WO2021225092A1 - 多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料及び多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法 - Google Patents

多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料及び多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法 Download PDF

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Abstract

多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料は、三次元骨格構造を有する多孔質シリコンオキシカーバイドと、前記三次元骨格構造に保持された炭素含有材料とを備え、ＢＥＴ比表面積が１００ｍ２／ｇ以上であり、且つ、導電率が１．０×１０－６Ｓ／ｃｍ以上である。

Description

多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料及び多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法
　本発明は、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料及び多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法に関する。
　本願は、２０２０年５月７日に、日本に出願された特願２０２０－０８２０９８号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
　燃料電池は、水素と酸素から水を得る化学反応によって電力と熱を発生させる装置であり、リン酸形燃料電池（ＰＡＦＣ：Ｐｈｏｓｐｈｏｒｉｃ　Ａｃｉｄ　Ｆｕｅｌ　Ｃｅｌｌ）、溶融塩酸塩形燃料電池（ＭＣＦＣ：Ｍｏｌｔｅｎ　Ｃａｒｂｏｎａｔｅ　Ｆｕｅｌ　Ｃｅｌｌ）、固体酸化物形燃料電池（ＳＯＦＣ：Ｓｏｌｉｄ　Ｏｘｉｄｅ　Ｆｕｅｌ　Ｃｅｌｌ）、固体高分子形燃料電池（ＰＥＦＣ：　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅ　Ｆｕｅｌ　Ｃｅｌｌ）などの複数種の燃料電池がある。このうち、固体高分子形燃料電池（ＰＥＦＣ）は、固体高分子電解質膜の片面にアノード（燃料極）、他の片面にカソード（空気極）を構成する触媒層を設けると共に、各触媒層の外側にガス拡散層を接着させた構造を有する。触媒層は、貴金属を含有する粒子状の触媒を、ナノレベルの担体粒子の表面に高分散担持させてなる触媒担持担体で構成される。
　現在、触媒担持担体として、高比表面積かつ高導電性のカーボン系材料が使用されている。しかしカソード及びアノードにおいて、カーボン担体の腐食等による触媒性能の低下が大きな問題となっている。そのため、カーボンに替わる高比表面積かつ高導電性の耐久性に優れた材料の開発が急務である。
　例えば、特許文献１には、（ｉ）炭素含有化合物及び細孔形成剤を分散した分散液にケイ素含有有機化合物を混合して混合液を調製し、（ｉｉ）得られた混合液を０～２００℃の温度条件下で重合処理を行った後、得られた生成物を、２００℃以上８００℃以下の温度下で一次焼成し、粉砕、分級して一次焼成粉末を作製し、（ｉｉｉ）前記一次焼成粉末を、８００℃以上１１５０℃以下の温度条件下で二次焼成する多孔質シリコンオキシカーバイドセラミックスの製造方法が開示されている。本製造方法では、ＢＥＴ比表面積が０．５ｍ２／ｇ～５０ｍ２／ｇとされている。
　また、上記特許文献１には、上記の多孔質シリコンオキシカーバイドセラミックスと、カーボンブラック等の導電性炭素材料とを含有する複合材料が開示されている。この複合材料では、導電性炭素材料の含有割合は１質量％～３０質量％であり、これにより容易に電気抵抗を低減することができるとされている。
　非特許文献１には、シリコーン樹脂、細孔形成剤、焼成収縮制御剤、及び黒鉛を有機溶剤中で混合し、乾燥後に得られた混合固体を１０００℃で焼成することによる多孔質シリコンオキシカーバイドセラミックスの製造方法が開示されている。本製造方法では、ＢＥＴ比表面積が６．２ｍ２／ｇ～３２．３ｍ２／ｇ、導電率が３×１０－２～９×１０－２Ｓ／ｃｍとされている。
　非特許文献２には、ケイ素含有有機化合物としてアルキレン基で架橋されたビス（トリアルコキシシラン）化合物を用い、アルコール溶剤中ゾルゲル反応により重縮合を進行させ、得られた多孔性のアルキレン架橋ポリシルセスキオキサンゲルを１０００℃で焼成する多孔質シリコンオキシカーバイドセラミックスの製造方法が報告されている。本製造方法では、ＢＥＴ比表面積が最大４５２ｍ２／ｇが得られるとされている。
特開２０１５－１６０７６２号公報
Ｔ．Ｃ．ｄｅ　Ａｌｍｅｉｄａ　ｅ　Ｓｉｌｖａ　ｅｔ　ａｌ．　Ｃａｔａｌｙｓｉｓ　Ｓｃｉｅｎｃｅ＆Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　ｖ９，　ｐ８５４－８６６　（２０１９）． Ｐ．Ｒ．Ａｒａｖｉｎｄ　ｅｔ　ａｌ．　Ｍｉｃｒｏｐｏｒｏｕｓ　ａｎｄ　Ｍｅｓｏｐｏｒｏｕｓ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　ｖ１４２，　ｐ５１１－５１７　（２０１１）．
　しかしながら、高効率及び高出力を実現するための燃料電池用電極には、高比表面積と高導電性を同時に満たす触媒担持担体が求められていることから、上記特許文献１及び非特許文献１のようなＢＥＴ比表面積では十分とは言えず、改善の余地がある。また、上記特許文献１には、多孔質シリコンオキシカーバイドセラミックスに導電性炭素材料を混合することで電気抵抗を低減し得ることが開示されている程度であり、導電性炭素材料を混合した多孔質シリコンオキシカーバイドセラミックスの製造例の開示はなく、したがって導電性の定量的な評価は開示されていない。
　上記非特許文献２では、多孔質シリコンオキシカーバイドセラミックスのＢＥＴ比表面積が４５２ｍ２／ｇに達することが開示されているが、アルキレン基で架橋されたビス（トリアルコキシシラン）という特殊なケイ素含有有機化合物を用いて実現された例であり、また、導電性については開示、示唆されていない。
　本発明の目的は、燃料電池電極材料として有効な、大きなＢＥＴ比表面積及び高い導電性の双方をバランス良く併せ持つ多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を提供すること、及び工業原料として広く流通しているタイプの有機アルコキシシランを用いた多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法を提供することにある。
　上記目的を達成するために、本発明は、有機アルコキシシラン水溶液の界面活性剤共存下でのゾルゲル反応過程に、多孔性ゲルの形成を妨げることのないよう留意しながら、炭素源となる炭素含有材料又は有機ポリマーを共存させることで前駆体ゲルを作製し、それを焼成することにより、メソスコピック領域の細孔構造（メソ孔）が発達し、且つ多孔性の三次元構造骨格中にナノレベルで炭素含有材料が配置された多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を製造することを達成した。これにより、大きなＢＥＴ比表面積及び高い導電性の双方をバランス良く併せ持つ多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を提供することが可能となる。
　すなわち、本発明は以下の手段を提供する。
［１］三次元骨格構造を有する多孔質シリコンオキシカーバイドと、
