WO2017170668A1 - 高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物 - Google Patents

高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物 Download PDF

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    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means

Definitions

  • the present invention relates to a resin composition for forming a high refractive index cured film.
  • a protective film, an insulating film, and the like necessary for a touch panel and the like have been formed in a necessary portion by pattern processing by a photolithography method using a photosensitive resin composition.
  • pattern processing by the photolithography method has a problem that not only the process is complicated but also the cost is high.
  • a composition that can form a protective film, an insulating film, and the like at a necessary site has been proposed by a simpler method and at a lower cost (see, for example, Patent Document 1).
  • the transmittance and visibility are often improved by suppressing the reflection of light by providing a coating film having a high refractive index (see, for example, Patent Document 2).
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and can provide a composition that not only can be formed at a necessary site by a simple method such as a printing method but also provides a cured film having a high refractive index. Objective.
  • a composition containing a predetermined fluorene compound and a predetermined aromatic ring-containing polymer can provide a cured film having a high refractive index.
  • the present invention has been completed.
  • the present invention provides the following resin composition for forming a high refractive index cured film.
  • a fluorene compound represented by the formula [1] and
  • a resin composition for forming a high refractive index cured film comprising an aromatic ring-containing polymer containing a repeating unit derived from an aromatic ring-containing compound containing a polymerizable double bond.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group
  • L 1 and L 2 each independently include a phenylene group or a substituent which may contain a substituent.
  • An optionally substituted naphthalenediyl group, L 3 and L 4 each independently represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and m and n are 0 ⁇ m ⁇ 40, 0 ⁇ n ⁇ 40 and 0 ⁇ . represents an integer satisfying m + n ⁇ 40.
  • (c) 1 high refractive index cured film forming resin composition containing a solvent. 3.
  • the polyfunctional (meth) acrylate compound includes 4 containing at least one selected from the group consisting of a compound containing three (meth) acryloyl groups and a compound containing four (meth) acryloyl groups in one molecule.
  • G The resin composition for high refractive index cured film formation of 8 in which a silane coupling agent contains the silane compound represented by Formula [4].
  • R 6 represents a methyl group or an ethyl group
  • X represents a hydrolyzable group
  • Y represents a reactive functional group
  • L 7 represents a single bond or an alkylene having 1 to 10 carbon atoms.
  • A represents an integer of 0 to 2.
  • the resin composition for forming a high refractive index cured film according to any one of 1 to 10 which is used for a screen printing method.
  • a high refractive index cured film obtained from the high refractive index cured film forming resin composition of any one of 12.1 to 11.
  • a conductive member comprising a base material on which a metal electrode and / or metal wiring is formed, and 12 high refractive index cured films formed on the base material so as to be in contact with the electrode and / or wiring.
  • the cured film obtained using the composition of the present invention can be easily formed by a simple method such as a printing method, has a high refractive index, and is excellent in light transmittance. Therefore, the composition of the present invention can form a cured film such as a protective film, a planarizing film, or an insulating film in various displays such as an organic electroluminescence (EL) element, or a protective film or an insulating film in a touch panel.
  • EL organic electroluminescence
  • the resin composition for forming a high refractive index cured film of the present invention includes (a) a fluorene compound represented by the formula [1] described later, and (b) (meth) acrylic acid and / or an aliphatic (meth) acrylate compound. And an aromatic ring-containing polymer containing a repeating unit derived from an aromatic ring-containing compound containing a polymerizable double bond (excluding those having a silane structure in the side chain).
  • R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • L 1 and L 2 each independently represent a phenylene group which may contain a substituent or a naphthalenediyl group which may contain a substituent.
  • L 3 and L 4 each independently represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms.
  • naphthalenediyl group which may contain the substituent include 1,2-naphthalenediyl group, 1,4-naphthalenediyl group, 1,5-naphthalenediyl group, 1,8-naphthalenediyl group, and 2,3. -Naphthalenediyl group, 2,6-naphthalenediyl group and the like.
  • L 1 and L 2 are preferably a 1,4-phenylene group or the like.
  • alkylene group examples include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a methylethylene group, a tetramethylene group, a 1-methyltrimethylene group, a 1,1-dimethylethylene group, a pentamethylene group, and a 1-methyltetramethylene group.
  • 2-methyltetramethylene group 1,1-dimethyltrimethylene group, 1,2-dimethyltrimethylene group, 2,2-dimethyltrimethylene group, 1-ethyltrimethylene group, hexamethylene group, 1-methylpenta Methylene group, 2-methylpentamethylene group, 3-methylpentamethylene group, 1,1-dimethyltetramethylene group, 1,2-dimethyltetramethylene group, 2,2-dimethyltetramethylene group, 1-ethyltetramethylene group 1,1,2-trimethyltrimethylene group, 1,2,2-trimethyltrimethylene group, 1-ethyl- - methyltrimethylene group, a 1-ethyl-2-methyltrimethylene group.
  • an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms is preferable.
  • an ethylene group, a trimethylene group, a methylethylene group, a tetramethylene group, a 1-methyltrimethylene group, 1 1,1-dimethylethylene group and the like are preferable.
  • m and n represent integers satisfying 0 ⁇ m ⁇ 40, 0 ⁇ n ⁇ 40 and 0 ⁇ m + n ⁇ 40.
  • m and n are preferably integers that satisfy 0 ⁇ m ⁇ 30, 0 ⁇ n ⁇ 30, and 0 ⁇ m + n ⁇ 30, and satisfy 0 ⁇ m ⁇ 20, 0 ⁇ n ⁇ 20, and 2 ⁇ m + n ⁇ 20.
  • the compound represented by the formula [1] include, for example, 9,9-bis (4-((meth) acryloyloxy) phenyl) -9H-fluorene, 9,9-bis (4- (2- (Meth) acryloyloxyethoxy) phenyl) -9H-fluorene, 9,9-bis (4- (2- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy) phenyl) -9H-fluorene, Ogsol® EA -0200, EA-0300, EA-F5003, EA-F5503, EA-F5510, EA-F5710, GA-5000 (above, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.), NK ester A-BPEF (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) But not limited to these).
  • the content of the fluorene compound as the component (a) is preferably 1 to 200 parts by mass, more preferably 5 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the aromatic ring-containing polymer as the component (b). 10 to 100 parts by mass is even more preferable. If content of the fluorene compound of (a) component is the said range, a refractive index is high and the cured film of sufficient hardness is obtained.
  • the aromatic ring-containing polymer (b) is a repeating unit derived from (meth) acrylic acid and / or an aliphatic (meth) acrylate compound (excluding those having a silane structure in the side chain), and polymerizability. It includes a repeating unit derived from an aromatic ring-containing compound containing a double bond.
  • Examples of the aliphatic (meth) acrylate compound include those represented by the formula [2].
  • R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • R 4 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a hydroxy group, an epoxy group, a (meth) acryloyl group or an isocyanato group.
  • the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be linear, branched or cyclic.
  • Examples of the aliphatic (meth) acrylate compound include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, and 2,2,2 (meth) acrylic acid.
  • Examples include 4-hydroxybutyl acid.
  • the aliphatic (meth) acrylate compound preferably contains one kind selected from methyl (meth) acrylate and ethyl (meth) acrylate, and more preferably. , Including methyl (meth) acrylate.
  • the aromatic ring-containing compound containing a polymerizable double bond is not particularly limited as long as it can be copolymerized with (meth) acrylic acid or an aliphatic (meth) acrylate compound.
  • aromatic ring-containing compounds include those represented by the following formula [3].
  • R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • L 5 represents a single bond or —C ( ⁇ O) —OL 6 —
  • L 6 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may contain an ether bond.
  • Ar represents an aromatic ring-containing group having 6 to 20 carbon atoms, and part or all of the hydrogen atoms of the aromatic ring-containing group are halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom, iodine atom; methyl group, ethyl group, etc. May be substituted with a substituent such as an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • L 6 includes a single bond, a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a methylethylene group, a tetramethylene group, an ethyleneoxyethylene group, a 3,6-dioxaoctane-1,8-diyl group (—CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —), (methylethylene) oxy (methylethylene) group and the like are preferable.
  • aromatic ring-containing group examples include a phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 1-anthryl group, 2-anthryl group, 9-anthryl group, 1-phenanthryl group, 2-phenanthryl group, 3- Aryl groups such as phenanthryl group, 4-phenanthryl group, 9-phenanthryl group, 2-biphenylyl group, 3-biphenylyl group, 4-biphenylyl group, 9H-carbazol-9-yl group; phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 1-anthryloxy group, 2-anthryloxy group, 9-anthryloxy group, 1-phenanthryloxy group, 2-phenanthryloxy group, 3-phenanthryloxy group 4-phenanthryloxy group, 9-phenanthryloxy group, 2-biphenylyloxy group, 3-biphenylyloxy group Groups, aryloxy groups such as
  • the aromatic ring-containing group includes phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 2-biphenylyl group, 3-biphenylyl group, 4-biphenylyl group, 9H-carbazol-9-yl group, phenoxy group 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 2-biphenylyloxy group, 3-biphenylyloxy group, 4-biphenylyloxy group, 2-phenoxyphenyl group, 3-phenoxyphenyl group, 4-phenoxyphenyl Groups are preferred.
  • Examples of the aromatic ring-containing compound represented by the formula [3] include an aromatic ring-containing vinyl compound and an aromatic ring-containing (meth) acrylate compound.
  • aromatic ring-containing vinyl compound examples include styrenes such as styrene, ⁇ -methylstyrene, chlorostyrene, bromostyrene, 4-tert-butylstyrene; 1-vinylnaphthalene, 2-vinylnaphthalene, 2-vinylanthracene, 9- Aromatic vinyl compounds such as vinylanthracene, 2-vinylbiphenyl, 3-vinylbiphenyl, 4-vinylbiphenyl, N-vinylcarbazole and the like can be mentioned.
  • styrenes such as styrene, ⁇ -methylstyrene, chlorostyrene, bromostyrene, 4-tert-butylstyrene
  • 1-vinylnaphthalene 2-vinylnaphthalene
  • 2-vinylanthracene 2-vinylanthracene
  • 9- Aromatic vinyl compounds such as vinylanthracene
  • aromatic ring-containing (meth) acrylate compound examples include phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 1-phenylethyl (meth) acrylate, 2-phenylethyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic.
  • 1-naphthyl acid 1-naphthylmethyl (meth) acrylate, 2-naphthyl (meth) acrylate, 2-naphthylmethyl (meth) acrylate, 9-anthryl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid 9- Anthrylmethyl, 9-phenanthrylmethyl (meth) acrylate, 1-phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxybenzyl (meth) acrylate, (meth) acryl 3-phenoxybenzyl acid, 4-phenoxybenzyl (meth) acrylate, 2- (2-biphenylyloxy) ethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic Examples include 2- (3-biphenylyloxy) ethyl acid, 2- (4-biphenylyloxy) ethyl (meth) acrylate, and the like.
  • aromatic ring-containing compound represented by the formula [3] styrene, 2-phenoxybenzyl (meth) acrylate, 3-phenoxybenzyl (meth) acrylate, 4-phenoxybenzyl (meth) acrylate , 2- (2-biphenylyloxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (3-biphenylyloxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (4-biphenylyloxy) ethyl (meth) acrylate, etc.
  • Styrene, 3-phenoxybenzyl (meth) acrylate, 2- (2-biphenylyloxy) ethyl (meth) acrylate, and the like are more preferable.
  • aromatic ring-containing compounds can be used singly or in combination of two or more.
  • the aromatic ring-containing polymer of the component may contain other repeating units other than the repeating unit as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • Typical examples of the monomer that gives other repeating units include vinyl compounds, maleimides, acrylonitrile, and maleic anhydride.
  • Examples of the vinyl compound include methyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
  • maleimides examples include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide and the like.
  • the repeating unit derived from the aromatic ring-containing compound containing a polymerizable double bond is (meth) acrylic acid and / or ( It is preferably contained in an amount of 0.3 to 20 mol, more preferably 0.5 to 10 mol, and even more preferably 1 to 5 mol with respect to 1 mol of the repeating unit derived from the (meth) acrylate compound. .
  • the inclusion of repeating units derived from (meth) acrylic acid and / or (meth) acrylate compounds and repeating units derived from aromatic ring-containing compounds containing a polymerizable double bond is preferably 50 to 100 mol%, more preferably 75 to 100 mol%, and even more preferably 100 mol%.
  • the aromatic ring-containing polymer of component (b) can be synthesized by polymerizing the monomer that gives the repeating unit described above.
  • radical polymerization anionic polymerization, cationic polymerization, and the like can be adopted.
  • radical polymerization is preferable because a polymer having a weight average molecular weight (Mw) necessary in the present invention can be produced relatively easily.
  • the initiator examples include peroxides such as benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, tert-butyl hydroperoxide; persulfates such as sodium persulfate, potassium persulfate, ammonium persulfate; azobisisobutyronitrile, azobis (2 -Methylbutyronitrile), azobisisovaleronitrile, azo compounds such as 2,2′-azobis (isobutyric acid) dimethyl, and the like.
  • the amount of such an initiator used varies depending on the type and amount of the monomer and the reaction temperature, and thus cannot be specified unconditionally, but is usually about 0.005 to 0.05 mol per 1 mol of the monomer.
  • the reaction temperature during the polymerization may be appropriately set from 0 ° C. to the boiling point of the solvent used, but is usually about 20 to 100 ° C.
  • the reaction time is about 0.1 to 30 hours.
  • Polymerization is preferably performed in a solvent, and a solvent generally used in this kind of reaction can be used as a solvent for the polymerization reaction.
  • a solvent generally used in this kind of reaction can be used as a solvent for the polymerization reaction.
