WO2017115852A1 - ScAlMgO4単結晶の製造方法 - Google Patents
ScAlMgO4単結晶の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2017115852A1 WO2017115852A1 PCT/JP2016/089138 JP2016089138W WO2017115852A1 WO 2017115852 A1 WO2017115852 A1 WO 2017115852A1 JP 2016089138 W JP2016089138 W JP 2016089138W WO 2017115852 A1 WO2017115852 A1 WO 2017115852A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- scalmgo
- single crystal
- producing
- melt
- pulling
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
- C30B29/22—Complex oxides
Definitions
- the present invention relates to a method for producing a single crystal of ScAlMgO 4 .
- Patent Document 1 As a method for producing a single crystal of ScAlMgO 4 , the method described in Patent Document 1 is known. This method is based on the CZ method. In the CZ method, raw materials are put into a melting crucible housed in a chamber, melted by a method such as resistance heating, infrared intensive heating, and high frequency induction heating in an Ar atmosphere, and a single crystal corresponding to a seed is immersed therein to immerse the seed crystal. By slowly pulling up using a crystal pulling mechanism, a ScAlMgO 4 single crystal having the same orientation as the seed crystal is grown and finished into a large cylindrical ingot. In Patent Document 1, Ir is used as a crucible.
- the present invention aims to provide a method of manufacturing capable ScAlMgO 4 single crystal to prevent the occurrence of white turbidity of the early stages of growth.
- the present invention (1) Crystal diameter ⁇ 20 mm or more (2) Crystal length 15 mm or more (3) No cracks, coloring, or inclusion by visual observation (4) No condition of brain / border boundary by visual observation with crossed Nicols It is an object of the present invention to provide a method for producing a single crystal of ScAlMgO 4 capable of producing a crystal that satisfies the requirement.
- the invention according to claim 1 is a method for producing a ScAlMgO 4 single crystal by pulling a seed crystal in contact with a melt in a furnace vessel,
- the composition of the melt in pulling start of the, a composition deviated from the stoichiometric ratio of ScAlMgO 4, after the initiation of pulling-up, to replenish substantially fill solution stoichiometry of ScAlMgO 4 to the container Is a method for producing a ScAlMgO 4 single crystal.
- the composition (mass) of the melt at the start is 25% by mass% ⁇ Sc 2 O 4 ⁇ 30%, 40% ⁇ MgO ⁇ 50%, and the balance Al 2 O 3 .
- the method for producing a ScAlMgO 4 single crystal according to claim 1 In the invention according to claim 3, the composition of the melt at the start is 27.0% ⁇ Sc 2 O 4 ⁇ 30% 44.0% ⁇ MgO ⁇ 46.5% 26.0% ⁇ Al 2 O 3 ⁇ 29%
- the invention according to claim 4 is the 26.5% ⁇ Al 2 O 3 a is 3.
- the invention according to claim 5 is the method for producing a ScAlMgO 4 single crystal according to any one of claims 1 to 4, wherein the heating method of the melt is any one of resistance heating, infrared concentrated heating, and high-frequency induction heating. is there.
- the invention according to claim 6 is the method for producing a ScAlMgO 4 single crystal according to any one of claims 1 to 5, wherein oxygen is pulled up in an inert gas atmosphere of 0.2% or more and less than 1.0%.
- the invention according to claim 7 is the method for producing a ScAlMgO 4 single crystal according to any one of claims 1 to 6, wherein the pulling is performed at a rotational speed of less than 10 rpm.
- the invention according to claim 8 is the method for producing a ScAlMgO 4 single crystal according to any one of claims 1 to 7, wherein the pulling is performed at a pulling speed of less than 1 mm / h.
- the composition of the melt during the pulling start a composition deviated from the stoichiometric ratio of ScAlMgO 4, after the initiation of pulling-up, to replenish the substantially fill solution stoichiometry of ScAlMgO 4 to the container.
- the crucible is not particularly limited, and a heating method such as resistance heating, infrared intensive heating, and high frequency induction heating may be used as appropriate.
