WO2019159369A1 - ガスパージ用ポート - Google Patents

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WO2019159369A1
WO2019159369A1 PCT/JP2018/005795 JP2018005795W WO2019159369A1 WO 2019159369 A1 WO2019159369 A1 WO 2019159369A1 JP 2018005795 W JP2018005795 W JP 2018005795W WO 2019159369 A1 WO2019159369 A1 WO 2019159369A1
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WO
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gas
gas purge
air passage
container
purge port
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PCT/JP2018/005795
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English (en)
French (fr)
Inventor
千明 松鳥
幸一 西坂
Original Assignee
ミライアル株式会社
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Priority to PCT/JP2018/005795 priority patent/WO2019159369A1/ja
Priority to JP2020500243A priority patent/JP6982164B2/ja
Priority to CN201880086095.XA priority patent/CN111587480A/zh
Priority to TW108105147A priority patent/TWI802650B/zh
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Definitions

  • the present invention relates to a gas purge port used for a storage container used for storing, storing, transporting, transporting a substrate made of a semiconductor wafer or the like.
  • a storage container for storing a substrate made of a semiconductor wafer and transporting and transporting the substrate by a process in the factory and a transportation means such as a land transportation means, an air transportation means and a sea transportation means, a container body and a lid are provided.
  • a configuration is conventionally known.
  • the container body has a cylindrical wall part in which an opening part of the container body is formed at one end and the other end is closed.
  • the lid can be attached to and detached from the container body opening, and the container body opening can be closed.
  • a storage space for storing a substrate or the like is formed in the storage container.
  • the storage space is formed by being surrounded by the wall portion of the container body and the inner surface of the lid, and can store a plurality of substrates.
  • a front retainer is provided in a portion of the lid that faces the storage space when the container body opening is closed.
  • the front retainer can support the edges of the plurality of substrates when the container main body opening is closed by the lid.
  • the back substrate support portion is provided on the wall portion so as to be paired with the front retainer.
  • the back side substrate support part can support the edges of a plurality of substrates.
  • the container body and the lid are provided with a filter.
  • a check valve is provided inside the filter as necessary. Gas purging is performed from the outside of the storage container through the filter to the storage space by dry air (hereinafter referred to as purge gas) from which inert gas such as nitrogen or moisture is removed (1% or less).
  • purge gas dry air
  • the check valve prevents the gas filled in the storage space by the gas purge from leaking (see Patent Document 3).
  • the purge gas is purged with gas, but the purge gas passes through the ventilation space in the check valve member provided with the metal spring, so that the metal component contained in the metal spring is included in the purge gas and corrosive.
  • the metal falls off, and there is a concern about particle adhesion, which makes it impossible to keep the environment inside the storage container clean. Because of this problem, there is a problem that the yield of the semiconductor chip is lowered.
  • the present invention includes a container body having a container body opening at one end, and a lid that can be attached to and detached from the container body opening and can close the container body opening.
  • a gas purge port formed in at least one of the container main body and the lid body and attached to an access opening capable of communicating the space outside the storage container and the storage space;
  • a tubular air passage forming portion in which an air passage capable of venting the outside of the storage container and the storage space is formed, a spring formed of resin to prevent corrosion due to gas, and a valve biased by the spring
  • a check valve member that restricts the flow direction of gas in the ventilation path to a certain direction, and the gas par other than the ventilation path formation part or the ventilation path formation part and the check valve member.
  • a sealing surface that is provided in at least one of the port portions and is in close contact with the gas injection port, and the sealing surface is configured to prevent gas leakage between the gas injection port and the sealing surface. It is related with the port for gas purge provided with the contact
  • the spring is preferably molded from a thermoplastic resin having a tensile modulus expressed by Young's modulus exceeding 2000 Mpa.
  • thermoplastic resin is preferably composed of at least one of polyether ether ketone, polycarbonate, and polyacetal.
  • valve body can be opened and closed by a pressure of gas flowing through the ventilation path.
  • the contact pad is preferably formed in an annular shape. Moreover, it is preferable that the contact pad has a hollow portion that can follow the gas injection port. Moreover, it is preferable that the said air flow path formation part has a taper-shaped surface for sealing between the said air flow path and the exterior of the said air flow path.
  • valve body has a tapered shape
  • the check valve member is sealed by closing a ventilation path by contacting a tapered toilet seat of the check valve member.
  • gas purge port includes a gas permeable membrane for filtration.
  • the present invention it is possible to provide a gas purging filter capable of efficiently replacing the gas in the storage space of the storage container with the purge gas and maintaining the cleanliness inside the storage container. Therefore, since the rate at which the semiconductor wafer is exposed to an inert gas or dry air can be increased, the yield of semiconductor chips fabricated on the semiconductor wafer can be improved. Furthermore, since the gas replacement by the purge gas can be performed efficiently in a short time, the process time can be shortened and the cost can be reduced.
  • FIG. 2 is an exploded perspective view showing a state in which a gas purging filter 80 according to the first embodiment of the present invention is attached to a storage container 1 and a substrate W is stored.
  • FIG. 3 is a lower perspective view showing a state where the gas purge filter 80 according to the first embodiment of the present invention is attached to the storage container 1. It is a top perspective view showing filter 80 for gas purge concerning a 1st embodiment of the present invention. It is a downward perspective view showing filter 80 for gas purge concerning a 1st embodiment of the present invention. It is a disassembled perspective view which shows the gas purge filter 80 which concerns on 1st Embodiment of this invention provided in the air supply hole.
  • FIG. 1 is an exploded perspective view showing a state where the gas purge filter 80 is attached to the storage container 1 and the substrate W is stored.
  • FIG. 2 is a lower perspective view showing the gas purge filter 80 attached to the storage container 1.
  • FIG. 3A is an upper perspective view showing the gas purging filter 80.
  • FIG. 3B is a lower perspective view showing the gas purge filter 80.
  • FIG. 4 is an exploded perspective view showing the gas purge filter 80 provided in the air supply hole.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing the gas purge filter 80.
  • a direction from the container body 2 described later to the lid 3 is defined as the front direction, and the opposite direction is defined as the rear direction. Also defined as the front-rear direction.
  • a direction (upward direction in FIG. 1) from the lower wall 24 described later to the upper wall 23 is defined as an upward direction, the opposite direction is defined as a downward direction, and these are collectively defined as an up-down direction.
  • a direction from the second side wall 26 to the first side wall 25 to be described later is defined as the left direction, and the opposite direction is defined as the right direction. Left and right direction.
  • the substrate W (see FIG. 1) stored in the storage container 1 is a disk-shaped silicon wafer, glass wafer, sapphire wafer, etc., and is a thin one used in the industry.
  • the substrate W in this embodiment is a silicon wafer having a diameter of 300 mm to 450 mm.
  • the storage container 1 is used as an in-process container in which a substrate W made of a silicon wafer as described above is stored and transported in a process in a factory, or by land transportation means / air transportation means / sea transportation means.
  • a transportation means such as a container body 2, a lid 3, a substrate support plate-shaped portion 5 as a side substrate support portion, and a back substrate. It has a support part (not shown) and a front retainer (not shown) as a lid side substrate support part.
  • the container body 2 has a cylindrical wall portion 20 in which a container body opening 21 is formed at one end and the other end is closed.
  • a storage space 27 is formed in the container body 2.
  • the storage space 27 is formed so as to be surrounded by the wall portion 20.
  • the substrate support plate-like portion 5 is disposed in a portion of the wall portion 20 that forms the storage space 27. As shown in FIG. 1, a plurality of substrates W can be stored in the storage space 27.
  • the substrate support plate-like portion 5 is provided on the wall portion 20 so as to form a pair in the storage space 27.
  • the substrate support plate-like portion 5 abuts the edges of the plurality of substrates W to separate the adjacent substrates W at a predetermined interval.
  • the edges of the plurality of substrates W can be supported in a state where they are aligned in parallel.
  • a back side substrate support part (not shown) is provided on the back side of the substrate support plate-like part 5.
  • the back substrate support (not shown) is provided on the wall 20 so as to be paired with a front retainer (not shown) in the storage space 27.
  • the back substrate support (not shown) abuts the edges of the plurality of substrates W, thereby The rear part can be supported.
  • the lid 3 can be attached to and detached from the opening peripheral edge portion 31 (FIG. 1 and the like) forming the container body opening 21 and can close the container body opening 21.
  • the front retainer (not shown) is provided in a portion of the lid 3 that faces the storage space 27 when the container main body opening 21 is closed by the lid 3.
  • the front retainer (not shown) is disposed inside the storage space 27 so as to be paired with the back side substrate support portion (not shown).
  • the front retainer (not shown) supports the front part of the edges of the plurality of substrates W by contacting the edges of the plurality of substrates W when the container body opening 21 is closed by the lid 3. Is possible.
  • the front retainer (not shown) supports the plurality of substrates W in cooperation with the back side substrate support portion (not shown) when the container body opening 21 is closed by the lid 3.
  • a plurality of substrates W are held in a state in which adjacent substrates W are separated from each other at a predetermined interval and arranged in parallel.
  • the storage container 1 is made of a resin such as a plastic material.
  • the resin of the material include polycarbonate, cycloolefin polymer, polyetherimide, polyetherketone, and polybutylene terephthalate. And thermoplastic resins such as polyetheretherketone and liquid crystal polymer, and alloys thereof.
  • conductive substances such as carbon fibers, carbon powder, carbon nanotubes, and conductive polymers are selectively added. It is also possible to add glass fiber, carbon fiber or the like in order to increase the rigidity.
  • the wall portion 20 of the container body 2 includes a back wall 22, an upper wall 23, a lower wall 24, a first side wall 25, and a second side wall 26.
