WO2020184420A1 - 樹脂組成物、樹脂膜及び液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

良好な光学特性を発現し、液晶表示素子の駆動電圧が低くなる液晶表示素子を提供することを目的とする。　電極を備えた一対の基板の間に配置した液晶及び重合性化合物を含む液晶組成物に対し、活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方を与えて硬化させた液晶層を有し、且つ、基板の少なくとも一方に樹脂膜を備え、更に、電圧無印加時に散乱状態となり、電圧印加時に透明状態となる透過散乱型の液晶表示素子であって、前記樹脂膜が、下記式［１－１］及び式［１－２］から選ばれる少なくとも１種の構造を有する重合体を含む樹脂組成物を用いて得られることを特徴とする液晶表示素子。 式中の記号の定義は、明細書に記載の通りである。

Description

樹脂組成物、樹脂膜及び液晶表示素子

　本発明は、電圧無印加時に散乱状態となり、電圧印加時に透過状態となる透過散乱型の液晶表示素子に関する。

　液晶表示素子としては、ＴＮ（Twisted　Nematic）モードが実用化されている。このモードでは、液晶の旋光特性を利用して、光のスイッチングを行うために、偏光板を用いる必要がある。偏光板を用いると光の利用効率が低くなる。

　偏光板を用いない液晶表示素子として、液晶の透過状態（透明状態ともいう。）と散乱状態との間でスイッチングを行う素子がある。一般的には、高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ（Polymer　Dispersed　Liquid　Crystal）ともいう。）や高分子ネットワーク型液晶（ＰＮＬＣ（Polymer　Network　Liquid　Crystal）ともいう。）を用いたものが知られている。
　これらの液晶表示素子では、電極を備えた一対の基板の間に、紫外線により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、紫外線の照射により液晶組成物の硬化を行い、液晶と重合性化合物の硬化物（例えば、ポリマーネットワーク）との複合体を形成する。そして、この液晶表示素子では、電圧の印加により、液晶の散乱状態と透過状態が制御される。
　ＰＤＬＣやＰＮＬＣを用いた液晶表示素子には、電圧無印加時に、液晶がランダムな方向を向いているため、白濁（散乱）状態となり、電圧印加時には、液晶が電界方向に配列し、光を透過して透過状態となる液晶表示素子がある（ノーマル型素子ともいう。）。この場合、電圧無印加時の液晶はランダムであるため、液晶を一方方向に配向させる液晶配向膜や配向処理の必要がない。そのため、この液晶表示素子では、電極と液晶層（前記液晶と重合性化合物の硬化物との複合体）とが直に接した状態となる（特許文献１、２参照）。

日本特許３５５２３２８号公報 日本特許４６３０９５４号公報

　液晶組成物中の重合性化合物は、ポリマーネットワークを形成させ、所望とする光学特性を得る役割と、液晶層と電極との密着性を高める役割がある。しかしながら、これらを実現するためには、密なポリマーネットワークを形成させる必要があるため、電圧印加に対する液晶分子の駆動が阻害される。そのため。本素子は、ＴＮモードなどの液晶表示素子に比べて駆動電圧が高くなってしまう。

　以上の点から、本発明は、良好な光学特性を発現し、液晶表示素子の駆動電圧が低くなる液晶表示素子を提供することを目的とする。

　本発明者は、前記目的を達成するため鋭意研究を進めた結果、以下の要旨を有する本発明を完成するに至った。
　即ち、電極を備えた一対の基板の間に配置した液晶及び重合性化合物を含む液晶組成物に対し、活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方を与えて硬化させた液晶層を有し、且つ、基板の少なくとも一方に樹脂膜を備え、更に、電圧無印加時に散乱状態となり、電圧印加時に透明状態となる透過散乱型の液晶表示素子であって、
　前記樹脂膜が、下記式［１－１］及び式［１－２］から選ばれる少なくとも１種の構造（特定構造（１）ともいう。）を有する重合体を含む樹脂組成物を用いて得られることを特徴とする液晶表示素子である。

　Ｘ^１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ａ－（ａは１～１５の整数である）、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－、－Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。Ｘ^２は、単結合又は－（ＣＨ_２）_ｂ－（ｂは１～１５の整数である）を示す。Ｘ^３は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｃ－（ｃは１～１５の整数である）、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。Ｘ^４は、ベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる２価の環状基、又はステロイド骨格を有する炭素数１７～５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子は、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシル基、炭素数１～３のフッ素含有アルキル基、炭素数１～３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていても良い。Ｘ^５は、ベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子が、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシル基、炭素数１～３のフッ素含有アルキル基、炭素数１～３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていても良い。Ｘｎは、０～４の整数を示す。Ｘ^６は、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数２～１８のアルケニル基、炭素数１～１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１～１８のアルコキシル基又は炭素数１～１８のフッ素含有アルコキシル基を示す。

　Ｘ^７は、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－、－Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。Ｘ^８は、炭素数８～２２のアルキル基又は炭素数６～１８のフッ素含有アルキル基を示す。

　本発明によれば、光学特性が良好で、液晶表示素子の駆動電圧が低くなる液晶表示素子が得られる。
　本発明により、何故に上記の優れた特性を有する液晶表示素子が得られるメカニズムは、必ずしも明らかではないが、ほぼ次のように推定される。
　特定構造（１）は、ベンゼン環やシクロヘキサン環などの部位や、長鎖アルキル基を有する。そのため、これを含む樹脂組成物から得られた樹脂膜は、電圧印加に伴う液晶の駆動を促進し、液晶表示素子の駆動電圧を低くすることができると考えられる。
　また、前記式［１－１］の構造は、剛直な構造であることから、少ない使用量であっても、前記効果が得られる。そのため、樹脂膜上の疎水性構造を少なくすることができるため、液晶表示素子における液晶層と樹脂膜との密着性が高くなり、液晶表示素子の信頼性を高めることができる。
　かくして、特定構造（１）を有する重合体を含む樹脂組成物を用いた液晶表示素子は、前記特性を有する液晶表示素子となる。そのため、本発明の液晶表示素子は、表示を目的とする液晶ディスプレイや、光の遮断と透過とを制御する調光窓や光シャッター素子などに用いることができる。

＜特定構造（１）＞
　特定構造（１）は、前記式［１－１］又は式［１－２］の構造である。
　式［１－１］中、Ｘ^１～Ｘ^６及びＸｎは、前記に定義した通りであるが、なかでも、それぞれ、下記のものが好ましい。
　Ｘ^１は、原料の入手性や合成の容易さの点から、単結合、－（ＣＨ_２）_ａ－（ａは１～１５の整数である）、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－又は－ＣＯＯ－が好ましい。より好ましいのは、単結合、－（ＣＨ_２）_ａ－（ａは１～１０の整数である）、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－又は－ＣＯＯ－である。
　Ｘ^２は、単結合又は－（ＣＨ_２）_ｂ－（ｂは１～１０の整数である）が好ましい。
　Ｘ^３は、合成の容易さの点から、単結合、－（ＣＨ_２）_ａ－（ａは１～１５の整数である）、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－又は－ＣＯＯ－が好ましい。より好ましいのは、単結合、－（ＣＨ_２）_ａ－（ａは１～１０の整数である）、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－又は－ＣＯＯ－である。
　Ｘ^４は、合成の容易さの点から、ベンゼン環、シクロへキサン環又はステロイド骨格を有する炭素数１７～５１の有機基が好ましい。
　Ｘ^５は、ベンゼン環又はシクロへキサン環が好ましい。
　Ｘ^６は、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数１～１０のフッ素含有アルキル基、炭素数１～１８のアルコキシ基又は炭素数１～１０のフッ素含有アルコキシ基が好ましい。より好ましいのは、炭素数１～１２のアルキル基又は炭素数１～１２のアルコキシ基である。特に好ましいのは、炭素数１～９のアルキル基又は炭素数１～９のアルコキシ基である。
　Ｘｎは、原料の入手性や合成の容易さの点から、０～３が好ましい。より好ましいのは、０～２である。

　Ｘ^１～Ｘ^６及びＸｎの好ましい組み合わせは、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の１３頁～３４頁の表６～表４７に掲載される（２－１）～（２－６２９）と同じ組み合わせが挙げられる。なお、国際公開公報の各表では、本発明におけるＸ^１～Ｘ^６が、Ｙ１～Ｙ６として示され、Ｘｎがｎとして示されているが、Ｙ１～Ｙ６は、Ｘ^１～Ｘ^６と、ｎはＸｎと読み替えるものとする。また、前記国際公開公報の各表に掲載される（２－６０５）～（２－６２９）では、本発明におけるステロイド骨格を有する炭素数１７～５１の有機基が、ステロイド骨格を有する炭素数１２～２５の有機基と示されているが、ステロイド骨格を有する炭素数１２～２５の有機基は、ステロイド骨格を有する炭素数１７～５１の有機基と読み替えるものとする。

　なかでも、（２－２５）～（２－９６）、（２－１４５）～（２－１６８）、（２－２１７）～（２－２４０）、（２－２６８）～（２－３１５）、（２－３６４）～（２－３８７）、（２－４３６）～（２－４８３）又は（２－６０３）～（２－６１５）の組み合わせが好ましい。特に好ましいのは、（２－４９）～（２－９６）、（２－１４５）～（２－１６８）、（２－２１７）～（２－２４０）、（２－６０３）～（２－６０６）、（２－６０７）～（２－６０９）、（２－６１１）、（２－６１２）又は（２－６２４）である。

　式［１－２］中、Ｘ^７及びＸ^８は、前記に定義した通りであるが、なかでも、それぞれ、下記のものが好ましい。

　Ｘ^７は、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＮＨ－、－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－又は－ＣＯＯ－が好ましい。より好ましいのは、単結合、－Ｏ－、－ＣＯＮＨ－又は－ＣＯＯ－である。
　Ｘ^８は、炭素数８～１８のアルキル基が好ましい。

　本発明における特定構造（１）は、前記の通り、より効率的に液晶表示素子の駆動電圧を低くすることができる点から、式［１－１］の構造を用いることが好ましい。
　特定構造（１）は、重合体を構成する繰り返し単位に含まれる形態が好ましい。特定構造（１）を含む繰り返し単位は、重合体を構成する繰り返し単位全体に対して、０．１～６０モル％含むことが好ましく、より好ましいのは１～３０モル％含むことである。
＜特定構造（２）＞
　本発明における重合体は、好ましくは、下記式［２－ａ］～式［２－ｉ］から選ばれる少なくとも１種の構造（特定構造（２）ともいう。）をさらに有する。

