WO2013018549A1 - 光透過性電極 - Google Patents

光透過性電極 Download PDF

Info

Publication number
WO2013018549A1
WO2013018549A1 PCT/JP2012/068298 JP2012068298W WO2013018549A1 WO 2013018549 A1 WO2013018549 A1 WO 2013018549A1 JP 2012068298 W JP2012068298 W JP 2012068298W WO 2013018549 A1 WO2013018549 A1 WO 2013018549A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
lattice
light
electrode
connection
light transmissive
Prior art date
Application number
PCT/JP2012/068298
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
武宣 吉城
Original Assignee
三菱製紙株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2011166240A external-priority patent/JP5809475B2/ja
Priority claimed from JP2011247624A external-priority patent/JP5841411B2/ja
Application filed by 三菱製紙株式会社 filed Critical 三菱製紙株式会社
Priority to KR1020147004531A priority Critical patent/KR101587486B1/ko
Priority to CN201280037890.2A priority patent/CN103797449B/zh
Priority to US14/235,223 priority patent/US9629242B2/en
Publication of WO2013018549A1 publication Critical patent/WO2013018549A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0445—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/0274—Optical details, e.g. printed circuits comprising integral optical means
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/11—Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K1/115—Via connections; Lands around holes or via connections
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04111—Cross over in capacitive digitiser, i.e. details of structures for connecting electrodes of the sensing pattern where the connections cross each other, e.g. bridge structures comprising an insulating layer, or vias through substrate
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Definitions

  • the present invention relates to a light transmissive electrode used for a touch panel, and more particularly to a light transmissive electrode suitably used for a projection capacitive touch panel.
  • PDAs personal digital assistants
  • OA devices OA devices
  • medical devices OA devices
  • car navigation systems touch panels are widely used as input means for these displays.
  • the touch panel includes an optical method, an ultrasonic method, a capacitance method, a resistance film method, and the like depending on a position detection method.
  • a resistive film type touch panel a light-transmitting conductive material and a glass with a transparent conductor layer are arranged to face each other via a spacer. It has a structure that measures voltage.
  • a capacitive touch panel is basically composed of a transparent conductive layer on a light-transmitting substrate, has no moving parts, and has high durability and high transmittance. For example, it is applied to in-vehicle use.
  • a transparent electrode (light-transmitting conductive material) for touch panel applications As a transparent electrode (light-transmitting conductive material) for touch panel applications, a material in which a light-transmitting conductive film made of ITO is generally formed on a light-transmitting substrate has been used.
  • the ITO conductive film has a large refractive index and a large surface reflection of light, there is a problem that the total light transmittance is lowered, and since the flexibility is low, the ITO conductive film cracks when bent and the electric resistance value is low. There was a problem of getting higher.
  • Patent Document 3 Patent Document 4
  • Patent Document 5 a soluble silver salt forming agent and a reducing agent are allowed to act in an alkaline solution on a conductive material precursor having at least a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer in this order on a light-transmitting substrate.
  • a technique for forming a metallic silver pattern is disclosed. Patterning by this method can reproduce a uniform line width, and since silver has the highest conductivity among metals, higher conductivity can be obtained with a narrower line width than other methods.
  • a light-transmitting conductive material having a high total light transmittance and a low resistance can be obtained. Further, the light-transmitting conductive material obtained by this method has an advantage that it is more flexible and resistant to bending than the ITO conductive film.
  • a touch panel using a projected capacitive method manufactures a touch sensor by bonding two light transmissive conductive materials in which a plurality of electrodes are patterned on the same plane. Since the touch panel is usually operated by an operator staring at the screen, there is a problem that the electrode pattern is visible to the eye (high visibility) if there is a portion having a different total light transmittance.
  • the capacitive method a light-transmitting material in which electrodes are arranged in the horizontal direction and a light-transmitting electrode in which electrodes are arranged in the vertical direction are used in an overlapping manner. There was a problem that the total light transmittance was low, and the electrode pattern was visible (high visibility).
  • the electrodes are alternately composed of main electrode portions made of relatively large squares or rhombuses, and connection portions having a small area for electrically connecting adjacent main electrode portions.
  • connection portions having a small area overlap each other, and the areas of the portions having different total light transmittance are reduced.
  • Patent Document 6 and Patent Document 7 disclose a conductive sheet in which medium lattices having a pitch n times that of a small lattice constituting a large lattice serving as a main electrode are arranged in a zigzag shape. ing.
  • this technology when this technology is used, the overlap occurring between the upper and lower electrodes is improved, but there is a small point where there is no pattern at the apex between the upper and lower electrodes. There was a need for improvement.
  • An object of the present invention is to provide a light-transmitting electrode suitable for a light-transmitting electrode of a touch panel using a projection-type capacitance method and having low electrode pattern visibility (making the electrode pattern difficult to see for a touch panel user) It is to be.
  • a portion of the thin wire is disconnected at the position corresponding to the portion of the light transmissive electrode connected to the light transmitting electrode and / or the portion surrounded by the large lattice and the connecting portion when the material is overlapped, and electrical conduction cannot be obtained.
  • a light transmissive electrode having a large lattice made of a mesh-like conductive portion on both surfaces of a light transmissive substrate and a connection portion having at least one connection lattice and electrically connecting adjacent large lattices.
  • the center of the connecting portion on one surface and the center of the connecting portion on the other surface are arranged so as to substantially coincide, and at least in the connecting portion on one surface and / or surrounded by the large lattice and the connecting portion.
  • a light-transmitting electrode characterized by having a disconnected grid in which a part of a thin wire is disconnected and electrical conduction cannot be obtained at a position corresponding to the portion to be connected.
  • connection portions of the two light-transmissive conductive materials have different sizes and the shapes of the connection portions having different sizes are substantially similar.
  • Permeable electrode Permeable electrode.
  • the size of the connecting portion on one surface and the other surface of the light-transmitting substrate is different, and the shapes of the connecting portions having different sizes are substantially similar.
  • the difference in aperture ratio between the large lattice formed of the mesh-like conductive portion and the non-conductive portion having a broken lattice in which a part of the thin wire is broken and cannot be electrically connected is within 1%.
  • the large lattice is composed of a plurality of unit lattices, and the fine line interval of the unit lattices is 80 to 120% of the fine line interval of the broken lattice, as described in (1) or (2) above Light transmissive electrode.
  • a light-transmitting electrode that is suitable as a light-transmitting electrode for a touch panel using a projected capacitance method and has low electrode pattern visibility (which makes it difficult for a touch panel user to see the electrode pattern). Can do.
  • FIGS. 1A to 1C are diagrams showing an example of a repetitive electrode pattern of a light transmissive electrode of the present invention produced by superposing two light transmissive conductive materials.
  • FIG.1 (b) is the large electrode which the other light transmissive conductive material has, and the repetition electrode pattern of a connection part
  • FIG. 1C is a diagram illustrating an example
  • FIG. 1C is a diagram in which the centers of the connection portions of the light-transmitting conductive material having the electrode patterns of FIG. 1A and FIG. 2A is an enlarged view of a part of FIG. 1A, FIG.
  • FIG. 2B is an enlarged view of a part of FIG. 1B
  • FIG. 2C is FIG. 2A
  • FIG. 2B is a diagram in which the electrode patterns of FIG. 2B are overlapped so that the centers of the connection portions are substantially coincident
  • FIG. 2D is an enlarged view of a plurality of unit lattices
  • FIG. FIG. 2 (f) is a diagram showing the connection portion of FIG. 2 (b)
  • FIG. 2 (g) is an enlarged view of a part of FIG. 1 (c).
  • 3A is a diagram showing an example in which a broken grid is provided in the electrode pattern of FIG. 2C
  • FIG. 3B is a diagram showing an example in which a broken grid is provided in the electrode pattern in FIG. FIG.
  • FIG. 3C shows an example of an electrode pattern composed of two large lattices for obtaining the electrode pattern of FIG. 3A
  • FIG. 3D shows a broken lattice in the electrode pattern of FIG.
  • FIG. 3 (e) is a diagram showing another example provided
  • FIG. 3 (e) is a diagram showing an example in which a broken grid is provided on the electrode pattern of FIG. 2 (b)
  • FIG. 3 (f) is an electrode pattern of FIG. 3 (a).
  • FIG. 3 (g) is a diagram showing another example in which a broken grid is provided in the electrode pattern of FIG. 2 (b).
  • FIG. 4 is an enlarged view showing a non-conductive portion made of a disconnected grid.
  • FIG. 5A is a view showing an example in which an adjacent lattice is provided in the electrode pattern of FIG. 2A
  • FIG. 5B is a view showing an example in which an adjacent lattice is provided in the electrode pattern of FIG.
  • FIG. 5 (c) is a diagram in which the electrode patterns of FIG. 5 (a) and FIG. 5 (b) are overlapped so that the centers of the connection portions substantially coincide
  • FIG. 5 (d) is a diagram of the connection portions of FIG. It is a figure which takes out and expands.
  • FIGS. 6A to 6C are diagrams showing examples of electrode patterns in which a broken grid is provided in the electrode patterns of FIGS. 5A to 5C, respectively.
  • FIGS. 9A and 9B show an example of an electrode pattern of a portion where the large lattice and the connection part are electrically connected
  • FIG. 9D are diagrams showing an example of an electrode pattern in a portion where the large lattice and the connection portion are not electrically connected
  • FIG. 9E is an electrode pattern in which the large lattice and the connection portion are electrically connected.
  • FIG. 9F is an enlarged view showing an example, and FIG. 9F is an enlarged view showing an example of an electrode pattern in which the large lattice and the connection portion are not electrically connected.
  • FIG. 10 shows an electrode pattern of Example 2
  • FIGS. 10A and 10B show an example of an electrode pattern of a portion where the large lattice and the connection portion are electrically connected
  • FIG. ) Is a diagram showing an example of an electrode pattern in which a large lattice and a connection portion are electrically connected.
  • FIG. 11 shows an electrode pattern of Example 3, and FIGS.
  • FIG. 11 (a) and 11 (b) are diagrams showing an example of an electrode pattern of a portion where the large lattice and the connection part are electrically connected
  • FIG. 11D are diagrams showing an example of an electrode pattern in a portion where the large lattice and the connection portion are not electrically connected
  • FIG. 11E is an electrode pattern in which the large lattice and the connection portion are electrically connected
  • FIG. 11F is a diagram illustrating an example
  • FIG. 11F is a diagram illustrating an example of an electrode pattern in which the large lattice and the connection portion are not electrically connected.
  • FIG. 12 shows an electrode pattern of Example 4, FIG. 12 (a) and FIG.
  • FIG. 12b shows an example of an electrode pattern of a portion where the large lattice and the connecting portion are electrically connected
  • FIG. 12 (c) FIG. 12D shows an example of an electrode pattern in a portion where the large lattice and the connection portion are not electrically connected
  • FIG. 12E shows an example of an electrode pattern in which the large lattice and the connection portion are electrically connected
  • FIG. 12F is a diagram illustrating an example of an electrode pattern in which the large lattice and the connection portion are not electrically connected.
  • FIG. 13 shows an electrode pattern of Comparative Example 1
  • FIGS. 13A and 13B show an example of an electrode pattern of a portion where the large lattice and the connection portion are electrically connected, FIG. ) And FIG.
  • FIG. 13D are diagrams showing an example of an electrode pattern in a portion where the large lattice and the connection portion are not electrically connected
  • FIG. 13E is an electrode pattern in which the large lattice and the connection portion are electrically connected
  • FIG. 13 (f) is a diagram illustrating an example
  • FIG. 13 (f) is a diagram illustrating an example of an electrode pattern in which the large lattice and the connection portion are not electrically connected.
  • FIG. 14 shows an electrode pattern of Comparative Example 2
  • FIGS. 14A and 14B show an example of an electrode pattern of a portion where the large lattice and the connecting portion are electrically connected
  • FIG. 14D are diagrams showing an example of an electrode pattern in a portion where the large lattice and the connecting portion are not electrically connected
  • FIG. 14E is an electrode pattern in which the large lattice and the connecting portion are electrically connected
  • FIG. 14 (f) is a diagram showing an example
  • FIG. 14 (f) is a diagram showing an example of an electrode pattern in which the large lattice and the connection portion are not electrically connected.
  • FIG. 15 is a diagram for explaining the degree of disconnection
  • FIG. 15 (a) is a diagram showing a mesh electrode pattern without a disconnection portion
  • FIGS. 15 (b) to 15 (d) are mesh electrode patterns having different disconnection levels. It is a figure which shows another example.
  • FIG. 16 is a diagram for explaining the degree of disconnection.
  • two large grids each having a mesh-like conductive part and two connection parts that have at least one connection grid and electrically connect adjacent large grids.
  • the light transmissive electrode produced by overlapping the light transmissive conductive material will be described in detail.
  • FIGS. 1A to 1C are diagrams showing an example of a repetitive electrode pattern of a light transmissive electrode of the present invention produced by superposing two light transmissive conductive materials.
  • FIG. FIG. 1B is a diagram showing an example of a repetitive electrode pattern of a large lattice and a connection portion included in one light transmissive conductive material
  • FIG. 1B illustrates a repetitive electrode pattern of a large lattice and a connection portion included in the other light transmissive conductive material.
  • FIG. 1C is a view showing an example in which a light-transmitting conductive material having the electrode patterns of FIG. 1A and FIG. 1B is overlapped so that the centers of the connection portions substantially coincide.
  • the large lattice 11 and the connection portion 12 are provided on the light-transmitting substrate 1a, and the large lattice 11 formed of a mesh-like conductive portion is a connection for electrically connecting the large lattices 11 to each other.
  • the parts 12 are connected in the vertical direction.
  • lattice 11 which consists of a mesh-shaped electroconductive part provided on the transparent base material 1b is laterally connected by the connection part 12 which electrically connects between the large grids 11.
  • FIG. It is connected.
  • FIG. 1C shows a state in which the light transmissive conductive materials 3a and 3b are overlapped.
  • the large lattice 11 is configured by arranging a plurality of unit lattices 20 in a mesh shape.
  • a triangle such as a regular triangle, an isosceles triangle, a right triangle, a square, a rectangle, a rhombus, a parallelogram, a trapezoid, or a quadrangle, a (positive) hexagon, a (positive) octagon, ( (Positive) Dodecagons, (Positive) N-gons such as Dodecagons, Circles, Ellipses, Stars, etc. are combined, and these shapes are repeated alone, or two or more types The combination of the shape is mentioned.
  • the large lattice 11 composed of a mesh-like conductive portion is formed.
  • the shape of the unit cell 20 is preferably square or rhombus, and the unit cell 20 is preferably substantially similar to the shape of the outer ring portion of the large lattice 11.
  • the substantially similar shape means that, as will be described later, when the connecting portions 12 enter the large lattice 11 when the large lattices 11 are electrically connected by the connecting portions 12, If there is no change in the shape of the outer part of the large lattice 11 associated with the case, the shape is similar.
  • the fine line width of the unit cell 20 is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 1 to 10 ⁇ m. Further, the interval between the thin lines of the unit cell 20 is preferably 500 ⁇ m or less, and more preferably 300 ⁇ m or less. Furthermore, the aperture ratio of the large lattice 11 composed of the unit lattice 20 is preferably 85% or more, and more preferably 88 to 97%. For example, when the unit cell is a square, the fine line width of the unit cell 20 refers to the width of the side constituting the square. The fine line interval of the unit cell 20 is, for example, a relative value when the unit cell is a square. The distance between sides.
  • the aperture ratio of the large lattice 11 is the area of the portion of the total area excluding the thin line portion (see reference numeral 4 in FIG. 4) with respect to the total area (including the thin line portion) of all unit lattices constituting the large lattice. Say ratio.
  • the connecting portion 12 may be composed of only the connecting grid 16 as shown in FIG. 2A, or the connecting grid 16 and the adjacent grid attached thereto as shown in FIG. 2B. 17 may be comprised.
  • FIG. 2E is a diagram in which only the connecting portion 12 in FIG. 2A is taken out
  • FIG. 2F is a diagram in which only the connecting portion 12 in FIG. 2B is taken out.
  • the connecting portion 12 is composed of only the connecting grid 16, but in FIG. 2 (f), the connecting portion 12 is composed of one connecting lattice 16 and two adjacent lattices 17.
  • connection grid 16 The shape of the connection grid 16 is, for example, a triangle such as a regular triangle, an isosceles triangle, a right triangle, a square, a rectangle, a rhombus, a parallelogram, a trapezoid, or a quadrangle, a (positive) hexagon, a (positive) octagon, )
  • the shape is a combination of a (positive) n-gon, such as a dodecagon, a (positive) icosahedron, a circle, an ellipse, a star, etc., or a single repetition of these shapes, or a plurality of two or more types A combination of shapes is mentioned. Of these, a square or rhombus is preferable. Further, the shape of the connection grid 16 is preferably substantially similar to the large grid 11 described above.
  • the two light-transmitting conductive materials are overlapped so that the centers of the respective connecting portions 12 substantially coincide.
  • the center point 15 of the connecting portion exists on a line 13 that connects the center points of two adjacent large lattices 11 and 11 that are electrically connected by the connecting portion 12. Most preferably, it is located in the middle of the center point 14 of the two adjacent large lattices 11 and 11. If the center point 15 of the connecting portion is a distance of 20% or less of the length of one side of the unit cell 20 constituting the large lattice 11, and preferably a distance of 10% or less, the two adjacent large lattices 11 11 may be shifted from the middle position of the center point 14. This is described as substantially coincidence in the present invention.
  • the length of one side of the connecting grid 16 is preferably in the range of 95 to 105%, which is n times the length of one side of the unit grid 20 constituting the large grid 11 (n is an integer).
  • n is an integer.
  • the adjacent lattice 17 preferably has a shape in which one side of the unit cell 20 is m times and another side is n times (m and n are integers, and m and n may or may not be equal).
  • the length of one side of the adjacent lattice 17 is preferably in the range of 95 to 105% of n times (n is an integer) of the unit lattice 20 constituting the large lattice 11. As shown in FIG. 2B, when the length of one side of the connection grid 16 is equal to or less than the distances 18 and 19 between the two large grids 11 and 11, the adjacent grid 17 enters the large grid 11.
  • the fine line width of the connection grating 16 and the adjacent grating 17 is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 1 to 10 ⁇ m, and further preferably 1 to 2 times the fine line width of the unit cell 20.
  • the line width can be increased only on one side of the connection grid 16 and the adjacent grid 17 or only on a part of one side of the connection grid 16 and the adjacent grid 17.
  • FIG. 2C is a diagram in which the electrode patterns of FIG. 2A and FIG. 2B are overlapped so that the centers of the connection portions substantially coincide.
  • the center point 15 of the connection grid 16 derived from FIG. 2A and the connection grid 16 derived from FIG. 2B is shifted by 20% or less of the length of one side of the unit cell 20 forming the large lattice 11, preferably Are overlapped so as to substantially match with a deviation of 10% or less.
  • the connecting grid 16 derived from FIG. 2A and the connecting grid 16 derived from FIG. 2B are different in size, but in the present invention, the size of the two overlapping connecting grids is different. It is preferable. This makes it possible to further reduce the visibility of the overlapping electrode patterns (make it difficult for the touch panel user to see the electrode patterns).
  • FIG. 2 (g) is an enlarged view of part of FIG. 2 (c) is an enlarged view (see reference numeral 21 in FIG. 2 (c) and FIG. 2 (g))
  • the total light transmittance of the blank portion is different from the total light transmittance of the large lattice 11, it becomes easy to notice and a light-transmitting electrode with low visibility of the electrode pattern cannot be obtained.
  • FIG. 3A is a diagram showing an example in which a broken grid is provided in the electrode pattern of FIG. 2C
  • FIGS. 3B and 3D are diagrams in which a broken grid is provided in the electrode pattern of FIG. 2A.
  • FIGS. 3 (e) and 3 (g) are diagrams showing different examples in which a broken grid is provided in the electrode pattern of FIG. 2 (b).
  • FIG. 4 is an enlarged view showing a non-conductive portion made of a disconnected grid.
  • the difference in aperture ratio between the large lattice 11 composed of the plurality of unit lattices 20 and the non-conductive portion composed of the plurality of disconnected lattices 31 is preferably within 1%. More preferably, it is within 0.78%, and particularly preferably within 0.5%.
  • the aperture ratio is as defined in the paragraph [0018].
  • a specific portion for example, a large lattice 11 composed of a plurality of unit cells 20 or a non-conductivity composed of a plurality of disconnected lattices 31). Part
  • a specific portion is the ratio of the area of the part without the metal part to the total area. For example, in order to obtain the electrode pattern of FIG.
  • FIG. 3A the electrode patterns of FIG. 3B and FIG. 3C are combined, and in FIG. 3B, two large lattices 11 (conductive portions) and A pattern is formed from a portion (non-conductive portion) composed of four plural disconnected grids 31.
  • FIG. 3C a pattern is formed from two large lattices 11 (conductive portion).
  • the aperture ratio of the large lattice 11 (conductive portion) composed of a plurality of unit cells 20 can be obtained as defined in paragraph [0018]. Further, the aperture ratio of the non-conductive portion constituted by the disconnected grid 31 can be obtained as described below.
  • a disconnected grid is one in which the thin wires constituting the grid are disconnected.
  • the non-conductive portion is formed by the presence of the disconnected grid 31 composed of the disconnected fine wire portions 5 so that the fine wire portions 4 constituting the unit lattice 20 are adjacent to the continuous conductive portion. 6 is formed.
  • the aperture ratio of the non-conductive portion 6 is the ratio of the area of the non-conductive portion 6 including the disconnected thin wire portion 5 to the area of the non-conductive portion 6 excluding the disconnected thin wire portion 5 Say.
  • the sum of the areas of the large lattices 11 whose difference from the aperture ratio of the non-conductive portion is within 1% occupies 80% or more of the sum of the areas of all the large lattices 11, It is preferable that the sum of the areas of the non-conductive portions whose difference is within 1% occupy 80% or more of the sum of the areas of all the non-conductive portions. Furthermore, it is more preferable that the aperture ratios of all large lattices 11 are equal and the aperture ratios of all non-conductive portions are equal. However, in the calculation of the aperture ratio described above, a logo portion arbitrarily provided in the electrode pattern is excluded.
  • the open lattice is formed from the disconnected thin wire portion, so the aperture ratio is the direction of the non-conductive portion. Becomes higher.
  • the ratio of the disconnected portion of the non-conductive portion is reduced to suppress the increase in the area ratio of the opening due to the disconnected portion, or A method of compensating for an increase in aperture ratio caused by using a disconnected grid 31 by changing the shapes of the large grid 11 and the unit grid 20 of the non-conductive portion, using the pattern having the unit grid 20 having a higher aperture ratio. Etc. can be used.
  • the disconnected grid 31 (shown by a broken line in FIG. 3) is composed of thin line portions 5 in which a part of the line is electrically disconnected, and the large grids 11, the connection units 12, or the large grid 11 and the connection unit 12.
  • the degree of disconnection is the ratio of the number of disconnection portions per one disconnection grid, regardless of the length of the disconnection portion, and this is the degree of disconnection. Further, in the case where the disconnection part enters over a plurality of disconnection grids, the number of disconnection parts is calculated by dividing by the number of disconnection grids sharing the disconnection part. Furthermore, when the disconnection portion does not uniformly enter all unit graphics, the average degree of disconnection in the minimum unit in which the unit graphic including the disconnection portion is repeated is defined as the disconnection level of the non-conductive portion.
  • FIG. 15 is a diagram for explaining the degree of disconnection
  • FIG. 15 (a) is a diagram showing a mesh electrode pattern without a disconnection portion
  • 16 is also a diagram for explaining the degree of disconnection, and shows a repetitive structure of a square portion 53 composed of square unit figures having the same disconnection pattern.
  • the degree of disconnection of the non-conductive portion is preferably 20% or more.
  • the sheet resistance of the non-conductive portion is 10 K ⁇ / ⁇ or more, more preferably 1 M ⁇ / ⁇ or more, more preferably 1 G ⁇ / ⁇ when measured by the four-terminal method of JIS K7134 (terminal interval 5 mm). What is in the above-mentioned area
  • the fine line width of the disconnected grid 31 (the width of the disconnected fine line part 5 in FIG. 4) of the non-conductive part is preferably 20 ⁇ m or less, and more preferably 1 to 10 ⁇ m. Further, the fine wire interval (see reference symbol L in FIG. 4) of the broken grating 31 is preferably 500 ⁇ m or less, and more preferably 300 ⁇ m or less.
  • the length of the disconnected portion of the disconnected grid 31 (see reference numerals D1 and D2 in FIG. 4) is preferably 30 ⁇ m or less, and more preferably 15 ⁇ m or less. The disconnected portion may be disconnected so as to be orthogonal to the thin line, or may be disconnected obliquely.
  • the fine line interval of the unit cell 20 is preferably 80 to 120% of the fine line interval of the broken lattice 31. Further, when two light-transmitting conductive materials are stacked, it is preferable that the difference between the aperture ratio of the large lattice 11, the aperture ratio of the connection portion 12, and the aperture ratio of the disconnected grid 31 is all within 1%.
  • the electrode pattern as shown in FIG. 3A there are a number of methods for obtaining the electrode pattern as shown in FIG. 3A described above when two light-transmitting conductive materials are stacked.
  • the electrode patterns as shown in FIG. 3B and FIG. 3C are overlapped so as to substantially coincide, or FIG. 3D and FIG. ) Are overlapped so as to substantially match, or FIG. 3 (f) and FIG. 3 (g) are overlapped so as to approximately match.
  • the broken grating 31 is 95 to 105% of the unit grating 20 constituting the large grating 11 so that the broken gratings do not overlap each other and two light-transmitting conductive materials are stacked. It is preferable that a lattice (disconnected lattice) including a disconnected portion is formed in size.
  • FIGS. 5 (a) to 5 (c) are diagrams showing an example of an electrode pattern having an adjacent grid, but a broken grid is not shown for easy understanding.
  • FIG. 5A is a diagram showing an example in which the adjacent grating 17a is provided in the electrode pattern in FIG. 2A
  • FIG. 5B is an example in which the adjacent grating 17b is provided in the electrode pattern in FIG. 2B.
  • FIG. 5C is a diagram in which the electrode patterns of FIG. 5A and FIG. 5B are overlapped so that the centers of the connection portions substantially coincide.
  • the adjacent lattice is provided in order that the connecting portion 12 electrically connects two large lattices 11 adjacent to each other through a plurality of paths.
  • FIG. 5D is a diagram in which only the connecting portion 12 of FIG. As shown in FIG. 5D, there are a total of six adjacent lattices 17a from 171 to 176.
  • the adjacent lattice 171 is provided so as to contact the large lattice 11 (not shown) and the adjacent lattice 172.
  • the adjacent grating 172 is provided in contact with the adjacent grating 171, the large grating 11 (not shown), and the adjacent grating 173.
  • the adjacent grating 173 and the adjacent grating 174 constitute a connection grating 16 by arranging two adjacent gratings 174 and these are provided so as to be adjacent to the large grating 11 (not shown) and adjacent gratings 172 and 175 adjacent to each other. .
  • the adjacent grating 175 is provided in contact with the adjacent grating 174, the large grating 11 (not shown), and the adjacent grating 176.
  • the adjacent lattice 176 is provided so as to contact the adjacent lattice 175 and the large lattice 11 (not shown).
  • the adjacent grating 17a provided in one electrode pattern and another sheet It is preferable that the adjacent grating 17b provided in the electrode pattern does not overlap with each other. This is because when the electrode patterns overlap, the total light transmittance of the overlapped portion is lowered, and the electrode pattern as a whole is easily visible.
  • the fine line width and fine line interval of the adjacent lattices 17a and 17b are in the same range as the unit lattice described in the paragraph [0018].
  • FIGS. 5 (a) to 5 (c) are diagrams showing an example of an electrode pattern obtained by adding a disconnection grid to the electrode patterns of FIGS. 5 (a) to 5 (c).
  • an electrode pattern FIG. 6C in which no lines overlap can be produced.
  • the light transmissive electrodes 100a to 100c of the present invention are produced by stacking two light transmissive conductive materials 3 with an adhesive layer 2 interposed therebetween.
  • Reference numeral 1 denotes a light-transmitting substrate.
  • the adhesive constituting the adhesive layer 2 include known pressure-sensitive adhesives such as acrylic pressure-sensitive adhesives, urethane-based pressure-sensitive adhesives, or thermoplastic resins such as EVA and PVB, urethane-based hot melt adhesives, and thermosetting resins.
  • the light-transmissive conductive material 3 is overlapped with the back of the light-transmissive conductive material 3 (the surface without the conductive portion 61) and the front (the surface with the conductive portion 61) facing each other. Or the back of the light-transmissive conductive material 3 is faced as shown in FIG. 7 (b), or the table of the light-transmissive conductive material 3 is face-to-face as shown in FIG. 7 (c). Either form can be adopted.
  • the light-transmitting substrate used for the light-transmitting conductive material of the present invention plastic, glass, rubber, ceramics and the like are preferably used. These light-transmitting substrates are preferably light-transmitting substrates having a total light transmittance of 60% or more.
  • plastics a resin film having flexibility is preferably used in terms of excellent handleability.
  • the resin film used as the light-transmitting substrate include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), acrylic resins, epoxy resins, fluororesins, silicone resins, polycarbonate resins, Examples include resin films made of acetate resin, triacetate resin, polyarylate resin, polyvinyl chloride, polysulfone resin, polyether sulfone resin, polyimide resin, polyamide resin, polyolefin resin, cyclic polyolefin resin, and the like. It is preferable that it is 300 micrometers.
  • a known layer such as an easy-adhesion layer may be provided on the light-transmitting substrate.
  • a known layer such as a physical development nucleus layer can be provided on the light-transmitting substrate.
  • the conductive portion 61 is preferably made of metal, particularly gold, silver, copper, nickel, aluminum, or a composite material thereof.
  • a method of forming these conductive portions 61 a method using a silver salt photosensitive material, a method of applying electroless plating or electrolytic plating to a silver image obtained by using the same method, a silver paste using a screen printing method, etc.
  • Method of printing conductive ink method of printing conductive ink such as silver ink by inkjet method, method of forming conductive layer made of metal such as copper by electroless plating, etc., or conductive by vapor deposition or sputtering
  • a layer is formed, a resist film is formed thereon, exposure, development, etching, a method obtained by removing the resist layer, a metal foil such as a copper foil is pasted, a resist film is further formed thereon, exposure, Known methods such as development, etching, and a method obtained by removing the resist layer can be used.
  • the thickness of the conductive portion 61 can be reduced and the line width of the conductive portion 61 can be easily reduced.
  • the silver salt diffusion transfer method is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2003-77350 and 2005-250169. If the thickness of the conductive portion 61 manufactured by these methods is too thin, it is difficult to ensure the conductivity necessary for the touch panel. Therefore, the thickness is preferably 0.05 to 5 ⁇ m, more preferably 0.1 to 1 ⁇ m.
  • the light-transmitting conductive material 3 has an electrode pattern formed of a known layer such as a hard coat layer, an anti-reflection layer, an adhesive layer, and an anti-glare layer in addition to the light-transmitting substrate 1 and the conductive portion 61 positioned thereon. (On the side far from the light transmissive substrate 1) or on the side opposite to the electrode pattern on the light transmissive substrate 1.
  • a known layer such as a hard coat layer, an anti-reflection layer, an adhesive layer, and an anti-glare layer
  • a large grid consisting of mesh-like conductive parts and a connection part that electrically connects adjacent large grids are provided, and the front and back connection parts are provided so as to overlap.
  • the light transmissive electrode will be described.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing another example of the light transmissive electrode of the present invention, in which one light transmissive conductive material is used.
  • the light transmissive electrode 100d of the present invention has a light transmissive electrode (hereinafter, referred to as two sheets) having the light transmissive base material 1 and the above-described two light transmissive conductive materials stacked on each other.
  • a light-transmitting substrate similar to the transparent substrate can be used.
  • the light-transmitting substrate 1 can be provided with known layers such as a physical development nucleus layer, an easy adhesion layer, and an adhesive layer.
  • the conductive portions 71 and 72 are preferably made of metal, particularly gold, silver, copper, nickel, aluminum, or a composite material thereof.
  • a method for forming these conductive portions 71 the same method as that for the conductive portion 61 described above is used.
  • unlike two sheets it is necessary to provide a conductive portion on both sides of the light transmissive base material with a single piece of light transmissive conductive material.
  • the conductive portion 72 can be provided on both sides by forming the conductive portion 72 on the one side that is created by the diffusion transfer method and then remaining on the same side or another known method.
  • a manufacturing method that includes an exposure step in the process, for example, a method obtained by forming a conductive layer by vapor deposition or sputtering, forming a resist film thereon, exposing, developing, etching, removing the resist layer, copper
  • the thickness is preferably 0.05 to 5 ⁇ m, more preferably
  • the light transmissive electrode 100d shown in FIG. 8 is a known layer such as a hard coat layer, an antireflection layer, an adhesive layer, and an antiglare layer. It can be provided on the pattern (on the side far from the light-transmitting substrate 1).
  • Example 1 As the light transmissive substrate, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 ⁇ m was used. The total light transmittance of this light-transmitting substrate was 91%. Next, according to the following prescription, a physical development nucleus layer coating solution was prepared, applied on a light-transmitting substrate, and dried to provide a physical development nucleus layer.
  • the silver halide emulsion was prepared by a general double jet mixing method for photographic silver halide emulsions. This silver halide emulsion was prepared with 95 mol% of silver chloride and 5 mol% of silver bromide, and an average grain size of 0.15 ⁇ m. The silver halide emulsion thus obtained was subjected to gold sulfur sensitization using sodium thiosulfate and chloroauric acid according to a conventional method. The silver halide emulsion thus obtained contains 0.5 g of gelatin per gram of silver.
  • the electrode pattern of FIG. 9A is connected to the large lattice 11 and the connection portion at a portion where the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected.
  • 9 is a transparent original A1 having the electrode pattern of FIG. 9C
  • a transparent original having the electrode pattern of FIG. 9B is an electrode pattern in a portion where the two are electrically connected
  • a transparent document B1 having the electrode pattern in FIG. 9D is a portion where the large lattice 11 and the connection portion 12 are not electrically connected.
  • the large lattice 11 is composed of a unit lattice 20 composed of a square having a side length of 0.25 mm, and the large lattice 11 is a square having a length of 5 mm on each side.
  • the unit cell 20 is composed of thin wires having a width of 7 ⁇ m.
  • the disconnected grid 31 is a square having a side length of 0.25 mm (see S in FIG. 4), and the disconnected grid 31 is constituted by a thin line having a width of 8 ⁇ m.
  • lattice 31 has a disconnection part (refer code
  • connection portion 12 of the transparent original A1 is composed of only a connection grid 16 that is a square (line width: 7 ⁇ m) with a side length of 1 mm.
  • the connecting portion 12 of the transparent original B1 shown in FIG. 9B has a connecting grid 16 that is a square (line width: 7 ⁇ m) with a side length of 0.5 mm, and two adjacent grids having the same square shape. 17.
  • the surface having the silver halide emulsion layer of the silver salt photosensitive material 1 obtained as described above is brought into close contact with the surface having the electrode pattern of the transparent original A1. And exposure through a resin filter that cuts off light having a wavelength of 400 nm or less. Further, the surface of the silver salt photosensitive material 1 having the silver halide emulsion layer and the surface of the transparent original B1 having the electrode pattern were brought into close contact with each other and exposed in the same manner. Note that the surfaces to be brought into close contact with each other in Examples and Comparative Examples described later are the same as those in Example 1.
  • the silver halide emulsion layer, the intermediate layer, and the protective layer were subsequently washed away with warm water at 40 ° C., and an electrode pattern similar to A1 was formed using silver.
  • the light-transmitting conductive material 1a having a pattern, the silver halide emulsion layer, the intermediate layer, and the protective layer are washed away with warm water at 40 ° C., and the light-transmitting conductive material 1b having the same electrode pattern as B1 as a silver pattern Got.
  • the line width and line interval of the obtained light transmissive conductive material are exactly the same in the transmissive originals A1 and B1, and in the obtained light transmissive conductive materials 1a and 1b, the aperture ratio of the large lattice 11 is 94.degree. It was 5%.
  • the aperture ratio of the large lattice 11 is 94.degree. It was 5%.
  • the difference in aperture ratio between the large lattice formed of the mesh-like conductive portion in this embodiment and the non-conductive portion having a broken lattice in which a part of the thin wire is broken and cannot be electrically connected is 0.2% at the maximum. there were.
  • ⁇ Diffusion transfer developer composition Potassium hydroxide 25g Hydroquinone 18g 1-phenyl-3-pyrazolidone 2g Potassium sulfite 80g N-methylethanolamine 15g Potassium bromide 1.2g The total amount was dissolved in 1000 ml of water and the pH was adjusted to 12.2.
  • FIG. 7A an enlarged view of an electrode pattern in which the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected is shown in FIG.
  • FIG. 9F shows an enlarged view of the electrode pattern in which the large lattice 11 is not electrically connected to the connection portion 12.
  • Example 2 The electrode pattern shown in FIG. 10A is applied to a portion where the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected, and the portion shown in FIG. 9C is applied to a portion where the large lattice 11 and the connection portion 12 are not electrically connected.
  • the electrode pattern of FIG. 10B is electrically connected to the transparent original A2 having the electrode pattern of FIG.
  • a light-transmissive electrode 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transparent original B2 having the electrode pattern shown in FIG.
  • connection portion 12 of the transparent original A2 includes a connection grid 16 that is a square (line width: 7 ⁇ m) with a side length of 0.5 mm, and two adjacent grids 17 having the same square shape.
  • connection portion 12 of the transparent original B2 includes a connection grid 16 that is a square (line width: 7 ⁇ m) with a side length of 0.5 mm, and two adjacent grids 17 having the same square shape.
  • FIG. 10C an electrode pattern in which the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected is shown in FIG. 10C, and an electrode pattern in which the large lattice 11 is not electrically connected to the connection portion 12 is shown.
  • An enlarged view is shown in FIG. Note that the difference in aperture ratio between the large lattice composed of the mesh-like conductive portion in this example and the non-conductive portion having a broken lattice in which a part of the thin wire is broken and cannot be electrically connected is the same as in Example 1. there were.
  • Example 3> The electrode pattern shown in FIG. 11A is applied to a portion where the large lattice 11 and the connecting portion 12 are electrically connected, and the portion shown in FIG.
  • the electrode pattern of FIG. 11B is electrically connected to the transparent original A3 having the electrode pattern of FIG. 11 and the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected, and the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected.
  • a light transmissive electrode 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transparent original B3 having the electrode pattern shown in FIG.
  • connection portion 12 of the transparent original A3 has a connection grid 16 that is a square (line width: 7 ⁇ m) with a side length of 0.25 mm and two adjacent grids 17 that are adjacent to each other and have a square with a side of 0.5 mm (line width: 7 ⁇ m). Consists of.
  • connection portion 12 of the transparent original B3 is composed only of a connection grid 16 that is a square (line width: 7 ⁇ m) with a side length of 0.75 mm.
  • FIG. 11E an electrode pattern in which the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected is shown in FIG. 11E, and an electrode pattern in which the large lattice 11 and the connection portion 12 are not electrically connected is shown. Is shown in FIG. Note that the difference in aperture ratio between the large lattice composed of the mesh-like conductive portion in this example and the non-conductive portion having a broken lattice in which a part of the thin wire is broken and cannot be electrically connected is the same as in Example 1. there were.
  • Example 4 The electrode pattern shown in FIG. 12A is applied to the portion where the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected, and the portion shown in FIG.
  • the electrode pattern of FIG. 12B is electrically connected to the transparent original A4 having the electrode pattern, and the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected, and the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected to each other.
  • a light transmissive electrode 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transparent original B4 having the electrode pattern of FIG.
  • connection portion 12 of the transparent original A4 is composed of three connection grids 16 (0.25 mm ⁇ 0.75 mm rectangular adjacent grids (line width 7 ⁇ m)) each having a square (line width 7 ⁇ m) with a side length of 0.75 mm. And two adjacent grids 17 (line width: 7 ⁇ m) each having a side length of 0.5 mm and two adjacent grids of 0.25 mm ⁇ 0.5 mm contacting the adjacent grid and the connecting grid. And 0.25 mm ⁇ 0.25 mm adjacent grids adjacent to the adjacent grid.
  • the connecting part 12 of the transparent original B4 has two connecting grids 16 (0.5 mm ⁇ 1.25 mm rectangle (line width 7 ⁇ m)) that are squares (line width 7 ⁇ m) each having a side length of 1.25 mm and 0. .25 mm ⁇ 1.25 mm rectangle (one line width 7 ⁇ m) and the adjacent grid 17 (line width) having a side length of 0.25 mm for electrically connecting the connection grid 16 and the large grid 11. (7 ⁇ m) consisting of eight.
  • FIG. 12E an electrode pattern in which the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected is shown in FIG. 12E, and the electrode pattern in which the large lattice 11 and the connection portion 12 are not electrically connected.
  • FIG. 13A is applied to a portion where the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected
  • FIG. 13C is applied to a portion where the large lattice 11 and the connection portion 12 are not electrically connected.
  • the electrode pattern of FIG. 13 (b) is electrically connected to the transparent original A5 having the electrode pattern, and the large lattice 11 and the connecting portion 12 are electrically connected, and the large lattice 11 and the connecting portion 12 are electrically connected.
  • a light transmissive electrode of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transparent original B5 having the electrode pattern of FIG.
  • the unit lattice 20 has the same line width and line interval as the unit lattice 20 of the transparent originals A1 and B1.
  • the connecting portion 12 of the transparent originals A5 and B5 is formed by zigzag connecting grids 16 each having a square (line width: 7 ⁇ m) with a side length of 0.5 mm.
  • FIG. 13F shows an electrode pattern in which the large lattice 11 and the connection portion 12 are not electrically connected.
  • FIG. 14A is applied to a portion where the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected
  • FIG. 14C is applied to a portion where the large lattice 11 and the connection portion 12 are not electrically connected.
  • the electrode pattern of FIG. 14B is electrically connected to the transparent original A6 having the electrode pattern, and the large lattice 11 and the connection portion 12 are electrically connected.
  • a light transmissive electrode of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transparent original B6 having the electrode pattern of FIG.
  • the unit lattice 20 has the same line width and line interval as the unit lattice 20 of the transparent originals A1 and B1.
  • the connection portion 12 of the transparent originals A6 and B6 is formed by zigzag connecting grids 16 each having a square (line width: 7 ⁇ m) with a side length of 0.5 mm.
  • FIG. 14F shows an electrode pattern in which the large lattice 11 and the connection portion 12 are not electrically connected.
  • Example 5 The polyethylene terephthalate film used in Example 1 was used as the light transmissive substrate.
  • Example 1 a physical development nucleus layer coating solution used in Example 1 was prepared, applied on a light-transmitting substrate, and dried to provide a physical development nucleus layer. Subsequently, the intermediate layer, the silver halide emulsion layer, and the protective layer used in Example 1 were coated on the physical development nucleus solution layer in order from the side closest to the light-transmitting substrate, dried, and silver salt-sensitized. Obtained material.
  • the silver salt light-sensitive material thus obtained and the transparent original A1 were fixed and adhered with a pin bar, and exposed through an optical filter that transmitted only 254 nm light with a contact printer using a mercury lamp as a light source. Then, after immersing in the diffusion transfer developer used in Example 1 at 20 ° C. for 60 seconds, the silver halide emulsion layer, the intermediate layer, and the protective layer were subsequently washed away with warm water at 40 ° C. and dried. . Thus, a silver pattern having a thickness of 0.1 ⁇ m was obtained on the light transmissive substrate. This silver pattern is a silver pattern having the same line width as that of the transparent original A1.
  • a physical development nucleus layer was provided on the light-transmitting substrate on the surface opposite to the silver pattern obtained as described above in the same manner as in Example 1, and further an intermediate layer, a silver halide emulsion layer, and a protective layer.
  • the layers were applied in this order.
  • a light transmissive electrode 5 having a silver pattern (thickness 0.1 ⁇ m) different from the previously provided silver pattern on the opposite surface side of the light transmissive substrate was obtained.
  • This pattern is a silver pattern having the same line width as that of the transparent original B6. As for the visibility of the obtained light transmissive electrode 5, as with the light transmissive electrode 1, no electrode pattern was found.
  • the difference in aperture ratio between the large lattice formed of the mesh-like conductive portion in this example and the non-conductive portion having a broken lattice in which a part of the thin line is broken and cannot be electrically connected is the same as in Example 1. It was.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

　電極パターンの視認性が低い光透過性電極を提供する。　光透過性基材上の片面に、網目状導電部からなる大格子１１と、少なくとも１つの接続格子１６を有し隣接する大格子１１間を電気的に接続する接続部１２を有する、２枚の光透過性導電材料を重ねて作製される光透過性電極であって、２枚の光透過性導電材料はそれぞれの接続部１２の中心が略一致するように重ねられ、かつ少なくとも一方の光透過性導電材料が、前記重ねて作製された際の光透過性電極の接続部１２内および／または大格子１１と接続部１２に囲まれる部分に相当する位置に、細線の一部が断線されて電気的導通の取れない断線格子３１を有する。

Description

光透過性電極
　本発明は、タッチパネルに用いられる光透過性電極に関し、特に投影型静電容量方式タッチパネルに好適に用いられる光透過性電極に関するものである。
　パーソナル・デジタル・アシスタント（ＰＤＡ）、ノートパソコン、ＯＡ機器、医療機器、あるいはカーナビゲーションシステム等の電子機器においては、これらのディスプレイに入力手段としてタッチパネルが広く用いられている。
　タッチパネルには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などがある。抵抗膜方式のタッチパネルは、光透過性導電材料と透明導電体層付ガラスとがスペーサーを介して対向配置されており、光透過性導電材料に電流を流し、透明導電体層付ガラスに於ける電圧を計測するような構造となっている。一方、静電容量方式のタッチパネルは、光透過性基材上に透明導電体層を有するものを基本的構成とし、可動部分がないことが特徴であり、高耐久性、高透過率を有するため、例えば車載用途等において適用されている。
　タッチパネル用途の透明電極（光透過性導電材料）としては、一般にＩＴＯからなる光透過性導電膜が光透過性基材上に形成されたものが使用されてきた。しかしながらＩＴＯ導電膜は屈折率が大きく、光の表面反射が大きいため、全光線透過率が低下する問題や、可撓性が低いため屈曲した際にＩＴＯ導電膜に亀裂が生じて電気抵抗値が高くなる問題があった。
　ＩＴＯに代わる光透過性導電膜を有する光透過性導電材料として、基板上に薄い触媒層を形成し、その上にレジストパターンを形成した後、めっき法によりレジスト開口部に金属層を積層し、最後にレジスト層およびレジスト層で保護された下地金属を除去することにより、導電性パターンを形成するセミアディティブ方法が、例えば、特許文献１、特許文献２などに開示されている。
　また近年、銀塩拡散転写法を用いた銀塩写真感光材料を導電性材料前駆体として用いる方法も提案されている。例えば、特許文献３、特許文献４、
特許文献５等では、光透過性基材上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する導電性材料前駆体に、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させて、金属銀パターンを形成させる技術が開示されている。この方式によるパターニングは均一な線幅を再現することができることに加え、銀は金属の中で最も導電性が高いため、他方式に比べ、より細い線幅で高い導電性を得ることができるので、全光線透過率が高く、かつ低抵抗な光透過性導電材料を得ることができる。また、さらにこの方法で得られた光透過性導電材料はＩＴＯ導電膜よりも可撓性が高く折り曲げに強いという利点がある。
　投影型静電容量方式を用いたタッチパネルは、複数の電極が同一平面上にパターニングされた光透過性導電材料を２枚貼り合わせることでタッチセンサーを製造している。タッチパネルは通常作業者が画面を凝視し操作するため、全光線透過率の異なる部分があると電極パターンが目に映ってしまう（視認性が高い）という問題があった。静電容量方式では横方向に電極を配列させた光透過性材料と縦方向に電極を配列された光透過性電極を重ねて用いるため、どうしても上下の電極に重なりが発生するため、重なった部分の全光線透過率が低くなり、電極パターンが目に映る（視認性が高い）という問題があった。また、投影型静電容量方式のタッチパネルにおいて、電極は比較的大型の正方形、あるいは菱形等からなる主電極部と、隣接する主電極部を電気的に接続する面積の小さい接続部とが、交互に繰り返される構造からなるものが用いられ、面積の小さな接続部が重なるよう２枚の光透過性導電材料を重ねるようにし、全光線透過率の異なる部分の面積を小さくすることが一般的になされているが、十分満足できるものではなく改善が求められていた。
　このような問題に対し、例えば、特許文献６や特許文献７等では、主電極となる大格子を構成する小格子のｎ倍のピッチを有する中格子をジグザグ状に配列した導電シートが開示されている。しかしこの技術を用いた場合、上下の電極間で生じる重なりは改善されるものの、上下の電極間の頂点部においてパターンが存在しない微少点が生じることから、タッチパネルの画面にざらつき感が生じ、さらなる改善が求められていた。
特開２００７－２８７９９４号公報 特開２００７－２８７９５３号公報 特開２００３－７７３５０号公報 特開２００５－２５０１６９号公報 特開２００７－１８８６５５号公報 特開２０１１－１２９５０１号公報 特開２０１１－１１３１４９号公報
　本発明の課題は、投影型静電容量方式を用いたタッチパネルの光透過性電極として好適な、電極パターンの視認性が低い（タッチパネルのユーザーに電極パターンを見えにくくする）光透過性電極を提供することである。
　本発明の上記課題は、以下の発明によって達成される。
　（１）光透過性基材の片面に、網目状導電部からなる大格子と、少なくとも１つの接続格子を有し隣接する大格子間を電気的に接続する接続部を有する、２枚の光透過性導電材料を重ねて作製される光透過性電極であって、２枚の光透過性導電材料はそれぞれの接続部の中心が略一致するように重ねられ、かつ少なくとも一方の光透過性導電材料が、前記重ねて作製された際の光透過性電極の接続部内および／または大格子と接続部に囲まれる部分に相当する位置に、細線の一部が断線されて電気的導通の取れない断線格子を有することを特徴とする光透過性電極。
　（２）光透過性基材の両面に、網目状導電部からなる大格子と、少なくとも１つの接続格子を有し隣接する大格子間を電気的に接続する接続部を有する光透過性電極であって、一方の面が有する接続部の中心と他方の面が有する接続部の中心が略一致するように配置され、かつ少なくとも一方の面上の接続部内および／または大格子と接続部に囲まれる部分に相当する位置に、細線の一部が断線されて電気的導通の取れない断線格子を有することを特徴とする光透過性電極。
　（３）上記２枚の光透過型導電材料が有する接続部の大きさが異なり、かつ大きさが異なる接続部の形状が略相似形であることを特徴とする上記（１）に記載の光透過性電極。
　（４）光透過性基材の一方の面と他方の面が有する接続部の大きさが異なり、かつ大きさが異なる接続部の形状が略相似形であることを特徴とする上記（２）に記載の光透過性電極。
　（５）上記網目状導電部からなる大格子と、細線の一部が断線されて電気的導通の取れない断線格子を有する非導電部の開口率の差が、１％以内であることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の光透過性電極。
　（６）上記大格子が複数の単位格子から構成され、当該単位格子の細線間隔が断線格子の細線間隔の８０～１２０％であることを特徴とする上記（１）、または（２）に記載の光透過性電極。
　本発明により、投影型静電容量方式を用いたタッチパネルの光透過性電極として好適な、電極パターンの視認性が低い（タッチパネルのユーザーに電極パターンを見えにくくする）光透過性電極を提供することができる。
図１（ａ）～（ｃ）は２枚の光透過性導電材料を重ねて作製される本発明の光透過性電極が有する繰り返し電極パターンの一例を示す図であり、図１（ａ）は一方の光透過性導電材料が有する大格子と接続部の繰り返し電極パターンの一例を示す図、図１（ｂ）はもう一方の光透過性導電材料が有する大格子と接続部の繰り返し電極パターンの一例を示す図、図１（ｃ）は図１（ａ）と図１（ｂ）の電極パターンを有する光透過性導電材料の接続部の中心が略一致するように重ねた図である。 図２（ａ）は図１（ａ）の一部を拡大した図、図２（ｂ）は図１（ｂ）の一部を拡大した図、図２（ｃ）は図２（ａ）と図２（ｂ）の電極パターンを接続部の中心が略一致するように重ねた図、図２（ｄ）は複数の単位格子を拡大した図、図２（ｅ）は図２（ａ）の接続部を示す図、図２（ｆ）は図２（ｂ）の接続部を示す図、図２（ｇ）は図１（ｃ）の一部を拡大した図である。 図３（ａ）は図２（ｃ）の電極パターンに断線格子を設けた一例を示す図、図３（ｂ）は図２（ａ）の電極パターンに断線格子を設けた一例を示す図、図３（ｃ）は図３（ａ）の電極パターンを得るための２つの大格子からなる電極パターンの一例を示す図、図３（ｄ）は図２（ａ）の電極パターンに断線格子を設けた別の例を示す図、図３（ｅ）は図２（ｂ）の電極パターンに断線格子を設けた一例を示す図、図３（ｆ）は図３（ａ）の電極パターンを得るための２つの大格子からなる電極パターンの別の例を示す図、図３（ｇ）は図２（ｂ）の電極パターンに断線格子を設けた別の例を示す図である。 図４は断線格子からなる非導電部を拡大して示す図である。 図５（ａ）は図２（ａ）の電極パターンに隣接格子を設けた一例を示す図、図５（ｂ）は図２（ｂ）の電極パターンに隣接格子を設けた一例を示す図、図５（ｃ）は図５（ａ）と図５（ｂ）の電極パターンを接続部の中心が略一致するように重ねた図、図５（ｄ）は図５（ａ）の接続部を取り出して拡大して示す図である。 図６（ａ）～（ｃ）はそれぞれ図５（ａ）～（ｃ）の電極パターンに断線格子を設けた電極パターンの一例を示す図である。 図７（ａ）～（ｃ）は光透過性導電材料が２枚である、本発明の光透過性電極の３つの異なる例の概略断面を示す図である。 図８は光透過性導電材料が１枚である、本発明の光透過性電極の一例の概略断面を示す図である。 図９は実施例１の電極パターンを示し、図９（ａ）と図９（ｂ）は大格子と接続部が電気的に接続される部分の電極パターンの一例を示す図、図９（ｃ）と図９（ｄ）は大格子と接続部が電気的に接続されない部分の電極パターンの一例を示す図、図９（ｅ）は大格子と接続部が電気的に接続される電極パターンの一例を拡大して示す図、図９（ｆ）は大格子と接続部が電気的に接続されない電極パターンの一例を拡大して示す図である。 図１０は実施例２の電極パターンを示し、図１０（ａ）と図１０（ｂ）は大格子と接続部が電気的に接続される部分の電極パターンの一例を示す図、図１０（ｃ）は大格子と接続部が電気的に接続される電極パターンの一例を示す図である。 図１１は実施例３の電極パターンを示し、図１１（ａ）と図１１（ｂ）は大格子と接続部が電気的に接続される部分の電極パターンの一例を示す図、図１１（ｃ）と図１１（ｄ）は大格子と接続部が電気的に接続されない部分の電極パターンの一例を示す図、図１１（ｅ）は大格子と接続部が電気的に接続される電極パターンの一例を示す図、図１１（ｆ）は大格子と接続部が電気的に接続されない電極パターンの一例を示す図である。 図１２は実施例４の電極パターンを示し、図１２（ａ）と図１２ｂ）は大格子と接続部が電気的に接続される部分の電極パターンの一例を示す図、図１２（ｃ）と図１２（ｄ）は大格子と接続部が電気的に接続されない部分の電極パターンの一例を示す図、図１２（ｅ）は大格子と接続部が電気的に接続される電極パターンの一例を示す図、図１２（ｆ）は大格子と接続部が電気的に接続されない電極パターンの一例を示す図である。 図１３は比較例１の電極パターンを示し、図１３（ａ）と図１３（ｂ）は大格子と接続部が電気的に接続される部分の電極パターンの一例を示す図、図１３（ｃ）と図１３（ｄ）は大格子と接続部が電気的に接続されない部分の電極パターンの一例を示す図、図１３（ｅ）は大格子と接続部が電気的に接続される電極パターンの一例を示す図、図１３（ｆ）は大格子と接続部が電気的に接続されない電極パターンの一例を示す図である。 図１４は比較例２の電極パターンを示し、図１４（ａ）と図１４（ｂ）は大格子と接続部が電気的に接続される部分の電極パターンの一例を示す図、図１４（ｃ）と図１４（ｄ）は大格子と接続部が電気的に接続されない部分の電極パターンの一例を示す図、図１４（ｅ）は大格子と接続部が電気的に接続される電極パターンの一例を示す図、図１４（ｆ）は大格子と接続部が電気的に接続されない電極パターンの一例を示す図である。 図１５は断線の程度を説明する図であり、図１５（ａ）は断線部のない網目状電極パターンを示す図、図１５（ｂ）～（ｄ）は断線程度が異なる網目状電極パターンの別の例を示す図である。 図１６は断線の程度を説明する図である。
　まず最初に、光透過性基材上の片面に、網目状導電部からなる大格子と、少なくとも１つの接続格子を有し隣接する大格子間を電気的に接続する接続部を有する２枚の光透過性導電材料を重ねて作製される光透過性電極について詳細に説明する。
　図１（ａ）～（ｃ）は２枚の光透過性導電材料を重ねて作製される本発明の光透過性電極が有する繰り返し電極パターンの一例を示す図であり、図１（ａ）は一方の光透過性導電材料が有する大格子と接続部の繰り返し電極パターンの一例を示す図、図１（ｂ）は、もう一方の光透過性導電材料が有する大格子と接続部の繰り返し電極パターンの一例を示す図、図１（ｃ）は図１（ａ）と図１（ｂ）の電極パターンを有する光透過性導電材料を接続部の中心が略一致するように重ねた図である。
　図１（ａ）において、大格子１１と接続部１２は光透過性基材１ａ上に設けられており、網目状導電部からなる大格子１１は、大格子１１間を電気的に接続する接続部１２により、縦方向に接続されている。一方、図１（ｂ）においては、光透過性基材１ｂ上に設けられた網目状導電部からなる大格子１１は、大格子１１間を電気的に接続する接続部１２により、横方向に接続されている。そして本発明の光透過性電極では、図１（ａ）の大格子１１と接続部１２の繰り返し電極パターンを有する光透過性導電材料３ａと、図１（ｂ）の大格子１１と接続部１２の繰り返し電極パターンを有する光透過性導電材料３ｂとが、それぞれの電極パターンの向きが直交するように、それぞれの接続部の中心が略一致するように重ね合わすことで、投影型静電容量方式を用いたタッチパネルに好適な光透過性電極が得られる。図１（ｃ）は光透過性導電材料３ａと３ｂとを重ね合わせた状態を示すものである。
　図２（ａ）、（ｂ）において、大格子１１は、複数の単位格子２０を網目状に配置することによって構成される。単位格子２０の形状としては、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形、円、楕円、星形などを組み合わせた形状が挙げられ、またこれらの形状の単独の繰り返し、あるいは２種類以上の複数の形状の組み合わせが挙げられる。このような単位格子２０を複数組み合わせることで、網目状導電部からなる大格子１１が形成される。中でも単位格子２０の形状としては正方形もしくは菱形であることが好ましく、また単位格子２０は大格子１１の外輪部の形と略相似形であることが好ましい。なお、ここで略相似形とは、後述するように、大格子１１間を接続部１２により電気的に接続する際、大格子１１中に接続部１２が侵入する形態であっても、この侵入に伴う大格子１１の外側部の形状の変化がなければ形状が相似である場合も包含する。
　単位格子２０の細線幅は２０μｍ以下が好ましく、１～１０μｍがさらに好ましい。また単位格子２０の細線間隔は５００μｍ以下が好ましく、３００μｍ以下がさらに好ましい。さらに単位格子２０から構成される大格子１１の開口率は８５％以上が好ましく、８８～９７％がさらに好ましい。単位格子２０の細線幅とは、例えば、単位格子が正方形である場合、その正方形を構成する辺の幅をいい、単位格子２０の細線間隔とは、例えば、単位格子が正方形である場合、相対する辺と辺の間の距離をいう。大格子１１の開口率とは、大格子を構成するすべての単位格子の合計面積（細線部を含む）に対する、その合計面積から細線部（図４の符号４参照）を除いた部分の面積の比率をいう。
　本発明において接続部１２は、図２（ａ）に示すように、接続格子１６のみで構成されていても良いし、図２（ｂ）に示すように、接続格子１６とそれに付属する隣接格子１７から構成されていても良い。図２（ｅ）は説明のために、図２（ａ）の接続部１２のみを取り出した図で、図２（ｆ）は図２（ｂ）の接続部１２のみを取り出した図である。図２（ｅ）の場合、接続部１２は接続格子１６だけで構成されているが、図２（ｆ）では接続部１２は１つの接続格子１６と２つの隣接格子１７から構成されている。本発明においては、このように隣接する大格子１１を電気的に接続する部分であって、単位格子２０から構成される大格子１１に属さない部分は全て接続部１２に属するものとする。
　次に、接続格子１６について説明する。接続格子１６の形状は、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形、円、楕円、星形などを組み合わせた形状が挙げられ、またこれらの形状の単独の繰り返し、あるいは２種類以上の複数の形状の組み合わせが挙げられる。中でも正方形、もしくは菱形であることが好ましい。さらに接続格子１６の形状は、前述した大格子１１と略相似形であることも好ましい。
　本発明において２枚の光透過性導電材料は、それぞれの接続部１２の中心が略一致するように重ねられる。図２（ａ）および図２（ｂ）において、接続部の中心点１５は、接続部１２によって電気的に接続される隣接する２つの大格子１１と１１の中心点を結ぶ線１３上に存在し、かつ隣接する２つの大格子１１と１１の中心点１４の中間に位置することが最も好ましい。また、接続部の中心点１５は、大格子１１を構成する単位格子２０の一辺の長さの２０％以下の距離、好ましくは１０％以下の距離であれば、隣接する２つの大格子１１と１１の中心点１４の中間の位置からずれていても良い。このことを本発明では略一致と記載する。
　接続格子１６の一辺の長さは大格子１１を構成する単位格子２０の一辺の長さのｎ倍（ｎは整数）の９５～１０５％の範囲であることが好ましい。図２ｃに示すように、２枚の光透過性導電材料を重ねた際に隣接する２つの大格子１１と１１の間の距離１８、１９より接続格子１６の一辺の長さが大きい場合、例えば図２（ａ）のような場合、大格子１１に接続格子１６が侵入する形になり、隣接する大格子１１において侵入した接続格子１６と重なる部分の単位格子は消去される。一方、接続格子１６の一辺の長さが隣接する２つの大格子１１と１１の間の距離１８、１９以下の場合、例えば、図２（ｂ）のような場合、接続格子１６に接する形で隣接格子１７を設けることも、本発明の好ましい態様である。隣接格子１７は単位格子２０の一辺をｍ倍、別の一辺をｎ倍（ｍ、ｎは整数で、ｍとｎは等しくても等しくなくても良い）した形であることが好ましい。隣接格子１７の一辺の長さは大格子１１を構成する単位格子２０のｎ倍（ｎは整数）の９５～１０５％の範囲であることが好ましい。図２（ｂ）に示すように、接続格子１６の一辺の長さが隣接する２つの大格子１１と１１の間の距離１８、１９以下の場合、隣接格子１７は大格子１１に侵入する形になるが、隣接格子１７と重なる部分の大格子１１を構成する単位格子２０は消去される。接続格子１６と隣接格子１７の細線幅は２０μｍ以下が好ましく、１～１０μｍがより好ましく、さらに単位格子２０の細線幅の１～２倍であることが好ましい。また、接続格子１６と隣接格子１７の一辺のみ、あるいは接続格子１６と隣接格子１７の一辺の一部だけ、線幅を太くすることもできる。
　前述の通り、図２（ｃ）は図２（ａ）と図２（ｂ）の電極パターンを接続部の中心が略一致するように重ねた図である。図２（ａ）に由来する接続格子１６と図２（ｂ）に由来する接続格子１６の中心点１５は大格子１１を形成する単位格子２０の一辺の長さの２０％以下のずれ、好ましくは１０％以下のずれで略一致するように重ねられる。図２（ａ）に由来する接続格子１６と図２（ｂ）に由来する接続格子１６の大きさは異なっているが、本発明においては、このように重なる２つの接続格子の大きさは異なることが好ましい。これにより、重なる電極パターンの視認性をより低下させること（タッチパネルのユーザーに電極パターンを見えにくくすること）が可能となる。
　前述したように、図１（ａ）と図１（ｂ）の電極パターンを有する光透過性導電材料３ａと３ｂを接続部１２の中心が略一致するように重ねた際の電極パターン（図１（ｃ）では、大格子１１と接続部１２に囲まれる部分が余白部分となる。図１（ｃ）の一部を拡大したものが図２（ｇ）であり、さらに、図２（ｇ）の一部を拡大したものが図２（ｃ）である（図２（ｃ）と図２（ｇ）の符号２１参照）。この大格子１１と接続部１２に囲まれる余白部分２１が存在すると、この余白部分の全光線透過率が大格子１１の全光線透過率と変わるために目につきやすくなり、電極パターンの視認性が低い光透過性電極は得られなくなる。
　図３（ａ）は図２（ｃ）の電極パターンに断線格子を設けた一例を示す図、図３（ｂ）と図３（ｄ）は図２（ａ）の電極パターンに断線格子を設けた別々の例を示す図、図３（ｅ）と図３（ｇ）は図２（ｂ）の電極パターンに断線格子を設けた別々の例を示す図である。図４は断線格子からなる非導電部を拡大して示す図である。
　本発明の光透過性電極において、複数の単位格子２０から構成される大格子１１と、複数の断線格子３１から構成される非導電部の開口率の差は１％以内であることが好ましく、より好ましくは０．７８％以内であり、０．５％以内であることが特に好ましい。本発明において開口率は段落［００１８］で定義したとおりであり、換言すれば、特定の部分（例えば複数の単位格子２０から構成される大格子１１または複数の断線格子３１から構成される非導電部）の合計面積に対する、金属部のない部分の面積の比率をいう。例えば、図３（ａ）の電極パターンを得るためには、図３（ｂ）と図３（ｃ）の電極パターンが組み合わされ、図３（ｂ）では２つの大格子１１（導電部）と、４つの複数の断線格子３１から構成される部分（非導電部）からパターンが形成されており、図３（ｃ）では２つの大格子１１（導電部）からパターンが形成されている。複数の単位格子２０から構成される大格子１１（導電部）の開口率は段落［００１８］で定義したように求めることができる。また、断線格子３１から構成される非導電部の開口率は次に説明するように求めることができる。
　断線格子とは、格子を構成している細線が断線しているものをいう。図４において、単位格子２０を構成している細線部４が連続している導電部に隣接するように、断線している細線部５から構成される断線格子３１が存在することによって非導電部６が形成される。この非導電部６の開口率は、断線している細線部５を含む非導電部６の面積に対する、その非導電部６の面積から断線している細線部５を除いた部分の面積の比率をいう。
　また、非導電部の開口率との差が１％以内である大格子１１の面積の和が、全ての大格子１１の面積の和の８０％以上を占め、また、導電部の開口率との差が１％以内である非導電部の面積の和が、全ての非導電部の面積の和の８０％以上を占めることが好ましい。さらに、全ての大格子１１の開口率が等しく、かつ全ての非導電部の開口率が等しいことがより好ましい。ただし、上記した開口率の算出においては、電極パターン中に恣意的に設けたロゴ部分などは除くものとする。
　大格子１１と非導電部で同じ形状の単位格子を用い、非導電部に断線格子３１を設けると、断線格子は断線している細線部から形成されるので、開口率は非導電部の方が高くなる。大格子１１と非導電部との開口率の差を１％以内にするには、非導電部の断線部分の割合を減らして、断線部による開口部の面積率の上昇を抑える方法や、あるいは大格子１１と非導電部の単位格子２０の形状を変え、大格子１１の方が開口率の高い単位格子２０を有するパターンを用い、断線格子３１を用いることによる開口率の上昇を補償する方法などを用いることができる。
　断線格子３１（図３において破線で示している）は線の一部が電気的に断線された細線部５からなり、大格子１１同士、あるいは接続部１２同士、あるいは大格子１１と接続部１２とを電気的に繋がらないように断線部が形成されていれば、どのように断線部が形成されていても良い。断線の程度は断線格子１個あたり、断線部の長さに関係なく、断線部が入る個数を割合として出し、これを断線の程度とする。また断線部が複数の断線格子にわたって入る場合、断線部の個数はその断線部を共有する断線格子の個数で割って計算する。さらに断線部が全ての単位図形に均等に入らない場合、断線部を含めた単位図形が繰り返される最小単位での平均した断線の程度をその非導電部の断線の程度とする。
　図１５は断線の程度を説明する図であり、図１５（ａ）は断線部のない網目状電極パターンを示す図、図１５（ｂ）～（ｄ）は断線程度が異なる網目状電極パターンの別の例を示す図である。図１５（ａ）は断線部のない網目状パターンであるから断線の程度は０％である。図１５（ｂ）の場合、断線部５１は単位図形（正方形）に２個存在するが、この断線部５１は二つの単位図形に共有されているので、一つの単位図形あたり１／２個となり、断線の程度としては（１／２）×２＝１００％となる。図１５（ｃ）の場合、断線部５１は四つの単位図形に共有されているので、一つの単位図形あたり１／４個となり、単位図形の角４箇所に断線部５１が存在するので、断線の程度としては（１／４）×４＝１００％となる。また、例えば、図１５（ｄ）のように５×５の正方形の単位図形から網目状パターンは形成されているが、断線部５１は単位図形全て同じではなく、図１５（ｄ）の太線で囲った正方形部分５２の繰り返しとなっている。この場合は単位図形４個からなる正方形部分５２について１／４個の断線部が４つと１個の断線部が１つあるので、断線の程度は（（１／４）×４＋１×１）÷４＝５０％となる。図１６は同じく断線の程度を説明する図であり、同じ断線パターンを有する、正方形の単位図形からなる正方形部分５３の繰り返し構造である。この場合の断線の程度は、（１／４×４＋１／２×１２＋１×１５）÷６４＝３４．３７５％となる。
　本発明において非導電部の断線の程度は２０％以上であることが好ましい。また、非導電部のシート抵抗はＪＩＳ　Ｋ７１３４の四端子法（端子間隔５ｍｍ）で測定した際の値で１０ＫΩ／□以上であり、より好ましくは１ＭΩ／□以上であり、さらに好ましくは１ＧΩ／□以上であって、所謂絶縁体といわれる領域にあるものが好ましい。
　非導電部が有する断線格子３１の細線幅（図４の断線している細線部５の幅）は２０μｍ以下が好ましく、１～１０μｍがさらに好ましい。また断線格子３１の細線間隔（図４の符号Ｌ参照）は５００μｍ以下が好ましく、３００μｍ以下がさらに好ましい。断線格子３１の断線している部分（図４の符号Ｄ１、Ｄ２参照）の長さは３０μｍ以下が好ましく、さらに１５μｍ以下が好ましい。断線部は細線に直交するように断線されていても良いし、あるいは斜めに断線されていても良い。また前記した単位格子２０の細線間隔は、断線格子３１の細線間隔の８０～１２０％であることが好ましい。更に２枚の光透過性導電材料を重ねた場合、大格子１１の開口率、接続部１２の開口率および断線格子３１の開口率のお互いの差は全て１％以内に収まることが好ましい。
　２枚の光透過性導電材料を重ねた際に前述した図３（ａ）のような電極パターンを得るには多数の方法がある。このような電極パターンを得るための例として、例えば、図３（ｂ）と図３（ｃ）のような電極パターンを略一致するように重ねたり、あるいは図３（ｄ）と図３（ｅ）を略一致するように重ねたり、あるいは図３（ｆ）と図３（ｇ）を略一致するように重ねたりする方法が挙げられる。これらの例で示されるように断線格子３１は断線格子同士が重ならないように、かつ２枚の光透過性導電材料を重ねた際に大格子１１を構成する単位格子２０の９５～１０５％の大きさで、断線部を含む格子（断線格子）が形成されることが好ましい。
　図５（ａ）～（ｃ）は隣接格子を有する電極パターンの一例を示す図であるが、説明を分かりやすくするため、断線格子は表示していない。図５（ａ）は図２（ａ）の電極パターンに隣接格子１７ａを設けた一例を示す図であり、図５（ｂ）は図２（ｂ）の電極パターンに隣接格子１７ｂを設けた一例を示す図であり、さらに図５（ｃ）は図５（ａ）と図５（ｂ）の電極パターンを接続部の中心が略一致するように重ねた図である。これらに見られるように、隣接格子は接続部１２が複数の経路で隣接する２つの大格子１１を電気的に接続するために設けられる。そのため、隣接格子は接続格子１６と他の隣接格子とに接触するように、あるいは接続格子１６と大格子１１とに接触するように、あるいは他の隣接格子とさらにまた他の隣接格子とに接触するように設けられることが好ましい。また、隣接格子は接続格子１６または他の隣接格子の中に侵入するように設けられても良い。図５（ｄ）は説明のため、図５（ａ）の接続部１２のみを取り出した図である。図５（ｄ）に示すように、隣接格子１７ａは１７１～１７６まで合計６個ある。隣接格子１７１は大格子１１（図示しない）と隣接格子１７２と接触するように設けられている。隣接格子１７２は隣接格子１７１、大格子１１（図示しない）および隣接格子１７３と接触するように設けられている。隣接格子１７３と隣接格子１７４は２つ揃うことで接続格子１６を構成しており、これらは大格子１１（図示しない）とそれぞれに隣接する隣接格子１７２、１７５と隣接するように設けられている。隣接格子１７５は隣接格子１７４、大格子１１（図示しない）および隣接格子１７６と接触するように設けられている。隣接格子１７６は隣接格子１７５および大格子１１（図示しない）と接触するように設けられている。
　図５（ａ）の電極パターンと図５（ｂ）の電極パターンを重ねた図５（ｃ）の電極パターンに示すように、一枚の電極パターンに設けられた隣接格子１７ａともう一枚の電極パターンに設けられた隣接格子１７ｂとが互いに重ならないようにすることが好ましい。電極パターンが重なると、重なった部分の全光線透過率が低くなり、全体として電極パターンが目に映り易くなるからである。なお、隣接格子１７ａと１７ｂの細線幅と細線間隔は段落［００１８］に記載した単位格子と同じような範囲であるのが好ましい。
　図６（ａ）～（ｃ）は図５（ａ）～（ｃ）の電極パターンに断線格子を加えた電極パターンの一例を示す図である。図６（ａ）の電極パターンと図６（ｂ）の電極パターンとを重ねることで、一切の線が重ならないような電極パターン図６（ｃ）を作製することができる。
　図７（ａ）～（ｃ）は、光透過性導電材料が２枚である、本発明の光透過性電極の３つの異なる例を示す概略断面図である。本発明の光透過性電極１００ａ～１００ｃは光透過性導電性材料３を接着剤層２を介して２枚重ねて作製される。１は光透過性基材である。接着剤層２を構成する接着剤としては、公知の粘着剤、例えばアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤や、あるいは熱可塑性樹脂、例えばＥＶＡやＰＶＢ、ウレタン系ホットメルト接着剤、熱硬化性樹脂、例えばエポキシ樹脂や熱硬化性ウレタン樹脂、紫外硬化型樹脂、例えばアクリル系紫外線硬化樹脂、エポキシ系紫外線硬化樹脂など公知のものを用いることができる。光透過性導電材料３を重ねる向きとしては、図７（ａ）に示すように、光透過性導電材料３の裏（導電部６１のない面）と表（導電部６１のある面）を対面させるか、図７（ｂ）に示すように、光透過性導電材料３の裏と裏を対面させるか、図７（ｃ）に示すように、光透過性導電材料３の表と表を対面させるかのいずれの形式でも採用することができる。
　本発明の光透過性導電材料に用いる光透過性基材としては、プラスチック、ガラス、ゴム、セラミックス等が好ましく用いられる。これら光透過性基材は全光線透過率が６０％以上である光透過性基材が好ましい。プラスチックの中でも、フレキシブル性を有する樹脂フィルムは、取扱い性が優れている点で好適に用いられる。光透過性基材として使用される樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等からなる樹脂フィルムが挙げられ、その厚さは５０～３００μｍであることが好ましい。光透過性基材には易接着層など公知の層が設けられていても良い。さらに光透過性基材には物理現像核層など公知の層を設けることができる。
　導電部６１は金属、特に金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、およびこれらの複合材からなることが好ましい。これら導電部６１を形成する方法としては、銀塩感光材料を用いる方法、同方法を用いさらに得られた銀画像に無電解めっきや電解めっきを施す方法、スクリーン印刷法を用いて銀ペーストなどの導電性インキを印刷する方法、銀インクなどの導電性インクをインクジェット法で印刷する方法、無電解めっき等で銅などの金属からなる導電性層を形成する方法、あるいは蒸着やスパッタなどで導電性層を形成し、その上にレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング、レジスト層除去することで得る方法、銅箔などの金属箔を貼り、さらにその上にレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング、レジスト層除去することで得る方法など、公知の方法を用いることができる。中でも導電部６１の厚みが薄くでき、さらに導電部６１の線幅を微細にすることが容易である銀塩拡散転写法を用いることが好ましい。銀塩拡散転写法としては例えば特開２００３－７７３５０号公報や特開２００５－２５０１６９号公報に記載されている。これらの手法で作製した導電部６１の厚みは薄すぎるとタッチパネルとして必要な導電性を確保し難くなる。よって、その厚みは０．０５～５μｍが好ましく、より好ましくは０．１～１μｍである。
　本発明において光透過性導電材料３は光透過性基材１とその上に位置する導電部６１以外にも、ハードコート層、反射防止層、粘着層、防眩層など公知の層を電極パターンの上（光透過性基材１から遠い側）、あるいは光透過性基材１上において電極パターンとは反対の側に設けることができる。
　次に光透過性基材の両面上に網目状導電部からなる大格子と、隣接する大格子を電気的に接続する接続部を有し、表裏の接続部が重なるように設けられて作製される光透過性電極について説明する。
　図８は本発明の光透過性電極の別の一例を示す概略断面図であり、光透過性導電材料が１枚の例である。本発明の光透過性電極１００ｄは光透過性基材１として、前述の２枚の光透過性導電材料を重ねて製作された光透過性電極（以下２枚ものと記述する）が有する光透過性基材と同様の光透過性基材を用いることができる。光透過性基材１にはやはり２枚ものと同様に、物理現像核層、易接着層、接着剤層など公知の層を設けることができる。
　図８において導電部７１、７２は金属、特に金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、およびこれらの複合材からなることが好ましい。これら導電部７１を形成する方法としては前述した導電部６１と同様の方法を用いる。また、中でも導電部７１、７２の厚みが薄くでき、さらに導電部７１、７２の線幅を微細にすることが容易な銀塩拡散転写法を用いることが好ましい。しかしながら、２枚ものと異なり、光透過性導電材料が１枚である一枚ものでは光透過性基材の両面に導電部を設けることが必要となるが、片面の導電部７１を上記銀塩拡散転写法で作成し、続いて残る片面の導電部７２を同じ方法あるいは、別の公知の方法で導電部を設けることで両面に導電部を設けることができる。特に工程中に露光工程の入る製造法、例えば、蒸着やスパッタなどで導電性層を形成し、その上にレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング、レジスト層除去することで得る方法、銅箔などの金属箔を貼り、さらにその上にレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング、レジスト層除去することで得る方法、銀塩拡散転写法を用いる方法、白黒銀塩写真法を用いる方法などにおいては、露光を行う際には、ピンバーを用いて上下面の相対的位置精度を上げることが可能となるため好ましい。これらの手法で作製した導電部７１と７２の厚みは薄すぎるとタッチパネルとして必要な導電性を確保し難くなる。よって、その厚みは０．０５～５μｍが好ましく、より好ましくは０．１～１μｍである。
　図８の光透過性電極１００ｄは光透過性基材１とその上に位置する導電部７１、７２以外にも、ハードコート層、反射防止層、粘着層、防眩層など公知の層を電極パターンの上（光透過性基材１から遠い側）に設けることができる。
　以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
＜実施例１＞
　光透過性基材として、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。この光透過性基材の全光線透過率は９１％であった。
　次に下記処方に従い、物理現像核層塗液を作製し、光透過性基材上に塗布し、乾燥して物理現像核層を設けた。
＜硫化パラジウムゾルの調製＞
　Ａ液　　塩化パラジウム　　　　　　　　　　　　　　　　５ｇ
　　　　　塩酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０ｍｌ
　　　　　蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　　　１０００ｍｌ
　Ｂ液　　硫化ソーダ　　　　　　　　　　　　　　　　８．６ｇ
　　　　　蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　　　１０００ｍｌ
　Ａ液とＢ液を撹拌しながら混合し、３０分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
＜物理現像核層塗液の調製／光透過性基材１ｍ２あたり〉
　前記硫化パラジウムゾル　　　　　　　　　　　　　　０．４ｍｇ
　２質量％グリオキザール水溶液　　　　　　　　　　　０．２ｍｌ
　界面活性剤（Ｓ－１）　　　　　　　　　　　　　　　　　４ｍｇ
　デナコールＥＸ－８３０　　　　　　　　　　　　　　　５０ｍｇ
　　（ナガセケムテックス（株）製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル）
　１０質量％ＳＰ－２００水溶液　　　　　　　　　　　０．５ｍｇ
　　（（株）日本触媒製ポリエチレンイミン；平均分子量１０，０００）
　続いて、光透過性基材に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、および保護層を上記物理現像核層の上に塗布し、乾燥して、銀塩感光材料１を得た。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀９５モル％と臭化銀５モル％で、平均粒径が０．１５μｍになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀１ｇあたり０．５ｇのゼラチンを含む。
＜中間層組成／光透過性基材１ｍ２あたり＞
　ゼラチン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５ｇ
　界面活性剤（以下の化学式(１)を有するもの）　　　　５ｍｇ
　染料　(以下の化学式(２)を有するもの)　　　　　　　０．１ｇ
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000002
＜ハロゲン化銀乳剤層組成／光透過性基材１ｍ２あたり＞
　ゼラチン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５ｇ
　ハロゲン化銀乳剤　　　　　　　　　　　　　　　　　３．０ｇ銀相当
　１－フェニル－５－メルカプトテトラゾール　　　　　３ｍｇ
　界面活性剤（上記化学式(１)を有するもの）　　　　　２０ｍｇ
＜保護層組成／光透過性基材１ｍ２あたり＞
　ゼラチン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
　不定形シリカマット剤（平均粒径３．５μｍ）　　　　１０ｍｇ
　界面活性剤（上記化学式(１)を有するもの）　　　　　１０ｍｇ
　図１（ａ）の電極パターンを有する透過原稿であって、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される部分には図９（ａ）の電極パターンを、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない部分には図９（ｃ）の電極パターンを有する透過原稿Ａ１と、図１（ｂ）の電極パターンを有する透過原稿であって、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される部分には図９（ｂ）の電極パターンを、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない部分には図９（ｄ）の電極パターンを有する透過原稿Ｂ１をそれぞれ準備した。
　透過原稿Ａ１およびＢ１において、大格子１１は一辺の長さが０．２５ｍｍの正方形からなる単位格子２０から構成され、大格子１１は一辺の長さが５ｍｍの正方形であり、これらの大格子１１および単位格子２０は幅７μｍの細線により構成されている。また断線格子３１は一辺の長さが０．２５ｍｍの正方形（図４の符号Ｓ参照）であり、断線格子３１は幅８μｍの細線により構成されている。なお断線格子３１は６７．５μｍ（図４の符号Ｐ参照）毎に１０μｍの断線部（図４の符号Ｄ１参照）を有する。この断線格子３１において、図４の符号Ｄ２に相当する断線部の長さは１０μｍである。
　透過原稿Ａ１の接続部１２は、図９（ａ）に示すように、一辺の長さが１ｍｍの正方形（線幅７μｍ）である接続格子１６のみからなる。一方、図９（ｂ）に示す透過原稿Ｂ１の接続部１２は、一辺の長さが０．５ｍｍの正方形（線幅７μｍ）である接続格子１６と、同様の正方形状をした２つの隣接格子１７からなる。
　上記のようにして得られた銀塩感光材料１のハロゲン化銀乳剤層を有する側の面と透過原稿Ａ１の電極パターンを有する側の面を密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターを用いて、４００ｎｍ以下の波長の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。また銀塩感光材料１のハロゲン化銀乳剤層を有する側の面と透過原稿Ｂ１の電極パターンを有する側の面を密着して同様に露光した。なお、後述する実施例および比較例についても露光する際に密着させる面は実施例１と同様である。
　その後、下記拡散転写現像液中に２０℃で６０秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を４０℃の温水で水洗除去し、Ａ１と同様の電極パターンを銀パターンとして有する光透過性導電材料１ａと、ハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を４０℃の温水で水洗除去し、Ｂ１と同様の電極パターンを銀パターンとして有する光透過性導電材料１ｂを得た。なお、得られた光透過性導電材料の線幅、線間隔は透過原稿Ａ１とＢ１において全く同じであり、得られた光透過性導電材料１ａおよび１ｂにおいて、大格子１１の開口率は９４．５％であった。一方、上記した透過原稿Ａ１およびＢ１において断線部としては、断線の程度が６００％の断線格子、７００％の断線格子、および８００％の断線格子が存在し、これら個々の断線格子における開口率はそれぞれ９４．５％、９４．６％、および９４．７％となる。よって本実施例における網目状導電部からなる大格子と、細線の一部が断線されて電気的導通の取れない断線格子を有する非導電部の開口率の差は、最大でも０．２％であった。
＜拡散転写現像液組成＞
　水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２５ｇ
　ハイドロキノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１８ｇ
　１－フェニル－３－ピラゾリドン　　　　　　　　　　　　２ｇ
　亜硫酸カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８０ｇ
　Ｎ－メチルエタノールアミン　　　　　　　　　　　　　１５ｇ
　臭化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．２ｇ
　　全量を１０００ｍｌの水に溶解し、ｐＨを１２．２に調整した。
　得られた光透過性導電材料１ａおよび１ｂを、接続部１２の中心が一致するよう、ＭＨＭ－ＦＷ２５（日栄化工（株）製基材レス両面粘着テープ）を用い、光透過性導電材料の向きが図７（ａ）のようになるよう貼合して、光透過性電極１を得た。なお光透過性電極１において、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される電極パターンの拡大図を図９（ｅ）に示した。また大格子１１が接続部１２と電気的に接続されない電極パターンの拡大図を図９（ｆ）に示した。
＜実施例２＞
　大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される部分には図１０（ａ）の電極パターンを、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない部分には図９（ｃ）の電極パターンを有する透過原稿Ａ２と、大格子１１と接続部１２と電気的に接続される部分には図１０（ｂ）の電極パターンを、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない部分には図９（ｄ）の電極パターンを有する透過原稿Ｂ２を用いた以外は実施例１と同様にして、光透過性電極２を得た。
　透過原稿Ａ２およびＢ２において、単位格子２０および断線格子３１は透過原稿Ａ１およびＢ１の単位格子２０、断線格子３１と同じ線幅、線間隔、断線部を有する。
　透過原稿Ａ２の接続部１２は、一辺の長さが０．５ｍｍの正方形（線幅７μｍ）である接続格子１６と、同様の正方形状をした２つの隣接格子１７からなる。透過原稿Ｂ２の接続部１２は、一辺の長さが０．５ｍｍの正方形（線幅７μｍ）である接続格子１６と、同様の正方形状をした２つの隣接格子１７からなる。また光透過性電極２において、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される電極パターンを図１０（ｃ）に示し、大格子１１が接続部１２と電気的に接続されない電極パターンの拡大図を図９（ｆ）に示した。なお、本実施例における網目状導電部からなる大格子と、細線の一部が断線されて電気的導通の取れない断線格子を有する非導電部の開口率の差は、実施例１と同様であった。
＜実施例３＞
　大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される部分には図１１（ａ）の電極パターンを、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない部分には図１１（ｃ）の電極パターンを有する透過原稿Ａ３と、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される部分には図１１（ｂ）の電極パターンを、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない部分には図１１（ｄ）の電極パターンを有する透過原稿Ｂ３を用いた以外は実施例１と同様にして、光透過性電極３を得た。
　透過原稿Ａ３およびＢ３において、単位格子２０および断線格子３１は透過原稿Ａ１およびＢ１の単位格子２０、断線格子３１と同じ線幅、線間隔、断線部を有する。
　透過原稿Ａ３の接続部１２は、一辺の長さが０．２５ｍｍの正方形（線幅７μｍ）である接続格子１６とそれに隣接する２つの一辺０．５ｍｍの正方形（線幅７μｍ）の隣接格子１７からなる。一方、透過原稿Ｂ３の接続部１２は、一辺の長さが０．７５ｍｍの正方形（線幅７μｍ）である接続格子１６のみからなる。また光透過性電極３において、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される電極パターンを図１１（ｅ）に示し、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない電極パターンを図１１（ｆ）に示した。なお、本実施例における網目状導電部からなる大格子と、細線の一部が断線されて電気的導通の取れない断線格子を有する非導電部の開口率の差は、実施例１と同様であった。
＜実施例４＞
　大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される部分には図１２（ａ）の電極パターンを、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない部分には図１２（ｃ）の電極パターンを有する透過原稿Ａ４と、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される部分には図１２（ｂ）の電極パターンを、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない部分には図１２（ｄ）の電極パターンを有する透過原稿Ｂ４を用いた以外は実施例１と同様にして、光透過性電極４を得た。
　透過原稿Ａ４およびＢ４において、単位格子２０および断線格子３１は透過原稿Ａ１およびＢ１の単位格子２０、断線格子３１と同じ線幅、線間隔、断線部を有する。
　透過原稿Ａ４の接続部１２は、一辺の長さが０．７５ｍｍの正方形（線幅７μｍ）である接続格子１６（０．２５ｍｍ×０．７５ｍｍの長方形の隣接格子（線幅７μｍ）３つからなる）とそれに隣接する一辺の長さが０．５ｍｍの正方形の隣接格子１７（線幅７μｍ）２つ、さらにこの隣接格子と接続格子に接触する０．２５ｍｍ×０．５ｍｍの隣接格子２つ、この隣接格子に隣接する０．２５ｍｍ×０．２５ｍｍの隣接格子２つからなる。一方、透過原稿Ｂ４の接続部１２は、一辺の長さが１．２５ｍｍの正方形（線幅７μｍ）である接続格子１６（０．５ｍｍ×１．２５ｍｍの長方形（線幅７μｍ）が２つと０．２５ｍｍ×１．２５ｍｍの長方形（線幅７μｍ）１つからなる）と、接続格子１６並びに大格子１１を電気的に接続する一辺の長さが０．２５ｍｍの正方形の隣接格子１７（線幅７μｍ）８つからなる。また光透過性電極４において、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される電極パターンを図１２（ｅ）に示し、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない電極パターンを図１２（ｆ）に示した。なお、本実施例における網目状導電部からなる大格子と、細線の一部が断線されて電気的導通の取れない断線格子を有する非導電部の開口率の差は、実施例１と同様であった。
＜比較例１＞
　大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される部分には図１３（ａ）の電極パターンを、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない部分には図１３（ｃ）の電極パターンを有する透過原稿Ａ５と、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される部分には図１３（ｂ）の電極パターンを、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない部分には図１３（ｄ）の電極パターンを有する透過原稿Ｂ５を用いた以外は実施例１と同様にして、比較例１の光透過性電極を得た。
　透過原稿Ａ５およびＢ５において、単位格子２０は透過原稿Ａ１およびＢ１の単位格子２０と同じ線幅、線間隔を有する。
　透過原稿Ａ５、Ｂ５の接続部１２は、一辺の長さが０．５ｍｍの正方形（線幅７μｍ）である接続格子１６がジグザグに配置されてなる。なお、比較例１の光透過性電極において、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される電極パターンを図１３（ｅ）に示した。また大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない電極パターンを図１３（ｆ）に示した。
＜比較例２＞
　大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される部分には図１４（ａ）の電極パターンを、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない部分には図１４（ｃ）の電極パターンを有する透過原稿Ａ６と、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される部分には図１４（ｂ）の電極パターンを、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない部分には図１４（ｄ）の電極パターンを有する透過原稿Ｂ６を用いた以外は実施例１と同様にして、比較例２の光透過性電極を得た。
　透過原稿Ａ６およびＢ６において、単位格子２０は透過原稿Ａ１およびＢ１の単位格子２０と同じ線幅、線間隔を有する。
　透過原稿Ａ６、Ｂ６の接続部１２は、一辺の長さが０．５ｍｍの正方形（線幅７μｍ）である接続格子１６がジグザグに配置されてなる。なお、比較例２の光透過性電極において、大格子１１と接続部１２とが電気的に接続される電極パターンを図１４（ｅ）に示した。また大格子１１と接続部１２とが電気的に接続されない電極パターンを図１４（ｆ）に示した。
　上記のようにして得られた本発明の光透過性電極１～４、および比較例１、２の光透過性電極の視認性を目視により評価した。電極パターンがはっきり判るものを１、少し見れば電極パターンが判るものを２、良く見れば電極パターンが判るものを３、注視しないと電極パターンが判らないものを４、全く電極パターンが判らないものを５とした。評価結果を表１に示す。当然のことながら、本発明の目的を達成するためには、表１の数値が大きいほど好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　表１の結果から、本発明の光透過性電極は、電極パターンの視認性が低いことが明らかである。
＜実施例５＞
　光透過性基材として実施例１で用いたポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。
　次に実施例１で用いた物理現像核層塗液を作製し、光透過性基材上に塗布し、乾燥して物理現像核層を設けた。
　続いて、光透過性基材に近い方から順に実施例１で用いた中間層、ハロゲン化銀乳剤層、および保護層を上記物理現像核液層の上に塗布、乾燥して、銀塩感光材料を得た。
　このようにして得た銀塩感光材料と、透過原稿Ａ１とをピンバーにて固定、密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで２５４ｎｍの光のみを透過する光学フィルターを介して露光した。
　その後、実施例１で用いた拡散転写現像液中に２０℃で６０秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を４０℃の温水で水洗除去し、乾燥処理した。こうして光透過性基材上に厚み０．１μｍの銀パターンを得た。なお、この銀パターンは透過原稿Ａ１と同様の線幅を有する銀パターンである。
　上記のようにして得られた銀パターンとは反対側の面の光透過性基材に実施例１と同様の方法にて物理現像核層を設け、さらに中間層、ハロゲン化銀乳剤層、保護層をこの順に塗布した。このようにして作製した銀塩感光材料と、画像が透過原稿Ｂ１の鏡像になる透過原稿Ｂ６を、先に得た銀パターンが有する接続部の中心点１５と透過原稿Ｂ６が有する接続部の中心点１５が一致し、大格子との接続部が図９（ｅ）のようになるよう、大格子に接続されていない部分が図９（ｆ）のようになるようにピンバーにて固定、密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで２５４ｎｍの光のみを透過する光をカットする光学フィルターを介して露光した。
　その後、上記拡散転写現像液中に２０℃で６０秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を４０℃の温水で水洗除去し、乾燥処理した。こうして先に設けた銀パターンとは異なる銀パターン（厚み０．１μｍ）を、光透過性基材の反対面側に有する光透過性電極５を得た。なお、このパターンは透過原稿Ｂ６と同様の線幅を有する銀パターンである。得られた光透過性電極５の視認性は光透過性電極１と同様に電極パターンは全く判らなかった。また本実施例における網目状導電部からなる大格子と、細線の一部が断線されて電気的導通の取れない断線格子を有する非導電部の開口率の差は、実施例１と同様であった。
１　　光透過性基材
１ａ　光透過性基材
１ｂ　光透過性基材
２　　接着剤層
３　　光透過性導電材料
３ａ　光透過性導電材料
３ｂ　光透過性導電材料
４　　単位格子を構成する正方形の辺を形成する細線部
５　　断線している細線部
６　　非導電部
１１　大格子
１２　接続部
１３　２つの大格子の中心点を結ぶ線
１４　大格子の中心点
１５　接続部の中心点
１６　接続格子
１７、１７ａ、１７ｂ　隣接格子
１８、１９　隣接する大格子間の距離
２０　単位格子
２１　大格子と接続部に囲まれる余白部分
３１　断線格子
５１　断線部
５２　正方形部分
５３　正方形部分
６１、７１、７２　導電部
１７１、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６　隣接格子
１００、１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄ　光透過性電極

Claims (6)

  1. 　光透過性基材の片面に、網目状導電部からなる大格子と、少なくとも１つの接続格子を有し隣接する大格子間を電気的に接続する接続部を有する、２枚の光透過性導電材料を重ねて作製される光透過性電極であって、２枚の光透過性導電材料はそれぞれの接続部の中心が略一致するように重ねられ、かつ少なくとも一方の光透過性導電材料が、前記重ねて作製された際の光透過性電極の接続部内および／または大格子と接続部に囲まれる部分に相当する位置に、細線の一部が断線されて電気的導通の取れない断線格子を有することを特徴とする光透過性電極。
  2. 　光透過性基材の両面に、網目状導電部からなる大格子と、少なくとも１つの接続格子を有し隣接する大格子間を電気的に接続する接続部を有する光透過性電極であって、一方の面が有する接続部の中心と他方の面が有する接続部の中心が略一致するように配置され、かつ少なくとも一方の面上の接続部内および／または大格子と接続部に囲まれる部分に相当する位置に、細線の一部が断線されて電気的導通の取れない断線格子を有することを特徴とする光透過性電極。
  3. 　上記２枚の光透過型導電材料が有するそれぞれの接続部の大きさが異なり、かつ大きさが異なる接続部の形状が略相似形であることを特徴とする請求項１記載の光透過性電極。
  4. 　光透過性基材の一方の面と他方の面が有する接続部の大きさが異なり、かつ大きさが異なる接続部の形状が略相似形であることを特徴とする請求項２記載の光透過性電極。
  5. 　上記網目状導電部からなる大格子と、細線の一部が断線され導通の取れない断線格子を有する非導電部の開口率の差が、１％以内であることを特徴とする請求項１または２記載の光透過性電極。
  6. 　上記大格子が複数の単位格子から構成され、当該単位格子の細線間隔が断線格子の細線間隔の８０～１２０％であることを特徴とする請求項１または２記載の光透過性電極。
PCT/JP2012/068298 2011-07-29 2012-07-19 光透過性電極 WO2013018549A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020147004531A KR101587486B1 (ko) 2011-07-29 2012-07-19 광투과성 전극
CN201280037890.2A CN103797449B (zh) 2011-07-29 2012-07-19 光学透明电极
US14/235,223 US9629242B2 (en) 2011-07-29 2012-07-19 Optically transparent electrode

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011-166240 2011-07-29
JP2011166240A JP5809475B2 (ja) 2011-07-29 2011-07-29 光透過性導電材料
JP2011247624A JP5841411B2 (ja) 2011-11-11 2011-11-11 光透過性電極
JP2011-247624 2011-11-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013018549A1 true WO2013018549A1 (ja) 2013-02-07

Family

ID=47629077

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/068298 WO2013018549A1 (ja) 2011-07-29 2012-07-19 光透過性電極

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9629242B2 (ja)
KR (1) KR101587486B1 (ja)
TW (1) TWI587374B (ja)
WO (1) WO2013018549A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103440906A (zh) * 2013-07-31 2013-12-11 南昌欧菲光科技有限公司 导电膜及触控面板
JP2015036985A (ja) * 2013-08-14 2015-02-23 ヒディス テクノロジーズ カンパニー, リミテッドHydis Technologies Co., Ltd. マトリックススイッチングタイプのタッチパネル（ｍａｔｒｉｘｓｗｉｔｃｈｉｎｇｔｙｐｅｔｏｕｃｈｐａｎｅｌ）

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5670827B2 (ja) * 2011-05-13 2015-02-18 富士フイルム株式会社 導電シート及びタッチパネル
JP6441046B2 (ja) 2014-11-26 2018-12-19 三菱製紙株式会社 光透過性導電材料
JP6404153B2 (ja) 2015-03-19 2018-10-10 三菱製紙株式会社 光透過性導電材料
CN108292185B (zh) * 2015-11-17 2021-05-28 三菱制纸株式会社 透光性导电材料
KR101913395B1 (ko) 2016-07-29 2018-10-31 삼성디스플레이 주식회사 표시장치
KR102392171B1 (ko) * 2016-07-29 2022-04-29 삼성디스플레이 주식회사 표시장치
TWI657359B (zh) * 2017-11-24 2019-04-21 友達光電股份有限公司 觸控裝置
KR102453234B1 (ko) * 2018-09-18 2022-10-07 동우 화인켐 주식회사 터치 센서 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR20210095048A (ko) * 2020-01-22 2021-07-30 동우 화인켐 주식회사 터치 센서 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
CN112578934B (zh) * 2020-12-07 2022-11-29 昆山国显光电有限公司 触控面板及显示面板
KR20220118082A (ko) * 2021-02-18 2022-08-25 동우 화인켐 주식회사 터치 센서
KR20220118081A (ko) * 2021-02-18 2022-08-25 동우 화인켐 주식회사 터치 센서

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011062301A1 (en) * 2009-11-20 2011-05-26 Fujifilm Corporation Conductive sheet, method for using conductive sheet, and capacitive touch panel

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4704627B2 (ja) 2001-08-30 2011-06-15 三菱製紙株式会社 銀薄膜形成フィルムの製造方法
JP4425026B2 (ja) 2004-03-04 2010-03-03 三菱製紙株式会社 銀拡散転写受像材料および導電性パタンの形成方法
JP5166697B2 (ja) 2006-01-11 2013-03-21 三菱製紙株式会社 導電性材料の製造方法
JP2007287953A (ja) 2006-04-18 2007-11-01 Toray Ind Inc 回路基板およびその製造方法
JP4903479B2 (ja) 2006-04-18 2012-03-28 富士フイルム株式会社 金属パターン形成方法、金属パターン、及びプリント配線板
JP5253288B2 (ja) 2009-05-08 2013-07-31 グンゼ株式会社 面状体及びタッチスイッチ
CN102112949B (zh) * 2008-07-31 2015-05-06 郡是株式会社 带电极平面基板和触摸开关
JP4820451B2 (ja) 2009-11-20 2011-11-24 富士フイルム株式会社 導電シート、導電シートの使用方法及びタッチパネル
JP2011113149A (ja) 2009-11-24 2011-06-09 Fujifilm Corp 導電シート、導電シートの使用方法及び静電容量方式タッチパネル

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011062301A1 (en) * 2009-11-20 2011-05-26 Fujifilm Corporation Conductive sheet, method for using conductive sheet, and capacitive touch panel

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103440906A (zh) * 2013-07-31 2013-12-11 南昌欧菲光科技有限公司 导电膜及触控面板
JP2015036985A (ja) * 2013-08-14 2015-02-23 ヒディス テクノロジーズ カンパニー, リミテッドHydis Technologies Co., Ltd. マトリックススイッチングタイプのタッチパネル（ｍａｔｒｉｘｓｗｉｔｃｈｉｎｇｔｙｐｅｔｏｕｃｈｐａｎｅｌ）

Also Published As

Publication number Publication date
TWI587374B (zh) 2017-06-11
KR101587486B1 (ko) 2016-01-21
CN103797449A (zh) 2014-05-14
US20140332262A1 (en) 2014-11-13
US9629242B2 (en) 2017-04-18
KR20140051339A (ko) 2014-04-30
TW201316384A (zh) 2013-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2013018549A1 (ja) 光透過性電極
KR101668827B1 (ko) 광투과성 전극
JP5809475B2 (ja) 光透過性導電材料
JP5841411B2 (ja) 光透過性電極
JP2013246723A (ja) 静電容量型タッチパネル用光透過性電極
JP5876351B2 (ja) 光透過性電極
KR101867972B1 (ko) 광투과성 도전재료
JP6422822B2 (ja) 光透過性導電材料
WO2016098683A1 (ja) 光透過性導電材料
JP2013178655A (ja) 光透過性電極
JP6415992B2 (ja) 光透過性導電材料
WO2014103679A1 (ja) 光透過性導電材料
JP6571594B2 (ja) 光透過性導電材料
JP6165693B2 (ja) 光透過性導電材料
JP2017162262A (ja) 光透過性導電材料積層体
JP2017156828A (ja) 光透過性導電材料
JP2015187815A (ja) 導電材料
JP2017033369A (ja) 光透過性導電材料積層体

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12820128

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20147004531

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14235223

Country of ref document: US

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12820128

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1