　前記三次元骨格構造に保持された炭素含有材料と、を備え、
　ＢＥＴ比表面積が１００ｍ２／ｇ以上であり、且つ、導電率が１．０×１０－６Ｓ／ｃｍ以上である、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料。
［２］合計細孔容積が、０．５ｃｍ３／ｇ以上である、上記［１］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料。
［３］細孔径が、２ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、上記［１］又は［２］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料。
［４］前記炭素含有材料の含有量が、２．５質量％以上５０質量％以下である、上記［１］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料。
［５］前記炭素含有材料が、カーボンブラック、カーボンナノファイバー、カーボンナノチューブ及び低結晶性ナノカーボンから選択される一又は複数で構成される、上記［４］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料。
［６］前記炭素含有材料の一次粒子の平均直径が、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、上記［５］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料。
［７］上記［１］～［６］のいずれかに記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を含む層を有する燃料電池用電極。
［８］界面活性剤及びｐＨ調整剤を含む酸性水溶液に有機アルコキシシランを添加し、前記有機アルコキシシランのゾルゲル反応にてゲルを形成する工程（Ａ）と、
　前記ゲルをアルコールで洗浄する工程（Ｂ）と、
　洗浄後のゲルを乾燥して多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を形成する工程（Ｃ）と、
　前記多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を焼成して多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を得る工程（Ｄ）と、
　を有し、
　前記工程（Ａ）において前記酸性水溶液に炭素含有材料又は有機ポリマーを更に添加して、炭素含有材料又は有機ポリマーを含有するゲルを形成することを特徴とする多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
［９］前記工程（Ａ）において、前記ゾルゲル反応を２５℃以上８０℃以下で行う、上記［８］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
［１０］前記有機アルコキシシランが、以下の式（１）又は式（２）で表される、上記［８］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
Ｒ１－ＳｉＲ２ ｘ（ＯＲ３）３－ｘ　　　・・・（１）
（但し、式中Ｒ１は、メチル基、エチル基、ビニル基及びフェニル基から選択されるいずれかの基であり、Ｒ２はメチル基、Ｒ３はメチル基又はエチル基を表す。式中整数ｘは、０又は１である。）
Ｒ４－（ＳｉＲ５ ｙ（ＯＲ６）３－ｙ）２　　　・・・（２）
（但し、式中Ｒ４は、メチレン基、エチレン基、へキシレン基、ビニレン基、フェニレン基及びビフェニレン基から選択されるいずれかの基を含み、Ｒ５はメチル基、Ｒ６はメチル基又はエチル基を表す。式中整数ｙは、０又は１である。）
［１１］前記界面活性剤の前記酸性水溶液に対する含有量が、０．１質量％以上５０質量％以下である、上記［８］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
［１２］前記界面活性剤が、非イオン性界面活性剤及び／又はカチオン性界面活性剤である、上記［１１］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
［１３］前記ｐＨ調整剤の前記酸性水溶液に対する含有量が、５質量％以上５０質量％以下である、上記［８］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
［１４］前記ｐＨ調整剤が、尿素、アンモニア及び水酸化ナトリウムから選択されるいずれかを含む、上記［１２］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
［１５］前記炭素含有材料又は有機ポリマーと前記有機アルコキシシランとの質量比が、２．５～５０：９７．５～５０である、上記［８］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
［１６］前記炭素含有材料が、カーボンブラック、カーボンナノファイバー、カーボンナノチューブ及び低結晶性ナノカーボンから選択される一又は複数で構成される、上記［１５］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
［１７］前記炭素含有材料の一次粒子の平均直径が、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、上記［１６］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
［１８］前記有機ポリマーが、フェノール樹脂、ポリスチレン及びポリジビニルベンゼンから選択される一又は複数で構成される、上記［１５］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
［１９］前記工程（Ｂ）において、前記酸性水溶液中から前記界面活性剤を除去すると共に、前記酸性水溶液中の水を前記アルコールと置換する、上記［８］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
［２０］前記工程（Ｃ）において、室温、常圧で洗浄後の前記ゲルを乾燥する、上記［８］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
［２１］前記工程（Ｄ）において、７００℃以上１２００℃以下で前記多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を焼成する、上記［８］に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
　本発明によれば、燃料電池電極材料として有効な、大きなＢＥＴ比表面積及び高い導電性の双方をバランス良く併せ持つ多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を提供することができる。
図１は、本発明の実施形態に係る多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法の一例を説明するフローチャートである。 図２は、実施例１で例示した多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の走査型電子顕微鏡画像である。 図３は、実施例１で例示した多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の２９Ｓｉ－ＮＭＲスペクトルである。 図４は、実施例２１で例示した、白金粒子が担持された多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料（触媒Ａ）の透過型電子顕微鏡画像である。 図５は、実施例２１で例示した触媒Ａのサイクリックボルタンメトリー（ＣＶ）測定結果である。 図６は、実施例２１で例示した触媒ＡのＣＶ測定サイクルに対する電気化学的活性表面積（ＥＣＳＡ）の変化を示した図である。 図７は、比較例４で例示した触媒ＢのＣＶ測定結果である。 図８は、比較例４で例示した触媒ＢのＣＶ測定サイクルに対するＥＣＳＡの変化を示した図である。
