WO2019021835A1 - タッチパネル用導電部材およびタッチパネル - Google Patents
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- G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
- G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
- G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material
Definitions
- the present invention relates to a conductive member for a touch panel and a touch panel having a mesh pattern composed of a plurality of mesh cells made of metal fine wires, and in particular, a conductive member for a touch panel in which the intersections of meshes are less visible and which maintain detection sensitivity
- the present invention relates to a touch panel in which mesh intersection points are hard to be visually recognized.
- a touch panel having a mesh electrode using thin metal wires as a detection electrode of a touch can have low resistance and low parasitic capacitance with respect to a touch panel using a transparent electrode made of ITO (Indium Tin Oxide) as a detection electrode It is.
- ITO Indium Tin Oxide
- Patent Document 1 describes a micro wire pattern having offset cross points such that the cross points have three cross elements. In Patent Document 1, by setting the offset intersection point, the intersection point is made smaller to reduce the visibility of the intersection point.
- each branch point of the conductive mesh is formed by a plurality of line segments extending between two intersection points to define an opening area, and one intersection point of a reference mesh pattern in which the opening areas are periodically arranged. It is located at a position displaced from the one intersection by a length that is above or below a predetermined length, and each connection element of the conductive mesh corresponds to two intersections located at both ends of one line segment. Between the two diverging points.
- the touch panel sensor of Patent Document 3 includes a detection electrode including a conductive mesh that defines a plurality of opening regions.
- the conductive mesh is formed of conductive thin wires arranged in a pattern defining hexagonal opening regions arranged at a constant pitch in each of the first direction and the second direction orthogonal to each other.
- Patent Document 1 although the visibility is improved by setting the intersections of the microwires as offset intersections, the improvement of the visibility is not sufficient. Moreover, in Patent Document 2 and Patent Document 3, although both moire and light and shade unevenness are made inconspicuous, it is not sufficient. Under the present circumstances, when the above-mentioned thin metal wire is used, it can not be said that the countermeasure regarding visibility, such as a thin metal wire is visible, is enough. In particular, in a mesh electrode touch panel using thin metal wires, in the case of mesh electrodes having a thickening at which the mesh intersection points become thick, there is a problem of visibility of the thin metal wires.
- intersection weight index is the five mesh intersection points. It is an average value.
- the line width of the thin metal wire is measured at the midpoint between mesh intersection points (mid point of the side of the mesh cell).
- the line width of the thin metal wire is an average value of the line widths of lines extending from mesh intersections. If the mesh shape of the mesh pattern is a quadrilateral, it is the average value of the line widths of the four thin metal wires extending from the intersection.
- the object of the present invention is to solve the problems based on the above-mentioned prior art, and to provide a conductive member for a touch panel and a touch panel excellent in visibility.
- the present invention is a conductive member for a touch panel, having a transparent insulating substrate and a first conductive layer formed on the transparent insulating substrate, wherein the first conductive layer has a plurality of apexes. It has a first mesh pattern composed of a plurality of first mesh cells in a closed shape connected by metal thin wires, and a directional component in which the apexes of the plurality of first mesh cells are aligned in a straight line is 1 or less.
- the conductive member for a touch panel is provided.
- the direction component in which the vertex of the several 1st mesh cell of a 1st conductive layer is located in a straight line is one.
- the closed shape of the first mesh pattern is an N-gon, preferably N is 3 or more, and the N-gon is more preferably a tetragon.
- a second mesh pattern composed of the plurality of second mesh cells, the direction component in which the apexes of the plurality of second mesh cells are aligned in a straight line is 1 or less, and the first conductive layer and the second conductive layer are overlapped When viewed from the stacking direction, it is preferable that a plurality of vertices of the second mesh cell be arranged in the corresponding first mesh cells.
- the direction component in which the apexes of the plurality of first mesh cells in the layer are linearly aligned intersect with the direction component in which the apexes of the plurality of second mesh cells in the second conductive layer are linearly arranged.
- the closed shape of the second mesh pattern is an S-gon, it is preferable that S be 3 or more, and it is more preferable that the S-gon be a tetragon.
- the present invention also provides a touch panel characterized by having the above-described touch panel conductive member of the present invention.
- the electroconductive member for touchscreens and the touchscreen which were excellent in visibility can be provided.
- excellent visibility can be obtained.
- Angles such as “specifically expressed angles”, “parallel”, “vertical” and “orthogonal” include error ranges generally accepted in the relevant technical field unless otherwise noted. Also, “identical” includes an error range generally accepted in the relevant technical field.
- transparent means that the light transmittance is 40% or more, preferably 80% or more, more preferably 90% or more in the visible light wavelength range of 380 to 780 nm. The light transmittance is measured, for example, using “a method of determining total light transmittance and total light reflectance of plastic” defined in JIS (Japanese Industrial Standard) K 7375: 2008.
- FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of a touch panel having a conductive member for a touch panel according to an embodiment of the present invention
- FIG. 2 is a schematic diagram showing the configuration of a touch panel having a conductive member for a touch panel according to an embodiment of the present invention.
- the touch panel 10 shown in FIG. 1 has a touch panel conductive member 11.
- the touch panel conductive member 11 shown in FIG. 1 has a transparent insulating substrate 30 and a first conductive layer 32 and a second conductive layer 40 formed on the transparent insulating substrate 30, but at least the first conductive layer.
- One of 32 and the second conductive layer 40 may be provided.
- a transparent layer 15 and a cover layer 12 are stacked on the touch panel conductive member 11.
- the surface 12 a of the cover layer 12 is a touch surface of the touch panel 10 and is an operation surface.
- a touch surface is a surface which detects contact of members, such as a finger or a stylus pen.
- the touch panel conductive member 11 is connected to a controller 14 (see FIG. 2).
- the touch panel 10 is configured by the touch panel conductive member 11, the cover layer 12, and the controller 14.
- the touch panel 10 is provided on the display panel 20 via, for example, a transparent layer 18.
- the surface 12 a of the cover layer 12 is a viewing surface of the display object (not shown) displayed in the display area (not shown) of the display panel 20.
- the touch panel 10 and the display panel 20 constitute a display device.
- the controller 14 is configured of a known one used for detection of a capacitive touch sensor.
- the controller 14 detects the position at which the capacitance has changed due to the contact of a finger or the like on the surface 12 a of the cover layer 12.
- the touch panel 10 includes the touch panel conductive member 11.
- the touch panel 10 including the touch panel conductive member 11 is suitably used as a capacitive touch panel.
- the capacitive touch panel includes a mutual capacitive touch panel and a self-capacitive touch panel, but is particularly suitable as a mutual capacitive touch panel.
- the cover layer 12 functions as a protective layer of the touch panel conductive member 11.
- the configuration of the cover layer 12 is not particularly limited.
- glass such as plate glass and tempered glass, or acrylic resin such as polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), or polymethyl methacrylate resin (PMMA) is used.
- PC polycarbonate
- PET polyethylene terephthalate
- PMMA polymethyl methacrylate resin
- the surface 12 a of the cover layer 12 is a touch surface as described above, a hard coat layer may be provided on the surface 12 a as required.
- the thickness of the cover layer 12 is 0.1 to 1.3 mm, preferably 0.1 to 0.7 mm.
- the configuration of the transparent layer 18 is not particularly limited as long as the transparent layer 18 is optically transparent and has an insulating property, and the touch panel conductive member 11 and the display panel 20 can be stably fixed.
- the transparent layer 18 for example, optically clear adhesive (OCA, Optical Clear Adhesive) and optically clear resin (OCR, Optical Clear Resin) such as UV (Ultra Violet) curing resin can be used.
- OCA optically clear adhesive
- OCR optically clear Resin
- the transparent layer 18 may be partially hollow.
- a gap may be provided on the display panel 20 to separate the conductive member 11 for a touch panel. This gap is also referred to as an air gap.
- the configuration of the transparent layer 15 is not particularly limited as long as the transparent layer 15 is optically transparent and has an insulating property, and the touch panel conductive member 11 and the cover layer 12 can be stably fixed. is not.
- the same transparent layer 15 as the transparent layer 18 can be used.
- the display panel 20 includes a display area (not shown), and is, for example, a liquid crystal display panel.
- the display panel 20 is not limited to a liquid crystal display panel, and may be an organic electro luminescence (EL) display panel.
- the display device is an electronic device, but the electronic device is not limited to the display device.
- the above-mentioned display apparatus is mentioned, for example. Specific examples of the electronic device include mobile phones, smart phones, portable information terminals, car navigation systems, tablet terminals, laptop personal computers, and desktop personal computers.
- the touch panel conductive member 11 is used for a capacitive touch sensor, in particular, a mutual capacitive touch sensor.
- the first conductive layer 32 is provided on the surface 30 a of the transparent insulating substrate 30.
- the second conductive layer 40 is provided on the back surface 30 b of the transparent insulating substrate 30.
- the first conductive layer 32 is formed directly on the surface 30a of the transparent insulating substrate 30, and the second conductive layer 40 is formed directly on the back surface 30b.
- an underlayer an undercoat layer
- an adhesion enhancing layer for improving the adhesion between the electrode layer and the transparent insulating substrate
- One or more other functional layers may be provided.
- the cover layer 12 is stacked on the surface 30a of the transparent insulating substrate 30, and the surface 30a side of the transparent insulating substrate 30 is the touch surface side, that is, the side for detecting contact.
- the first conductive layer 32 includes the detection electrodes of the touch panel, and the thin metal wires 52 of the first conductive layer 32 constitute a plurality of first electrodes 34 which are detection electrodes of the touch panel.
- the first electrode 34 is a long strip electrode extending parallel to the first direction D1.
- a plurality of first electrodes 34 are arranged in parallel in a second direction D2 orthogonal to the first direction D1 and spaced apart from each other, and electrically insulated from each other.
- the first conductive layer 32 has a first pad 36 electrically connected to the fine metal wire 52 (see FIG. 1) constituting the first electrode 34.
- the first peripheral wiring 37 is electrically connected to the first pad 36 of each first electrode 34.
- the respective first peripheral wires 37 are arranged close to each other, and the plurality of first peripheral wires 37 are individually connected to terminals for connecting to the controller 14, and these terminals are formed on the transparent insulating substrate 30.
- the plurality of first peripheral wirings 37 are collectively referred to as a first peripheral wiring section 38.
- the second conductive layer 40 includes the detection electrode of the touch panel, and the metal thin wires 52 of the second conductive layer 40 constitute a plurality of second electrodes 42.
- the second electrode 42 is a long strip electrode extending parallel to the second direction D2.
- a plurality of second electrodes 42 are arranged in parallel in a first direction D1 orthogonal to the second direction D2, spaced apart from one another, and electrically insulated from one another.
- the second conductive layer 40 has, for example, the same configuration as that of the first conductive layer 32 described above.
- the second conductive layer 40 has a second pad 44 electrically connected to the metal thin wire 52 (see FIG. 1) constituting the second electrode 42.
- the second peripheral wiring 45 is electrically connected to the second pad 44 of each second electrode 42.
- the respective second peripheral wires 45 are arranged close to each other.
- the plurality of second peripheral wires 45 are individually connected to terminals for connection to the controller 14, and the terminals are grouped into one terminal connection region 47 at one side 30 c of the transparent insulating substrate 30.
- the plurality of second peripheral wires 45 are collectively referred to as a second peripheral wire portion 46.
- the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 are electrically insulated by the transparent insulating substrate 30 and are spaced apart. In addition, being spaced apart and arrange
- the second electrode 42 is disposed to intersect the first electrode 34 of the first conductive layer 32 at least in part. A portion where the first electrode 34 and the second electrode 42 overlap is a crossing portion 48 a.
- the first conductive layer 32 is provided on the surface 30a of one transparent insulating substrate 30, and the second conductive layer 40 is provided on the back surface 30b, so that the transparent insulating substrate 30 shrinks. Also, the displacement of the positional relationship between the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 can be reduced.
- the first peripheral wiring 37 and the second peripheral wiring 45 are formed of, for example, a conductor wiring.
- a sensing area 48 which is a sensor area for detecting a touch shown in FIG.
- the sensing area 48 is an area in which detection of a touch with a finger or the like, that is, a touch can be performed in the capacitive touch panel.
- the touch panel conductive member 11 is disposed on the display area of the display panel 20, and the sensing area 48 is disposed so as to overlap the pixel display area on which the display image of the display panel 20 (see FIG. 1) is displayed. .
- the sensing area 48 may be wider than the pixel display area.
- a decorative layer (not shown) having a light shielding function is provided. By covering the first peripheral wiring portion 38 and the second peripheral wiring portion 46 with the decorative layer, the first peripheral wiring portion 38 and the second peripheral wiring portion 46 are made invisible.
- the configuration of the decorative layer is not particularly limited as long as the first peripheral wiring portion 38 and the second peripheral wiring portion 46 can be made invisible, and a known decorative layer can be used. .
- various printing methods such as screen printing, gravure printing and offset printing, transfer methods, and evaporation methods can be used, and the cover layer 12 is formed. It may be formed directly on the peripheral wiring portion 38 and the second peripheral wiring portion 46.
- the touch panel 10 is not particularly limited to that shown in FIG. 1 and FIG. 2, and for example, like the touch panel 10 shown in FIG. 3, the first conductive layer 32 is formed on the transparent insulating substrate 30,
- the insulating film 31 is formed on the first conductive layer 32
- the second conductive layer 40 is formed on the insulating film 31
- the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 are laminated via the insulating film 31. It may be a laminated structure.
- the transparent insulating substrate 30 doubles as the cover layer 12, and the first conductive layer 32 is disposed on the touch surface side.
- a transparent layer 49 covering the second conductive layer 40 is formed on the insulating film 31 and provided on the display panel 20 via the transparent layer 18.
- the insulating film 31 may have the same configuration as the transparent insulating substrate 30 or may have a different configuration.
- the transparent layer 49 can be the same as the transparent layer 18 described above. In the configuration shown in FIG. 3, the stacking direction in which the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 are stacked is the same as the perpendicular direction Dn.
- the touch panel conductive member 11 is provided with the first conductive layer 32 on one transparent insulating substrate 30, and another transparent insulating substrate (not shown).
- another conductive member for a touch panel (not shown) provided with the second conductive layer 40 may be laminated via an optically transparent adhesive. That is, the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 may be insulated and disposed to face each other.
- FIG. 4 is a schematic view showing a first example of the first conductive layer and the second conductive layer of the conductive member for a touch panel according to the embodiment of the present invention
- FIG. 5 is a schematic view of the conductive member for the touch panel according to the embodiment of the present invention
- FIG. 6 shows the 3rd example of the 1st electric conduction layer of the electric conduction member for touch panels of the embodiment of the present invention, and the 2nd electric conduction layer
- FIG. 4 is a schematic view showing a first example of the first conductive layer and the second conductive layer of the conductive member for a touch panel according to the embodiment of the present invention
- FIG. 5 is a schematic view of the conductive member for the touch panel according to the embodiment of the present invention
- Drawing 6 shows the 3rd example of the 1st electric conduction layer of the electric conduction member for touch panels of the embodiment of the present invention, and the 2nd electric conduction layer
- FIG. 4 is a schematic view showing a first example of the first conductive layer and the
- FIG. 7 is a schematic view showing a fourth example of the first conductive layer and the second conductive layer of the conductive member for a touch panel according to the embodiment of the present invention
- FIG. 8 is a diagram showing a fourth example of the conductive member for a touch panel according to the embodiment of the present invention It is a schematic diagram which shows the 5th example of 1 conductive layer and a 2nd conductive layer.
- FIGS. 4 to 8 are diagrams showing patterns of the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 superimposed and viewed in plan view. Further, in FIG. 4 to FIG. 8, the reference symbol H1 indicates the extending direction of the first electrode 34 of the first conductive layer 32 and the second electrode 42 of the second conductive layer 40.
- the symbol H 2 indicates a direction orthogonal to the extending direction of the first electrode 34 of the first conductive layer 32 and the second electrode 42 of the second conductive layer 40.
- the extending direction H1 is the above-mentioned first direction D1 if it is the first conductive layer 32, and it is the above-mentioned second direction D2 if it is the second conductive layer 40.
- the black circles shown in FIGS. 4 to 8 indicate the apex 50 of the first mesh cell 54 and the apex 60 of the second mesh cell 64.
- the first conductive layer 32 has a first mesh pattern 56 formed by connecting a plurality of first mesh cells 54 in a closed shape in which a plurality of apexes 50 are connected by metal thin wires 52. .
- the first mesh cell 54 shown in FIG. 4 is a quadrilateral.
- the apex 50 is a region in which at least two metal thin wires 52 are in contact, and, for example, the metal thin wires 52 are crossed.
- the first conductive layer 32 has a direction component in which the apexes 50 of the plurality of first mesh cells 54 are aligned in a straight line is 1 or less.
- the direction component in which the vertexes of mesh cells are aligned in a straight line is 1 or less, and the direction component in which the vertices of mesh cells are aligned in a straight line is 0 or 1. It is preferable that the direction component in which the apexes of the mesh cells of the first conductive layer 32 are aligned in a straight line is one. This is because noise is suppressed when the direction component in which the vertexes of the mesh cells are aligned in a straight line is 1.
- the presence of noise may cause an impression such as graininess or graininess when a viewer looks at a touch panel or a conductive member for a touch panel.
- the direction component in which the vertexes of the mesh cells are aligned in a straight line will be described in detail later.
- the mesh pattern 100 shown in FIG. 13 is a fixed mesh pattern in which mesh cells 102 of the same rhombus are repeatedly arranged.
- the direction component of the mesh cell apex is 4 and the direction component of the mesh cell apex is G1, G2 and G3. , G4.
- the apexes 104 of the mesh cells 102 are all arranged in a straight line, the apexes 104 of the mesh cells 102 are noticeable and the visibility is poor.
- the vertices of mesh cells are also called mesh intersections.
- the arrangement of the apexes 104 of the mesh cell 106 has directions G5 and G6 of the direction components in which the direction components of the mesh cell apex are aligned in a straight line 2 and the apexes of the mesh cell are aligned in a straight line . Even in this case, since the apexes 104 of the mesh cells 106 are all aligned in a straight line, the apexes 104 of the mesh cells 102 are noticeable and the visibility is poor.
- the configuration of the second conductive layer 40 is not particularly limited, but is preferably the same as that of the first conductive layer 32.
- the second conductive layer 40 has a second mesh pattern 66 configured by connecting a second mesh cell 64 having a closed shape in which a plurality of apexes 60 are connected by a thin metal wire 52.
- the second mesh cell 64 shown in FIG. 4 is a quadrilateral.
- the second conductive layer 40 preferably has a direction component in which the apexes 60 of the plurality of second mesh cells 64 are aligned in a straight line is 1 or less.
- the vertex 60 is the same as the vertex 50, and is a region in which at least two metal thin wires 52 are in contact with each other. For example, the metal thin wires 52 are crossed.
- the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 shown in FIG. 4 each have a direction component in which the apexes of mesh cells are aligned in a straight line, and the direction G1 of the direction components in which the apexes of mesh cells are aligned in a straight line is H2 Parallel to Further, as shown in FIG. 5, in the first conductive layer 32, the direction component in which the apexes of mesh cells are aligned in a straight line may be zero. In this case, as will be described in detail later, the vertex 50 is not arranged on a straight line across the four or more first mesh cells 54.
- the first mesh cell 54 even if the vertex 50 is disposed on a straight line, there is no straight line parallel to the straight line. Also in the example shown in FIG. 5, the first mesh cell 54 is a quadrilateral. In FIG. 5, in the second conductive layer 40 as well, the direction component in which the apexes of mesh cells are aligned in a straight line is zero. The vertex 60 is not arranged on a straight line over four or more second mesh cells 64. Further, in the four or more second mesh cells 64, even if the apex 60 is disposed on a straight line, there is no straight line parallel to this straight line. Also in the example shown in FIG. 5, the second mesh cell 64 is a quadrilateral.
