WO2017183226A1 - 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品 - Google Patents

熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品 Download PDF

Info

Publication number
WO2017183226A1
WO2017183226A1 PCT/JP2016/085088 JP2016085088W WO2017183226A1 WO 2017183226 A1 WO2017183226 A1 WO 2017183226A1 JP 2016085088 W JP2016085088 W JP 2016085088W WO 2017183226 A1 WO2017183226 A1 WO 2017183226A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
resin composition
thermosetting resin
epoxy
cured film
composition according
Prior art date
Application number
PCT/JP2016/085088
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
智嗣 古田
彩子 菊地
Original Assignee
Jnc株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jnc株式会社 filed Critical Jnc株式会社
Priority to JP2018512773A priority Critical patent/JP6729684B2/ja
Priority to CN201680084708.7A priority patent/CN109071774B/zh
Priority to KR1020187024329A priority patent/KR20180135886A/ko
Publication of WO2017183226A1 publication Critical patent/WO2017183226A1/ja

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/22Di-epoxy compounds
    • C08G59/24Di-epoxy compounds carbocyclic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • C08K3/36Silica
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Polyethers (AREA)

Abstract

高硬度、高透明性、ガラスやITOに対する密着性を有する硬化膜を形成することが可能な熱硬化性樹脂組成物、およびその用途を提供する。 熱硬化性樹脂組成物は、ポリエステルアミド酸(A)、フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)、エポキシ硬化剤(C)、溶媒(D)、平均粒子径が50nm以下のシリカ微粒子(E)および光学調整エポキシ樹脂(F)を含んでいるから、高硬度、高透明性、ガラスやITOに対する密着性を有するバランスの良い硬化膜を形成することができる。

Description

熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
 本発明は、熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品に関する。さらに詳しくは、特定の化合物を含む熱硬化性樹脂組成物、該組成物から形成された硬化膜、該硬化膜を有する硬化膜付き基板、および、該硬化膜または硬化膜付き基板を有する電子部品に関する。
 近年、入力装置として、液晶表示装置または有機エレクトロルミネッセンス装置と位置検出装置とを組み合わせたタッチパネル型入力装置が普及している。タッチパネル型入力装置は表示画面上に、指やペンの先を接触させたときに、その接触位置を検出する入力装置である。タッチパネル型入力装置には各種検出方式が存在し、抵抗膜方式、静電容量方式等がある。
 例えば、静電容量方式は、ガラス基板上に、XおよびY電極をマトリックス状に配置した構造を有する装置を用い、指先などが接触することで生じる静電容量の変化を、電流変化として検出する方式である。
 前記の電極を形成する際、XおよびY位置を認識するため、XおよびY電極の重なり部分にITO(酸化インジウムスズ)などでジャンパーを形成し、また、XおよびY電極が互いに接触しないように透明絶縁膜が設けられる。前記透明絶縁膜には、高硬度、高透明性、ガラスやITOに対する密着性などが要求される。
 また、前記静電容量方式のタッチパネルには、例えば、XおよびY電極上を平坦化させる等のために、絶縁性のオーバーコートを設ける場合がある。このオーバーコートは平坦性に加え、脱ガス防止、高硬度、高透明性、ガラスやITOに対する密着性が要求される。
 このような透明絶縁膜またはオーバーコートに使用できる高透明絶縁材料については各種組成物が検討されている。
 例えば、特許文献1および特許文献2には、特定構造のポリエステルアミド酸、エポキシ樹脂、エポキシ硬化剤などを含む樹脂組成物が開示されている。しかしながら、これらいずれの特許文献にも、該組成物から得られる硬化膜のITO基板に対する密着性や硬度についてはなんら検討されていない。
 特許文献3には、フルオレン骨格を有するエポキシ化合物および硬化剤を含む硬化性組成物が開示されている。しかしながら、特許文献3には、該組成物から得られる硬化膜の透明性、ガラスおよびITOに対する密着性、硬度についてはなんら検討されていない。
特開2005-105264号公報 特開2008-156546号公報 特開2012-102228号公報
 タッチパネル型入力装置を製造するに際して、ラインの簡略化および歩留まり向上等の点から、前記透明絶縁膜およびオーバーコートのいずれにも使用できる樹脂組成物が望ましいと考えられるが、このような樹脂組成物は未だ実現されていない。
 本発明の課題は、高硬度、高透明性、ガラスやITOに対する密着性を有する硬化膜を形成することが可能な熱硬化性樹脂組成物、およびその用途を提供することにある。
 本発明者らは、前記問題点を解決すべく鋭意検討を行った。
 例えば、前記特許文献に具体的に記載されている樹脂組成物を検討したところ、該組成物から得られた硬化膜は、ガラスやITO、特にITOに対する密着性と硬度が悪かった。
 本発明者らは、前記知見を踏まえて、様々な検討をした結果、下記構成を有する熱硬化性樹脂組成物により前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
 すなわち、本発明は、例えば以下の[1]~[23]に関する。
 [1] ポリエステルアミド酸(A)、フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)、エポキシ硬化剤(C)、溶媒(D)、平均粒子径が50nm以下のシリカ微粒子(E)および光学調整エポキシ樹脂(F)を含む熱硬化性樹脂組成物。
 [2] 前記光学調整エポキシ樹脂(F)が、脂環式エポキシ化合物である[1]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [3] 前記熱硬化性樹脂組成物から得られる膜厚2.2マイクロメートルの硬化膜の透過率が、波長400nmで97%以上である[1]または[2]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [4] 前記フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)のエポキシ当量が150~550g/eqである[1]~[3]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [5] 前記ポリエステルアミド酸(A)100重量部に対し、前記フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)を15~400重量部含む、[1]~[4]の何れかに一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [6] 前記エポキシ硬化剤(C)が、酸無水物系硬化剤、フェノール樹脂系硬化剤、アミンアダクト、ポリカルボン酸系硬化剤、ポリアミン系硬化剤および触媒型硬化剤からなる群より選ばれる1種以上の化合物である、[1]~[5]のいずれか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物
 [7] 前記ポリエステルアミド酸(A)100重量部に対し、前記シリカ微粒子()の含有量が140重量部以下である[1]~[6]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [8] 熱硬化性樹脂組成物中の分子内にオキシラン環またはオキセタン環を2個以上含むエポキシ化合物の合計100重量部に対し、前記エポキシ硬化剤(C)を1~100重量部含む、[1]~[7]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [9] 前記ポリエステルアミド酸(A)の重量平均分子量が2,000~30,000である、[1]~[8]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [10] 前記ポリエステルアミド酸(A)が、式(3)および(4)で示される構成単位を有する化合物である、[1]~[9]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
(式中、Rは独立に炭素数1~30の4価の有機基であり、Rは炭素数1~40の2価の有機基であり、Rは炭素数1~20の2価の有機基である。)
 [11] 前記ポリエステルアミド酸(A)が、テトラカルボン酸二無水物(a1)、ジアミン(a2)および多価ヒドロキシ化合物(a3)を必須成分として反応させることにより得られる化合物である、[1]~[10]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [12] 前記ポリエステルアミド酸(A)が、テトラカルボン酸二無水物(a1)、ジアミン(a2)、多価ヒドロキシ化合物(a3)および1価アルコール(a4)を必須成分として反応させることにより得られる化合物である、[1]~[11]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [13] ポリエステルアミド酸(A)が、Xモルのテトラカルボン酸二無水物(a1)、Yモルのジアミン(a2)およびZモルの多価ヒドロキシ化合物(a3)を、式(i)および式(ii)の関係が成立するような比率で反応させることにより得られる化合物である、[1]~[12]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
    0.2≦Z/Y≦8.0・・・(i)
    0.2≦(Y+Z)/X≦1.5・・・(ii)
 [14] 前記テトラカルボン酸二無水物(a1)が、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,2-(ビス(3,4-ジカルボキシフェニル))ヘキサフルオロプロパン二無水物およびエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)からなる群より選択される1種以上の化合物である、[11]~[13]のいずれか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [15] 前記ジアミン(a2)が、3,3’-ジアミノジフェニルスルホンおよびビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホンからなる群より選択される1種以上の化合物である、[11]~[14]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [16] 前記多価ヒドロキシ化合物(a3)が、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,7-ヘプタンジオールおよび1,8-オクタンジオールからなる群より選択される1種以上の化合物である、[11]~[15]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [17] 前記1価アルコール(a4)が、イソプロピルアルコール、アリルアルコール、ベンジルアルコール、ヒドロキシエチルメタクリレート、プロピレングリコールモノエチルエーテルおよび3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタンからなる群より選ばれる1種以上の化合物である、[11]~[16]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [18] 前記テトラカルボン酸二無水物(a1)が3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物であり、前記ジアミン(a2)が3,3’-ジアミノジフェニルスルホンであり、前記多価ヒドロキシ化合物(a3)が1,4-ブタンジオールであり、前記エポキシ硬化剤(C)が無水トリメリット酸である、[11]~[17]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [19] タッチパネル用である、[1]~[18]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物。
 [20] [1]~[19]の何れか一つに記載の熱硬化性樹脂組成物から得られる硬化膜。
 [21] [20]に記載の硬化膜を有する硬化膜付き基板。
 [22] [20]に記載の硬化膜または[21]に記載の硬化膜付き基板を有する電子部品。
 [23]タッチパネルである、[22]に記載の電子部品。
 本発明によれば、高硬度、高透明性、ガラスやITOに対する密着性、およびシュウ酸を含むITOエッチング液への耐性を有する、特にバランスよくこれらの効果を有する硬化膜を形成することができる。このため、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、非常に実用性の高いものであり、例えば、タッチパネル用の透明絶縁膜およびオーバーコートを生産性よく作製することが可能であり、これらの用途に好適に用いることができる。
 以下、本発明の熱硬化性樹脂組成物(以下「本発明の組成物」ともいう。)、該組成物の調製方法、硬化膜の形成方法、硬化膜付き基板および電子部品について詳細に説明する。
1.熱硬化性樹脂組成物
 本発明の組成物は、ポリエステルアミド酸(A)、フルオレンまたはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)および、エポキシ硬化剤(C)、溶媒(D)、平均粒子径が50nm以下のシリカ微粒子(E)および光学調整エポキシ樹脂(F)を含有する。本発明の組成物は前記成分のほか、添加剤を含有してもよく、有色、無色のどちらであってもよい。
 このような本発明の組成物によれば、高硬度、高透明性、ガラスやITOに対する密着性、およびシュウ酸を含むITOエッチング液への耐性にバランスよく優れる硬化膜を得ることができる。このため、タッチパネル用の透明絶縁膜やオーバーコートを生産性よく作製することが可能であり、これらの用途に好適に用いることができる。
 本発明の組成物は、ポリエステルアミド酸(A)、フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)および、エポキシ硬化剤(C)、溶媒(D)、平均粒子径が50nm以下のシリカ微粒子(E)および光学調整エポキシ樹脂(F)を含有することで初めて、前記効果に優れる硬化膜が得られる。特に、鉛筆硬度が3H以上であり、膜厚2.2マイクロメートルの硬化膜の透過率が波長400nmで97%以上であり、ガラスおよびITO等に対する密着性に優れる硬化膜が得られる。
 従来の、ポリエステルアミド酸からなる組成物や、フルオレン骨格を有するエポキシ化合物およびエポキシ硬化剤からなる組成物では、これらの基板、鉛筆硬度が3H以上であり、上記透過率が97%以上であり、ガラスおよびITO等に対する密着性に優れる硬化膜は得られなかった。
 従って、本発明の組成物は、従来の組成物からでは予期しえない効果を有する組成物であり、ポリエステルアミド酸、フルオレン骨格またはジシクロペンタジエンを有するエポキシ化合物、エポキシ硬化剤、溶媒、平均粒子径が50nm以下のシリカ微粒子および光学調整エポキシ樹脂を組み合わせることにより、相乗効果を有する組成物である。
1.1. ポリエステルアミド酸(A)
 本発明で用いられるポリエステルアミド酸(A)は、特に制限されないが、エステル結合、アミド結合およびカルボキシル基を有する化合物であることが好ましく、具体的には、式(3)および(4)で示される構成単位を有する化合物であることがより好ましい。
 このようなポリエステルアミド酸(A)を特定のエポキシ化合物およびエポキシ硬化剤と組み合わせて使用することで初めて、高硬度、高透明性およびシュウ酸を含むITOエッチング液への耐性に優れ、さらには、ガラスやITOに対する密着性に優れる硬化膜を形成可能な組成物が得られる。
 ポリエステルアミド酸(A)は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003