＜多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の構成＞
　本実施形態に係る多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料は、三次元骨格構造を有する多孔質シリコンオキシカーバイド（ＳｉＯＣ）と、上記三次元骨格構造に保持された炭素含有材料と、を備える。
　多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の形態は、特に制限されないが、例えば粉末状、粒子状、繊維状又は針状であり、このうち粉末状又は粒子状であることが好ましい。
　多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料が粉末状又は粒子状である場合、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の粒子径は、特に制限されないが、体積基準積算粒度分布における積算粒度で５０％の粒子径Ｄ５０として、例えば０．１μｍ以上１００μｍ以下であるのが好ましく、０．５μｍ以上５０μｍであるのがより好ましく、１μｍ以上２０μｍ以下であるのが更に好ましい。
　多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の粒子径Ｄ５０は、ＪＩＳ　Ｚ８８２５－１：２０１３に準じて測定される値を意味し、例えば、レーザー回折式粒度分布測定装置（島津製作所製、ＳＡＬＤ－７０００）を用いて測定される粒子径Ｄ５０を意味するものとする。
［多孔質シリコンオキシカーバイド］
　多孔質シリコンオキシカーバイドでは、シロキサンネットワークによる三次元骨格構造によって複数の微細孔がそれぞれ単独で設けられているか、又は、複数の微細孔の一部或いは全部が互いに連結した状態で設けられている。
　本実施形態の多孔質シリコンオキシカーバイドは、ＢＥＴ比表面積が、１００ｍ２／ｇ以上であり、１００ｍ２／ｇ以上１５００ｍ２／ｇ以下であるのが好ましく、２００ｍ２／ｇ以上１０００ｍ２／ｇ以下であるのがより好ましい。ＢＥＴ比表面積が１００ｍ２／ｇ未満であると、担体表面での触媒粒子担持量が不十分となり、多孔質シリコンオキシカーバイドを燃料電池用電極に用いた場合に出力や効率などの所望の特性を得ることができない。また、ＢＥＴ比表面積が１５００ｍ２／ｇ以下である場合は、触媒担持に適したメソ孔の割合が高くなるため触媒粒子利用率をより向上させることができる。
　多孔質シリコンオキシカーバイドの合計細孔容積は、０．５ｃｍ３／ｇ以上であるのが好ましく、０．５ｃｍ３／ｇ以上３．０ｃｍ３／ｇ以下であるのがより好ましく、０．６ｃｍ３／ｇ以上２．０ｃｍ３／ｇ以下であるのが更に好ましい。多孔質シリコンオキシカーバイドの合計細孔容積が０．５ｃｍ３／ｇ以上であると、触媒層内における反応ガスや電解質の流通が容易になり、触媒効率を向上することができる。一方、合計細孔容積が３．０ｃｍ３／ｇ以下であると、良好な製造性を実現することができる。
　多孔質シリコンオキシカーバイドの細孔径は、２ｎｍ以上２００ｎｍ以下であるのが好ましく、５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であるのがより好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であるのが更に好ましい。多孔質シリコンオキシカーバイドの細孔径が２ｎｍ以上２００ｎｍ以下であると、触媒層内における反応ガスや電解質の流通が容易になり、触媒効率を向上することができる。特に、多孔質シリコンオキシカーバイドの細孔径が２ｎｍ未満であると、担持された触媒粒子へ反応ガスや電解質の供給が困難になり、触媒粒子利用率が著しく低下する。
　多孔質シリコンオキシカーバイドのＢＥＴ比表面積、合計細孔容積及び細孔径は、ガス吸着法により測定値として算出でき、例えば定容量法を用いて吸着等温線における相対圧力を変化させながら窒素やアルゴンなどの非腐食性ガスを吸着させた際の吸着量と非腐食性ガスの凝縮から算出された値を意味する。
［炭素含有材料］
　多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料における炭素含有材料の含有量は、２．５質量％以上５０質量％以下であるのが好ましく、３質量％以上３０質量％以下であるのがより好ましく、５質量％以上２０質量％以下であるのが更に好ましい。炭素含有材料の含有量は高いほど、より高い導電性を実現できるため好ましいが、一方で、含有量が高すぎると炭素含有材料の腐食等が起こりやすくなり、触媒サイクルの耐久性が低下する。
　多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料における炭素含有材料の含有量は、例えば元素分析による含有元素比率の特定、２９Ｓｉ－ＮＭＲスペクトル、及び大気下における熱重量示差熱分析（ＴＧ－ＤＴＡ）を組み合わせることにより測定された値を意味する。
　炭素含有材料は、特に制限されないが、例えばカーボンブラック、カーボンナノファイバー、カーボンナノチューブ及び低結晶性ナノカーボンから選択される一又は複数で構成することができる。このうち、高い導電性を実現できる点、及び製造性の観点からは、炭素含有材料はカーボンブラックであることが好ましい。
　炭素含有材料がカーボンブラックで構成される場合、炭素含有材料の一次粒子の平均直径は、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であるのが好ましく、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であるのがより好ましく、３０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であるのが更に好ましい。炭素含有材料の一次粒子の平均直径が１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であると、良好な導電性を実現することができる。
　炭素含有材料がカーボンナノファイバー又はカーボンナノチューブで構成される場合、炭素含有材料の平均直径は、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であるのが好ましく、また、炭素含有材料の長さは、１μｍ以上２０μｍ以下であるのが好ましい。
　多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料中に保持された炭素含有材料の形態や大きさは、例えば透過型電子顕微鏡や走査型電子顕微鏡観察から実測することができる。また、一次粒子の平均直径は、例えば、顕微鏡画像から画像解析式粒度分布測定ソフトウェアを用いることにより求めることができる。
［多孔質シリコンオキシカーバイドの特性］
　多孔質シリコンオキシカーバイドの導電率は、１．０×１０－６Ｓ／ｃｍ以上であり、１．０×１０－４Ｓ／ｃｍ以上１．０×１０２Ｓ／ｃｍ以下であるのが好ましく、１．０×１０－３Ｓ／ｃｍ以上１０Ｓ／ｃｍ以下であるのがより好ましい。多孔質シリコンオキシカーバイドの導電率は高いほど良好な燃料電池電極触媒を提供できるが、導電率向上に寄与する炭素含有材料の保持量を高くし過ぎると、触媒サイクルにおいて炭素成分の腐食が進み耐久性が低下する場合がある。
