WO2015152289A1 - ケイ素化合物、コーティング剤用樹脂組成物、成形体、画像表示装置 - Google Patents

ケイ素化合物、コーティング剤用樹脂組成物、成形体、画像表示装置 Download PDF

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康之 大熊
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Definitions

  • the present invention relates to a silicon compound that can be used as a coating agent and a resin composition for a coating agent, and in particular, a silicon compound that significantly improves scratch resistance, and a resin composition that can be coated with significantly improved scratch resistance. About.
  • LCD liquid crystal display
  • smartphones smartphones
  • mobile devices represented by PND personal navigation device
  • wearable displays represented by Google Glass.
  • plastics especially PET, PC, PMMA, cycloolefin, etc.
  • features are lightweight and highly transparent, but have poor scratch resistance.
  • a method of preventing scratches by surface treatment with a hard coat agent is widely used.
  • Patent Document 1 discloses a coating agent having excellent scratch resistance for glass substrates, and having excellent adhesion to glass and scattering prevention ( Paragraph 0019).
  • Patent Document 2 discloses a laminate having a self-healing layer that has a repair capability even for deep scratches and exhibits a repeated repair capability (paragraph 0004). Scratch repair is performed by applying a coating solution produced by mixing an active energy ray-curable resin to a thermoplastic resin on the base material layer, curing the active energy ray-curable resin, and forming a coating film. When the film is scratched, the coating film is heated to soften the thermoplastic resin contained in the coating film to fill the scratch (paragraph 0005).
  • Patent Document 3 discloses a photocurable resin composition using a dimethyl silicone (meth) acrylate oligomer. However, it is intended to be used for a water-surrounding member and a functional panel, and transparency and a low haze value required for a display are not considered. Moreover, it aims at giving water repellency and slipperiness over a long period of time, and does not consider the scratch resistance of the coating film due to stress relaxation or the like (claim 1, paragraph 0008).
  • this invention makes it a subject to provide the resin composition for coating agents containing the compound which can improve scratch resistance, such as a hard-coat agent, and the said compound.
  • the inventors of the present invention have found that when a compound (silicon compound) in which both ends of a silicone compound are acrylic-modified is added to a hard coat agent or the like, the scratch resistance is remarkably improved, and the present invention has been completed.
  • “Acrylic modification” refers to introducing a (meth) acryloyl group into a compound.
  • the silicon compound according to the first aspect of the present invention is a silicon compound (a) represented by the following formula (I), wherein R 1 is alkylene having 3 or 4 carbon atoms, and X is represented by the following formula (II) ) To (III), n is an integer of 0 or 1, and Y is selected from the group consisting of the following formulas (IV) to (VI): ) A group having an acrylate group, and R 2 is hydrogen or a methyl group. If comprised in this way, the coating agent which improved the scratch resistance remarkably can be obtained by adding the silicon compound (a) with a short silicone chain
  • the silicon compound (a) when used together with a curable resin, the silicon compound (a) has a short silicone skeleton, so that the silicon compound (a) can be uniformly dissolved in the base resin. It is thought to be due to remarkably improving the scratch resistance considered to be due to stress relaxation because of having slipperiness, releasability, and flexibility (flexibility).
  • the resin composition for a coating agent according to the second aspect of the present invention contains the silicon compound according to the first aspect and a curable resin (b). If comprised in this way, the resin composition for coating agents which improved markedly the scratch resistance considered to be based on stress relaxation can be obtained.
  • the resin composition for a coating agent according to the third aspect of the present invention is the resin composition for a coating agent according to the second aspect of the present invention, wherein the curable resin (b) has a (meth) acryloyl group. It is an ultraviolet curable resin having at least one. If comprised in this way, the coupling
  • the molded body according to the fourth aspect of the present invention is a molded body, and is a cured product obtained by curing the resin composition for a coating agent according to the second aspect or the third aspect of the present invention; And a substrate covered with an object. If comprised in this way, the surface of a base material can be protected with the hardened
  • the molded body according to the fifth aspect of the present invention is the molded body according to the fourth aspect of the present invention, wherein the difference in haze value between the molded body and the substrate is 1% or less. If comprised in this way, when a molded object is installed in the surface of image panels, such as an image display apparatus, the surface of an image panel can be protected without becoming difficult to see the display of an image panel.
  • the image display apparatus which concerns on the 6th aspect of this invention is equipped with the molded object which concerns on the said 5th aspect of this invention, and the image panel which installed the said molded object on the screen. If comprised in this way, the image panel surface can be protected with the molded object which improved the damage resistance remarkably, and the damage resistance of an image display apparatus composition can be improved significantly.
  • the silicon compound of the present invention is a silicon compound in which both ends of the silicone compound are acrylic-modified, and can significantly improve the scratch resistance of a hard coat agent or the like. Moreover, the resin composition for coating agents which markedly improved scratch resistance can be obtained by containing the said compound.
  • FIG. 1 It is a figure which illustrates the image display apparatus which concerns on the 4th Embodiment of this invention.
  • A is an image figure of the abrasion trace of an Example
  • (b) is an image figure of the abrasion trace of a comparative example.
  • the silicon compound (a) as the silicon compound according to the first embodiment of the present application will be described.
  • the structure of the silicon compound (a) is as follows.
  • the silicon compound (a) is a compound that includes a silicone chain (a siloxane bond serving as a main chain) and is acrylic-modified at both ends.
  • Both ends include a (meth) acryloyl group as a functional group, and can be classified into a bifunctional acrylic modified silicon compound, a tetrafunctional acrylic modified silicon compound, an octafunctional acrylic modified silicon compound, and the like according to the number of functional groups.
  • silicon compound (a) adjusts the compatibility with curable resin (b) by changing the number of (meth) acryloyl groups introduced with respect to silicon compound (a) and adjusting the acrylic equivalent. Can do. It is also preferable to adjust the acrylic equivalent by changing the silicone chain without changing the number of (meth) acryloyl groups, since the compatibility of the silicon compound (a) with the curable resin (b) can be adjusted. .
  • n is an integer of 1 to 20.
  • Alkylene (—C 3 H 6 —) is exemplary and may be other alkylene.
  • X is a group having a (meth) acryloyl group.
  • R 2 is hydrogen or a methyl group. It is preferable to set n of the silicone chain to 1 to 20 because the compatibility of the silicon compound (a) can be improved and the haze value can be maintained below the appropriate value.
  • the silicon compound (a) can be mixed with the curable resin with good compatibility.
  • R 1 is alkylene having 3 or 4 carbon atoms.
  • X is a group having a urethane skeleton and a (meth) acryloyl group at the terminal.
  • R 2 is hydrogen or a methyl group, and n is an integer of 0 or 1.
  • -Tetrafunctional acrylic modified silicon compound X is a group of the following formula (IX) or formula (X).
  • Y is a group of the following formula (XI), formula (XII), or formula (XIII).
  • a bifunctional acrylic modified silicon compound is shown as an example.
  • R 1 is alkylene having 3 carbon atoms
  • X is Formula (VIII)
  • R 2 is hydrogen
  • n is 1.
  • a tetrafunctional acrylic modified silicon compound is shown.
  • R 1 is alkylene having 3 carbon atoms
  • X is the formula (IX)
  • R 2 is hydrogen
  • n is 1.
  • the silicon compound (a) is a hydroxyl group-containing siloxane compound (for example, Silaplane FM4401 manufactured by JNC Corporation) in the presence of a tin catalyst (for example, dibutyltin dilaurate), and acryloyloxyethyl isocyanate (for example, Showa Denko Corporation).
  • a tin catalyst for example, dibutyltin dilaurate
  • acryloyloxyethyl isocyanate for example, Showa Denko Corporation
  • a hydroxyl group-containing siloxane compound for example, Silaplane FM4401 manufactured by JNC Corporation
  • a tin catalyst for example, dibutyltin dilaurate
  • 1,1 ′-(bisacryloyloxymethyl) ethyl isocyanate for example, Showa
  • a tetrafunctional acryl-modified silicon compound can be obtained by reacting with an isocyanate having a (meth) acryloyl group such as Karenz BEI (trade name) manufactured by Denko Co., Ltd.
  • 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane is reacted with trimethylolpropane allyl ether or the like in the presence of a platinum catalyst to obtain a dihydroxyl-modified silicon compound having both ends.
  • the dihydroxyl-modified silicon compound at both ends is subjected to 1,1 ′-(bisacryloyloxymethyl) ethyl isocyanate (eg, Karenz BEI manufactured by Showa Denko KK) in the presence of a tin catalyst (eg, dibutyltin dilaurate), etc.
  • An octafunctional acrylic-modified silicon compound can be obtained by reacting with an isocyanate having a (meth) acryloyl group.
  • patent 3661807 can be referred.
  • a catalyst used for reaction with the isocyanate which has a hydroxyl-modified silicon compound of both terminal and (meth) acryloyl group an amine catalyst (for example, triethylenediamine), a carboxylate catalyst (for example, lead naphthenate, potassium acetate), Trialkylphosphine catalysts (for example, triethylphosphine), titanium-based catalysts (for example, titanium normal butoxide), and the like can also be used.
  • the resin composition for a coating agent according to the second embodiment of the present application is a resin composition containing the above-mentioned acrylic-modified silicon compound (a).
  • the resin composition for a coating agent of the present application can be easily prepared by adding the silicon compound (a) to the coating liquid containing the curable resin (b).
  • a coating liquid prepared by the method described in Japanese Patent No. 5375100, a silicon compound (a), if necessary, a polymerization initiator suitable for the curable resin (b), a solvent for promoting mixing Etc. can be added to obtain the resin composition for a coating agent of the present application.
  • solvent examples include ether solvents (diethyl ether, tetrahydrofuran, diphenyl ether, anisole, dimethoxybenzene, propylene glycol monomethyl ether, etc.), halogenated hydrocarbon solvents (methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, etc.), ketone solvents (acetone).
  • ether solvents diethyl ether, tetrahydrofuran, diphenyl ether, anisole, dimethoxybenzene, propylene glycol monomethyl ether, etc.
  • halogenated hydrocarbon solvents methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, etc.
  • ketone solvents acetone
  • Methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc. alcohol solvents (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butyl alcohol, t-butyl alcohol, etc.), nitrile solvents (acetonitrile, propionitrile, benzonitrile, etc.), ester solvents ( Ethyl acetate, butyl acetate, etc.), carbonate solvents (ethylene carbonate, propylene carbonate, etc.), amide solvents (N, N-dimethyl) (Lumamide, N, N-dimethylacetamide), hydrochlorofluorocarbon solvents (HCFC-141b, HCFC-225), hydrofluorocarbon (HFCs) solvents (HFCs having 2 to 4, 5 and 6 or more carbon atoms), perfluorocarbon Solvents (perfluoropentane, perfluorohexane), alicyclic hydrofluorocarbon solvents (
  • the silicon compound (a) is preferably contained in an amount of 0.5 to 40 wt% when the total amount of the silicon compound (a) and the curable resin (b) is 100 wt%.
  • the bifunctional acrylic-modified silicon compound is preferably 0.5 wt% or more and less than 20 wt%, particularly preferably 5 to 10 wt%. In the case of a tetrafunctional acrylic-modified silicon compound, 0.5 to 30 wt% is particularly preferable, and in the case of an octafunctional acrylic-modified silicon compound, 0.5 to 40 wt% is particularly preferable. When the number of functional groups increases, the solubility increases, so that the amount added can be increased.
  • the curable resin (b) examples include an active energy ray curable resin and a thermosetting resin.
  • An active energy ray curable resin is more preferable due to the ease of the curing method, and an ultraviolet curable resin is particularly preferable.
  • the active energy ray means an energy ray that can generate an active species by decomposing a compound that generates an active species.
  • Examples of such active energy rays include optical energy rays such as visible light, ultraviolet rays, and infrared rays, and radiation such as X-rays, ⁇ rays, ⁇ rays, ⁇ rays, and electron beams. Among these, ultraviolet rays are particularly preferable.
  • Active energy ray curable resins include radicals such as urethane (meth) acrylate resins, polyester (meth) acrylate resins, (meth) acrylate monomers, unsaturated polyester resins, and epoxy (meth) acrylate resins.
  • a resin having an unsaturated bond that can be polymerized can be mentioned. These resins may be used alone, or a plurality of resins may be used in combination. Of these, urethane (meth) acrylate resins and polyester (meth) acrylate resins are preferred.
  • the urethane (meth) acrylate resin is easy to obtain a tough coating film due to the urethane structure, and at the same time has flexibility.
  • urethane (meth) acrylate resin for example, after reacting a polyisocyanate with a polyhydroxy compound or a polyhydric alcohol, further reacting a hydroxyl group-containing (meth) acryl compound and, if necessary, a hydroxyl group-containing allyl ether compound. And a radical-polymerizable unsaturated group-containing oligomer that can be obtained.
  • the polyisocyanate include 2,4-tolylene diisocyanate and its isomers, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate.
  • polyhydroxy compound examples include polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polycaprolactone polyol, and the like.
  • polyhydric alcohols include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,3- Butanediol, adduct of bisphenol A and propylene oxide or ethylene oxide, 1,2,3,4-tetrahydroxybutane, glycerin, trimethylolpropane, 1,2-cyclohexane glycol, 1,3-cyclohexane glycol, 1,4 -Cyclohexane glycol, para-xylene glycol, bicyclohexyl-4,4-diol, 2,6-decalin glycol, 2,7-decalin glycol and the like.