　Ｙ^Ａは、水素原子又はベンゼン環を示す。
　なかでも、式［２－ａ］～式［２－ｆ］が好ましい。より好ましいのは、式［２－ａ］～式［２－ｅ］である。特に好ましいのは、液晶層と樹脂膜との密着性の点から、式［２－ａ］、式［２－ｂ］、式［２－ｄ］又は式［２－ｅ］である。
　また、本発明における樹脂組成物は、好ましくは、特定構造（２）を有する重合体をさらに含む。
　特定構造（２）を用いることで、液晶表示素子を作製する際の紫外線の照射や加熱の工程において、液晶組成物中の重合性化合物の反応基と光反応し、液晶層と樹脂膜との密着性が、強固なものとなると考えられる。
＜重合体＞
　重合体としては、特に限定されないが、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、セルロース及びポリシロキサンから選ばれる少なくとも１種の重合体が好ましい。より好ましいのは、ポリイミド前駆体、ポリイミド又はポリシロキサンである。
　重合体にポリイミド前駆体又はポリイミド（総称してポリイミド系重合体ともいう。）を用いる場合、それらは、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られるポリイミド前駆体又はポリイミドが好ましい。

　ポリイミド前駆体とは、下記式［Ａ］の構造を有する。

　Ｒ^１は、４価の有機基を示す。Ｒ^２は、２価の有機基を示す。Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ、水素原子又は炭素数１～８のアルキル基を示す。Ａ^３及びＡ^４はそれぞれ、水素原子、炭素数１～５のアルキル基又はアセチル基を示す。ｎは、正の整数を示す。

　ジアミン成分としては、分子内に第一級又は第二級のアミノ基を２個有するジアミンであり、テトラカルボン酸成分としては、テトラカルボン酸化合物、テトラカルボン酸二無水物、テトラカルボン酸ジハライド化合物、テトラカルボン酸ジアルキルエステル化合物又はテトラカルボン酸ジアルキルエステルジハライド化合物が挙げられる。

　ポリイミド系重合体は、下記式［Ｂ］のテトラカルボン酸二無水物と下記式［Ｃ］のジアミンとを原料とすることで、比較的簡便に得られるという理由から、下記式［Ｄ］の繰り返し単位の構造式から成るポリアミド酸又は該ポリアミド酸をイミド化させたポリイミドが好ましい。

　Ｒ^１及びＲ^２は、式［Ａ］で定義したものと同じである。

　Ｒ^１及びＲ^２は、式［Ａ］で定義したものと同じである。

　また、通常の合成手法で、前記で得られた式［Ｄ］の重合体に、式［Ａ］中のＡ^１及びＡ^２の炭素数１～８のアルキル基、及び式［Ａ］中のＡ^３及びＡ^４の炭素数１～５のアルキル基又はアセチル基を導入することもできる。
　特定構造（１）をポリイミド系重合体に導入する方法としては、特定構造（１）を有するジアミンを原料の一部に用いることが好ましい。なかでも、前記式［１－１］及び式［１－２］から選ばれる少なくとも１種の構造を有するジアミン（特定ジアミン（１）ともいう。）を用いることが好ましい。

　特に、下記式［１ａ］のジアミンを用いることが好ましい。

　Ｘは、前記式［１－１］又は式［１－２］を示す。また、式［１－１］におけるＸ^１～Ｘ^６及びＸｎの詳細、及び好ましい組み合わせは、前記式［１－１］の通りであり、式［１－２］におけるＸ^７及びＸ^８の詳細、及び好ましい組み合わせは、前記式［１－２］の通りである。
　Ｘｍは、１～４の整数を示す。なかでも、１又は２が好ましい。
　式［１－１］の特定ジアミン（１）として、具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の１５頁～１９頁に記載される式［２－１］～式［２－６］、式［２－９］～式［２－３６］のジアミン化合物が挙げられる。なお、国際公開公報ＷＯ２０１３／１２５５９５の記載において、式［２－１］～式［２－３］中のＲ_２及び式［２－４］～式［２－６］中のＲ_４は、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数１～１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１～１８のアルコキシ基又は炭素数１～１８のフッ素含有アルコキシ基を示す。また、式［２－１３］中のＡ_４は、炭素数３～１８の直鎖状又は分岐状アルキル基を示す。加えて、式［２－４］～式［２－６］中のＲ_３は、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。

　なかでも、好ましいジアミンは、国際公開公報ＷＯ２０１３／１２５５９５に記載される式［２－１］～式［２－６］、式［２－９］～式［２－１３］又は式［２－２２］～式［２－３１］のジアミン化合物である。
　より好ましいのは、液晶表示素子の光学特性の点から、下記式［１ａ－３２］～式［１ａ－４１］のジアミンである。

　Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ、炭素数３～１２のアルキル基を示す。

　Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ、炭素数３～１２のアルキル基を示し、１,４－シクロヘキシレンのシス－トランス異性は、トランス異性体である。
　最も好ましいのは、液晶表示素子の光学特性の点から、前記式［１ａ－３５］～式［１ａ－３７］、式［１ａ－４０］又は式［１ａ－４１］のジアミンである。
　式［１－２］の特定ジアミン（１）として、具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１３／１２５５９５（２０１３．８．２９公開）の２３頁に記載される式［ＤＡ１］～式［ＤＡ１１］のジアミン化合物が挙げられる。なお、国際公開公報ＷＯ２０１３／１２５５９５の記載において、式［ＤＡ１］～式［ＤＡ５］中のＡ_１は、炭素数８～２２のアルキル基又は炭素数６～１８のフッ素含有アルキル基を示す。
　特定ジアミン（１）の使用割合は、液晶表示素子の光学特性、及び液晶層と樹脂膜との密着性の点から、ジアミン成分全体に対して、０．１～６０モル％が好ましい。より好ましいのは、１～３０モル％である。また、特定ジアミン（１）は、各特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用できる。
　特定構造（２）をポリイミド系重合体に導入する方法としては、特定構造（２）を有するジアミンを原料の一部に用いることが好ましい。特に下記式［２］の構造を有するジアミン（特定ジアミン（２）ともいう。）を用いることが好ましい。

　Ｙ^１は、単結合、－Ｏ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－、－Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。なかでも、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＮＨ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－が好ましい。より好ましいのは、原料の入手性や合成の容易さから、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－又は－ＣＯＯ－である。
　Ｙ^２は、単結合、炭素数１～１８のアルキレン基、又はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる環状基を有する炭素数６～２４の有機基を示し、これら環状基上の任意の水素原子は、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシル基、炭素数１～３のフッ素含有アルキル基、炭素数１～３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていても良い。なかでも、単結合、炭素数１～１２のアルキレン基、ベンゼン環又はシクロヘキサン環が好ましい。より好ましいのは、液晶層と樹脂膜との密着性の点から、単結合又は炭素数１～１２のアルキレン基である。
　Ｙ^３は、単結合、－Ｏ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－、－Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。なかでも、単結合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－が好ましい。より好ましいのは、単結合又は－ＯＣＯ－である。
　Ｙ^４は、前記式［２－ａ］～式［２－ｉ］から選ばれる少なくとも１種の構造を示す。なかでも、式［２－ａ］～式［２－ｆ］が好ましい。より好ましいのは、式［２－ａ］～式［２－ｅ］である。特に好ましいのは、液晶層と樹脂膜との密着性の点から、式［２－ａ］、式［２－ｂ］、式［２－ｄ］又は式［２－ｅ］である。
　Ｙｎは、１～４の整数を示す。なかでも、１又は２が好ましい。

　特定ジアミン（２）には、下記式［２ａ］のジアミンを用いることが好ましい。

　Ｙは、前記式［２］の構造を示す。また、式［２］におけるＹ^１～Ｙ^４及びＹｎの詳細、及び好ましい組み合わせは、前記式［２］の通りである。
　Ｙｍは１～４の整数を示す。なかでも、１が好ましい。

　より具体的な特定ジアミン（２）としては、下記式［２ａ－１］～式［２ａ－１２］が挙げられ、これらを用いることが好ましい。

　ｎ１は２～１２の整数を示す。

　ｎ２は、０～１２の整数を示す。ｎ３は、２～１２の整数を示す。

　なかでも、式［２ａ－１］、式［２ａ－２］、式［２ａ－５］～式［２ａ－７］、式［２ａ－１１］又は式［２ａ－１２］が好ましい。より好ましいのは、式［２ａ－５］～式［２ａ－７］、式［２ａ－１１］又は式［２ａ－１２］である。
　特定ジアミン（２）の使用割合は、液晶表示素子の光学特性、及び液晶層と樹脂膜との密着性の点から、ジアミン成分全体に対して、５～７０モル％が好ましい。より好ましいのは、１０～６０モル％である。また、特定ジアミン（２）は、各特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用できる。
　ポリイミド系重合体を作製するためジアミン成分としては、特定ジアミン（１）及び特定ジアミン（２）以外のジアミン（その他のジアミンともいう。）を用いることもできる。

　具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１５／０１２３６８（２０１５．１．２９公開）の２７頁～３０頁に記載されるその他のジアミン化合物、及び同公報の３０頁～３２頁に記載される式［ＤＡ１］～式［ＤＡ１４］のジアミン化合物が挙げられる。また、その他ジアミンは、各特性に応じて、１種又は２種以上を混合して使用できる。

　本発明においては、液晶表示素子の光学特性、及び液晶層と樹脂膜との密着性の点から、特定ジアミン（１）と特定ジアミン（２）との両方を用いることが好ましい。
　ポリイミド系重合体を作製するためのテトラカルボン酸成分としては、下記式［３］のテトラカルボン酸二無水物や、その誘導体であるテトラカルボン酸、テトラカルボン酸ジハライド、テトラカルボン酸ジアルキルエステル又はテトラカルボン酸ジアルキルエステルジハライド（すべてを総称して特定テトラカルボン酸成分ともいう。）を用いることが好ましい。

　Ｚは、下記式［３ａ］～式［３ｌ］のいずれかを示す。

　Ｚ^Ａ～Ｚ^Ｄはそれぞれ、水素原子、メチル基、塩素原子又はベンゼン環を示す。Ｚ^Ｅ及びＺ^Ｆはそれぞれ、水素原子又はメチル基を示す。）
　なかでも、式［３］中のＺは、合成の容易さやポリマーを製造する際の重合反応性のし易さの点から、式［３ａ］、式［３ｃ］、式［３ｄ］、式［３ｅ］、式［３ｆ］、式［３ｇ］、式［３ｋ］又は式［３ｌ］が好ましい。より好ましいのは、式［３ａ］、式［３ｅ］、式［３ｆ］、式［３ｇ］、式［３ｋ］又は式［３ｌ］である。特に好ましいのは、液晶表示素子の光学特性の点から、式［３ａ］、式［３ｅ］、式［３ｆ］、式［３ｇ］又は式［３ｌ］である。
　特定テトラカルボン酸成分の使用割合は、全テトラカルボン酸成分に対して、１モル％以上が好ましい。より好ましいのは、５モル％以上であり、特に好ましいのは、１０モル％以上である。最も好ましいのは、液晶表示素子の光学特性の点から、１０～９０モル％である。