  • the back wall 22, the upper wall 23, the lower wall 24, the first side wall 25, and the second side wall 26 are made of the above-described materials and are integrally formed.
  • the first side wall 25 and the second side wall 26 face each other, and the upper wall 23 and the lower wall 24 face each other.
  • the rear end of the upper wall 23, the rear end of the lower wall 24, the rear end of the first side wall 25, and the rear end of the second side wall 26 are all connected to the back wall 22.
  • the front end of the upper wall 23, the front end of the lower wall 24, the front end of the first side wall 25, and the front end of the second side wall 26 have a positional relationship facing the back wall 22 and have a substantially rectangular shape.
  • the opening peripheral part 31 which forms is comprised.
  • the opening periphery 31 is provided at one end of the container body 2, and the back wall 22 is located at the other end of the container body 2.
  • the outer shape of the container body 2 formed by the outer surface of the wall portion 20 is box-shaped.
  • the inner surface of the wall 20, that is, the inner surface of the back wall 22, the inner surface of the upper wall 23, the inner surface of the lower wall 24, the inner surface of the first side wall 25, and the inner surface of the second side wall 26 are surrounded by the storage space 27. Is forming.
  • the container main body opening 21 formed in the opening peripheral edge portion 31 is surrounded by the wall portion 20 and communicates with a storage space 27 formed inside the container main body 2. A maximum of 25 substrates W can be stored in the storage space 27.
  • latch engaging recesses 40 ⁇ / b> A and 40 ⁇ / b> B that are recessed toward the outside of the storage space 27 in the upper wall 23 and the lower wall 24 and in the vicinity of the opening peripheral edge 31. 41A and 41B are formed. A total of four latch engagement recesses 40A, 40B, 41A, 41B are formed in the vicinity of the left and right ends of the upper wall 23 and the lower wall 24, one each.
  • a rib 28 is provided integrally with the upper wall 23.
  • the rib 28 is provided to increase the rigidity of the container body.
  • top flange 29 is fixed to the central portion of the upper wall 23.
  • the top flange 29 is a member that is a portion that is hung and suspended in the storage container 1 when the storage container 1 is suspended in an AMHS (automatic wafer transfer system), a PGV (wafer substrate transfer carriage), or the like.
  • through holes 45 as access openings are formed at the four corners of the lower wall 24 as ventilation paths.
  • the two through holes 45 in front of the lower wall 24 are exhaust holes for discharging gas inside the container, and the two through holes 45 in the rear supply gas to the inside of the container. It is an air supply hole for taking care.
  • Gas purge filters 80 are respectively disposed in the through holes 45 of the air supply holes and the exhaust holes.
  • the gas purge filter 80 includes a filter housing 81, a filtering 85, a gas permeable membrane 86, a check valve member 87, a contact pad 88, an O Rings 89 and 91 are provided.
  • the filter housing 81 includes an upper first housing 82 and a lower first housing 83, and a ventilation film 86 is sandwiched between the upper first housing 82 and the lower first housing 83.
  • the upper first housing 82 and the lower first housing 83 are welded and fixed by ultrasonic waves.
  • the gas purge filter 80 is disposed on the lower wall 24 of the container body 2 so that the upper first housing 82 is on the storage space 27 side.
  • the gas purge filter 80 is not limited to being attached to the lower wall 24.
  • the gas purge filter 80 may be attached to a wall portion other than the lower wall 24, a lid, or may be attached to both the lower wall and the lid.
  • a storage space side opening 821 is formed in the upper first housing 82 disposed on the storage space 27 side of the gas purge filter 80, and the space side outside the storage container 1 of the gas purge filter 80 is formed.
  • a storage space outer opening 851 is formed in the filtering 85. These openings allow the inside of the storage container 1 to communicate with the outside space through a ventilation space (an upper ventilation space 822 and a lower ventilation space 833) formed inside the gas purge filter 80.
  • the storage space outer opening 851 is configured to have a larger diameter than a gas flow passage of a purge port that supplies a purge gas, which will be described later, to the ventilation space.
  • the gas purge filter 80 passes through the gas permeable membrane 86 in the direction from the space outside the container body 2 to the storage space 27 (hereinafter, defined as “inside direction of the storage space 27”) or from the storage space 27 to the container.
  • the gas can pass in the direction toward the space outside the main body 2 (hereinafter, defined as “the outside direction of the storage space 27”).
  • the gas permeable membrane 86 prevents the particles contained in the gas from passing through and performs gas filtration.
  • the upper first housing 82 is provided with an upper ventilation space 822 communicating with the storage space side opening 821.
  • the lower first housing 83 is formed with an air passage forming portion 831 that is formed to protrude toward the outer side of the storage space 27 (downward in FIG. 5).
  • a distal end portion (a lower end portion of the air passage forming portion 831 in FIG. 5) of the air passage forming portion 831 in the outer direction of the storage space 27 has a groove 832 in which the O-ring 91 is mounted.
  • the lower first housing 83 is formed with a lower ventilation space 833 that is connected to the upper ventilation space 822 and formed by the ventilation path forming portion 831.
  • the ventilation path formed by the upper ventilation space 822 and the lower ventilation space 833 communicates the storage space side opening 821 (see FIG. 3A) and the storage space outer opening 851 (see FIG. 3B) of the gas purge filter 80. A space is formed.
  • a screw portion 834 is formed in the lower first housing 83 so as to annularly cover the outer side in the radial direction of the air passage forming portion 831.
  • the screw portion 834 has a substantially annular cylindrical shape having a coaxial positional relationship with the air passage forming portion 831, and a screw 835 is formed on the outer peripheral surface of the screw portion 834.
  • the check valve member 87 includes a valve body 871 and a spring 872 for urging the valve body 871 in a certain direction.
  • the valve body 871 is arranged in the ventilation space inside the lower first housing 83 in the outer direction of the storage space 27.
  • the spring 872 is disposed between the valve body 871 and the lower first housing 83, and compresses the valve body 871 against the lower first housing 83 in the outward direction of the storage space 27 and downward. Configure the spring.
  • the valve body 871 can be opened and closed by the pressure of the gas flowing through the ventilation path. That is, as shown in FIG.
  • valve body peripheral surface convex portions 8713 that protrude outward in the radial direction of the valve body 871 are provided on the peripheral surface of the cylindrical valve body 871.
  • the valve body circumferential surface convex portion 8713 has a trapezoidal shape in the circumferential direction of the valve body 871, and has a trapezoidal shape in the axial center direction (vertical direction in FIG. 4) of the valve body 871.
  • the protruding end surface of the valve body peripheral surface convex portion 8713 is in contact with the inner peripheral surface of the air passage forming portion 831.
  • a portion 8714 that is the peripheral surface of the valve body 871 and is not provided with the valve body peripheral surface convex portion 8713 does not contact the inner peripheral surface of the air passage forming portion 831, and the inner peripheral surface of the air passage forming portion 831.
  • a ventilation path is formed between the two.
  • the spring 872 of the check valve member 87 is a relatively highly durable resin composed of at least one of polyether ether ketone, polycarbonate, and polyacetal having a tensile modulus expressed by Young's modulus exceeding 2000 Mpa.
  • a high performance thermoplastic resin is molded and configured, and in this embodiment, polyether ether ketone having a tensile elastic modulus represented by Young's modulus exceeding 2000 Mpa is used.
  • the filtering 85 has a substantially cylindrical shape in which the outside direction of the storage space 27 is closed.
  • a screw 853 that engages with the screw 835 of the lower first housing 83 is provided on the inner diameter surface of the filtering 85, and the upper surface of the inner surface of the filtering 85 that is in the outer direction of the storage space 27 (the lower portion of the filtering 85)
  • the contact surface 854 is a flat surface.
  • the bottom surface of the O-ring 91 at the tip of the air passage forming portion 831 in the lower first housing 83 and the valve body 871 of the check valve member 87 in the outer direction of the storage space 27. 873 are in contact with and in close contact with the contact surface 854 of the storage space 27 inside the filtering 85, respectively, and the airtightness of the air passage formed inside the air passage forming portion 831 is ensured. That is, an O-ring 91 is used at the abutting portion where the tip of the air passage forming portion 831 in the lower first housing 83 abuts on the contact surface 854 of the filtering 85, and is formed inside the air passage forming portion 831. The airtightness of the vented air passage is ensured.
  • a groove 856 for mounting the contact pad 88 is provided at the front end portion (lower end portion in FIG. 5) of the storage space 27 outside the filtering 85.
  • the close contact pad 88 is formed in an annular shape having a coaxial positional relationship with the storage space outer opening 851, and the outer end of the storage space 27 outside the filtering 85 (the lowermost surface of the filtering 85 in FIG. 5).
  • the surface of the tip portion in the outer side direction of the contact pad 88 (the lowermost surface of the contact pad 88 in FIG. 5) has substantially the same positional relationship in the vertical direction.
  • the front end portion of the storage space 27 outside the filtering 85 (the lowermost surface of the filtering 85 in FIG.
  • a sealing surface 852 that comes into close contact with a purge port (gas injection port) described later.
  • a space 855 constituting the groove 856 is formed by a recess 858 in which a part of the contact pad 88 is recessed downward.
  • the contact pad 88 prevents gas leakage between a purge port (not shown) and the sealing surface 852.
  • the gas purge filter 80 is fixed to the lower wall 24 via an O-ring 89 mounted in a groove 837 formed on the side surface of the lower first housing 83.
  • an O-ring 89 is used between the gas purging filter 80 and the through hole 45 of the lower wall 24, and the lower wall 24, the lower first housing 83, Is sealed.
  • polycarbonate with a small outgas generation amount is used as a material for the filter housing 81 and the filtering 85.