  • water methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, 2-methyl-2-propanol, 1-pentanol, 2- Pentanol, 3-pentanol, 3-methyl-1-butanol, 2-methyl-2-butanol, 1-hexanol, 1-heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, 2-octanol, 2-ethyl-1- Alcohols such as hexanol, benzyl alcohol, cyclohexanol; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, cyclopen
  • Dialkylene glycol monoalkyl ether acetates such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl propionate, cellosolve acetate; n-pentane, n-hexane, n -Heptane, n-octane, n-nonane, n-decane, cyclopentane, methylcyclope Aliphatic or aromatic hydrocarbons such as tan, cyclohexane, methylcyclohexane, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene and anisole; acetals such as methylal and diethyl acetal; fatty acids such as formic acid, acetic acid and propionic acid; nitropropane,
  • the weight average molecular weight (Mw) of the aromatic ring-containing polymer of component (b) is preferably 5,000 to 500,000 from the viewpoint of preparing a composition that ensures the solubility of the polymer and gives a suitable cured film. is there.
  • the upper limit value of the Mw of the polymer is preferably 200,000, more preferably 150,000, still more preferably 100,000, still more preferably.
  • the lower limit is preferably 10,000, more preferably 15,000, still more preferably 30,000, Preferably it is 40,000.
  • Mw is a measured value in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC).
  • the aromatic ring-containing polymer may be a random copolymer, an alternating copolymer, or a block copolymer.
  • the composition of the present invention may contain (c) a solvent.
  • the solvent can dissolve the components (a) and (b) described above, and (d) a monofunctional (meth) acrylate compound, (e) a polyfunctional (meth) acrylate compound, and (f) an ion trap described later.
  • an agent (g) a silane coupling agent, (h) a radical polymerization initiator, a polymerization inhibitor, other additives and the like, there is no particular limitation as long as these can be dissolved.
  • the solvent include diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, 1,2-ethanediol (ethylene glycol), 1,2-propanediol (propylene glycol), 1,2-butanediol, 2,3-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol (hexylene glycol), 1,3-octylene Glycols such as glycol and 3,6-octylene glycol; Triols such as glycerin; Ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoisobutylene
  • Alkyl aryl ethers Alkyl aralkyl ethers such as ethyl benzyl ether; Cyclic alkyl monoethers such as 2-methylfuran, tetrahydrofuran, tetrahydropyran; Cyclic alkyl diethers such as 1,4-dioxane; Cyclic alkyl triethers such as trioxane; Diepoxyalkyl ethers such as diglycidyl ether; Ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, sec-butyl acetate, tert-butyl acetate, n-pentyl acetate, (3-methylbutyl) acetate, n-hexyl acetate, (2-ethylbutyl ) Alkyl acetates such as linear or branched alkyl acetate
  • Alkyl butyrates such as cycloalkyl butyrate and cyclic alkyl butyrate such as 2-methylcyclohexyl butyrate; ethyl lactate, n-propyl lactate, isopropyl lactate, n-butyl lactate, isobutyl lactate, sec-butyl lactate, tert Linear or branched alkyl lactates such as butyl lactate, n-pentyl lactate, (3-methylbutyl) lactate, n-hexyl lactate, (2-ethylbutyl) lactate, (2-ethylhexyl) lactate, cyclohexyl lactate, 2 Alkyl esters such as alkyl lactates such as cyclic alkyl lactates such as methylcyclohexyl lactate; Aralkyl acetates such as aralkyl acetates such as benzyl acetate, aralkyl
  • the composition of the present invention is preferably 150 ° C. or higher, more preferably 180 ° C. or higher, and still more preferably 200 ° C. or higher, from the viewpoint of obtaining a suitable film with good reproducibility when the composition is applied by a printing method.
  • the composition of the present invention is a solvent having a characteristic of dissolving the aromatic ring-containing polymer as the component (b), specifically, glycols. , Alkylene glycol diacetates, dialkylene glycol monoalkyl ethers, dialkylene glycol monoaralkyl ethers, dialkylene glycol monoaryl ethers, alkylene glycol monoalkyl ether acetates and alkylene glycol monoaralkyl ethers Preferably it contains seeds.
  • solvents include propylene glycol diacetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, Diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monophenyl Ether, ethylene glycol monobenzyl ether, diethylene glycol benzyl ether, and the like, without limitation.
  • the solvent of component (c) is preferably in an amount such that the solid content concentration in the composition of the present invention is 1 to 95% by mass, more preferably in an amount such that the solid content concentration is 5 to 90% by mass, An amount such that the solid content concentration is 10 to 85% by mass is even more preferable.
  • solid content means what remove
  • composition of the present invention is for the purpose of adjusting the adhesion and hardness of the cured film, and further, monofunctional (meth) acrylate compound, polyfunctional (meth) acrylate compound, radical polymerization initiator, silane coupling agent, polymerization Inhibitors may be included.
  • the composition of the present invention may contain (d) a monofunctional (meth) acrylate compound.
  • the monofunctional (meth) acrylate compound is a compound containing one (meth) acryloyl group in the molecule.
  • the aliphatic component exemplified as the monomer component of the aromatic ring-containing polymer (b) component examples thereof include (meth) acrylate compounds and aromatic ring-containing (meth) acrylate compounds.
  • an aromatic ring-containing (meth) acrylate compound is preferable, and in particular, those exemplified as the aromatic ring-containing (meth) acrylate compound represented by the formula [3] preferable.
  • a monofunctional (meth) acrylate compound can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • aromatic ring-containing (meth) acrylate compounds include benzyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxybenzyl (meth) acrylate, and 3-phenoxy (meth) acrylate.
  • benzyl (meth) acrylate, 3-phenoxybenzyl (meth) acrylate, and 2- (2-biphenylyloxy) ethyl (meth) acrylate are more preferred, and 3-phenoxybenzyl (meth) acrylate is more preferred. Even more preferred.
  • the content of the monofunctional (meth) acrylate compound as the component (d) is preferably 0 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the aromatic ring-containing polymer as the component (b) from the viewpoint of the refractive index of the resulting cured film. 0 to 50 parts by mass is more preferable, and 0 to 30 parts by mass is even more preferable.
  • the composition of the present invention may contain (e) a polyfunctional (meth) acrylate compound from the viewpoint of adjusting the physical properties of the cured film.
  • the polyfunctional (meth) acrylate compound is a compound containing at least two (meth) acryloyl groups in the molecule. Specifically, an ester of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid is used. Can be mentioned. Further, particularly from the viewpoint of improving the hardness, the number of (meth) acryloyl groups in one molecule of the polyfunctional (meth) acrylate compound is preferably 3 to 6, more preferably 3 or 4.
  • polyhydric alcohols examples include glycerol, erythritol, pentaerythritol, trimethylolethane, trimethylolpropane, dipentaerythritol, ditrimethylolpropane, and the like.
  • polyfunctional (meth) acrylate compound examples include two (meth) acryloyl groups such as neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, and ethylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate.
  • a bifunctional (meth) acrylate compound having three (meth) acryloyl groups such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, etc.
  • Acrylate compound tetrafunctional (meth) acrylate compound having four (meth) acryloyl groups such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate and ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate; dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Dipentaerythritol hexa (meth) 5 or 6 (meth) 5-6 functional having an acryloyl group (meth) acrylate compounds such as acrylate and the like, but not limited thereto.
  • a polyfunctional (meth) acrylate compound can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • the polyfunctional (meth) acrylate compound can be easily obtained as a commercial product.
  • Specific examples thereof include, for example, KAYARAD (registered trademark) NPGDA, R-551, T-1420 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. , DPHA, DPHA-2C, D-310, D-330, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, DN-0075, DN-2475, R-526, MANDA, GPO-303, TMPTA , THE-330, TPA-320, TPA-330, PET-30, RP-1040; Aronix (registered trademark) M-211B, M-6200, M-309, M-400, M- manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • the polyfunctional (meth) acrylate compound contained in the composition of the present invention contains at least one polyfunctional (meth) acrylate compound having 3 or 4 (meth) acryloyl groups. .
  • the content thereof is preferably 10 to 300 parts by mass, and 20 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the aromatic ring-containing polymer as the component (b). More preferred is 50 to 150 parts by mass. If content is the said range, the hardness improvement effect of a cured film will be acquired and a crack will not generate
  • the composition of the present invention may contain (f) an ion trapping agent.
  • the ion trapping agent prevents migration due to contact of the metal wiring, etc. with water, especially when the substrate is made of metal or when metal wiring is formed on the substrate. It has the function to do.
  • a preferred example of the ion trapping agent includes a compound having a nitrogen-based heterocyclic ring in the structure.
  • the nitrogen-based heterocyclic ring has a cyclic structure having a 3-membered ring or more having a saturated or unsaturated bond, and one or more nitrogen atoms in the cyclic structure.
  • nitrogen-based heterocycle examples include those having a saturated bond, such as aziridine (ethyleneimine), azetidine (azacyclobutane), azolidine (pyrrolidine), azinan (piperidine), azepane (hexamethyleneimine), and the like.
  • azirine (1H-azirine, 2H-azirine), azeto (azacyclobutadiene), azole (1H-pyrrole, 2H-pyrrole, imidazole, pyrazole, 1,2,3-triazole, 1,2 , 4-triazole, 1H-tetrazole), pyridine, azepine (azatropylidene), imidazoline, pyrazine, triazine (1,2,3-triazine, 1,2,4-triazine, 1,3,5-triazine), etc.
  • porphyrins and choline with multiple nitrogen-based heterocycles And phthalocyanine are examples of the alpha-1, 1,2,3-triazine, 1,2,4-triazine, 1,3,5-triazine.
  • the nitrogen-based heterocycle may be condensed with nitrogen-based heterocycles or aromatic hydrocarbon compounds (benzene ring, naphthalene ring, etc.), for example, benzotriazole, indole, isoindole, benzimidazole, quinoline. , Isoquinoline, quinoxaline, cinnoline, purine, pteridine, acridine, carbazole and the like.
  • aromatic hydrocarbon compounds benzene ring, naphthalene ring, etc.
  • the nitrogen-based heterocycle may contain other heteroatoms other than nitrogen atoms, such as thiazole containing sulfur atoms, isothiazole, thiazine, etc., oxazole containing oxygen atoms, isoxazole, Examples include furazane, morpholine, 3-pyrazolone, 5-pyrazolone, and benzoxazole.
  • an addition compound of a nitrogen-based heterocyclic ring in which another nitrogen-based heterocyclic ring such as isocyanuric acid is added to these nitrogen-based heterocyclic rings may be used.
  • these nitrogen-based heterocycles can be used alone or in combination.
  • the compound having a nitrogen-based heterocycle in the structure include 2,4-diamino-6-vinyl-1,3,5-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-1,3,5- Triazine isocyanuric acid adduct salt, 2,4-diamino-6- (2- (meth) acryloyloxyethyl) -1,3,5-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (hexyloxy) phenyl]- 4,6-diphenyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (2,4-dimethylphenyl) -6- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2- (2-hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -4,6-diphenyl-1,3,5-triazine, 2- [2-hydroxy-4- [3- (2-ethylhexyl-1-oxy)- 2-hydroxypropyl
  • the ion trapping agent preferably includes a 1H-benzotriazole compound, more preferably includes 1H-benzotriazole optionally substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and 5-methyl-1H— Even more preferably, it contains benzotriazole.
  • the compound having a nitrogen-based heterocycle in the structure can be synthesized by a known method, or can be obtained as a commercial product.
  • Specific examples of commercially available products include Tinuvin (registered trademark) 234, 326, 328, 329, 400, 405, 460, 571, 928, 1577, P, PS, UVITEX (registered trademark) OB, IRGAGUARD (registered trademark) D.
  • ion trapping agents include hydrazide derivatives and sulfur-containing phosphites.
  • Specific examples thereof include decamethylene dicarboxylic acid disalicyloyl hydrazide, N, N′-bis [3- [3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl] propionyl] hydrazine, 2,2′- Oxamidobis [ethyl 3- (3,5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], bisbenzylidene hydrazide oxalate, bis (2-phenoxypropionylhydrazide) isophthalate, tris [2-tert-butyl-4- ( And 2'-methyl-4'-hydroxy-5'-tert-butylphenylthio) -5-methylphenyl] phosphite. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the hydrazide derivative and sulfur-containing phosphites can be synthesized by a known method or can be obtained as a commercial product.
  • Specific examples of commercially available products include Inhibitor OABH (manufactured by Eastman), Adekastab (registered trademark) CDA-6 (manufactured by ADEKA), Irganox (registered trademark) MD 1024 (manufactured by BASF), and the like.
  • the content is preferably from the viewpoint of obtaining a thin film excellent in hardness, adhesion, etc. with good reproducibility with respect to 100 parts by mass of the aromatic ring-containing polymer of component (b). It is preferably 20 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less, and preferably 0.001 parts by mass or more, more preferably 0.005 parts by mass or more, and still more preferably 0.01 from the viewpoint of excellent migration suppressing ability. More than part by mass.
  • the composition of the present invention may contain (g) a silane coupling agent from the viewpoint of improving the adhesion of the resulting cured film to a substrate or the like.
  • the silane coupling agent has the formula The silane compound represented by [4] is included.
  • R 6 represents a methyl group or an ethyl group.
  • X represents a hydrolyzable group.
  • Y represents a reactive functional group.
  • L 7 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
  • a represents an integer of 0 to 2.
  • Examples of the alkylene group having 1 to 10 carbon atoms represented by L 7 include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a methylethylene group, a tetramethylene group, a 1-methyltrimethylene group, a pentamethylene group, and 2,2-dimethyl.
  • a trimethylene group, a hexamethylene group, an octamethylene group, a decamethylene group, etc. are mentioned. Among these, a trimethylene group is preferable.
  • Examples of the hydrolyzable group represented by X include a halogen atom, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, and an alkoxyalkoxy group having 2 to 4 carbon atoms.
  • Examples of the halogen atom include a chlorine atom and a bromine atom.
  • the alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms is preferably linear or branched, and specifically includes a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, and an isopropoxy group.
  • Specific examples of the alkoxyalkoxy group having 2 to 4 carbon atoms include a methoxymethoxy group, a 2-methoxyethoxy group, an ethoxymethoxy group, and a 2-ethoxyethoxy group.
  • Examples of the reactive functional group represented by Y include an amino group, a ureido group, a (meth) acryloyloxy group, a vinyl group, an epoxy group, and a mercapto group.
  • an amino group, a ureido group, and a (meth) acryloyloxy group are preferable, and an amino group or a ureido group is more preferable.
  • silane coupling agent examples include 3-aminopropyltrichlorosilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyl (methyl) (dimethoxy) silane, 3-aminopropyl ( Methyl) (diethoxy) silane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltriethoxysilane, vinyltrichlorosilane , Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrichlorosilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltri
  • 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meta ) Acrylyloxypropyltriethoxysilane and the like are preferable.
  • the silane coupling agent can be synthesized by a known method or can be obtained as a commercial product. Moreover, a silane coupling agent can be used 1 type or in combination of 2 or more types.
  • the content is preferably 0.001 to 10 parts by mass, and 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the aromatic ring-containing polymer as component (b). Is more preferable, and 0.05 to 1 part by mass is even more preferable. If content is the said range, the adhesive improvement effect will be acquired and hardness will not fall.
  • the composition of the present invention may contain (h) a radical polymerization initiator in order to promote polymerization of the polymerizable component contained in the composition.
  • a radical polymerization initiator in order to promote polymerization of the polymerizable component contained in the composition.
  • a low-temperature curing treatment or a photo-curing treatment can be performed by the radical polymerization initiator.
  • the radical polymerization initiator may be any substance that can release a substance that initiates radical polymerization by light irradiation and / or heating.
  • photo radical polymerization initiators include benzophenone derivatives, imidazole derivatives, bisimidazole derivatives, N-aryl glycine derivatives, organic azide compounds, titanocene compounds, aluminate complexes, organic peroxides, N-alkoxypyridinium salts, thioxanthone derivatives. Etc.
  • IRGACURE registered trademark 651, 184, 369, 784 manufactured by BASF.
  • commercially available products other than those described above can also be used. Specifically, IRGACURE 500, 907, 379, 819, 127, 754, 250, 1800, 1870, OXE01, TPO, DAROCUR (registered trademark) 1173 manufactured by BASF; Lambson Speedcure (registered trademark) MBB, PBZ, ITX, CTX, EDB; Esacure (registered trademark) ONE, KIP150, KTO46 manufactured by Lamberti; Kayacure (registered trademark) DETX-S, CTX, BMS manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. DMBI and the like.
  • thermal radical polymerization initiator examples include acetyl peroxide, benzoyl peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, hydrogen peroxide, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide, Peroxides such as lauroyl peroxide, tert-butylperoxyacetate, tert-butylperoxypivalate, tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate (tert-butyl-2-ethylhexaneperoxoate); 2,2′-azo Bisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), (1-phenylethyl) azodiphenylmethane, 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4- Dimethyl valeronitrile), di
  • thermal radical polymerization initiators include, for example, NOF Corporation Parroyl (registered trademark) IB, NPP, IPP, SBP, TCP, OPP, SA, 355, L, perbutyl (registered trademark) ND, NHP, MA, PV, 355, A, C, D, E, L, I, O, P, Z, Perhexyl (registered trademark) ND, PV, D, I, O, Z, Perocta (registered trademark) ND, Nyper ( (Registered trademark) PMB, BMT, BW, grabbe (registered trademark) A, perhexa (registered trademark) MC, TMH, HC, 250, 25B, C, 25Z, 22, V, perocta (registered trademark) O, park mill (registered trademark) ) ND, D, Permenta (registered trademark) H, NOFMER (registered trademark) BC; V-70, V-65, V-59, V-40, V
  • the content thereof is preferably 1 to 20 parts by mass and more preferably 1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the aromatic ring-containing polymer of the (b) component.
  • the composition of the present invention may contain a polymerization inhibitor, if necessary.
  • a polymerization inhibitor examples include 2,6-diisobutylphenol, 3,5-di-tert-butylphenol, 3,5-di-tert-butylcresol, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, tert-butylcatechol, 4-methoxy-1-naphthol and the like can be mentioned.
  • a polymerization inhibitor is included, the content thereof is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, based on the total solid content.
  • composition of the present invention may further comprise a surfactant, a crosslinking agent, an antifoaming agent, a rheology modifier, a pigment, a dye, a storage stabilizer, a polyhydric phenol, A dissolution accelerator such as a polyvalent carboxylic acid can be included.
  • the surfactant is not particularly limited, and examples thereof include a fluorine-based surfactant, a silicon-based surfactant, and a nonionic surfactant.
  • this type of surfactant include, for example, F-top (registered trademark) EF301, EF303, EF352 manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd .; Mega-Fac® (registered trademark) F171, F173 manufactured by DIC Corporation; FLUORAD manufactured by 3M (Registered trademark) FC430, FC431; Asahi Guard Co., Ltd. Asahi Guard (registered trademark) AG710, AGC Seimi Chemical Co., Ltd. Surflon (registered trademark) S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106, etc. Can be mentioned.
  • crosslinking agent examples include a polyfunctional epoxy compound, a polyfunctional isocyanate compound, a polyfunctional thiol compound, a melamine-based crosslinking agent, and the like.
  • a polyfunctional (meth) acrylate compound When included, a trifunctional or higher functional thiol compound is preferable.
  • the polyfunctional thiol compound can be obtained as an addition reaction product of a polyhydric alcohol and a monofunctional and / or polyfunctional thiol compound.
  • Specific compounds include 1,3,5-tris (2- (3-mercaptopropionyloxy) ethyl) isocyanurate, 1,3,5-tris (2- (3-mercaptobutyryloxy) ethyl) isocyanate.
  • Trifunctional thiol compounds such as Nurate (Showa Denko KK, Karenz MT (registered trademark) NR1), trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate); pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), penta Tetrafunctional thiol compounds such as erythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate) (produced by Showa Denko KK, Karenz MT ⁇ PEI); hexafunctional thiol compounds such as dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) It is done.
  • Antifoaming agents include, but are not limited to, acetylene glycol, silicone fluids and emulsions, ethoxylated or propoxylated silicones, hydrocarbons, fatty acid ester derivatives, acetylated polyamides, poly (alkylene oxide) polymers and copolymers, and the like. .
  • the composition of the present invention preferably contains an antifoaming agent.
  • the viscosity at 25 ° C. of the composition of the present invention is preferably 1 to 10,000 mPa ⁇ s, more preferably 1 to 5,000 mPa ⁇ s, and still more preferably 1 to 1,000 mPa ⁇ s from the viewpoint of applicability. s. If a viscosity is the said range, applicability
  • the viscosity at 25 ° C. of the composition of the present invention is preferably 10 to 100,000 mPa ⁇ s, more preferably 500 to 100,000 mPa ⁇ s, and still more preferably 1,000 to 10,000 from the viewpoint of printability. 100,000 mPa ⁇ s. If the viscosity is within the above range, the discharge property is good, there is no load on the process, the composition does not diffuse after coating, and the transfer property of the composition to the substrate does not decrease. .
  • the viscosity of the composition of the present invention at 25 ° C. is preferably 10 to 100,000 mPa ⁇ s, more preferably 5,000 to 100,000 mPa ⁇ s, and even more preferably 20,000 to 100,000 mPa ⁇ s. -S. If the viscosity is within the above range, the discharge property is good, there is no load on the process, the composition does not diffuse after coating, and the transfer property of the composition to the substrate does not decrease. . In the present invention, the viscosity is a value measured with an E-type viscometer.
  • the method for preparing the composition of the present invention is not particularly limited. As an example, there may be mentioned a method in which the aromatic ring-containing polymer of component (b) is dissolved in a solvent, and other components are mixed in this solution at a predetermined ratio to obtain a uniform solution.
  • the aromatic ring-containing polymer-containing solution obtained by the polymerization reaction in a solvent can be used as it is. In this case, what is necessary is just to put another component in an aromatic ring containing polymer containing solution and to make it a uniform solution. Further, a solvent may be further added for the purpose of adjusting the concentration.
  • composition thus prepared is preferably used after being filtered using a filter having a pore diameter of about 0.2 ⁇ m from the viewpoint of obtaining a more uniform cured film.
  • the composition of the present invention is applied to a substrate having electrodes and / or wiring (for example, a silicon / silicon dioxide-coated substrate; a silicon nitride substrate; a metal such as aluminum, molybdenum, chromium, copper, or silver; a metal nanowire such as a silver nanowire; Metal nanoparticles such as silver nanoparticles and copper nanoparticles, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) / poly (styrenesulfonate) (PEDOT / PSS), conductive polymers such as graphene and carbon nanotubes are coated On glass substrate; quartz substrate; indium tin oxide (ITO) substrate; ITO film substrate; resin film substrate such as triacetyl cellulose (TAC) film, polyester film, acrylic film, cycloolefin (COP) film)
  • TAC triacetyl cellulose
  • COC triacetyl cellulose
  • the pre-baking is generally preferably performed at 60 to 150 ° C., more preferably 80 to 120 ° C., for 0.5 to 30 minutes when using a hot plate, and 0.5 to 90 minutes when using an oven. The method is taken.
  • post-baking for thermosetting is performed. Specifically, heating is performed using a hot plate, an oven, or the like. Post bake is generally performed at 150 to 300 ° C., more preferably 200 to 250 ° C., for 1 to 30 minutes when using a hot plate, and 1 to 90 minutes when using an oven. It is done.
  • the composition of the present invention contains a thermal radical polymerization initiator, curing at a low temperature is possible.
  • the pre-bake conditions are the same as described above, but the post-bake temperature is preferably 60 to 200 ° C., more preferably 80 to 150 ° C. Other conditions are the same as described above.
  • photocuring can be performed by irradiating light, such as an ultraviolet-ray (UV), to the said coating film after prebaking.
  • the light preferably has a wavelength in the range of 200 to 500 nm and an exposure amount of 100 to 5,000 mJ / cm 2 .
  • post-baking for thermosetting may be performed. Specifically, heating is performed using a hot plate, an oven, or the like. In general, post-baking is preferably performed at 60 to 150 ° C., more preferably 80 to 120 ° C., for 1 to 30 minutes when using a hot plate, and 1 to 90 minutes when using an oven. It is done.
  • the step of the substrate can be sufficiently flattened, and a cured film having a high refractive index can be formed.
  • the cured film of the present invention can be easily formed by a simple method such as a printing method and has a high refractive index, a protective film, a planarizing film, an insulating film, etc. in various displays such as an organic EL element, touch panel, etc. It is expected as a material for forming a cured film such as a protective film or an insulating film.
  • the conductive member having the cured film of the present invention formed so as to be in contact with the electrode and / or the wiring on the substrate on which the metal electrode and / or the metal wiring is formed has the corrosion of the electrode and / or the wiring. Therefore, an increase in resistance in the electrodes and wiring, separation between the electrodes and metal and other members, and the like are suppressed, and as a result, durability is excellent.
  • Nertaro Awatori (registered trademark) ARE-310 (2) Spin coater: Cee (registered trademark) 100 manufactured by Brewer Science (3) UV exposure apparatus: Heraeus belt conveyor type UV lamp system (H bulb) (4) Thermostatic chamber: Small environmental tester SH-222 manufactured by ESPEC Corporation (5) Gel permeation chromatography (GPC) Equipment: Shodex (registered trademark) GPC-101 manufactured by Showa Denko KK Column: Shodex GPC KF-803L + KF-804L manufactured by Showa Denko K.K.
  • GPC Gel permeation chromatography
  • EPPA Ethoxylated o-phenylphenol acrylate (NK ester A-LEN-10 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
  • MAA Methacrylic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
  • MMA Methyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
  • POBA 3-phenoxybenzyl acrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Examples 2 to 4 Comparative Examples 1 and 2
  • Each varnish was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of each component was changed as shown in Table 1.
  • the cured film obtained from the composition of the present invention had a high refractive index of 1.56 or more at a wavelength of 633 nm (Examples 1 to 4).
  • a cured film using a polymer having no aromatic group (Comparative Example 1) and a cured film not containing a fluorene compound (Comparative Example 2) have low refractive indexes of 1.557 and 1.540, respectively. It was.

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Abstract

(a)式[1]で表されるフルオレン化合物、並びに(b)(メタ)アクリル酸及び/又は脂肪族(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位(ただし、側鎖にシラン構造を有するものを除く。)、及び重合性二重結合を含む芳香環含有化合物に由来する繰り返し単位を含む芳香環含有ポリマーを含む高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物を提供する。 (式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、L1及びL2は、それぞれ独立に、置換基を含んでいてもよいフェニレン基又は置換基を含んでいてもよいナフタレンジイル基を表し、L3及びL4は、それぞれ独立に、炭素数1~6のアルキレン基を表し、m及びnは、0≦m≦40、0≦n≦40及び0≦m+n≦40を満たす整数を表す。)

Description

高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物
 本発明は、高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物に関する。
 従来、タッチパネル等に必要な保護膜、絶縁膜等は、感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィー法によるパターン加工によって、必要とする部位に形成されてきた。しかし、フォトリソグラフィー法によるパターン加工は、工程が複雑であるだけでなく、コストもかかるという問題があった。これに対し、より簡便な方法で、かつ低コストで、必要な部位に保護膜、絶縁膜等を形成できる組成物が提案されている(例えば、特許文献1参照)。更に、高屈折率を有する塗膜を設けることにより光の反射を抑制することで、透過率や視認性を向上させることが多くなってきている(例えば、特許文献2参照)。
国際公開第2016/013543号 特開2014-5437号公報
 本発明は、前記事情に鑑みなされたものであり、印刷法等の簡便な方法によって必要な部位に形成することができるだけでなく、高屈折率を有する硬化膜を与える組成物を提供することを目的とする。
 本発明者は、前記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、所定のフルオレン化合物、及び所定の芳香環含有ポリマーを含む組成物が、高屈折率を有する硬化膜を与えることができることを見出し、本発明を完成させた。
 したがって、本発明は、下記高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物を提供する。
1.(a)式[1]で表されるフルオレン化合物、並びに
(b)(メタ)アクリル酸及び/又は脂肪族(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位(ただし、側鎖にシラン構造を有するものを除く。)、及び重合性二重結合を含む芳香環含有化合物に由来する繰り返し単位を含む芳香環含有ポリマー
を含む高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、L1及びL2は、それぞれ独立に、置換基を含んでいてもよいフェニレン基又は置換基を含んでいてもよいナフタレンジイル基を表し、L3及びL4は、それぞれ独立に、炭素数1~6のアルキレン基を表し、m及びnは、0≦m≦40、0≦n≦40及び0≦m+n≦40を満たす整数を表す。)
2.更に、(c)溶媒を含む1の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
3.更に、(d)単官能(メタ)アクリレート化合物を含む1又は2の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
4.更に、(e)多官能(メタ)アクリレート化合物を含む1~3のいずれかの高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
5.(e)多官能(メタ)アクリレート化合物が、1分子中に3つの(メタ)アクリロイル基を含む化合物及び4つの(メタ)アクリロイル基を含む化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む4の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
6.更に、(f)イオントラップ剤を含む1~5のいずれかの高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
7.(f)イオントラップ剤が、ベンゾ-1H-トリアゾール化合物を含む6の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
8.更に、(g)シランカップリング剤を含む1~7のいずれかの高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
9.(g)シランカップリング剤が、式[4]で表されるシラン化合物を含む8の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
(式中、R6は、メチル基又はエチル基を表し、Xは、加水分解性基を表し、Yは、反応性官能基を表し、L7は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表し、aは、0~2の整数を表す。)
10.更に、(h)ラジカル重合開始剤を含む1~9のいずれかの高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
11.スクリーン印刷法用である、1~10のいずれかの高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
12.1~11のいずれかの高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物から得られる高屈折率硬化膜。
13.金属の電極及び/又は金属の配線が形成された基材と、この基材上に前記電極及び/又は配線と接するように形成された12の高屈折率硬化膜とを備える導電性部材。
 本発明の組成物を用いて得られる硬化膜は、印刷法等の簡便な方法によって容易に形成でき、更に、高い屈折率を有し、光透過性にも優れる。そのため、本発明の組成物は、有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子等の各種ディスプレイにおける保護膜、平坦化膜、絶縁膜等、タッチパネルにおける保護膜、絶縁膜等といった硬化膜を形成することができる。高い屈折率を有する硬化膜を設けることで光の反射を抑制でき、透過率や視認性を向上させることができる。
 本発明の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物は、(a)後述する式[1]で表されるフルオレン化合物、並びに(b)(メタ)アクリル酸及び/又は脂肪族(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位(ただし、側鎖にシラン構造を有するものを除く。)、及び重合性二重結合を含む芳香環含有化合物に由来する繰り返し単位を含む芳香環含有ポリマーを含む。
[(a)フルオレン化合物]
 (a)成分のフルオレン化合物は、下記式[1]で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 式[1]中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。L1及びL2は、それぞれ独立に、置換基を含んでいてもよいフェニレン基又は置換基を含んでいてもよいナフタレンジイル基を表す。L3及びL4は、それぞれ独立に、炭素数1~6のアルキレン基を表す。
 前記置換基を含んでいてもよいフェニレン基としては、例えば、1,2-フェニレン基、1,3-フェニレン基、1,4-フェニレン基、2-メチルベンゼン-1,4-ジイル基、2-アミノベンゼン-1,4-ジイル基、2,4-ジブロモベンゼン-1,3-ジイル基、2,6-ジブロモベンゼン-1,4-ジイル基等が挙げられる。
 前記置換基を含んでいてもよいナフタレンジイル基としては、1,2-ナフタレンジイル基、1,4-ナフタレンジイル基、1,5-ナフタレンジイル基、1,8-ナフタレンジイル基、2,3-ナフタレンジイル基、2,6-ナフタレンジイル基等が挙げられる。
 これらのうち、L1及びL2としては、1,4-フェニレン基等が好ましい。
 前記アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、1-メチルトリメチレン基、1,1-ジメチルエチレン基、ペンタメチレン基、1-メチルテトラメチレン基、2-メチルテトラメチレン基、1,1-ジメチルトリメチレン基、1,2-ジメチルトリメチレン基、2,2-ジメチルトリメチレン基、1-エチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、1-メチルペンタメチレン基、2-メチルペンタメチレン基、3-メチルペンタメチレン基、1,1-ジメチルテトラメチレン基、1,2-ジメチルテトラメチレン基、2,2-ジメチルテトラメチレン基、1-エチルテトラメチレン基、1,1,2-トリメチルトリメチレン基、1,2,2-トリメチルトリメチレン基、1-エチル-1-メチルトリメチレン基、1-エチル-2-メチルトリメチレン基等が挙げられる。これらのうち、L3及びL4としては、炭素数2~4のアルキレン基が好ましく、具体的には、エチレン基、トリメチレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、1-メチルトリメチレン基、1,1-ジメチルエチレン基等が好ましい。
 式[1]中、m及びnは、0≦m≦40、0≦n≦40及び0≦m+n≦40を満たす整数を表す。m及びnは、0≦m≦30、0≦n≦30及び0≦m+n≦30を満たす整数であることが好ましく、0≦m≦20、0≦n≦20及び2≦m+n≦20を満たす整数であることがより好ましく、0≦m≦10、0≦n≦10及び2≦m+n≦10を満たす整数であることがより一層好ましく、0≦m≦5、0≦n≦5及び2≦m+n≦10を満たす整数であることが更に好ましい。
 式[1]で表される化合物の具体例としては、例えば、9,9-ビス(4-((メタ)アクリロイルオキシ)フェニル)-9H-フルオレン、9,9-ビス(4-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル)-9H-フルオレン、9,9-ビス(4-(2-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ)フェニル)-9H-フルオレン、オグソール(登録商標)EA-0200、EA-0300、EA-F5003、EA-F5503、EA-F5510、EA-F5710、GA-5000(以上、大阪ガスケミカル(株)製)、NKエステルA-BPEF(新中村化学工業(株)製)等が挙げられるが、これらに限定されない。
 本発明の組成物中、(a)成分のフルオレン化合物の含有量は、(b)成分の芳香環含有ポリマー100質量部に対し、1~200質量部が好ましく、5~150質量部がより好ましく、10~100質量部がより一層好ましい。(a)成分のフルオレン化合物の含有量が前記範囲であれば、屈折率が高く、十分な硬度の硬化膜が得られる。
[(b)芳香環含有ポリマー]
 (b)成分の芳香環含有ポリマーは、(メタ)アクリル酸及び/又は脂肪族(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位(ただし、側鎖にシラン構造を有するものを除く。)、及び重合性二重結合を含む芳香環含有化合物に由来する繰り返し単位を含む。
 前記脂肪族(メタ)アクリレート化合物としては、式[2]で表されるものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 式[2]中、R3は、水素原子又はメチル基を表す。R4は、ヒドロキシ基、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基又はイソシアナト基で置換されていてもよい、炭素数1~20のアルキル基を表す。
 炭素数1~20のアルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等の炭素数1~20の直鎖状又は分岐状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ビシクロブチル基、ビシクロペンチル基、ビシクロヘキシル基、ビシクロヘプチル基、ビシクロオクチル基、ビシクロノニル基、ビシクロデシル基等の炭素数3~20の環状アルキル基等が挙げられる。
 脂肪族(メタ)アクリレート化合物としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸2,2,2-トリフルオロエチル、(メタ)アクリル酸tert-ブチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2,3-ジヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチル等が挙げられる。中でも、得られる硬化膜の光透過性の点から、好ましくは、脂肪族(メタ)アクリレート化合物は、(メタ)アクリル酸メチル及び(メタ)アクリル酸エチルから選ばれる1種を含み、より好ましくは、(メタ)アクリル酸メチルを含む。
 前記重合性二重結合を含む芳香環含有化合物は、(メタ)アクリル酸や脂肪族(メタ)アクリレート化合物と共重合し得るものであれば、特に限定されない。このような芳香環含有化合物としては、下記式[3]で表されるものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 式[3]中、R5は、水素原子又はメチル基を表す。L5は、単結合又は-C(=O)-O-L6-を表し、L6は、単結合、又はエーテル結合を含んでいてもよい炭素数1~6のアルキレン基を表す。Arは、炭素数6~20の芳香環含有基を表し、前記芳香環含有基の水素原子の一部又は全部が、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;メチル基、エチル基等の炭素数1~6のアルキル基等の置換基で置換されていてもよい。
 前記アルキレン基としては、前述したものと同様のものが挙げられる。L6としては、単結合、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、エチレンオキシエチレン基、3,6-ジオキサオクタン-1,8-ジイル基(-CH2CH2OCH2CH2OCH2CH2-)、(メチルエチレン)オキシ(メチルエチレン)基等が好ましい。
 前記芳香環含有基としては、例えば、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、1-アントリル基、2-アントリル基、9-アントリル基、1-フェナントリル基、2-フェナントリル基、3-フェナントリル基、4-フェナントリル基、9-フェナントリル基、2-ビフェニリル基、3-ビフェニリル基、4-ビフェニリル基、9H-カルバゾール-9-イル基等のアリール基;フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ基、1-アントリルオキシ基、2-アントリルオキシ基、9-アントリルオキシ基、1-フェナントリルオキシ基、2-フェナントリルオキシ基、3-フェナントリルオキシ基、4-フェナントリルオキシ基、9-フェナントリルオキシ基、2-ビフェニリルオキシ基、3-ビフェニリルオキシ基、4-ビフェニリルオキシ基等のアリールオキシ基;2-フェノキシフェニル基、3-フェノキシフェニル基、4-フェノキシフェニル基、2-ナフチルオキシフェニル基、3-ナフチルオキシフェニル基、4-ナフチルオキシフェニル基、2-(2-ビフェニリルオキシ)フェニル基、2-(3-ビフェニリルオキシ)フェニル基、2-(4-ビフェニリルオキシ)フェニル基、3-(2-ビフェニリルオキシ)フェニル基、3-(3-ビフェニリルオキシ)フェニル基、3-(4-ビフェニリルオキシ)フェニル基、4-(2-ビフェニリルオキシ)フェニル基、4-(3-ビフェニリルオキシ)フェニル基、4-(4-ビフェニリルオキシ)フェニル基等のアリールオキシアリール基;2-フェノキシエトキシ基、2-ナフチルオキシエトキシ基、2-(2-ビフェニリルオキシ)エトキシ基、2-(3-ビフェニリルオキシ)エトキシ基、2-(4-ビフェニリルオキシ)エトキシ基等のアリールオキシアルコキシ基等が挙げられる。
 これらのうち、芳香環含有基としては、フェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、2-ビフェニリル基、3-ビフェニリル基、4-ビフェニリル基、9H-カルバゾール-9-イル基、フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ基、2-ビフェニリルオキシ基、3-ビフェニリルオキシ基、4-ビフェニリルオキシ基、2-フェノキシフェニル基、3-フェノキシフェニル基、4-フェノキシフェニル基が好ましい。
 式[3]で表される芳香環含有化合物としては、芳香環含有ビニル化合物、芳香環含有(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。
 前記芳香環含有ビニル化合物としては、スチレン、α-メチルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、4-tert-ブチルスチレン等のスチレン類;1-ビニルナフタレン、2-ビニルナフタレン、2-ビニルアントラセン、9-ビニルアントラセン、2-ビニルビフェニル、3-ビニルビフェニル、4-ビニルビフェニル、N-ビニルカルバゾール等の芳香族ビニル化合物等が挙げられる。
 前記芳香環含有(メタ)アクリレート化合物としては、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸1-フェニルエチル、(メタ)アクリル酸2-フェニルエチル、(メタ)アクリル酸1-ナフチル、(メタ)アクリル酸1-ナフチルメチル、(メタ)アクリル酸2-ナフチル、(メタ)アクリル酸2-ナフチルメチル、(メタ)アクリル酸9-アントリル、(メタ)アクリル酸9-アントリルメチル、(メタ)アクリル酸9-フェナントリルメチル、(メタ)アクリル酸1-フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸2-フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸2-フェノキシベンジル、(メタ)アクリル酸3-フェノキシベンジル、(メタ)アクリル酸4-フェノキシベンジル、(メタ)アクリル酸2-(2-ビフェニリルオキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2-(3-ビフェニリルオキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2-(4-ビフェニリルオキシ)エチル等が挙げられる。
 これらのうち、式[3]で表される芳香環含有化合物としては、スチレン、(メタ)アクリル酸2-フェノキシベンジル、(メタ)アクリル酸3-フェノキシベンジル、(メタ)アクリル酸4-フェノキシベンジル、(メタ)アクリル酸2-(2-ビフェニリルオキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2-(3-ビフェニリルオキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2-(4-ビフェニリルオキシ)エチル等が好ましく、スチレン、(メタ)アクリル酸3-フェノキシベンジル、(メタ)アクリル酸2-(2-ビフェニリルオキシ)エチル等がより好ましい。
 前記芳香環含有化合物は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
 (b)成分の芳香環含有ポリマーは、本発明の効果を損なわない範囲で前記繰り返し単位以外のその他の繰り返し単位を含んでいてもよい。その他の繰り返し単位を与えるモノマーとしては、典型的には、ビニル化合物、マレイミド類、アクリロニトリル、無水マレイン酸が挙げられる。
 ビニル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等が挙げられる。
 マレイミド類としては、例えば、マレイミド、N-メチルマレイミド、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
 (b)成分の芳香環含有ポリマー中、重合性二重結合を含む芳香環含有化合物に由来する繰り返し単位は、得られる硬化膜の屈折率を高める点から、(メタ)アクリル酸及び/又は(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位1モルに対し、0.3~20モル含まれることが好ましく、0.5~10モル含まれることがより好ましく、1~5モル含まれることがより一層好ましい。なお、(b)成分の芳香環含有ポリマー中、(メタ)アクリル酸及び/又は(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位並びに重合性二重結合を含む芳香環含有化合物に由来する繰り返し単位の含有量は、50~100モル%が好ましく、75~100モル%がより好ましく、100モル%がより一層好ましい。
 (b)成分の芳香環含有ポリマーは、前述した繰り返し単位を与えるモノマーを重合させることで合成することができる。重合方法としては、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等を採用し得るが、本発明で必要な重量平均分子量(Mw)を有するポリマーを比較的簡便に製造できることから、ラジカル重合が好ましい。
 開始剤としては、過酸化ベンゾイル、クメンヒドロペルオキシド、tert-ブチルヒドロペルオキシド等の過酸化物;過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩;アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、アゾビスイソバレロニトリル、2,2'-アゾビス(イソ酪酸)ジメチル等のアゾ系化合物等が挙げられる。このような開始剤の使用量は、モノマーの種類や量、反応温度によって異なるため一概に規定できないが、通常、モノマー1モルに対し、0.005~0.05モル程度である。重合時の反応温度は、0℃から使用する溶媒の沸点までで適宜設定すればよいが、通常20~100℃程度である。また、反応時間は、0.1~30時間程度である。
 重合は、溶媒中で行うことが好ましく、重合反応に用いる溶媒は、この種の反応で一般的に使用される溶媒を使用することができる。具体的には、水;メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、2-メチル-1-プロパノール、2-メチル-2-プロパノール、1-ペンタノール、2-ペンタノール、3-ペンタノール、3-メチル-1-ブタノール、2-メチル-2-ブタノール、1-ヘキサノール、1-ヘプタノール、2-ヘプタノール、3-ヘプタノール、2-オクタノール、2-エチル-1-ヘキサノール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール等のアルコール類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテルアルコール類;エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテート等のアルキレングリコールジアセテート類;ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノイソブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテルアセテート等のジアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル類;n-ペンタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、n-ノナン、n-デカン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、アニソール等の脂肪族又は芳香族炭化水素類;メチラール、ジエチルアセタール等のアセタール類;ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸類;ニトロプロパン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物;ジメチルアミン、モノエタノールアミン、ピリジン等のアミン類;N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;アセトニトリル等のニトリル類などが挙げられる。これらから、モノマーや開始剤の種類や量、反応温度等を考慮して、使用する溶媒が適宜選択される。
 (b)成分の芳香環含有ポリマーの重量平均分子量(Mw)は、ポリマーの溶解性を確保し、好適な硬化膜を与える組成物を調製する点から、好ましくは5,000~500,000である。特に、組成物の粘度の過度な増加を抑制することを考慮すると、当該ポリマーのMwの上限値は、好ましくは200,000、より好ましくは150,000、より一層好ましくは100,000、更に好ましくは80,000であり、組成物の粘度の過度な減少を抑制することを考慮すると、その下限値は、好ましくは10,000、より好ましくは15,000、より一層好ましくは30,000、更に好ましくは40,000である。なお、本発明においてMwは、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算測定値である。
 前記芳香環含有ポリマーは、ランダム共重合体、交互共重合体、ブロック共重合体のいずれでもよい。
[(c)溶媒]
 本発明の組成物は、(c)溶媒を含んでもよい。(c)溶媒は、前述した(a)及び(b)成分を溶解でき、更に後述する(d)単官能(メタ)アクリレート化合物、(e)多官能(メタ)アクリレート化合物、(f)イオントラップ剤、(g)シランカップリング剤、(h)ラジカル重合開始剤、重合禁止剤、その他の添加剤等を含む場合においては、これらをも溶解できるものであれば、特に限定されない。
 溶媒の具体例としては、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1,2-エタンジオール(エチレングリコール)、1,2-プロパンジオール(プロピレングリコール)、1,2-ブタンジオール、2,3-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、2-メチル-2,4-ペンタンジオール(ヘキシレングリコール)、1,3-オクチレングリコール、3,6-オクチレングリコール等のグリコール類;
グリセリン等のトリオール類;
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノイソブチルエーテル、プロピレングリコールモノヘキシルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類等のアルキレングリコールモノアルキルエーテル類;
エチレングリコールモノフェニルエーテルなどのエチレングリコールモノアリールエーテル類、プロピレングリコールモノフェニルエーテルなどのプロピレングリコールモノアリールエーテル類等のアルキレングリコールモノアリールエーテル類;
エチレングリコールモノベンジルエーテルなどのエチレングリコールモノアラルキルエーテル類、プロピレングリコールモノベンジルエーテルなどのプロピレングリコールモノアラルキルエーテル類等のアルキレングリコールモノアラルキルエーテル類;
エチレングリコールブトキシエチルエーテルなどのエチレングリコールアルコキシアルキルエーテル類、プロピレングリコールブトキシエチルエーテルなどのプロピレングリコールアルコキシアルキルエーテル類等のアルキレングリコールアルコキシアルキルエーテル類;
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジイソプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテルなどのエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジイソプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテルなどのプロピレングリコールジアルキルエーテル類等のアルキレングリコールジアルキルエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類等のアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
エチレングリコールモノアセテートなどのエチレングリコールモノアセテート類、プロピレングリコールモノアセテートなどのプロピレングリコールモノアセテート類等のアルキレングリコールモノアセテート類;
エチレングリコールジアセテートなどのエチレングリコールジアセテート類、プロピレングリコールジアセテートなどのプロピレングリコールジアセテート類等のアルキレングリコールジアセテート類;
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテルなどのジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテルなどのジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類等のジアルキレングリコールモノアルキルエーテル類;
ジエチレングリコールモノベンジルエーテル等のジアルキレングリコールモノアラルキルエーテル類;
ジエチレングリコールモノフェニルエーテルなどのジエチレングリコールモノアリールエーテル類、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテルなどのジプロピレングリコールモノアリールエーテル類等のジアルキレングリコールモノアリールエーテル類;
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテルなどのジプロピレングリコールジアルキルエーテル類等のジアルキレングリコールジアルキルエーテル類;
ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテルアセテートなどのジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノイソブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテルアセテートなどのジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類等のジアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのトリエチレングリコールモノアルキルエーテル類、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルなどのトリプロピレングリコールモノアルキルエーテル類等のトリアルキレングリコールモノアルキルエーテル類;
トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテルなどのトリエチレングリコールジアルキルエーテル類、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリプロピレングリコールジエチルエーテルなどのトリプロピレングリコールジアルキルエーテル類等のトリアルキレングリコールジアルキルエーテル類;
1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、1-ペンタノール、1-ヘキサノール、1-ヘプタノール、1-ノナノール、1-デカノール、1-ウンデカノール、1-ドデカノール、1-テトラデカノールなどの直鎖脂肪族アルコール類、シクロヘキサノール、2-メチルシクロヘキサノールなどの環状脂肪族アルコール類等の脂肪族アルコール類;
フェノール等のフェノール類;
ベンジルアルコール等の芳香族アルコール類;
フルフリルアルコール等の複素環含有アルコール類;
テトラヒドロフルフリルアルコール等の水素化複素環含有アルコール類;
ジイソプロピルエーテル、ジ-n-ブチルエーテル、ジ-n-ヘキシルエーテル等のジアルキルエーテル類;
メチルフェニルエーテル、エチルフェニルエーテル、n-ブチルフェニルエーテル、ベンジル(3-メチルブチル)エーテル、(2-メチルフェニル)メチルエーテル、(3-メチルフェニル)メチルエーテル、(4-メチルフェニル)メチルエーテル等のアルキルアリールエーテル類;
エチルベンジルエーテル等のアルキルアラルキルエーテル類;
2-メチルフラン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等の環状アルキルモノエーテル類;
1,4-ジオキサン等の環状アルキルジエーテル類;
トリオキサン等の環状アルキルトリエーテル類;
ジグリシジルエーテル等のジエポキシアルキルエーテル類;
エチルアセテート、n-プロピルアセテート、イソプロピルアセテート、n-ブチルアセテート、イソブチルアセテート、sec-ブチルアセテート、tert-ブチルアセテート、n-ペンチルアセテート、(3-メチルブチル)アセテート、n-ヘキシルアセテート、(2-エチルブチル)アセテート、(2-エチルヘキシル)アセテートなどの直鎖状又は分岐状アルキルアセテート類、シクロヘキシルアセテート、2-メチルシクロヘキシルアセテートなどの環状アルキルアセテート類等のアルキルアセテート類;エチルプロピオネート、n-プロピルプロピオネート、イソプロピルプロピオネート、n-ブチルプロピオネート、イソブチルプロピオネート、sec-ブチルプロピオネート、tert-ブチルプロピオネート、n-ペンチルプロピオネート、(3-メチルブチル)プロピオネート、n-ヘキシルプロピオネート、(2-エチルブチル)プロピオネート、(2-エチルヘキシル)プロピオネートなどの直鎖状又は分岐状アルキルプロピオネート類、シクロヘキシルプロピオネート、2-メチルシクロヘキシルプロピオネートなどの環状アルキルプロピオネート類等のアルキルプロピオネート類;エチルブチレート、n-プロピルブチレート、イソプロピルブチレート、n-ブチルブチレート、イソブチルブチレート、sec-ブチルブチレート、tert-ブチルブチレート、n-ペンチルブチレート、(3-メチルブチル)ブチレート、n-ヘキシルブチレート、(2-エチルブチル)ブチレート、(2-エチルヘキシル)ブチレートなどの直鎖状又は分岐状アルキルブチレート類、シクロヘキシルブチレート、2-メチルシクロヘキシルブチレート等の環状アルキルブチレート類などのアルキルブチレート類;エチルラクテート、n-プロピルラクテート、イソプロピルラクテート、n-ブチルラクテート、イソブチルラクテート、sec-ブチルラクテート、tert-ブチルラクテート、n-ペンチルラクテート、(3-メチルブチル)ラクテート、n-ヘキシルラクテート、(2-エチルブチル)ラクテート、(2-エチルヘキシル)ラクテートなどの直鎖状又は分岐状アルキルラクテート類、シクロヘキシルラクテート、2-メチルシクロヘキシルラクテートなどの環状アルキルラクテート類等のアルキルラクテート類等のアルキルエステル類;
ベンジルアセテートなどのアラルキルアセテート類、ベンジルプロピオネートなどのアラルキルプロピオネート類、ベンジルブチレートなどのアラルキルブチレート類、ベンジルラクテートなどのアラルキルラクテート類等のアラルキルアルキルエステル類;
ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、メチルエチルケトン、メチルn-プロピルケトン、メチルn-ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルn-プロピルケトン、メチルn-ヘキシルケトン、エチルn-ブチルケトン、ジ-n-プロピルケトン等のジアルキルケトン類;
イソホロン等の環状アルケニルケトン類;
シクロヘキサノン等の環状アルキルケトン類;
4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン(ジアセトンアルコール)等のヒドロキシジアルキルケトン類;
フルフラール等の複素環含有アルデヒド類;
ヘプタン、オクタン、2,2,3-トリメチルヘキサン、デカン、ドデカン等の直鎖状又は分岐状アルカン類;
トルエン、キシレン、o-キシレン、m-キシレン、p-キシレン、メシチレン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン等のアルキルベンゼン類;
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の環状アルカン類
等が挙げられるが、これらに限定されない。これらの溶媒は、1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。
 本発明の組成物は、当該組成物を印刷法により塗布する場合において好適な膜を再現性よく得る点から、好ましくは150℃以上、より好ましくは180℃以上、より一層好ましくは200℃以上の標準沸点を有する溶媒を含む。このような沸点の溶媒を含むことで、好適な液膜状態を再現性よく実現できる。
 このような事情から、塗布法として印刷法を採用する場合、本発明の組成物は、(b)成分の芳香環含有ポリマーを良好に溶解する特徴をも有する溶媒、具体的には、グリコール類、アルキレングリコールジアセテート類、ジアルキレングリコールモノアルキルエーテル類、ジアルキレングリコールモノアラルキルエーテル類、ジアルキレングリコールモノアリールエーテル類、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類及びアルキレングリコールモノアラルキルエーテル類から選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。
 このような溶媒の具体例としては、プロピレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル等が挙げられるが、これらに限定されない。
 (c)成分の溶媒は、本発明の組成物中の固形分濃度が1~95質量%となるような量が好ましく、固形分濃度が5~90質量%となるような量がより好ましく、固形分濃度が10~85質量%となるような量がより一層好ましい。ここで、固形分とは、本発明の組成物の全成分から溶媒を除いたものを意味する。
 本発明の組成物は、硬化膜の密着性や硬度の調整等を目的として、更に、単官能(メタ)アクリレート化合物、多官能(メタ)アクリレート化合物、ラジカル重合開始剤、シランカップリング剤、重合禁止剤等を含んでもよい。
[(d)単官能(メタ)アクリレート化合物]
 本発明の組成物は、(d)単官能(メタ)アクリレート化合物を含んでもよい。本発明において単官能(メタ)アクリレート化合物とは、分子中に1つの(メタ)アクリロイル基を含む化合物のことであり、例えば、(b)成分の芳香環含有ポリマーのモノマー成分として例示した脂肪族(メタ)アクリレート化合物や芳香環含有(メタ)アクリレート化合物が挙げられる。これらのうち、(d)単官能(メタ)アクリレート化合物としては、芳香環含有(メタ)アクリレート化合物が好ましく、特に式[3]で表される芳香環含有(メタ)アクリレート化合物として例示したものが好ましい。単官能(メタ)アクリレート化合物は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
 好ましい芳香環含有(メタ)アクリレート化合物として具体的には、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸2-フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸2-フェノキシベンジル、(メタ)アクリル酸3-フェノキシベンジル、(メタ)アクリル酸4-フェノキシベンジル、(メタ)アクリル酸2-(2-ビフェニリルオキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2-(3-ビフェニリルオキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2-(4-ビフェニリルオキシ)エチル等が挙げられる。これらのうち、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸3-フェノキシベンジル、(メタ)アクリル酸2-(2-ビフェニリルオキシ)エチルがより好ましく、(メタ)アクリル酸3-フェノキシベンジルがより一層好ましい。
 (d)成分の単官能(メタ)アクリレート化合物の含有量は、得られる硬化膜の屈折率の点から、(b)成分の芳香環含有ポリマー100質量部に対し、0~100質量部が好ましく、0~50質量部がより好ましく、0~30質量部がより一層好ましい。
[(e)多官能(メタ)アクリレート化合物]
 本発明の組成物は、硬化膜の物性を調整する点から、(e)多官能(メタ)アクリレート化合物を含んでもよい。本発明において多官能(メタ)アクリレート化合物とは、分子中に少なくとも2つの(メタ)アクリロイル基を含む化合物のことであり、具体的には、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステルが挙げられる。また、特に硬度を改善する点から、当該多官能(メタ)アクリレート化合物の1分子中の(メタ)アクリロイル基の数は、好ましくは3~6であるが、より好ましくは3又は4である。このような多価アルコールとしては、グリセロール、エリスリトール、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン等が挙げられる。
 前記多官能(メタ)アクリレート化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等の2つの(メタ)アクリロイル基を有する2官能(メタ)アクリレート化合物;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の3つの(メタ)アクリロイル基を有する3官能(メタ)アクリレート化合物;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の4つの(メタ)アクリロイル基を有する4官能(メタ)アクリレート化合物;ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の5つ又は6つの(メタ)アクリロイル基を有する5~6官能(メタ)アクリレート化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。多官能(メタ)アクリレート化合物は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
 前記多官能(メタ)アクリレート化合物は、市販品として容易に入手が可能であり、その具体例としては、例えば、日本化薬(株)製KAYARAD(登録商標)NPGDA、R-551、T-1420、DPHA、DPHA-2C、D-310、D-330、DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120、DN-0075、DN-2475、R-526、MANDA、GPO-303、TMPTA、THE-330、TPA-320、TPA-330、PET-30、RP-1040;東亞合成(株)製アロニックス(登録商標)M-211B、M-6200、M-309、M-400、M-402、M-405、M-450、M-7100、M-8030、M-8060、M-1310、M-1600、M-1960、M-8100、M-8530、M-8560、M-9050;大阪有機化学工業(株)製ビスコート700HV、295、300、360、GPT、3PA、400、312;新中村化学工業(株)製NKエステルABE-300、A-BPE-4、A-BPE-10、A-BPE-20、A-BPE-30、A-BPP-3、A-B1206PE、BPE-80N、BPE-100、BPE-200、BPE-500、BPE-900、BPE-1300N、NPG、A-9300、A-9300-1CL、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMM-3L、A-TMM-3LM-N、A-TMPT、AD-TMP、ATM-35E、A-TMMT、A-9550、A-DPH、TMPT等が挙げられる。
 本発明の好ましい態様によれば、本発明の組成物に含まれる多官能(メタ)アクリレート化合物は、3又は4つの(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレート化合物を少なくとも1種を含む。
 (e)成分の多官能(メタ)アクリレート化合物を含む場合、その含有量は、(b)成分の芳香環含有ポリマー100質量部に対し、10~300質量部が好ましく、20~200質量部がより好ましく、50~150質量部がより一層好ましい。含有量が前記範囲であれば、硬化膜の硬度改善効果が得られ、クラックが発生しない。
[(f)イオントラップ剤]
 本発明の組成物は、(f)イオントラップ剤を含んでもよい。(f)イオントラップ剤は、特に、基板が金属製である場合や基板上に金属配線が形成されている場合等においては、当該金属配線等が水と接触することでマイグレーションを起こすことを防止する機能を有する。
 得られる硬化膜のマイグレーション抑制能を向上させる点から、イオントラップ剤の好ましい一例としては、構造内に窒素系複素環を有する化合物が挙げられる。窒素系複素環とは、飽和又は不飽和結合を有する3員環以上の環状構造を有し、かつ、その環状構造内に1つ以上の窒素原子を有するものである。
 窒素系複素環としては、例えば、飽和結合を有するものとして、アジリジン(エチレンイミン)、アゼチジン(アザシクロブタン)、アゾリジン(ピロリジン)、アジナン(ピペリジン)、アゼパン(ヘキサメチレンイミン)等が挙げられ、不飽和結合を有するものとして、アジリン(1H-アジリン、2H-アジリン)、アゼト(アザシクロブタジエン)、アゾール(1H-ピロール、2H-ピロール、イミダゾール、ピラゾール、1,2,3-トリアゾール、1,2,4-トリアゾール、1H-テトラゾール)、ピリジン、アゼピン(アザトロピリデン)、イミダゾリン、ピラジン、トリアジン(1,2,3-トリアジン、1,2,4-トリアジン、1,3,5-トリアジン)等が挙げられ、また、窒素系複素環が複数結合したポルフィリン、コリン、フタロシアニン等も挙げられる。
 更に、前記窒素系複素環としては、窒素系複素環同士や芳香環炭化水素化合物(ベンゼン環やナフタレン環等)と縮合したものでもよく、例えば、ベンゾトリアゾール、インドール、イソインドール、ベンゾイミダゾール、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、プリン、プテリジン、アクリジン、カルバゾール等も挙げられる。
 また、前記窒素系複素環としては、窒素原子以外の他のヘテロ原子を含んでいるものでもよく、例えば、硫黄原子を含むチアゾール、イソチアゾール、チアジン等や、酸素原子を含むオキサゾール、イソオキサゾール、フラザン、モルホリン、3-ピラゾロン、5-ピラゾロン、ベンゾオキサゾール等も挙げられる。
 更に、これらの窒素系複素環にイソシアヌル酸等の別の窒素系複素環を付加した、窒素系複素環の付加化合物でもよい。なお、本発明においては、これら窒素系複素環を1種又は複数組み合わせて用いることができる。
 構造内に窒素系複素環を有する化合物の具体例としては、2,4-ジアミノ-6-ビニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-ビニル-1,3,5-トリアジンイソシアヌル酸付加物塩、2,4-ジアミノ-6-(2-(メタ)アクリロイルオキシエチル)-1,3,5-トリアジン、2-[2-ヒドロキシ-4-(ヘキシルオキシ)フェニル]-4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-6-(2-ヒドロキシ-4-オクチルオキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2-ヒドロキシ-4-ヘキシルオキシフェニル)-4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン、2-[2-ヒドロキシ-4-[3-(2-エチルヘキシル-1-オキシ)-2-ヒドロキシプロピルオキシ]フェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-[4-[2-ヒドロキシ-3-(ドデシルオキシ)プロピルオキシ]-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス[2-ヒドロキシ-4-ブトキシフェニル]-6-(2,4-ジブトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、N'-tert-ブチル-N-シクロプロピル-6-(メチルチオ)-1,3,5-トリアジン-2,4-ジアミン等のトリアジン化合物;1,2,3-ベンゾトリアゾール、1,2,3-ベンゾトリアゾールナトリウム塩、3-メチル-1H-ベンゾトリアゾール、4-メチル-1H-ベンゾトリアゾール、5-メチル-1H-ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、1-[N,N-ビス(2-エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、1-[N,N-ビス(2-エチルヘキシル)アミノメチル]メチルベンゾトリアゾール、2,2'-[[(メチル-1H-ベンゾトリアゾール-1-イル)メチル]イミノ]ビスエタノール、6-(2-ベンゾトリアゾリル)-4-tert-オクチル-6'-tert-ブチル-4'-メチル-2,2'-メチレンビスフェノール、2-(5-メチル-2-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-[2-ヒドロキシ-3,5-ビス(α,α-ジメチルベンジル)フェニル]-2-ベンゾトリアゾール、2-(3-tert-ブチル-5-メチル-2-ヒドロキシフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2-ヒドロキシ-3,5-ジ-tert-ペンチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、2-(2-ヒドロキシ-5-tert-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3-ドデシル-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2-ヒドロキシ-5-tert-ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2-ヒドロキシ-3,5-ジ-tert-ブチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2,2'-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-tert-オクチルフェノール]、2-(3-sec-ブチル-5-tert-ブチル-2-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2-ヒドロキシ-5-tert-ブチルフェニル)-2-ベンゾトリアゾール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-(1-メチル-1-フェニルエチル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。
 中でも、イオントラップ剤は、1H-ベンゾトリアゾール化合物を含むことが好ましく、炭素数1~3のアルキル基で置換されていてもよい1H-ベンゾトリアゾールを含むことがより好ましく、5-メチル-1H-ベンゾトリアゾールを含むことがより一層好ましい。
 構造内に窒素系複素環を有する化合物は、公知の方法で合成することもでき、市販品としても入手できる。市販品の具体例としては、Tinuvin(登録商標)234、326、328、329、400、405、460、571、928、1577、P、PS、UVITEX(登録商標)OB、IRGAGUARD(登録商標)D 1071(以上、BASF社製)、SB-UVA 6164、SB-UVA 6577、EVERSORB 70、EVERSORB 75(以上、(株)ソート製)、キュアゾール(登録商標)VT、VT-OK、MAVT(以上、四国化成工業(株)製)、BT-120、JCL-400、CBT-1、BT-LX、TT-LX、TT-LYX、JAST-500、JF-832(以上、城北化学工業(株)製)、5MBT(ケミプロ化成(株)製)、RUVA-93(大塚化学(株)製)、5-メチル-1H-ベンゾトリアゾール(東京化成工業(株)製)等が挙げられる。
 イオントラップ剤のその他の好ましい一例としては、ヒドラジド誘導体、硫黄含有ホスファイト類等が挙げられる。その具体例としては、デカメチレンジカルボン酸ジサリチロイルヒドラジド、N,N'-ビス[3-[3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル]プロピオニル]ヒドラジン、2,2'-オキサミドビス[エチル3-(3,5-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、シュウ酸ビスベンジリデンヒドラジド、イソフタル酸ビス(2-フェノキシプロピオニルヒドラジド)、トリス[2-tert-ブチル-4-(2'-メチル-4'-ヒドロキシ-5'-tert-ブチルフェニルチオ)-5-メチルフェニル]ホスファイト等が挙げられる。これらは、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 ヒドラジド誘導体や硫黄含有ホスファイト類は、公知の方法で合成することもでき、市販品としても入手できる。市販品の具体例としては、Inhibitor OABH(Eastman社製)、アデカスタブ(登録商標)CDA-6((株)ADEKA製)、Irganox(登録商標)MD 1024(BASF社製)等が挙げられる。
 (f)成分のイオントラップ剤を含む場合、その含有量は、(b)成分の芳香環含有ポリマー100質量部に対し、硬度・密着性等に優れる薄膜を再現性よく得る点から、好ましくは20質量部以下、より好ましくは10質量部以下であり、マイグレーションの抑制能に優れる点から、好ましくは0.001質量部以上、より好ましくは0.005質量部以上、より一層好ましくは0.01質量部以上である。
[(g)シランカップリング剤]
 本発明の組成物は、得られる硬化膜の基板等への密着性を向上させる点から、(g)シランカップリング剤を含んでもよく、好ましい態様によれば、当該シランカップリング剤は、式[4]で表されるシラン化合物を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 式[4]中、R6は、メチル基又はエチル基を表す。Xは、加水分解性基を表す。Yは、反応性官能基を表す。L7は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表す。aは、0~2の整数を表す。
 L7で表される炭素数1~10のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、1-メチルトリメチレン基、ペンタメチレン基、2,2-ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基等が挙げられる。これらの中でも、トリメチレン基が好ましい。
 Xで表される加水分解性基としては、ハロゲン原子、炭素数1~3のアルコキシ基、炭素数2~4のアルコキシアルコキシ基等が挙げられる。前記ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。炭素数1~3のアルコキシ基は、直鎖状又は分岐状のものが好ましく、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基及びイソプロポキシ基である。また、炭素数2~4のアルコキシアルコキシ基として具体的には、メトキシメトキシ基、2-メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基及び2-エトキシエトキシ基である。
 Yで表される反応性官能基としては、アミノ基、ウレイド基、(メタ)アクリロイルオキシ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基等が挙げられる。中でも、アミノ基、ウレイド基、(メタ)アクリロイルオキシ基が好ましく、アミノ基又はウレイド基がより好ましい。
 シランカップリング剤の具体例としては、3-アミノプロピルトリクロロシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピル(メチル)(ジメトキシ)シラン、3-アミノプロピル(メチル)(ジエトキシ)シラン、3-ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3-(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリクロロシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピル(メチル)(ジエトキシ)シラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3-メルカプトプロピル(メチル)(ジメトキシ)シラン、3-メルカプトプロピル(メチル)(ジエトキシ)シラン、7-オクテニルトリクロロシラン、7-オクテニルトリメトキシシラン、7-オクテニルトリエトキシシラン、8-グリシドキシオクチルトリクロロシラン、8-グリシドキシオクチルトリメトキシシラン、8-グリシドキシオクチルトリエトキシシラン、8-(メタ)アクリロイルオキシオクチルトリクロロシラン、8-(メタ)アクリロイルオキシオクチルトリメトキシシラン、8-(メタ)アクリロイルオキシオクチルトリエトキシシラン、8-オキシラニルオクチルトリクロロシラン、8-オキシラニルオクチルトリメトキシシラン、8-オキシラニルオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
 中でも、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3-(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン等が好ましい。
 シランカップリング剤は、公知の方法で合成することもでき、市販品としても入手できる。また、シランカップリング剤は、1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
 (g)成分のシランカップリング剤を含む場合、その含有量は、(b)成分の芳香環含有ポリマー100質量部に対し、0.001~10質量部が好ましく、0.01~5質量部がより好ましく、0.05~1質量部がより一層好ましい。含有量が前記範囲であれば、密着性の向上効果が得られ、硬度が低下することもない。
[(h)ラジカル重合開始剤]
 本発明の組成物は、当該組成物に含まれる重合性成分の重合を促進させるため、(h)ラジカル重合開始剤を含んでもよい。例えば、高温で処理することによって自発的に重合するが、基板が変性する等高温硬化処理ができない事情があるときは、ラジカル重合開始剤によって低温硬化処理又は光硬化処理が可能となる。
 ラジカル重合開始剤は、光照射及び/又は加熱によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。例えば、光ラジカル重合開始剤としては、ベンゾフェノン誘導体、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、N-アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン化合物、アルミナート錯体、有機過酸化物、N-アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられる。更に具体的には、ベンゾフェノン、1,3-ジ(tert-ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'-テトラキス(tert-ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3-フェニル-5-イソオキサゾロン、2-メルカプトベンズイミダゾール、ビス(2,4,5-トリフェニル)イミダゾール、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシル=フェニル=ケトン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン、ビス(η5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル)ビス(2,6-ジフルオロ-3-(1H-ピロール-1-イル)フェニル)チタニウム等が挙げられるが、これらに限定されない。
 前記光ラジカル重合開始剤としては市販品を利用することもでき、例えば、BASF社製のIRGACURE(登録商標)651、184、369、784等が挙げられる。また、前記以外の市販品も使用でき、具体的には、BASF社製IRGACURE 500、907、379、819、127、754、250、1800、1870、OXE01、TPO、DAROCUR(登録商標)1173;Lambson社製Speedcure(登録商標)MBB、PBZ、ITX、CTX、EDB;Lamberti社製Esacure(登録商標)ONE、KIP150、KTO46;日本化薬(株)製KAYACURE(登録商標)DETX-S、CTX、BMS、DMBI等が挙げられる。
 また、熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセチルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、メチルエチルケトンペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、過酸化水素、tert-ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジ-tert-ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシド、tert-ブチルペルオキシアセテート、tert-ブチルペルオキシピバレート、tert-ブチルペルオキシ-2-エチルヘキサノエート(tert-ブチル2-エチルヘキサンペルオキソエート)等の過酸化物;2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、2,2'-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、(1-フェニルエチル)アゾジフェニルメタン、2,2'-アゾビス(4-メトキシ-2,4-ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2,2'-アゾビスイソブチレート、2,2'-アゾビス(2-メチルブチロニトリル)、1,1'-アゾビス(1-シクロヘキサンカルボニトリル)、2-(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル、2,2'-アゾビス(2,4,4-トリメチルペンタン)、2-フェニルアゾ-2,4-ジメチル-4-メトキシバレロニトリル、2,2'-アゾビス(2-メチルプロパン)等のアゾ系化合物;過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等の過硫酸塩等が挙げられるが、これらに限定されない。
 市販の熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、日油(株)製パーロイル(登録商標)IB、NPP、IPP、SBP、TCP、OPP、SA、355、L、パーブチル(登録商標)ND、NHP、MA、PV、355、A、C、D、E、L、I、O、P、Z、パーヘキシル(登録商標)ND、PV、D、I、O、Z、パーオクタ(登録商標)ND、ナイパー(登録商標)PMB、BMT、BW、パーテトラ(登録商標)A、パーヘキサ(登録商標)MC、TMH、HC、250、25B、C、25Z、22、V、パーオクタ(登録商標)O、パークミル(登録商標)ND、D、パーメンタ(登録商標)H、ノフマー(登録商標)BC;和光純薬工業(株)製V-70、V-65、V-59、V-40、V-30、VA-044、VA-046B、VA-061、V-50、VA-057、VA-086、VF-096、VAm-110、V-601、V-501;BASF社製IRGACURE 184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24-61、TPO、DAROCUR 1116、1173;サイテックサーフェイススペシャルティーズ社製UVECRYL(登録商標)P36;Lamberti社製Esacure KIP150、KIP65LT、KIP100F、KT37、KT55、KTO46、KIP75/B等が挙げられるが、これらに限定されない。
 (h)成分のラジカル重合開始剤を含む場合、その含有量は、(b)成分の芳香環含有ポリマー100質量部に対し、1~20質量部が好ましく、1~15質量部がより好ましい。
 本発明の組成物は、必要に応じて、重合禁止剤を含んでいてもよい。重合開始剤の具体例としては、2,6-ジイソブチルフェノール、3,5-ジ-tert-ブチルフェノール、3,5-ジ-tert-ブチルクレゾール、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、tert-ブチルカテコール、4-メトキシ-1-ナフトール等が挙げられる。重合禁止剤を含む場合、その含有量は、全固形分中1質量%以下が好ましく、0.5質量%以下がより好ましい。
 本発明の組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、更に界面活性剤、架橋剤、消泡剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、多価フェノールや多価カルボン酸等の溶解促進剤等を含むことができる。
 界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等が挙げられる。この種の界面活性剤としては、例えば、三菱マテリアル電子化成(株)製エフトップ(登録商標)EF301、EF303、EF352;DIC(株)製メガファック(登録商標)F171、F173;スリーエム社製FLUORAD(登録商標)FC430、FC431;旭硝子(株)製アサヒガード(登録商標)AG710、AGCセイミケミカル(株)製サーフロン(登録商標)S-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106等が挙げられる。
 架橋剤としては、多官能エポキシ化合物、多官能イソシアネート化合物、多官能チオール化合物、メラミン系架橋剤等が挙げられるが、多官能(メタ)アクリレート化合物を含む場合は3官能以上のチオール化合物が好ましい。多官能チオール化合物は、多価アルコールと、単官能及び/又は多官能チオール化合物との付加反応物として得ることができる。具体的な化合物としては、1,3,5-トリス(2-(3-メルカプトプロピオニルオキシ)エチル)イソシアヌレート、1,3,5-トリス(2-(3-メルカプトブチリルオキシ)エチル)イソシアヌレート(昭和電工(株)製、カレンズMT(登録商標)NR1)、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)等の3官能チオール化合物;ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)(昭和電工(株)製、カレンズMT PEI)等の4官能チオール化合物;ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)等の6官能チオール化合物等が挙げられる。
 消泡剤としては、アセチレングリコール、シリコーン流体及び乳剤、エトキシ化又はプロポキシ化シリコーン、炭化水素、脂肪酸エステル誘導体、アセチル化ポリアミド、ポリ(アルキレンオキシド)ポリマー及びコポリマー等が挙げられるが、これらに限定されない。スクリーン印刷を行う場合は、本発明の組成物は消泡剤を含むことが好ましい。
 本発明の組成物の25℃における粘度は、塗布性の点からは、好ましくは1~10,000mPa・s、より好ましくは1~5,000mPa・s、より一層好ましくは1~1,000mPa・sである。粘度が前記範囲であれば、塗布性が良好であり、目的の膜厚が得られる。
 また、本発明の組成物の25℃における粘度は、印刷性の点からは、好ましくは10~100,000mPa・s、より好ましくは500~100,000mPa・s、より一層好ましくは1,000~100,000mPa・sである。粘度が前記範囲であれば、吐出性が良好であり、工程への負荷が生じることがなく、塗布後に組成物が拡散したり、組成物の基板への転写性が低下したりすることがない。
 タッチパネルにおけるX軸電極及びY軸電極が直交する部分にブリッジ構造を構成するための絶縁膜のような微細な構造の硬化膜を形成する場合において、スクリーン印刷、グラビアオフセット印刷等の印刷法を採用するときは、本発明の組成物の25℃における粘度は、好ましくは10~100,000mPa・s、より好ましくは5,000~100,000mPa・s、より一層好ましくは20,000~100,000mPa・sである。粘度が前記範囲であれば、吐出性が良好であり、工程への負荷が生じることがなく、塗布後に組成物が拡散したり、組成物の基板への転写性が低下したりすることがない。なお、本発明において、粘度は、E型粘度計による測定値である。
 本発明の組成物の調製方法は、特に限定されない。一例としては、(b)成分の芳香環含有ポリマーを溶媒に溶解し、この溶液に他の成分を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法が挙げられる。また、本発明の組成物の調製にあたっては、溶媒中における重合反応によって得られた芳香環含有ポリマー含有溶液をそのまま使用することができる。この場合は、芳香環含有ポリマー含有溶液に、他の成分を入れて均一な溶液とすればよい。また、濃度調整を目的として更に溶媒を加えてもよい。
 こうして調製された組成物は、より均一な硬化膜を得る点から、孔径0.2μm程度のフィルタ等を用いて濾過した後に使用することが好ましい。
[硬化膜]
 本発明の組成物を、電極及び/又は配線を有する基板(例えば、シリコン/二酸化シリコン被覆基板;シリコンニトリド基板;アルミニウム、モリブデン、クロム、銅、銀等の金属、銀ナノワイヤ等の金属ナノワイヤ、銀ナノ粒子、銅ナノ粒子等の金属ナノ粒子、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホン酸塩)(PEDOT/PSS)、グラフェン、カーボンナノチューブ等の導電性ポリマーが被覆された基板;ガラス基板;石英基板;酸化インジウムスズ(ITO)基板;ITOフィルム基板;トリアセチルセルロース(TAC)フィルム、ポリエステルフィルム、アクリルフィルム、シクロオレフィン(COP)フィルム等の樹脂フィルム基板)等の上に、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布、スクリーン印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、グラビアオフセット印刷等の印刷法等によって塗布し、その後、ホットプレート又はオーブン等で予備乾燥(プリベーク)することにより、塗膜を形成することができる。本発明の組成物は、特にインクジェット塗布、スクリーン印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷等の印刷法に適している。
 プリベークは、一般に、好ましくは60~150℃、より好ましくは80~120℃で、ホットプレートを用いる場合には0.5~30分間、オーブンを用いる場合には0.5~90分間処理するという方法が採られる。
 次いで、熱硬化のためのポストベークを行う。具体的には、ホットプレート、オーブン等を用いて加熱する。ポストベークは、一般に、好ましくは150~300℃、より好ましくは200~250℃で、ホットプレートを用いる場合には1~30分間、オーブンを用いる場合には1~90分間処理するという方法が採られる。
 本発明の組成物が熱ラジカル重合開始剤を含む場合には、低温での硬化が可能である。この場合、プリベーク条件は前記と同様であるが、ポストベーク温度は、好ましくは60~200℃、より好ましくは80~150℃である。その他の条件は前記と同様である。
 また、本発明の組成物が光ラジカル重合開始剤を含む場合には、プリベーク後、前記塗膜に紫外線(UV)等の光を照射することによって、光硬化を行うことができる。前記光は、波長200~500nmの範囲で、その露光量は100~5,000mJ/cm2であることが好ましい。
 光硬化後は、熱硬化のためのポストベークを行ってもよい。具体的には、ホットプレート、オーブン等を用いて加熱する。ポストベークは、一般に、好ましくは60~150℃、より好ましくは80~120℃で、ホットプレートを用いる場合には1~30分間、オーブンを用いる場合には1~90分間処理するという方法が採られる。
 前記のような条件のもとで本発明の組成物を硬化させることにより、基板の段差を充分に平坦化でき、高い屈折率を有する硬化膜を形成することができる。
 本発明の硬化膜は、印刷法等の簡便な方法によって容易に形成でき、更に、高い屈折率を有することから、有機EL素子等の各種ディスプレイにおける保護膜、平坦化膜、絶縁膜等、タッチパネルにおける保護膜、絶縁膜等の硬化膜を形成する材料として期待される。
