－４，１－フェニレン）ビス［Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－トリフェニル－１，４－フェニレンジアミン］、Ｎ，９－ジフェニル－Ｎ－［４－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、Ｎ－［４－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）フェニル］－Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－トリフェニル－１，４－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’，Ｎ’’’，Ｎ’’’－オクタフェニルジベンゾ［ｇ，ｐ］クリセン－２，７，１０，１５－テトラアミン、クマリン３０、Ｎ－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）－Ｎ，９－ジフェニル－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、Ｎ－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）－Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－トリフェニル－１，４－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，９－トリフェニルアントラセン－９－アミン、クマリン６、クマリン５４５Ｔ、Ｎ，Ｎ’－ジフェニルキナクリドン、ルブレン、５，１２－ビス（１，１’－ビフェニル－４－イル）－６，１１－ジフェニルテトラセン、２－（２－｛２－［４－（ジメチルアミノ）フェニル］エテニル｝－６－メチル－４Ｈ－ピラン－４－イリデン）プロパンジニトリル、２－｛２－メチル－６－［２－（２，３，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－ベンゾ［ｉｊ］キノリジン－９－イル）エテニル］－４Ｈ－ピラン－４－イリデン｝プロパンジニトリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラキス（４－メチルフェニル）テトラセン－５，１１－ジアミン、７，１４－ジフェニル－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラキス（４－メチルフェニル）アセナフト［１，２－ａ］フルオランテン－３，１０－ジアミン、２－｛２－イソプロピル－６－［２－（１，１，７，７－テトラメチル－２，３，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－ベンゾ［ｉｊ］キノリジン－９－イル）エテニル］－４Ｈ－ピラン－４－イリデン｝プロパンジニトリル、２－｛２－ｔｅｒｔ－ブチル－６－［２－（１，１，７，７－テトラメチル－２，３，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－ベンゾ［ｉｊ］キノリジン－９－イル）エテニル］－４Ｈ－ピラン－４－イリデン｝プロパンジニトリル、２－（２，６－ビス｛２－［４－（ジメチルアミノ）フェニル］エテニル｝－４Ｈ－ピラン－４－イリデン）プロパンジニトリル、２－｛２，６－ビス［２－（８－メトキシ－１，１，７，７－テトラメチル－２，３，６，７－テトラヒドロ－１Ｈ，５Ｈ－ベンゾ［ｉｊ］キノリジン－９－イル）エテニル］－４Ｈ－ピラン－４－イリデン｝プロパンジニトリル、５，１０，１５，２０－テトラフェニルビスベンゾ［５，６］インデノ［１，２，３－ｃｄ：１’，２’，３’－ｌｍ］ペリレン等が挙げられる。

有機高分子蛍光材料の具体例としては、例えば、フルオレン誘導体に基づく単位からなるホモポリマー、フルオレン誘導体に基づく単位とテトラフェニルフェニレンジアミン誘導体に基づく単位とからなるコポリマー、タ―フェニル誘導体に基づく単位からなるホモポリマー、ジフェニルベンゾフルオレン誘導体に基づく単位からなるホモポリマー等が挙げられる。

三重項励起エネルギーを光に変換可能な化合物としては、燐光を発する有機燐光材料が好ましい。有機燐光材料の具体例としては、例えば、イリジウム、ロジウム、白金、ルテニウム、オスミウム、スカンジウム、イットリウム、ガドリニウム、パラジウム、銀、金、アルミニウムからなる群から選択される少なくとも１種の金属原子を含む金属錯体が挙げられる。中でも、有機燐光材料としては、イリジウム、ロジウム、白金、ルテニウム、オスミウム、スカンジウム、イットリウム、ガドリニウムおよびパラジウムからなる群から選択される少なくとも１種の金属原子を含む金属錯体が好ましく、イリジウム、ロジウム、白金およびルテニウムからなる群から選択される少なくとも１種の金属原子を含む金属錯体がより好ましく、イリジウム錯体または白金錯体がさらに好ましい。

ホスト材料としては、発光材料のエネルギーギャップより大きいエネルギーギャップを有する化合物の少なくとも１種を使用することが好ましい。さらに、発光材料が燐光材料である場合、ホスト材料としては、発光材料の三重項励起エネルギー（基底状態と三重項励起状態とのエネルギー差）よりも三重項励起エネルギーの大きい化合物を選択することが好ましい。

ホスト材料としては、例えば、トリス（８－キノリノラト）アルミニウム（III）、トリス（４－メチル－８－キノリノラト）アルミニウム（III）、ビス（１０－ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナト）ベリリウム（II）、ビス（２－メチル－８－キノリノラト）（４－フェニルフェノラト）アルミニウム（III）、ビス（８－キノリノラト）亜鉛（II）、ビス［２－（２－ベンゾオキサゾリル）フェノラト］亜鉛（II）、ビス［２－（２－ベンゾチアゾリル）フェノラト］亜鉛（II）、２－（４－ビフェニリル）－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール、１，３－ビス［５－（ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル］ベンゼン、３－（４－ビフェニリル）－４－フェニル－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，２，４－トリアゾール、２，２’，２’’－（１，３，５－ベンゼントリイル）トリス（１－フェニル－１Ｈ－ベンゾイミダゾール）、バソフェナントロリン、バソキュプロイン、９－［４－（５－フェニル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール、９，１０－ジフェニルアントラセン、Ｎ，Ｎ－ジフェニル－９－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、４－（１０－フェニル－９－アントリル）トリフェニルアミン、Ｎ，９－ジフェニル－Ｎ－｛４－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］フェニル｝－９Ｈ－カルバゾール－３－アミン、６，１２－ジメトキシ－５，１１－ジフェニルクリセン、９－［４－（１０－フェニル－９－アントラセニル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール、３，６－ジフェニル－９－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール、９－フェニル－３－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール、７－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－７Ｈ－ジベンゾ［ｃ，ｇ］カルバゾール、６－［３－（９，１０－ジフェニル－２－アントリル）フェニル］－ベンゾ［ｂ］ナフト［１，２－ｄ］フラン、９－フェニル－１０－｛４－（９－フェニル－９Ｈ－フルオレン－９－イル）ビフェニル－４’－イル｝アントラセン、９，１０－ビス（３，５－ジフェニルフェニル）アントラセン、９，１０－ジ（２－ナフチル）アントラセン、２－ｔｅｒｔ－ブチル－９，１０－ジ（２－ナフチル）アントラセン、９，９’－ビアントリル、９，９’－（スチルベン－３，３’－ジイル）ジフェナントレン、９，９’－（スチルベン－４，４’－ジイル）ジフェナントレン、１，３，５－トリ（１－ピレニル）ベンゼン、５，１２－ジフェニルテトラセンまたは５，１２－ビス（ビフェニル－２－イル）テトラセン等が挙げられる。これらのホスト材料は、１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。

発光層５の厚さは、特に限定されないが、１～１００ｎｍの範囲であることが好ましく、１～５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。

このような発光層５は、湿式成膜法または乾式成膜法により形成することができる。発光層５を湿式成膜法で形成する場合には、通常、上述の発光材料およびホスト材料を含有するインクを各種塗布法により塗布し、得られた塗膜を乾燥する。塗布法としては、特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷法（液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等が挙げられる。一方、発光層５を乾式成膜法で形成する場合には、真空蒸着法、スパッタリング法等が適用され得る。