  • a thermoplastic resin having a predetermined outgas generation amount or less may be used other than polycarbonate.
  • a resin such as cycloolefin polymer, polyetherimide, or polyetheretherketone may be used. it can.
  • polyolefin elastomer was used as an elastic member.
  • a material such as polybutylene terephthalate or polyethylene, an elastomer such as polyethylene elastomer, or a rubber material such as silicon rubber or fluororubber can be used as the material for the adhesive pad 88.
  • the lid 3 has a substantially rectangular shape that substantially matches the shape of the opening peripheral edge 31 of the container body 2 as shown in FIG.
  • the lid 3 can be attached to and detached from the opening peripheral edge 31 of the container main body 2, and the lid 3 can close the container main body opening 21 by attaching the lid 3 to the opening peripheral edge 31.
  • It is an inner surface of the lid 3 (the surface on the back side of the lid 3 shown in FIG. 1), and is formed at a position immediately behind the opening peripheral edge 31 when the lid 3 closes the container body opening 21.
  • An annular seal member 4 is attached to a surface facing the surface of the stepped portion (the seal surface 30).
  • the seal member 4 is made of various types of thermoplastic elastomers such as polyester and polyolefin that can be elastically deformed, fluorine rubber, and silicon rubber. The seal member 4 is arranged so as to go around the outer peripheral edge of the lid 3.
  • the seal member 4 When the lid 3 is attached to the opening peripheral edge 31, the seal member 4 is sandwiched between the seal surface 30 and the inner surface of the lid 3, and is elastically deformed. The lid 3 seals the container body opening 21. Shuts down in a closed state. By removing the lid 3 from the opening peripheral edge 31, the substrate W can be taken in and out of the storage space 27 in the container body 2.
  • the lid 3 is provided with a latch mechanism.
  • the latch mechanism is provided in the vicinity of both left and right end portions of the lid 3, and as shown in FIG. 1, two upper latch portions 32 ⁇ / b> A and 32 ⁇ / b> B that can project upward from the upper side of the lid 3, and the lid 3.
  • Two lower latch portions (not shown) that can protrude downward from the lower side of the lower side.
  • the two upper latch portions 32 ⁇ / b> A and 32 ⁇ / b> B are disposed in the vicinity of the left and right ends of the upper side of the lid 3, and the two lower latch portions are disposed in the vicinity of the left and right ends of the lower side of the lid 3.
  • An operation unit 33 is provided on the outer surface of the lid 3.
  • the upper latch portions 32A and 32B and a lower latch portion can be protruded from the upper and lower sides of the lid 3, and also protrude from the upper and lower sides. It can be made into the state which is not made to do.
  • the upper latch portions 32A and 32B protrude upward from the upper side of the lid body 3 and engage with the latch engagement recesses 40A and 40B of the container body 2, and the lower latch portion (not shown) extends from the lower side of the lid body 3.
  • the lid 3 is fixed to the opening peripheral edge 31 of the container body 2 by projecting downward and engaging with the latch engagement recesses 41 ⁇ / b> A and 41 ⁇ / b> B of the container body 2.
  • a recess (not shown) that is recessed outward from the storage space 27 is formed inside the lid 3.
  • a front retainer (not shown) is fixedly provided on the concave portion (not shown) and the lid 3 outside the concave portion.
  • the front retainer (not shown) has a front retainer substrate receiving portion (not shown).
  • Two front retainer substrate receiving portions (not shown) are arranged in pairs so as to form a pair spaced apart at a predetermined interval in the left-right direction.
  • the front retainer substrate receiving portions arranged in pairs so as to form a pair in this way are provided in a state where 25 pairs are juxtaposed in the vertical direction.
  • gas replacement (gas purge) by the gas purge device is performed as follows.
  • the storage container 1 is used as an in-process container in a process in a factory
  • the lower wall 24 is located in the lower part
  • the upper wall 23 is located in the upper part in the container body 2.
  • the gas purging method using the gas purging filter 80 of the storage container 1 is performed with the lid 3 closing the container body opening 21 of the container body 2 and with the lid 3 removed from the storage container 1.
  • a purge port of a gas purge device (not shown) is provided at the lower end portion of the gas purge filter 80 provided in the through hole 45 of the lower wall 24 of the container body 2.
  • the purge port tip comes into contact.
  • a contact pad 88 formed of an elastic body is provided at the outer end of the storage space 27 outside the filtering 85 (the lower end of the gas purge filter 80 in FIG. 5). For this reason, when a purge port (not shown) comes into contact with the contact pad 88, airtightness (seal) between the front end portion of the purge port and the lower end portion of the gas purge filter is reliably performed.
  • purge gas is supplied from a gas purge device (not shown).
  • Purge gas supplied from a purge gas flow passage of a gas purge device (not shown) is supplied to a gas purge filter 80 provided in two through holes 45 (air supply holes for supplying gas into the container) at the rear of the lower wall 24. 5, the valve body 871 is pressed from the lower side, and the valve body 871 is opened by the pressure of the purge gas, and a portion 8714 that is the peripheral surface of the valve body 871 and is not provided with the valve body peripheral surface convex portion 8713 (FIG.
  • the purge gas is filtered so that unnecessary particles do not enter the storage space 27 as the purge gas passes through the gas permeable membrane 86.
  • the gas inside the storage container 1 is supplied to the outside of the storage container 1 from other gas purge filters 80 provided in two through holes 45 (exhaust holes for discharging the gas inside the container) in front of the lower wall 24. The gas is purged.
  • the other gas purge filter 80 provided in the exhaust hole will be described later as a second embodiment.
  • the diameter of the gas flow path of the purge port (not shown) is smaller than the opening 851 in the storage space of the gas purge filter 80. For this reason, the purge gas discharged from the purge gas flow passage is all supplied to the nozzle portion ventilation space formed in the storage container through the ventilation path inside the gas purge filter 80, and gas purge is performed.
  • a storage space 27 is formed in the interior by the container body 2 having the container body opening 21 at one end and the lid 3 that is detachable from the container body opening 21 and can close the container body opening 21.
  • a gas purging filter 80 as a gas purging port formed in the container body 2 and attached to a through hole 45 as an access opening that allows the space outside the storage container 1 and the storage space 27 to communicate with each other is provided in the container main body 2.
  • Provided filtering 85 is a portion of the filter 80 includes a sealing surface 852 which is in close contact with the purge port of the gas injection port, a.
  • the sealing surface 852 includes a contact pad 88 formed of an elastic body for preventing gas leakage between the purge port and the sealing surface 852.
  • the contact pad 88 and the purge port (not shown) can be reliably sealed by elastic deformation of the contact pad 88.
  • the spring 872 is formed of a thermoplastic resin having a tensile elastic modulus represented by Young's modulus exceeding 2000 Mpa, and more specifically, the thermoplastic resin is at least one of polyetheretherketone, polycarbonate, and polyacetal. Consists of.
  • the metal component in the spring 872 is included in the purge gas, the metal falls off due to corrosion, particles adhere to the inside of the storage container 1, and the environment inside the storage container 1 cannot be kept clean. Can be prevented. As a result, it is possible to suppress a decrease in the yield of the semiconductor chip.
  • valve body 871 can be opened and closed by the pressure of the purge gas that is a gas flowing through the ventilation path. With this configuration, when purging with the purge gas, the purge gas can easily open the valve body 871 and flow into the storage space 27 through the air passage inside the gas purge filter 80.
  • the contact pad 88 is formed in an annular shape. With this configuration, it is possible to make contact with a purge port (not shown) around the entire circumference of the annular contact pad 88, thereby ensuring the sealing between the purge port and the contact pad 88.
  • the gas purge filter 80 is provided with a gas permeable membrane 86 for filtration. With this configuration, particles contained in the purge gas can be prevented from passing through the gas permeable membrane 86, and the gas such as the purge gas can be filtered.
  • a gas purge filter 80 according to a second embodiment of the present invention will be described.
  • the second embodiment is different from the first embodiment in that the positional relationship between the valve body 871 and the spring 872 is reversed. Since the configuration other than this is the same as the configuration of the first embodiment, the description of the same members is omitted.
  • the valve body 871 is turned upside down. That is, the closed end of the cylindrical valve body 871 is turned upside down from the valve body 871 shown in FIGS. 4 and 5, and the upper end of the spring 872 contacts the valve body 871. The lower end of the spring 872 is in contact with the contact surface 854 of the filtering 85. In the valve body 871 arranged in this way, the valve body 871 is moved downward against the urging force of the spring 872 by the air flowing out of the storage space 27 from the storage space 27 to open the valve.
  • valve body 871 is moved upward by the flow of gas such as air to flow into the storage space 27 from the outside of the storage container 1 and the urging force of the spring 872, and the lower first housing
  • the valve is closed by contacting the top of 83.
  • the gas purge filter 80 as a gas purge port in the present embodiment is used by being fixed to two through holes 45 as exhaust holes in front of the lower wall 24.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing the gas purge filter 80A.
  • the third embodiment is different from the first embodiment in that the O-ring 91 is not provided. Since the configuration other than this is the same as that of the first embodiment, the same members are illustrated by the same reference numerals and description thereof is omitted.
  • the lower end portion of the air passage forming portion 831A has a tapered portion 836A which is an inclined surface 837A whose tip is narrowed upward in a side view cross section.
  • An annular convex portion 857A that protrudes upward is provided on the close contact surface 854A of the filtering 85A that faces the tapered portion of the air passage forming portion 831A in the vertical direction.
  • the annular convex portion 857A is provided in an annular shape so as to face the entire circumference of the lower end portion of the air passage forming portion 831A.
  • the tapered portion 836A By screwing the filtering 85A into the screw portion 834, the tapered portion 836A abuts on the annular convex portion 857A, and the annular convex portion 857A is deformed as shown in FIG. 6 and closely contacts the tapered shape portion 836A. Airtightness between the air passage formed inside the passage forming portion 831A and the outside of the air passage forming portion 831A is ensured.
  • the air passage forming portion 831A includes the tapered portion 836A having the tapered inclined surface 837A for sealing between the air passage forming portion 831A and the outside of the air passage forming portion 831A.
  • the tapered portion 836A having the tapered inclined surface 837A for sealing between the air passage forming portion 831A and the outside of the air passage forming portion 831A.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view showing the gas purge filter 80B.
  • the shape of the valve body 871B, the lower first housing 83B, the air passage forming portion 831B, and the filtering 85B is the same as that of the valve body 871, the lower first housing 83, the air passage forming portion 831 in the first embodiment.
  • the shape of the filtering 85 is different. Since the configuration other than this is the same as that of the first embodiment, the same members are illustrated by the same reference numerals and description thereof is omitted.
  • the ventilation path forming portion 831B is configured separately from the lower first housing 83B.
  • the air passage formation portion 831B has a cylindrical shape with both ends open, and a part of the upper end portion of the air passage formation portion 831B is formed on the lower surface of the upper portion of the lower first housing 83B. It abuts via the O-ring 92B disposed in the recess, and the other part of the upper end of the air passage forming portion 831B directly abuts on the lower surface of the upper portion of the lower first housing 83B.
  • the upper end portion of the spring 872 is directly supported by the upper central portion of the lower first housing 83B.
  • the central portion of the contact surface 854B of the filtering 85B constituting the valve seat has a tapered portion 8542B having a tapered surface 8541B that is tapered downward.
  • the lower surface of the valve body 871B facing the taper-shaped portion 8542B has a valve body taper-shaped portion 8712B having a valve body taper surface 8711B that is tapered downward.
  • the tapered surface 8541B and the valve body tapered surface 8711B have a shape that can be brought into contact with the surface. In this way, the aeration path is closed and sealed by the valve body 871B by abutting on the surfaces.
  • the valve body 871B has a tapered shape, and the check valve member 87 closes the air passage and seals by contacting the contact surface 854B constituting the tapered toilet seat of the check valve member 87B. Therefore, the tapered surface 8541B and the valve body tapered surface 8711B can be in contact with each other. For this reason, the air passage can be reliably sealed by the valve body 871B.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing the gas purge filter 80C.
  • the shapes of the lower first housing 83C, the filtering 85C, and the air passage forming portion 831C are the same as the shapes of the lower first housing 83, the filtering 85, and the air passage forming portion 831 in the first embodiment. Is different. Since the configuration other than this is the same as that of the first embodiment, the same members are illustrated by the same reference numerals and description thereof is omitted.
  • the air passage forming portion 831C is configured separately from the lower first housing 83C, as in the fourth embodiment. Specifically, the air passage forming portion 831C has a cylindrical shape with the upper end portion closed. A part of the upper end portion of the air passage forming portion 831C abuts via an O-ring 92C and a gas permeable membrane 86 disposed in a recess formed in the lower surface of the upper portion of the lower first housing 83C, and the air passage forming portion The other part of the upper end portion of 831C is in contact with the lower surface of the upper portion of the lower first housing 83C via the gas permeable membrane 86. The upper end portion of the spring 872 is in contact with the lower surface of the central portion of the upper portion of the air passage forming portion 831C.
  • the lower end portion of the filtering 85C has a flange portion 859C that extends in a direction orthogonal to the vertical direction. Further, the upper end portion of the lower first housing 83C has a flange portion 838C that spreads in a direction orthogonal to the vertical direction.
  • FIG. 9 is a sectional view showing a gas purge filter 80D.
  • the configuration of the contact pad 88D is different from the configuration of the contact pad 88 in the first embodiment. Since the configuration other than this is the same as that of the first embodiment, the same members are illustrated by the same reference numerals and description thereof is omitted.
  • the contact pad 88D has a hollow portion 883D in which a space is formed, as shown in FIG. With this configuration, the contact pad 88 can be easily expanded and contracted, and can further (or more) easily follow a purge port (not shown). As a result, a space between the purge port (not shown) and the contact pad 88D can be reliably sealed.