　ポリイミド系重合体には、特定テトラカルボン酸成分以外のその他のテトラカルボン酸成分を用いることができる。その他のテトラカルボン酸成分としては、以下に示すテトラカルボン酸化合物、テトラカルボン酸二無水物、ジカルボン酸ジハライド化合物、ジカルボン酸ジアルキルエステル化合物又はジアルキルエステルジハライド化合物が挙げられる。
　具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１５／０１２３６８（２０１５．１．２９公開）の３４頁～３５頁に記載されるその他のテトラカルボン酸成分が挙げられる。
　特定テトラカルボン酸成分及びその他のテトラカルボン酸成分は、各特性に応じて、１種又は２種以上を混合して使用できる。
　ポリイミド系重合体を合成する方法は特に限定されない。通常、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを反応させて得られる。具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１５／０１２３６８（２０１５．１．２９公開）の３５頁～３６頁に記載される方法が挙げられる。

　ジアミン成分とテトラカルボン酸成分との反応は、通常、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分とを含む溶媒中で行う。その際に用いる溶媒としては、生成したポリイミド前駆体が溶解するものであれば特に限定されない。

　具体的には、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、γ－ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド又は１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンなどが挙げられる。また、ポリイミド前駆体の溶媒溶解性が高い場合は、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン又は下記式［Ｄ１］～式［Ｄ３］の溶媒を用いることができる。

　Ｄ^１及びＤ^２は、炭素数１～３のアルキル基を示す。Ｄ^３は、炭素数１～４のアルキル基を示す。
　また、これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。更に、ポリイミド前駆体を溶解させない溶媒であっても、生成したポリイミド前駆体が析出しない範囲で、前記溶媒に混合して使用してもよい。また、有機溶媒中の水分は重合反応を阻害し、更には生成したポリイミド前駆体を加水分解させる原因となるので、有機溶媒は脱水乾燥させたものを用いることが好ましい。
　ポリイミド前駆体の重合反応においては、ジアミン成分の合計モル数を１．０にした際のテトラカルボン酸成分の合計モル数は、０．８～１．２であることが好ましい。テトラカルボン酸成分の合計モル数が１．０より小さい場合、即ち、テトラカルボン酸成分の合計モル数がジアミン成分のモル数よりも小さい場合は、ポリマーの末端がアミノ基の構造となり、１．０より大きい場合、即ち、テトラカルボン酸成分の合計モル数がジアミン成分のモル数よりも大きい場合は、ポリマーの末端がカルボン酸無水物或いはジカルボン酸の構造となる。本発明においては、前記特定化合物による効果が、より高くなることから、テトラカルボン酸成分の合計モル数は１．０より大きい、即ち、テトラカルボン酸成分の合計モル数がジアミン成分のモル数よりも大きいことが好ましい。具体的には、ジアミン成分の合計モル数を１．０にした際、テトラカルボン酸成分の合計モル数が１．０５～１．２０であることが好ましい。

　ポリイミドはポリイミド前駆体を閉環させて得られる。このポリイミドにおいては、アミド酸基の閉環率（イミド化率ともいう。）は必ずしも１００％である必要はなく、用途や目的に応じて任意に調整できる。なかでも、ポリイミド系重合体の溶媒への溶解性の点から、３０～８０％が好ましい。より好ましいのは、４０～７０％である。

　ポリイミド系重合体の分子量は、そこから得られる樹脂膜の強度、及び樹脂膜形成時の作業性及び塗膜性を考慮した場合、ＧＰＣ（Gel　Permeation　Chromatography）法で測定したＭｗ（重量平均分子量）で５，０００～１，０００，０００とするのが好ましい。より好ましいのは、１０，０００～１５０，０００である。
　重合体にポリシロキサンを用いる場合、下記式［Ａ１］のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、又は、該式［Ａ１］のアルコキシシランと、下記式［Ａ２］及び／又は式［Ａ３］のアルコキシシランとを重縮合させて得られるポリシロキサン（総称してポリシロキサン系重合体ともいう。）を用いることが好ましい。
　式［Ａ１］のアルコキシシラン：

　Ａ^１は、前記式［１－１］又は式［１－２］を示す。また、式［１－１］におけるＸ^１～Ｘ^６及びＸｎの詳細、及び好ましい組み合わせは、前記式［１－１］の通りであり、式［１－２］におけるＸ^７及びＸ^８の詳細、及び好ましい組み合わせは、前記式［１－２］の通りである。なかでも、より効率的に液晶表示素子の駆動電圧を低くすることができる点から、式［１－１］の構造を用いることが好ましい。
　Ａ^２は、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を示す。なかでも、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基が好ましい。
　Ａ^３は、炭素数１～５のアルキル基を示す。なかでも、重縮合の反応性の点から、炭素数１～３のアルキル基が好ましい。
　ｍは１又は２の整数を示す。なかでも、合成の容易さの点から、１が好ましい。
　ｎは、０～２の整数を示す。
　ｐは、０～３の整数を示す。なかでも、重縮合の反応性の点から、１～３が好ましい。より好ましいのは、２又は３である。
　ｍ＋ｎ＋ｐは、４である。

　式［Ａ１］のアルコキシシランの具体例は、国際公開公報ＷＯ２０１５／００８８４６（２０１５．１．２２公開）の１７頁～２１頁に記載される式［２ａ－１］～式［２ａ－３２］のアルコキシシランが挙げられる。なかでも、同公報内の式［２ａ－９］～式［２ａ－２１］、式［２ａ－２５］～式［２ａ－２８］又は式［２ａ－３２］のアルコキシシランが好ましい。
　式［Ａ１］のアルコキシシランは、各特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用できる。
　式［Ａ２］のアルコキシシラン：

　Ｂ^１は、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、メタクリル基、アクリル基、ウレイド基及びシンナモイル基から選ばれる少なくとも１種を有する炭素数２～１２の有機基を示す。なかでも、入手の容易さの点から、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、アクリル基又はウレイド基を有する有機基が好ましい。より好ましいのは、メタクリル基、アクリル基又はウレイド基を有する有機基である。
　Ｂ^２は、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を示す。なかでも、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基が好ましい。
　Ｂ^３は、炭素数１～５のアルキル基を示す。なかでも、重縮合の反応性の点から、炭素数１～３のアルキル基が好ましい。
　ｍは１又は２の整数を示す。なかでも、合成の容易さの点から、１が好ましい。
　ｎは、０～２の整数を示す。
　ｐは、０～３の整数を示す。なかでも、重縮合の反応性の点から、１～３が好ましい。より好ましいのは、２又は３である。
　ｍ＋ｎ＋ｐは、４である。

　式［Ａ２］のアルコキシシランの具体例は、国際公開公報ＷＯ２０１５／００８８４６（２０１５．１．２２公開）の２１頁～２４頁に記載される式［２ｂ］のアルコキシシランの具体例が挙げられる。
　なかでも、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス（２－メトキシエトキシ）シラン、３－（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート、３－（トリメトキシシリル）プロピルアクリレート、３－（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレート、３－グリシジルオキシプロピル（ジメトキシ）メチルシラン、３－グリシジルオキシプロピル（ジエトキシ）メチルシラン、３－グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン又は２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランが好ましい。

　式［Ａ２］のアルコキシシランは、各特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用できる。

　式［Ａ３］のアルコキシシラン：

　Ｄ^１は、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を示す。なかでも、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基が好ましい。
　Ｄ^２は、炭素数１～５のアルキル基を示す。なかでも、重縮合の反応性の点から、炭素数１～３のアルキル基が好ましい。
　ｎは、０～３の整数を示す。

　式［Ａ３］のアルコキシシランの具体例は、国際公開公報ＷＯ２０１５／００８８４６（２０１５．１．２２公開）の２４頁～２５頁に記載される式［２ｃ］のアルコキシシランの具体例が挙げられる。

　また、式［Ａ３］中、ｎが０であるアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン又はテトラブトキシシランが挙げられ、式［Ａ３］のアルコキシシランとしては、これらのアルコキシシランを用いることが好ましい。

　式［Ａ３］のアルコキシシランは、各特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用できる。
　ポリシロキサン系重合体は、式［Ａ１］のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、又は式［Ａ１］のアルコキシシランと、式［Ａ２］及び／又は式［Ａ３］のアルコキシシランとを重縮合させて得られるポリシロキサンである。即ち、ポリシロキサン系重合体は、式［Ａ１］のアルコキシシランのみを重縮合させて得られるポリシロキサン、式［Ａ１］と式［Ａ２］の２種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、式［Ａ１］と式［Ａ３］の２種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、並びに式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］の３種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンのうちのいずれか１種である。

　なかでも、重縮合の反応性やポリシロキサン系重合体の溶媒への溶解性の点から、複数種のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンが好ましい。即ち、式［Ａ１］と式［Ａ２］の２種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、式［Ａ１］と式［Ａ３］の２種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、並びに式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］の３種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンのうちのいずれか１種を用いることが好ましい。

　ポリシロキサン系重合体を作製する際に複数種のアルコキシランを用いる場合、式［Ａ１］のアルコキシシランの使用割合は、全てのアルコキシシラン中、０．１～６０モル％が好ましい。より好ましいのは、１～３０モル％である。また、式［Ａ２］のアルコキシシランの使用割合は、全てのアルコキシシラン中、５～７０モル％が好ましい。より好ましいのは、１０～６０モル％である。更に、式［Ａ３］のアルコキシシランの使用割合は、全てのアルコキシシラン中、１～９９モル％が好ましい。より好ましいのは、１～８０モル％である。
　ポリシロキサン系重合体を重縮合する方法は特に限定されない。具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１５／００８８４６（２０１５．１．２２公開）の２６頁～２９頁に記載される方法が挙げられる。

　ポリシロキサン系重合体を作製する重縮合反応において、式［Ａ１］、式［Ａ２］又は式［Ａ３］のアルコキシシランを複種用いる場合は、複数種のアルコキシシランを、予め混合した混合物を用いて反応しても、複数種のアルコキシシランを順次添加しながら反応してもよい。
　本発明においては、前記方法で得られたポリシロキサン系重合体の溶液をそのまま重合体として用いても良いし、必要に応じて、前記方法で得られたポリシロキサン系重合体の溶液を濃縮したり、溶媒を加えて希釈したり、他の溶媒に置換して、重合体として用いても良い。

　希釈する際に用いる溶媒（添加溶媒ともいう。）は、重縮合反応に用いる溶媒やその他の溶媒であってもよい。添加溶媒は、ポリシロキサン系重合体が均一に溶解している限りにおいては特に限定されず、１種類又は２種類以上を任意に選択できる。添加溶媒としては、前記重縮合反応に用いる溶媒に加え、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチルなどのエステル系溶媒などが挙げられる。

　更に、重合体にポリシロキサン系重合体とそれ以外の重合体を用いる場合、ポリシロキサン系重合体にそれ以外の重合体を混合する前に、ポリシロキサン系重合体の重縮合反応の際に発生するアルコールを常圧又は減圧で留去しておくことが好ましい。
＜樹脂組成物＞
　樹脂組成物は、特定構造（１）を有する重合体を含むものであり、好ましくは、樹脂膜を形成するための溶液であり、特定構造（１）を有する重合体及び溶媒を含有する溶液である。その際、特定構造（１）を有する重合体は、２種類以上のものを用いることができる。
　樹脂組成物中の特定構造（１）を有する重合体の濃度は、１０～１００質量％が好ましく、２０～１００質量％がより好ましく、３０～１００質量％が特に好ましい。