- the composition (mass) of the initial melt is preferably 25% ⁇ Sc 2 O 4 ⁇ 30%, 40% ⁇ MgO ⁇ 50%, and the balance Al 2 O 3 . Also, 27.0% ⁇ Sc 2 O 4 ⁇ 30% 44.0% ⁇ MgO ⁇ 46.5% 26.0% ⁇ Al 2 O 3 ⁇ 29% Is more preferable. By setting it as this range, it becomes possible to grow a single crystal with a diameter of 20 mm or more without defects. Furthermore, 26.5% ⁇ Al 2 O 3 is more preferable. By setting it within this range, it is possible to produce a ScAlMgO 4 single crystal that does not generate any white turbidity at the initial stage of growth.
- the main growth conditions are preferably in the following ranges. (1) Lifting speed 0.7mm / h-1.0mm / h (2) Shaft rotation speed 5rpm-10rpm (3) Oxygen concentration in atmosphere 0%, 0.2%, 0.5%, 1%
- the atmosphere in the growth furnace is preferably nitrogen or nitrogen + oxygen.
- oxygen concentration flow rate ratio
- a particularly large slag may float, and cracks may occur when adhering to the surface of the growing crystal.
- Ir slag is as small as about 1 mm, and it seems that there is no problem even if it adheres to the crystal.
- the crystal surface is rough and polished glass, and many ring-shaped cracks are generated so as to surround the crystal periphery.
- the oxygen concentration is 0.2% or 0.5%, the crystal surface is glossy and the occurrence of cracks is small.
- Example 1 A SCAM was grown using a resistance heating type Czochralski furnace (CZ method) as a growth furnace.
- CZ method resistance heating type Czochralski furnace
- the crucible containing the raw materials was put into the growth furnace, the inside of the furnace was evacuated, nitrogen gas containing 0.2% oxygen was introduced, and flow was performed at a flow rate of 2.0 L / min.
- heating of the crucible was started and heated until the melting point of SCAM was reached.
- the SCAML single crystal cut into the (0001) plane was used as a seed crystal, and the seed crystal was lowered to near the melt.
- the seed crystal is gradually lowered while rotating at a speed of 5 rpm, and the seed crystal is raised at a speed of pulling-up growth of 1.0 mm / h while gradually lowering the temperature by bringing the tip of the seed crystal into contact with the melt. Crystal growth was performed.
- composition of the additional raw material after the start of growth was set to a composition satisfying the stoichiometric ratio.
- the results of AF are shown in FIG. In FIG. 1, ⁇ is a sample with no cloudiness in the initial stage of growth, and corresponds to AF.