(Rは独立に炭素数1~30の4価の有機基であり、Rは炭素数1~40の2価の有機基であり、Rは炭素数1~20の2価の有機基である。)
 組成物中の他の成分との相溶性が良い化合物が得られ、高透明性の硬化膜が得られる等の点から、Rは独立に、炭素数2~25の4価の有機基であることが好ましく、炭素数2~20の4価の有機基であることがより好ましく、式(5)で表される基であることがさらに好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004

(式(5)において、Rは、-O-、-CO-、-SO-、-C(CF-、-R-または-COO-R-OCO-(Rは独立に、炭素数1~4のアルキル基である。)である。)
 組成物中の他の成分との相溶性が良い化合物が得られ、高透明性でガラスやITOへの密着性が良好な硬化膜が得られる等の点から、Rは、炭素数2~35の2価の有機基であることが好ましく、炭素数2~30の2価の有機基であることがより好ましく、式(6)で表される基であることがさらに好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005

(式(6)において、Rは、-O-、-CO-、-SO-、-C(CF-、-R-または-O-ph-R-ph-O-である(phはベンゼン環であり、Rは、-O-、-CO-、-SO-、-C(CF-または-R-である。)。なお、Rは独立に、炭素数1~4のアルキル基である。)
 高透明性の硬化膜が得られる等の点から、Rは、炭素数2~15の2価の有機基であることが好ましく、式(7)で表される基、-R10-NR11-R12-(R10およびR12は独立に、炭素数1~8のアルキレンであり、R11は、水素または少なくとも1つの水素がヒドロキシルで置換されていてもよい炭素数1~8のアルキルである。)、炭素数2~15のアルキレン、または、炭素数2~15のアルキレンの少なくとも1つの水素がヒドロキシルで置換されていてもよく、-O-を有していてもよい基であることがより好ましく、炭素数2~6の2価のアルキレンであることがさらに好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006