　樹脂組成物に含まれる重合体成分は、すべてが特定構造（１）を有する重合体であっても良いが、本発明においては、前記通り、特性構造（１）と特定構造（２）との両方を有することが好ましい。その際、特定構造（１）と特定構造（２）との両方を有する１種の重合体を用いても、特定構造（１）を有する重合体と特定構造（２）を有する重合体とを合わせて用いても良い。合わせて用いる場合、特定構造（２）を有する重合体の使用割合は、特定構造（１）を有する重合体１００質量部に対して、１０～４００質量部であることが好ましい。より好ましいのは、５０～２００質量部である。特定構造（２）を有する重合体は、各特性に応じて、１種類又は２種類以上を使用することができる。

　また、重合体成分は、特定構造（１）を有する重合体及び特定構造（２）を有する重合体以外の重合体が混合されていても良い。その際、特定構造を持たない重合体の使用割合は、特定構造を有するすべての重合体１００質量部に対して、１０～２００質量部であることが好ましい。より好ましいのは、１０～１００質量部である。

　樹脂組成物中の溶媒の含有量は、樹脂組成物の塗布方法や目的とする膜厚を得るという観点から、適宜選択できる。なかでも、塗布により均一な樹脂膜を形成するとい観点から、樹脂組成物中の溶媒の含有量は５０～９９．９質量％が好ましい。より好ましいのは、６０～９９質量％である。特に好ましいのは、６５～９９質量％である。

　樹脂組成物に用いる溶媒は、特定構造を有する重合体を溶解させる溶媒であれば特に限定されない。なかでも、重合体がポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド又はポリエステルの場合、或いは、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、セルロース又はポリシロキサンの溶媒への溶解性が低い場合は、下記溶媒（溶媒Ａ類ともいう。）を用いることが好ましい。

　例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノンなどである。なかでも、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン又はγ－ブチロラクトンを用いることが好ましい。また、これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。

　重合体が、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、セルロース又はポリシロキサンである場合、更には、重合体がポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド又はポリエステルであり、これら重合体の溶媒への溶解性が高い場合は、下記溶媒（溶媒Ｂ類ともいう。）を用いることができる。

　溶媒Ｂ類の具体例は、国際公開公報ＷＯ２０１４／１７１４９３（２０１４．１０．２３公開）の５８頁～６０頁に記載される溶媒Ｂ類が挙げられる。なかでも、１－ヘキサノール、シクロヘキサノール、１，２－エタンジオール、１，２－プロパンジオール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、シクロヘキサノン、シクロペンタノン又は前記式［Ｄ１］～式［Ｄ３］を用いることが好ましい。
　また、これら溶媒Ｂ類を用いる際、樹脂組成物の塗布性を改善する目的に、前記溶媒Ａ類のＮ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン又はγ－ブチロラクトンを併用して用いることが好ましい。より好ましいのは、γ－ブチロラクトンを併用することである。

　これら溶媒Ｂ類は、樹脂組成物を塗布する際の樹脂膜の塗膜性や表面平滑性を高めることができるため、重合体にポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド又はポリエステルを用いた場合、前記溶媒Ａ類と併用して用いることが好ましい。その際、溶媒Ｂ類は、樹脂組成物に含まれる溶媒全体の１～９９質量％が好ましい。なかでも、１０～９９質量％が好ましい。より好ましいのは、２０～９５質量％である。
　樹脂組成物には、樹脂膜の膜強度を高めるために、エポキシ基、イソシアネート基、オキセタン基、シクロカーボネート基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基及び低級アルコキシアルキル基から選ばれる少なくとも１種を有する化合物（総称して特定架橋性化合物ともいう。）を導入することが好ましい。その際、これらの基は、化合物中に２個以上有する必要がある。
　エポキシ基又はイソシアネート基を有する架橋性化合物の具体例は、国際公開公報ＷＯ２０１４／１７１４９３（２０１４．１０．２３公開）の６３頁～６４頁に記載されるエポキシ基又はイソシアネート基を有する架橋性化合物が挙げられる。

　オキセタン基を有する架橋性化合物の具体例は、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の５８頁～５９頁に掲載される式［４ａ］～式［４ｋ］の架橋性化合物が挙げられる。

　シクロカーボネート基を有する架橋性化合物の具体例は、国際公開公報ＷＯ２０１２／０１４８９８（２０１２．２．２公開）の７６頁～８２頁に掲載される式［５－１］～式［５－４２］の架橋性化合物が挙げられる。

　ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基及び低級アルコキシアルキル基を有する架橋性化合物の具体例は、国際公開公報２０１４／１７１４９３（２０１４．１０．２３公開）の６５頁～６６頁に記載されるメラミン誘導体又はベンゾグアナミン誘導体、及び国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の６２頁～６６頁に掲載される、式［６－１］～式［６－４８］の架橋性化合物が挙げられる。

　樹脂組成物における特定架橋性化合物の使用割合は、すべての重合体成分１００質量部に対して、０．１～１００質量部が好ましい。より好ましいのは、架橋反応が進行し、目的の効果を発現させるため、０．１～５０質量部である。特に好ましいのは、１～３０質量部である。
　樹脂組成物には、光ラジカル発生剤、光酸発生剤及び光塩基発生剤から選ばれる少なくとも１種の発生剤（特定発生剤ともいう。）を導入することが好ましい。

　特定発生剤の具体例は、国際公開公報２０１４／１７１４９３（２０１４．１０．２３公開）の５４頁～５６頁に記載される特定発生剤が挙げられる。なかでも、特定発生剤には、液晶層と樹脂膜との密着性の点から、光ラジカル発生剤を用いることが好ましい。
　樹脂組成物には、樹脂組成物を塗布した際の樹脂膜の膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物を用いることができる。更に、樹脂膜と基板との密着性を向上させる化合物などを用いることもできる。
　樹脂膜の膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、又はノ二オン系界面活性剤などが挙げられる。具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１４／１７１４９３（２０１４．１０．２３公開）の６７頁に記載される界面活性剤が挙げられる。また、その使用割合は、すべての重合体成分１００質量部に対して、０．０１～２質量部が好ましい。より好ましいのは、０．０１～１質量部である。

　樹脂膜と基板との密着性を向上させる化合物の具体例は、国際公開公報ＷＯ２０１４／１７１４９３（２０１４．１０．２３公開）の６７頁～６９頁に記載される化合物が挙げられる。また、その使用割合は、すべての重合体成分１００質量部に対して０．１～３０質量部が好ましい。より好ましいのは１～２０質量部である。

　樹脂組成物には、前記以外の化合物の他に、樹脂膜の誘電率や導電性などの電気特性を変化させる目的の誘電体や導電物質を添加してもよい。
＜液晶組成物＞
　液晶組成物は、液晶及び重合性化合物を有する。
　液晶には、ネマチック液晶、スメクチック液晶又はコレステリック液晶を用いることができる。なかでも、本発明における液晶表示素子には、正の誘電異方性を有する液晶を用いることが好ましい。その際、低電圧駆動及び散乱特性の点からは、誘電率の異方性が大きく、屈折率の異方性が大きいものが好ましい。また、液晶には、前記相転移温度、誘電率異方性及び屈折率異方性の各物性値に応じて、２種類以上の液晶を混合して用いることができる。
　液晶表示素子をＴＦＴ（Thin　Film　Transistor）などの能動素子として駆動させるためには、液晶の電気抵抗が高くて電圧保持率（ＶＨＲともいう。）が高いことが求められる。そのため、液晶には、電気抵抗が高くて紫外線などの活性エネルギー線によりＶＨＲが低下しないフッ素系や塩素系の液晶が好ましい。

　更に、液晶表示素子は、液晶組成物中に二色性染料を溶解させてゲストホスト型の素子とすることもできる。その際、電圧無印加時は吸収（散乱）で、電圧印加時に透明となる素子が得られる。また、この素子では、液晶のダイレクターの方向（配向の方向）は、電圧印加の有無により９０度変化する。そのため、この素子は、二色性染料の吸光特性の違いを利用することで、ランダム配向と垂直配向でスイッチングを行う従来のゲストホスト型の素子に比べて、高いコントラストが得られる。また、二色性染料を溶解させたゲストホスト型の素子では、液晶が水平方向に配向した場合に有色になり、散乱状態においてのみ不透明となる。そのため、電圧を印加するにつれ、電圧無印加時の有色不透明から有色透明、無色透明の状態に切り替わる素子を得ることもできる。

　液晶組成物中の重合性化合物は、液晶表示素子作製時の活性エネルギー線や熱により、重合反応してポリマーネットワーク（硬化性樹脂ともいう。）を形成するためのものである。本発明における重合反応は、紫外線を照射して進行するものが好ましい。
　重合性化合物は、予め、重合性化合物を重合反応させたポリマーを液晶組成物に導入しても良いが、液晶組成物の取り扱い、即ち、液晶組成物の高粘度化の抑制や液晶への溶解性の点から、重合性化合物を含む液晶組成物を用いることが好ましい。
　重合性化合物は、液晶に溶解すれば、特に限定されないが、重合性化合物を液晶に溶解した際に、液晶組成物の一部又は全体が液晶相を示す温度が存在することが必要となる。液晶組成物の一部が液晶相を示す場合であっても、液晶表示素子を肉眼で確認して、素子内全体がほぼ一様な透明性と散乱特性が得られていれば良い。

　重合性化合物は、紫外線や熱により重合する化合物であれば良く、その際、どのような反応形式で重合が進み、硬化性樹脂を形成させても良い。具体的な反応形式としては、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合又は重付加反応が挙げられる。

　なかでも、重合性化合物の反応形式は、液晶表示素子の光学特性の点から、ラジカル重合が好ましい。その際、重合性化合物としては、下記のラジカル型の重合性化合物、又はそのオリゴマーを用いることができる。また、前記の通り、これらの重合性化合物を重合反応させたポリマーを用いることもできる。

　ラジカル型の重合性化合物又はそのオリゴマーの具体例は、国際公開公報２０１５／１４６９８７（２０１５．１０．１公開）の６９頁～７１頁に記載されるラジカル型の重合性化合物が挙げられる。
　ラジカル型の重合性化合物又はそのオリゴマーの使用割合は、液晶層と樹脂膜との密着性の点から、液晶組成物中の液晶１００質量部に対して、７０～１５０質量部が好ましい。より好ましいのは、８０～１１０質量部である。また、ラジカル型の重合性化合物は、各特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することもできる。
　液晶組成物中には、重合性化合物のラジカル重合を促進させる目的で、紫外線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（重合開始剤ともいう。）を導入することが好ましい。
　具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１５／１４６９８７（２０１５．１０．１公開）の７１頁～７２頁に記載されるラジカル開始剤が挙げられる。
　ラジカル開始剤の使用割合は、液晶層と樹脂膜との密着性の点から、液晶組成物中の液晶１００質量部に対して、０．０１～２０質量部が好ましい。より好ましいのは、０．０５～１０質量部である。また、ラジカル開始剤は、各特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することもできる。
＜特定液晶添加化合物＞
　液晶組成物中には、下記式［５ａ］の化合物（特定液晶添加化合物ともいう。）を導入することが好ましい。