  • the hydroxyl group-containing (meth) acrylic compound is not particularly limited, but is preferably a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester, specifically, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy Propyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, tris (hydroxyethyl) isocyanuric acid di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) An acrylate etc. are mentioned.
  • the polyester (meth) acrylate resin includes (1) a terminal carboxyl group polyester obtained from a saturated polybasic acid and / or an unsaturated polybasic acid and a polyhydric alcohol, and an ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic ester group.
  • (Meth) acrylate obtained by reacting an epoxy compound, (2) obtained by reacting a hydroxyl group-containing acrylate with a polyester having a terminal carboxyl group obtained from a saturated polybasic acid and / or unsaturated polybasic acid and a polyhydric alcohol (Meth) acrylate, (3) saturated polybasic acid and / or (meth) acrylate obtained by reacting polyester of terminal hydroxyl group obtained from unsaturated polybasic acid and polyhydric alcohol with (meth) acrylic acid. .
  • saturated polybasic acid used as a raw material for polyester (meth) acrylate examples include polybasic compounds having no polymerizable unsaturated bond such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, adipic acid, and sebacic acid.
  • examples thereof include acids or anhydrides thereof and polymerizable unsaturated polybasic acids such as fumaric acid, maleic acid and itaconic acid or anhydrides thereof.
  • polyhydric alcohol components include ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2- Examples include methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, cyclohexane-1,4-dimethanol, ethylene oxide adduct of bisphenol A, propylene oxide adduct of bisphenol A, and the like. .
  • (Meth) acrylate monomers include compounds obtained by reacting polyhydric alcohols with ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acids.
  • Unsaturated polyester resin is a product obtained by dissolving a condensation product (unsaturated polyester) in an esterification reaction of polyhydric alcohol and unsaturated polybasic acid (and saturated polybasic acid as required) in a polymerizable monomer. Is mentioned.
  • the unsaturated polyester can be produced by polycondensation of an unsaturated acid such as maleic anhydride and a diol such as ethylene glycol.
  • a polybasic acid having a polymerizable unsaturated bond such as fumaric acid, maleic acid, and itaconic acid or its anhydride is used as an acid component, and ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 1, 2 -Butanediol, 1,3-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, cyclohexane
  • Polyhydric alcohols such as 1,4-dimethanol, ethylene oxide adduct of bisphenol A and propylene oxide adduct of bisphenol A are reacted as alcohol components, and phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, Such as tetrahydrophthalic acid, adipic acid, sebacic acid Polymerizable not have an unsaturated bond
  • an epoxy (meth) acrylate resin there is a polymerizable unsaturated bond generated by a ring-opening reaction between a compound having a glycidyl group (epoxy group) and a carboxyl group of a carboxyl compound having a polymerizable unsaturated bond such as acrylic acid. What dissolved the compound (vinyl ester) which it had in the polymerizable monomer is mentioned.
  • the vinyl ester is produced by a known method, and examples thereof include epoxy (meth) acrylate obtained by reacting an epoxy resin with an unsaturated monobasic acid such as acrylic acid or methacrylic acid.
  • epoxy resins are reacted with bisphenol (for example, A type) or dibasic acid such as adipic acid, sebacic acid, dimer acid (Haridimer 270S (trade name): Harima Kasei Co., Ltd.) to impart flexibility. May be.
  • bisphenol for example, A type
  • dibasic acid such as adipic acid, sebacic acid, dimer acid (Haridimer 270S (trade name): Harima Kasei Co., Ltd.)
  • Harima Kasei Co., Ltd. dimer acid
  • a curing agent When using an active energy ray-curable resin, a curing agent may be added as necessary.
  • the content of the curing agent is preferably from 0.1 to 10 wt%, more preferably from 0.1 to 5 wt%, particularly preferably from 0.1 to 4 wt%, based on the total amount of the active energy ray curable resin.
  • An active energy ray polymerization initiator can be used as the curing agent.
  • the active energy ray polymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that generates radicals upon irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and visible rays.
  • Examples of the compound used as the active energy ray polymerization initiator include benzophenone, Michler's ketone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, xanthone, thioxanthone, isopropyl xanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-ethylanthraquinone, acetophenone, 2 -Hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-hydroxy-2-methyl-4'-isopropylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, isopropyl benzoin ether, isobutyl benzoin ether, 2,2-diethoxyacetophenone, 2 , 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, camphorquinone, benzanthrone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropa -1-one, 2-benzyl-2
  • the active energy ray-curable resin can be cured by irradiating ultraviolet rays (UV) or electron beams with an active energy ray source.
  • UV ultraviolet rays
  • the active energy ray-curable resin is preferably one that is cured by being irradiated with ultraviolet rays in the presence of a photopolymerization initiator.
  • photopolymerization initiators examples include various benzoin derivatives, benzophenone derivatives, phenyl ketone derivatives, onium salt photoinitiators, organometallic photoinitiators, metal salt cationic photoinitiators, photodegradable organosilanes, and latent sulfonic acids. And phosphine oxide.
  • the addition amount of the photopolymerization initiator is preferably 1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin.
  • thermosetting resins examples include phenolic resins, alkyd resins, melamine resins, epoxy resins, urea resins, unsaturated polyester resins, urethane resins, thermosetting polyimides, and silicone resins. It is done. These resins may be used alone, or a plurality of resins may be used in combination. Specifically, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, polyfunctional epoxy resin, flexible epoxy resin, brominated epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, polymer type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, etc.
  • Epoxy resins are heat-resistant, adhesive and chemical resistant, melamine-based resins are heat-resistant, hard and transparent, and urethane-based resins are excellent in adhesion and low-temperature curability, and can be selected and used as appropriate. .
  • thermosetting resin needs to be rapidly cured at a desired curing temperature (80 to 160 ° C.) and time (30 to 180 seconds).
  • a curing reaction initiator or a curing reaction accelerator may be used.
  • epoxy resins aliphatic amines and amines of aromatic amines, polyamide resins, tertiary amines and secondary amines, imidazoles, polymercaptans, acid anhydrides, Lewis acid complexes, melamine resins
  • an organometallic urethanization catalyst and a tertiary amine urethanization catalyst can be exemplified.
  • the curing reaction initiator and the curing reaction accelerator may be any compound that can release a substance that initiates cationic polymerization by irradiation with active energy rays or thermal energy.
  • Examples of such curing reaction initiators include carboxylic acids, amines, acid anhydride compounds and acid generators, and preferably double salts or derivatives thereof which are onium salts that release Lewis acids.
  • Typical examples of the curing reaction initiator include cation and anion salts represented by the following formula (1). [A] m + [B] m ⁇ (1)
  • the cation [A] m + is preferably an onium ion, for example, represented by the following formula (2).
  • [( ⁇ ) a Q] m + (2)
  • ⁇ is an organic group having 1 to 60 carbon atoms and any number of atoms other than carbon atoms.
  • a is an integer of 1 to 5.
  • the a ⁇ 's are independent and may be the same or different.
  • at least one ⁇ is preferably an organic group having an aromatic ring.
  • valence of Q in the cation [A] m + is q
  • the anion [B] m- is preferably a halide complex, for example, represented by the following formula (3).
  • [LX b ] m- (3) L is a metal or metalloid which is a central atom of a halide complex, and B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn , Sc, V, Cr, Mn, Co and the like.
  • X is a halogen atom.
  • b is an integer of 3 to 7.
  • anion [LX b ] m- represented by the above formula (3) examples include tetrafluoroborate (BF 4 ), hexafluorophosphate (PF 6 ), hexafluoroantimonate (SbF 6 ), hexafluoro Arsenate (AsF 6 ), hexachloroantimonate (SbCl 6 ) and the like are included.
  • anion [B] m- further include perchlorate ion (ClO 4 ) ⁇ , trifluoromethylsulfite ion (CF 3 SO 3 ) ⁇ , fluorosulfonate ion (FSO 3 ) ⁇ , toluenesulfonate anion Ions, trinitrobenzenesulfonic acid anions, and the like are also included.
  • the curing reaction initiator in the present invention is more preferably an aromatic onium salt exemplified in the following (a) to (c).
  • one of them can be used alone, or two or more of them can be mixed and used.
  • Aryldiazonium salts such as phenyldiazonium hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyldiazonium hexafluoroantimonate, 4-methylphenyldiazonium hexafluorophosphate, and (b) diphenyliodonium hexafluoroantimonate, di (4-methylphenyl) iodonium Diaryl iodonium salts such as hexafluorophosphate and di (4-t-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate (c) Triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium hexafluorophosphate, diphenyl-4-thio Phenoxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl-4-thiophenoxypheny Sulfon
  • the curing reaction initiator in the present invention may be a mixture of an iron arene complex or an aluminum complex and silanols such as triphenylsilanol.
  • iron arene complexes include ( ⁇ 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) [(1,2,3,4,5,6- ⁇ )-(1-methylethyl) benzene] -iron Hexafluorophosphate and the like
  • examples of aluminum complexes include tris (acetylacetonato) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (salicylaldehyde) aluminum and the like.
  • the curing reaction initiator in the embodiment of the present invention is preferably an aromatic iodonium salt, an aromatic sulfonium salt, or an iron-arene complex.
  • the content of the curing reaction initiator (preferably an acid generator) is preferably 1 mol per 10 to 300 mol of the epoxy group contained in the epoxy resin.
  • the cured resin layer preferably has weather resistance, low refractive index characteristics, high refractive index characteristics, antifouling characteristics, low wear characteristics, gas barrier characteristics, and scratch resistance as appropriate depending on the application.
  • weather resistance low refractive index characteristics
  • high refractive index characteristics high refractive index characteristics
  • antifouling characteristics low wear characteristics
  • gas barrier characteristics low wear characteristics
  • scratch resistance scratch resistance
  • ultraviolet absorbers examples include benzotriazoles, hydroxyphenyltriazines, benzophenones, salicylates, cyanoacrylates, triazines, and dibenzoylresorcinols. These ultraviolet absorbers may be used alone, or a plurality of ultraviolet absorbers may be used in combination. It is preferable to appropriately select the type and combination of ultraviolet absorbers based on the wavelength of ultraviolet rays to be absorbed.
  • Antioxidants include monophenols (2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-p-ethylphenol, stearyl- ⁇ - (3 , 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate), bisphenols (2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-ethyl- 6-t-butylphenol), 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 3,9-bis [1 , 1-Dimethyl-2- ⁇ - (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy ⁇ ethyl] 2,4,8,10-tetraoxy Saspiro [5,5] undecane, etc.), high-molecular phenols (1,1,3
  • antioxidants can be used alone, but it is particularly preferable to use them in combination with phenolic / sulfuric or phenolic / phosphorous.
  • phenolic antioxidants IRGANOX 1010 (trade name) and IRGAFOS 168 (trade name) manufactured by BASF can be used alone or in combination. .
  • TINUVIN As the light stabilizer (HALS), TINUVIN (registered trademark) 5100 (neutral type general-purpose HALS), TINUVIN 292 (compound name: bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl)) manufactured by BASF Sebacate, methyl (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) sebacate), TINUVIN152 (compound name: 2,4-bis [N-butyl-N- (1-cyclohexyloxy-2,2, 6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino] -6- (2-hydroxyethylamine) -1,3,5-triazine), TINUVIN 144 (compound name: bis (1,2,2,6,6-) Pentamethyl-4-piperidinyl)-[[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] buty Malonate), TINUVIN 123 (compound name:
  • Examples of a method for imparting a low refractive index characteristic include inorganic fine particles such as magnesium fluoride in a cured resin layer, fluorosilsesquioxane, and fluorosilsesquioxane polymers described in WO2008 / 072766 and WO2008 / 072765. It is preferable to mix one or more compounds selected from the group consisting of acrylate compounds containing fluorine atoms.
  • Techniques for imparting high refractive index characteristics include metal fine particles such as zirconia, titania and zinc sulfide in the cured resin layer, acrylate compounds and epoxy compounds having a fluorene skeleton, acrylate compounds and epoxy compounds containing sulfur atoms, etc.
  • the conductive pattern of a transparent electrode material such as ITO or silver nanowire can be made invisible.
  • the 1st cured resin layer which has an antireflection characteristic can be obtained by laminating
  • Examples of methods for imparting antifouling properties and low friction properties include silicone compounds, fluorine compounds, fluorosilsesquioxanes, and fluorosilsesquioxane polymers described in WO2008 / 072766 and WO2008 / 072765 in a cured resin layer.
  • silicone compounds include BYK-UV3500, BYK-UV-3570 (both trade names: manufactured by Big Chemie), TEGO Rad2100, 2200N, 2250, 2500, 2600, 2700 (both trade names: manufactured by Degussa), X- 22-2445, X-22-2455, X-22-2457, X-22-2458, X-22-2459, X-22-1602, X-22-1603, X-22-1615, X-22 1616, X-22-1618, X-22-1619, X-22-2404, X-22-2474, X-22-174DX, X-22-8201, X-22-2426, X-22-164A, X-22-164C (all trade names: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like.