- the diameter of the straight body portion was about 20-25 mm at the maximum portion and the weight was 65-70 gr.
- a polycrystalline (white turbid) portion was not observed in the initial stage of growth. There were no cracks in the entire crystal, and no subgrain boundary was visible. Inclusion was only slightly observed per F at the bottom of the straight barrel.
- Example 2 In this example, the ratio of Sc 2 O 3 was left as it was, and the ratio of Al 2 O 3 was reduced compared to Example 1 to be less than 26.5%. MgO increases compared to Example 1. Specifically, raw materials having the following composition were used. Sc 2 O 3 : Al 2 0 3 : MgO 27.8%: 26.2%: 46.0% The other points were the same as in Example 1. In this example, a slightly polycrystalline (white turbid) portion was seen in the shoulder portion. The other points were the same as in Example 1.
- Example 3 In this example, a crucible with an inner diameter of ⁇ 10 mm and a crucible with an inner diameter of ⁇ 20 mm were tested. Other points are the same as in the first embodiment. Sc 2 O 3 : Al 2 0 3 : MgO G 28.3%: 25.2%: 46.5% H 28.3%: 25.7%: 46.0% I 27.8%: 26.2%: 46.0% J 28.5%: 24.8%: 46.7% K 29.0%: 24.0%: 47.0% L 30.0%: 24.0%: 46.0%
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
育成初期の白濁部の発生を防止することが可能なScAlMgO4単結晶の製造方法を提供することを目的とする。 炉内容器内の融液に種結晶を接触させて引き上げを行うことによるScAlMgO4単結晶の製造方法において、前記の引き上げ開始時における前記融液の組成を、ScAlMgO4の化学量論比からずれた組成とし、引き上げ開始後、前記容器にScAlMgO4の化学量論比を実質的に満たす溶液を補給することを特徴とするScAlMgO4単結晶の製造方法である。
Description
本発明は、ScAlMgO4の単結晶の製造方法に係る。
ScAlMgO4の単結晶の製造方法としては、特許文献1に記載された方法が知られている。この方法は、CZ法をベースとする方法である。
CZ法では、チャンバー内に納められた溶融坩堝に原材料を入れ、Ar雰囲気中で抵抗加熱、赤外線集中加熱、高周波誘導加熱などの方法で溶かし、そこに種子にあたる単結晶を浸して、種結晶を結晶引き上げ機構を使ってゆっくりと引上げることによって、種子結晶と同じ方位配列を持ったScAlMgO4単結晶を成長させ、大きな円柱状のインゴットに仕上げている。なお、特許文献1では坩堝としてIrを利用いている。
CZ法では、チャンバー内に納められた溶融坩堝に原材料を入れ、Ar雰囲気中で抵抗加熱、赤外線集中加熱、高周波誘導加熱などの方法で溶かし、そこに種子にあたる単結晶を浸して、種結晶を結晶引き上げ機構を使ってゆっくりと引上げることによって、種子結晶と同じ方位配列を持ったScAlMgO4単結晶を成長させ、大きな円柱状のインゴットに仕上げている。なお、特許文献1では坩堝としてIrを利用いている。
近時においては、ScAlMgO4単結晶につき、次なる特性が要望されている。
(1)結晶直径φ20mm以上
(2)結晶長さ15mm以上
(3)目視観察にてクラック、着色、インクルージョンが無いこと
(4)クロスニコルでの目視観察で、ブレイン・バウンダリーが無いこと
しかしながら、上述した従来の方法で原料粉末の組成ひいては融液の組成をストイキオメトリーな組成とした場合には、白濁部が存在する結晶となってしまうことがある。特に、直径が20mm以上の結晶を製造する場合にこの傾向が顕著である。
(1)結晶直径φ20mm以上
(2)結晶長さ15mm以上
(3)目視観察にてクラック、着色、インクルージョンが無いこと
(4)クロスニコルでの目視観察で、ブレイン・バウンダリーが無いこと
しかしながら、上述した従来の方法で原料粉末の組成ひいては融液の組成をストイキオメトリーな組成とした場合には、白濁部が存在する結晶となってしまうことがある。特に、直径が20mm以上の結晶を製造する場合にこの傾向が顕著である。
本発明は、育成初期の白濁部の発生を防止することが可能なScAlMgO4単結晶の製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、