- the first conductive layer 32 shown in FIG. 6 has a direction component in which the vertexes of the mesh cells are aligned in a straight line
- the direction G2 of the direction component in which the vertexes of the mesh cells are aligned in a straight line is parallel to the extending direction H1.
- the first conductive layer 32 shown in FIG. 6 has the same configuration as that of the first conductive layer 32 shown in FIG. 4 except that the direction components of the mesh cell apexes are aligned in a straight line are different. Therefore, detailed description of the first conductive layer 32 shown in FIG. 6 will be omitted.
- the second conductive layer 40 shown in FIG. 6 also has the same configuration as that of the second conductive layer 40 shown in FIG.
- the first mesh cell 54 of the first conductive layer 32 and the second mesh cell 64 of the second conductive layer 40 shown in FIG. 6 are both square.
- the first conductive layer 32 shown in FIG. 7 has a direction component in which the vertexes of the mesh cells are aligned in a straight line, and the direction G1 of the direction component in which the vertexes of the mesh cells are aligned in a straight line is perpendicular to the extending direction H1. is there.
- the first conductive layer 32 shown in FIG. 7 has the same configuration as that of the first conductive layer 32 shown in FIG. 4 except that the shape of the first mesh cell 54 is triangular. Therefore, detailed description of the first conductive layer 32 shown in FIG. 7 will be omitted.
- the first conductive layer 32 is provided with fine metal wires 52 which pass through the apex 50 and are parallel to the direction H2.
- the second conductive layer 40 has the same configuration as that of the second conductive layer 40 shown in FIG. 4 except that the shape of the second mesh cell 64 is triangular. Therefore, detailed description of the second conductive layer 40 shown in FIG. 7 will be omitted.
- the second conductive layer 40 is provided with fine metal wires 52 which pass through the apex 60 and are parallel to the direction H2.
- the first mesh cell 54 of the first conductive layer 32 and the second mesh cell 64 of the second conductive layer 40 shown in FIG. 7 are both triangular.
- the first conductive layer 32 shown in FIG. 8 has a direction component in which the apexes of mesh cells are aligned in a straight line, and the direction G2 of the direction components in which the apexes of mesh cells are aligned in a straight line is parallel to the extending direction H1.
- the first conductive layer 32 shown in FIG. 8 is different from the first conductive layer 32 shown in FIG. 4 in that the direction components of the mesh cell's apexes are aligned in a straight line and the shape of the first mesh cell 54 is three.
- the configuration is the same except that it is a square. Therefore, detailed description of the first conductive layer 32 shown in FIG. 8 will be omitted.
- the first conductive layer 32 is provided with fine metal wires 52 which pass through the apexes 50 and are parallel to the extending direction H1. Also in the second conductive layer 40 shown in FIG. 8, the orientation of the direction component in which the apexes of the mesh cells are aligned in a straight line is different from that of the second conductive layer 40 shown in FIG. Is the same except that it has a triangular shape. Therefore, detailed description of the second conductive layer 40 illustrated in FIG. 8 is omitted.
- the second conductive layer 40 is provided with fine metal wires 52 which pass through the apex 60 and are parallel to the extending direction H1.
- the first mesh cell 54 of the first conductive layer 32 and the second mesh cell 64 of the second conductive layer 40 shown in FIG. 8 are both triangular.
- the shape of the first mesh cell 54 shown in FIGS. 4 to 6 is a square, and the shape of the first mesh cell 54 shown in FIGS. 7 and 8 is a triangle.
- the closed shape of the first mesh cell 54 is not particularly limited, and is preferably an N-shape. N is 3 or more.
- the N-shaped polygon is more preferably a quadrangular shape as shown in FIG. 4 to FIG. 6 because it can reduce moire with the pixel pattern of the display panel.
- the first mesh cells 54 are not limited to all having the same closed shape.
- the first mesh cell 54 may be mixed with N-gons satisfying N ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ 3, and in this case, may be configured to include, for example, triangles, tetragons, pentagons and hexagons. Further, the sizes of the N-gons are not limited to the same size, but may be the same size or may be different in size. However, in order to suppress noise, it is preferable that the shape of the first mesh cell 54 is an N-shaped N-shape, and the variation of the area of the first mesh cell is within ⁇ 20% of the average value. From the viewpoint of suppressing moiré and noise in a compatible manner, the first mesh cell is a quadrilateral, and the side length of the mesh cell is randomly fluctuated in the range of 4 to 10% with respect to the average value. Is preferred.
- the apexes 50 forming the closed shape are connected by straight metal thin wires 52 to form an N square satisfying N ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ 3, but the present invention is not limited to this.
- the apexes 50 are connected by straight metal thin wires 52 to constitute a plurality of sides, a shape in which at least one side of the plurality of sides is replaced by curved metal thin wires 52 may be a closed shape.
- the closed shape is preferably an S-gon, and S is preferably 3 or more and 4 or more and 6 or less.
- the S-shaped polygon is more preferably a quadrilateral as shown in FIG. 4 to FIG. 6 because it can reduce moire with the pixel pattern of the display panel.
- the second mesh cell 64 is not limited to all closed shapes having the same shape, and S-gons having three or more S may be mixed, and the sizes of the S-gons are not the same. Good. However, in order to suppress noise, it is preferable that the second mesh cell 64 be a S-gon having a constant S, and the variation of the area of the second mesh cell be within a range of ⁇ 20% from the average value.
- the second mesh cell is a quadrilateral, and the side length of the mesh cell is randomly fluctuated in the range of 4 to 10% with respect to the average value. Is preferred.
- the closed shape of the second mesh cell 64 is a straight metal thin line 52 at the top 50, but the present invention is not limited to this and may be a curved line.
- the combination of the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 is not limited to the same configuration, and is different even if the number of direction components in which the apexes of the mesh cells are aligned is the same. It is also possible that the orientation components of the mesh cell's apexes are aligned in a straight line may be the same or different. It is preferable that the direction component in which the apexes of the mesh cells of the first conductive layer 32 are aligned in a straight line intersect with the direction component in which the apexes of the mesh cells in the second conductive layer 40 are aligned in a straight line.
- the direction component and the direction component cross each other means that the directions of the direction components in which the vertexes of the mesh cells are aligned in a straight line do not have the same or parallel relationship.
- the direction of the direction component in which the apexes of the mesh cells of the first conductive layer 32 are aligned in a straight line is orthogonal to the direction of the direction component in which the vertices of the mesh cells of the second conductive layer 40 are aligned in a line.
- FIG. 9 shows the crossing portion 48a, the first conductive layer 32 has the configuration shown in FIG. 4, and the second conductive layer 40 has the configuration shown in FIG.
- the orientation G1 of the direction component in which the vertices of the mesh cell in FIG. 4 are aligned in a straight line is orthogonal to the orientation G2 of the direction component in which the vertices of the mesh cell in FIG.
- the black circles shown in FIG. 9 indicate the apex 50 of the first mesh cell 54 and the apex 60 of the second mesh cell 64.
- the apex 60 of the second mesh cell 64 By arranging the apex 60 of the second mesh cell 64 in the first mesh cell 54, the apex 50 of the first mesh cell 54 and the apex 60 of the second mesh cell 64 become more difficult to be visually recognized, and the visibility is improved. Is improved, and the detection sensitivity of the touch panel 10 is increased.
- the dummy electrode is constituted by a mesh cell formed by the fine metal wires 52 formed in the first conductive layer 32 like the first electrode 34, and is electrically connected to the first electrode 34 adjacent in the second direction D2. Not connected.
- the dummy electrode is an electrode that is electrically floated and does not function as a detection electrode.
- the mesh pattern of the dummy electrode formed on the first conductive layer 32 is configured by the first mesh cell 54 in the same manner as the first electrode 34.
- the first electrode 34 and the dummy electrode can be formed by patterning a plurality of thin metal wires 52 formed on the entire surface 30 a of the transparent insulating substrate 30 in a mesh shape.
- dummy electrodes are disposed on the second conductive layer 40 also between the interelectrodes 42a of the plurality of second electrodes 42, similarly to the dummy electrodes disposed respectively between the interelectrodes 34a of the plurality of first electrodes 34. can do.
- the gaps between the plurality of second electrodes 42 between the electrodes 42a become inconspicuous, and the visibility of the touch panel 10 is improved.
- FIG. 10 is a flowchart showing how to obtain the direction component in which the apexes of the mesh cells of the conductive member for a touch panel according to the embodiment of the present invention are arranged in a straight line.
- FIG. 11 is a mesh cell of the conductive member for a touch panel according to the embodiment
- FIG. 12 is a schematic view showing an example of how to obtain a direction component in which vertices are aligned in a straight line
- FIG. 12 is another example of how to determine a direction component in which vertices of mesh cells of a conductive member for a touch panel according to an embodiment of the present invention are aligned.
- FIG. 10 is a flowchart showing how to obtain the direction component in which the apexes of the mesh cells of the conductive member for a touch panel according to the embodiment of the present invention are arranged in a straight line.
- FIG. 11 is a mesh cell of the conductive member for a touch panel according to the embodiment
- FIG. 12 is a schematic
- FIG. 11 shows the first conductive layer 32, which has the same configuration as the first conductive layer 32 shown in FIG. 4 described above.
- FIG. 12 shows the first conductive layer 32, which has the same configuration as the first conductive layer 32 shown in FIG. 5 described above.
- the black circles shown in FIGS. 11 and 12 indicate the apexes 50 of the first mesh cell 54.
- the first conductive layer 32 illustrated in FIGS. 11 and 12, for example, images the first conductive layer 32 using an optical microscope to obtain a captured image. The captured image is taken into a personal computer, and the captured image is binarized to extract thin metal wires 52.
- the point of intersection of at least two metal thin wires 52 is taken as the point of intersection, and the point of intersection is extracted, and this point of intersection is made the apex 50 of the first mesh cell 54. Coordinates are set at each vertex 50. Thereby, the coordinates of the apex 50 in the first conductive layer 32 shown in FIGS. 11 and 12 can be identified. Note that the method of determining the direction component in which the vertexes of mesh cells are aligned in a straight line, which will be described below, is executed using various software in the personal computer using, for example, a personal computer.
- the direction component in which the vertices of the mesh cell are aligned in a straight line is represented by the arrangement of the vertices.
- the direction component in which the vertexes of the mesh cells are aligned in a straight line is obtained, for example, using the above-described captured image.
- the first mesh cell 54a and the first mesh cell 54b will be described as an example.
- the coordinates of the vertex 50 of the first mesh cell 54a and the coordinates of the vertex 50 of the first mesh cell 54b are specified in advance.
- a line segment connecting vertices in the mesh cell is obtained (step S10). Specifically, a line segment passing through the apex of the mesh cell of interest in the captured image is obtained. A line segment can be obtained as a line passing through two vertices. As shown in FIG. 11, line segments L 11 , L 12 , L 13 , L 14 , L 15 and L 16 connecting the apexes 50 of the first mesh cell 54 a are obtained. For even first mesh cell 54b, to obtain a line segment L 21, L 22, L 23 , L 24, L 25, L 26 connecting the vertices 50.
- N is the number of N-gons and represents the number of sides.
- NN3 The number of line segments of the second mesh cell (not shown) is the same as the number of line segments of the first mesh cell.
- step S 12 A line segment passing four or more mesh cells is detected from L 25 and L 26 (step S 12). Passing four or more vertices of a mesh cell is not limited as long as it passes through four or more vertices of four or more consecutive mesh cells in one direction.
- the four or more continuous mesh cells represent four or more adjacent mesh cells.
- the number of line segments to be detected passing through the mesh cells may be at least four as described above, and the number passing through the mesh cells is set in advance. The number passing through the mesh cell is, for example, four.
- the line segment L 26 is a line passing through four or more first mesh cells.
- the threshold value which a line segment and the vertex 50 agree in advance is set that the line segment passes four or more first mesh cells, and the distance between the line segment and the vertex 50 is within the above-mentioned threshold value. In the case of (1), the first mesh cell is passed.
- step S12 when a line segment passing four or more is detected, a parallel line segment is searched among the detected line segments (step S14).
- a change in distance is determined along the length direction of the target line segment.
- a set value parallel to the change in distance is determined in advance. If the change in distance is within the set value, it is assumed that the two line segments are parallel.
- the number of pairs of parallel line segments is determined.
- the number of sets of parallel line segments is the number of direction components in which the vertexes of the mesh cells are aligned in a straight line (step S16).
- the direction of the parallel line segment is the direction of the direction component in which the vertexes of the mesh cells are aligned in a straight line.
- step S12 the direction component in which the mesh cell vertices align in a straight line becomes zero.
- step S20 the direction component in which the apexes of the mesh cells are aligned in a straight line.
- line segments L 31 , L 32 , L 33 , L 34 , L 35 , and L 36 passing through the vertex 50 all pass through four or more first mesh cells. It is not a line segment. As described above, even when there are no line segments passing through four or more first mesh cells, the direction component in which the apexes of the mesh cells are aligned in a straight line is zero.
- the line segment In the direction component in which the apexes of mesh cells are arranged in a straight line, it is a line segment passing four or more mesh cells, but the upper limit thereof is a line segment passing ten mesh cells. It is the whole range. That is, it is preferable that the line segment cross the plurality of first electrodes 34. Furthermore, when a dummy electrode is provided adjacent to the first electrode 34, it is more preferable as a line segment to be a line segment passing through the plurality of first electrodes 34 and the dummy electrode.
- the direction component in which the apexes of the mesh cells are arranged in a straight line has been described by taking the first conductive layer 32 as an example, but the direction in which the apexes of the mesh cells are arranged in a straight line similarly to the first conductive layer 32 in the second conductive layer 40 The component can be determined.
- the fine metal wires 52 constitute the first mesh cell 54 and the second mesh cell 64.
- the line width of the thin metal wire 52 is 30 ⁇ m or less, preferably 0.5 ⁇ m to 10 ⁇ m, more preferably 1 ⁇ m to 5 ⁇ m, and most preferably 1 ⁇ m to 3 ⁇ m. If it is the above-mentioned range, the low resistance electrode excellent in visibility can be formed.
- the line width of the metal thin wire is preferably 10 ⁇ m to 50 ⁇ m, more preferably 30 ⁇ m or less, and still more preferably 15 ⁇ m or less. Within the above range, the area of the peripheral wiring portion of the touch panel can be reduced, that is, the frame can be narrowed.
- the thickness of the fine metal wire 52 is not particularly limited, but is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or less, particularly preferably 0.01 to 1 ⁇ m, and preferably 0.05 to 0.8 ⁇ m. Most preferably. If it is the above-mentioned range, an electrode excellent in durability can be formed with a low resistance electrode.
- a cross-sectional image of the thin metal wire 52 is acquired using a scanning electron microscope. Next, the line width and thickness of the thin metal wire 52 are determined from the cross-sectional image.
- the first mesh cell 54 constituted by the thin metal wire 52 is exemplified by those shown in FIGS. 4 to 8 described above.
- the closed shape of the first mesh cell 54 is as described above.
- the first mesh cell 54 is an N-gon satisfying N ⁇ 3, and may be a triangle, a tetragon, a pentagon, a hexagon, an octagon, or the like, or a combination thereof. Further, the closed shape is not limited to one having a vertex connected by a straight line like an N-gon, and the vertex may be connected by a curve other than a straight line.
- the length of one side of the first mesh cell is preferably 50 ⁇ m to 1500 ⁇ m, more preferably 150 ⁇ m to 800 ⁇ m, and still more preferably 200 ⁇ m to 600 ⁇ m from the viewpoint of visibility.
- the aperture ratio of the mesh cell is preferably 90% or more, and more preferably 95% or more.
- the aperture ratio of the mesh cell corresponds to the unoccupied rate of the thin metal wire 52 in the region where the mesh cell is formed.
- the pattern formed by the first mesh cells is not limited to a regular pattern, but may be an irregular pattern.
- a plurality of mesh cells included in the pattern have a polygonal shape having an irregular side length of -10% to + 10% with respect to the average value of the side lengths of the respective cells.
- it can be a square shaped cell.
- moire can be suppressed, color noise can be reduced, and visibility can be improved.
- the second mesh cell can also have the same configuration as that of the first mesh cell.
- the metal contained in the metal thin wire 52 examples include metals or alloys such as gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), and aluminum (Al). Among them, silver and copper are preferable because the conductivity of the fine metal wire is excellent.
- the fine metal wires 52 may be made of fine metal particles and a binder.
- the binder specifically, gelatin, (meth) acrylic resin, styrene resin, vinyl resin, polyolefin resin, polyester resin, polyurethane resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polydiene resin, Examples thereof include at least one resin selected from the group consisting of epoxy resins, silicone resins, cellulose polymers and chitosan polymers, and copolymers made of monomers constituting these resins.
- the metal fine particles fine particles of silver, copper, gold or the like are used.
- the fine metal wires are not limited to those constituted of the above-mentioned metals or alloys, and, for example, metal oxides such as metal oxide particles, silver paste and copper paste, and metal pastes such as silver nanowires and copper nanowires It may contain nanowire particles.
- the fine metal wire may have a single layer structure or a multilayer structure.
- the metal fine wire for example, a structure in which a copper oxynitride layer, a copper layer and a copper oxynitride layer are sequentially laminated, or a structure in which molybdenum (Mo), aluminum (Al) and molybdenum (Mo) are sequentially laminated, Alternatively, a structure in which molybdenum (Mo), copper (Cu), and molybdenum (Mo) are sequentially stacked can be employed.
- the surface of the fine metal wire may be blackened by sulfidation or oxidation treatment. Furthermore, the structure which provides the blackening layer which makes a metal thin wire
- the blackening layer is, for example, for reducing the reflectance of the fine metal wire.
- the blackening layer can be composed of copper nitride, copper oxide, copper oxynitride, molybdenum oxide, AgO, Pd, carbon or another nitride or oxide, or the like.
- the blackening layer is disposed on the side where the thin metal wire is viewed, that is, the touch surface side.
- the method of manufacturing the metal fine wire 52 constituting the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 is not particularly limited as long as it can be formed on a transparent insulating substrate or the like, and it is not limited to JP 2014-159620 A.
- the plating method described in JP 2012-144761 A, etc., JP 2012-6377 A, JP 2014-112512 A, JP 2014-209332 A, JP 2015-22397 A, JP A 2016-192200 The silver salt method described in JP Gazette and WO 2016/157585 etc., the vapor deposition method described in JP 2014-29614 A etc., and the printing method using a conductive ink described in JP 2011-28985 A etc. Appropriately available.
- the line width (line) of the first peripheral wiring 37 and the second peripheral wiring 45 formed in the first peripheral wiring portion 38 and the second peripheral wiring portion 46 is preferably 50 ⁇ m or less, more preferably 30 ⁇ m or less, 15 micrometers or less are especially preferable.
- the space (space) between the first peripheral wiring 37 and the second peripheral wiring 45 is preferably 50 ⁇ m or less, more preferably 30 ⁇ m or less, and particularly preferably 15 ⁇ m or less. If the line width and the space are in the above-mentioned range, the regions of the first peripheral wiring portion 38 and the second peripheral wiring portion 46 can be narrowed, which is preferable.
- the first peripheral wiring 37 and the second peripheral wiring 45 can also be formed by the method of manufacturing the metal fine wire 52 described above, and the first peripheral wiring 37 and the first conductive layer 32 are the same material and the same. It can be formed simultaneously in the process.
- the second peripheral wiring 45 and the second conductive layer 40 can be simultaneously formed of the same material and in the same process.
- the transparent insulating substrate 30 supports the first conductive layer 32 or the second conductive layer 40.