  • fluorine compounds examples include OPTOOL DAC, OPTOOL DAC-HP, R-1110, R-1210, R-1240, R-1620, R-1820, R-2020, R-5210, and R-5410 manufactured by Daikin Industries, Ltd. , R-5610, R-5810, R-7210, R-7310, Megafuck RS-75, Megafuck RS-72-K, Megafuck RS-76-E, Megafuck RS-76-NS, Megafuck RS -77, Megafuck RS-903-3, Megafuck RS-914-2, Megafuck RS-761-3 (all are trade names), and the like.
  • inorganic components such as layered clay represented by graphene, silica, alumina, and porous glass in the cured resin layer.
  • inorganic fine particles may be added to improve the surface hardness and scratch resistance of a cured film obtained by curing the resin composition for a coating agent of the present application.
  • specific examples of inorganic fine particles include aluminum oxide, silicon oxide, rutile type titanium oxide, tin oxide, zirconium oxide, cerium oxide, magnesium fluoride, iron oxide, zinc oxide, copper oxide, antimony oxide, cryolite, firefly Stone), apatite, calcite, gypsum and talc.
  • the amount of the inorganic oxide used is preferably less than 60 wt% with respect to the curable resin (b) in the resin composition of the present application.
  • the average particle size of the inorganic fine particles is preferably 5 nm to 2 ⁇ m, and is preferably 5 nm to 500 nm, more preferably 5 nm to 50 nm, considering the transparency of the coating film. When it is 5 nm or more, the surface hardness and scratch resistance of the cured film can be improved, and when it is 2 ⁇ m or less, the transparency of the cured film is not adversely affected.
  • the average particle diameter of the inorganic fine particles is measured by a dynamic light scattering method using Nikkiso Co., Ltd. MICROTRAC UPA.
  • active energy ray sensitizer polymerization inhibitor, wax, plasticizer, leveling agent, surfactant, dispersant, antifoaming agent, wettability improver, antistatic agent, curing aid, etc.
  • leveling agent surfactant, dispersant, antifoaming agent, wettability improver, antistatic agent, curing aid, etc.
  • thermoplastic resins include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, acrylonitrile-styrene resin, acrylonitrile-butadiene-styrene resin, poly (meth) acrylate resin, ultrahigh molecular weight polyethylene, poly-4- Methylpentene, Syndiotactic polystyrene, Polyamide (Nylon 6: DuPont brand name, Nylon 6,6: DuPont brand name, Nylon 6,10: DuPont brand name, Nylon 6, T: DuPont brand name, Nylon MXD6 : DuPont brand name), polyester (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene 2,6-na
  • a molded body according to the third embodiment of the present invention will be described.
  • a molded object is provided with the hardened
  • the wet coating method which coats a composition uniformly for the coating of the resin composition for coating agents of this application.
  • a gravure coating method a die coating method, or the like can be used.
  • the resin composition for a coating agent is preferably in a state suitable for coating, and may not contain a solvent or may be a mixture with a solvent.
  • a gravure roll with an uneven engraving process on the surface is dipped in the coating liquid, and the coating liquid adhering to the convex part on the surface of the gravure roll is scraped off with a doctor blade, and the liquid is stored accurately in the concave part. And transferring to the base material.
  • a low viscosity liquid can be thinly coated by the gravure coating method.
  • the die coating method is a method in which coating is performed while pressurizing and extruding a liquid from a coating head called a die.
  • the die coating method enables highly accurate coating. Further, since the liquid is not exposed to the outside air during application, the concentration of the application liquid is hardly changed by drying.
  • wet coating methods include spin coating, bar coating, reverse coating, roll coating, slit coating, dipping, spray coating, kiss coating, reverse kiss coating, air knife coating, and curtain coating. Method, rod coating method and the like. The coating method can be appropriately selected according to the required film thickness from these methods.
  • plastics and glass which have transparency can be used for a base material.
  • plastic materials having transparency include polyester resins, acetate resins, polyethersulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, (meth) acrylic resins, and polyresins.
  • the resin include vinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyarylate resin, polyphenylene sulfide resin, norbornene resin, cycloolefin resin, and polyurethane resin.
  • polyethylene terephthalate PET
  • polyethylene naphthalate triacetyl cellulose
  • polyether sulfone polycarbonate
  • polyarylate polyether ether ketone
  • Cycloolefin resins are ZEONOR (registered trademark), ZEONEX (registered trademark): manufactured by Zeon Japan, Arton (registered trademark): manufactured by JSR, Apel (registered trademark): manufactured by Mitsui Chemicals, and TOPAS (registered trademark): manufactured by Polyplastics. Is preferred.
  • Polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are more preferred because they are excellent in mechanical strength, dimensional stability, heat resistance, chemical resistance, optical properties, etc., and smoothness and handling properties of the film surface.
  • Polycarbonate is more preferred because it is excellent in transparency, impact resistance, heat resistance, dimensional stability, and flammability. In consideration of price and availability, polyethylene terephthalate is particularly preferable.
  • the material of the glass having transparency is not limited as long as the glass is excellent in dimensional stability and optical characteristics used for LCD displays and touch panels.
  • Examples include soda lime glass, alkali-free glass, alkali barium glass, borosilicate glass, alkali borosilicate glass, aluminoborosilicate glass, barium borosilicate glass, aluminosilicate glass, borate glass, silica glass, lead glass, and the like.
  • the base material may be a base film used in an optical protective film made of the above material, and is a base used in a display unit or touch panel unit of an electronic device such as a PC, a portable terminal, a car navigation system, or a liquid crystal display. It may be a material, or a lens such as a camera, glasses or goggles. Moreover, the base material to be coated may not be transparent, and may be a housing such as an electronic device, an electric device, or an IT-related device. Thus, the substrate may be any material that requires a hard coating regardless of whether it is transparent or opaque.
  • the thickness of the base material is not particularly limited, and varies depending on the article exemplified above.
  • the thickness of the substrate is preferably 50 to 300 ⁇ m, more preferably 80 to 200 ⁇ m.
  • the thickness of the substrate is 50 ⁇ m or more, the mechanical strength of the substrate is sufficient, and a coating can be formed on the substrate.
  • the thickness is 300 ⁇ m or less, the thickness of the optical protective film does not become too thick, and a product (for example, an image display device described later) using the film is compact.
  • the thickness of the cured product of the resin composition for a coating agent formed on the surface of the substrate is not particularly limited, and can be appropriately changed from the article exemplified above.
  • a molded body for example, an optical protective film
  • the difference between the haze value of the base material and the haze value of the base material alone is preferably 1% or less. That is, the relationship of the following formula (5) is established. If it is 1% or less, the display on the image panel can be recognized without being aware of the presence of the cured product.
  • Haze value of molded body -Haze value of substrate
  • the haze is an index related to the transparency of the film and represents turbidity (cloudiness). It can obtain
  • require from the ratio with respect to the total light transmitted light of diffuse transmitted light using following formula (6). (Td: diffuse transmittance Tt: total light transmittance) Haze (%) Td / Tt ⁇ 100 (6)
  • the image display device includes a molded body (for example, an optical protective film 11) according to the second embodiment, and an image panel 12 that displays an image projected by mechanical processing.
  • the image panel 12 include a flat panel display such as a CRT, PDP, or LCD.
  • the optical protective film 11 is placed on the image panel 12 such that the base material of the optical protective film 11 is on the lower side.
  • reaction solution is ice-cooled and methanol (17.0 g) is added dropwise. Stir at the same temperature for 30 minutes to obtain a methanol solution of tetrafunctional acrylic-modified silicon compound A (153.3 g, solid content concentration 79 wt%).
  • methanol solution of tetrafunctional acrylic-modified silicon compound A (153.3 g, solid content concentration 79 wt%).
  • the silicon compound A is shown below.
  • dimethylsilylpolydimethylsiloxane at both ends (trade name: Silaplane FM1105, weight average molecular weight of about 500, manufactured by JNC Corporation) is added dropwise so that the inside of the reaction system does not exceed 100 ° C. Stir at 80 degrees for 1 hour and then cool to room temperature. Thereafter, unreacted 2-allyloxyethanol is distilled off under reduced pressure to obtain 130.4 g (yield 93%) of both terminal hydroxyl-modified silicon compounds B.
  • the silicon compound B is shown below.
  • reaction solution is ice-cooled, and methanol (14.0 g) is added dropwise. Stir at the same temperature for 30 minutes to obtain a methanol solution of tetrafunctional acrylic-modified silicon compound C (145.5 g, solid content concentration 81.6 wt%).
  • the silicon compound C is shown below.
  • reaction solution is ice-cooled, and methanol (0.95 g) is added dropwise.
  • methanol (0.95 g) is added dropwise.
  • the mixture is stirred at the same temperature for 30 minutes to obtain a methyl ethyl ketone solution (24.8 g, solid content concentration 55 wt%) of the tetrafunctional acrylic modified silicon compound D.
  • the silicon compound D is shown below.
  • the mixture was stirred at 40 ° C. to 50 ° C. for 2 hours, and a solution obtained by dissolving 0.076 g of dibutyltin dilaurate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in 0.81 g of methyl ethyl ketone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise.
  • the mixture is further stirred at 40 ° C. to 50 ° C. for 2 hours. Thereafter, the reaction solution is ice-cooled, and methanol (27.6 g) is added dropwise. Stir at the same temperature for 30 minutes to obtain a methanol solution (211 g, solid content concentration 79 wt%) of tetrafunctional acrylic-modified silicon compound F.
  • the silicon compound F is shown below.
  • a coating liquid having a solid content concentration of 40 wt% was prepared and used as coating liquid 1.
  • the coating liquid 1 had a solid content concentration of 40 wt%, and the composition in the solid content was 76 wt% polyfunctional urethane acrylate, 19 wt% inorganic filler, and 5 wt% UV curing agent. Further, the coating liquid 1 contains 0.2 wt% of an antifouling additive (in liquid) and PGM / IPA as a diluent solvent.
  • Preparation Example 2 ⁇ Preparation of coating solution 2> To 450.0 g of coating liquid 1 (solid content concentration 40 wt%) prepared in the same manner as in Preparation Example 1, 25.3 g of a methanol solution of tetrafunctional acrylic-modified silicon compound A (solid content concentration 79 wt%) was added, The tetrafunctional acrylic-modified silicon compound A was 10 wt% in the solid content. Furthermore, 1.0 g of Irgacure 127 (manufactured by BASF Corp.) and 24.7 g of methyl isobutyl ketone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were added so that the solid content concentration was 40 wt%. After stirring and mixing, it was confirmed that a transparent solution was obtained, and the coating solution 2 was obtained.
  • Irgacure 127 manufactured by BASF Corp.
  • 24.7 g of methyl isobutyl ketone manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
  • the tetrafunctional acrylic-modified silicon compound C was 10 wt% in the solid content.
  • 1.0 g of Irgacure 127 (manufactured by BASF Corporation) and 25.5 g of methyl isobutyl ketone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were added so that the solid content concentration became 40 wt%. After stirring and mixing, it was confirmed that a transparent solution was obtained, and coating solution 3 was obtained.
  • Example 1 ⁇ Formation of cured resin layer 1> Polycarbonate (product name: Iupilon NF2000VU, size: 1.5 ⁇ 70 ⁇ 150 mm, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was used as the substrate.
  • the coating liquid 2 prepared in Preparation Example 2 was used to dip coat a polycarbonate substrate. First, the polycarbonate base material is vertically submerged in the coating liquid 2 and dipped for 1 minute, and then pulled up. The polycarbonate base material is pulled up vertically at a speed of 1 mm / sec so that the dry film thickness becomes 5 ⁇ m, and at 80 ° C. for 1 minute. After drying, the coating film was photocured using a high pressure mercury lamp under light irradiation conditions of 1000 mJ / cm 2 , respectively, to form a cured resin layer 1.
  • Example 2 ⁇ Formation of cured resin layer 3> The cured resin layer 3 was formed by the same method as that used in Example 1. A cured resin layer 3 was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid 3 prepared in Preparation Example 3 was used instead of the coating liquid 2.
  • ⁇ Film test> (1) Total light transmittance The cured resin layer was measured using a haze meter (NDH5000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). The test was conducted in accordance with the standard of JIS-K-7361. (2) Haze The cured resin layer was measured using a haze meter (NDH5000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). The test was carried out in accordance with the standard of JIS K 7136. (3) Pencil hardness The cured resin layer was measured according to JIS K 5600.
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Abstract

　本願発明は、ハードコート剤等の耐傷付き性を向上させることができる化合物、および当該化合物を含むコーティング剤用樹脂組成物である。本願のケイ素化合物は、明細書の式（Ｉ）で示されるケイ素化合物（ａ）であって、Ｒ１が炭素数３もしくは４のアルキレンであり、Ｘが、明細書の式（ＩＩ）～（ＩＩＩ）からなる群から選択された一の基であり、ｎが０もしくは１の整数であり、Ｙが、明細書の式（ＩＶ）～（ＶＩ）からなる群から選択された、（メタ）アクリレート基を有する一の基であり、Ｒ２が、水素またはメチル基である。ケイ素化合物（ａ）を硬化性樹脂とともに用いると、応力緩和によると考えられる耐傷付き性を著しく向上させることができる。

Description

ケイ素化合物、コーティング剤用樹脂組成物、成形体、画像表示装置
　本発明は、コーティング剤に用いることができるケイ素化合物およびコーティング剤用樹脂組成物に関し、特に、耐傷付き性を著しく向上させるケイ素化合物、および耐傷付き性を著しく向上させたコーティングが可能な樹脂組成物に関する。
　近年、持ち運び可能で屋外でも使用できるＬＣＤ（liquidcrystal display）端末の普及が目覚しく、スマートフォン、ＰＮＤ（personal navigation device）に代表される携帯端末や、Google Glassに代表されるウェアラブルディスプレイ（wearable display）が例として挙げられる。
　これら製品は携帯して使用するため、軽量化する必要があり、部材の一部をガラスからプラスチックへ切り替える方法がとられている。しかし、プラスチック（特にＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡ、シクロオレフィン等）は、軽量かつ透明性の高い特徴を持っているが、耐傷付き性が乏しい。その解決手段として、ハードコート剤による表面処理により、傷付きを防止する方法が広く用いられている。
　傷付きを防止する方法として、特許文献１には、ガラス基板用の耐擦傷性に優れたコーティング剤であって、ガラスとの密着性および飛散防止性に優れたコーティング剤が開示されている（段落００１９）。特許文献２には、深い傷に対しても修復能力を有し、繰り返し修復能力を発現する自己修復層を有する積層体が開示されている（段落０００４）。傷の修復は、活性エネルギー線硬化性樹脂に熱可塑性樹脂を混合させて生成した塗布液を基材層上に塗布し、活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させて塗膜を生成し、塗膜に傷が入った場合に当該塗膜を加熱することにより、塗膜に含まれた熱可塑性樹脂が軟化して傷を埋めることにより行われる（段落０００５）。特許文献３には、ジメチルシリコーン（メタ）アクリレートオリゴマーを用いた光硬化性樹脂組成物が開示されている。しかし、水周り部材および機能性パネルに使用する事を目的としており、ディスプレイに要求されるような透明性や低いヘイズ値は考慮されていない。また、長期に渡る撥水性や滑り性を付与させる事を目的としており、応力緩和などによる塗膜の耐傷付き性については考慮されていない（請求項１、段落０００８）。
特開２００６－２９０６９６号公報 特開２０１３－１５４６３１号公報 特開２０１３－０２３５４７号公報
　上記のようなコーティング剤や積層体であっても、耐傷付き性を向上させることは常に求められる。
　そこで、本発明は、ハードコート剤等の耐傷付き性を向上させることができる化合物、および当該化合物を含むコーティング剤用樹脂組成物を提供することを課題とする。
　本発明者らは、シリコーン化合物の両末端をアクリル変性した化合物（ケイ素化合物）をハードコート剤等に添加すると、耐傷付き性が著しく向上することを見出し、本発明を完成させた。なお、「アクリル変性」とは、（メタ）アクリロイル基を化合物中に導入することをいう。
　本発明の第１の態様に係るケイ素化合物は、下記式（Ｉ）で示されるケイ素化合物（ａ）であって、Ｒ１が炭素数３もしくは４のアルキレンであり、Ｘが、下記式（ＩＩ）～（ＩＩＩ）からなる群から選択された一の基であり、ｎが０もしくは１の整数であり、Ｙが、下記式（ＩＶ）～（ＶＩ）からなる群から選択された、（メタ）アクリレート基を有する一の基であり、Ｒ２が、水素またはメチル基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　このように構成すると、シリコーン鎖が短いケイ素化合物（ａ）をハードコート剤等に添加することにより、耐傷付き性を著しく向上させたコーティング剤を得ることができる。これは、ケイ素化合物（ａ）を硬化性樹脂とともに用いると、ケイ素化合物（ａ）が短いシリコーン骨格を有するため、ベースの樹脂へ均一に溶解することが可能となること、ケイ素化合物（ａ）が、滑り性、離型性、可とう性（柔軟性）を有するため、応力緩和によると考えられる耐傷付き性を著しく向上させること、によると考えられる。
　本発明の第２の態様に係るコーティング剤用樹脂組成物は、上記第１の態様に係るケイ素化合物と；硬化性樹脂（ｂ）とを含有する。
　このように構成すると、応力緩和によると考えられる耐傷付き性を著しく向上させたコーティング剤用樹脂組成物を得ることができる。
　本発明の第３の態様に係るコーティング剤用樹脂組成物は、上記本発明の第２の態様に係るコーティング剤用樹脂組成物において、前記硬化性樹脂（ｂ）が、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する紫外線硬化性樹脂である。
　このように構成すると、紫外線照射により、ケイ素化合物（ａ）が有する（メタ）アクリロイル基と、硬化性樹脂（ｂ）が有する（メタ）アクリロイル基との結合が可能になり、ケイ素化合物（ａ）が硬化性樹脂（ｂ）に固定化することができる。
　本発明の第４の態様に係る成形体は、成形体であって、上記本発明の第２の態様または第３の態様に係るコーティング剤用樹脂組成物を硬化させた硬化物と；前記硬化物に覆われた基材とを備える。
　このように構成すると、基材の表面を、コーティング剤用樹脂組成物を硬化させた硬化物で保護することができ、成形体の耐傷付き性を著しく向上させることができる。
　本発明の第５の態様に係る成形体は、上記本発明の第４の態様に係る成形体において、前記成形体と前記基材とのヘイズ値の差が１％以下である。
　このように構成すると、成形体を画像表示装置等の画像パネルの表面に設置した場合、画像パネルの表示が見づらくなることなく、画像パネルの表面を保護できる。
　本発明の第６の態様に係る画像表示装置は、上記本発明の第５の態様に係る成型体と；前記成形体を画面上に設置した画像パネルとを備える。
　このように構成すると、画像パネル表面を、耐傷付き性を著しく向上させた成形体で保護することができ、画像表示装置成の耐傷付き性を著しく向上させることができる。
　本発明のケイ素化合物は、シリコーン化合物の両末端をアクリル変性したケイ素化合物であって、ハードコート剤等の耐傷付き性を著しく向上させることができる化合物である。また、当該化合物を含有させることにより、耐傷付き性が著しく向上したコーティング剤用樹脂組成物を得ることができる。
本発明の第４の実施の形態に係る画像表示装置を例示する図である。 （ａ）は実施例の磨耗痕のイメージ図であり、（ｂ）は比較例の磨耗痕のイメージ図である。
　この出願は、日本国で２０１４年３月３１日に出願された特願２０１４－０７４６６６号に基づいており、その内容は本出願の内容として、その一部を形成する。本発明は以下の詳細な説明によりさらに完全に理解できるであろう。本発明のさらなる応用範囲は、以下の詳細な説明により明らかとなろう。しかしながら、詳細な説明および特定の実例は、本発明の望ましい実施の形態であり、説明の目的のためにのみ記載されているものである。この詳細な説明から、種々の変更、改変が、本発明の精神と範囲内で、当業者にとって明らかであるからである。出願人は、記載された実施の形態のいずれをも公衆に献上する意図はなく、改変、代替案のうち、特許請求の範囲内に文言上含まれないかもしれないものも、均等論下での発明の一部とする。
　以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、各図において互いに同一または相当する部分には同一あるいは類似の符号を付し、重複した説明は省略する。また、本発明は、以下の実施の形態に制限されるものではない。
［ケイ素化合物（ａ）］
　本願の第１の実施の形態に係るケイ素化合物としてのケイ素化合物（ａ）について説明する。ケイ素化合物（ａ）の構造は、以下のとおりである。
　ケイ素化合物（ａ）は、シリコーン鎖（主鎖となるシロキサン結合）を含み、その両末端がアクリル変性された化合物である。特に下記式（ＶＩＩ－２）においてｎ＝１のシロキサン結合を含むケイ素化合物（ａ）が好ましい。両末端は、官能基としての（メタ）アクリロイル基を含み、官能基の数により、２官能アクリル変性ケイ素化合物、４官能アクリル変性ケイ素化合物、８官能アクリル変性ケイ素化合物等に分類することができる。
　なお、ケイ素化合物（ａ）は、ケイ素化合物（ａ）に対して導入する（メタ）アクリロイル基の数を変えてアクリル当量を調整することで、硬化性樹脂（ｂ）に対する相溶性を調節することができる。また、（メタ）アクリロイル基の数を変更せずに、シリコーン鎖を変えてアクリル当量を調整することでも硬化性樹脂（ｂ）に対するケイ素化合物（ａ）の相溶性を調節することができるため好ましい。
　ケイ素化合物（ａ）の骨格となる構造を、下記式（ＶＩＩ－１）に例示する。式（ＶＩＩ－１）において、ｎは、１～２０の整数である。アルキレン（－Ｃ３Ｈ６－）は例示であり他のアルキレンであってもよい。Ｘは（メタ）アクリロイル基を有する基である。ＸにおいてＲ２は、水素またはメチル基である。
　なお、シリコーン鎖のｎを１～２０にすることで、ケイ素化合物（ａ）の相溶性を向上させることができ、ヘイズ値を適性値以下に維持できるため好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　ケイ素化合物（ａ）のうち、下記式（ＶＩＩ－２）に示す、ｎ＝１のシロキサン結合を含むケイ素化合物（ａ）が特に好ましい。ケイ素化合物（ａ）を相溶性良く硬化性樹脂へ混合することができる。Ｒ１は炭素数３もしくは４のアルキレンである。Ｘはウレタン骨格と末端に（メタ）アクリロイル基とを有する基である。Ｘにおいて、Ｒ２は水素またはメチル基であり、ｎが０もしくは１の整数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
・２官能アクリル変性ケイ素化合物
　Ｘは、下記式（ＶＩＩＩ）の基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
・４官能アクリル変性ケイ素化合物
　Ｘは、下記式（ＩＸ）または式（Ｘ）の基である。
　式（Ｘ）においてＹは、下記式（ＸＩ）、式（ＸＩＩ）、または式（ＸＩＩＩ）の基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
・８官能アクリル変性ケイ素化合物
　Ｘは、下記式（ＸＩＶ）の基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　以下に、例として２官能アクリル変性ケイ素化合物を示す。式（ＶＩＩ－２）においてＲ１は炭素数３のアルキレンであり、Ｘは式（ＶＩＩＩ）でありＲ２が水素、ｎが１である。さらに、４官能アクリル変性ケイ素化合物を示す。式（ＶＩＩ－２）においてＲ１は炭素数３のアルキレンであり、Ｘは式（ＩＸ）でありＲ２が水素、ｎが１である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　本願のケイ素化合物（ａ）の合成方法を以下に例示する。
　ケイ素化合物（ａ）は、ヒドロキシル基含有シロキサン化合物（例えばＪＮＣ（株）製サイラプレーンＦＭ４４０１）を、スズ触媒（例えばジラウリン酸ジブチルスズ）の存在下で、アクリロイルオキシエチルイソシアナート（例えば昭和電工（株）製カレンズＡＯＩ）等の（メタ）アクリロイル基を有するイソシアナートと反応させることによって、２官能アクリル変性ケイ素化合物を得ることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　または、ヒドロキシル基含有シロキサン化合物（例えばＪＮＣ（株）製サイラプレーンＦＭ４４０１）を、スズ触媒（例えばジラウリン酸ジブチルスズ）の存在下で、１，１’－（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアナート（例えば昭和電工（株）製カレンズＢＥＩ（商品名））等の（メタ）アクリロイル基を有するイソシアナートと反応させることによって４官能アクリル変性ケイ素化合物を得ることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　または、１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンを、白金触媒の存在下で、トリメチロールプロパンアリルエーテル等と反応させ両末端ジヒドロキシル変性ケイ素化合物を得る。
　次に、両末端ジヒドロキシル変性ケイ素化合物をスズ触媒（例えばジラウリン酸ジブチルスズ）の存在下で、１，１’－（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアナート（例えば昭和電工（株）製カレンズＢＥＩ）等の（メタ）アクリロイル基を有するイソシアナートと反応させることによって８官能アクリル変性ケイ素化合物を得ることができる。
　なお、ヒドロキシル基含有シロキサン化合物の製造方法については、特許第３６６１８０７号公報を参照することができる。
　また、両末端ヒドロキシル変性ケイ素化合物と（メタ）アクリロイル基を有するイソシアナートとの反応に使用する触媒としては、アミン系触媒（例えばトリエチレンジアミン）、カルボキシレート触媒（例えばナフテン酸鉛、酢酸カリウム）、トリアルキルホスフィン触媒（例えばトリエチルホスフィン）、チタン系触媒（例えばチタンノルマルブトキシド）なども使用することができる。
［コーティング剤用樹脂組成物］
　本願の第２の実施の形態に係るコーティング剤用樹脂組成物は、上記のアクリル変性したケイ素化合物（ａ）を含有する樹脂組成物である。本願のコーティング剤用樹脂組成物は、硬化性樹脂（ｂ）を含有するコーティング液にケイ素化合物（ａ）を加えることにより、容易に調製することができる。例えば、特許第５３７５１００号公報に記載の方法により調製されたコーティング液に、ケイ素化合物（ａ）、必要に応じて、硬化性樹脂（ｂ）に適した重合開始剤、混合を促進するための溶媒等を加えることにより本願のコーティング剤用樹脂組成物を得ることができる。
　溶媒としては、例えば、エーテル系溶媒（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、アニソール、ジメトキシベンゼン、プロピレングリコールモノメチルエーテルなど）、ハロゲン化炭化水素系溶媒（塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼンなど）、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど）、アルコール系溶媒（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブチルアルコール、ｔ－ブチルアルコールなど）、ニトリル系溶媒（アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなど）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、カーボネート系溶媒（エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなど）、アミド系溶媒（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド）、ハイドロクロロフルオロカーボン系溶媒（ＨＣＦＣ－１４１ｂ、ＨＣＦＣ－２２５）、ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣｓ）系溶媒（炭素数２～４、５および６以上のＨＦＣｓ）、パーフルオロカーボン系溶媒（パーフルオロペンタン、パーフルオロヘキサン）、脂環式ハイドロフルオロカーボン系溶媒（フルオロシクロペンタン、フルオロシクロブタン）、酸素含有フッ素系溶媒（フルオロエーテル、フルオロポリエーテル、フルオロケトン、フルオロアルコール）、芳香族系フッ素溶媒（α，α，α－トリフルオロトルエン、ヘキサフルオロベンゼン）、水が含まれる。これらを単独で使用してもよく、二種以上を併用してもよい。
　ケイ素化合物（ａ）は、ケイ素化合物（ａ）と硬化性樹脂（ｂ）の総量を１００ｗｔ％とした場合に、０．５～４０ｗｔ％含有させることが好ましい。２官能アクリル変性ケイ素化合物では、０．５ｗｔ％以上２０ｗｔ％未満が好ましく、５～１０ｗｔ％が特に好ましい。４官能アクリル変性ケイ素化合物では、０．５～３０ｗｔ％が特に好ましく、８官能アクリル変性ケイ素化合物では０．５～４０ｗｔ％が特に好ましい。官能基数が多くなると、溶解性が上昇するため添加量を多くすることができる。
・硬化性樹脂（ｂ）
　硬化性樹脂（ｂ）としては、活性エネルギー線硬化性樹脂または熱硬化性樹脂を挙げることができる。硬化方法の容易性から活性エネルギー線硬化性樹脂がより好ましく、紫外線硬化性樹脂が特に好ましい。
　なお、本明細書において、活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線をいう。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線などの光エネルギー線や、Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線などの放射線が挙げられる。中でも、特に紫外線が好ましい。
・活性エネルギー線硬化性樹脂
　活性エネルギー線硬化性樹脂としては、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、（メタ）アクリレートモノマー、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂などのラジカル重合が可能な不飽和結合を有する樹脂を挙げることができる。これらの樹脂を単独で用いてもよいし、複数の樹脂を組み合わせて用いてもよい。中でも、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂が好ましい。ウレタン（メタ）アクリレート樹脂は、ウレタン構造により強靭な塗膜が得られやすく、同時に柔軟性を備える。
　ウレタン（メタ）アクリレート樹脂としては、例えば、ポリイソシアナートとポリヒドロキシ化合物あるいは多価アルコール類とを反応させた後、さらに水酸基含有（メタ）アクリル化合物および必要に応じて水酸基含有アリルエーテル化合物を反応させることによって得ることができるラジカル重合性不飽和基含有オリゴマーが挙げられる。
　前記ポリイソシアナートとしては、具体的には２，４－トリレンジイソシアナートおよびその異性体、ジフェニルメタンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、水添キシリレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、キシリレンジイソシアナート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアナート、ナフタリンジイソシアナート、トリフェニルメタントリイソシアナート、バーノックＤ－７５０、クリスボンＮＫ（商品名：大日本インキ化学工業（株）製）、デスモジュールＬ（商品名：住友バイエルウレタン（株）製）、コロネートＬ（商品名：日本ポリウレタン工業（株）製）、タケネートＤ１０２（商品名：三井武田ケミカル（株）製）、イソネート１４３Ｌ（商品名：三菱化学（株）製）などが挙げられる。
　前記ポリヒドロキシ化合物としては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオールなどが挙げられ、具体的にはグリセリン－エチレンオキシド付加物、グリセリン－プロピレンオキシド付加物、グリセリン－テトラヒドロフラン付加物、グリセリン－エチレンオキシド－プロピレンオキシド付加物、トリメチロールプロパン－エチレンオキシド付加物、トリメチロールプロパン－プロピレンオキシド付加物、トリメチロールプロパン－テトラヒドロフラン付加物、トリメチロールプロパン－エチレンオキシド－プロピレンオキシド付加物、ジペンタエリスリトール－エチレンオキシド付加物、ジペンタエリスリトール－プロピレンオキシド付加物、ジペンタエリスリトール－テトラヒドロフラン付加物、ジペンタエリスリトール－エチレンオキシド－プロピレンオキシド付加物などが挙げられる。
　前記多価アルコール類としては、具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、１，３－ブタンジオール、ビスフェノールＡとプロピレンオキシドまたはエチレンオキシドとの付加物、１，２，３，４－テトラヒドロキシブタン、グリセリン、トリメチロールプロパン、１，２－シクロヘキサングリコール、１，３－シクロヘキサングリコール、１，４－シクロヘキサングリコール、パラキシレングリコール、ビシクロヘキシル－４，４－ジオール、２，６－デカリングリコール、２，７－デカリングリコールなどが挙げられる。
　前記水酸基含有（メタ）アクリル化合物としては、特に限定されるものではないが、水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルが好ましく、具体的には、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
　ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂としては、（１）飽和多塩基酸および／または不飽和多塩基酸と多価アルコールから得られる末端カルボキシル基のポリエステルにα，β－不飽和カルボン酸エステル基を含有するエポキシ化合物を反応して得られる（メタ）アクリレート、（２）飽和多塩基酸および／または不飽和多塩基酸と多価アルコールから得られる末端カルボキシル基のポリエステルに水酸基含有アクリレートを反応させて得られる（メタ）アクリレート、（３）飽和多塩基酸および／または不飽和多塩基酸と多価アルコールから得られる末端水酸基のポリエステルに（メタ）アクリル酸を反応して得られる（メタ）アクリレートが挙げられる。
　ポリエステル（メタ）アクリレートの原料として用いられる飽和多塩基酸としては、例えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、アジピン酸、セバチン酸などの重合性不飽和結合を有していない多塩基酸またはその無水物と、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸などの重合性不飽和多塩基酸またはその無水物が挙げられる。さらに多価アルコール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール、シクロヘキサン－１，４－ジメタノール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物などが挙げられる。
　（メタ）アクリレートモノマーとしては、多価アルコールにα，β－不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物が挙げられる。例えば、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール（メタ）アクリレート、プロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレンポリトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
　不飽和ポリエステル樹脂としては、多価アルコールと不飽和多塩基酸（および必要に応じて飽和多塩基酸）とのエステル化反応による縮合生成物（不飽和ポリエステル）を、重合性モノマーに溶解したものが挙げられる。
　前記不飽和ポリエステルとしては、無水マレイン酸などの不飽和酸とエチレングリコールなどのジオールとを重縮合させて製造できる。具体的にはフマル酸、マレイン酸、イタコン酸などの重合性不飽和結合を有する多塩基酸またはその無水物を酸成分とし、これとエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール、シクロヘキサン－１，４－ジメタノール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物などの多価アルコールをアルコール成分として反応させ、また、必要に応じてフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、アジピン酸、セバシン酸などの重合性不飽和結合を有していない多塩基酸またはその無水物も酸成分として加えて製造されるものが挙げられる。
　エポキシ（メタ）アクリレート樹脂としては、グリシジル基（エポキシ基）を有する化合物と、アクリル酸などの重合性不飽和結合を有するカルボキシル化合物のカルボキシル基との開環反応により生成する重合性不飽和結合を持った化合物（ビニルエステル）を、重合性モノマーに溶解したものが挙げられる。
　前記ビニルエステルとしては、公知の方法により製造されるものであり、エポキシ樹脂に不飽和一塩基酸、例えばアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　また、各種エポキシ樹脂をビスフェノール（例えばＡ型）またはアジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸（ハリダイマー２７０Ｓ（商品名）：ハリマ化成（株））などの二塩基酸で反応させ、可撓性を付与してもよい。
　原料としてのエポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルおよびその高分子量同族体、ノボラック型グリシジルエーテル類などが挙げられる。
　活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合は、必要に応じて硬化剤を添加してもよい。この場合、硬化剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性樹脂の全体量に対して、０．１～１０ｗｔ％が好ましく、０．１～５ｗｔ％がより好ましく、０．１～４ｗｔ％が特に好ましい。硬化剤としては、活性エネルギー線重合開始剤が利用できる。活性エネルギー線重合開始剤としては、紫外線や可視光線などの活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する化合物であれば特に限定しない。活性エネルギー線重合開始剤として用いられる化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４′－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２－エチルアントラキノン、アセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－４′－イソプロピルプロピオフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２－ジエトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン、１，４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４′－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４′－トリ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２－（４′－メトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（３′，４′－ジメトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（２′，４′－ジメトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（２′－メトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４′－ペンチルオキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、４－［ｐ－Ｎ，Ｎ－ジ（エトキシカルボニルメチル）］－２，６－ジ（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、１，３－ビス（トリクロロメチル）－５－（２′－クロロフェニル）－ｓ－トリアジン、１，３－ビス（トリクロロメチル）－５－（４′－メトキシフェニル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２－（ｐ－ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、３，３′－カルボニルビス（７－ジエチルアミノクマリン）、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，４′，５，５′－テトラフェニル－１，２′－ビイミダゾール、２，２′－ビス（２－クロロフェニル）－４，４′，５，５′－テトラキス（４－エトキシカルボニルフェニル）－１，２′－ビイミダゾール、２，２′－ビス（２，４－ジクロロフェニル）－４，４′，５，５′－テトラフェニル－１，２′－ビイミダゾール、２，２′－ビス（２，４－ジブロモフェニル）－４，４′，５，５′－テトラフェニル－１，２′－ビイミダゾール、２，２′－ビス（２，４，６－トリクロロフェニル）－４，４′，５，５′－テトラフェニル－１，２′－ビイミダゾール、３－（２－メチル－２－ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６－ビス（２－メチル－２－モルホリノプロピオニル）－９－ｎ－ドデシルカルバゾール、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（η５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）－ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）－フェニル）チタニウムなどがある。これらの化合物は単独で使用してもよく、２つ以上を混合して使用することも有効である。中でも、３，３′，４，４′－テトラ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′，４，４′－テトラ（ｔ－ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′－ジ（メトキシカルボニル）－４，４′－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４′－ジ（メトキシカルボニル）－４，３′－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４′－ジ（メトキシカルボニル）－３，３′－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどが好ましい。