なお、ＥＬ光源部２００は、さらに、例えば、正孔注入層３、正孔輸送層４および発光層５を区画するバンク（隔壁）を有していてもよい。バンクの高さは、特に限定されないが、０．１～５μｍの範囲であることが好ましく、０．２～４μｍの範囲であることがより好ましく、０．２～３μｍの範囲であることがさらに好ましい。

バンクの開口の幅は、１０～２００μｍの範囲であることが好ましく、３０～２００μｍの範囲であることがより好ましく、５０～１００μｍの範囲であることがさらに好ましい。バンクの開口の長さは、１０～４００μｍの範囲であることが好ましく、２０～２００μｍの範囲であることがより好ましく、５０～２００μｍの範囲であることがさらに好ましい。また、バンクの傾斜角度は、１０～１００°の範囲であることが好ましく、１０～９０°の範囲であることがより好ましく、１０～８０°の範囲であることがさらに好ましい。

＜光変換層１２＞
光変換層１２は、ＥＬ光源部２００から発せられた光を変換して再発光するか、或いは、ＥＬ光源部２００から発せられた光を透過する。図３に示すように、画素部２０として、前記範囲の波長の光を変換して赤色光を発する第１の画素部２０ａと、前記範囲の波長の光を変換して緑色光を発する第２の画素部２０ｂと、前記範囲の波長の光を透過する第３の画素部２０ｃとを有している。複数の第１の画素部２０ａ、第２の画素部２０ｂ及び第３の画素部２０ｃが、この順に繰り返すように格子状に配列されている。そして、隣り合う画素部の間、すなわち、第１の画素部２０ａと第２の画素部２０ｂとの間、第２の画素部２０ｂと第３の画素部２０ｃとの間、第３の画素部２０ｃと第１の画素部２０ａとの間に、光を遮蔽する遮光部３０が設けられている。言い換えれば、これらの隣り合う画素部同士は、遮光部３０によって離間されている。なお、第１の画素部２０ａおよび第２の画素部２０ｂは、それぞれの色に対応した色材を含んでもよい。

第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂは、それぞれ上述した実施形態の発光粒子含有インク組成物の硬化物を含有する。硬化物は、発光粒子９０と硬化成分とを必須として含有し、さらに、光を散乱させて外部へ確実に取り出すために光拡散粒子を含むことが好ましい。硬化成分は、熱硬化性樹脂の硬化物であり、例えばエポキシ基を含有する樹脂の重合によって得られる硬化物である。すなわち、第１の画素部２０ａは、第１の硬化成分２２ａと、第１の硬化成分２２ａ中にそれぞれ分散された第１の発光粒子９０ａおよび第１の光拡散粒子２１ａとを含む。同様に、第２の画素部２０ｂは、第２の硬化成分２２ｂと、第２の硬化成分２２ｂ中にそれぞれ分散された第１の発光粒子９０ｂ及び第１の光拡散粒子２１ｂとを含む。第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂにおいて、第１の硬化成分２２ａと第２の硬化成分２２ｂとは同一であっても異なっていてもよく、第１の光拡散粒子２２ａと第２の光拡散粒子２２ｂとは同一であっても異なっていてもよい。

第１の発光粒子９０ａは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を吸収し６０５～６６５ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する光を発する、赤色発光粒子である。すなわち、第１の画素部２０ａは、青色光を赤色光に変換するための赤色画素部と言い換えてよい。また、第２の発光粒子９０ｂは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を吸収し５００～５６０ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有する光を発する、緑色発光粒子である。すなわち、第２の画素部２０ｂは、青色光を緑色光に変換するための緑色画素部と言い換えてよい。

発光粒子含有インク組成物の硬化物を含む画素部２０ａ、２０ｂにおける発光粒子９０の含有量は、外部量子効率の向上効果により優れる観点及び優れた発光強度が得られる観点から、発光粒子含有インク組成物の硬化物の全質量を基準として、好ましくは０．１質量％以上である。同様の観点から、発光粒子９０の含有量は、発光粒子含有インク組成物の硬化物の全質量を基準として、１質量％以上、２質量％以上、３質量％以上、５質量％以上であることが好ましい。発光粒子９０の含有量は、画素部２０ａ、２０ｂの信頼性に優れる観点及び優れた発光強度が得られる観点から、発光粒子含有インク組成物の全質量を基準として、好ましくは３０質量％以下である。同様の観点から、発光粒子９０の含有量は、発光粒子含有インク組成物の硬化物の全質量を基準として、２５質量％以下、２０質量％以下、１５質量％以下、１０質量％以下であることが好ましい。

発光粒子含有インク組成物の硬化物を含む画素部２０ａ、２０ｂにおける光拡散粒子２１ａ、２１ｂの含有量は、外部量子効率の向上効果により優れる観点から、インク組成物の硬化物の全質量を基準として、０．１質量％以上、１質量％以上、５質量％以上、７質量％以上、１０質量％以上、１２質量％以上であることが好ましい。光拡散粒子２１ａ、２１ｂの含有量は、外部量子効率の向上効果により優れる観点及び画素部２０の信頼性に優れる観点から、インク組成物の硬化物の全質量を基準として、６０質量％以下、５０質量％以下、４０質量％以下、３０質量％以下、２５質量％以下、２０質量％以下、１５質量％以下であることが好ましい。

第３の画素部２０ｃは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光に対し３０％以上の透過率を有する。そのため、第３の画素部２０ｃは、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光を発する光源を用いる場合に、青色画素部として機能する。第３の画素部２０ｃは、例えば、上述の熱硬化性樹脂を含有する組成物の硬化物を含む。硬化物は、第３の硬化成分２２ｃｃを含有する。第３の硬化成分２２ｃは、熱硬化性樹脂の硬化物であり、具体的には、エポキシ基を含有する樹脂の重合によって得られる硬化物である。すなわち、第３の画素部２０ｃは、第３の硬化成分２２ｃを含む。第３の画素部２０ｃが上述の硬化物を含む場合、熱硬化性樹脂を含有する組成物は、４２０～４８０ｎｍの範囲の波長の光に対する透過率が３０％以上となる限りにおいて、上述の発光粒子含有インク組成物に含有される成分のうち、熱硬化性樹脂、硬化剤、溶剤以外の成分を更に含有していてもよい。なお、第３の画素部２０ｃの透過率は、顕微分光装置により測定することができる。

画素部（第１の画素部２０ａ、第２の画素部２０ｂ及び第３の画素部２０ｃ）の厚さは、特に限定されないが、例えば、１μｍ以上、２μｍ以上、３μｍ以上であることが好ましい。画素部（第１の画素部２０ａ、第２の画素部２０ｂ及び第３の画素部２０ｃ）の厚さは、例えば、３０μｍ以下、２５μｍ以下、２０μｍ以下であることが好ましい。

［光変換層１２の形成方法］
以上の第１～３の画素部２０ａ～２０ｃを備える光変換層１２は、湿式成膜法により形成した塗膜を乾燥、加熱して硬化させることより形成することができる。第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂは、本発明の発光粒子含有インク組成物を用いて形成することができ、第３の画素部２０ｃは当該発光粒子含有インク組成物に含まれる発光粒子９０を含まないインク組成物を用いて形成することができる。以下、本発明の発光粒子含有インク組成物を用いた塗膜形成方法について詳述するが、本発明の発光粒子含有インク組成物を用いる場合も同様に行うことができる。