- the type of the transparent insulating substrate 30 is not particularly limited as long as the above can be achieved.
- Examples of the material of the transparent insulating substrate 30 include transparent resin materials and transparent inorganic materials.
- the transparent resin material include acetyl cellulose-based resins such as triacetyl cellulose, polyester-based resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene (PE), polymethylpentene, Olefin resin such as cycloolefin polymer (COP), cycloolefin copolymer (COC), acrylic resin such as polymethyl methacrylate, polyurethane resin, polyether sulfone, polycarbonate, polysulfone, polyether, polyether ketone, acronitrile And methacrylonitrile and the like.
- the preferred thickness of the transparent resin material is 20 to 200 ⁇ m.
- the transparent inorganic material include, for example, alkali-free glass, alkali glass, chemically strengthened glass, soda glass, potash glass, glass such as lead glass, translucent piezoelectric ceramics (PLZT (lanthanum lead zirconate titanate) And the like, ceramics, quartz, fluorite and sapphire.
- the preferred thickness of the transparent inorganic material is 0.1 to 1.3 mm.
- the total light transmittance of the transparent insulating substrate 30 is preferably 40% to 100%. The total light transmittance is measured, for example, using “a method of determining the total light transmittance and the total light reflectance of plastic” defined in JIS K 7375: 2008.
- the transparent insulating substrate is not limited to an independent one as a member like the above-mentioned substrate, and may be in a form called a layer or a film. Therefore, the transparent insulating substrate may be a transparent insulating layer or a transparent insulating film coated with an acrylic resin.
- One of the preferred embodiments of the transparent insulating substrate 30 is a treated substrate that has been subjected to at least one treatment selected from the group consisting of atmospheric pressure plasma treatment, corona discharge treatment, and ultraviolet radiation treatment.
- a hydrophilic group such as an OH group is introduced on the surface on which the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 are provided, and the first conductive layer 32 is formed.
- the adhesion with the second conductive layer 40 is improved.
- atmospheric pressure plasma treatment is preferable in that adhesion with the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 is further improved.
- the transparent insulating substrate 30 it is preferable to have an underlayer containing a polymer on the surface on which the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 are provided.
- the adhesion between the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 and the transparent insulating substrate 30 is further improved.
- the formation method of a base layer is not specifically limited,
- macromolecule is apply
- the composition for base layer formation may contain a solvent, if necessary.
- the type of solvent is not particularly limited.
- an acrylic styrene latex containing fine particles of gelatin, acrylic resin, urethane resin, or inorganic or polymer may be used as a composition for forming an underlayer containing a polymer.
- the thickness of the base layer is not particularly limited, but is preferably 0.02 to 2.0 ⁇ m in that the adhesion between the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 and the transparent insulating substrate 30 is more excellent. 0.03 to 1.5 ⁇ m is more preferable.
- an ultraviolet absorbing layer may be provided as another layer between the transparent insulating substrate 30 and the first conductive layer 32 and the second conductive layer 40 as necessary. Moreover, you may form the following functional films as needed.
- a transparent protective layer may be formed on the fine metal wire 52.
- organic films such as gelatin, acrylic resin, urethane resin, acrylic styrene latex and the like, and inorganic films such as silicon dioxide can be used, and the film thickness is preferably 10 nm or more and 10000 nm or less .
- the transparent coat layer is made of an organic film such as an acrylic resin or a urethane resin, and is formed in the sensing area 48, and has a thickness of 1 ⁇ m to 100 ⁇ m.
- a peripheral wiring insulating film may be formed on the first peripheral wiring 37 and the second peripheral wiring 45 shown in FIG. 2 for the purpose of preventing migration of the peripheral wiring and corrosion of the peripheral wiring.
- the peripheral wiring insulating film an organic film such as an acrylic resin or a urethane resin is used, and the film thickness is preferably 1 ⁇ m to 30 ⁇ m.
- the peripheral wiring insulating film may be formed on only one of the first peripheral wiring 37 and the second peripheral wiring 45.
- the present invention is basically configured as described above. As mentioned above, although the conductive member for touch panels and touch panel of the present invention were explained in detail, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and various improvement or change may be made in the range which does not deviate from the main point of the present invention Of course.
- a conductive member for a touch panel is disposed on a display device (LCD (Liquid Crystal Display)), and the conductive member for a touch panel is observed under a fluorescent lamp from the side on which a molybdenum oxide layer of a glass substrate described later is formed.
- LCD Liquid Crystal Display
- a two-stage evaluation of "Moiré can not be recognized” was performed. “A”: very good level where 18 or more of 20 observers judged “no moiré recognition” “B”: 12 or more out of 20 observers 17 or less say “moiré can not be recognized” Judgment level with no problem in practical use “C”: Less than 11 people judged that "moire can not be recognized” among 20 observers
- a glass substrate having a thickness of 0.7 mm is prepared.
- a molybdenum oxide layer (blackened layer) having a thickness of 30 nm was formed on the first surface of the glass substrate by sputtering.
- a lower molybdenum layer having a thickness of 30 nm was formed on the molybdenum oxide layer by sputtering.
- a copper layer having a thickness of 300 nm was formed on the lower molybdenum layer by sputtering.
- an upper molybdenum layer having a thickness of 50 nm is formed on the copper layer by sputtering, and a first conductive film composed of a molybdenum oxide layer, a lower molybdenum layer, a copper layer, and an upper molybdenum layer is formed.
- a resist film was formed by coating on the first conductive film, and the resist film was pattern-exposed through an exposure mask and developed to form a resist pattern.
- FIG. 13 is formed of a rhombic mesh cell having an acute angle of 60 ° and a side length of 350 ⁇ m.
- the mesh patterns of FIGS. 4 to 7 and 11 are mesh patterns formed by moving the mesh intersection points of FIG. 13 within a distance of 10% (35 ⁇ m) of one side of the mesh cell.
- the line width of the thin metal wire was 3 ⁇ m.
- Example 1 In Example 1, the line width of the thin metal wire was 3 ⁇ m.
- the mesh pattern is shown in FIG. In the first embodiment, the direction component in which the apexes of mesh cells are aligned in a straight line is one.
- the intersection weight index (area of intersection of mesh / square of line width of metal thin wire forming mesh) was 2.5.
- the intersection weight index (area of mesh intersection point / square of line width of metal thin wire forming mesh) was measured as follows. The intersection weight index is an average of five mesh intersection points.
- the line width of the thin metal wire was measured at the midpoint between mesh intersection points (mid point of the side of the mesh cell).
- the line width of the thin metal wire is an average value of the line widths of lines extending from mesh intersections.
- the mesh shape of the mesh pattern shown in FIG. 4 since it is a quadrilateral, it is an average value of the line widths of the four thin metal wires extending from the intersection.
- the intersection point thickness index of Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 shown below was also measured in the same manner as Example 1.
- Example 2 The second embodiment is the same as the first embodiment except that the mesh pattern shown in FIG. 5 is the pattern shown in FIG. 5 and the direction components of the mesh cell are aligned in a straight line are zero as compared with the first embodiment. It is the same. In addition, the intersection weight index (area of intersection of mesh / square of line width of metal thin wire forming mesh) was 2.5.
- Example 3 The third embodiment is the same as the first embodiment in the configuration and the manufacturing method as the first embodiment except that the mesh pattern is a pattern shown in FIG. In addition, the intersection weight index (area of intersection of mesh / square of line width of metal thin wire forming mesh) was 2.5.
- the fourth embodiment is the same as the first embodiment in the configuration and the manufacturing method as the first embodiment except that the mesh pattern is a pattern shown in FIG. 7 and the shape of the mesh cell is triangular.
- the intersection weight index (area of intersection of mesh / square of line width of metal thin wire forming mesh) was 2.9.
- Comparative Example 1 is the same as Example 1 except that the mesh pattern is a pattern shown in FIG. 13 as compared with Example 1, and the direction component of the mesh cell vertex is aligned in a straight line is four. It is the same. In addition, the intersection weight index (area of intersection of mesh / square of line width of metal thin wire forming mesh) was 2.4.
- Comparative Example 2 is the same as Example 1 except that the mesh pattern is the pattern shown in FIG. 14 as compared with Example 1, and the direction component of the mesh cell vertex is aligned in a straight line is 2. It is the same. In the mesh pattern of FIG. 14, the thin metal wires of the diamond-shaped regular mesh pattern of FIG.
- the side length of the mesh cell is 90% to 110% of the side length of the mesh cell of FIG.
- the mesh pattern is deformed so as to be random.
- the intersection weight index (area of intersection of mesh / square of line width of metal thin wire forming mesh) was 2.3.
- Examples 1 to 4 were superior to Comparative Examples 1 and 2 in the evaluation of the intersection appearance.
- the evaluation of noise was better when the direction component in which the vertexes of the mesh cells are aligned in a straight line is 1.
- the evaluation of the moiré was better in the case of a quadrangle.
- touch panels of Examples 10 to 13 and Comparative Examples 10 and 11 shown below were manufactured. With respect to the touch panels of Example 10 to Example 13 and Comparative Example 10 and Comparative Example 11, the intersection appearance was observed, and the noise, the moire, and the touch sensitivity were evaluated. The results are shown in Table 2 below. The evaluation of noise and moiré is not the conductive member for the touch panel but the touch panel, and the observation is performed under a fluorescent lamp from the side of the glass substrate on which the molybdenum oxide layer is formed. Since the same, the detailed description is omitted. The touch sensitivity will be described below.
- a glass substrate having a thickness of 0.7 mm is prepared.
- a molybdenum oxide layer (blackened layer) having a thickness of 30 nm was formed on the first surface of the glass substrate by sputtering, and then a thickness of 30 nm was formed on the molybdenum oxide layer by sputtering.
- the lower molybdenum layer was formed.
- a copper layer having a thickness of 300 nm was formed on the lower molybdenum layer by sputtering.
- an upper molybdenum layer having a thickness of 50 nm is formed on the copper layer by sputtering, and a first conductive film composed of a molybdenum oxide layer, a lower molybdenum layer, a copper layer, and an upper molybdenum layer is formed.
- a resist film was formed by coating on the first conductive film, and the resist film was pattern-exposed through an exposure mask and developed to form a resist pattern.
- an interlayer insulating film made of acrylic resin and having a thickness of 10 ⁇ m was formed on the first conductive layer.
- a second conductive film formed of a molybdenum oxide layer, a lower molybdenum layer, a copper layer, and an upper molybdenum layer was formed on the interlayer insulating film by sputtering.
- the second conductive layer was formed by performing the steps of resist application, pattern exposure, development, etching, and resist peeling in the same manner as the first conductive film.
- a protective layer made of acrylic resin was formed on the second conductive layer to form a touch panel.
- the touch panel has a configuration in which the second conductive layer is disposed on the uppermost layer on the molybdenum oxide side of the glass substrate.
- the touch sensitivity was evaluated as follows. Using the probe robot in order at positions of 10,000 points set in advance on the surface of the touch panel, each touch position was detected while contacting a stylus pen with a tip diameter of 2 mm. And the detection result of 10,000 places and the setting value corresponding to it were compared. The sensitivity was evaluated according to the following evaluation criteria using the 9973th value counted from the smallest absolute value of the difference vector between the detection position and the setting position. "A”: the 9973th value mentioned above is less than 1.0 mm "B”: the 9973th value mentioned above is less than 1.0m and 2.0mm "C”: the 9973th value mentioned above is 2.0 mm or more
- Example 10 the first mesh pattern of the first conductive layer is a pattern shown in FIG. 4, and the second mesh pattern of the second conductive layer is a pattern shown in FIG.
- the first conductive layer and the second conductive layer were overlapped such that the apex of the first mesh cell was disposed in the second mesh cell as shown in FIG.
- the first conductive layer has a direction component in which the vertices of mesh cells are aligned in a straight line
- the second conductive layer has a direction component in which the vertices of mesh cells are aligned in a straight line
- the vertices of mesh cells are straight.
- the direction components aligned in are orthogonal to each other.
- the cross point thickness index of the first conductive layer and the second conductive layer was 2.5, respectively.
- the intersection weight index was measured in the same manner as in Example 1 of the first example described above.
- the intersection point thickness index of Examples 11 to 13 and Comparative Examples 10 and 11 shown below was also measured in the same manner as in Example 1 of the first example described above.
- Example 11 is different from Example 10 in that the first mesh pattern of the first conductive layer is the pattern shown in FIG. 5 and the second mesh pattern of the second conductive layer is the pattern shown in FIG.
- the configuration and the manufacturing method are the same as in Example 1.
- the direction component in which the apexes of mesh cells are aligned in a straight line is zero.
- the first conductive layer and the second conductive layer were a combination of the same mesh pattern.
- the cross point thickness index of the first conductive layer and the second conductive layer was 2.5, respectively.
- Example 12 is different from Example 10 in that the first mesh pattern of the first conductive layer is the pattern shown in FIG.
- Example 4 and the second mesh pattern of the second conductive layer is the pattern shown in FIG.
- the configuration and the manufacturing method are the same as in Example 1.
- Example 12 the first conductive layer and the second conductive layer in Example 1 are the same mesh pattern combination.
- the direction components in which the vertexes of the mesh cells are aligned in a straight line do not intersect.
- the cross point thickness index of the first conductive layer and the second conductive layer was 2.5, respectively.
- Example 13 is different from Example 10 in that the first mesh pattern of the first conductive layer is the pattern shown in FIG. 7 and the second mesh pattern of the second conductive layer is the pattern shown in FIG.
- the configuration and the manufacturing method are the same as in Example 1.
- the mesh cells of the first conductive layer and the second conductive layer are triangular in shape, and the direction component of the mesh cell apex is aligned in a straight line is 1, and the mesh cell apex is a straight line.
- the direction components in line are orthogonal.
- the mesh pattern of FIG. 8 is a mesh pattern formed by moving the intersection points of the mesh of FIG. 13 within a distance of 10% (35 ⁇ m) of the length of one side of the mesh cell, and the line width of the metal thin wire is 3 ⁇ m.
- the cross point index of the first conductive layer and the second conductive layer was 2.9, respectively.
- Comparative Example 10 is different from Example 10 in that the first mesh pattern of the first conductive layer is a pattern shown in FIG. 13 and the second mesh pattern of the second conductive layer is a pattern shown in FIG.
- the construction and the production method are the same as in Example 10.
- the mesh cells of the first conductive layer and the second conductive layer have a rhombus shape, and the direction component in which the apexes of the mesh cells are aligned in a straight line is 4 in all cases.
- the cross point index of the first conductive layer and the second conductive layer was 2.4, respectively.
- Comparative example 11 Comparative Example 11 is different from Example 10 in that the first mesh pattern of the first conductive layer is a pattern shown in FIG.
- Example 14 and the second mesh pattern of the second conductive layer is a pattern shown in FIG.
- the construction and the production method are the same as in Example 10.
- the first conductive layer and the second conductive layer both have a direction component in which the apexes of mesh cells are aligned in a straight line.
- the cross point thickness index of each of the first conductive layer and the second conductive layer was 2.3.
- Examples 10 to 13 were superior in evaluation of intersection appearance as compared with Comparative Example 10 and Comparative Example 11.
- the evaluation of noise and the evaluation of touch sensitivity are better when the direction component in which the vertexes of the mesh cell are aligned is 1 is 1.
- the shape of the mesh cell was better in the evaluation of noise, the evaluation of moiré and the evaluation of touch sensitivity in the case of the quadrangle.
- Example 12 although the direction component in which the apexes of the mesh cells are aligned in a straight line is 1 for both the first conductive layer and the second conductive layer, the direction component in which the apexes of the mesh cells in the first conductive layer are aligned in a straight line
- the vertexes of the mesh cells in the two conductive layers do not intersect with the direction component in which the vertexes of the mesh cells in the second conductive layer intersect, but in Example 10, the mesh cell in the vertex of the first conductive layer aligns in a straight line and the mesh cell of the second conductive layer
- the evaluation of the appearance of the intersection point was excellent because the direction component of the apex of the line in a straight line intersects at right angles.