  • the sealing surface 852 is provided in the groove 856 formed in the filtering 85 that is a part of the check valve member 87 other than the air passage forming portion 831, but is not limited to this configuration.
  • the sealing surface may be provided in the air passage forming portion. What is necessary is just to be provided.
  • the spring 872 is made of at least one of polyether ether ketone, polycarbonate, and polyacetal, but is not limited to this structure.
  • the spring 872 only needs to be formed of a thermoplastic resin having a tensile elastic modulus represented by Young's modulus exceeding 2000 Mpa.
  • the two through holes 45 in front of the lower wall 24 are exhaust holes for discharging gas inside the container, and the two through holes 45 in the rear are gas inside the container.
  • the through hole 45 in front of the lower wall 24 is an air supply hole for supplying gas to the storage space 27 inside the container, and the gas purging filter in the first embodiment provided in the front through hole 45.
  • the purge port of the gas purging device in contact with 80 may supply purge gas
  • the rear through hole 45 is an exhaust hole for discharging the gas inside the container, and is provided in this rear through hole 45.
  • the air in the storage space 27 may be exhausted.
  • the contact surface 854 and the end surface (bottom surface 873) in the downward direction of the valve body 871 are in contact with each other and sealed, but the bottom surface and the contact surface of the valve body are O-rings. It may be sealed.
  • the shape of the gas purge port, the container body and the lid, and the number and dimensions of the substrates W that can be stored in the container body are the gas purge filters 80, 80A, 80B, 80C, 80D, the container body 2 and the lid in the present embodiment.
  • the shape of the body 3 and the number and dimensions of the substrates W that can be stored in the container body 2 are not limited. That is, for example, the configuration of each part such as the air passage forming part, the spring, the valve body, the check valve member, the sealing surface, and the contact pad is the air passage forming part 831, the spring 872, the valve body 871, It is not limited to the structure of each part, such as the valve member 87, the sealing surface 852, and the contact pad 88.
  • the configuration of the side substrate support portion, the lid side substrate support portion, the back side substrate support portion, and the like is not limited to the configuration of the substrate support plate-like portion 5, the front retainer 7, and the back side substrate support portion (not shown).
  • the substrate W in this embodiment is a silicon wafer having a diameter of 300 mm to 450 mm, but is not limited to this value.

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Abstract

一端部に容器本体開口部を有した容器本体と、容器本体開口部に対して着脱可能であり容器本体開口部を閉塞可能な蓋体と、により内部に収納空間が形成された収納容器に取り付けられ、通気路形成部831、又は、通気路形成部831及び前記逆止弁部材以外のガスパージ用ポートの部分85、の少なくとも一方に設けられて、気体注入ポートと密着する密封面852と、を備え、密封面852には、気体注入ポートと密封面852との間の気体漏れを防止するための弾性体により構成される密着パッドを備えるガスパージ用ポートである。

Description

ガスパージ用ポート
 本発明は、半導体ウェーハ等からなる基板を収納、保管、搬送、輸送等する際に使用される収納容器に用いられるガスパージ用のポートに関する。
 半導体ウェーハからなる基板を収納して、工場内の工程及び、陸運手段・空運手段・海運手段等の輸送手段により基板を輸送・搬送するための収納容器としては、容器本体と蓋体とを備える構成のものが、従来より知られている。
 容器本体は、一端部に容器本体開口部が形成され、他端部が閉塞された筒状の壁部を有する。蓋体は、容器本体開口部に対して着脱可能であり、容器本体開口部を閉塞可能である。容器本体を蓋体により閉塞することで、収納容器内には基板等を収納する収納空間が形成されている。収納空間は、容器本体の壁部と蓋体の内面により取り囲まれて形成されており、複数の基板を収納可能である。
 蓋体の部分であって容器本体開口部を閉塞しているときに収納空間に対向する部分には、フロントリテーナが設けられている。フロントリテーナは、蓋体によって容器本体開口部が閉塞されているときに、複数の基板の縁部を支持可能である。また、フロントリテーナと対をなすようにして、奥側基板支持部が壁部に設けられている。奥側基板支持部は、複数の基板の縁部を支持可能である。奥側基板支持部は、蓋体によって容器本体開口部が閉塞されているときに、フロントリテーナと協働して複数の基板を支持することにより、隣接する基板同士を所定の間隔で離間させて並列させた状態で、複数の基板を保持する(特許文献1、特許文献2参照)。
 また、容器本体及び蓋には、フィルタが設けられている。必要に応じてフィルタ内部には、逆止弁が設けられている。フィルタを通して、収納容器の外部から収納空間に対して、窒素等の不活性ガスあるいは水分を除去(1%以下)したドライエア(以下、パージガスという)によって、ガスパージが行われる。逆止弁は、ガスパージにより収納空間に充填されたガスが、漏れ出ることを防止する(特許文献3参照)。
特許第4204302号 特許第4201583号 特許第5241607号
 近年、半導体プロセスの微細化や半導体チップの歩留まりの向上が求められている。そのため、半導体ウェーハを収納する収納容器にも、収納容器を構成する材質からの有機ガスや塩素ガスなどのアウトガス、金属成分、容器内部の湿度を極限まで低下させることが求められている。
 このため、パージガスでのガスパージが行われているが、金属製バネが設けられた逆止弁部材における通気空間をパージガスが通るため、金属製バネに含まれる金属成分がパージガスに含まれ、また腐食により金属が脱落し、パーティクル付着も懸念され、収納容器の内部の環境をクリーンな状態に保てなくなるという問題があった。この問題の為、半導体チップの歩留まりが低下するという問題があった。
 本発明は、収納容器の収納空間内の気体をパージガスで効率的に置換し、且つ収納容器内部のクリーン度を維持できるガスパージ用ポートを提供することを目的とする。
 本発明は、一端部に容器本体開口部を有した容器本体と、前記容器本体開口部に対して着脱可能であり前記容器本体開口部を閉塞可能な蓋体と、により内部に収納空間が形成された収納容器に、前記容器本体あるいは前記蓋体の少なくともどちらか一方に形成され、前記収納容器の外部の空間と前記収納空間とを連通可能なアクセス開口に取り付けられるガスパージ用ポートであって、前記収納容器の外部と前記収納空間とを通気可能な通気路が形成された管状の通気路形成部と、樹脂により成形されガスによる腐食が防止されるバネと、前記バネにより付勢される弁体とを有し、前記通気路における気体の流通方向を一定方向に制限する逆止弁部材と、前記通気路形成部、又は、前記通気路形成部及び前記逆止弁部材以外の前記ガスパージ用ポートの部分、の少なくとも一方に設けられて、気体注入ポートと密着する密封面と、を備え、前記密封面には、前記気体注入ポートと前記密封面との間の気体漏れを防止するための弾性体により構成される密着パッドを備える、ガスパージ用ポートに関する。
 また、前記バネは、ヤング率で示される引張弾性率が2000Mpaを超える熱可塑性樹脂により成形されることが好ましい。
 また、前記熱可塑性樹脂は、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアセタールのいずれか少なくとも1つにより構成されることが好ましい。
 また、前記弁体は、前記通気路を流通する気体の圧力で開閉可能であることが好ましい。また、前記密着パッドは、環状に形成されていることが好ましい。また、前記密着パッドは、前記気体注入ポートに対して追従可能に中空部が形成されていることが好ましい。また、前記通気路形成部は、前記通気路と前記通気路の外部との間を密封するためのテーパー状の面を有することが好ましい。
 また、前記弁体は、テーパー形状を有し、前記逆止弁部材のテーパー状の便座に当接することにより前記逆止弁部材は通気路を閉じて密封することが好ましい。また、ガスパージ用ポートは、ろ過用の通気膜を備えていることが好ましい。
 本発明によれば、パージガスによる収納容器の収納空間内の気体の置換を効率的に行い、且つ収納容器内部のクリーン度を維持できるガスパージ用フィルタを提供することができる。そのため、半導体ウェーハが不活性ガスやドライエアにさらされている割合を長くできるため、半導体ウェーハ上に作製される半導体チップの歩留まりを向上させることができる。さらに、短時間で効率よくパージガスによる気体置換を行うことができるので、プロセス時間を短縮させ、コストダウンにも寄与する。
本発明の第1実施形態に係るガスパージ用フィルタ80が収納容器1に取り付けられ、基板Wが収納された様子を示す分解斜視図である。 本発明の第1実施形態に係るガスパージ用フィルタ80が収納容器1に取り付けられた様子を示す下方斜視図である。 本発明の第1実施形態に係るガスパージ用フィルタ80を示す上方斜視図である。 本発明の第1実施形態に係るガスパージ用フィルタ80を示す下方斜視図である。 給気孔に設けられた本発明の第1実施形態に係るガスパージ用フィルタ80を示す分解斜視図である。 本発明の第1実施形態に係るガスパージ用フィルタ80を示す断面図である。 本発明の第3実施形態に係るガスパージ用フィルタ80Aを示す断面図である。 本発明の第4実施形態に係るガスパージ用フィルタ80Bを示す断面図である。 本発明の第5実施形態に係るガスパージ用フィルタ80Cを示す断面図である。 本発明の第6実施形態に係るガスパージ用フィルタ80Dを示す断面図である。
 [第1実施形態]
 以下、本発明の第1実施形態によるガスパージ用ポートを構成するガスパージ用フィルタ80について、図面を参照しながら説明する。
 図1は、ガスパージ用フィルタ80が収納容器1に取り付けられ、基板Wが収納された様子を示す分解斜視図である。図2は、ガスパージ用フィルタ80が収納容器1に取り付けられた様子を示す下方斜視図である。図3(A)は、ガスパージ用フィルタ80を示す上方斜視図である。図3(B)は、ガスパージ用フィルタ80を示す下方斜視図である。図4は、給気孔に設けられたガスパージ用フィルタ80を示す分解斜視図である。図5は、ガスパージ用フィルタ80を示す断面図である。
 ここで、説明の便宜上、後述の容器本体2から蓋体3へ向かう方向(図1における右上から左下へ向かう方向)を前方向と定義し、その反対の方向を後方向と定義し、これらをあわせて前後方向と定義する。また、後述の下壁24から上壁23へと向かう方向(図1における上方向)を上方向と定義し、その反対の方向を下方向と定義し、これらをあわせて上下方向と定義する。また、後述する第2側壁26から第1側壁25へと向かう方向(図1における右下から左上へ向かう方向)を左方向と定義し、その反対の方向を右方向と定義し、これらをあわせて左右方向と定義する。
 また、収納容器1に収納される基板W(図1参照)は、円盤状のシリコンウェーハ、ガラスウェーハ、サファイアウェーハ等であり、産業に用いられる薄いものである。本実施形態における基板Wは、直径300mm~450mmのシリコンウェーハである。
 図1に示すように、収納容器1は、上述のようなシリコンウェーハからなる基板Wが収納されて、工場内の工程において搬送する工程内容器として用いられたり、陸運手段・空運手段・海運手段等の輸送手段により基板を輸送するための出荷容器として用いられたりするものであり、容器本体2と、蓋体3と、側方基板支持部としての基板支持板状部5と、奥側基板支持部(図示せず)と、蓋体側基板支持部としてのフロントリテーナ(図示せず)とを有している。
 容器本体2は、一端部に容器本体開口部21が形成され、他端部が閉塞された筒状の壁部20を有する。容器本体2内には収納空間27が形成されている。収納空間27は、壁部20により取り囲まれて形成されている。壁部20の部分であって収納空間27を形成している部分には、基板支持板状部5が配置されている。収納空間27には、図1に示すように、複数の基板Wを収納可能である。
 基板支持板状部5は、収納空間27内において対をなすように壁部20に設けられている。基板支持板状部5は、蓋体3によって容器本体開口部21が閉塞されていないときに、複数の基板Wの縁部に当接することにより、隣接する基板W同士を所定の間隔で離間させて並列させた状態で、複数の基板Wの縁部を支持可能である。基板支持板状部5の奥側には、奥側基板支持部(図示せず)が設けられている。
 奥側基板支持部(図示せず)は、収納空間27内においてフロントリテーナ(図示せず)と対をなすように壁部20に設けられている。奥側基板支持部(図示せず)は、蓋体3によって容器本体開口部21が閉塞されているときに、複数の基板Wの縁部に当接することにより、複数の基板Wの縁部の後部を支持可能である。
 蓋体3は、容器本体開口部21を形成する開口周縁部31(図1等)に対して着脱可能であり、容器本体開口部21を閉塞可能である。フロントリテーナ(図示せず)は、蓋体3の部分であって蓋体3によって容器本体開口部21が閉塞されているときに収納空間27に対向する部分に設けられている。フロントリテーナ(図示せず)は、収納空間27の内部において奥側基板支持部(図示せず)と対をなすように配置されている。
 フロントリテーナ(図示せず)は、蓋体3によって容器本体開口部21が閉塞されているときに、複数の基板Wの縁部に当接することにより複数の基板Wの縁部の前部を支持可能である。フロントリテーナ(図示せず)は、蓋体3によって容器本体開口部21が閉塞されているときに、奥側基板支持部(図示せず)と協働して複数の基板Wを支持することにより、隣接する基板W同士を所定の間隔で離間させて並列させた状態で、複数の基板Wを保持する。
 収納容器1は、プラスチック材等の樹脂で構成されており、特に説明が無い場合には、その材料の樹脂としては、たとえば、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマーといった熱可塑性樹脂やこれらのアロイ等が上げられる。これらの成形材料の樹脂には、導電性を付与する場合には、カーボン繊維、カーボンパウダー、カーボンナノチューブ、導電性ポリマー等の導電性物質が選択的に添加される。また、剛性を上げるためにガラス繊維や炭素繊維等を添加することも可能である。
 以下、各部について、詳細に説明する。
 図1等に示すように、容器本体2の壁部20は、奥壁22と上壁23と下壁24と第1側壁25と第2側壁26とを有する。奥壁22、上壁23、下壁24、第1側壁25、及び第2側壁26は、上述した材料により構成されており、一体成形されて構成されている。
 第1側壁25と第2側壁26とは対向しており、上壁23と下壁24とは対向している。上壁23の後端、下壁24の後端、第1側壁25の後端、及び第2側壁26の後端は、全て奥壁22に接続されている。上壁23の前端、下壁24の前端、第1側壁25の前端、及び第2側壁26の前端は、奥壁22に対向する位置関係を有し、略長方形状をした容器本体開口部21を形成する開口周縁部31を構成する。
 開口周縁部31は、容器本体2の一端部に設けられており、奥壁22は、容器本体2の他端部に位置している。壁部20の外面により形成される容器本体2の外形は箱状である。壁部20の内面、即ち、奥壁22の内面、上壁23の内面、下壁24の内面、第1側壁25の内面、及び第2側壁26の内面は、これらによって取り囲まれた収納空間27を形成している。開口周縁部31に形成された容器本体開口部21は、壁部20により取り囲まれて容器本体2の内部に形成された収納空間27に連通している。収納空間27には、最大で25枚の基板Wを収納可能である。
 図1に示すように、上壁23及び下壁24の部分であって、開口周縁部31の近傍の部分には、収納空間27の外方へ向かって窪んだラッチ係合凹部40A、40B、41A、41Bが形成されている。ラッチ係合凹部40A、40B、41A、41Bは、上壁23及び下壁24の左右両端部近傍に1つずつ、計4つ形成されている。
 図1に示すように、上壁23の外面においては、リブ28が、上壁23と一体成形されて設けられている。このリブ28は、容器本体の剛性を高めるために設けられている。
 また、上壁23の中央部には、トップフランジ29が固定される。トップフランジ29は、AMHS(自動ウェーハ搬送システム)、PGV(ウェーハ基板搬送台車)等において収納容器1を吊り下げる際に、収納容器1において掛けられて吊り下げられる部分となる部材である。
 図1及び図2に示すように、下壁24の四隅には、通気路として、アクセス開口である貫通孔45が形成されている。本実施形態においては、下壁24の前方の2箇所の貫通孔45は、容器内部の気体を排出するための排気孔であり、後方の2箇所の貫通孔45は、容器内部に気体を給気するための給気孔である。給気孔と排気孔の貫通孔45には、それぞれガスパージ用フィルタ80が配置されている。
 図3(A)、図3(B)、図4、図5に示すように、ガスパージ用フィルタ80は、フィルタハウジング81、フィルタリング85、通気膜86、逆止弁部材87、密着パッド88、Oリング89、91を有している。フィルタハウジング81は、上部第1ハウジング82と下部第1ハウジング83からなり、上部第1ハウジング82と下部第1ハウジング83の間に通気膜86が狭持されている。上部第1ハウジング82と下部第1ハウジング83は、超音波により溶着固定されている。
 図1や図2に示すように、本実施形態において、ガスパージ用フィルタ80は、容器本体2の下壁24に、上部第1ハウジング82が収納空間27側になるように配置されている。ガスパージ用フィルタ80は、下壁24に取り付けられることに限られない。ガスパージ用フィルタ80は、下壁24以外の壁部、蓋体に取り付けても良く、下壁と蓋体との両方に取り付けても良い。
 ガスパージ用フィルタ80の収納空間27側に配置される上部第1ハウジング82には、図3Aに示すように、収納空間側開口821が形成され、ガスパージ用フィルタ80の収納容器1の外部の空間側には、図3Bに示すように、フィルタリング85において収納空間外側開口851が形成されている。これらの開口はガスパージ用フィルタ80の内部に形成された通気空間(上部通気空間822、下部通気空間833)を介して、収納容器1の内部と外部の空間を連通させている。収納空間外側開口851は、後述のパージガスを通気空間へ供給するパージポートのガス流通路よりも、大径に構成されている。
 上記構成により、ガスパージ用フィルタ80は、通気膜86を通して容器本体2の外部の空間から収納空間27への方向(以下、「収納空間27の内側方向」と定義する)、あるいは収納空間27から容器本体2の外部の空間への方向(以下、「収納空間27の外側方向」と定義する)に気体を通過可能である。その際、通気膜86は、気体に含まれるパーティクル等を通過することを阻止し、気体のろ過を行う。
 図3Aに示すように、上部第1ハウジング82には、収納空間側開口821に連通した上部通気空間822が設けられている。下部第1ハウジング83には、収納空間27の外側方向(図5では下方向)に向けて突出して形成された通気路形成部831が形成されている。通気路形成部831の収納空間27の外側方向の先端部(図5における通気路形成部831の下端部)は、Oリング91が装着される溝832を有している。更に、下部第1ハウジング83には、上部通気空間822と接続され通気路形成部831により形成された下部通気空間833が形成されている。よって、上部通気空間822と下部通気空間833とにより構成される通気路により、ガスパージ用フィルタ80の収納空間側開口821(図3A参照)と収納空間外側開口851(図3B参照)を連通する通気空間が形成されている。
 更に、下部第1ハウジング83には、通気路形成部831の半径方向外側に環状に覆うようにネジ部834が形成されている。ネジ部834は、通気路形成部831と同軸的な位置関係を有する略環状筒形状を有しており、ネジ部834の外周面には、ネジ835が形成されている。
 逆止弁部材87は、弁体871と、弁体871を一定方向に付勢するためのバネ872とにより構成されている。弁体871は、下部第1ハウジング83の内部における通気空間に、収納空間27の外側方向に配置されている。バネ872は、弁体871と下部第1ハウジング83との間に配置されており、下部第1ハウジング83に対して弁体871を収納空間27の外側方向であって下方向に付勢する圧縮バネを構成する。弁体871は、通気路を流通する気体の圧力で開閉可能である。即ち、円筒形状を有する弁体871の周面には、図4に示すように、弁体871の半径方向外方向へ突出する弁体周面凸部8713が複数設けられている。弁体周面凸部8713は、弁体871の周方向において、台形状を有すると共に、弁体871の軸心方向(図4における上下方向)において、台形状を有する。弁体周面凸部8713の突出端面は、通気路形成部831の内周面に当接する。弁体871の周面であって、弁体周面凸部8713が設けられていない部分8714は、通気路形成部831の内周面に当接せず、通気路形成部831の内周面との間に、通気路を形成する。弁体871は、通気路を流通するパージガス等の気体により上方向へ押圧されると、フィルタリング85の後述する密着面854から離間して、弁体871が開くことができるように、バネ872のバネ定数が設定されている。気体の押圧力が弁体871に作用していないときには、バネ872の付勢力により弁体871は閉じた状態とされる。
 逆止弁部材87のバネ872は、ヤング率で示される引張弾性率が2000Mpaを超えるポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアセタールのいずれか少なくとも1つにより構成される、比較的耐久性の高い樹脂である高性能熱可塑性樹脂が成形されて構成され、本実施形態においては、ヤング率で示される引張弾性率が2000Mpaを超えるポリエーテルエーテルケトンが用いられている。
 フィルタリング85は、収納空間27の外側方向が閉塞された略円筒形状を有している。フィルタリング85の内径面には、下部第1ハウジング83のネジ835と係合するネジ853が設けられ、フィルタリング85の内面であって収納空間27の外側方向の部分(フィルタリング85の下部)の上面は、平坦面により構成される密着面854を有している。
 フィルタリング85をネジ部834にねじ込むことで、下部第1ハウジング83内の通気路形成部831の先端のOリング91と、逆止弁部材87の弁体871の、収納空間27の外側方向の底面873とが、それぞれフィルタリング85内部の収納空間27の密着面854に当接し密着することで、通気路形成部831の内側に形成された通気路の気密性は確保される。即ち、下部第1ハウジング83内の通気路形成部831の先端が、フィルタリング85の密着面854に当接する当接部には、Oリング91が用いられて、通気路形成部831の内側に形成された通気路の気密性は確保される。
 フィルタリング85の外部の収納空間27の外側方向の先端部(図5における下端部)には、密着パッド88を装着するための溝856を有している。密着パッド88は、収納空間外側開口851と同軸的な位置関係を有する環状に形成されており、フィルタリング85の外部の収納空間27の外側方向の先端部(図5におけるフィルタリング85の最下面)と、密着パッド88の外側方向の先端部の表面(図5における密着パッド88の最下面)とは、上下方向において、ほぼ同一の位置関係を有している。フィルタリング85外部の収納空間27の外側方向の先端部(図5におけるフィルタリング85の最下面)は、後述のパージポート(気体注入ポート)と密着する密封面852を構成する。また、密着パッド88が装着されている状態の溝856には、密着パッド88の一部が下方に窪んで形成された凹部858により、溝856を構成する空間855が形成されている。密着パッド88は、図示しないパージポートと密封面852との間の気体漏れを防止する。
 ガスパージ用フィルタ80の下壁24への固定は、下部第1ハウジング83の側面に形成された溝837に装着されたOリング89を介して行われる。ガスパージ用フィルタ80が下壁24に固定される際には、ガスパージ用フィルタ80と下壁24の貫通孔45との間にOリング89が用いられて、下壁24と下部第1ハウジング83との間がシールされる。
 フィルタハウジング81、フィルタリング85の材料としては、アウトガス発生量が少ない、ポリカーボネートが用いられる。フィルタハウジング81、フィルタリング85の材料としてポリカーボネート以外には、所定のアウトガス発生量以下の熱可塑性樹脂であればよく、例えば、シクロオレフィンポリマーやポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトンなどの樹脂を用いることができる。また、密着パッド88の材料としては、弾性部材としてポリオレフィンエラストマーを用いた。密着パッド88の材料としてポリオレフィンエラストマー以外には、ポリブチレンテレフタレートやポリエチレン等の樹脂やポリエチレンエラストマー等のエラストマー、シリコンゴムやフッ素ゴム等のゴム材を用いることができる。
 蓋体3は、図1等に示すように、容器本体2の開口周縁部31の形状と略一致する略長方形状を有している。蓋体3は容器本体2の開口周縁部31に対して着脱可能であり、開口周縁部31に蓋体3が装着されることにより、蓋体3は、容器本体開口部21を閉塞可能である。蓋体3の内面(図1に示す蓋体3の裏側の面)であって、蓋体3が容器本体開口部21を閉塞しているときの開口周縁部31のすぐ後方向の位置に形成された段差の部分の面(シール面30)に対向する面には、環状のシール部材4が取り付けられている。シール部材4は、弾性変形可能なポリエステル系、ポリオレフィン系など各種熱可塑性エラストマー、フッ素ゴム製、シリコンゴム製等により構成されている。シール部材4は、蓋体3の外周縁部を一周するように配置されている。
 蓋体3が開口周縁部31に装着されたときに、シール部材4は、シール面30と蓋体3の内面とにより挟まれて弾性変形し、蓋体3は、容器本体開口部21を密閉した状態で閉塞する。開口周縁部31から蓋体3が取り外されることにより、容器本体2内の収納空間27に対して、基板Wを出し入れ可能となる。
 蓋体3においては、ラッチ機構が設けられている。ラッチ機構は、蓋体3の左右両端部近傍に設けられており、図1に示すように、蓋体3の上辺から上方向へ突出可能な2つの上側ラッチ部32A、32Bと、蓋体3の下辺から下方向へ突出可能な2つの図示しない下側ラッチ部と、を備えている。2つの上側ラッチ部32A、32Bは、蓋体3の上辺の左右両端近傍に配置されており、2つの下側ラッチ部は、蓋体3の下辺の左右両端近傍に配置されている。
 蓋体3の外面においては操作部33が設けられている。操作部33を蓋体3の前側から操作することにより、上側ラッチ部32A、32B、図示しない下側ラッチ部を蓋体3の上辺、下辺から突出させることができ、また、上辺、下辺から突出させない状態とすることができる。上側ラッチ部32A、32Bが蓋体3の上辺から上方向へ突出して、容器本体2のラッチ係合凹部40A、40Bに係合し、且つ、図示しない下側ラッチ部が蓋体3の下辺から下方向へ突出して、容器本体2のラッチ係合凹部41A、41Bに係合することにより、蓋体3は、容器本体2の開口周縁部31に固定される。
 蓋体3の内側においては、収納空間27の外方へ窪んだ凹部(図示せず)が形成されている。凹部(図示せず)及び凹部の外側の蓋体3の部分には、フロントリテーナ(図示せず)が固定されて設けられている。
 フロントリテーナ(図示せず)は、フロントリテーナ基板受け部(図示せず)を有している。フロントリテーナ基板受け部(図示せず)は、左右方向に所定の間隔で離間して対をなすようにして2つずつ配置されている。このように対をなすようにして2つずつ配置されたフロントリテーナ基板受け部は、上下方向に25対並列した状態で設けられている。収納空間27内に基板Wが収納され、蓋体3が閉じられることにより、フロントリテーナ基板受け部は、基板Wの縁部の端縁を挟持して支持する。
 上述のようなガスパージ用フィルタ80において、ガスパージ装置による気体の置換(ガスパージ)は、以下のとおりに行われる。
 工場内の工程において収納容器1が工程内容器として用いられているときには、容器本体2において下壁24は下部に位置し上壁23は上部に位置している。この収納容器1のガスパージ用フィルタ80を用いたガスパージの方法は、蓋体3で容器本体2の容器本体開口部21を塞いで行う場合と、収納容器1から蓋体3を外した状態で行う場合の2通りがある。以下、蓋体3で容器本体2を塞いだ状態での説明を行う。
 蓋体3により容器本体2の容器本体開口部が閉じられた状態で、容器本体2の下壁24の貫通孔45に設けられたガスパージ用フィルタ80の下端部に、図示しないガスパージ装置のパージポートのパージポート先端部が当接する。この際、フィルタリング85の外部の収納空間27の外側方向の先端部(図5におけるガスパージ用フィルタ80の下端部)には、弾性体により構成された密着パッド88が設けられている。このため、図示しないパージポートが密着パッド88に当接した際に、パージポートの先端部とガスパージ用フィルタの下端部との間の気密性(シール)は、確実に行われる。
 その後、パージガスが図示しないガスパージ装置より供給される。図示しないガスパージ装置のパージガス流通路から供給されたパージガスは、下壁24の後方の2箇所の貫通孔45(容器内部に気体を給気するための給気孔)に設けられたガスパージ用フィルタ80において、図5における下側から弁体871を押圧して、パージガスの圧力で弁体871を開き、弁体871の周面であって弁体周面凸部8713が設けられていない部分8714(図4参照)と、通気路形成部831の内周面との間に形成された通気路を通過し、通気空間を構成する下部通気空間833、上部通気空間822を通過して、収納容器1の収納空間27に供給される。その際、パージガスが通気膜86を通過することで、不要なパーティクルが収納空間27に入らないように、パージガスはろ過される。収納容器1の内部の気体は、下壁24の前方の2箇所の貫通孔45(容器内部の気体を排出するための排気孔)に設けられた他のガスパージ用フィルタ80から収納容器1の外部に排出され、ガスパージが実施される。なお、この排気孔に設けられた他のガスパージ用フィルタ80については、第2実施形態として後に説明する。
 上述のガスパージが行われる際、図示しないパージポートのガス流通路の径がガスパージ用フィルタ80の収納空間外側開口851よりも小さい。このため、パージガス流通路から放出されるパージガスは、ガスパージ用フィルタ80の内部の通気路を通して、収納容器に形成されているノズル部通気空間にすべて供給され、ガスパージが行われる。
 上記構成の第1実施形態に係るガスパージ用フィルタ80によれば、以下のような効果を得ることができる。
 一端部に容器本体開口部21を有した容器本体2と、容器本体開口部21に対して着脱可能であり容器本体開口部21を閉塞可能な蓋体3と、により内部に収納空間27が形成された収納容器1に、容器本体2に形成され、収納容器1の外部の空間と収納空間27とを連通可能なアクセス開口としての貫通孔45に取り付けられるガスパージ用ポートとしてのガスパージ用フィルタ80は、収納容器1の外部と収納空間27とを通気可能な通気路が形成された管状の通気路形成部831と、樹脂により成形されガスによる腐食が防止されるバネ872と、バネ872により付勢される弁体871とを有し、通気路における気体の流通方向を一定方向に制限する逆止弁部材87と、通気路形成部831及び逆止弁部材87以外のガスパージ用フィルタ80の部分であるフィルタリング85に設けられて、気体注入ポートとしてのパージポートと密着する密封面852と、を備える。
 密封面852には、パージポートと密封面852との間の気体漏れを防止するための弾性体により構成される密着パッド88を備える。
 上記構成により、密着パッド88の弾性変形により密着パッド88と図示しないパージポートとの間を確実に密封することが可能となる。
 また、バネ872は、ヤング率で示される引張弾性率が2000Mpaを超える熱可塑性樹脂により成形され、より具体的には、熱可塑性樹脂は、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアセタールのいずれか少なくとも1つにより構成される。この構成により、バネ872における金属成分がパージガスに含まれ、また腐食により金属が脱落し、収納容器1の内部にパーティクルが付着し、収納容器1の内部の環境をクリーンな状態に保てなくなることを防止することができる。この結果、半導体チップの歩留まりの低下を抑えることが可能となる。
 また、弁体871は、通気路を流通する気体であるパージガスの圧力で開閉可能である。この構成により、パージガスによるガスパージを行う際に、パージガスが容易に弁体871を開き、ガスパージ用フィルタ80の内部の通気路を流通して収納空間27内に流入することができる。
 また、密着パッド88は、環状に形成されている。この構成により、環状の密着パッド88の全周で図示しないパージポートに当接することが可能であり、これにより、パージポートと密着パッド88との間の密封を確実にすることができる。
 また、ガスパージ用フィルタ80はろ過用の通気膜86を備えている。この構成により、パージガスに含まれるパーティクル等が通気膜86を通過することを阻止することができ、パージガス等の気体のろ過を行うことができる。
 また、密着面854と弁体871の下方向における端面とが面で当接するため、弁体871が傾くことが抑えられ、逆止弁部材87の外面と通気路形成部831の内面との摺動による摩擦が抑えられ、パーティクルの発生を抑えることができる。
 次に、本発明の第2実施形態に係るガスパージ用フィルタ80について説明する。第2実施形態では、弁体871とバネ872の位置関係が逆である点で、第1実施形態とは異なる。これ以外の構成については、第1実施形態の構成と同一であるため、同一の部材については説明を省略する。
 弁体871は、上下逆とされている。即ち、円筒形状を有する弁体871の閉塞されている端部が、図4、図5に示す弁体871とは上下逆とされて上側とされ、バネ872の上端部が弁体871に当接し、バネ872の下端部がフィルタリング85の密着面854に当接するように配置される。このように配置された弁体871においては、収納空間27から収納容器1の外部へ流出する空気により弁体871がバネ872の付勢力に抗して下方向へ移動させられて弁が開く。逆に、収納容器1の外部から収納空間27へ流入しようとする空気等のガスの流れ、及び、バネ872の付勢力により、弁体871は、上方向へ移動させられて、下部第1ハウジング83の上部に当接して弁が閉じられる。本実施形態におけるガスパージ用ポートとしてのガスパージ用フィルタ80は、下壁24の前方の2箇所の排気孔としての貫通孔45に固定されて使用される。
 次に、本発明の第3実施形態に係る、ガスパージ用フィルタ80Aについて、図面を参照しながら説明する。図6は、ガスパージ用フィルタ80Aを示す断面図である。
 第3実施形態では、Oリング91が設けられていない点で、第1実施形態とは異なる。これ以外の構成については、第1実施形態と同一であるため、同一の部材については、同一の符号で図示し、説明を省略する。
 通気路形成部831Aの下端部は、図6に示すように、側方視断面で上方向に向かって先が窄まる傾斜面837Aであるテーパー形状部836Aを有している。上下方向において通気路形成部831Aのテーパー形状部に対向するフィルタリング85Aの密着面854Aの部分には、上方向へ突出する環状凸部857Aが設けられている。環状凸部857Aは、通気路形成部831Aの下端部の全周に対向する位置関係で、環状に設けられている。フィルタリング85Aをネジ部834にねじ込むことで、テーパー形状部836Aが環状凸部857Aに当接し、環状凸部857Aが図6に示すように変形してテーパー形状部836Aに密着し、これにより、通気路形成部831Aの内部に形成された通気路と、通気路形成部831Aの外部との間の気密性が確保される。
 前述のように、通気路形成部831Aは、通気路形成部831Aと通気路形成部831Aの外部との間を密封するためのテーパー状の傾斜面837Aを有するテーパー形状部836Aを備えるため、このような密封のために、Oリング等を有する構成とする必要がなくなり、少ない部品点数で通気路形成部831Aの内部の通気路を通気路形成部831Aの外部に対して密封することが可能となる。
 次に、本発明の第4実施形態に係る、ガスパージ用フィルタ80Bについて、図面を参照しながら説明する。図7は、ガスパージ用フィルタ80Bを示す断面図である。
 第4実施形態では、弁体871B、下部第1ハウジング83B、通気路形成部831B、及びフィルタリング85Bの形状が、第1実施形態における弁体871、下部第1ハウジング83、通気路形成部831、及びフィルタリング85の形状とは異なる。これ以外の構成については、第1実施形態と同一であるため、同一の部材については、同一の符号で図示し、説明を省略する。
 通気路形成部831Bは、下部第1ハウジング83Bとは別体で構成されている。具体的には、通気路形成部831Bは、両端が開口する円筒形状を有しており、通気路形成部831Bの上端部の一部は、下部第1ハウジング83Bの上部の下面に形成された凹部に配置されたOリング92Bを介して当接し、また、通気路形成部831Bの上端部の他の部分は、下部第1ハウジング83Bの上部の下面に直接当接している。バネ872の上端部は、直接下部第1ハウジング83Bの上部の中央部分に支持されている。
 弁座を構成するフィルタリング85Bの密着面854Bの中央部は、下方向へ向かって先が窄まるテーパー面8541Bを有するテーパー形状部8542Bを有している。また、テーパー形状部8542Bに対向する弁体871Bの下面は、下方向へ向かって先が窄まる弁体テーパー面8711Bを有する弁体テーパー形状部8712Bを有している。テーパー面8541Bと弁体テーパー面8711Bとは一致した形状で、面で当接可能な形状を有している。このように面で当接し合うことにより、通気路が弁体871Bによって閉じられて密封されるように構成されている。
 前述のように、弁体871Bは、テーパー形状を有し、逆止弁部材87Bのテーパー状の便座を構成する密着面854Bに当接することにより逆止弁部材87は通気路を閉じて密封するため、テーパー面8541Bと弁体テーパー面8711Bとは面で当接可能である。このため、通気路を弁体871Bによって確実に密封することができる。
 次に、本発明の第5実施形態に係る、ガスパージ用フィルタ80Cについて、図面を参照しながら説明する。図8は、ガスパージ用フィルタ80Cを示す断面図である。
 第5実施形態では、下部第1ハウジング83C、フィルタリング85C、及び、通気路形成部831Cの形状が、第1実施形態における下部第1ハウジング83、フィルタリング85、及び、通気路形成部831の形状とは異なる。これ以外の構成については、第1実施形態と同一であるため、同一の部材については、同一の符号で図示し、説明を省略する。
 通気路形成部831Cは、第4実施形態と同様に、下部第1ハウジング83Cとは別体で構成されている。具体的には、通気路形成部831Cは、上端部が閉塞された円筒形状を有している。通気路形成部831Cの上端部の一部は、下部第1ハウジング83Cの上部の下面に形成された凹部に配置されたOリング92C及び通気膜86を介して当接し、また、通気路形成部831Cの上端部の他の部分は、下部第1ハウジング83Cの上部の下面に通気膜86を介して当接している。バネ872の上端部は、通気路形成部831Cの上部の中央部分の下面に当接している。
 フィルタリング85Cの下端部は、上下方向に直交する方向に広がるフランジ部859Cを有している。また、下部第1ハウジング83Cの上端部は、上下方向に直交する方向に広がるフランジ部838Cを有している。
 次に、本発明の第6実施形態に係る、ガスパージ用フィルタ80Dについて、図面を参照しながら説明する。図9は、ガスパージ用フィルタ80Dを示す断面図である。
 第6実施形態では、密着パッド88Dの構成が第1実施形態における密着パッド88の構成とは異なる。これ以外の構成については、第1実施形態と同一であるため、同一の部材については、同一の符号で図示し、説明を省略する。
 密着パッド88Dは、図9に示されるように、内部に空間が形成された中空部883Dを有している。この構成により密着パッド88は、容易に伸縮することが可能となり、図示しないパージポートに対して、更に(又は、より)容易に追従可能である。この結果、図示しないパージポートと密着パッド88Dとの間は、確実に密封された状態とすることができる。
 本発明は、上述した実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲に記載された技術的範囲において変形が可能である。
 例えば、本実施形態では、密封面852は、通気路形成部831以外の逆止弁部材87の部分であるフィルタリング85に形成された溝856に設けられたが、この構成に限定されない。例えば、通気路形成部がガスパージ用フィルタの下端部まで延びている場合には、密封面は、通気路形成部に設けられていてもよく、この場合であっても、密封面に密着パッドが設けられていればよい。
 また、バネ872は、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアセタールのいずれか少なくとも1つにより構成されたが、この構成に限定されない。バネ872は、ヤング率で示される引張弾性率が2000Mpaを超える熱可塑性樹脂により成形されていればよい。
 また、本実施形態においては、下壁24の前方の2箇所の貫通孔45は、容器内部の気体を排出するための排気孔であり、後方の2箇所の貫通孔45は、容器内部に気体を給気するための給気孔であったが、この構成に限定されない。例えば、下壁24の前方の貫通孔45が、容器内部の収納空間27に気体を給気するための給気孔であり、この前方の貫通孔45に設けられた第1実施形態におけるガスパージ用フィルタ80に当接するガスパージ装置のパージポートはパージガスを供給してもよく、また、後方の貫通孔45が、容器内部の気体を排出するための排気孔であり、この後方の貫通孔45に設けられた第2実施形態におけるガスパージ用フィルタ80に当接するガスパージ装置のパージポートにおいては、収納空間27における空気を排気してもよい。
 また、本実施形態においては、密着面854と弁体871の下方向における端面(底面873)とは面で当接してシールされていたが、弁体の底面と密着面とは、Oリングでシールされてもよい。
 また、ガスパージ用ポート、容器本体及び蓋体の形状、容器本体に収納可能な基板Wの枚数や寸法は、本実施形態におけるガスパージ用フィルタ80、80A、80B、80C、80D、容器本体2及び蓋体3の形状、容器本体2に収納可能な基板Wの枚数や寸法に限定されない。即ち、例えば、通気路形成部、バネ、弁体、逆止弁部材、密封面、密着パッド等の各部の構成は、本実施形態における通気路形成部831、バネ872、弁体871、逆止弁部材87、密封面852、密着パッド88等の各部の構成に限定されない。同様に、側方基板支持部、蓋体側基板支持部、奥側基板支持部等の構成は、基板支持板状部5、フロントリテーナ7、図示しない奥側基板支持部等の構成に限定されない。また、本実施形態における基板Wは、直径300mm~450mmのシリコンウェーハであったが、この値に限定されない。
1 収納容器
2 容器本体
3 蓋体
21 容器本体開口部
27 収納空間
45 貫通孔
80、80A、80B、80C、80D ガスパージ用フィルタ
85 フィルタリング
86 通気膜
87 逆止弁部材
88 密着パッド
831 通気路形成部
852 密封面
871 弁体
872 バネ

Claims (9)

  1.  一端部に容器本体開口部を有した容器本体と、前記容器本体開口部に対して着脱可能であり前記容器本体開口部を閉塞可能な蓋体と、により内部に収納空間が形成された収納容器に、前記容器本体あるいは前記蓋体の少なくともどちらか一方に形成され、前記収納容器の外部の空間と前記収納空間とを連通可能なアクセス開口に取り付けられるガスパージ用ポートであって、
     前記収納容器の外部と前記収納空間とを通気可能な通気路が形成された管状の通気路形成部と、
     樹脂により成形されガスによる腐食が防止されるバネと、前記バネにより付勢される弁体とを有し、前記通気路における気体の流通方向を一定方向に制限する逆止弁部材と、
     前記通気路形成部、又は、前記通気路形成部及び前記逆止弁部材以外の前記ガスパージ用ポートの部分、の少なくとも一方に設けられて、気体注入ポートと密着する密封面と、を備え、
     前記密封面には、前記気体注入ポートと前記密封面との間の気体漏れを防止するための弾性体により構成される密着パッドを備える、ガスパージ用ポート。
  2.  前記バネは、ヤング率で示される引張弾性率が2000Mpaを超える熱可塑性樹脂により成形された、請求項1に記載のガスパージ用ポート。
  3.  前記熱可塑性樹脂は、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアセタールのいずれか少なくとも1つにより構成される請求項2に記載のガスパージ用ポート。
  4.  前記弁体は、前記通気路を流通する気体の圧力で開閉可能である請求項1~請求項3のいずれか記載のガスパージ用ポート。
  5.  前記密着パッドは、環状に形成されている請求項1~請求項4のいずれかに記載のガスパージ用ポート。
  6.  前記密着パッドは、前記気体注入ポートに対して追従可能に中空部が形成されている請求項5に記載のガスパージ用ポート。
  7.  前記通気路形成部は、前記通気路と前記通気路の外部との間を密封するためのテーパー状の面を有する請求項1~請求項6のいずれかに記載のガスパージ用ポート。
  8.  前記弁体は、テーパー形状を有し、前記逆止弁部材のテーパー状の便座に当接することにより前記逆止弁部材は通気路を閉じて密封する請求項1~請求項7のいずれかに記載のガスパージ用ポート。
  9.  ろ過用の通気膜を備えている請求項1~請求項8のいずれかに記載のガスパージ用ポート。
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