本発明の発光粒子含有インク組成物の塗膜を得るための塗布法としては、特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷法（ピエゾ方式またはサーマル方式の液滴吐出法）、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法、凸版印刷法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルプリント印刷法等が挙げられる。ここで、ノズルプリント印刷法とは、発光粒子含有インク組成物をノズル孔から液柱としてストライプ状に塗布する方法である。中でも、塗布法としては、インクジェット印刷法（特に、ピエゾ方式の液滴吐出法）が好ましい。これにより、発光粒子含有インク組成物を吐出する際の熱負荷を小さくすることができ、発光粒子９０の熱による劣化を防ぐことができる。

インクジェット印刷法の条件は、次のように設定することが好ましい。発光粒子含有インク組成物の吐出量は、特に限定されないが、１～５０ｐＬ／回であることが好ましく、１～３０ｐＬ／回であることがより好ましく、１～２０ｐＬ／回であることがさらに好ましい。

また、ノズル孔の開口径は、５～５０μｍの範囲であることが好ましく、１０～３０μｍの範囲であることがより好ましい。これにより、ノズル孔の目詰まりを防止しつつ、発光粒子含有インク組成物の吐出精度を高めることができる。

塗膜を形成する際の温度は、特に限定されないが、１０～５０℃の範囲であることが好ましく、１５～４０℃の範囲であることがより好ましく、１５～３０℃の範囲であることがさらに好ましい。かかる温度で液滴を吐出するようにすれば、発光粒子含有インク組成物中に含まれる各種成分の結晶化を抑制することができる。

また、塗膜を形成する際の相対湿度も、特に限定されないが、０．０１ｐｐｍ～８０％の範囲であることが好ましく、０．０５ｐｐｍ～６０％の範囲であることがより好ましく、０．１ｐｐｍ～１５％の範囲であることがさらに好ましく、１ｐｐｍ～１％の範囲であることが特に好ましく、５～１００ｐｐｍの範囲であることが最も好ましい。相対湿度が上記下限値以上であると、塗膜を形成する際の条件の制御が容易となる。一方、相対湿度が上記上限値以下であると、得られる光変換層１２に悪影響を及ぼし得る塗膜に吸着する水分量を低減することができる。

発光粒子含有インク組成物中に有機溶剤を含有する場合、塗膜を硬化させる前に、乾燥によって有機溶剤を塗膜から除去することが好ましい。前記乾燥は、室温（２５℃）で放置して行っても、加熱することにより行ってもよいが、生産性の観点から加熱することによって行うのが好ましい。乾燥を加熱により行う場合、乾燥温度は特に限定されないが、発光粒子含有インク組成物に使用される有機溶剤の沸点及び蒸気圧を考慮した温度とすることが好ましい。乾燥温度は、塗膜中の有機溶剤を除去するプリベーク工程として、５０～１３０℃であることが好ましく、６０～１２０℃であることがより好ましく、７０～１１０℃であることが特に好ましい。乾燥温度が５０℃以下であると有機溶剤が除去できないことがあり、一方、１３０℃以上であると有機溶剤の除去が瞬時に起こり、塗膜の外観が著しく劣ることがあるため、好ましくない。また、乾燥は、減圧下で行うことが好ましく、０．００１～１００Ｐａの減圧下で行うことがより好ましい。さらに、乾燥時間は、１～３０分間であることが好ましく、１～１５分間であることがより好ましく、１～１０分間であることが特に好ましい。このような乾燥条件で塗膜を乾燥することにより、有機溶剤が確実に塗膜中から除去され、得られる光変換層１２の外部量子効率をより向上させることができる。

本発明の発光粒子含有インク組成物は、活性エネルギー線（例えば、紫外線）の照射により硬化させることができる。照射源（光源）としては、例えば、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ等が使用されるが、塗膜への熱負荷の低減、低消費電力の観点からＬＥＤが好ましい。

照射する光の波長は、２００ｎｍ以上であることが好ましく、４４０ｎｍ以下であることがより好ましい。また、光の強度は、０．２～２ｋＷ／ｃｍ^２であることが好ましく、０．４～１ｋＷ／ｃｍ^２であることがより好ましい。０．２ｋＷ／ｃｍ^２未満の光の強度では十分に塗膜を硬化できず、２ｋＷ／ｃｍ^２以上の光の強度では塗膜表面と内部の硬化度にムラが発生し、塗膜表面の平滑性が劣るため好ましくない。光の照射量（露光量）は、１０ｍＪ／ｃｍ^２以上であることが好ましく、４０００ｍＪ／ｃｍ^２以下であることがより好ましい。
塗膜の硬化は、空気中あるいは不活性ガス中で行うことができるが、塗膜表面の酸素阻害及び塗膜の酸化を抑制するために、不活性ガス中で行うことがより好ましい。不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、二酸化炭素等が挙げられる。このような条件で塗膜を硬化させることにより、塗膜が完全に硬化できることから、得られる光変換層９の外部量子効率をより向上させることができる。

上述したように、本発明の発光粒子インク組成物は熱に対する安定性が優れることから、熱硬化後の成形体である画素部２０においても、良好な発光を実現することができる。さらには、本発明の発光粒子組成物は分散性に優れるため、発光粒子９０の分散性に優れ、且つ、平坦な画素部２０を得ることができる。

さらに、第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂに含まれる発光粒子９０は、ペロブスカイト型を有する半導体ナノ結晶を含むため、３００～５００ｎｍの波長領域の吸収が大きい。そのため、第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂにおいて、第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂに入射した青色光が上基板１３側へ透過する、すなわち、青色光が上基板１３側へ漏れることを防ぐことができる。したがって、本発明の第１の画素部２０ａ及び第２の画素部２０ｂによれば、青色光が混色されることなく、色純度の高い赤色光及び緑色光を取り出すことができる。

遮光部３０は、隣り合う画素部２０を離間して混色を防ぐ目的及び光源からの光漏れを防ぐ目的で設けられる、いわゆるブラックマトリックスである。遮光部３０を構成する材料は、特に限定されず、クロム等の金属の他、バインダーポリマーにカーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子を含有させたインク組成物の硬化物等を用いることができる。ここで用いられるバインダーポリマーとしては、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の樹脂を１種又は２種以上混合したもの、感光性樹脂、Ｏ／Ｗエマルジョン型のインク組成物（例えば、反応性シリコーンをエマルジョン化したもの）などを用いることができる。遮光部３０の厚さは、例えば、１μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましい。

発光素子１００は、トップエミッション型に代えて、ボトムエミッション型として構成することもできる。また、発光素子１００は、ＥＬ光源部２００に代えて、他の光源を使用することもできる。

以上、本発明の発光粒子含有インク組成物及びその製造方法、並びに、当該インク組成物を用いて製造した光変換層を備えた発光素子について説明したが、本発明は、上述した実施形態の構成に限定されるものではない。例えば、本発明の発光粒子、発光粒子分散体、発光粒子含有インク組成物および発光素子は、それぞれ、上述した実施形態の構成において、他の任意の構成を追加して有していてもよいし、同様の機能を発揮する任意の構成と置換されていてよい。また、本発明の発光粒子の製造方法は、上述した実施形態の構成において、他の任意の目的の工程を有していてもよいし、同様の効果を発揮する任意の工程と置換されていてよい。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。