(1)結晶直径φ20mm以上
(2)結晶長さ15mm以上
(3)目視観察にてクラック、着色、インクルージョンが無いこと
(4)クロスニコルでの目視観察で、ブレイン・バウンダリーが無いこと
という条件を満たす結晶をも製造することが可能なScAlMgO4の単結晶の製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、
(1)結晶直径φ20mm以上
(2)結晶長さ15mm以上
(3)目視観察にてクラック、着色、インクルージョンが無いこと
(4)クロスニコルでの目視観察で、ブレイン・バウンダリーが無いこと
という条件を満たす結晶をも製造することが可能なScAlMgO4の単結晶の製造方法を提供することを目的とする。
請求項1に係る発明は、炉内容器内の融液に種結晶を接触させて引き上げを行うことによるScAlMgO4単結晶の製造方法において、
前記の引き上げ開始時における前記融液の組成を、ScAlMgO4の化学量論比からずれた組成とし、引き上げ開始後、前記容器にScAlMgO4の化学量論比を実質的に満たす溶液を補給することを特徴とするScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項2に係る発明は、前記開始時における前記融液の組成(質量)は、質量%で25%<Sc2O4≦30%、40%<MgO≦50%、残部Al2O3である請求項1記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項3に係る発明は、前記開始時における前記融液の組成は、
27.0%≦Sc2O4≦30%
44.0%≦MgO≦46.5%
26.0%≦Al2O3≦29%
である請求項2記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項4に係る発明は、26.5%≦Al2O3である請求項3記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項5に係る発明は、融液の加熱方式は、抵抗加熱、赤外線集中加熱、高周波誘導加熱のいずれかである請求項1ないし4のいずれか1項記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項6に係る発明は、酸素を0.2%以上1.0%未満不活性ガス雰囲気中において引き上げを行う請求項1ないし5のいずれか1項記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項7に係る発明は、回転速度10rpm未満で引き上げを行う請求項1ないし6のいずれか1項記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項8に係る発明は、引き上げ速度1mm/h未満で引き上げを行う請求項1ないし7のいずれか1項記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
前記の引き上げ開始時における前記融液の組成を、ScAlMgO4の化学量論比からずれた組成とし、引き上げ開始後、前記容器にScAlMgO4の化学量論比を実質的に満たす溶液を補給することを特徴とするScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項2に係る発明は、前記開始時における前記融液の組成(質量)は、質量%で25%<Sc2O4≦30%、40%<MgO≦50%、残部Al2O3である請求項1記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項3に係る発明は、前記開始時における前記融液の組成は、
27.0%≦Sc2O4≦30%
44.0%≦MgO≦46.5%
26.0%≦Al2O3≦29%
である請求項2記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項4に係る発明は、26.5%≦Al2O3である請求項3記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項5に係る発明は、融液の加熱方式は、抵抗加熱、赤外線集中加熱、高周波誘導加熱のいずれかである請求項1ないし4のいずれか1項記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項6に係る発明は、酸素を0.2%以上1.0%未満不活性ガス雰囲気中において引き上げを行う請求項1ないし5のいずれか1項記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項7に係る発明は、回転速度10rpm未満で引き上げを行う請求項1ないし6のいずれか1項記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
請求項8に係る発明は、引き上げ速度1mm/h未満で引き上げを行う請求項1ないし7のいずれか1項記載のScAlMgO4単結晶の製造方法である。
以上説明したように、本発明によれば、白濁部の発生を低減させることが可能となる。
また、
(1)結晶直径φ20mm以上
(2)結晶長さ15mm以上
(3)目視観察にてクラック、着色、インクルージョンが無いこと
(4)クロスニコルでの目視観察で、ブレイン・バウンダリーが無いこと
という条件を満たす結晶をも製造することが可能となる。
また、
(1)結晶直径φ20mm以上
(2)結晶長さ15mm以上
(3)目視観察にてクラック、着色、インクルージョンが無いこと
(4)クロスニコルでの目視観察で、ブレイン・バウンダリーが無いこと