 金属の電極及び/又は金属の配線が形成された基材上に前記電極及び/又は配線と接するように形成された本発明の硬化膜を備える導電性部材は、電極及び/又は配線の腐食が抑制されるため、電極や配線における抵抗の上昇、電極や金属と他の部材との剥離等が抑制されており、その結果、耐久性に優れるものとなる。
 以下、製造例、比較製造例、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されない。なお、実施例において、試料の調製及び物性の分析に用いた装置及び条件は、以下のとおりである。
(1)攪拌脱泡
 装置:(株)シンキー製自転・公転ミキサー あわとり練太郎(登録商標)ARE-310
(2)スピンコート
 装置:Brewer Science社製Cee(登録商標)100
(3)UV露光
 装置:ヘレウス社製ベルトコンベアー式UVランプシステム(Hバルブ)
(4)恒温槽
 装置:エスペック(株)製小型環境試験器SH-222
(5)ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)
 装置:昭和電工(株)製Shodex(登録商標)GPC-101
 カラム:昭和電工(株)製Shodex GPC KF-803L+KF-804L
 カラム温度:40℃
 溶媒:THF
 流量:1mL/分
 検出器:RI
 検量線:標準ポリスチレン
(6)屈折率測定
 装置:Metricon社製モデル2010/M プリズムカプラ
 測定温度:25℃
(7)全光線透過率測定
 装置:日本電色工業(株)製ヘーズメーターNDH 5000
 波長範囲:380~780nm
 また、略記号は以下の意味を表す。
EPPA:エトキシ化o-フェニルフェノールアクリレート(新中村化学工業(株)製NKエステルA-LEN-10)
MAA:メタクリル酸(東京化成工業(株)製)
MMA:メタクリル酸メチル(東京化成工業(株)製)
POBA:3-フェノキシベンジルアクリレート(共栄社化学(株)製ライトアクリレートPOB-A)
St:スチレン(東京化成工業(株)製)
MAIB:2,2'-アゾビス(イソ酪酸)ジメチル(東京化成工業(株)製)
BPFDA:ビスフェノールフルオレンジアクリレート(大阪ガスケミカル(株)製オグソールEA-F5710)
TMPTA:トリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学工業(株)製NKエステルA-TMPT)
A771:ポリシロキサン系消泡剤(MUNZING社製AGITAN771)
APTES:(3-アミノプロピル)トリエトキシシラン(信越化学工業(株)製LS-3150)
MBT:5-メチル-1H-ベンゾトリアゾール(東京化成工業(株)製)
I184:1-ヒドロキシシクロヘキシル=フェニル=ケトン(BASF社製IRGACURE(登録商標)184)
DEGEEA:ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(東京化成工業(株)製)
PGDA:プロピレングリコールジアセテート(和光純薬工業(株)製)
[1]ポリマーの製造
[製造例1]芳香環含有ポリマーの製造1
 1Lの四つ口フラスコに、溶媒としてPGDA324.5gを仕込んだ。このPGDA中に、窒素雰囲気下、70℃(内温)で攪拌しながら、MMA61.6g(0.62mol)、St150.0g(1.44mol)及びMAIB4.72g(0.02mol)の混合液を、2時間かけて滴下した。滴下後、更に70℃で20時間反応させ、ポリマー濃度40質量%のポリマー溶液P1を得た。P1中のポリマーのMwは、65,000であった。
[製造例2]芳香環含有ポリマーの製造2
 1Lの四つ口フラスコに、溶媒としてPGDA315.1gを仕込んだ。このPGDA中に、窒素雰囲気下、70℃(内温)で攪拌しながら、MMA30.0g(0.30mol)、POBA177.8g(0.70mol)及びMAIB2.30g(0.01mol)の混合液を、2時間かけて滴下した。滴下後、更に70℃で20時間反応させ、ポリマー濃度40質量%のポリマー溶液P2を得た。P2中のポリマーのMwは、125,000であった。
[製造例3]芳香環含有ポリマーの製造3
 1Lの四つ口フラスコに、溶媒としてPGDA329.5gを仕込んだ。このPGDA中に、窒素雰囲気下、70℃(内温)で攪拌しながら、MMA30.0g(0.30mol)、EPPA187.4g(0.70mol)及びMAIB2.30g(0.01mol)の混合液を、2時間かけて滴下した。滴下後、更に70℃で20時間反応させ、ポリマー濃度40質量%のポリマー溶液P3を得た。P3中のポリマーのMwは、56,000であった。
[製造例4]芳香環含有ポリマーの製造4
 1Lの四つ口フラスコに、溶媒としてPGDA345.0gを仕込んだ。このPGDA中に、窒素雰囲気下、70℃(内温)で攪拌しながら、MAA27.5g(0.32mol)、EPPA200.0g(0.75mol)及びMAIB2.45g(0.01mol)の混合液を、2時間かけて滴下した。滴下後、更に70℃で20時間反応させ、ポリマー濃度40質量%のポリマー溶液P4を得た。P4中のポリマーのMwは、70,000であった。
[比較製造例1]芳香環を有しないポリマーの製造
 1Lの四つ口フラスコに、溶媒としてDEGEEA303.5gを仕込んだ。このDEGEEA中に、窒素雰囲気下、70℃(内温)で攪拌しながら、MMA200.0g(2.00mol)及びMAIB2.30g(0.01mol)の混合液を、2時間かけて滴下した。滴下後、更に70℃で20時間反応させ、ポリマー濃度40質量%のポリマー溶液P5を得た。P5中のポリマーのMwは、95,000であった。
[2]硬化膜形成用樹脂組成物の調製
[実施例1]
 製造例1で得られたポリマー溶液P1 250質量部(ポリマーとして100質量部)、フルオレン化合物としてBPFDA55質量部、多官能(メタ)アクリレートとしてTMPTA55質量部、イオントラップ剤としてMBT6質量部、シランカップリング剤としてAPTES0.1質量部、消泡剤としてA771 0.65質量部、ラジカル重合開始剤としてI184 6.4質量部、及び溶媒としてPGDA70質量部を混合した。この混合物を、2,000rpmで10分間攪拌脱泡し、固形分濃度50質量%のワニスを調製した。なお、ここで固形分とは、溶媒を除く全成分を指す。
[実施例2~4、比較例1~2]
 各成分の配合を表1に記載のように変更した以外は、実施例1と同様にして各ワニスを調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
[3]硬化膜の作製及び評価
[屈折率評価]
 実施例1~4及び比較例1~2のワニスを、それぞれガラス基板上にスピンコートにより塗布し、110℃のオーブンで10分間プリベークした。得られた塗膜をUV露光(露光量800mJ/cm2)し、更に110℃のオーブンで30分間ポストベークすることで、厚さ約5μmの硬化膜を作製した。
 得られた硬化膜の波長633nmにおける屈折率及び全光線透過率を測定した。結果を表2に併せて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
 表2に示すように、本発明の組成物から得られた硬化膜は、波長633nmにおける屈折率が1.56以上と高かった(実施例1~4)。これに対し、芳香族基を有しないポリマーを用いた硬化膜(比較例1)、及びフルオレン化合物を配合しない硬化膜(比較例2)は、屈折率がそれぞれ1.557及び1.540と低かった。

Claims (13)

  1.  (a)式[1]で表されるフルオレン化合物、並びに
    (b)(メタ)アクリル酸及び/又は脂肪族(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位(ただし、側鎖にシラン構造を有するものを除く。)、及び重合性二重結合を含む芳香環含有化合物に由来する繰り返し単位を含む芳香環含有ポリマー
    を含む高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、L1及びL2は、それぞれ独立に、置換基を含んでいてもよいフェニレン基又は置換基を含んでいてもよいナフタレンジイル基を表し、L3及びL4は、それぞれ独立に、炭素数1~6のアルキレン基を表し、m及びnは、0≦m≦40、0≦n≦40及び0≦m+n≦40を満たす整数を表す。)
  2.  更に、(c)溶媒を含む請求項1記載の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
  3.  更に、(d)単官能(メタ)アクリレート化合物を含む請求項1又は2記載の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
  4.  更に、(e)多官能(メタ)アクリレート化合物を含む請求項1~3のいずれか1項記載の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
  5.  (e)多官能(メタ)アクリレート化合物が、1分子中に3つの(メタ)アクリロイル基を含む化合物及び4つの(メタ)アクリロイル基を含む化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む請求項4記載の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
  6.  更に、(f)イオントラップ剤を含む請求項1~5のいずれか1項記載の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
  7.  (f)イオントラップ剤が、ベンゾ-1H-トリアゾール化合物を含む請求項6記載の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
  8.  更に、(g)シランカップリング剤を含む請求項1~7のいずれか1項記載の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
  9.  (g)シランカップリング剤が、式[4]で表されるシラン化合物を含む請求項8記載の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    (式中、R6は、メチル基又はエチル基を表し、Xは、加水分解性基を表し、Yは、反応性官能基を表し、L7は、単結合又は炭素数1~10のアルキレン基を表し、aは、0~2の整数を表す。)
  10.  更に、(h)ラジカル重合開始剤を含む請求項1~9のいずれか1項記載の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
  11.  スクリーン印刷法用である、請求項1~10のいずれか1項記載の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物。
  12.  請求項1~11のいずれか1項記載の高屈折率硬化膜形成用樹脂組成物から得られる高屈折率硬化膜。
  13.  金属の電極及び/又は金属の配線が形成された基材と、この基材上に前記電極及び/又は配線と接するように形成された請求項12記載の高屈折率硬化膜とを備える導電性部材。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111100237B (zh) * 2019-12-23 2022-03-11 无锡德贝尔光电材料有限公司 高折射率的碱水可溶性树脂与制备方法及高折射率光刻胶
CN115895313B (zh) * 2021-09-30 2024-05-10 新应材股份有限公司 树脂组合物以及硬化膜

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008231425A (ja) * 2006-07-25 2008-10-02 Hitachi Chem Co Ltd 光学材料用樹脂組成物、光学材料用樹脂フィルム及び光導波路
JP2009192790A (ja) * 2008-02-14 2009-08-27 Toray Ind Inc 光導波路フィルム
JP2011034054A (ja) * 2009-07-10 2011-02-17 Toyota Central R&D Labs Inc 光学装置及びその製造方法
JP2012078185A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Toshiba Corp 光導波路型バイオセンサチップおよび光導波路型バイオセンサチップの製造方法
JP2012082387A (ja) * 2010-09-14 2012-04-26 Dic Corp 光学材料用高屈折組成物、及びその硬化物
JP2013245272A (ja) * 2012-05-25 2013-12-09 Nof Corp コロイド結晶用組成物、及び、これより得られるコロイド結晶硬化膜とその製造方法
JP2014028872A (ja) * 2012-07-31 2014-02-13 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 樹脂組成物、ならびにそれを用いた塗膜
WO2015060190A1 (ja) * 2013-10-21 2015-04-30 学校法人東海大学 光導波路の製造方法
WO2015083584A1 (ja) * 2013-12-04 2015-06-11 日東電工株式会社 光導波路および光・電気混載基板
JP2015172674A (ja) * 2014-03-12 2015-10-01 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、硬化膜付き透明基板の製造方法及び硬化膜付き透明基板
JP2015179283A (ja) * 2015-05-25 2015-10-08 日立化成株式会社 光導波路、光電気複合基板、光導波路の製造方法、及び光電気複合基板の製造方法
WO2015181984A1 (ja) * 2014-05-30 2015-12-03 電気化学工業株式会社 光硬化性樹脂組成物

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5771978B2 (ja) * 2010-12-22 2015-09-02 日立化成株式会社 光導波路形成用樹脂組成物及びこれを用いた光導波路形成用樹脂フィルム、並びにこれらを用いた光導波路
JP5729865B2 (ja) 2011-03-31 2015-06-03 旭化成ケミカルズ株式会社 オルガノポリシロキサンを含有する光硬化性樹脂組成物およびその用途
CN103857750A (zh) * 2011-10-12 2014-06-11 东洋油墨Sc控股株式会社 树脂组合物、涂膜及触控面板用绝缘膜
JP6024375B2 (ja) 2011-11-21 2016-11-16 東洋インキScホールディングス株式会社 樹脂組成物、ならびにそれを用いた保護膜およびタッチパネル用絶縁膜
JP2013227392A (ja) 2012-04-25 2013-11-07 Nippon Kayaku Co Ltd 光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物(3)
JP6066394B2 (ja) 2012-06-04 2017-01-25 日本化薬株式会社 光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物
CN104918966B (zh) * 2013-01-31 2018-01-23 三洋化成工业株式会社 光学部件用活性能量射线固化性组合物、固化物和使用该固化物的光学透镜、光学透镜用片或者膜
CN103881028A (zh) * 2014-04-01 2014-06-25 张家港康得新光电材料有限公司 耐磨光学材料及其制备方法和应用
KR20160147707A (ko) 2014-04-18 2016-12-23 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 반응성 실리콘 화합물을 포함하는 중합성 수지 조성물
JP6787125B2 (ja) 2014-07-23 2020-11-18 日産化学株式会社 硬化膜形成用樹脂組成物、硬化膜、導電性部材、及びマイグレーションの抑制方法

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008231425A (ja) * 2006-07-25 2008-10-02 Hitachi Chem Co Ltd 光学材料用樹脂組成物、光学材料用樹脂フィルム及び光導波路
JP2009192790A (ja) * 2008-02-14 2009-08-27 Toray Ind Inc 光導波路フィルム
JP2011034054A (ja) * 2009-07-10 2011-02-17 Toyota Central R&D Labs Inc 光学装置及びその製造方法
JP2012082387A (ja) * 2010-09-14 2012-04-26 Dic Corp 光学材料用高屈折組成物、及びその硬化物
JP2012078185A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Toshiba Corp 光導波路型バイオセンサチップおよび光導波路型バイオセンサチップの製造方法
JP2013245272A (ja) * 2012-05-25 2013-12-09 Nof Corp コロイド結晶用組成物、及び、これより得られるコロイド結晶硬化膜とその製造方法
JP2014028872A (ja) * 2012-07-31 2014-02-13 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 樹脂組成物、ならびにそれを用いた塗膜
WO2015060190A1 (ja) * 2013-10-21 2015-04-30 学校法人東海大学 光導波路の製造方法
WO2015083584A1 (ja) * 2013-12-04 2015-06-11 日東電工株式会社 光導波路および光・電気混載基板
JP2015172674A (ja) * 2014-03-12 2015-10-01 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、硬化膜付き透明基板の製造方法及び硬化膜付き透明基板
WO2015181984A1 (ja) * 2014-05-30 2015-12-03 電気化学工業株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP2015179283A (ja) * 2015-05-25 2015-10-08 日立化成株式会社 光導波路、光電気複合基板、光導波路の製造方法、及び光電気複合基板の製造方法

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