(式(7)において、Rは、-O-、-CO-、-SO-、-C(CF-、-R-または-ph-R-ph-である(phはベンゼン環であり、Rは、-O-、-CO-、-SO-、-C(CF-または-R-である。)。なお、Rは独立に、炭素数1~4のアルキル基である。)
 ポリエステルアミド酸(A)は、テトラカルボン酸二無水物(a1)、ジアミン(a2)および多価ヒドロキシ化合物(a3)を必須成分として反応させることにより得られる化合物であることが好ましく、テトラカルボン酸二無水物(a1)、ジアミン(a2)、多価ヒドロキシ化合物(a3)および1価アルコール(a4)を必須成分として反応させることにより得られる化合物であることも好ましい。
 つまり、式(3)および(4)中、Rは独立に、テトラカルボン酸二無水物残基であり、Rはジアミン残基であり、Rは多価ヒドロキシ化合物残基であることが好ましい。
 なお、この反応の際には、反応溶媒(a5)等を用いてもよい。
 これらの(a1)~(a5)等はそれぞれ、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
 ポリエステルアミド酸(A)が分子末端に酸無水物基を有している場合には、必要により、1価アルコール(a4)を反応させた化合物であることが好ましい。1価アルコール(a4)を用いて得られるポリエステルアミド酸(A)は、エポキシ化合物(B)およびエポキシ硬化剤(C)との相溶性に優れる化合物になる傾向があるとともに、塗布性に優れる組成物が得られる傾向にある。
1.1.1. テトラカルボン酸二無水物(a1)
 テトラカルボン酸二無水物(a1)としては特に制限されないが、具体例として、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,2-[ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)]ヘキサフルオロプロパン二無水物およびエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)(商品名;TMEG-100、新日本理化(株)製)等の芳香族テトラカルボン酸二無水物;シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物およびシクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物等の脂環式テトラカルボン酸二無水物;ならびに、エタンテトラカルボン酸二無水物およびブタンテトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
 これらの中でも透明性の良好な化合物が得られる等の点から、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルエ-テルテトラカルボン酸二無水物、2,2-[ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)]ヘキサフルオロプロパン二無水物およびエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)(商品名;TMEG-100、新日本理化(株)製)が好ましく、3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物および3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物が特に好ましい。
1.1.2. ジアミン(a2)
 ジアミン(a2)としては特に制限されないが、具体例として、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[3-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル][3-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル][3-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホンおよび2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパンが挙げられる。
 これらの中でも透明性の良好な化合物が得られる等の点から、3,3’-ジアミノジフェニルスルホンおよびビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホンが好ましく、3,3’-ジアミノジフェニルスルホンが特に好ましい。
1.1.3. 多価ヒドロキシ化合物(a3)
 多価ヒドロキシ化合物(a3)は、ヒドロキシ基を2つ以上有する化合物であれば特に制限されないが、具体例として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、分子量1,000以下のポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、分子量1,000以下のポリプロピレングリコール、1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,2-ペンタンジオール、1,5-ペンタンジオール、2,4-ペンタンジオール、1,2,5-ペンタントリオール、1,2-ヘキサンジオール、1,6-ヘキサンジオール、2,5-ヘキサンジオール、1,2,6-ヘキサントリオール、1,2-ヘプタンジオール、1,7-ヘプタンジオール、1,2,7-ヘプタントリオール、1,2-オクタンジオール、1,8-オクタンジオール、3,6-オクタンジオール、1,2,8-オクタントリオール、1,2-ノナンジオール、1,9-ノナンジオール、1,2,9-ノナントリオール、1,2-デカンジオール、1,10-デカンジオール、1,2,10-デカントリオール、1,2-ドデカンジオール、1,12-ドデカンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ビスフェノールA、ビスフェノールS、ビスフェノールF、ジエタノールアミンおよびトリエタノールアミンが挙げられる。
 これらの中でもエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,7-ヘプタンジオールおよび1,8-オクタンジオールが好ましく、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオールおよび1,6-ヘキサンジオールが反応溶媒(a5)への溶解性が良好である等の点から特に好ましい。
1.1.4. 1価アルコール(a4)
 1価アルコール(a4)は、ヒドロキシ基を1つ有する化合物であれば特に制限されないが、具体例として、メタノール、エタノール、1-プロパノール、イソプロピルアルコール、アリルアルコール、ベンジルアルコール、ヒドロキシエチルメタクリレート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、フェノール、ボルネオール、マルトール、リナロール、テルピネオール、ジメチルベンジルカルビノールおよび3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタンが挙げられる。
 これらの中でもイソプロピルアルコール、アリルアルコール、ベンジルアルコール、ヒドロキシエチルメタクリレート、プロピレングリコールモノエチルエーテルおよび3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタンが好ましい。得られるポリエステルアミド酸(A)と、エポキシ化合物(B)およびエポキシ硬化剤(C)との相溶性や、得られる組成物のガラスやITO上への塗布性を考慮すると、1価のアルコール(a4)としては、ベンジルアルコールがより好ましい。
1.1.5. 反応溶媒(a5)
 反応溶媒(a5)としては特に制限されないが、具体例として、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、シクロヘキサノン、N-メチル-2-ピロリドンおよびN,N-ジメチルアセトアミドが挙げられる。
 これらの中でも溶解性の点からプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、3-メトキシプロピオン酸メチルおよびN-メチル-2-ピロリドンが好ましい。
 なお、反応溶媒(a5)としては、具体的にはこれらの溶媒が挙げられるが、これらの溶媒に、前記反応に用いる溶媒全量に対して30重量%以下の割合であれば、該溶媒以外の他の溶媒を混合した混合溶媒を用いることもできる。
《ポリエステルアミド酸(A)の合成》
 ポリエステルアミド酸(A)の合成方法は、特に制限されないが、テトラカルボン酸二無水物(a1)、ジアミン(a2)、多価ヒドロキシ化合物(a3)、および、必要により1価アルコール(a4)を必須成分として反応させる方法が好ましく、この反応を反応溶媒(a5)中で行うことがより好ましい。
 この反応の際の各成分の添加順序は、特にこだわらない。即ち、テトラカルボン酸二無水物(a1)、ジアミン(a2)および多価ヒドロキシ化合物(a3)を同時に反応溶媒(a5)に加えて反応させてもよいし、ジアミン(a2)および多価ヒドロキシ化合物(a3)を反応溶媒(a5)中に溶解させた後、テトラカルボン酸二無水物(a1)を添加して反応させてもよいし、または、テトラカルボン酸二無水物(a1)とジアミン(a2)とを予め反応させた後、その反応生成物に多価ヒドロキシ化合物(a3)を添加して反応させてもよく、いずれの方法も用いることができる。
 なお、1価アルコール(a4)は反応のどの時点で添加してもよい。
 また、前記反応の際には、得られるポリエステルアミド酸(A)の重量平均分子量を大きくするために、酸無水物基を3個以上有する化合物を添加して合成反応を行ってもよい。酸無水物基を3個以上有する化合物の具体例としては、スチレン-無水マレイン酸共重合体を挙げることができる。
 このようにして合成されたポリエステルアミド酸は前記式(3)および(4)で示される構成単位を含み、その末端は原料であるテトラカルボン酸二無水物、ジアミンまたは多価ヒドロキシ化合物それぞれに由来する、酸無水物基、アミノ基またはヒドロキシ基であるか、またはこれら化合物以外の成分由来の基(例えば、1価アルコール残基)である。
 前記反応の際の、テトラカルボン酸二無水物(a1)、ジアミン(a2)および多価ヒドロキシ化合物(a3)の使用量をそれぞれ、Xモル、YモルおよびZモルとした場合、X、YおよびZの間には、式(i)および式(ii)の関係が成立することが好ましい。このような量で各成分を用いることで、下記溶媒(D)への溶解性が高いポリエステルアミド酸(A)が得られ、塗布性に優れる組成物が得られ、平坦性に優れる硬化膜を得ることができる。
    0.2≦Z/Y≦8.0 ・・・(i)
    0.2≦(Y+Z)/X≦1.5 ・・・(ii)
 式(i)の関係は、好ましくは0.7≦Z/Y≦7.0であり、より好ましくは1.3≦Z/Y≦7.0である。また、式(ii)の関係は、好ましくは0.5≦(Y+Z)/X≦0.9であり、より好ましくは0.7≦(Y+Z)/X≦0.8である。
 前記反応の際の1価アルコール(a4)の使用量をZ’モルとした場合、その使用量は特に制限されないが、好ましくは0.2≦Z’/X≦0.6であり、より好ましくは0.3≦Z’/X≦0.5である。
 反応溶媒(a5)は、テトラカルボン酸二無水物(a1)、ジアミン(a2)および多価ヒドロキシ化合物(a3)の合計100重量部に対し、100重量部以上使用すると、反応がスムーズに進行するため好ましい。
 前記反応は40~200℃で、0.2~20時間行うことが好ましい。
《ポリエステルアミド酸(A)の物性、使用量等》
 ポリエステルアミド酸(A)のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定した重量平均分子量(ポリスチレン換算)は、溶媒(D)に対する溶解性や、特にエポキシ化合物(B)と併用することで、透明性、ガラスやITOに対する密着性および耐薬品性のバランスがとれた硬化膜が得られる等の観点から、2,000~30,000であることが好ましく、3,000~28,000であることがより好ましい。
 この重量平均分子量は、具体的には、下記実施例に記載の方法で測定することができる。
 ポリエステルアミド酸(A)の粘度は、得られるポリエステルアミド酸(A)を取り扱い易くする、重量平均分子量を前記好ましい範囲に調節する等の点から、25℃において好ましくは5~200mPa・s、より好ましくは10~150mPa・s、さらに好ましくは15~100mPa・sである。
 ポリエステルアミド酸(A)の含有量は、高透明で耐薬品性に優れる硬化膜が得られる等の点から、本発明の組成物の固形分(該組成物から溶剤を除いた残分)100重量%に対し、好ましくは1~60重量%、より好ましくは5~55重量%、さらに好ましくは10~50重量%である。
1.2. フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)
 本発明に用いられるエポキシ化合物(B)は、フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物であれば特に限定されない。このようなエポキシ化合物(B)は、分解温度が高く、耐熱安定性に優れるため、高透明性などの前記効果に加え、これらの効果を併せ持つ硬化膜を得ることができる。
 エポキシ化合物(B)は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
 エポキシ化合物(B)のエポキシ当量は、耐薬品性に優れる硬化膜が得られる等の点から、好ましくは150~550g/eqであり、より好ましくは150~490g/eq、さらに好ましくは160~480g/eqである。
 エポキシ化合物(B)のエポキシ当量は、例えばJIS K7236に記載の方法で測定することができる。
 エポキシ化合物(B)の屈折率は、高透明性に優れる硬化膜が得られる等の点から、好ましくは1.40~1.75であり、より好ましくは1.45~1.73であり、さらに好ましくは1.48~1.71である。
 エポキシ化合物(B)の屈折率は、例えばJIS K7105やJIS K7142に記載の方法で測定することができる。
 エポキシ化合物(B)は、合成して得てもよく、市販品でもよい。
 エポキシ化合物(B)の市販品としては、例えば、OGSOL PG-100(商品名、大阪ガスケミカル(株)製、屈折率1.64、エポキシ当量259g/eq)、OGSOL CG-500(商品名、大阪ガスケミカル(株)製、屈折率1.70、エポキシ当量311g/eq)、OGSOL EG-200(商品名、大阪ガスケミカル(株)製、屈折率1.62、エポキシ当量292g/eq)、OGSOL EG-250(商品名、大阪ガスケミカル(株)製、屈折率1.58、エポキシ当量417g/eq)、OGSOL EG-280(商品名、大阪ガスケミカル(株)製、屈折率1.56、エポキシ当量467g/eq)、OGSOL CG-400(商品名、大阪ガスケミカル(株)製、屈折率1.53、エポキシ当量540g/eq)、EP-4088S(商品名、(株)ADEKA製、屈折率1.50、エポキシ当量170g/eq)、EP-4088L(商品名、(株)ADEKA製、屈折率1.50、エポキシ当量165g/eq)が挙げられる。
 エポキシ化合物(B)として、屈折率が1.60以上でエポキシ当量が280g/eq未満の化合物、例えば、OGSOL PG-100を使用する場合、エポキシ化合物(B)の組成物中の他の成分との溶解性等の観点から、屈折率が1.70以下でエポキシ当量が280g/eqを超えるエポキシ化合物(B)を併用することが好ましく、この場合、本発明の組成物に含まれる全エポキシ化合物(B)中、屈折率が1.60以上でエポキシ当量が280g/eq未満の化合物の含有量を70重量%以下にすることが好ましく、65重量%以下にするとより好ましく、60重量%以下にするとさらに好ましい。
 エポキシ化合物(B)として、屈折率が1.68以上でエポキシ当量が400g/eq以下の化合物、例えば、OGSOL CG-500を使用すると、本発明の組成物から得られる硬化膜は特に高硬度となる。一方で透明性が低下する傾向にあるため、屈折率1.68未満でエポキシ当量が200g/eq以上のエポキシ化合物(B)を併用することで、硬度、透明性にバランス良く優れる硬化膜が得られる。この際、本発明の組成物に含まれる全エポキシ化合物(B)中、屈折率が1.68以上でエポキシ当量が400g/eq以下の化合物の含有量を90重量%以下にすることが好ましく、80重量%以下にするとより好ましく、70重量%以下にするとさらに好ましい。
 エポキシ化合物(B)として、屈折率が1.60未満でエポキシ当量が300g/eq以上の化合物、例えば、OGSOL EG-280を使用する場合、本発明の組成物から得られる硬化膜は特にガラスやITOに対する密着性および透明性が良好となる。一方で、シュウ酸水溶液などの酸に対する耐性が低下する傾向にあるため、屈折率1.60以上でエポキシ当量が400未満のエポキシ化合物(B)を併用することで、ガラスやITOに対する密着性、透明性およびシュウ酸水溶液などの酸に対する耐性にバランス良く優れる硬化膜が得られる。この際、本発明の樹脂組成物に含まれる全エポキシ化合物(B)中、屈折率が1.60未満でエポキシ当量が300g/eq以上の化合物の配合量を70重量%以下にすることが好ましく、60重量%以下にするとより好ましく、50重量%以下にするとさらに好ましい。
 エポキシ化合物(B)の含有量は、耐熱性、耐薬品性およびガラスやITOに対する密着性にバランスよく優れる硬化膜が得られる等の点から、本発明の組成物の固形分(該組成物から溶剤を除いた残分)100重量%に対し、好ましくは3~60重量%、より好ましくは5~50重量%、さらに好ましくは7~50重量%であり、ポリエステルアミド酸(A)100重量部に対し、好ましくは1~400重量部、より好ましくは20~300重量部、さらに好ましくは20~250重量部である。
1.3. エポキシ硬化剤(C)
 本発明の組成物には、エポキシ硬化剤(C)が配合され、このことにより、耐熱性および耐薬品性に優れる硬化膜が得られる。
 エポキシ硬化剤(C)としては、ポリエステルアミド酸(A)とは異なる化合物であり、具体的には、酸無水物系硬化剤、ポリアミン系硬化剤、ポリフェノール系硬化剤および触媒型硬化剤などが挙げられるが、耐着色性および耐熱性等の点から酸無水物系硬化剤が好ましい。
 エポキシ硬化剤(C)は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
 酸無水物系硬化剤の具体例としては、無水マレイン酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、シクロヘキサン-1,2,4-トリカルボン酸-1,2-無水物などの脂肪族ジカルボン酸無水物;無水フタル酸、無水トリメリット酸などの芳香族多価カルボン酸無水物;スチレン-無水マレイン酸共重合体が挙げられる。これらの中でも、溶媒(D)に対する溶解性に優れる化合物が得られ、耐熱性に優れる硬化膜が得られる等の点から、無水トリメリット酸が特に好ましい。
 エポキシ硬化剤(C)の含有量は、シュウ酸水溶液などの薬品に対する耐薬品性およびガラスやITOに対する密着性が良好で、表面硬度の高い硬化膜が得られる等の点から、本発明の組成物の固形分(該組成物から溶剤を除いた残分)100重量%に対し、好ましくは1~20重量%、より好ましくは2~17重量%、さらに好ましくは3~15重量%であり、エポキシ化合物(B)を含む全エポキシ樹脂100重量部に対し、好ましくは5~30重量部、より好ましくは7~29重量部、さらに好ましくは7~28重量部である。
 また、用いるエポキシ化合物(B)とエポキシ硬化剤(C)との比率は、耐熱性および耐薬品性に優れる硬化膜が得られる等の点から、用いるエポキシ化合物(B)中のエポキシ基量に対し、エポキシ硬化剤中の酸無水物基やカルボキシル基等のエポキシ基と反応し得る基の量が0.2~2倍当量であることが好ましく、0.5~1.5倍当量であると、得られる硬化膜の耐薬品性が一層向上するためさらに好ましい。なお、このとき、例えば、エポキシ化合物(B)として、エポキシ基を1つ有する化合物を1当量用い、エポキシ硬化剤(C)として、酸無水物基を1つ有する化合物を1当量用いる場合、エポキシ化合物(B)に対するエポキシ硬化剤(C)の量は、2倍当量であるとする。
1.4. 溶媒(D)
 本発明の組成物は、例えば、ポリエステルアミド酸(A)、エポキシ化合物(B)およびエポキシ硬化剤(C)を溶媒(D)に溶解して得ることができる。したがって、溶媒(D)は、ポリエステルアミド酸(A)、エポキシ化合物(B)およびエポキシ硬化剤(C)を溶解することができる溶媒であることが好ましい。また、単独ではポリエステルアミド酸(A)、エポキシ化合物(B)およびエポキシ硬化剤(C)を溶解しない溶媒であっても、他の溶媒と混合することによって、溶媒(D)として用いることが可能になる場合がある。
 溶媒(D)は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよく、また、前記反応溶媒(a5)をそのまま用いてもよい。
 溶媒(D)としては、例えば、乳酸エチル、エタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、1,3-ジオキソラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4-ジオキサン、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、アニソール、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラメチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、2-ヒドロキシイソ酪酸メチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、1-ビニル-2-ピロリドン、1-ブチル-2-ピロリドン、1-エチル-2-ピロリドン、1-(2-ヒドロキシエチル)-2-ピロリドン、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、1-アセチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-ジメチルプロピオンアミド、N-メチル-ε-カプロラクタム、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、γ-ブチロラクトン、α-アセチル-γ-ブチロラクトン、ε-カプロラクトン、γ-ヘキサノラクトン、δ-ヘキサノラクトン、メチルエチルスルホキシド、ジメチルスルホキシドおよび出光興産(株)製エクアミド(商品名)が挙げられる。
 これらの中でも、ポリエステルアミド酸(A)、エポキシ化合物(B)およびエポキシ硬化剤(C)に対する溶解性の点で、本発明の組成物は、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルブーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、3-メトキシプロピオン酸メチル、γ-ブチロラクトン、ジメチルスルホキシドおよび出光興産(株)製エクアミド(商品名)からなる群より選択される少なくとも1種を、溶媒(D)として含むことが好ましい。
1.5 シリカ微粒子(E)
 本発明に用いられるシリカ微粒子(E)は、その平均粒子径が、50nm以下であれば特に限定されないが、40nm以下であることがより好ましく、25nm以下であることがさらに好ましい。このようなシリカ微粒子(E)を含有することにより、耐熱性、高透明性、高硬度などに優れる硬化膜を得ることができる。
 シリカ微粒子(E)は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
 上述したシリカの平均粒子径は、動的光散乱法により評価した球相当径の意義である。
 組成物中のシリカ微粒子(E)の含有量は、硬度の高い硬化膜が得られることから、ポリエステルアミド酸(A)100重量部に対し、35重量部以上であることが好ましく、50重量部以上であることがより好ましく、70重量部以上であることがさらに好ましい。また、ITOに対する密着性の良好な硬化膜が得られることから、ポリエステルアミド酸(A)100重量部に対し、150質量部以下であることが好ましく、145質量部以下であることがより好ましく、140質量部以下であることがさらに好ましい。
 シリカ微粒子(E)は、光学調整エポキシ樹脂(F)に分散された、シリカを含有するエポキシ樹脂として組成物に添加してもよい。シリカを含有するエポキシ樹脂(E)の具体例としては、NANOPOX C450、NANOPOX C460、NANOPOX C620、NANOPOX F400、NANOPOX E500、NANOPOX E601、NANOPOX F631、NANOPOX F640(以上商品名、EVONIK製)、コンポセラン E203、コンポセラン E205、コンポセラン E206(以上商品名、荒川化学(株)製)が挙げられる。これらの中でも、高透明性、高硬度に優れる硬化膜が得られる等の点から、NANOPOX C620が特に好ましい。
1.6. 光学調整エポキシ樹脂(F)
 本発明に用いられる光学調整エポキシ樹脂(F)は、組成物を硬化させた硬化膜の光学的性質を調整するために配合される、上述したエポキシ樹脂(B)とは異なる種類のエポキシ樹脂である。光学調整エポキシ樹脂(F)は、シリカ微粒子(E)とは別に組成物に添加しても、シリカ微粒子(E)をあらかじめ分散させる分散媒として用いてもよい。シリカ微粒子(E)を光学調整エポキシ樹脂(F)にあらかじめ分散させてから、組成物に添加することにより、シリカ微粒子(E)の分散状態を良好にすることができる。
 光学調整エポキシ樹脂(F)としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキシラン環を有するモノマーの重合体、オキシラン環を有するモノマーと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。これらの中では、透過率が高く透明な光学特性に優れており、ガラスおよびITOに対する密着性が良好な硬化膜が得られることから、3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の脂環式エポキシ化合物が好ましい。
 光学調整エポキシ樹脂(F)として脂環式エポキシ化合物を用いることにより、透明性の高い硬化膜が得られる。例えば、膜厚2.2μmとした場合に波長400nmの透過率が97%以上である透明性の高い硬化膜を得ることができる。また、組成物の配合量を調整することにより、透過率が98%以上の硬化膜や99%以上の硬化膜を得ることができる。
1.7. 添加剤
 本発明の組成物は、目的とする特性に応じて、ポリエステルアミド酸(A)、エポキシ化合物(B)、エポキシ硬化剤(C)、シリカ微粒子(E)および光学調整エポキシ樹脂(F)以外の添加剤を含有してもよい。添加剤としては、例えば、その他のエポキシ樹脂(f)、ポリイミド樹脂、オキセタン樹脂、重合性モノマー、帯電防止剤、カップリング剤(g)、pH調整剤、防錆剤、防腐剤、防黴剤、酸化防止剤(h)、界面活性剤(i)、エポキシ樹脂硬化促進剤(j)、還元防止剤、蒸発促進剤、キレート化剤、水溶性ポリマーが挙げられる。また、所望の用途に応じて顔料または染料を含有してもよい。添加剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
1.7.1. その他のエポキシ樹脂(f)
 本発明では、オキシラン環またはオキセタン環を1つ以上有する化合物をエポキシ化合物という。本発明において、その他のエポキシ樹脂(f)とは、前記フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)および光学調整エポキシ樹脂(F)以外のエポキシ樹脂を指す。
 その他のエポキシ樹脂(f)としては、オキシラン環を2つ以上有する化合物が好ましく用いられ、その他のエポキシ樹脂(f)は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
 その他のエポキシ樹脂(f)としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキシラン環を有するモノマーの重合体、オキシラン環を有するモノマーと他のモノマーとの共重合体が挙げられる。
 オキシラン環を有するモノマーとしては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレート、次の構造で示される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007