という条件を満たす結晶をも製造することが可能となる。
以下、本発明の実施の形態について説明する。
発明の実施の形態においては、炉内容器内の融液に種結晶を接触させて引き上げを行うことによるScAlMgO4単結晶の製造方法において、
前記の引き上げ開始時における前記融液の組成を、ScAlMgO4の化学量論比からずれた組成とし、引き上げ開始後、前記容器にScAlMgO4の化学量論比を実質的に満たす溶液を補給する。
前記の引き上げ開始時における前記融液の組成を、ScAlMgO4の化学量論比からずれた組成とし、引き上げ開始後、前記容器にScAlMgO4の化学量論比を実質的に満たす溶液を補給する。
(坩堝、加熱方式)
本発明においては、坩堝としては、特に限定されるものではなく、また、加熱方式としても抵抗加熱、赤外線集中加熱、高周波誘導加熱などの方法を適宜用いればよい。
本発明においては、坩堝としては、特に限定されるものではなく、また、加熱方式としても抵抗加熱、赤外線集中加熱、高周波誘導加熱などの方法を適宜用いればよい。
(初期融液組成)
初期融液の組成(質量)としては、25%<Sc2O4≦30%、40%<MgO≦50%、残部Al2O3が好ましい。
また、
27.0%≦Sc2O4≦30%
44.0%≦MgO≦46.5%
26.0%≦Al2O3≦29%
がより好ましい。かかる範囲とすることにより、直径20mm以上の単結晶をも欠陥なく育成することが可能となる。
さらに、26.5%≦Al2O3がさらに好ましい。この範囲とすることにより育成初期における白濁が全く発生しないScAlMgO4単結晶を製造することも可能となる。
初期融液の組成(質量)としては、25%<Sc2O4≦30%、40%<MgO≦50%、残部Al2O3が好ましい。
また、
27.0%≦Sc2O4≦30%
44.0%≦MgO≦46.5%
26.0%≦Al2O3≦29%
がより好ましい。かかる範囲とすることにより、直径20mm以上の単結晶をも欠陥なく育成することが可能となる。
さらに、26.5%≦Al2O3がさらに好ましい。この範囲とすることにより育成初期における白濁が全く発生しないScAlMgO4単結晶を製造することも可能となる。
(ZrO2の添加)
Zrは4価のイオンなので、結晶中に含まれると酸素との結合が2価のMgイオンよりは強くなることが期待できる。またZrは、Mgとイオン半径がほぼ同じなのでMgを置換しやすいと思われる。そこで、ZrO2を50ppm(wt)以上添加して結晶を育成することが好ましい。100ppm以上がより好ましい。これにより、クラックの発生を防止することができる。
Zrは4価のイオンなので、結晶中に含まれると酸素との結合が2価のMgイオンよりは強くなることが期待できる。またZrは、Mgとイオン半径がほぼ同じなのでMgを置換しやすいと思われる。そこで、ZrO2を50ppm(wt)以上添加して結晶を育成することが好ましい。100ppm以上がより好ましい。これにより、クラックの発生を防止することができる。
(育成条件)
主な育成条件は、以下の範囲が好ましい。
(1)引き上げ速度0.7mm/h-1.0mm/h
(2)軸回転速度5rpm-10rpm
(3)雰囲気中の酸素濃度0%、0.2%、0.5%、1%
主な育成条件は、以下の範囲が好ましい。
(1)引き上げ速度0.7mm/h-1.0mm/h
(2)軸回転速度5rpm-10rpm
(3)雰囲気中の酸素濃度0%、0.2%、0.5%、1%
(引き上げ速度)
引き上げ速度は、結贔の直径がおおよそφ25mm以下ならば、lmm/hで各種欠陥の発生は無いが、結晶直径がφ25mmを越えている場合、直胴部中程でインクルージョンが取り込まれることがある。
結晶直径をφ25mm以上で育成する場合は、引き上げ速度を1mm/h未満(例えば、0.7mm/h)とすることでインクルージョンの取り込みを抑制できる。
引き上げ速度は、結贔の直径がおおよそφ25mm以下ならば、lmm/hで各種欠陥の発生は無いが、結晶直径がφ25mmを越えている場合、直胴部中程でインクルージョンが取り込まれることがある。
結晶直径をφ25mm以上で育成する場合は、引き上げ速度を1mm/h未満(例えば、0.7mm/h)とすることでインクルージョンの取り込みを抑制できる。
(軸回転速度)
10rpm未満が好ましく、5rpm以下がより好ましい。10rpm未満とすることにより、育成中の結晶重量の周期的な変動を小さくできる。また、結晶外周部にサブグレインバウンダリーの発生を防止することができる。10rpm以上では、切り離し時の界面形状も5rpmの結晶と比較して短く、中央部分が平坦な台形になる。
10rpm未満が好ましく、5rpm以下がより好ましい。10rpm未満とすることにより、育成中の結晶重量の周期的な変動を小さくできる。また、結晶外周部にサブグレインバウンダリーの発生を防止することができる。10rpm以上では、切り離し時の界面形状も5rpmの結晶と比較して短く、中央部分が平坦な台形になる。
(酸素濃度)
育成炉内の雰囲気は、窒素または窒素+酸素とすることが好ましい。
酸素濃度(流量比)が1%の場合には特に大きなスラグが浮かぶことがあり、成長中の結晶の表面に付着すると、クラックが発生することがある。一方、酸素無しの窒素だけでの育成では、Irスラグはlmm程度で小さく、結晶に付着しても問題はないように思われる。しかし窒素だけの場合、結晶表面が荒れ、磨りガラス状になっており、結晶外周を囲むようにリング状のクラックが多数発生する。酸素濃度が0.2%、0.5%では結晶表面は光沢があり、クラックの発生は少ない。
育成炉内の雰囲気は、窒素または窒素+酸素とすることが好ましい。