＜多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法＞
　本実施形態に係る多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法は、図１に示すように、ゲル形成工程（工程（Ａ））、洗浄工程（工程（Ｂ））、多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体形成工程（工程（Ｃ））及び焼成工程（工程（Ｄ））を有する。尚、本実施形態に係る多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料が得られることを前提として、各工程の前後に上記以外の他の工程が設けられてもよい。
［工程（Ａ）］
　工程（Ａ）では、例えば、界面活性剤及びｐＨ調整剤を含む酸性水溶液に有機アルコキシシランを添加し、該有機アルコキシシランのゾルゲル反応にてゲルを形成する。例えば、加水分解性の有機アルコキシシランを加水分解してなる加水分解物を生成するとともに、さらに反応系のｐＨを上昇させ、有機アルコキシシランの重縮合反応を行うことによりポリシルセスキオキサンが得られる。重縮合反応に適したｐＨは、用いる有機アルコキシシランの等電点により異なるが、ｐＨが高すぎると反応効率が低下しゲル形成が困難になることがある。このゾルゲル反応は、２５℃以上８０℃以下で行われるのが好ましく、３０℃以上７０℃以下で行われるのがより好ましく、４０℃以上６０℃以下で行われるのが更に好ましい。これにより、ポリシルセスキオキサンを、内部に溶媒としての水を含有する湿潤ゲルとして得ることができる。
　上記界面活性剤の酸性水溶液に対する含有量は、０．１質量％以上５０質量％以下であるのが好ましく、０．５質量％以上３５質量％以下であるのがより好ましく、２質量％以上１５質量％以下であるのが更に好ましい。
　界面活性剤としては、特に制限は無いが、例えば非イオン性界面活性剤及び／又はカチオン性界面活性剤が挙げられる。界面活性剤として非イオン性界面活性剤及びカチオン性界面活性剤のいずれか又は双方を適切に選択して使用することにより、所望のＢＥＴ比表面積及び細孔径を得ることができる。非イオン性界面活性剤としては、例えばポリエチレングリコール型（エーテル型、エステル・エーテル型）、多価アルコール型等が挙げられる。ポリエチレングリコール型非イオン性界面活性剤としては、例えばプルロニック（登録商標）型が挙げられる。カチオン性界面活性剤としては、例えばアミン塩型、第４級アンモニウム塩型等が挙げられる。界面活性剤の酸性水溶液に対する含有量を０．１質量％以上５０質量％以下とすることにより、メソ孔の発達した大きなＢＥＴ比表面積を有する多孔性ゲルを形成することができる。
　上記ｐＨ調整剤の酸性水溶液に対する含有量は、５質量％以上５０質量％以下であるのが好ましく、５．５質量％以上３５質量％以下であるのがより好ましく、６質量％以上２３質量％以下であるのが更に好ましい。ｐＨ調整剤の酸性水溶液に対する含有量を５質量％以上５０質量％以下とすることにより、高い骨格強度と柔軟性を有する多孔性ポリシルセスキオキサンゲルを形成することができる。
　ｐＨ調整剤としては、特に制限は無いが、例えば尿素、アンモニア及び水酸化ナトリウムから選択されるいずれかを含む物質が挙げられる。
　上記酸性水溶液としては、特に制限はないが、塩酸、硝酸、酢酸などの水溶液が挙げられる。
　上記有機アルコキシシランは、以下の式（１）又は式（２）で表されるのが好ましい。以下の式（１）又は式（２）で表される有機アルコキシシランを用いることにより、所望の三次元骨格構造を有する多孔質シリコンオキシカーバイドを容易に形成することができる。
Ｒ１－ＳｉＲ２ ｘ（ＯＲ３）３－ｘ　　　・・・（１）
（但し、式中Ｒ１は、メチル基、エチル基、ビニル基及びフェニル基から選択されるいずれかの基であり、Ｒ２はメチル基、Ｒ３はメチル基又はエチル基を表す。式中整数ｘは、０又は１である。）
Ｒ４－（ＳｉＲ５ ｙ（ＯＲ６）３－ｙ）２　　　・・・（２）
（但し、式中Ｒ４は、メチレン基、エチレン基、へキシレン基、ビニレン基、フェニレン基及びビフェニレン基から選択されるいずれかの基を含み、Ｒ５はメチル基、Ｒ６はメチル基又はエチル基を表す。式中整数ｙは、０又は１である。）
　上記式（１）で表される有機アルコキシシランの具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシランが挙げられる。また、上記式（２）で表される有機アルコキシシランの具体例としては、ビス（トリメトキシシリル）メタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、ビス（メチルジメトキシシリル）メタン、ビス（メチルジエトキシシリル）メタン、１，２－ビス（トリメトキシシリル）エタン、１，２－ビス（トリエトキシシリル）エタン、１，２－ビス（メチルジメトキシシリル）エタン、１，２－ビス（メチルジエトキシシリル）エタン、１，６－ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、１，６－ビス（トリエトキシシリル）ヘキサン、１，６－ビス（メチルジメトキシシリル）ヘキサン、１，６－ビス（メチルジエトキシシリル）ヘキサン、１，２－ビス（トリメトキシシリル）エテン、１，２－ビス（トリエトキシシリル）エテン、１，２－ビス（メチルジメトキシシリル）エテン、１，２－ビス（メチルジエトキシシリル）エテン、１，４－ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，４－ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、１，４－ビス（メチルジメトキシシリル）ベンゼン、１，４－ビス（メチルジエトキシシリル）ベンゼン、４，４’－ビス（トリメトキシシリル）ビフェニル、４，４’－ビス（トリエトキシシリル）ビフェニル、４，４’－ビス（メチルジメトキシシリル）ビフェニル、４，４’－ビス（メチルジエトキシシリル）ビフェニルが挙げられる。上記のエテン誘導体にはシス／トランスの幾何異性体が存在するが、いずれの異性体の場合も使用できる。
　この工程（Ａ）では、上記酸性水溶液に炭素含有材料又は有機ポリマーを更に添加して、炭素含有材料又は有機ポリマーを含有するゲルを形成する。炭素含有化合物又は有機ポリマーをアルコキシシランのゾルゲル反応中に添加することで、工程（Ｃ）で形成される前駆体を工程（Ｄ）で焼成した後に多孔質の三次元構造骨格中にナノレベルで炭素含有材料を配置でき、本来絶縁体である多孔質シリコンオキシカーバイドに優れた導電性を付与することができる。有機ポリマーは、工程（Ｄ）で焼成を行うことにより熱分解が進行し、低結晶性ナノカーボンとして多孔質シリコンオキシカーバイド中に保持され、導電性を付与することが可能となる。
　上記工程（Ａ）において、炭素含有材料又は有機ポリマーと有機アルコキシシランとの質量比が２．５～５０：９７．５～５０となるように、炭素含有材料又は導電性有機ポリマーを酸性水溶液に添加するのが好ましい。また、炭素含有材料又は有機ポリマーと有機アルコキシシランとの質量比は、３～３０：７０～９７であるのがより好ましく、５～２０：８０～９５であるのが更に好ましい。炭素含有材料又は有機ポリマーと有機アルコキシシランとの質量比を上記範囲内の値とすることにより、より大きいＢＥＴ比表面積及びより高い導電率の両立を実現することができる。炭素含有材料又は有機ポリマーの添加量が多くなり過ぎると、ゾルゲル反応系からの分離が進行し、ポリシルセスキオキサンからなるゲル形成の妨げとなるため好ましくない。
　炭素含有材料は、特に制限されないが、例えばカーボンブラック、カーボンナノファイバー、カーボンナノチューブ及び低結晶性ナノカーボンから選択される一又は複数で構成することができる。このうち、高い導電性を実現できる点及び製造性の観点からは、炭素含有材料はカーボンブラックであることが好ましい。
　有機ポリマーは、特に制限されないが、例えばフェノール樹脂、ポリスチレン及びポリジビニルベンゼンから選択される一又は複数で構成することができる。
［工程（Ｂ）］
　工程（Ｂ）では、上記工程（Ａ）で得られたゲルをアルコールで洗浄する。洗浄の際に使用されるアルコールは、特に制限されないが、例えばメタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノールが挙げられる。これにより、酸性水溶液中から不要な界面活性剤を除去すると共に、当該酸性水溶液中の水をアルコールに置換することができる。また、アルコールで洗浄した後、さらにヘキサンやヘプタンなどの炭化水素系溶媒に置換してもよい。本工程（Ｂ）では、高表面張力溶媒である水が、低表面張力溶媒であるアルコールや炭化水素系溶媒に置換され、後述する工程（Ｃ）の常温、常圧での乾燥工程においてシロキサンネットワークの収縮を抑制でき、多孔質ゲルの構造を形成することが容易となる。
［工程（Ｃ）］
　工程（Ｃ）では、洗浄後のゲルを乾燥して多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を形成する。この工程（Ｃ）において、８０℃、１４ＭＰａで二酸化炭素による超臨界乾燥する方法、室温、常圧で乾燥する方法、２０℃以上８０℃以下で真空乾燥する方法などが挙げられる。これらの中でも、製造コストが安く、また高い骨格強度と柔軟性を有するポリシルセスキオキサンが形成されている場合に、メソ孔が発達した高密度の多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を得られる点で、室温、常圧で乾燥する方法が好ましい。
［工程（Ｄ）］
　工程（Ｄ）では、上記の炭素含有材料又は有機ポリマーを含有する多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を焼成して、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を得る。この工程で、焼成によりポリシルセスキオキサンの有機基から炭素原子が供給されシリコンオキシカーバイド骨格が形成されるが、一方で、ゲル中にナノレベルで分散した炭素含有材料又は有機ポリマーからも骨格中に炭素原子が供給される。有機ポリマーは、焼成により熱分解が進行し、低結晶性ナノカーボンとして多孔質シリコンオキシカーバイド中に保持される。
　焼成は公知慣用の方法で行うことができ、特に制限はないが、例えば、不活性ガス雰囲気下で、１分当たり５℃で昇温を行い、到達した最高温度を一定時間維持することにより焼成する。焼成の最高温度は、７００℃以上１２００℃以下であることが好ましく、７５０℃以上１１００℃以下であることがさらに好ましく、８００℃以上１０００℃以下であることが特に好ましい。最高温度の維持時間は、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を得るのに効果的な時間を目安として適宜定めればよく、一例として、５分～１６時間が好ましく、１０分～１０時間がさらに好ましく、３０分～３時間が特に好ましい。焼成は二段階以上で行なっても良い。すなわち、第一段階において、最高到達温度より低温で一定時間焼成を行い、再度昇温し焼成することができる。焼成は、常圧焼成であってよい。
　不活性ガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴンなどが例示される。なお、この不活性ガス中に、水素ガス等の還元性ガスを含んでもよい。
　焼成は、固定床又は流動床方式の炭化炉で行うことができ、所定温度へ昇温できる機能を有する炉であれば、炭化炉の加熱方式及び種類は特に限定されない。炭化炉としては、例えば、リードハンマー炉、トンネル炉、単独炉等が挙げられる。
　本工程（Ｄ）において、多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体に炭素含有材料又は有機ポリマーをさらに混合して、その混合物を焼成することもできる。工程（Ｄ）で多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体に有機ポリマーを混合する場合も、工程（Ａ）で混合する場合と同様、焼成により熱分解が進行し、低結晶性ナノカーボンとして多孔質シリコンオキシカーバイド中に保持される。
　以下、本発明の実施例を説明する。本発明は、以下に示す実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
　６ｇの５ｍＭ酢酸水溶液（関東化学社製）、０．８ｇのプルロニック（登録商標）Ｆ－１２７（ＢＡＳＦ社製）、０．５ｇの尿素（関東化学社製）、０．２４ｇのケッチェンブラック（ライオン・スペシャリティ・ケミカルズ社製、製品名「ＥＣ－６００」）をバイアルに入れ、室温で１０分間撹拌した。そこに、５ｇのメチルトリメトキシシラン（関東化学社製）を添加し、３０分間室温で撹拌した。その後、６０℃、４日間で反応させ湿潤ゲルを得た。得られた湿潤ゲルをメタノール（関東化学社製）で洗浄し、室温、常圧、３日間で乾燥した後、更に８０℃、常圧、６時間で乾燥し、３．５ｇの多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を得た。この多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体１ｇを管状炉へ仕込み、窒素雰囲気下、１０℃／分の昇温速度で１０００℃まで昇温し、２時間保持する条件で焼成を行った後、得られた固形物０．８ｇをペイントコンディショナーで粉砕し、粒子径（Ｄ５０）１μｍの粉体を得た。得られた粉体の走査型電子顕微鏡画像を図２に示す。また、図３に示す粉体の２９Ｓｉ－ＮＭＲスペクトルより、Ｃに結合したＳｉの存在が検出され、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の生成が確認された。
（実施例２）
　プルロニックＦ－１２７を１．０ｇに変え、尿素を０．４ｇに変えたこと以外は、実施例１と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．５ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を７６％の収率で得た。
（実施例３）
　プルロニックＦ－１２７を０．６５ｇに変えたこと以外は、実施例１と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．４ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を７５％の収率で得た。
（実施例４）
　プルロニックＦ－１２７を０．４０ｇに変えたこと以外は、実施例１と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．３ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を７４％の収率で得た。
（実施例５）
　プルロニックＦ－１２７を０．３７ｇに変えたこと以外は、実施例１と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．４ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を７２％の収率で得た。
（実施例６）
　プルロニックＦ－１２７を０．３４ｇに変え、尿素を６ｇに変えたこと以外は、実施例１と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．５ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を７８％の収率で得た。