 式(1)中、Rは炭素数1~45のアルキル、炭素数4~8のシクロアルキル、アリールおよびアリールアルキルから独立して選択される基であり;炭素数1~45のアルキルにおいて、任意の水素はフッ素で置き換えられても良く、そして隣接しない任意の-CH-は-O-または-CH=CH-で置き換えられてもよく;アリールアルキル中のアルキレンにおいて、炭素原子の数は1~10であり、そして隣接しない任意の-CH-は-O-で置き換えられても良く;RおよびRは炭素数1~4のアルキル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびフェニルから独立して選択される基であり;そして、Xはオキシラニル、オキシラニレン、3,4-エポキシシクロヘキシル、オキセタニルおよびオキセタニレンのいずれか1つを有する基である。
 なお、本発明において、(メタ)アクリレートとは、アクリレートおよび/またはメタクリレートのことを指し、(メタ)アクリルとは、アクリルおよび/またはメタクリルのことを指す。
 オキシラン環を有するモノマーと共重合を行う他のモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、(3-エチル-3-オキセタニル)メチル(メタ)アクリレート、N-シクロヘキシルマレイミド、N-フェニルマレイミドが挙げられる。
 オキシラン環を有するモノマーの重合体およびオキシラン環を有するモノマーと他のモノマーとの共重合体の好ましい具体例としては、ポリグリシジルメタクリレート、メチルメタクリレートとグリシジルメタクリレートとの共重合体、ベンジルメタクリレートとグリシジルメタクリレートとの共重合体、n-ブチルメタクリレートとグリシジルメタクリレートとの共重合体、2-ヒドロキシエチルメタクリレートとグリシジルメタクリレートとの共重合体、(3-エチル-3-オキセタニル)メチルメタクリレートとグリシジルメタクリレートとの共重合体、スチレンとグリシジルメタクリレートとの共重合体が挙げられる。本発明の組成物がこれらのエポキシ樹脂を含有すると、当該組成物から形成された硬化膜の耐熱性がさらに良好となるため好ましい。
 その他のエポキシ樹脂(f)の具体例としては、「jER806」、「jER807」、「jER815」、「jER825」、「jER827」、「jER828」、「jER871」、「jER872」、「jER190P」、「jER191P」、「jER1004」、「jER1004AF」、「jER1007」、「jER1010」、「jER1256」、「jER157S70」、「jER1032H60」(以上商品名、三菱化学(株)製)、「アラルダイトCY177」、「アラルダイトCY184」(以上商品名、BASF製)、「セロキサイド2021P」、「セロキサイド3000」、「セロキサイド8000」、「EHPE-3150」、「EHPE-3150CE」(以上商品名、ダイセル化学工業(株)製)、名「TECHMORE VG3101L」(以上商品名、(株)プリンテック製)、「HP7200、HP7200H、HP7200HH(以上商品名、DIC(株)製)、「NC―3000]、「NC―3000H]、「EPPN―501H」、「EOCN―102S」、「EOCN―103S」、「EOCN-104S」、「EPPN-501H」、「EPPN-501HY」、「EPPN-502H」、「EPPN-201-L」(以上商品名、日本化薬(株)製)、「TEP-G」(以上商品名、旭有機材工業(株)製)、「MA-DGIC」、「Me-DGIC」、「TG-G」(以上商品名、四国化成工業(株)製)、「TEPIC-VL](商品名、日産化学工業(株)製)、「FLEP-10」、「FLEP-50」、「FLEP-60」、「FLEP-80」(以上商品名、東レチオコール(株)製)、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-4,4’-ジアミノジフェニルメタンが挙げられる。これらの中でも、商品名「アラルダイトCY184」、商品名「セロキサイド2021P」、商品名「TECHMORE VG3101L」、エポキシ樹脂「jER828」を含む組成物は、平坦性が特に良好な硬化膜を得ることができるため好ましい。
 本発明の組成物中のその他のエポキシ樹脂(f)の濃度は特に限定されないが、耐熱性、およびガラスやITOに対する密着性にバランスよく優れる硬化膜が得られる等の点から、本発明の組成物の固形分(該組成物から溶剤を除いた残分)中に0~40重量%含まれていることが好ましく、0~30重量%含まれていることがより好ましい。
1.7.2.オキセタン樹脂
 前記光学調整エポキシ樹脂(F)は、その一態様としてオキセタン樹脂を包含する。オキセタン樹脂の具体例としては、「OXT-101」、「OXT-121」、「OXT-212」、「OXT-221」(以上商品名、東亞合成(株)製)が挙げられる。これらの中でも、商品名「OXT-101」を含む組成物は、透明性が高い硬化膜を得ることができるため好ましい。
 本発明の組成物中のオキセタン樹脂の濃度は特に限定されないが、耐熱性および透明性がさらに良好である硬化膜が得られる等の点から、本発明の組成物の固形分(該組成物から溶剤を除いた残分)中に0~40重量%含まれていることが好ましく、0~30重量%含まれていることがより好ましい。
 なお、前述の課題を解決するための手段の項における[8]でいう「熱硬化性樹脂組成物中の分子内にオキシラン環またはオキセタン環を2個以上含むエポキシ化合物」とは、本発明の熱硬化性樹脂組成物中に含まれる「フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)」、「光学調整エポキシ樹脂(F)」および「その他のエポキシ樹脂(f)」の合わせた中に含まれるすべてのエポキシ化合物のことである。
1.7.3. ポリイミド樹脂
 ポリイミド樹脂としては、イミド基を有していれば特に限定されない。
 ポリイミド樹脂は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
 ポリイミド樹脂は、例えば、酸二無水物とジアミンとを反応させて得られるアミド酸を、イミド化することで得られる。酸二無水物としては、例えば、ポリエステルアミド酸(A)の合成に用いることのできるテトラカルボン酸二無水物(a1)が挙げられる。ジアミンとしては、例えば、ポリエステルアミド酸(A)の合成に用いることのできるジアミン(a2)が挙げられる。
 本発明の組成物がポリイミド樹脂を含む場合、本発明の組成物中のポリイミド樹脂の濃度は特に限定されないが、耐熱性および耐薬品性がさらに良好である硬化膜が得られる等の点から、0.1~20重量%が好ましく、0.1~10重量%がさらに好ましい。
1.7.4. 重合性モノマー
 重合性モノマーとしては、例えば、単官能重合性モノマー、二官能(メタ)アクリレート、三官能以上の多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。
 重合性モノマーは1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
 本発明の組成物が重合性モノマーを含む場合、本発明の組成物中の重合性モノマーの濃度は特に限定されないが、耐薬品性、表面硬度がさらに良好である硬化膜が得られる等の点から、本発明の組成物の固形分(該組成物から溶剤を除いた残分)中に0.1~40重量%含まれていることが好ましく、1~30重量%含まれていることがさらに好ましい。
 単官能重合性モノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカニル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、5-テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル(メタ)アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、3-メチル-3-(メタ)アクリロキシメチルオキセタン、3-エチル-3-(メタ)アクリロキシメチルオキセタン、3-メチル-3-(メタ)アクリロキシエチルオキセタン、3-エチル-3-(メタ)アクリロキシエチルオキセタン、p-ビニルフェニル-3-エチルオキセタ-3-イルメチルエーテル、2-フェニル-3-(メタ)アクリロキシメチルオキセタン、2-トリフロロメチル-3-(メタ)アクリロキシメチルオキセタン、4-トリフロロメチル-2-(メタ)アクリロキシメチルオキセタン、(3-エチル-3-オキセタニル)メチル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、ビニルトルエン、N-シクロヘキシルマレイミド、N-フェニルマレイミド、(メタ)アクリルアミド、N-アクリロイルモルホリン、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、α-クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω-カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、こはく酸モノ[2-(メタ)アクリロイロキシエチル]、マレイン酸モノ[2-(メタ)アクリロイロキシエチル]、シクロヘキセン-3,4-ジカルボン酸モノ[2-(メタ)アクリロイロキシエチル]が挙げられる。
 二官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、ビスフェノールFエチレンオキシド変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエチレンオキシド変性ジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートモノステアレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、2-n-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。
 三官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリス[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート、ウレタン(メタ)アクリレートが挙げられる。
1.7.5. 帯電防止剤
 帯電防止剤は、本発明の組成物の帯電を防止するために使用することができ、本発明の組成物が帯電防止剤を含む場合、本発明の組成物中、0.01~1重量%の量で用いられることが好ましい。
 帯電防止剤としては、公知の帯電防止剤を用いることができる。具体的には、酸化錫、酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫・酸化インジウム複合酸化物などの金属酸化物;四級アンモニウム塩が挙げられる。
 帯電防止剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
1.7.6. カップリング剤(g)
 カップリング剤(g)としては、特に限定されるものではなく、ガラスやITOとの密着性を向上させる等の目的でシランカップリング剤などの公知のカップリング剤を用いることができる。本発明の組成物がカップリング剤(g)を含む場合、カップリング剤(g)は、本発明の組成物の固形分(該組成物から溶剤を除いた残分)100重量%に対し、10重量%以下になるように添加して用いられることが好ましい。
 カップリング剤(g)は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
 シランカップリング剤としては、例えば、トリアルコキシシラン化合物、ジアルコキシシラン化合物が挙げられる。好ましくは、例えば、γ-ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ-ビニルプロピルトリエトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-アミノエチル-γ-イミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-アミノエチル-γ-アミノプロピルトジエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルメチルジエトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシランが挙げられる。
 これらの中でも、γ-ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ-アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-イソシアナートプロピルトリエトキシシランが特に好ましい。
1.7.7. 酸化防止剤(h)
 本発明の組成物が酸化防止剤(h)を含有することで、該組成物から得られる硬化膜が高温または光に曝された場合の劣化を防止することができる。酸化防止剤(h)は、本発明の組成物が酸化防止剤(h)を含む場合、該酸化防止剤(h)を除く組成物の固形分(該組成物から溶剤を除いた残分)100重量部に対し、0.1~3重量部添加して用いることが好ましい。
 酸化防止剤(h)は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
 酸化防止剤(h)としては、ヒンダードアミン系化合物、ヒンダードフェノール系化合物などが挙げられる。具体的には、IRGAFOS XP40、IRGAFOS XP60、IRGANOX 1010、IRGANOX 1035、IRGANOX 1076、IRGANOX 1135、IRGANOX 1520L(以上商品名、BASF社製)、アデカスタブ AO-20、アデカスタブ AO-40、アデカスタブ AO-50、アデカスタブ AO-60、アデカスタブ AO-80、アデカスタブ AO-330(以上商品名、(株)ADEKA社製)等が挙げられる。
1.7.8. 界面活性剤(i)
 本発明の組成物が界面活性剤(i)を含有することで、下地基板への濡れ性、レベリング性や塗布性が向上した組成物を得ることができ、本発明の組成物が界面活性剤(i)を含む場合、界面活性剤(i)は、本発明の組成物100重量%に対し、0.01~1重量%となる量で用いられることが好ましい。
 界面活性剤(i)は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
 界面活性剤(i)としては、本発明の組成物の塗布性を向上できる等の点から、例えば、商品名「BYK-300」、「BYK-306」、「BYK-335」、「BYK-310」、「BYK-341」、「BYK-344」、「BYK-370」(以上商品名、ビックケミー・ジャパン(株)製)、「KP-112」、「KP-326」、「KP-341」(以上、信越化学工業(株)製)等のシリコン系界面活性剤;商品名「BYK-354」、「BYK-358」、「BYK-361」(以上商品名、ビックケミー・ジャパン(株)製)等のアクリル系界面活性剤;商品名「DFX-18」、「フタージェント250」、「フタージェント251」(以上商品名、(株)ネオス製)、「メガファック F-444」、「メガファック F-477」、「メガファック RS-72-K」(以上商品名、DIC(株)製)等のフッ素系界面活性剤が挙げられる。
1.7.9. エポキシ樹脂硬化促進剤(j)
 エポキシ樹脂硬化促進剤(j)としては、本発明の組成物の硬化温度を低下させること、あるいは硬化時間を短縮させることができる等の点から、「DBU」、「DBN」、「U-CAT」、「U-CAT SA1」、「U-CAT SA102」、「U-CAT SA506」、「U-CAT SA603」、「U-CAT SA810」、「U-CAT 5002」、「U-CAT 5003」、「U-CAT 18X」、「U-CAT SA841・851」、「U-CAT SA881」、「U-CAT 891」(以上商品名、サンアプロ(株)製)、「CP―001」、「NV-203-R4」(以上商品名、大阪ガスケミカル(株)製)、「カレンズMT PE1」、「カレンズMT BD1」、「カレンズMT NR1」(以上商品名、昭和電工(株)製)、等が挙げられる。
 エポキシ樹脂硬化促進剤(j)はそれぞれ、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
 エポキシ樹脂硬化促進剤(j)の含有量は、エポキシ硬化剤(C)100重量部に対し、好ましくは10~200重量部、より好ましくは20~180重量部、さらに好ましくは30~150重量部である。
1.7.10. 顔料または染料