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Abstract
視認性に優れたタッチパネル用導電部材およびタッチパネルを提供する。タッチパネル用導電部材は、透明絶縁基板と、透明絶縁基板に形成された第1導電層とを有する。タッチパネル用導電部材は、第1導電層は、複数の頂点が金属細線で結ばれてなる閉形状の複数の第1メッシュセルで構成された第1メッシュパターンを有し、複数の第1メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1以下である。タッチパネルはタッチパネル用導電部材を有する。
Description
本発明は、金属細線で構成された複数のメッシュセルで構成されたメッシュパターンを有するタッチパネル用導電部材およびタッチパネルに関し、特に、メッシュの交点が視認されにくいタッチパネル用導電部材、および検出感度を維持した上でメッシュの交点が視認されにくいタッチパネルに関する。
タッチの検出電極として、金属細線を用いたメッシュ電極を有するタッチパネルは、ITO(Indium Tin Oxide)により構成された透明電極を検出電極に用いたタッチパネルに対して、低抵抗、かつ低寄生容量が可能である。金属細線を用いたメッシュ電極を用いた場合、高感度なタッチパネルを得ることができることから、近年多く用いられおり、注目を集めている。
しかしながら、上述の金属細線を用いた場合、金属細線が見える等の視認性に関する不具合が生じることがある。これに対して、例えば、特許文献1に、交点が3つの交差要素を有するようにオフセット交点を有するマイクロワイヤパターンが記載されている。特許文献1では、オフセット交点とすることにより、交点をより小さくして交点の視認性を低下させている。
上述の金属細線が見えること以外に、モアレが視認されること、濃淡ムラが視認されることなどの視認性に関する不具合が生じることがある。
これに対して、特許文献2の複数の開口領域を画成する導電性メッシュを含んだ検出電極を有するタッチパネルセンサでは、導電性メッシュを、二つの分岐点の間を延びて開口領域を画成する導電性の接続要素を含むものとしている。特許文献2では導電性メッシュの各分岐点を、二つの交点の間を延びて開口領域を画成する複数の線分から形成され開口領域が周期的に配列されてなる参照メッシュパターンの一つの交点上または所定長さ以下となる長さだけ当該一つの交点から変位した位置に位置しており、かつ導電性メッシュの各接続要素を、一つの線分の両端に位置する二つの交点にそれぞれ対応する二つの分岐点の間を延びている構成としている。
これに対して、特許文献2の複数の開口領域を画成する導電性メッシュを含んだ検出電極を有するタッチパネルセンサでは、導電性メッシュを、二つの分岐点の間を延びて開口領域を画成する導電性の接続要素を含むものとしている。特許文献2では導電性メッシュの各分岐点を、二つの交点の間を延びて開口領域を画成する複数の線分から形成され開口領域が周期的に配列されてなる参照メッシュパターンの一つの交点上または所定長さ以下となる長さだけ当該一つの交点から変位した位置に位置しており、かつ導電性メッシュの各接続要素を、一つの線分の両端に位置する二つの交点にそれぞれ対応する二つの分岐点の間を延びている構成としている。
特許文献3のタッチパネルセンサでは、複数の開口領域を画成する導電性メッシュを含む検出電極を備えるものとしている。導電性メッシュを、互いに直交する第1方向および第2方向のそれぞれに一定のピッチで配列された六角形形状の開口領域を画成するパターンにて配置された導電性細線からなる構成としている。
特許文献1では、マイクロワイヤの交点をオフセット交点として視認性を改善しているが、視認性の改善が十分ではない。また、特許文献2および特許文献3では、モアレおよび濃淡むらの両方を目立たなくさせているとされているが十分ではない。現状では、上述の金属細線を用いた場合、金属細線が見える等の視認性に関する対策が十分とは言えない。
特に金属細線を用いたメッシュ電極のタッチパネルにおいて、メッシュの交点が太ってしまう交点太りを有するメッシュ電極では、金属細線の視認性の課題が生じている。特に交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.0以上のメッシュ交点太りを有するメッシュ電極では顕著に視認性の課題が現われ、その対策が十分ではない。
特に金属細線を用いたメッシュ電極のタッチパネルにおいて、メッシュの交点が太ってしまう交点太りを有するメッシュ電極では、金属細線の視認性の課題が生じている。特に交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.0以上のメッシュ交点太りを有するメッシュ電極では顕著に視認性の課題が現われ、その対策が十分ではない。
なお、上述の交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)の測定方法については後にも説明するが、交点太り指数は、メッシュ交点の5箇所の平均値である。金属細線の線幅はメッシュ交点間の中点(メッシュセルの辺の中点)で測定したものである。金属細線の線幅はメッシュ交点から伸びる線の線幅の平均値である。メッシュパターンのメッシュ形状が4角形であれば交点から伸びる4本の金属細線の線幅の平均値となる。
本発明の目的は、前述の従来技術に基づく問題点を解消し、視認性に優れたタッチパネル用導電部材およびタッチパネルを提供することにある。
上述の目的を達成するために、本発明は、透明絶縁基板と、透明絶縁基板に形成された第1導電層とを有するタッチパネル用導電部材であって、第1導電層は、複数の頂点が金属細線で結ばれてなる閉形状の複数の第1メッシュセルで構成された第1メッシュパターンを有し、複数の第1メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1以下であることを特徴とするタッチパネル用導電部材を提供するものである。
第1導電層の複数の第1メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分は、1であることが好ましい。
第1メッシュパターンの閉形状は、N角形であり、Nは3以上であることが好ましく、N角形は、4角形であることがより好ましい。
第1導電層と電気的に絶縁され、かつ第1導電層と離間して配置された第2導電層を有し、第2導電層は、複数の頂点が金属細線で結ばれてなる閉形状の複数の第2メッシュセルで構成された第2メッシュパターンを有し、複数の第2メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1以下であり、第1導電層と第2導電層を重ねた積層方向から見た際に、第2メッシュセルの複数の頂点が、それぞれ対応する第1メッシュセル内に配置されていることが好ましい。
第1導電層の複数の第1メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分および第2導電層の複数の第2メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分は、いずれも1であり、第1導電層の複数の第1メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分と第2導電層の複数の第2メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分とは交差することが好ましい。
第2メッシュパターンの閉形状は、S角形であり、Sは3以上であることが好ましく、S角形は、4角形であることがより好ましい。
また、上述の本発明のタッチパネル用導電部材を有することを特徴とするタッチパネルを提供するものである。
第1メッシュパターンの閉形状は、N角形であり、Nは3以上であることが好ましく、N角形は、4角形であることがより好ましい。
第1導電層と電気的に絶縁され、かつ第1導電層と離間して配置された第2導電層を有し、第2導電層は、複数の頂点が金属細線で結ばれてなる閉形状の複数の第2メッシュセルで構成された第2メッシュパターンを有し、複数の第2メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1以下であり、第1導電層と第2導電層を重ねた積層方向から見た際に、第2メッシュセルの複数の頂点が、それぞれ対応する第1メッシュセル内に配置されていることが好ましい。
第1導電層の複数の第1メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分および第2導電層の複数の第2メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分は、いずれも1であり、第1導電層の複数の第1メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分と第2導電層の複数の第2メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分とは交差することが好ましい。
第2メッシュパターンの閉形状は、S角形であり、Sは3以上であることが好ましく、S角形は、4角形であることがより好ましい。
また、上述の本発明のタッチパネル用導電部材を有することを特徴とするタッチパネルを提供するものである。
本発明によれば、視認性が優れたタッチパネル用導電部材とタッチパネルとを提供できる。特に交点太りを有する金属細線を用いたタッチパネル用のメッシュ電極において、優れた視認性を得ることができる。
以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明のタッチパネル用導電部材およびタッチパネルを詳細に説明する。
なお、以下に説明する図は、本発明を説明するための例示的なものであり、以下に示す図に本発明が限定されるものではない。
なお、以下において数値範囲を示す「~」とは両側に記載された数値を含む。例えば、εが数値α~数値βとは、εの範囲は数値αと数値βを含む範囲であり、数学記号で示せばα≦ε≦βである。
「具体的な数値で表された角度」、「平行」、「垂直」および「直交」等の角度は、特に記載がなければ、該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。
また、「同一」とは、該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。
透明とは、光透過率が、波長380~780nmの可視光波長域において、40%以上のことであり、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上のことである。
光透過率は、例えば、JIS(日本工業規格) K 7375:2008に規定される「プラスチック-全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
なお、以下に説明する図は、本発明を説明するための例示的なものであり、以下に示す図に本発明が限定されるものではない。
なお、以下において数値範囲を示す「~」とは両側に記載された数値を含む。例えば、εが数値α~数値βとは、εの範囲は数値αと数値βを含む範囲であり、数学記号で示せばα≦ε≦βである。
「具体的な数値で表された角度」、「平行」、「垂直」および「直交」等の角度は、特に記載がなければ、該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。
また、「同一」とは、該当する技術分野で一般的に許容される誤差範囲を含む。
透明とは、光透過率が、波長380~780nmの可視光波長域において、40%以上のことであり、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上のことである。
光透過率は、例えば、JIS(日本工業規格) K 7375:2008に規定される「プラスチック-全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
図1は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材を有するタッチパネルの構成の一例を示す模式的断面図であり、図2は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材を有するタッチパネルの構成を示す模式的平面図である。図2では、透明層15とカバー層12の図示を省略している。
図1に示すタッチパネル10は、タッチパネル用導電部材11を有するものである。図1に示すタッチパネル用導電部材11は、透明絶縁基板30と、透明絶縁基板30に形成された、第1導電層32と第2導電層40とを有するものであるが、少なくとも第1導電層32と第2導電層40とのうち、一方を有すればよい。
図1に示すタッチパネル10は、タッチパネル用導電部材11を有するものである。図1に示すタッチパネル用導電部材11は、透明絶縁基板30と、透明絶縁基板30に形成された、第1導電層32と第2導電層40とを有するものであるが、少なくとも第1導電層32と第2導電層40とのうち、一方を有すればよい。
タッチパネル用導電部材11上に透明層15とカバー層12が積層されている。カバー層12の表面12aが、タッチパネル10のタッチ面であり、操作面となる。なお、タッチ面とは、指またはスタイラスペン等の部材の接触を検出する面のことである。タッチパネル用導電部材11はコントローラー14(図2参照)が接続されている。
タッチパネル用導電部材11、カバー層12およびコントローラー14により、タッチパネル10が構成される。タッチパネル10は表示パネル20上に、例えば、透明層18を介して設けられる。この場合、カバー層12の表面12aが、表示パネル20の表示領域(図示せず)に表示された表示物(図示せず)の視認面となる。タッチパネル10と表示パネル20により表示機器が構成される。
タッチパネル用導電部材11、カバー層12およびコントローラー14により、タッチパネル10が構成される。タッチパネル10は表示パネル20上に、例えば、透明層18を介して設けられる。この場合、カバー層12の表面12aが、表示パネル20の表示領域(図示せず)に表示された表示物(図示せず)の視認面となる。タッチパネル10と表示パネル20により表示機器が構成される。
コントローラー14は静電容量方式のタッチセンサーの検出に利用される公知のものにより構成される。タッチパネル10では、カバー層12の表面12aに対する指等の接触により、静電容量が変化した位置がコントローラー14で検出される。上述のようにタッチパネル10はタッチパネル用導電部材11を含む。タッチパネル用導電部材11を含むタッチパネル10は、静電容量方式のタッチパネルとして好適に使用される。静電容量方式のタッチパネルには、相互容量方式のタッチパネルおよび自己容量方式のタッチパネルがあるが、特に相互容量方式のタッチパネルとして最適である。
カバー層12は、タッチパネル用導電部材11の保護層として機能するものである。カバー層12は、その構成は、特に限定されるものではない。カバー層12には、例えば、板ガラスおよび強化ガラス等のガラス、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、またはポリメタクリル酸メチル樹脂(PMMA)等のアクリル樹脂が用いられる。カバー層12の表面12aは、上述のようにタッチ面となるため、必要に応じて表面12aにハードコート層を設けてもよい。なお、カバー層12の厚みとしては0.1~1.3mmが使用され、特に0.1~0.7mmが好ましい。
透明層18は、光学的に透明で絶縁性を有するものであり、かつ安定してタッチパネル用導電部材11と表示パネル20とを固定することができれば、その構成は、特に限定されるものではない。透明層18としては、例えば、光学的に透明な粘着剤(OCA、Optical Clear Adhesive)およびUV(Ultra Violet)硬化樹脂等の光学的に透明な樹脂(OCR、Optical Clear Resin)を用いることができる。また、透明層18は部分的に中空でもよい。
なお、透明層18を設けることなく、表示パネル20上に隙間をあけてタッチパネル用導電部材11を離間して設ける構成でもよい。この隙間のことをエアギャップともいう。
また、透明層15は、光学的に透明で絶縁性を有するものであり、かつ安定してタッチパネル用導電部材11とカバー層12とを固定することができれば、その構成は、特に限定されるものではない。透明層15は透明層18と同じものを用いることができる。
なお、透明層18を設けることなく、表示パネル20上に隙間をあけてタッチパネル用導電部材11を離間して設ける構成でもよい。この隙間のことをエアギャップともいう。
また、透明層15は、光学的に透明で絶縁性を有するものであり、かつ安定してタッチパネル用導電部材11とカバー層12とを固定することができれば、その構成は、特に限定されるものではない。透明層15は透明層18と同じものを用いることができる。
表示パネル20は、表示領域(図示せず)を備えるものであり、例えば、液晶表示パネルである。表示パネル20は、液晶表示パネルに限定されるものではなく、有機EL(Organic electro luminescence)表示パネルでもよい。
表示機器は、電子デバイスであるが、電子デバイスは、表示機器に限定されるものではない。電子デバイスとしては、例えば、上述の表示機器が挙げられる。電子デバイスとして、具体的には、携帯電話、スマートフォン、携帯情報端末、カーナビゲーションシステム、タブレット端末、ノート型のパーソナルコンピュータ、およびデスクトップ型のパーソナルコンピュータ等が挙げられる。
表示機器は、電子デバイスであるが、電子デバイスは、表示機器に限定されるものではない。電子デバイスとしては、例えば、上述の表示機器が挙げられる。電子デバイスとして、具体的には、携帯電話、スマートフォン、携帯情報端末、カーナビゲーションシステム、タブレット端末、ノート型のパーソナルコンピュータ、およびデスクトップ型のパーソナルコンピュータ等が挙げられる。
タッチパネル用導電部材11は、静電容量方式のタッチセンサー、特に相互容量方式のタッチセンサーに利用されるものである。
本実施形態の1例である図1のタッチパネル用導電部材11では、透明絶縁基板30の表面30a上に、第1導電層32が設けられている。また、透明絶縁基板30の裏面30b上に、第2導電層40が設けられている。
図1では、透明絶縁基板30の表面30aに直接、第1導電層32が形成され、裏面30bに直接、第2導電層40が形成された構成であるが、透明絶縁基板30と第1導電層32との間、また透明絶縁基板30と第2導電層40との間に、電極層と透明絶縁基板との密着性を良くするための下地層(アンダーコート層)または密着強化層、また他の機能層を1層以上設けてもよい。
透明絶縁基板30の表面30aの上にカバー層12が積層されており、透明絶縁基板30の表面30a側がタッチ面側、つまり接触を検出する側になる。
本実施形態の1例である図1のタッチパネル用導電部材11では、透明絶縁基板30の表面30a上に、第1導電層32が設けられている。また、透明絶縁基板30の裏面30b上に、第2導電層40が設けられている。
図1では、透明絶縁基板30の表面30aに直接、第1導電層32が形成され、裏面30bに直接、第2導電層40が形成された構成であるが、透明絶縁基板30と第1導電層32との間、また透明絶縁基板30と第2導電層40との間に、電極層と透明絶縁基板との密着性を良くするための下地層(アンダーコート層)または密着強化層、また他の機能層を1層以上設けてもよい。
透明絶縁基板30の表面30aの上にカバー層12が積層されており、透明絶縁基板30の表面30a側がタッチ面側、つまり接触を検出する側になる。
第1導電層32は、タッチパネルの検出電極を含むものであり、第1導電層32の金属細線52によりタッチパネルの検出電極である複数の第1電極34が構成される。
図2に示すように、第1電極34は、第1方向D1に平行に延在する、長尺状の帯状電極である。複数の第1電極34が、第1方向D1と直交する第2方向D2に互いに間隔を隔てて並列、かつ互いに電気的に絶縁されて配置されている。
図2に示すように、第1電極34は、第1方向D1に平行に延在する、長尺状の帯状電極である。複数の第1電極34が、第1方向D1と直交する第2方向D2に互いに間隔を隔てて並列、かつ互いに電気的に絶縁されて配置されている。
第1導電層32は、第1電極34を構成する金属細線52(図1参照)に電気的に接続される第1パッド36を有する。
各第1電極34の第1パッド36に第1の周辺配線37が電気的に接続されている。各第1の周辺配線37が互いに近接して配列されており、複数の第1の周辺配線37はそれぞれ個別にコントローラー14に接続するための端子に接続され、それらの端子は、透明絶縁基板30の一辺30cにて1つの端子接続領域39にまとめられている。複数の第1の周辺配線37をまとめて第1の周辺配線部38という。
各第1電極34の第1パッド36に第1の周辺配線37が電気的に接続されている。各第1の周辺配線37が互いに近接して配列されており、複数の第1の周辺配線37はそれぞれ個別にコントローラー14に接続するための端子に接続され、それらの端子は、透明絶縁基板30の一辺30cにて1つの端子接続領域39にまとめられている。複数の第1の周辺配線37をまとめて第1の周辺配線部38という。
第2導電層40は、タッチパネルの検出電極を含むものであり、第2導電層40の金属細線52により、複数の第2電極42が構成される。
図2に示すように,第2電極42は第2方向D2に平行に延在する、長尺状の帯状電極である。複数の第2電極42が、第2方向D2と直交する第1方向D1に互いに間隔を隔てて並列、かつ互いに電気的に絶縁されて配置されている。
第2導電層40は、例えば、上述の第1導電層32と同じ構成である。第2導電層40は、第2電極42を構成する金属細線52(図1参照)に電気的に接続される第2パッド44を有する。
各第2電極42の第2パッド44に第2の周辺配線45が電気的に接続されている。各第2の周辺配線45が互いに近接して配列されている。複数の第2の周辺配線45はそれぞれ個別にコントローラー14に接続するための端子に接続され、それらの端子は、透明絶縁基板30の一辺30cにて1つの端子接続領域47にまとめられている。複数の第2の周辺配線45をまとめて第2の周辺配線部46という。
図2に示すように,第2電極42は第2方向D2に平行に延在する、長尺状の帯状電極である。複数の第2電極42が、第2方向D2と直交する第1方向D1に互いに間隔を隔てて並列、かつ互いに電気的に絶縁されて配置されている。
第2導電層40は、例えば、上述の第1導電層32と同じ構成である。第2導電層40は、第2電極42を構成する金属細線52(図1参照)に電気的に接続される第2パッド44を有する。
各第2電極42の第2パッド44に第2の周辺配線45が電気的に接続されている。各第2の周辺配線45が互いに近接して配列されている。複数の第2の周辺配線45はそれぞれ個別にコントローラー14に接続するための端子に接続され、それらの端子は、透明絶縁基板30の一辺30cにて1つの端子接続領域47にまとめられている。複数の第2の周辺配線45をまとめて第2の周辺配線部46という。
図1の例では、第1導電層32と第2導電層40とは、透明絶縁基板30によって電気的に絶縁され、かつ離間して配置されている。尚、離間して配置されているとは、離間して積層されていればよい。第1導電層32と第2導電層40を重ねた積層方向、すなわち、透明絶縁基板30の表面30aに対して垂直な方向Dn(図1参照)から見た際に、第2導電層40の第2電極42は第1導電層32の第1電極34に対して少なくとも一部を重ねて交差して配置されている。第1電極34と第2電極42とが重なる部分が交差部48aである。
タッチパネル10では、図1に示すように、1つの透明絶縁基板30の表面30aに第1導電層32を設け、裏面30bに第2導電層40を設けることにより、透明絶縁基板30が収縮しても第1導電層32と第2導電層40との位置関係のズレを小さくすることができる。
第1の周辺配線37および第2の周辺配線45は、例えば、導体配線により形成される。タッチパネル用導電部材11を含めタッチパネル10の各構成部材については、後に詳細に説明する。
第1の周辺配線37および第2の周辺配線45は、例えば、導体配線により形成される。タッチパネル用導電部材11を含めタッチパネル10の各構成部材については、後に詳細に説明する。
タッチパネル10では、透明絶縁基板30の表面30aに対して垂直な方向Dn(図1参照)から見た際に、複数の第1電極34と複数の第2電極42とが平面視で重なって配置される領域が、図2に示すタッチを検出するセンサー領域である感知領域48である。
感知領域48は、静電容量方式タッチパネルにおいて、指等の接触、すなわち、タッチの検出が可能な領域である。
表示パネル20の表示領域上に、タッチパネル用導電部材11が配置されており、感知領域48は、表示パネル20(図1参照)の表示画像が表示される画素表示領域に重なるように配置される。感知領域48は画素表示領域よりも広くしてもよい。
第1の周辺配線部38および第2の周辺配線部46が形成されている領域には、例えば、遮光機能を有する加飾層(図示せず)が設けられる。加飾層で第1の周辺配線部38および第2の周辺配線部46を覆うことにより第1の周辺配線部38および第2の周辺配線部46が不可視とされる。
感知領域48は、静電容量方式タッチパネルにおいて、指等の接触、すなわち、タッチの検出が可能な領域である。
表示パネル20の表示領域上に、タッチパネル用導電部材11が配置されており、感知領域48は、表示パネル20(図1参照)の表示画像が表示される画素表示領域に重なるように配置される。感知領域48は画素表示領域よりも広くしてもよい。
第1の周辺配線部38および第2の周辺配線部46が形成されている領域には、例えば、遮光機能を有する加飾層(図示せず)が設けられる。加飾層で第1の周辺配線部38および第2の周辺配線部46を覆うことにより第1の周辺配線部38および第2の周辺配線部46が不可視とされる。
加飾層としては、第1の周辺配線部38および第2の周辺配線部46を不可視とすることができれば、その構成は特に限定されるものではなく、公知の加飾層を用いることができる。加飾層の形成には、スクリーン印刷法、グラビア印刷法およびオフセット印刷法等の各種の印刷法、転写法、ならびに蒸着法を用いることができ、カバー層12に形成されるが、第1の周辺配線部38および第2の周辺配線部46上に直接形成してもよい。
