WO2013057908A1 - 架橋型重合体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents

架橋型重合体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 Download PDF

Info

Publication number
WO2013057908A1
WO2013057908A1 PCT/JP2012/006546 JP2012006546W WO2013057908A1 WO 2013057908 A1 WO2013057908 A1 WO 2013057908A1 JP 2012006546 W JP2012006546 W JP 2012006546W WO 2013057908 A1 WO2013057908 A1 WO 2013057908A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
substituted
unsubstituted
carbon atoms
polymer
Prior art date
Application number
PCT/JP2012/006546
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
知行 蓬田
宏典 川上
渡邉　正美
池田　潔
河村　昌宏
伸浩 藪ノ内
加藤　朋希
Original Assignee
出光興産株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2011229719A external-priority patent/JP2013087216A/ja
Priority claimed from JP2011229721A external-priority patent/JP2013087217A/ja
Application filed by 出光興産株式会社 filed Critical 出光興産株式会社
Priority to EP12840935.6A priority Critical patent/EP2770006A1/en
Priority to CN201280037777.4A priority patent/CN103717636A/zh
Priority to KR1020147000694A priority patent/KR101933241B1/ko
Priority to US14/234,876 priority patent/US9917273B2/en
Publication of WO2013057908A1 publication Critical patent/WO2013057908A1/ja

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/17—Carrier injection layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/0666—Polycondensates containing five-membered rings, condensed with other rings, with nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C08G73/0672—Polycondensates containing five-membered rings, condensed with other rings, with nitrogen atoms as the only ring hetero atoms with only one nitrogen atom in the ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D179/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09D161/00 - C09D177/00
    • C09D179/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10—Organic polymers or oligomers
    • H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10—Organic polymers or oligomers
    • H10K85/151—Copolymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/10—Definition of the polymer structure
    • C08G2261/12—Copolymers
    • C08G2261/124—Copolymers alternating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/10—Definition of the polymer structure
    • C08G2261/13—Morphological aspects
    • C08G2261/135—Cross-linked structures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/10—Definition of the polymer structure
    • C08G2261/14—Side-groups
    • C08G2261/141—Side-chains having aliphatic units
    • C08G2261/1412—Saturated aliphatic units
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/10—Definition of the polymer structure
    • C08G2261/14—Side-groups
    • C08G2261/149—Side-chains having heteroaromatic units
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/10—Definition of the polymer structure
    • C08G2261/16—End groups
    • C08G2261/164—End groups comprising organic end groups
    • C08G2261/1644—End groups comprising organic end groups comprising other functional groups, e.g. OH groups, NH groups, COOH groups or boronic acid
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/30—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
    • C08G2261/31—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating aromatic structural elements in the main chain
    • C08G2261/314—Condensed aromatic systems, e.g. perylene, anthracene or pyrene
    • C08G2261/3142—Condensed aromatic systems, e.g. perylene, anthracene or pyrene fluorene-based, e.g. fluorene, indenofluorene, or spirobifluorene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/30—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
    • C08G2261/31—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating aromatic structural elements in the main chain
    • C08G2261/316—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating aromatic structural elements in the main chain bridged by heteroatoms, e.g. N, P, Si or B
    • C08G2261/3162—Arylamines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/30—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
    • C08G2261/36—Oligomers, i.e. comprising up to 10 repeat units
    • C08G2261/364—Oligomers, i.e. comprising up to 10 repeat units containing hetero atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/40—Polymerisation processes
    • C08G2261/41—Organometallic coupling reactions
    • C08G2261/411—Suzuki reactions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/70—Post-treatment
    • C08G2261/76—Post-treatment crosslinking
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/90—Applications
    • C08G2261/91—Photovoltaic applications
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/90—Applications
    • C08G2261/92—TFT applications
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2261/90—Applications
    • C08G2261/95—Use in organic luminescent diodes
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/14—Carrier transporting layers
    • H10K50/15—Hole transporting layers