下記実施例では、発光粒子を製造する操作及び発光粒子含有インク組成物を製造する操作は、窒素で満たしたグローブボックス内又は大気を遮断し窒素気流下のフラスコ内で行った。また、以下で例示するすべての原料は、その容器内に導入した窒素ガスで容器内の大気を置換した後に用いた。尚、液体材料に関しては、その容器内に導入した窒素ガスで液体材料中の溶存酸素を置換した後に用いた。

また、以下で用いる、イソボルニルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、３モルのプロポキシ変性グリセリントリアクリレートは、あらかじめモレキュラーシーブス（３Ａあるいは４Ａを使用）で４８時間以上脱水したものを用いた。酸化チタンについては使用前に、１ｍｍＨｇの減圧下、２時間、１２０℃で加熱し、窒素ガス雰囲気下で放冷した。

＜発光粒子分散液の調製＞
（発光粒子分散液１の調製）
まず、１ｍＬのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド溶液に、１５．０ｍｇの臭化鉛（II）、８．５ｍｇの臭化セシウム、オレイン酸及びオレイルアミンを添加することにより、半導体ナノ結晶の原料化合物を含む溶液を得た。

一方、０．２５ｍＬの３－アミノプロピルトリエトキシシランと、５ｍＬのトルエンとを混合し、エトキシシラン－トルエン溶液を得た。その後、上述の１ｍＬの半導体ナノ結晶の原料化合物を含む溶液を、上述の２０ｍＬのエトキシシラン－トルエン溶液に大気下、室温で攪拌しながら添加し、さらに、そのまま１５００ｒｐｍで２０秒間室温で撹拌した。その後、遠心分離（１２，１００回転／分、５分間）により固形物を回収し、発光粒子Ｘ－１を得た。

この発光粒子Ｘ－１は、表面層を備えたペロブスカイト型の三臭化鉛セシウム結晶であり、透過型電子顕微鏡観察により平均粒子径は１１ｎｍであった。また、表面層は３－アミノプロピルトリエトキシシランで構成される層であり、その厚さは約１ｎｍであった。すなわち、発光粒子Ｘ－１は、シリカで被覆された粒子である。

さらに、発光粒子Ｘ－１を固形分濃度が２．５質量％となるようにイソボルニルメタクリレートに分散することにより、発光粒子Ｘ－１が分散した発光粒子分散液１を得た。

（発光粒子分散液２の調製）
イソボルニルメタクリレートの代わりに、ラウリルメタクリレートを用いた以外は発光粒子分散液１と同様にして、発光粒子分散液２を得た。
（発光粒子分散液３の調製）
温度計、攪拌機、還流冷却器および窒素ガス導入管を備えた四つ口フラスコに、１９０質量部のヘプタンを供給し、８５℃に昇温した。同温度に到達した後、６６．５質量部のラウリルメタクリレート、３．５質量部のジメチルアミノエチルメタクリレートおよび０．５質量部のジメチル－２，２－アゾビス（２－メチルプロピオネート）を２０質量部のヘプタンに溶解した混合物を、上記四つ口フラスコのへプタンに３．５時間かけて滴下し、滴下終了後も、同温度に１０時間保持し、反応を継続した。その後、反応液の温度を５０℃に降温した後、０．０１質量部のｔ－ブチルピロカテコールを１．０質量部のヘプタンに溶解した溶液を添加し、さらに１．０質量部のグリシジルメタクリレートを添加した後、８５℃まで昇温し、同温度で５時間反応を継続した。これにより、重合体（Ｐ）を含有する溶液を得た。なお、溶液中に含まれる不揮発分（ＮＶ）の量は２５．１質量％であり、重合体（Ｐ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は１０，０００であった。

次いで、温度計、攪拌機、還流冷却器および窒素ガス導入管を備えた四つ口フラスコに、２６質量部のヘプタンと、３質量部の上述の発光粒子Ｘ－１と、３．６質量部の上述の重合体（Ｐ）を含有する溶液を供給した。さらに上記四つ口フラスコに、０．２質量部のエチレングリコールジメタクリレートと、０．４質量部のメチルメタクリレートと、０．１２質量部のジメチル－２，２－アゾビス（２－メチルプロピオネート）とを供給した。その後、上記四つ口フラスコ内の混合液を、室温で３０分間攪拌した後、８０℃に昇温し、同温度で１５時間反応を継続した。反応終了後、反応溶液内の発光粒子Ａに吸着しなかったポリマーを遠心分離により分離し、次いで、沈降した粒子を室温で２時間真空乾燥することにより、母粒子としての発光粒子Ｘ－１の表面が疎水性ポリマーからなるポリマー層で被覆されたポリマー被覆発光粒子Ｘ－２を得た。

得られたポリマー被覆発光粒子Ｘ－２を透過型電子顕微鏡で観察したところ、発光粒子Ｘ－２の表面に厚さ約１０ｎｍのポリマー層が形成されていた。その後、得られたポリマー被覆発光粒子Ｘ－２を固形分濃度が２．５質量％となるようにイソボルニルメタクリレートに分散することにより、発光粒子分散液３を得た。

（発光粒子分散液４の調製）
中空粒子として、日鉄鉱業株式会社製「ＳｉｌｉＮａｘ ＳＰ－ＰＮ（ｂ）」のシリカ粒子を用いた。この中空粒子は、全体が直方体であって、中空構造を備えたシリカ粒子であり、平均外径が１００ｎｍであり、平均内径が８０ｎｍである。まず、この中空シリカ粒子を１５０℃で８時間減圧乾燥した。次いで、乾燥した中空シリカ粒子２００．０質量部を桐山ロートに秤取した。

次に、アルゴン雰囲気下、三つ口フラスコに６３．９質量部の臭化セシウム、１１０．１質量部の臭化鉛（II）および３０００質量部のＮ－メチルホルムアミドを供給し、５０℃で３０分間撹拌することにより、三臭化鉛セシウム溶液を得た。

次に、前記三つ口フラスコに中空シリカ粒子を供給して、得られた三臭化鉛溶液を中空シリカ粒子に含浸させた後、過剰な三臭化鉛セシウム溶液をろ過により除去し、固形物を回収した。その後、得られた固形物を１２０℃で１時間減圧乾燥することにより、ペロブスカイト型の三臭化鉛セシウムからなるナノ結晶を中空シリカ粒子に内包した発光粒子Ｘ－３を得た。発光粒子Ｘ－３は、中空粒子内包発光粒子である。

得られた発光粒子Ｘ－３を固形分濃度が２．５質量％となるようにイソボルニルメタクリレートに分散することにより、発光粒子Ｘ－３が分散した発光粒子分散液４を得た。

（発光粒子分散液５の調製）
まず、発光粒子Ｘ－１に代えて発光粒子Ｘ－３を用いたこと以外は、ポリマー被覆発光粒子Ｘ－２と同様にして、母粒子としての発光粒子Ｘ－３が疎水性ポリマーからなるポリマー層で被覆されたポリマー被覆発光粒子Ｘ－４を得た。そして、発光粒子として、ポリマー被覆発光粒子Ｘ－２に代えてポリマー被覆発光粒子Ｘ－４を用いた以外は発光粒子分散液２と同様にして、発光粒子分散液５を得た。

