WO2015129889A1 - 位相差材形成用樹脂組成物、配向材および位相差材 - Google Patents

位相差材形成用樹脂組成物、配向材および位相差材 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a resin composition for forming a retardation material, an alignment material, and a retardation material.
  • a right-eye image is visually recognized by an observer's right eye
  • a left-eye image is visually recognized by an observer's left eye, whereby a stereoscopic image can be displayed.
  • a retardation material is usually disposed on a display element such as a liquid crystal panel.
  • a retardation material a plurality of two kinds of retardation regions having different retardation characteristics are regularly arranged, and a patterned retardation material is formed.
  • a retardation material patterned so as to arrange a plurality of retardation regions having different retardation characteristics is referred to as a patterned retardation material.
  • the patterned retardation material can be produced, for example, by optically patterning a retardation material made of a polymerizable liquid crystal as disclosed in Patent Document 2.
  • Optical patterning of a retardation material made of a polymerizable liquid crystal utilizes a photo-alignment technique known for forming an alignment material for a liquid crystal panel. That is, a coating film made of a photo-alignment material is provided on a substrate, and two types of polarized light having different polarization directions are irradiated on the coating film. Then, a photo-alignment film is obtained as an alignment material in which two types of liquid crystal alignment regions having different liquid crystal alignment control directions are formed.
  • a solution-like retardation material containing a polymerizable liquid crystal is applied on the photo-alignment film to realize the alignment of the polymerizable liquid crystal. Thereafter, the aligned polymerizable liquid crystal is cured to form a patterned retardation material.
  • acrylic resins and polyimide resins having photodimerization sites such as cinnamoyl groups and chalcone groups in the side chain are known as usable photo-alignment materials.
  • These resins have been reported to exhibit the ability to control the alignment of liquid crystals (hereinafter also referred to as liquid crystal alignment) by irradiation with polarized UV light (see Patent Documents 3 to 5).
  • such an acrylic resin having a photodimerization site such as a cinnamoyl group or a chalcone group in the side chain may not have sufficient characteristics when applied to the formation of a retardation material.
  • a large amount of polarized UV exposure is required. .
  • the polarized UV exposure amount is much larger than the polarized UV exposure amount (for example, about 30 mJ / cm 2 ) sufficient to align the liquid crystal for a normal liquid crystal panel.
  • the reason for increasing the amount of polarized UV exposure is that, in the case of retardation material formation, unlike liquid crystals for liquid crystal panels, polymerizable liquid crystals are used in the state of solution and applied onto the alignment material. Yes.
  • an alignment material is formed using an acrylic resin having a photodimerization site such as a cinnamoyl group in the side chain, and the polymerizable liquid crystal is to be aligned, the acrylic resin is subjected to photocrosslinking by a photodimerization reaction. . And it is necessary to irradiate polarized light with a large exposure amount until resistance to the polymerizable liquid crystal solution is developed. In order to align the liquid crystal of the liquid crystal panel, it is usually only necessary to dimerize only the surface of the photo-alignment alignment material.
  • an object of the present invention is to provide a resin composition for forming a retardation material for providing an alignment material having excellent photoreaction efficiency and capable of aligning a polymerizable liquid crystal with high sensitivity.
  • Another object of the present invention is to form the retardation material forming resin composition, which has excellent photoreaction efficiency and has solvent resistance and adhesion durability, and is a highly sensitive and polymerizable liquid crystal. It is to provide an alignment material capable of orienting and a retardation material formed using the alignment material.
  • the present invention relates to a resin composition for forming a phase difference material.
  • the said photo-alignment group is an organic group containing the structure represented by following formula (1). (In the formula, R represents a hydroxy group or an amino group, and X 1 represents a phenylene group which may be substituted with an arbitrary substituent.)
  • resin of the said (A) component is an acrylic copolymer.
  • the resin of the component (A) further has a self-crosslinkable group, or is represented by a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and the following formula (2).
  • a self-crosslinkable group or is represented by a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and the following formula (2).
  • At least one group A selected from the group consisting of the above groups [provided that when the terminal part of the photoalignable group in the resin is a carboxyl group or an amide group, the terminal part is also included in the group A.
  • the resin of the component (A) is at least selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and a group represented by the following formula (2).
  • One group A [However, when the terminal part of the photoalignable group in the resin is a carboxyl group or an amide group, the terminal part is also included in the group A. It is preferable that the composition further contains a crosslinking agent (B) that reacts with the at least one group A.
  • R 5 represents an alkyl group, an alkoxy group or a phenyl group.
  • the resin of the component (A) is at least selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and a group represented by the following formula (2).
  • One group A [However, when the terminal part of the photoalignable group in the resin is a carboxyl group or an amide group, the terminal part is also included in the group A. It is preferable to further have a group that reacts with the at least one group A.
  • R 5 represents an alkyl group, an alkoxy group or a phenyl group.
  • at least a group A selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and a group represented by the above formula (2) is used as the component (C). It is preferable to further contain a compound having two. 1st aspect of this invention WHEREIN: It is preferable to further contain a crosslinking catalyst as (D) component.
  • the component (E) one or more polymerizable groups, a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and a group represented by the above formula (2) It is preferable to further contain a compound having at least one group A selected from the group or one or more groups that react with the at least one group A.
  • the component (F) further contains a monomer having a photo-alignable group in which a thermally reactive site is directly bonded or connected via a linking group and one or more polymerizable groups. Is preferred.
  • the second aspect of the present invention relates to an alignment material characterized by being obtained using the phase difference material forming resin composition of the first aspect of the present invention.
  • the third aspect of the present invention relates to a retardation material characterized by being formed using a cured film obtained from the phase difference material forming resin composition of the first aspect of the present invention.
  • thermosetting film-forming composition comprising a resin [(A) component] having a photo-alignable group in which a thermoreactive site is directly bonded or connected via a linking group.
  • a resin [(A) component] having a photo-alignable group in which a thermoreactive site is directly bonded or connected via a linking group.
  • the said photo-alignment group is an organic group containing the structure represented by following formula (1). (In the formula, R represents a hydroxy group or an amino group, and X 1 represents a phenylene group which may be substituted with an arbitrary substituent.)
  • resin of the said (A) component is an acrylic copolymer.
  • the resin of the component (A) further has a self-crosslinkable group, or is represented by a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and the following formula (2).
  • a self-crosslinkable group or is represented by a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and the following formula (2).
  • At least one group A selected from the group consisting of the above groups [provided that when the terminal part of the photoalignable group in the resin is a carboxyl group or an amide group, the terminal part is also included in the group A.
  • the resin of the component (A) is at least selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and a group represented by the following formula (2).
  • One group A [However, when the terminal part of the photoalignable group in the resin is a carboxyl group or an amide group, the terminal part is also included in the group A. It is preferable that the composition further contains a crosslinking agent (B) that reacts with the at least one group A.
  • R 5 represents an alkyl group, an alkoxy group or a phenyl group.
  • the resin of the component (A) is at least selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and a group represented by the following formula (2).
  • One group A [However, when the terminal part of the photoalignable group in the resin is a carboxyl group or an amide group, the terminal part is also included in the group A. It is preferable to further have a group that reacts with the at least one group A.
  • R 5 represents an alkyl group, an alkoxy group or a phenyl group.
  • at least a group A selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and a group represented by the above formula (2) is used as the component (C). It is preferable to further contain a compound having two.
  • the fifth aspect of the present invention relates to a cured film obtained by using the thermosetting film forming composition of the fourth aspect of the present invention.
  • an alignment material that has excellent adhesion, alignment sensitivity, pattern formation, and adhesion durability and can align a polymerizable liquid crystal with high sensitivity even on a resin film is formed.
  • a resin composition for forming a retardation material can be provided.
  • the second aspect of the present invention it is possible to provide an alignment material that has excellent adhesion, alignment sensitivity, pattern formation and adhesion durability, and can align the polymerizable liquid crystal with high sensitivity.
  • the third aspect of the present invention it is possible to provide a retardation material that can be formed on a resin film with high efficiency and can be subjected to optical patterning.
  • thermosetting film formation composition which can form the cured film which has the liquid crystal aligning ability (photo-alignment property) by light irradiation. Can be provided.
  • the fifth aspect of the present invention it is possible to provide a cured film having liquid crystal alignment ability (photo-alignment) by light irradiation in addition to high transparency, high solvent resistance, and high heat resistance.
  • the resin composition for forming a retardation material of the present invention is for forming a thermosetting film having photo-alignment property, and contains a component having a photo-orientation site and a site for thermal crosslinking. It is.
  • the photo-alignment group is a specific photo-alignment group, that is, a photo-alignment group in which the thermally reactive site is connected through a direct bond or a linking group.
  • the specific photo-alignable group for example, when the photo-alignable group is a cinnamic acid residue, the cinnamic acid residue has a carboxyl group which is a thermally crosslinkable group as a part thereof.
  • the thermally crosslinkable group forms a part of the photoreactive group, it can be included in the specific photoalignable group in the composition of the present invention.
  • the resin composition for forming a retardation material of the present invention is a resin having a specific photo-alignment group as the component (A), that is, a photo-alignment group in which a thermally reactive site is connected through a direct bond or a linking group. And further contains a thermal crosslinking system.
  • the resin of the component (A) only needs to have a thermally reactive site in a specific photo-alignable group as a thermally reactive site.
  • the resin of the component (A) is a copolymer with a monomer having the group A
  • the component (B) contains a crosslinking agent that thermally reacts with the group A.
  • a composition is a copolymer with a monomer having the group A, and the component (B) contains a crosslinking agent that thermally reacts with the group A.
  • compositions that further includes a self-crosslinking group in the resin of the component (A) as a thermal crosslinking system.
  • the resin composition for phase difference material formation of this invention can contain a crosslinking agent as (B) component.
  • the resin composition for forming a retardation material of the present invention includes a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group and the following as a component (C):
  • part connects through
  • the resin composition for forming a retardation material of the present invention can contain other additives as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • details of each component will be described.
  • the component (A) contained in the resin composition for forming a retardation material of the present invention includes a photo-alignable group (hereinafter, simply referred to as “photo-alignable group”) in which a thermally reactive site is directly bonded or connected via a linking group. Resin).
  • the structural site that the resin of component (A) can have as a heat-reactive site includes a carboxyl group, an amide group, an N-substituted amide group, a hydroxy group, an amino group, an alkoxysilyl group, and the above formula (2). And the like. Of these, a carboxyl group or an amide group is preferred.
  • the photo-alignment group refers to a functional group at a structural site that undergoes photodimerization or photoisomerization.
  • the photo-dimerizing structural site that the resin of component (A) can have as a photo-alignable group is a site that forms a dimer by light irradiation.
  • Specific examples thereof include a cinnamoyl group, a chalcone group, and a coumarin. Group, anthracene group and the like. Of these, a cinnamoyl group is preferred because of its high transparency in the visible light region and high photodimerization reactivity.
  • the photoisomerizable structural moiety that the resin of component (A) can have as a photoalignable group refers to a structural moiety that changes into a cis isomer and a trans isomer upon irradiation with light.
  • Specific examples thereof include an azobenzene structure and stilbene.
  • Examples of the site include a structure. Of these, an azobenzene structure is preferred because of its high reactivity.
  • the thermally reactive site is connected to the photo-alignment group through a direct bond or a linking group.
  • a linking group include a linear alkylene group having 1 to 15 carbon atoms and a group having 3 to 20 carbon atoms. It is a divalent group selected from a branched alkylene group, a cyclic alkylene group having 3 to 20 carbon atoms, and a phenylene group, or a group formed by bonding a plurality of such divalent groups.
  • examples of the bond between the divalent groups constituting the linking group and the bond between the linking group and the thermally reactive site include a single bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond, and an ether bond.
  • the divalent groups may be the same or different, and when there are a plurality of the bonds, the bonds may be the same or different.
  • linear alkylene group having 1 to 15 carbon atoms examples include methylene group, ethylene group, n-propylene group, n-butylene group, n-pentylene group, n-hexylene group, n-heptylene group, and n-octylene.
  • Examples of the branched alkylene group having 3 to 20 carbon atoms include i-propylene group, i-butylene group, s-butylene group, t-butylene group, 1-methyl-n-butylene group, 2-methyl- n-butylene group, 3-methyl-n-butylene group, 1,1-dimethyl-n-propylene group, 1,2-dimethyl-n-propylene group, 2,2-dimethyl-n-propylene group, 1-ethyl -N-propylene group, 1-methyl-n-pentylene group, 2-methyl-n-pentylene group, 3-methyl-n-pentylene group, 4-methyl-n-pentylene group, 1,1-dimethyl-n- Butylene, 1,2-dimethyl-n-butylene, 1,3-dimethyl-n-butylene, 2,2-dimethyl-n-butylene, 2,3-dimethyl-n-butylene, 3,3 -Dimethyl-n-bu
  • Examples of the cyclic alkylene group having 3 to 20 carbon atoms include a monocyclic alkylene group such as a cyclopropylene group, a cyclobutylene group, a cyclopentylene group, a cyclohexylene group, a cycloheptylene group, and a cyclooctylene group, and norbornylene. And polycyclic alkylene groups such as a tricyclodecylene group, a tetracyclododecylene group and an adamantylene group.
  • the resin of component (A) is preferably an acrylic copolymer.
  • R is hydroxy group, amino group, hydroxyphenoxy group, carboxylphenoxy group, aminophenoxy group, aminocarbonylphenoxy group, phenylamino group, hydroxyphenylamino group, carboxylphenylamino group, aminophenylamino group, hydroxyalkyl.
  • X 1 represents a phenylene group which may be substituted with any substituent, and the benzene ring in the definition of these substituents may be substituted with a substituent Good.
  • alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isobutyl group
  • Haloalkyl groups such as a trifluoromethyl group
  • Alkoxy groups such as a methoxy group and an ethoxy group
  • a halogen atom such as iodine, bromine, chlorine or fluorine
  • a cyano group such as iodine, bromine, chlorine or fluorine
  • a cyano group such as iodine, bromine, chlorine or fluorine
  • the substituent include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and an isobutyl group; a haloalkyl group such as a trifluoromethyl group; a methoxy group, Examples thereof include alkoxy groups such as ethoxy group; halogen atoms such as iodine, bromine, chlorine and fluorine; cyano group; nitro group and the like.
  • a hydroxy group and an amino group are preferable, and a hydroxy group is particularly preferable.
  • a resin in which an organic group having a structure represented by the above formula (1) is bonded to the main chain via a spacer is preferable.
  • the spacer is a divalent group selected from a linear alkylene group having 1 to 15 carbon atoms, a branched alkylene group having 3 to 20 carbon atoms, a cyclic alkylene group having 3 to 20 carbon atoms, and a phenylene group. Or a group formed by bonding a plurality of the divalent groups.
  • the bond between the divalent groups constituting the spacer, the bond between the spacer and the polymerizable group, and the bond between the spacer and the group represented by the above formula (1) include a single bond, an ester bond, and an amide. Examples include a bond, a urea bond, and an ether bond.
  • the divalent groups may be the same or different, and when there are a plurality of the bonds, the bonds may be the same or different.
  • linear alkylene group having 1 to 15 carbon atoms the linear alkylene group having 1 to 15 carbon atoms
  • the branched alkylene group having 3 to 20 carbon atoms the branched alkylene group having 3 to 20 carbon atoms
  • the cyclic alkylene group having 3 to 20 carbon atoms are described in paragraphs [0037] to [ [0039].
  • R represents a hydroxy group or an amino group
  • X 1 represents a photoalignment represented by a phenylene group which may be substituted with any substituent.
  • a resin having a group is preferred, and an acrylic copolymer having the photoalignable group is more preferred.
  • the acrylic copolymer refers to a polymer obtained by homopolymerization or copolymerization using a monomer having an unsaturated double bond such as acrylic ester, methacrylic ester or styrene.
  • the “acrylic copolymer” in the present invention corresponds to an acrylic polymer in addition to an acrylic copolymer.
  • the acrylic copolymer having a photo-alignment group (hereinafter also referred to as a specific copolymer) may be an acrylic copolymer having such a structure, and the main chain skeleton of the polymer constituting the acrylic copolymer. And the type of side chain is not particularly limited.
  • the acrylic copolymer as the component (A) preferably has a weight average molecular weight of 1,000 to 200,000, more preferably 2,000 to 150,000, and 3,000 to 100,000. More preferably it is. If the weight average molecular weight is over 200,000, the solubility in the solvent may be lowered and the handling property may be lowered. If the weight average molecular weight is less than 1,000, the heat is There may be insufficient curing during curing and solvent resistance and heat resistance may decrease.
  • the weight average molecular weight is a value obtained by using gel as a standard sample by gel permeation chromatography (GPC).
  • GPC gel permeation chromatography
  • (A) As a synthesis method of the acrylic copolymer having a photoalignable group as a component, a monomer having a photoalignable group, for example, a monomer having a photoalignable group represented by the above formula (1) is polymerized. The method is simple.
  • Examples of the monomer having a photoalignable group represented by the above formula (1) include 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) cinnamic acid, 4- (6-acryloxyhexyl-1-oxy), and the like. ) Cinnamic acid, 4- (3-methacryloxypropyl-1-oxy) cinnamic acid, 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) cinnamamide, 4- (6-acryloxyhexyl-1-oxy) Cinnamamide, 4- (3-methacryloxypropyl-1-oxy) cinnamamide, 4- (4- (3-methacryloxypropyl-1-oxy) acryloxy) benzoic acid, 4- (4- (6-methacryloxyhexyl) -1-oxy) benzoyloxy) cinnamic acid, 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) -N- (4-cyanophenyl) Cinnamamide, and 4- (such as 6-methacryloxy-hexyl-1-
  • the component (A) contained in the resin composition for forming a retardation material of the present invention further has a self-crosslinkable group in addition to the photoalignable group, or a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, At least one group A selected from the group consisting of an amino group, an alkoxysilyl group and a group represented by the following formula (2) [provided that when the terminal portion of the photoalignable group is a carboxyl group or an amide group, The terminal portion is also included in the group A.
  • the acrylic copolymer further has a group (hereinafter also referred to as a crosslinkable group) that reacts with (In the formula, R 5 represents an alkyl group, an alkoxy group or a phenyl group.)
  • examples of the alkyl group represented by R 5 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is preferable.
  • examples of such an alkyl group include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, s-butyl group, t-butyl group, and n-pentyl group.
  • examples of the alkoxy group represented by R 5 include an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms is preferable.
  • alkoxy groups include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, n-butoxy group, i-butoxy group, s-butoxy group, t-butoxy group, and n-pentoxy group.
  • a method for synthesizing an acrylic copolymer having a self-crosslinkable group in addition to a photoalignable group or having a crosslinkable group a monomer having a photoalignable group and a monomer having a self-crosslinkable group
  • a method of polymerizing with a monomer having a crosslinkable group is simple.
  • the self-crosslinkable group and the crosslinkable group examples include an alkoxymethylamide group, a hydroxymethylamide group, an alkoxysilyl group, a glycidyl group, an epoxycyclohexyl group, a vinyl group, and a blocked isocyanate group.
  • the content is 0.1 to 0.9 per one repeating unit in the resin of the component (A).
  • the number is 0.1 to 0.8 from the viewpoint of the balance between the orientation of the alignment material and the solvent resistance.
  • Examples of the monomer having a self-crosslinkable group and a crosslinkable group include N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N-ethoxymethyl (meth) acrylamide, and N-butoxymethyl (meth).
  • the component (A) contained in the resin composition for forming a retardation material of the present invention includes a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and the above formula ( 2) At least one group A selected from the group consisting of the group represented by 2) [However, when the terminal part of the photoalignable group is a carboxyl group or an amide group, the terminal part is also included in the group A. ] It is preferable that it is an acrylic copolymer which has further.
  • Examples of the group represented by the above formula (2) include the following structures.
  • the acrylic copolymer further having at least one group A selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and a group represented by the above formula (2).
  • the method for synthesizing the polymer is at least selected from the group consisting of a monomer having a photo-alignment group, a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and a group represented by the above formula (2).
  • a method of polymerizing a monomer having one group A is simple.
  • Examples of the monomer having at least one group A selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and a group represented by the above formula (2) include, for example, 2-hydroxyethyl acrylate 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 2,3-dihydroxypropyl acrylate, 2,3-dihydroxypropyl methacrylate, diethylene glycol monoacrylate Diethylene glycol monomethacrylate, caprolactone 2- (acryloyloxy) ethyl ester, caprolactone 2- (methacryloyloxy) ethyl ester, Li (ethylene glycol) ethyl ether acrylate, poly (ethylene glycol) ethyl ether methacrylate, 5-acryloyloxy-6-hydroxynor
  • the component (A) contained in the resin composition for forming a retardation material of the present invention includes a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and the above formula ( 2) At least one group A selected from the group consisting of the group represented by 2) [However, when the terminal part of the photoalignable group is a carboxyl group or an amide group, the terminal part is also included in the group A. It is preferable that it is an acrylic copolymer further having a group (crosslinkable group) that reacts with] and at least one group A.
  • At least one group A selected from the group consisting of a crosslinkable group and a hydroxy group, carboxyl group, amide group, amino group, alkoxysilyl group, and group represented by the above formula (2) As a method for synthesizing an acrylic copolymer further comprising: a monomer having a photoalignable group, a monomer having a crosslinkable group, a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and the above formula (2 The method of polymerizing a monomer having at least one group A selected from the group consisting of groups represented by The monomer is selected from the group consisting of a monomer having a photo-alignment group, a monomer having a crosslinkable group, and a group represented by the hydroxy group, carboxyl group, amide group, amino group, alkoxysilyl group, and the above formula (2).
  • the monomer having at least one group A is as
  • a monomer having a photoalignable group, a monomer having a self-crosslinkable group or a monomer having a crosslinkable group, and a hydroxy group, carboxyl group, amide group, amino group A monomer having at least one group A selected from a group, an alkoxysilyl group, and a group represented by the above formula (2) (hereinafter, photoalignable group, self-crosslinkable group, crosslinkable group, hydroxy group, carboxyl group)
  • An amide group, an amino group, an alkoxysilyl group and a group represented by the above formula (2) are also referred to as a specific functional group 1), and a monomer having no specific functional group 1 copolymerizable with these monomers Can be used in combination.
  • Such monomers include acrylic acid ester compounds, methacrylic acid ester compounds, maleimide compounds, acrylamide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds and vinyl compounds.
  • acrylic acid ester compounds methacrylic acid ester compounds
  • maleimide compounds maleimide compounds
  • acrylamide compounds acrylonitrile
  • maleic anhydride maleic anhydride
  • styrene compounds vinyl compounds.
  • acrylic ester compound examples include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, tert- Butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-methyl-2-adamantyl acrylate, 2 -Propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl acrylate And 8-ethyl-8-tricyclodecyl acrylate.
  • methacrylic acid ester compound examples include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthryl methyl methacrylate, phenyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, tert- Butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-methyl-2-adamantyl methacrylate, ⁇ -Butyrolactone methacrylate, 2-propyl- - adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclode
  • vinyl compound examples include methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, vinyl naphthalene, vinyl carbazole, allyl glycidyl ether, and 3-ethenyl-7-oxabicyclo [4.1.0] heptane.
  • styrene compound examples include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, and bromostyrene.
  • maleimide compound examples include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide.
  • the amount of each monomer used to obtain the specific copolymer is 10 to 90 mol% of the monomer having a photo-alignment group based on the total amount of all monomers, the self-crosslinkable group, the group A and the crosslinkable group. It is preferable that the monomer having a substituent selected from (also collectively referred to as a specific crosslinkable group 1. This also includes a substituent at the end of the photoalignable group) is 10 to 90 mol%. When the content of the monomer having the specific crosslinkable group 1 is less than 10 mol%, it is difficult to impart sufficient thermosetting property and it is difficult to maintain high sensitivity and good liquid crystal orientation. Moreover, when using together the monomer which does not have the specific functional group 1 when obtaining a specific copolymer, it is preferable that the usage-amount is 90 mol% or less based on the total amount of all the monomers.
  • the method for obtaining the specific copolymer used in the present invention is not particularly limited.
  • the solvent used will not be specifically limited if the monomer which has the specific functional group 1, the monomer which does not have the specific functional group 1 used depending on necessity, a polymerization initiator, etc. are dissolved. Specific examples are described in ⁇ Solvent> described later.
  • the specific copolymer obtained by the above method is usually in a solution state dissolved in a solvent.
  • the solution of the specific copolymer obtained by the above method is poured into diethyl ether or water under stirring to cause reprecipitation, and after the generated precipitate is filtered and washed, under normal pressure or reduced pressure, It can be dried at room temperature or heat to obtain a powder of the specific copolymer.
  • the polymerization initiator and unreacted monomer coexisting with the specific copolymer can be removed, and as a result, a purified powder of the specific copolymer is obtained. If sufficient purification cannot be achieved by a single operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above operation may be repeated.
  • the specific copolymer may be used in the form of a powder or in the form of a solution obtained by re-dissolving the purified powder in a solvent described later.
  • the specific copolymer of component (A) may be a mixture of a plurality of types of specific copolymers.
  • the resin composition for forming a retardation material of the present invention can contain a crosslinking agent as the component (B).
  • a crosslinking agent that reacts with at least one group A selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and a group represented by the above formula (2). Can be mentioned.
  • crosslinking agent as component (B) examples include compounds such as epoxy compounds, methylol compounds, isocyanate compounds, phenoplast compounds, compounds having two or more trialkoxysilyl groups, alkoxysilane compounds having amino groups, alkoxy groups and / or Or an organometallic compound having a chelate ligand, a polymer of N-alkoxymethylacrylamide, a polymer of a compound having an epoxy group, a polymer of a compound having an alkoxysilyl group, a polymer of a compound having an isocyanate group, and a melamine
  • examples thereof include polymers such as formaldehyde resin.
  • epoxy compound described above examples include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1, 6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, 1,3,5,6-tetraglycidyl-2,4-hexanediol, N, N, N ′, N ′,-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, and N, N, N ′, N′-tetraglycidyl 4,4'-diaminodipheny
  • methylol compound described above examples include compounds such as alkoxymethylated glycoluril, alkoxymethylated benzoguanamine, and alkoxymethylated melamine.
  • alkoxymethylated glycoluril examples include, for example, 1,3,4,6-tetrakis (methoxymethyl) glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis (butoxymethyl) glycoluril, 1,3,4 , 6-tetrakis (hydroxymethyl) glycoluril, 1,3-bis (hydroxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (butoxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (methoxymethyl) Examples include urea, 1,3-bis (hydroxymethyl) -4,5-dihydroxy-2-imidazolinone, and 1,3-bis (methoxymethyl) -4,5-dimethoxy-2-imidazolinone.
  • glycoluril compounds (trade names: Cymel (registered trademark) 1170, Powderlink (registered trademark) 1174) manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., methylated urea resins (trade name: UFR (registered trademark) 65) ), Butylated urea resin (trade names: UFR (registered trademark) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV), urea / formaldehyde resin (high-condensation type, product name: Beccamin (trade name) manufactured by DIC Corporation) Registered trademark) J-300S, P-955, N) and the like.
  • methylated urea resins (trade name: UFR (registered trademark) 65)
  • Butylated urea resin (trade names: UFR (registered trademark) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV)
  • urea / formaldehyde resin high-
  • alkoxymethylated benzoguanamine examples include, for example, tetramethoxymethylbenzoguanamine.
  • Commercially available products manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd. (trade name: Cymel (registered trademark) 1123), manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd. (trade names: Nicalac (registered trademark) BX-4000, BX-37, BL- 60, BX-55H) and the like.
  • alkoxymethylated melamine examples include, for example, hexamethoxymethylmelamine.
  • methoxymethyl type melamine compounds (trade names: Cymel (registered trademark) 300, 301, 303, 350) manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., butoxymethyl type melamine compounds (trade name: My Coat (registered trademark)) 506, 508), Sanwa Chemical's methoxymethyl-type melamine compound (trade names: Nicalak (registered trademark) MW-30, MW-22, MW-11, MS-001, MX-002, MX-730, MX-750, MX-035), butoxymethyl type melamine compounds (trade names: Nicalac (registered trademark) MX-45, MX-410, MX-302) and the like.
  • it may be a compound obtained by condensing a melamine compound, urea compound, glycoluril compound and benzoguanamine compound in which a hydrogen atom of such an amino group is substituted with a methylol group or an alkoxymethyl group.
  • a melamine compound urea compound, glycoluril compound and benzoguanamine compound in which a hydrogen atom of such an amino group is substituted with a methylol group or an alkoxymethyl group.
  • the high molecular weight compound manufactured from the melamine compound and the benzoguanamine compound which are described in US Patent 6,323,310 is mentioned.
  • Examples of commercially available products of the melamine compound include trade name: Cymel (registered trademark) 303 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.).
  • Examples of commercially available products of the benzoguanamine compound include product name: Cymel (registered trademark) 1123 ( Mitsui Cytec Co., Ltd.).
  • isocyanate compound described above examples include, for example, VESTANAT B1358 / 100, VESTAGON BF 1540 (above, isocyanurate type modified polyisocyanate, manufactured by Degussa Japan Co., Ltd.), Takenate (registered trademark) B-882N, B- 7075 (above, isocyanurate type modified polyisocyanate, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.).
  • phenoplast compound described above include the following compounds, but the phenoplast compound is not limited to the following compound examples.
  • compounds having two or more trialkoxysilyl groups include, for example, 1,4-bis (trimethoxysilyl) benzene, 1,4-bis (triethoxysilyl) benzene, 4,4′-bis (tri Methoxysilyl) biphenyl, 4,4′-bis (triethoxysilyl) biphenyl, bis (trimethoxysilyl) ethane, bis (triethoxysilyl) ethane, bis (trimethoxysilyl) methane, bis (triethoxysilyl) methane, Bis (trimethoxysilyl) ethylene, bis (triethoxysilyl) ethylene, 1,3-bis (trimethoxysilylethyl) tetramethyldisiloxane, 1,3-bis (triethoxysilylethyl) tetramethyldisiloxane, bis ( Triethoxysilylmethyl) amine, bis (trimethoxysilyl
  • alkoxysilane compound having an amino group examples include N, N′-bis [3- (trimethoxysilyl) propyl] -1,2-ethanediamine, N, N′-bis [3- (tri Ethoxysilyl) propyl] -1,2-ethanediamine, N- [3- (trimethoxysilyl) propyl] -1,2-ethanediamine, N- [3- (triethoxysilyl) propyl] -1,2- Ethanediamine, bis- ⁇ 3- (trimethoxysilyl) propyl ⁇ amine, bis- ⁇ 3- (triethoxysilyl) propyl ⁇ amine, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, trimethoxy ⁇ 3 -(Methylamino) propylsilane, 3- (N-allylamino) propyltrimethoxysilane, 3- (N-allylamin
  • organometallic compound having an alkoxy group and / or a chelate ligand include, for example, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, diisopropoxyacetylacetonate aluminum, triacetylacetonate aluminum, tetrakisisopropoxytitanium, tetrakis Compounds such as normal butoxytitanium, tetraoctyl titanate, diisopropoxybis (acetylacetonate) titanium, titanium tetraacetylacetonate, tetrakis (normalpropoxy) zirconium, tetrakis (normalbutoxy) zirconium, tetrakis (acetylacetonate) zirconium Can be mentioned.
  • examples of the polymer of N-alkoxymethylacrylamide described above include N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N-ethoxymethyl (meth) acrylamide, and N-butoxymethyl (meta).
  • Such a polymer include, for example, poly (N-butoxymethylacrylamide), a copolymer of N-butoxymethylacrylamide and styrene, a copolymer of N-hydroxymethylmethacrylamide and methylmethacrylate, N And a copolymer of ethoxymethyl methacrylamide and benzyl methacrylate, a copolymer of N-butoxymethyl acrylamide, benzyl methacrylate and 2-hydroxypropyl methacrylate.
  • the weight average molecular weight of such a polymer is 1,000 to 200,000, more preferably 3,000 to 150,000, and still more preferably 3,000 to 50,000.
  • Examples of the polymer of a compound having an epoxy group include a polymer produced using a compound having an epoxy group such as glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and the like. It is done.
  • Such a polymer include, for example, poly (3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate), poly (glycidyl methacrylate), a copolymer of glycidyl methacrylate and methyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, Examples thereof include a copolymer of methyl methacrylate, a copolymer of glycidyl methacrylate and styrene.
  • the weight average molecular weight of such a polymer is 1,000 to 200,000, more preferably 3,000 to 150,000, and still more preferably 3,000 to 50,000.
  • Examples of the polymer of a compound having an alkoxysilyl group described above include a polymer produced using a compound having an alkoxysilyl group such as 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane.
  • polystyrene examples include, for example, poly (3-methacryloxypropyltrimethoxysilane), a copolymer of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and styrene, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and methyl
  • examples thereof include a copolymer with methacrylate.
  • the weight average molecular weight of such a polymer is 1,000 to 200,000, more preferably 3,000 to 150,000, and still more preferably 3,000 to 50,000.
  • the “poly ((meth) acryloxypropyltrimethoxysilane)” means a poly (meth) acrylate having an alkoxysilyl group.
  • Examples of the polymer of the compound having an isocyanate group described above include 2-isocyanatoethyl methacrylate (Karenz MOI [registered trademark], manufactured by Showa Denko KK), 2-isocyanatoethyl acrylate (Karenz AOI [registered trademark]).
  • polymers include, for example, poly (2-isocyanatoethyl acrylate), poly (2- (0- [1′-methylpropylideneamino] carboxyamino) ethyl methacrylate), 2-isocyanatoethyl Examples thereof include a copolymer of methacrylate and styrene, a copolymer of 2-[(3,5-dimethylpyrazolyl) carbonylamino] ethyl methacrylate and methyl methacrylate, and the like.
  • the weight average molecular weight of such a polymer is 1,000 to 200,000, more preferably 3,000 to 150,000, and still more preferably 3,000 to 50,000.
  • melamine formaldehyde resin examples include resins represented by the following formula obtained by polycondensation of melamine and formaldehyde.
  • R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is a natural number representing the number of repeating units.
  • the methylol group generated during the polycondensation of melamine and formaldehyde is alkylated from the viewpoint of storage stability.
  • the method for obtaining the melamine formaldehyde resin as the component (B) is not particularly limited. Generally, melamine and formaldehyde are mixed, made weakly alkaline using sodium carbonate or ammonia, and then heated at 60 ° C to 100 ° C. Is synthesized. Further, the methylol group can be alkoxylated by reacting with alcohol.
  • the (B) component melamine formaldehyde resin preferably has a weight average molecular weight of 250 to 5,000, more preferably 300 to 4,000, and even more preferably 350 to 3,500. If the weight average molecular weight exceeds 5,000, the solubility in the solvent may decrease and handling may decrease. If the weight average molecular weight is less than 250, the curing may be insufficient during thermal curing. Therefore, the effect of improving solvent resistance and heat resistance may not be sufficiently exhibited.
  • the melamine formaldehyde resin as the component (B) may be used in a liquid form or a solution form in which a purified liquid is redissolved in a solvent described later.
  • cross-linking agents can be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the crosslinking agent as the component (B) includes the resin as the component (A), the optional components (C), (E), and (F). It is preferably 0 to 100 parts by mass, more preferably 0 to 80 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount with the components.
  • the content of the crosslinking agent is excessive, the photo-alignment property and the storage stability may be lowered.
  • the resin composition for forming a retardation material of the present invention is selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group and a group represented by the above formula (2) as the component (C).
  • a compound having at least two groups A (hereinafter also referred to as specific functional group 2) can be contained.
  • the component (C) may be a low molecular compound or a high molecular compound.
  • Examples of the low molecular weight compound (C) include pentaerythritol, dipentaerythritol, diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, adipic acid, adipamide, hexamethylene diamine, 1,4-bis (acetoacetylaminoethyl). ) Cyclohexane, 1- (4- (2- (4- (3-oxo-butyl) -phenoxy) -ethoxy) -phenyl) -butane-1,3-dione, 1,4-butanediol diacetate, etc. It is done.
  • polymer compound (C) examples include acrylic polymer, polyamic acid, polyimide, polyvinyl alcohol, polyester, polyester polycarboxylic acid, polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polycaprolactone polyol, and polyalkyleneimine.
  • the polymer compound as component (C) is preferably an acrylic polymer, cyclodextrin, cellulose, polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polycaprolactone polyol, and phenol novolac resin.
  • the acrylic polymer which is a preferable example of the polymer compound of component (C) is a polymer obtained by polymerizing a monomer having an unsaturated double bond such as acrylic acid, methacrylic acid, styrene, and vinyl compound. Any polymer may be used as long as it is a polymer obtained by polymerizing a monomer containing a group A or a mixture thereof, and there are no particular limitations on the type of main chain skeleton and side chain of the polymer constituting the acrylic polymer.
  • the monomer containing the group A a monomer having a polyethylene glycol ester group, a monomer having a hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms, a monomer having a phenolic hydroxy group, a monomer having a carboxyl group, a monomer having an amide group , A monomer having an amino group, a monomer having a group represented by the above formula (2), and the like.
  • Examples of the monomer having a polyethylene glycol ester group described above include monoacrylate or monomethacrylate of H— (OCH 2 CH 2 ) n—OH.
  • the value of n is 2 to 50, preferably 2 to 10.
  • Examples of the monomer having a hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms include 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and 4-hydroxybutyl acrylate. And 4-hydroxybutyl methacrylate.
  • Examples of the monomer having a phenolic hydroxy group described above include p-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, and o-hydroxystyrene.
  • Examples of the monomer having a carboxyl group described above include acrylic acid, methacrylic acid, and vinyl benzoic acid.
  • Examples of the monomer having an amide group described above include acrylamide and methacrylamide.
  • Examples of the above-mentioned monomer having an amino group include 2-aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, aminopropyl acrylate, and aminopropyl methacrylate.
  • Examples of the monomer having an alkoxysilyl group described above include 3-acryloyloxytrimethoxysilane, 3-acryloyloxytriethoxysilane, 3-methacryloyloxytrimethoxysilane, and 3-methacryloyloxytriethoxysilane.
  • Examples of the monomer having a group represented by the above formula (2) include 2-acetoacetoxyethyl acrylate and 2-acetoacetoxyethyl methacrylate.
  • a monomer having no specific functional group 2 can be used in combination as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • Such monomers include acrylic acid ester compounds, methacrylic acid ester compounds, maleimide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds and vinyl compounds.
  • acrylic ester compound examples include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, tert-butyl.
  • methacrylic acid ester compound examples include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthryl methyl methacrylate, phenyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, tert-butyl.
  • maleimide compounds include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide.
  • styrene compound examples include styrene, methyl styrene, chlorostyrene, bromostyrene, and the like.
  • vinyl compound examples include vinyl ether, methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, and propyl vinyl ether.
  • the usage-amount of the monomer which has the specific functional group 2 used in order to obtain the acrylic polymer which is an example of a component is based on the total amount of all the monomers used in order to obtain the acrylic polymer which is (C) component. 2 mol% to 100 mol% is preferable. When the monomer having the specific functional group 2 is too small, the liquid crystal orientation of the cured film obtained is insufficient. Moreover, when using together the monomer which does not have the specific functional group 2 when obtaining an acrylic polymer, it is preferable that the usage-amount is 98 mol% or less based on the total amount of all the monomers.
  • the method to obtain the acrylic polymer which is an example of a component is not specifically limited,
  • a coexisting solvent it is obtained by a polymerization reaction at a temperature of 50 to 110 ° C.
  • the solvent used will not be specifically limited if it dissolves the monomer which has the specific functional group 2, the monomer which does not have the specific functional group 2 used depending on necessity, a polymerization initiator, etc. Specific examples are described in the ⁇ Solvent> section below.
  • the acrylic polymer which is an example of the component (C) obtained by the above method is usually in a solution state dissolved in a solvent.
  • the acrylic polymer solution which is an example of the component (C) obtained by the above method
  • the polymerization initiator coexisting with the acrylic polymer which is an example of the component (C) and unreacted monomers can be removed, and as a result, the acrylic polymer which is an example of the purified component (C) Of powder is obtained. If sufficient purification cannot be achieved by a single operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above operation may be repeated.
  • the acrylic polymer which is a preferred example of the component (C) preferably has a weight average molecular weight of 3,000 to 200,000, more preferably 4,000 to 150,000, and 5,000 to 100. More preferably, it is 1,000. If the weight average molecular weight is over 200,000, the solubility in the solvent may be reduced and the handling property may be reduced. If the weight average molecular weight is less than 3,000, When cured, it may become insufficiently cured and solvent resistance and heat resistance may decrease.
  • Cyclodextrins which are preferable examples of the polymer compound of component (C) include cyclodextrins such as ⁇ -cyclodextrin, ⁇ -cyclodextrin and ⁇ -cyclodextrin; methyl- ⁇ -cyclodextrin, methyl- ⁇ -cyclo Dextrin and methylated cyclodextrins such as methyl- ⁇ -cyclodextrin; hydroxymethyl- ⁇ -cyclodextrin, hydroxymethyl- ⁇ -cyclodextrin, hydroxymethyl- ⁇ -cyclodextrin, 2-hydroxyethyl- ⁇ -cyclodextrin, 2-hydroxyethyl- ⁇ -cyclodextrin, 2-hydroxyethyl- ⁇ -cyclodextrin, 2-hydroxyethyl- ⁇ -cyclodextrin, 2-hydroxypropyl- ⁇ -cyclodextrin, 2-hydroxypropyl- ⁇ -cyclodextrin, 2-hydroxypropyl- ⁇ -cycl
  • celluloses that are preferable examples of the polymer compound of component (C) include hydroxyalkyl celluloses such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose, hydroxyalkylalkyl celluloses such as hydroxyethyl methyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose, and hydroxyethyl ethyl cellulose; Examples thereof include cellulose, and hydroxyalkyl celluloses such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose are preferable.
  • polyether polyol which is a preferred example of the polymer compound of component (C)
  • polyether polyols include ADEKA Adeka Polyether P Series, G Series, EDP Series, BPX Series, FC Series, CM Series, NOF UNIOX (registered trademark) HC-40, HC-60, ST -30E, ST-40E, G-450, G-750, Uniol (registered trademark) TG-330, TG-1000, TG-3000, TG-4000, HS-1600D, DA-400, DA-700, DB- 400, Nonion (registered trademark) LT-221, ST-221, OT-221 and the like.
  • polyester polyol which is a preferred example of the polymer compound of component (C)
  • diols such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol are added to polyvalent carboxylic acids such as adipic acid, sebacic acid, and isophthalic acid.
  • Specific examples of the polyester polyol include DIC polylite (registered trademark) OD-X-286, OD-X-102, OD-X-355, OD-X-2330, OD-X-240, and OD-X-668.
  • polycarbonate polyol which is a preferable example of the polymer compound (C) include those obtained by reacting a polyhydric alcohol such as trimethylolpropane or ethylene glycol with diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate or the like.
  • polycarbonate polyol include Plaxel (registered trademark) CD205, CD205PL, CD210, CD220 manufactured by Daicel Chemical Industries, and polycarbonate diols C-590, C-1050, C-2050, C-2090, C-3090 manufactured by Kuraray, and the like.
  • polycaprolactone polyol which is a preferred example of the polymer compound of component (C) include those obtained by ring-opening polymerization of ⁇ -caprolactone using a polyhydric alcohol such as trimethylolpropane or ethylene glycol as an initiator.
  • polyhydric alcohol such as trimethylolpropane or ethylene glycol as an initiator.
  • Specific examples of the polycaprolactone polyol include DIC's Polylite (registered trademark) OD-X-2155, OD-X-640, OD-X-2568, Daicel Chemical's Plaxel (registered trademark) 205, L205AL, 205U, 208, 210 212, L212AL, 220, 230, 240, 303, 305, 308, 312, 320, and the like.
  • phenol novolak resin that is a preferable example of the polymer compound of component (C) include phenol-formaldehyde polycondensate.
  • the compound of the component (C) may be used in a powder form or a solution form in which purified powder is redissolved in a solvent described later.
  • the component (C) may be a single species or a mixture of a plurality of compounds exemplified as the component (C).
  • the content of the component (C) in the resin composition for forming a retardation material of the present invention is as follows: the resin of the component (A), the crosslinking agent of the component (B), the compound of the component (E) described later, and (F ) Based on 100 parts by mass of the total of the component monomers, it is preferably 0 to 200 parts by mass, more preferably 0 to 150 parts by mass. When the content of the component (C) is excessive, the photo-alignment may decrease.
  • composition for forming a retardation material of the present embodiment can further contain a crosslinking catalyst as the component (D).
  • crosslinking catalyst as component (D) examples include an acid or a thermal acid generator. This component (D) is effective in promoting a thermosetting reaction in a cured film formed using the phase difference material forming resin composition of the present invention.
  • component (D) is a sulfonic acid group-containing compound, hydrochloric acid or a salt thereof, and a compound that thermally decomposes during pre-baking or post-baking to generate an acid, ie, temperature.
  • the compound is not particularly limited as long as it is a compound that generates an acid by thermal decomposition at 80 ° C. to 250 ° C.
  • Examples of such compounds include hydrochloric acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, pentanesulfonic acid, octanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, trifluoro.
  • L-methanesulfonic acid L-methanesulfonic acid, p-phenolsulfonic acid, 2-naphthalenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, p-xylene-2-sulfonic acid, m-xylene-2-sulfonic acid, 4-ethylbenzenesulfonic acid, 1H, 1H, 2H, Sulfonic acids such as 2H-perfluorooctane sulfonic acid, perfluoro (2-ethoxyethane) sulfonic acid, pentafluoroethane sulfonic acid, nonafluorobutane-1-sulfonic acid, dodecylbenzene sulfonic acid, or hydrates and salts thereof Is mentioned.
  • Examples of the compound that generates an acid by heat include bis (tosyloxy) ethane, bis (tosyloxy) propane, bis (tosyloxy) butane, p-nitrobenzyl tosylate, o-nitrobenzyl tosylate, 1,2,3- Phenylenetris (methylsulfonate), p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, p-toluenesulfonic acid morphonium salt, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid propyl ester, p-toluenesulfonic acid butyl ester, p- Toluenesulfonic acid isobutyl ester, p-toluenesulfonic acid methyl ester, p-toluenesulfonic acid phenethyl ester, cyanomethyl p
  • TA100, TA120, TA160 manufactured by San Apro Co., Ltd.
  • K-PURE registered trademark
  • TAG2690, TAG2690, CXC1614, CXC1738 and above, King Industries Inc.
  • Sun-Aid SI-100L, SI-180L Sun-Aid SI-100L, SI-180L (Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) and the like.
  • crosslinking catalyst as component (D) examples include metal chelate compounds and silanol compounds.
  • the metal chelate compound and the silanol compound as component (D) in combination the cured film formed by using the resin composition for forming a retardation material of the present invention is effective for promoting a thermosetting reaction.
  • metal chelate compounds include zirconium compounds, titanium compounds, and aluminum compounds. More specifically, diisopropyl titanium diacetyl acetonate, titanium tetraacetyl acetonate, zirconium tetraacetyl acetonate, and diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum.
  • silanol compound examples include triphenylsilanol, trimethylsilanol, triethylsilanol, 1,1,3,3-tetraphenyl-1,3-disiloxanediol, 1,4-bis (hydroxydimethylsilyl) benzene, and the like. It is done.
  • the content of the component (D) is the resin of the component (A), the crosslinking agent of the component (B), the compound of the component (C), and a later-described (E ) To 100 parts by mass of the total amount of the component compound and the component (F) monomer, preferably 0 to 20 parts by mass, more preferably 0 to 15 parts by mass, and even more preferably 0 parts by mass. Thru
  • the storage stability of a composition may fall.
  • the resin composition for forming a retardation material of the present invention is a compound having any of the component (A), the component (B), and the component (C), a thermally crosslinkable group, and a polymerizable group, that is, one or more. And at least one group A selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group and a group represented by the above formula (2), or the at least one group A
  • the compound which has 1 or more group which reacts with (E) component can be contained.
  • the compound of the component (E) is cured on the cured film. Reinforces the adhesion between the polymerizable liquid crystal layers, that is, acts as an adhesion improving component.
  • the compound of component (E) is preferably a compound having a polymerizable group containing a C ⁇ C double bond and a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C ⁇ C double bond and an N-alkoxymethyl group.
  • the polymerizable group containing a C ⁇ C double bond include an acryl group, a methacryl group, a vinyl group, an allyl group, and a maleimide group.
  • R 41 represents a hydrogen atom or a methyl group, and m represents an integer of 1 to 10.
  • N of the N-alkoxymethyl group includes an amide nitrogen atom and a thioamide nitrogen.
  • the N-alkoxymethyl group includes an amide nitrogen atom, a thioamide nitrogen atom, a urea nitrogen atom, a thiourea nitrogen atom, a urethane nitrogen atom, and a nitrogen bonded to the adjacent position of the nitrogen atom of the nitrogen-containing heterocyclic ring.
  • Examples include a structure in which an alkoxymethyl group is bonded to a nitrogen atom selected from atoms and the like.
  • any compound having the above-mentioned group may be used.
  • the following formula (x) The compound represented by these is mentioned. (Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms)
  • alkyl group examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and 1-methyl-n.
  • Specific examples of the compound represented by the above formula (x) include N-butoxymethylacrylamide, N-isobutoxymethylacrylamide, N-methoxymethylacrylamide, N-methoxymethylmethacrylamide, and N-methylolacrylamide. It is done.
  • Another embodiment of the compound having a polymerizable group containing a C ⁇ C double bond and an N-alkoxymethyl group as component (E) is preferably a compound represented by the following formula (X2), for example. .
  • R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • R 13 and R 14 each independently represents a linear or branched alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, or an aliphatic group having 5 to 6 carbon atoms.
  • R 12 represents a cyclic group or an aliphatic group containing an aliphatic ring having 5 to 6 carbon atoms, and one methylene group or a plurality of methylene groups not adjacent to each other may be replaced with an ether bond.
  • One methylene group or a plurality of non-adjacent methylene groups may be replaced with an ether bond, Z is> NCOO-, or -OCON ⁇ (where "-" is a single bond)
  • ">"" ⁇ " Indicates that bond is two, and either one of the bonds is .r representing a.) Indicating that it is bound with -CH 2 OR 12 2 to 9 which is a natural number.)
  • alkylene group having 2 to 20 carbon atoms in the definition of R 13 and R 14 include divalent to 9-valent atoms in which 1 to 8 hydrogen atoms are further removed from an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms. The group of is mentioned.
  • alkyl group having 2 to 20 carbon atoms include ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl, s-butyl, t-butyl, n -Pentyl group, 1-methyl-n-butyl group, 2-methyl-n-butyl group, 3-methyl-n-butyl group, 1,1-dimethyl-n-propyl group, n-hexyl group, 1-methyl -N-pentyl, 2-methyl-n-pentyl, 1,1-dimethyl-n-butyl, 1-ethyl-n-butyl, 1,1,2-trimethyl-n-propyl, n- Heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, n-undecyl, n-dodecyl, n-tridecyl, n-tetradecy
  • R 13 is an ethylene group and R 14 is a hexylene group.
  • alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in the definition of R 12 include the above specific examples of the alkyl group having 2 to 20 carbon atoms and a methyl group. Of these, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, and a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an n-butyl group is particularly preferable.
  • R may be a natural number of 2 or more and 9 or less, preferably 2 to 6.
  • Compound (X2) is obtained by the production method represented by the following reaction scheme. That is, a carbamate compound having an acryl or methacryl group represented by the following formula (X2-1) (hereinafter also referred to as compound (X2-1)) is reacted in a solvent to which trimethylsilyl chloride and paraformaldehyde are added. It is produced by synthesizing an intermediate represented by the following formula (X2-2), and adding and reacting an alcohol represented by R 12 —OH to the reaction solution.
  • R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , Z and r represent the above-mentioned meanings, and X represents —NHCOO— or —OCONH—.
  • trimethylsilyl chloride and paraformaldehyde to be used with respect to compound (X2-1) is not particularly limited. However, in order to complete the reaction, trimethylsilyl chloride is 1.0 to 6.0 equivalent times the amount of one carbamate bond in the molecule, Paraformaldehyde is preferably used in an amount of 1.0 to 3.0 equivalents, and more preferably the equivalent of trimethylsilyl chloride is greater than the equivalent of paraformaldehyde.
  • the reaction solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction.
  • hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene; methylene chloride, carbon tetrachloride, chloroform, 1,2-dichloroethane and the like Halogenated hydrocarbons; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, 1,4-dioxane and tetrahydrofuran; nitriles such as acetonitrile and propionitrile; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N -Nitrogen-containing aprotic polar solvents such as methyl-2-pyrrolidone and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone; pyridines such as pyridine and picoline. These solvents may be used alone, or two or more of these may be mixed and used.
  • Preferred are m
  • reaction concentration is not particularly limited, but the reaction may be carried out without using a solvent.
  • a solvent 0.1 to 100 mass relative to compound (X2-1) is used. Double the solvent may be used. Preferably it is 1 thru
  • the reaction temperature is not particularly limited, but is, for example, ⁇ 90 to 200 ° C., preferably ⁇ 20 to 100 ° C., and more preferably ⁇ 10 to 50 ° C.
  • the reaction time is usually 0.05 to 200 hours, preferably 0.5 to 100 hours.
  • the reaction can be carried out at normal pressure or under pressure, and may be batch or continuous.
  • a polymerization inhibitor may be added.
  • BHT 2,6-di-tert-butyl-para-cresol
  • hydroquinone para-methoxyphenol, etc.
  • para-methoxyphenol para-methoxyphenol
  • the addition amount in the case of adding a polymerization inhibitor is not particularly limited, but is 0.0001 to 10 wt%, preferably 0.01 to 1 wt% with respect to the total amount (mass) of compound (X2-1). is there. In the present specification, wt% means mass%.
  • a base may be added to suppress hydrolysis under acidic conditions.
  • the base include pyridines such as pyridine and picoline, and tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine and tributylamine. Triethylamine and diisopropylethylamine are preferable, and triethylamine is more preferable.
  • the addition amount in the case of adding a base is not particularly limited, but it may be used 0.01 to 2.0 equivalents, more preferably 0.5 to 1 with respect to the addition amount of trimethylsilyl chloride used in the reaction. 0.0 equivalents.
  • the synthesis method of compound (X2-1) is not particularly limited, but it can be produced by reacting (meth) acryloyloxyalkyl isocyanate with a polyol compound or reacting a hydroxyalkyl (meth) acrylate compound with a polyisocyanate compound. I can do it.
  • (meth) acryloyloxyalkyl isocyanate examples include, for example, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (manufactured by Showa Denko KK, trade name: Karenz MOI [registered trademark]), 2-acryloyloxyethyl isocyanate (Showa). Denko Co., Ltd., trade name: Karenz AOI [registered trademark]) and the like.
  • polyol compound examples include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, Examples include diol compounds such as 1,6-hexanediol and 1,4-cyclohexanedimethanol, triol compounds such as glycerin and trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and diglycerin.
  • hydroxyalkyl (meth) acrylate compounds include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, and diethylene glycol.
  • monomers having a hydroxy group such as monoacrylate, diethylene glycol monomethacrylate, poly (ethylene glycol) ethyl ether acrylate, poly (ethylene glycol) ethyl ether methacrylate, and the like.
  • polyisocyanate compound examples include aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, dimer acid diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), ⁇ , ⁇ Alicyclic diisocyanates such as' -diisocyanate dimethylcyclohexane, lysine ester triisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanatomethyloctane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, And triisocyanates such as bicycloheptane triisocyanate.
  • aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, dimer acid diisocyanate, isophorone
  • the component (E) may be a mixture of a plurality of compounds of the component (E).
  • the compound of the component (E) is a liquid crystal alignment film (cured film) and a film thereon.
  • the polymerizable functional group of the polymerizable liquid crystal and the crosslinking reaction site contained in the liquid crystal alignment film can be linked by a covalent bond so as to improve the adhesion to the formed polymerizable liquid crystal layer.
  • the retardation material of this embodiment formed by laminating a cured polymerizable liquid crystal on the alignment material of this embodiment can maintain strong adhesion even under high temperature and high quality conditions, such as peeling. High durability can be exhibited.
  • the content of the component (E) in the resin composition for forming a retardation material of the present invention is as follows: the resin as the component (A), the crosslinking agent as the component (B), the compound as the component (C), and the component (D).
  • the amount is preferably 0 to 80 parts by weight, more preferably 0 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of the crosslinking catalyst and the monomer (F) described later.
  • the photo-alignment property and solvent resistance of a cured film may fall.
  • the resin composition for forming a retardation material of the present invention comprises a monomer having a photoalignable group in which a thermally reactive site is directly bonded or connected via a linking group and one or more polymerizable groups as component (F). Can be contained.
  • the monomer of component (F) is a layer of a polymerizable liquid crystal layer formed on the cured film. Reinforces the adhesion between the two, that is, acts as an adhesion improving component.
  • the photo-alignment group in which the thermally reactive site is connected directly via a bond or a linking group is as described in paragraphs [0033] to [0039].
  • the monomer of component (F) is preferably a monomer having a photo-alignment group in which the thermally reactive sites are connected directly or through a linking group and a polymerizable group containing a C ⁇ C double bond.
  • a photo-alignment group in which the thermally reactive site is directly connected or connected via a linking group an organic group having a structure represented by the following formula (1) is preferable.
  • R is hydroxy group, amino group, hydroxyphenoxy group, carboxylphenoxy group, aminophenoxy group, aminocarbonylphenoxy group, phenylamino group, hydroxyphenylamino group, carboxylphenylamino group, aminophenylamino group, hydroxyalkyl.
  • X 1 represents a phenylene group which may be substituted with any substituent, and the benzene ring in the definition of these substituents may be substituted with a substituent Good.
  • an organic group including a structure in which R represents a hydroxy group or an amino group and X 1 represents a phenylene group which may be substituted with any substituent is preferable.
  • examples of the polymerizable group containing a C ⁇ C double bond include an acryl group, a methacryl group, a vinyl group, an allyl group, and a maleimide group.
  • Examples of the monomer of component (F) include 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) cinnamic acid, 4- (3-methacryloxypropyl-1-oxy) cinnamic acid, and 4- (6 -Methacryloxyhexyl-1-oxy) cinnamamide and the like.
  • the content of the component (F) in the resin composition for forming a retardation material of the present invention is as follows: a resin as the component (A), a crosslinking agent as the component (B), a compound as the component (C), and (D)
  • the amount is preferably 0 to 40 parts by mass, more preferably 0 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component crosslinking catalyst.
  • the solvent resistance of a cured film may fall.
  • the resin composition for forming a retardation material of the present invention is mainly used in a solution state dissolved in a solvent.
  • the solvent used in that case is (A) component and (B) component, and (C) component, (D) component, (E) component, (F) component, and / or other additives mentioned later if desired.
  • its type and structure are not particularly limited.
  • the solvent include, for example, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, n-pentanol, 2-methyl-1-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, Methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, Toluene, xylene, methyl Tyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone, 3-
  • methanol, ethanol, isopropanol, n-propanol, n-butanol, 2-methyl- 1-butanol, 2-heptanone, methyl isobutyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like are preferable from the viewpoint that the film is resistant.
  • the resin composition for forming a retardation material of the present invention is a sensitizer, an adhesion improver, a silane coupling agent, a surfactant, and a rheology modifier as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • Pigments, dyes, storage stabilizers, antifoaming agents, antioxidants, and the like are examples of the resin composition for forming a retardation material of the present invention.
  • a sensitizer is effective in promoting a photoreaction after forming a thermosetting film using the resin composition for forming a retardation material of the present invention.
  • sensitizers that are examples of additives include benzophenone, anthracene, anthraquinone, thioxanthone and derivatives thereof, and nitrophenyl compounds.
  • benzophenone derivatives and nitrophenyl compounds are preferred.
  • Specific examples of preferred compounds include N, N-diethylaminobenzophenone, 2-nitrofluorene, 2-nitrofluorenone, 5-nitroacenaphthene, 4-nitrobiphenyl, 4-nitrocinnamic acid, 4-nitrostilbene, 4-nitrobenzophenone. , And 5-nitroindole.
  • N, N-diethylaminobenzophenone which is a derivative of benzophenone is preferable.
  • sensitizers are not limited to those described above.
  • the sensitizers can be used alone or in combination of two or more compounds.
  • the proportion of the sensitizer used in the resin composition for forming a retardation material of the present invention is 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of components (A) to (F). Preferably, it is 0.2 mass part thru
  • the resin composition for forming a retardation material of the present invention contains a resin as the component (A) and a crosslinking agent as the component (B).
  • the phase difference material-forming resin composition of the present invention further includes a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group and the above component as the component (C).
  • a compound having a photo-alignable group in which a thermally reactive site is directly bonded or connected via a linking group and one or more polymerizable groups can also be contained as the compound having (F).
  • the resin composition for phase difference material formation of this invention can contain another additive, unless the effect of this invention is impaired.
  • the compounding ratio of the component (A) and the component (B) is preferably 20:80 to 100: 0 in mass ratio.
  • the content of the component (B) is excessive, the liquid crystal orientation tends to be lowered.
  • Preferred examples of the resin composition for forming a retardation material of the present invention are as follows. [1]: A resin composition for forming a retardation material containing the component (A).
  • Phase difference material forming resin composition containing 0 to 100 parts by mass of component (C) based on 100 parts by mass of component (A).
  • the mixing ratio of the component (A) and the component (B) is 20:80 to 100: 0 by mass ratio, and is based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B).
  • Retardant-forming resin composition containing 0 part by mass to 100 parts by mass of component (C) and solvent based on 100 parts by mass of the total amount of component (A) and component (B). .
  • the blending ratio, preparation method, and the like when the resin composition for forming a retardation material of the present invention is used as a solution will be described in detail below.
  • the ratio of the solid content in the resin composition for forming a retardation material of the present invention is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in a solvent, but is 1% by mass to 80% by mass, Preferably it is 2 mass% to 60 mass%, More preferably, it is 3 mass% to 40 mass%.
  • solid content means what remove
  • the method for preparing the resin composition for forming a retardation material of the present invention is not particularly limited.
  • a preparation method for example, (B) component, (C) component and (D) component, (E) component and (F) component, etc. are added to a solution of component (A) dissolved in a solvent at a predetermined ratio.
  • a method of mixing and obtaining a uniform solution, or a method of further adding and mixing other additives as necessary at an appropriate stage of the preparation method can be mentioned.
  • a solution of a specific copolymer obtained by a polymerization reaction in a solvent can be used as it is.
  • the (B) component, the (C) component, the (D) component, the (E) component, the (F) component, and the like are put into the solution of the (A) component in the same manner as described above to obtain a uniform solution.
  • a solvent may be further added for the purpose of adjusting the concentration.
  • the solvent used in the production process of the component (A) and the solvent used for adjusting the concentration of the phase difference material-forming resin composition may be the same or different.
  • the prepared solution of the phase difference material-forming resin composition after filtration using a filter having a pore diameter of about 0.2 ⁇ m.
  • a solution of the resin composition for forming a retardation material of the present invention is applied to a substrate (for example, a silicon / silicon dioxide-coated substrate, a silicon nitride substrate, a substrate coated with a metal such as aluminum, molybdenum, or chromium, a glass substrate, quartz Substrate, ITO substrate, etc.) or film (for example, resin film such as triacetyl cellulose (TAC) film, cycloolefin polymer film, polyethylene terephthalate film, acrylic film) etc., bar coating, spin coating, flow coating, roll
  • a cured film can be formed by coating, slit coating, spin coating following the slit, inkjet coating, printing, etc. to form a coating film, followed by heat drying with a hot plate or oven.
  • the heating and drying conditions may be such that the cross-linking reaction with the cross-linking agent proceeds to such an extent that the components of the alignment material formed from the cured film do not elute into the polymerizable liquid crystal solution applied thereon.
  • a heating temperature and a heating time appropriately selected from the range of 0 to 230 ° C. and a time of 0.4 to 60 minutes are employed.
  • the heating temperature and the heating time are preferably 70 ° C. to 230 ° C., 0.5 minutes to 10 minutes.
  • the film thickness of the cured film formed using the phase difference material forming resin composition of the present invention is, for example, 0.05 ⁇ m to 5 ⁇ m, and is appropriately determined in consideration of the level difference of the substrate to be used and optical and electrical properties. You can choose.
  • the cured film thus formed can function as an alignment material, that is, a member for aligning a liquid crystal compound such as liquid crystal by performing polarized UV irradiation.
  • ultraviolet light to visible light having a wavelength of 150 nm to 450 nm is usually used, and irradiation is performed by irradiating linearly polarized light from a vertical or oblique direction at room temperature or in a heated state.
  • the alignment material formed from the resin composition for forming a retardation material of the present invention has solvent resistance and heat resistance
  • a retardation material made of a polymerizable liquid crystal solution is applied onto the alignment material.
  • the retardation material is heated to the phase transition temperature of the liquid crystal to be in a liquid crystal state and aligned on the alignment material. Then, the retardation material in an oriented state can be cured as it is to form a retardation material as a layer having optical anisotropy.
  • the retardation material for example, a liquid crystal monomer having a polymerizable group and a composition containing the same are used.
  • substrate which forms an orientation material is a film
  • the film which has the phase difference material of this Embodiment is useful as a phase difference film.
  • the phase difference material that forms such a phase difference material is in a liquid crystal state and has an alignment state such as horizontal alignment, cholesteric alignment, vertical alignment, hybrid alignment, etc. on the alignment material. It can be used properly according to the phase difference.
  • a line and space pattern mask is applied to the cured film formed by the above-described method from the retardation material forming resin composition of the present embodiment.
  • a predetermined reference for example, polarized UV exposure in the direction of +45 degrees, and after removing the mask, the polarized UV light is exposed in the direction of -45 degrees, and two kinds of liquid crystal alignments having different liquid crystal alignment control directions.
  • An alignment material in which regions are formed is obtained.
  • the retardation material is brought into a liquid crystal state by being heated to the phase transition temperature of the liquid crystal, and is aligned on the alignment material.
  • the retardation material in an oriented state is cured as it is, and a patterned retardation material in which a plurality of two types of retardation regions having different retardation characteristics are regularly arranged can be obtained.
  • the alignment materials on both substrates are bonded to each other via a spacer, and then between the substrates.
  • a liquid crystal display element in which liquid crystal is injected to align the liquid crystal may be used. Therefore, the resin composition for forming a retardation material of the present invention can be suitably used for producing various retardation materials (retardation films), liquid crystal display elements, and the like.
  • the present invention also relates to a cured film forming composition containing a resin having a specific photoalignable group as the component (A).
  • the cured film forming composition of this invention can contain a crosslinking agent as (B) component in addition to (A) component.
  • the cured film forming composition of the present invention includes a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group and the following formula (2) as the component (C) in addition to the components (A) and (B).
  • the cured film forming composition of this invention can contain another additive, unless the effect of this invention is impaired.
  • or (C) component, the preparation method of a cured film formation composition, etc. are the same as the resin composition for phase difference material formation mentioned above.
  • composition component used in Examples and their abbreviations Each composition component used in the following examples and comparative examples is as follows. ⁇ Component (A), Component (B), Component (C): Polymer raw material> M6CA: 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) cinnamic acid M3CA: 4- (3-methacryloxypropyl-1-oxy) cinnamic acid M6CAm: 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) ) Cinnamamide HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate MAA: methacrylic acid MMA: methyl methacrylate lens MOI-BM (registered trademark): 2- (0- (1′-methylpropylideneamino) carboxyamino) ethyl methacrylate (Showa Denko) (Made by Co., Ltd.) BMAA: N-butoxymethylacrylamide St: Styrene EGAMA: Ethylene glycol monoacetoacetate monome
  • HMM Melamine crosslinking agent represented by the following structural formula [CYMEL (registered trademark) 303 (Mitsui Cytec Co., Ltd.)]
  • TC-401 Titanium tetraacetylacetonate (containing 35% IPA [isopropanol] as a solvent)
  • ORGATICS registered trademark
  • Each resin composition for forming a retardation material in Examples and Comparative Examples contained a solvent, and propylene glycol monomethyl ether (PM) and isopropanol (IPA) were used as the solvent.
  • the molecular weight of the acrylic copolymer in the polymerization example was as follows using a room temperature gel permeation chromatography (GPC) apparatus (GPC-101) manufactured by Shodex Co., Ltd. and columns (KD-803, KD-805) manufactured by Shodex Co. And measured.
  • the following number average molecular weight (hereinafter referred to as Mn) and weight average molecular weight (hereinafter referred to as Mw) were expressed in terms of polystyrene.
  • BMAA (100.0 g) and AIBN (4.2 g) as a polymerization catalyst were dissolved in PM (193.5 g) and reacted at 90 ° C. for 20 hours to obtain an acrylic polymer solution (solid content concentration: 35 mass%) (P9).
  • Mn of the obtained acrylic copolymer was 2,700 and Mw was 3,900.
  • Synthesis Example 2 Synthesis of compound [DM-2] In a 500 mL four-necked flask under a nitrogen stream, 35.0 g of ethyl acetate, 87.0 g of toluene, 8.41 g (50.0 mmol) of hexamethylene diisocyanate, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7- Undecene (DBU) 0.345 g (2.27 mmol) and 2,6-ditertiarybutyl-para-cresol (BHT) 70.0 mg (0.318 mmol) were charged at room temperature and stirred with a magnetic stirrer. The temperature was raised to 60 ° C.
  • DBU 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7- Undecene
  • BHT 2,6-ditertiarybutyl-para-cresol
  • the mixed solution of the two organic layers was further washed with 170 g of brine, and the obtained organic layer was dried over magnesium sulfate. Magnesium sulfate was removed by filtration, and the resulting dichloromethane solution was concentrated and dried to obtain the desired [DM-2] (16.2 g, 33.1 mmol, yield 91.0%).
  • the structure of the compound [DM-2] was confirmed by obtaining the following spectral data by 1 H-NMR analysis.
  • Examples 1 to 22> and ⁇ Comparative Examples 1 to 4> Each of the phase difference material forming resin compositions of Examples 1 to 22 and Comparative Examples 1 to 4 was prepared with the composition shown in Table 1. Next, a cured film was formed using each phase difference material forming resin composition, and the orientation of each of the obtained cured films was evaluated.
  • phase difference material forming resin compositions of Examples and Comparative Examples were spin-coated on a non-alkali glass at 2000 rpm for 30 seconds using a spin coater, and then heated and dried on a hot plate at a temperature of 100 ° C. for 60 seconds. A film was formed.
  • the cured film was vertically irradiated with 313 nm linearly polarized light with an exposure amount of 10 mJ / cm 2 .
  • a polymerizable liquid crystal solution RMS03-013C for horizontal alignment manufactured by Merck Co., Ltd. was applied using a spin coater, and then pre-baked on a hot plate at 60 ° C. for 60 seconds. A 0 ⁇ m coating film was formed.
  • This film was exposed at 300 mJ / cm 2 to prepare a retardation material.
  • the phase difference material on the prepared substrate is sandwiched between a pair of polarizing plates, the state of the phase difference characteristic in the phase difference material is observed, ⁇ if the phase difference is expressed without defects, and phase difference is expressed Is described in the column of “Drying conditions 1” where ⁇ is a defect and ⁇ is a phase difference is not expressed.
  • the heating and drying conditions of each resin composition for forming a retardation material were 100 ° C. for 60 seconds and then 150 ° C. for 300 seconds on a hot plate. Evaluation similar to “Condition 1” was performed and described in the column of “Drying condition 2”.
  • drying condition 2 When the result of “drying condition 2” was ⁇ or x, the heating and drying conditions of each phase difference material forming resin composition were set on a hot plate at 100 ° C. for 60 seconds and then at 200 ° C. for 300 seconds. Evaluation was made in the same manner as “drying condition 1”, and the result was described in the column of “drying condition 3”.
  • Table 2 shows the results of the above evaluation.
  • the resin composition for forming a retardation material of the present invention is for forming a thermosetting film having photo-alignment properties, and has a photo-alignment portion and a portion for thermal crosslinking.
  • the photo-alignment group is a specific photo-alignment group, that is, a photo-alignment group in which the thermally reactive site is connected through a direct bond or a linking group.
  • the specific photoalignable group for example, when the photoalignable group is a cinnamic acid residue, the cinnamic acid residue has a carboxyl group which is a thermally crosslinkable group as a part thereof.
  • the thermally crosslinkable group forms a part of the photoreactive group, it can be included in the specific photoalignable group in the composition of the present invention.
  • the site for thermal crosslinking includes a group A selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and a group represented by the above formula (2).
  • Any component in the composition may have both the group A and the group that reacts with the group A, or any component in the composition may have a site that is self-crosslinked by heat.
  • the composition of the present invention contains, as component (A), a resin having a specific photo-alignable group, that is, a photo-alignable group in which a thermally reactive site is connected through a direct bond or a linking group.
  • the resin of component (A) only needs to have a thermally reactive site in a specific photo-alignable group as a thermally reactive site, and contains a copolymer of M6CA and MMA and a crosslinking agent.
  • Example 16 is an example of this.
  • One aspect of the present invention includes a composition that further includes a group that reacts with a thermally reactive site connected to a specific photo-alignable group in the resin of component (A) as a thermal crosslinking system.
  • Examples 9 and 13 are examples of this, and Example 13 is an example that further contains a copolymer having a group A.
  • compositions in which the resin of the component (A) is a copolymer with a monomer having the group A, and the component (B) contains a crosslinking agent that thermally reacts with the group A are examples of this. Of these, Examples 7, 14, 15, 17, and 18 are examples containing a copolymer having the above group A, and Examples 11, 12, 14, 15, 17, and 18 This is an example having an adhesion promoting component.
  • compositions further comprising a self-crosslinking group in the resin as the component (A) as a thermal crosslinking system are this example.
  • the resin composition for forming a retardation material of the present invention is very useful as an alignment material for forming a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element and an optically anisotropic film provided inside or outside the liquid crystal display element.
  • it is suitable as a material for forming a patterned retardation material for a 3D display.
  • a material for forming a cured film such as a protective film, a flat film and an insulating film in various displays such as a thin film transistor (TFT) type liquid crystal display element and an organic EL element, particularly an interlayer insulating film of a TFT type liquid crystal display element, a color filter It is also suitable as a material for forming a protective film or an insulating film of an organic EL element.

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Abstract

【課題】　優れた光反応効率を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができる配向材を提供するための位相差材形成用樹脂組成物を提供すること。 【解決手段】　熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基を有する樹脂［（Ａ）成分］を含有することを特徴とする、熱硬化可能な位相差材形成用樹脂組成物、該組成物を用いて得られることを特徴とする配向材、及び該組成物から得られる硬化膜を使用して形成されることを特徴とする位相差材。

Description

位相差材形成用樹脂組成物、配向材および位相差材
　本発明は、位相差材形成用樹脂組成物、配向材および位相差材に関する。
　近年、液晶パネルを用いたテレビ等のディスプレイの分野においては、高性能化に向けた取り組みとして、３Ｄ画像を楽しむことができる３Ｄディスプレイの開発が進められている。３Ｄディスプレイでは、例えば、観察者の右目に右目用画像を視認させ、観察者の左目に左目用画像を視認させることにより、立体感のある画像を表示させることができる。
　３Ｄ画像を表示する３Ｄディスプレイの方式には多様なものがあり、専用のメガネを必要としない方式としては、レンチキュラレンズ方式およびパララックスバリア方式等が知られている。
　そして、観察者がメガネを着用して３Ｄ画像を観察するディスプレイの方式の１つとしては、円偏光メガネ方式等が知られている（例えば、特許文献１を参照。）。
　円偏光メガネ方式の３Ｄディスプレイの場合、液晶パネル等の画像を形成する表示素子の上に位相差材が配置されるのが通常である。この位相差材は、位相差特性の異なる２種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置されており、パターニングされた位相差材を構成している。尚、以下、本明細書においては、このような位相差特性の異なる複数の位相差領域を配置するようにパターン化された位相差材をパターン化位相差材と称する。
　パターン化位相差材は、例えば、特許文献２に開示されるように、重合性液晶からなる位相差材料を光学パターニングすることで作製することができる。重合性液晶からなる位相差材料の光学パターニングは、液晶パネルの配向材形成で知られた光配向技術を利用する。すなわち、基板上に光配向性の材料からなる塗膜を設け、これに偏光方向が異なる２種類の偏光を照射する。そして、液晶の配向制御方向の異なる２種類の液晶配向領域が形成された配向材として光配向膜を得る。この光配向膜の上に重合性液晶を含む溶液状の位相差材料を塗布し、重合性液晶の配向を実現する。その後、配向された重合性液晶を硬化してパターン化位相差材を形成する。
　液晶パネルの光配向技術を用いた配向材形成では、利用可能な光配向性の材料として、側鎖にシンナモイル基およびカルコン基等の光二量化部位を有するアクリル樹脂やポリイミド樹脂等が知られている。これらの樹脂は、偏光ＵＶ照射することにより、液晶の配向を制御する性能（以下、液晶配向性とも言う。）を示すことが報告されている（特許文献３～特許文献５を参照。）。
特開平１０－２３２３６５号公報 特開２００５－４９８６５号公報 特許第３６１１３４２号公報 特開２００９－０５８５８４号公報 特表２００１－５１７７１９号公報
　しかしながら、本発明者の検討によれば、こうした側鎖にシンナモイル基やカルコン基等の光二量化部位を有するアクリル樹脂は、位相差材の形成に適用した場合に充分な特性が得られないことが分かっている。特に、これらの樹脂に偏光ＵＶを照射して配向材を形成し、その配向材を用いて重合性液晶からなる位相差材料の光学パターニングをするためには、大きな偏光ＵＶ露光量が必要となる。その偏光ＵＶ露光量は、通常の液晶パネル用の液晶を配向させるのに十分な偏光ＵＶ露光量（例えば、３０ｍＪ／ｃｍ2程度。）より格段に多くなる。
　偏光ＵＶ露光量が多くなる理由としては、位相差材形成の場合、液晶パネル用の液晶と異なり、重合性液晶が溶液の状態で用いられ、配向材の上に塗布されることが挙げられている。
　側鎖にシンナモイル基等の光二量化部位を有するアクリル樹脂等を用いて配向材を形成し、重合性液晶を配向させようとする場合、そのアクリル樹脂等においては、光二量化反応による光架橋を行う。そして、重合性液晶溶液に対する耐性が発現するまで、大きな露光量の偏光照射を行う必要がある。液晶パネルの液晶を配向させるためには、通常、光配向性の配向材の表面のみを二量化反応すればよい。しかし、上述のアクリル樹脂等の従来材料を用いて配向材に溶剤耐性を発現させようとすると、配向材の内部まで反応をさせる必要があり、より多くの露光量が必要となる。その結果、従来材料の配向感度は非常に小さくなってしまうという問題があった。
　また、上述の従来材料である樹脂にこのような溶剤耐性を発現させるため、架橋剤を添加する技術が知られている。しかし、架橋剤による熱硬化反応を行った後、形成される塗膜の内部には３次元構造が形成され、光反応性は低下することがわかっている。すなわち、配向感度が大きく低下してしまい、従来材料に架橋剤を添加して使用しても、所望とする効果は得られていない。
　以上より、配向材の配向感度を向上させ、偏光ＵＶ露光量を低減できる光配向技術と、その配向材の形成に用いられる位相差材形成用樹脂組成物が求められている。そして、高効率にパターン化位相差材を提供することができる技術が求められている。
　本発明は、以上の知見や検討結果に基づいてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、優れた光反応効率を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができる配向材を提供するための位相差材形成用樹脂組成物を提供することである。
　そして、本発明の別の目的は、その位相差材形成用樹脂組成物を用いて形成される、優れた光反応効率を有するとともに耐溶剤性および密着耐久性を備え、高感度で重合性液晶を配向させることができる配向材とその配向材を用いて形成された位相差材を提供することにある。
　本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。
　本発明の第１の態様は、熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基を有する樹脂［（Ａ）成分］を含有することを特徴とする、熱硬化可能な位相差材形成用樹脂組成物に関する。
　本発明の第１の態様において、前記光配向性基が下記式（１）で表される構造を含む有機基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 （式中、Ｒはヒドロキシ基又はアミノ基を表し、Ｘ1は任意の置換基で置換されていても良いフェニレン基を表す。）
　本発明の第１の態様において、前記（Ａ）成分の樹脂がアクリル共重合体であることが好ましい。
　本発明の第１の態様において、前記（Ａ）成分の樹脂が自己架橋性基をさらに有するか、又はヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、前記樹脂中の光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］と反応する基をさらに有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
　本発明の第１の態様において、前記（Ａ）成分の樹脂がヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、前記樹脂中の光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］をさらに有し、かつ前記組成物が該少なくとも１つの基Ａと反応する架橋剤（Ｂ）をさらに含有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
　本発明の第１の態様において、前記（Ａ）成分の樹脂がヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、前記樹脂中の光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］と反応する基、並びに該少なくとも１つの基Ａをさらに有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
　本発明の第１の態様において、（Ｃ）成分としてヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる基Ａを少なくとも２つ有する化合物をさらに含有することが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ｄ）成分として架橋触媒をさらに含有することが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ｅ）成分として１つ以上の重合性基と、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ又は該少なくとも１つの基Ａと反応する１つ以上の基とを有する化合物をさらに含有することが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ｆ）成分として熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基と、１つ以上の重合性基とを有するモノマーをさらに含有することが好ましい。
　本発明の第２の態様は、本発明の第１の態様の位相差材形成用樹脂組成物を用いて得られることを特徴とする配向材に関する。
　本発明の第３の態様は、本発明の第１の態様の位相差材形成用樹脂組成物から得られる硬化膜を使用して形成されることを特徴とする位相差材に関する。
　本発明の第４の態様は、熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基を有する樹脂［（Ａ）成分］を含有することを特徴とする、熱硬化膜形成組成物に関する。
　本発明の第４の態様において、前記光配向性基が下記式（１）で表される構造を含む有機基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 （式中、Ｒはヒドロキシ基又はアミノ基を表し、Ｘ1は任意の置換基で置換されていても良いフェニレン基を表す。）
　本発明の第４の態様において、前記（Ａ）成分の樹脂がアクリル共重合体であることが好ましい。
　本発明の第４の態様において、前記（Ａ）成分の樹脂が自己架橋性基をさらに有するか、又はヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、前記樹脂中の光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］と反応する基をさらに有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
　本発明の第４の態様において、前記（Ａ）成分の樹脂がヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、前記樹脂中の光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］をさらに有し、かつ前記組成物が該少なくとも１つの基Ａと反応する架橋剤（Ｂ）をさらに含有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
　本発明の第４の態様において、前記（Ａ）成分の樹脂がヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、前記樹脂中の光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］と反応する基、並びに該少なくとも１つの基Ａをさらに有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
　本発明の第４の態様において、（Ｃ）成分としてヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる基Ａを少なくとも２つ有する化合物をさらに含有することが好ましい。
　本発明の第の５態様は、本発明の第４の態様の熱硬化膜形成組成物を用いて得られることを特徴とする硬化膜に関する。
　本発明の第１の態様によれば、優れた密着性、配向感度、パターン形成性および密着耐久性を備え、樹脂フィルム上でも高感度で重合性液晶を配向させることができる配向材を形成することができる位相差材形成用樹脂組成物を提供することができる。
　本発明の第２の態様によれば、優れた密着性、配向感度、パターン形成性および密着耐久性を備え、高感度で重合性液晶を配向させることができる配向材を提供することができる。
　本発明の第３の態様によれば、樹脂フィルム上でも高い効率で形成できて光学パターニングの可能な位相差材を提供することができる。
　本発明の第４の態様によれば、高い透明性、高い溶剤耐性、高い耐熱性に加えて、光照射による液晶配向能（光配向性）を有する硬化膜を形成できる熱硬化膜形成組成物を提供することができる。
　本発明の第５の態様によれば、高い透明性、高い溶剤耐性、高い耐熱性に加えて、光照射による液晶配向能（光配向性）を有する硬化膜を提供することができる。
＜位相差材形成用樹脂組成物＞
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、光配向性を有する熱硬化膜を形成するためのものであり、光配向性部位と、熱架橋のための部位とを有する成分を含有するものである。そして、光配向性基が特定の光配向性基、すなわち、熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基であることを特徴とする。
　特定の光配向性基については、例えば、光配向性基がけい皮酸残基である場合、けい皮酸残基はその一部として熱架橋性基であるカルボキシル基を有している。このように、熱架橋性基が光反応性基の一部をなしている場合も、本発明の組成物における特定の光配向性基に含めることが出来る。
　本発明において、熱架橋のための部位としては、上記基Ａと、該基Ａと反応する基との両方を組成物中のいずれかの成分が有するか、又は熱により自己架橋する部位を、（Ａ）成分の樹脂を含む組成物中のいずれかの成分が有していればよい。そのため、本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、（Ａ）成分として特定の光配向性基、すなわち、熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基を有する樹脂を含有し、さらに熱架橋系を含有する。
　本発明の態様の一つとして、（Ａ）成分として特定の光配向性基を有する樹脂と、（Ｂ）成分として、特定の光配向性基とつながる熱反応性部位と反応する架橋剤を含有する組成物が挙げられる。その際、（Ａ）成分の樹脂は、熱反応性部位として、特定の光配向性基における熱反応性部位を有していればよい。
　本発明の態様の一つとして、（Ａ）成分の樹脂が、上記基Ａを有するモノマーとの共重合体であって、（Ｂ）成分として、上記基Ａと熱反応する架橋剤を含有する組成物が挙げられる。
　本発明の態様の一つとして、熱架橋系として、自己架橋性基を前記（Ａ）成分の樹脂にさらに含む組成物が挙げられる。
　また、本発明の態様の一つとして、熱架橋系として、特定の光配向性基とつながる熱反応性部位と反応する基を前記（Ａ）成分の樹脂にさらに含む組成物が挙げられる。
　また、本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、（Ａ）成分に加えて、（Ｂ）成分として架橋剤を含有することができる。さらに、本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分に加えて、（Ｃ）成分としてヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる基Ａを少なくとも２つ有する化合物、（Ｄ）成分として架橋触媒、（Ｅ）成分として１つ以上の重合性基と、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ又は該少なくとも１つの基Ａと反応する１つ以上の基とを有する化合物、並びに（Ｆ）成分として熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基と、１つ以上の重合性基とを有するモノマーをさらに含有することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
　また、本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。
　以下、各成分の詳細を説明する。
＜（Ａ）成分＞
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物に含有される（Ａ）成分は、熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基（以下、単に「光配向性基」ともいう）を有する樹脂である。
　（Ａ）成分の樹脂が熱反応性部位として有することができる構造部位としては、カルボキシル基、アミド基、Ｎ－置換アミド基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基等が挙げられる。これらのうち、カルボキシル基またはアミド基が好ましい。
　光配向性基とは、光二量化または光異性化する構造部位の官能基を言う。
　（Ａ）成分の樹脂が光配向性基として有することのできる光二量化する構造部位とは、光照射により二量体を形成する部位であり、その具体例としては、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基、アントラセン基等が挙げられる。これらのうち可視光領域での透明性の高さ、光二量化反応性の高さからシンナモイル基が好ましい。
　（Ａ）成分の樹脂が光配向性基として有することのできる光異性化する構造部位とは、光照射によりシス体とトランス体とに変わる構造部位を指し、その具体例としてはアゾベンゼン構造、スチルベン構造等からなる部位が挙げられる。これらのうち反応性の高さからアゾベンゼン構造が好ましい。
　熱反応性部位は直接結合又は連結基を介して光配向性基とつながっており、そのような連結基としては、炭素原子数１乃至１５の直鎖状アルキレン基、炭素原子数３乃至２０の分岐状アルキレン基、炭素原子数３乃至２０の環状アルキレン基及びフェニレン基から選ばれる二価の基であるか、又は当該二価の基が複数結合してなる基である。この場合、連結基を構成する二価の基同士の結合、及び連結基と熱反応性部位との結合としては、単結合、エステル結合、アミド結合、ウレア結合またはエーテル結合が挙げられる。上記二価の基が複数となる場合は、二価の基同士は同一でも異なっていてもよく、上記結合が複数となる場合は、結合同士は同一でも異なっていてもよい。
　前記炭素原子数１乃至１５の直鎖状アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－ヘキシレン基、ｎ－ヘプチレン基、ｎ－オクチレン基、ｎ－ノニレン基、ｎ－デシレン基、ｎ－ウンデシレン基、ｎ－ドデシレン基、ｎ－トリデシレン基、ｎ－テトラデシレン基、ｎ－ペンタデシレン基が挙げられる。
　前記炭素原子数３乃至２０の分岐状アルキレン基としては、例えば、ｉ－プロピレン基、ｉ－ブチレン基、ｓ－ブチレン基、ｔ－ブチレン基、１－メチル－ｎ－ブチレン基、２－メチル－ｎ－ブチレン基、３－メチル－ｎ－ブチレン基、１，１－ジメチル－ｎ－プロピレン基、１，２－ジメチル－ｎ－プロピレン基、２，２－ジメチル－ｎ－プロピレン基、１－エチル－ｎ－プロピレン基、１－メチル－ｎ－ペンチレン基、２－メチル－ｎ－ペンチレン基、３－メチル－ｎ－ペンチレン基、４－メチル－ｎ－ペンチレン基、１，１－ジメチル－ｎ－ブチレン基、１，２－ジメチル－ｎ－ブチレン基、１，３－ジメチル－ｎ－ブチレン基、２，２－ジメチル－ｎ－ブチレン基、２，３－ジメチル－ｎ－ブチレン基、３，３－ジメチル－ｎ－ブチレン基、１－エチル－ｎ－ブチレン基、２－エチル－ｎ－ブチレン基、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロピレン基、１，２，２－トリメチル－ｎ－プロピレン基、１－エチル－１－メチル－ｎ－プロピレン基及び１－エチル－２－メチル－ｎ－プロピレン基等の他、炭素原子数が２０までの範囲で且つ任意の箇所で分岐しているアルキレン基等が挙げられる。
　前記炭素原子数３乃至２０の環状アルキレン基としては、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基及びシクロオクチレン基等の単環式アルキレン基、並びにノルボルニレン基、トリシクロデシレン基、テトラシクロドデシレン基及びアダマンチレン基等の多環式アルキレン基が挙げられる。
　また、（Ａ）成分の樹脂はアクリル共重合体であることが好ましい。
　（Ａ）成分としては、熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基として、例えば、下記式（１）で表される構造を含む有機基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 （式中、Ｒはヒドロキシ基、アミノ基、ヒドロキシフェノキシ基、カルボキシルフェノキシ基、アミノフェノキシ基、アミノカルボニルフェノキシ基、フェニルアミノ基、ヒドロキシフェニルアミノ基、カルボキシルフェニルアミノ基、アミノフェニルアミノ基、ヒドロキシアルキルアミノ基またはビス（ヒドロキシアルキル）アミノ基を表し、Ｘ1は任意の置換基で置換されていても良いフェニレン基を表し、これらの置換基の定義におけるベンゼン環は置換基で置換されていてもよい。）
　前記任意の置換基としては特に限定されないが、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基等のアルキル基；トリフルオロメチル基等のハロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；ヨウ素、臭素、塩素、フッ素等のハロゲン原子；シアノ基；ニトロ基等が挙げられる。
　ベンゼン環が置換基で置換されていてもよい場合の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基等のアルキル基；トリフルオロメチル基等のハロアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；ヨウ素、臭素、塩素、フッ素等のハロゲン原子；シアノ基；ニトロ基等が挙げられる。
　上記Ｒの中では、ヒドロキシ基及びアミノ基が好ましく、ヒドロキシ基が特に好ましい。
　（Ａ）成分としては、上記式（１）で表される構造を含む有機基が、スペーサーを介して主鎖に結合した樹脂が好ましい。スペーサーとしては、炭素原子数１乃至１５の直鎖状アルキレン基、炭素原子数３乃至２０の分岐状アルキレン基、炭素原子数３乃至２０の環状アルキレン基及びフェニレン基から選ばれる二価の基であるか、当該二価の基が複数結合してなる基を表す。この場合、スペーサーを構成する二価の基同士の結合、スペーサーと重合性基との結合、及びスペーサーと上記式（１）で表される基との結合としては、単結合、エステル結合、アミド結合、ウレア結合またはエーテル結合が挙げられる。上記二価の基が複数となる場合は、二価の基同士は同一でも異なっていてもよく、上記結合が複数となる場合は、結合同士は同一でも異なっていてもよい。
　なお、上記炭素原子数１乃至１５の直鎖状アルキレン基、炭素原子数３乃至２０の分岐状アルキレン基及び炭素原子数３乃至２０の環状アルキレン基それぞれの具体例は、段落［００３７］乃至［００３９］に記載した通りである。
　その中でも、（Ａ）成分としては、上記式（１）において、Ｒがヒドロキシ基又はアミノ基を表し、Ｘ1が任意の置換基で置換されていても良いフェニレン基で表される光配向性基を有する樹脂が好ましく、当該光配向性基を有するアクリル共重合体がより好ましい。
　本発明において、アクリル共重合体とは、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン等の不飽和二重結合を有するモノマーを用いて単独重合又は共重合して得られる重合体をいう。従って、本発明における「アクリル共重合体」には、アクリル共重合体の他、アクリル重合体が該当する。
　光配向性基を有するアクリル共重合体（以下、特定共重合体ともいう）は、斯かる構造を有するアクリル共重合体であればよく、アクリル共重合体を構成する高分子の主鎖の骨格及び側鎖の種類などについて特に限定されない。
　（Ａ）成分のアクリル共重合体は、重量平均分子量が１，０００乃至２００，０００であることが好ましく、２，０００乃至１５０，０００であることがより好ましく、３，０００乃至１００，０００であることがさらに好ましい。重量平均分子量が２００，０００を超えて過大なものであると、溶剤に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、重量平均分子量が１，０００未満で過小なものであると、熱硬化時に硬化不足になり溶剤耐性及び耐熱性が低下する場合がある。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、標準試料としてポリスチレンを用いて得られる値である。以下、本明細書においても同様とする。
　（Ａ）成分の光配向性基を有するアクリル共重合体の合成方法としては、光配向性基を有するモノマー、例えば、上記式（１）で表される光配向性基を有するモノマーを重合する方法が簡便である。
　上記式（１）で表される光配向性基を有するモノマーとしては、例えば、４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）けい皮酸、４－（６－アクリルオキシヘキシル－１－オキシ）けい皮酸、４－（３－メタクリルオキシプロピル－１－オキシ）けい皮酸、４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）シンナムアミド、４－（６－アクリルオキシヘキシル－１－オキシ）シンナムアミド、４－（３－メタクリルオキシプロピル－１－オキシ）シンナムアミド、４－（４－（３－メタクリルオキシプロピル－１－オキシ）アクリルオキシ）安息香酸、４－（４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）ベンゾイルオキシ）けい皮酸、４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）－Ｎ－（４－シアノフェニル）シンナムアミド、及び４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）－Ｎ－ビスヒドロキシエチルシンナムアミドなどが挙げられる。
　また、本発明の位相差材形成用樹脂組成物に含有される（Ａ）成分は、光配向性基に加えて、自己架橋性基をさらに有するか、又はヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］と反応する基（以下、架橋性基ともいう）をさらに有するアクリル共重合体であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
　上記式（２）において、Ｒ5が表すアルキル基としては、例えば、炭素原子数１乃至２０のアルキル基が挙げられ、炭素原子数１乃至５のアルキル基が好ましい。
　そのようなアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、１－メチル－ｎ－ブチル基、２－メチル－ｎ－ブチル基、３－メチル－ｎ－ブチル基、１，１－ジメチル－ｎ－プロピル基、１，２－ジメチル－ｎ－プロピル基、２，２－ジメチル－ｎ－プロピル基、１－エチル－ｎ－プロピル基、ｎ－ヘキシル基、１－メチル－ｎ－ペンチル基、２－メチル－ｎ－ペンチル基、３－メチル－ｎ－ペンチル基、４－メチル－ｎ－ペンチル基、１，１－ジメチル－ｎ－ブチル基、１，２－ジメチル－ｎ－ブチル基、１，３－ジメチル－ｎ－ブチル基、２，２－ジメチル－ｎ－ブチル基、２，３－ジメチル－ｎ－ブチル基、３，３－ジメチル－ｎ－ブチル基、１－エチル－ｎ－ブチル基、２－エチル－ｎ－ブチル基、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロピル基、１，２，２－トリメチル－ｎ－プロピル基、１－エチル－１－メチル－ｎ－プロピル基、１－エチル－２－メチル－ｎ－プロピル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デカニル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、ｎ－エイコシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びシクロヘプチル基等が挙げられる。
　その中でも、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基及びイソブチル基等が好ましい。
　上記式（２）において、Ｒ5が表すアルコキシ基としては、例えば、炭素原子数１乃至２０のアルコキシ基が挙げられ、炭素原子数１乃至５のアルコキシ基が好ましい。
　そのようなアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｎ－ペントキシ基、１－メチル－ｎ－ブトキシ基、２－メチル－ｎ－ブトキシ基、３－メチル－ｎ－ブトキシ基、１，１－ジメチル－ｎ－プロポキシ基、１，２－ジメチル－ｎ－プロポキシ基、２，２－ジメチル－ｎ－プロポキシ基、１－エチル－ｎ－プロポキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、１－メチル－ｎ－ペンチルオキシ基、２－メチル－ｎ－ペンチルオキシ基、３－メチル－ｎ－ペンチルオキシ基、４－メチル－ｎ－ペンチルオキシ基、１，１－ジメチル－ｎ－ブトキシ基、１，２－ジメチル－ｎ－ブトキシ基、１，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ基、２，２－ジメチル－ｎ－ブトキシ基、２，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ基、３，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ基、１－エチル－ｎ－ブトキシ基、２－エチル－ｎ－ブトキシ基、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロポキシ基、１，２，２，－トリメチル－ｎ－プロポキシ基、１－エチル－１－メチル－ｎ－プロポキシ基、１－エチル－２－メチル－ｎ－プロポキシ基、ｎ－ヘプチルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ｎ－ノニルオキシ基、ｎ－デシルオキシ基、ｎ－ウンデシルオキシ基、ｎ－ドデシルオキシ基、ｎ－トリデシルオキシ基、ｎ－テトラデシルオキシ基、ｎ－ペンタデシルオキシ基、ｎ－ヘキサデシルオキシ基、ｎ－ヘプタデシルオキシ基、ｎ－オクタデシルオキシ基、ｎ－ノナデシルオキシ基、ｎ－エイコサデシルオキシ基、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基及びシクロヘプチルオキシ基等が挙げられる。
　その中でも、メトキシ基、エトキシ基及びｎ－プロポキシ基等が好ましい。
　光配向性基に加えて、自己架橋性基をさらに有するか、又は架橋性基をさらに有するアクリル共重合体の合成方法としては、光配向性基を有するモノマーと、自己架橋性基を有するモノマー又は架橋性基を有するモノマーとを重合する方法が簡便である。
　上記自己架橋性基及び架橋性基としては、アルコキシメチルアミド基、ヒドロキシメチルアミド基、アルコキシシリル基、グリシジル基、エポキシシクロヘキシル基、ビニル基、及びブロックイソシアネート基等が挙げられる。かかる自己架橋性基又は架橋性基を（Ａ）成分の樹脂に含有させる場合の含有量は、（Ａ）成分の樹脂における繰り返し単位１単位あたり、０．１乃至０．９個であることが好ましく、配向材の配向性と耐溶剤性とのバランスの観点から、０．１乃至０．８個であることがさらに好ましい。
　自己架橋性基及び架橋性基を有するモノマーとしては、例えば、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド等のヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基で置換された（メタ）アクリルアミド化合物；３－トリメトキシシリルプロピルアクリレート、３－トリエトキシシリルプロピルアクリレート、３－トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、３－トリエトキシシリルプロピルメタクリレート等のトリアルコキシシリル基を有するモノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート等のグリシジル基又はエポキシシクロヘキシル基を有するモノマー；１，２－エポキシ－５－ヘキセン、１，７－オクタジエンモノエポキサイド等のビニル基を有するモノマー；メタクリル酸２－（０－（１’－メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ）エチル、メタクリル酸２－（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ）エチル等のブロックイソシアネート基を有するモノマー等が挙げられる。なお、（メタ）アクリルアミドとは、アクリルアミドとメタクリルアミドの双方を意味する。
　また、本発明の位相差材形成用樹脂組成物に含有される（Ａ）成分は、光配向性基に加えて、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］をさらに有するアクリル共重合体であることが好ましい。
　上記式（２）で表される基としては、例えば、以下の構造等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　光配向性基に加えて、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａをさらに有するアクリル共重合体の合成方法としては、光配向性基を有するモノマーと、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａを有するモノマーとを重合する方法が簡便である。
　ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａを有するモノマーとしては、例えば、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、４－ヒドロキシブチルメタクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピルアクリレート、２，３－ジヒドロキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、カプロラクトン２－（アクリロイルオキシ）エチルエステル、カプロラクトン２－（メタクリロイルオキシ）エチルエステル、ポリ（エチレングリコール）エチルエーテルアクリレート、ポリ（エチレングリコール）エチルエーテルメタクリレート、５－アクリロイルオキシ－６－ヒドロキシノルボルネン－２－カルボキシリック－６－ラクトン、及び５－メタクリロイルオキシ－６－ヒドロキシノルボルネン－２－カルボキシリック－６－ラクトン等のヒドロキシ基を有するモノマー；アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、モノ－（２－（アクリロイルオキシ）エチル）フタレート、モノ－（２－（メタクリロイルオキシ）エチル）フタレート、Ｎ－（カルボキシフェニル）マレイミド、Ｎ－（カルボキシフェニル）メタクリルアミド、及びＮ－（カルボキシフェニル）アクリルアミド等のカルボキシル基を有するもモノマー；ヒドロキシスチレン、Ｎ－（ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ－（ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ－（ヒドロキシフェニル）マレイミド、及びＮ－（ヒドロキシフェニル）マレイミド等のフェノール性ヒドロキシ基を有するモノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ－メチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド等のアミド基を有するモノマー；アミノエチルアクリレート、アミノエチルメタクリレート、アミノプロピルアクリレート、及びアミノプロピルメタクリレート等のアミノ基を有するモノマー；３－アクリロイルオキシトリメトキシシラン、３－アクリロイルオキシトリエトキシシラン、３－メタクリロイルオキシトリメトキシシラン、３－メタクリロイルオキシトリエトキシシラン等のアルコキシシリル基を有するモノマー；２－アセトアセトキシエチルアクリレート、２－アセトアセトキシエチルメタクリレート（エチレングリコールモノアセトアセテートモノメタクリレート）等の上記式（２）で表される基を有するモノマー等が挙げられる。
　また、本発明の位相差材形成用樹脂組成物に含有される（Ａ）成分は、光配向性基に加えて、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］と反応する基（架橋性基）、並びに該少なくとも１つの基Ａをさらに有するアクリル共重合体であることが好ましい。
　光配向性基に加えて、架橋性基、並びにヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａをさらに有するアクリル共重合体の合成方法としては、光配向性基を有するモノマーと、架橋性基を有するモノマーと、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａを有するモノマーとを重合する方法が簡便である。
　なお、光配向性基を有するモノマー、架橋性基を有するモノマー、並びにヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａを有するモノマーは、上述した通りである。
　また、本発明においては、特定共重合体を得る際に、光配向性基を有するモノマー、自己架橋性基を有するモノマー又は架橋性基を有するモノマー、並びにヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基Ａを有するモノマー（以下、光配向性基、自己架橋性基、架橋性基、並びにヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基を特定官能基１ともいう）の他に、これらのモノマーと共重合可能な特定官能基１を有さないモノマーを併用することができる。
　そのようなモノマーの具体例としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
　以下、前記モノマーの具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
　前記アクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルアクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２－メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、３－メトキシブチルアクリレート、２－メチル－２－アダマンチルアクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルアクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルアクリレート、及び８－エチル－８－トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。
　前記メタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルメタクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、２－メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、２－エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、３－メトキシブチルメタクリレート、２－メチル－２－アダマンチルメタクリレート、γ－ブチロラクトンメタクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルメタクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルメタクリレート、及び８－エチル－８－トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。
　前記ビニル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ビニルナフタレン、ビニルカルバゾール、アリルグリシジルエーテル、及び３－エテニル－７－オキサビシクロ［４．１．０］ヘプタン等が挙げられる。
　前記スチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、及びブロモスチレン等が挙げられる。
　前記マレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、及びＮ－シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
　特定共重合体を得るために用いる各モノマーの使用量は、全モノマーの合計量に基づいて、光配向性基を有するモノマーが１０乃至９０モル％、自己架橋性基、基Ａ及び架橋性基から選ばれる置換基（これらをまとめて特定架橋性基１とも称する。これは、光配向性基の末端の置換基も含む。）を有するモノマーが１０乃至９０モル％であることが好ましい。特定架橋性基１を有するモノマーの含有量が１０モル％よりも少ないと、充分な熱硬化性を付与し難く、高感度かつ良好な液晶配向性を維持し難い。
　また、特定共重合体を得る際に特定官能基１を有さないモノマーを併用する場合、その使用量は、全モノマーの合計量に基づいて、９０モル％以下であることが好ましい。
　本発明に用いる特定共重合体を得る方法は特に限定されないが、例えば、特定官能基１を有するモノマーと所望により特定官能基１を有さないモノマーと重合開始剤等とを共存させた溶剤中において、５０乃至１１０℃の温度下で重合反応により得られる。その際、用いられる溶剤は、特定官能基１を有するモノマー、所望により用いられる特定官能基１を有さないモノマー及び重合開始剤等を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述する＜溶剤＞に記載する。
　前記方法により得られる特定共重合体は、通常、溶剤に溶解した溶液の状態である。
　また、上記方法で得られた特定共重合体の溶液を、攪拌下のジエチルエーテルや水等に投入して再沈殿させ、生成した沈殿物を濾過・洗浄した後に、常圧又は減圧下で、常温乾燥又は加熱乾燥し、特定共重合体の粉体とすることができる。前記操作により、特定共重合体と共存する重合開始剤及び未反応のモノマーを除去することができ、その結果、精製した特定共重合体の粉体が得られる。一度の操作で充分に精製できない場合は、得られた粉体を溶剤に再溶解させ、上記の操作を繰り返し行えば良い。
　本発明においては、特定共重合体は粉体形態で、あるいは精製した粉末を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。
　また、本発明においては、（Ａ）成分の特定共重合体は、複数種の特定共重合体の混合物であってもよい。
＜（Ｂ）成分＞
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物には、（Ｂ）成分として架橋剤を含有させることができる。（Ｂ）成分としては、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａと反応する架橋剤が挙げられる。
　（Ｂ）成分である架橋剤としては、エポキシ化合物、メチロール化合物、イソシアネート化合物、フェノプラスト化合物、トリアルコキシシリル基を２個以上有する化合物、アミノ基を有するアルコキシシラン化合物等の化合物、アルコキシ基及び／又はキレート配位子を有する有機金属化合物、Ｎ－アルコキシメチルアクリルアミドの重合体、エポキシ基を有する化合物の重合体、アルコキシシリル基を有する化合物の重合体、イソシアネート基を有する化合物の重合体、及びメラミンホルムアルデヒド樹脂等の重合体が挙げられる。
　上述したエポキシ化合物の具体例としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２，２－ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，５，６－テトラグリシジル－２，４－ヘキサンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，－テトラグリシジル－ｍ－キシレンジアミン、１，３－ビス（Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、及びＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラグリシジル－４、４’－ジアミノジフェニルメタン等が挙げられる。
　上述したメチロール化合物の具体例としては、アルコキシメチル化グリコールウリル、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、及びアルコキシメチル化メラミン等の化合物が挙げられる。
　アルコキシメチル化グリコールウリルの具体例としては、例えば、１，３，４，６－テトラキス（メトキシメチル）グリコールウリル、１，３，４，６－テトラキス（ブトキシメチル）グリコールウリル、１，３，４，６－テトラキス（ヒドロキシメチル）グリコールウリル、１，３－ビス（ヒドロキシメチル）尿素、１，１，３，３－テトラキス（ブトキシメチル）尿素、１，１，３，３－テトラキス（メトキシメチル）尿素、１，３－ビス（ヒドロキシメチル）－４，５－ジヒドロキシ－２－イミダゾリノン、および１，３－ビス（メトキシメチル）－４，５－ジメトキシ－２－イミダゾリノン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック（株）製グリコールウリル化合物（商品名：サイメル（登録商標）１１７０、パウダーリンク（登録商標）１１７４）等の化合物、メチル化尿素樹脂（商品名：ＵＦＲ（登録商標）６５）、ブチル化尿素樹脂（商品名：ＵＦＲ（登録商標）３００、Ｕ－ＶＡＮ１０Ｓ６０、Ｕ－ＶＡＮ１０Ｒ、Ｕ－ＶＡＮ１１ＨＶ）、ＤＩＣ（株）製尿素／ホルムアルデヒド系樹脂（高縮合型、商品名：ベッカミン（登録商標）Ｊ－３００Ｓ、同Ｐ－９５５、同Ｎ）等が挙げられる。
　アルコキシメチル化ベンゾグアナミンの具体例としては、例えば、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック（株）製（商品名：サイメル（登録商標）１１２３）、（株）三和ケミカル製（商品名：ニカラック（登録商標）ＢＸ－４０００、同ＢＸ－３７、同ＢＬ－６０、同ＢＸ－５５Ｈ）等が挙げられる。
　アルコキシメチル化メラミンの具体例としては、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック（株）製メトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：サイメル（登録商標）３００、同３０１、同３０３、同３５０）、ブトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：マイコート（登録商標）５０６、同５０８）、三和ケミカル製メトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：ニカラック（登録商標）ＭＷ－３０、同ＭＷ－２２、同ＭＷ－１１、同ＭＳ－００１、同ＭＸ－００２、同ＭＸ－７３０、同ＭＸ－７５０、同ＭＸ－０３５）、ブトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：ニカラック（登録商標）ＭＸ－４５、同ＭＸ－４１０、同ＭＸ－３０２）等が挙げられる。
　また、このようなアミノ基の水素原子がメチロール基又はアルコキシメチル基で置換されたメラミン化合物、尿素化合物、グリコールウリル化合物及びベンゾグアナミン化合物を縮合させて得られる化合物であってもよい。例えば、米国特許第６３２３３１０号に記載されているメラミン化合物およびベンゾグアナミン化合物から製造される高分子量の化合物が挙げられる。前記メラミン化合物の市販品としては、商品名：サイメル（登録商標）３０３（三井サイテック（株）製）等が挙げられ、前記ベンゾグアナミン化合物の市販品としては、商品名：サイメル（登録商標）１１２３（三井サイテック（株）製）等が挙げられる。
　上述したイソシアネート化合物の具体例としては、例えば、ＶＥＳＴＡＮＡＴ　Ｂ１３５８／１００、ＶＥＳＴＡＧＯＮ　ＢＦ　１５４０（以上、イソシアヌレート型変性ポリイソシアネート、デグサジャパン（株）製）、タケネート（登録商標）Ｂ－８８２Ｎ、同Ｂ－７０７５（以上、イソシアヌレート型変性ポリイソシアネート、三井化学（株）製）等が挙げられる。
　上述したフェノプラスト化合物の具体例としては以下の化合物が挙げられるが、フェノプラスト化合物は以下の化合物例に限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　トリアルコキシシリル基を２個以上有する化合物の具体例としては、例えば、１，４－ビス（トリメトキシシリル）ベンゼン、１，４－ビス（トリエトキシシリル）ベンゼン、４，４’－ビス（トリメトキシシリル）ビフェニル、４，４’－ビス（トリエトキシシリル）ビフェニル、ビス（トリメトキシシリル）エタン、ビス（トリエトキシシリル）エタン、ビス（トリメトキシシリル）メタン、ビス（トリエトキシシリル）メタン、ビス（トリメトキシシリル）エチレン、ビス（トリエトキシシリル）エチレン、１，３－ビス（トリメトキシシリルエチル）テトラメチルジシロキサン、１，３－ビス（トリエトキシシリルエチル）テトラメチルジシロキサン、ビス（トリエトキシシリルメチル）アミン、ビス（トリメトキシシリルメチル）アミン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）アミン、ビス（トリメトキシシリルプロピル）アミン、ビス（３－トリメトキシシリルプロピル）カーボネート、ビス（３－トリエトキシシリルプロピル）カーボネート、ビス［（３－トリメトキシシリル）プロピル］ジスルフィド、ビス［（３－トリエトキシシリル）プロピル］ジスルフィド、ビス［（３－トリメトキシシリル）プロピル］チオウレア、ビス［（３－トリエトキシシリル）プロピル］チオウレア、ビス［（３－トリメトキシシリル）プロピル］ウレア、ビス［（３－トリエトキシシリル）プロピル］ウレア、１，４－ビス（トリメトキシシリルメチル）ベンゼン、１，４－ビス（トリエトキシシリルメチル）ベンゼン、トリス（トリメトキシシリルプロピル）アミン、トリス（トリエトキシシリルプロピル）アミン、１，１，２－トリス（トリメトキシシリル）エタン、１，１，２－トリス（トリエトキシシリル）エタン、トリス（３－トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、及びトリス（３－トリエトキシシリルプロピル）イソシアヌレート等の化合物が挙げられる。
　アミノ基を有するアルコキシシラン化合物の具体例としては、例えば、Ｎ，Ｎ’‐ビス［３－（トリメトキシシリル）プロピル］－１，２－エタンジアミン、Ｎ，Ｎ’‐ビス［３－（トリエトキシシリル）プロピル］－１，２－エタンジアミン、Ｎ－［３－（トリメトキシシリル）プロピル］－１，２－エタンジアミン、Ｎ－［３－（トリエトキシシリル）プロピル］－１，２－エタンジアミン、ビス－｛３－（トリメトキシシリル）プロピル｝アミン、ビス－｛３－（トリエトキシシリル）プロピル｝アミン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、トリメトキシ｛３－（メチルアミノ）プロピルシラン、３－（Ｎ－アリルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、３－（Ｎ－アリルアミノ）プロピルトリエトキシシラン、３－（ジエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、３－（ジエチルアミノ）プロピルトリエトキシシラン、３－（フェニルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、及び３－（フェニルアミノ）プロピルトリエトキシシラン等の化合物が挙げられる。
　アルコキシ基及び／又はキレート配位子を有する有機金属化合物の具体例としては、例えば、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトネートアルミニウム、トリアセチルアセトネートアルミニウム、テトラキスイソプロポキシチタニウム、テトラキスノルマルブトキシチタニウム、テトラオクチルチタネート、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトネート）チタニウム、チタンテトラアセチルアセトネート、テトラキス（ノルマルプロポキシ）ジルコニウム、テトラキス（ノルマルブトキシ）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトネート）ジルコニウム等の化合物が挙げられる。
　さらに、上述したＮ－アルコキシメチルアクリルアミドの重合体としては、例えば、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド等のヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基で置換されたアクリルアミド化合物又はメタクリルアミド化合物を使用して製造されるポリマーが挙げられる。
　そのようなポリマーの具体例としては、例えば、ポリ（Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド）、Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミドとスチレンとの共重合体、Ｎ－ヒドロキシメチルメタクリルアミドとメチルメタクリレートとの共重合体、Ｎ－エトキシメチルメタクリルアミドとベンジルメタクリレートとの共重合体、及びＮ－ブトキシメチルアクリルアミドとベンジルメタクリレートと２－ヒドロキシプロピルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。このようなポリマーの重量平均分子量は、１，０００乃至２００，０００であり、より好ましくは３，０００乃至１５０，０００であり、さらに好ましくは３，０００乃至５０，０００である。
　エポキシ基を有する化合物の重合体としては、例えば、グリシジルメタクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート等のエポキシ基を有する化合物を使用して製造されるポリマーが挙げられる。
　そのようなポリマーの具体例としては、例えば、ポリ（３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート）、ポリ（グリシジルメタクリレート）、グリシジルメタクリレートとメチルメタクリレートとの共重合体、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートとメチルメタクリレートとの共重合体、グリシジルメタクリレートとスチレンとの共重合体等が挙げられる。このようなポリマーの重量平均分子量は、１，０００乃至２００，０００であり、より好ましくは３，０００乃至１５０，０００であり、さらに好ましくは３，０００乃至５０，０００である。
　上述したアルコキシシリル基を有する化合物の重合体としては、例えば、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基を有する化合物を使用して製造されるポリマーが挙げられる。
　そのようなポリマーの具体例としては、例えば、ポリ（３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン）、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシランとスチレンとの共重合体、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシランとメチルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。このようなポリマーの重量平均分子量は、１，０００乃至２００，０００であり、より好ましくは３，０００乃至１５０，０００であり、さらに好ましくは３，０００乃至５０，０００である。なお本明細書において、上記「ポリ（（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン）」は、アルコキシシリル基を有するポリ（メタ）アクリレートを意味する。
　上述したイソシアネート基を有する化合物の重合体としては、例えば、２－イソシアナトエチルメタクリレート（カレンズＭＯＩ［登録商標］、昭和電工（株）製）、２－イソシアナトエチルアクリレート（カレンズＡＯＩ［登録商標］、昭和電工（株）製）等のイソシアネート基を有する化合物、または２－（０－［１’－メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチルメタクリレート（カレンズＭＯＩ－ＢＭ［登録商標］、昭和電工（株）製）、２－［（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート（カレンズＭＯＩ－ＢＰ［登録商標］、昭和電工（株）製）等のブロックイソシアネート基を有する化合物を使用して製造されるポリマーが挙げられる。
　そのようなポリマーの具体例としては、例えば、ポリ（２－イソシアナトエチルアクリレート）、ポリ（２－（０－［１’－メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチルメタクリレート）、２－イソシアナトエチルメタクリレートとスチレンとの共重合体、２－［（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレートとメチルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。このようなポリマーの重量平均分子量は、１，０００乃至２００，０００であり、より好ましくは３，０００乃至１５０，０００であり、さらに好ましくは３，０００乃至５０，０００である。
　上述したメラミンホルムアルデヒド樹脂の具体例としては、メラミンとホルムアルデヒドを重縮合して得られる、下記式で表される樹脂が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 （式中、Ｒ21は水素原子又は炭素原子数１乃至４のアルキル基を表し、ｎは繰り返し単位の数を表す自然数である。）
　（Ｂ）成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂は、保存安定性の観点からメラミンとホルムアルデヒドの重縮合の際に生成したメチロール基がアルキル化されていることが好ましい。
　（Ｂ）成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂を得る方法は特に限定されないが、一般的にメラミンとホルムアルデヒドを混合し、炭酸ナトリウムやアンモニア等を用いて弱アルカリ性にした後６０℃乃至１００℃にて加熱することにより合成される。さらにアルコールと反応させることでメチロール基をアルコキシ化することができる。
　（Ｂ）成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂は、重量平均分子量が２５０乃至５，０００であることが好ましく、３００乃至４，０００であることがより好ましく、３５０乃至３，５００であることがさらに好ましい。重量平均分子量が５０００を超えて過大なものであると、溶剤に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、重量平均分子量が２５０未満で過小なものであると、熱硬化時に硬化不足になり溶剤耐性および耐熱性の向上効果が十分に現れない場合がある。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物において、（Ｂ）成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂は液体形態で、又は精製した液体を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。
　これらの架橋剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物における（Ｂ）成分の架橋剤の含有量は、（Ａ）成分である樹脂と、任意成分である（Ｃ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分との合計量の１００質量部に基づいて０質量部乃至１００質量部であることが好ましく、より好ましくは０質量部乃至８０質量部である。架橋剤の含有量が過大である場合には光配向性及び保存安定性が低下することがある。
＜（Ｃ）成分＞
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物には、（Ｃ）成分としてヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる基Ａ（以下、特定官能基２ともいう。）を少なくとも２つ有する化合物を含有させることができる。（Ｃ）成分は低分子化合物であっても高分子化合物であっても良い。
　（Ｃ）成分である低分子化合物としては、例えば、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、アジピン酸、アジポアミド、ヘキサメチレンジアミン、１，４－ビス（アセトアセチルアミノエチル）シクロヘキサン、１－（４－（２－（４－（３－オキソーブチル）－フェノキシ）－エトキシ）－フェニル）－ブタン－１，３－ジオン、及び１，４－ブタンジオールジアセトアセテート等が挙げられる。
　（Ｃ）成分である高分子化合物としては、例えば、アクリル重合体、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリエステルポリカルボン酸、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリアルキレンイミン、ポリアリルアミン、セルロース類（セルロース又はその誘導体）、フェノールノボラック樹脂等の直鎖構造又は分岐構造を有するポリマー、及びシクロデキストリン類等の環状ポリマー等が挙げられる。
　（Ｃ）成分である高分子化合物としては、好ましくは、アクリル重合体、シクロデキストリン類、セルロース類、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、及びフェノールノボラック樹脂が挙げられる。
　（Ｃ）成分の高分子化合物の好ましい一例であるアクリル重合体としては、アクリル酸、メタクリル酸、スチレン、ビニル化合物等の不飽和二重結合を有するモノマーを重合して得られる重合体であって、基Ａを含むモノマー又はその混合物を重合させることにより得られる重合体であればよく、アクリル重合体を構成する高分子の主鎖の骨格および側鎖の種類などについて特に限定されない。
　基Ａを含むモノマーとしては、ポリエチレングリコールエステル基を有するモノマー、炭素原子数２乃至５のヒドロキシアルキルエステル基を有するモノマー、フェノール性ヒドロキシ基を有するモノマー、カルボキシル基を有するモノマー、アミド基を有するモノマー、アミノ基を有するモノマー、及び上記式（２）で表される基を有するモノマー等が挙げられる。
　上述したポリエチレングリコールエステル基を有するモノマーとしては、例えば、Ｈ－（ＯＣＨ2ＣＨ2）ｎ－ＯＨのモノアクリレート又はモノメタクリレートが挙げられる。そのｎの値は２乃至５０であり、好ましくは２乃至１０である。
　上述した炭素原子数２乃至５のヒドロキシアルキルエステル基を有するモノマーとしては、例えば、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、及び４－ヒドロキシブチルメタクリレート等が挙げられる。
　上述したフェノール性ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えば、ｐ－ヒドロキシスチレン、ｍ－ヒドロキシスチレン、及びｏ－ヒドロキシスチレン等が挙げられる。
　上述したカルボキシル基を有するモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、及びビニル安息香酸等が挙げられる。
　上述したアミド基を有するモノマーとしては、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド等が挙げられる。
　上述したアミノ基を有するモノマーとしては、例えば、２－アミノエチルアクリレート、２－アミノエチルメタクリレート、アミノプロピルアクリレート、及びアミノプロピルメタクリレート等が挙げられる。
　上述したアルコキシシリル基を有するモノマーとしては、例えば、３－アクリロイルオキシトリメトキシシラン、３－アクリロイルオキシトリエトキシシラン、３－メタクリロイルオキシトリメトキシシラン、３－メタクリロイルオキシトリエトキシシラン等が挙げられる。
　上述した上記式（２）で表される基を有するモノマーとしては、２－アセトアセトキシエチルアクリレート、２－アセトアセトキシエチルメタクリレート等が挙げられる。
　また、本発明においては、（Ｃ）成分の例であるアクリル重合体を合成するに際し、本発明の効果を損なわない限り、特定官能基２を有さないモノマーを併用することができる。
　そのようなモノマーの具体例としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
　アクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルアクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２－メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、３－メトキシブチルアクリレート、２－メチル－２－アダマンチルアクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルアクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルアクリレート、及び８－エチル－８－トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。
　メタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルメタクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、２－メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、２－エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、３－メトキシブチルメタクリレート、２－メチル－２－アダマンチルメタクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルメタクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルメタクリレート、及び８－エチル－８－トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。
　マレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、及びＮ－シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
　スチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等が挙げられる。
　ビニル化合物としては、例えば、ビニルエーテル、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、及びプロピルビニルエーテル等が挙げられる。
　（Ｃ）成分の例であるアクリル重合体を得るために用いる特定官能基２を有するモノマーの使用量は、（Ｃ）成分であるアクリル重合体を得るために用いる全モノマーの合計量に基づいて、２モル％乃至１００モル％であることが好ましい。特定官能基２を有するモノマーが過小の場合は、得られる硬化膜の液晶配向性が不充分となる。
　また、アクリル重合体を得る際に特定官能基２を有さないモノマーを併用する場合、その使用量は、全モノマーの合計量に基づいて、９８モル％以下であることが好ましい。
　（Ｃ）成分の例であるアクリル重合体を得る方法は特に限定されないが、例えば、特定官能基２を有するモノマーと、所望により特定官能基２を有さないモノマーと、重合開始剤等とを共存させた溶剤中において、５０℃乃至１１０℃の温度下で重合反応により得られる。その際、用いられる溶剤は、特定官能基２を有するモノマーと、所望により用いられる特定官能基２を有さないモノマーおよび重合開始剤等を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述する＜溶剤＞の項に記載する。
　以上の方法により得られる（Ｃ）成分の例であるアクリル重合体は、通常、溶剤に溶解した溶液の状態である。
　また、上記方法で得られた（Ｃ）成分の例であるアクリル重合体の溶液を、攪拌下のジエチルエーテルや水等に投入して再沈殿させ、生成した沈殿物を濾過・洗浄した後に、常圧又は減圧下で、常温乾燥又は加熱乾燥し、（Ｃ）成分の例であるアクリル重合体の粉体とすることができる。上述の操作により、（Ｃ）成分の例であるアクリル重合体と共存する重合開始剤及び未反応のモノマーを除去することができ、その結果、精製した（Ｃ）成分の例であるアクリル重合体の粉体が得られる。一度の操作で充分に精製できない場合は、得られた粉体を溶剤に再溶解させ、上述の操作を繰り返し行えば良い。
　（Ｃ）成分の好ましい例であるアクリル重合体は、重量平均分子量が３，０００乃至２００，０００であることが好ましく、４，０００乃至１５０，０００であることがより好ましく、５，０００乃至１００，０００であることがさらに好ましい。重量平均分子量が２００，０００を超えて過大なものであると、溶剤に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、重量平均分子量が３，０００未満で過小なものであると、熱硬化時に硬化不足になり溶剤耐性および耐熱性が低下する場合がある。
　（Ｃ）成分の高分子化合物の好ましい一例であるシクロデキストリン類としては、α－シクロデキストリン、β－シクロデキストリン及びγ－シクロデキストリン等のシクロデキストリン；メチル－α－シクロデキストリン、メチル－β－シクロデキストリン、及びメチル－γ－シクロデキストリン等のメチル化シクロデキストリン；ヒドロキシメチル－α－シクロデキストリン、ヒドロキシメチル－β－シクロデキストリン、ヒドロキシメチル－γ－シクロデキストリン、２－ヒドロキシエチル－α－シクロデキストリン、２－ヒドロキシエチル－β－シクロデキストリン、２－ヒドロキシエチル－γ－シクロデキストリン、２－ヒドロキシプロピル－α－シクロデキストリン、２－ヒドロキシプロピル－β－シクロデキストリン、２－ヒドロキシプロピル－γ－シクロデキストリン、３－ヒドロキシプロピル－α－シクロデキストリン、３－ヒドロキシプロピル－β－シクロデキストリン、３－ヒドロキシプロピル－γ－シクロデキストリン、２，３－ジヒドロキシプロピル－α－シクロデキストリン、２，３－ジヒドロキシプロピル－β－シクロデキストリン、及び２，３－ジヒドロキシプロピル－γ－シクロデキストリン等のヒドロキシアルキルシクロデキストリン等が挙げられ、例えば、ヒドロキシアルキルシクロデキストリンが好ましい。
　（Ｃ）成分の高分子化合物の好ましい一例であるセルロース類としては、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシアルキルセルロース類、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルエチルセルロース等のヒドロキシアルキルアルキルセルロース類及びセルロース等が挙げられ、例えば、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシアルキルセルロース類が好ましい。
　次に、（Ｃ）成分の高分子化合物の好ましい一例であるポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロピレングリコールやビスフェノールＡ、トリエチレングリコール、ソルビトール等の多価アルコールにプロピレンオキサイドやポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等を付加したものが挙げられる。ポリエーテルポリオールの具体例としては、ＡＤＥＫＡ製アデカポリエーテルＰシリーズ、Ｇシリーズ、ＥＤＰシリーズ、ＢＰＸシリーズ、ＦＣシリーズ、ＣＭシリーズ、日油製ユニオックス（登録商標）ＨＣ－４０、ＨＣ－６０、ＳＴ－３０Ｅ、ＳＴ－４０Ｅ、Ｇ－４５０、Ｇ－７５０、ユニオール（登録商標）ＴＧ－３３０、ＴＧ－１０００、ＴＧ－３０００、ＴＧ－４０００、ＨＳ－１６００Ｄ、ＤＡ－４００、ＤＡ－７００、ＤＢ－４００、ノニオン（登録商標）ＬＴ－２２１、ＳＴ－２２１、ＯＴ－２２１等が挙げられる。
　（Ｃ）成分の高分子化合物の好ましい一例であるポリエステルポリオールとしては、アジピン酸、セバシン酸、イソフタル酸等の多価カルボン酸にエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジオールを反応させたものが挙げられる。ポリエステルポリオールの具体例としては、ＤＩＣ製ポリライト（登録商標）ＯＤ－Ｘ－２８６、ＯＤ－Ｘ－１０２、ＯＤ－Ｘ－３５５、ＯＤ－Ｘ－２３３０、ＯＤ－Ｘ－２４０、ＯＤ－Ｘ－６６８、ＯＤ－Ｘ－２１０８、ＯＤ－Ｘ－２３７６、ＯＤ－Ｘ－２０４４、ＯＤ－Ｘ－６８８、ＯＤ－Ｘ－２０６８、ＯＤ－Ｘ－２５４７、ＯＤ－Ｘ－２４２０、ＯＤ－Ｘ－２５２３、ＯＤ－Ｘ－２５５５、ＯＤ－Ｘ－２５６０、クラレ製ポリオールＰ－５１０、Ｐ－１０１０、Ｐ－２０１０、Ｐ－３０１０、Ｐ－４０１０、Ｐ－５０１０、Ｐ－６０１０、Ｆ－５１０、Ｆ－１０１０、Ｆ－２０１０、Ｆ－３０１０、Ｐ－１０１１、Ｐ－２０１１、Ｐ－２０１３、Ｐ－２０３０、Ｎ－２０１０、ＰＮＮＡ－２０１６等が挙げられる。
　（Ｃ）成分の高分子化合物の好ましい一例であるポリカーボネートポリオールとしては、トリメチロールプロパンやエチレングリコール等の多価アルコールに炭酸ジエチル、炭酸ジフェニルやエチレンカーボネート等を反応させたものが挙げられる。ポリカーボネートポリオールの具体例としてはダイセル化学製プラクセル（登録商標）ＣＤ２０５、ＣＤ２０５ＰＬ、ＣＤ２１０、ＣＤ２２０、クラレ製ポリカーボネートジオールＣ－５９０、Ｃ－１０５０、Ｃ－２０５０、Ｃ－２０９０、Ｃ－３０９０等が挙げられる。
　（Ｃ）成分の高分子化合物の好ましい一例であるポリカプロラクトンポリオールとしては、トリメチロールプロパンやエチレングリコール等の多価アルコールを開始剤としてε－カプロラクトンを開環重合させたものが挙げられる。ポリカプロラクトンポリオールの具体例としてはＤＩＣ製ポリライト（登録商標）ＯＤ－Ｘ－２１５５、ＯＤ－Ｘ－６４０、ＯＤ－Ｘ－２５６８、ダイセル化学製プラクセル（登録商標）２０５、Ｌ２０５ＡＬ、２０５Ｕ、２０８、２１０、２１２、Ｌ２１２ＡＬ、２２０、２３０、２４０、３０３、３０５、３０８、３１２、３２０等が挙げられる。
　（Ｃ）成分の高分子化合物の好ましい一例であるフェノールノボラック樹脂としては、例えば、フェノール－ホルムアルデヒド重縮合物等が挙げられる。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物において、（Ｃ）成分の化合物は、粉体形態で、又は精製した粉末を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。
　また、本発明の位相差材形成用樹脂組成物において、（Ｃ）成分は、一種単独であってもよいし、（Ｃ）成分として例示された化合物の複数種の混合物であってもよい。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物における（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分の樹脂と、（Ｂ）成分の架橋剤と、後述する（Ｅ）成分の化合物と、（Ｆ）成分のモノマーとの合計１００質量部に基づいて、０質量部乃至２００質量部であることが好ましく、より好ましくは０質量部乃至１５０質量部である。（Ｃ）成分の含有量が過大である場合には光配向性が低下することがある。
＜（Ｄ）成分＞
　本実施の形態の位相差材用形成用組成物は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分に加えて、（Ｄ）成分として架橋触媒をさらに含有することができる。
　（Ｄ）成分である架橋触媒としては、例えば、酸又は熱酸発生剤が挙げられる。この（Ｄ）成分は、本発明の位相差材形成用樹脂組成物を用いて形成される硬化膜において、熱硬化反応の促進に有効となる。
　（Ｄ）成分として酸又は熱酸発生剤を用いる場合、（Ｄ）成分は、スルホン酸基含有化合物、塩酸又はその塩、及びプリベーク又はポストベーク時に熱分解して酸を発生する化合物、すなわち温度８０℃乃至２５０℃で熱分解して酸を発生する化合物であれば特に限定されるものではない。
　そのような化合物としては、例えば、塩酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ペンタンスルホン酸、オクタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、カンファスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ－フェノールスルホン酸、２－ナフタレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ｐ－キシレン－２－スルホン酸、ｍ－キシレン－２－スルホン酸、４－エチルベンゼンスルホン酸、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロ（２－エトキシエタン）スルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタン－１－スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸又はその水和物や塩等が挙げられる。
　熱により酸を発生する化合物としては、例えば、ビス（トシルオキシ）エタン、ビス（トシルオキシ）プロパン、ビス（トシルオキシ）ブタン、ｐ－ニトロベンジルトシレート、ｏ－ニトロベンジルトシレート、１，２，３－フェニレントリス（メチルスルホネート）、ｐ－トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、ｐ－トルエンスルホン酸モルフォニウム塩、ｐ－トルエンスルホン酸エチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸プロピルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸ブチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸イソブチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸メチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸フェネチルエステル、シアノメチルｐ－トルエンスルホネート、２，２，２－トリフルオロエチルｐ－トルエンスルホネート、２－ヒドロキシブチルｐ－トルエンスルホネート、Ｎ－エチル－ｐ－トルエンスルホンアミド、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 等が挙げられる。
　また、熱により酸を発生する化合物の市販品としては、ＴＡ１００、ＴＡ１２０、ＴＡ１６０（以上、サンアプロ（株）製）、Ｋ－ＰＵＲＥ〔登録商標〕ＴＡＧ２６８９、同ＴＡＧ２６９０、同ＣＸＣ１６１４、同ＣＸＣ１７３８（以上、Ｋｉｎｇ　Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ　Ｉｎｃ．製）、サンエイドＳＩ－１００Ｌ、同ＳＩ－１８０Ｌ（以上、三新化学工業（株）製）等が挙げられる。
　この他に（Ｄ）成分である架橋触媒としては、例えば、金属キレート化合物、シラノール化合物を挙げることができる。（Ｄ）成分の金属キレート化合物とシラノール化合物は組み合わせて用いることで、本発明の位相差材形成用樹脂組成物を用いて形成される硬化膜において、熱硬化反応の促進に有効となる。
　金属キレート化合物としては、例えば、ジルコニウム化合物、チタニウム化合物、アルミニウム化合物が挙げられ、より具体的にはジイソプロピルチタンジアセチルアセトネート、チタンテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトネートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトネート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム［トリス（２，４－ペンタンジオナト）アルミニウム（ＩＩＩ）］、モノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム等が挙げられる。
　シラノール化合物としては、例えば、トリフェニルシラノール、トリメチルシラノール、トリエチルシラノール、１，１，３，３－テトラフェニル－１，３－ジシロキサンジオール、１，４－ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼン等が挙げられる。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物における（Ｄ）成分の含有量は、（Ａ）成分の樹脂と、（Ｂ）成分の架橋剤と、（Ｃ）成分の化合物と、後述する（Ｅ）成分の化合物及び（Ｆ）成分のモノマーとの合計量の１００質量部に対して、好ましくは０質量部乃至２０質量部、より好ましくは０質量部乃至１５質量部、更に好ましくは０質量部乃至１０質量部である。（Ｄ）成分の含有量が２０質量部より多い場合、組成物の保存安定性が低下する場合がある。
＜（Ｅ）成分＞
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分のいずれかと熱架橋可能な基と重合性基とを有する化合物、すなわち、１つ以上の重合性基と、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ又は該少なくとも１つの基Ａと反応する１つ以上の基とを有する化合物を（Ｅ）成分として含有することができる。
　（Ｅ）成分を含有する本発明の位相差材形成用樹脂組成物から形成される硬化膜を配向材として用いた場合に、（Ｅ）成分の化合物は、硬化膜上に形成される硬化された重合性液晶の層との間の密着性を強化する、すなわち密着性向上成分として作用する。
　（Ｅ）成分の化合物としては、好ましくは、Ｃ＝Ｃ二重結合を含む重合性基とヒドロキシ基を有する化合物、及びＣ＝Ｃ二重結合を含む重合性基とＮ－アルコキシメチル基を有する化合物である。Ｃ＝Ｃ二重結合を含む重合性基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基、及びマレイミド基等が挙げられる。
　以下に、（Ｅ）成分のＣ＝Ｃ二重結合を含む重合性基とヒドロキシ基とを有する化合物の好ましい例を挙げる。なお、（Ｅ）成分の化合物は、以下の化合物例に限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 （式中、Ｒ41は水素原子又はメチル基を表し、ｍは１乃至１０の整数を表す。）
　（Ｅ）成分のＣ＝Ｃ二重結合を含む重合性基とＮ－アルコキシメチル基とを有する化合物において、Ｎ－アルコキシメチル基のＮ、すなわち窒素原子としては、アミドの窒素原子、チオアミドの窒素原子、ウレアの窒素原子、チオウレアの窒素原子、ウレタンの窒素原子、含窒素へテロ環の窒素原子の隣接位に結合した窒素原子等が挙げられる。従って、Ｎ－アルコキシメチル基としては、アミドの窒素原子、チオアミドの窒素原子、ウレアの窒素原子、チオウレアの窒素原子、ウレタンの窒素原子、含窒素へテロ環の窒素原子の隣接位に結合した窒素原子等から選ばれる窒素原子にアルコキシメチル基が結合した構造が挙げられる。
　（Ｅ）成分のＣ＝Ｃ二重結合を含む重合性基とＮ－アルコキシメチル基を有する化合物としては、上記の基を有するものであればよいが、好ましくは、例えば下記の式（ｘ）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 （式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は水素原子、若しくは炭素原子数１乃至１０の直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す）
　上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、１－メチル－ｎ－ブチル基、２－メチル－ｎ－ブチル基、３－メチル－ｎ－ブチル基、１，１－ジメチル－ｎ－プロピル基、１，２－ジメチル－ｎ－プロピル基、２，２－ジメチル－ｎ－プロピル基、１－エチル－ｎ－プロピル基、ｎ－ヘキシル基、１－メチル－ｎ－ペンチル基、２－メチル－ｎ－ペンチル基、３－メチル－ｎ－ペンチル基、４－メチル－ｎ－ペンチル基、１，１－ジメチル－ｎ－ブチル基、１，２－ジメチル－ｎ－ブチル基、１，３－ジメチル－ｎ－ブチル基、２，２－ジメチル－ｎ－ブチル基、２，３－ジメチル－ｎ－ブチル基、３，３－ジメチル－ｎ－ブチル基、１－エチル－ｎ－ブチル基、２－エチル－ｎ－ブチル基、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロピル基、１，２，２－トリメチル－ｎ－プロピル基、１－エチル－１－メチル－ｎ－プロピル基、１－エチル－２－メチル－ｎ－プロピル基、ｎ－ヘプチル基、１－メチル－ｎ－ヘキシル基、２－メチル－ｎ－ヘキシル基、３－メチル－ｎ－ヘキシル基、１，１－ジメチル－ｎ－ペンチル基、１，２－ジメチル－ｎ－ペンチル基、１，３－ジメチル－ｎ－ペンチル基、２，２－ジメチル－ｎ－ペンチル基、２，３－ジメチル－ｎ－ペンチル基、３，３－ジメチル－ｎ－ペンチル基、１－エチル－ｎ－ペンチル基、２－エチル－ｎ－ペンチル基、３－エチル－ｎ－ペンチル基、１－メチル－１－エチル－ｎ－ブチル基、１－メチル－２－エチル－ｎ－ブチル基、１－エチル－２－メチル－ｎ－ブチル基、２－メチル－２－エチル－ｎ－ブチル基、２－エチル－３－メチル－ｎ－ブチル基、ｎ－オクチル基、１－メチル－ｎ－ヘプチル基、２－メチル－ｎ－ヘプチル基、３－メチル－ｎ－ヘプチル基、１，１－ジメチル－ｎ－ヘキシル基、１，２－ジメチル－ｎ－ヘキシル基、１，３－ジメチル－ｎ－ヘキシル基、２，２－ジメチル－ｎ－ヘキシル基、２，３－ジメチル－ｎ－ヘキシル基、３，３－ジメチル－ｎ－ヘキシル基、１－エチル－ｎ－ヘキシル基、２－エチル－ｎ－ヘキシル基、３－エチル－ｎ－ヘキシル基、１－メチル－１－エチル－ｎ－ペンチル基、１－メチル－２－エチル－ｎ－ペンチル基、１－メチル－３－エチル－ｎ－ペンチル基、２－メチル－２－エチル－ｎ－ペンチル基、２－メチル－３－エチル－ｎ－ペンチル基、３－メチル－３－エチル－ｎ－ペンチル基、ｎ－ノニル基、及びｎ－デシル基等が挙げられる。
　上記式（ｘ）で表される化合物の具体例としては、Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ－イソブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ－メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ－メトキシメチルメタクリルアミド、及びＮ－メチロールアクリルアミド等が挙げられる。
　（Ｅ）成分のＣ＝Ｃ二重結合を含む重合性基とＮ－アルコキシメチル基を有する化合物の別の態様としては、好ましくは、例えば下記の式（Ｘ２）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 （式中、Ｒ11は水素原子又はメチル基を表す。Ｒ13及びＲ14はそれぞれ独立に炭素原子数２乃至２０の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基、炭素原子数５乃至６の脂肪族環基、又は炭素原子数５乃至６の脂肪族環を含む脂肪族基を表し、これらの基の一つのメチレン基または隣り合わない複数のメチレン基がエーテル結合に置き換わっていてもよい。Ｒ12は炭素原子数１乃至２０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素原子数５乃至６の脂肪族環基、又は炭素原子数５乃至６の脂肪族環を含む脂肪族基を表し、これらの基の一つのメチレン基または隣り合わない複数のメチレン基がエーテル結合に置き換わっていてもよい。Ｚは＞ＮＣＯＯ－、または－ＯＣＯＮ＜（ここで「－」は結合手が１つであることを示す。また、「＞」「＜」は結合手が２つであることを示し、かつ、どちらか１つの結合手は－ＣＨ2ＯＲ12と結合していることを示す。）を表す。ｒは２以上９以下の自然数である。）
　Ｒ13及びＲ14の定義における炭素原子数２乃至２０のアルキレン基の具体例としては、炭素原子数２乃至２０のアルキル基から、さらに１乃至８個の水素原子を取り去った２価乃至９価の基が挙げられる。
　当該炭素原子数２乃至２０のアルキル基の具体例としては、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、１－メチル－ｎ－ブチル基、２－メチル－ｎ－ブチル基、３－メチル－ｎ－ブチル基、１，１－ジメチル－ｎ－プロピル基、ｎ－ヘキシル基、１－メチル－ｎ－ペンチル基、２－メチル－ｎ－ペンチル基、１，１－ジメチル－ｎ－ブチル基、１－エチル－ｎ－ブチル基、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロピル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基、ｎ－ヘキサデシル基、ｎ－ヘプタデシル基、ｎ－オクタデシル基、ｎ－ノナデシル基、ｎ－エイコシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、それらの一種または複数種が炭素原子数２０までの範囲で結合した基と、これらの基の一つのメチレン基または隣り合わない複数のメチレン基がエーテル結合に置き換わった基等が一例として挙げられる。
　これらのうち、炭素原子数２乃至１０のアルキレン基が好ましく、原料の入手性等の点から、Ｒ13がエチレン基であり、Ｒ14がヘキシレン基であることが特に好ましい。
　Ｒ12の定義における炭素原子数１乃至２０のアルキル基の具体例としては、上記炭素原子数２乃至２０のアルキル基の具体例及びメチル基が挙げられる。これらのうち、炭素原子数１乃至６のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基またはｎ－ブチル基が特に好ましい。
　ｒとしては、２以上９以下の自然数が挙げられるが、中でも、２乃至６が好ましい。
　化合物（Ｘ２）は、下記の反応スキームで表される製造方法により得られる。すなわち、下記式（Ｘ２－１）で表されるアクリルまたはメタクリル基を有するカルバメート化合物（以下、化合物（Ｘ２－１）とも言う）を、トリメチルシリルクロリドとパラホルムアルデヒドとを加えた溶媒中で反応させて下記式（Ｘ２－２）で表される中間体を合成し、その反応液へＲ12－ＯＨで表されるアルコールを加えて反応させることにより製造される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
　式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｚ及びｒは前記の意味を表し、Ｘは－ＮＨＣＯＯ－または－ＯＣＯＮＨ－を表す。
　化合物（Ｘ２－１）に対するトリメチルシリルクロリドとパラホルムアルデヒドの使用量は特に限定されないが、反応を完結させるため、分子中のカルバメート結合１つに対し、トリメチルシリルクロリドは１．０乃至６．０当量倍、パラホルムアルデヒドは１．０乃至３．０当量倍使用することが好ましく、トリメチルシリルクロリドの使用当量はパラホルムアルデヒドの使用当量より多いことがより好ましい。
　反応溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限定はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類；塩化メチレン、四塩化炭素、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４－ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等の含窒素非プロトン性極性溶媒；ピリジン、ピコリン等のピリジン類等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いても、これらのうちの２種類以上を混合して用いても良い。好ましくは塩化メチレン、クロロホルムであり、さらに好ましくは塩化メチレンである。
　溶媒の使用量（反応濃度）は特に限定されないが、溶媒を用いずに反応を実施してもよく、また溶媒を使用する場合には化合物（Ｘ２－１）に対して０．１乃至１００質量倍の溶媒を用いてもよい。好ましくは１乃至３０質量倍であり、さらに好ましくは２乃至２０質量倍である。
　反応温度は特に限定されないが、例えば－９０乃至２００℃、好ましくは－２０乃至１００℃で、さらに好ましくは－１０乃至５０℃である。
　反応時間は、通常、０．０５乃至２００時間、好ましくは０．５乃至１００時間である。
　反応は、常圧または加圧下で行うことができ、また回分式でも連続式でもよい。
　反応させる際に、重合禁止剤を添加してもよい。そのような重合禁止剤としてはＢＨＴ（２，６－ジ－ターシャリーブチル－パラ－クレゾール）やハイドロキノン、パラ－メトキシフェノールなどを用いることができ、アクリル基、メタクリル基の重合を阻害するものであれば特に限定はされない。
　重合禁止剤を添加する場合の添加量は特に限定されないが、化合物（Ｘ２－１）の総使用量（質量）に対し、０．０００１乃至１０ｗｔ％であり、好ましくは０．０１乃至１ｗｔ％である。本明細書においてｗｔ％とは質量％を意味する。
　中間体（Ｘ２－２）にアルコールを反応させる工程においては、酸性条件下の加水分解を抑制するため塩基を加えてもよい。塩基の例としてはピリジン、ピコリン等のピリジン類や、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン等の第３級アミン等が挙げられる。好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンであり、より好ましくはトリエチルアミンである。塩基を添加する場合の添加量は、特に限定はされないが、反応時に用いたトリメチルシリルクロリドの添加量に対し、０．０１乃至２．０当量倍使用すればよく、より好ましくは０．５乃至１．０当量である。
　また、化合物（Ｘ２－１）から中間体（Ｘ２－２）を得た後、中間体（Ｘ２－２）を単離することなく、アルコールを添加して反応させてもよい。
　化合物（Ｘ２－１）の合成法は特に限定されないが、（メタ）アクリロイルオキシアルキルイソシアネートとポリオール化合物とを反応させるか、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物とを反応させることにより、製造することが出来る。
　（メタ）アクリロイルオキシアルキルイソシアネートの具体例としては、例えば２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（昭和電工（株）製，商品名：カレンズＭＯＩ［登録商標］）、２－アクリロイルオキシエチルイソシアネ－ト（昭和電工（株）製，商品名：カレンズＡＯＩ［登録商標］）などが挙げられる。
　ポリオール化合物の具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノールなどのジオール化合物、グリセリン、トリメチロールプロパンなどのトリオール化合物、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ジグリセリンなどが挙げられる。
　ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、４－ヒドロキシブチルメタクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、ポリ（エチレングリコール）エチルエーテルアクリレート、ポリ（エチレングリコール）エチルエーテルメタクリレート等のヒドロキシ基を有するモノマー等が挙げられる。
　ポリイソシアネート化合物の具体例としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、４，４’－メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、ω，ω’－ジイソシアネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１－ウンデカントリイソシアネート、１，８－ジイソシアネート－４－イソシアネートメチルオクタン、１，３，６－ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート等のトリイソシアネート等が挙げられる。
　これらの（メタ）アクリロイルオキシアルキルイソシアネート化合物、ポリオール化合物、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート化合物およびポリイソシアネート化合物は一般に市販されており、また、公知の方法によって合成することができる。
　また、本発明の位相差材形成用樹脂組成物において、（Ｅ）成分は、（Ｅ）成分の化合物の複数種の混合物であってもよい。
　（Ｅ）成分を含有する本発明の位相差材形成用樹脂組成物から形成される硬化膜を液晶配向膜として用いる場合、（Ｅ）成分の化合物は液晶配向膜（硬化膜）とその上に形成される重合性液晶の層との密着性が向上するよう、重合性液晶の重合性官能基と液晶配向膜に含まれる架橋反応部位とを共有結合によりリンクさせることができる。その結果、本実施形態の配向材上に硬化した重合性液晶を積層してなる本実施形態の位相差材は、高温高質の条件下でも、強い密着性を維持することができ、剥離等に対する高い耐久性を示すことができる。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物における（Ｅ）成分の含有量は、（Ａ）成分の樹脂と、（Ｂ）成分の架橋剤と、（Ｃ）成分の化合物と、（Ｄ）成分の架橋触媒及び後述する（Ｆ）成分のモノマーの合計１００質量部に対して、好ましくは０質量部乃至８０質量部であり、更に好ましくは０質量部乃至５０質量部である。（Ｅ）成分の含有量が８０質量部より多い場合、硬化膜の光配向性、耐溶剤性が低下する場合がある。
＜（Ｆ）成分＞
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、（Ｆ）成分として熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基と、１つ以上の重合性基とを有するモノマーを含有することができる。
　（Ｆ）成分のモノマーは、本発明の位相差材形成用樹脂組成物から形成される硬化膜を配向材として用いた場合に、その上に形成される硬化された重合性液晶の層との間の密着性を強化する、すなわち密着性向上成分として作用する。
　（Ｆ）成分のモノマーにおける、熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基は、段落［００３３］乃至［００３９］に記載した通りである。
　（Ｆ）成分のモノマーとしては、好ましくは、熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基と、Ｃ＝Ｃ二重結合を含む重合性基とを有するモノマーである。
　熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基としては、下記式（１）で表される構造を含む有機基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 （式中、Ｒはヒドロキシ基、アミノ基、ヒドロキシフェノキシ基、カルボキシルフェノキシ基、アミノフェノキシ基、アミノカルボニルフェノキシ基、フェニルアミノ基、ヒドロキシフェニルアミノ基、カルボキシルフェニルアミノ基、アミノフェニルアミノ基、ヒドロキシアルキルアミノ基またはビス（ヒドロキシアルキル）アミノ基を表し、Ｘ1は任意の置換基で置換されていても良いフェニレン基を表し、これらの置換基の定義におけるベンゼン環は置換基で置換されていてもよい。）
　上記任意の置換基は段落［００４２］に、また上記ベンゼン環が置換基で置換されていてもよい場合の置換基は段落［００４３］に記載した通りである。
　その中でも、式（１）において、Ｒがヒドロキシ基又はアミノ基を表し、Ｘ1が任意の置換基で置換されていてもよいフェニレン基を表す構造を含む有機基が好ましい。
　また、Ｃ＝Ｃ二重結合を含む重合性基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基、及びマレイミド基等が挙げられる。
　（Ｆ）成分のモノマーとしては、例えば、４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）けい皮酸、４－（３－メタクリルオキシプロピル－１－オキシ）けい皮酸、及び４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）シンナムアミド等が挙げられる。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物における（Ｆ）成分の含有量は、（Ａ）成分の樹脂と、（Ｂ）成分の架橋剤と、（Ｃ）成分の化合物と、及び（Ｄ）成分の架橋触媒１００質量部に対して、好ましくは０質量部乃至４０質量部であり、更に好ましくは０質量部乃至３０質量部である。（Ｆ）成分の含有量が４０質量部より多い場合、硬化膜の耐溶剤性が低下する場合がある。
＜溶剤＞
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、主として溶剤に溶解した溶液状態で用いられる。その際に使用する溶剤は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分、所望により、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、及び／又は、後述するその他添加剤を溶解できればよく、その種類及び構造などは特に限定されるものでない。
　溶剤の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｎ－ペンタノール、２-メチル－１-ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、３－メチル－２－ペンタノン、２－ペンタノン、２－ヘプタノン、γ－ブチロラクトン、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２－ヒドロキシ－３－メチルブタン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、シクロペンチルメチルエーテル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、及びＮ－メチルピロリドン等が挙げられる。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物を用いて、フィルム上で硬化膜を形成して配向材を製造する場合は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ－プロパノール、ｎ－ブタノール、２-メチル－１-ブタノール、２－ヘプタノン、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等は、フィルムが耐性を示す溶媒であるという点から好ましい。
　これらの溶剤は、１種単独で又は２種以上の組合せで使用することができる。
＜その他添加剤＞
　さらに、本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、増感剤、密着向上剤、シランカップリング剤、界面活性剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤等を含有することができる。
　例えば、増感剤は、本発明の位相差材形成用樹脂組成物を用いて熱硬化膜を形成した後、光反応を促進することにおいて有効である。
　その他添加剤の一例であるの増感剤としては、ベンゾフェノン、アントラセン、アントラキノン、チオキサントン等及びその誘導体、並びにニトロフェニル化合物等が挙げられる。これらのうち、ベンゾフェノン誘導体及びニトロフェニル化合物が好ましい。好ましい化合物の具体例として、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノベンゾフェノン、２－ニトロフルオレン、２－ニトロフルオレノン、５－ニトロアセナフテン、４－ニトロビフェニル、４－ニトロケイ皮酸、４－ニトロスチルベン、４－ニトロベンゾフェノン、及び５－ニトロインドール等が挙げられる。特に、ベンゾフェノンの誘導体であるＮ，Ｎ－ジエチルアミノベンゾフェノンが好ましい。
　これらの増感剤は上記のものに限定されるものではない。また、増感剤は単独で又は２種以上の化合物を組み合わせて併用することが可能である。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物における増感剤の使用割合は、成分（Ａ）～成分（Ｆ）の合計１００質量部に対して０．１質量部乃至２０質量部であることが好ましく、より好ましくは０．２質量部乃至１０質量部である。この割合が過小である場合には、増感剤としての効果を充分に得られない場合があり、過大である場合には透過率の低下および塗膜の荒れが生じることがある。
＜位相差材形成用樹脂組成物の調製＞
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、（Ａ）成分である樹脂と、（Ｂ）成分である架橋剤を含有する。本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分に加えて、さらに、（Ｃ）成分としてヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる基Ａを少なくとも２つ有する化合物、（Ｄ）成分として架橋触媒、（Ｅ）成分として１つ以上の重合性基と、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ又は該少なくとも１つの基Ａと反応する１つ以上の基とを有する化合物並びに（Ｆ）成分として熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基と、１つ以上の重合性基とを有するモノマーをも含有することができる。そして、本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。
　（Ａ）成分と（Ｂ）成分の配合比は、質量比で２０：８０乃至１００：０が好ましい。（Ｂ）成分の含有量が過大の場合は液晶配向性が低下し易い。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物の好ましい例は、以下のとおりである。
　［１］：（Ａ）成分を含有する位相差材形成用樹脂組成物。
　［２］：（Ａ）成分１００質量部に基づいて、０質量部乃至１００質量部の（Ｃ）成分を含有する位相差材形成用樹脂組成物。
　［３］：（Ａ）成分と（Ｂ）成分の配合比が質量比で２０：８０乃至１００：０であり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量の１００質量部に基づいて、０質量部乃至１００質量部の（Ｃ）成分を含有する位相差材形成用樹脂組成物。
　［４］：（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量の１００質量部に基づいて、０質量部乃至１００質量部の（Ｃ）成分、溶剤を含有する位相差材形成用樹脂組成物。
　［５］：（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量の１００質量部に基づいて、０質量部乃至１００質量部の（Ｃ）成分、０質量部乃至１０質量部の（Ｄ）成分、溶剤を含有する位相差材形成用樹脂組成物。
　［６］：（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量の１００質量部に基づいて、０質量部乃至１００質量部の（Ｃ）成分、０質量部乃至１０質量部の（Ｄ）成分、０質量部乃至５０質量部の（Ｅ）成分、溶剤を含有する位相差材形成用樹脂組成物。
　［７］：（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量の１００質量部に基づいて、０質量部乃至１００質量部の（Ｃ）成分、０質量部乃至１０質量部の（Ｄ）成分、０質量部乃至５０質量部の（Ｅ）成分、０質量部乃至４０質量部の（Ｆ）成分、溶剤を含有する位相差材形成用樹脂組成物。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物を溶液として用いる場合の配合割合、調製方法等を以下に詳述する。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物における固形分の割合は、各成分が均一に溶剤に溶解している限り、特に限定されるものではないが、１質量％乃至８０質量％であり、好ましくは２質量％乃至６０質量％であり、より好ましくは３質量％乃至４０質量％である。ここで、固形分とは、位相差材形成用樹脂組成物の全成分から溶剤を除いたものをいう。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物の調製方法は、特に限定されない。調製方法としては、例えば、溶剤に溶解した（Ａ）成分の溶液に（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分、さらには（Ｅ）成分及び（Ｆ）成分等を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法、或いは、この調製方法の適当な段階において、必要に応じてその他添加剤をさらに添加して混合する方法が挙げられる。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物の調製においては、溶剤中の重合反応によって得られる特定共重合体の溶液をそのまま使用することができる。この場合、例えば、（Ａ）成分の溶液に前記と同様に（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、（Ｅ）成分、及び（Ｆ）成分等を入れて均一な溶液とする。この際に、濃度調整を目的としてさらに溶剤を追加投入してもよい。このとき、（Ａ）成分の生成過程で用いられる溶剤と、位相差材形成用樹脂組成物の濃度調整に用いられる溶剤とは同一であってもよく、また異なってもよい。
　また、調製された位相差材形成用樹脂組成物の溶液は、孔径が０．２μｍ程度のフィルタなどを用いて濾過した後、使用することが好ましい。
＜硬化膜、配向材および位相差材＞
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物の溶液を基板（例えば、シリコン／二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属、例えば、アルミニウム、モリブデン、クロムなどが被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ＩＴＯ基板等）やフィルム（例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルム）等の上に、バーコート、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布、印刷などによって塗布して塗膜を形成し、その後、ホットプレートまたはオーブン等で加熱乾燥することにより、硬化膜を形成することができる。
　加熱乾燥の条件としては、硬化膜から形成される配向材の成分が、その上に塗布される重合性液晶溶液に溶出しない程度に、架橋剤による架橋反応が進行すればよく、例えば、温度６０℃乃至２３０℃、時間０．４分間乃至６０分間の範囲の中から適宜選択された加熱温度および加熱時間が採用される。加熱温度および加熱時間は、好ましくは７０℃乃至２３０℃、０．５分間乃至１０分間である。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物を用いて形成される硬化膜の膜厚は、例えば、０．０５μｍ乃至５μｍであり、使用する基板の段差や光学的、電気的性質を考慮し適宜選択することができる。
　このようにして形成された硬化膜は、偏光ＵＶ照射を行うことで配向材、すなわち、液晶等の液晶性を有する化合物を配向させる部材として機能させることができる。
　偏光ＵＶの照射方法としては、通常１５０ｎｍ乃至４５０ｎｍの波長の紫外光～可視光が用いられ、室温または加熱した状態で垂直または斜め方向から直線偏光を照射することによって行われる。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物から形成された配向材は耐溶剤性および耐熱性を有しているため、この配向材上に、重合性液晶溶液からなる位相差材料を塗布した後、液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とし、配向材上で配向させる。そして、配向状態となった位相差材料をそのまま硬化させ、光学異方性を有する層として位相差材を形成することができる。
　位相差材料としては、例えば、重合性基を有する液晶モノマーおよびそれを含有する組成物等が用いられる。そして、配向材を形成する基板がフィルムである場合には、本実施の形態の位相差材を有するフィルムは、位相差フィルムとして有用である。このような位相差材を形成する位相差材料は、液晶状態となって、配向材上で、水平配向、コレステリック配向、垂直配向、ハイブリッド配向等の配向状態をとるものがあり、それぞれ必要とされる位相差に応じて使い分けることが出来る。
　また、３Ｄディスプレイに用いられるパターン化位相差材を製造する場合には、本実施形態の位相差材形成用樹脂組成物から上記した方法で形成された硬化膜に、ラインアンドスペースパターンのマスクを介して所定の基準から、例えば、＋４５度の向きで偏光ＵＶ露光し、次いで、マスクを外してから－４５度の向きで偏光ＵＶを露光し、液晶の配向制御方向の異なる２種類の液晶配向領域が形成された配向材を得る。その後、重合性液晶溶液からなる位相差材料を塗布した後、液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とし、配向材上で配向させる。そして、配向状態となった位相差材料をそのまま硬化させ、位相差特性の異なる２種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置された、パターン化位相差材を得ることができる。
　また、上記のようにして形成された、本発明の配向材を有する２枚の基板を用い、スペーサを介して両基板上の配向材が互いに向かい合うように張り合わせた後、それらの基板の間に液晶を注入して、液晶が配向した液晶表示素子とすることもできる。
　そのため、本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、各種位相差材（位相差フィルム）や液晶表示素子等の製造に好適に用いることができる。
［硬化膜形成組成物］
　本発明は、また（Ａ）成分として特定の光配向性基を有する樹脂を含有する硬化膜形成組成物に関する。本発明の硬化膜形成組成物は、（Ａ）成分に加えて、（Ｂ）成分として架橋剤を含有することができる。さらに、本発明の硬化膜形成組成物は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分に加えて、（Ｃ）成分としてヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる基Ａを少なくとも２つ有する化合物をさらに含有することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
　また、本発明の硬化膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。
　なお、（Ａ）成分乃至（Ｃ）成分、及び硬化膜形成組成物の調製方法等は、上述した位相差材形成用樹脂組成物と同じである。
　以下、実施例を挙げて、本実施の形態をさらに詳しく説明する。しかし、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。
［実施例等で用いる組成成分とその略称］
　以下の実施例および比較例で用いられる各組成成分は、次のとおりである。
＜成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）：重合体原料＞
Ｍ６ＣＡ：４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）けい皮酸
Ｍ３ＣＡ：４－（３－メタクリルオキシプロピル－１－オキシ）けい皮酸
Ｍ６ＣＡｍ：４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）シンナムアミド
ＨＥＭＡ：２－ヒドロキシエチルメタクリレート
ＭＡＡ：メタクリル酸
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
カレンズＭＯＩ－ＢＭ（登録商標）：メタクリル酸２－（０－（１’－メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ）エチル（昭和電工株式会社製）
ＢＭＡＡ：Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド
Ｓｔ：スチレン
ＥＧＡＭＡ：エチレングリコールモノアセトアセテートモノメタクリレート（２－アセトアセトキシエチルメタクリレート）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 Ｍ１００：サイクロマー（登録商標）Ｍ１００　（株）ダイセル製
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 ＡＩＢＮ：α、α’－アゾビスイソブチロニトリル
＜成分（Ｂ）：架橋剤＞
ＨＭＭ：下記の構造式で表されるメラミン架橋剤［サイメル（ＣＹＭＥＬ）（登録商標）３０３（三井サイテック（株）製）］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 ＴＣ－４０１：チタンテトラアセチルアセトネート（溶媒としてＩＰＡ［イソプロパノール］を３５％含む）　オルガチックス（登録商標）　ＴＣ－４０１　マツモトファインケミカル（株）製
＜成分（Ｄ）：架橋触媒成分＞
ＰＴＳＡ：ｐ－トルエンスルホン酸
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 ＴＰＤＡ：トリス（２，４－ペンタンジオナト）－アルミニウム（ＩＩＩ）
ＴＰＳ：トリフェニルシラノール
ＴＡＧ－２６８９：Ｋ－ＰＵＲＥ（登録商標）ＴＡＧ２６８９（Ｋｉｎｇ　Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ　Ｉｎｃ．製）
＜成分（Ｅ）：密着成分＞
８０ＭＦＡ：エポキシエステル８０ＭＦＡ（共栄社化学株式会社製）
ＢＭＡＡ：Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド
ＤＭ－１：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 ＤＭ－２：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
＜成分（Ｆ）：密着成分＞
Ｍ６ＣＡ：４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）けい皮酸
＜溶剤＞
　実施例及び比較例の各位相差材形成用樹脂組成物は溶剤を含有し、その溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＭ）及びイソプロパノール（ＩＰＡ）を用いた。
＜重合体の分子量の測定＞
　重合例におけるアクリル共重合体の分子量は、（株）Ｓｈｏｄｅｘ社製常温ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（ＧＰＣ－１０１）、Ｓｈｏｄｅｘ社製カラム（ＫＤ―８０３、ＫＤ－８０５）を用い以下のようにして測定した。
　なお、下記の数平均分子量（以下、Ｍｎと称す。）及び重量平均分子量（以下、Ｍｗと称す。）は、ポリスチレン換算値にて表した。
　カラム温度：５０℃
　溶離液：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（添加剤として、臭化リチウム－水和物（ＬｉＢｒ・Ｈ2Ｏ）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、リン酸・無水結晶（ｏ―リン酸）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）が１０ｍＬ／Ｌ）
　流速：１．０ｍＬ／分
　検量線作成用標準サンプル：東ソー社製　ＴＳＫ　標準ポリエチレンオキサイド（分子量　約９００，０００、１５０，０００、１００，０００、３０，０００）、及び、ポリマーラボラトリー社製　ポリエチレングリコール（分子量　約１２，０００、４，０００、１，０００）。
＜1Ｈ－ＮＭＲの測定＞
　1Ｈ－ＮＭＲ分析に用いた分析装置及び分析条件は、下記の通りである。
　核磁気共鳴装置：Ｖａｒｉａｎ　ＮＭＲ　Ｓｙｓｔｅｍ　４００　ＮＢ（４００　ＭＨｚ）
　測定溶媒：ＣＤＣｌ3
　基準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）（δ０．０　ｐｐｍ　ｆｏｒ　1Ｈ）
＜重合例１＞
　Ｍ６ＣＡ　４．０ｇ、ＭＭＡ　４．０ｇ、ＨＥＭＡ　２．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　０．３ｇをＰＭ　４１．２ｇに溶解し、８０℃にて２０時間反応させることによりアクリル共重合体溶液（固形分濃度２０質量％）（Ｐ１）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは９，３００、Ｍｗは２９，０００であった。
＜重合例２＞
　Ｍ６ＣＡ　９．０ｇ、ＨＥＭＡ　１．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　０．３ｇをＰＭ　４１．２ｇに溶解し、８０℃にて２０時間反応させることによりアクリル共重合体溶液（固形分濃度２０質量％）（Ｐ２）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは１４，０００、Ｍｗは３３，０００であった。
＜重合例３＞
　Ｍ６ＣＡ　７．０ｇ、ＨＥＭＡ　３．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　０．３ｇをＰＭ　４１．２ｇに溶解し、８０℃にて２０時間反応させることによりアクリル共重合体溶液（固形分濃度２０質量％）（Ｐ３）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは１２，０００、Ｍｗは２６，２００であった。
＜重合例４＞
　Ｍ６ＣＡ　３．０ｇ、ＨＥＭＡ　７．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　０．３ｇをＰＭ　４１．２ｇに溶解し、８０℃にて２０時間反応させることによりアクリル共重合体溶液（固形分濃度２０質量％）（Ｐ４）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは１４，１００、Ｍｗは２８，６００であった。
＜重合例５＞
　Ｍ３ＣＡ　５．０ｇ、ＨＥＭＡ　５．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　０．３ｇをＰＭ　４１．２ｇに溶解し、８０℃にて２０時間反応させることによりアクリル共重合体溶液（固形分濃度２０質量％）（Ｐ５）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは１０，８００、Ｍｗは３４，９００であった。
＜重合例６＞
　Ｍ６ＣＡ　７．０ｇ、カレンズＭＯＩ－ＢＭ　３．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　０．３ｇをＰＭ　４１．２ｇに溶解し、８０℃にて２０時間反応させることによりアクリル共重合体溶液（固形分濃度２０質量％）（Ｐ６）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは１３，０００、Ｍｗは４３，０００であった。
＜重合例７＞
　Ｍ６ＣＡｍ　７．０ｇ、ＨＥＭＡ　３．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　０．３ｇをＰＭ　４１．２ｇに溶解し、８０℃にて２０時間反応させることによりアクリル共重合体溶液（固形分濃度２０質量％）（Ｐ７）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは１２，０００、Ｍｗは３７，０００であった。
＜重合例８＞
　ＭＭＡ　７．０ｇ、ＨＥＭＡ　７．０ｇ、ＭＡＡ　３．５ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　０．５ｇをＰＭ　５３．９ｇに溶解し、７０℃にて２０時間反応させることによりアクリル共重合体溶液（固形分濃度２５質量％）（Ｐ８）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは１０，３００、Ｍｗは２４，６００であった。
＜重合例９＞
　ＢＭＡＡ１００．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　４．２ｇをＰＭ　１９３．５ｇに溶解し、９０℃にて２０時間反応させることによりアクリル重合体溶液（固形分濃度３５質量％）（Ｐ９）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは２，７００、Ｍｗは３，９００であった。
＜重合例１０＞
　Ｍ６ＣＡ　５．０ｇ、ＭＭＡ　５．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　０．５ｇをＰＭ　４２．０ｇに溶解し、８０℃にて２０時間反応させることによりアクリル共重合体溶液（固形分濃度２０質量％）（Ｐ１０）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは７，３００、Ｍｗは１６，２００であった。
＜重合例１１＞
　Ｍ６ＣＡ　４．０ｇ、Ｓｔ　４．０ｇ、ＨＥＭＡ　２．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　０．１ｇをＰＭ　９０．９ｇに溶解し、８０℃にて２０時間反応させることによりアクリル共重合体溶液（固形分濃度１０質量％）（Ｐ１１）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは１７，１００、Ｍｗは５５，３００であった。
＜重合例１２＞
　ＭＭＡ　９．０ｇ、ＨＥＭＡ　１．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　０．１ｇをＰＭ　４０．４ｇに溶解し、８０℃にて２０時間反応させることによりアクリル共重合体溶液（固形分濃度２０質量％）（Ｐ１２）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは１５，９００、Ｍｗは２９，９００であった。
＜重合例１３＞
　Ｍ６ＣＡ　６．０ｇ、ＥＧＡＭＡ　４．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　０．３ｇをＰＭ　４１．２ｇに溶解し、８０℃にて２０時間反応させることによりアクリル共重合体溶液（固形分濃度２０質量％）（Ｐ１３）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは９，９００、Ｍｗは２１，５００であった。
＜重合例１４＞
　Ｍ６ＣＡｍ　７．０ｇ、Ｍ１００　３．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　０．３ｇをＰＭ　９２．７ｇに溶解し、８０℃にて２０時間反応させることによりアクリル共重合体溶液（固形分濃度２０質量％）（Ｐ１４）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは１３，２００、Ｍｗは２７，０００であった。
＜（Ｅ）成分の合成＞
合成例１：化合物[ＤＭ－１]の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 　窒素気流下中、２Ｌの四つ口フラスコに酢酸エチル５００ｇ、１，６－ヘキサンジオール３５．５ｇ（０．３００ｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン（ＤＢＵ）１．８０ｇ（１１．８ｍｍｏｌ）、２，６－ジ－ターシャリーブチル－パラ－クレゾール（ＢＨＴ）０．４５ｇ（２．０４ｍｍｏｌ）を室温にて仕込み、マグネチックスターラー攪拌下にて５５℃まで昇温した。反応液へ、２－イソシアナトエチルアクリレート９５．９ｇ（０．６７９ｍｏｌ）を滴下し、２時間攪拌した後に反応液を高速液体クロマトフラフィーにて分析し、中間体が面積百分率で１％以下となったところで反応を完了させた。ヘキサンを３２８ｇ加え、室温まで冷却させた後、析出した固体をヘキサン２２９ｇで２回洗浄し、乾燥させて化合物［Ａ－ａ］を得た（１０４ｇ、０．２６０ｍｏｌ、収率８６．７％）。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 　窒素気流下中、２Ｌの四つ口フラスコにジクロロメタン１３３０ｇ、化合物［Ａ－ａ］１００ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、パラホルムアルデヒド２２．５ｇ（０．７４９ｍｏｌ）を仕込み、氷浴中、トリメチルシリルクロリド１２２ｇ（１．１２ｍｏｌ）を滴下した。２時間攪拌後、トリエチルアミン６３．２ｇ（０．６２５ｍｏｌ）とメタノール２４０ｇの混合液を滴下した。３０分攪拌後、５Ｌの分液ロートに移し、水１５００ｇを加えて分液操作を行った。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、硫酸マグネシウムをろ過により除去して得られたろ液を濃縮、乾燥させて化合物［ＤＭ－１］を得た（１１０ｇ、０．２２６ｍｏｌ、収率９０．３％）。化合物［ＤＭ－１］の構造は、1Ｈ－ＮＭＲ分析により以下のスペクトルデータを得て確認した。
　1Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ６．４２（ｄ，２Ｈ　Ｊ＝１７．２），６．１７－６．０８（ｍ，２Ｈ），５．８６（ｄ，２Ｈ　Ｊ＝１０．０），４．７７（ｄ，４Ｈ　Ｊ＝１９．６），４．３０（ｍ，４Ｈ），４．１２（ｔ，４Ｈ　Ｊ＝６．４），３．６１（ｍ，４Ｈ），３．３０（ｄ，６Ｈ　Ｊ＝１２．８），１．６７（ｍ，４Ｈ），１．４０（ｍ，４Ｈ）.
合成例２：化合物[ＤＭ－２]の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 　窒素気流下中、５００ｍＬの四つ口フラスコに酢酸エチル３５．０ｇ、トルエン８７．０ｇ、ヘキサメチレンジイソシアネート８．４１ｇ（５０．０ｍｍｏｌ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン（ＤＢＵ）０．３４５ｇ（２．２７ｍｍｏｌ）、２，６－ジ－ターシャリーブチル－パラ－クレゾール（ＢＨＴ）７０．０ｍｇ（０．３１８ｍｍｏｌ）を室温にて仕込み、マグネチックスターラー攪拌下にて６０℃まで昇温した。反応液へ、２－ヒドロキシエチルアクリレート１２．８ｇ（１１１ｍｍｏｌ）とトルエン２６．０ｇの混合液を滴下し、１時間攪拌した後、室温で２４時間攪拌した。１３１ｇのヘキサンを加え氷浴に漬けて冷却させた後、析出した結晶をろ過、乾燥させて化合物［Ａ－ｂ］を得た（１５．０ｇ、３７．４ｍｍｏｌ、収率７４．８％）。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 　窒素気流下中、３００ｍＬの四つ口フラスコにジクロロメタン２００ｇ、化合物［Ａ－ｂ］１４．６ｇ（３６．４ｍｍｏｌ）、パラホルムアルデヒド３．２８ｇ（１０９ｍｍｏｌ）を仕込み、氷浴中、トリメチルシリルクロリド２３．７ｇ（２１８ｍｍｏｌ）を滴下した。１時間攪拌後、メタノール３５．６ｇを滴下し１時間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液３００ｍＬで有機層を洗浄し、得られた水層はジクロロメタン２００ｇでさらに洗浄した。この２種の有機層を混合した溶液をさらにブライン１７０ｇで洗浄し、得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させた。硫酸マグネシウムをろ過により除去し、得られたジクロロメタン溶液を濃縮、乾燥させて目的の［ＤＭ－２］を得た（１６．２ｇ、３３．１ｍｍｏｌ、収率９１．０％）。化合物［ＤＭ－２］の構造は、1Ｈ－ＮＭＲ分析により以下のスペクトルデータを得て確認した。
　1Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ６．３３（ｄ，２Ｈ　Ｊ＝１７．２），６．２０－６．１４（ｍ，２Ｈ），５．９６（ｄ，２Ｈ　Ｊ＝１０．４），４．６３（ｓ，４Ｈ），４．３３（ｍ，４Ｈ），４．２７（ｍ，４Ｈ），３．１６－３．１４（ｂｒ，１０Ｈ），１．４７（ｍ，４Ｈ），１．２０（ｍ，４Ｈ）.
＜実施例１乃至２２＞及び＜比較例１乃至４＞
　表１に示す組成にて実施例１乃至２２および比較例１乃至４の各位相差材形成用樹脂組成物を調製した。次に、各位相差材形成用樹脂組成物を用いて硬化膜を形成し、得られた硬化膜それぞれについて、配向性の評価を行った。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000045
［配向性の評価］
　実施例及び比較例の各位相差材形成用樹脂組成物を無アルカリガラス上にスピンコーターを用いて２０００ｒｐｍで３０秒間回転塗布した後、温度１００℃で６０秒間、ホットプレート上で加熱乾燥を行い硬化膜を形成した。この硬化膜に３１３ｎｍの直線偏光を１０ｍＪ／ｃｍ2の露光量で垂直に照射した。露光後の基板上にメルク株式会社製の水平配向用重合性液晶溶液ＲＭＳ０３－０１３Ｃを、スピンコーターを用いて塗布し、次いで、６０℃で６０秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、膜厚１．０μｍの塗膜を形成した。このフィルムを３００ｍＪ／ｃｍ2で露光し、位相差材を作製した。作製した基板上の位相差材を一対の偏光板で挟み込み、位相差材における位相差特性の発現状況を観察し、位相差が欠陥なく発現しているものを○、位相差が発現しているが欠陥が見られるものを△、位相差が発現していないものを×として「乾燥条件１」の欄に記載した。この結果が△または×だったものについては各位相差材形成用樹脂組成物の前記加熱乾燥の条件を１００℃で６０秒間、次いで１５０℃で３００秒間のホットプレート上での加熱乾燥とし、「乾燥条件１」と同様の評価を行い、「乾燥条件２」の欄に記載した。「乾燥条件２」での結果が△または×だったものについては各位相差材形成用樹脂組成物の前記加熱乾燥の条件を１００℃で６０秒間、次いで２００℃で３００秒間のホットプレート上での加熱乾燥とし、「乾燥条件１」と同様の評価を行い、「乾燥条件３」の欄に記載した。
［評価の結果］
　以上の評価を行った結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
　実施例１乃至２２は、好適な乾燥条件での乾燥を行うことにより１０ｍＪ／ｃｍ2と低い露光量で位相差材を形成することが可能であった。塗膜が熱硬化性を有していない比較例１乃至４ではいずれの乾燥条件でも液晶配向性が得られず、また露光量を３０ｍＪ／ｃｍ2まで高くしても液晶配向性が得られなかった。
　以上のように、本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、光配向性を有する熱硬化膜を形成するためのものであり、光配向性部位と、熱架橋のための部位とを有する成分を含有するものである。そして、光配向性基が特定の光配向性基、すなわち、熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基であることを特徴とする。特定の光配向性基については、例えば、光配向性基がけい皮酸残基である場合、けい皮酸残基はその一部として熱架橋性基であるカルボキシル基を有している。このように、熱架橋性基が光反応性基の一部をなしている場合も、本発明の組成物における特定の光配向性基に含めることが出来る。
　また、本発明において、熱架橋のための部位としては、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる基Ａと、該基Ａと反応する基との両方を組成物中のいずれかの成分が有するか、又は熱により自己架橋する部位を、組成物中のいずれかの成分が有していればよい。
　そのために、本発明の組成物は、（Ａ）成分として特定の光配向性基、すなわち、熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基を有する樹脂を含有する。
　本発明の態様の一つとして、（Ａ）成分として特定の光配向性基を有する樹脂と、（Ｂ）成分として、特定の光配向性基とつながる熱反応性部位と反応する架橋剤を含有する組成物が挙げられる。その際、（Ａ）成分の樹脂は、熱反応性部位として、特定の光配向性基における熱反応性部位を有していればよく、Ｍ６ＣＡとＭＭＡとの共重合体と架橋剤とを含有する実施例１６はこの例である。
　本発明の態様の一つとして、熱架橋系として、特定の光配向性基とつながる熱反応性部位と反応する基を前記（Ａ）成分の樹脂にさらに含む組成物が挙げられる。実施例９及び１３はこの例であり、実施例１３は、さらに基Ａを有する共重合体を含有する例である。
　また、（Ａ）成分の樹脂が、上記基Ａを有するモノマーとの共重合体であって、（Ｂ）成分として、上記基Ａと熱反応する架橋剤を含有する組成物も好ましい。実施例１～８、１０～１２、１４、１５、１７～２０がこの例である。また、このうち、実施例７、１４、１５、１７、１８は、さらに上記基Ａを有する共重合体を含有する例であり、実施例１１、１２、１４、１５、１７及び１８は、さらに密着促進成分を有する例である。
　本発明の態様の一つとして、熱架橋系として、自己架橋性基を前記（Ａ）成分の樹脂にさらに含む組成物が挙げられる。実施例２１及び２２はこの例である。
　本発明の位相差材形成用樹脂組成物は、液晶表示素子の液晶配向膜や、液晶表示素子の内部や外部に設けられる光学異方性フィルムを形成するための配向材として非常に有用であり、特に３Ｄディスプレイのパターン化位相差材の形成材料として好適である。さらに、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型液晶表示素子や有機ＥＬ素子などの各種ディスプレイにおける保護膜、平坦膜及び絶縁膜などの硬化膜を形成する材料、特にＴＦＴ型液晶表示素子の層間絶縁膜、カラーフィルタの保護膜又は有機ＥＬ素子の絶縁膜などを形成する材料としても好適である。

Claims (20)

  1. 　熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基を有する樹脂［（Ａ）成分］を含有することを特徴とする、熱硬化可能な位相差材形成用樹脂組成物。
  2. 　前記光配向性基が下記式（１）で表される構造を含む有機基である、請求項１に記載の位相差材形成用樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、Ｒはヒドロキシ基又はアミノ基を表し、Ｘ1は任意の置換基で置換されていても良いフェニレン基を表す。）
  3. 　前記（Ａ）成分の樹脂がアクリル共重合体である、請求項１又は請求項２に記載の位相差材形成用樹脂組成物。
  4. 　前記（Ａ）成分の樹脂が自己架橋性基をさらに有するか、又はヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、前記樹脂中の光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］と反応する基をさらに有する、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の位相差材形成用樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
  5. 　前記（Ａ）成分の樹脂がヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、前記樹脂中の光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］をさらに有し、かつ前記組成物が該少なくとも１つの基Ａと反応する架橋剤（Ｂ）をさらに含有する、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の位相差材形成用樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
  6. 　前記（Ａ）成分の樹脂がヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、前記樹脂中の光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］と反応する基、並びに該少なくとも１つの基Ａをさらに有する、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の位相差材形成用樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
  7. 　（Ｃ）成分としてヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる基Ａを少なくとも２つ有する化合物をさらに含有する、請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の位相差材形成用樹脂組成物。
  8. 　（Ｄ）成分として架橋触媒をさらに含有する、請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の位相差材形成用樹脂組成物。
  9. 　（Ｅ）成分として１つ以上の重合性基と、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ又は該少なくとも１つの基Ａと反応する１つ以上の基とを有する化合物をさらに含有する、請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の位相差材形成用樹脂組成物。
  10. 　（Ｆ）成分として熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基と、１つ以上の重合性基とを有するモノマーをさらに含有する、請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の位相差材形成用樹脂組成物。
  11. 　請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の位相差材形成用樹脂組成物を用いて得られることを特徴とする配向材。
  12. 　請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の位相差材形成用樹脂組成物から得られる硬化膜を使用して形成されることを特徴とする位相差材。
  13. 　熱反応性部位が直接結合又は連結基を介してつながる光配向性基を有する樹脂［（Ａ）成分］を含有することを特徴とする、熱硬化膜形成組成物。
  14. 　前記光配向性基が下記式（１）で表される構造を含む有機基である、請求項１３に記載の熱硬化膜形成組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     （式中、Ｒはヒドロキシ基又はアミノ基を表し、Ｘ1は任意の置換基で置換されていても良いフェニレン基を表す。）
  15. 　前記（Ａ）成分の樹脂がアクリル共重合体である、請求項１３又は請求項１４に記載の熱硬化膜形成組成物。
  16. 　前記（Ａ）成分の樹脂が自己架橋性基をさらに有するか、又はヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、前記樹脂中の光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］と反応する基をさらに有する、請求項１３乃至請求項１５のいずれか１項に記載の熱硬化膜形成組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
  17. 　前記（Ａ）成分の樹脂がヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、前記樹脂中の光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］をさらに有し、かつ前記組成物が該少なくとも１つの基Ａと反応する架橋剤（Ｂ）をさらに含有する、請求項１３乃至請求項１５のいずれか１項に記載の熱硬化膜形成組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
  18. 　前記（Ａ）成分の樹脂がヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び下記式（２）で表される基からなる群から選ばれる少なくとも１つの基Ａ［但し、前記樹脂中の光配向性基の末端部がカルボキシル基又はアミド基である場合は、該末端部も基Ａに含まれる。］と反応する基、並びに該少なくとも１つの基Ａをさらに有する、請求項１３乃至請求項１５のいずれか１項に記載の熱硬化膜形成組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
     （式中、Ｒ5はアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基を表す。）
  19. 　（Ｃ）成分としてヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基及び上記式（２）で表される基からなる群から選ばれる基Ａを少なくとも２つ有する化合物をさらに含有する、請求項１３乃至請求項１８のいずれか１項に記載の熱硬化膜形成組成物。
  20. 　請求項１３乃至請求項１９のいずれか１項に記載の熱硬化膜形成組成物を用いて得られることを特徴とする硬化膜。
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