WO2014057894A1 - 弾性砥石のドレッシング方法 - Google Patents

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WO2014057894A1
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grindstone
elastic
outer peripheral
peripheral surface
elastic grindstone
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PCT/JP2013/077160
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Inventor
英雄 本村
Original Assignee
旭硝子株式会社
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B53/00—Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
    • B24B53/04—Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces of cylindrical or conical surfaces on abrasive tools or wheels
    • B24B53/053—Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces of cylindrical or conical surfaces on abrasive tools or wheels using a rotary dressing tool

Definitions

  • the present invention relates to a dressing method for an elastic grindstone.
  • Glass plates for FPD used for liquid crystal displays, plasma displays, etc. are formed by forming molten glass into a plate shape, and then cut into a glass plate of a predetermined rectangular size by a cutting device. Thereafter, the edge of the glass plate is chamfered by a chamfering grindstone of a chamfering device disclosed in Patent Document 1 or the like.
  • the chamfering apparatus described in Patent Document 2 includes a metal bond grindstone (grinding grindstone) having a V-shaped groove for grinding on the outer peripheral surface, and an elastic grindstone (polishing grindstone) having a flat outer peripheral surface as a polishing surface. It has.
  • the edge of the plate-like body is ground by the V-shaped groove of the metal bond grindstone to form a chamfered surface on the edge, and then the chamfered surface is flattened of the elastic grindstone. Polish by the outer peripheral surface.
  • Patent Document 2 exemplifies butyl rubber, silicone, polyurethane, or natural rubber as the bond of the elastic grindstone, and alumina (Al 2 O 3 ), silicon carbide (SiC), pumice, or garnet as the grindstone. Is illustrated.
  • a flat outer peripheral surface which is a polishing surface that comes into contact with a chamfered surface of a plate-like body, is worn with the passage of processing time.
  • an annular groove in which the shape of the edge of the plate-like body is transferred is formed on the flat outer peripheral surface.
  • the annular groove becomes deeper, not only the edge of the plate-like body but also the main surface of the plate-like body is polished, so when the annular groove reaches a predetermined depth, the outer peripheral surface of the elastic grindstone is ground. It is necessary to return to the original flat shape, that is, to dress the outer peripheral surface of the elastic grindstone.
  • the outer peripheral surface of the grinding wheel is burned or expanded by high-temperature processing heat generated at the point contact portion between the cutting tool and the outer peripheral surface of the elastic wheel.
  • the bond of the elastic grindstone is an elastic body, it is difficult to grind the outer peripheral surface into a flat shape with a tool that performs grinding by applying high pressure. Therefore, dressing with a bite has a problem that the grinding accuracy of the outer peripheral surface is poor.
  • a disk-shaped or cylindrical metal bond grindstone as a dressing tool. That is, the metal bond grindstone and the outer peripheral surface of the elastic grindstone are rotated in a line contact state, and the processing heat generated at the line contact portion is reduced to grind the outer peripheral surface of the elastic grindstone.
  • a wet dressing method may be employed in which the outer peripheral surface of the elastic grindstone is ground while spraying cutting water onto the line contact portion to wash away grinding debris.
  • the wet dressing method has a problem that a water treatment facility for the cutting water is required because the cutting water after use contains grinding waste.
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and without using a wet dressing method, that is, an elastic grindstone capable of dressing the outer peripheral surface of an elastic grindstone flatly and accurately by adopting a dry dressing method.
  • the object is to provide a dressing method.
  • the present invention provides an elastic grindstone dressing method for dressing an elastic grindstone having a flat outer peripheral surface as a polishing surface, and the elastic grindstone and the electrodeposited grindstone in which an annular groove is formed on the outer peripheral surface.
  • the elastic grindstone and the electrodeposited grindstone are rotated relative to each other about the respective central axes, and the outer peripheral surface of the electrodeposited grindstone and the outer peripheral surface of the elastic grindstone are relatively pressed, whereby the outer peripheral surface of the elastic grindstone is electrodeposited.
  • a dressing method for an elastic grindstone which is dressed by grinding into a flat shape with a grindstone.
  • the outer peripheral surface which is the polishing surface of the elastic grindstone
  • an electrodeposition grindstone that can be dressed without clogging even in a dry dressing method. That is, an annular groove is formed on a flat outer peripheral surface, and an elastic grindstone that requires dressing and an electrodeposited grindstone are rotated around each central axis, and the outer peripheral surface of the electrodeposited grindstone and the outer peripheral surface of the elastic grindstone are Are pressed relatively. As a result, the outer peripheral surface of the elastic grindstone is worn and crushed by the outer peripheral surface of the electrodeposited grindstone, and the outer peripheral surface of the elastic grindstone is ground into a flat shape and dressed.
  • Electrodeposition grindstone is a grindstone in which diamond or CBN (Cubic Boron Nitride) is held on the surface of the base member while nickel plating is applied and the abrasive is mechanically fixed to the base member. It is.
  • the electrodeposition grindstone has a feature that the amount of abrasive grain protrusion is larger than that of a metal bond grindstone or resin bond grindstone, and sharpness is sharper than these grindstones. With this feature, even if the electrodeposition grindstone is an elastic grindstone having an annular groove formed on the outer peripheral surface, it can be accurately dressed in a flat shape without being clogged by a dry dressing method.
  • the dressing method using an electrodeposition grindstone only requires installing a small dust collector at the dressing site that sucks and collects the pulverized material scattered during the dressing. No processing equipment is required.
  • the present invention provides an elastic material in which the outer peripheral surface, which is a polishing surface, is pressed against the edge of the plate-like body, and the edge is polished by rotating around its central axis.
  • the elastic grindstone And the electrodeposition grindstone are rotated about each central axis to relatively press the outer peripheral surface of the electrodeposited grindstone and the outer peripheral surface of the elastic grindstone, thereby
  • a dressing method for an elastic grindstone which is dressed by grinding a surface into a flat shape with the electrodeposition grindstone.
  • the present invention is specialized in the dressing method of an elastic grindstone for polishing the edge of a plate-like body.
  • the outer peripheral surface of the elastic grindstone having a flat outer peripheral surface is pressed against the edge of the plate-like body, and the elastic grindstone is rotated about its central axis to polish the edge.
  • the flat outer peripheral surface of the elastic grindstone is worn, and an annular groove to which the shape of the edge of the plate-like body is transferred is formed on the outer peripheral surface.
  • the annular groove reaches a predetermined depth, the outer peripheral surface of the elastic grindstone is dressed by the dressing method of the present invention.
  • the rotational direction of the elastic grindstone and the rotation direction of the electrodeposited grindstone are made the same direction, and the relative positions at the contact points between the outer peripheral surface of the elastic grindstone and the outer peripheral surface of the electrodeposited grindstone
  • the typical peripheral speed is preferably 6.5 to 13.0 m / s.
  • the rotational directions of the elastic grindstone and the electrodeposited grindstone are set to the same direction, and the relative peripheral speed at the contact point between the outer peripheral surface of the elastic grindstone and the outer peripheral surface of the electrodeposited grindstone is 6 Since it is set to 5 to 13.0 m / s, the minimum required dressing accuracy can be obtained in the shortest dressing time.
  • the elastic grindstone is an elastic body
  • the peripheral speed is set to a high speed exceeding 13.0 m / s
  • the outer peripheral surface of the elastic body swells due to the centrifugal force generated in the elastic grindstone.
  • the outer peripheral surface of an elastic grindstone cannot be dressed accurately.
  • the peripheral speed exceeds 13.0 m / s
  • the processing heat becomes high and the outer peripheral surface of the elastic grindstone burns because of the dry type. Therefore, if the peripheral speed is low, the dressing accuracy tends to improve as the speed decreases.
  • the peripheral speed is too low, the dressing time becomes longer and the original work (polishing) of the elastic grindstone is adversely affected.
  • the elastic grindstone and the electrodeposition grindstone are configured in a disc shape, a columnar shape, or a cylindrical shape.
  • the bond of the elastic grindstone is butyl rubber, natural rubber, or resin
  • the abrasive grains of the elastic grindstone are diamond, cubic boron nitride (CBN), alumina (Al 2 O 3 ), Silicon carbide (SiC), pumice or garnet is preferred.
  • a grindstone using butyl rubber or natural rubber as a bond, or a resin bond grindstone using a resin can be exemplified as an elastic grindstone.
  • the electrodeposition grindstone is used as the dressing tool, it is possible to dress the outer peripheral surface of the elastic grindstone flatly and accurately by employing a dry dressing method.
  • FIG. 1 is a plan view of a chamfering apparatus provided with an elastic grindstone dressed by the elastic grindstone dressing method of the present invention.
  • FIG. 2 is an enlarged perspective view of a main part of the chamfering device.
  • FIG. 3A is an explanatory diagram in which a grinding groove of a metal bond grindstone is disposed opposite to an edge of a glass plate.
  • FIG. 3B is an explanatory diagram in which the edge of the glass plate is ground by a metal bond grindstone.
  • FIG. 3C is an enlarged view of the edge of the glass plate that has been ground to form a chamfered surface.
  • FIG. 4 is a side view of the metal bond grindstone.
  • FIG. 5 is an overall perspective view of the elastic grindstone in a new state or after dressing.
  • FIG. 5 is an overall perspective view of the elastic grindstone in a new state or after dressing.
  • FIG. 6A is an enlarged side view of an essential part showing a state in which the electrodeposited grindstone is in contact with the outer peripheral surface of the elastic grindstone.
  • FIG. 6B is an enlarged side view of a main part showing a state in which the outer peripheral surface of the elastic grindstone is dressed by the electrodeposition grindstone.
  • FIG. 6C is an enlarged side view of an essential part of the elastic grindstone in which the outer peripheral surface of the elastic grindstone is dressed by the electrodeposition grindstone.
  • FIG. 1 is a plan view of a chamfering apparatus 10 provided with elastic grindstones 26 and 28 dressed by the elastic grindstone dressing method of the present invention.
  • the chamfering device 10 chamfers the edge portions 12A to 12D of a glass plate (plate-like body) 12 for a liquid crystal display having a thickness of 0.7 mm or less by using metal bond grindstones 18 and 20, and chamfering the chamfering device.
  • the chamfered surface is polished by elastic grindstones 26 and 28 and is mirror-finished.
  • a plate-shaped object applicable to the chamfering apparatus 10 it is not limited to the glass plate 12 for liquid crystal displays.
  • other glass plates for FPD such as a glass plate for plasma display and a glass plate for LED display may be used, and general glass plates for solar cells, lighting, building materials, and mirrors may be used.
  • the thickness of the plate-like body is not limited to 0.7 mm or less, and may be a thickness exceeding 0.7 mm.
  • the chamfering device 10 includes a surface plate 14 that holds and holds a rectangular glass plate 12, a moving device 16 that reciprocates the surface plate 14 in the direction of arrows AB, and chamfers by grinding edges 12A to 12D of the glass plate 12.
  • the motors 30 and 32 for rotating the elastic grindstones 26 and 28 at high speed the motors 30 and 32 for rotating the elastic grindstones 26 and 28 at high speed
  • the elastic grindstones 26 and 28 are made of elastic butyl rubber, natural rubber, or resin such as silicone, polyurethane, phenol, epoxy, or polyimide.
  • the abrasive grains of the elastic grindstones 26 and 28 are diamond or cubic crystals. Boron nitride (CBN), alumina (Al 2 O 3 ), silicon carbide (SiC), pumice, or garnet. A dressing method for the elastic grindstones 26 and 28 will be described later.
  • the chamfering device 10 places one main surface of the glass plate 12 on the suction surface on the upper surface of the surface plate 14 in a state where the edge of the glass plate 12 having two main surfaces facing each other is exposed from the upper surface of the surface plate 14.
  • the surface plate 14 is moved in the direction of arrow A by the moving device 16.
  • the facing edges 12A and 12B of the glass plate 12 are ground by the metal bond grindstones 18 and 20 rotating in the direction facing the moving direction of the glass plate 12 to form a chamfered surface.
  • the chamfered surface is polished by elastic grindstones 26 and 28 rotating in a direction opposite to the moving direction of the glass plate 12.
  • the edge portions 12A and 12B of the glass plate 12 are chamfered and then mirror-finished.
  • the coolant is sprayed from the nozzle 34 to the processing portion where the metal bond grindstone 18 and the edge 12A of the glass plate 12 are in contact with each other, and the metal bond grindstone 20 and the edge 12B of the glass plate 12
  • the coolant is sprayed from the nozzle 36 to the processing portion that comes into contact.
  • the coolant is sprayed from the nozzle 38 to the processing portion where the elastic grindstone 26 and the edge 12A of the glass plate 12 are in contact, and the elastic grindstone 28 and the edge 12B of the glass plate 12 are in contact with each other. Cooling liquid is sprayed from the nozzle 40 to the processed portion.
  • the processed portion is cooled by the cooling liquid, the occurrence of burning, chipping or the like occurring in the edge portions 12A and 12B of the glass plate 12 is reduced. Further, chipping generated on the boundary surfaces between the two main surfaces of the glass plate 12 and the end surfaces of the edges 12A and 12B is also reduced.
  • the cooling liquid include pure water, grinding oil, and a mixture thereof.
  • a metal bond grindstone 18 and an elastic grindstone 26 are disposed to face the edge 12 ⁇ / b> A in order to simultaneously chamfer and mirror the pair of facing edges 12 ⁇ / b> A and 12 ⁇ / b> B of the glass plate 12.
  • the metal bond grindstone 20 and the elastic grindstone 28 are disposed to face the edge 12B.
  • the elastic grindstones 26 and 28 are arranged on the downstream side in the transport direction of the glass plate 12 with respect to the metal bond grindstones 18 and 20.
  • the metal bond grindstone 18 is rotated clockwise by the motor 22, and the metal bond grindstone 20 is rotated counterclockwise by the motor 24.
  • the elastic grindstone 26 is rotated clockwise by the motor 30, and the elastic grindstone 28 is rotated counterclockwise by the motor 32.
  • the rotational speed of these grindstones 18, 20, 26, 28 is preferably set to 3000 rpm or more.
  • FIG. 1 shows the chamfering apparatus 10 that processes the edges 12A and 12B with the fixed metal bond grindstones 18 and 20 and the elastic grindstones 26 and 28 while moving the glass plate 12 in the arrow A direction.
  • the present invention is not limited to this.
  • a chamfering device that fixes the glass plate 12 and moves the metal bond grindstones 18 and 20 and the elastic grindstones 26 and 28 along the edges 12A and 12B of the glass plate 12 may be used.
  • it may be a chamfering device that moves the metal bond grindstones 18 and 20 and the elastic grindstones 26 and 28 and the glass plate 12 along the edge portions 12A and 12B of the glass plate 12 toward each other.
  • the other opposing edges 12C and 12D of the glass plate 12 are processed by a metal bond grindstone and an elastic grindstone (not shown) arranged at the subsequent stage of the metal bond grindstones 18 and 20 and the elastic grindstones 26 and 28 in FIG. May be.
  • the glass plate 12 is moved in the B direction by the surface plate 14 to return to the original position, and then the glass plate 12 is moved by the surface plate 14 to 90 degrees with the perpendicular in the main surface direction of the glass plate 12 as an axis.
  • the metal bond grindstones 18 and 20 and the elastic grindstone 26 whose intervals are changed in accordance with the lengths of the edges 12A and 12B of the glass plate 12 while moving the glass plate 12 in the A direction by the surface plate 14. , 28 may process the edges 12C, 12D.
  • FIG. 2 is an enlarged perspective view of a main part of the chamfering device 10, in which a metal bond grindstone 18 and an elastic grindstone 26 are illustrated.
  • the metal bond grindstone 18 and the elastic grindstone 26 are arranged to face the end surface 12 ⁇ / b> E of the glass plate 12.
  • the end surface 12E is a surface in a direction orthogonal to the main surface 12F of the glass plate 12, and is a surface before processing.
  • the boundary surface between the end surface 12E and the main surface 12F and the portion including the end surface 12E are referred to as edge portions 12A to 12D, and the edge portions 12A to 12D are processed by the metal bond grindstones 18 and 20 and the elastic grindstones 26 and 28.
  • the rotation axes of the metal bond grindstones 18 and 20 and the elastic grindstones 26 and 28 may be inclined at a predetermined angle with respect to a vertical line standing on the main surface 12F of the glass plate 12.
  • the metal bond grindstones 18 and 20 and the elastic grindstones 26 and 28 are rotationally driven at the same time, and when the glass plate 12 is moved by the moving device 16 of FIG. 1, the opposing edges 12A and 12B of the glass plate 12 are metal bond grindstones 18 and 20. And the elastic grindstones 26 and 28 are simultaneously processed.
  • 3A and 3B are enlarged cross-sectional views of the main part of the outer peripheral surface of the metal bond grindstones 18 and 20.
  • FIG. since the metal bond grindstones 18 and 20 are the same structure, the metal bond grindstone 18 is demonstrated here and description of the metal bond grindstone 20 is abbreviate
  • annular grooves 42 On the outer peripheral surface of the metal bond grindstone 18, a plurality of annular grooves 42, which are grinding grooves, are formed in the horizontal direction (perpendicular to the rotation axis indicated by the one-dot chain line in FIG. 4). As shown in a side view of the metal bond grindstone 18 in FIG. 4, a plurality of the annular grooves 42 are provided in parallel in the vertical direction.
  • the cross-sectional shape of the annular groove 42 in the thickness direction of the metal bond grindstone 18 is not limited to the U shape shown in FIGS. 3A and 3B, and may be a V shape or a concave shape.
  • the number of the annular grooves 42 may be one, it is preferable to provide a plurality of annular grooves 42 at predetermined intervals in the thickness direction of the metal bond grindstone 18 as shown in FIG. Since a plurality of the annular grooves 42 are provided in the metal bond grindstone 18, when the annular groove 42 in use reaches the end of its life, the metal bond grindstone 18 is moved in the vertical direction in pitch units of the annular grooves 42 (not shown).
  • the shape of the annular groove 42 may be a shape having a single radius of curvature, and includes a portion where the end surface 12E is ground and a boundary surface 12G between the end surface 12E ′ and the main surface 12F which has been ground as shown in FIG. 3C.
  • the part to be ground may have a shape having different radii of curvature.
  • the annular groove 42 of the metal bond grindstone 18 is opposed to the edge 12A of the glass plate 12 in the horizontal direction. From this state, the metal bond grindstone 18 is directed horizontally toward the edge 12A. Sent.
  • the metal bond grindstone 18 is fed toward the edge portion 12A by the grinding allowance as shown in FIG. 3B.
  • the edge 12A is ground by the annular groove 42, and a chamfered surface is formed on the edge 12A.
  • the metal bond grindstone 18 is fed toward the edge portion 12A so that the central portion of the end surface 12E in the thickness direction of the glass plate 12 contacts the deepest portion of the annular groove 42. .
  • FIG. 5 is an overall perspective view showing the elastic grindstone 26 in a new state or after dressing.
  • the elastic grindstone 26 is a grindstone that has a disk shape, a columnar shape, or a cylindrical shape, and has a flat outer peripheral surface that is a polishing surface.
  • the elastic grindstone 26 is a grindstone in which abrasive grains are held by a thermosetting resin bond.
  • the bond include butyl rubber, natural rubber, or resins such as silicone, polyurethane, phenol, epoxy, or polyimide.
  • the abrasive grains include diamond, cubic boron nitride (CBN), alumina (Al 2 O 3 ), silicon carbide (SiC), pumice, and garnet.
  • the grain size of the abrasive grains of the elastic grindstone 26 is preferably 200 to 1500 (JIS R6001: 1998) when the abrasive grains are diamond, for example.
  • the flat outer peripheral surface that comes into contact with the end surface 12E ′ (see FIG. 3C) of the edge 12A of the glass plate 12 is worn with the passage of processing time.
  • a concave annular groove 44 in which the shape of the edge 12A of the glass plate 12 is transferred to the flat outer peripheral surface 43 is formed.
  • the annular groove 44 is deepened, not only the edge 12A of the glass plate 12 but also the main surface 12F of the glass plate 12 is polished. Therefore, when the annular groove 44 reaches a predetermined depth, the outer peripheral surface 43 of the elastic grindstone 26 is obtained. Is ground and returned to its original flat shape.
  • the outer peripheral surface 43 of the elastic grindstone 26 is dressed.
  • the flat shape means that the shape of the surface when the elastic grindstone 26 is viewed from the direction orthogonal to the central axis 26A is flat as shown in FIG. 6C.
  • an electrodeposition grindstone 46 configured in a disk shape, a columnar shape, or a cylindrical shape shown in FIGS. 6A and 6B is used as a dressing tool.
  • 6A is an enlarged side view of a main part showing a state in which the flat outer peripheral surface of the electrodeposition grindstone 46 is in contact with the outer peripheral surface 43 of the elastic grindstone 26
  • FIG. 6B is an outer peripheral surface 43 of the elastic grindstone 26 by the electrodeposition grindstone 46.
  • FIG. 6C is an enlarged side view of the main part of the elastic grindstone 26 in which the outer peripheral surface 43 of the elastic grindstone 26 is dressed by the electrodeposition grindstone 46 and returned to a flat shape. It is.
  • the outer peripheral surface 43 of the elastic grindstone 26 is dressed using the electrodeposition grindstone 46 that can be dressed without clogging even in the dry dressing method.
  • the elastic grindstone 26 and the electrodeposition grindstone 46 which are formed with an annular groove 44 and need dressing, are rotated around the central axes 26A, 46A, respectively, as shown in FIG. 6B.
  • the flat outer peripheral surface of the electrodeposition grindstone 46 and the outer peripheral surface 43 of the elastic grindstone 26 are relatively pressed.
  • the outer peripheral surface 43 of the elastic grindstone 26 is worn and crushed by the electrodeposition grindstone 46, and the outer peripheral surface 43 is ground into a flat shape and dressed as shown in FIG. 6C.
  • the central axes 26A and 46A of the elastic grindstone 26 and the electrodeposition grindstone 46 are set in parallel.
  • the electrodeposition grindstone 46 is a base member of the electrodeposition grindstone 46 made of diamond or CBN (Cubic Boron Nitride) on the outer periphery of a disk-shaped, columnar, or cylindrical metal base.
  • the electrodeposition grindstone 46 has a feature that the protruding amount of abrasive grains is larger than that of a metal bond grindstone or resin bond grindstone, and sharpness is sharper than these grindstones.
  • the dressing method using the electrodeposition grindstone 46 is merely a matter of installing a small dust collector that sucks and collects the pulverized material scattered during the dressing at the dressing site. Water treatment facilities are not required.
  • the relative peripheral speed at the contact portion between the outer peripheral surface 43 of the elastic grindstone 26 and the outer peripheral surface of the electrodeposited grindstone 46 is set to 6.5 to 13.0 m / s.
  • the rotational directions of the elastic grindstone 26 and the electrodeposited grindstone 46 are set in the same direction as shown in FIGS. 6A and 6B, respectively, and the outer peripheral surface 43 of the elastic grindstone 26 and the electrodeposition grindstone 46 are set. Since the relative peripheral speed at the contact point with the outer peripheral surface is set to 6.5 to 13.0 m / s, the minimum required dressing accuracy can be obtained in the shortest dressing time.
  • the elastic grindstone 26 is an elastic body
  • the peripheral speed is set to a high speed exceeding 13.0 m / s
  • the outer peripheral surface 43 of the elastic body swells due to the centrifugal force generated in the elastic grindstone 26. That is, the elastic grindstone 26 is elastically deformed by centrifugal force. For this reason, the outer peripheral surface 43 of the elastic grindstone 26 cannot be dressed with high accuracy (flat).
  • the peripheral speed exceeds 13.0 m / s, there is a problem that the outer surface 43 of the elastic grindstone 26 is burned because the processing heat becomes high because of the dry type. Therefore, if the peripheral speed is low, the dressing accuracy tends to improve as the speed decreases.
  • the peripheral speed is made too low, the dressing time becomes longer and the original work (polishing) of the elastic grindstone 26 is adversely affected.
  • the dressing time for obtaining the required minimum dressing accuracy was verified with an actual machine, it was confirmed that it was preferable to set the lower limit value of the peripheral speed to 6.5 m / s. Therefore, by setting the peripheral speed to 6.5 to 13.0 m / s, the minimum necessary dressing accuracy can be obtained in the shortest dressing time.
  • SYMBOLS 10 ... Chamfering apparatus, 12 ... Glass plate, 12A-12D ... Edge of glass plate, 12E, 12E '... End surface of glass plate, 12F ... Main surface of glass plate, 12G ... Boundary between end surface and main surface of glass plate Surface 14, surface plate 16, moving device 18, 20 metal bond grindstone 22, 24 motor 24, elastic wheel 30, 32, motor 32, 36, 38, 40 nozzle 42 ... annular groove, 43 ... outer peripheral surface, 44 ... annular groove, 46 ... electrodeposition grindstone

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Abstract

　本発明は、研磨面である外周面が扁平な弾性砥石をドレッシングする弾性砥石のドレッシング方法において、前記外周面に環状溝が形成された前記弾性砥石と電着砥石とを各々の中心軸を中心に互いに回転させて、前記電着砥石の外周面と前記弾性砥石の前記外周面とを相対的に押圧することにより、前記弾性砥石の前記外周面を前記電着砥石によって扁平形状に研削加工してドレッシングする弾性砥石のドレッシング方法に関する。

Description

弾性砥石のドレッシング方法
　本発明は、弾性砥石のドレッシング方法に関する。
　液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等に使用されるＦＰＤ（Ｆｌａｔ　Ｐａｎｅｌ　Ｄｉｓｐｌａｙ）用ガラス板は、溶融ガラスを板状に成形し、その後、切断装置によって所定の矩形サイズのガラス板に切断される。その後、ガラス板は、特許文献１等に開示された面取り装置の面取り用砥石によって、その縁部が研削加工されて面取りされる。
　また、特許文献２に記載された面取り装置は、研削用のＶ形溝を外周面に備えたメタルボンド砥石（研削砥石）と、研磨面である外周面が扁平な弾性砥石（研磨砥石）とを備えている。特許文献２の面取り装置によれば、前記メタルボンド砥石のＶ形溝によって板状体の縁部を研削して縁部に面取り面を形成し、その後、前記面取り面を前記弾性砥石の扁平な外周面によって研磨する。特許文献２には、前記弾性砥石のボンド（結合剤）として、ブチルゴム、シリコーン、ポリウレタン、又は天然ゴムが例示され、砥石としてアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、軽石、又はガーネットが例示されている。
日本国特開２００２－１６０１４７号公報 日本国特開２００１－９６８９号公報
　特許文献２に開示された弾性砥石は、板状体の面取り面に当接される研磨面である扁平な外周面が、加工時間の経過に伴って磨耗していく。これによって、扁平な外周面に、板状体の縁部の形状が転写した環状溝が形成される。前記環状溝が深くなると、板状体の縁部のほか、板状体の主面も研磨されるため、環状溝が所定の深さに達したところで、弾性砥石の外周面を研削加工して元の扁平形状に戻す、すなわち、弾性砥石の外周面をドレッシングする必要がある。
　前記弾性砥石のドレッシング方法としては、弾性砥石をその中心軸で回転させながら、弾性砥石の外周面にバイト等の切削工具を押し付けて、前記外周面を扁平に研削加工することが考えられる。
　しかしながら、ドレッシング工具としてバイトを使用すると、バイトと弾性砥石の外周面との点接触部分で発生した高温の加工熱によって、研削砥石の外周面が焼きついたり膨張したりする。また、弾性砥石のボンドは弾性体であるため、高い圧力をかけて研削加工するバイトでは、外周面を扁平形状に研削加工することが困難である。したがって、バイトによるドレッシングでは、外周面の研削加工精度が悪いという問題がある。
　このような問題を解消するためには、ドレッシング工具として円盤状又は円柱状のメタルボンド砥石を使用することが考えられる。すなわち、メタルボンド砥石と弾性砥石の外周面とを線接触させた状態で回転させ、線接触部分に生じる加工熱を低減して弾性砥石の外周面を研削加工するものである。
　しかしながら、ドレッシング工具としてメタルボンド砥石を使用すると、メタルボンド砥石は研削屑によって早期に目詰まりするため、ドレッシング効率が低下するという問題がある。
　この問題を解消するためには、前記線接触部分に切削水を噴射して研削屑を洗い落としながら弾性砥石の外周面を研削加工する湿式のドレッシング法を採用すればよい。しかしながら、湿式のドレッシング法は、使用後の切削水が研削屑を含んでいるため、切削水の水処理設備が必要になるという問題がある。
　本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、湿式のドレッシング法を採用することなく、つまり乾式のドレッシング法を採用して弾性砥石の外周面を扁平に精度よくドレッシングできる弾性砥石のドレッシング方法を提供することを目的とする。
　本発明は、前記目的を達成するために、研磨面である外周面が扁平な弾性砥石をドレッシングする弾性砥石のドレッシング方法において、前記外周面に環状溝が形成された前記弾性砥石と電着砥石とを各々の中心軸を中心に互いに回転させて、前記電着砥石の外周面と前記弾性砥石の前記外周面とを相対的に押圧することにより、前記弾性砥石の前記外周面を前記電着砥石によって扁平形状に研削加工してドレッシングする弾性砥石のドレッシング方法を提供する。
　本発明によれば、乾式のドレッシング法においても目詰まりすることなくドレッシングが可能な電着砥石を用いて、弾性砥石の研磨面である外周面をドレッシングする。すなわち、扁平な外周面に環状溝が形成されてドレッシングが必要な弾性砥石と電着砥石とを各々の中心軸を中心に互いに回転させて、電着砥石の外周面と弾性砥石の外周面とを相対的に押圧する。これによって、弾性砥石の外周面が電着砥石の外周面によって磨滅、粉砕されていき、弾性砥石の外周面が扁平形状に研削加工されてドレッシングされる。
　電着砥石とは、ダイヤモンド又はＣＢＮ（Ｃｕｂｉｃ　Ｂｏｒｏｎ　Ｎｉｔｒｉｄｅ：立方晶窒化ホウ素）の砥粒を、ベース部材の表面に保持しながら、ニッケルメッキを施して砥粒を機械的にベース部材に固定した砥石である。電着砥石は、砥粒突き出し量がメタルボンド砥石やレジンボンド砥石よりも大きく、これらの砥石よりも切れ味が鋭いという特徴を有する。この特徴によって電着砥石は、外周面に環状溝が形成された弾性砥石であっても、乾式のドレッシング法によって目詰まりすることなく扁平形状に精度よくドレッシングできる。また、電着砥石によるドレッシング方法は、ドレッシング中に飛散した粉砕物を吸引して集塵する小型の集塵器をドレッシング部位に設置するだけでよいので、湿式のドレッシング法で必要な大掛かりな水処理設備が不要となる。
　また、本発明は、前記目的を達成するために、研磨面である外周面を、板状体の縁部に押し当てるとともに、その中心軸を中心に回転させて前記縁部を研磨加工する弾性砥石をドレッシングする弾性砥石のドレッシング方法において、前記弾性砥石の前記外周面に前記板状体の前記縁部の形状が転写されて形成された環状溝が所定の深さに到達すると、前記弾性砥石と電着砥石とを各々の中心軸を中心に互いに回転させて、前記電着砥石の前記外周面と前記弾性砥石の前記外周面とを相対的に押圧することにより、前記弾性砥石の前記外周面を前記電着砥石によって扁平形状に研削加工してドレッシングする弾性砥石のドレッシング方法を提供する。
　本発明は、板状体の縁部を研磨加工する弾性砥石のドレッシング法に特化したものである。すなわち、研磨面である外周面が扁平な弾性砥石の当該外周面を、板状体の縁部に押し当てるとともに、弾性砥石をその中心軸を中心に回転させて前記縁部を研磨加工する。加工時間の経過に伴って、弾性砥石の扁平な外周面は磨耗していき、板状体の縁部の形状が転写した環状溝が前記外周面に形成される。そして、前記環状溝が所定の深さに到達すると、本発明のドレッシング法によって弾性砥石の外周面をドレッシングする。
　本発明の一態様は、前記弾性砥石の回転方向と前記電着砥石の回転方向とを同方向にさせ、前記弾性砥石の前記外周面と前記電着砥石の前記外周面との接触箇所における相対的な周速が６．５～１３．０ｍ／ｓであることが好ましい。
　本発明の一態様によれば、弾性砥石と電着砥石の回転方向を各々同方向に設定し、弾性砥石の外周面と電着砥石の外周面との接触箇所における相対的な周速を６．５～１３．０ｍ／ｓに設定したので、最短のドレッシング時間で必要最小限のドレッシング精度を得ることができる。
　つまり、弾性砥石は弾性体であるがゆえに、前記周速を１３．０ｍ／ｓを超える高速に設定すると、弾性砥石に発生した遠心力によって弾性体の外周面が膨らむ。このため、弾性砥石の外周面を精度よくドレッシングできない。また、前記周速が１３．０ｍ／ｓを超えると、乾式であるがゆえに加工熱が高温となり弾性砥石の外周面が焼きつくという問題も発生する。よって、前記周速は、低速であれば低速であるほどドレッシング精度が向上する傾向にある。しかしながら、前記周速を低速にし過ぎると、ドレッシング時間が無闇に長くなり、弾性砥石の本来の仕事（研磨加工）に悪影響を与える。そこで、必要最小限のドレッシング精度を得るためのドレッシング時間について実機にて検証したところ、前記周速の下限値を６．５ｍ／ｓに設定することが好ましいことを確認できた。よって、前記周速を６．５～１３．０ｍ／ｓに設定することによって、最短のドレッシング時間で必要最小限のドレッシング精度を得ることができる。なお、弾性砥石及び電着砥石は、円盤状、円柱状、又は円筒状に構成されたものである。
　本発明の一態様は、前記弾性砥石のボンドは、ブチルゴム、天然ゴム、又は樹脂であり、前記弾性砥石の砥粒は、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素(ＣＢＮ)、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、軽石、又はガーネットであることが好ましい。
　本発明の一態様によれば、ボンドとしてブチルゴム、天然ゴムを使用した砥石、又は樹脂を使用したレジンボンド砥石を弾性砥石として例示できる。
　本発明によれば、ドレッシング工具として電着砥石を用いたので、乾式のドレッシング法を採用して弾性砥石の外周面を扁平に精度よくドレッシングすることができる。
図１は、本発明の弾性砥石のドレッシング方法によってドレッシングされる弾性砥石を備えた面取り装置の平面図である。 図２は、面取り装置の要部拡大斜視図である。 図３Ａは、ガラス板の縁部にメタルボンド砥石の研削用溝が対向配置された説明図である。 図３Ｂは、メタルボンド砥石によってガラス板の縁部が研削されている説明図である。 図３Ｃは、研削されて面取り面が形成されたガラス板の縁部の拡大図である。 図４は、メタルボンド砥石の側面図である。 図５は、新品状態又はドレッシング後の弾性砥石の全体斜視図である。 図６Ａは、電着砥石を弾性砥石の外周面に当接した状態を示す要部拡大側面図である。 図６Ｂは、電着砥石によって弾性砥石の外周面がドレッシングされている状態を示した要部拡大側面図である。 図６Ｃは、電着砥石によって弾性砥石の外周面がドレッシングされた弾性砥石の要部拡大側面図である。
　以下、添付図面に従って本発明に係る弾性砥石のドレッシング方法の好ましい実施の形態を詳説する。
　図１は、本発明の弾性砥石のドレッシング方法によってドレッシングされる弾性砥石２６、２８を備えた面取り装置１０の平面図である。この面取り装置１０は、厚さが０．７ｍｍ以下の液晶ディスプレイ用のガラス板（板状体）１２の縁部１２Ａ～１２Ｄをメタルボンド砥石１８、２０によって研削して面取り加工するとともに、面取り加工された面取り面を弾性砥石２６、２８によって研磨して鏡面加工する装置である。
　なお、面取り装置１０に適用可能な板状体としては、液晶ディスプレイ用のガラス板１２に限定されない。例えば、プラズマディスプレイ用ガラス板、ＬＥＤディスプレイ用ガラス板等の他のＦＰＤ用ガラス板でもよく、太陽電池用、照明用、建材用やミラー用等の一般的なガラス板でもよい。また、金属製、又は樹脂製の板状体であっても適用できる。板状体の厚さも０．７ｍｍ以下に限定されず、０．７ｍｍを超える厚さであってもよい。
　面取り装置１０は、矩形状のガラス板１２を吸着保持する定盤１４、定盤１４を矢印Ａ－Ｂ方向に往復移動させる移動装置１６、ガラス板１２の縁部１２Ａ～１２Ｄを研削して面取り面を縁部に形成する円盤状又は円柱状の一対のメタルボンド砥石１８、２０、メタルボンド砥石１８、２０を高速回転させるモータ２２、２４、前記面取り面を研磨して鏡面加工する円盤状又は円柱状の弾性砥石２６、２８、弾性砥石２６、２８を高速回転させるモータ３０、３２、メタルボンド砥石１８、２０による加工部に冷却液を噴射するノズル３４、３６、及び弾性砥石２６、２８による加工部に冷却液を噴射するノズル３８、４０等から構成されている。
　弾性砥石２６、２８のボンドは、弾性を有するブチルゴム、天然ゴム、又はシリコーン、ポリウレタン、フェノール、エポキシ、あるいはポリイミド等の樹脂であり、また、弾性砥石２６、２８の砥粒は、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素(ＣＢＮ)、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、軽石、又はガーネットである。弾性砥石２６、２８のドレッシング方法については後述する。
　面取り装置１０は、対向する２つの主面を有するガラス板１２の縁部を定盤１４の上面から露出させた状態で、定盤１４の上面の吸着面にガラス板１２の一方の主面を吸着保持させ、定盤１４を移動装置１６によって矢印Ａ方向に移動させる。その移動中にガラス板１２の対向する縁部１２Ａ、１２Ｂを、ガラス板１２の移動方向に対して対向する方向に回転しているメタルボンド砥石１８、２０によって研削して面取り面を形成する。そして、ガラス板１２の移動方向に対して対向する方向に回転している弾性砥石２６、２８によって前記面取り面を研磨する。これによって、ガラス板１２の縁部１２Ａ、１２Ｂが面取り加工された後、鏡面加工される。
　また、面取り加工時には、メタルボンド砥石１８とガラス板１２の縁部１２Ａとが接触する加工部に、ノズル３４から冷却液が噴射されるとともに、メタルボンド砥石２０とガラス板１２の縁部１２Ｂとが接触する加工部に、ノズル３６から冷却液が噴射される。また、鏡面加工時には、弾性砥石２６とガラス板１２の縁部１２Ａとが接触する加工部に、ノズル３８から冷却液が噴射されるとともに、弾性砥石２８とガラス板１２の縁部１２Ｂとが接触する加工部に、ノズル４０から冷却液が噴射される。
　これにより、前記加工部が前記冷却液によって冷却されるので、ガラス板１２の縁部１２Ａ、１２Ｂに生じる焼け、欠け等の発生が低減される。また、ガラス板１２の前記２つの主面それぞれと縁部１２Ａ、１２Ｂの端面との境界面に生じるチッピングも低減される。なお、冷却液としては、純水、研削油、及びこれらの混合物を例示できる。
　面取り装置１０では、ガラス板１２の対向する一対の縁部１２Ａ、１２Ｂを同時に面取り加工及び鏡面加工するために、メタルボンド砥石１８と弾性砥石２６とが縁部１２Ａに対向して配置されるとともに、メタルボンド砥石２０と弾性砥石２８とが縁部１２Ｂに対向して配置されている。弾性砥石２６、２８は、メタルボンド砥石１８、２０に対してガラス板１２の搬送方向下流側に配置されている。
　図１においてメタルボンド砥石１８は、モータ２２によって時計方向に回転され、メタルボンド砥石２０は、モータ２４によって反時計方向に回転される。また、弾性砥石２６は、モータ３０によって時計方向に回転され、弾性砥石２８は、モータ３２によって反時計方向に回転される。これらの砥石１８、２０、２６、２８の回転数は、好ましくは３０００ｒｐｍ以上に設定されている。
　なお、図１では、ガラス板１２を矢印Ａ方向に移動させながら、固定されたメタルボンド砥石１８、２０及び弾性砥石２６、２８によって縁部１２Ａ、１２Ｂを加工する面取り装置１０を示しているが、これに限定されるものではない。例えば、ガラス板１２を固定し、メタルボンド砥石１８、２０及び弾性砥石２６、２８をガラス板１２の縁部１２Ａ、１２Ｂに沿って移動させる面取り装置でもよい。また、メタルボンド砥石１８、２０及び弾性砥石２６、２８とガラス板１２とをガラス板１２の縁部１２Ａ、１２Ｂに沿って互いに近づく方向に移動させる面取り装置でもよい。更に、ガラス板１２の他の対向する縁部１２Ｃ、１２Ｄは、図１のメタルボンド砥石１８、２０及び弾性砥石２６、２８の後段に配置された不図示のメタルボンド砥石及び弾性砥石によって加工してもよい。又は、ガラス板１２を定盤１４によってＢ方向に移動させて元の位置に復帰させ、次に、ガラス板１２を定盤１４によって、ガラス板１２の主面方向の垂線を軸にして９０度回転させた後、定盤１４によってガラス板１２をＡ方向に移動させながら、ガラス板１２の縁部１２Ａ、１２Ｂの長さに合わせて間隔が変更されたメタルボンド砥石１８、２０及び弾性砥石２６、２８によって縁部１２Ｃ、１２Ｄを加工してもよい。
　図２は、面取り装置１０の要部拡大斜視図であり、メタルボンド砥石１８と弾性砥石２６とが図示されている。
　図２の如く、メタルボンド砥石１８及び弾性砥石２６は、ガラス板１２の端面１２Ｅに対向して配置されている。ここで端面１２Ｅとは、ガラス板１２の主面１２Ｆに対して直交する方向の面であり加工前の面である。この端面１２Ｅと主面１２Ｆとの境界面、及び端面１２Ｅを含む部分を縁部１２Ａ～１２Ｄと称し、縁部１２Ａ～１２Ｄをメタルボンド砥石１８、２０及び弾性砥石２６、２８によって加工する。なお、特許文献１に記載の如く、メタルボンド砥石１８、２０及び弾性砥石２６、２８の回転軸を、ガラス板１２の主面１２Ｆに立てた垂線に対して所定角度傾斜させてもよい。
　メタルボンド砥石１８、２０及び弾性砥石２６、２８は同時に回転駆動され、図１の移動装置１６によるガラス板１２の移動によって、ガラス板１２の対向する縁部１２Ａ、１２Ｂがメタルボンド砥石１８、２０及び弾性砥石２６、２８によって同時に加工される。
　図３Ａ及び図３Ｂは、メタルボンド砥石１８、２０の外周面の要部拡大断面図である。なお、メタルボンド砥石１８、２０は同一構成なので、ここではメタルボンド砥石１８について説明し、メタルボンド砥石２０の説明は省略する。
　メタルボンド砥石１８の外周面には、研削用溝である複数本の環状溝４２が水平方向（図４に一点鎖線で示した回転軸に対して直交方向）に形成される。この環状溝４２は、図４のメタルボンド砥石１８の側面図の如く上下方向に複数本平行に備えられている。
　なお、環状溝４２のメタルボンド砥石１８の厚さ方向の断面形状は、図３Ａ及び図３Ｂに示したＵ字状に限定されず、Ｖ字状、凹状であってもよい。また、環状溝４２の本数は１本でもよいが、メタルボンド砥石１８の交換作業を省くため、図４の如く、メタルボンド砥石１８の厚さ方向に所定の間隔で複数本備えることが好ましい。環状溝４２がメタルボンド砥石１８に複数本備えられているため、使用中の環状溝４２が寿命になったとき、図示しない制御装置でメタルボンド砥石１８を環状溝４２のピッチ単位で上下方向（メタルボンド砥石１８の厚さ方向）に昇降させれば、メタルボンド砥石１８の交換作業をすることなく新しい環状溝４２でガラス板１２の縁部１２Ａを研削できる。また、環状溝４２の形状は、単一の曲率半径を有する形状でもよく、端面１２Ｅを研削する部分、及び図３Ｃに示すように研削終了した端面１２Ｅ′と主面１２Ｆとの境界面１２Ｇを研削する部分が異なる曲率半径を有する形状のものでもよい。
　図３Ａに示すように、水平方向においてメタルボンド砥石１８の環状溝４２は、ガラス板１２の縁部１２Ａに対向されており、この状態からメタルボンド砥石１８が縁部１２Ａに向けて水平方向に送られる。そして、メタルボンド砥石１８の環状溝４２が縁部１２Ａに当接したところで、図３Ｂの如く、メタルボンド砥石１８が研削代分だけ縁部１２Ａに向けて送られる。これによって、図３Ｃの如く、縁部１２Ａが環状溝４２によって研削され、縁部１２Ａに面取り面が形成される。なお、図３Ａの破線Ｂで示すように、端面１２Ｅのガラス板１２の厚さ方向の中心部が環状溝４２の最深部に当接するようにメタルボンド砥石１８が縁部１２Ａに向けて送られる。
　次に、弾性砥石２６、２８について説明する。なお、弾性砥石２６と弾性砥石２８とは同一物なので、ここでは弾性砥石２６について説明し、弾性砥石２８については説明を省略する。また、弾性砥石２８に関連する説明も省略する。
　図５は、新品状態又はドレッシング後の弾性砥石２６を示した全体斜視図である。弾性砥石２６は、円盤状、円柱状、又は円筒状に構成されるとともに研磨面である外周面が扁平な形状の砥石である。
　弾性砥石２６は、熱硬化性樹脂のボンドによって砥粒を保持した砥石である。前記ボンドとしては、ブチルゴム、天然ゴム、又はシリコーン、ポリウレタン、フェノール、エポキシ、あるいはポリイミド等の樹脂を挙げることができる。また、砥粒としては、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素(ＣＢＮ)、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、軽石、又はガーネット等を挙げることができる。更に、弾性砥石２６の砥粒の粒度は、例えば砥粒がダイヤモンドの場合、２００～１５００番（ＪＩＳ　Ｒ６００１：１９９８）であることが好ましい。
　弾性砥石２６は、ガラス板１２の縁部１２Ａの端面１２Ｅ′（図３Ｃ参照）に当接される扁平な外周面が、加工時間の経過に伴って磨耗していく。これによって、図２の弾性砥石２６の如く、扁平な外周面４３にガラス板１２の縁部１２Ａの形状が転写した凹状（ｃｏｎｃａｖｅ）の環状溝４４が形成される。環状溝４４が深くなると、ガラス板１２の縁部１２Ａのほか、ガラス板１２の主面１２Ｆも研磨されるため、環状溝４４が所定の深さに達したところで、弾性砥石２６の外周面４３が研削加工されて元の扁平形状に戻される。すなわち、弾性砥石２６の外周面４３がドレッシングされる。本明細書において、扁平形状とは、図６Ｃのように、弾性砥石２６をその中心軸２６Ａに対して直交する方向から見たときの表面の形状が平らであることを意味する。
　次に、弾性砥石２６のドレッシング方法について説明する。
　弾性砥石２６の外周面４３のドレッシング方法は、ドレッシング工具として、図６Ａ、図６Ｂに示す円盤状、円柱状、又は円筒状に構成された電着砥石４６が使用される。図６Ａは、電着砥石４６の扁平の外周面を弾性砥石２６の外周面４３に当接した状態を示す要部拡大側面図、図６Ｂは、電着砥石４６によって弾性砥石２６の外周面４３がドレッシングされている状態を示した要部拡大側面図、図６Ｃは、電着砥石４６によって弾性砥石２６の外周面４３がドレッシングされて扁平形状に戻された弾性砥石２６の要部拡大側面図である。
　すなわち、実施の形態の弾性砥石２６のドレッシング方法は、乾式のドレッシング法においても目詰まりすることなくドレッシングが可能な電着砥石４６を用いて、弾性砥石２６の外周面４３をドレッシングする。
　具体的には、図６Ａの如く、環状溝４４が形成されてドレッシングが必要な弾性砥石２６と電着砥石４６とを各々の中心軸２６Ａ、４６Ａを中心に互いに回転させて、図６Ｂの如く、電着砥石４６の扁平の外周面と弾性砥石２６の外周面４３とを相対的に押圧する。これによって、弾性砥石２６の外周面４３が電着砥石４６によって磨滅、粉砕されていき、図６Ｃの如く、外周面４３が扁平形状に研削加工されてドレッシングされる。
　なお、当然であるが、弾性砥石２６と電着砥石４６とは、中心軸２６Ａ、４６Ａが平行に設定されている。
　電着砥石４６とは、円盤状、円柱状、又は円筒状の金属製基体の外周に、ダイヤモンド又はＣＢＮ（Ｃｕｂｉｃ　Ｂｏｒｏｎ　Ｎｉｔｒｉｄｅ：立方晶窒化ホウ素）の砥粒を、電着砥石４６のベース部材（不図示）の表面に保持しながら、ニッケルメッキを施して砥粒を機械的にベース部材に固定した砥石である。電着砥石４６は、砥粒突き出し量がメタルボンド砥石やレジンボンド砥石よりも大きく、これらの砥石よりも切れ味が鋭いという特徴を有する。
　前記電着砥石４６の特徴によって、外周面４３に環状溝４４が形成された弾性砥石２６であっても、乾式のドレッシング法によって目詰まりすることなく扁平形状に精度よくドレッシングできる。
　また、電着砥石４６によるドレッシング方法は、ドレッシング中に飛散した粉砕物を吸引して集塵する小型の集塵器をドレッシング部位に設置するだけでよいので、湿式のドレッシング法で必要な大掛かりな水処理設備が不要となる。
　更に、弾性砥石２６の外周面４３と電着砥石４６の外周面との接触箇所における相対的な周速を６．５～１３．０ｍ／ｓに設定することが好ましい。
　実施の形態のドレッシング方法によれば、弾性砥石２６と電着砥石４６の回転方向を、図６Ａ、図６Ｂの如く、各々同方向に設定し、弾性砥石２６の外周面４３と電着砥石４６の外周面との接触箇所における相対的な周速を６．５～１３．０ｍ／ｓに設定したので、最短のドレッシング時間で必要最小限のドレッシング精度を得ることができる。
　つまり、弾性砥石２６は弾性体であるがゆえに、周速を１３．０ｍ／ｓを超える高速に設定すると、弾性砥石２６に発生した遠心力によって弾性体の外周面４３が膨らむ。つまり、弾性砥石２６が遠心力によって弾性変形する。このため、弾性砥石２６の外周面４３を精度よく平坦（扁平）にドレッシングできない。また、周速が１３．０ｍ／ｓを超えると、乾式であるがゆえに加工熱が高温となり弾性砥石２６の外周面４３が焼きつくという問題も発生する。よって、前記周速は、低速であれば低速であるほどドレッシング精度が向上する傾向にある。
　しかしながら、前記周速を低速にし過ぎると、ドレッシング時間が無闇に長くなり、弾性砥石２６の本来の仕事（研磨加工）に悪影響を与える。そこで、必要最小限のドレッシング精度を得るためのドレッシング時間について実機にて検証したところ、前記周速の下限値を６．５ｍ／ｓに設定することが好ましいことを確認できた。よって、前記周速を６．５～１３．０ｍ／ｓに設定することによって、最短のドレッシング時間で必要最小限のドレッシング精度を得ることができる。
　本発明を詳細に、また特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の範囲と精神を逸脱することなく、様々な修正や変更を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０１２年１０月１０日出願の日本特許出願２０１２－２２４９２１に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
　１０…面取り装置、１２…ガラス板、１２Ａ～１２Ｄ…ガラス板の縁部、１２Ｅ、１２Ｅ′…ガラス板の端面、１２Ｆ…ガラス板の主面、１２Ｇ…ガラス板の端面と主面との境界面、１４…定盤、１６…移動装置、１８、２０…メタルボンド砥石、２２、２４…モータ、２６、２８…弾性砥石、３０、３２…モータ、３４、３６、３８、４０…ノズル、４２…環状溝、４３…外周面、４４…環状溝、４６…電着砥石

Claims (4)

  1. 　研磨面である外周面が扁平な弾性砥石をドレッシングする弾性砥石のドレッシング方法において、
    　前記外周面に環状溝が形成された前記弾性砥石と電着砥石とを各々の中心軸を中心に互いに回転させて、前記電着砥石の外周面と前記弾性砥石の前記外周面とを相対的に押圧することにより、前記弾性砥石の前記外周面を前記電着砥石によって扁平形状に研削加工してドレッシングする弾性砥石のドレッシング方法。
  2. 　研磨面である外周面を、板状体の縁部に押し当てるとともに、その中心軸を中心に回転させて前記縁部を研磨加工する弾性砥石をドレッシングする弾性砥石のドレッシング方法において、
    　前記弾性砥石の前記外周面に前記板状体の前記縁部の形状が転写されて形成された環状溝が所定の深さに到達すると、前記弾性砥石と電着砥石とを各々の中心軸を中心に互いに回転させて、前記電着砥石の外周面と前記弾性砥石の前記外周面とを相対的に押圧することにより、前記弾性砥石の前記外周面を前記電着砥石によって扁平形状に研削加工してドレッシングする弾性砥石のドレッシング方法。
  3. 　前記弾性砥石の回転方向と前記電着砥石の回転方向とを同方向にさせ、前記弾性砥石の前記外周面と前記電着砥石の前記外周面との接触箇所における相対的な周速が６．５～１３．０ｍ／ｓである請求項１又は２に記載の弾性砥石のドレッシング方法。
  4. 　前記弾性砥石のボンドは、ブチルゴム、天然ゴム、又は樹脂であり、
    　前記弾性砥石の砥粒は、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素(ＣＢＮ)、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、軽石、又はガーネットである請求項１から３のいずれか１項に記載の弾性砥石のドレッシング方法。
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