Definitions

  • the present invention relates to a cross-linked polymer and an organic electroluminescence element (organic EL element) using the same.
  • Organic EL elements are self-luminous and have no viewing angle dependency, and can be surface-emitting and thinned. Therefore, application to displays such as televisions and mobile phones, lighting, and the like are being studied.
  • the organic EL element has a configuration in which a thin film of an organic compound is sandwiched between a cathode and an anode. Thin film forming methods are roughly classified into vapor deposition methods and coating methods.
  • the vapor deposition method is a method of forming a thin film on a substrate in a vacuum mainly using a low molecular compound, and commercialization has preceded.
  • the coating method is a method of forming a thin film on a substrate using a solution, such as ink jet or printing, and the use efficiency of the material is high, and it is suitable for large area and high definition. This is an indispensable technique for EL displays.
  • the vacuum deposition method using low-molecular materials is extremely low in material utilization efficiency, and the larger the size, the more the shadow mask will bend, which makes it difficult to deposit on a large substrate. There is a problem that it is difficult to manufacture a display device using an EL substrate. In addition, the manufacturing cost increases.
  • a polymer material can form a uniform film by applying a solution dissolved in an organic solvent, and is represented by an inkjet method or a printing method using this.
  • a coating method can be used. Therefore, the utilization efficiency of the material can be increased to nearly 100%.
  • the coating method is not suitable for a stacked element, and there is a problem that it is not easy to improve the performance of the element.
  • the coating method is not suitable for the laminate type is that the layer formed earlier is dissolved when the layers are stacked.
  • the hole injection layer and the hole transport layer must be insoluble in the solvent used when forming the light emitting layer. Therefore, at present, many organic EL devices using a coating method have a hole injection layer formed using an aqueous dispersion of polythiophene: polystyrene sulfonic acid (PEDOT: PSS), and a light emitting layer of an aromatic system such as toluene. It is limited to a two-layer structure in which film formation is performed using an organic solvent.
  • PEDOT: PSS layer does not dissolve in toluene, and thus such a two-layer structure can be produced. Therefore, for example, it was not applicable when a hole transport layer was formed on a hole injection layer and a light emitting layer was further formed.
  • the hole injection layer As represented by PEDOT / PSS, a water-soluble or alcohol-soluble material is often used. Therefore, the hole transport material is deposited and laminated on the hole injection layer using an organic solvent other than water or alcohol such as toluene, xylene, dioxane, cyclohexanone.
  • an organic solvent other than water or alcohol such as toluene, xylene, dioxane, cyclohexanone.
  • a thermal or photocrosslinking polymer as a hole transport material (see Patent Document 1).
  • the photo-crosslinking type material is deteriorated by light and has a problem that the hole transport property, the light emission efficiency, and the element lifetime are lowered. There is a problem that holes may occur.
  • the film is not shrunk after thermal crosslinking, it may be dissolved in a film forming solvent used for laminating the light emitting layer (see Patent Documents 2-4).
  • a hole transport material that can be used for a coating type multilayer organic EL device
  • a polymer having a crosslinking group introduced in the main chain is disclosed.
  • these materials are composed of a ternary system and, at most, a quaternary system when a bridging group unit is inserted, and thus has a very complicated structure. Therefore, performance reproducibility may be difficult (Patent Documents 6, 7, and 8).
  • a material having a crosslinking group introduced at the terminal is also disclosed, but due to copolymerization by the same carbazole group as the soluble unit, film forming properties and adhesion due to introduction of a plurality of substituents, and further, electronic properties, etc. Is difficult to fine-tune.
  • this material is an oligomer material having a molecular weight of about 2000 to 3000, there is a concern that the unreacted cross-linking group may affect the device performance (Patent Document 9).
  • An object of the present invention is to provide a crosslinked polymer suitable for forming a thin film by a coating method and suitable as an electronic material.
  • the present inventors have found that a crosslinked polymer having a structural unit derived from carbazole or a compound similar to carbazole (P and Q groups described later) can form a high-quality thin film stably and easily.
  • this material is useful as an electronic material by changing the solubility due to a crosslinking reaction by heat or the like, thereby completing the present invention (first invention).
  • a polymer represented by the formula (C) described later is also useful as an electronic material, and completed the present invention (second invention).
  • P is a group derived from a compound represented by the following formula (P).
  • each A 1 is independently a nitrogen atom or CR 2 .
  • X 1 is a single bond, O, S, CR 2 R 3 or NR 2 .
  • R 1 to R 3 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted group.
  • ) a is an integer of 2 to 5
  • (P) a represents that a number of the (P) groups are continuously bonded.
  • the a P's are independent from each other, and the bonding position between the P's is not limited.
  • L 1 represents a linking group.
  • b is an integer of 0 ⁇ 5, (L 1) b, when b is 2 or more, indicating that L 1 is bonded b pieces continuously.
  • each A 2 is independently a nitrogen atom or CR 6 .
  • X 2 is a single bond, O, S, CR 6 R 7 or NR 6 .
  • R 5 to R 7 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted group.
  • c is an integer of 2 to 5
  • (Q) c represents that c (Q) groups are bonded in succession.
  • L 2 each independently represents a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted ring forming carbon atom having 6 to 30 carbon atoms.
  • d is an integer of 0 ⁇ 5, (L 2) d, when d is 2 or more, indicating that L 2 is bonded d items sequentially.
  • the d pieces of L 2 are independent from each other, and the position at which L 2 is bonded is not limited.
  • the bonding position of Q and L 2 is not limited.
  • at least one of c Q and d L 2 has a crosslinkable group. ] 2.
  • Structure 2 The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (Q) c and L 2 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue. 5. 5. The polymer according to any one of 2 to 4, which has at least one of the following structures 3 and 4. Structure 3: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (P) a and L 2 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue. Structure 4: The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (Q) c and L 1 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue. 6). 6.
  • the polymer according to any one of 1 to 6 represented by any of the following formulas (1) to (7): (Wherein, R 1, R 2, R 5, R 6, L 1 and L 2, R 1 in the formula (A) and (B), R 2, R 5, R 6, L 1 and L Same as 2 .
  • 9 In each of the polymers represented by the formulas (1) to (25), at least one of R 5 or at least one of R 6 is a crosslinkable group, L 2 is not a crosslinkable group, Polymer. 10. 10. The polymer according to any one of 1 to 9, wherein the crosslinkable group is a group selected from groups represented by the following formulas (31) to (42). 11.
  • at least one of R 1 , R 2 , R 5 and R 6 is selected from the groups represented by the following formulas (51) to (55)
  • R 11 to R 23 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, substituted or unsubstituted Ring-forming aryl groups having 6 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms, substituted or unsubstituted cycloalkoxy groups having 3 to 10 ring carbon atoms, substituted or unsubstituted ring formation
  • T 1 to T 5 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 50 ring carbon atoms or an aromatic heterocyclic group having 3 to 30 ring atoms.
  • P ′ is a group derived from a compound represented by the following formula (P ′).
  • L is a linking group.
  • a is an integer of 2 to 5, and (P ′) a represents that a number of P ′s are continuously bonded.
  • the a 'P's are independent from each other, and the bonding positions of P's are not limited.
  • b is an integer of 0 to 5, and when b is 2 or more, (L) b represents that b is continuously bonded to L.
  • b L's are independent of each other, and the position where L's are bonded is not limited.
  • L represents a single bond.
  • the bonding positions of P ′ and L are not limited.
  • m is a repeating unit.
  • Y 1 and Y 2 are each independently a crosslinkable group. ) (In the formula, each A is independently a nitrogen atom or —C (R) —).
  • X is a single bond, —O—, —S—, —C (R) 2 —, or —N (R) —.
  • Each R independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted ring forming carbon number; A 6-30 aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms, a substituted or unsubstituted arylamino group, or a substituted or unsubstituted arylsilyl group.
  • (P ′) a is a substituted or unsubstituted carbazole residue bonded continuously in a, and the carbazole residue bonded to L is the 9-position, 3-position of L and the carbazole residue, or The polymer according to any one of 14 to 16, which is bonded at the 2-position. 18. The polymer according to any one of 14 to 17, wherein a is 2 or 3. 19.
  • R 101 to R 119 each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, substituted or unsubstituted An aryl group having 6 to 30 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms, a substituted or unsubstituted arylamino group, or a substituted or unsubstituted arylsilyl group.
  • l is an integer of 0 or 1.
  • Y 1 , Y 2 , L and m are the same as in the formula (C). ) 20.
  • at least one of R 101 and R 102 , at least one of R 103 to R 105 , at least one of R 106 and R 107 , and at least one of R 108 to R 110 , At least one of R 111 to R 113 , at least one of R 114 to R 116 , and at least one of R 117 to R 119 are groups selected from groups represented by the following formulas (51) to (55): 20.
  • R 11 to R 23 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, substituted or unsubstituted Ring-forming aryl groups having 6 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms, substituted or unsubstituted cycloalkoxy groups having 3 to 10 ring carbon atoms, substituted or unsubstituted ring formation
  • T 1 to T 5 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 50 ring carbon atoms or an aromatic heterocyclic group having 3 to 30 ring atoms.
  • 21. The polymer according to any one of 14 to 20, wherein Y 1 and Y 2 are groups selected from groups represented by the following formulas (31) to (42), respectively. 22.
  • a coating solution comprising the polymer according to any one of 1 to 21 and a solvent. 23. 23.
  • 24. 24. A method for manufacturing an electronic element, wherein a wet film formation is performed using the coating liquid according to 22 or 23 above. 25. 25. The method for producing an electronic element according to 24, wherein the electronic element is an electroluminescent element, a photoelectric conversion element, or a transistor. 26. The method for producing an electronic device according to 24 or 25, wherein the electronic device is an organic electroluminescence device.
  • a cross-linked polymer suitable for forming a thin film by a coating method and suitable as an electronic material can be provided.
  • the polymer of the first invention of the present application is characterized by containing structural units represented by the following formulas (A) and (B).
  • P and Q are groups derived from carbazole or a compound similar to carbazole, and L 1 and L 2 are linking groups.
  • the structural unit of the above formula (A) does not have a crosslinkable group, and the structural unit of the above formula (B) has one or more crosslinkable groups.
  • P is a group derived from a compound represented by the following formula (P).
  • a 1 is a nitrogen atom or CR 2 respectively.
  • X 1 is a single bond, O, S, CR 2 R 3 or NR 2 .
  • R 1 to R 3 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted group.
  • At least one of R 1 to R 3 in the formula (P) is a single bond that binds to another group such as P or L 1 .
  • a is an integer of 2 to 5, preferably 2 or 3.
  • (P) a represents that a number of the (P) groups are continuously bonded.
  • the a P's are independent from each other, and the bonding position between the P's is not limited.
  • L 1 represents a linking group.
  • L 1 is preferably each independently a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group having 3 to 10 ring carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring forming carbon atom.
  • b is an integer of 0 ⁇ 5, (L 1) b, when b is 2 or more, indicating that L 1 is bonded b pieces continuously.
  • b pieces of L 1 are independent from each other, and the position at which L 1 is bonded is not limited.
  • the bonding position of P and L 1 is not limited.
  • Q is a group derived from a compound represented by the following formula (Q).
  • a 2 is a nitrogen atom or CR 6 , respectively.
  • X 2 is a single bond, O, S, CR 6 R 7 or NR 6 .
  • R 5 to R 7 are each independently a group or a crosslinkable group similar to R 1 to R 3 described above.
  • c is an integer of 2 to 5, and 2 or 3 is preferable.
  • (Q) c represents that c (Q) groups are bonded in succession.
  • the c Qs are independent of each other, and the bonding positions of the Qs are not limited.
  • L 2 is each independently a group or a crosslinkable group similar to L 1 described above.
  • d is an integer of 0 ⁇ 5, (L 2) d, when d is 2 or more, indicating that L 2 is bonded d items sequentially. In this case, the d pieces of L 2 are independent from each other, and the position at which L 2 is bonded is not limited.
  • the bonding position of Q and L 2 is not limited.
  • at least one of c Q and d L 2 has a crosslinkable group.
  • the polymer of the present invention only needs to have the above-described structural units (A) and (B), and the structure derived from other structural units, for example, an ⁇ -olefin, as long as the effects of the present invention are not impaired. You may have a unit.
  • a polymer in which the structural units (A) and (B) are alternately bonded is preferable.
  • An example (AB) in which the structural units (A) and (B) are alternately bonded is shown below. The following example corresponds to -ABAB-.
  • the P or Q group is preferably a substituted or unsubstituted carbazole residue.
  • bonding positions between adjacent carbazole residues or in c consecutive substituted or unsubstituted carbazole residues, bonding positions between adjacent carbazole residues.
  • bonding positions between adjacent carbazole residues are preferably selected from the 3-position, 3′-position, 3-position-2′-position, or 2-position-2′-position, respectively.
  • two P bonding forms are shown below.
  • Structure 1 The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (P) a and L 1 is the 9-position, 3-position or 2-position of the carbazole residue.
  • Structure 2 The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (Q) c and L 2 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue.
  • Structure 3 The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (P) a and L 2 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue.
  • Structure 4 The bonding position between one substituted or unsubstituted carbazole residue in (Q) c and L 1 is the 9th, 3rd or 2nd position of the carbazole residue. As an example of the above, the bonding position between the carbazole residue and L 1 is shown below.
  • At least one of R 1 to R 3 and at least one of R 5 to R 7 are groups selected from groups represented by the following formulas (51) to (55).
  • each of R 11 to R 23 is independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted group.
  • a, c, d, f, g, and i are each independently an integer of 0 to 4;
  • b, e, h and j are each independently an integer of 0 to 3.
  • R 17 is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted ring carbon number 6 to 30 carbon atoms. Or a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms.
  • T 1 to T 5 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 50 ring carbon atoms, or an aromatic heterocyclic group having 3 to 30 ring atoms.
  • the “hydrogen atom” in the present application includes a deuterium atom and a tritium atom.
  • the “ring-forming carbon” means a carbon atom constituting a saturated ring, an unsaturated ring, or an aromatic ring, and the “ring-forming atom” includes a hetero ring (including a saturated ring, an unsaturated ring, and an aromatic ring). ) Is a carbon atom and a hetero atom.
  • Examples of the substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and n-pentyl group.
  • alkylene group of L 1 and L 2 include residues corresponding to the alkyl group described above.
  • Examples of the substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentylmethyl group, a cyclohexylmethyl group, a cyclohexylethyl group, a 4-fluorocyclohexyl group, A 1-adamantyl group, a 2-adamantyl group, a 1-norbornyl group, a 2-norbornyl group and the like can be mentioned, and a cyclopentyl group and a cyclohexyl group are preferable.
  • examples of the cycloalkylene group (cycloalkane residue) of L 1 and L 2 include residues corresponding to the above-described cycloalkyl groups.
  • Examples of the substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 50 (preferably 6 to 30) ring carbon atoms include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, 1- Anthryl, 2-anthryl, 9-anthryl, 1-phenanthryl, 2-phenanthryl, 3-phenanthryl, 4-phenanthryl, 9-phenanthryl, 1-naphthacenyl, 2-naphthacenyl, 9- Naphthacenyl group, 1-pyrenyl group, 2-pyrenyl group, 4-pyrenyl group, biphenyl-2-yl group, biphenyl-3-yl group, biphenyl-4-yl group, p-terphenyl-4-yl group, p -Terphenyl-3-yl group, p-terphenyl-2-yl group, m-terphenyl-4
  • Examples of the divalent or higher group of the aromatic hydrocarbon ring group include a group derived by removing a hydrogen atom from the above-described aryl group.
  • Examples of the substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms include 1-pyrrolyl group, 2-pyrrolyl group, 3-pyrrolyl group, pyrazinyl group, 2-pyridinyl Group, 3-pyridinyl group, 4-pyridinyl group, 1-indolyl group, 2-indolyl group, 3-indolyl group, 4-indolyl group, 5-indolyl group, 6-indolyl group, 7-indolyl group, 1-isoindolyl Group, 2-isoindolyl group, 3-isoindolyl group, 4-isoindolyl group, 5-isoindolyl group, 6-isoindolyl group, 7-isoindolyl group, 2-furyl group, 3-furyl group, 2-benzofuranyl group, 3-benzofuranyl group Group, 4-benzofuranyl group, 5-
  • Examples of the divalent or higher valent group of the aromatic heterocyclic group include groups derived by removing a hydrogen atom from the above-described heteroaryl group.
  • Examples of the substituted amino group include a substituted or unsubstituted mono- or dialkylamino group, or a substituted or unsubstituted mono- or diarylamino group.
  • Examples of the alkylamino group or dialkylamino group include those in which the alkyl moiety is the alkyl group described above.
  • Examples of the arylamino group include a diarylamino group and an alkylarylamino group.
  • Examples of the alkyl group and aryl group bonded to the nitrogen atom include the above-described aryl group and alkyl group.
  • examples of the arylamine residue of L 1 and L 2 include a triarylamine residue and an alkylarylamine residue.
  • Examples of the alkyl group and aryl group bonded to the nitrogen atom include the above-described aryl group and alkyl group.
  • Substituted silyl groups include silyl groups substituted with alkyl and / or aryl.
  • Examples of the alkyl group and aryl group bonded to the silicon atom include the above-described aryl group and alkyl group.
  • the alkyl groups substituted on the silyl group may be the same or different.
  • the aryl groups substituted on the silyl group may be the same or different.
  • the trialkylsilyl group includes a trimethylsilyl group, a vinyldimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a tripropylsilyl group, a propyldimethylsilyl group, a tributylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, a tripentylsilyl group, a tripentylsilyl group, A heptylsilyl group, a trihexylsilyl group, etc. are mentioned.
  • a trimethylsilyl group and a triethylsilyl group are preferable.
  • Examples of the arylsilyl group include an alkylarylsilyl group and a triarylsilyl group.
  • Examples of the triarylsilyl group include a triphenylsilyl group and a trinaphthylsilyl group. A triphenylsilyl group is preferred.
  • Examples of the alkylarylsilyl group include a dimethylphenylsilyl group, a diethylphenylsilyl group, a diphenylmethylsilyl group, and an ethyldiphenylsilyl group. A diphenylmethylsilyl group and an ethyldiphenylsilyl group are preferred.
  • alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms is represented as —OY, and examples of Y include the above alkyl groups.
  • the alkoxy group is, for example, a methoxy group or an ethoxy group.
  • the cycloalkoxy group having 3 to 10 ring carbon atoms is represented as —OY, and examples of Y include the above-mentioned cycloalkyl groups.
  • the cycloalkoxy group is, for example, a cyclopentyloxy group or a cyclohexyloxy group.
  • An aryloxy group having 6 to 30 ring carbon atoms is represented as —OY, and examples of Y include the above aromatic hydrocarbon rings.
  • the aryloxy group is, for example, a phenoxy group.
  • the aralkyl group having 7 to 40 carbon atoms is represented by —Y—Z.
  • Y include alkylene examples corresponding to the above alkyl groups, and examples of Z include the above aryl groups. It is done.
  • the aryl part of the aralkyl group preferably has 6 to 30 carbon atoms.
  • the alkyl moiety preferably has 1 to 10 carbon atoms, particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. For example, benzyl group, phenylethyl group, 2-phenylpropan-2-yl group.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom, preferably a fluorine atom.
  • Substituents for the above groups are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, or a ring-forming carbon number of 3
  • alkyl group examples include the aryl group, alkyl group, cycloalkyl group, trialkylsilyl group, triarylsilyl group, alkylarylsilyl group, heteroaryl group, alkoxy group, halogen atom, and cyano group. Furthermore, these groups may have a similar substituent.
  • alkenyl group examples include a substituent having an unsaturated bond in the molecule of the alkyl group described above.
  • the crosslinkable group means a group having a “part having crosslinkability” by heat, light, acid, electron beam or the like such as a known unsaturated double bond, epoxy group, or okitacene.
  • the crosslinkable group include the following.
  • n represents an integer of 0 to 10.
  • R X represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen.
  • the alkyl group include those having 1 to 20 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable.
  • R Y represents a hydrogen atom, an alkyl group, an amino group, an aryl group, a halogen atom, an amide group or a carbonyl group.
  • the alkyl group include those having 1 to 20 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable.
  • groups selected from the groups represented by the following formulas (31) to (42) are preferable.
  • the crosslinking group also includes groups bonded to the crosslinkable group in the linking group exemplified above L 1 and L 2.
  • groups selected from the groups represented by the following formulas (43) to (46) are preferable.
  • o is an integer of 1 to 10.
  • the polymer of the present invention is preferably those represented by the following formulas (1) to (7). Of these, those represented by the following formulas (8) to (25) are preferable.
  • the following formula in order to express the bonding state of the structural units A and B and the content ratio in the polymer, it is described as a block copolymer for convenience, but only the block copolymer is described. It is not shown.
  • the polymer of the present invention is not limited to a block copolymer, and includes a random copolymer (for example, -ABBABBBAAABA-) and the like.
  • R 1, R 2, R 5, R 6, L 1 and L 2 R 1, R 2 in the formula (A) and (B), R 5, R 6, L 1 and is the same as that of L 2.
  • a polymer in which at least one of R 5 or at least one of R 6 of each polymer represented by the above formulas (1) to (25) is a crosslinkable group is more preferable.
  • L 2 may be a crosslinkable group, but not all L 2 may be crosslinkable groups.
  • at least one of L 2 of each polymer represented by the above formulas (1) to (21) is a polymer having a crosslinkable group.
  • R 5 and R 6 may be crosslinkable groups, but not all R 5 and R 6 may be crosslinkable groups.
  • R 1 , R 2 , R 5 and R 6 is a group represented by the above formulas (51) to (55). Is preferably a group selected from:
  • the polymer has a number average molecular weight (Mn) of preferably 10 3 to 10 8 , more preferably 5 ⁇ 10 3 to 10 6 .
  • the weight average molecular weight (Mw) is preferably 10 3 to 10 8 , more preferably 5 ⁇ 10 3 to 10 6 .
  • the molecular weight distribution represented by Mw / Mn is not particularly limited, but is preferably 10 or less, and more preferably 3 or less.
  • the number average molecular weight and the weight average molecular weight can be determined by calibration with standard polystyrene using size exclusion chromatography (SEC).
  • the polymer of the present invention is obtained by polymerizing a polymerizable monomer corresponding to each group of P, Q, L 1 and L 2 of the structural units A and B.
  • the polymerization method is not particularly limited, but the Suzuki polymerization method in which a dihalide derivative corresponding to each of the above groups and a diboronic acid derivative or a boronic acid ester derivative are coupled with a palladium catalyst is desirable.
  • the halogen of the dihalide derivative is more preferably Br or I than Cl.
  • the coupling partner of the dihalide derivative is more preferably a boronic acid ester derivative than the boronic acid.
  • boronic acid ester derivatives, dipinacol ester derivatives, and di-1,3-propanediol derivatives are preferable.
  • the molar ratio between the structural unit A and the structural unit B is preferably 0.01 to 0.99, respectively. Adjustments may be made so that the thermosetting properties required for the polymer are obtained within this range. When the content of the structural unit B having a thermally crosslinkable group increases, the crosslinkability of the polymer also increases. More preferably, the molar ratio of the structural unit A is 0.85 to 0.99, and particularly preferably 0.95 to 0.99.
  • H is a hydrogen atom
  • H-1 to H-18, H-29, and H-30 represent the following groups.
  • a block copolymer is used in order to express the bonding state of the structural units A and B and the content of the polymer in the polymer. Although described, it does not represent only block copolymers.
  • the polymer of the present invention is a polymer represented by the following formula (C).
  • P ′ is a group derived from a compound represented by the following formula (P ′).
  • L is a linking group, preferably each independently a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group having 3 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted ring.
  • each group may be the same or different.
  • a is an integer of 2 to 5, and (P ′) a represents that a number of P ′s are continuously bonded.
  • the a 'P's are independent from each other, and the bonding positions of P's are not limited.
  • b is an integer of 0 to 5, and (L) b represents that b is continuously bonded when b is 2 or more.
  • b L's are independent of each other, and the position where L's are bonded is not limited.
  • L represents a single bond.
  • the bonding positions of P ′ and L are not limited.
  • m is a repeating unit.
  • Y 1 and Y 2 are each independently a crosslinkable group. ) (In the formula, each A is independently a nitrogen atom or —C (R) —).
  • X is a single bond, —O—, —S—, —C (R) 2 —, or —N (R) —.
  • Each R independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted ring forming carbon number; A 6-30 aryl group, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms, a substituted or unsubstituted arylamino group, or a substituted or unsubstituted arylsilyl group.
  • the polymer of the present invention is a polymer that contains a nitrogen-containing ring in the main chain and has a wide selectivity for the number of substituents introduced into the nitrogen-containing ring and the substitution position.
  • the polymer itself since the polymer itself has a molecular weight of several tens of thousands, it is easily cured, and the crosslinking group does not affect the physical properties of the material. Further, the flatness, adhesion and electronic properties of the cured film obtained from the wide range of selectivity can be easily adjusted, and the hole injection property of the polymer itself can be improved.
  • P ′ is preferably a substituted or unsubstituted carbazole residue, and more preferably (P ′) a is a substituted or unsubstituted carbazole residue in which a consecutive bonds are present. And adjacent carbazole residues are bonded to each other at the 3-position, 3'-position, 3-position-2'-position, or 2-position-2'-position, respectively; and / or the carbazole residue that binds to L Are bonded to L at the 9-position, 3-position or 2-position of the carbazole residue.
  • adjacent carbazole residues are bonded at the 3-position to 3'-position when: Adjacent carbazole residues are attached at the 3 -2 'position when: Adjacent carbazole residues are attached at the 2-position to 2'-position when:
  • the carbazole residue bonded to L is bonded to L at the 9-position of the carbazole residue in the following cases;
  • R between L and N is a hydrogen atom, and R is a single bond by bonding at the 9-position of the carbazole residue.
  • the carbazole residue that binds to L is bound at the 3-position of L and the carbazole residue in the following cases:
  • the carbazole residue that binds to L is bound at the 2-position of L and the carbazole residue when:
  • a is preferably 2 or 3.
  • the polymer of the present invention is preferably a polymer represented by any of the following formulas (101) to (107).
  • R 101 to R 119 each independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, substituted or unsubstituted An aryl group having 6 to 30 ring carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms, a substituted or unsubstituted arylamino group, or a substituted or unsubstituted arylsilyl group.
  • l is an integer of 0 or 1.
  • Y 1 , Y 2 , L and m are the same as in the formula (C).
  • the polymer represented by the above formulas (101) to (107) is preferably at least one of R 101 and R 102 , at least one of R 103 to R 105 , at least one of R 106 and R 107 , R 108 At least one of R 110 , at least one of R 111 to R 113 , at least one of R 114 to R 116 , and at least one of R 117 to R 119 are represented by the following formulas (51) to (55). It is a group selected from the group. Substituents containing a carbazole skeleton, dibenzofuran skeleton, dibenzothiophene skeleton and the like can improve film adhesion between the layer made of the polymer of the present invention and the adjacent layer.
  • R 11 to R 23 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms, substituted or unsubstituted Ring-forming aryl groups having 6 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms, substituted or unsubstituted cycloalkoxy groups having 3 to 10 ring carbon atoms, substituted or unsubstituted ring formation
  • T 1 to T 5 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring group having 6 to 50 ring carbon atoms or an aromatic heterocyclic group having 3 to 30 ring atoms.
  • Y 1 and Y 2 in the polymer of the present invention are crosslinkable groups.
  • the crosslinkable group of the present invention includes a wide range of groups having a “part having a crosslinking performance” by heat, light, acid, electron beam, etc., such as known unsaturated double bonds, epoxy groups, and okitacene. It is done. (In the formula, n is an integer of 0 to 10.
  • R X represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom, respectively. Examples of the alkyl group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable.
  • R Y is a hydrogen atom, an alkyl group, an amino group, an aryl group, a halogen atom, an amide group or a carbonyl group, respectively.
  • alkyl group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable.
  • Y 1 and Y 2 are preferably crosslinkable groups represented by the following formulas (31) to (42), respectively.
  • the “hydrogen atom” in the present application includes a deuterium atom and a tritium atom.
  • the “ring-forming carbon” means a carbon atom constituting a saturated ring, an unsaturated ring, or an aromatic ring, and the “ring-forming atom” includes a hetero ring (including a saturated ring, an unsaturated ring, and an aromatic ring). ) Is a carbon atom and a hetero atom.
  • Examples of the substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and n-pentyl group.
  • alkylene group alkane residue
  • Examples of the substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 10 ring carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentylmethyl group, a cyclohexylmethyl group, a cyclohexylethyl group, a 4-fluorocyclohexyl group, A 1-adamantyl group, a 2-adamantyl group, a 1-norbornyl group, a 2-norbornyl group and the like can be mentioned, and a cyclopentyl group and a cyclohexyl group are preferable.
  • Examples of the cycloalkylene group (cycloalkane residue) include residues corresponding to the above cycloalkyl groups.
  • Examples of the substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 50 (preferably 6 to 30) ring carbon atoms include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, 1- Anthryl, 2-anthryl, 9-anthryl, 1-phenanthryl, 2-phenanthryl, 3-phenanthryl, 4-phenanthryl, 9-phenanthryl, 1-naphthacenyl, 2-naphthacenyl, 9- Naphthacenyl group, 1-pyrenyl group, 2-pyrenyl group, 4-pyrenyl group, biphenyl-2-yl group, biphenyl-3-yl group, biphenyl-4-yl group, p-terphenyl-4-yl group, p -Terphenyl-3-yl group, p-terphenyl-2-yl group, m-terphenyl-4
  • phenyl group 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 1-anthryl group, 2-anthryl group, 9-anthryl group, biphenyl-2-yl group, biphenyl-3-yl group, biphenyl- 4-yl group, p-terphenyl-4-yl group, p-terphenyl-3-yl group, p-terphenyl-2-yl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, Fluoren-2-yl group and fluoren-3-yl group, more preferably phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, fluoren-2-yl group, fluorene It is a -3-yl group.
  • divalent or higher valent group of the aromatic hydrocarbon ring group include groups derived by removing
  • Examples of the substituted or unsubstituted heteroaryl group having 3 to 30 ring atoms include 1-pyrrolyl group, 2-pyrrolyl group, 3-pyrrolyl group, pyrazinyl group, 2-pyridinyl Group, 3-pyridinyl group, 4-pyridinyl group, 1-indolyl group, 2-indolyl group, 3-indolyl group, 4-indolyl group, 5-indolyl group, 6-indolyl group, 7-indolyl group, 1-isoindolyl Group, 2-isoindolyl group, 3-isoindolyl group, 4-isoindolyl group, 5-isoindolyl group, 6-isoindolyl group, 7-isoindolyl group, 2-furyl group, 3-furyl group, 2-benzofuranyl group, 3-benzofuranyl group Group, 4-benzofuranyl group, 5-
  • 1-pyrrolyl group, 2-pyrrolyl group, 3-pyrrolyl group, 1-carbazolyl group, 2-carbazolyl group, 3-carbazolyl group, 4-carbazolyl group, 9-carbazolyl group, 2-dibenzofura are preferable.
  • divalent or higher valent group of the aromatic heterocyclic group include groups derived by removing a hydrogen atom from the above-described heteroaryl group.
  • Examples of the substituted amino group include a substituted or unsubstituted mono- or dialkylamino group, or a substituted or unsubstituted mono- or diarylamino group.
  • Examples of the alkylamino group or dialkylamino group include those in which the alkyl moiety is the alkyl group described above.
  • Examples of the arylamino group include a diarylamino group and an alkylarylamino group.
  • Examples of the alkyl group and aryl group bonded to the nitrogen atom include the above-described aryl group and alkyl group.
  • Examples of the arylamine residue include a triarylamine residue and an alkylarylamine residue.
  • Examples of the alkyl group and aryl group bonded to the nitrogen atom include the above-described aryl group and alkyl group.
  • Substituted silyl groups include silyl groups substituted with alkyl and / or aryl.
  • Examples of the alkyl group and aryl group bonded to the silicon atom include the above-described aryl group and alkyl group.
  • the alkyl groups substituted on the silyl group may be the same or different.
  • the aryl groups substituted on the silyl group may be the same or different.
  • the trialkylsilyl group includes a trimethylsilyl group, a vinyldimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a tripropylsilyl group, a propyldimethylsilyl group, a tributylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, a tripentylsilyl group, a tripentylsilyl group, A heptylsilyl group, a trihexylsilyl group, etc. are mentioned.
  • a trimethylsilyl group and a triethylsilyl group are preferable.
  • the arylsilyl group is preferably a triarylsilyl group.
  • Examples of the triarylsilyl group include a triphenylsilyl group and a trinaphthylsilyl group. A triphenylsilyl group is preferred.
  • Examples of the alkylarylsilyl group include a dimethylphenylsilyl group, a diethylphenylsilyl group, a diphenylmethylsilyl group, and an ethyldiphenylsilyl group. A diphenylmethylsilyl group and an ethyldiphenylsilyl group are preferred.
  • alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms is represented as —OY, and examples of Y include the above alkyl groups.
  • the alkoxy group is, for example, a methoxy group or an ethoxy group.
  • the cycloalkoxy group having 3 to 10 ring carbon atoms is represented as —OY, and examples of Y include the above-mentioned cycloalkyl groups.
  • the cycloalkoxy group is, for example, a cyclopentyloxy group or a cyclohexyloxy group.
  • An aryloxy group having 6 to 30 ring carbon atoms is represented as —OY, and examples of Y include the above aromatic hydrocarbon rings.
  • the aryloxy group is, for example, a phenoxy group.
  • the aralkyl group having 7 to 40 carbon atoms is represented by —Y—Z.
  • Y include an alkylene group corresponding to the above alkyl group
  • Z include the above aryl group.
  • the aryl part of the aralkyl group preferably has 6 to 30 carbon atoms.
  • the alkyl moiety preferably has 1 to 10 carbon atoms, particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. For example, benzyl group, phenylethyl group, 2-phenylpropan-2-yl group.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom, preferably a fluorine atom.
  • Substituents for the above groups are each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, or 3 to 20 carbon atoms.
  • alkenyl group examples include a substituent having an unsaturated bond in the molecule of the alkyl group described above.
  • the polymer preferably has a number average molecular weight (Mn) of 10 3 to 10 8 , more preferably 5 ⁇ 10 3 to 10 6 .
  • the polymer preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 10 3 to 10 8 , more preferably 5 ⁇ 10 3 to 10 6 .
  • the molecular weight distribution represented by Mw / Mn is not particularly limited, but is preferably 10 or less, and more preferably 3 or less.
  • the number average molecular weight and the weight average molecular weight can be determined by calibration with standard polystyrene using size exclusion chromatography (SEC).
  • the polymer of the present invention can be obtained by polymerizing compound weights respectively corresponding to the structural unit P, the structural unit L, and the thermally crosslinkable group.
  • the polymer of the present invention is a binary system comprising a nitrogen-containing ring of the main chain and a linking group bonded to the nitrogen-containing ring, it can be easily synthesized.
  • the polymer terminal is a terminal halogen, boronic acid, boronic acid ester, amino group, and a substitution treatment is performed with a phenyl group, a biphenylamino group, or the like. Since it is replaced with a crosslinking group, the amount of introduction of the crosslinking group can be reduced.
  • the polymerization method is not particularly limited, but the Suzuki polymerization method in which a dihalide derivative corresponding to each of the above groups and a diboronic acid derivative or a boronic acid ester derivative are coupled with a palladium catalyst is desirable.
  • the halogen of the dihalide derivative is more preferably Br or I than Cl.
  • the coupling partner of the dihalide derivative is more preferably a boronic acid ester derivative than the boronic acid.
  • boronic acid ester derivatives, dipinacol ester derivatives, and di-1,3-propanediol derivatives are preferable.
  • the polymer of the present invention can form a thin film by a coating method.
  • a wet film forming method is preferably used. Specifically, letterpress printing method, intaglio printing method, planographic printing method, stencil printing method, printing method combining these and offset printing method, ink jet printing method, dispenser spin coating method, bar coating method, dip coating method Spray coating method, slit coating method, roll coating method, cap coating method, gravure roll coating method, meniscus coating method and the like can be applied.
  • a relief printing method when fine patterning is required, a relief printing method, an intaglio printing method, a lithographic printing method, a stencil printing method, a printing method combining these and an offset printing method, an ink jet printing method, a dispenser coating, and the like are preferable.
  • a method may be used in which the polymer is formed on the transfer precursor substrate by the dry or wet film forming method and then transferred onto a wiring substrate having a target electrode by laser light, heat pressing or the like. Film formation by these methods can be performed under conditions well known to those skilled in the art, and details thereof are omitted.
  • the coating liquid used for the coating method contains the polymer of the present invention and a solvent.
  • the polymer in the coating solution may be dissolved or dispersed in the solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples of the organic solvent include chloroform, chlorobenzene, chlorotoluene, chloroxylene, chloroanisole, dichloromethane, dichlorobenzene, dichlorotoluene, dichloroethane, trichloroethane, trichlorobenzene, trichloromethylbenzene, and bromobenzene.
  • Chlorine solvents such as dibromobenzene and bromoanisole, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, dioxolane, oxazole, methylbenzoxazole, benzoisoxazole, furan, furazane, benzofuran, dihydrobenzofuran, ethylbenzene, diethylbenzene, triethylbenzene, trimethyl Benzene, trimethoxybenzene, propylbenzene, isopropylbenzene, diisopropyl Benzene, dibutylbenzene, amylbenzene, dihexylbenzene, cyclohexylbenzene, tetramethylbenzene, dodecylbenzene, benzonitrile, acetophenone, methylacetophenone, methoxyacetophenone, toluic acid ethyl ester, tol
  • a viscosity adjusting agent may be added to the film-forming solution as necessary.
  • a surface tension modifier may be added to the film-forming solution as necessary.
  • the viscosity modifier, surface tension modifier, crosslinking reaction initiator, and crosslinking reaction catalyst select one that does not affect the device characteristics even if it remains in the film, or the film is formed in the film formation process. What can be removed from inside is desirable.
  • it is preferable that at least one polymer is contained in the solvent and the polymer is dispersed or dissolved to form a dispersion or solution.
  • the polymer thin film can be formed by drying by vacuum or heating and removing the solvent.
  • the resulting film can be completely insolubilized by light irradiation or heating (for example, about 250 ° C.) to crosslink the polymer.
  • a reaction initiator such as an antioxidant or a polymerization initiator that does not affect the performance of the organic EL element, such as a phosphorus-based antioxidant, may be blended.
  • a reaction initiator such as an antioxidant or a polymerization initiator that does not affect the performance of the organic EL element, such as a phosphorus-based antioxidant
  • a method of curing the polymer by crosslinking is not particularly limited, and examples thereof include radical polymerization, ionic polymerization, living polymerization, radical living polymerization, and coordination polymerization.
  • examples of the initiator for the radical polymerization method include azo compounds and peroxides, and azobisisobutyronitrile (AIBN), azobisisobutyric acid diester derivatives, and dibenzoyl peroxide (BPO) are preferable.
  • AIBN azobisisobutyronitrile
  • BPO dibenzoyl peroxide
  • As the initiator for cationic polymerization various strong acids (p-toluenesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, etc.) and Lewis acids are preferable. It is also possible to polymerize by light irradiation and / or heat treatment.
  • the polymer of the present invention can form a thin film by a coating method, and the resulting film has a hole transporting property. Therefore, it is useful as an electronic material.
  • it can be used for an electronic element such as an electroluminescence element, a photoelectric conversion element, or a transistor.
  • it is suitable as a material for an organic electroluminescence element, particularly a material (hole transport layer, hole injection layer, etc.) used in a hole transport region between an anode and a light emitting layer.
  • one or more organic thin film layers including at least a light emitting layer are sandwiched between a cathode and an anode. And at least 1 layer of an organic thin film layer contains the polymer of this invention. In this invention, it has an organic thin film layer between an anode and a light emitting layer, and it is preferable that this layer is an organic thin film layer containing the polymer of this invention.
  • the layer formed in the hole transport region include a hole transport layer and a hole injection layer.
  • the hole injection layer or the hole transport layer is preferably in contact with the light emitting layer.
  • the light emitting layer can be formed by a wet film forming method following the hole injection layer or the hole transport layer.
  • the polymer is more preferably contained as a main component of at least one of a hole transport layer and a hole injection layer.
  • the content of the polymer of the present invention is preferably 51 to 100% by weight.
  • At least one of the hole transport layer and the hole injection layer contains an acceptor material.
  • the layer in contact with the anode is preferably contained. Inclusion of the acceptor material increases the hole density in the hole injecting / transporting layer and increases the hole mobility, thereby reducing the driving voltage of the resulting organic EL device and improving the carrier balance. To extend the service life.
  • the acceptor material is preferably an organic compound having an electron-withdrawing substituent or an electron-deficient ring.
  • the electron-withdrawing substituent include halogen, CN-, carbonyl group, arylboron group and the like.
  • electron-deficient rings examples include 2-pyridyl, 3-pyridyl, 4-pyridyl, 2-quinolyl, 3-quinolyl, 4-quinolyl, 2-imidazole, 4-imidazole, 3-pyrazole, 4-pyrazole, pyridazine, and pyrimidine , Pyrazine, cinnoline, phthalazine, quinazoline, quinoxaline, 3- (1,2,4-N) -triazolyl, 5- (1,2,4-N) -triazolyl, 5-tetrazolyl, 4- (1-O, 3-N) -oxazole, 5- (1-O, 3-N) -oxazole, 4- (1-S, 3-N) -thiazole, 5- (1-S, 3-N) -thiazole, 2 A compound selected from the group consisting of -benzoxazole, 2-benzothiazole, 4- (1,2,3-N) -benzotriazole, and benzimidazole.
  • the configuration of (8) is usually preferably used, but is not limited thereto.
  • the organic EL device of the present invention known components can be used for the constituent members other than the organic thin film layer containing the polymer of the present invention.
  • the light emitting layer preferably contains a styrylamine compound, an arylamine compound, or a fluoranthene compound.
  • Forming other than the organic thin film layer containing the polymer of the present invention is a wet film forming method such as a vacuum film forming method such as vacuum deposition, sputtering, plasma, ion plating, or a wet film forming method such as a coating method or a printing method.
  • a known method such as the above can be applied.
  • the thickness of each layer is not particularly limited, but must be set to an appropriate thickness. If the film thickness is too thick, a large applied voltage is required to obtain a constant light output, resulting in poor efficiency. If the film thickness is too thin, pinholes and the like are generated, and sufficient light emission luminance cannot be obtained even when an electric field is applied.
  • the normal film thickness is suitably in the range of 5 nm to 10 ⁇ m, but more preferably in the range of 10 nm to 0.2 ⁇ m.
  • any of the dry film formation method and the wet film formation method can be used as described above, but the wet film formation method is particularly preferably used. it can.
  • the means for laminating this upper layer there are a relief printing method, an intaglio printing method, a lithographic printing method, a stencil printing method, a printing method combining these and an offset printing method, an ink jet printing method, a dispenser spin coating method, a bar coating method.
  • the method, dip coating method, spray coating method, slit coating method, roll coating method, cap coating method, gravure roll coating method, meniscus coating method, etc. can be applied.
  • An organic EL device is produced by forming an anode, a light emitting layer, a hole injection / transport layer as required, and an electron injection / transport layer as necessary, and further forming a cathode by various materials and layer forming methods. be able to. Moreover, an organic EL element can also be produced from the cathode to the anode in the reverse order.
  • Example 1 The following polymer P1-1 was synthesized.
  • the reaction solution was dropped into water to precipitate a solid, and a precipitate was obtained by filtration.
  • the obtained crude product was purified by silica gel chromatography (toluene), and the obtained solid was dried under reduced pressure to obtain 12.2 g (yield 83%) of a white solid.
  • the white powder obtained was identified as Intermediate M-1-1 by 1 H-NMR spectrum and field desorption mass spectrum (hereinafter referred to as FD-MS) analysis.
  • the white powder obtained was identified as Intermediate M-1-2 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.
  • the white powder obtained was identified as Intermediate M-1-4 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.
  • the obtained crude product was purified by silica gel chromatography, and the obtained solid was dried under reduced pressure to obtain 2.5 g (yield 80%) of a white solid.
  • the white powder obtained was identified as M-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.
  • P1-1 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 7.8 ⁇ 10 3 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 2.4 ⁇ 10 4 .
  • the molecular weight and molecular weight distribution were measured under the following conditions. 100 ⁇ l of a solution prepared by dissolving 10 mg of a sample in 10 ml of THF was injected. The flow rate was 1 ml / min and the column temperature was set to 40 ° C.
  • SEC size exclusion chromatography
  • HLC-8220 manufactured by Tosoh Corporation was used.
  • the detector a differential refraction (RI) detector or an ultraviolet-visible (UV) detector was used.
  • Two TSKgel GMH-XL and one TSKgel G2000-XL manufactured by Tosoh were used as columns, and TSK standard polystyrene manufactured by Tosoh was used as the standard sample polystyrene.
  • Example 2 The following polymer P1-2 was synthesized.
  • Example 3 The following polymer P1-3 was synthesized.
  • the extract was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered and concentrated.
  • the obtained solid was purified by silica gel chromatography and dried under reduced pressure to obtain 12.6 g (yield 37%) of a colorless liquid.
  • the powder was identified as M-5-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.
  • the solvent was removed by removing under reduced pressure.
  • the target product was extracted by adding 100 mL of water, and the organic layer was taken out.
  • MgSO 4 was added to the extracted organic layer for drying, and MgSO 4 was removed by filtration.
  • the solvent was concentrated under reduced pressure, and the concentrate was filtered through silica gel.
  • the collected solution was concentrated under reduced pressure and added dropwise to methanol to precipitate a solid.
  • the solid was collected by suction filtration and dried under reduced pressure.
  • This precipitate was dissolved in toluene and purified by passing through a silica gel column. The obtained solution was added dropwise to methanol and stirred, and then the resulting precipitate was collected by filtration and dried to obtain 7.3 g of polymer P1-3.
  • the number average molecular weight in terms of polystyrene of P1-3 was 0.9 ⁇ 10 4 and the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 2.8 ⁇ 10 4 .
  • Example 4 The following polymer P1-4 was synthesized.
  • the target product was obtained in a yield of 3.3 g.
  • the polymer P-4 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 1.8 ⁇ 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 4.0 ⁇ 10 4 .
  • Example 5 The following polymer P1-5 was synthesized.
  • Synthesis was performed in the same manner as P1-3 using 2,7-dibromo-9,9-di-n-octylfluorene, M-5 and M-9.
  • the target product was obtained in a yield of 6.2 g.
  • the polymer P-5 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 1.9 ⁇ 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 3.8 ⁇ 10 4 .
  • Example 6 The following polymer P1-6 was synthesized.
  • the polymer P-6 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 1.5 ⁇ 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 3.3 ⁇ 10 4 .
  • Example 7 The following polymer P1-7 was synthesized.
  • the target product was obtained in a yield of 5.5 g.
  • the polymer P1-7 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 1.0 ⁇ 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 2.5 ⁇ 10 4 .
  • Example 8 Polymer P1-8 was synthesized according to the following scheme.
  • the target product was obtained in a yield of 5.2 g.
  • the polymer P1-8 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 3.8 ⁇ 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 1.6 ⁇ 10 4 .
  • the white powder obtained was identified as Intermediate M-14-1 by 1 H-NMR spectrum and FD-MS analysis.
  • 9,9-dioctyl-2,7-dibromofluorene 10.0 g (18.2 mmol), aniline 1.7 g (18.2 mmol), Pd 2 (dba) 30.6 g (0.6 mmol), ( ⁇ ) -2,2′-bis (diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl (rac-BINAP) 1.7 g (0.8 mmol), t-butoxy sodium 5.0 g (72.8 mmol), toluene 500 mL was added and heated at reflux for 16 hours.
  • the polymer P1-10 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 1.3 ⁇ 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 3.6 ⁇ 10 4 .
  • Example 9 (Production and evaluation of organic EL device) A glass substrate with an ITO transparent electrode having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm (manufactured by Geomatic Co., Ltd.) was ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning was performed for 30 minutes. A film of polyethylene dioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT: PSS) used for the hole injection layer by spin coating is formed to a film thickness of 10 nm on the glass substrate with a transparent electrode after washing, and the hole injection layer (PSS is an acceptor).
  • PEDOT polyethylene dioxythiophene / polystyrene sulfonic acid
  • a xylene solution (1.0 wt%) of the polymer P1-1 obtained in Example 1 was formed into a film with a film thickness of 25 nm by spin coating. Next, this was dried at 120 ° C. under reduced pressure for 1 hour to form a hole transport layer. Further, the following compound EM1 having a film thickness of 40 nm was deposited to form a film. At the same time, an amine compound D1 having the following styryl group was deposited as a light emitting molecule so that the weight ratio of EM1 and D1 was 95: 5, thereby forming a light emitting layer. The following Alq was deposited on this film to a thickness of 10 nm by vapor deposition. This layer functions as an electron injection layer.
  • Li Li source: manufactured by Saesgetter
  • Alq which are reducing dopants
  • Alq Alq
  • Metal Al was vapor-deposited on the Alq: Li film to form a metal cathode, which was sealed with glass in nitrogen to produce an organic EL device.
  • Example 10 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 9 except that the following arylamine compound D2 was used instead of the amine compound D1 having a styryl group as the material of the light emitting layer. The results are shown in Table 197. (Me is a methyl group.)
  • Comparative Example 3 Table 197 shows the results of evaluation and evaluation of organic EL devices produced in the same manner as in Example 9, except that P1-9 obtained in Comparative Example 1 was used instead of P1-1 as the hole transport material.
  • Comparative Example 4 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 9 except that P1-10 obtained in Comparative Example 2 was used instead of P1-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 197.
  • the organic EL device using the biscarbazole polymer of the present invention has a higher luminous efficiency than the organic EL device using the comparative compound that is an aromatic amine derivative. It can be seen that the life is excellent.
  • Example 11 Organic EL device fabrication and evaluation
  • a glass substrate with an ITO transparent electrode having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm (manufactured by Geomatic Co., Ltd.) was ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning was performed for 30 minutes.
  • a film of polyethylene dioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT: PSS) used for the hole injection layer by spin coating is formed to a film thickness of 10 nm on the glass substrate with a transparent electrode after washing, and the hole injection layer (PSS is an acceptor).
  • PEDOT polyethylene dioxythiophene / polystyrene sulfonic acid
  • a xylene solution (1.0% by weight) of the polymer P1-1 obtained in Example 1 was formed into a film having a film thickness of 25 nm by spin coating, dried and thermally cured at 230 ° C. for 30 minutes, A hole transport layer was formed.
  • a xylene solution (1.0 wt%) in which the compound EM1 (host) and the amine compound D1 (dopant) having a styryl group are mixed at a solid content weight ratio of 95: 5 is spin-coated to 40 nm.
  • a light emitting layer was formed by drying at 150 ° C. for 30 minutes.
  • Alq was deposited to a thickness of 10 nm by vapor deposition.
  • This layer functions as an electron injection layer.
  • Li Li source: manufactured by Saesgetter
  • Alq which are reducing dopants
  • Alq Alq
  • Metal Al was vapor-deposited on the Alq: Li film to form a metal cathode, which was sealed with glass in nitrogen to produce an organic EL device. A current was passed through the produced organic EL device to evaluate the performance. The results are shown in Table 198.
  • Example 12 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P1-2 obtained in Example 2 was used instead of P1-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.
  • Example 13 An organic EL device was produced and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P1-3 obtained in Example 3 was used instead of P1-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.
  • Example 14 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P1-4 obtained in Example 4 was used instead of P1-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.
  • Example 15 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P1-5 obtained in Example 5 was used instead of P1-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.
  • Example 16 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P1-6 obtained in Example 6 was used instead of P1-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.
  • Example 17 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P1-7 obtained in Example 7 was used instead of P1-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.
  • Example 18 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the polymer P1-8 obtained in Example 8 was used instead of P1-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.
  • Example 19 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that the arylamine compound D2 was used in place of the amine compound D1 having a styryl group as the material for the light emitting layer. The results are shown in Table 198.
  • Comparative Example 5 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that P1-9 obtained in Comparative Example 1 was used instead of P1-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.
  • Comparative Example 6 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 11 except that P1-10 obtained in Comparative Example 2 was used instead of P1-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 198.
  • the organic EL device using the biscarbazole polymer of the present invention has a higher luminous efficiency than the organic EL device using the comparative compound that is an aromatic amine derivative. It can be seen that the life is excellent. It was also confirmed that excellent performance was obtained even when the hole injection layer, the hole transport layer, and the light emitting layer were formed by wet film formation.
  • Example 21 Polymer P2-1 was synthesized according to the following synthesis scheme.
  • the collected filtrate was filtered through silica gel.
  • the collected solution was concentrated, sodium diethyldithiacarbamate aqueous solution was added, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 8 hours. After cooling, the organic layer was washed with water, and the resulting solution was added dropwise to methanol and collected by filtration to obtain a precipitate.
  • This precipitate was dissolved in toluene and purified by passing through a silica gel column. The obtained solution was added dropwise to methanol and stirred, and then the resulting precipitate was collected by filtration and dried to obtain 4.4 g of polymer P2-1.
  • the number average molecular weight in terms of polystyrene of the polymer P2-1 was 0.9 ⁇ 10 4
  • the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 2.2 ⁇ 10 4 .
  • the number average molecular weight in terms of polystyrene and the weight average molecular weight in terms of polystyrene of the polymer P2-1 were measured using size exclusion chromatography (SEC).
  • SEC size exclusion chromatography
  • the measurement was performed by dissolving 10 mg of the polymer P2-1 as a sample in 10 ml of THF (tetrahydrofuran) and injecting 100 ⁇ l of the resulting solution into the SEC apparatus.
  • the flow rate was 1 ml / min and the column temperature was set to 40 ° C.
  • the SEC apparatus used was Tosoh HLC-8220.
  • As the detector a differential refraction (RI) detector or an ultraviolet-visible (UV) detector was used.
  • RI differential refraction
  • UV ultraviolet-visible
  • Example 22 Polymer P2-2 was synthesized according to the following synthesis scheme.
  • Polymer P2-2 was obtained in the same manner as in the synthesis of polymer P2-1 except that monomer M-3 synthesized in the same manner as in Example 2 (1) was used instead of monomer M-1. Obtained in 3.8 g.
  • the number average molecular weight in terms of polystyrene of the polymer P2-2 was 1.3 ⁇ 10 4
  • the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 3.0 ⁇ 10 4 .
  • Example 23 Polymer P2-3 was synthesized according to the following synthesis scheme.
  • This precipitate was dissolved in toluene and purified by passing through a silica gel column. The obtained solution was added dropwise to methanol and stirred, and then the resulting precipitate was collected by filtration and dried to obtain 6.3 g of polymer P2-3.
  • the number average molecular weight in terms of polystyrene of the polymer P2-3 was 1.2 ⁇ 10 4
  • the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 3.1 ⁇ 10 4 .
  • Example 24 Polymer P2-4 was synthesized according to the following synthesis scheme.
  • a reaction similar to the synthesis of P2-1 was carried out except that the monomer M-7 synthesized in the same manner as in Example 4 (1) was used instead of the monomer M-1, and the polymer P2-4 was obtained in a yield of 2 Obtained in .8 g.
  • the polymer P2-4 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 1.7 ⁇ 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 3.7 ⁇ 10 4 .
  • Example 25 Polymer P2-5 was synthesized according to the following synthesis scheme.
  • Polymer P2-5 was obtained in the same manner as in the synthesis of polymer P2-3 except that monomer M-9 synthesized in the same manner as in Example 5 (1) was used instead of monomer M-4. Obtained in 5.1 g.
  • the polymer P2-5 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 1.6 ⁇ 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 3.9 ⁇ 10 4 .
  • Example 26 Polymer P2-6 was synthesized according to the following synthesis scheme.
  • a reaction similar to the synthesis of polymer P2-3 was carried out except that monomer M-10 synthesized in the same manner as in Example 6 (1) was used instead of monomer M-4, and polymer P2-6 was obtained. Obtained in 3.9 g.
  • the polymer P2-6 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 1.5 ⁇ 10 4 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 3.6 ⁇ 10 4 .
  • Example 27 Polymer P2-7 was synthesized according to the following synthesis scheme.
  • Polymer P2-7 was prepared in the same manner as in the synthesis of polymer P2-1 except that monomer M-12 synthesized in the same manner as in Example 7 (1) was used instead of monomer M-1. A yield of 5.8 g was obtained.
  • the number average molecular weight in terms of polystyrene of the polymer P2-7 was 1.4 ⁇ 10 4
  • the weight average molecular weight in terms of polystyrene was 3.1 ⁇ 10 4 .
  • Example 28 A glass substrate with an ITO transparent electrode having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm (manufactured by Geomatic Co., Ltd.) was ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning was performed for 30 minutes. On the glass substrate with a transparent electrode after cleaning, a film of polyethylene dioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT: PSS) used for the hole injection layer by spin coating is formed to a thickness of 10 nm, and the hole injection layer is formed. Formed.
  • PEDOT polyethylene dioxythiophene / polystyrene sulfonic acid
  • the xylene solution (1.0 wt%) of the polymer P2-1 obtained in Example 21 was formed into a film with a film thickness of 25 nm by a spin coating method. Next, this was dried at 120 ° C. under reduced pressure for 1 hour to form a hole transport layer. Further, a compound EM1 having a thickness of 40 nm was deposited to form a film. At the same time, an amine compound D1 having a styryl group as a light emitting molecule was vapor-deposited so that the weight ratio of EM1 and D1 was 95: 5 to form a light emitting layer. On this film, Alq was deposited to a thickness of 10 nm by vapor deposition.
  • This layer functions as an electron injection layer.
  • Li Li source: manufactured by Saesgetter
  • Alq which are reducing dopants
  • Alq Alq
  • Metal Al was vapor-deposited on the Alq: Li film to form a metal cathode, which was sealed with glass in nitrogen to produce an organic EL device.
  • Compounds EM1, D1 and Alq are the same as in Example 9.
  • the obtained organic EL device was evaluated for its luminous efficiency and luminous lifetime. The results are shown in Table 199. The light emission lifetime was based on the lifetime of the element of Example 28.
  • Example 29 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 28 except that the arylamine compound D2 used in Example 10 was used instead of the amine compound D1 having a styryl group as the light emitting layer material. The results are shown in Table 199.
  • a reaction similar to the synthesis of polymer P2-1 was carried out except that compound M-21 obtained by a conventional method was used instead of intermediate M-1, and polymer P2-8 was obtained in a yield of 5.6 g.
  • the polymer P2-8 had a polystyrene equivalent number average molecular weight of 7.8 ⁇ 10 3 and a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 2.4 ⁇ 10 4 .
  • An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 28 except that polymer P2-8 was used instead of polymer P2-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 199.
  • An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 28 except that the polymer P2-9 was used instead of the polymer P2-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 199.
  • Example 30 A glass substrate with an ITO transparent electrode having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm (manufactured by Geomatic Co., Ltd.) was ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning was performed for 30 minutes. On the glass substrate with a transparent electrode after cleaning, a film of polyethylene dioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT: PSS) used for the hole injection layer by spin coating is formed to a thickness of 10 nm, and the hole injection layer is formed. Formed.
  • PEDOT polyethylene dioxythiophene / polystyrene sulfonic acid
  • a xylene solution (1.0% by weight) of the polymer P2-1 obtained in Example 21 was formed into a film having a film thickness of 25 nm by spin coating, dried and heat-cured at 230 ° C. for 30 minutes, A hole transport layer was formed.
  • a xylene solution (1.0 wt%) in which the compound EM1 (host) and the amine compound D1 (dopant) having a styryl group are mixed at a solid content weight ratio of 95: 5 is spin-coated to form a 40 nm film.
  • a film having a thickness was formed and dried at 150 ° C. for 30 minutes to form a light emitting layer.
  • Alq was deposited to a thickness of 10 nm by vapor deposition. This layer functions as an electron injection layer. Thereafter, Li (Li source: manufactured by Saesgetter) and Alq, which are reducing dopants, and Alq were vapor-deposited to form an Alq: Li film (film thickness: 10 nm) as an electron injection layer (cathode). Metal Al was vapor-deposited on the Alq: Li film to form a metal cathode, which was sealed with glass in nitrogen to produce an organic EL device. A current was passed through the produced organic EL device to evaluate the performance. evaluated. The results are shown in Table 200.
  • Example 31 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 30, except that the polymer P2-2 obtained in Example 22 was used instead of the polymer P2-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 200.
  • Example 32 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 30 except that the polymer P2-3 obtained in Example 23 was used instead of the polymer P2-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 200.
  • Example 33 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 30, except that the polymer P2-4 obtained in Example 24 was used instead of the polymer P2-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 200.
  • Example 34 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 30, except that the polymer P2-5 obtained in Example 25 was used instead of the polymer P2-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 200.
  • Example 35 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 30, except that the polymer P2-6 obtained in Example 26 was used instead of the polymer P2-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 200.
  • Example 36 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 30, except that the polymer P2-7 obtained in Example 27 was used instead of P2-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 200.
  • Example 37 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 30 except that the arylamine compound D2 was used in place of the amine compound D1 having a styryl group as the material for the light emitting layer. The results are shown in Table 200.
  • Comparative Example 23 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 30, except that the polymer P2-8 obtained in Comparative Example 21 was used instead of the polymer P2-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 200.
  • Comparative Example 24 An organic EL device was prepared and evaluated in the same manner as in Example 31 except that the polymer P2-9 obtained in Comparative Example 22 was used instead of the polymer P2-1 as the hole transport material. The results are shown in Table 200.
  • the polymer of the present invention is useful as an electronic material.
  • it is suitable as a material for an organic electroluminescence element, particularly a material used in a hole transport region between an anode and a light emitting layer.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)

Abstract

　下記式（Ａ)及び（Ｂ）で表される構造単位を含有する重合体。 ［式（Ａ）中、Ｐは式（Ｐ）で表される化合物に由来する基である。Ｌ１は連結基を表す。式（Ｂ）中、Ｑは式（Ｑ）で表される化合物に由来する基である。Ｌ２は連結基を表す。式（Ｂ）において、ｃ個のＱ及びｄ個のＬ２のうち、少なくとも１つは、架橋性基を有する。］

Description

架橋型重合体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
　本発明は、架橋型重合体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）に関する。
　有機ＥＬ素子は、自発光型で視野角依存性がなく、面発光、薄型化が可能であることから、テレビや携帯電話等のディスプレイや、照明等への応用が検討されている。
　有機ＥＬ素子は、有機化合物の薄膜を、陰極と陽極とで挟んだ構成を有している。薄膜の形成方法としては、蒸着法と塗布法とに大別される。蒸着法は、主に低分子化合物を用い、真空中で基板上に薄膜を形成する手法であり、製品化が先行している。一方、塗布法は、インクジェットや印刷等、溶液を用いて基板上に薄膜を形成する手法であり、材料の利用効率が高く、大面積化、高精細化に向いており、今後の大画面有機ＥＬディスプレイには不可欠とされる手法である。
　低分子材料を用いた真空蒸着法は、材料の利用効率が極端に低く、また、大型化すればシャドーマスクのたわみが大きくなることから、大型基板への蒸着が難しく、その結果、大型の有機ＥＬ基板を用いた表示装置の作製が困難という問題がある。また、製造コストも高くなる。
　一方、高分子系材料は、有機溶剤に溶かし込んだその溶液を、塗布することにより、均一な膜を形成することが可能であり、これを利用して、インクジェット法や印刷法に代表される塗布法を用いることができる。そのため、材料の利用効率を１００％近くまで高めることができる。また、小型基板から大型基板まで、さまざまな形状の基板に容易に対応できるため、素子の製造コストを大幅に削減することができる。
　しかしながら、一般的に塗布法は積層型の素子には適さず、素子の高性能化が容易ではないという問題点がある。
　塗布法が積層型に適さない理由としては、層を重ねる際に、先に形成してあった膜を溶かしてしまうことが挙げられる。具体的に、塗布積層型の有機発光素子において、正孔注入層及び正孔輸送層は、発光層を成膜する際に用いられる溶剤に対して不溶でなければならない。
　そのため、現状では、塗布法による有機ＥＬ素子の多くは、正孔注入層をポリチオフェン：ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）の水分散液を用いて製膜し、発光層をトルエン等の芳香族系有機溶媒を用いて製膜を行うという２層構造のものに限られている。ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ層はトルエンに溶解しないため、かかる２層構造を作製することが可能だからである。
　従って、例えば、正孔注入層上に、正孔輸送層を形成し、さらに発光層を形成する場合には適用できなかった。
　正孔注入層には、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳに代表されるように、水溶性、又は、アルコールに溶解する材料が用いられる場合が多い。そのため、正孔輸送材料は、正孔注入層上にトルエン、キシレン、ジオキサン、シクロヘキサノン等の水系又はアルコール系以外の有機溶剤を用いて成膜し、積層される。
　ここで、正孔輸送材料として、熱又は光架橋型の重合体を用いることが提案されている（特許文献１参照）。しかしながら、光架橋型の材料は、光によって劣化し、正孔輸送性、発光効率、素子寿命が低下するという問題があり、一方、熱架橋型の材料では、熱架橋後、シュリンクしたり、ピンホールが生じることがあるという問題がある。
　また、熱架橋後、シュリンクしない場合でも、発光層の積層に用いる成膜用溶剤に溶解することがあるという問題がある（特許文献２－４参照）。
　また、低分子化合物に重合可能な置換基を結合させた材料を用い、それを塗布後、重合させることにより、他層の塗布用溶媒への溶解度を下げ、多層構造を形成するという技術がある（例えば、特許文献５参照）。しかしながら、低分子化合物は、それ自体結晶化しやすい傾向があるため、良質な薄膜を形成しにくいという問題があった。
　また、塗布型多層有機ＥＬ素子に使用できる正孔輸送材料として、主鎖中に架橋基を導入したポリマーが開示されている。しかし、これらの材料は、架橋基ユニットを入れると、３元系、多いと４元系で構成されており、そのため非常に複雑な構造を持つ。それゆえ、性能再現性が難しい場合がある（特許文献６，７，８）。また、末端に架橋基を導入した材料も開示されているが、可溶性ユニットと同一のカルバゾール基による共重合のため、複数の置換基導入による、製膜性や密着性、更には、電子物性などの微調整が難しい。また、この材料は分子量２０００～３０００程度のオリゴマー材料であるため、未反応の架橋基が素子性能低下に与える影響が懸念される（特許文献９）。
特開２００６－２５７１９６号公報 特開２００８－６３３２７号公報 特開２００９－２８３５０９号公報 特開２０１１－８２０５２号公報 特開２００６－２７９００７号公報 特開２０１１－１５３１３４号公報 特開２００８－１６９３６７号公報 特開２００９－１９６９８２号公報 特開２００８－２３１４１９号公報
　本発明は、塗布法による薄膜の形成に適し、エレクトロニクス用材料として好適な架橋型重合体を提供することを課題とする。
　本発明者らは、鋭意検討した結果、カルバゾール又はカルバゾールに類似する化合物に由来する構造単位（後述するＰ及びＱ基）を有する架橋型重合体が、安定的かつ容易に良質な薄膜を形成でき、また、熱などによる架橋反応によって溶解度が変化することにより、この材料がエレクトロニクス用材料として有用であることを見出し、本発明を完成させた（第一発明）。
　また、後述する式（Ｃ）で表される重合体もエレクトロニクス用材料として有用であることを見出し、本発明を完成させた（第二発明）。
　本発明によれば、以下の重合体等が提供される。
１．下記式（Ａ)及び（Ｂ）で表される構造単位を含有する重合体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 ［式（Ａ）中、Ｐは下記式（Ｐ）で表される化合物に由来する基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 （式中、Ａ１はそれぞれ独立に、窒素原子又はＣＲ２である。
　Ｘ１は、単結合、Ｏ、Ｓ、ＣＲ２Ｒ３又はＮＲ２である。
　Ｒ１～Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基又はアリールシリル基である。）
　ａは２～５の整数であり、（Ｐ）ａは、上記（Ｐ）基がａ個連続して結合していることを表す。ａ個のＰはそれぞれ独立であり、また、Ｐ同士の結合位置は限定されない。
　Ｌ１は連結基を表す。
　ｂは、０～５の整数であり、（Ｌ１）ｂは、ｂが２以上である場合、Ｌ１がｂ個連続して結合したことを表す。この場合、ｂ個のＬ１はそれぞれ独立であり、また、Ｌ１同士が結合する位置は限定されない。
　式（Ａ）において、ＰとＬ１の結合位置は限定されない。
　式（Ｂ）中、Ｑは下記式（Ｑ）で表される化合物に由来する基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 （式中、Ａ２はそれぞれ独立に、窒素原子又はＣＲ６である。
　Ｘ２は、単結合、Ｏ、Ｓ、ＣＲ６Ｒ７又はＮＲ６である。
　Ｒ５～Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基、アリールシリル基、又は架橋性基である。）
　ｃは２～５の整数であり、（Ｑ）ｃは、上記（Ｑ）基がｃ個連続して結合していることを表す。ｃ個のＱはそれぞれ独立であり、また、Ｑ同士の結合位置は限定されない。
　Ｌ２はそれぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０の芳香族炭化水素環基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０の芳香族複素環基、置換もしくは無置換のアリールアミン残基、アリールシリレン基、又は架橋性基である。
　ｄは、０～５の整数であり、（Ｌ２）ｄは、ｄが２以上である場合、Ｌ２がｄ個連続して結合していることを表す。この場合、ｄ個のＬ２はそれぞれ独立であり、また、Ｌ２同士が結合する位置は限定されない。
　式（Ｂ）において、ＱとＬ２の結合位置は限定されない。
　式（Ｂ）において、ｃ個のＱ及びｄ個のＬ２のうち、少なくとも１つは、架橋性基を有する。］
２．前記Ｐ又はＱが、置換又は無置換のカルバゾールの残基である１に記載の重合体。
３．ａ個連続した置換もしくは無置換のカルバゾール残基において隣接するカルバゾール残基同士の結合位置、又は、ｃ個連続した置換もしくは無置換のカルバゾール残基において隣接するカルバゾール残基同士の結合位置が、それぞれ、３位－３’位、３位－２’位、及び、２位－２’位から選ばれた一種である２に記載の重合体。
４．下記の構造１及び構造２の少なくとも一方を有する、２又は３に記載の重合体。
　構造１：前記（Ｐ）ａ中の１つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Ｌ１との結合位置が、該カルバゾール残基の９位、３位又は２位である。
　構造２：前記（Ｑ）ｃ中の１つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Ｌ２との結合位置が、該カルバゾール残基の９位、３位又は２位である。
５．下記の構造３及び構造４の少なくとも一方を有する、２～４のいずれかに記載の重合体。
　構造３：前記（Ｐ）ａ中の１つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Ｌ２との結合位置が、該カルバゾール残基の９位、３位又は２位である。
　構造４：前記（Ｑ）ｃ中の１つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Ｌ１との結合位置が、該カルバゾール残基の９位、３位又は２位である。
６．前記ａ又はｃが、それぞれ２又は３である１～５のいずれかに記載の重合体。
７．下記式（１）～（７）のいずれかで表される１～６のいずれかに記載の重合体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 （各式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｌ１及びＬ２は、前記式（Ａ）及び（Ｂ）のＲ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｌ１及びＬ２と同様である。
　ｍ及びｎはそれぞれ、重合体に占める各構造単位の含有率（モル比）を表し、ｍは０．０１～０．９９、ｎは０．０１～０．９９であり、ｍ＋ｎ＝１である。
　ｌは、０又は１である。）
８．下記式（８）～（２５）のいずれかで表される７に記載の重合体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 （各式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｌ１及びＬ２は、前記式（Ａ）及び（Ｂ）のＲ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｌ１及びＬ２と同様である。
　ｍ及びｎはそれぞれ、重合体に占める各構造単位の含有率（モル比）を表し、ｍは０．０１～０．９９、ｎは０．０１～０．９９であり、ｍ＋ｎ＝１である。）
９．前記式（１）～（２５）で表される各重合体の、Ｒ５の少なくとも１つ又はＲ６の少なくとも１つが架橋性基であり、Ｌ２は架橋性基ではない、７又は８の重合体。
１０．前記架橋性基が、下記式（３１）～（４２）で示される基から選択される基である１～９のいずれかに記載の重合体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 １１．前記式（１）～（２１）で表される各重合体のＬ２の少なくとも１つが架橋性基であり、Ｒ５及びＲ６が架橋性基ではない７又は８の重合体。
１２．前記架橋性基であるＬ２が、下記式（４３）～（４６）で示される基から選択される基である１１に記載の重合体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 （式（４５）及び（４６）において、ｏは、１～１０の整数である。）
１３．前記式（１）～（２５）で表される各重合体の、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５及びＲ６の少なくとも１つが、下記式（５１）～（５５）で表される基から選択される基である７～１２のいずれかに記載の重合体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 （式中、Ｒ１１～Ｒ２３は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の炭素数７～４０のアラルキル基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換アミノ基、置換シリル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又はヒドロキシル基である。
　ａ、ｃ、ｄ、ｆ、ｇ、及びｉは、それぞれ独立に、０～４の整数である。
　ｂ、ｅ、ｈ及びｊは、それぞれ独立に、０～３の整数である。
　Ｔ１～Ｔ５はそれぞれ独立に、単結合、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環基又は環形成原子数３～３０の芳香族複素環基である。）
１４．下記式（Ｃ）で表わされる重合体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 （式中、Ｐ’は下記式（Ｐ’）で表わされる化合物に由来する基である。
　Ｌは連結基である。
　ａは、２～５の整数であり、（Ｐ’）ａは、Ｐ’がａ個連続して結合していることを表わす。ａ個のＰ’はそれぞれ独立であり、また、Ｐ’同士の結合位置は限定されない。
　ｂは、０～５の整数であり、ｂが２以上である場合、（Ｌ）ｂは、Ｌがｂ個連続して結合していることを表わす。この場合、ｂ個のＬはそれぞれ独立であり、Ｌ同士が結合する位置は限定されない。また、ｂが０の場合、Ｌは単結合を表わす。
　式（Ｃ）において、Ｐ’とＬのそれぞれの結合位置は限定されない。
　ｍは、繰り返し単位である。
　Ｙ１及びＹ２は、それぞれ独立に、架橋性基である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 （式中、Ａはそれぞれ独立に、窒素原子又は－Ｃ（Ｒ）－である。
　Ｘは、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｒ）２－、又は－Ｎ（Ｒ）－である。
　Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基、又は置換もしくは無置換のアリールシリル基である。）
１５．前記Ｐ’が置換もしくは無置換のカルバゾール残基である１４に記載の重合体。
１６．前記（Ｐ’）ａが、ａ個連続して結合している置換もしくは無置換のカルバゾール残基であって、隣接するカルバゾール残基が、それぞれ３位－３’位、３位－２’位、又は２位－２’位で互いに結合している１４又は１５に記載の重合体。
１７．前記（Ｐ’）ａが、ａ個連続して結合している置換もしくは無置換のカルバゾール残基であって、Ｌと結合するカルバゾール残基が、Ｌとカルバゾール残基の９位、３位又は２位で結合する１４～１６のいずれかに記載の重合体。
１８．前記ａが２又は３である１４～１７のいずれかに記載の重合体。
１９．下記式（１０１）～（１０７）のいずれかで表わされる１４～１８のいずれかに記載の重合体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 （式中、Ｒ１０１～Ｒ１１９は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基、又は置換もしくは無置換のアリールシリル基である。
　ｌは、０又は１の整数である。
　Ｙ１、Ｙ２、Ｌ及びｍは、式（Ｃ）と同様である。）
２０．前記式（１０１）～（１０７）において、Ｒ１０１及びＲ１０２の少なくとも１つ、Ｒ１０３～Ｒ１０５の少なくとも１つ、Ｒ１０６及びＲ１０７の少なくとも１つ、Ｒ１０８～Ｒ１１０の少なくとも１つ、Ｒ１１１～Ｒ１１３の少なくとも１つ、Ｒ１１４～Ｒ１１６の少なくとも１つ、並びにＲ１１７～Ｒ１１９の少なくとも１つが下記式（５１）～（５５）で表わされる基から選択される基である１９に記載の重合体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 （式中、Ｒ１１～Ｒ２３は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の炭素数７～４０のアラルキル基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換アミノ基、置換シリル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又はヒドロキシル基である。
　ａ、ｃ、ｄ、ｆ、ｇ、及びｉは、それぞれ独立に、０～４の整数である。
　ｂ、ｅ、ｈ及びｊは、それぞれ独立に、０～３の整数である。
　Ｔ１～Ｔ５はそれぞれ独立に、単結合、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環基又は環形成原子数３～３０の芳香族複素環基である。）
２１．Ｙ１及びＹ２が、それぞれ下記式（３１）～（４２）で表わされる基から選択される基である１４～２０のいずれかに記載の重合体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 ２２．上記１～２１のいずれかに記載の重合体及び溶媒を含む塗布液。
２３．前記溶媒の少なくとも１種が有機溶媒である２２に記載の塗布液。
２４．上記２２又は２３に記載の塗布液を用いて湿式成膜する電子素子の製造方法。
２５．前記電子素子が、電界発光素子、光電変換素子又はトランジスタである２４に記載の電子素子の製造方法。
２６．前記電子素子が、有機エレクトロルミネッセンス素子である２４又は２５に記載の電子素子の製造方法。
２７．陽極と陰極と、前記陽極と陰極の間に、発光層を含む１層以上の有機薄膜層を有し、前記有機薄膜層の少なくとも１層が１～２１のいずれかに記載の重合体を含む有機エレクトロルミネッセンス素子。
２８．前記有機薄膜層の少なくとも1層が正孔注入層又は正孔輸送層である２７に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
２９．前記正孔注入層又は正孔輸送層が発光層と接している２８に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
３０．前記発光層が湿式成膜法により成膜された２７～２９のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
　本発明によれば、塗布法による薄膜の形成に適し、エレクトロニクス用材料として好適な架橋型重合体を提供することができる。
［第一の発明］
　本願の第一発明の重合体は、下記式（Ａ)及び（Ｂ）で表される構造単位を含有することを特徴とする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　式（Ａ）及び（Ｂ）において、Ｐ及びＱはカルバゾール又はカルバゾールに類似する化合物由来の基であり、Ｌ１及びＬ２は連結基である。上記式（Ａ）の構造単位は架橋性基を有さず、上記式（Ｂ）の構造単位は、架橋性基を１以上有する。本発明の重合体は、式（Ａ)及び（Ｂ）で表される構造単位を有することにより、成膜後に架橋して得られる膜の表面平坦性が高くなる。また、塗布に用いる有機溶剤への耐性が高くなる。
　上記式（Ａ）において、Ｐは下記式（Ｐ）で表される化合物に由来する基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　式（Ｐ）中、Ａ１はそれぞれ窒素原子又はＣＲ２である。
　Ｘ１は、単結合、Ｏ、Ｓ、ＣＲ２Ｒ３又はＮＲ２である。
　Ｒ１～Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基又は置換もしくは無置換のアリールアミノ基である。
　式（Ｐ）中のＲ１～Ｒ３の少なくとも１つは、ＰやＬ１等である他の基と結合する単結合である。
　ａは２～５の整数であり、２又は３が好ましい。（Ｐ）ａは、上記（Ｐ）基がａ個連続して結合していることを表す。ａ個のＰはそれぞれ独立であり、また、Ｐ同士の結合位置は限定されない。
　Ｌ１は連結基を表わす。Ｌ１は、好ましくは、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０の芳香族炭化水素環基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０の芳香族複素環基、置換もしくは無置換のアリールアミン残基、又はアリールシリレン基である。また、これらの基を２以上連結した基である。この場合、各基は同一でも異なっていてもよい。
　ｂは、０～５の整数であり、（Ｌ１）ｂは、ｂが２以上である場合、Ｌ１がｂ個連続して結合したことを表す。この場合、ｂ個のＬ１はそれぞれ独立であり、また、Ｌ１同士が結合する位置は限定されない。
　式（Ａ）において、ＰとＬ１の結合位置は限定されない。
　式（Ｂ）中、Ｑは下記式（Ｑ）で表される化合物に由来する基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　式中、Ａ２はそれぞれ窒素原子又はＣＲ６である。
　Ｘ２は、単結合、Ｏ、Ｓ、ＣＲ６Ｒ７又はＮＲ６である。
　Ｒ５～Ｒ７は、それぞれ独立に、上述したＲ１～Ｒ３と同様な基又は架橋性基である。
　ｃは２～５の整数であり、２又は３が好ましい。（Ｑ）ｃは、上記（Ｑ）基がｃ個連続して結合していることを表す。ｃ個のＱはそれぞれ独立であり、また、Ｑ同士の結合位置は限定されない。
　Ｌ２はそれぞれ独立に、上述したＬ１と同様な基又は架橋性基である。
　ｄは、０～５の整数であり、（Ｌ２）ｄは、ｄが２以上である場合、Ｌ２がｄ個連続して結合したことを表す。この場合、ｄ個のＬ２はそれぞれ独立であり、また、Ｌ２同士が結合する位置は限定されない。
　式（Ｂ）において、ＱとＬ２の結合位置は限定されない。
　式（Ｂ）において、ｃ個のＱ及びｄ個のＬ２のうち、少なくとも１つは、架橋性基を有する。
　本発明の重合体は、上述した構造単位（Ａ）及び（Ｂ）を有していればよく、本発明の効果を阻害しない範囲において、他の構造単位、例えば、α－オレフィンに由来する構造単位を有していてもよい。
　好ましくは、構造単位（Ａ）及び（Ｂ）が交互に結合している重合体である。構造単位（Ａ）及び（Ｂ）が交互に結合している例（ＡＢ）を以下に示す。下記例は－ＡＢＡＢ－に相当する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　本発明では、上記Ｐ又はＱ基が、置換又は無置換のカルバゾール残基であることが好ましい。
　また、ａ個連続した置換又は無置換のカルバゾール残基において、隣接するカルバゾール残基同士の結合位置、又はｃ個連続した置換又は無置換のカルバゾール残基において、隣接するカルバゾール残基同士の結合位置は、それぞれ、３位－３’位、３位－２’位、又は、２位－２’位から選ばれた一つである場合が好ましい。例として、２つのＰの結合形態を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　また、下記の構造１及び構造２の少なくとも一方を有することが好ましい。
　構造１：（Ｐ）ａ中の１つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Ｌ１との結合位置が、該カルバゾール残基の９位、３位又は２位である。
　構造２：（Ｑ）ｃ中の１つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Ｌ２との結合位置が、該カルバゾール残基の９位、３位又は２位である。
　さらに、下記の構造３及び構造４の少なくとも一方を有することが好ましい。
　構造３：前記（Ｐ）ａ中の１つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Ｌ２との結合位置が、該カルバゾール残基の９位、３位又は２位である。
　構造４：前記（Ｑ）ｃ中の１つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Ｌ１との結合位置が、該カルバゾール残基の９位、３位又は２位である。
　上記の例として、カルバゾール残基とＬ１との結合位置を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　また、上記Ｒ１～Ｒ３の少なくとも１つ、及びＲ５～Ｒ７の少なくとも１つが、下記式（５１）～（５５）で表される基から選択される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　式中、Ｒ１１～Ｒ２３は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の炭素数７～４０のアラルキル基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換アミノ基、置換シリル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又はヒドロキシル基である。
　ａ、ｃ、ｄ、ｆ、ｇ、及びｉは、それぞれ独立に、０～４の整数である。
　ｂ、ｅ、ｈ及びｊは、それぞれ独立に、０～３の整数である。
　Ｒ１７は、好ましくは、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、又は置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基である。
　Ｔ１～Ｔ５はそれぞれ独立に、単結合、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環基、又は環形成原子数３～３０の芳香族複素環基である。
　以下、上述した式の各基の例について説明する。
　尚、本願の「水素原子」は、重水素原子及び三重水素原子も含む。また、「環形成炭素」とは飽和環、不飽和環、又は芳香環を構成する炭素原子を意味し、「環形成原子」とはヘテロ環（飽和環、不飽和環、及び芳香環を含む）を構成する炭素原子及びヘテロ原子を意味する。
　置換又は無置換の炭素数１～２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デカニル基、ｎ－ウンデカニル基、ｎ－ドデカニル基、ヒドロキシメチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシイソブチル基、１，２－ジヒドロキシエチル基、１，３－ジヒドロキシイソプロピル基、２，３－ジヒドロキシ－ｔ－ブチル基、１，２，３－トリヒドロキシプロピル基等が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、が挙げられる。
　また、Ｌ１及びＬ２のアルキレン基（アルカン残基）としては、上述のアルキル基に対応する残基が挙げられる。
　置換又は無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、４－フルオロシクロヘキシル基、１－アダマンチル基、２－アダマンチル基、１－ノルボルニル基、２－ノルボルニル基等が挙げられ、好ましくはシクロペンチル基、シクロヘキシル基である。
　また、Ｌ１及びＬ２のシクロアルキレン基（シクロアルカン残基）としては、上述のシクロアルキル基に対応する残基が挙げられる。
　置換又は無置換の環形成炭素数６～５０（好ましくは６～３０）のアリール基（１価の芳香族炭化水素基）としては、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、１－アントリル基、２－アントリル基、９－アントリル基、１－フェナントリル基、２－フェナントリル基、３－フェナントリル基、４－フェナントリル基、９－フェナントリル基、１－ナフタセニル基、２－ナフタセニル基、９－ナフタセニル基、１－ピレニル基、２－ピレニル基、４－ピレニル基、ビフェニル－２－イル基、ビフェニル－３－イル基、ビフェニル－４－イル基、ｐ－ターフェニル－４－イル基、ｐ－ターフェニル－３－イル基、ｐ－ターフェニル－２－イル基、ｍ－ターフェニル－４－イル基、ｍ－ターフェニル－３－イル基、ｍ－ターフェニル－２－イル基、ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基、ｐ－ｔ－ブチルフェニル基、ｐ－（２－フェニルプロピル）フェニル基、３－メチル－２－ナフチル基、４－メチル－１－ナフチル基、４－メチル－１－アントリル基、４’－メチルビフェニル－４－イル基、４”－ｔ－ブチル－ｐ－ターフェニル－４－イル基、フルオレン－１－イル基、フルオレン－２－イル基、フルオレン－３－イル基、フルオレン－４－イル基等が挙げられる。
　中でも、好ましくはフェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、１－アントリル基、２－アントリル基、９－アントリル基、ビフェニル－２－イル基、ビフェニル－３－イル基、ビフェニル－４－イル基、ｐ－ターフェニル－４－イル基、ｐ－ターフェニル－３－イル基、ｐ－ターフェニル－２－イル基、ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基、フルオレン－２－イル基、フルオレン－３－イル基であり、より好ましくはフェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基、フルオレン－２－イル基、フルオレン－３－イル基である。
　芳香族炭化水素環基の二価以上の基としては、上述したアリール基から水素原子を除くことにより導かれる基が挙げられる。
　置換又は無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基（１価の芳香族複素環基）としては、１－ピロリル基、２－ピロリル基、３－ピロリル基、ピラジニル基、２－ピリジニル基、３－ピリジニル基、４－ピリジニル基、１－インドリル基、２－インドリル基、３－インドリル基、４－インドリル基、５－インドリル基、６－インドリル基、７－インドリル基、１－イソインドリル基、２－イソインドリル基、３－イソインドリル基、４－イソインドリル基、５－イソインドリル基、６－イソインドリル基、７－イソインドリル基、２－フリル基、３－フリル基、２－ベンゾフラニル基、３－ベンゾフラニル基、４－ベンゾフラニル基、５－ベンゾフラニル基、６－ベンゾフラニル基、７－ベンゾフラニル基、１－イソベンゾフラニル基、３－イソベンゾフラニル基、４－イソベンゾフラニル基、５－イソベンゾフラニル基、６－イソベンゾフラニル基、７－イソベンゾフラニル基、２－ジベンゾフラニル基、４－ジベンゾフラニル基、キノリル基、３－キノリル基、４－キノリル基、５－キノリル基、６－キノリル基、７－キノリル基、８－キノリル基、１－イソキノリル基、３－イソキノリル基、４－イソキノリル基、５－イソキノリル基、６－イソキノリル基、７－イソキノリル基、８－イソキノリル基、２－キノキサリニル基、５－キノキサリニル基、６－キノキサリニル基、１－カルバゾリル基、２－カルバゾリル基、３－カルバゾリル基、４－カルバゾリル基、９－カルバゾリル基、１－フェナントリジニル基、２－フェナントリジニル基、３－フェナントリジニル基、４－フェナントリジニル基、６－フェナントリジニル基、７－フェナントリジニル基、８－フェナントリジニル基、９－フェナントリジニル基、１０－フェナントリジニル基、１－アクリジニル基、２－アクリジニル基、３－アクリジニル基、４－アクリジニル基、９－アクリジニル基、１，７－フェナントロリン－２－イル基、１，７－フェナントロリン－３－イル基、１，７－フェナントロリン－４－イル基、１，７－フェナントロリン－５－イル基、１，７－フェナントロリン－６－イル基、１，７－フェナントロリン－８－イル基、１，７－フェナントロリン－９－イル基、１，７－フェナントロリン－１０－イル基、１，８－フェナントロリン－２－イル基、１，８－フェナントロリン－３－イル基、１，８－フェナントロリン－４－イル基、１，８－フェナントロリン－５－イル基、１，８－フェナントロリン－６－イル基、１，８－フェナントロリン－７－イル基、１，８－フェナントロリン－９－イル基、１，８－フェナントロリン－１０－イル基、１，９－フェナントロリン－２－イル基、１，９－フェナントロリン－３－イル基、１，９－フェナントロリン－４－イル基、１，９－フェナントロリン－５－イル基、１，９－フェナントロリン－６－イル基、１，９－フェナントロリン－７－イル基、１，９－フェナントロリン－８－イル基、１，９－フェナントロリン－１０－イル基、１，１０－フェナントロリン－２－イル基、１，１０－フェナントロリン－３－イル基、１，１０－フェナントロリン－４－イル基、１，１０－フェナントロリン－５－イル基、２，９－フェナントロリン－１－イル基、２，９－フェナントロリン－３－イル基、２，９－フェナントロリン－４－イル基、２，９－フェナントロリン－５－イル基、２，９－フェナントロリン－６－イル基、２，９－フェナントロリン－７－イル基、２，９－フェナントロリン－８－イル基、２，９－フェナントロリン－１０－イル基、２，８－フェナントロリン－１－イル基、２，８－フェナントロリン－３－イル基、２，８－フェナントロリン－４－イル基、２，８－フェナントロリン－５－イル基、２，８－フェナントロリン－６－イル基、２，８－フェナントロリン－７－イル基、２，８－フェナントロリン－９－イル基、２，８－フェナントロリン－１０－イル基、２，７－フェナントロリン－１－イル基、２，７－フェナントロリン－３－イル基、２，７－フェナントロリン－４－イル基、２，７－フェナントロリン－５－イル基、２，７－フェナントロリン－６－イル基、２，７－フェナントロリン－８－イル基、２，７－フェナントロリン－９－イル基、２，７－フェナントロリン－１０－イル基、１－フェナジニル基、２－フェナジニル基、１－フェノチアジニル基、２－フェノチアジニル基、３－フェノチアジニル基、４－フェノチアジニル基、１０－フェノチアジニル基、１－フェノキサジニル基、２－フェノキサジニル基、３－フェノキサジニル基、４－フェノキサジニル基、１０－フェノキサジニル基、２－オキサゾリル基、４－オキサゾリル基、５－オキサゾリル基、２－オキサジアゾリル基、５－オキサジアゾリル基、３－フラザニル基、２－チエニル基、３－チエニル基、２－メチルピロール－１－イル基、２－メチルピロール－３－イル基、２－メチルピロール－４－イル基、２－メチルピロール－５－イル基、３－メチルピロール－１－イル基、３－メチルピロール－２－イル基、３－メチルピロール－４－イル基、３－メチルピロール－５－イル基、２－ｔ－ブチルピロール－４－イル基、３－（２－フェニルプロピル）ピロール－１－イル基、２－メチル－１－インドリル基、４－メチル－１－インドリル基、２－メチル－３－インドリル基、４－メチル－３－インドリル基、２－ｔ－ブチル－１－インドリル基、４－ｔ－ブチル－１－インドリル基、２－ｔ－ブチル－３－インドリル基、４－ｔ－ブチル－３－インドリル基、２－チエニル基、３－チエニル基、２－ベンゾチオフェニル基、３－チオフェニル基、４－チオフェニル基、５－チオフェニル基、６－チオフェニル基、７－チオフェニル基、１－イソチオフェニル基、３－イソチオフェニル基、４－イソチオフェニル基、５－イソチオフェニル基、６－イソチオフェニル基、７－イソチオフェニル基、２－ジベンゾチオフェニル基、４－ジベンゾチオフェニル基等が挙げられる。
　好ましくは、１－ピロリル基、２－ピロリル基、３－ピロリル基、１－カルバゾリル基、２－カルバゾリル基、３－カルバゾリル基、４－カルバゾリル基、９－カルバゾリル基、２－ジベンゾフラニル基、４－ジベンゾフラニル基、２－ジベンゾチオフェニル基、４－ジベンゾチオフェニル基である。
　芳香族複素環基の二価以上の基としては、上述したヘテロアリール基から水素原子を除くことにより導かれる基が挙げられる。
　置換アミノ基としては、置換もしくは無置換のモノもしくはジアルキルアミノ基、又は置換もしくは無置換のモノもしくはジアリールアミノ基が挙げられる。
　アルキルアミノ基又はジアルキルアミノ基としては、アルキル部分が上述したアルキル基であるものが挙げられる。
　アリールアミノ基としては、ジアリールアミノ基及びアルキルアリールアミノ基が挙げられる。窒素原子に結合するアルキル基及びアリール基の例としては上述のアリール基及びアルキル基が挙げられる。
　また、Ｌ１及びＬ２のアリールアミン残基としては、トリアリールアミン残基及びアルキルアリールアミン残基が挙げられる。窒素原子に結合するアルキル基及びアリール基の例としては上述のアリール基及びアルキル基が挙げられる。
　置換シリル基としては、アルキル及び／又はアリールで置換されたシリル基が挙げられる。ケイ素原子に結合するアルキル基及びアリール基の例としては上述のアリール基及びアルキル基が挙げられる。尚、シリル基に置換しているアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。同様に、シリル基に置換しているアリール基は、同一でも異なっていてもよい。
　具体的に、トリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、ビニルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、プロピルジメチルシリル基、トリブチルシリル基、ｔ－ブチルジメチルシリル基、トリペンチルシリル基、トリヘプチルシリル基、トリヘキシルシリル基等が挙げられる。好ましくはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基である。
　アリールシリル基としては、アルキルアリールシリル基やトリアリールシリル基が挙げられる。トリアリールシリル基としては、トリフェニルシリル基、トリナフチルシリル基等が挙げられる。好ましくはトリフェニルシリル基である。アルキルアリールシリル基としては、ジメチルフェニルシリル基、ジエチルフェニルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、エチルジフェニルシリル基等が挙げられる。好ましくはジフェニルメチルシリル基、エチルジフェニルシリル基である。
　炭素数１～２０のアルコキシ基は、－ＯＹと表され、Ｙの例として上記のアルキル基の例が挙げられる。アルコキシ基は、例えばメトキシ基、エトキシ基である。
　環形成炭素数３～１０のシクロアルコキシ基は、－ＯＹと表され、Ｙの例として上記のシクロアルキル基の例が挙げられる。シクロアルコキシ基は、例えばシクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基である。
　環形成炭素数６～３０のアリールオキシ基は、－ＯＹと表され、Ｙの例として上記の芳香族炭化水素環の例が挙げられる。アリールオキシ基は、例えばフェノキシ基である。
　炭素数７～４０のアラルキル基は、－Ｙ－Ｚと表され、Ｙの例として上記のアルキル基の例に対応するアルキレンの例が挙げられ、Ｚの例として上記のアリール基の例が挙げられる。アラルキル基のアリール部分は、炭素数が６～３０が好ましい。アルキル部分は炭素数１～１０が好ましく、特に好ましくは１～６である。例えば、ベンジル基、フェニルエチル基、２－フェニルプロパン－２－イル基である。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。
　上記各基の置換基としては、それぞれ独立に、炭素数１～２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数２～２０の直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基、環形成炭素数３～２０のシクロアルキル基、炭素数１～２０のアルキル基を有するトリアルキルシリル基、環形成炭素数６～２４のアリール基を有するトリアリールシリル基、炭素数１～２０のアルキル基及び環形成炭素数６～２４のアリール基を有するアルキルアリールシリル基、環形成炭素数６～２４のアリール基、環形成原子数５～２４のヘテロアリール基、炭素数１～２０のアルコキシ基、ハロゲン原子又はシアノ基である。具体的には、上記のアリール基、アルキル基、シクロアルキル基、トリアルキルシリル基、トリアリールシリル基、アルキルアリールシリル基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子又はシアノ基が挙げられる。さらに、これらの基が同様の置換基を有していてもよい。
　アルケニル基としては、上述したアルキル基の分子内に不飽和結合を有する置換基が挙げられる。
　本発明において架橋性基は、公知の不飽和二重結合やエポキシ基、オキタセン等の熱、光、酸、電子線等により「架橋性能を有する部分」を有する基を意味する。架橋性基としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　上記各式において、ｎは０～１０の整数を表す。
　ＲＸは、水素原子、アルキル基又はハロゲンを表す。アルキル基としては、炭素数１～２０のものが挙げられ、特に、好ましくは、炭素数１～４のアルキル基である。
　ＲＹは、水素原子、アルキル基、アミノ基、アリール基、ハロゲン原子、アミド基又はカルボニル基を表す。アルキル基としては、炭素数１～２０のものが挙げられ、特に、好ましくは、炭素数１～４のアルキル基である。
　具体的には、下記式（３１）～（４２）で示される基から選択される基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　尚、架橋性基は上記Ｌ１及びＬ２で例示した連結基に上記の架橋性基を結合した基も含む。なかでも、下記式（４３）～（４６）で示される基から選択される基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 （式（４５）及び（４６）において、ｏは、１～１０の整数である。）
　本発明の重合体は、下記式（１）～（７）で表されるものが好ましい。なかでも、下記式（８）～（２５）で表されるものが好ましい。尚、下記式においては、構造単位ＡとＢの結合状態、及び重合体に占める含有率を表記するために、便宜上、ブロック共重合体のように記載されているが、ブロック共重合体のみを示すものではない。本発明の重合体はブロック共重合体に限定されず、ランダム共重合体（例えば、―ＡＢＢＡＢＢＢＡＡＡＢＡ―等）等も含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
　上記の各式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｌ１及びＬ２は、上記式（Ａ）及び（Ｂ）のＲ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｌ１及びＬ２と同様である。
　ｍ及びｎはそれぞれ、重合体に占める各構造単位の含有率（モル比）を表し、ｍは０．０１～０．９９、ｎは０．０１～０．９９であり、ｍ＋ｎ＝１である。
　ｌは、０又は１である。
　本発明では、上記式（１）～（２５）で表される各重合体のＲ５の少なくとも１つ又はＲ６の少なくとも１つが架橋性基である重合体がより好ましい。この場合、Ｌ２は架橋性基であってもよいが、すべてのＬ２が架橋性基でなくともよい。
　また、上記式（１）～（２１）で表される各重合体のＬ２の少なくとも１つが架橋性基である重合体であることが好ましい。この場合、Ｒ５及びＲ６は架橋性基であってもよいが、すべてのＲ５及びＲ６が架橋性基でなくともよい。
　また、式（１）～（２５）で表される各重合体の、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５及びＲ６の少なくとも１つが、上述した式（５１）～（５５）で表される基から選択される基であることが好ましい。
　本発明の重合体の分子量は特に制限はなく、２量体以上のオリゴマーから超高分子体まで含まれる。
　重合体は数平均分子量（Ｍｎ）で、好ましくは１０３～１０８、より好ましくは５×１０３～１０６である。また、重量平均分子量（Ｍｗ）で、好ましくは１０３～１０８、より好ましくは５×１０３～１０６である。また、Ｍｗ／Ｍｎで表される分子量分布は、特に制限はないが、１０以下が好ましく、３以下がさらに好ましい。
　重合体の分子量が大きすぎると、ゲル化により素子作製において均質な製膜ができなくなる。一方、分子量が小さすぎると溶解性の制御が困難になる場合がある。
　尚、数平均分子量及び重量平均分子量は、サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）を用い、標準ポリスチレンで検量して求めることができる。
　本発明の重合体は、構造単位Ａ及びＢのＰ、Ｑ、Ｌ１及びＬ２の各基に対応する重合性単量体を重合することにより得られる。
　重合方法は特に限定されないが、上記各基に対応するジハライド誘導体と、ジボロン酸誘導体又はボロン酸エステル類誘導体をパラジウム触媒でカップリングさせる鈴木重合法が望ましい。ジハライド誘導体のハロゲンは、Ｃｌよりも、Ｂｒ又はＩがより好ましい。ジハライド誘導体のカップリング相手は、ボロン酸よりもボロン酸エステル類誘導体がより好ましい。特に、ボロン酸エステル類誘導体、ジピナコールエステル誘導体、ジ－１，３－プロパンジオール誘導体が好ましい。
　本発明の重合体において、構造単位Ａと構造単位Ｂのモル比は、それぞれ、０．０１～０．９９であることが好ましい。この範囲にて、重合体に要求される熱硬化性が得られるように調整すればよい。熱架橋性基を有する構造単位Ｂの含有率が高くなると、重合体の架橋性も高くなる。
　さらに好ましくは、構造単位Ａのモル比が０．８５～０．９９であり、特に好ましくは、０．９５～０．９９である。
　以下、本発明の重合体の具体例［化合物（１－１）～（１９６－１８）］を示す。但し、本発明の重合体は、これらに限定されるものではない。
　尚、以下の各表において、Ｈは水素原子であり、Ｈ－１～Ｈ－１８、Ｈ－２９及びＨ－３０は以下の基を表す。ｍ及びｎはそれぞれ、重合体に占める各構造単位の含有率（モル比）を表し、ｍは０．０１～０．９９、ｎは０．０１～０．９９であり、ｍ＋ｎ＝１である。
　また、上記式（１）～（２５）と同様に、下記式においては構造単位ＡとＢの結合状態、及び重合体に占める含有率を表記するために、便宜上、ブロック共重合体のように記載されているが、ブロック共重合体のみを示すものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000059
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000060
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000062
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000063
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000064
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000065
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000066
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000067
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000068
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000069
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000070
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000071
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000072
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000074
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000075
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000076
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000077
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000078
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000079
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000081
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000082
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000083
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000084
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000085
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000086
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000087
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000088
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000089
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000090
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000091
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000092
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000093
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000094
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000095
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000096
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000097
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000098
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000099
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000100
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000101
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000102
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000103
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000104
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000105
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000106
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000107
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000108
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000109
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000110
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000111
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000112
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000113
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000114
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000115
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000116
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000117
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000118
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000119
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000120
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000121
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000122
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000123
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000124
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000125
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000126
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000127
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000128
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000129
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000130
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000131
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000132
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000133
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000134
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000135
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000136
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000137
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000138
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000139
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000140
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000141
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000142
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000143
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000144
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000145
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000146
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000147
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000148
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000149
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000150
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000151
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000152
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000153
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000154
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000155
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000156
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000157
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000158
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000159
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000160
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000161
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000162
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000163
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000164
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000165
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000166
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000167
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000168
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000169
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000170
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000171
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000172
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000173
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000174
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000175
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000176
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000177
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000178
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000179
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000180
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000181
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000182
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000183
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000184
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000185
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000186
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000187
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000188
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000189
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000190
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000191
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000192
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000193
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000194
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000195
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000196
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000197
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000198
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000199
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000200
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000201
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000202
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000203
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000204
［第二発明］
　本発明の重合体は、下記式（Ｃ）で表わされる重合体である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 （式中、Ｐ’は下記式（Ｐ’）で表わされる化合物に由来する基である。
　Ｌは連結基であり、好ましくはそれぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０の芳香族炭化水素基、、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０の芳香族複素環基、置換もしくは無置換のアリールアミン残基、又は置換もしくは無置換のアリールシリル基である；又は、これらの基を２以上連結した基である。この場合、各基は同一でも異なっていてもよい。
　ａは、２～５の整数であり、（Ｐ’）ａは、Ｐ’がａ個連続して結合していることを表わす。ａ個のＰ’はそれぞれ独立であり、また、Ｐ’同士の結合位置は限定されない。
　ｂは、０～５の整数であり、（Ｌ）ｂは、ｂが２以上である場合、Ｌがｂ個連続して結合していることを表わす。この場合、ｂ個のＬはそれぞれ独立であり、Ｌ同士が結合する位置は限定されない。また、ｂが０の場合、Ｌは単結合を表わす。
　式（Ｃ）において、Ｐ’とＬのそれぞれの結合位置は限定されない。
　ｍは、繰り返し単位である。
　Ｙ１及びＹ２は、それぞれ独立に、架橋性基である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 （式中、Ａはそれぞれ独立に、窒素原子又は－Ｃ（Ｒ）－である。
　Ｘは、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｒ）２－、又は－Ｎ（Ｒ）－である。
　Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基、又は置換もしくは無置換のアリールシリル基である。）
　本発明の重合体は、主鎖に含窒素環を含み、当該含窒素環への置換基導入数及び置換位置の選択性が広い重合体である。一方で、重合体自体は、分子量が数万レベルであるため、容易に硬化し、架橋基が材料物性低下へ影響を与えない。また、その選択性の広さから得られる硬化膜の平坦性、密着性、及び電子物性を容易に調節可能で、重合体自身の正孔注入性を向上させることができる。
　式（Ｃ）において、Ｐ’は好ましくは置換若しくは無置換カルバゾール残基であり、より好ましくは、（Ｐ’）ａが、ａ個連続して結合している置換もしくは無置換のカルバゾール残基であって、隣接するカルバゾール残基が、それぞれ３位－３’位、３位－２’位、又は２位－２’位で互いに結合している；及び／又は、Ｌと結合するカルバゾール残基が、Ｌとカルバゾール残基の９位、３位又は２位で結合している。
　上記において、隣接するカルバゾール残基が、３位－３’位で結合するとは以下の場合であり；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 　隣接するカルバゾール残基が、３位－２’位で結合するとは以下の場合であり；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 　隣接するカルバゾール残基が、２位－２’位で結合するとは以下の場合である：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
　同様に、上記において、Ｌと結合するカルバゾール残基が、Ｌとカルバゾール残基の９位で結合しているとは以下の場合であり；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 （上記において、ＬとＮの間のＲは水素原子であって、Ｌがカルバゾール残基の９位で結合することによって、Ｒは単結合となっている。）
　Ｌと結合するカルバゾール残基が、Ｌとカルバゾール残基の３位で結合しているとは以下の場合であり；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 　Ｌと結合するカルバゾール残基が、Ｌとカルバゾール残基の２位で結合しているとは以下の場合である：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
　式（Ｃ）において、ａは好ましくは２又は３である。
　本発明の重合体は好ましくは下記式（１０１）～（１０７）のいずれかで表わされる重合体である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 （式中、Ｒ１０１～Ｒ１１９は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基、又は置換もしくは無置換のアリールシリル基である。
　ｌは、０又は１の整数である。
　Ｙ１、Ｙ２、Ｌ及びｍは、式（Ｃ）と同様である。）
　上記式（１０１）～（１０７）で表わされる重合体は、好ましくはＲ１０１及びＲ１０２の少なくとも１つ、Ｒ１０３～Ｒ１０５の少なくとも１つ、Ｒ１０６及びＲ１０７の少なくとも１つ、Ｒ１０８～Ｒ１１０の少なくとも１つ、Ｒ１１１～Ｒ１１３の少なくとも１つ、Ｒ１１４～Ｒ１１６の少なくとも１つ、並びにＲ１１７～Ｒ１１９の少なくとも１つが下記式（５１）～（５５）で表わされる基から選択される基である。
　カルバゾール骨格、ジベンゾフラン骨格、ジベンゾチオフェン骨格等を含む置換基は、本発明の重合体からなる層と隣接層との膜密着性を向上させることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 （式中、Ｒ１１～Ｒ２３は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の炭素数７～４０のアラルキル基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換アミノ基、置換シリル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又はヒドロキシル基である。
　ａ、ｃ、ｄ、ｆ、ｇ、及びｉは、それぞれ独立に、０～４の整数である。
　ｂ、ｅ、ｈ及びｊは、それぞれ独立に、０～３の整数である。
　Ｔ１～Ｔ５はそれぞれ独立に、単結合、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環基又は環形成原子数３～３０の芳香族複素環基である。）
　本発明の重合体のＹ１及びＹ２は架橋性基である。
　本発明の架橋性基は、公知の不飽和二重結合やエポキシ基、オキタセン等の熱、光、酸、電子線等により「架橋性能を有する部分」を有する基を広く含み、例えば以下が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 （式中、ｎは０～１０の整数である。
　ＲＸは、それぞれ水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表す。アルキル基としては、炭素数１～２０のアルキル基が挙げられ、好ましくは、炭素数１～４のアルキル基である。
　ＲＹは、それぞれ水素原子、アルキル基、アミノ基、アリール基、ハロゲン原子、アミド基又はカルボニル基である。アルキル基としては、炭素数１～２０のアルキル基が挙げられ、好ましくは炭素数１～４のアルキル基である。）
　Ｙ１及びＹ２は、好ましくはそれぞれ下記式（３１）～（４２）で表わされる架橋性基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
　以下、本発明の重合体の各置換基について説明する。
　尚、本願の「水素原子」は、重水素原子及び三重水素原子も含む。また、「環形成炭素」とは飽和環、不飽和環、又は芳香環を構成する炭素原子を意味し、「環形成原子」とはヘテロ環（飽和環、不飽和環、及び芳香環を含む）を構成する炭素原子及びヘテロ原子を意味する。
　置換又は無置換の炭素数１～２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デカニル基、ｎ－ウンデカニル基、ｎ－ドデカニル基、ヒドロキシメチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシイソブチル基、１，２－ジヒドロキシエチル基、１，３－ジヒドロキシイソプロピル基、２，３－ジヒドロキシ－ｔ－ブチル基、１，２，３－トリヒドロキシプロピル基等が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基が挙げられる。
　アルキレン基（アルカン残基）としては、上述のアルキル基に対応する残基が挙げられる。
　置換又は無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、４－フルオロシクロヘキシル基、１－アダマンチル基、２－アダマンチル基、１－ノルボルニル基、２－ノルボルニル基等が挙げられ、好ましくはシクロペンチル基、シクロヘキシル基である。
　シクロアルキレン基（シクロアルカン残基）としては、上述のシクロアルキル基に対応する残基が挙げられる。
　置換又は無置換の環形成炭素数６～５０（好ましくは６～３０）のアリール基（１価の芳香族炭化水素基）としては、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、１－アントリル基、２－アントリル基、９－アントリル基、１－フェナントリル基、２－フェナントリル基、３－フェナントリル基、４－フェナントリル基、９－フェナントリル基、１－ナフタセニル基、２－ナフタセニル基、９－ナフタセニル基、１－ピレニル基、２－ピレニル基、４－ピレニル基、ビフェニル－２－イル基、ビフェニル－３－イル基、ビフェニル－４－イル基、ｐ－ターフェニル－４－イル基、ｐ－ターフェニル－３－イル基、ｐ－ターフェニル－２－イル基、ｍ－ターフェニル－４－イル基、ｍ－ターフェニル－３－イル基、ｍ－ターフェニル－２－イル基、ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基、ｐ－ｔ－ブチルフェニル基、ｐ－（２－フェニルプロピル）フェニル基、３－メチル－２－ナフチル基、４－メチル－１－ナフチル基、４－メチル－１－アントリル基、４’－メチルビフェニル－４－イル基、４”－ｔ－ブチル－ｐ－ターフェニル－４－イル基、フルオレン－１－イル基、フルオレン－２－イル基、フルオレン－３－イル基、フルオレン－４－イル基等が挙げられる。
　これらのうち、好ましくはフェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、１－アントリル基、２－アントリル基、９－アントリル基、ビフェニル－２－イル基、ビフェニル－３－イル基、ビフェニル－４－イル基、ｐ－ターフェニル－４－イル基、ｐ－ターフェニル－３－イル基、ｐ－ターフェニル－２－イル基、ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基、フルオレン－２－イル基、フルオレン－３－イル基であり、より好ましくはフェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基、フルオレン－２－イル基、フルオレン－３－イル基である。
　芳香族炭化水素環基の２価以上の基としては、上述したアリール基から水素原子を除くことにより導かれる基が挙げられる。
　置換又は無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基（１価の芳香族複素環基）としては、１－ピロリル基、２－ピロリル基、３－ピロリル基、ピラジニル基、２－ピリジニル基、３－ピリジニル基、４－ピリジニル基、１－インドリル基、２－インドリル基、３－インドリル基、４－インドリル基、５－インドリル基、６－インドリル基、７－インドリル基、１－イソインドリル基、２－イソインドリル基、３－イソインドリル基、４－イソインドリル基、５－イソインドリル基、６－イソインドリル基、７－イソインドリル基、２－フリル基、３－フリル基、２－ベンゾフラニル基、３－ベンゾフラニル基、４－ベンゾフラニル基、５－ベンゾフラニル基、６－ベンゾフラニル基、７－ベンゾフラニル基、１－イソベンゾフラニル基、３－イソベンゾフラニル基、４－イソベンゾフラニル基、５－イソベンゾフラニル基、６－イソベンゾフラニル基、７－イソベンゾフラニル基、２－ジベンゾフラニル基、４－ジベンゾフラニル基、キノリル基、３－キノリル基、４－キノリル基、５－キノリル基、６－キノリル基、７－キノリル基、８－キノリル基、１－イソキノリル基、３－イソキノリル基、４－イソキノリル基、５－イソキノリル基、６－イソキノリル基、７－イソキノリル基、８－イソキノリル基、２－キノキサリニル基、５－キノキサリニル基、６－キノキサリニル基、１－カルバゾリル基、２－カルバゾリル基、３－カルバゾリル基、４－カルバゾリル基、９－カルバゾリル基、１－フェナントリジニル基、２－フェナントリジニル基、３－フェナントリジニル基、４－フェナントリジニル基、６－フェナントリジニル基、７－フェナントリジニル基、８－フェナントリジニル基、９－フェナントリジニル基、１０－フェナントリジニル基、１－アクリジニル基、２－アクリジニル基、３－アクリジニル基、４－アクリジニル基、９－アクリジニル基、１，７－フェナントロリン－２－イル基、１，７－フェナントロリン－３－イル基、１，７－フェナントロリン－４－イル基、１，７－フェナントロリン－５－イル基、１，７－フェナントロリン－６－イル基、１，７－フェナントロリン－８－イル基、１，７－フェナントロリン－９－イル基、１，７－フェナントロリン－１０－イル基、１，８－フェナントロリン－２－イル基、１，８－フェナントロリン－３－イル基、１，８－フェナントロリン－４－イル基、１，８－フェナントロリン－５－イル基、１，８－フェナントロリン－６－イル基、１，８－フェナントロリン－７－イル基、１，８－フェナントロリン－９－イル基、１，８－フェナントロリン－１０－イル基、１，９－フェナントロリン－２－イル基、１，９－フェナントロリン－３－イル基、１，９－フェナントロリン－４－イル基、１，９－フェナントロリン－５－イル基、１，９－フェナントロリン－６－イル基、１，９－フェナントロリン－７－イル基、１，９－フェナントロリン－８－イル基、１，９－フェナントロリン－１０－イル基、１，１０－フェナントロリン－２－イル基、１，１０－フェナントロリン－３－イル基、１，１０－フェナントロリン－４－イル基、１，１０－フェナントロリン－５－イル基、２，９－フェナントロリン－１－イル基、２，９－フェナントロリン－３－イル基、２，９－フェナントロリン－４－イル基、２，９－フェナントロリン－５－イル基、２，９－フェナントロリン－６－イル基、２，９－フェナントロリン－７－イル基、２，９－フェナントロリン－８－イル基、２，９－フェナントロリン－１０－イル基、２，８－フェナントロリン－１－イル基、２，８－フェナントロリン－３－イル基、２，８－フェナントロリン－４－イル基、２，８－フェナントロリン－５－イル基、２，８－フェナントロリン－６－イル基、２，８－フェナントロリン－７－イル基、２，８－フェナントロリン－９－イル基、２，８－フェナントロリン－１０－イル基、２，７－フェナントロリン－１－イル基、２，７－フェナントロリン－３－イル基、２，７－フェナントロリン－４－イル基、２，７－フェナントロリン－５－イル基、２，７－フェナントロリン－６－イル基、２，７－フェナントロリン－８－イル基、２，７－フェナントロリン－９－イル基、２，７－フェナントロリン－１０－イル基、１－フェナジニル基、２－フェナジニル基、１－フェノチアジニル基、２－フェノチアジニル基、３－フェノチアジニル基、４－フェノチアジニル基、１０－フェノチアジニル基、１－フェノキサジニル基、２－フェノキサジニル基、３－フェノキサジニル基、４－フェノキサジニル基、１０－フェノキサジニル基、２－オキサゾリル基、４－オキサゾリル基、５－オキサゾリル基、２－オキサジアゾリル基、５－オキサジアゾリル基、３－フラザニル基、２－チエニル基、３－チエニル基、２－メチルピロール－１－イル基、２－メチルピロール－３－イル基、２－メチルピロール－４－イル基、２－メチルピロール－５－イル基、３－メチルピロール－１－イル基、３－メチルピロール－２－イル基、３－メチルピロール－４－イル基、３－メチルピロール－５－イル基、２－ｔ－ブチルピロール－４－イル基、３－（２－フェニルプロピル）ピロール－１－イル基、２－メチル－１－インドリル基、４－メチル－１－インドリル基、２－メチル－３－インドリル基、４－メチル－３－インドリル基、２－ｔ－ブチル－１－インドリル基、４－ｔ－ブチル－１－インドリル基、２－ｔ－ブチル－３－インドリル基、４－ｔ－ブチル３－インドリル基、２－チエニル気、３－チエニル基、２－ベンゾチオフェニル基、３－チオフェニル基、４－チオフェニル基、５－チオフェニル基、６－チオフェニル基、７－チオフェニル基、１－イソチオフェニル基、３－イソチオフェニル基、４－イソチオフェニル基、５－イソチオフェニル基、６－イソチオフェニル基、７－イソチオフェニル基、２－ジベンゾチオフェニル基、４－ジベンゾチオフェニル基等が挙げられる。これらのうち、好ましくは１－ピロリル基、２－ピロリル基、３－ピロリル基、１－カルバゾリル基、２－カルバゾリル基、３－カルバゾリル基、４－カルバゾリル基、９－カルバゾリル基、２－ジベンゾフラニル基、４－ジベンゾフラニル基、２－ジベンゾチオフェニル基、４－ジベンゾチオフェニル基である。
　芳香族複素環基の２価以上の基としては、上述したヘテロアリール基から水素原子を除くことにより導かれる基が挙げられる。
　置換アミノ基としては、置換もしくは無置換のモノもしくはジアルキルアミノ基、又は置換もしくは無置換のモノもしくはジアリールアミノ基が挙げられる。
　アルキルアミノ基又はジアルキルアミノ基としては、アルキル部分が上述したアルキル基であるものが挙げられる。
　アリールアミノ基としては、ジアリールアミノ基及びアルキルアリールアミノ基が挙げられる。窒素原子に結合するアルキル基及びアリール基の例としては上述のアリール基及びアルキル基が挙げられる。
　また、アリールアミン残基としては、トリアリールアミン残基及びアルキルアリールアミン残基が挙げられる。窒素原子に結合するアルキル基及びアリール基の例としては上述のアリール基及びアルキル基が挙げられる。
　置換シリル基としては、アルキル及び／又はアリールで置換されたシリル基が挙げられる。ケイ素原子に結合するアルキル基及びアリール基の例としては上述のアリール基及びアルキル基が挙げられる。尚、シリル基に置換しているアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。同様に、シリル基に置換しているアリール基は、同一でも異なっていてもよい。
　具体的に、トリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、ビニルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、プロピルジメチルシリル基、トリブチルシリル基、ｔ－ブチルジメチルシリル基、トリペンチルシリル基、トリヘプチルシリル基、トリヘキシルシリル基等が挙げられる。好ましくはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基である。
　アリールシリル基として、好ましくはトリアリールシリル基である。当該トリアリールシリル基としては、トリフェニルシリル基、トリナフチルシリル基等が挙げられる。好ましくはトリフェニルシリル基である。
　アルキルアリールシリル基としては、ジメチルフェニルシリル基、ジエチルフェニルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、エチルジフェニルシリル基等が挙げられる。好ましくはジフェニルメチルシリル基、エチルジフェニルシリル基である。
　炭素数１～２０のアルコキシ基は、－ＯＹと表され、Ｙの例として上記のアルキル基の例が挙げられる。アルコキシ基は、例えばメトキシ基、エトキシ基である。
　環形成炭素数３～１０のシクロアルコキシ基は、－ＯＹと表され、Ｙの例として上記のシクロアルキル基の例が挙げられる。シクロアルコキシ基は、例えばシクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基である。
　環形成炭素数６～３０のアリールオキシ基は、－ＯＹと表され、Ｙの例として上記の芳香族炭化水素環の例が挙げられる。アリールオキシ基は、例えばフェノキシ基である。
　炭素数７～４０のアラルキル基は、－Ｙ－Ｚと表され、Ｙの例として上記のアルキル基の例に対応するアルキレン基の例が挙げられ、Ｚの例として上記のアリール基の例が挙げられる。アラルキル基のアリール部分は、炭素数が６～３０が好ましい。アルキル部分は炭素数１～１０が好ましく、特に好ましくは１～６である。例えば、ベンジル基、フェニルエチル基、２－フェニルプロパン－２－イル基である。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。
　上記各基の置換基としては、それぞれ独立に、炭素数１～２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数２～２０の直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基、炭素数３～２０のシクロアルキル基、炭素数１～２０のアルキル基を有するトリアルキルシリル基、環形成炭素数６～２４のアリール基を有するトリアリールシリル基、炭素数１～２０のアルキル基と環形成炭素数６～２４のアリール基とを有するアルキルアリールシリル基、環形成炭素数６～２４のアリール基、環形成原子数５～２４のヘテロアリール基、ハロゲン原子又はシアノ基である。具体的には、上記のアリール基、アルキル基、シクロアルキル基、トリアルキルシリル基、トリアリールシリル基、アルキルアリールシリル基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子又はシアノ基が挙げられる。さらにこれらの置換基が同様の置換基を有していてもよい。
　アルケニル基としては、上述したアルキル基の分子内に不飽和結合を有する置換基が挙げられる。
　本発明の重合体の分子量は特に制限はなく、２量体以上のオリゴマーから超高分子体まで含まれる。
　重合体は、数平均分子量（Ｍｎ）で好ましくは１０３～１０８、より好ましくは５×１０３～１０６である。また、重合体は、重量平均分子量（Ｍｗ）で好ましくは１０３～１０８、より好ましくは５×１０３～１０６である。また、Ｍｗ／Ｍｎで表される分子量分布は、特に制限はないが、１０以下が好ましく、３以下がさらに好ましい。
　重合体の分子量が大きすぎると、ゲル化により素子作製において均質な製膜ができなくなる。一方、分子量が小さすぎると溶解性の制御が困難になる場合がある。
　尚、数平均分子量及び重量平均分子量は、サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）を用い、標準ポリスチレンで検量して求めることができる。
　本発明の重合体は、構造単位Ｐ、構造単位Ｌ及び熱架橋性基にそれぞれ対応する化合物重を重合することにより得られる。特に本発明の重合体は、主鎖の含窒素環と当該含窒素環へ結合する連結基との２元系であるので、容易に合成することができる。また、通常、重合体末端は、末端ハロゲン、ボロン酸、ボロン酸エステル、アミノ基となっており、フェニル基やビフェニルアミノ基等で置換処理が行われるが、本発明の重合体では、末端が架橋基で置き換えられるので、架橋基の導入量を少なく済ませることができる。
　重合方法は特に限定されないが、上記各基に対応するジハライド誘導体と、ジボロン酸誘導体若しくはボロン酸エステル類誘導体をパラジウム触媒でカップリングさせる鈴木重合法が望ましい。ジハライド誘導体のハロゲンは、ＣｌよりもＢｒ又はＩがより好ましい。ジハライド誘導体のカップリング相手は、ボロン酸よりもボロン酸エステル類誘導体がより好ましい。特に、ボロン酸エステル類誘導体、ジピナコールエステル誘導体、ジ－１，３－プロパンジオール誘導体が好ましい。
　本発明の重合体の具体例を示す。尚、置換基Ｈ－１～Ｈ－１８、架橋基Ｈ－２９及びＨ－３０は上述した第一発明と同じ基を表す。
　本発明の重合体の具体例を以下に示すが、本発明の重合体は、下記の具体例に限定されない。尚、表中の表記において、Ｒ１とＲ２が異なる場合、どちらがＲ１で、どちらがＲ２でもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000129
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000130
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000131
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000132
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000133
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000134
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000135
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000136
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000137
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000138
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000139
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000140
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000141
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000142
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000143
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000144
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000145
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000147
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000148
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000149
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000150
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000151
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000152
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000153
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000154
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000155
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000156
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000157
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000158
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000159
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000160
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000161
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000162
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000163
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000164
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000165
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000166
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000167
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000168
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000169
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000170
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000171
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000172
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000173
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000174
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000175
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000176
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000177
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000178
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000179
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000180
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000181
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000182
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000183
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000184
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000185
　本発明の重合体は、塗布法によって薄膜を形成できる。塗布法としては、湿式成膜法が好適に用いられる。具体的に、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法、孔版印刷法、及び、それらとオフセット印刷法を組み合わせた印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンサー塗布スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スリットコート法、ロールコート法、キャップコート法、グラビアロールコート法、メニスカスコート法等が適用できる。特に微細なパターニングを要する場合、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法、孔版印刷法、及び、それらとオフセット印刷法を組み合わせた印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンサー塗布等が好ましい。また、転写前駆基板へ本重合体を前記の乾式または湿式成膜法により成膜した後、レーザー光や熱プレス等で対象とする電極を有する配線基板上へ転写する方法を用いることもできる。これらの方法による成膜は当業者に周知の条件により行うことができ、その詳細は省略する。
　塗布法に使用する塗布液は、本発明の重合体と溶媒を含む。塗布液中の重合体は、溶媒に溶解していても、分散していてもよい。
　溶媒は好ましくは有機溶媒であり、当該有機溶媒としては、例えばクロロホルム、クロロベンゼン、クロロトルエン、クロロキシレン、クロロアニソール、ジクロロメタン、ジクロロベンゼン、ジクロロトルエン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、トリクロロベンゼン、トリクロロメチルベンゼン、ブロモベンゼン、ジブロモベンゼン、ブロモアニソール等の塩素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、オキサゾール、メチルベンゾオキサゾール、ベンゾイソオキサゾール、フラン、フラザン、ベンゾフラン、ジヒドロベンゾフラン等のエーテル系溶媒、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、トリメトキシベンゼン、プロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジイソプロピルベンゼン、ジブチルベンゼン、アミルベンゼン、ジヘキシルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、テトラメチルベンゼン、ドデシルベンゼン、ベンゾニトリル、アセトフェノン、メチルアセトフェノン、メトキシアセトフェノン、トルイル酸エチルエステル、トルエン、エチルトルエン、メトキシトルエン、ジメトキシトルエン、トリメトキシトルエン、イソプロピルトルエン、キシレン、ブチルキシレン、イソプロピルキシレン、アニソール、エチルアニソール、ジメチルアニソール、トリメチルアニソール、プロピルアニソール、イソプロピルアニソール、ブチルアニソール、メチルエチルアニソール、アネトールアニシルアルコール、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、ジフェニルエーテル、ブチルフェニルエーテル、ベンジルメチルエーテル、ベンジルエチルエーテル、メチレンジオキシベンゼン、メチルナフタレン、テトラヒドロナフタレン、アニリン、メチルアニリン、エチルアニリン、ブチルアニリン、ビフェニル、メチルビフェニル、イソプロピルビフェニル等の芳香族炭化水素系溶媒、シクロへキサン、メチルシクロへキサン、ｎ－ペンタン、ｎ－へキサン、ｎ－へプタン、ｎ－オクタン、ｎ－ノナン、ｎ－デカン、テトラデカン、デカリン、イソプロピルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロへキサノン、アセトフェノン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテート、安息香酸メチル、酢酸フェニル等のエステル系溶媒、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジメトキシエタン、プロピレングリコール、ジエトキシメタン、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、グリセリン、１，２－へキサンジオール等の多価アルコール及びその誘導体、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、シクロへキサノール等のアルコール系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒が例示される。また、これらの有機溶媒は、単独で、又は複数組み合わせて用いることができる。
　これらのうち、溶解性、成膜の均一性、粘度特性等の観点から、少なくともトルエン、キシレン、エチルベンゼン、アミルベンゼン、アニソール、４－メトキシトルエン、２－メトキシトルエン、１，２－ジメトキシベンゼン、メシチレン、テトラヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼン、２，３－ジヒドロベンゾフラン、シクロへキサノン、メチルシクロヘキサノンのいずれか一種以上を含むことが好ましい。
　また、本成膜用の溶液には、必要に応じて粘度の調整剤、表面張力の調整剤、架橋反応の開始剤、架橋反応の触媒を添加することもできる。なお、粘度の調整剤、表面張力の調整剤、架橋反応の開始剤、架橋反応の触媒は、膜中に残留しても素子特性に影響を与えないものを選択するか、成膜工程で膜中から除去できるものが望ましい。
　本発明においては、溶媒中に重合体が少なくとも一種類以上含まれ、重合体が分散又は溶解され、分散体又は溶液となっているものが好ましい。
　成膜後、真空や加熱により乾燥し、溶媒を除去することにより、重合体の薄膜が形成できる。この薄膜を、光照射や加熱（例えば、２５０℃程度）し、重合体を架橋させるにより、得られる膜を完全に不溶化することができる。
　尚、薄膜形成時には、リン系酸化防止剤等、有機ＥＬ素子の性能に影響しない酸化防止剤や重合開始剤等の反応開始剤を配合してもよい。また、用途に合わせて、他の化合物（例えば、後述するアクセプター材料）等を配合してもよい。
　重合体を架橋（重合）して硬化する方法は、特に限定されないが、例えば、ラジカル重合法、イオン重合法、リビング重合法、ラジカルリビング重合法、配位重合等が挙げられる。
　ラジカル重合法の開始剤としては、例えばアゾ化合物、過酸化物が挙げられ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスイソブチル酸ジエステル誘導体、過酸化ジベンゾイル（ＢＰＯ）が好ましい。
　カチオン重合の開始剤としては、各種強酸（ｐ－トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等）、ルイス酸が好ましい。
　また、光照射及び／又は熱処理にて、重合することも可能である。
　本発明の重合体は、塗布法によって薄膜が形成でき、得られる膜は正孔輸送性を有する。従って、エレクトロニクス用材料として有用である。例えば、エレクトロルミネッセンス素子、光電変換素子又はトランジスタ等の電子素子に使用できる。
　特に、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、なかでも陽極と発光層間である正孔輸送領域で使用する材料（正孔輸送層、正孔注入層等）として好適である。
　本発明の有機ＥＬ素子は、陰極と陽極間に少なくとも発光層を含む１以上の有機薄膜層が挟持されている。そして、有機薄膜層の少なくとも１層が、本発明の重合体を含有する。
　本発明では、陽極と発光層間に有機薄膜層を有し、この層が、本発明の重合体を含む有機薄膜層であることが好ましい。正孔輸送領域に形成される層としては、正孔輸送層や正孔注入層等が挙げられる。
　また、正孔注入層又は正孔輸送層が発光層と接していることが好ましい。この場合、正孔注入層又は正孔輸送層に続いて、発光層を湿式成膜法により成膜することができる。
　本発明では、上記重合体が正孔輸送層及び正孔注入層の少なくとも１層の主成分として含有されていることがより好ましい。具体的には、正孔輸送層又は正孔注入層においては、本発明の重合体の含有量は、好ましくは５１～１００重量％である。
　さらに、正孔輸送層及び正孔注入層の少なくとも１層が、アクセプター材料を含有することが好ましい。特に、陽極に接する層が含有することが好ましい。アクセプター材料を含有させることにより、正孔注入・輸送層中の正孔密度を増加したり、正孔移動度が高まるので、得られる有機ＥＬ素子の駆動電圧を低下させたり、キャリアバランスが向上して長寿命化する。
　アクセプター材料は、好ましくは電子吸引性の置換基又は電子欠乏環を有する有機化合物である。
　電子吸引性の置換基として、例えば、ハロゲン、ＣＮ－、カルボニル基、アリールホウ素基等が挙げられる。
　電子欠乏環として、例えば、２－ピリジル、３－ピリジル、４－ピリジル、２－キノリル、３－キノリル、４－キノリル、２－イミダゾール、４－イミダゾール、３－ピラゾール、４－ピラゾール、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、シンノリン、フタラジン、キナゾリン、キノキサリン、３－（１，２，４－Ｎ）－トリアゾリル、５－（１，２，４－Ｎ）－トリアゾリル、５－テトラゾリル、４－（１－Ｏ，３－Ｎ）－オキサゾール、５－（１－Ｏ，３－Ｎ）－オキサゾール、４－（１－Ｓ，３－Ｎ）－チアゾール、５－（１－Ｓ，３－Ｎ）－チアゾール、２－ベンゾキサゾール、２－ベンゾチアゾール、４－（１，２，３－Ｎ）－ベンゾトリアゾール、及びベンズイミダゾールからなる群から選択される化合物等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるわけではない。
　本発明の有機ＥＬ素子の代表的な素子構成としては、下記（１）～（１３）等の構造を挙げることができる。
　（１）陽極／発光層／陰極
　（２）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
　（３）陽極／発光層／電子注入層／陰極
　（４）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
　（５）陽極／有機半導体層／発光層／陰極
　（６）陽極／有機半導体層／電子障壁層／発光層／陰極
　（７）陽極／有機半導体層／発光層／付着改善層／陰極
　（８）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
　（９）陽極／絶縁層／発光層／絶縁層／陰極
　（１０）陽極／無機半導体層／絶縁層／発光層／絶縁層／陰極
　（１１）陽極／有機半導体層／絶縁層／発光層／絶縁層／陰極
　（１２）陽極／絶縁層／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／絶縁層／陰極
　（１３）陽極／絶縁層／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
　これらの中で通常（８）の構成が好ましく用いられるが、これらに限定されるものではない。
　本発明の有機ＥＬ素子において、本発明の重合体を含有する有機薄膜層以外の構成部材は、公知のものを使用できる。例えば、発光層はスチリルアミン化合物、アリールアミン化合物又はフルオランテン系化合物を含有することが好ましい。
　本発明の重合体を含有する有機薄膜層以外の形成は、真空蒸着、スパッタリング、プラズマ、イオンプレーティング等の乾式成膜法やコーティング法、印刷法等の湿式成膜法等の湿式成膜法等の公知の方法を適用することができる。
　各層の膜厚は特に限定されるものではないが、適切な膜厚に設定する必要がある。膜厚が厚すぎると、一定の光出力を得るために大きな印加電圧が必要になり効率が悪くなる。膜厚が薄すぎるとピンホール等が発生して、電界を印加しても充分な発光輝度が得られない。通常の膜厚は５ｎｍ～１０μｍの範囲が適しているが、１０ｎｍ～０．２μｍの範囲がさらに好ましい。
　本発明の重合体の不溶化後に、さらに、上層に積層する場合も上記と同様に乾式成膜法、湿式成膜法のいずれを用いることもできるが、特に湿式成膜法を好適に用いることができる。この上層を積層する手段としては、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法、孔版印刷法、及び、それらとオフセット印刷法を組み合わせた印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンサー塗布スピンコート法、バーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スリットコート法、ロールコート法、キャップコート法、グラビアロールコート法、メニスカスコート法等が適用できる。
　各種材料及び層形成方法により陽極、発光層、必要に応じて正孔注入・輸送層、及び必要に応じて電子注入・輸送層を形成し、さらに陰極を形成することにより有機ＥＬ素子を作製することができる。また陰極から陽極へ、前記と逆の順序で有機ＥＬ素子を作製することもできる。
［第一発明］
実施例１
　下記の重合体Ｐ１－１を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000186
（１）単量体Ｍ－１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000187
（ａ）中間体Ｍ－１－１の合成
　窒素雰囲気下、冷却管付き５００ｍＬ三口フラスコ中に、カルバゾール１０．０ｇ（５９．８ｍｍｏｌ）に、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１００ｍＬを入れ、氷水浴にて０℃まで冷却した。冷却後、Ｎ－ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）１０．６ｇ（５９．８ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１００ｍＬに溶かした溶液をゆっくり滴下した。滴下終了後、氷水浴を外し、室温に戻し、８時間撹拌した。
　反応液を水に落として固体を析出させ、ろ取により析出物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン）で精製し、得られた固体を減圧乾燥したところ、１２．２ｇ（収率８３％）の白色固体を得た。
　１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとフィールドディソープションマススペクトル（以下、ＦＤ－ＭＳ）分析により、得られた白色粉末を中間体Ｍ－１－１と同定した。
（ｂ）中間体Ｍ－１－２の合成
　窒素雰囲気下、冷却管付き３００ｍＬ三口フラスコ中Ｍ－１－１　６．０ｇ（２４．３ｍｍｏｌ）、ヨードベンゼン５．４ｇ（２６．７ｍｍｏｌ）、ＣｕＩ１．４ｇ（７．２９ｍｍｏｌ）、トランス－シクロヘキサンジアミン（trans-cyclohexanediamine）０．８ｇ（７．２９ｍｍｏｌ）、りん酸カリウム１０．３ｇ（４８．６ｍｍｏｌ）にジオキサン１２０ｍＬを加え、８時間還流させながら加熱した。
　反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。その後、ジクロロメタン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。溶媒を減圧下にて除去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン：ヘキサン＝１：１０）で精製した。得られた固体を減圧乾燥したところ、６．７ｇ（収率８５％）の白色固体を得た。
　１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、得られた白色粉末を中間体Ｍ－１－２と同定した。
（ｃ）中間体Ｍ－１－３の合成
　窒素雰囲気下、冷却管付き３００ｍＬ三口フラスコ中に、Ｍ－１－２　４．０ｇ（１２．５ｍｍｏｌ）、ほう酸トリイソプロピル２．８ｇ（１５．０ｍｍｏｌ）、脱水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｍＬを加えて撹拌し、メタノール／ドライアイス　バスにて－７８℃まで冷却した。冷却後、ｎ－ブチルリチウム（１．６１Ｍ）３８ｍＬ（６０．９ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下し、滴下後１時間冷却したまま撹拌した。次に室温まで戻し、７時間撹拌した。反応終了後、メタノール１０ｍＬを滴下し、さらに１Ｎ　ＨＣｌ水溶液３０ｍＬを滴下した。塩化メチレン、水を加え、目的物を抽出し、有機層を取り出した。この有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。溶媒を減圧下にて除去し、カラムクロマトグラフィーにより単離し、白色固体２．１ｇ（収率６０％）を得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、得られた白色粉末を中間体Ｍ－１－３と同定した。
（ｄ）中間体Ｍ－１－４の合成
　窒素雰囲気下、冷却管付き３００ｍＬ三口フラスコ中に、Ｍ－１－１　４ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）、Ｍ－１－３　３．７ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４０．２ｇ（０．２ｍｏｌ）、炭酸ナトリウム２．１ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）、ジメチルエーテル（ＤＭＥ）４０ｍＬ、水２０ｍＬを加えた後、還流し、８時間加熱攪拌した。反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。その後、ジクロロメタン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。溶媒を減圧下にて除去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体を減圧乾燥したところ、３．０ｇ（収率７４％）の白色固体を得た。
　１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、得られた白色粉末を中間体Ｍ－１－４と同定した。
（ｅ）中間体Ｍ－１－５の合成
　窒素雰囲気下、Ｍ－１－４　２．５ｇ（６．１ｍｍｏｌ）、４－（４－ブロモフェニル）－ジベンゾフラン　２．０ｇ（６．１ｍｍｏｌ）、ＣｕＩ　０．４ｇ（１．８ｍｍｏｌ）、トランス－シクロヘキサンジアミン（trans-cyclohexanediamine）、りん酸カリウム２．６ｇ（１２．２ｍｍｏｌ）にジオキサン３０ｍＬを加え、８時間還流させながら加熱した。
　反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。その後、ジクロロメタン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。溶媒を減圧下にて除去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体を減圧乾燥したところ、２．８ｇ（収率７０％）の白色固体を得た。
　１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、得られた白色粉末を中間体Ｍ－１－５と同定した。
（ｆ）Ｍ－１の合成
　窒素雰囲気下、Ｍ－１－５　２．５ｇ（３．８ｍｍｏｌ）に、ＤＭＦ　４０ｍＬを入れ、氷水浴にて０℃まで冷却した。
　冷却後、Ｎ－ブロモスクシンイミド１．４ｇ（８．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ４０ｍＬに溶かした溶液をゆっくり滴下した。滴下終了後、氷水浴を外し、室温に戻し、８時間撹拌した。反応液を水に落として固体を析出させ、吸引ろ過により回収した。
　得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、得られた固体を減圧乾燥したところ、２．５ｇ（収率８０％）の白色固体を得た。
　１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、得られた白色粉末をＭ－１と同定した。
（２）単量体Ｍ－２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000188
（ａ）中間体Ｍ－２－１の合成
　中間体Ｍ－１－４と４－ブロモ―１，２－ジヒドロシクロブタベンゼンを使用して、中間体Ｍ－１－２の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量５．６ｇ（収率８６％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－２－１と同定した。
（ｂ）Ｍ－２の合成
　中間体Ｍ－２－１を使用して、中間体Ｍ－１の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量４．４ｇ（収率７８％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－２と同定した。
（３）重合体Ｐ１－１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000189
　窒素雰囲気下、２，７－ビス（４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル）－９，９－ジ－ｎ－オクチルフルオレン４．１ｇ（６．２ｍｍｏｌ）、Ｍ－１　５．０ｇ（６．２ｍｍｏｌ）、Ｍ－２　０．２ｇ（０．３ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム［Ｐｄ（ＯＡｃ）２］　０．０１ｇ（０．０４ｍｍｏｌ）、トリ（ｏ－トリル）ホスフィン［Ｐ（ｏ－Ｔｏｌ）３］　０．０６ｇ（０．２ｍｍｏｌ）、りん酸カリウム６．６ｇ（３０．９ｍｍｏｌ）、にジオキサン５０ｍＬ、トルエン１２ｍＬ、水１１ｍＬを加え、１６時間還流させながら加熱した。
　反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。トルエン１５０ｍＬ、水１００ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。溶媒を減圧下にて濃縮し、この濃縮液をシリカゲルに通してろ過した。回収した溶液を減圧下にて濃縮し、メタノールへ滴下し、固体を析出させた。固体は、ろ取し、減圧乾燥した。
　窒素雰囲気下、この粗生成物と、ブロモベンゼン０．３ｇ（１．９ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２０．０３ｇ（０．０４ｍｍｏｌ）、Ｐ（ｔ－Ｂｕ）３０．０１ｇ（０．０５ｍｍｏｌ）、りん酸カリウム２．０ｇ（９．５ｍｍｏｌ）、トルエン５０ｍＬを加え、８時間還流させながら加熱した。次にフェニルボロン酸を０．２ｇ（１．９ｍｍｏｌ）加え、さらに８時間加熱した。
　反応終了後、水１００ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。回収したろ液をシリカゲルに通してろ過した。回収した溶液を濃縮し、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で８時間撹拌した。冷却後、有機層を、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、ろ取することで沈殿物を得た。
　この沈殿物をトルエンに溶解させ、シリカゲルカラムを通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体Ｐ１－１を５．３ｇ得た。
　Ｐ１－１のポリスチレン換算数平均分子量は７．８×１０３であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は２．４×１０４であった。
　尚、本願において分子量及び分子量分布は、下記の条件で測定した。
　試料１０ｍｇをＴＨＦ１０ｍｌに溶解させた溶液を１００μｌ注入して行った。流速は毎分１ｍｌとし、カラム温度を４０℃に設定した。サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）装置は、東ソー製ＨＬＣ－８２２０を用いた。検出器は示差屈折（ＲＩ）検出器又は紫外可視（ＵＶ）検出器を用いた。カラムは、東ソー製ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨ－ＸＬ　２本及びＴＳＫｇｅｌ　Ｇ２０００－ＸＬ　１本使用し、標準試料のポリスチレンには、東ソー製ＴＳＫ標準ポリスチレンを使用した。
実施例２
　下記重合体Ｐ１－２を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000190
（１）単量体Ｍ－３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000191
（ａ）中間体Ｍ－３－１の合成
　ＮＢＳをＮ－ヨードスクシンイミド（ＮＩＳ）に変えた他は、中間体Ｍ－１－１の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量５．６ｇ（収率７９％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－３－１と同定した。
（ｂ）中間体Ｍ－３－２の合成
　中間体Ｍ－３－１を使用した他は、中間体Ｍ－１－１の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量３．７ｇ（収率８２％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－３－２と同定した。
（ｃ）中間体Ｍ－３－３の合成
　中間体Ｍ－３－２と中間体Ｍ－１－３を使用して、中間体Ｍ－１－４の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量５．２ｇ（収率７６％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－３－３と同定した。
（ｄ）Ｍ－３の合成
　中間体Ｍ－３－３と１－ブロモ－４－ヨードベンゼンを使用し、中間体Ｍ－１－２の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量４．９ｇ（収率６６％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－３と同定した。
（２）単量体Ｍ－４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000192
（ａ）中間体Ｍ－４－１の合成
　カルバゾールとブロモシクロブタベンゼンを使用して、中間体Ｍ－１－２の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量７．９ｇ（収率９０％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－４－１と同定した。
（ｂ）中間体Ｍ－４－２の合成
　中間体Ｍ－４－１を使用し、中間体Ｍ－１－１の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量６．８ｇ（収率７７％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－４－２と同定した。
（ｃ）中間体Ｍ－４－３の合成
　中間体Ｍ－４－２を使用し、中間体Ｍ－１－３の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量５．５ｇ（収率７５％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－４－３と同定した。
（ｄ）中間体Ｍ－４－４の合成
　中間体Ｍ－３－２と中間体Ｍ－４－３を使用し、中間体Ｍ－１－４の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量６．１ｇ（収率６０％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－４－４と同定した。
（ｅ）Ｍ－４の合成
　中間体Ｍ－４－４と１－ブロモ－４－ヨードベンゼンを使用し、中間体Ｍ－１－２の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量５．３ｇ（収率７７％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－４と同定した。
（３）重合体Ｐ１－２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000193
　２，７－ビス（４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル）－９，９－ジ－ｎ－オクチルフルオレン、Ｍ－３及びＭ－４を用いて、Ｐ１－１と同様の方法にて合成した。目的物を収量５．２ｇで得た。Ｐ１－２のポリスチレン換算数平均分子量は１．２×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は３．５×１０４であった。
実施例３
　下記重合体Ｐ１－３を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000194
（１）単量体Ｍ－５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000195
（ａ）中間体Ｍ－５－１の合成
　窒素気流下、４－ブロモ―１，２－ジヒドロシクロブタベンゼンを１８．３ｇ（１００ｍｍｏｌ）に脱水ＴＨＦ３００ｍＬを加え、－７８℃に冷却し、ｎ－ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５８Ｍ）を１３０ｍＬ滴下した。１時間撹拌した後、１，６－ジヨードヘキサン１６．５ｍＬをゆっくり滴下してから１時間かけて室温まで昇温させ、さらに２時間反応させた。１０％希塩酸溶液を加えて攪拌し、有機層を抽出した。飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ別後、濃縮した。得られた固体を、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、減圧乾燥したところ、１２．６ｇ（収率３７％）の無色液体を得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－５－１と同定した。
（ｂ）Ｍ－５の合成
　窒素気流下、２，７－ジブロモフルオレンを１２．５ｇ（３８．６ｍｍｏｌ）に脱水ＴＨＦ１２０ｍＬを加え、－７８℃に冷却し、ＬＤＡヘキサン／ＴＨＦ溶液（１．１１Ｍ）を７７ｍＬ滴下した。１時間撹拌した後、脱水ＴＨＦ６０ｍＬに溶かしたＭ－５－１　２１．７ｇをゆっくり滴下し、１時間かけて室温まで昇温させ、さらに２時間反応させた。
　１０％希塩酸溶液を加えて撹拌し、塩化メチレンを加え、目的物を抽出し、有機層を取り出した。この有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。溶媒を減圧下にて除去し、カラムクロマトグラフィーにより単離し、白色固体１２．２ｇ（収率４５％）を得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、得られた白色粉末をＭ－５と同定した。
（２）単量体Ｍ－６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000196
（ａ）中間体Ｍ－６－１の合成
　２－ブロモ－ジベンゾフランを使用して、中間体Ｍ－１－３の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量６．１ｇ（収率６３％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－６－１と同定した。
（ｂ）中間体Ｍ－６－２の合成
　窒素気流下、９－Ｈ－カルバゾール１０ｇ（５９．８ｍｍｏｌ）を入れ、７５ｍｌのクロロホルムに溶解させた後、氷水浴にて０℃まで冷却した。次にゆっくりとＦｅＣｌ３　３８．８ｇ（２３９．２ｍｍｏｌ）を６０ｍｌ程度のクロロホルムに分散して得た溶液を滴下した。滴下後、室温に戻し、２４時間撹拌した。反応液を多量のメタノールに滴下し、固体を析出させた。固体は、ろ取して回収した。その後、多量のメタノールと水で繰り返し洗浄し、ろ取して固体７．８ｇ（収率８２％）を得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、得られた白色粉末をＭ－６－２と同定した。
（ｃ）中間体Ｍ－６－３の合成
　中間体Ｍ－６－２を使用して、中間体Ｍ－２の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量４．１ｇ（収率５６％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－６－３と同定した。
（ｄ）Ｍ－６の合成
　中間体Ｍ－６－１と中間体Ｍ－６－３を使用して、中間体Ｍ－１－４の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量３．４ｇ（収率４８％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－６と同定した。
（３）重合体Ｐ１－３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000197
　窒素雰囲気下、９，９－ジオクチル－２，７－ジブロモフルオレン５．８ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）、Ｍ－５　０．４ｇ（０．５ｍｍｏｌ）、Ｍ－６　７．０ｇ（１０．５ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）［Ｐｄ２（ｄｂａ）３］　０．２ｇ（０．２ｍｍｏｌ）、Ｐ（ｔ－Ｂｕ）３　０．０６ｇ（０．３ｍｍｏｌ）、ｔ－ブトキシナトリウム３．０ｇ（３１．５ｍｍｏｌ）にキシレン４０ｍＬを加え、２０時間還流させながら加熱した。
　反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。水１００ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。溶媒を減圧下にて濃縮し、この濃縮液をシリカゲルに通してろ過した。回収した溶液を減圧下にて濃縮し、メタノールへ滴下し、固体を析出させた。固体は、吸引ろ過により回収し、減圧乾燥した。
　窒素雰囲気下、この粗生成物とブロモベンゼン０．５ｇ（３．２ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２　０．０４ｇ（０．２ｍｍｏｌ）、Ｐ（ｔ－Ｂｕ）３　０．０６ｇ（０．３ｍｍｏｌ）、りん酸カリウム１．１ｇ（５．２ｍｍｏｌ）にトルエン４０ｍＬを加え、８時間還流させながら加熱した。次にフェニルボロン酸を０．４ｇ（３．２ｍｍｏｌ）加え、さらに８時間加熱した。
　反応終了後、水１００ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。回収したろ液をシリカゲルに通してろ過した。回収した溶液を濃縮し、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。冷却後、有機層を、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、ろ取することで沈殿物を得た。
　この沈殿物をトルエンに溶解させ、シリカゲルカラムを通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、重合体Ｐ１－３を７．３ｇ得た。Ｐ１－３のポリスチレン換算数平均分子量は０．９×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は２．８×１０４であった。
実施例４
　下記重合体Ｐ１－４を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000198
（１）単量体Ｍ－７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000199
（ａ）中間体Ｍ－７－１の合成
　９－フェニルカルバゾールを使用して、Ｍ－２の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量２．９ｇ（収率７３％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－７－１と同定した。
（ｂ）中間体Ｍ－７－２の合成
　カルバゾールと２－ブロモ－ジベンゾフランを使用して、中間体Ｍ－１－２の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量４．０ｇ（収率６８％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－７－２と同定した。
（ｃ）中間体Ｍ－７－３の合成
　中間体Ｍ－７－２を使用して、中間体Ｍ－１－１の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量３．２ｇ（収率５９％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－７－３と同定した。
（ｄ）中間体Ｍ－７－４の合成
　中間体Ｍ－７－３を使用して、中間体Ｍ－１－３の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量５．４ｇ（収率６６％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－７－４と同定した。
（ｅ）中間体Ｍ－７－５の合成
　中間体Ｍ－７－４と中間体Ｍ－７－１を使用して、中間体Ｍ－１－４の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量２．７ｇ（収率６１％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－７－５と同定した。
（ｆ）Ｍ－７の合成
　中間体Ｍ－７－５を使用して、モノマーＭ－２の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量３．９ｇ（収率５６％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－７と同定した。
（２）単量体Ｍ－８の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000200
（ａ）中間体Ｍ－８－１の合成
　中間体Ｍ－４－１を使用して、モノマーＭ－２の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量５．３ｇ（収率８５％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－８－１と同定した。
（ｂ）中間体Ｍ－８－２の合成
　中間体Ｍ－８－１と中間体Ｍ－７－４を使用して、中間体Ｍ－１－４の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量３．８ｇ（収率５８％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－８－２と同定した。
（ｃ）Ｍ－８の合成
　中間体Ｍ－８－２を使用して、Ｍ－２の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量４．２ｇ（収率６０％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－８と同定した。
（３）重合体Ｐ１－４の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000201
　２，７－ビス（４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル）－９，９－ジ－ｎ－オクチルフルオレン、Ｍ－７、Ｍ－８を用いて、Ｐ１－１と同様の方法にて合成した。目的物を収量３．３ｇで得た。重合体Ｐ－４のポリスチレン換算数平均分子量は１．８×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は４．０×１０４であった。
実施例５
　下記重合体Ｐ１－５を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000202
（１）単量体Ｍ－９の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000203
（ａ）中間体Ｍ－９－１の合成
　カルバゾールと３－ブロモ－ジベンゾフランを使用して、中間体Ｍ－１－２の合成と同様の方法で合成した中間体Ｍ－９－０を使用して、中間体Ｍ－２の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量４．６ｇ（収率８７％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－９－１と同定した。
（ｂ）中間体Ｍ－９－２の合成
　中間体Ｍ－９－１を使用して、中間体Ｍ－１－３の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量１．９ｇ（収率４３％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－９－２と同定した。
（ｃ）Ｍ－９の合成
　中間体Ｍ－９－２を使用して、中間体Ｍ－１－４の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量３．５ｇ（収率５６％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－９と同定した。
（２）重合体Ｐ１－５の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000204
　２，７－ジブロモ－９，９－ジ－ｎ－オクチルフルオレン、Ｍ－５、Ｍ－９を用いて、Ｐ１－３と同様の方法にて合成した。目的物を収量６．２ｇで得た。重合体Ｐ－５のポリスチレン換算数平均分子量は１．９×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は３．８×１０４であった。
実施例６
　下記重合体Ｐ１－６を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000205
（１）単量体Ｍ－１０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000206
（ａ）中間体Ｍ－１０－１の合成
　中間体Ｍ－６－２を使用して、中間体Ｍ－１－１の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量３．５ｇ（収率６６％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１０－１と同定した。
（ｂ）Ｍ－１０の合成
　中間体Ｍ－１０－１と中間体Ｍ－７－４を使用して、中間体Ｍ－１－４の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量４．９ｇ（収率７２％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１０と同定した。
（２）単量体Ｍ－１１の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000207
（ａ）中間体Ｍ－１１－１の合成
　中間体Ｍ－４－１を使用して、中間体Ｍ－１－１の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量３．９ｇ（収率７０％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１１－１と同定した。
（ｂ）中間体Ｍ－１１－２の合成
　中間体Ｍ－１１－１を使用して、中間体Ｍ－１－３の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量４．４ｇ（収率５２％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１１－１と同定した。
（ｃ）Ｍ－１１の合成
　中間体Ｍ－１０－１と中間体Ｍ－１１－２を使用して、中間体Ｍ－１－４の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量２．３ｇ（収率６７％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１１と同定した。
（３）重合体Ｐ１－６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000208
　２，７－ジブロモ－９，９－ジ－ｎ－オクチルフルオレン、Ｍ－１０、Ｍ－１１を用いて、Ｐ－３と同様の方法にて合成した。目的物を収量４．６ｇで得た。重合体Ｐ－６のポリスチレン換算数平均分子量は１．５×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は３．３×１０４であった。
実施例７
　下記重合体Ｐ１－７を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000209
（１）単量体Ｍ－１２の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000210
（ａ）中間体Ｍ－１２－１の合成
　中間体Ｍ－７－３と中間体Ｍ－７－４を使用して、中間体Ｍ－１－４の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量３．６ｇ（収率８２％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１２－１と同定した。
（ｂ）中間体Ｍ－１２－２の合成
　中間体Ｍ－１２－１を使用して、中間体Ｍ－１－１の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量３．５ｇ（収率６６％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１２－２と同定した。
（ｃ）中間体Ｍ－１２－３の合成
　中間体Ｍ－１２－２を使用して、中間体Ｍ－１－３の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量４．１ｇ（収率６２％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１２－３と同定した。
（ｄ）中間体Ｍ－１２－４の合成
　中間体Ｍ－１２－３と中間体Ｍ－３－２を使用して、中間体Ｍ－１－４の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量１．８ｇ（収率７６％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１２－４と同定した。
（ｅ）Ｍ－１２の合成
　中間体Ｍ－１２－４と１－ブロモ－４－ヨードベンゼンを使用して、中間体Ｍ－１－２の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量２．７ｇ（収率７０％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１２と同定した。
（２）単量体Ｍ－１３の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000211
　窒素気流下、Ｍ－５　３．７ｇ（５．３ｍｍｏｌ）、ビスピナコラートジボロン４．１ｇ（３１．８ｍｍｏｌ）、１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン－パラジウム（ＩＩ）ジクロリド－ジクロロメタン錯体［ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２］０．５ｇ（０．６ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム３．１ｇ（３１．８ｍｍｏｌ）、脱水ＤＭＳＯを入れて、８０℃にて２８時間還流反応した。冷却後、水２５ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。溶媒を減圧下にて除去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体を減圧乾燥したところ、２．７ｇ（収率６４％）の白色固体を得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１３と同定した。
（３）重合体Ｐ１－７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000212
　２，７－ビス（４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル）－９，９－ジ－ｎ－オクチルフルオレン、Ｍ－１２、Ｍ－１３を用いて、Ｐ１－１と同様の方法にて合成した。目的物を収量５．５ｇで得た。重合体Ｐ１－７のポリスチレン換算数平均分子量は１．０×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は２．５×１０４であった。
実施例８
　下記スキームにより重合体Ｐ１－８を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000213
　２，７－ビス（４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル）－９，９－ジ－ｎ－オクチルフルオレン、Ｍ－１、Ｍ－１３を用いて、Ｐ１－１と同様の方法にて合成した。目的物を収量５．２ｇで得た。重合体Ｐ１－８のポリスチレン換算数平均分子量は３．８×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は１．６×１０４であった。
比較例１
　下記スキームにより重合体Ｐ１－９を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000214
（１）単量体Ｍ－１４の合成
（ａ）中間体Ｍ－１４－１の合成
　窒素雰囲気下、冷却管付き３００ｍＬ三口フラスコ中ジフェニルアミン６．０ｇ（３５．４ｍｍｏｌ）、ブロモベンゾシクロブテン６．５ｇ（３５．４ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２０．２ｇ（０．９ｍｍｏｌ）、Ｐ（ｔ－Ｂｕ）３　０．３ｇ（１．４ｍｍｏｌ）、ｔ－ブトキシナトリウム６．８ｇ（７０．８ｍｍｏｌ）にトルエン１００ｍＬを加え、８時間還流させながら加熱した。
　反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。その後、ジクロロメタン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。溶媒を減圧下にて除去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体を減圧乾燥したところ、７．２ｇ（収率８８％）の白色固体を得た。
　１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、得られた白色粉末を中間体Ｍ－１４－１と同定した。
（ｂ）Ｍ－１４の合成
　中間体Ｍ－１４－１を使用して、中間体Ｍ－１－１の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量４．８ｇ（収率６８％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１４と同定した。
（２）Ｐ１－９の合成
　２，７－ビス（４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル）－９，９－ジ－ｎ－オクチルフルオレン、ジ（４－ブロモフェニル）フェニルアミン、Ｍ－１４を用いて、Ｐ１－１と同様の方法にて合成した。目的物を収量５．６ｇで得た。重合体Ｐ１－９のポリスチレン換算数平均分子量は７．８×１０３であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は２．４×１０４であった。
比較例２
　下記重合体Ｐ１－１０を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000215
（１）単量体Ｍ－１６の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000216
　窒素雰囲気下、９，９－ジオクチル－２，７－ジブロモフルオレン１０．０ｇ（１８．２ｍｍｏｌ）、アニリン１．７ｇ（１８．２ｍｍｏｌ）、Ｐｄ２（ｄｂａ）３０．６ｇ（０．６ｍｍｏｌ）、（±）－２，２’－ビス（ジフェニルホスフィノ）－１，１’－ビナフチル（ｒａｃ－ＢＩＮＡＰ）１．７ｇ（０．８ｍｍｏｌ）、ｔ－ブトキシナトリウム５．０ｇ（７２．８ｍｍｏｌ）、にトルエン５００ｍＬを加え、１６時間還流させながら加熱した。
　反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。水１００ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。溶媒を減圧下にて除去し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体を減圧乾燥したところ、６．８ｇ（収率６５％）の白色固体を得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、得られた白色粉末を中間体Ｍ－１６と同定した。
（２）単量体Ｍ－１７の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000217
（２）単量体Ｍ－１７の合成
（ａ）中間体Ｍ－１７－１の合成
　上記化合物を使用して中間体Ｍ－１－４の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量７．８ｇ（収率６８％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１７－１と同定した。
（ｂ）Ｍ－１７の合成
　中間体Ｍ－１７－１を使用して、Ｍ－１６の合成と同様の方法で合成した。目的物を収量５．８ｇ（収率６３％）で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、Ｍ－１７と同定した。
（３）重合体Ｐ１－１０の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000218
　４、４’－ジブロモビフェニル、Ｍ－１６、Ｍ－１７を用いて、Ｐ１－３と同様の方法にて合成した。目的物を収量４．５ｇで得た。重合体Ｐ１－１０のポリスチレン換算数平均分子量は１．３×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は３．６×１０４であった。
実施例９（有機ＥＬ素子作製と評価）
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ透明電極付きガラス基板（ジオマティック社製）を、イソプロピルアルコール中で５分間超音波洗浄した後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。洗浄後の透明電極付きガラス基板に、スピンコート法で正孔注入層に用いるポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）の混合物を１０ｎｍの膜厚で成膜して、正孔注入層を形成した（ＰＳＳはアクセプター）。
　次いで、実施例１で得られた重合体Ｐ１－１のキシレン溶液（１．０重量％）を、スピンコート法で２５ｎｍの膜厚で成膜した。次に、これを減圧下１２０℃で１時間乾燥し、正孔輸送層を形成した。
　さらに、膜厚４０ｎｍの下記化合物ＥＭ１を蒸着し成膜した。同時に発光分子として、下記のスチリル基を有するアミン化合物Ｄ１を、ＥＭ１とＤ１の重量比が９５：５になるように蒸着し、発光層を形成した。
　この膜上に下記Ａｌｑを蒸着により、膜厚１０ｎｍに成膜した。この層は、電子注入層として機能する。
　この後、還元性ドーパントであるＬｉ（Ｌｉ源：サエスゲッター社製）とＡｌｑを二元蒸着させ、電子注入層（陰極）としてＡｌｑ：Ｌｉ膜（膜厚１０ｎｍ）を形成した。このＡｌｑ：Ｌｉ膜上に金属Ａｌを蒸着させ金属陰極を形成し、窒素中でガラス封止して、有機ＥＬ素子を作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000219
　作製した有機ＥＬ素子に電流を流して発光効率及び寿命を評価した。結果を表１９７に示す。
実施例１０
　発光層の材料として、スチリル基を有するアミン化合物Ｄ１の代わりに下記アリールアミン化合物Ｄ２を用いた他は実施例９と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果を表１９７に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000220
 （Ｍｅはメチル基である。）
比較例３
　正孔輸送材料としてＰ１－１の代わりに比較例１で得られたＰ１－９を用いた他は、実施例９と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した結果を表１９７に示す。
比較例４
　正孔輸送材料としてＰ１－１の代わりに比較例２で得られたＰ１－１０を用いた他は実施例９と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果を表１９７に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000205
　実施例９～１０及び比較例３～４の結果から、本発明のビスカルバゾールポリマーを用いた有機ＥＬ素子は、芳香族アミン誘導体である比較化合物を用いた有機ＥＬ素子と比べて、発光効率、寿命で優れていることが分かる。
実施例１１（有機ＥＬ素子作製と評価）
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ透明電極付きガラス基板（ジオマティック社製）を、イソプロピルアルコール中で５分間超音波洗浄した後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。洗浄後の透明電極付きガラス基板に、スピンコート法で正孔注入層に用いるポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）の混合物を１０ｎｍの膜厚で成膜して、正孔注入層を形成した（ＰＳＳはアクセプター）。
　次いで、実施例１で得られた重合体Ｐ１－１のキシレン溶液（１．０重量％）を、スピンコート法で２５ｎｍの膜厚で成膜し、２３０℃で３０分間乾燥及び熱硬化し、正孔輸送層を形成した。
　次に、上記化合物ＥＭ１（ホスト）と上記スチリル基を有するアミン化合物Ｄ１（ドーパント）が固形分重量比９５：５で混合しているキシレン溶液（１．０重量％）を、スピンコート法で４０ｎｍの膜厚で成膜し、１５０℃で３０分間乾燥させ、発光層を形成した。
　この膜上にＡｌｑを蒸着により、膜厚１０ｎｍに成膜した。この層は、電子注入層として機能する。この後、還元性ドーパントであるＬｉ（Ｌｉ源：サエスゲッター社製）とＡｌｑを二元蒸着させ、電子注入層（陰極）としてＡｌｑ：Ｌｉ膜（膜厚１０ｎｍ）を形成した。このＡｌｑ：Ｌｉ膜上に金属Ａｌを蒸着させ金属陰極を形成し、窒素中でガラス封止して、有機ＥＬ素子を作製した。
　作製した有機ＥＬ素子に電流を流して性能を評価した。結果を表１９８に示す。
実施例１２
　正孔輸送材料としてＰ１－１の代わりに実施例２で得られた重合体Ｐ１－２を用いた他は、実施例１１と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果を表１９８に示す。
実施例１３
　正孔輸送材料としてＰ１－１の代わりに実施例３で得られた重合体Ｐ１－３を用いた他は、実施例１１と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果を表１９８に示す。
実施例１４
　正孔輸送材料としてＰ１－１の代わりに実施例４で得られた重合体Ｐ１－４を用いた他は、実施例１１と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果を表１９８に示す。
実施例１５
　正孔輸送材料としてＰ１－１の代わりに実施例５で得られた重合体Ｐ１－５を用いた他は、実施例１１と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果を表１９８に示す。
実施例１６
　正孔輸送材料としてＰ１－１の代わりに実施例６で得られた重合体Ｐ１－６を用いた他は、実施例１１と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果を表１９８に示す。
実施例１７
　正孔輸送材料としてＰ１－１の代わりに実施例７で得られた重合体Ｐ１－７を用いた他は、実施例１１と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果を表１９８に示す。
実施例１８
　正孔輸送材料としてＰ１－１の代わりに実施例８で得られた重合体Ｐ１－８を用いた他は、実施例１１と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果を表１９８に示す。
実施例１９
　発光層の材料として、スチリル基を有するアミン化合物Ｄ１の代わりにアリールアミン化合物Ｄ２を用いた他は実施例１１と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果を表１９８に示す。
比較例５
　正孔輸送材料としてＰ１－１の代わりに比較例１で得られたＰ１－９を用いた他は、実施例１１と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果を表１９８に示す。
比較例６
　正孔輸送材料としてＰ１－１の代わりに比較例２で得られたＰ１－１０を用いた他は実施例１１と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果を表１９８に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000206
　実施例１１～１９及び比較例５、６の結果から、本発明のビスカルバゾールポリマーを用いた有機ＥＬ素子は、芳香族アミン誘導体である比較化合物を用いた有機ＥＬ素子と比べて、発光効率、寿命で優れていることが分かる。
　また、正孔注入層、正孔輸送層及び発光層を湿式成膜で形成しても、優れた性能が得られることが確認できた。
［第二発明］
［重合体の製造］
実施例２１
　下記合成スキームにより、ポリマーＰ２－１を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000221
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000222
（１）架橋基Ｍ－２０の合成
　実施例１において中間体Ｍ－１－２の代わりに４－ブロモベンゾシクロブテンを用いた他は中間体Ｍ－１－３の合成と同様の反応を実施し、目的物を収量５．８ｇ（収率７８％）で得た。
　１Ｈ－ＮＭＲスペクトルとＦＤ－ＭＳ分析により、得られた目的物をＭ－２と同定した。
（２）ポリマーＰ２－１の合成
　窒素雰囲気下、２，７－ビス（４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル）－９，９－ジ－ｎ－オクチルフルオレン４．１ｇ（６．２ｍｍｏｌ）、実施例１（１）と同様にして合成したＭ－１を５．０ｇ（６．２ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２を０．０１ｇ（０．０４ｍｍｏｌ）、Ｐ（ｏ－Ｔｏｌ）３を０．０６ｇ（０．２ｍｍｏｌ）、りん酸カリウム６．６ｇ（３０．９ｍｍｏｌ）にジオキサン５０ｍＬ、トルエン１２ｍＬ、水１１ｍＬを加え、１６時間還流させながら加熱した。反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。トルエン１５０ｍＬ、水１００ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。溶媒を減圧下にて濃縮し、この濃縮液をシリカゲルに通してろ過した。回収した溶液を減圧下にて濃縮し、メタノールへ滴下し、固体を析出させた。固体は、ろ取して減圧乾燥した。
　窒素雰囲気下、この粗生成物と、４－ブロモベンゾシクロブテンを０．３ｇ（１．７ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２を０．０３ｇ（０．０４ｍｍｏｌ）、Ｐ（ｔ－Ｂｕ）３を０．０１ｇ（０．０５ｍｍｏｌ）、りん酸カリウム２．０ｇ（９．５ｍｍｏｌ）、トルエン５０ｍＬを加え、８時間還流させながら加熱した。次にＭ－２０を０．３ｇ（１．９ｍｍｏｌ）加え、さらに８時間加熱した。反応終了後、水１００ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。回収したろ液をシリカゲルに通してろ過した。回収した溶液を濃縮し、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で８時間撹拌した。冷却後、有機層を、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、ろ取することで沈殿物を得た。
　この沈殿物をトルエンに溶解させ、シリカゲルカラムを通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、ポリマーＰ２－１を４．４ｇ得た。
　ポリマーＰ２－１のポリスチレン換算数平均分子量は０．９×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は２．２×１０４であった。
　尚、ポリマーＰ２－１のポリスチレン換算数平均分子量及びポリスチレン換算重量平均分子量は、サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）を用いて測定した。測定は、試料である１０ｍｇのポリマーＰ２－１をＴＨＦ（テトラヒドロフラン）１０ｍｌに溶解させ、得られた溶液をＳＥＣ装置に１００μｌ注入して行った。流速は毎分１ｍｌとし、カラム温度を４０℃に設定した。
　上記ＳＥＣ装置は東ソー製ＨＬＣ－８２２０を用いた。検出器は示差屈折（ＲＩ）検出器または紫外可視（ＵＶ）検出器を用いた。カラムは、東ソー製ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨ－ＸＬ　２本及びＴＳＫｇｅｌ　Ｇ２０００－ＸＬ　１本使用し、標準試料のポリスチレンには、東ソー製ＴＳＫ標準ポリスチレンを使用した。
実施例２２
　下記合成スキームにより、ポリマーＰ２－２を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000223
　モノマーＭ－１の代わりに実施例２（１）と同様にして合成したモノマーＭ－３を用いた他は、ポリマーＰ２－１の合成と同様の反応を実施して、ポリマーＰ２－２を収量３．８ｇで得た。
　ポリマーＰ２－２のポリスチレン換算数平均分子量は１．３×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は３．０×１０４であった。
実施例２３
　下記合成スキームによりポリマーＰ２－３を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000224
　窒素雰囲気下、９，９－ジオクチル－２、７ジブロモフルオレン５．８ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）、実施例３（２）と同様にして合成したＭ－６を７．０ｇ（１０．５ｍｍｏｌ）、Ｐｄ２（ｄｂａ）３を０．２ｇ（０．２ｍｍｏｌ）、ＰｔＢｕ３を０．０６ｇ（０．３ｍｍｏｌ）、ｔ－ブトキシナトリウム３．０ｇ（３１．５ｍｍｏｌ）、にキシレン４０ｍＬを加え、２０時間還流させながら加熱した。
　反応終了後、減圧除去にて溶媒を取り除いた。水１００ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。溶媒を減圧下にて濃縮し、この濃縮液をシリカゲルに通してろ過した。回収した溶液を減圧下にて濃縮し、メタノールへ滴下し、固体を析出させた。固体は、吸引ろ過により回収し、減圧乾燥した。
　窒素雰囲気下、この粗生成物と４－ブロモベンゾシクロブテン０．６ｇ（３．２ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２０．０４ｇ（０．２ｍｍｏｌ）、Ｐ（ｔ－Ｂｕ）３を０．０６ｇ（０．３ｍｍｏｌ）、りん酸カリウム１．１ｇ（５．２ｍｍｏｌ）にトルエン４０ｍＬを加え、８時間還流させながら加熱した。次にＭ－２０を０．５ｇ（３．２ｍｍｏｌ）加え、更に８時間加熱した。
　反応終了後、水１００ｍＬを加えて目的物を抽出し、有機層を取り出した。取り出した有機層へＭｇＳＯ４を加えて乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を除去した。回収したろ液をシリカゲルに通してろ過した。回収した溶液を濃縮し、ジエチルジチアカルバミン酸ナトリウム水溶液を加え、８０℃で２時間撹拌した。冷却後、有機層を、水で洗浄し、得られた溶液をメタノールに滴下し、ろ取することで沈殿物を得た。
　この沈殿物をトルエンに溶解させ、シリカゲルカラムを通すことにより精製した。得られた溶液をメタノールに滴下し、撹拌した後、得られた沈殿物をろ取し、乾燥させることにより、ポリマーＰ２－３を６．３ｇ得た。
　ポリマーＰ２－３のポリスチレン換算数平均分子量は１．２×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は３．１×１０４であった。
実施例２４
　下記合成スキームによりポリマーＰ２－４を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000225
　モノマーＭ－１の代わりに、実施例４（１）と同様にして合成したモノマーＭ－７を用いた他は、Ｐ２－１の合成と同様の反応を実施し、ポリマーＰ２－４を収量２．８ｇで得た。
　ポリマーＰ２－４のポリスチレン換算数平均分子量は１．７×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は３．７×１０４であった。
実施例２５
　下記合成スキームによりポリマーＰ２－５を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000226
　モノマーＭ－４の代わりに実施例５（１）と同様にして合成したモノマーＭ－９を用いた他は、ポリマーＰ２－３の合成と同様の反応を実施して、ポリマーＰ２－５を収量５．１ｇで得た。
　ポリマーＰ２－５のポリスチレン換算数平均分子量は１．６×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は３．９×１０４であった。
実施例２６
　下記合成スキームにより、ポリマーＰ２－６を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000227
　モノマーＭ－４の代わりに、実施例６（１）と同様にして合成したモノマーＭ－１０を用いた他は、ポリマーＰ２－３の合成と同様の反応を実施し、ポリマーＰ２－６を収量３．９ｇで得た。
　ポリマーＰ２－６のポリスチレン換算数平均分子量は１．５×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は３．６×１０４であった。
実施例２７
　下記合成スキームに従い、ポリマーＰ２－７を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000228
　モノマーＭ－１の代わりに、実施例７（１）と同様にして合成したモノマーＭ－１２を用いた他は、ポリマーＰ２－１の合成と同様の反応を実施して、ポリマーＰ２－７を収量５．８ｇで得た。
　ポリマーＰ２－７のポリスチレン換算数平均分子量は１．４×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は３．１×１０４であった。
［有機ＥＬ素子の製造（塗布＋蒸着）と評価］
実施例２８
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ透明電極付きガラス基板（ジオマティック社製）を、イソプロピルアルコール中で５分間超音波洗浄した後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。洗浄後の透明電極付きガラス基板に、スピンコート法で正孔注入層に用いるポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）の混合物を１０ｎｍの膜厚で成膜して、正孔注入層を形成した。ついで、実施例２１で得られた重合体Ｐ２－１のキシレン溶液（１．０重量％）を、スピンコート法で２５ｎｍの膜厚で成膜した。次に、これを減圧下１２０℃で１時間乾燥し、正孔輸送層を形成した。さらに、膜厚４０ｎｍの化合物ＥＭ１を蒸着し成膜した。同時に発光分子として、スチリル基を有するアミン化合物Ｄ１を、ＥＭ１とＤ１の重量比が９５：５になるように蒸着し、発光層を形成した。この膜上にＡｌｑを蒸着により、膜厚１０ｎｍに成膜した。この層は、電子注入層として機能する。この後、還元性ドーパントであるＬｉ（Ｌｉ源：サエスゲッター社製）とＡｌｑを二元蒸着させ、電子注入層（陰極）としてＡｌｑ：Ｌｉ膜（膜厚１０ｎｍ）を形成した。このＡｌｑ：Ｌｉ膜上に金属Ａｌを蒸着させ金属陰極を形成し、窒素中でガラス封止して、有機ＥＬ素子を作製した。
　尚、化合物ＥＭ１，Ｄ１及びＡｌｑは実施例９と同様である。
　得られた有機ＥＬ素子について、その発光効率及び発光寿命を評価した。結果を表１９９に示す。尚、発光寿命について、当該実施例２８の素子の寿命を基準とした。
実施例２９
　発光層材料として、スチリル基を有するアミン化合物Ｄ１の代わりに、実施例１０で使用したアリールアミン化合物Ｄ２を用いた他は実施例２８と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果は表１９９に示す。
比較例２１
　下記合成スキームに従ってポリマーＰ２－８を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000229
　中間体Ｍ－１の代わりに定法により得られる化合物Ｍ－２１を用いた他は、ポリマーＰ２－１の合成と同様の反応を実施して、ポリマーＰ２－８を収量５．６ｇで得た。
　ポリマーＰ２－８のポリスチレン換算数平均分子量は７．８×１０３であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は２．４×１０４であった。
　正孔輸送材料として、ポリマーＰ２－１の代わりにポリマーＰ２－８を用いた他は実施例２８と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果は表１９９に示す。
比較例２２
　下記合成スキームに従ってポリマーＰ２－９を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000230
　２，７－ビス（４，４，５，５－テトラメチル－１，３，２－ジオキサボロラン－２－イル）－９，９－ジ－ｎ－オクチルフルオレンの代わりに、比較例２（１）と同様に合成したモノマーＭ－１６を用い、中間体Ｍ－１の代わりに４，４’－ジブロモビフェニルを用いた他は、ポリマーＰ２－１の合成と同様の反応を実施して、ポリマーＰ２－９を収量２．８ｇで得た。
　得られたポリマーＰ２－９のポリスチレン換算数平均分子量は１．１×１０４であり、ポリスチレン換算重量平均分子量は３．５×１０４であった。
　正孔輸送材料として、ポリマーＰ２－１の代わりにポリマーＰ２－９を用いた他は実施例２８と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果は表１９９に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000207
　実施例２８、２９及び比較例２１、２２の結果から、本発明の重合体であるビスカルバゾールポリマーを用いた有機ＥＬ素子は、芳香族アミン誘導体である比較化合物を用いた有機ＥＬ素子と比べて、発光効率、寿命で優れていることが分かる。
［有機ＥＬ素子の製造（塗布のみ）と評価］
実施例３０
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ透明電極付きガラス基板（ジオマティック社製）を、イソプロピルアルコール中で５分間超音波洗浄した後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。洗浄後の透明電極付きガラス基板に、スピンコート法で正孔注入層に用いるポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）の混合物を１０ｎｍの膜厚で成膜して、正孔注入層を形成した。ついで、実施例２１で得られた重合体Ｐ２－１のキシレン溶液（１．０重量％）を、スピンコート法で２５ｎｍの膜厚で成膜し、２３０℃で３０分間乾燥及び熱硬し、正孔輸送層を形成した。次に、化合物ＥＭ１（ホスト）とスチリル基を有するアミン化合物Ｄ１（ドーパント）が固形分重量比９５：５で混合しているキシレン溶液（１．０重量％）を、スピンコート法で４０ｎｍの膜厚で成膜し、１５０℃で３０分間乾燥させ、発光層を形成した。この膜上にＡｌｑを蒸着により、膜厚１０ｎｍに成膜した。この層は、電子注入層として機能する。この後、還元性ドーパントであるＬｉ（Ｌｉ源：サエスゲッター社製）とＡｌｑを二元蒸着させ、電子注入層（陰極）としてＡｌｑ：Ｌｉ膜（膜厚１０ｎｍ）を形成した。このＡｌｑ：Ｌｉ膜上に金属Ａｌを蒸着させ金属陰極を形成し、窒素中でガラス封止して、有機ＥＬ素子を作製した。
　作製した有機ＥＬ素子に電流を流して性能を評価した。評価した。結果は表２００に示す。
実施例３１
　正孔輸送材料としてポリマーＰ２－１の代わりに実施例２２で得られたポリマーＰ２－２を用いた他は、実施例３０と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果は表２００に示す。
実施例３２
　正孔輸送材料としてポリマーＰ２－１の代わりに実施例２３で得られたポリマーＰ２－３を用いた他は、実施例３０と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果は表２００に示す。
実施例３３
　正孔輸送材料としてポリマーＰ２－１の代わりに実施例２４で得られたポリマーＰ２－４を用いた他は、実施例３０と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果は表２００に示す。
実施例３４
　正孔輸送材料としてポリマーＰ２－１の代わりに実施例２５で得られたポリマーＰ２－５を用いた他は、実施例３０と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果は表２００に示す。
実施例３５
　正孔輸送材料としてポリマーＰ２－１の代わりに実施例２６で得られたポリマーＰ２－６を用いた他は、実施例３０と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果は表２００に示す。
実施例３６
　正孔輸送材料としてＰ２－１の代わりに実施例２７で得られたポリマーＰ２－７を用いた他は、実施例３０と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果は表２００に示す。
実施例３７
　発光層の材料として、スチリル基を有するアミン化合物Ｄ１の代わりにアリールアミン化合物Ｄ２を用いた他は実施例３０と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果は表２００に示す。
比較例２３
　正孔輸送材料としてポリマーＰ２－１の代わりに比較例２１で得られたポリマーＰ２－８を用いた他は、実施例３０と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果は表２００に示す。
比較例２４
　正孔輸送材料としてポリマーＰ２－１の代わりに比較例２２で得られたポリマーＰ２－９を用いた他は実施例３１と同様にして有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果は表２００に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000208
　本発明の重合体は、エレクトロニクス用材料として有用である。特に、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、なかでも陽極と発光層間である正孔輸送領域で使用する材料として好適である。
　上記に本発明の実施形態及び／又は実施例を幾つか詳細に説明したが、当業者は、本発明の新規な教示及び効果から実質的に離れることなく、これら例示である実施形態及び／又は実施例に多くの変更を加えることが容易である。従って、これらの多くの変更は本発明の範囲に含まれる。
　この明細書に記載の文献及び本願のパリ優先の基礎となる日本出願明細書の内容を全てここに援用する。

Claims (30)

  1. 　下記式（Ａ)及び（Ｂ）で表される構造単位を含有する重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000231
     ［式（Ａ）中、Ｐは下記式（Ｐ）で表される化合物に由来する基である。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000232
     （式中、Ａ１はそれぞれ独立に、窒素原子又はＣＲ２である。
    　Ｘ１は、単結合、Ｏ、Ｓ、ＣＲ２Ｒ３又はＮＲ２である。
    　Ｒ１～Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基又はアリールシリル基である。）
    　ａは２～５の整数であり、（Ｐ）ａは、上記（Ｐ）基がａ個連続して結合していることを表す。ａ個のＰはそれぞれ独立であり、また、Ｐ同士の結合位置は限定されない。
    　Ｌ１は連結基を表す。
    　ｂは、０～５の整数であり、（Ｌ１）ｂは、ｂが２以上である場合、Ｌ１がｂ個連続して結合したことを表す。この場合、ｂ個のＬ１はそれぞれ独立であり、また、Ｌ１同士が結合する位置は限定されない。
    　式（Ａ）において、ＰとＬ１の結合位置は限定されない。
    　式（Ｂ）中、Ｑは下記式（Ｑ）で表される化合物に由来する基である。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000233
     （式中、Ａ２はそれぞれ独立に、窒素原子又はＣＲ６である。
    　Ｘ２は、単結合、Ｏ、Ｓ、ＣＲ６Ｒ７又はＮＲ６である。
    　Ｒ５～Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基、アリールシリル基、又は架橋性基である。）
    　ｃは２～５の整数であり、（Ｑ）ｃは、上記（Ｑ）基がｃ個連続して結合していることを表す。ｃ個のＱはそれぞれ独立であり、また、Ｑ同士の結合位置は限定されない。
    　Ｌ２はそれぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０の芳香族炭化水素環基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０の芳香族複素環基、置換もしくは無置換のアリールアミン残基、アリールシリレン基、又は架橋性基である。
    　ｄは、０～５の整数であり、（Ｌ２）ｄは、ｄが２以上である場合、Ｌ２がｄ個連続して結合していることを表す。この場合、ｄ個のＬ２はそれぞれ独立であり、また、Ｌ２同士が結合する位置は限定されない。
    　式（Ｂ）において、ＱとＬ２の結合位置は限定されない。
    　式（Ｂ）において、ｃ個のＱ及びｄ個のＬ２のうち、少なくとも１つは、架橋性基を有する。］
  2. 　前記Ｐ又はＱが、置換又は無置換のカルバゾールの残基である請求項１に記載の重合体。
  3. 　ａ個連続した置換もしくは無置換のカルバゾール残基において隣接するカルバゾール残基同士の結合位置、又は、ｃ個連続した置換もしくは無置換のカルバゾール残基において隣接するカルバゾール残基同士の結合位置が、それぞれ、３位－３’位、３位－２’位、及び、２位－２’位から選ばれた一種である請求項２に記載の重合体。
  4. 　下記の構造１及び構造２の少なくとも一方を有する、請求項２又は３に記載の重合体。
    　構造１：前記（Ｐ）ａ中の１つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Ｌ１との結合位置が、該カルバゾール残基の９位、３位又は２位である。
    　構造２：前記（Ｑ）ｃ中の１つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Ｌ２との結合位置が、該カルバゾール残基の９位、３位又は２位である。
  5. 　下記の構造３及び構造４の少なくとも一方を有する、請求項２～４のいずれかに記載の重合体。
    　構造３：前記（Ｐ）ａ中の１つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Ｌ２との結合位置が、該カルバゾール残基の９位、３位又は２位である。
    　構造４：前記（Ｑ）ｃ中の１つの置換又は無置換のカルバゾール残基と、Ｌ１との結合位置が、該カルバゾール残基の９位、３位又は２位である。
  6. 　前記ａ又はｃが、それぞれ２又は３である請求項１～５のいずれかに記載の重合体。
  7. 　下記式（１）～（７）のいずれかで表される請求項１～６のいずれかに記載の重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000234
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000235
     （各式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｌ１及びＬ２は、前記式（Ａ）及び（Ｂ）のＲ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｌ１及びＬ２と同様である。
    　ｍ及びｎはそれぞれ、重合体に占める各構造単位の含有率（モル比）を表し、ｍは０．０１～０．９９、ｎは０．０１～０．９９であり、ｍ＋ｎ＝１である。
    　ｌは、０又は１である。）
  8. 　下記式（８）～（２５）のいずれかで表される請求項７に記載の重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000236
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000237
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000238
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000239
     （各式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｌ１及びＬ２は、前記式（Ａ）及び（Ｂ）のＲ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ６、Ｌ１及びＬ２と同様である。
    　ｍ及びｎはそれぞれ、重合体に占める各構造単位の含有率（モル比）を表し、ｍは０．０１～０．９９、ｎは０．０１～０．９９であり、ｍ＋ｎ＝１である。）
  9. 　前記式（１）～（２５）で表される各重合体の、Ｒ５の少なくとも１つ又はＲ６の少なくとも１つが架橋性基であり、Ｌ２は架橋性基ではない、請求項７又は８の重合体。
  10. 　前記架橋性基が、下記式（３１）～（４２）で示される基から選択される基である請求項１～９のいずれかに記載の重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000240
  11. 　前記式（１）～（２１）で表される各重合体のＬ２の少なくとも１つが架橋性基であり、Ｒ５及びＲ６が架橋性基ではない請求項７又は８の重合体。
  12. 　前記架橋性基であるＬ２が、下記式（４３）～（４６）で示される基から選択される基である請求項１１に記載の重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000241
     （式（４５）及び（４６）において、ｏは、１～１０の整数である。）
  13. 　前記式（１）～（２５）で表される各重合体の、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５及びＲ６の少なくとも１つが、下記式（５１）～（５５）で表される基から選択される基である請求項７～１２のいずれかに記載の重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000242
     （式中、Ｒ１１～Ｒ２３は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の炭素数７～４０のアラルキル基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換アミノ基、置換シリル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又はヒドロキシル基である。
    　ａ、ｃ、ｄ、ｆ、ｇ、及びｉは、それぞれ独立に、０～４の整数である。
    　ｂ、ｅ、ｈ及びｊは、それぞれ独立に、０～３の整数である。
    　Ｔ１～Ｔ５はそれぞれ独立に、単結合、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環基又は環形成原子数３～３０の芳香族複素環基である。）
  14. 　下記式（Ｃ）で表わされる重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000243
     （式中、Ｐ’は下記式（Ｐ’）で表わされる化合物に由来する基である。
    　Ｌは連結基である。
    　ａは、２～５の整数であり、（Ｐ’）ａは、Ｐ’がａ個連続して結合していることを表わす。ａ個のＰ’はそれぞれ独立であり、また、Ｐ’同士の結合位置は限定されない。
    　ｂは、０～５の整数であり、ｂが２以上である場合、（Ｌ）ｂは、Ｌがｂ個連続して結合していることを表わす。この場合、ｂ個のＬはそれぞれ独立であり、Ｌ同士が結合する位置は限定されない。また、ｂが０の場合、Ｌは単結合を表わす。
    　式（Ｃ）において、Ｐ’とＬのそれぞれの結合位置は限定されない。
    　ｍは、繰り返し単位である。
    　Ｙ１及びＹ２は、それぞれ独立に、架橋性基である。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000244
     （式中、Ａはそれぞれ独立に、窒素原子又は－Ｃ（Ｒ）－である。
    　Ｘは、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｒ）２－、又は－Ｎ（Ｒ）－である。
    　Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基、又は置換もしくは無置換のアリールシリル基である。）
  15. 　前記Ｐ’が置換もしくは無置換のカルバゾール残基である請求項１４に記載の重合体。
  16. 　前記（Ｐ’）ａが、ａ個連続して結合している置換もしくは無置換のカルバゾール残基であって、隣接するカルバゾール残基が、それぞれ３位－３’位、３位－２’位、又は２位－２’位で互いに結合している請求項１４又は１５に記載の重合体。
  17. 　前記（Ｐ’）ａが、ａ個連続して結合している置換もしくは無置換のカルバゾール残基であって、Ｌと結合するカルバゾール残基が、Ｌとカルバゾール残基の９位、３位又は２位で結合する請求項１４～１６のいずれかに記載の重合体。
  18. 　前記ａが２又は３である請求項１４～１７のいずれかに記載の重合体。
  19. 　下記式（１０１）～（１０７）のいずれかで表わされる請求項１４～１８のいずれかに記載の重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000245
     （式中、Ｒ１０１～Ｒ１１９は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換もしくは無置換のアリールアミノ基、又は置換もしくは無置換のアリールシリル基である。
    　ｌは、０又は１の整数である。
    　Ｙ１、Ｙ２、Ｌ及びｍは、式（Ｃ）と同様である。）
  20. 　前記式（１０１）～（１０７）において、Ｒ１０１及びＲ１０２の少なくとも１つ、Ｒ１０３～Ｒ１０５の少なくとも１つ、Ｒ１０６及びＲ１０７の少なくとも１つ、Ｒ１０８～Ｒ１１０の少なくとも１つ、Ｒ１１１～Ｒ１１３の少なくとも１つ、Ｒ１１４～Ｒ１１６の少なくとも１つ、並びにＲ１１７～Ｒ１１９の少なくとも１つが下記式（５１）～（５５）で表わされる基から選択される基である請求項１９に記載の重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000246
     （式中、Ｒ１１～Ｒ２３は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルキル基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数１～２０のアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数３～１０のシクロアルコキシ基、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の炭素数７～４０のアラルキル基、置換もしくは無置換の環形成原子数３～３０のヘテロアリール基、置換アミノ基、置換シリル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又はヒドロキシル基である。
    　ａ、ｃ、ｄ、ｆ、ｇ、及びｉは、それぞれ独立に、０～４の整数である。
    　ｂ、ｅ、ｈ及びｊは、それぞれ独立に、０～３の整数である。
    　Ｔ１～Ｔ５はそれぞれ独立に、単結合、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環基又は環形成原子数３～３０の芳香族複素環基である。）
  21. 　Ｙ１及びＹ２が、それぞれ下記式（３１）～（４２）で表わされる基から選択される基である請求項１４～２０のいずれかに記載の重合体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000247
  22. 　請求項１～２１のいずれかに記載の重合体及び溶媒を含む塗布液。
  23. 　前記溶媒の少なくとも１種が有機溶媒である請求項２２に記載の塗布液。
  24. 　請求項２２又は２３に記載の塗布液を用いて湿式成膜する電子素子の製造方法。
  25. 　前記電子素子が、電界発光素子、光電変換素子又はトランジスタである請求項２４に記載の電子素子の製造方法。
  26. 　前記電子素子が、有機エレクトロルミネッセンス素子である請求項２４又は２５に記載の電子素子の製造方法。
  27. 　陽極と陰極と、前記陽極と陰極の間に、発光層を含む１層以上の有機薄膜層を有し、
    　前記有機薄膜層の少なくとも１層が請求項１～２１のいずれかに記載の重合体を含む有機エレクトロルミネッセンス素子。
  28. 　前記有機薄膜層の少なくとも1層が正孔注入層又は正孔輸送層である請求項２７に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  29. 　前記正孔注入層又は正孔輸送層が発光層と接している請求項２８に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  30. 　前記発光層が湿式成膜法により成膜された請求項２７～２９のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
PCT/JP2012/006546 2011-10-19 2012-10-12 架橋型重合体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 WO2013057908A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP12840935.6A EP2770006A1 (en) 2011-10-19 2012-10-12 Cross-linking polymer and organic electroluminescent element using same
CN201280037777.4A CN103717636A (zh) 2011-10-19 2012-10-12 交联型聚合物及使用该聚合物的有机场致发光元件
KR1020147000694A KR101933241B1 (ko) 2011-10-19 2012-10-12 가교형 중합체 및 그것을 이용한 유기 전계 발광 소자
US14/234,876 US9917273B2 (en) 2011-10-19 2012-10-12 Cross-linking polymer and organic electroluminescent element using same

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011229719A JP2013087216A (ja) 2011-10-19 2011-10-19 架橋型重合体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2011229721A JP2013087217A (ja) 2011-10-19 2011-10-19 架橋型重合体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2011-229721 2011-10-19
JP2011-229719 2011-10-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013057908A1 true WO2013057908A1 (ja) 2013-04-25

Family

ID=48140577

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/006546 WO2013057908A1 (ja) 2011-10-19 2012-10-12 架橋型重合体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9917273B2 (ja)
EP (1) EP2770006A1 (ja)
KR (1) KR101933241B1 (ja)
CN (1) CN103717636A (ja)
TW (1) TW201326250A (ja)
WO (1) WO2013057908A1 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9203036B2 (en) 2012-02-03 2015-12-01 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Carbazole compound, material for organic electroluminescence device and organic electroluminescence device
WO2016047536A1 (ja) * 2014-09-25 2016-03-31 住友化学株式会社 高分子化合物およびそれを用いた発光素子
US9306171B2 (en) 2011-12-05 2016-04-05 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Material for organic electroluminescence device and organic electroluminescence device
WO2020036434A1 (ko) 2018-08-16 2020-02-20 주식회사 엘지화학 폴리머, 그 정공 수송 재료로서의 사용, 및 그것을 포함하는 유기 전자 디바이스
KR20200135971A (ko) 2018-03-27 2020-12-04 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 유기 전계 발광 소자용 재료 및 유기 전계 발광 소자
KR20210148231A (ko) 2019-03-29 2021-12-07 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 유기 전계 발광 소자용 중합체 및 유기 전계 발광 소자

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10270036B2 (en) 2016-12-27 2019-04-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Polymer, composition including the polymer, and organic light-emitting device including the polymer
JP6995563B2 (ja) * 2016-12-27 2022-01-14 三星電子株式会社 高分子化合物、組成物、液状組成物、薄膜、並びにエレクトロルミネッセンス素子用材料、及びエレクトロルミネッセンス素子
KR20190116289A (ko) * 2017-02-09 2019-10-14 히타치가세이가부시끼가이샤 유기 일렉트로닉스 재료, 유기 일렉트로닉스 소자 및 유기 일렉트로루미네센스 소자
KR102047679B1 (ko) * 2019-04-16 2019-11-22 재원산업 주식회사 유기발광색소의 회수 방법
CN114031751A (zh) * 2020-12-29 2022-02-11 广东聚华印刷显示技术有限公司 可交联型聚合物及其制备方法和应用

Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003012777A (ja) * 2001-06-13 2003-01-15 Samsung Sdi Co Ltd 白色電界発光高分子化合物およびこれを用いた有機電界発光素子
JP2004269696A (ja) * 2003-03-10 2004-09-30 Toyo Ink Mfg Co Ltd 有機発光素子材料およびそれを用いた電界発光素子
JP2006520409A (ja) * 2003-02-12 2006-09-07 コーニンクレッカ　フィリップス　エレクトロニクス　エヌ　ヴィ カルバゾール化合物及び有機電界発光デバイスにおけるこのような化合物の使用
JP2006257196A (ja) 2005-03-16 2006-09-28 Sharp Corp 架橋形ポリカルバゾールとそれを用いた有機エレクトロニクスデバイス
JP2006279007A (ja) 2005-03-02 2006-10-12 Konica Minolta Holdings Inc 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置
JP2007511636A (ja) * 2003-11-17 2007-05-10 住友化学株式会社 架橋性アリールアミン化合物、及びそれをベースにしたポリマーの共役オリゴマー又はポリマー
JP2008063327A (ja) 2006-08-07 2008-03-21 Mitsubishi Chemicals Corp 架橋基を有する有機化合物、有機電界発光素子用組成物および有機電界発光素子
JP2008169367A (ja) 2006-08-24 2008-07-24 E I Du Pont De Nemours & Co 正孔輸送ポリマー
JP2008231419A (ja) 2007-02-21 2008-10-02 Hitachi Chem Co Ltd 有機エレクトロニクス用材料、並びにこれを用いた有機エレクトロニクス素子及び有機エレクトロルミネセンス素子
JP2009524703A (ja) * 2005-12-20 2009-07-02 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 高分子カルバゾール化合物
JP2009196982A (ja) 2008-01-22 2009-09-03 Mitsubishi Chemicals Corp 架橋性有機化合物、有機電界発光素子用組成物、有機電界発光素子および有機ｅｌディスプレイ
WO2009110360A1 (ja) * 2008-03-05 2009-09-11 出光興産株式会社 高分子化合物及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2009283509A (ja) 2008-05-19 2009-12-03 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> 有機ｅｌ素子および有機ｅｌディスプレイ
JP2011082052A (ja) 2009-10-08 2011-04-21 Hitachi Chem Co Ltd 有機薄膜の製造方法、有機薄膜、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、照明装置および表示素子
JP2011144375A (ja) * 2010-01-15 2011-07-28 Samsung Electronics Co Ltd 高分子及び該高分子を含む有機発光素子
JP2011153134A (ja) 2009-12-28 2011-08-11 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6107452A (en) * 1998-10-09 2000-08-22 International Business Machines Corporation Thermally and/or photochemically crosslinked electroactive polymers in the manufacture of opto-electronic devices
JP4522416B2 (ja) * 2004-06-23 2010-08-11 シャープ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、それを備えた画像表示装置及び照明装置、電荷輸送材料、及びそれを含む電荷輸送層形成用インク
GB0423528D0 (en) * 2004-10-22 2004-11-24 Cambridge Display Tech Ltd Monomer for making a crosslinked polymer
WO2006092943A1 (ja) 2005-03-02 2006-09-08 Konica Minolta Holdings, Inc. 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置
EP2270069B1 (en) * 2008-02-15 2017-03-29 Mitsubishi Chemical Corporation Conjugated polymer, insolubilized polymer, organic electroluminescent device material, composition for organic electroluminescent device, method for producing polymer, organic electroluminescent device, organic el display, and organic el illuminator

Patent Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003012777A (ja) * 2001-06-13 2003-01-15 Samsung Sdi Co Ltd 白色電界発光高分子化合物およびこれを用いた有機電界発光素子
JP2006520409A (ja) * 2003-02-12 2006-09-07 コーニンクレッカ　フィリップス　エレクトロニクス　エヌ　ヴィ カルバゾール化合物及び有機電界発光デバイスにおけるこのような化合物の使用
JP2004269696A (ja) * 2003-03-10 2004-09-30 Toyo Ink Mfg Co Ltd 有機発光素子材料およびそれを用いた電界発光素子
JP2007511636A (ja) * 2003-11-17 2007-05-10 住友化学株式会社 架橋性アリールアミン化合物、及びそれをベースにしたポリマーの共役オリゴマー又はポリマー
JP2006279007A (ja) 2005-03-02 2006-10-12 Konica Minolta Holdings Inc 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置
JP2006257196A (ja) 2005-03-16 2006-09-28 Sharp Corp 架橋形ポリカルバゾールとそれを用いた有機エレクトロニクスデバイス
JP2009524703A (ja) * 2005-12-20 2009-07-02 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 高分子カルバゾール化合物
JP2008063327A (ja) 2006-08-07 2008-03-21 Mitsubishi Chemicals Corp 架橋基を有する有機化合物、有機電界発光素子用組成物および有機電界発光素子
JP2008169367A (ja) 2006-08-24 2008-07-24 E I Du Pont De Nemours & Co 正孔輸送ポリマー
JP2008231419A (ja) 2007-02-21 2008-10-02 Hitachi Chem Co Ltd 有機エレクトロニクス用材料、並びにこれを用いた有機エレクトロニクス素子及び有機エレクトロルミネセンス素子
JP2009196982A (ja) 2008-01-22 2009-09-03 Mitsubishi Chemicals Corp 架橋性有機化合物、有機電界発光素子用組成物、有機電界発光素子および有機ｅｌディスプレイ
WO2009110360A1 (ja) * 2008-03-05 2009-09-11 出光興産株式会社 高分子化合物及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2009283509A (ja) 2008-05-19 2009-12-03 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> 有機ｅｌ素子および有機ｅｌディスプレイ
JP2011082052A (ja) 2009-10-08 2011-04-21 Hitachi Chem Co Ltd 有機薄膜の製造方法、有機薄膜、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、照明装置および表示素子
JP2011153134A (ja) 2009-12-28 2011-08-11 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2011144375A (ja) * 2010-01-15 2011-07-28 Samsung Electronics Co Ltd 高分子及び該高分子を含む有機発光素子

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9306171B2 (en) 2011-12-05 2016-04-05 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Material for organic electroluminescence device and organic electroluminescence device
US9203036B2 (en) 2012-02-03 2015-12-01 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Carbazole compound, material for organic electroluminescence device and organic electroluminescence device
WO2016047536A1 (ja) * 2014-09-25 2016-03-31 住友化学株式会社 高分子化合物およびそれを用いた発光素子
JPWO2016047536A1 (ja) * 2014-09-25 2017-07-13 住友化学株式会社 高分子化合物およびそれを用いた発光素子
US10336860B2 (en) 2014-09-25 2019-07-02 Sumitomo Chemical Company, Limited Polymer compound and light emitting device using the same
KR20200135971A (ko) 2018-03-27 2020-12-04 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 유기 전계 발광 소자용 재료 및 유기 전계 발광 소자
WO2020036434A1 (ko) 2018-08-16 2020-02-20 주식회사 엘지화학 폴리머, 그 정공 수송 재료로서의 사용, 및 그것을 포함하는 유기 전자 디바이스
KR20210148231A (ko) 2019-03-29 2021-12-07 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 유기 전계 발광 소자용 중합체 및 유기 전계 발광 소자

Also Published As

Publication number Publication date
TW201326250A (zh) 2013-07-01
CN103717636A (zh) 2014-04-09
US20140231771A1 (en) 2014-08-21
US9917273B2 (en) 2018-03-13
KR20140092289A (ko) 2014-07-23
KR101933241B1 (ko) 2018-12-27
EP2770006A1 (en) 2014-08-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6307565B2 (ja) カルバゾール系重合体とそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
KR101933241B1 (ko) 가교형 중합체 및 그것을 이용한 유기 전계 발광 소자
JP6106680B2 (ja) 高分子化合物、電子素子用材料、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子
US9425402B2 (en) Polymerizable monomer, and material for organic device, hole injection/transport material, material for organic electroluminescence element and organic electroluminescent element each comprising polymer (polymeric compound) of the polymerizable monomer
JP4761006B2 (ja) 高分子化合物、該高分子化合物を架橋させてなる網目状高分子化合物、有機電界発光素子用組成物、有機電界発光素子、有機ｅｌディスプレイ及び有機ｅｌ照明
JP2012111719A (ja) 重合性単量体、その重合体を含む有機デバイス用材料、正孔注入輸送材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、並びに有機エレクトロルミネッセンス素子
EP3115395B1 (en) Polymer, composition for organic electroluminescent elements, organic electroluminescent element, organic el display device, and organic el lighting device
US9527814B2 (en) Aromatic amine derivative, organic device material and hole-injection/transport material and organic electroluminescent element material each comprising the derivative, and organic electroluminescent element
JP2012062450A (ja) 新規重合性単量体と高分子化合物、それを用いた有機デバイス用材料、有機エレクトロルミネッセンス用材料、有機デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子
WO2013014908A1 (ja) 芳香族アミン誘導体、及びそれを含む有機エレクトロルミネッセンス素子
WO2014132636A1 (ja) 重合性単量体、その重合体を含む有機デバイス用材料、正孔注入輸送材料、及び有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、並びに有機エレクトロルミネッセンス素子
US20120018710A1 (en) Novel polymerizable monomer and polymer of the polymerizable monomer, and material for organic device, hole injection/transport material and organic electroluminescent element each comprising the polymer
JP2017066416A (ja) 共重合体、有機電子素子用材料、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子
JP6737264B2 (ja) 交差共役系重合体、電子素子用材料、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2013087217A (ja) 架橋型重合体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
WO2016159293A1 (ja) 共重合体、電子素子用材料、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2013087216A (ja) 架橋型重合体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2022136017A (ja) 芳香族化合物

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12840935

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20147000694

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14234876

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2012840935

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE