WO2013183445A1 - インクジェットインクの受容層 - Google Patents

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WO2013183445A1
WO2013183445A1 PCT/JP2013/064123 JP2013064123W WO2013183445A1 WO 2013183445 A1 WO2013183445 A1 WO 2013183445A1 JP 2013064123 W JP2013064123 W JP 2013064123W WO 2013183445 A1 WO2013183445 A1 WO 2013183445A1
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curable resin
ultraviolet
receiving layer
acid
ink
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敬裕 吉岡
藤城　光一
和久 浦野
俊英 板原
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新日鉄住金化学株式会社
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    • H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • H10K71/135—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing

Definitions

  • the present invention relates to an ink-jet ink receiving layer suitable for obtaining a pattern-like printed pattern from ink-jet ink ejected by an ink-jet apparatus, and more specifically, an ultraviolet curable resin composition coated on a non-absorbent substrate is selected.
  • the present invention relates to an ink-jet ink receiving layer in which a good pattern-like printed pattern can be obtained by irradiating a target ultraviolet ray and discharging the ink-jet ink to an unirradiated ultraviolet ray portion.
  • Ink jet methods represented by ink jet printers are not only used as conventional output means for paper media, but in recent years, for example, forming each pixel in a color filter and producing a printed wiring board by discharging conductive ink, etc. Then, the use in the field of electronic devices such as semiconductor devices is also increasing. This is due to the fact that the inkjet method is superior in controlling the amount of droplets discharged from the nozzle and the discharge position, and its use is expected to expand in various fields in the future. .
  • a receiving layer may be used to encourage the ink ejected from an inkjet printer or the like to be adsorbed and fixed to the support medium (base material), and on the printing surface of commercially available paper for inkjet printers or overhead projector sheets for inkjet printers.
  • this ink jet receiving layer (ink jet ink receiving layer) is formed, whereby a clear printed matter with less blur can be produced (for example, see Patent Document 1).
  • the inkjet method is not limited to consumer inkjet printers, but is also being applied to industrial applications.
  • a technique for manufacturing a color filter for a display device as disclosed in Patent Document 2 a matrix-shaped light-shielding layer is formed on an ink-jet receiving layer, and a patterned colored layer is formed between the matrix-shaped light-shielding layers by an ink-jet method.
  • the ink jet receiving layer plays an important role in forming the patterned colored layer, such as fixing the colored layer forming ink and preventing the ink from diffusing outside the target lattice.
  • Patent Document 3 introduces a technique for preventing color mixture between pixels. That is, an ink jet receiving layer is made of an ultraviolet curable resin, and only the ink jet receiving layer existing on the matrix-shaped light shielding layer is exposed and cured using a pattern mask to increase the thickness of the light shielding layer in a pseudo manner. It prevents diffusion of the forming ink. However, even if an attempt is made to fill more colored layer forming ink to improve the color characteristics, it is not possible to fill ink that exceeds the capacity of the ink jet receiving layer.
  • an ink jet receiving layer is particularly used to form a fine pattern.
  • Patent document 4 etc. are mentioned as an example, and the inkjet receiving layer in this case controls the wettability of the substrate surface. That is, the substrate surface provided with the receiving layer is irradiated with deep ultraviolet rays to control the wettability of the substrate surface, and the conductive ink is ejected to the wettable portion by the ink jet device to form the wiring.
  • this technique has to irradiate a considerable amount of deep ultraviolet rays (wavelength of about 300 nm or less), which is difficult for mass production. Also in this case, it is difficult to increase the discharge amount of the conductive ink for the purpose of achieving good conductivity.
  • the inkjet receptive layer formed on the dedicated paper / sheet for the inkjet printer contains polyvinyl alcohol, polyester, polyurethane, an acrylic resin emulsion or the like as a binder component, and is composed of inorganic particles such as silica.
  • the majority for example, see Patent Document 1 and Patent Document 2).
  • Patent Document 1 and Patent Document 2 when these receiving layers require water resistance, it is difficult to apply them to electronic components from the viewpoint of reliability.
  • an ink jet receiving layer formed of a photo-curing resin as described in Patent Document 5 can be cited.
  • application of the present technology to electronic parts is difficult because electronic parts are required to have higher heat resistance than the printing / printing field.
  • an object of the present invention is to provide an ink-jet ink receiving layer suitable for producing electronic devices such as color filters and wiring boards.
  • the present inventors selectively irradiate a predetermined ultraviolet curable resin composition coated on a non-absorbent substrate with ultraviolet rays, and perform inkjet on unirradiated portions.
  • the present inventors have found that a good pattern-like printed pattern can be obtained even when the amount of ink is increased by discharging ink, and the present invention has been completed. That is, the gist of the present invention is as follows.
  • An ink-jet ink receiving layer formed from an ultraviolet curable resin composition coated on a non-absorbent substrate and used to obtain a pattern-like printed pattern by ejecting ink-jet ink with an ink-jet apparatus.
  • the ultraviolet curable resin composition comprises (A) a solvent, (B) an ultraviolet curable resin having a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000, and (C) having three or more acrylic groups in the molecule and having a weight average molecular weight of 150 to 30,000.
  • An inkjet ink receiving layer comprising an ultraviolet non-irradiated portion for discharging inkjet ink and an ultraviolet irradiated portion.
  • X represents —CO—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, —Si (CH 3 ) 2 —, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —S—, —O—, 9,9-fluorenediyl group or direct bond
  • m represents a number from 0 to 10.
  • R6 is a divalent alkylene or alkylarylene group having 2 to 22 carbon atoms
  • R7 is a hydrogen atom or methyl group
  • R8 is a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms
  • p is Represents a number between 0 and 60.
  • L is a divalent or trivalent carboxylic acid residue
  • q is 1 or 2.
  • a fine pattern can be formed when an electronic device or the like is manufactured by an ink jet method, and a good pattern-like printed pattern can be obtained even when the amount of ink is increased. .
  • FIG. 1 is an explanatory diagram showing an outline when a matrix pattern is formed by applying an ultraviolet curable resin composition onto a non-absorbable substrate and drying it, followed by selective ultraviolet irradiation.
  • FIG. 2 is an explanatory plan view showing the state of the receiving layer after the matrix pattern is formed.
  • FIG. 3 is a photomicrograph showing a state after the inkjet ink is ejected onto the inkjet receiving layer obtained in Example 1.
  • FIG. 4 is a photomicrograph showing a state after the inkjet ink is ejected onto the inkjet receiving layer obtained in Comparative Example 1.
  • the ultraviolet curable resin composition in the present invention essentially comprises (A) a solvent, (B) an ultraviolet curable resin, (C) an acrylic monomer or oligomer having three or more acrylic groups in the molecule, and (D) a photopolymerization initiator. Ingredients.
  • the mass ratio of each component to the total composition amount is (A) 50 to 90% by mass, (B) 3 to 30% by mass, (C) 0.5 to 20% by mass, and (D) 0.1 to 10% by mass. Is preferred.
  • a compound having a fluorine atom as a surface conditioner may be contained in an amount of 0.001 to 1% by mass with respect to the total composition weight.
  • various other components may be added as necessary.
  • binder resins such as thermoplastic resins and thermosetting resins, coloring materials such as pigments and dyes, curing accelerators, thermal polymerization inhibitors, ultraviolet absorbers, plasticizers, fillers, surfactants, antifoaming agents Additives such as can be added.
  • solvent used in the ultraviolet curable resin composition in the present invention examples include alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, ethylene glycol and propylene glycol, terpenes such as ⁇ - or ⁇ -terpineol, and acetone.
  • Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, N-methyl-2-pyrrolidone, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, tetramethylbenzene, cellosolve, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, ethyl carbitol , Butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, Glycol ethers such as triethylene glycol monomethyl ether and triethylene glycol monoethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, ethyl carbit
  • the weight ratio of the component (A) to the total composition weight is desirably 50 to 90% by mass. If it is less than 50% by mass, it is difficult to prepare an ink jet receiving layer because the viscosity of the composition is too high. When it exceeds 90% by mass, it is difficult to prepare an ink jet receiving layer because the composition has too few solid components.
  • the ultraviolet curable resin used in the ultraviolet curable resin composition in the present invention may be any as long as it has a polymerizable unsaturated bond in the molecule and causes a polymerization reaction with the component (C).
  • Examples include (meth) acrylic resins having (meth) acrylic acid ester groups in the side chains, polyethylene resins and polyurethane resins having (meth) acrylic groups at the ends, resins having maleimide structures at the side chains and ends (
  • (meth) acryl represents methacryl or acryl).
  • the resin represented by the following general formula (I-1) as the ultraviolet curable resin (B) is contained in the component (B) by 50% by mass or more.
  • W represents a bisphenol derivative represented by the following general formula (I-2)
  • Y represents a tetravalent carboxylic acid residue
  • G represents the following general formula (I-3) or (I-4).
  • Z represents a hydrogen atom or a substituent represented by the following general formula (I-5), and n represents a number of 1 to 20.
  • R1, R2, R3, and R4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, or a phenyl group.
  • X represents —CO—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, —Si (CH 3 ) 2 —, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —S—, —O—, 9,9-fluorenediyl group or direct bond
  • m represents a number from 0 to 10.
  • R6 is a divalent alkylene or alkylarylene group having 2 to 22 carbon atoms
  • R7 is a hydrogen atom or methyl group
  • R8 is a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms
  • p is Represents a number between 0 and 60.
  • L is a divalent or trivalent carboxylic acid residue
  • q is 1 or 2.
  • an epoxy compound having two glycidyl ether groups obtained by reacting a diol compound having a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (I-6) with a bisphenol and epichlorohydrin, particularly, Preferably, an epoxy compound represented by the following general formula (I-7) and a (meth) acrylic group in which the terminal represented by the following general formula (I-8) and / or (I-9) is a hydroxyl group or a carboxyl group It is synthesized by reacting with an acid derivative.
  • R1, R2, R3, and R4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, or a phenyl group.
  • X represents —CO—, —SO 2 —, —C (CF 3 ) 2 —, —Si (CH 3 ) 2 —, —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —S—, —O—, 9,9-fluorenediyl group or direct bond
  • G represents a substituent represented by the following general formula (I-3) or (I-4), and m represents a number of 0 to 10.
  • R6 is a divalent alkylene or alkylarylene group having 2 to 22 carbon atoms
  • R7 is a hydrogen atom or methyl group
  • R8 is a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms
  • p is Represents a number between 0 and 60.
  • R6 is a divalent alkylene or alkylarylene group having 2 to 22 carbon atoms
  • R7 is a hydrogen atom or methyl group
  • R8 is a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms
  • p is Represents a number between 0 and 60.
  • reaction product obtained by this reaction is a diol compound containing a polymerizable unsaturated group, and is represented by the general formula (I-6).
  • Preferred bisphenols that give the ultraviolet curable resin of the general formula (I-1) include the following.
  • 4,4'-biphenol, 3,3'-biphenol and the like are also preferred.
  • the ultraviolet curable resin of the general formula (I-1) can be obtained from an epoxy compound derived from bisphenols as described above.
  • a phenol novolac type epoxy compound or a cresol novolak type epoxy compound Can be used as long as they contain a compound having two glycidyl ether groups significantly.
  • the oligomer unit represented by the general formula (I-7) is mixed, and the average value of m in the general formula (I-7) is 0 to If it is in the range of 10, preferably 0 to 2, there is no problem in the performance of the resin composition.
  • the general formulas (I-3), (I-4), (I-8) and (I-9) have a polymerizable unsaturated group and at least one ester bond, in which R6 has 2 carbon atoms. Represents an alkylene or alkylarylene group of ⁇ 22.
  • the alkylene may be linear or branched, and may be ethylene, propylene, isopropylene, n-butylene, isobutylene, sec-butylene, t-butylene, pentylene, hexylene, heptylene, octylene, nonene, decylene, undecylene, dodecylene, Examples include tridecylene, tetradecylene, pentadecylene, hexadecylene, heptadecylene, octadecylene, nonadecylene, diddecyl, heicosylene, docosylene group, etc.
  • the alkylarylene group may be an unsubstituted arylene group within the range of carbon number, for example, -Ph- Ph- (2,2'-biphenylene group), -Ph-Ph-Ph- (triphenylene group), -Ph-C (CH3) 2-Ph- (such as a bisphenol A-like residue)
  • Ph represents a phenylene group Show] o, m, p-phenylene substituted toluylene, cresylene, ethylphenylene, n-propylphenylene, isopropylphenylene, linear or branched butylphenylene, pentylphenylene, hexylphenylene, heptylphenyl, octylphenylene, nonylphenylene, decylphenylene , Undecyl phenylene, dodecyl phenylene, tridecyl phenylene,
  • alkyl arylene group is 2 to 4 as long as it does not exceed the range of carbon number. It may be substituted, and further the alkylene moiety may be interrupted by an unsaturated bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond or a urethane bond.
  • R8 represents an aliphatic or aromatic hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear or branched, such as ethylene, propylene, isopropylene, n-butylene, Examples include isobutylene, sec-butylene, t-butylene, pentylene, hexylene, heptylene, octylene, nonene, decylene, undecylene, dodecylene, tridecylene, tetradecylene, pentadecylene, hexadecylene, heptadecylene, octadecylene, nonadecylene, and didecyl groups.
  • the hydrocarbon group may be unsubstituted as long as it is within the range of the number of carbon atoms.
  • Ph represents a phenylene group] o, m, p-phenylene substituted toluylene, credylene, ethylphenylene, n-propylphenylene, isopropylphenylene, linear or branched butylphenylene, pentylphenylene, hexylphenylene , Heptylphenyl, octylphenylene, nonylphenylene, decylphenylene, undecylphenylene, dodecylphenylene, tridecylphenylene, tetradecylphen
  • p represents a number from 0 to 60.
  • the resin performance may be lowered due to the wide distribution, or that sufficient curing as a cured product cannot be imparted. More preferably, if it is in the range of 0 to 20, the performance as the resin used in the present invention is reliably maintained.
  • the reaction conditions such as the solvent and catalyst used in the production of the diol compound represented by the above general formula (I-6) and the subsequent UV curable resin are not particularly limited.
  • a solvent having a boiling point higher than the reaction temperature is preferably used as the reaction solvent.
  • examples of such a solvent include cellosolve solvents such as ethyl cellosolve acetate and butyl cellosolve acetate, diglyme, ethyl carbitol acetate, and butyl carbitol.
  • a high boiling point ether or ester solvent such as acetate or propylene glycol monomethyl ether acetate, or a ketone solvent such as cyclohexanone or diisobutyl ketone is preferable.
  • the catalyst used may be a known catalyst such as an ammonium salt such as tetraethylammonium bromide or triethylbenzylammonium chloride, or a phosphine such as triphenylphosphine or tris (2,6-dimethoxyphenyl) phosphine. it can.
  • an ammonium salt such as tetraethylammonium bromide or triethylbenzylammonium chloride
  • a phosphine such as triphenylphosphine or tris (2,6-dimethoxyphenyl) phosphine. it can.
  • tetracarboxylic acid or its acid dianhydride which can react with the hydroxyl group in a diol compound, dicarboxylic acid, tricarboxylic acid or those It is better to use acid monoanhydride.
  • This acid component is effective either saturated or unsaturated.
  • tetracarboxylic acid or its acid dianhydride and dicarboxylic acid, tricarboxylic acid or their acid monoanhydrides include acid mono- and acid dianhydrides of saturated linear hydrocarbon tetracarboxylic acids and alicyclic tetracarboxylic acids. Acid monoacid and acid dianhydride, aromatic tetracarboxylic acid monoacid and acid dianhydride, and the like can be used.
  • saturated linear hydrocarbon tetracarboxylic acid or its acid dianhydride examples include butanetetracarboxylic acid, pentanetetracarboxylic acid, hexanetetracarboxylic acid or its acid dianhydride, and the like. May be a saturated cyclic tetracarboxylic acid substituted with a saturated cyclic hydrocarbon or an acid dianhydride thereof.
  • cycloaliphatic tetracarboxylic acid or its acid dianhydride cyclobutanetetracarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, cyclohexanetetracarboxylic acid, cycloheptanetetracarboxylic acid, norbornanetetracarboxylic acid or its acid dianhydride
  • an alicyclic tetracarboxylic acid substituted with a saturated hydrocarbon or an acid dianhydride thereof may be used.
  • aromatic tetracarboxylic acid or acid dianhydride thereof examples include pyromellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, biphenyl tetracarboxylic acid, biphenyl ether tetracarboxylic acid, diphenyl sulfone tetracarboxylic acid or acid dianhydride thereof. be able to.
  • the acid or acid dianhydride in the present invention is preferably biphenyl tetracarboxylic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, biphenyl ether tetracarboxylic acid or acid dianhydride, more preferably biphenyl tetracarboxylic acid or biphenyl ether tetracarboxylic acid. Or its acid dianhydride. Two or more of these acids or acid dianhydrides can be used in combination.
  • saturated linear hydrocarbon dicarboxylic acid and tricarboxylic acid for example, succinic acid, acetyl succinic acid, adipic acid, azelaic acid, citrate malic acid, malonic acid, glutaric acid, citric acid, Examples thereof include tartaric acid, oxoglutaric acid, pimelic acid, sebacic acid, suberic acid, diglycolic acid (or their anhydrides), and further, linear hydrocarbon dicarboxylic acids and tricarboxylic acids substituted with hydrocarbon groups. It may be an acid (or an acid anhydride thereof).
  • saturated cyclic hydrocarbon dicarboxylic acid and tricarboxylic acid include, for example, hexahydrophthalic acid, cyclobutanedicarboxylic acid, cyclopentanedicarboxylic acid, norbornanedicarboxylic acid, hexahydrotrimellitic acid (or those).
  • alicyclic dicarboxylic acids and tricarboxylic acids (or acid anhydrides thereof) substituted with saturated hydrocarbons may be used.
  • unsaturated dicarboxylic acid and tricarboxylic acid for example, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic acid, chlorendic acid, trimellitic acid (or Their acid anhydrides).
  • succinic acid, itaconic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrotrimellitic acid, phthalic acid and trimellitic acid are preferred, and succinic acid, itaconic acid and tetrahydrophthal are more preferred. Two or more of these acids or acid monoanhydrides can be used in combination.
  • the method for reacting the diol compound with the acid component is not particularly limited.
  • a diol compound having a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (I-6) (abbreviated as di ol), tetracarboxylic acid or an acid thereof so that the terminal of the compound is a carboxylic acid group
  • di ol a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (I-6)
  • tri / di acid a diol compound having a polymerizable unsaturated group represented by the general formula (I-6) (abbreviated as di ol), tetracarboxylic acid or an acid thereof so that the terminal of the compound is a carboxylic acid group
  • dianhydride abbreviated as tetra acid
  • dicarboxylic acid tricarboxylic acid or its acid monoanhydride
  • the molar ratio of the tetracarboxylic acid or its acid dianhydride is less than 0.2, the content of the unreacted diol compound is increased, and there is a concern that the temporal stability of the ultraviolet curable resin composition is lowered.
  • the molar ratio exceeds 0.5, the terminal of the compound represented by the general formula (I-6) becomes an acid anhydride, and the content of unreacted acid dianhydride increases. Since it exists as a foreign material, the expected performance of the resin may not be expressed.
  • the molar ratio of dicarboxylic acid, tricarboxylic acid or acid dianhydride thereof is less than 0.2, the content of unreacted diol compound is increased, and there is a concern that the stability over time of the ultraviolet curable resin composition may be lowered.
  • the molar ratio exceeds 1.0, the terminal of the compound represented by the general formula (I-6) is derived from the acid or acid monoanhydride, and the resulting resin (general formula (I-1) Since the molecular weight of the resin represented is low, the expected performance of the resin may not be expressed.
  • the reaction temperature between the diol compound and the acid component is preferably 90 to 130 ° C., and the raw materials are uniformly dissolved and reacted, followed by reaction and aging at 40 to 80 ° C.
  • the molecular weight of the resin said by this invention including the case of the (C) component said below represents a weight average molecular weight.
  • the commercial item of the compound represented by this general formula (I-1) is illustrated, for example, Nippon Steel Chemical V-259ME etc. will be mentioned.
  • the weight ratio of the component (B) to the total composition weight is desirably 3 to 30% by mass.
  • the curability when the composition is irradiated with ultraviolet rays is low, and a difference in solvent absorption between the ultraviolet irradiated portion and the unirradiated portion does not occur. If it exceeds 30% by mass, the viscosity of the composition becomes high, making it difficult to produce an ink jet receiving layer.
  • the molecular weight of the component (B) is in the range of 1,000 to 50,000, more preferably in the range of 1,000 to 10,000. From this range, solubility in a solvent is lost, and it is difficult to form a film as a receiving layer, and a small film has poor film forming properties as a receiving layer.
  • the resin represented by the general formula (I-1) is contained in the component (B) in an amount of 50% by mass or more in the component (B). Thereby, sufficient reliability for use as an electronic component can be secured.
  • Acrylic monomer or oligomer having three or more acrylic groups in the molecule examples include trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerin triacrylate, trisacryloyloxyethyl phosphate, Examples thereof include acrylic acid esters such as dipentaerythritol tetraacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, and alkylene oxides or caprolactone adducts thereof.
  • the acrylic oligomer refers to a multi-branched (hyperbranched or dendrimer) acrylate, V # 1000, V # 1020, STAR-501 (above, Osaka Organic Chemical Industry), CN2302, CN2303, CN2304 (above, Sartomer Japan). These compounds can be used alone or in combination of two or more.
  • the mass ratio of the component (C) to the total composition weight is desirably 0.5 to 20% by mass. When it is less than 0.5% by mass, the curability when the composition is irradiated with ultraviolet rays is low, and a difference in solvent absorption between the ultraviolet irradiated portion and the unirradiated portion does not occur. When the content exceeds 20% by mass, tackiness is exhibited when the ink jet receiving layer is formed, and there is a problem in handling properties of the substrate with the ink jet receiving layer.
  • the weight average molecular weight of the component (C) is in the range of 150 to 30,000. If it is larger than this range, the solvent-absorbing ability becomes small, and there is nothing small.
  • photopolymerization initiators can be used alone or in admixture of two or more.
  • a compound that can increase the ability of the photopolymerization initiator or sensitizer by using in combination with the above compound can.
  • examples of such compounds include tertiary amines such as triethanolamine which are effective when used in combination with benzophenone.
  • the weight ratio of the component (D) to the total composition weight is preferably 0.1 to 10% by mass.
  • the content is less than 0.1% by mass, the curability when the composition is irradiated with ultraviolet rays is low, and a difference in solvent absorption between the ultraviolet irradiated portion and the unirradiated portion does not occur. If it exceeds 10% by mass, the amount of the component (B) or the component (C) is relatively small, so that the curing reaction is difficult to proceed, and the receiving layer lacks thermal reliability.
  • a compound having a fluorine atom may be blended as a surface conditioner.
  • the compound used for this include the Megafuck series and the Defenser series manufactured by DIC, the Surflon series manufactured by AGC Seimi Chemical Co., the tangent series manufactured by Neos, and the OPTOOL series manufactured by Daikin.
  • the inkjet receptive layer formed from the ultraviolet curable resin composition to which the present compound group is added has a liquid repellent surface due to the action of fluorine atoms. Therefore, when inkjet printing is performed, the boundary line between the ultraviolet-irradiated part and the unirradiated part becomes clearer (clearer) than in the case of no addition.
  • the mass ratio of the component (E) to the total composition weight is preferably 0.001 to 1% by mass.
  • the amount is less than 0.001% by mass, the effect of addition as described above is not observed.
  • addition of more than 1% by mass is not necessary for the required performance, and component (E) is not preferable because of its relatively poor compatibility with other components.
  • ingredients other than the above (A) to (E) may be added as necessary.
  • Other ingredients include coloring materials such as dyes and pigments, non-photoreactive binder resins such as polyester resins, polyurethane resins, acrylic resins and epoxy resins, fillers such as alumina, mica and silica, leveling agents and antifoaming agents.
  • Additives such as an agent, a plasticizer, a coupling agent, a curing agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant, and a fluorescent brightening agent may be appropriately contained.
  • the inkjet receptive layer in the present invention includes (1) coating an ultraviolet curable resin composition on a non-absorbent substrate, (2) drying the ultraviolet curable resin composition, and (3) at least a process including selective ultraviolet irradiation. Formed from.
  • a schematic diagram is shown in FIG. FIG. 1 shows an example in which a matrix pattern is created as selective ultraviolet irradiation, and shows a state in which the above steps (1), (2), and (3) are performed in order.
  • FIG. 2 is a plan view showing the state of the receiving layer after the steps (1), (2) and (3).
  • the non-absorbable substrate in the present invention is an organic substrate such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyimide, fluorine resin, silicone resin, inorganic substrate such as glass, silicon wafer, iron plate, copper foil, ITO, etc.
  • organic substrate such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyimide, fluorine resin, silicone resin, inorganic substrate such as glass, silicon wafer, iron plate, copper foil, ITO, etc.
  • examples thereof include a composite substrate in which a thin film such as (indium tin oxide) is formed on a polyethylene terephthalate film or the like. This substrate is selected according to the characteristics of the electronic device to be produced and the coating method of the ultraviolet curable resin composition, and does not absorb the solvent of the ultraviolet curable resin composition like paper and cloth.
  • ⁇ Coating method> There is no particular limitation on the coating method of the ultraviolet curable resin composition, and known methods such as spin coating, dip coating, bar coating, blade coating, air knife coating, roll coating, screen printing, etc. Any of these methods can be employed, and the method is appropriately selected according to the substrate to be coated and the coating thickness.
  • the coating thickness is preferably 1.0 to 100 ⁇ m in terms of dry film thickness. More desirably, the thickness is 5.0 to 50 ⁇ m. When the coating thickness is less than 1 ⁇ m in terms of the dry film thickness, the prepared inkjet receiving layer may not exhibit the desired performance. Further, in view of the performance of the ink jet receiving layer, it is not required to have a thickness exceeding 100 ⁇ m in terms of the dry film thickness.
  • the ultraviolet curable resin composition is dried by heating with an oven, a hot plate or the like, vacuum drying, or a combination thereof.
  • the drying method in this invention is suitably selected according to the kind of (A) solvent in the ultraviolet curable resin composition, and the kind of base material.
  • the drying temperature is preferably 45 to 120 ° C. When the temperature is lower than 45 ° C, the solvent may remain in the dry film. When the temperature is higher than 120 ° C, the active group in the composition may be deactivated.
  • the drying time may be about 1 to 10 minutes.
  • the ultraviolet rays used in the present invention are electromagnetic waves mainly containing wavelengths of 250 nm to 400 nm.
  • Examples of the ultraviolet light source used in the present invention include a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and a UV-LED lamp, but are not particularly limited.
  • ultraviolet rays are selectively irradiated onto the dried coating film of the ultraviolet curable resin composition using these light sources.
  • selectively irradiating with ultraviolet rays means, for example, for the purpose of wiring formation, irradiating with ultraviolet rays a portion where a conductive film is not formed with conductive ink, that is, a non-conductive portion of a circuit wiring pattern.
  • UV irradiation is performed on the part of the matrix pattern where the color pixels are not formed, that is, the partition part of the matrix pattern (the part where the black matrix is formed). is there.
  • the method of selective ultraviolet irradiation include a method in which ultraviolet rays are collected using a lens or the like and directly applied thereto, a method using a photomask, or the like.
  • the exposure dose is preferably 10 to 5000 mJ / cm 2 .
  • the ink-jet ink used for the ink-jet receiving layer in the present invention is an alcohol, ketone, ether, ester-based organic solvent, or a liquid acrylic monomer, a liquid methacrylic monomer, or a liquid epoxy monomer as at least a liquid component. Those containing a diluent are preferred.
  • examples of the alcohol organic solvent include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, ethylene glycol, propylene glycol and the like.
  • examples of the ketone organic solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone.
  • ether-based organic solvents include cellosolve, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, ethyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol Examples thereof include monoethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, and triethylene glycol monoethyl ether.
  • ester organic solvents examples include ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl Examples include ether acetate. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • liquid acrylic monomer used as the reactive diluent examples include, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, isoamyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, butoxyethyl acrylate, ethoxydiethylene glycol diethylene glycol acrylate, 2-ethylhexyl-diglycol.
  • liquid methacrylic monomers used as reactive diluents include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-lauryl methacrylate, and n-stearyl.
  • Methacrylate methoxypolyethylene glycol methacrylate, cyclohexyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, benzyl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate , Dimethylaminoethyl methacrylate, Sidyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, 1,6-hexane Examples thereof include diol dimethacrylate, 1,9-nonanediol dimethacrylate, 2-hydroxy-3-acryloy
  • liquid epoxy monomer used as the reactive diluent examples include butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, p-sec-butylphenyl glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, and polyethylene glycol diglycidyl.
  • Examples include ether, propylene glycol diglycidyl ether, dipropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, and the like. These reactive diluents may be used alone or in combination of two or more.
  • coloring materials such as dyes and pigments
  • binder resins such as polyester resins and polyurethane resins, acrylic resins and epoxy resins
  • fillers such as alumina, mica and silica
  • leveling agents and antifoaming agents plasticizers
  • Additives such as a coupling agent, a curing agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant, and a fluorescent brightening agent can be appropriately contained.
  • a fine pattern By ejecting the ink-jet ink as described above to the ultraviolet-irradiated portion of the ink-jet receiving layer prepared on the base material, a fine pattern can be formed. That is, since the ink-jet receiving layer has a different amount of solvent absorption between the ultraviolet-irradiated part and the unirradiated part, and the former is smaller, the ultraviolet-irradiated ink-jet ink is absorbed by absorbing the ink-jet ink discharged from the non-irradiated part. Since wetting spread to the portion can be suppressed, a fine pattern can be formed.
  • the “solvent” used when expressing the “solvent absorption amount” in the present invention represents a liquid component contained in the inkjet ink. That is, the “solvent” used when expressing the “solvent absorption amount” means the alcohol-based, ketone-based, ether-based or ester-based organic solvent described above, and the liquid acrylic monomer, liquid methacrylic monomer, liquid epoxy monomer. Reactive diluents such as are shown. That is, the ink jet receiving layer of the present invention is provided with an ultraviolet non-irradiated part having these “solvent” absorbing ability and an ultraviolet irradiated part having a “solvent” absorbing ability lower than that of the ultraviolet non-irradiating part.
  • liquid refers to one that exhibits a liquid state when used. That is, the reactive diluent in the inkjet ink is a component that exhibits a liquid state at least when it is filled in the inkjet apparatus and discharged onto the receiving layer. Therefore, in the present invention, the “solvent absorption amount” It corresponds to.
  • the finely divided pigment (Pigment Blue 15: 6) is dispersed in a bead mill using diethylene glycol monoethyl ether acetate as a solvent in the presence of a high molecular weight compound (polymer dispersant) having a pigment-affinity functional group. Prepared. Based on this dispersion, each component was mixed so as to have the composition shown in Table 1, and the mixed solution was subjected to pressure filtration with a 1 ⁇ m microfilter to prepare an inkjet ink.
  • a high molecular weight compound polymer dispersant
  • Example 1 (A) Propylene glycol monomethyl ether acetate (manufactured by Daicel Chemical Industries) 14.56 parts, (B) UV curable resin (trade name V-259ME, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., solid content 56 mass%) 12.6 parts, (C) acrylic monomer (Trade name DPCA-120, Nippon Kayaku) 1.76 parts, (D) 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one (manufactured by BASF Japan) 0.18 parts, (E) 0.9 part of a fluorine-containing oligomer solution (product name: Mega-Fac F-555 (DIC) diluted with propylene glycol monomethyl ether acetate to 1% active ingredient) is mixed, and the mixed solution is pressurized with a 1 ⁇ m microfilter
  • the ultraviolet curable resin composition 1 was created by filtering. Table 2 shows the mass ratio of the components (A) to (E) in the composition.
  • the obtained ultraviolet curable resin composition 1 was applied on a 125 mm ⁇ 125 mm glass substrate using a spin coater so that the dry film thickness was 10 ⁇ m.
  • the ultraviolet curable resin composition 1 was dried on a hot plate at 70 ° C. for 5 minutes.
  • the exposure gap is adjusted to 150 ⁇ m, using a matrix-like negative photomask (line width 20 ⁇ m line + 100 ⁇ m opening in both xy directions), ultraviolet light of 1500 mJ / cm 2 with an ultra-high pressure mercury lamp with i-line illuminance of 50 mW / cm 2
  • the inkjet receiving layer 1 was prepared by irradiating selectively with ultraviolet rays.
  • the inkjet head piezo element drive type, KM512M manufactured by Konica Minolta IJ
  • the inkjet head in the y direction vertical direction in FIG. 3 with respect to the ultraviolet unirradiated portion of the inkjet receiving layer 1 obtained above.
  • the inkjet receiving layer was evaluated by driving the prepared inkjet ink while moving.
  • FIG. 3 shows a micrograph at that time.
  • the inkjet receiving layer 1 was able to draw a matrix pattern with good reproducibility.
  • the vertical grid as viewed from the central grid is printed (inkjet ink is ejected to the unirradiated portion of the ultraviolet rays).
  • the grid in the left-right direction as viewed from the center grid is not printed.
  • the white broken line in a figure shows a matrix pattern (UV irradiation part). That is, the droplets (inkjet ink) are contained within the lattice frame, and the coalescence with the upper and lower lattices is not seen. Subsequently, a mosaic pattern having a size of 100 ⁇ 100 ⁇ m in both xy directions and a pattern interval of 20 ⁇ m was created on the entire receiving layer, but no coalescence with adjacent lattices was observed in the top, bottom, left, and right.
  • Example 2 (A) 15.12 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (Daicel Chemical Industries), (B) 11.31 parts of UV curable resin (trade name V-259ME, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., solid content 56% by mass), (C) acrylic monomer (Trade name DPCA-120, Nippon Kayaku) 1.58 parts, (D) 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (BASF Japan) 1.08 parts, (E) fluorine-containing oligomer solution (trade name Megafax F-555 0.9 parts of (diluted DIC) with propylene glycol monomethyl ether acetate diluted to 1% active ingredient) were mixed, and the mixed solution was pressure filtered through a 1 ⁇ m microfilter to prepare UV curable resin composition 2.
  • Table 2 shows the weight ratio of the components (A) to (E) in the composition.
  • the obtained ultraviolet curable resin composition 2 was coated on a 125 mm ⁇ 125 mm glass substrate using a spin coater so that the dry film thickness was 10 ⁇ m. Next, the ultraviolet curable resin composition 2 was dried on a hot plate at 70 ° C. for 5 minutes. After that, the exposure gap was adjusted to 150 ⁇ m, using a matrix-like negative photomask (line width 20 ⁇ m line +100 ⁇ m opening in both xy directions) and an i-line illuminance of 50 mW / cm 2 with an ultrahigh pressure mercury lamp of 1500 mJ / cm 2 By selectively irradiating with ultraviolet rays, the inkjet receiving layer 2 was prepared.
  • the inkjet receiving layer 2 of the inkjet receiving layer 2 obtained above is driven into the non-ultraviolet-irradiated portion of the inkjet receiving layer, thereby forming the inkjet receiving layer. Evaluation was performed. As a result, as in Example 1, the inkjet receiving layer 1 reproduced the matrix pattern well.
  • Example 3 (A) Propylene glycol monomethyl ether acetate (manufactured by Daicel Chemical Industries) 16.62 parts, (B) UV curable resin (trade name V-259ME, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., solid content 56 mass%) 9.45 parts, (C) acrylic monomer (Trade name DPCA-120, Nippon Kayaku) 1.76 parts, (D) 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one (manufactured by BASF Japan) 0.18 parts, (E) Fluorine-containing oligomer solution (trade name MegaFuck F-555 (manufactured by DIC) diluted with propylene glycol monomethyl ether acetate to 1% active ingredient) 0.023 parts, (F) acrylic thermoplastic elastomer (trade name LA4285 1.76 parts of Kuraray Co., Ltd.) were mixed, and the mixed solution was subjected to pressure filtration with a 1
  • the obtained ultraviolet curable resin composition 3 was coated on a 125 mm ⁇ 125 mm glass substrate using a spin coater so that the dry film thickness was 10 ⁇ m. Next, the ultraviolet curable resin composition 3 was dried on a hot plate at 70 ° C. for 5 minutes. After that, the exposure gap was adjusted to 150 ⁇ m, using a matrix-like negative photomask (line width 20 ⁇ m line +100 ⁇ m opening in both xy directions) and an i-line illuminance of 50 mW / cm 2 with an ultrahigh pressure mercury lamp of 1500 mJ / cm 2 By selectively irradiating with ultraviolet rays, the inkjet receiving layer 3 was prepared.
  • the inkjet receiving layer 3 is driven into the ultraviolet-irradiated portion of the inkjet receiving layer 3 obtained above, thereby driving the inkjet receiving layer. Evaluation was performed. As a result, as in Example 1, the inkjet receiving layer 1 reproduced the matrix pattern well.
  • the ultraviolet curable resin composition 1 was coated on a 125 mm ⁇ 125 mm glass substrate using a spin coater so that the dry film thickness was 10 ⁇ m. Next, the ultraviolet curable resin composition 1 was dried on a hot plate at 70 ° C. for 5 minutes. Thereafter, an inkjet receptive layer was prepared by irradiating the entire surface of the substrate with ultraviolet rays of 1500 mJ / cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp with an i-line illuminance of 50 mW / cm 2 .
  • the created inkjet ink is used in the xy direction of 100 ⁇ 100 ⁇ m and the pattern interval is 20 ⁇ m. Although a mosaic pattern was created, a clean matrix pattern could not be created (the droplets spread and the entire surface was coated).
  • the obtained ultraviolet curable resin composition 4 was coated on a 125 mm ⁇ 125 mm glass substrate using a spin coater so that the dry film thickness was 10 ⁇ m. Next, the ultraviolet curable resin composition 4 was dried on a hot plate at 70 ° C. for 5 minutes. After that, the exposure gap was adjusted to 150 ⁇ m, using a matrix-like negative photomask (line width 20 ⁇ m line +100 ⁇ m opening in both xy directions) and an i-line illuminance of 50 mW / cm 2 with an ultrahigh pressure mercury lamp of 1500 mJ / cm 2 By selectively irradiating with ultraviolet rays, an inkjet receiving layer was prepared.
  • FIG. 4 shows a micrograph at that time.
  • the inkjet ink is ejected while the inkjet head moves in the vertical direction, but the inkjet ink that has been ejected is connected without the vertical pattern being separated.
  • the droplets protrude from the lattice frame and the upper and lower lattices are united.
  • the vertical grid is printed as viewed from the central grid, but the horizontal grid is not printed.
  • the white broken line in a figure shows a matrix pattern (UV irradiation part).
  • Non-absorbing substrate 2 UV curable resin composition 3: Dry resin layer 4: UV irradiation part 5: UV non-irradiation part 6: Inkjet receiving layer (receiving layer for inkjet ink)

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Abstract

　カラーフィルターや配線基板といった電子デバイスを製作するのに好適なインクジェットインクの受容層を提供する。　非吸収性基材上に塗工した紫外線硬化樹脂組成物から形成されて、インクジェットインクをインクジェット装置で吐出してパターン状の印刷模様を得るのに用いるインクジェットインクの受容層であって、紫外線硬化樹脂組成物は、（Ａ）溶剤、（Ｂ）重量平均分子量が1,000～50,000の紫外線硬化樹脂、（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有して、重量平均分子量が150～30,000の液状アクリルモノマー又はオリゴマー、及び（Ｄ）光重合開始剤を必須成分として含有し、該紫外線硬化樹脂組成物を基材上に塗工し、乾燥させた後、選択的に紫外線を照射して、インクジェットインクを吐出する紫外線未照射部と、紫外線照射部とを備えるようにしたインクジェットインク受容層である。

Description

インクジェットインクの受容層
　本発明は、インクジェット装置で吐出したインクジェットインクからパターン状の印刷模様を得るのに適したインクジェットインクの受容層に関し、詳しくは、非吸収性基材上に塗工した紫外線硬化樹脂組成物に選択的紫外線照射を行い、紫外線未照射部にインクジェットインクを吐出して良好なパターン状の印刷模様が得られるようにしたインクジェットインクの受容層に関する。
　インクジェットプリンターなどに代表されるインクジェット法は、従来の紙媒体への出力手段としてのみならず、例えばカラーフィルターにおける各画素の形成や、導電性インキを吐出してプリント配線基板を作製するなど、近年では、半導体デバイス等の電子デバイス分野における利用も高まっている。これは、インクジェット法が、ノズルから吐出される液滴の量や、吐出位置を制御する点で優れていることに起因するものであり、今後さまざまな分野でその利用が広がることが予想される。
　インクジェットプリンターなどから吐出されるインクを支持媒体（基材）に吸着、固定を促すために受容層を利用することがあり、市販のインクジェットプリンター専用紙やインクジェットプリンター専用オーバーヘッドプロジェクターシートの印刷面などにおいても、このインクジェット受容層（インクジェットインク受容層）が形成され、それによってにじみの少ない鮮明な印刷物を作成することが出来る（例えば、特許文献１参照）。
　先にも述べた通り、インクジェット法の利用は民生用のインクジェットプリンターに留まらず、産業用途への応用も展開されている。例えば、特許文献２のように表示装置用カラーフィルターの製造を製造する技術として、インクジェット受容層の上にマトリックス状遮光層を形成し、そのマトリックス状遮光層の間にインクジェット法によりパターン状着色層を形成する方法がある。この場合、インクジェット受容層は、着色層形成用インクの固定化、狙い格子の外へのインクの拡散防止など、パターン状着色層の形成に重要な役割を果たす。
　また、特許文献３では、より画素間の混色を防ぐ技術が紹介されている。すなわち、インクジェット受容層を紫外線硬化樹脂で作成し、マトリックス状遮光層の上部に存在するインクジェット受容層のみをパターンマスクを用いて露光・硬化させることで擬似的に遮光層厚みを厚くし、着色層形成用インクの拡散防止を図っている。しかしながら、色特性向上のためにより多くの着色層形成用インクを充填しようとしても、インクジェット受容層の能力以上のインクを充填することが出来ない。
　一方で、インクジェット法により配線基板などを作成する場合、特に微細パターンを形成するのにインクジェット受容層が用いられる。特許文献４などが例として挙げられ、この場合のインクジェット受容層は基板表面のぬれ性を制御する。すなわち、受容層を備えた基板表面に深紫外線を照射して基板表面のぬれ性を制御し、ぬれ易い部分にインクジェット装置により導電性インクを吐出し、配線を形成する。しかしながら、この技術では深紫外線（波長としておよそ300nm以下）を相当量照射しなければならず、量産利用には難しい。また、この場合においても良導電性発現を目的に導電性インクの吐出量を増やすことは難しい。
　ここで、インクジェットプリンター専用紙・シートに形成されるインクジェット受容層は、バインダー成分としてポリビニルアルコールやポリエステル、ポリウレタン、アクリル系樹脂のエマルションなどを含有し、更にシリカなどの無機粒子で構成されるものが大多数である（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。しかしながら、これらの受容層では、耐水性などが必要な場合には、その信頼性の点で電子部品への応用は難しい。
　信頼性を担保する技術として、例えば、特許文献５のように光硬化樹脂により形成されたインクジェット受容層が挙げられる。この場合、印刷・印字後に光照射することで耐水性に富んだ印刷物を作成することが出来る。しかしながら、電子部品用途では印字・印刷分野よりも高い耐熱性を求められることなどから、本技術の電子部品への応用展開は困難である。
特開平１１－２１６９４５号公報 特開２０００－００９９２０号公報 特開２００３－８４１１５号公報 特開２００５－３１０９６２号公報 特開２００４－２７６３２２号公報
　以上のように、インクジェット法による半導体デバイス等の電子デバイス分野における利用は検討段階にあるが、一般的に使用されるほどの普及期に入ったとは言いがたい。すなわち、十分な性能（例えばカラーフィルターであれば色濃度であり、配線であれば導電性であり、これらに加えて、更に電子デバイスとして必要な信頼性も兼ねる）を持ったマイクロメートル単位の微細パターンを如何に作成するかが依然として障害となっている。そこで、本発明の目的は、カラーフィルターや配線基板といった電子デバイスを製作するのに好適なインクジェットインクの受容層を提供することにある。
　本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、非吸収性基材上に塗工した所定の紫外線硬化樹脂組成物を選択的に紫外線照射して、紫外線未照射部にインクジェットインクを吐出することで、インク量を増しても良好なパターン状の印刷模様が得られることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明の要旨は以下のとおりである。
（１）非吸収性基材上に塗工した紫外線硬化樹脂組成物から形成されて、インクジェットインクをインクジェット装置で吐出してパターン状の印刷模様を得るのに用いるインクジェットインクの受容層であって、
　紫外線硬化樹脂組成物は、（Ａ）溶剤、（Ｂ）重量平均分子量が1,000～50,000の紫外線硬化樹脂、（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有して、重量平均分子量が150～30,000の液状アクリルモノマー又はオリゴマー、及び（Ｄ）光重合開始剤を必須成分として含有し、該紫外線硬化樹脂組成物を基材上に塗工し、乾燥させた後、選択的に紫外線を照射して、インクジェットインクを吐出する紫外線未照射部と、紫外線照射部とを備えるようにしたことを特徴とするインクジェットインク受容層。
（２）（Ａ）溶剤、（Ｂ）紫外線硬化樹脂、（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有するアクリルモノマー又はオリゴマー、及び（Ｄ）光重合開始剤の各成分の全組成物質量に対する質量比率は、（Ａ）50～90質量%、（Ｂ）3～30質量%、（Ｃ）0.5～20質量%、及び（Ｄ）0.1～10質量%である（１）に記載のインクジェットインク受容層。
（３）（Ｂ）紫外線硬化樹脂として、下記一般式（I-1）で表される樹脂を（Ｂ）成分中に50質量%以上含む（１）又は（２）に記載のインクジェットインク受容層。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000005
 
（但し、Ｗは下記一般式（I-2）で表されるビスフェノール類誘導体を示し、Ｙは４価のカルボン酸残基を示す。Ｇは下記一般式（I-3）又は（I-4）で表される置換基を示し、Ｚは水素原子又は下記一般式（I-5）で表される置換基である。ｎは1～20の数を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000006
 
（但し、R1、R2、R3、及びR4は、独立に水素原子、炭素数1～6のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示す。Ｘは－CO－、－SO2－、－C（CF3）2－、－Si（CH3）2－、－CH2－、－C（CH3）2－、－S－、－O－、9，9－フルオレンジイル基又は直結合を示し、ｍは0～10の数を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000007
 
（但し、R6は炭素数2～22の2価のアルキレンまたはアルキルアリーレン基、R7は水素原子またはメチル基、R8は炭素数2～20の2価の脂肪族または芳香族炭化水素基、pは0～60の数を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000008
 
（但し、Ｌは２又は３価のカルボン酸残基、qは1又は2である。）
（４）（Ｅ）表面調整剤としてフッ素原子を有する化合物を、全組成物質量に対する質量比率で0.001～1質量%含有する（１）～（３）のいずれかに記載のインクジェットインク受容層。
（５）（Ａ）溶剤として、アルコール系、ケトン系、エーテル系、若しくはエステル系の有機溶剤、又は、液状アクリルモノマー、液状メタクリルモノマー、若しくは液状エポキシモノマーの反応性希釈剤を含有する（１）～（４）のいずれかに記載のインクジェットインク受容層。
　本発明における受容層によれば、インクジェット法によって電子デバイスなどを製作する場合に微細パターンの形成が可能になり、しかも、インク量を増しても良好なパターン状の印刷模様が得られるようになる。
図１は、紫外線硬化樹脂組成物を非吸収性基材上に塗工し、乾燥させた後に、選択的紫外線照射してマトリックスパターンを形成するときの概要を示す説明図である。 図２は、マトリックスパターンを形成した後の受容層の様子を示す平面説明図である。 図３は、実施例１で得たインクジェット受容層に対して、インクジェットインクを吐出した後の状態を示す顕微鏡写真である。 図４は、比較例１で得たインクジェット受容層に対して、インクジェットインクを吐出した後の状態を示す顕微鏡写真である。
　以降、本発明を詳細に説明する。
　先ず、本発明におけるインクジェットインクの受容層を作成するのに使用する紫外線硬化樹脂組成物について説明する。
＜紫外線硬化樹脂組成物＞
　本発明における紫外線硬化樹脂組成物は、（Ａ）溶剤、（Ｂ）紫外線硬化樹脂、（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有するアクリルモノマー又はオリゴマー、及び（Ｄ）光重合開始剤を必須成分とする。各成分の全組成物質量に対する質量比率は、（Ａ）50～90質量%、（Ｂ）3～30質量%、（Ｃ）0.5～20質量%、（Ｄ）0.1～10質量%であるのが好ましい。
　また、上記（Ａ）～（Ｄ）成分に加えて、（Ｅ）表面調整剤としてフッ素原子を有する化合物を全組成物重量に対する重量比率で0.001～1質量%含有するようにしてもよい。更に、その他の成分として、必要に応じて様々なものを添加してもかまわない。例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などのバインダー樹脂や顔料や染料のような色材、硬化促進剤、熱重合禁止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、充填材、界面活性剤、消泡剤などの添加剤などを添加することができる。
　次に、紫外線硬化樹脂組成物を形成する（Ａ）溶剤について説明する。
＜（Ａ）溶剤＞
　本発明における紫外線硬化樹脂組成物に使用する溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、α－若しくはβ－テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類等が挙げられる。これらの溶剤は単独で使用してもかまわないし、二種類以上を組み合わせて使用してもかまわない。
　上述したように、（Ａ）成分の全組成物重量に対する重量比率は50～90質量%であることが望ましい。50質量%未満の場合、組成物の粘度が高すぎるためインクジェット受容層の作成が難しい。90質量%超の場合、組成物の固形成分が少なすぎるためインクジェット受容層の作成が難しい。
　次に、紫外線硬化樹脂組成物を形成する（Ｂ）紫外線硬化樹脂について説明する。
＜（Ｂ）紫外線硬化樹脂＞
　本発明における紫外線硬化樹脂組成物に使用する紫外線硬化樹脂としては、分子内に重合性不飽和結合を有し、（Ｃ）成分と重合反応を起こすものであればよい。たとえば、側鎖に（メタ）アクリル酸エステル基を有する（メタ）アクリル樹脂や末端に（メタ）アクリル基を有するポリエチレン樹脂やポリウレタン樹脂、側鎖や末端にマレイミド構造を持つ樹脂などが挙げられる（ここで、（メタ）アクリルとは、メタクリルまたはアクリルを表す）。
　さらに、（Ｂ）紫外線硬化樹脂として下記一般式（I-1）で表される樹脂を（Ｂ）成分中に50質量%以上含むことが望ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000009
 
（但し、Ｗは下記一般式（I-2）で表されるビスフェノール類誘導体を示し、Ｙは４価のカルボン酸残基を示す。Ｇは下記一般式（I-3）または（I-4）で表される置換基を示し、Ｚは水素原子または下記一般式（I-5）で表される置換基である。nは1～20の数を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000010
 
（但し、R1、R2、R3、及びR4は、独立に水素原子、炭素数1～6のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示す。Xは－CO－、－SO2－、－C（CF3）2－、－Si（CH3）2－、－CH2－、－C（CH3）2－、－S－、－O－、9，9－フルオレンジイル基又は直結合を示し、ｍは0～10の数を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000011
 
（但し、R6は炭素数2～22の２価のアルキレンまたはアルキルアリーレン基、R7は水素原子またはメチル基、R8は炭素数2～20の２価の脂肪族または芳香族炭化水素基、pは0～60の数を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000012
 
（但し、Lは2又は3価のカルボン酸残基、qは1又は2である。）
　一般式（I-1）で表される紫外線硬化樹脂の好ましい製造方法について詳細に説明する。まず、一般式（I-6）で表される重合性不飽和基を有するジオール化合物を、ビスフェノール類とエピクロロヒドリン等との反応で得られる２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物、特に好ましくは下記一般式（I-7）で表されるエポキシ化合物と、下記一般式（I-8）及び／又は（I-9）で表される末端が水酸基またはカルボキシル基である（メタ）アクリル酸誘導体とを反応さることで合成する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000013
 
（但し、R1、R2、R3、及びR4は、独立に水素原子、炭素数1～6のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示す。Xは－CO－、－SO2－、－C（CF3）2－、－Si（CH3）2－、－CH2－、－C（CH3）2－、－S－、－O－、9，9－フルオレンジイル基又は直結合を示し、Ｇは下記一般式（I-3）または（I-4）で表される置換基を示し、ｍは0～10の数を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000014
 
（但し、R6は炭素数2～22の２価のアルキレンまたはアルキルアリーレン基、R7は水素原子またはメチル基、R8は炭素数2～20の２価の脂肪族または芳香族炭化水素基、pは0～60の数を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000015
 
（但し、R6は炭素数2～22の２価のアルキレンまたはアルキルアリーレン基、R7は水素原子またはメチル基、R8は炭素数2～20の２価の脂肪族または芳香族炭化水素基、pは0～60の数を表す。）
　このようなエポキシ化合物と（メタ）アクリル酸誘導体との反応は、公知の方法を使用することができ、例えばエポキシ化合物１モルに対し、約２モルの（メタ）アクリル酸誘導体を使用して行われることが製造上、有利である。この反応で得られる反応物は重合性不飽和基を含有するジオール化合物であり、上記一般式（I-6）で表される。
　一般式（I-1）の紫外線硬化樹脂を与える好ましいビスフェノール類としては、次のようなものが挙げられる。ビス（４－ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）ケトン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）ケトン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）スルホン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）スルホン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ジメチルシラン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）ジメチルシラン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）ジメチルシラン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）メタン、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジブロモフェニル）メタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－クロロフェニル）プロパン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）エーテル、ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）エーテル等である。また、Ｘが９，９－フルオレニル基である９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－クロロフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－ブロモフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－フルオロフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジブロモフェニル）フルオレン等が好ましく挙げられる。更には、４，４’－ビフェノール、３，３’－ビフェノール等も好ましく挙げられる。
　一般式（I-1）の紫外線硬化樹脂は、上記のようなビスフェノール類から誘導されるエポキシ化合物から得ることができるが、かかるエポキシ化合物の他にフェノールノボラック型エポキシ化合物や、クレゾールノボラック型エポキシ化合物等も２個のグリシジルエーテル基を有する化合物を有意に含むものであれば使用することができる。また、ビスフェノール類をグリシジルエーテル化する際に、上記一般式（I-7）で表されるオリゴマー単位が混入することになるが、この一般式（I-7）におけるｍの平均値が０～１０、好ましくは０～２の範囲であれば、本樹脂組成物の性能に問題はない。
　次に、一般式（I-1）の紫外線硬化樹脂を与える上記一般式（I-8）及び（I-9）を由来とする上記一般式（I-3）又は（I-4）の置換基を形成する（メタ）アクリル酸誘導体について詳細に説明する。
　一般式（I-3）、（I-4）、（I-8）及び（I-9）は重合性不飽和基と少なくとも１つ以上のエステル結合を有し、これらにおいてＲ６は炭素数２～２２のアルキレンまたはアルキルアリーレン基を示す。アルキレンに関しては直鎖又は分岐のいずれでもよく、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ｎ－ブチレン、イソブチレン、ｓｅｃ－ブチレン、ｔ－ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、へプチレン、オクチレン、ノネン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン、トリデシレン、テトラデシレン、ペンタデシレン、ヘキサデシレン、ヘプタデシレン、オクタデシレン、ノナデシレン、ジデシル、ヘンイコシレン、ドコシレン基などが挙げられ、アルキルアリーレン基に関しては炭素数の範囲内であれば無置換アリーレン基でもよく、例えば、－Ｐｈ－Ｐｈ－（２，２’－ビフェニレン基）、－Ｐｈ－Ｐｈ－Ｐｈ－（トリフェニレン基）、－Ｐｈ－Ｃ（ＣＨ３）２－Ｐｈ－（ビスフェノールＡ様な残基など）［Ｐｈはフェニレン基を示す］、ｏ，ｍ，ｐ－フェニレン置換されたトルイレン、クレジレン、エチルフェニレン、ｎ－プロピルフェニレン、イソプロピルフェニレン、直鎖又は分岐したブチルフェニレン、ペンチルフェニレン、ヘキシルフェニレン、ヘプチルフェニル、オクチルフェニレン、ノニルフェニレン、デシルフェニレン、ウンデシルフェニレン、ドデシルフェニレン、トリデシルフェニレン、テトラデシルフェニレン、ヘプタデシルフェニレン、ヘキサデシルフェニレン基などが挙げられ、さらに前述したアルキルアリレーン基については、炭素数の範囲を超えない限り２～４置換されていてもよく、またさらにアルキレン部位は不飽和結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合又はウレタン結合により中断されていてもよい。
　また、Ｒ８は炭素数２～２０の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、例えば、脂肪族炭化水素基に関しては直鎖又は分岐のいずれでもよく、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ｎ－ブチレン、イソブチレン、ｓｅｃ－ブチレン、ｔ－ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、へプチレン、オクチレン、ノネン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン、トリデシレン、テトラデシレン、ペンタデシレン、ヘキサデシレン、ヘプタデシレン、オクタデシレン、ノナデシレン、ジデシル基などが挙げられ、芳香族炭化水素基に関しては炭素数の範囲内であれば無置換体でもよく、例えば、－Ｐｈ－Ｐｈ－（２，２’－ビフェニレン基）、－Ｐｈ－Ｐｈ－Ｐｈ－（トリフェニレン基）、－Ｐｈ－Ｃ（ＣＨ３）２－Ｐｈ－（ビスフェノールＡ様な残基など）［Ｐｈはフェニレン基を示す］、ｏ，ｍ，ｐ－フェニレン置換されたトルイレン、クレジレン、エチルフェニレン、ｎ－プロピルフェニレン、イソプロピルフェニレン、直鎖又は分岐したブチルフェニレン、ペンチルフェニレン、ヘキシルフェニレン、ヘプチルフェニル、オクチルフェニレン、ノニルフェニレン、デシルフェニレン、ウンデシルフェニレン、ドデシルフェニレン、トリデシルフェニレン、テトラデシルフェニレン基などが挙げられるが、炭素数の範囲を超えない限り２～４置換されていてもよく、またさらにアルキレン部位は不飽和結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合又はウレタン結合により中断されていてもよい。
　また、ｐは０～６０の数を示しているが、化合物によっては分布が広範囲になることで樹脂性能を低下させる又は硬化物として十分な硬化が付与できないことが懸念され、好ましくは０～４０、より好ましくは０～２０の範囲であれば本発明に使用する樹脂としての性能が確実に保持される。
　また、上記のような一般式（I-6）で表されるジオール化合物及びそれに続く紫外線硬化樹脂の製造において使用する溶媒、触媒等の反応条件に関しては特に制限されないが、例えば、水酸基を持たず、反応温度より高い沸点を有する溶媒を反応溶媒として用いるのがよく、このような溶媒としては、例えば、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート等のセロソルブ系溶媒や、ジグライム、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の高沸点のエーテル系若しくはエステル系の溶媒や、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン等のケトン系溶媒等であるのがよい。また、使用する触媒としては、例えばテトラエチルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド等のアンモニウム塩、トリフェニルホスフィン、トリス（２，６－ジメトキシフェニル）ホスフィン等のホスフィン類等の公知のものを使用することができる。
　また、一般式（I-6）で表されるジオール化合物に反応させる酸成分としては、ジオール化合物中の水酸基と反応し得るテトラカルボン酸又はその酸二無水物およびジカルボン酸、トリカルボン酸又はそれらの酸一無水物を使用するのがよい。この酸成分は飽和又は不飽和のどちらでも効果的である。このうち、テトラカルボン酸又はその酸二無水物およびジカルボン酸、トリカルボン酸又はそれらの酸一無水物としては、飽和直鎖炭化水素テトラカルボン酸の酸一および酸二無水物や脂環式テトラカルボン酸の酸一および酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸の酸一および酸二無水物等を使用することができる。
　ここで、飽和直鎖炭化水素テトラカルボン酸又はその酸二無水物としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸、ペンタンテトラカルボン酸、ヘキサンテトラカルボン酸又はその酸二無水物等を挙げることができ、更には飽和環状炭化水素が置換された飽和環状テトラカルボン酸又はその酸二無水物でもよい。
　また、脂環式テトラカルボン酸又はその酸二無水物としては、シクロブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、シクロへプタンテトラカルボン酸、ノルボルナンテトラカルボン酸又はその酸二無水物等を挙げることができ、更には飽和炭化水素が置換された脂環式テトラカルボン酸又はその酸二無水物でもよい。また、芳香族テトラカルボン酸又はその酸二無水物としては、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸又はその酸二無水物等を挙げることができる。本発明における酸又はその酸二無水物として好ましくはビフェニルテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸又はその酸二無水物であり、さらに好ましくはビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸又はその酸二無水物である。これら酸又はその酸二無水物は、２種以上を併せて使用することもできる。
　また、飽和直鎖炭化水素ジカルボン酸及びトリカルボン酸（又はそれらの酸無水物）としては、例えば、コハク酸、アセチルコハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、シトラリンゴ酸、マロン酸、グルタル酸、クエン酸、酒石酸、オキソグルタル酸、ピメリン酸、セバシン酸、スベリン酸、ジグリコール酸（又はそれらの酸無水物）等を挙げることができ、更には、炭化水素基が置換された直鎖炭化水素ジカルボン酸及びトリカルボン酸（又はそれらの酸無水物）でもよい。また、飽和環状炭化水素ジカルボン酸及びトリカルボン酸（又はそれらの酸無水物）としては、例えば、ヘキサヒドロフタル酸、シクロブタンジカルボン酸、シクロペンタンジカルボン酸、ノルボルナンジカルボン酸、ヘキサヒドロトリメリット酸（又はそれらの酸無水物）等を挙げることができ、更には、飽和炭化水素が置換された脂環式ジカルボン酸及びトリカルボン酸（又はそれらの酸無水物）でもよい。また、不飽和ジカルボン酸及びトリカルボン酸（又はそれらの酸無水物）としては、例えば、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、トリメリット酸（又はそれらの酸無水物）を挙げることができる。これらのなかで、好ましくはコハク酸、イタコン酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロトリメリット酸、フタル酸、トリメリット酸であり、さらに好ましくはコハク酸、イタコン酸、テトラヒドロフタルである。これら酸又はその酸一無水物は、２種以上を併せて使用することもできる。
　また、上記のジオール化合物と酸成分との反応の方法については、特に限定されるものでなく、例えば、反応温度が90～140℃でジオール化合物とテトラカルボン酸二無水物を反応させるような公知の方法を採用することができる。好ましくは、化合物の末端がカルボン酸基となるように、一般式（I-6）で表される重合性不飽和基を有するジオール化合物（di olと短縮表記する）、テトラカルボン酸又はその酸二無水物（tetra acidと短縮表記する）、ジカルボン酸、トリカルボン酸又はその酸一無水物（tri/di acidと短縮表記する）とのモル比がdi ol：tetra acid：tri/di acid＝１：０．２～０．５：０．２～１．０となるように定量的に反応させることが望ましい。テトラカルボン酸又はその酸二無水物のモル比が０．２未満の場合は、未反応ジオール化合物の含有量が増大して紫外線硬化樹脂組成物の経時安定性低下が懸念される。一方、モル比が０．５超の場合は、一般式（I-6）で表される化合物の末端が酸無水物となるため、また、未反応酸二無水物の含有量が増大して異物として存在してしまうために樹脂の期待される性能が発現されない可能性がある。また、ジカルボン酸、トリカルボン酸またはその酸一無水物のモル比が０．２未満の場合は、未反応ジオール化合物の含有量が増大して紫外線硬化樹脂組成物の経時安定性低下が懸念される。一方、モル比が１．０超の場合は、一般式（I-6）で表される化合物の末端が当該酸または酸一無水物由来となり、得られる樹脂（一般式（I-1）で表される樹脂）の分子量が低くなるために樹脂の期待される性能が発現されない可能性がある。また、上記のジオール化合物と酸成分との反応温度としては、90～130℃で仕込み原料を均一に溶解させると共に反応を行い、引き続いて40～80℃で反応及び熟成を行うことが好ましい。尚、下記で言う（Ｃ）成分の場合を含めて、本発明で言う樹脂の分子量は、重量平均分子量を表す。また、この一般式（I-1）で表される化合物の市販品を例示すると、例えば新日鐵化学製V-259ME等が挙げられる。
　また、（Ｂ）成分の全組成物重量に対する重量比率は3～30質量%であることが望ましい。3質量%未満の場合、組成物に紫外線を照射した際の硬化性が低く、紫外線照射部と未照射部の溶剤吸収量の差が生まれない。30質量%超の場合、組成物の粘度が高くなるためインクジェット受容層の作成が困難になる。更に、（Ｂ）成分の分子量は1,000～50,000の範囲であり、より好ましくは、1,000～10,000の範囲である。この範囲より溶剤への溶解性がなくなり受容層として製膜が難しく、小さいものは受容層としての成膜性に乏しい。
　また、上述したように、（Ｂ）成分中には一般式（I-1）で表される樹脂を（Ｂ）成分中に50質量%以上含むことが望ましい。これにより、電子部品としての使用に十分な信頼性を担保することが出来る。
　次に、紫外線硬化樹脂組成物を形成する（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有するアクリルモノマーまたはオリゴマーについて説明する。
＜（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有するアクリルモノマーまたはオリゴマー＞
　本発明における紫外線硬化樹脂組成物に使用するアクリルモノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチルフォスフェート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のアクリル酸エステル類やこれらのアルキレンオキシドもしくはカプロラクトン付加物などを挙げることができる。また、アクリルオリゴマーとしては、多分岐型（ハイパーブランチ型もしくはデンドリマー型）アクリレートを指し、V#1000、V#1020、STAR-501（以上、大阪有機化学工業）、CN2302、CN2303、CN2304（以上、サートマージャパン）などが挙げられる。これらの化合物はその１種のみを単独で使用できるほか、２種以上を併用して使用することもできる。
　（Ｃ）成分の全組成物重量に対する質量比率は0.5～20質量%であることが望ましい。0.5質量%未満の場合、組成物に紫外線を照射した際の硬化性が低く、紫外線照射部と未照射部の溶剤吸収量の差が生まれない。20質量%超の場合、インクジェット受容層を形成した際、タック性が発現してインクジェット受容層付き基板のハンドリング性などに問題がある。また、（Ｃ）成分の重量平均分子量は150～30,000の範囲である。この範囲より大きいと溶剤吸収能力が小さくなり、小さいものは存在しない。
　次に、紫外線硬化樹脂組成物を形成する（Ｄ）光重合開始剤について説明する。
＜（Ｄ）光重合開始剤＞
　本発明における紫外線硬化樹脂組成物に使用する光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、N,N’-テトラメチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4’-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ジエチルアミノベンゾフェノン、2-エチルアントラキノン、フェナントレン等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル類、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン、2-(o-クロロフェニル)-4,5-フェニルイミダゾール2量体、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジ(m-メトキシフェニル)イミダゾール2量体、2-(o-フルオロフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾール2量体、2-(o-メトキシフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾール2量体、2,4,5-トリアリールイミダゾール2量体、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)－ブタノン、2-トリクロロメチル－5－スチリル－1,3,4－オキサジアゾール、2－トリクロロメチル-5-(p-シアノスチリル)-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-(p-メトキシスチリル)-1,3,4-オキサジアゾール等のハロメチルチアゾール化合物、2,4,6-トリス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-フェニル-4、6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-クロロフェニル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メトキシナフチル)-4,6-ビス（トリクロロRメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メトキシスチリル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(3,4,5-トリメトキシスチリル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メチルチオスチリル)- 4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン等のハロメチル－Ｓ－トリアジン系化合物、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-[4-モルフォリノフェニル]-ブタノン-1などのアミノアルキルフェニルケトン系化合物、ビスアシルフォスフィンオキサイド類、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトンなどのヒドロキシアルキルフェニルケトン系化合物等が挙げられる。
　これらの光重合開始剤は、単独又は２種以上を混合して使用することができる。また、それ自体では光重合開始剤や増感剤として作用しないが、上記の化合物と組み合わせて用いることにより、光重合開始剤や増感剤の能力を増大させ得るような化合物を添加することもできる。このような化合物としては、例えばベンゾフェノンと組み合わせて使用すると効果のあるトリエタノールアミン等の第３級アミンを挙げることができる。
　（Ｄ）成分の全組成物重量に対する重量比率は0.1～10質量%であることが望ましい。0.1質量%未満の場合、組成物に紫外線を照射した際の硬化性が低く、紫外線照射部と未照射部の溶剤吸収量の差が生まれない。10質量%超の場合、（Ｂ）成分や（Ｃ）成分の量が相対的に少なくなるため硬化反応が進み難く、熱的信頼性に欠いた受容層となる。
　次に、紫外線硬化樹脂組成物を形成する（Ｅ）表面調整剤としてフッ素原子を有する化合物について説明する。
＜（Ｅ）表面調整剤としてフッ素原子を有する化合物＞
　本発明における紫外線硬化樹脂組成物には、表面調整剤としてフッ素原子を有する化合物を配合すると良い。これに用いる化合物として、例えば、DIC社製のメガファックシリーズやディフェンサシリーズ、AGCセイミケミカル社製のサーフロンシリーズ、ネオス社製のフタージェントシリーズ、ダイキン社製のオプツールシリーズなどが挙げられる。これらの化合物は、二種類以上混合して使用すると異物などが発生する可能性が高く、単独での使用が望ましい。本化合物群を添加した紫外線硬化樹脂組成物より形成されたインクジェット受容層は、フッ素原子の働きにより表面が撥液化される。そのため、インクジェット印刷すると未添加の場合と比較して紫外線照射部分と未照射部分の境界線がよりクリア（鮮明）となる。
　（Ｅ）成分の全組成物重量に対する質量比率は0.001～1質量%であることが望ましい。0.001質量%未満の場合、上記のような添加の効果は見られない。また、必要な性能上1質量%超の添加は必要なく、（Ｅ）成分はその他の成分との相溶性も比較的悪いため多量の添加は好ましくない。
＜（Ｆ）その他の成分＞
　本発明の受容層を形成するための紫外線硬化樹脂組成物において、必要に応じて上記（Ａ）～（Ｅ）以外の成分を添加してもかまわない。その他の成分として、染料や顔料などの色材、ポリエステル樹脂やポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂などの光反応性のないバインダー樹脂、アルミナやマイカ、シリカのような充填剤、レベリング剤や消泡剤、可塑剤、カップリング剤、硬化剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、蛍光増白剤などの添加剤を適宜含有しても良い。
　次に、本発明におけるインクジェット受容層の作成方法について説明する。本発明におけるインクジェット受容層は、（1）紫外線硬化樹脂組成物を非吸収性基材上に塗工、（2）紫外線硬化樹脂組成物の乾燥、及び（3）選択的紫外線照射を少なくとも含む工程から形成される。概略図を図１に示す。図１は選択的紫外線照射として、マトリックスパターンを作成したときの例であり、上記工程（1）、（2）、（3）を順に施した様子を示す。図２は上記工程（1）、（2）、（3）後の受容層の様子を示す平面図である。
　次に、インクジェット受容層を形成する基材について説明する。
＜非吸収性基材＞
　本発明における非吸収性基材とは、ポリエチレンやポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、フッ素樹脂、シリコーン樹脂などの有機基材や、ガラスやシリコンウエハー、鉄板、銅箔などの無機基材、ITO（インジウムスズ酸化物）などの薄膜がポリエチレンテレフタレートフィルム上などに形成された複合基材などが挙げられる。本基材は作成する電子デバイスなどの特性や紫外線硬化樹脂組成物の塗工方法によって選ばれるものであって、紙や布の様に紫外線硬化樹脂組成物の溶剤を吸収するものではない。
　次に、紫外線硬化樹脂組成物を基材に塗工する方法について説明する。
＜塗工方法＞
　紫外線硬化樹脂組成物の塗工方法には特に制限はなく、公知の方法、例えば、スピンコート法、ディップコート法、バーコート法、ブレードコート法、エアナイフコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法などの何れの方法も採用することができ、塗工する基材、塗工厚に応じて適宜選択される。塗工厚は、乾燥膜厚に換算して1.0～100μmが望ましい。さらに望ましくは5.0～50μmである。塗工厚が乾燥膜厚に換算して1μm未満の場合、作成したインクジェット受容層が所望の性能を発揮しないおそれがある。また、インクジェット受容層の性能上、乾燥膜厚に換算して100μmを超える厚みまでは必要とされない。
　次に、塗工した紫外線硬化樹脂組成物の乾燥方法について説明する。
＜乾燥方法＞
　紫外線硬化樹脂組成物の乾燥方法には、オーブン、ホットプレート等による加熱、真空乾燥又はこれらの組み合わせることによって行われる。本発明における乾燥方法は、紫外線硬化樹脂組成物中の（Ａ）溶剤の種類や基材の種類によって適宜選択される。ただし、乾燥温度としては45～120℃が望ましい。45℃未満の場合、乾燥膜中に溶剤が残留してしまう可能性があり、120℃超の場合、組成物中の活性基が失活してしまう可能性がある。乾燥時間としては、例えば1～10分間程度行わればよい。
＜選択的紫外線照射＞
　本発明において用いる紫外線とは、主に250nmから400nmの波長を含む電磁波である。本発明で使用する紫外線光源としては、高圧水銀灯やメタルハライドランプ、UV-LEDランプなどが挙げられるが、特に制限はない。次に、これら光源を用いて紫外線を紫外線硬化樹脂組成物の乾燥塗膜に選択的に照射する。ここで使用する選択的に紫外線照射を行うとは、例えば、配線形成を目的とした場合、導電性インクにより導電膜を形成しない部分、すなわち、回路配線パターンの非導電部分に対して紫外線照射を行うことであり、例えばカラーフィルターの作成を目的とした場合、着色用インクにより色画素を形成しない部分、すなわち、マトリックスパターンの隔壁部分（ブラックマトリックスが形成される部分）に紫外線照射を行うことである。選択的紫外線照射の方法としては、レンズなどを用いて紫外線を集光させこれにより直接的に行う方法やフォトマスクなどを用いる方法などが挙げられる。露光量は10～5000mJ/cm2が望ましい。10mJ/cm2未満の場合、紫外線照射の影響が小さくインク受容層の溶剤吸収量にほとんど差が無く、反対に5000mJ/cm2超の場合、露光時間が長くなり生産性が悪くなる。
　次に、本発明におけるインクジェット受容層に対して使用するインクジェットインクについて説明する。
　本発明におけるインクジェット受容層に対して使用するインクジェットインクは、少なくとも液状成分としてアルコール系、ケトン系、エーテル系、エステル系の有機溶剤、又は、液状アクリルモノマー、液状メタクリルモノマー、液状エポキシモノマーの反応性希釈剤を含有するものが好適である。
　このうち、アルコール系有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどが挙げられる。ケトン系有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。エーテル系有機溶剤としては、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどが挙げられる。エステル系有機溶剤としては、例として、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどが挙げられる。これらの有機溶剤は単独で使用してもかまわないし、二種類以上を組み合わせて使用してもかまわない。
　また、反応性希釈剤として使用される液状アクリルモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、イソアミルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールジエチレングリコールアクリレート、２－エチルヘキシル－ジグリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、２－ヒドロキシブチルアクリレート、４－ヒドロキシブチレアクリレート、トリエチレングリレールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、３－メチル－１，５－ペンタンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、１，９－ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールアクリル酸付加物、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ変性トリメチロールプロパントリアクリレートなどが挙げられる。反応性希釈剤として使用される液状メタクリルモノマーとしては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、ｎ－ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルメタクリレート、２－エチルヘキシルメタクリレート、ｎ－ラウリルメタクリレート、ｎ－ステアリルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート、２－ヒドロキシブチルメタクリレート、４－ヒドロキシブチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングルコールジメタクリレート、トリエチエレングルコールジメタクリレート、ポリエチエレングルコールジメタクリレート、１，４－ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグルコールジメタクリレート、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート、１，９－ノナンジオールジメタクリレート、２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートなどが挙げられる。反応性希釈剤として使用される液状エポキシモノマーとしては、例えば、ブチルグリシジルエーテル、２－エチルヘキシルグリシジルエーテル、ｐ－ｓｅｃ－ブチルフェニルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルなどが挙げられる。これらの反応性希釈剤は単独で使用してもかまわないし、二種類以上を組み合わせて使用してもかまわない。
　その他の成分として、染料や顔料などの色材、ポリエステル樹脂やポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂などのバインダー樹脂、アルミナやマイカ、シリカのような充填剤、レベリング剤や消泡剤、可塑剤、カップリング剤、硬化剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、蛍光増白剤などの添加剤を適宜含有することもできる。
　上記のようなインクジェットインクを、基材上に作成したインクジェット受容層の紫外線未照射部に吐出することで、微細パターンの形成が可能になる。すなわち、本インクジェット受容層は紫外線照射部と未照射部で溶剤吸収量が異なり、かつ、前者の方が小さいため、紫外線未照射部が吐出されたインクジェットインクを吸収することでインクジェットインクの紫外線照射部へのぬれ広がりを抑制することが出来るため、微細パターンの形成が可能になる。
　また、本発明における「溶剤吸収量」と表現する際に使用する「溶剤」とは、インクジェットインクに含まれる液状成分を表す。すなわち、「溶剤吸収量」と表現する際に使用する「溶剤」とは、上述したアルコール系、ケトン系、エーテル系、エステル系の有機溶剤、及び、液状アクリルモノマー、液状メタクリルモノマー、液状エポキシモノマー等の反応性希釈剤のことを示している。つまり、本発明のインクジェット受容層は、これらの「溶剤」吸収能を有する紫外線未照射部と、この紫外線未照射部よりも「溶剤」吸収能が低い紫外線照射部とを備えたものである。なお、本発明において「液状」と称するものは、その使用時に液体状態を呈するものを言う。すなわち、インクジェットインクにおける反応性希釈剤は、少なくともインクジェット装置に充填して受容層に吐出する際には液体状態を示す成分であるため、本発明において「溶剤吸収量」と表現する際の「溶剤」に該当する。
　以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例の内容のみに限定されるものではない。なお、特に断りの無い限り、「部」は質量部を表す。
＜インクジェットインクの作成＞
　微細化顔料（ピグメントブルー15：6）を顔料親和性官能基を有する高分子量体（高分子分散剤）の共存下、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを溶剤としてビーズミル中で分散を行い、青色分散液を調製した。この分散液をもとに表１に示す組成となるように各成分を混合し、混合溶液を１μｍマイクロフィルターによって加圧ろ過を行い、インクジェットインクを調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
  
［実施例１］
　（Ａ）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ダイセル化学工業製）14.56部、（Ｂ）紫外線硬化樹脂（商品名V-259ME、新日鐵化学製、固形分56質量%）12.6部、（Ｃ）アクリルモノマー（商品名DPCA-120、日本化薬製）1.76部、（Ｄ）２－メチル－１－〔4－（メチルチオ）フェニル〕－２－モルフォリノプロパン－１－オン（BASFジャパン製）0.18部、（Ｅ）含フッ素オリゴマー溶液（商品名メガファックF-555（DIC製）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで有効成分1%に希釈したもの）0.9部を混合し、混合溶液を１μｍマイクロフィルターによって加圧ろ過することで紫外線硬化樹脂組成物１を作成した。組成物中の（Ａ）～（Ｅ）成分の質量比率を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
  
　得られた紫外線硬化樹脂組成物１を、スピンコーターを用いて125mm×125mmのガラス基板上に乾燥膜厚が10μmになるように塗工した。次に、ホットプレート上で70℃、5分間の条件で紫外線硬化樹脂組成物１の乾燥を行った。その後、露光ギャップを150μmに調整し、マトリックス状のネガ型フォトマスク（xy方向共に線幅20μmライン＋100μm開口）を用い、i線照度50mW/cm2の超高圧水銀ランプで1500mJ/cm2の紫外線を照射することで選択的紫外線照射を行い、インクジェット受容層１を作成した。
　そして、コニカミノルタIJ製インクジェットヘッド（ピエゾ素子駆動型、KM512M）を用いて、上記で得られたインクジェット受容層１の紫外線未照射部分に対して、ｙ方向（図３における上下方向）にインクジェットヘッドを移動させながら、作成したインクジェットインクを打ち込むことで、インクジェット受容層の評価を行った。図３にそのときの顕微鏡写真を示す。この写真からも分かるように、インクジェット受容層１はマトリックスパターンを再現性良く描画することができた。なお、本写真は、中心の格子から見て上下方向の格子は印刷してある（紫外線未照射部分にインクジェットインクを吐出している）。一方、中心の格子から見て左右方向の格子は印刷していない。また、図中の白破線はマトリックスパターン（紫外線照射部分）を示す。つまり、液滴（インクジェットインク）が格子の枠内に収まっており、上下の格子との合体は見られない。さらに続けて、受容層全体にxy方向共に100×100μｍ、パターン間隔20μmのモザイクパターンを作成したが、上下左右とも隣接する格子との合体はみられなかった。
［実施例２］
　（Ａ）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ダイセル化学工業製）15.12部、（Ｂ）紫外線硬化樹脂（商品名V-259ME、新日鐵化学製、固形分56質量%）11.31部、（Ｃ）アクリルモノマー（商品名DPCA-120、日本化薬製）1.58部、（Ｄ）１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン（BASFジャパン製）1.08部、（Ｅ）含フッ素オリゴマー溶液（商品名メガファックF-555（DIC製）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで有効成分1%に希釈したもの）0.9部を混合し、混合溶液を１μｍマイクロフィルターによって加圧ろ過することで紫外線硬化樹脂組成物２を作成した。組成物中の（Ａ）～（Ｅ）成分の重量比率を表２に示す。
　得られた紫外線硬化樹脂組成物２を、スピンコーターを用いて125mm×125mmのガラス基板上に乾燥膜厚が10μmになるように塗工した。次に、ホットプレート上で70℃、5分間の条件で紫外線硬化樹脂組成物２の乾燥を行った。その後、露光ギャップを150μmに調整し、マトリックス状のネガ型フォトマスク（xy方向共に線幅20μmライン+100μm開口）を用い、i線照度50mW/cm2の超高圧水銀ランプで1500mJ/cm2の紫外線を照射することで選択的紫外線照射を行い、インクジェット受容層２を作成した。
　そして、コニカミノルタIJ製インクジェットヘッド（ピエゾ素子駆動型、KM512M）を用いて、上記で得られたインクジェット受容層２の紫外線未照射部分に対して、作成したインクジェットインクを打ち込むことでインクジェット受容層の評価を行った。その結果、実施例１の場合と同様に、インクジェット受容層１はマトリックスパターンを良く再現した。
［実施例３］
　（Ａ）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ダイセル化学工業製）16.62部、（Ｂ）紫外線硬化樹脂（商品名V-259ME、新日鐵化学製、固形分56質量%）9.45部、（Ｃ）アクリルモノマー（商品名DPCA-120、日本化薬製）1.76部、（Ｄ）２－メチル－１－〔4－（メチルチオ）フェニル〕－２－モルフォリノプロパン－１－オン（BASFジャパン製）0.18部、（Ｅ）含フッ素オリゴマー溶液（商品名メガファックF-555（DIC製）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで有効成分1%に希釈したもの）0.023部、（Ｆ）アクリル系熱可塑性エラストマー（商品名LA4285、クラレ製）1.76部を混合し、混合溶液を１μｍマイクロフィルターによって加圧ろ過することで紫外線硬化樹脂組成物３を作成した。組成物中の（Ａ）～（Ｆ）成分の重量比率を表２に示す。
　得られた紫外線硬化樹脂組成物３を、スピンコーターを用いて125mm×125mmのガラス基板上に乾燥膜厚が10μmになるように塗工した。次に、ホットプレート上で70℃、5分間の条件で紫外線硬化樹脂組成物３の乾燥を行った。その後、露光ギャップを150μmに調整し、マトリックス状のネガ型フォトマスク（xy方向共に線幅20μmライン+100μm開口）を用い、i線照度50mW/cm2の超高圧水銀ランプで1500mJ/cm2の紫外線を照射することで選択的紫外線照射を行い、インクジェット受容層３を作成した。
　そして、コニカミノルタIJ製インクジェットヘッド（ピエゾ素子駆動型、KM512M）を用いて、上記で得られたインクジェット受容層３の紫外線未照射部分に対して、作成したインクジェットインクを打ち込むことでインクジェット受容層の評価を行った。その結果、実施例１の場合と同様に、インクジェット受容層１はマトリックスパターンを良く再現した。
［比較例１］
　紫外線硬化樹脂組成物１を、スピンコーターを用いて125mm×125mmのガラス基板上に乾燥膜厚が10μmになるように塗工した。次に、ホットプレート上で70℃、5分間の条件で紫外線硬化樹脂組成物１の乾燥を行った。その後、基板全面にi線照度50mW/cm2の超高圧水銀ランプで1500mJ/cm2の紫外線を照射することでインクジェット受容層を作成した。
　そして、コニカミノルタIJ製インクジェットヘッド（ピエゾ素子駆動型、KM512M）を用いて、上記で得られたインクジェット受容層に対して、作成したインクジェットインクを用いてxy方向共に100×100μｍ、パターン間隔20μmのモザイクパターンの作成を行ったが、きれいなマトリックスパターンの作成は出来なかった（液滴がぬれ広がり全面塗工となった）。
［比較例２］
　（Ａ）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ダイセル化学工業製）23.7部、（Ｃ）アクリルモノマー（商品名DPCA-120、日本化薬製）1.18部、（Ｄ）２－メチル－１－〔4－（メチルチオ）フェニル〕－２－モルフォリノプロパン－１－オン（BASFジャパン製）0.12部、（Ｆ）ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン溶液（商品名BYK333（ビックケミー・ジャパン製）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで有効成分1%に希釈したもの）0.3部、（Ｆ）熱可塑性アクリル樹脂（商品名BR107、三菱レイヨン製）4.7部を混合し、混合溶液を１μｍマイクロフィルターによって加圧ろ過することで紫外線硬化樹脂組成物４を作成した。組成物中の（Ａ）～（Ｆ）成分の重量比率を表２に示す。
　得られた紫外線硬化樹脂組成物４を、スピンコーターを用いて125mm×125mmのガラス基板上に乾燥膜厚が10μmになるように塗工した。次に、ホットプレート上で70℃、5分間の条件で紫外線硬化樹脂組成物４の乾燥を行った。その後、露光ギャップを150μmに調整し、マトリックス状のネガ型フォトマスク（xy方向共に線幅20μmライン+100μm開口）を用い、i線照度50mW/cm2の超高圧水銀ランプで1500mJ/cm2の紫外線を照射することで選択的紫外線照射を行い、インクジェット受容層を作成した。
　そして、コニカミノルタIJ製インクジェットヘッド（ピエゾ素子駆動型、KM512M）を用いて、上記で得られたインクジェット受容層の紫外線未照射部分に対して、作成した評価用インクジェットインクを打ち込むことでインクジェット受容層の評価を行った。その結果、インクジェット受容層はマトリックスパターンを良く再現しなかった。図４にそのときの顕微鏡写真を示す。図４において、上下方向にインクジェットヘッドが移動しながらインクジェットインクを打ち込んだが、上下方向のパターンが分離せずに打ち込んだインクジェットインクが連結してしまった。すなわち、液滴が格子の枠からはみ出し、上下の格子が合体していることが分かる。なお、この写真については、中心の格子から見て上下方向の格子は印刷してあるが、左右方向の格子は印刷していない。また、図中の白破線はマトリックスパターン（紫外線照射部分）を示す。
１：非吸収性基材
２：紫外線硬化樹脂組成物
３：乾燥樹脂層
４：紫外線照射部
５：紫外線未照射部
６：インクジェット受容層（インクジェットインクの受容層）

Claims (5)

  1. 　非吸収性基材上に塗工した紫外線硬化樹脂組成物から形成されて、インクジェットインクをインクジェット装置で吐出してパターン状の印刷模様を得るのに用いるインクジェットインクの受容層であって、
    　紫外線硬化樹脂組成物は、（Ａ）溶剤、（Ｂ）重量平均分子量が1,000～50,000の紫外線硬化樹脂、（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有して、重量平均分子量が150～30,000の液状アクリルモノマー又はオリゴマー、及び（Ｄ）光重合開始剤を必須成分として含有し、該紫外線硬化樹脂組成物を基材上に塗工し、乾燥させた後、選択的に紫外線を照射して、インクジェットインクを吐出する紫外線未照射部と、紫外線照射部とを備えるようにしたことを特徴とするインクジェットインク受容層。
  2. 　（Ａ）溶剤、（Ｂ）紫外線硬化樹脂、（Ｃ）分子内にアクリル基を三つ以上有するアクリルモノマー又はオリゴマー、及び（Ｄ）光重合開始剤の各成分の全組成物質量に対する質量比率は、（Ａ）50～90質量%、（Ｂ）3～30質量%、（Ｃ）0.5～20質量%、及び（Ｄ）0.1～10質量%である請求項１に記載のインクジェットインク受容層。
  3. 　（Ｂ）紫外線硬化樹脂として、下記一般式（I-1）で表される樹脂を（Ｂ）成分中に50質量%以上含む請求項１又は２に記載のインクジェットインク受容層。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000001
     
    （但し、Ｗは下記一般式（I-2）で表されるビスフェノール類誘導体を示し、Ｙは４価のカルボン酸残基を示す。Ｇは下記一般式（I-3）又は（I-4）で表される置換基を示し、Ｚは水素原子又は下記一般式（I-5）で表される置換基である。ｎは1～20の数を表す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000002
     
    （但し、R1、R2、R3、及びR4は、独立に水素原子、炭素数1～6のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を示す。Ｘは－CO－、－SO2－、－C（CF3）2－、－Si（CH3）2－、－CH2－、－C（CH3）2－、－S－、－O－、9，9－フルオレンジイル基又は直結合を示し、ｍは0～10の数を表す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000003
     
    （但し、R6は炭素数2～22の2価のアルキレンまたはアルキルアリーレン基、R7は水素原子またはメチル基、R8は炭素数2～20の2価の脂肪族または芳香族炭化水素基、pは0～60の数を表す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000004
     
    （但し、Ｌは２又は３価のカルボン酸残基、qは1又は2である。）
  4. 　（Ｅ）表面調整剤としてフッ素原子を有する化合物を、全組成物質量に対する質量比率で0.001～1質量%含有する請求項１～３のいずれかに記載のインクジェットインク受容層。
  5. 　（Ａ）溶剤として、アルコール系、ケトン系、エーテル系、若しくはエステル系の有機溶剤、又は、液状アクリルモノマー、液状メタクリルモノマー、若しくは液状エポキシモノマーの反応性希釈剤を含有する請求項１～４のいずれかに記載のインクジェットインク受容層。
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