　Ｓ^１は、下記式［５－ａ］～式［５－ｊ］のいずれかを示す。なかでも、式［５－ａ］、式［５－ｂ］、式［５－ｃ］、式［５－ｄ］、式［５－ｅ］又は式［５－ｆ］が好ましい。より好ましいのは、式［５－ａ］、式［５－ｂ］、式［５－ｃ］又は式［５－ｅ］である。特に好ましいのは、式［５－ａ］又は式［５－ｂ］である。

　Ｓ^Ａは、水素原子又はベンゼン環を示す。
　Ｓ^２は、単結合、－Ｏ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－、－Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。なかでも、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＮＨ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－が好ましい。より好ましいのは、単結合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－である。
　Ｓ^３は、単結合又は－（ＣＨ_２）_ａ－（ａは１～１５の整数である）を示す。なかでも、単結合又は－（ＣＨ_２）_ａ－（ａは１～１０の整数である）が好ましい。より好ましいのは、－（ＣＨ_２）_ａ－（ａは１～１０の整数である）である。
　Ｓ^４は、単結合、－Ｏ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。なかでも、単結合、－Ｏ－又は－ＣＯＯ－が好ましい。より好ましいのは、－Ｏ－である。
　Ｓ^５は、ベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる２価の環状基、又はステロイド骨格を有する炭素数１７～５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子は、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシ基、炭素数１～３のフッ素含有アルキル基、炭素数１～３のフッ素含有アルコキシ基又はフッ素原子で置換されていても良い。なかでも、ベンゼン環又はシクロヘキサン環、又はステロイド骨格を有する炭素数１７～５１の２価の有機基が好ましい。より好ましいのは、ベンゼン環又はステロイド骨格を有する炭素数１７～５１の２価の有機基である。
　Ｓ^６は、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－から選ばれる少なくとも１種を示す。なかでも、単結合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－が好ましい。より好ましいのは、単結合、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－である。
　Ｓ^７は、ベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子が、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシ基、炭素数１～３のフッ素含有アルキル基、炭素数１～３のフッ素含有アルコキシ基又はフッ素原子で置換されていても良い。なかでも、ベンゼン環又はシクロヘキサン環が好ましい。
　Ｓ^８は、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数２～１８のアルケニル基、炭素数１～１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１～１８のアルコキシ基又は炭素数１～１８のフッ素含有アルコキシ基を示す。なかでも、炭素数１～１８のアルキル基若しくはアルコキシ基、又は炭素数２～１８のアルケニル基が好ましい。より好ましいのは、炭素数１～１２のアルキル基又はアルコキシ基である。
　Ｓｍは、０～４の整数を示す。なかでも、０～２が好ましい。
　特定液晶添加化合物は、ベンゼン環やシクロヘキサン環といった剛直構造の部位と、式［５ａ］中のＳ^１で示される紫外線や熱により重合反応する部位とを有する。そのため、特定液晶添加化合物を液晶組成物中に含めると、特定液晶添加化合物の剛直構造の部位が、液晶の垂直配向性を高め、電圧印加に伴う液晶の駆動を促進させ、液晶表示素子の駆動電圧を低くできる。また、式［５ａ］中のＳ^１の部位が重合性化合物と反応することで、ポリマーネットワークを密な状態に保つことができる。
　より具体的な特定液晶添加化合物としては、下記式［５ａ－１］～式［５ａ－１１］の化合物が挙げられ、これらを用いることが好ましい。

　Ｓ^ａはそれぞれ、－Ｏ－又は－ＣＯＯ－を示す。Ｓ^ｂはそれぞれ、炭素数１～１２のアルキル基を示す。ｐ１はそれぞれ、１～１０の整数を示す。ｐ２はそれぞれ、１又は２の整数を示す。

　Ｓ^ｃはそれぞれ、単結合、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。Ｓ^ｄはそれぞれ、炭素数１～１２のアルキル基又はアルコキシ基を示す。ｐ３はそれぞれ、１～１０の整数を示す。ｐ４はそれぞれ、１又は２の整数を示す。

　Ｓ^ｅはそれぞれ、－Ｏ－又は－ＣＯＯ－を示す。Ｓ^ｆはそれぞれ、ステロイド骨格を有する炭素数１７～５１の２価の有機基を示す。Ｓ^ｇはそれぞれ、炭素数１～１２のアルキル基又は炭素数２～１８のアルケニル基を示す。ｐ５はそれぞれ、１～１０の整数を示す。
　特定液晶添加化合物の使用割合は、液晶層と樹脂膜との密着性の点から、液晶組成物中の液晶１００質量部に対して、０．１～３０質量部が好ましい。より好ましいのは、０．５～２０質量部である。特に好ましいのは、１～１０質量部である。また、特定液晶添加化合物は、各特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することもできる。
　液晶組成物の調製方法としては、液晶、重合性化合物、及び特定液晶添加化合物を一緒に混合する方法や、予め、重合性化合物と、特定液晶添加化合物とを混合したものを、液晶と混合する方法が挙げられる。
なかでも、本発明においては、予め、重合性化合物と特定液晶添加化合物とを混合したものを液晶と混合する方法が好ましい。
　前記の通りに液晶組成物を調製する場合、重合性化合物、及び特定液晶添加化合物の溶解性に応じて、加熱することもできる。その際の温度は１００℃未満が好ましい。
＜液晶表示素子の作製方法＞
　液晶表示素子に用いる基板としては、透明性の高い基板であれば特に限定されず、ガラス基板の他、アクリル基板、ポリカーボネート基板、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基板などのプラスチック基板、更には、それらのフィルムを用いることができる。特に、調光窓などに用いる場合には、プラスチック基板やフィルムが好ましい。また、プロセスの簡素化の観点からは、液晶駆動のためのＩＴＯ電極、ＩＺＯ（Indium　Zinc　Oxide）電極、ＩＧＺＯ（Indium　Gallium　Zinc　Oxide）電極、有機導電膜などが形成された基板を用いることが好ましい。また、反射型の液晶表示素子とする場合には、片側の基板のみにならば、シリコンウエハやアルミニウムなどの金属や誘電体多層膜が形成された基板を使用できる。
　液晶表示素子は、基板の少なくとも一方に、特定構造（１）を有する重合体を含む樹脂組成物から得られる樹脂膜を有する。特に、両方の基板に樹脂膜があることが好ましい。

　樹脂組成物の塗布方法は、特に限定されないが、工業的には、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、インクジェット法、ディップ法、ロールコータ法、スリットコータ法、スピンナー法、スプレー法などがあり、基板の種類や目的とする樹脂膜の膜厚に応じて、適宜選択できる。

　樹脂組成物を基板上に塗布した後は、ホットプレート、熱循環型オーブン、ＩＲ（赤外線）型オーブンなどの加熱手段により、基板の種類や樹脂組成物に用いる溶媒に応じて３０～３００℃、好ましくは、３０～２５０℃の温度で溶媒を蒸発させて樹脂膜とすることができる。特に、基板にプラスチック基板を用いる場合には、３０～１５０℃の温度で処理することが好ましい。

　焼成後の樹脂膜の厚みは、厚すぎると液晶表示素子の消費電力の面で不利となり、薄すぎると素子の信頼性が低下する場合があるので、好ましいのは、５～５００ｎｍである。より好ましいのは、１０～３００ｎｍである。特に好ましいのは、１０～２５０ｎｍである。

　液晶表示素子に用いる液晶組成物は、前記の通りの液晶組成物であるが、そのなかに、液晶表示素子の電極間隙（ギャップともいう。）を制御するためのスペーサーを導入することもできる。　　　　

　液晶組成物の注入方法は、特に限定されないが、例えば、次の方法が挙げられる。即ち、基板にガラス基板を用いる場合、樹脂膜が形成された一対の基板を用意し、片側の基板の４片を、一部分を除いてシール剤を塗布し、その後、樹脂膜の面が内側になるようにして、もう片側の基板を貼り合わせた空セルを作製する。そして、シール剤が塗布されていない場所から、液晶組成物を減圧注入して、液晶組成物注入セルを得る方法が挙げられる。更に、基板にプラスチック基板やフィルムを用いる場合には、樹脂膜が形成された一対の基板を用意し、片側の基板の上にＯＤＦ（One　Drop　Filling）法やインクジェット法などで、液晶組成物を滴下し、その後、もう片側の基板を貼り合わせて、液晶組成物注入セルを得る方法が挙げられる。

　液晶表示素子のギャップは、前記スペーサーなどで制御できる。その方法は、前記の通りに、液晶組成物中に目的とする大きさのスペーサーを導入する方法や、目的とする大きさのカラムスペーサーを有する基板を用いる方法などが挙げられる。また、基板にプラスチックやフィルム基板を用いて、基板の貼り合わせをラミネートで行う場合は、スペーサーを導入せずに、ギャップを制御できる。

　液晶表示素子のギャップの大きさは、１～１００μｍが好ましい。より好ましいのは、１～５０μｍである。特に好ましいのは、２～３０μｍである。ギャップが小さすぎると、液晶表示素子のコントラストが低下し、大きすぎると、素子の駆動電圧が高くなる。

　液晶表示素子は、液晶組成物の一部又は全体が液晶性を示す状態で、液晶組成物の硬化を行い、液晶層を形成させて得られる。この液晶組成物の硬化は、前記液晶組成物注入セルに、紫外線の照射や加熱をして行う。本発明においては、前記の通り、紫外線の照射が好ましい。

　紫外線の照射に用いる紫外線照射装置の光源としては、例えば、メタルハライドランプ又は高圧水銀ランプが挙げられる。また、紫外線の波長は、２５０～４００ｎｍが好ましい。なかでも、３１０～３７０ｎｍが好ましい。また、紫外線を照射した後に、加熱処理を行っても良い。その際の温度としては、４０～１２０℃が好ましい。より好ましいのは、４０～８０℃である。
　加熱に用いる装置は、前記樹脂組成物を基板上に塗布した後に用いる加熱手段が挙げられる。また、その際の温度は、重合性化合物の反応が進行する温度や基板の種類に応じて、適宜、選択される。具体的には、８０～２００℃が好ましい。

　以下に実施例を挙げ、本発明をさらに詳しく説明するが、これらに限定されるものではない。
　以下で用いる略語は下記の通りである。
「ポリイミド系重合体に用いる化合物類」
＜特定ジアミン（１）＞

＜特定ジアミン（２）＞

＜その他ジアミン＞

＜特定テトラカルボン酸成分＞

「ポリシロキサン系重合体に用いる化合物類」

　Ｅ２：オクタデシルトリエトキシシラン
　Ｅ３：３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
　Ｅ４：３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン
　Ｅ５：テトラエトキシシラン
「架橋性化合物」

「溶媒」
　ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
　γ－ＢＬ：γ－ブチロラクトン
　ＢＣＳ：エチレングリコールモノブチルエーテル
　ＰＢ：プロピレングリコールモノブチルエーテル
　ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
　ＥＣＳ：エチレングリコールモノエチルエーテル
　ＥＣ：ジエチレングリコールモノエチルエーテル
「液晶組成物に用いる化合物類」
＜特定液晶添加化合物＞

＜重合性化合物＞
　Ｒ１：ＩＢＸＡ（大阪有機化学工業社製）
　Ｒ２：２－ヒドロキシエチルメタクリレート（東京化成工業社製）
　Ｒ３：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＦＭ－４００（日本化薬社製）
　Ｒ４：ＥＢＥＣＲＹＬ　２３０（ダイセル・オルネクス社製）
　Ｒ５：カレンズＭＴ　ＰＥ１（昭和電工社製）
＜光ラジカル開始剤＞
　Ｐ１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４（ＢＡＳＦ社製）
＜液晶＞
　Ｌ１：ＭＬＣ－３０１８（メルク社製）
「ポリイミド系重合体の分子量測定」
　常温ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（ＧＰＣ－１０１）（昭和電工社製）、カラム（ＫＤ－８０３，ＫＤ－８０５）（Ｓｈｏｄｅｘ社製）を用いて、以下のようにして測定した。

　カラム温度：５０℃
　溶離液：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（添加剤として、臭化リチウム一水和物（ＬｉＢｒ・Ｈ_２Ｏ）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ（リットル）、リン酸・無水結晶（ｏ－リン酸）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）が１０ｍｌ／Ｌ）
　流速：１．０ｍｌ／分
　検量線作成用標準サンプル：ＴＳＫ　標準ポリエチレンオキサイド（分子量；約９００,０００、１５０,０００、１００,０００及び３０，０００）（東ソー社製）及びポリエチレングリコール（分子量；約１２,０００、４,０００及び１,０００）（ポリマーラボラトリー社製）。
「ポリイミド系重合体のイミド化率の測定」
　ポリイミド粉末２０ｍｇをＮＭＲ（核磁気共鳴）サンプル管（ＮＭＲサンプリングチューブスタンダード，φ５（草野科学社製））に入れ、重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ－ｄ６，０．０５質量％ＴＭＳ（テトラメチルシラン）混合品）（０.５３ｍｌ）を添加し、超音波をかけて完全に溶解させた。この溶液をＮＭＲ測定機（ＪＮＷ－ＥＣＡ５００）（日本電子データム社製）にて５００ＭＨｚのプロトンＮＭＲを測定した。イミド化率は、イミド化前後で変化しない構造に由来するプロトンを基準プロトンとして決め、このプロトンのピーク積算値と、９.５ｐｐｍ～１０.０ｐｐｍ付近に現れるアミド酸のＮＨ基に由来するプロトンピーク積算値とを用い以下の式によって求めた。

　イミド化率（％）＝（１－α・ｘ／ｙ）×１００
（ｘはアミド酸のＮＨ基由来のプロトンピーク積算値、ｙは基準プロトンのピーク積算値、αはポリアミド酸（イミド化率が０％）の場合におけるアミド酸のＮＨ基プロトン１個に対する基準プロトンの個数割合である。）
「ポリイミド系重合体の合成」
＜合成例１＞
　Ｄ２（１．３６ｇ，５．４４ｍｍｏｌ）、Ａ１（１．０５ｇ，２．７６ｍｍｏｌ）及びＣ１（１．１９ｇ，１１．０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１０．４ｇ）中で混合し、８０℃で４時間反応させた後、Ｄ１（１．６０ｇ，８．１６ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（５．２１ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（１）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量（Ｍｎともいう。）は２１，５００、重量平均分子量（Ｍｗともいう。）は６４，７００であった。
＜合成例２＞
　Ｄ２（２．２１ｇ，８．８３ｍｍｏｌ）、Ａ１（１．７１ｇ，４．４９ｍｍｏｌ）、Ｂ１（２．９６ｇ，１１．２ｍｍｏｌ）及びＣ１（０．７３ｇ，６．７５ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２０．４ｇ）中で混合し、８０℃で４時間反応させた後、Ｄ１（２．６０ｇ，１３．３ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（１０．２ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（２）を得た。このポリアミド酸のＭｎは２０，５００、Ｍｗは６１，０００であった。
＜合成例３＞
　合成例２の手法で得られたポリアミド酸溶液（２）（２０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（１．６５ｇ）及びピリジン（１．００ｇ）を加え、６０℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４５０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（３）を得た。このポリイミドのイミド化率は５５％であり、Ｍｎは１８，３００、Ｍｗは４８，３００であった。
＜合成例４＞
　Ｄ４（０．７４ｇ，３．７３ｍｍｏｌ）、Ａ２（０．７５ｇ，１．９０ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．５０ｇ，５．６８ｍｍｏｌ）及びＣ１（０．２１ｇ，１．９４ｍｍｏｌ）をγ－ＢＬ（８．６０ｇ）中で混合し、６０℃で４時間反応させた後、Ｄ１（１．１０ｇ，５．６１ｍｍｏｌ）とγ－ＢＬ（４．３０ｇ）を加え、４０℃で８時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（４）を得た。このポリアミド酸のＭｎは１５，９００、Ｍｗは４７，６００であった。
＜合成例５＞
　Ｄ４（１．１８ｇ，５．９６ｍｍｏｌ）、Ａ２（０．５１ｇ，１．２９ｍｍｏｌ）及びＢ１（１．９４ｇ，７．３４ｍｍｏｌ）をγ－ＢＬ（８．２５ｇ）中で混合し、６０℃で４時間反応させた後、Ｄ１（０．５０ｇ，２．５５ｍｍｏｌ）とγ－ＢＬ（４．１３ｇ）を加え、４０℃で８時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（５）を得た。このポリアミド酸のＭｎは１３，３００、Ｍｗは４４，２００であった。
＜合成例６＞
　Ｄ４（０．７４ｇ，３．７３ｍｍｏｌ）、Ａ３（０．５４ｇ，１．２５ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．６６ｇ，６．２８ｍｍｏｌ）及びＣ１（０．５４ｇ，４．９９ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１０．４ｇ）中で混合し、８０℃で４時間反応させた後、Ｄ１（１．７０ｇ，８．６７ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（５．１８ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（６）を得た。このポリアミド酸のＭｎは２２，３００、Ｍｗは６８，５００であった。
＜合成例７＞
　Ｄ３（２．００ｇ，８．９２ｍｍｏｌ）、Ａ２（０．７１ｇ，１．８０ｍｍｏｌ）及びＢ２（１．４７ｇ，７．２３ｍｍｏｌ）をγ－ＢＬ（１２．６ｇ）中で混合し、４０℃で１２時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（７）を得た。このポリアミド酸のＭｎは１４，９００、Ｍｗは４１，９００であった。
＜合成例８＞
　Ｄ３（２．５０ｇ，１１．２ｍｍｏｌ）、Ａ４（０．２８ｇ，０．５７ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．７９ｇ，６．７７ｍｍｏｌ）及びＣ１（０．４３ｇ，３．９８ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１５．０ｇ）中で混合し、４０℃で１２時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（８）を得た。このポリアミド酸のＭｎは１６，１００、Ｍｗは４５，２００であった。
＜合成例９＞
　Ｄ２（１．１１ｇ，４．４４ｍｍｏｌ）、Ａ５（０．８４ｇ，２．２３ｍｍｏｌ）、Ｂ１（１．４８ｇ，５．６０ｍｍｏｌ）及びＣ１（０．３６ｇ，３．３３ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１０．２ｇ）中で混合し、８０℃で４時間反応させた後、Ｄ１（１．３０ｇ，６．６３ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（５．１０ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（９）を得た。このポリアミド酸のＭｎは１９，９００、Ｍｗは６０，５００であった。
＜合成例１０＞
　Ｄ２（１．５３ｇ，６．１１ｍｍｏｌ）及びＣ１（１．６８ｇ，１５．５ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１０．０ｇ）中で混合し、８０℃で４時間反応させた後、Ｄ１（１．８０ｇ，９．１８ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（５．０１ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（１０）を得た。このポリアミド酸のＭｎは２８，２００、Ｍｗは７３，９００であった。
＜合成例１１＞
　Ｄ４（１．０８ｇ，５．４５ｍｍｏｌ）及びＣ１（１．４９ｇ，１３．８ｍｍｏｌ）をγ－ＢＬ（８．３４ｇ）中で混合し、６０℃で４時間反応させた後、Ｄ１（１．６０ｇ，８．１６ｍｍｏｌ）とγ－ＢＬ（４．１７ｇ）を加え、４０℃で８時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（１１）を得た。このポリアミド酸のＭｎは２０，９００、Ｍｗは５８，４００であった。
　合成例で得られたポリイミド系重合体を、表１に示す。

＊１：ポリアミド酸。
「ポリシロキサン系重合体の合成」
＜合成例１２＞
　温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣＳ（２８．３ｇ）、Ｅ１（４．１０ｇ）、Ｅ３（７．４５ｇ）及びＥ５（３２．５ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調製した。この溶液に、予めＥＣＳ（１４．２ｇ）、水（１０．８ｇ）、及び触媒として蓚酸（０．７０ｇ）を混合して調製しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、更に、２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、予め調製しておいたＥ４の含有量が９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣＳ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。更に、３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ_２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（１）を得た。
＜合成例１３＞
　温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣ（２９．２ｇ）、Ｅ１（４．１０ｇ）及びＥ５（３８．８ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調製した。この溶液に、予めＥＣ（１４．６ｇ）、水（１０．８ｇ）、及び触媒として蓚酸（０．５０ｇ）を混合して調製しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、更に、２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、予め調製しておいたＥ４の含有量９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。更に、３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ_２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（２）を得た。
＜合成例１４＞
　温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣＳ（２８．３ｇ）、Ｅ２（４．０７ｇ）、Ｅ３（７．４５ｇ）及びＥ５（３２．５ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調製した。この溶液に、予めＥＣＳ（１４．２ｇ）、水（１０．８ｇ）、及び触媒として蓚酸（０．７０ｇ）を混合して調製しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、更に、２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、予め調製しておいたＥ４の含有量が９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣＳ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。更に、３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ_２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（３）を得た。

　合成例で得られたポリシロキサン系重合体を、表２に示す。

「樹脂組成物の製造」
＜実施例１＞
　合成例１の手法で得られたポリアミド酸溶液（１）（１０．０ｇ）に、ＮＭＰ（１６．０ｇ）及びＢＣＳ（１５．７ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（１）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
＜実施例２＞
　合成例２の手法で得られたポリアミド酸溶液（２）（１０．０ｇ）に、ＮＭＰ（１６．０ｇ）及びＢＣＳ（１５．７ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（２）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
＜実施例３＞　　　　
　合成例３の手法で得られたポリイミド粉末（３）（２．５０ｇ）に、ＮＭＰ（２７．４ｇ）を加え、７０℃で２４時間撹拌して溶解させた。その後、ＢＣＳ（７．８３ｇ）及びＰＢ（３．９２ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（３）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
＜実施例４＞
　合成例３の手法で得られたポリイミド粉末（３）（２．５０ｇ）に、ＮＭＰ（２７．４ｇ）を加え、７０℃で２４時間撹拌して溶解させた。その後、Ｋ１（０．１３ｇ）、ＢＣＳ（７．８３ｇ）及びＰＢ（３．９２ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（４）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
＜実施例５＞
　合成例３の手法で得られたポリイミド粉末（３）（２．５０ｇ）に、γ－ＢＬ（５．８８ｇ）を加え、６０℃で２４時間撹拌して溶解させた。その後、ＰＧＭＥ（３３．３ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（５）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
＜実施例６＞
　合成例４の手法で得られたポリアミド酸溶液（４）（１０．０ｇ）に、γ－ＢＬ（０．３３ｇ）を加え、２５℃で４時間撹拌した。その後、ＰＧＭＥ（３１．３ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（６）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
＜実施例７＞
　合成例４の手法で得られたポリアミド酸溶液（４）（１０．０ｇ）に、γ－ＢＬ（０．３３ｇ）を加え、２５℃で４時間撹拌した。その後、Ｋ２（０．１８ｇ）及びＰＧＭＥ（３１．３ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（７）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
＜実施例８＞
　合成例５の手法で得られたポリアミド酸溶液（５）（１０．０ｇ）に、γ－ＢＬ（０．３３ｇ）を加え、２５℃で４時間撹拌した。その後、Ｋ２（０．１３ｇ）及びＰＧＭＥ（３１．３ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（８）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
＜実施例９＞
　合成例６の手法で得られたポリアミド酸溶液（６）（１０．０ｇ）に、Ｋ１（０．０８ｇ）、ＮＭＰ（１９．９ｇ）及びＰＢ（１１．８ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（９）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
＜実施例１０＞
　合成例７の手法で得られたポリアミド酸溶液（７）（１０．０ｇ）に、γ－ＢＬ（０．３３ｇ）を加え、２５℃で４時間撹拌した。その後、Ｋ２（０．０８ｇ）及びＰＧＭＥ（３１．３ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（１０）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
＜実施例１１＞
　合成例８の手法で得られたポリアミド酸溶液（８）（１０．０ｇ）に、ＮＭＰ（１６．０ｇ）、ＢＣＳ（７．８３ｇ）及びＰＢ（７．８３ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（１１）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
＜実施例１２＞
　合成例９の手法で得られたポリアミド酸溶液（９）（１０．０ｇ）に、ＮＭＰ（１６．０ｇ）及びＢＣＳ（１５．７ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（１２）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
＜実施例１３＞
　合成例１２の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（１）（２０．０ｇ）に、ＥＣＳ（１２．５ｇ）及びＢＣＳ（７．５２ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（１３）を得た。この樹脂組成物に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
＜実施例１４＞
　合成例１３の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（２）（２０．０ｇ）に、ＥＣ（８．７２ｇ）及びＢＣＳ（１１．３ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（１４）を得た。この樹脂組成物に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
＜実施例１５＞
　合成例１４の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（３）（２０．０ｇ）に、ＥＣＳ（１２．５ｇ）及びＢＣＳ（７．５２ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（１５）を得た。この樹脂組成物に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。
＜比較例１＞
　合成例１０の手法で得られたポリアミド酸溶液（１０）（１０．０ｇ）に、ＮＭＰ（１６．０ｇ）及びＢＣＳ（１５．７ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（１６）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
＜比較例２＞
　合成例１１の手法で得られたポリアミド酸溶液（１１）（１０．０ｇ）に、γ－ＢＬ（０．３３ｇ）及びＰＧＭＥ（３１．３ｇ）を加え、２５℃で６時間撹拌して、樹脂組成物（１７）を得た。この樹脂組成物には、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であった。
　実施例及び比較例で得られた樹脂組成物を、表３～表５に示す。

＊２：括弧内の数値は重合体１００質量部に対する架橋性化合物の導入量（質量部）を示す。
「液晶組成物の作製」
＜液晶組成物（Ａ）の作製＞
　Ｒ１（１．２０ｇ）、Ｒ２（０．３０ｇ）、Ｒ３（１．２０ｇ）、Ｒ４（０．９０ｇ）及びＲ５（０．３０ｇ）を混合し、６０℃で２時間撹拌して、重合性化合物の溶液を作製した。その後、作製した重合性化合物の溶液、Ｌ１（６．００ｇ）及びＰ１（０．１０ｇ）を混合し、２５℃で６時間撹拌して、液晶組成物（Ａ）を得た。
＜液晶組成物（Ｂ）の作製＞
　Ｒ１（１．２０ｇ）、Ｒ２（０．３０ｇ）、Ｒ３（１．２０ｇ）、Ｒ４（０．９０ｇ）及びＲ５（０．３０ｇ）を混合し、６０℃で２時間撹拌して、重合性化合物の溶液を作製した。その一方で、Ｓ１（０．２０ｇ）及びＬ１（５．８０ｇ）を混合し、２５℃で２時間撹拌して特定液晶添加化合物を含む液晶を作製した。その後、作製した重合性化合物の溶液、特定液晶添加化合物を含む液晶、及びＰ１（０．１０ｇ）を混合し、２５℃で６時間撹拌して、液晶組成物（Ｂ）を得た。
＜液晶組成物（Ｃ）の作製＞
　Ｒ１（１．２０ｇ）、Ｒ２（０．３０ｇ）、Ｒ３（１．２０ｇ）、Ｒ４（０．９０ｇ）及びＲ５（０．３０ｇ）を混合し、６０℃で２時間撹拌して、重合性化合物の溶液を作製した。その一方で、Ｓ２（０．４０ｇ）及びＬ１（５．６０ｇ）を混合し、２５℃で２時間撹拌して特定液晶添加化合物を含む液晶を作製した。その後、作製した重合性化合物の溶液、特定液晶添加化合物を含む液晶、及びＰ１（０．１０ｇ）を混合し、２５℃で６時間撹拌して、液晶組成物（Ｃ）を得た。
「液晶表示素子の作製（ガラス基板）」
　前記実施例及び比較例の手法で得られた樹脂組成物を、細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過した。得られた溶液を純水及びＩＰＡ（イソプロピルアルコール）で洗浄した１００×１００ｍｍのＩＴＯ電極付きガラス基板（縦：１００ｍｍ、横：１００ｍｍ、厚さ：０．７ｍｍ）のＩＴＯ面上にスピンコートし、ホットプレート上にて１００℃で５分間、熱循環型クリーンオーブンにて２１０℃で３０分間加熱処理をして、膜厚が１００ｎｍの樹脂膜付きのＩＴＯ基板を得た。この樹脂膜付きのＩＴＯ基板を２枚用意し、その一方の基板の樹脂膜面に、２０μｍのスペーサーを塗布した。その後、その基板のスペーサーを塗布した樹脂膜面に、ＯＤＦ（One　Drop　Filling）法にて前記液晶組成物（Ａ）～（Ｃ）を滴下し、次いで、他方の基板の樹脂膜面が向き合うように貼り合わせを行い、処理前の液晶表示素子を得た。

　この処理前の液晶表示素子に、照度２０ｍＷ／ｃｍ^２のメタルハライドランプを用いて、３５０ｎｍ以下の波長をカットし、照射時間６０秒で紫外線照射を行った。これにより、液晶表示素子（ガラス基板）を得た。
「液晶表示素子の作製（プラスチック基板）」
　前記実施例及び比較例の手法で得られた樹脂組成物を、細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過した。得られた溶液を純水で洗浄した１５０×１５０ｍｍのＩＴＯ電極付きＰＥＴ基板（縦：１５０ｍｍ、横：１５０ｍｍ、厚さ：０．１ｍｍ）のＩＴＯ面上にバーコーターにて塗布をし、熱循環型オーブンにて１２０℃で２分間加熱処理をして、膜厚が１００ｎｍの樹脂膜付きのＩＴＯ基板を得た。この樹脂膜付きのＩＴＯ基板を２枚用意し、その一方の基板の樹脂膜面に、２０μｍのスペーサーを塗布した。その後、その基板のスペーサーを塗布した樹脂膜面に、ＯＤＦ（One　Drop　Filling）法にて前記液晶組成物（Ａ）～（Ｃ）を滴下し、次いで、他方の基板の樹脂膜面が向き合うように貼り合わせを行い、処理前の液晶表示素子を得た。なお、ＯＤＦ法にて、液晶組成物の滴下及び貼り合わせを行う際には、ＩＴＯ電極付きＰＥＴ基板の支持基板としてガラス基板を用いた。その後、紫外線を照射する前に、その支持基板を外した。

　この処理前の液晶表示素子に、前記「液晶表示素子の作製（ガラス基板）」と同様の手法で紫外線を照射し、液晶表示素子（プラスチック基板）を得た。
「光学特性（散乱特性と透明性）の評価」
　本評価は、液晶表示素子（ガラス基板及びプラスチック基板）の電圧無印加状態（０Ｖ）及び電圧印加状態（交流駆動：１０Ｖ～６０Ｖ）のＨａｚｅ（曇り度）を測定することで行った。その際、Ｈａｚｅは、ＪＩＳ　Ｋ　７１３６に準拠し、ヘーズメータ（ＨＺ－Ｖ３，スガ試験機社製）で測定した。なお、本評価では、電圧無印加状態のＨａｚｅが高いほど散乱特性に優れ、電圧印加状態でのＨａｚｅが低いほど透明性に優れるとした。

　また、液晶表示素子の高温高湿環境下の安定性試験として、温度８０℃、湿度９０％ＲＨの恒温恒湿槽内に２４時間保管した後の測定も行った。具体的には、初期のＨａｚｅに対して、恒温恒湿槽保管後のＨａｚｅの変化が小さいものほど、本評価に優れるとした。

　更に、液晶表示素子の光の照射に対する安定性試験として、卓上型ＵＶ硬化装置（ＨＣＴ３Ｂ２８ＨＥＸ－１）（センライト社製）を用いて、３６５ｎｍ換算で５Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射した後の観察も行った。具体的には、初期のＨａｚｅに対して、紫外線照射後のＨａｚｅの変化が小さいものほど、本評価に優れるとした。

　初期、恒温恒湿槽保管後（恒温恒湿）及び紫外線照射後（紫外線）のＨａｚｅの測定結果を、表６～表８にまとめて示す。
＜実施例１６～実施例３１、比較例３及び比較例４＞
　前記実施例及び比較例の手法で得られた樹脂組成物（１）～（１７）のいずれかと、前記液晶組成物（Ａ）～（Ｃ）を用いて、前記手法で液晶表示素子の作製及び光学特性（散乱特性と透明性）の評価を行った。その際、実施例１６～実施例１９、実施例２５、実施例２７、実施例２８、実施例３０及び比較例３は、ガラス基板を用いて液晶表示素子の作製と各評価を行い、実施例２０～実施例２４、実施例２６、実施例２９、実施例３１及び比較例４は、プラスチック基板を用いた。

