WO2016152871A1 - 光学フィルム - Google Patents

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和之 小渕
拓 波多野
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Zeon Corp
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Definitions

  • the present invention relates to an optical film.
  • a resin film is used as an optical film such as a retardation film, a polarizing plate protective film, and an optical compensation film.
  • an optical film such as a retardation film, a polarizing plate protective film, and an optical compensation film.
  • One of optical films made of such a resin is a film containing a norbornene-based polymer (see Patent Documents 1 and 2).
  • the optical film may be bent during use depending on the application. Therefore, the optical film is required to have excellent bending resistance.
  • a conventional film containing a norbornene-based polymer has excellent properties such as tensile elastic modulus and transparency, but has a tendency to be inferior in bending resistance.
  • the present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide an optical film containing a norbornene-based polymer and having excellent bending resistance.
  • the present inventor has found that a first layer containing a hydride of an aromatic vinyl compound / conjugated diene compound block copolymer, a second layer containing a norbornene polymer, and an aromatic An optical film comprising a third layer containing a hydride of an aromatic vinyl compound / conjugated diene compound block copolymer in this order was found to have excellent bending resistance, and the present invention was completed. That is, the present invention is as follows.
  • an optical film containing a norbornene polymer and having excellent bending resistance can be provided.
  • the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the following embodiments and exemplifications, and can be implemented with any modifications without departing from the scope of the claims of the present invention and the equivalents thereof.
  • the “polarizing plate” includes not only a rigid member but also a flexible member such as a resin film, unless otherwise specified.
  • optical film of the present invention is a multilayer film having a first layer, a second layer, and a third layer in this order.
  • the first layer includes a hydride of an aromatic vinyl compound / conjugated diene compound block copolymer. Therefore, the first layer is usually a resin layer made of a resin containing a hydride of an aromatic vinyl compound / conjugated diene compound block copolymer.
  • the resin containing the hydride of the aromatic vinyl compound / conjugated diene compound block copolymer may be referred to as “hydrogenated polymer resin” as appropriate.
  • This hydrogenated polymer resin is usually a thermoplastic resin.
  • the aromatic vinyl compound / conjugated diene compound block copolymer is a block copolymer obtained by block copolymerization of an aromatic vinyl compound, a conjugated diene compound, and optionally any monomer.
  • the block copolymer may be modified with, for example, alkoxysilane, carboxylic acid, carboxylic anhydride, or the like.
  • the aromatic vinyl compound examples include styrene, ⁇ -methylstyrene, 2-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 2,4-diisopropylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, and 4-t-butyl.
  • the aromatic vinyl compound preferably does not contain a polar group.
  • styrene is particularly preferable from the viewpoint of industrial availability and impact resistance.
  • a chain conjugated diene compound is preferable.
  • the chain conjugated diene compound include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, and the like. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio. Among them, those not containing a polar group are preferable in terms of hygroscopicity, 1,3-butadiene and isoprene are more preferable, and isoprene is particularly preferable.
  • the copolymerization ratio of the aromatic vinyl compound / conjugated diene compound is preferably 50/50 or more, more preferably 55/45 or more, particularly preferably 60/40 or more, preferably 90/10 or less, more preferably 85. / 15 or less, particularly preferably 80/20 or less. Therefore, for example, in a styrene / isoprene block copolymer using styrene as the aromatic vinyl compound and isoprene as the conjugated diene compound, the copolymerization ratio of styrene / isoprene is preferably within the above range.
  • the copolymerization ratio at least the lower limit of the above range, it is possible to suppress the fusion of the surface of the optical film, and to suppress blocking, and by making it below the upper limit, the bending resistance of the optical film is further improved. Can be improved.
  • the block copolymer is a block copolymer of an aromatic vinyl compound and a conjugated diene compound
  • the polymer block [A] containing an aromatic vinyl compound unit and a polymer block containing a conjugated diene compound unit are used.
  • the aromatic vinyl compound unit refers to a structural unit having a structure formed by polymerizing an aromatic vinyl compound.
  • the conjugated diene compound unit refers to a structural unit having a structure formed by polymerizing a conjugated diene compound.
  • the polymer block [A] preferably contains an aromatic vinyl compound unit as a main component.
  • the ratio of the aromatic vinyl compound unit in the polymer block [A] is preferably 90 to 100% by weight, more preferably 95 to 100% by weight, and 99 to 100% by weight. Particularly preferred.
  • the polymer block [A] can contain an arbitrary structural unit in addition to the aromatic vinyl compound unit.
  • the arbitrary structural unit include a conjugated diene compound unit and a structural unit having a structure formed by polymerizing a vinyl compound other than an aromatic vinyl compound.
  • vinyl compounds other than aromatic vinyl compounds include: chain vinyl compounds; cyclic vinyl compounds; vinyl compounds having a nitrile group, alkoxycarbonyl group, hydroxycarbonyl group, or halogen group; unsaturated cyclic acid anhydrides; Examples thereof include saturated imide compounds.
  • chain olefins such as 4,6-dimethyl-1-heptene
  • cyclic olefins such as vinylcyclohexane
  • the content of any structural unit in the polymer block [A] is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, and particularly preferably 1% by weight or less.
  • the number of polymer blocks [A] in one molecule of the block copolymer is preferably 2 or more, preferably 5 or less, more preferably 4 or less, and particularly preferably 3 or less.
  • the plurality of polymer blocks [A] in one molecule may be the same as or different from each other.
  • the weight average molecular weight of the polymer block having the maximum weight average molecular weight in the polymer block [A] is expressed as Mw (A1).
  • the weight average molecular weight of the polymer block having the smallest weight average molecular weight is Mw (A2).
  • the ratio “Mw (A1) / Mw (A2)” between Mw (A1) and Mw (A2) is preferably 2.0 or less, more preferably 1.5 or less, and particularly preferably 1.2 or less. It is. Thereby, the dispersion
  • the polymer block [B] preferably contains a conjugated diene compound unit as a main component.
  • the ratio of the conjugated diene compound unit in the polymer block [B] is preferably 90% by weight to 100% by weight, more preferably 95% by weight to 100% by weight, particularly 99% by weight to 100% by weight. preferable.
  • the polymer block [B] can contain an arbitrary structural unit in addition to the conjugated diene compound unit.
  • the arbitrary structural unit include an aromatic vinyl compound unit and a structural unit having a structure formed by polymerizing a vinyl compound other than the aromatic vinyl compound.
  • the content of any structural unit in the polymer block [B] is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, and particularly preferably 1% by weight or less.
  • the flexibility of the hydrogenated polymer resin at low temperature is improved, and the bending resistance of the optical film at low temperature is improved. It can be improved effectively.
  • the number of polymer blocks [B] in one molecule of the block copolymer is usually 1 or more, but may be 2 or more. When the number of polymer blocks [B] in the block copolymer is 2 or more, the polymer blocks [B] may be the same as or different from each other.
  • the weight average molecular weight of the polymer block having the largest weight average molecular weight in the polymer block [B] is expressed as Mw (B1).
  • Mw (B2) the weight average molecular weight of the polymer block having the smallest weight average molecular weight.
  • the ratio “Mw (B1) / Mw (B2)” between Mw (B1) and Mw (B2) is preferably 2.0 or less, more preferably 1.5 or less, and particularly preferably 1.2 or less. It is. Thereby, the dispersion
  • the ratio (wA / wB) is preferably 50/50 or more, more preferably 55/45 or more, preferably 90/10 or less, more preferably 85/15 or less.
  • the block copolymer block may be a chain block or a radial block.
  • a chain type block is preferable because of its excellent mechanical strength.
  • both ends thereof are polymer blocks [A]. Thereby, the stickiness of the hydrogenated polymer resin can be suppressed to a low value.
  • a particularly preferred block form of the block copolymer is a triblock copolymer having a [A]-[B]-[A] structure in which the polymer block [A] is bonded to both ends of the polymer block [B].
  • the polymer block [B] is bonded to both ends of the polymer block [A]
  • the polymer block [A] is bonded to the other end of the both polymer blocks [B], [A]-[ B]-[A]-[B]-[A] pentablock copolymer having structure.
  • a triblock copolymer is particularly preferable because it is easy to produce and can have physical properties such as viscosity within a desired range.
  • the molecular weight of the block copolymer is a weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by GPC using tetrahydrofuran (THF) as a solvent, preferably 30,000 or more, more preferably 40,000 or more, particularly Preferably it is 50,000 or more, Preferably it is 200,000 or less, More preferably, it is 150,000 or less, Most preferably, it is 100,000 or less. Further, the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the block copolymer is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 1.5 or less.
  • the material called “monomer composition” includes not only a mixture of two or more substances but also a material composed of a single substance.
  • the monomer composition (a1) and the monomer composition (a2) may be the same or different.
  • (Manufacturing method 2) The 1st process of polymerizing the monomer composition (a1) containing an aromatic vinyl compound, and forming polymer block [A], At one end of the polymer block [A], the monomer composition (b1) containing a conjugated diene compound is polymerized to form a polymer block [B], and a diblock polymer of [A]-[B] A second step of forming A third step of obtaining a block copolymer by coupling ends of the diblock polymer on the polymer block [B] side with a coupling agent.
  • radical polymerization, anion polymerization, cation polymerization, coordination anion polymerization, coordination cation polymerization and the like can be used.
  • radical polymerization, anion polymerization or cationic polymerization is performed by living polymerization is preferable, and a method in which living polymerization is performed by living anion polymerization is particularly preferable.
  • the polymerization of the monomer composition is preferably 0 ° C. or higher, more preferably 10 ° C. or higher, particularly preferably 20 ° C. or higher, and preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. in the presence of a polymerization initiator.
  • a polymerization initiator preferably 0 ° C. or higher, more preferably 10 ° C. or higher, particularly preferably 20 ° C. or higher, and preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. in the presence of a polymerization initiator.
  • it can be performed particularly preferably in a temperature range of 70 ° C. or less.
  • examples of the polymerization initiator include monoorganolithium such as n-butyllithium, sec-butyllithium, t-butyllithium, hexyllithium; dilithiomethane, 1,4-dilithiobutane, 1,4- And polyfunctional organolithium compounds such as dilithio-2-ethylcyclohexane; One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
  • monoorganolithium such as n-butyllithium, sec-butyllithium, t-butyllithium, hexyllithium
  • dilithiomethane 1,4-dilithiobutane
  • 1,4- And polyfunctional organolithium compounds such as dilithio-2-ethylcyclohexane
  • Examples of the polymerization reaction include solution polymerization and slurry polymerization. In particular, when solution polymerization is used, reaction heat can be easily removed.
  • an inert solvent in which the polymer obtained in each step can be dissolved can be used as the solvent.
  • the inert solvent include aliphatic hydrocarbon solvents such as n-pentane, isopentane, n-hexane, n-heptane and isooctane; alicyclic carbonization such as cyclopentane, cyclohexane, methylcyclopentane, methylcyclohexane and decalin.
  • a hydrogen solvent aromatic hydrocarbon solvents such as benzene and toluene; and the like.
  • aromatic hydrocarbon solvents such as benzene and toluene; and the like.
  • One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
  • an alicyclic hydrocarbon solvent as a solvent because it can be used as it is as an inert solvent for the hydrogenation reaction and the solubility of the block copolymer is good.
  • the amount of the solvent used is preferably 200 to 2000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of all the monomers used.
  • a randomizer can be used in order to prevent only one component chain from becoming long.
  • a Lewis base compound it is preferable to use, for example, a Lewis base compound as a randomizer.
  • Lewis base compounds include ether compounds such as dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, diphenyl ether, ethylene glycol diethyl ether, and ethylene glycol methyl phenyl ether; and tetramethylethylenediamine, trimethylamine, triethylamine, pyridine, Tertiary amine compounds; alkali metal alkoxide compounds such as potassium-t-amyl oxide and potassium-t-butyl oxide; phosphine compounds such as triphenylphosphine; and the like. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
  • the hydride of an aromatic vinyl compound / conjugated diene compound block copolymer is a polymer obtained through the above-described process of hydrogenating the aromatic vinyl compound / conjugated diene compound block copolymer.
  • This hydride may be modified with, for example, alkoxysilane, carboxylic acid, carboxylic acid anhydride, or the like as necessary.
  • alkoxysilane carboxylic acid, carboxylic acid anhydride, or the like as necessary.
  • the hydride is obtained by hydrogenating the unsaturated bond of the above-mentioned aromatic vinyl compound / conjugated diene compound block copolymer.
  • the unsaturated bond of the block copolymer includes both aromatic and non-aromatic carbon-carbon unsaturated bonds in the main chain and side chain of the block copolymer.
  • the hydrogenation rate is preferably 90% or more, more preferably 97% or more, and particularly preferably 99% or more of the total unsaturated bonds of the block copolymer. The higher the hydrogenation rate, the better the heat resistance and light resistance of the hydrogenated polymer resin.
  • the hydrogenation rate of the hydride can be determined by measurement by 1 H-NMR.
  • the hydrogenation rate of the non-aromatic unsaturated bond is preferably 95% or more, more preferably 99% or more.
  • the hydrogenation rate of the aromatic carbon-carbon unsaturated bond is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, and particularly preferably 95% or more. Since the glass transition temperature of the polymer block obtained by hydrogenating the polymer block [A] is increased by increasing the hydrogenation rate of the carbon-carbon unsaturated bond of the aromatic ring, the heat resistance of the hydrogenated polymer resin Can be effectively increased.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the hydride of the block copolymer is a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as a solvent, preferably 30,000 or more, more preferably Is 40,000 or more, particularly preferably 45,000 or more, preferably 200,000 or less, more preferably 150,000 or less, and particularly preferably 100,000 or less.
  • the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the hydride of the block copolymer is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 1.5 or less.
  • the weight fraction wA of the whole polymer block [A] in the whole block copolymer, and the weight fraction wB in which the whole polymer block [B] occupies the whole block copolymer is usually the same value as wA / wB in the block copolymer before hydrogenation.
  • the hydride of the block copolymer preferably has an alkoxysilyl group in its molecular structure.
  • the block copolymer hydride having an alkoxysilyl group can be obtained, for example, by bonding an alkoxysilyl group to a hydride of a block copolymer having no alkoxysilyl group.
  • an alkoxysilyl group may be directly bonded to the hydride of the block copolymer, and may be bonded via a divalent organic group such as an alkylene group.
  • the hydride of a block copolymer having an alkoxysilyl group is particularly excellent in adhesion to materials such as glass, inorganic substances, and metals. Therefore, when bonding an optical film with arbitrary members, the adhesiveness of an optical film and arbitrary members can be made especially high.
  • the introduction amount of the alkoxysilyl group is preferably 0.1 parts by weight or more, more preferably 0.2 parts by weight or more, particularly preferably 100 parts by weight of the hydride of the block copolymer before the introduction of the alkoxysilyl group. It is 0.3 parts by weight or more, preferably 10 parts by weight or less, more preferably 5 parts by weight or less, and particularly preferably 3 parts by weight or less.
  • the amount of alkoxysilyl group introduced can be measured by 1 H-NMR spectrum (when the amount introduced is small, the number of integrations is increased).
  • the molecular weight of the hydride of the block copolymer having an alkoxysilyl group is usually larger than the molecular weight of the hydride of the block copolymer before introducing the alkoxysilyl group because the amount of the alkoxysilyl group to be introduced is small. It does not change. However, if the hydride of the block copolymer is modified in the presence of a peroxide when introducing an alkoxysilyl group, the crosslinking reaction and cleavage reaction of the hydride proceeds and the molecular weight distribution changes greatly. There is.
  • the weight average molecular weight of the hydride of the block copolymer having an alkoxysilyl group is a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran as a solvent, preferably 30,000 or more, More preferably, it is 40,000 or more, Especially preferably, it is 50,000 or more, Preferably it is 200,000 or less, More preferably, it is 150,000 or less, Most preferably, it is 120,000 or less.
  • the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the hydride of the block copolymer having an alkoxysilyl group is preferably 3.5 or less, more preferably 2.5 or less, and particularly preferably 2.0 or less.
  • the weight average molecular weight Mw and molecular weight distribution Mw / Mn of the hydride of the block copolymer having an alkoxysilyl group are within this range, the mechanical strength and tensile elongation of the hydrogenated polymer resin can be improved.
  • the method for producing a hydride of a block copolymer as described above usually includes hydrogenating the above-described block copolymer.
  • a hydrogenation method that can increase the hydrogenation rate and has less chain-breaking reaction of the block copolymer is preferable.
  • Examples of such a preferable hydrogenation method include hydrogenation using a hydrogenation catalyst containing at least one metal selected from the group consisting of nickel, cobalt, iron, titanium, rhodium, palladium, platinum, ruthenium, and rhenium.
  • a hydrogenation catalyst may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • the hydrogenation catalyst either a heterogeneous catalyst or a homogeneous catalyst can be used.
  • the hydrogenation reaction is preferably performed in an organic solvent.
  • the heterogeneous catalyst may be used, for example, in the form of a free metal or metal compound, or may be used by being supported on a suitable carrier.
  • suitable carrier include activated carbon, silica, alumina, calcium carbonate, titania, magnesia, zirconia, diatomaceous earth, silicon carbide, calcium fluoride, and the like.
  • the supported amount of the catalyst is preferably 0.1% by weight or more, more preferably 1% by weight or more, preferably 60% by weight or less, more preferably 50% by weight or less based on the total amount of the catalyst and the carrier. is there.
  • the specific surface area of the supported catalyst is preferably 100 m 2 / g to 500 m 2 / g.
  • the average pore diameter of the supported catalyst is preferably 100 mm or more, more preferably 200 mm or more, preferably 1000 mm or less, more preferably 500 mm or less.
  • the specific surface area can be obtained by measuring the nitrogen adsorption amount and using the BET equation.
  • the average pore diameter can be measured by a mercury intrusion method.
  • the homogeneous catalyst for example, a catalyst obtained by combining a nickel, cobalt, titanium or iron compound and an organometallic compound; an organometallic complex catalyst such as rhodium, palladium, platinum, ruthenium or rhenium;
  • an organometallic complex catalyst such as rhodium, palladium, platinum, ruthenium or rhenium;
  • the nickel, cobalt, titanium, or iron compound include acetylacetonato compounds, carboxylates, and cyclopentadienyl compounds of each metal.
  • organometallic compound examples include organoaluminum compounds such as alkylaluminum such as triethylaluminum and triisobutylaluminum, aluminum halide such as diethylaluminum chloride and ethylaluminum dichloride, and alkylaluminum hydride such as diisobutylaluminum hydride; And organic lithium compounds.
  • organoaluminum compounds such as alkylaluminum such as triethylaluminum and triisobutylaluminum, aluminum halide such as diethylaluminum chloride and ethylaluminum dichloride, and alkylaluminum hydride such as diisobutylaluminum hydride; And organic lithium compounds.
  • organometallic complex catalysts include transition metal complexes such as dihydrido-tetrakis (triphenylphosphine) ruthenium, dihydrido-tetrakis (triphenylphosphine) iron, bis (cyclooctadiene) nickel, and bis (cyclopentadienyl) nickel. Is mentioned.
  • the amount of the hydrogenation catalyst is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably 0.05 parts by weight or more, particularly preferably 0.1 parts by weight or more, preferably 100 parts by weight of the block copolymer. Is 100 parts by weight or less, more preferably 50 parts by weight or less, and particularly preferably 30 parts by weight or less.
  • the temperature of the hydrogenation reaction is preferably 10 ° C or higher, more preferably 50 ° C or higher, particularly preferably 80 ° C or higher, preferably 250 ° C or lower, more preferably 200 ° C or lower, particularly preferably 180 ° C or lower. .
  • the hydrogenation rate can be increased and the molecular cleavage of the block copolymer can be reduced.
  • the hydrogen pressure during the hydrogenation reaction is preferably 0.1 MPa or more, more preferably 1 MPa or more, particularly preferably 2 MPa or more, preferably 30 MPa or less, more preferably 20 MPa or less, and particularly preferably 10 MPa or less. .
  • the hydrogenation rate can be increased, the molecular chain breakage of the block copolymer can be reduced, and the operability is improved.
  • a hydride of the block copolymer is obtained as a product.
  • the product after this hydrogenation reaction may be used as it is. Further, the product after the hydrogenation reaction may be further subjected to any treatment as necessary. For example, you may perform the process which introduce
  • a method for introducing an alkoxysilyl group into a hydride of a block copolymer for example, a hydride of a block copolymer before introducing an alkoxysilyl group, an ethylenically unsaturated silane compound, a peroxide
  • a method of reacting in the presence can be used.
  • ethylenically unsaturated silane compound those capable of graft polymerization with a hydride of a block copolymer and capable of introducing an alkoxysilyl group into the hydride of the block copolymer can be used.
  • Examples of such ethylenically unsaturated silane compounds include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, dimethoxymethylvinylsilane, diethoxymethylvinylsilane, p-styryltrimethoxysilane, p-styryltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltri Examples include methoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, and 2-norbornen-5-yltrimethoxysilane.
  • vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, dimethoxymethylvinylsilane, diethoxymethylvinylsilane, and p-styryltrimethoxysilane are preferable.
  • an ethylenically unsaturated silane compound may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • the amount of the ethylenically unsaturated silane compound is preferably 0.1 parts by weight or more, more preferably 0.2 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the hydride of the block copolymer before introducing the alkoxysilyl group.
  • the amount is particularly preferably 0.3 parts by weight or more, preferably 10 parts by weight or less, more preferably 5 parts by weight or less, and particularly preferably 3 parts by weight or less.
  • peroxides examples include dibenzoyl peroxide, t-butyl peroxyacetate, 2,2-di- (t-butylperoxy) butane, t-butylperoxybenzoate, t-butylcumyl peroxide, Milperoxide, di-t-hexyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxyhexane), di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5- Organic peroxides such as di (t-butylperoxy) hexane-3, t-butylhydroperoxide, t-butylperoxyisobutyrate, lauroyl peroxide, dipropionyl peroxide, p-menthane hydroperoxide Can be mentioned.
  • t-butyl cumyl peroxide dicumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5- Di (t-butylperoxyhexane), di-t-butyl peroxide and the like are preferable.
  • a peroxide may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
  • the amount of the peroxide is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably 0.2 parts by weight or more, particularly preferably 100 parts by weight of the hydride of the block copolymer before introducing the alkoxysilyl group. Is 0.3 parts by weight or more, preferably 5 parts by weight or less, more preferably 3 parts by weight or less, and particularly preferably 2 parts by weight or less.
  • the method of reacting the hydride of the block copolymer with the ethylenically unsaturated silane compound in the presence of a peroxide can be performed using, for example, a heating kneader and a reactor.
  • a block copolymer hydride, an ethylenically unsaturated silane compound and a peroxide mixture are heated and melted at a temperature equal to or higher than the melting temperature of the block copolymer hydride in a biaxial kneader. Then, by kneading for a desired time, an alkoxysilyl group can be introduced into the hydride of the block copolymer.
  • the specific temperature is preferably 180 ° C.
  • the heat kneading time is preferably 0.1 minutes or more, more preferably 0.2 minutes or more, particularly preferably 0.3 minutes or more, preferably 15 minutes or less, more preferably 10 minutes or less, particularly preferably. Is less than 5 minutes.
  • a continuous kneading facility such as a twin-screw kneader or a single-screw extruder
  • kneading and extrusion can be performed continuously with the residence time being in the above range.
  • the hydride of the block copolymer obtained by the above-described method is usually obtained as a reaction liquid containing a hydride of the block copolymer, a hydrogenation catalyst, and a polymerization catalyst. Therefore, the hydride of the block copolymer can be recovered from the reaction solution after removing the hydrogenation catalyst and the polymerization catalyst from the reaction solution by a method such as filtration and centrifugation.
  • a method of recovering the hydride of the block copolymer from the reaction solution for example, a steam coagulation method in which the solvent is removed from the solution in which the hydride of the block copolymer is dissolved by steam stripping; the solvent is removed under reduced pressure heating. Direct desolvation method; a coagulation method in which a solution is poured into a poor solvent of the block copolymer hydride to precipitate and solidify the hydride of the block copolymer; and the like.
  • the hydrogenated polymer resin may contain an arbitrary component in combination with the hydride of the block copolymer described above.
  • optional components include a plasticizer for adjusting the glass transition temperature and elastic modulus, a light stabilizer for improving weather resistance and heat resistance, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a lubricant, and an inorganic filler. Can be mentioned.
  • arbitrary components may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • plasticizer examples include polyisobutene, hydrogenated polyisobutene, hydrogenated polyisoprene, hydrogenated 1,3-pentadiene petroleum resin, hydrogenated cyclopentadiene petroleum resin, hydrogenated styrene / indene petroleum resin, and the like.
  • the amount of the plasticizer is preferably 40 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the hydrogenated polymer resin, and is appropriately selected according to the purpose of adjusting the resin characteristics.
  • a hindered amine light stabilizer is preferable, and in the structure, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl group, 2,2,6,6-tetramethylpiperidyl group, or 1, Particularly preferred are compounds having a 2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl group.
  • Specific examples of the light stabilizer include light stabilizers described in International Publication No. 2014/091941.
  • the amount of the light stabilizer is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably 0.02 parts by weight or more, particularly preferably 0.03 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the hydride of the block copolymer.
  • the amount of the light stabilizer preferably 5 parts by weight or less, more preferably 2 parts by weight or less, particularly preferably 1 part by weight or less.
  • the ultraviolet absorber examples include benzophenone ultraviolet absorbers, salicylic acid ultraviolet absorbers, and benzotriazole ultraviolet absorbers.
  • Specific examples of the ultraviolet stabilizer include ultraviolet absorbers described in International Publication No. 2014/091941.
  • the amount of the UV absorber is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably 0.02 parts by weight or more, and particularly preferably 0.04 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the hydride of the block copolymer. Yes, preferably 1 part by weight or less, more preferably 0.5 part by weight or less, particularly preferably 0.3 part by weight or less.
  • the antioxidant examples include phosphorus antioxidants, phenol antioxidants, sulfur antioxidants, and the like, and phosphorus antioxidants with less coloring are preferable.
  • Specific examples of the antioxidant include the antioxidants described in International Publication No. 2014/091941.
  • the amount of the antioxidant is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably 0.05 parts by weight or more, and particularly preferably 0.1 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the hydride of the block copolymer. Yes, preferably 1 part by weight or less, more preferably 0.5 part by weight or less, particularly preferably 0.3 part by weight or less.
  • the glass transition temperature of the hydrogenated polymer resin is preferably 30 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher, particularly preferably 70 ° C. or higher, preferably 200 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower, particularly preferably 160 ° C. It is below °C.
  • the hydrogenated polymer resin may have a plurality of glass transition temperatures. In this case, it is preferable that the highest glass transition temperature of the resin falls within the above range.
  • the hydrogenated polymer resin containing the hydride of the block copolymer is excellent in flexibility. Since the optical film of the present invention includes the flexible hydrogenated polymer resin layers (that is, the first layer and the third layer) on both sides of the second layer containing the norbornene polymer, the norbornene polymer is provided. Bending resistance can be improved without significantly detracting from the excellent characteristics of.
  • the thickness of the first layer is preferably 2 ⁇ m or more, more preferably 5 ⁇ m or more, preferably 50 ⁇ m or less, more preferably 30 ⁇ m or less. Bending resistance can be further improved by setting the thickness of the first layer to be equal to or higher than the lower limit value of the range, and the thickness of the entire optical film can be reduced by setting the thickness to be equal to or lower than the upper limit value of the range.
  • the ratio between the thickness of the first layer and the thickness of the second layer is preferably 5/95 or more, more preferably 10/90 or more, and preferably 60/40 or less. Preferably it is 40/60 or less. Bending resistance can be further improved by setting the thickness ratio to be equal to or higher than the lower limit value of the range, and maintaining the elastic modulus and heat resistance of the entire optical film by setting the thickness ratio to be equal to or lower than the upper limit value of the range. Can do.
  • the second layer contains a norbornene polymer. Therefore, the second layer is usually a resin layer made of a resin containing a norbornene polymer.
  • a resin containing a norbornene-based polymer may be referred to as “norbornene-based resin” as appropriate.
  • This norbornene-based resin is usually a thermoplastic resin.
  • Examples of the norbornene polymer include a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydride thereof; an addition polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydride thereof.
  • Examples of a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure include a ring-opening homopolymer of one kind of monomer having a norbornene structure and a ring-opening of two or more kinds of monomers having a norbornene structure. Examples thereof include a copolymer and a ring-opening copolymer of a monomer having a norbornene structure and an arbitrary monomer copolymerizable therewith.
  • examples of the addition polymer of a monomer having a norbornene structure include an addition homopolymer of one kind of monomer having a norbornene structure and an addition copolymer of two or more kinds of monomers having a norbornene structure. And addition copolymers of a monomer having a norbornene structure and an arbitrary monomer copolymerizable therewith.
  • a hydride of a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure is particularly suitable from the viewpoints of moldability, heat resistance, low moisture absorption, dimensional stability, lightness, and the like.
  • Examples of the monomer having a norbornene structure include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene), tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7. -Diene (common name: dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo [4.4. 0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene (common name: tetracyclododecene), and derivatives of these compounds (for example, those having a substituent in the ring).
  • examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, and a polar group. These substituents may be the same or different, and a plurality thereof may be bonded to the ring.
  • One type of monomer having a norbornene structure may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.
  • Examples of the polar group include heteroatoms or atomic groups having heteroatoms.
  • Examples of the hetero atom include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a silicon atom, and a halogen atom.
  • Specific examples of the polar group include a carboxyl group, a carbonyloxycarbonyl group, an epoxy group, a hydroxyl group, an oxy group, an ester group, a silanol group, a silyl group, an amino group, a nitrile group, and a sulfonic acid group.
  • Examples of the monomer capable of ring-opening copolymerization with a monomer having a norbornene structure include monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene and derivatives thereof; cyclic conjugated dienes such as cyclohexadiene and cycloheptadiene; Derivatives thereof; and the like.
  • monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene and derivatives thereof
  • cyclic conjugated dienes such as cyclohexadiene and cycloheptadiene
  • Derivatives thereof and the like.
  • the monomer having a norbornene structure and a monomer capable of ring-opening copolymerization one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination at any ratio.
  • a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure can be produced, for example, by polymerizing or copolymerizing a monomer in the presence of a ring-opening polymerization catalyst.
  • Examples of monomers that can be copolymerized with a monomer having a norbornene structure include ⁇ -olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene, propylene, and 1-butene, and derivatives thereof; cyclobutene, cyclopentene, and cyclohexene. And non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene; and the like.
  • ⁇ -olefin is preferable, and ethylene is more preferable.
  • the monomer which can carry out addition copolymerization with the monomer which has a norbornene structure may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • An addition polymer of a monomer having a norbornene structure can be produced, for example, by polymerizing or copolymerizing a monomer in the presence of an addition polymerization catalyst.
  • the hydride of the ring-opening polymer and the addition polymer described above is, for example, carbon-carbon-free in a solution of the ring-opening polymer and the addition polymer in the presence of a hydrogenation catalyst containing a transition metal such as nickel or palladium. Saturated bonds can be produced by hydrogenation, preferably 90% or more.
  • X bicyclo [3.3.0] octane-2,4-diyl-ethylene structure and Y: tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] decane- Having a 7,9-diyl-ethylene structure, and the amount of these structural units is 90% by weight or more based on the total structural units of the norbornene polymer, and the ratio of X to Y The ratio is preferably 100: 0 to 40:60 by weight ratio of X: Y.
  • the norbornene-based polymer preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 10,000 or more, more preferably 15,000 or more, particularly preferably 20,000 or more, preferably 100,000 or less, more preferably 80, 000 or less, particularly preferably 50,000 or less.
  • Mw weight average molecular weight
  • the molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the norbornene polymer is preferably 1.2 or more, more preferably 1.5 or more, particularly preferably 1.8 or more, preferably Is 3.5 or less, more preferably 3.0 or less, and particularly preferably 2.7 or less.
  • productivity of a norbornene-type polymer can be improved and manufacturing cost can be suppressed.
  • the quantity of a low molecular component becomes small by making it into an upper limit or less, relaxation at the time of high temperature exposure can be suppressed and stability of an optical film can be improved.
  • the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) were determined by gel permeation chromatography using cyclohexane as a solvent (however, toluene may be used when the sample does not dissolve in cyclohexane). , Polyisoprene or polystyrene as a weight average molecular weight.
  • the saturated water absorption of the norbornene polymer is preferably 0.03% by weight or less, more preferably 0.02% by weight or less, and particularly preferably 0.01% by weight or less.
  • the saturated water absorption is in the above range, the change with time of optical properties such as retardation of the optical film can be reduced.
  • deterioration of members (polarizing plates and the like) and devices (image display devices and the like) including the optical film can be suppressed, and the lifetime of those members and devices can be increased.
  • the saturated water absorption is a value obtained by immersing a sample in water at a constant temperature for a certain period of time and representing the mass as a percentage of the mass of the test piece before immersion. Usually, it is measured by immersing in 23 ° C. water for 24 hours.
  • the saturated water absorption rate of the polymer can be adjusted to the above range, for example, by reducing the amount of polar groups in the polymer. Therefore, from the viewpoint of lowering the saturated water absorption rate, the norbornene-based polymer preferably has no polar group.
  • the amount of the norbornene polymer in the norbornene resin is preferably 50.0 wt% to 100 wt%, more preferably 80.0 wt% to 100 wt%, particularly preferably 90.0 wt% to 100 wt%. is there.
  • the optical properties of the norbornene-based polymer can be improved by taking advantage of the properties such as heat resistance, moisture resistance, transparency, mechanical strength, dimensional stability and moldability. A film can be obtained.
  • the norbornene-based resin can contain any component in combination with the above-described norbornene-based polymer.
  • optional components include colorants such as pigments and dyes; plasticizers; fluorescent brighteners; dispersants; thermal stabilizers; light stabilizers; antistatic agents; ultraviolet absorbers; And the like.
  • Arbitrary components may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • the glass transition temperature of the norbornene resin is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher, particularly preferably 120 ° C. or higher, preferably 160 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower, particularly preferably 140 ° C. or lower. It is.
  • the glass transition temperature of the norbornene-based resin higher than the lower limit of the above range, the durability of the optical film in a high temperature environment can be improved, and by making the glass transition temperature lower than the upper limit of the above range, the production of the optical film is easy. Can be done.
  • the optical film includes the second layer containing the norbornene-based polymer as described above, the optical film exhibits properties as excellent as those of the conventional film containing the norbornene-based polymer in characteristics such as transparency and tensile elastic modulus. be able to. Furthermore, the optical film can usually exhibit properties as excellent as those of conventional films containing norbornene polymers in properties such as heat resistance, moisture resistance, dimensional stability, and moldability.
  • the thickness of the second layer is preferably 5 ⁇ m or more, more preferably 10 ⁇ m or more, preferably 200 ⁇ m or less, more preferably 100 ⁇ m or less.
  • the elastic modulus and heat resistance of the entire optical film can be maintained by setting the thickness of the second layer to be equal to or higher than the lower limit value of the range, and the bending resistance is further improved by setting the thickness to be equal to or lower than the upper limit value of the range. be able to.
  • the third layer includes a hydride of an aromatic vinyl compound / conjugated diene compound block copolymer. Therefore, the third layer is usually a resin layer made of a hydrogenated polymer resin containing a hydride of an aromatic vinyl compound / conjugated diene compound block copolymer.
  • the hydrogenated polymer resin contained in the third layer those in the range described as the hydrogenated polymer resin contained in the first layer can be arbitrarily used.
  • the hydrogenated polymer resin contained in the first layer and the hydrogenated polymer resin contained in the third layer may be different, but are the same from the viewpoints of suppressing the manufacturing cost of the optical film and suppressing curling. It is preferable.
  • the thickness of the third layer can be arbitrarily set within the range described as the thickness of the first layer.
  • the thickness of the first layer and the thickness of the third layer may be different, but are preferably the same from the viewpoint of suppressing curling of the optical film.
  • the optical film may be provided with an arbitrary layer in combination with the first layer, the second layer, and the third layer described above as long as the effects of the present invention are not significantly impaired.
  • the optical film is preferably a film having a three-layer structure including a first layer, a second layer, and a third layer.
  • the optical film described above is excellent in bending resistance. Therefore, the optical film is hardly damaged even when used for an application involving a bending operation.
  • the bending resistance of the optical film can be evaluated by the folding resistance.
  • the folding resistance of the optical film is usually 500 or more, preferably 1000 or more, more preferably 1500 or more.
  • the upper limit of the folding resistance of the optical film is not particularly limited, but may be, for example, 1,000,000 or less.
  • the folding resistance of the optical film can be measured by the MIT folding resistance test according to JIS P 8115 “Paper and paperboard—Folding strength test method—MIT testing machine method” according to the following procedure.
  • a test piece having a width of 15 mm ⁇ 0.1 mm and a length of about 110 mm is cut out from the optical film as a sample.
  • the test piece is prepared so that the direction in which the optical film is most strongly stretched is parallel to the side of about 110 mm of the test piece. Then, using a MIT folding resistance tester (“No.
  • the load is 9.8 N
  • the curvature of the bent portion is 0.38 ⁇ 0.02 mm
  • the bending angle is 135 ° ⁇ 2 °
  • the bending speed is Under the condition of 175 times / minute, the test piece is bent so that a fold appears in the width direction of the test piece. This bending is continued, and the number of reciprocal bendings until the test piece breaks is measured.
  • Ten test pieces are prepared, and the number of reciprocal bending until the test piece is broken is measured 10 times by the above method. The average of the ten measurement values measured in this way is defined as the folding resistance of the optical film (MIT folding resistance count).
  • the above-described optical film has excellent characteristics like a conventional film containing a norbornene polymer.
  • the optical film of the present invention has excellent transparency and mechanical strength.
  • the total light transmittance of the optical film is preferably 70% to 100%, more preferably 80% to 100%, and particularly preferably 90% to 100%.
  • the total light transmittance of the optical film can be measured in the wavelength range of 400 nm to 700 nm using an ultraviolet / visible spectrometer.
  • the tensile elastic modulus of the optical film is preferably 1000 MPa or more, more preferably 1400 MPa or more, and particularly preferably 1600 MPa or more.
  • the tensile elastic modulus of the optical film can be measured according to JIS K 7161.
  • the upper limit of the tensile elasticity modulus of an optical film is not specifically limited, For example, it can be 5000 MPa or less.
  • the amount of the volatile component contained in the optical film is preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, and further preferably 0.02% by weight or less.
  • the amount of the volatile component is a substance having a molecular weight of 200 or less. Examples of volatile components include residual monomers and solvents.
  • the amount of volatile components can be quantified by analyzing by gas chromatography as the sum of substances having a molecular weight of 200 or less.
  • the optical film is preferably thin. Even if the thickness is thus small, the above-described optical film has high bending resistance.
  • the specific thickness of the optical film is preferably 5 ⁇ m or more, more preferably 10 ⁇ m or more, preferably 200 ⁇ m or less, more preferably 100 ⁇ m or less.
  • the water absorption of the optical film is preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, still more preferably 0.01% by weight or less, and ideally 0% by weight. When the water absorption is within this range, it is possible to extend the life of members (polarizing plates, etc.) and devices (image display devices, etc.) provided with optical films.
  • the lower limit of the water absorption rate is not particularly limited, but is ideally 0% by weight.
  • the water absorption rate of the optical film is a value measured according to ASTM D570. Specifically, it can be calculated by immersing a 100 mm ⁇ 100 mm film in water at 23 ° C. for 1 hour and measuring the increased weight of the immersion.
  • optical film There is no restriction
  • the optical film can be manufactured, for example, by a manufacturing method including a step of forming a hydrogenated polymer resin and a norbornene-based resin into a film shape.
  • Examples of the resin molding method include a co-extrusion method and a co-casting method.
  • the coextrusion method is preferable because it is excellent in production efficiency and hardly causes volatile components to remain in the optical film.
  • the coextrusion method includes an extrusion process in which a hydrogenated polymer resin and a norbornene resin are coextruded.
  • the hydrogenated polymer resin and the norbornene-based resin are each extruded in layers in a molten state.
  • examples of the resin extrusion method include a coextrusion T-die method, a coextrusion inflation method, and a coextrusion lamination method.
  • the coextrusion T-die method is preferable.
  • the coextrusion T-die method includes a feed block method and a multi-manifold method, and the multi-manifold method is particularly preferable in that variation in thickness can be reduced.
  • the melting temperature of the extruded resin is preferably (Tg + 80 ° C.) or higher, more preferably (Tg + 100 ° C.) or higher, preferably (Tg + 180 ° C.) or lower, more preferably (Tg + 170 ° C.) or lower.
  • Tg represents the highest temperature among the glass transition temperatures of the hydrogenated polymer resin and the norbornene resin.
  • the temperature of the resin in the extruder is preferably Tg to (Tg + 100 ° C.) at the resin inlet, preferably (Tg + 50 ° C.) to (Tg + 170 ° C.) at the extruder outlet, and the die temperature is preferably (Tg + 50 ° C.). To (Tg + 170 ° C.).
  • the film-like molten resin extruded from a die is usually brought into close contact with a cooling roll, cooled, and cured.
  • examples of the method for bringing the molten resin into close contact with the cooling roll include an air knife method, a vacuum box method, and an electrostatic contact method.
  • the number of cooling rolls is not particularly limited, and is usually 2 or more.
  • Examples of the arrangement method of the cooling roll include a linear type, a Z type, and an L type.
  • the method of passing the molten resin extruded from the die through the cooling roll is not particularly limited.
  • the hydrogenated polymer resin and the norbornene resin are formed into a film as described above, the first layer made of the hydrogenated polymer resin, the second layer made of the norbornene resin, and the hydrogenated polymer resin are formed. An optical film provided with the third layer in this order is obtained.
  • the method for producing an optical film may further include an optional step in addition to the steps described above.
  • the method for producing an optical film may include a step of performing a stretching process on the optical film. By performing the stretching treatment, desired retardation can be expressed in the optical film, and the mechanical properties of the optical film can be improved.
  • the method for producing an optical film may include a step of performing a surface treatment on the optical film.
  • optical film The use of the optical film is arbitrary. Applications of optical films include, for example, retardation films, polarizing plate protective films, sealing films for optical devices, base films for organic electroluminescence elements, base films for flexible electrodes, base films for touch panels, etc. Is mentioned.
  • the folding resistance of the optical film was measured by the MIT folding resistance test according to JIS P 8115 “Paper and paperboard—Folding strength test method—MIT testing machine method” according to the following procedure.
  • a test piece having a width of 15 mm ⁇ 0.1 mm and a length of about 110 mm was cut out from the optical film as a sample.
  • a MIT folding resistance tester (“No. 307” manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho)
  • the load is 9.8 N
  • the curvature of the bent portion is 0.38 ⁇ 0.02 mm
  • the bending angle is 135 ° ⁇ 2 °
  • the bending speed is 175 times.
  • the test piece was bent so that a crease appeared in the width direction of the test piece under the conditions of / min. This bending was continued, and the number of reciprocal bendings until the test piece broke was measured. Ten test pieces were prepared, and the number of reciprocal bendings until the test pieces were broken by the above method was measured 10 times. The average of the 10 measured values thus measured was defined as the folding resistance of the film (MIT folding resistance count).
  • the total light transmittance of the optical film was measured in the wavelength range of 400 nm to 700 nm using an ultraviolet / visible spectrometer.
  • the water absorption of the optical film is a value measured according to ASTM D570. Specifically, it was calculated by immersing a 100 mm ⁇ 100 mm film in water at 23 ° C. for 1 hour and measuring the increased weight.
  • the obtained block copolymer had a weight average molecular weight (Mw) of 48,300, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.03, and the ratio of the styrene block to the isobutylene block was 60:40 by weight.
  • the solution was filtered through a Zeta Plus (registered trademark) filter 30H (Cuno, pore size 0.5 ⁇ m to 1 ⁇ m), and further with another metal fiber filter (Nichidai, pore size 0.4 ⁇ m). Sequential filtration removed fine solids. Thereafter, cyclohexane, xylene and other volatile components as solvents were removed from the solution at a temperature of 260 ° C. and a pressure of 0.001 MPa or less using a cylindrical concentration dryer (manufactured by Hitachi, Ltd., Contro).
  • the remaining solid content was extruded as a strand in a molten state from a die directly connected to a concentration dryer, cooled, and then cut with a pelletizer to obtain 95 parts of a pellet containing a block copolymer hydride.
  • the resulting block copolymer hydride had a weight average molecular weight (Mw) of 50,300, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.05, and a hydrogenation rate of almost 100%.
  • this pellet resin is referred to as “resin A” as appropriate.
  • the obtained block copolymer had a weight average molecular weight (Mw) of 50,400, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.03, and the ratio of the styrene block to the isobutylene block was 90:10.
  • the hydrogenation reaction of the obtained block copolymer was performed in the same manner as in Production Example 1.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the block copolymer hydride obtained by the hydrogenation reaction was 53,000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.04.
  • the resulting block polymer hydride was pelletized.
  • the resulting block copolymer hydride had a weight average molecular weight (Mw) of 52,200, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.05, and a hydrogenation rate of almost 100%.
  • this pellet resin is referred to as “resin B” as appropriate.
  • the resulting block copolymer had a weight average molecular weight (Mw) of 54000, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.04, and the ratio of styrene block to isobutylene block was 75:25 by weight.
  • the hydrogenation reaction of the obtained block copolymer was performed in the same manner as in Production Example 1.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the block copolymer hydride obtained by the hydrogenation reaction was 53100, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.04.
  • the resulting block polymer hydride was pelletized.
  • the resulting block copolymer hydride had a weight average molecular weight (Mw) of 52,500, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.05, and a hydrogenation rate of almost 100%.
  • this pellet resin is appropriately referred to as “resin C”.
  • the resulting block copolymer had a weight average molecular weight (Mw) of 54000, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.04, and the ratio of styrene block to isobutylene block was 95: 5.
  • the hydrogenation reaction of the obtained block copolymer was performed in the same manner as in Production Example 1.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the block copolymer hydride obtained by the hydrogenation reaction was 53000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.04.
  • the resulting block polymer hydride was pelletized.
  • the resulting block copolymer hydride had a weight average molecular weight (Mw) of 52200, a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.05, and a hydrogenation rate of almost 100%.
  • this pellet resin is appropriately referred to as “resin D”.
  • Example 1 A film forming apparatus for three-layer / three-layer co-extrusion molding having three single-screw extruders a, b and c equipped with a double flight type screw was prepared.
  • the three-type three-layer film forming apparatus represents a film forming apparatus capable of producing a film having a three-layer structure using three types of resins.
  • the film forming apparatus used in this example is provided with a resin layer charged in the uniaxial extruder a, a resin layer charged in the uniaxial stretching machine b, and a resin layer charged in the uniaxial stretching machine c in this order. It was provided so that a film could be manufactured.
  • Resin A pellets were put into a single screw extruder a and a single screw extruder c.
  • pellets of norbornene-based resin (“Zeonor 1600” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) were charged into the single screw extruder b. Thereafter, the resins charged in the uniaxial stretching machines a, b and c were melted at an extrusion temperature of 260 ° C., respectively.
  • the melted resin A and norbornene-based resin were supplied to a multi-manifold die through a leaf disk-shaped polymer filter having an opening of 10 ⁇ m, and extruded from the multi-manifold die at 260 ° C. simultaneously.
  • the extruded film-like molten resin is cast on a cooling roll adjusted to a surface temperature of 100 ° C., and then passed between two cooling rolls adjusted to a surface temperature of 50 ° C.
  • An optical film having a thickness of 50 ⁇ m was obtained, comprising (thickness 5 ⁇ m) / second layer made of norbornene resin (thickness 40 ⁇ m) / third layer made of resin A (thickness 5 ⁇ m) in this order.
  • the obtained optical film was evaluated by the method described above.
  • Example 2 An optical film was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that Resin B was used instead of Resin A.
  • Example 3 An optical film was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that Resin C was used instead of Resin A.
  • Example 4 An optical film was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that Resin D was used instead of Resin A.
  • the optical films of Examples 1 to 4 have high folding resistance, low water absorption, and excellent tensile modulus and total light transmittance. Therefore, according to the present invention, it has been confirmed that an optical film excellent in bending resistance can be realized while having characteristics similar to those of a film made of a conventional norbornene resin.

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Abstract

　芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物を含む第一層、ノルボルネン系重合体を含む第二層、及び、芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物を含む第三層を、この順に備える、光学フィルム。前記芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物は、好ましくはスチレン／イソプレン共重合体の水素化物である。前記スチレン／イソプレン共重合体の水素化物におけるスチレン／イソプレンの共重合比は、好ましくは５０／５０～９０／１０である。

Description

光学フィルム
　本発明は、光学フィルムに関する。
　位相差フィルム、偏光板保護フィルム及び光学補償フィルム等の光学フィルムとしては、一般に、樹脂からなるフィルムが用いられる。このような樹脂からなる光学フィルムの一つに、ノルボルネン系重合体を含むフィルムがある（特許文献１及び２参照）。
特開１１－１４２６４５号公報 特開２００４－１５６０４８号公報
　光学フィルムは、その用途によっては、使用時に折り曲げられることがありえる。そのため、光学フィルムは、耐折り曲げ性に優れることが求められる。ところが、ノルボルネン系重合体を含む従来のフィルムは、引張弾性率及び透明性などの特性には優れるが、耐折り曲げ性には劣る傾向があった。
　本発明は前記の課題に鑑みて創案されたものであって、ノルボルネン系重合体を含み、且つ、耐折り曲げ性に優れた光学フィルムを提供することを目的とする。
　本発明者は前記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物を含む第一層、ノルボルネン系重合体を含む第二層、及び、芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物を含む第三層を、この順に備える光学フィルムが、耐折り曲げ性に優れることを見い出し、本発明を完成させた。
　すなわち、本発明は下記の通りである。
　〔１〕　芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物を含む第一層、
　ノルボルネン系重合体を含む第二層、及び、
　芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物を含む第三層を、この順に備える、光学フィルム。
　〔２〕　前記芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物が、スチレン／イソプレン共重合体の水素化物である、〔１〕記載の光学フィルム。
　〔３〕　前記スチレン／イソプレン共重合体の水素化物におけるスチレン／イソプレンの共重合比が５０／５０～９０／１０である、〔２〕記載の光学フィルム。
　〔４〕　ＡＳＴＭ　Ｄ５７０で測定した吸水率が０．１重量％以下である、〔１〕～〔３〕のいずれか１項に記載の光学フィルム。
　本発明によれば、ノルボルネン系重合体を含み、且つ、耐折り曲げ性に優れた光学フィルムを提供できる。
　以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものでは無く、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
　以下の説明において、「偏光板」とは、別に断らない限り、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。
　［１．光学フィルムの概要］
　本発明の光学フィルムは、第一層、第二層及び第三層をこの順に備える複層構造のフィルムである。
　［２．第一層］
　第一層は、芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物を含む。したがって、第一層は、通常、芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物を含む樹脂からなる樹脂層である。以下、前記の芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物を含む樹脂を、適宜「水添重合体樹脂」ということがある。この水添重合体樹脂は、通常、熱可塑性樹脂である。
　芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体は、芳香族ビニル化合物及び共役ジエン化合物、並びに必要に応じて任意のモノマーをブロック共重合して得られるブロック共重合体である。前記のブロック共重合体は、例えばアルコキシシラン、カルボン酸、カルボン酸無水物等で変性されていていてもよい。
　芳香族ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α－メチルスチレン、２－メチルスチレン、３－メチルスチレン、４－メチルスチレン、２，４－ジイソプロピルスチレン、２，４－ジメチルスチレン、４－ｔ－ブチルスチレン、５－ｔ－ブチル－２－メチルスチレン、４－モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、４－モノフルオロスチレン、４－フェニルスチレンなどが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、吸湿性の観点から、芳香族ビニル化合物としては、極性基を含有しないものが好ましい。更に、工業的入手のし易さ、耐衝撃性の観点から、スチレンが特に好ましい。
　共役ジエン化合物としては、鎖状共役ジエン化合物が好ましい。鎖状共役ジエン化合物としては、例えば、１，３－ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン、１，３－ペンタジエンなどが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、吸湿性の面で極性基を含有しないものが好ましく、１，３－ブタジエン及びイソプレンがより好ましく、イソプレンが特に好ましい。
　芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物の共重合比は、好ましくは５０／５０以上、より好ましくは５５／４５以上、特に好ましくは６０／４０以上であり、好ましくは９０／１０以下、より好ましくは８５／１５以下、特に好ましくは８０／２０以下である。したがって、例えば、芳香族ビニル化合物としてスチレンを用い、且つ、共役ジエン化合物としてイソプレンを用いたスチレン／イソプレンブロック共重合体においては、スチレン／イソプレンの共重合比が前記の範囲に収まることが好ましい。前記の共重合比を、前記範囲の下限値以上にすることにより光学フィルムの表面の融着の抑制、及び、ブロッキングの抑制ができ、上限値以下にすることにより光学フィルムの耐折り曲げ性をより向上させることができる。
　前記のブロック共重合体は、芳香族ビニル化合物及び共役ジエン化合物のブロック共重合であるので、通常、芳香族ビニル化合物単位を含む重合体ブロック［Ａ］と、共役ジエン化合物単位を含む重合体ブロック［Ｂ］とを含む。ここで、芳香族ビニル化合物単位とは、芳香族ビニル化合物を重合して形成される構造を有する構造単位のことをいう。さらに、共役ジエン化合物単位とは、共役ジエン化合物を重合して形成される構造を有する構造単位のことをいう。
　重合体ブロック［Ａ］は、芳香族ビニル化合物単位を主成分として含むことが好ましい。具体的には、重合体ブロック［Ａ］における芳香族ビニル化合物単位の割合は、９０重量％～１００重量％が好ましく、９５重量％～１００重量％がより好ましく、９９重量％～１００重量％が特に好ましい。重合体ブロック［Ａ］において芳香族ビニル化合物単位の量を前記のように多くすることにより、水添重合体樹脂の耐熱性を高めることができる。
　重合体ブロック［Ａ］は、芳香族ビニル化合物単位以外に、任意の構造単位を含みうる。任意の構造単位としては、例えば、共役ジエン化合物単位、芳香族ビニル化合物以外のビニル化合物を重合して形成される構造を有する構造単位、などが挙げられる。
　芳香族ビニル化合物以外のビニル化合物としては、例えば、鎖状ビニル化合物；環状ビニル化合物；ニトリル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、又はハロゲン基を有するビニル化合物；不飽和の環状酸無水物；不飽和イミド化合物などが挙げられる。中でも、エチレン、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、１－ヘプテン、１－オクテン、１－ノネン、１－デセン、１－ドデセン、１－エイコセン、４－メチル－１－ペンテン、４，６－ジメチル－１－ヘプテン等の鎖状オレフィン；ビニルシクロヘキサン等の環状オレフィン；などの、極性基を含有しないものが、吸湿性の面で好ましい。その中でも、鎖状オレフィンがより好ましく、エチレン及びプロピレンが特に好ましい。また、これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
　重合体ブロック［Ａ］における任意の構造単位の含有率は、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下、特に好ましくは１重量％以下である。
　ブロック共重合体１分子における重合体ブロック［Ａ］の数は、好ましくは２個以上であり、好ましくは５個以下、より好ましくは４個以下、特に好ましくは３個以下である。１分子中に複数個ある重合体ブロック［Ａ］は、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。
　１分子のブロック共重合体に、異なる重合体ブロック［Ａ］が複数含まれる場合、重合体ブロック［Ａ］の中で、重量平均分子量が最大の重合体ブロックの重量平均分子量をＭｗ（Ａ１）とし、重量平均分子量が最少の重合体ブロックの重量平均分子量をＭｗ（Ａ２）とする。このとき、Ｍｗ（Ａ１）とＭｗ（Ａ２）との比「Ｍｗ（Ａ１）／Ｍｗ（Ａ２）」は、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．５以下、特に好ましくは１．２以下である。これにより、各種物性値のばらつきを小さく抑えることができる。
　重合体ブロック［Ｂ］は、共役ジエン化合物単位を主成分として含むことが好ましい。具体的には、重合体ブロック［Ｂ］における共役ジエン化合物単位の割合は、９０重量％～１００重量％が好ましく、９５重量％～１００重量％がより好ましく、９９重量％～１００重量％が特に好ましい。重合体ブロック［Ｂ］において共役ジエン化合物単位の量を前記のように多くすることにより、光学フィルムの低温での耐折れ曲げ性を効果的に向上させることができる。
　重合体ブロック［Ｂ］は、共役ジエン化合物単位以外に、任意の構造単位を含みうる。任意の構造単位としては、例えば、芳香族ビニル化合物単位、並びに、芳香族ビニル化合物以外のビニル化合物を重合して形成される構造を有する構造単位などが挙げられる。
　重合体ブロック［Ｂ］における任意の構造単位の含有率は、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下、特に好ましくは１重量％以下である。特に、重合体ブロック［Ｂ］における芳香族ビニル化合物単位の含有率を低くすることにより、水添重合体樹脂の低温での柔軟性を向上させて、光学フィルムの低温での耐折れ曲げ性を効果的に向上させることができる。
　ブロック共重合体１分子における重合体ブロック［Ｂ］の数は、通常１個以上であるが、２個以上であってもよい。ブロック共重合体における重合体ブロック［Ｂ］の数が２個以上である場合、重合体ブロック［Ｂ］は、互いに同じでもよく、異なっていてもよい。
　１分子のブロック共重合体に、異なる重合体ブロック［Ｂ］が複数含まれる場合、重合体ブロック［Ｂ］の中で、重量平均分子量が最大の重合体ブロックの重量平均分子量をＭｗ（Ｂ１）とし、重量平均分子量が最少の重合体ブロックの重量平均分子量をＭｗ（Ｂ２）とする。このとき、Ｍｗ（Ｂ１）とＭｗ（Ｂ２）との比「Ｍｗ（Ｂ１）／Ｍｗ（Ｂ２）」は、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．５以下、特に好ましくは１．２以下である。これにより、各種物性値のばらつきを小さく抑えることができる。
　ブロック共重合体において、全重合体ブロック［Ａ］がブロック共重合体の全体に占める重量分率ｗＡと、全重合体ブロック［Ｂ］がブロック共重合体の全体に占める重量分率ｗＢとの比（ｗＡ／ｗＢ）は、好ましくは５０／５０以上、より好ましくは５５／４５以上であり、好ましくは９０／１０以下、より好ましくは８５／１５以下である。前記の比ｗＡ／ｗＢを前記範囲の下限値以上にすることにより、水添重合体樹脂の耐熱性を向上させることができる。また、上限値以下にすることにより、水添重合体樹脂の柔軟性を高めることができる。さらに、ブロック共重合体のガラス転移温度を下げることができる。
　ブロック共重合体のブロックの形態は、鎖状型ブロックでもよく、ラジアル型ブロックでもよい。中でも、鎖状型ブロックが、機械的強度に優れ、好ましい。
　ブロック共重合体が鎖状型ブロックの形態を有する場合、その両端が重合体ブロック［Ａ］であることが好ましい。これにより、水添重合体樹脂のベタツキを低い値に抑えることができる。
　ブロック共重合体の特に好ましいブロックの形態は、重合体ブロック［Ｂ］の両端に重合体ブロック［Ａ］が結合した、［Ａ］－［Ｂ］－［Ａ］構造を有するトリブロック共重合体；重合体ブロック［Ａ］の両端に重合体ブロック［Ｂ］が結合し、更に、該両重合体ブロック［Ｂ］の他端にそれぞれ重合体ブロック［Ａ］が結合した、［Ａ］－［Ｂ］－［Ａ］－［Ｂ］－［Ａ］構造を有するペンタブロック共重合体；である。特に、トリブロック共重合体であることが、製造が容易であり且つ粘度等の物性を所望の範囲とすることができるため、特に好ましい。
　前記のブロック共重合体の分子量は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶媒とするＧＰＣにより測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、好ましくは３０，０００以上、より好ましくは４０，０００以上、特に好ましくは５０，０００以上であり、好ましくは２００，０００以下、より好ましくは１５０，０００以下、特に好ましくは１００，０００以下である。
　また、ブロック共重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは３以下、より好ましくは２以下、特に好ましくは１．５以下である。
　上述した芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の製造方法に制限は無いが、例えば３つの重合体ブロックを有するブロック共重合体を製造する場合、下記の製造方法１及び２が挙げられる。ここで、「モノマー組成物」と称する材料は、２種類以上の物質の混合物のみならず、単一の物質からなる材料をも包含する。
　（製造方法１）　芳香族ビニル化合物を含有するモノマー組成物（ａ１）を重合させて重合体ブロック［Ａ］を形成する第一工程と、
　かかる重合体ブロック［Ａ］の一端において、共役ジエン化合物を含有するモノマー組成物（ｂ１）を重合させて重合体ブロック［Ｂ］を形成し、［Ａ］－［Ｂ］のジブロックの重合体を形成する第二工程と、
　かかるジブロックの重合体の、ブロック［Ｂ］側の末端において、芳香族ビニル化合物を含有するモノマー組成物（ａ２）を重合させて、ブロック共重合体を得る第三工程とを有する方法。ただし、モノマー組成物（ａ１）とモノマー組成物（ａ２）とは、同一でも異なっていてもよい。
　（製造方法２）　芳香族ビニル化合物を含有するモノマー組成物（ａ１）を重合させて重合体ブロック［Ａ］を形成する第一工程と、
　かかる重合体ブロック［Ａ］の一端において、共役ジエン化合物を含有するモノマー組成物（ｂ１）を重合させて重合体ブロック［Ｂ］を形成し、［Ａ］－［Ｂ］のジブロックの重合体を形成する第二工程と、
　かかるジブロックの重合体の、重合体ブロック［Ｂ］側の末端同士を、カップリング剤によりカップリングさせて、ブロック共重合体を得る第三工程とを有する方法。
　モノマー組成物を重合してそれぞれの重合体ブロックを得る方法としては、例えば、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合、配位アニオン重合、配位カチオン重合などを用いうる。重合操作及び後工程での水素化反応を容易にする観点では、ラジカル重合、アニオン重合又はカチオン重合を、リビング重合により行う方法が好ましく、リビングアニオン重合により行う方法が特に好ましい。
　前記のモノマー組成物の重合は、重合開始剤の存在下で、好ましくは０℃以上、より好ましくは１０℃以上、特に好ましくは２０℃以上、また、好ましくは１００℃以下、より好ましくは８０℃以下、特に好ましくは７０℃以下の温度範囲において行いうる。
　リビングアニオン重合を行う場合は、重合開始剤として、例えば、ｎ－ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔ－ブチルリチウム、ヘキシルリチウム等のモノ有機リチウム；ジリチオメタン、１，４－ジリチオブタン、１，４－ジリチオ－２－エチルシクロヘキサン等の多官能性有機リチウム化合物；などを用いうる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
　重合反応の形態は、例えば溶液重合及びスラリー重合などが挙げられる。中でも、溶液重合を用いると、反応熱の除去が容易である。
　溶液重合を行う場合、溶媒としては、各工程で得られる重合体が溶解しうる不活性溶媒を用いうる。不活性溶媒としては、例えば、ｎ－ペンタン、イソペンタン、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン、デカリン等の脂環式炭化水素溶媒；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒；などが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、溶媒として脂環式炭化水素溶媒を用いると、水素化反応に不活性な溶媒としてそのまま使用でき、ブロック共重合体の溶解性も良好であるため、好ましい。溶媒の使用量は、全使用モノマー１００重量部に対して、好ましくは２００重量部～２０００重量部である。
　それぞれのモノマー組成物が２種以上のモノマーを含む場合、ある１成分の連鎖だけが長くなるのを防止するために、例えばランダマイザーを使用しうる。特に重合反応をアニオン重合により行う場合には、例えばルイス塩基化合物をランダマイザーとして使用することが好ましい。ルイス塩基化合物としては、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルフェニルエーテル等のエーテル化合物；テトラメチルエチレンジアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等の第３級アミン化合物；カリウム－ｔ－アミルオキシド、カリウム－ｔ－ブチルオキシド等のアルカリ金属アルコキシド化合物；トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物；などが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
　芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物は、上述した芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体を水素化する工程を経て得られる重合体である。この水素化物は、必要に応じて、例えばアルコキシシラン、カルボン酸、カルボン酸無水物等で変性されていていてもよい。水素化物を用いることにより、水添重合体樹脂からのアウトガスの発生量を少なくできる。
　前記の水素化物は、上述した芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の不飽和結合を水素化して得られるものである。ブロック共重合体の不飽和結合には、ブロック共重合体の主鎖及び側鎖の、芳香族性及び非芳香族性の炭素－炭素不飽和結合のいずれも含む。水素化率は、ブロック共重合体の全不飽和結合の、好ましくは９０％以上、より好ましくは９７％以上、特に好ましくは９９％以上である。水素化率が高いほど、水添重合体樹脂の耐熱性及び耐光性を良好にできる。水素化物の水素化率は、１Ｈ－ＮＭＲによる測定により求めることができる。
　特に、非芳香族性の不飽和結合の水素化率は、好ましくは９５％以上、より好ましくは９９％以上である。非芳香族性の炭素－炭素不飽和結合の水素化率を高めることにより、水添重合体樹脂の耐光性及び耐酸化性を更に高くできる。
　また、芳香族性の炭素－炭素不飽和結合の水素化率は、好ましくは９０％以上、より好ましくは９３％以上、特に好ましくは９５％以上である。芳香環の炭素－炭素不飽和結合の水素化率を高めることにより、重合体ブロック［Ａ］を水素化して得られる重合体ブロックのガラス転移温度が高くなるので、水添重合体樹脂の耐熱性を効果的に高めることができる。
　ブロック共重合体の水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、テトラヒドロフランを溶媒としたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されるポリスチレン換算の値で、好ましくは３０，０００以上、より好ましくは４０，０００以上、特に好ましくは４５，０００以上であり、好ましくは２００，０００以下、より好ましくは１５０，０００以下、特に好ましくは１００，０００以下である。また、ブロック共重合体の水素化物の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは３以下、より好ましくは２以下、特に好ましくは１．５以下である。ブロック共重合体の水素化物の重量平均分子量Ｍｗ及び分子量分布Ｍｗ／Ｍｎを前記の範囲に収めることにより、水添重合体樹脂の機械強度及び耐熱性を向上させることができる。
　ブロック共重合体の水素化物における、全重合体ブロック［Ａ］がブロック共重合体全体に占める重量分率ｗＡと、全重合体ブロック［Ｂ］がブロック共重合体全体に占める重量分率ｗＢとの比（ｗＡ／ｗＢ）は、通常、水素化する前のブロック共重合体におけるｗＡ／ｗＢと同様の値となる。
　さらに、ブロック共重合体の水素化物は、その分子構造にアルコキシシリル基を有することが好ましい。このアルコキシシリル基を有するブロック共重合体の水素化物は、例えば、アルコキシシリル基を有さないブロック共重合体の水素化物に、アルコキシシリル基を結合させることにより得られる。この際、ブロック共重合体の水素化物にアルコキシシリル基を直接結合させてもよく、例えばアルキレン基などの２価の有機基を介して結合させてもよい。
　アルコキシシリル基を有するブロック共重合体の水素化物は、例えば、ガラス、無機物、金属などの材料との接着性に特に優れる。そのため、光学フィルムを任意の部材と接着する場合に、光学フィルムと任意の部材との接着性を特に高くできる。
　アルコキシシリル基の導入量は、アルコキシシリル基の導入前のブロック共重合体の水素化物１００重量部に対し、好ましくは０．１重量部以上、より好ましくは０．２重量部以上、特に好ましくは０．３重量部以上であり、好ましくは１０重量部以下、より好ましくは５重量部以下、特に好ましくは３重量部以下である。アルコキシシリル基の導入量を前記範囲に収めると、水分等で分解されたアルコキシシリル基同士の架橋度が過剰に高くなることを防止できるので、接着性を高く維持することができる。
　アルコキシシリル基の導入量は、１Ｈ－ＮＭＲスペクトル（導入量が少ない場合は積算回数を増やす）にて計測しうる。
　アルコキシシリル基を有するブロック共重合体の水素化物の分子量は、導入されるアルコキシシリル基の量が少ないため、通常は、アルコキシシリル基を導入する前のブロック共重合体の水素化物の分子量から大きく変化しない。ただし、アルコキシシリル基を導入する際に過酸化物の存在下でブロック共重合体の水素化物を変性反応させると、その水素化物の架橋反応及び切断反応が進行し、分子量分布は大きく変化することがある。アルコキシシリル基を有するブロック共重合体の水素化物の重量平均分子量は、テトラヒドロフランを溶媒としたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されるポリスチレン換算の値で、好ましくは３０，０００以上、より好ましくは４０，０００以上、特に好ましくは５０，０００以上であり、好ましくは２００，０００以下、より好ましくは１５０，０００以下、特に好ましくは１２０，０００以下である。また、アルコキシシリル基を有するブロック共重合体の水素化物の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは３．５以下、より好ましくは２．５以下、特に好ましくは２．０以下である。アルコキシシリル基を有するブロック共重合体の水素化物の重量平均分子量Ｍｗ及び分子量分布Ｍｗ／Ｍｎがこの範囲であると、水添重合体樹脂の機械強度及び引張り伸びを良好にできる。
　前述したようなブロック共重合体の水素化物の製造方法は、通常、上述したブロック共重合体を水素化することを含む。水素化方法としては、水素化率を高くでき、ブロック共重合体の鎖切断反応の少ない水素化方法が好ましい。このような好ましい水素化方法としては、例えば、ニッケル、コバルト、鉄、チタン、ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、レニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種の金属を含む水素化触媒を用いて水素化を行う方法が挙げられる。水素化触媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。水素化触媒は、不均一系触媒、均一系触媒のいずれも使用可能である。また、水素化反応は、有機溶媒中で行うのが好ましい。
　不均一系触媒は、例えば、遊離した金属又は金属化合物の状態で用いてもよく、適切な担体に担持して用いてもよい。担体としては、例えば、活性炭、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、チタニア、マグネシア、ジルコニア、ケイソウ土、炭化ケイ素、フッ化カルシウムなどが挙げられる。触媒の担持量は、触媒及び担体の合計量に対して、好ましくは０．１重量％以上、より好ましくは１重量％以上であり、好ましくは６０重量％以下、より好ましくは５０重量％以下である。また、担持型触媒の比表面積は、好ましくは１００ｍ２／ｇ～５００ｍ２／ｇである。さらに、担持型触媒の平均細孔径は、好ましくは１００Å以上、より好ましくは２００Å以上であり、好ましくは１０００Å以下、より好ましくは５００Å以下である。ここで、比表面積は、窒素吸着量を測定しＢＥＴ式を用いて求めうる。また、平均細孔径は、水銀圧入法により測定しうる。
　均一系触媒としては、例えば、ニッケル、コバルト、チタン又は鉄の化合物と有機金属化合物とを組み合わせた触媒；ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、レニウム等の有機金属錯体触媒；などを用いることができる。
　ニッケル、コバルト、チタン又は鉄の化合物としては、例えば、各金属のアセチルアセトナト化合物、カルボン酸塩、シクロペンタジエニル化合物等が挙げられる。
　また、有機金属化合物としては、例えば、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のアルキルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド等のハロゲン化アルミニウム、ジイソブチルアルミニウムハイドライド等の水素化アルキルアルミニウムなどの有機アルミニウム化合物；並びに有機リチウム化合物などが挙げられる。
　有機金属錯体触媒としては、例えば、ジヒドリド－テトラキス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジヒドリド－テトラキス（トリフェニルホスフィン）鉄、ビス（シクロオクタジエン）ニッケル、ビス（シクロペンタジエニル）ニッケル等の遷移金属錯体が挙げられる。
　水素化触媒の量は、ブロック共重合体１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．０５重量部以上、特に好ましくは０．１重量部以上であり、好ましくは１００重量部以下、より好ましくは５０重量部以下、特に好ましくは３０重量部以下である。
　水素化反応の温度は、好ましくは１０℃以上、より好ましくは５０℃以上、特に好ましくは８０℃以上であり、好ましくは２５０℃以下、より好ましくは２００℃以下、特に好ましくは１８０℃以下である。このような温度範囲で水素化反応を行なうことにより、水素化率を高くでき、また、ブロック共重合体の分子切断を少なくできる。
　また、水素化反応時の水素圧力は、好ましくは０．１ＭＰａ以上、より好ましくは１ＭＰａ以上、特に好ましくは２ＭＰａ以上であり、好ましくは３０ＭＰａ以下、より好ましくは２０ＭＰａ以下、特に好ましくは１０ＭＰａ以下である。このような水素圧力で水素化反応を行なうことにより、水素化率を高くでき、ブロック共重合体の分子鎖切断を少なくでき、操作性が良好となる。
　前記のようにブロック共重合体を水素化することにより、ブロック共重合体の水素化物が生成物として得られる。この水素化反応後の生成物は、そのまま用いてもよい。また、水素化反応後の生成物に対し、必要に応じてさらに任意の処理を施してから用いてもよい。例えば、水素化反応後の生成物に対し、必要に応じてアルコキシシリル基を導入する処理を行ってもよい。
　ブロック共重合体の水素化物にアルコキシシリル基を導入する方法としては、例えば、アルコキシシリル基を導入する前のブロック共重合体の水素化物と、エチレン性不飽和シラン化合物とを、過酸化物の存在下で反応させる方法を用いうる。
　エチレン性不飽和シラン化合物としては、ブロック共重合体の水素化物とグラフト重合でき、ブロック共重合体の水素化物にアルコキシシリル基を導入できるものを用いうる。このようなエチレン性不飽和シラン化合物の例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、及び２－ノルボルネン－５－イルトリメトキシシランなどが挙げられる。中でも、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシランが好ましい。また、エチレン性不飽和シラン化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
　エチレン性不飽和シラン化合物の量は、アルコキシシリル基を導入する前のブロック共重合体の水素化物１００重量部に対して、好ましくは０．１重量部以上、より好ましくは０．２重量部以上、特に好ましくは０．３重量部以上であり、好ましくは１０重量部以下、より好ましくは５重量部以下、特に好ましくは３重量部以下である。
　過酸化物としては、例えば、ジベンゾイルパーオキシド、ｔ－ブチルパーオキシアセテート、２，２－ジ－（ｔ－ブチルパーオキシ）ブタン、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ－ブチルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキサイド、ジ－ｔ－ヘキシルパーオキシド、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔ－ブチルパーオキシヘキサン）、ジ－ｔ－ブチルパーオキシド、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）ヘキサン－３、ｔ－ブチルヒドロパーオキシド、ｔ－ブチルパーオキシイソブチレート、ラウロイルパーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ｐ－メンタンハイドロパーオキサイドなどの有機過酸化物が挙げられる。中でも、１分間半減期温度が１７０℃～１９０℃のものが好ましく、例えば、ｔ－ブチルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキサイド、ジ－ｔ－ヘキシルパーオキシド、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔ－ブチルパーオキシヘキサン）、ジ－ｔ－ブチルパーオキシドなどが好ましい。また、過酸化物は、１種類を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
　過酸化物の量は、アルコキシシリル基を導入する前のブロック共重合体の水素化物１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．２重量部以上、特に好ましくは０．３重量部以上であり、好ましくは５重量部以下、より好ましくは３重量部以下、特に好ましくは２重量部以下である。
　上記のブロック共重合体の水素化物とエチレン性不飽和シラン化合物とを過酸化物の存在下で反応させる方法は、例えば、加熱混練機及び反応器を用いて行いうる。具体例を挙げると、ブロック共重合体の水素化物とエチレン性不飽和シラン化合物と過酸化物との混合物を、二軸混練機にて、ブロック共重合体の水素化物の溶融温度以上で加熱溶融させて、所望の時間混練することにより、ブロック共重合体の水素化物にアルコキシシリル基を導入することができる。具体的な温度は、好ましくは１８０℃以上、より好ましくは１９０℃以上、特に好ましくは２００℃以上であり、好ましくは２４０℃以下、より好ましくは２３０℃以下、特に好ましくは２２０℃以下である。また、加熱混練時間は、好ましくは０．１分以上、より好ましくは０．２分以上、特に好ましくは０．３分以上であり、好ましくは１５分以下、より好ましくは１０分以下、特に好ましくは５分以下である。二軸混練機、単軸押出し機などの連続混練設備を使用する場合は、滞留時間が上記範囲になるようにして、連続的に混練及び押出しを行いうる。
　上述した方法で得られるブロック共重合体の水素化物は、通常、ブロック共重合体の水素化物、水素化触媒及び重合触媒を含む反応液として得られる。そこで、ブロック共重合体の水素化物は、この反応液から例えば濾過及び遠心分離等の方法によって水素化触媒及び重合触媒を除去した後に、反応液から回収されうる。反応液からブロック共重合体の水素化物を回収する方法としては、例えば、ブロック共重合体の水素化物が溶解した溶液からスチームストリッピングにより溶媒を除去するスチーム凝固法；減圧加熱下で溶媒を除去する直接脱溶媒法；ブロック共重合体の水素化物の貧溶媒中に溶液を注いでブロック共重合体の水素化物を析出及び凝固させる凝固法；などが挙げられる。
　水添重合体樹脂は、上述したブロック共重合体の水素化物に組み合わせて、任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、ガラス転移温度及び弾性率を調整するための可塑剤、耐候性及び耐熱性を向上させるための光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、無機フィラーなどが挙げられる。また、任意の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
　可塑剤としては、例えば、ポリイソブテン、水素化ポリイソブテン、水素化ポリイソプレン、水素化１，３－ペンタジエン系石油樹脂、水素化シクロペンタジエン系石油樹脂、水素化スチレン・インデン系石油樹脂などが挙げられる。
　可塑剤の量は、水添重合体樹脂１００重量部に対して、好ましくは４０重量部以下で、樹脂特性を調整する目的に合わせて適宜選択される。
　光安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定剤が好ましく、構造中に３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル基、２，２，６，６－テトラメチルピペリジル基、又は、１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル基を有している化合物が特に好ましい。光安定剤の具体例としては、国際公開第２０１４／０９１９４１号に記載の光安定剤が挙げられる。
　光安定剤の量は、ブロック共重合体の水素化物１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．０２重量部以上、特に好ましくは０．０３重量部以上であり、好ましくは５重量部以下、より好ましくは２重量部以下、特に好ましくは１重量部以下である。光安定剤の量を前記範囲の下限値以上とすることにより、水添重合体樹脂の耐候性を高くできる。また、上限値以下とすることにより、水添重合体樹脂を成形する際に、押出し機のＴダイ及び冷却ロールの汚れを防止でき、加工性を高めることができる。
　紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤などが挙げられる。紫外線安定剤の具体例としては、国際公開第２０１４／０９１９４１号に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。
　紫外線吸収剤の量は、ブロック共重合体の水素化物１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．０２重量部以上、特に好ましくは０．０４重量部以上であり、好ましくは１重量部以下、より好ましくは０．５重量部以下、特に好ましくは０．３重量部以下である。紫外線吸収剤を前記範囲の下限値以上用いることにより、水添重合体樹脂の耐光性を改善することができるが、上限を超えて過剰に用いても、更なる改善は得られ難い。
　酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、フェノ－ル系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤などが挙げられ、着色がより少ないリン系酸化防止剤が好ましい。酸化防止剤の具体例としては、国際公開第２０１４／０９１９４１号に記載の酸化防止剤が挙げられる。
　酸化防止剤の量は、ブロック共重合体の水素化物１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．０５重量部以上、特に好ましくは０．１重量部以上であり、好ましくは１重量部以下、より好ましくは０．５重量部以下、特に好ましくは０．３重量部以下である。酸化防止剤を前記範囲の下限値以上用いることにより、水添重合体樹脂の熱安定性を改善することができるが、上限を超えて過剰に用いても、更なる改善は得られ難い。
　水添重合体樹脂のガラス転移温度は、好ましくは３０℃以上、より好ましくは５０℃以上、特に好ましくは７０℃以上であり、好ましくは２００℃以下、より好ましくは１８０℃以下、特に好ましくは１６０℃以下である。水添重合体樹脂は複数のガラス転移温度を有する場合がありえるが、その場合は、樹脂の最も高いガラス転移温度が、前記の範囲に収まることが好ましい。
　上述したブロック共重合体の水素化物は、通常はエラストマーであるので、当該ブロック共重合体の水素化物を含む水添重合体樹脂は、柔軟性に優れる。本発明の光学フィルムは、このように柔軟な水添重合体樹脂の層（即ち、第一層及び第三層）をノルボルネン系重合体を含む第二層の両側に備えるので、ノルボルネン系重合体の優れた特性を大きく損なうことなく、耐折り曲げ性を改善できる。
　第一層の厚みは、好ましくは２μｍ以上、より好ましくは５μｍ以上であり、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは３０μｍ以下である。第一層の厚みを、前記範囲の下限値以上にすることにより耐折り曲げ性をより向上させることができ、前記範囲の上限値以下にすることにより光学フィルム全体の厚みを薄くできる。
　第一層の厚みと第二層の厚みとの比（第一層／第二層）は、好ましくは５／９５以上、より好ましくは１０／９０以上であり、好ましくは６０／４０以下、より好ましくは４０／６０以下である。前記の厚み比を、前記範囲の下限値以上にすることにより耐折り曲げ性をより向上させることができ、前記範囲の上限値以下にすることにより光学フィルム全体の弾性率及び耐熱性を維持することができる。
　［３．第二層］
　第二層は、ノルボルネン系重合体を含む。したがって、第二層は、通常、ノルボルネン系重合体を含む樹脂からなる樹脂層である。以下、ノルボルネン系重合体を含む樹脂を、適宜「ノルボルネン系樹脂」ということがある。このノルボルネン系樹脂は、通常、熱可塑性樹脂である。
　ノルボルネン系重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体及びその水素化物；ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体及びその水素化物が挙げられる。また、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する１種類の単量体の開環単独重合体、ノルボルネン構造を有する２種類以上の単量体の開環共重合体、並びに、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる任意の単量体との開環共重合体が挙げられる。さらに、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する１種類の単量体の付加単独重合体、ノルボルネン構造を有する２種類以上の単量体の付加共重合体、並びに、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる任意の単量体との付加共重合体が挙げられる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の水素化物は、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適である。
　ノルボルネン構造を有する単量体としては、例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ－３，７－ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、７，８－ベンゾトリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ－３－エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ－３－エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、およびこれらの化合物の誘導体（例えば、環に置換基を有するもの）などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。これらの置換基は、同一または相異なって、複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン構造を有する単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
　極性基の種類としては、例えば、ヘテロ原子、またはヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、スルホン酸基などが挙げられる。
　ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のモノ環状オレフィン類及びその誘導体；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン等の環状共役ジエン及びその誘導体；などが挙げられる。ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
　ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体は、例えば、単量体を開環重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。
　ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、１－ブテン等の炭素原子数２～２０のα－オレフィン及びこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン等のシクロオレフィン及びこれらの誘導体；１，４－ヘキサジエン、４－メチル－１，４－ヘキサジエン、５－メチル－１，４－ヘキサジエン等の非共役ジエン；などが挙げられる。これらの中でも、α－オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。また、ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
　ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体は、例えば、単量体を付加重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。
　上述した開環重合体及び付加重合体の水素化物は、例えば、開環重合体及び付加重合体の溶液において、ニッケル、パラジウム等の遷移金属を含む水素化触媒の存在下で、炭素－炭素不飽和結合を、好ましくは９０％以上水素化することによって製造しうる。
　ノルボルネン系重合体の中でも、構造単位として、Ｘ：ビシクロ［３．３．０］オクタン－２，４－ジイル－エチレン構造と、Ｙ：トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカン－７，９－ジイル－エチレン構造とを有し、これらの構造単位の量が、ノルボルネン系重合体の構造単位全体に対して９０重量％以上であり、かつ、Ｘの割合とＹの割合との比が、Ｘ：Ｙの重量比で１００：０～４０：６０であるものが好ましい。このような重合体を用いることにより、光学フィルムを、長期的に寸法変化がなく、光学特性の安定性に優れるものにできる。
　ノルボルネン系重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１０，０００以上、より好ましくは１５，０００以上、特に好ましくは２０，０００以上であり、好ましくは１００，０００以下、より好ましくは８０，０００以下、特に好ましくは５０，０００以下である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、第二層の機械的強度および成型加工性が高度にバランスされる。
　ノルボルネン系重合体の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は、好ましくは１．２以上、より好ましくは１．５以上、特に好ましくは１．８以上であり、好ましくは３．５以下、より好ましくは３．０以下、特に好ましくは２．７以下である。分子量分布を前記範囲の下限値以上にすることにより、ノルボルネン系重合体の生産性を高め、製造コストを抑制できる。また、上限値以下にすることにより、低分子成分の量が小さくなるので、高温曝露時の緩和を抑制して、光学フィルムの安定性を高めることができる。
　前記の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、溶媒としてシクロヘキサンを用いた（但し、試料がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよい）ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより、ポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量として測定しうる。
　ノルボルネン系重合体の飽和吸水率は、好ましくは０．０３重量％以下、さらに好ましくは０．０２重量％以下、特に好ましくは０．０１重量％以下である。飽和吸水率が前記範囲であると、光学フィルムのレターデーション等の光学特性の経時変化を小さくすることができる。また、光学フィルムを備える部材（偏光板等）及び装置（画像表示装置等）の劣化を抑制でき、それらの部材及び装置の長寿命化を実現できる。
　飽和吸水率は、試料を一定温度の水中に一定時間浸漬して増加した質量を、浸漬前の試験片の質量に対する百分率で表した値である。通常は、２３℃の水中に２４時間、浸漬して測定される。重合体の飽和吸水率は、例えば、重合体中の極性基の量を減少させることにより、前記の範囲に調節することができる。よって、飽和吸水率をより低くする観点から、ノルボルネン系重合体は、極性基を有さないことが好ましい。
　ノルボルネン系樹脂におけるノルボルネン系重合体の量は、好ましくは５０．０重量％～１００重量％、より好ましくは８０．０重量％～１００重量％、特に好ましくは９０．０重量％～１００重量％である。ノルボルネン系重合体の量を前記範囲に収めることにより、ノルボルネン系重合体が有する耐熱性、耐湿性、透明性、機械的強度、寸法安定性、成形性などの特性を活用して、優れた光学フィルムを得ることができる。
　ノルボルネン系樹脂は、上述したノルボルネン系重合体に組み合わせて、任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、顔料、染料等の着色剤；可塑剤；蛍光増白剤；分散剤；熱安定剤；光安定剤；帯電防止剤；紫外線吸収剤；酸化防止剤；界面活性剤等の配合剤が挙げられる。任意の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
　ノルボルネン系樹脂のガラス転移温度は、好ましくは１００℃以上、より好ましくは１１０℃以上、特に好ましくは１２０℃以上であり、好ましくは１６０℃以下、より好ましくは１５０℃以下、特に好ましくは１４０℃以下である。ノルボルネン系樹脂のガラス転移温度を、前記範囲の下限値以上にすることにより高温環境下における光学フィルムの耐久性を高めることができ、前記範囲の上限値以下にすることにより光学フィルムの製造を容易に行える。
　光学フィルムは、前記のようにノルボルネン系重合体を含む第二層を備えるので、透明性及び引張弾性率等の特性において、ノルボルネン系重合体を含む従来のフィルムと同程度に優れた性質を示すことができる。さらに、光学フィルムは、通常、耐熱性、耐湿性、寸法安定性、成形性等の特性においても、ノルボルネン系重合体を含む従来のフィルムと同程度に優れた性質を示すことができる。
　第二層の厚みは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上であり、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下である。第二層の厚みを、前記範囲の下限値以上にすることにより光学フィルム全体の弾性率及び耐熱性を維持することができ、前記範囲の上限値以下にすることにより耐折り曲げ性をより向上させることができる。
　［４．第三層］
　第三層は、芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物を含む。したがって、第三層は、通常、芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物を含む水添重合体樹脂からなる樹脂層である。
　第三層に含まれる水添重合体樹脂としては、第一層に含まれる水添重合体樹脂として説明した範囲のものを任意に用いうる。第一層に含まれる水添重合体樹脂と第三層に含まれる水添重合体樹脂とは、異なっていてもよいが、光学フィルムの製造コストの抑制及びカールの抑制の観点から同じであることが好ましい。
　第三層の厚みは、第一層の厚みとして説明した範囲の厚みに任意に設定しうる。第一層の厚みと第三層の厚みとは、異なっていてもよいが、光学フィルムのカールを抑制する観点から同じであることが好ましい。
　［５．任意の層］
　光学フィルムは、本発明の効果を著しく損なわない限り、上述した第一層、第二層及び第三層に組み合わせて、任意の層を備えうる。ただし、光学フィルムを薄くする観点から、光学フィルムは第一層、第二層及び第三層を備える３層構造のフィルムであることが好ましい。
　［６．光学フィルムの物性及び寸法］
　上述した光学フィルムは、耐折り曲げ性に優れる。そのため、光学フィルムは、屈曲動作を伴う用途に用いても、破損し難い。光学フィルムの耐折り曲げ性は、耐折度によって評価しうる。光学フィルムの耐折度は、通常５００以上、好ましくは１０００以上、より好ましくは１５００以上である。光学フィルムの耐折度の上限は、特に限定されないが、例えば１，０００，０００以下としうる。
　光学フィルムの耐折度は、ＪＩＳ　Ｐ　８１１５「紙及び板紙－耐折強さ試験方法－ＭＩＴ試験機法」に準拠したＭＩＴ耐折試験により、下記の手順で測定しうる。
　試料としての光学フィルムから、幅１５ｍｍ±０．１ｍｍ、長さ約１１０ｍｍの試験片を切り出す。この際、光学フィルムが延伸処理を経て製造されたフィルムである場合は、最も強く延伸された方向が試験片の約１１０ｍｍの辺と平行になるように試験片を作製する。その後、ＭＩＴ耐折度試験機（安田精機製作所製「Ｎｏ．３０７」）を用いて、荷重９．８Ｎ、屈曲部の曲率０．３８±０．０２ｍｍ、折り曲げ角度１３５°±２°、折り曲げ速度１７５回／分の条件で、試験片の幅方向に折れ目が現れるように、前記の試験片を折り曲げる。この折り曲げを継続し、試験片が破断するまでの往復折り曲げ回数を測定する。
　１０枚の試験片を作製して、前記の方法により、試験片が破断するまでの往復折り曲げ回数を１０回測定する。こうして測定された１０回の測定値の平均を、当該光学フィルムの耐折度（ＭＩＴ耐折回数）とする。
　また、上述した光学フィルムは、ノルボルネン系重合体を含む従来のフィルムと同様に優れた特性を有する。例えば、本発明の光学フィルムは、優れた透明性及び機械的強度を有する。
　具体的には、光学フィルムの全光線透過率は、好ましくは７０％～１００％、より好ましくは８０％～１００％、特に好ましくは９０％～１００％である。光学フィルムの全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲で測定しうる。
　また、光学フィルムの引張弾性率は、好ましくは１０００ＭＰａ以上、より好ましくは１４００ＭＰａ以上、特に好ましくは１６００ＭＰａ以上である。光学フィルムの引張弾性率は、ＪＩＳ　Ｋ　７１６１に準拠して測定しうる。光学フィルムの引張弾性率の上限は、特に限定されないが、例えば５０００ＭＰａ以下としうる。
　光学フィルムが含む揮発性成分の量は、好ましくは０．１重量％以下、より好ましくは０．０５重量％以下、さらに好ましくは０．０２重量％以下である。揮発性成分の量を前記範囲にすることにより、光学フィルム体の寸法安定性が向上し、レターデーション等の光学特性の経時変化を小さくすることができる。さらには、光学フィルムを備える部材（偏光板等）及び装置（画像表示装置等）の劣化を抑制でき、それらの部材及び装置の長寿命化を実現できる。ここで、揮発性成分は、分子量２００以下の物質である。揮発性成分としては、例えば、残留単量体及び溶媒などが挙げられる。揮発性成分の量は、分子量２００以下の物質の合計として、ガスクロマトグラフィーにより分析することにより定量しうる。
　光学フィルムは、厚みが薄いことが好ましい。このように厚みが薄くても、上述した光学フィルムは、高い耐折れ曲げ性を有する。光学フィルムの具体的な厚みは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上であり、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下である。
　光学フィルムの吸水率は、好ましくは０．１重量％以下、より好ましくは０．０５重量％以下、さらに好ましくは０．０１重量％以下であり、理想的には０重量％である。吸水率がこの範囲内であると、光学フィルムを備える部材（偏光板等）及び装置（画像表示装置等）の長寿命化を実現できる。吸水率の下限は、特に限定されないが、理想的には０重量％である。光学フィルムの吸水率は、ＡＳＴＭ　Ｄ５７０に従って測定した値である。具体的には、１００ｍｍ×１００ｍｍのフィルムを２３℃の水中で１時間浸漬して、浸漬の増加重量を測定することにより算出することができる。
　［７．光学フィルムの製造方法］
　光学フィルムの製造方法に制限は無い。光学フィルムは、例えば、水添重合体樹脂及びノルボルネン系樹脂をフィルム状に成形する工程を含む製造方法により、製造し得る。
　樹脂の成形方法としては、例えば、共押出法及び共流延法などが挙げられる。これらの成形方法の中でも、共押出法は、製造効率に優れ、光学フィルム中に揮発性成分を残留させ難いので、好ましい。
　共押出法は、水添重合体樹脂及びノルボルネン系樹脂を共押し出しする押出工程を含む。押出工程において水添重合体樹脂及びノルボルネン系樹脂は、それぞれ溶融状態で層状に押し出される。この際、樹脂の押出方法としては、例えば、共押出Ｔダイ法、共押出インフレーション法、共押出ラミネーション法等が挙げられる。中でも、共押出Ｔダイ法が好ましい。共押出Ｔダイ法には、フィードブロック方式及びマルチマニホールド方式があり、厚みのばらつきを少なくできる点で、マルチマニホールド方式が特に好ましい。
　押出工程において、押し出される樹脂の溶融温度は、好ましくは（Ｔｇ＋８０℃）以上、より好ましくは（Ｔｇ＋１００℃）以上であり、好ましくは（Ｔｇ＋１８０℃）以下、より好ましくは（Ｔｇ＋１７０℃）以下である。ここで「Ｔｇ」は、水添重合体樹脂及びノルボルネン系樹脂のガラス転移温度のうち、最も高い温度を表す。押し出される樹脂の溶融温度を、前記範囲の下限値以上にすることにより樹脂の流動性を十分に高めて成型性を良好にでき、また、上限値以下にすることにより樹脂の劣化を抑制できる。
　押出工程において、押出機における樹脂の温度は、樹脂投入口では好ましくはＴｇ～（Ｔｇ＋１００℃）、押出機出口では好ましくは（Ｔｇ＋５０℃）～（Ｔｇ＋１７０℃）、ダイス温度は好ましくは（Ｔｇ＋５０℃）～（Ｔｇ＋１７０℃）である。
　共押出法では、通常、ダイから押し出されたフィルム状の溶融樹脂を冷却ロールに密着させて冷却し、硬化させる。この際、溶融樹脂を冷却ロールに密着させる方法としては、例えば、エアナイフ方式、バキュームボックス方式、静電密着方式などが挙げられる。
　冷却ロールの数は、特に制限されず、通常は２本以上である。冷却ロールの配置方法としては、例えば、直線型、Ｚ型、Ｌ型などが挙げられる。この際、ダイから押出された溶融樹脂の冷却ロールへの通し方は特に制限されない。
　前記のようにして水添重合体樹脂及びノルボルネン系樹脂をフィルム状に成形することにより、水添重合体樹脂からなる第一層、ノルボルネン系樹脂からなる第二層及び水添重合体樹脂からなる第三層をこの順に備える光学フィルムが得られる。
　光学フィルムの製造方法は、上述した工程に加えて、更に任意の工程を含んでいてもよい。
　例えば、光学フィルムの製造方法は、光学フィルムに延伸処理を施す工程を含んでいてもよい。延伸処理を施すことにより、光学フィルムに所望のレターデーションを発現させたり、光学フィルムの機械的特性を改善したりできる。
　また、例えば、光学フィルムの製造方法は、光学フィルムに表面処理を施す工程を含んでいてもよい。
　［８．光学フィルムの用途］
　光学フィルムの用途は、任意である。光学フィルムの用途は、例えば、位相差フィルム、偏光板保護フィルム、光学装置用の封止フィルム、有機エレクトロルミネッセンス素子用の基材フィルム、フレキシブル電極用の基材フィルム、タッチパネル用の基材フィルムなどが挙げられる。
　以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
　以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温常圧大気中において行った。
　［評価方法］
　〔引張弾性率の測定方法〕
　光学フィルムの引張弾性率は、ＪＩＳ　Ｋ　７１６１に準拠して測定した。
　〔耐折度の評価方法〕
　光学フィルムの耐折度は、ＪＩＳ　Ｐ　８１１５「紙及び板紙－耐折強さ試験方法－ＭＩＴ試験機法」に準拠したＭＩＴ耐折試験により、下記の手順で測定した。
　試料としての光学フィルムから、幅１５ｍｍ±０．１ｍｍ、長さ約１１０ｍｍの試験片を切り出した。ＭＩＴ耐折度試験機（安田精機製作所製「Ｎｏ．３０７」）を用いて、荷重９．８Ｎ、屈曲部の曲率０．３８±０．０２ｍｍ、折り曲げ角度１３５°±２°、折り曲げ速度１７５回／分の条件で、試験片の幅方向に折れ目が現れるように、前記の試験片を折り曲げた。この折り曲げを継続し、試験片が破断するまでの往復折り曲げ回数を測定した。
　１０枚の試験片を作製して、前記の方法により、試験片が破断するまでの往復折り曲げ回数を１０回測定した。こうして測定された１０回の測定値の平均を、当該フィルムの耐折度（ＭＩＴ耐折回数）とした。
　〔全光線透過率の測定方法〕
　光学フィルムの全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲で測定した。
　〔吸水率〕
　光学フィルムの吸水率は、ＡＳＴＭ　Ｄ５７０に従って測定した値である。具体的には、１００ｍｍ×１００ｍｍのフィルムを２３℃の水中で１時間浸漬し、その増加重量を測定することにより算出した。
　［製造例１：樹脂Ａの製造］
　（ブロック共重合体の製造）
　内部が充分に窒素置換された、攪拌装置を備えた反応器に、脱水シクロヘキサン５５０部、脱水スチレン３０．０部、及び、ｎ－ジブチルエーテル０．４７５部を入れた。全容を６０℃で攪拌しながら、ｎ－ブチルリチウム（１５％シクロヘキサン溶液）０．８３部を加えて重合を開始させ、６０℃で攪拌しながら、さらに６０分反応させた。反応液をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、この時点で重合転化率は９９．５％であった。
　その後、反応液に脱水イソプレン４０．０部を加え、そのまま６０℃で３０分攪拌を続けた。反応液をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、この時点で重合転化率は９９％であった。
　その後さらに、反応液に脱水スチレンを３０．０部加え、全容を６０℃で６０分攪拌した。反応液をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、この時点での重合転化率はほぼ１００％であった。
　ここでイソプロピルアルコール０．５部を加えて反応を停止させて、ブロック共重合体を含む重合体溶液を得た。得られたブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は４８，３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０３、スチレンブロックとイソブチレンブロックの割合は重量比で６０：４０であった。
　（水素化反応）
　次に、上記重合体溶液を、攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒として珪藻土担持型ニッケル触媒（日揮触媒化成社製「Ｅ２２Ｕ」、ニッケル担持量６０％）４．０部及び脱水シクロヘキサン１００部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、更に溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度１７０℃、圧力４．５ＭＰａにて６時間水素化反応を行った。水素化反応により得られたブロック共重合体水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は５１，５００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。
　（ペレット化）
　水素化反応終了後、反応液を濾過して水素化触媒を除去した。その後、濾液にフェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（コーヨ化学研究所社製「Ｓｏｎｇｎｏｘ１０１０」）０．０５重量部を溶解したキシレン溶液１．０部を添加して溶解させた。次いで、上記溶液を、ゼータプラス（登録商標）フィルター３０Ｈ（キュノ社製、孔径０．５μｍ～１μｍ）にて濾過し、更に別の金属ファイバー製フィルター（ニチダイ社製、孔径０．４μｍ）にて順次濾過して、微小な固形分を除去した。その後、円筒型の濃縮乾燥器（日立製作所社製、コントロ）を用いて、温度２６０℃、圧力０．００１ＭＰａ以下で、溶液から、溶媒であるシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を除去した。残った固形分を、濃縮乾燥器に直結したダイから溶融状態でストランド状に押し出し、冷却後、ペレタイザーでカットして、ブロック共重合体水素化物を含むペレット９５部を得た。得られたペレットのブロック共重合体水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は５０，３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０５、水素化率はほぼ１００％であった。以下、このペレットの樹脂を、適宜「樹脂Ａ」と呼ぶ。
　［製造例２：樹脂Ｂの製造］
　内部が充分に窒素置換された、攪拌装置を備えた反応器に、脱水シクロヘキサン５５０部、脱水スチレン４５．０部、及び、ｎ－ジブチルエーテル０．４７５部を入れた。全容を６０℃で攪拌しながら、ｎ－ブチルリチウム（１５％シクロヘキサン溶液）０．８３部を加えて重合を開始させ、６０℃で攪拌しながら、さらに６０分反応させた。反応液をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、この時点で重合転化率は９９．５％であった。
　その後、反応液に脱水イソプレン１０．０部を加え、そのまま６０℃で３０分攪拌を続けた。反応液をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、この時点で重合転化率は９９％であった。
　その後さらに、反応液に脱水スチレンを４５．０部加え、全容を６０℃で６０分攪拌した。反応液をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、この時点での重合転化率はほぼ１００％であった。
　ここでイソプロピルアルコール０．５部を加えて反応を停止させて、ブロック共重合体を含む重合体溶液を得た。得られたブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は５０，４００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０３、スチレンブロックとイソブチレンブロックの割合は重量比で９０：１０であった。
　製造例１と同様にして、得られたブロック共重合体の水素化反応を行った。水素化反応により得られたブロック共重合体水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は５３，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。
　製造例１と同様にして、得られたブロック重合体水素化物のペレット化を行った。得られたペレットのブロック共重合体水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は５２，２００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０５、水素化率はほぼ１００％であった。以下、このペレットの樹脂を、適宜「樹脂Ｂ」と呼ぶ。
　［製造例３：樹脂Ｃの製造］
　内部が充分に窒素置換された、攪拌装置を備えた反応器に、脱水シクロヘキサン５５０部、脱水スチレン３７．５部、及び、ｎ－ジブチルエーテル０．４７５部を入れた。全容を６０℃で攪拌しながら、ｎ－ブチルリチウム（１５％シクロヘキサン溶液）０．８３部を加えて重合を開始させ、６０℃で攪拌しながら、さらに６０分反応させた。反応液をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、この時点で重合転化率は９９．５％であった。
　その後、反応液に脱水イソプレン２５．０部を加え、そのまま６０℃で３０分攪拌を続けた。反応液をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、この時点で重合転化率は９９％であった。
　その後さらに、反応液に脱水スチレンを３７．５部加え、全容を６０℃で６０分攪拌した。反応液をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、この時点での重合転化率はほぼ１００％であった。
　ここでイソプロピルアルコール０．５部を加えて反応を停止させて、ブロック共重合体を含む重合体溶液を得た。得られたブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は５４０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４、スチレンブロックとイソブチレンブロックの割合は重量比で７５：２５であった。
　製造例１と同様にして、得られたブロック共重合体の水素化反応を行った。水素化反応により得られたブロック共重合体水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は５３１００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。
　製造例１と同様にして、得られたブロック重合体水素化物のペレット化を行った。得られたペレットのブロック共重合体水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は５２５００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０５、水素化率はほぼ１００％であった。以下、このペレットの樹脂を、適宜「樹脂Ｃ」と呼ぶ。
　［製造例４：樹脂Ｄの製造］
　内部が充分に窒素置換された、攪拌装置を備えた反応器に、脱水シクロヘキサン５５０部、脱水スチレン４７．５部、及び、ｎ－ジブチルエーテル０．４７５部を入れた。全容を６０℃で攪拌しながら、ｎ－ブチルリチウム（１５％シクロヘキサン溶液）０．８３部を加えて重合を開始させ、６０℃で攪拌しながら、さらに６０分反応させた。反応液をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、この時点で重合転化率は９９．５％であった。
　その後、反応液に脱水イソプレン５．０部を加え、そのまま６０℃で３０分攪拌を続けた。反応液をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、この時点で重合転化率は９９％であった。
　その後さらに、反応液に脱水スチレンを４７．５部加え、全容を６０℃で６０分攪拌した。反応液をガスクロマトグラフィーにより測定したところ、この時点での重合転化率はほぼ１００％であった。
　ここでイソプロピルアルコール０．５部を加えて反応を停止させて、ブロック共重合体を含む重合体溶液を得た。得られたブロック共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は５４０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４、スチレンブロックとイソブチレンブロックの割合は重量比で９５：５であった。
　製造例１と同様にして、得られたブロック共重合体の水素化反応を行った。水素化反応により得られたブロック共重合体水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は５３０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。
　製造例１と同様にして、得られたブロック重合体水素化物のペレット化を行った。得られたペレットのブロック共重合体水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は５２２００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０５、水素化率はほぼ１００％であった。以下、このペレットの樹脂を、適宜「樹脂Ｄ」と呼ぶ。
　［実施例１］
　ダブルフライト型のスクリューを備えた３つの一軸押出機ａ、ｂ及びｃを有する３種３層の共押出成形用のフィルム成形装置を準備した。ここで、３種３層のフィルム成形装置とは、３種類の樹脂を用いて３層構造のフィルムを製造しうるフィルム成形装置を表す。本実施例で使用したフィルム成形装置は、一軸押出機ａに投入された樹脂の層、一軸延伸機ｂに投入された樹脂の層及び一軸延伸機ｃに投入された樹脂の層をこの順に備えるフィルムを製造しうるように設けられていた。
　樹脂Ａのペレットを、一軸押出機ａ及び一軸押出機ｃに投入した。また、ノルボルネン系樹脂（日本ゼオン製「ゼオノア１６００」）のペレットを、一軸押出機ｂに投入した。その後、一軸延伸機ａ、ｂ及びｃに投入した樹脂を、それぞれ押出温度２６０℃で溶融させた。
　溶融された樹脂Ａ及びノルボルネン系樹脂を、目開き１０μｍのリーフディスク形状のポリマーフィルターを通してマルチマニホールドダイに供給し、マルチマニホールドダイから２６０℃で同時にフィルム状に押し出した。押し出されたフィルム状の溶融樹脂を、表面温度１００℃に調整された冷却ロールにキャストし、次いで表面温度５０℃に調整された２本の冷却ロール間に通して、樹脂Ａからなる第一層（厚み５μｍ）／ノルボルネン系樹脂からなる第二層（厚み４０μｍ）／樹脂Ａからなる第三層（厚み５μｍ）をこの順で備えた、厚み５０μｍの光学フィルムを得た。
　得られた光学フィルムについて、上述した方法により評価を行った。
　［実施例２］
　樹脂Ａの代わりに樹脂Ｂを用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学フィルムの製造及び評価を行った。
　［実施例３］
　樹脂Ａの代わりに樹脂Ｃを用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学フィルムの製造及び評価を行った。
　［実施例４］
　樹脂Ａの代わりに樹脂Ｄを用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学フィルムの製造及び評価を行った。
　［比較例１］
　樹脂Ａの代わりにノルボルネン系樹脂を用いたこと以外は実施例１と同様にして、ノルボルネン系樹脂からなる層のみを備えた単層構造の光学フィルムの製造及び評価を行った。
　［比較例２］
　ノルボルネン系樹脂の代わりに樹脂Ａを用いたこと以外は実施例１と同様にして、樹脂Ａからなる層のみを備えた単層構造の光学フィルムの製造及び評価を行った。
　［結果］
　上述した実施例及び比較例の結果を、下記の表１に示す。下記の表１において、略称の意味は、以下の通りである。
　Ｓｔ／ＩＰ比：芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物におけるスチレンとイソプレンとの重量比（スチレン／イソプレン）
　ＺＮＲ：ノルボルネン系樹脂
　弾性率：光学フィルムの引張弾性率
　透過率：光学フィルムの全光線透過率
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　［検討］
　表１から分かるように、実施例１～４の光学フィルムは、耐折度が大きく、吸水率が低く、且つ、引張弾性率及び全光線透過率の両方に優れる。したがって、本発明により、従来のノルボルネン系樹脂からなるフィルムと同程度の特性を有しながら、耐折り曲げ性に優れる光学フィルムを実現できることが確認された。

Claims (4)

  1. 　芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物を含む第一層、
    　ノルボルネン系重合体を含む第二層、及び、
    　芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物を含む第三層を、この順に備える、光学フィルム。
  2. 　前記芳香族ビニル化合物／共役ジエン化合物ブロック共重合体の水素化物が、スチレン／イソプレン共重合体の水素化物である、請求項１記載の光学フィルム。
  3. 　前記スチレン／イソプレン共重合体の水素化物におけるスチレン／イソプレンの共重合比が５０／５０～９０／１０である、請求項２記載の光学フィルム。
  4. 　ＡＳＴＭ　Ｄ５７０で測定した吸水率が０．１重量％以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
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