 顔料としては、例えば、窒化硼素、窒化アルミニウム、炭化珪素、アルミナ、マグネシア、シリカ、ルチル型酸化チタン、酸化亜鉛、低次酸化チタンおよび黒鉛からなる群より選ばれる1種以上の化合物が挙げられる。ルチル型酸化チタンは、TiOで示される白色の酸化チタンをいう。低次酸化チタンは、Ti、Ti、TiOなどの黒色の酸化チタンをいう。例えば、チタンブラックとして知られている低次酸化チタン(黒色)としては、赤穂化成(株)製ティラックD(商品名)、三菱マテリアル(株)製12S、13M、13M-C、SC-13M(商品名)、トクシキ(株)製マルコ2004ブラック(商品名)が挙げられる。黒鉛としては、例えば、トクシキ(株)製マルコ2003、ブラックマルコ2011ブラック、マルコ2020ブラック、マルコ2021ブラック(商品名)が挙げられる。
 染料としては、例えば、アゾ染料、アゾメチン染料、キサンテン染料、キノン染料、が挙げられる。アゾ染料の例としては「VALIFAST BLACK 3810」、「VALIFAST BLACK 3820」、「VALIFAST RED 3304」、「VALIFAST RED 3320」、「OIL BLACK 860」(以上商品名、オリエント化学工業(株)製)が挙げられる。
 顔料および染料はそれぞれ、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
2. 熱硬化性樹脂組成物の調製方法
 本発明の組成物は、ポリエステルアミド酸(A)、フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物およびエポキシ硬化剤(C)、溶媒(D)、シリカ微粒子(E)、光学調整エポキシ樹脂(F)やその他の添加剤などを混合することによって調製することができる。
 また、本発明の組成物は、ポリエステルアミド酸(A)の合成時に得られた反応液や混合液をそのまま、エポキシ化合物(B)、エポキシ硬化剤(C)、必要に応じて用いられる溶媒(D)、シリカ微粒子(E)、光学調整エポキシ樹脂(F)やその他の添加剤などと混合することによって調製することもできる。
3. 硬化膜の形成方法
 本発明の硬化膜は、前記本発明の組成物から得られる膜であれば特に制限されない。本発明の硬化膜は、例えば、本発明の組成物を、基板上に塗布し、加熱することにより得ることができる。
 以下、本発明の組成物について、塗布方法および硬化方法について説明する。
3.1. 熱硬化性樹脂組成物の塗布方法
 基板上への本発明の組成物の塗布は、スプレーコート法、スピンコート法、ロールコート法、ディッピング法、スリットコート法、バーコート法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、ディスペンサー法、スクリーン印刷法およびインクジェット印刷法など従来から公知の方法により行うことができる。
 例えば、本発明の組成物から、前記XおよびY電極が接触しないように設けられる透明絶縁膜を形成する場合、パターン形成が容易であるという点で、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、ディスペンサー法、スクリーン印刷法およびインクジェット印刷法などの印刷法が好ましい。
 また、例えば、本発明の組成物から、前記オーバーコートを形成する場合、全面印刷が容易であるという点で、スピンコート法、スリットコート法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、ディスペンサー法、スクリーン印刷法などの塗布法が好ましい。
 前記基板としては、特に限定されるものではなく公知の基板を用いることができるが、例えば、FR-1、FR-3、FR-4、CEM-3またはE668等の各種規格に適合する、ガラスエポキシ基板、ガラスコンポジット基板、紙フェノール基板、紙エポキシ基板、グリーンエポキシ基板、BT(ビスマレイミドトリアジン)レジン基板;銅、黄銅、リン青銅、ベリリウム銅、アルミニウム、金、銀、ニッケル、スズ、クロムまたはステンレス等の金属からなる基板(これらの金属からなる層を表面に有する基板であってもよい);酸化インジウムスズ(ITO)、酸化アルミニウム(アルミナ)、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム(ジルコニア)、ジルコニウムのケイ酸塩(ジルコン)、酸化マグネシウム(マグネシア)、チタン酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸鉛(PT)、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、チタン酸ジルコン酸ランタン鉛(PLZT)、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、硫化カドニウム、硫化モリブデン、酸化ベリリウム(ベリリア)、酸化ケイ素(シリカ)、炭化ケイ素(シリコンカーバイト)、窒化ケイ素(シリコンナイトライド)、窒化ホウ素(ボロンナイトライド)、酸化亜鉛、ムライト、フェライト、ステアタイト、ホルステライト、スピネルまたはスポジュメン等の無機物からなる基板(これらの無機物を含む層を表面に有する基板であってもよい);PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PCT(ポリシクロへキシレンジメチレンテレフタレート)、PPS(ポリフェニレンサルファイド)、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンエーテル、ポリアミド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、テフロン(登録商標)、熱可塑性エラストマーまたは液晶ポリマー等の樹脂からなる基板(これらの樹脂を含む層を表面に有する基板であってもよい);シリコン、ゲルマニウムまたはガリウム砒素等の半導体基板;ガラス基板;酸化スズ、酸化亜鉛、ITOまたはATO(酸化アンチモンスズ)等の電極材料(配線)が表面に形成された基板;αGEL(アルファゲル)、βGEL(ベータゲル)、θGEL(シータゲル)またはγGEL(ガンマゲル)(以上、(株)タイカの登録商標)等のゲルシート;が挙げられる。
 本発明の組成物は、好ましくはガラス基板、ITO基板や樹脂製フィルム基板上に塗布される。
3.2. 熱硬化性樹脂組成物の硬化方法
 前記本発明の組成物を塗布した後に、基板上に塗布された組成物を加熱することで硬化膜を得ることができる。このようにして硬化膜を形成する方法としては、好ましくは、本発明の組成物を塗布した後にホットプレートまたはオーブンなどで加熱することにより、溶媒を気化などさせて除去し(乾燥処理)、その後、さらに加熱する(硬化処理)方法が用いられる。
 乾燥処理の条件は、用いる組成物に含まれる各成分の種類および配合割合によって異なるが、通常、加熱温度は70~120℃であり、加熱時間は、オーブンなら5~15分間、ホットプレートなら1~10分間である。このような乾燥処理により、基板上に形状を保持できる程度の塗膜を形成することができる。
 前記塗膜を形成した後、通常100~300℃、好ましくは100~250℃で硬化処理をする。このとき、オーブンを用いた場合では、通常10~120分間、ホットプレートを用いた場合では、通常5~30分間加熱処理することで硬化膜を得ることができる。
 なお、硬化処理は、加熱処理に限定されず、紫外線、イオンビーム、電子線またはガンマ線照射などの処理でもよい。
4. 硬化膜付き基板
 本発明の硬化膜付き基板は、本発明の硬化膜を有すれば特に制限されないが、前記基板、特に、ガラス基板、ITO基板および樹脂製フィルム基板からなる群より選ばれる少なくとも1種類の基板上に上述の硬化膜を有することが好ましい。
 このような硬化膜付き基板は、例えば、ガラス、ITO、PET、PEN等の基板上に、本発明の組成物を前記塗布法等によって全面または所定のパターン状(ライン状など)に塗布し、その後、前記で説明したような、乾燥処理および硬化処理を経ることで、形成することができる。
5. 電子部品
 本発明の電子部品は、上述の硬化膜または硬化膜付き基板を有する電子部品である。このような電子部品としては、カラーフィルター、LED発光素子および受光素子などの各種光学材料、タッチパネルなどが挙げられる。
 タッチパネルは、例えば、液晶表示装置または有機エレクトロルミネッセンス装置と位置検出装置とを組み合わせることで製造することができる。
 ここで、位置検出装置としては、例えば、ITOなどの導電物質からなる配線(X電極)が形成された基板上に、該配線を覆うように本発明の硬化膜(透明絶縁膜)を形成し、次いで、X電極と直交するように、ITOなどの導電物質からなる配線(Y電極)を形成し、その後、基板全面を覆うように、本発明の硬化膜でオーバーコートを形成した装置が挙げられる。
 このような装置の製造の際に、本発明の組成物を用いることで、通常、印刷法等でパターン状に形成される前記硬化膜(透明絶縁膜)、および、通常、塗布法等で全面に形成される前記オーバーコートを1種類の組成物で形成することができる。従って、本発明の組成物を用いることで、電子部品の製造に際して、ラインの簡略化および歩留まりの向上が可能となる。
 以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例および比較例で用いる、テトラカルボン酸二無水物(a1)、ジアミン(a2)、多価ヒドロキシ化合物(a3)、1価アルコール(a4)、反応溶媒(a5)、フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)、エポキシ硬化剤(C)、溶媒(D)、シリカ微粒子(E)、光学調整エポキシ樹脂(F)、カップリング剤(g)、酸化防止剤(h)および界面活性剤(i)、エポキシ硬化促進剤(j)の名称ならびにその略号を示す。以下の記述にはこの略号を使用する。
 <テトラカルボン酸二無水物(a1)>
 ODPA:3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物
 <ジアミン(a2)>
 DDS:3,3’-ジアミノジフェニルスルホン
 <多価ヒドロキシ化合物(a3)>
 BDOH:1,4-ブタンジオール
 <1価アルコール(a4)>
 BzOH:ベンジルアルコール
 <反応溶媒(a5)>
 MPM:3-メトキシプロピオン酸メチル
 PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
 EDM:ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
 <スチレン-無水マレイン酸共重合体>
 SMA1000:スチレン成分/無水マレイン酸成分:50/50、重量平均分子量:5,500(商品名、サートマー(株)製)
 <フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)>
 EG-200:OGSOL EG-200(商品名、大阪ガスケミカル(株)製)
 EG-280:OGSOL EG-280(商品名、大阪ガスケミカル(株)製)
 4088S:EP-4088S(商品名、(株)ADEKA製)
 <エポキシ硬化剤(C)>
 TMA:無水トリメリット酸
 <溶媒(D)>
 EDM:ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
 DB:ジエチレングリコールモノブチルエーテル
 MTEM:テトラエチレングリコールジメチルエーテル
 Eca:ジエチレングリコールモノエチルエーテル
 EDGAC:ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート
 PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
 DEGBEA:ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
 MTM:トリエチレングリコールジメチルエーテル
 <シリカ微粒子(E)>
 C450:NANOPOX C450(商品名、EVONIK製)、平均粒子径:20nm
 C460:NANOPOX C460(商品名、EVONIK製)、平均粒子径:20nm
 C620:NANOPOX C620(商品名、EVONIK製)、平均粒子径:20nm
 C680:NANOPOX C680(商品名、EVONIK製)、平均粒子径:20nm
 <光学調整エポキシ樹脂(F)>
 BPA:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(C450の分散媒)
 BPF:ビスフェノールF型フェノール樹脂(C460の分散媒)
 CEL2021P:セロキサイド2021P(商品名、ダイセル化学工業(株)製)、3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(C620の分散媒) OXT-101:OXT-101(商品名、東亞合成(株)製)、オキセタン樹脂(C680の分散媒)
 <その他のエポキシ樹脂(f)>
 EHPE3150:EHPE3150(商品名、ダイセル化学工業(株)製)、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-(2-オキシラニル)シクロヘキサン付加物
 SQ:特開2009-167390に記載の方法で合成した式(1-1)で示される化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 <カップリング剤(g)>
 GMS:γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
 <酸化防止剤(h)>
 I1010:IRGANOX 1010(商品名、BASF製)
 <界面活性剤(i)>
 BYK344:BYK-344(商品名、ビックケミー・ジャパン(株)製)
 <エポキシ樹脂硬化促進剤(j)>
 PE1:カレンズMT PE1(商品名、昭和電工(株)製)
 SA506:U-CAT SA506(商品名、サンアプロ(株)製)
 まず、ポリエステルアミド酸溶液を以下に示すように合成した(合成例1および2)。表1に、合成例1および2についてまとめた。
 [合成例1]
 温度計、撹拌羽根、原料投入仕込み口および窒素ガス導入口を備えた1000mlのセパラブルフラスコに、脱水精製したMPM446.6g、BDOH31.93g、BzOH25.54gおよびODPA183.20gを仕込み、乾燥窒素気流下130℃で3時間撹拌した。その後、反応液を25℃まで冷却し、DDS29.33gおよびMPM183.4gを投入し、20~30℃で2時間撹拌した後、115℃で1時間撹拌した。その後、30℃以下に冷却することにより淡黄色透明なポリエステルアミド酸の30重量%溶液を得た。
 この溶液の回転粘度は28.1mPa・sであった。ここで回転粘度とはE型粘度計(商品名;VISCONIC END、(株)東京計器製)を使用して25℃で測定した粘度である(以下同じ)。
 また、得られたポリエステルアミド酸の重量平均分子量は、4,200であった。なお、ポリエステルアミド酸の重量平均分子量は以下のようにして測定した。
 得られたポリエステルアミド酸を、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)でポリエステルアミド酸の濃度が約1重量%になるように希釈し、GPC装置:日本分光(株)製、Chrom Nav (示差屈折率計 RI-2031 Plus)を用いて、前記希釈液を展開剤としてGPC法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めた。カラムは、昭和電工(株)製カラムGF-1G7B、GF-510HQおよびGF-310HQの3本をこの順序に接続して使用し、カラム温度40℃、流速0.5ml/minの条件で測定した(以下同じ)。
 [合成例2]
 温度計および撹拌羽根を備えた500mlのフラスコを窒素置換し、脱水精製したPGMEA179.2g、ODPAを16.96g、SMA1000を51.6g、BzOHを19.7g、BDOHを3.28g、およびEDM34.2を仕込み、乾燥窒素気流下125℃で2時間撹拌した。その後、反応液を25℃まで冷却し、DDS4.52gおよびEDM10.6gを投入し、20~30℃で2時間撹拌した後、120℃で1時間撹拌した。その後、30℃以下に冷却することにより淡黄色透明なポリエステルアミド酸(A)の30重量%溶液を得た。
 この溶液の回転粘度は35.3mPa・sであった。GPCで測定した重量平均分子量は24,000(ポリスチレン換算)であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009