　活性エネルギー線硬化性樹脂は、活性エネルギー線源により、紫外線（ＵＶ）または電子線等を照射して硬化させることができる。
　一例として、活性エネルギー線硬化性樹脂に紫外線を照射させて用いる場合を説明する。活性エネルギー線硬化性樹脂は、光重合開始剤の存在下で紫外線を照射して重合させることにより硬化するものが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、各種のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、フェニルケトン誘導体、オニウム塩光開始剤、有機金属光開始剤、金属塩カチオン光開始剤、光分解性オルガノシラン、潜在性スルホン酸、酸化ホスフィンなどが挙げられる。光重合開始剤の添加量は、活性エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して、１～５重量部とすることが好ましい。
・熱硬化性樹脂
　熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、アルキド樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ウレタン系樹脂、熱硬化性ポリイミドおよびシリコーン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂を単独で用いてもよいし、複数の樹脂を組み合わせて用いてもよい。
　具体的には、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、多官能エポキシ樹脂、可撓性エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、高分子型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂等のエポキシ系樹脂、メチル化メラミン樹脂、ブチル化メラミン樹脂、メチルエーテル化メラミン樹脂、ブチルエーテル化メラミン樹脂、メチルブチル混合エーテル化メラミン樹脂等のメラミン系樹脂、イソシアナート基を２個以上持ったポリイソシアナート化合物（O=C=N-R-N=C=O）と、水酸基を２個以上持ったポリオール化合物（HO-R'-OH）、ポリアミン（H2N-R"-NH2）、または水などの活性水素（-NH2,-NH,-CONH-など）を持った化合物などとの反応により得ることができるウレタン系樹脂等が加工適性上好ましい。
　エポキシ系樹脂は耐熱性、接着性、耐薬品性、メラミン系樹脂は耐熱性、硬度、透明性、ウレタン系樹脂は接着性、低温硬化性に優れており、適宜選択して使用することができる。
　熱硬化性樹脂は、所望の硬化温度（８０～１６０℃）、時間（３０～１８０秒）で迅速硬化させる必要がある。樹脂の種類に応じて、硬化反応開始剤や硬化反応促進剤を用いてもよい。例えば、エポキシ系樹脂の場合、脂肪族アミンや芳香族アミンのアミン類、ポリアミド樹脂、３級アミンおよび２級アミン、イミダゾール類、ポリメルカプタン、酸無水物類、ルイス酸錯体、メラミン系樹脂の場合、スルホン酸系触媒、ウレタン系樹脂の場合、有機金属系ウレタン化触媒と３級アミン系ウレタン化触媒等を挙げることができる。
　上記硬化反応開始剤や硬化反応促進剤は、活性エネルギー線照射や熱エネルギーによりカチオン重合を開始させる物質を放出することができる化合物であればよい。かかる硬化反応開始剤の例としては、カルボン酸、アミン、酸無水物化合物や酸発生剤などが含まれ、好ましくはルイス酸を放出するオニウム塩である複塩またはその誘導体である。
　上記の硬化反応開始剤の代表的なものとしては、下記式（１）で示される陽イオンと陰イオンの塩を挙げることができる。
　　　［Ａ］ｍ＋［Ｂ］ｍ－　　　　　（１）
　上記式（１）において、陽イオン［Ａ］ｍ＋はオニウムイオンであることが好ましく、例えば下記式（２）で示される。
　　　［（α）ａＱ］ｍ＋　　　　　（２）
　上記式（２）において、αは炭素数が１～６０であり、炭素原子以外の原子をいくつ含んでもよい有機基である。ａは１～５の整数である。ａ個のαは各々独立で、同一でも異なっていてもよい。また、少なくとも１つのαは、芳香環を有する有機基であることが好ましい。
　Ｑは、Ｓ、Ｎ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ、Ｎ＝Ｎからなる群から選ばれる原子あるいは原子団である。また、陽イオン［Ａ］ｍ＋中のＱの原子価をｑとしたとき、ｍ＝ａ－ｑである（但し、Ｎ＝Ｎは原子価０として扱う）。
　一方、陰イオン［Ｂ］ｍ－は、ハロゲン化物錯体であるのが好ましく、例えば下記式（３）で示される。
　　　［ＬＸｂ］ｍ－　　　　　（３）
　上記式（３）において、Ｌはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属（Metalloid）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏなどである。Ｘはハロゲン原子である。ｂは３～７なる整数である。また、陰イオン［ＬＸｂ］ｍ－中のＬの原子価をｐとしたとき、ｍ＝ｂ－ｐである。
　上記式（３）で示される陰イオン［ＬＸｂ］ｍ－の具体例には、テトラフルオロボレート（ＢＦ４）、ヘキサフルオロフォスフェート（ＰＦ６）、ヘキサフルオロアンチモネート（ＳｂＦ６）、ヘキサフルオロアルセネート（ＡｓＦ６）、ヘキサクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ６）などが含まれる。
　また陰イオン［Ｂ］ｍ－としては、下記式（４）で示されるものも好ましく用いることができる。Ｌ、Ｘ、ｂは上記と同様である。
　　　［ＬＸｂ－１（ＯＨ）］ｍ－　　　　　（４）
　陰イオン［Ｂ］ｍ－の例には、さらに過塩素酸イオン（ＣｌＯ４）―、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ３ＳＯ３）－、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ３）―、トルエンスルホン酸陰イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸陰イオンなども含まれる。
　本発明における硬化反応開始剤は、このようなオニウム塩の中でも、下記の（イ）～（ハ）に例示される芳香族オニウム塩であることがさらに好ましい。これらの中から、その１種を単独で、または２種以上を混合して使用することができる。
　（イ）フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、４－メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－メチルフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのアリールジアゾニウム塩
　（ロ）ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなどのジアリールヨードニウム塩
　（ハ）トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（４－メトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル－４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル－４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’－ビス（ジフェニルスルフォニオ）フェニルスルフィド－ビス－ヘキサフルオロアンチモネート、４，４’－ビス（ジフェニルスルフォニオ）フェニルスルフィド－ビス－ヘキサフルオロホスフェート、４，４’－ビス［ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ］フェニルスルフィド－ビス－ヘキサフルオロアンチモネート、４，４’－ビス［ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ］フェニルスルフィド－ビス－ヘキサフルオロホスフェート、４－［４’－（ベンゾイル）フェニルチオ］フェニル－ジ－（４－フルオロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－［４'－（ベンゾイル）フェニルチオ］フェニル－ジ－（４－フルオロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェートなどのトリアリールスルホニウム塩
　さらに、本発明における硬化反応開始剤は、鉄アレーン錯体またはアルミニウム錯体と、トリフェニルシラノールなどのシラノール類との混合物であってもよい。
　鉄アレーン錯体の例には、（η５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）〔（１，２，３，４，５，６－η）－（１－メチルエチル）ベンゼン〕－アイアン－ヘキサフルオロホスフェートなどが含まれ、アルミニウム錯体の例には、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセタト）アルミニウム、トリス（サリチルアルデヒダト）アルミニウムなどが含まれる。
　上記の中でも実用面の観点から、本発明の実施の形態における硬化反応開始剤は、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、鉄－アレーン錯体であることが好ましい。
　硬化反応開始剤（好ましくは酸発生剤）の含有量は、エポキシ樹脂が含有するエポキシ基１０～３００モルに対して、１モルであることが好ましい。
　硬化樹脂層は、用途に応じて適宜、耐候性、低屈折率特性、高屈折率特性、汚れ防止特性、低摩耗特性、ガスバリア特性、耐傷つき特性を有することが好ましい。このような特性を付与するための下記の添加剤や手法を用いることもできる。
　紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール類、ヒドロキシフェニルトリアジン類、ベンゾフェノン類、サリシレート類、シアノアクリレート類、トリアジン類、または、ジベンゾイルレソルシノール類などが挙げられる。これらの紫外線吸収剤を単独で用いてもよいし、複数の紫外線吸収剤を組み合わせて用いてもよい。紫外線吸収剤は、吸収したい紫外線の波長に基づいて種類や組み合わせを適宜選択することが好ましい。
　酸化防止剤としては、モノフェノール類（２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－エチルフェノール、ステアリル－β－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネートなど）、ビスフェノール類（２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－エチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４，４’－ブチリデンビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、３，９－ビス［１，１－ジメチル－２－｛β－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなど）、高分子型フェノール類（１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）ブタン、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス－［メチレン－３－（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’－ビス－（４’－ヒドロキシ－３’－ｔ－ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、１，３，５－トリス（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシベンジル）－ｓ－トリアジン－２，４，６－（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、トコフェロールなど）、硫黄系酸化防止剤（ジラウリル－３，３’－チオジプロピオネート、ジミリスチル－３，３’－チオジプロピオネート、ジステアリルル－３，３’－チオジプロピオネートなど）、ホスファイト類（トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（オクタデシル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビ（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビ（２，４－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェニル）ホスファイト、ビス［２－ｔ－ブチル－６－メチル－４－｛２－（オクタデシルオキシカルボニル）エチル｝フェニル］ヒドロゲンホスファイトなど）、およびオキサホスファフェナントレンオキサイド類（９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイド、１０－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイド、１０－デシロキシ－９，１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキサイドなど）を挙げることができる。これらの酸化防止剤はそれぞれ単独で使用できるが、フェノール系／硫黄系またはフェノール系／リン系と組み合わせて使用することが特に好ましい。市販のフェノール系の酸化防止剤としては、ＢＡＳＦ社製のＩＲＧＡＮＯＸ　１０１０（商品名）やＩＲＧＡＦＯＳ　１６８（商品名）をそれぞれ単独で利用することができ、また、これらを混合して利用することもできる。
　光安定剤（ＨＡＬＳ）としては、ＢＡＳＦ社製ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）５１００（中性タイプの汎用ＨＡＬＳ）、ＴＩＮＵＶＩＮ２９２（化合物名：ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジニル）セバケート、メチル（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジニル）セバケート）、ＴＩＮＵＶＩＮ１５２（化合物名：２，４－ビス［Ｎ－ブチル－Ｎ－（１－シクロヘキシロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）アミノ］－６－（２－ヒドロキシエチルアミン）－１，３，５－トリアジン）、ＴＩＮＵＶＩＮ１４４（化合物名：ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジニル）－［［３，５－ビス（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネート）、ＴＩＮＵＶＩＮ１２３（化合物名：デカン二酸、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－１－（オクチルオキシ）－４ピペリジニル）エステルの反応生成物（１，１－ジメチルエチルヒドロぺルオキシドおよびオクタン存在下））、ＴＩＮＵＶＩＮ１１１ＦＤＬ（約５０％、ＴＩＮＵＶＩＮ６２２、化合物名：（ブタン二酸ポリマー（４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチル　ピペリジニル－イル）エタノール存在下）、約５０％、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ１１９、化合物名：Ｎ－Ｎ’－Ｎ’’－Ｎ’’’－テトラキス（４，６－ビス（ブチル－（Ｎ－メチル－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）アミノ）トリアジン－２－イル）－４，７－ジアザデカン－１，１０－ジアミン）、または、株式会社アデカ製アデカスタブＬＡシリーズ等、具体的には、ＬＡ－５２（（５）－６１１６）、ＬＡ－５７（（５）－５５５５）、ＬＡ－６２（（５）－５７１１）、ＬＡ－６７（（５）－５７５５）を挙げることができる。なお、括弧内は、既存化学物質番号である。