（実施例７）
　５ｍＭ酢酸水溶液を１０ｇに変え、尿素を６ｇに変え、プルロニックＦ－１２７をセチルトリメチルアンモニウムクロリド（東京化成社製）０．４０ｇに変えたこと以外は、実施例１と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．５ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を７７％の収率で得た。
（実施例８）
　尿素を３ｇに変えたこと以外は、実施例７と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．２ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を７１％の収率で得た。
（実施例９）
　セチルトリメチルアンモニウムクロリドを０．０６ｇに変えた以外は、実施例８と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．１ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を７６％の収率で得た。
（実施例１０）
　ケッチェンブラックをフェノール樹脂（ＤＩＣ社製、製品名「フェノライトＩＦ－３３００」）１．５ｇに変えた以外は、実施例８と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．６ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を６５％の収率で得た。
（実施例１１）
　フェノール樹脂を２．５ｇに変えたこと以外は、実施例１０と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．５ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を６７％の収率で得た。
（実施例１２）
　フェノール樹脂をカーボンナノチューブ（シーナノテクノロジー社製、製品名「Ｆｌｏｔｕｂｅ７０００」）０．２４ｇに変えたこと以外は、実施例８と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．２ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を４３％の収率で得た。
（実施例１３）
　ケッチェンブラックを０．１５ｇに変えたこと以外は、実施例８と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．５ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を７０％の収率で得た。
（実施例１４）
　ケッチェンブラックを０．４ｇに変えたこと以外は、実施例８と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．４ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を７８％の収率で得た。
（実施例１５）
　メチルトリメトキシシランを４ｇに変え、ビニルトリメトキシシラン（関東化学社製）を１ｇ用いたこと以外は、実施例８と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．５ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を７９％の収率で得た。
（実施例１６）
　ビニルトリメトキシシランをフェニルトリメトキシシラン（関東化学社製）１ｇに変えたこと以外は、実施例１５と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．４ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を８０％の収率で得た。
（実施例１７）
　７００℃で焼成したこと以外は、実施例１と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．５ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を７７％の収率で得た。
（実施例１８）
　５ｇの５ｍＭ硝酸水溶液（関東化学社製）、５ｇの１，２－ビス（メチルジエトシシシリル）エタン（Ｇｅｌｅｓｔ　Ｉｎｃ．製）、０．２４ｇのケッチェンブラックをバイアルに入れ、室温で３０分間撹拌した。そこに、３ｇのポリオキシエチレン－２－エチルへキシルエーテル（日油社製、ノニオン　ＥＨ－２０８）を添加して３分間撹拌し、そこに２ｇの０．６Ｍテトラエチルアンモニウムヒドロキシド（東京化成社製）を添加し、３０秒間室温で撹拌した。その後、８０℃、４日間で反応させ湿潤ゲルを得た。得られた湿潤ゲルをメタノールで洗浄し、室温、常圧、３日間で乾燥した後、更に８０℃、常圧、６時間で乾燥し、３．０ｇの多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を得た。この多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体１ｇを、窒素雰囲気下、１０℃／分の昇温速度で１０００℃まで昇温し、２時間保持する条件で焼成を行った後、得られた固形物０．７ｇをペイントコンディショナーで粉砕し、粒子径（Ｄ５０）１μｍの多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を得た。
（実施例１９）
　５ｇの１，２－ビス（メチルジエトシシシリル）エテン（Ｇｅｌｅｓｔ　Ｉｎｃ．製、トランス体）、０．２４ｇのケッチェンブラック、５ｇのポリオキシエチレン－２－エチルへキシルエーテルをバイアルに入れ、室温で３０分間撹拌した。そこに、５ｇの５ｍＭ硝酸水溶液を添加して１０分間撹拌し、そこに５ｇの０．６Ｍテトラエチルアンモニウムヒドロキシドを添加し、３０秒間室温で撹拌したこと以外は、実施例１８と同様にして、多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を２．９ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を７９％の収率で得た。
（実施例２０）
　１．８ｇの３Ｍ塩酸水溶液（関東化学社製）、７．５ｇのイソプロピルアルコール（関東化学社製）、５ｇの１，２－ビス（トリエトシシシリル）エタン（東京化成社製）、０．２４ｇのケッチェンブラック、０．０１ｇのポリオキシエチレン－２－エチルへキシルエーテルをバイアルに入れ、室温で１０分間撹拌した。そこに、３．５ｇの１３．４Ｍ水酸化アンモニウム（関東化学社製）を添加し、３０分間室温で撹拌した。その後、６０℃、４日間で反応させ湿潤ゲルを得た。得られた湿潤ゲルをメタノールで洗浄し、室温、常圧、３日間で乾燥した後、更に８０℃、常圧、６時間で乾燥し、２．４ｇの多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を得た。この多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体１ｇを、窒素雰囲気下、１０℃／分の昇温速度で１０００℃まで昇温し、２時間保持する条件で焼成を行った後、得られた固形物０．７ｇをペイントコンディショナーで粉砕し、粒子径（Ｄ５０）１μｍの多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を得た。
（比較例１）