タッチパネル10は、図1および図2に示すものに、特に限定されるものではなく、例えば、図3に示すタッチパネル10のように、透明絶縁基板30上に第1導電層32を形成し、第1導電層32上に絶縁膜31を形成し、絶縁膜31上に第2導電層40を形成して、絶縁膜31を介して第1導電層32と第2導電層40とを積層する片面積層構成でもよい。この場合、透明絶縁基板30がカバー層12を兼用し、第1導電層32がタッチ面側に配置される。絶縁膜31上に第2導電層40を覆う透明層49が形成され、透明層18を介して表示パネル20に設けられている。
絶縁膜31は透明絶縁基板30と同じ構成でもよいし、異なる構成でもよい。透明層49は、上述の透明層18と同じものを用いることができる。図3に示す構成では第1導電層32と第2導電層40を重ねた積層方向は垂直な方向Dnと同じ方向である。
絶縁膜31は透明絶縁基板30と同じ構成でもよいし、異なる構成でもよい。透明層49は、上述の透明層18と同じものを用いることができる。図3に示す構成では第1導電層32と第2導電層40を重ねた積層方向は垂直な方向Dnと同じ方向である。
なお、タッチパネル用導電部材11としては、図示はしないが、1つの透明絶縁基板30に第1導電層32が設けられたタッチパネル用導電部材11と、もう1つ別の透明絶縁基板(図示せず)に第2導電層40が設けられたもう一つのタッチパネル用導電部材(図示せず)とが、光学的に透明な粘着剤を介して貼り合わされた積層された構成でもよい。すなわち、第1導電層32と第2導電層40とが絶縁され対向配置されていればよい。
次に、タッチパネル用導電部材11の第1導電層および第2導電層について説明する。
図4は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材の第1導電層および第2導電層の第1の例を示す模式図であり、図5は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材の第1導電層および第2導電層の第2の例を示す模式図であり、図6は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材の第1導電層および第2導電層の第3の例を示す模式図である。図7は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材の第1導電層および第2導電層の第4の例を示す模式図であり、図8は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材の第1導電層および第2導電層の第5の例を示す模式図である。
図4~図8は、第1導電層32と第2導電層40とを重ねて平面視で見たパターンを図で表したものである。また、図4~図8において、符号H1は第1導電層32の第1電極34および第2導電層40の第2電極42の延在方向を示す。符号H2は第1導電層32の第1電極34および第2導電層40の第2電極42の延在方向と直交する方向を示す。例えば、延在方向H1は、第1導電層32であれば上述の第1方向D1であり、第2導電層40であれば上述の第2方向D2である。なお、図4~図8に示す黒丸は第1メッシュセル54の頂点50、第2メッシュセル64の頂点60を示す。
図4は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材の第1導電層および第2導電層の第1の例を示す模式図であり、図5は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材の第1導電層および第2導電層の第2の例を示す模式図であり、図6は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材の第1導電層および第2導電層の第3の例を示す模式図である。図7は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材の第1導電層および第2導電層の第4の例を示す模式図であり、図8は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材の第1導電層および第2導電層の第5の例を示す模式図である。
図4~図8は、第1導電層32と第2導電層40とを重ねて平面視で見たパターンを図で表したものである。また、図4~図8において、符号H1は第1導電層32の第1電極34および第2導電層40の第2電極42の延在方向を示す。符号H2は第1導電層32の第1電極34および第2導電層40の第2電極42の延在方向と直交する方向を示す。例えば、延在方向H1は、第1導電層32であれば上述の第1方向D1であり、第2導電層40であれば上述の第2方向D2である。なお、図4~図8に示す黒丸は第1メッシュセル54の頂点50、第2メッシュセル64の頂点60を示す。
図4に示すように第1導電層32は、複数の頂点50が金属細線52で結ばれてなる閉形状の複数の第1メッシュセル54が接続されて構成された第1メッシュパターン56を有する。図4に示す第1メッシュセル54は4角形である。頂点50は、少なくとも2つの金属細線52が接する領域のことであり、例えば、金属細線52が交差されて構成される。
第1導電層32は、複数の第1メッシュセル54の頂点50が直線に並ぶ方向成分が1以下である。メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1以下とは、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が0または1である。第1導電層32のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分は1であることが好ましい。メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1であると、ノイズが抑制されるためである。ノイズがあるとは、観察者がタッチパネルまたはタッチパネル用導電部材を見た際に、ざらつき、または粒状感等の印象を受けることがある。メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分については、後に詳細に説明する。
図13に示すメッシュパターン100は、同じ菱形のメッシュセル102が繰り返し配置された定型メッシュパターンである。図13のメッシュパターン100では、メッシュセル102の頂点104の配置は、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が4であり、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きG1、G2、G3、G4を有する。この場合、メッシュセル102の頂点104が全て直線状に並ぶために、メッシュセル102の頂点104が目立ち、視認性が劣る。メッシュセルの頂点のことをメッシュの交点ともいう。
図14に示すメッシュパターン100aは、図13の菱形定型メッシュパターンにおいて金属細線をランダムに平行移動させたメッシュパターンである。図14のメッシュパターン100aでは、メッシュセル106の頂点104の配置が、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が2であり、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きG5、G6を有する。この場合でも、メッシュセル106の頂点104が全て直線状に並ぶために、メッシュセル102の頂点104が目立ち、視認性が劣る。このように、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1を超えると、メッシュセルの頂点が目立ち、視認性が劣る。なお、図13および図14に示す黒丸はメッシュセル106の頂点104を示す。
図14に示すメッシュパターン100aは、図13の菱形定型メッシュパターンにおいて金属細線をランダムに平行移動させたメッシュパターンである。図14のメッシュパターン100aでは、メッシュセル106の頂点104の配置が、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が2であり、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きG5、G6を有する。この場合でも、メッシュセル106の頂点104が全て直線状に並ぶために、メッシュセル102の頂点104が目立ち、視認性が劣る。このように、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1を超えると、メッシュセルの頂点が目立ち、視認性が劣る。なお、図13および図14に示す黒丸はメッシュセル106の頂点104を示す。
第2導電層40の構成は、特に限定されるものではないが、第1導電層32と同じ構成であることが好ましい。
この場合、例えば、第2導電層40は、複数の頂点60が金属細線52で結ばれてなる閉形状の第2メッシュセル64が接続されて構成された第2メッシュパターン66を有するものである。図4に示す第2メッシュセル64は4角形である。第2導電層40は、複数の第2メッシュセル64の頂点60が直線に並ぶ方向成分が1以下であることが好ましい。
頂点60は、頂点50と同じであり、少なくとも2つの金属細線52が接する領域のことであり、例えば、金属細線52が交差されて構成される。
この場合、例えば、第2導電層40は、複数の頂点60が金属細線52で結ばれてなる閉形状の第2メッシュセル64が接続されて構成された第2メッシュパターン66を有するものである。図4に示す第2メッシュセル64は4角形である。第2導電層40は、複数の第2メッシュセル64の頂点60が直線に並ぶ方向成分が1以下であることが好ましい。
頂点60は、頂点50と同じであり、少なくとも2つの金属細線52が接する領域のことであり、例えば、金属細線52が交差されて構成される。
図4に示す第1導電層32および第2導電層40は、いずれもメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1であり、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きG1は方向H2と平行である。
また、図5に示すように第1導電層32はメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分がゼロであってもよい。この場合、後に詳細に説明するが、頂点50が4個以上の第1メッシュセル54にわたり直線上に配置しない。また、4個以上の第1メッシュセル54において、頂点50が直線上に配置されていても、この直線と平行な直線が存在しない。図5に示す例でも、第1メッシュセル54は4角形である。
図5では、第2導電層40もメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分がゼロである。頂点60が4個以上の第2メッシュセル64にわたり直線上に配置しない。また、4個以上の第2メッシュセル64において、頂点60が直線上に配置されていても、この直線と平行な直線が存在しない。図5に示す例でも、第2メッシュセル64は4角形である。
また、図5に示すように第1導電層32はメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分がゼロであってもよい。この場合、後に詳細に説明するが、頂点50が4個以上の第1メッシュセル54にわたり直線上に配置しない。また、4個以上の第1メッシュセル54において、頂点50が直線上に配置されていても、この直線と平行な直線が存在しない。図5に示す例でも、第1メッシュセル54は4角形である。
図5では、第2導電層40もメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分がゼロである。頂点60が4個以上の第2メッシュセル64にわたり直線上に配置しない。また、4個以上の第2メッシュセル64において、頂点60が直線上に配置されていても、この直線と平行な直線が存在しない。図5に示す例でも、第2メッシュセル64は4角形である。
また、図6に示す第1導電層32はメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1であるが、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きG2が延在方向H1と平行である。図6に示す第1導電層32は図4に示す第1導電層32に比して、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きが異なる点以外は同じ構成である。このため、図6に示す第1導電層32について詳細な説明は省略する。
図6に示す第2導電層40においても、図4に示す第2導電層40に比して、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きが異なる点以外は同じ構成である。このため、図6に示す第2導電層40について詳細な説明は省略する。
図6に示す第1導電層32の第1メッシュセル54と第2導電層40の第2メッシュセル64は、いずれも4角形である。
図6に示す第2導電層40においても、図4に示す第2導電層40に比して、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きが異なる点以外は同じ構成である。このため、図6に示す第2導電層40について詳細な説明は省略する。
図6に示す第1導電層32の第1メッシュセル54と第2導電層40の第2メッシュセル64は、いずれも4角形である。
また、図7に示す第1導電層32はメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1であり、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きG1が延在方向H1と直交する方向である。図7に示す第1導電層32は図4に示す第1導電層32に比して、第1メッシュセル54の形状が3角形である点以外は同じ構成である。このため、図7に示す第1導電層32について詳細な説明は省略する。
第1導電層32は、頂点50を通り、かつ方向H2に平行な金属細線52が設けられている。
図7に示す第2導電層40においても、図4に示す第2導電層40に比して第2メッシュセル64の形状が3角形である点以外は同じ構成である。このため、図7に示す第2導電層40について詳細な説明は省略する。
第2導電層40は、頂点60を通り、かつ方向H2に平行な金属細線52が設けられている。
図7に示す第1導電層32の第1メッシュセル54と第2導電層40の第2メッシュセル64は、いずれも3角形である。
第1導電層32は、頂点50を通り、かつ方向H2に平行な金属細線52が設けられている。
図7に示す第2導電層40においても、図4に示す第2導電層40に比して第2メッシュセル64の形状が3角形である点以外は同じ構成である。このため、図7に示す第2導電層40について詳細な説明は省略する。
第2導電層40は、頂点60を通り、かつ方向H2に平行な金属細線52が設けられている。
図7に示す第1導電層32の第1メッシュセル54と第2導電層40の第2メッシュセル64は、いずれも3角形である。
また、図8に示す第1導電層32はメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1であり、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きG2が延在方向H1と平行である。図8に示す第1導電層32は図4に示す第1導電層32に比して、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きが異なる点、および第1メッシュセル54の形状が3角形である点以外は同じ構成である。このため、図8に示す第1導電層32について詳細な説明は省略する。
第1導電層32は、頂点50を通り、かつ延在方向H1に平行な金属細線52が設けられている。
図8に示す第2導電層40においても、図4に示す第2導電層40に比して、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きが異なる点、および第2メッシュセル64の形状が3角形である点以外は同じ構成である。このため、図8に示す第2導電層40について詳細な説明は省略する。
第2導電層40は、頂点60を通り、かつ延在方向H1に平行な金属細線52が設けられている。
図8に示す第1導電層32の第1メッシュセル54と第2導電層40の第2メッシュセル64は、いずれも3角形である。
第1導電層32は、頂点50を通り、かつ延在方向H1に平行な金属細線52が設けられている。
図8に示す第2導電層40においても、図4に示す第2導電層40に比して、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きが異なる点、および第2メッシュセル64の形状が3角形である点以外は同じ構成である。このため、図8に示す第2導電層40について詳細な説明は省略する。
第2導電層40は、頂点60を通り、かつ延在方向H1に平行な金属細線52が設けられている。
図8に示す第1導電層32の第1メッシュセル54と第2導電層40の第2メッシュセル64は、いずれも3角形である。
上述のように図4~図6に示す第1メッシュセル54の形状は4角形であり、図7および図8に示す第1メッシュセル54の形状は3角形であるが、第1メッシュパターン56の第1メッシュセル54の閉形状は、特に限定されるものではなく、N角形であることが好ましい。なお、Nは3以上である。N角形としては、表示パネルの画素パターンとのモアレを低減することができることから、図4~図6に示すような4角形であることがより好ましい。
第1メッシュセル54は、閉形状が全て同じ形状であることに限定されるものではない。第1メッシュセル54は、N≧3を満たすN角形が混在してもよく、この場合、例えば、3角形、4角形、5角形および6角形を含むような構成でもよい。また、N角形の大きさは全て同じであることに限定されるものではなく、全て同じ大きさでもよく、大きさが異なるものが混在してもよい。
しかしながら、ノイズを抑制するために、第1メッシュセル54の形状はNが一定のN角形であり、第1メッシュセルの面積のバラつきが平均値から±20%の範囲内であることが好ましい。モアレとノイズとを両立して抑制するという観点から、第1メッシュセルは4角形で、メッシュセルの辺の長さが平均値に対して4~10%の範囲でランダムに変動していることが好ましい。
しかしながら、ノイズを抑制するために、第1メッシュセル54の形状はNが一定のN角形であり、第1メッシュセルの面積のバラつきが平均値から±20%の範囲内であることが好ましい。モアレとノイズとを両立して抑制するという観点から、第1メッシュセルは4角形で、メッシュセルの辺の長さが平均値に対して4~10%の範囲でランダムに変動していることが好ましい。
また、第1メッシュセル54の閉形状では、閉形状を構成する頂点50同士を直線の金属細線52で結んでN≧3を満たすN角形としているが、これに限定されるものではない。頂点50同士を直線の金属細線52で結んで複数の辺を構成しているが、複数の辺のうち、少なくとも1の辺を曲線状の金属細線52に置き換えた形状を閉形状としてもよい。
第2メッシュセル64でも、第1メッシュセル54と同様に閉形状は、S角形であることが好ましく、Sは3以上であり、4以上6以下であることが好ましい。S角形としては、表示パネルの画素パターンとのモアレを低減することができることから、図4~図6に示すように4角形であることがより好ましい。
第2メッシュセル64は、閉形状が全て同じ形状であることに限定されるものではなく、Sが3以上のS角形が混在してもよく、S角形の大きさについても同じでなくてもよい。
しかしながら、ノイズを抑制するために第2メッシュセル64は、Sが一定のS角形であり、第2メッシュセルの面積のバラつきが平均値から±20%の範囲内であることが好ましい。モアレとノイズとを両立して抑制するという観点から、第2メッシュセルは4角形で、メッシュセルの辺の長さが平均値に対して4~10%の範囲でランダムに変動していることが好ましい。
また、第2メッシュセル64の閉形状とは、頂点50は直線の金属細線52としたが、これに限定されるものではなく、曲線であってもよい。
第2メッシュセル64は、閉形状が全て同じ形状であることに限定されるものではなく、Sが3以上のS角形が混在してもよく、S角形の大きさについても同じでなくてもよい。
しかしながら、ノイズを抑制するために第2メッシュセル64は、Sが一定のS角形であり、第2メッシュセルの面積のバラつきが平均値から±20%の範囲内であることが好ましい。モアレとノイズとを両立して抑制するという観点から、第2メッシュセルは4角形で、メッシュセルの辺の長さが平均値に対して4~10%の範囲でランダムに変動していることが好ましい。
また、第2メッシュセル64の閉形状とは、頂点50は直線の金属細線52としたが、これに限定されるものではなく、曲線であってもよい。
第1導電層32と第2導電層40との組合せとしては、構成が同じであることに限定されるものではなく、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の数が同じでも、違っていてもよく、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きが同じでも、違っていてもよい。第1導電層32のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分と第2導電層40のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分とが交差することが好ましい。「方向成分と方向成分とが交差する」とは、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きが同じ、または平行な関係にないことをいう。
メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が交差することにより、第1導電層32と第2導電層40とが重なった状態での第1メッシュセル54の頂点50および第2メッシュセル64の頂点60が視認されにくくなって視認性が向上し、かつノイズも低減し、かつタッチパネル10の検知感度がさらに高くなる。特に好ましい状態として、第1導電層32のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きと第2導電層40のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きとが90度で直交することが、第1メッシュセル54の頂点50および第2メッシュセル64の頂点60が視認されにくくなるという観点から特に好ましい。
メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が交差することにより、第1導電層32と第2導電層40とが重なった状態での第1メッシュセル54の頂点50および第2メッシュセル64の頂点60が視認されにくくなって視認性が向上し、かつノイズも低減し、かつタッチパネル10の検知感度がさらに高くなる。特に好ましい状態として、第1導電層32のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きと第2導電層40のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きとが90度で直交することが、第1メッシュセル54の頂点50および第2メッシュセル64の頂点60が視認されにくくなるという観点から特に好ましい。
また、図9に示すように、第2導電層40では、第2メッシュセル64の頂点60が、第1メッシュセル54内に配置されていることが好ましい。図9は交差部48aを示しており、第1導電層32が図4に示す構成であり、第2導電層40が図6に示す構成である。図4のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きG1と、図6のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きG2とは直交する。なお、図9に示す黒丸は第1メッシュセル54の頂点50および第2メッシュセル64の頂点60を示す。
第2メッシュセル64の頂点60が、第1メッシュセル54内に配置されていることにより、第1メッシュセル54の頂点50および第2メッシュセル64の頂点60がさらに視認されにくくなって視認性が向上し、かつタッチパネル10の検知感度が高くなる。
第2メッシュセル64の頂点60が、第1メッシュセル54内に配置されていることにより、第1メッシュセル54の頂点50および第2メッシュセル64の頂点60がさらに視認されにくくなって視認性が向上し、かつタッチパネル10の検知感度が高くなる。
なお、図2に示すように複数の第1電極34は、互いに第2方向D2に間隔を隔てて配置されているが、互いに隣接する第1電極34の電極間34aにダミー電極(図示せず)を配置することもできる。ダミー電極は、第1電極34と同様に第1導電層32に構成された金属細線52により形成されたメッシュセルにより構成されるものであり、第2方向D2に隣接する第1電極34と電気的に非接続である。ダミー電極は、電気的にフローティングされた電極であり、検出電極として機能しない。第1導電層32に形成されるダミー電極のメッシュパターンは第1電極34と同様に第1メッシュセル54で構成されている。このようなダミー電極を複数の第1電極34の電極間34aに、それぞれ配置することにより、タッチパネル用導電部材11がタッチパネル10に使用された場合に、複数の第1電極34の電極間34aの隙間が目立たなくなり、視認性が向上する。
例えば、第1電極34とダミー電極とは、透明絶縁基板30の表面30a全面に形成された、複数の金属細線52をメッシュ形状にパターニングすることにより形成することができる。
また、複数の第1電極34の電極間34aにそれぞれ配置されるダミー電極と同様に、複数の第2電極42の電極間42aにも、図示しないダミー電極を、それぞれ第2導電層40に配置することができる。複数の第2電極42の電極間42aの隙間が目立たなくなり、タッチパネル10の視認性が向上する。