（発光粒子分散液６の調製）
ポリマー被覆発光粒子Ｘ－２を固形分濃度が５．０質量％となるようにイソボルニルメタクリレートに分散したこと以外は、発光粒子分散液３と同様にして、ポリマー被覆発光粒子Ｘ－２が分散した発光粒子分散液６を得た。

（発光粒子分散液７の調製）
まず、温度計、攪拌機、セプタムおよび窒素ガス導入管を備えた四つ口フラスコに、０．８１４質量部の炭酸セシウムと、４０質量部のオクタデセンと、２．５質量部のオレイン酸とを供給し、窒素雰囲気下、１５０℃で均一な溶液になるまで加熱撹拌した。全て溶解させた後、１００℃まで冷却することによって、オレイン酸セシウム溶液を得た。

次に、温度計、攪拌機、セプタムおよび窒素ガス導入管を備えた四つ口フラスコに、０．０６９質量部の臭化鉛（II）と、５質量部のオクタデセンとを供給し、窒素雰囲気下、１２０℃で１時間加熱撹拌した。続いて前記四つ口フラスコに、０．５質量部のオレイルアミンと０．５質量部のオレイン酸とを供給し、窒素雰囲気下、１６０℃で均一な溶液になるまで加熱撹拌した。さらに前記四つ口フラスコに、０．４重量部のオレイン酸セシウム溶液を供給し、１６０℃で５秒間撹拌した後、当該四つ口フラスコを氷冷した。得られた反応液を遠心分離によって分離し、上澄み液を除去することによって、発光粒子Ｘ－５として、オレイン酸およびオレイルアミンが配位したペロブスカイト型の三臭化鉛セシウム結晶０．４５質量部を得た。その後、得られた発光粒子Ｘ－５を、固形分濃度が２．５質量％となるようにイソボルニルメタクリレートに分散させることによって発光粒子分散液７を得た。

（発光粒子分散液８の調製）
まず、０．１２ｇの炭酸セシウムと、５ｍＬの１－オクタデセンと、０．５ｍＬのオレイン酸とを混合して混合液を得た。次に、この混合液を１２０℃で３０分間、減圧乾燥した後、アルゴン雰囲気下に１５０℃で加熱した。これにより、セシウム－オレイン酸溶液を得た。

一方、０．１ｇの臭化鉛（ＩＩ）と７．５ｍＬの１－オクタデセンと、０．７５ｍＬのオレイン酸とを混合して混合液を得た。次に、この混合液を９０℃で１０分間、減圧乾燥した後、アルゴン雰囲気下に混合液に０．７５ｍＬの３－アミノプロピルトリエトキシシランを添加した。その後さらに２０分間減圧乾燥を行った後、アルゴン雰囲気下に１４０℃で加熱した。

その後、上記臭化鉛（ＩＩ）を含む混合液に１５０℃で０．７５ｍＬの前記セシウム－オレイン酸溶液を添加し、５秒間加熱撹拌することにより反応させた後、氷浴で冷却した。次いで、６０ｍＬの酢酸メチルを添加した。得られた懸濁液を遠心分離（１０，０００回転／分、１分間）した後、上澄み液を除去することにより、前駆体粒子Ｐ１を含む固形物を得た。なお、前駆体粒子Ｐ１を構成するナノ結晶はペロブスカイト型の三臭化鉛セシウム結晶であり、走査透過電子顕微鏡観察により分析したところその平均粒子径は１０ｎｍであった。ポリマーＢとして、下記式（Ｂ３）で表される構造を有するブロックコポリマー（Ｓ２ＶＰ、ＰｏｌｙｍｅｒＳｏｕｒｃｅ．社製）８００ｍｇをトルエン８０ｍＬに添加し、６０℃で加熱溶解させた。上記前駆体粒子Ｐ１を含む固形物に、ブロックコポリマーが溶解したトルエン８０ｍＬを添加し、１５分間撹拌した後、遠心分離して、上澄み液を回収することにより、前駆体粒子及びブロックコポリマーを含むトルエン分散液を得た。

上記トルエン分散液２ｍＬに対して、下記式（Ｃ４）で表される化合物（ＭＳ－５１、コルコート株式会社製、式（Ｃ４）中のｍの平均値は４である。）１０μＬを添加し、５分間撹拌し、次いで、イオン交換水５μＬを更に添加して２時間撹拌した。

得られた溶液を、９，０００回転／分、５分間の条件で遠心分離した後、上澄み液２ｍＬを回収することにより、発光粒子がトルエンに分散した発光粒子分散体Ｔを得た。発光粒子分散体Ｔに分散した発光粒子について、動的光散乱式ナノトラック粒度分布計を用いて平均粒子径を測定したところ、１０９ｎｍであった。前記発光粒子について、走査透過電子顕微鏡を用いたエネルギー分散型Ｘ線分析法（ＳＴＥＭ－ＥＤＳ）によって元素分布を評価したところ、表面層にＳｉが含まれていることを確認した。また、当該表面層の厚さは４９ｎｍであった。

発光粒子分散体Ｔからトルエンを除去することによって、発光粒子Ｘ－６として、シリカ被覆されたペロブスカイト型の三臭化鉛セシウム結晶０．２０質量部を得た。その後、得られた発光粒子Ｘ－６を、固形分濃度が２．５質量％となるようにイソボルニルメタクリレートに分散させることによって発光粒子分散液８を得た。

下記表１に、得られた発光粒子分散液１～８について、分散質と、分散質における無機被覆層の有無及びポリマー層の有無を示す。

＜光拡散粒子分散液の調製＞
（光拡散粒子分散液１の調製）
窒素ガスで満たした容器内で、酸化チタン（石原産業株式会社製「ＣＲ６０－２」）１０．０質量部と、高分子分散剤「Ｅｆｋａ ＰＸ４７０１」（アミン価：４０．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）１．０質量部と、フェノキシエチルメタクリレート（ライトエステルＰＯ；共栄社化学株式会社製）１４．０質量部とを混合した。さらに、得られた配合物にジルコニアビーズ（直径:１．２５ｍｍ) を加え、前記容器を密栓しペイントコンディショナーを用いて２時間振とうさせて配合物の分散処理を行うことにより、光拡散粒子分散体１を得た。分散処理後の光拡散粒子の平均粒子径は、ＮＡＮＯＴＲＡＣ ＷＡＶＥ ＩＩを用いて測定したところ、０．２４５μｍであった。