　Ａｒ流通下、ノボラック型フェノール樹脂（群栄化学工業社製、ＰＳＭ４２６１）１８．６ｇを細孔形成剤であるジエチレングリコール（東京化成社製、分子量１０６）６０ｍｌに溶解させ、撹拌しつつテトラエトキシシラン（東京化成社製）１０８．６ｇを滴下した。その後、酸触媒としてｐ－トルエンスルホン酸（東京化成社製）４．６８ｇ加えて重合を開始した。２５℃／時間の昇温速度で溶液の沸点付近の温度である１１５℃まで加熱し、その後２０時間保持して還流を行った。次いで、２００℃の温度まで昇温し、真空中、２４時間保持することにより加熱硬化するとともに脱溶媒処理を実施した。得られた重合体をＡｒ雰囲気中、６００℃で１時間保持することにより、一次焼成を施した。その後、Ａｒ雰囲気中、温度１０００℃で３時間保持することにより二次焼成を行い、目的とする多孔質シリコンオキシカーバイドを得た。
（比較例２）
　尿素を使用しなかったこと以外は、実施例１と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．０ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を３５％の収率で得た。
（比較例３）
　ケッチェンブラックの仕込み量を０．１０ｇに変えたこと以外は、実施例１と同様にして多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を３．５ｇ得た後、焼成工程を行い、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を６９％の収率で得た。
　上記の実施例１～２０及び比較例１～３について、以下の方法により測定を行った。
［ＢＥＴ比表面積、細孔容積及び細孔径の測定］
　多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料又は多孔質シリコンオキシカーバイドの粉体を０．０４ｇ秤量してサンプル管に入れ、１００℃で６時間真空乾燥による前処理を行った。前処理後、比表面積／細孔分布装置（マイクロトラック・ベル社製、装置名「ＢＥＬＳＯＲＰ－ｍｉｎｉＩＩ」）にて、相対圧力を変化させながら窒素を－１９６℃で試料へ吸着させた。
［導電率の測定］
　多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料又は多孔質シリコンオキシカーバイドの粉体を粉体抵抗測定システム（三菱ケミカルアナリテック社製、装置名「ＭＣＰ－ＰＤ５１」）へ導入し、付属の油圧ポンプを用いて試料を加圧し、１２ｋＮに達した後、抵抗率計（三菱ケミカルアナリテック社製、装置名「ロレスターＧＸ」）にて抵抗率を測定し、抵抗率から下記式を用いて導電率を算出した。これらの測定結果を表１に示す。
　導電率（Ｓ／ｃｍ）＝（粉体抵抗（Ω・ｃｍ））－１
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示すように、実施例１～２０では、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料のＢＥＴ比表面積が１００ｍ２／ｇ以上、細孔容積が０．５ｃｍ３／ｇ以上、細孔径が２ｎｍ以上２００ｎｍ以下、導電率は、１．０×１０－６Ｓ／ｃｍ以上であった。これらの結果より、ＢＥＴ比表面積が大きく且つ導電率が大きい多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を得られることがわかった。
　一方、比較例１では、多孔質シリコンオキシカーバイドのＢＥＴ比表面積は７０ｍ２／ｇ、細孔容積は０．２ｃｍ３／ｇ、細孔径は１０ｎｍであった。また、導電率は、１．０×１０－９Ｓ／ｃｍであった。よってゾルゲル反応を伴う多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体の合成を行わない場合、ＢＥＴ比表面積及び導電率の双方が実施例１～２０のいずれよりも大幅に小さいことが分かった。
　比較例２では、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料のＢＥＴ比表面積は５０ｍ２／ｇ、細孔体積は０．２ｃｍ３／ｇ、細孔径は５ｎｍであった。また、導電率は２．６×１０－３Ｓ／ｃｍであった。よってｐＨ調整剤としての尿素を使用しなかった場合、ＢＥＴ比表面積が実施例１～２０のいずれよりも大幅に小さいことが分かった。
　比較例３では、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料のＢＥＴ比表面積は３７０ｍ２／ｇ、細孔容積は１．８ｃｍ３／ｇ、細孔径は３５ｎｍであった。また、導電率は１．６×１０－８Ｓ／ｃｍであった。よって、ケッチェンブラックの使用量を実施例１よりも大幅に少なくした場合、導電率が実施例１～２０のいずれよりも大幅に小さいことが分かった。
（実施例２１）
［貴金属を含む触媒の作製］
　０．４３ｇの塩化白金酸６水和物を超純水６０ｍＬに溶解させ、これに３．１ｇの亜硫酸水素ナトリウムを加えることにより還元反応を進行させた後、２８０ｍＬの超純水を加え希釈した。次に、５％水酸化ナトリウム水溶液を加えて、ｐＨを約５に調整を行いながら３５％過酸化水素（２４ｍＬ）を滴下し白金コロイドを含む分散液を得た。続いて、担体担持後の白金量が担体を含む全質量の１５％となるようにコロイド分散液を分取し、そこに実施例１で合成した多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料０．４ｇを担体として添加し、９０℃で３時間混合した。冷却後、固液分離し、得られた粉体から塩化物イオンを除去するために超純水で十分に洗浄し、その後、大気下にて６０℃で１２時間乾燥させ、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料担体に白金を担持させた触媒Ａを得た。触媒Ａの透過型電子顕微鏡画像を図４に示す。粒子径約５ｎｍの白金粒子が担持されたことが確認された。
［電極作製］
　直径５ｍｍのグラッシーカーボン（ＧＣ）電極をラッピングフィルムおよびアルミナペーストを用いて研磨し、その後超純水を用いて超音波洗浄を行った。触媒Ａを６０体積％エタノール水溶液に加え、超音波ホモジナイザーにて分散させた。これをＧＣディスク上へ滴下し、常温で１２ｈ乾燥させた。乾燥後、ＧＣディスク上の触媒に５％Ｎａｆｉｏｎ（登録商標）溶液を乾燥膜厚が５０ｎｍになるように滴下し、常温で１２ｈ乾燥させた。
［電気化学測定による電極評価］
　電極評価は北斗電工社製の電気化学測定システムＨＺ－５０００を用いて実施した。０．１Ｍ過塩素酸水溶液に窒素ガスを３０分間パージした後、参照極に可逆水素電極（ＲＨＥ）を用い、電位範囲０．０５～１．２Ｖ、掃引速度１５０ｍＶ／ｓで５０回クリーニングを実施した。その後、サイクリックボルタンメトリー（ＣＶ）測定を電位範囲０．０５～１．２Ｖ、掃引速度１００ｍＶ／ｓで実施し本測定とした。電気化学的活性表面積（ＥＣＳＡ）の解析は０．４Ｖ以下に見られる水素の吸着波を用いて実施した。さらに、１．０Ｖ以上での触媒の安定性を確認するため、１．０～１．５Ｖまでの電位範囲を５００回掃引した後、０．０５～１．２Ｖの電位範囲でＣＶ測定を行った。
　この測定手順を１セットとして、１０セット以上（５０００サイクル以上の掃引）を行った。触媒ＡのＣＶ測定結果を図５に示す。各測定サイクルでの電流値は一定であった。図６に測定サイクルに対するＥＣＳＡの変化を示す。８０００サイクルまでの評価より、ＥＣＳＡの低下は初期値の約２０％で収まることが判明し、触媒Ａの劣化は小さく高電位安定性を有することが確認された。
（比較例４）
　実施例１で合成した多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料０．４ｇを担体として用いる代わりに、ケッチェンブラック０．４ｇを担体として用いたこと以外は、実施例２１と同様にして、貴金属を含む触媒の作製（触媒Ｂの作製）、電極作製、及び電気化学測定による電極評価を行った。
　触媒ＢのＣＶ測定結果を図７に示す。電位の掃引に伴い０．２～０．６Ｖ付近の電流値が増加すると共に、炭素の劣化で生じたキノン基の酸化還元ピークが０．６Ｖ付近で現れた。図８に測定サイクルに対するＥＣＳＡの変化を示す。８０００サイクルまでの評価より、ＥＣＳＡは初期値の約５０％まで低下することが判明し、実施例２１で示した触媒Ａの結果と比較して、カーボン系材料を担体として用いた触媒Ｂの高電位安定性は低く耐久性に劣ることが確認された。
　本実施形態の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料は、大きなＢＥＴ比表面積及び高い導電性を併せ持つことから、燃料電池用電極の触媒層に用いられる電極用材料として好適である。

Claims (21)

  1. 　三次元骨格構造を有する多孔質シリコンオキシカーバイドと、
    　前記三次元骨格構造に保持された炭素含有材料と、を備え、
    　ＢＥＴ比表面積が１００ｍ２／ｇ以上であり、且つ、導電率が１．０×１０－６Ｓ／ｃｍ以上である、多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料。
  2. 　合計細孔容積が、０．５ｃｍ３／ｇ以上である、請求項１に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料。
  3. 　細孔径が、２ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、請求項１又は２に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料。
  4. 　前記炭素含有材料の含有量が、２．５質量％以上５０質量％以下である、請求項１に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料。
  5. 　前記炭素含有材料が、カーボンブラック、カーボンナノファイバー、カーボンナノチューブ及び低結晶性ナノカーボンから選択される一又は複数で構成される、請求項４に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料。
  6. 　前記炭素含有材料の一次粒子の平均直径が、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、請求項５に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料。
  7. 　請求項１～６のいずれか１項に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を含む層を有する燃料電池用電極。
  8. 　界面活性剤及びｐＨ調整剤を含む酸性水溶液に有機アルコキシシランを添加し、前記有機アルコキシシランのゾルゲル反応にてゲルを形成する工程（Ａ）と、
    　前記ゲルをアルコールで洗浄する工程（Ｂ）と、
    　洗浄後のゲルを乾燥して多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を形成する工程（Ｃ）と、
    　前記多孔質シリコンオキシカーバイド前駆体を焼成して多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を得る工程（Ｄ）と、
    　を有し、
    　前記工程（Ａ）において前記酸性水溶液に炭素含有材料又は有機ポリマーを更に添加して、炭素含有材料又は有機ポリマーを含有するゲルを形成することを特徴とする多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
  9. 　前記工程（Ａ）において、前記ゾルゲル反応を２５℃以上８０℃以下で行う、請求項８に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
  10. 　前記有機アルコキシシランが、以下の式（１）又は式（２）で表される、請求項８に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
    Ｒ１－ＳｉＲ２ ｘ（ＯＲ３）３－ｘ　　　・・・（１）
    （但し、式中Ｒ１は、メチル基、エチル基、ビニル基及びフェニル基から選択されるいずれかの基であり、Ｒ２はメチル基、Ｒ３はメチル基又はエチル基を表す。式中整数ｘは、０又は１である。）
    Ｒ４－（ＳｉＲ５ ｙ（ＯＲ６）３－ｙ）２　　　・・・（２）
    （但し、式中Ｒ４は、メチレン基、エチレン基、へキシレン基、ビニレン基、フェニレン基及びビフェニレン基から選択されるいずれかの基を含み、Ｒ５はメチル基、Ｒ６はメチル基又はエチル基を表す。式中整数ｙは、０又は１である。）
  11. 　前記界面活性剤の前記酸性水溶液に対する含有量が、０．１質量％以上５０質量％以下である、請求項８に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
  12. 　前記界面活性剤が、非イオン性界面活性剤及び／又はカチオン性界面活性剤である、請求項１１に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
  13. 　前記ｐＨ調整剤の前記酸性水溶液に対する含有量が、５質量％以上５０質量％以下である、請求項８に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
  14. 　前記ｐＨ調整剤が、尿素、アンモニア及び水酸化ナトリウムから選択されるいずれかを含む、請求項１２に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
  15. 　前記炭素含有材料又は有機ポリマーと前記有機アルコキシシランとの質量比が、２．５～５０：９７．５～５０である、請求項８に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
  16. 　前記炭素含有材料が、カーボンブラック、カーボンナノファイバー、カーボンナノチューブ及び低結晶性ナノカーボンから選択される一又は複数で構成される、請求項１５に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
  17. 　前記炭素含有材料の一次粒子の平均直径が、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である、請求項１６に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
  18. 　前記有機ポリマーが、フェノール樹脂、ポリスチレン及びポリジビニルベンゼンから選択される一又は複数で構成される、請求項１５に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
  19. 　前記工程（Ｂ）において、前記酸性水溶液中から前記界面活性剤を除去すると共に、前記酸性水溶液中の水を前記アルコールと置換する、請求項８に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
  20. 　前記工程（Ｃ）において、室温、常圧で洗浄後の前記ゲルを乾燥する、請求項８に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
  21. 　前記工程（Ｄ）において、７００℃以上１２００℃以下で前記多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料を焼成する、請求項８に記載の多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法。
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