　低屈折率特性を付与する手法としては、硬化樹脂層中にフッ化マグネシウムなどの無機微粒子や、フルオロシルセスキオキサン、ＷＯ２００８／０７２７６６およびＷＯ２００８／０７２７６５に記載されているフルオロシルセスキオキサン重合体からなる群から選ばれる化合物や、フッ素原子を含有するアクリレート化合物などを１種以上混合させることが好ましい。
　高屈折率特性を付与する手法としては、硬化樹脂層中にジルコニア、チタニア、硫化亜鉛などの金属微粒子や、フルオレン骨格を有するアクリレート化合物およびエポキシ化合物や、硫黄原子を含有するアクリレート化合物およびエポキシ化合物などを１種以上混合させることが好ましい。
　高屈折率特性を付与された硬化樹脂層上にＩＴＯや銀ナノワイヤーに代表される透明電極材料を塗布し、エッチングによりパターニングすることによって、静電容量方式のタッチパネルに組み込まれる透明電極フィルムに使用することができる。高屈折率特性を付与された硬化樹脂層を用いることで、ＩＴＯや銀ナノワイヤーなど透明電極材料の導電パターンを見えにくくすることができる。
　また、高屈折率特性を付与された硬化樹脂層に前記低屈折率特性を有する層を積層することにより、反射防止特性を有する第１の硬化樹脂層を得ることができる。
　汚れ防止特性や低摩擦特性を付与する手法としては、硬化樹脂層中にシリコーン化合物、フッ素化合物、フルオロシルセスキオキサン、ＷＯ２００８／０７２７６６およびＷＯ２００８／０７２７６５に記載されているフルオロシルセスキオキサン重合体からなる群から選ばれる１種以上の化合物を混合させることが好ましい。
　シリコーン化合物としては、ＢＹＫ－ＵＶ３５００、ＢＹＫ－ＵＶ－３５７０（いずれも商品名：ビックケミー社製）、ＴＥＧＯ　Ｒａｄ２１００、２２００Ｎ、２２５０、２５００、２６００、２７００（何れも商品名：デグサ社製）、Ｘ－２２－２４４５、Ｘ－２２－２４５５、Ｘ－２２－２４５７、Ｘ－２２－２４５８、Ｘ－２２－２４５９、Ｘ－２２－１６０２、Ｘ－２２－１６０３、Ｘ－２２－１６１５、Ｘ－２２－１６１６、Ｘ－２２－１６１８、Ｘ－２２－１６１９、Ｘ－２２－２４０４、Ｘ－２２－２４７４、Ｘ－２２－１７４ＤＸ、Ｘ－２２－８２０１、Ｘ－２２－２４２６、Ｘ－２２－１６４Ａ、Ｘ－２２－１６４Ｃ（いずれも商品名：信越化学工業株式会社製）等を挙げることができる。
　フッ素化合物としては、ダイキン工業株式会社製のオプツールＤＡＣ、オプツールＤＡＣ－ＨＰ、Ｒ－１１１０、Ｒ－１２１０、Ｒ－１２４０、Ｒ－１６２０、Ｒ－１８２０、Ｒ－２０２０、Ｒ－５２１０、Ｒ－５４１０、Ｒ－５６１０、Ｒ－５８１０、Ｒ－７２１０、Ｒ－７３１０、メガファックＲＳ－７５、メガファックＲＳ－７２－Ｋ、メガファックＲＳ－７６－Ｅ、メガファックＲＳ－７６－ＮＳ、メガファックＲＳ－７７、メガファックＲＳ－９０３－３、メガファックＲＳ－９１４－２、メガファックＲＳ－７６１－３（いずれも商品名）等を挙げることができる。
　ガスバリア特性を付与する手法としては、硬化樹脂層中にグラフェンに代表される層状クレイやシリカ、アルミナ、多孔質ガラスなどの無機成分を１以上混合させることが好ましい。
　耐傷つき性を付与する手法としては、本願のコーティング剤用樹脂組成物を硬化して得られる硬化膜の表面硬度および耐傷つき性を向上させるために無機微粒子を添加してもよい。具体的な無機微粒子の例として、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、ルチル型酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、フッ化マグネシウム、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化銅、酸化アンチモン、氷晶石、蛍石）、燐灰石、方解石、石膏およびタルクを例示できる。用いられる無機酸化物の量は、本願の樹脂組成物中の硬化性樹脂（ｂ）に対して、６０ｗｔ％未満が好ましい。６０ｗｔ％未満であれば、基材に対する良好な密着性を維持することができる。
　また、無機微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ～２μｍが好ましく、塗膜の透明性を考慮すると、５ｎｍ～５００ｎｍが好ましく、より好ましくは、５ｎｍ～５０ｎｍである。５ｎｍ以上であると、硬化膜の表面硬度および耐傷つき性を向上させることができ、２μｍ以下であると、硬化膜の透明性に悪影響を及ぼさない。なお、無機微粒子の平均粒子径は、日機装（株）ＭＩＣＲＯＴＲＡＣ　ＵＰＡを使用し、動的光散乱法にて測定する。
　そのほかに必要に応じて、活性エネルギー線増感剤、重合禁止剤、ワックス、可塑剤、レベリング剤、界面活性剤、分散剤、消泡剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤、硬化助剤等の各種添加剤を混合させることができる。
　活性エネルギー線硬化性樹脂または熱硬化性樹脂に熱可塑性樹脂などを混合させて用いると、その樹脂本来の特性（力学物性、表面・界面特性、相溶性など）を改質することができる。
　熱可塑性樹脂の例には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、アクリロニトリル－スチレン樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン樹脂、ポリ（メタ）アクリレート樹脂、超高分子量ポリエチレン、ポリ－４－メチルペンテン、シンジオタクチックポリスチレン、ポリアミド（ナイロン６：デュポン社商品名、ナイロン６，６：デュポン社商品名、ナイロン６，１０：デュポン社商品名、ナイロン６，Ｔ：デュポン社商品名、ナイロンＭＸＤ６：デュポン社商品名など）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン２，６－ナフタレンジカルボキシラート、など）、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリフェニレンオキサイド、フッ素樹脂（ポリテトラフロロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、など）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアリラート（Ｕポリマー：ユニチカ（株）商品名、ベクトラ：ポリプラスチックス（株）商品名、など）、ポリイミド（カプトン：東レ（株）商品名、ＡＵＲＵＭ：三井化学（株）商品名、など）、ポリエーテルイミドおよびポリアミドイミドなどが含まれる。
［成形体］
　本発明の第３の実施の形態に係る成形体について説明する。成形体は、上記第２の実施の形態に係るコーティング剤用樹脂組成物を硬化させて得られた硬化物と、その硬化物に覆われた基材とを備える。よって、基材表面のハードコーティングが可能となり、基材表面の耐傷付き性を著しく向上させることができ、基材表面をキズや汚れから守ることができる。
・コーティング
　本願のコーティング剤用樹脂組成物のコーティングには、組成物を均一にコーティングするウェットコーティング法を用いることが好ましい。ウェットコーティング法としては、グラビアコート法やダイコート法等を用いることができる。なお、コーティング剤用樹脂組成物は、コーティングに適した状態であることが好ましく、溶媒を含まず、または溶媒との混合物であってもよい。
　グラビアコート法は、表面に凸凹の彫刻加工が施されたグラビアロールを塗布液に浸し、グラビアロール表面の凸部に付着した塗布液をドクターブレードで掻き落とし凹部に液を貯めることで正確に計量し、基材に転移させる方式である。グラビアコート法により、低粘度の液を薄くコーティングすることができる。
　ダイコート法は、ダイと呼ばれる塗布用ヘッドから液を加圧して押出しながらコーティングする方式である。ダイコート法により、高精度なコーティングが可能となる。さらに、塗布時に液が外気にさらされないため、乾きによる塗布液の濃度変化などが起こりにくい。
　その他のウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、リバースコート法、ロールコート法、スリットコート法、ディッピング法、スプレーコート法、キスコート法、リバースキスコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロッドコート法などを挙げることができる。コーティングの方法は、これらの方法から必要とする膜厚に応じて適宜選択することができる。
・基材
　基材には、透明性を有する各種のプラスチックやガラスを用いることができる。透明性を有するプラスチックの材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリウレタン樹脂等の樹脂が挙げられる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン等が好ましい。シクロオレフィン系樹脂はゼオノア（登録商標）、ゼオネックス（登録商標）：日本ゼオン製、アートン（登録商標）：ＪＳＲ製、アペル（登録商標）：三井化学製、トパス（登録商標）：ポリプラスチックス製が好ましい。なお、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートは、機械的強度、寸法安定性、耐熱性、耐薬品性、光学特性等、およびフィルム表面の平滑性やハンドリング性に優れているためより好ましい。ポリカーボネートは、透明性、耐衝撃性、耐熱性、寸法安定性、燃焼性に優れているためより好ましい。価格・入手の容易さをも考慮すると、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。透明性を有するガラスの材料としては、ＬＣＤディスプレイやタッチパネルなどに使用される寸法安定性、光学特性に優れるガラスであれば制限されない。たとえばソーダ石灰ガラス、無アルカリガラス、アルカリバリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルカリホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウ酸塩ガラス、シリカガラス、鉛ガラス等が挙げられる。
　基材は、上記材料から造られた、光学用保護フィルムで用いる基材フィルムであってもよく、ＰＣ、携帯端末、カーナビゲーション、液晶ディスプレイ等の電子機器の表示部やタッチパネル部で用いられる基材であってもよく、カメラ、メガネ、ゴーグル等のレンズであってもよい。
　また、コーティングされる基材は、透明でなくてもよく、電子機器、電気機器、ＩＴ関連機器などの筐体であってもよい。このように、基材は、透明、不透明に関わらず、ハードコーティングを必要とするものであればよい。
・厚み
　基材の厚みは特に制限するものではなく、上記に例示された物品により異なるものである。例えば、光学用保護フィルムの場合は、基材の厚みは好ましくは５０～３００μｍであり、より好ましくは８０～２００μｍである。基材の厚みが５０μｍ以上であると基材の機械的強度が充分となり、基材上にコーティングを形成することが可能になる。また、厚みが３００μｍ以下であると、光学用保護フィルムの厚みが厚くなりすぎず、当該フィルムを用いた製品（例えば後述の画像表示装置）がコンパクトである。
　基材表面に製膜されたコーティング剤用樹脂組成物の硬化物の厚みも特に制限するものではなく、上記に例示された物品より適宜変更することができる。
・ヘイズ値
　コーティング剤用樹脂組成物を硬化させて得られた硬化物を、画像表示装置の画像パネル表面等に使用する場合は、基材と硬化物を備える成形体（例えば光学用保護フィルム）のヘイズ値と、基材のみのヘイズ値との差が１％以下であることが好ましい。すなわち、下記式（５）の関係となる。１％以下であると、硬化物の存在を全く意識することなく、画像パネルの表示を認識することができる。
　　　｜成形体のヘイズ値－基材のヘイズ値｜≦１％　　　　　（５）
　なお、ヘイズとは、フィルムの透明性に関する指標で、濁度（曇度）を表す。下記式（６）を用いて、拡散透過光の全光線透過光に対する割合から求めることができる。（Ｔｄ：拡散透過率　Ｔｔ：全光線透過率）
　　　ヘイズ（％）＝Ｔｄ／Ｔｔ×１００　　　　　（６）
［画像表示装置］
　本発明の第３の実施の形態に係る画像表示装置について説明する。画像表示装置は、図１に示すように、第２の実施の形態に係る成形体（例えば光学用保護フィルム１１）と、機械的処理により映し出された像を表示する画像パネル１２とを備える。画像パネル１２には、例えば、ＣＲＴ、ＰＤＰまたはＬＣＤ等のフラットパネルディスプレイを挙げることができる。図１に示すように、画像パネル１２上に、光学用保護フィルム１１の備える基材が下側になるように、光学用保護フィルム１１が載置される。
［合成例１］
＜４官能アクリル変性ケイ素化合物Ａの合成例＞
　両末端ヒドロキシル変性ケイ素化合物（商品名：サイラプレーンＦＭ４４０１、水酸基当量：１７３ｇ／ｍｏｌ、ＪＮＣ（株）製）５０ｇに、１，１’－（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアナート（商品名：カレンズＢＥＩ、昭和電工（株）製）８５．１ｇを添加し、窒素雰囲気下４５℃まで加熱する。ジラウリン酸ジブチルスズ（東京化成（株）製）０．０９ｇをメチルエチルケトン（和光純薬（株）製）１．０ｇに溶かした溶液を滴下し、４５℃～５０℃で２時間攪拌する。さらに、ジラウリン酸ジブチルスズ（東京化成（株）製）０．０５ｇをメチルエチルケトン（和光純薬（株）製）０．５ｇに溶かした溶液を添加し同温度で２時間攪拌する。その後、反応液を氷冷しメタノール（１７．０ｇ）を滴下する。同温度で３０分攪拌し、４官能アクリル変性ケイ素化合物Ａのメタノール溶液（１５３．３ｇ、固形分濃度７９ｗｔ％）を得る。ケイ素化合物Ａを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
［合成例２］
＜両末端ヒドロキシル変性ケイ素化合物Ｂの合成例＞
　両末端ジメチルシリルポリジメチルシロキサン（商品名：サイラプレーンＦＭ１１０５、重量平均分子量約５００、ＪＮＣ（株）製）２５０ｇに、２－アリロキシエタノール（シグマ－アルドリッチ（株）製）８１．６ｇを添加し、窒素雰囲気下７０度に加熱する。白金触媒キシレン溶液（商品名：ＰＴ－ＶＴＳＣ－３．０Ｘ、ユミコアジャパン（株）製、Ｐｔ含有量３ｗｔ％）４μｌを滴下する。両末端ジメチルシリルポリジメチルシロキサン（商品名：サイラプレーンＦＭ１１０５、重量平均分子量約５００、ＪＮＣ（株）製）８０．１ｇを反応系内が１００℃を超えないように滴下する。８０度で１時間攪拌した後に室温まで冷却する。その後未反応の２－アリロキシエタノールを減圧下留去し、両末端ヒドロキシル変性ケイ素化合物Ｂ１３０．４ｇ（収率９３％）を得る。ケイ素化合物Ｂを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
［合成例３］
＜４官能アクリル変性ケイ素化合物Ｃの合成例＞
　両末端ヒドロキシル変性ケイ素化合物Ｂ（６０．６ｇ）に、１，１’－（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアナート（商品名：カレンズＢＥＩ、昭和電工（株）製）６９．７ｇを添加し、窒素雰囲気下４５℃まで加熱する。ジラウリン酸ジブチルスズ（東京化成（株）製）０．０７８ｇをメチルエチルケトン（和光純薬（株）製）０．５３ｇに溶かした溶液を滴下し、４５℃～５０℃で２時間攪拌する。さらに、ジラウリン酸ジブチルスズ（東京化成（株）製）０．０４１ｇをメチルエチルケトン（和光純薬（株）製）０．５２ｇに溶かした溶液を添加し、同温度で２時間攪拌する。その後、反応液を氷冷し、メタノール（１４．０ｇ）を滴下する。同温度で３０分攪拌し、４官能アクリル変性ケイ素化合物Ｃのメタノール溶液（１４５．５ｇ、固形分濃度８１．６ｗｔ％）を得る。ケイ素化合物Ｃを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
［合成例４］
＜４官能アクリル変性ケイ素化合物Ｄの合成例＞
　両末端ヒドロキシル変性ケイ素化合物（商品名：サイラプレーンＦＭ４４１１、水酸基当量：５６４ｇ／ｍｏｌ、ＪＮＣ（株）製）９．５ｇに、１，１’－（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアナート（商品名：カレンズＢＥＩ、昭和電工（株）製）４．８５ｇおよびメチルエチルケトン（和光純薬（株）製）８．０ｇを添加し、窒素雰囲気下４５℃まで加熱する。ジラウリン酸ジブチルスズ（東京化成（株）製）０．００６ｇをメチルエチルケトン（和光純薬（株）製）１．０３ｇに溶かした溶液を滴下し、４５℃～５０℃で２時間攪拌する。さらに、ジラウリン酸ジブチルスズ（東京化成（株）製）０．００３ｇをメチルエチルケトン（和光純薬（株）製）０．５１ｇに溶かした溶液を添加し、同温度で２時間攪拌する。その後、反応液を氷冷し、メタノール（０．９５ｇ）を滴下する。同温度で３０分攪拌し、４官能アクリル変性ケイ素化合物Ｄのメチルエチルケトン溶液（２４．８ｇ、固形分濃度５５ｗｔ％）を得る。ケイ素化合物Ｄを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
［合成例５］
＜両末端ジヒドロキシル変性ケイ素化合物Ｅの合成例＞
　両末端ジメチルシリルポリジメチルシロキサン（商品名：サイラプレーンＦＭ１１０５、重量平均分子量約５００、ＪＮＣ（株）製）２０．０ｇにトリメチロールプロパンアリルエーテル（シグマ－アルドリッチ（株）製）１３９．５ｇを添加し、窒素雰囲気下オイルバスを用いて、７０℃まで加熱する。さらに、白金触媒キシレン溶液（商品名：ＰＴ－ＶＴＳＣ－３．０Ｘ、ユミコアジャパン（株）製、Ｐｔ含有量３ｗｔ％）４μｌを添加する。両末端ジメチルシリルポリジメチルシロキサン（商品名：サイラプレーンＦＭ１１０５、ＪＮＣ（株）製）８０．１ｇを反応系内が１００℃を超えないように滴下する。滴下後１時間攪拌し、さらに白金触媒キシレン溶液（４μｌ）を添加し、１時間攪拌した後に室温まで冷却し、目的物を得る。その後、未反応のトリメチロールプロパンアリルエーテルをキャピラリー蒸留（１８ｍｍＨｇ、１３０℃）にて留去し、両末端ジヒドロキシル変性ケイ素化合物Ｅ１６２．５ｇ（収率９６％）を得る。ケイ素化合物Ｅを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
［合成例６］
＜４官能アクリル変性ケイ素化合物Ｆの合成例＞
　合成例５で合成した両末端ジヒドロキシル変性ケイ素化合物Ｅ（１００ｇ）に、ジラウリン酸ジブチルスズ（東京化成（株）製）０．１５ｇをメチルエチルケトン（和光純薬（株）製）１．５４ｇに溶かした溶液を添加し、窒素雰囲気下オイルバスを用いて、４０℃まで加熱する。イソシアナート（カレンズＡＯＩ、昭和電工（株）製）８１．２ｇを反応系内が５０℃を超えないように滴下する。滴下後４０度～５０℃にて２時間攪拌し、さらにジラウリン酸ジブチルスズ（東京化成（株）製）０．０７６ｇをメチルエチルケトン（和光純薬（株）製）０．８１ｇに溶かした溶液を滴下し、さらに４０℃～５０℃で２時間攪拌する。その後反応液を氷冷し、メタノール（２７．６ｇ）を滴下する。同温度で３０分攪拌し、４官能アクリル変性ケイ素化合物Ｆのメタノール溶液（２１１ｇ、固形分濃度７９ｗｔ％）を得る。ケイ素化合物Ｆを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
［合成例７］
＜両末端ジヒドロキシル変性ケイ素化合物Ｇの合成例＞
　１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン２０ｇにトリメチロールプロパンアリルエーテル（シグマ－アルドリッチ（株）製）５１９ｇを添加し、窒素雰囲気下オイルバスを用いて、７０℃まで加熱する。さらに、白金触媒キシレン溶液（商品名：ＰＴ－ＶＴＳＣ－３．０Ｘ、ユミコアジャパン（株）製、Ｐｔ含有量３ｗｔ％）４μｌを添加する。１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン８０ｇを反応系内が１００℃を超えないように滴下する。滴下後１時間攪拌し、さらに白金触媒キシレン溶液（４μｌ）を添加し、１時間攪拌した後に室温まで冷却し、目的物を得る。その後、未反応のトリメチロールプロパンアリルエーテルをキャピラリー蒸留（１８ｍｍＨｇ、１３０℃）にて留去し、両末端ジヒドロキシル変性ケイ素化合物Ｇ３５９ｇを得る。ケイ素化合物Ｇを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
［合成例８］
＜４官能アクリル変性ケイ素化合物Ｈの合成例＞
　合成例７で合成した両末端ジヒドロキシル変性ケイ素化合物Ｇ（１００ｇ）に、ジラウリン酸ジブチルスズ（東京化成（株）製）０．２６ｇをメチルエチルケトン（和光純薬（株）製）２．６ｇに溶かした溶液を添加し、窒素雰囲気下オイルバスを用いて、４０℃まで加熱する。イソシアナート（カレンズＡＯＩ、昭和電工（株）製）１４０．３ｇを反応系内が５０℃を超えないように滴下する。滴下後４０度～５０℃にて２時間攪拌し、さらにジラウリン酸ジブチルスズ（東京化成（株）製）０．１３ｇをメチルエチルケトン（和光純薬（株）製）１．３ｇに溶かした溶液を滴下し、さらに４０℃～５０℃で２時間攪拌する。その後反応液を氷冷し、メタノール（４７．７ｇ）を滴下する。同温度で３０分攪拌し、４官能アクリル変性ケイ素化合物Ｈのメタノール溶液（２９２ｇ、固形分濃度７４ｗｔ％）を得る。ケイ素化合物Ｈを以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
［調製例１］
＜コーティング液１の調製＞
　特許第５３７５１００号公報に記載の方法により、固形分濃度４０ｗｔ％のコーティング液を調製しこれをコーティング液１とした。コーティング液１は、固形分濃度が４０ｗｔ％であり、固形分中の組成は、多官能ウレタンアクリレート７６ｗｔ％、無機フィラー１９ｗｔ％、ＵＶ硬化剤５ｗｔ％であった。さらに、コーティング液１中に０．２ｗｔ％の防汚添加剤（in liquid）と希釈溶剤としてのＰＧＭ／ＩＰＡを含む。
［調製例２］
＜コーティング液２の調製＞
　調製例１と同様の方法にて調製したコーティング液１（固型分濃度４０ｗｔ％）４５０．０ｇに４官能アクリル変性ケイ素化合物Ａのメタノール溶液（固形分濃度７９ｗｔ％）２５．３ｇを添加し、固形分中に４官能アクリル変性ケイ素化合物Ａが１０ｗｔ％になるようにした。さらにイルガキュア１２７（ＢＡＳＦ（株）製）１．０ｇ、メチルイソブチルケトン（和光純薬（株）製）２４．７ｇを添加し、固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにした。攪拌・混合して透明な溶液になったのを確認し、コーティング液２とした。
＜コーティング液３の調製＞
　調製例１と同様の方法にて調製したコーティング液１（固型分濃度４０ｗｔ％）４５０．０ｇに４官能アクリル変性ケイ素化合物Ｃのメタノール溶液（固形分濃度８１．６ｗｔ％）２４．５ｇを添加し、固形分中に４官能アクリル変性ケイ素化合物Ｃが１０ｗｔ％になるようにした。さらにイルガキュア１２７（ＢＡＳＦ（株）製）１．０ｇ、メチルイソブチルケトン（和光純薬（株）製）２５．５ｇを添加し、固形分濃度が４０ｗｔ％になるようにした。攪拌・混合して透明な溶液になったのを確認し、コーティング液３とした。
［実施例１］
＜硬化樹脂層１の形成＞
　基材としてポリカーボネート（製品名：ユーピロンＮＦ２０００ＶＵ、サイズ：１．５×７０×１５０ｍｍ、三菱ガス化学（株）製）を用いた。調製例２で調製したコーティング液２を用いて、ポリカーボネート基材へディップコートした。初めにポリカーボネート基材をコーティング液２へ垂直に沈め、１分間浸漬させた後に引き上げ、速度１ｍｍ／ｓｅｃでポリカーボネート基材を垂直に引き上げ、乾燥膜厚が５μｍになるようにし、８０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀灯を用いて両面をそれぞれ１０００ｍＪ／ｃｍ２の光照射条件で塗膜を光硬化させ、硬化樹脂層１を形成した。
［比較例１］
＜硬化樹脂層２の形成＞
　実施例１で用いた方法と同様の方法で硬化樹脂層２を形成した。
　コーティング液２の代わりに調製例１で調製したコーティング液１を用いた事以外は実施例１と同様の方法にて硬化樹脂層２を形成した。
［実施例２］
＜硬化樹脂層３の形成＞
　実施例１で用いた方法と同様の方法で硬化樹脂層３を形成した。
　コーティング液２の代わりに調製例３で調製したコーティング液３を用いた事以外は実施例１と同様の方法にて硬化樹脂層３を形成した。
＜皮膜の試験＞
（１）全光線透過率
　硬化樹脂層をヘイズメーター（ＮＤＨ５０００、日本電色工業（株）製）を用いて測定した。ＪＩＳ－Ｋ－７３６１の規格に準拠し実施した。
（２）ヘイズ
　硬化樹脂層をヘイズメーター（ＮＤＨ５０００、日本電色工業（株）製）を用いて測定した。ＪＩＳ　Ｋ　７１３６の規格に準拠し実施した。
（３）鉛筆硬度
　硬化樹脂層をＪＩＳ　Ｋ　５６００に準拠し、測定を行なった。
（４）基材密着性試験
　塗膜に１ｍｍ間隔で縦横それぞれ１１本の切れ目を付け、１００個のマス目を作り、市販のセロハンテープ（セロテープ（登録商標）、ＣＴ２４、ニチバン（株）製）をよく密着させ、９０度手前方向に急激に剥がした際の、皮膜が剥離せずに残存した碁盤目の個数を表した。なお、この方法はＪＩＳ　Ｋ５４００に準拠している。
（５）接触角および表面自由エネルギー（ＳＦＥ）測定
　プローブ液体として、蒸留水（窒素・りん測定用、関東化学（株）製）、およびリン酸トリクレジル（９９％（ＧＣ）、東京化成工業（株）製）を用いて接触角を測定し、かつＫａｅｌｂｌｅ－Ｕｙの理論に従って表面自由エネルギーを算出した。
（６）スチールウール耐磨耗性試験
　（株）井元製作所製耐磨耗試験機「ＩＭＣ－１５５７型」を使用した。測定条件は垂直荷重１ｋｇ、往復速度３０回／分、往復距離１００ｍｍ、往復回数１０００回、５０００回、１００００回、磨耗布取付部形状は直径１０ｍｍ。磨耗布としてスチールウール（＃００００）を使用した。１０００回、５０００回、１００００回往復後の皮膜の磨耗痕の深さを測定した。ケーエルエーテンコール（株）製の接触式段差計「Ａｌｐｈａ－ｓｔｅｐ－ＩＱ」を用いて、磨耗布接触部分と未接触部分の差を磨耗痕深さとして測定した。
　上記（１）～（６）の結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
　実施例１～実施例２（４官能アクリル変性ケイ素化合物を加えたコーティング液）と比較例１（４官能アクリル変性ケイ素化合物を加えていないコーティング液）を比較すると、４官能アクリル変性ケイ素化合物の添加は、全光線透過率、ヘイズ、基材密着性、ＳＦＥにはほとんど影響していないことがわかる。一方で、鉛筆硬度が若干軟らかくなっているものの、スチールウール耐擦傷性試験での磨耗痕深さは極めて浅く、耐傷付き性が著しく向上しているのがわかる。また磨耗痕の形状を観察したところ、実施例の磨耗痕は薄く均一に削れている（図２（ａ））のに対し、比較例の磨耗痕は鋭角に削れていることが観察された（図２（ｂ））。
　本明細書中で引用する刊行物、特許出願および特許を含むすべての文献を、各文献を個々に具体的に示し、参照して組み込むのと、また、その内容のすべてをここで述べるのと同じ限度で、ここで参照して組み込む。
　本発明の説明に関連して（特に以下の請求項に関連して）用いられる名詞および同様な指示語の使用は、本明細書中で特に指摘したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、単数および複数の両方に及ぶものと解釈される。語句「備える」、「有する」、「含む」および「包含する」は、特に断りのない限り、オープンエンドターム（すなわち「～を含むが限定しない」という意味）として解釈される。本明細書中の数値範囲の具陳は、本明細書中で特に指摘しない限り、単にその範囲内に該当する各値を個々に言及するための略記法としての役割を果たすことだけを意図しており、各値は、本明細書中で個々に列挙されたかのように、明細書に組み込まれる。本明細書中で説明されるすべての方法は、本明細書中で特に指摘したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、あらゆる適切な順番で行うことができる。本明細書中で使用するあらゆる例または例示的な言い回し（例えば「など」）は、特に主張しない限り、単に本発明をよりよく説明することだけを意図し、本発明の範囲に対する制限を設けるものではない。明細書中のいかなる言い回しも、本発明の実施に不可欠である、請求項に記載されていない要素を示すものとは解釈されないものとする。
　本明細書中では、本発明を実施するため本発明者が知っている最良の形態を含め、本発明の好ましい実施の形態について説明している。当業者にとっては、上記説明を読んだ上で、これらの好ましい実施の形態の変形が明らかとなろう。本発明者は、熟練者が適宜このような変形を適用することを予測しており、本明細書中で具体的に説明される以外の方法で本発明が実施されることを予定している。従って本発明は、準拠法で許されているように、本明細書に添付された請求項に記載の内容の変更および均等物をすべて含む。さらに、本明細書中で特に指摘したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、すべての変形における上記要素のいずれの組み合わせも本発明に包含される。
１０　画像表示装置
１１　光学用保護フィルム
１２　画像パネル

Claims (6)

  1. 　下記式（Ｉ）で示されるケイ素化合物（ａ）であって、
    　Ｒ１が炭素数３もしくは４のアルキレンであり、
    　Ｘが、下記式（ＩＩ）～（ＩＩＩ）からなる群から選択された一の基であり、
    　ｎが０もしくは１の整数であり、
    　Ｙが、下記式（ＩＶ）～（ＶＩ）からなる群から選択された、（メタ）アクリレート基を有する一の基であり、
    　Ｒ２が、水素またはメチル基である、
    　ケイ素化合物。
     
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
  2. 　請求項１に記載のケイ素化合物と；
    　硬化性樹脂（ｂ）とを含有する；
    　コーティング剤用樹脂組成物。
  3. 　前記硬化性樹脂（ｂ）が、（メタ）アクリロイル基を少なくとも一つ有する紫外線硬化性樹脂である、
    　請求項２に記載のコーティング剤用樹脂組成物。
  4. 　成形体であって、
    　請求項２または請求項３に記載のコーティング剤用樹脂組成物を硬化させた硬化物と；
    　前記硬化物に覆われた基材とを備える；
    　成形体。
  5. 　前記成形体と前記基材とのヘイズ値の差が１％以下である、
    　請求項４に記載の成形体。
  6. 　請求項５に記載の成型体と；
    　前記成形体を画面上に設置した画像パネルとを備える；
    　画像表示装置。
     
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