　前記の通り、特定構造（１）を有する重合体を含む樹脂組成物を用いた実施例の液晶表示素子は、それを用いてない比較例に比べて、電圧印加状態でのＨａｚｅが低く、且つ、より低い電圧でＨａｚｅが低くなった。即ち、実施例では、良好な光学特性（透明性）を発現し、且つ、液晶表示素子の駆動電圧が低くなった。具体的には、実施例１６と比較例３との比較、及び実施例２１と比較例４との比較である。
　また、重合体に、特定構造（２）を有する特定ジアミン（２）を用いた場合、恒温恒湿槽保管後及び紫外線照射後のＨａｚｅの変化が小さくなった。具体的には、同一の条件での比較において、実施例１６と実施例１７との比較である。
　更に、樹脂組成物に特定架橋性化合物を導入した場合、恒温恒湿槽保管後及び紫外線照射後のＨａｚｅの変化が小さくなった。具体的には、同一の条件での比較において、実施例１８と実施例１９との比較、及び実施例２１と実施例２２との比較である。
　加えて、特定液晶添加化合物を含む液晶組成物を用いた場合、それを用いない場合に比べて、電圧印加状態でのＨａｚｅがより低くなり、更に、駆動電圧もより低くなった。具体的には、同一の条件での比較において、実施例２２と実施例２３との比較である。

　特定の構造を有する重合体を含む樹脂組成物を用いることで、光学特性が良好で、液晶表示素子の駆動電圧が低くなる液晶表示素子が得られる。

　また、本発明の液晶表示素子は、電圧無印加時に散乱状態となり、電圧印加時には透明状態になるノーマル型素子に、好適に用いることができる。そして、本素子は、表示を目的とする液晶ディスプレイ、更には、光の遮断と透過とを制御する調光窓や光シャッター素子などに用いることができ、このノーマル型素子の基板には、プラスチック基板を用いることができる。

　なお、２０１９年３月８日に出願された日本特許出願２０１９－０４２７０８号の明細書、特許請求の範囲及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (17)

1. 　電極を備えた一対の基板の間に配置した液晶及び重合性化合物を含む液晶組成物に対し、活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方を与えて硬化させた液晶層を有し、且つ、基板の少なくとも一方に樹脂膜を備え、更に、電圧無印加時に散乱状態となり、電圧印加時に透明状態となる透過散乱型の液晶表示素子であって、前記樹脂膜が、下記式［１－１］及び式［１－２］から選ばれる少なくとも１種の構造を有する重合体を含む樹脂組成物を用いて得られることを特徴とする液晶表示素子。
   

   

   　Ｘ^１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ａ－（ａは１～１５の整数である）、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－、－Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－から選ばれる少なくとも１種を示す。Ｘ^２は、単結合又は－（ＣＨ_２）_ｂ－（ｂは１～１５の整数である）を示す。Ｘ^３は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｃ－（ｃは１～１５の整数である）、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－から選ばれる少なくとも１種を示す。Ｘ^４は、ベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる２価の環状基、又はステロイド骨格を有する炭素数１７～５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子は、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシル基、炭素数１～３のフッ素含有アルキル基、炭素数１～３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていても良い。Ｘ^５は、ベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子が、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシル基、炭素数１～３のフッ素含有アルキル基、炭素数１～３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていても良い。Ｘｎは、０～４の整数を示す。Ｘ^６は、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数２～１８のアルケニル基、炭素数１～１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１～１８のアルコキシル基又は炭素数１～１８のフッ素含有アルコキシル基を示す。
   

   

   　Ｘ^７は、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－、－Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。Ｘ^８は、炭素数８～２２のアルキル基又は炭素数６～１８のフッ素含有アルキル基を示す。
2. 　前記重合体が、下記式［２－ａ］～式［２－ｉ］から選ばれる少なくとも１種の構造をさらに有する請求項１に記載の液晶表示素子。
   

   

   　Ｙ^Ａは、水素原子又はベンゼン環を示す。
3. 　前記樹脂組成物が、下記式［２－ａ］～式［２－ｉ］から選ばれる少なくとも１種の構造を有する重合体をさらに含む、請求項１又は２に記載の液晶表示素子。
   

   

   　Ｙ^Ａは、水素原子又はベンゼン環を示す。
4. 　前記重合体が、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、セルロース及びポリシロキサンから選ばれる少なくとも１種である請求項１～請求項３のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
5. 　前記重合体が、ジアミン成分とテトラカルボン酸成分との反応で得られるポリイミド前駆体又は該ポリイミド前駆体をイミド化したポリイミドである請求項４に記載の液晶表示素子。
6. 　前記ジアミン成分が、前記式［１－１］及び式［１－２］から選ばれる少なくとも１種の構造を有するジアミンを含む請求項５に記載の液晶表示素子。
7. 　前記式［１－１］及び式［１－２］から選ばれる少なくとも１種の構造を有するジアミンが、下記式［１ａ］である請求項６に記載の液晶表示素子。
   

   

   　Ｘは、前記式［１－１］又は式［１－２］を示す。Ｘｍは、１～４の整数を示す。
8. 　前記ジアミン成分が、下記式［２］の構造を有するジアミンを含む請求項５～請求項７のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
   

   

   　Ｙ^１は、単結合、－Ｏ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－、－Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。Ｙ^２は、単結合、炭素数１～１８のアルキレン基、又はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる環状基を有する炭素数６～２４の有機基を示し、これら環状基上の任意の水素原子は、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシル基、炭素数１～３のフッ素含有アルキル基、炭素数１～３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていても良い。Ｙ^３は、単結合、－Ｏ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－、－Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ－、－ＣＯＯ－及び－ＯＣＯ－から選ばれる少なくとも１種を示す。Ｙ^４は、前記式［２－ａ］～式［２－ｉ］から選ばれる少なくとも１種の構造を示す。Ｙｎは、１～４の整数を示す。
9. 　前記式［２］の構造を有するジアミンが、下記式［２ａ］である請求項８に記載の液晶表示素子。
   

   

   　Ｙは、前記式［２］の構造を示す。Ｙｍは、１～４の整数を示す。
10. 　前記テトラカルボン酸成分が、下記式［３］のテトラカルボン酸二無水物を含む請求項５～請求項９のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
    

    

    　Ｚは、下記式［３ａ］～式［３ｌ］のいずれかを示す。
    

    

    　Ｚ^Ａ～Ｚ^Ｄはそれぞれ、水素原子、メチル基、塩素原子又はベンゼン環を示す。Ｚ^Ｅ及びＺ^Ｆはそれぞれ、水素原子又はメチル基を示す。
11. 　前記重合体が、下記式［Ａ１］のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、又は、該式［Ａ１］のアルコキシシランと、下記式［Ａ２］及び／又は式［Ａ３］のアルコキシシランとを重縮合させて得られるポリシロキサンを含む請求項４に記載の液晶表示素子。
    

    

    　Ａ^１は、前記式［１－１］又は式［１－２］を示す。Ａ^２は、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を示す。Ａ^３は、炭素数１～５のアルキル基を示す。ｍは、１又は２の整数を示す。ｎは、０～２の整数を示す。ｐは、０～３の整数を示す。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは、４である。
    

    

    　Ｂ^１は、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、メタクリル基、アクリル基、ウレイド基及びシンナモイル基から選ばれる少なくとも１種を有する炭素数２～１２の有機基を示す。Ｂ^２は、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を示す。Ｂ^３は、炭素数１～５のアルキル基を示す。ｍは、１又は２の整数を示す。ｎは、０～２の整数を示す。ｐは、０～３の整数を示す。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは、４である。
    

    

    　Ｄ^１は水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を示す。Ｄ^２は炭素数１～５のアルキル基を示す。ｎは０～３の整数を示す。
12. 　前記液晶組成物が、下記式［５ａ］の化合物を含む請求項１～請求項１１のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
    

    

    　Ｓ^１は、下記式［５－ａ］～式［５－ｊ］のいずれかを示す。Ｓ^２は、単結合、－Ｏ－、－ＮＨ－、－Ｎ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－、－Ｎ（ＣＨ_３）ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。Ｓ^３は、単結合又は－（ＣＨ_２）_ａ－（ａは１～１５の整数である）を示す。Ｓ^４は、単結合、－Ｏ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。Ｓ^５は、ベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる２価の環状基、又はステロイド骨格を有する炭素数１７～５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子は、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシ基、炭素数１～３のフッ素含有アルキル基、炭素数１～３のフッ素含有アルコキシ基又はフッ素原子で置換されていても良い。Ｓ^６は、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。Ｓ^７は、ベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子が、炭素数１～３のアルキル基、炭素数１～３のアルコキシ基、炭素数１～３のフッ素含有アルキル基、炭素数１～３のフッ素含有アルコキシ基又はフッ素原子で置換されていても良い。Ｓ^８は、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数２～１８のアルケニル基、炭素数１～１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１～１８のアルコキシ基又は炭素数１～１８のフッ素含有アルコキシ基を示す。Ｓｍは、０～４の整数を示す。
    

    

    　Ｓ^Ａは、水素原子又はベンゼン環を示す。
13. 　前記式［５ａ］の化合物が、下記式［５ａ－１］～式［５ａ－１１］のいずれかである請求項１２に記載の液晶表示素子。
    

    

    　Ｓ^ａはそれぞれ、－Ｏ－又は－ＣＯＯ－を示す。Ｓ^ｂはそれぞれ、炭素数１～１２のアルキル基を示す。ｐ１はそれぞれ、１～１０の整数を示す。ｐ２はそれぞれ、１又は２の整数を示す。
    

    

    　Ｓ^ｃはそれぞれ、単結合、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－を示す。Ｓ^ｄはそれぞれ、炭素数１～１２のアルキル基又はアルコキシ基を示す。ｐ３はそれぞれ、１～１０の整数を示す。ｐ４はそれぞれ、１又は２の整数を示す。
    

    

    　Ｓ^ｅはそれぞれ、－Ｏ－又は－ＣＯＯ－を示す。Ｓ^ｆはそれぞれ、ステロイド骨格を有する炭素数１７～５１の２価の有機基を示す。Ｓ^ｇはそれぞれ、炭素数１～１２のアルキル基又は炭素数２～１８のアルケニル基を示す。ｐ５はそれぞれ、１～１０の整数を示す。
14. 　前記樹脂組成物が、エポキシ基、イソシアネート基、オキセタン基、シクロカーボネート基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルキル基及び低級アルコキシアルキル基から選ばれる少なくとも１種を有する架橋性化合物をさらに含む、請求項１～請求項１３のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
15. 　前記液晶表示素子の基板が、ガラス基板又はプラスチック基板である請求項１～請求項１４のいずれか一項に記載の液晶表示素子。
16. 　請求項１～１５のいずれか一項に記載の液晶表示素子に用いる樹脂膜であり、前記式［１－１］及び式［１－２］から選ばれる少なくとも１種の構造を有する重合体を含む樹脂組成物から形成される樹脂膜。
17. 　前記式［１－１］及び式［１－２］から選ばれる少なくとも１種の構造を有する重合体を含む、請求項１６に記載の樹脂膜を形成するための樹脂組成物。