＜発光粒子含有インク組成物の調製＞
（発光粒子含有インク組成物（１）の調製）
実施例１の発光粒子含有インク組成物として、発光粒子分散液１（発光粒子濃度２．５質量％）６．０質量部と、光拡散粒子分散体１（酸化チタン含有量４０．０質量％）０．７５質量部と、光重合性化合物として「ラウリルメタクリレート」（製品名：ライトエステルＬＭ、共栄社化学株式会社製）０．６５質量部及び「１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート」（製品名：ライトエステル１，６－ＨＸ、共栄社化学株式会社製）２．０質量部と、光重合開始剤として「ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキサイド」（製品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ－Ｈ、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）０．３質量部及び「フェニルビス（２、４、６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキサイド」（製品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）０．１質量部と、次亜リン酸ジエステル化合物として「テトラキス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，１－ビフェニル－４，４’－ジイルビスホスフォナイト」（製品名：ＨＯＳＴＡＮＯＸ Ｐ－ＥＰＱ（製品名、クラリアントケミカルズ株式会社製）０．１質量部と、次亜リン酸ジエステル化合物以外の酸化防止剤として「ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオナート］」（製品名：Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）０．１質量部を、アルゴンガスで満たした容器内で混合、均一に溶解した後、グローブボックス内で、溶解物を孔径５μｍのフィルターでろ過した。さらに、得られたろ過物を入れた容器内にアルゴンガスを導入し、容器内をアルゴンガスで飽和させた。次いで、減圧してアルゴンガスを除去することにより、発光粒子含有インク組成物（１）を得た。発光粒子の含有量は１．５質量％であり、ＩＢ－Ｘの含有量は５８．５質量％であり、ＬＭの含有量は６．５質量％であり、ＰＯの含有量は４．２質量％であり、１，６－ＨＸの含有量は２０．０質量％であり、ＴＰＯ－Ｈの含有量は３．０質量％であり、８１９の含有量は１．０質量％であり、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０の含有量は１．０質量％であり、ＰＥＰ－３６の含有量は１．０質量％であり、光散乱性粒子の含有量は３．０質量％であり、高分子分散剤の含有量は、０．３質量％であった。なお、上記含有量はインク組成物の全質量を基準とする含有量である。

（発光粒子含有インク組成物（２）～（２１）及び（Ｃ１）～（Ｃ３）の調製）
発光粒子分散液１～７、光拡散粒子分散液１、光重合性化合物Ｄ－２～Ｄ－６、光重合開始剤Ｅ－１～Ｅ－２、次亜リン酸ジエステル化合物Ａ－１～Ａ－２及び次亜リン酸ジエステル化合物以外の酸化防止剤Ｂ－１～Ｂ－４の添加量を、下記表２～表４に示す添加量に変更した以外は、発光粒子含有インク組成物（１）の調製と同一条件で、実施例２～２０の発光粒子含有インク組成物（２）～（２１）及び比較例１～３の発光粒子含有インク組成物（Ｃ１）～（Ｃ３）を得た。

さらに、下記表５に、光重合性化合物（Ｍ）の総量中における環状構造を有する光重合性化合物（Ｍｃ）の質量比率（Ｍｃ／Ｍ）、環状構造を有するラジカル重合性化合物の含有量Ｍ_Ｃに対する、炭素数が３以上である直鎖構造を有するラジカル重合性化合物の含有量Ｍ_Ｌの質量比率（Ｍ_Ｌ／Ｍ_Ｃ）を示す。

（次亜リン酸ジエステル化合物）

化合物（Ａ－１）：「テトラキス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，１－ビフェニル－４，４’－ジイルビスホスフォナイト」（製品名：ＨＯＳＴＡＮＯＸ Ｐ－ＥＰＱ（クラリアントケミカルズ株式会社製）、融点８５～１００℃、分子量１０３５）
化合物（Ａ－２）：「テトラキス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルフェニル）－４，４’－ビフェニレンジホスフォナイト」（製品名：ＧＳＹ－Ｐ１００（堺化学工業株式会社製）、融点２３５～２４０℃、分子量１０９２）

（酸化防止剤）

化合物（Ｂ－１）：「テトラキス［メチレン－３（３’５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒロドキシフェニル）プロピオネート］メタン」（ヒンダードフェノール系酸化防止剤、製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ １０１０（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、融点１１０～１３０℃、分子量１１７８）
化合物（Ｂ－２）：「ｎ－オクラデシル－３（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネート」（ヒンダードフェノール系酸化防止剤、製品名：アデカスタブＡＯ－５０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、融点５０～５５℃、分子量５３１）
化合物（Ｂ－３）：「３，９－ビス［２－［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ］－１，１－ジメチルエチル］－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン」（セミヒンダードフェノール系酸化防止剤、製品名：アデカスタブＡＯ－８０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、融点１１０～１２０℃、分子量７４１）
化合物（Ｂ－４）：「１，１，３－トリス－（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ブタン」（レスヒンダードフェノール系酸化防止剤、製品名：アデカスタブＡＯ－３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、融点１８３～１８５℃、分子量５４５）
化合物（Ｂ－５）：「トリフェニルホスファイト」（亜リン酸トリエステル化合物、製品名：ＪＰ－３６０（城北化学工業株式会社製）、融点２５℃、分子量３１０）

（光重合性化合物）
化合物（Ｄ－１）：「イソボルニルメタクリレート」（製品名：ライトエステルＩＢ－Ｘ、共栄社化学株式会社製）
化合物（Ｄ－２）：「ラウリルメタクリレート」（製品名：ライトエステルＬ、共栄社化学株式会社製）
化合物（Ｄ－３）：「フェノキシエチルメタクリレート」（製品名：ライトエステルＰＯ、共栄社化学株式会社製）
化合物（Ｄ－４）：「１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート」（製品名：ライトエステル１，６－ＨＸ、共栄社化学株式会社製）
化合物（Ｄ－５）：「トリシクロデカンジメタノールジアクリレート」（製品名：ライトアクリレートＤＣＰ－Ａ、共栄社化学株式会社製）
化合物（Ｄ－６）：「ＰＯ変性グリセリントリアクリレート」（製品名：ＯＴＡ４８０、ダイセル・オルネクス株式会社製）

（光重合開始剤）
化合物（Ｅ－１）：「ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキサイド」（モノアシルホスフィンオキサイド系化合物、製品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ－Ｈ、ＩＧＭ ＲＥＳＩＮＳ社製）
化合物（Ｅ－２）：「フェニルビス（２、４、６－トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキサイド」（ビスアシルホスフィンオキサイド系化合物、製品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９、ＩＧＭ ＲＥＳＩＮＳ社製）

＜発光粒子含有インク組成物の評価＞
（実施例１）
（インク粘度の安定性）
本発明の発光粒子含有インク組成物（１）の粘度の安定性を以下の方法で評価した。調製直後のインク組成物の粘度と、調製後に４０℃の恒温槽に１週間保管したインク組成物の粘度を比較し、粘度の上昇率を算出した。具体的には、調製直後のインク組成物の粘度をη_０とし、調製後に４０℃の恒温槽に１週間保管したインク組成物の粘度をη_１として以下の式で算出したところ、０．１１％であった。
粘度上昇率（ ％ ）＝（η_１―η_０）／η_０×１００

（実施例２～２１）
本発明の発光粒子含有インク組成物（２）～（２１）を用いて、実施例１と同様に、発光粒子含有インク組成物（２）～（２１）の粘度安定性の評価を行った。

（比較例１～３）
比較用の発光粒子含有インク組成物（Ｃ１）～（Ｃ３）を用いて、実施例１と同様に、発光粒子含有インク組成物（Ｃ１）～（Ｃ３）の粘度安定性の評価を行った。

結果を表６に示す。

＜光変換層の評価＞
（実施例２２）
本発明の発光粒子含有インク組成物（１）を、ガラス基板上に、乾燥後の膜厚が１５μｍとなるように、スピンコーターにて大気中で塗布した。塗布膜を窒素雰囲気下、主波長３９５ｎｍのＬＥＤランプを用いたＵＶ照射装置で積算光量１０Ｊ／ｃｍ２になるようにＵＶを照射して硬化させた後、酸素濃度１体積％以下のグローブボックス中にて３０分間、１８０℃にて加熱し、ガラス基板上に該インク組成物の硬化物からなる光変換層１を形成した。以下のようにして、光変換層の表面平滑性及び外部量子効率保持率を評価した。

（表面平滑性評価）
得られた光変換層１の表面粗さ（Ｓａ値；単位μｍ）を、菱化システムのＶｅｒｔＳｃａｎ３．０Ｒ４３００を用いて測定したところ、０．０７μｍであった。

（外部量子効率（ＥＱＥ）の評価）
面発光光源としてのシーシーエス株式会社社製の青色ＬＥＤ（ピーク発光波長：４５０ｎｍ）の上方に積分球を設置し、この積分球に大塚電子株式会社製の放射分光光度計（商品名「ＭＣＰＤ－９８００」）を接続した。次に、青色ＬＥＤと積分球との間に上述の評価用試料１を挿入して、青色ＬＥＤを点灯させ、観測されるスペクトル及び各波長における照度を放射分光光度計によって測定した。得られたスペクトル及び照度から、以下のようにして外部量子効率（ＥＱＥ）を求めた。

外部量子効率は、光変換層に入射した光（光子）のうち、どの程度の割合で蛍光として観測者側に放射されるかを示す値である。従って、この値が大きければ光変換層が発光特性に優れていることを示しており、重要な評価指標である。外部量子効率（ＥＱＥ）は、以下の式（１）で算出される。
ＥＱＥ［％］＝Ｐ２／Ｅ（Ｂｌｕｅ）×１００…（１）
式中、Ｅ（Ｂｌｕｅ）は、３８０～４９０ｎｍの波長域における「照度×波長÷ｈｃ」の合計値を表し、Ｐ２は、５００～６５０ｎｍの波長域における「照度×波長÷ｈｃ」の合計値を表し、これらは観測した光子数に相当する値である。なお、ｈは、プランク定数、ｃは光速を表す。

そして、上記光変換層１を作製した直後に測定したＥＱＥを初期の外部量子効率ＥＱＥ_０とし、ＥＱＥ_０を測定したところ、３２％であった。その後、光変換層１を室温かつ大気下で１０日保管した。保管後の外部量子効率をＥＱＥ_ｈとし、以下の式（２）によって、光変換層１の外部量子保持率［％］を算出した。
外部量子保持率［％］＝ＥＱＥ_ｈ／ＥＱＥ_０×１００…（２）
ここで、ＥＱＥ_０は、数値が大きいほど、塗膜の硬化工程における紫外線による半導体ナノ結晶の劣化が小さい、すなわち、紫外線に対する安定性に優れることを意味する。光変換層として使用するためには、ＥＱＥ_０は２０％以上が好ましく、２５％以上がより好ましく、優れることを意味する。さらに、光変換層は、ＥＱＥ_０に加えて、さらにＥＱＥ_ｈが高いことが望ましく、外部量子効率保持率が高いほど、発光粒子を含む光変換層の酸素ガスおよび水蒸気に対する安定性が高いことを意味する。

（実施例２３～４２）
本発明の発光粒子含有インク組成物（２）～（２１）を用いて、実施例２２と同様に、光変換層２～２１の表面粗さＳａ（μｍ）、ＥＱＥ_０（％）、外部量子効率保持率（％）の評価を行った。

（比較例４～６）
比較用の発光粒子含有インク組成物（Ｃ１）～（Ｃ３）を用いて、実施例２１と同様に、光変換層Ｃ１～Ｃ３の表面粗さＳａ（μｍ）、ＥＱＥ_０（％）及び外部量子効率保持率（％）の評価を行った。

結果を表７に示す。

＜発光粒子含有インク組成物及び光変換層の評価結果＞
実施例１～１２、及び比較例１～３の発光粒子含有インク組成物、並びに、それらを用いて作製した実施例２１～３２、及び比較例４～６の光変換層について検討する。比較例１の発光粒子含有インク組成物は、次亜リン酸ジエステル化合物だけでなく酸化防止剤も含まないため、インク粘度の経時上昇を抑制できていない。比較例１のインク組成物を用いた形成された比較例４の光変換は、外部量子収率（ＥＱＥ）保持率が低い。比較例３のインク組成物は、次亜リン酸ジエステル化合物以外の酸化防止剤を含有するものの、次亜リン酸ジエステル化合物を使用していないことから、粘度の経時上昇も抑制できていない。比較例２及び３のインク組成物を用いて形成された比較例５及び６の光変換層は、塗膜表面が実施例２２～３３よりも粗く、外部量子効率保持率が低く、実使用に耐えないことが明らかである。

これに対して、実施例１～１２の発光粒子含有インク組成物は、次亜リン酸ジエステル化合物を含有することから、インクの経時増粘を抑えられており、また実施例２２～３３の光変換層としたときの表面粗さ、ＥＱＥ保持率も良好である。このことから、実施例１～１２の発光粒子含有インク組成物は、比較例１～３と比較して、インクジェットに適正なインク粘度を保ちつつ、実施例２２～３３に示すように、塗膜となった場合には、平滑な光変換層を形成でき、その塗膜は、酸素、水蒸気及び熱に対する優れた安定性を確保し、優れた発光特性を有する光変換層であることが明らかである。

次に、実施例１、１３～１５の発光粒子含有インク組成物、及びそれらを用いて作製した実施例２２、３４～３６の光変換層について検討する。実施例１、１３～１５のインク組成物は、光重合性化合物の種類及び含有量が異なる。これらのインク組成物は、インク粘度の安定性に優れており、実施例２２、３４～３６の光変換層における表面粗さは小さく、ＥＱＥ保持率も優れている。特に、実施例１４のインク組成物では、光重合性化合物が環状構造を有する化合物のみを使用していることから、光変換層のＥＱＥ保持率が優れている。

次に、実施例１、１６～２０の発光粒子含有インク組成物、及びそれらを用いて作製した実施例２２、３７～４１の光変換層について検討する。実施例１及び１７のインク組成物は、表面にシリカ被覆層が存在する発光粒子を用いており、実施例１６及び１８のインク組成物は、さらにポリマー層で被覆された発光粒子を用いている。これらのインク組成物は、インク粘度の安定性が優れ、実施例２２及び３７～４０の光変換層における表面粗さは小さく、ＥＱＥ保持率も優れており、特に、実施例１６のインク組成物に用いた発光粒子を含有する場合に最も優れた特性が得られている。また、実施例１９のインク組成物は、実施例１６のインク組成物と同一の発光粒子をより多く含有しているが、インク粘度の安定性は良好であり、実施例４０の光変換層での表面粗さ及びＥＱＥ保持率も良好である。特に、ＥＱＥ初期値も高く、保持率も最良である。一方、シリカ層及びポリマー層の被覆がない発光粒子を用いている実施例２０のインク組成物では、インク粘度の安定性に若干劣るが、実施例４１の光変換層での表面粗さとＥＱＥ保持率は良好である。このことから、シリカ層及びポリマー層により被覆された発光粒子を用いることが、優れたインク保存性と、光変換層での優れた光学特性を与えることが明らかである。

次に、実施例２、２０及び２１の発光粒子含有インク組成物、及びそれらを用いて作製した実施例２３、４１及び４２の光変換層について検討する。実施例２、２０及び２１のインク組成物は、発光粒子の種類が異なる。これらのインク組成物は、インク粘度の安定性に優れており、実施例２３、４１及び４２の光変換層における表面粗さは小さく、ＥＱＥ保持率も優れている。特に、実施例４２のインク組成物では、シリカ被覆層が厚いため光変換層のＥＱＥ保持率が優れている。

以上のことから、実施例１～２０の発光粒子含有インク組成物によって得られた光変換層は、発光特性に優れ、平滑な表面を備えることが明らかである。よって、これらの光変換層を用いて、発光素子のカラーフィルタ画素部を構成した場合には、優れた発光特性を得ることができるものと期待できる。

１００ 発光素子
２００ ＥＬ光源部
１ 下基板
２ 陽極
３ 正孔注入層
４ 正孔輸送層
５ 発光層
６ 電子輸送層
７ 電子注入層
８ 陰極
９ 封止層
１０ 充填層
１１ 保護層
１２ 光変換層
１３ 上基板
１４ ＥＬ層
２０ 画素部、
２０ａ 第１の画素部
２０ｂ 第２の画素部
２０ｃ 第３の画素部
２１ａ 第１の光拡散粒子
２１ｂ 第２の光拡散粒子
２１ｃ 第３の光拡散粒子
２２ａ 第１の硬化成分
２２ｂ 第２の硬化成分
２２ｃ 第３の硬化成分
９０ａ 第１の発光粒子
９０ｂ 第１の発光粒子
３０ 遮光部
９０ 発光粒子、ポリマー被覆粒子
９１ 発光粒子
９１１ ナノ結晶
９１２ 中空ナノ粒子
９１２ａ 中空部
９１２ｂ 細孔
９１３ 中間層
９１４ 表面層
９２ ポリマー層
７０１ コンデンサ
７０２ 駆動トランジスタ
７０５ 共通電極
７０６ 信号線
７０７ 走査線
７０８ スイッチングトランジスタ
Ｃ１ 信号線駆動回路
Ｃ２ 走査線駆動回路
Ｃ３ 制御回路
ＰＥ，Ｒ，Ｇ，Ｂ 画素電極
X 共重合体
ＸＡ 会合体
ｘ１ 脂肪族ポリアミン鎖
ｘ２ 疎水性有機セグメント
ＹＡ コア－シェル型シリカナノ粒子
Ｚ 半導体ナノ結晶の原料化合物を含有する溶液

Claims (20)

1. メタルハライドからなり発光性を有する半導体ナノ結晶を含むナノ粒子と、光重合性化合物と、光重合開始剤と、次亜リン酸ジエステル化合物とを含有することを特徴とする発光粒子含有インク組成物。
2. 前記次亜リン酸ジエステル化合物は、分子量が５００以上１５００以下であり且つ軟化点及び融点が７０℃以上２５０℃以下である、請求項１に記載の発光粒子含有インク組成物。
3. 前記次亜リン酸ジエステル化合物が一般式（Ｉ）
   

   

   （式（Ｉ）中、Ｘ^１は、酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｚ^１は水素原子又は有機基（ただし、式（Ｉ）中のＰ（リン原子）に直接結合する原子は炭素原子）を示し、Ｒ^１は、炭化水素基を示す。複数のＸ^１は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＲ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。）で表される化合物である、請求項１～２のいずれか一項に記載の発光粒子含有インク組成物。
4. 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が一般式（ＩＩＩ）
   

   

   （式（ＩＩＩ）中、Ａｒ^１は、アリール基を示す。Ｘ^１及びＺ^１は、それぞれ式（Ｉ）中のＸ^１及びＺ^１と同義である。２つのＸ^１は互いに同一であっても異なっていてもよく、２つのＡｒ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。）で表される化合物である、請求項３に記載の発光粒子含有インク組成物。
5. 前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が一般式（ＩＶ）
   

   

   （式（ＩＶ）中、Ｙは連結基（ただし、式（ＩＶ）中のＰ（リン原子）に直接結合する原子は炭素原子）を示す。Ｘ^２及びＸ^３は、酸素原子又は硫黄原子を示し、Ａｒ^２及びＡｒ^３は、アリール基を示す。２つのＸ^２は互いに同一であっても異なっていてもよく、２つのＸ^３は互いに同一であっても異なっていてもよく、２つのＡｒ^２は互いに同一であっても異なっていてもよく、２つのＡｒ^３は互いに同一であっても異なっていてもよい。）で表される化合物である、請求項４に記載の発光粒子含有インク組成物。
6. 前記次亜リン酸ジエステル化合物の含有量が、前記インク組成物の全質量を基準として、０．０１～１０質量％である、請求項１～５のいずれか一項に記載の発光粒子含有インク組成物。
7. 前記半導体ナノ結晶を含むナノ粒子の含有量が、前記インク組成物の全質量を基準として、０．１～１０質量％である、請求項１～６のいずれか一項に記載の発光粒子含有インク組成物。
8. 前記半導体ナノ結晶が、ペロブスカイト結晶構造を有する化合物であることを特徴とする、請求項１～７のいずれか一項に記載の発光粒子含有インク組成物。
9. 前記半導体ナノ結晶を含むナノ粒子が、該粒子表面に無機材料からなる無機被覆層を備えることを特徴とする、請求項１～８のいずれか一項に記載の発光粒子含有インク組成物。
10. 無機被覆層を備えた前記半導体ナノ結晶を含むナノ粒子の表面を被覆する、樹脂からなる樹脂被覆層を備えることを特徴とする、請求項９に記載の発光粒子含有インク組成物。
11. 前記光重合性化合物が、単官能（メタ）アクリレートモノマー及び多官能（メタ）アクリレートモノマーからなる群から選ばれる２種以上のモノマーを含有する、請求項１～１０のいずれか一項に記載の発光粒子含有インク組成物。
12. 前記光重合性化合物に含有される前記２種以上のモノマーのうち、少なくとも１種は環状構造を有する（メタ）アクリレートモノマーである、請求項１１に記載の発光粒子含有インク組成物。
13. フェノール系酸化防止剤をさらに含有する、請求項１～１２のいずれか一項に記載の発光粒子含有インク組成物。
14. 前記フェノール系酸化防止剤が、分子量が５００以上１５００以下であり且つ軟化点及び融点が７０℃以上２５０℃以下のヒンダードフェノール系酸化防止剤である、請求項１３に記載の発光粒子含有インク組成物。
15. 前記光重合開始剤として、アシルホスフィンオキサイド系化合物を２種以上含有する、請求項１～１４のいずれか１項に記載の発光粒子含有インク組成物。
16. 光拡散粒子をさらに含有する、請求項１～１５のいずれか一項に記載の発光粒子含有インク組成物。
17. 高分子分散剤をさらに含有する、請求項１６に記載の発光粒子含有インク組成物。
18. インクジェット方式で用いられる、請求項１～１７のいずれか一項に記載の発光粒子含有インク組成物。
19. 画素部を備える光変換層であって、
    前記画素部が請求項１～１８のいずれか一項に記載の発光粒子含有インク組成物の硬化物を含むことを特徴とする、光変換層。
20. 請求項１９記載の光変換層を備えたことを特徴とする、発光素子。

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