WO2012172893A1 - ヘキサフルオロアセトンまたはその水和物の製造法 - Google Patents
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Abstract
Description
を経て、ヘキサフルオロアセトンまたはその水和物を製造する方法を提案している(特許文献5)。
・特許文献6には、プロスタグランジン合成中間体の製造に際し、合成原料中のブテニル基をオゾン酸化し、次いでトリフェニルホスフィンの存在下で還元反応させることが、実施例30、32に記載されている。
・特許文献7には、ステロイド誘導体の製造に際し、炭素-炭素二重結合をオゾン酸化し、得られたオゾニドをジメチルスルフィドの存在下で還元反応させることが、参考例1に記載されている。
・特許文献8には、4-アルキル-5-アルケニルチアゾール化合物をオゾン分解し、得られたオゾニド化合物を還元剤、例えば低級アルキルジスルフィド類、アリールホスフィン類、アルキルホスフィン類、アルキルホスファイト類、アリールホスファイト類、重亜硫酸アルカリ金属塩、ピロ亜硫酸アルカリ金属塩、亜硫酸アルカリ金属塩、亜二チオン酸アルカリ金属塩、チオジ低級アルキルアルコール類、チオジ低級アルキルカルボン酸類、チオジアルキルニトリル類、チオジフェノール類、チオカルボアミド類等の存在下で還元反応させることが記載されている。
ここで、低級アルキルジスルフィド類の例としてジメチルスルフィド、ジエチルスルフィド、ジプロピルスルフィド等が示されており、その実施例14ではジメチルスルフィドが用いられており、このオゾニド化合物還元剤を用いた場合には(実施例14)、他の種類のオゾニド化合物還元剤を用いた場合と比較して、最高の収率で目的物たる4-メチル-5-ホルミルチアゾールが得られており、ジエチルスルフィド、ジプロピルスルフィドもジメチルスルフィドと同効物質と考えられる。
(a) 赤外線吸収スペクトルでのオキシラン環に由来する波数1230cm-1の特性吸収
(b) 19F-NMRによるフッ素原子の結合様式
(c) 1H-NMRによる水素原子の結合様式
(d) 質量スペクトル(M/Z)=228に由来する特徴的な強いピーク
ヘプタフルオロイソブテニルメチルエーテル(純度91%)100g(0.43モル)を容量500mlの三口フラスコに仕込み、ジムロート冷却管には-20℃のブラインを流し、0℃で攪拌しながら、約125mg/L濃度のオゾンを含む酸素ガスを、5時間30分の間に約165L(オゾン量として約0.43モル)をバブリングさせた。
赤外線吸収スペクトル:1230cm-1(2,3,5-トリオキソラン)
19F-NMR(TFA,CH2Cl2):-15.3ppm(d,j=2.19Hz,1F)
+0.58ppm(dq,j=2.19,2.63Hz,3F)
+1.90ppm(q,j=2.63Hz.3F)
1H-NMR(TMS,CDCl3):3.58ppm(s,3H)
質量スペクトル(EI,M/Z):260(M+)
1-フルオロ-4,4-ビス(トリフルオロメチル)-2,3,5-トリオキソラニル・メチルエーテル(純度98%)100g(0.38モル)を容量500mlの五口フラスコに仕込み、窒素バブリングを行いながら、ジムロート冷却管には-20℃のブラインを流し、-20℃の反応温度で攪拌しながら、滴下ロートを用いてジメチルスルフィド23.4g(0.38モル)を30分間かけて滴下した。反応の結果得られたガスを氷水で0℃に冷却した水トラップで捕集し、得られた水層を19F-NMRで分析したところ、ヘキサフルオロアセトン・三水和物が73.8g(収率89%)得られていることが確認された。
比較例1において、ジメチルスルフィドを滴下する代わりに、氷酢酸150mlを10分間かけて滴下した後、系内を30℃程度に維持しながら亜鉛片49.0g(0.75モル)を少量ずつ加え、1時間攪拌したところ、ヘキサフルオロアセトン・三水和物が68.0g(収率82%)得られていることが確認された。
比較例1において、ジメチルスルフィドを滴下する代わりに、トリエチルフォスファイト188g(1.131mol)を15分間かけて加えた後、オーバーナイトで攪拌したところ、ヘキサフルオロアセトン・三水和物が75.5g(収率91%)得られていることが確認された。
比較例1において、ジメチルスルフィドの代わりに同モル量(0.38モル)のジプロピルスルフィド44.9gを用い、これを反応温度20℃で滴下して反応を行い、ヘキサフルオロアセトン・三水和物78.7g(収率95%)を得た。
比較例1において、ジメチルスルフィドの代わりに同モル量(0.38モル)のジブチルスルフィド55.6gを用い、これを反応温度15℃で滴下して反応を行い、ヘキサフルオロアセトン・三水和物77.1g(収率93%)を得た。
比較例1において、ジメチルスルフィドの代わりに同モル量(0.38モル)のジヘキシルスルフィド76.9gを用い、これを反応温度30℃で滴下して反応を行い、ヘキサフルオロアセトン・三水和物74.6g(収率90%)を得た。
比較例1において、ジメチルスルフィドの代わりに同モル量(0.38モル)のジフェニルスルフィド70.7gを用い、これを反応温度30℃で滴下して反応を行い、ヘキサフルオロアセトン・三水和物80.4g(収率97%)を得た。
比較例1において、ジメチルスルフィドの代わりに同モル量(0.38モル)のジフェニルジスルフィド82.9g(トルエン110.5gに溶解させた溶液として使用)を用い、これを反応温度30℃で滴下して反応を行い、ヘキサフルオロアセトン・三水和物78.7g(収率95%)を得た。
Claims (6)
- ジアルキルスルフィド還元剤として、ジプロピルスルフィドまたはジブチルスルフィドが用いられる請求項1記載のヘキサフルオロアセトンまたはその水和物の製造法。
- ジアリールスルフィド還元剤としてジフェニルスルフィドが、またジアリールジスルフィドとしてジフェニルジスルフィドが用いられる請求項1記載のヘキサフルオロアセトンまたはその水和物の製造法。
- オゾニド還元剤が、1-フルオロ-4,4-ビス(トリフルオロメチル)-2,3,5-トリオキソラニル・エーテル化合物1モルに対して、1~10モルの割合で用いられる請求項1記載のヘキサフルオロアセトンまたはその水和物の製造法。
- 生成したヘキサフルオロアセトンを水トラップで捕集し、ヘキサフルオロアセトン水和物水溶液を形成させる請求項1記載のヘキサフルオロアセトン水和物の製造法。
- ヘキサフルオロアセトンを水和物水溶液とした後、脱水させる請求項5記載のヘキサフルオロアセトンの製造法。
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