例えば、第1電極34とダミー電極とは、透明絶縁基板30の表面30a全面に形成された、複数の金属細線52をメッシュ形状にパターニングすることにより形成することができる。
また、複数の第1電極34の電極間34aにそれぞれ配置されるダミー電極と同様に、複数の第2電極42の電極間42aにも、図示しないダミー電極を、それぞれ第2導電層40に配置することができる。複数の第2電極42の電極間42aの隙間が目立たなくなり、タッチパネル10の視認性が向上する。
次に、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分について説明する。
図10は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の求め方を示すフローチャートであり、図11は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の求め方の一例を示す模式図であり、図12は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の求め方の他の例を示す模式図である。
図11は第1導電層32を示しており、上述の図4に示す第1導電層32と同じ構成である。図12は第1導電層32を示しており、上述の図5に示す第1導電層32と同じ構成である。なお、図11および図12に示す黒丸は第1メッシュセル54の頂点50を示す。
図11および図12に示す第1導電層32は、例えば、第1導電層32を、光学顕微鏡を用いて撮像して撮像画像を得る。撮像画像をパーソナルコンピュータに取り込み、撮像画像に二値化処理を施し、金属細線52を抽出する。次に、少なくとも2つの金属細線52が接する点を交点として、交点を抽出し、この交点を第1メッシュセル54の頂点50とする。各頂点50に座標を設定する。これにより、図11および図12に示す第1導電層32における頂点50の座標を特定できる。なお、以下で説明するメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の求め方は、例えば、パーソナルコンピュータを用い、パーソナルコンピュータ内で各種のソフトウエアを用いて実行される。
図10は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の求め方を示すフローチャートであり、図11は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の求め方の一例を示す模式図であり、図12は本発明の実施形態のタッチパネル用導電部材のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の求め方の他の例を示す模式図である。
図11は第1導電層32を示しており、上述の図4に示す第1導電層32と同じ構成である。図12は第1導電層32を示しており、上述の図5に示す第1導電層32と同じ構成である。なお、図11および図12に示す黒丸は第1メッシュセル54の頂点50を示す。
図11および図12に示す第1導電層32は、例えば、第1導電層32を、光学顕微鏡を用いて撮像して撮像画像を得る。撮像画像をパーソナルコンピュータに取り込み、撮像画像に二値化処理を施し、金属細線52を抽出する。次に、少なくとも2つの金属細線52が接する点を交点として、交点を抽出し、この交点を第1メッシュセル54の頂点50とする。各頂点50に座標を設定する。これにより、図11および図12に示す第1導電層32における頂点50の座標を特定できる。なお、以下で説明するメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の求め方は、例えば、パーソナルコンピュータを用い、パーソナルコンピュータ内で各種のソフトウエアを用いて実行される。
メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分は、頂点の配置より表されるものである。メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分は、例えば、上述の撮像画像を用いて求められる。図11に示す複数の第1メッシュセル54のうち、第1メッシュセル54aと第1メッシュセル54bを例にして説明する。
予め、第1メッシュセル54aの頂点50の座標と、第1メッシュセル54bの頂点50の座標を特定しておく。
予め、第1メッシュセル54aの頂点50の座標と、第1メッシュセル54bの頂点50の座標を特定しておく。
図10に示すように、まず、メッシュセル中の頂点を結んだ線分を得る(ステップS10)。具体的には、撮像画像において着目したメッシュセルの頂点を通る線分を得る。線分は2つの頂点を通る線として求めることができる。
図11に示すように第1メッシュセル54aの頂点50を結ぶ線分L11、L12、L13、L14、L15、L16を得る。第1メッシュセル54bについても、頂点50を結ぶ線分L21、L22、L23、L24、L25、L26を得る。
線分の数は、第1メッシュセルは複数の頂点を有する閉形状であることから、線分の数は、辺の数と、対角線の数との和で表される。このため、線分の数をJとするとき、J=N+((頂点の数)×(頂点の数-3)÷2)である。なお、NはN角形の数であり、辺の数を表す。なお、N≧3である。尚、第2メッシュセルの線分の数(図示せず)に関しても、第1メッシュセルの線分の数の数え方と同様である。
図11に示すように第1メッシュセル54aの頂点50を結ぶ線分L11、L12、L13、L14、L15、L16を得る。第1メッシュセル54bについても、頂点50を結ぶ線分L21、L22、L23、L24、L25、L26を得る。
線分の数は、第1メッシュセルは複数の頂点を有する閉形状であることから、線分の数は、辺の数と、対角線の数との和で表される。このため、線分の数をJとするとき、J=N+((頂点の数)×(頂点の数-3)÷2)である。なお、NはN角形の数であり、辺の数を表す。なお、N≧3である。尚、第2メッシュセルの線分の数(図示せず)に関しても、第1メッシュセルの線分の数の数え方と同様である。
次に、第1メッシュセル54aの線分L11、L12、L13、L14、L15、L16、および第1メッシュセル54bの線分L21、L22、L23、L24、L25、L26のうち、メッシュセルを4個以上通る線分を検出する(ステップS12)。メッシュセルの4個以上の頂点を通るとは、一方方向において、連続する4個以上のメッシュセルの4個以上の頂点を通っていれば、限定的でない。尚、連続する4個以上のメッシュセルとは、隣り合う4個以上のメッシュセルのことを表す。なお、検出する線分のメッシュセルを通る数は、上述のように少なくとも4個であればよく、予めメッシュセルを通る数を設定しておく。メッシュセルを通る数は、例えば、4である。
図11に示す第1メッシュセル54aでは線分L16が4個以上の第1メッシュセルを通る線分である。第1メッシュセル54bでは線分L26が4個以上の第1メッシュセルを通る線分である。
なお、線分が4個以上の第1メッシュセルを通るとは、予め線分と頂点50とが一致するとする閾値を設定しておき、線分と頂点50との距離が、上述の閾値内にある場合を、第1メッシュセルを通る、とする。
図11に示す第1メッシュセル54aでは線分L16が4個以上の第1メッシュセルを通る線分である。第1メッシュセル54bでは線分L26が4個以上の第1メッシュセルを通る線分である。
なお、線分が4個以上の第1メッシュセルを通るとは、予め線分と頂点50とが一致するとする閾値を設定しておき、線分と頂点50との距離が、上述の閾値内にある場合を、第1メッシュセルを通る、とする。
ステップS12において、4個以上通る線分が検出された場合、検出された線分のうち平行な線分を探す(ステップS14)。
平行については、対象となる2つの線分について、対象となる線分の長さ方向に沿って距離の変化を求める。距離の変化に対して、予め平行とする設定値を定めておく。距離の変化が設定値内にあれば、2つの線分が平行であるとする。
次に、線分のうち、平行な線分の組の数を求める。この平行な線分の組の数が、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の数である(ステップS16)。また、平行な線分の向きがメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きである。このようにして、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分およびその向きを得ることができる。平行な線分の組の数がない場合、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分はゼロである。
なお、ステップS12において、4個以上の第1メッシュセルを通る線分がない場合、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分がゼロとなる(ステップS20)。
例えば、図12に示す第1メッシュセル54cは、頂点50を通る線分L31、L32、L33、L34、L35、L36は、いずれも4個以上の第1メッシュセルを通る線分ではない。このように4個以上の第1メッシュセルを通る線分がない場合でも、上述のようにメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分がゼロである。
平行については、対象となる2つの線分について、対象となる線分の長さ方向に沿って距離の変化を求める。距離の変化に対して、予め平行とする設定値を定めておく。距離の変化が設定値内にあれば、2つの線分が平行であるとする。
次に、線分のうち、平行な線分の組の数を求める。この平行な線分の組の数が、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の数である(ステップS16)。また、平行な線分の向きがメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向きである。このようにして、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分およびその向きを得ることができる。平行な線分の組の数がない場合、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分はゼロである。
なお、ステップS12において、4個以上の第1メッシュセルを通る線分がない場合、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分がゼロとなる(ステップS20)。
例えば、図12に示す第1メッシュセル54cは、頂点50を通る線分L31、L32、L33、L34、L35、L36は、いずれも4個以上の第1メッシュセルを通る線分ではない。このように4個以上の第1メッシュセルを通る線分がない場合でも、上述のようにメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分がゼロである。
メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分では、メッシュセルを4個以上通る線分としたが、その上限としては、メッシュセルを10個通る線分であるが、好ましくは第1導電層32の全範囲である。すなわち、線分が複数の第1電極34を横切ることが好ましい。さらには、第1電極34に隣接してダミー電極が設けられている場合には、複数の第1電極34およびダミー電極を通る線分であることが、線分としてはさらに好ましい。
メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分は、第1導電層32を例にして説明したが、第2導電層40についても第1導電層32と同様にしてメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分を求めることができる。
メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分は、第1導電層32を例にして説明したが、第2導電層40についても第1導電層32と同様にしてメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分を求めることができる。
以下、タッチパネル用導電部材およびタッチパネルの各部について説明する。
<金属細線>
金属細線52は、第1メッシュセル54、および第2メッシュセル64を構成するものである。
金属細線52の線幅は30μm以下であり、好ましくは0.5μm以上10μm以下、より好ましくは1μm以上5μm以下、最も好ましくは1μm以上3μm以下である。上述の範囲であれば、視認性に優れた低抵抗の電極を形成できる。
金属細線が周辺配線として適用される場合には、金属細線の線幅は10μm以上50μm以下が好ましく、30μm以下がより好ましく、15μm以下が更に好ましい。上述の範囲であれば、タッチパネルの周辺配線部の面積を小さく、つまり狭額縁化ができる。
<金属細線>
金属細線52は、第1メッシュセル54、および第2メッシュセル64を構成するものである。
金属細線52の線幅は30μm以下であり、好ましくは0.5μm以上10μm以下、より好ましくは1μm以上5μm以下、最も好ましくは1μm以上3μm以下である。上述の範囲であれば、視認性に優れた低抵抗の電極を形成できる。
金属細線が周辺配線として適用される場合には、金属細線の線幅は10μm以上50μm以下が好ましく、30μm以下がより好ましく、15μm以下が更に好ましい。上述の範囲であれば、タッチパネルの周辺配線部の面積を小さく、つまり狭額縁化ができる。
金属細線52の厚みは、特に制限されないが、10μm以下であることがより好ましく、1μm以下であることが更に好ましく、0.01~1μmであることが特に好ましく、0.05~0.8μmであることが最も好ましい。上述の範囲であれば、低抵抗の電極で、耐久性に優れた電極を形成できる。
金属細線52の線幅および厚みの測定は、まず、走査電子顕微鏡を用いて、金属細線52の断面画像を取得する。次に、断面画像から金属細線52の線幅および厚みを求める。
金属細線52の線幅および厚みの測定は、まず、走査電子顕微鏡を用いて、金属細線52の断面画像を取得する。次に、断面画像から金属細線52の線幅および厚みを求める。
金属細線52で構成される第1メッシュセル54は、上述の図4~図8に示すものが例示される。第1メッシュセル54の閉形状は、上述の通りである。第1メッシュセル54としては、N≧3を満たすN角形であり、3角形、4角形、5角形、6角形および8角形等、またはそれらの組合せが挙げられる。また、閉形状としては、N角形のように頂点が直線で結ばれたものに限定されるものではなく、頂点が直線以外の曲線で結ばれてもよい。
第1メッシュセルの一辺の長さは、50μm以上1500μm以下が好ましく、150μm以上800μm以下がより好ましく、200μm以上600μm以下が視認性の観点から更に好ましい。
可視光透過率の点から、メッシュセルの開口率は90%以上であることが好ましく、95%以上であることがより好ましい。メッシュセルの開口率とは、メッシュセルが形成された領域における金属細線52の非占有率に相当する。
可視光透過率の点から、メッシュセルの開口率は90%以上であることが好ましく、95%以上であることがより好ましい。メッシュセルの開口率とは、メッシュセルが形成された領域における金属細線52の非占有率に相当する。
第1メッシュセルで構成されるパターンは、定型の規則的なパターンに限定されるものではなく、不規則なパターンでもよい。不規則なパターンの場合、パターンに含まれる複数のメッシュセルは、それぞれのセルの辺の長さの平均値に対して、-10%~+10%の不規則な辺の長さを有する多角形状、特に、4角形状のセルとすることができる。
上述の不規則なパターンを、タッチパネルに使用した場合、モアレを抑制し、カラーノイズを低減することができ、視認性を向上させることができる。
なお、第2メッシュセルについても、第1メッシュセルと同様の構成とすることができる。
上述の不規則なパターンを、タッチパネルに使用した場合、モアレを抑制し、カラーノイズを低減することができ、視認性を向上させることができる。
なお、第2メッシュセルについても、第1メッシュセルと同様の構成とすることができる。
金属細線52に含まれる金属としては、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、およびアルミニウム(Al)等の金属または合金等が挙げられる。なかでも、金属細線の導電性が優れる理由から、銀、銅であることが好ましい。
金属細線52の中には、金属微粒子とバインダーからなるものでもよい。
バインダーとしては、具体的には、ゼラチン、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリジエン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系重合体およびキトサン系重合体からなる群から選ばれる少なくともいずれかの樹脂、または、これらの樹脂を構成する単量体からなる共重合体等が挙げられる。金属微粒子としては、銀、銅、金等の微粒子が使用される。
金属細線52の中には、金属微粒子とバインダーからなるものでもよい。
バインダーとしては、具体的には、ゼラチン、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリジエン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系重合体およびキトサン系重合体からなる群から選ばれる少なくともいずれかの樹脂、または、これらの樹脂を構成する単量体からなる共重合体等が挙げられる。金属微粒子としては、銀、銅、金等の微粒子が使用される。
金属細線は、上述の金属、または合金により構成されるものに限定されるものではなく、例えば、金属酸化物粒子、銀ペーストおよびは銅ペースト等の金属ペースト、ならびに銀ナノワイヤおよび銅ナノワイヤ等の金属ナノワイヤ粒子を含むものであってもよい。
また、金属細線は、単層構造であっても、多層構造であってもよい。金属細線としては、例えば、酸窒化銅層と銅層と酸窒化銅層とが順次積層された構造、またはモリブデン(Mo)とアルミニウム(Al)とモリブデン(Mo)とが順次積層された構造、またはモリブデン(Mo)と銅(Cu)とモリブデン(Mo)とが順次積層された構造とすることができる。
金属細線の反射率を小さくするために、金属細線の表面を硫化または酸化処理する黒化処理して形成してもよい。さらには、金属細線を見えにくくする黒化層を設ける構成でもよい。黒化層は、例えば、金属細線の反射率を小さくするものである。黒化層は、窒化銅、酸化銅、酸窒化銅、酸化モリブデン、AgO、Pd、カーボンまたはその他の窒化物または酸化物等により構成することができる。黒化層は金属細線の視認される側、つまりタッチ面側に配置される。
また、金属細線は、単層構造であっても、多層構造であってもよい。金属細線としては、例えば、酸窒化銅層と銅層と酸窒化銅層とが順次積層された構造、またはモリブデン(Mo)とアルミニウム(Al)とモリブデン(Mo)とが順次積層された構造、またはモリブデン(Mo)と銅(Cu)とモリブデン(Mo)とが順次積層された構造とすることができる。
金属細線の反射率を小さくするために、金属細線の表面を硫化または酸化処理する黒化処理して形成してもよい。さらには、金属細線を見えにくくする黒化層を設ける構成でもよい。黒化層は、例えば、金属細線の反射率を小さくするものである。黒化層は、窒化銅、酸化銅、酸窒化銅、酸化モリブデン、AgO、Pd、カーボンまたはその他の窒化物または酸化物等により構成することができる。黒化層は金属細線の視認される側、つまりタッチ面側に配置される。
<製造方法>
第1導電層32および第2導電層40を構成する金属細線52の製造方法は、透明絶縁基板等に形成することができれば、特に限定されるものではなく、特開2014-159620号公報および特開2012-144761号公報等に記載のめっき法、特開2012-6377号公報、特開2014-112512号公報、特開2014-209332号公報、特開2015-22397号公報、特開2016-192200号公報およびWO2016/157585等に記載の銀塩法、特開2014-29614号公報等に記載の蒸着法、ならびに特開2011-28985号公報等に記載の導電性インクを用いた印刷法等が適宜利用可能である。
第1導電層32および第2導電層40を構成する金属細線52の製造方法は、透明絶縁基板等に形成することができれば、特に限定されるものではなく、特開2014-159620号公報および特開2012-144761号公報等に記載のめっき法、特開2012-6377号公報、特開2014-112512号公報、特開2014-209332号公報、特開2015-22397号公報、特開2016-192200号公報およびWO2016/157585等に記載の銀塩法、特開2014-29614号公報等に記載の蒸着法、ならびに特開2011-28985号公報等に記載の導電性インクを用いた印刷法等が適宜利用可能である。
<第1の周辺配線部および第2の周辺配線部>
第1の周辺配線部38および第2の周辺配線部46に形成される第1の周辺配線37および第2の周辺配線45の線幅(ライン)は50μm以下が好ましく、30μm以下がより好ましく、15μm以下が特に好ましい。第1の周辺配線37および第2の周辺配線45の間隔(スペース)は50μm以下が好ましく、30μm以下がより好ましく、15μm以下が特に好ましい。線幅および間隔が上述の範囲であれば、第1の周辺配線部38および第2の周辺配線部46の領域が狭くできるので好ましい。
なお、第1の周辺配線37および第2の周辺配線45も、上述の金属細線52の製造方法で形成することができ、第1の周辺配線37と第1導電層32とは同一材料で同一工程で同時に形成できる。また第2の周辺配線45と第2導電層40とは、同一材料で同一工程で同時に形成できる。
第1の周辺配線部38および第2の周辺配線部46に形成される第1の周辺配線37および第2の周辺配線45の線幅(ライン)は50μm以下が好ましく、30μm以下がより好ましく、15μm以下が特に好ましい。第1の周辺配線37および第2の周辺配線45の間隔(スペース)は50μm以下が好ましく、30μm以下がより好ましく、15μm以下が特に好ましい。線幅および間隔が上述の範囲であれば、第1の周辺配線部38および第2の周辺配線部46の領域が狭くできるので好ましい。
なお、第1の周辺配線37および第2の周辺配線45も、上述の金属細線52の製造方法で形成することができ、第1の周辺配線37と第1導電層32とは同一材料で同一工程で同時に形成できる。また第2の周辺配線45と第2導電層40とは、同一材料で同一工程で同時に形成できる。
<透明絶縁基板>
透明絶縁基板30は、第1導電層32、または、かつ第2導電層40を支持するものである。透明絶縁基板30は、上述のことを達成することができれば、その種類は特に限定されるものではない。透明絶縁基板30の材料としては、例えば、透明樹脂材料および透明無機材料等が挙げられる。
透明樹脂材料としては、具体的には、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン(PE)、ポリメチルペンテン、シクロオレフィンポリマー(COP)、シクロオレフィンコポリマー(COC)等のオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、およびメタクリロニトリル等が挙げられる。透明樹脂材料の好ましい厚みとしては、20~200μmである。
透明無機材料としては、具体的には、例えば、無アルカリガラス、アルカリガラス、化学強化ガラス、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、透光性圧電セラミックス(PLZT(チタン酸ジルコン酸ランタン鉛))等のセラミックス、石英、蛍石およびサファイア等が挙げられる。透明無機材料の好ましい厚みは、0.1~1.3mmである。
透明絶縁基板30の全光線透過率は、40%~100%であることが好ましい。全光透過率は、例えば、JIS K 7375:2008に規定される「プラスチック-全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
透明絶縁基板としては、上述の基板のように部材として独立したものに限定されるものではなく、層または膜と呼ばれる形態でもよい。このため、透明絶縁基板は、アクリル樹脂が塗布された形成された透明絶縁層または透明絶縁膜でもよい。
透明絶縁基板30は、第1導電層32、または、かつ第2導電層40を支持するものである。透明絶縁基板30は、上述のことを達成することができれば、その種類は特に限定されるものではない。透明絶縁基板30の材料としては、例えば、透明樹脂材料および透明無機材料等が挙げられる。
透明樹脂材料としては、具体的には、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン(PE)、ポリメチルペンテン、シクロオレフィンポリマー(COP)、シクロオレフィンコポリマー(COC)等のオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、およびメタクリロニトリル等が挙げられる。透明樹脂材料の好ましい厚みとしては、20~200μmである。
透明無機材料としては、具体的には、例えば、無アルカリガラス、アルカリガラス、化学強化ガラス、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、透光性圧電セラミックス(PLZT(チタン酸ジルコン酸ランタン鉛))等のセラミックス、石英、蛍石およびサファイア等が挙げられる。透明無機材料の好ましい厚みは、0.1~1.3mmである。
透明絶縁基板30の全光線透過率は、40%~100%であることが好ましい。全光透過率は、例えば、JIS K 7375:2008に規定される「プラスチック-全光線透過率および全光線反射率の求め方」を用いて測定されるものである。
透明絶縁基板としては、上述の基板のように部材として独立したものに限定されるものではなく、層または膜と呼ばれる形態でもよい。このため、透明絶縁基板は、アクリル樹脂が塗布された形成された透明絶縁層または透明絶縁膜でもよい。
透明絶縁基板30の好適態様の1つとしては、大気圧プラズマ処理、コロナ放電処理および紫外線照射処理からなる群から選択される少なくとも1つの処理が施された処理済基板が挙げられる。上述の処理が施されることにより、処理された透明絶縁基板30では第1導電層32および第2導電層40が設けられる面にOH基等の親水性基が導入され、第1導電層32および第2導電層40との密着性が向上する。上述の処理の中でも、第1導電層32および第2導電層40との密着性がより向上する点で、大気圧プラズマ処理が好ましい。
透明絶縁基板30の他の好適態様としては、第1導電層32および第2導電層40が設けられる面上に高分子を含む下地層を有することが好ましい。この下地層上に、第1導電層32および第2導電層40を形成することにより、第1導電層32および第2導電層40と透明絶縁基板30との密着性がより向上する。
下地層の形成方法は特に限定されるものではないが、例えば、高分子を含む下地層形成用組成物を基板上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施す方法が挙げられる。下地層形成用組成物には、必要に応じて、溶媒が含まれていてもよい。溶媒の種類は特に限定されるものではない。また、高分子を含む下地層形成用組成物として、ゼラチン、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、または無機または高分子の微粒子を含むアクリルスチレン系ラテックスを使用してもよい。
下地層の厚みは特に限定されるものではないが、第1導電層32および第2導電層40と透明絶縁基板30との密着性がより優れる点で、0.02~2.0μmが好ましく、0.03~1.5μmがより好ましい。
なお、必要に応じて透明絶縁基板30と第1導電層32と第2導電層40との間に他の層として、上述の下地層以外に、例えば、紫外線吸収層を備えていてもよい。
また、必要に応じて以下の機能膜を形成してもよい。
下地層の形成方法は特に限定されるものではないが、例えば、高分子を含む下地層形成用組成物を基板上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施す方法が挙げられる。下地層形成用組成物には、必要に応じて、溶媒が含まれていてもよい。溶媒の種類は特に限定されるものではない。また、高分子を含む下地層形成用組成物として、ゼラチン、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、または無機または高分子の微粒子を含むアクリルスチレン系ラテックスを使用してもよい。
下地層の厚みは特に限定されるものではないが、第1導電層32および第2導電層40と透明絶縁基板30との密着性がより優れる点で、0.02~2.0μmが好ましく、0.03~1.5μmがより好ましい。
なお、必要に応じて透明絶縁基板30と第1導電層32と第2導電層40との間に他の層として、上述の下地層以外に、例えば、紫外線吸収層を備えていてもよい。
また、必要に応じて以下の機能膜を形成してもよい。
<保護層>
透明な保護層を金属細線52上に形成してもよい。保護層としては、ゼラチン、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルスチレン系ラテックス等の有機膜、および、二酸化シリコン等の無機膜を使用することができ、膜厚は、10nm以上10000nm以下であることが好ましい。
また、必要に応じて、保護層上に透明コート層を形成してもよい。透明コート層はアクリル樹脂、ウレタン樹脂等の有機膜が使用され、感知領域48に形成され、膜厚は1μm以上100μm以下である。
透明な保護層を金属細線52上に形成してもよい。保護層としては、ゼラチン、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アクリルスチレン系ラテックス等の有機膜、および、二酸化シリコン等の無機膜を使用することができ、膜厚は、10nm以上10000nm以下であることが好ましい。
また、必要に応じて、保護層上に透明コート層を形成してもよい。透明コート層はアクリル樹脂、ウレタン樹脂等の有機膜が使用され、感知領域48に形成され、膜厚は1μm以上100μm以下である。
<周辺配線絶縁膜>
図2に示す第1の周辺配線37、第2の周辺配線45上に周辺配線のマイグレーション防止および周辺配線の腐食を防止する目的で、周辺配線絶縁膜を形成してもよい。周辺配線絶縁膜としてはアクリル樹脂、ウレタン樹脂等の有機膜が使用され、膜厚は1μm以上30μm以下が好ましい。周辺配線絶縁膜は第1の周辺配線37、第2の周辺配線45のどちらか一方のみに形成してもよい。
図2に示す第1の周辺配線37、第2の周辺配線45上に周辺配線のマイグレーション防止および周辺配線の腐食を防止する目的で、周辺配線絶縁膜を形成してもよい。周辺配線絶縁膜としてはアクリル樹脂、ウレタン樹脂等の有機膜が使用され、膜厚は1μm以上30μm以下が好ましい。周辺配線絶縁膜は第1の周辺配線37、第2の周辺配線45のどちらか一方のみに形成してもよい。
本発明は、基本的に以上のように構成されるものである。以上、本発明のタッチパネル用導電部材およびタッチパネルについて詳細に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良または変更をしてもよいのはもちろんである。
以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、使用量、物質量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
<第1実施例>
第1実施例では、実施例1~実施例4ならびに比較例1および比較例2のタッチパネル用導電部材を作製した。実施例1~実施例4ならびに比較例1および比較例2のタッチパネル用導電部材について、それぞれ交点見え、ノイズおよびモアレを評価した。その結果を下記表1に示す。以下、交点見え、ノイズおよびモアレについて説明する。
<第1実施例>
第1実施例では、実施例1~実施例4ならびに比較例1および比較例2のタッチパネル用導電部材を作製した。実施例1~実施例4ならびに比較例1および比較例2のタッチパネル用導電部材について、それぞれ交点見え、ノイズおよびモアレを評価した。その結果を下記表1に示す。以下、交点見え、ノイズおよびモアレについて説明する。
<交点見え>
後述するガラス基板の酸化モリブデン層(黒化層)が形成された側からタッチパネル用導電部材を蛍光灯下で観察を行い、メッシュの交点が目立つかどうかを20人の観察者により、1.「メッシュの交点が目立つ」、2.「良く見るとメッシュの交点が認識できる」、3.「メッシュの交点が認識できない」の三段階の評価を行った。
「A」:観察者20人中「メッシュの交点が目立つ」と判定したものがおらず、「メッシュの交点が認識できない」と判定したものが18人以上である、とても優れたレベル
「B」:観察者20人中「メッシュの交点が目立つ」と判定したものがおらず、「メッシュの交点が認識できない」と判定したものが17人以下である、実用上問題がないレベル
「C」:20人中1人以上が「メッシュの交点が目立つ」と判定し、実用上問題があるレベル
後述するガラス基板の酸化モリブデン層(黒化層)が形成された側からタッチパネル用導電部材を蛍光灯下で観察を行い、メッシュの交点が目立つかどうかを20人の観察者により、1.「メッシュの交点が目立つ」、2.「良く見るとメッシュの交点が認識できる」、3.「メッシュの交点が認識できない」の三段階の評価を行った。
「A」:観察者20人中「メッシュの交点が目立つ」と判定したものがおらず、「メッシュの交点が認識できない」と判定したものが18人以上である、とても優れたレベル
「B」:観察者20人中「メッシュの交点が目立つ」と判定したものがおらず、「メッシュの交点が認識できない」と判定したものが17人以下である、実用上問題がないレベル
「C」:20人中1人以上が「メッシュの交点が目立つ」と判定し、実用上問題があるレベル
<ノイズ>
後述するガラス基板の酸化モリブデン層(黒化層)が形成された側からタッチパネル用導電部材を蛍光灯下で観察を行い、メッシュセルのノイズ(ざらつき)を20人の観察者により、1.「ざらつきが気になる」、2.「ざらつきが気にならない」の二段階の評価を行った。
「A」:観察者20人中18人以上が「ざらつきが気にならない」と判定した、とても優れたレベル
「B」:観察者20人中12人以上17人以下が「ざらつきが気にならない」と判定した、実用上問題がないレベル
「C」:観察者20人中「ざらつきが気にならない」と判定したのが、11人以下であり、実用上問題があるレベル
後述するガラス基板の酸化モリブデン層(黒化層)が形成された側からタッチパネル用導電部材を蛍光灯下で観察を行い、メッシュセルのノイズ(ざらつき)を20人の観察者により、1.「ざらつきが気になる」、2.「ざらつきが気にならない」の二段階の評価を行った。
「A」:観察者20人中18人以上が「ざらつきが気にならない」と判定した、とても優れたレベル
「B」:観察者20人中12人以上17人以下が「ざらつきが気にならない」と判定した、実用上問題がないレベル
「C」:観察者20人中「ざらつきが気にならない」と判定したのが、11人以下であり、実用上問題があるレベル
<モアレ>
タッチパネル用導電部材を表示装置(LCD(Liquid Crystal Display))上に配置し、後述するガラス基板の酸化モリブデン層が形成された側からタッチパネル用導電部材を蛍光灯下で観察を行い、モアレを20人の観察者により、1.「モアレが認識される」、2.「モアレが認識できない」の二段階の評価を行った。
「A」:観察者20人中18人以上が「モアレが認識できない」と判定した、とても優れたレベル
「B」:観察者20人中12人以上17人以下が「モアレが認識できない」と判定した、実用上問題がないレベル
「C」:観察者20人中「モアレが認識できない」と判定したのが、11人以下であり、実用上問題があるレベル
タッチパネル用導電部材を表示装置(LCD(Liquid Crystal Display))上に配置し、後述するガラス基板の酸化モリブデン層が形成された側からタッチパネル用導電部材を蛍光灯下で観察を行い、モアレを20人の観察者により、1.「モアレが認識される」、2.「モアレが認識できない」の二段階の評価を行った。
「A」:観察者20人中18人以上が「モアレが認識できない」と判定した、とても優れたレベル
「B」:観察者20人中12人以上17人以下が「モアレが認識できない」と判定した、実用上問題がないレベル
「C」:観察者20人中「モアレが認識できない」と判定したのが、11人以下であり、実用上問題があるレベル
以下、第1実施例のタッチパネル用導電部材について説明する。
厚さが0.7mmであるガラス基板を準備する。ガラス基板の第1面上に、スパッタ法を用いて30nmの厚さを有する酸化モリブデン層(黒化層)を形成した。次に、酸化モリブデン層上にスパッタ法を用いて30nmの厚さを有する下側モリブデン層を形成した。次に、下側モリブデン層の上に、スパッタ法を用いて300nmの厚さを有する銅層を形成した。さらに、銅層の上に、スパッタ法を用いて50nmの厚さを有する上側モリブデン層を形成し、酸化モリブデン層、下側モリブデン層、銅層、および上側モリブデン層からなる第1導電膜を形成した。
第1導電膜上にレジスト膜を塗布により形成し、露光マスクを介して、レジスト膜をパターン露光し、現像することによりレジストパターンを形成した。
次に、リン酸二水素アンモニウム10質量%、酢酸アンモニウム10質量%、過酸化水素6質量%、および残部が水で調合されたエッチング液(pH(水素イオン指数)5.23)を用いて、酸化モリブデン層、モリブデン層、銅層、およびモリブデン層からなる第1導電膜をエッチングし、レジスト膜を剥離液で剥離した。これにより、第1導電層を形成した。露光マスクのパターンを変えることにより、第1導電層のメッシュパターンを変えて、実施例1~実施例4ならびに比較例1および比較例2のタッチパネル用導電部材を作製した。
図13に示すメッシュパターンは鋭角60°で一辺の長さが350μmの菱形メッシュセルで構成されている。
図4~図7および図11のメッシュパターンは、図13のメッシュの交点をメッシュセル一辺の長さの10%(35μm)の距離以内で動かして形成したメッシュパターンである。実施例1~実施例4ならびに比較例1および比較例2のタッチパネル用導電部材は、全て金属細線の線幅を3μmとした。
厚さが0.7mmであるガラス基板を準備する。ガラス基板の第1面上に、スパッタ法を用いて30nmの厚さを有する酸化モリブデン層(黒化層)を形成した。次に、酸化モリブデン層上にスパッタ法を用いて30nmの厚さを有する下側モリブデン層を形成した。次に、下側モリブデン層の上に、スパッタ法を用いて300nmの厚さを有する銅層を形成した。さらに、銅層の上に、スパッタ法を用いて50nmの厚さを有する上側モリブデン層を形成し、酸化モリブデン層、下側モリブデン層、銅層、および上側モリブデン層からなる第1導電膜を形成した。
第1導電膜上にレジスト膜を塗布により形成し、露光マスクを介して、レジスト膜をパターン露光し、現像することによりレジストパターンを形成した。
次に、リン酸二水素アンモニウム10質量%、酢酸アンモニウム10質量%、過酸化水素6質量%、および残部が水で調合されたエッチング液(pH(水素イオン指数)5.23)を用いて、酸化モリブデン層、モリブデン層、銅層、およびモリブデン層からなる第1導電膜をエッチングし、レジスト膜を剥離液で剥離した。これにより、第1導電層を形成した。露光マスクのパターンを変えることにより、第1導電層のメッシュパターンを変えて、実施例1~実施例4ならびに比較例1および比較例2のタッチパネル用導電部材を作製した。
図13に示すメッシュパターンは鋭角60°で一辺の長さが350μmの菱形メッシュセルで構成されている。
図4~図7および図11のメッシュパターンは、図13のメッシュの交点をメッシュセル一辺の長さの10%(35μm)の距離以内で動かして形成したメッシュパターンである。実施例1~実施例4ならびに比較例1および比較例2のタッチパネル用導電部材は、全て金属細線の線幅を3μmとした。
次に、実施例1~実施例4ならびに比較例1および比較例2について説明する。
(実施例1)
実施例1は、金属細線の線幅を3μmとした。メッシュパターンを図4に示すパターンとした。実施例1は、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1である。なお、交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.5であった。
交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)は、以下のように測定をした。
交点太り指数は、メッシュ交点の5箇所の平均値である。
金属細線の線幅はメッシュ交点間の中点(メッシュセルの辺の中点)で測定した。金属細線の線幅はメッシュ交点から伸びる線の線幅の平均値である。図4に示すメッシュパターンのメッシュ形状であれば、4角形であるので交点から伸びる4本の金属細線の線幅の平均値となる。以下に示す実施例2~実施例4ならびに比較例1および比較例2の交点太り指数も実施例1と同様に測定した。
(実施例1)
実施例1は、金属細線の線幅を3μmとした。メッシュパターンを図4に示すパターンとした。実施例1は、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1である。なお、交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.5であった。
交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)は、以下のように測定をした。
交点太り指数は、メッシュ交点の5箇所の平均値である。
金属細線の線幅はメッシュ交点間の中点(メッシュセルの辺の中点)で測定した。金属細線の線幅はメッシュ交点から伸びる線の線幅の平均値である。図4に示すメッシュパターンのメッシュ形状であれば、4角形であるので交点から伸びる4本の金属細線の線幅の平均値となる。以下に示す実施例2~実施例4ならびに比較例1および比較例2の交点太り指数も実施例1と同様に測定した。
(実施例2)
実施例2は、実施例1に比して、メッシュパターンを図5に示すパターンとし、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分がゼロである点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。なお、交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.5であった。
(実施例3)
実施例3は、実施例1に比して、メッシュパターンを図6に示すパターンとした点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。なお、交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.5であった。
(実施例4)
実施例4は、実施例1に比して、メッシュパターンを図7に示すパターンとし、メッシュセルの形状が3角形である点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。なお、交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.9であった。
実施例2は、実施例1に比して、メッシュパターンを図5に示すパターンとし、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分がゼロである点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。なお、交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.5であった。
(実施例3)
実施例3は、実施例1に比して、メッシュパターンを図6に示すパターンとした点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。なお、交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.5であった。
(実施例4)
実施例4は、実施例1に比して、メッシュパターンを図7に示すパターンとし、メッシュセルの形状が3角形である点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。なお、交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.9であった。
(比較例1)
比較例1は、実施例1に比して、メッシュパターンを図13に示すパターンとし、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が4である点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。なお、交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.4であった。
(比較例2)
比較例2は、実施例1に比して、メッシュパターンを図14に示すパターンとし、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が2である点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。図14のメッシュパターンは、図13の菱形定型メッシュパターンの金属細線を平行移動させ、メッシュセルの辺長さが図13のメッシュセルの辺の長さに対して、90%~110%の範囲でランダムになるようにメッシュパターンを変形させたメッシュパターンである。尚、交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.3であった。
比較例1は、実施例1に比して、メッシュパターンを図13に示すパターンとし、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が4である点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。なお、交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.4であった。
(比較例2)
比較例2は、実施例1に比して、メッシュパターンを図14に示すパターンとし、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が2である点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。図14のメッシュパターンは、図13の菱形定型メッシュパターンの金属細線を平行移動させ、メッシュセルの辺長さが図13のメッシュセルの辺の長さに対して、90%~110%の範囲でランダムになるようにメッシュパターンを変形させたメッシュパターンである。尚、交点太り指数(メッシュの交点部の面積/メッシュを構成する金属細線の線幅の2乗)が2.3であった。
表1に示すように、実施例1~実施例4は、比較例1および比較例2に比して、交点見えの評価が優れていた。
実施例1~4では、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1の方がノイズの評価が優れていた。また、メッシュセルの形状は4角形の方がモアレの評価が優れていた。
実施例1~4では、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1の方がノイズの評価が優れていた。また、メッシュセルの形状は4角形の方がモアレの評価が優れていた。
<第2実施例>
第2実施例では、以下に示す実施例10~実施例13ならびに比較例10および比較例11のタッチパネルを作製した。実施例10~実施例13ならびに比較例10および比較例11のタッチパネルについて、それぞれ交点見え、ノイズ、モアレおよびタッチ感度を評価した。その結果を下記表2に示す。
交点見え、ノイズおよびモアレの評価は、タッチパネル用導電部材ではなくタッチパネルを、ガラス基板の酸化モリブデン層が形成された側から蛍光灯下で観察を行った点以外は、上述の第1実施例と同じであるため、その詳細な説明は省略する。以下、タッチ感度について説明する。
第2実施例では、以下に示す実施例10~実施例13ならびに比較例10および比較例11のタッチパネルを作製した。実施例10~実施例13ならびに比較例10および比較例11のタッチパネルについて、それぞれ交点見え、ノイズ、モアレおよびタッチ感度を評価した。その結果を下記表2に示す。
交点見え、ノイズおよびモアレの評価は、タッチパネル用導電部材ではなくタッチパネルを、ガラス基板の酸化モリブデン層が形成された側から蛍光灯下で観察を行った点以外は、上述の第1実施例と同じであるため、その詳細な説明は省略する。以下、タッチ感度について説明する。
以下、第2実施例のタッチパネルについて説明する。
厚さが0.7mmであるガラス基板を準備する。ガラス基板の第1面上に、スパッタ法を用いて30nmの厚さを有する酸化モリブデン層(黒化層)を形成した、次に、酸化モリブデン層上にスパッタ法を用いて30nmの厚さを有する下側モリブデン層を形成した。次に、下側モリブデン層の上に、スパッタ法を用いて300nmの厚さを有する銅層を形成した。さらに、銅層の上に、スパッタ法を用いて50nmの厚さを有する上側モリブデン層を形成し、酸化モリブデン層、下側モリブデン層、銅層、および上側モリブデン層からなる第1導電膜を形成した。
第1導電膜上にレジスト膜を塗布により形成し、露光マスクを介して、レジスト膜をパターン露光し、現像することによりレジストパターンを形成した。
次に、リン酸二水素アンモニウム10質量%、酢酸アンモニウム10質量%、過酸化水素6質量%、および残部が水で調合されたエッチング液(pH(水素イオン指数)5.23)を用いて、酸化モリブデン層、モリブデン層、銅層、およびモリブデン層からなる第1導電膜をエッチングし、レジスト膜を剥離液で剥離した。これにより、第1導電層を形成した。
厚さが0.7mmであるガラス基板を準備する。ガラス基板の第1面上に、スパッタ法を用いて30nmの厚さを有する酸化モリブデン層(黒化層)を形成した、次に、酸化モリブデン層上にスパッタ法を用いて30nmの厚さを有する下側モリブデン層を形成した。次に、下側モリブデン層の上に、スパッタ法を用いて300nmの厚さを有する銅層を形成した。さらに、銅層の上に、スパッタ法を用いて50nmの厚さを有する上側モリブデン層を形成し、酸化モリブデン層、下側モリブデン層、銅層、および上側モリブデン層からなる第1導電膜を形成した。
第1導電膜上にレジスト膜を塗布により形成し、露光マスクを介して、レジスト膜をパターン露光し、現像することによりレジストパターンを形成した。
次に、リン酸二水素アンモニウム10質量%、酢酸アンモニウム10質量%、過酸化水素6質量%、および残部が水で調合されたエッチング液(pH(水素イオン指数)5.23)を用いて、酸化モリブデン層、モリブデン層、銅層、およびモリブデン層からなる第1導電膜をエッチングし、レジスト膜を剥離液で剥離した。これにより、第1導電層を形成した。
次に、第1導電層上に、アクリル樹脂からなる厚さ10μmの層間絶縁膜を形成した。層間絶縁膜上にスパッタ法を用いて、第1導電膜と同様に酸化モリブデン層、下側モリブデン層、銅層、および上側モリブデン層からなる第2導電膜を形成した。そして、第1導電膜と同様にレジスト塗布、パターン露光、現像、エッチング、およびレジスト剥離の工程を行うことにより、第2導電層を形成した。第2導電層上にアクリル樹脂からなる保護層を形成し、タッチパネルを形成した。タッチパネルは、ガラス基板の酸化モリブデン側の最上層に第2導電層が配置される構成である。露光マスクのパターンを変えることにより、第1導電層のメッシュパターンおよび第2導電層のメッシュパターンを変えて、実施例10~13ならびに比較例10および比較例11のタッチパネルを形成した。実施例10~13ならびに比較例10および比較例11のタッチパネルは、全ての金属細線の線幅を3μmとした。
<タッチ感度>
タッチ感度は、以下のようにして評価した。
タッチパネルの表面のうち、予め設定した1万箇所の位置に順番にプローブロボットを使って、先端径が2mmのスタイラスペンを接触させながら、各タッチ位置を検出した。そして、1万箇所の検出結果と、それに対応する設定値とを比較した。検出位置と設定位置の差ベクトルの絶対値が小さい方から数えて9973番目の値を用いて、以下の評価基準にて感度を評価した。
「A」:上述の9973番目の値が1.0mm未満
「B」:上述の9973番目の値が1.0m以上2.0mm未満
「C」:上述の9973番目の値が2.0mm以上
タッチ感度は、以下のようにして評価した。
タッチパネルの表面のうち、予め設定した1万箇所の位置に順番にプローブロボットを使って、先端径が2mmのスタイラスペンを接触させながら、各タッチ位置を検出した。そして、1万箇所の検出結果と、それに対応する設定値とを比較した。検出位置と設定位置の差ベクトルの絶対値が小さい方から数えて9973番目の値を用いて、以下の評価基準にて感度を評価した。
「A」:上述の9973番目の値が1.0mm未満
「B」:上述の9973番目の値が1.0m以上2.0mm未満
「C」:上述の9973番目の値が2.0mm以上
以下、実施例10~実施例13ならびに比較例10および比較例11のタッチパネルについて説明する。
(実施例10)
実施例10は、第1導電層の第1メッシュパターンを図4に示すパターンとし、第2導電層の第2メッシュパターンを図6に示すパターンとした。図9のように第1メッシュセルの頂点が第2メッシュセル内に配置するように第1導電層と第2導電層とは重ねた。実施例10では第1導電層はメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1であり、第2導電層はメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1であり、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が直交している。なお、第1導電層と第2導電層の交点太り指数は、それぞれ2.5であった。交点太り指数は、上述の第1実施例の実施例1と同様に測定した。以下に示す実施例11~実施例13ならびに比較例10および比較例11の交点太り指数も上述の第1実施例の実施例1と同様に測定した。
(実施例10)
実施例10は、第1導電層の第1メッシュパターンを図4に示すパターンとし、第2導電層の第2メッシュパターンを図6に示すパターンとした。図9のように第1メッシュセルの頂点が第2メッシュセル内に配置するように第1導電層と第2導電層とは重ねた。実施例10では第1導電層はメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1であり、第2導電層はメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1であり、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が直交している。なお、第1導電層と第2導電層の交点太り指数は、それぞれ2.5であった。交点太り指数は、上述の第1実施例の実施例1と同様に測定した。以下に示す実施例11~実施例13ならびに比較例10および比較例11の交点太り指数も上述の第1実施例の実施例1と同様に測定した。
(実施例11)
実施例11は、実施例10に比して、第1導電層の第1メッシュパターンを図5に示すパターンとし、第2導電層の第2メッシュパターンを図5に示すパターンとした点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。実施例11は、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分がゼロである。また、実施例11は、第1導電層と第2導電層とを同じメッシュパターンの組合せとした。なお、第1導電層と第2導電層の交点太り指数は、それぞれ2.5であった。
(実施例12)
実施例12は、実施例10に比して、第1導電層の第1メッシュパターンを図4に示すパターンとし、第2導電層の第2メッシュパターンを図4に示すパターンとした点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。実施例12は、実施例1と第1導電層と第2導電層とを同じメッシュパターンの組合せとした。実施例12はメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が交差していない。なお、第1導電層と第2導電層の交点太り指数は、それぞれ2.5であった。
実施例11は、実施例10に比して、第1導電層の第1メッシュパターンを図5に示すパターンとし、第2導電層の第2メッシュパターンを図5に示すパターンとした点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。実施例11は、メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分がゼロである。また、実施例11は、第1導電層と第2導電層とを同じメッシュパターンの組合せとした。なお、第1導電層と第2導電層の交点太り指数は、それぞれ2.5であった。
(実施例12)
実施例12は、実施例10に比して、第1導電層の第1メッシュパターンを図4に示すパターンとし、第2導電層の第2メッシュパターンを図4に示すパターンとした点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。実施例12は、実施例1と第1導電層と第2導電層とを同じメッシュパターンの組合せとした。実施例12はメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が交差していない。なお、第1導電層と第2導電層の交点太り指数は、それぞれ2.5であった。
(実施例13)
実施例13は、実施例10に比して、第1導電層の第1メッシュパターンを図7に示すパターンとし、第2導電層の第2メッシュパターンを図8に示すパターンとした点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。実施例13は、第1導電層と第2導電層のメッシュセルの形状が3角形であり、いずれもメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1であり、かつメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が直交している。
図8のメッシュパターンは、図13のメッシュの交点をメッシュセル一辺の長さの10%(35μm)の距離以内で動かして形成したメッシュパターンであり、金属細線の線幅を3μmとした。なお、第1導電層と第2導電層の交点太り指数は、それぞれ2.9であった。
実施例13は、実施例10に比して、第1導電層の第1メッシュパターンを図7に示すパターンとし、第2導電層の第2メッシュパターンを図8に示すパターンとした点以外は、実施例1と構成および作製方法は同じである。実施例13は、第1導電層と第2導電層のメッシュセルの形状が3角形であり、いずれもメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1であり、かつメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が直交している。
図8のメッシュパターンは、図13のメッシュの交点をメッシュセル一辺の長さの10%(35μm)の距離以内で動かして形成したメッシュパターンであり、金属細線の線幅を3μmとした。なお、第1導電層と第2導電層の交点太り指数は、それぞれ2.9であった。
(比較例10)
比較例10は、実施例10に比して、第1導電層の第1メッシュパターンを図13に示すパターンとし、第2導電層の第2メッシュパターンを図13に示すパターンとした点以外は、実施例10と構成および作製方法は同じである。比較例10は、第1導電層と第2導電層のメッシュセルの形状が菱形であり、いずれもメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が4である。なお、第1導電層と第2導電層の交点太り指数は、それぞれ2.4であった。
(比較例11)
比較例11は、実施例10に比して、第1導電層の第1メッシュパターンを図14に示すパターンとし、第2導電層の第2メッシュパターンを図14に示すパターンとした点以外は、実施例10と構成および作製方法は同じである。比較例11は、第1導電層と第2導電層はいずれもメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が2である。なお、第1導電層と第2導電層の交点太り指数は、それぞれ2.3であった。
比較例10は、実施例10に比して、第1導電層の第1メッシュパターンを図13に示すパターンとし、第2導電層の第2メッシュパターンを図13に示すパターンとした点以外は、実施例10と構成および作製方法は同じである。比較例10は、第1導電層と第2導電層のメッシュセルの形状が菱形であり、いずれもメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が4である。なお、第1導電層と第2導電層の交点太り指数は、それぞれ2.4であった。
(比較例11)
比較例11は、実施例10に比して、第1導電層の第1メッシュパターンを図14に示すパターンとし、第2導電層の第2メッシュパターンを図14に示すパターンとした点以外は、実施例10と構成および作製方法は同じである。比較例11は、第1導電層と第2導電層はいずれもメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が2である。なお、第1導電層と第2導電層の交点太り指数は、それぞれ2.3であった。
表2に示すように、実施例10~13は、比較例10および比較例11に比して、交点見えの評価が優れていた。
実施例10~13では、メッシュセルの形状が同じであればメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1の方がノイズの評価およびタッチ感度の評価が優れていた。また、メッシュセルの形状は4角形の方がノイズの評価、モアレの評価およびタッチ感度の評価が優れていた。
実施例12は、第1導電層と第2導電層とが共にメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1であるが、第1導電層のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分と第2導電層のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分とが交差していないが、実施例10は、第1導電層のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分と第2導電層のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分とが直交して交差しているため、交点見えの評価が優れていた。
実施例10~13では、メッシュセルの形状が同じであればメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1の方がノイズの評価およびタッチ感度の評価が優れていた。また、メッシュセルの形状は4角形の方がノイズの評価、モアレの評価およびタッチ感度の評価が優れていた。
実施例12は、第1導電層と第2導電層とが共にメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1であるが、第1導電層のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分と第2導電層のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分とが交差していないが、実施例10は、第1導電層のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分と第2導電層のメッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分とが直交して交差しているため、交点見えの評価が優れていた。
10 タッチパネル
11 タッチパネル用導電部材
12 カバー層
12a 表面
14 コントローラー
15、18 透明層
20 表示パネル
30 透明絶縁基板
30a 表面
30b 裏面
30c 一辺
31 絶縁膜
32 第1導電層
34 第1電極
34a、42a 電極間
36 第1パッド
37 第1の周辺配線
38 第1の周辺配線部
39 端子接続領域
40 第2導電層
42 第2電極
44 第2パッド
45 第2の周辺配線
46 第2の周辺配線部
47 端子接続領域
48 感知領域
48a 交差部
49 透明層
50、60、104 頂点
52 金属細線
54、54a、54b、54c 第1メッシュセル
56 第1メッシュパターン
64 第2メッシュセル
66 第2メッシュパターン
100、100a メッシュパターン
102、106 メッシュセル
D1 第1方向
D2 第2方向
Dn 方向
G1、G2、G3、G4、G5、G6 メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向き
H1 延在方向
H2 方向
L11、L12、L13、L14、L15、L16 線分
L21、L22、L23、L24、L25、L26 線分
L31、L32、L33、L34、L35、L36 線分
S10、S12、S14、S16、S20 ステップ
11 タッチパネル用導電部材
12 カバー層
12a 表面
14 コントローラー
15、18 透明層
20 表示パネル
30 透明絶縁基板
30a 表面
30b 裏面
30c 一辺
31 絶縁膜
32 第1導電層
34 第1電極
34a、42a 電極間
36 第1パッド
37 第1の周辺配線
38 第1の周辺配線部
39 端子接続領域
40 第2導電層
42 第2電極
44 第2パッド
45 第2の周辺配線
46 第2の周辺配線部
47 端子接続領域
48 感知領域
48a 交差部
49 透明層
50、60、104 頂点
52 金属細線
54、54a、54b、54c 第1メッシュセル
56 第1メッシュパターン
64 第2メッシュセル
66 第2メッシュパターン
100、100a メッシュパターン
102、106 メッシュセル
D1 第1方向
D2 第2方向
Dn 方向
G1、G2、G3、G4、G5、G6 メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分の向き
H1 延在方向
H2 方向
L11、L12、L13、L14、L15、L16 線分
L21、L22、L23、L24、L25、L26 線分
L31、L32、L33、L34、L35、L36 線分
S10、S12、S14、S16、S20 ステップ
Claims (9)
- 透明絶縁基板と、前記透明絶縁基板に形成された第1導電層とを有するタッチパネル用導電部材であって、
前記第1導電層は、複数の頂点が金属細線で結ばれてなる閉形状の複数の第1メッシュセルで構成された第1メッシュパターンを有し、
前記複数の第1メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1以下であることを特徴とするタッチパネル用導電部材。 - 前記複数の第1メッシュセルの頂点が直線に並ぶ前記方向成分は、1である請求項1に記載のタッチパネル用導電部材。
- 前記第1メッシュパターンの前記閉形状は、N角形であり、前記Nは3以上である請求項1または2に記載のタッチパネル用導電部材。
- 前記N角形は、4角形である請求項3に記載のタッチパネル用導電部材。
- 前記第1導電層と電気的に絶縁され、かつ前記第1導電層と離間して配置された第2導電層を有し、
前記第2導電層は、複数の頂点が前記金属細線で結ばれてなる閉形状の複数の第2メッシュセルで構成された第2メッシュパターンを有し、
前記複数の第2メッシュセルの頂点が直線に並ぶ方向成分が1以下であり、
前記第1導電層と前記第2導電層を重ねた積層方向から見た際に、前記第2メッシュセルの前記複数の頂点が、それぞれ対応する前記第1メッシュセル内に配置されている請求項1~4のいずれか1項に記載のタッチパネル用導電部材。 - 前記複数の第1メッシュセルの頂点が直線に並ぶ前記方向成分および前記複数の第2メッシュセルの頂点が直線に並ぶ前記方向成分は、いずれも1であり、前記複数の第1メッシュセルの頂点が直線に並ぶ前記方向成分と前記複数の第2メッシュセルの頂点が直線に並ぶ前記方向成分とは交差する請求項5に記載のタッチパネル用導電部材。
- 前記第2メッシュパターンの前記閉形状は、S角形であり、前記Sは3以上である請求項5または6に記載のタッチパネル用導電部材。
- 前記S角形は、4角形である請求項7に記載のタッチパネル用導電部材。
- 請求項1~8のいずれか1項に記載のタッチパネル用導電部材を有することを特徴とするタッチパネル。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019532501A JP6977042B2 (ja) | 2017-07-27 | 2018-07-12 | タッチパネル用導電部材およびタッチパネル |
US16/715,138 US11079887B2 (en) | 2017-07-27 | 2019-12-16 | Conductive member for touch panel and touch panel |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017-145155 | 2017-07-27 | ||
JP2017145155 | 2017-07-27 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
US16/715,138 Continuation US11079887B2 (en) | 2017-07-27 | 2019-12-16 | Conductive member for touch panel and touch panel |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2019021835A1 true WO2019021835A1 (ja) | 2019-01-31 |
Family
ID=65040648
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2018/026257 WO2019021835A1 (ja) | 2017-07-27 | 2018-07-12 | タッチパネル用導電部材およびタッチパネル |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11079887B2 (ja) |
JP (1) | JP6977042B2 (ja) |
WO (1) | WO2019021835A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6918963B2 (ja) * | 2017-11-13 | 2021-08-11 | 富士フイルム株式会社 | 導電部材およびタッチパネル |
WO2019189187A1 (ja) * | 2018-03-27 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 導電性部材、導電性フィルム、表示装置、及びタッチパネル |
WO2019189201A1 (ja) * | 2018-03-27 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 導電性部材、導電性フィルム、表示装置、及びタッチパネル |
WO2020108316A1 (zh) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | 无锡变格新材料科技有限公司 | 触控面板及触控显示器 |
TWI836888B (zh) * | 2023-02-02 | 2024-03-21 | 友達光電股份有限公司 | 觸控顯示裝置 |
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---|---|---|---|---|
JP2014191657A (ja) * | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Japan Display Inc | タッチ検出機能付き表示装置及び電子機器 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11110115A (ja) * | 1997-09-30 | 1999-04-23 | Fujitsu General Ltd | デジタイザ装置 |
US8599150B2 (en) * | 2009-10-29 | 2013-12-03 | Atmel Corporation | Touchscreen electrode configuration |
JP2012163951A (ja) * | 2011-01-18 | 2012-08-30 | Fujifilm Corp | 導電性フイルムを備える表示装置及び導電性フイルム |
US8797285B2 (en) * | 2011-04-18 | 2014-08-05 | Atmel Corporation | Panel |
US20140216783A1 (en) | 2013-02-05 | 2014-08-07 | David P. Trauernicht | Micro-wire pattern with offset intersections |
CN103218077B (zh) * | 2013-03-30 | 2016-04-13 | 南昌欧菲光显示技术有限公司 | 滤光片模块及包含该滤光片模块的触摸显示屏 |
KR101834248B1 (ko) * | 2013-08-30 | 2018-03-05 | 후지필름 가부시키가이샤 | 도전성 필름, 그것을 구비하는 터치 패널 및 표시 장치, 및 도전성 필름의 평가 방법 |
JP6503728B2 (ja) | 2013-12-26 | 2019-04-24 | 大日本印刷株式会社 | 表示装置 |
KR102500994B1 (ko) * | 2014-10-17 | 2023-02-16 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 터치 패널 |
KR102031572B1 (ko) * | 2015-07-24 | 2019-10-14 | 후지필름 가부시키가이샤 | 터치 패널용 도전 필름의 메시 패턴 설계 방법, 터치 패널용 도전 필름의 제조 방법 및 터치 패널용 도전 필름 |
JP6610053B2 (ja) | 2015-07-24 | 2019-11-27 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネルセンサ、タッチパネル装置および表示装置 |
JP6511382B2 (ja) | 2015-10-16 | 2019-05-15 | 富士フイルム株式会社 | 導電性フィルム、及びこれを備える表示装置 |
JP6559552B2 (ja) * | 2015-11-18 | 2019-08-14 | 株式会社Vtsタッチセンサー | 導電性フィルム、タッチパネル、および、表示装置 |
KR102415044B1 (ko) * | 2015-12-11 | 2022-07-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 스크린 패널, 이의 제조 방법 및 터치 스크린 패널을 포함하는 터치 표시 장치 |
JPWO2017126212A1 (ja) * | 2016-01-22 | 2018-11-01 | 富士フイルム株式会社 | 導電性フィルムおよびタッチパネル |
KR102357521B1 (ko) * | 2017-06-02 | 2022-02-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
-
2018
- 2018-07-12 JP JP2019532501A patent/JP6977042B2/ja active Active
- 2018-07-12 WO PCT/JP2018/026257 patent/WO2019021835A1/ja active Application Filing
-
2019
- 2019-12-16 US US16/715,138 patent/US11079887B2/en active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014191657A (ja) * | 2013-03-27 | 2014-10-06 | Japan Display Inc | タッチ検出機能付き表示装置及び電子機器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200117301A1 (en) | 2020-04-16 |
US11079887B2 (en) | 2021-08-03 |
JP6977042B2 (ja) | 2021-12-08 |
JPWO2019021835A1 (ja) | 2020-07-09 |
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121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
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ENP | Entry into the national phase |
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|
NENP | Non-entry into the national phase |
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