                  
 [実施例1]
 撹拌羽根を備えた100mlの三つ口フラスコを窒素置換し、そのフラスコに、合成例1で得られたポリエステルアミド酸溶液を4.8g、EG-200を1.44g、C620を1.44g、TMAを0.43g、GMSを0.2g、I1010を0.02gおよび脱水精製したMTMを11.6g仕込み、室温で1時間撹拌し、各成分を均一に溶解させた。次いで、BYK344を0.05g投入し、室温で1時間撹拌し、メンブランフィルター(0.2μm)で濾過して濾液(熱硬化性樹脂組成物)を得た。
 [実施例2~25]
 実施例2~25は、表2および表3に示すとおりに各成分の種類および仕込み量を変更したこと以外は実施例1と同様にして熱硬化性樹脂組成物を調製した。
 実施例1において記載したとおり、シリカ微粒子(E)は光学調整エポキシ樹脂(F)に分散されたシリカを含有するエポキシ樹脂として添加した。このため、表2および表3では、分散されたシリカを含有するエポキシ樹脂を構成するシリカ微粒子(E)と光学調整エポキシ樹脂(F)とに分けて、各成分の配合量を記載している。シリカ微粒子(E)と光学調整エポキシ樹脂(F)とを含む分散されたシリカを含有するエポキシ樹脂(NANOPOX)の種類および量を表5に示した。
 [実施例26]
 撹拌羽根を備えた100mlの三つ口フラスコを窒素置換し、そのフラスコに、合成例1で得られたポリエステルアミド酸溶液を4.79g、EG-200を0.72g、C620を1.44g、EHPE3150を0.72g、TMAを0.43g、GMSを0.23g、I1010を0.02gおよび脱水精製したMTMを11.6g仕込み、室温で1時間撹拌し、各成分を均一に溶解させた。次いで、BYK344を0.05g投入し、室温で1時間撹拌し、メンブランフィルター(0.2μm)で濾過して濾液(熱硬化性樹脂組成物)を得た。
 [実施例27~28]
 実施例27~28は、表3に示すとおりに各成分の種類および仕込み量を変更したこと以外は実施例26と同様にして熱硬化性樹脂組成物を調製した。
 [実施例29]
 撹拌羽根を備えた100mlの三つ口フラスコを窒素置換し、そのフラスコに、合成例1で得られたポリエステルアミド酸溶液を4.8g、EG-200を1.44g、C620を1.44g、TMAを0.35g、GMSを0.22g、I1010を0.02g、SA506を0.16gおよび脱水精製したMTMを11.3g仕込み、室温で1時間撹拌し、各成分を均一に溶解させた。次いで、BYK344を0.05g投入し、室温で1時間撹拌し、メンブランフィルター(0.2μm)で濾過して濾液(熱硬化性樹脂組成物)を得た。
 [実施例30~32]
 実施例30~32は、表3に示すとおりに各成分の種類および仕込み量を変更したこと以外は実施例29と同様にして熱硬化性樹脂組成物を調製した。
 [比較例1]
 撹拌羽根を備えた100mlの三つ口フラスコを窒素置換し、そのフラスコに、合成例1で得られたポリエステルアミド酸溶液を4.80g、C 620を2.88g、TMAを0.43g、GMSを0.23g、I1010を0.02gおよび脱水精製したMTMを11.6g仕込み、室温で1時間撹拌し、各成分を均一に溶解させた。次いで、BYK344を0.05g投入し、室温で1時間撹拌し、メンブランフィルター(0.2μm)で濾過して濾液(熱硬化性樹脂組成物)を得た。
 [比較例2]
 表4に示すとおりに各成分の種類および仕込み量を変更したこと以外は比較例1と同様にして熱硬化性樹脂組成物を調製した。
 [比較例3]
 撹拌羽根を備えた100mlの三つ口フラスコを窒素置換し、そのフラスコに、合成例1で得られたポリエステルアミド酸溶液を4.79g、EG-200を2.88g、TMAを0.43g、GMSを0.23g、I1010を0.02gおよび脱水精製したMTMを11.6g仕込み、室温で1時間撹拌し、各成分を均一に溶解させた。次いで、BYK344を0.05g投入し、室温で1時間撹拌し、メンブランフィルター(0.2μm)で濾過して濾液(熱硬化性樹脂組成物)を得た。
 [比較例4~5]
 比較例4~5は、表4に示すとおりに各成分の種類および仕込み量を変更したこと以外は比較例3と同様にして熱硬化性樹脂組成物を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010

Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011

Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
 上述した調整方法により得られた熱硬化性樹脂組成物をガラス基板上およびITO基板上に、得られる硬化膜の厚みが表6に示す厚みになるようにスピンコートした後、ホットプレート上において80℃で5分間乾燥して塗膜を形成した。その後、実施例1~28、および比較例1~5についてはオーブンを用い、150℃で30分間加熱して硬化膜を得た。実施例29~32についてはオーブンを用い、120℃で30分間加熱して硬化膜を得た。このようにして得られた硬化膜について、透明性、密着性、表面硬度および耐薬品性の評価を実施した。これらの評価結果を表3に示す。
 [評価方法]
 (i)透明性
 得られた硬化膜付きガラス基板を用い、分光光度計V-670(日本分光(株)製)により硬化膜の透過率を波長400nmで測定した。
 (ii)密着性
 得られた硬化膜付きガラス基板および硬化膜付きITO基板を、60℃の超純水に60分間浸漬させた後、テープ剥離による碁盤目試験(JIS-K-5400)を行い、残存数を数えることで、基板と硬化膜との密着性を評価した。カッターナイフを用いて硬化膜に1mm間隔で切込みを入れて1mm角の碁盤目を100個作製し、当該碁盤目に密着させた後に剥離するためのテープとして、スリーエム社製#600を使用した。基板上に形成した硬化膜の100個の碁盤目のうち、テープ剥離後において基板上に残存する数(残存数/100)が、100/100である場合を○、99/100以下である場合を×とした。
 (iii)表面硬度
 得られた硬化膜付きガラス基板を用い、JIS-K-5400に順じ、鉛筆硬度計で硬化膜表面の硬度を測定した。
 (iv)耐薬品性
 得られた硬化膜付きガラス基板および硬化膜付きITO基板を、3.5%シュウ酸水溶液に40℃で6分間浸漬させた。そして、浸漬前後の硬化膜の膜厚変化を触針式膜厚計XP-200(AMBIOS TECHNOLOGY社製)を用いて測定し、膜厚変化が±3%未満である場合を○、±3%以上である場合を×とした。また、浸漬前後で透過率を(i)と同様に観察して、透過率の変化が±1%未満である場合を○、±1%以上である場合を×とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
 実施例1~32と比較例3~5との比較により、熱硬化性樹脂組成物にシリカ微粒子(E)を配合することにより、硬度が高い硬化膜が得られることが分かった。
 表6に示した結果から明らかなように、実施例1~16および26~32で得られた熱硬化性樹脂組成物から形成した硬化膜は、ガラスおよびITOに対する密着性に優れ、さらに400nmにおける透過率が97%以上と透明性が高く、表面硬度が3H以上と高かった。さらに、シュウ酸水溶液に対する耐性も良好であり、高透明性、高硬度、ガラスおよびITOに対する密着性、ならびに、シュウ酸水溶液に対する耐性のバランスがとれているものであった。
 一方、実施例17~23で得られた熱硬化性樹脂組成物から形成した硬化膜は、400nmにおける透過率が95%以下と透明性が低く、実施例24~25および比較例1~2の硬化膜はITOに対する密着性が悪く、比較例3~5の硬化膜は、表面硬度がH以下と低かった。
 光学調整エポキシ樹脂(F)として、脂環式エポキシ化合物である3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレートを含有する実施例1~16および24~32の熱硬化性樹脂組成物から形成した硬化膜はいずれも、400nmにおける透過率が97%以上と透明性が高いものであった。対して、比較例1~2の熱硬化性樹脂組成物から形成した硬化膜は、ITOに対する密着性が十分なものではなかった。このことから、ITOに対する密着性の良好な硬化膜を形成するためには、熱硬化性樹脂組成物がフルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)が必要であることが分かった。実施例4、5の結果から、エポキシ化合物(B)含有量は、ポリエステルアミド酸(A)100重量部に対して25重量部以上であれば、ITOに対する密着性が高い硬化膜の形成に有効であるといえる。
 なお、上述したとおり、合成例1および2はポリエステルアミド酸(A)の30重量%溶液であるから、熱硬化物組成物が含有するポリエステルアミド酸(A)の量は、表2~4に記載した合成例1および2の配合量の30重量%である。
 また、ITO基板に対する密着性が高い硬化膜を形成するためには、ポリエステルアミド酸(A)に対するシリカ微粒子(E)の含有量が大きくなり過ぎないようにすることが好ましい。実施例24および25の結果から、シリカ微粒子(E)の含有量は、ポリエステルアミド酸(A)100重量部に対して140重量部以下であることが好ましく、130重量部以下がより好ましいといえる
 以上のように、ポリエステルアミド酸、フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂、シリカ微粒子、光学調整エポキシ樹脂およびエポキシ硬化剤を含む組成物から得られた硬化膜のみ、所望の全ての特性を満足させることができた。
 本発明の組成物は、密着性および透明性など光学材料としての特性に優れる硬化膜を形成できる等の点から、カラーフィルター、LED発光素子および受光素子などの各種光学材料などの保護膜形成用として、また、タッチパネル形成用(タッチパネルに使用される透明電極用絶縁膜やオーバーコート膜形成用)として利用できる。

Claims (23)

  1.  ポリエステルアミド酸(A)、フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)、エポキシ硬化剤(C)、溶媒(D)、平均粒子径が50nm以下のシリカ微粒子(E)、および光学調整エポキシ樹脂(F)を含む熱硬化性樹脂組成物。
  2.  前記光学調整エポキシ樹脂(F)が、脂環式エポキシ化合物である請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  3.  前記熱硬化性樹脂組成物から得られる膜厚2.2マイクロメートルの硬化膜の透過率が、波長400nmで97%以上である請求項1または2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  4.  前記フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)のエポキシ当量が150~550g/eqである、請求項1~3の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  5.  前記ポリエステルアミド酸(A)100重量部に対し、前記フルオレン骨格またはジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物(B)を15~400重量部含む、請求項1~4の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  6.  前記エポキシ硬化剤(C)が、酸無水物系硬化剤、フェノール樹脂系硬化剤、アミンアダクト、ポリカルボン酸系硬化剤、ポリアミン系硬化剤および触媒型硬化剤からなる群より選ばれる1種以上の化合物である、請求項1~5のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物
  7.  前記ポリエステルアミド酸(A)100重量部に対し、前記シリカ微粒子(E)の含有量が140重量部以下である請求項1~6の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  8.  熱硬化性樹脂組成物中の分子内にオキシラン環またはオキセタン環を2個以上含むエポキシ化合物の合計100重量部に対し、前記エポキシ硬化剤(C)を1~100重量部含む、請求項1~7の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  9.  前記ポリエステルアミド酸(A)の重量平均分子量が2,000~30,000である、請求項1~8の何れかに1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  10.  前記ポリエステルアミド酸(A)が、式(3)および(4)で示される構成単位を有する化合物である、請求項1~9の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

    (式中、Rは独立に炭素数1~30の4価の有機基であり、Rは炭素数1~40の2価の有機基であり、Rは炭素数1~20の2価の有機基である。)
  11.  前記ポリエステルアミド酸(A)が、テトラカルボン酸二無水物(a1)、ジアミン(a2)および多価ヒドロキシ化合物(a3)を必須成分として反応させることにより得られる化合物である、請求項1~10の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  12.  前記ポリエステルアミド酸(A)が、テトラカルボン酸二無水物(a1)、ジアミン(a2)、多価ヒドロキシ化合物(a3)および1価アルコール(a4)を必須成分として反応させることにより得られる化合物である、請求項1~11の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  13.  ポリエステルアミド酸(A)が、Xモルのテトラカルボン酸二無水物(a1)、Yモルのジアミン(a2)およびZモルの多価ヒドロキシ化合物(a3)を、式(i)および式(ii)の関係が成立するような比率で反応させることにより得られる化合物である、請求項1~12の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
        0.2≦Z/Y≦8.0・・・(i)
        0.2≦(Y+Z)/X≦1.5・・・(ii)
  14.  前記テトラカルボン酸二無水物(a1)が、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,2-(ビス(3,4-ジカルボキシフェニル))ヘキサフルオロプロパン二無水物およびエチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)からなる群より選択される1種以上の化合物である、請求項11~13のいずれか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  15.  前記ジアミン(a2)が、3,3’-ジアミノジフェニルスルホンおよびビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホンからなる群より選択される1種以上の化合物である、請求項11~14の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  16.  前記多価ヒドロキシ化合物(a3)が、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,7-ヘプタンジオールおよび1,8-オクタンジオールからなる群より選択される1種以上の化合物である、請求項11~15の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  17.  前記1価アルコール(a4)が、イソプロピルアルコール、アリルアルコール、ベンジルアルコール、ヒドロキシエチルメタクリレート、プロピレングリコールモノエチルエーテルおよび3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタンからなる群より選ばれる1種以上の化合物である、請求項11~16の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  18.  前記テトラカルボン酸二無水物(a1)が3,3’,4,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物であり、前記ジアミン(a2)が3,3’-ジアミノジフェニルスルホンであり、前記多価ヒドロキシ化合物(a3)が1,4-ブタンジオールであり、前記エポキシ硬化剤(C)が無水トリメリット酸である、請求項11~17の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  19.  タッチパネル用である、請求項1~18の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  20.  請求項1~19の何れか1項に記載の熱硬化性樹脂組成物から得られる硬化膜。
  21.  請求項20に記載の硬化膜を有する硬化膜付き基板。
  22.  請求項20に記載の硬化膜または請求項21に記載の硬化膜付き基板を有する電子部品。
  23.  タッチパネルである、請求項22に記載の電子部品。
PCT/JP2016/085088 2016-04-18 2016-11-28 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品 WO2017183226A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018512773A JP6729684B2 (ja) 2016-04-18 2016-11-28 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
CN201680084708.7A CN109071774B (zh) 2016-04-18 2016-11-28 热固性树脂组合物、固化膜、带固化膜的基板以及电子零件
KR1020187024329A KR20180135886A (ko) 2016-04-18 2016-11-28 열경화성 수지 조성물, 경화막, 경화막 부착 기판 및 전자 부품

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016-083027 2016-04-18
JP2016083027 2016-04-18

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2017183226A1 true WO2017183226A1 (ja) 2017-10-26

Family

ID=60115901

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2016/085088 WO2017183226A1 (ja) 2016-04-18 2016-11-28 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6729684B2 (ja)
KR (1) KR20180135886A (ja)
CN (1) CN109071774B (ja)
WO (1) WO2017183226A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019139091A (ja) * 2018-02-13 2019-08-22 Jnc株式会社 感光性組成物
JP2021503033A (ja) * 2018-01-11 2021-02-04 エルジー・ケム・リミテッド 半導体モールディング用エポキシ樹脂組成物、これを用いたモールディングフィルムおよび半導体パッケージ
CN114729109A (zh) * 2019-11-15 2022-07-08 东丽株式会社 环氧树脂组合物、预浸料及纤维增强复合材料
WO2023008350A1 (ja) * 2021-07-26 2023-02-02 味の素株式会社 透明樹脂組成物

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109825082A (zh) * 2019-02-10 2019-05-31 成都其其小数科技有限公司 一种聚酯酰亚胺/双马来酰亚胺树脂复合材料及制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009155138A (ja) * 2007-12-25 2009-07-16 Admatechs Co Ltd 微小粒子含有組成物及び微小粒子含有樹脂組成物並びにそれらの製造方法
WO2015012395A1 (ja) * 2013-07-25 2015-01-29 Jnc株式会社 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
WO2016117579A1 (ja) * 2015-01-23 2016-07-28 Jnc株式会社 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
WO2016171024A1 (ja) * 2015-04-21 2016-10-27 株式会社ダイセル ハードコート層形成用樹脂組成物及びその硬化物

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4569233B2 (ja) * 2003-09-09 2010-10-27 チッソ株式会社 熱硬化性樹脂組成物及び硬化膜
JP5086710B2 (ja) * 2007-07-06 2012-11-28 昭和電工株式会社 変性オルガノポリシロキサン、その製造方法、それを含む組成物及び発光ダイオード封止用組成物
TW200909521A (en) * 2007-07-27 2009-03-01 Chisso Corp Composition comprising polyester amide acid and ink-jet composition using the composition
JP5109576B2 (ja) * 2007-10-23 2012-12-26 Jnc株式会社 スクリーン印刷用組成物
JP2010248297A (ja) * 2009-04-10 2010-11-04 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性樹脂及び光硬化性樹脂組成物
TWI550019B (zh) * 2011-12-27 2016-09-21 日本化藥股份有限公司 透明電路基板用環氧樹脂組成物及層合玻璃片
JP6206071B2 (ja) * 2013-10-15 2017-10-04 東レ株式会社 樹脂組成物、それを用いたポリイミド樹脂膜、それを含むカラーフィルタ、tft基板、表示デバイスおよびそれらの製造方法
JP6374714B2 (ja) * 2014-06-26 2018-08-15 旭化成株式会社 エポキシ樹脂組成物、接着剤、硬化物及び電子部材

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009155138A (ja) * 2007-12-25 2009-07-16 Admatechs Co Ltd 微小粒子含有組成物及び微小粒子含有樹脂組成物並びにそれらの製造方法
WO2015012395A1 (ja) * 2013-07-25 2015-01-29 Jnc株式会社 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
WO2016117579A1 (ja) * 2015-01-23 2016-07-28 Jnc株式会社 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
WO2016171024A1 (ja) * 2015-04-21 2016-10-27 株式会社ダイセル ハードコート層形成用樹脂組成物及びその硬化物

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021503033A (ja) * 2018-01-11 2021-02-04 エルジー・ケム・リミテッド 半導体モールディング用エポキシ樹脂組成物、これを用いたモールディングフィルムおよび半導体パッケージ
US11702520B2 (en) 2018-01-11 2023-07-18 Lg Chem, Ltd. Epoxy resin composition for molding semiconductor, molding film and semiconductor package using the same
JP2019139091A (ja) * 2018-02-13 2019-08-22 Jnc株式会社 感光性組成物
CN114729109A (zh) * 2019-11-15 2022-07-08 东丽株式会社 环氧树脂组合物、预浸料及纤维增强复合材料
WO2023008350A1 (ja) * 2021-07-26 2023-02-02 味の素株式会社 透明樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2017183226A1 (ja) 2019-02-21
CN109071774A (zh) 2018-12-21
KR20180135886A (ko) 2018-12-21
CN109071774B (zh) 2021-08-03
JP6729684B2 (ja) 2020-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6973461B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
JP6729684B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
JP2016138264A (ja) 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
JP6687854B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
JP2016160420A (ja) 熱硬化性組成物、硬化膜、硬化膜付基板、電子部品および表示装置
JP6288091B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
JP2019139091A (ja) 感光性組成物
WO2018190346A1 (ja) 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板、電子部品およびインクジェット用インク
JP2017197616A (ja) 熱硬化性樹脂組成物、およびその硬化物を利用した電子デバイス
JP6996548B2 (ja) インクジェット用インク組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
JP6733261B2 (ja) 組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜付き部材、電子・電気部品、および部材の製造方法
JP7092117B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板、電子部品およびインクジェット用インク
JP2019183044A (ja) 熱硬化性樹脂組成物、これを用いたインクジェットインク、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
JP6459553B2 (ja) インクジェットインク、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
JP2017179128A (ja) 熱硬化性樹脂組成物の硬化物、硬化物を備えた基板および電子部品の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2018512773

Country of ref document: JP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20187024329

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 16899497

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 16899497

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1