酸素濃度(流量比)が1%の場合には特に大きなスラグが浮かぶことがあり、成長中の結晶の表面に付着すると、クラックが発生することがある。一方、酸素無しの窒素だけでの育成では、Irスラグはlmm程度で小さく、結晶に付着しても問題はないように思われる。しかし窒素だけの場合、結晶表面が荒れ、磨りガラス状になっており、結晶外周を囲むようにリング状のクラックが多数発生する。酸素濃度が0.2%、0.5%では結晶表面は光沢があり、クラックの発生は少ない。
(実施例1)
育成炉として抵抗加熱式チョクラルスキー炉(CZ法)を用いてSCAMを育成した。
内径Φ20mmの坩堝に出発原料として、次のA-Fの材料を投入した。
Sc2O3 :Al203 :MgO
A 29.5%:26.5%:44.0%
B 28.0%:27.5%:44.5%
C 28.0%:27.0%:45.0%
D 27.0%:27.5%:45.5%
E 27.5%:26.5%:46.0%
F 27.8%:26.7%:45.5%
育成炉として抵抗加熱式チョクラルスキー炉(CZ法)を用いてSCAMを育成した。
内径Φ20mmの坩堝に出発原料として、次のA-Fの材料を投入した。
Sc2O3 :Al203 :MgO
A 29.5%:26.5%:44.0%
B 28.0%:27.5%:44.5%
C 28.0%:27.0%:45.0%
D 27.0%:27.5%:45.5%
E 27.5%:26.5%:46.0%
F 27.8%:26.7%:45.5%
原料を投入した坩堝を前記育成炉に投入し、炉内を真空にした後に酸素を0.2%含む窒素ガスを導入し、2.0L/minの流量でフローを行った。炉内が大気圧となった時点で坩堝の加熱を開始し、SCAMの融点に達するまで加熱した。その後、(0001)面に切り出したSCAML単結晶を種結晶として用い、種結晶を融液近くまで降下させた。この種結晶を5rpmの速度で回転させながら徐々に降下させ、種結晶の先端を融液に接触させて温度を徐々に降下させながら、引き上げ速度成長1.0mm/hの速度で種結晶を上昇させて結晶成長を行った。なお、育成開始後における追加の原料の組成は化学量論比を満たす組成とした。
A-Fの結果を図1に示す。図1において、◇は育成初期において白濁の発生のない試料であり、A-Fに対応する。
A-Fの結果を図1に示す。図1において、◇は育成初期において白濁の発生のない試料であり、A-Fに対応する。
その結果、直胴部の直径は、最大部で約20-25mm、重量65-70grであった。いずれの試料についても、育成初期には多結晶(白濁)部分は見られなかった。
結晶全体にクラックは無く、サブグレインバウンダリーも目視では見られなかった。インクルージョンは、Fにつき直胴部の最下部にわずかに観察されただけであった。
結晶全体にクラックは無く、サブグレインバウンダリーも目視では見られなかった。インクルージョンは、Fにつき直胴部の最下部にわずかに観察されただけであった。
(実施例2)
本例では、Sc2O3 の割合はそのままにして、Al203の割合を実施例1に比べて減らし、26.5%未満とした。MgOは実施例1に比べて増加する。
具体的には次の組成の原料を用いた。
Sc2O3 :Al203 :MgO
27.8%:26.2%:46.0%
他の点は実施例1と同様とした。
本例では、肩の部分にわずかに多結晶(白濁)部分が見られた。他の点は実施例1と同様であった。
本例では、Sc2O3 の割合はそのままにして、Al203の割合を実施例1に比べて減らし、26.5%未満とした。MgOは実施例1に比べて増加する。
具体的には次の組成の原料を用いた。
Sc2O3 :Al203 :MgO
27.8%:26.2%:46.0%
他の点は実施例1と同様とした。
本例では、肩の部分にわずかに多結晶(白濁)部分が見られた。他の点は実施例1と同様であった。
(従来例1)
本例では、出発原料としてSc2O3:Al203:MgO=25.0%:25.0%:50.0%に配合した原料、すなわち、化学量論比である原料を用いた。
本例では、内径Φ10mmの坩堝と、内径Φ20mmの坩堝とについて試験を行った。
他の点は実施例1と同様である。
本例では、内径Φ10mmの坩堝と、内径Φ20mmの坩堝のいずれの場合でも単結晶は成長せず、白濁した多結晶が成長した。
本例では、出発原料としてSc2O3:Al203:MgO=25.0%:25.0%:50.0%に配合した原料、すなわち、化学量論比である原料を用いた。
本例では、内径Φ10mmの坩堝と、内径Φ20mmの坩堝とについて試験を行った。
他の点は実施例1と同様である。
本例では、内径Φ10mmの坩堝と、内径Φ20mmの坩堝のいずれの場合でも単結晶は成長せず、白濁した多結晶が成長した。
(実施例3)
本例では、内径Φ10mmの坩堝と、内径Φ20mmの坩堝とについて試験を行った。
他の点は実施例1と同様である。
Sc2O3 :Al203 :MgO
G 28.3%:25.2%:46.5%
H 28.3%:25.7%:46.0%
I 27.8%:26.2%:46.0%
J 28.5%:24.8%:46.7%
K 29.0%:24.0%:47.0%
L 30.0%:24.0%:46.0%
本例では、内径Φ10mmの坩堝と、内径Φ20mmの坩堝とについて試験を行った。
他の点は実施例1と同様である。
Sc2O3 :Al203 :MgO
G 28.3%:25.2%:46.5%
H 28.3%:25.7%:46.0%
I 27.8%:26.2%:46.0%
J 28.5%:24.8%:46.7%
K 29.0%:24.0%:47.0%
L 30.0%:24.0%:46.0%
・内径Φ20mmの坩堝の場合、育成初期に多結晶(白濁)部分が見られたが以降は透明な単結晶が得られた。試料Iでは、肩の部分にわずかな多結晶(白濁)が見られた。
・内径Φ10mmの坩堝の場合、育成初期にごくわずかの多結晶(白濁)部分が見られる試料もあったが、ほぼ実施例1と同様の単結晶が得られた。
・内径Φ10mmの坩堝の場合、育成初期にごくわずかの多結晶(白濁)部分が見られる試料もあったが、ほぼ実施例1と同様の単結晶が得られた。
Claims (8)
- 炉内容器内の融液に種結晶を接触させて引き上げを行うことによるScAlMgO4単結晶の製造方法において、
前記の引き上げ開始時における前記融液の組成を、ScAlMgO4の化学量論比からずれた組成とし、引き上げ開始後、前記容器にScAlMgO4の化学量論比を実質的に満たす溶液を補給することを特徴とするScAlMgO4単結晶の製造方法。 - 前記開始時における前記融液の組成(質量)は、質量%で
25%<Sc2O4≦30%、40%<MgO≦50%、残部Al2O3
である請求項1記載のScAlMgO4単結晶の製造方法。 - 前記開始時における前記融液の組成は、
27.0%≦Sc2O4≦30%
44.0%≦MgO≦46.5%
26.0%≦Al2O3≦29%
である請求項2記載のScAlMgO4単結晶の製造方法。 - 26.5%≦Al2O3である請求項3記載のScAlMgO4単結晶の製造方法。
- 融液の加熱方式は、抵抗加熱、赤外線集中加熱、高周波誘導加熱のいずれかである請求項1ないし4のいずれか1項記載のScAlMgO4単結晶の製造方法。
- 酸素を0.2%以上1.0%未満不活性ガス雰囲気中において引き上げを行う請求項1ないし5のいずれか1項記載のScAlMgO4単結晶の製造方法。
- 回転速度10rpm未満で引き上げを行う請求項1ないし6のいずれか1項記載のScAlMgO4単結晶の製造方法。
- 引き上げ速度1mm/h未満で引き上げを行う請求項1ないし7のいずれか1項記載のScAlMgO4単結晶の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015-256650 | 2015-12-28 | ||
JP2015256650A JP6883383B2 (ja) | 2015-12-28 | 2015-12-28 | ScAlMgO4単結晶の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2017115852A1 true WO2017115852A1 (ja) | 2017-07-06 |
Family
ID=59225333
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2016/089138 WO2017115852A1 (ja) | 2015-12-28 | 2016-12-28 | ScAlMgO4単結晶の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6883383B2 (ja) |
WO (1) | WO2017115852A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111560648A (zh) * | 2019-02-14 | 2020-08-21 | 松下知识产权经营株式会社 | ScAlMgO4单晶基板及其制造方法 |
WO2021020539A1 (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-04 | 株式会社福田結晶技術研究所 | ScAlMgO4単結晶及びその作成方法並びに自立基板 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6692846B2 (ja) * | 2018-03-19 | 2020-05-13 | パナソニック株式会社 | ScAlMgO4単結晶基板およびその製造方法 |
JP6615945B1 (ja) | 2018-06-07 | 2019-12-04 | パナソニック株式会社 | ScAlMgO4単結晶およびデバイス |
WO2023214590A1 (ja) * | 2022-05-06 | 2023-11-09 | 株式会社福田結晶技術研究所 | 高品質・低コストGaN自立基板の製造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49117400A (ja) * | 1973-03-14 | 1974-11-09 | ||
JPS627695A (ja) * | 1985-07-04 | 1987-01-14 | Nec Corp | 化合物半導体単結晶の製造方法 |
JPH0222200A (ja) * | 1988-07-11 | 1990-01-25 | Nec Corp | 3−5族化合物半導体単結晶の製造方法 |
JPH10101494A (ja) * | 1996-10-02 | 1998-04-21 | Murata Mfg Co Ltd | 酸化物単結晶の製造方法および酸化物単結晶 |
JP2007246354A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Japan Science & Technology Agency | 薄膜基板の製造方法 |
JP2015048296A (ja) * | 2013-09-04 | 2015-03-16 | 株式会社福田結晶技術研究所 | 単結晶の育成装置及び育成方法 |
-
2015
- 2015-12-28 JP JP2015256650A patent/JP6883383B2/ja active Active
-
2016
- 2016-12-28 WO PCT/JP2016/089138 patent/WO2017115852A1/ja active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49117400A (ja) * | 1973-03-14 | 1974-11-09 | ||
JPS627695A (ja) * | 1985-07-04 | 1987-01-14 | Nec Corp | 化合物半導体単結晶の製造方法 |
JPH0222200A (ja) * | 1988-07-11 | 1990-01-25 | Nec Corp | 3−5族化合物半導体単結晶の製造方法 |
JPH10101494A (ja) * | 1996-10-02 | 1998-04-21 | Murata Mfg Co Ltd | 酸化物単結晶の製造方法および酸化物単結晶 |
JP2007246354A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Japan Science & Technology Agency | 薄膜基板の製造方法 |
JP2015048296A (ja) * | 2013-09-04 | 2015-03-16 | 株式会社福田結晶技術研究所 | 単結晶の育成装置及び育成方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
ZHOU HAI-TAO ET AL.: "Single-crystal Structure of ScAlMg04", CHINESE JOURNAL OF STRUCTURAL CHEMISTRY, vol. 28, no. 8, August 2009 (2009-08-01), pages 947 - 950 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111560648A (zh) * | 2019-02-14 | 2020-08-21 | 松下知识产权经营株式会社 | ScAlMgO4单晶基板及其制造方法 |
WO2021020539A1 (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-04 | 株式会社福田結晶技術研究所 | ScAlMgO4単結晶及びその作成方法並びに自立基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017119597A (ja) | 2017-07-06 |
JP6883383B2 (ja) | 2021-06-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2017115852A1 (ja) | ScAlMgO4単結晶の製造方法 | |
JP4430949B2 (ja) | 石英ガラスるつぼおよび該るつぼを製造する方法 | |
US7299658B2 (en) | Quartz glass crucible for the pulling up of silicon single crystal | |
WO2012127703A1 (ja) | SiC単結晶の製造方法および製造装置 | |
KR101857612B1 (ko) | GaAs 단결정의 제조 방법 및 GaAs 단결정 웨이퍼 | |
JP4844428B2 (ja) | サファイア単結晶の製造方法 | |
CN116716659B (zh) | 一种氟化钙晶体的生长方法及氟化钙晶体 | |
JP4863710B2 (ja) | フッ化金属単結晶体製造用引上げ装置および該装置を用いたフッ化金属単結晶体の製造方法 | |
JP5953884B2 (ja) | サファイア単結晶の製造方法 | |
JP6759020B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法及び改質処理後のシリコン単結晶製造用石英ルツボ | |
JP2010059031A (ja) | 酸化アルミニウム単結晶、及び、その製造方法 | |
JP4844429B2 (ja) | サファイア単結晶の製造方法 | |
JP2017105668A (ja) | CaMgZr置換型ガドリニウム・ガリウム・ガーネット単結晶の育成方法 | |
JP2019142740A (ja) | 多元系酸化物結晶の製造方法 | |
JP2009242150A (ja) | 酸化物単結晶の製造方法 | |
JP2016033093A (ja) | 単結晶シリコン引き上げ用石英ガラスるつぼ及びその製造方法 | |
JPH09278592A (ja) | チタンを含む酸化アルミニウム単結晶の製造方法 | |
JP6500807B2 (ja) | CaMgZr置換型ガドリニウム・ガリウム・ガーネット(SGGG)単結晶の育成方法 | |
JP2013049607A (ja) | サファイア単結晶の製造方法 | |
JP2013147361A (ja) | サファイア単結晶およびサファイア単結晶の製造方法 | |
WO2013180195A1 (ja) | サファイア単結晶製造用原料アルミナ及びサファイア単結晶の製造方法 | |
JP2002220295A (ja) | 結晶育成方法 | |
JP2015098407A (ja) | サファイア単結晶の製造方法 | |
JP2003119095A (ja) | フッ化物単結晶の製造方法 | |
JP2015124103A (ja) | サファイア単結晶の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 16881826 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 16881826 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |